特表 2024-519961 脱毛器

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-05-21

(54)【発明の名称】脱毛器

(51)【国際特許分類】

   A61N 5/06 20060101AFI20240514BHJP

   A61N 5/067 20060101ALI20240514BHJP

【ＦＩ】

A61N5/06 Z

A61N5/067

【審査請求】有

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2023572164

(86)(22)【出願日】2022-08-19

(85)【翻訳文提出日】2023-11-21

(86)【国際出願番号】 CN2022113783

(87)【国際公開番号】W WO2023082753

(87)【国際公開日】2023-05-19

(31)【優先権主張番号】202122792654.0

(32)【優先日】2021-11-15

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(31)【優先権主張番号】202122797614.5

(32)【優先日】2021-11-15

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(31)【優先権主張番号】202122813851.6

(32)【優先日】2021-11-15

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】519302316

【氏名又は名称】深▲せん▼由莱智能電子有限公司

【氏名又は名称原語表記】Ｓｈｅｎｚｈｅｎ Ｕｌｉｋｅ Ｓｍａｒｔ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．

(74)【代理人】

【識別番号】110000291

【氏名又は名称】弁理士法人コスモス国際特許商標事務所

(72)【発明者】

【氏名】潘 玉平

【テーマコード（参考）】

4C082

【Ｆターム（参考）】

4C082PA06

4C082PC10

4C082PG11

4C082PJ04

4C082RE22

4C082RE24

4C082RE35

(57)【要約】

本出願は脱毛器を開示し、当該脱毛器は、リフレクター、光源、第１光透過体、放熱ベースおよび冷却部材を含み、光源は、リフレクター内に組み立てられ、かつ光を発することができ、リフレクターは、その光を反射して、さらに当該脱毛器の光射出を実現することができ、それにより、肌の毛を容易に除去して脱毛の目的が実現される。第１光透過体とリフレクターは、光源を収容するキャビティを形成し、光源の本体はキャビティ内に吊り下げられ、放熱ベースの両側はそれぞれ、リフレクターおよび冷却部材に熱的に結合されることにより、キャビティ内の熱をキャビティから迅速に伝達することができ、つまり、キャビティ内の熱を放熱ベースと冷却部材に伝達し、さらにキャビティを冷却し、これにより、当該脱毛器の放熱効果を高めることができるとともに、光源を均一に放熱させ、光源の耐用年数を延ばすことができる。さらに、放熱性能が良いため、当該脱毛器の使用上の快適性を向上させることができる。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

光を反射可能なリフレクターと、
前記リフレクター内に組み立てられ、前記光を放出可能な光源と、
前記光を入射する入射面および前記光を射出する射出面を有する光透過体と、
前記光透過体が固定されるホルダーと、を含むことを特徴とする、脱毛器。

【請求項2】

前記リフレクターに設けられる炭素含有層を含むことを特徴とする、請求項１に記載の脱毛器。

【請求項3】

前記炭素含有層は、前記リフレクターの前記光源に背向する側に設けられることを特徴とする、請求項２に記載の脱毛器。

【請求項4】

前記リフレクターの一方側に設けられ、前記リフレクターを冷却するための放熱ベースと、
前記放熱ベースに設けられた炭素含有層と、を含むことを特徴とする、請求項１に記載の脱毛器。

【請求項5】

前記炭素含有層は、前記リフレクターと前記放熱ベースとの間、および／または前記放熱ベースの露出面に設けられることを特徴とする、請求項４に記載の脱毛器。

【請求項6】

前記リフレクターと前記光透過体との間に設けられた光フィルターを含み、
ここで、前記放熱ベースの一方側にはスロットが設けられ、前記リフレクターは前記スロットに埋め込まれ、前記光フィルターは前記放熱ベースに対して固定されることを特徴とする、請求項４に記載の脱毛器。

【請求項7】

前記ホルダーは窓を有し、前記光フィルターは、前記ホルダーに固定されて前記窓を覆うことを特徴とする、請求項６に記載の脱毛器。

【請求項8】

前記光透過体は、前記窓に埋め込まれ、前記光透過体は、前記光フィルターのランプに背向する側に位置することを特徴とする、請求項７に記載の脱毛器。

【請求項9】

弾性シールリングを含み、前記弾性シールリングは、少なくともその内側リングが前記光フィルターと前記光透過体との間に弾力的に当接して設けられ、前記光フィルターと前記光透過体の両方は、前記弾性シールリングと密封するように合わせることを特徴とする、請求項６に記載の脱毛器。

【請求項10】

前記弾性シールリングは、内側リングと外側リングを含み、前記内側リングの直径は前記外側リングよりも小さく、前記外側リングは、前記内側リングの外周に接続され、かつ前記光透過体の方向に延在して前記内側リングを超えて取付溝を形成し、前記光透過体の前記光フィルターに向かう一端の周側は、前記取付溝内に配置されることを特徴とする、請求項９に記載の脱毛器。

【請求項11】

前記弾性シールリングの前記光フィルターに向かう側には突起が設けられ、前記突起は、前記光フィルターの端面に当接するように設けられることを特徴とする、請求項９に記載の脱毛器。

【請求項12】

前記突起は、テーパー状の環状突起であることを特徴とする、請求項１１に記載の脱毛器。

【請求項13】

前記弾性シールリングは、レーザー耐性と高温・低温耐性を備える材料で作られた環状体であることを特徴とする、請求項９に記載の脱毛器。

【請求項14】

前記光透過体に接続され、前記光透過体の熱を吸収するための放熱アセンブリと、
前記光透過体と前記放熱アセンブリとの間に設けられた炭素含有層とを含むことを特徴とする、請求項１に記載の脱毛器。

【請求項15】

冷却駆動アセンブリを含み、
ここで、前記放熱アセンブリは、放熱プレートと放熱フィンを含み、前記放熱プレートの一面には、第１領域および第２領域が並んで設けられ、前記光源および前記リフレクターは、前記放熱プレートの前記第１領域に設けられ、前記放熱フィンは前記第２領域に取り付けられ、前記冷却駆動アセンブリは、前記放熱フィンの前記リフレクターに背向する側に設けられ、前記冷却駆動アセンブリは、気流を前記放熱フィン、前記光源、および／または前記リフレクターに吹くように駆動することを特徴とする、請求項１４に記載の脱毛器。

【請求項16】

前記炭素含有層は、グラフェン材料、グラファイト粉末、グラファイトシートまたはグラファイトフィルムであることを特徴とする、請求項２、４、１４のいずれか一項に記載の脱毛器。

【請求項17】

前記炭素含有層は、メッキ、吹き付けまたは積層によって設けられることを特徴とする、請求項１５に記載の脱毛器。

【請求項18】

前記光源の中心は、前記リフレクターの焦点と前記リフレクターの底部との間に位置し、前記光透過体の前記入射面は、前記射出面と前記リフレクターの焦点との間に位置し、かつ前記リフレクターから反射された前記光の集光位置は、前記光透過体の前記射出面と前記リフレクターの焦点との間にあることを特徴とする、請求項１に記載の脱毛器。

【請求項19】

前記リフレクターは、第１反射領域と第２反射領域を有し、前記第１反射領域は、前記リフレクターの底部を含む円弧状領域であり、前記第２反射領域は、前記円弧状領域の両端から外側に延びる平面状領域であり、前記平面状領域は、前記円弧状領域に相接することを特徴とする、請求項１８に記載の脱毛器。

【請求項20】

前記平面状領域と参照線とのなす角度は５～２０度であり、前記参照線は、前記光源の中心と前記光透過体の中心とを結ぶ線であることを特徴とする、請求項１９に記載の脱毛器。

【請求項21】

前記角度は８～１５度であることを特徴とする、請求項２０に記載の脱毛器。

【請求項22】

光を反射可能なリフレクターと、
前記リフレクター内に組み立てられ、前記光を放出可能な光源と、
前記リフレクターの光射出側に設けられ、前記リフレクターと共に前記光源を収容するキャビティを形成する第１光透過体と、
その一方側が前記リフレクターに熱的に結合された放熱ベースと、
その冷却側が前記放熱ベースの他方側、および／または前記リフレクターの一方側に熱的に結合された冷却部材と、
前記第１光透過体が固定されるホルダーと、を含み、
ここで、前記光源の本体は前記キャビティ内に吊り下げられ、前記冷却部材は前記キャビティを冷却することを特徴とする、脱毛器。

【請求項23】

前記リフレクターおよび／または前記冷却部材に設けられる炭素含有層を含むことを特徴とする、請求項２２に記載の脱毛器。

【請求項24】

前記炭素含有層は、前記リフレクターの前記光源に背向する側、前記冷却部材の前記放熱ベースに向かう側、または前記冷却部材の露出面に設けられることを特徴とする、請求項２３に記載の脱毛器。

【請求項25】

前記リフレクターと前記放熱ベースとの間に設けられた炭素含有層を含むことを特徴とする、請求項２２に記載の脱毛器。

【請求項26】

第２光透過体と、
前記光源と前記第２光透過体との間に設けられた光フィルターであって、前記第１光透過体に属する光フィルターと、を含み、
ここで、前記放熱ベースの一方側にはスロットが設けられ、前記リフレクターは前記スロットに埋め込まれ、前記光フィルターは前記放熱ベースに対して固定されることを特徴とする、請求項２５に記載の脱毛器。

【請求項27】

前記ホルダーは窓を有し、前記光フィルターは、前記ホルダーに固定されて前記窓を覆うことを特徴とする、請求項２６に記載の脱毛器。

【請求項28】

前記第２光透過体は、前記窓に埋め込まれ、前記第２光透過体は、前記光フィルターの前記ランプに背向する側に位置することを特徴とする、請求項２７に記載の脱毛器。

【請求項29】

前記光源の光射出側に位置する第２光透過体と、
前記第２光透過体に接続され、前記第２光透過体の熱を吸収するための放熱ベースと、
前記第２光透過体と前記放熱ベースとの間に設けられた炭素含有層とを含むことを特徴とする、請求項２２に記載の脱毛器。

【請求項30】

冷却駆動アセンブリを含み、
ここで、前記放熱ベースは、放熱プレートと放熱フィンを含み、前記放熱プレートの一面には、第１領域および第２領域が並んで設けられ、前記光源および前記リフレクターは、前記放熱プレートの前記第１領域に設けられ、前記放熱フィンは前記第２領域に取り付けられ、前記冷却駆動アセンブリは、前記放熱フィンの前記リフレクターに背向する側に設けられ、前記冷却駆動アセンブリは、気流を前記放熱フィン、前記光源、および／または前記リフレクターに吹くように駆動することを特徴とする、請求項２９に記載の脱毛器。

【請求項31】

弾性シールリングを含み、前記弾性シールリングは、少なくともその内側リング部が前記第１光透過体と前記第２光透過体との間に弾力的に当接して設けられ、前記第１光透過体と前記第２光透過体の両方は、前記弾性シールリングと密封するように合わせることを特徴とする、請求項２６または２９に記載の脱毛器。

【請求項32】

前記弾性シールリングは、内側リングと外側リングを含み、前記内側リングの直径は前記外側リングよりも小さく、前記外側リングは、前記内側リングの外周に接続され、かつ前記第２光透過体の方向に延在して前記内側リングを超えて取付溝を形成し、前記第２光透過体の前記光フィルターに向かう一端の周側は、前記取付溝内に配置されることを特徴とする、請求項３１に記載の脱毛器。

【請求項33】

前記弾性シールリングの前記第１光透過体に向かう側には突起が設けられ、前記突起は、前記第１光透過体の端面に当接するように設けられることを特徴とする、請求項３１に記載の脱毛器。

【請求項34】

前記突起は、テーパー状の環状突起であることを特徴とする、請求項３３に記載の脱毛器。

【請求項35】

前記弾性シールリングは、レーザー耐性と高温・低温耐性を備える材料で作られた環状体であることを特徴とする、請求項３１に記載の脱毛器。

【請求項36】

前記炭素含有層は、グラフェン材料、グラファイト粉末、グラファイトシートまたはグラファイトフィルムであることを特徴とする、請求項２３、２５、２９のいずれか一項に記載の脱毛器。

【請求項37】

前記炭素含有層は、メッキ、吹き付けまたは積層によって設けられることを特徴とする、請求項３６に記載の脱毛器。

【請求項38】

前記放熱ベースはセラミックベースであり、その一方側にはスロットが設けられ、前記リフレクターは前記スロットに埋め込まれ、前記第１光透過体は光フィルターであり、前記放熱ベースに対して固定されることを特徴とする、請求項２２に記載の脱毛器。

【請求項39】

窓を有するホルダーであって、前記光フィルターが前記ホルダーに固定されて前記窓を覆う、ホルダーを含むことを特徴とする、請求項３８に記載の脱毛器。

【請求項40】

前記ホルダーに固定されるとともに、前記窓に埋め込まれる第２光透過体であって、前記光フィルターの前記光源に背向する側に位置し、かつ前記光源に向かう入射面と、前記光源に背向する射出面とを有する第２光透過体を含むことを特徴とする、請求項３９に記載の脱毛器。

【請求項41】

窓を有するホルダーであって、前記光フィルターが前記ホルダーに固定されて前記窓を覆う、ホルダーと、
前記ホルダーに固定されるとともに、前記窓に埋め込まれる第２光透過体であって、前記光フィルターの前記光源に背向する側に位置し、かつ前記光源に向かう入射面と、前記光源に背向する射出面とを有する第２光透過体と、を含むことを特徴とする、請求項２２に記載の脱毛器。

【請求項42】

前記光源の中心は、前記リフレクターの焦点と前記リフレクターの底部との間に位置し、前記第２光透過体の前記入射面は、前記射出面と前記リフレクターの焦点との間に位置し、かつ前記リフレクターから反射された前記光の集光位置は、前記第２光透過体の前記射出面と前記リフレクターの焦点との間にあることを特徴とする、請求項２２に記載の脱毛器。

【請求項43】

前記リフレクターは、第１反射領域と第２反射領域を有し、前記第１反射領域は、前記リフレクターの底部を含む円弧状領域であり、前記第２反射領域は、前記円弧状領域の両端から外側に延びる平面状領域であり、前記平面状領域は、前記円弧状領域に相接することを特徴とする、請求項２２に記載の脱毛器。

【請求項44】

前記平面状領域と参照線とのなす角度は５～２０度であり、前記参照線は、前記光源の中心と前記第２光透過体の中心とを結ぶ線であることを特徴とする、請求項２２に記載の脱毛器。

【請求項45】

前記光源は棒状ランプであり、前記リフレクターは、半円弧状のリフレクターであり、前記脱毛器は、
前記リフレクターの長さ方向の両端に設けられ、前記リフレクターの両端から漏れる前記光を前記リフレクターの光射出側に反射する側面反射部材を含むことを特徴とする、請求項２２に記載の脱毛器。

【請求項46】

前記側面反射部材は、前記リフレクターと一体成形され、かつ前記側面反射部材には貫通孔が設けられ、前記ランプの端部は前記貫通孔を通過することを特徴とする、請求項４５に記載の脱毛器。

【請求項47】

導体であり、光を反射可能なリフレクターと、
ストリップ状のガス励起光源であり、前記リフレクターに対向して設けられ、前記リフレクターの通電後に前記リフレクターにより励起されて前記光を発することができる光源と、
ホルダーであって、前記リフレクターが前記ホルダーに対して固定されるホルダーと、を含み、
ここで、前記光源の本体と前記リフレクターとの間隔はゼロより大きく、０．３ｍｍ以下であることを特徴とする、脱毛器。

【請求項48】

前記リフレクターに設けられる炭素含有層を含むことを特徴とする、請求項４７に記載の脱毛器。

【請求項49】

前記炭素含有層は、前記リフレクターの前記光源に背向する側に設けられることを特徴とする、請求項４８に記載の脱毛器。

【請求項50】

前記リフレクターの一方側に設けられ、前記リフレクターを冷却するための放熱ベースと、
前記リフレクターと前記放熱ベースとの間、および／または前記放熱ベースの露出面に設けられた炭素含有層と、を含むことを特徴とする、請求項４７に記載の脱毛器。

【請求項51】

第２光透過体と、
光フィルターを含み、前記光源と前記第２光透過体との間に設けられた第１光透過体と、を含み、
ここで、前記放熱ベースの一方側にはスロットが設けられ、前記リフレクターは前記スロットに埋め込まれ、前記光フィルターは前記放熱ベースに対して固定されることを特徴とする、請求項５０に記載の脱毛器。

【請求項52】

前記ホルダーは窓を有し、前記光フィルターは、前記ホルダーに固定されて前記窓を覆うことを特徴とする、請求項５１に記載の脱毛器。

【請求項53】

前記第２光透過体は、前記窓に埋め込まれ、前記第２光透過体は、前記光フィルターの前記光源に背向する側に位置することを特徴とする、請求項５２に記載の脱毛器。

【請求項54】

弾性シールリングを含み、前記弾性シールリングは、少なくともその内側リング部が前記第１光透過体と前記第２光透過体との間に弾力的に当接して設けられ、前記第１光透過体と前記第２光透過体の両方は、前記弾性シールリングと密封するように合わせることを特徴とする、請求項５１に記載の脱毛器。

【請求項55】

前記弾性シールリングは、内側リングと外側リングを含み、前記内側リングの直径は前記外側リングよりも小さく、前記外側リングは、前記内側リングの外周に接続され、かつ前記第２光透過体の方向に延在して前記内側リングを超えて取付溝を形成し、前記第２光透過体の前記光フィルターに向かう一端の周側は、前記取付溝内に配置されることを特徴とする、請求項５４に記載の脱毛器。

【請求項56】

前記弾性シールリングの前記第１光透過体に向かう側には突起が設けられ、前記突起は、前記第１光透過体の端面に当接するように設けられることを特徴とする、請求項５４に記載の脱毛器。

【請求項57】

前記突起は、テーパー状の環状突起であることを特徴とする、請求項５６に記載の脱毛器。

【請求項58】

前記弾性シールリングは、レーザー耐性と高温・低温耐性を備える材料で作られた環状体であることを特徴とする、請求項５４に記載の脱毛器。

【請求項59】

その冷却側が前記放熱ベースの一方側に熱的に結合された冷却部材を含み、
ここで、前記炭素含有層は、前記冷却部材の前記放熱ベースに向かう側、または前記冷却部材の露出面に設けられることを特徴とする、請求項５０に記載の脱毛器。

【請求項60】

前記光源の光射出側に位置する第２光透過体と、
前記第２光透過体に接続され、前記第２光透過体の熱を吸収するための放熱アセンブリと、
前記第２光透過体と前記放熱アセンブリとの間に設けられた炭素含有層とを含むことを特徴とする、請求項４７に記載の脱毛器。

【請求項61】

冷却駆動アセンブリを含み、
ここで、前記放熱アセンブリは、放熱プレートと放熱フィンを含み、前記放熱プレートの一面には、第１領域および第２領域が並んで設けられ、前記光源および前記リフレクターは、前記放熱プレートの前記第１領域に設けられ、前記放熱フィンは前記第２領域に取り付けられ、前記冷却駆動アセンブリは、前記放熱フィンの前記リフレクターに背向する側に設けられ、前記冷却駆動アセンブリは、気流を前記放熱フィン、前記光源、および／または前記リフレクターに吹くように駆動することを特徴とする、請求項６０に記載の脱毛器。

【請求項62】

前記炭素含有層は、グラフェン材料、グラファイト粉末、グラファイトシートまたはグラファイトフィルムであることを特徴とする、請求項４８、５０、６０のいずれか一項に記載の脱毛器。

【請求項63】

前記炭素含有層は、メッキ、吹き付けまたは積層によって設けられることを特徴とする、請求項６２に記載の脱毛器。

【請求項64】

その一方側が前記リフレクターに熱的に結合された放熱ベースと、
前記光源の端部に固定された弾性体と、
前記光源をリフレクターまたは前記放熱ベースに対して固定するように、前記光源の長さ方向に垂直な方向で前記弾性体に押し付けられるホルダーと、を含むことを特徴とする、請求項４７に記載の脱毛。

【請求項65】

前記放熱ベースはセラミックベースであり、前記セラミックベースには第１スロットが設けられ、前記リフレクターは前記第１スロットに埋め込まれ、前記ホルダーは、前記弾性体を介して前記光源、リフレクターを前記放熱ベースに固定することを特徴とする、請求項６４に記載の脱毛器。

【請求項66】

前記セラミックベースの第１スロットが設けられた両端のそれぞれには、第２スロットが設けられ、前記第２スロットは、前記第１スロットと連通し、かつ前記第２スロットの深さは前記第１スロットより大きく、前記第２スロットは、前記光源の両端および前記弾性体を収容するために使用され、かつ前記弾性体の弾性変形のための退避スペースとして機能することを特徴とする、請求項６５に記載の脱毛器。

【請求項67】

前記セラミックベースの側辺には第１留め具が設けられ、前記ホルダーには、対応して第２留め具が設けられ、前記ホルダーは、前記第２留め具と前記第１留め具との係合によって、前記セラミックベースに固定されることを特徴とする、請求項６５に記載の脱毛器。

【請求項68】

前記ホルダーには窓が設けられ、前記窓の前記第２留め具に対応する部分の寸法は、前記セラミックベースの前記第１留め具が設けられた部分よりも大きく、それにより、前記セラミックベースの前記第１留め具が設けられた部分は前記ホルダーの前記窓に埋め込まれるようになることを特徴とする、請求項６７に記載の脱毛器。

【請求項69】

前記ホルダーには、前記光が通過する窓が設けられ、
前記リフレクターの光射出側に設けられ、かつ前記ホルダーに固定される第１光透過体を含み、前記第１光透過体は前記リフレクターと共に、前記光源を収容するキャビティを形成することを特徴とする、請求項６８に記載の脱毛器。

【請求項70】

前記第１光透過体は光フィルターであり、前記脱毛器は、
前記窓に埋め込まれる第２光透過体を含み、前記第２光透過体は、前記光フィルターの前記光源に背向する側に位置し、かつ前記光源に向かう入射面と、前記光源に背向する射出面とを有することを特徴とする、請求項６９に記載の脱毛器。

【請求項71】

前記リフレクターは半円弧状のリフレクターであり、前記脱毛器は、
前記リフレクターの長さ方向の両端に設けられ、前記リフレクターの両端から漏れる前記光を前記リフレクターの光射出側に反射する側面反射部材を含み、
ここで、前記側面反射部材には貫通孔が設けられ、前記ランプの端部は、前記貫通孔を通過し、前記貫通孔の直径は前記光源の両端よりも大きく、前記弾性体は、前記光源を前記貫通孔の前記リフレクターの底部に近い側に弾力的に密着させることを特徴とする、請求項４７に記載の脱毛器。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本出願は、脱毛器の分野に関し、特に脱毛器に関する。

【背景技術】

【0002】

脱毛器は作動中に多くの熱が発生しやすく、この熱は主に作動中のランプから発生するものである。ランプは脱毛器の主要部品として、作動時に多くの熱が発生し、適時に放熱しないと、ランプの耐用年数が短くなるとともに、ランプから発生した熱は、脱毛器の他の部分、例えば肌に接触する部分にも放射され、その部分の温度が高くなると、使用者は使用時に灼熱感を感じることになる。また、市販されている脱毛器には、作動中の光出力にムラがあるという問題がある。

【0003】

さらに、脱毛器の実際の応用では、トリガーワイヤとランプとの密な接触を維持しにくく、トリガーワイヤとランプとの間が緩んでしまうと、トリガーワイヤのトリガーによるランプの発光が難しくなるだけでなく、トリガーワイヤのトリガーによるランプの発光にかかるコストも高くなる。

【発明の概要】

【0004】

本出願は主に、脱毛器の作動中における放熱不良の問題を解決する脱毛器を提供する。

【0005】

上記の技術的課題を解決するために、本出願で採用した１つの技術的解決手段は、脱毛器を提供することである。当該脱毛器は、リフレクター、光源、光透過体およびホルダーを含み、前記リフレクターは光を反射することができ、前記光源は、前記リフレクター内に組み立てられ、前記光を発することができ、前記光透過体は、前記光を入射する入射面および前記光を射出する射出面を有し、前記放熱ベースは、前記リフレクターの一方側に位置する。

【0006】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は、前記リフレクターに設けられる炭素含有層をさらに含む。

【0007】

いくつかの実施例では、前記炭素含有層は、前記リフレクターの前記光源に背向する側に設けられる。

【0008】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は放熱ベースと炭素含有層をさらに含み、前記放熱ベースは、前記リフレクターの一方側に設けられ、前記炭素含有層は、前記リフレクターを冷却するために使用され、前記放熱ベースに設けられる。

【0009】

いくつかの実施例では、前記炭素含有層は、前記リフレクターと前記放熱ベースとの間、および／または前記放熱ベースの露出面に設けられる。

【0010】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は光フィルターをさらに含み、前記光フィルターは、前記リフレクターと前記光透過体との間に設けられ、ここで、前記放熱ベースの一方側にはスロットが設けられ、前記リフレクターは前記スロットに埋め込まれ、前記光フィルターは前記放熱ベースに対して固定される。

【0011】

いくつかの実施例では、前記ホルダーは窓を有し、前記光フィルターは、前記ホルダーに固定されて前記窓を覆う。

【0012】

いくつかの実施例では、前記光透過体は、前記窓に埋め込まれ、前記光透過体は、前記光フィルターの前記ランプに背向する側に位置する。

【0013】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は弾性シールリングをさらに含み、前記弾性シールリングは、少なくともその内側リング部が前記光フィルターと前記光透過体との間に弾力的に当接して設けられ、前記光フィルターと前記光透過体の両方は、前記弾性シールリングと密封するように合わせる。

【0014】

いくつかの実施例では、前記弾性シールリングは、内側リングと外側リングを含み、前記内側リングの直径は前記外側リングよりも小さく、前記外側リングは、前記内側リングの外周に接続され、かつ前記光透過体の方向に延在して前記内側リングを超えて取付溝を形成し、前記光透過体の前記光フィルターに向かう一端の周側は、前記取付溝内に配置される。

【0015】

いくつかの実施例では、前記弾性シールリングの前記光フィルターに向かう側には突起が設けられ、前記突起は、前記光フィルターの端面に当接するように設けられる。

【0016】

いくつかの実施例では、前記突起は、テーパー状の環状突起である。

【0017】

いくつかの実施例では、前記弾性シールリングは、レーザー耐性と高温・低温耐性を備える材料で作られた環状体である。

【0018】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は、放熱アセンブリと炭素含有層をさらに含み、前記放熱アセンブリは、前記光透過体に接続され、前記光透過体の熱を吸収するために使用され、前記炭素含有層は、前記光透過体と前記放熱アセンブリとの間に設けられる。

【0019】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は、冷却駆動アセンブリをさらに含み、ここで、前記放熱アセンブリは、放熱プレートと放熱フィンを含み、前記放熱プレートの一面には、第１領域および第２領域が並んで設けられ、前記光源および前記リフレクターは、前記放熱プレートの前記第１領域に設けられ、前記放熱フィンは前記第２領域に取り付けられ、前記冷却駆動アセンブリは、前記放熱フィンの前記リフレクターに背向する側に設けられ、前記冷却駆動アセンブリは、気流を前記放熱フィン、前記光源、および／または前記リフレクターに吹くように駆動する。

【0020】

いくつかの実施例では、前記炭素含有層は、グラフェン材料、グラファイト粉末、グラファイトシートまたはグラファイトフィルムである。

【0021】

いくつかの実施例では、前記炭素含有層は、メッキ、吹き付けまたは積層によって設けられる。

【0022】

いくつかの実施例では、前記光源の中心は、前記リフレクターの焦点と前記リフレクターの底部との間に位置し、前記光透過体の前記入射面は、前記射出面と前記リフレクターの焦点との間に位置し、かつ前記リフレクターから反射された前記光の集光位置は、前記光透過体の前記射出面と前記リフレクターの焦点との間にある。

【0023】

いくつかの実施例では、前記リフレクターは、第１反射領域と第２反射領域を有し、前記第１反射領域は、前記リフレクターの底部を含む円弧状領域であり、前記第２反射領域は、前記円弧状領域の両端から外側に延びる平面状領域であり、前記平面状領域は、前記円弧状領域に相接する。

【0024】

いくつかの実施例では、前記平面状領域と参照線とのなす角度は５～２０度であり、前記参照線は、前記光源の中心と前記光透過体の中心とを結ぶ線である。

【0025】

いくつかの実施例では、前記角度は８～１５度である。

【0026】

上記の技術的課題を解決するために、本出願で採用した１つの技術的解決手段は、リフレクター、光源、第１光透過体、放熱ベース、冷却部材およびホルダーを含み、前記リフレクターは、光を反射することができ、前記光源は、前記リフレクター内に組み立てられ、前記光を発することができ、前記第１光透過体は、前記リフレクターの光射出側に設けられ、前記リフレクターと共に、前記光源を収容するためのキャビティを形成し、前記放熱ベースの一方側は、前記リフレクターに熱的に結合され、前記冷却部材の冷却側は、前記放熱ベースの他方側、および／または前記リフレクターの一方側に熱的に結合され、前記第１光透過体は、前記ホルダーに固定され、ここで、前記光源の本体は前記キャビティ内に吊り下げられ、前記冷却部材は前記キャビティを冷却する、脱毛器を提供することである。

【0027】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は炭素含有層をさらに含み、前記炭素含有層は、前記リフレクターおよび／または前記冷却部材に設けられる。

【0028】

いくつかの実施例では、前記炭素含有層は、前記リフレクターの前記光源に背向する側、前記冷却部材の前記放熱ベースに向かう側、または前記冷却部材の露出面に設けられる。

【0029】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は、炭素含有層をさらに含み、前記炭素含有層は、前記リフレクターと前記放熱ベースとの間に設けられる。

【0030】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は、第２光透過体および光フィルターをさらに含み、光フィルターは、前記光源と前記第２光透過体との間に設けられ、ここで、前記放熱ベースの一方側にはスロットが設けられ、前記リフレクターは前記スロットに埋め込まれ、前記光フィルターは前記放熱ベースに対して固定される。

【0031】

いくつかの実施例では、前記ホルダーは窓を有し、前記光フィルターは、前記ホルダーに固定されて前記窓を覆う。

【0032】

いくつかの実施例では、前記光透過体は、前記窓に埋め込まれ、前記光透過体は、前記光フィルターの前記ランプに背向する側に位置する。

【0033】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は、第２光透過体、放熱アセンブリ、および炭素含有層をさらに含み、第２光透過体は前記光源の光射出側に位置し、放熱アセンブリは、前記第２光透過体に接続され、前記放熱アセンブリは、前記第２光透過体の熱を吸収するために使用され、炭素含有層は、前記第２光透過体と前記放熱アセンブリとの間に設けられる。

【0034】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は、冷却駆動アセンブリをさらに含み、ここで、前記放熱アセンブリは、放熱プレートと放熱フィンを含み、前記放熱プレートの一面には、第１領域および第２領域が並んで設けられ、前記光源および前記リフレクターは、前記放熱プレートの前記第１領域に設けられ、前記放熱フィンは前記第２領域に取り付けられ、前記冷却駆動アセンブリは、前記放熱フィンの前記リフレクターに背向する側に設けられ、前記冷却駆動アセンブリは、気流を前記放熱フィン、前記光源、および／または前記リフレクターに吹くように駆動する。

【0035】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は弾性シールリングをさらに含み、前記弾性シールリングは、少なくともその内側リング部が前記第１光透過体と前記第２光透過体との間に弾力的に当接して設けられ、前記第１光透過体と前記第２光透過体の両方は、前記弾性シールリングと密封するように合わせる。

【0036】

いくつかの実施例では、前記弾性シールリングは、内側リングと外側リングを含み、前記内側リングの直径は前記外側リングよりも小さく、前記外側リングは、前記内側リングの外周に接続され、かつ前記第２光透過体の方向に延在して前記内側リングを超えて取付溝を形成し、前記第２光透過体の前記光フィルターに向かう一端の周側は、前記取付溝内に配置される。

【0037】

いくつかの実施例では、前記弾性シールリングの前記第１光透過体に向かう側には突起が設けられ、前記突起は、前記第１光透過体の端面に当接するように設けられる。

【0038】

いくつかの実施例では、前記突起は、テーパー状の環状突起である。

【0039】

いくつかの実施例では、前記弾性シールリングは、レーザー耐性と高温・低温耐性を備える材料で作られた環状体である。

【0040】

いくつかの実施例では、前記炭素含有層は、グラフェン材料、グラファイト粉末、グラファイトシートまたはグラファイトフィルムである。

【0041】

いくつかの実施例では、前記炭素含有層は、メッキ、吹き付けまたは積層によって設けられる。

【0042】

いくつかの実施例では、前記放熱ベースはセラミックベースであり、その一方側にはスロットが設けられ、前記リフレクターは前記スロットに埋め込まれ、前記第１光透過体は光フィルターであり、前記放熱ベースに対して固定される。

【0043】

いくつかの実施例では、当該脱毛器はホルダーを含み、前記ホルダーは窓を有し、前記光フィルターは、前記ホルダーに固定されて前記窓を覆う。

【0044】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は第２光透過体を含み、前記第２光透過体は、前記ホルダーに固定されるとともに、前記窓に埋め込まれ、前記第２光透過体は、前記光フィルターの前記光源に背向する側に位置し、かつ前記光源に向かう入射面と、前記光源に背向する射出面とを有する。

【0045】

いくつかの実施例では、当該脱毛器はホルダーを含み、前記ホルダーは窓を有し、前記光フィルターは、前記ホルダーに固定されて前記窓を覆い、任意選択的に、当該脱毛器は第２光透過体を含み、前記第２光透過体は、前記ホルダーに固定されるとともに、前記窓に埋め込まれ、前記第２光透過体は、前記光フィルターの前記光源に背向する側に位置し、かつ前記光源に向かう入射面と、前記光源に背向する射出面とを有する。

【0046】

いくつかの実施例では、前記光源の中心は、前記リフレクターの焦点と前記リフレクターの底部との間に位置し、前記第２光透過体の前記入射面は、前記射出面と前記リフレクターの焦点との間に位置し、かつ前記リフレクターから反射された前記光の集光位置は、前記第２光透過体の前記射出面と前記リフレクターの焦点との間にある。

【0047】

いくつかの実施例では、前記リフレクターは、第１反射領域と第２反射領域を有し、前記第１反射領域は、前記リフレクターの底部を含む円弧状領域であり、前記第２反射領域は、前記円弧状領域の両端から外側に延びる平面状領域であり、前記平面状領域は、前記円弧状領域に相接する。

【0048】

いくつかの実施例では、前記平面状領域と参照線とのなす角度は５～２０度であり、前記参照線は、前記光源の中心と前記第２光透過体の中心とを結ぶ線である。

【0049】

いくつかの実施例では、前記光源は、棒状ランプであり、前記リフレクターは、半円弧状のリフレクターであり、前記脱毛器は、前記リフレクターの長さ方向の両端に設けられ、前記リフレクターの両端から漏れる前記光を前記リフレクターの光射出側に反射する側面反射部材を含む。

【0050】

いくつかの実施例では、前記側面反射部材は、前記リフレクターと一体成形され、かつ前記側面反射部材には貫通孔が設けられ、前記ランプの端部は前記貫通孔を通過する。

【0051】

上記の技術的課題を解決するために、本出願で採用した１つの技術的解決手段は、脱毛器を提供することであり、当該脱毛器は、リフレクター、光源、およびホルダーを含み、前記リフレクターは導体であり、前記リフレクターは、光を反射することができ、前記光源は、ストリップ状のガス励起光源であり、前記リフレクターに対向して設けられ、前記リフレクターの通電後に前記リフレクターにより励起されて前記光を発することができ、前記リフレクターは、前記ホルダーに対して固定され、ここで、前記光源の本体と前記リフレクターとの間隔は０より大きく０．３ｍｍ以下である。

【0052】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は、炭素含有層をさらに含み、前記炭素含有層は、前記リフレクターに設けられる。

【0053】

いくつかの実施例では、前記炭素含有層は、前記リフレクターの前記光源に背向する側に設けられる。

【0054】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は、放熱ベースと炭素含有層をさらに含み、前記放熱ベースは、前記リフレクターの一方側に設けられ、前記リフレクターを冷却するために使用され、前記炭素含有層は、前記リフレクターと前記放熱ベースとの間、または前記放熱ベースの露出面に設けられる。

【0055】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は、第２光透過体と第１光透過体をさらに含み、前記第１光透過体は、前記光源と前記第２光透過体との間に設けられた光フィルターを含み、ここで、前記放熱ベースの一方側にはスロットが設けられ、前記リフレクターは前記スロットに埋め込まれ、前記光フィルターは前記放熱ベースに対して固定される。

【0056】

いくつかの実施例では、前記ホルダーは窓を有し、前記光フィルターは、前記ホルダーに固定されて前記窓を覆う。

【0057】

いくつかの実施例では、前記第２光透過体は、前記窓に埋め込まれ、前記第２光透過体は、前記光フィルターの前記光源に背向する側に位置する。

【0058】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は弾性シールリングをさらに含み、前記弾性シールリングは、少なくともその内側リング部が前記第１光透過体と前記第２光透過体との間に弾力的に当接して設けられ、前記第１光透過体と前記第２光透過体の両方は、前記弾性シールリングと密封するように合わせる。

【0059】

いくつかの実施例では、前記弾性シールリングは、内側リングと外側リングを含み、前記内側リングの直径は前記外側リングよりも小さく、前記外側リングは、前記内側リングの外周に接続され、かつ前記第２光透過体の方向に延在して前記内側リングを超えて取付溝を形成し、前記第２光透過体の前記光フィルターに向かう一端の周側は、前記取付溝内に配置される。

【0060】

いくつかの実施例では、前記弾性シールリングの前記第１光透過体に向かう側には突起が設けられ、前記突起は、前記第１光透過体の端面に当接するように設けられる。

【0061】

いくつかの実施例では、前記突起は、テーパー状の環状突起である。

【0062】

いくつかの実施例では、前記弾性シールリングは、レーザー耐性と高温・低温耐性を備える材料で作られた環状体である。

【0063】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は、冷却部材をさらに含み、その冷却側は、前記放熱ベースの一方側に熱的に結合され、ここで、前記炭素含有層は、前記冷却部材の前記放熱ベースに向かう側、または前記冷却部材の露出面に設けられる。

【0064】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は、第２光透過体、放熱アセンブリ、および炭素含有層をさらに含み、第２光透過体は前記光源の光射出側に位置し、放熱アセンブリは、前記第２光透過体に接続され、前記放熱アセンブリは、前記第２光透過体の熱を吸収するために使用され、炭素含有層は、前記第２光透過体と前記放熱アセンブリとの間に設けられる。

【0065】

いくつかの実施例では、当該脱毛器は、冷却駆動アセンブリをさらに含み、ここで、前記放熱アセンブリは、放熱プレートと放熱フィンを含み、前記放熱プレートの一面には、第１領域および第２領域が並んで設けられ、前記光源および前記リフレクターは、前記放熱プレートの前記第１領域に設けられ、前記放熱フィンは前記第２領域に取り付けられ、前記冷却駆動アセンブリは、前記放熱フィンの前記リフレクターに背向する側に設けられ、前記冷却駆動アセンブリは、気流を前記放熱フィン、前記光源、および／または前記リフレクターに吹くように駆動する。

【0066】

いくつかの実施例では、前記炭素含有層は、グラフェン材料、グラファイト粉末、グラファイトシートまたはグラファイトフィルムである。

【0067】

いくつかの実施例では、前記炭素含有層は、メッキ、吹き付けまたは積層によって設けられる。

【0068】

いくつかの実施例では、脱毛器は、放熱ベース、弾性体およびホルダーを含み、前記放熱ベースの一方側は、前記リフレクターに熱的に結合され、前記弾性体は、前記光源の端部に固定され、前記ホルダーは、前記光源とリフレクターまたは前記放熱ベースを相対的に固定するように、前記光源の長さ方向に垂直な方向で前記弾性体に押し付けられる。

【0069】

いくつかの実施例では、前記放熱ベースはセラミックベースであり、前記セラミックベースには第１スロットが設けられ、前記リフレクターは前記第１スロットに埋め込まれ、前記ホルダーは、前記弾性体を介して前記光源、リフレクターを前記放熱ベースに固定する。

【0070】

いくつかの実施例では、前記セラミックベースの第１スロットが設けられた両端のそれぞれには、第２スロットが設けられ、前記第２スロットは、前記第１スロットと連通し、かつ前記第２スロットの深さは前記第１スロットより大きく、前記第２スロットは、前記光源の両端および前記弾性体を収容するために使用され、かつ前記弾性体の弾性変形のための退避スペースとして機能する。

【0071】

いくつかの実施例では、前記セラミックベースの側辺には第１留め具が設けられ、前記ホルダーには、対応して第２留め具が設けられ、前記ホルダーは、前記第２留め具と前記第１留め具との係合によって、前記セラミックベースに固定される。

