特表 2024-521761 エチレンオリゴマー化プロセス

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-06-04

(54)【発明の名称】エチレンオリゴマー化プロセス

(51)【国際特許分類】

   C08F 8/50 20060101AFI20240528BHJP

   B01J 31/38 20060101ALI20240528BHJP

   C08F 110/02 20060101ALI20240528BHJP

【ＦＩ】

C08F8/50

B01J31/38 M

C08F110/02

【審査請求】有

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2023572641

(86)(22)【出願日】2022-05-03

(85)【翻訳文提出日】2023-11-22

(86)【国際出願番号】 US2022027448

(87)【国際公開番号】W WO2022250885

(87)【国際公開日】2022-12-01

(31)【優先権主張番号】17/330,523

(32)【優先日】2021-05-26

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】502303175

【氏名又は名称】シェブロン フィリップス ケミカル カンパニー エルピー

(74)【代理人】

【識別番号】110000855

【氏名又は名称】弁理士法人浅村特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】スモール、ブルック エル．

(72)【発明者】

【氏名】サイドラ、オーソン エル．

(72)【発明者】

【氏名】クヌーセン、ロナルド ディ．

【テーマコード（参考）】

4G169

4J100

【Ｆターム（参考）】

4G169AA02

4G169AA06

4G169AA09

4G169BA28A

4G169BA28B

4G169BA41C

4G169BC16A

4G169BC16B

4G169BC51A

4G169BC51B

4G169BE01C

4G169BE06C

4G169BE08C

4G169BE11C

4G169BE13C

4G169BE21C

4G169BE22C

4G169BE25C

4G169BE32C

4G169BE45C

4G169BE46C

4G169CB47

4G169DA04

4G169DA08

4G169FA01

4G169FB05

4G169FC02

4G169FC04

4G169FC08

4J100HA51

4J100HB29

4J100HC70

4J100HC75

4J100HC79

4J100HE14

(57)【要約】

エチレンと、ヒドロカルビル金属化合物を含むジルコニウムベースの触媒システムと、連鎖移動剤と、任意選択により、有機反応媒体とを接触させることを含む、アルファオレフィンを生成するプロセス。利用できる連鎖移動剤としては、ａ）水素、ｂ）水素ケイ素結合を含む化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、またはｃ）遷移金属化合物連鎖移動剤が挙げられる。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ａ）接触させることであって、
ｉ）エチレンと、
ｉｉ）触媒システムであって、
１）式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有するジルコニウム化合物（式中、各Ｘ^１は、独立的に、ハライドであり、各Ｙ^１は、独立的に、ヒドロカルボキシド、ジヒドロカルビルアザニド、ヒドロカルビルカルボキシレート、ヒドロカルビルスルホネート、またはβ－ジケトネートであり、ｍは、０～４の範囲内であり、ｑは、０～４の範囲内であり、ｍ＋ｑは、２～４の整数である）、及び
２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、前記触媒システムと、
ｉｉｉ）水素ケイ素結合、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、またはそれらの任意の組み合わせを含む連鎖移動剤と、
ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを、前記接触させること、ならびに、
ｂ）反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含み、
前記オリゴマー生成物が、０．４～０．８のＳｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値を有する、プロセス。

【請求項2】

前記連鎖移動剤が、式Ｒ^３１ＳｉＨ_３、（Ｒ^３１）_２ＳｉＨ_２、（Ｒ^３１）_３ＳｉＨ、Ｒ^３１ＯＳｉＨ３、（Ｒ^３１Ｏ）_２ＳｉＨ_２、（Ｒ^３１Ｏ）_３ＳｉＨ、Ｒ^３２ＳＨ、Ｒ^３２ＣＯ_２ＣＨ_２ＳＨ、Ｒ^３２ＣＯ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＨ、Ｒ^３３ＰＨ_２、（Ｒ^３３）_２ＰＨ、Ｒ^３３ＯＰＨ_２、（Ｒ^３３Ｏ）_２ＰＨ、またはそれらの任意の組み合わせを有する化合物を含み、式中、各Ｒ^３１、Ｒ^３２、及びＲ^３３は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１５ヒドロカルビル基である、請求項１に記載のプロセス。

【請求項3】

前記反応ゾーンが、１×１０^－５：１～５×１０^－１：１の範囲内の連鎖移動剤とエチレンとのモル比を有する、請求項１に記載のプロセス。

【請求項4】

前記オリゴマー生成物が、（ａ）１重量％未満のポリマー、（ｂ）１０００ｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有する１重量％未満の化合物、または（ｃ）それらの任意の組み合わせを含み、前記重量％が、前記オリゴマー生成物の総重量に基づく、請求項１に記載のプロセス。

【請求項5】

前記プロセスが、水素ケイ素結合を有する化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、またはそれらの任意の組み合わせを含む前記連鎖移動剤を使用しない同じプロセスと比べて、（ａ）より低いＭｗを有するポリマー、（ｂ）より低いＭｗ最大ピークを有するポリマー、（ｃ）低減したパーセンテージのポリマー、（ｄ）１００，０００ｇ／ｍｏｌを超えるＭｗを有するポリマーの低減したパーセンテージを有するポリマー、または（ｅ）それらの任意の組み合わせを含むオリゴマー生成物を生成する、請求項１に記載のプロセス。

【請求項6】

前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑ、Ｒ^１ _２Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせを有し、式中、各Ｒ^１は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１０アルキル基であり、各Ｘ^２は、独立的に、クロリド、ブロミド、またはヨージドであり、ｎは、０～３の整数であり、ｑは、０～６の整数である、請求項１に記載のプロセス。

【請求項7】

前記触媒システムが、中性非イオン性有機修飾剤をさらに含む、請求項１に記載のプロセス。

【請求項8】

前記中性非イオン性有機修飾剤が、エーテル、エステル、ケトン、アルデヒド、アルコール、無水物、酸クロリド、ニトリル、スルフィド、ジスルフィド、ホスフィン、アミン、またはアミドを含む、請求項７に記載のプロセス。

【請求項9】

前記ジルコニウム化合物が、式ＺｒＸ^１ _ｍ（式中、各Ｘ^１は、独立的に、クロリドまたはブロミドであり、ｍは、４である）を有し、前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ^２ _ｎＲ^１ _３－ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３、Ｒ^１ _２Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせ（式中、各Ｘ^２は、独立的に、ハライドであり、各Ｒ^１は、独立的に、Ｃ_２～Ｃ_４アルキル基である）を有する、請求項１に記載のプロセス。

【請求項10】

前記触媒システムが、中性非イオン性有機修飾剤としてＣ_２～Ｃ_２０エステル、Ｃ_２～Ｃ_２０エーテル、またはＣ_２～Ｃ_２０スルフィドをさらに含む、請求項９に記載のプロセス。

【請求項11】

前記ジルコニウム化合物が、式ＺｒＹ^１ _ｑ（式中、各Ｙ^１は、独立的に、^－ＯＲ^２であり、Ｒ^２は、Ｃ_１～Ｃ_１０アルキル基または^－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^３であり、Ｒ^３は、Ｃ_１～Ｃ_１０アルキル基であり、ｑは、２～４の整数である）を有し、前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ^３ _ｎＲ^１ _３－ｎ、Ａｌ_２Ｘ^３ _３Ｒ^１ _３、またはそれらの任意の組み合わせ（式中、各Ｘ^２は、独立的に、ハライドであり、各Ｒ^１は、独立的に、Ｃ_２～Ｃ_４アルキル基である）を有する、請求項１に記載のプロセス。

【請求項12】

ａ）接触させることであって、
ｉ）エチレンと、
ｉｉ）触媒システムであって、
１）式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有するジルコニウム化合物（式中、各Ｘ^１は、独立的に、ハライドであり、各Ｙ^１は、独立的に、ヒドロカルボキシド、ジヒドロカルビルアザニド、ヒドロカルビルカルボキシレート、ヒドロカルビルスルホネート、またはβ－ジケトネートであり、ｍは、０～４の範囲内であり、ｑは、０～４の範囲内であり、ｍ＋ｑは、２～４の整数である）、及び
２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、前記触媒システムと、
ｉｉｉ）水素と、
ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを、前記接触させること、ならびに、
ｂ）反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含み、
前記オリゴマー生成物が、０．４～０．８のＳｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値を有する、プロセス。

【請求項13】

前記反応ゾーンが、（０．０５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）～（５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）の範囲内の水素対エチレン質量比を有する、請求項１２に記載のプロセス。

【請求項14】

前記オリゴマー生成物が、（ａ）１重量％未満のポリマー、（ｂ）１０００ｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有する１重量％未満の化合物、または（ｃ）それらの任意の組み合わせを含み、前記重量％が、前記オリゴマー生成物の総重量に基づく、請求項１２に記載のプロセス。

【請求項15】

前記プロセスが、水素を使用しない同じプロセスと比べて、（ａ）より低いＭｗを有するポリマー、（ｂ）より低いＭｗ最大ピークを有するポリマー、（ｃ）低減したパーセンテージのポリマー、（ｄ）１００，０００ｇ／ｍｏｌを超えるＭｗを有するポリマーの低減したパーセンテージを有するポリマー、または（ｅ）それらの任意の組み合わせを含むオリゴマー生成物を生成する、請求項１２に記載のプロセス。

【請求項16】

前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑ、Ｒ^１ _２Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせを有し、式中、各Ｒ^１は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１０アルキル基であり、各Ｘ^２は、独立的に、クロリド、ブロミド、またはヨージドであり、ｎは、０～３の整数であり、ｑは、０～６の整数である、請求項１２に記載のプロセス。

【請求項17】

前記触媒システムが、中性非イオン性有機修飾剤をさらに含む、請求項１２に記載のプロセス。

【請求項18】

前記中性非イオン性有機修飾剤が、エーテル、エステル、ケトン、アルデヒド、アルコール、無水物、酸クロリド、ニトリル、スルフィド、ジスルフィド、ホスフィン、アミン、またはアミドを含む、請求項１７に記載のプロセス。

【請求項19】

前記ジルコニウム化合物が、式ＺｒＸ^１ _ｍ（式中、各Ｘ^１は、独立的に、クロリドまたはブロミドであり、ｍは、４である）を有し、前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ^２ _ｎＲ^１ _３－ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３、Ｒ^１ _２Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせ（式中、各Ｘ^２は、独立的に、ハライドであり、各Ｒ^１は、独立的に、Ｃ_２～Ｃ_４アルキル基である）を有する、請求項１２に記載のプロセス。

【請求項20】

前記触媒システムが、中性非イオン性有機修飾剤としてＣ_２～Ｃ_２０エステル、Ｃ_２～Ｃ_２０エーテル、またはＣ_２～Ｃ_２０スルフィドをさらに含む、請求項１９に記載のプロセス。

【請求項21】

前記ジルコニウム化合物が、式ＺｒＹ^１ _ｑ（式中、各Ｙ^１は、独立的に、^－ＯＲ^２であり、Ｒ^２は、Ｃ_１～Ｃ_１０アルキル基または^－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^３であり、Ｒ^３は、Ｃ_１～Ｃ_１０アルキル基であり、ｑは、２～４の整数である）を有し、前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ^３ _ｎＲ^１ _３－ｎ、Ａｌ_２Ｘ^３ _３Ｒ^１ _３、またはそれらの任意の組み合わせ（式中、各Ｘ^３は、独立的に、ハライドであり、各Ｒ^１は、独立的に、Ｃ_２～Ｃ_４アルキル基である）を有する、請求項１２に記載のプロセス。

【請求項22】

ａ）接触させることであって、
ｉ）エチレンと、
ｉｉ）触媒システムであって、
１）式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有するジルコニウム化合物（式中、各Ｘ^１は、独立的に、ハライドであり、各Ｙ^１は、独立的に、ヒドロカルボキシド、ジヒドロカルビルアザニド、ヒドロカルビルカルボキシレート、ヒドロカルビルスルホネート、またはβ－ジケトネートであり、ｍは、０～４の範囲内であり、ｑは、０～４の範囲内であり、ｍ＋ｑは、２～４の整数である）、及び
２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、前記触媒システムと、
ｉｉｉ）遷移金属化合物連鎖移動剤と、
ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを、前記接触させること、ならびに、
ｂ）反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含み、
前記オリゴマー生成物が、０．４～０．８のＳｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値を有する、プロセス。

【請求項23】

前記遷移金属化合物連鎖移動剤が、式ＭＸ^４ _ｐを有する遷移金属化合物連鎖移動剤であり、式中、Ｍは、遷移金属であり、Ｘ^４は、モノアニオンであり、ｐは、２～４の整数である、請求項２２に記載のプロセス。

【請求項24】

Ｍが、鉄、コバルト、またはニッケルである、請求項２３に記載のプロセス。

【請求項25】

Ｘ^４が、Ｃ_４～Ｃ_１９カルボキシレートである、請求項２３に記載のプロセス。

【請求項26】

前記反応ゾーンが、１×１０^－８～１×１０^－３の範囲内の前記連鎖移動剤の金属とエチレンとのモル比を有する、請求項２３に記載のプロセス。

【請求項27】

前記オリゴマー生成物が、（ａ）１重量％未満のポリマー、（ｂ）１０００ｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有する１重量％未満の化合物、または（ｃ）それらの任意の組み合わせを含み、前記重量％が、前記オリゴマー生成物の総重量に基づく、請求項２２に記載のプロセス。

