特表 2024-517567 磁性又は磁化可能な顔料粒子を含み、１つ又は複数のしるしを示す光学効果層を作製する方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-04-23

(54)【発明の名称】磁性又は磁化可能な顔料粒子を含み、１つ又は複数のしるしを示す光学効果層を作製する方法

(51)【国際特許分類】

   B05D 1/38 20060101AFI20240416BHJP

   B41M 3/14 20060101ALI20240416BHJP

   B41M 3/00 20060101ALI20240416BHJP

   B05D 7/24 20060101ALI20240416BHJP

   B05D 5/12 20060101ALI20240416BHJP

   B05D 3/06 20060101ALI20240416BHJP

   B05D 3/14 20060101ALI20240416BHJP

   B42D 25/369 20140101ALI20240416BHJP

【ＦＩ】

B05D1/38

B41M3/14

B41M3/00 Z

B05D7/24 303D

B05D7/24 301T

B05D5/12 A

B05D3/06 Z

B05D3/14

B05D7/24 303E

B42D25/369

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2023559832

(86)(22)【出願日】2022-03-30

(85)【翻訳文提出日】2023-09-27

(86)【国際出願番号】 EP2022058389

(87)【国際公開番号】W WO2022207692

(87)【国際公開日】2022-10-06

(31)【優先権主張番号】21166341.4

(32)【優先日】2021-03-31

(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】311007051

【氏名又は名称】シクパ ホルディング ソシエテ アノニム

【氏名又は名称原語表記】ＳＩＣＰＡ ＨＯＬＤＩＮＧ ＳＡ

【住所又は居所原語表記】Ａｖｅｎｕｅ ｄｅ Ｆｌｏｒｉｓｓａｎｔ ４１，ＣＨ－１００８ Ｐｒｉｌｌｙ， Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄ

(74)【代理人】

【識別番号】100107456

【弁理士】

【氏名又は名称】池田 成人

(74)【代理人】

【識別番号】100128381

【弁理士】

【氏名又は名称】清水 義憲

(74)【代理人】

【識別番号】100162352

【弁理士】

【氏名又は名称】酒巻 順一郎

(72)【発明者】

【氏名】マルティーニ， ティボー

(72)【発明者】

【氏名】ピットット， エルヴェ

(72)【発明者】

【氏名】ヴェヤ， パトリック

(72)【発明者】

【氏名】ルッジェロン， リカルド

(72)【発明者】

【氏名】ガルニエ， ジャン

【テーマコード（参考）】

2C005

2H113

4D075

【Ｆターム（参考）】

2C005HA02

2C005HB01

2C005HB02

2C005HB03

2C005HB04

2C005HB09

2C005HB10

2C005HB13

2C005JB11

2C005JB23

2H113AA04

2H113AA06

2H113BA01

2H113BA03

2H113BA09

2H113BA39

2H113BA41

2H113BB02

2H113BB07

2H113BB09

2H113BB22

2H113BC11

2H113CA37

2H113CA39

2H113FA42

2H113FA43

2H113FA48

4D075AC06

4D075AC07

4D075AC47

4D075AE03

4D075AE04

4D075AE13

4D075BB43Z

4D075BB54Z

4D075BB81Z

4D075BB99Z

4D075CA24

4D075DA03

4D075DB31

4D075DC50

4D075EA21

4D075EA33

4D075EA41

4D075EA43

4D075EB23

4D075EB24

4D075EB52

4D075EC03

4D075EC10

4D075EC11

4D075EC23

4D075EC37

4D075EC38

(57)【要約】

本発明は、例えば、偽造及び違法複製に対する紙幣及びアイデンティティ文書などのセキュリティ文書の保護の分野に関する。特に、本発明は、基材（ｘ２０）上に、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）を示す光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法であって、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層（ｘ１０）を磁界発生装置の磁界にさらすステップと、コーティング層（ｘ１０）上にトップコーティング組成物を１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の形態で付与するステップと、コーティング層（ｘ１０）及び１つ又は複数のしるし（ｘ３０）を、少なくとも部分的に硬化装置（ｘ５０）で硬化するステップとを含む、方法を提供する。
【選択図】図２Ａ－１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法であって、前記ＯＥＬは、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含み、基材（ｘ２０）上の１つ又は複数のしるし（ｘ３０）を示す単一の、付与され、かつ硬化された層からなる少なくとも２つのエリアからなるモチーフを含み、
方法は、
ａ）基材（ｘ２０）表面上に、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子及び約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物を含む放射線硬化性コーティング組成物を付与するステップであり、前記放射線硬化性コーティング組成物は、コーティング層（ｘ１０）を形成するために第１の液体状態である、ステップと、
ｂ）ステップａ）後に、コーティング層（ｘ１０）上にトップコーティング組成物を少なくとも部分的に付与するステップであり、前記トップコーティング組成物は、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の形態で付与され、前記トップコーティング組成物は、約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物を含む、ステップと、
ｃ）ステップｂ）と部分的に同時に、又は後に、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）及び前記１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の下のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数のエリアを、３５０ｎｍ～４７０ｎｍの間で放射するＬＥＤ硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化するステップと、
ｄ）ステップｃ）後に、コーティング層（ｘ１０）を非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、磁界発生装置の磁界にさらすステップと、
ｅ）ステップｄ）と部分的に同時に、又は後に、コーティング層（ｘ１０）を２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（ｘ６０）で少なくとも部分的に硬化するステップとを含み、
放射線硬化性コーティング組成物及びトップコーティング組成物はカチオン硬化性組成物であり、
ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物及びステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物は、以下の組合せのうちの１つに従って選択される、方法：
ｉ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、チオキサントン化合物である；
ｉｉ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、アントラセン化合物である；
ｉｉｉ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、クマリン化合物である；
ｉｖ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ナフタレン化合物であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物は、１つ又は複数のアントラセン化合物を更に含む；
ｖ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するスルホニウム塩であり、カチオン部分は、４－（フェニルチオ）フェニルジフェニル－スルホニウム；ビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィド；（４－メチルフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（３－メチルフェニル）ジフェニル－スルホニウム；ビス（４－メチルフェニル）フェニル－スルホニウム；［（４－（１，１－ジメチルエチル）フェニル］ジフェニル－スルホニウム；ビス［４－（１－メチルエチル）フェニル］フェニル－スルホニウム；［（４－（２－メチルプロピル）フェニル］ジフェニル－スルホニウム；（４－メトキシフェニル）ジフェニル－スルホニウム；１－ナフタレニルジフェニル－スルホニウム；トリス（４－メチルフェニル）－スルホニウム；（４－ブロモフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（４－ヨードフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（４－フルオロフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（４－クロロフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（４－フェノキシフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（４’－メチル［１，１’－ビフェニル］－４－イル）ジフェニル－スルホニウム；トリス（４－プロピルフェニル）－スルホニウム；ビス（４－ブチルフェニル）フェニル－スルホニウム；トリス［４（１－メチルエチル）フェニル］－スルホニウム；Ｓ，Ｓ’－１，３－フェニルエンビス［Ｓ，Ｓ’－ジフェニル］－スルホニウム；（４－ドデシルフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（４－ベンゾイルフェニル）ジフェニル－スルホニウム；ビス（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）（４－メチルフェニル）－スルホニウム；トリス［４－［１，１－ジメチルエチル）フェニル］－スルホニウム；トリフェニル－スルホニウム，５－（４－メチルフェニル）－ジベンゾチオフェニウム；１０－（４－メチルフェニル）－９Ｈ－チオキサンテニウム；ジフェニル［４－［［（４－フェニルチオフェニル］チオ］フェニル］－スルホニウム；フェニルビス［４－フェニルチオ）フェニル］－スルホニウム；５－［４－（フェニルチオ）フェニル］－チアントレニウム；５－［４－（フェニルチオ）フェニル］－ジベンゾチオフェニウム；１０－［４－（ジフェニルチオ）フェニル］－９Ｈ－チオキサンテニウム；５－フェニル－チアントレニウム；１０－フェニル－９Ｈ－チオキサンテニウム；５－（４－メチルフェニル）－チアントレニウム；５－［１，１’－ビフェニル］－４－イル－チアントレニウム；又はＳ，Ｓ’－（チオジ－４，１－フェニレン）ビス［Ｓ，Ｓ’－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）］フェニル］－スルホニウム；５－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］チアントレニウムであり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、アントラセン化合物である；
ｖｉ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するスルホニウム塩であり、カチオン部分は、ｖ）のもののうちのいずれか１つであり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、チオキサントン化合物であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物は、ヨードニウム塩である１つ又は複数の化合物を更に含む；
ｖｉｉ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するスルホニウム塩であり、カチオン部分は、ｖ）のもののうちのいずれか１つであり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ナフタレン化合物であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物は、１つ又は複数のアントラセン化合物を更に含む；
ｖｉｉｉ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するスルホニウム塩であり、カチオン部分は、ｖ）のもののうちのいずれか１つであり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、クマリン化合物であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物は、ヨードニウム塩である１つ又は複数の化合物を更に含む；
ｉｘ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩、カチオン部分及びアニオン部分を有し、カチオン部分は、ｖ）のもののうちのいずれか１つであるスルホニウム塩、及びそれらの混合物からなる群から選択され、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するヨードニウム塩であり、カチオン部分は、［（７－メトキシ－４－メチル－２－オキソ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－３－イル）フェニル］ヨードニウム又は［（７－メトキシ－４－メチル－２－オキソ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－３－イル）フェニル］ヨードニウムである；
ｘ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩、カチオン部分及びアニオン部分を有し、カチオン部分は、ｖ）のもののうちのいずれか１つであるスルホニウム塩、及びそれらの混合物からなる群から選択され、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するオキソニウム塩であり、カチオン部分は、２，４，６－トリフェニルピリリウム；２，４，６－トリス（４－メチルフェニル）－ピリリウム；２，４，６－トリス（４－メトキシフェニル）－ピリリウム；２，６－ビス（４－フルオロフェニル）－４－（４－メトキシフェニル）－ピリリウム；３－メチル－２，４，６－トリフェニル－ピリリウム；２，４，６－トリス（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－ピリリウム；４－［４－（ジメチルアミノ）フェニル］－２，６－ジフェニル－ピリリウム、又は２，４－ビス（４－メトキシフェニル）－６－フェニル－ピリリウムである；
ｘｉ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩、カチオン部分及びアニオン部分を有し、カチオン部分は、ｖ）のもののうちのいずれか１つであるスルホニウム塩、及びそれらの混合物からなる群から選択され、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するスルホニウム塩であり、カチオン部分は、トリス［４－（４－アセチルフェニルスルファニル）フェニル］－スルホニウム；１０－［１，１’－ビフェニル］－４－イル－２－（１－メチルエチル）－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテニウム；又は（９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－２－イル）ジフェニル－スルホニウムである。

【請求項2】

ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物及びステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物は、以下の組合せのうちの１つに従って選択される、請求項１に記載の方法：
ｉ’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するヨードニウム塩であり、カチオン部分は、ビス（４－ドデシルフェニル）ヨードニウム；ビス［４－（１，１－ジメチルエチル）フェニル］ヨードニウム；（４－イソプロピルフェニル）（４－メチルフェニル）ヨードニウム；ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウム；（４－メチルフェニル）［４－（２－メチルプロピル）フェニル］ヨードニウム；ビス（２，４－ジメチルフェニル）］ヨードニウム；ビス（３，４－ジメチルフェニル）］ヨードニウム；（４－メチルフェニル）（２，４，６－トリメチルフェニル）ヨードニウム；ビス［（４－（２－メチルプロピル）フェニル］ヨードニウム；ビス（４－ブチルフェニル］ヨードニウム；ビス（２，４，６－トリメチルフェニル）ヨードニウム；ビス（４－ヘキシルイルフェニル］ヨードニウム；ビス（４－デシルフェニル）ヨードニウム；（４－デシルフェニル）（４－ウンデシルフェニル）ヨードニウム；ビス（４－ウンデシルフェニル）ヨードニウム；ビス（４－トリデシルフェニル）ヨードニウム；ビス（４－テトラデシルフェニル）ヨードニウム；ビス（４－ヘキサデシルフェニル）ヨードニウム；ビス（４－ヘプタデシルフェニル）ヨードニウム；ビス（４－オクタデシルフェニル）ヨードニウム；（４－デシルフェニル）（４－ドデシルフェニル）ヨードニウム；（４－デシルフェニル）（４－トリデシルフェニル）ヨードニウム；（４－デシルフェニル）（４－テトラデシルフェニル）ヨードニウム；（４－ドデシルフェニル）（４－ウンデシルフェニル）ヨードニウム；（４－ドデシルフェニル）（４－トリデシルフェニル）ヨードニウム；（４－ドデシルフェニル）（４－テトラデシルフェニル）ヨードニウム；（４－トリデシルフェニル）（４－ウンデシルフェニル）ヨードニウム；（４－テトラデシルフェニル）（４－ウンデシルフェニル）ヨードニウム；（４－テトラデシルフェニル）（４－トリデシルフェニル）ヨードニウム；ｐ－（オクチロキシフェニル）フェニルヨードニウム；［４－［（２－ヒドロキシテトラデシル）オキシ］フェニル］フェニルヨードニウム；フェニル［３－（トリフルオロメチル）フェニル］ヨードニウム；ビス（４－フルオロフェニル）ヨードニウム；（４－ニトロフェニル）フェニルヨードニウム；（４－ニトロフェニル）（２，４，６－トリメチルフェニル）ヨードニウムであり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、２－イソプロピル－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン；４－（１－メチルエチル）－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン；２，４－ジエチル－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン）；２－クロロ－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン；１－クロロ－４－プロポキシ－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン；１，３－ジ［［α－［１－クロロ－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－４－イル）オキシ］アセチルポリ［オキシ（１－メチルエチレン）］］オキシ］－２，２－ビス［［α－［１－クロロ－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－４－イル）オキシ］アセチルポリ［オキシ（１－メチルエチレン）］］オキシメチルプロパン；α－［２－［（９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテニル）オキシ］アセチル］－ω－［［２－［（９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテニル）オキシ］アセチル］オキシ］－ポリ（オキシ－１，４－ブタンジイル；α－［２－［（９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテニル）オキシ］アセチル］－ω－［［２－［（９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテニル）オキシ］アセチル］オキシ］－ポリ（オキシ－１，４－ブタンジイル；それらのオリゴマー及びポリマー化合物並びにそれらの混合物からなる群から選択されるチオキサントン化合物である；
ｉｉ’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ｉ’）のヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、９，１０－ジエトキシ－アントラセン；９，１０－ジブトキシ－アントラセン、及びそれらの混合物からなる群から選択されるアントラセン化合物である；
ｉｉｉ’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ｉ’）のヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、３－（４－ドデシルベンゾイル）－５，７－ジメトキシ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－２－オン、３－（４－Ｃ_１０－Ｃ_１３－ベンゾイル）－５，７－ジメトキシ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－２－オン、及びそれらの混合物からなる群から選択されるクマリン化合物である；
ｉｖ’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ｉ’）のヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、９，１０－ジエトキシ－ナフタレンであるナフタレン化合物であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物は、９，１０－ジエトキシ－アントラセン；９，１０－ジブトキシ－アントラセン、及びそれらの混合物からなる群から選択される１つ又は複数のアントラセン化合物を更に含む；
ｖ’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するスルホニウム塩であり、カチオン部分は、４－（フェニルチオ）フェニルジフェニル－スルホニウム；ビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィド；（４－メチルフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（３－メチルフェニル）ジフェニル－スルホニウム；ビス（４－メチルフェニル）フェニル－スルホニウム；［（４－（１，１－ジメチルエチル）フェニル］ジフェニル－スルホニウム；ビス［４－（１－メチルエチル）フェニル］フェニル－スルホニウム；［（４－（２－メチルプロピル）フェニル］ジフェニル－スルホニウム；（４－メトキシフェニル）ジフェニル－スルホニウム；１－ナフタレニルジフェニル－スルホニウム；トリス（４－メチルフェニル）－スルホニウム；（４－ブロモフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（４－ヨードフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（４－フルオロフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（４－クロロフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（４－フェノキシフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（４’－メチル［１’，１－ビフェニル］－４－イル）ジフェニル－スルホニウム；トリス（４－プロピルフェニル）－スルホニウム；ビス（４－ブチルフェニル）フェニル－スルホニウム；トリス［４（１－メチルエチル）フェニル］－スルホニウム；Ｓ，Ｓ’－１，３－フェニルエンビス［Ｓ，Ｓ’－ジフェニル］－スルホニウム；（４－ドデシルフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（４－ベンゾイルフェニル）ジフェニル－スルホニウム；ビス（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）（４－メチルフェニル）－スルホニウム；トリス［４－［１，１－ジメチルエチル）フェニル］－スルホニウム；トリフェニル－スルホニウム；５－（４－メチルフェニル）－ジベンゾチオフェニウム；１０－（４－メチルフェニル）－９Ｈ－チオキサンテニウム；ジフェニル［４－［［（４－フェニルチオフェニル］チオ］フェニル］－スルホニウム；フェニルビス［４－フェニルチオ）フェニル］－スルホニウム；５－［４－（フェニルチオ）フェニル］－チアントレニウム；５－［４－（フェニルチオ）フェニル］－ジベンゾチオフェニウム；１０－［４－（ジフェニルチオ）フェニル］－９Ｈ－チオキサンテニウム；５－フェニル－チアントレニウム；１０－フェニル－９Ｈ－チオキサンテニウム；５－（４－メチルフェニル）－チアントレニウム；５－［１，１’－ビフェニル］－４－イル－チアントレニウム；又はＳ，Ｓ’－（チオジ－４，１－フェニレン）ビス［Ｓ，Ｓ’－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］－スルホニウムであり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ｉｉ’）のアントラセン化合物である；
ｖｉ’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ｖ’）のスルホニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ｉ’）のチオキサントン化合物であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物は、ｉ’）のヨードニウム塩である１つ又は複数の化合物を更に含む；
ｖｉｉ’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ｖ’）のスルホニウム塩であり、
ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、９，１０－ジエトキシ－ナフタレンであるナフタレン化合物であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物は、９，１０－ジエトキシ－アントラセン、９，１０－ジブトキシ－アントラセン、及びそれらの混合物からなる群から選択される１つ又は複数のアントラセン化合物を更に含む；
ｖｉｉｉ’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ｖ’）のスルホニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ｉｉｉ’）のクマリン化合物であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物は、ｉ’）のヨードニウム塩である１つ又は複数の化合物を更に含む；
ｉｘ’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩、カチオン部分及びアニオン部分を有し、カチオン部分は、ｖ’）のもののいずれかであるスルホニウム塩、及びそれらの混合物からなる群から選択され、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するヨードニウム塩であり、カチオン部分は、［（７－メトキシ－４－メチル－２－オキソ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－３－イル）フェニル］ヨードニウム又は［（７－メトキシ－４－メチル－２－オキソ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－３－イル）フェニル］ヨードニウムである；
ｘ’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩、カチオン部分及びアニオン部分を有し、カチオン部分は、ｖ’のもののいずれかであるスルホニウム塩、及びそれらの混合物からなる群から選択され、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するオキソニウム塩であり、カチオン部分は、２，４，６－トリフェニルピリリウム；２，４，６－トリス（４－メチルフェニル）－ピリリウム；２，４，６－トリス（４－メトキシフェニル）－ピリリウム；２，６－ビス（４－フルオロフェニル）－４－（４－メトキシフェニル）－ピリリウム；３－メチル－２，４，６－トリフェニル－ピリリウム；２，４，６－トリス（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－ピリリウム；４－［４－（ジメチルアミノ）フェニル］－２，６－ジフェニル－ピリリウム（又は２，４－ビス（４－メトキシフェニル）－６－フェニル－ピリリウムである；
ｘｉ’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩、カチオン部分及びアニオン部分を有し、カチオン部分は、ｖ’のもののいずれかであるスルホニウム塩、及びそれらの混合物からなる群から選択され、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するスルホニウム塩であり、カチオン部分は、トリス［４－（４－アセチルフェニルスルファニル）フェニル］－スルホニウム；１０－［１，１’－ビフェニル］－４－イル－２－（１－メチルエチル）－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテニウム；又は（９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－２－イル）ジフェニル－スルホニウムである。

【請求項3】

ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物及びステップｂ）の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物は、以下の組合せのうちの１つに従って選択される、請求項１又は２に記載の方法：
ｉ’’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート又はビス（４－ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートであるヨードニウム塩であり；ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、１－クロロ－４－プロポキシ－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン、２－イソプロピル－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン、４－（１－メチルエチル）－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン、チオキサントンオリゴマー又はポリマー、又は１，３－ジ［［α－［１－クロロ－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－４－イル）オキシ］アセチルポリ［オキシ（１－メチルエチレン）］］オキシ］－２，２－ビス［［α－［１－クロロ－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－４－イル）オキシ］アセチルポリ［オキシ（１－メチルエチレン）］］オキシメチルプロパンであるチオキサントン化合物である；
ｉｉ’’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートであるヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、９，１０－ジブトキシ－アントラセンであるアントラセン化合物である；
ｉｉｉ’’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートであるヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、３－（４－ドデシルベンゾイル）－５，７－ジメトキシ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－２－オンであるクマリン化合物である；
ｉｖ’’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートであるヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、９，１０－ジブトキシ－アントラセンであるアントラセン化合物であり、少なくとも他の１つは、９，１０－ジエトキシ－ナフタレンであるナフタレン化合物である；
ｖ’’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート又はビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネートであるスルホニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、９，１０－ジブトキシ－アントラセンであるアントラセン化合物である；
ｖｉ’’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート又はビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネートであるスルホニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、１－クロロ－４－プロポキシ－９Ｈ－チオキサンテン－９－オンであるチオキサントン化合物であり、少なくとも他の１つは、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートであるヨードニウム塩である；
ｖｉｉ’’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート又はビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネートであるスルホニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、９，１０－ジブトキシ－アントラセンであるアントラセン化合物であり、少なくとも他の１つは、９，１０－ジエトキシ－ナフタレンであるナフタレン化合物である；
ｘｉ’’）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートであるヨードニウム塩であり、又は４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート又はビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネートであるスルホニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、カチオン部分及びアニオン部分を有するスルホニウム塩であり、カチオン部分は、トリス［４－（４－アセチルフェニルスルファニル）フェニル］－スルホニウムである。

【請求項4】

コーティング層（ｘ１０）を、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、磁界発生装置の磁界にさらすステップを更に含み、前記ステップは、ステップｂ）の後又は部分的に同時に、かつステップｃ）の前に実行される、請求項１～３のいずれか一項に記載の方法。

【請求項5】

コーティング層（ｘ１０）を、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、磁界発生装置の磁界にさらすステップを更に含み、前記ステップは、ステップａ）の後、かつステップｂ）の前に実行される、請求項１～４のいずれか一項に記載の方法。

【請求項6】

コーティング層（ｘ１０）をさらすステップｄ）及び／又は請求項４又は５の、コーティング層（ｘ１０）を磁界発生装置の磁界にさらすステップは、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために実行される、請求項１～５のいずれか一項に記載の方法。

【請求項7】

コーティング層（ｘ１０）をさらすステップｄ）及び／又は請求項４又は５の、コーティング層（ｘ１０）を磁界発生装置の磁界にさらすステップは、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために実行され、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子であり、粒子の主な延在面を定義するＸ軸及びＹ軸を有する、請求項１～５のいずれか一項に記載の方法。

【請求項8】

前記コーティング層（ｘ１０）をさらす前記ステップｄ）が、前記小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向して、それらのＸ軸及びＹ軸の両方を前記基材表面に実質的に平行にするために実行される、請求項７に記載の方法。

【請求項9】

ステップｄ）及び／又は請求項４又は５の、コーティング層（ｘ１０）を磁界発生装置の磁界にさらすステップは、２つのステップ、コーティング層（ｘ１０）を、小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、磁界発生装置の磁界にさらす第１のステップ、及びコーティング層（ｘ１０）を、少なくとも小板状の磁性又は磁化可能な粒子の一部を単軸方向に配向するために、第２の磁界発生装置の磁界にさらす第２のステップからなり、前記第２のステップは、第１のステップと部分的に同時に、同時に、又は後に実行される、請求項１～５のいずれか一項に記載の方法。

【請求項10】

前記放射線硬化性コーティング組成物を付与する前記ステップａ）は、スクリーン印刷、グラビア印刷、パッド印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択されるプロセスによって実行される、請求項１～９のうちのいずれか一項に記載の方法。

【請求項11】

前記トップコーティング組成物を付与する前記ステップｂ）が、非接触流体マイクロディスペンシング技術、好ましくは、インクジェット印刷プロセスによって実行される、請求項１～１０のうちのいずれか一項に記載の方法。

【請求項12】

前記非球状の磁性又は磁化可能な粒子の少なくとも一部が、非球状の光学的可変磁性又は磁化可能な顔料粒子によって構成される、請求項１～１１のうちのいずれか一項に記載の方法。

【請求項13】

前記非球状の光学的可変磁性又は磁化可能な顔料粒子が、磁性薄膜干渉顔料、磁性コレステリック液晶顔料、及びそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１２に記載の方法。

【請求項14】

前記１つ又は複数のしるしが、コード、シンボル、英数字のシンボル、モチーフ、幾何学模様、文字、単語、数、ロゴ、図、ポートレート、及びそれらの組合せからなる群から選択される、請求項１～１３のうちのいずれか一項に記載の方法。

【請求項15】

請求項１～１４のうちのいずれか一項に記載の方法によって作製された光学効果層（ＯＥＬ）。

【発明の詳細な説明】

【発明の詳細な説明】

【0001】

［発明の分野］
[001]本発明は、磁気的に配向された非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を作製するための磁界発生装置及び方法の分野に関する。特に、本発明は、ＯＥＬを作製するためにコーティング層中で非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を磁気的に配向する磁界発生装置及び方法、並びに前記ＯＥＬの装飾の目的と同様にセキュリティ文書又はセキュリティ物品に対する偽造防止の手段としての使用を提供する。

【0002】

［発明の背景］
[002]例えば、セキュリティ文書の分野において、セキュリティ要素の作製に対して、配向された磁性又は磁化可能な顔料粒子、特に、また、光学的可変磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むインク、組成物、コーティング、又は層を使用することは本技術分野において公知である。配向された磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング又は層は、例えば、米国特許第２，５７０，８５６号；米国特許第３，６７６，２７３号；米国特許第３，７９１，８６４号；米国特許第５，６３０，８７７号、及び米国特許第５，３６４，６８９号において開示されている。配向された磁性カラーシフト顔料粒子を含むコーティング又は層は、特に魅力的な光学的効果をもたらし、セキュリティ文書の保護に役立ち、国際公開第２００２／０９０００２号及び国際公開第２００５／００２８６６号において開示されている。

【0003】

[003]例えば、セキュリティ文書についてのセキュリティ特徴は、一般に、一方では「秘密」セキュリティ特徴に、他方では「公然」セキュリティ特徴に分類することができる。秘密セキュリティ特徴によってもたらされる保護は、そのような特徴が検知するのが難しいという原理に依存し、典型的には、専門的な装置及び検知のための知識を必要とする一方で、「公然」セキュリティ特徴は、自力での人間感覚で容易に検知できる概念に依存し、例えば、そのような特徴は、作製及び／又は複製することが依然として困難である一方、可視である、及び／又は触覚によって検知可能であり得る。しかし、公然セキュリティ特徴の有効性は、セキュリティ特徴としてそれらの容易な認識に著しく依存する。

【0004】

[004]印刷インク又はコーティング中の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、対応して構成された磁界の付与による磁気誘導画像、デザイン及び／又はパターンの作製を可能にさせ、未硬化（つまり湿潤）コーティングにおける磁性又は磁化可能な顔料粒子の局所的配向、その後コーティングの硬化を引き起こす。この結果は、固定安定磁気誘導画像、デザイン、又はパターンである。コーティング組成物中の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向のための材料及び技術は、例えば、米国特許第２，４１８，４７９号；米国特許第２，５７０，８５６号；米国特許第３，７９１，８６４号、独国特許出願公開第２００６８４８号、米国特許第３，６７６，２７３号、米国特許第５，３６４，６８９号、米国特許第６，１０３，３６１号、欧州特許第０４０６６６７号；米国特許出願公開第２００２／０１６０１９４号；米国特許出願公開第２００４／０００９３０９号；欧州特許出願公開第０７１０５０８号；国際公開第２００２／０９００２号；国際公開第２００３／０００８０１号；国際公開第２００５／００２８６６号；国際公開第２００６／０６１３０１号において開示されている。そのような方法では、偽造に対して耐性の高い磁気誘導パターンを作製することができる。問題のセキュリティ要素は、磁性又は磁化可能な顔料粒子又は対応する顔料インク及び前記インクを印刷し、印刷されたインク中で前記顔料を配向するために使用される特定の技術の両方にアクセスすることによってのみ作製することができる。

【0005】

[005]土及び／又は水分の使用及び時間への時期尚早の不利益な影響から磁気誘導画像を含むセキュリティ文書又は物品を保護する目的で、慣行的に保護ワニスを付与している。前記保護ワニスは、既に調製された乾燥／硬化磁気誘導画像上に連続層として付与される。

