特表 2024-508777 少なくとも２つの不純物の存在下でビスフェノールＡ（ＢＰＡ）を作製するプロセス

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-02-28

(54)【発明の名称】少なくとも２つの不純物の存在下でビスフェノールＡ（ＢＰＡ）を作製するプロセス

(51)【国際特許分類】

   C07C 37/20 20060101AFI20240220BHJP

   C07C 39/16 20060101ALI20240220BHJP

   B01J 31/10 20060101ALI20240220BHJP

   C08G 8/02 20060101ALI20240220BHJP

   C08G 64/20 20060101ALI20240220BHJP

   C07B 61/00 20060101ALN20240220BHJP

【ＦＩ】

C07C37/20

C07C39/16

B01J31/10 Z

C08G8/02

C08G64/20

C07B61/00 300

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2023550135

(86)(22)【出願日】2022-02-16

(85)【翻訳文提出日】2023-08-18

(86)【国際出願番号】 EP2022053774

(87)【国際公開番号】W WO2022179901

(87)【国際公開日】2022-09-01

(31)【優先権主張番号】21158688.8

(32)【優先日】2021-02-23

(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】515266223

【氏名又は名称】コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフト

【氏名又は名称原語表記】ＣＯＶＥＳＴＲＯ ＤＥＵＴＳＣＨＬＡＮＤ ＡＧ

(74)【代理人】

【識別番号】110000796

【氏名又は名称】弁理士法人三枝国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】ウイ ジェリコ ジェイソン

(72)【発明者】

【氏名】スライツ エリック

【テーマコード（参考）】

4G169

4H006

4H039

4J029

4J033

【Ｆターム（参考）】

4G169AA02

4G169BA21A

4G169BA21B

4G169BA23A

4G169BA23B

4G169BB01A

4G169BD01A

4G169BD08A

4G169BE01A

4G169BE08A

4G169BE08B

4G169BE21A

4G169BE21B

4G169CB25

4G169DA06

4G169EA04Y

4H006AA02

4H006AB46

4H006AC23

4H006AC25

4H006AD15

4H006BA66

4H006BA72

4H006BC37

4H006BD33

4H006BD51

4H006FC52

4H006FE13

4H006FG22

4H039CA19

4H039CA41

4H039CD10

4H039CD40

4H039CL25

4J029AA10

4J029AB05

4J029AB07

4J029AC01

4J029BB13A

4J029HA01

4J029HC01

4J029KA02

4J033CA07

4J033CA11

4J033CC03

4J033CC08

4J033CC09

4J033CD05

4J033HA12

4J033HB00

(57)【要約】

本発明は、イオン交換樹脂触媒と硫黄含有助触媒とを含み、硫黄含有助触媒の少なくとも一部がイオン交換樹脂触媒と化学的に結合していない触媒系を被毒することなく、２－メチルベンゾフラン、ヒドロキシアセトン、α－メチルスチレン、アセトフェノン、ベンゼン及び／又はクメンからなる群より選択される少なくとも２種の不純物の存在下で、ビスフェノールＡを作製するプロセスに関する。さらに、本発明は、ポリカーボネートを作製するプロセスを提供する。

【特許請求の範囲】

【請求項1】

（ａ）触媒系の存在下で、原料フェノールと原料アセトンとを縮合させる工程であって、
該触媒系が、イオン交換樹脂触媒と硫黄含有助触媒とを含み、プロセス工程（ａ）の開始時に前記硫黄含有助触媒の少なくとも一部、好ましくは少なくとも７５モル％が前記イオン交換樹脂触媒と共有結合もイオン結合もしていない、工程、
を含む、オルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、及び／又はパラ，パラ－ビスフェノールＡを作製するプロセスであって、
以下の（Ａ）～（Ｆ）のうち少なくとも２つが当てはまることを特徴とする、プロセス：
（Ａ）工程（ａ）において存在する２－メチルベンゾフランの量が、前記原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超である、及び／又は、
（Ｂ）工程（ａ）において存在するヒドロキシアセトンの量が、前記原料フェノールと前記原料アセトンとの総重量に対して、１ｐｐｍ超である、及び／又は、
（Ｃ）工程（ａ）において存在するα－メチルスチレンの量が、前記原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超である、及び／又は、
（Ｄ）工程（ａ）において存在するアセトフェノンの量が、前記原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超である、及び／又は、
（Ｅ）工程（ａ）において存在するベンゼンの量が、前記原料アセトンの総重量に対して、１ｐｐｍ超である、及び／又は、
（Ｆ）工程（ａ）において存在するクメンの量が、前記原料アセトンの総重量に対して、１ｐｐｍ超である。

【請求項2】

以下の（Ａ）～（Ｆ）のうち少なくとも２つが当てはまることを特徴とする、請求項１に記載のプロセス：
（Ａ）工程（ａ）において存在する２－メチルベンゾフランの量が、前記原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｂ）工程（ａ）において存在するヒドロキシアセトンの量が、前記原料フェノールと前記原料アセトンとの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｃ）工程（ａ）において存在するα－メチルスチレンの量が、前記原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｄ）工程（ａ）において存在するアセトフェノンの量が、前記原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｅ）工程（ａ）において存在するベンゼンの量が、前記原料アセトンの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｆ）工程（ａ）において存在するクメンの量が、前記原料アセトンの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である。

【請求項3】

以下の（Ａ）～（Ｆ）のうち少なくとも２つが当てはまることを特徴とする、請求項１又は２に記載のプロセス：
（Ａ）工程（ａ）において存在する２－メチルベンゾフランの量が、前記原料フェノールの総重量に対して、１０ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｂ）工程（ａ）において存在するヒドロキシアセトンの量が、前記原料フェノールと前記原料アセトンとの総重量に対して、１．５ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、
（Ｃ）工程（ａ）において存在するα－メチルスチレンの量が、前記原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｄ）工程（ａ）において存在するアセトフェノンの量が、前記原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｅ）工程（ａ）において存在するベンゼンの量が、前記原料アセトンの総重量に対して、２ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｆ）工程（ａ）において存在するクメンの量が、前記原料アセトンの総重量に対して、１０ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である。

【請求項4】

２－メチルベンゾフラン、アセトフェノン、ベンゼン及びクメンからなる群のうち少なくとも１種の化合物が、前記プロセス工程（ａ）全体を通して存在することを特徴とする、請求項１～３のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項5】

（ｂ）工程（ａ）の後に得られた混合物を、オルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、又はパラ，パラ－ビスフェノールＡの少なくとも１つを含むビスフェノールＡ画分と、フェノール画分とに分離する工程であって、
前記フェノール画分が、未反応のフェノールと、２－メチルベンゾフラン及び／又は工程（ａ）において２－メチルベンゾフランが存在するために形成される少なくとも１つの不純物、工程（ａ）においてヒドロキシアセトンが存在するために形成される少なくとも１つの不純物、４－クミルフェノール、アセトフェノン、ベンゼン及びクメンからなる群より選択される少なくとも２種の物質とを含む、工程を追加的に含むことを特徴とする、請求項１～４のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項6】

工程（ｂ）における前記分離を、結晶化法を用いて行うことを特徴とする、請求項５に記載のプロセス。

【請求項7】

（ｃ）工程（ｂ）において得られた前記フェノール画分の少なくとも一部を、工程（ａ）において抽出物として使用する追加の工程を含むことを特徴とする、請求項５又は６に記載のプロセス。

【請求項8】

前記硫黄含有助触媒が、メルカプトプロピオン酸、硫化水素、エチルスルフィド等のアルキルスルフィド、及びこれらの混合物からなる群より選択されることを特徴とする、請求項１～７のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項9】

（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）及び／又は（Ｆ）のうち少なくとも１つが満たされる場合に工程（ａ）において存在する前記２－メチルベンゾフラン、前記ヒドロキシアセトン、前記α－メチルスチレン、前記アセトフェノン及び／又は前記クメンのそれぞれが、前記原料フェノールにおける不純物として前記プロセス工程（ａ）に導入されるものであることを特徴とする、請求項１～８のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項10】

（Ｂ）、（Ｅ）及び／又は（Ｆ）のうち少なくとも１つが満たされる場合に工程（ａ）において存在する前記ヒドロキシアセトン、前記ベンゼン及び／又は前記クメンのそれぞれが、前記原料アセトンにおける不純物として前記プロセス工程（ａ）に導入されるものであることを特徴とする、請求項１～９のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項11】

（ｉ）請求項１～１０のいずれか一項に記載のプロセスに従って、オルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、及び／又はパラ，パラ－ビスフェノールＡを得る工程と、
（ｉｉ）ポリカーボネートを得るために、工程（ｉ）において得られたオルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、及び／又はパラ，パラ－ビスフェノールＡを、任意で少なくとも１つの更なるモノマーの存在下で重合する工程と、
を含むポリカーボネートを作製するプロセス。

【請求項12】

前記プロセス工程（ｉ）が、２－メチルベンゾフラン、工程（ａ）においてヒドロキシアセトンが存在するために形成される不純物、４－クミルフェノール及びアセトフェノンからなる群のうち少なくとも１種の化合物の量を低減するために、前記オルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、及び／又はパラ，パラ－ビスフェノールＡを精製する工程を更に含むことを特徴とする、請求項１１に記載のプロセス。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ビスフェノールＡを作製するプロセス及びポリカーボネートを作製するプロセスに関する。

