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特表2024-521356金属ダスティングを低減した熱交換反応器
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-05-31
(54)【発明の名称】金属ダスティングを低減した熱交換反応器
(51)【国際特許分類】
   C01B 3/32 20060101AFI20240524BHJP
   C01B 32/40 20170101ALI20240524BHJP
   F24V 30/00 20180101ALI20240524BHJP
【FI】
C01B3/32
C01B32/40
F24V30/00 302
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2023574398
(86)(22)【出願日】2022-06-02
(85)【翻訳文提出日】2024-01-30
(86)【国際出願番号】 EP2022065067
(87)【国際公開番号】W WO2022253963
(87)【国際公開日】2022-12-08
(31)【優先権主張番号】21177657.0
(32)【優先日】2021-06-03
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】590000282
【氏名又は名称】トプソー・アクチエゼルスカベット
(74)【代理人】
【識別番号】100069556
【弁理士】
【氏名又は名称】江崎 光史
(74)【代理人】
【識別番号】100111486
【弁理士】
【氏名又は名称】鍛冶澤 實
(74)【代理人】
【識別番号】100139527
【弁理士】
【氏名又は名称】上西 克礼
(74)【代理人】
【識別番号】100164781
【弁理士】
【氏名又は名称】虎山 一郎
(74)【代理人】
【識別番号】100221981
【弁理士】
【氏名又は名称】石田 大成
(72)【発明者】
【氏名】モーデンスン・ピーダ・ムルゴー
(72)【発明者】
【氏名】オースベアウ-ピーダスン・キム
【テーマコード(参考)】
4G140
4G146
【Fターム(参考)】
4G140EA03
4G140EA06
4G140EB12
4G140EB41
4G146JA01
4G146JB04
4G146JB10
4G146JC02
(57)【要約】
要旨
本技術は、第1のガス供給物と熱交換反応器(HER)を含む熱交換反応器(HER)システムに関する。HERは2つの反応ゾーンを有し、第1の反応ゾーン(I)は第1のガス供給物の全体的な発熱反応を行うように配置され、第2の反応ゾーン(II)は前記第1の反応ゾーン(I)からのガスの全体的な吸熱反応を行うように配置されている。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
熱交換反応器HER(20)において、COおよびHを含む第1のガス供給物(2)のCOシフト反応を介して、前記第1のガス供給物(2)を、合成ガス流(21)に変換するための方法であって、
前記HER(20)は、
少なくとも1つのプロセス側(20A)および少なくとも1つの加熱側(20B)を含み、
ここで、HER(20)のプロセス側(20A)が、プロセス側入口(28)およびプロセス側出口(29)を備え、
ここで、HER(20)のプロセス側(20A)は、プロセス側入口(28)に最も近くに配置された第1の反応ゾーン(I)を含み、
かつ、
HER(20)のプロセス側(20A)が、プロセス側出口(29)の最も近くに配置された第2の反応ゾーン(II)を含み、
ここで、HERの加熱側(20B)は、加熱側入口(26)と、任意で加熱側出口(27)とを備え、
前記少なくとも1つのプロセス側(20A)および前記少なくとも1つの加熱側(20B)は、加熱側(20B)からプロセス側(20B)の少なくとも一部への熱伝達が可能であるように配置され、
前記方法は:
-前記プロセス側入口(28)を介して、HER(20)のプロセス側(20A)に第1ガス供給物(2)を供給するステップ;
-前記加熱側入口(26)を介してHERの加熱側(20B)に加熱流体(11)を供給し、前記加熱流体(11)からHER(20)のプロセス側(20A)への熱伝達を可能にするステップ;
-第1の反応ゾーン(I)において、前記第1のガス供給物(2)の全体的な発熱反応を実施するステップ、ここで、全体的な発熱反応は、左から右への正味に進行する少なくとも以下の反応を含み:
【化1】
-第2の反応ゾーン(II)において、前記第1の反応ゾーン(I)からのガスの全体的な吸熱反応を実施するステップ、ここで、全体的な吸熱反応は、左から右へ正味に進行する少なくとも以下の反応を含み:
【化2】
-冷却された流体(31)と任意に混合して、合成ガス流(21)を、プロセス側出口(29)を介してプロセス側(20A)から排出するステップ;および
-任意に、加熱側出口(27)を介して、前記加熱側(20B)から冷却された流体(31)を排出するステップ、
を含む、前記方法。
【請求項2】
第1の反応ゾーン(I)におけるガスの温度が300~800℃である、請求項1に記載の方法。
【請求項3】
第2の反応ゾーン(II)におけるガスの温度が600~1200℃である、請求項1~2のいずれか1項に記載の方法。
【請求項4】
合成ガス流(21)および冷却された流体(31)が組み合わされて、第3の生成物流(35)を提供する、請求項1~3のいずれか1項に記載の方法。
【請求項5】
加熱流体(11)および第2の反応ゾーンを出る合成ガス流(21)の少なくとも一部が、HER(20)の内部で組み合わされて、加熱流体(11)の少なくとも一部として再利用される、請求項1~4のいずれか1項に記載の方法。
【請求項6】
HER(20)のそれぞれの出口において、合成ガス流(21)および/または冷却された流体(31)および/または第3の生成物流(35)の温度が、金属ダスティングの臨界限界よりも高い温度になるように、プロセス条件が調整される、請求項1~5のいずれか1項に記載の方法。
【請求項7】
合成ガス流(21)および/または冷却された流体(31)および/または第3の生成物流(35)の冷却された出口温度が、500℃以上、600℃以上、700℃以上、または800℃以上である、請求項1~6のいずれか1項に記載の方法。
【請求項8】
前記冷却された出口温度における合成ガス流(21)および/または冷却された流体(31)および/または第3の生成物流(35)が、100未満、または50未満、または10未満、または5未満、または1未満のCO還元反応の実ガス炭素活性を有する、請求項1~7のいずれか1項に記載の方法。
【請求項9】
合成ガス流(21)および/または冷却された流体(31)および/または第3の生成物流(35)のH/CO比が、0.5~3.0の範囲、例えば1.9~2.1の範囲、または2~3の範囲である、請求項1~8のいずれか1項に記載の方法。
【請求項10】
合成ガス流(21)および/または冷却された流体(31)および/または第3の生成物流(35)の(H-CO)/(CO+CO)比が、1.5~2.5の範囲、例えば1.9~2.1の範囲、または2~2.05の範囲である、請求項1~9のいずれか1項に記載の方法。
【請求項11】
とCOの間の比は、1~5の間、例えば2~4の間、2~3の間、または2.2~2.5の間、または2.8~3.5の間、または2.8~3.2の間であることができる、請求項1~10のいずれか1項に記載の方法。
【請求項12】
第1の供給物中のCH/COのモル比が、好ましくは0.5未満、例えば0.2未満、好ましくは0.1未満である、請求項1~11のいずれか1項に記載の方法。
【請求項13】
第1のガス供給物(2)が、さらにメタンを含む、好適には最大3モル%、または最大8モル%、または最大12モル%のメタンを含む、請求項1~12のいずれか1項に記載の方法。
【請求項14】
加熱流体(11)が、電気式RWGS(e-RWGS)反応器(10A)、燃焼式RWGS反応器(10B)または自熱式RWGS反応器(10C)、好ましくは電気式RWGS(e-RWGS)反応器(10A)から供給される、請求項1~13のいずれか1項に記載の方法。
【請求項15】
加熱流体(11)がCOおよびHを含む、請求項1~14のいずれか1項に記載の方法。
【請求項16】
COおよびHを含む第1のガス供給物(2)のCOシフト反応を介して、前記第1のガス供給物(2)を、合成ガス流(21)に変換するための、熱交換反応器(HER)(20)であって、
少なくとも1つのプロセス側(20A)および少なくとも1つの加熱側(20B)を含み、
ここで、HER(20)のプロセス側(20A)が、プロセス側入口(28)およびプロセス側出口(29)を備え、
前記プロセス側入口(28)は、COおよびHを含む前記第1のガス供給物(2)を前記プロセス側(20A)に供給するように配置され、
前記プロセス側出口(28)は、任意に冷却された流体(31)と混合して、前記合成ガス流(21)を前記プロセス側(20A)から出力するように配置され、
ここで、HER(20)のプロセス側(20A)は、プロセス側入口(28)に最も近くに配置された第1の反応ゾーン(I)を含み、
かつ、
HER(20)のプロセス側(20A)が、プロセス側出口(29)の最も近くに配置された第2の反応ゾーン(II)を含み、
ここで、第1の反応ゾーン(I)は、前記第1ガス供給(2)の全体的な発熱反応を実施するように配置され、ここで、全体的な発熱反応は、左から右へ正味に進行する少なくとも以下の反応を含み:
【化3】
ここで、第2の反応ゾーン(II)は、前記第1の反応ゾーン(I)からのガスの全体的な吸熱反応を実施するように配置され、ここで、全体的な吸熱反応は、左から右へ正味に進行する少なくとも以下の反応を含む:
【化4】
ここで、HERの加熱側(20B)は、加熱側入口(26)および、-任意に-加熱側出口(27)を備え、
前記加熱側入口(26)は、前記加熱側(20B)に加熱流体(11)を供給するように配置され、
任意に、前記加熱側出口(27)は、前記加熱側(20B)から冷却された流体(31)を出力するように配置され、
前記少なくとも1つのプロセス側(20A)および前記少なくとも1つの加熱側(20B)は、加熱側(20B)からプロセス側(20B)の少なくとも一部への熱伝達が可能であるように配置される、前記熱交換反応器(HER)(20)。
【請求項17】
HER(20)のプロセス側(20A)が、プロセス側入口(28)からプロセス側出口(29)まで延びる全長を有し、第1の反応ゾーン(I)が、HER(20)のプロセス側(20A)の全長の50%未満、例えば30%未満、好ましくは20%未満、より好ましくは10%未満の長さを有する、請求項16に記載のHER(20)または請求項1~15のいずれか1項に記載の方法。
