特表 2024-519511 時計ムーブメント部品の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-05-14

(54)【発明の名称】時計ムーブメント部品の製造方法

(51)【国際特許分類】

   G04B 13/02 20060101AFI20240507BHJP

   G04B 15/14 20060101ALI20240507BHJP

   G04B 17/06 20060101ALI20240507BHJP

【ＦＩ】

G04B13/02 Z

G04B15/14 A

G04B17/06 Z

G04B17/06 A

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2023574348

(86)(22)【出願日】2022-06-02

(85)【翻訳文提出日】2024-01-05

(86)【国際出願番号】 EP2022065123

(87)【国際公開番号】W WO2022253983

(87)【国際公開日】2022-12-08

(31)【優先権主張番号】21177593.7

(32)【優先日】2021-06-03

(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】599091346

【氏名又は名称】ロレックス・ソシエテ・アノニム

【氏名又は名称原語表記】ＲＯＬＥＸ ＳＡ

(74)【代理人】

【識別番号】110000062

【氏名又は名称】弁理士法人第一国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】ディ ルナ， ピエール

(72)【発明者】

【氏名】エニン， ステファノ

(72)【発明者】

【氏名】オリヴェイラ， アレクサンドル

(72)【発明者】

【氏名】ローゼンツヴァイク， アルノー

(72)【発明者】

【氏名】ヴィラレー， ピエール

(72)【発明者】

【氏名】ヴィンサン－ファルケ， ブノワ

(57)【要約】

【解決手段】
表面（１１）を、特に上面を含む第一部分を少なくとも含む、時計ムーブメント部品（１）の製造方法であって、少なくとも１つのキャビティ（７）を形成するため、時計ムーブメント部品（１）または部品（１）のブランク（１ａ）の表面（１１）を彫刻する（Ｅ３）ステップと、少なくとも１つのキャビティ（７）内に、素材を堆積する（Ｅ４）ステップ、を少なくとも含む、方法。
【選択図】 図１８

【特許請求の範囲】

【請求項1】

表面（１１）を、特に上面を含む第一部分を少なくとも含む、時計ムーブメント部品（１）の製造方法であって、
少なくとも１つのキャビティ（７）を形成するため、前記時計ムーブメント部品（１）または前記部品（１）のブランク（１ａ）の前記表面（１１）をエッチングする（Ｅ３）ステップであって、前記エッチングはマスク（２１）を介してフォトリソグラフィーにより深掘り反応性イオンエッチングを実施する、ステップと、
前記少なくとも１つのキャビティ（７）内に、素材を堆積する（Ｅ４）ステップ、
のステップを少なくとも含む、
時計ムーブメント部品（１）の製造方法。

【請求項2】

前記少なくとも１つのキャビティ（７）の前記深さは、１０μｍより小さい、または６μｍより小さく、任意で３μｍより大きい、
請求項１に記載の時計ムーブメント部品（１）の製造方法。

【請求項3】

前記少なくとも１つのキャビティ（７）の前記深さは、１０μｍと１００μｍの間、または１５μｍと８０μｍの間、または２０μｍと５０μｍの間である、
請求項１に記載の時計ムーブメント部品（１）の製造方法。

【請求項4】

前記少なくとも１つのキャビティ（７）は、少なくとも一方向に、少なくとも１００μｍ、または少なくとも１５０μｍ、または少なくとも２００μｍ、または少なくとも２５０μｍの長さにわたり、前記表面（１１）にわたり延長し、当該長さは、任意で、８００μｍ以下、または６００μｍ以下、または５００μｍ以下、または４００μｍ以下である、
請求項１から３のいずれか一項に記載の時計ムーブメント部品（１）の製造方法。

【請求項5】

前記表面（１１）を含む前記第一部分は、微細加工可能素材に基づく、特にシリコンに基づき、任意で０．５μｍと５μｍの間の厚さを有する酸化ケイ素コーティングを含む、
請求項１から４のいずれか一項に記載の時計ムーブメント部品（１）の製造方法。

【請求項6】

前記時計ムーブメント部品（１）の前記第一部分の前記表面（１１）をエッチングする（Ｅ３）ことからなる前記ステップは、前記時計ムーブメント部品（１）の輪郭をエッチングすることからなるステップと同一作業で実施される、及びまたは前記時計ムーブメント部品（１）の前記第一部分の前記表面をエッチングする（Ｅ３）ことからなる前記ステップは、前記時計ムーブメント部品（１）の輪郭をエッチングすることからなるステップの前に実施される、及びまたは方法は、第一マスク（２１）から少なくとも１つのキャビティ（７）をエッチングする（Ｅ３）ことからなるステップを実施するような方法で、基板（１０ａ）上に、特に前記基板（１０ａ）の前記表面上に、前記第一マスク（２１）を位置決めするステップと、第二マスク（２１）から時計ムーブメント部品（１）の前記ブランク（１ａ）の輪郭をエッチングするような方法で、前記基板（１０ａ）上に、特に前記基板（１０ａ）の他の表面上に、前記第二マスク（２１）を位置決めするステップとを含む、
請求項１から５のいずれか一項に記載の時計ムーブメント部品（１）の製造方法。