【背景技術】

【0002】

ビスフェノールＡ、すなわち、ＢＰＡは、ポリカーボネート又はエポキシ樹脂の製造において重要なモノマーである。ＢＰＡは、通常、パラ，パラ－ＢＰＡ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェノール）プロパン；ｐ，ｐ－ＢＰＡ）の形態で使用されるが、ＢＰＡの製造においては、オルト，オルト－ＢＰＡ（ｏ，ｏ－ＢＰＡ）及び／又はオルト，パラ－ＢＰＡ（ｏ，ｐ－ＢＰＡ）も形成され得る。ＢＰＡについて言及する場合、原則的には、パラ，パラ－ＢＰＡのことを指すが、少量のオルト，オルト－ＢＰＡ及び／又はオルト，パラ－ＢＰＡも含まれる。

【0003】

現行の技術水準に従うと、ＢＰＡは、酸触媒の存在下で、フェノールとアセトンとを反応させて、ビスフェノールを得ることによって製造される。以前は、縮合反応の商業的なプロセスにおいて塩酸（ＨＣｌ）が使用されていた。現在では、ＢＰＡの製造のための不均一系連続プロセスがイオン交換樹脂触媒の存在下で使用されており、ここで、このイオン交換樹脂は、架橋した酸官能化ポリスチレン樹脂を含む。最も重要な樹脂は、スルホン酸基により架橋したポリスチレンである。特許文献１、特許文献２、特許文献３及び特許文献４、又は非特許文献１に記載されているように、ジビニルベンゼンが架橋剤として最も使用されている。

【0004】

高い選択性を達成するために、フェノールとアセトンとの反応を好適な助触媒の存在下で行うことができる。特許文献５及び特許文献６には、イオン交換触媒と、助触媒としてのメルカプトプロピオン酸又はメルカプタンとの存在下でビスフェノールＡを作製するプロセスが記載されている。触媒は時間とともに失活することが知られている。失活は、例えば、特許文献７、特許文献８、特許文献９に記載されている。製造プロセスの主な目的の１つは、触媒系の性能及び滞留時間を最大限にすることである。したがって、この目的に対応するために、潜在的な被毒物質、副生成物、抽出物（educts）の不純物等を特定する必要がある。

【0005】

特許文献１０では、ヒドロキシアセトンが約１ｐｐｍ未満の材料をフェノール反応物として使用することによって、ビスフェノールの製造を改善することができ、ビスフェノール縮合触媒の寿命を延ばすことができることが教示されている。ここで、触媒系は、イオン交換樹脂触媒と硫黄含有助触媒とを含み、助触媒はイオン交換樹脂触媒と化学的に結合している。

【0006】

特許文献１１では、イオン交換樹脂触媒と硫黄含有助触媒とを含む特定の触媒系であって、助触媒がイオン交換樹脂触媒と化学的に結合している、触媒系の使用が教示されており、また、かかる特定の触媒系を使用したフェノールとケトンとの縮合反応を触媒するプロセスも教示されている。さらに、特許文献１１には、イオン交換樹脂触媒と化学的に結合していないバルク促進剤を利用せずに、フェノールとケトンとの縮合反応を触媒するプロセスが開示されている。

【0007】

同様に、特許文献１２には、特定のカチオン性化合物によって変性した酸性イオン交換樹脂触媒の存在下でビスフェノールを作製するプロセスが記載されている。

【0008】

特許文献１３には、抽出物におけるバイオ由来不純物の存在下でのバイオ由来フェノール及び／又はバイオ由来アセトンに基づくＢＰＡの製造が記載されている。この文献では、促進剤が結合したイオン交換樹脂触媒、つまり、助触媒が化学的に結合した（すなわち、イオン結合した）イオン交換樹脂触媒の使用についてのみ記載されている。２－メチルベンゾフラン（２－ＭＢＦ又はＭＢＦ）は、化石燃料由来フェノールにおいてだけでなく、バイオ由来フェノールにおいても一般的な不純物であることが分かった。２－メチルベンゾフランは、フェノールとアセトンとの反応の際に完全に反応するため、反応生成物（ＢＰＡ）において遊離２－ＭＢＦは検出されないことが分かった。また、３つの新たなＭＢＦ反応生成物が確認された。さらに、このＢＰＡは視覚的にピンクであり、このＢＰＡを使用して作製したポリカーボネートも許容できない色を有していた。同時に、ＭＢＦ自体ではなく、フェノールとアセトンとの反応の際に得られる未知のＭＢＦ副生成物がこの色の原因であることが分かった。これらの未知の副生成物は、ＢＰＡ精製中に除去することができなかった。したがって、特許文献１３では、低色のＢＰＡ ＰＣを得るためには、バイオ由来フェノール中のＭＢＦの量を可能な限り低くする必要があると結論付けられている。この先行技術文献では触媒被毒については判断されていない。

【0009】

よって、従来技術では、イオン交換樹脂触媒と、化学的に結合した硫黄含有助触媒とを含む触媒系が、ヒドロキシアセトン及び／又は２－メチルベンゾフランによる被毒を受け易いと明確に述べている。したがって、従来技術では、触媒被毒を回避するために、原料フェノール及び／又は原料アセトンにおける不純物としてのヒドロキシアセトン及び／又は２－メチルベンゾフランの濃度を可能な限り低くする必要があることが教示されている。

【0010】

さらに、原料アセトン及び／又は原料フェノールにおいて存在する不純物は他にもある。例えば、原料アセトンにおいては、クメン及び／又はベンゼンが存在する可能性がある。また、原料フェノールにおいては、α－メチルスチレン、アセトフェノン及び場合によりクメンも存在する可能性がある。上述の通り、所望の反応において副反応、触媒等の被毒を回避するために、これらの不純物を回避しようとする又は可能な限りその量を低減しようとするのが通常である。

【0011】

しかしながら、（化石ベース又はバイオ由来のいずれであっても）原料フェノール及び／又は原料アセトンからのこれらの不純物の除去には時間とお金がかかり、これにより、原料フェノール及び／又は原料アセトンがより高価になる。最終的には、ビスフェノールＡ及びこのビスフェノールＡから調製される各ポリマーのコストが増加する。さらに、原料フェノール及び／又は原料アセトンにおける様々な不純物の濃度は、供給元及びこれらの原料の精製プロセスによって変化する。これは、様々な原料品質に対応する必要があることを意味し（例えば、仕様が或る特定の閾値を超える場合は、別の精製工程を行う必要がある）、プロセス及び原料供給元の選択における柔軟性が低下する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0012】

【特許文献1】英国特許第８４９９６５号

【特許文献2】米国特許第４４２７７９３号

【特許文献3】欧州特許出願公開第０００７７９１号

【特許文献4】欧州特許出願公開第０６２１２５２号

【特許文献5】米国特許出願公開第２００５／０１７７００６号

【特許文献6】米国特許第４，８５９，８０３号

【特許文献7】欧州特許出願公開第０５８３７１２号

【特許文献8】欧州特許出願公開第１０６２００４１号

【特許文献9】独国特許出願公開第１４３１２０３８号

【特許文献10】米国特許第５，４１４，１５１号

【特許文献11】国際公開第２０１２／１５０５６０号

【特許文献12】欧州特許出願公開第１５２０６１７号

【特許文献13】米国特許第８，２４７，６１９号

【非特許文献】

【0013】

【非特許文献1】Chemistry and properties of crosslinked polymers, edited by Santokh S. Labana, Academic Press, New York 1977

【発明の概要】

【0014】

よって、本発明は、フェノールとアセトンとの縮合を介して、オルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、及び／又はパラ，パラ－ビスフェノールＡを作製するプロセスであって、従来技術のプロセスよりも経済的なプロセスを提供することを目的としていた。さらに、本発明は、フェノールとアセトンとの縮合を介して、オルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、及び／又はパラ，パラ－ビスフェノールＡを作製するプロセスであって、原料フェノール及び／又は原料アセトンの品質の選択において、より柔軟性が高い及び／又はより高い柔軟性を許容するプロセスを提供することを目的としていた。この柔軟性は、原料フェノール及び／又は原料アセトンにおける不純物としてのヒドロキシアセトン、２－メチルベンゾフラン、α－メチルスチレン、ベンゼン、クメン、及び／又はアセトフェノンの濃度に対して提供されることが好ましい。

【0015】

上述の課題の少なくとも１つ、好ましくはこれらの課題の全てが本発明によって解決された。驚くべきことに、イオン交換樹脂触媒と硫黄含有助触媒とを含み、硫黄含有助触媒の少なくとも一部がイオン交換樹脂触媒と化学的に結合していない触媒系が、ヒドロキシアセトン、２－メチルベンゾフラン、α－メチルスチレン、ベンゼン、クメン、アセトフェノン、及びこれらの混合物からなる群より選択される物質のいずれよる触媒被毒の影響も受けにくいことが分かった。従来技術では、化学的に結合した硫黄含有助触媒を含む触媒系が、少なくともヒドロキシアセトン及び／又は２－メチルベンゾフランによる被毒を受け易いことが示唆されているため、これは驚くべきことである。さらに、従来技術では、少なくとも原料アセトン及び／又は原料フェノールにおけるヒドロキシアセトン及び／又は２－メチルベンゾフランの量を可能な限り低くする必要があることが教示されている。本発明の特定の触媒系は上記物質のいずれの影響も受けないため、触媒の寿命が短くなるリスクなく、より安価な原料アセトン及び／又は原料フェノールを使用することができる。ヒドロキシアセトン、２－メチルベンゾフラン、α－メチルスチレン、ベンゼン、クメン及びアセトフェノンからなる物質群より選択される２種、３種、４種、５種又は６種であっても、触媒系を被毒することなく同時に用いることができる。これにより、全体的なプロセスの費用効果がより高くなる。また、原料を精製するために必要なエネルギーがより小さくなるため、プロセスは環境保護的により有利になる。さらに、プロセスは、原料フェノール及び／又は原料アセトンの品質の選択において、特に、これらの原料におけるヒドロキシアセトン、２－メチルベンゾフラン、α－メチルスチレン、ベンゼン、クメン及びアセトフェノンからなる群より選択される少なくとも２種の物質の濃度に対してより高い柔軟性を許容する。