【0072】

いくつかの実施例では、前記ホルダーには窓が設けられ、前記窓の前記第２留め具に対応する部分の寸法は、前記セラミックベースの前記第１留め具が設けられた部分よりも大きく、それにより、前記セラミックベースの前記第１留め具が設けられた部分は前記ホルダーの前記窓に埋め込まれるようになる。

【0073】

いくつかの実施例では、前記ホルダーには、前記光が通過する窓が設けられ、脱毛器は、前記リフレクターの光射出側に設けられ、かつ前記ホルダーに固定される第１光透過体を含み、前記第１光透過体は、前記リフレクターと共に前記光源を収容するキャビティを形成する。

【0074】

いくつかの実施例では、前記第１光透過体は光フィルターであり、前記脱毛器は第２光透過体を含み、前記第２光透過体は、前記窓に埋め込まれ、前記光フィルターの前記光源に背向する側に位置し、かつ前記光源に向かう入射面と、前記光源に背向する射出面とを有する。

【0075】

いくつかの実施例では、前記リフレクターは、半円弧状のリフレクターであり、前記脱毛器は、前記リフレクターの長さ方向の両端に設けられ、前記リフレクターの両端から漏れる前記光を前記リフレクターの光射出側に反射する側面反射部材を含み、ここで、前記側面反射部材には貫通孔が設けられ、前記ランプの端部は、前記貫通孔を通過し、前記貫通孔の直径は前記光源の両端よりも大きく、前記弾性体は、前記光源を前記貫通孔の前記リフレクターの底部に近い側に弾力的に密着させる。

【0076】

本出願は次の有益な効果を有する。即ち、従来技術とは異なり、本出願は脱毛器の放熱効果を高める機能を有する脱毛器を開示する。光源は、リフレクター内に組み立てられ、かつ光を発することができ、リフレクターは、その光を反射して、さらに当該脱毛器の光射出を実現することができ、それにより、肌の毛を容易に除去して脱毛の目的が実現される。第１光透過体とリフレクターは、光源を収容するキャビティを形成し、光源の本体はキャビティ内に吊り下げられ、放熱ベースの両側はそれぞれ、リフレクターおよび冷却部材に熱的に結合されることにより、キャビティ内の熱をキャビティから迅速に伝達することができ、つまり、キャビティ内の熱を放熱ベースと冷却部材に伝達し、さらにキャビティを冷却し、これにより、当該脱毛器の放熱効果を高めることができるとともに、光源を均一に放熱させ、光源の耐用年数を延ばすことができる。さらに、放熱性能が良いため、当該脱毛器の使用上の快適性を向上させることができる。

【0077】

本出願の実施例における技術的解決手段をより明確に説明するために、以下、実施例の説明で使用される図面を簡単に紹介し、当然のことながら、以下の説明における図面は、本出願のいくつかの実施例に過ぎず、当業者であれば、創造的労力を要することなく、これらの図面に基づく他の図面を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【0078】

【図1】本出願の構造全体の分解を示す模式図である。

【図2】本出願の構造全体の組立を示す模式図である。

【図3】本出願の一実施例における炭素含有層の構造を示す模式図である。

【図4】本出願の構造全体の断面を示す模式図である。

【図5】本出願の光の反射経路を示す模式図である。

【図6】本出願の一実施例の構造を示す模式図である。

【図7】本出願の一実施例の分解構造を示す模式図である。

【図8】図７の実施例の分解構造を示す模式図である。

【図9】本出願の別の実施例における炭素含有層の構造を示す模式図である。

【図10】図８の実施例におけるファンハウジングの空気出口の構造を示す模式図である。

【図11】本出願の別の実施例に係る構造全体の断面を示す模式図である。

【図12】図１１のＢの部分を拡大した模式図である。

【図13】本出願の一実施例における弾性シールリングの構造を示す模式図である。

【図14】図１３の線Ｃ－Ｃに沿った断面を示す模式図である。

【図15】図１４のＤの部分を拡大した模式図である。

【図16】本出願の別の実施例に係る構造全体の分解を示す模式図である。

【図17】本出願の別の実施例に係る構造全体の組立を示す模式図である。

【図18】本出願の一実施例に係る炭素含有層の構造を示す模式図である。

【図19】本出願の別の実施例に係る構造全体の断面を示す模式図である。

【図20】本出願の光の反射経路を示す模式図である。

【図21】本出願の別の実施例の構造を示す模式図である。

【図22】本出願の別の実施例の分解構造を示す模式図である。

【図23】図２２の実施例の分解構造を示す模式図である。

【図24】本出願の別の実施例に係る炭素含有層の構造を示す模式図である。

【図25】図２３の実施例におけるファンハウジングの空気出口の構造を示す模式図である。

【図26】本出願の別の実施例に係る構造全体の断面を示す模式図である。

【図27】図２６のＢの部分を拡大した模式図である。

【図28】本出願の一実施例における弾性シールリングの構造を示す模式図である。

【図29】図２８の線Ｃ－Ｃに沿った断面を示す模式図である。

【図30】図２９のＤの部分を拡大した模式図である。

【図31】本出願の一実施例に係る脱毛器の分解を示す模式図である。

【図32】本出願の一実施例に係る脱毛器の組立を示す模式図である。

【図33】本出願の一実施例に係る炭素含有層の構造を示す模式図である。

【図34】本出願の一実施例に係る脱毛器の断面を示す模式図である。

【図35】本出願の別の実施例の構造を示す模式図である。

【図36】本出願の別の実施例の分解構造を示す模式図である。

【図37】図３６の実施例の分解構造を示す模式図である。

【図38】本出願の別の実施例に係る炭素含有層の構造を示す模式図である。

【図39】図３７の実施例におけるファンハウジングの空気出口の構造を示す模式図である。

【図40】本出願の別の実施例に係る構造全体の断面を示す模式図である。

【図41】図４０のＢの部分を拡大した模式図である。

【図42】本出願の一実施例における弾性シールリングの構造を示す模式図である。

【図43】図４２の線Ｃ－Ｃに沿った断面を示す模式図である。

【図44】図４３のＤの部分を拡大した模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0079】

本出願の上記目的、特徴および利点をより明確かつ理解しやすくするために、以下は添付図面と併せて、本出願の具体的な実施形態を詳細に説明する。ここで説明する具体的な実施例は、本出願を解釈するためのものに過ぎず、本出願を限定するためのものではないことが理解可能である。また、説明を容易にするために、図面には、本出願に関連する構造の全てではなく、その一部のみが示されていることに留意されたい。本出願の実施例に基づいて、当業者が創造的な労力を要することなく得られる他の全ての実施例は、本出願の保護範囲に含まれるものとする。

【0080】

本出願における「第１」、「第２」などの用語は、特定の順序を説明するためのものではなく、異なる対象を区別するために使用される。さらに、「含む」、「設けられる」という用語およびそのあらゆる変形は、非排他的な包含をカバーすることを意図している。例えば、一連のステップまたはユニットを含むプロセス、方法、システム、製品または設備は、列挙されたステップまたはユニットに限定されるものではなく、列挙されていないステップまたはユニットも選択可能に含むか、またはこれらのプロセス、方法、製品または設備に固有の他のステップまたはユニットも選択可能に含む。

【0081】

本明細書で言及された「実施例」は、実施例と併せて記載される特定の特徴、構造または特性が、本出願の少なくとも１つの実施例に含まれ得ることを意味する。明細書の各箇所で現れた当該言葉は、必ずしも全てが同一の実施例を指すものではなく、他の実施例と相互に排他的な別個のまたは代替の実施例でもない。各構成部品や構造などの名称や番号は、各実施例において図面と合わせてその特徴、構造または特性を示すために使用され、それらの実質的な意味に影響を及ぼすものではなく、異なる実施例の名称や番号は独立して参照されるべきである。当業者には、明示的にも黙示的にも、本明細書に記載された実施例が他の実施例と組み合わされてもよいことが理解される。本実施例における各構成部品や構造等の命名は、例示的なものであり、その実質的な意味を限定するものではない。機能や実質的な意味が変わらない場合、またはそれらに対して同等の変換を行う場合、他の名称を付けることも可能である。どのような名称を付けても、本実施形態の特徴と同等であり、いずれも本出願の趣旨の範囲に含まれるものとする。

【0082】

図１および図２を参照すると、本出願は脱毛器を開示し、当該脱毛器はリフレクター１、光源２および光透過体３を含む。光源２はリフレクター１内に組み立てられ、光源２は光を発することができ、リフレクター１は、光源２が発した光を反射することができ、光透過体３は、光を入射する入射面３１、および光を射出する射出面３２を有する。光源２が発した光は、リフレクター１で反射された後、光透過体３の射出面３２から均一に射出することができ、それにより、当該脱毛器の光射出均一性が向上し、当該脱毛器の脱毛効果が高まる。

【0083】

任意選択的に、光源２、リフレクター１と光透過体３の三者の構造および相対的な位置関係は、射出面３２の光射出均一性が９０％以上であるか、または射出面３２上の光スポットが射出面３２の少なくとも９５％を占めるという条件を満たす。射出面３２の光射出均一性を９０％以上にすることにより、脱毛器の脱毛効果を高め、肌の脱毛対象部分の毛を均一に除去することができる。同様に、射出面３２上の光スポットが射出面３２の少なくとも９５％を占めることにより、肌の脱毛対象部分の毛を均一に除去することもでき、さらに、光の利用率を向上させることができる。

【0084】

光射出均一性が低い脱毛器や、射出面３２に対する射出面３２上の光スポットの割合が小さい脱毛器では、使用の際に、均一な脱毛を実現するために、同じ部位に複数回照射する必要がある場合があり、そうでなければ、均一に脱毛することができず、美観性の点からも好ましくない。本出願の実施形態では、光源２、リフレクター１と光透過体３の三者の構造および相対的な位置関係は、射出面３２の光射出均一性が９０％以上であるか、または射出面３２上の光スポットが射出面３２の少なくとも９５％を占めるという条件を満たすことで、脱毛器が同じ部位に複数回照射する必要がない。光源２の品質と脱毛器のパワーが十分で、人の健康条件を満たしている場合、脱毛器は１回の照射だけで効率的で均一な脱毛を実現することができる。少なくとも、同一の部位の肌への繰り返し照射の回数を減らすことができる。

【0085】

任意選択的に、リフレクター１、光源２と光透過体３の中心は１つの直線上にあってもよく、その直線における三者の互いの距離を調整することにより、射出面３２の光射出均一性を９０％以上にすること、または射出面３２上の光スポットが射出面３２の少なくとも９５％を占めるようにすることが可能である。任意選択的に、三者の構造自体を調整することにより、脱毛器を上記の条件に適合させることもできる。

【0086】

任意選択的に、リフレクター１、光源２と光透過体３の三者の構造自体の設計により、脱毛器を上記の条件に適合させてもよい。さらに、三者の構造自体および三者間の相対的な位置関係を総合的に設計することにより、脱毛器を上記の条件に適合させてもよい。

【0087】

なお、当該脱毛器は、放熱ベース４とホルダー５をさらに含み、放熱ベース４はホルダー５と一緒に、リフレクター１、光透過体３を一体に組み立てるために使用される。

【0088】

任意選択的に、図３を参照すると、当該脱毛器は、リフレクター１に設けられた炭素含有層９１をさらに含み得る。例えば、当該炭素含有層９１は、リフレクター１の光源２に背向する側に設けられてもよい。光源２は使用時に熱を発してリフレクター１に集中させるが、炭素含有層９１は熱伝導性に優れているため、それが配置されたリフレクター１の熱伝導速度を促進し、リフレクター１の放熱性能を高め、脱毛器での過度の温度による自体の破損を防止することができ、さらに使用者の肌への刺激や損傷も防止することができる。

【0089】

任意選択的に、炭素含有層９１は放熱ベース４に設けられる。例えば、炭素含有層９１は、放熱ベース４とリフレクター１との間に設けられてもよく、それにより、放熱ベース４とリフレクター１との間の熱伝導速度を促進する。

【0090】

任意選択的に、炭素含有層９１はさらに放熱ベース４の露出面に設けられてもよく、それにより、放熱ベース４の放熱性能を高める。

【0091】

任意選択的に、当該炭素含有層９１は、グラフェン材料、グラファイト粉末、グラファイトシートまたはグラファイトフィルムなどの材料であってもよく、本出願に記載されているような炭素含有層９１を設置できる場所に、メッキ、吹き付けまたは積層などによって設けられてもよい。

【0092】

任意選択的に、放熱ベース４はセラミックベースであってもよく、セラミックベースは、リフレクター１内の温度を下げ、さらにリフレクター１の温度を制御し、リフレクター１の性能を向上させ、リフレクター１が光をよりよく反射できるようにすることができる。リフレクター１内の温度を下げないと、一方では、高温により光源２自体が破損して耐用年数が短くなり、他方では、熱が脱毛器の他の部分、特に肌に接触する部分に放射され、その高温により使用者は灼熱感を感じ、使用しにくい。本出願の実施形態では、セラミックベースは、リフレクター１内の温度を下げることができ、つまり、熱伝導、熱対流や熱放射、または上記３つの方式の任意の組み合わせによりリフレクター１内の熱を伝達し、リフレクター１内の温度を下げ、さらに光源２を均一に放熱させ、それにより、脱毛器の放熱効率を向上させる。

【0093】

任意選択的に、放熱ベース４の一方側にはスロット４１が設けられ、スロット４１は棒状であってもよく、リフレクター１はスロット４１に埋め込まれ、ホルダー５は窓５１を有し、窓５１は四角状であってもよく、光透過体３の形状に適合した他の形状であってもよく、光透過体３は、当該窓５１に埋め込まれ、かつリフレクター１の開口の一方側に位置する。放熱ベース４とホルダー５は着脱自在に接続され、それにより脱毛器の組立と分解が容易になる。

【0094】

任意選択的に、放熱ベース４の両側にはいずれも第１留め具４２が一体成形され、ホルダー５の両側にはいずれも第２留め具５２が一体成形され、第１留め具４２と第２留め具５２は対応して設けられる。放熱ベース４とホルダー５が接続されている時、第１留め具４２と第２留め具５２が強固に係合され、さらに、放熱ベース４とホルダー５を確実に接続できるようにし、それにより当該脱毛器の使用安定性が向上する。

【0095】

任意選択的に、第１留め具４２は、係合ブロックまたは片持ちフックであってもよく、第２留め具５２は取付穴であってもよい。片持ちフックを取付穴に埋め込むと、取付穴によって片持ちフックが取付穴から容易に外れないように制限し、第１留め具４２と第２留め具５２を確実に接続することができ、つまり、放熱ベース４とホルダー５を相対的に固定できるようにし、放熱ベース４とホルダー５が緩んだり外れたりすることを効果的に防止する。

【0096】

任意選択的に、光透過体３は結晶であってもよい。

【0097】

図１、図２および図４を参照すると、リフレクター１は、第１反射領域１１と第２反射領域１２を有し、第１反射領域１１は、リフレクター１の底部を含む円弧状領域であり、第２反射領域１２は、円弧状領域の両端から外側に延びる平面状領域であり、平面状領域は、円弧状領域に相接する。光源２が光を発した後、リフレクター１はその光を光透過体３に反射する。

【0098】

任意選択的に、リフレクター１は、半円弧状であってもよく、光源２は棒状ランプであってもよく、棒状ランプは光を発し、リフレクター１の円弧状領域はその光を光透過体３によく反射することができ、同時に、リフレクター１の平面状領域も、その光を光透過体３に反射することができ、円弧状領域と平面状領域によって光を十分に反射することにより、光の射出率を高め、光の利用率を向上させる。

【0099】

任意選択的に、リフレクター１は棒状であってもよい。

【0100】

図５を参照すると、任意選択的に、光源２の中心は、リフレクター１の焦点とリフレクター１の底部との間に位置し、光透過体３の入射面３１は、射出面３２とリフレクター１の焦点との間に位置し、かつリフレクター１から反射された光の集光位置は、光透過体３の射出面３２とリフレクター１の焦点との間にある。光源２、リフレクター１と光透過体３の三者間の位置を限定することにより、射出面３２の光射出均一性を９０％以上にし、または射出面３２上の光スポットが射出面３２の少なくとも９５％を占めるようにし、それにより、光源２が発した光は、リフレクター１で光透過体３に十分に反射され、光透過体３の光射出均一性を高めることができる。

【0101】

例えば、脱毛器の作動時には、光源２は光を発し、リフレクター１の第１反射領域１１および第２反射領域１２は、光を光透過体３に十分に反射し、光は、光透過体３の入射面から入射した後、光透過体３の射出面から射出され、それにより、射出面３２の光射出均一性を９０％以上にし、または射出面３２上の光スポットが射出面３２の少なくとも９５％を占めるようにし、よって、脱毛器の光射出均一性を高め、当該脱毛器の使用効果を向上させる。

【0102】

任意選択的に、平面状領域と参照線とのなす角度は５～２０度であり、参照線は、光源２の中心と光透過体３の中心とを結ぶ線である。光を光透過体３に十分に反射できるように、平面状領域と参照線とのなす角度を限定することにより、一方では、光の無駄を低減して使用コストを削減でき、他方では、光透過体３の光射出均一性を向上させることができる。

【0103】

本出願に係る脱毛器の別の実施例では、光源２は、リフレクター１の底部近傍に設けられ、かつリフレクター１には、参照線に対して５～２０度の角度を有する平面状領域が設けられていない。この場合、光が複数回反射する可能性が高い。入射角によっては、光が複数回反射する可能性が高くなり、かつ射出角が乱れ、制御しにくい。

【0104】

平面状領域と参照線とのなす角度を限定することにより、光はリフレクター１で射出する際に良好な射出角を有することができ、同時に、光を集光することもでき、よって、光の射出率を向上させ、光の損失を効果的に回避し、配光効果を高めることができる。

【0105】

さらに、平面状領域と参照線とのなす角度は８～１５度であり、その角度は８度であってもよく、１５度であってもよい。例えば、この範囲では焦点距離が近く、光射出均一性と光の利用率を満たす条件では、光透過体３も光源２により近づけるようにすることもでき、それにより、脱毛器の構造をよりコンパクトにすると同時に、加工上の材料も節約することができる。

【0106】

平面状領域と参照線とのなす角度を８～１５度にすることにより、焦点距離がより近くなり、光透過体３が光源２により近い場所に設けることができ、かつ高い光射出均一性が確保される。構造により光射出均一性を向上させる場合、光強度を高めるなど他の方式で光射出均一性を向上させる必要がなくなる。この設定条件では、光透過体３は光源２により近くなり、脱毛器全体としては、より小型でコンパクトに設計することもでき、持ち運びや使用が容易となる。

【0107】

図１を参照すると、リフレクター１は、長さ方向の両端にいずれも側面反射部材１３が一体成形され、側面反射部材１３はシート状であり、リフレクター１の両端から漏れる光を光透過体３に反射する。ここで、側面反射部材１３には貫通孔１３１が開設され、貫通孔１３１は２つ設けられてもよく、かつ２つの貫通孔１３１は中心線が同じであり、光源２の端部は当該貫通孔１３１を通過する。

【0108】

任意選択的に、光源２の両端には、いずれも光源２をリフレクター１に可動に固定するための固定部材６が接続され、例えば、固定部材６はシリコン製のソフトスリーブであってもよく、固定部材６はゴム製のスリーブであってもよい。固定部材６は円筒状であり、かつ取付溝６１を備え、ランプの両端はいずれも取付溝６１に埋め込まれ、固定部材６には軸線に沿って固定孔６２が開設され、固定孔６２は取付溝６１と連通し、ランプの両端にはいずれも取付柱が延在し、取付柱は固定孔６２を貫通し、固定部材６はリフレクター１の外側に設けられる。

【0109】

任意選択的に、放熱ベース４の両端には、いずれも支持ブロック４３が一体成形され、支持ブロック４３には、光源２の両端および固定部材６を収容可能な切欠が形成され、放熱ベース４とホルダー５が係合されている状態では、ホルダー５と支持ブロック４３によって固定部材６が固定され、さらに光源２がリフレクター１に固定され、固定部材６はそれ自体が弾性を有し、ホルダー５と支持ブロック４３によって固定部材６を固定する過程において、固定部材６が押さえられると、固定部材６は、それ自体の形状を適宜変化させて切欠の形状に適応させると同時に、ランプの損傷を低減し、ランプが押さえられることを最小限に抑えることができる。

【0110】

任意選択的に、ホルダー５の固定部材６に近接する側壁には制限部５３が開設され、制限部５３は固定部材６の位置を制限するために使用され、当該制限部５３は、切欠または、間隔をあけて設けられたタブであってもよく、ここで、当該切欠の形状は円弧状であってもよい。制限部５３によって、支持ブロック４３とホルダー５は、固定部材６を確実に固定し、緩みを最小限に抑えることができ、それにより、当該脱毛器の安定性が高まる。

【0111】

図１を参照すると、光透過体３とリフレクター１との間には、光をフィルタリングするための光フィルター７が設けられ、光フィルター７は、ホルダー５に固定されて窓５１を覆うとともに、リフレクター１のホルダー５に向かう開口を覆い、光フィルター７は放熱ベース４に対して固定される。放熱ベース４とホルダー５が係合されている状態では、ホルダー５のリフレクター１に近接する側壁は光フィルター７の一方側に押し付けられ、光フィルター７の他方側はリフレクター１に当接する。光フィルター７により、紫外線における有害な光をフィルタリングし、人体への害を減らすことができ、それにより、脱毛器の安全性を向上させると同時に、治療効果も向上させることができる。

【0112】

任意選択的に、ホルダー５と光フィルター７との間にはパッド８が設けられ、パッド８は光フィルター７と同様の形状であり、パッド８はシート状であり、光が通過するための退避口８１を有し、当該退避口８１の寸法は、光透過体３のパッド８に向かう側壁の寸法よりも小さい。放熱ベース４とホルダー５が係合されている状態では、光透過体３はパッド８の一方側に押し付けられ、パッド８の他方側は光フィルター７に押し付けられ、パッド８によって、光透過体３の光フィルター７への圧力を低減することができ、さらに光透過体３と光フィルター７との衝突も低減することができるので、一方では製造コストができるだけ削減され、他方では光フィルター７の耐用年数が延長される。

【0113】

図１１および図１２を参照すると、本出願に係る脱毛器の別の実施例では、弾性シールリング１６は光フィルター７と光透過体３の間に設けられ、弾性シールリング１６は環状であり、光フィルター７と光透過体３の両方は弾性シールリング１６と密封するように合わせることにより、光透過体３と光フィルター７との間に結露が発生せず、光透過体３と光フィルター７との接続箇所にいくつかの汚れが侵入することもできず、弾性シールリング１６は、好ましくは環状に設けられるシールリングである。

【0114】

もちろん、不用意に脱毛器が地面に落下した場合、光透過体３と地面との間で剛体衝突が発生することがあり、従来の光透過体３では、その衝撃力が光フィルター７に伝わり、さらに光フィルター７、リフレクター１および光源２を損傷する可能性がある。本実施例の脱毛器では、光透過体３が衝突した際の衝撃力を弾性シールリング１６によって打ち消すことができ、弾性シールリング１６は、外力で押さえられた際に、自体の弾性により弾性変形を生じさせ、光フィルター７と光透過体３との間の衝撃を低減または打ち消すことができ、それにより、光フィルター７、リフレクター１および光源２がこれらの衝撃によって破損される可能性が低下し、さらに当該脱毛器の衝突回避性能が向上する。

【0115】

さらに図１３乃至図１５を参照すると、弾性シールリング１６には、光を通過させるための内側リング１６１が設けられており、光フィルター７によってフィルタリングされた光は、内側リング１６１を介して光透過体３に導かれて、人間の肌に照射することができる。

【0116】

本実施例では、光フィルター７と光透過体３は、いずれもホルダー５に直接固定され、ホルダー５に対して移動不可能であることにより、使用過程で人体の骨または鋭い物体が光透過体３に突き当たり、光透過体３をホルダー５に対して後退させることを効果的に回避し、光フィルター７または脱毛アセンブリ１００への回復不可能な押付変形を防止し、また、弾性シールリング１６が数回押し付けられて回復不可能な押付変形が発生したとしても、脱毛器の導光効果への影響による光エネルギーの浪費を回避することができる。

【0117】

弾性シールリング１６にはさらに、内側リング１６１と連通する取付溝１６２が設けられ、取付溝１６２は、弾性シールリング１６の脱毛アセンブリ１００から離れた側に設けられ、内側リング１６１は、取付溝１６２の溝底壁から光フィルター７の側に向かって貫通して延びており、光透過体３は取付溝１６２内に部分的に取り付けられることにより、光透過体３と弾性シールリング１６との間の密封性能を向上させるとともに、弾性シールリング１６が光透過体３に固定されて、両者間の固定接続を実現する。

【0118】

好ましい実施形態として、弾性シールリング１６は、外側リング１６３と、外側リング１６３の一方側面に突出した突起１６４とを含み、突起１６４は光フィルター７に当接し、外側リング１６３の突起１６４から離れた側面には取付溝１６２が設けられ、内側リング１６１は、取付溝１６２の溝底壁から突起１６４の一方側に向かって貫通して延びており、外側リング１６３も突起１６４も完全な閉ループ構造であり、内側リング１６１内の光は、光透過体３からのみ透過可能である。

【0119】

好ましい実施形態として、突起１６４の横断面は、横方向に設けられた三角形構造であり、突起１６４が光フィルター７に接触する面積は、突起１６４が外側リング１６３に接触する面積よりも小さいので、弾性シールリング１６が取り付けられた場合、突起１６４の外側リング１６３から離れた端部は、押さえられると部分的に反ることがあり、弾性シールリング１６は弾性があるので、弾性シールリング１６の反った部分は、光フィルター７にしっかりと当接することができ、つまり、光透過体３と光フィルター７との間の間隔がわずかに変化する場合、弾性シールリング１６も、反った部分によってこの間隔の変化に適応することができ、それにより、弾性シールリング１６と光透過体３との間、および弾性シールリング１６と光フィルター７との間は、常に密着または締り嵌めが維持され、密封性がより優れている。もちろん、他の実施例では、突起１６４の横断面は、台形構造であってもよい。

【0120】

本実施例では、弾性シールリング１６は、レーザー耐性と高温・低温耐性を備える材料で作られた環状体であり、それにより、弾性シールリング１６が使用過程で高温や低温またはレーザー照射により変形することが回避され、弾性シールリング１６の耐用年数が延長される。

【0121】

従来技術の状況と区別して、本実施例は脱毛器を開示する。当該脱毛器は、リフレクター１、光源２および光透過体３を含み、光源２は光を発し、光源２が発した光はリフレクター１で反射されることにより、その光は光透過体３の入射面３１から入射し、光透過体３の射出面３２から射出することができ、また、光源２、リフレクター１と光透過体３の三者の構造および相対的な位置関係は、射出面３２の光射出均一性が９０％以上であるか、または射出面３２上の光スポットが射出面３２の少なくとも９５％を占めるという条件を満たす。光源２、リフレクター１、光透過体３の三者の構造および相対的な位置関係を限定することにより、光は光透過体３の射出面３２から均一に射出することができ、それにより当該脱毛器の光射出均一性を高め、当該脱毛器の使用効果を高める。

【0122】

図５を参照すると、図５は、本出願の一実施例の構造を示す模式図である。ここで、脱毛装置は、ヘッド１１１と、ヘッド１１１に接続された把持部１１２とを含む。ヘッド１１１には、肌に当てるための冷感付け部１１１１が設けられ、冷感付け部１１１１は、光を射出して使用者の皮膚の毛包に照射し、光を皮膚に透過させて毛包に照射して脱毛を行うことができると同時に、温度を急速に下げ、光による皮膚への灼熱感を軽減し、使用者が使用中で不快感を感じないようにすることができる。いくつかの実施例では、冷感付け部１１１１はさらに、スキンケア用の光を射出することができ、それにより、脱毛器は脱毛とスキンケアの両方の機能を有する。

【0123】

任意選択的に、把持部１１２は、中空のシェル（図には参照番号が付されない）を含んでもよく、シェルの表面には空気透過孔１２１１が設けられ、空気透過孔１２１１はシェルの内部と外界を連通することにより、脱毛装置は、空気透過孔１２１１を介して外界と気流を交換し、内部の温度を下げることができる。シェルは、ポート１２１２をさらに含み、ポート１２１２は、外部電源に接続して脱毛装置を充電するために使用され得る。ここで、シェルにおけるポート１２１２の位置は限定されない。

【0124】

図６および７を参照すると、図７は、本出願の一実施例の分解構造を示す模式図であり、ここで、図７に示す矢印は、冷却駆動アセンブリの駆動下での脱毛装置内の気流の流れ方向を表し、直線は冷気流を表し、波浪は熱気流を表す。具体的には、脱毛装置は、シェルと、シェルの開口に設けられたライトカバー１１３と、シェルの内部に収容された脱毛機構１４と、底部カバー１５とを含んでもよい。

【0125】

本実施例では、シェルは、第１シェル１２１および第２シェル１２２を含んでもよく、第１シェル１２１および第２シェル１２２は、相互に係合するように接続されて両端に開口を有する空洞を形成し、脱毛機構１４は空洞内に収容され、ライトカバー１１３および底部カバー１５はそれぞれ、２つの開口を覆うように設けられ、第１シェル１２１と第２シェル１２２を接続して空洞を形成した後の開口を封止するために使用される。

【0126】

任意選択的に、第１シェル１２１、第２シェル１２２、ライトカバー１１３および底部カバー１５は、スナップによって接続されてもよく、ねじや接着によって接続されてもよい。

【0127】

脱毛機構１４は、脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００、放熱ベース３００および冷却駆動アセンブリ４００を含む。

【0128】

冷感付けアセンブリ２００は、ライトカバー１１３に近い側に設けられ、ライトカバー１１３には貫通孔（参照番号が付されない）が設けられ、一部の冷感付けアセンブリ２００は、シェルの内部からライトカバー１１３の貫通孔を経て外界に露出して皮膚に直接接触する。理解されるように、冷感付けアセンブリ２００の一部とライトカバー１１３は、脱毛装置のヘッド１１１を形成している。

【0129】

脱毛アセンブリ１００は、冷感付けアセンブリ２００のライトカバー１１３から離れた側に設けられ、冷感付けアセンブリ２００に光を放射するために使用される。光は赤光や緑光、または黄色光などの可視光線であり得る。光は、冷感付けアセンブリ２００に入射され、冷感付けアセンブリ２００を透過して皮膚下の毛包に入ることにより、脱毛が実現される。

【0130】

放熱ベース３００は、冷感付けアセンブリ２００の一方側に設けられ、かつ冷感付けアセンブリ２００に接続される。冷感付けアセンブリ２００は皮膚に当てると、皮膚の熱を吸収し、皮膚の温度を下げ、灼熱感を軽減することができるので、冷感付けアセンブリ２００は、長時間使用されると、温度が上昇し、冷却効果が低下する。放熱ベース３００は、冷感付けアセンブリ２００の熱を吸収し、冷感付けアセンブリ２００を低温の作業環境に維持し、皮膚に対する冷感付けアセンブリ２００の冷却効果を確保することができる。したがって、本実施例における脱毛装置は、連続的に使用しても本体を低温に維持することができ、かつ使用者に痛みを与えることもない。

【0131】

冷却駆動アセンブリ４００は、放熱ベース３００の少なくとも一部が脱毛アセンブリ１００に背向する側に設けられ、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００を放熱させるために使用される。

【0132】

本実施例では、冷却駆動アセンブリ４００は、外部冷却媒体を吸い込んで空気透過孔１２１１から脱毛装置の内部に入れ、冷却媒体は、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００を通過して熱を運び去り、さらに空気透過孔１２１１から流出する。

【0133】

任意選択的に、外部冷却媒体は空気であってもよく、冷却駆動アセンブリ４００は、空気を吸い込み、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００に吹き、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００の熱は気流によって運び去られる。

【0134】

本実施例では、空気透過孔１２１１は第１シェル１２１に設けられ、冷却駆動アセンブリ４００の少なくとも一部が空気透過孔１２１１と対向し、それにより、冷却駆動アセンブリ４００は、空気透過孔１２１１から外部冷却媒体をよりよく吸収し、放熱効率を高めることができる。他の実施例では、空気透過孔１２１１は、第２シェル１２２に設けられてもよい。

【0135】

図７および図８を参照すると、図８は、図７の実施例の分解構造を示す模式図であり、ここで、図８に示す矢印は、ファンから出る空気の方向を表す。

【0136】

本実施例では、脱毛装置は、ホルダー５００、回路基板６００、プロセッサ７００およびコンデンサ８００をさらに含み、脱毛アセンブリ１００および冷感付けアセンブリ２００は、ホルダー５００内に取り付けられ、冷却駆動アセンブリ４００は、ホルダー５００に隣接して設けられる。脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００および冷却駆動アセンブリ４００は、回路基板６００に取り付けられ、回路基板６００に電気的に接続される。

【0137】

プロセッサ７００およびコンデンサ８００は、回路基板６００に電気的に接続され、回路基板６００に設けられる。外部電源に接続される場合、外部電源は、コンデンサ８００が脱毛装置に電力を供給できるようにコンデンサ８００を充電することができ、かつコンデンサ８００は、外部電源に接続される時に電力を蓄えることができ、これにより、外部電源に接続されていなくても脱毛装置を使用することができる。プロセッサ７００は、脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００および冷却駆動アセンブリ４００に制御コマンドを送信し、脱毛装置の運転を制御する。例えば、脱毛装置のスイッチに対する制御、熱保護やパワー調整などを行う。

【0138】

本実施例では、回路基板６００は、第２シェル１２２内に固定されてもよく、回路基板６００は、ＰＣＢＡ回路基板が選択可能である。

【0139】

関連技術では、脱毛装置本体の内部の熱は往々にして使用中に増加し、脱毛装置の内部回路および部品は高温環境下で爆発、焼損、短絡などの危険性が発生しやすい。本実施例では、冷却駆動アセンブリ４００は、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００を放熱させることができ、放熱ベース３００は、冷感付けアセンブリ２００を放熱させることができ、それにより、冷感付けアセンブリ２００は、皮膚をアイシングして皮膚の快適性を高めることができ、高すぎる温度による爆発、焼損、短絡などの問題が防止される。

【0140】

具体的には、脱毛アセンブリ１００は、光源１０１、リフレクター１０２、光フィルター１０３および２つの電極１０４を含んでもよい。

【0141】

光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３はホルダー５００内に取り付けられ、すなわち、ホルダー５００内には、光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３の取付場所が設けられ、光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３は、ホルダー５００の取付場所に係入される。

【0142】

ここで、光源１０１は、冷感付けアセンブリ２００に対向して設けられ、光源１０１から射出された光は、冷感付けアセンブリ２００に直接入射され得る。リフレクター１０２は、光源１０１の冷感付けアセンブリ２００から離れた側に設けられ、光源１０１の光を反射して冷感付けアセンブリ２００に入射し、光エネルギーの損失を防止する。光フィルター１０３は、光源１０１と冷感付けアセンブリ２００との間に位置し、すなわち、光源１０１、光フィルター１０３および冷感付けアセンブリ２００は、光の伝搬方向に沿って順次配置され、光フィルター１０３は、光源１０１から発した有害な光の一部をフィルタリングするために使用される。光による皮膚へのダメージを軽減し、脱毛の安全性を高める。２つの電極１０４は、それぞれ光源１０１の両側に接続され、回路基板６００に電気的に接続されて電気信号を伝送するために用いられる。

【0143】

任意選択的に、光源１０１はランプであってもよく、ランプが発する光の色は限定されないが、色光や合成光などであってもよく、具体的な波長および周波数は用途によって決定される。ランプは、その種類も限定されず、半導体キセノンランプ、石英ランプ、レーザーランプなどであってもよく、光子の種類は、ＩＰＬ（Ｉｎｔｅｎｓｅ Ｐｕｌｓｅ Ｌｉｇｈｔ、インテンスパルスライト）、ＤＰＬ（Ｄｅｌｉｃａｔｅ Ｐｕｌｓｅ Ｌｉｇｈｔ、デリケートパルスライト）、ＯＰＴ（Ｏｐｔｉｍａｌ Ｐｕｌｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、最適パルス技術）、ＡＯＰＴ（Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｐｔｉｍａｌ Ｐｕｌｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、発展型最適パルス技術）、ＢＢＬ（ＢｒｏａｄＢａｎｄ Ｌｉｇｈｔ、ブロードバンドライト）などであってもよく、具体的には所定の効果によって決定される。

【0144】

任意選択的に、リフレクター１０２は、光源１０１を囲んで設けられたＵ字型反射板であってもよく、Ｕ字型反射板の開口は冷感付けアセンブリ２００に向かって、冷感付けアセンブリ２００に入射しない光を冷感付けアセンブリ２００に反射する。同時に、リフレクター１０２はさらに、光源１０１によって発生した熱が脱毛装置における他の部品に発散するのを防止することができる。本実施例では、ホルダー５００は、固定ホルダー５５０およびパイプ５６０を含み、ここで、固定ホルダー５５０の内部には、第１収容空間５１０と第２収容空間５２０が設けられる。ここで、第１収容空間５１０は、脱毛アセンブリ１００を取り付けるために使用され、第２収容空間５２０は、冷感付けアセンブリ２００を取り付けるために使用され、第１収容空間５１０および第２収容空間５２０は隣接して設けられることにより、脱毛アセンブリ１００と冷感付けアセンブリ２００との間の距離を縮め、脱毛アセンブリ１００から射出される光の光路ロスを低減し、第２収容空間５２０は、第１収容空間５１０に対して、図６に示す脱毛装置のヘッド１１１により近い。

【0145】

脱毛装置の動作時には、光源１０１は大量の熱が発生し、かつリフレクター１０２および光フィルター１０３も光によって照射され、温度の上昇につながるため、光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３を放熱させる必要がある。

【0146】

本実施例では、ホルダー５００は、固定ホルダー５５０およびパイプ５６０を含み、パイプ５６０は一端が固定ホルダー５５０の一方側に接続され、他端が冷却駆動アセンブリ４００に向かって延びている。ここで、固定ホルダー５５０内には、第１収容空間５１０と連通する空気排出口５４０が設けられ、パイプ５６０には、第１収容空間５１０と連通する空気流入口５３０が設けられ、空気流入口５３０、第１収容空間５１０および空気排出口５４０は順次連通する。

【0147】

空気流入口５３０は冷却駆動アセンブリ４００と連通し、空気排出口５４０は空気透過孔１２１１と連通する。冷却駆動アセンブリ４００は、外気を空気透過孔１２１１から吸い込み、かつ空気排出口５４０に吹く。空気は、空気排出口５４０から第１収容空間５１０に入った後、第１収容空間５１０内の光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３の熱を奪い、空気排出口５４０および空気透過孔１２１１から外界に流れ、その熱を外界に放散する。

【0148】

任意選択的に、固定ホルダー５５０とパイプ５６０のそれぞれの一部は第１ホルダー５０１を形成し、固定ホルダーとパイプのそれぞれの残り部分は第２ホルダー５０２を形成し、他の実施例では、固定ホルダー５５０は一体成形してもよい。

【0149】

第１ホルダー５０１と第２ホルダー５０２は、スナップによって一体に接続することができる。第１ホルダー５０１は第１シェル１２１に近接し、第２ホルダー５０２は第２シェル１２２に近接し、空気排出口５４０は、第１ホルダー５０１に設けられ、かつ第１シェル１２１の空気透過孔１２１１に対向して設けられ、これにより、空気排出口５４０の放熱効率を加速させる。第１収容空間５１０は、第１ホルダー５０１、第２ホルダー５０２のそれぞれの固定ホルダー５５０に対応する部分が係合されている部分内に設けられ、空気流入口５３０は、第１ホルダー５０１、第２ホルダー５０２のそれぞれのパイプ５６０に対応する部分が係合されている部分内に設けられて、第１収容空間５１０と連通し、かつ冷却駆動アセンブリ４００と連通し、ホルダー５の内部には、冷却駆動アセンブリ４００の気流を第１収容空間５１０内に導きやすくするために、空気伝導用の経路が設けられてもよい。

【0150】

したがって、本実施例では、脱毛アセンブリ１００は、冷却駆動アセンブリ４００によって放熱し、脱毛装置の安全な使用を確保する。

【0151】

さらに、本実施例では、冷感付けアセンブリ２００は、光透過体２０２および冷却部材２０１を含んでもよい。

【0152】

光透過体２０２は、皮膚に当てるために用いられ、光源１０１に対向して設けられ、光透過体３は光透過性部品であり、光源１０１から放射した光は、光透過体２０２に入ってから、光透過体２０２から皮膚に射出される。