【請求項7】

前記時計ムーブメント部品（１）または前記時計ムーブメント部品（１）のブランク（１ａ）の前記第一部分の前記表面をエッチングする（Ｅ３）ことからなる前記ステップは、特にフェムト秒レーザによる、レーザエッチングを更に含む、
請求項１から６のいずれか一項に記載の時計ムーブメント部品（１）の製造方法。

【請求項8】

前記少なくとも１つのキャビティ（７）内に素材を堆積する（Ｅ４）ことからなる前記ステップは、任意で接続層の事前堆積を含む、金属または金属合金の堆積、または塗料、ラッカー、ワニス、複合素材、特に発光複合素材の堆積を含む、
請求項１から７のいずれか一項に記載の時計ムーブメント部品（１）の製造方法。

【請求項9】

前記少なくとも１つのキャビティ（７）内に素材を堆積する（Ｅ４）ことからなる前記ステップは、物理気相成長法（ＰＶＤ）、または化学堆積（ＣＶＤ）、または原子堆積（ＡＬＤ）といった、気相堆積方法による、またはレーザ転写（ＬＩＦＴ）による、金属または金属合金の堆積を含む、
請求項８に記載の時計ムーブメント部品（１）の製造方法。

【請求項10】

前記少なくとも１つのキャビティ（７）内に素材を堆積する（Ｅ４）ことからなる前記ステップは、前記キャビティの前記深さよりも厳密に小さい厚さで、前記キャビティ（７）の底部（１７）上への前記素材の前記堆積を含み、この堆積厚さは、５ｎｍ以上、または１０ｎｍ以上、または５０ｎｍ以上、または１００ｎｍ以上、または５ｎｍと１０００ｎｍの間、または１００ｎｍと１０００ｎｍの間である、または前記少なくとも１つのキャビティ（７）内に素材を堆積する（Ｅ４）ことからなる前記ステップは、前記キャビティ（７）の前記深さに等しいまたは実質的に等しい厚さで、前記キャビティ（７）の底部（１７）上への前記素材の前記堆積を含む、
請求項１から９のいずれか一項に記載の時計ムーブメント部品（１）の製造方法。

【請求項11】

製造されるべき前記時計ムーブメント部品（１）の１以上のブランク（１ａ）を含む、微細加工可能素材に基づく基板（１０ａ）の準備（Ｅ１）、
任意で、前記時計ムーブメント部品（１）の前記ブランクまたは複数のブランク（１ａ）の酸化、
の予備ステップを含み、
時計ムーブメント部品（１）の少なくとも１つのブランク（１ａ）の少なくとも第一部分の前記表面（１１）の少なくとも１つのキャビティ（７）内に素材を堆積する（Ｅ４）ことからなる前記ステップの前または後に、前記基板（１０ａ）から時計ムーブメント部品の前記少なくとも１つのブランク（１ａ）を取り外す（Ｅ６）ことからなるステップを含む、
請求項１から１０のいずれか一項に記載の時計ムーブメント部品（１）の製造方法。

【請求項12】

前記時計部品は、レバー、脱進機の歯車といった歯車、アンクル組立体、てん輪またはひげぜんまいといったぜんまいである、
請求項１から１１のいずれか一項に記載の時計ムーブメント部品（１）の製造方法。

【請求項13】

表面（１１）を、特に上面を含む接続部材（３）を形成する、第一部分と、ぜんまいを形成する螺旋に巻かれた少なくとも１つの帯板（２）を含む、前記第一部分より剛性が低い第二部分とを含む、微細加工可能素材製のひげぜんまいである、請求項１から１２のいずれか一項に記載の製造方法で製造された時計ムーブメント部品（１）であって、前記第一部分の前記表面（１１）は、その中に素材の層（８）が堆積された、少なくとも１つのキャビティを含む、
時計ムーブメント部品（１）

【請求項14】

酸化ケイ素のコーティングで被覆されたシリコン製の、てん輪／ひげぜんまい用の一体ひげぜんまいである、
請求項１３に記載の時計ムーブメント部品。

【請求項15】

前記少なくとも１つのキャビティ（７）の前記深さは、１０μｍより小さい、または６μｍより小さく、任意で３μｍより大きい、または前記少なくとも１つのキャビティ（７）の前記深さは、１０μｍと１００μｍの間、または１５μｍと８０μｍの間、または２０μｍと５０μｍの間である、及びまたは前記少なくとも１つのキャビティ（７）の前記深さは、前記上面上の酸化ケイ素コーティングの前記厚さ以上である、及びまたは前記少なくとも１つのキャビティ（７）は、少なくとも一方向に、少なくとも１００μｍ、または少なくとも１５０μｍ、または少なくとも２００μｍ、または少なくとも２５０μｍの長さを有する、
請求項１３または１４に記載の時計ムーブメント部品。