【0016】

したがって、本発明は、
（ａ）触媒系の存在下で、原料フェノールと原料アセトンとを縮合させる工程であって、
該触媒系が、イオン交換樹脂触媒と硫黄含有助触媒とを含み、プロセス工程（ａ）の開始時に硫黄含有助触媒の少なくとも一部、好ましくは少なくとも７５モル％がイオン交換樹脂触媒と共有結合もイオン結合もしていない、工程、
を含む、オルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、及び／又はパラ，パラ－ビスフェノールＡを作製するプロセスであって、
以下の（Ａ）～（Ｆ）のうち少なくとも２つが当てはまることを特徴とする、プロセスを提供する：
（Ａ）工程（ａ）において存在する２－メチルベンゾフランの量が、原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超である、及び／又は、
（Ｂ）工程（ａ）において存在するヒドロキシアセトンの量が、原料フェノールと原料アセトンとの総重量に対して、１ｐｐｍ超である、及び／又は、
（Ｃ）工程（ａ）において存在するα－メチルスチレンの量が、原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超である、及び／又は、
（Ｄ）工程（ａ）において存在するアセトフェノンの量が、原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超である、及び／又は、
（Ｅ）工程（ａ）において存在するベンゼンの量が、原料アセトンの総重量に対して、１ｐｐｍ超である、及び／又は、
（Ｆ）工程（ａ）において存在するクメンの量が、原料アセトンの総重量に対して、１ｐｐｍ超である。

【0017】

本発明によると、「原料フェノール」及び／又は「原料アセトン」について言及する。「原料」という用語は、ＢＰＡを作製するプロセスにおいて適用された、特に添加された未反応の抽出物に対して使用される。特に、この用語は、（原料フェノールとして）反応に新たに添加されるフェノールと、ＢＰＡを作製するプロセスにおいてリサイクルしたフェノール（リサイクルフェノール）とを区別するために使用される。かかるリサイクルフェノールは、追加のヒドロキシアセトン、２－メチルベンゾフラン、α－メチルスチレン、及び／又はアセトフェノンをプロセスに添加する可能性はない。（原料アセトンとして）反応に新たに添加されるアセトンと、ＢＰＡを作製するプロセスにおいてリサイクルしたアセトン（リサイクルアセトン）についても同様である。かかるリサイクルアセトンは、追加のヒドロキシアセトン、クメン及び／又はベンゼンを添加する可能性はない。フェノール及び／又はアセトンについて言及する場合、特に明示しない限り、化学的化合物自体、又は原料フェノール及びリサイクルフェノールの両方及び／又は原料アセトン及びリサイクルアセトンの両方のいずれかの合計を意味することが好ましい。

【0018】

ヒドロキシアセトンは、ＢＰＡの反応の両方の原料における不純物である。原料フェノール及び原料アセトンは、両方とも、ヒドロキシアセトン不純物を含有する可能性がある。原料フェノールは、２－メチルベンゾフラン、α－メチルスチレン及び／又はアセトフェノンを含有する可能性がある。場合によっては、原料フェノールはクメンも含有する可能性がある。原料アセトンは、ベンゼン及び／又はクメンを含む可能性がある。例えば、アセトン又はフェノールの製造経路は、Arpe, Hans-Juergen, Industrielle Organische Chemie, 6. Auflage, Januar 2007, Wiley-VCHに記載されている。特に、フェノールを作製するプロセスは、ウルマン産業化学事典、フェノール及びフェノール誘導体の章に記載されている。Ｈｏｃｋ法としても知られるクメンの酸化は、圧倒的に主要なフェノールの合成経路である。フェノールの製造中に形成される被毒物質の中には、ヒドロキシケトン、特にヒドロキシアセトンがある。

【0019】

本発明のプロセスは、（Ａ）～（Ｆ）のうち少なくとも２つが当てはまることを特徴とする。本発明によると、これは、以下のうち少なくともいずれか１つが満たされることを意味する：（Ａ）＋（Ｂ）、（Ａ）＋（Ｃ）、（Ａ）＋（Ｄ）、（Ａ）＋（Ｅ）、（Ａ）＋（Ｆ）、（Ｂ）＋（Ｃ）、（Ｂ）＋（Ｄ）、（Ｂ）＋（Ｅ）、（Ｂ）＋（Ｆ）、（Ｃ）＋（Ｄ）、（Ｃ）＋（Ｅ）、（Ｃ）＋（Ｆ）、（Ｄ）＋（Ｅ）、（Ｄ）＋（Ｆ）又は（Ｅ）＋（Ｆ）。（Ａ）～（Ｆ）のうち少なくとも３つが当てはまることが好ましい。これは、以下のうち少なくともいずれか１つが満たされることを意味する：（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）、（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｄ）、（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｅ）、（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｆ）、（Ａ）＋（Ｃ）＋（Ｄ）、（Ａ）＋（Ｃ）＋（Ｅ）、（Ａ）＋（Ｃ）＋（Ｆ）、（Ａ）＋（Ｄ）＋（Ｅ）、（Ａ）＋（Ｄ）＋（Ｆ）、（Ａ）＋（Ｅ）＋（Ｆ）、（Ｂ）＋（Ｃ）＋（Ｄ）、（Ｂ）＋（Ｃ）＋（Ｅ）、（Ｂ）＋（Ｃ）＋（Ｆ）、（Ｂ）＋（Ｄ）＋（Ｅ）、（Ｂ）＋（Ｄ）＋（Ｆ）、（Ｂ）＋（Ｅ）＋（Ｆ）、（Ｃ）＋（Ｄ）＋（Ｅ）、（Ｃ）＋（Ｄ）＋（Ｆ）又は（Ｄ）＋（Ｅ）＋（Ｆ）。

【0020】

本発明は、少なくとも（Ａ）及び／又は（Ｂ）が当てはまり、追加的に（Ｃ）～（Ｆ）のうち少なくとも１つが当てはまることを特徴とすることがより好ましい。

【0021】

（Ａ）～（Ｆ）のうち少なくとも４つが当てはまることがより好ましい。（Ａ）～（Ｆ）のうち少なくとも５つが当てはまることが更に好ましく、（Ａ）～（Ｆ）が当てはまることが最も好ましい。（Ａ）～（Ｆ）が当てはまる場合には、（Ａ）～（Ｆ）の条件の全てが必須であり、（Ａ）～（Ｆ）を接続する全ての「又は」は削除する必要がある（より正確には、「及び」が必須である）ことが理解される。

【0022】

以下、本発明によると、少なくともそのうち２つが満たされる可能性（Ａ）～（Ｆ）のそれぞれについて言及する。

【0023】

本発明によると、「ｐｐｍ」は、好ましくは重量部を指す。さらに、任意の不純物（Ａ）～（Ｆ）の量に対して提示した任意の限度値を、他の不純物（Ａ）～（Ｆ）の量に対して提示した任意の他の限度値と組み合わせることができることが理解される。

【0024】

（Ａ）２－メチルベンゾフラン
可能性（Ａ）によれば、本発明のプロセスは、工程（ａ）において存在する２－メチルベンゾフランの量が、原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、好ましくは２ｐｐｍ超、より好ましくは３ｐｐｍ超、更に好ましくは４ｐｐｍ超、更に好ましくは５ｐｐｍ超、更に好ましくは６ｐｐｍ超、更に好ましくは７ｐｐｍ超、更に好ましくは８ｐｐｍ超、更に好ましくは９ｐｐｍ超、更に好ましくは１０ｐｐｍ超、更に好ましくは１１ｐｐｍ超、更に好ましくは１２ｐｐｍ超、更に好ましくは１３ｐｐｍ超、更に好ましくは１４ｐｐｍ超、更に好ましくは１５ｐｐｍ超、更に好ましくは２０ｐｐｍ超、更に好ましくは２５ｐｐｍ超、最も好ましくは５０ｐｐｍ超であることを特徴とする。

【0025】

さらに、可能性（Ａ）において、工程（ａ）において存在するＭＢＦの量が、原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、より好ましくは４５００ｐｐｍ以下、更に好ましくは４０００ｐｐｍ以下、更に好ましくは３５００ｐｐｍ以下、更に好ましくは３０００ｐｐｍ以下、更に好ましくは２５００ｐｐｍ以下、最も好ましくは２０００ｐｐｍ以下であることが好ましい。ここで提示した上限値を、上で提示した好ましい下限値と組み合わせることができることが理解される。原料フェノールにおけるＭＢＦの量を求める方法は当業者に知られている。例えば、原料フェノールにおける２－メチルベンゾフランの量は、ＡＳＴＭ Ｄ６１４２－１２（２０１３）に従って求めることができる。

