特表 2024-512404 圧力センサ、ガラスウェハおよび製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-03-19

(54)【発明の名称】圧力センサ、ガラスウェハおよび製造方法

(51)【国際特許分類】

   C03B 17/06 20060101AFI20240312BHJP

   C03C 3/076 20060101ALI20240312BHJP

   C03C 3/083 20060101ALI20240312BHJP

   C03C 3/089 20060101ALI20240312BHJP

   C03C 3/091 20060101ALI20240312BHJP

   H01L 29/84 20060101ALI20240312BHJP

【ＦＩ】

C03B17/06

C03C3/076

C03C3/083

C03C3/089

C03C3/091

H01L29/84 B

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2023555410

(86)(22)【出願日】2022-03-10

(85)【翻訳文提出日】2023-09-08

(86)【国際出願番号】 EP2022056246

(87)【国際公開番号】W WO2022189587

(87)【国際公開日】2022-09-15

(31)【優先権主張番号】102021105758.2

(32)【優先日】2021-03-10

(33)【優先権主張国・地域又は機関】DE

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】504299782

【氏名又は名称】ショット アクチエンゲゼルシャフト

【氏名又は名称原語表記】ＳＣＨＯＴＴ ＡＧ

【住所又は居所原語表記】Ｈａｔｔｅｎｂｅｒｇｓｔｒ． １０， ５５１２２ Ｍａｉｎｚ， Ｇｅｒｍａｎｙ

(74)【代理人】

【識別番号】100114890

【弁理士】

【氏名又は名称】アインゼル・フェリックス＝ラインハルト

(74)【代理人】

【識別番号】100098501

【弁理士】

【氏名又は名称】森田 拓

(74)【代理人】

【識別番号】100116403

【弁理士】

【氏名又は名称】前川 純一

(74)【代理人】

【識別番号】100134315

【弁理士】

【氏名又は名称】永島 秀郎

(74)【代理人】

【識別番号】100162880

【弁理士】

【氏名又は名称】上島 類

(72)【発明者】

【氏名】ウルリヒ ポイヒャート

(72)【発明者】

【氏名】クリストフ ヒンドリクセン

(72)【発明者】

【氏名】アレクサンダー グラッキ

(72)【発明者】

【氏名】トーマス ヴィーゲル

(72)【発明者】

【氏名】アンドレアス ラングスドルフ

(72)【発明者】

【氏名】フランク ビュレスフェルト

(72)【発明者】

【氏名】マティアス ヨッツ

(72)【発明者】

【氏名】モフド サイルル ニザム オマール

(72)【発明者】

【氏名】ヨナタン レオン ルッケス

【テーマコード（参考）】

4G062

4M112

【Ｆターム（参考）】

4G062AA01

4G062BB01

4G062DA06

4G062DA07

4G062DB01

4G062DB02

4G062DB03

4G062DB04

4G062DC01

4G062DC02

4G062DC03

4G062DC04

4G062DD01

4G062DE01

4G062DF01

4G062EA01

4G062EA10

4G062EB01

4G062EC01

4G062ED01

4G062EE01

4G062EF01

4G062EG01

4G062FA01

4G062FA10

4G062FB01

4G062FC01

4G062FD01

4G062FE01

4G062FF01

4G062FG01

4G062FH01

4G062FJ01

4G062FK01

4G062FL01

4G062GA01

4G062GA10

4G062GB01

4G062GC01

4G062GD01

4G062GE01

4G062HH01

4G062HH03

4G062HH05

4G062HH07

4G062HH09

4G062HH11

4G062HH13

4G062HH15

4G062HH17

4G062HH20

4G062JJ01

4G062JJ03

4G062JJ05

4G062JJ07

4G062JJ10

4G062KK01

4G062KK03

4G062KK05

4G062KK07

4G062KK10

4G062MM21

4G062MM27

4G062NN29

4G062NN33

4M112AA01

4M112BA10

4M112CA02

4M112EA02

4M112EA13

(57)【要約】

本発明はガラス物品、並びに圧力センサにおけるその使用に関する。本発明は前記ガラス物品の製造方法にも関する。

【特許請求の範囲】

【請求項1】

２つの平行平面の主側面を有するガラス物品であって、前記ガラス物品は厚さ３．０ｍｍ未満を有し、前記ガラス物品は各々両方の主側面上で、２×２ｍｍ²における表面近傍の平均損傷レベル（ＯＮＳＬ）が、１．０μｍ未満の広がりを有する損傷２０００個未満であり、前記ガラス物品は、２×２ｍｍ²における厚さに対して正規化された平均位置・厚さばらつき（ＯＤＳ）が、ガラス物品の厚さ１μｍあたり１０ｎｍ未満であり、前記ＯＤＳは２×２ｍｍ²の規定の測定面積内で最高の厚さと最低の厚さとの間の差である、前記ガラス物品。

【請求項2】

２×２ｍｍ²における平均位置・厚さばらつきが１０μｍ未満である、請求項１に記載のガラス物品。

【請求項3】

２×２ｍｍ²における最大位置・厚さばらつき（ＯＤＳ_max）が５０μｍ未満である、請求項１または２に記載のガラス物品。

【請求項4】

前記ガラス物品が両方の主側面上で、２×２ｍｍ²における最大の表面近傍の損傷レベルＯＮＳＬ_maxが、１．０μｍ未満の広がりを有する損傷最大４０００個である、請求項１から３までのいずれか１項に記載のガラス物品。

【請求項5】

厚さ２．０ｍｍ未満、１．０ｍｍ未満、または０．５ｍｍ未満を有する、請求項１から４までのいずれか１項に記載のガラス物品。

【請求項6】

２×２ｍｍ²における２ｎｍ未満の粗さＲ_aを有する、請求項１から５までのいずれか１項に記載のガラス物品。

【請求項7】

ガス状包含物の数が１ｍｍ³あたり１．０未満である、請求項１から６までのいずれか１項に記載のガラス物品。

【請求項8】

以下のＶＦＴパラメータ： Ａは－５．５～＜０．０の範囲であり、Ｂは３５００～１２０００Ｋの範囲であり、且つ／またはＴ₀は２５℃～３００℃の範囲であることを特徴とする粘度・温度プロファイルを有するガラス製である、請求項１から７までのいずれか１項に記載のガラス物品。

【請求項9】

２×２ｍｍ²における熱伝導率の最大差が最大０．２Ｗ／（ｍ・Ｋ）である、請求項１から８までのいずれか１項に記載のガラス物品。

【請求項10】

少なくとも４００ｍｍ²の面積を有する、請求項１から９までのいずれか１項に記載のガラス物品。

【請求項11】

面積１～１０ｍｍ²、好ましくは３～６ｍｍ²、特に約２×２ｍｍ²を有する、請求項１から１０までのいずれか１項に記載のガラス物品、特に請求項１から１０までのいずれか１項に記載のガラス物品を分割することによって製造可能なガラス物品。

【請求項12】

圧力センサにおける、特に圧力センサの構成部品としての、請求項１１に記載のガラス物品の使用。

【請求項13】

請求項１１に記載のガラス物品を含む圧力センサ。

【請求項14】

ガラス物品の製造方法、特に請求項１～１１のいずれか１項に記載のガラス物品の製造方法であって、以下の段階：
・ ガラス溶融物を製造する段階、
・ 前記ガラス溶融物を清澄する段階、
・ 前記ガラス溶融物を、特に引き抜きロールを使用して、３．０ｍｍ未満の範囲の目標厚さを有するガラスリボンへと引き抜く段階、
・ 前記ガラスリボンをガラス物品へと分割する段階
を含み、前記ガラスリボンは領域Ｚを通過し、そこで前記ガラスリボンは目標厚さを既に達成しているが、その粘度はまだ１０¹⁰ｄＰａｓ未満であり、
前記ガラスは前記領域Ｚにおいて少なくとも０．５ｍ／分且つ最大５０ｍ／分の引き抜き速度で引き抜かれ、且つ、
前記領域Ｚを、０．０１～５００Ｈｚの周波数範囲における干渉の影響がないように保つために適切な手段が取られる、前記方法。

【請求項15】

前記領域Ｚを、１～５００Ｈｚの周波数範囲における干渉の影響がないように保つために適切な手段が取られる、請求項１４に記載の方法。

【請求項16】

前記方法がダウンドロー法またはオーバーフローフュージョン法である、請求項１４に記載の方法。

【請求項17】

ガラス溶融物が槽から出て、次いでガラスリボンへと引き抜かれ、ここで、ガラス溶融物が槽から出てくる点でのガラス溶融物の粘度が１０^2.20ｄＰａｓ～１０^4.00ｄＰａｓの範囲である、請求項１６に記載の方法。

【請求項18】

前記手段が、
・ 引き抜き設備および／または領域Ｚの音響ハウジング、
・ 引き抜き設備と成形との切り離し、
・ 引き抜きロールの距離の調整
・ 特に冷却領域における対流を減少するための、１つ以上のパネル
・ 封止、および
・ それらの組み合わせ
から選択される、請求項１４から１７までのいずれか１項に記載の方法。

【請求項19】

以下の段階：
・ 結合砥粒を用いて、特にダイヤモンド研削材を用いてガラス物品を研削する段階、
・ 引き続き任意に研磨する段階、
を含む、請求項１４から１８までのいずれか１項に記載の方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明はガラス物品、並びに圧力センサにおけるその使用に関する。本発明は前記ガラス物品の製造方法にも関する。

【背景技術】

【0002】

デジタル化が進む過程で、センサデータに依存する知能的且つネットワーク化されたシステムの使用が増加している。例えば人工知能を使用した改善された分析方法は、大量のデータの評価を可能にし、自動化および制御のために測定値の小さな変化も使用する可能性を拓く。この開発をさらに進めるために、ますます正確なセンサが望ましい。そのようなセンサの例は圧力センサである。

【0003】

圧力センサは多くの分野において、特に機械および産業プラントを制御するために、例えば食品の製造または石油化学産業において使用されている。自動車分野においても、例えばオイルおよびタイヤの空気圧の測定のために、圧力センサが使用されている。