【請求項16】

前記少なくとも１つのキャビティ（７）内に堆積される前記素材は、任意で中間金属接続層を含む、金属または金属合金、または塗料、ラッカー、ワニス、複合素材、特に発光複合素材である、及びまたは前記少なくとも１つのキャビティ内に堆積される前記素材は、前記キャビティの前記深さよりも厳密に小さい厚さを有し、この堆積厚さは、５ｎｍ以上、または１０ｎｍ以上、または５０ｎｍ以上、または１００ｎｍ以上、または５ｎｍと１０００ｎｍの間、または１００ｎｍと１０００ｎｍの間である、または前記キャビティの前記深さに等しいまたは実質的に等しい厚さを有する、
請求項１３から１５のいずれか一項に記載の時計ムーブメント部品。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、時計ムーブメント部品の製造方法に関する。本発明はまた、当該製造方法で得られた時計ムーブメント部品自身に関する。

【背景技術】

【0002】

時計の外部部品に、様々な装飾及びまたはマーキング方法が実施されている。外部部品と比較して、時計ムーブメント部品は、大抵サイズが小さく、変更されてはならない非常に正確な形状の機能的パーツを含む。このため、このような時計ムーブメント部品に対して、例えば識別や装飾の目的で、マーキングを作成することは非常に困難である。機能性に加えて、特に時計のムーブメント部品にとって、審美的観点も非常に重要であることを注記する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】欧州特許出願公開第３６３２８３９号明細書

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

このため、本発明の目的は、特に魅力的な視覚的効果を、部品の機能性を害することなく、達成することを可能にする、時計ムーブメント部品のマーキング及びまたは装飾の解決策を見つけることである。

【課題を解決するための手段】

【0005】

このため、本発明は、表面を、特に上面を含む第一部分を少なくとも含む、時計ムーブメント部品の製造方法であって、
少なくとも１つのキャビティを形成するため、前記時計ムーブメント部品または前記部品のブランクの前記表面をエッチングするステップ、
前記少なくとも１つのキャビティ内に、素材を堆積するステップ、
のステップを少なくとも含む、時計ムーブメント部品の製造方法に基づく。
当該エッチングは、有利には、マスクを介してフォトリソグラフィーにより深掘り反応性イオンエッチングを実施してもよい。
本発明はまた、表面を、特に上面を含む接続部分を形成する、第一部分と、ぜんまいを形成する螺旋の形に巻かれた少なくとも１つの帯板を含む、第一部分より剛性が低い第二部分とを含む、微細加工可能素材製のひげぜんまいである時計ムーブメント部品であって、前記第一部分の前記表面は、その中に素材の層が堆積された、少なくとも１つのキャビティを含む、時計ムーブメント部品に関する。

【0006】

本発明は、より具体的には、請求項で定義される。

【0007】

本発明の目的、特徴、及び利点は、添付の図面を参照して非限定的に与えられる、特定の実施形態についての以下の説明において、詳細に説明される。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】図１は、本発明の第一実施形態にかかる時計ムーブメントひげぜんまいの製造方法の、連続的ステップを示す。

【図2】図２は、本発明の第一実施形態にかかる時計ムーブメントひげぜんまいの製造方法の、連続的ステップを示す。

【図3】図３は、本発明の第一実施形態にかかる時計ムーブメントひげぜんまいの製造方法の、連続的ステップを示す。

【図4】図４は、本発明の第一実施形態にかかる時計ムーブメントひげぜんまいの製造方法の、連続的ステップを示す。

【図5】図５は、本発明の第一実施形態にかかる時計ムーブメントひげぜんまいの製造方法の、連続的ステップを示す。

【図6】図６は、本発明の第一実施形態にかかる時計ムーブメントひげぜんまいの製造方法の、連続的ステップを示す。

【図7】図７は、本発明の第一実施形態の第一変形例を示す。

【図8】図８は、本発明の第一実施形態の第二変形例を示す。

【図9】図９は、本発明の第一実施形態の第二変形例を示す。

【図10】図１０は、本発明の第一実施形態の第二変形例を示す。

【図11】図１１は、本発明の第一実施形態の第三変形例を示す。

【図12】図１２は、本発明の第一実施形態の第三変形例を示す。

【図13】図１３は、本発明の第一実施形態の第三変形例を示す。

【図14】図１４は、本発明の第二実施形態にかかる時計ムーブメントひげぜんまいの製造方法の、連続的ステップを示す。

【図15】図１５は、本発明の第二実施形態にかかる時計ムーブメントひげぜんまいの製造方法の、連続的ステップを示す。

【図16】図１６は、本発明の第二実施形態の第一変形例を示す。

【図17】図１７は、本発明の実施形態にかかる、時計ムーブメント部品の製造方法のステップとサブステップを模式的に図示する、フローチャートを示す。

【図18】図１８は、本発明の実施形態にかかる製造方法により作成されたひげぜんまいの上面図である。

【図19】図１９は、図１８のひげぜんまいの断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0009】

本発明は、少なくとも浅い深さでエッチングするステップと、ムーブメント部品の機能的性能に影響を与えない、可視エッチングを得るように、当該得られたエッチングを着色するステップとを有利に組み合わせる、時計部品の製造方法を実施する。

【0010】

本明細書の理解を簡単にするため、各種実施形態とその変形例において、同一の特徴を指定するために同一の参照番号が用いられる。本発明の実施形態にかかる製造方法は、例えばひげぜんまいであってもよい、時計ムーブメント部品の製造の観点で説明される。