【0153】

任意選択的に、光透過体２０２は、導光性結晶であってもよく、具体的には、サファイア、Ｋ９ガラスまたはクリスタルガラスが選択可能である。光透過体２０２は、サファイアで作製された場合、優れた熱伝導性を有する。

【0154】

任意選択的に、光透過体２０２は、円柱体または四角形体であってもよく、光透過体２０２の光源１０１から離れた面は、皮膚に当てるために使用される。

【0155】

冷却部材２０１は、光透過体２０２に接続され、光透過体２０２の熱を吸収するために使用される。光透過体２０２は、皮膚に接触すると、温度が上昇するため、冷却部材２０１は、光透過体２０２の温度が上昇した後に光透過体２０２の熱を吸収して、光透過体２０２を低温に維持させることができ、その結果、光透過体２０２を皮膚に長期間当てても、皮膚に冷感を付けることができ、皮膚の痛みを軽減することができる。

【0156】

さらに、冷却部材２０１は、半導体冷却方式の冷却部品であってもよく、その吸熱端が光透過体２０２に接続され、他端が放熱する。

【0157】

冷却部材２０１の放熱端を放熱させるために、本実施例では、放熱ベース３００は、冷却部材２０１の放熱端に接続され、冷却部材２０１の熱を吸収する。

【0158】

具体的には、放熱ベース３００は、放熱プレート３０１および放熱フィン３０２を含む。放熱プレート３０１の一面には、第１領域３１０と第２領域３１１が並んで設けられ、脱毛アセンブリ１００は第１領域３１０に設けられ、放熱フィン３０２は第２領域３１１に取り付けられる。第２領域３１１は、固定ホルダー５５０のパイプ５６０が接続される一方側に位置し、放熱フィン３０２とパイプ５６０は、固定ホルダーの一方側に並設され、固定ホルダー５５０は第１領域３１０に設けられ、放熱プレート３０１は、回路基板６００に取り付けられ、かつ冷感付けアセンブリ２００に接続され、具体的には、冷却部材２０１は、熱伝導性シリコングリースによって放熱プレート３０１に接着することができる。冷感付けアセンブリ２００は、熱伝導性シリコングリースによって迅速に熱を放熱プレート３０１に導くことができ、放熱フィン３０２は、放熱プレート３０１を放熱し、放熱プレート３０１の放熱を補助することができ、それによって、放熱プレート３０１は冷却部材２０１の熱を吸収し続けることができる。

【0159】

任意選択的に、放熱フィン３０２は複数あり、複数の放熱フィン３０２の間は互いに平行であり、放熱フィン３０２は、溶接により放熱プレート３０１に取り付けることができる。

【0160】

任意選択的に、放熱フィン３０２の表面には熱伝導性塗料を吹き付けることもでき、熱伝導性塗料は、放熱フィン３０２の熱を放散できるだけでなく、水蒸気による放熱フィン３０２への影響を防止することもでき、さらに腐食や摩損にも強い。

【0161】

本実施例では、放熱プレート３０１はベーパーチャンバーであってもよく、ベーパーチャンバーは、内部の液体作業物質が熱を受けて蒸発して熱を吸収し、冷えて放熱して液化することができ、蒸発と凝縮のサイクルを通じてベーパーチャンバーの表面温度を同じに保つことができる。したがって、放熱プレート３０１の表面の一部は冷却部材２０１に接続され、他の一部は放熱フィン３０２に接続され、冷却部材２０１で発生した熱は、放熱プレート３０１および放熱フィン３０２を介して放散する。

【0162】

任意選択的に、光透過体２０２と放熱ベース３００との間には炭素含有層が設けられてもよく、例えば、放熱プレート３０１の光透過体２０２に熱的に結合する側の表面に設けられ、炭素含有層は熱伝導性に優れ、放熱プレート３０１の熱伝導率を加速させ、放熱ベース３００の放熱性能を高めることができる。

【0163】

任意選択的に、炭素含有層は、グラフェン材料、グラファイト粉末、グラファイトシートまたはグラファイトフィルムである。

【0164】

任意選択的に、炭素含有層は、メッキ、吹き付けまたは積層によって設けられる。

【0165】

放熱ベース３００の放熱性能を高めるために、本実施例では、放熱ベース３００はさらに冷却駆動アセンブリ４００と連通する。

【0166】

具体的には、放熱ベース３００の放熱フィン３０２は、冷却駆動アセンブリ４００に接続され、冷却駆動アセンブリ４００は、空気透過孔１２１１から外気を吸い込み、かつ空気を放熱フィン３０２に吹くように駆動し、空気は放熱フィン３０２を流れて放熱フィン３０２を放熱させる。

【0167】

例示的な実施例では、放熱フィン３０２は、冷却駆動アセンブリ４００によって提供される気流と四角状で平行に設けられ、それにより、気流と接触する放熱フィン３０２の面積を増大させ、放熱フィン３０２の放熱効率を加速させる。

【0168】

放熱フィン３０２は、第１シェル１２１上の空気透過孔１２１１に対向して設けられ、気流は放熱フィン３０２を通過した後、迅速に空気透過孔１２１１から流出する。

【0169】

したがって、本実施例における冷却駆動アセンブリ４００は、冷却媒体を駆動して脱毛アセンブリ１００を放熱できるだけでなく、放熱ベース３００を放熱させることもできる。安全性能が改善された上で、照射された皮膚を冷感付けて冷却し、照射された皮膚から生じる灼熱痛を軽減することができ、かつ冷感付けアセンブリ２００は、放熱ベース３００と冷却駆動アセンブリ４００の作用の下で、０度の低温に近づけ、光射出口付近の皮膚を無限に凝固点に近づけることができ、よって、皮膚の灼熱痛を軽減でき、短時間の接触による皮膚への損傷が発生しない。

【0170】

さらに図７、図８および図１０を参照すると、図１０は、図８の実施例におけるファンハウジングの空気出口における構造を示す模式図である。この実施例では、冷却駆動アセンブリ４００は、ファンハウジング４０１およびファン４０２を含んでもよい。ファンハウジング４０１は、放熱ベース３００の冷感付けアセンブリ２００に背向する側に設けられ、ファン４０２はファンハウジング４０１内に収容される。

【0171】

ファン４０２は、吸気の一端が第１シェル１２１上の空気透過孔１２１１と対向しており、ファン４０２は、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に送り込むように駆動する。ファンハウジング４０１には、空気吹出用の空気出口４１０が設けられ、ファン４０２は、空気吹出の一端が空気出口４１０に接続されており、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に吸い込んだ後、空気出口４１０から流出させるように駆動する。

【0172】

任意選択的に、ファン４０２は、遠心ファン、軸流ファン、混合流ファン、またはクロスフローファンとすることができる。

【0173】

さらに、空気出口４１０は、第１空気出口４１１および第２空気出口４１２を含み、ファン４０２の空気出口４１０からの空気は２つの部分に分けられ、一方の部分は第１空気出口４１１から流出し、他方の部分は第２空気出口４１２から流出する。

【0174】

任意選択的に、空気出口４１０は、第３空気出口またはそれ以上の空気出口を含んでもよいが、ここでは限定されない。

【0175】

この実施例では、第１空気出口４１１は、ホルダー５００の空気流入口５３０と連通し、ファン４０２は、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に吸い込むように駆動し、ファン４０２は、気流を第１空気出口４１１および空気流入口５３０から第１収容空間５１０に吸い込むように駆動し、その気流は、第１収容空間５１０で光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３の熱を奪い、最後に空気排出口５４０および空気透過孔１２１１から外界に流出し、脱毛アセンブリ１００の放熱を実現する。

【0176】

この実施例では、第２空気出口４１２は、放熱ベース３００の放熱フィン３０２に接続され、ファン４０２は、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に吸い込むように駆動し、ファン４０２は、気流を第２空気出口４１２から放熱ベース３００の複数の放熱フィン３０２の間に吸い込むように駆動し、気流は放熱フィン３０２を通過して放熱フィン３０２の熱を奪い、かつ空気透過孔１２１１から流出する。放熱フィン３０２の温度が下がると、放熱プレート３０１の熱も低減され、それにより、放熱プレート３０１は冷感付けアセンブリ２００の熱を吸収し、冷感付けアセンブリ２００の放熱を実現することができる。

【0177】

任意選択的に、第１空気出口４１１および第２空気出口４１２での気流量は限定されず、実際の状況に応じて設定される。第１空気出口４１１および第２空気出口４１２の大きさを設定することにより、第１空気出口４１１および第２空気出口４１２での気流量を制御することができる。例えば、本実施例では、第２空気出口４１２の空気吹出面積は、第１空気出口４１１の空気吹出面積よりも大きく、それにより、より多くの気流は第２空気出口４１２から流出し、放熱プレート３０１の放熱効率を高める。

【0178】

以上から、本実施例に係る脱毛器は、冷却駆動アセンブリ４００によって、脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００および放熱ベース３００を放熱し、さらに脱毛アセンブリ１００および冷感付けアセンブリ２００の熱の同時放散を実現し、それにより、脱毛器の放熱性能が向上し、脱毛器の安全係数が高まるとともに、皮膚への冷感を無限に氷点に近づけ、皮膚の灼熱痛を軽減することができ、脱毛時に皮膚を損傷することができない。

【0179】

図１６および図１７を参照すると、本出願は脱毛器を開示し、当該脱毛器はリフレクター１、光源２、第１光透過体３、放熱ベース４および冷却部材５を含む。光源２は、リフレクター１内に組み立てられて、光を発することができ、リフレクター１は、その光を反射することができる。第１光透過体３は、リフレクター１の光射出側に設けられ、かつリフレクター１の光射出側を覆い、リフレクター１と共に光源２を収容可能なキャビティを形成し、リフレクター１は放熱ベース４に埋め込まれ、放熱ベース４は、リフレクター１に接触する側がリフレクター１に熱的に結合され、冷却部材５は、放熱ベース４に取り付けられ、かつその冷却側は、放熱ベース４の冷却部材５に接触する側に熱的に結合される。ここで、光源２の本体はキャビティ内に吊り下げることができ、冷却部材５は、キャビティを冷却するために使用される。

【0180】

脱毛器の作動時には、光源２は、リフレクター１内で多量の光を発し、その光によって発生した熱がキャビティ内に集まり、リフレクター１の温度はキャビティ内への熱の集中に伴って上昇する。ここで、放熱ベース４の一方側は、リフレクター１に熱的に結合され、冷却部材５は、放熱ベース４の他方側に熱的に結合され、熱的結合では、熱伝導、熱対流や熱放射、または上記３つの方式の任意の組み合わせによって熱を伝えることができる。すなわち、放熱ベース４によっては、リフレクター１上の熱を外部に伝えると同時に、キャビティ内の熱を放散し、リフレクター１およびキャビティの冷却を実現することができ、よって、光源２の放熱効率を向上させることができる。光源２の本体をキャビティに吊り下げることで、光源２の放熱をより均一にすることもでき、光源２の耐用年数を延ばすのに有利である。具体的には、光源２の作動時に発生した熱は、放射の形で周囲に放散され、また、空気媒体は、光源２の周囲に均一に包み込まれ、光源２と十分に接触すると同時に、光源２から発した熱も均一に放散する。熱は光源２によって発生し、キャビティを通過してリフレクター１および第１光透過体３に伝わり、放散される。

【0181】

さらに、冷却部材５によっては、放熱ベース４上の熱を伝達し、迅速に放熱する目的を達成し、さらに脱毛器の放熱効果を高めると同時に、キャビティ内の熱が脱毛器の他の部分に放射されるのを低減することができ、それにより、脱毛器を使用する過程において、脱毛された皮膚における灼熱感を軽減し、脱毛器の使用性能を向上させる。

【0182】

任意選択的に、当該脱毛器は、リフレクター１に設けられた炭素含有層をさらに含み得る。例えば、図１８を参照すると、当該炭素含有層９１は、リフレクター１の光源２に背向する側に設けられてもよい。光源２は使用時に熱を発してリフレクター１に集中させるが、炭素含有層９１は熱伝導性に優れているため、それが配置されたリフレクター１の熱伝導速度を促進し、リフレクター１の放熱性能を高め、脱毛器での過度の温度による自体の破損を防止することができ、さらに使用者の肌への刺激や損傷も防止することができる。

【0183】

任意選択的に、炭素含有層は放熱ベース４に設けられる。図１８に示すように、例えば、放熱ベース４とリフレクター１との間に設けられて、放熱ベース４とリフレクター１との間の熱伝導速度を促進する。

【0184】

任意選択的に、炭素含有層は、さらに冷却部材５の放熱ベース４に向かう側、または冷却部材５の露出面に設けられて、冷却部材５の冷却効果を高めることもでき、それにより、放熱ベース４上の熱を即時かつ迅速に奪い、リフレクター１を迅速に放熱するという目的を達成することができる。

【0185】

任意選択的に、炭素含有層は、グラフェン材料、グラファイト粉末、グラファイトシートまたはグラファイトフィルムなどの材料であってもよく、本出願に記載の炭素含有層を設けられる場所に、メッキ、吹き付けまたは積層などによって設けることができる。

【0186】

任意選択的に、放熱ベース４は、セラミックベースまたはアルミニウム製のベースであってもよく、放熱ベース４は、リフレクター１を迅速に放熱するために用いられ、それにより、リフレクター１の放熱効果を向上させることができる。例えば、セラミック自体は、耐食性、加熱膨張・冷却収縮が小さいなどの安定した物性を有し、かつ吸熱速度が速いため、セラミックベースは、熱を迅速に吸収でき、セラミックベースによって、リフレクター１およびキャビティを冷却し、当該脱毛器の放熱効果を高めることができる。

【0187】

また、セラミックは絶縁体であるため、リフレクター１に接触する時に短絡することはない。セラミックベースがリフレクター１の外面を覆うことで、脱毛器のリフレクター１でのリークの危険性が低減され、脱毛器の安全性が向上する。光源２の本体は、キャビティ内に吊り下げるように設けられ、導体で構成されたリフレクター１との間に隙間を有する。通電後、光源２とリフレクター１との間に強い電界が形成され、光源２を励起して発光させる。

【0188】

ここで、セラミックベースの一方側にはスロット４１が設けられ、当該スロット４１は長尺状を呈し、任意選択的に、リフレクター１は、半円弧状のリフレクターであってもよく、リフレクター１はスロット４１に埋め込まれる。第１光透過体３は、光フィルターまたは透明なガラス担体であってもよく、第１光透過体３はセラミックベースに対して固定される。光源２が発した熱は、第１光透過体３およびリフレクター１によってキャビティ内で拘束され、熱が脱毛器の他の部分に放射される可能性を低減することができる。セラミックベースにはスロット４１が開設され、リフレクター１は当該スロット４１に埋め込まれることにより、セラミックベースとリフレクター１との接触面積を大きくし、さらにセラミックベースのリフレクター１への吸熱性能を高め、リフレクター１およびキャビティの放熱効果を高めることができる。

【0189】

任意選択的に、リフレクター１は、長尺状のリフレクターであってもよい。

【0190】

図１６を参照すると、任意選択的に、冷却部材５は、ＴＥＣ冷却シートまたは冷却ブロックであってもよく、冷却部材５は、放熱ベース４を冷却するために使用され、それにより、放熱ベース４上の熱を即時かつ迅速に奪い、リフレクター１を迅速に放熱するという目的を達成することができる。本出願の一例では、採用した冷却部材５はＴＥＣ冷却シートであり、ここでは例示的なものに過ぎず、冷却部材５を限定するものではない。

【0191】

任意選択的に、放熱ベース４は長尺状であってもよく、ＴＥＣ冷却シートは長尺状であってもよく、放熱ベース４には１つの取付溝が開設され、取付溝は、放熱ベース４のリフレクター１の開口から離れた側に位置し、ＴＥＣ冷却シートは取付溝内に配置され、ＴＥＣ冷却シートは放熱ベース４と十分に接触する。ＴＥＣ冷却シートによっては、キャビティおよびリフレクター１から放熱ベース４に伝達された熱を迅速に伝達して、放熱ベース４の冷却を実現することができるので、一方では、脱毛器の作動時に、光源２をよりよく保護し、高温による光源２への損傷を効果的に低減して、光源２の耐用年数を延長することができ、他方では、脱毛器の外面の温度を下げ、使用者が快適に脱毛器を手に持つことができるようにし、脱毛器の性能を向上させることができる。

【0192】

図１６、図１７および図１９を参照すると、脱毛器はホルダー６を含み、ホルダー６は、放熱ベース４と協働してリフレクター１および第１光透過体３と共に組み立てるのに使用され、ホルダー６は窓６１を有し、当該窓６１は四角形または長方形であり、第１光透過体３はホルダー６に固定されて窓６１を覆う。放熱ベース４とホルダー６を着脱自在に接続することにより、脱毛器の組立と分解を容易にし、ホルダー６および放熱ベース４により、リフレクター１および第１光透過体３を一緒に固定することができ、それによって、脱毛器の内部の間の構造をよりコンパクトにし、脱毛器内部の空間を節約し、設計が合理的であるとともに、当該脱毛器を容易に使用する。

【0193】

任意選択的に、放熱ベース４の両側にはいずれも第１留め具４２が一体成形され、ホルダー６の両側にはいずれも第２留め具６２が一体成形され、第１留め具４２と第２留め具６２は対応して設けられる。放熱ベース４とホルダー６が接続されている時、第１留め具４２と第２留め具６２が強固に係合され、さらに、放熱ベース４とホルダー６を確実に接続できるようにし、それにより当該脱毛器の使用安定性が向上する。

【0194】

任意選択的に、第１留め具４２は、係合ブロックまたは片持ちフックであってもよく、第２留め具６２は固定穴であってもよい。片持ちフックを固定穴に埋め込むと、固定穴によって片持ちフックが固定穴から容易に外れないように制限し、第１留め具４２と第２留め具６２を確実に接続することができ、つまり、放熱ベース４とホルダー６を相対的に固定できるようにし、それにより、放熱ベース４とホルダー６が緩んだり外れたりすることを効果的に防止し、当該脱毛器全体の安定性を高める。

【0195】

図１６、図１７および図１９を参照すると、ホルダー６には第２光透過体７が固定され、第２光透過体７は四角形または長方形であり、第２光透過体７は当該窓６１に埋め込まれる。第２光透過体７は、光フィルターの光源２に背向する側に位置し、かつ光源２に向かう入射面７１と、光源２に背向する射出面７２とを有する。任意選択的に、第２光透過体７は結晶であってもよく、第２光透過体７はダイヤモンドであってもよく、本出願の実施例では、結晶を例に挙げて説明する。

【0196】

脱毛器の作動時には、光源２は光を発し、リフレクター１はその光を反射し、かつ光フィルターを透過して結晶に反射し、光は、入射面７１から入射し、結晶本体で反射されて射出面７２から射出し、射出面７２からの射出光は、皮膚の脱毛対象部分に照射されることにより、皮膚上の毛を容易に除去することができる。

【0197】

任意選択的に、ＴＥＣ冷却シートの数は、２つまたは３つであってもよく、例えば、ＴＥＣ冷却シートの数は２つであってもよく、かつ２つのＴＥＣ冷却シートは間隔をあけて配置され、その中の１つのＴＥＣ冷却シートは放熱ベース４に固定され、もう１つはホルダー６に取り付けられる。ホルダー６には取付口が開設され、取付口は窓６１と連通し、第２光透過体７が窓６１に埋め込まれると、ＴＥＣ冷却シートは、取付口に埋め込まれ、かつ第２光透過体７と互いに当接する。ＴＥＣ冷却シートで第２光透過体７を冷却することにより、第２光透過体７を迅速に放熱し、第２光透過体７の温度を効果的に低下させ、射出面７２が熱くなるのをできるだけ阻止することができ、それによって、脱毛器と皮膚の脱毛対象部分を安全に接触させ、脱毛器の使用の快適性を向上させることができる。

【0198】

任意選択的に、例えば、ＴＥＣ冷却シートの数は３つであってもよく、そのうち、１つのＴＥＣ冷却シートは放熱ベース４に固定され、残りの２つのＴＥＣ冷却シートは、それぞれホルダーに埋め込まれ、かつ２つのＴＥＣ冷却シートはそれぞれ第２光透過体７の両側に位置し、この両側は、光の射出方向に向かう第２光透過体７の上側と下側、または左側と右側であってもよい。第２光透過体７の両側のＴＥＣ冷却シートにより、第２光透過体７の冷却効率を高め、第２光透過体７を迅速に放熱させ、さらに冷却の目的を達成し、当該脱毛器の放熱効果を向上させることができる。

【0199】

図２０を参照すると、任意選択的に、光源２、リフレクター１と第２光透過体７の三者の構造および相対的な位置関係は、射出面７２の光射出均一性が９０％以上であるか、または射出面７２上の光スポットが射出面７２の少なくとも９５％を占めるという条件を満たす。射出面７２の光射出均一性を９０％以上にすることにより、脱毛器の脱毛効果を高め、肌の脱毛対象部分の毛を均一に除去することができる。同様に、射出面７２上の光スポットが射出面７２の少なくとも９５％を占めることにより、肌の脱毛対象部分の毛を均一に除去することもでき、さらに、光の利用率を向上させることができる。

【0200】

光射出均一性が低い脱毛器や、射出面７２に対する射出面７２上の光スポットの割合が小さい脱毛器では、使用の際に、均一な脱毛を実現するために、同じ部位に複数回照射する必要がある場合があり、そうでなければ、均一に脱毛することができず、美観性の点からも好ましくない。本出願の実施形態では、光源２、リフレクター１と第２光透過体７の三者の構造および相対的な位置関係は、射出面７２の光射出均一性が９０％以上であるか、または射出面７２上の光スポットが射出面７２の少なくとも９５％を占めるという条件を満たすので、脱毛器が同じ部位に複数回照射する必要がない。光源２の品質と脱毛器のパワーが十分で、人の健康条件を満たしている場合、脱毛器は１回の照射だけで効率的で均一な脱毛を実現することができる。

【0201】

任意選択的に、リフレクター１、光源２と第２光透過体７の中心は１つの直線上にあってもよく、その直線における三者の互いの距離を調整することにより、射出面７２の光射出均一性を９０％以上にすること、または射出面７２上の光スポットが射出面７２の少なくとも９５％を占めるようにすることが可能である。任意選択的に、三者の構造自体を調整することにより、脱毛器を上記の条件に適合させることもできる。

【0202】

任意選択的に、光源２の中心は、リフレクター１の焦点（図では１ａと表記される）とリフレクター１の底部との間に位置し、第２光透過体７の入射面７１は、射出面７２とリフレクター１の焦点との間に位置し、かつリフレクター１から反射された光の集光位置は、第２光透過体７の射出面７２とリフレクター１の焦点との間にある。光源２、リフレクター１と第２光透過体７の三者間の位置を限定することにより、射出面７２の光射出均一性を９０％以上にし、または射出面７２上の光スポットが射出面７２の少なくとも９５％を占めるようにし、それにより、光源２が発した光は、リフレクター１で光透過体７に十分に反射され、第２光透過体７の光射出均一性を高めることができる。

【0203】

図１９を参照すると、リフレクター１は、第１反射領域１１と第２反射領域１２を有し、第１反射領域１１は、リフレクター１の底部を含む円弧状領域であり、第２反射領域１２は、円弧状領域の両端から外側に延びる平面状領域であり、平面状領域は、円弧状領域に接する。任意選択的に、光源２は棒状ランプであってもよく、棒状ランプは光を発し、リフレクター１の円弧状領域はその光を第２光透過体７によく反射することができ、同時に、リフレクター１の平面状領域も、その光を第２光透過体７に反射することができ、円弧状領域と平面状領域によって光を十分に反射することにより、光の射出率を高め、光の利用率を向上させる。

【0204】

例えば、脱毛器の作動時には、光源２は光を発し、リフレクター１の第１反射領域１１および第２反射領域１２は、光を第２光透過体７に十分に反射し、光は、第２光透過体７の入射面から入射した後、第２光透過体７の射出面から射出され、それにより、射出面７２の光射出均一性を９０％以上にし、または射出面７２上の光スポットが射出面７２の少なくとも９５％を占めるようにし、よって、脱毛器の光射出均一性を高め、当該脱毛器の使用効果を向上させる。

【0205】

任意選択的に、平面状領域と参照線とのなす角度は５～２０度であり、参照線は、光源２の中心と第２光透過体７の中心とを結ぶ線である。例えば、平面状領域と参照線とのなす角度は５度または８度であってもよく、平面状領域と参照線とのなす角度はさらに１５度であってもよい。光を第２光透過体７に十分に反射できるように、平面状領域と参照線とのなす角度を限定することにより、一方では、光の無駄を低減して使用コストを削減でき、他方では、第２光透過体７の光射出均一性を向上させることができる。

【0206】

例えば、この範囲では焦点距離が近く、光射出均一性と光の利用率を満たす条件では、第２光透過体７も光源２により近づけるようにすることができ、それにより、脱毛器の構造をよりコンパクトにすると同時に、加工上の材料も節約することができる。

【0207】

図１６、図１７および図１９を参照すると、脱毛器は、リフレクター１の長さ方向の両端に設けられ、リフレクター１の両端から漏れる光をリフレクター１の光射出側に反射する側面反射部材１３を含む。側面反射部材１３で、光源２が発した光を十分に反射することにより、光の利用率を高めることが容易となり、よって、脱毛器は脱毛を効果的に行うことができるとともに、側面反射部材１３によって光源２を容易に取り付け、取付効率を向上させることができる。

【0208】

任意選択的に、側面反射部材１３はリフレクター１と一体成形されることで、加工の面では取付の難易度を下げることができ、さらに、側面反射部材１３とリフレクター１との一体成形により、強固でしっかりしており、側面反射部材１３とリフレクター１との接続の安定性を高め、リフレクター１の耐用年数を延長することができる。

【0209】

任意選択的に、光源２は棒状ランプであり、リフレクター１の両側に位置する側面反射部材１３には、それぞれ貫通孔１３１が設けられ、ランプの端部は貫通孔１３１を通過する。ランプの両端には、いずれも光源２をリフレクター１に可動に固定するための固定部材８が接続され、例えば、固定部材８はシリコン製のソフトスリーブであってもよく、固定部材８はゴム製のスリーブであってもよい。固定部材８は円筒状であり、かつ収容溝８１を備え、ランプの両端はいずれも収容溝８１に埋め込まれ、固定部材８には軸線に沿って取付孔８２が設けられ、取付孔８２は収容溝８１と連通し、ランプの両端にはいずれも取付柱２１が延在し、取付柱２１は取付孔８２を貫通し、固定部材８はリフレクター１の外側に設けられる。

【0210】

任意選択的に、放熱ベース４の両端には、いずれも支持ブロック４３が一体成形され、支持ブロック４３には、光源２の両端および固定部材８を収容可能な切欠が形成され、放熱ベース４とホルダー６が係合されている状態では、ホルダー６と支持ブロック４３によって固定部材８が固定され、さらにランプがリフレクター１に固定され、固定部材８はそれ自体が弾性を有し、ホルダー６と支持ブロック４３によって固定部材８を固定する過程において、固定部材８が押さえられると、固定部材８は、それ自体の形状を適宜変化させて切欠の形状に適応させると同時に、ランプの損傷を低減し、ランプが押さえられることを最小限に抑えることができる。

【0211】

本実施例は、脱毛器の放熱効果を高める機能を有する脱毛器を開示する。光源２は、リフレクター１内に組み立てられ、かつ光を発することができ、リフレクター１は、その光を反射して、さらに当該脱毛器の光射出を実現することができ、それにより、肌の毛を容易に除去して脱毛の目的が実現される。第１光透過体３とリフレクター１は、光源２を収容するキャビティを形成し、光源２の本体はキャビティ内に吊り下げられ、放熱ベース４の両側はそれぞれ、リフレクター１および冷却部材５に熱的に結合されることにより、キャビティ内の熱をキャビティから迅速に伝達することができ、つまり、キャビティ内の熱を放熱ベース４と冷却部材５に伝達し、さらにキャビティを冷却し、これにより、当該脱毛器の放熱効果を高めることができるとともに、光源２を均一に放熱させ、光源２の耐用年数を延ばすことができる。さらに、放熱性能が良いため、当該脱毛器の使用上の快適性を向上させることができる。

【0212】

図２６および図２７を参照すると、本出願に係る脱毛器の別の実施例では、弾性シールリング１６は第１光透過体３と第２光透過体７の間に設けられ、弾性シールリング１６は環状であり、第１光透過体３と第２光透過体７の両方は弾性シールリング１６と密封するように合わせることにより、第２光透過体７と第１光透過体３との間に結露が発生せず、第２光透過体７と第１光透過体３との接続箇所にいくつかの汚れが侵入することもできず、弾性シールリング１６は、好ましくは環状に設けられるシールリングである。

【0213】

もちろん、不用意に脱毛器が地面に落下した場合、第２光透過体７と地面との間で剛体衝突が発生することがあり、従来の第２光透過体７では、その衝撃力が第１光透過体３に伝わり、さらに第１光透過体３、リフレクター１および光源２を損傷する可能性がある。本実施例の脱毛器では、第２光透過体７が衝突した際の衝撃力を弾性シールリング１６によって打ち消すことができ、弾性シールリング１６は、外力で押さえられた際に、自体の弾性により弾性変形を生じさせ、第１光透過体３と第２光透過体７との間の衝撃を低減または打ち消すことができ、それにより、第１光透過体３、リフレクター１および光源２がこれらの衝撃によって破損される可能性が低下し、さらに当該脱毛器の衝突回避性能が向上する。

【0214】

さらに図２８乃至図３０を参照すると、弾性シールリング１６には、光を通過させるための内側リング１６１が設けられており、第１光透過体３によってフィルタリングされた光は、内側リング１６１を介して第２光透過体７に導かれて、人間の肌に照射することができる。

【0215】

本実施例では、第１光透過体３と第２光透過体７は、いずれもホルダー６に直接固定され、ホルダー６に対して移動不可能であることにより、使用過程で人体の骨または鋭い物体が第２光透過体７に突き当たり、第２光透過体７をホルダー６に対して相対的に後退させることを効果的に回避し、第１光透過体３または脱毛アセンブリ１００への回復不可能な押付変形を防止し、また、弾性シールリング１６が数回押し付けられて回復不可能な押付変形が発生したとしても、脱毛器の導光効果への影響による光エネルギーの浪費を回避することができる。

【0216】

弾性シールリング１６にはさらに、内側リング１６１と連通する取付溝１６２が設けられ、取付溝１６２は、弾性シールリング１６の脱毛アセンブリ１００から離れた側に設けられ、内側リング１６１は、取付溝１６２の溝底壁から第１光透過体３の側に向かって貫通して延びており、第２光透過体７は取付溝１６２内に部分的に取り付けられることにより、第２光透過体７と弾性シールリング１６との間の密封性能を向上させるとともに、弾性シールリング１６が第２光透過体７に固定されて、両者間の固定接続を実現する。

【0217】

好ましい実施形態として、弾性シールリング１６は、外側リング１６３と、外側リング１６３の一方側面に突出した突起１６４とを含み、突起１６４は第１光透過体３に当接し、外側リング１６３の突起１６４から離れた側面には取付溝１６２が設けられ、内側リング１６１は、取付溝１６２の溝底壁から突起１６４の一方側に向かって貫通して延びており、外側リング１６３も突起１６４も完全な閉ループ構造であり、内側リング１６１内の光は、第２光透過体７からのみ透過可能である。

【0218】

好ましい実施形態として、突起１６４の横断面は、横方向に設けられた三角形構造であり、突起１６４が第１光透過体３に接触する面積は、突起１６４が外側リング１６３に接触する面積よりも小さいので、弾性シールリング１６が取り付けられた場合、突起１６４の外側リング１６３から離れた端部は、押さえられると部分的に反ることがあり、弾性シールリング１６は弾性があるので、弾性シールリング１６の反った部分は、第１光透過体３にしっかりと当接することができ、すなわち、第２光透過体７と第１光透過体３との間の間隔がわずかに変化する場合、弾性シールリング１６は、反った部分によってこの間隔の変化に適応することができ、それにより、弾性シールリング１６と第２光透過体７との間、および弾性シールリング１６と第１光透過体３との間は、常に密着または締り嵌めが維持され、密封性がより優れている。もちろん、他の実施例では、突起１６４の横断面は、台形構造であってもよい。

【0219】

本実施例では、弾性シールリング１６は、レーザー耐性と高温・低温耐性を備える材料で作られた環状体であり、それにより、弾性シールリング１６が使用過程で高温や低温またはレーザー照射により変形することが回避され、弾性シールリング１６の耐用年数が延長される。

【0220】

図２１を参照すると、図２１は、本出願の別の実施例の構造を示す模式図である。ここで、脱毛装置は、ヘッド１１１と、ヘッド１１１に接続された把持部１１２とを含む。ヘッド１１１には、肌に当てるための冷感付け部１１１１が設けられ、冷感付け部１１１１は、光を射出して使用者の皮膚の毛包に照射し、光を皮膚に透過させて毛包に照射して脱毛を行うことができると同時に、温度を急速に下げ、光による皮膚への灼熱感を軽減し、使用者が使用中で不快感を感じないようにすることができる。いくつかの実施例では、冷感付け部１１１１はさらに、スキンケア用の光を射出することができ、それにより、脱毛器は脱毛とスキンケアの両方の機能を有する。

【0221】

任意選択的に、把持部１１２は、中空のシェル（図には参照番号が付されない）を含んでもよく、シェルの表面には空気透過孔１２１１が設けられ、空気透過孔１２１１はシェルの内部と外界を連通することにより、脱毛装置は、空気透過孔１２１１を介して外界と気流を交換し、内部の温度を下げることができる。シェルは、ポート１２１２をさらに含み、ポート１２１２は、外部電源に接続して脱毛装置を充電するために使用され得る。ここで、シェルにおけるポート１２１２の位置は限定されない。

【0222】

図２１および２２を参照すると、図２２は、本出願の別の実施例の分解構造を示す模式図であり、ここで、図２２に示す矢印は、冷却駆動アセンブリの駆動下での脱毛装置内の気流の流れ方向を表し、直線は冷気流を表し、波浪は熱気流を表す。具体的には、脱毛装置は、シェルと、シェルの開口に設けられたライトカバー１１３と、シェルの内部に収容された脱毛機構１４と、底部カバー１５とを含んでもよい。

【0223】

本実施例では、シェルは、第１シェル１２１および第２シェル１２２を含んでもよく、第１シェル１２１および第２シェル１２２は、相互に係合するように接続されて両端に開口を有する空洞を形成し、脱毛機構１４は空洞内に収容され、ライトカバー１１３および底部カバー１５はそれぞれ、２つの開口を覆うように設けられ、第１シェル１２１と第２シェル１２２を接続して空洞を形成した後の開口を封止するために使用される。

【0224】

任意選択的に、第１シェル１２１、第２シェル１２２、ライトカバー１１３および底部カバー１５は、スナップによって接続されてもよく、ねじや接着によって接続されてもよい。

【0225】

脱毛機構１４は、脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００、放熱ベース３００および冷却駆動アセンブリ４００を含む。

【0226】

冷感付けアセンブリ２００は、ライトカバー１１３に近い側に設けられ、ライトカバー１１３には貫通孔（参照番号が付されない）が設けられ、一部の冷感付けアセンブリ２００は、シェルの内部からライトカバー１１３の貫通孔を経て外界に露出して皮膚に直接接触する。理解されるように、冷感付けアセンブリ２００の一部とライトカバー１１３は、脱毛装置のヘッド１１１を形成している。

【0227】

脱毛アセンブリ１００は、冷感付けアセンブリ２００のライトカバー１１３から離れた側に設けられ、冷感付けアセンブリ２００に光を放射するために使用される。光は赤光や緑光、または黄色光などの可視光線であり得る。光は、冷感付けアセンブリ２００に入射され、冷感付けアセンブリ２００を透過して皮膚下の毛包に入ることにより、脱毛が実現される。

【0228】

放熱ベース３００は、冷感付けアセンブリ２００の一方側に設けられ、かつ冷感付けアセンブリ２００に接続される。冷感付けアセンブリ２００は皮膚に当てると、皮膚の熱を吸収し、皮膚の温度を下げ、灼熱感を軽減することができるので、冷感付けアセンブリ２００は、長時間使用されると、温度が上昇し、冷却効果が低下する。放熱ベース３００は、冷感付けアセンブリ２００の熱を吸収し、冷感付けアセンブリ２００を低温の作業環境に維持し、皮膚に対する冷感付けアセンブリ２００の冷却効果を確保することができる。したがって、本実施例における脱毛装置は、連続的に使用しても本体を低温に維持することができ、かつ使用者に痛みを与えることもない。

【0229】

冷却駆動アセンブリ４００は、放熱ベース３００の少なくとも一部が脱毛アセンブリ１００に背向する側に設けられ、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００を放熱させるために使用される。

【0230】

本実施例では、冷却駆動アセンブリ４００は、外部冷却媒体を吸い込んで空気透過孔１２１１から脱毛装置の内部に入れ、冷却媒体は、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００を通過して熱を運び去り、さらに空気透過孔１２１１から流出する。

【0231】

任意選択的に、外部冷却媒体は空気であってもよく、冷却駆動アセンブリ４００は、空気を吸い込み、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００に吹き、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００の熱は気流によって運び去られる。

【0232】

本実施例では、空気透過孔１２１１は第１シェル１２１に設けられ、冷却駆動アセンブリ４００の少なくとも一部が空気透過孔１２１１と対向し、それにより、冷却駆動アセンブリ４００は、空気透過孔１２１１から外部冷却媒体をよりよく吸収し、放熱効率を高めることができる。他の実施例では、空気透過孔１２１１は、第２シェル１２２に設けられてもよい。

【0233】

図２２および図２３を参照すると、図２３は、図２２の実施例の分解構造を示す模式図であり、ここで、図２３に示す矢印は、ファンから出る空気の方向を表す。

【0234】

本実施例では、脱毛装置は、ホルダー５００、回路基板６００、プロセッサ７００およびコンデンサ８００をさらに含み、脱毛アセンブリ１００および冷感付けアセンブリ２００は、ホルダー５００内に取り付けられ、冷却駆動アセンブリ４００は、ホルダー５００に隣接して設けられる。脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００および冷却駆動アセンブリ４００は、回路基板６００に取り付けられ、回路基板６００に電気的に接続される。

【0235】

プロセッサ７００およびコンデンサ８００は、回路基板６００に電気的に接続され、回路基板６００に設けられる。外部電源に接続される場合、外部電源は、コンデンサ８００が脱毛装置に電力を供給できるようにコンデンサ８００を充電することができ、かつコンデンサ８００は、外部電源に接続される時に電力を蓄えることができ、これにより、外部電源に接続されていなくても脱毛装置を使用することができる。プロセッサ７００は、脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００および冷却駆動アセンブリ４００に制御コマンドを送信し、脱毛装置の運転を制御する。例えば、脱毛装置のスイッチに対する制御、熱保護やパワー調整などを行う。

【0236】

本実施例では、回路基板６００は、第２シェル１２２内に固定されてもよく、回路基板６００は、ＰＣＢＡ回路基板が選択可能である。

【0237】

関連技術では、脱毛装置本体の内部の熱は往々にして使用中に増加し、脱毛装置の内部回路および部品は高温環境下で爆発、焼損、短絡などの危険性が発生しやすい。本実施例では、冷却駆動アセンブリ４００は、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００を放熱させることができ、放熱ベース３００は、冷感付けアセンブリ２００を放熱させることができ、それにより、冷感付けアセンブリ２００は、皮膚をアイシングして皮膚の快適性を高めることができ、高すぎる温度による爆発、焼損、短絡などの問題が防止される。

【0238】

具体的には、脱毛アセンブリ１００は、光源１０１、リフレクター１０２、光フィルター１０３および２つの電極１０４を含んでもよい。

【0239】

光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３はホルダー５００内に取り付けられ、すなわち、ホルダー５００内には、光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３の取付場所が設けられ、光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３は、ホルダー５００の取付場所に係入される。

【0240】

ここで、光源１０１は、冷感付けアセンブリ２００に対向して設けられ、光源１０１から射出された光は、冷感付けアセンブリ２００に直接入射され得る。リフレクター１０２は、光源１０１の冷感付けアセンブリ２００から離れた側に設けられ、光源１０１の光を反射して冷感付けアセンブリ２００に入射し、光エネルギーの損失を防止する。光フィルター１０３は、光源１０１と冷感付けアセンブリ２００との間に位置し、すなわち、光源１０１、光フィルター１０３および冷感付けアセンブリ２００は、光の伝搬方向に沿って順次配置され、光フィルター１０３は、光源１０１から発した有害な光の一部をフィルタリングするために使用される。光による皮膚へのダメージを軽減し、脱毛の安全性を高める。２つの電極１０４は、それぞれ光源１０１の両側に接続され、回路基板６００に電気的に接続されて電気信号を伝送するために用いられる。