【0004】

微小電気機械（またはＭＥＭＳ）圧力センサは、圧力によって弾性変形され得るシリコン製の薄膜を含む。このシリコン膜は通常、絶縁体または半導体材料、例えばシリコン製のベース上に取り付けられる。ベースは開口部を含み、その開口部を通じて流体、例えばガスが圧力センサの測定キャビティに入ることができる。ここで、圧力は両側から膜に作用し、一方の側では定義されたかまたは可変の参照圧力が作用し、並びに測定キャビティに面する膜の側では可変の圧力が作用する。参照圧力を用いないで動作するセンサもあり、つまり参照圧力が可変であることができる。膜の両側上の圧力が互いに異なる場合、膜が変形される。測定抵抗器が膜に組み込まれており、それらは変形されると抵抗が変わる（いわゆるピエゾ抵抗式抵抗器）。それらは電気的にはいわゆるホイートストンブリッジ回路の形態で配置されている。膜の変形はブリッジ回路の電圧の変化をもたらす。ブリッジ電圧のこの測定可能な変化は、圧力差にほぼ比例する。

【0005】

ガラス物品は圧力センサ用の構成部品として適している。そのような圧力センサの例示的な構造を図１に示す。膜は印加される圧力に応じて変形される。変形、ひいては圧力は、膜におけるピエゾ抵抗素子の抵抗の変化を介して測定される。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

より良好な測定精度を有する圧力センサが望まれている。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の説明
１つの態様において、本発明は厚さ３．０ｍｍ未満を有するガラス物品であって、２×２ｍｍ²における表面近傍の平均損傷レベル（ＯＮＳＬ）が、損傷２０００個未満であり、且つ／または２×２ｍｍ²における厚さに対して正規化された平均位置・厚さばらつき（ＯＤＳ）が、厚さ１μｍあたり１０ｎｍ未満であり、前記ＯＤＳは規定の測定面積内で最高の厚さと最低の厚さとの間の差である、前記ガラス物品に関する。

【0008】

本発明のガラス物品は圧力センサにおける構成部品として使用するために適している。そのようなガラス構成部品の１つの機能は、測定のために使用される膜をベース材料および環境から熱的に切り離すことである。望ましい測定がより正確になるほど、良好且つ迅速、そして何よりもまず均一な熱的な切り離しがより重要になる。圧力センサも小型化に向かう傾向がある。構成部品はますます小さく且つますます薄くなってきている。ガラスの１つの利点は、それが特に薄い厚さで良好な表面品質を備えて製造され得ることである。しかしながら、圧力センサが全体として小さくなっていくと、小さなずれであっても衝撃が大きくなる。例えばダウンドロー法における成形の間にガラスに及ぼされる特定の振動周波数の影響でさえも、小さい面積での厚さの変動をみちびくことがあり、それは熱伝達における局所的なずれに寄与する。

【0009】

ガラス物品の取り扱いおよび後処理、例えば研磨、研削、ラップ加工において、ガラス中に小さな損傷が導入されることがあり、それは驚くほど深くガラス中に侵入する。圧力センサにおいて使用されるガラス物品の非常に薄い厚さに起因して、数マイクロメートルの深さのクラックで既に、熱伝達を含むガラス物品の特性に著しい影響を及ぼすことがある。

【0010】

厚さの変動、キャビティ、クラックおよび同様の欠陥は、ガラス物品と、圧力センサの他の構成部品との接続を損なうことがある。例えば、構成部品を一緒に貼り付けることがより困難になるか、または凹凸またはクラックを補償するためにより多くの接着剤が必要とされることがある。さらなる接着剤または無機フリットの使用は熱的な切り離しの均一性を損なう。

【0011】

本発明によるガラス物品の提供は、例えばガラスの成形および任意に表面処理において特定の手段が取られる場合に達成され得る。例えば、ドロー工程の間に特定の区域が周波数範囲０．０１～５００Ｈｚ、例えば０．０５～４００Ｈｚ、０．１～３００Ｈｚ、０．５～２５０Ｈｚ、０．８～２００Ｈｚ、１～１００Ｈｚ、４～７５Ｈｚ、または５～５０Ｈｚの振動がないように保たれる場合が有益であることが証明されている。好ましくは、ドロー工程の間、特定の区域は少なくとも０．０１Ｈｚ、少なくとも０．０５Ｈｚ、少なくとも０．１Ｈｚ、少なくとも０．５Ｈｚ、少なくとも０．８Ｈｚ、少なくとも１Ｈｚ、少なくとも４Ｈｚ、または少なくとも５Ｈｚの周波数を有する振動がないように保たれる。好ましくは、ドロー工程の間、特定の区域は最大５００Ｈｚ、最大４００Ｈｚ、最大３００Ｈｚ、最大２５０Ｈｚ、最大２００Ｈｚ、最大１００Ｈｚ、最大７５Ｈｚ、または最大５０Ｈｚの周波数を有する振動がないように保たれる。表面処理においては、使用される粒子サイズに関して本願内に記載される特定のパラメータに従うことが合理的であることがある。

【0012】

１つの態様において、本発明は本願内に記載されるガラス物品の、圧力センサにおける構成部品としての使用に関する。例えば、前記ガラス物品を、測定膜の熱的な切り離しのために役立つ構成部品のために使用できる。

【0013】

前記ガラス物品を、より高い測定精度を可能にする圧力センサのために使用できる。圧力センサにおいて使用するために、ガラス物品が穿孔され得る。この解決策は、高い測定精度のために圧力センサのシリコン膜の、測定される媒体からの熱的な切り離しができるだけ均一であるべきという考えに基づく。均一な熱的な切り離しのために、変動し得る位置・厚さばらつき（ＯＤＳ）および表面近傍の損傷レベル（ＯＮＳＬ）が重要であることが判明した。製造における適切な手段により、そのようなガラス物品を得ることができる。

【0014】

１つの態様において、本発明はガラス物品の製造方法であって、以下の段階：
・ ガラス溶融物を製造する段階、
・ 前記ガラス溶融物を清澄する段階、
・ 前記ガラス溶融物を、特に引き抜きロールを使用して、３．０ｍｍ未満の範囲の目標厚さを有するガラスリボンへと引き抜く段階、
・ 前記ガラスリボンをガラス物品へと分割する段階
を含み、前記ガラスリボンは領域Ｚを通過し、そこで前記ガラスリボンは目標厚さを１０％未満上回っているが、その粘度はまだ１０¹⁰ｄＰａｓ未満であり、
前記ガラスは前記領域Ｚにおいて少なくとも０．５ｍ／分且つ最大５０ｍ／分、例えば２～１０ｍ／分、１０～２５ｍ／分、または２５～５０ｍ／分の引き抜き速度で引き抜かれ、且つ、
前記領域Ｚを、０．０１～５００Ｈｚ、例えば０．０５～４００Ｈｚ、０．１～３００Ｈｚ、０．５～２５０Ｈｚ、０．８～２００Ｈｚ、１～１００Ｈｚ、４～７５Ｈｚ、または５～５０Ｈｚの周波数範囲における干渉の影響がないように保つために適切な手段が取られる、前記方法に関する。

【0015】

前記ガラスは例えば、領域Ｚにおいて少なくとも０．５ｍ／分、少なくとも２ｍ／分、少なくとも１０ｍ／分、または少なくとも２５ｍ／分の引き抜き速度で引き抜かれ得る。それは領域Ｚにおいて例えば、最大５０ｍ／分、最大２５ｍ／分、または最大１０ｍ／分の引き抜き速度で引き抜かれ得る。

【0016】

例えば、少なくとも０．０１Ｈｚ、少なくとも０．０５Ｈｚ、少なくとも０．１Ｈｚ、少なくとも０．５Ｈｚ、少なくとも０．８Ｈｚ、少なくとも１Ｈｚ、少なくとも４Ｈｚ、または少なくとも５Ｈｚの周波数を有する干渉の影響がないように領域Ｚを保つために適した手段が取られ得る。例えば、最大５００Ｈｚ、最大４００Ｈｚ、最大３００Ｈｚ、最大２５０Ｈｚ、最大２００Ｈｚ、最大１００Ｈｚ、最大７５Ｈｚ、または最大５０Ｈｚの周波数を有する干渉の影響がないように領域Ｚを保つために適した手段が取られ得る。

【0017】

特に、１Ｈｚ以上の周波数が、関連の位置・厚さばらつきの出現と関連することが判明した。従って、１～５００Ｈｚ、２～４００Ｈｚ、３～３００Ｈｚ、４～２５０Ｈｚ、５～２００Ｈｚ、１０～１００Ｈｚ、１５～７５Ｈｚ、または２０～５０Ｈｚの周波数範囲における干渉の影響がないように領域Ｚを保つために適した手段を取るべきである。例えば、少なくとも１Ｈｚ、少なくとも２Ｈｚ、少なくとも３Ｈｚ、少なくとも４Ｈｚ、少なくとも５Ｈｚ、少なくとも１０Ｈｚ、少なくとも１５Ｈｚ、または少なくとも２０Ｈｚの周波数を有する干渉の影響がないように領域Ｚを保つために適した手段が取られ得る。例えば、最大５００Ｈｚ、最大４００Ｈｚ、最大３００Ｈｚ、最大２５０Ｈｚ、最大２００Ｈｚ、最大１００Ｈｚ、最大７５Ｈｚ、または最大５０Ｈｚの周波数を有する干渉の影響がないように領域Ｚを保つために適した手段が取られ得る。

【0018】

ガラス溶融物の引き抜きは特に、ダウンドローまたはオーバーフローフュージョンを含み得る。両方の場合において、ガラス溶融物は槽から出てきて、次いでガラスリボンへと引き抜かれる。ガラス溶融物が槽から出てくる点で有する粘度は、位置・厚さばらつきの出現に関連する。とりわけ、ガラス溶融物が適切に引き抜かるためには、粘度が高すぎてはならない。しかしながら、粘度が低すぎると、引き抜きの間に位置・厚さばらつきを発生しやすくする粘度範囲においてガラスリボンが長くなりすぎる。従って、ガラス溶融物が槽から出てくる際の粘度は、１０^2.20ｄＰａｓ以上、１０^2.30ｄＰａｓ以上、１０^2.40ｄＰａｓ以上、１０^2.50ｄＰａｓ以上、１０^2.60ｄＰａｓ以上、１０^2.70ｄＰａｓ以上、１０^2.80ｄＰａｓ以上、１０^2.90ｄＰａｓ以上、１０^3.00ｄＰａｓ以上、１０^3.10ｄＰａｓ以上、１０^3.20ｄＰａｓ以上、または１０^3.30ｄＰａｓ以上であるべきである。ガラス溶融物が槽から出てくる際の粘度は例えば、最大１０^4.00ｄＰａｓ、最大１０^3.90ｄＰａｓ、最大１０^3.80ｄＰａｓ、最大１０^3.70ｄＰａｓ、最大１０^3.60ｄＰａｓ、または最大１０^3.50ｄＰａｓであってよい。ガラス溶融物が槽から出てくる際の粘度は例えば、１０^2.20ｄＰａｓ～１０^4.00ｄＰａｓ、１０^2.30ｄＰａｓ～１０^4.00ｄＰａｓ、１０^2.40ｄＰａｓ～１０^3.90ｄＰａｓ、１０^2.50ｄＰａｓ～１０^3.90ｄＰａｓ、１０^2.60ｄＰａｓ～１０^3.80ｄＰａｓ、１０^2.70ｄＰａｓ～１０^3.80ｄＰａｓ、１０^2.80ｄＰａｓ～１０^3.70ｄＰａｓ、１０^2.90ｄＰａｓ～１０^3.70ｄＰａｓ、１０^3.00ｄＰａｓ～１０^3.60ｄＰａｓ、１０^3.10ｄＰａｓ～１０^3.60ｄＰａｓ、１０^3.20ｄＰａｓ～１０^3.50ｄＰａｓ、または１０^3.30ｄＰａｓ～１０^3.50ｄＰａｓの範囲であってよい。