【0026】

（Ｂ）ヒドロキシアセトン
本発明によると、可能性（Ｂ）において、工程（ａ）において存在するヒドロキシアセトンの量が、原料フェノールと原料アセトンとの総重量に対して、１．２ｐｐｍ超、好ましくは１．３ｐｐｍ超、より好ましくは１．４ｐｐｍ超、更に好ましくは１．５ｐｐｍ超、更に好ましくは２ｐｐｍ超、更に好ましくは５ｐｐｍ超、更に好ましくは１０ｐｐｍ超、最も好ましくは５０ｐｐｍ超であることが好ましい。さらに、可能性（Ｂ）において、工程（ａ）において存在するヒドロキシアセトンの量が、原料フェノールと原料アセトンとの総重量に対して、１．２ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、より好ましくは４５００ｐｐｍ以下、更に好ましくは４０００ｐｐｍ以下、更に好ましくは３５００ｐｐｍ以下、更に好ましくは３０００ｐｐｍ以下、更に好ましくは２５００ｐｐｍ以下、最も好ましくは２０００ｐｐｍ以下であることが好ましい。ここで提示した上限値を、上で提示した好ましい下限値と組み合わせることができることが理解される。原料フェノール及び／又は原料アセトンにおけるヒドロキシアセトンの量を求める方法は当業者に知られている。例えば、原料フェノールにおけるヒドロキシアセトンの量は、ＡＳＴＭ Ｄ６１４２－１２（２０１３）に従って求めることができる。原料アセトンにおけるヒドロキシアセトンの量は、ガスクロマトグラフィーによって求めることができる。以前は、アセトンの純度は、例えば、ＡＳＴＭ Ｄ１１５４によって求められていたが、現在は廃止されている。

【0027】

（Ｃ）α－メチルスチレン
可能性（Ｃ）において、本発明のプロセスは、工程（ａ）において存在するα－メチルスチレンの量が、原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、好ましくは２ｐｐｍ超、より好ましくは３ｐｐｍ超、更に好ましくは４ｐｐｍ超、更に好ましくは５ｐｐｍ超、更に好ましくは６ｐｐｍ超、更に好ましくは７ｐｐｍ超、更に好ましくは８ｐｐｍ超、更に好ましくは９ｐｐｍ超、更に好ましくは１０ｐｐｍ超、更に好ましくは１１ｐｐｍ超、更に好ましくは１２ｐｐｍ超、更に好ましくは１５ｐｐｍ超、更に好ましくは２０ｐｐｍ超、更に好ましくは２５ｐｐｍ超、更に好ましくは５０ｐｐｍ超、更に好ましくは７５ｐｐｍ超、最も好ましくは１００ｐｐｍ超であることを特徴とする。

【0028】

さらに、可能性（Ｃ）によれば、工程（ａ）において存在するＡＭＳの量が、原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、より好ましくは４５００ｐｐｍ以下、更に好ましくは４０００ｐｐｍ以下、更に好ましくは３５００ｐｐｍ以下、更に好ましくは３０００ｐｐｍ以下、更に好ましくは２５００ｐｐｍ以下、最も好ましくは２０００ｐｐｍ以下であることが好ましい。ここで提示した上限値を、上で提示した好ましい下限値と組み合わせることができることが理解される。原料フェノールにおけるＡＭＳの量を求める方法は当業者に知られている。例えば、原料フェノールにおけるＡＭＳの量は、ＡＳＴＭ Ｄ６１４２－１２（２０１３）に従って求めることができる。

【0029】

（Ｄ）アセトフェノン
可能性（Ｄ）によれば、本発明のプロセスは、工程（ａ）において存在するアセトフェノンの量が、原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、好ましくは１．５ｐｐｍ超、より好ましくは２ｐｐｍ超、より好ましくは２．５ｐｐｍ超、より好ましくは３ｐｐｍ超、更に好ましくは４ｐｐｍ超、更に好ましくは５ｐｐｍ超、更に好ましくは６ｐｐｍ超、更に好ましくは７ｐｐｍ超、更に好ましくは８ｐｐｍ超、更に好ましくは９ｐｐｍ超、更に好ましくは１０ｐｐｍ超、更に好ましくは１１ｐｐｍ超、更に好ましくは１２ｐｐｍ超、更に好ましくは１３ｐｐｍ超、更に好ましくは１５ｐｐｍ超、更に好ましくは２０ｐｐｍ超、最も好ましくは５０ｐｐｍ超であることを特徴とする。

【0030】

さらに、可能性（Ｄ）によれば、工程（ａ）において存在するアセトフェノンの量が、原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、より好ましくは４５００ｐｐｍ以下、更に好ましくは４０００ｐｐｍ以下、更に好ましくは３５００ｐｐｍ以下、更に好ましくは３０００ｐｐｍ以下、更に好ましくは２５００ｐｐｍ以下、最も好ましくは２０００ｐｐｍ以下であることが好ましい。ここで提示した上限値を、上で提示した好ましい下限値と組み合わせることができることが理解される。原料フェノールにおけるＭＢＦの量を求める方法は当業者に知られている。例えば、原料フェノールにおける２－アセトフェノンの量は、ＡＳＴＭ Ｄ６１４２－１２（２０１３）に従って求めることができる。

【0031】

（Ｅ）ベンゼン
可能性（Ｅ）によれば、本発明のプロセスは、工程（ａ）において存在するベンゼンの量が、原料アセトンの総重量に対して、１ｐｐｍ超、好ましくは２ｐｐｍ超、より好ましくは３ｐｐｍ超、更に好ましくは４ｐｐｍ超、更に好ましくは５ｐｐｍ超、更に好ましくは６ｐｐｍ超、更に好ましくは７ｐｐｍ超、更に好ましくは８ｐｐｍ超、更に好ましくは９ｐｐｍ超、更に好ましくは１０ｐｐｍ超、更に好ましくは１１ｐｐｍ超、更に好ましくは１２ｐｐｍ超、更に好ましくは１３ｐｐｍ超、更に好ましくは１４ｐｐｍ超、更に好ましくは１５ｐｐｍ超、更に好ましくは２０ｐｐｍ超、更に好ましくは２５ｐｐｍ超、更に好ましくは５０ｐｐｍ超、更に好ましくは２５０ｐｐｍ超、最も好ましくは３００ｐｐｍ超であることを特徴とする。

【0032】

さらに、可能性（Ｅ）によれば、工程（ａ）において存在するベンゼンの量が、原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、より好ましくは４５００ｐｐｍ以下、更に好ましくは４０００ｐｐｍ以下、更に好ましくは３５００ｐｐｍ以下、更に好ましくは３０００ｐｐｍ以下、更に好ましくは２５００ｐｐｍ以下、最も好ましくは２０００ｐｐｍ以下であることが好ましい。ここで提示した上限値を、上で提示した好ましい下限値と組み合わせることができることが理解される。原料アセトンにおけるベンゼンの量を求める方法は当業者に知られている。例えば、原料アセトンにおけるベンゼンの量は、ＡＳＴＭ Ｄ１１５４（現在は廃止されている）に従って求めることができる。

【0033】

（Ｆ）クメン
可能性（Ｆ）によれば、本発明のプロセスは、工程（ａ）において存在するクメンの量が、原料アセトンの総重量に対して、１ｐｐｍ超、好ましくは２ｐｐｍ超、より好ましくは３ｐｐｍ超、更に好ましくは４ｐｐｍ超、更に好ましくは５ｐｐｍ超、更に好ましくは６ｐｐｍ超、更に好ましくは７ｐｐｍ超、更に好ましくは８ｐｐｍ超、更に好ましくは９ｐｐｍ超、更に好ましくは１０ｐｐｍ超、更に好ましくは２０ｐｐｍ超、更に好ましくは３０ｐｐｍ超、更に好ましくは４０ｐｐｍ超、更に好ましくは５０ｐｐｍ超、更に好ましくは６０ｐｐｍ超、更に好ましくは７５ｐｐｍ超、更に好ましくは１００ｐｐｍ超、更に好ましくは１２０ｐｐｍ超、更に好ましくは２５０ｐｐｍ超、最も好ましくは３００ｐｐｍ超であることを特徴とする。一実施の形態においては、これらの量は、原料フェノールと原料アセトンとの総重量に対する量を指す。

【0034】

さらに、可能性（Ｆ）によれば、工程（ａ）において存在するクメンの量が、原料アセトンの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、より好ましくは４５００ｐｐｍ以下、更に好ましくは４０００ｐｐｍ以下、更に好ましくは３５００ｐｐｍ以下、更に好ましくは３０００ｐｐｍ以下、更に好ましくは２５００ｐｐｍ以下、最も好ましくは２０００ｐｐｍ以下であることが好ましい。一実施の形態においては、これらの量は、原料フェノールと原料アセトンとの総重量に対する量を指す。ここで提示した上限値を、上で提示した好ましい下限値と組み合わせることができることが理解される。原料アセトンにおけるクメンの量を求める方法は当業者に知られている。例えば、原料アセトンにおけるクメンの量は、ＡＳＴＭ Ｄ１１５４（現在は廃止されている）に従って求めることができる。

【0035】

好ましくは、本発明によるプロセスは、以下の可能性（Ａ）～（Ｆ）のうち少なくとも２つ、好ましくは少なくとも３つ、より好ましくは少なくとも４つが当てはまることを特徴とする：
（Ａ）工程（ａ）において存在する２－メチルベンゾフランの量が、原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｂ）工程（ａ）において存在するヒドロキシアセトンの量が、原料フェノールと原料アセトンとの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｃ）工程（ａ）において存在するα－メチルスチレンの量が、原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｄ）工程（ａ）において存在するアセトフェノンの量が、原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｅ）工程（ａ）において存在するベンゼンの量が、原料アセトンの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｆ）工程（ａ）において存在するクメンの量が、原料アセトンの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である。

【0036】

好ましくは、本発明によるプロセスは、以下の可能性（Ａ）～（Ｆ）のうち少なくとも２つ、好ましくは少なくとも３つ、より好ましくは少なくとも４つが当てはまることを特徴とする：
（Ａ）工程（ａ）において存在する２－メチルベンゾフランの量が、原料フェノールの総重量に対して、５ｐｐｍ超、好ましくは１０ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｂ）工程（ａ）において存在するヒドロキシアセトンの量が、原料フェノールと原料アセトンとの総重量に対して、１．５ｐｐｍ超、好ましくは２ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、
（Ｃ）工程（ａ）において存在するα－メチルスチレンの量が、原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、好ましくは１．５ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｄ）工程（ａ）において存在するアセトフェノンの量が、原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、好ましくは２ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｅ）工程（ａ）において存在するベンゼンの量が、原料アセトンの総重量に対して、２ｐｐｍ超、好ましくは５ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｆ）工程（ａ）において存在するクメンの量が、原料アセトンの総重量に対して、５ｐｐｍ超、好ましくは１０ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である。