【0006】

[006]国際公開第２０１１／０１２５２０号は、デザインの形態を有するコーティング層を含む転写箔を開示し、前記デザインは、画像、しるし、又はパターンを表す配向された光学的可変磁性顔料を含む。転写箔は、トップコーティング層を更に含んでいてもよく、前記トップコーティング層は、光学的可変磁性顔料を含む層の付与の前に付与される。前記転写箔を作製するプロセスは、ａ）トップコーティング層を付与し、前記トップコーティング層を硬化（ｈａｒｄｅｎｉｎｇ）／硬化（ｃｕｒｉｎｇ）するステップ、及びｂ）光学的可変磁性顔料を含む層を付与し、粒子を磁気的に配向し、前記層を硬化（ｈａｒｄｅｎｉｎｇ）／硬化（ｃｕｒｉｎｇ）するステップを含む。開示された方法は、個人用可変しるしを示すのに必要な磁気誘導画像を作製するのに適切でない。

【0007】

[007]欧州特許第１６４１６２４号、欧州特許第１９３７４１５号、及び欧州特許第２１５５４９８号は、しるしを、光学効果層（ＯＥＬ）を形成するために磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む未硬化（つまり湿潤）コーティング組成物に磁気的に転写するための装置及び方法を開示している。開示された方法は、顧客固有の磁気的デザインを有するセキュリティ文書及び物品の作製を可能にする。しかし、開示された磁気デバイスは、顧客固有の磁気的デザインを満足するように調製され、前記デザインが、ある物品から他の物品に変わることが必要とされる場合、変更することができず、したがって、方法は、個人用可変しるしを示すのに必要なＯＥＬを作製するのに適切でない。

【0008】

[008]欧州特許第３１７０５６６号、欧州特許出願公開第３４５９７５８号、欧州特許第２５４２４２１号及び国際公開第２０２０／１４８０７６号は、光学的可変磁気インクへの可変しるしの作製のための異なる方法を開示している。しかし、前記方法は、フォトマスク、レーザー又はアドレス可能ＬＥＤなどの特別の装置の使用を必要とする。

【0009】

[009]セキュリティ文書又は物品に磁気特性を有する可変情報をもたらす目的で、磁気粒子を含むインクジェットインクは、磁気インキ文字認識（ＭＩＣＲ）を可能にするように開発されている。しかし、前記インクジェットインクは、特に、前記インクの有効期限安定性、インク印刷性、不均一磁気インクデポジット、及び印刷ヘッド目詰りに関係する様々な問題に直面する。欧州特許第２２２３９７６号は、ＭＩＣＲ特徴を含む書類の作製のための方法を開示し、前記方法は、ゲル化剤を含む硬化性インクのパターンを基材上にインクジェットによって付与するステップ、インクをインクのゲル化温度より下の温度に冷却するステップ、インクに磁性材料を付与するステップ、最後に前記インクを硬化するステップを含む。あるいは、磁気粒子を含むトナーも開発されており、例えば、米国特許第１０，５０３，０９１号及び米国特許第１０，３５９，７３０号において開示されている。しかし、特定の専用装置はそれらのトナーを印刷することが必要である。

【0010】

[010]したがって、汎用的に、工業規模上で１つ又は複数のしるしを示すカスタマイズされた光学効果層を作製する方法の必要性があり、前記光学効果層は目立つ効果を示す。さらに、前記方法は、信頼でき、実施することが簡単で、高い作製速度で機能することが可能であるべきである。

【0011】

［発明の概要］
[011]したがって、本発明は、先行技術の欠陥を克服することを目的とする。これは、光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法であって、前記ＯＥＬは、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含み、基材（ｘ２０）上の１つ又は複数のしるし（ｘ３０）を示す単一の、付与され、かつ硬化された層からなる少なくとも２つのエリアからなるモチーフを含み、
方法は、
ａ）基材（ｘ２０）表面上に、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子及び約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物を含む放射線硬化性コーティング組成物を付与するステップであり、前記放射線硬化性コーティング組成物は、コーティング層（ｘ１０）を形成するために第１の液体状態である、ステップと、
ｂ）ステップａ）後に、コーティング層（ｘ１０）上にトップコーティング組成物を少なくとも部分的に付与するステップであり、前記トップコーティング組成物は、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の形態で付与され、前記トップコーティング組成物は、約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物を含む、ステップと、
ｃ）ステップｂ）と部分的に同時に、又は後に、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）及び前記１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の下のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数のエリアを、３５０ｎｍ～４７０ｎｍの間で放射するＬＥＤ硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化するステップと、
ｄ）ステップｃ）後に、コーティング層（ｘ１０）を非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、磁界発生装置の磁界にさらすステップと、
ｅ）ステップｄ）と部分的に同時に、又は後に、コーティング層（ｘ１０）を２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（ｘ６０）で少なくとも部分的に硬化するステップとを含み、
放射線硬化性コーティング組成物及びトップコーティング組成物はカチオン硬化性組成物であり、
ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物及びステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物は、以下の組合せのうちの１つに従って選択される、方法：
ｉ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、チオキサントン化合物である；
ｉｉ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、アントラセン化合物である；
ｉｉｉ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、クマリン化合物である；
ｉｖ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ナフタレン化合物であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物は、１つ又は複数のアントラセン化合物を更に含む；
ｖ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するスルホニウム塩であり、カチオン部分は、４－（フェニルチオ）フェニルジフェニル－スルホニウム；ビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィド；（４－メチルフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（３－メチルフェニル）ジフェニル－スルホニウム；ビス（４－メチルフェニル）フェニル－スルホニウム；［（４－（１，１－ジメチルエチル）フェニル］ジフェニル－スルホニウム；ビス［４－（１－メチルエチル）フェニル］フェニル－スルホニウム；［（４－（２－メチルプロピル）フェニル］ジフェニル－スルホニウム；（４－メトキシフェニル）ジフェニル－スルホニウム；１－ナフタレニルジフェニル－スルホニウム；トリス（４－メチルフェニル）－スルホニウム；（４－ブロモフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（４－ヨードフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（４－フルオロフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（４－クロロフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（４－フェノキシフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（４’－メチル［１，１’－ビフェニル］－４－イル）ジフェニル－スルホニウム；トリス（４－プロピルフェニル）－スルホニウム；ビス（４－ブチルフェニル）フェニル－スルホニウム；トリス［４（１－メチルエチル）フェニル］－スルホニウム；Ｓ，Ｓ’－１，３－フェニルエンビス［Ｓ，Ｓ’－ジフェニル］－スルホニウム；（４－ドデシルフェニル）ジフェニル－スルホニウム；（４－ベンゾイルフェニル）ジフェニル－スルホニウム；ビス（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）（４－メチルフェニル）－スルホニウム；トリス［４－［１，１－ジメチルエチル）フェニル］－スルホニウム；トリフェニル－スルホニウム，５－（４－メチルフェニル）－ジベンゾチオフェニウム；１０－（４－メチルフェニル）－９Ｈ－チオキサンテニウム；ジフェニル［４－［［（４－フェニルチオフェニル］チオ］フェニル］－スルホニウム；フェニルビス［４－フェニルチオ）フェニル］－スルホニウム；５－［４－（フェニルチオ）フェニル］－チアントレニウム；５－［４－（フェニルチオ）フェニル］－ジベンゾチオフェニウム；１０－［４－（ジフェニルチオ）フェニル］－９Ｈ－チオキサンテニウム；５－フェニル－チアントレニウム；１０－フェニル－９Ｈ－チオキサンテニウム；５－（４－メチルフェニル）－チアントレニウム；５－［１，１’－ビフェニル］－４－イル－チアントレニウム；又はＳ，Ｓ’－（チオジ－４，１－フェニレン）ビス［Ｓ，Ｓ’－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）］フェニル］－スルホニウム；５－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］チアントレニウムであり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、アントラセン化合物である；
ｖｉ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するスルホニウム塩であり、カチオン部分は、ｖ）のもののうちのいずれか１つであり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、チオキサントン化合物であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物は、ヨードニウム塩である１つ又は複数の化合物を更に含む；
ｖｉｉ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するスルホニウム塩であり、カチオン部分は、ｖ）のもののうちのいずれか１つであり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ナフタレン化合物であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物は、１つ又は複数のアントラセン化合物を更に含む；
ｖｉｉｉ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するスルホニウム塩であり、カチオン部分は、ｖ）のもののうちのいずれか１つであり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、クマリン化合物であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物は、ヨードニウム塩である１つ又は複数の化合物を更に含む；
ｉｘ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩、カチオン部分及びアニオン部分を有し、カチオン部分は、ｖ）のもののうちのいずれか１つであるスルホニウム塩、及びそれらの混合物からなる群から選択され、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するヨードニウム塩であり、カチオン部分は、［（７－メトキシ－４－メチル－２－オキソ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－３－イル）フェニル］ヨードニウム又は［（７－メトキシ－４－メチル－２－オキソ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－３－イル）フェニル］ヨードニウムである；
ｘ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩、カチオン部分及びアニオン部分を有し、カチオン部分は、ｖ）のもののうちのいずれか１つであるスルホニウム塩、及びそれらの混合物からなる群から選択され、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するオキソニウム塩であり、カチオン部分は、２，４，６－トリフェニルピリリウム；２，４，６－トリス（４－メチルフェニル）－ピリリウム；２，４，６－トリス（４－メトキシフェニル）－ピリリウム；２，６－ビス（４－フルオロフェニル）－４－（４－メトキシフェニル）－ピリリウム；３－メチル－２，４，６－トリフェニル－ピリリウム；２，４，６－トリス（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－ピリリウム；４－［４－（ジメチルアミノ）フェニル］－２，６－ジフェニル－ピリリウム、又は２，４－ビス（４－メトキシフェニル）－６－フェニル－ピリリウムである；
ｘｉ）ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩、カチオン部分及びアニオン部分を有し、カチオン部分は、ｖ）のもののうちのいずれか１つであるスルホニウム塩、及びそれらの混合物からなる群から選択され、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するスルホニウム塩であり、カチオン部分は、トリス［４－（４－アセチルフェニルスルファニル）フェニル］－スルホニウム；１０－［１，１’－ビフェニル］－４－イル－２－（１－メチルエチル）－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテニウム；又は（９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－２－イル）ジフェニル－スルホニウムである
を提供することによって達成される。

【0012】

[012]１つの好ましい実施形態では、放射線硬化性コーティング組成物を付与するステップａ）は、スクリーン印刷、グラビア印刷、パッド印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択されるプロセスによって実行される。

【0013】

[013]１つの好ましい実施形態では、トップコーティング組成物を付与するステップｂ）は、非接触流体マイクロディスペンシング技術、好ましくは、インクジェット印刷プロセスによって実行される。

【0014】

[014]また、本明細書に記載する方法によって作製された光学効果層（ＯＥＬ）及びセキュリティ文書、並びに本明細書に記載する１つ又は複数の光学ＯＥＬを含む装飾要素及び装飾体が本明細書に記載されている。

【0015】

[015]また、セキュリティ文書、又は装飾要素若しくは装飾体を製造する方法が記載され、方法は、ａ）セキュリティ文書、又は装飾要素若しくは装飾体を設けること、及びｂ）本明細書に記載するもの、特に本明細書に記載する方法によって得られるものなどの光学効果層を設けて、それはセキュリティ文書又は装飾要素若しくは装飾体によって含まれることを含む。

【0016】

[016]本明細書に記載する方法は、有利には、単層からなり、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物からなる２つ以上のエリアを含む光学効果層（ＯＥＬ）の作製を可能にし、前記２つ以上のエリアは、高解像度で異なる配向パターンに従って配向された非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含み、前記方法は、フォトマスク又はレーザーを備えた硬化ユニット、又はアドレス可能ＬＥＤ硬化ユニットの使用を必要としない。

【0017】

[017]本明細書に有利に記載する方法は、２つの組成物を有利に使用し、前記２つの組成物は、ウェットオンウェット状態で互いに付与される。特に、本発明による方法は、汎用的に１つ又は複数のしるしを示す光学効果層（ＯＥＬ）の作製を可能にし、高い作製速度で工業規模で容易に実施することができる。本明細書に記載する方法において使用される２つの組成物は、第１の組成物として、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む、基材（ｘ２０）上に付与される放射線硬化性コーティング組成物、及び放射線硬化性コーティング組成物がまだ湿潤未重合状態である場合、顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物上に少なくとも部分的に付与され、前記組成物に部分的に重なり（つまり、少なくとも１つのエリアで重なり）、１つ又は複数のしるしの形態で付与される第２の組成物としてのトップコーティング組成物を含む。

【0018】

[018]本発明は、本明細書に記載する１つ又は複数のしるしを示す目立つ光学効果層（ＯＥＬ）を作製する、信頼でき、実施することが容易な方法を提供する。開示する方法は、有利には、各可変又は個別化されたしるしについて、及び各及び全ての顧客固有の光学効果層（ＯＥＬ）について非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を配向するために使用される磁石アセンブリのオーダーメイドを必要とすることなく、かつフォトマスクを備えた硬化ユニット又はアドレス可能ＬＥＤ硬化ユニットの使用を必要とすることなく、汎用のオンライン変化で、実施することが容易で、非常に信頼できる方法で１つ又は複数のしるしも示す顧客固有の磁気設計を有するセキュリティ文書及び品物の作製を可能にする。

【0019】

[019]本明細書に記載する基材（ｘ２０）上に１つ又は複数のしるし（ｘ３０）を示す光学効果層（ＯＥＬ）を作製する、本明細書に記載する方法は、図面及び特有の実施形態を参照してより詳細に以下に記載する。
図１は、非球状の、特に小板状の顔料粒子を概略的に説明する。
図２Ａ～２Ｋは、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明し、特に：
図２Ａ１、２は、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を少なくとも部分的に付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、１つ又は複数のしるし（２３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を、単軸方向に配向するために（２Ａ１）又は２軸方向に配向するために（２Ａ２）、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップｄ）；及びステップｄ）と部分的に同時に（図２Ａ１）、又はステップｄ）後に（図２Ａ２）、コーティング層（２１０）を２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。
図２Ｂは、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ；前記配向ステップと部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ１）を維持しながら、１つ又は複数のしるし（２３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアをＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップｄ）；及びステップｄ）と部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、コーティング層（２１０）をＨｇ硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。
図２Ｃは、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ、前記ステップと部分的に同時に、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ１）を維持しながら、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）、ステップｂ）後に、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ１）を維持しながら、１つ又は複数のしるし（２３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップｄ）；及びステップｄ）と部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第２の磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、コーティング層（２１０）を、２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。
図２Ｄは、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ、前記ステップと部分的に同時に、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ１）を維持しながら、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ１）を維持しながら、１つ又は複数のしるし（２３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップｄ）；前記ステップ後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップ；及び前記ステップと部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ３）を維持しながら、コーティング層（２１０）を、２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。
図２Ｅは、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ、前記ステップ後に、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、１つ又は複数のしるし（２３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアをＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップｄ）；及びステップｄ）と部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第２の磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、コーティング層（２１０）を、２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。
図２Ｆ、２Ｇは、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ；前記ステップ後に、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップ；前記ステップと部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第２の磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、１つ又は複数のしるし（２３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップｄ）；及び、ステップｄ）と部分的に同時に（図２Ｆ）、又はステップｄ）後に（図２Ｇ）、コーティング層（ｘ１０）を、２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。
図２Ｈ、２Ｉは、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ；前記ステップ後に、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップ；前記ステップ後に、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップｄ）；及びステップｄ）と部分的に同時に（図２Ｈ）、又はステップｄ）後に（図２Ｉ）、コーティング層（ｘ１０）を、２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。
図２Ｊは、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ；前記ステップ後に、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップ；前記ステップと部分的に同時に、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、コーティング層（２１０）の付近に第２の磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、コーティング層（２１０）の付近に第２の磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、１つ又は複数のしるし（２３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップｄ）；及びステップｄ）と部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第３の磁界発生装置（Ｂ３）を維持しながら、コーティング層（ｘ１０）を２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。
図２Ｋは、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ；前記ステップ後に、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップ；前記ステップ後に、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップｄ）；及びステップｄ）と部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第３の磁界発生装置（Ｂ３）を維持しながら、コーティング層（ｘ１０）を、２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。
図３Ａ、Ｂは、基材（３２０）上にコーティング層（３１０）中に磁性又は磁化可能な顔料粒子を２軸方向（図３Ａ）又は単軸方向（図３Ｂ）に配向する磁界発生装置を概略的に説明する。
図４Ａ～Ｄは、本発明（Ｅ１～Ｅ３６）による方法で調製され、比較の方法（Ｃ１～Ｃ２６）によって調製されたＯＥＬの写真を示す。

【図面の簡単な説明】

【0020】

【図1】図１は、非球状の、特に小板状の顔料粒子を概略的に説明する。

【図2A-1】図２Ａ１、２は、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を少なくとも部分的に付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、１つ又は複数のしるし（２３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を、単軸方向に配向するために（２Ａ１）又は２軸方向に配向するために（２Ａ２）、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップｄ）；及びステップｄ）と部分的に同時に（図２Ａ１）、又はステップｄ）後に（図２Ａ２）、コーティング層（２１０）を２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。

【図2A-2】図２Ａ１、２は、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を少なくとも部分的に付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、１つ又は複数のしるし（２３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を、単軸方向に配向するために（２Ａ１）又は２軸方向に配向するために（２Ａ２）、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップｄ）；及びステップｄ）と部分的に同時に（図２Ａ１）、又はステップｄ）後に（図２Ａ２）、コーティング層（２１０）を２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。

【図2B】図２Ｂは、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ；前記配向ステップと部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ１）を維持しながら、１つ又は複数のしるし（２３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアをＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップｄ）；及びステップｄ）と部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、コーティング層（２１０）をＨｇ硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。

【図2C】図２Ｃは、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ、前記ステップと部分的に同時に、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ１）を維持しながら、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）、ステップｂ）後に、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ１）を維持しながら、１つ又は複数のしるし（２３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップｄ）；及びステップｄ）と部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第２の磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、コーティング層（２１０）を、２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。

【図2D】図２Ｄは、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ、前記ステップと部分的に同時に、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ１）を維持しながら、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ１）を維持しながら、１つ又は複数のしるし（２３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップｄ）；前記ステップ後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップ；及び前記ステップと部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ３）を維持しながら、コーティング層（２１０）を、２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。

【図2E】図２Ｅは、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ、前記ステップ後に、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、１つ又は複数のしるし（２３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアをＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップｄ）；及びステップｄ）と部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第２の磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、コーティング層（２１０）を、２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。

【図2F】図２Ｆ、２Ｇは、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ；前記ステップ後に、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップ；前記ステップと部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第２の磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、１つ又は複数のしるし（２３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップｄ）；及び、ステップｄ）と部分的に同時に（図２Ｆ）、又はステップｄ）後に（図２Ｇ）、コーティング層（ｘ１０）を、２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。

【図2G】図２Ｆ、２Ｇは、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ；前記ステップ後に、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップ；前記ステップと部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第２の磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、１つ又は複数のしるし（２３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップｄ）；及び、ステップｄ）と部分的に同時に（図２Ｆ）、又はステップｄ）後に（図２Ｇ）、コーティング層（ｘ１０）を、２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。

【図2H】図２Ｈ、２Ｉは、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ；前記ステップ後に、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップ；前記ステップ後に、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップｄ）；及びステップｄ）と部分的に同時に（図２Ｈ）、又はステップｄ）後に（図２Ｉ）、コーティング層（ｘ１０）を、２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。

【図2I】図２Ｈ、２Ｉは、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ；前記ステップ後に、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップ；前記ステップ後に、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップｄ）；及びステップｄ）と部分的に同時に（図２Ｈ）、又はステップｄ）後に（図２Ｉ）、コーティング層（ｘ１０）を、２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。

【図2J】図２Ｊは、本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ；前記ステップ後に、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップ；前記ステップと部分的に同時に、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、コーティング層（２１０）の付近に第２の磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、コーティング層（２１０）の付近に第２の磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、１つ又は複数のしるし（２３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップｄ）；及びステップｄ）と部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第３の磁界発生装置（Ｂ３）を維持しながら、コーティング層（ｘ１０）を２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。

【図2K】本発明による基材（２２０）上に光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を概略的に説明する。方法は、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ；前記ステップ後に、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップ；前記ステップ後に、コーティング層（２１０）上にトップコーティング組成物を付与するステップｂ）であり、前記トップコーティング組成物は、１つ又は複数のしるし（２３０）の形態で付与されるステップｂ）；ステップｂ）後に、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）及び前記１つ又は複数のしるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）の１つ又は複数のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）；ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップｄ）；及びステップｄ）と部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第３の磁界発生装置（Ｂ３）を維持しながら、コーティング層（ｘ１０）を、２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（２６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。

【図3A】図３Ａ、Ｂは、基材（３２０）上にコーティング層（３１０）中に磁性又は磁化可能な顔料粒子を２軸方向（図３Ａ）又は単軸方向（図３Ｂ）に配向する磁界発生装置を概略的に説明する。

【図3B】図３Ａ、Ｂは、基材（３２０）上にコーティング層（３１０）中に磁性又は磁化可能な顔料粒子を２軸方向（図３Ａ）又は単軸方向（図３Ｂ）に配向する磁界発生装置を概略的に説明する。

【図4A】図４Ａ～Ｄは、本発明（Ｅ１～Ｅ３６）による方法で調製され、比較の方法（Ｃ１～Ｃ２６）によって調製されたＯＥＬの写真を示す。

【図4B】図４Ａ～Ｄは、本発明（Ｅ１～Ｅ３６）による方法で調製され、比較の方法（Ｃ１～Ｃ２６）によって調製されたＯＥＬの写真を示す。

【図4C】図４Ａ～Ｄは、本発明（Ｅ１～Ｅ３６）による方法で調製され、比較の方法（Ｃ１～Ｃ２６）によって調製されたＯＥＬの写真を示す。

【図4D】図４Ａ～Ｄは、本発明（Ｅ１～Ｅ３６）による方法で調製され、比較の方法（Ｃ１～Ｃ２６）によって調製されたＯＥＬの写真を示す。

【0021】

［詳細な説明］
（定義）
[020]次の定義は、詳細な説明で検討され、特許請求の範囲に列挙される用語の意味を解釈するために使用される。

【0022】

[021]本明細書において使用される用語「少なくとも１つ」は、１つ又は１つより多い、例えば、１、２又は３を定義するように意味される。

【0023】

[022]本明細書において使用される用語「約」及び「実質的に」は、問題となる量又は値が、指定した特定値、又はその近傍の他のある値を意味する。一般に、ある値を示す用語「約」及び「実質的に」は、値の±５％以内の範囲を示すことが意図される。一例として、表現「約１００」は、１００±５の範囲、つまり９５～１０５の範囲を示す。一般に、用語「約」及び「実質的に」が使用される場合、本発明による同様の結果又は効果を指示値の±５％の範囲内で得ることができることが期待できる。

【0024】

[023]用語「実質的に平行」は、平行配列から１０°以下外れることを指し、用語「実質的に垂直」は、垂直配列から１０°以下外れることを指す。

【0025】

[024]本明細書において使用される用語「及び／又は」は、前記グループの要素の全て又は１つのみが存在していてもよいことを意味する。例えば、「Ａ及び／又はＢ」は、「Ａのみ、又はＢのみ、又はＡ及びＢの両方」を意味するものとする。「Ａのみ」の場合には、用語は、Ｂが存在しない可能性、つまり「ＡのみでありＢはない」も包含する。

【0026】

[025]本明細書において使用される用語「含む」は、非排他的及び比限定的であるように意味される。したがって、例えば、化合物Ａを含むコーティング組成物は、Ａに加えて他の化合物を含んでいてもよい。しかし、用語「含む」は、その特定の実施形態として、より限定的な意味の「から実質的になる」及び「からなる」も包含し、その結果、例えば、「Ａ、Ｂ及び任意選択でＣを含む湿し水」は、また、（実質的に）Ａ及びＢからなってもよく、又は（実質的に）Ａ、Ｂ及びＣからなってもよい。

【0027】

[026]本明細書において使用される用語「光学効果層」（ＯＥＬ）は、配向された磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層を表し、前記磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁界によって配向され、配向された磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁気誘導画像を形成するために、それらの配向及び位置に固定／固化される（つまり硬化後）。

【0028】

[027]用語「コーティング組成物」は、固体基材上に光学効果層（ＯＥＬ）を形成することができ、限定するものではないが好ましくは印刷方法によって付与することができるいずれの組成物を指す。コーティング組成物は、本明細書に記載する非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子、及び本明細書に記載するバインダーを含む。用語「トップコーティング組成物」は、本明細書に記載する非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含まない組成物を指す。

【0029】

[028]本明細書において使用される用語「湿潤」は、未硬化のコーティング層、例えば、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が、それらに作用する外力の影響下でそれらの位置及び配向を依然として変更することができるコーティング層を指す。

【0030】

[029]用語「セキュリティ文書」は、少なくとも１つのセキュリティ特徴による偽造又は不正行為から通常保護される書類を指す。セキュリティ文書の例としては、限定されないが、価値書類及び価値商品が挙げられる。

【0031】

[030]用語「セキュリティ特徴」は、認証目的に使用することができる画像、パターン、又は図形要素を表すために使用される。

【0032】

[031]本詳細な説明が「好ましい」実施形態／特徴を指す場合、これらの「好ましい」実施形態／特徴の組合せはまた、この「好ましい」実施形態／特徴の組合せが技術的に意味のある限り開示されるように判断されるものともする。

【0033】

[032]本発明は、基材（ｘ２０）上の１つ又は複数のしるし（ｘ３０）を示す光学効果層（ＯＥＬ）を作製する方法を提供し、前記ＯＥＬは、磁気的に配向された非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子に基づき、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）を更に示す。前記プロセスの好ましい例は、図２Ａ～２Ｋに示される。

【0034】

[033]本明細書に記載する方法は、本明細書に記載するコーティング層（ｘ１０）を形成するために、本明細書に記載する非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子及び本明細書に記載する約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物を含む放射線硬化性コーティング組成物を、本明細書に記載する基材（ｘ２０）表面に付与するステップａ）を含み、前記組成物は、層としてのその付与を可能にし、まだ硬化されていない（つまり、湿潤）状態の第１の液体状態であり、顔料粒子は層内で移動、回転することができる。本明細書に記載する放射線硬化性コーティング組成物が基材（ｘ２０）表面上に設けられることになるので、放射線硬化性コーティング組成物は、少なくともバインダー材料及び磁性又は磁化可能な顔料粒子を含み、前記組成物は、所望の印刷又はコーティング機器でのその処理を可能にする形態にある。好ましくは、前記ステップａ）は、スクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、凹版印刷（刻印銅印刷、刻印鋼ダイ印刷としても本技術分野において称する）、パッド印刷、及びカーテンコーティングからなる群から好ましくは選択され、より好ましくは凹版印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、パッド印刷、及びフレキソ印刷、更に好ましくはスクリーン印刷、グラビア印刷、パッド印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択される印刷プロセスによって実行される。好ましい実施形態によれば、ステップａ）は、スクリーン印刷、グラビア印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択される印刷プロセスによって実行される。

【0035】

[034]本明細書に記載する非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、好ましくは、扁長若しくは扁平楕円体形状、小板状若しくは針形状の磁性又は磁化可能な顔料粒子、又はそれらの２つ以上の混合物、より好ましくは小板状の粒子である。

【0036】

[035]本明細書に記載する非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、それらの非球形状により、硬化されたバインダー材料が少なくとも部分的に透明である入射電磁放射線に対して異方性反射率を有しているとして定義される。本明細書において使用される用語「異方性反射率」は、粒子によって反射される第１の角度からある（観察）方向（第２の角度）への入射放射線の割合が粒子の配向の関数であること、つまり、第１の角度に対する粒子の配向の変化が、観察方向への反射の異なる大きさを引き起こすことができることを表す。好ましくは、本明細書に記載する非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、粒子の配向の変化がある方向へのその粒子による反射の変化をもたらすように、一部に、又は約２００～約２５００ｎｍ、より好ましくは約４００～約７００ｎｍの完全な波長領域において入射電磁放射線に対して異方性反射率を有する。当業者によって公知のように、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子は、従来の顔料粒子が、粒子配向と無関係に同じ色及び反射率を示すという点で、前記従来の顔料とは異なる一方、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子は、粒子配向に依存する反射若しくは色、又は両方を示す。

【0037】

[036]本明細書に記載する放射線硬化性コーティング組成物及び本明細書に記載するコーティング層（ｘ１０）は、本明細書に記載する非球状、好ましくは小板状磁性又は磁化可能な顔料粒子を、好ましくは約５重量％～約４０重量％、より好ましくは１０重量％～約３０重量％の量で含み、重量割合は、放射線硬化性コーティング組成物又はコーティング層（ｘ１０）の全重量に基づく。

【0038】

[037]本明細書に記載するＯＥＬでは、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子は、磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向及び位置を固定する、硬化されたバインダー材料を含む放射線硬化性コーティング組成物に分散される。バインダー材料は、少なくとも硬化又は固体状態（本明細書において第２の状態とも称する）であり、２００ｎｍ～２５００ｎｍの波長の範囲、つまり「光学スペクトル」と典型的に称し、電磁スペクトルの赤外、可視、及びＵＶ部分を含む波長範囲の電磁放射線に少なくとも部分的に透過性である。したがって、硬化又は固体状態のバインダー材料に含まれる粒子及びそれらの配向依存反射率は、この範囲内のいくつかの波長でバインダー材料を通じて認識されることができる。好ましくは、硬化されたバインダー材料は、２００ｎｍ～８００ｎｍ、より好ましくは４００ｎｍ～７００ｎｍの波長の範囲の電磁放射線に少なくとも部分的に透過性である。本明細書において、用語「透過性」は、ＯＥＬに存在する硬化されたバインダー材料の２０μｍの層を通じた電磁放射線の透過（非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含まないが、そのような成分が存在する場合、ＯＥＬの他の全ての任意成分を含む）は、関連波長で少なくとも５０％、より好ましくは少なくとも６０％、更に好ましくは少なくとも７０％であることを示す。これは、十分に確立した試験方法、例えば、例えば、ＤＩＮ５０３６－３（１９７９－１１）に従って硬化されたバインダー材料（非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含まずに）の試験片の透過率を測定することによって決定することができる。ＯＥＬが秘密セキュリティ特徴として機能を果たすなら、そのとき、典型的に、技術手段は、選択された非可視波長を含むそれぞれの照明条件で、ＯＥＬによって生じた（完成した）光学的効果を検知することが必要であり、前記検知は、入射放射線の波長が可視範囲外、例えば、近ＵＶ範囲において選択されることを必要とする。