【0019】

ダウンドロー工程において、槽は細長いノズルを有し、そこからガラス溶融物が流れて下向きに出てくる。ガラス溶融物が槽から出てくる点は、ノズルの開口部によって、またはノズルに差し込まれたブレードの端部によって与えられ、前記ブレードのところでガラスが流れ落ちる。オーバーフローフュージョン工程において、この点は槽の底部側によって与えられ、そこでガラスの流れがぶつかって合流し、下向きに流れる。

【0020】

槽から出てきた後に粘度が急激に増加する場合も有利である。粘度増加の急激さは、ガラス組成の選択によって、および／または適した冷却レジームを適用することによって影響され得る。

【0021】

発明の詳細な説明
表面近傍の損傷レベル（ＯＮＳＬ）は、ガラス物品表面の表面的な損傷の程度を記述する。「損傷」は、ガラスで満たされていないが、引っかき傷、溝、脈理、ガス包含物、剥離、貝殻状断口、またその種のものに起因して、開いたかまたは閉じたキャビティとしてガラス物品内に存在する少なくとも１．０μｍの広がりを有する体積である。損傷の「広がり」は、その最大直径である。損傷の「広がり」は損傷の「長さ」とも称され得る。損傷の「幅」は、損傷の長さに対して直交する方向における損傷の直径を意味する。この文脈において「表面的な」は、損傷が少なくとも区域的に物品の表面に達すること、またはそれらが少なくとも区域的に表面下１．０μｍ以下であることを意味する。いかなる損傷も含まない、つまり表面で損傷がなく且つ表面下１．０μｍまでの深さにおいて損傷がない場合、ガラス物品の表面の区域は損傷不含である。

【0022】

ＯＮＳＬは面積カバー率ＯＮＳＬとして％で特定されることができ、その際、それは考察される表面区域の損傷を含む面積部分である。本開示においてＯＮＳＬに言及される場合、特段記載されない限り、ＯＮＳＬは、面積カバー率ではなく、特定の大きさ面積区域に基づく、通常は２×２ｍｍ²の面積区域に基づく表面近傍の損傷の数を規定する数値的なＯＮＳＬが意味される。

【0023】

特定の面積区域における平均ＯＮＳＬは、特にいくつかの異なる試験領域において表面近傍の損傷の数を特定し、引き続きこれから平均値を計算することによって特定される。検査される領域の面積は、ＯＮＳＬの基礎として規定される面積区域の面積と同一である必要はない。例えば、ＯＮＳＬが２×２ｍｍ²の面積区域に基づき特定される場合、表面近傍の損傷数は、面積が２×２ｍｍ²とは異なる試験領域において特定されることができる。特に、個々の試験領域の面積および／または試験領域の合計面積が２×２ｍｍ²よりｍ小さいことが可能である。本発明の実施態様において、個々の試験領域の面積は例えば少なくとも０．０５ｍｍ²、少なくとも０．１ｍｍ²、または少なくとも０．１５ｍｍ²である。試験領域の合計面積は、例えば少なくとも０．２ｍｍ²、少なくとも０．５ｍｍ²、少なくとも０．７ｍｍ²、または少なくとも１．０ｍｍ²であってよい。本発明の実施態様において、試験領域は均一に分布するように配置される。特に、個々の試験領域は互いから、および／またはガラス物品の端部から等しい間隔であってよい。例えば、４つまたは９つの試験領域が検査される場合、それらは正方形の形状に配置され得る。９つの試験領域の場合、当然、正方形の中央に位置付けられる試験領域は端部に対して同じ距離を有さない。端部に対して同じ距離は特に、外側にある試験領域に該当する。試験領域を長方形または円の形状に配置することもできる。試験領域の配置の形状は、特に２つの主側面の形状に相応し得る。試験領域の実質的に均一な分布は、特に代表的なＯＮＳＬを特定するために有利である。

【0024】

ＯＮＳＬを、特に４０倍の倍率を有する顕微鏡によって、好ましくは共焦点レーザー走査顕微鏡、特にＺｅｉｓｓ ＬＳＭ ８００を用いて特定できる。

【0025】

平均ＯＮＳＬの計算を、例を用いて説明する。ガラス物品について、面積区域２×２ｍｍ²に基づき平均ＯＮＳＬが特定されるべきと仮定する。このために、いくつかの、通常は２～１０（例えば７つ）の試験領域数で、表面近傍の損傷の数が各々特定され得る。個々の試験領域の面積は例えば０．１ｍｍ²～０．２ｍｍ²であることができる。例えば、各々０．１ｍｍ²の面積を有する１０の試験領域が検査される場合であり且つ全体的に合計２００個の表面近傍の損傷が検出される場合、平均ＯＮＳＬは１ｍｍ²あたり２００個の損傷であるか、または換言すれば、２×２ｍｍ²の面積区域において８００個の損傷である。

【0026】

平均ＯＮＳＬの代替的または追加的に、表面近傍の損傷の最大レベル（ＯＮＳＬ_max）を規定することも可能である。例えば、上述の例において、１０の試験領域の１つにおいて４０個の表面近傍の損傷が検出される場合であって、且つこの数が１０の全ての試験領域で最も高い場合、ＯＮＳＬ_maxは損傷の数と、ＯＮＳＬ_maxが基づくべき面積区域の面積含分と試験領域の面積含分の商との積として計算され得る。従って、本例においては以下のとおりである：

【数1】

【0027】

ＯＮＳＬは表面の粗さからは区別されるべきである。表面の粗さは本質的に表面におけるより小さな構造を記述し、それらの広がりは１．０μｍを著しく下回る。例示的な粗さは、研磨された／処理されたガラスについて典型的には５ｎｍ未満であり、且つ熱成形された表面についてはさらに低い。ガラス物品は、例えば、特に２×２ｍｍ²または５×５ｍｍ²の面積区域において、特に好ましくはガラス物品の一方または両方の主側面の表面全体において２ｎｍ未満の粗さＲ_aを有し得る。

【0028】

特に、２×２ｍｍ²の面積区域における平均ＯＮＳＬ２０００個未満、例えば最大１５００、最大１２５０、最大１０００、最大７５０、最大５００、最大４００、最大３００、最大２００、最大１５０、最大１２５、最大１００、最大９０、最大８０、最大７０、最大６０、または最大５０個の損傷が有利である。２×２ｍｍ²の面積区域における平均ＯＮＳＬは例えば、少なくとも１、少なくとも２、少なくとも５、少なくとも１０、または少なくとも２０個の損傷であってよい。

【0029】

特に、２×２ｍｍ²の面積区域におけるＯＮＳＬ_maxが最大４０００個、例えば最大３０００、最大２５００、最大２０００、最大１５００、最大１０００、最大８００、最大６００、最大４００、最大３００、最大２５０、最大２００、最大１８０、最大１６０、最大１４０、最大１２０、または最大１００個の損傷であることが有利である。２×２ｍｍ²の面積区域におけるＯＮＳＬ_maxは例えば、少なくとも２、少なくとも４、少なくとも１０、少なくとも２０、または少なくとも４０個の損傷であってよい。

【0030】

前記ガラス物品は３．０ｍｍ未満の薄い厚さを有する。好ましい実施態様において、それはさらにより著しく薄く、ここで特に前記物品は２．０ｍｍ未満、１．０ｍｍ未満、または５００μｍ未満の厚さを有し得る。特定の実施態様において、前記物品は３５０μｍ未満、２５０μｍ未満、１５０μｍ未満、１００μｍ未満、または５０μｍ未満の厚さすら有する。特に、薄いガラス物品は（小型化への寄与としての厚さの低減以外に）、それらが圧力センサの重量にわずかにしか寄与しないという利点を有する。特に、自動車分野において、または携帯型電子機器において、重量が少ないことは重要である。しかし、非常に薄いガラスは取り扱いに関してはより困難でもある。例えば、非常に薄いガラスの場合、損傷が非常に容易に起きることがあり、非常に薄いガラスを処理するために必要とされる器具に基づく労力が大きい。いくつかの実施態様において、ガラス物品の厚さは５．０μｍを上回り、好ましくはさらに１０．０を上回り、または２０．０μｍを上回る。本発明の特に好ましいガラス物品は、２５０μｍを上回る、例えば少なくとも３００μｍ、少なくとも３５０μｍ、少なくとも４００μｍ、少なくとも４５０μｍ、または少なくとも５００μｍの厚さを有する。前記の厚さは例えば、＞２５０μｍ～＜３．０ｍｍ、３００μｍ～２．７５ｍｍ、３５０μｍ～２．５ｍｍ、４００μｍ～２．２５ｍｍ、４５０μｍ～２．０ｍｍ、または５００μｍ～１．５ｍｍの範囲であってよい。前記の厚さは例えば、最大２．７５ｍｍ、最大２．５ｍｍ、最大２．２５ｍｍ、最大２．０ｍｍ、最大１．５ｍｍ、または最大１．０ｍｍであってよい。

【0031】

従って、ガラス物品は好ましくはプレート、ディスク、ウェハ、シートまたはその種のものの形態における平坦な品物である。前記物品は特に、前記物品の他の側面に比して最も長い広がりを有する２つの主側面を有する。それら２つの側面間の最短距離は、ガラス物品の厚さに相応する。２つの主側面は特に平行平面である。

【0032】

好ましくは、本願に記載されるＯＮＳＬは少なくともガラス物品の両方の主側面の区域に該当する。本明細書においてガラス物品の面積区域についてＯＮＳＬが特定される場合、この値は好ましくはガラス物品の反対の主側面上の相応の面積区域にも該当する。

