特表 2024-519973 セラミック可変静翼ブッシング

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-05-21

(54)【発明の名称】セラミック可変静翼ブッシング

(51)【国際特許分類】

   F16C 33/24 20060101AFI20240514BHJP

   F16C 17/02 20060101ALI20240514BHJP

   F16C 17/04 20060101ALI20240514BHJP

   F16C 35/07 20060101ALI20240514BHJP

   F16C 35/063 20060101ALI20240514BHJP

   F01D 9/04 20060101ALI20240514BHJP

   C04B 35/00 20060101ALI20240514BHJP

【ＦＩ】

F16C33/24 A

F16C17/02 Z

F16C17/04 Z

F16C35/07

F16C35/063

F01D9/04

C04B35/00

【審査請求】有

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2023572505

(86)(22)【出願日】2022-06-30

(85)【翻訳文提出日】2023-11-22

(86)【国際出願番号】 US2022073300

(87)【国際公開番号】W WO2023279054

(87)【国際公開日】2023-01-05

(31)【優先権主張番号】63/216,948

(32)【優先日】2021-06-30

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】500149223

【氏名又は名称】サン－ゴバン パフォーマンス プラスティックス コーポレイション

【氏名又は名称原語表記】Ｓａｉｎｔ－Ｇｏｂａｉｎ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｐｌａｓｔｉｃｓ， Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ

【住所又は居所原語表記】３１５００ Ｓｏｌｏｎ Ｒｏａｄ Ｓｏｌｏｎ， ４４１３９ ＯＨ ＵＳＡ

(74)【代理人】

【識別番号】110003281

【氏名又は名称】弁理士法人大塚国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】レブラン，ジーン－マリー

(72)【発明者】

【氏名】ヴァージェル，アルノー

(72)【発明者】

【氏名】ニングレ－コイリエール，マルゴー

(72)【発明者】

【氏名】メキレフ，ナフィー

(72)【発明者】

【氏名】ダニーシュー，ユースタシュー

(72)【発明者】

【氏名】マーフィー，クリスチャン

【テーマコード（参考）】

3G202

3J011

3J117

【Ｆターム（参考）】

3G202GA13

3J011AA08

3J011BA06

3J011DA01

3J011KA02

3J011KA03

3J011MA02

3J011SB03

3J011SB04

3J011SB12

3J011SB13

3J011SB14

3J011SD01

3J117AA01

3J117AA03

3J117CA04

3J117DA01

3J117DA02

3J117DB10

(57)【要約】

【解決手段】
システム及び方法が、可動静翼と、可動静翼の周りに環状に配置された静翼ハウジングとを有する可変静翼組立体用の静翼ブッシングを提供することを含む。ブッシングは、フランジと、フランジから延在するバレルと、フランジ及びバレルを貫通して延在する中央開口部とを含み、ハウジング内に、かつ静翼の周りに環状に配置される。ブッシングは、可変静翼組立体の静翼及びハウジングのうちの１つ以上の熱膨張係数（ＣＴＥ）以下のＣＴＥを有するセラミック材料から形成される。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

可変静翼ブッシングであって、
フランジと、前記フランジから延在するバレルと、前記フランジ及び前記バレルを貫通して延在する中央開口部とを備え、前記ブッシングは、少なくとも０．５Ｅ^－６／Ｋの熱膨張係数（ＣＴＥ）を有するセラミック材料から形成される、
可変静翼ブッシング。

【請求項2】

前記ブッシングは、可動又は回転可能な静翼と、前記可動静翼の周りに環状に配置された静翼ハウジングとを備える可変静翼組立体での使用に適しており、前記ブッシングは、前記ハウジング内に少なくとも部分的に、かつ前記静翼の周りに環状に配置されている、請求項１に記載のブッシング。

【請求項3】

可変静翼組立体であって、
可動又は回転可能な静翼と、
前記静翼の周りに環状に配置された静翼ハウジングと、
前記ハウジング内に少なくとも部分的に、かつ前記静翼の周りに環状に配置されたブッシングであって、前記ブッシングは、フランジと、前記フランジから延在するバレルと、前記フランジ及び前記バレルを貫通して延在する中央開口部とを含み、前記ブッシングは、少なくとも０．５Ｅ^－６／Ｋの熱膨張係数（ＣＴＥ）を有するセラミック材料から形成される、ブッシングと、
を備える、可変静翼組立体。

【請求項4】

前記ハウジングは、ステンレス鋼、チタン、又はそれらの合金から形成される、請求項３に記載の組立体。

【請求項5】

前記ブッシングは、前記静翼、前記ハウジング、又はそれらの組み合わせのＣＴＥ以下のＣＴＥを有するセラミック材料から形成される、請求項２に記載のブッシング。

【請求項6】

前記ブッシングは、アルミニウム、ホウ素、銅、ジルコン、クロム、ケイ素、チタン、ハフニウム、タングステン、タンタル、イットリウム、又はそれらの組み合わせを含む少なくとも１つの金属元素を、炭素、酸素、若しくは窒素、又はそれらの組み合わせと組み合わせて含むセラミック材料から形成される、請求項１に記載のブッシング。

【請求項7】

長手方向に測定された前記ブッシングの前記セラミック材料の前記ＣＴＥと比較して、半径方向に測定された前記ブッシングの前記セラミック材料の前記ＣＴＥは、前記静翼、前記ハウジング、又はそれらの組み合わせの前記ＣＴＥにより近い、請求項６に記載のブッシング。

【請求項8】

前記ブッシングは、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化銅、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、又はそれらの組み合わせを含むセラミック材料から形成される、請求項７に記載のブッシング。

【請求項9】

可変静翼ブッシングを形成する方法であって、
セラミック材料を含むバルク材料を提供することと、
前記バルク材料を配向させることと、
前記バルク材料を機械加工して、フランジと、前記フランジから延在するバレルと、前記フランジ及び前記バレルを貫通して延在する中央開口部とを備えるブッシングを形成することであって、前記ブッシングは、少なくとも０．５Ｅ^－６／Ｋの熱膨張係数（ＣＴＥ）を有する、ことと、
を含む、方法。