【0011】

図１から６は、より具体的には、時計ムーブメント部品の製造方法の第一実施形態にかかる、製造の各種ステップ中の、時計ムーブメント部品１、または部品のブランク１ａの、断面図である。本発明の製造方法は、特に、表面をエッチングする方法に関する、製造の特定のフェーズに関する。有利には、製造方法は、時計ムーブメント部品１の可視面または上面を、特に装飾目的で、エッチングする方法である。代替的に、製造方法は、非可視面または下面を、特に識別またはマーキング目的で、エッチングする方法である。当該エッチング方法は、部品の製造の最終フェーズにおいて実施されてもよく、または代替的には部品の製造方法の様々な多かれ少なかれ進んだ段階において実施されてもよい。

【0012】

当該実施形態によれば、方法は、製造方法を図示する様々な図において特に断面で示される、時計ムーブメント部品１のブランク１ａの少なくとも一部分を提供するＥ１からなる第一ステップを含む。当該有利な実施形態において、いくつかのブランク１ａが同一の支持部または基板１０ａに接続され、以下に説明する方法であって、そのステップは図１７のフローチャートに要約される方法に同時に曝されることができることを注記する。

【0013】

このため、時計部品ブランク１ａは、好ましくはシリコンといった微細加工可能素材から、微細加工作業により、事前に基板１０ａから製造されてもよい。ブランクの文言は、時計部品の製造方法におけるあらゆる中間要素を指定するために、広い意味で用いられることを注記する。このため、ブランクは、提供されエッチングされる前の基板でも、例えば将来の時計部品の輪郭の全部または一部を定義するため、既に部分的にエッチングされた基板でもよい。

【0014】

ブランク１ａの部分は、以下に詳細に説明するように、可視パターンまたは表示を当該表面に創成する目的で、本発明にかかる方法により特に処理される、表面１１を含む。当該表面１１は、シリコン基板１０ａを用いる一実施形態において、二酸化ケイ素ＳｉＯ_２の層を含んでもよい。このように本方法は、有利には、シリコンの酸化の事前ステップを含む。

【0015】

図２は、ブランク１ａの表面１１上に、感光性樹脂９の層を堆積することからなる、マスクを作成するＥ２の第二ステップの第一サブステップＥ２１を示す。当該樹脂は、当業者に既知のあらゆる技術を用いて、例えば浸漬被覆、または吹き付け被覆、またはスピンコーティングにより、堆積されてよい。図示する実施例において、樹脂は、照射の作用下で、現像液内で溶解する一方で、照射に曝されない部分は不溶またはほぼ溶解しないままでいるように設計される、アクリル系ポジ型樹脂である。本実施例において、感光性樹脂の層は、より具体的には、ＡＺ（登録商標）９２６０の商品名で既知の樹脂の層であり、その厚さは約６μｍである。当該サブステップＥ２１には、堆積された樹脂層９を焼きなます任意のサブステップが続いてもよい。

【0016】

図３は、樹脂層９が、マスク９１の開口９１０を通した紫外線照射に曝される、第二サブステップＥ２２を示す。当該開口９１０は、以下で詳細に説明するように、時計ムーブメント部品上に作成される可視パターンまたは表示を前もって表す。この場合の紫外線照射は、マスク９１に形成された開口９１０と一致して存在する樹脂層９の領域１３のみを照射するよう、マスク９１が延長する平面に垂直であり、ブランク１ａの表面１１に垂直である。

【0017】

図４は、マスク９１の開口９１０と一致した領域１３の照射された樹脂を、溶剤を用いて除去することからなる、第三サブステップＥ２３を示す。当該サブステップの終わりに、樹脂層９は、表面１１上に、開口９１０のパターンに対応するパターンの、開口９２を含む。開口９２を有する当該樹脂層９は、以下に説明するエッチングステップの実施用が意図される、マスク２１を形成する。

【0018】

図５は、第三エッチングステップＥ３の実施を示す。当該第一実施形態において、当該エッチングは、上述のように、部品部分の表面に堆積された樹脂層９の形状を取る、樹脂製の、マスク２１を用いて実施される。本実施形態によれば、エッチングは、深掘り反応性イオンエッチング（ＤＲＩＥ）技術を用いて行われる。当該技術は、樹脂層９で被覆されたままの表面１１の領域に影響を与えることなく、樹脂層９内の開口９２と一致する、垂直または実質的に垂直な側面を有するキャビティ７を形成することを可能にする。より具体的には、エッチングステップは、最初に、少なくとも１つのキャビティ７を形成するよう、ブランク１ａの表面１１の表面上に存在する二酸化ケイ素の層をエッチングし、その後シリコンをエッチングする。各キャビティ７は、部品の表面１１に実質的に平行な、底部１７を形成する表面により境界が定められる、実質的に長方形の断面を有する。キャビティの深さは、表面１１に垂直に測定され、表面１１の平面とキャビティの底部１７の平面のそれぞれの間の距離に対応する。

