特表 2024-509004 表示パネル及び表示装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-02-29

(54)【発明の名称】表示パネル及び表示装置

(51)【国際特許分類】

   H10K 59/124 20230101AFI20240221BHJP

   G09F 9/30 20060101ALI20240221BHJP

   H10K 59/122 20230101ALI20240221BHJP

   H10K 50/844 20230101ALI20240221BHJP

【ＦＩ】

H10K59/124

G09F9/30 365

G09F9/30 309

G09F9/30 349Z

G09F9/30 338

G09F9/30 348A

H10K59/122

H10K50/844 445

H10K50/844

【審査請求】有

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2022520941

(86)(22)【出願日】2022-02-11

(85)【翻訳文提出日】2022-04-05

(86)【国際出願番号】 CN2022075966

(87)【国際公開番号】W WO2023142169

(87)【国際公開日】2023-08-03

(31)【優先権主張番号】202210088445.4

(32)【優先日】2022-01-25

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】517333336

【氏名又は名称】武漢華星光電半導体顕示技術有限公司

【氏名又は名称原語表記】ＷＵＨＡＮ ＣＨＩＮＡ ＳＴＡＲ ＯＰＴＯＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣＳ ＳＥＭＩＣＯＮＤＵＣＴＯＲ ＤＩＳＯＬＡＹ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＣＯ．，ＬＴＤ

【住所又は居所原語表記】３０５ Ｒｏｏｍ，Ｂｕｉｌｄｉｎｇ Ｃ５ Ｂｉｏｌａｋｅ ｏｆ Ｏｐｔｉｃｓ Ｖａｌｌｅｙ，Ｎｏ．６６６ Ｇａｏｘｉｎ Ａｖｅｎｕｅ，．Ｗｕｈａｎ Ｅａｓｔ Ｌａｋｅ Ｈｉｇｈ－ｔｅｃｈ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ Ｚｏｎｅ Ｗｕｈａｎ，Ｈｕｂｅｉ ４３００７９ Ｃｈｉｎａ

(74)【代理人】

【識別番号】100103894

【弁理士】

【氏名又は名称】家入 健

(72)【発明者】

【氏名】彭 斯敏

【テーマコード（参考）】

3K107

5C094

【Ｆターム（参考）】

3K107AA01

3K107BB01

3K107CC23

3K107CC28

3K107DD89

3K107DD90

3K107DD95

3K107EE03

3K107EE48

5C094AA31

5C094BA03

5C094BA27

5C094DA07

5C094DA13

5C094DA15

5C094FA02

5C094JA08

(57)【要約】

本発明の実施例は、表示パネル及び表示装置を開示する。本発明の実施例に係る表示パネルは、基板、無機構造層、ダム構造及び発光層を含む。無機構造層が基板上に設けられる。無機構造層上に凹溝が設けられる。ダム構造が無機構造層上に設けられる。発光層がダム構造及び無機構造層上に設けられる。ダム構造の少なくとも一側が凹溝の開口の一部を覆う。発光層が凹溝で分断される。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

表示領域と、前記表示領域を取り囲む非表示領域とを含む表示パネルであって、
基板と、
前記基板の一側に設けられて、前記非表示領域に凹溝が設けられる無機構造層と、
前記無機構造層の前記基板から遠い側に設けられるダム構造であって、前記ダム構造の少なくとも一側が前記凹溝の開口の一部を覆うダム構造と、
前記無機構造層の前記基板から遠い側に設けられて、前記非表示領域に前記ダム構造を覆うとともに前記凹溝で分断される発光層と、
前記発光層の前記基板から遠い側に設けられて、非表示領域に前記ダム構造及び前記凹溝を覆う封止層と、を含む表示パネル。

【請求項2】

前記表示パネルは、
前記基板と前記発光層との間に設けられる駆動回路層であって、前記無機構造層と、前記無機構造層に設けられるトランジスタ構造と、前記無機構造層の前記基板から遠い側に設けられる有機構造層とを含む駆動回路層をさらに含み、
前記ダム構造が前記有機構造層と同じ有機材料を含む請求項１に記載の表示パネル。

【請求項3】

前記駆動回路層は、
前記基板の一側に設けられるバッファ層と、
前記バッファ層の前記基板から遠い側に設けられる半導体層と、
前記半導体層の前記基板から遠い側に設けられるゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層の前記基板から遠い側に設けられるゲート層と、
前記ゲート層の前記基板から遠い側に設けられる第１絶縁層と、
前記第１絶縁層の前記基板から遠い側に設けられる金属層と、
前記金属層の前記基板から遠い側に設けられる第２絶縁層と、
前記第２絶縁層の前記基板から遠い側に設けられるソースドレイン層と、
前記ソースドレイン層の前記基板から遠い側に設けられる平坦化層と、
前記平坦化層の前記基板から遠い側に設けられる画素画定層と、を含み、
前記無機構造層は、前記バッファ層、前記ゲート絶縁層、前記第１絶縁層、前記第２絶縁層を含み、前記凹溝が少なくとも前記第２絶縁層を貫通し、
前記有機構造層が前記平坦化層及び前記画素画定層を含む請求項２に記載の表示パネル。

【請求項4】

前記ダム構造の前記凹溝の開口を覆う側縁から前記凹溝の開口が覆われる側縁までの距離を第１閾値とし、前記第１閾値の範囲が５００～１０００ｎｍであり、
前記凹溝の底面幅を第２閾値とし、前記第２閾値が前記第１閾値よりも大きく、
前記凹溝の深さを第３閾値とし、前記第３閾値の範囲が３００～５００ｎｍである請求項３に記載の表示パネル。

【請求項5】

前記凹溝の深さが前記凹溝にある発光層の厚さよりも大きい請求項３に記載の表示パネル。

【請求項6】

前記ダム構造は、前記表示領域に近い側及び前記表示領域から遠い側がそれぞれ前記凹溝の開口の一部を覆う第１ダムを含む請求項１に記載の表示パネル。

【請求項7】

前記ダム構造は、前記第１ダムの前記表示領域から遠い側に設けられる第２ダムをさらに含み、前記第２ダムの前記第１ダムに近い側及び前記第１ダムから遠い側がそれぞれ前記凹溝の開口の一部を覆う請求項６に記載の表示パネル。