【請求項10】

前記ブッシングは、少なくとも５ｍｍ／ｓの線速度で静翼ハウジング内で回転及び振動する、請求項３に記載の組立体。

【請求項11】

振動周波数が０．５Ｈｚ～５００Ｈｚである、請求項１０に記載の組立体。

【請求項12】

前記線速度は、前記振動周波数と移動距離との積であり、前記移動距離は０．１ｍｍ～５ｍｍである、請求項１０に記載の組立体。

【請求項13】

前記セラミック材料は１０μｍ未満の粒径を有する、請求項１に記載のブッシング。

【請求項14】

前記セラミック材料は、少なくとも２Ｗ／ｍＫの熱伝導率を有する、請求項１に記載のブッシング。

【請求項15】

前記ブッシングは、０．４μｍ以下のＲａ表面粗さ値を有する表面を有するセラミック材料から形成される、請求項１に記載のブッシング。

【発明の詳細な説明】

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0001】

ブッシングが、多くの産業用途で組立体の構成要素間に使用されている。ブッシングは、動作中に構成要素間の位置合わせを維持し、かつ／又は構成要素間の相対運動を制御するために利用される。いくつかの用途では、ジェットエンジン圧縮機又はガスタービンエンジンの可変静翼組立体に利用されるブッシングなどのブッシングは、極端な力、圧力、及び／又は温度などの極端な動作条件にさらされることが多い。これらの極端な動作条件に耐えるために、これらのブッシングは、通常、グラファイト又は他の高性能ポリマー材料から形成される。しかしながら、これらの材料は依然としてかなりの温度制限を示す。更に、これらの材料の酸化は、構成要素間の摩擦係数に影響を及ぼし、性能及び信頼性に悪影響を及ぼす可能性がある。そのため、産業界は、そのような用途のためのブッシング技術における改善を要求し続けている。

【図面の簡単な説明】

【0002】

実施形態の特徴及び利点が達成され、より詳細に理解され得るように、添付の図面に例解されるその実施形態を参照することによって、より具体的な説明が行われ得る。しかしながら、図面は、いくつかの実施形態のみを例解し、したがって、他の等しく有効な実施形態が存在し得るため、範囲を限定するものとみなされるべきではない。

【0003】

【図1】図１は、本開示の一実施形態による、組立体の部分断面図である。

【図2】図２は、本開示の一実施形態によるブッシングを形成する方法のフローチャートである。

【図3】図３は、組立体内に本開示の実施形態によるブッシングを形成するために使用される異なる材料の線速度対摩耗痕幅のグラフである。

【図4】図４は、組立体内に本開示の実施形態によるブッシングを形成するために使用される異なる材料の線速度対摩擦係数のグラフである。

【図5】図５は、組立体内に本開示の実施形態によるブッシングを形成するために使用される異なる材料の摩耗痕幅対摩擦係数のグラフである。

【0004】

異なる図面における同じ参照符号の使用は、同様の又は同一の部材を示す。

【発明を実施するための形態】

【0005】

図１は、本開示の一実施形態による、組立体１００の部分断面図を示す。いくつかの実施形態では、組立体１００は、ジェットエンジン圧縮機又はガスタービンエンジンであってもよい。より具体的には、いくつかの実施形態では、組立体は、ジェットエンジン圧縮機又はガスタービンエンジンの可変静翼組立体であってもよい。組立体１００は、一般に、静翼ハウジング１０２などの外側構成要素と、可動又は回転可能な静翼１０４などの内側構成要素とを備えることができる。ハウジング１０２は、一般に、静翼１０４の周りに環状に配置されてもよい。更に、いくつかの実施形態では、ハウジング１０２及び／又は静翼１０４は、金属材料から形成されてもよい。いくつかの実施形態では、金属材料は、鋼、ステンレス鋼、チタン、又はそれらの合金を含んでもよい。

【0006】

環状のブッシング１５０が、一般に、ハウジング１０２内に少なくとも部分的に、かつ静翼１０４の周りに環状に配置されてもよい。ブッシング１５０は、フランジ１５２と、フランジ１５２から延在するバレル１５４と、フランジ１５２及びバレル１５４を貫通して延在する中央開口部１５６とを備え得る。より具体的には、ブッシング１５０は、バレル１５４がハウジング１０２内に配置され、ハウジング１０２と静翼１０４との間に半径方向に配置され、フランジ１５２がハウジング１０２の外面１０６に隣接して配置されるように配置されてもよい。いくつかの実施形態では、フランジ１５２は、ハウジング１０２の外面１０６に実質的に当接してもよい。いくつかの実施形態では、ワッシャ１０８が、フランジ１５２とハウジング１０２の外面１０６との間に配置されてもよい。いくつかの実施形態では、バレル１５４は、ハウジング１０２と接触してもよい。いくつかの実施形態では、スリーブ１１０が、バレル１５４の周りに、ハウジング１０２と接触して配置され得る。いくつかの実施形態では、スリーブ１１０は、金属材料から形成されてもよい。いくつかの実施形態では、スリーブ１１０の金属材料は、ハウジング１０２の金属材料と実質的に一致してもよく、鋼、ステンレス鋼、チタン、又はそれらの合金を含んでもよい。

【0007】

ブッシング１５０は、一般に、静翼１０４とブッシング１５０との間、ハウジング１０２とブッシング１５０との間、静翼１０４とハウジング１０２との間、又はそれらの組み合わせの間の位置合わせを維持するように構成することができる。いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、ハウジング１０２内の軸方向の位置合わせを維持し、かつ／又は静翼１０４をハウジング１０２内の中心に置くように構成することができる。動作時の温度制限を防止するために、ブッシング１５０は、一般に、空気漏れの制御又は防止、摩擦の最小化、及び高温摩擦負荷下でのブッシング１５０の劣化の最小化などの用途要件を犠牲にすることなく、ブッシング１５０がより高い温度に達することを可能にする、セラミック材料などの高温耐性材料から形成することができる。