【請求項28】

前記プロセスが、前記遷移金属化合物連鎖移動剤を使用しない同じプロセスと比べて、（ａ）より低いＭｗを有するポリマー、（ｂ）より低いＭｗ最大ピークを有するポリマー、（ｃ）低減したパーセンテージのポリマー、（ｄ）１００，０００ｇ／ｍｏｌを超えるＭｗを有するポリマーの低減したパーセンテージを有するポリマー、または（ｅ）それらの任意の組み合わせを含むオリゴマー生成物を生成する、請求項２２に記載のプロセス。

【請求項29】

前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑ、Ｒ^１ _２Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせを有し、式中、各Ｒ^１は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１０アルキル基であり、各Ｘ^２は、独立的に、クロリド、ブロミド、またはヨージドであり、ｎは、０～３の整数であり、ｑは、０～６の整数である、請求項２２に記載のプロセス。

【請求項30】

前記触媒システムが、中性非イオン性有機修飾剤をさらに含む、請求項２２に記載のプロセス。

【請求項31】

前記中性非イオン性有機修飾剤が、エーテル、エステル、ケトン、アルデヒド、アルコール、無水物、酸クロリド、ニトリル、スルフィド、ジスルフィド、ホスフィン、アミン、またはアミドを含む、請求項３０に記載のプロセス。

【請求項32】

前記ジルコニウム化合物が、式ＺｒＸ^１ _ｍ（式中、各Ｘ^１は、独立的に、クロリドまたはブロミドであり、ｍは、４である）を有し、前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ^２ _ｎＲ^１ _３－ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３、Ｒ^１ _２Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせ（式中、各Ｘ^２は、独立的に、ハライドであり、各Ｒ^１は、独立的に、Ｃ_２～Ｃ_４アルキル基である）を有する、請求項２２に記載のプロセス。

【請求項33】

前記触媒システムが、中性非イオン性有機修飾剤としてＣ_２～Ｃ_２０エステル、Ｃ_２～Ｃ_２０エーテル、またはＣ_２～Ｃ_２０スルフィドをさらに含む、請求項３２に記載のプロセス。

【請求項34】

前記ジルコニウム化合物が、式ＺｒＹ^１ _ｑ（式中、各Ｙ^１は、独立的に、^－ＯＲ^２であり、Ｒ^２は、Ｃ_１～Ｃ_１０アルキル基または^－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^３であり、Ｒ^３は、Ｃ_１～Ｃ_１０アルキル基であり、ｑは、２～４の整数である）を有し、前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ^３ _ｎＲ^１ _３－ｎ、Ａｌ_２Ｘ^３ _３Ｒ^１ _３、またはそれらの任意の組み合わせ（式中、各Ｘ^２は、独立的に、ハライドであり、各Ｒ^１は、独立的に、Ｃ_２～Ｃ_４アルキル基である）を有する、請求項２２に記載のプロセス。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、ノルマルアルファオレフィンを生成するプロセスに関する。より詳細には、本開示は、エチレンをノルマルアルファオレフィンにオリゴマー化するための改良されたプロセスに関する。

【背景技術】

【0002】

アルファオレフィンは、商業において重要な物品である。その多くの用途には、洗浄剤の製造における中間体として、より環境に優しい精製油の前駆体として、モノマーとして、及び他の多くの種類の生成物の前駆体としての利用が含まれる。アルファオレフィンを作製する方法の１つは、様々な種類の触媒及び／または触媒システムを用いる触媒反応におけるエチレンのオリゴマー化によるものである。一部のエチレンオリゴマー化触媒システムは、大量のポリマーを生成するため、リアクターの洗浄が必要になるまでの反応システム運転時間を低減させ、反応システムの信頼性を低下させ、及び／または生成物の単離を複雑にし得る。ノルマルアルファオレフィンの用途及び需要は増加し続けており、それに応じてその供給競争が激化している。したがって、エチレンオリゴマー化のための新規かつ改良されたプロセスが望まれる。

【発明の概要】

【0003】

本願は、ａ）接触させることであって、ｉ）エチレンと、ｉｉ）触媒システムであって、１）式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有するジルコニウム化合物（式中、各Ｘ^１は、独立的に、ハライドであり、各Ｙ^１は、独立的に、ヒドロカルボキシド、ジヒドロカルビルアザニド、ヒドロカルビルカルボキシレート、ヒドロカルビルスルホネート、またはβ－ジケトネートであり、ｍは、０～４の範囲であり、ｑは、０～４の範囲内であり、ｍ＋ｑは、２～４の整数である）、及び２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、触媒システムと、ｉｉｉ）連鎖移動剤と、ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを、接触させること、ならびに、ｂ）反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含み、オリゴマー生成物が、０．４～０．８のＳｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値を有する、プロセスに関する。一態様において、連鎖移動剤は、ｉ）水素ケイ素結合を含む化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、もしくはそれらの任意の組み合わせ、ｉｉ）水素、または３）遷移金属化合物であり得る。いくつかの態様では、当該プロセスは、（ａ）１重量％未満のポリマー、（ｂ）１０００ｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有する１重量％未満の化合物、または（ｃ）それらの任意の組み合わせを含むオリゴマー生成物を生成することができ、重量％は、オリゴマー生成物の総重量に基づく。別の態様では、当該プロセスは、水素ケイ素結合を有する化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、またはそれらの任意の組み合わせを含む連鎖移動剤を使用しない同じプロセスと比べて、（ａ）より低いＭｗを有するポリマー、（ｂ）より低いＭｗ最大ピークを有するポリマー、（ｃ）低減したパーセンテージのポリマー、（ｄ）１００，０００を超えるＭｗを有するポリマーの低減したパーセンテージを有するポリマー、または（ｅ）それらの任意の組み合わせを含むオリゴマー生成物を生成することができる。

【0004】

本特許出願の主題は、添付の図面と併せて以下の説明を参照することによって理解することができ、図面において同様の参照番号は同様の要素を特定する。

【図面の簡単な説明】

【0005】

【図1】エチレンオリゴマー化装置の一例を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0006】

本特許出願の主題は、様々な改変及び代替形態の余地があるが、図面は、例として詳細に本明細書に記載される特定の実施形態を示している。ただし、特定の実施形態に関する本明細書における説明は、開示される特定の形態に特許請求の主題を限定することを意図したものではなく、むしろ、添付の特許請求の範囲によって定義される本発明の主旨及び範囲に含まれるすべての改変、均等物、及び代替物をカバーすることが意図であることを理解されたい。

【0007】

定義
本明細書で使用される用語をより明確に定義するために、以下の定義を提供する。別段の記載がない限り、以下の定義が本開示に適用される。ある用語が本開示で使用されているが、本明細書で具体的に定義されていない場合には、ＩＵＰＡＣ Ｃｏｍｐｅｎｄｉｕｍ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｒｍｉｎｏｌｏｇｙ，２ｎｄ Ｅｄ（１９９７）の定義が、他の開示内容または本明細書で適用される定義のいずれとも矛盾せず、その定義が適用されるクレームを不明確または無効にしない限り、その定義が適用され得る。参照により本明細書に組み込まれるいずれかの文書によって提供されるいずれかの定義または使用法が、本明細書で提供される定義または使用法と矛盾する場合、本明細書で提供される定義または使用法が優先する。

【0008】

本明細書では、特定の態様及び／または条項において異なる特徴の組み合わせが想定され得るように、主題の特徴が説明され得る。本明細書で開示されるあらゆる態様、及び／または条項、及び／または特徴について、本明細書に記載されるシステム、組成物、プロセス、及び／または方法に悪影響を及ぼさない組み合わせはすべて、特定の組み合わせの明示的な説明の有無にかかわらず企図される。さらに、別段明記されていない限り、本開示と一致する発明のプロセス及びシステムを説明するために、本明細書で開示されるいずれかの態様、及び／または条項、及び／または特徴が組み合わされ得る。

【0009】

「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」という用語は、別段特記されていない限り、複数の選択肢、例えば、少なくとも１つ、または１つ以上を含むことを意図する。例えば、「トリアルキルアルミニウム化合物」の開示は、別段の規定がない限り、１つのトリアルキルアルミニウム化合物、または２つ以上のトリアルキルアルミニウム化合物の混合物もしくは組み合わせを包含することが意図される。

【0010】

周期表の元素の族は、Ｃｈｅｍｉｃａｌ ａｎｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｎｅｗｓ，６３（５），２７，１９８５に掲載されているバージョンの元素周期表に見られる番号付けスキームを使用して示される。場合によっては、元素の族は、その族に割り当てられた一般名を使用して、例えば、第１族元素はアルカリ金属、第２族元素はアルカリ土類金属、第３～１２族元素は遷移金属、第１７族元素はハロゲンなどと示され得る。

【0011】

本明細書で開示される特定の化合物のいずれについても、提示される一般構造または名称は、別段の記載がない限り、特定の置換基のセットから生じ得るすべての構造異性体、配座異性体、及び立体異性体を包含することも意図している。したがって、化合物への一般的な言及には、別段明記されていない限り、すべての構造異性体が含まれる。例えば、Ｃ_６炭化水素への一般的な言及は、６個の炭素原子を有するすべての炭化水素を指し、ペンタンへの一般的な言及は、ｎ－ペンタン、２－メチル－ブタン、及び２，２－ジメチルプロパンを含み、ブチル基への一般的な言及は、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソ－ブチル基、及びｔｅｒｔ－ブチル基を含む。さらに、一般構造または名称への言及は、文脈上許容または要求される場合、すべての鏡像異性体、ジアステレオ異性体、及び鏡像異性体かラセミ体かを問わない他の光学異性体、ならびに立体異性体の混合物を包含する。提示される特定の式または名称について、提示される一般式または名称は、特定の置換基のセットから生じ得るすべての配座異性体、位置異性体、及び立体異性体も包含する。

【0012】

化学「基」は、その基がいかにして形式的に参照化合物または「親」化合物から誘導されるかに従って、例えば、その基が事実上この様式で合成されないとしても、その基を生成するために親化合物から形式的に除去される水素原子の数によって記述される。例として、「アルキル基」は、形式的にはアルカンから１つの水素原子を除去することによって誘導することができ、「アルキレン基」は、形式的にはアルカンから２つの水素原子を除去することによって誘導することができる。さらに、形式的に親化合物から任意の数（「１つ以上」）の水素原子を除去することによって誘導される種々の基を包含するように、より一般的な用語が使用される場合があり、これは、この例では「アルカン基」と表現することができ、「アルキル基」、「アルキレン基」、及び状況に応じて３つ以上の水素原子がアルカンから除去された物質を包含する。全体を通して、置換基、リガンド、または他の化学的部位が特定の「基」を構成し得るという開示は、記載されるようにその基が用いられる際、化学構造及び結合の周知の規則が順守されることを意味する。ある基を「によって誘導される」、「から誘導される」、「によって形成される」、または「から形成される」ものとして記述する場合には、別段の規定がない限り、または文脈上別段の解釈を必要としない限り、かかる用語は形式的な意味で使用されるものであり、いずれかの特定の合成方法または手順を反映することを意図したものではない。

【0013】

「炭化水素」という用語は、本明細書及び特許請求の範囲で使用される場合は常に、炭素及び水素のみを含む化合物を指す。炭化水素中の特定の基の存在を示すために、他の識別子が利用されることがある（例えば、ハロゲン化炭化水素は、炭化水素中の同数の水素原子を置き換える１つ以上のハロゲン原子の存在を示す）。「ヒドロカルビル基」という用語は、本明細書では、炭化水素から水素原子を除去することによって形成される一価基という、ＩＵＰＡＣによって規定された定義に従って使用される。同様に、「ヒドロカルビレン基」は、１つの炭素原子から２つの水素原子か、２つの異なる炭素原子の各々から１つの水素原子かを問わず、炭化水素から２つの水素原子を除去することによって形成される基を指す。したがって、本明細書で使用される用語によれば、「炭化水素基」は、炭化水素から１つ以上の水素原子（特定の基に必要なだけ）を除去することによって形成される基の総称を指す。「ヒドロカルビル基」、「ヒドロカルビレン基」、及び「炭化水素基」は、非環式基でも環式基でもよく、及び／または直鎖でも分岐鎖でもよい。「ヒドロカルビル基」、「ヒドロカルビレン基」、及び「炭化水素基」には、炭素及び水素のみを含む、環、環系、芳香族環、及び芳香族環系が含まれ得る。「ヒドロカルビル基」、「ヒドロカルビレン基」、及び「炭化水素基」は、例として、いくつかある基の中でもとりわけ、アリール、アリーレン、アレーン、アルキル、アルキレン、アルカン、シクロアルキル、シクロアルキレン、シクロアルカン、アラルキル、アラルキレン、及びアラルカン基をメンバーとして含む。

【0014】

「アルカン」という用語は、本明細書及び特許請求の範囲で使用される場合は常に、飽和炭化水素化合物を指す。アルカン中の特定の基の存在を示すために、他の識別子が利用されることがある（例えば、ハロゲン化アルカンは、アルカン中の同数の水素原子を置き換える１つ以上のハロゲン原子の存在を示す）。「アルキル基」という用語は、本明細書では、アルカンから水素原子を除去することによって形成される一価基という、ＩＵＰＡＣによって規定された定義に従って使用される。同様に、「アルキレン基」は、アルカンから２つの水素原子を除去することによって形成される基を指す（１つの炭素原子から２つの水素原子か、２つの異なる炭素原子から１つの水素原子かを問わない）。「アルカン基」は、アルカンから１つ以上の水素原子（特定の基に必要なだけ）を除去することによって形成される基を指す一般用語である。「アルキル基」、「アルキレン基」、及び「アルカン基」は、別段の規定がない限り、非環式基でも環式基でもよく、及び／または直鎖でも分岐鎖でもよい。第一級、第二級、及び第三級のアルキル基は、それぞれ、アルカンの第一級、第二級、または第三級の炭素原子からの水素原子の除去によって誘導される。ｎ－アルキル基は、直鎖アルカンの末端炭素原子からの水素原子の除去によって誘導され得る。

