特表 2024-509650 バックライトパネルの製造方法、バックライトパネル及びバックライトモジュール

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-03-05

(54)【発明の名称】バックライトパネルの製造方法、バックライトパネル及びバックライトモジュール

(51)【国際特許分類】

   F21S 2/00 20160101AFI20240227BHJP

   G02B 5/08 20060101ALI20240227BHJP

   G03F 1/00 20120101ALI20240227BHJP

【ＦＩ】

F21S2/00 410

G02B5/08 C

G03F1/00 Z

【審査請求】有

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2021576419

(86)(22)【出願日】2021-12-10

(85)【翻訳文提出日】2022-01-25

(86)【国際出願番号】 CN2021137052

(87)【国際公開番号】W WO2023092692

(87)【国際公開日】2023-06-01

(31)【優先権主張番号】202111429012.2

(32)【優先日】2021-11-29

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】515203228

【氏名又は名称】ティーシーエル チャイナスター オプトエレクトロニクス テクノロジー カンパニー リミテッド

【氏名又は名称原語表記】ＴＣＬ Ｃｈｉｎａ Ｓｔａｒ Ｏｐｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．

【住所又は居所原語表記】Ｎｏ．９－２，Ｔａｎｇｍｉｎｇ Ｒｄ，Ｇｕａｎｇｍｉｎｇ Ｎｅｗ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ，Ｓｈｅｎｚｈｅｎ，Ｇｕａｎｇｄｏｎｇ，Ｃｈｉｎａ ５１８１３２

(74)【代理人】

【識別番号】100103894

【弁理士】

【氏名又は名称】家入 健

(72)【発明者】

【氏名】▲デン▼ 通

【テーマコード（参考）】

2H042

2H195

3K244

【Ｆターム（参考）】

2H042DA01

2H042DA09

2H042DA22

2H042DC01

2H042DE04

2H195BA12

2H195BC04

3K244AA01

3K244BA50

3K244CA02

3K244DA01

3K244EA02

3K244EA16

3K244LA10

(57)【要約】

本発明の実施形態は、バックライトパネルの製造方法、バックライトパネル及びバックライトモジュールを開示する。バックライトパネルの製造方法は、透光性ベース基板を提供するステップと、前記透光性ベース基板にパッドを形成するステップと、感光性材料を塗布して、反射層を形成するステップと、前記透光性ベース基板の対向する両側において前記反射層に露光処理を施すステップと、前記反射層に現像処理を施すステップとを含む。本発明は、感光性材料の感光量を増加させて、アンダーカットが生じることを防止して、バックライトパネルの全体の反射率を向上させることができる。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１領域及び第２領域を含む透光性ベース基板を提供するステップと、
前記透光性ベース基板の前記第１領域に対応する位置にパッドを形成するステップと、
反射層を形成するように、前記透光性ベース基板及び前記パッドに感光性材料を塗布するステップと、
前記透光性ベース基板の対向する両側において前記反射層の前記第２領域に対応する位置に露光処理を施すステップと、
前記反射層の前記第１領域に対応する位置において前記パッドを露出する凹溝を形成するように、前記反射層に現像処理を施すステップと、を含むバックライトパネルの製造方法。

【請求項2】

前記透光性ベース基板の対向する両側において前記反射層の前記第２領域に対応する位置に露光処理を施す前記ステップは、
前記反射層の前記透光性ベース基板から遠い側において、前記反射層の前記第２領域に対応する位置に第１露光強度で露光処理を施すことと、
前記透光性ベース基板の前記反射層から遠い側において、前記反射層の前記第２領域に対応する位置に、前記第１露光強度よりも大きい第２露光強度で露光処理を施すことと、を含む請求項１に記載のバックライトパネルの製造方法。

【請求項3】

前記第１露光強度が３００ミリジュール以上８００ミリジュール以下であり、及び／又は、
前記第２露光強度が３００ミリジュール以上８００ミリジュール以下である請求項２に記載のバックライトパネルの製造方法。

【請求項4】

前記透光性ベース基板の対向する両側において前記反射層の前記第２領域に対応する位置に露光処理を施す前記ステップは、
前記反射層の前記透光性ベース基板から遠い側において、前記反射層の前記第２領域に対応する位置に第１所定時間で露光を施すことと、
前記透光性ベース基板の前記反射層から遠い側において、前記反射層の前記第２領域に対応する位置に、前記第１所定時間よりも長い第２所定時間で露光を施すことと、を含む請求項１に記載のバックライトパネルの製造方法。

【請求項5】

前記透光性ベース基板の対向する両側において前記反射層の前記第２領域に対応する位置に露光処理を施す前記ステップは、
前記反射層の前記透光性ベース基板から遠い側及び前記透光性ベース基板の前記反射層から遠い側において、前記反射層の前記第２領域に対応する位置に露光処理を同時に施すことを含む請求項１に記載のバックライトパネルの製造方法。

【請求項6】

前記透光性ベース基板の前記第１領域の光透過率が、前記透光性ベース基板の前記第２領域の光透過率よりも小さい請求項１に記載のバックライトパネルの製造方法。

【請求項7】

前記透光性ベース基板を提供するステップは、
透光基板を提供することと、
前記透光性ベース基板を形成するように、前記透光基板の遮光領域の一側に遮光層を設けることであって、前記遮光領域が前記第１領域であること、又は、
前記透光性ベース基板を形成するように、前記透光基板の遮光領域の対向する両側に遮光層を設けることであって、前記遮光領域が前記第１領域であることと、を含む請求項１に記載のバックライトパネルの製造方法。

【請求項8】

前記透光性ベース基板の前記第１領域に対応する位置に前記パッドを形成する前記ステップは、
前記透光性ベース基板に金属層を形成することと、
前記透光性ベース基板の前記第１領域に対応する位置に前記パッドを形成するように、前記金属層の前記第２領域に対応する位置をエッチングすることと、を含む請求項１に記載のバックライトパネルの製造方法。