【0008】

更に、ブッシング１５０は、ブッシング１５０のバレル１５４と、ハウジング１０２、静翼１０４、又はそれらの組み合わせとの間に有益な公差を有するように設計することができる。いくつかの実施形態では、ブッシング１５０のバレル１５４は、ブッシング１５０がハウジング１０２に圧入取り付けされるように、ハウジング１０２との公差が実質的にゼロであってもよい。いくつかの実施形態では、ブッシング１５０のバレル１５４は、ハウジング１０２内でのブッシング１５０の移動が最小限となるように、ハウジング１０２との公差が最小限であってもよい。いくつかの実施形態では、ブッシング１５０のバレル１５４とハウジング１００との間の公差は、ブッシング１５０のバレル１５４の直径の少なくとも０．００５％、少なくとも０．０１％、少なくとも０．０２％、少なくとも０．０３％、少なくとも０．０４％、少なくとも０．０５％、少なくとも０．１０％、又は少なくとも０．１５％であってもよい。いくつかの実施形態では、ブッシング１５０のバレル１５４とハウジング１００との間の公差は、ブッシング１５０のバレル１５４の直径の５％以下、４％以下、３％以下、２．５％以下、２％以下、１．５％以下、１％以下、０．７５％以下、０．５０％以下、０．２５％以下、０．２０％以下、０．１５％以下、０．１０％以下、又は０．０５％以下であってもよい。更に、ブッシング１５０のバレル１５４とハウジング１００との間の公差は、少なくとも０．００５％～５％以下、又は更には少なくとも０．１０％～０．２０％以下など、これらの最小値及び最大値のいずれかの間であってもよいことが理解されよう。

【0009】

いくつかの実施形態では、ブッシング１５０とハウジング１０２との間の最小限の公差及び／又はブッシング１５０とハウジング１０２との間の低い摩擦係数（coefficient of friction、ＣＯＦ）は、ブッシング１５０内の静翼１０４の移動によって引き起こされる、静翼１０４によってブッシング１５０に加えられる局所的な力を低減又は最小化することができる。この力の低減又は最小化は、ガスタービンエンジンの動作によって引き起こされる半径方向力及び／又は軸方向の力から生じる、ブッシング１５０に印加される曲げモーメントを防止又は実質的に低減することができる。したがって、ブッシング１５０は、従来のグラファイトブッシング又はポリマーブッシングよりも長い寿命を有することができ、一方で、ブッシング１５０が従来のグラファイトブッシング又はポリマーブッシングよりもはるかに高い温度で動作することも可能にする。

【0010】

ブッシング１５０は、一般に、セラミック材料から形成することができる。いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、ハウジング１０２、静翼１０４、又はそれらの組み合わせのＣＴＥ以下のＣＴＥを有するセラミック材料から形成することができる。いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、ハウジング１０２、静翼１０４、又はそれらの組み合わせのＣＴＥよりも０％、少なくとも１％、少なくとも２％、少なくとも３％、少なくとも４％、少なくとも５％、少なくとも６％、少なくとも７％、少なくとも８％、少なくとも９％、少なくとも１０％、又は少なくとも１５％低いＣＴＥを有するセラミック材料から形成されてもよい。いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、ハウジング１０２、静翼１０４、又はそれらの組み合わせのＣＴＥよりも３０％以下、２５％以下、２０％以下、１５％以下、１０％以下、９％以下、８％以下、７％以下、６％以下、５％以下、４％以下、３％以下、２％以下、又は１％以下低いＣＴＥを有するセラミック材料から形成されてもよい。更に、ブッシング１５０は、ハウジング１０２、静翼１０４、又はそれらの組み合わせのＣＴＥよりも０％～３０％以下、０％～２０％以下、又は更には少なくとも０％～１０％以下など、これらの最小値及び最大値のいずれかの間のＣＴＥを有するセラミック材料から形成されてもよいことが理解されよう。

【0011】

いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、少なくとも０．５Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも１．０Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも１．５Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも２Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも３Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも４Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも５Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも６Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも７Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも８Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも９Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも１０Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも１１Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも１２Ｅ^－６／Ｋ、又は少なくとも１３Ｅ^－６／ＫのＣＴＥを有するセラミック材料から形成されてもよい。いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、１４Ｅ^－６／Ｋ以下、１３Ｅ^－６／Ｋ以下、１２Ｅ^－６／Ｋ以下、１１Ｅ^－６／Ｋ以下、又は１０Ｅ^－６／Ｋ以下のＣＴＥを有するセラミック材料から形成され得る。更に、ブッシング１５０は、少なくとも０．５Ｅ^－６／Ｋ～１０Ｅ^－６／Ｋ以下、少なくとも１．５Ｅ^－６／Ｋ～１０Ｅ^－６／Ｋ以下、又は更には少なくとも３Ｅ^－６／Ｋ～１２Ｅ^－６／Ｋ以下など、これらの最小値及び最大値のいずれかの間のＣＴＥを有するセラミック材料から形成され得ることが理解されよう。

【0012】

いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、少なくとも２５ＭＰａ、少なくとも５０ＭＰａ、少なくとも７５ＭＰａ、少なくとも１００ＭＰａ、少なくとも２００ＭＰａ、少なくとも３００ＭＰａ、少なくとも４００ＭＰａ、少なくとも５００ＭＰａ、少なくとも７５０ＭＰａ、又は少なくとも１０００ＭＰａの曲げ強度を有するセラミック材料から形成されてもよい。いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、１５００ＭＰａ以下、１２５０ＭＰａ以下、１０００ＭＰａ以下、７５０ＭＰａ以下、５００ＭＰａ以下、４００ＭＰａ以下、３００ＭＰａ以下、２００ＭＰａ以下、又は１００ＭＰａ以下の曲げ強度を有するセラミック材料から形成されてもよい。更に、ブッシング１５０は、少なくとも２５ＭＰａ～１５００ＭＰａ以下、少なくとも２５ＭＰａ～５００ＭＰａ以下、又は更には少なくとも２５ＭＰａ～１００ＭＰａ以下など、これらの最小値及び最大値のいずれかの間の曲げ強度を有するセラミック材料から形成され得ることが理解されるであろう。

【0013】

いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、少なくとも２Ｗ／ｍＫの熱伝導率を有してもよい。ブッシング１５０は、３０Ｗ／ｍＫ以下の熱伝導率を有してもよい。更に、ブッシング１５０は、これらの最小値及び最大値のいずれかの間の熱伝導率を有し得ることが理解されるであろう。

【0014】

いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、０．４μｍ以下、０．３μｍ以下、０．２μｍ以下、０．１μｍ以下、０．０１μｍ以下、又は０．００５μｍ以下のＲａ表面粗さ値を有する表面を有するセラミック材料から形成されてもよい。更に、ブッシング１５０は、これらの最小値及び最大値のいずれかの間の表面粗さを有し得ることが理解されるであろう。

