▶ パルス バイオサイエンシズ インコーポレイテッドの特許一覧
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-03-26
(54)【発明の名称】電気治療装置の電極アセンブリにおける伝導性スペーサ
(51)【国際特許分類】
A61N 1/04 20060101AFI20240318BHJP
A61N 1/36 20060101ALI20240318BHJP
【ＦＩ】
A61N1/04
A61N1/36
【審査請求】有
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2023562527
(86)(22)【出願日】2022-04-11
(85)【翻訳文提出日】2023-10-11
(86)【国際出願番号】 US2022024283
(87)【国際公開番号】W WO2022221203
(87)【国際公開日】2022-10-20
(31)【優先権主張番号】63/174,210
(32)【優先日】2021-04-13
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】518241986
【氏名又は名称】パルス バイオサイエンシズ インコーポレイテッド
【氏名又は名称原語表記】Ｐｕｌｓｅ Ｂｉｏｓｃｉｅｎｃｅｓ，Ｉｎｃ．
(74)【代理人】
【識別番号】110001302
【氏名又は名称】弁理士法人北青山インターナショナル
(72)【発明者】
【氏名】ヒンマン，キャメロン ディー．
(72)【発明者】
【氏名】クリーグ，ケネス アール．
【テーマコード（参考）】
4C053
【Ｆターム（参考）】
4C053BB03
4C053BB04
4C053BB06
4C053BB34
4C053JJ02
4C053JJ03
4C053JJ04
(57)【要約】
患者の治療領域に電気治療を分配するために、本明細書には、電気治療装置、それらの動作方法、及び患者への電気治療の送達方法が記載される。いくつかの実施形態では、電気治療装置は、少なくとも２つの電極と、電極間に配置された伝導性スペーサとを含む電極アセンブリを備える。電気治療装置の選択方法及びその動作方法も提供される。
【選択図】図９Ａ
【選択図】図９Ａ
【特許請求の範囲】
【請求項1】
電気治療の送達のための電極アセンブリであって、前記電極アセンブリは、少なくとも２つの電極であって、各電極が、
治療領域に電気治療を適用するように構成された伝導性治療表面と、
伝導性スペーサと接触するように構成された伝導性非治療表面と、を含む、少なくとも２つの電極と、
前記少なくとも２つの電極のうちの２つの間に配置された前記伝導性スペーサであって、前記伝導性スペーサは、前記少なくとも２つの電極のうちの前記２つの間の前記治療領域の表面に電気的に接触するように構成されている、前記伝導性スペーサと、を含む、電極アセンブリ。
【請求項2】
前記伝導性スペーサが、ヒドロゲル、伝導性接着剤、伝導性ゲル、伝導性シリコーン、ウレタンゴム、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、又はそれらの任意の組合せのうちの１つを含む、請求項１に記載の電極アセンブリ。
【請求項3】
前記伝導性スペーサの伝導率は、前記治療領域の組織の伝導率の１０倍（１０ｘ）に実質的に等しい、請求項１又は２のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項4】
前記伝導性スペーサの伝導率は、前記治療領域の組織の伝導率よりも大きいか、又は実質的に等しく、前記治療領域の前記組織の伝導率の１００倍以下である、請求項１又は２のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項5】
前記伝導性スペーサの高さが、前記少なくとも２つの電極間の距離に基づく、請求項１～４のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項6】
前記伝導性スペーサの高さが、前記少なくとも２つの電極間の距離の２０パーセント（２０％）以上であり、前記少なくとも２つの電極間の前記距離の５０パーセント（５０％）以下である、請求項１～４のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項7】
前記少なくとも２つの電極の前記伝導性治療表面が、前記治療領域に電気的に及び／又は直接接触する、請求項１～６のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項8】
前記少なくとも２つの電極は、双極電極又は単極電極のうちの１つを含む、請求項１～７のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項9】
前記少なくとも２つの電極が、表面電極と貫通電極との組み合わせを含む、請求項１～７のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項10】
前記少なくとも２つの電極のうちの少なくとも１つが表面電極を含む、請求項１～８のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項11】
前記少なくとも２つの電極のうちの少なくとも１つが貫通電極を含む、請求項１～８のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項12】
前記伝導性スペーサの長さが、前記少なくとも２つの電極のうちの１つ以上の長さに実質的に等しい、請求項１～１１のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項13】
前記少なくとも２つの電極が、２列の針電極を備え、前記伝導性スペーサの長さが、前記２列の一方又は両方の長さに実質的に等しい、請求項１～１１のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項14】
前記伝導性スペーサが少なくとも２つの伝導性ゾーンを含み、前記伝導性ゾーンのそれぞれが異なる伝導率を有する、請求項１～１３のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項15】
前記伝導性スペーサが少なくとも１つの凹部を含む、請求項１～１４のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項16】
前記伝導性スペーサが、半導体材料を含み、並列抵抗器として機能するように構成される、請求項１～１５のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項17】
電気治療装置であって、複数の交換可能な電極アセンブリのうちの１つに結合されるように構成された治療アプリケータと、
前記複数の交換可能な電極アセンブリであって、前記複数の電極アセンブリの各々は、
少なくとも２つの電極であって、各電極が、
対象の治療領域に電気治療を適用するように構成された伝導性治療面と、
伝導性スペーサと接触するように構成された伝導性非治療表面と、を含む、少なくとも２つの電極と、
前記少なくとも２つの電極の間に配置された前記伝導性スペーサであって、前記伝導性スペーサは、前記少なくとも２つの電極の間で前記対象の前記治療領域の表面に電気的に接触するように構成された、前記伝導性スペーサと、を含む、複数の交換可能な電極アセンブリと、を含む、電気治療装置。
【請求項18】
電気治療を施す方法であって、少なくとも２つの電極と、前記少なくとも２つの電極のうちの２つの間に配置された伝導性スペーサとを備える電極アセンブリを治療領域上に配置することであって、
前記少なくとも２つの電極の各々の伝導性治療表面は、前記治療領域に電気的に接触し、
前記伝導性スペーサは、前記少なくとも２つの電極のうちの前記２つの間の前記治療領域の表面に接触するように、配置することと、
前記電極アセンブリを介して前記治療領域に電圧を印加することと、含む、方法。
【請求項19】
前記治療領域の組織の伝導率の１０倍（１０ｘ）に実質的に等しい伝導率を有する前記伝導性スペーサに基づいて前記電極アセンブリを選択することを含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項20】
前記治療領域の組織の伝導率以上であり、前記治療領域の前記組織の前記伝導率の１００倍（１００ｘ）以下である伝導率を有する前記伝導性スペーサに基づいて、前記電極アセンブリを選択することを含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項21】
前記電極アセンブリのサイズ及び／又は前記治療領域のサイズに少なくとも部分的に基づいて前記電極アセンブリを選択することを含む、請求項１８～２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項22】
前記１つ以上の電極の各々の前記伝導性治療表面と前記治療領域の前記表面との間、前記伝導性スペーサと前記治療領域の前記表面との間、又はその両方の間の接触を促進するために、伝導性ゲルを前記治療領域の前記表面上に配置することを更に含む、請求項１８～２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項23】
前記伝導性スペーサの伝導率に少なくとも部分的に基づいて、前記電極アセンブリを介して前記治療領域に印加される前記電圧を選択することを更に含む、請求項１８～２２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項24】
前記伝導性スペーサの材料の伝導率及び／又は幾何学的形状に少なくとも部分的に基づいて、複数の電極アセンブリから前記電極アセンブリを選択することを更に含む、請求項１８～２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項25】
電気治療装置であって、複数の交換可能な電極アセンブリのうちの１つに結合されるように構成された治療アプリケータと、
それぞれ、前記治療アプリケータに結合され、かつ前記治療アプリケータから取り外されるように構成された前記複数の交換可能な電極アセンブリであって、各交換可能な電極アセンブリは、２つ以上の電極と、患者の治療領域に電気治療を適用するために前記２つ以上の電極のうちの少なくとも２つの間に配置された伝導性スペーサとを備える、前記複数の交換可能な電極アセンブリと、
命令を実行するように構成されたコントローラと、を含み、実行すると、前記コントローラに
前記治療アプリケータに結合された前記複数の交換可能な電極アセンブリのうちの前記１つの指示を決定又は受信させる、電気治療装置。
【請求項26】
前記コントローラは、前記複数の交換可能な電極アセンブリのうちの前記１つの前記伝導性スペーサに基づいて、表示装置上に構成情報を表示させるように更に構成される、請求項２５に記載の電気治療装置。
【請求項27】
前記構成情報は、前記複数の交換可能な電極アセンブリのうちの前記１つによる治療に適した組織のタイプの情報を含む、請求項２６に記載の電気治療装置。
【請求項28】
前記伝導性スペーサは、前記複数の交換可能な電極アセンブリのうちの前記１つのインピーダンスを低減するために、前記伝導性スペーサが抵抗器としても機能することを可能にするように構成された伝導率及び／又は幾何学的形状を有する、請求項２５～２７に記載の電気治療装置。
【請求項29】
パルス発生器を更に備え、前記伝導性スペーサは、前記複数の交換可能な電極アセンブリのうちの前記１つの前記インピーダンスを前記パルス発生器のインピーダンスに整合させるように構成される、請求項２５～２８に記載の電気治療装置。
【請求項30】
前記コントローラは、前記複数の交換可能な電極アセンブリのうちの前記１つの前記指示に少なくとも部分的に基づいて、前記治療領域のための電気治療パラメータを提供するように更に構成される、請求項２５～２９に記載の電気治療装置。
【請求項31】
電気治療装置の動作の方法であって、前記方法は、治療アプリケータに結合された電極アセンブリの指示を決定又は受信することであって、前記電極アセンブリは、伝導性スペーサに伝導的に接触する少なくとも２つの電極を備える、ことと、
前記電極アセンブリの前記指示に少なくとも部分的に基づいて、前記伝導性スペーサの特性を決定することと、
前記電極アセンブリ及び前記伝導性スペーサの前記特性に少なくとも部分的に基づいて治療構成情報を選択することと、を含む、方法。
【請求項32】
治療構成を選択することは、治療パラメータを選択することを含み、前記方法は、前記電極アセンブリを用いて治療される組織のタイプ、治療持続時間、治療深さ、電圧場、パルス持続時間、パルス周波数、パルス数のうちの１つ以上を選択することを含む、請求項３１に記載の方法。
【請求項33】
前記電極アセンブリの前記指示が、前記電極アセンブリのサイズ、前記電極アセンブリのタイプ、前記電極の数、又は前記電極アセンブリのモデル番号のうちの少なくとも１つを含む、請求項３１～３２に記載の方法。
【請求項34】
前記伝導性スペーサの材料の伝導率若しくは前記伝導性スペーサの幾何学的形状のいずれか、又は前記伝導率及び前記幾何学的形状の両方に基づいて、前記伝導性スペーサを抵抗器として使用することを更に含む、請求項３１～３３に記載の方法。
【請求項35】
前記治療構成情報を表示装置上に表示することを更に含む、請求項３１～３４に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
〔関連出願の相互参照〕
本出願は、２０２１年４月１３日に出願された「ＣＯＮＤＵＣＴＩＶＥ ＳＰＡＣＥＲ ＩＮ ＡＮ ＥＬＥＣＴＲＯＤＥ ＡＳＳＥＭＢＬＹ ＯＦ ＡＮ ＥＬＥＣＴＲＩＣＡＬ ＴＲＥＡＴＭＥＮＴ ＡＰＰＡＲＡＴＵＳ」と題する米国仮出願第６３／１７４，２１０号の優先権を主張し、この仮出願は、あらゆる目的のためにその全体が参照により本明細書に組み込まれる。
本出願は、２０２１年４月１３日に出願された「ＣＯＮＤＵＣＴＩＶＥ ＳＰＡＣＥＲ ＩＮ ＡＮ ＥＬＥＣＴＲＯＤＥ ＡＳＳＥＭＢＬＹ ＯＦ ＡＮ ＥＬＥＣＴＲＩＣＡＬ ＴＲＥＡＴＭＥＮＴ ＡＰＰＡＲＡＴＵＳ」と題する米国仮出願第６３／１７４，２１０号の優先権を主張し、この仮出願は、あらゆる目的のためにその全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【0002】
〔発明の分野〕
本明細書には、患者を治療するためにナノ秒パルスなどの高電圧超短電気パルスを印加するために優先的に使用され得る電極アセンブリ（例えば、電気アプリケータ先端）が記載される。より具体的には、本明細書には、伝導性スペーサを有する電極アセンブリと、治療領域により均一に電気治療を分配するための電気治療のためにそれらを使用する方法が記載される。
本明細書には、患者を治療するためにナノ秒パルスなどの高電圧超短電気パルスを印加するために優先的に使用され得る電極アセンブリ（例えば、電気アプリケータ先端）が記載される。より具体的には、本明細書には、伝導性スペーサを有する電極アセンブリと、治療領域により均一に電気治療を分配するための電気治療のためにそれらを使用する方法が記載される。
【背景技術】
【0003】
電気治療治療、特に、ナノ秒パルス電界（ｎｓＰＥＦ）治療として記載されることもある超短高電界強度電気パルスは、生体細胞の電気操作に使用することができる。例えば、電気パルスは、基底細胞癌、扁平上皮癌、及び黒色腫などの腫瘍細胞を含むヒト又は動物細胞及び組織の治療に使用することができる。
【0004】
これらの電気治療治療は、多くの場合、組織を貫通せずに治療領域上に配置される表面電極、又は組織を貫通する針電極のいずれかを組み込む電極アセンブリ（例えば、治療先端）を使用して行われる。電極間に電圧を印加して治療領域に電界を誘導し、治療領域の細胞に損傷を与える。表面電極を組み込んだ現在の電極アセンブリは、電極間の治療領域に電気治療を効果的に分配しない。針電極は、電気治療をより効果的に分配する。しかしながら、針電極は、患者にとってより不快である。
【発明の概要】
【0005】
電気治療を患者の治療領域に分配するために、１つの一般的な態様は、電気治療の送達のためのアセンブリを含む。電極アセンブリは、伝導性スペーサ及び少なくとも２つの電極を含むことができる。各電極は、治療領域に電気治療を適用するように構成された伝導性治療表面と、伝導性非治療表面とを含むことができる。伝導性非治療表面は、伝導性スペーサと接触するように構成されてもよい。伝導性スペーサは、電極の少なくとも２つの間に配置され、電極間の治療領域の表面に電気的に接触するように構成される。
【0006】
本開示の電極アセンブリは、ハンドヘルド装置として、カテーテルとして、又は他の経皮的に送達される装置として実装されてもよい。実施態様は、以下の特徴の様々な組み合わせを含むことができる。いくつかの実施形態では、伝導性スペーサは、ヒドロゲル、伝導性接着剤、伝導性ゲル、伝導性シリコーン、ウレタンゴム、伝導性熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、所望の伝導性を有する任意の他の生体適合性材料、任意の半導体材料、又はそれらの任意の組み合わせであってもよい。
【0007】
いくつかの実施形態では、伝導性スペーサの伝導率は、治療領域の組織の伝導率の１０倍（１０ｘ）に実質的に等しい。
【0008】
いくつかの実施形態では、伝導性スペーサの伝導率は、治療領域の組織の伝導率以上であり、治療領域の組織の伝導率の１００倍（１００ｘ）以下である。
【0009】
いくつかの実施形態では、伝導性スペーサの高さは、電極間の距離に基づく。
【0010】
いくつかの実施形態では、伝導性スペーサの高さは、電極間の距離の２０パーセント（２０％）以上であり、電極間の距離の５０パーセント（５０％）以下である。いくつかの実施形態では、伝導性スペーサの高さは、少なくとも２つの電極間の距離の最大７０％である。いくつかの実施形態では、最適な高さは、例えば、少なくとも２つの電極間の距離の３０％～５０％を含む、距離の２０％～６０％であってもよい。