【0015】

「置換」という用語は、化合物または基を説明するために使用される場合、例えば、特定の化合物または基の置換類似体に言及している場合、その基の水素を形式的に置き換える非水素部位を説明することを意図し、非限定的であることを意図している。１つまたは複数の基は、本明細書では「未置換」として、または「非置換」などの同等の用語によって言及される場合もあり、これは、非水素部位がその基内の水素を置き換えていない元の基を指す。「置換」は、非限定的であることを意図しており、無機置換基または有機置換基を含む。

【0016】

「オレフィン」という用語は、本明細書及び特許請求の範囲で使用される場合は常に、芳香族環または芳香族環系の一部ではない少なくとも１つの炭素間二重結合を有する炭化水素を指す。「オレフィン」という用語には、別段特記されていない限り、芳香族環または環系の一部ではない少なくとも１つの炭素間二重結合を有する、脂肪族及び芳香族、環式及び非環式、及び／または直鎖及び分岐鎖の炭化水素が含まれる。１つのみ、２つのみ、３つのみなどの炭素間二重結合を有するオレフィンは、オレフィンの名称における「モノ」、「ジ」、「トリ」などという用語の使用によって識別され得る。オレフィンは、炭素間二重結合（複数可）の位置によってさらに識別され得る。

【0017】

本明細書及び特許請求の範囲で使用される「アルファオレフィン」という用語は、炭素原子の最も長い連続鎖の第１の炭素原子と第２の炭素原子との間に炭素間二重結合を有するオレフィンを指す。「アルファオレフィン」という用語には、別段明記されていない限り、直鎖及び分岐鎖のアルファオレフィンが含まれる。分岐鎖アルファオレフィンの場合、分岐はオレフィン二重結合を基準として２位（ビニリデン）及び／または３位以上にあってもよい。「ビニリデン」という用語は、本明細書及び特許請求の範囲で使用される場合は常に、オレフィン二重結合を基準として２位に分岐を有するアルファオレフィンを指す。「アルファオレフィン」という用語自体は、明記されていない限り、他の炭素間二重結合の存在または非存在を示すものではない。本明細書で使用される「直鎖アルファオレフィン」という用語は、第１の炭素原子と第２の炭素原子との間に炭素間二重結合を有する非分岐鎖アルファオレフィンを指す。

【0018】

「ノルマルアルファオレフィン」という用語は、本明細書及び特許請求の範囲で使用される場合は常に、第１の炭素原子と第２の炭素原子との間に炭素間二重結合を有する直鎖脂肪族モノオレフィンを指す。なお、「直鎖アルファオレフィン」という用語には、第１の炭素原子と第２の炭素原子との間の二重結合及び追加の二重結合を有する直鎖オレフィン化合物が含まれ得るため、「ノルマルアルファオレフィン」は「直鎖アルファオレフィン」と同義ではない。

【0019】

シクロアルカンは、側鎖の有無にかかわらない飽和環式炭化水素、例えば、シクロブタンである。１つ以上の環内二重結合または１つの三重結合を有する不飽和環式炭化水素は、それぞれ、シクロアルケン及びシクロアルキンと呼ばれる。１つのみ、２つのみ、３つのみなどの環内二重結合または三重結合を有するシクロアルケン及びシクロアルキンは、それぞれ、シクロアルケンまたはシクロアルキンの名称における「モノ」、「ジ」、「トリ」などという用語の使用によって識別され得る。シクロアルケン及びシクロアルキンは、さらに、環内二重結合または三重結合の位置を特定し得る。

【0020】

「シクロアルキル基」は、シクロアルカンの環炭素原子から水素原子を除去することによって誘導される一価基である。同様に、「シクロアルキレン基」は、２つの水素原子をシクロアルカンから除去することによって誘導される基を指し、そのうちの少なくとも１つは環炭素である。したがって、「シクロアルキレン基」には、同じ環炭素から２つの水素原子が形式的に除去されたシクロアルカンから誘導される基と、２つの異なる環炭素から２つの水素原子が形式的に除去されたシクロアルカンから誘導される基と、環炭素から第１の水素原子が形式的に除去され、環炭素ではない炭素原子から第２の水素原子が形式的に除去されたシクロアルカンから誘導される基とのいずれもが含まれる。「シクロアルカン基」は、シクロアルカンから１つ以上の水素原子（特定の基に必要なだけ、そのうちの少なくとも１つは環炭素である）を除去することによって形成される基の総称を指す。本明細書で提供される定義によれば、一般的なシクロアルカン基（シクロアルキル基及びシクロアルキレン基を含む）には、シクロアルカン環炭素原子に結合した０、１、または２つ以上のヒドロカルビル置換基を有し（例えば、メチルシクロプロピル基）、炭化水素基のグループのメンバーであるものが含まれることに留意されたい。ただし、特定数のシクロアルカン環炭素原子を有するシクロアルカン基（例えば、とりわけシクロペンタン基またはシクロヘキサン基）に言及する場合には、規定数のシクロアルカン環炭素原子を有するシクロアルカン基の基礎名は、未置換シクロアルカン基を指す（シクロアルカン基環炭素原子上に位置するヒドロカルビル基を有しないものを含む）。したがって、特定数の環炭素原子を有する置換シクロアルカン基（例えば、とりわけ置換シクロペンタンまたは置換シクロヘキサン）は、シクロアルカン基の環炭素原子に結合した１つ以上の置換基（いくつかある置換基の中でもとりわけ、ハロゲン、ヒドロカルビル基、またはヒドロカルボキシ基を含む）を有するそれぞれの基を指す。規定数のシクロアルカン環炭素原子を有する置換シクロアルカン基が、炭化水素基のグループのメンバー（またはシクロアルカン基の一般的なグループのメンバー）である場合、規定数のシクロアルカン環炭素原子を有する置換シクロアルカン基の各置換基は、ヒドロカルビル置換基に限定される。炭化水素基のメンバー（またはシクロアルカン基の一般的なグループのメンバー）として利用され得る特定数の環炭素原子を有する一般的な基、特定の基、及び／または個々の置換シクロアルカン基（複数可）は、容易に判別及び選択することができる。

【0021】

脂肪族化合物は、芳香族化合物を除く、非環式または環式の、飽和または不飽和の炭素化合物である。「脂肪族基」は、脂肪族化合物の炭素原子から１つ以上の水素原子（特定の基に必要なだけ）を除去することによって形成される基の総称である。脂肪族化合物ひいては脂肪族基は、炭素以外及び水素以外の有機官能基（複数可）及び／または原子（複数可）を含み得る。

【0022】

芳香族化合物は、ヒュッケル（４ｎ＋２）則に従い（４ｎ＋２）個のπ電子を含む環状共役二重結合系を含む化合物であり、ここで、ｎは１～５の整数である。芳香族化合物には、「アレーン」（炭化水素芳香族化合物）、及び「ヘタレーン」とも呼ばれる「ヘテロアレーン」（芳香族系に特有の連続したπ電子系と、ヒュッケル則（４ｎ＋２）に対応する面外π電子の数とを維持するように、環状共役二重結合系の１つ以上のメチン（－Ｃ＝）炭素原子を三価または二価のヘテロ原子で置き換えることにより、形式的にアレーンから誘導される複素環式芳香族化合物）が含まれる。アレーン化合物及びヘテロアレーン化合物は芳香族化合物群の相互排他的メンバーであるが、アレーン基及びヘテロアレーン基の両方を有する化合物は、一般にヘテロアレーン化合物とみなされる。芳香族化合物、アレーン、及びヘテロアレーンは、別段の規定がない限り、単環式（例えば、ベンゼン、トルエン、フラン、ピリジン、メチルピリジン）でも多環式でもよい。多環式芳香族化合物、アレーン、及びヘテロアレーンには、別段の規定がない限り、芳香族環が縮合していてもよい化合物（例えば、ナフタレン、ベンゾフラン、及びインドール）、芳香族基が分離しており結合によって接続されていてもよい化合物（例えば、ビフェニルまたは４－フェニルピリジン）、または連結原子（例えば、いくつかある連結基の中でもとりわけ、ジフェニルメタンのメチレン基の炭素、ジフェニルエーテルの酸素、トリフェニルアミンの窒素）を含む基によって芳香族基が接続されている化合物が含まれる。本明細書で開示されるように、「置換」という用語は、非水素部位が化合物中の水素を形式的に置き換える芳香族基、アレーン、またはヘテロアレーンを記述するために使用されることがあり、非限定的であるように意図される。

【0023】

「芳香族基」は、芳香族化合物から１つ以上の水素原子（特定の基に必要なだけ、そのうちの少なくとも１つは芳香族環炭素原子である）を除去することによって形成される基の総称を指す。一価の「芳香族基」の場合、除去される水素原子は芳香族環炭素からのものである必要がある。芳香族化合物から２つ以上の水素原子を除去することによって形成される「芳香族基」の場合、少なくとも１つの水素原子は芳香族炭化水素環炭素からのものである必要がある。さらに、「芳香族基」は、芳香族環もしくは環系の同じ環から水素原子が除去されていてもよく（例えば、フェナ－１，４－イレン、ピリジン－２，３－イレン、ナフタ－１，２－イレン、及びベンゾフラン－２，３－イレン）、環系の２つの異なる環から水素原子が除去されていてもよく（例えば、ナフタ－１，８－イレン及びベンゾフラン－２，７－イレン）、または２つの孤立した芳香族環もしくは環系から水素原子が除去されていてもよい（例えば、ビス（フェナ－４－イレン）メタン）。

【0024】

アレーンは、側鎖の有無にかかわらない芳香族炭化水素（例えば、とりわけ、ベンゼン、トルエン、またはキシレン）である。「アリール基」は、アレーンの芳香族環炭素から水素原子を形式的に除去することから誘導される基である。アレーンは、単一の芳香族炭化水素環を含む場合（例えば、ベンゼン、またはトルエン）、縮合芳香族環を含む場合（例えば、ナフタレンまたはアントラセン）、結合を介して共有結合した１つ以上の孤立した芳香族環を含む場合（例えば、ビフェニル）、または非芳香族炭化水素基（複数可）を含む場合（例えば、ジフェニルメタン）もあることに留意されたい。同様に、「アリーレン基」は、アレーンから２つの水素原子（そのうちの少なくとも１つは芳香族環炭素からのものである）を除去することによって形成される基を指す。「アレーン基」は、アレーンから１つ以上の水素原子（特定の基に必要なだけ、そのうちの少なくとも１つは芳香族環炭素である）を除去することによって形成される基の総称を指す。本明細書で提供される定義によれば、一般的なアレーン基（アリール基及びアリーレン基を含む）には、芳香族炭化水素環または環系炭素原子上に位置する０、１、または２つ以上のヒドロカルビル置換基を有し（例えば、とりわけ、トルエン基またはキシレン基）、炭化水素基のグループのメンバーであるものが含まれることに留意されたい。ただし、フェニル基（またはフェニレン基）及び／またはナフチル基（またはナフチレン基）は、特定の未置換アレーン基（芳香族炭化水素環または環系炭素原子上に位置するヒドロカルビル基を含まない）を指す。したがって、置換フェニル基または置換ナフチル基は、芳香族炭化水素環または環系炭素原子上に位置する１つ以上の置換基（とりわけ、ハロゲン、ヒドロカルビル基、またはヒドロカルボキシ基を含む）を有するそれぞれのアレーン基を指す。置換フェニル基及び／または置換ナフチル基が炭化水素基のグループのメンバー（またはアレーン基の一般的なグループのメンバー）である場合、各置換基はヒドロカルビル置換基に限定される。当業者は、炭化水素基のグループのメンバー（またはアレーン基の一般的なグループのメンバー）として利用され得る一般的なフェニル及び／またはナフチル基、特定のフェニル及び／またはナフチル基、及び／または個々の置換フェニルもしくは置換ナフチル基を容易に判別及び選択することができる。

【0025】

「アラルキル基」は、非芳香族炭素原子に自由原子価を有するアリール置換アルキル基（例えば、とりわけ、ベンジル基、または２－フェニルエタ－１－イル基）である。同様に、「アラルキレン基」は、単一の非芳香族炭素原子における２つの自由原子価または２つの非芳香族炭素原子における自由原子価を有するアリール置換アルキレン基であり、「アラルカン基」は、非芳香族炭素原子（複数可）に１つ以上の自由原子価を有するアリール置換アルカン基の総称である。本明細書で提供される定義によれば、一般的なアラルカン基には、アラルカン芳香族炭化水素環または環系炭素原子上に位置する０、１、または２つ以上のヒドロカルビル置換基を有し、炭化水素基のグループのメンバーであるものが含まれることに留意されたい。ただし、特定のアリール基（例えば、とりわけ、ベンジル基または２－フェニルエチル基のフェニル基）を指定する特定のアラルカン基は、特定の未置換アラルカン基（アラルカン芳香族炭化水素環または環系炭素原子上に位置するヒドロカルビル基を含まない）を指す。したがって、特定のアリール基を指定する置換アラルカン基は、１つ以上の置換基（とりわけ、ハロゲン、ヒドロカルビル基、またはヒドロカルボキシ基を含む）を有するそれぞれのアラルカン基を指す。特定のアリール基を指定する置換アラルカン基が炭化水素基のグループのメンバー（またはアラルカン基の一般的なグループのメンバー）である場合、各置換基はヒドロカルビル置換基に限定される。炭化水素基のグループのメンバー（またはアラルカン基の一般的なグループのメンバー）として利用され得る特定のアリール基を指定する置換アラルカン基は、容易に判別及び選択することができる。