【0039】

[038]本明細書に記載する非球状、好ましくは小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の適切な例としては、限定されないが、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、及びニッケル（Ｎｉ）からなる群から選択される磁性金属；鉄、マンガン、コバルト、ニッケル、又はそれらの２つ以上の混合物の磁性合金；クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル、又はそれの２つ以上の混合物の磁性酸化物；又はそれらの２つ以上の混合物を含む顔料粒子が挙げられる。金属、合金、及び酸化物に関する用語「磁性」は、強磁性又はフェリ磁性金属、合金、及び酸化物を対象とする。クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル、又はそれらの２つ以上の混合物の磁性酸化物は、純粋又は混合酸化物であってもよい。磁性酸化物の例としては、限定されないが、赤鉄鉱（Ｆｅ_２Ｏ_３）、磁鉄鉱（Ｆｅ_３Ｏ_４）、二酸化クロム（ＣｒＯ_２）、磁性フェライト（ＭＦｅ_２Ｏ_４）、磁性スピネル（ＭＲ_２Ｏ_４）、磁性ヘキサフェライト（ＭＦｅ_１２Ｏ_１９）、磁性オルトフェライト（ＲＦｅＯ_３）、磁性ガーネットＭ_３Ｒ_２（ＡＯ_４）_３などの酸化鉄が挙げられ、Ｍは２価金属を表し、Ｒは３価金属を表し、Ａは４価金属を表す。

【0040】

[039]本明細書に記載する非球状、好ましくは小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の例としては、限定されないが、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、又はニッケル（Ｎｉ）などの磁性金属；及び鉄、コバルト、又はニッケルの磁性合金のうちの１つ以上からなる磁性層Ｍを含む顔料粒子が挙げられ、前記磁性又は磁化可能な顔料粒子は、１つ又は複数の更なる層を含む多層構造であってもよい。好ましくは、１つ又は複数の更なる層は、弗化マグネシウム（ＭｇＦ_２）などの金属フッ化物、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、及び酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）からなる群から選択される１つ以上、より好ましくは二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）から独立的になる層Ａ；又は金属及び金属合金からなる群から選択される、好ましくは反射金属及び反射合金からなる群から選択される、より好ましくは銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、及びニッケル（Ｎｉ）からからなる群から選択される１つ以上、更により好ましくはアルミニウム（Ａｌ）から独立的になる層Ｂ；又は上記のものなどの１つ又は複数の層Ａ及び上記のものなどの１つ又は複数の層Ｂの組合せである。上記多層構造である小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の代表例としては、限定されないが、Ａ／Ｍ多層構造、Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ／Ａ／多層構造、Ｂ／Ｍ多層構造、Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ／Ａ／多層構造が挙げられ、層Ａ、磁性層Ｍ、及び層Ｂは、上記のものから選択される。

【0041】

[040]本明細書に記載する放射線硬化性コーティング組成物は、非球状、好ましくは小板状、光学的可変磁性又は磁化可能な顔料粒子、及び／又は光学的可変特性を有さない非球状、好ましくは小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含んでいてもよい。好ましくは、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部は、非球状、好ましくは小板状、光学的可変磁性又は磁化可能な顔料粒子によって構成される。自力の人間の感覚を使用して、本明細書に記載するインク、コーティング組成物、又は光学的可変磁性又は磁化可能な顔料粒子を含むコーティング層を支持する物品又はセキュリティ文書をそれらの考えられる偽造品から容易に検知、認識及び／又は識別することを可能にする、光学的可変磁性又は磁化可能な顔料粒子のカラーシフト特性によってもたらされる公然のセキュリティに加えて、光学的可変磁性又は磁化可能な顔料粒子の光学的特性も、ＯＥＬの認識用の機械読み取り可能のツールとして使用されてもよい。したがって、光学的可変磁性又は磁化可能な顔料粒子の光学的特性は、顔料粒子の光学（例えば、スペクトル）特性が解析される認証プロセスにおいて秘密又は半秘密セキュリティ特徴として同時に使用され、したがって偽造抵抗性を向上させ得る。

【0042】

[041]ＯＥＬを作製するためのコーティング層における非球状、好ましくは小板状の光学的可変磁性又は磁化可能な顔料粒子の使用は、そのような材料がセキュリティ文書印刷業に確保され、一般に市販されていないので、セキュリティ文書用途でのセキュリティ特徴としてＯＥＬの有意性を向上させる。

【0043】

[042]上記のように、好ましくは、非球状、好ましくは小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部は、非球状、好ましくは小板状の光学的可変磁性又は磁化可能な顔料粒子によって構成される。これらは、磁性薄膜干渉顔料粒子、磁性コレステリック液晶顔料粒子、磁性材料及びそれらの２つ以上の混合物を含む干渉被覆顔料粒子からなる群から選択されることが好ましい。

【0044】

[043]磁性薄膜干渉顔料粒子は、当業者に公知であり、例えば、米国特許第４，８３８，６４８号；国際公開第２００２／０７３２５０号；欧州特許第０６８６６７５号；国際公開第２００３／０００８０１号；米国特許第６，８３８，１６６号；国際公開第２００７／１３１８３３号；欧州特許第２４０２４０１号；国際公開第２０１９／１０３９３７号；国際公開第２０２０／００６２８６号、及びそれらに引用された文献において開示されている。好ましくは、磁性薄膜干渉顔料粒子は、５層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子、及び／又は６層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子、及び／又は７層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子、及び／又は１つ又は複数の多層ファブリペロー構造を組み合わせた多層構造を有する顔料粒子を含む。

【0045】

[044]好ましい５層ファブリペロー多層構造は、吸収体／誘電体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造からからなり、反射体及び／又は吸収体は、磁性層でもあり、好ましくは反射体及び／又は吸収体は、ニッケル、鉄、及び／又はコバルト、及び／又はニッケル、鉄、及び／又はコバルトを含む磁性合金、及び／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／又はコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含む磁性層である。

【0046】

[045]好ましい６層ファブリペロー多層構造は、吸収体／誘電体／反射体／磁性体／誘電体／吸収体の多層構造からなる。

【0047】

[046]好ましい７層ファブリペローの多層構造は、米国特許第４，８３８，６４８号において開示されるなどの吸収体／誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造からなる。

【0048】

[047]１つ又は複数のファブリペロー構造を組み合わせた多層構造を有する好ましい顔料粒子は、国際公開第２０１９／１０３９３７号に記載されるものであり、少なくとも２つのファブリペロー構造の組合せからなり、前記２つのファブリペロー構造は、独立的に反射体層、誘電体層、及び吸収体層を含み、反射体及び／又は吸収体層は、それぞれ独立的に１つ又は複数の磁性材料を含むことができる、及び／又は磁性層は２つの構造間のサンドイッチである。国際公開第２０２０／００６／２８６号及び欧州特許出願公開第３５８７５００号は、多層構造を有する更に好ましい顔料粒子を開示している。

【0049】

[048]好ましくは、本明細書に記載する反射体層は、金属及び金属合金からなる群から選択される、好ましくは反射金属及び反射金属合金からなる群から選択される、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、プラチナ（Ｐｔ）、スズ（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びそれらの合金からなる群から選択される、更に好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びそれらの合金からなる群から選択される１つ以上から独立的になり、更に好ましくはアルミニウム（Ａｌ）から独立的になる。好ましくは、誘電体層は、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ_３）、フッ化セリウム（ＣｅＦ_３）、フッ化ランタン（ＬａＦ_３）、ナトリウムフッ化アルミニウム（例えば、Ｎａ_３ＡｌＦ_６）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ_３）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ_３）、フッ化バリウム（ＢａＦ_２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ_２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）などの金属フッ化物、及び酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）などの金属酸化物からなる群から選択される、より好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）からなる群から独立的に選択される１つ以上から独立的になり、更に好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）から独立的になる。好ましくは、吸収体層は、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、プラチナ（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、鉄（Ｆｅ）、スズ（Ｓｎ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、それらの金属酸化物、それらの金属硫化物、それらの金属炭化物、及びそれらの金属合金からなる群から選択される、より好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、それらの金属酸化物、及びそれらの金属合金からなる群から選択される、更に好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びそれらの合金からなる群から選択される１つ以上から独立的になる。好ましくは、磁性層は、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／又はコバルト（Ｃｏ）；及び／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／又はコバルト（Ｃｏ）を含む磁性合金；及び／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／又はコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含む。７層ファブリペロー構造を含む磁性薄膜干渉顔料粒子が好ましい場合、磁性薄膜干渉顔料粒子は、Ｃｒ／ＭｇＦ_２／Ａｌ／Ｎｉ／Ａｌ／ＭｇＦ_２／Ｃｒ多層構造からなる７層ファブリペロー吸収体／誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造を含むことが特に好ましい。

【0050】

[049]本明細書に記載する磁性薄膜干渉顔料粒子は、人間の健康及び環境にとって安全なものとして考えられ、例えば、５層ファブリペロー多層構造、６層ファブリペロー多層構造、７層ファブリペロー多層構造に基づく多層顔料粒子及び１つ又は複数の多層のファブリペロー構造を組み合わせる多層構造を有する顔料粒子であってもよく、前記顔料粒子は、約４０重量％～約９０重量％の鉄、約１０重量％～約５０重量％のクロム、及び約０重量％～約３０重量％のアルミニウムを含む実質的にニッケルを含まない組成物を有する磁性合金を含む１つ又は複数の磁性層を含む。人間の健康及び環境にとって安全なものとして考えられる多層顔料粒子の代表例は、欧州特許第２４０２４０１号に見出すことができ、この記載内容全体が参照により本明細書に組み込まれる。

【0051】

[050]光学的可変特性を示す適切な磁性コレステリック液晶顔料粒子としては、限定されないが、磁性単層コレステリック液晶顔料粒子及び磁性多層コレステリック液晶顔料粒子が挙げられる。そのような顔料粒子は、例えば、国際公開第２００６／０６３９２６号、米国特許第６，５８２，７８１号、及び米国特許第６，５３１，２２１号において開示されている。国際公開第２００６／０６３９２６号は、単層及びそこから得られる顔料粒子を開示し、高い輝度及びカラーシフト特性を備え、着磁性などの更なる特定の特性を備えている。開示された単層及び顔料粒子は、前記単層を粉砕することによってそこから得られ、３次元的に架橋されたコレステリック液晶混合物及び磁性ナノ粒子を含む。米国特許第６，５８２，７８１号及び米国特許第６，４１０，１３０号は、シーケンスＡ^１／Ｂ／Ａ^２を含む小板状のコレステリック多層顔料粒子を開示し、Ａ^１及びＡ^２は同一であっても異なっていてもよく、各々は少なくとも１つのコレステリック層を含み、Ｂは、層Ａ１及びＡ２によって透過される光の全て又は一部を吸収し、前記中間層に磁気特性を付与する中間層である。米国特許第６，５３１，２２１号は、シーケンスＡ／Ｂ、及び任意選択でＣを含む小板状のコレステリック多層顔料粒子を開示し、Ａ及びＣは、磁気特性を付与する顔料粒子を含む吸収層であり、Ｂは、コレステリック層である。

【0052】

[051]１つ又は複数の磁性材料を含む適切な干渉被覆顔料としては、限定されないが、１つ又は複数の層で被覆されたコアからなる群から選択される基材からなる構造が挙げられ、コアの少なくとも１つ又は１つ又は複数の層は磁気特性を有する。例えば、適切な干渉被覆顔料は、上記のものなどの磁性材料からなるコアを含み、前記コアは、１つ又は複数の金属酸化物からなる１つ又は複数の層で被覆され、又はそれらは、合成又は天然マイカ、層状ケイ酸塩（例えば、タルク、カオリン、及びセリサイト）、ガラス（例えば、ホウケイ酸塩）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、グラファイト、及びそれらの２つ以上の混合物からなるコアからなる構造を有する。さらに、着色層などの１つ又は複数の更なる層が存在していてもよい。

【0053】

[052]本明細書に記載する非球状、好ましくは小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、好ましくは約２μｍ～約５０μｍのサイズｄ５０（直接光学粒度分布によって測定された）を有する。

【0054】

[053]本明細書に記載する非球状、好ましくは小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、コーティング組成物及びコーティング層で起こり得る劣化からそれらを保護する、及び／又は前記コーティング組成物及びコーティング層へのそれらの組み込みを促進するために処理された表面であってもよく、典型的には、腐食抑制材料及び／又は湿潤剤を使用してもよい。

【0055】

[054]本明細書に述べるように、本明細書に記載する方法は、磁性又は磁化可能な顔料粒子をそれらの採用された位置及び配向に固定するために、コーティング層（ｘ１０）を第２の状態に少なくとも部分的に硬化するステップｃ）及びｅ）を含む。放射線硬化性コーティング組成物の第１の液体状態では、磁性又は磁化可能な顔料粒子が移動、回転することができ、第２の状態では、磁性又は磁化可能な顔料粒子は、あるタイプの放射線硬化性コーティング組成物を使用することによって固定、設けられる。例えば、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子以外の放射線硬化性コーティング組成物の成分は、セキュリティ用途、例えば、紙幣の印刷において使用されるものなどインク又は放射線硬化性コーティング組成物の形態をとっていてもよい。前述の第１及び２の状態は、電磁放射線への暴露に反応して粘性の増加を示す材料を使用することによってもたらされる。すなわち、流動性バインダー材料が硬化又は固化される場合、前記バインダー材料は第２の状態に変わり、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子は、それらの現在位置及び配向に固定され、もはやバインダー材料内で移動、回転することができない。本明細書において使用される「コーティング層（ｘ１０）を少なくとも部分的に硬化すること」によって、非球状、好ましくは小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子がそれらの採用された位置及び配向に固定／固化され、もはや移動、回転することができないことを意味する（本技術分野において粒子の「ピン止め」とも称する）。

【0056】

[055]本明細書に記載するコーティング層（ｘ１０）を作製するために使用した放射線硬化性コーティング組成物は、本明細書に記載する非球状、好ましくは小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子、及び本明細書に記載する約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の化合物を含む。放射線硬化、特にＵＶ－Ｖｉｓ硬化は、照射への暴露後にコーティング組成物の粘性の瞬間的な増加に有利に結びつき、したがって、顔料粒子の更なる移動、その結果、磁気配向ステップ後の情報の消失を防止する。

【0057】

[056]本明細書に記載する非球状、好ましくは小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子、及び本明細書に記載する約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物を含む放射線硬化性コーティング組成物は、カチオン硬化性組成物である。言い換えれば、放射線硬化性コーティング組成物、好ましくはＵＶ－Ｖｉｓ硬化性コーティング組成物は、カチオン硬化性化合物であるモノマー及び／又はオリゴマーを含む。

【0058】

[057]カチオン硬化性組成物は、モノマー及び／又はオリゴマーを反応及び／又は架橋し、それによってコーティング組成物を硬化するために、酸などのカチオン種を解放し、次に硬化を開始する１つ又は複数の化合物の放射線による活性化を典型的に含むカチオン機構によって硬化される１つ以上からカチオン化合物を含む。好ましくは、１つ又は複数のカチオン硬化性化合物は、ビニルエーテル、プロペニルエーテル、エポキシド、オキセタン、グリシジルエーテル及びテトラヒドロフランなどの環状エーテル、ラクトン、環状チオエーテル、ビニルチオエーテル、プロペニルチオエーテル、水酸基含有化合物、及びそれらの混合物からなる群から選択され、好ましくはビニルエーテル、プロペニルエーテル、エポキシド、オキセタン、及びテトラヒドロフランなどの環状エーテル、ラクトン、及びそれらの混合物からなる群から選択されるカチオン硬化性化合物である。

【0059】

[058]好ましくは、本明細書に記載する非球状、好ましくは小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物は、二官能性又は多官能性であってもよい１つ又は複数の脂環式エポキシドを含み、ビニルエーテル、オキセタン、ポリヒドロキシ化合物、及びそれらの混合物からなる群から選択される１つ又は複数の成分を任意選択で更に含み得る。

【0060】

[059]好ましくは、本明細書に独立に記載する１つ又は複数の脂環式エポキシドは、少なくとも１つのシクロヘキサン基及び少なくとも２つのエポキシ基を含む。好ましい脂環式エポキシドは、１つより多い（つまり、少なくとも２つの）シクロヘキサン基を含み、構造式（Ｉ）を有する：

【化1】

式中、－Ｘ－は、１つ又は複数の原子を含む単結合又は二価基を表す。

【0061】

[060]１つの実施形態によれば、Ｘは、炭素数１～１８の直鎖又は分枝鎖アルキレン基である２価炭化水素基であり、前記直鎖又は分枝鎖アルキレン基としては、限定されないが、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、及びトリメチレン基が挙げられる。

【0062】

[061]１つの実施形態によれば、Ｘは、二価脂環式炭化水素基又はシクロアルキン基、例えば、１，２－シクロペンチレン基、１，３－シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、１，２－シクロヘキシレン基、１，３－シクロヘキシレン基、１，４－シクロヘキシレン基、及びシクロヘキシリデン基である。

【0063】

[062]１つの実施形態によれば、Ｘは、－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯＯ－、及び－Ｏ－である１つ又は複数の酸素含有連結基を含む二価基である。１つの実施形態によれば、好ましいエポキシの誘導体は、１つより多いシクロヘキセンオキシド基を含み、構造式（Ｉ）を有し、Ｘは、－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－Ｏ－である１つ又は複数の酸素含有連結基を含む二価基であり、構造式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、又は（ＩＶ）を有する：

【化2】

３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレートに相当し、Ｒ_１～Ｒ_９は、独立に、水素、又は１～１２の炭素原子を含み、好ましくは１～３の炭素原子を含む直鎖若しくは分枝アルキルラジカル（例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉ－プロピル、ｎ－ブチル、ｉ－ブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、ヘキシル、オクチル、デシル、及びドデシル）であり、好ましくは、構造式（ＩＩ）を有する脂環式エポキシドは、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシ－６－メチル－シクロヘキシルメチル－３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシ－２－メチル－シクロヘキシルメチル－３，４－エポキシ－２－メチル－シクロヘキサンカルボキシレート、及び３，４－エポキシ－４－メチル－シクロヘキシルメチル－３，４－エポキシ－４－メチルシクロヘキサンカルボキシレートである；

【化3】

ジカルボン酸の脂環式ジエポキシドエステルに相当し、Ｒ_１～Ｒ_９は、独立に、水素、又は１～１２の炭素原子を含み、好ましくは１～３の炭素原子を含む直鎖若しくは分枝アルキルラジカル（例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、及びデシル）であり、Ａは、原子価結合、又は一般に１～１２の炭素原子を含み、好ましくは３～８の炭素原子を含む直鎖若しくは分枝二価炭化水素ラジカル、例えば、アルキレンラジカル（例えば、トリメチレン、テトラメチレン、ヘキサメチレン、及び２－エチルヘキシレン）及び脂環式ラジカル（例えば、１，４－シクロヘキサン、１，３－シクロヘキサン、及び１，２－シクロヘキサン）であり、好ましくは、構造式（ＩＩＩ）を有するジカルボン酸の脂環式ジエポキシドエステルは、ビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）オキサレート、ビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）ピメレート、及びビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）セバケートである；

【化4】

Ｒ_１～Ｒ_９は、独立に、水素、又は１～３の炭素原子を含む直鎖若しくは分枝炭化水素基であり、構造式（ＩＶ）を有する脂環式ジエポキシドの好ましい例は、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル－５，５－スピロ－３，４－エポキシ）シクロヘキサン－メタ－ジオキサンである。

【0064】

[063]１つの実施形態によれば、本明細書に記載する１つ又は複数の脂環式エポキシドは、構造式（Ｖ）又は（ＶＩ）を有する：

【化5】

【0065】

[064]本明細書に記載する１つ又は複数の脂環式エポキシドは、ヒドロキシ変性又は（メタ）アクリレート変性されていてもよい。例としては、Ｄａｉｃｅｌ社によるＣｙｃｌｏｍｅｒ Ａ４００（ＣＡＳ：６４６３０－６３－３）及びＣｙｃｌｏｍｅｒ Ｍ１００（ＣＡＳ：８２４２８－３０－６）、又はＴｅｔｒａＣｈｅｍ／ＪｉａｎｇｓｕによるＴＴＡ１５及びＴＴＡ１６の名称で市販されている。

【0066】

[065]放射線硬化性コーティング組成物が、本明細書に記載する１つ又は複数のビニルエーテルを含む実施形態について、前記１つ又は複数のビニルエーテルは、好ましくは約２５重量％未満の量、好ましくは約３重量％以上約２０重量％以下の量で存在し、その重量パーセントは放射線硬化性コーティング組成物の全重量を基準としている。ビニルエーテルは、硬化を加速し、粘着性を低減し、それによって、印刷シートが印刷硬化直後に積み重ねて置かれる場合のブロッキング及び裏移りの危険を制限することが本技術分野で公知である。それらはまた、印刷されたセキュリティ成分の物理的抵抗性及び耐薬品性を向上させ、印刷、硬化されたインク層の柔軟性を向上させ、それは、発明のセキュリティインクがプラスチック又はポリマー支持体に印刷される場合に有利であり得る。ビニルエーテルはまた、インクビヒクルと強く共重合しながらインクの粘性を低減することを促進する。

【0067】

[066]好ましいビニルエーテルの例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ－プロピルビニルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、イソ－ブチルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｔｅｒｔ－ブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ－アミルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、４－（ビニルオキシメチル）シクロヘキシルメチルベンゾエート、フェニルビニルエーテル、メチルフェニルビニルエーテル、メトキシフェニルビニルエーテル、２－クロロエチルビニルエーテル、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル、１，６－ヘキサンジオールモノビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、１，４－ブタンジオールジビニルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジビニルエーテル、４－（ビニルオキシ）ブチルベンゾエート、ビス［４－（ビニルオキシ）ブチル］アジペート、ビス［４－（ビニルオキシ）ブチル］サクシネート、ビス［４－（ビニルオキシメチル）シクロヘキシルメチル］グルタレート、４－（ビニルオキシ）ブチルステアレート、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、プロピレンカーボネートのプロペニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールブチルビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールメチルビニルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ポリ（テトラヒドロフラン）ジビニルエーテル、ポリエチレングリコール－５２０メチルビニルエーテル、ｐｌｕｒｉｏｌ－Ｅ２００ジビニルエーテル、トリス［４－（ビニルオキシ）ブチル］トリメリテート、１，４－ビス（２－ビニルオキシエトキシ）ベンゼン、２，２－ビス（４－ビニルオキシエトキシフェニル）プロパン、ビス［４－（ビニルオキシ）メチル］シクロヘキシル］メチル］テレフタレート、ビス［４－（ビニルオキシ）メチル］シクロヘキシル］メチル］イソフタレートが挙げられる。適切なビニルエーテルは、ＥＶＥ、ＩＢＶＥ、ＤＤＶＥ、ＯＤＶＥ、ＢＤＤＶＥ、ＤＶＥ－２、ＤＶＥ－３、ＣＨＶＥ、ＣＨＤＭ－ｄｉ、ＨＢＶＥの名称でＢＡＳＦによって市販されている。本明細書に記載する１つ又は複数のビニルエーテルは、ヒドロキシ変性又は（メタ）アクリレート変性されていてもよい（例えば：ＶＥＥＡＲ（登録商標）、日本触媒の２－（２－ビニルオキシエトキシ）エチルアクリレート（ＣＡＳ：８６２７３－４６－３））。

【0068】

[067]放射線硬化性コーティング組成物が、本明細書に記載する１つ又は複数のオキセタンを含む実施形態について、前記１つ又は複数のオキセタンは、好ましくは約２０重量％以下、好ましくは約３重量％以上約１５重量％以下の量で存在し、その重量パーセントは放射線硬化性コーティング組成物の全重量を基準としている。

【0069】

[068]オキセタンは、硬化を加速し、粘着性を低減し、それによって、印刷シートが印刷硬化直後に積み重ねて置かれる場合のブロッキング及び裏移りの危険を制限することが本技術分野で公知である。それらはまた、組成物と強く共重合しながらインクの粘性を低減することを促進する。オキセタンの好ましい例としては、トリメチレンオキサイド、３，３－ジメチルオキセタン、トリメチロールプロパンオキセタン、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン、３－エチル－３－［（２－エチルヘキシルオキシ）メチル］オキセタン、３，３－ジシクロメチルオキセタン、３－エチル－３－フェノキシメチルオキセタン、ビス（［１－エチル（３－オキセタニル）］メチル）エーテル、１，４－ビス［３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、３，３－ジメチル－２（ｐ－メトキシ－フェニル）－オキセタン、３－エチル－［（トリ－エトキシシリルプロポキシ）メチル］オキセタン、４，４－ビス（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシメチル］ビフェニル、及び３，３－ジメチル－２（ｐ－メトキシ－フェニル）オキセタンが挙げられる。本明細書に記載する１つ又は複数のオキセタンは、ヒドロキシ変性又は（メタ）アクリレート変性されていてもよい（例えば：ＬａｍｂｓｏｎのＵｖｉ－Ｃｕｒｅ Ｓ１７０ ＣＡＳ（ＣＡＳ：３７６７４－５７－０））。

【0070】

[069]放射線硬化性コーティング組成物が、本明細書に記載する１つ又は複数のポリヒドロキシ化合物を含む実施形態について、前記１つ又は複数のポリヒドロキシ化合物は、好ましくは約１５重量％以下、より好ましくは約１重量％～約１０重量％の量で存在し、その重量パーセントは放射線硬化性コーティング組成物の全重量を基準としている。

【0071】

[070]ポリヒドロキシ化合物は、セキュリティ文書、特に紙幣の分野でますます普及しているプラスチック又はポリマー基材などの、劣った接着性を示すことが知られている基材に対する接着性を向上させることが知られている。

【0072】

[071]本明細書に記載する１つ又は複数のポリヒドロキシ化合物は、好ましくは２つより多い水酸基を含み、直鎖、分枝、又は超分枝であってもよい（本技術において樹木状としても称する）。好ましくは、本明細書に記載する１つ又は複数のポリヒドロキシ化合物は、三官能性、四官能性化合物、六官能性化合物等の多官能化合物である。

【0073】

[072]本明細書に記載する１つ又は複数のポリヒドロキシ化合物は、脂肪族又は芳香族ポリエーテルのポリヒドロキシ誘導体、ポリエステルのポリヒドロキシ誘導体、ポリカーボネートのポリヒドロキシ誘導体、グリセロール、トリメチロールプロパン、ジ－トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、及びそれらの混合物からなる群から好ましくは選択される。

【0074】

[073]本明細書に記載する１つ又は複数のポリヒドロキシ化合物は、少なくとも部分的にアルコキシル化されていてもよい。したがって、本明細書に記載する１つ又は複数のポリヒドロキシ化合物は、アルコキシル化単位、好ましくはエトキシル化及び／又はプロポキシル化単位を有していてもよい。

【0075】

[074]好ましい実施形態によれば、本明細書に記載する１つ又は複数のポリヒドロキシ化合物は、三官能性化合物、好ましくはグリセロール及びトリメチロールプロパン、四官能性化合物、好ましくはジ－トリメチロールプロパン及びペンタエリスリトール、六官能化化合物、好ましくはジペンタエリスリトール、及びそれらの混合物からなる群から選択され、前記化合物、好ましくは前記トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、及びジペンタエリスリトールは、アルコキシル化（エトキシル化、及び／又はプロポキシル化）されていてもよい。

【0076】

[075]放射線硬化性コーティング組成物が、本明細書に記載する１つ又は複数のグリシジルエーテル化合物を含む実施形態について、前記１つ又は複数のグリシジルエーテルは、約１重量％～約５重量％の量で存在することが好ましく、その重量パーセントは放射線硬化性コーティング組成物の全重量を基準としており、又はトップコーティング組成物の全重量を基準として１重量％～２５重量％である。

【0077】

[076]ＵＶ－Ｖｉｓ放射線硬化性インクでのエポキシドの使用は、インクビヒクルと強く共重合しながらインクの粘性を低減することと同様に、硬化を促進し、粘着性低下させることに役立つ。本明細書に記載する環状脂肪族エポキシド以外のエポキシドの好ましい例としては限定されないが、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、ポリ（エチレングリコール）ジグリシジルエーテル、ポリ（プロピレングリコール）ジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ビスフェノール－Ａジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、ペンタエリトリトールテトラグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルグリシジルエーテル、ヘキサデシルグリシジルエーテル、２－エチル－ヘキシルグリシジルエーテル、オクチルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ドデシルグリシジルエーテル、テトラデシルグリシジルエーテル、Ｃ１２／Ｃ１４アルキルグリシジルエーテル、Ｃ１３／Ｃ１５－アルキルグリシジルエーテル、及びそれらの混合物が挙げられる。脂環式エポキシド以外の適切なエポキシドは、Ｇｒｉｌｏｎｉｔ（登録商標）（例えば、Ｇｒｉｌｏｎｉｔ（登録商標）Ｖ５１－６３又はＲＶ１８０６）の登録商標でＥＭＳ Ｇｒｉｌｔｅｃｈによって市販されている。