【請求項9】

前記反射層の厚さが７０ミクロン以下である請求項１に記載のバックライトパネルの製造方法。

【請求項10】

前記反射層における凹溝の側壁と前記バックライトパネルの前記パッドとの間に３０ミクロン以下の隙間を有する請求項１に記載のバックライトパネルの製造方法。

【請求項11】

前記パッドの前記隙間に対応する領域が前記第１領域である請求項１０に記載のバックライトパネルの製造方法。

【請求項12】

前記方法は、
ライトパネルを前記パッドと接続するステップをさらに含む請求項１に記載のバックライトパネルの製造方法。

【請求項13】

請求項１に記載のバックライトパネルの製造方法により製造されたバックライトパネルであって、
第１領域及び第２領域を含む透光性ベース基板と、
前記透光性ベース基板の前記第１領域に対応する位置に設けられるパッドと、
前記透光性ベース基板に設けられる反射層であって、前記反射層の前記パッドに対応する位置に凹溝が設けられ、前記凹溝から前記パッドが露出される反射層と、を含むバックライトパネル。

【請求項14】

前記バックライトパネルは、間隔をおいて設けられる複数の前記パッドを含み、前記凹溝から複数の前記パッドが露出される請求項１３に記載のバックライトパネル。

【請求項15】

前記バックライトパネルは、複数の前記パッドを含み、前記反射層に複数の前記凹溝が設けられ、複数の前記凹溝が複数の前記パッドと一対一に対応する請求項１３に記載のバックライトパネル。

【請求項16】

前記凹溝の側壁が前記透光性ベース基板と垂直である請求項１３に記載のバックライトパネル。

【請求項17】

前記透光性ベース基板は、遮光領域を含む透光基板と、前記遮光領域の少なくとも一側に設けられる遮光層と、を含み、前記遮光領域が前記第１領域である請求項１３に記載のバックライトパネル。

【請求項18】

前記遮光領域の対向する両側に前記遮光層が設けられる請求項１７に記載のバックライトパネル。

【請求項19】

前記バックライトパネルは、前記パッドに接続されるライトパネルをさらに含む請求項１３に記載のバックライトパネル。

【請求項20】

請求項１３に記載のバックライトパネルを含むバックライトモジュール。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、表示の技術分野に関し、具体的にバックライトパネルの製造方法、バックライトパネル及びバックライトモジュールに関する。

【背景技術】

【0002】

表示技術の発展に伴い、表示輝度を向上させるために、Ｍｉｎｉ－ＬＥＤ表示技術において、バックライトパネルのリアプレートの表面に反射層を塗布して、露光現像の方式によりウインドウ切り出しを形成してリアプレートにおけるパッド構造を露出する。従来の製造技術において、反射層にアンダーカットが生じやすいことで、バックライトパネルの反射率が低くなってしまう。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0003】

本発明の実施形態は、従来技術において反射層にアンダーカットが生じやすいことで、バックライトパネルの反射率が低くなってしまうという問題点を解消することができる、バックライトパネルの製造方法、バックライトパネル及びバックライトモジュールを提供する。

【課題を解決するための手段】

【0004】

本発明の実施形態は、
第１領域及び第２領域を含む透光性ベース基板を提供するステップと、
前記透光性ベース基板の前記第１領域に対応する位置にパッドを形成するステップと、
反射層を形成するように、前記透光性ベース基板及び前記パッドに感光性材料を塗布するステップと、
前記透光性ベース基板の対向する両側において前記反射層の前記第２領域に対応する位置に露光処理を施すステップと、
前記反射層の前記第１領域に対応する位置において前記パッドを露出する凹溝を形成するように、前記反射層に現像処理を施すステップと、を含むバックライトパネルの製造方法を提供する。

【0005】

所望により、本発明のいくつかの実施形態において、前記透光性ベース基板の対向する両側において前記反射層の前記第２領域に対応する位置に露光処理を施す前記ステップは、
前記反射層の前記透光性ベース基板から遠い側において、前記反射層の前記第２領域に対応する位置に第１露光強度で露光処理を施すことと、
前記透光性ベース基板の前記反射層から遠い側において、前記反射層の前記第２領域に対応する位置に、前記第１露光強度よりも大きい第２露光強度で露光処理を施すことと、を含む。

【0006】

所望により、本発明のいくつかの実施形態において、前記第１露光強度が３００ミリジュール以上８００ミリジュール以下であり、及び／又は、
前記第２露光強度が３００ミリジュール以上８００ミリジュール以下である。

【0007】

所望により、本発明のいくつかの実施形態において、前記透光性ベース基板の対向する両側において前記反射層の前記第２領域に対応する位置に露光処理を施す前記ステップは、
前記反射層の前記透光性ベース基板から遠い側において、前記反射層の前記第２領域に対応する位置に第１所定時間で露光を施すことと、
前記透光性ベース基板の前記反射層から遠い側において、前記反射層の前記第２領域に対応する位置に、前記第１所定時間よりも長い第２所定時間で露光を施すことと、を含む。

【0008】

所望により、本発明のいくつかの実施形態において、前記透光性ベース基板の対向する両側において前記反射層の前記第２領域に対応する位置に露光処理を施す前記ステップは、
前記反射層の前記透光性ベース基板から遠い側及び前記透光性ベース基板の前記反射層から遠い側において、前記反射層の前記第２領域に対応する位置に露光処理を同時に施すことを含む。

【0009】

所望により、本発明のいくつかの実施形態において、前記透光性ベース基板の第１領域の光透過率が、前記透光性ベース基板の第２領域の光透過率よりも小さい。

【0010】

所望により、本発明のいくつかの実施形態において、前記透光性ベース基板を提供するステップは、
透光基板を提供することと、
透光性ベース基板を形成するように、前記透光基板の遮光領域の一側に遮光層を設けることであって、前記遮光領域が第１領域であること、又は、
透光性ベース基板を形成するように、前記透光基板の遮光領域の対向する両側に遮光層を設けることであって、前記遮光領域が第１領域であることと、を含む。