【0019】

有利には、キャビティ７の少なくとも１つまたは全ての深さは、１０μｍより小さく、好ましくは酸化ケイ素層の厚さ以上である。

【0020】

有利には、深掘り反応性イオンエッチングにより実施された当該エッチングステップはまた、以下に説明するように、底部１７上に続いて堆積される素材の層の光沢を露にすることを可能にする、とりわけ特に低い粗さにより特徴づけられる表面状態の底部１７を、特に５０ｎｍより低い、好ましくは２０ｎｍほどの、または２０ｎｍより低い粗さＲａ、及びまたは１００ｎｍより低い、好ましくは８０ｎｍほどの、または８０ｎｍより低い粗さＳａを有する底部１７を、得ることを可能にすることを注記する。

【0021】

方法はその後、図６に示すように、少なくとも１つのキャビティ７内への、素材の堆積Ｅ４の第四ステップを実施する。実施形態に応じて、素材は金属または金属合金であり、堆積ステップは、キャビティ７の底部１７上に金属または金属合金の層８を形成する。

【0022】

好ましくは、素材は、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、ＣｒＮ、Ｎｉ、Ｐｔ、ＴｉＮ、ＺｒＮ、Ｐｄの群に属する金属、またはその合金である。

【0023】

当該少なくとも１つの素材の層８の厚さは、数ナノメートルほどでもよい。厚さは、好ましくは、少なくとも５ｎｍ、または少なくとも１０ｎｍ、または少なくとも５０ｎｍ、または少なくとも１００ｎｍである。より具体的には、厚さは、好ましくは、５ｎｍと１０００ｎｍの間、または１００ｎｍと１０００ｎｍの間である。

【0024】

素材の堆積Ｅ４のステップは、単一層のみの堆積を含んでもよい。代替的に、当該堆積ステップは、キャビティ７内で可視の、例えば装飾の、第二層のための接着層としての役割を果たすことが意図される、底部１７上に直接堆積される第一層の、２つの別個の層の連続堆積を含んでも良い。

【0025】

一実施形態によれば、素材堆積ステップＥ４は、物理気相成長法（ＰＶＤ）により実施される。より一般的には、当該堆積は、前述の物理気相成長法（ＰＶＤ）や化学堆積（ＣＶＤ）や原子堆積（ＡＬＤ）といった、気相堆積方法であってもよい。当該素材堆積ステップにおいて、樹脂層９により形成されたマスク２１はまた、当該ステップ用のマスクとしても用いられることを注記する。当該マスク２１は、問題のブランク１の部分のエッチングされていない表面１１を保護する一方、キャビティ７の底部１７上への素材の堆積を保証することを可能にする。より具体的には、素材は、マスク２１の開口９２と一致するキャビティの底部１７上と、表面１１上に載置される樹脂９上とに堆積される。

【0026】

方法はその後、樹脂層９の除去Ｅ５の第五ステップを実施する。当該ステップは、例えば、化学薬品による溶解、またはプラズマ処理により、実施されてもよい。当該ステップの終わりには、時計ムーブメント部品のブランク１ａの準備が整う。

【0027】

最後に、本方法は、基板１０ａからブランク１ａを取り外すＥ６からなるステップを含んでもよい。当該ステップの実施を簡単にするため、部品ブランクは、特に特許文献１で記載する、部分的にエッチングされた破断領域を含んでもよい。

【0028】

変形実施形態において、使用されるマスク２１は、詳細に上述した実施形態によるものとは異なって実施されてもよい。

【0029】

図７は、上述した目的のために、マスクを作成するＥ２の第二ステップがレーザの使用に基づく、第一変形実施形態を図示する。図２に示すように、感光性樹脂層９がブランク１ａの表面１１に付着されると、方法は、レーザを、特にフェムト秒パルスを有するレーザを用いた、エッチングのステップを実施し、その照射Ｒは、選択されたパターンに従って事前に定義される。このように、レーザ照射は、上述のマスクを作成するＥ２のステップに対応する、樹脂層９と、上述のエッチングステップＥ３に対応する、ブランク１ａの上層１１を、両方エッチングする。方法はその後、上述のように、素材堆積ステップＥ４へ続く。

【0030】

図８から１０は、使用されるマスク２１がもはや樹脂製ではなく、図８に示すように、部品ブランク１ａの表面１１上に最初に堆積される、例えばシリコンといった、剛体素材製であるプレート１９の形状である、第二変形実施形態を図示する。プレート１９の除去を可能にするため、プレート１９とブランク１ａとの間に、パリレンの中間層２９を堆積することもできる。方法はその後、前述の場合同様、マスク２１に開口９２を形成し、その後ブランク１ａの表面１１上にエッチング７を形成する、レーザからの、特にフェムト秒パルスレーザからの、照射Ｒを用いる。前述の変形例同様、開口９２を有するマスクの生成Ｅ２とエッチングＥ３の２つのステップが、同一のエッチングステップにおいて、同時にまたはほぼ同時に実施される。その後、図１０に示すように、上述と同様の態様で、剛体マスク２１を介してキャビティ７の底部に、素材堆積ステップＥ４が実施される。

【0031】

図１１から１３は、マスク２１がエッチングステップＥ３後にブランク１ａの表面１１上に設置される、第三変形実施形態を示す。具体的には、図１１に示すように、エッチングステップＥ３がフェムト秒レーザを用いて実施され、その照射Ｒは、マスクを必要とすることなく、選択されたパターンに対応する事前に定義された経路に沿って、ブランク１ａの表面１１を直接エッチングする。