【請求項18】
第1の触媒が、少なくともHER(20)の第1の反応ゾーン(I)に配置される、請求項16~17のいずれか1項に記載のHER(20)または請求項1~15のいずれか1項に記載の方法。
【請求項19】
第1の反応ゾーン(I)のプロセス側(20A)の少なくとも一つの端部は、HER(20)のプロセス側入口(28)に最も近くにあり、プロセス側入口(28)からプロセス側出口(29)に向かう方向において、第1の反応ゾーン(I)のプロセス側(20A)の全長の25%までの長さを有するが、HER(20B)の加熱側と直接的に接触していないため、第1の反応ゾーン(I)のこの端部は、第1の反応ゾーン(I)における発熱反応によって引き起こされる断熱温度上昇によって主に加熱される、請求項16~18のいずれか1項に記載のHER(20)または請求項1~15のいずれか1項に記載の方法。
【請求項20】
HERがバヨネット型HERである、請求項16~19のいずれか1項に記載のHER(20)または請求項1~15のいずれか1項に記載の方法。
【請求項21】
HERが少なくとも2つのプロセス側(20A)を有する、請求項16~20のいずれか1項に記載のHER(20)または請求項1~15のいずれか1項に記載の方法。
【請求項22】
HERが少なくとも2つの加熱側(20B)を有する、請求項16~21のいずれか1項に記載のHER(20)または請求項1~15のいずれか1項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
技術分野
本技術は、熱交換反応器(HER)において、COとHを含む第1のガス供給物を、COシフト反応により合成ガス(シンガス)流に変換する方法に関する。HERは2つの反応ゾーンを有し、第1のガス供給物の全体的な発熱反応を実施するように配置された第1の反応ゾーンと、前記第1の反応ゾーンからのガスの全体的な吸熱反応を実施するように配置された第2の反応ゾーン(I)を有する。
【背景技術】
【0002】
背景
COからのCOの製造は、逆水ガスシフト反応によって行うことができる:
【化1】
【0003】
これは吸熱反応であるため、反応を進行させるにはエネルギーの投入が必要である。この技術の工業的な実現例はほとんど存在しないが、書類上では、外部加熱によって熱を供給し、加熱された反応ゾーンまたは反応チューブ内で反応を促進する水蒸気メタン改質器(SMR)のような構成で反応を促進することができる。
【0004】
しかし、外部加熱は、典型的には、炭化水素燃料の燃焼を意味し、その結果、多くの場合、温室効果ガス排出の削減に焦点を当てている化学産業の現在の関心に反するCO排出が伴う。原理的には、電気分解によって水素を供給し、水素燃焼によって外部加熱を行うこともできる。しかし、この方法では水素の製造に相当量の電力を必要とするため、コストが高く、好ましくない。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0005】
【非特許文献1】“Synthesis gas production for FT synthesis”; Chapter 4, p.258-352, 2004
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本技術の目的は、COからCOを製造するための効果的な熱交換反応器(HER)および方法を提供することである。特に、本技術では、プロセス側と加熱側の両方における金属ダスティングのリスクを低減し、可能であれば完全に回避する。
【課題を解決するための手段】
【0007】
概要
本明細書でCOシフトに使用する方法とHER反応器は、熱交換型水蒸気メタン改質器と比較して、金属ダスティングのリスクがはるかに低いことが判明した。
【0008】
本発明は独立請求項に定義されている通りである。
一実施形態においては、熱交換反応器、HERにおけるCOおよびHを含む第1のガス供給物のCOシフト反応を介して、第1のガス供給物を合成ガス流に変換するための方法が提供され、前記HERが以下を含む:
少なくとも1つのプロセス側と少なくとも1つの加熱側であって、HERのプロセス側はプロセス側入口とプロセス側出口を備え、
ここで、HERのプロセス側は、プロセス側入口に最も近くに配置された第1の反応ゾーン(I)を含み、
かつ
HERのプロセス側は、プロセス側出口に最も近くに配置された第2の反応ゾーン(II)を含み、
ここで、HERの加熱側は、加熱側入口と、任意に、加熱側出口とを備え、
前記少なくとも1つのプロセス側および前記少なくとも1つの加熱側は、加熱側からプロセス側の少なくとも一部への熱伝達が可能であるように配置され、
前記方法は、以下のステップを含む:
-前記プロセス側入口を介してHERのプロセス側に第1のガス供給物を供給するステップ;
-前記加熱側入口を介してHERの加熱側に加熱流体を供給し、前記加熱流体からHERのプロセス側への熱伝達を可能にするステップ;
-第1の反応ゾーン(I)において、前記第1のガス供給物の全体的な発熱反応を実施するステップ、ここで、全体的な発熱反応は、少なくとも以下の反応を含み、これらの反応は、左から右へ正味の進行を有する:
【化2】
-第2の反応ゾーン(II)において、前記第1の反応ゾーンからのガスの全体的な吸熱反応を実施するステップ:ここで、全体的な吸熱反応は、少なくとも以下の反応を含み、これらの反応は、左から右への正味の進行を有する:
【化3】
-冷却された流体と任意に混合して、合成ガス流を、プロセス側出口を介してプロセス側から排出するステップ;および
-任意に、加熱側出口を介して、前記加熱側から、冷却された流体を排出するステップ。
【0009】
この方法を実施するための熱交換反応器(HER)も提供される。本技術の更なる詳細は、以下の説明文、図、および従属請求項に記載されている。
【図面の簡単な説明】
【0010】
レジェンド
本技術は、添付の概略図を参照して説明される:
図1は、熱交換反応器(HER)を含む本発明によるHERシステム(HER装置)を示す。
図2は、HER反応器がバヨネット型HERである図1のシステムと同様のHERシステムを示す。
図3は、電気逆水ガスシフト(e-RWGS)反応器および熱交換反応器(HER)を含む本発明によるシステムを示す。
図4は、図3のシステムと同様のシステムを示しており、このシステムでは、第1および第2の供給物は共通の供給物に由来する。
図5は、図5のシステムと同様のシステムを示しており、このシステムでは、HERは2つの別々の加熱側を有している。
図6は、燃焼ユニットをさらに含む、本発明によるシステムを示す。
図7は、図6のシステムに同様のシステムを示しており、このシステムでは、第1および第2の供給物は共通の供給物に由来する。
図7Aは、凝縮物を除去するためのフラッシュ分離装置が存在する、本発明によるシステムを示す。
図7Bは、図7Aと同様のシステムを示す。
図8~10は、例4、5、6のHER加熱側ガスの温度と実際のガス炭素活性プロファイルを示す。
図11は、合成ガス流と冷却された流体がHER出口の前で組み合わされる、本発明のHERの代替配置を示している。
【発明を実施するための形態】
【0011】
詳細な開示
特に指定がない限り、ガス含有量のパーセンテージは体積%である。
【0012】
システムはさらに、当業者が必要と考える追加のユニットや接続部(配管など)を含むことができる。
【0013】
加熱とその結果としての冷却にCO含有ガスを使用する場合、いわゆる金属ダスティング現象による炭素生成を考慮しなければならない。考慮すべき中心的な炭素生成反応は、本明細書に記載のBoudouard反応とCO還元反応である。両反応とも発熱反応であり、その結果、低温の方が有利である。
【0014】
炭素生成のリスクを評価する尺度として、炭素活性(a)がある:
=Keq(COred)p(CO)p(H2)/p(H2O)
【0015】
ここで、Keq(COred)はCO還元反応の熱力学的平衡定数であり、p(i)はiの分圧である。a<1の場合、炭素生成は起こらないことに留意すべきである。a=1となる温度は、一酸化炭素還元温度TCOとして知られている。
【0016】
Boudouard反応についても同様の式が成り立つ。Boudouard反応において、a=1となる温度は、Boudouard温度Tとして知られている。
【0017】
第1の実施形態においては、COおよびHを含む第1のガス供給物を、比熱交換反応器HERにおける前記第1のガス供給物のCOシフト反応を介して、合成ガス(シンガス)流に変換するための方法が提供される。
【0018】
熱交換反応器
HERは、熱交換による吸熱反応に必要な熱を供給するために高温ガスを使用するよう構成され、通常、チューブ壁上で熱交換を行う。熱交換型改質器の構成例としては、典型的にはペレット触媒が充填された複数の平行チューブを有し、供給ガスを受け入れる。反応器の底部では、触媒充填されたチューブからの生成物ガスが上流の改質ユニットからの高温の合成ガスと混合され、組み合わされた合成ガスが触媒充填されたチューブと熱交換を行う。熱交換反応器の他の構成も考えられる。
【0019】
好ましい実施形態においては、HERの触媒は非選択的触媒である。そのような触媒の例としては、Ni/MgAl、Ni/Al、Ni/CaAl、NiIr/MgAl、Ni/ZrO、Ru/MgAl、Rh/MgAl、Ir/MgAl、Ru/ZrO、NiIr/ZrO、MoC、WoC、CeO、Al上の貴金属が挙げられる。その他の例としては、様々な形態のアルミン酸カルシウム上の活性金属、例えば、ニッケル、イリジウム、ロジウム、ルテニウムなどである。
【0020】
HERは少なくともプロセス側と加熱側を有する。HERのプロセス側にはプロセス側入口とプロセス側出口があり、HERの加熱側には加熱側入口と加熱側出口がある。それぞれの入口と出口は、HERの各側面内で流体連通している。
【0021】
プロセス側と加熱側は、加熱側からプロセス側への熱伝達が可能なように、内部壁によって互いに分離されている。ある態様においては、HERは2つの加熱側を含むことができる。
【0022】
HERのプロセス側は、COシフト反応が生じる側である。HERのプロセス側は、COシフト反応を促進する1つ以上の触媒で構成される。触媒は、以下に説明するように、メタン化反応と水蒸気改質反応も触媒する。両方の反応ゾーンで使用される触媒は、好適には非選択的である。
【0023】
HERの加熱側は、化学反応が起こるようには設計されていない。その代わり、加熱側を通る高温の流体からの熱エネルギーがプロセス側に伝達される。
【0024】