【0241】

任意選択的に、光源１０１はランプであってもよく、ランプが発する光の色は限定されないが、色光や合成光などであってもよく、具体的な波長および周波数は用途によって決定される。ランプは、その種類も限定されず、半導体キセノンランプ、石英ランプ、レーザーランプなどであってもよく、光子の種類は、ＩＰＬ（Ｉｎｔｅｎｓｅ Ｐｕｌｓｅ Ｌｉｇｈｔ、インテンスパルスライト）、ＤＰＬ（Ｄｅｌｉｃａｔｅ Ｐｕｌｓｅ Ｌｉｇｈｔ、デリケートパルスライト）、ＯＰＴ（Ｏｐｔｉｍａｌ Ｐｕｌｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、最適パルス技術）、ＡＯＰＴ（Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｐｔｉｍａｌ Ｐｕｌｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、発展型最適パルス技術）、ＢＢＬ（ＢｒｏａｄＢａｎｄ Ｌｉｇｈｔ、ブロードバンドライト）などであってもよく、具体的には所定の効果によって決定される。

【0242】

任意選択的に、リフレクター１０２は、光源１０１を囲んで設けられたＵ字型反射板であってもよく、Ｕ字型反射板の開口は冷感付けアセンブリ２００に向かって、冷感付けアセンブリ２００に入射しない光を冷感付けアセンブリ２００に反射する。同時に、リフレクター１０２はさらに、光源１０１によって発生した熱が脱毛装置における他の部品に発散するのを防止することができる。本実施例では、ホルダー５００は、固定ホルダー５５０およびパイプ５６０を含み、ここで、固定ホルダー５５０の内部には、第１収容空間５１０と第２収容空間５２０が設けられる。ここで、第１収容空間５１０は、脱毛アセンブリ１００を取り付けるために使用され、第２収容空間５２０は、冷感付けアセンブリ２００を取り付けるために使用され、第１収容空間５１０および第２収容空間５２０は隣接して設けられることにより、脱毛アセンブリ１００と冷感付けアセンブリ２００との間の距離を縮め、脱毛アセンブリ１００から射出される光の光路ロスを低減し、第２収容空間５２０は、第１収容空間５１０に対して、図２１に示す脱毛装置のヘッド１１１により近い。

【0243】

脱毛装置の動作時には、光源１０１は大量の熱が発生し、かつリフレクター１０２および光フィルター１０３も光によって照射され、温度の上昇につながるため、光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３を放熱させる必要がある。

【0244】

本実施例では、ホルダー５００は、固定ホルダー５５０およびパイプ５６０を含み、パイプ５６０は一端が固定ホルダー５５０の一方側に接続され、他端が冷却駆動アセンブリ４００に向かって延びている。ここで、固定ホルダー５５０内には、第１収容空間５１０と連通する空気排出口５４０が設けられ、パイプ５６０には、第１収容空間５１０と連通する空気流入口５３０が設けられ、空気流入口５３０、第１収容空間５１０および空気排出口５４０は順次連通する。

【0245】

空気流入口５３０は冷却駆動アセンブリ４００と連通し、空気排出口５４０は空気透過孔１２１１と連通する。冷却駆動アセンブリ４００は、外気を空気透過孔１２１１から吸い込み、かつ空気排出口５４０に吹く。空気は、空気排出口５４０から第１収容空間５１０に入った後、第１収容空間５１０内の光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３の熱を奪い、空気排出口５４０および空気透過孔１２１１から外界に流れ、その熱を外界に放散する。

【0246】

任意選択的に、固定ホルダー５５０とパイプ５６０のそれぞれの一部は第１ホルダー５０１を形成し、固定ホルダーとパイプのそれぞれの残り部分は第２ホルダー５０２を形成し、他の実施例では、固定ホルダー５５０は一体成形してもよい。

【0247】

第１ホルダー５０１と第２ホルダー５０２は、スナップによって一体に接続することができる。第１ホルダー５０１は第１シェル１２１に近接し、第２ホルダー５０２は第２シェル１２２に近接し、空気排出口５４０は、第１ホルダー５０１に設けられ、かつ第１シェル１２１の空気透過孔１２１１に対向して設けられ、これにより、空気排出口５４０の放熱効率を加速させる。第１収容空間５１０は、第１ホルダー５０１、第２ホルダー５０２のそれぞれの固定ホルダー５５０に対応する部分が係合されている部分内に設けられ、空気流入口５３０は、第１ホルダー５０１、第２ホルダー５０２のそれぞれのパイプ５６０に対応する部分が係合されている部分内に設けられて、第１収容空間５１０と連通し、かつ冷却駆動アセンブリ４００と連通し、ホルダー６の内部には、冷却駆動アセンブリ４００の気流を第１収容空間５１０内に導きやすくするために、空気伝導用の経路が設けられてもよい。

【0248】

したがって、本実施例では、脱毛アセンブリ１００は、冷却駆動アセンブリ４００によって放熱し、脱毛装置の安全な使用を確保する。

【0249】

さらに、本実施例では、冷感付けアセンブリ２００は、第２光透過体２０１および冷却部材２０２を含んでもよい。

【0250】

第２光透過体２０１は、皮膚に当てるために用いられ、光源１０１に対向して設けられ、第２光透過体２０１は光透過性部品であり、光源１０１から放射した光は、第２光透過体２０１に入ってから、第２光透過体２０１から皮膚に射出される。

【0251】

任意選択的に、第２光透過体２０１は、導光性結晶であってもよく、具体的には、サファイア、Ｋ９ガラスまたはクリスタルガラスが選択可能である。第２光透過体２０１は、サファイアで作製された場合、優れた熱伝導性を有する。

【0252】

任意選択的に、第２光透過体２０１は、円柱体または四角形体であってもよく、第２光透過体２０１の光源１０１から離れた面は、皮膚に当てるために使用される。

【0253】

冷却部材２０２は、第２光透過体２０１に接続され、第２光透過体２０１の熱を吸収するために使用される。第２光透過体２０１は、皮膚に接触すると、温度が上昇するため、冷却部材２０２は、第２光透過体２０１の温度が上昇した後に第２光透過体２０１の熱を吸収して、第２光透過体２０１を低温に維持させることができ、その結果、第２光透過体２０１を皮膚に長期間当てても、皮膚に冷感を付けることができ、皮膚の痛みを軽減することができる。

【0254】

さらに、冷却部材２０２は、半導体冷却方式の冷却部品であってもよく、その吸熱端が第２光透過体２０１に接続され、他端が放熱する。

【0255】

冷却部材２０２の放熱端を放熱させるために、本実施例では、放熱ベース３００は、冷却部材２０２の放熱端に接続され、冷却部材２０２の熱を吸収する。

【0256】

具体的には、放熱ベース３００は、放熱プレート３０１および放熱フィン３０２を含む。放熱プレート３０１の一面には、第１領域３１０と第２領域３１１が並んで設けられ、脱毛アセンブリ１００は第１領域３１０に設けられ、放熱フィン３０２は第２領域３１１に取り付けられる。第２領域３１１は、固定ホルダー５５０のパイプ５６０が接続される一方側に位置し、放熱フィン３０２とパイプ５６０は、固定ホルダーの一方側に並設され、固定ホルダー５５０は第１領域３１０に設けられ、放熱プレート３０１は、回路基板６００に取り付けられ、かつ冷感付けアセンブリ２００に接続され、具体的には、冷却部材５は、熱伝導性シリコングリースによって放熱プレート３０１に接着することができる。冷感付けアセンブリ２００は、熱伝導性シリコングリースによって迅速に熱を放熱プレート３０１に導くことができ、放熱フィン３０２は、放熱プレート３０１を放熱し、放熱プレート３０１の放熱を補助することができ、それによって、放熱プレート３０１は冷却部材２０２の熱を吸収し続けることができる。

【0257】

任意選択的に、放熱フィン３０２は複数あり、複数の放熱フィン３０２の間は互いに平行であり、放熱フィン３０２は、溶接により放熱プレート３０１に取り付けることができる。

【0258】

任意選択的に、放熱フィン３０２の表面には熱伝導性塗料が吹き付けることもでき、熱伝導性塗料は、放熱フィン３０２の熱を放散できるだけでなく、水蒸気による放熱フィン３０２への影響を防止することもでき、さらに腐食や摩損にも強い。

【0259】

本実施例では、放熱プレート３０１はベーパーチャンバーであってもよく、ベーパーチャンバーは、内部の液体作業物質が熱を受けて蒸発して熱を吸収し、冷えて放熱して液化することができ、蒸発と凝縮のサイクルを通じてベーパーチャンバーの表面温度を同じに保つことができる。したがって、放熱プレート３０１の表面の一部は冷却部材５に接続され、他の一部は放熱フィン３０２に接続され、冷却部材２０２で発生した熱は、放熱プレート３０１および放熱フィン３０２を介して放散する。

【0260】

任意選択的に、図２４を参照すると、第２光透過体２０１と放熱ベース３００との間には炭素含有層９２が設けられてもよく、例えば、放熱プレート３０１の第２光透過体２０１に熱的に結合する側の表面に設けられ、炭素含有層９２は熱伝導性に優れ、放熱プレート３０１の熱伝導率を加速させ、放熱ベース３００の放熱性能を高めることができる。

【0261】

任意選択的に、炭素含有層は、グラフェン材料、グラファイト粉末、グラファイトシートまたはグラファイトフィルムである。

【0262】

任意選択的に、炭素含有層は、メッキ、吹き付けまたは積層によって設けられる。

【0263】

放熱ベース３００の放熱性能を高めるために、本実施例では、放熱ベース３００はさらに冷却駆動アセンブリ４００と連通する。

【0264】

具体的には、放熱ベース３００の放熱フィン３０２は、冷却駆動アセンブリ４００に接続され、冷却駆動アセンブリ４００は、空気透過孔１２１１から外気を吸い込み、かつ空気を放熱フィン３０２に吹くように駆動し、空気は放熱フィン３０２を流れて放熱フィン３０２を放熱させる。

【0265】

例示的な実施例では、放熱フィン３０２は、冷却駆動アセンブリ４００によって提供される気流と四角状で平行に設けられ、それにより、気流と接触する放熱フィン３０２の面積を増大させ、放熱フィン３０２の放熱効率を加速させる。

【0266】

放熱フィン３０２は、第１シェル１２１上の空気透過孔１２１１に対向して設けられ、気流は放熱フィン３０２を通過した後、迅速に空気透過孔１２１１から流出する。

【0267】

したがって、本実施例における冷却駆動アセンブリ４００は、冷却媒体を駆動して脱毛アセンブリ１００を放熱できるだけでなく、放熱ベース３００を放熱させることもできる。安全性能が改善された上で、照射された皮膚を冷感付けて冷却し、照射された皮膚から生じる灼熱痛を軽減することができ、かつ冷感付けアセンブリ２００は、放熱ベース３００と冷却駆動アセンブリ４００の作用の下で、０度の低温に近づけ、光射出口付近の皮膚を無限に凝固点に近づけることができ、よって、皮膚の灼熱痛を軽減でき、短時間の接触による皮膚への損傷が発生しない。

【0268】

さらに図２２、図２３および図２５を参照すると、図２５は、図２３の実施例におけるファンハウジングの空気出口における構造を示す模式図である。この実施例では、冷却駆動アセンブリ４００は、ファンハウジング４０１およびファン４０２を含んでもよい。ファンハウジング４０１は、放熱ベース３００の冷感付けアセンブリ２００に背向する側に設けられ、ファン４０２はファンハウジング４０１内に収容される。

【0269】

ファン４０２は、吸気の一端が第１シェル１２１上の空気透過孔１２１１と対向しており、ファン４０２は、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に送り込むように駆動する。ファンハウジング４０１には、空気吹出用の空気出口４１０が設けられ、ファン４０２は、空気吹出の一端が空気出口４１０に接続されており、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に吸い込んだ後、空気出口４１０から流出させるように駆動する。

【0270】

任意選択的に、ファン４０２は、遠心ファン、軸流ファン、混合流ファン、またはクロスフローファンとすることができる。

【0271】

さらに、空気出口４１０は、第１空気出口４１１および第２空気出口４１２を含み、ファン４０２の空気出口４１０からの空気は２つの部分に分けられ、一方の部分は第１空気出口４１１から流出し、他方の部分は第２空気出口４１２から流出する。

【0272】

任意選択的に、空気出口４１０は、第３空気出口またはそれ以上の空気出口を含んでもよいが、ここでは限定されない。

【0273】

この実施例では、第１空気出口４１１は、ホルダー５００の空気流入口５３０と連通し、ファン４０２は、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に吸い込むように駆動し、ファン４０２は、気流を第１空気出口４１１および空気流入口５３０から第１収容空間５１０に吸い込むように駆動し、その気流は、第１収容空間５１０で光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３の熱を奪い、最後に空気排出口５４０および空気透過孔１２１１から外界に流出し、脱毛アセンブリ１００の放熱を実現する。

【0274】

この実施例では、第２空気出口４１２は、放熱ベース３００の放熱フィン３０２に接続され、ファン４０２は、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に吸い込むように駆動し、ファン４０２は、気流を第２空気出口４１２から放熱ベース３００の複数の放熱フィン３０２の間に吸い込むように駆動し、気流は放熱フィン３０２を通過して放熱フィン３０２の熱を奪い、かつ空気透過孔１２１１から流出する。放熱フィン３０２の温度が下がると、放熱プレート３０１の熱も低減され、それにより、放熱プレート３０１は冷感付けアセンブリ２００の熱を吸収し、冷感付けアセンブリ２００の放熱を実現することができる。

【0275】

任意選択的に、第１空気出口４１１および第２空気出口４１２での気流量は限定されず、実際の状況に応じて設定される。第１空気出口４１１および第２空気出口４１２の大きさを設定することにより、第１空気出口４１１および第２空気出口４１２での気流量を制御することができる。例えば、本実施例では、第２空気出口４１２の空気吹出面積は、第１空気出口４１１の空気吹出面積よりも大きく、それにより、より多くの気流は第２空気出口４１２から流出し、放熱プレート３０１の放熱効率を高める。

【0276】

以上から、本実施例に係る脱毛器は、冷却駆動アセンブリ４００によって、脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００および放熱ベース３００を放熱し、さらに脱毛アセンブリ１００および冷感付けアセンブリ２００の熱の同時放散を実現し、それにより、脱毛器の放熱性能が向上し、脱毛器の安全係数が高まるとともに、皮膚への冷感を無限に氷点に近づけ、皮膚の灼熱痛を軽減することができ、脱毛時に皮膚を損傷することができない。

【0277】

図３１を参照すると、当該脱毛器はリフレクター１と光源２を含む。リフレクター１は、通電されると高い電界を発生させることができる導体である。光源２は、リフレクター１内に組み立てられ、リフレクター１に対向して設けられ、光源２は、ストリップ状のガス励起光源であり、リフレクター１の通電後にリフレクター１によって励起されることで発光することができ、リフレクター１は、光射出側を有し、光を反射してリフレクター１の光射出側から射出することができる。ここで、光源２の本体とリフレクター１との間隔は、ゼロより大きく０．３ｍｍ以下であり、例えば、光源２の実際の設置において、光源２の本体とリフレクター１との間の距離は０．３ｍｍであってもよく、光源２の本体とリフレクター１との間の距離は０．１５ｍｍであってもよく、同様に、光源２の本体とリフレクター１との間の距離を０．３ｍｍ以内に確保できるように、リフレクター１と光源２自体との構造に応じて、光源２とリフレクター１との間の距離を制限することもできる。

【0278】

脱毛器の作動時には、リフレクター１は通電されると、その内部に高い電界を発生させることができ、リフレクター１で高い電圧を発生させることにより、光源２内のガスをイオン化してアークを発生させ、さらに放電させることができ、つまり、光源２は発光することができる。光源２とリフレクター１との間の距離を制限することにより、リフレクター１内の電圧は光源２が発光するように励起することができる。トリガーワイヤを介してランプの発光をトリガーする方法と比較して、トリガーワイヤなしでランプの発光をトリガーするリフレクター１では、ランプの発光をトリガーする方法を改善して発光効率を高めることができるだけでなく、材料を節約して製造コストを削減することもできる。

【0279】

任意選択的に、リフレクター１は半円弧状であり、光源２は棒状ランプであってもよく、ランプは、リフレクター１内に吊り下げられる形でリフレクター１に取り付けられ、それにより、ランプ本体とリフレクター１の内壁が励起空間を構成し、フレクター１内の電圧がリトリガーワイヤなしの方式でランプを励起し、ランプ内のガスをイオン化し、さらにランプの発光を実現することができる。リフレクター１は、高い電圧によってランプの発光をトリガーできるだけでなく、光源２の取り付けキャリアとして使用することもでき、それにより、当該脱毛器は、ランプの発光を励起するトリガーワイヤやその他の部品を使用する必要がなく、材料を節約して製造コストを削減することができる。同時に、リフレクター１内の部品の配置を減らして空間の混雑さを緩和することができ、光源２によって発した光がリフレクター１で十分に反射されることに寄与し、それによって光の射出率を高める。

【0280】

任意選択的に、リフレクター１は棒状であってもよい。

【0281】

参照図３１および図３２を参照すると、任意選択的に、脱毛器は、放熱ベース３、弾性体４およびホルダー５を含む。放熱ベース３は長尺状を呈し、リフレクター１は放熱ベース３に取り付けられ、リフレクター１の光射出側は、放熱ベース３に背く。ここで、放熱ベース３は、リフレクター１に接触する側がリフレクター１に熱的に結合される。弾性体４は、光源２をリフレクター１に移動可能に固定するために、光源２の端部に固定されており、弾性体４は、リフレクター１の長さ方向の両側に位置する。ホルダー５と放熱ベース３は係着により固定的に接続され、弾性体４は放熱ベース３とホルダー５との間に位置し、ホルダー５は、光源２をリフレクター１または放熱ベース３に対して固定するように、光源２の長さ方向と垂直な方向で弾性体４に押し付けられる。放熱ベース３がホルダー５と共にリフレクター１を固定するため、光源２は、リフレクター１に安定して取り付けることができ、放熱ベース３とホルダー５によって脱毛器全体の安定性を確保することができる。ここで、弾性体４自体は優れた弾性を有し、ホルダー５が弾性体４を押し付けると、弾性体４自体の構造が変形しやすくなるため、一方では、光源２とリフレクター１との間に揺れが生じにくくなり、光の射出効果を向上させることができ、他方では、弾性体４は、光源２の端部に対するホルダー５の圧力をよく緩和し、光源２の端部との柔軟な接触を維持することができ、このように、光源２の損傷を効果的に低減するだけでなく、光源２の耐用年数を延ばすことにも寄与する。

【0282】

任意選択的に、図３３を参照すると、当該脱毛器は、リフレクター１に設けられた炭素含有層９１をさらに含み得る。例えば、当該炭素含有層９１は、リフレクター１の光源２に背向する側に設けられてもよい。光源２は使用時に熱を発してリフレクター１に集中させるが、炭素含有層９１は熱伝導性に優れているため、それが配置されたリフレクター１の熱伝導速度を促進し、リフレクター１の放熱性能を高め、脱毛器での過度の温度による自体の破損を防止することができ、さらに使用者の肌への刺激や損傷も防止することができる。

【0283】

任意選択的に、図３３を参照すると、炭素含有層９１は放熱ベース３に設けられる。例えば、放熱ベース３とリフレクター１との間に設けられて、放熱ベース３とリフレクター１との間の熱伝導速度を促進する。

【0284】

任意選択的に、炭素含有層はさらに放熱ベース３の露出面に設けられてもよく、それにより、放熱ベース３の放熱性能を高める。

【0285】

任意選択的に、炭素含有層９１は、グラフェン材料、グラファイト粉末、グラファイトシートまたはグラファイトフィルムなどの材料であってもよく、本出願に記載の炭素含有層９１を設けられる場所に、メッキ、吹き付けまたは積層などによって設けることができる。

【0286】

任意選択的に、放熱ベース３はセラミックベースであってもよく、セラミックベースには第１スロット３１が設けられ、リフレクター１は第１スロット３１に埋め込まれる。第１スロット３１は長尺状を呈し、その底部に円弧状セグメントを有し、リフレクター１は第１スロット３１に埋め込まれることにより、一方では、リフレクター１と放熱ベース３の接触面積を大きくすることができ、放熱ベース３は、それ自体の優れた熱伝導性によってリフレクター１を放熱させることで、脱毛器全体の熱の放射が減少し、他方では、第１スロット３１は放熱ベース３に開設され、放熱ベース３の空間利用率を向上させ、脱毛器の内部構造をよりコンパクトにすることができる。また、セラミックは絶縁体であり、リフレクター１に接触する時に短絡することはなく、光源２の本体がキャビティ内に吊り下げることができる理由は、リフレクター１が導体であり、光源２と間隔をあけて配置され、通電されると強い電界を利用して光源２の発光を励起することである。

【0287】

任意選択的に、放熱ベース３の両側にはいずれも第１留め具３２が一体成形され、ホルダー５の両側にはいずれも第２留め具５１が一体成形され、第１留め具３２と第２留め具５１は対応して設けられる。放熱ベース３とホルダー５が接続されている時、第１留め具３２と第２留め具５１が強固に係合され、さらに、放熱ベース３とホルダー５を確実に接続できるようにし、それにより当該脱毛器の使用安定性が向上する。任意選択的に、第１留め具３２は、係合ブロックまたは片持ちフックであってもよく、第２留め具５１は固定穴であってもよい。片持ちフックを固定穴に埋め込むと、固定穴によって片持ちフックが固定穴から容易に外れないように制限し、第１留め具３２と第２留め具５１を確実に接続することができ、つまり、放熱ベース３とホルダー５を相対的に固定できるようにし、それにより、放熱ベース３とホルダー５が互いに緩んだり外れたりすることを効果的に防止し、当該脱毛器全体の安定性を高める。

【0288】

任意選択的に、ホルダー５には、光が通過する窓５２が設けられ、窓５２の第２留め具５１に対応する部分の寸法は、セラミックベースの第１留め具３２が設けられた部分の寸法よりも大きく、それにより、セラミックベースの第１留め具３２が設けられた部分はホルダー５の窓５２に埋め込まれるようになる。セラミックベースとホルダー５が実際に組み立てられる時に、セラミックベースのホルダー５に近い側は窓５２内に埋め込まれて、セラミックベースとホルダー５をより安定的に接続することができると同時に、セラミックベースとホルダー５との隙間を減らし、リフレクター１の外部に放射されるリフレクター１内の熱を低減でき、それによって脱毛器全体の性能を向上させることができる。

【0289】

図３１、図３２および図３４を参照すると、脱毛器は、リフレクター１の長さ方向の両端に設けられ、リフレクター１の両端から漏れる光をリフレクター１の光射出側に反射する側面反射部材６を含む。光源２が発した光は、側面反射部材６によって十分に反射でき、それにより、光の利用率を向上させることができる。

【0290】

任意選択的に、側面反射部材６には貫通孔６１が設けられ、貫通孔６１の直径はランプの端部の直径よりも大きく、ランプの端部は貫通孔６１を通過し、ランプの取り付けの際に、ランプを貫通孔６１のいずれかに通過させてもよく、リフレクター１内から貫通孔６１に通過させてもよく、それによって、ランプの取り付けが容易になる。任意選択的に、弾性体４は、シリコーンスリーブまたは軟質ゴムスリーブであってもよく、本出願の実施例においてシリコーンスリーブを例に挙げて、ここでは例示的なものに過ぎず、弾性体４を限定するものではない。光源２はランプであってもよく、ランプは細長い円筒形であり、ランプの両端にはいずれも取付柱２１が延在し、取付柱２１の半径寸法はランプの半径寸法よりも小さい。具体的には、シリコーンスリーブは円筒状であり、かつ取付溝４１を備え、ランプの両端はそれぞれ取付溝４１内に埋め込まれ、シリコーンスリーブには軸線に沿って固定孔４２が開設され、固定孔４２は取付溝４１と連通し、取付柱２１は固定孔４２を通過することができる。

【0291】

また、貫通孔６１により、ランプをリフレクター１に正確に組み立てることを補助し、取付工程における取付時間を短縮し、取付効率を向上させることができる。リフレクター１とランプを組み立てた状態で、取付溝４１の開口はリフレクター１に向かい、ランプの両端はそれぞれ貫通孔６１を通過して取付溝４１内に挿入され、シリコーンスリーブは、ランプを貫通孔６１のリフレクター１の底部に近接する一方側に弾力的に密着させ、ランプと側面反射部材６とのハードコンタクトを低減し、側面反射部材６とランプとの間の衝突をできる限り低減し、仮に衝突があっても、シリコーンスリーブによって緩衝することで、ランプの耐用年数を効果的に延長し、使用コストを低減することができる。

【0292】

図３１、図３２および図３４を参照すると、任意選択的に、セラミックベースの第１スロット３１が設けられた両端のそれぞれには第２スロット３３が設けられ、第２スロット３３は、光源２の端部および弾性体４を収容するために使用され、一方では、省スペース化を図り、セラミックベースの空間利用率が向上し、他方では、第２スロット３３によって、光源２の端部と弾性体４との外部からの衝突を低減し、光源２の端部と弾性体４に対して比較的安全な空間を提供する。第２スロット３３は第１スロット３１と連通し、かつ第２スロット３３の深さは第１スロット３１の深さよりも大きい。第２スロット３３は、弾性体４の弾性変形を退避させる空間として機能するため、弾性体４が第２スロット３３の溝壁を押圧することができず、弾性体４自体の弾性変形が容易となる。実際の状況に応じて対応する変形を行い、弾性体４は、変形する過程で外力を緩和することにより、取付柱２１が破損または破砕しにくくなり、光源２の交換回数を減らし、使用コストを低減し、当該脱毛器の実用性を向上させる。

【0293】

図３１、図３２および図３４を参照すると、任意選択的に、脱毛器は、リフレクター１の光射出側に設けられ、かつホルダー５に固定された第１光透過体７を含み、第１光透過体７とリフレクター１は、光源２を収容するためのキャビティを形成する。第１光透過体７は、光フィルターであってもよく、光フィルターで光を選別することで、皮膚部分の脱毛に適した波長を容易に選択することができ、それによって、脱毛器の作動中に光源２から発した光が皮膚に照射する場合、その光による皮膚へのダメージを軽減し、脱毛の安全性を高めることができる。

【0294】

任意選択的に、脱毛器は第２光透過体８を含み、第２光透過体８は四角状または長方形であり、第２光透過体８は窓５２に埋め込まれ、第２光透過体８は、光フィルターの光源２に背向する側に位置し、かつ光源２に向かう入射面８１と、光源２に背向する射出面８２とを有する。任意選択的に、第２光透過体８は結晶であってもよく、第２光透過体８はダイヤモンドであってもよく、本出願の実施例では、結晶を例に挙げて説明する。脱毛器の作動時には、光源２は光を発し、リフレクター１はその光を反射し、かつ光フィルターを透過して結晶に反射し、光は、入射面８１から入射し、結晶本体で反射されて射出面８２から射出し、射出面８２からの射出光は、皮膚の脱毛対象部分に照射されることにより、皮膚上の毛を容易に除去することができる。

【0295】

任意選択的に、脱毛器は冷却部材９を含み、その冷却側は放熱ベース３の他方側に熱的に結合され、リフレクター１内の空間を冷却する。例えば、冷却部材９は、ＴＥＣ冷却シートまたは冷却ブロックであってもよく、冷却部材９は、放熱ベース３を冷却するために使用され、それにより、放熱ベース３上の熱を即時かつ迅速に奪い、リフレクター１を迅速に放熱するという目的を達成することができる。本出願の一例では、採用した冷却部材９はＴＥＣ冷却シートであり、ここでは例示的なものに過ぎず、冷却部材９を限定するものではない。

【0296】

脱毛器の作動時には、光源２は、リフレクター１内で多量の光を発し、その光によって発生した熱がキャビティ内に集まり、リフレクター１の温度はキャビティ内への熱の集中に伴って上昇する。ここで、放熱ベース３の一方側は、リフレクター１に熱的に結合され、冷却部材９は、放熱ベース３の他方側に熱的に結合され、熱的結合では、熱伝導、熱対流や熱放射、または上記３つの方式の任意の組み合わせによって熱を伝えることができる。すなわち、放熱ベース３によっては、リフレクター１上の熱を外部に伝えると同時に、キャビティ内の熱を放散し、リフレクター１およびキャビティの冷却を実現することができ、よって、光源２の放熱効率を向上させることができる。光源２の本体をキャビティに吊り下げることで、光源２の放熱をより均一にすることもでき、光源２の耐用年数を延ばすのに有利である。具体的には、光源２の作動時に発生した熱は、放射の形で周囲に放散され、また、空気媒体は、光源２の周囲に均一に包み込まれ、光源２と十分に接触すると同時に、光源２から発した熱も均一に放散する。熱は光源２によって発生し、キャビティを通過してリフレクター１および第１光透過体７に伝わり、放散される。さらに、冷却部材９によっては、放熱ベース３上の熱を伝達し、迅速に放熱する目的を達成し、さらに脱毛器の放熱効果を高めると同時に、キャビティ内の熱が脱毛器の他の部分に放射されるのを低減することができ、それにより、脱毛器を使用する過程において、脱毛された皮膚における灼熱感を軽減し、脱毛器の使用性能を向上させる。

【0297】

任意選択的に、冷却部材９の放熱ベース３に向かう側、または冷却部材９の露出面には炭素含有層が設けられてもよく、炭素含有層は、優れた熱伝導性を有し、冷却部材９の冷却効果を高めることができ、それにより、放熱ベース３上の熱を即時かつ迅速に奪い、リフレクター１を迅速に放熱するという目的を達成することができる。

【0298】

本実施例は次の有益な効果を有する。即ち、従来技術とは異なり、本出願はリフレクター１と光源２を含む脱毛器を開示する。光源２は、ストリップ状のガス励起光源であり、リフレクター１に組み立てられ、光源２の本体とリフレクター１との間隔は０．３ｍｍ以下であり、それによって、リフレクター１は通電されると、高い電圧を発生させ、光源２内のガスをイオン化してアークを発生させ、さらに放電させることができ、こうして光源２は発光することができる。リフレクター１は導体であるため導電しやすく、高い電圧を発生させることができる場所を提供することができ、光源２とリフレクター１との間の距離を制限することにより、リフレクター１内の電圧は光源２が発光するように励起することができる。トリガーワイヤを介してランプの発光をトリガーする方法と比較して、トリガーワイヤなしでランプの発光をトリガーするリフレクター１では、ランプの発光をトリガーする方法を改善して発光効率を高めることができるだけでなく、材料を節約して製造コストを削減することもできる。

【0299】

図３５を参照すると、図３５は、本出願の一実施例の構造を示す模式図である。ここで、脱毛装置は、ヘッド１１１と、ヘッド１１１に接続された把持部１１２とを含む。ヘッド１１１には、肌に当てるための冷感付け部１１１１が設けられ、冷感付け部１１１１は、光を射出して使用者の皮膚の毛包に照射し、光を皮膚に透過させて毛包に照射して脱毛を行うことができると同時に、温度を急速に下げ、光による皮膚への灼熱感を軽減し、使用者が使用中で不快感を感じないようにすることができる。いくつかの実施例では、冷感付け部１１１１はさらに、スキンケア用の光を射出することができ、それにより、脱毛器は脱毛とスキンケアの両方の機能を有する。

【0300】

図４０および図４１を参照すると、本出願に係る脱毛器の別の実施例では、弾性シールリング１６は第１光透過体７と第２光透過体３の間に設けられ、弾性シールリング１６は環状であり、第１光透過体７と第２光透過体３の両方は弾性シールリング１６と密封するように合わせることにより、第２光透過体３と第１光透過体７との間に結露が発生せず、第２光透過体３と第１光透過体７との接続箇所にいくつかの汚れが侵入することもできず、弾性シールリング１６は、好ましくは環状に設けられるシールリングである。

【0301】

もちろん、不用意に脱毛器が地面に落下した場合、第２光透過体３と地面との間で剛体衝突が発生することがあり、従来の第２光透過体３では、その衝撃力が第１光透過体７に伝わり、さらに第１光透過体７、リフレクター１および光源２を損傷する可能性がある。本実施例の脱毛器では、第２光透過体３が衝突した際の衝撃力を弾性シールリング１６によって打ち消すことができ、弾性シールリング１６は、外力によって押さえられた際に、自体の弾性により弾性変形を生じさせ、第１光透過体７と第２光透過体３との間の衝撃を低減または打ち消すことができ、それにより、第１光透過体７、リフレクター１および光源２がこれらの衝撃によって破損される可能性が低下し、さらに当該脱毛器の衝突回避性能が向上する。

【0302】

さらに図４２乃至図４４を参照すると、弾性シールリング１６には、光を通過させるための内側リング１６１が設けられており、第１光透過体７によってフィルタリングされた光は、内側リング１６１を介して第２光透過体３に導かれて、人間の肌に照射することができる。

【0303】

本実施例では、第１光透過体７と第２光透過体３は、いずれもホルダー６に直接固定され、ホルダー６に対して移動不可能であることにより、使用過程で人体の骨または鋭い物体が第２光透過体３に突き当てて、第２光透過体３をホルダー６に対して相対的に後退させることを効果的に回避し、第１光透過体７または脱毛アセンブリ１００への回復不可能な押付変形を防止し、また、弾性シールリング１６が数回押し付けられて回復不可能な押付変形が発生したとしても、脱毛器の導光効果への影響による光エネルギーの浪費を回避することができる。

【0304】

弾性シールリング１６にはさらに、内側リング１６１と連通する取付溝１６２が設けられ、取付溝１６２は、弾性シールリング１６の脱毛アセンブリ１００から離れた側に設けられ、内側リング１６１は、取付溝１６２の溝底壁から第１光透過体７の側に向かって貫通して延びており、第２光透過体３は取付溝１６２内に部分的に取り付けられることにより、第２光透過体３と弾性シールリング１６との間の密封性能を向上させるとともに、弾性シールリング１６が第２光透過体３に固定されて、両者間の固定接続を実現する。

【0305】

好ましい実施形態として、弾性シールリング１６は、外側リング１６３と、外側リング１６３の一方側面に突出した突起１６４とを含み、突起１６４は第１光透過体７に当接し、外側リング１６３の突起１６４から離れた側面には取付溝１６２が設けられ、内側リング１６１は、取付溝１６２の溝底壁から突起１６４の一方側に向かって貫通して延びており、外側リング１６３も突起１６４も完全な閉ループ構造であり、内側リング１６１内の光は、第２光透過体３からのみ透過可能である。

【0306】

好ましい実施形態として、突起１６４の横断面は、横方向に設けられた三角形構造であり、突起１６４が第１光透過体７に接触する面積は、突起１６４が外側リング１６３に接触する面積よりも小さいので、弾性シールリング１６が取り付けられた場合、突起１６４の外側リング１６３から離れた端部は、押さえられると部分的に反ることがあり、弾性シールリング１６は弾性があるので、弾性シールリング１６の反った部分は、第１光透過体７にしっかりと当接することができ、すなわち、第２光透過体３と第１光透過体７との間の間隔がわずかに変化する場合、弾性シールリング１６は、反った部分によってこの間隔の変化に適応することができ、それにより、弾性シールリング１６と第２光透過体３との間、および弾性シールリング１６と第１光透過体７との間は、常に密着または締り嵌めが維持され、密封性がより優れている。もちろん、他の実施例では、突起１６４の横断面は、台形構造であってもよい。

【0307】

本実施例では、弾性シールリング１６は、レーザー耐性と高温・低温耐性を備える材料で作られた環状体であり、それにより、弾性シールリング１６が使用過程で高温や低温またはレーザー照射により変形することが回避され、弾性シールリング１６の耐用年数が延長される。

【0308】

任意選択的に、把持部１１２は、中空のシェル（図には参照番号が付されない）を含んでもよく、シェルの表面には空気透過孔１２１１が設けられ、空気透過孔１２１１はシェルの内部と外界を連通することにより、脱毛装置は、空気透過孔１２１１を介して外界と気流を交換し、内部の温度を下げることができる。シェルは、ポート１２１２をさらに含み、ポート１２１２は、外部電源に接続して脱毛装置を充電するために使用され得る。ここで、シェルにおけるポート１２１２の位置は限定されない。

【0309】

図３５および３６を参照すると、図３６は、本出願の一実施例の分解構造を示す模式図であり、ここで、図３６に示す矢印は、冷却駆動アセンブリの駆動下での脱毛装置内の気流の流れ方向を表し、直線は冷気流を表し、波浪は熱気流を表す。具体的には、脱毛装置は、シェルと、シェルの開口に設けられたライトカバー１１３と、シェルの内部に収容された脱毛機構１４と、底部カバー１５とを含んでもよい。

【0310】

本実施例では、シェルは、第１シェル１２１および第２シェル１２２を含んでもよく、第１シェル１２１および第２シェル１２２は、相互に係合するように接続されて両端に開口を有する空洞を形成し、脱毛機構１４は空洞内に収容され、ライトカバー１１３および底部カバー１５はそれぞれ、２つの開口を覆うように設けられ、第１シェル１２１と第２シェル１２２を接続して空洞を形成した後の開口を封止するために使用される。

【0311】

任意選択的に、第１シェル１２１、第２シェル１２２、ライトカバー１１３および底部カバー１５は、スナップによって接続されてもよく、ねじや接着によって接続されてもよい。

【0312】

脱毛機構１４は、脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００、放熱アセンブリ３００および冷却駆動アセンブリ４００を含む。

【0313】

冷感付けアセンブリ２００は、ライトカバー１１３に近い側に設けられ、ライトカバー１１３には貫通孔（参照番号が付されない）が設けられ、一部の冷感付けアセンブリ２００は、シェルの内部からライトカバー１１３の貫通孔を経て外界に露出して皮膚に直接接触する。理解されるように、冷感付けアセンブリ２００の一部とライトカバー１１３は、脱毛装置のヘッド１１１を形成している。

【0314】

脱毛アセンブリ１００は、冷感付けアセンブリ２００のライトカバー１１３から離れた側に設けられ、冷感付けアセンブリ２００に光を放射するために使用される。光は赤光や緑光、または黄色光などの可視光線であり得る。光は、冷感付けアセンブリ２００に入射され、冷感付けアセンブリ２００を透過して皮膚下の毛包に入ることにより、脱毛が実現される。

【0315】

放熱アセンブリ３００は、冷感付けアセンブリ２００の一方側に設けられ、かつ冷感付けアセンブリ２００に接続される。冷感付けアセンブリ２００は皮膚に当てると、皮膚の熱を吸収し、皮膚の温度を下げ、灼熱感を軽減することができるので、冷感付けアセンブリ２００は、長時間使用されると、温度が上昇し、冷却効果が低下する。放熱アセンブリ３００は、冷感付けアセンブリ２００の熱を吸収し、冷感付けアセンブリ２００を低温の作業環境に維持し、皮膚に対する冷感付けアセンブリ２００の冷却効果を確保することができる。したがって、本実施例における脱毛装置は、連続的に使用しても本体を低温に維持することができ、かつ使用者に痛みを与えることもない。

【0316】

冷却駆動アセンブリ４００は、放熱アセンブリ３００の少なくとも一部が脱毛アセンブリ１００に背向する側に設けられ、脱毛アセンブリ１００および放熱アセンブリ３００を放熱させるために使用される。

【0317】

本実施例では、冷却駆動アセンブリ４００は、外部冷却媒体を吸い込んで空気透過孔１２１１から脱毛装置の内部に入れ、冷却媒体は、脱毛アセンブリ１００および放熱アセンブリ３００を通過して熱を運び去り、さらに空気透過孔１２１１から流出する。

【0318】

任意選択的に、外部冷却媒体は空気であってもよく、冷却駆動アセンブリ４００は、空気を吸い込んで、脱毛アセンブリ１００および放熱アセンブリ３００に吹き、脱毛アセンブリ１００および放熱アセンブリ３００の熱は気流によって運び去られる。

【0319】

本実施例では、空気透過孔１２１１は第１シェル１２１に設けられ、冷却駆動アセンブリ４００の少なくとも一部が空気透過孔１２１１と対向し、それにより、冷却駆動アセンブリ４００は、空気透過孔１２１１から外部冷却媒体をよりよく吸収し、放熱効率を高めることができる。他の実施例では、空気透過孔１２１１は、第２シェル１２２に設けられてもよい。

【0320】

図３６および図３７を参照すると、図３７は、図３６の実施例の分解構造を示す模式図であり、ここで、図３７に示す矢印は、ファンから出る空気の方向を表す。

【0321】

本実施例では、脱毛装置は、ホルダー５００、回路基板６００、プロセッサ７００およびコンデンサ８００をさらに含み、脱毛アセンブリ１００および冷感付けアセンブリ２００は、ホルダー５００内に取り付けられ、冷却駆動アセンブリ４００は、ホルダー５００に隣接して設けられる。脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００および冷却駆動アセンブリ４００は、回路基板６００に取り付けられ、回路基板６００に電気的に接続される。