【0015】

いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、少なくとも１キログラム毎平方ミリメートル（ｋｇ／ｍｍ^２）、少なくとも２ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも３ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも４ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも５ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも１０ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも１５ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも２０ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも２５ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも５０ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも１００ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも２００ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも３００ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも４００ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも５００ｋｇ／ｍｍ^２又は少なくとも１０００ｋｇ／ｍｍ^２の硬度を有するセラミック材料から形成されてもよい。いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、２０００ｋｇ／ｍｍ^２以下、１７５０ｋｇ／ｍｍ^２以下、１５００ｋｇ／ｍｍ^２以下、１２５０ｋｇ／ｍｍ^２以下、１０００ｋｇ／ｍｍ^２以下、７５０ｋｇ／ｍｍ^２以下、５００ｋｇ／ｍｍ^２以下、４００ｋｇ／ｍｍ^２以下、３００ｋｇ／ｍｍ^２以下、２００ｋｇ／ｍｍ^２以下、１００ｋｇ／ｍｍ^２以下、５０ｋｇ／ｍｍ^２以下、又は２５ｋｇ／ｍｍ^２以下の硬度を有するセラミック材料から形成されてもよい。更に、ブッシング１５０は、少なくとも１ｋｇ／ｍｍ^２～２０００ｋｇ／ｍｍ^２以下、少なくとも２ｋｇ／ｍｍ^２～１０００ｋｇ／ｍｍ^２以下、又は更には少なくとも３ｋｇ／ｍｍ^２～１５ｋｇ／ｍｍ^２以下など、これらの最小値及び最大値のいずれかの間の硬度を有するセラミック材料から形成され得ることが理解されよう。

【0016】

いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、少なくとも０．５μｍ、少なくとも１μｍ、少なくとも１０μｍ、又は更には少なくとも２５μｍのセラミック材料粒子の粒径を有することができる。ブッシング１５０は、１０μｍ以下、５μｍ以下、１μｍ以下、又は更には０．５μｍ以下のセラミック材料粒子の粒径を有し得る。更に、ブッシング１５０は、これらの最小値及び最大値のいずれかの間のセラミック材料粒子の粒径を有し得ることが理解されるであろう。

【0017】

いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、少なくとも０．５μｍ、少なくとも１μｍ、少なくとも１０μｍ、又は更には少なくとも２５μｍのセラミック材料粒子の粒径を有することができる。ブッシング１５０は、１０μｍ以下、５μｍ以下、１μｍ以下、又は更には０．５μｍ以下のセラミック材料粒子の粒径を有し得る。更に、ブッシング１５０は、これらの最小値及び最大値のいずれかの間のセラミック材料粒子の粒径を有し得ることが理解されるであろう。

【0018】

いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、アルミニウム、ホウ素、銅、ジルコン、クロム、ケイ素、チタン、ハフニウム、タングステン、タンタル、イットリウム、又はそれらの組み合わせを含む少なくとも１つの金属元素を含むセラミック材料から形成され得る。いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、アルミニウム、ホウ素、銅、ジルコン、クロム、ケイ素、チタン、ハフニウム、タングステン、タンタル、イットリウム、又はそれらの組み合わせを含む少なくとも１つの金属元素を、炭素、酸素、若しくは窒素、又はそれらの組み合わせと組み合わせて含むセラミック材料から形成されてもよい。いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化銅、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、又はそれらの組み合わせを含むセラミック材料から形成され得る。いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、窒化ホウ素複合材料（ｈＢＮ）を含むセラミック材料から形成されてもよい。いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、窒化ホウ素複合材料（ｈＢＮ）から本質的になるセラミック材料から形成されてもよい。いくつかの実施形態では、窒化ホウ素複合材料（ｈＢＮ）は、グレードＺＳＢＮ窒化ホウ素を含んでもよい。いくつかの実施形態では、窒化ホウ素複合材料（ｈＢＮ）は、窒化ホウ素（ＢＮ）、二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、及びホウケイ酸ガラス（ＢＯＤ）を含んでもよい。いくつかの実施形態では、窒化ホウ素複合材料（ｈＢＮ）は、約４５重量％の窒化ホウ素（ＢＮ）、約４５％の二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、及び約１０重量％のホウケイ酸ガラスを結晶相として含むことができる。

【0019】

いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、１つ以上の異方性熱機械特性を有するセラミック材料から形成されてもよい。いくつかの実施形態では、１つ以上の異方性熱機械特性は、ブッシングのセラミック材料のＣＴＥを含み得る。いくつかの実施形態では、第１の方向に沿って摂氏０度～摂氏５００度の第１の温度で測定されたブッシング１５０のセラミック材料のＣＴＥは、第１の方向に直交する第２の方向に同じ温度で測定されたブッシング１５０のセラミック材料のＣＴＥよりも少なくとも５％、少なくとも１０％、少なくとも１５％、少なくとも２０％、少なくとも２５％、少なくとも３０％、少なくとも３５％、少なくとも４０％、少なくとも４５％、又は少なくとも５０％低いか又は高い。いくつかの実施形態では、長手方向に測定されたブッシング１５０のセラミック材料のＣＴＥと比較して、半径方向に測定されたブッシング１５０のセラミック材料のＣＴＥは、静翼１０４、ハウジング１０２、又はそれらの組み合わせのＣＴＥにより近い。いくつかの実施形態では、半径方向に測定されたブッシングのセラミック材料のＣＴＥは、異方性であってもよい。いくつかの実施形態では、半径方向に測定されたブッシングのセラミック材料のＣＴＥは、等方性であってもよい。

【0020】

ブッシング１５０とハウジング１０２との間の最小限の公差及び／又はブッシング１５０とハウジング１０２との間の低い摩擦係数（ＣＯＦ）は、ブッシング１５０内の静翼１０４の移動によって引き起こされる、静翼１０４によってブッシング１５０に加えられる局所的な力を低減又は最小化することができる。この力の低減又は最小化は、ガスタービンエンジンの動作によって引き起こされる半径方向力及び／又は軸方向の力から生じる、ブッシング１５０に印加される曲げモーメントを防止又は実質的に低減することができる。したがって、いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、１．０以下、０．９以下、０．８以下、０．７以下、０．６以下、０．６以下、０．５以下、０．４以下、０．３以下、又は０．２以下のハウジング１０２との摩擦係数（ＣＯＦ）を有するセラミック材料から形成され得る。