HERは、シェル内に配置された複数の触媒充填チューブを含む、典型的な「シェルおよびチューブ」熱交換反応器であることができる。全てのチューブの内部間は流体連通しているが、チューブの内部と外部は流体連通していない。作動中、一方の流体はチューブの内部を流れ、他方の流体はチューブの外部にあるシェル内を流れる。熱は一方の流体から他方の流体へ、チューブの壁を通して伝達される。マニホールドタイプの配列が、チューブの束の各端部に配置される。
【0025】
HERは通常、典型的には、e-RWGSのようなRWGS反応器である関連反応器に近い圧力で作動される。
【0026】
上述したように、HERのプロセス側は、プロセス側入口(ここから第1のガス供給物がHERに入る)とプロセス側出口(ここから合成ガス流がHERから出る)を含む。第1の反応ゾーン(I)はプロセス側入口に最も近いところに配置され、第2の反応ゾーン(II)はプロセス側出口に最も近くに配置される。「最も近くに配置される」という用語は、幾何学的ではなく、ガス経路の観点から測定されるべきである。
【0027】
第1の反応ゾーン(I)は、第1のガス供給物の全体的な発熱反応を実施するように配置される。
【化4】
これらの反応はいずれも第1の反応ゾーン(I)で生じる。
【0028】
第2の反応ゾーン(II)は、前記第1の反応ゾーン(I)からのガスの全体的な吸熱反応を実施するように配置される。このゾーンで生じる主な反応は以下の通りである:
【化5】
【0029】
典型的には、RWGS/水ガスシフト反応と水蒸気改質/メタン化反応の両方は、HERの出口において化学平衡にあるか、それに近い状態にある。
【0030】
一実施形態において、HERのプロセス側は、プロセス側入口からプロセス側出口まで延びる全長を有し、第1の反応ゾーン(I)は、HERのプロセス側の全長の50%未満、例えば30%未満、好ましくは20%未満、より好ましくは10%未満の長さを有する。第1の触媒は、少なくとも第1の反応ゾーン(I)に配置され、少なくとも部分的に第2の反応ゾーン(II)に延在することができる。
【0031】
別の実施形態においては、同じタイプの非選択的触媒が第1および第2の反応ゾーンの両方で使用される。非選択的触媒は反応(1)と(2)の両方を触媒する。非選択的触媒はさらに、高級炭化水素、例えば、エタンやプロパンなどの水蒸気改質のような他の反応も触媒することができる。
【0032】
好適には、HERのプロセス側入口に最も近い第1の反応ゾーン(I)の少なくとも端部は、HERの加熱側と直接接触していないので、第1の反応ゾーン(I)のこの端部は、主として前記発熱反応による断熱温度上昇によって加熱される。HERのプロセス側入口は、HERの端部であり、ここで第1のガス供給物が入る。
【0033】
HER反応器の両方で、触媒上に炭素が形成されないようにすることが不可欠である。さらに、COを含むガスが製造される場合、特にそのようなガスが冷却される場合に、金属ダスティングのリスク(金属粉塵)が存在することはよく知られている。本発明は、HER反応器における炭素生成と金属ダスティングの両方のリスクを回避、または実質的に低減する。
【0034】
金属ダスティングは、COを含むガスの存在下で金属壁に生じることがある。金属ダスティングを引き起こす化学反応は、多くの場合、以下のいずれかである:
【化6】
【0035】
第1の反応はBoudouard反応、第2の反応はCO還元反応として知られている。金属ダスティングは、シビアなケースでは金属壁の急速な劣化を引き起こし、機器の重大な故障につながる可能性がある。
【0036】
本発明の中心的な部分として、非選択的触媒の使用は、以下に説明するいくつかの理由から、選択的触媒の使用よりも好ましい:
【0037】
第1の反応ゾーン(I)に非選択的触媒を使用した場合、RWGS反応に加えてメタン化が起こる。この結果、化学エネルギーが放出され系が加熱され、メタン化は発熱性であるため、結果として温度が上昇する。CO還元反応も発熱性であるため、メタン化反応による温度上昇により、CO還元反応のポテンシャルが低下し、温度があるレベルまで上昇すると、CO還元反応のポテンシャルが全く存在しなくなる。この正確なレベルは、特定の反応物濃度、入口温度、圧力に依存することになるが、一般的に500~800℃の範囲にあり、それを超えてCO還元反応は起こらない。メタン化反応によって発生する発熱は、構造化触媒の表面にある触媒活性部位で最も高い温度上昇を示し、炭素生成も起こりうる場所でもあることに留意すべきであるその結果、この発熱は、触媒上の炭素生成ポテンシャルを低下させる顕著な正の効果を有する。
【0038】
全体として、このHERの構成により、メタン化反応がこれを逆に緩和するため、触媒や金属表面での炭素生成の副反応を生じることなく、HER内で逆水ガスシフト反応とメタン化反応を促進することができる。相対的に低い入口温度から、500℃超、好ましくは800℃超、さらに好ましくは900℃超または1000℃超の非常に高い生成物ガス温度まで温度を上昇させることができるHERの具体的な構成は、メタン化反応から生成されるメタンがHER反応器の第1の反応ゾーン(I)で発生するが、約600~800℃を超えると、このメタンは逆メタン化反応によってCOを豊富に含む生成物に変換され始めることを意味する。この構成により、COの還元が問題となる温度領域では、COの一部を除去し、触媒床の内部でHOを生成することができるが、その後、炭素ポテンシャルが低いか全くない高温領域でCOを再生することができる。事実上、高い生成物ガス温度を利用することは、メタンが反応ゾーンに沿ってどこかでピーク濃度を持つにもかかわらず、最終的な合成ガス生成物を非常に低いメタン濃度で供給できることを意味する。一実施形態においては、反応器システムは、第1のガス供給物中にメタンが全くない、または非常に僅かしかなく、合成ガス流中にも非常に僅かしかメタンがない状態で作動されるが、第1のガス供給物および/または合成ガス流中よりも高い反応ゾーン内部のメタン濃度のピークを有する。場合によっては、反応ゾーン内部のこのピークメタン濃度は、入口および出口のメタン濃度よりも一桁高いこともある。
【0039】
上述したように、非選択的触媒を使用する場合、CO濃度と炭素生成の可能性は低い。HER反応器のプロセス側のガスが反応(1)と(2)に関して平衡であると仮定すると、反応(4)と(5)のいずれかによって炭素が形成される熱力学的な可能性は通常ない。選択的触媒が使用され、反応(1)のみが起こる(反応(2)が起こらない)場合、CO濃度は著しく高くなる。この場合、反応(4)と(5)の両方から炭素が生成する熱力学的ポテンシャルがあるため、炭素生成のリスクが大幅に高くなる。
【0040】
第1のガス供給物
COとHを含む第1のガス供給物が必要である。この第1の供給物は、システムの外部にある別のガス組成の燃焼生成物であってもよいし、それを含むこともできる。CO源の例としては、アミン洗浄装置などのCO捕捉装置からの排ガスまたはオフガス、生物起源CO、直接空気捕捉装置からのCOおよび/またはセメント工場や鉄鋼工場からのCOがある。H源の例としては、電気分解(アルカリ電解または固体酸化物電解など)または水蒸気改質から生成された水素がある。第1のガス供給物は、熱交換反応器における第1のガス供給物のCOシフト反応を経て、合成ガス流に変換される。
【0041】
本方法で使用される第1の供給物および/または加熱流体の一部は、下流ユニットからのリサイクルガスを含むこともできる。例えば、フィッシャー・トロプシュ合成装置からのオフガス(またはテールガス)のリサイクルである。このようなテールガスは、第1の供給物および/または加熱流体の一部または全部として使用される前に前処理されることができる。別の例としては、メタノールループからのパージガスがある。
【0042】
好適には、前記第1の供給物は、10~60%のCO、例えば20~35%のCO、25~35%のCOを含む。好適には、第1の供給物は、40~90%のH、例えば50~80%のH、60~70%のH、または65~70%のHを含む。
【0043】
第1の供給物において、HとCOとの間の比は、1~5の間、例えば2~4の間、2~3の間、または2.2~2.5の間、または2.8~3.5の間、または2.8~3.2の間であってよい。さらなる実施形態において、第1の供給物中のCH/COのモル比は、好ましくは0.5未満、例えば0.2未満、好ましくは0.1未満である。
【0044】
好適には、第1のガス供給物における水素の主な供給源は電解装置である。
【0045】
第1の供給物の一部は、さらに、以下の反応に従ってHER反応器の上流で予備改質された炭化水素含有流に由来することができる:
【化7】
【0046】
上記の反応は、典型的には、メタン化反応と水ガスシフト反応(反応(1)の逆)を伴い、主にCO、H、CH、および水蒸気の混合物となる。
【0047】
炭化水素流は、パラフィン、例えば、エタン、プロパン、ブタン、および/またはペンタンなどのパラフィンを含む流れ(ストリーム)である。パラフィンの場合、式(3)において、m=2n+2である。
【0048】
炭化水素流の別の例は、フィッシャー・トロプシュ合成ユニットやメタノールから炭化水素を製造するユニットからのリサイクルなど、本発明のシステムの下流の合成セクションからリサイクルされるLPGである。
【0049】
第1の供給物は、CH、N、Ar、O、CO、HOなどの他の成分を含んでいてもよい。エタンを含む他の炭化水素のような他の成分も、典型的には微量であるが考えられる。
【0050】
第1の供給物は、好適には、以下の組成(体積)を有する:
- 50-80%H(ドライ)
- 20-50%CO(ドライ)
【0051】
実施形態において、第1の供給物は、好適には、体積比で以下の代替組成を有する:
50-70%H
20-40%CO
2-10%CH
1-8%HO
0-5%CO
Ar、N、エタンなど、その他の成分を合計で0~5%含む。
【0052】
さらなる実施形態においては、天然ガスが脱硫および/または予備改質によって前処理される場合、天然ガスからの炭素は、第1の供給物中の炭素の総量の20%未満、好ましくは10%未満、より好ましくは5%未満である。
【0053】
第1のガス供給物は、さらにメタンを含んでいてもよく、好適には最大3モル%、または最大8モル%、または最大12モル%のメタンを含む。
【0054】
第1のガス供給物は、前記プロセス側入口を介してHERのプロセス側に供給される。特定の実施形態においては、第1のガス供給物は、250℃~550℃、好ましくは260℃~450℃、好ましくは270℃~400℃、好ましくは280℃~380℃、好ましくは290℃~370℃、最も好ましくは300℃~360℃の温度を有する。
【0055】
加熱流体
システムには加熱流体も必要である。この加熱流体の一部または全部は、システム外部の別のガス組成物の燃焼生成物であってもよい。好適には、加熱流体はCOとHを含む、合成ガス流であってもよい。