【0033】

携帯型の技術機器はますます小さくなってきており、できるだけ高いパッキング密度または集積密度が必要とされる。同じことが自動車にも該当し、圧力センサモジュールおよびシステムのために利用可能な空間はますます小さくなっている（例： タイヤの空気圧を測定するためのバルブ内圧力センサ）。これらの傾向が、より小さな構成部品へ向かう開発に勢いをつける。これは圧力センサにも該当する。高い測定精度を得るために、特にＯＮＳＬおよび／またはＯＤＳに関して、圧力センサの製造のために十分である面積において、ガラス物品の品質が達成される必要がある。好ましくは、この面積は２×２ｍｍ²以上、特に４×４ｍｍ²以上、例えば５×５ｍｍ²以上である。

【0034】

ガラス物品自体は著しくより大きいことがある。典型的には、ガラス物品は少なくとも１００ｍｍ²、少なくとも２００ｍｍ²、少なくとも４００ｍｍ²、少なくとも６００ｍｍ²、少なくとも８００ｍｍ²、少なくとも２０００ｍｍ²（特に直径２インチ（約５０ｍｍ））、少なくとも４４００ｍｍ²（特に直径３インチ（約７５ｍｍ））、および／または少なくとも７４０００ｍｍ²（特に直径１２インチ（約３００ｍｍ））の大きさを有し得る。そのような大きなガラス物品から、例えばガラス物品から構成部品をのこぎりで切り出す（ダイシングする）ことによって、圧力センサを製造するための多数の構成部品を製造できる。上記で言及されたよりも大きな、または小さなシートまたはウェハも使用され得る。ガラス物品は丸いまたは角のある底面を有し得る。

【0035】

好ましい実施態様において、ガラス物品は少なくとも１００ｍｍ²、例えば少なくとも２００ｍｍ²、少なくとも４００ｍｍ²、少なくとも６００ｍｍ²、少なくとも８００ｍｍ²、少なくとも２０００ｍｍ²（特に直径２インチ（約５０ｍｍ））、少なくとも４４００ｍｍ²（特に直径３インチ（約７５ｍｍ））、および／または少なくとも７４０００ｍｍ²（特に直径１２インチ（約３００ｍｍ））の大きさを有する。ガラス物品の「大きさ」は、特にガラス物品の両方の主側面の１つの面積含分を意味する。特に、ガラス物品の両方の主側面は同じ面積含分を有する。

【0036】

１つの実施態様において、ガラス物品は、本願内で記載される値、特にＯＮＳＬおよび／またはＯＤＳが該当する、２×２ｍｍ²の大きさを有する少なくとも３０の面積区域、特に少なくとも４０、または少なくとも４５の面積区域を含み得る。そのようなガラス物品は特に、圧力センサ用の構成部品を経済的に製造するために適している。１つの実施態様において、パラメータＯＮＳＬおよび／またはＯＤＳを満たすガラス物品の面積部分は、ガラス物品の全面積の少なくとも５０．０％、少なくとも６０．０％、少なくとも７０．０％、少なくとも８０．０％、少なくとも９０．０％、少なくとも９５．０％、少なくとも９８．０％、少なくとも９９．０％、または少なくとも９９．９％である。１つの実施態様において、平均ＯＮＳＬおよび／またはＯＮＳＬ_maxは両方の主側面の各々の全面積、特に両方の主側面の各々の面積の約１００％で実質的に満たされる。１つの実施態様において、厚さに対して正規化されたＯＤＳ_avg、ＯＤＳ_maxおよび／またはＯＤＳは、ガラス物品の全面積で、特に前記面積の１００％で実質的に満たされる。

【0037】

位置・厚さばらつき（ＯＤＳ）は、ガラス物品の面積区域内で測定された最高の厚さａと、測定された最低の厚さｂとの間の差を記述する。以下が該当する： ＯＤＳ_i＝ａ_i ^-ｂ_i、前記ｉ＝１、２、…、ｎ（ｎ＝ガラス物品の面積区域の数）。ガラス物品の最大位置・厚さばらつき（ＯＤＳ_max）は、このガラス物品の最高のＯＤＳ_i値である。ガラス物品の最小位置・厚さばらつき（ＯＤＳ_min）は、このガラス物品の最低のＯＤＳ_i値である。ガラス物品の平均位置・厚さばらつき（ＯＤＳ_avg）は、このガラス物品のＯＤＳ_i値の平均値である。本開示においては、ＯＤＳ_avgはＯＤＳとして略記され且つ称されることが多い。本開示においてＯＤＳと称される場合、特段記載されない限り、ＯＤＳ_avgを意味する。

【0038】

測定のために、例えば干渉計、特にＰｒｅｃｉｔｅｃ Ｓｅｎｓｏｒ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｉｃ－Ｋ干渉計を使用できる。サンプリングレートは特に４ｋＨｚであってよい。走査速度は特に５００ｍｍ／秒であってよい。測定点の間隔は特に０．１２５ｍｍであってよい。

【0039】

ＯＤＳは厚さに対して正規化されて、従って考察される面積区域の平均厚さ、またはガラス物品の平均厚さ、またはガラス物品の公称厚さに基づいて、特定され得る。ガラス物品の平均厚さとガラス物品の公称厚さとの間のずれは通常は無視できる。従って、公称厚さはガラス物品の平均厚さについての良好な尺度であり、且つ厚さの正規化のために好ましく使用される。

【0040】

特に、ガラス物品の厚さ１μｍあたり１０ｎｍ未満の、厚さに対して正規化されたＯＤＳが有利である。ガラス物品の厚さ１μｍあたり１０ｎｍ未満の、厚さに対して正規化されたＯＤＳは好ましくは、２×２ｍｍ²以上の面積区域、特に４×４ｍｍ²以上の面積区域、またはさらには５×５ｍｍ²以上の面積区域において達成される。好ましくは、２×２ｍｍ²の面積区域における厚さに対して正規化されたＯＤＳは５ｎｍ／μｍ未満、または２ｎｍ／μｍ未満である。さらに好ましくは、５×５ｍｍ²の面積区域における厚さに対して正規化されたＯＤＳは５ｎｍ／μｍ未満、または２ｎｍ／μｍ未満である。製造方法に依存して、厚さに対して正規化された特定のＯＤＳは常に回避できるわけではないので、１つの実施態様におけるガラス物品は、特に２×２ｍｍ²以上、例えば５×５ｍｍ²の面積区域において、０．００１ｎｍ／μｍ以上、例えば少なくとも０．０１ｎｍ／μｍ、または少なくとも０．０５ｎｍ／μｍの、厚さに対して正規化されたＯＤＳを有し得る。例えば、本発明は２×２ｍｍ²の面積区域において０．００１～１０ｎｍ／μｍの、０．０１～５ｎｍ／μｍの、または０．０５～２ｎｍ／μｍの範囲の、厚さに対して正規化されたＯＤＳを有するガラス物品に関する。本発明は５×５ｍｍ²の面積区域において０．００１～１０ｎｍ／μｍの、０．０１～５ｎｍ／μｍの、または０．０５～２ｎｍ／μｍの範囲の、厚さに対して正規化されたＯＤＳを有するガラス物品にも関する。

【0041】

ＯＤＳを厚さに対して正規化せずに規定することもできる。この場合、「μｍ」の単位が使用され、厚さに対して正規化されたＯＤＳの場合のような「ｎｍ／μｍ」の単位ではない。厚さに対する正規化に言及されない場合、通常は厚さに対して正規化されていないＯＤＳを意味する。

【0042】

１つの実施態様において、ＯＤＳは２×２ｍｍ²の面積区域において１０μｍ未満、特に５μｍ未満、または２μｍ未満である。１つの実施態様において、ＯＤＳは５×５ｍｍ²の面積区域において１０μｍ未満、特に５μｍ未満、または２μｍ未満である。製造方法に依存して、特定のＯＤＳは常に回避できるわけではないので、１つの実施態様におけるガラス物品は、特に２×２ｍｍ^２以上、例えば５×５ｍｍ^２の面積区域において、０．００１μｍ以上、例えば０．０１μｍ以上、特に少なくとも０．０５μｍのＯＤＳを有し得る。例えば、本発明は２×２ｍｍ²の面積区域において０．００１～１０μｍの、０．０１～５μｍの、または０．０５～２μｍの範囲のＯＤＳを有するガラス物品に関する。本発明は５×５ｍｍ²の面積区域において０．００１～１０μｍの、０．０１～５μｍの、または０．０５～２μｍの範囲のＯＤＳを有するガラス物品にも関する。

【0043】

１つの実施態様において、最大位置・厚さばらつき（ＯＤＳ_max）は２×２ｍｍ²の面積区域において５０μｍ未満、特に２５μｍ未満、または１０μｍ未満である。１つの実施態様において、ＯＤＳは５×５ｍｍ²の面積区域において５０μｍ未満、特に２５μｍ未満、または１０μｍ未満である。製造方法に依存して、特定のＯＤＳは常に回避できるわけではないので、１つの実施態様におけるガラス物品は、特に２×２ｍｍ²以上、例えば５×５ｍｍ²の面積区域において、０．００５μｍ以上、例えば０．０５μｍ以上、特に少なくとも０．２５μｍのＯＤＳ_maxを有し得る。例えば、本発明は２×２ｍｍ²の面積区域において０．００５～５０μｍの、０．０５～２５μｍの、または０．２５～１０μｍの範囲のＯＤＳ_maxを有するガラス物品に関する。本発明は５×５ｍｍ²の面積区域において０．００５～５０μｍの、０．０５～２５μｍの、または０．２５～１０μｍの範囲のＯＤＳ_maxを有するガラス物品にも関する。

【0044】

前記ガラス物品は圧力センサにおいて、半導体と測定されるべき媒体との、良好且つ迅速、そして何よりもまず均一な熱的な切り離しを可能にすべきである。２×２ｍｍ²以上の面積におけるガラス物品が、特に室温で、従って２０℃～２５℃の範囲の温度で、例えば２２℃で、０．２Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下の、特に最大０．１５Ｗ／（ｍ・Ｋ）の、最大０．１Ｗ／（ｍ・Ｋ）の、最大０．０５Ｗ／（ｍ・Ｋ）の、最大０．０２Ｗ／（ｍ・Ｋ）の、または最大０．０１Ｗ／（ｍ・Ｋ）の熱伝導率のばらつきを示す場合、均一な熱的な切り離しが達成される。好ましくは、この値はガラス物品全体に該当する。これに関し、「ばらつき」は、熱伝導率の最大の差、従って相応の面積における最高の熱伝導率と最低の熱伝導率との間の差を意味する。いくつかの実施態様において、熱伝導率のばらつきは、特に室温、従って２０℃～２５℃の範囲の温度で、例えば２２℃で、例えば少なくとも０．０００１Ｗ／（ｍ・Ｋ）、または少なくとも０．００１Ｗ／（ｍ・Ｋ）であってよい。熱伝導率の測定を例えば、いわゆるレーザーフラッシュ法を用いて実施できる。ここで、前記方法はＡＳＴＭ Ｅ１４６１に準拠し、且つ測定された熱拡散率αから、比熱容量（Ｃ_p）並びに密度（ρ）を使用して熱伝導率（λ）を計算する：