【0011】
いくつかの実施形態では、各電極の伝導性治療表面は、例えば、治療領域と電極との間の電気的接触を確実にするのに役立つゲルを介して間接的に、治療領域に電気的に接触する。いくつかの実施形態では、各電極の伝導性治療表面は、例えば、表面電極が治療領域の表面に接触するか、又は貫通電極が治療領域を穿刺及び進入する状態で、治療領域に直接接触する。
【0012】
いくつかの実施形態では、電極は、双極又は単極電極である。
【0013】
いくつかの実施形態では、電極の少なくとも１つ以上は表面電極である。いくつかの実施形態では、電極のうちの少なくとも１つ以上は、針電極、ブレード電極、又はナイフ電極等の貫通電極である。いくつかの実施例では、電極のうちの少なくとも１つ以上は、非貫通（例えば、表面）電極と貫通電極との組み合わせを備える。
【0014】
いくつかの実施形態では、伝導性スペーサの長さは、電極のうちの少なくとも１つの長さに実質的に等しい。
【0015】
いくつかの実施形態では、電極は、針電極の２つの列を含んでもよく、伝導性スペーサの長さは、２つの列の一方又は両方の長さに実質的に等しい。
【0016】
いくつかの実施形態では、伝導性スペーサは、少なくとも２つの伝導性ゾーンを含む。伝導性ゾーンの各々は、異なる伝導性を有してもよい。
【0017】
いくつかの実施形態では、伝導性スペーサは、凹部、例えば幾何学的切欠きを含むことができる。更なる実装及び実施例では、伝導性スペーサは、半導体材料を含むことができ、伝導性スペーサ及び抵抗器の両方として作用／機能するように構成することができる。様々な実施例において、伝導性スペーサは、伝導性スペーサが抵抗器としても機能することを可能にするように構成された伝導率若しくは幾何学的形状、又はその両方を有することができる。例えば、本開示の電極アセンブリ、治療先端、電気治療装置、及び／又は方法の実施形態及び実施例のいずれかにおいて、伝導性スペーサは、例えば、電極アセンブリのインピーダンスを、電極アセンブリを介して電気エネルギーを生成及び印加するパルス発生器のインピーダンスに整合させるために、並列抵抗器として作用するように構成され得る。伝導性スペーサは、例えば、電極アセンブリのインピーダンスを低減するように構成されてもよい。
【0018】
本開示の１つの一般的な態様によれば、電気治療装置が提供される。装置は、複数の交換可能電極アセンブリと、複数の交換可能電極アセンブリのうちの１つに結合されるように構成される、治療アプリケータとを備えてもよい。複数の電極アセンブリの各々は、少なくとも２つの電極を含むことができ、各電極は、対象の治療領域に電気治療を適用するように構成された伝導性治療表面と、伝導性スペーサに接触するように構成された伝導性非治療表面とを有する。伝導性スペーサは、少なくとも２つの電極の間に配置されてもよく、ここで、伝導性スペーサは、少なくとも２つの電極の間で対象の治療領域の表面に電気的に接触するように構成される。いくつかの例及び実装では、伝導性スペーサは、伝導性スペーサ及び抵抗器の両方としての二重の役割を果たすように構成され得る。そのような伝導性スペーサ／抵抗器は、これら２つの機能の両方を達成するために伝導性を有する半導体材料を含むことができる。
【0019】
別の一般的な態様は、患者に、例えば、電気治療を施す方法を含む。電気治療を施す方法は、いくつかの実装では、少なくとも２つの電極と、電極のうちの２つの間に配置された伝導性スペーサとを含む電極アセンブリを、電極の各々の伝導性治療表面が治療領域に電気的に接触し、伝導性スペーサが電極間の治療領域の表面に電気的に接触するように、治療領域上に配置することを含むことができる。治療はまた、電極を介して治療領域に電圧を印加することを含む。いくつかの例では、電気治療を施すことは、美容上の適応のため、例えば、治療領域の外観を改善するためであってもよい。
【0020】
この態様のいくつかの実施形態は、以下の特徴のうちの１つ以上を含んでもよい。いくつかの実施形態では、本方法は、電極アセンブリを選択することを含んでもよい。電極アセンブリを選択することは、いくつかの実施形態では、治療領域の組織（例えば、いくつかの用途では治療領域の表面）の伝導率の１０倍（１０ｘ）に実質的に等しい伝導率を有する伝導性スペーサに基づいてもよい。
【0021】
いくつかの実施形態では、電極アセンブリを選択することは、治療領域の組織の伝導率よりも小さい、大きい、又は等しい伝導率を有する伝導性スペーサに基づいてもよい。いくつかの実施形態では、伝導率は、治療領域の組織の伝導率以上であり、治療領域の組織の伝導率の１００倍（１００ｘ）以下であってもよい。
【0022】
いくつかの実施形態では、電極アセンブリを選択することは更に、電極アセンブリのサイズ及び／又は治療領域のサイズに少なくとも部分的に基づく。
【0023】
いくつかの実施形態では、本方法は、少なくとも２つの電極のそれぞれの伝導性治療表面と治療領域の表面との間、伝導性スペーサと治療領域の表面との間、又はその両方の間の接触を促進するために、治療領域の表面上に伝導性ゲルを配置することを含んでもよい。
【0024】
いくつかの実施形態では、本方法は、伝導性スペーサの伝導性に少なくとも部分的に基づいて、治療領域に印加される電圧を選択することを含んでもよい。いくつかの実施形態では、方法は、伝導性スペーサの伝導率に少なくとも部分的に基づいて電極アセンブリを選択することを含むことができる。様々な例では、本方法は、電極アセンブリのインピーダンスを、交換可能な電極アセンブリを介して電気エネルギーを生成し印加するパルス発生器のインピーダンスに整合させるために、伝導性スペーサを抵抗器として使用することを含むことができる。いくつかの例では、方法は、伝導性スペーサを使用して電極アセンブリのインピーダンスを低減することを含むことができる。いくつかの例では、方法は、伝導性スペーサの材料の伝導率、又は形状、又は材料の伝導率及び形状の両方に基づいて、電極アセンブリ及び／又は伝導性スペーサを選択することを含むことができる。また、伝導性スペーサの材料及び／又は形状の伝導率は、治療深さ、又は抵抗値、又はその両方を改善するように選択されてもよい。様々な例では、方法は、治療ゾーン又は領域の形状を変更するために伝導性スペーサの形状を選択することを含んでもよい。本方法はまた、伝導性材料の形状を使用して並列抵抗の値を変更することを含むことができる。
【0025】
本開示の更に別の一般的な態様は、電気治療装置を含む。いくつかの例によれば、電気治療装置は、交換可能な電極アセンブリに結合されるように構成された治療アプリケータを含み（そのような交換可能な電極アセンブリは、例えば、治療先端とも呼ばれ得る）、いくつかの例では、表示装置を更に含み得る。交換可能な電極アセンブリはそれぞれ、治療アプリケータに結合され、治療アプリケータから取り外されるように構成される。各交換可能な電極アセンブリは、少なくとも２つの電極と、対象（例えば、患者）の治療領域に電気治療を適用するために電極間に配置された伝導性スペーサとを含む。電気治療装置はまた、命令を実行するように構成されたコントローラを含み、命令は、実行時に、コントローラに、治療アプリケータに結合された交換可能な電極アセンブリの指示を決定又は受信させ、いくつかの例では、任意選択で、交換可能な電極アセンブリの伝導性スペーサに基づいて、表示装置上に構成情報を表示させ得る。構成情報をユーザに通知する他のモードが、表示の代わりに、又は表示に加えて使用されてもよい。いくつかの例では、コントローラは、複数の交換可能な電極アセンブリのうちの１つの指示に少なくとも部分的に基づいて、治療領域の電気治療パラメータを提供するように更に構成されてもよい。
【0026】
電気治療装置のいくつかの実施形態において、構成情報は、交換可能な電極アセンブリによる治療に適した組織のタイプを含む。
【0027】
別の一般的な態様は、電気治療装置を選択する方法を含む。この方法は、電極アセンブリの伝導性スペーサに少なくとも部分的に基づいて電極アセンブリを選択することを含むことができ、ここで、電極アセンブリは少なくとも２つの電極を含み、そのうちの２つは伝導性スペーサに伝導的に接触する。本方法は、電極の各々の伝導性部分及び伝導性スペーサの伝導性表面が治療領域に接触するように、電極アセンブリを治療領域内に配置することを更に含んでもよい。
【0028】
本開示の別の一般的な態様によれば、電気治療装置の動作方法が提供される。本方法は、治療アプリケータに結合された電極アセンブリの指示を決定又は受信することを含み、電極アセンブリは、伝導性スペーサに伝導的に接触する少なくとも２つの電極を備え電極アセンブリの指示に少なくとも部分的に基づいて、伝導性スペーサの特性を決定することと、電極アセンブリ及び伝導性スペーサの特性に少なくとも部分的に基づいて、治療構成情報を選択することと、を含む。いくつかの実装では、治療構成を選択することは、治療パラメータを選択することを含んでもよく、本方法は、電極アセンブリを用いて治療される組織のタイプ、治療持続時間、治療深さ、電圧場、パルス持続時間、パルス周波数、パルス数のうちの１つ以上を選択することを含んでもよい。いくつかの例では、電極アセンブリの表示は、電極アセンブリのサイズ、電極アセンブリのタイプ、電極の数、又は電極アセンブリのモデル番号のうちの少なくとも１つを含んでもよい。いくつかの例では、方法は、伝導性スペーサの材料の伝導率若しくは伝導性スペーサの幾何学的形状のいずれか、又は伝導率及び幾何学的形状の両方に基づいて、伝導性スペーサを抵抗器として使用することを更に含むことができる。また更なる例では、本方法は、表示装置上に治療構成情報を表示することを含んでもよい。
【0029】
様々な例において、本方法は、伝導性スペーサを抵抗器として使用して、電極アセンブリのインピーダンスを、電極アセンブリを介して電気エネルギーを生成し印加するパルス発生器のインピーダンスに整合させることを含んでもよい。いくつかの例では、方法は、伝導性スペーサを使用して電極アセンブリのインピーダンスを低減することを含むことができる。いくつかの例では、方法は、伝導性スペーサの材料の伝導率、又は形状、又は材料の伝導率及び形状の両方に基づいて、電極アセンブリ及び／又は伝導性スペーサを選択することを含むことができる。また、伝導性スペーサの材料及び／又は形状の伝導率は、治療深さ、又は抵抗値、又はその両方を改善するように選択されてもよい。いくつかの例では、方法は、治療ゾーン又は領域の形状を変更するために伝導性スペーサの形状を選択することを含んでもよい。いくつかの例では、方法はまた、並列抵抗の値を変更するために伝導性材料の形状を使用することを含んでもよい。本開示の方法のいずれにおいても方法は、所望の抵抗値及び治療深さの両方を最適化するように電極アセンブリ及び／又は伝導性スペーサを選択することによって、伝導性スペーサを抵抗器としても使用することを含んでもよい。
【0030】
本開示の装置及び方法の他の特徴及び利点は、様々な実装の以下の詳細な説明から明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【0031】
【発明を実施するための形態】
【0032】
ｎｓＰＥＦ治療などの電気治療は、とりわけ、腫瘍細胞及び病変などの望ましくない細胞にアポトーシス、プログラム細胞死を受けさせるために使用され得ることが示されている。試験は、このような病変及び腫瘍が治療後に存在しなくなるまで縮小し得ることを示した。薬物は不要であり得る。また、対象の免疫系が刺激されて、ｎｓＰＥＦ治療された腫瘍内にない腫瘍の細胞を含む腫瘍細胞などの全ての同様の望ましくない細胞を攻撃し得ることも示されている。
【0033】
「腫瘍」は、対象上又は対象内の任意の新生物又は組織の異常な望ましくない成長を含む。腫瘍は、異常増殖を示す１つ以上の細胞の集合を含み得る。多くのタイプの腫瘍が存在する。悪性腫瘍は癌性であり、前悪性腫瘍は前癌性であり、良性腫瘍は非癌性である。腫瘍の例には、ほんの数例ではあるが、前立腺肥大症（ＢＰＨ）、子宮筋腫、乾癬、脂漏性角化症、いぼ、脂漏性過形成、膵臓癌腫、肝臓癌腫、腎臓癌腫、結腸癌腫、基底前細胞癌腫、黒色腫、及びバレット食道関連組織が含まれる。
【0034】
ナノ秒パルス等のサブマイクロ秒電気パルスは、病変、粘膜上皮、胃腸管、食道、皮膚腫瘍及び疾患、老化皮膚、異常組織成長、心房細動等の心臓状態、耳鼻咽喉科状態の治療を含むが、これらに限定されない、種々の状態、障害、及び疾患の治療に使用されてもよい。
【0035】
本開示の器具、システム、及び方法は、非標的組織を傷つけるリスクを最小化又は回避しながら、様々な状態、障害、及び疾患の改善された治療のための短い高電界強度電気パルスの印加を含む。
【0036】
１０００ナノ秒未満のパルス長が、免疫応答を刺激するのに有効であることが特に研究されている。約１０～１０００ナノ秒のパルス長は、低いパルス数で有効であるのに十分なエネルギーを搬送するのに十分長いが、所望の方法で有効であるのに十分短いという点で特に興味深い。
【0037】
一般に、治療を適用することは、サブマイクロ秒の電気パルスを印加することを含み得る。例えば、サブマイクロ秒電気パルスを印加することは、０．１ナノ秒（ｎｓ）～１０００ナノ秒（ｎｓ）のパルス幅を有する電気パルスの列を印加することを含んでもよい。いくつかの変形例では、サブマイクロ秒電気パルスを印加することは、例えば、１キロボルト／センチメートル（ｋＶ／ｃｍ）未満、１ｋＶ／ｃｍ～５００ｋＶ／ｃｍ、１ｋＶ／ｃｍ～１００ｋＶ／ｃｍ、又は５ｋＶ／ｃｍ～５０ｋＶ／ｃｍのピーク電圧を有するナノ秒電気パルスの列を印加することを含む。サブマイクロ秒の電気パルスを印加することは、０．１（Ｈｚ）～１０，０００Ｈｚの周波数で、サブマイクロ秒の電気パルス列を印加することを含み得る。他の用途では、他のパルス周波数及び幅が使用されてもよい。例えば、マイクロ秒又はより遅い電気パルスを使用することができる。更に、本明細書に記載の伝導性スペーサの使用は、電極間の電界の改善が望まれる任意の電気治療治療において使用されてもよい。したがって、本開示は、パルス技術のみに限定されず、例えば、無線周波数技術にも応用することができる。
【0038】
電極を含む様々な治療器具が知られている。これらの器具のいくつかでは、離間された複数の電極が使用される。他の実施形態では、絶縁スペーサが電極間に配置される。絶縁スペーサは、治療されるべき組織以外の領域を流れる電流から生じ得るアーク放電及び他の問題を回避するために使用され得る。表面電極は、改善された安全性、より少ない感染の危険性を提供し、治療される皮膚又は他の組織を穿刺しなければならない貫通電極（例えば、針電極、ブレード電極、ナイフ電極）よりも医師及び患者の両方によって好まれるが、絶縁スペーサを伴う表面電極は、電極間の治療領域内の所望の深さにおいて十分な治療値を提供することができない。したがって、針電極はしばしばより効果的である。しかしながら、より大きな治療領域に対しては、適切な領域を治療するためにより大きな電極アセンブリが一般的に必要とされる。電極アセンブリのサイズが大きくなると、電極アセンブリ内の針電極の数が増加する。これは、電極アセンブリを製造する複雑さ及びコストを増加させる。針電極の数を増加させることに伴う別の問題は、全ての針を皮膚内に駆動するために必要とされる挿入力が増加することである。その結果、針を押し込むことが困難になる可能性があり、針が皮膚を貫通しないか、さもなければ不十分な針貫通が生じる「爪床」現象が生じる可能性がある。更に、針電極を使用しても、治療領域に電気治療を効果的に分布させることは困難である。
【0039】
これらの問題に対処し、十分な深さに達し、より少ない貫通電極でより安全な代替案を提供することができる、治療領域における分散された有効な治療を提供するために、電極間に絶縁スペーサではなく伝導性スペーサを含む新しい電極アセンブリが本明細書で開示される。そのような伝導性スペーサを使用することは、治療領域におけるより一貫した治療深さを可能にするとともに、針電極の必要性を制限する。更に、針電極が使用される場合であっても、伝導性スペーサを使用して、針の追加の列及び／又は列内のいくつかの針の必要性を低減することができる。これらの治療における伝導性スペーサは、電極間のアーク放電を効果的に防止し、治療を妨げず、むしろ治療を改善する。
【0040】
図１は、一実施形態によるナノ秒パルス発生器システムを示す。２０１６年５月６日に出願され、「ＨＩＧＨ－ＶＯＬＴＡＧＥ ＡＮＡＬＯＧ ＣＩＲＣＵＩＴ ＰＵＬＳＥＲ ＷＩＴＨ ＦＥＥＤＢＡＣＫ ＣＯＮＴＲＯＬ」と題され、参照することによって本明細書に組み込まれる、米国特許第１０／５４８，６６５号に説明されるようなパルス発生器のうちのいずれかが、本開示の治療装置とともに使用されてもよい。ＮｓＰＥＦシステム１００は、治療器具又は治療アプリケータ１０２と、フットスイッチ１０３と、インターフェース１０４とを含む。フットスイッチ１０３は、コネクタ１０６を介して、ハウジング１０５及び内部の電子部品に接続されている。治療アプリケータ１０２は、コネクタ１１２を介して、ハウジング１０５及び内部の電子部品に接続されている。ＮｓＰＥＦシステム１００はまた、ハンドル１１０と、収納引き出し１０８と、を備える。図１の詳細Ａ部分に示されるように、ｎｓＰＥＦシステム１００はまた、そのハンドル部分１１４で治療アプリケータ１０２を保持するように構成されているホルスター１１６を含む。治療アプリケータ１０２は、本開示を通してより詳細に説明される、電極アセンブリを遠位端に含む。
【0041】
人間のオペレータは、パルス数、振幅、パルス持続時間及び周波数情報を、例えば、インターフェース１０４の数字キーパッド又はタッチスクリーンに入力してもよい。インターフェース１０４は、ユーザが見て調整するための構成情報、ならびに治療の投与中の治療値及び情報を提供することを含む、治療に関する情報をオペレータに提供してもよい。いくつかの実施形態では、パルス幅を変化させることができる。ハウジング１０５内のコントローラ１０７は、ｎｓＰＥＦシステム１００内のパルス制御要素に信号を送信する。コントローラは、命令を記憶するためのメモリ及び命令を実行するためのプロセッサを含む、任意の好適なコンピューティング装置であってもよい。いくつかの実施形態では、光ファイバケーブルは、制御信号の伝達を可能にすると同時に、高電圧回路であるｎｓＰＥＦ発生システム１００を備えた金属製キャビネットの内容物を外部から電気的に絶縁する。システムを更に絶縁するために、システム１００は、壁のコンセントからではなく、電池式であってもよい。