【0056】
加熱流体は、前記加熱側入口を介してHERの加熱側に供給され、前記加熱流体からHERのプロセス側への熱伝達が行われる。
【0057】
一実施形態において、加熱流体は、電気式RWGS(e-RWGS)反応器、燃焼式RWGS反応器、または自熱式RWGS反応器、好ましくは電気式RWGS(e-RWGS)反応器から供給される。
【0058】
一実施形態においては、加熱流体が合成ガス流である場合、合成ガス流と冷却された流体はHER内で組み合わされ、プロセス側出口から第3の生成物流を供給することができる。言い換えれば、第2の反応ゾーンを出る合成ガスは、高温の加熱流体と混合され、この混合物は冷却され、冷却された流体はHER反応器から排出される。
【0059】
上述したように、加熱流体は、電気式RWGS(e-RWGS)反応器、燃焼式RWGS反応器、または自熱式RWGS反応器、好ましくは電気式RWGS(e-RWGS)反応器から供給することができる。
【0060】
一実施形態において、COとHとの間の逆水ガスシフト反応を実施するために使用されるRWGS反応器は、電気的に加熱された逆水ガスシフト(e-RWGS)反応器である。e-RWGS反応器は、より効率的な逆水ガスシフトプロセスを実施するために電気抵抗加熱反応器を使用し、熱源としての化石燃料の使用を実質的に削減するか、好ましくは回避する。e-RWGS反応器は、選択的または非選択的な触媒を含んでいてもよい。好ましくは、e-RWGS反応器は、非選択的触媒を含む。
【0061】
一実施形態において、e-RWGS反応器は、好適には、以下を備える:
-前記RWGS反応を触媒するために配置された構造化触媒、
ここで、前記構造化触媒は、導電性材料の巨視的構造を含み、前記巨視的構造は、セラミックコーティングを支持し、前記セラミックコーティングは、触媒活性材料(選択的e-RWGS用)を支持する;
-導電性材料の巨視的構造体を含む構造化触媒、
ここで、前記巨視的構造体がセラミックコーティングを支持し、前記セラミックコーティングが非選択的触媒活性材料(非選択的e-RWGS用)を支持する;
-任意に、非選択的ペレット触媒を含む最上層(トップ層)、
-前記構造化触媒を収容する圧力シェル;
ここで、前記圧力シェルは、前記供給物を入れるための入口および合成ガス生成物を入れるための出口を含み;前記入口は、前記供給物が前記構造化触媒の第1の端部において前記構造化触媒に入り、前記合成ガス生成物が前記構造化触媒の第2の端部から前記構造化触媒を出るように配置される、;
-前記構造化触媒と前記圧力シェルとの間の熱断熱層(heat insulation layer);並びに、
-前記構造化触媒および前記圧力シェルの外部に配置された電源に電気的に接続された少なくとも2つの導体、
ここで、前記電源は、導電性材料の前記巨視的構造に電流を流すことにより、前記構造化触媒の少なくとも一部を少なくとも500℃の温度に加熱するように寸法決めされており;
ここで、前記少なくとも2つの導体が、前記構造化触媒の前記第2の端部よりも前記構造化触媒の前記第1の端部に近い前記構造化触媒上の位置で前記構造化触媒に接続され、ここで、前記構造化触媒が、電流を1つの導体から実質的に前記構造化触媒の前記第2の端部まで流し、前記少なくとも2つの導体のうちの第2の導体に戻すように構成される。
【0062】
圧力シェルは、好適には2~50barの設計圧力を有する。圧力シェルはまた、50~200barの設計圧力を有することもある。少なくとも2つの導体は、典型的には、少なくとも2つの導体が圧力シェルから電気的に絶縁されるように、継手(fitting)内で圧力シェルを通して導かれる。圧力シェルは、冷却ガスが前記圧力シェル内の少なくとも1つの導体の上、周囲、近接、または内部を流れるようにするために、少なくとも1つの継手(fitting)に近接して、またはそれと組み合わせた1つまたは複数の入口をさらに含むことができる。e-RWGS反応器からのガスの出口温度は、好適には900℃以上、好ましくは1000℃以上、さらに好ましくは1100℃以上である。
【0063】
eRWGS反応器はまた、異なる設計であってもよく、および/または熱は誘導によって伝達されてもよい。
【0064】
eRWGS反応器は、代替的に、供給ガスが電気的加熱によって高温、例えば、800~1000℃に加熱される第1の加熱端部と、選択触媒または非選択触媒のいずれか、あるいは触媒の組み合わせを含む(断熱)触媒床を含む第2の加熱端部を含むことができる。
【0065】
一実施形態例においては、RWGS反応器は燃焼式RWGS反応器である。燃焼式RWGS反応器は、反応器内に配置された触媒ペレットを充填した多数のチューブから構成され得る。チューブは、典型的には、10~13mのような非常に長いものであり、触媒への熱伝達を促進するために、全体的に高い外部露出表面積を提供するために、典型的には、80~160mmのような相対的に小さい内径を有する。触媒は、選択触媒または非選択触媒のいずれか、あるいはその組み合わせとすることができる。燃焼式RWGS反応器には燃料ガスが必要である。反応器内に設置されたバーナーは、燃料ガスの燃焼によって反応に必要な熱を供給する。機械的な制約から、得られる熱流束には一般的に限界があり、そのため、チューブの数を増やし、反応器のサイズを大きくすることで容量を増加させる。このタイプの反応器構成は、水蒸気改質に頻繁に使用されており、詳細は“Synthesis gas production for FT synthesis”; Chapter 4, p.258-352, 2004(「FT合成のための合成ガス製造」(第4章、p.258-352、2004年))などの技術文献に記載されている。他のタイプの燃焼式RWGS反応器も想定できる。
【0066】
一実施形態においては、RWGS反応器は、自熱式RWGS反応器であり、より好ましくは、1つ以上の予備反応器に続いて下流の自熱式RWGS反応器が続く。第1の予備反応器からの流出ガスは、任意に冷却して、同じ反応が起こる次の予備反応器に送ることができる。さらに予備反応器を使用することもできる。予備反応器は典型的には、断熱または加熱される。最後の予備反応器からの出口ガスは、自熱式RWGS反応器に送られる。
【0067】
予備反応器では反応(1)と(2)が生じる。典型的には、反応(1)と(2)に関して、各予備反応器の出口と自熱式RWGS反応器の出口におけるガス組成は、共に化学平衡かそれに近い状態にある。
【0068】
自熱式RWGS反応器の主な構成要素は、耐火物を内張りした圧力シェル内に収められたバーナー、燃焼室、触媒層である。自熱式RWGS反応器は酸素の供給を必要とする。自熱式RWGS反応器においては、半化学量論量の酸素による自熱式RWGS反応器供給物の部分燃焼に続いて、逆水ガスシフトが行われ、任意に、触媒の固定床で部分燃焼ガスの水蒸気改質も行われる。典型的には、ガスは反応器の出口で水ガスシフト反応と水蒸気改質反応に関して平衡状態かそれに近い状態にある。出口ガスの温度は典型的には850~1100℃の範囲である。このタイプの反応器構成は、炭化水素原料からの合成ガス製造に頻繁に使用されており、詳細は“Studies in Surface Science and Catalysis, Vol. 152,” Synthesis gas production for FT synthesis”; Chapter 4, p.258-352, 2004”(「表面科学と触媒作用の研究、第1の52巻、「FT合成のための合成ガス製造」、第4章、p.258-352、2004」)などの技術文献に記載されている。
【0069】
燃焼式RWGS反応器に続いて自熱式RWGS反応器を使用することもできる。この場合、RWGS反応器からの流出ガスは、自熱式RWGS反応器に導かれる。この場合、燃焼式RWGS反応器からの流出ガスは典型的には700~900℃になる。
【0070】
電気式RWGS反応器に続いて自熱式RWGS反応器を使用することも考慮できる。この場合、電気式RWGS反応器からの流出ガスは典型的には700~900℃になる。
【0071】
本発明は、また、COおよびHを含む第1のガス供給物のCOシフト反応を介して、前記第1のガス供給物を、合成ガス流に変換するための、熱交換反応器(HER)を提供し、
熱交換反応器(HER)は、少なくとも1つのプロセス側および少なくとも1つの加熱側を含み、ここで、HERのプロセス側が、プロセス側入口およびプロセス側出口を備え、
前記プロセス側入口は、COおよびHを含む前記第1のガス供給物を前記プロセス側に供給するように配置され、
前記プロセス側出口は、任意に冷却された流体と混合して、前記合成ガス流を前記プロセス側から出力するように配置され、
ここで、HERのプロセス側は、プロセス側入口に最も近くに配置された第1の反応ゾーン(I)を含み、
かつ、
HERのプロセス側が、プロセス側出口の最も近くに配置された第2の反応ゾーン(II)を含み、
ここで、第1の反応ゾーン(I)は、前記第1のガス供給の全体的な発熱反応を実施するように配置され、ここで、全体的な発熱反応は、左から右へ正味に進行する少なくとも以下の反応を含み:
【化8】
ここで、第2の反応ゾーン(II)は、前記第1の反応ゾーン(I)からのガスの全体的な吸熱反応を実施するように配置され、ここで、全体的な吸熱反応は、左から右へ正味に進行する少なくとも以下の反応を含む:
【化9】
ここで、HERの加熱側は、加熱側入口および、-任意に-加熱側出口を備え、
前記加熱側入口は、前記加熱側に加熱流体を供給するように配置され、
前記加熱側出口は、-それが存在する場合-前記加熱側から冷却された流体を出力するように配置され、
前記少なくとも1つのプロセス側および前記少なくとも1つの加熱側は、加熱側からプロセス側の少なくとも一部への熱伝達が可能であるように配置される。
【0072】
システムはさらに、当業者が必要と考える追加的なユニットや接続部(配管など)を含んでいてもよい。
【0073】
HERのプロセス側は、好適には、プロセス側入口からプロセス側出口まで延びる全長を有し、第1の反応ゾーン(I)は、HERのプロセス側の全長の50%未満、例えば30%未満、好適には20%未満、より好適には10%未満の長さを有する。第1の触媒は、好適には少なくともHERの第1の反応ゾーン(I)に配置される。第1の反応ゾーン(I)のプロセス側の少なくとも端部は、HERのプロセス側入口に最も近くに配置され、プロセス側入口からプロセス側出口に向かう方向に第1の反応ゾーンのプロセス側の全長の25%までの長さを有するが、HERの加熱側と直接接触していないので、第1の反応ゾーン(I)のこの端部は、第1の反応ゾーン(I)での発熱反応による断熱温度上昇によって主に加熱される。特に、前記末端部は、プロセス側入口からプロセス側出口に向かう方向において、第1の反応ゾーンのプロセス側の全長の5~20%、好ましくは5~10%の長さを有する。HERは好適にはバヨネット型HERである。HERは、少なくとも2つのプロセス側、および/または少なくとも2つの加熱側を有することができる。
