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特表2024-514803モノリシック部材を製造するためのプロセス
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-04-03
(54)【発明の名称】モノリシック部材を製造するためのプロセス
(51)【国際特許分類】
   B29C 64/124 20170101AFI20240327BHJP
   B33Y 10/00 20150101ALI20240327BHJP
   B33Y 50/02 20150101ALI20240327BHJP
   B29C 64/393 20170101ALI20240327BHJP
   B33Y 30/00 20150101ALI20240327BHJP
   B29C 64/277 20170101ALI20240327BHJP
   B29C 64/379 20170101ALI20240327BHJP
   B33Y 40/20 20200101ALI20240327BHJP
【FI】
B29C64/124
B33Y10/00
B33Y50/02
B29C64/393
B33Y30/00
B29C64/277
B29C64/379
B33Y40/20
【審査請求】有
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2023561159
(86)(22)【出願日】2022-04-12
(85)【翻訳文提出日】2023-12-04
(86)【国際出願番号】 EP2022059684
(87)【国際公開番号】W WO2022223359
(87)【国際公開日】2022-10-27
(31)【優先権主張番号】102021110029.1
(32)【優先日】2021-04-21
(33)【優先権主張国・地域又は機関】DE
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】523377438
【氏名又は名称】アンウェリナ アーゲー
(74)【代理人】
【識別番号】100084375
【弁理士】
【氏名又は名称】板谷 康夫
(74)【代理人】
【識別番号】100142077
【弁理士】
【氏名又は名称】板谷 真之
(72)【発明者】
【氏名】ウーヴェ シャイザウアー
(72)【発明者】
【氏名】クリストフ カール
【テーマコード(参考)】
4F213
【Fターム(参考)】
4F213AA29
4F213WA25
4F213WB01
4F213WL06
4F213WL14
4F213WL44
4F213WL55
4F213WL82
4F213WL85
4F213WW06
4F213WW38
(57)【要約】
本発明は、モノリシック部材の製造プロセスに関し、特に濡れ挙動、堆積挙動及び/又は細胞によるコロニー形成の観点で異なる表面特性を与えるために、特異的に選択された領域で異なる表面トポロジーが生成される。
【選択図】図5
【特許請求の範囲】
【請求項1】
モノリシック部材を生成するためのプロセスであって、特に濡れ挙動、堆積挙動及び/又は細胞によるコロニー形成の観点で異なる表面特性を実現するために、異なる表面トポロジーが特異的に選択された領域で生成されることを特徴とするプロセス。
【請求項2】
前記モノリシック部材は、複数の設計要素(E)を有する設計部材(CAD)から生成され、実際の構築空間の構築空間方向(x、y、z)に対して前記設計要素(E)の少なくとも1つの設計方向(M、M、M)が特異的に変更されることを特徴とする請求項1に記載のプロセス。
【請求項3】
付加的製造技術を用いて前記モノリシック部材を形成し、
光重合性材料(1)が、透明な水平トレイ底部(2)を有するトレイ内に供給され、
プラットフォーム(4)が、前記トレイ底部(2)から所定の距離を置いて前記光重合性材料(1)に浸漬され、前記距離に対応した高さを有して前記プラットフォーム(4)に接着した重合層体(S)を生成するために、前記トレイ底部(2)を通じて選択的照射(8)が実行され、
前記重合層体(S)を備えたプラットフォーム(4)が、次の層体(SX+1)を形成するために垂直方向に変位され、
先の層生成ステップを繰り返すことで、前記モノリシック部材(7)が所望形状で層毎に構築され、該部材の表面が少なくとも部分的に段差構造を有し、
前記層生成ステップの繰り返し中に製造パラメータを調整することで、前記モノリシック部材(7)の選択された領域において異なる表面特性を実現するために異なる表面トポロジーを与えるステップを備えたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のプロセス。
【請求項4】
前記選択的照射(8)は、行列状に配置された複数のマイクロミラー(M)を有するデジタルマイクロミラーユニット(6)を用いて実行されることを特徴とする請求項3に記載のプロセス。