【0078】

[077]本明細書に記載する非球状、好ましくは小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物は、有機顔料粒子、無機顔料微粒子、及び有機染料からなる群から選択される１つ又は複数の着色成分、及び／又は１つ又は複数の添加剤を更に含んでいてもよい。後者の例としては、限定されないが、粘性（例えば、溶媒、糊稠剤、及び界面活性剤）、稠度（例えば、沈降防止剤、充填剤、及び可塑剤）、発泡性（例えば、消泡剤）、潤滑性（ワックス、油）、ＵＶ安定性（光安定剤）、接着性、帯電防止性、保存安定性（重合防止剤）などのコーティング組成物の物理的、レオロジー的、及び化学的パラメータを調節するために使用される化合物及び材料が挙げられる。本明細書に記載する添加剤は、添加剤の寸法の少なくとも１つが１～１０００ｎｍの範囲にあるいわゆるナノ材料を含めて、本技術分野において公知の量及び形態でコーティング組成物中に存在していてもよい。

【0079】

[078]本明細書に記載する非球状、好ましくは小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物は、磁性材料（本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子と異なる）、発光材料、電界発光材料、アップコンバート材料、電気的導電材料、及び赤外線吸収材料からなる群から選択される１つ又は複数の標識物質又は識別用添加剤、及び／又は１つ又は複数の機械読み取り可能材料を更に含んでいてもよい。本明細書において使用される用語「機械読み取り可能の材料」は、装置又は機械によって検知可能であり、その検知及び／又は認証に対して特定の装置の使用によってコーティング又は前記コーティングを含む物品を認証する方法を与えるために、前記コーティングに含むことができる、少なくとも１つの独特の性質を示す材料を指す。

【0080】

[079]本明細書に記載する放射線硬化性コーティング組成物は、本明細書に記載するバインダー材料の存在下で存在する場合に、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子及び１つ又は複数の添加剤を分散又は混合し、液状組成物を形成することによって調製されてもよい。存在する場合、１つ又は複数の光開始剤は、他の全ての成分の分散又は混合ステップの間に組成物に添加されてもよく、又は後の段階、つまり、液体コーティング組成物の形成後に添加されてもよい。

【0081】

[080]本明細書に記載する方法は、本明細書に記載するステップａ）後に、本明細書に記載するコーティング層（ｘ１０）上に、少なくとも部分的に本明細書に記載するトップコーティング組成物を付与するステップｂ）を更に含む。本明細書に記載するトップコーティング組成物は、本明細書に記載する１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の形態で付与され、部分的に本明細書に記載するコーティング層（ｘ１０）に重なり（つまり、少なくとも１つのエリアで重なり）、コーティング層（ｘ１０）の放射線硬化性コーティング組成物は、湿潤未重合状態であり、磁性又は磁化可能な顔料粒子は自由に移動、回転可能である。

【0082】

[081]本明細書において使用される用語「しるし」は、マーキング又はサイン又はパターンの識別からなる連続及び不連続層を意味する。好ましくは、本明細書に記載する１つ又は複数のしるし（ｘ３０）は、コード、シンボル、英数字のシンボル、モチーフ、幾何学模様（例えば、円、三角形、及び規則的又は不規則的多角形）、文字、単語、数、ロゴ、図、ポートレート、及びそれらの組合せからなる群から選択される。コードの例としては、コード化された英数字データ、一次元バーコード、二次元バーコード、ＱＲコード（登録商標）、データ行列、及びＩＲ読み取りコードなどのコード化されたマークが挙げられる。本明細書に記載する１つ又は複数のしるし（ｘ３０）は、固体しるし及び／又はラスターしるしであってもよい。

【0083】

[082]本明細書に記載するトップコーティング組成物は、付与プロセス、好ましくはスプレーコーティング、エアロゾルインクジェット印刷、電気流体力学印刷、スロットダイコーティング、及びインクジェット印刷からなる群から好ましくは選択される非接触流体マイクロディスペンシングプロセス、より好ましくはインクジェット印刷プロセスによって本明細書に記載する１つ又は複数のしるしの形態（ｘ３０）で付与され、前記非接触流体マイクロディスペンシング印刷プロセスは、本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）上、又はその層内の１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の特有の作製を可能にする可変情報印刷方法である。付与プロセスは、作製される１つ又は複数のしるしのデザイン及び分解能の関数として選択される。

【0084】

[083]インクジェット印刷は、可変ハーフトーンを含む、本明細書に記載する１つ又は複数のしるしを示す光学効果層（ＯＥＬ）を作製するために有利に使用され得る。インクジェットハーフトーン印刷は、可変インクジェット付着量又は坪量の付与による、無数の色又は灰色を含む連続階調画像をシミュレートする複写技術である。

【0085】

[084]スプレーコーティングは、ノズルを介して組成物を押し進めて微細なエアロゾルが形成される技術である。キャリヤガス及び静電帯電は、プリントされる表面にエアロゾルを向けるように機能するために関連し得る。スプレー印刷は、スポット及びラインを印刷することを可能にする。スプレー印刷に適切な組成物は、典型的には、約１０ｍＰａ．ｓ～約１Ｐａ．ｓ（２５℃（１０００ｓ^－１）の粘性を有する。スプレーコーティング印刷の分解能は、ミリメートル範囲にある。スプレー印刷は、例えば、Ｆ．Ｃ．Ｋｒｅｂｓ、Ｓｏｌａｒ Ｅｎｅｒｇｙ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＆ Ｓｏｌａｒ Ｃｅｌｌｓ（２００９）、９３、４０７頁に記載されている。

【0086】

[085]エアロゾルインクジェット印刷（ＡＪＰ）は、広範囲の基材上で微細な特徴をもたらすことを目的とした新たな非接触直接書き込みアプローチである。ＡＪＰは、広い材料範囲及び自由形状の堆積と対応し、配向の独立性に加えて、比較的大きな離間距離（例えば、１～５ｍｍ）と一緒に高解像度（約１０マイクロメートル程度）を可能にする。技術は、超音波又は空気圧アトマイザーを使用するエアロゾル発生を含み、典型的に約１ｍＰａ．ｓ～約１Ｐａ．ｓ（２５℃（１０００ｓ^－１）の粘性を有する組成物からエアロゾルを発生する。エアロゾルジェット印刷は、例えば、Ｎ．Ｊ．Ｗｉｌｋｉｎｓｏｎら、Ｔｈｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（２０１９）１０５：４５９９～４６１９頁に記載されている。

【0087】

[086]電気流体力学的インクジェット印刷は、高解像度インクジェット印刷技術である。電気流体力学的インクジェット印刷技術は、外部的に付与される電界を使用して、基材上に小滴サイズ、放出回数、及び配置を操作して高い作製速度を維持しながら従来のインクジェット印刷より高い解像度を得る。電気流体力学的インクジェット印刷の分解能は、従来のインクジェット印刷技術より約２桁高く、したがって、それは、ナノスケールパターン及びミクロスケールパターンの配向に使用することができる。電気流体力学的インクジェット印刷は、ＤＯＤ又は連続モードの両方で使用されてもよい。電気流体力学的インクジェット印刷用組成物は、典型的には約１ｍＰａ．ｓ～約１Ｐａ．ｓ（２５℃（１０００ｓ^－１）の粘性を有する。電気流体力学的インクジェット印刷技術は、例えば、Ｐ．Ｖ．Ｒａｊｅ ａｎｄ Ｎ．Ｃ．Ｍｕｒｍｕ、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｅｍｅｒｇｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ａｎｄ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ、（２０１４）、４（５）、１７４～１８３頁に記載されている。

【0088】

[087]スロットダイコーティングは、１次元コーティング技術である。スロットダイコーティングは、異なる材料のストライプが互いの上に層状に重ねられた多層コーティングを作製することによく適する材料のストライプのコーティングを可能にする。パターンの整列は、コーティングヘッドをウェブ移動の方向に垂直な方向に沿って移動することによってもたらされる。スロットダイコーティングヘッドは、スロットダイコーティングインクが分散されるコーティングヘッドのスロットを規定するマスクを含む。スロットダイコーティングヘッドの一例は、Ｆ．Ｃ．Ｋｒｅｂｓ、Ｓｏｌａｒ Ｅｎｅｒｇｙ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＆ Ｓｏｌａｒ Ｃｅｌｌｓ（２００９）、９３、４０５～４０６頁において説明されている。スロットダイコーティングに適切な組成物は、典型的に約１ｍＰａ．ｓ～約２０ｍＰａ．ｓ（２５℃（１０００ｓ^－１）の粘性を有する。

【0089】

[088]１つの実施形態によれば、本明細書に記載するトップコーティング組成物は、インクジェット印刷プロセス、好ましくは連続インクジェット（ＣＩ）印刷プロセス、又はドロップオンデマンド（ＤＯＤ）インクジェット印刷プロセス、より好ましくはドロップオンデマンド（ＤＯＤ）インクジェット印刷プロセスによって本明細書に記載する１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の形態で印刷される。ドロップオンデマンド（ＤＯＤ）印刷は、非接触印刷プロセスであり、小滴は、印刷に必要な場合、ジェットを不安定にすることによるのではなく一般に排出機構によって単に作製される。小滴を作製するために印刷ヘッドにおいて使用される機構によって、ＤＯＤ印刷は、圧電インパルス、サーマルジェット、バルブジェット（約１ｍＰａ．ｓ～約１Ｐａ．ｓ（２５℃（１０００ｓ^－１）の粘性）、及び静電プロセスに分割される。

【0090】

[089]１つの実施形態によれば、本明細書に記載するトップコーティング組成物は、カチオン硬化性化合物、例えば、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物について本明細書に記載し、特に、ビニルエーテル、プロペニルエーテル、環状エーテル、例えば、エポキシド、オキセタン及びテトラヒドロフラン、それらの混合物、並びに１つ又は複数の溶媒からなる群から選択されるものである１つ又は複数のモノマー及び／又はオリゴマーを含む。トップコーティング組成物が、インクジェット印刷プロセスによって付与される実施形態について、前記トップコーティング組成物は、例えば、放射線硬化性インクジェットの分野において使用される湿潤剤、消泡剤、界面活性剤、（共）溶媒、及びそれらの混合物などの従来の添加剤及び成分を更に含んでいてもよい。

【0091】

[090]本明細書に記載するトップコーティング組成物は、１つ又は複数の標識物質又はタガント及び／又は１つ又は複数の機械可読材料、例えば、本明細書に記載する非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物について記載されたものを、前記物質、タガント、又は機械可読材料のサイズが、本明細書に記載する付与プロセスに適していれば更に含んでいてもよい。

【0092】

[091]その１つ又は複数のしるし（ｘ３０）を示す光学効果層（ＯＥＬ）の作製する方法は、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）及び前記１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の下のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数のエリアをＬＥＤ硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化するステップ、及びコーティング層（ｘ１０）を２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（ｘ６０）で少なくとも部分的に硬化するステップを含み、特定の組合せを要求して方法の異なる段階で１つ又は複数のしるし（ｘ３０）及びコーティング層（ｘ１０）の選択的な硬化を可能にする。したがって、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物、及びステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物は、以下の実施形態に記載する組合せのうちの１つに従って選択される。

【0093】

[092]第１の実施形態によれば、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するヨードニウム塩である。好ましくは、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の前記１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩であり、アニオン部分は、好ましくはＳｂＦ_６ ^－（ヘキサフルオロアンチモネート、ＣＡＳ Ｎｒ １７１１１－９５－４）；ＰＦ_６ ^－（ヘキサフルオロホスフェート、ＣＡＳ Ｎｒ １６９１９－１８－９）；ＡｓＦ_６ ^－（ヘキサフルオロアルセネート、ＣＡＳ Ｎｒ １６９７３－４５－８）；Ｆ_４Ｂ^－（テトラフルオロボレート、ＣＡＳ Ｎｒ １４８７４－７０－５）；（Ｃ_６Ｆ_５）_４Ｂ^－（テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ＣＡＳ Ｎｒ ４７８５５－９４－７）；（ＣＦ_３ＳＯ_２）_３Ｃ^－（トリス（トリフルオロメチルスルホニル）メチド、ＣＡＳ Ｎｒ １３０４４７－４５－９）；（ＣＦ_３）ＳＯ_３ ^－（トリフルオロメタンスルホネート、ＣＡＳ Ｎｒ ３７１８１－３９－８）；（ＣＨ_３Ｃ_６Ｈ_４）ＳＯ_３ ^－（４－メチルベンゼンスルホネート、ＣＡＳ Ｎｒ １６７２２－５１－３）；（ＣＦ_３）ＣＯ_２ ^－（トリフルオロアセテート、ＣＡＳ Ｎｒ １４４７７－７２－６）；（Ｃ_４Ｆ_９）ＳＯ_３ ^－（１，１，２，２，３，３，４，４，４－ノナフルオロ－１－ブタンスルホネート、ＣＡＳ Ｎｒ ４５１８７－１５－３）；（Ｃ_４Ｆ_９）ＣＯ_２ ^－（２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロ－１－ペンタノエート、ＣＡＳ Ｎｒ ４５１６７－４７－３）；好ましくはＳｂＦ_６ ^－、ＰＦ_６ ^－又は（Ｃ_６Ｆ_５）_４Ｂ^－であり、カチオン部分は、好ましくはビス（４－ドデシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ７１７８６－６９－１）；ビス［４－（１，１－ジメチルエチル）フェニル］ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ６１２６７－４４－５）；（４－イソプロピルフェニル）（４－メチルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １７８２３３－７１－１）；ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ４６４４９－５６－３）；（４－メチルフェニル）［４－（２－メチルプロピル）フェニル］ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ３４４５６２－７９－４）；ビス（２，４－ジメチルフェニル）］ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ７８３３７－０７－２）；ビス（３，４－ジメチルフェニル）］ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ６６４８２－５７－３）；（４－メチルフェニル）（２，４，６－トリメチルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ７５８６２９－５１－５）；ビス［（４－（２－メチルプロピル）フェニル］ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １５７５５２－６６－４）；ビス（４－ブチルフェニル］ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ７６３１０－２９－７）；ビス（２，４，６－トリメチルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ９４５６４－９７－３）；ビス（４－ヘキシルイルフェニル］ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ２４９３００－４８－９）；ビス（４－デシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １３７１４１－４４－７）；（４－デシルフェニル）（４－ウンデシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １６７９９７－８３－３）；ビス（４－ウンデシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １６７９９７－６１－７）；ビス（４－トリデシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １２４０５３－０８－３）；ビス（４－テトラデシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １６７９９７－６３－９）；ビス（４－ヘキサデシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １３７１４１－４１－４）；ビス（４－ヘプタデシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １４４０９５－９１－０）；ビス（４－オクタデシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ２０２０６８－７５－５）；（４－デシルフェニル）（４－ドデシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １６７９９７－６７－３）；（４－デシルフェニル）（４－トリデシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １６７９９７－７７－５）；（４－デシルフェニル）（４－テトラデシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １６７９９７－８１－１）；（４－ドデシルフェニル）（４－ウンデシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １６７９９７－７１－９）；（４－ドデシルフェニル）（４－トリデシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １６７９９７－６９－５）；（４－ドデシルフェニル）（４－テトラデシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １６７９９７－６５－１）；（４－トリデシルフェニル）（４－ウンデシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １６７９９７－７３－１）；（４－テトラデシルフェニル）（４－ウンデシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １６７９９７－７９－７）；（４－テトラデシルフェニル）（４－トリデシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １６７９９７－７５－３）；ｐ－（オクチロキシフェニル）フェニルヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １２１２３９－７４－５）；［４－［（２－ヒドロキシテトラデシル）オキシ］フェニル］フェニルヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １３９３０１－１４－７）；フェニル［３－（トリフルオロメチル）フェニル］ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ７８９４４３－２６－１）；ビス（４－フルオロフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ９１２９０－８８－９）；（４－ニトロフェニル）フェニルヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ４６７３４－２３－０）；（４－ニトロフェニル）（２，４，６－トリメチルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １１４６１２７－１０－７）；より好ましくは、ビス（４－ドデシルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ７１７８６－６９－１）；ビス［４－（１，１－ジメチルエチル）フェニル］ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ６１２６７－４４－５）；（４－イソプロピルフェニル）（４－メチルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １７８２３３－７１－１）；ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ４６４４９－５６－３）；又は（４－メチルフェニル）［４－（２－メチルプロピル）フェニル］ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ３４４５６２－７９－４）である。好ましくは、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、ビス（４－ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１７８６－７０－４）；ビス［４－（１，１－ジメチルエチル）フェニル］ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６１３５８－２５－６）；（４－イソプロピルフェニル）（４－メチルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＣＡＳ Ｎｒ １７８２３３－７２－２）；ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）；（４－メチルフェニル）［４－（２－メチルプロピル）フェニル］ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ３４４５６２－８０－７）、及びそれらの混合物からなる群から選択される、より好ましくはビス（４－ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１７８６－７０－４）；ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）；及びそれらの混合物からなる群から選択されるヨードニウム塩である。本発明の第１の実施形態についてのヨードニウム塩の特に好適な例は、ＬａｍｂｓｏｎのＳｐｅｅｄＣｕｒｅ９３７（ＣＡＳ Ｎｒ ７１７８６－７０－４）、ＳｐｅｅｄＣｕｒｅ９３８（ＣＡＳ Ｎｒ ６１３５８－２５－６）、ＳｐｅｅｄＣｕｒｅ９３９（ＣＡＳ Ｎｒ １７８２３３－７２－２）、ＩＧＭ ＲｅｓｉｎｓのＯＭＮＩＣＡＴ２５０（ＣＡＳ Ｎｒ ３４４５６２－８０－７）及びＯＭＮＩＣＡＴ４４０（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）、及びＤＥＵＴＥＲＯＮのＤＥＵＴＥＲＯＮ ＵＶ１２４０（ＣＡＳ Ｎｒ ７１７８６－７０－４）及びＤＥＵＴＥＲＯＮ ＵＶ１２４２（ＣＡＳ Ｎｒ ７１７８６－７０－４）の名称下で市販されている。

【0094】

[093]前記第１の実施形態によれば、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物は、チオキサントン化合物であり、好ましくは２－イソプロピル－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ５４９５－８４－１）；４－（１－メチルエチル）－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ８３８４６－８６－０）；２，４－ジエチル－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ８２７９９－４４－８）；２－クロロ－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ８６－３９－５）；１－クロロ－４－プロポキシ－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ １４２７７０－４２－１）；１，３－ジ［［α－［１－クロロ－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－４－イル）オキシ］アセチルポリ［オキシ（１－メチルエチレン）］］オキシ］－２，２－ビス［［α－［１－クロロ－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－４－イル）オキシ］アセチルポリ［オキシ（１－メチルエチレン）］］オキシメチルプロパン（ＣＡＳ Ｎｒ １００３５６７－８３－６）；α－［２－［（９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテニル）オキシ］アセチル］－ω－［［２－［（９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテニル）オキシ］アセチル］オキシ］－ポリ（オキシ－１，４－ブタンジイル（ＣＡＳ Ｎｒ ８１３４５２－３７－８）；２－［２－［１－［２－［［２－（９－オキソチオキサンテン－２－イル）オキシアセチル］アミノ］－３－［１－［２－（２－プロプ－２－エノイルオキシエトキシ）エトキシ］エトキシ］－２－［１－［２－（２－プロプ－２－エノイルオキシエトキシ）エトキシ］エトキシメチル］プロポキシ］エトキシ］エトキシ］エチルプロプ－２－エノアート（ＣＡＳ Ｎｒ １４２７３８８－０３－１）；α－［２－［（９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテニル）オキシ］アセチル］－ω－［［２－［（９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテニル）オキシ］アセチル］オキシ］－ポリ（オキシ－１，４－ブタンジイル）（ＣＡＳ Ｎｒ ８１３４５２－３７－８）；それらのオリゴマー及びポリマー化合物（ＣＡＳ Ｎｒ ５１５１３９－５１－２及び２０５５３３５－４６－９）；及び好ましくは、２－イソプロピル－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ５４９５－８４－１）；４－（１－メチルエチル）－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ８３８４６－８６－０）；１－クロロ－４－プロポキシ－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ １４２７７０－４２－１）；１，３－ジ［［α－［１－クロロ－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－４－イル）オキシ］アセチルポリ［オキシ（１－メチルエチレン）］］オキシ］－２，２－ビス［［α－［１－クロロ－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－４－イル）オキシ］アセチルポリ［オキシ（１－メチルエチレン）］］オキシメチルプロパン（ＣＡＳ Ｎｒ １００３５６７－８３－６）；それらのオリゴマー及びポリマー化合物（ＣＡＳ Ｎｒ ２０５５３３５－４６－９）；及びそれらの混合物からなる群から選択されるそれらの混合物である。本発明の第１の実施形態についてのチオキサントン化合物の特に好適な例は、ＬａｍｂｓｏｎのＳｐｅｅｄＣｕｒｅ２－ＩＴＸ（ＣＡＳ Ｎｒ ５４９５－８４－１）、２－クロロ－チオキサントン（ＣＡＳ Ｎｒ ８６－３９－５）、ＳｐｅｅｄＣｕｒｅ ＣＰＴＸ（ＣＡＳ Ｎｒ １４２７７０－４２－１）、及びＳｐｅｅｄＣｕｒｅ７０１０／７０１０Ｌ（ＣＡＳ Ｎｒ １００３５６７－８３－６）；ＩＧＭ ＲｅｓｉｎｓのＯｍｎｉｒａｄ ＩＴＸ（ＣＡＳ Ｎｒ ５４９５－８４－１及び８３８４６－８６－０）、Ｏｍｎｉｒａｄ ＤＥＴＸ（ＣＡＳ Ｎｒ ８２７９９－４４－８）、Ｏｍｎｉｐｏｌ ＴＸ（ＣＡＳ Ｎｒ ８１３４５２－３７－８）、Ｏｍｎｉｐｏｌ ３ＴＸ（ＣＡＳ Ｎｒ １４２７３８８－０３－１）、及びＲａｈｎのＧｅｎｏｐｏｌ（登録商標）ＴＸ－１（ＣＡＳ Ｎｒ ５１５１３９－５１－２）、Ｇｅｎｏｐｏｌ（登録商標）ＴＸ－２（ＣＡＳ Ｎｒ ２０５５３３５－４６－９）の名称で市販されている。

【0095】

[094]第２の実施形態によれば、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物は、ヨードニウム塩であり、第１の実施形態について上述したものである。

【0096】

[095]前記第２の実施形態によれば、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物は、９，１０－ジエトキシ－アントラセン（ＣＡＳ Ｎｒ ６８８１８－８６－０）；９，１０－ジブトキシ－アントラセン（ＣＡＳ Ｎｒ ７６２７５－１４－４）、及びそれらの混合物からなる群からから好ましくは選択されるアントラセン化合物、好ましくは９，１０－ジブトキシ－アントラセン（ＣＡＳ Ｎｒ ７６２７５－１４－４）である。本発明の第２の実施形態についてのアントラセン化合物の特に好適な例は、川崎化成社のＡＮＴＨＲＡＣＵＲＥ（登録商標）ＵＶＳ１１０１（ＣＡＳ Ｎｒ ６８８１８－８６－０）、ＡＮＴＨＲＡＣＵＲＥ（登録商標）ＵＶＳ １３３１（ＣＡＳ Ｎｒ ７６２７５－１４－４）の名称で市販されている。

【0097】

[096]第３の実施形態によれば、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物は、ヨードニウム塩であり、第１の実施例について上述したものである。

【0098】

[097]前記３の実施形態によれば、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物は、クマリン化合物、好ましくは３－（４－ドデシルベンゾイル）－５，７－ジメトキシ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－２－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ２１７０１５３－４３－０）、３－（４－Ｃ_１０－Ｃ_１３－ベンゾイル）－５，７－ジメトキシ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－２－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ２２４３７０３－９１－３）である。本発明の第３の実施形態についてのクマリン化合物の特に好適な例は、ＩＧＭ ＲｅｓｉｎｓのＳＡＣＵＲＥ３６４４（ＣＡＳ Ｎｒ ２２４３７０３－９１－３）の名称で市販されている。

【0099】

[098]第４の実施形態によれば、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物は、ヨードニウム塩であり、第１の実施形態について上述したものである。

【0100】

[099]前記第４の実施形態によれば、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物は、ナフタレン化合物であり、好ましくは９，１０－ジエトキシ－ナフタレン（ＣＡＳ Ｎｒ ２７２９４－３７－７）であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物は、９，１０－ジエトキシ－アントラセン（ＣＡＳ Ｎｒ ６８８１８－８６－０）；９，１０－ジブトキシ－アントラセン（ＣＡＳ Ｎｒ ７６２７５－１４－４）、及びそれらの混合物からなる群から好ましくは選択される１つ又は複数のアントラセン化合物、好ましくは９，１０－ジブトキシ－アントラセン（ＣＡＳ Ｎｒ ７６２７５－１４－４）を更に含む。本発明の第４の実施形態についてのナフタレン化合物の特に好適な例は、川崎化成社のＡＮＴＨＲＡＣＵＲＥ（登録商標）ＥＴ２２０１（ＣＡＳ Ｎｒ ２７２９４－３７－７）の名称で市販されている。本発明の第４の実施形態についてのアントラセン化合物の特に好適な例は、川崎化成社のＡＮＴＨＲＡＣＵＲＥ（登録商標）ＵＶＳ１３３１（ＣＡＳ Ｎｒ ７６２７５－１４－４）の名称で市販されている。

【0101】

[0100]第５の実施形態によれば、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するスルホニウム塩である。好ましくは、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の前記１つ又は複数の化合物は、スルホニウム塩であり、アニオン部分は、好ましくはＳｂＦ_６ ^－（ヘキサフルオロアンチモネート、ＣＡＳ Ｎｒ １７１１１－９５－４）；ＰＦ_６ ^－（ヘキサフルオロホスフェート、ＣＡＳ Ｎｒ １６９１９－１８－９）；ＡｓＦ_６ ^－（ヘキサフルオロアルセネート、ＣＡＳ Ｎｒ １６９７３－４５－８）；Ｆ_４Ｂ^－（テトラフルオロボレート、ＣＡＳ Ｎｒ １４８７４－７０－５）；（Ｃ_６Ｆ_５）_４Ｂ^－（テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ＣＡＳ Ｎｒ ４７８５５－９４－７）；（ＣＦ_３ＳＯ_２）_３Ｃ^－（トリス（トリフルオロメチルスルホニル）メチド、ＣＡＳ Ｎｒ １３０４４７－４５－９）；（ＣＦ_３）ＳＯ_３ ^－（トリフルオロメタンスルホネート、ＣＡＳ Ｎｒ ３７１８１－３９－８）；（ＣＨ_３Ｃ_６Ｈ_４）ＳＯ_３ ^－（４－メチルベンゼンスルホネート、ＣＡＳ Ｎｒ １６７２２－５１－３）；（ＣＦ_３）ＣＯ_２ ^－（トリフルオロアセテート、ＣＡＳ Ｎｒ １４４７７－７２－６）；（Ｃ_４Ｆ_９）ＳＯ_３ ^－（１，１，２，２，３，３，４，４，４－ノナフルオロ－１－ブタンスルホネート（ＣＡＳ Ｎｒ ４５１８７－１５－３）；（Ｃ_４Ｆ_９）ＣＯ_２ ^－（２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロ－１－ペンタノエート、ＣＡＳ Ｎｒ ４５１６７－４７－３）；好ましくはＳｂＦ_６ ^－又はＰＦ_６ ^－であり、カチオン部分は、好ましくは４－（フェニルチオ）フェニルジフェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ４７４８０－４４－４）；ビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィド（ＣＡＳ Ｎｒ ７４２２７－３４－２）；（４－メチルフェニル）ジフェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ４７０４５－３１－８）；（３－メチルフェニル）ジフェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ３４７８４１－４９－０）；ビス（４－メチルフェニル）フェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ７００８２－５８－５）；［（４－（１，１－ジメチルエチル）フェニル］ジフェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ６６４８２－５４－０）；ビス［４－（１－メチルエチル）フェニル］フェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ７００８４－２１－８）；［（４－（２－メチルプロピル）フェニル］ジフェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ２５５０５６－４１－８）；（４－メトキシフェニル）ジフェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ７００８４－２３－０）；１－ナフタレニルジフェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １１６８０８－６８－５）；トリス（４－メチルフェニル）－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ４７１９７－４３－３）；（４－ブロモフェニル）ジフェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ７０２４４－６０－９）；（４－ヨードフェニル）ジフェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ２５５０５６－４５－２）；（４－フルオロフェニル）ジフェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ７００８４－２５－２）；（４－クロロフェニル）ジフェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ４７０４５－３２－９）；（４－フェノキシフェニル）ジフェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ８２６１７－０７－０）；（４’－メチル［１，１’－ビフェニル］－４－イル）ジフェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ８６８６１０－３８－２）；トリス（４－プロピルフェニル）－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ９３５３９９－０９－０）；ビス（４－ブチルフェニル）フェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ５１８９９１－２３－６）；トリス［４（１－メチルエチル）フェニル］－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ５９２５１８－３９－３）；Ｓ，Ｓ’－１，３－フェニルエンビス［Ｓ，Ｓ’－ジフェニル］－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ６４１６３８－１８－８）；（４－ドデシルフェニル）ジフェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １０８４９３－５５－６）；（４－ベンゾイルフェニル）ジフェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １２７８５５－２３－６）；ビス（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）（４－メチルフェニル）－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ９１８１５－４８－４）；トリス［４－［１，１－ジメチルエチル）フェニル］－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ９１８１５－５６－４）；トリフェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １８３９３－５５－０）；５－（４－メチルフェニル）－ジベンゾチオフェニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ４９８６７－３９－２）；５－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］－チアントレニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ４９２４６６－５５－４）；１０－（４－メチルフェニル）－９Ｈ－チオキサンテニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ６６４８２－７７－７）；ジフェニル［４－［［（４－フェニルチオフェニル］チオ］フェニル］－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １０１２００－５４－８）；フェニルビス［４－フェニルチオ）フェニル］－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １０１２００－５９－３）；５－［４－（フェニルチオ）フェニル］－チアントレニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １０１２００－５６－０）；５－［４－（フェニルチオ）フェニル］－ジベンゾチオフェニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ４９２４６６－６７－８）；１０－［４－（ジフェニルチオ）フェニル］－９Ｈ－チオキサンテニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ９０３９０７－４１－５）；５－フェニル－チオキサンテニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ４７０４１－１０－１）；１０－フェニル－９Ｈ－チオキサンテニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ５３５１２－２２－４）；５－（４－メチルフェニル）－チオキサンテニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ４７１２４－９４－７）；５－［１，１’－ビフェニル］－４－イル－チオキサンテニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ４７８７７４－６７－３）；又はＳ，Ｓ’－（チオジ－４，１－フェニレン）ビス［Ｓ，Ｓ’－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）］フェニル］－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １０６２２０－６９－３）；より好ましくは４－（フェニルチオ）フェニルジフェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ４７４８０－４４－４）又はビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィド（ＣＡＳ Ｎｒ ７４２２７－３４－２）である。好ましくは、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物は、４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０）；ビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ８９４５２－３７－９）；４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ７５４８２－１８－７）；ビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビス（ヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ７４２２７－３５－３）；Ｓ，Ｓ’－（チオジ－４，１－フェニレン）ビス［Ｓ，Ｓ’－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）］フェニル］－スルホニウムビス［ヘキサフルオロホスフェート］（ＣＡＳ Ｎｒ １０６２２０－７０－６）；Ｓ，Ｓ’－（チオジ－４，１－フェニレン）ビス［Ｓ，Ｓ’－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）］フェニル］－スルホニウムビス［ヘキサフルオロアンチモネート］（ＣＡＳ Ｎｒ １２５０５４－４７－９）；５－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］チアントレニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ４９２４６６－５６－５）；及びそれらの混合物からなる群から選択される；より好ましくは４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０）；ビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ８９４５２－３７－９）；及びそれらの混合物からなる群から選択されるスルホニウム塩である。本発明の第５の実施形態についてのスルホニウム塩の特に好適な例は、ＬａｍｂｓｏｎのＳｐｅｅｄＣｕｒｅ９７６（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０及び８９４５２－３７－９）及びＳｐｅｅｄＣｕｒｅ９９２（ＣＡＳ Ｎｒ ７５４８２－１８－７及び７４２２７－３５－３）、ＤｏｕｂｌｅＢｏｎｄのＤｏｕｂｌｅＣｕｒｅ（登録商標）１１７２（ＣＡＳ Ｎｒ ６１７７１１－０３－２）、ＩＧＭ ＲｅｓｉｎｓのＥＳＡＣＵＲＥ１１８７（ＣＡＳ Ｎｒ ４９２４６６－５６－５）、及びＡｄｅｋａのＯｐｔｏｍｅｒ ＳＰ１５０（ＣＡＳ Ｎｒ １０６２２０－７０－６）、Ｏｐｔｏｍｅｒ ＳＰ１７０（ＣＡＳ Ｎｒ １２５０５４－４７－９）の名称で市販されている。