【請求項8】

前記第１ダムと前記第２ダムとの間に設けられる２つの前記凹溝の間が連通していない請求項７に記載の表示パネル。

【請求項9】

前記封止層は、順に積層して設けられる第１無機封止層、有機封止層、第２無機封止層を含み、
前記第１無機封止層及び前記第２無機封止層がそれぞれ前記発光層を覆って前記ダム構造及び前記凹溝を延びて覆うとともに、前記凹溝で分断されることなく連続している請求項１に記載の表示パネル。

【請求項10】

前記封止層の一部が前記凹溝に充填される請求項１に記載の表示パネル。

【請求項11】

表示領域と、前記表示領域を取り囲む非表示領域とを含む表示パネルを含み、前記表示パネルが、
基板と、
前記基板の一側に設けられて、前記非表示領域に凹溝が設けられる無機構造層と、
前記無機構造層の前記基板から遠い側に設けられるダム構造であって、前記ダム構造の少なくとも一側が前記凹溝の開口の一部を覆うダム構造と、
前記無機構造層の前記基板から遠い側に設けられて、前記非表示領域に前記ダム構造を覆うとともに前記凹溝で分断される発光層と、
前記発光層の前記基板から遠い側に設けられて、非表示領域に前記ダム構造及び前記凹溝を覆う封止層と、を含む表示装置。

【請求項12】

前記表示パネルは、
前記基板と前記発光層との間に設けられる駆動回路層であって、前記無機構造層と、前記無機構造層に設けられるトランジスタ構造と、前記無機構造層の前記基板から遠い側に設けられる有機構造層とを含む駆動回路層をさらに含み、
前記ダム構造が前記有機構造層と同じ有機材料を含む請求項１１に記載の表示装置。

【請求項13】

前記駆動回路層は、
前記基板の一側に設けられるバッファ層と、
前記バッファ層の前記基板から遠い側に設けられる半導体層と、
前記半導体層の前記基板から遠い側に設けられるゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層の前記基板から遠い側に設けられるゲート層と、
前記ゲート層の前記基板から遠い側に設けられる第１絶縁層と、
前記第１絶縁層の前記基板から遠い側に設けられる金属層と、
前記金属層の前記基板から遠い側に設けられる第２絶縁層と、
前記第２絶縁層の前記基板から遠い側に設けられるソースドレイン層と、
前記ソースドレイン層の前記基板から遠い側に設けられる平坦化層と、
前記平坦化層の前記基板から遠い側に設けられる画素画定層と、を含み、
前記無機構造層は、前記バッファ層、前記ゲート絶縁層、前記第１絶縁層、前記第２絶縁層を含み、前記凹溝が少なくとも前記第２絶縁層を貫通し、
前記有機構造層が前記平坦化層及び前記画素画定層を含む請求項１２に記載の表示装置。

【請求項14】

前記ダム構造の前記凹溝の開口を覆う側縁から前記凹溝の開口が覆われる側縁までの距離を第１閾値とし、前記第１閾値の範囲が５００～１０００ｎｍであり、
前記凹溝の底面幅を第２閾値とし、前記第２閾値が前記第１閾値よりも大きく、
前記凹溝の深さを第３閾値とし、前記第３閾値の範囲が３００～５００ｎｍである請求項１３に記載の表示装置。

【請求項15】

前記凹溝の深さが前記凹溝にある発光層の厚さよりも大きい請求項１３に記載の表示装置。

【請求項16】

前記ダム構造は、前記表示領域に近い側及び前記表示領域から遠い側がそれぞれ前記凹溝の開口の一部を覆う第１ダムを含む請求項１１に記載の表示装置。

【請求項17】

前記ダム構造は、前記第１ダムの前記表示領域から遠い側に設けられる第２ダムをさらに含み、前記第２ダムの前記第１ダムに近い側及び前記第１ダムから遠い側がそれぞれ前記凹溝の開口の一部を覆う請求項１６に記載の表示装置。

【請求項18】

前記第１ダムと前記第２ダムとの間に設けられる２つの前記凹溝の間が連通していない請求項１７に記載の表示装置。

【請求項19】

前記封止層は、順に積層して設けられる第１無機封止層、有機封止層、第２無機封止層を含み、
前記第１無機封止層及び前記第２無機封止層がそれぞれ前記発光層を覆って前記ダム構造及び前記凹溝を延びて覆うとともに、前記凹溝で分断されることなく連続している請求項１１に記載の表示装置。

【請求項20】

前記封止層の一部が前記凹溝に充填される請求項１１に記載の表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、表示技術分野に関し、特に表示パネル及び表示装置に関する。

【背景技術】

【0002】

フレキシブル有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ－Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ，ＯＬＥＤ）ディスプレイは、低消費電力、可撓性などの特性を有し、ウェアラブルデバイスの応用に大きな影響を与え、プラスチックをガラスの代わりに用いてディスプレイを作製することにより、ディスプレイをより耐久性があり、軽量にし、性能に優れたフレキシブルＯＬＥＤディスプレイは、個人スマート端末の普及に伴って広く応用されている。