【請求項5】
前記製造パラメータとして、照射パラメータ、特に照射強度及び/又は照射時間が、重合される層体と同時に該層体の上に位置する前記段差構造の縁部及び/又は角部に残存する光重合性の残存材料(R)が重合されるように、前記トレイ底部(2)を通じた選択的照射(8)において調整されることを特徴とする請求項3又は請求項4に記載のプロセス。
【請求項6】
前記製造パラメータとして、水平マイクロミラー主軸(x、y)に対する水平設計要素主軸(M、M)の回転角度(α)が、前記層生成ステップの繰り返し中に変更されることを特徴とする請求項3乃至請求項5のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項7】
前記製造パラメータとして、垂直設計要素主軸(M)と前記水平トレイ底部に対する垂線(z)との間の傾斜角度(β)が、前記層生成ステップの繰り返し中に変更されることを特徴とする請求項3乃至請求項6のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項8】
前記製造パラメータとして、前記プラットフォーム/最後に重合された層体(S)と前記トレイ底部(2)との間の距離が、前記層生成ステップの繰り返し中に変更されることを特徴とする請求項3乃至請求項7のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項9】
前記製造パラメータとして、前記マイクロミラーユニットのマイクロミラー(M)により反射された画素(P)の寸法が、前記層生成ステップの繰り返し中にイメージングユニット(O)を介して変更されることを特徴とする請求項4乃至請求項8のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項10】
前記光重合性材料は、
ポリマー分野からの材料、特にPA、PEK、PEKK、UHMWPE又はPCL、
金属分野からの材料、特にTi又はステンレス鋼、
金属合金分野からの材料、特にTi64又はCoCr、
マグネシウム合金分野からの材料、特にMg-Ca、Mg-Zr又はMg-Zn、
セラミック分野からの材料、特にAl、ZrO、Si又はCa(PO
及び/又は
ガラス分野からの材料から成ることを特徴とする請求項3乃至請求項9のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項11】
前記モノリシック部材(7)の生成後、洗浄、脱バインダ及び/又は焼結が行われることを特徴とする請求項3乃至請求項10のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項12】
前記モノリシック部材(7)は、関節での組織再生のための関節インプラントであることを特徴とする請求項1乃至請求項11のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項13】
前記モノリシック部材(7)は、技術機能体であることを特徴とする請求項1乃至請求項11のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項14】
請求項1乃至請求項11のいずれか一項に記載のプロセスが実行されるように、コンピュータシステムと相互作用可能で電子的に読み取り可能な制御信号を有するデジタル記録媒体。
【請求項15】
プログラムがコンピュータで実行される場合、請求項1乃至請求項11のいずれか一項に記載のプロセスを実行するために、機械可読記録媒体に記録されたプログラムコードを有するコンピュータプログラム製品。
【請求項16】
プログラムがコンピュータで実行される場合、請求項1乃至請求項11のいずれか一項に記載のプロセスを実行するためのプログラムコードを有するコンピュータプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、モノリシック部材を形成するためのプロセスに関し、特に、付加的リソグラフィに基づいた製造技術を使用して、関節における組織再生のための関節インプラント又は技術機能体を形成するためのプロセスに関する。
【背景技術】
【0002】
公開特許出願WO2010/045950A1は、リソグラフィに基づいた製造技術を使用してモノリシック部材を形成するためのプロセスを開示しており、光重合性材料が透明なトレイ底部を有するトレイに供給され、光重合性材料の中にプラットフォームがトレイ底部から所定距離を置いて浸漬され、トレイ底部を通じて選択的照射が行われて上記距離に対応する高さを持ちプラットフォームに接着した重合層体を生成し、重合層体を有するプラットフォームが次の層体を形成するために垂直方向に変位され、この層生成ステップを繰り返すことでモノリシック部材が所望形状で層毎に構築される。
【0003】