【0322】

プロセッサ７００およびコンデンサ８００は、回路基板６００に電気的に接続され、回路基板６００に設けられる。外部電源に接続される場合、外部電源は、コンデンサ８００が脱毛装置に電力を供給できるようにコンデンサ８００を充電することができ、かつコンデンサ８００は、外部電源に接続される時に電力を蓄えることができ、これにより、外部電源に接続されていなくても脱毛装置を使用することができる。プロセッサ７００は、脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００および冷却駆動アセンブリ４００に制御コマンドを送信し、脱毛装置の運転を制御する。例えば、脱毛装置のスイッチに対する制御、熱保護やパワー調整などを行う。

【0323】

本実施例では、回路基板６００は、第２シェル１２２内に固定されてもよく、回路基板６００は、ＰＣＢＡ回路基板が選択可能である。

【0324】

関連技術では、脱毛装置本体の内部の熱は往々にして使用中に増加し、脱毛装置の内部回路および部品は高温環境下で爆発、焼損、短絡などの危険性が発生しやすい。本実施例では、冷却駆動アセンブリ４００は、脱毛アセンブリ１００および放熱アセンブリ３００を放熱させることができ、放熱アセンブリ３００は、冷感付けアセンブリ２００を放熱させることができ、それにより、冷感付けアセンブリ２００は、皮膚をアイシングして皮膚の快適性を高めることができ、高すぎる温度による爆発、焼損、短絡などの問題が防止される。

【0325】

具体的には、脱毛アセンブリ１００は、光源１０１、リフレクター１０２、光フィルター１０３および２つの電極１０４を含んでもよい。

【0326】

光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３はホルダー５００内に取り付けられ、すなわち、ホルダー５００内には、光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３の取付場所が設けられ、光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３は、ホルダー５００の取付場所に係入される。

【0327】

ここで、光源１０１は、冷感付けアセンブリ２００に対向して設けられ、光源１０１から射出された光は、冷感付けアセンブリ２００に直接入射され得る。リフレクター１０２は、光源１０１の冷感付けアセンブリ２００から離れた側に設けられ、光源１０１の光を反射して冷感付けアセンブリ２００に入射し、光エネルギーの損失を防止する。光フィルター１０３は、光源１０１と冷感付けアセンブリ２００との間に位置し、すなわち、光源１０１、光フィルター１０３および冷感付けアセンブリ２００は、光の伝搬方向に沿って順次配置され、光フィルター１０３は、光源１０１から発した有害な光の一部をフィルタリングするために使用される。光による皮膚へのダメージを軽減し、脱毛の安全性を高める。２つの電極１０４は、それぞれ光源１０１の両側に接続され、回路基板６００に電気的に接続されて電気信号を伝送するために用いられる。

【0328】

任意選択的に、光源１０１はランプであってもよく、ランプが発する光の色は限定されないが、色光や合成光などであってもよく、具体的な波長および周波数は用途によって決定される。ランプは、その種類も限定されず、半導体キセノンランプ、石英ランプ、レーザーランプなどであってもよく、光子の種類は、ＩＰＬ（Ｉｎｔｅｎｓｅ Ｐｕｌｓｅ Ｌｉｇｈｔ、インテンスパルスライト）、ＤＰＬ（Ｄｅｌｉｃａｔｅ Ｐｕｌｓｅ Ｌｉｇｈｔ、デリケートパルスライト）、ＯＰＴ（Ｏｐｔｉｍａｌ Ｐｕｌｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、最適パルス技術）、ＡＯＰＴ（Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｐｔｉｍａｌ Ｐｕｌｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、発展型最適パルス技術）、ＢＢＬ（ＢｒｏａｄＢａｎｄ Ｌｉｇｈｔ、ブロードバンドライト）などであってもよく、具体的には所定の効果によって決定される。

【0329】

任意選択的に、リフレクター１０２は、光源１０１を囲んで設けられたＵ字型反射板であってもよく、Ｕ字型反射板の開口は冷感付けアセンブリ２００に向かって、冷感付けアセンブリ２００に入射しない光を冷感付けアセンブリ２００に反射する。同時に、リフレクター１０２はさらに、光源１０１によって発生した熱が脱毛装置における他の部品に発散するのを防止することができる。本実施例では、ホルダー５００は、固定ホルダー５５０およびパイプ５６０を含み、ここで、固定ホルダー５５０の内部には、第１収容空間５１０と第２収容空間５２０が設けられる。ここで、第１収容空間５１０は、脱毛アセンブリ１００を取り付けるために使用され、第２収容空間５２０は、冷感付けアセンブリ２００を取り付けるために使用され、第１収容空間５１０および第２収容空間５２０は隣接して設けられることにより、脱毛アセンブリ１００と冷感付けアセンブリ２００との間の距離を縮め、脱毛アセンブリ１００から射出される光の光路ロスを低減し、第２収容空間５２０は、第１収容空間５１０に対して、図３５に示す脱毛装置のヘッド１１１により近い。

【0330】

脱毛装置の動作時には、光源１０１は大量の熱が発生し、かつリフレクター１０２および光フィルター１０３も光によって照射され、温度の上昇につながるため、光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３を放熱させる必要がある。

【0331】

本実施例では、ホルダー５００は、固定ホルダー５５０およびパイプ５６０を含み、パイプ５６０は一端が固定ホルダー５５０の一方側に接続され、他端が冷却駆動アセンブリ４００に向かって延びている。ここで、固定ホルダー５５０内には、第１収容空間５１０と連通する空気排出口５４０が設けられ、パイプ５６０には、第１収容空間５１０と連通する空気流入口５３０が設けられ、空気流入口５３０、第１収容空間５１０および空気排出口５４０は順次連通する。

【0332】

空気流入口５３０は冷却駆動アセンブリ４００と連通し、空気排出口５４０は空気透過孔１２１１と連通する。冷却駆動アセンブリ４００は、外気を空気透過孔１２１１から吸い込み、かつ空気排出口５４０に吹く。空気は、空気排出口５４０から第１収容空間５１０に入った後、第１収容空間５１０内の光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３の熱を奪い、空気排出口５４０および空気透過孔１２１１から外界に流れ、その熱を外界に放散する。

【0333】

任意選択的に、固定ホルダー５５０とパイプ５６０のそれぞれの一部は第１ホルダー５０１を形成し、固定ホルダーとパイプのそれぞれの残り部分は第２ホルダー５０２を形成し、他の実施例では、固定ホルダー５５０は一体成形してもよい。

【0334】

第１ホルダー５０１と第２ホルダー５０２は、スナップによって一体に接続することができる。第１ホルダー５０１は第１シェル１２１に近接し、第２ホルダー５０２は第２シェル１２２に近接し、空気排出口５４０は、第１ホルダー５０１に設けられ、かつ第１シェル１２１の空気透過孔１２１１に対向して設けられ、これにより、空気排出口５４０の放熱効率を加速させる。第１収容空間５１０は、第１ホルダー５０１、第２ホルダー５０２のそれぞれの固定ホルダー５５０に対応する部分が係合されている部分内に設けられ、空気流入口５３０は、第１ホルダー５０１、第２ホルダー５０２のそれぞれのパイプ５６０に対応する部分が係合されている部分内に設けられて、第１収容空間５１０と連通し、かつ冷却駆動アセンブリ４００と連通し、ホルダー５００の内部には、冷却駆動アセンブリ４００の気流を第１収容空間５１０内に導きやすくするために、空気伝導用の経路が設けられてもよい。

【0335】

したがって、本実施例では、脱毛アセンブリ１００は、冷却駆動アセンブリ４００によって放熱し、脱毛装置の安全な使用を確保する。

【0336】

さらに、本実施例では、冷感付けアセンブリ２００は、第２光透過体２０１および冷却部材２０２を含んでもよい。

【0337】

第２光透過体２０１は、皮膚に当てるために用いられ、光源２に対向して設けられ、第２光透過体２０１は光透過性部品であり、光源１０１から放射した光は、第２光透過体２０１に入ってから、第２光透過体２０１から皮膚に射出される。

【0338】

任意選択的に、第２光透過体２０１は、導光性結晶であってもよく、具体的には、サファイア、Ｋ９ガラスまたはクリスタルガラスが選択可能である。第２光透過体２０１は、サファイアで作製された場合、優れた熱伝導性を有する。

【0339】

任意選択的に、第２光透過体２０１は、円柱体または四角形体であってもよく、第２光透過体２０１の光源２から離れた面は、皮膚に当てるために使用される。

【0340】

冷却部材２０２は、第２光透過体２０１に接続され、第２光透過体２０１の熱を吸収するために使用される。第２光透過体２０１は、皮膚に接触すると、温度が上昇するため、冷却部材２０２は、第２光透過体２０１の温度が上昇した後に第２光透過体２０１の熱を吸収して、第２光透過体２０１を低温に維持させることができ、その結果、第２光透過体２０１を皮膚に長期間当てても、皮膚に冷感を付けることができ、皮膚の痛みを軽減することができる。

【0341】

さらに、冷却部材２０２は、半導体冷却方式の冷却部品であってもよく、その吸熱端が第２光透過体２０１に接続され、他端が放熱する。

【0342】

冷却部材２０２の放熱端を放熱させるために、本実施例では、放熱アセンブリ３００は、冷却部材２０２の放熱端に接続され、冷却部材２０２の熱を吸収する。

【0343】

具体的には、放熱アセンブリ３００は、放熱プレート３０１および放熱フィン３０２を含む。放熱プレート３０１の一面には、第１領域３１０と第２領域３１１が並んで設けられ、脱毛アセンブリ１００は第１領域３１０に設けられ、放熱フィン３０２は第２領域３１１に取り付けられる。第２領域３１１は、固定ホルダー５５０のパイプ５６０が接続される一方側に位置し、放熱フィン３０２とパイプ５６０は、固定ホルダーの一方側に並設され、固定ホルダー５５０は第１領域３１０に設けられ、放熱プレート３０１は、回路基板６００に取り付けられ、かつ冷感付けアセンブリ２００に接続され、具体的には、冷却部材２０２は、熱伝導性シリコングリースによって放熱プレート３０１に接着することができる。冷感付けアセンブリ２００は、熱伝導性シリコングリースによって迅速に熱を放熱プレート３０１に導くことができ、放熱フィン３０２は、放熱プレート３０１を放熱し、放熱プレート３０１の放熱を補助することができ、それによって、放熱プレート３０１は冷却部材２０２の熱を吸収し続けることができる。

【0344】

任意選択的に、放熱フィン３０２は複数あり、複数の放熱フィン３０２の間は互いに平行であり、放熱フィン３０２は、溶接により放熱プレート３０１に取り付けることができる。

【0345】

任意選択的に、放熱フィン３０２の表面には熱伝導性塗料が吹き付けることもでき、熱伝導性塗料は、放熱フィン３０２の熱を放散できるだけでなく、水蒸気による放熱フィン３０２への影響を防止することもでき、さらに腐食や摩損にも強い。

【0346】

本実施例では、放熱プレート３０１はベーパーチャンバーであってもよく、ベーパーチャンバーは、内部の液体作業物質が熱を受けて蒸発して熱を吸収し、冷えて放熱して液化することができ、蒸発と凝縮のサイクルを通じてベーパーチャンバーの表面温度を同じに保つことができる。したがって、放熱プレート３０１の表面の一部は冷却部材２０２に接続され、他の一部は放熱フィン３０２に接続され、冷却部材２０２で発生した熱は、放熱プレート３０１および放熱フィン３０２を介して放散する。

【0347】

任意選択的に、図３８を参照すると、第２光透過体２０１と放熱アセンブリ３００との間には炭素含有層９２が設けられてもよく、例えば、放熱プレート３０１の第２光透過体２０１に熱的に結合する側の表面に設けられ、炭素含有層９２は熱伝導性に優れ、放熱プレート３０１の熱伝導率を加速させ、放熱アセンブリ３００の放熱性能を高めることができる。

【0348】

任意選択的に、炭素含有層９２は、グラフェン材料、グラファイト粉末、グラファイトシートまたはグラファイトフィルムである。

【0349】

任意選択的に、炭素含有層９２は、メッキ、吹き付けまたは積層によって設けられる。

【0350】

放熱アセンブリ３００の放熱性能を高めるために、本実施例では、放熱アセンブリ３００はさらに冷却駆動アセンブリ４００と連通する。

【0351】

具体的には、放熱アセンブリ３００の放熱フィン３０２は、冷却駆動アセンブリ４００に接続され、冷却駆動アセンブリ４００は、空気透過孔１２１１から外気を吸い込み、かつ空気を放熱フィン３０２に吹くように駆動し、空気は放熱フィン３０２を流れて放熱フィン３０２を放熱させる。

【0352】

例示的な実施例では、放熱フィン３０２は、冷却駆動アセンブリ４００によって提供される気流と四角状で平行に設けられ、それにより、気流と接触する放熱フィン３０２の面積を増大させ、放熱フィン３０２の放熱効率を加速させる。

【0353】

放熱フィン３０２は、第１シェル１２１上の空気透過孔１２１１に対向して設けられ、気流は放熱フィン３０２を通過した後、迅速に空気透過孔１２１１から流出する。

【0354】

したがって、本実施例における冷却駆動アセンブリ４００は、冷却媒体を駆動して脱毛アセンブリ１００を放熱させることができるだけでなく、放熱アセンブリ３００を放熱させることもできる。安全性能が改善された上で、照射された皮膚を冷感付けて冷却し、照射された皮膚から生じる灼熱痛を軽減することができ、かつ冷感付けアセンブリ２００は、放熱アセンブリ３００と冷却駆動アセンブリ４００の作用の下で、０度の低温に近づけ、光射出口付近の皮膚を無限に凝固点に近づけることができ、よって、皮膚の灼熱痛を軽減でき、短時間の接触による皮膚への損傷が発生しない。

【0355】

さらに図３６、図３７および図３９を参照すると、図３９は、図３７の実施例におけるファンハウジングの空気出口における構造を示す模式図である。この実施例では、冷却駆動アセンブリ４００は、ファンハウジング４０１およびファン４０２を含んでもよい。ファンハウジング４０１は、放熱アセンブリ３００の冷感付けアセンブリ２００に背向する側に設けられ、ファン４０２はファンハウジング４０１内に収容される。

【0356】

ファン４０２は、吸気の一端が第１シェル１２１上の空気透過孔１２１１と対向しており、ファン４０２は、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に送り込むように駆動する。ファンハウジング４０１には、空気吹出用の空気出口４１０が設けられ、ファン４０２は、空気吹出の一端が空気出口４１０に接続されており、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に吸い込んだ後、空気出口４１０から流出させるように駆動する。

【0357】

任意選択的に、ファン４０２は、遠心ファン、軸流ファン、混合流ファン、またはクロスフローファンとすることができる。

【0358】

さらに、空気出口４１０は、第１空気出口４１１および第２空気出口４１２を含み、ファン４０２の空気出口４１０からの空気は２つの部分に分けられ、一方の部分は第１空気出口４１１から流出し、他方の部分は第２空気出口４１２から流出する。

【0359】

任意選択的に、空気出口４１０は、第３空気出口またはそれ以上の空気出口を含んでもよいが、ここでは限定されない。

【0360】

この実施例では、第１空気出口４１１は、ホルダー５の空気流入口５３０と連通し、ファン４０２は、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に吸い込むように駆動し、ファン４０２は、気流を第１空気出口４１１および空気流入口５３０から第１収容空間５１０に吸い込むように駆動し、その気流は、第１収容空間５１０で光源２、リフレクター１および光フィルター１０３の熱を奪い、最後に空気排出口５４０および空気透過孔１２１１から外界に流出し、脱毛アセンブリ１００の放熱を実現する。

【0361】

この実施例では、第２空気出口４１２は、放熱アセンブリ３００の放熱フィン３０２に接続され、ファン４０２は、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に吸い込むように駆動し、ファン４０２は、気流を第２空気出口４１２から放熱アセンブリ３００の複数の放熱フィン３０２の間に吸い込むように駆動し、気流は放熱フィン３０２を通過して放熱フィン３０２の熱を奪い、かつ空気透過孔１２１１から流出する。放熱フィン３０２の温度が下がると、放熱プレート３０１の熱も低減され、それにより、放熱プレート３０１は冷感付けアセンブリ２００の熱を吸収し、冷感付けアセンブリ２００の放熱を実現することができる。

【0362】

任意選択的に、第１空気出口４１１および第２空気出口４１２での気流量は限定されず、実際の状況に応じて設定される。第１空気出口４１１および第２空気出口４１２の大きさを設定することにより、第１空気出口４１１および第２空気出口４１２での気流量を制御することができる。例えば、本実施例では、第２空気出口４１２の空気吹出面積は、第１空気出口４１１の空気吹出面積よりも大きく、それにより、より多くの気流は第２空気出口４１２から流出し、放熱プレート３０１の放熱効率を高める。

【0363】

以上から、本実施例に係る脱毛器は、冷却駆動アセンブリ４００によって、脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００および放熱アセンブリ３００を放熱し、さらに脱毛アセンブリ１００および冷感付けアセンブリ２００の熱の同時放散を実現し、それにより、脱毛器の放熱性能が向上し、脱毛器の安全係数が高まるとともに、皮膚への冷感を無限に氷点に近づけ、皮膚の灼熱痛を軽減することができ、脱毛時に皮膚を損傷することができない。

【0364】

上記は本出願の実施形態に過ぎず、本出願の保護範囲を限定するものではないが、本出願の明細書および添付図面の内容を利用してなされた如何なる同等の構造または同等のプロセス変換、もしくは他の関連技術分野への直接または間接的な適用は、同様にすべて本出願の特許保護範囲に含まれる。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22】

【図23】

【図24】

【図25】

【図26】

【図27】

【図28】

【図29】

【図30】

【図31】

【図32】

【図33】

【図34】

【図35】

【図36】

【図37】

【図38】

【図39】

【図40】

【図41】

【図42】

【図43】

【図44】

【手続補正書】

【提出日】2023-11-21

【手続補正1】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本出願は、脱毛器の分野に関し、特に脱毛器に関する。

【背景技術】

【0002】

脱毛器は作動中に多くの熱が発生しやすく、この熱は主に作動中のランプから発生するものである。ランプは脱毛器の主要部品として、作動時に多くの熱が発生し、適時に放熱しないと、ランプの耐用年数が短くなるとともに、ランプから発生した熱は、脱毛器の他の部分、例えば肌に接触する部分にも放射され、その部分の温度が高くなると、使用者は使用時に灼熱感を感じることになる。また、市販されている脱毛器には、作動中の光出力にムラがあるという問題がある。

【0003】

さらに、脱毛器の実際の応用では、トリガーワイヤとランプとの密な接触を維持しにくく、トリガーワイヤとランプとの間が緩んでしまうと、トリガーワイヤのトリガーによるランプの発光が難しくなるだけでなく、トリガーワイヤのトリガーによるランプの発光にかかるコストも高くなる。

【発明の概要】

【0004】

本出願は主に、脱毛器の作動中における放熱不良の問題を解決する脱毛器を提供する。

【0005】

上記の技術的課題を解決するために、本出願で採用した１つの技術的解決手段は、脱毛器を提供することである。当該脱毛器は、リフレクター、光源、およびホルダーを含み、前記リフレクターは導体であり、前記リフレクターは、光を反射することができ、前記光源は、ストリップ状のガス励起光源であり、前記リフレクターに対向して設けられ、前記リフレクターの通電後に前記リフレクターにより励起されて前記光を発することができ、前記リフレクターは、前記ホルダーに対して固定され、ここで、前記光源の本体と前記リフレクターとの間隔は０より大きく０．３ｍｍ以下である。

【0006】

本出願は次の有益な効果を有する。脱毛器の作動時には、リフレクターは通電されると、その内部に高い電界を発生させることができ、リフレクターで高い電圧を発生させることにより、光源内のガスをイオン化してアークを発生させ、さらに放電させることができ、つまり、光源は発光することができる。光源とリフレクターとの間の距離を制限することにより、リフレクター内の電圧は光源が発光するように励起することができる。トリガーワイヤを介してランプの発光をトリガーする方法と比較して、トリガーワイヤなしでランプの発光をトリガーするリフレクター１では、ランプの発光をトリガーする方法を改善して発光効率を高めることができるだけでなく、材料を節約して製造コストを削減することもできる。

【0007】

本出願の実施例における技術的解決手段をより明確に説明するために、以下、実施例の説明で使用される図面を簡単に紹介し、当然のことながら、以下の説明における図面は、本出願のいくつかの実施例に過ぎず、当業者であれば、創造的労力を要することなく、これらの図面に基づく他の図面を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】本出願の構造全体の分解を示す模式図である。

【図2】本出願の構造全体の組立を示す模式図である。

【図3】本出願の一実施例における炭素含有層の構造を示す模式図である。

【図4】本出願の構造全体の断面を示す模式図である。

【図5】本出願の光の反射経路を示す模式図である。

【図6】本出願の一実施例の構造を示す模式図である。

【図7】本出願の一実施例の分解構造を示す模式図である。

【図8】図７の実施例の分解構造を示す模式図である。

【図9】本出願の別の実施例における炭素含有層の構造を示す模式図である。

【図10】図８の実施例におけるファンハウジングの空気出口の構造を示す模式図である。

【図11】本出願の別の実施例に係る構造全体の断面を示す模式図である。

【図12】図１１のＢの部分を拡大した模式図である。

【図13】本出願の一実施例における弾性シールリングの構造を示す模式図である。

【図14】図１３の線Ｃ－Ｃに沿った断面を示す模式図である。

【図15】図１４のＤの部分を拡大した模式図である。

【図16】本出願の別の実施例に係る構造全体の分解を示す模式図である。

【図17】本出願の別の実施例に係る構造全体の組立を示す模式図である。

【図18】本出願の一実施例に係る炭素含有層の構造を示す模式図である。

【図19】本出願の別の実施例に係る構造全体の断面を示す模式図である。

【図20】本出願の光の反射経路を示す模式図である。

【図21】本出願の別の実施例の構造を示す模式図である。

【図22】本出願の別の実施例の分解構造を示す模式図である。

【図23】図２２の実施例の分解構造を示す模式図である。

【図24】本出願の別の実施例に係る炭素含有層の構造を示す模式図である。

【図25】図２３の実施例におけるファンハウジングの空気出口の構造を示す模式図である。

【図26】本出願の別の実施例に係る構造全体の断面を示す模式図である。

【図27】図２６のＢの部分を拡大した模式図である。

【図28】本出願の一実施例における弾性シールリングの構造を示す模式図である。

【図29】図２８の線Ｃ－Ｃに沿った断面を示す模式図である。

【図30】図２９のＤの部分を拡大した模式図である。

【図31】本出願の一実施例に係る脱毛器の分解を示す模式図である。

【図32】本出願の一実施例に係る脱毛器の組立を示す模式図である。

【図33】本出願の一実施例に係る炭素含有層の構造を示す模式図である。

【図34】本出願の一実施例に係る脱毛器の断面を示す模式図である。

【図35】本出願の別の実施例の構造を示す模式図である。

【図36】本出願の別の実施例の分解構造を示す模式図である。

【図37】図３６の実施例の分解構造を示す模式図である。

【図38】本出願の別の実施例に係る炭素含有層の構造を示す模式図である。

【図39】図３７の実施例におけるファンハウジングの空気出口の構造を示す模式図である。

【図40】本出願の別の実施例に係る構造全体の断面を示す模式図である。

【図41】図４０のＢの部分を拡大した模式図である。

【図42】本出願の一実施例における弾性シールリングの構造を示す模式図である。

【図43】図４２の線Ｃ－Ｃに沿った断面を示す模式図である。

【図44】図４３のＤの部分を拡大した模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0009】

本出願の上記目的、特徴および利点をより明確かつ理解しやすくするために、以下は添付図面と併せて、本出願の具体的な実施形態を詳細に説明する。ここで説明する具体的な実施例は、本出願を解釈するためのものに過ぎず、本出願を限定するためのものではないことが理解可能である。また、説明を容易にするために、図面には、本出願に関連する構造の全てではなく、その一部のみが示されていることに留意されたい。本出願の実施例に基づいて、当業者が創造的な労力を要することなく得られる他の全ての実施例は、本出願の保護範囲に含まれるものとする。

【0010】

本出願における「第１」、「第２」などの用語は、特定の順序を説明するためのものではなく、異なる対象を区別するために使用される。さらに、「含む」、「設けられる」という用語およびそのあらゆる変形は、非排他的な包含をカバーすることを意図している。例えば、一連のステップまたはユニットを含むプロセス、方法、システム、製品または設備は、列挙されたステップまたはユニットに限定されるものではなく、列挙されていないステップまたはユニットも選択可能に含むか、またはこれらのプロセス、方法、製品または設備に固有の他のステップまたはユニットも選択可能に含む。

【0011】

本明細書で言及された「実施例」は、実施例と併せて記載される特定の特徴、構造または特性が、本出願の少なくとも１つの実施例に含まれ得ることを意味する。明細書の各箇所で現れた当該言葉は、必ずしも全てが同一の実施例を指すものではなく、他の実施例と相互に排他的な別個のまたは代替の実施例でもない。各構成部品や構造などの名称や番号は、各実施例において図面と合わせてその特徴、構造または特性を示すために使用され、それらの実質的な意味に影響を及ぼすものではなく、異なる実施例の名称や番号は独立して参照されるべきである。当業者には、明示的にも黙示的にも、本明細書に記載された実施例が他の実施例と組み合わされてもよいことが理解される。本実施例における各構成部品や構造等の命名は、例示的なものであり、その実質的な意味を限定するものではない。機能や実質的な意味が変わらない場合、またはそれらに対して同等の変換を行う場合、他の名称を付けることも可能である。どのような名称を付けても、本実施形態の特徴と同等であり、いずれも本出願の趣旨の範囲に含まれるものとする。

【0012】

図１および図２を参照すると、本出願は脱毛器を開示し、当該脱毛器はリフレクター１、光源２および光透過体３を含む。光源２はリフレクター１内に組み立てられ、光源２は光を発することができ、リフレクター１は、光源２が発した光を反射することができ、光透過体３は、光を入射する入射面３１、および光を射出する射出面３２を有する。光源２が発した光は、リフレクター１で反射された後、光透過体３の射出面３２から均一に射出することができ、それにより、当該脱毛器の光射出均一性が向上し、当該脱毛器の脱毛効果が高まる。

【0013】

任意選択的に、光源２、リフレクター１と光透過体３の三者の構造および相対的な位置関係は、射出面３２の光射出均一性が９０％以上であるか、または射出面３２上の光スポットが射出面３２の少なくとも９５％を占めるという条件を満たす。射出面３２の光射出均一性を９０％以上にすることにより、脱毛器の脱毛効果を高め、肌の脱毛対象部分の毛を均一に除去することができる。同様に、射出面３２上の光スポットが射出面３２の少なくとも９５％を占めることにより、肌の脱毛対象部分の毛を均一に除去することもでき、さらに、光の利用率を向上させることができる。

【0014】

光射出均一性が低い脱毛器や、射出面３２に対する射出面３２上の光スポットの割合が小さい脱毛器では、使用の際に、均一な脱毛を実現するために、同じ部位に複数回照射する必要がある場合があり、そうでなければ、均一に脱毛することができず、美観性の点からも好ましくない。本出願の実施形態では、光源２、リフレクター１と光透過体３の三者の構造および相対的な位置関係は、射出面３２の光射出均一性が９０％以上であるか、または射出面３２上の光スポットが射出面３２の少なくとも９５％を占めるという条件を満たすことで、脱毛器が同じ部位に複数回照射する必要がない。光源２の品質と脱毛器のパワーが十分で、人の健康条件を満たしている場合、脱毛器は１回の照射だけで効率的で均一な脱毛を実現することができる。少なくとも、同一の部位の肌への繰り返し照射の回数を減らすことができる。

【0015】

任意選択的に、リフレクター１、光源２と光透過体３の中心は１つの直線上にあってもよく、その直線における三者の互いの距離を調整することにより、射出面３２の光射出均一性を９０％以上にすること、または射出面３２上の光スポットが射出面３２の少なくとも９５％を占めるようにすることが可能である。任意選択的に、三者の構造自体を調整することにより、脱毛器を上記の条件に適合させることもできる。

【0016】

任意選択的に、リフレクター１、光源２と光透過体３の三者の構造自体の設計により、脱毛器を上記の条件に適合させてもよい。さらに、三者の構造自体および三者間の相対的な位置関係を総合的に設計することにより、脱毛器を上記の条件に適合させてもよい。

【0017】

なお、当該脱毛器は、放熱ベース４とホルダー５をさらに含み、放熱ベース４はホルダー５と一緒に、リフレクター１、光透過体３を一体に組み立てるために使用される。

【0018】

任意選択的に、図３を参照すると、当該脱毛器は、リフレクター１に設けられた炭素含有層９１をさらに含み得る。例えば、当該炭素含有層９１は、リフレクター１の光源２に背向する側に設けられてもよい。光源２は使用時に熱を発してリフレクター１に集中させるが、炭素含有層９１は熱伝導性に優れているため、それが配置されたリフレクター１の熱伝導速度を促進し、リフレクター１の放熱性能を高め、脱毛器での過度の温度による自体の破損を防止することができ、さらに使用者の肌への刺激や損傷も防止することができる。

【0019】

任意選択的に、炭素含有層９１は放熱ベース４に設けられる。例えば、炭素含有層９１は、放熱ベース４とリフレクター１との間に設けられてもよく、それにより、放熱ベース４とリフレクター１との間の熱伝導速度を促進する。

【0020】

任意選択的に、炭素含有層９１はさらに放熱ベース４の露出面に設けられてもよく、それにより、放熱ベース４の放熱性能を高める。

【0021】

任意選択的に、当該炭素含有層９１は、グラフェン材料、グラファイト粉末、グラファイトシートまたはグラファイトフィルムなどの材料であってもよく、本出願に記載されているような炭素含有層９１を設置できる場所に、メッキ、吹き付けまたは積層などによって設けられてもよい。

【0022】

任意選択的に、放熱ベース４はセラミックベースであってもよく、セラミックベースは、リフレクター１内の温度を下げ、さらにリフレクター１の温度を制御し、リフレクター１の性能を向上させ、リフレクター１が光をよりよく反射できるようにすることができる。リフレクター１内の温度を下げないと、一方では、高温により光源２自体が破損して耐用年数が短くなり、他方では、熱が脱毛器の他の部分、特に肌に接触する部分に放射され、その高温により使用者は灼熱感を感じ、使用しにくい。本出願の実施形態では、セラミックベースは、リフレクター１内の温度を下げることができ、つまり、熱伝導、熱対流や熱放射、または上記３つの方式の任意の組み合わせによりリフレクター１内の熱を伝達し、リフレクター１内の温度を下げ、さらに光源２を均一に放熱させ、それにより、脱毛器の放熱効率を向上させる。

【0023】

任意選択的に、放熱ベース４の一方側にはスロット４１が設けられ、スロット４１は棒状であってもよく、リフレクター１はスロット４１に埋め込まれ、ホルダー５は窓５１を有し、窓５１は四角状であってもよく、光透過体３の形状に適合した他の形状であってもよく、光透過体３は、当該窓５１に埋め込まれ、かつリフレクター１の開口の一方側に位置する。放熱ベース４とホルダー５は着脱自在に接続され、それにより脱毛器の組立と分解が容易になる。

【0024】

任意選択的に、放熱ベース４の両側にはいずれも第１留め具４２が一体成形され、ホルダー５の両側にはいずれも第２留め具５２が一体成形され、第１留め具４２と第２留め具５２は対応して設けられる。放熱ベース４とホルダー５が接続されている時、第１留め具４２と第２留め具５２が強固に係合され、さらに、放熱ベース４とホルダー５を確実に接続できるようにし、それにより当該脱毛器の使用安定性が向上する。

【0025】

任意選択的に、第１留め具４２は、係合ブロックまたは片持ちフックであってもよく、第２留め具５２は取付穴であってもよい。片持ちフックを取付穴に埋め込むと、取付穴によって片持ちフックが取付穴から容易に外れないように制限し、第１留め具４２と第２留め具５２を確実に接続することができ、つまり、放熱ベース４とホルダー５を相対的に固定できるようにし、放熱ベース４とホルダー５が緩んだり外れたりすることを効果的に防止する。

【0026】

任意選択的に、光透過体３は結晶であってもよい。

【0027】

図１、図２および図４を参照すると、リフレクター１は、第１反射領域１１と第２反射領域１２を有し、第１反射領域１１は、リフレクター１の底部を含む円弧状領域であり、第２反射領域１２は、円弧状領域の両端から外側に延びる平面状領域であり、平面状領域は、円弧状領域に相接する。光源２が光を発した後、リフレクター１はその光を光透過体３に反射する。

【0028】

任意選択的に、リフレクター１は、半円弧状であってもよく、光源２は棒状ランプであってもよく、棒状ランプは光を発し、リフレクター１の円弧状領域はその光を光透過体３によく反射することができ、同時に、リフレクター１の平面状領域も、その光を光透過体３に反射することができ、円弧状領域と平面状領域によって光を十分に反射することにより、光の射出率を高め、光の利用率を向上させる。

【0029】

任意選択的に、リフレクター１は棒状であってもよい。

【0030】

図５を参照すると、任意選択的に、光源２の中心は、リフレクター１の焦点とリフレクター１の底部との間に位置し、光透過体３の入射面３１は、射出面３２とリフレクター１の焦点との間に位置し、かつリフレクター１から反射された光の集光位置は、光透過体３の射出面３２とリフレクター１の焦点との間にある。光源２、リフレクター１と光透過体３の三者間の位置を限定することにより、射出面３２の光射出均一性を９０％以上にし、または射出面３２上の光スポットが射出面３２の少なくとも９５％を占めるようにし、それにより、光源２が発した光は、リフレクター１で光透過体３に十分に反射され、光透過体３の光射出均一性を高めることができる。

【0031】

例えば、脱毛器の作動時には、光源２は光を発し、リフレクター１の第１反射領域１１および第２反射領域１２は、光を光透過体３に十分に反射し、光は、光透過体３の入射面から入射した後、光透過体３の射出面から射出され、それにより、射出面３２の光射出均一性を９０％以上にし、または射出面３２上の光スポットが射出面３２の少なくとも９５％を占めるようにし、よって、脱毛器の光射出均一性を高め、当該脱毛器の使用効果を向上させる。

【0032】

任意選択的に、平面状領域と参照線とのなす角度は５～２０度であり、参照線は、光源２の中心と光透過体３の中心とを結ぶ線である。光を光透過体３に十分に反射できるように、平面状領域と参照線とのなす角度を限定することにより、一方では、光の無駄を低減して使用コストを削減でき、他方では、光透過体３の光射出均一性を向上させることができる。

【0033】

本出願に係る脱毛器の別の実施例では、光源２は、リフレクター１の底部近傍に設けられ、かつリフレクター１には、参照線に対して５～２０度の角度を有する平面状領域が設けられていない。この場合、光が複数回反射する可能性が高い。入射角によっては、光が複数回反射する可能性が高くなり、かつ射出角が乱れ、制御しにくい。

【0034】

平面状領域と参照線とのなす角度を限定することにより、光はリフレクター１で射出する際に良好な射出角を有することができ、同時に、光を集光することもでき、よって、光の射出率を向上させ、光の損失を効果的に回避し、配光効果を高めることができる。

【0035】

さらに、平面状領域と参照線とのなす角度は８～１５度であり、その角度は８度であってもよく、１５度であってもよい。例えば、この範囲では焦点距離が近く、光射出均一性と光の利用率を満たす条件では、光透過体３も光源２により近づけるようにすることもでき、それにより、脱毛器の構造をよりコンパクトにすると同時に、加工上の材料も節約することができる。

【0036】

平面状領域と参照線とのなす角度を８～１５度にすることにより、焦点距離がより近くなり、光透過体３が光源２により近い場所に設けることができ、かつ高い光射出均一性が確保される。構造により光射出均一性を向上させる場合、光強度を高めるなど他の方式で光射出均一性を向上させる必要がなくなる。この設定条件では、光透過体３は光源２により近くなり、脱毛器全体としては、より小型でコンパクトに設計することもでき、持ち運びや使用が容易となる。

【0037】

図１を参照すると、リフレクター１は、長さ方向の両端にいずれも側面反射部材１３が一体成形され、側面反射部材１３はシート状であり、リフレクター１の両端から漏れる光を光透過体３に反射する。ここで、側面反射部材１３には貫通孔１３１が開設され、貫通孔１３１は２つ設けられてもよく、かつ２つの貫通孔１３１は中心線が同じであり、光源２の端部は当該貫通孔１３１を通過する。

【0038】

任意選択的に、光源２の両端には、いずれも光源２をリフレクター１に可動に固定するための固定部材６が接続され、例えば、固定部材６はシリコン製のソフトスリーブであってもよく、固定部材６はゴム製のスリーブであってもよい。固定部材６は円筒状であり、かつ取付溝６１を備え、ランプの両端はいずれも取付溝６１に埋め込まれ、固定部材６には軸線に沿って固定孔６２が開設され、固定孔６２は取付溝６１と連通し、ランプの両端にはいずれも取付柱が延在し、取付柱は固定孔６２を貫通し、固定部材６はリフレクター１の外側に設けられる。

【0039】

任意選択的に、放熱ベース４の両端には、いずれも支持ブロック４３が一体成形され、支持ブロック４３には、光源２の両端および固定部材６を収容可能な切欠が形成され、放熱ベース４とホルダー５が係合されている状態では、ホルダー５と支持ブロック４３によって固定部材６が固定され、さらに光源２がリフレクター１に固定され、固定部材６はそれ自体が弾性を有し、ホルダー５と支持ブロック４３によって固定部材６を固定する過程において、固定部材６が押さえられると、固定部材６は、それ自体の形状を適宜変化させて切欠の形状に適応させると同時に、ランプの損傷を低減し、ランプが押さえられることを最小限に抑えることができる。

【0040】

任意選択的に、ホルダー５の固定部材６に近接する側壁には制限部５３が開設され、制限部５３は固定部材６の位置を制限するために使用され、当該制限部５３は、切欠または、間隔をあけて設けられたタブであってもよく、ここで、当該切欠の形状は円弧状であってもよい。制限部５３によって、支持ブロック４３とホルダー５は、固定部材６を確実に固定し、緩みを最小限に抑えることができ、それにより、当該脱毛器の安定性が高まる。

【0041】

図１を参照すると、光透過体３とリフレクター１との間には、光をフィルタリングするための光フィルター７が設けられ、光フィルター７は、ホルダー５に固定されて窓５１を覆うとともに、リフレクター１のホルダー５に向かう開口を覆い、光フィルター７は放熱ベース４に対して固定される。放熱ベース４とホルダー５が係合されている状態では、ホルダー５のリフレクター１に近接する側壁は光フィルター７の一方側に押し付けられ、光フィルター７の他方側はリフレクター１に当接する。光フィルター７により、紫外線における有害な光をフィルタリングし、人体への害を減らすことができ、それにより、脱毛器の安全性を向上させると同時に、治療効果も向上させることができる。

【0042】

任意選択的に、ホルダー５と光フィルター７との間にはパッド８が設けられ、パッド８は光フィルター７と同様の形状であり、パッド８はシート状であり、光が通過するための退避口８１を有し、当該退避口８１の寸法は、光透過体３のパッド８に向かう側壁の寸法よりも小さい。放熱ベース４とホルダー５が係合されている状態では、光透過体３はパッド８の一方側に押し付けられ、パッド８の他方側は光フィルター７に押し付けられ、パッド８によって、光透過体３の光フィルター７への圧力を低減することができ、さらに光透過体３と光フィルター７との衝突も低減することができるので、一方では製造コストができるだけ削減され、他方では光フィルター７の耐用年数が延長される。

【0043】

図１１および図１２を参照すると、本出願に係る脱毛器の別の実施例では、弾性シールリング１６は光フィルター７と光透過体３の間に設けられ、弾性シールリング１６は環状であり、光フィルター７と光透過体３の両方は弾性シールリング１６と密封するように合わせることにより、光透過体３と光フィルター７との間に結露が発生せず、光透過体３と光フィルター７との接続箇所にいくつかの汚れが侵入することもできず、弾性シールリング１６は、好ましくは環状に設けられるシールリングである。