【0074】
HERから出力される合成ガス流のH/CO比は、好適には1.8~2.2の間、例えば1.9~2.1の間である。これは、例えば合成ガスが、フィッシャー・トロプシュ合成によるケロシンやディーゼルなどの合成燃料の下流合成に使用される場合に望ましい。
【0075】
一実施形態においては、HERから出力される合成ガス流の(H-CO)/(CO+CO)比(合成ガスモジュールとしても知られる)は、1.8~2.2の間、例えば2.0~2.1の間である。これは、合成ガスがメタノールの下流合成に使用される場合などに望ましい。
【0076】
第1の反応ゾーン(I)では第1のガス供給物の全体的な発熱反応が行われ;第2の反応ゾーン(II)では第1の反応ゾーン(I)からのガスの全体的な吸熱反応が行われ;かつ、合成ガス流はプロセス側出口を介して(HERの)プロセス側から排出され、任意に冷却された流体と混合される。冷却された流体は、HERの加熱側から加熱側出口を介して排出される。
【0077】
第1の反応ゾーン(I)のガスの温度は、典型的には、300~800℃である。第2の反応ゾーン(II)のガスの温度は、典型的には600~1200℃である。
【0078】
好適には、プロセス条件は、金属ダスティングの臨界限界よりも高い、HERのそれぞれの出口における合成ガス流および/または冷却された流体および/または第3の生成物流の温度を提供するように調整される。これは、金属ダスティングの熱力学的可能性がないか、または金属ダスティングが起こらないか、または非常に低い割合で起こるように、熱力学的可能性が十分に低くなるように、温度が十分に高いことを意味する。
【0079】
例えば、合成ガス流および/または冷却された流体および/または第3の生成物流の冷却出口温度は、500℃以上、600℃以上、700℃以上、または800℃以上である。冷却された生成物流の温度を制御することで、金属ダスティングのリスクを制御することができる。一般に、温度が低いと、関連する反応の発熱性により、金属ダスティングの可能性が高まる(望ましくない)(aより高い)。
【0080】
前記冷却された出口温度における合成ガス流および/または冷却された流体、および/または第3の生成物流は、好適には、100未満、または50未満、または10未満、または5未満、または1未満のCO還元反応の実ガス炭素活性を有する。
【0081】
典型的には、合成ガス流および/または冷却された流体、および/または第3の生成物流のH/CO比は、0.5~3.0の範囲、例えば1.9~2.1の範囲、または2~3の範囲である。また、合成ガス流および/または冷却された流体、および/または第3の生成物流の((H-CO)/(CO+CO)比は、1.5~2.5の範囲、例えば1.9~2.1の範囲、または2~2.05の範囲とすることができる。
【0082】
合成ガス流および/または冷却された流体、および/または第3の生成物流の冷却された出口温度の制御は、HER反応器の適切な設計によって行うことができる。これを達成する1つの方法は、反応ゾーン(I)における加熱側からプロセス側への熱の移動を最小化または排除することである。好ましい実施形態において上述したように、反応ゾーン(I)における温度上昇の大部分または全ては、非選択的触媒を用いたメタン化反応による断熱温度上昇によって引き起こされる。好ましい実施形態においては、第1の反応ゾーン(I)を出るガスの温度は650℃超、より好ましくは700℃超、最も好ましくは750℃超である。反応ゾーン(I)においてプロセス側と加熱側との間の熱移動が起こらない場合には、加熱側からHER反応器を出るガスの温度は、プロセス側の反応ゾーン(I)を出るガスの温度を上回らなければならない。従って、加熱側からHER反応器を出るガス(例えば、冷却された第1の生成物ガス)の温度を高く維持するための一つの手段は、反応ゾーン(I)におけるHER反応器内の熱伝達を防止または最小化することである。これは例えば次のようにして行うことができる:
1)上記のようにHER反応器の上流に断熱非選択的触媒を設置する。
2)第1の反応ゾーン(I)の大部分または全部は、HER内/HERの加熱側と直接熱接触していない。
3)断熱材のような手段は、反応ゾーン(I)の少なくとも一部において、プロセス側と加熱側との間のHER反応器の一部に設けられている。
【0083】
上記1)または2)に従った一実施形態においては、第1のガス供給物は、反応(1)および(2)に従って断熱的に反応し、平衡まで(または平衡に近くまで)反応する。
【0084】
混合手段は、HERの下流に配置され、合成ガス流と冷却された流体を混合するように配置される。この配置は、合成ガス流と冷却された流体の両方が同じ下流の用途に使用される場合に有利に使用され、従って、混合はHER内でも同様に行われ、このようにして装置内の熱伝達面積を最大限に利用することができる。
【0085】
HERは2つの独立した加熱側を持つこともできる。このようなHERを図3に示す。
【0086】
具体的な実施形態においては、HERは多数の二重チューブを含む。二重チューブとは、同程度の長さを持つ2本の同心円状のチューブで、内部チューブの直径が外部チューブよりも小さいものを指す。この配置では、触媒は内部チューブ内および外部チューブの間に配置される。第1の供給物ガスの一部は、HER反応器入口から触媒を充填した内部チューブを通ってHER反応器の他端まで流れる。第1の供給物ガスの残りの一部は、外部チューブ間の触媒充填部を通って流れる。加熱流体は、触媒が充填された内部チューブと外部チューブの間の触媒が充填された領域を出るガスからなり、合成ガスと混合され、第3の生成物ガスが得られる。第3の生成物ガスは、内部チューブと外部チューブの間の環状空間を本質的に向流モードで流れ、冷却された第3の生成物ガスが得られる。第3の生成物ガスの冷却により、プロセス側(触媒が充填された内部チューブ、および、外部チューブの間の領域)に必要な熱が供給される。これは、HERが2つのプロセス側を持つシステムの例である。
【0087】
さらなる実施形態においては、第3の生成物流は、熱交換器(廃熱ボイラー)でさらに冷却され、その熱は水流から水蒸気を生成するために使用される。このさらに冷却された第3の生成物流は、典型的には300~550℃の温度を有する。生成された水蒸気は、発電や水素製造用電解装置への供給など、さまざまな用途に使用することができる。この場合、電解装置はHER反応器と直列に配置することができる。電解ユニットで製造された水素は、第1のガス供給物中の水素の一部または全部として、HER反応器に直接添加することができる。
【0088】
さらに冷却された第3の生成物流は、上述のように水蒸気生成に使用された後、300~550℃の温度を有することができる。このさらに冷却された第3の生成物流は、その後、例えば第1のガス供給物の一部または全部の予熱のような追加の加熱にも使用することができる。さらに冷却された第3の生成物流が一酸化炭素を多く含有していても、熱伝達面の温度が十分に低いため、重度の金属ダストの発生を回避することができる。
【0089】
第3の生成物流は、例えば第1のガス供給物の一部または全部を予熱するための熱源として使用することができる。これには、エネルギー効率を最適化できるという利点がある。第1のガス流の予熱と水蒸気の生成は、並列または直列のいずれかで行われる。
【0090】
一実施形態において、このシステムは、燃焼ユニットと、燃料の第4の供給物とをさらに含むことができ、燃料の前記第3の供給物は、燃焼ユニットに供給されるように配置され、酸化剤の存在下でそこで燃焼されて、燃焼ガスの第5の供給物を提供し、前記第5の供給物は、前記加熱流体の一部または全体として、HERの加熱側に供給されるように配置される。好ましくは、前記燃焼ユニットの酸化剤は実質的に純粋な酸素、好ましくは90%超の酸素、最も好ましくは99%超の酸素である。これによって、HERの伝達のデューティ(duty)を高めて、第2の生成物流におけるCO生成量を増加させることができる。
【0091】
燃料の第3の供給物は、水素を含む供給物であってもよく、これは、水蒸気を含む供給物である第5の供給物に燃焼される。実質的に純粋な水蒸気を第5の供給物とすることは、これが合成ガス流と混合される場合に有利である。なぜなら、水蒸気は再び容易に除去され、それによって製造された合成ガスの生成物の品質に影響を与えないからである。
【0092】
あるいは、燃料の第3の供給物は、メタンおよび/または他の炭化水素を含む供給物とし、第5の供給物は二酸化炭素と水蒸気を含む供給物とすることもできる。COは、このようにしてHERの下流から回収され、上流の供給原料へのインプット(投入物)として使用される。一実施形態においては、外部バーナーは半化学量論的に作動され、第5の供給物は、CH、CO、および/またはHから構成される可能性がある。特に、HがOに対して半化学量論的であることが興味深い。
【0093】
上記のように、第5の供給物がHERの加熱側に別々に供給される場合、冷却された5番目の供給物は、COとHを含む前記第1のガス供給物の一部としてHERの下流で使用されることができる。この供給物の冷却により、その中の水蒸気の一部が凝縮することがある。
【0094】
典型的には、冷却された第5の供給物は、供給物側に送られる前に、HOを凝縮させるために十分に冷却される(図7参照)。従って、このシステムは、任意に凝縮ステージを含むことができる。
【0095】
上記のシステムおよび方法によって製造された合成ガスは、例えばメタノール、合成ガソリン、合成ジェット燃料、合成ディーゼルの製造に使用することができる。
【0096】
具体的な実施形態
図1は、本発明のHER20の一般的な実施形態を示している。第1のガス供給物2は、プロセス側入口28を介してHER20のプロセス側20Aに供給される。加熱流体11は、加熱流体11からの熱がHER20のプロセス側20Aに伝達されるように、HER20の加熱側20Bに供給される。このようにして、HER20のプロセス側20Aにおいて、COを含む合成ガス流21への第1のガス供給物2の変換が促進され;これにより、前記第1のガス供給物2の全体的な発熱反応が第1の反応ゾーン(I)で生じ、第1の反応ゾーン(I)からのガスの全体的な吸熱反応が第2の反応ゾーン(II)で生じる。冷却された流体31は加熱側出口27から出力される。HERからの冷却された流体31の出口温度は約500℃以上である。
【0097】
図2は、バヨネットHERであるHER20のさらなる実施形態を示す。参照番号は図1と同じである。
【0098】