【0021】

更に、この力の低減又は最小化は、ガスタービンエンジンの動作によって引き起こされる半径方向力及び／又は軸方向の力から生じる、ブッシング１５０に印加される曲げモーメントを防止又は実質的に低減することができる。したがって、ブッシング１５０は、従来のグラファイトブッシング又はポリマーブッシングよりも長い寿命を有することができ、一方で、ブッシング１５０が従来のグラファイトブッシング又はポリマーブッシングよりもはるかに高い温度で動作することも可能にする。したがって、いくつかの実施形態では、ブッシング１５０は、空気（例えば、空気流）下で、少なくとも摂氏５００度、少なくとも摂氏６００度、少なくとも摂氏７００度、少なくとも摂氏８００度、少なくとも摂氏８５０度、少なくとも摂氏９００度、少なくとも摂氏９５０度、少なくとも摂氏１０００度、又は更に高い動作温度に耐えるように構成され得る。これらの温度での動作は、少なくとも１０バール、少なくとも２０バール、少なくとも３０バール、少なくとも４０バール、少なくとも５０バール、又は更には少なくとも６０バールの圧力までの標準大気圧で行われてもよい。図２は、本開示の一実施形態による可変静翼ブッシング１５０を形成する方法２００のフローチャートを示す。方法２００は、ブロック２０２において、セラミック材料を含むバルク材料を提供することによって開始することができる。いくつかの実施形態では、バルク材料は、異方性セラミック材料を含んでもよい。方法２００は、ブロック２０４において、バルク材料を配向させることによって継続することができる。いくつかの実施形態では、バルク材料を配向することにより、ブッシング１５０が、軸方向及び半径方向のうちの少なくとも一方で測定した場合に、少なくとも０．５Ｅ^－６／ＫのＣＴＥを有することが可能となる。方法２００は、ブロック２０６において、バルク材料を機械加工して、フランジ１５２と、フランジ１５２から延在するバレル１５４と、フランジ１５２及びバレル１５４を貫通して延在する中央開口部１５６とを含むブッシング１５０を形成することによって継続することができ、ブッシング１５０は、軸方向及び半径方向のうちの少なくとも一方において少なくとも０．５Ｅ^－６／Ｋの熱膨張係数（coefficient of thermal expansion、ＣＴＥ）を有する。

【0022】

図３は、組立体内に本開示の実施形態によるブッシングを形成するために使用される異なる材料の線速度対摩耗痕幅のグラフを示す。Ａとラベル付けされた点は、ジルコニア系セラミック材料を示す。Ｂとラベル付けされた点は、ケイ酸ジルコニウム系セラミック材料を示す。Ｃとラベル付けされた点は、黒鉛系セラミック材料を示す。Ｄとラベル付けされた点は、研磨された表面を有するジルコニア系セラミック材料を示す。本明細書の実施形態によるブッシングは、指定されたセラミック材料を含み、５．５ｍｍ／ｓ及び３００ｍｍ／ｓの線速度で組立体内で回転された。線速度は、振動周波数と移動距離との積である。振動周波数は、０．５Ｈｚ～５００Ｈｚであってもよい。移動距離は、０．１ｍｍ～５ｍｍであってもよい。図示のように、ブッシングにセラミック材料を選択することで、既存のブッシングと比較して改善された摩耗性能が示される。

【0023】

図４は、組立体内に本開示の実施形態によるブッシングを形成するために使用される異なる材料の線速度対摩擦係数のグラフを示す。Ａとラベル付けされた点は、ジルコニア系セラミック材料を示す。Ｂとラベル付けされた点は、ケイ酸ジルコニウム系セラミック材料を示す。Ｃとラベル付けされた点は、黒鉛系セラミック材料を示す。本明細書の実施形態によるブッシングは、指定されたセラミック材料を含み、５．５ｍｍ／ｓ及び３００ｍｍ／ｓの線速度で組立体内で回転された。線速度は、振動周波数と移動距離との積である。振動周波数は、０．５Ｈｚ～５００Ｈｚであってもよい。移動距離は、０．１ｍｍ～５ｍｍであってもよい。図示のように、ブッシングにセラミック材料を選択することで、既存のブッシングと比較して改善された摩擦係数が示される。

【0024】

図５は、組立体内に本開示の実施形態によるブッシングを形成するために使用される異なる材料の摩耗痕幅対摩擦係数のグラフを示す。Ａとラベル付けされた点は、ジルコニア系セラミック材料を示す。Ｂとラベル付けされた点は、ケイ酸ジルコニウム系セラミック材料を示す。Ｃとラベル付けされた点は、黒鉛系セラミック材料を示す。本明細書の実施形態によるブッシングは、指定されたセラミック材料を含み、５．５ｍｍ／ｓ及び３００ｍｍ／ｓの線速度で組立体内で回転された。線速度は、振動周波数と移動距離との積である。振動周波数は、０．５Ｈｚ～５００Ｈｚであってもよい。移動距離は、０．１ｍｍ～５ｍｍであってもよい。図示のように、ブッシングにセラミック材料を選択することで、既存のブッシングと比較して改善された摩耗性能及び摩擦係数が示される。

【0025】

組立体１００、ブッシング１５０、及び／又は可変ステータブッシング１５０を形成する方法２００の実施形態は、以下のうちの１つ以上を含むことができる。
実施形態１．フランジと、フランジから延在するバレルと、フランジ及びバレルを貫通して延在する中央開口部と、を備える可変静翼ブッシングであって、ブッシングは、少なくとも０．５Ｅ^－６／Ｋの熱膨張係数（ＣＴＥ）を有するセラミック材料から形成される、可変静翼ブッシング。

【0026】

実施形態２．ブッシングは、可動又は回転可能な静翼と、可動静翼の周りに環状に配置された静翼ハウジングとを備える可変静翼組立体での使用に適しており、ブッシングは、ハウジング内に少なくとも部分的に、かつ静翼の周りに環状に配置されている、実施形態１に記載のブッシング。

【0027】

実施形態３．可変静翼組立体であって、可動又は回転可能な静翼と、静翼の周りに環状に配置された静翼ハウジングと、ハウジング内に少なくとも部分的に、かつ静翼の周りに環状に配置されたブッシングであって、ブッシングは、フランジと、フランジから延在するバレルと、フランジ及びバレルを貫通して延在する中央開口部とを含み、ブッシングは、少なくとも０．５Ｅ^－６／Ｋの熱膨張係数（ＣＴＥ）を有するセラミック材料から形成される、ブッシングと、を備える、可変静翼組立体。

【0028】

実施形態４．ハウジングは、ステンレス鋼、チタン、又はそれらの合金から形成される、実施形態２又は３に記載のブッシング又は組立体。

【0029】

実施形態５．ブッシングは、静翼、ハウジング、又はそれらの組み合わせのＣＴＥ以下のＣＴＥを有するセラミック材料から形成される、実施形態２～４のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0030】