多くの技術部門で、異なる表面領域で異なる表面特性(例えば、濡れ挙動)を有する材料を生成することが必要となる。
【0004】
濡れ挙動は、固体表面と接触したときの液体の挙動を意味するものとして以下では理解される。濡れ性は、特定の液体に対する固体表面の特性であり、固体表面上の液滴のいわゆる接触角によりしばしば定義される。接触角が180°から90°の範囲で、ほんの小さな(点状の)接触面積を有し、固体表面上を容易に滑る(ビーディングする)球状又は半球状の液滴が形成される場合、濡れは存在しない又はほんの僅かである。接触角が90°未満の場合、部分的な濡れが起こっており、液滴が固体表面において丸いキャップを形成する(ランオフ)。接触角が実質的に0°の場合、完全な濡れが起こっており、液滴が固体表面において平らなシート状に広がる。この場合、液体残渣は、強い力(例えば、表面の極端な傾斜)の影響下でも固体表面に付着したままである。
【0005】
液体として水を使用する特別な場合、疎水性(撥水性)又は親水性(水親和性)の固体表面について考察する必要がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
技術機能体(触媒、コンデンサ、膜...)の場合も医療技術に使用される材料や物体の場合も、異なる濡れ挙動がしばしば望まれ、これまでは出発材料の生成後、時間とコストのかかる後処理プロセス(機械的/化学的後処理及び/又は化学的コーティング)を通じて実現される必要があった。
【0007】
そこで、本発明は、特に濡れ挙動、堆積挙動及び/又は細胞によるコロニー形成の観点で異なる表面特性が簡便且つコスト効率の良い様式で局所的に実現され得るモノリシック部材を生成するためのプロセスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明によれば、この目的は請求項1の特徴によって達成される。
【0009】
特に、モノリシック部材の特異的に選択された領域に異なる表面トポロジーを形成することにより、これらの領域において、特に濡れ挙動、堆積挙動及び/又は細胞によるコロニー形成の観点で異なる表面特性を与えることができる。
【0010】
モノリシック部材は、複数の設計要素を有する設計部材(CAD又はCAM)から好ましくは生成され、実際の構築空間の構築空間方向に対して設計要素の少なくとも1つの設計方向が特異的に変更される。
【0011】
モノリシック部材の形成は、例えば、付加的製造技術を用いて行われ、光重合性材料が透明な水平トレイ底部を有するトレイ内に供給され、プラットフォームがトレイ底部から所定の距離を置いて光重合性材料に浸漬され、同距離に対応した高さを有してプラットフォームに接着した重合層体を生成するためにトレイ底部を通じて選択的照射が実行され、重合層体を備えたプラットフォームが次の層体を形成するために垂直方向に変位され、先の層生成ステップを繰り返すことでモノリシック部材が所望形状で層毎に構築される。層生成ステップの繰り返し中に製造パラメータを調整することで、モノリシック部材の選択された領域において異なる表面特性を実現するための異なる表面トポロジーが得られる。
【0012】
このリソグラフィに基づく3-Dプリント技術を用いて生成される部材は、成形体だけでなく完成した焼結セラミックの後処理を不要及びアクセスできない部位でも可能とするので、特にコスト効率の高い方法で生成され得る。
【0013】
製造パラメータとして、例えば、照射パラメータ(特に、照射強度及び/又は照射時間)が、重合される層体に加えて段差構造の縁部及び/又は角部に残存する光重合性の残存材料が重合/架橋されるように、トレイ底部を通じた選択的照射において調整され得る。
これにより、特に簡単な方法で、対向する表面領域に異なる表面トポロジーを同時に形成することができる。
【0014】
製造パラメータとして、水平設計要素主軸と水平構築空間主軸との間の回転角度若しくはマイクロミラーユニットの行又は列整列を変更することが更に可能である。
これにより、各々の重合層体において側面に異なる表面トポロジーを形成することができる。
【0015】
製造パラメータとして、垂直設計要素主軸と垂直構築空間主軸/水平なトレイ底部に対する垂線との間の傾斜角度を変更することが更に可能である。
これにより、垂直方向において異なる表面トポロジーを形成することができる。
【0016】
製造パラメータとして、層生成ステップの繰り返し中に、プラットフォーム/最後に重合された層体とトレイ底部との間の距離を変更することが更に可能である。
これにより、更に垂直方向において異なる表面トポロジーを形成することができる。
【0017】
製造パラメータとして、層生成ステップの繰り返し中に、イメージングユニットを介してマイクロミラーユニットのマイクロミラーにより反射された画素の寸法を変更することが更に可能である。
これにより、更に表面トポロジーを変更することができる。
【0018】
更なる従属請求項は、本発明の更なる有利な実施形態を特徴付ける。