【0044】

もちろん、不用意に脱毛器が地面に落下した場合、光透過体３と地面との間で剛体衝突が発生することがあり、従来の光透過体３では、その衝撃力が光フィルター７に伝わり、さらに光フィルター７、リフレクター１および光源２を損傷する可能性がある。本実施例の脱毛器では、光透過体３が衝突した際の衝撃力を弾性シールリング１６によって打ち消すことができ、弾性シールリング１６は、外力で押さえられた際に、自体の弾性により弾性変形を生じさせ、光フィルター７と光透過体３との間の衝撃を低減または打ち消すことができ、それにより、光フィルター７、リフレクター１および光源２がこれらの衝撃によって破損される可能性が低下し、さらに当該脱毛器の衝突回避性能が向上する。

【0045】

さらに図１３乃至図１５を参照すると、弾性シールリング１６には、光を通過させるための内側リング１６１が設けられており、光フィルター７によってフィルタリングされた光は、内側リング１６１を介して光透過体３に導かれて、人間の肌に照射することができる。

【0046】

本実施例では、光フィルター７と光透過体３は、いずれもホルダー５に直接固定され、ホルダー５に対して移動不可能であることにより、使用過程で人体の骨または鋭い物体が光透過体３に突き当たり、光透過体３をホルダー５に対して後退させることを効果的に回避し、光フィルター７または脱毛アセンブリ１００への回復不可能な押付変形を防止し、また、弾性シールリング１６が数回押し付けられて回復不可能な押付変形が発生したとしても、脱毛器の導光効果への影響による光エネルギーの浪費を回避することができる。

【0047】

弾性シールリング１６にはさらに、内側リング１６１と連通する取付溝１６２が設けられ、取付溝１６２は、弾性シールリング１６の脱毛アセンブリ１００から離れた側に設けられ、内側リング１６１は、取付溝１６２の溝底壁から光フィルター７の側に向かって貫通して延びており、光透過体３は取付溝１６２内に部分的に取り付けられることにより、光透過体３と弾性シールリング１６との間の密封性能を向上させるとともに、弾性シールリング１６が光透過体３に固定されて、両者間の固定接続を実現する。

【0048】

好ましい実施形態として、弾性シールリング１６は、外側リング１６３と、外側リング１６３の一方側面に突出した突起１６４とを含み、突起１６４は光フィルター７に当接し、外側リング１６３の突起１６４から離れた側面には取付溝１６２が設けられ、内側リング１６１は、取付溝１６２の溝底壁から突起１６４の一方側に向かって貫通して延びており、外側リング１６３も突起１６４も完全な閉ループ構造であり、内側リング１６１内の光は、光透過体３からのみ透過可能である。

【0049】

好ましい実施形態として、突起１６４の横断面は、横方向に設けられた三角形構造であり、突起１６４が光フィルター７に接触する面積は、突起１６４が外側リング１６３に接触する面積よりも小さいので、弾性シールリング１６が取り付けられた場合、突起１６４の外側リング１６３から離れた端部は、押さえられると部分的に反ることがあり、弾性シールリング１６は弾性があるので、弾性シールリング１６の反った部分は、光フィルター７にしっかりと当接することができ、つまり、光透過体３と光フィルター７との間の間隔がわずかに変化する場合、弾性シールリング１６も、反った部分によってこの間隔の変化に適応することができ、それにより、弾性シールリング１６と光透過体３との間、および弾性シールリング１６と光フィルター７との間は、常に密着または締り嵌めが維持され、密封性がより優れている。もちろん、他の実施例では、突起１６４の横断面は、台形構造であってもよい。

【0050】

本実施例では、弾性シールリング１６は、レーザー耐性と高温・低温耐性を備える材料で作られた環状体であり、それにより、弾性シールリング１６が使用過程で高温や低温またはレーザー照射により変形することが回避され、弾性シールリング１６の耐用年数が延長される。

【0051】

従来技術の状況と区別して、本実施例は脱毛器を開示する。当該脱毛器は、リフレクター１、光源２および光透過体３を含み、光源２は光を発し、光源２が発した光はリフレクター１で反射されることにより、その光は光透過体３の入射面３１から入射し、光透過体３の射出面３２から射出することができ、また、光源２、リフレクター１と光透過体３の三者の構造および相対的な位置関係は、射出面３２の光射出均一性が９０％以上であるか、または射出面３２上の光スポットが射出面３２の少なくとも９５％を占めるという条件を満たす。光源２、リフレクター１、光透過体３の三者の構造および相対的な位置関係を限定することにより、光は光透過体３の射出面３２から均一に射出することができ、それにより当該脱毛器の光射出均一性を高め、当該脱毛器の使用効果を高める。

【0052】

図５を参照すると、図５は、本出願の一実施例の構造を示す模式図である。ここで、脱毛装置は、ヘッド１１１と、ヘッド１１１に接続された把持部１１２とを含む。ヘッド１１１には、肌に当てるための冷感付け部１１１１が設けられ、冷感付け部１１１１は、光を射出して使用者の皮膚の毛包に照射し、光を皮膚に透過させて毛包に照射して脱毛を行うことができると同時に、温度を急速に下げ、光による皮膚への灼熱感を軽減し、使用者が使用中で不快感を感じないようにすることができる。いくつかの実施例では、冷感付け部１１１１はさらに、スキンケア用の光を射出することができ、それにより、脱毛器は脱毛とスキンケアの両方の機能を有する。

【0053】

任意選択的に、把持部１１２は、中空のシェル（図には参照番号が付されない）を含んでもよく、シェルの表面には空気透過孔１２１１が設けられ、空気透過孔１２１１はシェルの内部と外界を連通することにより、脱毛装置は、空気透過孔１２１１を介して外界と気流を交換し、内部の温度を下げることができる。シェルは、ポート１２１２をさらに含み、ポート１２１２は、外部電源に接続して脱毛装置を充電するために使用され得る。ここで、シェルにおけるポート１２１２の位置は限定されない。

【0054】

図６および７を参照すると、図７は、本出願の一実施例の分解構造を示す模式図であり、ここで、図７に示す矢印は、冷却駆動アセンブリの駆動下での脱毛装置内の気流の流れ方向を表し、直線は冷気流を表し、波浪は熱気流を表す。具体的には、脱毛装置は、シェルと、シェルの開口に設けられたライトカバー１１３と、シェルの内部に収容された脱毛機構１４と、底部カバー１５とを含んでもよい。

【0055】

本実施例では、シェルは、第１シェル１２１および第２シェル１２２を含んでもよく、第１シェル１２１および第２シェル１２２は、相互に係合するように接続されて両端に開口を有する空洞を形成し、脱毛機構１４は空洞内に収容され、ライトカバー１１３および底部カバー１５はそれぞれ、２つの開口を覆うように設けられ、第１シェル１２１と第２シェル１２２を接続して空洞を形成した後の開口を封止するために使用される。

【0056】

任意選択的に、第１シェル１２１、第２シェル１２２、ライトカバー１１３および底部カバー１５は、スナップによって接続されてもよく、ねじや接着によって接続されてもよい。

【0057】

脱毛機構１４は、脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００、放熱ベース３００および冷却駆動アセンブリ４００を含む。

【0058】

冷感付けアセンブリ２００は、ライトカバー１１３に近い側に設けられ、ライトカバー１１３には貫通孔（参照番号が付されない）が設けられ、一部の冷感付けアセンブリ２００は、シェルの内部からライトカバー１１３の貫通孔を経て外界に露出して皮膚に直接接触する。理解されるように、冷感付けアセンブリ２００の一部とライトカバー１１３は、脱毛装置のヘッド１１１を形成している。

【0059】

脱毛アセンブリ１００は、冷感付けアセンブリ２００のライトカバー１１３から離れた側に設けられ、冷感付けアセンブリ２００に光を放射するために使用される。光は赤光や緑光、または黄色光などの可視光線であり得る。光は、冷感付けアセンブリ２００に入射され、冷感付けアセンブリ２００を透過して皮膚下の毛包に入ることにより、脱毛が実現される。

【0060】

放熱ベース３００は、冷感付けアセンブリ２００の一方側に設けられ、かつ冷感付けアセンブリ２００に接続される。冷感付けアセンブリ２００は皮膚に当てると、皮膚の熱を吸収し、皮膚の温度を下げ、灼熱感を軽減することができるので、冷感付けアセンブリ２００は、長時間使用されると、温度が上昇し、冷却効果が低下する。放熱ベース３００は、冷感付けアセンブリ２００の熱を吸収し、冷感付けアセンブリ２００を低温の作業環境に維持し、皮膚に対する冷感付けアセンブリ２００の冷却効果を確保することができる。したがって、本実施例における脱毛装置は、連続的に使用しても本体を低温に維持することができ、かつ使用者に痛みを与えることもない。

【0061】

冷却駆動アセンブリ４００は、放熱ベース３００の少なくとも一部が脱毛アセンブリ１００に背向する側に設けられ、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００を放熱させるために使用される。

【0062】

本実施例では、冷却駆動アセンブリ４００は、外部冷却媒体を吸い込んで空気透過孔１２１１から脱毛装置の内部に入れ、冷却媒体は、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００を通過して熱を運び去り、さらに空気透過孔１２１１から流出する。

【0063】

任意選択的に、外部冷却媒体は空気であってもよく、冷却駆動アセンブリ４００は、空気を吸い込み、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００に吹き、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００の熱は気流によって運び去られる。

【0064】

本実施例では、空気透過孔１２１１は第１シェル１２１に設けられ、冷却駆動アセンブリ４００の少なくとも一部が空気透過孔１２１１と対向し、それにより、冷却駆動アセンブリ４００は、空気透過孔１２１１から外部冷却媒体をよりよく吸収し、放熱効率を高めることができる。他の実施例では、空気透過孔１２１１は、第２シェル１２２に設けられてもよい。

【0065】

図７および図８を参照すると、図８は、図７の実施例の分解構造を示す模式図であり、ここで、図８に示す矢印は、ファンから出る空気の方向を表す。

【0066】

本実施例では、脱毛装置は、ホルダー５００、回路基板６００、プロセッサ７００およびコンデンサ８００をさらに含み、脱毛アセンブリ１００および冷感付けアセンブリ２００は、ホルダー５００内に取り付けられ、冷却駆動アセンブリ４００は、ホルダー５００に隣接して設けられる。脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００および冷却駆動アセンブリ４００は、回路基板６００に取り付けられ、回路基板６００に電気的に接続される。

【0067】

プロセッサ７００およびコンデンサ８００は、回路基板６００に電気的に接続され、回路基板６００に設けられる。外部電源に接続される場合、外部電源は、コンデンサ８００が脱毛装置に電力を供給できるようにコンデンサ８００を充電することができ、かつコンデンサ８００は、外部電源に接続される時に電力を蓄えることができ、これにより、外部電源に接続されていなくても脱毛装置を使用することができる。プロセッサ７００は、脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００および冷却駆動アセンブリ４００に制御コマンドを送信し、脱毛装置の運転を制御する。例えば、脱毛装置のスイッチに対する制御、熱保護やパワー調整などを行う。

【0068】

本実施例では、回路基板６００は、第２シェル１２２内に固定されてもよく、回路基板６００は、ＰＣＢＡ回路基板が選択可能である。

【0069】

関連技術では、脱毛装置本体の内部の熱は往々にして使用中に増加し、脱毛装置の内部回路および部品は高温環境下で爆発、焼損、短絡などの危険性が発生しやすい。本実施例では、冷却駆動アセンブリ４００は、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００を放熱させることができ、放熱ベース３００は、冷感付けアセンブリ２００を放熱させることができ、それにより、冷感付けアセンブリ２００は、皮膚をアイシングして皮膚の快適性を高めることができ、高すぎる温度による爆発、焼損、短絡などの問題が防止される。

【0070】

具体的には、脱毛アセンブリ１００は、光源１０１、リフレクター１０２、光フィルター１０３および２つの電極１０４を含んでもよい。

【0071】

光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３はホルダー５００内に取り付けられ、すなわち、ホルダー５００内には、光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３の取付場所が設けられ、光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３は、ホルダー５００の取付場所に係入される。

【0072】

ここで、光源１０１は、冷感付けアセンブリ２００に対向して設けられ、光源１０１から射出された光は、冷感付けアセンブリ２００に直接入射され得る。リフレクター１０２は、光源１０１の冷感付けアセンブリ２００から離れた側に設けられ、光源１０１の光を反射して冷感付けアセンブリ２００に入射し、光エネルギーの損失を防止する。光フィルター１０３は、光源１０１と冷感付けアセンブリ２００との間に位置し、すなわち、光源１０１、光フィルター１０３および冷感付けアセンブリ２００は、光の伝搬方向に沿って順次配置され、光フィルター１０３は、光源１０１から発した有害な光の一部をフィルタリングするために使用される。光による皮膚へのダメージを軽減し、脱毛の安全性を高める。２つの電極１０４は、それぞれ光源１０１の両側に接続され、回路基板６００に電気的に接続されて電気信号を伝送するために用いられる。

【0073】

任意選択的に、光源１０１はランプであってもよく、ランプが発する光の色は限定されないが、色光や合成光などであってもよく、具体的な波長および周波数は用途によって決定される。ランプは、その種類も限定されず、半導体キセノンランプ、石英ランプ、レーザーランプなどであってもよく、光子の種類は、ＩＰＬ（Ｉｎｔｅｎｓｅ Ｐｕｌｓｅ Ｌｉｇｈｔ、インテンスパルスライト）、ＤＰＬ（Ｄｅｌｉｃａｔｅ Ｐｕｌｓｅ Ｌｉｇｈｔ、デリケートパルスライト）、ＯＰＴ（Ｏｐｔｉｍａｌ Ｐｕｌｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、最適パルス技術）、ＡＯＰＴ（Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｐｔｉｍａｌ Ｐｕｌｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、発展型最適パルス技術）、ＢＢＬ（ＢｒｏａｄＢａｎｄ Ｌｉｇｈｔ、ブロードバンドライト）などであってもよく、具体的には所定の効果によって決定される。

【0074】

任意選択的に、リフレクター１０２は、光源１０１を囲んで設けられたＵ字型反射板であってもよく、Ｕ字型反射板の開口は冷感付けアセンブリ２００に向かって、冷感付けアセンブリ２００に入射しない光を冷感付けアセンブリ２００に反射する。同時に、リフレクター１０２はさらに、光源１０１によって発生した熱が脱毛装置における他の部品に発散するのを防止することができる。本実施例では、ホルダー５００は、固定ホルダー５５０およびパイプ５６０を含み、ここで、固定ホルダー５５０の内部には、第１収容空間５１０と第２収容空間５２０が設けられる。ここで、第１収容空間５１０は、脱毛アセンブリ１００を取り付けるために使用され、第２収容空間５２０は、冷感付けアセンブリ２００を取り付けるために使用され、第１収容空間５１０および第２収容空間５２０は隣接して設けられることにより、脱毛アセンブリ１００と冷感付けアセンブリ２００との間の距離を縮め、脱毛アセンブリ１００から射出される光の光路ロスを低減し、第２収容空間５２０は、第１収容空間５１０に対して、図６に示す脱毛装置のヘッド１１１により近い。

【0075】

脱毛装置の動作時には、光源１０１は大量の熱が発生し、かつリフレクター１０２および光フィルター１０３も光によって照射され、温度の上昇につながるため、光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３を放熱させる必要がある。

【0076】

本実施例では、ホルダー５００は、固定ホルダー５５０およびパイプ５６０を含み、パイプ５６０は一端が固定ホルダー５５０の一方側に接続され、他端が冷却駆動アセンブリ４００に向かって延びている。ここで、固定ホルダー５５０内には、第１収容空間５１０と連通する空気排出口５４０が設けられ、パイプ５６０には、第１収容空間５１０と連通する空気流入口５３０が設けられ、空気流入口５３０、第１収容空間５１０および空気排出口５４０は順次連通する。

【0077】

空気流入口５３０は冷却駆動アセンブリ４００と連通し、空気排出口５４０は空気透過孔１２１１と連通する。冷却駆動アセンブリ４００は、外気を空気透過孔１２１１から吸い込み、かつ空気排出口５４０に吹く。空気は、空気排出口５４０から第１収容空間５１０に入った後、第１収容空間５１０内の光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３の熱を奪い、空気排出口５４０および空気透過孔１２１１から外界に流れ、その熱を外界に放散する。

【0078】

任意選択的に、固定ホルダー５５０とパイプ５６０のそれぞれの一部は第１ホルダー５０１を形成し、固定ホルダーとパイプのそれぞれの残り部分は第２ホルダー５０２を形成し、他の実施例では、固定ホルダー５５０は一体成形してもよい。

【0079】

第１ホルダー５０１と第２ホルダー５０２は、スナップによって一体に接続することができる。第１ホルダー５０１は第１シェル１２１に近接し、第２ホルダー５０２は第２シェル１２２に近接し、空気排出口５４０は、第１ホルダー５０１に設けられ、かつ第１シェル１２１の空気透過孔１２１１に対向して設けられ、これにより、空気排出口５４０の放熱効率を加速させる。第１収容空間５１０は、第１ホルダー５０１、第２ホルダー５０２のそれぞれの固定ホルダー５５０に対応する部分が係合されている部分内に設けられ、空気流入口５３０は、第１ホルダー５０１、第２ホルダー５０２のそれぞれのパイプ５６０に対応する部分が係合されている部分内に設けられて、第１収容空間５１０と連通し、かつ冷却駆動アセンブリ４００と連通し、ホルダー５の内部には、冷却駆動アセンブリ４００の気流を第１収容空間５１０内に導きやすくするために、空気伝導用の経路が設けられてもよい。

【0080】

したがって、本実施例では、脱毛アセンブリ１００は、冷却駆動アセンブリ４００によって放熱し、脱毛装置の安全な使用を確保する。

【0081】

さらに、本実施例では、冷感付けアセンブリ２００は、光透過体２０２および冷却部材２０１を含んでもよい。

【0082】

光透過体２０２は、皮膚に当てるために用いられ、光源１０１に対向して設けられ、光透過体３は光透過性部品であり、光源１０１から放射した光は、光透過体２０２に入ってから、光透過体２０２から皮膚に射出される。

【0083】

任意選択的に、光透過体２０２は、導光性結晶であってもよく、具体的には、サファイア、Ｋ９ガラスまたはクリスタルガラスが選択可能である。光透過体２０２は、サファイアで作製された場合、優れた熱伝導性を有する。

【0084】

任意選択的に、光透過体２０２は、円柱体または四角形体であってもよく、光透過体２０２の光源１０１から離れた面は、皮膚に当てるために使用される。

【0085】

冷却部材２０１は、光透過体２０２に接続され、光透過体２０２の熱を吸収するために使用される。光透過体２０２は、皮膚に接触すると、温度が上昇するため、冷却部材２０１は、光透過体２０２の温度が上昇した後に光透過体２０２の熱を吸収して、光透過体２０２を低温に維持させることができ、その結果、光透過体２０２を皮膚に長期間当てても、皮膚に冷感を付けることができ、皮膚の痛みを軽減することができる。

【0086】

さらに、冷却部材２０１は、半導体冷却方式の冷却部品であってもよく、その吸熱端が光透過体２０２に接続され、他端が放熱する。

【0087】

冷却部材２０１の放熱端を放熱させるために、本実施例では、放熱ベース３００は、冷却部材２０１の放熱端に接続され、冷却部材２０１の熱を吸収する。

【0088】

具体的には、放熱ベース３００は、放熱プレート３０１および放熱フィン３０２を含む。放熱プレート３０１の一面には、第１領域３１０と第２領域３１１が並んで設けられ、脱毛アセンブリ１００は第１領域３１０に設けられ、放熱フィン３０２は第２領域３１１に取り付けられる。第２領域３１１は、固定ホルダー５５０のパイプ５６０が接続される一方側に位置し、放熱フィン３０２とパイプ５６０は、固定ホルダーの一方側に並設され、固定ホルダー５５０は第１領域３１０に設けられ、放熱プレート３０１は、回路基板６００に取り付けられ、かつ冷感付けアセンブリ２００に接続され、具体的には、冷却部材２０１は、熱伝導性シリコングリースによって放熱プレート３０１に接着することができる。冷感付けアセンブリ２００は、熱伝導性シリコングリースによって迅速に熱を放熱プレート３０１に導くことができ、放熱フィン３０２は、放熱プレート３０１を放熱し、放熱プレート３０１の放熱を補助することができ、それによって、放熱プレート３０１は冷却部材２０１の熱を吸収し続けることができる。

【0089】

任意選択的に、放熱フィン３０２は複数あり、複数の放熱フィン３０２の間は互いに平行であり、放熱フィン３０２は、溶接により放熱プレート３０１に取り付けることができる。

【0090】

任意選択的に、放熱フィン３０２の表面には熱伝導性塗料を吹き付けることもでき、熱伝導性塗料は、放熱フィン３０２の熱を放散できるだけでなく、水蒸気による放熱フィン３０２への影響を防止することもでき、さらに腐食や摩損にも強い。

【0091】

本実施例では、放熱プレート３０１はベーパーチャンバーであってもよく、ベーパーチャンバーは、内部の液体作業物質が熱を受けて蒸発して熱を吸収し、冷えて放熱して液化することができ、蒸発と凝縮のサイクルを通じてベーパーチャンバーの表面温度を同じに保つことができる。したがって、放熱プレート３０１の表面の一部は冷却部材２０１に接続され、他の一部は放熱フィン３０２に接続され、冷却部材２０１で発生した熱は、放熱プレート３０１および放熱フィン３０２を介して放散する。

【0092】

任意選択的に、光透過体２０２と放熱ベース３００との間には炭素含有層が設けられてもよく、例えば、放熱プレート３０１の光透過体２０２に熱的に結合する側の表面に設けられ、炭素含有層は熱伝導性に優れ、放熱プレート３０１の熱伝導率を加速させ、放熱ベース３００の放熱性能を高めることができる。

【0093】

任意選択的に、炭素含有層は、グラフェン材料、グラファイト粉末、グラファイトシートまたはグラファイトフィルムである。

【0094】

任意選択的に、炭素含有層は、メッキ、吹き付けまたは積層によって設けられる。

【0095】

放熱ベース３００の放熱性能を高めるために、本実施例では、放熱ベース３００はさらに冷却駆動アセンブリ４００と連通する。

【0096】

具体的には、放熱ベース３００の放熱フィン３０２は、冷却駆動アセンブリ４００に接続され、冷却駆動アセンブリ４００は、空気透過孔１２１１から外気を吸い込み、かつ空気を放熱フィン３０２に吹くように駆動し、空気は放熱フィン３０２を流れて放熱フィン３０２を放熱させる。

【0097】

例示的な実施例では、放熱フィン３０２は、冷却駆動アセンブリ４００によって提供される気流と四角状で平行に設けられ、それにより、気流と接触する放熱フィン３０２の面積を増大させ、放熱フィン３０２の放熱効率を加速させる。

【0098】

放熱フィン３０２は、第１シェル１２１上の空気透過孔１２１１に対向して設けられ、気流は放熱フィン３０２を通過した後、迅速に空気透過孔１２１１から流出する。

【0099】

したがって、本実施例における冷却駆動アセンブリ４００は、冷却媒体を駆動して脱毛アセンブリ１００を放熱できるだけでなく、放熱ベース３００を放熱させることもできる。安全性能が改善された上で、照射された皮膚を冷感付けて冷却し、照射された皮膚から生じる灼熱痛を軽減することができ、かつ冷感付けアセンブリ２００は、放熱ベース３００と冷却駆動アセンブリ４００の作用の下で、０度の低温に近づけ、光射出口付近の皮膚を無限に凝固点に近づけることができ、よって、皮膚の灼熱痛を軽減でき、短時間の接触による皮膚への損傷が発生しない。

【0100】

さらに図７、図８および図１０を参照すると、図１０は、図８の実施例におけるファンハウジングの空気出口における構造を示す模式図である。この実施例では、冷却駆動アセンブリ４００は、ファンハウジング４０１およびファン４０２を含んでもよい。ファンハウジング４０１は、放熱ベース３００の冷感付けアセンブリ２００に背向する側に設けられ、ファン４０２はファンハウジング４０１内に収容される。

【0101】

ファン４０２は、吸気の一端が第１シェル１２１上の空気透過孔１２１１と対向しており、ファン４０２は、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に送り込むように駆動する。ファンハウジング４０１には、空気吹出用の空気出口４１０が設けられ、ファン４０２は、空気吹出の一端が空気出口４１０に接続されており、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に吸い込んだ後、空気出口４１０から流出させるように駆動する。

【0102】

任意選択的に、ファン４０２は、遠心ファン、軸流ファン、混合流ファン、またはクロスフローファンとすることができる。

【0103】

さらに、空気出口４１０は、第１空気出口４１１および第２空気出口４１２を含み、ファン４０２の空気出口４１０からの空気は２つの部分に分けられ、一方の部分は第１空気出口４１１から流出し、他方の部分は第２空気出口４１２から流出する。

【0104】

任意選択的に、空気出口４１０は、第３空気出口またはそれ以上の空気出口を含んでもよいが、ここでは限定されない。

【0105】

この実施例では、第１空気出口４１１は、ホルダー５００の空気流入口５３０と連通し、ファン４０２は、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に吸い込むように駆動し、ファン４０２は、気流を第１空気出口４１１および空気流入口５３０から第１収容空間５１０に吸い込むように駆動し、その気流は、第１収容空間５１０で光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３の熱を奪い、最後に空気排出口５４０および空気透過孔１２１１から外界に流出し、脱毛アセンブリ１００の放熱を実現する。

【0106】

この実施例では、第２空気出口４１２は、放熱ベース３００の放熱フィン３０２に接続され、ファン４０２は、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に吸い込むように駆動し、ファン４０２は、気流を第２空気出口４１２から放熱ベース３００の複数の放熱フィン３０２の間に吸い込むように駆動し、気流は放熱フィン３０２を通過して放熱フィン３０２の熱を奪い、かつ空気透過孔１２１１から流出する。放熱フィン３０２の温度が下がると、放熱プレート３０１の熱も低減され、それにより、放熱プレート３０１は冷感付けアセンブリ２００の熱を吸収し、冷感付けアセンブリ２００の放熱を実現することができる。

【0107】

任意選択的に、第１空気出口４１１および第２空気出口４１２での気流量は限定されず、実際の状況に応じて設定される。第１空気出口４１１および第２空気出口４１２の大きさを設定することにより、第１空気出口４１１および第２空気出口４１２での気流量を制御することができる。例えば、本実施例では、第２空気出口４１２の空気吹出面積は、第１空気出口４１１の空気吹出面積よりも大きく、それにより、より多くの気流は第２空気出口４１２から流出し、放熱プレート３０１の放熱効率を高める。

【0108】

以上から、本実施例に係る脱毛器は、冷却駆動アセンブリ４００によって、脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００および放熱ベース３００を放熱し、さらに脱毛アセンブリ１００および冷感付けアセンブリ２００の熱の同時放散を実現し、それにより、脱毛器の放熱性能が向上し、脱毛器の安全係数が高まるとともに、皮膚への冷感を無限に氷点に近づけ、皮膚の灼熱痛を軽減することができ、脱毛時に皮膚を損傷することができない。

【0109】

図１６および図１７を参照すると、本出願は脱毛器を開示し、当該脱毛器はリフレクター１、光源２、第１光透過体３、放熱ベース４および冷却部材５を含む。光源２は、リフレクター１内に組み立てられて、光を発することができ、リフレクター１は、その光を反射することができる。第１光透過体３は、リフレクター１の光射出側に設けられ、かつリフレクター１の光射出側を覆い、リフレクター１と共に光源２を収容可能なキャビティを形成し、リフレクター１は放熱ベース４に埋め込まれ、放熱ベース４は、リフレクター１に接触する側がリフレクター１に熱的に結合され、冷却部材５は、放熱ベース４に取り付けられ、かつその冷却側は、放熱ベース４の冷却部材５に接触する側に熱的に結合される。ここで、光源２の本体はキャビティ内に吊り下げることができ、冷却部材５は、キャビティを冷却するために使用される。

【0110】

脱毛器の作動時には、光源２は、リフレクター１内で多量の光を発し、その光によって発生した熱がキャビティ内に集まり、リフレクター１の温度はキャビティ内への熱の集中に伴って上昇する。ここで、放熱ベース４の一方側は、リフレクター１に熱的に結合され、冷却部材５は、放熱ベース４の他方側に熱的に結合され、熱的結合では、熱伝導、熱対流や熱放射、または上記３つの方式の任意の組み合わせによって熱を伝えることができる。すなわち、放熱ベース４によっては、リフレクター１上の熱を外部に伝えると同時に、キャビティ内の熱を放散し、リフレクター１およびキャビティの冷却を実現することができ、よって、光源２の放熱効率を向上させることができる。光源２の本体をキャビティに吊り下げることで、光源２の放熱をより均一にすることもでき、光源２の耐用年数を延ばすのに有利である。具体的には、光源２の作動時に発生した熱は、放射の形で周囲に放散され、また、空気媒体は、光源２の周囲に均一に包み込まれ、光源２と十分に接触すると同時に、光源２から発した熱も均一に放散する。熱は光源２によって発生し、キャビティを通過してリフレクター１および第１光透過体３に伝わり、放散される。

【0111】

さらに、冷却部材５によっては、放熱ベース４上の熱を伝達し、迅速に放熱する目的を達成し、さらに脱毛器の放熱効果を高めると同時に、キャビティ内の熱が脱毛器の他の部分に放射されるのを低減することができ、それにより、脱毛器を使用する過程において、脱毛された皮膚における灼熱感を軽減し、脱毛器の使用性能を向上させる。

【0112】

任意選択的に、当該脱毛器は、リフレクター１に設けられた炭素含有層をさらに含み得る。例えば、図１８を参照すると、当該炭素含有層９１は、リフレクター１の光源２に背向する側に設けられてもよい。光源２は使用時に熱を発してリフレクター１に集中させるが、炭素含有層９１は熱伝導性に優れているため、それが配置されたリフレクター１の熱伝導速度を促進し、リフレクター１の放熱性能を高め、脱毛器での過度の温度による自体の破損を防止することができ、さらに使用者の肌への刺激や損傷も防止することができる。

【0113】

任意選択的に、炭素含有層は放熱ベース４に設けられる。図１８に示すように、例えば、放熱ベース４とリフレクター１との間に設けられて、放熱ベース４とリフレクター１との間の熱伝導速度を促進する。

【0114】

任意選択的に、炭素含有層は、さらに冷却部材５の放熱ベース４に向かう側、または冷却部材５の露出面に設けられて、冷却部材５の冷却効果を高めることもでき、それにより、放熱ベース４上の熱を即時かつ迅速に奪い、リフレクター１を迅速に放熱するという目的を達成することができる。

【0115】

任意選択的に、炭素含有層は、グラフェン材料、グラファイト粉末、グラファイトシートまたはグラファイトフィルムなどの材料であってもよく、本出願に記載の炭素含有層を設けられる場所に、メッキ、吹き付けまたは積層などによって設けることができる。

【0116】

任意選択的に、放熱ベース４は、セラミックベースまたはアルミニウム製のベースであってもよく、放熱ベース４は、リフレクター１を迅速に放熱するために用いられ、それにより、リフレクター１の放熱効果を向上させることができる。例えば、セラミック自体は、耐食性、加熱膨張・冷却収縮が小さいなどの安定した物性を有し、かつ吸熱速度が速いため、セラミックベースは、熱を迅速に吸収でき、セラミックベースによって、リフレクター１およびキャビティを冷却し、当該脱毛器の放熱効果を高めることができる。

【0117】

また、セラミックは絶縁体であるため、リフレクター１に接触する時に短絡することはない。セラミックベースがリフレクター１の外面を覆うことで、脱毛器のリフレクター１でのリークの危険性が低減され、脱毛器の安全性が向上する。光源２の本体は、キャビティ内に吊り下げるように設けられ、導体で構成されたリフレクター１との間に隙間を有する。通電後、光源２とリフレクター１との間に強い電界が形成され、光源２を励起して発光させる。

【0118】

ここで、セラミックベースの一方側にはスロット４１が設けられ、当該スロット４１は長尺状を呈し、任意選択的に、リフレクター１は、半円弧状のリフレクターであってもよく、リフレクター１はスロット４１に埋め込まれる。第１光透過体３は、光フィルターまたは透明なガラス担体であってもよく、第１光透過体３はセラミックベースに対して固定される。光源２が発した熱は、第１光透過体３およびリフレクター１によってキャビティ内で拘束され、熱が脱毛器の他の部分に放射される可能性を低減することができる。セラミックベースにはスロット４１が開設され、リフレクター１は当該スロット４１に埋め込まれることにより、セラミックベースとリフレクター１との接触面積を大きくし、さらにセラミックベースのリフレクター１への吸熱性能を高め、リフレクター１およびキャビティの放熱効果を高めることができる。

【0119】

任意選択的に、リフレクター１は、長尺状のリフレクターであってもよい。

【0120】

図１６を参照すると、任意選択的に、冷却部材５は、ＴＥＣ冷却シートまたは冷却ブロックであってもよく、冷却部材５は、放熱ベース４を冷却するために使用され、それにより、放熱ベース４上の熱を即時かつ迅速に奪い、リフレクター１を迅速に放熱するという目的を達成することができる。本出願の一例では、採用した冷却部材５はＴＥＣ冷却シートであり、ここでは例示的なものに過ぎず、冷却部材５を限定するものではない。

【0121】

任意選択的に、放熱ベース４は長尺状であってもよく、ＴＥＣ冷却シートは長尺状であってもよく、放熱ベース４には１つの取付溝が開設され、取付溝は、放熱ベース４のリフレクター１の開口から離れた側に位置し、ＴＥＣ冷却シートは取付溝内に配置され、ＴＥＣ冷却シートは放熱ベース４と十分に接触する。ＴＥＣ冷却シートによっては、キャビティおよびリフレクター１から放熱ベース４に伝達された熱を迅速に伝達して、放熱ベース４の冷却を実現することができるので、一方では、脱毛器の作動時に、光源２をよりよく保護し、高温による光源２への損傷を効果的に低減して、光源２の耐用年数を延長することができ、他方では、脱毛器の外面の温度を下げ、使用者が快適に脱毛器を手に持つことができるようにし、脱毛器の性能を向上させることができる。

【0122】

図１６、図１７および図１９を参照すると、脱毛器はホルダー６を含み、ホルダー６は、放熱ベース４と協働してリフレクター１および第１光透過体３と共に組み立てるのに使用され、ホルダー６は窓６１を有し、当該窓６１は四角形または長方形であり、第１光透過体３はホルダー６に固定されて窓６１を覆う。放熱ベース４とホルダー６を着脱自在に接続することにより、脱毛器の組立と分解を容易にし、ホルダー６および放熱ベース４により、リフレクター１および第１光透過体３を一緒に固定することができ、それによって、脱毛器の内部の間の構造をよりコンパクトにし、脱毛器内部の空間を節約し、設計が合理的であるとともに、当該脱毛器を容易に使用する。

【0123】

任意選択的に、放熱ベース４の両側にはいずれも第１留め具４２が一体成形され、ホルダー６の両側にはいずれも第２留め具６２が一体成形され、第１留め具４２と第２留め具６２は対応して設けられる。放熱ベース４とホルダー６が接続されている時、第１留め具４２と第２留め具６２が強固に係合され、さらに、放熱ベース４とホルダー６を確実に接続できるようにし、それにより当該脱毛器の使用安定性が向上する。

【0124】

任意選択的に、第１留め具４２は、係合ブロックまたは片持ちフックであってもよく、第２留め具６２は固定穴であってもよい。片持ちフックを固定穴に埋め込むと、固定穴によって片持ちフックが固定穴から容易に外れないように制限し、第１留め具４２と第２留め具６２を確実に接続することができ、つまり、放熱ベース４とホルダー６を相対的に固定できるようにし、それにより、放熱ベース４とホルダー６が緩んだり外れたりすることを効果的に防止し、当該脱毛器全体の安定性を高める。

【0125】

図１６、図１７および図１９を参照すると、ホルダー６には第２光透過体７が固定され、第２光透過体７は四角形または長方形であり、第２光透過体７は当該窓６１に埋め込まれる。第２光透過体７は、光フィルターの光源２に背向する側に位置し、かつ光源２に向かう入射面７１と、光源２に背向する射出面７２とを有する。任意選択的に、第２光透過体７は結晶であってもよく、第２光透過体７はダイヤモンドであってもよく、本出願の実施例では、結晶を例に挙げて説明する。

【0126】

脱毛器の作動時には、光源２は光を発し、リフレクター１はその光を反射し、かつ光フィルターを透過して結晶に反射し、光は、入射面７１から入射し、結晶本体で反射されて射出面７２から射出し、射出面７２からの射出光は、皮膚の脱毛対象部分に照射されることにより、皮膚上の毛を容易に除去することができる。

【0127】

任意選択的に、ＴＥＣ冷却シートの数は、２つまたは３つであってもよく、例えば、ＴＥＣ冷却シートの数は２つであってもよく、かつ２つのＴＥＣ冷却シートは間隔をあけて配置され、その中の１つのＴＥＣ冷却シートは放熱ベース４に固定され、もう１つはホルダー６に取り付けられる。ホルダー６には取付口が開設され、取付口は窓６１と連通し、第２光透過体７が窓６１に埋め込まれると、ＴＥＣ冷却シートは、取付口に埋め込まれ、かつ第２光透過体７と互いに当接する。ＴＥＣ冷却シートで第２光透過体７を冷却することにより、第２光透過体７を迅速に放熱し、第２光透過体７の温度を効果的に低下させ、射出面７２が熱くなるのをできるだけ阻止することができ、それによって、脱毛器と皮膚の脱毛対象部分を安全に接触させ、脱毛器の使用の快適性を向上させることができる。

【0128】

任意選択的に、例えば、ＴＥＣ冷却シートの数は３つであってもよく、そのうち、１つのＴＥＣ冷却シートは放熱ベース４に固定され、残りの２つのＴＥＣ冷却シートは、それぞれホルダーに埋め込まれ、かつ２つのＴＥＣ冷却シートはそれぞれ第２光透過体７の両側に位置し、この両側は、光の射出方向に向かう第２光透過体７の上側と下側、または左側と右側であってもよい。第２光透過体７の両側のＴＥＣ冷却シートにより、第２光透過体７の冷却効率を高め、第２光透過体７を迅速に放熱させ、さらに冷却の目的を達成し、当該脱毛器の放熱効果を向上させることができる。

【0129】

図２０を参照すると、任意選択的に、光源２、リフレクター１と第２光透過体７の三者の構造および相対的な位置関係は、射出面７２の光射出均一性が９０％以上であるか、または射出面７２上の光スポットが射出面７２の少なくとも９５％を占めるという条件を満たす。射出面７２の光射出均一性を９０％以上にすることにより、脱毛器の脱毛効果を高め、肌の脱毛対象部分の毛を均一に除去することができる。同様に、射出面７２上の光スポットが射出面７２の少なくとも９５％を占めることにより、肌の脱毛対象部分の毛を均一に除去することもでき、さらに、光の利用率を向上させることができる。

【0130】

光射出均一性が低い脱毛器や、射出面７２に対する射出面７２上の光スポットの割合が小さい脱毛器では、使用の際に、均一な脱毛を実現するために、同じ部位に複数回照射する必要がある場合があり、そうでなければ、均一に脱毛することができず、美観性の点からも好ましくない。本出願の実施形態では、光源２、リフレクター１と第２光透過体７の三者の構造および相対的な位置関係は、射出面７２の光射出均一性が９０％以上であるか、または射出面７２上の光スポットが射出面７２の少なくとも９５％を占めるという条件を満たすので、脱毛器が同じ部位に複数回照射する必要がない。光源２の品質と脱毛器のパワーが十分で、人の健康条件を満たしている場合、脱毛器は１回の照射だけで効率的で均一な脱毛を実現することができる。

【0131】

任意選択的に、リフレクター１、光源２と第２光透過体７の中心は１つの直線上にあってもよく、その直線における三者の互いの距離を調整することにより、射出面７２の光射出均一性を９０％以上にすること、または射出面７２上の光スポットが射出面７２の少なくとも９５％を占めるようにすることが可能である。任意選択的に、三者の構造自体を調整することにより、脱毛器を上記の条件に適合させることもできる。

【0132】

任意選択的に、光源２の中心は、リフレクター１の焦点（図では１ａと表記される）とリフレクター１の底部との間に位置し、第２光透過体７の入射面７１は、射出面７２とリフレクター１の焦点との間に位置し、かつリフレクター１から反射された光の集光位置は、第２光透過体７の射出面７２とリフレクター１の焦点との間にある。光源２、リフレクター１と第２光透過体７の三者間の位置を限定することにより、射出面７２の光射出均一性を９０％以上にし、または射出面７２上の光スポットが射出面７２の少なくとも９５％を占めるようにし、それにより、光源２が発した光は、リフレクター１で光透過体７に十分に反射され、第２光透過体７の光射出均一性を高めることができる。