【0003】

有機エレクトロルミネッセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏ－Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ，ＥＬ）材料は、蒸着する際にマスク板（ｍａｓｋ）の開口縁にシャドー（ｓｈａｄｏｗ）効果を形成する。ｍａｓｋの設計を最適化しても、ｓｈａｄｏｗ効果を完全に除去することはできない。そのため、パネルを設計する際に、各ＥＬ材料が膜を蒸着する際のシャドー状況を考慮する必要があり、パネル額縁が大きく増加してしまう。ユーザーエクスペリエンスを向上させるために、製品の額縁を絶えずに圧縮していく。額縁を圧縮する際に、ＥＬ成膜の有効範囲も大きく圧縮されることにより、ＥＬ膜層あるいはｓｈａｄｏｗがパネル縁部のダム（Ｄａｍ）を覆い、水蒸気侵入の経路を短縮し、製品の信頼性を大幅に低下させ、製品の使用寿命に影響を与える。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本発明の実施例は、発光層からの水蒸気の侵入を阻止し、表示パネルの信頼性を向上させることができる表示パネル及び表示パネルの製造方法を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本発明の実施例は、表示領域と、前記表示領域を取り囲む非表示領域とを含む表示パネルであって、
基板と、
前記基板の一側に設けられて、前記非表示領域に凹溝が設けられる無機構造層と、
前記無機構造層の前記基板から遠い側に設けられるダム構造であって、前記ダム構造の少なくとも一側が前記凹溝の開口の一部を覆うダム構造と、
前記無機構造層の前記基板から遠い側に設けられて、前記非表示領域に前記ダム構造を覆うとともに前記凹溝で分断される発光層と、
前記発光層の前記基板から遠い側に設けられて、非表示領域に前記ダム構造及び前記凹溝を覆う封止層と、を含む表示パネルを提供する。

【0006】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記表示パネルは、
前記基板と前記発光層との間に設けられる駆動回路層であって、前記無機構造層と、前記無機構造層に設けられるトランジスタ構造と、前記無機構造層の前記基板から遠い側に設けられる有機構造層とを含む駆動回路層をさらに含み、
前記ダム構造が前記有機構造層と同じ有機材料を含む。

【0007】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記駆動回路層は、
前記基板の一側に設けられるバッファ層と、
前記バッファ層の前記基板から遠い側に設けられる半導体層と、
前記半導体層の前記基板から遠い側に設けられるゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層の前記基板から遠い側に設けられるゲート層と、
前記ゲート層の前記基板から遠い側に設けられる第１絶縁層と、
前記第１絶縁層の前記基板から遠い側に設けられる金属層と、
前記金属層の前記基板から遠い側に設けられる第２絶縁層と、
前記第２絶縁層の前記基板から遠い側に設けられるソースドレイン層と、
前記ソースドレイン層の前記基板から遠い側に設けられる平坦化層と、
前記平坦化層の前記基板から遠い側に設けられる画素画定層と、を含み、
前記無機構造層は、前記バッファ層、前記ゲート絶縁層、前記第１絶縁層、前記第２絶縁層を含み、前記凹溝が少なくとも前記第２絶縁層を貫通し、
前記有機構造層が前記平坦化層及び前記画素画定層を含む。

【0008】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記ダム構造の前記凹溝の開口を覆う側縁から前記凹溝の開口が覆われる側縁までの距離を第１閾値とし、前記第１閾値の範囲が５００～１０００ｎｍであり、
前記凹溝の底面幅を第２閾値とし、前記第２閾値が前記第１閾値よりも大きく、
前記凹溝の深さを第３閾値とし、前記第３閾値の範囲が３００～５００ｎｍである。

【0009】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記凹溝の深さが前記凹溝にある発光層の厚さよりも大きい。

【0010】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記ダム構造は、前記表示領域に近い側及び前記表示領域から遠い側がそれぞれ前記凹溝の開口の一部を覆う第１ダムを含む。

【0011】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記ダム構造は、前記第１ダムの前記表示領域から遠い側に設けられる第２ダムをさらに含み、前記第２ダムの前記第１ダムに近い側及び前記第１ダムから遠い側がそれぞれ前記凹溝の開口の一部を覆う。

【0012】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記第１ダムと前記第２ダムとの間に設けられる２つの前記凹溝の間が連通していない。

【0013】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記封止層は、順に積層して設けられる第１無機封止層、有機封止層、第２無機封止層を含み、
前記第１無機封止層及び前記第２無機封止層がそれぞれ前記発光層を覆って前記ダム構造及び前記凹溝を延びて覆うとともに、前記凹溝で分断されることなく連続している。

【0014】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記封止層の一部が前記凹溝に充填される。

【0015】

本発明の実施例は、表示領域と、前記表示領域を取り囲む非表示領域とを含む表示パネルを含み、前記表示パネルが、
基板と、
前記基板の一側に設けられて、前記非表示領域に凹溝が設けられる無機構造層と、
前記無機構造層の前記基板から遠い側に設けられるダム構造であって、前記ダム構造の少なくとも一側が前記凹溝の開口の一部を覆うダム構造と、
前記無機構造層の前記基板から遠い側に設けられて、前記非表示領域に前記ダム構造を覆うとともに前記凹溝で分断される発光層と、
前記発光層の前記基板から遠い側に設けられて、非表示領域に前記ダム構造及び前記凹溝を覆う封止層と、を含む表示装置を提供する。

【0016】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記表示パネルは、
前記基板と前記発光層との間に設けられる駆動回路層であって、前記無機構造層と、前記無機構造層に設けられるトランジスタ構造と、前記無機構造層の前記基板から遠い側に設けられる有機構造層とを含む駆動回路層をさらに含み、
前記ダム構造が前記有機構造層と同じ有機材料を含む。

【0017】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記駆動回路層は、
前記基板の一側に設けられるバッファ層と、
前記バッファ層の前記基板から遠い側に設けられる半導体層と、
前記半導体層の前記基板から遠い側に設けられるゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層の前記基板から遠い側に設けられるゲート層と、
前記ゲート層の前記基板から遠い側に設けられる第１絶縁層と、
前記第１絶縁層の前記基板から遠い側に設けられる金属層と、
前記金属層の前記基板から遠い側に設けられる第２絶縁層と、
前記第２絶縁層の前記基板から遠い側に設けられるソースドレイン層と、
前記ソースドレイン層の前記基板から遠い側に設けられる平坦化層と、
前記平坦化層の前記基板から遠い側に設けられる画素画定層と、を含み、
前記無機構造層は、前記バッファ層、前記ゲート絶縁層、前記第１絶縁層、前記第２絶縁層を含み、前記凹溝が少なくとも前記第２絶縁層を貫通し、
前記有機構造層が前記平坦化層及び前記画素画定層を含む。