【0019】
本発明は、例示実施形態の助けを借りて、図面を参照しながら以下で具体的に説明される。
【図面の簡単な説明】
【0020】
図1】モノリシック部材を層毎に構築するための装置の簡略側面図。
図2】FIG2a,2bは、使用されるマイクロミラーユニットの簡略図。
図3】FIG3a,3bは、第1例示実施形態に係るプロセスステップを説明するための簡略斜視図で、異なる表面トポロジーが構築空間方向に対する設計要素の設計方向を意図的に変更することで形成される。
図4a】第2例示実施形態に係る異なる表面トポロジーの選択的生成におけるプロセスステップを説明するための簡略図で、x、y平面での回転が実行されている。
図4b】第2例示実施形態に係る異なる表面トポロジーの選択的生成におけるプロセスステップを説明するための簡略図で、x、y平面での回転が実行されている。
図4c】第2例示実施形態に係る異なる表面トポロジーの選択的生成におけるプロセスステップを説明するための簡略図で、x、y平面での回転が実行されている。
図5】第3例示実施形態に係る異なる表面トポロジーの選択的生成におけるプロセスステップを説明するための棒状部材の簡略図で、z軸に対して傾斜されている。
図6a】第4例示実施形態に係るプロセスステップを説明するための簡略斜視図で、異なる表面トポロジーが対向する表面へのトランス照射の結果として同時に形成される。
図6b】第4例示実施形態に係るプロセスステップを説明するための簡略斜視図で、異なる表面トポロジーが対向する表面へのトランス照射の結果として同時に形成される。
図6c】第4例示実施形態に係るプロセスステップを説明するための簡略斜視図で、異なる表面トポロジーが対向する表面へのトランス照射の結果として同時に形成される。
図7】関節における組織再生のために本発明に係るプロセスで生成可能な関節インプラントの簡略図。
【発明を実施するための形態】
【0021】
以下の説明は、特に関節における組織再生のための関節インプラントを生成するためのプロセスに関する。また、このプロセスは、表面トポロジーを狙って変更することで異なる表面領域において濡れ挙動が調整され得る技術機能体の生成にも使用され得る。
【0022】
図1は、本発明に係るプロセスを実現するために使用され、モノリシック部材の層毎構築のための装置の簡略側面図である。対応する装置は、いわゆる3-Dプリンタとも呼ばれる。
【0023】
例えば、Lithoz(登録商標)社によって生産されるこのような3-Dプリンタは、例えば、リソグラフィをベースにした製造技術に基づいて、製造される部材のCADモデルから出発して対応するデータセットが3-Dプリンタの制御ユニット(不図示)に直接伝送される。
【0024】
光重合性材料1は、例えば、透明な水平トレイ底部2を有するトレイに導入され、例えば、高さ調節可能な平滑化部材/ドクターブレード3によりトレイ内に均一に分配される。採用される光重合性材料1は、例えば、セラミック懸濁液(粒子含有分散液、スリップとも呼ばれる)である。z方向(垂直方向)に移動可能なプラットフォーム4は、トレイ底部2に対して所定距離を置いて光重合性材料1に浸漬され、光重合性材料1への選択的照射が行われることで、プラットフォームに接着した重合3次元層体が形成される。重合層体の高さは、トレイ底部2からプラットフォーム4までの所定距離に対応し、その底領域は、個々の照射領域に対応する。選択的照射は、特に部位選択的照射を意味すると理解され得る。
【0025】
図1に示すように、光重合性材料1の選択的照射は、照射ユニット5を用いて透明なトレイ底部2を通じて下方から行われ得る。例えば、波長略465nmの青色光が使用され得る。選択的照射により、光重合性材料1が重合(架橋/固化)され、生成されるモノリシック部材/成形体(グリーンボディ)7のプラットフォーム4に接着された第1重合層体が形成される。
【0026】
第1重合層体を有するプラットフォーム4は、続いてz方向において垂直上方に変位され、光重合性材料1が必要に応じて任意に補充され、平滑化部材3を用いて任意に平滑化/均一に分配され、最終的にプラットフォームがトレイ底部2から先の重合層体まで所定距離を置いて光重合性材料1に再浸漬され、(部位)選択的に照射されることで更なる重合層体が形成される。このような層生成ステップを繰り返すことで、重合して互いに接着された複数の層体から所望のモノリシック且つ3次元部材7(成形体)が最終的に形成され、z方向における同部材の表面は、少なくとも部分的に段差構造/トポロジーを有し得る。
【0027】
図1に示すように、照射ユニット5は、光重合性材料1の選択的照射を可能とするデジタルマイクロミラーユニット6を含み得る。
【0028】
図2aは、採用され得るマイクロミラーユニット6の簡略図を示し、図2bは、本発明に従って採用され得るデジタルマイクロミラー装置(DMD)の簡略断面図を示す。
【0029】