【0011】

所望により、本発明のいくつかの実施形態において、前記透光性ベース基板の前記第１領域に対応する位置にパッドを形成する前記ステップは、
前記透光性ベース基板に金属層を形成することと、
前記透光性ベース基板の前記第１領域に対応する位置にパッドを形成するように、前記金属層の前記第２領域に対応する位置をエッチングすることと、を含む。

【0012】

所望により、本発明のいくつかの実施形態において、前記バックライトパネルの反射層の厚さが７０ミクロン以下である。

【0013】

所望により、本発明のいくつかの実施形態において、前記反射層における凹溝の側壁と前記バックライトパネルのパッドとの間に３０ミクロン以下の隙間を有する。

【0014】

所望により、本発明のいくつかの実施形態において、前記パッドの前記隙間に対応する領域が前記第１領域である。

【0015】

所望により、本発明のいくつかの実施形態において、前記方法は、
ライトパネルを前記パッドと接続するステップをさらに含む。

【0016】

したがって、本発明の実施形態は、上記のいずれか一つに記載のバックライトパネルの製造方法により製造されたバックライトパネルをさらに提供し、前記バックライトパネルは、
第１領域及び第２領域を含む透光性ベース基板と、
前記透光性ベース基板の前記第１領域に対応する位置に設けられるパッドと、
前記透光性ベース基板に設けられる反射層であって、前記反射層の前記パッドに対応する位置に凹溝が設けられ、前記凹溝から前記パッドが露出される反射層と、を含む。

【0017】

所望により、本発明のいくつかの実施形態において、前記バックライトパネルは、間隔をおいて設けられる複数の前記パッドを含み、前記凹溝から複数の前記パッドが露出される。

【0018】

所望により、本発明のいくつかの実施形態において、前記バックライトパネルは、複数の前記パッドを含み、前記反射層に複数の前記凹溝が設けられ、複数の前記凹溝が複数の前記パッドと一対一に対応する。

【0019】

所望により、本発明のいくつかの実施形態において、前記凹溝の側壁が前記透光性ベース基板と垂直である。

【0020】

所望により、本発明のいくつかの実施形態において、前記透光性ベース基板は、遮光領域を含む透光基板と、前記遮光領域の少なくとも一側に設けられる遮光層と、を含み、前記遮光領域が前記第１領域である。

【0021】

所望により、本発明のいくつかの実施形態において、前記遮光領域の対向する両側に前記遮光層が設けられる。

【0022】

所望により、本発明のいくつかの実施形態において、前記バックライトパネルは、前記パッドに接続されるライトパネルをさらに含む。

【0023】

したがって、本発明の実施形態は、前記バックライトパネルを含むバックライトモジュールをさらに提供する。

【発明の効果】

【0024】

本発明の実施形態におけるバックライトパネルの製造方法は、透光性ベース基板をキャリア基板として用い、透光性ベース基板の透光性を利用し透光性ベース基板の対向する両側において反射層に露光処理を施すことで、反射層の感光性材料における各感光性分子の感光量を増加させ、各感光性分子間の結合度を向上させ、反射層の厚さが厚いことにより、一部の感光性分子の感光量が低くてアンダーカットが生じてしまうことを防止し、反射層の構造安定性を確保し、バックライトパネルの全体反射率を向上させる。

【図面の簡単な説明】

【0025】

本発明の実施形態における技術的手段をより明確に説明するために、以下の実施形態の説明で必要となる図面を簡単に紹介し、以下の説明における図面は、本発明の幾つかの実施形態に過ぎなく、当業者にとっては創造的努力なしにこれらの図面から他の図面を導き出すこともできることは明らかである。

【図1】図１は本発明の実施形態に係るバックライトパネルの製造方法のフローチャートである。

【図2】図２は本発明の実施形態に係る図１におけるステップＳ４００のフローチャートである。

【図3】図３は本発明の実施形態に係る他の図１におけるステップＳ４００のフローチャートである。

【図4】図４は本発明の実施形態に係るバックライトパネルの構造概略図である。

【図5】図５は本発明の実施形態に係る他のバックライトパネルの構造概略図である。

【図6】図６は本発明の実施形態に係る図１におけるステップＳ２００の構造概略図である。

【図7】図７は本発明の実施形態に係る図１におけるステップＳ３００の構造概略図である。

【図8】図８は本発明の実施形態に係る図１におけるステップＳ４００の構造概略図である。

【図9】図９は本発明の実施形態に係る図１におけるステップＳ５００の構造概略図である。

【図10】図１０は本発明の実施形態に係る他の図１におけるステップＳ５００の構造概略図である。

【図11】図１１は本発明の実施形態に係るバックライトモジュールの構造概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0026】

以下、本発明の実施形態における図面を参照しながら、本発明の実施形態における技術的手段を明確かつ完全に説明するが、説明した実施形態は本発明の実施形態のすべてではなく、単に実施形態の一部であることは明らかである。本発明における実施形態に基づいて、当業者が創造的努力なしに取得したすべての他の実施形態は、いずれも本発明の保護範囲に属している。また、ここで記載する具体的な実施形態は本発明を説明や解釈するためのものであり、本発明を限定するためのものではないことを理解されたい。本発明において、反対の説明がなされない場合、「上」及び「下」などの使用される方向語は、通常、装置が実際に使用されている状態又は稼働している状態における上及び下を意味し、具体的に図面における図面方向であるが、「内」及び「外」は、装置の輪郭について示すものである。

【0027】

本発明の実施形態は、バックライトパネルの製造方法、バックライトパネル及びバックライトモジュールを提供する。以下、それぞれについて詳細に説明する。なお、以下の実施形態の説明順序は、実施形態の好ましい順序を限定するものではない。