【0018】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記ダム構造の前記凹溝の開口を覆う側縁から前記凹溝の開口が覆われる側縁までの距離を第１閾値とし、前記第１閾値の範囲が５００～１０００ｎｍであり、
前記凹溝の底面幅を第２閾値とし、前記第２閾値が前記第１閾値よりも大きく、
前記凹溝の深さを第３閾値とし、前記第３閾値の範囲が３００～５００ｎｍである。

【0019】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記凹溝の深さが前記凹溝にある発光層の厚さよりも大きい。

【0020】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記ダム構造は、前記表示領域に近い側及び前記表示領域から遠い側がそれぞれ前記凹溝の開口の一部を覆う第１ダムを含む。

【0021】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記ダム構造は、前記第１ダムの前記表示領域から遠い側に設けられる第２ダムをさらに含み、前記第２ダムの前記第１ダムに近い側及び前記第１ダムから遠い側がそれぞれ前記凹溝の開口の一部を覆う。

【0022】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記第１ダムと前記第２ダムとの間に設けられる２つの前記凹溝の間が連通していない。

【0023】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記封止層は、順に積層して設けられる第１無機封止層、有機封止層、第２無機封止層を含み、
前記第１無機封止層及び前記第２無機封止層がそれぞれ前記発光層を覆って前記ダム構造及び前記凹溝を延びて覆うとともに、前記凹溝で分断されることなく連続している。

【0024】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記封止層の一部が前記凹溝に充填される。

【発明の効果】

【0025】

本発明の実施例に係る表示パネルは、基板、無機構造層、ダム構造及び発光層を含む。無機構造層が基板上に設けられる。無機構造層上に凹溝が設けられる。ダム構造が無機構造層上に設けられる。発光層がダム及び無機構造層上に設けられる。ダム構造の少なくとも一側が凹溝の開口の一部を覆う。発光層が凹溝で分断される。表示パネルは、ダムの下方に凹溝が設けられて、ダム構造の少なくとも一側が凹溝の開口の一部を覆うことで、アンダーカット構造を形成する。発光層が成膜の際に凹溝で分断されるように、アンダーカット構造が発光層に対して遮断役割を果たすことができる。したがって、水蒸気が発光層に沿って侵入する経路を遮断し、表示パネルの信頼性を向上させ、製品の使用寿命を向上させる。

【0026】

本発明の実施例における技術的手段をより明確に説明するために、以下、実施例の説明で使用する必要がある図面を簡単に紹介し、以下の説明における図面は、本発明の幾つかの実施例に過ぎなく、当業者にとっては創造的努力なしにこれらの図面から他の図面を導き出すこともできることは明らかである。

【図面の簡単な説明】

【0027】

【図1】本発明の実施例に係る表示パネルの構造概略図である。

【図2】本発明の実施例に係る表示パネルの非表示領域の第１の構造概略図である。

【図3】本発明の実施例に係る表示パネルの表示領域の構造概略図である。

【図4】本発明の実施例に係る表示パネルの部分構造概略図である。

【図5】本発明の実施例に係る表示パネルの非表示領域の第２の構造概略図である。

【図6】本発明の実施例に係る表示パネルにおける非表示領域の第３の構造概略図である。

【図7】本発明の実施例に係る表示パネルの製造方法のフローチャートである。

【図8a】本発明の実施例に係る表示パネルの製造方法のステップ概略図である。

【図8b】本発明の実施例に係る表示パネルの製造方法のステップ概略図である。

【図8c】本発明の実施例に係る表示パネルの製造方法のステップ概略図である。

【図8d】本発明の実施例に係る表示パネルの製造方法のステップ概略図である。

【図8e】本発明の実施例に係る表示パネルの製造方法のステップ概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0028】

以下、本発明の実施例における図面を参照しながら、本発明の実施例における技術的手段を明確かつ完全に説明するが、説明した実施例は本発明の実施例のすべてではなく、単に実施例の一部であることは明らかである。本発明における実施例に基づいて、当業者が創造的努力なしに取得したすべての他の実施例は、いずれも本発明の保護範囲に属している。また、ここで記載する具体的な実施形態は本発明を説明や解釈するためのものであり、本発明を限定するためのものではないことを理解されたい。本発明において、反対の説明がなされない場合、「上」及び「下」などの使用される方向語は、通常、装置が実際に使用されている状態又は稼働している状態における上及び下を意味し、具体的に図面における図面方向であるが、「内」及び「外」は、装置の輪郭について示すものである。

【0029】

本発明の実施例は、アレイ基板及びアレイ基板の製造方法を提供する。以下、それぞれについて詳細に説明する。なお、以下の実施例の説明順序は、実施例の好ましい順序を限定するものではない。

【0030】

図１及び図２を参照されたく、図１は本発明の実施例に係る表示パネルの構造概略図である。図２は本発明の実施例に係る表示パネルの非表示領域の構造概略図である。本発明の実施例に係る表示パネル１００は、表示領域ＡＡと、表示領域ＡＡを取り囲む非表示領域ＮＡとを含む。表示パネル１００は、基板１０１、無機構造層１０２、ダム構造１０３、発光層１０４及び封止層１０５を含む。無機構造層１０２が基板１０１の一側に設けられて、非表示領域ＮＡに凹溝１０２ａが設けられる。ダム構造１０３が無機構造層１０２の基板１０１から遠い側に設けられて、ダム構造１０３の少なくとも一側が凹溝１０２ａの開口の一部を覆う。発光層１０４が無機構造層１０２の基板１０１から遠い側に設けられて、非表示領域ＮＡにおいてダム構造１０３を覆うとともに凹溝１０２ａで分断される。封止層１０５が発光層１０４の基板１０１から遠い側に設けられて、非表示領域ＮＡにおいてダム構造１０３及び凹溝１０２ａを覆う。