【0042】
図２は、いくつかの実施形態による電極アセンブリ２００の一部を示す。いくつかの実施形態では、電極アセンブリ２００は、治療アプリケータ１０２等の治療アプリケータのハンドルに結合されてもよい。いくつかの実施形態では、電極アセンブリ（電極アセンブリ／治療アプリケータ１０２等）は、異なる電極アセンブリがハンドルに取り外し可能に結合され得るように、交換可能であってもよい。交換可能な電極アセンブリは、使い捨てあってもよく（例えば、貫通電極は、使用後に廃棄されてもよい）、又は再使用可能であってもよい（例えば、表面電極は、再使用可能であってもよい）。更なる実施形態では、治療アプリケータは別個のハンドルを有さず、電極アセンブリ自体が治療アプリケータ又は電気治療装置を形成する。電極アセンブリ２００は、ハウジング２１０に結合され得る絶縁ハウジング２０５を含んでもよい。いくつかの実施形態では、絶縁ハウジング２０５及びハウジング２１０は、例えば成形プラスチックの単一部品である。絶縁ハウジング２０５は、例えば、プラスチックなどの任意の適切な絶縁材料から作製され得る。電極アセンブリ２００はまた、２つの表面電極２１５（２１５ａ及び２１５ｂとして示される）と、伝導性スペーサ２２０とを含む。
【0043】
２つの電極２１５が示されているが、電極アセンブリ２００は、任意の数の電極を含んでもよい。例えば、図１８Ａに示すように、３列の貫通電極が含まれ、他の例では、様々な数の電極が設けられてもよい。いくつかの実施形態では、電極２１５は、電流が２つの電極２１５の間を流れるように、一方が負に帯電し、他方が正に帯電するように、双極である。双極構成は、追加の電極とともに使用されてもよい。更に、図２は、同じ絶縁ハウジング２０５及びハウジング２１０内に封入された２つの電極２１５を示すが、電極２１５はそれぞれ、それ自体のハウジングを有してもよい。いくつかの実施形態では、電極２１５は、電流が電極と患者上に配置されるリターンパッドとの間を流れるように、単極電極であってもよい。電極２１５は、例えば、側面２２５上で測定して約１ミリメートル幅（又は厚さ）（電極２１５ａ又は２１５ｂの幅）、及び例えば、側面２３０上で測定して５ミリメートル長さ（電極２１５ａ又は２１５ｂの長さ）であってもよい。電極２１５は、例えば、ステンレス鋼、黒鉛、貴金属（例えば、金、銀、白金）、銅、チタン、真鍮、又は任意の他の好適な材料等の任意の好適な伝導性材料から作製されてもよい。電極２１５は、この図では絶縁ハウジング２０５内に延びているので見ることができないが、後の図でより詳細に示される高さを有することができる。電極２１５は、一定の距離を隔てて互いに実質的に平行に配置されている。例えば、５ミリメートル×１０ミリメートル（５ｍｍ×１０ｍｍ）の電極アセンブリでは、電極２１５は、１０ｍｍ離して配置され、５ｍｍの長さを有する。５ｍｍ×５ｍｍの電極アセンブリにおいて、電極２１５は、５ｍｍ離して配置され、５ｍｍの長さを有する。電極の寸法は、１．５ｍｍ×１．５ｍｍ、１０ｍｍ×１０ｍｍ、１０ｍｍ×１．５ｍｍ、２０ｍｍ×１ｍｍ等を含む、治療用途に応じて変動してもよい。更に、電極２１５の他の構成は、中心電極を囲繞するリング電極、均一に分散されない電極、電極のアレイ等を含んでもよい。加えて、表面電極が図２に描写されているが、例えば、貫通電極、カテーテル電極、クランプ電極（例えば、平行心臓クランプ又は腹腔鏡クランプ）、バレット食道装置、経皮針電極、バルーン電極、バルーンカテーテル電極等を含む、任意のタイプの電極が使用されてもよい。
【0044】
伝導性スペーサ２２０は、電極２１５ａと２１５ｂとの間に配置される。伝導性スペーサ２２０は、伝導性スペーサ２２０にとって望ましい伝導率を有する任意の適切な伝導性材料から作製することができる。例えば、伝導性スペーサ２２０は、ヒドロゲル、伝導性接着剤、伝導性ゲル、伝導性シリコーン、ウレタンゴム、カーボンナノチューブ、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、又はそれらの任意の組み合わせから作製されてもよい。伝導性スペーサ２２０の所望の伝導率は、治療される皮膚又は組織の伝導率に基づいて選択されてもよい。例えば、伝導性スペーサ２２０の伝導率は、治療されている皮膚又は組織の治療領域と実質的に同じ伝導率であってもよく、治療されている治療領域又は組織の伝導率の約１００倍（１００ｘ）までであってもよい。いくつかの実施形態では、伝導性スペーサ２２０の伝導率は、伝導性スペーサ２２０全体にわたって変化してもよい。例えば、伝導性スペーサ２２０は、図１９Ａ、１９Ｂ、１９Ｃ、２０Ａ、及び２０Ｂに示す例のように、異なる伝導性を有するゾーンを有してもよく、及び／又は伝導性スペーサ２２０内に伝導性の勾配があってもよい。図１２Ａ～図２０Ｂに関して、様々な伝導性の結果説明する。伝導性スペーサ２２０の粘稠度は、電極アセンブリ２００内で形状及び位置を維持するのに十分に堅固であるが、固体、圧縮性、又はゼラチン状であってもよい。伝導性スペーサ２２０は、２つの電極２１５間の距離、又はいくつかの実施形態では、電極の２つの列（例えば、針電極列）間の距離の幅を有するように、電極２１５と接触してもよい。例えば、電極２１５の間隔が１０ｍｍである場合、伝導性スペーサ２２０の幅は１０ｍｍである。伝導性スペーサの長さは、電極２１５の長さと実質的に同様であってもよい。例えば、電極２１５の長さが（側面２３０上で測定して）５ｍｍである場合、伝導性スペーサ２２０の長さも５ｍｍであってよい。伝導性スペーサ２２０の底部は、伝導性スペーサ２２０及び表面電極２１５の両方が治療領域に接触するように、表面電極２１５の底部と実質的に同一平面であってもよい。いくつかの実施形態において、伝導性スペーサ２２０は、絶縁ハウジング２０５内に延びてもよい。換言すれば、伝導性スペーサ２２０及び電極２１５は、伝導性スペーサ２２０及び電極２１５の一部のみが露出されるように、絶縁性ハウジング２０５内に伝導性部分を有することができる。
【0045】
伝導性スペーサ２２０及び電極２１５の露出面は、いくつかの実施形態では、絶縁ハウジング２０５の開口部と実質的に同一平面である。伝導性スペーサ２２０と接触していない電極２１５の部分は、絶縁ハウジング２０５と接触していてもよい。
【0046】
図３Ａ及び３Ｂは、電極アセンブリ２００の電極２１５（２１５ａ及び２１５ｂ）及び伝導性スペーサ２２０の露出図を示す。電極間の伝導性スペーサなどの伝導性材料の形状又は幾何学的形状を変化させることは、電界浸透を増加させるのに役立つことができ、また、治療ゾーンを均一化してより均一にすることができることが発見された。図３Ａに示すように、伝導性スペーサ２２０ａは、電極２１５と実質的に同じ高さである。図３Ｂにおいて、伝導性スペーサ２２０ｂの代替的な実施形態は、伝導性スペーサ２２０ｂの高さが凹部に対して変化するように、凹部又は切欠きを含む。図３Ｂにおいて、凹部は、角度を有する三角形の形状であり、角度は、様々な実施形態において変化し得る。伝導性スペーサの凹部は、本明細書において更に詳細に説明されるように、いくつかの実施形態において、より均一に分散された治療に影響を与えるように、形状及びサイズが変更されてもよい（また、いくつかの例において、様々な幾何学的形状の切欠きとして形成されてもよい）。しかしながら、凹部の形状は、いかなる幾何学的形状にも限定されず、任意の適切な方法で形成することができ、スペーサの材料の一部を切り取る必要はない。いくつかの実施形態では、電極２１５は、電極２１５の伝導性露出部分が、電極２１５と接触している伝導性スペーサ２２０と同じ高さになるように、絶縁ハウジング２０５などの絶縁ハウジング内に更に延びてもよく、又は電極２１５の周りに巻かれた絶縁材料を有してもよい。いくつかの実施形態では、電極２１５は、絶縁ハウジング２０５内の導体又は電極アセンブリ２００内の他の場所に結合されてもよい。伝導性スペーサ２２０の高さは、例えば、電極２１５間の距離に基づいて選択することができる。例えば、電極２１５間の距離の約１０％～５０％である伝導性スペーサ２２０の高さが使用されてもよい。電極２１５間の距離は、伝導性スペーサ２２０の幅と実質的に同じであり、したがって、伝導性スペーサ２２０の高さは、伝導性スペーサ２２０の幅の約１０％～５０％であってよい。電極２１５間の距離の約４０パーセント（４０％）までの伝導性スペーサ２２０の高さを使用することができる。例えば、伝導性スペーサ２２０が１０ｍｍの幅を有するように電極２１５が１０ｍｍ離れている場合、伝導性スペーサ２２０の高さは、例えば４ｍｍであってもよい。伝導性スペーサと接触している電極２１５の伝導性露出部分は、高さ４ｍｍであってもよい。伝導性スペーサ２２０及び電極２１５の治療表面は、治療が適用される心臓、肝臓、又は任意の他の細胞若しくは組織型を含む皮膚又は他の組織を含み得る治療領域３００の表面上に配置されてもよい。
【0047】
図４Ａは、交換可能／取り外し可能に結合された電極アセンブリ４００の一例の側面図を示す。電極アセンブリ４００は、ハウジング４１０及び絶縁ハウジング４０５を含む。電極アセンブリハウジング４１０は、わずかに細長いテーパ形状を有してもよい。ハウジング４１０の遠位端から突出しているのは、電極（この図では図示せず）を含み得る絶縁ハウジング４０５である。電極アセンブリ４００の近位端から突出しているのは、電極（この図には示されていない）をパルス発生器に電気的に接続して、電極を介して患者に電気治療を適用するコネクタ４１５である。この例では、機械的コネクタ４２０は、近位端上の電極アセンブリ４００を治療アプリケータのハンドルに機械的に取り付けるために使用される。
【0048】
図４Ｂは、針電極４２５及び伝導性スペーサ４３０を有する電極アセンブリ４００の図を示す。電極アセンブリ４００は、示されるように長方形又は正方形の断面を有してもよく、あるいは円形又は楕円形などの任意の形状の断面を有してもよい。針電極４２５は、遠位に面する（例えば、組織に面する）端から延びる。針電極４２５は、治療領域に電気治療を適用するために、患者の皮膚又は組織を貫通してもよい。針電極４２５は、鋭利で傾斜した遠位端を有してもよく、いくつかの実施形態では、円筒形針であってもよい。伝導性スペーサ４３０は、伝導性スペーサ２２０と実質的に同じであってもよい。伝導性スペーサ４３０は針電極４２５に接触する。伝導性スペーサ４３０は、伝導性スペーサ４３０の高さが針電極４２５の露出した伝導性表面と接触するように、絶縁ハウジング４０５及び／又はハウジング４１０内に延びる高さを有してもよい。針電極４２５は、伝導性スペーサ２２０が治療領域（例えば、皮膚又は組織）の表面と接触するまで、組織に進入してもよい。交換可能電極アセンブリ４００は、針電極４２５を描写するが、本開示全体を通して説明されるように、表面電極２１５等のプレート若しくは表面電極、又は表面及び針電極の組み合わせが、交換可能電極アセンブリ４００内で使用されてもよい。
【0049】
図４Ｃは、交換可能な電極アセンブリ４００の近位端を示す。機械的コネクタ４２０は、治療アプリケータ（例えば、治療アプリケータ１０２）のハンドル（例えば、図１のハンドル１１４）上にスナップ留め又はラッチ留めされてもよい。機械的コネクタ４２０は、ハウジング４１０の一部であってもよい。２つの電気コネクタ４１５（４１５ａ及び４１５ｂとして示される）は、ハンドル内の電気コネクタと電気的に結合してもよい。この近位端は、ハンドルと結合して、交換可能な電極アセンブリ４００とハンドルとの間の機械的及び電気的接続の両方を行うことができる。
【0050】
交換可能な電極アセンブリハウジング４１０内で、いくつかの実施形態では、電極は、電極アセンブリハウジング４１０に結合される電極アセンブリの一部を形成してもよく、それにより、電極は、絶縁ハウジング４０５及び電極アセンブリハウジング４１０に対して定位置に係止される。
【0051】
本明細書に記載の電極アセンブリは、複数の適応症において使用され得る、種々の異なるサイズ及び構成であってもよい。例えば、装置の遠位面上の治療領域のサイズ（例えば、直径）は、変動してもよく（例えば、約１ｍｍ～１５０ｍｍ以上）、任意の適切な形状（例えば、長方形、円形、三角形、楕円形等）であってもよい。使用される電極は、貫通電極、表面電極、又はそれらの組み合わせであってもよい。治療領域に接触する電極の伝導性表面は、任意の好適なサイズであってもよく、図６～８に関してより詳細に説明される。電極の一部は絶縁材料によって囲まれてもよく、電極の一部は伝導性スペーサと接触していてもよい。絶縁ハウジングなどから延びる伝導性スペーサと接触する電極の部分は全て、本明細書に記載されるような治療を適用するために必要に応じて調整されてもよい。
【0052】
交換可能な電極アセンブリ（例えば、使い捨て又は再利用可能な電極アセンブリ）は、概して、使い捨て又は再利用可能なハンドルと結合するように構成される。図５Ａ及び５Ｂは、交換可能な電極アセンブリ５００とハンドル５０５の一部との間の機械的及び電気的結合を示す。コネクタ５１０（図４Ａ及び４Ｂにおいてクリップ－機械的コネクタ４２０として例として示される）は、交換可能な電極アセンブリ５００及びハンドル５０５を一緒に機械的かつ解放可能に固定し得る。
【0053】
図６Ａは、経皮的用途のための伝導性空間を伴う電極アセンブリの実装の別の実施例を示す。この例では、電極アセンブリ６００はバルーンカテーテル構成を有する。電極アセンブリ６００は、カテーテル本体６０５と、膨張可能バルーン６１０と、正電極６２５と、負電極６３０と、第１のゾーン６１５及び第２のゾーン６２０を有する伝導性スペーサ６３５とを含む。電極アセンブリ６００では、１つおきの電極が正であり、残りの電極が負であるように、正電極６２５は負電極６３０と交互になっている。正電極６２５と負電極６３０との間には、第１のゾーン６１５、第２のゾーン６２０、及び別の第１のゾーン６１５を含む伝導性スペーサ６３５がある。第１のゾーン６１５は第１の伝導率を有することができ、第２のゾーン６２０は第２の伝導率を有することができる。いくつかの実施形態では、第２のゾーン６２０は絶縁ゾーンであってもよい。
【0054】
図６Ｂは、経皮的針電極アセンブリ６５０等の経皮的用途において有用な更なる実施例を示す。経皮的針電極アセンブリ６５０は、第１の電極６７０と、第２の電極６６０と、伝導性スペーサ６６５と、絶縁体６５５とを含んでもよい。
【0055】
図６Ｃは、経皮的針電極アセンブリ６５０の断面図６７５を示す。断面図６７５は、経皮的針電極アセンブリ６５０内に追加の絶縁体６８０があることを示す。第１の電極６７０は、経皮針電極アセンブリ６５０の中心を通って先端まで延び、組織を穿刺するように向けられる。経皮針電極アセンブリ６５０のシャフトに沿った第１の電極６７０の上方で、伝導性スペーサ６６５は、第１の電極６７０と第２の電極６６０との間にある。第２の電極６６０は、伝導性スペーサ６６５の上方で経皮針電極アセンブリ６５０のシャフトに沿って露出される。第２の電極６６０もまた、経皮的針電極アセンブリ６５０を通して延びるが、絶縁体６５５によって、露出部分の上方の治療領域から緩衝され、また、絶縁体６８０によって、経皮的針電極アセンブリ６５０のシャフトを通して、第１の電極６７０から緩衝される。
【0056】
【0057】
表面電極アセンブリ７０５は、電極アセンブリ２００と同様であってもよい。表面電極アセンブリ７０５は、表面電極７１５（例として７１５ａ及び７１５ｂとして示される）と、伝導性スペーサ７２０と、絶縁性ハウジング７２５とを含んでもよい。表面電極７１５は、表面電極２１５と実質的に同じであってもよい。伝導性スペーサ７２０は、伝導性スペーサ２２０と実質的に同じであってもよい。絶縁ハウジング７２５は、絶縁ハウジング２０５と実質的に同じであってもよい。いくつかの実施形態では、表面電極７１５及び伝導性スペーサ７２０は、ハウジング７２５から外に延びてもよい。いくつかの実施形態では、表面電極７１５及び伝導性スペーサ７２０は、治療領域７１０との接触が、組織を治療領域７１０からハウジング７２５の中に引き込むことによって達成されるように、ハウジング７２５内に埋め込まれてもよい。そのような構成は、本明細書で説明される電極アセンブリのいずれかを通して使用されてもよい。
【0058】
断面図７００に示されるように、各表面電極７１５ａ、７１５ｂの第１の表面７３０ａ、７３０ｂは、治療領域７１０と接触している。第１の表面７３０は、電極７１５の伝導性治療表面又は部分である。各表面電極７３５の第２の表面７３５ａ、７１５ｂは、伝導性スペーサ７２０と接触している。第２の表面７３５は、電極７１５の伝導性非治療表面又は部分である。各表面電極７４０の第３の表面７４０ａ、７１５ｂは、絶縁ハウジング７２５などの絶縁材料と接触している。２つの電極７１５の間にある伝導性スペーサ７２０の表面７４５は、治療領域７１０の表面と接触している。
【0059】
示されるように、電圧が表面電極７１５にわたって印加されるとき（例えば、電極７１５ａは、正電荷を有してもよく、電極７１５ｂは、負電荷を有してもよい）、エネルギーパルスが、治療領域７１０に印加される。伝導性スペーサ７２０は、伝導性スペーサ７２０に接触する表面電極７１５の第２の表面７３５に基づいて、エネルギーパルスからの電流の一部を伝導する働きをすることができる。材料の伝導性は、エネルギーパルスが表面電極７１５の間の治療領域７１０に向けられ、治療領域７１０のより深くに向けられることを可能にする。そのような結果は、図１２Ａ～図１８Ｄの例によって示されるモデルに関して示される。
【0060】