【0028】

本発明の実施形態は、バックライトパネルの製造方法を提供し、図１及び図４に示すように、バックライトパネル１００の製造方法は、主にステップＳ１００～ステップＳ５００を含む。

【0029】

Ｓ１００：第１領域Ｓ１及び第２領域Ｓ２を含む透光性ベース基板１１０を提供する。

【0030】

本発明の実施形態における透光性ベース基板１１０は、光透過機能を有するキャリア基板であり、バックライトパネル１００における他の構造を支持する一方、バックライトパネル１００の製造においてフォトマスク工程の光の流れの設計を容易にし、実際の需要に応じてバックライトパネル１００の製造工程を調整設計する。

【0031】

透光性ベース基板１１０の材質がガラス基板又は他の複合材などであってもよく、このベース基板が光透過性を有するものであればよく、ここでは特に限定するものではない。

【0032】

所望により、透光性ベース基板１１０は第１領域Ｓ１及び第２領域Ｓ２を含む。第１領域Ｓ１及び第２領域Ｓ２は透光性ベース基板１１０上に設けられたフィルム層のタイプによって分割されてもよいし、又は透光性ベース基板１１０の光透過率によって分割され、又は透光性ベース基板１１０の異なる領域の機能によって分割され、具体的な分割方式は実際の状況によって適宜調整設計することができる。

【0033】

なお、第１領域Ｓ１及び第２領域Ｓ２の形状、大きさ及び相互間の位置関係などの具体的な構造は、バックライトパネル１００の製造工程及びバックライトパネル１００の具体的な構造に応じて適宜調整設計することができ、ここでは特に限定するものではない。

【0034】

Ｓ２００：透光性ベース基板１１０の第１領域Ｓ１に対応する位置にパッド１２０を形成する。透光性ベース基板１１０の領域を分割した後、後続の他の構造と透光性ベース基板１１０との間を容易に接続するために、透光性ベース基板１１０上にパッド１２０を形成する必要がある。

【0035】

なお、本発明の実施形態において、パッド１２０を第１領域Ｓ１に設けることは、パッド１２０の設置位置を位置決めするのに有利であり、後続の他の構造とパッド１２０との間の正確な接続を容易にする。そして、パッド１２０の設計要件は、透光性ベース基板１１０全体の構造設計を容易にするために、透光性ベース基板１１０における第１領域Ｓ１の分割を選択する根拠とすることもできる。即ちパッド１２０の特定の構造と透光性ベース基板１１０における第１領域Ｓ１の特定の構造とは互いに定義される関係にある。

【0036】

具体的には、図６に示すように、透光性ベース基板１１０にパッド１２０構造を形成するときに、透光性ベース基板１１０に金属層を形成した後、第１領域Ｓ１及び第２領域Ｓ２の分割パターンによって金属層をエッチングして、第２領域Ｓ２に位置する金属層をエッチングにより除去し、第１領域Ｓ１に位置する金属層を保留することにより、パッド１２０構造を形成する。

【0037】

Ｓ３００：反射層１３０を形成するように、透光性ベース基板１１０及びパッド１２０に感光性材料を塗布する。透光性ベース基板１１０における第１領域Ｓ１にパッド１２０を形成した後、透光性ベース基板１１０における第２領域Ｓ２が露出する状態にあり、透光性ベース基板１１０が光透過機能を有するため、透光性ベース基板１１０に光が照射すると、光の一部が透光性ベース基板１１０を直接透過して、バックライトパネル１００の反射率が低くなる。

【0038】

図７に示すように、本発明の実施形態において、透光性ベース基板１１０及びパッド１２０に感光性材料を塗布して反射層１３０を形成することにより、透光性ベース基板１１０に光が照射すると、反射されることにより、バックライトパネル１００の全体の反射率を向上させることができる。

【0039】

なお、反射層１３０に使用される材質は感光性材料であり、即ち反射層１３０の性質がフォトマスク条件と直接関連付けされ、感光性材料を用いて反射層１３０を製造することにより、バックライトパネル１００の製造においてフォトマスク工程の調整により反射層１３０構造の調整を実現するのに役立ち、異なる反射層１３０構造の要件を満たし、さらにバックライトパネル１００の反射効果を改善する。

【0040】

Ｓ４００：透光性ベース基板１１０の対向する両側において反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する位置に露光処理を施す。透光性ベース基板１１０の対向する両側とは、反射層１３０の透光性ベース基板１１０から遠い側と、透光性ベース基板１１０の反射層１３０から遠い側とを意味する。

【0041】

反射層１３０に使用される材質は感光性材料であり、感光性材料が塗布されると、ある流動性を有して、感光性材料における各感光性分子間の結合度が相対的に弱く、反射層１３０による光の反射に不利であるため、本発明の実施形態は、反射層１３０に露光処理を施すことにより、感光性材料が光の照射下で、各感光性分子間の結合度が徐々に強まり、反射層１３０の硬化を実現し、反射層１３０の高い反射率を確保する。

【0042】

所望により、図８に示すように、透光性ベース基板１１０は光透過性を有するため、反射層１３０に露光処理を施す際に、本発明の実施形態は、感光性材料における各感光性分子の感光量を増加させるために、透光性ベース基板１１０の対向する両側において反射層１３０に露光処理を施し、反射層１３０の厚さが厚いことにより、一部の感光性分子の感光量が低くなり、結合度が相対的に弱くなり、反射層１３０の構造安定性が低下し、それによって、反射層１３０の全体の反射率に影響を与えることを防止する。

【0043】

なお、透光性ベース基板１１０の対向する両側において反射層１３０に露光処理を施す際に、露光において使用される露光強度及び露光時間等は反射層１３０の具体的な構造に応じて適宜調整することができ、ここでは特に限定されない。