図2a、2bに示すように、マイクロミラー装置は、光源/照射源Lによって照射され得るように行列状に配置された複数の旋回可能なマイクロミラーMを含み得る。マイクロミラーMは、入射光(右から1番目のビーム)が画素Pの実現及びそこに存在する光重合性材料1の架橋のためにプラットフォーム4の方向に反射されるか(右から2番目のビーム)、(プラットフォーム4の領域に存在する光重合性材料1の架橋が起こらない)吸収体Aの方向に偏向されるように(右から4番目のビーム)制御ユニット(不図示)を介して制御され得る。非作動(無電圧)状態では、旋回可能なマイクロミラーMからの光は、吸収体Aの方向に同様に偏向され(右から3番目のビーム)、結果として光重合性材料の架橋は起こらない。
【0030】
図2bにおいてマイクロミラー装置は、略1000から10000行列のマイクロミラーMを含む。マイクロミラーMは、1つ又は複数の画素Pを表し得る。例えば、4096×2100画素(4K)の解像度を有するマイクロミラー装置が使用され得る。マイクロミラーMは、例えば、略10μMから20μMの辺長を有する矩形であってもよい。図2aにおいて、トレイ底部2に実際にイメージングされる画素Pは、イメージングユニットOを介して調整/変更可能なサイズを有し得る。光学イメージングユニットOは、制御ユニット(不図示)を介して同様に制御可能で、1つ又は複数のレンズを含み得る。或いは、マイクロミラー装置のマイクロミラーMは、反射光が吸収体A又はイメージングユニットOへと偏向されるという2つの状態だけを取ることもできる。
【0031】
図1、2に係る装置によるモノリシック部材の層毎構築プロセスは、例えば、x-y方向において略10-100μmの分解能を有し、z方向において略5-100μmの分解能を有し得る。(3-Dプリント)形成される成形体7の最大3-D寸法は、例えば、76×43×150mmである。
【0032】
付加的に製造された3-D層体/成形体7の完成後、最終的な洗浄、脱バインダ及び焼結が行われ、最終的なモノリシック部材が得られる。
【0033】
図1に示す軸x、y及びzは、実際の構築空間/製造空間の主軸を特定するものであり、以下では構築空間方向とも呼ぶ。
【0034】
一例として、光重合性材料1は、ポリマー、特にPA、PEK、PEKK、UHMWPE又はPCL;金属、特にTi又はステンレス鋼;金属合金、特にTi64又はCoCr;マグネシウム合金、特にMg-Ca、Mg-Zr又はMg-Zn;セラミック、特にAl、ZrO又はCa(PO;及び/又はSiを含み得る。これにより、例えば、組織再生に優れた特性を有する高機械強度の関節インプラントや、機械的摩耗、センサーとしての使用、コンデンサとしての使用、触媒としての使用、電気泳動及び/又は材料のターゲット配置について優れた特性を有する技術機能体を実現することができる。成形体は、粒子充填ポリマー部材として使用可能で、また、更なる処理後に金属/セラミック部材の形態とすることもできる。
【0035】
原理的には、特に関節インプラントの生成のために、光重合性材料1として更に医学的に承認され生体不活性で生体適合性があり、3-Dプリント可能な材料を採用することもできる。
【0036】
図3a、3bは、第1例示実施形態に係るプロセスステップを説明するための簡略斜視図であり、構築空間方向に対する設計部材の設計方向を意図的に変更した結果、異なる表面トポロジーが形成されることを示している。
【0037】
図3aは、例えば、設計平面(CAD又はCAM)での回転により生成され、異なる設計方向(M、M、M)を有する同一の設計要素Eを示している。複数の設計要素Eは、設計部材(不図示)を形成し得る。
【0038】
図3bは、付加的製造技術によって構築空間(x、y、z)内で生成可能な実際の部材要素Bを示す。左側の設計要素Eの想定される設計要素表面Oについて図3bに示すように、付加的製造技術(層毎構築)は、左側の部材要素Bの対応する部材要素表面Oに段差のある表面トポロジーをもたらす。
【0039】
本発明によれば、個々の設計要素Eの設計中に、設計要素Eの想定される設計要素表面Oに異なる表面トポロジー及び表面特性が実現されるように、設計方向(M、M、M)を特異的に変更することができる。特に、例えば、図3aの右側に示す設計要素Eのように構築空間方向(x、y、z)に対する設計方向(M、M、M)の特異的な変更は、実際の構築空間において滑らかな部材要素表面Oを生成し得る。このようにして、生成される部材の特異的に選択された領域において、特に濡れ挙動、堆積挙動及び/又は細胞によるコロニー形成の観点で、局所的に異なる表面特性を実現することができる。
【0040】
図4a乃至4cは、第2例示実施形態に係る異なる表面トポロジーの選択的生成におけるプロセスステップを説明するための簡略図を示し、図2a、2bで示した水平構築空間主軸/投影マイクロミラー主軸x、yと水平設計要素主軸M、Mとの間での回転が実行されている。
【0041】