図3は、本発明のHER20と逆水ガスシフト(RWGS)反応器10を含むシステム100の一般的な実施形態を示す。COおよびHを含む第1の供給物1は、逆水ガスシフト(RWGS)反応器10に供給され、そこで第1の生成物流11、すなわち合成ガス流に変換される。RWGS反応器の出口温度(すなわち第1の生成物流11)は>1000℃(1000℃超)であるため、この流は下流のHERで加熱流体として使用することができる。第1の供給物2はHER20のプロセス側20Aに供給され、そこで合成ガス流21に変換される。HERは950℃の出口温度(すなわち合成ガス流21)で作動される。第1の生成物流11は、第1の生成物流11からの熱がHER20のプロセス側20Aに伝達されるように、HER20の加熱側20Bに供給される。こうして、HER20のプロセス側20Aにおいて、COを含む第2生成物流21への第2供給物2の変換が促進され、冷却された第1の生成物流31が供給される。HERからの冷却された第1の生成物流31の出口温度は、約500℃以上である。
【0099】
図4は、図3と同様のシステム100の実施形態を示し、参照番号は図3と同様である。さらに、このシステムでは、COとHを含む一次供給物9が、第1の供給物2と第2の供給物1に分割される。一次供給物9は、10000Nm/hの供給速度を有し、約70%のHと30%のCOを含む。この実施形態においては、第1の供給物と第2の供給物は等モルサイズである。その他の詳細は図3による。
【0100】
図5の実施形態においては、図4と同様のシステム100が提供され、参照番号は図4と同様である。さらに、HER20は、第1の加熱側20B’および第2加熱側20B’’を有する。加熱流体11は第1の加熱側20B’に供給され、合成ガス流21は第2加熱側20B’’に供給される。HERの第1の加熱側20B’からは冷却された流体31が排出され、第2の加熱側20B’’からは冷却された合成ガス流32が排出される。
【0101】
図6の実施形態においては、図3と同様のシステム100が提供され、参照番号は図3と同様である。さらに、このシステムは、燃焼ユニット30と、燃料の第3の供給部4とを備える。燃料の第3の供給物4は、燃焼ユニット30に供給され、酸化剤4B(典型的にはO流)の存在下で燃焼され、燃焼ガスの第5の供給物5を提供するように配置される。第5の供給ガス5は、追加の熱源としてHERの加熱側20Bに供給される。
【0102】
図7は、図6と同様のシステム100を示し、このシステムでは、第1の供給物2と第2の供給物1は、図4の実施形態と同様の方法で、同じ一次供給物9に由来する。
【0103】
図7Aの実施形態は、図5の実施形態に基づいている。この実施形態においては、燃焼ガスの第5の供給物5は、HERの加熱側に通され、冷却された第5の供給物25は、前記第2供給物1の一部として、および/またはCOおよびHを含む前記第1の供給物2の一部として、HERの下流で使用される。図示の実施形態においては、フラッシュ分離器40が、水流41を除去するために使用され、第5の供給物25の残りは、一次供給物9にリサイクルされる。
【0104】
図7Bの実施形態は、図7Aの実施形態に基づいている。この実施形態においては、加熱流体11は合成ガス流21と組み合わされ、HERの加熱側に供給される第3の生成物流を形成する。
【0105】
図11は、合成ガス流21と冷却された流体31がHER出口の前で組み合わされる、本発明のHERの代替配置を示している。
【実施例
【0106】

比較例1
最初の例として、非選択的触媒を使用した独立型e-RWGS反応器を用いた比較例を示す。このプロセスの作動は表1に要約されている。69.2%のH、30.8%のCO2を含む10000Nm/hの全供給物は、e-RWGS反応器で3.21GCal/hを使用することにより、H/CO比1.88の合成ガスに変換され、これは生成されたCO、Nmあたり1340kcalに相当する。
【0107】
【表1】
【0108】
例2
本発明の第1の実施例として、フィッシャー・トロプシュ合成に適した合成ガスを製造するためのe-RWGSとHERの組み合わせを表2に示す。この場合、69.2%のHと30.8%のCOを含む10000Nm/hの一次供給物は、e-RWGSとHERにそれぞれ供給される等モルサイズの第1の供給物と第2の供給物に分離される。e-RWGSからの流れは、熱力学に従ってガスを1050℃に加熱・変換することにより、再びH/CO比1.88の合成ガスを生成する。HERは950℃の出口温度で作動され(加熱ガスからの利用可能な温度によって部分的に与えられる)、一次供給物からのモル流量の50%(すなわち、第1および第2の供給物の合計モル流量の50%)を受け取る。第1と第2の生成物流は混合され、ガスを646℃に冷却する、すなわち熱交換のために196℃の駆動力を残すHERの加熱源として使用される。全体として、合成ガスのH/CO比は1.94で、比較例よりわずかに高い。しかし、これもCO1Nmあたり689kcalしか使用しておらず、比較例と比較して49%のデューティが減少している。具体的には、e-RWGSに必要なデューティは1.6Gcal/hであるのに対し、HERのプロセス側に移されるデューティは1.4Gcal/hであり、これによりHERは、2つの反応器全体でプロセス側に移されるデューティの合計の46%を構成する。このデューティの分担は、CO製造の分担をほぼ反映しており、CO製造の49%がHERで行われている。
【0109】
組み合わされた(つまり第3の)冷却された生成物ガスのCO還元反応の炭素活性は6.2である。
【0110】
【表2】
【0111】
例3
別の実施例では、e-RWGSとHERの組み合わせが表3に示されており、HERがどのように主要なCO生成ユニットとなり得るかを示している。この場合、69.2%のHと30.8%のCOを含む10000Nm/hの一次供給物は、それぞれ全モル流量の45%と55%の第1の供給物と第2の供給物に分離される。e-RWGSからの流れは、熱力学に従ってガスを1050℃に加熱・変換することにより、再びH/CO比1.88の合成ガスを生成する。HERは、出口温度905℃(加熱ガスからの利用可能な温度によって部分的に与えられる)で作動され、一次供給物からのモル流量の55%(すなわち、第1および第2の供給物の合計モル流量の55%)を受け取る。第1の第2の生成物流は混合され、ガスを621℃に冷却する、すなわち熱交換のために171℃の駆動力を残すHERの加熱源として使用される。全体として、合成ガスのH/CO比は1.98で、比較例よりわずかに高い。しかし、これも1NmCOあたり637kcalしか使用しておらず、比較例と比較してデューティが52%削減されている。具体的には、e-RWGSに必要なデューティは1.4Gcal/hであるが、HERのプロセス側に移されるデューティは1.3Gcal/hであり、HERは2つの反応器全体でプロセス側に移されるデューティの48%を占める。このデューティ分担は、CO製造の分担をほぼ反映しており、CO製造の52%がHERで行われている。
【0112】
組み合わされた(つまり第3の)冷却された生成物ガスのCO還元反応における炭素活性は73である。
【0113】
【表3】
【0114】
例4
別の例においては、e-RWGSとHERの組み合わせが表4に示されており、HER作動が金属ダスティングのために非常に低い駆動力でどのように構成できるかを示している。この場合、69.2%のHと30.8%のCOを含む10000Nm/hの一次供給物は、それぞれ全モル流量の60%と40%の第1の供給物と第2の供給物に分離される。e-RWGSからの流れは、熱力学に従ってガスを1050℃に加熱・変換することにより、再びH/CO比1.88の合成ガスを生成する。HERは出口温度915℃で作動され(加熱ガスの利用可能な温度によって部分的に与えられる)、一次供給物からのモル流量の40%(すなわち、第1および第2供給物の合計モル流量の40%)を受け取る。第1の第2の生成物流は混合され、ガスを737℃に冷却するHERの加熱源として使用される。全体として、合成ガスのH/CO比は1.95で、比較例よりわずかに高い。しかし、これもCO1Nm当たり832kcalしか使用しておらず、比較例と比較して38%デューティが削減されている。具体的には、e-RWGSに必要なデューティは1.9Gcal/hであるのに対し、HERのプロセス側に移されるデューティは1.0Gcal/hであり、これによりHERは、2つの反応器全体でプロセス側に移されるデューティの合計の34%を構成する。このデューティの分担は、CO製造の分担をほぼ反映しており、CO製造の38%がHERで行われている。
【0115】
現在のHERの構成では、HERの第1の反応ゾーン(I)が発熱性であることが利用され、プロセス側の温度上昇が高くなり、その結果、加熱ガスの冷却温度も低くなる。この制御は、炭素活性がそれ以上上昇しないことを意味する。これらの詳細は、図8に示すHERの加熱側ガスの温度と実際のガス炭素活性プロファイルによって明確に示されている。ここでは、CO還元反応の炭素活性が1.6を超えないことがわかる。
【0116】
【表4】
【0117】
例5
別の例においては、e-RWGSとHERの組み合わせが表5に示されており、COを高含有するメタノール製造に適した合成ガスを製造するために、この構成をどのように使用できるかを示している。この場合、75%のHと25%のCOを含む10000Nm/hの一次供給が、それぞれ全モル流量の60%と40%の第1の供給物と第2の供給物とに分離される。e-RWGSからの流れは、熱力学に従ってガスを1050℃に加熱・変換することにより、H/CO比2.6の合成ガスを生成する。HERは、出口温度930℃(加熱ガスからの利用可能な温度によって部分的に与えられる)で作動され、一次供給物からのモル流量の40%(すなわち、第1および第2の供給物の合計モル流量の40%)を受け取る。第1および第2の生成物流は混合され、ガスを750℃に冷却するHERの加熱源として使用される。全体として、合成ガスはH/CO比が2.68で、メタノール製造に適したモジュールは2.0である。また、1NmCOあたり899kcalを使用する。具体的には、e-RWGSに必要なデューティは1.8Gcal/hであるのに対し、HERのプロセス側に移されるデューティは0.9Gcal/hであり、これによりHERは、2つの反応器全体でプロセス側に移されるデューティの合計の34%を占める。このデューティ分担は、CO製造の分担をほぼ反映しており、CO製造の38%がHERで行われている。
【0118】
現在のHERの構成では、HERの第1の反応ゾーン(I)が発熱性であることが利用され、プロセス側の温度上昇が高くなり、その結果、加熱ガスの冷却温度も低くなる。この制御は、炭素活性がそれ以上上昇しないことを意味する。これらの詳細は、図9に示した例におけるHERの加熱側ガスの温度と実際のガス炭素活性によって明確に示されている。ここでは、CO還元反応の炭素活性が1.5を超えないことがわかる。