【0044】

Ｓ５００：反射層１３０の第１領域Ｓ１に対応する位置においてパッド１２０を露出する凹溝１３１を形成するように、反射層１３０に現像処理を施す。

【0045】

透光性ベース基板１１０及びパッド１２０に反射層１３０を形成した後、パッド１２０における反射層１３０を除去するために、反射層１３０に処理を施して、パッド１２０を露出させ、後続の他の構造とパッド１２０との接続を容易にし、バックライトパネル１００の正常な動作を確保する必要がある。

【0046】

露光処理において、主に反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する位置に処理を施すことにより、反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する感光量が反射層１３０の第１領域Ｓ１に対応する感光量よりも大きくなり、即ち反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する感光性分子の結合度が反射層１３０の第１領域Ｓ１に対応する感光性分子の結合度よりも大きくなり、同一の処理条件下において、反射層１３０の第１領域Ｓ１及び第２領域Ｓ２に対応する安定性が大きく異なる。

【0047】

図９に示すように、本発明の実施形態において現像するように反射層１３０に処理を施し、反射層１３０の第１領域Ｓ１に対応する感光性分子の結合度が小さいため、反射層１３０の第１領域Ｓ１に対応する構造安定性が相対的に低く、反射層１３０に現像液を噴霧した後、第１領域Ｓ１に対応する反射層１３０が現像液に溶解し、第２領域Ｓ２に対応する反射層１３０が相対的に安定して維持し、反射層１３０の第１領域Ｓ１に対応する位置に凹溝１３１を形成することができる。パッド１２０が透光性ベース基板１１０における第１領域Ｓ１に形成されるため、現像処理によって凹溝１３１をパッド１２０構造から露出させることにより、後続の他の構造とパッド１２０との接続を容易にすることができる。

【0048】

本発明の実施形態におけるバックライトパネル１００の製造方法は、透光性ベース基板１１０をキャリア基板として用い、透光性ベース基板１１０の光透過性を利用し透光性ベース基板１１０の対向する両側において反射層１３０に露光処理を施すことで、反射層１３０の感光性材料における各感光性分子の感光量を増加させ、各感光性分子間の結合度を向上させ、反射層１３０の厚さが厚いことにより、一部の感光性分子の感光量が低くてアンダーカットが生じてしまうことを防止し、反射層１３０の構造安定性を確保し、バックライトパネル１００の全体反射率を向上させる。

【0049】

所望により、図２に示すように、ステップＳ４００において反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する位置に露光処理を施す際に、主にステップＳ４１０～Ｓ４２０を含む。

【0050】

Ｓ４１０：反射層１３０の透光性ベース基板１１０から遠い側において、反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する位置に第１露光強度で露光処理を施す。

【0051】

Ｓ４２０：透光性ベース基板１１０の反射層１３０から遠い側において、反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する位置に、第１露光強度よりも大きい第２露光強度で露光処理を施す。

【0052】

反射層１３０の透光性ベース基板１１０から遠い側において反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する位置に露光処理を施す際に、反射層１３０の対応する位置に直接光が照射し、第１露光強度を調整することによって、反射層１３０が所定の厚さ範囲内で十分な感光量を有するとともに、反射層１３０自体の構造にダメージを与えないように保証することができる。

【0053】

透光性ベース基板１１０の反射層１３０から遠い側において反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する位置に露光処理を施す場合に、光が透光性ベース基板１１０を先に透過する必要があり、透光性ベース基板１１０が光透過性を有するにもかかわらず、光線が透過する際に所定のエネルギーロスがあるため、同じ露光強度において、透光性ベース基板１１０に近い側の反射層１３０の感光量が透光性ベース基板１１０から遠い側の反射層１３０の感光量よりも小さくなり、反射層１３０の位置によって性能に差が生じる。

【0054】

本発明の実施形態は、反射層１３０に露光処理を施す際に、第２露光強度を第１露光強度よりも大きく設定し、光が透光性ベース基板１１０を透過する際のエネルギーロスを補い、反射層１３０の対向する両側の露光効果を近似させることにより、反射層１３０の構造均一性を向上させる。

【0055】

所望により、透光性ベース基板１１０から遠い側の反射層１３０の感光性材料における各感光性分子が十分な感光量を有するように保証するために、感光性材料における感光性分子の感光要件を満たすように第１露光強度を３００ミリジュール以上に設定する。第１露光強度が大きすぎる場合に、光エネルギーが高すぎるため、感光性材料における有機成分が分解又は破損されて反射層１３０の構造が破損され、反射層１３０の反射効果に影響を与える恐れがあるので、第１露光強度を８００ミリジュール以下に設定する。

【0056】

具体的には、実際の製造において、第１露光強度を３００ミリジュール、４００ミリジュール、５００ミリジュール、６００ミリジュール又は８００ミリジュール等に設定することができ、その具体的な設定値は実際の状況に応じて適宜調整することができ、ここで特に限定されるものではなく、反射層１３０の対応する位置の感光性材料が十分な感光量を有することを確保して、露光強度が高すぎることにより反射層１３０の構造が破損されることを防止すればよい。

【0057】

同様に、透光性ベース基板１１０に近い側の反射層１３０の感光性材料における各感光性分子が十分な感光量を有するように保証するために、感光性材料における感光性分子の感光要件を満たすように第２露光強度を３００ミリジュール以上に設定する。露光強度が高すぎることにより反射層１３０の構造が破損されることを防止するために、第２露光強度を８００ミリジュール以下と設定する。

【0058】

実際の製造において、第２露光強度を３００ミリジュール、４００ミリジュール、５００ミリジュール、６００ミリジュール又は８００ミリジュール等に設定することができ、その具体的な設定値は実際の状況に応じて適宜調整することができ、ここで特に限定されるものではなく、反射層１３０の対応する位置の感光性材料が十分な感光量を有することを確保して、露光強度が高すぎることにより反射層１３０の構造が破損されることを防止すればよい。