【0102】

[0101]前記第５の実施形態によれば、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物は、第２の実施形態について記載されたものであるアントラセン化合物である。

【0103】

[0102]第６の実施形態によれば、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物は、スルホニウム塩であり、第５の実施形態について上述したものである。

【0104】

[0103]前記第６の実施形態によれば、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物は、第１の実施形態について上述したものであるチオキサントン化合物であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物は、第１の実施形態について上述したものであるヨードニウム塩である１つ又は複数の化合物を更に含む。

【0105】

[0104]第７の実施形態によれば、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物は、スルホニウムであり、第５の実施形態について上述したものである。

【0106】

[0105]前記第７の実施形態によれば、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物は、第４の実施形態について上述したものであるナフタレン化合物であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物は、第４の実施形態について上述したものである１つ又は複数のアントラセン化合物を更に含む。

【0107】

[0106]第８の実施形態によれば、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物は、スルホニウム塩であり、第５の実施形態について上述したものである。

【0108】

[0107]前記第８の実施形態によれば、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物は、第３の実施形態について上述したものであるクマリン化合物であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物は、第１の実施形態について上述したものであるヨードニウム塩である１つ又は複数の化合物を更に含む。

【0109】

[0108]第９の実施形態によれば、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物は、第５の実施形態について上述したものであるヨードニウム塩、スルホニウム塩、及びそれらの混合物からなる群から選択される。ヨードニウム塩の限定しない例は、本明細書に記載するもの、標準書籍で見つけることができる他のものであり、書籍としては、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ ＆ ＥＢ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ，Ｉｎｋｓ ＆ Ｐａｉｎｔｓ」、３巻、Ｇ．Ｂｒａｄｌｅｙ編、ＳＩＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｌｉｍｉｔｅｄと共同してＪｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓによる１９９８年に公表された、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ＆ Ｋ．Ｄｉｅｔｌｉｋｅｒの「Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ ｆｏｒ Ｆｒｅｅ Ｒａｄｉｃａｌ Ｃａｔｉｏｎｉｃ ａｎｄ Ａｎｉｏｎｉｃ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ」、第二版が挙げられ；スルホニウム塩の限定しない例は、第５の実施形態について上述したものである。

【0110】

[0109]前記第９の実施形態によれば、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するヨードニウム塩である。好ましくは、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物は、ヨードニウム塩であり、アニオン部分は、好ましくはＳｂＦ_６ ^－（ヘキサフルオロアンチモネート、ＣＡＳ Ｎｒ １７１１１－９５－４）；ＰＦ_６ ^－（ヘキサフルオロホスフェート、ＣＡＳ Ｎｒ １６９１９－１８－９）；ＡｓＦ_６ ^－（ヘキサフルオロアルセネート、ＣＡＳ Ｎｒ １６９７３－４５－８）；Ｆ_４Ｂ^－（テトラフルオロボレート、ＣＡＳ Ｎｒ １４８７４－７０－５）；（Ｃ_６Ｆ_５）_４Ｂ^－（テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ＣＡＳ Ｎｒ ４７８５５－９４－７）；（ＣＦ_３ＳＯ_２）_３Ｃ^－（トリス（トリフルオロメチルスルホニル）メチド、ＣＡＳ Ｎｒ １３０４４７－４５－９）；（ＣＦ_３）ＳＯ_３ ^－（トリフルオロメタンスルホネート、ＣＡＳ Ｎｒ ３７１８１－３９－８）；（ＣＨ_３Ｃ_６Ｈ_４）ＳＯ_３ ^－（４－メチルベンゼンスルホネート、ＣＡＳ Ｎｒ １６７２２－５１－３）；（ＣＦ_３）ＣＯ_２ ^－（トリフルオロアセテート、ＣＡＳ Ｎｒ １４４７７－７２－６）；（Ｃ_４Ｆ_９）ＳＯ_３ ^－（１，１，２，２，３，３，４，４，４－ノナフルオロ－１－ブタンスルホネート、ＣＡＳ Ｎｒ ４５１８７－１５－３）；（Ｃ_４Ｆ_９）ＣＯ_２ ^－（２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロ－１－ペンタノエート、ＣＡＳ Ｎｒ ４５１６７－４７－３）；好ましくはＳｂＦ_６ ^－又はＰＦ_６ ^－であり、カチオン部分は、［（７－メトキシ－４－メチル－２－オキソ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－３－イル）フェニル］ヨードニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ２０９１８５４－１１－２）である。好ましくは、ステップｂ）の放射線硬化性コーティング組成物は、［（７－メトキシ－４－メチル－２－オキソ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－３－イル）フェニル］ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ２０９１８５４－１２－３）；［（７－メトキシ－４－メチル－２－オキソ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－３－イル）フェニル］ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ２０９１８５４－１３－４）；及びそれらの混合物からなる群から選択される１つ又は複数のヨードニウム塩を含む。本発明の第９の実施形態についてのヨードニウム塩の特に好適な例は、Ｓｙｎｔｈｏｓ Ｇｒｏｕｐ Ｓ．ＡのＳｙｌａｎｔｏ（登録商標）７ＭＰ（ＣＡＳ Ｎｒ ２０９１８５４－１２－３）及びＳｙｌａｎｔｏ（登録商標）７ＭＳ（ＣＡＳ Ｎｒ ２０９１８５４－１３－４）の名称で市販されている。

【0111】

[0110]第１０の実施形態によれば、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物は、第５の実施形態について上述したものであるヨードニウム塩、スルホニウム塩、及びそれらの混合物からなる群から選択される。ヨードニウム塩の限定しない例は、本明細書に記載するもの、標準書籍で見つけることができる他のものであり、書籍としては、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ ＆ ＥＢ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ，Ｉｎｋｓ ＆ Ｐａｉｎｔｓ」、３巻、Ｇ．Ｂｒａｄｌｅｙ編、ＳＩＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｌｉｍｉｔｅｄと共同してＪｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓによる１９９８年に公表された、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ＆ Ｋ．Ｄｉｅｔｌｉｋｅｒの「Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ ｆｏｒ Ｆｒｅｅ Ｒａｄｉｃａｌ Ｃａｔｉｏｎｉｃ ａｎｄ Ａｎｉｏｎｉｃ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ」、第二版が挙げられ；スルホニウム塩の限定しない例は、第５の実施形態について上述したものである。

【0112】

[0111]前記第１０の実施形態によれば、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するオキソニウム塩であり、アニオン部分は、好ましくはＳｂＦ_６ ^－（ヘキサフルオロアンチモネート、ＣＡＳ Ｎｒ １７１１１－９５－４）；ＰＦ_６ ^－（ヘキサフルオロホスフェート、ＣＡＳ Ｎｒ １６９１９－１８－９）；ＡｓＦ_６ ^－（ヘキサフルオロアルセネート、ＣＡＳ Ｎｒ １６９７３－４５－８）；Ｆ_４Ｂ^－（テトラフルオロボレート、ＣＡＳ Ｎｒ １４８７４－７０－５）；（Ｃ_６Ｆ_５）_４Ｂ^－（テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ＣＡＳ Ｎｒ ４７８５５－９４－７）；（ＣＦ_３ＳＯ_２）_３Ｃ^－（トリス（トリフルオロメチルスルホニル）メチド、ＣＡＳ Ｎｒ １３０４４７－４５－９）；（ＣＦ_３）ＳＯ_３ ^－（トリフルオロメタンスルホネート、ＣＡＳ Ｎｒ ３７１８１－３９－８）；（ＣＨ_３Ｃ_６Ｈ_４）ＳＯ_３ ^－（４－メチルベンゼンスルホネート、ＣＡＳ Ｎｒ １６７２２－５１－３）；（ＣＦ_３）ＣＯ_２ ^－（トリフルオロアセテート、ＣＡＳ Ｎｒ １４４７７－７２－６）；（Ｃ_４Ｆ_９）ＳＯ_３ ^－（１，１，２，２，３，３，４，４，４－ノナフルオロ－１－ブタンスルホネート、ＣＡＳ Ｎｒ ４５１８７－１５－３）；（Ｃ_４Ｆ_９）ＣＯ_２ ^－（２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロ－１－ペンタノエート、ＣＡＳ Ｎｒ ４５１６７－４７－３）；好ましくはＦ_４Ｂ^－であり、カチオン部分は、好ましくは２，４，６－トリフェニルピリリウム（ＣＡＳ Ｎｒ １５９５９－３５－０）；２，４，６－トリス（４－メチルフェニル）－ピリリウム（ＣＡＳ Ｎｒ ４７５５１－８７－１）；２，４，６－トリス（４－メトキシフェニル）－ピリリウム（ＣＡＳ Ｎｒ ４７６５９－０８－５）；２，６－ビス（４－フルオロフェニル）－４－（４－メトキシフェニル）－ピリリウム（ＣＡＳ Ｎｒ １６２１５８７－２７－６）；３－メチル－２，４，６－トリフェニル－ピリリウム（ＣＡＳ Ｎｒ ３３２２５－５９－１）；２，４，６－トリス（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－ピリリウム（ＣＡＳ Ｎｒ １１４９８７－６１－０）；４－［４－（ジメチルアミノ）フェニル］－２，６－ジフェニル－ピリリウム（ＣＡＳ Ｎｒ ４７５５１－７２－４）又は２，４－ビス（４－メトキシフェニル）－６－フェニル－ピリリウム（ＣＡＳ Ｎｒ ４７５８９－１１－７）；より好ましくは２，４，６－トリフェニルピリリウム（ＣＡＳ Ｎｒ １５９５９－３５－０）である。好ましくは、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、２、４、６－トリフェニルピリリウムテトラフルオロボレート（ＣＡＳ Ｎｒ ４４８－６１－３）である。

【0113】

[0112]第１１の実施形態によれば、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収しない１つ又は複数の光反応性化合物は、第５の実施形態について上述されたものであるヨードニウム塩、スルホニウム塩、及びそれらの混合物からなる群から選択される。ヨードニウム塩の限定しない例は、本明細書に記載するもの、標準書籍で見つけることができる他のものであり、書籍としては、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ ＆ ＥＢ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ，Ｉｎｋｓ ＆ Ｐａｉｎｔｓ」、３巻、Ｇ．Ｂｒａｄｌｅｙ編、ＳＩＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｌｉｍｉｔｅｄと共同してＪｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓによる１９９８年に公表された、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ＆ Ｋ．Ｄｉｅｔｌｉｋｅｒの「Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ ｆｏｒ Ｆｒｅｅ Ｒａｄｉｃａｌ Ｃａｔｉｏｎｉｃ ａｎｄ Ａｎｉｏｎｉｃ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ」、第二版が挙げられ；スルホニウム塩の限定しない例は、第５の実施形態について上述したものである。

【0114】

[0113]前記第１１の実施形態によれば、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物は、カチオン部分及びアニオン部分を有するスルホニウム塩である。好ましくは、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の化合物は、スルホニウム塩であり、アニオン部分は、ＳｂＦ_６ ^－（ヘキサフルオロアンチモネート、ＣＡＳ Ｎｒ １７１１１－９５－４）；ＰＦ_６ ^－（ヘキサフルオロホスフェート、ＣＡＳ Ｎｒ １６９１９－１８－９）；ＡｓＦ_６ ^－（ヘキサフルオロアルセネート、ＣＡＳ Ｎｒ １６９７３－４５－８）；Ｆ_４Ｂ^－（テトラフルオロボレート、ＣＡＳ Ｎｒ １４８７４－７０－５）；（Ｃ_６Ｆ_５）_４Ｂ^－（テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ＣＡＳ Ｎｒ ４７８５５－９４－７）；（ＣＦ_３ＳＯ_２）_３Ｃ^－（トリス（トリフルオロメチルスルホニル）メチド、ＣＡＳ Ｎｒ １３０４４７－４５－９）；（ＣＦ_３）ＳＯ_３ ^－（トリフルオロメタンスルホネート、ＣＡＳ Ｎｒ ３７１８１－３９－８）；（ＣＨ_３Ｃ_６Ｈ_４）ＳＯ_３ ^－（４－メチルベンゼンスルホネート、ＣＡＳ Ｎｒ １６７２２－５１－３）；（ＣＦ_３）ＣＯ_２ ^－（トリフルオロアセテート、ＣＡＳ Ｎｒ １４４７７－７２－６）；（Ｃ_４Ｆ_９）ＳＯ_３ ^－（１，１，２，２，３，３，４，４，４－ノナフルオロ－１－ブタンスルホネート、ＣＡＳ Ｎｒ ４５１８７－１５－３）；（Ｃ_４Ｆ_９）ＣＯ_２ ^－（２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロ－１－ペンタノエート（ＣＡＳ Ｎｒ ４５１６７－４７－３）；好ましくはＳｂＦ_６ ^－又はＰＦ_６ ^－であり、カチオン部分は、トリス［４－（４－アセチルフェニルスルファニル）フェニル］－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ９５３０８４－１２－３）；１０－［１，１’－ビフェニル］－４－イル－２－（１－メチルエチル）－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ５９１７７３－９１－０）；又は（９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－２－イル）ジフェニル－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ １１４０９０８－０８－２）；より好ましくはトリス［４－（４－アセチルフェニルスルファニル）フェニル］－スルホニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ９５３０８４－１２－３）又は１０－［１，１’－ビフェニル］－４－イル－２－（１－メチルエチル）－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテニウム（ＣＡＳ Ｎｒ ５９１７７３－９１－０）である。好ましくは、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する１つ又は複数の光反応性化合物は、トリス［４－（４－アセチルフェニルスルファニル）フェニル］－スルホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ９５３０８４－１３－４）；１０－［１，１’－ビフェニル］－４－イル－２－（１－メチルエチル）－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ５９１７７３－９２－１）；及びそれらの混合物からなる群から選択されるスルホニウム塩である。本発明の第１１の実施形態についてのスルホニウム塩の特に好適な例は、ＩＧＭ ＲＥＳＩＮＳのＯＭＮＩＣＡＴ２７０（ＣＡＳ Ｎｒ ９５３０８４－１３－４）及びＯＭＮＩＣＡＴ５５０（ＣＡＳ Ｎｒ ５９１７７３－９２－１）の名称で市販されている。

【0115】

[0114]本明細書に記載する第１、第２、第３、第４、第５、第７、第９及び第１０の実施形態について、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物は、第１の実施形態について上述したものである１つ又は複数のヨードニウム塩、及び／又は第５の実施形態について上述したものである１つ又は複数のスルホニウム塩を更に含んでいてもよい。

【0116】

[0115]本明細書に記載する第１１の実施形態について、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物は、第１の実施形態について上述したものである１つ又は複数のヨードニウム塩、及び／又は第１の実施形態について上述したものである１つ又は複数のチオキサントン、及び／又は第６の実施形態について上述したものであるヨードニウム塩及びアントラセンの１つ又は複数の混合物、及び／又は第２の実施形態について上述したものである１つ又は複数のアントラセン、及び／又は第３の実施形態について上述したものである１つ又は複数のクマリン、及び／又は第４の実施形態について上述したものであるナフタレンとアントラセンの１つ又は複数の混合物、及び／又は第５の実施形態について上述したものである１つ又は複数のスルホニウム塩、及び／又は第９の実施形態について上述したものである、カチオン及びアニオン部分を有する１つ又は複数のヨードニウム塩、及び／又は第１０の実施形態について上述したものである１つ又は複数のオキソニウム塩を更に含んでいてもよい。

【0117】

[0116]好ましい実施形態は本明細書に記載する第１、第２、第３、第４、第５、第６、第７、及び第１１に上述するものである。

【0118】

[0117]本明細書に記載する第１の実施形態の好ましい例は、組合せであり、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）又はビス（４－ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１７８６－７０－４）であるヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、１－クロロ－４－プロポキシ－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ １４２７７０－４２－１）、２－イソプロピル－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン、２－（１－メチルエチル）－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ５４９５－８４－１）、２－（１－メチルエチル）－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ５４９５－８４－１）及び４－（１－メチルエチル）－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ８３８４６－８６－０）の混合物、チオキサントンオリゴマー又はポリマー（ＣＡＳ Ｎｒ ２０５５３３５－４６－９）又は１，３－ジ［［α－［１－クロロ－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－４－イル）オキシ］アセチルポリ［オキシ（１－メチルエチレン）］］オキシ］－２，２－ビス［［α－［１－クロロ－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－４－イル）オキシ］アセチルポリ［オキシ（１－メチルエチレン）］］オキシメチルプロパン（ＣＡＳ Ｎｒ １００３５６７－８３－６）であるチオキサントン化合物である；より好ましくは組合せであり、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）であるヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、１－クロロ－４－プロポキシ－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ １４２７７０－４２－１）であるチオキサントン化合物であり；ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）であるヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、チオキサントンオリゴマー又はポリマー（ＣＡＳ Ｎｒ ２０５５３３５－４６－９）である；ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、ビス（４－ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１７８６－７０－４）であるヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、２－イソプロピル－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ５４９５－８４－１）又は４－（１－メチルエチル）－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ８３８４６－８６－０）である；又はステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、ビス（４－ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１７８６－７０－４）であるヨードニウム塩であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、１，３－ジ［［α－［１－クロロ－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－４－イル）オキシ］アセチルポリ［オキシ（１－メチルエチレン）］］オキシ］－２，２－ビス［［α－［１－クロロ－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－４－イル）オキシ］アセチルポリ［オキシ（１－メチルエチレン）］］オキシメチルプロパン（ＣＡＳ Ｎｒ １００３５６－７－８３－６）であるチオキサントンである。

【0119】

[0118]本明細書に記載する第２の実施形態の好ましい例は、組合せであり、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、９，１０－ジブトキシ－アントラセン（ＣＡＳ Ｎｒ ７６２７５－１４－４）である。

【0120】

[0119]本明細書に記載する第３の実施形態の好ましい例は、組合せであり、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、３－（４－ドデシルベンゾイル）－５，７－ジメトキシ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－２－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ２２４３７０３－９１－３）である。

【0121】

[0120]本明細書に記載する第４の実施形態の好ましい例は、組合せであり、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、９，１０－ジブトキシ－アントラセン（ＣＡＳ Ｎｒ ７６２７５－１４－４）であり、少なくとも他の１つは、９，１０－ジエトキシ－ナフタレン（ＣＡＳ Ｎｒ ２７２９４－３７－７）であるナフタレン化合物である。

【0122】

[0121]本明細書に記載する第５の実施形態の好ましい例は、組合せであり、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０）及び／又はビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ８９４５２－３７－９）であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、９，１０－ジブトキシ－アントラセン（ＣＡＳ Ｎｒ ７６２７５－１４－４）である。

【0123】

[0122]本明細書に記載する第６の実施形態の好ましい例は、組合せであり、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０）及び／又はビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ８９４５２－３７－９）であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、１－クロロ－４－プロポキシ－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ １４２７７０－４２－１）であり、少なくとも他の１つは、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）である。

【0124】

[0123]本明細書に記載する第７の実施形態の好ましい例は、組合せであり、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０）又はビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ８９４５２－３７－９）であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、９，１０－ジブトキシ－アントラセン（ＣＡＳ Ｎｒ ７６２７５－１４－４）であり、少なくとも他の１つは、９，１０－ジエトキシ－ナフタレン（ＣＡＳ Ｎｒ ２７２９４－３７－７）であるナフタレン化合物である。

【0125】

[0124]本明細書に記載する第８の実施形態の好ましい例は、組合せであり、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０）又はビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ８９４５２－３７－９）であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、３－（４－Ｃ_１０－Ｃ_１３－ベンゾイル）－５，７－ジメトキシ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－２－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ２２４３７０３－９１－３）であり、少なくとも他の１つは、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）である。

【0126】

[0125]本明細書に記載する第９の実施形態の好ましい例は、組合せであり、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）、又は４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０）又はビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ８９４５２－３７－９）であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、［（７－メトキシ－４－メチル－２－オキソ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－３－イル）フェニル］ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ２０９１８５４－１３－４）である。

【0127】

[0126]本明細書に記載する第１０の実施形態の好ましい例は、組合せであり、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）、又は４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０）、又はビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ８９４５２－３７－９）であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、２，４，６－トリフェニルピリリウムテトラフルオロボレート（ＣＡＳ Ｎｒ ４４８－６１－３）である。

【0128】

[0127]本明細書に記載する第１１の実施形態の好ましい例は、組合せであり、ステップａ）の放射線硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）、又は４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０）、又はビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ８９４５２－３７－９）であり、ステップｂ）のトップ硬化性コーティング組成物の１つ又は複数の化合物の少なくとも１つは、トリス［４－（４－アセチルフェニルスルファニル）フェニル］－スルホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ９５３０８４－１３－４）である。

【0129】

[0128]本明細書に記載する方法は、本明細書に記載するステップｂ）と部分的に同時に、又は後に、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）及び前記１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の下のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数のエリアを、発光ダイオード（ＬＥＤ）硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）を含む。一方、電磁スペクトルのＵＶ－Ａ、ＵＶ－Ｂ、及びＵＶ－Ｃ領域に発光バンドを有する中圧水銀ランプに、ＵＶ－ＬＥＤランプは、例えば、約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲においてＵＶ－Ａ領域及び／又は可視（Ｖｉｓ）領域の放射線を放射する。さらに、現在のＵＶ－ＬＥＤ及びＶｉｓ－ＬＥＤランプは、疑似単色放射を放射する、つまり、１つの波長、例えば、３６５ｎｍ、３８５ｎｍ、３９５ｎｍ、４０５ｎｍ、又は４５０ｎｍでのみ放射する。１つ又は複数のしるし（ｘ３０）を少なくとも部分的に硬化するステップｃ）は、ＬＥＤ硬化ユニット（ｘ５０）から放射される、ＬＥＤ硬化ユニット（ｘ５０）でのＵＶ光に、好ましくは約３５５ｎｍ～約４１５ｎｍの間の１つ又は複数の波長に、より好ましくは３６５ｎｍ及び／又は３８５ｎｍ及び／又は３９５ｎｍでのＵＶ光にさらすことによって実行される。「部分的に同時に」は、両方のステップが部分的に同時に行われること、つまり、各ステップを行う時間が部分的に重複することを意味する。本明細書に記載する文脈では、硬化が付与ステップｂ）と部分的に同時に行われる場合、硬化が完全又は部分的硬化の前に１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の形成後に有効になることは理解されるに違いない。ステップｃ）は、本明細書に記載するステップｂ）後に実行されるべきであり、前記２つのステップの間の時間は、好ましくは１０秒未満であり、より好ましくは５秒未満である。

【0130】

[0129]本明細書に記載する方法は、本明細書に記載するステップｃ）後に、非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、本明細書に記載する磁界発生装置の磁界にコーティング層（ｘ１０）をさらすステップｄ）を含む。１つの実施形態によれば、ステップｄ）は、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために実行される。他の実施形態によれば、ステップｄ）は、小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、好ましくは小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向して基材表面と実質的に平行なＸ軸及びＹ軸の両方を有するように実行される。本明細書に記載する方法が、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（ｘ１０）を本明細書に記載する磁界発生装置の磁界にさらすステップを含む実施形態について、コーティング層（ｘ１０）は、前記磁界発生装置に後に２回以上さらされてもよい。

【0131】

[0130]コーティング層（ｘ１０）を本明細書に記載する磁界発生装置の磁界にさらすステップが、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために実行される本明細書に記載する方法の実施形態について、本明細書に記載する非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部は、粒子の主な延在面を定義するＸ軸及びＹ軸を有する小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子からなることが要求される。一次元の粒子と考えることができる針形状の顔料粒子とは対照的に、小板状の顔料粒子は、粒子の主な延在面を定義するＸ軸及びＹ軸を有する。言い換えれば、小板状の顔料粒子は、図１から理解できるように、それらの寸法の大きなアスペクト比による二次元の粒子であると考えられてもよい。図１に示されるように、小板状の顔料粒子は、寸法Ｘ及びＹが寸法Ｚより実質的に大きい二次元の構造と考えることができる。小板状の顔料粒子は、本技術分野において楕円粒子又はフレークとも称する。そのような顔料粒子は、顔料粒子を横断する最長の寸法に対応する主軸Ｘ及び前記顔料粒子内にも位置するＸに垂直な第２の軸Ｙで説明され得る。

【0132】

[0131]非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の本明細書に記載する磁化配向ステップの間、コーティング層（ｘ１０）を支持する基材（ｘ２０）は、１つ又は複数の非磁性材料からなる非磁性支持板（ｘ４０）に配置されていてもよい。

【0133】

[0132]磁性又は磁化可能な顔料粒子の本明細書に記載する磁化配向ステップの間、磁界発生装置の位置は限定されず、作製される磁化配向パターンの選択及び設計によって決まる。作製される磁化配向パターンの選択及び設計によって、磁界発生装置（Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３）は、基材（ｘ２０）下、又はコーティング層（ｘ１０）上に設置されてもよい。

【0134】

[0133]磁性又は磁化可能な顔料粒子が、それらの主軸のみが磁界によって拘束されるように配向される単軸配向とは対照的に、二軸配向を実行することは、小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が、それらの主な２つの軸が拘束されるように配向させることを意味する。すなわち、小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子はそれぞれ、顔料粒子の面における長軸及び顔料粒子の面における直交短軸を有すると考えることができる。小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の長軸及び短軸を各々磁界に従って配向させる。有効に、これは、実質的に互いに平行に間隙を介して、互いに近接して隣接する小板状の磁気顔料粒子をもたらす。言い換えると、二軸配向は、前記顔料粒子の面が隣接する（四方八方に）小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の面に対して実質的に平行に配向されるように小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の面を整列させる。本明細書に記載する磁界発生装置及び方法は、小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子が、基材（ｘ２０）表面と好ましくは実質的に平行なそれらのＸ及びＹ軸を有するシート状の構造を形成し、前記二次元で平坦化されるように、本明細書に記載する小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を２軸方向に配向することを可能にする。

【0135】

[0134]本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子を単軸方向に配向するのに適切な磁界発生装置は限定されないが、例えば、双極子磁石、四極子磁石、及びそれらの組合せが挙げられる。次の装置は、実例として本明細書にて提供される。

【0136】

[0135]フリップフロップ効果（本技術分野においてスイッチ効果としても称する）として知られている光学的効果は、移行部によって分離された第１の印刷部分及び第２の印刷部分を含み、顔料粒子は、第１の部分における第１の面に平行に整列し、第２の部分における顔料粒子は第２の面に平行に整列する。前記効果をもたらす方法及び磁石は、例えば、米国特許出願公開第２００５／０１０６３６７号及び欧州特許第１８１９５２５号において開示されている。