図７Ｂは、治療領域７１０に治療を適用する表面電極アセンブリ７５５の代替断面図７５０を示す。断面図７５０において、伝導性スペーサ７６０は凹部７８０を含む。２つの電極７１５の間にある伝導性スペーサ７６０の表面７４５は、治療領域７１０の表面と接触している。伝導性スペーサ７６０は、図示されるように、第１の部分７６５を含む。第１の部分７６５ａは、電極７１５ａの表面７３５ａと破線「Ａ」との間に配置され、第１の部分７６５ｂは、電極７１５ｂの表面７３５ｂと破線「Ｄ」との間に配置される。第１の部分７６５ａは、伝導性スペーサ７６０の第１の高さを有する縁が電極７１５の伝導性表面と接触するような第１の高さを有する。伝導性スペーサ７６０は、破線「Ｂ」と「Ｃ」との間に第２の部分７７５を含む。第２部分７７５は、第１高さよりも低い第２高さを有する。第２の部分７７５は、図７Ｂに示されるように半径方向である縁、図２１Ｄに描写されるように平坦である縁、又は図２１Ａに描写されるように先端を有してもよい。伝導性スペーサ７６０は、第３の部分７７０を含み、その各々は、第１の部分７６５における第１の高さから第２の部分７７５における第２の高さまで延び、凹部７８０（例えば、「丸みを帯びたＶ字」切欠き）を画定する、角度の付いた縁７８５を含む。図示のように、第３の部分７７０ａは、第１の部分７６５ａの第１の高さから第２の部分７７５における第２の高さまで延びる角度付き縁７８５ａを有し、第３の部分７７０ｂは、第１の部分７６５ｂの第１の高さから第２の部分７７５における第２の高さまで延びる角度付き縁７８５ｂを有する。図示された凹部７８０は例示的なものであるため、伝導性スペーサ７６０の形状を変更するために任意の形状又はサイズを使用することができる。
【0061】
図８Ａは、患者の治療領域８１０に電気治療を適用する貫通電極を有する針電極アセンブリ７０５の一例の断面図８００を示す。治療領域８１０は、例えば、腫瘍、病変、又は他の望ましくない状態を有する皮膚又は組織表面を含む、任意の好適な治療領域であってもよい。
【0062】
針電極アセンブリ８０５は、電極アセンブリ４００と同様であってもよい。針電極アセンブリ８０５は、針電極８１５と、伝導性スペーサ８２０と、絶縁ハウジング８２５とを含んでもよい。針電極８１５は、針電極４２５と実質的に同じであってもよい。伝導性スペーサ８２０は、伝導性スペーサ４３０と実質的に同じであってもよい。絶縁ハウジング８２５は、絶縁ハウジング４０５と実質的に同様であってもよい。
【0063】
断面図８００に示されるように、各針電極８１５ａ、８１５ｂの第１の表面８３０ａ、８３０ｂは、治療領域８１０と接触している。針電極８１５は、治療領域８１０内に延びるように表面を貫通してもよい。第１の表面８３０は、治療領域８１０と接触している電極８１５の伝導性治療表面又は部分である。それぞれの針状電極８３５の第２面８３５ａ，８１５ｂは、伝導性スペーサ８２０に接触している。第２の表面８３５は、電極８１５の伝導性非治療表面又は部分である。各針電極８１５の第３の表面８４０ａ、８４０ｂは、図８Ａの実施例に示されるように、絶縁ハウジング８２５等の絶縁材料と接触してもよい。２つの電極８１５の間にある伝導性スペーサ８２０の表面８４５は、治療領域８１０の表面と接触している。
【0064】
示されるように、電圧が針電極８１５にわたって印加されると（例えば、電極８１５ａは、正電荷を有してもよく、電極８１５ｂは、負電荷を有してもよい）、エネルギーパルスが、治療領域８１０に印加される。伝導性スペーサ８２０は、伝導性スペーサ８２０に接触する針電極８１５の第２の表面８３５に基づいて、エネルギーパルスからの電流の一部を伝導するように機能し得る。材料の伝導性は、エネルギーパルスが針電極８１５の間の治療領域８１０に向けられ、治療領域８１０のより深くに向けられることを可能にする。このような結果は、図１２Ａ～２２Ｂに示されるモデルに関して示される。
【0065】
図８Ｂは、患者の治療領域８１０に電気治療を適用する貫通電極を有する針電極アセンブリの代替的な断面図８５０を示す。断面図８５０において、伝導性スペーサ８６０は凹部８８０を含む。２つの電極８１５の間にある伝導性スペーサ８６０の表面８４５は、治療領域８１０の表面と接触している。伝導性スペーサ８６０は、図示されるように、第１の部分８６５を含む。第１の部分８６５ａは、電極８１５ａの表面８３５ａと破線「Ａ」との間に配置され、第１の部分８６５ｂは、電極８１５ｂの表面８３５ｂと破線「Ｄ」との間に配置される。第１の部分８６５は、伝導性スペーサ８６０の第１の高さを有する縁が電極８１５の伝導性表面と接触するような第１の高さを有する。伝導性スペーサ８６０は、破線「Ｂ」と「Ｃ」との間に第２の部分８７５を含む。第２部分８７５は、第１高さよりも低い第２高さを有する。第２の部分８７５は、図８Ｂ及び図２１Ａに示されるように尖っている縁、図２１Ｄ及び図２１Ｅに示されるように平坦な縁、又は図２１Ｂ及び図２１Ｃに示されるように放射状の縁を有することができる。伝導性スペーサ８６０は、第３の部分８７０を含み、その各々は、第１の部分８６５における第１の高さから第２の部分８７５における第２の高さまで延び、凹部８８０（例えば、「Ｖ」切欠き）を画定する角度付き縁８８５を含む。図示のように、第３の部分８７０ａは、第１の部分８６５ａの第１の高さから第２の部分８７５における第２の高さまで延びる角度付き縁８８５ａを有し、第３の部分８７０ｂは、第１の部分８６５ｂの第１の高さから第２の部分８７５における第２の高さまで延びる角度付き縁８８５ｂを有する。図示された凹部８８０は例示的なものであるため、伝導性スペーサ８６０の形状を変更するために任意の形状又はサイズの凹部を使用することができる。
【0066】
【0067】
組み合わせ電極アセンブリ９０５は、複数の針電極９１５（例として９１５ａ及び９１５ｂとして示される）と、中心表面電極９５０と、伝導性スペーサ９２０（例として９２０ａ及び９２０ｂとして示される）と、絶縁ハウジング９２５とを含んでもよい。いくつかの実施形態では、中心電極９５０は針電極であってもよく、外側電極９１５は表面電極であってもよい。電極の他の組み合わせは、貫通電極、カテーテル電極、表面電極、又は任意の他のタイプの電極を含む組み合わせ電極アセンブリに含まれてもよい。例えば、いくつかの実施形態では、中心電極は、針電極であってもよく、外側電極は、中心電極を包囲するリングの形状の表面電極であってもよい。別の例として、いくつかの実施形態では、中心電極は、ディスク形状の表面電極であってもよく、外側電極は、中心電極を取り囲むリング形状の表面電極であってもよい。更に他の実施形態では、中心電極及び外側電極は、貫通電極、表面電極、カテーテル電極、又は任意の他のタイプの電極を含む同じタイプであってもよい。針電極９１５ａ、９１５ｂは、針電極４２５と実質的に同じであってもよい。中心表面電極９５０は、表面電極２１５と実質的に同じであってもよい。伝導性スペーサ９２０ａ、９２０ｂは、伝導性スペーサ２２０と実質的に同じであってもよい。
【0068】
断面図９００に示されるように、各針電極９３０の第１の表面９３０ａ、９１５ｂは、治療領域９１０と接触している。針電極９１５は、治療領域９１０内に延びるように表面を貫通してもよい。第１の表面９３０は、電極９１５の伝導性治療表面又は部分である。各針電極９３５の第２の表面９３５ａ、９１５ｂは、それぞれの伝導性スペーサ９２０と接触している。例えば、第２の表面９３５ａは、伝導性スペーサ９２０ａと接触している。同様に、第２の表面９３５ｂは、伝導性スペーサ９２０ｂと接触している。第２の表面９３５は、電極９１５の伝導性非治療表面又は部分である。各針電極９１５の第３の表面９４０ａ、９４０ｂは、絶縁ハウジング９２５等の絶縁材料と接触してもよい。各伝導性スペーサ９２０の表面９４５ａ、９４５ｂは、治療領域９１０の表面と接触している。加えて、中央表面電極９５０は、治療領域９１０の表面と接触する第１の表面９６０と、各々がそれぞれの伝導性スペーサ９２０と接触する第２の表面９５５ａ、９５５ｂとを含む。
【0069】
示されるように、電圧が電極９１５ａ、９１５ｂ、９５０にわたって印加されるとき（例えば、電極９１５ａ及び９１５ｂは、正電荷を有してもよく、電極９５０は、負電荷を有してもよく、逆もまた同様である）、エネルギーパルスが、治療領域９１０に印加される。伝導性スペーサ９２０は、伝導性スペーサ９２０に接触する針電極９１５の第２の表面９３５及び伝導性スペーサ９２０に接触する表面電極９５０の第２の表面９５５に基づいて、エネルギーパルスからの電流の一部を伝導する働きをすることができる。材料の伝導性は、治療パルスが針電極９１５の間の治療領域９１０に向けられ、治療領域９１０のより深くに向けられることを可能にする。このような結果は、図１２Ａ～２２Ｂに示されるモデルに関して示される。
【0070】
図９Ｂは、治療領域９１０に治療を適用する複合電極アセンブリ９７５の代替の例示的な断面図９７０を示す。断面図９７０において、伝導性スペーサ９８０ａ、９８０ｂは、それぞれ凹部９８５ａ、９８５ｂを含む。各伝導性スペーサ９８０は、図８Ｂの伝導性スペーサ８６０又は図７Ｂの伝導性スペーサ７６０と同様であってもよい。伝導性スペーサ９８０内に描かれた凹部９８５は、「Ｖ」字型の切欠きとして例示されている。しかしながら、任意の形状が使用されてもよく、いくつかの実施形態では、各凹部９８５の形状は異なってもよい（例えば、凹部９８５ａは「丸みを帯びたＶ」形状であってもよく、凹部９８５ｂは「Ｕ」形状であってもよい）。図示した凹部９８５は例示的なものであるため、伝導性スペーサ９８０の形状を変更するために任意の形状又はサイズを使用することができる。
【0071】
図９Ｃは、針電極９９２、中心表面電極９９４、及び伝導性スペーサ９９６を有する、例示的電極アセンブリ９９０の斜視図を示す。この例では、針電極９９２は、電極アセンブリ９９０の一方の側の電極９９２ａの列と、電極アセンブリの他方の側の電極９９２ｂの第２の列とを含み、表面電極９９４（例えば、プレート９９４）は、電極９９２ａ及び９９２ｂの２つの列の間に平行に配置され得る。針電極９９２は、図９Ａ及び図９Ｂに関して説明した針電極９１５と実質的に同じであってもよい。表面電極９９４は、図９Ａ及び図９Ｂに関して説明した表面電極９５０と実質的に同じであってもよい。伝導性スペーサ９９６ａ、９９６ｂは、図９Ａを参照して説明した伝導性スペーサ９２０又は図９Ｂを参照して説明した伝導性スペーサ９８０と実質的に同一でありうる。
【0072】
上述のような伝導性スペーサを有する電極アセンブリのいずれかを有する開示された治療システムは、患者に効果的な電気治療を提供するために使用されてもよい。図１０Ａ、１０Ｂ、及び１１は、電極アセンブリの選択、電気治療パラメータの選択、電気治療の適用、及び治療情報の表示（又は他の方法で通知／通信）のための様々な方法において選択的に組み合わせることができるプロセスステップのいくつかの例を提供する。一般に、図１０Ａ～１０Ｂ及び１１に示される方法を含む、本明細書に記載の方法は、例えば、治療領域の外観を向上させるために、美容適応症の治療のためであり得る。このような美容適応症は、典型的には、治療対象となる目に見える影響以外の症状はなく、煩わしくて心理社会的には悪影響をもたらす可能性があるが、一般には医学的な影響はない。例えば、皮脂腺過形成（ＳＨ）は、美容適応症の一例である。図１２Ａ～２２Ｂは、電極アセンブリの種々の構成を使用する電気治療分布を描写するモデルを提供する。
【0073】
図１０Ａは、いくつかの実施形態による、患者に電気治療を適用するためのプロセス１０００を示す。プロセス１０００は、治療装置を動作する人間のユーザ（例えば、医療専門家）によって、又は例えば、図１のシステム１００等のシステムによって行われてもよい。いくつかの実施形態では、任意選択のステップ１００５において、ユーザは、電極アセンブリの伝導性スペーサに少なくとも部分的に基づいて電極アセンブリを選択することができる。例えば、ユーザは、治療される組織に適した伝導率を有する伝導性スペーサを有する電極アセンブリを選択することができる。伝導性スペーサの伝導率は、治療領域の伝導率より大きくても、小さくても、又は実質的に等しくてもよい。いくつかの実施形態では、伝導性スペーサの伝導率は、治療領域の伝導率以上、治療領域の伝導率の１００倍（１００ｘ）以下などの範囲内であってもよく、いくつかの実施形態では、治療領域の伝導率よりわずかに小さいか、ほぼ等しいか、又は約１０倍（１０ｘ）であってもよく、いくつかの実施形態では、治療領域の伝導率の約１～１０倍（１ｘ～１０ｘ）であってもよい。治療領域の伝導率は、治療される組織のタイプに基づいて決定されてもよい。例えば、治療は、皮膚、肝臓組織、心臓組織、又は任意の他のタイプの組織若しくは細胞に対するものであり得る。表皮の伝導率は約１．１Ｓ／ｍであり、したがって、伝導性スペーサの伝導率の範囲は、１．１Ｓ／ｍよりわずかに小さい値から１１０Ｓ／ｍまでであってもよく、いくつかの実施形態では、好ましくは約１１Ｓ／ｍ（治療領域の伝導率の約１０倍）であってもよい。他の組織に対する治療は、組織の伝導率が治療される組織のタイプによって変化し得るので、異なる伝導率範囲を有し得る。別の例として、ユーザは、治療される組織にとって望ましい凹部を有する伝導性スペーサを有する電極アセンブリを選択することができる。例えば、より小さい又はより大きい第２の高さ（例えば、「Ｖ」又は「Ｕ」形状の谷）を有する凹部、第１の高さを第２の高さに接続する縁のより急な又はより急でない角度、より広い又はより狭い凹部等は、種々のタイプの組織の治療のための種々の利点を有し得る。更に別の実施例では、パルス発生器システム（図１の実施例によって示されるもの等）のコントローラは、治療領域及び／又は治療されている組織に関する情報を受信し、電極アセンブリが使用するための選択を行い、治療のために取得及び使用するために、そのような選択情報をユーザ（例えば、技術者又は他の医療従事者）に提供してもよい。電極アセンブリは、各々が伝導性スペーサに伝導的に接触する少なくとも２つの電極を含むことができる。
【0074】
いくつかの実施形態では、任意選択のステップ１０１０において、ユーザは、治療領域の表面上に伝導性ゲルを塗布して、電極アセンブリ電極と治療領域との間、及び／又は電極アセンブリの伝導性スペーサと治療領域との間の接触を促進することができる。例えば、伝導性ゲルは、正確に均一に平坦ではない皮膚又は他の治療領域への電極の均一な接触を促進するのを助けるために使用されることが多い。伝導性ゲルは、電極アセンブリの伝導性スペーサとはいくつかの点で異なる。例えば、そのような伝導性ゲルの粘稠度は、典型的には、伝導性スペーサよりもはるかに粘性が低く堅固である。更に、伝導性ゲルは、伝導性スペーサの表面と治療領域の表面との間に配置され、いくつかの表面電極の実施形態では、表面電極の表面と治療領域の表面との間に配置される。
【0075】
ステップ１０１５において、ユーザは、電極アセンブリを患者の治療領域に適用又は配置する。例えば、任意の表面電極及び伝導性スペーサは、治療領域の表面に伝導的に接触する（すなわち、電気的に接触する）ように配置される。伝導性スペーサが治療領域の表面に押し付けられて伝導的に接触するまで、任意の針電極が治療領域に挿入される。ハウジング内に埋め込まれた電極及び伝導性スペーサを有する電極アセンブリでは、組織が電極及び伝導性スペーサと伝導接触するように、組織が電極アセンブリ内に引き込まれる。
【0076】
ステップ１０２０において、電気治療パラメータは、治療領域に適用する電気治療のために選択される。電気治療パラメータは、治療領域に印加される電圧場、パルス幅、パルス周波数、パルス数、又はそれらの任意の組み合わせを含んでもよい。いくつかの実施形態では、電気治療パラメータは、電極アセンブリ内の伝導性スペーサに少なくとも部分的に基づいて選択されてもよい。例えば、本開示の伝導性スペーサを有する電極アセンブリは、電極間に絶縁スペーサを有する又はスペーサを有さない電極アセンブリを用いて治療領域を治療するのに必要な電圧よりも、治療領域全体にわたって所望の治療深さで有効な治療を提供するのに必要な電圧が小さくてよい。このより低い電圧は、伝導性スペーサが、比較的高い電界が治療領域の上に存在し、より効果的に治療領域内に延びることを可能にするので、少なくとも部分的に可能であり得る。いくつかの実施形態では、パルス発生器システム（図１の例によって示されるもの等）のコントローラは、選択された電極アセンブリ及び伝導性スペーサの伝導性を決定又は認識するように構成されてもよく、また、治療のための提案される電気治療パラメータ値を提供してもよい。例えば、電極アセンブリがパルス発生器システムのハンドルに取り付けられるとき、コントローラは、電極アセンブリを識別する情報（例えば、モデル番号）を受信し得る。コントローラは、選択された電極アセンブリを使用して所与の治療領域を治療するための電気治療パラメータ値を決定するために使用することができる情報を含むデータベース又はテーブルを含むメモリにアクセスすることができる。電気治療パラメータ値は、例えば、伝導性スペーサの伝導率、伝導性スペーサの幾何学的切欠き情報、治療領域の伝導率、治療領域のサイズ又は形状などの任意の組合せに基づくことができる。
【0077】
いくつかの実施形態では、任意選択のステップ１０２５において、ユーザは、電極アセンブリを介して治療領域に電気治療を適用することができる。そのような治療は、高電圧又は低電圧パルスを含んでもよい。パルスは、ナノ秒パルス、ピコ秒パルス、マイクロ秒パルス、ミリ秒パルスなどであってもよい。電気治療は、いくつかの実施形態では、直流（「ＤＣ」）パルス化であってもよい。いくつかの実施形態では、電気治療は、無線周波数（「ＲＦ」）治療であってもよい。
【0078】
図１０Ｂは、電極アセンブリを選択する、及び／又は電気治療のためのパラメータを選択するための別の方法１０５０の実施例を示す。方法１０５０は、例えば、図１のシステム１００等の治療装置又はシステムを動作する人間のユーザ（例えば、医療専門家）によって行われてもよい。いくつかの実施形態では、方法１０５０は、治療システム又は装置のコントローラによって実行されてもよい。方法１０５０は、ステップ１０５５において、電極アセンブリの伝導性スペーサに少なくとも部分的に基づいて電極アセンブリを選択することを含んでもよい。ステップ１０５５は、図１０Ａのプロセス１０００における任意選択のステップ１００５として上で詳細に説明されている。
【0079】