図4aは、水平構築空間主軸/マイクロミラー主軸x、yを示すマイクロミラーユニット6により、トレイ底部2に投影可能な画素フィールド11の簡略化された平面図を示す。生成される部材の設計要素主軸M、Mは、これらのマイクロミラー主軸x、y(α=0°)に対して典型的には平行且つ不変に整列されることで、例えば、真っ直ぐな(滑らかな)側面を有する層体S1を形成し得る。ここで、マイクロミラー主軸x、yに対して設計要素主軸M、Mを回転角度αだけ回転させると、図4aに示すように、形成される層体S2からS4の側面に異なる表面トポロジーを形成することができる。
【0042】
そのため、図4aに示すように、マイクロミラー主軸(水平構築空間主軸)x、yと設計要素主軸M、Mとの間での回転角度α=45°により、トレイ底部2に投影される画素Pの寸法により実質的に規定される層体S4において、側面に表面トポロジーを形成することができる。
【0043】
図4bは、図4aに示した平面図に対応する斜視図である。図4cから明らかなように、0°から45°で回転角度αを変化させて層体S1からS4を連続的に層構築することにより、上方領域(層体S1)において滑らかな側面を有する一方、最下方領域(層体S4)では非常に粗い(段差のある)側面を有する3-D層体7を生成することができる。
【0044】
従って、この第2例示実施形態によれば、層生成ステップの繰り返し中に、水平設計要素主軸M、Mとマイクロミラーユニット6の投影された行/列アラインメントx、yとの間の回転角度αの変更により、モノリシック部材7の表面トポロジーを特異的に変更し、例えば、異なる局所領域において異なる濡れ挙動を実現することができる。
【0045】
図5は、第3例示実施形態に係る異なる表面トポロジーの選択的生成におけるプロセスステップを説明するために得られた3-D層体の簡略図を示しており、垂直設計要素主軸Mとトレイ底部2に直交した構築空間主軸zとの間の傾斜が実行される。
【0046】
図5において、x、yは水平なトレイ底部2の水平主軸を表し、zはこの水平なトレイ底部2に対する直交又は垂線を表す。Mは垂直な設計要素主軸を表し、これに沿って上述したような個々の層体が形成される。
【0047】
図5は、プラットフォーム/構築空間の垂直主軸に対して16の異なる配向を有するロッドを部材として示す。設計部材/ロッドB11の垂直主軸Mは、トレイ底部に対する垂線zと平行になっている。ロッドB12からB14はxz平面において傾斜している一方、ロッドB21からB41はyz平面において傾斜している。図5aに示す更なるロッドB22からB44は、xz平面及びyz平面の両方において傾斜している。
【0048】
トレイ底部の水平主軸に対して設計要素主軸Mは、x方向に傾斜角度βで、そしてy方向に傾斜角度βで傾斜し得る。また、x方向及びy方向の両方への傾斜(βx、y)も起こり得る。
【0049】
図5は、傾斜角度β=0及びβ=0で形成されたモノリシック部材B11を示しており、その結果、部材の4つの側面は段差の無い表面トポロジーを示している。
【0050】
図5の第1行は3つの更なるモノリシック部材を示しており、x方向への傾斜角度βが各ケースで増加している。層毎構築及びx方向への傾斜により、β=45°の傾斜角度は図5でB14とラベルされたモノリシック部材を生み出し、x方向に傾いた/傾斜した2つの側面に段差のある表面トポロジーを呈する一方、y方向に傾いていない/傾斜していない側面は滑らかな表面を有する。
【0051】
同様に、図5の第1列は更に3つのモノリシック部材を示しており、y方向への傾斜角度βが各ケースで増加している。層毎構築及びy方向への傾斜により、β=45°の傾斜角度は図5でB41とラベルされたモノリシック部材を生み出し、この部材は、y方向に傾いた/傾斜した2つの側面に段差のある表面トポロジーを呈する一方、x方向に傾いていない/傾斜していない2つの側面は滑らかな表面を有する。
【0052】
同様に、図5の更なる行列は、x方向への傾斜角度β及びy方向への傾斜角度βが各ケースで増加した更なるモノリシック部材を示している。層毎構築並びにx方向及びy方向への傾斜は、例えば、β=45°及びβ=45°の傾斜角度では図5においてB44とラベルされたモノリシック部材を生み出し、この部材は、x方向及びy方向に傾いた/傾斜した4つの側面の各々に段差のある表面トポロジーを呈する。
【0053】
従って、垂直構築空間主軸z/水平トレイ底部2の垂線に対する垂直設計要素主軸Mの傾斜も、段差表面トポロジーを特異的に変更することが可能で、その結果、個々の表面における濡れ挙動を特異的に調整することができる。
【0054】
製造パラメータとして、層生成ステップの繰り返し中に、プラットフォーム/最後に重合された層体とトレイ底部との間の距離を変更することが更に可能である。これにより、垂直方向における個々の層体の高さの変更を通じて、更に異なる表面トポロジーを形成することができる。
【0055】