【0137】

[0136]米国特許出願公開第２００５／０１０６３６７号において開示されるようなローリングバー効果として知られている光学的効果ももたらされてもよい。「ローリングバー」効果は、コーティングにわたって曲面を模倣する顔料粒子配向に基づく。観察者は、画像が傾けられる場合に観察者から離れる、又は観察者の方に向かう鏡面反射ゾーンを見る。顔料粒子は湾曲して整列し、凸曲面（本技術において負の曲面配向とも称する）又は凹曲面（本技術において正の曲面配向とも称する）に続く。前記効果をもたらす方法及び磁石は、例えば、欧州特許出願公開第２２６３８０６号、欧州特許第１６７４２８２号、欧州特許出願公開第２２６３８０７号、国際公開第２００４／００７０９５号、国際公開第２０１２／１０４０９８号、及び国際公開第２０１４／１９８９０５号において開示されている。

【0138】

[0137]ベネチアンブラインド効果として知られている光学的効果ももたらされてもよい。ベネチアンブラインド効果は、基材表面上又は中に存在するしるし又は他の特徴が、それらが観測の他の方向に沿った視認性を妨害しながら観察者に明白になるように、観察の特定方向に沿って、下層の基材表面に視認性を与えるように配向される顔料粒子を含む。前記効果をもたらすための方法及び磁石は、例えば、米国特許第８，０２５，９５２号及び欧州特許第１８１９５２５号において開示されている。

【0139】

[0138]移動リング効果として知られている光学的効果ももたらされてもよい。移動リング効果は、前記光学効果層の傾斜角に依存する任意のｘ－ｙ方向に移動するように見えるじょうご、円錐、ボウル、円、楕円、及び半球などの物体の光学的錯覚画像からなる。前記効果をもたらす方法及び磁石は、例えば、欧州特許出願公開第１７１０７５６号、米国特許第８，３４３，６１５号、欧州特許出願公開第２３０６２２２号、欧州特許出願公開第２３２５６７７号、国際公開第２０１１／０９２５０２号、米国特許出願公開第２０１３／００８４４１１号、国際公開第２０１４１０８４０４号、及び国際公開第２０１４／１０８３０３号において開示されている。

【0140】

[0139]前記光学効果層の傾斜時に移動する明暗エリアのパターンの光学的印象をもたらす光学効果ももたらされてもよい。前記効果をもたらす方法及び磁石は、例えば、国際公開第２０１３／１６７４２５号において開示されている。

【0141】

[0140]前記光学効果層の傾斜時に変化するサイズを有するループ形状体の光学的印象をもたらす光学効果ももたらされてもよい。これらの光学的効果をもたらす方法及び磁石は、例えば、国際公開第２０１７／０６４０５２号、国際公開第２０１７／０８０６９８号、及び国際公開第２０１７／１４８７８９号において開示されている。

【0142】

[0141]光学効果層を傾斜させる際に形状が変化する１つ又は複数のループ形状体の光学的印象ももたらされてもよい。前記効果をもたらす方法及び磁石は、例えば、国際公開第２０１８／０５４８１９号において開示されている。

【0143】

[0142]傾斜時に移動、回転する月の三日月の光学的印象をもたらす光学的効果ももたらされてもよい。前記効果をもたらす方法及び磁石は、例えば、国際公開第２０１９／２１５１４８号において開示されている。

【0144】

[0143]傾斜時にサイズ及び形状が変化するループ形状体の光学的印象をもたらす光学的効果はもたらされてもよい。前記効果をもたらす方法及び磁石は、例えば、同時係属ＰＣＴ特許出願の国際公開第２０２０／０５２８６２号において開示されている。

【0145】

[0144]オルト視差効果の光学的印象をもたらす光学的効果は、つまり、この場合、基材が水平／緯度軸の周りに傾斜される場合縦方向に移動する、又は基材が長手軸の周りに傾斜される場合、水平／緯度方向に移動する明るい反射垂直バーの形態でもたらされてもよい。前記効果をもたらす方法及び磁石は、例えば、同時係属ＰＣＴ特許出願の国際出願ＰＣＴ／ＥＰ２０２０／０５２２６５号において開示されている。

【0146】

[0145]１つ又は複数のループ形状体に囲まれた１つのループ形状体の光学的印象をもたらす光学効果がもたらされてもよく、前記１つ又は複数のループ形状体は、傾斜時に変化するそれらの形状及び／又はそれらの輝度を有する。前記効果をもたらす方法及び磁石は、例えば、同時係属ＰＣＴ特許出願の国際出願ＰＣＴ／ＥＰ２０２０／０５４０４２号において開示されている。

【0147】

[0146]基材が垂直／長手軸の周りで傾斜される場合、斜め方向に移動及び／又は出現及び／又は消失するだけでなく、基材が傾斜される場合、斜め方向に移動及び／又は出現及び／又は消失する複数の暗いスポット及び複数の明るいスポットの光学的印象をもたらす光学的効果は、もたらされてもよい。前記効果をもたらす方法及び磁石は、例えば、同時係属の欧州特許出願ＥＰ１９２０５７１５．６号及び欧州特許出願１９２０５７１６．４号において開示されている。

【0148】

[0147]本明細書に記載する磁界発生装置は、１つ又は複数の非磁性材料からなる、非磁性支持マトリックスに少なくとも部分的に埋め込まれていてもよい。

【0149】

[0148]本明細書に記載する非磁性支持板（ｘ４０）及び本明細書に記載する非磁性支持マトリックスの非磁性材料は、好ましくは、非磁性金属並びにエンジニアリングプラスチック及びポリマーからなる群から独立的に選択される。非磁性金属としては、限定されないが、アルミニウム、アルミニウム合金、真鍮（銅及び亜鉛の合金）、チタン、チタン合金、及びオーステナイト鋼（つまり、非磁性鋼）が挙げられる。エンジニアリングプラスチック及びポリマーとしては、限定されないが、ポリアリールエーテルケトン（ＰＡＥＫ）及びその誘導体、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトンケトン（ＰＥＫＫ）、ポリエーテルエーテルケトンケトン（ＰＥＥＫＫ）、及びポリエーテルケトンエーテルケトンケトン（ＰＥＫＥＫＫ）；ポリアセタール、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、コポリエーテルエステル、ポリイミド、ポリエーテルイミド、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷＰＥ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリプロピレン、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）共重合体、フッ素化及び過フッ素化ポリエチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、及び液晶ポリマーが挙げられる。好ましい材料は、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ナイロン（登録商標）（ポリアミド）、及びＰＰＳである。

【0150】

[0149]本明細書に記載する磁界発生装置は、１つ又は複数のレリーフ、刻印又は切り込みを支持する磁性プレートを含んでもよい。国際公開第２００５／００２８６６号及び国際公開第２００８／０４６７０２号は、そのような刻印磁気板についての例である。

【0151】

[0150]本明細書に記載する磁界発生装置は、１つ又は複数のしるしを凹み及び／又は突起の形態で支持する軟磁性板、又は１つ又は複数のしるしの形状を有する１つ又は複数の空間を含む軟磁性板であってもよく、配向ステップは、軟磁性板上のコーティング層（ｘ１０）を支持する基材（ｘ２０）のアセンブリを形成することによって実行され、国際公開第２０１８／０１９５９４号及び国際公開第２０１８／０３３５１２号に記載するように、小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、静磁界発生装置（ｘ４０）の不均一磁場によって前記アセンブリが移動される。

【0152】

[0151]本明細書に記載する磁界発生装置は、国際公開第２０２０／０２５２１８号に記載するように、１つ又は複数の双極子磁石を収容するための１つ又は複数の空間を含み、１つ又は複数の連続的なループ形状のしるし及び／又は１つ又は複数の不連続のループ形状のしるしを形成する１つ又は複数の凹み及び／又は１つ又は複数の突起を含む軟磁性板を含む磁性アセンブリ（ｘ３０）、又は国際公開第２０２０／０２５４８２号に記載するように、１つ又は複数の空間及び１つ又は複数の空間内に配置される１つ又は複数の双極子磁石を含み、前記１つ又は複数の空間及び／又は軟磁性板の下に配置される１つ又は複数の空間と一定間隔で配置される１又は複数対の２つの双極子磁石に対向する１つ又は複数の双極子磁石を含む軟磁性板を含む磁性アセンブリであってもよい。

【0153】

[0152]本明細書に記載する小板状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を２軸方向に配向するのに適切な磁界発生装置は限定されない。

【0154】

[0153]顔料粒子を２軸方向に配向するための特に好ましい装置は、欧州特許出願公開第２１５７１４１号において開示されている。顔料粒子を含むコーティング層を支持する基材の動作に際して、欧州特許出願公開第２１５７１４１号において開示される装置は、主軸の両方（Ｘ軸及びＹ軸）が基材表面と実質的に平行になるまで、その方向を変更して顔料粒子を急速に振動させる動的な磁界をもたらし、つまり、顔料粒子は、それらのＸ及びＹ軸が基材表面と実質的に平行な安定したシート状の形成物となるまで回転し、前記二次元において平坦化される。

【0155】

[0154]顔料粒子を２軸方向に配向するための他の特に好ましい装置は、直線状の永久磁石ハルバッハアレイ、つまり、異なる磁化方向を有する複数の磁石及びシリンダ装置を含む装置を含む。ハルバッハ永久磁石の詳細な説明は、Ｚ．Ｑ．Ｚｈｕ ａｎｄ Ｄ．Ｈｏｗｅ（Ｈａｌｂａｃｈ ｐｅｒｍａｎｅｎｔ ｍａｇｎｅｔ ｍａｃｈｉｎｅｓ ａｎｄ ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ：ａ ｒｅｖｉｅｗ、ＩＥＥ．Ｐｒｏｃ．Ｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｐｏｗｅｒ Ａｐｐｌ、２００１、１４８、２９９～３０８頁）によって与えられた。そのようなハルバッハアレイによってもたらされる磁界は、それが一方の側では集中される一方、他の側でほぼ０に弱められる特性を有する。直線状のハルバッハアレイは、例えば、国際公開第２０１５／０８６２５７号及び国際公開第２０１８／０１９５９４号において開示されており、ハルバッハシリンダ装置は、欧州特許第３２２４０５５号において開示されている。

【0156】

[0155]顔料粒子を２軸方向に配向するための他の特に好ましい装置は回転磁石であり、前記磁石は、それらの径に沿って実質的に磁化される円盤状の回転磁石又は磁界発生装置を含む。適切な回転磁石又は磁界発生装置は、米国特許出願公開第２００７／０１７２２６１号に記載されており、前記回転磁石又は磁界発生装置は、放射対称時変磁界を発生し、未硬化コーティング組成物の磁性又は磁化可能な顔料粒子の２重配向を可能にする。これらの磁石又は磁界発生装置は、外部モーターに接続された軸（又はスピンドル）によって駆動される。中国特許第１０２５２９３２６号は、磁性又は磁化可能な顔料粒子を２軸方向に配向するのに適切であろう回転磁石を含む装置の例を開示している。好ましい実施形態では、磁性又は磁化可能な顔料粒子を２軸方向に配向するために適切な装置は、非磁性、好ましくは非導電材料からなる筐体において抑制された軸なしの円盤状の回転磁石又は磁界発生装置であり、筐体の周りに巻きつけられた１つ又は複数のマグネットワイヤーコイルによって駆動される。そのような軸なしの円盤状の回転磁石又は磁界発生装置の例は、国際公開第２０１５／０８２３４４号、国際公開第２０１６／０２６８９６号、及び国際公開第２０１８／１４１５４７号において開示されている。

【0157】

[0156]顔料粒子を２軸方向に配向するための他の特に好ましい装置は、図３Ａに示され、ａ）少なくとも第１の組（Ｓ１）及び第２の組（Ｓ２）であり、第１及び第２の組（Ｓ１、Ｓ２）の各々は、磁化配向中に基材と実質的に平行に配向する磁気軸を有する第１のバー双極子磁石、及び基材に実質的に垂直に配向された磁気軸を有する２つのバー双極子磁石を含む第１の組（Ｓ１）及び第２の組（Ｓ２）；及びｂ）基材に実質的に平行に配向する磁気軸を有する第３のバー双極子磁石の対（Ｐ１）、例えば、同時係属中の欧州特許出願第２０１７６５０６．２号に開示するものを含む。

【0158】

[0157]本明細書に記載する方法は、本明細書に記載するステップｄ）と部分的に同時に、又は後に、コーティング層（ｘ１０）を２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（ｘ６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。

【0159】

[0158]本明細書に記載する方法は、本明細書に記載するステップｄ）と部分的に同時に、又は後に、コーティング層（ｘ１０）を２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（ｘ６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を含む。「部分的に同時に」によって、両方のステップは、部分的に同時に行われる、つまり、各ステップを行う時間は、部分的に重なることが意味される。本明細書に記載する文脈では、硬化が付与ステップｃ）と部分的に同時に行われる場合、硬化が完全又は部分的硬化の前にコーティング層（ｘ１０）における非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子の配向後に有効になることは理解されるに違いない。

【0160】

[0159]１つの実施形態によれば、例えば、図２Ａ１及び２Ａ２に示されるように、本明細書に記載する方法は、下記ステップからなる：
基材（ｘ２０）表面上に、本明細書に記載する非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を付与するステップａ）；
ステップａ）後に、本明細書に記載するコーティング層（ｘ１０）上に、トップコーティング組成物を１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の形態で付与するステップｂ）、
ステップｂ）と部分的に同時に、又は後に、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）及び前記１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の下のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数のエリアを本明細書に記載するＬＥＤ硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）、
ステップｃ）後に、前記１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の下にないコーティング層（ｘ１０）のエリアにおいて、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（ｘ１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップｄ）であり、前記ステップｄ）は、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために（図２Ａ１）、２軸方向に配向するために（図２Ａ２）、２軸方向に、次いで単軸方向に配向するために（２ステップ、図示せず）、又は二軸方向及び単軸方向に同時に配向するために（１ステップ、図示せず）実行されてもよい、ステップｄ）；
ステップｄ）と部分的に同時に、又は後にコーティング層（ｘ１０）を、本明細書に記載する２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（ｘ６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）。

【0161】

[0160]１つの実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（ｘ１０）を磁界発生装置の磁界にさらすステップを更に含み、前記ステップは、ステップｂ）後、又は部分的に同時に、及びステップｃ）の前に実行されてもよい。

【0162】

[0161]例えば、図２Ｂに示される１つの実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、下記ステップからなる：
本明細書に記載する非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を基材（ｘ２０）表面上に付与するステップａ）；
ステップａ）後に、トップコーティング組成物を１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の形態で本明細書に記載するコーティング層（ｘ１０）上に付与ステップｂ）、
ステップｂ）後、又は部分的に同時に、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（ｘ１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップであり、前記ステップは、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために（図２Ｂ）、２軸方向に配向するために（図示せず）、２軸方向に、次いで単軸方向に配向するために（２ステップ、図示せず）、又は二軸方向に及び単軸方向に同時に配向するために（１ステップ、図示せず）実行されてもよく、
ステップｂ）及び上記磁界発生装置（Ｂ１）での配向ステップ後に、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）及び前記１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の下のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数のエリアを、本明細書に記載するＬＥＤ硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）、
ステップｃ）後に、前記１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の下ではないコーティング層（ｘ１０）のエリアにおいて、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（ｘ１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップｄ）であり、前記ステップｄ）は、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために（図２Ｂ）、２軸方向に配向するために（図示せず）、２軸方向に、次いで単軸方向に配向するために（２ステップ、図示せず）、又は二軸方向に及び単軸方向に同時に配向するために（１ステップ、図示せず）実行されてもよいステップｄ）、及び
ステップｄ）と部分的に同時に、又は後に、コーティング層（ｘ１０）を、本明細書に記載する２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（ｘ６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）。

【0163】

[0162]他の実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（ｘ１０）を磁界発生装置の磁界にさらすステップを更に含み、前記ステップは、ステップａ）後に及びステップｂ）前に実行されてもよい。

【0164】

[0163]例えば、図２Ｃ／２Ｄ／２Ｅ／２Ｊ／２Ｋに示される１つの実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、下記ステップからなる：
本明細書に記載する非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を、基材（ｘ２０）表面上に付与するステップａ）；
ステップａ）後に、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（ｘ１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップであり、前記ステップは、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために（図２Ｃ及びＤ）、２軸方向に配向するために（図２Ｅ）、２軸方向に、次いで単軸方向に配向するために（２ステップ、図２Ｊ及び２Ｋ）、又は二軸方向に及び単軸方向に同時に配向するために（１ステップ、図示せず）実行されてもよく、
上記磁界発生装置（Ｂ１）での配向ステップと部分的に同時に、又は後に、トップコーティング組成物を本明細書に記載するコーティング層（ｘ１０）上に１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の形態で付与するステップｂ）、
ステップｂ）後に、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）及び前記１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の下のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数のエリアを、本明細書に記載するＬＥＤ硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）、
ステップｃ）後に、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（ｘ１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２、図２Ｃ／２Ｅ）、又は第３の磁界発生装置（Ｂ３、図２Ｊ／２Ｋ）、又は第２及び第３の磁界発生装置（Ｂ２、次いでＢ３、図２Ｄ）の磁界にさらすステップｄ）であり、前記ステップｄ）は、前記複数のしるし（ｘ３０）の下ではないコーティング層（ｘ１０）のエリアにおいて、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために（図２Ｃ／２Ｅ／２Ｊ／２Ｋ）、２軸方向に配向するために（図示せず）、２軸方向に、次いで単軸方向に配向するために（２ステップ、図２Ｄ）、又は二軸方向に及び単軸方向に同時に配向するために（１ステップ、図示せず）実行されてもよく；及び
ステップｄ）と部分的に同時に、又は後に、コーティング層（ｘ１０）を、本明細書に記載する２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（ｘ６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）。

【0165】

[0164]例えば、図２Ｆ／２Ｇ／２Ｈ／２Ｉに示される１つの実施形態によれば、本明細書に記載する方法は、下記ステップからなる：
本明細書に記載する非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を、基材（ｘ２０）上に付与するステップａ）、
ステップａ）後に、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（ｘ１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップａ）であり、前記ステップは、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために（図示せず）、２軸方向に配向するために（図２Ｆ／２Ｇ／２Ｈ／２Ｉ）、２軸方向に、次いで単軸方向に配向するために（２ステップ、図示せず）、又は二軸方向に及び単軸方向に同時に配向するために（１ステップ、図示せず）実行されてもよく、
上記磁界発生装置（Ｂ１）での配向ステップと部分的に同時に、又は後に、トップコーティング組成物を本明細書に記載するコーティング層（ｘ１０）上に１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の形態で付与するステップｂ）、
ステップｂ）後に、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（ｘ１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップであり、前記ステップは、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために（図２Ｆ／２Ｇ／２Ｈ／２Ｉ）、２軸方向に配向するために（図示せず）、２軸方向に、次いで単軸方向に配向するために（２ステップ、図示せず）、又は二軸方向に及び単軸方向に同時に配向するために（１ステップ、図示せず）実行されてもよく；
コーティング層（ｘ１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップと部分的に同時に、又は後に、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）及び前記１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の下のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数のエリアを本明細書に記載するＬＥＤ硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）、
ステップｃ）後に、前記１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の下でないコーティング層（ｘ１０）のエリアにおいて、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（ｘ１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップｄ）であり、前記ステップｄ）は、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために（図２Ｆ／２Ｇ／２Ｈ／２Ｉ）、２軸方向に配向するために（図示せず）、２軸方向に、次いで単軸方向に配向するために（２ステップ、図示せず）、又は二軸方向に及び単軸方向に同時に配向するために（１ステップ、図示せず）実行されてもよいステップｄ）；及び
ステップｄ）と部分的に同時に、又は後に、コーティング層（ｘ１０）を本明細書に記載する２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（ｘ６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）。

【0166】

[0165]３つの下記ステップ：本明細書に記載する非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を基材（ｘ２０）表面上に付与するステップａ）；ステップａ）後に、トップコーティング組成物を、本明細書に記載するコーティング層（ｘ１０）上に１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の形態で付与するステップｂ）、ステップｂ）と部分的に同時に、又は後に、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）及び前記１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の下のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数のエリアを本明細書に記載するＬＥＤ硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）は、二回以上実行されてもよく、本明細書に記載する２つ以上のステップａ）～ｃ）を備えた前記方法は、最後のステップｃ）後に、前記１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の下ではないコーティング層（ｘ１０）のエリアにおいて、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（ｘ１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップｄ）を更に含み、前記ステップｄ）は、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、２軸方向に配向するために、２軸方向に、次いで単軸方向に配向するために、又は二軸方向に及び単軸方向に同時に配向するために実行されてもよく；及びステップｄ）と部分的に同時に、又は後に、コーティング層（ｘ１０）を、本明細書に記載する２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（ｘ６０）で少なくとも部分的に硬化するステップｅ）を更に含む。

【0167】

[0166]あるいは、ステップａ）及びｂ）は、交換されてもよく、つまり、本明細書に記載する方法は、下記ステップからなる：
トップコーティング組成物を、基材表面上に本明細書に記載する１つ又は複数のしるしの形態で付与するステップ、
本明細書に記載する非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を１つ又は複数のしるし上に付与するステップ、
本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層を磁界発生装置の磁界にさらすステップであり、前記ステップは、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、２軸方向に配向するために、２軸方向に、次いで単軸方向に配向するために、又は二軸方向に及び単軸方向に同時に配向するために実行されてもよいステップ；
配向ステップと部分的に同時に、又は後に、１つ又は複数のしるし及び前記１つ又は複数のしるし（ｘ３０）上のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数のエリアを、本明細書に記載するＬＥＤ硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化するステップ、
その後、前記１つ又は複数のしるし（ｘ３０）上ではないコーティング層（ｘ１０）のエリアにおいて、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（ｘ１０）を磁界発生装置の磁界にさらすステップであり、前記ステップは、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、２軸方向に配向するために、又は２軸方向に、次いで単軸方向に配向するために、又は二軸方向に及び単軸方向に同時に配向するために実行されてもよいステップ；及び
配向ステップと部分的に同時に、又は後に、コーティング層（ｘ１０）を、本明細書に記載する２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（ｘ６０）で少なくとも部分的に硬化するステップ。

【0168】

[0167]あるいは、本明細書に記載するトップコーティング組成物をコーティング層（ｘ１０）の表面全体に付与する第２のステップが、１つ又は複数のしるし（ｘ３０）及び前記１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の下のコーティング層（ｘ１０）の１つ又は複数のエリアをＬＥＤ硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化するステップの後に実行される条件で、コーティング層（ｘ１０）を、本明細書に記載する２５０ｎｍ～３２０ｎｍの間で少なくとも放射する硬化ユニット（ｘ６０）で少なくとも部分的に硬化するステップは、コーティング層（ｘ１０）を本明細書に記載するＬＥＤ硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化するステップと置き換えられてもよい。例えば、本明細書に記載する方法は、下記ステップからなる：
本明細書に記載する非球状の磁性又は磁化可能な顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を、基材表面上に付与するステップ；
前記ステップ後に、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（ｘ１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップであり、前記ステップは、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、２軸方向に配向するために、２軸方向に、次いで単軸方向に配向するために、又は二軸方向に及び単軸方向に同時に配向するために、好ましくは二軸方向に配向するために実行されてもよいステップ、
上記磁界発生装置（Ｂ１）での配向ステップと部分的に同時に、又は後に、本明細書に記載するトップコーティング組成物を、本明細書に記載するコーティング層（ｘ１０）上に１つ又は複数のしるし（ｘ３０）の形態で付与するステップ、
前記ステップ後に、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（ｘ１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップであり、前記ステップは、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、２軸方向に、次いで単軸方向に配向するために、又は二軸方向に及び単軸方向に同時に配向するために、好ましくは単軸方向に配向するために実行されてもよいステップ；
コーティング層（ｘ１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップと部分的に同時に、又は後に、トップコーティング組成物及び下部のコーティング層（ｘ１０）を、本明細書に記載するＬＥＤ硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化するステップ；
前記ステップ後に、本明細書に記載するトップコーティング組成物を本明細書に記載するコーティング層（ｘ１０）の表面全体上に付与するステップ；
前記ステップ後に、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために、コーティング層（ｘ１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップであり、前記ステップは、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、２軸方向に配向するために、又は二軸方向に及び単軸方向に同時に配向するために、好ましくは単軸方向に配向するために実行されてもよいステップ；及び
前記ステップと部分的に同時に、又は後に、トップコーティング組成物及びコーティング層（ｘ１０）を、本明細書に記載するＬＥＤ硬化ユニット（ｘ５０）で少なくとも部分的に硬化するステップ。

【0169】

[0168]本発明は、本明細書に記載する基材（ｘ２０）上に１つ又は複数のしるし（ｘ３０）を示す光学効果層（ＯＥＬ）及びその得られた１つ又は複数の光学効果層（ＯＥＬ）を含む基材（ｘ２０）を作製する、本明細書に記載する方法を提供する。本明細書に記載する基材（ｘ２０）は、好ましくは、セルロース、紙含有材料、ガラス、金属、セラミック、プラスチック及びポリマー、金属化プラスチック又はポリマー、複合材料、及びそれらの２つ以上の混合物又は組合せなどの紙又は他の繊維状材料（織物及び不織布繊維状材料を含む）からなる群から選択される。典型的な紙、紙状又は他の繊維状材料は、限定されないが、アバカ、綿、亜麻布、木材パルプ、及びそれらの混合物を含む様々な繊維からなる。当業者によく知られているように、綿及び綿／亜麻布の混合物は、紙幣に好ましく、一方、木材パルプは、非紙幣セキュリティ文書において一般に使用されている。他の実施形態によれば、本明細書に記載する基材（ｘ２０）は、プラスチック及びポリマー、金属化プラスチック又はポリマー、複合材料、及びそれらの２つ以上の混合物又は組合せに基づく。プラスチック及びポリマーの好適な例としては、ポリエチレン（ＰＥ）及び２軸配向ポリプロピレン（ＢＯＰＰ）を含むポリプロピレン（ＰＰ）などのポリオレフィン、ポリアミド、ポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）、ポリ（１，４－ブチレンテレフタラート）（ＰＢＴ）、ポリ（エチレン２，６－ナフトアート）（ＰＥＮ）などのポリエステル、及びポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）が挙げられる。商標Ｔｙｖｅｋ（登録商標）で販売されるものなどのスパンボンドオレフィン繊維は、また、基材として使用されてもよい。メッキプラスチック又はポリマーの代表例としては、表面上に連続又は不連続に金属を配置した上記プラスチック又は高分子材料が挙げられる。金属の代表例としては、限定されないが、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、それらの合金、及び前述の金属の２つ以上の組合せが挙げられる。前記プラスチック又は高分子材料の金属化は、電着プロセス、高真空コーティングプロセス、又はスパッタリングプロセスによって行われてもよい。複合材料の代表例としては、限定されないが、紙の多層構造又は積層品及び上記のものなどの少なくとも１つのプラスチック又は高分子材料、並びに上記のものなどの紙状又は繊維状材料に組み込まれたプラスチック及び／又はポリマー線維が挙げられる。当然、基材は、充填剤、糊剤、漂白剤、加工助剤、補強剤、又は湿潤強度増強剤などの、当業者に公知の更なる添加剤を含むことができる。本発明によって作製された１つ又は複数のしるし（ｘ３０）を示すＯＥＬが、例えば、爪のラッカーを含む装飾又は化粧目的に使用される場合、前記ＯＥＬは、動物又は人間の爪、人工爪、又は他の部分を含む他のタイプの基材上に作製されてもよい。

【0170】

[0169]また、セキュリティ文書、又は装飾要素若しくは装飾体を製造する方法を本明細書に記載し、方法は、ａ）セキュリティ文書、又は装飾要素若しくは装飾体を準備すること、ｂ）特に、本明細書に記載する方法によって得られたものなどの、本明細書に記載する１つ又は複数の光学効果層を、セキュリティ文書、又は装飾要素若しくは装飾体に含まれるように準備することを含む。

【0171】

[0170]本発明によって作製されたＯＥＬが、セキュリティ文書又は物品上にあれば、前記セキュリティ文書又は物品の偽造及び違法複製に対するセキュリティレベル及び抵抗性を更に向上させることを目的として、基材は、印刷、コーティング、又はレーザーマーク若しくはレーザー穿孔しるし、水量標、偽造防止糸、繊維、プランシェット、発光化合物、窓、箔、デカール、及びそれらの２つ以上の組合せを含んでいてもよい。セキュリティ文書及び物品の偽造及び違法複製に対するセキュリティレベル及び抵抗性を更に向上させる同じ目的で、基材は、１つ又は複数の標識物質又は識別用添加剤及び／又は機械読み取り可能物質（例えば、発光物質、ＵＶ／可視／ＩＲ吸収物質、磁性体、及びそれらの組合せ）を含んでいてもよい。

【0172】

[0171]必要に応じて、プライマー層は、ステップａ）の前に基材に付与されてもよい。これは、本明細書に記載するＯＥＬの質を高める、又は接着を促進し得る。そのようなプライマー層の例は、国際公開第２０１０／０５８０２６号に見出され得る。

【0173】

[0172]汚れに対する耐久性又は耐薬品性及び清浄度、したがって本明細書に記載する方法によって得られたＯＥＬを含むセキュリティ文書、物品、又は装飾要素若しくは装飾体の循環寿命を向上させる目的で、又はそれらの美観性（例えば、光学的光沢）を変更する目的で、１つ又は複数の保護層がＯＥＬ上に付与されてもよい。存在する場合、１つ又は複数の保護層は、典型的に保護ワニスからなる。保護ワニスは、放射線硬化性組成物、熱乾燥組成物、又はそれらの任意の組合せであってもよい。好ましくは、１つ又は複数の保護層は、放射線硬化性組成物、より好ましくはＵＶ－Ｖｉｓ硬化性組成物である。保護層は、ＯＥＬの形成後に典型的に付与される。