【0032】

エッチングを完了し、エッチングまたは複数のエッチング７を作成した後、方法は、マスクを作成するステップＥ２を実施する。当該ステップは、選択されたパターンに基づき、剛体プレート１９上に開口９２を形成することで、部品ブランク１ａから離れてマスク２１を準備することからなる、事前ステップを含む。その後、マスク２１は、図１２に示すように、部品ブランク１ａの表面１１上に設置される。当該ステップにおいて、マスク２１は、当業者に既知のあらゆる技術を用いて、その開口９２が事前に製造されたキャビティ７上に、好ましくはミクロン程度の正確性で正確に重ね合わされるように、ブランク１ａ上に位置決めされる。プレート１９の除去を可能にするため、マスク２１とブランク１ａの表面１１の間に、パリレンの中間層２９を堆積してもよい。

【0033】

方法はその後、図１３に示すように、マスク２１を通してキャビティ７の底部へ、上述と同様の態様で実施される、素材堆積ステップＥ４を実施する。当該実施形態において、マスクは、素材堆積ステップＥ４のみに用いられ、エッチングステップＥ３ではもはや用いられない。

【0034】

マスクを使用する全ての上述の実施形態において、方法は、マスクの使用後、マスクを除去するステップＥ５を実施する。

【0035】

図１４から１６は、エッチングステップＥ３にも素材堆積ステップＥ４にもマスクが用いられないことで第一実施形態とは異なる、第二実施形態を図示する。

【0036】

当該第二実施形態は、図１１に示すように、ブランク１ａの表面１１へのエッチング７の作成まで、第一実施形態の第三変形例と同一の初期ステップを含む。

【0037】

その後、方法は、ＬＩＦＴ（レーザ誘起前方転写法）として知られる、レーザ転写技術を用いた、素材堆積ステップＥ４を実施する。図１４及び１５に示すように、当該技術は、最初に、本実施形態では金属層８１０を含む、透明のメタライズプレート８１を、レーザ装置と部品ブランク１ａとの間に挿入することからなる。代替的に、メタライズプレートの代わりにメタライズフィルムを用いることができる。

【0038】

レーザは、その後、レーザビームからプレート８１上への照射Ｒが、金属層８１０を直撃し、メタライズプレート８１から部品ブランク１ａへの素材の転写を発生させるのに十分な機械的力を当該金属層８１０上に発生させるように、メタライズプレート８１に向けられる。もちろん、レーザ照射は、エッチングまたは複数のエッチング７に正確に重ね合わされた、ブランク１ａのエッチングまたは複数のエッチング７により生成されたパターンに沿って、正確性をもって行われる。このため、メタライズプレート８１の金属層８１０から生じる金属素材の層８は、図１５に示すように、キャビティまたは複数のキャビティ７の底部１７に転写される。より具体的には、当該技術は、レーザパルスを用いて、特にフェムト秒レーザパルスを用いて、金属層８１０の少なくとも一部分を、キャビティまたは複数のキャビティ７の底部１７上へ、素材の層８を形成するよう、転写することを可能にする。好ましくは、当該素材の層８の厚さは、少なくとも１００ｎｍである。

【0039】

最後に、本方法は、基板１０ａからブランクまたは複数のブランク１ａを取り外す最終ステップを実施する。

【0040】

図１６は、素材堆積ステップＥ４が、吹き付け技術やブラシの使用といった、当業者に既知のあらゆる技術により塗布された、塗料の層８０である素材の層８を、キャビティまたは複数のキャビティ７の底部１７へ塗布するステップからなる、第二実施形態の変形例を図示する。代替的に、ラッカー、ワニス、または複合素材、特に発光複合素材の層が塗布されてもよい。

【0041】

当該素材の層８の厚さは、自身が堆積されるキャビティ７の深さに対応または実質的に対応してもよい。好ましくは、深さは、１０μｍより大きい、または１５μｍより大きい、または２０μｍより大きい。

【0042】

全ての実施形態とその変形例において、代替として、素材堆積ステップＥ４を、特に上述の実施形態のように素材８０の手動適用の観点において、基板１０ａからブランク１ａを取り外すＥ６からなるステップの実施後に行ってもよいことを注記する。

【0043】

更に、全ての実施形態において、全てのステップは、基板に接続されない、部品ブランク単体に実施されてもよい。全てのステップは、時計ムーブメント部品の製造の異なるステップ中に、即ち、時計ムーブメント部品のブランク上に製造中に、または完成またはほぼ完成された時計ムーブメント部品上に直接、実施されてもよい。