【0037】

さらに、本発明によるプロセスは、２－メチルベンゾフラン、アセトフェノン、ベンゼン及びクメンからなる群のうち少なくとも１種の化合物が、プロセス工程（ａ）全体を通して存在することを特徴とすることが好ましい。２－メチルベンゾフランは、可能性（Ｂ）が当てはまる場合にのみ、プロセス工程（ａ）全体を通して存在することができることが理解される。アセトフェノンと可能性（Ｄ）、ベンゼンと可能性（Ｅ）、及びクメンと可能性（Ｆ）についても同じことが当てはまる。

【0038】

本発明によると、本発明の触媒系を使用する場合、可能性（Ａ）、（Ｄ）、（Ｅ）及び／又は（Ｆ）のうち少なくとも１つが当てはまる場合に、ＭＢＦ、アセトフェノン、ベンゼン及び／又はクメンが、プロセス工程（ａ）において完全に反応するわけではないことが分かった。これは、ＭＢＦ、アセトフェノン、ベンゼン及び／又はクメンの一部がＢＰＡ中に依然として存在することを意味する。プロセス工程（ａ）の開始時に存在するＭＢＦに対して、好ましくは少なくとも５重量％、より好ましくは少なくとも１０重量％、最も好ましくは少なくとも１５重量％が、プロセス工程（ａ）の完了時、好ましくは後述のプロセス工程（ｂ）の開始時にも存在する。プロセス工程（ａ）の開始時に存在するＭＢＦに対して、好ましくは少なくとも５重量％、より好ましくは少なくとも１０重量％、最も好ましくは少なくとも１５重量％が、得られるオルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、又はパラ，パラ－ビスフェノールＡに存在する。ＭＢＦに関して、本発明によると、反応工程（ａ）においてＭＢＦが存在するために副生成物が形成されることが分かったが、全てのＭＢＦがこの不純物へと反応するわけではない。これは、ＭＢＦが完全にこの不純物へと反応するわけではないことを意味する。この新たな副生成物をＭＳによって分析したところ、２２６ｇ／ｍｏｌの分子量が検出された。これは、Ｃ_１５Ｈ_１４Ｏ_２の原子式を示唆する。そのため、プロセス工程（ａ）においてＭＢＦが存在するために形成される少なくとも１つの不純物の追加的な存在下で、工程（ａ）を行うことが好ましい。さらに、工程（ｂ）のフェノール画分をプロセス工程（ｃ）においてリサイクルする場合、これらの不純物はプロセス工程（ａ）において存在することができる。プロセス工程（ａ）の開始時に存在するアセトフェノンに対して、好ましくは少なくとも２５重量％、より好ましくは少なくとも５０重量％、最も好ましくは少なくとも７５重量％が、プロセス工程（ａ）の完了時、好ましくは後述のプロセス工程（ｂ）の開始時にも存在する。プロセス工程（ａ）の開始時に存在するアセトフェノンに対して、好ましくは少なくとも２５重量％、より好ましくは少なくとも５０重量％、最も好ましくは少なくとも７５重量％が、得られるオルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、又はパラ，パラ－ビスフェノールＡ中に存在する。プロセス工程（ａ）の開始時に存在するベンゼンに対して、好ましくは少なくとも２０重量％、より好ましくは少なくとも４０重量％、最も好ましくは少なくとも６０重量％が、プロセス工程（ａ）の完了時、好ましくは後述のプロセス工程（ｂ）の開始時にも存在する。プロセス工程（ａ）の開始時に存在するクメンに対して、好ましくは少なくとも２０重量％、より好ましくは少なくとも４０重量％、最も好ましくは少なくとも６０重量％が、プロセス工程（ａ）の完了時、好ましくは後述のプロセス工程（ｂ）の開始時にも存在する。

【0039】

好ましくは、本発明のプロセスは、
（ｂ）工程（ａ）の後に得られた混合物を、オルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、又はパラ，パラ－ビスフェノールＡの少なくとも１つを含むビスフェノールＡ画分と、フェノール画分とに分離する工程であって、
フェノール画分が、未反応のフェノールと、２－メチルベンゾフラン及び／又は工程（ａ）において２－メチルベンゾフランが存在するために形成される少なくとも１つの不純物、工程（ａ）においてヒドロキシアセトンが存在するために形成される少なくとも１種の不純物、４－クミルフェノール、アセトフェノン、ベンゼン及びクメンからなる群より選択される少なくとも２つの物質とを含む、工程を追加的に含むことを特徴とする。

【0040】

上述の通り、本発明によると、プロセス工程（ａ）においてＭＢＦが少なくとも部分的に反応することが分かった。工程（ｂ）において、ＭＢＦ及び／又は工程（ａ）においてＭＢＦが存在するために形成される不純物の全てが、ＢＰＡ画分及び／又はフェノール画分のいずれか、特にフェノール画分から分離されるわけではないと考えられる。したがって、この不純物及び／又は副生成物の一部が依然としてフェノール画分中に存在する。この結論は、可能性（Ａ）～（Ｆ）のいずれが当てはまるかによるが、他の不純物の大部分にも当てはまる。さらに、本発明によると、ヒドロキシアセトンは、本発明のプロセス中に反応し、それに続くプロセス工程ではもはや検出することができないことが分かった。しかしながら、工程（ａ）においてヒドロキシアセトンが存在するために、少なくとも１つの新たな副生成物／不純物が形成されると考えられる。少なくとも１つの新たな不純物はクロマンであると考えられる。これは、プロセス工程（ｂ）のフェノール画分中に存在し得る。さらに、本発明によると、ほぼ全てのＡＭＳがプロセス工程（ａ）中に反応すると考えられることが分かった。これは、プロセス工程（ａ）の後にＡＭＳがほぼ検出されないことから確認された（実験パートのＡＭＳ「ｏｕｔ」を参照のこと）。その一方で、ＡＭＳがほぼ完全に４－クミルフェノールへと反応すると考えられることが分かった（未知の化合物は極少量しか検出されなかった）。さらに、追加の実験を行ったところ、４－クミルフェノールがプロセス工程（ａ）において安定した分子であることが分かった。これは、４－クミルフェノールがプロセス工程（ａ）において反応しないと考えられることを意味する（プロセス工程（ａ）で急増した４－クミルフェノールと同じ量が、プロセス工程（ａ）の完了時に見られることを参照のこと）。最後に、プロセス工程（ａ）において、ベンゼンも、クメンも反応しないことが分かった。しかしながら、プロセス工程（ｂ）のフェノール画分中に、ベンゼン及び／又はクメンのいずれかが少なくとも少量存在する可能性がある。

【0041】

ビスフェノールＡ画分は、生成物として回収するか、及び／又は更に精製することが好ましい。高純度のビスフェノールを提供するために、製造プロセスには幾つかのバリエーションが存在する。この高純度は、ポリカーボネートの製造におけるモノマーとしてのＢＰＡの使用において特に重要である。国際公開第０１７２６７７号には、ビスフェノールとフェノールとの付加物の結晶、及びこの結晶を製造し、最終的にビスフェノールを作製する方法が記載されている。付加物の結晶化によって、高純度のパラ，パラ－ＢＰＡを得ることができることが分かった。欧州特許出願公開第１９４４２８４号には、ビスフェノールを製造するプロセスであって、結晶化が連続懸濁結晶化装置を含む、プロセスが記載されている。ＢＰＡの純度に対する要求が高まっていること、及び開示された方法によって、９９．７％超の非常に純粋なＢＰＡを得ることができることが述べられている。国際公開第２００５０７５３９７号には、ビスフェノールＡを製造するプロセスであって、反応の際に生成する水を蒸留によって除去する、プロセスが記載されている。この方法によると、未反応のアセトンが回収され、リサイクルされ、経済的に有利なプロセスが得られる。

【0042】

本発明のプロセスは、工程（ｂ）における分離を、結晶化法を用いて行うことを特徴とすることが好ましい。工程（ｂ）における分離を、少なくとも１つの連続懸濁結晶化装置を用いて行うことが更に好ましい。

【0043】

母液サイクルを利用することが更に記載されていた。ＢＰＡは、反応後に、結晶化及び濾過によって溶媒から取り出す。母液は、典型的には、未反応のフェノールに溶解した５％～２０％のＢＰＡと副生成物とを含有する。さらに、反応の際に水が形成されるが、この水は脱水セクションにおいて母液から除去する。理論に縛られるものではないが、ＢＰＡから分離されたベンゼン及び／又はクメンの少なくとも一部はプロセス水中に見られると考えられる。これは、母液を脱水することによって、ベンゼン及び／又はクメンを本発明のプロセスから除去することが好ましいことを意味する。このような脱水は、例えば脱水カラムを使用することによって行うことができる。最終的に、ベンゼン及び／又はクメンは廃水中に存在すると考えられ、これは、次いで廃水ストリッパーで処理することができる。一方、ベンゼン及び／又はクメンはオフガスによって系から出る可能性もある。さらに、本発明によると、ベンゼン及び／又はクメンの蓄積は観察されなかった。これは、ベンゼン及び／又はクメンが確かに或る時点で系から出ていくと考えられることを意味する。