【0133】

図１９を参照すると、リフレクター１は、第１反射領域１１と第２反射領域１２を有し、第１反射領域１１は、リフレクター１の底部を含む円弧状領域であり、第２反射領域１２は、円弧状領域の両端から外側に延びる平面状領域であり、平面状領域は、円弧状領域に接する。任意選択的に、光源２は棒状ランプであってもよく、棒状ランプは光を発し、リフレクター１の円弧状領域はその光を第２光透過体７によく反射することができ、同時に、リフレクター１の平面状領域も、その光を第２光透過体７に反射することができ、円弧状領域と平面状領域によって光を十分に反射することにより、光の射出率を高め、光の利用率を向上させる。

【0134】

例えば、脱毛器の作動時には、光源２は光を発し、リフレクター１の第１反射領域１１および第２反射領域１２は、光を第２光透過体７に十分に反射し、光は、第２光透過体７の入射面から入射した後、第２光透過体７の射出面から射出され、それにより、射出面７２の光射出均一性を９０％以上にし、または射出面７２上の光スポットが射出面７２の少なくとも９５％を占めるようにし、よって、脱毛器の光射出均一性を高め、当該脱毛器の使用効果を向上させる。

【0135】

任意選択的に、平面状領域と参照線とのなす角度は５～２０度であり、参照線は、光源２の中心と第２光透過体７の中心とを結ぶ線である。例えば、平面状領域と参照線とのなす角度は５度または８度であってもよく、平面状領域と参照線とのなす角度はさらに１５度であってもよい。光を第２光透過体７に十分に反射できるように、平面状領域と参照線とのなす角度を限定することにより、一方では、光の無駄を低減して使用コストを削減でき、他方では、第２光透過体７の光射出均一性を向上させることができる。

【0136】

例えば、この範囲では焦点距離が近く、光射出均一性と光の利用率を満たす条件では、第２光透過体７も光源２により近づけるようにすることができ、それにより、脱毛器の構造をよりコンパクトにすると同時に、加工上の材料も節約することができる。

【0137】

図１６、図１７および図１９を参照すると、脱毛器は、リフレクター１の長さ方向の両端に設けられ、リフレクター１の両端から漏れる光をリフレクター１の光射出側に反射する側面反射部材１３を含む。側面反射部材１３で、光源２が発した光を十分に反射することにより、光の利用率を高めることが容易となり、よって、脱毛器は脱毛を効果的に行うことができるとともに、側面反射部材１３によって光源２を容易に取り付け、取付効率を向上させることができる。

【0138】

任意選択的に、側面反射部材１３はリフレクター１と一体成形されることで、加工の面では取付の難易度を下げることができ、さらに、側面反射部材１３とリフレクター１との一体成形により、強固でしっかりしており、側面反射部材１３とリフレクター１との接続の安定性を高め、リフレクター１の耐用年数を延長することができる。

【0139】

任意選択的に、光源２は棒状ランプであり、リフレクター１の両側に位置する側面反射部材１３には、それぞれ貫通孔１３１が設けられ、ランプの端部は貫通孔１３１を通過する。ランプの両端には、いずれも光源２をリフレクター１に可動に固定するための固定部材８が接続され、例えば、固定部材８はシリコン製のソフトスリーブであってもよく、固定部材８はゴム製のスリーブであってもよい。固定部材８は円筒状であり、かつ収容溝８１を備え、ランプの両端はいずれも収容溝８１に埋め込まれ、固定部材８には軸線に沿って取付孔８２が設けられ、取付孔８２は収容溝８１と連通し、ランプの両端にはいずれも取付柱２１が延在し、取付柱２１は取付孔８２を貫通し、固定部材８はリフレクター１の外側に設けられる。

【0140】

任意選択的に、放熱ベース４の両端には、いずれも支持ブロック４３が一体成形され、支持ブロック４３には、光源２の両端および固定部材８を収容可能な切欠が形成され、放熱ベース４とホルダー６が係合されている状態では、ホルダー６と支持ブロック４３によって固定部材８が固定され、さらにランプがリフレクター１に固定され、固定部材８はそれ自体が弾性を有し、ホルダー６と支持ブロック４３によって固定部材８を固定する過程において、固定部材８が押さえられると、固定部材８は、それ自体の形状を適宜変化させて切欠の形状に適応させると同時に、ランプの損傷を低減し、ランプが押さえられることを最小限に抑えることができる。

【0141】

本実施例は、脱毛器の放熱効果を高める機能を有する脱毛器を開示する。光源２は、リフレクター１内に組み立てられ、かつ光を発することができ、リフレクター１は、その光を反射して、さらに当該脱毛器の光射出を実現することができ、それにより、肌の毛を容易に除去して脱毛の目的が実現される。第１光透過体３とリフレクター１は、光源２を収容するキャビティを形成し、光源２の本体はキャビティ内に吊り下げられ、放熱ベース４の両側はそれぞれ、リフレクター１および冷却部材５に熱的に結合されることにより、キャビティ内の熱をキャビティから迅速に伝達することができ、つまり、キャビティ内の熱を放熱ベース４と冷却部材５に伝達し、さらにキャビティを冷却し、これにより、当該脱毛器の放熱効果を高めることができるとともに、光源２を均一に放熱させ、光源２の耐用年数を延ばすことができる。さらに、放熱性能が良いため、当該脱毛器の使用上の快適性を向上させることができる。

【0142】

図２６および図２７を参照すると、本出願に係る脱毛器の別の実施例では、弾性シールリング１６は第１光透過体３と第２光透過体７の間に設けられ、弾性シールリング１６は環状であり、第１光透過体３と第２光透過体７の両方は弾性シールリング１６と密封するように合わせることにより、第２光透過体７と第１光透過体３との間に結露が発生せず、第２光透過体７と第１光透過体３との接続箇所にいくつかの汚れが侵入することもできず、弾性シールリング１６は、好ましくは環状に設けられるシールリングである。

【0143】

もちろん、不用意に脱毛器が地面に落下した場合、第２光透過体７と地面との間で剛体衝突が発生することがあり、従来の第２光透過体７では、その衝撃力が第１光透過体３に伝わり、さらに第１光透過体３、リフレクター１および光源２を損傷する可能性がある。本実施例の脱毛器では、第２光透過体７が衝突した際の衝撃力を弾性シールリング１６によって打ち消すことができ、弾性シールリング１６は、外力で押さえられた際に、自体の弾性により弾性変形を生じさせ、第１光透過体３と第２光透過体７との間の衝撃を低減または打ち消すことができ、それにより、第１光透過体３、リフレクター１および光源２がこれらの衝撃によって破損される可能性が低下し、さらに当該脱毛器の衝突回避性能が向上する。

【0144】

さらに図２８乃至図３０を参照すると、弾性シールリング１６には、光を通過させるための内側リング１６１が設けられており、第１光透過体３によってフィルタリングされた光は、内側リング１６１を介して第２光透過体７に導かれて、人間の肌に照射することができる。

【0145】

本実施例では、第１光透過体３と第２光透過体７は、いずれもホルダー６に直接固定され、ホルダー６に対して移動不可能であることにより、使用過程で人体の骨または鋭い物体が第２光透過体７に突き当たり、第２光透過体７をホルダー６に対して相対的に後退させることを効果的に回避し、第１光透過体３または脱毛アセンブリ１００への回復不可能な押付変形を防止し、また、弾性シールリング１６が数回押し付けられて回復不可能な押付変形が発生したとしても、脱毛器の導光効果への影響による光エネルギーの浪費を回避することができる。

【0146】

弾性シールリング１６にはさらに、内側リング１６１と連通する取付溝１６２が設けられ、取付溝１６２は、弾性シールリング１６の脱毛アセンブリ１００から離れた側に設けられ、内側リング１６１は、取付溝１６２の溝底壁から第１光透過体３の側に向かって貫通して延びており、第２光透過体７は取付溝１６２内に部分的に取り付けられることにより、第２光透過体７と弾性シールリング１６との間の密封性能を向上させるとともに、弾性シールリング１６が第２光透過体７に固定されて、両者間の固定接続を実現する。

【0147】

好ましい実施形態として、弾性シールリング１６は、外側リング１６３と、外側リング１６３の一方側面に突出した突起１６４とを含み、突起１６４は第１光透過体３に当接し、外側リング１６３の突起１６４から離れた側面には取付溝１６２が設けられ、内側リング１６１は、取付溝１６２の溝底壁から突起１６４の一方側に向かって貫通して延びており、外側リング１６３も突起１６４も完全な閉ループ構造であり、内側リング１６１内の光は、第２光透過体７からのみ透過可能である。

【0148】

好ましい実施形態として、突起１６４の横断面は、横方向に設けられた三角形構造であり、突起１６４が第１光透過体３に接触する面積は、突起１６４が外側リング１６３に接触する面積よりも小さいので、弾性シールリング１６が取り付けられた場合、突起１６４の外側リング１６３から離れた端部は、押さえられると部分的に反ることがあり、弾性シールリング１６は弾性があるので、弾性シールリング１６の反った部分は、第１光透過体３にしっかりと当接することができ、すなわち、第２光透過体７と第１光透過体３との間の間隔がわずかに変化する場合、弾性シールリング１６は、反った部分によってこの間隔の変化に適応することができ、それにより、弾性シールリング１６と第２光透過体７との間、および弾性シールリング１６と第１光透過体３との間は、常に密着または締り嵌めが維持され、密封性がより優れている。もちろん、他の実施例では、突起１６４の横断面は、台形構造であってもよい。

【0149】

本実施例では、弾性シールリング１６は、レーザー耐性と高温・低温耐性を備える材料で作られた環状体であり、それにより、弾性シールリング１６が使用過程で高温や低温またはレーザー照射により変形することが回避され、弾性シールリング１６の耐用年数が延長される。

【0150】

図２１を参照すると、図２１は、本出願の別の実施例の構造を示す模式図である。ここで、脱毛装置は、ヘッド１１１と、ヘッド１１１に接続された把持部１１２とを含む。ヘッド１１１には、肌に当てるための冷感付け部１１１１が設けられ、冷感付け部１１１１は、光を射出して使用者の皮膚の毛包に照射し、光を皮膚に透過させて毛包に照射して脱毛を行うことができると同時に、温度を急速に下げ、光による皮膚への灼熱感を軽減し、使用者が使用中で不快感を感じないようにすることができる。いくつかの実施例では、冷感付け部１１１１はさらに、スキンケア用の光を射出することができ、それにより、脱毛器は脱毛とスキンケアの両方の機能を有する。

【0151】

任意選択的に、把持部１１２は、中空のシェル（図には参照番号が付されない）を含んでもよく、シェルの表面には空気透過孔１２１１が設けられ、空気透過孔１２１１はシェルの内部と外界を連通することにより、脱毛装置は、空気透過孔１２１１を介して外界と気流を交換し、内部の温度を下げることができる。シェルは、ポート１２１２をさらに含み、ポート１２１２は、外部電源に接続して脱毛装置を充電するために使用され得る。ここで、シェルにおけるポート１２１２の位置は限定されない。

【0152】

図２１および２２を参照すると、図２２は、本出願の別の実施例の分解構造を示す模式図であり、ここで、図２２に示す矢印は、冷却駆動アセンブリの駆動下での脱毛装置内の気流の流れ方向を表し、直線は冷気流を表し、波浪は熱気流を表す。具体的には、脱毛装置は、シェルと、シェルの開口に設けられたライトカバー１１３と、シェルの内部に収容された脱毛機構１４と、底部カバー１５とを含んでもよい。

【0153】

本実施例では、シェルは、第１シェル１２１および第２シェル１２２を含んでもよく、第１シェル１２１および第２シェル１２２は、相互に係合するように接続されて両端に開口を有する空洞を形成し、脱毛機構１４は空洞内に収容され、ライトカバー１１３および底部カバー１５はそれぞれ、２つの開口を覆うように設けられ、第１シェル１２１と第２シェル１２２を接続して空洞を形成した後の開口を封止するために使用される。

【0154】

任意選択的に、第１シェル１２１、第２シェル１２２、ライトカバー１１３および底部カバー１５は、スナップによって接続されてもよく、ねじや接着によって接続されてもよい。

【0155】

脱毛機構１４は、脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００、放熱ベース３００および冷却駆動アセンブリ４００を含む。

【0156】

冷感付けアセンブリ２００は、ライトカバー１１３に近い側に設けられ、ライトカバー１１３には貫通孔（参照番号が付されない）が設けられ、一部の冷感付けアセンブリ２００は、シェルの内部からライトカバー１１３の貫通孔を経て外界に露出して皮膚に直接接触する。理解されるように、冷感付けアセンブリ２００の一部とライトカバー１１３は、脱毛装置のヘッド１１１を形成している。

【0157】

脱毛アセンブリ１００は、冷感付けアセンブリ２００のライトカバー１１３から離れた側に設けられ、冷感付けアセンブリ２００に光を放射するために使用される。光は赤光や緑光、または黄色光などの可視光線であり得る。光は、冷感付けアセンブリ２００に入射され、冷感付けアセンブリ２００を透過して皮膚下の毛包に入ることにより、脱毛が実現される。

【0158】

放熱ベース３００は、冷感付けアセンブリ２００の一方側に設けられ、かつ冷感付けアセンブリ２００に接続される。冷感付けアセンブリ２００は皮膚に当てると、皮膚の熱を吸収し、皮膚の温度を下げ、灼熱感を軽減することができるので、冷感付けアセンブリ２００は、長時間使用されると、温度が上昇し、冷却効果が低下する。放熱ベース３００は、冷感付けアセンブリ２００の熱を吸収し、冷感付けアセンブリ２００を低温の作業環境に維持し、皮膚に対する冷感付けアセンブリ２００の冷却効果を確保することができる。したがって、本実施例における脱毛装置は、連続的に使用しても本体を低温に維持することができ、かつ使用者に痛みを与えることもない。

【0159】

冷却駆動アセンブリ４００は、放熱ベース３００の少なくとも一部が脱毛アセンブリ１００に背向する側に設けられ、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００を放熱させるために使用される。

【0160】

本実施例では、冷却駆動アセンブリ４００は、外部冷却媒体を吸い込んで空気透過孔１２１１から脱毛装置の内部に入れ、冷却媒体は、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００を通過して熱を運び去り、さらに空気透過孔１２１１から流出する。

【0161】

任意選択的に、外部冷却媒体は空気であってもよく、冷却駆動アセンブリ４００は、空気を吸い込み、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００に吹き、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００の熱は気流によって運び去られる。

【0162】

本実施例では、空気透過孔１２１１は第１シェル１２１に設けられ、冷却駆動アセンブリ４００の少なくとも一部が空気透過孔１２１１と対向し、それにより、冷却駆動アセンブリ４００は、空気透過孔１２１１から外部冷却媒体をよりよく吸収し、放熱効率を高めることができる。他の実施例では、空気透過孔１２１１は、第２シェル１２２に設けられてもよい。

【0163】

図２２および図２３を参照すると、図２３は、図２２の実施例の分解構造を示す模式図であり、ここで、図２３に示す矢印は、ファンから出る空気の方向を表す。

【0164】

本実施例では、脱毛装置は、ホルダー５００、回路基板６００、プロセッサ７００およびコンデンサ８００をさらに含み、脱毛アセンブリ１００および冷感付けアセンブリ２００は、ホルダー５００内に取り付けられ、冷却駆動アセンブリ４００は、ホルダー５００に隣接して設けられる。脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００および冷却駆動アセンブリ４００は、回路基板６００に取り付けられ、回路基板６００に電気的に接続される。

【0165】

プロセッサ７００およびコンデンサ８００は、回路基板６００に電気的に接続され、回路基板６００に設けられる。外部電源に接続される場合、外部電源は、コンデンサ８００が脱毛装置に電力を供給できるようにコンデンサ８００を充電することができ、かつコンデンサ８００は、外部電源に接続される時に電力を蓄えることができ、これにより、外部電源に接続されていなくても脱毛装置を使用することができる。プロセッサ７００は、脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００および冷却駆動アセンブリ４００に制御コマンドを送信し、脱毛装置の運転を制御する。例えば、脱毛装置のスイッチに対する制御、熱保護やパワー調整などを行う。

【0166】

本実施例では、回路基板６００は、第２シェル１２２内に固定されてもよく、回路基板６００は、ＰＣＢＡ回路基板が選択可能である。

【0167】

関連技術では、脱毛装置本体の内部の熱は往々にして使用中に増加し、脱毛装置の内部回路および部品は高温環境下で爆発、焼損、短絡などの危険性が発生しやすい。本実施例では、冷却駆動アセンブリ４００は、脱毛アセンブリ１００および放熱ベース３００を放熱させることができ、放熱ベース３００は、冷感付けアセンブリ２００を放熱させることができ、それにより、冷感付けアセンブリ２００は、皮膚をアイシングして皮膚の快適性を高めることができ、高すぎる温度による爆発、焼損、短絡などの問題が防止される。

【0168】

具体的には、脱毛アセンブリ１００は、光源１０１、リフレクター１０２、光フィルター１０３および２つの電極１０４を含んでもよい。

【0169】

光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３はホルダー５００内に取り付けられ、すなわち、ホルダー５００内には、光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３の取付場所が設けられ、光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３は、ホルダー５００の取付場所に係入される。

【0170】

ここで、光源１０１は、冷感付けアセンブリ２００に対向して設けられ、光源１０１から射出された光は、冷感付けアセンブリ２００に直接入射され得る。リフレクター１０２は、光源１０１の冷感付けアセンブリ２００から離れた側に設けられ、光源１０１の光を反射して冷感付けアセンブリ２００に入射し、光エネルギーの損失を防止する。光フィルター１０３は、光源１０１と冷感付けアセンブリ２００との間に位置し、すなわち、光源１０１、光フィルター１０３および冷感付けアセンブリ２００は、光の伝搬方向に沿って順次配置され、光フィルター１０３は、光源１０１から発した有害な光の一部をフィルタリングするために使用される。光による皮膚へのダメージを軽減し、脱毛の安全性を高める。２つの電極１０４は、それぞれ光源１０１の両側に接続され、回路基板６００に電気的に接続されて電気信号を伝送するために用いられる。

【0171】

任意選択的に、光源１０１はランプであってもよく、ランプが発する光の色は限定されないが、色光や合成光などであってもよく、具体的な波長および周波数は用途によって決定される。ランプは、その種類も限定されず、半導体キセノンランプ、石英ランプ、レーザーランプなどであってもよく、光子の種類は、ＩＰＬ（Ｉｎｔｅｎｓｅ Ｐｕｌｓｅ Ｌｉｇｈｔ、インテンスパルスライト）、ＤＰＬ（Ｄｅｌｉｃａｔｅ Ｐｕｌｓｅ Ｌｉｇｈｔ、デリケートパルスライト）、ＯＰＴ（Ｏｐｔｉｍａｌ Ｐｕｌｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、最適パルス技術）、ＡＯＰＴ（Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｐｔｉｍａｌ Ｐｕｌｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、発展型最適パルス技術）、ＢＢＬ（ＢｒｏａｄＢａｎｄ Ｌｉｇｈｔ、ブロードバンドライト）などであってもよく、具体的には所定の効果によって決定される。

【0172】

任意選択的に、リフレクター１０２は、光源１０１を囲んで設けられたＵ字型反射板であってもよく、Ｕ字型反射板の開口は冷感付けアセンブリ２００に向かって、冷感付けアセンブリ２００に入射しない光を冷感付けアセンブリ２００に反射する。同時に、リフレクター１０２はさらに、光源１０１によって発生した熱が脱毛装置における他の部品に発散するのを防止することができる。本実施例では、ホルダー５００は、固定ホルダー５５０およびパイプ５６０を含み、ここで、固定ホルダー５５０の内部には、第１収容空間５１０と第２収容空間５２０が設けられる。ここで、第１収容空間５１０は、脱毛アセンブリ１００を取り付けるために使用され、第２収容空間５２０は、冷感付けアセンブリ２００を取り付けるために使用され、第１収容空間５１０および第２収容空間５２０は隣接して設けられることにより、脱毛アセンブリ１００と冷感付けアセンブリ２００との間の距離を縮め、脱毛アセンブリ１００から射出される光の光路ロスを低減し、第２収容空間５２０は、第１収容空間５１０に対して、図２１に示す脱毛装置のヘッド１１１により近い。

【0173】

脱毛装置の動作時には、光源１０１は大量の熱が発生し、かつリフレクター１０２および光フィルター１０３も光によって照射され、温度の上昇につながるため、光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３を放熱させる必要がある。

【0174】

本実施例では、ホルダー５００は、固定ホルダー５５０およびパイプ５６０を含み、パイプ５６０は一端が固定ホルダー５５０の一方側に接続され、他端が冷却駆動アセンブリ４００に向かって延びている。ここで、固定ホルダー５５０内には、第１収容空間５１０と連通する空気排出口５４０が設けられ、パイプ５６０には、第１収容空間５１０と連通する空気流入口５３０が設けられ、空気流入口５３０、第１収容空間５１０および空気排出口５４０は順次連通する。

【0175】

空気流入口５３０は冷却駆動アセンブリ４００と連通し、空気排出口５４０は空気透過孔１２１１と連通する。冷却駆動アセンブリ４００は、外気を空気透過孔１２１１から吸い込み、かつ空気排出口５４０に吹く。空気は、空気排出口５４０から第１収容空間５１０に入った後、第１収容空間５１０内の光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３の熱を奪い、空気排出口５４０および空気透過孔１２１１から外界に流れ、その熱を外界に放散する。

【0176】

任意選択的に、固定ホルダー５５０とパイプ５６０のそれぞれの一部は第１ホルダー５０１を形成し、固定ホルダーとパイプのそれぞれの残り部分は第２ホルダー５０２を形成し、他の実施例では、固定ホルダー５５０は一体成形してもよい。

【0177】

第１ホルダー５０１と第２ホルダー５０２は、スナップによって一体に接続することができる。第１ホルダー５０１は第１シェル１２１に近接し、第２ホルダー５０２は第２シェル１２２に近接し、空気排出口５４０は、第１ホルダー５０１に設けられ、かつ第１シェル１２１の空気透過孔１２１１に対向して設けられ、これにより、空気排出口５４０の放熱効率を加速させる。第１収容空間５１０は、第１ホルダー５０１、第２ホルダー５０２のそれぞれの固定ホルダー５５０に対応する部分が係合されている部分内に設けられ、空気流入口５３０は、第１ホルダー５０１、第２ホルダー５０２のそれぞれのパイプ５６０に対応する部分が係合されている部分内に設けられて、第１収容空間５１０と連通し、かつ冷却駆動アセンブリ４００と連通し、ホルダー６の内部には、冷却駆動アセンブリ４００の気流を第１収容空間５１０内に導きやすくするために、空気伝導用の経路が設けられてもよい。

【0178】

したがって、本実施例では、脱毛アセンブリ１００は、冷却駆動アセンブリ４００によって放熱し、脱毛装置の安全な使用を確保する。

【0179】

さらに、本実施例では、冷感付けアセンブリ２００は、第２光透過体２０１および冷却部材２０２を含んでもよい。

【0180】

第２光透過体２０１は、皮膚に当てるために用いられ、光源１０１に対向して設けられ、第２光透過体２０１は光透過性部品であり、光源１０１から放射した光は、第２光透過体２０１に入ってから、第２光透過体２０１から皮膚に射出される。

【0181】

任意選択的に、第２光透過体２０１は、導光性結晶であってもよく、具体的には、サファイア、Ｋ９ガラスまたはクリスタルガラスが選択可能である。第２光透過体２０１は、サファイアで作製された場合、優れた熱伝導性を有する。

【0182】

任意選択的に、第２光透過体２０１は、円柱体または四角形体であってもよく、第２光透過体２０１の光源１０１から離れた面は、皮膚に当てるために使用される。

【0183】

冷却部材２０２は、第２光透過体２０１に接続され、第２光透過体２０１の熱を吸収するために使用される。第２光透過体２０１は、皮膚に接触すると、温度が上昇するため、冷却部材２０２は、第２光透過体２０１の温度が上昇した後に第２光透過体２０１の熱を吸収して、第２光透過体２０１を低温に維持させることができ、その結果、第２光透過体２０１を皮膚に長期間当てても、皮膚に冷感を付けることができ、皮膚の痛みを軽減することができる。

【0184】

さらに、冷却部材２０２は、半導体冷却方式の冷却部品であってもよく、その吸熱端が第２光透過体２０１に接続され、他端が放熱する。

【0185】

冷却部材２０２の放熱端を放熱させるために、本実施例では、放熱ベース３００は、冷却部材２０２の放熱端に接続され、冷却部材２０２の熱を吸収する。

【0186】

具体的には、放熱ベース３００は、放熱プレート３０１および放熱フィン３０２を含む。放熱プレート３０１の一面には、第１領域３１０と第２領域３１１が並んで設けられ、脱毛アセンブリ１００は第１領域３１０に設けられ、放熱フィン３０２は第２領域３１１に取り付けられる。第２領域３１１は、固定ホルダー５５０のパイプ５６０が接続される一方側に位置し、放熱フィン３０２とパイプ５６０は、固定ホルダーの一方側に並設され、固定ホルダー５５０は第１領域３１０に設けられ、放熱プレート３０１は、回路基板６００に取り付けられ、かつ冷感付けアセンブリ２００に接続され、具体的には、冷却部材５は、熱伝導性シリコングリースによって放熱プレート３０１に接着することができる。冷感付けアセンブリ２００は、熱伝導性シリコングリースによって迅速に熱を放熱プレート３０１に導くことができ、放熱フィン３０２は、放熱プレート３０１を放熱し、放熱プレート３０１の放熱を補助することができ、それによって、放熱プレート３０１は冷却部材２０２の熱を吸収し続けることができる。

【0187】

任意選択的に、放熱フィン３０２は複数あり、複数の放熱フィン３０２の間は互いに平行であり、放熱フィン３０２は、溶接により放熱プレート３０１に取り付けることができる。

【0188】

任意選択的に、放熱フィン３０２の表面には熱伝導性塗料が吹き付けることもでき、熱伝導性塗料は、放熱フィン３０２の熱を放散できるだけでなく、水蒸気による放熱フィン３０２への影響を防止することもでき、さらに腐食や摩損にも強い。

【0189】

本実施例では、放熱プレート３０１はベーパーチャンバーであってもよく、ベーパーチャンバーは、内部の液体作業物質が熱を受けて蒸発して熱を吸収し、冷えて放熱して液化することができ、蒸発と凝縮のサイクルを通じてベーパーチャンバーの表面温度を同じに保つことができる。したがって、放熱プレート３０１の表面の一部は冷却部材５に接続され、他の一部は放熱フィン３０２に接続され、冷却部材２０２で発生した熱は、放熱プレート３０１および放熱フィン３０２を介して放散する。

【0190】

任意選択的に、図２４を参照すると、第２光透過体２０１と放熱ベース３００との間には炭素含有層９２が設けられてもよく、例えば、放熱プレート３０１の第２光透過体２０１に熱的に結合する側の表面に設けられ、炭素含有層９２は熱伝導性に優れ、放熱プレート３０１の熱伝導率を加速させ、放熱ベース３００の放熱性能を高めることができる。

【0191】

任意選択的に、炭素含有層は、グラフェン材料、グラファイト粉末、グラファイトシートまたはグラファイトフィルムである。

【0192】

任意選択的に、炭素含有層は、メッキ、吹き付けまたは積層によって設けられる。

【0193】

放熱ベース３００の放熱性能を高めるために、本実施例では、放熱ベース３００はさらに冷却駆動アセンブリ４００と連通する。

【0194】

具体的には、放熱ベース３００の放熱フィン３０２は、冷却駆動アセンブリ４００に接続され、冷却駆動アセンブリ４００は、空気透過孔１２１１から外気を吸い込み、かつ空気を放熱フィン３０２に吹くように駆動し、空気は放熱フィン３０２を流れて放熱フィン３０２を放熱させる。

【0195】

例示的な実施例では、放熱フィン３０２は、冷却駆動アセンブリ４００によって提供される気流と四角状で平行に設けられ、それにより、気流と接触する放熱フィン３０２の面積を増大させ、放熱フィン３０２の放熱効率を加速させる。

【0196】

放熱フィン３０２は、第１シェル１２１上の空気透過孔１２１１に対向して設けられ、気流は放熱フィン３０２を通過した後、迅速に空気透過孔１２１１から流出する。

【0197】

したがって、本実施例における冷却駆動アセンブリ４００は、冷却媒体を駆動して脱毛アセンブリ１００を放熱できるだけでなく、放熱ベース３００を放熱させることもできる。安全性能が改善された上で、照射された皮膚を冷感付けて冷却し、照射された皮膚から生じる灼熱痛を軽減することができ、かつ冷感付けアセンブリ２００は、放熱ベース３００と冷却駆動アセンブリ４００の作用の下で、０度の低温に近づけ、光射出口付近の皮膚を無限に凝固点に近づけることができ、よって、皮膚の灼熱痛を軽減でき、短時間の接触による皮膚への損傷が発生しない。

【0198】

さらに図２２、図２３および図２５を参照すると、図２５は、図２３の実施例におけるファンハウジングの空気出口における構造を示す模式図である。この実施例では、冷却駆動アセンブリ４００は、ファンハウジング４０１およびファン４０２を含んでもよい。ファンハウジング４０１は、放熱ベース３００の冷感付けアセンブリ２００に背向する側に設けられ、ファン４０２はファンハウジング４０１内に収容される。

【0199】

ファン４０２は、吸気の一端が第１シェル１２１上の空気透過孔１２１１と対向しており、ファン４０２は、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に送り込むように駆動する。ファンハウジング４０１には、空気吹出用の空気出口４１０が設けられ、ファン４０２は、空気吹出の一端が空気出口４１０に接続されており、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に吸い込んだ後、空気出口４１０から流出させるように駆動する。

【0200】

任意選択的に、ファン４０２は、遠心ファン、軸流ファン、混合流ファン、またはクロスフローファンとすることができる。

【0201】

さらに、空気出口４１０は、第１空気出口４１１および第２空気出口４１２を含み、ファン４０２の空気出口４１０からの空気は２つの部分に分けられ、一方の部分は第１空気出口４１１から流出し、他方の部分は第２空気出口４１２から流出する。

【0202】

任意選択的に、空気出口４１０は、第３空気出口またはそれ以上の空気出口を含んでもよいが、ここでは限定されない。

【0203】

この実施例では、第１空気出口４１１は、ホルダー５００の空気流入口５３０と連通し、ファン４０２は、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に吸い込むように駆動し、ファン４０２は、気流を第１空気出口４１１および空気流入口５３０から第１収容空間５１０に吸い込むように駆動し、その気流は、第１収容空間５１０で光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３の熱を奪い、最後に空気排出口５４０および空気透過孔１２１１から外界に流出し、脱毛アセンブリ１００の放熱を実現する。

【0204】

この実施例では、第２空気出口４１２は、放熱ベース３００の放熱フィン３０２に接続され、ファン４０２は、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に吸い込むように駆動し、ファン４０２は、気流を第２空気出口４１２から放熱ベース３００の複数の放熱フィン３０２の間に吸い込むように駆動し、気流は放熱フィン３０２を通過して放熱フィン３０２の熱を奪い、かつ空気透過孔１２１１から流出する。放熱フィン３０２の温度が下がると、放熱プレート３０１の熱も低減され、それにより、放熱プレート３０１は冷感付けアセンブリ２００の熱を吸収し、冷感付けアセンブリ２００の放熱を実現することができる。

【0205】

任意選択的に、第１空気出口４１１および第２空気出口４１２での気流量は限定されず、実際の状況に応じて設定される。第１空気出口４１１および第２空気出口４１２の大きさを設定することにより、第１空気出口４１１および第２空気出口４１２での気流量を制御することができる。例えば、本実施例では、第２空気出口４１２の空気吹出面積は、第１空気出口４１１の空気吹出面積よりも大きく、それにより、より多くの気流は第２空気出口４１２から流出し、放熱プレート３０１の放熱効率を高める。

【0206】

以上から、本実施例に係る脱毛器は、冷却駆動アセンブリ４００によって、脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００および放熱ベース３００を放熱し、さらに脱毛アセンブリ１００および冷感付けアセンブリ２００の熱の同時放散を実現し、それにより、脱毛器の放熱性能が向上し、脱毛器の安全係数が高まるとともに、皮膚への冷感を無限に氷点に近づけ、皮膚の灼熱痛を軽減することができ、脱毛時に皮膚を損傷することができない。

【0207】

図３１を参照すると、当該脱毛器はリフレクター１と光源２を含む。リフレクター１は、通電されると高い電界を発生させることができる導体である。光源２は、リフレクター１内に組み立てられ、リフレクター１に対向して設けられ、光源２は、ストリップ状のガス励起光源であり、リフレクター１の通電後にリフレクター１によって励起されることで発光することができ、リフレクター１は、光射出側を有し、光を反射してリフレクター１の光射出側から射出することができる。ここで、光源２の本体とリフレクター１との間隔は、ゼロより大きく０．３ｍｍ以下であり、例えば、光源２の実際の設置において、光源２の本体とリフレクター１との間の距離は０．３ｍｍであってもよく、光源２の本体とリフレクター１との間の距離は０．１５ｍｍであってもよく、同様に、光源２の本体とリフレクター１との間の距離を０．３ｍｍ以内に確保できるように、リフレクター１と光源２自体との構造に応じて、光源２とリフレクター１との間の距離を制限することもできる。

【0208】

脱毛器の作動時には、リフレクター１は通電されると、その内部に高い電界を発生させることができ、リフレクター１で高い電圧を発生させることにより、光源２内のガスをイオン化してアークを発生させ、さらに放電させることができ、つまり、光源２は発光することができる。光源２とリフレクター１との間の距離を制限することにより、リフレクター１内の電圧は光源２が発光するように励起することができる。トリガーワイヤを介してランプの発光をトリガーする方法と比較して、トリガーワイヤなしでランプの発光をトリガーするリフレクター１では、ランプの発光をトリガーする方法を改善して発光効率を高めることができるだけでなく、材料を節約して製造コストを削減することもできる。

【0209】

任意選択的に、リフレクター１は半円弧状であり、光源２は棒状ランプであってもよく、ランプは、リフレクター１内に吊り下げられる形でリフレクター１に取り付けられ、それにより、ランプ本体とリフレクター１の内壁が励起空間を構成し、フレクター１内の電圧がリトリガーワイヤなしの方式でランプを励起し、ランプ内のガスをイオン化し、さらにランプの発光を実現することができる。リフレクター１は、高い電圧によってランプの発光をトリガーできるだけでなく、光源２の取り付けキャリアとして使用することもでき、それにより、当該脱毛器は、ランプの発光を励起するトリガーワイヤやその他の部品を使用する必要がなく、材料を節約して製造コストを削減することができる。同時に、リフレクター１内の部品の配置を減らして空間の混雑さを緩和することができ、光源２によって発した光がリフレクター１で十分に反射されることに寄与し、それによって光の射出率を高める。

【0210】

任意選択的に、リフレクター１は棒状であってもよい。

【0211】

参照図３１および図３２を参照すると、任意選択的に、脱毛器は、放熱ベース３、弾性体４およびホルダー５を含む。放熱ベース３は長尺状を呈し、リフレクター１は放熱ベース３に取り付けられ、リフレクター１の光射出側は、放熱ベース３に背く。ここで、放熱ベース３は、リフレクター１に接触する側がリフレクター１に熱的に結合される。弾性体４は、光源２をリフレクター１に移動可能に固定するために、光源２の端部に固定されており、弾性体４は、リフレクター１の長さ方向の両側に位置する。ホルダー５と放熱ベース３は係着により固定的に接続され、弾性体４は放熱ベース３とホルダー５との間に位置し、ホルダー５は、光源２をリフレクター１または放熱ベース３に対して固定するように、光源２の長さ方向と垂直な方向で弾性体４に押し付けられる。放熱ベース３がホルダー５と共にリフレクター１を固定するため、光源２は、リフレクター１に安定して取り付けることができ、放熱ベース３とホルダー５によって脱毛器全体の安定性を確保することができる。ここで、弾性体４自体は優れた弾性を有し、ホルダー５が弾性体４を押し付けると、弾性体４自体の構造が変形しやすくなるため、一方では、光源２とリフレクター１との間に揺れが生じにくくなり、光の射出効果を向上させることができ、他方では、弾性体４は、光源２の端部に対するホルダー５の圧力をよく緩和し、光源２の端部との柔軟な接触を維持することができ、このように、光源２の損傷を効果的に低減するだけでなく、光源２の耐用年数を延ばすことにも寄与する。

【0212】

任意選択的に、図３３を参照すると、当該脱毛器は、リフレクター１に設けられた炭素含有層９１をさらに含み得る。例えば、当該炭素含有層９１は、リフレクター１の光源２に背向する側に設けられてもよい。光源２は使用時に熱を発してリフレクター１に集中させるが、炭素含有層９１は熱伝導性に優れているため、それが配置されたリフレクター１の熱伝導速度を促進し、リフレクター１の放熱性能を高め、脱毛器での過度の温度による自体の破損を防止することができ、さらに使用者の肌への刺激や損傷も防止することができる。

【0213】

任意選択的に、図３３を参照すると、炭素含有層９１は放熱ベース３に設けられる。例えば、放熱ベース３とリフレクター１との間に設けられて、放熱ベース３とリフレクター１との間の熱伝導速度を促進する。

【0214】

任意選択的に、炭素含有層はさらに放熱ベース３の露出面に設けられてもよく、それにより、放熱ベース３の放熱性能を高める。

【0215】

任意選択的に、炭素含有層９１は、グラフェン材料、グラファイト粉末、グラファイトシートまたはグラファイトフィルムなどの材料であってもよく、本出願に記載の炭素含有層９１を設けられる場所に、メッキ、吹き付けまたは積層などによって設けることができる。

【0216】

任意選択的に、放熱ベース３はセラミックベースであってもよく、セラミックベースには第１スロット３１が設けられ、リフレクター１は第１スロット３１に埋め込まれる。第１スロット３１は長尺状を呈し、その底部に円弧状セグメントを有し、リフレクター１は第１スロット３１に埋め込まれることにより、一方では、リフレクター１と放熱ベース３の接触面積を大きくすることができ、放熱ベース３は、それ自体の優れた熱伝導性によってリフレクター１を放熱させることで、脱毛器全体の熱の放射が減少し、他方では、第１スロット３１は放熱ベース３に開設され、放熱ベース３の空間利用率を向上させ、脱毛器の内部構造をよりコンパクトにすることができる。また、セラミックは絶縁体であり、リフレクター１に接触する時に短絡することはなく、光源２の本体がキャビティ内に吊り下げることができる理由は、リフレクター１が導体であり、光源２と間隔をあけて配置され、通電されると強い電界を利用して光源２の発光を励起することである。

【0217】

任意選択的に、放熱ベース３の両側にはいずれも第１留め具３２が一体成形され、ホルダー５の両側にはいずれも第２留め具５１が一体成形され、第１留め具３２と第２留め具５１は対応して設けられる。放熱ベース３とホルダー５が接続されている時、第１留め具３２と第２留め具５１が強固に係合され、さらに、放熱ベース３とホルダー５を確実に接続できるようにし、それにより当該脱毛器の使用安定性が向上する。任意選択的に、第１留め具３２は、係合ブロックまたは片持ちフックであってもよく、第２留め具５１は固定穴であってもよい。片持ちフックを固定穴に埋め込むと、固定穴によって片持ちフックが固定穴から容易に外れないように制限し、第１留め具３２と第２留め具５１を確実に接続することができ、つまり、放熱ベース３とホルダー５を相対的に固定できるようにし、それにより、放熱ベース３とホルダー５が互いに緩んだり外れたりすることを効果的に防止し、当該脱毛器全体の安定性を高める。

【0218】

任意選択的に、ホルダー５には、光が通過する窓５２が設けられ、窓５２の第２留め具５１に対応する部分の寸法は、セラミックベースの第１留め具３２が設けられた部分の寸法よりも大きく、それにより、セラミックベースの第１留め具３２が設けられた部分はホルダー５の窓５２に埋め込まれるようになる。セラミックベースとホルダー５が実際に組み立てられる時に、セラミックベースのホルダー５に近い側は窓５２内に埋め込まれて、セラミックベースとホルダー５をより安定的に接続することができると同時に、セラミックベースとホルダー５との隙間を減らし、リフレクター１の外部に放射されるリフレクター１内の熱を低減でき、それによって脱毛器全体の性能を向上させることができる。

【0219】

図３１、図３２および図３４を参照すると、脱毛器は、リフレクター１の長さ方向の両端に設けられ、リフレクター１の両端から漏れる光をリフレクター１の光射出側に反射する側面反射部材６を含む。光源２が発した光は、側面反射部材６によって十分に反射でき、それにより、光の利用率を向上させることができる。