【0044】

他の有利な変形実施形態によれば、本発明は、上述の実施形態の更に上流で、特に将来の部品の輪郭を定義する役割を果たすブランク１ａのエッチングの全部または一部と、同一作業中に、または将来の部品の輪郭を全部または一部定義する役割を果たすブランク１ａのエッチング作業の上流で、実施されてもよい。このように、方法は、例えば、基板１０ａ上に第一マスクを位置決めするステップを含んでもよく、当該第一マスクは、本発明の原理に基づき、少なくとも１つのキャビティ内に素材を堆積する目的で、少なくとも１つのキャビティのエッチング、特に止まりエッチングを行う役割を果たす。方法はまた、基板１０ａ上に、特に基板１０ａの第二表面上に、第二マスクを位置決めする他のステップを含んでも良く、当該第二マスクは、部品ブランク１ａの輪郭のエッチングを行う役割を果たす。換言すれば、基板から部品を切断するために用いられるエッチングと、本発明にかかる少なくとも１つのキャビティを形成するエッチングは、同一の作業内で、または同一の作業内で一部、実施されてもよい。２つのエッチングは、異なるマスクを用いて作成される。

【0045】

方法の当該変形例は、コイルのエッチング前に本発明のキャビティまたは複数のキャビティを作成することが特に有利であるため、ひげぜんまいの製造に特に適している。コイルのエッチング前に実施しないと、樹脂がコイルの間を流れてしまうため、本発明のキャビティをエッチングするためコイル上に樹脂を配置することが実務上難しいためである。

【0046】

最後に、本発明は、時計ムーブメント部品ブランクまたは時計ムーブメント部品の、表面、特に上面を含む、少なくとも第一部分に適用される、以下の２つの必須のステップの組み合わせを通じて、所望の目的を達成するように見られる。
－ ブランクまたは時計ムーブメント部品の表面上に、少なくとも１つのキャビティを形成するため、エッチングするＥ３、
－ 当該少なくとも１つのキャビティ内に、素材を堆積するＥ４。

【0047】

全ての実施形態とその変形例において、少なくとも１つのキャビティの、そして好ましくは全てのキャビティの深さは、有利には、１０μｍより小さい、または６μｍより小さい。深さはまた、任意で、３μｍより大きい。このため、当該深さは３μｍと１０μｍの間、または３μｍと６μｍの間であってもよい。驚くべきことに、裸眼では、少なくとも１つのキャビティ７と表面１１との間のコントラストは、当該少なくとも１つのキャビティ７の深さが浅いほど、一層目立つように見える。

【0048】

代替的に、少なくとも１つのキャビティ、そして好ましくは全てのキャビティの深さは、１０μｍと１００μｍの間、または１５μｍと８０μｍの間、または２０μｍと５０μｍの間である。

【0049】

少なくとも１つのキャビティ、そして好ましくは全てのキャビティの深さは、当該表面上に存在する酸化ケイ素コーティングの厚さ以上であってもよい。このような酸化ケイ素コーティングは、０．５μｍと５μｍの間の厚さを含んでもよい。

【0050】

少なくとも１つのキャビティ、好ましくは全てのキャビティは、少なくとも１方向に、少なくとも１００μｍ、または少なくとも１５０μｍ、または少なくとも２００μｍ、または少なくとも２５０μｍの長さを有してもよい。当該長さは、８００μｍ以下、または６００μｍ以下、または５００μｍ以下、または４００μｍ以下であってもよい。

【0051】

少なくとも１つのキャビティに堆積された素材は、金属または金属合金であってもよい。代替的に、素材は、任意で中間金属接着層を有する、塗料、ラッカー、ワニス、複合素材、特に発光複合素材であってもよい。

【0052】

２つの実施形態とその変形例において、少なくとも１つのキャビティに堆積された素材は、有利には、キャビティの深さよりも厳密に小さい厚さを有する。堆積厚さは、１００ｎｍ以上であってもよい。厚さは、１００ｎｍと１０００ｎｍの間であってもよい。代替的に、キャビティの厚さと同一のまたは実質的に同一の厚さであってもよい。

【0053】

本発明は、微細加工可能素材製の、即ち、特にフォトリソグラフィーを伴う、またはレーザの使用を伴う、微細加工技術を用いて得られた、あらゆる時計ムーブメント部品に特に適用可能である。このため、このような時計ムーブメント部品は、特にその全体形状は、例えば、少なくとも部分的に、深掘り反応性イオンエッチング（ＤＲＩＥ）ステップで得られてもよい。代替的にこのような時計ムーブメント部品は、特にその全体形状は、例えば、少なくとも部分的に、ＵＶ－Ｌｉｇａ（LIthography Galvanik Abformung）技術により、得られてもよい。

【0054】

本発明にかかる時計ムーブメント部品は、全体にまたは部分的に、あらゆる形態で、シリコンを含んでもよい。このため、時計ムーブメント部品は、その向きに関わらない単結晶シリコン、多結晶シリコン、非晶質シリコン、非晶質二酸化ケイ素、ドーピングのタイプやレベルに関わらないドープシリコン、または多孔質シリコンを含んでもよい。特に、時計ムーブメント部品は、ＳＯＩ（silicon on insulator）基板から製造されてもよい。

【0055】

本発明にかかる時計ムーブメント部品はまた、炭化ケイ素、ガラス、セラミック、石英、ルビーまたはサファイアを含んでもよい。代替的に、金属または金属合金、特に少なくとも部分的に非晶質の金属合金製であってもよい。例えば、当該部品は、ＮｉまたはＮｉＰを含んでもよい。