【数2】

【0045】

計算によってガラス物品の特定の位置での熱伝導率を特定することも可能である。損傷のない位置では、有効熱伝導率λ_effはガラスの熱伝導率λに相応する。損傷を通じて熱伝導が生じる位置では、有効熱伝導率は以下の式（２）に従って計算できる：

【数3】

【0046】

式（２）において、λ_ガラスはガラスの熱伝導率であり、λ_空気は空気の熱伝導率であり、ｄはガラス物品の厚さであり、且つΔｘは熱伝導方向の損傷の広がりである。特に、熱伝導はガラス物品の主側面の一方から、ガラス物品を通じて直交して、ガラス物品の他の主側面へと生じる。伝導率λ_空気は、損傷を通じた熱伝導についての適したパラメータであり、なぜなら損傷はガラスで満たされていない体積であるからである。約室温の温度で、λ_空気は約０．０２６２Ｗ／（ｍ・Ｋ）であり、従って相応の温度で約１．０Ｗ／（ｍ・Ｋ）である典型的なガラスの熱伝導率とは著しく異なる。式（２）によれば、ガラス物品の厚さｄが５００μｍの場合、熱伝導の方向にΔｘ＝１μｍの広がりを有する損傷で既に約７％の熱伝導率の低下がもたらされることになる。

【0047】

温度範囲２０℃～３００℃で、２．５～１１×１０^-6／Ｋ、特に３．０～９．５×１０^-6／Ｋの範囲の平均熱膨張係数（ＣＴＥ）を有するガラス物品が使用される場合に有利であることが示されている。ＣＴＥはＤＩＮ ＩＳＯ ７９９１：１９８７に準拠して特定される。

【0048】

好ましくは、前記ガラス物品は１ｍｍ³あたり１．０未満のいくつかのガス状包含物を含む。

【0049】

粘度・温度プロファイル
本発明は特定の粘度・温度プロファイルを有するガラスのみが本発明のガラス物品のために適していることに限定されない。しかしながら、特定の粘度・温度プロファイルが有利であることが示されている。特に経済的な製造のために、特に、ドロー法、例えばダウンドロー法またはオーバーフローフュージョン法において良好に製造され得るガラスが好ましく、従って特に、液相粘度（それより上で結晶が形成され得る）が１０³ｄＰａｓ以上、好ましくは１０^3.5ｄＰａｓを上回る、特に好ましくは１０⁴ｄＰａｓを上回る値を有するようなガラスが形成され得る。

【0050】

オーバーフローフュージョン工程のダウンドローにおいてガラス溶融物が槽から出てくる際の温度で粘度が比較的大きいような粘度・温度プロファイルをガラスが有する場合、位置・厚さばらつきを低減するために特に有利である。さらには、温度の低下に伴う粘度の増加が比較的急激であるような粘度・温度プロファイルをガラスが有する場合、有利である。前記の手段のいずれも、個別に、または組み合わせて、ガラスの実質的な位置・厚さばらつきの発現しやすさを実質的に低減する。

【0051】

通常、ガラスの特定の粘度を達成するために必要な温度を計算するために、Ｖｏｇｅｌ－Ｆｕｌｃｈｅｒ－Ｔａｍｍａｎｎ式（ＶＦＴ式）が使用される（ＤＩＮ ＩＳＯ ７８８４－２：１９９８－２も参照）：

【数4】

【0052】

ＶＦＴ式において、ηは粘度であり、ＡおよびＢは温度に依存しない材料のパラメータであり、Ｔは温度であり、且つＴ₀はＶｏｇｅｌ温度である。所与のガラスについてはＡ、ＢおよびＴ₀は一定である。

【0053】

好ましくは、前記ガラスはＢについて少なくとも３５００Ｋ、少なくとも４０００Ｋ、または少なくとも４５００Ｋの値を有する。特に好ましい実施態様において、前記ガラスはＢについて少なくとも５０００Ｋ、少なくとも５５００Ｋ、または少なくとも６０００Ｋの値を有する。好ましくは、Ｂは最大１２０００Ｋ、最大１１０００Ｋ、最大１０５００Ｋ、最大１００００Ｋ、最大９５００Ｋ、または最大９０００Ｋである。パラメータＢは例えば３５００～１２０００Ｋ、４０００～１１０００Ｋ、４５００～１０５００Ｋ、５０００～１００００Ｋ、５５００～９５００Ｋ、または６０００～９０００Ｋの範囲であってよい。

【0054】

Ｔ₀は好ましくは少なくとも２５℃、少なくとも５０℃、少なくとも７５℃、少なくとも１００℃、または少なくとも１２０℃である。好ましくは、Ｔ₀は最高３００℃、最高２７５℃、または最高２５０℃、または最高２２５℃、または最高２１５℃である。Ｔ₀は例えば２５℃～３００℃、５０℃～２７５℃、７５℃～２５０℃、１００℃～２２５℃、または１２０℃～２１５℃の範囲であってよい。

【0055】

Ａについての値は好ましくは０未満、－０．５未満、－０．７５未満、－１．０未満、または－１．５未満である。Ａについての値は好ましくは少なくとも－５．５、少なくとも－５．０、または少なくとも－４．５である。Ａについての値は例えば－５．５～＜０、－５．５～＜－０．５、－５．０～＜－０．７５、－４．５～＜－１．０、または－４．５～＜－１．５の範囲であってよい。

【0056】

それらのＶＦＴ定数を有するガラスは、ドロー法、例えばダウンドロー法またはオーバーフローフュージョン法において特に良好に製造され得る。

【0057】

特に好ましくは、前記ガラスは以下のＶＦＴ定数を有する： Ａは－５．５～＜０．０の範囲であり、Ｂは３５００～１２０００Ｋの範囲であり、且つ／またはＴ₀は２５℃～３００℃の範囲である。さらにより好ましくは、前記ガラスは以下のＶＦＴ定数を有する： Ａは－５．０～＜－０．７５の範囲であり、Ｂは４０００～１００００Ｋの範囲であり、且つ／またはＴ₀は７５℃～２７０℃の範囲である。さらにより好ましくは、前記ガラスは以下のＶＦＴ定数を有する： Ａは－４．５～＜－１．５の範囲であり、Ｂは４５００～９０００Ｋの範囲であり、且つ／またはＴ₀は１２０℃～２５０℃の範囲である。さらにより好ましくは、前記ガラスは以下のＶＦＴ定数を有する： Ａは－４．５～－１．５未満の範囲であり、Ｂは５０００～１００００Ｋの範囲であり、且つ／またはＴ₀は１００℃～２２５℃の範囲である。これは、温度の低下に伴う粘度の急激な増加を達成ために特に有利であるので、実質的な位置・厚さばらつきの発現しやすさが低減される。

【0058】

ガラス溶融物が槽を出てくる点でのガラス溶融物の粘度はさらに関連する。この粘度は２つの独立した要因によって、一方ではガラス溶融物が槽から出てくる際の温度によって、且つ他方ではガラス組成によって特定される。第１の要因は当業者が相応に選択し得る工程パラメータである。例えば、関連する点でのガラス溶融物の粘度が低すぎる場合、当業者は低下された温度を選択して粘度を増加させることができる。しかしながら、これは合理的には特定の制限内でのみ行われる。従って、関連する温度での粘度が比較的高いような組成をガラスが有する場合、有利である。特に、ガラスがＴ＝１４００℃でＶＦＴ式による粘度η１０^2.20ｄＰａｓ以上、１０^2.30ｄＰａｓ以上、１０^2.40ｄＰａｓ以上、１０^2.50ｄＰａｓ以上、１０^2.60ｄＰａｓ以上、１０^2.70ｄＰａｓ以上、１０^2.80ｄＰａｓ以上、１０^2.90ｄＰａｓ以上、１０^3.00ｄＰａｓ以上、１０^3.10ｄＰａｓ以上、１０^3.20ｄＰａｓ以上、または１０^3.30ｄＰａｓ以上を有する場合、有利である。ＶＦＴ式によるＴ＝１４００℃での粘度ηは例えば、最大１０^4.00ｄＰａｓ、最大１０^3.90ｄＰａｓ、最大１０^3.80ｄＰａｓ、最大１０^3.70ｄＰａｓ、最大１０^3.60ｄＰａｓ、または最大１０^3.50ｄＰａｓであってよい。ＶＦＴ式によるＴ＝１４００℃での粘度ηは例えば、１０^2.20ｄＰａｓ～１０^4.00ｄＰａｓ、１０^2.30ｄＰａｓ～１０^4.00ｄＰａｓ、１０^2.40ｄＰａｓ～１０^3.90ｄＰａｓ、１０^2.50ｄＰａｓ～１０^3.90ｄＰａｓ、１０^2.60ｄＰａｓ～１０^3.80ｄＰａｓ、１０^2.70ｄＰａｓ～１０^3.80ｄＰａｓ、１０^2.80ｄＰａｓ～１０^3.70ｄＰａｓ、１０^2.90ｄＰａｓ～１０^3.70ｄＰａｓ、１０^3.00ｄＰａｓ～１０^3.60ｄＰａｓ、１０^3.10ｄＰａｓ～１０^3.60ｄＰａｓ、１０^3.20ｄＰａｓ～１０^3.50ｄＰａｓ、または１０^3.30ｄＰａｓ～１０^3.50ｄＰａｓの範囲であってよい。

【0059】

上記で示されたＶＦＴ式に鑑み、Ａの増加、Ｂの増加、および／またはＴ₀の増加は、所与の温度Ｔでの粘度ηの増加と関連していることがわかる。しかしながら、Ａおよび／またはＢの値の増加は、関連の温度範囲でのあまり急激ではない粘度変化とも関連する。