【0220】

任意選択的に、側面反射部材６には貫通孔６１が設けられ、貫通孔６１の直径はランプの端部の直径よりも大きく、ランプの端部は貫通孔６１を通過し、ランプの取り付けの際に、ランプを貫通孔６１のいずれかに通過させてもよく、リフレクター１内から貫通孔６１に通過させてもよく、それによって、ランプの取り付けが容易になる。任意選択的に、弾性体４は、シリコーンスリーブまたは軟質ゴムスリーブであってもよく、本出願の実施例においてシリコーンスリーブを例に挙げて、ここでは例示的なものに過ぎず、弾性体４を限定するものではない。光源２はランプであってもよく、ランプは細長い円筒形であり、ランプの両端にはいずれも取付柱２１が延在し、取付柱２１の半径寸法はランプの半径寸法よりも小さい。具体的には、シリコーンスリーブは円筒状であり、かつ取付溝４１を備え、ランプの両端はそれぞれ取付溝４１内に埋め込まれ、シリコーンスリーブには軸線に沿って固定孔４２が開設され、固定孔４２は取付溝４１と連通し、取付柱２１は固定孔４２を通過することができる。

【0221】

また、貫通孔６１により、ランプをリフレクター１に正確に組み立てることを補助し、取付工程における取付時間を短縮し、取付効率を向上させることができる。リフレクター１とランプを組み立てた状態で、取付溝４１の開口はリフレクター１に向かい、ランプの両端はそれぞれ貫通孔６１を通過して取付溝４１内に挿入され、シリコーンスリーブは、ランプを貫通孔６１のリフレクター１の底部に近接する一方側に弾力的に密着させ、ランプと側面反射部材６とのハードコンタクトを低減し、側面反射部材６とランプとの間の衝突をできる限り低減し、仮に衝突があっても、シリコーンスリーブによって緩衝することで、ランプの耐用年数を効果的に延長し、使用コストを低減することができる。

【0222】

図３１、図３２および図３４を参照すると、任意選択的に、セラミックベースの第１スロット３１が設けられた両端のそれぞれには第２スロット３３が設けられ、第２スロット３３は、光源２の端部および弾性体４を収容するために使用され、一方では、省スペース化を図り、セラミックベースの空間利用率が向上し、他方では、第２スロット３３によって、光源２の端部と弾性体４との外部からの衝突を低減し、光源２の端部と弾性体４に対して比較的安全な空間を提供する。第２スロット３３は第１スロット３１と連通し、かつ第２スロット３３の深さは第１スロット３１の深さよりも大きい。第２スロット３３は、弾性体４の弾性変形を退避させる空間として機能するため、弾性体４が第２スロット３３の溝壁を押圧することができず、弾性体４自体の弾性変形が容易となる。実際の状況に応じて対応する変形を行い、弾性体４は、変形する過程で外力を緩和することにより、取付柱２１が破損または破砕しにくくなり、光源２の交換回数を減らし、使用コストを低減し、当該脱毛器の実用性を向上させる。

【0223】

図３１、図３２および図３４を参照すると、任意選択的に、脱毛器は、リフレクター１の光射出側に設けられ、かつホルダー５に固定された第１光透過体７を含み、第１光透過体７とリフレクター１は、光源２を収容するためのキャビティを形成する。第１光透過体７は、光フィルターであってもよく、光フィルターで光を選別することで、皮膚部分の脱毛に適した波長を容易に選択することができ、それによって、脱毛器の作動中に光源２から発した光が皮膚に照射する場合、その光による皮膚へのダメージを軽減し、脱毛の安全性を高めることができる。

【0224】

任意選択的に、脱毛器は第２光透過体８を含み、第２光透過体８は四角状または長方形であり、第２光透過体８は窓５２に埋め込まれ、第２光透過体８は、光フィルターの光源２に背向する側に位置し、かつ光源２に向かう入射面８１と、光源２に背向する射出面８２とを有する。任意選択的に、第２光透過体８は結晶であってもよく、第２光透過体８はダイヤモンドであってもよく、本出願の実施例では、結晶を例に挙げて説明する。脱毛器の作動時には、光源２は光を発し、リフレクター１はその光を反射し、かつ光フィルターを透過して結晶に反射し、光は、入射面８１から入射し、結晶本体で反射されて射出面８２から射出し、射出面８２からの射出光は、皮膚の脱毛対象部分に照射されることにより、皮膚上の毛を容易に除去することができる。

【0225】

任意選択的に、脱毛器は冷却部材９を含み、その冷却側は放熱ベース３の他方側に熱的に結合され、リフレクター１内の空間を冷却する。例えば、冷却部材９は、ＴＥＣ冷却シートまたは冷却ブロックであってもよく、冷却部材９は、放熱ベース３を冷却するために使用され、それにより、放熱ベース３上の熱を即時かつ迅速に奪い、リフレクター１を迅速に放熱するという目的を達成することができる。本出願の一例では、採用した冷却部材９はＴＥＣ冷却シートであり、ここでは例示的なものに過ぎず、冷却部材９を限定するものではない。

【0226】

脱毛器の作動時には、光源２は、リフレクター１内で多量の光を発し、その光によって発生した熱がキャビティ内に集まり、リフレクター１の温度はキャビティ内への熱の集中に伴って上昇する。ここで、放熱ベース３の一方側は、リフレクター１に熱的に結合され、冷却部材９は、放熱ベース３の他方側に熱的に結合され、熱的結合では、熱伝導、熱対流や熱放射、または上記３つの方式の任意の組み合わせによって熱を伝えることができる。すなわち、放熱ベース３によっては、リフレクター１上の熱を外部に伝えると同時に、キャビティ内の熱を放散し、リフレクター１およびキャビティの冷却を実現することができ、よって、光源２の放熱効率を向上させることができる。光源２の本体をキャビティに吊り下げることで、光源２の放熱をより均一にすることもでき、光源２の耐用年数を延ばすのに有利である。具体的には、光源２の作動時に発生した熱は、放射の形で周囲に放散され、また、空気媒体は、光源２の周囲に均一に包み込まれ、光源２と十分に接触すると同時に、光源２から発した熱も均一に放散する。熱は光源２によって発生し、キャビティを通過してリフレクター１および第１光透過体７に伝わり、放散される。さらに、冷却部材９によっては、放熱ベース３上の熱を伝達し、迅速に放熱する目的を達成し、さらに脱毛器の放熱効果を高めると同時に、キャビティ内の熱が脱毛器の他の部分に放射されるのを低減することができ、それにより、脱毛器を使用する過程において、脱毛された皮膚における灼熱感を軽減し、脱毛器の使用性能を向上させる。

【0227】

任意選択的に、冷却部材９の放熱ベース３に向かう側、または冷却部材９の露出面には炭素含有層が設けられてもよく、炭素含有層は、優れた熱伝導性を有し、冷却部材９の冷却効果を高めることができ、それにより、放熱ベース３上の熱を即時かつ迅速に奪い、リフレクター１を迅速に放熱するという目的を達成することができる。

【0228】

本実施例は次の有益な効果を有する。即ち、従来技術とは異なり、本出願はリフレクター１と光源２を含む脱毛器を開示する。光源２は、ストリップ状のガス励起光源であり、リフレクター１に組み立てられ、光源２の本体とリフレクター１との間隔は０．３ｍｍ以下であり、それによって、リフレクター１は通電されると、高い電圧を発生させ、光源２内のガスをイオン化してアークを発生させ、さらに放電させることができ、こうして光源２は発光することができる。リフレクター１は導体であるため導電しやすく、高い電圧を発生させることができる場所を提供することができ、光源２とリフレクター１との間の距離を制限することにより、リフレクター１内の電圧は光源２が発光するように励起することができる。トリガーワイヤを介してランプの発光をトリガーする方法と比較して、トリガーワイヤなしでランプの発光をトリガーするリフレクター１では、ランプの発光をトリガーする方法を改善して発光効率を高めることができるだけでなく、材料を節約して製造コストを削減することもできる。

【0229】

図３５を参照すると、図３５は、本出願の一実施例の構造を示す模式図である。ここで、脱毛装置は、ヘッド１１１と、ヘッド１１１に接続された把持部１１２とを含む。ヘッド１１１には、肌に当てるための冷感付け部１１１１が設けられ、冷感付け部１１１１は、光を射出して使用者の皮膚の毛包に照射し、光を皮膚に透過させて毛包に照射して脱毛を行うことができると同時に、温度を急速に下げ、光による皮膚への灼熱感を軽減し、使用者が使用中で不快感を感じないようにすることができる。いくつかの実施例では、冷感付け部１１１１はさらに、スキンケア用の光を射出することができ、それにより、脱毛器は脱毛とスキンケアの両方の機能を有する。

【0230】

図４０および図４１を参照すると、本出願に係る脱毛器の別の実施例では、弾性シールリング１６は第１光透過体７と第２光透過体３の間に設けられ、弾性シールリング１６は環状であり、第１光透過体７と第２光透過体３の両方は弾性シールリング１６と密封するように合わせることにより、第２光透過体３と第１光透過体７との間に結露が発生せず、第２光透過体３と第１光透過体７との接続箇所にいくつかの汚れが侵入することもできず、弾性シールリング１６は、好ましくは環状に設けられるシールリングである。

【0231】

もちろん、不用意に脱毛器が地面に落下した場合、第２光透過体３と地面との間で剛体衝突が発生することがあり、従来の第２光透過体３では、その衝撃力が第１光透過体７に伝わり、さらに第１光透過体７、リフレクター１および光源２を損傷する可能性がある。本実施例の脱毛器では、第２光透過体３が衝突した際の衝撃力を弾性シールリング１６によって打ち消すことができ、弾性シールリング１６は、外力によって押さえられた際に、自体の弾性により弾性変形を生じさせ、第１光透過体７と第２光透過体３との間の衝撃を低減または打ち消すことができ、それにより、第１光透過体７、リフレクター１および光源２がこれらの衝撃によって破損される可能性が低下し、さらに当該脱毛器の衝突回避性能が向上する。

【0232】

さらに図４２乃至図４４を参照すると、弾性シールリング１６には、光を通過させるための内側リング１６１が設けられており、第１光透過体７によってフィルタリングされた光は、内側リング１６１を介して第２光透過体３に導かれて、人間の肌に照射することができる。

【0233】

本実施例では、第１光透過体７と第２光透過体３は、いずれもホルダー６に直接固定され、ホルダー６に対して移動不可能であることにより、使用過程で人体の骨または鋭い物体が第２光透過体３に突き当てて、第２光透過体３をホルダー６に対して相対的に後退させることを効果的に回避し、第１光透過体７または脱毛アセンブリ１００への回復不可能な押付変形を防止し、また、弾性シールリング１６が数回押し付けられて回復不可能な押付変形が発生したとしても、脱毛器の導光効果への影響による光エネルギーの浪費を回避することができる。

【0234】

弾性シールリング１６にはさらに、内側リング１６１と連通する取付溝１６２が設けられ、取付溝１６２は、弾性シールリング１６の脱毛アセンブリ１００から離れた側に設けられ、内側リング１６１は、取付溝１６２の溝底壁から第１光透過体７の側に向かって貫通して延びており、第２光透過体３は取付溝１６２内に部分的に取り付けられることにより、第２光透過体３と弾性シールリング１６との間の密封性能を向上させるとともに、弾性シールリング１６が第２光透過体３に固定されて、両者間の固定接続を実現する。

【0235】

好ましい実施形態として、弾性シールリング１６は、外側リング１６３と、外側リング１６３の一方側面に突出した突起１６４とを含み、突起１６４は第１光透過体７に当接し、外側リング１６３の突起１６４から離れた側面には取付溝１６２が設けられ、内側リング１６１は、取付溝１６２の溝底壁から突起１６４の一方側に向かって貫通して延びており、外側リング１６３も突起１６４も完全な閉ループ構造であり、内側リング１６１内の光は、第２光透過体３からのみ透過可能である。

【0236】

好ましい実施形態として、突起１６４の横断面は、横方向に設けられた三角形構造であり、突起１６４が第１光透過体７に接触する面積は、突起１６４が外側リング１６３に接触する面積よりも小さいので、弾性シールリング１６が取り付けられた場合、突起１６４の外側リング１６３から離れた端部は、押さえられると部分的に反ることがあり、弾性シールリング１６は弾性があるので、弾性シールリング１６の反った部分は、第１光透過体７にしっかりと当接することができ、すなわち、第２光透過体３と第１光透過体７との間の間隔がわずかに変化する場合、弾性シールリング１６は、反った部分によってこの間隔の変化に適応することができ、それにより、弾性シールリング１６と第２光透過体３との間、および弾性シールリング１６と第１光透過体７との間は、常に密着または締り嵌めが維持され、密封性がより優れている。もちろん、他の実施例では、突起１６４の横断面は、台形構造であってもよい。

【0237】

本実施例では、弾性シールリング１６は、レーザー耐性と高温・低温耐性を備える材料で作られた環状体であり、それにより、弾性シールリング１６が使用過程で高温や低温またはレーザー照射により変形することが回避され、弾性シールリング１６の耐用年数が延長される。

【0238】

任意選択的に、把持部１１２は、中空のシェル（図には参照番号が付されない）を含んでもよく、シェルの表面には空気透過孔１２１１が設けられ、空気透過孔１２１１はシェルの内部と外界を連通することにより、脱毛装置は、空気透過孔１２１１を介して外界と気流を交換し、内部の温度を下げることができる。シェルは、ポート１２１２をさらに含み、ポート１２１２は、外部電源に接続して脱毛装置を充電するために使用され得る。ここで、シェルにおけるポート１２１２の位置は限定されない。

【0239】

図３５および３６を参照すると、図３６は、本出願の一実施例の分解構造を示す模式図であり、ここで、図３６に示す矢印は、冷却駆動アセンブリの駆動下での脱毛装置内の気流の流れ方向を表し、直線は冷気流を表し、波浪は熱気流を表す。具体的には、脱毛装置は、シェルと、シェルの開口に設けられたライトカバー１１３と、シェルの内部に収容された脱毛機構１４と、底部カバー１５とを含んでもよい。

【0240】

本実施例では、シェルは、第１シェル１２１および第２シェル１２２を含んでもよく、第１シェル１２１および第２シェル１２２は、相互に係合するように接続されて両端に開口を有する空洞を形成し、脱毛機構１４は空洞内に収容され、ライトカバー１１３および底部カバー１５はそれぞれ、２つの開口を覆うように設けられ、第１シェル１２１と第２シェル１２２を接続して空洞を形成した後の開口を封止するために使用される。

【0241】

任意選択的に、第１シェル１２１、第２シェル１２２、ライトカバー１１３および底部カバー１５は、スナップによって接続されてもよく、ねじや接着によって接続されてもよい。

【0242】

脱毛機構１４は、脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００、放熱アセンブリ３００および冷却駆動アセンブリ４００を含む。

【0243】

冷感付けアセンブリ２００は、ライトカバー１１３に近い側に設けられ、ライトカバー１１３には貫通孔（参照番号が付されない）が設けられ、一部の冷感付けアセンブリ２００は、シェルの内部からライトカバー１１３の貫通孔を経て外界に露出して皮膚に直接接触する。理解されるように、冷感付けアセンブリ２００の一部とライトカバー１１３は、脱毛装置のヘッド１１１を形成している。

【0244】

脱毛アセンブリ１００は、冷感付けアセンブリ２００のライトカバー１１３から離れた側に設けられ、冷感付けアセンブリ２００に光を放射するために使用される。光は赤光や緑光、または黄色光などの可視光線であり得る。光は、冷感付けアセンブリ２００に入射され、冷感付けアセンブリ２００を透過して皮膚下の毛包に入ることにより、脱毛が実現される。

【0245】

放熱アセンブリ３００は、冷感付けアセンブリ２００の一方側に設けられ、かつ冷感付けアセンブリ２００に接続される。冷感付けアセンブリ２００は皮膚に当てると、皮膚の熱を吸収し、皮膚の温度を下げ、灼熱感を軽減することができるので、冷感付けアセンブリ２００は、長時間使用されると、温度が上昇し、冷却効果が低下する。放熱アセンブリ３００は、冷感付けアセンブリ２００の熱を吸収し、冷感付けアセンブリ２００を低温の作業環境に維持し、皮膚に対する冷感付けアセンブリ２００の冷却効果を確保することができる。したがって、本実施例における脱毛装置は、連続的に使用しても本体を低温に維持することができ、かつ使用者に痛みを与えることもない。

【0246】

冷却駆動アセンブリ４００は、放熱アセンブリ３００の少なくとも一部が脱毛アセンブリ１００に背向する側に設けられ、脱毛アセンブリ１００および放熱アセンブリ３００を放熱させるために使用される。

【0247】

本実施例では、冷却駆動アセンブリ４００は、外部冷却媒体を吸い込んで空気透過孔１２１１から脱毛装置の内部に入れ、冷却媒体は、脱毛アセンブリ１００および放熱アセンブリ３００を通過して熱を運び去り、さらに空気透過孔１２１１から流出する。

【0248】

任意選択的に、外部冷却媒体は空気であってもよく、冷却駆動アセンブリ４００は、空気を吸い込んで、脱毛アセンブリ１００および放熱アセンブリ３００に吹き、脱毛アセンブリ１００および放熱アセンブリ３００の熱は気流によって運び去られる。

【0249】

本実施例では、空気透過孔１２１１は第１シェル１２１に設けられ、冷却駆動アセンブリ４００の少なくとも一部が空気透過孔１２１１と対向し、それにより、冷却駆動アセンブリ４００は、空気透過孔１２１１から外部冷却媒体をよりよく吸収し、放熱効率を高めることができる。他の実施例では、空気透過孔１２１１は、第２シェル１２２に設けられてもよい。

【0250】

図３６および図３７を参照すると、図３７は、図３６の実施例の分解構造を示す模式図であり、ここで、図３７に示す矢印は、ファンから出る空気の方向を表す。

【0251】

本実施例では、脱毛装置は、ホルダー５００、回路基板６００、プロセッサ７００およびコンデンサ８００をさらに含み、脱毛アセンブリ１００および冷感付けアセンブリ２００は、ホルダー５００内に取り付けられ、冷却駆動アセンブリ４００は、ホルダー５００に隣接して設けられる。脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００および冷却駆動アセンブリ４００は、回路基板６００に取り付けられ、回路基板６００に電気的に接続される。

【0252】

プロセッサ７００およびコンデンサ８００は、回路基板６００に電気的に接続され、回路基板６００に設けられる。外部電源に接続される場合、外部電源は、コンデンサ８００が脱毛装置に電力を供給できるようにコンデンサ８００を充電することができ、かつコンデンサ８００は、外部電源に接続される時に電力を蓄えることができ、これにより、外部電源に接続されていなくても脱毛装置を使用することができる。プロセッサ７００は、脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００および冷却駆動アセンブリ４００に制御コマンドを送信し、脱毛装置の運転を制御する。例えば、脱毛装置のスイッチに対する制御、熱保護やパワー調整などを行う。

【0253】

本実施例では、回路基板６００は、第２シェル１２２内に固定されてもよく、回路基板６００は、ＰＣＢＡ回路基板が選択可能である。

【0254】

関連技術では、脱毛装置本体の内部の熱は往々にして使用中に増加し、脱毛装置の内部回路および部品は高温環境下で爆発、焼損、短絡などの危険性が発生しやすい。本実施例では、冷却駆動アセンブリ４００は、脱毛アセンブリ１００および放熱アセンブリ３００を放熱させることができ、放熱アセンブリ３００は、冷感付けアセンブリ２００を放熱させることができ、それにより、冷感付けアセンブリ２００は、皮膚をアイシングして皮膚の快適性を高めることができ、高すぎる温度による爆発、焼損、短絡などの問題が防止される。

【0255】

具体的には、脱毛アセンブリ１００は、光源１０１、リフレクター１０２、光フィルター１０３および２つの電極１０４を含んでもよい。

【0256】

光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３はホルダー５００内に取り付けられ、すなわち、ホルダー５００内には、光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３の取付場所が設けられ、光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３は、ホルダー５００の取付場所に係入される。

【0257】

ここで、光源１０１は、冷感付けアセンブリ２００に対向して設けられ、光源１０１から射出された光は、冷感付けアセンブリ２００に直接入射され得る。リフレクター１０２は、光源１０１の冷感付けアセンブリ２００から離れた側に設けられ、光源１０１の光を反射して冷感付けアセンブリ２００に入射し、光エネルギーの損失を防止する。光フィルター１０３は、光源１０１と冷感付けアセンブリ２００との間に位置し、すなわち、光源１０１、光フィルター１０３および冷感付けアセンブリ２００は、光の伝搬方向に沿って順次配置され、光フィルター１０３は、光源１０１から発した有害な光の一部をフィルタリングするために使用される。光による皮膚へのダメージを軽減し、脱毛の安全性を高める。２つの電極１０４は、それぞれ光源１０１の両側に接続され、回路基板６００に電気的に接続されて電気信号を伝送するために用いられる。

【0258】

任意選択的に、光源１０１はランプであってもよく、ランプが発する光の色は限定されないが、色光や合成光などであってもよく、具体的な波長および周波数は用途によって決定される。ランプは、その種類も限定されず、半導体キセノンランプ、石英ランプ、レーザーランプなどであってもよく、光子の種類は、ＩＰＬ（Ｉｎｔｅｎｓｅ Ｐｕｌｓｅ Ｌｉｇｈｔ、インテンスパルスライト）、ＤＰＬ（Ｄｅｌｉｃａｔｅ Ｐｕｌｓｅ Ｌｉｇｈｔ、デリケートパルスライト）、ＯＰＴ（Ｏｐｔｉｍａｌ Ｐｕｌｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、最適パルス技術）、ＡＯＰＴ（Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｐｔｉｍａｌ Ｐｕｌｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、発展型最適パルス技術）、ＢＢＬ（ＢｒｏａｄＢａｎｄ Ｌｉｇｈｔ、ブロードバンドライト）などであってもよく、具体的には所定の効果によって決定される。

【0259】

任意選択的に、リフレクター１０２は、光源１０１を囲んで設けられたＵ字型反射板であってもよく、Ｕ字型反射板の開口は冷感付けアセンブリ２００に向かって、冷感付けアセンブリ２００に入射しない光を冷感付けアセンブリ２００に反射する。同時に、リフレクター１０２はさらに、光源１０１によって発生した熱が脱毛装置における他の部品に発散するのを防止することができる。本実施例では、ホルダー５００は、固定ホルダー５５０およびパイプ５６０を含み、ここで、固定ホルダー５５０の内部には、第１収容空間５１０と第２収容空間５２０が設けられる。ここで、第１収容空間５１０は、脱毛アセンブリ１００を取り付けるために使用され、第２収容空間５２０は、冷感付けアセンブリ２００を取り付けるために使用され、第１収容空間５１０および第２収容空間５２０は隣接して設けられることにより、脱毛アセンブリ１００と冷感付けアセンブリ２００との間の距離を縮め、脱毛アセンブリ１００から射出される光の光路ロスを低減し、第２収容空間５２０は、第１収容空間５１０に対して、図３５に示す脱毛装置のヘッド１１１により近い。

【0260】

脱毛装置の動作時には、光源１０１は大量の熱が発生し、かつリフレクター１０２および光フィルター１０３も光によって照射され、温度の上昇につながるため、光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３を放熱させる必要がある。

【0261】

本実施例では、ホルダー５００は、固定ホルダー５５０およびパイプ５６０を含み、パイプ５６０は一端が固定ホルダー５５０の一方側に接続され、他端が冷却駆動アセンブリ４００に向かって延びている。ここで、固定ホルダー５５０内には、第１収容空間５１０と連通する空気排出口５４０が設けられ、パイプ５６０には、第１収容空間５１０と連通する空気流入口５３０が設けられ、空気流入口５３０、第１収容空間５１０および空気排出口５４０は順次連通する。

【0262】

空気流入口５３０は冷却駆動アセンブリ４００と連通し、空気排出口５４０は空気透過孔１２１１と連通する。冷却駆動アセンブリ４００は、外気を空気透過孔１２１１から吸い込み、かつ空気排出口５４０に吹く。空気は、空気排出口５４０から第１収容空間５１０に入った後、第１収容空間５１０内の光源１０１、リフレクター１０２および光フィルター１０３の熱を奪い、空気排出口５４０および空気透過孔１２１１から外界に流れ、その熱を外界に放散する。

【0263】

任意選択的に、固定ホルダー５５０とパイプ５６０のそれぞれの一部は第１ホルダー５０１を形成し、固定ホルダーとパイプのそれぞれの残り部分は第２ホルダー５０２を形成し、他の実施例では、固定ホルダー５５０は一体成形してもよい。

【0264】

第１ホルダー５０１と第２ホルダー５０２は、スナップによって一体に接続することができる。第１ホルダー５０１は第１シェル１２１に近接し、第２ホルダー５０２は第２シェル１２２に近接し、空気排出口５４０は、第１ホルダー５０１に設けられ、かつ第１シェル１２１の空気透過孔１２１１に対向して設けられ、これにより、空気排出口５４０の放熱効率を加速させる。第１収容空間５１０は、第１ホルダー５０１、第２ホルダー５０２のそれぞれの固定ホルダー５５０に対応する部分が係合されている部分内に設けられ、空気流入口５３０は、第１ホルダー５０１、第２ホルダー５０２のそれぞれのパイプ５６０に対応する部分が係合されている部分内に設けられて、第１収容空間５１０と連通し、かつ冷却駆動アセンブリ４００と連通し、ホルダー５００の内部には、冷却駆動アセンブリ４００の気流を第１収容空間５１０内に導きやすくするために、空気伝導用の経路が設けられてもよい。

【0265】

したがって、本実施例では、脱毛アセンブリ１００は、冷却駆動アセンブリ４００によって放熱し、脱毛装置の安全な使用を確保する。

【0266】

さらに、本実施例では、冷感付けアセンブリ２００は、第２光透過体２０１および冷却部材２０２を含んでもよい。

【0267】

第２光透過体２０１は、皮膚に当てるために用いられ、光源２に対向して設けられ、第２光透過体２０１は光透過性部品であり、光源１０１から放射した光は、第２光透過体２０１に入ってから、第２光透過体２０１から皮膚に射出される。

【0268】

任意選択的に、第２光透過体２０１は、導光性結晶であってもよく、具体的には、サファイア、Ｋ９ガラスまたはクリスタルガラスが選択可能である。第２光透過体２０１は、サファイアで作製された場合、優れた熱伝導性を有する。

【0269】

任意選択的に、第２光透過体２０１は、円柱体または四角形体であってもよく、第２光透過体２０１の光源２から離れた面は、皮膚に当てるために使用される。

【0270】

冷却部材２０２は、第２光透過体２０１に接続され、第２光透過体２０１の熱を吸収するために使用される。第２光透過体２０１は、皮膚に接触すると、温度が上昇するため、冷却部材２０２は、第２光透過体２０１の温度が上昇した後に第２光透過体２０１の熱を吸収して、第２光透過体２０１を低温に維持させることができ、その結果、第２光透過体２０１を皮膚に長期間当てても、皮膚に冷感を付けることができ、皮膚の痛みを軽減することができる。

【0271】

さらに、冷却部材２０２は、半導体冷却方式の冷却部品であってもよく、その吸熱端が第２光透過体２０１に接続され、他端が放熱する。

【0272】

冷却部材２０２の放熱端を放熱させるために、本実施例では、放熱アセンブリ３００は、冷却部材２０２の放熱端に接続され、冷却部材２０２の熱を吸収する。

【0273】

具体的には、放熱アセンブリ３００は、放熱プレート３０１および放熱フィン３０２を含む。放熱プレート３０１の一面には、第１領域３１０と第２領域３１１が並んで設けられ、脱毛アセンブリ１００は第１領域３１０に設けられ、放熱フィン３０２は第２領域３１１に取り付けられる。第２領域３１１は、固定ホルダー５５０のパイプ５６０が接続される一方側に位置し、放熱フィン３０２とパイプ５６０は、固定ホルダーの一方側に並設され、固定ホルダー５５０は第１領域３１０に設けられ、放熱プレート３０１は、回路基板６００に取り付けられ、かつ冷感付けアセンブリ２００に接続され、具体的には、冷却部材２０２は、熱伝導性シリコングリースによって放熱プレート３０１に接着することができる。冷感付けアセンブリ２００は、熱伝導性シリコングリースによって迅速に熱を放熱プレート３０１に導くことができ、放熱フィン３０２は、放熱プレート３０１を放熱し、放熱プレート３０１の放熱を補助することができ、それによって、放熱プレート３０１は冷却部材２０２の熱を吸収し続けることができる。

【0274】

任意選択的に、放熱フィン３０２は複数あり、複数の放熱フィン３０２の間は互いに平行であり、放熱フィン３０２は、溶接により放熱プレート３０１に取り付けることができる。

【0275】

任意選択的に、放熱フィン３０２の表面には熱伝導性塗料が吹き付けることもでき、熱伝導性塗料は、放熱フィン３０２の熱を放散できるだけでなく、水蒸気による放熱フィン３０２への影響を防止することもでき、さらに腐食や摩損にも強い。

【0276】

本実施例では、放熱プレート３０１はベーパーチャンバーであってもよく、ベーパーチャンバーは、内部の液体作業物質が熱を受けて蒸発して熱を吸収し、冷えて放熱して液化することができ、蒸発と凝縮のサイクルを通じてベーパーチャンバーの表面温度を同じに保つことができる。したがって、放熱プレート３０１の表面の一部は冷却部材２０２に接続され、他の一部は放熱フィン３０２に接続され、冷却部材２０２で発生した熱は、放熱プレート３０１および放熱フィン３０２を介して放散する。

【0277】

任意選択的に、図３８を参照すると、第２光透過体２０１と放熱アセンブリ３００との間には炭素含有層９２が設けられてもよく、例えば、放熱プレート３０１の第２光透過体２０１に熱的に結合する側の表面に設けられ、炭素含有層９２は熱伝導性に優れ、放熱プレート３０１の熱伝導率を加速させ、放熱アセンブリ３００の放熱性能を高めることができる。

【0278】

任意選択的に、炭素含有層９２は、グラフェン材料、グラファイト粉末、グラファイトシートまたはグラファイトフィルムである。

【0279】

任意選択的に、炭素含有層９２は、メッキ、吹き付けまたは積層によって設けられる。

【0280】

放熱アセンブリ３００の放熱性能を高めるために、本実施例では、放熱アセンブリ３００はさらに冷却駆動アセンブリ４００と連通する。

【0281】

具体的には、放熱アセンブリ３００の放熱フィン３０２は、冷却駆動アセンブリ４００に接続され、冷却駆動アセンブリ４００は、空気透過孔１２１１から外気を吸い込み、かつ空気を放熱フィン３０２に吹くように駆動し、空気は放熱フィン３０２を流れて放熱フィン３０２を放熱させる。

【0282】

例示的な実施例では、放熱フィン３０２は、冷却駆動アセンブリ４００によって提供される気流と四角状で平行に設けられ、それにより、気流と接触する放熱フィン３０２の面積を増大させ、放熱フィン３０２の放熱効率を加速させる。

【0283】

放熱フィン３０２は、第１シェル１２１上の空気透過孔１２１１に対向して設けられ、気流は放熱フィン３０２を通過した後、迅速に空気透過孔１２１１から流出する。

【0284】

したがって、本実施例における冷却駆動アセンブリ４００は、冷却媒体を駆動して脱毛アセンブリ１００を放熱させることができるだけでなく、放熱アセンブリ３００を放熱させることもできる。安全性能が改善された上で、照射された皮膚を冷感付けて冷却し、照射された皮膚から生じる灼熱痛を軽減することができ、かつ冷感付けアセンブリ２００は、放熱アセンブリ３００と冷却駆動アセンブリ４００の作用の下で、０度の低温に近づけ、光射出口付近の皮膚を無限に凝固点に近づけることができ、よって、皮膚の灼熱痛を軽減でき、短時間の接触による皮膚への損傷が発生しない。

【0285】

さらに図３６、図３７および図３９を参照すると、図３９は、図３７の実施例におけるファンハウジングの空気出口における構造を示す模式図である。この実施例では、冷却駆動アセンブリ４００は、ファンハウジング４０１およびファン４０２を含んでもよい。ファンハウジング４０１は、放熱アセンブリ３００の冷感付けアセンブリ２００に背向する側に設けられ、ファン４０２はファンハウジング４０１内に収容される。

【0286】

ファン４０２は、吸気の一端が第１シェル１２１上の空気透過孔１２１１と対向しており、ファン４０２は、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に送り込むように駆動する。ファンハウジング４０１には、空気吹出用の空気出口４１０が設けられ、ファン４０２は、空気吹出の一端が空気出口４１０に接続されており、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に吸い込んだ後、空気出口４１０から流出させるように駆動する。

【0287】

任意選択的に、ファン４０２は、遠心ファン、軸流ファン、混合流ファン、またはクロスフローファンとすることができる。

【0288】

さらに、空気出口４１０は、第１空気出口４１１および第２空気出口４１２を含み、ファン４０２の空気出口４１０からの空気は２つの部分に分けられ、一方の部分は第１空気出口４１１から流出し、他方の部分は第２空気出口４１２から流出する。

【0289】

任意選択的に、空気出口４１０は、第３空気出口またはそれ以上の空気出口を含んでもよいが、ここでは限定されない。

【0290】

この実施例では、第１空気出口４１１は、ホルダー５の空気流入口５３０と連通し、ファン４０２は、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に吸い込むように駆動し、ファン４０２は、気流を第１空気出口４１１および空気流入口５３０から第１収容空間５１０に吸い込むように駆動し、その気流は、第１収容空間５１０で光源２、リフレクター１および光フィルター１０３の熱を奪い、最後に空気排出口５４０および空気透過孔１２１１から外界に流出し、脱毛アセンブリ１００の放熱を実現する。

【0291】

この実施例では、第２空気出口４１２は、放熱アセンブリ３００の放熱フィン３０２に接続され、ファン４０２は、外気を空気透過孔１２１１からファン４０２に吸い込むように駆動し、ファン４０２は、気流を第２空気出口４１２から放熱アセンブリ３００の複数の放熱フィン３０２の間に吸い込むように駆動し、気流は放熱フィン３０２を通過して放熱フィン３０２の熱を奪い、かつ空気透過孔１２１１から流出する。放熱フィン３０２の温度が下がると、放熱プレート３０１の熱も低減され、それにより、放熱プレート３０１は冷感付けアセンブリ２００の熱を吸収し、冷感付けアセンブリ２００の放熱を実現することができる。

【0292】

任意選択的に、第１空気出口４１１および第２空気出口４１２での気流量は限定されず、実際の状況に応じて設定される。第１空気出口４１１および第２空気出口４１２の大きさを設定することにより、第１空気出口４１１および第２空気出口４１２での気流量を制御することができる。例えば、本実施例では、第２空気出口４１２の空気吹出面積は、第１空気出口４１１の空気吹出面積よりも大きく、それにより、より多くの気流は第２空気出口４１２から流出し、放熱プレート３０１の放熱効率を高める。

【0293】

以上から、本実施例に係る脱毛器は、冷却駆動アセンブリ４００によって、脱毛アセンブリ１００、冷感付けアセンブリ２００および放熱アセンブリ３００を放熱し、さらに脱毛アセンブリ１００および冷感付けアセンブリ２００の熱の同時放散を実現し、それにより、脱毛器の放熱性能が向上し、脱毛器の安全係数が高まるとともに、皮膚への冷感を無限に氷点に近づけ、皮膚の灼熱痛を軽減することができ、脱毛時に皮膚を損傷することができない。

【0294】

上記は本出願の実施形態に過ぎず、本出願の保護範囲を限定するものではないが、本出願の明細書および添付図面の内容を利用してなされた如何なる同等の構造または同等のプロセス変換、もしくは他の関連技術分野への直接または間接的な適用は、同様にすべて本出願の特許保護範囲に含まれる。

【手続補正2】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

導体であり、光を反射可能なリフレクターと、
ストリップ状のガス励起光源であり、前記リフレクターに対向して設けられ、前記リフレクターの通電後に前記リフレクターにより励起されて前記光を発することができる光源と、
ホルダーであって、前記リフレクターが前記ホルダーに対して固定されるホルダーと、を含み、
ここで、前記光源の本体と前記リフレクターとの間隔はゼロより大きく、０．３ｍｍ以下であることを特徴とする、脱毛器。

【請求項2】

前記リフレクターに設けられる炭素含有層を含み、前記炭素含有層は、前記リフレクターの前記光源に背向する側に設けられることを特徴とする、請求項１に記載の脱毛器。

【請求項3】

前記リフレクターの一方側に設けられ、前記リフレクターを冷却するための放熱ベースと、
前記リフレクターと前記放熱ベースとの間、および／または前記放熱ベースの露出面に設けられた炭素含有層と、を含むことを特徴とする、請求項１に記載の脱毛器。

【請求項4】

第２光透過体と、
光フィルターを含み、前記光源と前記第２光透過体との間に設けられた第１光透過体と、を含み、
ここで、前記放熱ベースの一方側にはスロットが設けられ、前記リフレクターは前記スロットに埋め込まれ、前記光フィルターは前記放熱ベースに対して固定されることを特徴とする、請求項３に記載の脱毛器。

【請求項5】

前記ホルダーは窓を有し、前記光フィルターは、前記ホルダーに固定されて前記窓を覆うことを特徴とする、請求項４に記載の脱毛器。

【請求項6】

前記第２光透過体は、前記窓に埋め込まれ、前記第２光透過体は、前記光フィルターの前記光源に背向する側に位置することを特徴とする、請求項５に記載の脱毛器。

【請求項7】

弾性シールリングを含み、前記弾性シールリングは、少なくともその内側リング部が前記第１光透過体と前記第２光透過体との間に弾力的に当接して設けられ、前記第１光透過体と前記第２光透過体の両方は、前記弾性シールリングと密封するように合わせることを特徴とする、請求項４に記載の脱毛器。

【請求項8】

前記弾性シールリングは、内側リングと外側リングを含み、前記内側リングの直径は前記外側リングよりも小さく、前記外側リングは、前記内側リングの外周に接続され、かつ前記第２光透過体の方向に延在して前記内側リングを超えて取付溝を形成し、前記第２光透過体の前記光フィルターに向かう一端の周側は、前記取付溝内に配置されることを特徴とする、請求項７に記載の脱毛器。

【請求項9】

前記弾性シールリングの前記第１光透過体に向かう側には突起が設けられ、前記突起は、前記第１光透過体の端面に当接するように設けられることを特徴とする、請求項７に記載の脱毛器。

【請求項10】

その冷却側が前記放熱ベースの一方側に熱的に結合された冷却部材を含み、
ここで、前記炭素含有層は、前記冷却部材の前記放熱ベースに向かう側、または前記冷却部材の露出面に設けられることを特徴とする、請求項３に記載の脱毛器。

【請求項11】

前記光源の光射出側に位置する第２光透過体と、
前記第２光透過体に接続され、前記第２光透過体の熱を吸収するための放熱アセンブリと、
前記第２光透過体と前記放熱アセンブリとの間に設けられた炭素含有層とを含むことを特徴とする、請求項１に記載の脱毛器。

【請求項12】

冷却駆動アセンブリを含み、
ここで、前記放熱アセンブリは、放熱プレートと放熱フィンを含み、前記放熱プレートの一面には、第１領域および第２領域が並んで設けられ、前記光源および前記リフレクターは、前記放熱プレートの前記第１領域に設けられ、前記放熱フィンは前記第２領域に取り付けられ、前記冷却駆動アセンブリは、前記放熱フィンの前記リフレクターに背向する側に設けられ、前記冷却駆動アセンブリは、気流を前記放熱フィン、前記光源、および／または前記リフレクターに吹くように駆動することを特徴とする、請求項１１に記載の脱毛器。

【請求項13】

前記放熱ベースはセラミックベースであり、前記セラミックベースには第１スロットが設けられ、前記リフレクターは前記第１スロットに埋め込まれ、前記ホルダーは、弾性体を介して前記光源、リフレクターを前記放熱ベースに固定することを特徴とする、請求項３に記載の脱毛器。

【請求項14】

前記セラミックベースの側辺には第１留め具が設けられ、前記ホルダーには、対応して第２留め具が設けられ、前記ホルダーは、前記第２留め具と前記第１留め具との係合によって、前記セラミックベースに固定されることを特徴とする、請求項１３に記載の脱毛器。

【請求項15】

前記リフレクターは半円弧状のリフレクターであり、前記脱毛器は、
前記リフレクターの長さ方向の両端に設けられ、前記リフレクターの両端から漏れる前記光を前記リフレクターの光射出側に反射する側面反射部材を含み、
ここで、前記側面反射部材には貫通孔が設けられ、前記ランプの端部は、前記貫通孔を通過し、前記貫通孔の直径は前記光源の両端よりも大きく、弾性体は、前記光源を前記貫通孔の前記リフレクターの底部に近い側に弾力的に密着させることを特徴とする、請求項１に記載の脱毛器。

【国際調査報告】