【0026】

本明細書で用いられる場合、「ヒドロカルビル金属化合物」という用語は、少なくとも１つの金属－炭素結合を有し、金属－炭素結合に関与する炭素原子がヒドロカルビル基の一部である化合物を指す。「ヒドロカルビル化合物」は、化合物が少なくとも１つの金属－炭素結合を含み、金属－炭素結合に関与する炭素原子がヒドロカルビル基の一部である限り、いくつかある非ヒドロカルビル基の中でもとりわけ、ハライド、ヒドロカルボキシド、アルコキシド、カルボキシレート、及びアザニドといった他の非ヒドロカルビル基を含むことができる。同様に、任意の特定の「ヒドロカルビル金属化合物」（ヒドロカルビル金属化合物の金属が指定されている化合物）は、少なくとも１つの特定の金属－炭素結合を有し、金属－炭素結合に関与する炭素原子がヒドロカルビル基の一部である化合物を指す。

【0027】

「ハライド」は、その通常の意味を有する。したがって、ハライドの例としては、フルオリド、クロリド、ブロミド、及びヨージドが挙げられる。

【0028】

「置換」という用語は、基を説明するために使用される場合、例えば、特定の基の置換類似体に言及している場合、その基の水素を形式的に置き換える非水素部位を説明することを意図し、非限定的であることを意図している。１つまたは複数の基は、本明細書では「未置換」として、または「非置換」などの同等の用語によって言及される場合もあり、これは、非水素部位がその基内の水素を置き換えていない元の基を指す。「置換」は、非限定的であることを意図しており、無機置換基または有機置換基を含む。

【0029】

「室温」または「周囲温度」という用語は、本明細書では、外部の熱源または冷却源が直接適用されない、１５℃～３５℃の任意の温度を表すために使用される。したがって、「室温」及び「周囲温度」という用語には、外部の熱源または冷却源が直接適用されない、１５℃～３５℃の個々の温度ならびに温度のありとあらゆる範囲、部分範囲、及び部分範囲の組み合わせが包含される。「大気圧」という用語は、本明細書では、外部の圧力修正手段が利用されていない地球の気圧を表すために使用される。概して、極端な標高で行われる場合を除き、「大気圧」は約１気圧（代替的には、約１４．７ｐｓｉまたは約１０１ｋＰａ）である。気体、液体、及び／または固体物質への言及は、２５℃及び大気圧での物質の物理的状態を指す。

【0030】

本開示における最小値として提供される特徴は、本明細書で開示される特徴について、「少なくとも」規定の最小値または規定の最小値「を超えるかまたはそれに等しい」と代替的に記述されることがある。本開示における最大値として提供される特徴は、本明細書で開示される特徴について、「より少ないかまたはそれに等しい」と代替的に記述されることがある。

【0031】

本開示では、有機命名法の通常の規則が優先する。例えば、置換された化合物または基に言及する際、置換パターンへの言及は、示された基（複数可）が示された位置にあること、そして示されていない他の位置はすべて水素であることを示すと解釈される。例えば、４－置換フェニル基への言及は、４位に非水素置換基が位置し、２位、３位、５位、及び６位に水素が位置することを示す。示された位置以外の位置に置換を有する化合物または基への言及は、含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）または何らかの他の代替的な文言を使用して言及され得る。例えば、４位に置換基を含むフェニル基への言及は、４位に非水素置換基を有し、２位、３位、５位、及び６位に水素または任意の非水素置換基を有する基を指す。

【0032】

「反応ゾーン流出物」という用語、及びその派生語（例えば、オリゴマー化反応ゾーン流出物）は、概して、反応ゾーンを出るすべての物質を指す。「反応ゾーン流出物」という用語、及びその派生語には、言及される反応ゾーン流出物の部分を限定する他の記述子が先行する場合もある。例えば、「反応ゾーン流出物」という用語は、反応ゾーンを出るすべての物質（例えば、とりわけ生成物及び溶媒または希釈剤）を指すが、「オレフィン反応ゾーン流出物」という用語は、反応ゾーン流出物中のオレフィンのみを指し、「オリゴマー生成物反応ゾーン流出物」という用語は、反応ゾーン流出物中のオリゴマー生成物を指す。

【0033】

オリゴマーという用語は、２～２０のモノマー単位を含む生成物を指す。「オリゴマー生成物」及び「オリゴマー生成物流出物」という用語は、「オリゴマー化」プロセスによって作製されたすべてのオリゴマー生成物を含むが、反応ゾーン流出物ストリーム中の他の非オリゴマー成分、例えば、いくつかある他の成分の中でもとりわけ、未反応モノマー（エチレン）、有機反応媒体、及び水素を除外する。「オリゴマー化」という用語、及びその派生語は、２～２０のモノマー単位を含む生成物を少なくとも２０重量％、３５重量％、５０重量％、または６０重量％含むオリゴマー生成物を生成するプロセスを指す。一例において、モノマーとしてエチレンを使用する「オリゴマー化」プロセスは、４～４０個の炭素原子を有するオリゴマーを少なくとも２０重量％、３５重量％、５０重量％、または６０重量％含む生成物の混合物を生成する。

【0034】

Ｓｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値（Ｓｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ連鎖成長因子、Ｋ値ということもある）は、式：Ｋ＝Ｘ_ｑ＋１／Ｘ_ｑで定義することができ、式中、Ｘ_ｑ＋１は、ｑ＋１個のモノマー（例えば、エチレン）単位を有する生成されたオリゴマー生成物のモル数であり、Ｘ_ｑは、ｑ個のモノマー（例えば、エチレン）単位を有する生成されたオリゴマー生成物のモル数である。概して、Ｓｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値は、モノマー単位の数が１異なるオリゴマー生成物の任意の２つのオリゴマーを使用して決定することができる。ただし、生成物の単離及び分析により、特定のオリゴマーを使用して決定されるオリゴマー生成物の分布における不正確さ（例えば、生成物単離中の気体生成物及び／または固体生成物の不完全な回収）が生じ得ることは理解されるであろう。当業者であれば、そのような問題を認識し、Ｓｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値の決定の根拠となる適切なオリゴマーを選択することができるであろう。

【0035】

触媒システムの生産性は、オリゴマー化に利用される触媒システム中のジルコニウムのグラム（またはモル）当たりに生成される生成物のグラムとして定義される。触媒システムの活性は、オリゴマー化の時間単位（例えば、時間）当たり、ジルコニウムのグラム（またはモル）当たりに生成される生成物のグラムとして定義される。触媒システムの生産性及び／または活性は、オリゴマー化の様々な生成物及び／または触媒システムの成分の観点から記述することができる。例えば、ジルコニウム化合物を含む触媒システムを利用するエチレンオリゴマー化プロセスでは、利用され得る触媒システムの生産性は、いくつかある生産性の中でもとりわけ、（オリゴマー生成物１ｇ）／（Ｚｒ １ｇ）を含む。

【0036】

別段の規定がない限り、「接触する」及び「組み合わせる」という用語、ならびにそれらの派生語は、開示された実施形態の２つ以上の成分を接触させるまたは組み合わせるための任意の添加順序、順番、または濃度を指し得る。オリゴマー化成分の組み合わせまたは接触は、好適な温度、圧力、接触時間、流量などの接触条件下で、１つ以上の反応ゾーンにおいて起こり得る。

【0037】

「触媒システム」、「触媒組成物」、「触媒混合物」などの用語は、開示もしくは主張される触媒組成物／混合物／システムの初期成分の接触もしくは反応から生じる実際の生成物もしくは組成物、活性触媒サイトの性質、またはこれらの成分を組み合わせた後の有機アルミニウム化合物及びヘテロ原子リガンド遷移金属化合物の複合体の運命に依存しない。したがって、「触媒システム」、「触媒組成物」、「触媒混合物」などの用語は、組成物の初期出発成分だけでなく、これらの初期出発成分を接触させることから生じ得るあらゆる生成物（複数可）も包含する。「触媒システム」、「触媒組成物」、「触媒混合物」などの用語は、本開示全体を通じて交換可能に使用され得る。

【0038】

本開示において、プロセスは、複数のステップを有することができ、または複数の異なる要素を有する特徴（例えば、いくつかある特徴の中でもとりわけ、触媒システムの成分またはオレフィンオリゴマー化プロセスの成分）を含むことができる。これらのステップ及び／または要素は、各プロセスステップ及び／または要素に標記を与えるのに必要な、第１、第２、及び第３などの用語、ａ）、ｂ）、ｃ）など、ｉ）、ｉｉ）、ｉｉｉ）など、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）など、及び／または（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）などのシリーズ（いくつかある標記シリーズの中でもとりわけ）を利用して標記され得る。標記シリーズ中の標記の数字またはアルファベットの順位は、別段特記されていない限り、あるいは他のプロセスステップ、要素、及び／または要素特徴によって必要とされない限り、本明細書に記載されるプロセス中のプロセスステップ、本明細書に記載される特徴（複数可）、及び／または特徴中の要素（複数可）の特定の順番または優先順位を意味するものではないことを理解されたい。さらに、これらの標記シリーズは、異なるプロセスステップ及び／または特徴中の要素を区別するために提供されるものであり、標記シリーズによって、異なる特徴、異なるプロセスステップ、及び／または特徴の異なる要素が一貫して区別される限り、必要に応じて、また、この説明において利用される特定のステップ、要素、または特徴について利用される標記シリーズに関係なく利用され得る。

【0039】

接触方法に言及する場合の「同時に」、「同時に接触する」、「同時に接触させる」という用語、及びそれらの派生語は、２つ以上の規定の化合物、混合物、ストリーム、及び／または組成物を共通のジャンクション、ポット、容器、またはリアクターなどに一時に流し入れることによって接触させる接触方法を指す。接触方法に言及する場合の「実質的に同時に」、「実質的に同時に接触する」、「実質的に同時に接触させる」という用語、及びそれらの派生語は、２つ以上の規定の化合物、混合物、ストリーム、及び／または組成物の接触中に、接触プロセス中の一定期間にわたって２つ以上の規定の化合物、混合物、ストリーム、及び／または組成物が共通のジャンクション、ポット、容器、またはリアクターに一時に流入するように、２つ以上の規定の化合物、混合物、ストリーム、及び／または組成物を接触させる接触方法を指す。「実質的に同時に」、「実質的に同時に接触する」、「実質的に同時に接触させる」という用語、及びそれらの派生語は、２つ以上の規定の化合物、混合物、ストリーム、及び／または組成物が、２つ以上の規定の化合物、混合物、ストリーム、及び／または組成物の各々の添加全体で同時に接触することを意味するものではないものではないことに留意されたい。「実質的に同時に」、「実質的に同時に接触する」、「実質的に同時に接触させる」という用語、及びその派生語には、共通のジャンクション、ポット、容器、またはリアクターへの規定の化合物、混合物、ストリーム、及び／または組成物のうちの１つ（または全体の一部）の流れが、その他よりも前に開始され得る、及び／または、共通のジャンクション、ポット、容器、またはリアクターへの規定の化合物、混合物、ストリーム、及び／または組成物のうちの１つ（または全体の一部）の流れが、その他の規定の化合物、混合物、ストリーム、及び／または組成物の前に完了、停止、もしくは中止され得るシナリオが含まれる。本明細書に記載されるいずれかの態様及び／または実施形態において、「同時に」、「同時に接触する」、「同時に接触させる」という用語、及びそれらの派生語は、様々な程度の「実質的に同時に」、「実質的に同時に接触する」、「実質的に同時に接触させる」、及びそれらの派生語のシナリオを示すために、同時に接触させることができる規定の化合物、混合物、ストリーム、及び／または組成物の各々の量を提示する用語を含めることによって修飾される場合がある。例えば、規定の化合物、混合物、ストリーム、及び／または組成物の各々の少なくとも２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、９５％が、「同時に接触する」または「同時に接触させる」ことができる。概して、「同時に接触する」または「同時に接触させる」ことができる規定の化合物、混合物、ストリーム、及び／または組成物のパーセンテージは、重量基準（重量％）、体積基準（体積％）、またはモル基準（モル％）であり得る。別段の規定がない限り、「実質的に同時に」、「実質的に同時に接触する」、「実質的に同時に接触させる」、及びそれらの派生語である規定の化合物、混合物、ストリーム、及び／または組成物は、規定の化合物、混合物、ストリーム、及び／または組成物の各々の少なくとも５０％が「同時に接触する」または「同時に接触させる」ことができることを意味するものとする。

【0040】

さらに、接触の方法またはプロセスに関して、「同時に」、「同時に接触する」、「同時に接触させる」、「実質的に同時に接触する」、「実質的に同時に接触させる」、及びそれらの派生語は、１つ以上の第１の物質（例えば、化合物、混合物、ストリーム、及び／または組成物）がポット、容器、またはリアクター内に既に存在しており、１つ以上の他の化合物、混合物、ストリーム、及び／または組成物がポット、容器、またはリアクターに加えられるプロセスまたは方法とは異なることに留意されたい。この場合、ポット、容器、またはリアクター内の第１の物質は、他の化合物、混合物、ストリーム、及び／または組成物ならびにポット内の物質と並行してポット、容器、またはリアクターに流入しない。したがって、第１の物質ならびに他の化合物、混合物、ストリーム、及び／または組成物は、他の成分（複数可）と「同時に接触する」、「同時に接触させる」、「実質的に同時に接触する」、または「実質的に同時に接触させる」とは言えない。