製造パラメータとして、層生成ステップの繰り返し中に、イメージングユニットOを介してマイクロミラーユニット6のマイクロミラーMにより反射された画素の寸法を変更することができる。これにより、表面トポロジーを更に変更することができる。
【0056】
図6a乃至6cは、第1例示実施形態に係るプロセスステップを説明するための簡略斜視図を示し、トランス照射により対向する表面に異なる表面トポロジーを同時に形成することができる。
【0057】
例えば、図6aに示す段差構造を有する3-D層体は、S1からS5までの複数の重合層体の連続形成により典型的な方法で形成され得る。プラットフォーム4は、図6aには示されておらず、最初の層体S1の上にある。図6aに示すように、この連続的な層毎構築は、各々のケースで得られた段差構造の角部及び/又は縁部に残存する光重合性の残存材料Rを生じさせる。
【0058】
本発明によれば、個々の層体を架橋するための選択的照射8の間に、段差構造9におけるトランス照射側の角部及び/又は縁部に残存する光重合性の残存材料Rが、下方に位置する層体(例えば、S5)を通じて照射され、同様に光重合/架橋された残存材料に変換(R→R')されるように照射パラメータが変更される(例えば、増加される)ことで、この副次効果は利用され得る。対照的に、入射光側の段差構造10上に残存する残存材料Rは照射されず(マイクロミラーMは、吸収体Aに光を反射する)、その結果、この領域では残存材料Rの重合/架橋は起こらない。この架橋されていない残存材料は、後の洗浄で部分的又は完全に除去され得る。
【0059】
図6b、6cのように、この結果、入射光側の段差構造10には比較的荒い表面トポロジーが生じ、トランス照射側の段差構造9には架橋された残存材料R'により平滑化された表面トポロジーが生じるので(角部及び/又は縁部は、重合された残存材料R'で満たされる)、例えば、これらの局所領域において異なる濡れ挙動を実現することができる。
【0060】
変更可能な照射パラメータは、例えば、照射強度であり、(形成される)個々の最下層の層体S5への照射エネルギー入力は、そこに配置される光重合性の残存材料Rも(トランス)照射されるように増加される。その結果、実際に形成される層体S5だけでなく、その上に配置された層面の残存材料も重合/架橋され、洗浄ステップ後、図示されたようなトランス照射側の段差構造9の平滑化が達成される。しかしながら、入射光側の段差構造10の領域では下方からの照射が無いので、この側では光重合性の残存材料Rの後架橋が行われず、その結果、洗浄ステップ後、入射光側では非常に鋭角な表面トポロジーが形成される。一例として、照射強度は、所定の層厚に対する通常の照射強度に対して1.5から2.5倍に増加され得る。
【0061】
或いは又は更に、照射パラメータである照射時間を増加させることも可能であり、(形成される)最下層の層体S5への照射エネルギー入力が、そこに配置される残存材料Rも(トランス)照射されるように増加される。その結果、実際に形成される層体S5だけでなく、その上に配置された層の光重合性の残存材料も重合/架橋され、図示されたような平滑化が、重合された残存材料R'によりトランス照射側の段差構造9で達成される。入射光側の段差構造10の領域では下方からの照射は行われず、その結果、この側では重合可能な残存材料Rの後架橋が起こらず、(例えば、残された未架橋の残存材料Rを洗浄することにより)非常に鋭角な表面トポロジーが形成される。一例として、照射時間は、所定の層厚に対する通常の照射時間に対して1.5から3.5倍、好ましくは2倍に増加され得る。
【0062】
或いは又は更に、エネルギー入力を増加させて上述したような効果を実現するために、使用される照射の波長を変更することも更に可能である。
【0063】
本出願では、照射パラメータに関して光にしばしば言及しているが、任意のタイプの電磁放射線(例えば、不可視光やX線等も含む)が選択的照射に使用可能であることが理解されよう。
【0064】
この第1例示実施形態により、照射パラメータの特定変化を通じて簡単な様式で且つ同時に、個々の表面領域において3-D層体/モノリシック部材の対向する表面に異なる表面トポロジーを形成することができる。
【0065】
図7は、関節における組織再生のために本発明に係るプロセスで生成可能な関節インプラントの簡略図である。
【0066】
図7のように、人工的な海綿構造が少なくともシェル領域に形成され、個々の海綿の表面トポロジーが、上述したプロセスによって特異的に変更され得る。関節インプラントの海綿構造は、原理的に体液に対して開放性且つ透過性であり、軟骨芽細胞又は骨芽細胞のような細胞による海綿表面での迅速なコロニー形成を可能にする。更に、上述した表面トポロジーの特異的な変更(不可視)は、高品質なヒアリン再生軟骨までの再生線維軟骨(軟骨芽細胞)の成長が特定の領域で促進され、骨(骨芽細胞)の成長が他の領域で促進されるような関節インプラントを提供することができる。
【0067】