【0031】

本発明の実施例に係る表示パネルは、基板１０１、無機構造層１０２、ダム構造１０３、発光層１０４及び封止層１０５を含む。水蒸気がフレキシブルＯＬＥＤディスプレイに侵入することを防止するために、フレキシブルＯＬＥＤディスプレイに薄膜封止構造を作製するのが一般的である。薄膜封止構造における有機材料が溢れ出すことを防止するために、ディスプレイの額縁にダムを作製する。一部の狭額縁ディスプレイの額縁領域が小さい場合に、発光材料の成膜領域も圧縮される。これは、発光材料が成膜時にダムを覆って、水蒸気が侵入する経路を短縮し、ディスプレイの信頼性を低減する。本発明の実施例に係る表示パネル１００は、無機構造層１０２に凹溝１０２ａが設けられる。そして、ダム構造１０３の少なくとも一側が凹溝１０２ａの開口の一部を覆う。即ちダム構造１０３の下方にアンダーカット構造（Ｕｎｄｅｒｃｕｔ）を形成する。発光層１０４が成膜の際に、ダム構造１０３及び凹溝１０２ａで分断されるように、このようなアンダーカット構造が発光層１０４に対して遮断役割を果たすことができる。これにより、水蒸気が発光層１０４に沿って侵入する経路を遮断し、表示パネル１００の信頼性を向上させ、製品の使用寿命を延長する。そして、封止層１０５を用いて表示パネル１００における発光層１０４及びデバイス構造を封止し、水蒸気が発光層１０４から侵入することを遮断するとともに、表示パネル１００をうまく封止し、水蒸気の侵入をよりよく遮断することができる。

【0032】

そして、ダム構造１０３の下に凹溝１０２ａが設けられるとともに、ダム構造１０３が凹溝１０２ａの開口の一部を覆う。製造の際に発光層１０４の蒸着有効領域を適宜に緩和することができる。狭額縁の表示パネル１００は、発光層１０４がダム構造１０３を覆うことで水や酸素の侵入問題を効果的に解決することができる。したがって、表示パネル１００の額縁を効果的に短縮することができる。

【0033】

所望により、図２及び図３を参照されたく、図３は本発明の実施例に係る表示パネルの表示領域の構造概略図である。表示パネル１００は、基板１０１と発光層１０４との間に設けられる駆動回路層１０をさらに含む。駆動回路層１０は、無機構造層と、無機構造層に設けられるトランジスタ構造と、無機構造層の基板から遠い側に設けられる有機構造層とを含む。ダム構造は、有機構造層と同じ有機材料を含む。

【0034】

なお、同一のエッチング液は、有機膜層及び無機膜層をエッチングする速度が異なり、また、無機膜層によってエッチング速度が異なる。したがって、ダム構造が有機材料を用いて製造し、さらにエッチングの方法により無機構造層をエッチングし、ダム構造の下方にアンダーカット構造を容易に製造することができる。所望により、エッチング液がフッ化水素酸（ＨＦ）を用いることができる。

【0035】

所望により、駆動回路層１０は、バッファ層１０２１、半導体層１１、ゲート絶縁層１０２２、ゲート層１２、第１絶縁層１０２３、金属層１３、第２絶縁層１０２４、ソースドレイン層１４、平坦化層１５１、画素電極層１６及び画素画定層１５２を含む。バッファ層１０２１が基板１０１の一側に設けられる。半導体層１１がバッファ層１０２１の基板１０１から遠い側に設けられる。ゲート絶縁層１０２２が半導体層１１の基板１０１から遠い側に設けられる。ゲート層１２がゲート絶縁層１０２２の基板１０１から遠い側に設けられる。第１絶縁層１０２３がゲート層１２の基板１０１から遠い側に設けられる。金属層１３が第１絶縁層１０２３の基板１０１から遠い側に設けられる。第２絶縁層１０２４が金属層１３の基板１０１から遠い側に設けられる。ソースドレイン層１４が第２絶縁層１０２４の基板１０１から遠い側に設けられる。平坦化層１５１がソースドレイン層１４の基板１０１から遠い側に設けられる。画素画定層１５２が平坦化層１５１の基板１０１から遠い側に設けられる。画素電極層１６が平坦化層１５１に設けられるとともに、ビアホールを介してソースドレイン層１４に接続される。発光層が画素電極層１６の基板１０１から遠い側に設けられる。

【0036】

無機構造層１０２は、バッファ層１０２１、ゲート絶縁層１０２２、第１絶縁層１０２３、第２絶縁層１０２４を含む。凹溝１０２ａが少なくとも第２絶縁層１０２４を貫通する。有機構造層１５が平坦化層１５１及び画素画定層１５２を含む。半導体層１１は、ソース領域１１１、活性領域１１２及びドレイン領域１１３を含む。

【0037】

なお、駆動回路層１０の具体的な構造は当業者によく知られる技術であるため、本発明で詳しい説明を省略する。また、上記の駆動回路層１０はデュアルゲート型の薄膜トランジスタを例として説明するが、本発明の実施例では薄膜トランジスタの具体的な種別を限定するものではない。トップゲート型の薄膜トランジスタであってもよいし、ボトムゲート型の薄膜トランジスタであってもよい。さらにデュアルゲート型の薄膜トランジスタであってもよいし、シングルゲート型の薄膜トランジスタであってもよい。

【0038】

凹溝１０２ａが少なくとも第２絶縁層１０２４を貫通する。所望により、凹溝１０２ａが引続き下方に延びることができる。例えば、凹溝１０２ａが第２絶縁層１０２４及び第１絶縁層１０２３の一部を貫通する。又は、凹溝１０２ａが第２絶縁層１０２４及び第１絶縁層１０２３を貫通する。又は、凹溝１０２ａが第２絶縁層１０２４、第１絶縁層１０２３及びゲート絶縁層１０２２を貫通する。本発明は、凹溝１０２ａの無機構造層１０２を貫通する深さを限定するものではない。

【0039】

具体的には、無機構造層１０２における少なくとも一層が単層構造である。凹溝１０２ａの深さが無機構造層１０２の厚さよりも小さい。即ち、無機構造層１０２が単層である場合に、凹溝１０２ａが無機構造層１０２をエッチングにより貫通しないように、無機構造層１０２の厚さに合わせてエッチング液の使用量を制御する。