【0041】

「接触させる」という用語は、本明細書では、別段の規定がない限り、任意の順番で、任意の様式で、かつ任意の長さの時間にわたって成分を一緒に接触させるまたは組み合わせるシステム、組成物、プロセス、及び方法を記述するために使用される。例えば、成分は、任意の好適な技術を使用してブレンドまたは混合することによって組み合わされ得る。本明細書では、２つ以上の成分を「接触させる」ことは、反応生成物混合物または反応混合物をもたらし得る。

【0042】

本明細書において、「リアクター」という用語は、例えば、反応が行われる容器などの単一の機器を指すが、容器の外部にある配管、ポンプなどといった関連機器は除外する。リアクターの例としては、撹拌タンクリアクター（例えば、連続撹拌タンクリアクター）、プラグフローリアクター、または任意の他の種類のリアクターが挙げられる。本明細書において「リアクターシステム」とは、リアクター、関連配管、関連ポンプ、及び任意の他の関連機器を含むがこれらに限定されない、所望の反応が行われる機器の任意の部分を指す。場合によっては、「リアクター」が「リアクターシステム」でもあり得ることに留意されたい。例えば、場合によっては、ポリエチレンループリアクターがリアクターシステムとみなされ得る。「リアクター」及び「リアクターシステム」という用語は、追加の限定用語の使用によって、より具体的な「リアクター」及び「リアクターシステム」を指すように限定され得る。例えば、「オリゴマー化リアクター」及び「オリゴマー化リアクターシステム」という用語の使用は、リアクター及び／またはリアクターシステム内の所望の反応がオリゴマー化であることを示す。

【0043】

本明細書において、「反応ゾーン」という用語は、反応が所望の速度で起こり得るように、必要な反応成分及び反応条件のすべてが存在する反応システムの部分を指す。つまり、反応ゾーンは、反応を平均反応速度の２５パーセント以内に維持するために必要な反応成分及び反応条件が存在するところで開始し、反応システムは、条件が反応速度を平均反応速度（反応ゾーンの反応速度の体積平均に基づく）の２５パーセント以内に維持しないところで終了する。例えば、エチレンオリゴマー化プロセスに関して、反応ゾーンは、オリゴマー生成物の生成を所望の速度に維持するために十分な反応条件（例えば、とりわけ、温度及び／または圧力）下で十分なエチレン及び活性触媒システムが存在する点で開始し、反応ゾーンは、触媒システムが失活するか、オリゴマー生成物の生成を持続させるために十分なエチレンが存在しないか、または他の反応条件（例えば、とりわけ、温度及び／または圧力）がオリゴマー生成物の生成もしくは所望のオリゴマー生成物生成速度を維持するのに十分ではない点で終了する。本明細書において「反応ゾーン」は、１つ以上のリアクターを含み得る。「反応ゾーン」という用語は、追加の限定用語の使用によって、より具体的な「反応ゾーン」を指すように限定され得る。例えば、「オリゴマー化反応ゾーン」という用語の使用は、「反応ゾーン」内の所望の反応がオリゴマー化であることを示す。

【0044】

「反応システム」という用語は、生成物を生成するための機器のすべてを指す。「反応システム」という用語には、リアクター、反応ゾーン、ならびにすべての関連機器、関連プロセスライン、及び必要な成分（複数可）を反応システムに出入りさせて反応を制御することができる制御機器が含まれる。本明細書において「反応システム」は、生成物を生成するための１つ以上のリアクターゾーン、１つ以上のリアクター、及び関連機器を含み得る。「反応システム」という用語は、追加の限定用語の使用によって、より具体的な「反応システム」を指すように限定され得る。例えば、「オリゴマー化反応システム」という用語の使用は、「反応システム」がオリゴマー化に関連することを示す。

【0045】

本明細書で言及したすべての公表文献及び特許は、例えば、本明細書に記載される発明と関連して使用され得る、公表文献に記載されている構築物及び方法論を説明及び開示する目的で、参照により本明細書に組み込まれる。

【0046】

発明の詳細な説明
本明細書では、ａ）接触させることであって、ｉ）エチレンと、ｉｉ）触媒システムであって、１）ジルコニウム化合物、及び２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、触媒システムと、ｉｉｉ）シリルヒドリド化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、またはそれらの任意の組み合わせを含む連鎖移動剤と、ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを、接触させること、ならびに、ｂ）反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含む、プロセスが開示される。また、本明細書では、ａ）接触させることであって、ｉ）エチレンと、ｉｉ）触媒システムであって、１）ジルコニウム化合物、及び２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、触媒システムと、ｉｉｉ）水素と、ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを、接触させること、ならびに、ｂ）反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含む、プロセスが開示される。さらに、本明細書では、ａ）接触させることであって、ｉ）エチレンと、ｉｉ）触媒システムであって、１）ジルコニウム化合物、及び２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、触媒システムと、ｉｉｉ）遷移金属化合物連鎖移動剤と、ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを、接触させること、ならびに、ｂ）反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含む、プロセスが開示される。また、本明細書では、ａ）反応ゾーンに、ｉ）エチレンと、ｉｉ）触媒システムまたは触媒システム成分であって、１）ジルコニウム化合物、及び２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、触媒システムまたは触媒システム成分と、ｉｉｉ）シリルヒドリド化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、またはそれらの任意の組み合わせを含む連鎖移動剤と、ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを導入すること、ならびに、ｂ）反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含む、プロセスが開示される。また、本明細書では、ａ）反応ゾーンに、ｉ）エチレンと、ｉｉ）触媒システムまたは触媒システム成分であって、１）ジルコニウム化合物、及び２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、触媒システムまたは触媒システム成分と、ｉｉｉ）水素と、ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを導入すること、ならびに、ｂ）反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含む、プロセスが開示される。さらに、本明細書では、ａ）反応ゾーンに、ｉ）エチレンと、ｉｉ）触媒システムまたは触媒システム成分であって、１）ジルコニウム化合物、及び２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、触媒システムまたは触媒システム成分と、ｉｉｉ）遷移金属化合物連鎖移動剤と、ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを導入すること、ならびに、ｂ）反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含む、プロセスが開示される。

【0047】

一態様において、オリゴマー生成物は、オリゴマー生成物を形成することが可能な条件で形成することができ、反応ゾーンは当該条件を有することができ、または反応ゾーンは当該条件で動作することができる。概して、触媒システム、触媒システムの要素（例えば、ジルコニウム化合物、ヒドロカルビル金属化合物、及び本明細書に記載される任意の他の触媒システム要素）、連鎖移動剤、水素、遷移金属化合物連鎖移動剤、任意選択の有機反応媒体、オリゴマー生成物、オリゴマー生成物が形成される条件、反応ゾーンが有し得る条件、反応が動作し得る条件、及び／または、本明細書に記載される任意の他の触媒システム及び／またはプロセス要素は、本明細書に記載されるプロセスの独立した要素であり、独立的に本明細書に記載される。これらの独立的に記載される要素は、本明細書で提供されるプロセスをさらに説明するために、任意の組み合わせで制限なく利用され得る。

【0048】

一態様において、触媒システムのジルコニウム化合物は、式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑ、ＺｒＸ^１ _ｍ、ＺｒＹ^１ _ｑ、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑ；代替的には、ＺｒＸ^１ _ｍ；または代替的には、ＺｒＹ^１ _ｑを有し得る。式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑ、ＺｒＸ^１ _ｍ、またはＺｒＹ^１ _ｑを有するジルコニウム化合物のＸ^１、Ｙ^１、ｍ、及びｑは、ジルコニウム化合物の独立した要素であり、独立的に本明細書に記載される。Ｘ^１、Ｙ^１、ｍ、及びｑの独立した記述は、ジルコニウム化合物をさらに説明するために、制限なく任意の組み合わせで利用され得る。一実施形態において、各Ｘ^１は、独立的に、ハライドであり得る。一実施形態において、各Ｙ^１は、独立的に、ヒドロカルボキシド、ジヒドロカルビルアザニド、ヒドロカルビルカルボキシレート、ヒドロカルビルスルホネート、もしくはβ－ジケトネート；代替的には、ヒドロカルボキシド、ヒドロカルビルカルボキシレート、ヒドロカルビルスルホネート、もしくはβ－ジケトネート；代替的には、ヒドロカルボキシド、ヒドロカルビルカルボキシレート、もしくはヒドロカルビルスルホネート；代替的には、ヒドロカルビルカルボキシレートもしくはヒドロカルビルスルホネート；代替的には、ヒドロカルボキシド；代替的には、ジヒドロカルビルアザニド；代替的には、ヒドロカルビルカルボキシレート；代替的には、ヒドロカルビルスルホネート；または代替的には、β－ジケトネートであり得る。一実施形態において、ｍは、０～４の範囲内；代替的には、２～４の範囲内；代替的には、２；代替的には、３；または代替的には、４であり得る。一実施形態において、ｑは、０～４の範囲内；代替的には、２～４の範囲内；代替的には、２；代替的には、３；または代替的には、４であり得る。ここで、ｍ＋ｑは、２～４；代替的には、２；代替的には、３；または代替的には４である。

【0049】

ジルコニウム化合物のＸ^１として利用され得る各ハライドは、独立的に、フルオリド、クロリド、ブロミド、もしくはヨージド；代替的には、クロリド、ブロミド、もしくはヨージド；代替的には、クロリド；代替的には、ブロミド；または代替的にはヨージドであり得る。

【0050】

ジルコニウム化合物のＹ^１として利用され得るヒドロカルボキシドは、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１０、またはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルボキシドであり得る。ヒドロカルボキシドＹ^１は、式^－ＯＲ^２を有し得る。式^－ＯＲ^２を有するヒドロカルボキシドのＲ^２は、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１０、またはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビル基であり得る。式^－ＯＲ^２を有するヒドロカルボキシドのＲ^２ヒドロカルビル基は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、もしくはアラルキル基；代替的には、アルキル基もしくはアリール基；代替的には、アルキル基；代替的には、シクロアルキル基；代替的には、アリール基；または代替的にはアラルキル基であり得る。Ｒ^２アルキル基は、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１０、またはＣ_１～Ｃ_５アルキル基であり得る。Ｒ^２シクロアルキル基は、Ｃ_４～Ｃ_２０、Ｃ_５～Ｃ_１５、またはＣ_５～Ｃ_１０シクロアルキル基であり得る。Ｒ^２アリール基は、Ｃ_６～Ｃ_２０、Ｃ_６～Ｃ_１５またはＣ_６～Ｃ_１０アリール基であり得る。Ｒ^２アラルキル基は、Ｃ_７～Ｃ_２０、Ｃ_７～Ｃ_１５またはＣ_７～Ｃ_１０アラルキル基であり得る。一態様において、式^－ＯＲ^２を有するヒドロカルボキシドのＲ^２基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トルイル基、キシリル基、ベンジル基、もしくはエチルフェニル基；代替的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、もしくはペンチル基；代替的には、シクロペンチル基もしくはシクロヘキシル基；代替的には、フェニル基、トルイル基、もしくはキシリル基；または代替的には、ベンジル基もしくはエチルフェニル基であり得る。一態様において、ジルコニウム化合物の各ヒドロカルボキシドＹ^１は、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド、ペントキシド、シクロペントキシド、シクロヘキソキシド、フェノキシド、トルオキシド、キシロキシド、ベンゾキシド、もしくはエチルフェノキシド；代替的には、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド、もしくはペントキシド；代替的には、シクロペントキシドもしくはシクロヘキソキシド；代替的には、フェノキシド、トルオキシド、もしくはキシロキシド；または代替的には、ベンゾキシドもしくはエチルフェノキシドであり得る。