【0060】

従って、ガラスの成分が、所望の粘度・温度プロファイルが得られるようにバランスを取って選択される場合、有利である。例えば、最適化された粘度・温度プロファイルが得られるように、特定のＶＦＴ定数に減少作用を有する成分は、好ましくはそれぞれのＶＦＴ定数または他の２つのＶＦＴ定数の１つに増加作用を有する成分によってバランスを取られ、その逆もまた然りである。

【0061】

ガラスの構成成分の選択は、屈折率の温度依存性に影響する。例えば、ＳｉＯ₂の添加は、ＶＦＴ式の値Ａを減少し、且つ値ＢおよびＴ₀を増加させる。以下の表にガラス構成成分がＶＦＴ定数に及ぼす影響をまとめ、ここで「＋」は増加作用を表し、「＋＋」は上述の定数の値が強く増加されることを意味する。「ー」は減少作用を表し、「--」は、考察される定数の値がガラス構成成分の量の増加によって強く減少されることを意味する。

【0062】

【表1】

【0063】

好ましいガラス組成
ガラス物品の組成は特定のガラスに限定されない。しかしながら、特に経済的な製造のためには、ドロー法、例えばダウンドロー法またはオーバーフローフュージョン法において良好に製造され得るガラスが好ましい。１つの実施態様において、前記ガラスはケイ酸塩ガラス、特にホウケイ酸ガラスまたはアルミノケイ酸ガラスである。さらに、ガラス組成を特定の限定内に保つことは、ガラスの位置・厚さばらつきの発現しやすさを低減するように粘度・温度プロファイルを最適化するために特に有利であることができる。これは特に、ガラスが槽を離れる点で比較的高い粘度を有し且つ／または温度の低下に伴う粘度の急激な増加を有するガラスに該当する。

【0064】

ガラス組成の助けによって、例えば、熱伝導率（Ｗ／（ｍ・Ｋ））、ひいては熱貫流率（Ｗ／（ｍ²・Ｋ））も影響され得る。特定の酸化物、例えばＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｂ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯまたはＫ₂Ｏは、熱伝導率の増加と関連付けられる。他の酸化物、例えばＴｉＯ₂、Ｌｉ₂ＯまたはＮａ₂Ｏは、熱伝導率の減少と関連付けられる。

【0065】

本開示において、アルカリ金属酸化物の合計、特にＬｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏの合計は「Ｒ₂Ｏ」とも称される。同様に、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯの合計は「ＲＯ」とも称される。

【0066】

１つの実施態様において、前記ガラスは少なくとも６０．０モル％のＳｉＯ₂を含む。任意に、ＳｉＯ₂の含有率は８７．０モル％まで、または８５．０モル％までであることができる。二酸化ケイ素はガラスの耐性に実質的に寄与する。しかし、それはガラスの加工温度を上げるので、製造の経済性を低下させる。１つの実施態様において、前記ガラスは少なくとも６７．０モル％、または少なくとも７５．０モル％、より好ましくは少なくとも７７．５モル％、より好ましくは少なくとも８０．０％モル％のＳｉＯ₂を含む。

【0067】

いくつかの実施態様において、ガラス中の任意成分はＢ₂Ｏ₃である。

【0068】

例えば、前記ガラスは以下の成分をモル％で特定される割合で含有し得る：

【表2】

【0069】

以下の成分を質量％で含むガラスを含むか、または該ガラスから製造されたガラス物品が、実施態様によるガラス物品および／または実施態様による方法において製造できるガラス物品を提供するために特に好ましいことが示された：
組成範囲１：
ＳｉＯ₂ ６０～６５
Ｂ₂Ｏ₃ ６～１０．５
Ａｌ₂Ｏ₃ １４～２５
ＭｇＯ ０～３
ＣａＯ ０～９
ＢａＯ ３～８
ＺｎＯ ０～２、
ここで以下が該当する： ＭｇＯとＣａＯとＢａＯとの含有率の合計は８～１８質量％の範囲であることを特徴とする。

【0070】

組成範囲２：
ＳｉＯ₂ ６０～８５
Ｂ₂Ｏ₃ ５～２０
Ａｌ₂Ｏ₃ ２～１５
Ｎａ₂Ｏ ３～１５
Ｋ₂Ｏ ３～１５
ＺｎＯ ０～１２
ＴｉＯ₂ ０．５～１０
ＣａＯ ０～０．１。

【0071】

組成範囲３：
ＳｉＯ₂ ７５～８５
Ｂ₂Ｏ₃ ８～１５
Ａｌ₂Ｏ₃ ２～４．５
Ｎａ₂Ｏ １．５～５．５
Ｋ₂Ｏ ０～２。

【0072】

組成範囲４：
ＳｉＯ₂ ２０～７０、好ましくは５０～６０、特に好ましくは５２～５８
Ｂ₂Ｏ₃ ０．５～１４、好ましくは２～１２、特に好ましくは２～４
Ａｌ₂Ｏ₃ １５～４１、好ましくは１６～２４、特に好ましくは１８～２３
ＭｇＯ ０．５～１５、好ましくは２～１２、特に好ましくは３～５
ＣａＯ ０～５、好ましくは０～３
ＢａＯ ０～７、好ましくは０～６
ＺｎＯ ０～２０、好ましくは２～１２、特に好ましくは８～１０
Ｎａ₂Ｏ ０～７、好ましくは１～６、特に好ましくは３～５。

【0073】

組成範囲５：
ＳｉＯ₂ ５０～８１
Ｂ₂Ｏ₃ ０～５
Ａｌ₂Ｏ₃ ０～５
Ｒ₂Ｏ ５～２８
ＲＯ ５～２５
ＴｉＯ₂＋ＺｒＯ₂ ０～６
Ｐ₂Ｏ₅ ０～２。

【0074】

組成範囲６：
ＳｉＯ₂ ５２～６６
Ｂ₂Ｏ₃ ０～８
Ａｌ₂Ｏ₃ １５～２５
Ｒ₂Ｏ ４～３０
ＲＯ ０～６
ＴｉＯ₂＋ＣｅＯ₂ ０～２．５
ＺｒＯ₂ ０～２．５。

【0075】

上述の組成範囲の全てにおいて、例えば着色物質および／または清澄剤の形態でのわずかな構成成分および／または微量成分、従って例えばＳｎＯ₂、ＣｅＯ₂、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｃｌ^-、Ｆ^-、硫酸塩がさらに含有され得る。

【0076】

一般に、本願に記載される実施態様に限定されることなく、ガラスが陽極結合可能（または接合可能）であるような形態を有する場合、有利であることがある。このために、ガラスが特定の割合のアルカリおよび／またはアルカリ酸化物、特にナトリウムおよび／またはナトリウム酸化物を含む場合、有利であることができる。そのような実施態様において、Ｎａ₂Ｏの含有率は少なくとも０．５質量％であるべきだが、好ましくは６質量％を上回るべきではない。

【0077】

さらに、ガラスを圧力センサに使用するために、平均熱膨張係数が関連する。温度範囲２０℃～３００℃で、２．５～１１×１０^-6／Ｋ、特に３．０～９．５×１０^-6／Ｋの範囲の平均熱膨張係数（ＣＴＥ）を有するガラス物品を使用することが有利であることが示されている。ＣＴＥはＤＩＮ ＩＳＯ ７９９１：１９８７に準拠して特定される。本発明の特定の実施態様において、これはケイ素の膨張係数に相応する３．１～３．３ｐｐｍ／Ｋの範囲である。

【0078】

最良の場合、温度区間２０～４００℃の全ての温度で、長さΔＬ／Ｌにおける相対的な変化はケイ素の推移に類似しており、最良の場合、それは一致する。

【0079】

製造方法
本発明のガラス物品を例えばドロー法によって製造できる。例示的なドロー法は、ダウンドロー、オーバーフローフュージョン、およびリドローである。ダウンドローおよび／またはオーバーフローフュージョンが特に好ましい。

【0080】

表面の品質に応じて、後処理が必要とされることがある。例示的な後処理段階は研磨、研削およびラップ加工である。研削および任意に引き続く研磨が特に有利である。結合砥粒を用いた、特にダイヤモンド研削材を用いた研削が特に好ましい。

【0081】

典型的には、ドロー法を用いて、既に非常に良好な表面近傍の損傷レベルを特徴とするガラス物品が得られる。しかし、さらに目標を絞った手段を取らないと、引き抜かれたガラスは高いＯＤＳを有し得る。ドロー法ではなく、キャスティング法においてインゴットとして製造され、引き続きのこぎりで切られ且つ研磨されたガラス物品は、多くの場合、非常に低いＯＤＳを有するが高度の表面近傍の損傷を有する。本発明による方法においては、低いＯＤＳと低いＯＮＳＬとの両方を特徴とし、従って圧力センサにおける構成部品として特に良好に適しているガラスを提供するための手段が取られている。以下に記載される方法は、連続的な方式で作業され得るので、経済的な観点からも有利である。

【0082】

１つの態様において、本発明はガラス物品の製造方法であって、以下の段階：
・ ガラス溶融物を製造する段階、
・ 前記ガラス溶融物を清澄する段階、
・ 前記ガラス溶融物を、特に引き抜きロールを使用して、３．０ｍｍ未満の範囲の目標厚さを有するガラスリボンへと引き抜く段階、
・ 前記ガラスリボンをガラス物品へと分割する段階
を含み、前記ガラスリボンは領域Ｚを通過し、そこで前記ガラスリボンは目標厚さを既に達成しているが、その粘度はまだ１０¹⁰ｄＰａｓ未満であり、
前記ガラスは前記領域Ｚにおいて少なくとも０．５ｍ／分且つ最大５０ｍ／分、例えば２～１０ｍ／分、１０～２５ｍ／分、または２５～５０ｍ／分の引き抜き速度で引き抜かれ、且つ、
前記領域Ｚを、０．０１～５００Ｈｚ、例えば０．０５～４００Ｈｚ、０．１～３００Ｈｚ、０．５～２５０Ｈｚ、０．８～２００Ｈｚ、１～１００Ｈｚ、４～７５Ｈｚ、または５～５０Ｈｚの周波数範囲における干渉の影響がないように保つために適切な手段が取られる、前記方法に関する。