【0040】

又は、無機構造層１０２における少なくとも一層が積層して設けられる多層の副層である。例えば、第２絶縁層１０２４が多層の副層からなる膜層である。凹溝１０２ａが第２絶縁層１０２４の基板１０１から遠い側の少なくとも１層の副層を貫通する。例えば、第２絶縁層１０２４の基板１０１から遠い方向に向かって酸化チタン層、酸化ケイ素層及び酸化アルミニウム層が順に積層して設けられ、酸化アルミニウムの特定のエッチング液を用いて酸化アルミニウム層をエッチングする。酸化アルミニウムの特定のエッチング液の酸化ケイ素に対するエッチング速度が酸化アルミニウムに対するエッチング速度よりも小さいため、エッチングが酸化アルミニウム層の左右に向かってエッチングし続け、酸化ケイ素層をエッチングにより貫通することができない。したがって、無機構造層１０２上にアンダーカット構造を形成する。

【0041】

無機構造層１０２における副層は、さらに他の順序又は他の材料で形成される膜層であってもよいことを理解されたい。上記の無機構造層１０２は、基板から遠い方向に向かって順に積層して設けられた酸化チタン層、酸化ケイ素層及び酸化アルミニウム層を含むことは一実施形態のみであるが、本発明を限定するものではない。また、凹溝１０２ａが酸化アルミニウム層を貫通することも例であり、凹溝１０２ａがさらに酸化アルミニウム層及び酸化ケイ素層などを貫通することができる。

【0042】

所望により、引続き図２を参照されたい。ダム構造１０３は第１ダム１０３１を含む。第１ダム１０３１の表示領域ＡＡに近い側及び表示領域ＡＡから遠い側がそれぞれ凹溝１０２ａの開口の一部を覆う。所望により、ダム構造１０３は、第１ダム１０３１の表示領域ＡＡから遠い側に設けられる第２ダム１０３２をさらに含む。第２ダム１０３２の第１ダム１０３１に近い側及び第１ダム１０３１から遠い側がそれぞれ凹溝１０２ａの開口の一部を覆う。所望により、第１ダム１０３１と第２ダム１０３２との間に設けられる２つの凹溝１０２ａの間が連通していない。

【0043】

上記の設計により、発光層１０４がダム構造１０３と凹溝１０２ａとに形成されたアンダーカット構造で十分に分断されるように確保し、水蒸気が発光層１０４に沿って表示パネル１００の内部に侵入することを効果的に防止することができる。

【0044】

所望により、引続き図２を参照されたい。封止層１０５は、順に積層して設けられる第１無機封止層１０５１、有機封止層１０５２、第２無機封止層１０５３を含む。第１無機封止層１０５１及び第２無機封止層１０５３にそれぞれ発光層１０４を覆ってダム構造１０３及び凹溝１０２ａを延びて覆うとともに、凹溝１０２ａで分断されることなく連続している。

【0045】

第１無機封止層１０５１及び第２無機封止層１０５３が用いられる材料は、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素及び炭窒化ケイ素の１種又は複数種の組み合わせである。有機封止層１０５２が用いられる材料は、有機層が用いられる材料であり、アクリルアミド、ポリアクリル酸エステル、ポリカーボネート、ポリスチレン及びヘキサメチルジシロキサンの１種又は複数種の組み合わせである。封止層１０５が無機材料と有機材料との組み合わせを用いて封止すると、より良い封止効果を得ることができる。第１無機封止層１０５１及び第２無機封止層１０５３が水や酸素を遮断するためのものである。そして、有機封止層１０５２の有機的特性により、水蒸気の侵入経路を延長する。また、有機封止層１０５２が段差被覆性に優れており、封止すべき膜層をうまく被覆することができる。有機材料と無機材料とを組み合わせることにより、封止層の水や酸素遮断能力を向上させ、表示パネル１００の寿命を向上させることができる。

【0046】

有機封止層１０５２を第１無機封止層１０５１と第２無機封止層１０５３との間に設けることにより、第１無機封止層１０５１及び第２無機封止層１０５３がダムのような役割を果たすことができる。有機封止層１０５２が水や酸素を吸着した後、第１無機封止層１０５１及び第２無機封止層１０５３が水や酸素を有機封止層１０５２内に遮断することができ、水や酸素を閉じ込める遮断空間を形成し、さらに水や酸素の拡散侵入を防止する。この封止層１０５は水や酸素遮断性及び封止の信頼性をさらに向上させる。

【0047】

なお、封止層１０５は、無機／有機／無機／有機／無機の５層の積層構造であってもよく、又は他の構造であってもよい。表示パネル１００の寸法及び薄型化の要求に基づいて封止層１０５を適宜設計することができる。

【0048】

発光層１０４の厚さが凹溝１０２ａの深さよりも小さく、封止層１０５の厚さが凹溝１０２ａの深さよりも大きい。これにより、発光層１０４をアンダーカット空間１０２ｂで分断して、封止層１０５をアンダーカット空間１０２ｂで連続膜層とすることができる。

【0049】

封止層１０５が凹溝１０２ａの他の一部の開口を覆う。製造中に、封止層１０５の製造工程を制御することにより、封止層１０５が凹溝１０２ａに入り込んで、封止層１０５を凹溝１０２ａで浮き上がらせることを防止することができる。このような構造は、封止層１０５のダム構造１０３の両側における段差を低減し、封止層１０５の破断を防止し、封止層１０５の封止効果を保障し、表示パネル１００の信頼性をさらに高めることができる。

【0050】

所望により、図４を参照されたく、図４は本発明の実施例に係る表示パネルの部分構造概略図である。ダム構造１０３の凹溝１０２ａの開口を覆う側縁から凹溝１０２ａの開口が覆われる側縁までの距離を第１閾値ａとする。第１閾値ａの範囲が５００～１０００ｎｍである。凹溝１０２ａの底面幅を第２閾値ｂとし、第２閾値ｂが第１閾値ａよりも大きい。凹溝１０２ａの深さを第３閾値ｃとし、第３閾値ｃの範囲が３００～５００ｎｍである。