【0051】

ジルコニウム化合物のＹ^１として利用され得るヒドロカルビルカルボキシレートは、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、またはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビルカルボキシレートであり得る。ジルコニウム化合物のＹ^１として利用され得るヒドロカルビルカルボキシレートは、式^－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^３を有し得る。ジルコニウム化合物のＹ^１として利用され得るヒドロカルビルスルホネートは、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１０、またはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビルスルホネートであり得る。ジルコニウム化合物のＹ^１として利用され得るヒドロカルビルスルホネートは、式^－ＯＳ（＝Ｏ）_２Ｒ^３を有し得る。式^－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^３を有するヒドロカルボキシレート及び／または式^－ＯＳ（＝Ｏ）_２Ｒ^３を有するヒドロカルビルスルホネートのＲ^３は、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、またはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビル基であり得る。式^－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^３を有するヒドロカルボキシレート及び／または式^－ＯＳ（＝Ｏ）_２Ｒ^３を有するヒドロカルビルスルホネートのＲ^３ヒドロカルビル基は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、もしくはアラルキル基；代替的には、アルキル基もしくはアリール基；代替的には、アルキル基；代替的には、シクロアルキル基；代替的には、アリール基；または代替的にはアラルキル基であり得る。Ｒ^３アルキル基は、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１０、またはＣ_１～Ｃ_５アルキル基であり得る。Ｒ^３シクロアルキル基は、Ｃ_４～Ｃ_２０、Ｃ_５～Ｃ_１５、またはＣ_５～Ｃ_１０シクロアルキル基であり得る。Ｒ^３アリール基は、Ｃ_６～Ｃ_２０、Ｃ_６～Ｃ_１５またはＣ_６～Ｃ_１０アリール基であり得る。Ｒ^３アラルキル基は、Ｃ_７～Ｃ_２０、Ｃ_７～Ｃ_１５またはＣ_７～Ｃ_１０アラルキル基であり得る。式^－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^３を有するヒドロカルボキシレート及び／または式^－ＯＳ（＝Ｏ）_２Ｒ^３を有するヒドロカルビルスルホネートのＲ^３基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トルイル基、キシリル基、ベンジル基、もしくはエチルフェニル基；代替的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、もしくはヘプチル基；代替的には、シクロペンチル基もしくはシクロヘキシル基；代替的には、フェニル基、トルイル基、もしくはキシリル基；または代替的には、ベンジル基もしくはエチルフェニル基であり得る。ジルコニウム化合物のＹ^１として利用され得る各ヒドロカルボキシレートは、アセテート、プロパノエート、ブタノエート、ペントネート、ヘキサノエート、ヘプタノエート、オクタノエート、シクロペンチルアセテート、シクロヘキシルアセテート、ベンゾエート、メチルベンゾエート、ジメチルベンゾエート、フェニルアセテート、もしくはフェニルプロパノエート；代替的には、アセテート、プロパノエート、ブタノエート、ペントネート、ヘキサノエート、ヘプタノエート、もしくはオクタノエート；代替的には、シクロペンチルアセテートもしくはシクロヘキシルアセテート；代替的には、ベンゾエート、メチルベンゾエート、もしくはジメチルベンゾエート；または代替的には、フェニルアセテートもしくはフェニルプロパノエートであり得る。ジルコニウム化合物のＹ^１として利用され得る各ヒドロカルビルスルホネートは、メチルスルホネート、エチルスルホネート、プロピルスルホネート、ブチルスルホネート、ペンチルスルホネート、ヘキシルスルホネート、ヘプチルスルホネート、シクロペンチルスルホネート、シクロヘキシルスルホネート、フェニルスルホネート、トルイルスルホネート、キシリルスルホネート、ベンジルスルホネート、またはエチルフェニルスルホネート；代替的には、メチルスルホネート、エチルスルホネート、プロピルスルホネート、ブチルスルホネート、ペンチルスルホネート、ヘキシルスルホネート、またはヘプチルスルホネート；代替的には、シクロペンチルスルホネートまたはシクロヘキシルスルホネート；代替的には、フェニルスルホネート、トルイルスルホネート、またはキシリルスルホネートであり得る。

【0052】

ジルコニウム化合物のＹ^１として利用され得るジヒドロカルビルアザニドは、Ｃ_２～Ｃ_３０、Ｃ_２～Ｃ_２０、またはＣ_２～Ｃ_１５ジヒドロカルビルアザニドであり得る。ジルコニウム化合物のＹ^１として利用され得るジヒドロカルビルアザニドは、式^－Ｎ（Ｒ^４）_２を有し得る。いくつかの実施形態では、式^－Ｎ（Ｒ^４）_２を有するジヒドロカルビルアザニドの各Ｒ^４ヒドロカルビル基は、独立的に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、もしくはアラルキル基；代替的には、アルキル基もしくはアリール基；代替的には、アルキル基；代替的には、シクロアルキル基；代替的には、アリール基；または代替的にはアラルキル基であり得る。各Ｒ^４アルキル基は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、またはＣ_１～Ｃ_５アルキル基であり得る。各Ｒ^４シクロアルキル基は、独立的に、Ｃ_４～Ｃ_１５、またはＣ_５～Ｃ_１５シクロアルキル基であり得る。各Ｒ^４アリール基は、独立的に、Ｃ_６～Ｃ_２０、Ｃ_６～Ｃ_１５またはＣ_６～Ｃ_１０アリール基であり得る。各Ｒ^４アラルキル基は、独立的に、Ｃ_７～Ｃ_２０、Ｃ_７～Ｃ_１５またはＣ_７～Ｃ_１０アラルキル基であり得る。式^－Ｎ（Ｒ^４）_２を有するジヒドロカルビルアザニドの各Ｒ^４ヒドロカルビル基は、独立的に、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トルイル基、キシリル基、ベンジル基、もしくはエチルフェニル基；代替的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、もしくはペンチル基；代替的には、シクロペンチル基もしくはシクロヘキシル基；代替的には、フェニル基、トルイル基、もしくはキシリル基；または代替的には、ベンジル基もしくはエチルフェニル基であり得る。一態様において、ジヒドロカルビルアザニドの２つのＲ^４基が結合してヒドロカルビレン基Ｌ^１を形成することができる。そのような態様では、結合したＲ^４基、すなわちＬ^１は、アザニド窒素原子を含む環または環系を形成する。いくつかの態様では、Ｌ^１ヒドロカルビレン基は、Ｃ_２～Ｃ_３０、Ｃ_２～Ｃ_２０、もしくはＣ_２～Ｃ_１０ヒドロカルビレン基であり得、または代替的には、Ｌ^１は、Ｃ_２～Ｃ_３０、Ｃ_２～Ｃ_２０、もしくはＣ_２～Ｃ_１０アルキレン基であり得る。一態様において、Ｌ^１は、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、またはヘプタレン基であり得る。一態様において、ジルコニウム化合物のＹ^１として利用され得る各ジヒドロカルビルアザニドは、ジメチルアザニド、ジエチルアザニド、ジプロピルアジニド、ピロリジンアザニド、ピペリジンアザニド、ジフェニルアザニド、ジトルイルアザニド、ジキシリアザニド、もしくはジベンジルアザニド；代替的には、ジメチルアザニド、ジエチルアザニド、もしくはジプロピルアジニド；代替的には、ピロリジンアザニドもしくはピペリジンアザニド；代替的には、ジフェニルアザニド、ジトルイルアザニド、ジキシリアザニド；または代替的にはジベンジルアザニドであり得る。

【0053】

ジルコニウム化合物のＹ^１として利用され得るβ－ジケトネートは、Ｃ_５～Ｃ_２０、Ｃ_５～Ｃ_１５、またはＣ_５～Ｃ_１０β－ジケトネートであり得る。一実施形態態様では、各β－ジケトネートは、独立的に、アセチルアセトネート（すなわち、２，４－ペンタンジオネート）もしくはベンゾイルアセトネート；代替的には、アセチルアセトネート；または代替的には、ベンゾイルアセトネートであり得る。

【0054】

一実施形態において、触媒システムのジルコニウム化合物は、ジルコニウム化合物を水と接触させることによって、少なくとも部分的に加水分解されたジルコニウム化合物（本明細書では、部分的に加水分解されたジルコニウム化合物という）であり得る。いくつかの実施形態では、部分的に加水分解されたジルコニウム化合物は、水と接触したジルコニウム化合物（本明細書に記載されるいずれか）を含むか、それから本質的になるか、またはそれからなる。いくつかの実施形態では、部分的に加水分解されたジルコニウム化合物のジルコニウム化合物は、式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有し得、式中、各Ｘ^１は、独立的に、ハライド（本明細書で開示されるいずれか）であり得、Ｙ^１は、式^－ＯＲ^２（式中、Ｒ^２は、本明細書に記載されるいずれかのＲ^２ヒドロカルビル基（一般的または具体的）であり得る）または^－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^３（式中、Ｒ^３は、本明細書に記載されるいずれかのＲ^３ヒドロカルビル基（一般的または具体的）であり得る）を有し得、ｍは、０～４の範囲内であり得、ｑは、０～４の範囲内であり得、ｍ＋ｑは、４であり得る。いくつかの実施形態では、ｍは、０～３の範囲内であり得る。一実施形態において、水とジルコニウム化合物のジルコニウムとのモル比は、０．０１：１～３：１、０．１：～２：１、０．２５：１～１．７５：１の範囲内であり得る。

【0055】

非限定的な態様において、触媒システムのジルコニウム化合物は、式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有し得、式中、各Ｘ^１は、独立的に、ハライド（本明細書で開示されるいずれか）であり得、Ｙ^１は、式^－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^３または^－ＯＳ（＝Ｏ）_２Ｒ^３（式中、Ｒ^３は、本明細書に記載されるいずれかのＲ^３ヒドロカルビル基（一般的または具体的）であり得る）を有し得、ｍは、０～４の範囲内であり得、ｑは、０～４の範囲内であり得、ｍ＋ｑは、４であり得る。別の非限定的な態様において、触媒システムのジルコニウム化合物は、式ＺｒＸ^１ _ｍを有し得、式中、各Ｘ^１は、独立的に、ハライド（本明細書で開示されるいずれか）であり得、ｍは、２～４の整数、代替的には２；または代替的には、４であり得る。さらに別の非限定的な態様において、ジルコニウム化合物は、式ＺｒＹ^１ _ｑを有し得、式中、各Ｙ^１は、独立的に、^－ＯＲ^２（式中、Ｒ^２は、Ｃ_１～Ｃ_１０アルキル基である）または^－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^３（式中、Ｒ^３は、Ｃ_１～Ｃ_１０アルキル基である）であり、ｑは、２～４の整数、代替的には、２；代替的には、４である。別の非限定的な態様において、触媒システムのジルコニウム化合物は、式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有し得、式中、各Ｘ^１は、独立的に、ハライド（本明細書に記載されるいずれか）であり得、Ｙ^１は、式^－ＯＲ^２（式中、Ｒ^２は、本明細書に記載されるいずれかのＲ^２ヒドロカルビル基であり得る）を有し得るか、または式^－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^３（式中、Ｒ^３は、本明細書に記載されるいずれかのＲ^３ヒドロカルビル基（一般的または具体的）であり得る）を有し得、ｍは、０～４の範囲内であり得、ｑは、０～４の範囲内であり得、ｍ＋ｑは、４であり得る。さらなる非限定的な実施形態において、触媒システムのジルコニウム化合物は、部分的に加水分解されたジルコニウム化合物であり得、ジルコニウム化合物は、式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有し得、式中、各Ｘ^１は、独立的に、ハライド（本明細書に記載されるいずれか）であり得、Ｙ^１は、式^－ＯＲ^２（式中、Ｒ^２は、本明細書に記載されるいずれかのＲ^２ヒドロカルビル基であり得る）を有し得るか、または式^－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^３（式中、Ｒ^３は、本明細書に記載されるいずれかのＲ^３ヒドロカルビル基（一般的または具体的）であり得る）を有し得、ｍは、０～４の範囲内であり得、ｑは、０～４の範囲内であり得、ｍ＋ｑは、４であり得、水とジルコニウム化合物のジルコニウムとのモル比は、０．１：～２：１の範囲内であり得る。