【0059】

なお、反射層１３０の両側の露光効果を近づけるために、第２露光強度を第１露光強度よりも大きく設計する必要がある。実際の製造において、第１露光強度を３００ミリジュールとし、第２露光強度を４５０ミリジュールとするか、又は、第１露光強度を４５０ミリジュールとし、第２露光強度を５５０ミリジュールとするか、又は第１露光強度を６００ミリジュールとし、第２露光強度を６５０ミリジュールとし、製造の要求、透光性ベース基板１１０の光透過性、透光性ベース基板１１０における光のエネルギーロス状況に応じて、その具体的な大きさ及び相互間の差分関係を適宜調整することができ、ここでは限定されるものではない。

【0060】

所望により、図３に示すように、ステップＳ４００において反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する位置に露光処理を施す際に、さらにステップＳ４３０～Ｓ４４０を含むことができる。

【0061】

Ｓ４３０：反射層１３０の透光性ベース基板１１０から遠い側において、反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する位置に第１所定時間で露光を施す。

【0062】

Ｓ４４０：透光性ベース基板１１０の反射層１３０から遠い側において、反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する位置に第１所定時間よりも長い第２所定時間で露光を施す。

【0063】

露光光は透光性ベース基板１１０を透過する際に所定のエネルギーロスを受けるため、反射層１３０の対向する両側の露光効果の差を小さくするために、第１露光強度と第２露光強度との大小関係を調整する以外に、本発明の実施形態は反射層１３０の対向する両側の露光時間を適宜調整して、反射層１３０の構造の均一性を高めることができる。

【0064】

所望により、本発明の実施形態は、透光性ベース基板１１０の反射層１３０から遠い側の露光時間を向上させ、反射層１３０の透光性ベース基板１１０に近い側の感光量を増加させるために、第２所定時間を第１所定時間よりも長く設定して、同じ露光強度で反射層１３０の対向する両側の感光量を均一に維持することにより、反射層１３０の構造の均一性を高めることができる。

【0065】

製造の要求、透光性ベース基板１１０の光透過性、透光性ベース基板１１０における光のエネルギーロス状況に応じて、第１所定時間及び第２所定時間の具体的な長さ及び相互間の差分関係を適宜調整することができ、ここでは限定されるものではない。

【0066】

所望により、透光性ベース基板１１０の対向する両側において、反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する位置に露光処理を施す場合に、反射層１３０の透光性ベース基板１１０から遠い側において反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する位置に露光処理を施すか、又は透光性ベース基板１１０の反射層１３０から遠い側において反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する位置に露光処理を施すか、又は反射層１３０の透光性ベース基板１１０から遠い側及び透光性ベース基板１１０の反射層１３０から遠い側において、反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する位置に同時に露光処理を施すかを選択することができる。

【0067】

反射層１３０の一方の側において反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する位置に先に露光処理を施すと、露光側に近い反射層１３０の方が感光性材料の感光量が多く、その分感光性材料の結合度が高くなる。反射層１３０の厚さが厚いと、露光側から遠い反射層１３０における感光性材料の感光量が相対的に少なくなり、その分感光性材料の結合度が低くなって効率的な結合硬化ができなくなる。

【0068】

このとき、反射層１３０の他方の側において反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する位置にさらに露光処理を施すと、結合度の低い又は効率的に結合されていない感光性材料は、感光量の増加により結合硬化を継続するが、その部分の感光性材料と先に結合硬化した感光性材料との接着強度が弱くなり、反射層１３０内に境界線が発生し、反射層１３０全体の構造安定性に影響を及ぼす恐れがある。

【0069】

実際の製造において、本発明の実施形態は、反射層１３０の透光性ベース基板１１０から遠い側と、透光性ベース基板１１０の反射層１３０から遠い側とにおいて反射層１３０の第２領域Ｓ２に対応する位置に同時に露光処理を施すことにより、反射層１３０における感光性材料を同期に結合硬化させて、感光性材料の相互間の接着強度を増加させ、反射層１３０全体の構造安定性を確保して、反射層１３０の反射効果を向上させることができる。

【0070】

なお、露光処理を施す際には、まず、マスクを製造しておく必要があり、反射層１３０における一部の領域の感光量を大きくし、一部の領域の感光量を小さくするように、領域に対応する感光性材料の結合度に差を持たせ、後続の現像やエッチング等の工程の進行を容易にする。

【0071】

所望により、バックライトパネル１００の製造方法は、ライトパネル１４０をパッド１２０に接続するステップをさらに含む。バックライトパネル１００は、表示装置にバックライトを提供し、表示装置の様々な表示画面の需要を満たすことができる。バックライトパネル１００の発光光源は主にライトパネル１４０であり、ライトパネル１４０がパッド１２０に接続されて、ライトパネル１４０の固定を実現することができる。

【0072】

ライトパネル１４０は、複数のストリングを含み、ストリングの色や配置方式を相互に合わせて設計することにより、表示装置の異なる光源のニーズを満たすように、ライトパネル１４０の発光状況を調整して、表示装置の表示画面の多様化を図ることができる。

【0073】

なお、透光性ベース基板１１０における第１領域Ｓ１を分割することにより、パッド１２０の設置位置を限定して、ライトパネル１４０の配置方式を限定することができ、同様に、バックライトパネル１００の製造において、ライトパネル１４０の配置需要に応じてパッド１２０の設置位置を調整して、透光性ベース基板１１０における第１領域Ｓ１の分割方式を設計することにより、バックライトパネル１００全体の発光要件を実現することができる。