【0056】

もちろん、本発明は、説明した実施形態に限定されず、例えば実施形態及びまたは変形例を組み合わせることで、他の実施を想定することも可能である。特に、エッチングステップＥ３は、フォトリソグラフィーによる深掘り反応性イオンエッチングをレーザエッチング、特にフェムト秒レーザと組み合わせてもよい。このため、本発明は、部品の表面上へのエッチングと、素材により部分的または全体的に充填することを、有利に組み合わせることで、望ましい目的を達成するように見える。当該組み合わせは、小さな表面上であっても、判読可能なマーキング、特に可視且つ魅力的なマーキングを、時計ムーブメント部品の機能性に影響を与えることなく、形成することを可能にする。有利には、当該表面は、上面または可視面、特に部品が時計ムーブメント内に組み立てられた際の可視面である。代替的に、当該表面は、下面または非可視面である。

【0057】

マーキングはまた、装飾目的が意図されてもよい。代替的にまたは追加で、マーキングは、識別目的で用いられてもよい。レーザを、特にフェムト秒レーザを伴う本発明にかかる方法の変形例は、時計ムーブメントの特定の部品上の、特に特定のひげぜんまい上の、マーキングを個別化するために、特に有利である。マーキングは、例えば、製造番号または測定結果を形成してもよい。

【0058】

本発明はまた、上述の製造方法で得られた時計ムーブメント部品に関する。時計ムーブメント部品は、レバー、脱進機の歯車といった歯車、アンクル組立体、てん輪またはひげぜんまい、特に発振器ひげぜんまいであってもよい。

【0059】

特に、一実施形態によれば、時計ムーブメント部品は、表面を、特に上面または可視面を含む接続部材を形成する第一部分と、ぜんまいを形成する螺旋に巻かれた少なくとも１つの帯板を含む、第一部分より剛性が低い第二部分とを含む、微細加工可能素材製のひげぜんまいであってもよく、第一部分の表面は、本発明にかかる素材が堆積された、少なくとも１つのキャビティを含む。より一般的には、時計部品、または少なくとも本発明により検討された表面を含む部分は、有利には、微細加工可能素材に基づく、特にシリコンに基づく、即ち微細加工可能素材を少なくとも５０重量％含む。

【0060】

図１８は、上述の実施形態の一つにかかる製造方法で得られたひげぜんまいを示す。ひげぜんまいは、少なくとも１つの帯板２を含み、その上面１２は平面Ｐ１に位置し、その外端は、少なくとも１つの帯板２の剛性よりも著しく高い剛性を有する接続部材３と一体で製造される。ひげぜんまい１は更に、少なくとも１つの帯板２の内端と一体に製造された、軸Ａ１のひげ玉４を含む。

【0061】

接続部材３は、帯板２周りに配置されたリング部分の形状の、第一中央部分３１を含み、その角度範囲は、軸Ａ１に対して１００度程度である。当該接続部材３はまた、第一中央部分３１の両側に配置された２つの曲げ部分３２を含み、そのそれぞれは、この場合は開口の形状である、ひげぜんまいを位置決め及びまたは付着するための要素５を含む。

【0062】

接続部材３は、平面Ｐ１に配置された、上面１１に、特にその中央部分３１に、付加されたパターン（または表示）６を含むという、特定の特徴を有する。上面１１は、この場合、ひげぜんまいの少なくとも１つの帯板２の上面１２と連続して形成される。

【0063】

パターン６は、上述の方法から得られ、上面１１から形成され、その中に素材の層８が堆積された、キャビティ７を含む。

【0064】

図１９は、その底部１７が素材の層８で被覆された、深さｐのキャビティ７により形成された、上述のパターン６を明確に示すために、ひげぜんまいの接続部材３の中央部分３１の断面図を示す。

【0065】

驚くべきことに、裸眼では、パターン６と接続部材３の上面１１との間のコントラストは、キャビティ７が、可能な限り浅い、上面１１とキャビティ７の底部１７のそれぞれの間で平面Ｐ１に垂直に測定された深さｐを有するときに、一層目立つように見える。代替的に、当該深さは、上面１１と、それぞれのキャビティ７の底部１７上に堆積されその厚さが非常に小さい、素材の層８の上面とのそれぞれの間で検討されてもよい。

【0066】

加えて、軸Ａ１に対して半径方向に測定された、パターンの範囲ｅは、１００μｍより大きい、または１５０μｍより大きい、または２００μｍより大きい、または２５０μｍより大きくてもよい。このようなパターンまたは表示６は、ひげぜんまい１が、時計ムーブメント内に組み立てられる、組み立てられたてん輪内に搭載されると、可視または判読可能になる。

【0067】

当該ひげぜんまいは、自由てんぷのひげぜんまいであってもよい。ひげぜんまいは、一体であってもよい。ひげぜんまいは、シリコン製であってもよい。本発明が検討する表面は、酸化ケイ素のコーティングで被覆されてもよい。代替的に、ひげぜんまいは、ＳＯＩ（silicon on insulator）基板製であってもよい。

【0068】

本発明はまた、当該時計ムーブメント部品を含む、時計ムーブメントに関する。本発明はまた、少なくとも１つの当該時計ムーブメントまたは１つの当該時計ムーブメント部品を含む、時計に関する。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【国際調査報告】