【0056】

本明細書に記載されるプロセスのための触媒システムで利用され得る非限定的な例示的ジルコニウム化合物は、ＺｒＣｌ_４、ＺｒＢｒ_４、ＺｒＩ_４、ＺｒＢｒ_２Ｃｌ_２、ＺｒＢｒＣｌ_３、Ｚｒ（ＯＣ_２Ｈ_５）_４、Ｚｒ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣ_２Ｈ_５）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣ_３Ｈ_７）_４、Ｚｒ（ＯＣ_３Ｈ_７）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣ_３Ｈ_７）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣ_４Ｈ_９）_４、Ｚｒ（ＯＣ_４Ｈ_９）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣ_４Ｈ_９）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣ_６Ｈ_５）_４、Ｚｒ（ＯＣ_６Ｈ_５）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣ_６Ｈ_５）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣＯＣＨ_３）_４、Ｚｒ（ＯＣＯＣＨ_３）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣＯＣＨ_３）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_２Ｈ_５）_４、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_２Ｈ_５）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_２Ｈ_５）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_３Ｈ_７）_４、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_３Ｈ_７）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_３Ｈ_７）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_４Ｈ_９）_４、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_４Ｈ_９）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_４Ｈ_９）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_６Ｈ_５）_４、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_６Ｈ_５）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_６Ｈ_５）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＳＯ_３ＣＨ_３）_４、Ｚｒ（ＯＳＯ_３Ｃ_２Ｈ_５）_４、Ｚｒ（ＯＳＯ_３Ｃ_３Ｈ_７）_４、Ｚｒ（ＯＳＯ_３Ｃ_４Ｈ_９）_４、Ｚｒ（ＯＳＯ_３Ｃ_６Ｈ_５）_４、Ｚｒ（Ｈ_３ＣＣＯＣＨＣＯＣＨ_３）_４、ＺｒＣｌ_２（Ｈ_３ＣＣＯＣＨＣＯＣＨ_３）_２、Ｚｒ（（Ｈ_５Ｃ_６）ＣＯＣＨＣＯ（Ｃ_５Ｆ_５））_４、ＺｒＣｌ_２（（Ｈ_５Ｃ_６）ＣＯＣＨＣＯ（Ｃ_５Ｆ_５））_２、Ｚｒ（（ＣＨ_３）_２Ｎ）_４、Ｚｒ（（Ｃ_２Ｈ_５）_２Ｎ）_４、Ｚｒ（（Ｃ_３Ｈ_７）_２Ｎ）_４、またはＺｒ（Ｃ_４Ｈ_９）_２Ｎ）_４を含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。いくつかの態様では、ジルコニウム化合物は、ＺｒＣｌ_４、ＺｒＢｒ_４、ＺｒＩ_４、ＺｒＢｒ_２Ｃｌ_２、もしくはＺｒＢｒＣｌ_３；代替的には、Ｚｒ（ＯＣ_２Ｈ_５）_４、Ｚｒ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣ_２Ｈ_５）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣ_３Ｈ_７）_４、Ｚｒ（ＯＣ_３Ｈ_７）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣ_３Ｈ_７）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣ_４Ｈ_９）_４、Ｚｒ（ＯＣ_４Ｈ_９）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣ_４Ｈ_９）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣ_６Ｈ_５）_４、Ｚｒ（ＯＣ_６Ｈ_５）_３Ｃｌ、もしくはＺｒ（ＯＣ_６Ｈ_５）_２Ｃｌ_２；代替的には、Ｚｒ（ＯＣ_２Ｈ_５）_４、Ｚｒ（ＯＣ_３Ｈ_７）_４、Ｚｒ（ＯＣ_４Ｈ_９）_４、もしくはＺｒ（ＯＣ_６Ｈ_５）_４；代替的には、Ｚｒ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣ_２Ｈ_５）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣ_３Ｈ_７）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣ_３Ｈ_７）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣ_４Ｈ_９）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣ_４Ｈ_９）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣ_６Ｈ_５）_３Ｃｌ、もしくはＺｒ（ＯＣ_６Ｈ_５）_２Ｃｌ_２；代替的には、Ｚｒ（ＯＣＯＣＨ_３）_４、Ｚｒ（ＯＣＯＣＨ_３）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣＯＣＨ_３）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_２Ｈ_５）_４、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_２Ｈ_５）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_２Ｈ_５）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_３Ｈ_７）_４、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_３Ｈ_７）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_３Ｈ_７）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_４Ｈ_９）_４、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_４Ｈ_９）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_４Ｈ_９）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_６Ｈ_５）_４、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_６Ｈ_５）_３Ｃｌ、もしくはＺｒ（ＯＣＯＣ_６Ｈ_５）_２Ｃｌ_２；代替的には、Ｚｒ（ＯＣＯＣＨ_３）_４、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_２Ｈ_５）_４、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_３Ｈ_７）_４、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_４Ｈ_９）_４、もしくはＺｒ（ＯＣＯＣ_６Ｈ_５）_４；代替的には、Ｚｒ（ＯＣＯＣＨ_３）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣＯＣＨ_３）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_２Ｈ_５）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_２Ｈ_５）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_３Ｈ_７）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_３Ｈ_７）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_４Ｈ_９）_３Ｃｌ、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_４Ｈ_９）_２Ｃｌ_２、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_６Ｈ_５）_３Ｃｌ、もしくはＺｒ（ＯＣＯＣ_６Ｈ_５）_２Ｃｌ_２；代替的には、Ｚｒ（ＯＳＯ_３ＣＨ_３）_４、Ｚｒ（ＯＳＯ_３Ｃ_２Ｈ_５）_４、Ｚｒ（ＯＳＯ_３Ｃ_３Ｈ_７）_４、Ｚｒ（ＯＳＯ_３Ｃ_４Ｈ_９）_４、もしくはＺｒ（ＯＳＯ_３Ｃ_６Ｈ_５）_４；代替的には、Ｚｒ（Ｈ_３ＣＣＯＣＨＣＯＣＨ_３）_４、ＺｒＣｌ_２（Ｈ_３ＣＣＯＣＨＣＯＣＨ_３）_２、Ｚｒ（（Ｈ_５Ｃ_６）ＣＯＣＨＣＯ（Ｃ_５Ｈ_５））_４、もしくはＺｒＣｌ_２（（Ｈ_５Ｃ_６）ＣＯＣＨＣＯ（Ｃ_５Ｈ_５））_２；代替的には、Ｚｒ（Ｈ_３ＣＣＯＣＨＣＯＣＨ_３）_４、もしくはＺｒ（（Ｈ_５Ｃ_６）ＣＯＣＨＣＯ（Ｃ_５Ｈ_５））_４；代替的には、ＺｒＣｌ_２（Ｈ_３ＣＣＯＣＨＣＯＣＨ_３）_２もしくはＺｒＣｌ_２（（Ｈ_５Ｃ_６）ＣＯＣＨＣＯ（Ｃ_５Ｈ_５））_２；または代替的には、Ｚｒ（（ＣＨ_３）_２Ｎ）_４、Ｚｒ（（Ｃ_２Ｈ_５）_２Ｎ）_４、もしくはＺｒ（（Ｃ_３Ｈ_７）_２Ｎ）_４、Ｚｒ（Ｃ_４Ｈ_９）_２Ｎ）_４を含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。他の態様では、ジルコニウム化合物は、ＺｒＣｌ_４；代替的には、Ｚｒ（ＯＣ_２Ｈ_５）_４；代替的には、Ｚｒ（ＯＣ_３Ｈ_７）_４；代替的には、Ｚｒ（ＯＣ_４Ｈ_９）_４；代替的には、Ｚｒ（ＯＣ_６Ｈ_５）_４；代替的には、Ｚｒ（ＯＣＯＣＨ_３）_４；代替的には、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_２Ｈ_５）_４；代替的には、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_３Ｈ_７）_４；代替的には、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_４Ｈ_９）_４；代替的には、Ｚｒ（ＯＣＯＣ_６Ｈ_５）_４；代替的には、Ｚｒ（ＯＳＯ_３ＣＨ_３）_４；代替的には、Ｚｒ（ＯＳＯ_３Ｃ_２Ｈ_５）_４；代替的には、Ｚｒ（ＯＳＯ_３Ｃ_３Ｈ_７）_４；代替的には、Ｚｒ（ＯＳＯ_３Ｃ_４Ｈ_９）_４；または代替的には、Ｚｒ（ＯＳＯ_３Ｃ_６Ｈ_５）_４を含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。

【0057】

概して、ヒドロカルビル金属化合物は、エチレンと接触したときにジルコニウム化合物と併せてオリゴマー生成物を形成することができる任意のヒドロカルビル金属化合物であり得る。触媒システムのヒドロカルビル金属化合物は、任意のヘテロレプティックまたはホモレプティックのヒドロカルビル金属化合物を含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。一態様において、ヒドロカルビル金属は、式（Ｒ^１）_ａＭ（Ｘ^２）_ｂを有し得、式中、Ｒ^１は、ヒドロカルビル基であり、Ｘ^２は、ハライドまたはヒドロカルボキシドであり、Ｍは、金属であり、ａは、１～４の範囲をとり、ｂは、０～３の範囲をとり、ａ＋ｂは、金属Ｍの酸化状態に等しい。一態様において、ヒドロカルビル金属化合物の金属は、第１族、第２族、第１１族、第１２族、第１３族、もしくは第１４族の金属；代替的には、第１族もしくは第２族の金属；代替的には、第１２族、第１３族、もしくは第１４族の金属；または代替的には、第１２族もしくは第１３族の金属；代替的には、第１族の金属；代替的には、第２族の金属；代替的には、第１２族の金属；または代替的には、第１３族を含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらからなり得る。いくつかの態様では、ヒドロカルビル金属化合物の金属は、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、銅、亜鉛、アルミニウム、もしくは錫；代替的には、リチウム、ナトリウム、カリウム、もしくはマグネシウム；代替的には、亜鉛、アルミニウム、もしくは錫；代替的には、リチウム；代替的には、ナトリウム；代替的には、カリウム；代替的には、マグネシウム；代替的には、亜鉛；代替的には、アルミニウム；または代替的には、錫を含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。

【0058】

ヒドロカルビル金属化合物のヒドロカルビル基は、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１０、またはＣ_１～Ｃ_６ヒドロカルビル基であり得る。一態様において、ヒドロカルビル金属化合物のヒドロカルビル基は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、またはアラルキル基であり得、代替的には、アルキル基；代替的には、シクロアルキル基；代替的には、アリール基；または代替的には、アラルキル基であり得る。ヒドロカルビル金属化合物のアルキル基は、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１０、またはＣ_１～Ｃ_６アルキル基であり得る。ヒドロカルビル金属化合物のシクロアルキル基は、Ｃ_４～Ｃ_２０、Ｃ_４～Ｃ_１５、またはＣ_４～Ｃ_１０シクロアルキル基であり得る。ヒドロカルビル金属化合物のアリール基は、Ｃ_６～Ｃ_２０、Ｃ_６～Ｃ_１５、またはＣ_６～Ｃ_１０アリール基であり得る。ヒドロカルビル金属化合物のアラルキル基は、Ｃ_７～Ｃ_２０、Ｃ_７～Ｃ_１５、またはＣ_７～Ｃ_１０アラルキル基であり得る。

【0059】

本明細書で開示されるいずれの態様においても、触媒システムのヒドロカルビル金属化合物は、アルキル金属化合物（すなわち、Ｒ^１がアルキル基であるヒドロカルビル金属化合物）であり得る。一実施形態において、触媒システムのアルキル金属化合物は、アルキルリチウム（Ｒ^１Ｌｉ）、アルキルナトリウム（Ｒ^１Ｎａ）、アルキルカリウム（Ｒ^１Ｋ）、アルキルマグネシウム化合物（Ｒ^１ _２ＭｇもしくはＲ^１ＭｇＸ^２）、アルキル銅化合物（Ｒ^１ _２ＣｕもしくはＲ^１ＣｕＸ^２）、アルキル亜鉛化合物（Ｒ^１ _２ＺｎもしくはＲ^１ＺｎＸ^２）、アルキル錫化合物（Ｒ^１ _４Ｓｎ、Ｒ^１ _２Ｓｎ、Ｒ^１ _３ＳｎＸ^２、Ｒ^１ _２ＳｎＸ^２ _２、Ｒ^１ _２ＳｎＸ^２ _３、Ｒ^１ _２Ｓｎ、もしくはＲ^１ＳｎＸ^２）、もしくはアルキルアルミニウム化合物（ＡｌＸ^２ _２Ｒ^１、ＡｌＸ^２Ｒ^１ _２、ＡｌＲ^１ _３、Ａｌ_２Ｘ^２ _５Ｒ^１、Ａｌ_２Ｘ^２ _３（Ｒ^１）_３、もしくはＡｌ_２Ｘ^２Ｒ^１ _５）；代替的には、アルキルリチウム（Ｒ^１Ｌｉ）、アルキルナトリウム（Ｒ^１Ｎａ）、アルキルカリウム（Ｒ^１Ｋ）、アルキルマグネシウム化合物（Ｒ^１ _２ＭｇもしくはＲ^１ＭｇＸ^２）、アルキル亜鉛化合物（Ｒ^１ _２ＺｎもしくはＲ^１ＺｎＸ^２）、もしくはアルキルアルミニウム化合物（ＡｌＸ^２ _２Ｒ^１、ＡｌＸ^２Ｒ^１ _２、ＡｌＲ^１ _３、Ａｌ_２Ｘ^２ _５Ｒ^１、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３、もしくはＡｌ_２Ｘ^２Ｒ^１ _５）；代替的には、アルキルリチウム（Ｒ^１Ｌｉ）、アルキルナトリウム（Ｒ^１Ｎａ）、もしくはアルキルカリウム（Ｒ^１Ｋ）；代替的には、アルキルリチウム（Ｒ^１Ｌｉ）；代替的には、アルキルナトリウム（Ｒ^１Ｎａ）；代替的には、アルキルマグネシウム化合物（Ｒ^１ _２ＭｇもしくはＲ^１ＭｇＸ^２）；代替的には、アルキル亜鉛化合物（Ｒ^１ _２ＺｎもしくはＲ^１ＺｎＸ^２）；代替的には、アルキル錫化合物（Ｒ^１ _４Ｓｎ、Ｒ^１ _２Ｓｎ、Ｒ^１ _３ＳｎＸ^２、Ｒ^１ _２ＳｎＸ^２ _２、Ｒ^１ _２ＳｎＸ^２ _３、Ｒ^１ _２Ｓｎ、もしくはＲ^１ＳｎＸ^２）；または代替的には、アルキルアルミニウム化合物（ＡｌＸ^２ _２Ｒ^１、ＡｌＸ^２Ｒ^１ _２、ＡｌＲ^１ _３、Ａｌ_２Ｘ^２ _５Ｒ^１、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３、もしくはＡｌ_２Ｘ^２Ｒ^１ _５）を含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。いくつかの態様では、触媒システムのアルキル金属化合物は、アルキルリチウム（Ｒ^１Ｌｉ）、アルキルナトリウム（Ｒ^１Ｎａ）、アルキルカリウム（Ｒ^１Ｋ）、アルキルマグネシウムハライド（Ｒ^１ＭｇＸ^２）、ジアルキルマグネシウム（Ｒ^１ _２Ｍｇ）、アルキル銅ハライド（Ｒ^１ＣｕＸ^２）、ジアルキル銅（Ｒ^１ _２Ｃｕ）、アルキル亜鉛ハライド（Ｒ^１ＺｎＸ^２）、ジアルキル亜鉛（Ｒ^１ _２Ｚｎ）、アルキル錫ハライド（Ｒ^１ _３ＳｎＸ^２、Ｒ^１ _２ＳｎＸ^２ _２、Ｒ^１ _２ＳｎＸ^２ _３、Ｒ^１ _２Ｓｎ、もしくはＲ^１ＳｎＸ^２）、ジアルキル錫（Ｒ^１ _２Ｓｎ）、テトラアルキル錫（Ｒ^１ _４Ｓｎ）、アルキルアルミニウムジハライド（ＡｌＸ^２ _２Ｒ^１）、ジアルキルアルミニウムハライド（ＡｌＸ^２Ｒ^１ _２）、トリアルキルアルミニウム（ＡｌＲ^１ _３）、アルキルアルミニウムセスキハライド（Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３）、アルキルアルミニウムジアルコキシド（ＡｌＸ^２ _２Ｒ^１）、ジアルキルアルミニウムアルコキシド（ＡｌＸ^２Ｒ^１ _２）、もしくはアルミノキサン；代替的には、アルキルリチウム（Ｒ^１Ｌｉ）、アルキルナトリウム（Ｒ^１Ｎａ）、アルキルカリウム（Ｒ^１Ｋ）、ジアルキルマグネシウム（Ｒ^１ _２Ｍｇ）、ジアルキル亜鉛（Ｒ^１ _２Ｚｎ）、アルキルアルミニウムジハライド（ＡｌＸ^２ _２Ｒ^１）、ジアルキルアルミニウムハライド（ＡｌＸ^２Ｒ^１ _２）、トリアルキルアルミニウム（ＡｌＲ^１ _３）、もしくはアルキルアルミニウムセスキハライド（Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３）；代替的には、アルキルリチウム（Ｒ^１Ｌｉ）、アルキルナトリウム（Ｒ^１Ｎａ）、アルキルカリウム（Ｒ^１Ｋ）；代替的には、アルキルマグネシウムハライド（Ｒ^１ＭｇＸ^２）もしくはジアルキルマグネシウム（Ｒ^１ _２Ｍｇ）；代替的には、ジアルキル錫（Ｒ^１ _２Ｓｎ）、テトラアルキル錫（Ｒ^１ _４Ｓｎ）；代替的には、アルキル亜鉛化合物（Ｒ^１ _２ＺｎもしくはＲ^１ＺｎＸ^２）及びアルキルアルミニウム化合物（ＡｌＸ^２ _２Ｒ^１、ＡｌＸ^２Ｒ^１ _２、ＡｌＲ^１ _３、Ａｌ_２Ｘ^２ _５Ｒ^１、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３、もしくはＡｌ_２Ｘ^２Ｒ^１ _５）；代替的には、アルキルアルミニウムジハライド（ＡｌＸ^２ _２Ｒ^１）、ジアルキルアルミニウムハライド（ＡｌＸ^２Ｒ^１ _２）、アルキルアルミニウムセスキハライド（Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３）、トリアルキルアルミニウム（ＡｌＲ^１ _３）、もしくはアルミノキサン；代替的には、アルキルリチウム（Ｒ^１Ｌｉ）；代替的には、アルキルナトリウム（Ｒ^１Ｎａ）；代替的には、アルキルカリウム（Ｒ^１Ｋ）；代替的には、アルキルマグネシウムハライド（Ｒ^１ＭｇＸ^２）；代替的には、ジアルキルマグネシウム（Ｒ^１ _２Ｍｇ）；代替的には、アルキル亜鉛ハライド（Ｒ^１ＺｎＸ^２）；代替的には、ジアルキル亜鉛（Ｒ^１ _２Ｚｎ）；代替的には、アルキルアルミニウムジハライド（ＡｌＸ^２ _２Ｒ^１）；代替的には、ジアルキルアルミニウムハライド（ＡｌＸ^２Ｒ^１ _２）；代替的には、アルキルアルミニウムセスキハライド（Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３）；代替的には、アルキルアルミニウムジアルコキシド（ＡｌＸ^２ _２Ｒ^１）；代替的には、ジアルキルアルミニウムアルコキシド（ＡｌＸ^２Ｒ^１ _２）；代替的には、トリアルキルアルミニウム（ＡｌＲ^１ _３）；または代替的には、アルミノキサンを含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。