【0044】

未反応のフェノールを含む画分は、更なる反応のためにリサイクルすることが好ましいが、これは、好ましくは、母液をリサイクルすることを意味する。この画分は、ＢＰＡを得るために、アセトンとの反応において未反応のフェノールとして再利用される。母液の流れは、常法に従い反応ユニットに再循環することが好ましい。

【0045】

典型的には、母液中の副生成物は、例えば、ｏ，ｐ－ＢＰＡ、ｏ，ｏ－ＢＰＡ、置換インデン、ヒドロキシフェニルインダノール、ヒドロキシフェニルクロマン、置換キサンテン、及びより高縮合の化合物である。また、アセトンの自己縮合及び原料中の不純物との反応の結果として、アニソール、メシチルオキシド、メシチレン、及びジアセトンアルコール等の更なる二次化合物が形成される可能性がある。

【0046】

母液のリサイクルにより、副生成物が循環流に蓄積し、触媒系の更なる失活につながる可能性がある。これは、触媒を長期間使用する場合、抽出物における初期不純物の影響と同様に、フェノールとアセトンとの反応又は不純物の１つの反応のいずれかからの反応自体で生じ得る副生成物の影響を考慮する必要があることを意味する。

【0047】

本発明によると、本発明のプロセスは、
（ｃ）工程（ｂ）において得られたフェノール画分の少なくとも一部を、工程（ａ）において抽出物として使用する追加の工程を含むことを特徴とすることが好ましい。

【0048】

（Ａ）～（Ｆ）で述べた追加の不純物、工程（ａ）において（Ａ）～（Ｆ）で述べた不純物の一部が存在するために形成する副生成物及び／又は不純物の蓄積を回避するために、系には幾つかの選択肢が存在する。選択肢としては、特に、パージ流、廃水、オフガス及び生成物としてのＢＰＡ自体が挙げられる。１つの選択肢、又はおそらく主流でもある選択肢は、例えば、母液の一部を排出するパージ流であると思われる。別のアプローチは、固液分離後並びに水及び残留アセトンの除去の前又は後に、循環流の全量の一部を、例えば、酸イオン交換体を充填した転位ユニットを通過させることを含む。この転位ユニットでは、ＢＰＡの調製からの副生成物の一部が異性化されて、ｐ，ｐ－ＢＰＡが得られる。（Ａ）～（Ｆ）において述べた及び／又はプロセス工程（ａ）においてＭＢＦ、ヒドロキシアセトン及び／又はα－メチルスチレンが存在するために形成される不純物の大部分を、パージ流によって除去することができることが分かった。したがって、工程（ｂ）において得られたフェノール画分の少なくとも一部を、工程（ａ）において抽出物として使用し、この流れの少なくとも一部をパージすることが好ましい。工程（ｂ）において得られたフェノール画分の５０体積％超を、工程（ａ）において抽出物として使用することが好ましい（ここで、体積％は、フェノール画分の総体積に対するものである）。

【0049】

さらに、プロセス工程（ａ）においてα－メチルスチレン（ＡＭＳ）が存在するために形成される不純物の一部、好ましくは４－クミルフェノールが、ＢＰＡを精製する標準的な方法を使用して得られるＢＰＡ中に依然として存在することが分かった。例えば、プロセス工程（ａ）においてＡＭＳが存在するために形成される不純物の一部、好ましくは４－クミルフェノールが、上述のプロセス工程（ｂ）を行った後であっても、得られるＢＰＡ中に依然として存在する。

【0050】

本発明のプロセスにおいて使用することができる触媒系は当業者に知られている。触媒系は、好ましくは、酸性イオン交換樹脂である。かかるイオン交換樹脂は、２％～２０％、好ましくは３％～１０％、最も好ましくは３．５％～５．５％の架橋を有することができる。酸性イオン交換樹脂は、好ましくは、スルホン化スチレンジビニルベンゼン樹脂、スルホン化スチレン樹脂、フェノールホルムアルデヒドスルホン酸樹脂、及びベンゼンホルムアルデヒドスルホン酸からなる群より選択することができる。さらに、イオン交換樹脂は、スルホン酸基を含有することができる。触媒床は、固定床又は流動床のいずれかとすることができる。

【0051】

さらに、本発明の触媒系は、硫黄含有助触媒を含み、硫黄含有助触媒の少なくとも一部がイオン交換樹脂触媒と共有結合もイオン結合もしていない。硫黄含有助触媒は、１つの物質又は少なくとも２つの物質の混合物とすることができる。この助触媒は、プロセス工程（ａ）の反応溶液に溶解させることが好ましい。助触媒は、プロセス工程（ａ）の反応溶液に均一に溶解させることが更に好ましい。本発明のプロセスは、硫黄含有助触媒が、メルカプトプロピオン酸、硫化水素、エチルスルフィド等のアルキルスルフィド、及びこれらの混合物からなる群より選択されることを特徴とすることが好ましい。最も好ましくは、硫黄含有助触媒は３－メルカプトプロピオン酸である。

【0052】

本発明の触媒系は、硫黄含有助触媒を含み、硫黄含有助触媒の全てが、イオン交換樹脂触媒と共有結合もイオン結合もしていないことが好ましい。これは、好ましくは、硫黄含有助触媒の全てをプロセス工程（ａ）に添加することを意味する。本発明によると、「化学的に結合していない」又は「共有結合もイオン結合もしていない」という表現は、プロセス工程（ａ）の開始時に、イオン交換樹脂触媒と硫黄含有助触媒との間に共有結合もイオン結合も存在しない触媒系を指す。ただし、これは、硫黄含有助触媒の少なくとも一部が、イオン結合又は共有結合を介して不均一系触媒マトリックスに固定される可能性があることを意味するものではない。いずれにしても、プロセス工程（ａ）の開始時に、硫黄含有助触媒のそのようなイオン結合又は共有結合は存在せず、それらが仮に形成されるとしても、時間とともに形成されていく。したがって、硫黄含有助触媒をプロセス工程（ａ）に添加することが好ましい。「添加」という用語は、アクティブなプロセス工程を表す。これは、上述のように、助触媒をプロセス工程（ａ）の反応溶液に溶解させることが好ましいことを意味する。追加的に、助触媒は、別の任意のプロセス工程で添加してもよく、又はプロセス工程（ａ）で２回以上添加してもよい。さらに、硫黄含有助触媒の大部分がイオン交換樹脂触媒と共有結合もイオン結合もしていないことが好ましい。これは、硫黄含有助触媒の少なくとも７５モル％、更に好ましくは少なくとも８０モル％、最も好ましくは少なくとも９０モル％がイオン交換樹脂触媒と化学的に結合していないことを意味する。ここで、モル％は、プロセス工程（ａ）において存在する助触媒の合計に関連する。

【0053】

ＭＢＦ、ヒドロキシアセトン、α－メチルスチレン及び／又はアセトフェノンは、原料フェノールにおける不純物であり得るため、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び／又は（Ｄ）のうち少なくとも１つが満たされる場合に工程（ａ）において存在する２－メチルベンゾフラン、ヒドロキシアセトン、α－メチルスチレン及び／又はアセトフェノンのそれぞれが、原料フェノール中の不純物としてプロセス工程（ａ）に導入されることが好ましい。このような状況ではあるが、ＭＢＦ、ヒドロキシアセトン、α－メチルスチレン及び／又はアセトフェノンの少なくとも一部は、別の理由により、プロセス工程（ａ）において存在し得る。しかしながら、クメンを原料フェノールにおける不純物とすることも可能である。そのため、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）及び／又は（Ｆ）の少なくとも１つが満たされる場合に工程（ａ）において存在する２－メチルベンゾフラン、ヒドロキシアセトン、α－メチルスチレン、クメン及び／又はアセトフェノンのそれぞれが、原料フェノール中の不純物としてプロセス工程（ａ）に導入されることが更に好ましい。このような状況ではあるが、ＭＢＦ、ヒドロキシアセトン、α－メチルスチレン、クメン及び／又はアセトフェノンの少なくとも一部は、別の理由により、プロセス工程（ａ）において存在し得る。

【0054】

ヒドロキシアセトン、ベンゼン及び／又はクメンは、原料アセトンにおける不純物であり得るため、（Ｂ）、（Ｅ）及び／又は（Ｆ）のうち少なくとも１つが満たされる場合に工程（ａ）において存在するヒドロキシアセトン、ベンゼン及び／又はクメンのそれぞれが、原料アセトン中の不純物としてプロセス工程（ａ）に導入されることが好ましい。このような状況ではあるが、ヒドロキシアセトン、ベンゼン及び／又はクメンの少なくとも一部は、別の理由により、プロセス工程（ａ）において存在し得る。

【0055】

別の態様において、本発明は、
（ｉ）任意の実施の形態又は好ましい実施の形態の組合せにおいて、本発明のプロセスによるオルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、及び／又はパラ，パラ－ビスフェノールＡを得る工程と、
（ｉｉ）ポリカーボネートを得るために、工程（ｉ）において得られたオルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、及び／又はパラ，パラ－ビスフェノールＡを、任意で少なくとも１つの更なるモノマーの存在下で重合する工程と、
を含むポリカーボネートを作製するプロセスを提供する。

【0056】

上で説明したように、本発明のオルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、及び／又はパラ，パラ－ビスフェノールＡを製造するプロセスは、より経済的及び／又は環境保護的な方法で得ることができるＢＰＡを提供する。したがって、本発明によるプロセスで得られたこのＢＰＡを使用すると、本発明によるポリカーボネートを作製するプロセスも、より経済的及び／又は環境保護的となる。

【0057】

反応工程（ｉｉ）は当業者に知られている。ポリカーボネートは、既知の方法で、ＢＰＡと、炭酸誘導体と、任意の連鎖停止剤と、任意の分岐剤とから、相間ホスゲン化又は溶融エステル交換によって調製することができる。