いくつかの実施形態では、任意選択のステップ１０６０において、伝導性ゲルが、電極アセンブリ電極と治療領域との間、及び／又は電極アセンブリの伝導性スペーサと治療領域との間の接触を促進するように、治療領域の表面上に塗布されてもよい。ステップ１０６０は、図１０Ａのプロセス１０００における任意選択のステップ１０１０として上で詳細に説明されている。
【0080】
ステップ１０６５において、電気治療パラメータは、治療領域に適用する電気治療のために選択されてもよい。ステップ１０６５は、図１０Ａのプロセス１０００におけるステップ１０２０として上で詳細に説明されている。
【0081】
図１１は、電気治療のためのパルス発生器システムを構成するための別の方法１１００、又は電気治療装置の動作方法の実施例を示す。方法１１００は、パルス発生器システムのコントローラによって実行することができる。コントローラは、コントローラの１つ以上のプロセッサによって実行されると、コントローラにステップを実行させる命令をコントローラのメモリ内に記憶させることによって、方法１１００を実行してもよい。ステップ１１０５では、コントローラは、治療アプリケータの交換可能電極アセンブリの指示を決定又は受信してもよい。例えば、人間のユーザは、交換可能電極アセンブリを選択し、交換可能電極アセンブリを治療アプリケータのハンドルに結合してもよい。いくつかの実装では、システムは、例えば、システムのコントローラ／プロセッサのメモリ内に記憶される情報に基づいて、特定の治療領域又は特定の治療のために、どの電極アセンブリを使用するかを決定し、ユーザインターフェースを通して提案してもよい。結合は、機械的、電気的、又はその両方であってもよい。電極アセンブリは、電極アセンブリのサイズ（例えば、５ｍｍ×５ｍｍ、１０ｍｍ×５ｍｍ、５ｍｍ×１０ｍｍ等）、伝導性スペーサの伝導率、電極の数、電極アセンブリのタイプ（例えば、それが表面電極、針電極、又は組み合わせ電極アセンブリであるかどうか）等を含む、電極アセンブリのタイプを示すために、コントローラに結合すると伝送される情報を含んでもよい。いくつかの実施形態では、電極アセンブリのモデル番号は、コントローラに伝送されてもよく、コントローラは、モデル番号を使用して、例えば、メモリ内のテーブル内の電極アセンブリに関する情報を識別してもよい。
【0082】
ステップ１１１０において、コントローラは、交換可能な電極アセンブリの指示に基づいて伝導性スペーサの特性を決定する。例えば、指示は、伝導率情報（例えば、伝導率、伝導性ゾーンなど）を含んでもよく、又は提供される情報は、コントローラが伝導性スペーサの伝導率情報を調べることを可能にしてもよい。別の例として、表示は、伝導性スペーサの凹部の形状又は他の特性を含んでもよい。
【0083】
ステップ１１１５において、コントローラは、交換可能な電極アセンブリに基づいて、例えば電気治療パラメータを含む適切な治療構成情報を決定する。例えば、コントローラは、テーブル又はデータベース内の構成情報を検索することができる。構成情報は、例えば、電極アセンブリで治療される組織の好ましいタイプ、治療のためのピーク電圧値、電気治療を実施するための治療持続時間、治療が到達することが望ましい治療深さ、治療深さで治療されている組織のための最小有効治療値、及び／又は同等物を含んでもよい。
【0084】
いくつかの実施形態では、任意選択のステップ１１２０は、コントローラによって実行される。コントローラは、選択された交換可能な電極アセンブリに基づいて構成情報を使用して、電気治療のための構成可能な電気治療パラメータを設定することができる。例えば、コントローラは、治療のためのピーク電圧、印加される電圧場、パルス持続時間、パルス周波数、パルス数、パルス幅等を設定してもよい。いくつかの実施形態では、任意選択のステップ１１２０は、ユーザによって実行され得る。
【0085】
ステップ１１２５において、いくつかの実施形態では、コントローラは、随意に、好適な治療構成情報及び／又は構成可能電気治療パラメータを表示装置（例えば、インターフェース１０４）上に表示させてもよい。いくつかの実装では、好適な治療構成情報及び／又は治療パラメータを表示する代わりに、そのような情報は、例えば、口頭で（例えば、音によって）、又はテキストによって、通信又は伝送されてもよい。いくつかの実施形態では、ユーザは、構成可能パラメータを調節し、及び／又は好ましい若しくは好適な治療構成情報を修正してもよい。例えば、ユーザは、治療される組織のタイプ又は使用されるピーク電圧を修正してもよい。そのような修正は、いくつかの実施形態では、コントローラに、例えば、表又は履歴データに基づいて、決定された好適な治療構成情報を修正／更新させてもよい。いくつかの実施形態では、コントローラのメモリ内の情報は、例えば、ピーク電圧等を制限することによって、所与の交換可能電極アセンブリのための構成設定が許容不可能な治療を提供することを可能にしない保護を含んでもよい。
【0086】
図１２Ａは、電極１２０５ａ、１２０５ｂの間に絶縁スペーサ１２１０を有し、絶縁体１２２０によって取り囲まれた表面電極アセンブリのための治療領域１２１５のモデル１２００を示す。絶縁スペーサ１２１０を有する説明された表面電極１２０５は、以前の既知の治療において使用されていてもよく、本明細書に開示される伝導性スペーサを実装しない。このモデル１２００は、図１２Ｂに示されるような本開示の伝導性スペーサを使用することの実質的な利点を示すために、絶縁スペーサ１２１０を使用して治療領域１２１５を描写する目的で提供される。
【0087】
モデル１２００は、２つの表面電極１２０５ａと１２０５ｂとの間の絶縁スペーサ１２１０を用いて治療される治療領域１２１５に基づく。絶縁スペーサ１２１０は、その幅の１０％である高さを有する。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。モデル内の数値を使用して示されるように、１から１０まで番号付けされた等値線があり、これらは、各等値線における相対的治療値を示す。図示のように、絶縁スペーサ１２１０の中心の直下の治療領域１２１５は、２．０等値線において約２．５の深さまでの治療値を有する。しかしながら、４．０等値線は、絶縁スペーサ１２１０の中心の下に延びない。説明のために、治療領域１２１５は、４．０等値線に基づいて識別された有効治療値を有すると仮定する。電極１２０５の直下では、４．０等値線における治療値は、約２．２５の深さになる。絶縁スペーサを使用して示されるように、治療は、治療領域１２１５全体にわたって均一に分配されない。治療領域に対する有効治療値に関連付けられた等値線は、治療領域における一貫した深さに対して均一に分配された治療を示すために可能な限り水平であってもよい。モデル１２００の場合、等値線のいずれも均一に分布した治療を示していない。
【0088】
図１２Ｂは、電極１２５５ａ、１２５５ｂの間に伝導性スペーサ１２６０を有し、絶縁体１２７０によって取り囲まれた表面電極アセンブリのための治療領域１２６５のモデル１２５０を示す。モデル１２５０は、２つの表面電極１２５５の間の伝導性スペーサ１２６０で治療される治療領域１２６５に基づく。伝導性スペーサ１２６０は、その幅の約１０％の高さを有する。伝導性スペーサ１２６０は、治療領域１２６５の伝導率と実質的に同じ伝導率を有する。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。モデル１２５０では、電極１２５５の直下では、４．０等値線での治療値は約２．７５の深さになり、伝導性スペーサ１２６０の中心の直下での４．０等値線での治療値は約１．２５の深さになる。絶縁スペーサ１２１０が使用される場合、図１２Ａに示されるように、治療は、治療領域１２１５を通してよりも治療領域１２６５全体にわたって実質的により均一に分散されることに留意されたい。この例では、少なくとも１．２５の深さまでの有効な治療が、治療領域１２６５全体にわたって達成される。
【0089】
図１３Ａは、電極１３０５間に絶縁スペーサ１３１０を有し、絶縁体１３２０によって取り囲まれた表面電極アセンブリのための治療領域１３１５のモデル１３００を示す。図１３Ａに示される表面電極アセンブリは、図１２Ａに示される表面電極アセンブリよりもサイズが小さい。電極１３０５間の距離は、図１２Ａの電極１２０５間の距離の半分である。絶縁スペーサ１３１０を有する説明された表面電極１３０５は、以前の治療において使用されていてもよく、本明細書に開示される伝導性スペーサを実装しない。このモデル１３００は、図１３Ｂに示されるような伝導性スペーサを使用することの実質的な利点を示すために、絶縁スペーサ１３１０を使用して治療領域１３１５を描写する目的で提供される。
【0090】
モデル１３００は、２つの表面電極１３０５ａと１３０５ｂとの間の絶縁スペーサ１３１０を用いて治療される治療領域１３１５に基づく。絶縁スペーサ１３１０は、その幅の２０％である高さを有する。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。絶縁スペーサ１３１０の直下の治療領域１３１５は、４．０等値線において約１の深さまでの治療値を有する。電極１３０５の直下では、４．０等値線における治療値は、約１．７５の深さになる。しかしながら、有効治療値は、好ましいように治療領域１３１５全体にわたって均一に分配されない。
【0091】
図１３Ｂは、電極１３５５ａ、１３５５ｂの間に伝導性スペーサ１３６０を有し、絶縁体１３７０によって取り囲まれた表面電極アセンブリのための治療領域１３６５のモデル１３５０を示す。
【0092】
モデル１３５０は、２つの表面電極１３５５の間の伝導性スペーサ１３６０で治療される治療領域１３６５に基づく。伝導性スペーサ１３６０は、その幅の約２０％の高さを有する。伝導性スペーサ１３６０は、治療領域１３６５の伝導率と実質的に同じ伝導率を有する。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。モデル１３５０では、伝導性スペーサ１３６０の中心の直下では、４．０等値線での治療値は約１．６の深さになり、電極１３５５の直下の４．０等値線での治療値は約１．８の深さになる。絶縁スペーサ１３１０が使用される場合、有効治療値は、治療領域１３６５を通るよりも治療領域１３１５全体にわたって実質的により均一に分配されることに留意されたい。この例では、約１．６の深さまでの有効な治療が、治療領域１３６５全体にわたって達成される。
【0093】
図１４Ａ～１４Ｅは、伝導性スペーサの高さを増加させる利点を分析するために使用することができる。
【0094】
図１４Ａは、電極１４０２ａ、１４０２ｂの間に伝導性スペーサ１４０４を有する表面電極アセンブリの治療領域１４０６のモデル１４００を示す。領域１４０８は、絶縁ハウジングのように絶縁性である。
【0095】
モデル１４００は、２つの表面電極１４０２の間の伝導性スペーサ１４０４で治療される治療領域１４０６に基づく。伝導性スペーサ１４０４は、その幅の約１０％の高さを有する。伝導性スペーサ１４０４は、治療領域１４０６の伝導率と実質的に同じ伝導率を有する。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。伝導性スペーサ１４０４の直下の治療領域１４０６は、４．０等値線において約１．２５の深さまでの治療値を有する。電極１４０２の直下では、４．０等値線における治療値は、約２．７５の深さになる。
【0096】
図１４Ｂは、電極１４２２ａ、１４２２ｂの間に伝導性スペーサ１４２４を有する表面電極アセンブリの治療領域１４２６のモデル１４２０を示す。領域１４２８は、絶縁ハウジングのように絶縁性である。
【0097】
モデル１４２０は、２つの表面電極１４２２の間の伝導性スペーサ１４２４で治療される治療領域１４２６に基づく。伝導性スペーサ１４２４は、その幅の約２０％の高さを有する。伝導性スペーサ１４２４は、治療領域１４２６の伝導率と実質的に同じ伝導率を有する。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。伝導性スペーサ１４２４の直下の治療領域１４２６は、４．０等値線において約１．７５の深さまでの治療値を有する。電極１４２２の直下では、４．０等値線における治療値は、約２．７５の深さになる。
【0098】
図１４Ｃは、電極１４４２ａ、１４４２ｂの間に伝導性スペーサ１４４４を有する表面電極アセンブリの治療領域１４４６のモデル１４４０を示す。領域１４４８は、絶縁ハウジングのように絶縁性である。
【0099】
モデル１４４０は、２つの表面電極１４４２の間の伝導性スペーサ１４４４で治療される治療領域１４４６に基づく。伝導性スペーサ１４４４は、その幅の約３０％の高さを有する。伝導性スペーサ１４４４は、治療領域１４４６の伝導率と実質的に同じ伝導率を有する。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。伝導性スペーサ１４４４の直下の治療領域１４４６は、４．０等値線において約１．７５の深さまでの治療値を有する。電極１４４２の直下では、４．０等値線における治療値は、約２．７５の深さになる。
【0100】
図１４Ｄは、電極１４６２ａ、１４６２ｂの間に伝導性スペーサ１４６４を有する表面電極アセンブリの治療領域１４６６のモデル１４６０を示す。領域１４６８は、絶縁ハウジングのように絶縁性である。
【0101】
モデル１４６０は、２つの表面電極１４６２の間の伝導性スペーサ１４６４で治療される治療領域１４６６に基づく。伝導性スペーサ１４６４は、その幅の約４０％の高さを有する。伝導性スペーサ１４６４は、治療領域１４６６の伝導率と実質的に同じ伝導率を有する。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。伝導性スペーサ１４６４の直下の治療領域１４６６は、４．０等値線において約２の深さまでの治療値を有する。電極１４６２の直下では、４．０等値線における治療値は、約２．７５の深さになる。
【0102】
図１４Ｅは、電極１４８２ａ、１４８２ｂの間に伝導性スペーサ１４８４を有する表面電極アセンブリの治療領域１４８６のモデル１４８０を示す。領域１４８８は、絶縁ハウジングのように絶縁性である。
【0103】
モデル１４８０は、２つの表面電極１４８２の間の伝導性スペーサ１４８４で治療される治療領域１４８６に基づく。伝導性スペーサ１４８４は、その幅の約５０％である高さを有する。伝導性スペーサ１４８４は、治療領域１４８６の伝導率と実質的に同じ伝導率を有する。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。伝導性スペーサ１４８４の直下の治療領域１４８６は、４．０等値線において約２の深さまでの治療値を有する。電極１４８２の直下では、４．０等値線における治療値は、約２．７５の深さになる。
【0104】
図１４Ａ～１４Ｅによって示されるように、伝導性スペーサの高さ対幅の比を増加させることは、伝導性スペーサの下の治療領域における有効治療値の深さを増加させるが、ある程度までである。伝導性スペーサの様々な他の組織及び伝導率ならびに異なるサイズの電極アセンブリ（例えば、５ｍｍ×５ｍｍ、５ｍｍ×１０ｍｍ）を使用する他のモデルは、伝導性スペーサの高さが伝導性スペーサの幅の約２０パーセント～６０パーセント（２０％～６０％）であるときに、より小さい高さ対幅比を有する伝導性スペーサを使用するよりも有効治療深さが増加することを示す。有効治療深さの増加は、７０％を超えると漸減する。伝導性スペーサの幅の約４０パーセント（４０％）の高さを有する伝導性スペーサは、良好な結果を提供する。したがって、特定の実施形態では、（例えば、５ｍｍ×１０ｍｍの電極アセンブリにおいて）４ｍｍの高さ及び１０ｍｍの幅を有する伝導性スペーサは、４ｍｍ未満の高さ及び１０ｍｍの幅を有する伝導性スペーサよりも高い治療深さ及び均一性を提供する。同様に、（例えば、５ｍｍ×５ｍｍの電極アセンブリにおいて）２ｍｍの高さ及び５ｍｍの幅を有する伝導性スペーサは、２ｍｍ未満の高さ及び５ｍｍの幅を有する伝導性スペーサよりも増加した治療深さを提供する。
【0105】
図１５は、モデル１４００、１４２０、１４４０、１４６０、及び１４８０において収集されたデータに基づいて、伝導性スペーサの高さがその幅のパーセンテージとして増加されるときの最小有効治療値のパーセンテージ変化のグラフ１５００の一例を示す。例えば、４０％の高さ対幅比を有する伝導性スペーサに対する１０％の高さ対幅比を有する伝導性スペーサによる有効電界のパーセント変化は、約３０パーセント（３０％）である。
【0106】
図１６Ａ～１６Ｄは、伝導性スペーサの伝導率を増加させる利点を分析するために使用することができる。
【0107】
図１６Ａは、電極１６０２ａ、１６０２ｂの間に伝導性スペーサ１６０４を有する表面電極アセンブリの治療領域１６０６のモデル１６００を示す。領域１６０８は、絶縁ハウジングのように絶縁性である。
【0108】
モデル１６００は、２つの表面電極１６０２の間の伝導性スペーサ１６０４で治療される治療領域１６０６に基づく。伝導性スペーサ１６０４は、その幅の約２０％の高さを有する。伝導性スペーサ１６０４は、治療領域１６０６の伝導率と実質的に同じ伝導率を有する。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。伝導性スペーサ１６０４の直下の治療領域１６０６は、４．０等値線において約１．７５の深さまでの治療値を有する。電極１６０２の直下では、４．０等値線における治療値は、約２．７５の深さになる。
【0109】
図１６Ｂは、電極１６２２ａ、１６２２ｂの間に伝導性スペーサ１６２４を有する表面電極アセンブリの治療領域１６２６のモデル１６２０を示す。領域１６２８は、絶縁ハウジングのように絶縁性である。
【0110】
モデル１６２０は、２つの表面電極１６２２の間の伝導性スペーサ１６２４で治療される治療領域１６２６に基づく。伝導性スペーサ１６２４は、その幅の約２０％の高さを有する。伝導性スペーサ１６２４は、治療領域１６２６の伝導率の約１０倍（１０ｘ）の伝導率を有する。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。伝導性スペーサ１６２４の直下の治療領域１６２６は、４．０等値線において約２．７５の深さまでの治療値を有する。電極１６２２の直下では、４．０等値線での治療値は約３ｍｍの深さに達する。これは、治療領域１６０６の伝導率に実質的に等しい伝導率を有する伝導性スペーサ１６０４に対する実質的な改善であることに留意されたい。