関節インプラントは、膝蓋骨への適用や、例えば、手首又は足首のような小関節への適用では少なくとも0.6cmで最大でも1.2cm、膝及び股関節での近位及び遠位の脛骨及び大腿骨への適用では少なくとも0.8cmで最大でも2.2cm、特に1.0cmから1.6cm、より好ましくは1.25cmの長さを有する。これにより、間葉系幹細胞の最適なアクセス性及び生着を達成することができる。図7に係る関節インプラントは、更に少なくとも2mmで最大でも6mm、好ましくは3mmの直径Dを有し、これにより、置換軟骨組織形成のために滑膜(関節腔)に面する側面の最適化を達成することができる。人工海綿構造の厚さdは、好ましくは0.5から2.0mm、より好ましくは0.5から1.5mmである。
【0068】
自然の海綿構造又は関節インプラントに適合された形状を有するチャネル構造に基づいて定義及び反復された人工海綿構造の網目構造は、特異的に選択された領域に異なる表面トポロジーを形成するための上記プロセスと併せて、関節インプラントと窪み/ボアチャネルとの間の境界領域、特に、関節インプラントの内部領域や滑膜に面する関節インプラントの端部上方への内因性組織の最適な生着を達成することができる。
【0069】
本発明によれば、関節インプラントは、特に頂部領域及び上部シェル領域に疎水性で軟骨芽細胞分化に好ましい表面を有する一方、底部領域及び下部シェル領域に親水性で間葉系幹細胞の骨芽細胞分化に好ましい表面を有し得る。これにより、関節インプラントの(滑膜に面する)上部領域において軟骨成長を促進し、関節インプラントの(骨髄腔に面する)下部領域において骨成長を促進することができる。
【0070】
また、このようなモノリシック部材は、局所的に異なる表面特性を有するので、例えば、触媒、コンデンサ、膜等の技術機能体を与えることもできる。選択的に調整可能な濡れ挙動により、技術機能体(3-D層体)は、例えば、導電性材料、触媒活性材料、耐摩耗性材料、センサ材料、コンデンサ材料等により特異的且つ所定領域だけで被覆され得る。このようにして、高度に複雑で非常に小さな機能体が、初めて比較的低コストで生成可能となる。
【0071】
上記プロセスの各ステップは、コンピュータプログラムコマンドにより実施され得ることに留意されたい。これらのコンピュータプログラムコマンドは、コンピュータ又は別のプログラマブルデバイスにロードされて装置を生成することができ、コンピュータ又は別のプログラマブルデバイスで実行されるコマンドは、プロセスステップにおいて上記機能を実施するための手段を与える。これらのコンピュータプログラムコマンドは、同様に、特定機能を実現するためにコンピュータ又は他のプログラマブルデバイスにより読み取り可能なデジタル記録媒体、例えば、DVD、CD又はディスケットに記録され得る。更に、コンピュータプログラムコマンド/プログラムコードは、例えば、電気通信ネットワークからダウンロードされ、コンピュータ又は他のプログラマブルデバイス上で実行される操作ステップをもたらし、プロセスステップを実行可能とするコンピュータ実行プロセスを与える。
【0072】
従って、本発明は、説明したプロセスステップを実行できるようにコンピュータシステムと相互作用する電子的に読み取り可能な制御信号を有するデジタル記録媒体を更に含む。本発明は、更に、プログラムがコンピュータ上で実行される場合に、上記プロセスステップを実行するための機械可読記録媒体に記録されたプログラムコードを含むコンピュータプログラム製品に関する。本発明は、更に、プログラムがコンピュータ上で実行される場合に、上記プロセスステップを実行するためのプログラムコードを含むコンピュータプログラムに関する。
【0073】
本発明は、好ましい例示実施形態を参照して説明された。しかしながら、本発明は、これに限定されず、特に上述した例示実施形態を組み合わせたものも含む。特に照射は、マイクロミラーユニットの代わりにレーザを介して行われてもよい。また、上記リソグラフィプロセスの代わりに、他の付加的3-Dプリントプロセスを採用することも可能である。
【符号の説明】
【0074】
1 光重合性材料
2 トレイ底部
3 平滑化部材
4 プラットフォーム
5 照射ユニット
6 マイクロミラーユニット
7 モノリシック部材(成形体)
8 選択的照射
9 トランス照射側の段差構造
10 入射光側の段差構造
11 画素フィールド
12 リフト機構
S1-S5 層体
M マイクロミラー
L 光源
A 吸収体
P 画素
O 光学イメージングユニット
E 設計要素
設計要素表面
B 部材要素
部材要素表面
R 光重合性の残存材料
R' 光重合性の残存材料
x、y 水平構築空間方向(マイクロミラー主軸)
M、M、M 設計方向
z 垂直構築空間方向(トレイ底部に直交)
α 回転角度
β x方向への傾斜角度
β y方向への傾斜角度
11-B44 傾斜を有して生成された部材



図1
図2
図3
図4a
図4b
図4c
図5
図6a
図6b
図6c
図7
【国際調査報告】