【0058】

相間ホスゲン化においては、アルカリ性水溶液と、有機溶媒と、触媒、好ましくはアミン化合物とを含む二相混合物において、ビスフェノール及び任意の分岐剤をアルカリ性水溶液に溶解し、任意で溶媒に溶解させたホスゲン等の炭酸源と反応させる。反応手順は、複数の段階で行うこともできる。ポリカーボネートを作製するかかるプロセスは、例えば、H. Schnell, Chemistry and Physics of Polycarbonates, Polymer Reviews, Vol. 9, Interscience Publishers, New York 1964 page 33 et seq.及びPolymer Reviews, Vol. 10, "Condensation Polymers by Interfacial and Solution Methods", Paul W. Morgan, Interscience Publishers, New York 1965, chapter VIII, page 325において、原理上は界面プロセスとして知られているため、基本的な条件は当業者によく知られている。

【0059】

代替的には、ポリカーボネートは、溶融エステル交換プロセスによって調製することもできる。溶融エステル交換プロセスは、例えば、高分子科学辞典、１０巻（１９６９）、Chemistry and Physics of Polycarbonates, Polymer Reviews, H. Schnell, Vol, 9, John Wiley and Sons, Inc. (1964)、及び独国特許出願公開第１０３１５１２号に記載されている。溶融エステル交換プロセスでは、界面プロセスにおいて既に記載された芳香族ジヒドロキシ化合物が、好適な触媒及び任意の更なる添加剤の援助により、溶融物中で炭酸ジエステルによってエステル交換される。

【0060】

好ましくは、本発明によるポリカーボネートを作製するプロセスは、プロセス工程（ｉ）が、２－メチルベンゾフラン、工程（ａ）においてヒドロキシアセトンが存在するために形成される不純物、４－クミルフェノール及びアセトフェノンからなる群のうち少なくとも１種の化合物の量を低減するために、オルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、及び／又はパラ，パラ－ビスフェノールＡを精製する工程を更に含むことを特徴とする。上述のように、本発明のプロセスにおいては、より安価な原料フェノール及び／又は原料アセトンを使用することができる。しかしながら、これらのより安価な原料において、ＭＢＦ、ヒドロキシアセトン、ＡＭＳ及び／又はアセトフェノンが不純物として含まれる場合、別の不純物が形成される及び／又は不純物自体が生成物中に残存すると考えられる。これらの不純物は、重合の前に除去することが好ましい。

【実施例】

【0061】

実施例で使用した材料は以下の通りである：

【0062】

【0063】

カラム反応器は、１５０ｇのフェノール湿式触媒を備えていた（反応器におけるフェノール湿式触媒の量：２１０ｍｌ～２３０ｍｌ）。カラム反応器を６０℃に加熱した（反応中の触媒床温度：６３℃）。フェノールと、アセトン（３．９重量％）と、ＭＥＰＡ（フェノールとアセトンとの質量の合計に対して１６０ｐｐｍ）との混合物を調製し、６０℃に加温した。この混合物を４５ｇ／時の流速でカラム反応器に圧入した。カラム反応器はサンプリングポイントを下部に有していた。サンプリングポイントの開口部を使用して、反応中に様々な試料を採取した。サンプリング時間は１時間とし、１時間ごとに採取する試料の量は４５ｇとした。

【0064】

初回のラン（run）（標準ラン）を５２時間行った。４８時間後、４９時間後、５０時間後、及び５１時間後のそれぞれで、試料を採取し、ＧＣで分析した。

【0065】

２回目のラン（不純物ラン）を５２時間行った。２回目のランの開始時に、各不純物を反応系に投与した（正確な量に関しては表を参照のこと）。４８時間後、４９時間後、５０時間後、及び５１時間後のそれぞれで、試料を採取し、ＧＣで分析した。その後、アセトンと、フェノールと、ＭＥＰＡとの新たな混合物を使用して、３回目のラン（標準ラン）を５２時間行った。４８時間後、４９時間後、５０時間後、及び５１時間後のそれぞれで、シリンジを介して試料を採取し、ＧＣで分析した。次いで、４回目のラン（不純物ラン）を５２時間行った。４回目のランの開始時に、各不純物を反応系に投与した（正確な量に関しては表を参照のこと）。４８時間後、４９時間後、５０時間後、及び５１時間後のそれぞれで、試料を採取し、ＧＣで分析した。最後に、５回目のラン（標準ラン）を５２時間行った。４８時間後、４９時間後、５０時間後、及び５１時間後のそれぞれで、試料を採取し、ＧＣで分析した。

【0066】

メタノールのガスクロマトグラフィー（ＧＣ）は、５０ｍ×０．２５ｍｍ×０．２５μｍのサイズのＡｇｉｌｅｎｔ Ｊ＆Ｗ ＶＦ－１ＭＳカラム（１００％ジメチルポリシロキサン）を使用して、６０℃で０．１０分間保持し、１２℃／分で３２０℃まで加熱し、この温度で１０．００分間保持する温度プロファイルを用いて、３００℃で、１０／１のスプリットで１μｌの試料を注入して行った。ここで、流量は１８．３ｐｓｉ（１．２６ｂａｒ）の初期圧力で２ｍｌ／分である。

【0067】

２－メチルベンゾフラン、ヒドロキシアセトン、α－メチルスチレン、アセトフェノン、ベンゼン、クメン、フェノール、パラ，パラ－ＢＰＡのガスクロマトグラフィー（ＧＣ）は、５０ｍ×０．２５ｍｍ×０．２５μｍのサイズのＡｇｉｌｅｎｔ Ｊ＆Ｗ ＶＦ－１ＭＳカラム（１００％ジメチルポリシロキサン）を使用して、８０℃で０．１０分間保持し、１２℃／分で３２０℃まで加熱し、この温度で１０．００分間保持する温度プロファイルを用いて、３００℃で、１０／１のスプリットで１μｌの試料を注入して行った。ここで、流量は１８．３ｐｓｉ（１．２６ｂａｒ）の初期圧力で２ｍｌ／分である。

【0068】

標準ランは、触媒及び助触媒の存在下での、アセトンとフェノールとのＢＰＡを形成する反応を表している。標準ランから、各エラーバーを含めたアセトン変換率を推定することができる。この変換率は、不純物が触媒の失活に影響するかどうかを評価するためのベースラインを表すものであった。３回目及び５回目の標準ランにおけるアセトン変換率を、初回の標準ランの値と比較して、触媒に対する各不純物の効果を求めた。アセトン変換率がこの変換率より低い場合、この不純物がＢＰＡ触媒に影響することが示される。この種の評価が触媒被毒の決定に使用することができることを示すために、不純物としてメタノールを使用して参照ランを行った。メタノールは、例えば米国特許第８，１４３，４５６号に記載されているが、ＢＰＡプロセスにおける触媒に対する既知の被毒物質であることが現行の技術水準から知られている。それぞれ得られた結果を表１に示す。表に示す値は、各ランの際（４８時間後、４９時間後、５０時間後、及び５１時間後）に採取した４つの試料から得られた平均値である。

【0069】

【0070】

表１から明確に分かるように、初回、３回目、及び５回目の各標準ランにおいて、アセトン変換率が低下した。これは、触媒がメタノールによって被毒され、触媒活性を低下させる不可逆反応のために変換率を回復することができないことを意味する。

【0071】

以下の表に、各不純物に対する初回のラン（標準ラン）、２回目のラン（不純物ラン）、３回目のラン（標準ラン）、４回目のラン（不純物ラン）、及び５回目のラン（標準ラン）の結果を示す。表に示す値は、各ランの際（４８時間後、４９時間後、５０時間後、及び５１時間後）に採取した４つの試料から得られた平均値である。

【0072】

【0073】

表２の結果から分かるように、フェノールとアセトンとのパラ，パラ－ＢＰＡへの反応における２－メチルベンゾフランの添加は、初回、３回目及び５回目の標準ランにおけるアセトン変換率の低下をほとんど引き起こさない。これは、使用した触媒系にとって、ＭＢＦが被毒物質ではないことを意味する。この効果は、各不純物ラン後に分かる。さらに、不純物ランの際に、依然として一部のＭＢＦが反応器から出ている（２－メチルベンゾフランＯＵＴを検出することができる）ことが分かる。これは、不純物ランの際に、全てのＭＢＦが反応するわけではないことを意味する。未知の化合物（複数の場合もある）はＧＣ－ＭＳによって分析された。未知の化合物の同定のために質量分析（ＭＳ）と組み合わせたガスクロマトグラフィー（ＧＣ）は、３０ｍ×０．２５ｍｍ×０．２５μｍのサイズのＡｇｉｌｅｎｔ Ｊ＆Ｗ ＶＦ－１ＭＳカラム（１００％ジメチルポリシロキサン）を使用して、６０℃で０．１０分間保持し、１２℃／分で３５０℃まで加熱し、この温度で５分間保持する温度プロファイルを用いて、２５０℃で、１０／１のスプリットで０．５μｌの試料を注入して行う。ここで、流量は２４．４５ｐｓｉ（１．６８５７６８ｂａｒ）の初期圧力で１ｍｌ／分であり、質量分析計ではｍｚ３５～ｍｚ７００をスキャンする。少なくとも１つの未知の化合物が、２２６ｇ／ｍｏｌの分子量を有することが分かった。