【0111】
図１６Ｃは、電極１６４２ａ、１６４２ｂの間に伝導性スペーサ１６４４を有する表面電極アセンブリの治療領域１６４６のモデル１６４０を示す。領域１６４８は、絶縁ハウジングのように絶縁性である。
【0112】
モデル１６４０は、２つの表面電極１６４２の間の伝導性スペーサ１６４４で治療される治療領域１６４６に基づく。伝導性スペーサ１６４４は、その幅の約２０％の高さを有する。伝導性スペーサ１６４４は、治療領域１６４６の伝導率の約１００倍（１００ｘ）の伝導率を有する。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。伝導性スペーサ１６４４の直下の治療領域１６４６は、４．０等値線において約３の深さまでの治療値を有する。電極１６４２の直下では、４．０等値線における治療値は、約３．２５の深さになる。これは、有効治療深さが増加するので、治療領域１６４６の伝導率の１０倍の伝導率を有する伝導性スペーサ１６２４よりも更に改善されることに留意されたい。
【0113】
図１６Ｄは、電極１６６２ａ、１６６２ｂの間に伝導性スペーサ１６６４を有する表面電極アセンブリの治療領域１６６６のモデル１６６０を示す。領域１６６８は、絶縁ハウジングのように絶縁性である。
【0114】
モデル１６６０は、２つの表面電極１６６２の間の伝導性スペーサ１６６４で治療される治療領域１６６６に基づく。伝導性スペーサ１６６４は、その幅の約２０％の高さを有する。伝導性スペーサ１６４４は、治療領域１６４６の伝導率の約１０００倍（１０００ｘ）の伝導率を有する。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。伝導性スペーサ１６６４の直下の治療領域１６６６は、４．０等値線において約３の深さまでの治療値を有する。電極１６６２の直下では、４．０等値線における治療値は、約３．２５の深さになる。治療領域１６４６の１００倍の伝導率を有する伝導性スペーサ１６４４に対して顕著な改善はないことに留意されたい。
【0115】
図１７は、モデル１６００、１６２０、１６４０、及び１６６０において収集されたデータに基づいて、伝導性スペーサの伝導性が治療領域の伝導率の倍数として増加されるにつれて、最小有効治療値のパーセンテージ変化のグラフ１７００を示す。例えば、治療領域の伝導率と実質的に同じ伝導率を有する伝導性スペーサと、治療領域の伝導率の１００倍の伝導率を有する伝導性スペーサとの間の最小有効治療値のパーセント変化は、約７２パーセント（７２％）である。
【0116】
図１８Ａ～１８Ｄは、３列貫通及び組み合わせ電極アセンブリの代替構成及び結果を示す。領域１８０８、１８２８、１８４８、１８６８は、絶縁ハウジングのように絶縁性である。
【0117】
図１８Ａは、針電極１８０２ａ、１８０２ｂ、及び１８０２ｃの間に絶縁スペーサ１８０４ａ、１８０４ｂを伴う、３列針電極アセンブリのためのモデル１８００を示す。
【0118】
図１８Ａのモデル１８００は、３列針電極構成で治療されている治療領域１８０６に基づく。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。針電極１８０２ａ及び１８０２ｃの直下の治療領域１８０６は、４．０等値線において約４の深さまでの治療値を有する。針電極１８０２ｂの直下は、４．０等値線において約５．２５の深さまで治療値を有する。針電極１８０２間の空間の直下では、４．０等値線における治療値は、約４から５．２５の間の深さになる。針電極１８０２ｂの中間列は、縁電極１８０２ａと１８０２ｃとの間の領域が治療を受けることを効果的に保証するが、それはかなりの費用がかかる。第１に、治療深さは、電極アセンブリの中心において更に大きい。第２に、追加の列の針が「爪床」現象を増加させ、貫通を困難にする。第３に、３列針電極アセンブリの製造コスト及び複雑さは、２列針電極アセンブリよりも実質的に大きい。
【0119】
図１８Ｂは、針電極１８２２ａ、１８２２ｂ、及び１８２２ｃの間に伝導性スペーサ１８２４ａ、１８２４ｂを伴う、３列針電極アセンブリのためのモデル１８２０を示す。
【0120】
図１８Ｂのモデル１８２０は、３つの針電極１８２２ａ、１８２２ｂ、１８２２ｃの間の伝導性スペーサ１８２４ａ及び１８２４ｂを用いて治療される治療領域１８２６に基づく。伝導性スペーサ１８２４は、治療領域１８２６の伝導率と実質的に同じ伝導率を有する。伝導性スペーサ１８２４ａ、１８２４ｂはそれぞれ、その幅の約８０％であり、電極１８２２ａと１８２２ｃとの間の全幅の４０％である高さを有する。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。針電極１８２２ａ及び１８２２ｃの直下の治療領域１８２６は、４．０等値線において約４の深さまでの治療値を有する。針電極１８２２ｂの直下は、４．０等値線において約５．２５の深さまで治療値を有する。針電極１８２２間の空間の直下では、４．０等値線における治療値は、約４から５．２５の間の深さになる。中央列の針電極１８２２ｂは、縁電極１８２２ａと１８２２ｃとの間の領域が治療を受けることを効果的に保証するが、この伝導率の伝導性スペーサは、伝導性スペーサのない３列針電極に対してほとんど影響を及ぼさないように見える。
【0121】
図１８Ｃは、針電極１８４２ａ、１８４２ｃと表面電極１８４２ｂとの間に絶縁スペーサ１８４４ａ、１８４４ｂを伴う、針電極１８４２ａ及び１８４２ｃならびに表面電極１８４２ｂを伴う、組み合わせ電極アセンブリのためのモデル１８４０を示す。
【0122】
図１８Ｃのモデル１８４０は、針電極の第３の列の代わりに、針電極１８４２ａ、１８４２ｃの２つの外側列と、針電極１８４２ａ、１８４２ｃの２つの列の間に配置された中心表面電極１８４２ｂとを用いて治療される治療領域１８４６に基づく。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。針電極１８４２ａ及び１８４２ｃの直下の治療領域１８４６は、４．０等値線において約２．７５の深さまでの治療値を有する。表面電極１８４２ｂの直下の深さまでの治療値は約３．７５である。針電極１８４２ａ，１８４２ｃと表面電極１８４２ｂとの間の空間の直下では、治療値は２．７５～３．７５の深さに達する。中間表面電極１８４２ｂは、縁電極１８４２ａと１８４２ｃとの間の領域全体にわたって治療を分配するのを助けるが、分配は、３列の針電極の場合ほど均一ではない。
【0123】
図１８Ｄは、針電極１８６２ａと表面電極１８６２ｂとの間の伝導性スペーサ１８６４ａと、針電極１８６２ｃと表面電極１８６２ｂとの間の伝導性スペーサ１８６４ｂとを伴う、組み合わせ電極アセンブリのためのモデル１８６０を示す。
【0124】
図１８Ｄのモデル１８６０は、針電極の第３の列の代わりに、針電極１８６２ａ、１８６２ｃの２つの外側列と、針電極１８６２ａ、１８６２ｃの２つの列の間に配置された中心表面電極１８６２ｂとを用いて治療される治療領域１８６６に基づく。伝導性スペーサ１８６４は、治療領域１８６６の伝導率と実質的に同じ伝導率を有する。伝導性スペーサ１８２４ａ、１８２４ｂはそれぞれ、その幅の約８０％であり、電極１８６２ａと１８６２ｃとの間の全幅の４０％である高さを有する。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。針電極１８６２ａ及び１８６２ｃの直下の治療領域１８６６は、４．０等値線において約３．５の深さまでの治療値を有する。表面電極１８６２ｂの直下は、約４．２５の深さまでの有効治療値を有する。針電極１８６２ａ，１８６２ｃと表面電極１８６２ｂとの間の空間の直下では、有効治療値は３．５～４．２５の深さになる。この構成は、治療領域１８６６全体にわたる有効治療値の分布の実質的な改善を提供する一方で、針電極の列を排除すること（例えば、「爪床」現象を回避すること）から知られている改善を提供し、針電極の列を単一の表面電極と置き換えることによって製造コスト及び複雑さを低減する。
【0125】
図１９Ａ～１９Ｃは、表面電極及び複数の伝導性ゾーンを伴う伝導性スペーサを伴う、電極アセンブリのための代替構成及び結果を示す。領域１９０８、１９２８及び１９４８は、絶縁ハウジングのように絶縁性である。
【0126】
図１９Ａは、表面電極１９０２の間に第１の伝導性ゾーン１９０４ａ、１９０４ｂ及び第２の伝導性ゾーン１９１０を有する伝導性スペーサを備えた表面電極１９０２ａ、１９０２ｂを有する電極アセンブリのモデル１９００を示す。
【0127】
図１９Ａのモデル１９００は、表面電極１９０２間に伝導性ゾーン１９０４、１９１０を伴う伝導性スペーサを有する表面電極アセンブリを用いて治療される治療領域１９０６に基づく。第１のゾーン１９０４の伝導率は、治療領域１９０６の伝導率の１０倍であってもよく、第２のゾーン１９１０の伝導率は、治療領域１９０６の伝導率と実質的に同じであってもよい。１９０４、１９１０で示される２つの伝導性ゾーンは、この例でははっきりと描かれているが、いくつかの実施形態では、伝導性スペーサにおける伝導性の段階的な変化が使用されてもよい。伝導性スペーサは、その幅の約２０％の高さを有する。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。表面電極１９０２ａ及び１９０２ｂの直下の治療領域１９０６は、４．０等値線において約３．２５の深さまでの治療値を有する。伝導性ゾーン１９０４、１９１０の直下では、有効治療値は約４ｍｍの深さに達し、実質的に均一に分布する。再び図１６Ｂを参照すると、伝導性スペーサ１６２４は、その幅の約２０％である高さと、治療領域１６２６の伝導率の約１０倍である伝導率とを有する。モデル１６２０に示される治療の分布をモデル１９００の分布と比較すると、分布は、伝導性スペーサ内の伝導性ゾーンが使用されるモデル１９００において実質的により均一である。
【0128】
図１９Ｂは、表面電極１９２２間に２つの伝導性ゾーン１９２４ａ、１９２４ｂ、及び１９３０を有する伝導性スペーサを伴う、表面電極１９２２ａ、１９２２ｂを伴う電極アセンブリのためのモデル１９２０を示す。
【0129】
図１９Ｂのモデル１９２０は、表面電極１９２２間に伝導性ゾーン１９２４、１９３０を伴う伝導性スペーサを有する表面電極アセンブリを用いて治療される治療領域１９２６に基づく。第１のゾーン１９２４の伝導率は、治療領域１９２６の伝導率の１０倍であってもよく、第２のゾーン１９３０の伝導率は、実質的に０、すなわち絶縁性であってもよい。１９２４、１９３０で示される２つの伝導性ゾーンは、この例でははっきりと描かれているが、いくつかの実施形態では、伝導性スペーサにおける伝導性の段階的な変化が使用されてもよい。伝導性スペーサは、その幅の約２０％の高さを有する。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。表面電極１９２２ａ及び１９２２ｂの直下の治療領域１９２６は、４．０等値線において約３の深さまでの治療値を有する。伝導性ゾーン１９２４、１９３０の直下では、治療値は約３．７５の深さに達する。伝導性ゾーン１９２４、１９３０の下の領域は、かなり均一に分布しているが、図１９Ａに示す伝導性ゾーン１９０４、１９１０の下の領域は、わずかにより均一に分布しているように見える。
【0130】
図１９Ｃは、表面電極１９４２間に２つの伝導性ゾーン１９４４ａ、１９４４ｂ、及び１９５０を有する伝導性スペーサを備えた表面電極１９４２ａ、１９４２ｂを有する電極アセンブリのモデル１９４０を示す。
【0131】
図１９Ｃのモデル１９４０は、表面電極１９４２間に伝導性ゾーン１９４４、１９５０を伴う伝導性スペーサを有する表面電極アセンブリを用いて治療される治療領域１９４６に基づく。第１のゾーン１９２４の伝導率は、治療領域１９２６の伝導率の１００倍であってもよく、第２のゾーン１９３０の伝導率は、治療領域１９４６の伝導率の１０倍であってもよい。図示された２つの伝導性ゾーン１９４４、１９５０は、この例でははっきりと描かれているが、いくつかの実施形態では、伝導性スペーサにおける伝導率の段階的な変化が使用されてもよい。伝導性スペーサは、その幅の約２０％の高さを有する。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。表面電極１９４２ａ及び１９４２ｂの直下の治療領域１９４６は、４．０等値線において約３．２５の深さまでの治療値を有する。伝導性ゾーン１９４４、１９５０の直下では、４．０の等値線における治療値は、約３．７５の深さになる。伝導性ゾーン１９４４、１９５０の下の領域は、かなり均一に分布しているが、伝導性ゾーン１９０４、１９１０の下の図１９Ａに示される領域は、等しく均一に分布しているように見え、伝導性スペーサのより低い伝導率のより低いコストに起因して、より低いコストを有し得る。
【0132】
図２０Ａ及び２０Ｂは、３列組み合わせアセンブリのための代替構成及び結果を示す。領域２００８及び２０２８は、絶縁ハウジングのように絶縁性である。
【0133】
図２０Ａは、表面電極２００２の間に第１の伝導性ゾーン２００４ａ、２００４ｂ、２００４ｃ、２００４ｄ及び第２の伝導性ゾーン２０１０ａ、２０１０ｂを有する伝導性スペーサを備えた３列の表面電極２００２ａ、２００２ｂ、２００２ｃを有する電極アセンブリのモデル２０００を示す。
【0134】
図２０Ａのモデル２０００は、表面電極２００２の間に伝導性ゾーン２００４、２０１０を伴う伝導性スペーサを有する３列表面電極アセンブリで治療される治療領域２００６に基づく。第１のゾーン２００４の伝導率は、治療領域２００６の伝導率の１０倍であってもよく、第２のゾーン２０１０の伝導率は、実質的に０、すなわち絶縁性であってもよい。図示された２つの伝導性ゾーン２００４、２０１０は、この例でははっきりと描かれているが、いくつかの実施形態では、伝導性スペーサにおける伝導率の段階的な変化が使用されてもよい。伝導性スペーサは、全幅（すなわち、電極２００２ａと２００２ｃとの間の距離）の約２０％である高さを有する。各伝導ゾーン２００４の幅は、伝導性スペーサが間に配置される電極間の距離の４０％である。言い換えれば、伝導性スペーサ２００４ａは、電極２００２ａと２００２ｂとの間の距離の４０％である。例えば、１ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。表面電極２００２ａ及び２００２ｃの直下の治療領域２００６は、４．０等値線において約３の深さまでの治療値を有する。表面電極２００２ｂの直下では、４．０等値線において約４．２５の深さまでの治療値を有する。
【0135】
図２０Ｂは、針電極２０２２ａ、２０２２ｂ及び中心表面電極２０３２の２つの外側列を有し、第１の伝導性ゾーン２０２４ａ、２０２４ｂ及び第２の伝導性ゾーン２０３０ａ、２０３０ｂを伴う伝導性スペーサを有する、３列電極アセンブリのためのモデル２０２０を示す。
【0136】
図２０Ｂのモデル２０２０は、針電極２０２２ａと表面電極２０３２との間に２つの伝導性ゾーン２０３０ａ、２０２４ａを有する伝導性スペーサ、及び針電極２０２２ｂと表面電極２０３２との間に２つの伝導性ゾーン２０３０ｂ、２０２４ｂを有する伝導性スペーサを用いて治療されている治療領域２０２６に基づく。第１のゾーン２０３０の伝導率は、実質的に０又は絶縁性であってもよく、第２のゾーン２０２４の伝導率は、治療領域２０２６の伝導率の約１０倍であってもよい。図示された２つの伝導性ゾーン２０２４、２０３０は、この例でははっきりと描かれているが、いくつかの実施形態では、伝導性スペーサにおける伝導率の段階的な変化が使用されてもよい。伝導性スペーサは、全幅（すなわち、電極２０２２ａと２０２２ｂとの間の距離）の約２０％である高さを有する。各伝導ゾーン２０２４の幅は、伝導性スペーサが間に配置される電極間の距離の４０％である。言い換えれば、伝導性スペーサ２０２４ａは、電極２０２２ａと２０３２との間の距離の４０％である。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。針電極２０２２ａ及び２０２２ｂの直下の治療領域２０２６は、４．０等値線において約４の深さまでの治療値を有する。表面電極２０３２の直下では、４．０等値線において約４．７５の深さまで治療値を有する。治療は、この構成で均一に分散されるが、貫通電極は、前述の同じ問題を有し、したがって、図１９Ａ、１９Ｂ、１９Ｃ、及び／又は２０Ａに示されるものなどの表面電極構成が好ましい場合がある。
【0137】
図２１Ａ～２１Ｅは、凹部を備えた伝導性スペーサを有する表面アセンブリの代替構成及び結果を示す。様々な凹部、例えば幾何学的切欠きは、図１９Ａ～図２０Ｂに示され説明されているような伝導性ゾーンを有する伝導性スペーサと同様であってもよい。領域２１０８、２１２８、２１４８、２１６８及び２１８８は、絶縁ハウジングのように絶縁性である。
【0138】
図２１Ａは、電極２１０２ａ、２１０２ｂの間に伝導性スペーサ２１０４を有し、絶縁体２１０８によって取り囲まれた表面電極アセンブリのための治療領域２１０６のモデル２１００を示す。
【0139】
モデル２１００は、２つの表面電極２１０２の間に幾何学的に成形された伝導性スペーサ２１０４を用いて治療される治療領域２１０６に基づく。伝導性スペーサ２１０４は、「Ｖ」字形の凹部２１１６を有する。伝導性スペーサ２１０４は、伝導性スペーサ２１０４スペーサの幅の４０％の２１１０における第１の高さと、２１１４における第１の高さの１２．５％の第２の高さとを有する。第１の高さから第２の高さまで延びる縁の角度は１００度である。伝導性スペーサ２１０４は、治療領域２１０６と実質的に同じ伝導性を有する。凹部２１１６が絶縁体として効果的に動作することに留意されたい。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。この実施形態では、伝導性スペーサ２１０４の中心の直下の治療領域２１０６は、４．０等値線において約４．２５の深さまでの治療値を有する。電極２１０２の直下では、４．０等値線における治療値は、約３．２５の深さになる。有効な治療の分布は、伝導性ゾーンを有する伝導性スペーサを有する図１９Ｂに記載されたものほど均一に分布していない。