【0083】

特に、１Ｈｚ以上の周波数が、関連の位置・厚さばらつきの出現と関連することが判明した。従って、１～５００Ｈｚ、２～４００Ｈｚ、３～３００Ｈｚ、４～２５０Ｈｚ、５～２００Ｈｚ、１０～１００Ｈｚ、１５～７５Ｈｚ、または２０～５０Ｈｚの周波数範囲における干渉の影響がないように領域Ｚを保つために適した手段を取るべきである。例えば、少なくとも１Ｈｚ、少なくとも２Ｈｚ、少なくとも３Ｈｚ、少なくとも４Ｈｚ、少なくとも５Ｈｚ、少なくとも１０Ｈｚ、少なくとも１５Ｈｚ、または少なくとも２０Ｈｚの周波数を有する干渉の影響がないように領域Ｚを保つために適した手段が取られ得る。例えば、最大５００Ｈｚ、最大４００Ｈｚ、最大３００Ｈｚ、最大２５０Ｈｚ、最大２００Ｈｚ、最大１００Ｈｚ、最大７５Ｈｚ、または最大５０Ｈｚの周波数を有する干渉の影響がないように領域Ｚを保つために適した手段が取られ得る。

【0084】

上述の周波数範囲における干渉の影響は、例えば引き抜き設備および／または領域Ｚの音響ハウジングによって達成され得る。任意に、引き抜きロールの（特に引き抜き方向における）距離の調整で既に設備における干渉の影響を最小化できる。

【0085】

このようにしてガラスの固有振動を抑制できる。ガラスの固有振動は特に、ガラスの固有周波数ＥＦ並びにその倍数（周波数ｆ＝ｎ×ＥＦ）で発生する。引き抜きロールまたはローラーを適切に配置することにより、それらの固有振動を抑制できる。例えば、第１の引き抜きロールとＨＦＧゾーン（熱間成形ゾーン）との間に第２の引き抜きロールを、第１の引き抜きロールに対する第２の引き抜きロールの距離がＨＦＧゾーンに対する第１の引き抜きロールの距離の１／ｎ未満であるように選択されるように配置して、ｎ×ＥＦを有する固有振動を抑制できる。

【0086】

関連の固有振動数は例えば、ガラスリボンが紐としてみなされる場合、以下の式に従って評価できる：

【数5】

【0087】

Ｌは紐の長さであり、Ψは張力であり、且つμは質量カバー率である。ガラスリボンが二次元物体（紐の代わりに膜）としてみなされる場合、さらなる固有周波数が特定され得る。

【0088】

干渉の影響を最小化するために、特に０．０１～５００Ｈｚ、例えば０．０５～４００Ｈｚ、０．１～３００Ｈｚ、０．５～２５０Ｈｚ、０．８～２００Ｈｚ、１～１００Ｈｚ、４～７５Ｈｚ、または５～５０Ｈｚの範囲、または１～５００Ｈｚ、２～４００Ｈｚ、３～３００Ｈｚ、４～２５０Ｈｚ、５～２００Ｈｚ、１０～１００Ｈｚ、１５～７５Ｈｚ、または２０～５０Ｈｚの周波数範囲の振動の切り離しを提供することができる。

【0089】

特定の周波数範囲を除外し、且つ／または固有周波数に対する離調を作り出すことが有利である。

【0090】

冷却領域における対流を和らげて、ガラスが振動しないようにすることも有利である。これは例えば、パネル（圧力カスケードの遮蔽）の助けによって達成され得る。封止、特に気密封止を備えてもよい。

【0091】

また、引き抜き設備と成形とが切り離されている場合、振動を回避できる。従って、振動が成形に伝わることを回避できる。

【0092】

ガラス溶融物の引き抜きは特に、ダウンドローまたはオーバーフローフュージョンを含み得る。両方の場合、ガラス溶融物は槽から出てきて、次いでガラスリボンへと引き抜かれる。ガラス溶融物が槽から出てくる点で有する粘度は、位置・厚さばらつきの出現に特に関連する。とりわけ、ガラス溶融物が適切に引き抜かるためには、粘度が１０⁴ｄＰａ未満でなければならない。しかしながら、粘度が低すぎると、引き抜きの間に位置・厚さばらつきを発生しやすくする粘度範囲においてガラスリボンが長くなりすぎる。従って、ガラス溶融物が槽から出てくる点でのガラス溶融物の粘度は、１０^2.20ｄＰａｓ以上、１０^2.30ｄＰａｓ以上、１０^2.40ｄＰａｓ以上、１０^2.50ｄＰａｓ以上、１０^2.60ｄＰａｓ以上、１０^2.70ｄＰａｓ以上、１０^2.80ｄＰａｓ以上、１０^2.90ｄＰａｓ以上、１０^3.00ｄＰａｓ以上、１０^3.10ｄＰａｓ以上、１０^3.20ｄＰａｓ以上、または１０^3.30ｄＰａｓ以上であるべきである。ガラス溶融物が槽から出てくる点でのガラス溶融物の粘度は例えば、最大１０^4.00ｄＰａｓ、最大１０^3.90ｄＰａｓ、最大１０^3.80ｄＰａｓ、最大１０^3.70ｄＰａｓ、最大１０^3.60ｄＰａｓ、または最大１０^3.50ｄＰａｓであってよい。ガラス溶融物が槽から出てくる点でのガラス溶融物の粘度は例えば、１０^2.20ｄＰａｓ～１０^4.00ｄＰａｓ、１０^2.30ｄＰａｓ～１０^4.00ｄＰａｓ、１０^2.40ｄＰａｓ～１０^3.90ｄＰａｓ、１０^2.50ｄＰａｓ～１０^3.90ｄＰａｓ、１０^2.60ｄＰａｓ～１０^3.80ｄＰａｓ、１０^2.70ｄＰａｓ～１０^3.80ｄＰａｓ、１０^2.80ｄＰａｓ～１０^3.70ｄＰａｓ、１０^2.90ｄＰａｓ～１０^3.70ｄＰａｓ、１０^3.00ｄＰａｓ～１０^3.60ｄＰａｓ、１０^3.10ｄＰａｓ～１０^3.60ｄＰａｓ、１０^3.20ｄＰａｓ～１０^3.50ｄＰａｓ、または１０^3.30ｄＰａｓ～１０^3.50ｄＰａｓの範囲であってよい。

【0093】

槽から出てくる点でのガラス溶融物の粘度は主に２つの独立した要因によって、一方ではガラス溶融物が槽から出てくる際の温度によって、且つ他方ではガラス組成によって特定される。第１の要因は当業者が相応に選択し得る工程パラメータである。例えば、関連する点でのガラス溶融物の粘度が低すぎる場合、当業者は低下された温度を選択して粘度を増加させることができる。

【0094】

槽から出てきた後に粘度が急激に増加する場合も有利である。粘度増加の急激さは、ガラス組成の選択によって、および／または適した冷却レジームを適用することによって影響され得る。

【0095】

有利な実施態様
１つの態様において、本発明は、厚さ３．０ｍｍ未満を有するガラス物品であって、２×２ｍｍ²における表面近傍の平均損傷レベル（ＯＮＳＬ）が、少なくとも１．０μｍの広がりを有する損傷２０００個未満である、前記ガラス物品に関する。

【0096】

１つの態様において、本発明は、厚さ３．０ｍｍ未満を有するガラス物品であって、２×２ｍｍ²における厚さに対して正規化された平均位置・厚さばらつき（ＯＤＳ）が厚さ１μｍあたり１０ｎｍ未満である、前記ガラス物品に関する。

【0097】

１つの態様において、本発明は、厚さ３．０ｍｍ未満を有するガラス物品であって、ＯＤＳが２×２ｍｍ²または５×５ｍｍ²の面積区域において１０μｍ未満である、前記ガラス物品に関する。

【0098】

１つの態様において、本発明は、厚さ３．０ｍｍ未満を有するガラス物品であって、ＯＮＳＬ_maxが２×２ｍｍ²の面積区域において最大４０００個である、前記ガラス物品に関する。

【0099】

１つの態様において、本発明は、厚さ３．０ｍｍ未満を有するガラス物品であって、最大位置・厚さばらつき（ＯＤＳ_max）が２×２ｍｍ²または５×５ｍｍ²の面積区域において５０μｍ未満である、前記ガラス物品に関する。

【0100】

１つの態様において、本発明は、厚さ３．０ｍｍ未満を有するガラス物品であって、熱伝導率のばらつきが２×２ｍｍ²の面積において０．２Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下である、前記ガラス物品に関する。

【0101】

１つの態様において、本発明は、厚さ３．０ｍｍ未満を有するガラス物品であって、以下のＶＦＴパラメータ： Ａは－５．５～＜０．０の範囲であり、Ｂは３５００～１２０００Ｋの範囲であり、且つ／またはＴ₀は２５℃～３００℃の範囲であることを特徴とする粘度・温度プロファイルを有する、前記ガラス物品に関する。

【0102】

１つの態様において、本発明は、厚さ３．０ｍｍ未満を有するガラス物品であって、２×２ｍｍ²における表面近傍の平均損傷レベル（ＯＮＳＬ）が、少なくとも１．０μｍの広がりを有する損傷２０００個未満であり、且つＯＤＳが、２×２ｍｍ²の面積区域において１０μｍ未満である、前記ガラス物品に関する。

【0103】

１つの態様において、本発明は、厚さ３．０ｍｍ未満を有するガラス物品であって、２×２ｍｍ²における表面近傍の平均損傷レベル（ＯＮＳＬ）が、少なくとも１．０μｍの広がりを有する損傷２０００個未満であり、且つ最大位置・厚さばらつき（ＯＤＳ_max）が、２×２ｍｍ²の面積区域において５０μｍ未満である、前記ガラス物品に関する。

【0104】

１つの態様において、本発明は、厚さ３．０ｍｍ未満を有するガラス物品であって、２×２ｍｍ²における表面近傍の平均損傷レベル（ＯＮＳＬ）が、少なくとも１．０μｍの広がりを有する損傷２０００個未満であり、且つ熱伝導率のばらつきが、２×２ｍｍ²の面積において０．２Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下である、前記ガラス物品に関する。

【0105】

１つの態様において、本発明は、厚さ３．０ｍｍ未満を有するガラス物品であって、２×２ｍｍ²における表面近傍の平均損傷レベル（ＯＮＳＬ）が、少なくとも１．０μｍの広がりを有する損傷２０００個未満であり、且つ以下のＶＦＴパラメータ： Ａは－５．５～＜０．０の範囲であり、Ｂは３５００～１２０００Ｋの範囲であり、且つ／またはＴ₀は２５℃～３００℃の範囲であることを特徴とする粘度・温度プロファイルを有する、前記ガラス物品に関する。

【0106】

１つの態様において、本発明は、厚さ３．０ｍｍ未満を有するガラス物品であって、２×２ｍｍ²における厚さに対して正規化された平均位置・厚さばらつき（ＯＤＳ）が、厚さ１μｍあたり１０ｎｍ未満であり、且つＯＮＳＬ_maxが、２×２ｍｍ²の面積区域において最大４０００個である、前記ガラス物品に関する。