【0074】

【0075】

表３の結果から分かるように、フェノールとアセトンとのパラ，パラ－ＢＰＡへの反応におけるヒドロキシアセトンの添加は、初回、３回目、及び５回目の標準ランにおけるアセトン変換率の低下を引き起こさない。これは、使用した触媒系にとって、ヒドロキシアセトンが被毒物質ではないことを意味する。この効果は、各不純物ラン後に分かる。さらに、不純物ランの際に、ほぼ全てのヒドロキシアセトンが反応することが分かる（ヒドロキシアセトンＯＵＴを検出することができない）。未知の化合物（複数の場合もある）はＧＣ－ＭＳによって分析された。同定のために質量分析（ＭＳ）と組み合わせたガスクロマトグラフィー（ＧＣ）は、２５ｍ×０．２ｍｍ×０．３３μｍのサイズのＡｇｉｌｅｎｔ Ｊ＆Ｗ ＶＦ－１ＭＳカラム（１００％ジメチルポリシロキサン）を使用して、８０℃で０．１０分間保持し、１０℃／分で２８０℃まで加熱し、この温度で１０．００分間保持する温度プロファイルを用いて、２５０℃で、１０／１のスプリットで１μｌの試料を注入して行う。ここで、流量は２４．４５ｐｓｉ（１．６８５７６８ｂａｒ）の初期圧力で１ｍｌ／分であり、質量分析計ではｍｚ３５～ｍｚ７００をスキャンする。３６２ｇ／ｍｏｌ及び４３４ｇ／ｍｏｌの分子量を有する２つの化合物が発見された。

【0076】

【0077】

表４の結果から分かるように、フェノールとアセトンとのパラ，パラ－ＢＰＡへの反応におけるα－メチルスチレンの添加は、初回、３回目及び５回目の標準ランにおけるアセトン変換率の低下を引き起こさない。これは、使用した触媒系にとって、α－メチルスチレンが被毒物質ではないことを意味する。この効果は、各不純物ラン後に分かる。さらに、不純物ランの際に、ほぼ全てのα－メチルスチレンが反応することが分かる（α－メチルスチレンＯＵＴを検出することができない）。ＧＣ分析により、α－メチルスチレンが完全に４－クミルフェノールへと反応したことを証明することができた。４－クミルフェノールが反応中に存在するため、少なくとも少量では使用した触媒に対する被毒物質ではないと結論付けることもできる。

【0078】

反応中の４－クミルフェノールの安定性についても試験を行った。これは、７１０ｐｐｍの４－クミルフェノールを投与したこと以外はα－メチルスチレンに対して上で説明したものと同じセットアップを使用して行った。１回のランのみ行ったところ、その完了時に同じ量の４－クミルフェノールが検出された。

【0079】

そのため、投与した４－クミルフェノールが完全に反応器を通過したと結論付けることができる。したがって、４－クミルフェノールはこのプロセスにおいて安定な分子であることが確定される。

【0080】

【0081】

表５の結果から分かるように、フェノールとアセトンとのパラ，パラ－ＢＰＡへの反応におけるアセトフェノンの添加は、初回、３回目及び５回目の標準ランにおけるアセトン変換率の低下をほとんど引き起こさない。これは、使用した触媒系にとって、アセトフェノンが被毒物質ではないことを意味する。この効果は、各不純物ラン後に分かる。さらに、アセトフェノンはこの系において全く反応しないと考えられることが分かる（アセトフェノンＯＵＴがアセトフェノンＩＮとほぼ等しい）。

【0082】

【0083】

ランの実行後、ＧＣによって新たな未知の化合物は検出されなかった。よって、全てのベンゼンが反応器を通過し、ほとんど反応しないと考えられる。

【0084】

表６の結果から分かるように、フェノールとアセトンとのパラ，パラ－ＢＰＡへの反応におけるベンゼンの添加は、初回、３回目及び５回目の標準ランにおけるアセトン変換率の低下をほとんど引き起こさない。これは、使用した触媒系にとって、ベンゼンが被毒物質ではないことを意味する。この効果は、各不純物ラン後に分かる。さらに、ベンゼンはこの系において全く反応しないと考えられると結論付けることができる。

【0085】

【0086】

表７の結果から分かるように、フェノールとアセトンとのパラ，パラ－ＢＰＡへの反応におけるクメンの添加は、初回、３回目及び５回目の標準ランにおけるアセトン変換率の低下をほとんど引き起こさない。これは、使用した触媒系にとって、クメンが被毒物質ではないことを意味する。この効果は、各不純物ラン後に分かる。さらに、クメンはこの系において全く反応しないと考えられることが分かる（クメンＯＵＴがクメンＩＮとほぼ等しい）。

【0087】

試験を行った不純物のいずれも触媒系に対して実質的な効果がなかったため、試験を行った不純物のうち少なくとも２つの組合せも、触媒被毒に対して無視できる程度の効果しか有さないと結論付けることができる。

【手続補正書】

【提出日】2023-09-13

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

（ａ）触媒系の存在下で、原料フェノールと原料アセトンとを縮合させる工程であって、
該触媒系が、イオン交換樹脂触媒と硫黄含有助触媒とを含み、プロセス工程（ａ）の開始時に前記硫黄含有助触媒の少なくとも一部、好ましくは少なくとも７５モル％が前記イオン交換樹脂触媒と共有結合もイオン結合もしていない、工程、
を含む、オルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、及び／又はパラ，パラ－ビスフェノールＡを作製するプロセスであって、
以下の（Ａ）～（Ｆ）のうち少なくとも２つが当てはまることを特徴とする、プロセス：
（Ａ）工程（ａ）において存在する２－メチルベンゾフランの量が、前記原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超である、及び／又は、
（Ｂ）工程（ａ）において存在するヒドロキシアセトンの量が、前記原料フェノールと前記原料アセトンとの総重量に対して、１ｐｐｍ超である、及び／又は、
（Ｃ）工程（ａ）において存在するα－メチルスチレンの量が、前記原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超である、及び／又は、
（Ｄ）工程（ａ）において存在するアセトフェノンの量が、前記原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超である、及び／又は、
（Ｅ）工程（ａ）において存在するベンゼンの量が、前記原料アセトンの総重量に対して、１ｐｐｍ超である、及び／又は、
（Ｆ）工程（ａ）において存在するクメンの量が、前記原料アセトンの総重量に対して、１ｐｐｍ超である。

【請求項2】

以下の（Ａ）～（Ｆ）のうち少なくとも２つが当てはまることを特徴とする、請求項１に記載のプロセス：
（Ａ）工程（ａ）において存在する２－メチルベンゾフランの量が、前記原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｂ）工程（ａ）において存在するヒドロキシアセトンの量が、前記原料フェノールと前記原料アセトンとの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｃ）工程（ａ）において存在するα－メチルスチレンの量が、前記原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｄ）工程（ａ）において存在するアセトフェノンの量が、前記原料フェノールの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｅ）工程（ａ）において存在するベンゼンの量が、前記原料アセトンの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である、及び／又は、
（Ｆ）工程（ａ）において存在するクメンの量が、前記原料アセトンの総重量に対して、１ｐｐｍ超、かつ、５０００ｐｐｍ以下、好ましくは２０００ｐｐｍ以下である。

【請求項3】

２－メチルベンゾフラン、アセトフェノン、ベンゼン及びクメンからなる群のうち少なくとも１種の化合物が、前記プロセス工程（ａ）全体を通して存在することを特徴とする、請求項１又は２に記載のプロセス。

【請求項4】

（ｂ）工程（ａ）の後に得られた混合物を、オルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、又はパラ，パラ－ビスフェノールＡの少なくとも１つを含むビスフェノールＡ画分と、フェノール画分とに分離する工程であって、
前記フェノール画分が、未反応のフェノールと、２－メチルベンゾフラン及び／又は工程（ａ）において２－メチルベンゾフランが存在するために形成される少なくとも１つの不純物、工程（ａ）においてヒドロキシアセトンが存在するために形成される少なくとも１つの不純物、４－クミルフェノール、アセトフェノン、ベンゼン及びクメンからなる群より選択される少なくとも２種の物質とを含む、工程を追加的に含むことを特徴とする、請求項１～３のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項5】

（ｃ）工程（ｂ）において得られた前記フェノール画分の少なくとも一部を、工程（ａ）において抽出物として使用する追加の工程を含むことを特徴とする、請求項４に記載のプロセス。

【請求項6】

前記硫黄含有助触媒が、メルカプトプロピオン酸、硫化水素、エチルスルフィド等のアルキルスルフィド、及びこれらの混合物からなる群より選択されることを特徴とする、請求項１～５のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項7】

（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）及び／又は（Ｆ）のうち少なくとも１つが満たされる場合に工程（ａ）において存在する前記２－メチルベンゾフラン、前記ヒドロキシアセトン、前記α－メチルスチレン、前記アセトフェノン及び／又は前記クメンのそれぞれが、前記原料フェノールにおける不純物として前記プロセス工程（ａ）に導入されるものであることを特徴とする、請求項１～６のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項8】

（Ｂ）、（Ｅ）及び／又は（Ｆ）のうち少なくとも１つが満たされる場合に工程（ａ）において存在する前記ヒドロキシアセトン、前記ベンゼン及び／又は前記クメンのそれぞれが、前記原料アセトンにおける不純物として前記プロセス工程（ａ）に導入されるものであることを特徴とする、請求項１～７のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項9】

（ｉ）請求項１～８のいずれか一項に記載のプロセスに従って、オルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、及び／又はパラ，パラ－ビスフェノールＡを得る工程と、
（ｉｉ）ポリカーボネートを得るために、工程（ｉ）において得られたオルト，パラ－ビスフェノールＡ、オルト，オルト－ビスフェノールＡ、及び／又はパラ，パラ－ビスフェノールＡを、任意で少なくとも１つの更なるモノマーの存在下で重合する工程と、
を含むポリカーボネートを作製するプロセス。

【国際調査報告】