【0140】
図２１Ｂは、電極２１２２ａ、２１２２ｂの間に伝導性スペーサ２１２４を有する表面電極アセンブリの治療領域２１２６のモデル２１２０を示す。領域２１２８は、絶縁ハウジングのように絶縁性である。
【0141】
モデル２１２０は、２つの表面電極２１２２の間の伝導性スペーサ２１２４で治療される治療領域２１２６に基づく。伝導性スペーサ２１２４は、「丸みを帯びたＶ」字形の幾何学的切欠き２１３６を有する。伝導性スペーサ２１２４は、伝導性スペーサ２１２４スペーサの幅の４０％の２１３０における第１の高さと、２１３４における第１の高さの１２．５％の第２の高さとを有する。この例では、第１の高さと第２の高さとの間に延びる縁２１３２の角度は９０度である。いくつかの実施形態では、「Ｕ」又は「丸みを帯びたＶ」形状の凹部内の切欠きの曲率半径は、電界を平滑化することに役立ち得る。したがって、曲率半径は、いくつかの実施形態では、治療領域全体を通してより均一な場を生成するように調節されてもよい。伝導性スペーサ２１２４は、２つの表面電極２１２２の間に配置される。伝導性スペーサ２１０４は、治療領域２１０６と実質的に同じ伝導性を有する。凹部２１１６が絶縁体として効果的に動作することに留意されたい。例えば最大１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。伝導性スペーサ２１２４の直下の治療領域２１２６は、４．０等値線において約４．２５の深さまでの治療値を有する。電極２１２２の直下では、４．０等値線における治療値は、約３．２５の深さになる。
【0142】
図２１Ｃは、電極２１４２ａ、２１４２ｂの間に伝導性スペーサ２１４４を有する表面電極アセンブリの治療領域２１４６のモデル２１４０を示す。領域２１４８は、絶縁ハウジングのように絶縁性である。
【0143】
モデル２１４０は、２つの表面電極２１４２の間の伝導性スペーサ２１４４で治療される治療領域２１４６に基づく。伝導性スペーサ２１４４は、「Ｕ」字形の凹部２１５６を有する。伝導性スペーサ２１４４は、２１５０における伝導性スペーサ２１４４スペーサの幅の４０％の第１の高さと、２１５４における第１の高さの１２．５％の第２の高さとを有する。第１の高さから第２の高さまで延びる縁の角度は１０度である。伝導性スペーサ２１４４は、治療領域２１４６と実質的に同じ伝導性を有する。凹部２１５６が絶縁体として効果的に動作することに留意されたい。例えば、２ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。伝導性スペーサ２１４４の直下の治療領域２１４６は、４．０等値線において約４．２５の深さまでの治療値を有する。電極２１４２の直下では、４．０等値線における治療値は、約３．２５の深さになる。
【0144】
図２１Ｄは、電極２１６２ａ、２１６２ｂの間に伝導性スペーサ２１６４を有する表面電極アセンブリの治療領域２１６６のモデル２１６０を示す。領域２１６８は、絶縁ハウジングのように絶縁性である。
【0145】
モデル２１６０は、２つの表面電極２１６２の間の伝導性スペーサ２１６４で治療される治療領域２１６６に基づく。伝導性スペーサ２１６４は、「平坦なＶ」形状の凹部２１７６を有する。伝導性スペーサ２１６４は、２１７０における伝導性スペーサ２１６４スペーサの幅の４０％の第１の高さと、２１７４における第１の高さの１２．５％の第２の高さとを有する。第１の高さから第２の高さまで延びる縁の角度は１００度である。伝導性スペーサ２１６４は、治療領域２１６６と実質的に同じ伝導性を有する。凹部２１７６が絶縁体として効果的に動作することに留意されたい。例えば、５ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。伝導性スペーサ２１６４の直下の治療領域２１６６は、４．０等値線において約４．２５の深さまでの治療値を有する。電極２１６２の直下では、４．０等値線における治療値は、約３．２５の深さになる。
【0146】
図２１Ｅは、電極２１８２ａ、２１８２ｂの間に伝導性スペーサ２１８４を有する表面電極アセンブリの治療領域２１８６のモデル２１８０を示す。領域２１８８は、絶縁ハウジングのように絶縁性である。
【0147】
モデル２１８０は、２つの表面電極２１８２の間の伝導性スペーサ２１８４で治療される治療領域２１８６に基づく。伝導性スペーサ２１８４は、異なる「平坦なＶ」形状の凹部２１９６を有する。伝導性スペーサ２１８４は、２１９０における伝導性スペーサ２１８４スペーサの幅の４０％の第１の高さと、２１９４における第１の高さの１２．５％の第２の高さとを有する。第１の高さから第２の高さまで延びる縁の角度は１０度である。伝導性スペーサ２１８４は、治療領域２１８６と実質的に同じ伝導性を有する。凹部２１９６が絶縁体として効果的に動作することに留意されたい。例えば、５ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。この例における様々な深さでのおおよその治療値は、図１２Ａに記載されるように番号付けされた等値線によって示される。伝導性スペーサ２１８４の直下の治療領域２１８６は、４．０等値線において約４．５の深さまでの治療値を有する。電極２１８２の直下では、４．０等値線における治療値は、約３．２５の深さになる。
【0148】
図２２Ａ及び２２Ｂは、異なる幾何形状を有する伝導性スペーサ上のストリップ電極を示す。
【0149】
図２２Ａは、伝導性スペーサ２２１０がストリップ電極２２０５上に配置された状態のストリップ電極２２０５ａ、２２０５ｂ、２２０５ｃ、２２０５ｄ、２２０５ｅ、及び２２０５ｆを有する電極アセンブリの治療領域２２１５のモデル２２００を示す。伝導性スペーサ２２１０は、治療領域２２１５の伝導率と実質的に同じ伝導率を有することができる。例えば、２ｋＶ～２０ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。治療領域２２１５は、５．０から７．０までの範囲の深さに対する４．０等値線での治療値を有する。
【0150】
図２２Ｂは、伝導性スペーサ２２６０がストリップ電極２２５５上に配置された状態のストリップ電極２２５５ａ、２２５５ｂ、２２５５ｃ、２２５５ｄ、２２５５ｅ、及び２２５５ｆを有する電極アセンブリの治療領域２２６５のモデル２２５０を示す。伝導性スペーサ２２６０は、ストリップ電極２２５５間に幾何学的凹部又は他の凹部を有することができる。図示のように、凹部は「Ｖ」字型であってもよい。伝導性スペーサ２２６０は、治療領域２２６５の伝導率と実質的に同じ伝導率を有することができる。例えば最大２０ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。治療領域２２１５は、５．０から７．２５までの範囲の深さに対する４．０等値線での治療値を有する。範囲は、図２２Ａよりも図２２Ｂに示されるように少し大きいが、治療の全体的な分布は、治療領域２２６５にわたってより均一に見える。したがって、図２２Ａに示されるような凹部のない伝導性スペーサの上に、図２２Ｂに示されるような凹部が使用される場合、治療の分布が改善される。
【0151】
図２３Ａ及び２３Ｂは、単極電極アセンブリを使用する治療領域のモデルを描写する。
【0152】
図２３Ａは、伝導性スペーサを伴わない単極電極２３０２を有する電極アセンブリのための治療領域２３０６のモデル２３００を示す。例えば、１ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。治療領域２３０６は、４．０の深さまで４．０の等値線で治療値を有するが、形状は非常に丸みを帯びているため、最も深い領域は治療領域の中心の１点のみである。
【0153】
図２３Ｂは、単極電極の周囲に配置される伝導性スペーサ２３５４を伴う単極電極２３５２を有する電極アセンブリのための治療領域２３５６のモデル２３５０を示す。いくつかの実施形態では、伝導性スペーサ２３５４は、単極電極２３５２をリング形状で取り囲むことができる。例えば最大２０ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。治療領域２３５６は、４．２５の深さまで４．０等値線において治療値を有する。伝導性スペーサを用いると、治療領域２３５６における治療の分布は、図２３Ａに示す治療よりも実質的に丸みが少なく、より均一に分布していることに留意されたい。
【0154】
図２４は、２つの電極２４０２ａ及び２４０２ｂならびに伝導性スペーサ２４０４を有する電極アセンブリのための治療領域２４０６のモデル２４００を示す。伝導性スペーサ２４０４は、電極２４０２間に延び、更に、伝導性スペーサが治療領域２４０６に直接接触し、電極２４０２が治療領域２４０６に直接接触しないように、電極２４０２の上縁に配置される。電極２４０２は、伝導性スペーサ２４０４を介して間接的に治療領域２４０６に治療を提供する。例えば、１ｋＶ～１５ｋＶのピーク電圧を有し得る電圧パルスが印加される。様々な深さにおけるおおよその治療値は、図１２Ａに記載されているように番号付けされた等値線によって示されている。治療領域２４０６は、３．５の深さまで４．０等値線において治療値を有し、これは治療領域２４０６にわたって比較的一貫している。
【0155】
図２５は、本開示の別の発明概念を例によって実証する。パルス形状を最適化するために、並列抵抗器が、いくつかの電極アセンブリ（例えば、治療先端）において使用され、治療先端インピーダンスを減少させ、システムインピーダンスをより良好に整合させてもよい。これを達成するために、治療アプリケータのハンドルに接続される電極アセンブリを使用する以前の既存のシステムでは、１つ以上の上回る抵抗器が、典型的には、ハンドル内に設置され、ハンドルに接続されると、電極アセンブリ／治療先端と並列になるように配置される。治療アプリケータのハンドル部分への電極アセンブリの結合は、ハンドル部分内の抵抗器を作動させる。そのような構成は、治療アプリケータのハンドル部分に複雑さを追加し、加えて、いくつかの実装では、ハンドル部分内の並列抵抗器の値を制限し得る。図２５の例によって示される本開示の新規の構成を使用することは、上記の問題を解決し、部品及び製造を改善／簡略化し得、種々の電極アセンブリがカスタム調整されることを可能にする。
【0156】
図２５は、本開示による電極アセンブリ２５０２を有する治療アプリケータ２５００の一例の断面図を示す。治療アプリケータアセンブリ２５００は、異なる治療先端（異なる電極アセンブリ）に解放可能に接続され得る、ハンドル部分２５０５を含んでもよい。ハンドル部分２５０５の正の高電圧入力ＨＶ＋は、コネクタ２５０４ａを介して治療先端の電極２５０２ａに結合することができ、ハンドル部分の負の高電圧入力ＨＶは、コネクタ２５０４ｂを介して治療先端の電極２５０２ｂに結合することができる。本実施例では、電極２５０２ａ及び２５０２ｂは、針電極として示され、組織２５０６を貫通してもよいが、上記で説明されるように、電極アセンブリの種々の構成（貫通及び非貫通）が、異なる実施例で使用されてもよい。ハンドル部分内に１つ以上の別個の抵抗器を有する代わりに、治療先端／電極アセンブリ内に配置される伝導性スペーサ２５１２は、二重の役割を果たし、伝導性スペーサ及び抵抗器２５１２’の両方として機能するように構成されてもよい。伝導性スペーサ／抵抗器２５１２／２５１２’は、電極２５０２ａと電極２５０２ｂとの間に伝導的に結合され得る。電極２５０２ａ及び２５０２ｂは、例えば、図４Ｂに関して説明されるような針電極４２５と同様であってもよい。伝導性スペーサ／抵抗器は、伝導性プラスチックなどの半導体材料であってもよく、伝導性スペーサ２５１２を並列抵抗器としても機能させる。
【0157】
例えば、１０～８００オーム（例えば、１０～５００オーム、１００～５００オーム、１００～４００オーム、１００～８００オーム、１５０～３５０オーム、１５０～８００オームなど）の抵抗を有することが望ましい場合がある。抵抗値（並列抵抗として）及び伝導性スペーサ値（治療深さを改善するための伝導性スペーサとして）は、材料の伝導率を選択することによって、及び／又は伝導性スペーサ／抵抗の幾何形状を変更することによって調整することができる。上述したように、伝導性スペーサの形状は、治療ゾーンの形状を変化させることができる。伝導性スペーサの形状は、並列抵抗の値を変更するために使用されてもよい。例えば、断面積が小さいほど抵抗が高くなり、断面積が大きいほど抵抗が低くなる。一例として、図８Ａの先端は、図８Ｂの先端よりも低い並列抵抗値を有する。また、ＨＶ＋とＨＶｇｉｖｅｓとの間の距離が小さいほど、抵抗が低くなる。したがって、例えば、正確に同じ断面積では、より小さい（例えば、２．５ｍｍ）治療先端は、より大きい（例えば、５ｍｍ）治療先端よりも低い並列抵抗値を有するであろう。上記を考慮して、要件及び実施態様に応じて、断面積を調整することができ、又はスペーサ材料の伝導率を変更して、伝導性スペーサの二重機能を最適化して、有効抵抗器としても機能させることができる。図２５を参照して説明されるようなスペーサ／抵抗器は、本開示の電極アセンブリ、治療先端／治療アプリケータ、及び電気治療装置の他の実施例及び実施形態のいずれかにおいて実装されてもよい。
【0158】
図１０Ａ～図１０Ｂ及び図１１を参照して説明したものを含む本開示の方法のいずれかにおいて、方法は、所望の抵抗値及び治療深さの両方を最適化するように電極アセンブリ及び／又は伝導性スペーサを選択することによって、伝導性スペーサを抵抗器としても使用することを含んでもよい。したがって、材料の伝導率及び／又は伝導性スペーサの幾何学的形状は、治療深さ、又は抵抗値、又はその両方を改善するように選択され得る。任意のそのような方法は、材料の伝導率を変化させることによって、及び／又は抵抗器の幾何形状を変化させることによって、抵抗器としての伝導性スペーサの値を調整することを含んでもよい。また、本方法は、材料の伝導率を変化させることによって、及び／又は伝導性スペーサの幾何学的形状を変化させることによって、治療深さを改善するために伝導性スペーサの値を調整することを含んでもよい。本方法は、伝導性スペーサの形状を使用して並列抵抗の値を変更することを含むことができる。様々な例では、本方法は、電極アセンブリのインピーダンスを、交換可能な電極アセンブリを介して電気エネルギーを生成し印加するパルス発生器のインピーダンスに整合させるために、伝導性スペーサを抵抗器として使用することを含むことができる。いくつかの例では、方法は、伝導性スペーサを使用して電極アセンブリのインピーダンスを低減することを含むことができる。様々な例において、本開示の方法は、伝導性スペーサの形状を選択して、治療ゾーン又は領域の形状を変更することを含んでもよい。
【0159】
本明細書に記載の方法（ユーザインターフェースを含む）のいずれも、ソフトウェア、ハードウェア、又はファームウェアとして実装することができ、１つ以上のプロセッサ（例えば、コンピュータ、タブレット、スマートフォンなどを含む）を含むコントローラによって実行され得る一連の命令を記憶する非一時的なコンピュータ可読記憶媒体として説明され得、コントローラ／プロセッサによって実行されるとき、コントローラ／プロセッサに、表示、ユーザとの通信、分析、パラメータ（タイミング、周波数、強度などを含む）の修正、決定、警告などを含むがこれらに限定されないステップのいずれかの実行を制御させるか、それを実行させる。
【0160】
様々な例示的な実施形態が上述されているが、本開示の範囲から逸脱することなく、様々な実施形態に任意のいくつかの変更を加えることができる。例えば、記載された様々な方法のステップが実行される順序は、代替の実施形態ではしばしば変更され得、他の代替の実施形態では、１つ以上の方法のステップは完全にスキップされ得る。様々な装置及びシステムの実施形態のオプションの特徴は、いくつかの実施形態に含まれ得、他の実施形態には含まれ得ない。したがって、前述の説明は、主に例示的な目的で提供されており、特許請求の範囲に記載されているように、本発明の範囲を限定するものと解釈されるべきではない。
【0161】
本明細書に記載の様々な実施形態は、例としてのみであり、本発明の範囲を限定することを意図していないことが理解される。例えば、本明細書に記載の材料及び構造の多くは、本開示を検討すれば当業者には明らかであるように、本発明の趣旨から逸脱することなく、他の材料及び構造で置き換えることができる。したがって、特定の実施形態が本明細書で例示及び説明されてきたが、同じ目的を達成するように計算された任意の構成を、示された特定の実施例の代わりに用いることができる。本開示は、様々な実施例のありとあらゆる適応又は変形を網羅することを意図している。上記の実施例の組み合わせ、又は説明されている実施例の一部の特徴、及び本明細書に具体的に記載されていない他の実施例は、上記の説明を検討すると当業者には明らかであろう。したがって、特許請求される本発明は、本明細書に記載の特定の例及び実施形態からの変形形態を含むことができる。なぜ本発明が機能するかについての様々な理論は、限定を意図するものではないことが理解される。本発明の主題の様々な実施形態は、実際、複数が開示されている場合、本出願の範囲を任意の単一の発明又は発明の概念に自発的に限定することを意図することなく、単に便宜のために「発明」という用語によって本明細書で個別に又は集合的に言及され得る。
【0162】
本明細書内又は図面内で本明細書に提供される全ての測定値、寸法、及び材料は、単なる例である。本明細書の明細書及び特許請求の範囲で使用される場合、実施例で使用される場合を含み、特に明記されていない限り、全ての数は、その用語が明示的に表示されない場合でも、「約」又は「おおよそ」という単語が前に付いているかのように読むことができる。
【0163】