実施形態６．ブッシングは、静翼、ハウジング、又はそれらの組み合わせのＣＴＥよりも０％、少なくとも１％、少なくとも２％、少なくとも３％、少なくとも４％、少なくとも５％、少なくとも６％、少なくとも７％、少なくとも８％、少なくとも９％、少なくとも１０％、又は少なくとも１５％低いＣＴＥを有するセラミック材料から形成される、実施形態２～５のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0031】

実施形態７．ブッシングは、静翼、ハウジング、又はそれらの組み合わせのＣＴＥよりも３０％以下、２５％以下、２０％以下、１５％以下、１０％以下、９％以下、８％以下、７％以下、６％以下、５％以下、４％以下、３％以下、２％以下、又は１％以下低いＣＴＥを有するセラミック材料から形成される、実施形態２～６のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0032】

実施形態８．ブッシングは、少なくとも０．５Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも１．０Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも１．５Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも２Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも３Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも４Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも５Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも６Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも７Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも８Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも９Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも１０Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも１１Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも１２Ｅ^－６／Ｋ、又は少なくとも１３Ｅ^－６／ＫのＣＴＥを有するセラミック材料から形成される、実施形態１～７のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0033】

実施形態９．ブッシングは、１４Ｅ^－６／Ｋ以下、１３Ｅ^－６／Ｋ以下、１２Ｅ^－６／Ｋ以下、１１Ｅ^－６／Ｋ以下、又は１０Ｅ^－６／Ｋ以下のＣＴＥを有するセラミック材料から形成される、実施形態１～８のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0034】

実施形態１０．ブッシングは、少なくとも２５ＭＰａ、少なくとも５０ＭＰａ、少なくとも７５ＭＰａ、少なくとも１００ＭＰａ、少なくとも２００ＭＰａ、少なくとも３００ＭＰａ、少なくとも４００ＭＰａ、少なくとも５００ＭＰａ、少なくとも７５０ＭＰａ、又は少なくとも１０００ＭＰａの曲げ強度を有するセラミック材料から形成される、実施形態１～９のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0035】

実施形態１１．ブッシングは、１５００ＭＰａ以下、１２５０ＭＰａ以下、１０００ＭＰａ以下、７５０ＭＰａ以下、５００ＭＰａ以下、４００ＭＰａ以下、３００ＭＰａ以下、２００ＭＰａ以下、又は１００ＭＰａ以下の曲げ強度を有するセラミック材料から形成される、実施形態１～１０のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0036】

実施形態１２．ブッシングは、少なくとも１キログラム毎平方ミリメートル（ｋｇ／ｍｍ^２）、少なくとも２ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも３ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも４ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも５ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも１０ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも１５ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも２０ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも２５ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも５０ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも１００ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも２００ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも３００ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも４００ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも５００ｋｇ／ｍｍ^２又は少なくとも１０００ｋｇ／ｍｍ^２の硬度を有するセラミック材料から形成される、実施形態１～１１のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0037】

実施形態１３．ブッシングは、２０００ｋｇ／ｍｍ^２以下、１７５０ｋｇ／ｍｍ^２以下、１５００ｋｇ／ｍｍ^２以下、１２５０ｋｇ／ｍｍ^２以下、１０００ｋｇ／ｍｍ^２以下、７５０ｋｇ／ｍｍ^２以下、５００ｋｇ／ｍｍ^２以下、４００ｋｇ／ｍｍ^２以下、３００ｋｇ／ｍｍ^２以下、２００ｋｇ／ｍｍ^２以下、１００ｋｇ／ｍｍ^２以下、５０ｋｇ／ｍｍ^２以下、又は２５ｋｇ／ｍｍ^２以下の硬度を有するセラミック材料から形成される、実施形態１～１２のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0038】

実施形態１４．ブッシングは、１．０以下、０．９以下、０．８以下、０．７以下、０．６以下、０．６以下、０．５以下、０．４以下、０．３以下、又は０．２以下のハウジングとの摩擦係数（ＣＯＦ）を有するセラミック材料から形成される、実施形態１～１３のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0039】

実施形態１５．ブッシングは、アルミニウム、ホウ素、銅、ジルコン、クロム、ケイ素、チタン、ハフニウム、タングステン、タンタル、イットリウム、又はそれらの組み合わせを含む少なくとも１つの金属元素を、炭素、酸素、若しくは窒素、又はそれらの組み合わせと組み合わせて含むセラミック材料から形成される、実施形態１～１４のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0040】

実施形態１６．ブッシングは、１つ以上の異方性熱機械特性を有するセラミック材料から形成される、実施形態１５に記載のブッシング又は組立体。

【0041】

実施形態１７．１つ以上の異方性熱機械特性は、ブッシングのセラミック材料のＣＴＥを含み、第１の方向に沿って摂氏０度～摂氏５００度の第１の温度で測定されたブッシングのセラミック材料のＣＴＥは、第１の方向に直交する第２の方向に同じ温度で測定されたブッシングのセラミック材料のＣＴＥよりも少なくとも５％、少なくとも１０％、少なくとも１５％、少なくとも２０％、少なくとも２５％、少なくとも３０％、少なくとも３５％、少なくとも４０％、少なくとも４５％、又は少なくとも５０％低い又は高い、実施形態１５又は１６に記載のブッシング又は組立体。

【0042】

実施形態１８．長手方向に測定されたブッシングのセラミック材料のＣＴＥと比較して、半径方向に測定されたブッシングのセラミック材料のＣＴＥは、静翼、ハウジング、又はそれらの組み合わせのＣＴＥにより近い、実施形態１５～１７のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0043】

実施形態１９．半径方向に測定されたブッシングのセラミック材料のＣＴＥは異方性である、実施形態１８に記載のブッシング又は組立体。

【0044】

実施形態２０．半径方向に測定されたブッシングのセラミック材料のＣＴＥは等方性である、実施形態１８に記載のブッシング又は組立体。

【0045】

実施形態２１．ブッシングは、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化銅、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、又はそれらの組み合わせを含むセラミック材料から形成される、実施形態１５～２０のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0046】

実施形態２２．ブッシングは、窒化ホウ素複合材料（ｈＢＮ）を含むセラミック材料から形成される、実施形態１５～２０のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0047】

実施形態２３．ブッシングのフランジは、ハウジングに実質的に当接する、実施形態２～２２のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0048】