【0119】
【表5】
【0120】
例6
別の例においては、e-RWGSとHERの組み合わせが表5に示されており、この構成がメタンを含む一次供給原料の処理にも使用できることを示している。この場合、56.8%のH、22.7%のCO、11.4%のCH、および9.1%のHOを含む10000Nm/hの一次供給物が、それぞれ全モル流量の70%と30%の第1の供給物と第2の供給物とに分離される。e-RWGSからの流れは、熱力学に従ってガスを1050℃に加熱・変換することで、H/CO比が2.37の合成ガスを生成する。HERは、出口温度912℃(加熱ガスからの利用可能な温度によって部分的に与えられる)で作動され、一次供給物からのモル流量の30%(すなわち、第1および第2の供給物の合計モル流量の30%)を受け取る。第1と第2の生成物流は混合され、ガスを682℃に冷却するHERの加熱源として使用される。全体として、合成ガスのH/CO比は2.41である。これは、1NmCOあたり1456kcalを使用して行われ、デューティの一部は、より吸熱性の高い改質反応に使用される。具体的には、e-RWGSに必要なデューティは4.2Gcal/hであるのに対し、HERのプロセス側に移されるデューティは1.4Gcal/hであり、HERは2つの反応器全体でプロセス側に移されるデューティの26%を占めている。このデューティの分担は、CO製造の分担をほぼ反映しており、CO製造の27%がHERで行われている。
【0121】
現在のHERの構成においては、HERの第1の反応ゾーン(I)が発熱性であることが利用され、プロセス側の温度上昇が高くなり、その結果、加熱ガスの冷却温度も低くなる。この制御は、炭素活性がそれ以上上昇しないことを意味する。これらの詳細は、図10に示した例におけるHERの加熱側ガスの温度と実際のガス炭素活性プロファイルによって明確に示されている。ここでは、CO還元反応の炭素活性が0.3を超えないことがわかる。
【0122】
【表6】
【0123】
本発明を、多数の態様および実施形態を参照して説明してきた。これらの態様および実施形態は、特許請求の範囲内に留まりつつ、当業者によって任意に組み合わせることができる。
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7
図7A
図7B
図8
図9
図10
図11
【手続補正書】
【提出日】2024-02-28
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
熱交換反応器HER(20)において、COおよびHを含む第1のガス供給物(2)のCOシフト反応を介して、前記第1のガス供給物(2)を、合成ガス流(21)に変換するための方法であって、
前記HER(20)は、
少なくとも1つのプロセス側(20A)および少なくとも1つの加熱側(20B)を含み、
ここで、HER(20)のプロセス側(20A)が、プロセス側入口(28)およびプロセス側出口(29)を備え、
ここで、HER(20)のプロセス側(20A)は、プロセス側入口(28)に最も近くに配置された第1の反応ゾーン(I)を含み、
かつ、
HER(20)のプロセス側(20A)が、プロセス側出口(29)の最も近くに配置された第2の反応ゾーン(II)を含み、
ここで、HERの加熱側(20B)は、加熱側入口(26)と、任意で加熱側出口(27)とを備え、
前記少なくとも1つのプロセス側(20A)および前記少なくとも1つの加熱側(20B)は、加熱側(20B)からプロセス側(20B)の少なくとも一部への熱伝達が可能であるように配置され、
前記方法は:
-前記プロセス側入口(28)を介して、HER(20)のプロセス側(20A)に第1ガス供給物(2)を供給するステップ;
-前記加熱側入口(26)を介してHERの加熱側(20B)に加熱流体(11)を供給し、前記加熱流体(11)からHER(20)のプロセス側(20A)への熱伝達を可能にするステップ;
-第1の反応ゾーン(I)において、前記第1のガス供給物(2)の全体的な発熱反応を実施するステップ、ここで、全体的な発熱反応は、左から右への正味に進行する少なくとも以下の反応を含み:
【化1】
-第2の反応ゾーン(II)において、前記第1の反応ゾーン(I)からのガスの全体的な吸熱反応を実施するステップ、ここで、全体的な吸熱反応は、左から右へ正味に進行する少なくとも以下の反応を含み:
【化2】
-冷却された流体(31)と任意に混合して、合成ガス流(21)を、プロセス側出口(29)を介してプロセス側(20A)から排出するステップ;および
-任意に、加熱側出口(27)を介して、前記加熱側(20B)から冷却された流体(31)を排出するステップ、
を含む、前記方法。
【請求項2】
第1の反応ゾーン(I)におけるガスの温度が300~800℃である、請求項1に記載の方法。
【請求項3】
第2の反応ゾーン(II)におけるガスの温度が600~1200℃である、請求項1または2に記載の方法。
【請求項4】
合成ガス流(21)および冷却された流体(31)が組み合わされて、第3の生成物流(35)を提供する、請求項1または2に記載の方法。
【請求項5】
加熱流体(11)および第2の反応ゾーンを出る合成ガス流(21)の少なくとも一部が、HER(20)の内部で組み合わされて、加熱流体(11)の少なくとも一部として再利用される、請求項1または2に記載の方法。
【請求項6】
HER(20)のそれぞれの出口において、合成ガス流(21)および/または冷却された流体(31)および/または第3の生成物流(35)の温度が、金属ダスティングの臨界限界よりも高い温度になるように、プロセス条件が調整される、請求項1または2に記載の方法。
【請求項7】
合成ガス流(21)および/または冷却された流体(31)および/または第3の生成物流(35)の冷却された出口温度が、500℃以上、600℃以上、700℃以上、または800℃以上である、請求項1または2に記載の方法。
【請求項8】
前記冷却された出口温度における合成ガス流(21)および/または冷却された流体(31)および/または第3の生成物流(35)が、100未満、または50未満、または10未満、または5未満、または1未満のCO還元反応の実ガス炭素活性を有する、請求項1または2に記載の方法。
【請求項9】
合成ガス流(21)および/または冷却された流体(31)および/または第3の生成物流(35)のH/CO比が、0.5~3.0の範囲、例えば1.9~2.1の範囲、または2~3の範囲である、請求項1または2に記載の方法。
【請求項10】
合成ガス流(21)および/または冷却された流体(31)および/または第3の生成物流(35)の(H-CO)/(CO+CO)比が、1.5~2.5の範囲、例えば1.9~2.1の範囲、または2~2.05の範囲である、請求項1または2に記載の方法。
【請求項11】
とCOの間の比は、1~5の間、例えば2~4の間、2~3の間、または2.2~2.5の間、または2.8~3.5の間、または2.8~3.2の間であることができる、請求項1または2に記載の方法。
【請求項12】
第1の供給物中のCH/COのモル比が、好ましくは0.5未満、例えば0.2未満、好ましくは0.1未満である、請求項1または2に記載の方法。
【請求項13】
第1のガス供給物(2)が、さらにメタンを含む、好適には最大3モル%、または最大8モル%、または最大12モル%のメタンを含む、請求項1または2に記載の方法。
【請求項14】
加熱流体(11)が、電気式RWGS(e-RWGS)反応器(10A)、燃焼式RWGS反応器(10B)または自熱式RWGS反応器(10C)、好ましくは電気式RWGS(e-RWGS)反応器(10A)から供給される、請求項1または2に記載の方法。
【請求項15】
加熱流体(11)がCOおよびHを含む、請求項1または2に記載の方法。
【請求項16】
COおよびHを含む第1のガス供給物(2)のCOシフト反応を介して、前記第1のガス供給物(2)を、合成ガス流(21)に変換するための、熱交換反応器(HER)(20)であって、
少なくとも1つのプロセス側(20A)および少なくとも1つの加熱側(20B)を含み、
ここで、HER(20)のプロセス側(20A)が、プロセス側入口(28)およびプロセス側出口(29)を備え、
前記プロセス側入口(28)は、COおよびHを含む前記第1のガス供給物(2)を前記プロセス側(20A)に供給するように配置され、
前記プロセス側出口(28)は、任意に冷却された流体(31)と混合して、前記合成ガス流(21)を前記プロセス側(20A)から出力するように配置され、
ここで、HER(20)のプロセス側(20A)は、プロセス側入口(28)に最も近くに配置された第1の反応ゾーン(I)を含み、
かつ、
HER(20)のプロセス側(20A)が、プロセス側出口(29)の最も近くに配置された第2の反応ゾーン(II)を含み、
ここで、第1の反応ゾーン(I)は、前記第1ガス供給(2)の全体的な発熱反応を実施するように配置され、ここで、全体的な発熱反応は、左から右へ正味に進行する少なくとも以下の反応を含み:
【化3】
ここで、第2の反応ゾーン(II)は、前記第1の反応ゾーン(I)からのガスの全体的な吸熱反応を実施するように配置され、ここで、全体的な吸熱反応は、左から右へ正味に進行する少なくとも以下の反応を含む:
【化4】
ここで、HERの加熱側(20B)は、加熱側入口(26)および、-任意に-加熱側出口(27)を備え、
前記加熱側入口(26)は、前記加熱側(20B)に加熱流体(11)を供給するように配置され、
任意に、前記加熱側出口(27)は、前記加熱側(20B)から冷却された流体(31)を出力するように配置され、
前記少なくとも1つのプロセス側(20A)および前記少なくとも1つの加熱側(20B)は、加熱側(20B)からプロセス側(20B)の少なくとも一部への熱伝達が可能であるように配置される、前記熱交換反応器(HER)(20)。
【請求項17】
HER(20)のプロセス側(20A)が、プロセス側入口(28)からプロセス側出口(29)まで延びる全長を有し、第1の反応ゾーン(I)が、HER(20)のプロセス側(20A)の全長の50%未満、例えば30%未満、好ましくは20%未満、より好ましくは10%未満の長さを有する、請求項16に記載のHER(20)または請求項に記載の方法。
【請求項18】
第1の触媒が、少なくともHER(20)の第1の反応ゾーン(I)に配置される、請求項16に記載のHER(20)または請求項に記載の方法。
【請求項19】