「１つの（a）」、「１つの（an）」、又は「その（the）」の記載は、特に反対の指示がない限り、「１つ以上」を意味することが意図される。「第１の」構成要素への言及は、第２の構成要素が提供されることを必ずしも必要としない。更に、「第１」又は「第２」の構成要素への言及は、明示的に述べられていない限り、言及された構成要素を特定の位置に限定するものではない。特徴又は要素が、本明細書で別の特徴又は要素「上にある」と言及される場合、それは他の特徴又は要素上に直接存在することができ、又は介在する特徴及び／又は要素も存在し得る。特徴又は要素が、別の特徴又は要素に「接続されている」、「取り付けられている」又は「結合されている」と言及される場合、それは他の特徴又は要素に直接接続、取り付け、又は結合され得、又は介在する機能又は要素が存在する場合があることも理解されたい。一実施形態に関して説明又は示されているが、そのように説明又は示されている特徴及び要素は、他の実施形態に適用することができる。別の特徴に「隣接して」配設された構造又は特徴への言及は、隣接する特徴と重複するか、又はその下にある部分を有し得ることも当業者には理解されるであろう。
【0164】
本明細書で言及される全ての刊行物は、刊行物が引用される方法及び／又は材料を開示及び記載するために、参照により本明細書に組み込まれる。本明細書において考察される刊行物は、本出願の出願日より前のそれらの開示のためにのみ提供される。本明細書中のいかなるものも、本発明が先行発明によってそのような刊行物に先行する権利を与えられないという承認として解釈されるべきではない。更に、提供される公開日は、実際の公開日と異なる場合があり、それは独立して確認される必要がある場合がある。
【図1】
【図2】
【図3A】
【図3B】
【図4A】
【図4B】
【図4C】
【図5A】
【図5B】
【図6A】
【図6B】
【図6C】
【図7A】
【図7B】
【図8A】
【図8B】
【図9A】
【図9B】
【図9C】
【図10A】
【図10B】
【図11】
【図12A】
【図12B】
【図13A】
【図13B】
【図14A】
【図14B】
【図14C】
【図14D】
【図14E】
【図15】
【図16A】
【図16B】
【図】
【図16C】
【図16D】
【図17】
【図18A】
【図18B】
【図18C】
【図18D】
【図19A】
【図19B】
【図19C】
【図20A】
【図20B】
【図21A】
【図21B】
【図21C】
【図21D】
【図21E】
【図22A】
【図22B】
【図23A】
【図23B】
【図24】
【図25】
【手続補正書】
【提出日】2023-10-11
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
電気治療の送達のための電極アセンブリであって、前記電極アセンブリは、少なくとも２つの電極であって、各電極が、
治療領域に電気治療を適用するように構成された伝導性治療表面と、
伝導性スペーサと接触するように構成された伝導性非処理表面と、を含む、少なくとも２つの電極と、
前記少なくとも２つの電極間に配置された前記伝導性スペーサであって、前記伝導性スペーサは、前記少なくとも２つの電極の伝導性非治療表面と、前記少なくとも２つの電極間の前記治療領域の表面とに電気的に接触するように構成されている、伝導性スペーサと、を含む、電極アセンブリ。
【請求項2】
前記伝導性スペーサが、ヒドロゲル、伝導性接着剤、伝導性ゲル、伝導性シリコーン、ウレタンゴム、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、又はそれらの任意の組合せのうちの１つを含む、請求項１に記載の電極アセンブリ。
【請求項3】
前記伝導性スペーサの伝導率は、前記治療領域の組織の伝導率の１０倍（１０ｘ）に実質的に等しい、請求項１又は２のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項4】
前記伝導性スペーサの伝導率は、前記治療領域の組織の伝導率よりも大きいか、又は実質的に等しく、前記治療領域の前記組織の伝導率の１００倍以下である、請求項１又は２のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項5】
前記伝導性スペーサの高さが、前記少なくとも２つの電極間の距離に基づく、請求項１～４のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項6】
前記伝導性スペーサの高さが、前記少なくとも２つの電極間の距離の２０パーセント（２０％）以上であり、前記少なくとも２つの電極間の前記距離の５０パーセント（５０％）以下である、請求項１～４のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項7】
前記少なくとも２つの電極の前記伝導性治療表面が、前記治療領域に電気的に及び／又は直接接触する、請求項１～６のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項8】
前記少なくとも２つの電極は、双極電極又は単極電極のうちの１つを含む、請求項１～７のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項9】
前記少なくとも２つの電極のうちの少なくとも１つが表面電極を含む、請求項１～８のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項10】
前記少なくとも２つの電極のうちの少なくとも１つが貫通電極を含む、請求項１～８のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項11】
前記伝導性スペーサの長さが、前記少なくとも２つの電極のうちの１つ以上の長さに実質的に等しい、請求項１～１０のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項12】
前記少なくとも２つの電極が、２列の針電極を備え、前記伝導性スペーサの長さが、前記２列の一方又は両方の長さに実質的に等しい、請求項１～１０のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項13】
前記伝導性スペーサが少なくとも２つの伝導性ゾーンを含み、前記伝導性ゾーンの各々が異なる伝導率を有する、請求項１～１２のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項14】
前記伝導性スペーサが少なくとも１つの凹部を含む、請求項１～１３のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項15】
前記伝導性スペーサが、半導体材料を含み、並列抵抗器として機能するように構成される、請求項１～１４のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項16】
電気治療装置であって、複数の交換可能な電極アセンブリのうちの１つに結合されるように構成された治療アプリケータと、
各々が請求項１に記載の、複数の交換可能な電極アセンブリと、を含む、電気治療装置。
【請求項17】
電気治療装置であって、複数の交換可能な電極アセンブリのうちの１つに結合されるように構成された治療アプリケータと、
それぞれ、前記治療アプリケータに結合され、かつ前記治療アプリケータから取り外されるように構成された前記複数の交換可能な電極アセンブリであって、各交換可能な電極アセンブリは、２つ以上の電極と、患者の治療領域に電気療法を適用するために前記２つ以上の電極の間に配置された伝導性スペーサとを備える、前記複数の交換可能な電極アセンブリと、
命令を実行するように構成されたコントローラと、を含み、実行すると、前記コントローラに
前記治療アプリケータに結合された前記複数の交換可能な電極アセンブリのうちの前記１つの指示を決定又は受信させる、電気治療装置。
【請求項18】
前記コントローラは、前記複数の交換可能な電極アセンブリのうちの前記１つの前記伝導性スペーサに基づいて、表示装置上に構成情報を表示させるように更に構成されている、請求項１７に記載の電気治療装置。
【請求項19】
前記構成情報は、前記複数の交換可能な電極アセンブリのうちの前記１つによる治療に適した組織のタイプの情報を含む、請求項１８に記載の電気治療装置。
【請求項20】
前記伝導性スペーサは、前記複数の交換可能な電極アセンブリのうちの前記１つのインピーダンスを低減するために、前記伝導性スペーサが抵抗器としても機能することを可能にするように構成された伝導率及び／又は形状を有する、請求項１７～１９のいずれか一項に記載の電気治療装置。
【請求項21】
パルス発生器を更に備え、前記伝導性スペーサは、前記複数の交換可能な電極アセンブリのうちの前記１つのインピーダンスを前記パルス発生器のインピーダンスに整合させるように構成される、請求項１７～２０のいずれか一項に記載の電気治療装置。
【請求項22】
前記コントローラは、前記複数の交換可能な電極アセンブリのうちの前記１つの前記指示に少なくとも部分的に基づいて、前記治療領域のための電気治療パラメータを提供するように更に構成される、請求項１７～２１のいずれか一項に記載の電気治療装置。
【請求項23】
電気治療装置の動作の方法であって、前記方法は、治療アプリケータに結合された電極アセンブリの指示を決定又は受信することであって、前記電極アセンブリは、伝導性スペーサに伝導的に接触する少なくとも２つの電極を備える、ことと、
前記電極アセンブリの前記指示に少なくとも部分的に基づいて、前記伝導性スペーサの特性を決定することと、
前記電極アセンブリ及び前記伝導性スペーサの前記特性に少なくとも部分的に基づいて治療構成情報を選択することと、を含む、方法。
【請求項24】
治療構成を選択することは、治療パラメータを選択することを含み、前記方法は、前記電極アセンブリを用いて治療される組織のタイプ、治療持続時間、治療深さ、電圧場、パルス持続時間、パルス周波数、パルス数のうちの１つ以上を選択することを含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項25】
前記電極アセンブリの前記指示が、前記電極アセンブリのサイズ、前記電極アセンブリのタイプ、前記電極の数、又は前記電極アセンブリのモデル番号のうちの少なくとも１つを含む、請求項２３又は２４に記載の方法。
【請求項26】
前記伝導性スペーサの材料の伝導率もしくは前記伝導性スペーサの幾何学的形状のいずれか、又は前記伝導率及び前記幾何学的形状の両方に基づいて、前記伝導性スペーサを抵抗器として使用することを更に含む、請求項２３～２５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項27】
前記治療構成情報を表示装置上に表示することを更に含む、請求項２３～２６のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】2024-01-19
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
電気治療の送達のための電極アセンブリであって、前記電極アセンブリは、少なくとも２つの電極であって、各電極が、
治療領域に電気治療を適用するように構成された伝導性治療表面と、
伝導性スペーサと接触するように構成された伝導性非処理表面と、を含む、少なくとも２つの電極と、
前記少なくとも２つの電極間に配置された前記伝導性スペーサであって、前記伝導性スペーサは、前記少なくとも２つの電極の伝導性非治療表面と、前記少なくとも２つの電極間の前記治療領域の表面とに電気的に接触するように構成されている、伝導性スペーサと、を含む、電極アセンブリ。
【請求項2】
前記伝導性スペーサが、ヒドロゲル、伝導性接着剤、伝導性ゲル、伝導性シリコーン、ウレタンゴム、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、又はそれらの任意の組合せのうちの１つを含む、請求項１に記載の電極アセンブリ。
【請求項3】
前記伝導性スペーサの伝導率は、前記治療領域の組織の伝導率の１０倍（１０ｘ）に実質的に等しい、請求項１又は２のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項4】
前記伝導性スペーサの伝導率は、前記治療領域の組織の伝導率よりも大きいか、又は実質的に等しく、前記治療領域の前記組織の伝導率の１００倍以下である、請求項１又は２のいずれか一項に記載の電極アセンブリ。
【請求項5】
前記伝導性スペーサの高さが、前記少なくとも２つの電極間の距離に基づく、請求項１に記載の電極アセンブリ。
【請求項6】
前記伝導性スペーサの高さが、前記少なくとも２つの電極間の距離の２０パーセント（２０％）以上であり、前記少なくとも２つの電極間の前記距離の５０パーセント（５０％）以下である、請求項１に記載の電極アセンブリ。
【請求項7】
前記少なくとも２つの電極の前記伝導性治療表面が、前記治療領域に電気的に及び／又は直接接触する、請求項１に記載の電極アセンブリ。
【請求項8】
前記少なくとも２つの電極は、双極電極又は単極電極のうちの１つを含む、請求項１に記載の電極アセンブリ。
【請求項9】
前記少なくとも２つの電極のうちの少なくとも１つが表面電極を含む、請求項１に記載の電極アセンブリ。
【請求項10】
前記少なくとも２つの電極のうちの少なくとも１つが貫通電極を含む、請求項１に記載の電極アセンブリ。
【請求項11】
前記伝導性スペーサの長さが、前記少なくとも２つの電極のうちの１つ以上の長さに実質的に等しい、請求項１に記載の電極アセンブリ。
【請求項12】
前記少なくとも２つの電極が、２列の針電極を備え、前記伝導性スペーサの長さが、前記２列の一方又は両方の長さに実質的に等しい、請求項１に記載の電極アセンブリ。
【請求項13】
前記伝導性スペーサが少なくとも２つの伝導性ゾーンを含み、前記伝導性ゾーンの各々が異なる伝導率を有する、請求項１に記載の電極アセンブリ。
【請求項14】
前記伝導性スペーサが少なくとも１つの凹部を含む、請求項１に記載の電極アセンブリ。
【請求項15】
前記伝導性スペーサが、半導体材料を含み、並列抵抗器として機能するように構成される、請求項１に記載の電極アセンブリ。
【請求項16】
電気治療装置であって、複数の交換可能な電極アセンブリのうちの１つに結合されるように構成された治療アプリケータと、
各々が請求項１に記載の、複数の交換可能な電極アセンブリと、を含む、電気治療装置。
【請求項17】
電気治療装置であって、複数の交換可能な電極アセンブリのうちの１つに結合されるように構成された治療アプリケータと、
それぞれ、前記治療アプリケータに結合され、かつ前記治療アプリケータから取り外されるように構成された前記複数の交換可能な電極アセンブリであって、各交換可能な電極アセンブリは、２つ以上の電極と、患者の治療領域に電気療法を適用するために前記２つ以上の電極の間に配置された伝導性スペーサとを備える、前記複数の交換可能な電極アセンブリと、
命令を実行するように構成されたコントローラと、を含み、実行すると、前記コントローラに
前記治療アプリケータに結合された前記複数の交換可能な電極アセンブリのうちの前記１つの指示を決定又は受信させる、電気治療装置。
【請求項18】
前記コントローラは、前記複数の交換可能な電極アセンブリのうちの前記１つの前記伝導性スペーサに基づいて、表示装置上に構成情報を表示させるように更に構成されている、請求項１７に記載の電気治療装置。
【請求項19】
前記構成情報は、前記複数の交換可能な電極アセンブリのうちの前記１つによる治療に適した組織のタイプの情報を含む、請求項１８に記載の電気治療装置。
【請求項20】
前記伝導性スペーサは、前記複数の交換可能な電極アセンブリのうちの前記１つのインピーダンスを低減するために、前記伝導性スペーサが抵抗器としても機能することを可能にするように構成された伝導率及び／又は形状を有する、請求項１７～１９のいずれか一項に記載の電気治療装置。
【請求項21】
パルス発生器を更に備え、前記伝導性スペーサは、前記複数の交換可能な電極アセンブリのうちの前記１つのインピーダンスを前記パルス発生器のインピーダンスに整合させるように構成される、請求項１７に記載の電気治療装置。
【請求項22】
前記コントローラは、前記複数の交換可能な電極アセンブリのうちの前記１つの前記指示に少なくとも部分的に基づいて、前記治療領域のための電気治療パラメータを提供するように更に構成される、請求項１７に記載の電気治療装置。
【請求項23】
電気治療装置の動作の方法であって、前記方法は、治療アプリケータに結合された電極アセンブリの指示を決定又は受信することであって、前記電極アセンブリは、伝導性スペーサに伝導的に接触する少なくとも２つの電極を備える、ことと、
前記電極アセンブリの前記指示に少なくとも部分的に基づいて、前記伝導性スペーサの特性を決定することと、
前記電極アセンブリ及び前記伝導性スペーサの前記特性に少なくとも部分的に基づいて治療構成情報を選択することと、を含む、方法。
【請求項24】
治療構成を選択することは、治療パラメータを選択することを含み、前記方法は、前記電極アセンブリを用いて治療される組織のタイプ、治療持続時間、治療深さ、電圧場、パルス持続時間、パルス周波数、パルス数のうちの１つ以上を選択することを含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項25】
前記電極アセンブリの前記指示が、前記電極アセンブリのサイズ、前記電極アセンブリのタイプ、前記電極の数、又は前記電極アセンブリのモデル番号のうちの少なくとも１つを含む、請求項２３又は２４に記載の方法。
【請求項26】
前記伝導性スペーサの材料の伝導率もしくは前記伝導性スペーサの幾何学的形状のいずれか、又は前記伝導率及び前記幾何学的形状の両方に基づいて、前記伝導性スペーサを抵抗器として使用することを更に含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項27】
前記治療構成情報を表示装置上に表示することを更に含む、請求項２３に記載の方法。
【国際調査報告】