【0074】

本発明の実施形態における透光性ベース基板１１０の第１領域Ｓ１の光透過率が透光性ベース基板１１０の第２領域Ｓ２の光透過率よりも小さく、即ち透光性ベース基板１１０のパッド１２０に対応する位置の光透過率が反射層１３０に対応する位置の光透過率よりも小さい。反射層１３０に現像を施す際に、反射層１３０の第１領域Ｓ１に対応する部分を除去する必要があり、即ち反射層１３０のパッド１２０の表面を覆う部分を除去することにより、パッド１２０とライトパネル１４０とを容易に接続する。透光性ベース基板１１０の第１領域Ｓ１の光透過率を第２領域Ｓ２の光透過率よりも小さく設計することにより、透光性ベース基板１１０の反射層１３０から遠い側において直接透光性ベース基板１１０をマスクとして反射層１３０に露光処理を施すことにより、製造工程を簡略化させ、製造効率を向上させることができる。

【0075】

所望により、透光性ベース基板１１０の材質は、透光性を有する複合構造材料であり、即ち、透光性ベース基板１１０を製造する際に、光透過率の異なる材料を選択し、第１領域Ｓ１と第２領域Ｓ２との分割要件に応じて、光透過率の異なる材料を配合して、形成された透光性ベース基板１１０の第１領域Ｓ１の光透過率を第２領域Ｓ２の光透過率よりも小さくする。

【0076】

いくつかの実施形態において、ステップＳ１００において透光性ベース基板１１０を提供するステップは主に、
図５に示すように、バックライトパネル１００における他の構造を載置するための、ガラス基板などの各領域の光透過率がそれぞれ等しい透光基板１１１を提供する。次に、透光性ベース基板１１０を形成するように、透光基板１１１の遮光領域の一側に遮光層１１２を設け、遮光領域が第１領域Ｓ１であり、透光性ベース基板１１０の反射層１３０から遠い側において露光処理を施す際に、該領域の光を遮蔽し、露光光の透過率を低下させることを含む。

【0077】

なお、本発明の実施形態において設けられる遮光層１１２は、光透過率が小さいフィルム層又は光透過率が０の光不透過性フィルム層であり、遮光層１１２を設けることにより、対応する領域の露光光の透過率を効果的に低下させることができればよく、ここに限定されるものではない。

【0078】

遮光層１１２は、透光基板１１１の反射層１３０に近い側に設けられてもよいし、透光基板１１１の反射層１３０から遠い側に設けられてもよく、即ち、透光基板１１１の少なくとも一方の側に遮光層１１２が設けられ、遮光層１１２がパッド１２０に対応して、パッド１２０の上方の反射層１３０の感光量を低減しつつ、他の領域の反射層１３０の感光量に影響を与えないように保証する。

【0079】

実際の製造において、パッド１２０の設置位置は、遮光層１１２の設置方式を基準とするか、又はライトパネル１４０の配置需要に応じてパッド１２０の設置位置を決定した後、第１領域Ｓ１の分割方式を限定することにより、遮光層１１２の設置位置を決定することができ、その具体的な設置方式は、実際の需要に応じて適宜調整することができる。

【0080】

他のいくつかの実施形態において、透光性ベース基板１１０を形成するように、透光基板１１１の遮光領域の対向する両側に遮光層１１２が設けられ、遮光領域が第１領域Ｓ１であり、第２領域Ｓ２に位置する反射層１３０の感光量を確保しつつ、第１領域Ｓ１に位置する反射層１３０の感光量をより少なくすることができ、現像時にパッド１２０の上方に位置する反射層１３０が現像液に溶解しやすくなり、パッド１２０の上方に反射層１３０が残存するため、ライトパネル１４０とパッド１２０との接続に影響を与えることで、バックライトパネル１００の発光効果に影響を与えることを防止する。

【0081】

所望により、バックライトパネル１００の反射層１３０の厚さは７０ミクロン以下である。反射層１３０の厚さが厚すぎると、反射層１３０の中間領域の感光量が相対的に少なくなり、その分感光性材料の結合度も相対的に低くなり、反射層１３０に現像処理を施す際に、その部分の反射層１３０が現像されてしまう恐れがあり、反射層１３０の構造の安定化に不利であるとともに、反射層１３０の反射率を低下させる。

【0082】

また、露光強度を増加させたり、露光時間を増加させたりして反射層１３０の中間領域の感光量を大きくすると、他の領域の反射層１３０の構造にダメージを与える恐れがあり、反射層１３０の構造安定性や反射効果にも影響を及ぼす。

【0083】

本発明の実施形態において、反射層１３０の厚さを１０ミクロン、３０ミクロン、５０ミクロン、７０ミクロン等とすることにより、透光性ベース基板１１０の対向する両側において反射層１３０に露光処理を施す際に、反射層１３０が厚さ方向に十分な感光量を有し、反射層１３０における感光性材料の結合度が高く、反射層１３０の構造安定性を確保し、反射層１３０の反射率を向上させ、バックライトパネル１００の全体の表示効果を改善することができる。

【0084】

所望により、図１０に示すように、反射層１３０における凹溝１３１の側壁とバックライトパネル１００のパッド１２０との間には隙間１３２を有し、即ち反射層１３０とパッド１２０とは透光性ベース基板１１０において間隔をおいて設けられ、パッド１２０と隙間１３２とが共同で対応する領域は第１領域Ｓ１である。この構造を設けることにより、反射層１３０に露光現像を施した後、パッド１２０を完全に露出させることができ、現像の際に、露光効果の相違により、設けられた凹溝１３１の大きさの実際値が設計値よりも小さくて、パッド１２０の表面に現像されていない反射層１３０が残ってしまい、後続のパッド１２０とライトパネル１４０との接続に不利であることを防止する。

【0085】

所望により、凹溝１３１の側壁とパッド１２０との間の隙間１３２が３０ミクロン以下である。なお、この隙間１３２の大きさは、反射層１３０の開口精度に直接関わり、隙間１３２が大きいほど反射層１３０の開口精度が低くなることを示す。この隙間１３２が大きすぎると、透光性ベース基板１１０における反射層１３０の被覆面積が小さくなり、バックライトパネル１００全体の反射率が小さくなり、バックライトパネル１００の表示効果に影響を与える。