【0107】

１つの態様において、本発明は、厚さ３．０ｍｍ未満を有するガラス物品であって、２×２ｍｍ²における厚さに対して正規化された平均位置・厚さばらつき（ＯＤＳ）が、厚さ１μｍあたり１０ｎｍ未満であり、且つ熱伝導率のばらつきが、２×２ｍｍ²の面積において０．２Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下である、前記ガラス物品に関する。

【0108】

１つの態様において、本発明は、厚さ３．０ｍｍ未満を有するガラス物品であって、２×２ｍｍ²における厚さに対して正規化された平均位置・厚さばらつき（ＯＤＳ）が、厚さ１μｍあたり１０ｎｍ未満であり、且つ以下のＶＦＴパラメータ： Ａは－５．５～＜０．０の範囲であり、Ｂは３５００～１２０００Ｋの範囲であり、且つ／またはＴ₀は２５℃～３００℃の範囲であることを特徴とする粘度・温度プロファイルを有する、前記ガラス物品に関する。

【図面の簡単な説明】

【0109】

【図1】例示的な圧力センサを示す図である。

【図2】表面近傍の損傷を側面図で示す図である。

【図3】例１による試料の例示的な像を示す図である。

【図4A】ダウンドロー法において製造されたガラス物品について、面積区域（２×２）ｍｍ²について、公称厚さｄに関して正規化されたＯＤＳ_i分布の箱ひげ図である。

【図4B】ダウンドロー法において製造されたガラス物品について、面積区域（５×５）ｍｍ²について、公称厚さｄに関して正規化されたＯＤＳ_i分布の箱ひげ図である。

【実施例】

【0110】

本発明をここで、以下の実施例を用いてより詳細に説明する。

【0111】

１． 例１
ガラス物品を様々な後処理段階に供した。例１Ａはラップ加工および研磨によって後処理された。例１Ｂは研削および研磨によって後処理された。詳細には、後処理のプロトコルは以下のとおりであった。

【0112】

【表3】

【0113】

例１Ａおよび１Ｂにおいては同じ研磨段階を実施した。両方の例の間の唯一の違いは、例１Ａは上述のラップ加工に供された一方で、例１Ｂは上述の研削に供されたことである。

【0114】

異なる後処理段階が表面近傍の損傷レベル（ＯＮＳＬ）に及ぼす影響を、１２０Ｖの６５％の照明を備えた倍率４０倍の顕微鏡（Ｚｅｉｓｓ ＬＳＭ ８００）下で観察した。例示的な像を図３に示す。各々の黒い点が１つの損傷として解釈された。表面上に付着している汚染に起因する計数間違いを回避するために、顕微鏡で評価する前に試料の表面を洗浄した。

【0115】

結果を以下の表にまとめ、ここでＯＮＳＬとしては、規定の面積における表面近傍の損傷の平均数が各々示される。例１Ａおよび１Ｂの各々について、７つの試料を各々検査した。

【0116】

【表4】

【0117】

例１Ａと１Ｂとを比較すると、研削ではラップ加工に比べて良好な結果（より低い程度のＯＮＳＬ）が達成されることが示される。

【0118】

相応の後処理後の例１Ａおよび１Ｂの公称厚さは各々約４００μｍ～約４５０μｍの範囲であった。例２に記載される方法では、２×２ｍｍ²および５×５ｍｍ²の面積区域について、位置・厚さばらつき（ＯＤＳ）を特定した。例１Ａと１Ｂとの間でＯＤＳ値の関連の差は見られなかった。

【0119】

２×２ｍｍ²の面積区域の場合、例１Ａおよび１Ｂの個々のＯＤＳ_i値の算術平均値として特定された平均位置・厚さばらつき（ＯＤＳ_avg）は各々約０．０５μｍであった。相応して、２×２ｍｍ²の面積区域における公称厚さあたりのＯＤＳは０．１１～０．１３ｎｍ／μｍの範囲であった。

【0120】

５×５ｍｍ²の面積区域の場合、例１Ａおよび１Ｂの個々のＯＤＳ_i値の算術平均値として特定された平均位置・厚さばらつき（ＯＤＳ_avg）は各々約０．１３～０．１４μｍであった。相応して、５×５ｍｍ²の面積区域における公称厚さあたりのＯＤＳは０．２７～０．３４ｎｍ／μｍの範囲であった。

【0121】

２． 例２
公称厚さ７００μｍまたは２５０μｍを有するガラス物品をダウンドロー法で製造した。前記物品は各々長さ５１０ｍｍおよび幅４３０ｍｍを有した。

【0122】

ガラス物品の実際の場所に依存する厚さを、干渉測定を用いて光学的に特定した。このために、光をガラス物品上に集束し、物品の前側と後ろ側での反射の経路の違いから生じる干渉を使用してガラス物品の局所的な厚さを特定する。

【0123】

測定のために、Ｐｒｅｃｉｔｅｃ Ｓｅｎｓｏｒ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｉｃ－Ｋ干渉計を使用した。サンプリングレートは４ｋＨｚであった。走査速度は５００ｍｍ／秒であった。測定点の間隔は０．１２５ｍｍであった。

【0124】

ガラスが引き抜かれた方向に対して直交する方向での測定トラックが測定された。２つの測定トラック間の距離は１０ｍｍであった。従って、ガラスが引き抜かれた方向において測定された空間分解能はわずか１０ｍｍであった。引き抜き方向における分解能を上げるために、線形補間を実施した。その結果、ガラスが引き抜かれた方向における空間分解能を１ｍｍまで上げることができた。補間によって導入される誤差は＜０．０５μｍであると見積もられた。従って、補間は関連の結果のずれをもたらさない。

【0125】

そのように得られた厚さの値に基づき、２×２ｍｍ²および５×５ｍｍ²の面積区域について、位置・厚さばらつき（ＯＤＳ）を特定した。面積区域は、測定点の１つが常に１つの面積区域の中央にあるように選択された。従って、各々の測定点について、１つの面積区域が各々計算され、ＯＤＳに関して評価された。位置がガラス物品の端部に近すぎて、２×２ｍｍ²および５×５ｍｍ²の面積区域の中央として役立たない測定点のみが例外であった。ガラス物品を引き抜く方向および引き抜く方向に直交する方向において各々１ｍｍの位置に関する分解能で、これはガラス物品あたり約２００，０００の評価される面積区域をもたらす。

【0126】

異なる一連の試験（以下でＶ１～Ｖ６と称する）から、公称厚さ２５０μｍを有する４つのガラス物品（例「Ｖ１」）を検査した。さらに、公称厚さｄ＝７００μｍを有する１０のガラス物品（例「Ｖ２～Ｖ６」）を検査した（試験あたり各々２つのガラス物品）。（２×２）ｍｍ²を用いて考察される面積区域の数はガラス物品あたり２０４，４０８であり、（５×５）ｍｍ²を用いて考察される面積区域の数はガラス物品あたり２０２，９０５であった。

【0127】

興味深いことに、公称厚さ７００μｍの場合、特定されたＯＤＳ値は試験内では変化しなかったが、試験間（Ｖ２～Ｖ６）で大きく変化したことが判明した。しかしながら、公称厚さ２５０μｍの場合、異なる試料についてＯＤＳ値に関して関連のずれは見られなかった。従って、以下において、公称厚さ２５０μｍの場合は１つのＯＤＳ値のみを規定する一方で、公称厚さ７００μｍの場合は、その上限および下限がそれぞれ全ての試験の検査された試料の最高および最低のＯＤＳ_avg値に相応する範囲を規定する。

【0128】

示されるＯＤＳ値は、各々、個々のＯＤＳ_i値の算術平均値として特定された平均位置・厚さばらつき（ＯＤＳ_avg）である。（２×２）ｍｍ²の面積区域について、ＯＤＳは２０４，４０８のＯＤＳ_i値の平均値として計算される。（５×５）ｍｍ²の面積区域について、ＯＤＳは各々試験あたり２０２，９０５のＯＤＳ_i値の平均値である。

【0129】

結果を以下の表にまとめる：

【表5】

【0130】

上記のまとめが基づいているデータを、公称厚さｄあたりのＯＤＳ_i値の箱ひげ図の形態で図４に示す。ここで、図４Ａは面積区域（２×２）ｍｍ²に関し、図４Ｂは面積区域（５×５）ｍｍ²に関する。

【0131】

図面の説明
図１は例示的な圧力センサを模式的に、しかし縮尺通りではなく示す。圧力センサは断面図で示され、例えばセラミック材料から製造され得るベース６０を含む。ベース６０上に、例えばエポキシ樹脂から形成される接着剤層６３を用いてガラス部材１００が固定される。ガラス部材１００は開口部を含む。圧力センサは中央の感知ユニットとして、シリコン製のＭＥＭＳチップ６１を含む。その中央領域において、それは薄くされた部分（フィラメント）を含む。ピエゾ抵抗機能はこのフィラメントに組み込まれている。ＭＥＭＳチップ６１はガラス部材に陽極接合され、測定キャビティ６００を形成する。参照圧力キャビティ６０１は、局所的に薄くされた部分６２によって形成される。この構成部品はシリコンまたはガラスのいずれかから製造されることができ、且つ例えば陽極接合または熱融着によってＭＥＭＳチップ６１と気密接続される。

【0132】

図２は表面近傍の損傷を側面図で示す。分解能は１０００倍である。

【0133】

図３は、表面近傍の損傷レベル（ＯＮＳＬ）の分析のための例１による試料の例示的な像を倍率４０倍で示す。図３Ａおよび３Ｂは各々、例１Ａおよび１Ｂの試料に相応する。例１Ａ（図３Ａ）におけるＯＮＳＬが例１Ｂ（図３Ｂ）よりも高いことがわかる。

【0134】

図４はダウンドロー法において製造されたガラス物品について、面積区域（２×２）ｍｍ²（図４Ａ）および（５×５）ｍｍ²（図４Ｂ）について、公称厚さ２５０μｍ（Ｖ１）および７００μｍ（Ｖ２～Ｖ６）で、公称厚さｄに関して正規化されたＯＤＳ_i分布の箱ひげ図を示す。箱は各々、下位四分位数および上位四分位数によって限定される。中央値は箱内の水平線として示される。平均値は箱の横方向の限界を超えて伸びる水平線として示される。

【図1】

【図2】

【図3A】

【図3B】

【図4A】

【図4B】

【国際調査報告】