第1の反応ゾーン(I)のプロセス側(20A)の少なくとも一つの端部は、HER(20)のプロセス側入口(28)に最も近くにあり、プロセス側入口(28)からプロセス側出口(29)に向かう方向において、第1の反応ゾーン(I)のプロセス側(20A)の全長の25%までの長さを有するが、HER(20B)の加熱側と直接的に接触していないため、第1の反応ゾーン(I)のこの端部は、第1の反応ゾーン(I)における発熱反応によって引き起こされる断熱温度上昇によって主に加熱される、請求項16に記載のHER(20)または請求項に記載の方法。
【請求項20】
HERがバヨネット型HERである、請求項16に記載のHER(20)または請求項に記載の方法。
【請求項21】
HERが少なくとも2つのプロセス側(20A)を有する、請求項16に記載のHER(20)または請求項に記載の方法。
【請求項22】
HERが少なくとも2つの加熱側(20B)を有する、請求項16に記載のHER(20)または請求項に記載の方法。

【手続補正書】
【提出日】2024-03-28
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0123
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0123】
本発明を、多数の態様および実施形態を参照して説明してきた。これらの態様および実施形態は、特許請求の範囲内に留まりつつ、当業者によって任意に組み合わせることができる。
なお、本発明は以下の項目を含む。
[項目1]
熱交換反応器HER(20)において、CO およびH を含む第1のガス供給物(2)のCO シフト反応を介して、前記第1のガス供給物(2)を、合成ガス流(21)に変換するための方法であって、
前記HER(20)は、
少なくとも1つのプロセス側(20A)および少なくとも1つの加熱側(20B)を含み、
ここで、HER(20)のプロセス側(20A)が、プロセス側入口(28)およびプロセス側出口(29)を備え、
ここで、HER(20)のプロセス側(20A)は、プロセス側入口(28)に最も近くに配置された第1の反応ゾーン(I)を含み、
かつ、
HER(20)のプロセス側(20A)が、プロセス側出口(29)の最も近くに配置された第2の反応ゾーン(II)を含み、
ここで、HERの加熱側(20B)は、加熱側入口(26)と、任意で加熱側出口(27)とを備え、
前記少なくとも1つのプロセス側(20A)および前記少なくとも1つの加熱側(20B)は、加熱側(20B)からプロセス側(20B)の少なくとも一部への熱伝達が可能であるように配置され、
前記方法は:
-前記プロセス側入口(28)を介して、HER(20)のプロセス側(20A)に第1ガス供給物(2)を供給するステップ;
-前記加熱側入口(26)を介してHERの加熱側(20B)に加熱流体(11)を供給し、前記加熱流体(11)からHER(20)のプロセス側(20A)への熱伝達を可能にするステップ;
-第1の反応ゾーン(I)において、前記第1のガス供給物(2)の全体的な発熱反応を実施するステップ、ここで、全体的な発熱反応は、左から右への正味に進行する少なくとも以下の反応を含み:
【化10】
-第2の反応ゾーン(II)において、前記第1の反応ゾーン(I)からのガスの全体的な吸熱反応を実施するステップ、ここで、全体的な吸熱反応は、左から右へ正味に進行する少なくとも以下の反応を含み:
【化11】
-冷却された流体(31)と任意に混合して、合成ガス流(21)を、プロセス側出口(29)を介してプロセス側(20A)から排出するステップ;および
-任意に、加熱側出口(27)を介して、前記加熱側(20B)から冷却された流体(31)を排出するステップ、
を含む、前記方法。
[項目2]
第1の反応ゾーン(I)におけるガスの温度が300~800℃である、項目1に記載の方法。
[項目3]
第2の反応ゾーン(II)におけるガスの温度が600~1200℃である、項目1~2のいずれか1項に記載の方法。
[項目4]
合成ガス流(21)および冷却された流体(31)が組み合わされて、第3の生成物流(35)を提供する、項目1~3のいずれか1項に記載の方法。
[項目5]
加熱流体(11)および第2の反応ゾーンを出る合成ガス流(21)の少なくとも一部が、HER(20)の内部で組み合わされて、加熱流体(11)の少なくとも一部として再利用される、項目1~4のいずれか1項に記載の方法。
[項目6]
HER(20)のそれぞれの出口において、合成ガス流(21)および/または冷却された流体(31)および/または第3の生成物流(35)の温度が、金属ダスティングの臨界限界よりも高い温度になるように、プロセス条件が調整される、項目1~5のいずれか1項に記載の方法。
[項目7]
合成ガス流(21)および/または冷却された流体(31)および/または第3の生成物流(35)の冷却された出口温度が、500℃以上、600℃以上、700℃以上、または800℃以上である、項目1~6のいずれか1項に記載の方法。
[項目8]
前記冷却された出口温度における合成ガス流(21)および/または冷却された流体(31)および/または第3の生成物流(35)が、100未満、または50未満、または10未満、または5未満、または1未満のCO還元反応の実ガス炭素活性を有する、項目1~7のいずれか1項に記載の方法。
[項目9]
合成ガス流(21)および/または冷却された流体(31)および/または第3の生成物流(35)のH /CO比が、0.5~3.0の範囲、例えば1.9~2.1の範囲、または2~3の範囲である、項目1~8のいずれか1項に記載の方法。
[項目10]
合成ガス流(21)および/または冷却された流体(31)および/または第3の生成物流(35)の(H -CO )/(CO+CO )比が、1.5~2.5の範囲、例えば1.9~2.1の範囲、または2~2.05の範囲である、項目1~9のいずれか1項に記載の方法。
[項目11]
とCO の間の比は、1~5の間、例えば2~4の間、2~3の間、または2.2~2.5の間、または2.8~3.5の間、または2.8~3.2の間であることができる、項目1~10のいずれか1項に記載の方法。
[項目12]
第1の供給物中のCH /CO のモル比が、好ましくは0.5未満、例えば0.2未満、好ましくは0.1未満である、項目1~11のいずれか1項に記載の方法。
[項目13]
第1のガス供給物(2)が、さらにメタンを含む、好適には最大3モル%、または最大8モル%、または最大12モル%のメタンを含む、項目1~12のいずれか1項に記載の方法。
[項目14]
加熱流体(11)が、電気式RWGS(e-RWGS)反応器(10A)、燃焼式RWGS反応器(10B)または自熱式RWGS反応器(10C)、好ましくは電気式RWGS(e-RWGS)反応器(10A)から供給される、項目1~13のいずれか1項に記載の方法。
[項目15]
加熱流体(11)がCO およびH を含む、項目1~14のいずれか1項に記載の方法。
[項目16]
CO およびH を含む第1のガス供給物(2)のCO シフト反応を介して、前記第1のガス供給物(2)を、合成ガス流(21)に変換するための、熱交換反応器(HER)(20)であって、
少なくとも1つのプロセス側(20A)および少なくとも1つの加熱側(20B)を含み、
ここで、HER(20)のプロセス側(20A)が、プロセス側入口(28)およびプロセス側出口(29)を備え、
前記プロセス側入口(28)は、CO およびH を含む前記第1のガス供給物(2)を前記プロセス側(20A)に供給するように配置され、
前記プロセス側出口(28)は、任意に冷却された流体(31)と混合して、前記合成ガス流(21)を前記プロセス側(20A)から出力するように配置され、
ここで、HER(20)のプロセス側(20A)は、プロセス側入口(28)に最も近くに配置された第1の反応ゾーン(I)を含み、
かつ、
HER(20)のプロセス側(20A)が、プロセス側出口(29)の最も近くに配置された第2の反応ゾーン(II)を含み、
ここで、第1の反応ゾーン(I)は、前記第1ガス供給(2)の全体的な発熱反応を実施するように配置され、ここで、全体的な発熱反応は、左から右へ正味に進行する少なくとも以下の反応を含み:
【化12】
ここで、第2の反応ゾーン(II)は、前記第1の反応ゾーン(I)からのガスの全体的な吸熱反応を実施するように配置され、ここで、全体的な吸熱反応は、左から右へ正味に進行する少なくとも以下の反応を含む:
【化13】
ここで、HERの加熱側(20B)は、加熱側入口(26)および、-任意に-加熱側出口(27)を備え、
前記加熱側入口(26)は、前記加熱側(20B)に加熱流体(11)を供給するように配置され、
任意に、前記加熱側出口(27)は、前記加熱側(20B)から冷却された流体(31)を出力するように配置され、
前記少なくとも1つのプロセス側(20A)および前記少なくとも1つの加熱側(20B)は、加熱側(20B)からプロセス側(20B)の少なくとも一部への熱伝達が可能であるように配置される、前記熱交換反応器(HER)(20)。
[項目17]
HER(20)のプロセス側(20A)が、プロセス側入口(28)からプロセス側出口(29)まで延びる全長を有し、第1の反応ゾーン(I)が、HER(20)のプロセス側(20A)の全長の50%未満、例えば30%未満、好ましくは20%未満、より好ましくは10%未満の長さを有する、項目16に記載のHER(20)または項目1~15のいずれか1項に記載の方法。
[項目18]
第1の触媒が、少なくともHER(20)の第1の反応ゾーン(I)に配置される、項目16~17のいずれか1項に記載のHER(20)または項目1~15のいずれか1項に記載の方法。
[項目19]
第1の反応ゾーン(I)のプロセス側(20A)の少なくとも一つの端部は、HER(20)のプロセス側入口(28)に最も近くにあり、プロセス側入口(28)からプロセス側出口(29)に向かう方向において、第1の反応ゾーン(I)のプロセス側(20A)の全長の25%までの長さを有するが、HER(20B)の加熱側と直接的に接触していないため、第1の反応ゾーン(I)のこの端部は、第1の反応ゾーン(I)における発熱反応によって引き起こされる断熱温度上昇によって主に加熱される、項目16~18のいずれか1項に記載のHER(20)または項目1~15のいずれか1項に記載の方法。
[項目20]
HERがバヨネット型HERである、項目16~19のいずれか1項に記載のHER(20)または項目1~15のいずれか1項に記載の方法。
[項目21]
HERが少なくとも2つのプロセス側(20A)を有する、項目16~20のいずれか1項に記載のHER(20)または項目1~15のいずれか1項に記載の方法。
[項目22]
HERが少なくとも2つの加熱側(20B)を有する、項目16~21のいずれか1項に記載のHER(20)または項目1~15のいずれか1項に記載の方法。
【国際調査報告】