【0051】

具体的には、第１閾値ａの範囲が５００ｎｍ、５５０ｎｍ、６００ｎｍ、６５０ｎｍ、７００ｎｍ、７５０ｎｍ、８００ｎｍ、８５０ｎｍ、９００ｎｍ、９５０ｎｍ又は１０００ｎｍであってもよい。第３閾値ｃの範囲が３００ｎｍ、３１０ｎｍ、３２０ｎｍ、３３０ｎｍ、３４０ｎｍ、３５０ｎｍ、４００ｎｍ、４５０ｎｍ、４６０ｎｍ、４７０ｎｍ、４８０ｎｍ、４９０ｎｍ又は５００ｎｍであってもよい。

【0052】

範囲形式での記述は、単に便宜上及び簡潔にするためのものであり、本発明の範囲を厳密に限定するものと解釈されるべきではないことを理解されたい。したがって、記載された範囲記述は、全ての可能なサブ範囲及びその範囲内の単一の数値を具体的に開示したものと考えられる。例えば、３００ナノメートルから５００ナノメートルまでの範囲の記述は、３００ナノメートルから３４７ナノメートルまで、４１５ナノメートルから４８８ナノメートルまでなどのサブ範囲、並びに３００、３０１、３０２及び３０３などの所属範囲内の単一の数字などを具体的に開示したものと考えられ、これは、範囲を問わずに適用する。また、本明細書で示される数値範囲は、常に示される範囲内の任意の引用数字（分数又は整数）を含むことを意味する。

【0053】

本発明の実施例に係る表示パネルの発光層１０４は、ダム構造１０３の下方の凹溝１０２ａで分散される必要があるとともに、封止層１０５を連続膜層とするように確保する。したがって、本発明の発明者らは、第１閾値ａの範囲を５００～１０００ｎｍとし、凹溝１０２ａの底面幅を第２閾値ｂとし、第２閾値ｂが第１閾値ａよりも大きく、第３閾値ｃの範囲を３００～５００ｎｍとすることを満たす場合に、封止層１０５が凹溝１０２ａで分断されることなく、発光層１０４が凹溝１０２ａで分断される構造を製造することができることを実験により見出した。これにより、発光層１０４の水や酸素の侵入経路を遮断し、封止層１０５の封止効果を確保する。

【0054】

所望により、凹溝１０２ａの深さｃが凹溝１０２ａにある発光層１０４の厚さよりも大きい。これにより、発光層１０４が凹溝１０２ａで分断されることをよりよく確保することができる。

【0055】

所望により、図５を参照されたく、図５は本発明の実施例に係る表示パネルの非表示領域の第２の構造概略図である。表示パネル１００は、充填材層１０２ｂをさらに含む。充填材層１０２ｂが少なくとも凹溝１０２ａの一部に充填される。

【0056】

図５は充填材層１０２ｂが凹溝１０２ａの一部に充填されることを例に説明し、充填材層１０２ｂがさらに凹溝１０２ａに一杯充填されてもよい。具体的な充填材層１０２ｂの高さが凹溝１０２ａの深さ及び封止層１０５の厚さにより適宜調整することができる。

【0057】

充填材層１０２ｂが塗布する方法により凹溝１０２ａに充填されてもよい。例えば、具体的な一実施形態において、液体のりを凹溝１０２ａに充填した後、紫外光により照射し、液体のりを硬化させることにより、充填材層１０２ｂを形成する。

【0058】

凹溝１０２ａに充填材層１０２ｂを設けることにより、嵩上げ役割を果たすことができ、封止層１０５が堆積時に凹溝１０２ａに落下することにより過大な段差が生じにくく、封止層１０５が凹溝１０２ａで破断されることを防止する。そして、充填材層１０２ｂは、止水効果に優れた材料を用いて作製することができ、さらに凹溝１０２ａで発光層１０４を遮断する。また、充填材層１０２ｂはさらに、ダム構造１０３を強固させることができ、凹溝１０２ａを形成するとともに、ダム構造１０３の構造安定性を確保する。

【0059】

所望により、図６を参照されたく、図６は本発明の実施例に係る表示パネルの非表示領域の第３の構造概略図である。封止層１０５の一部が凹溝１０２ａに充填される。

【0060】

封止層１０５の一部が凹溝１０２ａに充填され、凹溝１０２ａにおける水や酸素遮断効果を増加させることができる。発光層１０４が分断される位置に封止層１０５が充填され、水や酸素の侵入をよりよく遮断することができ、表示パネル１００の信頼性を高め、表示パネル１００の使用寿命を増加することができる。一方で、凹溝１０２ａに封止層１０５が充填されると、ダム構造１０３を強固させ、ダム構造１０３が封止層１０５に押圧される場合に、凹溝１０２ａに傾斜して、表示パネル１００の封止信頼性に影響を与えることを防止する。

【0061】

所望により、第１無機封止層１０５１が凹溝１０２ａに充填される。封止層１０５における第１無機封止層１０５１の厚さが通常凹溝１０２ａの深さよりも大きい。そのため、第１無機封止層１０５１を用いて凹溝１０２ａに直接充填されてもよい。

【0062】

したがって、本発明の実施例は、表示パネルの製造方法をさらに提供する。具体的には、図７～図８ｅを参照されたい。図７は本発明の実施例に係る表示パネルの製造方法のフローチャートである。図８ａ～図８ｅは本発明の実施例に係る表示パネルの製造方法のステップ概略図である。本発明の実施例に係る表示パネルの製造方法は、具体的にステップ１１～ステップ１６を含む。

【0063】

ステップ１１：基板を提供する。

【0064】

ステップ１２：アレイ基板上に無機構造層を作製する。

【0065】

具体的には、図８ａを参照されたい。プラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）、原子層堆積法（ＡＬＤ）、パルスレーザー堆積法（ＰＬＤ）又はスパッタリング（Ｓｐｕｔｔｅｒ）の方法を用いて基板１０１上に無機構造層１０２を堆積することができる。無機構造層１０２の無機薄膜が用いられる材料は、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ケイ素、窒化ケイ素及び炭窒化ケイ素等の止水機能を増加させるための無機機能材料を含むが、これらに限定されるものではない。無機構造層１０２が一層又は多層構造であってもよく、少なくとも一層が特定のエッチング液によりエッチングされてもよい。