【0086】

実際の製造において、この隙間１３２を２ミクロン、５ミクロン、１０ミクロン、２０ミクロン、３０ミクロン等とすることにより、パッド１２０に反射層１３０が残存することを防止しつつ、バックライトパネル１００全体の反射率を向上させ、その具体的な設計値は実際の状況に応じて適宜調整し、ここに特に限定されるものではない。

【0087】

さらに、本発明の実施形態は、上記の製造方法により製造されたバックライトパネルをさらに提供し、このバックライトパネルは上記の全ての実施形態の全部の技術的手段を用いるため、上記実施形態の技術的手段による全ての有益な効果を少なくとも有する。ここでは、詳しい説明を省略する。

【0088】

図４に示すように、バックライトパネル１００は順次設けられる透光性ベース基板１１０、パッド１２０、反射層１３０及びライトパネル１４０を含む。透光性ベース基板１１０は第１領域Ｓ１及び第２領域Ｓ２を含み、パッド１２０が第１領域Ｓ１に対応する位置に設けられ、反射層１３０が第２領域Ｓ２に対応する位置に設けられ、ライトパネル１４０がパッド１２０に接続されて、ライトパネル１４０の固定を実現することができる。第１領域Ｓ１と第２領域Ｓ２との分割方式を調整することにより、パッド１２０の設置位置の調整を実現可能にし、バックライトパネル１００の様々な発光要件を満たすように、ライトパネル１４０の配置方式の調整を実現する。

【0089】

所望により、反射層１３０のパッド１２０に対応する位置に凹溝１３１が設けられ、凹溝１３１がパッド１２０から露出され、後続のパッド１２０とライトパネル１４０との接続を容易にする。透光性ベース基板１１０には間隔をおいて設けられる複数のパッド１２０が設けられ、パッド１２０とライトパネル１４０との接続方式を調整することにより、ライトパネル１４０の配置方式を容易に調整し、バックライトパネル１００の様々な表示要件を満たす。

【0090】

いくつかの実施形態において、反射層１３０に１つの凹溝１３１のみが設けられ、該凹溝１３１に複数のパッド１２０が同時に露出され、即ち隣り合う２つのパッド１２０の間に反射層１３０が設けられることなく、このような構造設計により、ライトパネル１４０の発光方式を調整するように、ライトパネル１４０が複数のパッド１２０と同時に容易に接続される。

【0091】

他のいくつかの実施形態において、反射層１３０に複数の凹溝１３１が設けられ、複数の凹溝１３１が複数のパッド１２０と一対一に対応し、複数のパッド１２０を独立に離間するように、隣り合う２つのパッド１２０の間に反射層１３０が充填され、このような構造設計により、異なるパッド１２０に接続されるライトパネル１４０の間に干渉が発生することを防止して、バックライトパネル１００の発光効果を確保する。

【0092】

バックライトパネル１００の製造において、透光性ベース基板１１０の対向する両側において反射層１３０に露光処理を施すことにより、第２領域Ｓ２に位置する反射層１３０は厚さ方向における感光量が補正され、反射層１３０における感光性材料の結合度が高く、現像処理時に、第２領域Ｓ２に対応する反射層１３０が現像されにくく、第２領域Ｓ２に対応する反射層１３０にアンダーカットが生じることがなく、反射層１３０における凹溝１３１の側壁が透光性ベース基板１１０と垂直であるか又はほぼ垂直であり、即ち反射層１３０における凹溝１３１の側壁の透光性ベース基板１１０の表面に対する傾きが小さく、反射層１３０の側面と透光性ベース基板１１０との間に空隙を有することを防止して、反射層１３０の全体の反射率を向上させる。

【0093】

最後に、本発明の実施形態は、バックライトパネルを含むバックライトモジュールさらに提供し、このバックライトパネルの具体的な構造は上記の実施形態を参照し、このバックライトモジュールは上記の全ての実施形態の全部の技術的手段を用いるため、上記実施形態の技術的手段による全ての有益な効果を少なくとも有する。ここでは、詳しい説明を省略する。

【0094】

図１１に示すように、バックライトモジュール１０は、リアプレート２００と、リアプレート２００に設けられるバックライトパネル１００と、バックライトパネル１００に積層して設けられる光学フィルムシート群３００とを含む。リアプレート２００にはタイリングするように複数のバックライトパネル１００が設けられることで、単一のバックライトパネル１００の面積が大きすぎることを防止し、製造難度を低減する。

【0095】

なお、リアプレート２００に位置決め溝が設けられてもよく、バックライトパネル１００及び光学フィルムシート群３００が位置決め溝に設けられ、位置決め溝構造がリアプレート２００及び光学フィルムシート群３００の位置を規制することに役立ち、バックライトモジュール１０の組み付けを容易にする。

【0096】

以上、本発明の実施形態に係るバックライトパネルの製造方法、バックライトパネル及びバックライトモジュールについて詳細に説明したが、本明細書では具体的な実施形態を用いて本発明の原理及び実施形態について説明したが、以上の実施形態の説明は本発明の方法及びその核心的な思想を理解するためのものに過ぎず、一方、当業者であれば、本発明の構想に基づき、具体的な実施形態及び適用範囲に変更を加えることがあり、要約すると、本明細書の内容は本発明を限定するものとして理解されるべきではない。

【符号の説明】

【0097】

１０ バックライトモジュール
１００ バックライトパネル
１１０ 透光性ベース基板
１１１ 透光基板
１１２ 遮光層
１２０ パッド
１３０ 反射層
１３１ 凹溝
１３２ 隙間
１４０ ライトパネル
２００ リアプレート
３００ 光学フィルムシート群
Ｓ１ 第１領域
Ｓ２ 第２領域。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【国際調査報告】