【0174】

[0173]本発明は、本明細書に記載する１つ又は複数のしるし（ｘ３０）を示し、本明細書に記載する方法によって作製された光学効果層（ＯＥＬ）を更に提供する。本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）の形状は、連続又は不連続であってもよい。１つの実施形態によれば、コーティング層（ｘ１０）の形状は、１つ又は複数のしるし、ドット、及び／又はラインを表し、前記しるしは、本明細書に記載するトップコーティング組成物からなる１つ又は複数のしるし（ｘ３０）と同じ形状を有していてもよく、異なる形状を有していてもよい。

【0175】

[0174]本明細書に記載する１つ又は複数のしるし（ｘ３０）を示すＯＥＬは、それが永久に残る基材上に直接設けられてもよい（紙幣用途など）。あるいは、光学効果層は、また、ＯＥＬがその後に取り除かれる作製目的の仮基材上に設けられてもよい。これは、特に、バインダー材料がまだその流体状態にある間、例えば、光学効果層（ＯＥＬ）の作製を促進し得る。その後、ＯＥＬの作製用のコーティング組成物を硬化した後、仮基材は、ＯＥＬから取り除かれてもよい。

【0176】

[0175]あるいは、他の実施形態では、接着剤層は、１つ又は複数の示すしるし（ｘ３０）上に存在してもよく、又はＯＥＬを含む基材側に存在してもよく、前記接着剤層は、ＯＥＬが設けられる側と反対の基材上又はＯＥＬと同じ側、及びＯＥＬ上にあってもよい。したがって、接着剤層は、ＯＥＬ又は基材に付与されてもよく、前記接着剤層は、硬化ステップが終了後に付与されてもよい。そのような物品は、機械類及びかなり高い効果を伴う印刷及び他のプロセスなしで様々な種類の書類又は他の物品若しくは商品に取り付けられてもよい。あるいは、本明細書に記載するＯＥＬを含む本明細書に記載する基材は、転写箔の形態であってもよく、それは、個別の転写ステップで書類又は物品に付与されることができる。この目的のために、基材には剥離コーティングが設けられ、その上に本明細書に記載するようにＯＥＬが作製される。１つ又は複数の接着剤層は、そのように作製された光学効果層に付与されてもよい。

【0177】

[0176]また、本明細書に記載する方法によって得られた１つより多い、つまり２、３、４つなどの光学効果層（ＯＥＬ）を含む基材を本明細書に記載する。

【0178】

[0177]また、本発明によって作製された光学効果層（ＯＥＬ）を含む物品、文書、特に、セキュリティ文書、装飾要素、及び装飾体を本明細書に記載する。物品、特にセキュリティ文書、装飾要素、又は装飾体は、本発明によって作製された１つより多い（例えば、２、３つなど）ＯＥＬを含んでいてもよい。

【0179】

[0178]上述されるように、本発明によって作製されたＯＥＬは、装飾の目的に、及びセキュリティ文書を保護及び認証するために使用されてもよい。

【0180】

[0179]装飾要素又は装飾体の代表例としては、限定されないが、高級品、化粧品包装、自動車部品、電子／電気器具、家具及び爪の物品が挙げられる。

【0181】

[0180]セキュリティ文書としては、限定されないが、価値書類及び価値商品が挙げられる。価値書類の代表例としては、限定されないが、紙幣、証書、チケット、請求書、証明書、収入印紙、及び税ラベル、協定等、旅券、身分証明書、ビザ、運転免許、バンクカード、クレジットカード、取引カード、アクセス書類又はカード、入場券、公共交通チケット、学術卒業証書又は権利等、好ましくは紙幣、アイデンティティ文書、権利付与文書、運転免許、及びクレジットカードなどのアイデンティティ文書が挙げられる。用語「価値商品」は、特に、化粧品、栄養補助食品、医薬品、アルコール、タバコ物品、飲料又は食料、電気／電子物品、織物又は宝石、つまり、例えば、本物の医薬品用などの包装の内容物を保証するために偽造及び／又は違法複製から保護される物品のためのパッケージング材料を指す。これらのパッケージング材料の例としては、限定されないが、認証ブランドラベル、タンパ証明ラベル、及びシールなどのラベルが挙げられる。本発明の範囲を制限することなく、開示された基材、価値書類、及び価値商品は、もっぱら例示のために与えられることが指摘される。

【0182】

[0181]あるいは、本明細書に記載する光学効果層（ＯＥＬ）は、例えば、セキュリティスレッド、セキュリティストライプ、箔、デカール、窓、又はラベルなどの補助基材上に作製され、したがって、個別のステップでセキュリティ文書に転写されてもよい。

【0183】

[0182]当業者は、本発明の趣旨から逸脱することなく、上記特定の実施形態からいくつかの変更を予測することができる。そのような変更は、本発明に包含される。

【0184】

[0183]さらに、明細書全体を通して参照した文献は全て、本明細書において十分に記載するように、参照によりその全体が組み込まれる。

【実施例】

【0185】

[0184]本発明は、以下、非限定的な実施例を参照してより詳細に説明する。下記実施例は、１つ又は複数のしるしを長方形の形態で示す光学効果層（ＯＥＬ）の作製についてより詳細に述べる。磁性顔料粒子（ＶＩＡＶＩ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ（サンタローザ、カリフォルニア州）から得られた、約１０．７μｍの径ｄ_５０及び約１μｍの厚みのフレーク形状を有する７層緑青の小板状の光学可変磁性顔料粒子；及びＶＩＡＶＩ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ（サンタローザ、カリフォルニア州）から得られた、約１９μｍの径ｄ_５０及び約１μｍの厚みのフレーク形状を有する５層の銀磁性顔料粒子）を含むスクリーン印刷組成物が調製されており、表１Ａに記載されている。トップコーティングインクジェット印刷組成物が調製されており、表１Ｂ－１及び１Ｂ－２に記載されている。

【表1】

【表2】

【表3】

【表4】

【0186】

（組成物の調製）
[0185]スクリーン印刷組成物を、ディスパーマットＣＶ－３を使用して、２０００ｒｐｍで１０分間、表１Ａに示す成分を混合することによって独立的に調製した。

【0187】

[0186]インクジェットトップコーティング印刷組成物を、ディスパーマットＬＣ２２０－１２を使用して、室温及び１０００ｒｐｍで１０分間、表１Ｂ１及び１Ｂ２に示す成分を混合することによって独立的に調製した。

【0188】

[0187]プライマー組成物は、Ｄｉｓｐｅｒｍａｔ ＣＶ－３を使用して、表２に列挙される成分を２０００ｒｐｍで１０分間混合して調製された。

【0189】

[0188]組成物の粘性を、ブルックフィールド粘度計（型式「ＤＶ－Ｉ Ｐｒｉｍｅ」、スクリーン印刷組成物及びプライマー組成物については１００ｒｐｍでスピンドルＳ２７及びトップコーティングインクジェット印刷組成物については５０ｒｐｍでＳ００）で２５℃で独立的に測定し、表１Ａ／Ｂ及び表２に示す。

【0190】

（光学効果層（ＯＥＬ）の調製法）
[0189]光学効果層（ＯＥＬ）を、本発明の方法（Ｅ１～Ｅ３６）及び比較の方法（Ｃ１～Ｃ２６）によって調製した。表５Ａ１～５Ａ４は、ｉ）方法中に使用される組成物の組合せ、ｉｉ）方法自体を概略的に示す図、ｉｉｉ）スクリーン印刷組成物が付与された基材、及びｉｖ）磁性配向ステップ中に使用された磁界発生装置の概要を提供する。

【表5】

【表6】

【表7】

【表8】

磁界発生装置は以下のものであった：
ＭＤ１：上述し、図３Ａに示す磁性アセンブリ（二軸配向用）
ＭＤ２：以下に記載するバー双極子磁石（単軸配向用）
ＭＤ３：以下に記載し、図３Ｂに示す磁性アセンブリ（単軸配向用）
基材（ｘ２０）Ｓ１～Ｓ４は、以下のものであった：
基材Ｓ１は、ポリマー基材（ＣＣＬ ＳｅｃｕｒｅのＧｕａｒｄｉａｎ（登録商標）である、
基材Ｓ２は、ハイブリッド基材である（ＬｏｕｉｓｅｎｔｈａｌのＬｏｎｇＬｉｆｅ（登録商標）である、
基材Ｓ３は、基準紙（Ｌｏｕｉｓｅｎｔｈａｌ ＢＮＰ紙、１００ｇ／ｍ^２）である、
基材Ｓ４は、表２（プライマー厚さ：２０μｍ）に開示するプライマー組成物を備えたＴ９０スクリーンを使用して、ハンドスクリーン印刷によってコーティングされた基準紙であり（Ｌｏｕｉｓｅｎｔｈａｌ ＢＮＰ紙、１００ｇ／ｍ^２）、２５０ｎｍ～３２０ｎｍ（２つのランプ：ＩＳＴ Ｍｅｔｚ ＧｍｂＨの鉄ドープ水銀ランプ２００Ｗ／ｃｍ^２＋水銀ランプ２００Ｗ／ｃｍ^２；２回通過、１００ｍ／ｍｉｎ）の間で少なくとも放射する硬化ユニットを使用する紫外線照射によって硬化された。

【0191】

[0190]図２Ａ１では、方法は、下記ステップを含んでいた：
コーティング層（２１０）を形成するために、基材（２２０）上にスクリーン印刷組成物をスクリーン印刷するステップａ）（図示せず）、
ステップａ）後に、しるし（２３０）を形成するために、トップコーティングインクジェット印刷組成物をインクジェット印刷するステップｂ）、
しるし（２３０）及び前記しるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）のエリアをＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）、
ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップｄ）、
ステップｄ）と部分的に同時に、光学効果層を形成するために、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ１）を維持しながら、コーティング層（２１０）をＨｇ硬化ユニット（２６０）で硬化するステップｅ）。

【0192】

[0191]図２Ｂでは、方法は、下記ステップを含んでいた：
コーティング層（２１０）を形成するために、基材（２２０）上にスクリーン印刷組成物をスクリーン印刷するステップａ）（図示せず）、
ステップａ）後に、しるし（２３０）を形成するために、トップコーティングインクジェット印刷組成物をインクジェット印刷するステップｂ）、
ステップｂ）後に、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ、
ステップｂ）と部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第１の磁界発生装置（Ｂ１）を維持しながら、しるし（２３０）及び前記しるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）、
ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、本明細書に記載する磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップｄ）、
ステップｄ）と部分的に同時に、光学効果層を形成するために、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、コーティング層（２１０）をＨｇ硬化ユニット（２６０）で硬化するステップｅ）。

【0193】

[0192]図２Ｃでは、方法は、下記ステップを含んでいた：
コーティング層（２１０）を形成するために、基材（２２０）上にスクリーン印刷組成物をスクリーン印刷するステップａ）（図示せず）、
ステップａ）後に、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ、
コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップと部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第１の磁界発生装置（Ｂ１）を維持しながら、しるし（２３０）を形成するために、コーティング層（２１０）上にトップコーティングインクジェット印刷組成物をインクジェット印刷するステップｂ）、
ステップｂ）後に、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ１）を維持しながら、しるし（２３０）及び前記しるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）、
ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップｄ）、
ステップｄ）と部分的に同時に、光学効果層を形成するために、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、コーティング層（２１０）をＨｇ硬化ユニット（２６０）で硬化するステップｅ）。

【0194】

[0193]図２Ｄでは、方法は下記ステップを含んでいた：
コーティング層（２１０）を形成するために、基材（２２０）上にスクリーン印刷組成物をスクリーン印刷するステップａ）（図示せず）、
ステップａ）後に、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ、
コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップと部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第１の磁界発生装置（Ｂ１）を維持しながら、しるし（２３０）を形成するために、コーティング層（２１０）上にトップコーティングインクジェット印刷組成物をインクジェット印刷するステップｂ）、
ステップｂ）後に、コーティング層（２１０）の付近に第１の磁界発生装置（Ｂ１）を維持しながら、しるし（２３０）及び前記しるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）のエリアをＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）、
ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップｄ）、
ステップｄ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップ、
コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップ後に、光学効果層を形成するために、コーティング層（２１０）をＨｇ硬化ユニット（２６０）で硬化するステップｅ）。図２Ｄに示される方法に従って製造された実施例Ｅ１７について、第３の磁界発生装置（Ｂ３）での配向ステップとステップｅ）との間は約０．５秒であった。

【0195】

[0194]図２Ｅでは、方法は下記ステップを含んでいた：
コーティング層（２１０）を形成するために、基材（２２０）上にスクリーン印刷組成物をスクリーン印刷するステップａ）（図示せず）、
ステップａ）後に、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ、
コーティング層（２１０）を磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ後に、しるし（２３０）を形成するために、トップコーティングインクジェット印刷組成物をコーティング層（２１０）上にインクジェット印刷するステップｂ）、
ステップｂ）後に、しるし（２３０）及び前記しるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）、
ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップｄ）、
コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップと部分的に同時に、光学効果層を形成するために、コーティング層（２１０）の付近に第２の磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、コーティング層（２１０）をＨｇ硬化ユニット（２６０）で硬化するステップｅ）。

【0196】

[0195]図２Ｆでは、方法は下記ステップを含んでいた：
コーティング層（２１０）を形成するために、基材（２２０）上にスクリーン印刷組成物をスクリーン印刷するステップａ）（図示せず）、
ステップａ）後に、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ、
コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ後に、しるし（２３０）を形成するために、コーティング層（２１０）上にトップコーティングインクジェット印刷組成物をインクジェット印刷するステップｂ）、
ステップｂ）後に、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップ、
ステップｂ）と部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第２の磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、しるし（２３０）及び前記しるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）、
ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップｄ）、
コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップと部分的に同時に、光学効果層を形成するために、コーティング層（２１０）の付近に第３の磁界発生装置（Ｂ３）を維持しながら、コーティング層（２１０）をＨｇ硬化ユニット（２６０）で硬化するステップｅ）。

【0197】

[0196]図２Ｇでは、方法は下記ステップを含んでいた：
コーティング層（２１０）を形成するために、基材（２２０）上にスクリーン印刷組成物をスクリーン印刷するステップａ）（図示せず）、
ステップａ）後に、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ、
コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ後に、しるし（２３０）を形成するために、トップコーティングインクジェット印刷組成物をコーティング層（２１０）上にインクジェット印刷するステップｂ）、
ステップｂ）後に、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップ、
コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップと部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第２の磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、しるし（２３０）及び前記しるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）、
ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップｄ）、
コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップ後に、光学効果層を形成するために、コーティング層（２１０）をＨｇ硬化ユニット（２６０）で硬化するステップｅ）。図２Ｇに示される方法に従って製造された実施例Ｅ１９について、第３の磁界発生装置（Ｂ３）での配向とステップｅ）との間は約０．５秒であった。

【0198】

[0197]図２Ｈでは、方法は下記ステップを含んでいた：
コーティング層（２１０）を形成するために、基材（２２０）上にスクリーン印刷組成物をスクリーン印刷するステップａ）（図示せず）、
ステップａ）後に、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ、
コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ後に、しるし（２３０）を形成するために、コーティング層（２１０）上にトップコーティングインクジェット印刷組成物をインクジェット印刷するステップｂ）、
ステップｂ）後に、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップ、
ステップｂ）後に、しるし（２３０）及び前記しるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）、
ステップｃ）後に、コーティング層２１０のまだ硬化されたエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップｄ）、
コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップと部分的に同時に、光学効果層を形成するために、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ３）を維持しながら、コーティング層（２１０）をＨｇ硬化ユニット（２６０）で硬化するステップｅ）。

【0199】

[0198]図２Ｉでは、方法は下記ステップを含んでいた：
コーティング層（２１０）を形成するために、基材（２２０）上にスクリーン印刷組成物をスクリーン印刷するステップａ）（図示せず）、
ステップａ）後に、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ、
コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ後に、しるし（２３０）を形成するために、コーティング層（２１０）上にトップコーティングインクジェット印刷組成物インクジェット印刷するステップｂ）、
ステップｂ）後に、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップ、
コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらす前記ステップ後に、しるし（２３０）及び前記しるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）のエリアをＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）、
ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップｄ）、
コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップ後に、光学効果層を形成するために、コーティング層（２１０）をＨｇ硬化ユニット（２６０）で硬化するステップｅ）。図２Ｉに示される方法に従って製造された実施例Ｅ２１について、第３の磁界発生装置（Ｂ３）での配向とステップｅ）との間は約０．５秒であった。

【0200】

[0199]図２Ｊでは、方法は下記ステップを含んでいた：
コーティング層（２１０）を形成するために、基材（２２０）上にスクリーン印刷組成物をスクリーン印刷するステップａ）（図示せず）、
ステップａ）後に、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ、
コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ後に、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップ、
コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップと部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第２の磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、しるし（２３０）を形成するために、コーティング層（２１０）上にトップコーティングインクジェット印刷組成物をインクジェット印刷するステップｂ）、
コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップと部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第２の磁界発生装置（Ｂ２）を維持しながら、しるし（２３０）及び前記しるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）、
ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップｄ）、
コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップと部分的に同時に、光学効果層を形成するために、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ３）を維持しながら、コーティング層（２１０）をＨｇ硬化ユニット（２６０）で硬化するステップｅ）。

【0201】

[0200]図２Ｋでは、方法は下記ステップを含んでいた：
コーティング層（２１０）を形成するために、基材（２２０）上にスクリーン印刷組成物をスクリーン印刷するステップａ）（図示せず）、
ステップａ）後に、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ、
コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ１）の磁界にさらすステップ後に、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第２の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップ、
コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ２）の磁界にさらすステップ後に、しるし（２３０）を形成するために、コーティング層（２１０）上にトップコーティングインクジェット印刷組成物をインクジェット印刷するステップｂ）、
ステップｂ）後に、しるし（２３０）及び前記しるし（２３０）の下のコーティング層（２１０）のエリアを、ＬＥＤ硬化ユニット（２５０）で少なくとも部分的に硬化するステップｃ）、
ステップｃ）後に、コーティング層（２１０）のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層（２１０）を第１の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップｄ）、
コーティング層（２１０）を第３の磁界発生装置（Ｂ３）の磁界にさらすステップと部分的に同時に、光学効果層を形成するために、コーティング層（２１０）の付近に磁界発生装置（Ｂ３）を維持しながら、コーティング層（２１０）及びしるし（２３０）をＨｇ硬化ユニット（２６０）で硬化するステップｅ）。

【0202】

[0201]比較例Ｃ１～Ｃ２６は以下の方法に従って製造された：
方法１（Ｃ１～Ｃ２０）は以下を含む：
コーティング層を形成するために、基材上にスクリーン印刷組成物をスクリーン印刷するステップ、
しるしを形成するために、トップコーティングインクジェット印刷組成物をインクジェット印刷するステップ、
その後、コーティング層をＬＥＤ硬化ユニットにさらすステップ、
その後、コーティング層のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層を第１の磁界発生装置の磁界にさらすステップ、
コーティング層を第１の磁界発生装置の磁界にさらすステップと部分的に同時に、コーティング層の付近に第１の磁界発生装置を維持しながら、コーティング層をＨｇ硬化ユニットにさらすステップ。
方法２（Ｃ２１）は以下を含む：
コーティング層を形成するために、基材上にスクリーン印刷組成物をスクリーン印刷するステップ、
その後、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層を第１の磁界発生装置の磁界にさらすステップ、
その後、しるしを形成するために、トップコーティングインクジェット印刷組成物をインクジェット印刷するステップ、
その後、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層を第２の磁界発生装置の磁界にさらすステップ、
部分的に同時に、コーティング層の付近に第２の磁界発生装置を維持しながら、コーティング層をＬＥＤ硬化ユニットにさらすステップ、
その後、コーティング層のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層を第３の磁界発生装置の磁界にさらすステップ、
部分的に同時に、コーティング層の付近に第３の磁界発生装置を維持しながら、コーティング層をＨｇ硬化ユニットにさらすステップ。
方法３（Ｃ２２及びＣ２４）は以下を含む：
コーティング層を形成するために、基材上にスクリーン印刷組成物をスクリーン印刷するステップ、
その後、しるしを形成するために、トップコーティングインクジェット印刷組成物をインクジェット印刷するステップ、
その後、コーティング層をＬＥＤ硬化ユニットにさらすステップ、
コーティング層のまだ硬化されていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層を磁界発生装置の磁界にさらすステップ、
その後、コーティング層をＨｇ硬化ユニットにさらすステップ。
方法４（Ｃ２３及びＣ２５）は以下を含む：
コーティング層を形成するために、基材上にスクリーン印刷組成物をスクリーン印刷するステップ、
その後、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層を第１の磁界発生装置の磁界にさらすステップ、
その後、しるしを形成するために、トップコーティングインクジェット印刷組成物をインクジェット印刷するステップ、
その後、コーティング層をＬＥＤ硬化ユニットにさらすステップ、
その後、コーティング層（２１０）のまだ硬化されたていないエリアにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層を第２の磁界発生装置の磁界にさらすステップ、
部分的に同時に、コーティング層の付近に第２の磁界発生装置を維持しながら、コーティング層をＨｇ硬化ユニットにさらすステップ。
方法５（Ｃ２６）は以下を含む：
コーティング層を形成するために、基材上にスクリーン印刷組成物をスクリーン印刷するステップ、
その後、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために、コーティング層を第１の磁界発生装置の磁界にさらすステップ、
その後、しるしを形成するために、トップコーティングインクジェット印刷組成物をインクジェット印刷するステップ、
その後、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層を第２の磁界発生装置の磁界にさらすステップ、
部分的に同時に、コーティング層の付近に第２の磁界発生装置を維持しながら、コーティング層をＨｇ硬化ユニットにさらすステップ、
その後、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために、コーティング層を第３の磁界発生装置の磁界にさらすステップ、
部分的に同時に、コーティング層（２１０）の付近に第３の磁界発生装置を維持しながら、コーティング層をＬＥＤ硬化ユニットにさらすステップ。

【0203】

（スクリーン印刷組成物のスクリーン印刷）
[0202]表１Ａに記載されたスクリーン印刷組成物は、次の寸法：２５ｍｍ×２５ｍｍ及び厚さ約２０μｍを有するコーティング層（ｘ１０）を形成するために、表５に記載する基材（ｘ２０）（７０ｍｍ×７０ｍｍ）上にＴ９０スクリーンを使用してハンドスクリーン印刷によって独立的に付与した。

【0204】

（トップコーティングインクジェット印刷組成物のインクジェット印刷）
[0203]表１Ｂ－１及び１Ｂ２に記載するトップコーティングインクジェット印刷組成物は、以下の寸法：２０ｍｍ×１２ｍｍを有する長方形の形状を有するしるしを形成するために、京セラＫＪ４Ａ－ＴＡ印字ヘッド（６００ｄｐｉ）を使用して、ＤＯＤインクジェット印刷によって約５ｇ／ｍ^２で別々に付与された。

【0205】

（スクリーン印刷組成物の磁気配向）
[0204]コーティング層（ｘ１０）を以下に記載する磁界発生装置の磁界にさらすステップは、スクリーン印刷組成物からなるコーティング層に含まれた磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を配向するために別々に実行された。

【0206】

〔２軸配向用の磁界発生装置ＭＤ１（図３Ａに示される）〕
[0205]磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を２軸方向に配向するために使用される磁界発生装置ＭＤ１は、ａ）第１の棒状双極子磁石（３７１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（３７２_ａ及び３７２_ｂ）を含む第１のセット（Ｓ１）及び第１の棒状双極子磁石（３７１）及び第２の棒状双極子磁石（３７２_ａ及び３７２_ｂ）を含む第２のセット（Ｓ２）、及びｂ）第３の棒状双極子磁石（３７３_ａ及び３７３_ｂ）の一対（Ｐ１）を含んでいた。

【0207】

[0206]第１及び第２のセット（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（３７１）の、第１及び第２のセット（Ｓ１、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（３７２_ａ及び３７２_ｂ）の、及び一対（Ｐ１）の第３の棒状双極子磁石（３７３_ａ及び３７３_ｂ）の最表面は、同一面であった。

【0208】

[0207]第３の棒状双極子磁石（３７３_ａ）は、ラインを形成するために、第１のセット（Ｓ１）の第２の棒状双極子磁石（３７２_ａ）及び第２のセット（Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（３７２_ａ）と位置合わせされた。第３の棒状双極子磁石（３７３_ｂ）は、ラインを形成するために、第１のセット（Ｓ１）の第２の棒状双極子磁石（３７２_ｂ）及び第２のセット（Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（３７２_ｂ）と位置合わせされた。

【0209】

[0208]第１及び第２のセット（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（３７１）は、次の寸法：第１の厚さ（Ｌ１）５ｍｍ、第１の長さ（Ｌ４）６０ｍｍ、及び第１の幅（Ｌ５）４０ｍｍを有していた。第１及び第２のセット（Ｓ１、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（３７２_ａ及び３７２_ｂ）の各々は、次の寸法：第２の厚さ（Ｌ２）１０ｍｍ、第２の長さ（Ｌ６）４０ｍｍ、及び第２の幅（Ｌ７）１０ｍｍを有していた。一対の（Ｐ１）の第３の棒状双極子磁石（３７３ａ及び３７３ｂ）の各々は、次の寸法：第３の厚さ（Ｌ３）１０ｍｍ、第３の長さ（Ｌ８）２０ｍｍ、及び第３の幅（Ｌ９）１０ｍｍを有していた。

【0210】

[0209]第１のセット（Ｓ１）の第１の棒状双極子磁石（３７１）及び第１のセット（Ｓ１）の第２の棒状双極子磁石（３７２_ａ及び３７２_ｂ）は位置合わせされて列を形成し、第２のセット（Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（３７１）及び第２のセット（Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（３７２_ａ及び３７２_ｂ）は位置合わせされて列を形成した。本明細書に記載する各セット（Ｓ１、Ｓ２）及び各列について、第１の棒状双極子磁石（３７１）及び２つの第２の棒状双極子磁石（３７２_ａ及び３７２_ｂ）は、第２の距離（ｄ２）２ｍｍだけ離間していた。本明細書に記載する各ラインについて、第３の棒状双極子磁石（３７３_ａ及び３７３_ｂ）及び２つの第２の棒状双極子磁石（３７２_ａ）は、第３の距離（ｄ３）２ｍｍだけ離間していた。

【0211】

[0210]第１及び第２のセット（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（３７１）は、基材（３２０）と実質的に平行に配向された磁軸を有しており、第１のセット（Ｓ１）の第１の棒状双極子磁石（３７１）は、第２のセット（Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（３７１）の磁気方向と反対の磁気方向を有しており、第３の長さ（Ｌ８）及び２つの第３の距離（ｄ３）の合計に対応する）第１の距離（ｄ１）２４ｍｍだけ離間していた。

【0212】

[0211]第１及び第２のセット（Ｓ１、Ｓ２）の２つの第２の棒状双極子磁石（３７２_ａ及び３７２_ｂ）は、第１の平面に実質的に垂直に、基材（３２０）に実質的に垂直に配向された磁軸を有していた。第１のセット（Ｓ１）の第２の棒状双極子磁石（３７２_ａ）のＳ極は、第１の平面及び基材（３２０）に向かい、第２の棒状双極子磁石（３７２_ｂ）のＮ極は、基材（３２０）に向かい、第１のセット（Ｓ１）の第１の棒状双極子磁石（３７１）のＮ極は、第１のセット（Ｓ１）の第２の棒状双極子磁石（３７２_ｂ）に向かっていた。第２のセット（Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（３７２_ａ）のＮ極は、第１の平面及び基材（３２０）に向かい、第２のセット（Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（３７２_ｂ）のＳ極は、基材（３２０）に向かい、第２のセット（Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（３７１）のＮ極は、第２のセット（Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（３７２_ａ）に向かっていた。

【0213】

[0212]第３の棒状双極子磁石（３７３_ａ）のＳ極は、第１のセット（Ｓ１）の第２の棒状双極子磁石（３７２_ａ）に向かい、前記第２の棒状双極子磁石（３７２_ａ）は、基材（３２０）に向かうＳ極を有し、第３の棒状双極子磁石（３７３_ｂ）のＮ極は、第１のセット（Ｓ１）の第２の棒状双極子磁石（３７２_ｂ）に向かい、前記第２の棒状双極子磁石（３７２_ｂ）は、基材（３２０）に向かうＮ極を有する。

【0214】

[0213]第１及び第２のセット（Ｓ１、Ｓ２）の第１の棒状双極子磁石（３７１）、第１及び第２のセット（Ｓ１、Ｓ２）の第２の棒状双極子磁石（３７３_ａ及び３７３_ｂ）、及び一対（Ｐ１）の第３の棒状双極子磁石（３７２_ａ及び３７２_ｂ）は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４２からなり、次の寸法：１１５ｍｍ×１１５ｍｍ×１２ｍｍを有するポリオキシメチレン（ＰＯＭ）からなる、非磁性支持マトリックス（図示せず）に埋め込まれた。

【0215】

[0214]磁気配向中に、コーティング層（３１０）を支持する基材（３２０）は、アセンブリを形成するために、コーティング層（３１０）が環境に面して上記ＰＯＭからなる非磁性支持板上に配置され、前記非磁性支持板（３４０）は、次の寸法：１８０ｍｍ×１３０ｍｍ×２ｍｍを有し、コーティング層（３１０）が、磁界発生装置（３００）に面して、中央に位置合わせされた開口（４８ｍｍ×４８ｍｍ）を含んでいた。アセンブリは、磁界発生装置（３００）の近傍及び上で前記装置の上面から約２ｍｍの距離で前後に３回移動した。