実施形態２４．ブッシングのフランジとハウジングとの間に配置されたワッシャを更に備える、実施形態２～２２のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0049】

実施形態２５．ブッシングのバレルの周りに配置されたスリーブを更に備える、実施形態１～２４のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0050】

実施形態２６．スリーブは、鋼、ステンレス鋼、チタン、又はそれらの合金を含む、実施形態２５に記載のブッシング又は組立体。

【0051】

実施形態２７．ブッシングのバレルとハウジングとの間の公差は、ブッシングのバレルの直径の０％、少なくとも０．００５％、少なくとも０．０１％、少なくとも０．０２％、少なくとも０．０３％、少なくとも０．０４％、少なくとも０．０５％、少なくとも０．１０％、又は少なくとも０．１５％である、実施形態２～２６のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0052】

実施形態２８．ブッシングのバレルとハウジングとの間の公差は、ブッシングのバレルの直径の５％以下、４％以下、３％以下、２．５％以下、２％以下、１．５％以下、１％以下、０．７５％以下、０．５０％以下、０．２５％以下、０．２０％以下、０．１５％以下、０．１０％以下、又は０．０５％以下である、実施形態２～２７のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0053】

実施形態２９．ブッシングは、空気下で、少なくとも摂氏５００度、少なくとも摂氏６００度、少なくとも摂氏７００度、少なくとも摂氏８００度、少なくとも摂氏８５０度、少なくとも摂氏９００度、少なくとも摂氏９５０度、少なくとも摂氏１０００度の動作温度に耐えるように構成される、実施形態１～２８のいずれか１つに記載のブッシング又は組立体。

【0054】

実施形態３０．可変静翼ブッシングを形成する方法であって、セラミック材料を含むバルク材料を提供することと、バルク材料を配向させることと、バルク材料を機械加工して、フランジと、フランジから延在するバレルと、フランジ及びバレルを貫通して延在する中央開口部とを備えるブッシングを形成することであって、ブッシングは、少なくとも０．５Ｅ^－６／Ｋの熱膨張係数（ＣＴＥ）を有する、ことと、を含む方法。

【0055】

実施形態３１．ブッシングは、少なくとも０．５Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも１．０Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも１．５Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも２Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも３Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも４Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも５Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも６Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも７Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも８Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも９Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも１０Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも１１Ｅ^－６／Ｋ、少なくとも１２Ｅ^－６／Ｋ、又は少なくとも１３Ｅ^－６／ＫのＣＴＥを有するセラミック材料から形成される、実施形態３０に記載の方法。

【0056】

実施形態３２．ブッシングは、１４Ｅ^－６／Ｋ以下、１３Ｅ^－６／Ｋ以下、１２Ｅ^－６／Ｋ以下、１１Ｅ^－６／Ｋ以下、又は１０Ｅ^－６／Ｋ以下のＣＴＥを有するセラミック材料から形成される、実施形態３０又は３１に記載の方法。

【0057】

実施形態３３．ブッシングは、少なくとも２５ＭＰａ、少なくとも５０ＭＰａ、少なくとも７５ＭＰａ、少なくとも１００ＭＰａ、少なくとも２００ＭＰａ、少なくとも３００ＭＰａ、少なくとも４００ＭＰａ、少なくとも５００ＭＰａ、少なくとも７５０ＭＰａ、又は少なくとも１０００ＭＰａの曲げ強度を有するセラミック材料から形成される、実施形態３０～３２のいずれか１つに記載の方法。

【0058】

実施形態３４．ブッシングは、１５００ＭＰａ以下、１２５０ＭＰａ以下、１０００ＭＰａ以下、７５０ＭＰａ以下、５００ＭＰａ以下、４００ＭＰａ以下、３００ＭＰａ以下、２００ＭＰａ以下、又は１００ＭＰａ以下の曲げ強度を有するセラミック材料から形成される、実施形態３０～３３のいずれか１つに記載の方法。

【0059】

実施形態３５．ブッシングは、少なくとも１キログラム毎平方ミリメートル（ｋｇ／ｍｍ^２）、少なくとも２ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも３ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも４ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも５ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも１０ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも１５ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも２０ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも２５ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも５０ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも１００ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも２００ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも３００ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも４００ｋｇ／ｍｍ^２、少なくとも５００ｋｇ／ｍｍ^２又は少なくとも１０００ｋｇ／ｍｍ^２の硬度を有するセラミック材料から形成される、実施形態３０～３４のいずれか１つに記載の方法。

【0060】

実施形態３６．ブッシングは、２０００ｋｇ／ｍｍ^２以下、１７５０ｋｇ／ｍｍ^２以下、１５００ｋｇ／ｍｍ^２以下、１２５０ｋｇ／ｍｍ^２以下、１０００ｋｇ／ｍｍ^２以下、７５０ｋｇ／ｍｍ^２以下、５００ｋｇ／ｍｍ^２以下、４００ｋｇ／ｍｍ^２以下、３００ｋｇ／ｍｍ^２以下、２００ｋｇ／ｍｍ^２以下、１００ｋｇ／ｍｍ^２以下、５０ｋｇ／ｍｍ^２以下、又は２５ｋｇ／ｍｍ^２以下の硬度を有するセラミック材料から形成される、実施形態３０～３５のいずれか１つに記載の方法。

【0061】

実施形態３７．ブッシングは、アルミニウム、ホウ素、銅、ジルコン、クロム、ケイ素、チタン、ハフニウム、タングステン、タンタル、イットリウム、又はそれらの組み合わせを含む少なくとも１つの金属元素を、炭素、酸素、若しくは窒素、又はそれらの組み合わせと組み合わせて含むセラミック材料から形成される、実施形態３０～３６のいずれか１つに記載の方法。

【0062】

実施形態３８．ブッシングは、異方性熱機械特性を有するセラミック材料から形成される、実施形態３７に記載の方法。

【0063】

実施形態３９．第１の方向に沿って摂氏０度～摂氏５００度の第１の温度で測定されたセラミック材料のＣＴＥは、第１の方向に直交する第２の方向に同じ温度で測定されたＣＴＥよりも、少なくとも５％、少なくとも１０％、少なくとも１５％、少なくとも２０％、少なくとも２５％、少なくとも３０％、少なくとも３５％、少なくとも４０％、少なくとも４５％、又は少なくとも５０％低いか又は高い、実施形態３７～３８のいずれか１つに記載の方法。