【0066】

ステップ１３：無機構造層上にダム構造を作製する。

【0067】

具体的には、図８ｂを参照されたい。ダム構造１０３の作製方法は当業者の常套手段であるため、ここでは詳しい説明を省略する。

【0068】

ステップ１４：エッチング液を用いて少なくとも一部の無機構造層をエッチングし、無機構造層上に凹溝を作製して、ダム構造の少なくとも一側が凹溝の開口の一部を覆う。

【0069】

具体的には、図８ｃを参照されたい。表示パネル１００の額縁領域のダム構造１０３の下方に、露光、現像、エッチングなどの方法により無機構造層１０２をエッチングして凹溝１０２ａを形成する。ダム構造１０３の少なくとも一側が凹溝１０２ａの開口の一部を覆うことで、凹溝１０２ａとダム構造１０３との基板１０１に近い側にアンダーカット構造を形成する。そして、ダム構造１０３の凹溝１０２ａの開口を覆う側縁から凹溝１０２ａの開口が覆われる側縁までの距離を第１閾値ａとする。第１閾値ａの範囲が５００～１０００ｎｍである。凹溝１０２ａの底面幅を第２閾値ｂとし、第２閾値ｂが第１閾値ａよりも大きい。凹溝１０２ａの深さを第３閾値ｃとし、第３閾値ｃの範囲が３００～５００ｎｍである。凹溝１０２ａで堆積される発光層１０４が分断するが、後続で作製する封止層１０５を分断することはない。

【0070】

ステップ１５：ダム構造及び無機構造層上に発光層を作製し、発光層が凹溝で分断される。

【0071】

具体的には、図８ｄを参照されたい。発光層マスク板によりアレイ基板上に発光層１０４を蒸着する。発光層１０４がダム構造１０３において凹溝１０２ａの作用のため分断され、連続していない発光層１０４を形成し、水蒸気が侵入する経路を遮断する。

【0072】

ステップ１６：発光層上に封止層を作製し、封止層が凹溝において連続膜層である。

【0073】

所望により、発光層上に封止層を作製するステップは、ステップ１６１～ステップ１６３を含む。

【0074】

ステップ１６１：発光層上に第１無機封止層を作製する。

【0075】

具体的には、図８ｅを参照されたい。プラズマ化学気相成長法、原子層堆積法、パルスレーザー堆積法又はスパッタリングの方法を用いて発光層１０４上に第１無機封止層１０５１を堆積する。第１無機封止層１０５１が用いられる材料は、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ケイ素、窒化ケイ素及び炭窒化ケイ素等の止水機能を増加させるための無機機能材料を含むが、これらに限定されるものではない。

【0076】

ステップ１６２：第１無機封止層上に有機封止層を作製する。

【0077】

具体的には、有機材料をインクジェットプリント（Ｉｎｋ－ｊｅｔ Ｐｒｉｎｔ， ＩＪＰ）、ＰＥＣＶＤ又はスリットコート法（ｓｌｏｔ ｃｏａｔｉｎｇ）により塗布するとともに、有機材料をフォトリソグラフィによりパターニングして、第１無機封止層上に一層の有機封止層を堆積する。有機封止層が用いられる材料は、アクリルアミド、ポリアクリル酸エステル、ポリカーボネート、ポリスチレン及びヘキサメチルジシロキサンを含むが、これらに限定されるものではない。有機封止層は、水蒸気の侵入経路を延長することができるだけではなく、デバイスを折り曲げたり折り畳んだりする際の応力を緩和するためにも用いられてもよい。また、有機封止層は、粒状汚染物を被覆し、表示不良を防止することもできる。

【0078】

ステップ１６３：有機封止層上に第２無機封止層を作製する。

【0079】

所望により、有機封止層上に第２無機封止層を作製する方法は、第１無機封止層を作製する方法と一致するため、ここでは詳しい説明を省略する。第２無機封止層を作製した後、図２に示す表示パネル１００を得る。なお、ステップ１７及びステップ１８は、複数回交互に行って、多層交互する有機、無機薄膜封止構造を得ることができる。

【0080】

本発明の実施例に係る表示パネルの製造方法は、表示パネルを製造するためのものであり、表示パネルが基板、無機構造層、ダム構造及び発光層を含む。無機構造層が基板上に設けられる。無機構造層上に凹溝が設けられる。ダム構造が無機構造層上に設けられる。発光層がダム構造及び無機構造層上に設けられる。エッチング液により無機構造層中の異なる材料をエッチングする速度が異なるため、ダム構造の下方にエッチングしてアンダーカット構造を形成することができる。発光層が成膜の際にアンダーカット構造で分断されるように、アンダーカット構造が発光層に対して遮断役割を果たすことができる。したがって、水蒸気が発光層に沿って侵入する経路を遮断し、表示パネルの信頼性を向上させ、製品の使用寿命を向上させる。

【0081】

また、ダム構造の下方にアンダーカット構造を設けることにより、作製の際に発光層の蒸着有効領域を適宜に緩和することができる。狭額縁の表示パネルは、発光層がダム構造を覆うことで水や酸素の侵入問題を効果的に解決することができる。したがって、表示パネルの額縁を効果的に短縮することができる。

【0082】

以上、本発明の実施例に係る表示パネル及び表示パネルの製造方法について詳細に説明したが、本明細書では具体的な実施例を用いて本発明の原理及び実施形態について説明したが、以上の実施例の説明は本発明の方法及びその核心的な思想を理解するためのものに過ぎず、一方、当業者であれば、本発明の構想に基づき、具体的な実施形態及び適用範囲に変更を加えることがあり、要約すると、本明細書の内容は本発明を限定するものとして理解されるべきではない。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8a】

【図8b】

【図8c】

【図8d】

【図8e】

【国際調査報告】