【0216】

〔単軸配向用磁界発生装置ＭＤ２〕
[0215]磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために使用される磁界発生装置ＭＤ２は、長さ約３０ｍｍ、幅約２４ｍｍ、及び約６ｍｍの厚さを有する棒状双極子磁石を含んでおり、前記棒状双極子磁石は、ＰＯＭからなり、次の寸法：４０ｍｍ×４０ｍｍ×１５ｍｍを有するマトリックスに埋め込まれた。棒状双極子磁石のＮ－Ｓ磁軸は、基材（３２０）表面と平行で、幅と平行であった。棒状双極子磁石は、ＮｄＦｅＢ Ｎ４２からなっていた。

【0217】

[0216]磁気配向中に、コーティング層（３１０）を支持する基材（３２０）は、アセンブリを形成するために、コーティング層（３１０）が環境に面する上記ＰＯＭからなる非磁性支持板上に配置された。アセンブリは、基材（３２０）が、棒状双極子磁石の表面の上面から約６ｍｍの距離であるように磁界発生装置の近傍及び上に置かれた。

【0218】

〔単軸配向用磁界発生装置ＭＤ３（図３Ｂに示される）〕
[0217]同時係属中の欧州特許出願第１９２０５７１５．６号の図６Ａにおいて、磁性又は磁化可能な顔料粒子の少なくとも一部を単軸方向に配向するために使用される磁界発生装置ＭＤ３が開示されており、第１の正方形の支持マトリックス（３３２）に埋め込まれた第１の磁界発生装置（３３０）及び第２の正方形の支持マトリックス（３４２）に埋め込まれた第２の双極子磁石（３４１）を含む第２の磁界発生装置（３４０）を含み、第２の磁界発生装置（３４０）は、第１の磁界発生装置（３３０）の下に配置されており、第１の磁界発生装置（３３０）は、コーティング層（３１０）を支持する基材（３２０）と第２の磁界発生装置（３４０）との間に配置されていた。第１の磁界発生装置（３３０）及び第２の磁界発生装置（３４０）は、互いに対して中心に位置決めされた。

【0219】

[0218]第１の磁界発生装置（３３０）は、９つの平行直線α_ｉ（α_１～９）及び９つの平行直線β_ｊ（β_１～９）を含むグリッドの交差上にそれぞれの中心を配置した４１個の第１の双極子磁石（３３１_１～４１）を含んでおり、直線α_ｉ（α_１～９）は互いに平行であり、直線β_ｊ（β_１～９）は互いに平行であり、直線α_ｉは直線β_ｊに垂直であった。９本の線α_ｉ（α_１～９）は、等間隔に配置されており、近接線は２．５ｍｍの距離だけ離れていた。５本の線α_ｉ（α_{１／３／５／７／９}）は、５つの第１の双極子磁石を含み、４つの線α_ｉ（α_{２／４／６／８}）は、第１の双極子磁石の総数が４１個（３３１_１～４１）であるように４つの第１の双極子磁石を含んでいた。９本の線β_ｊ（β_１～９）は、等間隔に配置されており、近接線は２．５ｍｍの距離だけ離れていた。図３Ｂに示すように、第１の双極子磁石（３３１_１～４１）の各々は、グリッドの交差上に配列されているが、前記グリッドの交差のうちのいくつかは、第１の双極子磁石を含んでいなかった。

【0220】

[0219]４１個の第１の双極子磁石（３３１_１～４１）は、以下の寸法：２ｍｍ（Ａ４、径）×２ｍｍ（Ａ５、長さ）を有する円筒状であり、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５からなった。第１の双極子磁石（３３１_１～４１）は、図３ＢにおいてＳ→Ｎの矢印によって示されるように、全て長さ（Ａ５）方向に磁化され、基材（３２０）表面と平行で、同じ方向に全てを向ける直線α_ｉ（α_１～α_９）に対して平行に配向した磁気軸を有していた。第１の磁界発生装置（３３０）は、基材（３２０）表面と実質的に平行なベクトル和Ｈ１を有していた。

【0221】

[0220]第１の磁界発生装置（３３０）の第１の正方形の支持マトリックス（３３２）は、以下の寸法：５０ｍｍ×５０ｍｍ×３ｍｍを有し、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）からなり、４１個の第１の双極子磁石（３３１_１～４１）を保持するための４１個の凹みを含み、前記凹みは、前記４１個の第１の双極子磁石（３３１_１～４１）と同じ寸法を有し、その結果、前記４１個の第１の双極子磁石（３３１_１～４１）の最上面は、第１の正方形の支持マトリックス（３３２）の最上面と同一平面であった。第２の磁界発生装置（３４０）の第２の双極子磁石（３４１）は、正方形の双極子磁石であり、以下の寸法：３０ｍｍ（Ｂ４）×３０ｍｍ（Ｂ５）×２ｍｍ（Ｂ３）を有し、ＮｄＦｅＢ Ｎ５２からなった。第２の双極子磁石（３４１）は、基材（３２０）表面と実質的に平行な南北磁気軸を有していた。第２の磁界発生装置（３４０）は、基材（３２０）と実質的に平行なベクトル和Ｈ２（第２の双極子磁石（３４１）の磁気軸に対応する）を有していた。

【0222】

[0221]第２の磁界発生装置（３４０）の第２の正方形の支持マトリックス（３４２）は、以下の寸法：５０ｍｍ×５０ｍｍ×２ｍｍを有し、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）からなり、第２の双極子磁石（３４１）を保持するための凹み／孔を含み、前記凹み／孔は、第２の双極子磁石（３４１）と同じ形状及び寸法（つまり、３０ｍｍ（Ｂ４）×３０ｍｍ（Ｂ５）×２ｍｍ（Ｂ３））を有し、その結果、前記第２の双極子磁石（３４１）の最上面及び最下面は、第２の正方形の支持マトリックス（３４２）の最上面及び最下面と同一平面であった。

【0223】

[0222]第１の磁界発生装置（３３０）の第１の正方形の支持マトリックス（３３２）の最上面（４１個の第１の双極子磁石（３３１_１～４１）の上表にも相当する）と磁性アセンブリ（３００）に面する基材（３２０）の表面との間の距離（ｈ１）は１．５ｍｍであった。第２の磁界発生装置（３４０）の第２の双極子磁石（３４１）の上面と、第１の磁界発生装置（３３０）の正方形の支持マトリックス（３３２）の最下面との間の距離（ｈ２）は０ｍｍ、つまり、第１（３３０）及び第２（３４０）の磁界発生装置は直接接触していた。

【0224】

（硬化ユニット）
[0223]以下のユニットは光学効果層の調製に使用された：
ＬＥＤ硬化ユニット（ｘ５０）：露光時間が約０．５秒のＰｈｏｓｅｏｎ（ＦｉｒｅＬｉｎｅタイプ、１２５×２０ｍｍ、３９５ｎｍ、８Ｗ／ｃｍ^２）のＵＶ－ＬＥＤランプ
Ｈｇ硬化ユニット（ｘ６０）：２つのランプ：ＩＳＴ Ｍｅｔｚ ＧｍｂＨの鉄ドープ水銀ランプ２００Ｗ／ｃｍ２＋水銀ランプ２００Ｗ／ｃｍ^２；１００ｍ／ｍｉｎで２回通過

【0225】

[0224]硬化ステップ後に、各試料をティッシュペーパーで擦ってコーティング層（ｘ１０）及びしるし（ｘ３０）の両方の硬化を確認した。図４に示される写真から分かるように、硬化が完全又は十分でなかった比較例では、１つ又は両方の層の少なくともの一部が除去された。

【0226】

（実施例及び比較例の写真（図４Ａ～Ｄ））
[0225]上述するようにして作製された光学効果層の写真が、図４Ａ～Ｄに提供されている。

【0227】

[0226]図４Ａに開示する写真によって示すように、ａ）本明細書に記載する第１の実施形態に開示する１つ又は複数のヨードニウム塩、特に、スクリーン印刷組成物におけるビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）、ビス（４－ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１７８６－７０－４）、及びそれらの混合物からなる群から選択される１つ又は複数の塩と、ｂ）本明細書に記載する第１の実施形態に開示する１つ又は複数のチオキサントン化合物、特に、トップコーティングインクジェット印刷組成物における１－クロロ－４－プロポキシ－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ １４２７７０－４２－１）、２－イソプロピル－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ５４９５－８４－１）；４－（１－メチルエチル）－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ８３８４６－８６－０）、それらのオリゴマー及び高分子化合物（ＣＡＳ Ｎｒ ２０５５３３５－４６－９）、１，３－ジ［［α－［１－クロロ－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－４－イル）オキシ］アセチルポリ［オキシ（１－メチルエチレン）］］オキシ］－２，２－ビス［［α－［１－クロロ－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテン－４－イル）オキシ］アセチルポリ［オキシ（１－メチルエチレン）］］オキシメチルプロパン（ＣＡＳ Ｎｒ １００３５６７－８３－６）、及びそれらの混合物からなる群から選択される１つ又は複数の化合物との組合せの本明細書に記載する請求されたプロセスにおける使用は、粒子、明るい高反射エリアの磁界発生装置（Ｂ１）での磁化配向による基材を傾けた際のローリングバーの動的移動だけでなくしるしを示す光学効果層を作製することを可能にした。

【0228】

[0227]図４Ａに開示する写真によって示すように、ａ）本明細書に記載する第２の実施形態に開示する１つ又は複数のヨードニウム塩と、ｂ）第２の実施形態に開示する１つ又は複数のアントラセン化合物、特に、トップコーティングインクジェット印刷組成物における９，１０－ジブトキシ－アントラセン（ＣＡＳ Ｎｒ ７６２７５－１４－４）との組合せの本明細書に記載する請求されたプロセスでの使用は、粒子、明るい高反射エリアの磁界発生装置（Ｂ１）での磁化配向による基材を傾けた際のローリングバーの動的移動だけでなくしるしを示す光学効果層を作製することを可能にした。

【0229】

[0228]図４Ａに開示する写真によって示すように、ａ）本明細書に記載する第３の実施形態に開示する１つ又は複数のヨードニウム塩と、ｂ）第３の実施形態に開示する１つ又は複数のクマリン化合物、特に、トップコーティングインクジェット印刷組成物における３－（４－ドデシルベンゾイル）－５，７－ジメトキシ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－２－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ２１７０１５３－４３）との組合せの本明細書に記載する請求されたプロセスでの使用は、粒子、明るい高反射エリアの磁界発生装置（Ｂ１）での磁化配向による基材を傾けた際のローリングバーの動的移動をだけでなくしるしを示す光学効果層を作製することを可能にした。

【0230】

[0229]図４Ａに開示する写真によって示すように、ａ）本明細書に記載する第４の実施形態に開示する１つ又は複数のヨードニウム塩と、ｂ）第４の実施形態に開示するナフタレン化合物及びアントラセン化合物、特に、トップコーティングインクジェット印刷組成物における９，１０－ジエトキシ－ナフタレン（ＣＡＳ Ｎｒ ２７２９４－３７－７）及び９，１０－ジブトキシ－アントラセン（ＣＡＳ Ｎｒ ７６２７５－１４－４）との組合せの本明細書に記載する請求されたプロセスでの使用は、粒子、明るい高反射エリアの磁界発生装置（Ｂ１）での磁化配向による基材を傾けた際のローリングバーの動的移動だけでなくしるしを示す光学効果層を作製することを可能にした。

【0231】

[0230]図４Ａに開示する写真によって示すように、請求されたプロセス及び本明細書に記載する第１の実施形態の組合せによって得られたＯＥＬは、Ｅ１～Ｅ４、Ｅ８、及びＥ９で示され；請求されたプロセス及び本明細書に記載する第２の実施形態の組合せによって得られたＯＥＬは、Ｅ５で示され；請求されたプロセス及び本明細書に記載する第３の実施形態の組合せによって得られたＯＥＬは、Ｅ６で示され；及び請求されたプロセス及び本明細書に記載する第４の実施形態の組合せによって得られたＯＥＬは、Ｅ７で示される。

【0232】

[0231]図４Ａに開示する写真によって示すように、ａ）本明細書に記載する第５の実施形態に開示する１つ又は複数のスルホニウム塩、特に、スクリーン印刷組成物における４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０）及びビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ８９４５２－３７－９）からなる群から選択される１つ又は複数の塩と、ｂ）第５の実施形態に開示する１つ又は複数のアントラセン化合物、特に、トップコーティングインクジェット印刷組成物における９，１０－ジブトキシ－アントラセン（ＣＡＳ Ｎｒ ７６２７５－１４－４）との組合せの本明細書に記載する請求されたプロセスでの使用は、粒子、明るい高反射エリアの磁界発生装置（Ｂ１）での磁化配向による基材を傾けた際のローリングバーの動的移動だけでなくしるしを示す光学効果層を作製することを可能にした。

【0233】

[0232]図４Ａに開示する写真によって示すように、ａ）本明細書に記載する第６の実施形態に開示する１つ又は複数のスルホニウム塩、特に、スクリーン印刷組成物における４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０）及びビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ８９４５２－３７－９）と、ｂ）本明細書に記載する第６の実施形態に開示する１つ又は複数のヨードニウム塩、特に、トップコーティングインクジェット印刷組成物におけるビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）と、ｃ）第６の実施形態に開示する１つ又は複数のチオキサントン化合物、特に、トップコーティングインクジェット印刷組成物における１－クロロ－４－プロポキシ－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ １４２７７０－４２－１）との組合せの本明細書に記載する請求されたプロセスでの使用は、粒子、明るい高反射エリアの磁界発生装置での磁化配向による基材を傾けた際のローリングバーの動的移動だけでなくしるしを示す光学効果層を作製することを可能にした。

【0234】

[0233]図４Ａに開示する写真によって示すように、ａ）本明細書に記載する第７の実施形態に開示する１つ又は複数のスルホニウム塩、特に、スクリーン印刷組成物における４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０）及びビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ８９４５２－３７－９）と、ｂ）本明細書に記載する第７の実施形態に開示するナフタレン化合物、特に、トップコーティングインクジェット印刷組成物における９，１０－ジエトキシ－ナフタレンと、ｃ）アントラセン化合物、特に、トップコーティングインクジェット印刷組成物における９，１０－ジブトキシ－アントラセンとの組合せの本明細書に記載する請求されたプロセスでの使用は、粒子、明るい高反射エリアの磁界発生装置での磁化配向による基材を傾けた際のローリングバーの動的移動だけでなくしるしを示す光学効果層を作製することを可能にした。

【0235】

[0234]図４Ａに示すように、請求されたプロセス及び本明細書に記載する第５の実施形態の組合せによって得られたＯＥＬは、Ｅ１０で示され；請求されたプロセス及び本明細書に記載する第６の実施形態の組合せによって得られたＯＥＬは、Ｅ１１で示され；及び請求されたプロセス及び本明細書に記載する第７の実施形態の組合せによって得られたＯＥＬは、Ｅ１２で示される。

【0236】

[0235]図４Ｄに開示する写真によって示すように、ａ）本明細書に記載する第８の実施形態に開示する１つ又は複数のスルホニウム塩、特に、スクリーン印刷組成物における４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０）及びビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ８９４５２－３７－９）からなる群から選択される１つ又は複数の塩と、ｂ）本明細書に記載する第８の実施形態に開示する１つ又は複数のクマリン化合物、特に、３－（４－Ｃ１０－Ｃ１３－ベンゾイル）－５，７－ジメトキシ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－２－オン（ＣＡＳ Ｎｒ ２２４３７０３－９１－３）、及び本明細書に記載する第８の実施形態に開示する１つ又は複数のヨードニウム塩、特に、トップコーティングインクジェット印刷組成物におけるビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）との組合せの本明細書に記載する請求されたプロセスでの使用は、粒子、明るい高反射エリアの磁界発生装置（Ｂ１）での磁化配向による基材を傾けた際のローリングバーの動的移動だけでなくしるしを示す光学効果層を作製することを可能にした。図４Ｄに示すように、請求されたプロセス及び本明細書に記載する第８の実施形態の組合せによって得られたＯＥＬは、Ｅ３０で示される。

【0237】

[0236]図４Ｄに開示する写真によって示すように、ａ）本明細書に記載する第９の実施形態に開示する１つ又は複数のヨードニウム塩、特に、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）、又は本明細書に記載する第９の実施形態に開示する１つ又は複数のスルホニウム塩、特に、スクリーン印刷組成物における４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０）及びビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ８９４５２－３７－９）、ｂ）本明細書に記載する第９の実施形態に開示する１つ又は複数のヨードニウム塩、特に、トップコーティングインクジェット印刷組成物における［（７－メトキシ－４－メチル－２－オキソ－２Ｈ－１－ベンゾピラン－３－イル）フェニル］ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ２０９１８５４－１３－４）との組合せの本明細書に記載する請求されたプロセスでの使用は、粒子、明るい高反射エリアの磁界発生装置での磁化配向による基材を傾けた際のローリングバーの動的移動だけでなくしるしを示す光学効果層を作製することを可能にした。図４Ｄに開示する写真によって示すように、請求されたプロセス及び本明細書に記載する第９の実施形態の組合せによって得られたＯＥＬは、請求されたプロセス及び本明細書に記載する第９の実施形態の組合せによって得られたＯＥＬで示され、Ｅ３１及びＥ３２で示される。

【0238】

[0237]図４Ｄに開示する写真によって示すように、ａ）本明細書に記載する第１０の実施形態に開示する１つ又は複数のヨードニウム塩、特に、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）、又は明細書に記載する第１０の実施形態に開示する１つ又は複数のスルホニウム塩、特に、スクリーン印刷組成物における４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０）及びビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ８９４５２－３７－９）と、ｂ）本明細書に記載する第１０の実施形態に開示する１つ又は複数のピリリウム塩、特に、トップコーティングインクジェット印刷組成物における２、４、６－トリフェニルピリリウムテトラフルオロボレート（ＣＡＳ Ｎｒ ４４８－６１－３）との組合せの本明細書に記載する請求されたプロセスでの使用は、粒子、明るい高反射エリアの磁界発生装置での磁化配向による基材を傾けた際のローリングバーの動的移動だけでなくしるしを示す光学効果層を作製することを可能にした。図４Ｄに開示する写真によって示すように、請求されたプロセス及び本明細書に記載する第１０の実施形態の組合せによって得られたＯＥＬは、Ｅ３３及びＥ３４で示される。

【0239】

[0238]図４Ｄに開示する写真によって示すように、ａ）本明細書に記載する第１１の実施形態に開示する１つ又は複数のヨードニウム塩、特に、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）、又は本明細書に記載する第１１の実施形態に開示する１つ又は複数のスルホニウム塩、特に、スクリーン印刷組成物において４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０）及びビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ８９４５２－３７－９）、ｂ）本明細書に記載する第１１の実施形態に開示する１つ又は複数のスルホニウム塩、特に、トップコーティングインクジェット印刷組成物におけるトリス［４－（４－アセチルフェニルスルファニル）フェニル］－スルホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ９５３０８４－１３－４）との組合せの本明細書に記載する請求されたプロセスでの使用は、粒子、明るい高反射エリアの磁界発生装置での磁化配向による基材を傾けた際のローリングバーの動的移動だけでなくしるしを示す光学効果層を作製することを可能にした。図４Ｄに開示する写真によって示すように、請求された及び本明細書に記載する第１１の実施形態の組合せプロセスによって得られたＯＥＬは、Ｅ３５及びＥ３６で示される。

【0240】

[0239]本発明による実施例に反して、スクリーン印刷組成物における化合物及びトップコーティングインクジェット印刷組成物における化合物が本明細書に記載する実施形態からならなかった以外、請求されたプロセスと同じプロセスで製造した比較例（Ｃ１～Ｃ２０）は、粒子、明るい高反射エリアの磁界発生装置（Ｂ１）での磁化配向による基材を傾けた際のローリングバーの動的移動をしるしと組み合わせて示すことができなかった。比較例Ｃ１～Ｃ８及びＣ２０は、粒子の磁界発生装置での磁化配向による基材を傾けた際のローリングバーの動的移動を示したが、トップ硬化性コーティング組成物における約３５０ｎｍ～約４７０ｎｍの範囲において吸収する特定の１つ又は複数の化合物がないため、又は本明細書に記載する実施形態からならなかったスクリーン印刷組成物における化合物及びトップコーティングインクジェット印刷組成物における化合物の組合せのためしるしを示すことができなかった。比較例Ｃ１０、Ｃ１２、Ｃ１４、及びＣ１７は、粒子の特定の磁化配向パターンがない（粒子のランダム配向）ため基材を傾けた際のローリングバーの動的移動を示すことができず、コーティング層（ｘ１０）及びしるし（ｘ３０）の表面全体が、ステップｃ）においてＬＥＤ硬化ユニットで硬化され、その後、いずれの再配向も妨げないので、しるしを示すことができなかった。比較例Ｃ１１、Ｃ１３、Ｃ１５、Ｃ１６、及びＣ１８は、前記スクリーン印刷組成物の硬化が不足するのでスクリーン印刷組成物を示すことができなかった。Ｃ９及びＣ１９は、前記スクリーン印刷組成物及び前記トップコーティングインクジェット印刷組成物の硬化が不足するので、スクリーン印刷組成物及びトップコーティングインクジェット印刷組成物を示すことができなかった。

【0241】

[0240]本発明による実施例に反して、スクリーン印刷組成物における化合物及びトップコーティングインクジェット印刷組成物における化合物が本明細書に記載する実施形態からならなかった以外、請求されたプロセスと同じプロセスで製造した比較例Ｃ２１は、傾けた際のローリングバーの動的移動を示すことができたが、スクリーン印刷組成物における化合物及びトップコーティングインクジェット印刷組成物における化合物が本明細書に記載する実施形態からならなかったのでしるしを示すことができなかった。

【0242】

[0241]本発明による実施例に反して、トップコーティングインクジェット印刷組成物が本明細書に記載する化合物がなかった以外、請求されたプロセスと同じプロセスで製造した比較例Ｃ２２及びＣ２３は、傾けた際のローリングバーの動的移動を示すことができたが、しるしを示すことができなかった。

【0243】

[0242]本発明による実施例に反して、トップコーティングインクジェット印刷組成物が本明細書に記載する化合物がなかった以外、請求されたプロセスと同じプロセスで製造した比較例Ｃ２４及びＣ２５は、傾けた際のローリングバーの動的移動を示すことができず、しるしを示すことができなかった。

【0244】

[0243]図４Ａに開示する写真によって示すように、ａ）本明細書に記載する第１１の実施形態に開示する１つ又は複数のヨードニウム塩、特に、スクリーン印刷組成物おけるビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）と、ｂ）本明細書に記載する第１１の実施形態に開示する１つ又は複数のスルホニウム塩、特に、トップコーティングインクジェット印刷組成物におけるトリス［４－（４－アセチルフェニルスルファニル）フェニル］－スルホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ９５３０８４－１３－４）；１０－［１，１’－ビフェニル］－４－イル－２－（１－メチルエチル）－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ５９１７７３－９２－１）；及びそれらの混合物からなる群から選択される１つ又は複数の化合物との組合せの本明細書に記載する請求されたプロセスでの使用は、粒子、明るい高反射エリアの磁界発生装置（Ｂ１）での磁化配向による基材を傾けた際のローリングバーの動的移動だけでなくしるしを示す光学効果層を作製することを可能にした（図４ＡのＥ１３参照）。

【0245】

[0244]図４Ａに開示する写真によって示すように、ａ）本明細書に記載する第１１の実施形態に開示する１つ又は複数のスルホニウム塩、特に、スクリーン印刷組成物おける４－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０）及びビス［４－（ジフェニルスルホニウム）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート（ＣＡＳ Ｎｒ ８９４５２－３７－９）からなる群から選択される１つ又は複数の塩と、ｂ）本明細書に記載する第１１の実施形態に開示する１つ又は複数のスルホニウム塩、特に、トップコーティングインクジェット印刷組成物におけるトリス［４－（４－アセチルフェニルスルファニル）フェニル］－スルホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ９５３０８４－１３－４）；１０－［１，１’－ビフェニル］－４－イル－２－（１－メチルエチル）－９－オキソ－９Ｈ－チオキサンテニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ５９１７７３－９２－１）；及びそれらの混合物からなる群から選択される１つ又は複数の化合物との組合せの本明細書に記載する請求されたプロセスでの使用は、粒子、明るい高反射エリアの磁界発生装置（Ｂ１）での磁化配向による基材を傾けた際のローリングバーの動的移動だけでなくしるしを示す光学効果層を作製することを可能にした（図４ＡのＥ１４参照）。

【0246】

[0245]図４Ａに開示する写真によって示すように、請求されたプロセス及び本明細書に記載する第１１の実施形態の組合せによって得られたＯＥＬは、Ｅ１３及びＥ１４で示される。

【0247】

[0246]図４Ｂに開示する写真によって示すように、ａ）本明細書に記載する第１の実施形態に開示する１つ又は複数のヨードニウム塩、特に、スクリーン印刷組成物におけるビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）と、ｂ）本明細書に記載する第１の実施形態に開示する１つ又は複数のチオキサントン化合物、特に、本発明による異なるプロセスでのトップコーティングインクジェット印刷組成物における１－クロロ－４－プロポキシ－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ １４２７７０－４２－１）との組合せの使用は、基材を傾けた際のローリングバー（図４ＢのＥ１８及びＥ２３参照）又は基材を傾けた際のローリングバー（しるし外のエリア）、及び移動及び／又は出現及び／又は消滅する複数の暗いスポット及び複数の明るいスポットの動的移動（しるしのエリア内）（図４ＢのＥ１５～Ｅ１７及びＥ１９～Ｅ２２参照）を示すだけでなくしるしも示した。

【0248】

[0247]図４Ｂに開示する写真によって示すように、ａ）本明細書に記載する第２の実施形態に開示する１つ又は複数のヨードニウム塩、特に、スクリーン印刷組成物におけるビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）と、ｂ）本明細書に記載する第２の実施形態に開示する１つ又は複数のアントラセン化合物、特に、本発明による異なるプロセスでのトップコーティングインクジェット印刷組成物におけるＡＮＴＨＲＡＣＵＲＥ（登録商標）ＵＶＳ １３３１（ＣＡＳ Ｎｒ ７６２７５－１４－４）との組合せの使用は、基材を傾けた際のローリングバー（しるし外のエリアにおける）、及び移動及び／又は出現及び／又は消滅する複数の暗いスポット及び複数の明るいスポット（しるしのエリア内）（図４ＢのＥ２４参照）を示すだけでなくしるしも示す光学効果層を作製することを可能にした。

【0249】

[0248]図４Ｂに開示する写真によって示すように、ａ）本明細書に記載する第５の実施形態に開示する１つ又は複数のスルホニウム塩、特に、スクリーン印刷組成物におけるＳｐｅｅｄＣｕｒｅ９７６（ＣＡＳ Ｎｒ ７１４４９－７８－０及び８９４５２－３７－９）と、ｂ）本明細書に記載する第５の実施形態に開示する１つ又は複数のアントラセン化合物、特に、本発明による異なるプロセスでのトップコーティングインクジェット印刷組成物におけるＡＮＴＨＲＡＣＵＲＥ（登録商標）ＵＶＳ １３３１（ＣＡＳ Ｎｒ ７６２７５－１４－４）との組合せの使用は、基材を傾けた際のローリングバー（しるし外のエリアにおける）、及び移動及び／又は出現及び／又は消滅する複数の暗いスポット及び複数の明るいスポット（しるしのエリア内）（図４ＢのＥ２５参照）を示すだけでなくしるしも示す光学効果層を作製することを可能にした。

【0250】

[0249]本発明による実施例に反して、ａ）本明細書に記載する第１の実施形態に開示する１つ又は複数のヨードニウム塩、特に、スクリーン印刷組成物におけるビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）と、ｂ）本明細書に記載する第１の実施形態に開示する１つ又は複数のチオキサントン化合物、特に、トップコーティングインクジェット印刷組成物における１－クロロ－４－プロポキシ－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ １４２７７０－４２－１）との組合せであるが、要求されたプロセス、つまり、コーティング層及びしるしが、第２の磁界発生装置の磁界にコーティング層をさらすステップ後に、Ｈｇ硬化ユニットによって硬化されるプロセスとは異なるプロセスで製造された比較例Ｃ２６は、前記層のＨｇ硬化ユニットでの硬化によって固定され（つまり、それ以上、第３の磁界発生装置での粒子の更なる再配向は起こらなかった）、しるしを示すことができなかった。Ｃ２６は、しるしを示すことなく基材を傾けた際に移動及び／又は出現及び／又は消滅する複数の暗いスポット及び複数の明るいスポットの動的移動を示した。

【0251】

[0250]図４Ｃに開示する写真によって示すように、ａ）本明細書に記載する第１の実施形態に開示する１つ又は複数のヨードニウム塩、特に、スクリーン印刷組成物におけるビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（ＣＡＳ Ｎｒ ６０５６５－８８－０）と、ｂ）本明細書に記載する第１の実施形態に開示する１つ又は複数のチオキサントン化合物、特に、異なる基材（Ｓ１～Ｓ４）上のトップコーティングインクジェット印刷組成物における１－クロロ－４－プロポキシ－９Ｈ－チオキサンテン－９－オン（ＣＡＳ Ｎｒ １４２７７０－４２－１）との組合せの使用は、基材を傾けた際のローリングバー（図４ＣのＥ１及びＥ２６参照）、又は基材を傾けた際の移動及び／又は出現及び／又は消滅する複数の明るいスポット（図４ＣのＥ２７～Ｅ２９）を示すだけでなくしるしも示す光学効果層を作製することを可能にした。

【図1】

【図2A-1】

【図2A-2】

【図2B】

【図2C】

【図2D】

【図2E】

【図2F】

【図2G】

【図2H】

【図2I】

【図2J】

【図2K】

【図3A】

【図3B】

【図4A-1】

【図4A-2】

【図4B】

【図4C】

【図4D】

【国際調査報告】