【0064】

実施形態４０．長手方向におけるブッシングのＣＴＥと比較して、半径方向におけるブッシングのＣＴＥは、静翼、ハウジング、又はそれらの組み合わせのＣＴＥにより近い、実施形態３７～３９のいずれか１つに記載の方法。

【0065】

実施形態４１．ブッシングの半径方向のＣＴＥは異方性である、実施形態４０に記載の方法。

【0066】

実施形態４２．ブッシングの半径方向のＣＴＥは等方性である、実施形態４０に記載の方法。

【0067】

実施形態４３．ブッシングは、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化銅、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、又はそれらの組み合わせを含むセラミック材料から形成される、実施形態３７～４２のいずれか１つに記載の方法。

【0068】

実施形態４４．ブッシングは、窒化ホウ素複合材料（ｈＢＮ）を含むセラミック材料から形成される、実施形態３７～４２のいずれか１つに記載の方法。

【0069】

実施形態４５．バルク材料を配向することにより、ブッシングが、半径方向及び長手方向のうちの少なくとも一方で測定した場合に、少なくとも０．５Ｅ^－６／ＫのＣＴＥを有することが可能となる、実施形態３０～４４のいずれか１つに記載の方法。

【0070】

実施形態４６．ブッシングは、空気下で、少なくとも摂氏５００度、少なくとも摂氏６００度、少なくとも摂氏７００度、少なくとも摂氏８００度、少なくとも摂氏８５０度、少なくとも摂氏９００度、少なくとも摂氏９５０度、又は少なくとも摂氏１０００度の動作温度に耐えるように構成される、実施形態３０～４５のいずれか１つに記載の方法。

【0071】

実施形態４７．ブッシングは、少なくとも５ｍｍ／ｓの線速度で静翼ハウジング内で回転及び振動する、実施形態３に記載の組立体。

【0072】

実施形態４８．線速度は、振動周波数と移動距離との積である、実施形態４７に記載の組立体。

【0073】

実施形態４９．振動周波数は０．５Ｈｚ～５００Ｈｚである、実施形態４８に記載の組立体。

【0074】

実施形態５０．移動距離は０．１ｍｍ～５ｍｍである、実施形態４８に記載の組立体。

【0075】

実施形態５１．セラミック材料は１０μｍ未満の粒径を有する、実施形態１～５０のいずれか１つに記載のブッシング、組立体、又は方法。

【0076】

実施形態５２．セラミック材料は５μｍ未満の粒径を有する、実施形態１～５０のいずれか１つに記載のブッシング、組立体、又は方法。

【0077】

実施形態５３．セラミック材料は１μｍ未満の粒径を有する、実施形態１～５０のいずれか１つに記載のブッシング、組立体、又は方法。

【0078】

実施形態５４．セラミック材料は０．５μｍ未満の粒径を有する、実施形態１～５０のいずれか１つに記載のブッシング、組立体、又は方法。

【0079】

実施形態５５．セラミック材料は、少なくとも２Ｗ／ｍＫ、少なくとも５Ｗ／ｍＫ、少なくとも１０Ｗ／ｍＫ、少なくとも２０Ｗ／ｍＫの熱伝導率を有する、実施形態１～５４のいずれか１つに記載のブッシング、組立体、又は方法。

【0080】

実施形態５６．ブッシングは、０．４μｍ以下、０．３μｍ以下、０．２μｍ以下、０．１μｍ以下、０．０１μｍ以下、又は０．００５μｍ以下のＲａ表面粗さ値を有する表面を有するセラミック材料から形成される、実施形態１～５５のいずれか１つに記載のブッシング、組立体、又は方法。

【0081】

一般的な説明又は実施例において、上で説明される活動の全てが必要とされるわけではなく、特定の活動の一部が必要とされない場合があり、説明される活動に加えて１つ以上の更なる活動が行われ得ることに留意されたい。更に、活動が列挙される順序は、必ずしもそれらが行われる順序ではない。

【0082】

前述の明細書では、特定の実施形態を参照して概念を記載してきた。しかしながら、当業者であれば、以下の特許請求の範囲に掲げる本発明の範囲から逸脱することなく、様々な修正及び変更を行うことができることを理解する。そのため、明細書及び図面は、限定的な意味ではなく例示的な意味で考慮されるべきであり、全てのこのような修正は、本発明の範囲内に含まれることが意図される。

【0083】

本明細書で使用される場合、「備える（comprises）」、「備える（comprising）」、「含む（includes）」、「含む（including）」、「有する（has）」、「有する（having）」という用語、又はそれらの任意の他の変形は、非排他的な包含を網羅することが意図される。例えば、特徴のリストを含むプロセス、方法、物品、又は装置は、必ずしもそれらの特徴のみに限定されず、明示的に列挙されていないか、又はそのようなプロセス、方法、物品、若しくは装置に固有の他の特徴を含み得る。更に、矛盾する記載がない限り、「又は／若しくは（or）」は、包含的な「又は／若しくは（or）」を指し、排他的な「又は／若しくは（or）」を指すものではない。例えば、条件Ａ又はＢは、以下のいずれか１つによって満たされる：Ａが真であり（又は存在し）、Ｂが偽である（又は存在しない）、Ａが偽であり（又は存在せず）、Ｂが真である（又は存在する）、及び、ＡとＢとの両方が真である（又は存在する）。

【0084】

また、「１つの（a）」又は「１つの（an）」の使用は、本明細書に記載の要素及び構成成分を説明するために用いられる。これは、単に便宜上、及び本発明の範囲の一般的な意味を与えるために行われる。この記載は、１つ又は少なくとも１つを含むように読まれるべきであり、単数はまた、そうでないことを意味することが明らかでない限り、複数も含む。

【0085】

利益、他の利点、及び問題の解決策は、特定の実施形態に関して上で説明されている。しかしながら、利益、利点、問題の解決策、及び任意の利益、利点、又は解決策をもたらすかより顕著にする可能性がある任意の特徴は、請求項のいずれか又は全ての重要な、必要な、又は本質的な特徴として解釈されるべきではない。

【0086】

本明細書を読んだ後、当業者には、特定の特徴が、明確にするために、別個の実施形態の文脈において本明細書に記載されており、単一の実施形態において組み合わせて提供され得ることが理解されよう。逆に、簡潔にするために、単一の実施形態の文脈で説明されている様々な特徴は、別個に又は任意の部分的な組み合わせで提供され得る。更に、範囲で述べられた値への言及は、その範囲内のありとあらゆる値を含む。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【国際調査報告】