【0060】

概して、任意のヒドロカルビル金属ハライド（またはアルキル金属ハライド）の各ハライドは、任意のハライドであり得る。本明細書で開示される任意のアルキル金属ハライドの各ハライドは、独立的に、フルオリド、クロリド、ブロミド、もしくはヨージド；代替的には、クロリド、ブロミド、もしくはヨージド；代替的には、フルオリド；代替的には、クロリド；代替的には、ブロミド；または代替的には、ヨージドであり得る。

【0061】

本明細書で開示される任意のアルキル金属化合物の各アルキル基は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１０、またはＣ_１～Ｃ_６アルキル基であり得る。一態様において、本明細書で開示される任意のアルキル金属化合物の各アルキル基は、独立的に、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、またはオクチル基；代替的には、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、またはオクチル基であり得る。いくつかの態様では、本明細書で開示される任意のアルキル金属化合物の各アルキル基（複数可）は、独立的に、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、イソ－ブチル基、ｎ－ヘキシル基、もしくはｎ－オクチル基；代替的には、メチル基、エチル基、ｎ－ブチル基、もしくはイソ－ブチル基；代替的には、メチル基；代替的には、エチル基；代替的には、ｎ－プロピル基；代替的には、ｎ－ブチル基；代替的には、イソ－ブチル基；代替的には、ｎ－ヘキシル基；または代替的には、ｎ－オクチル基であり得る。

【0062】

本明細書で開示される任意のアルキル金属アルコキシドの各アルコキシドは、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１０、またはＣ_１～Ｃ_６アルコキシドであり得る。一態様において、本明細書で開示される任意のアルキル金属アルコキシドの各アルコキシドは、独立的に、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド、ペントキシド、ヘキソキシド、ヘプトキシド、またはオクトキシド；代替的には、メトキシド、エトキシド、ブトキシド、ヘキソキシド、またはオクトキシドであり得る。いくつかの態様では、本明細書で開示される任意のアルキル金属アルコキシドの各アルコキシド基は、独立的に、メトキシド、エトキシド、ｎ－プロポキシド、ｎ－ブトキシド、イソ－ブトキシド、ｎ－ヘキソキシド、もしくはｎ－オクトキシド；代替的には、メトキシド、エトキシド、ｎ－ブトキシド、もしくはイソ－ブトキシド；代替的には、メトキシド；代替的には、エトキシド；代替的には、ｎ－プロポキシド；代替的には、ｎ－ブトキシド；代替的には、イソ－ブトキシド；代替的には、ｎ－ヘキソキシド；または代替的には、ｎ－オクトキシドであり得る。

【0063】

ヒドロカルビル金属化合物として利用され得るヒドロカルビルリチウム化合物（またはアルキルリチウム化合物）は、メチルリチウム、ｎ－ブチルリチウム、ｓｅｃ－ブチルリチウム、ｔｅｒｔ－ブチルリチウム；代替的には、メチルリチウム；代替的には、ｎ－ブチルリチウム；代替的には、ｓｅｃ－ブチルリチウム；または代替的には、ｔｅｒｔ－ブチルリチウムを含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。ヒドロカルビル金属化合物として利用され得るヒドロカルビルナトリウム化合物（またはアルキルナトリウム化合物）は、メチルナトリウム、ｎ－ブチルナトリウム、ｓｅｃ－ブチルナトリウム、ｔｅｒｔ－ブチルナトリウム；代替的には、メチルナトリウム；代替的には、ｎ－ブチルナトリウム；代替的には、ｓｅｃ－ブチルナトリウム；または代替的には、ｔｅｒｔ－ブチルナトリウムを含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。ヒドロカルビル金属化合物として利用され得るヒドロカルビルカリウム化合物（またはアルキルカリウム化合物）は、メチルカリウム、ｎ－ブチルカリウム、ｓｅｃ－ブチルカリウム、ｔｅｒｔ－ブチルカリウム；代替的には、メチルカリウム；代替的には、ｎ－ブチルカリウム；代替的には、ｓｅｃ－ブチルカリウム；または代替的には、ｔｅｒｔ－ブチルカリウムを含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。

【0064】

ヒドロカルビル金属化合物として利用され得るヒドロカルビルマグネシウムハライド（またはアルキルマグネシウムハライド）は、メチルマグネシウムハライド、エチルマグネシウムハライド、プロピルマグネシウムハライド、またはブチルマグネシウムハライド；代替的には、メチルマグネシウムハライド；代替的には、エチルマグネシウムハライド；代替的には、プロピルマグネシウムハライド；代替的には、ブチルマグネシウムハライドを含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。ヒドロカルビル金属化合物として利用され得るジヒドロカルビルマグネシウム（またはジアルキルマグネシウム）は、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジプロピルマグネシウム、もしくはジブチルマグネシウム；代替的には、ジメチルマグネシウム；代替的には、ジエチルマグネシウム；代替的には、ジプロピルマグネシウム；または代替的には、ジブチルマグネシウムを含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。

【0065】

ヒドロカルビル金属化合物として利用され得るヒドロカルビル亜鉛ハライドは、メチル亜鉛ハライド、エチル亜鉛ハライド、プロピル亜鉛ハライド、ブチル亜鉛ハライド、ペンチル亜鉛ハライド、ヘキシル亜鉛ハライド、シクロペンチル亜鉛ハライド、シクロヘキシル亜鉛ハライド、フェニル亜鉛ハライド、トウリル亜鉛ハライド、キシリル亜鉛ハライド、もしくはベンジル亜鉛ハライド；代替的には、メチル亜鉛ハライド、エチル亜鉛ハライド、プロピル亜鉛ハライド、ブチル亜鉛ハライド、ペンチル亜鉛ハライド、もしくはヘキシル亜鉛ハライド；代替的には、シクロペンチル亜鉛ハライドもしくはシクロヘキシル亜鉛ハライド；代替的には、フェニル亜鉛ハライド、トウリル亜鉛ハライド、もしくはキシリル亜鉛ハライド；代替的には、メチル亜鉛ハライド；代替的には、エチル亜鉛ハライド；代替的には、プロピル亜鉛ハライド；代替的には、ブチル亜鉛ハライド；代替的には、ペンチル亜鉛ハライド；代替的には、ヘキシル亜鉛ハライド；代替的には、シクロペンチル亜鉛ハライド；代替的には、シクロヘキシル亜鉛ハライド；代替的には、フェニル亜鉛ハライド；代替的には、トウリル亜鉛ハライド；代替的には、キシリル亜鉛ハライド；または代替的には、ベンジル亜鉛ハライドを含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。ヒドロカルビル金属化合物として利用され得るジヒドロカルビル亜鉛は、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジプロピル亜鉛、ジブチル亜鉛、ジペンチル亜鉛、ジヘキシル亜鉛、ジシクロペニル亜鉛、ジシクロヘキシル亜鉛、ジフェニル亜鉛、ジトウリル亜鉛、ジキシリル亜鉛、もしくはジベンジル亜鉛；代替的には、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジプロピル亜鉛、ジブチル亜鉛、ジペンチル亜鉛、もしくはジヘキシル亜鉛；代替的には、ジシクロペンチル亜鉛もしくはジシクロヘキシル亜鉛；代替的には、ジフェニル亜鉛、ジトウリル亜鉛、ジキシリル亜鉛；代替的には、もしくはジベンジル亜鉛；代替的には、ジメチル亜鉛；代替的には、ジエチル亜鉛；代替的には、ジプロピル亜鉛；代替的には、ジブチル亜鉛；代替的には、ジペンチル亜鉛；代替的には、ジヘキシル亜鉛；代替的には、ジシクロペニル亜鉛；代替的には、ジシクロヘキシル亜鉛；代替的には、ジフェニル亜鉛；代替的には、ジトウリル亜鉛；代替的には、ジキシリル亜鉛；または代替的には、ジベンジル亜鉛を含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。

【0066】

一態様において、触媒システム中のヒドロカルビル金属化合物は、アルキルアルミニウム化合物であり得る。概して、触媒システム中のヒドロカルビル金属化合物として利用され得るヒドロカルビルアルミニウム化合物は、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑ、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ＡｌＸ^２ _ｎＲ^１ _３－ｎ；または代替的にはＡｌ_２Ｘ^２ _ｑＲ^１ _６－ｑを有し得る。式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ及びＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑのＸ^２、Ｒ^１、ｎ、及びｑは、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ及びＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑを有するヒドロカルビルアルミニウム化合物の独立した要素であり、独立的に本明細書に記載される。Ｘ^２、Ｒ^１、ｎ、及びｑの独立した記述は、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎまたはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑを有するヒドロカルビルアルミニウム化合物を説明するために、制限なく任意の組み合わせで利用され得る。式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ及びＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑＲ^１ _ｑにおいて、各Ｒ^１は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_６ヒドロカルビル基；または代替的には、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_６アルキル基（この場合、ヒドロカルビルアルミニウム化合物は、アルキルアルミニウム化合物といわれることがある）であり得る。一態様において、各Ｒ^１は、独立的に、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、もしくはオクチル基；代替的には、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基；代替的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、イソ－ブチル基、ｎ－ヘキシル基、もしくはｎ－オクチル基；代替的には、メチル基、エチル基、ｎ－ブチル基、もしくはイソ－ブチル基；代替的には、メチル基；代替的には、エチル基；代替的には、ｎ－プロピル基；代替的には、ｎ－ブチル基；代替的には、イソ－ブチル基；代替的には、ｎ－ヘキシル基；または代替的には、ｎ－オクチル基であり得る。式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ及びＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑＲ^１ _ｑにおいて、各Ｘ^２は、独立的に、フルオリド、クロリド、ブロミド、もしくはヨージド；代替的には、クロリド、ブロミド、もしくはヨージド；代替的には、クロリド；代替的には、ブロミド；または代替的にはヨージドであり得る。式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ及びＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑＲ^１ _ｑにおいて、ｎは、１～３の範囲内；代替的には、１～２の範囲内；代替的には、１；代替的には、２、または代替的には、３であり得る。式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ及びＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑＲ^１ _ｑにおいて、ｑは、１、３、もしくは５；代替的には、１；代替的には、３；または代替的には、５であり得る。一態様において、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎまたはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑを有するヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物は、トリアルキルアルミニウム、アルキルアルミニウムハライド、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、トリアルキルアルミニウム；または代替的には、アルキルアルミニウムハライドを含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。トリアルキルアルミニウム化合物は、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリ－ｎ－ブチルアルミニウム、トリ－イソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリ－ｎ－オクチルアルミニウム、もしくはそれらの混合物；代替的には、トリエチルアルミニウム、トリ－ｎ－ブチルアルミニウム、トリ－イソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリ－ｎ－オクチルアルミニウム、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、トリエチルアルミニウム、トリ－ｎ－ブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリ－ｎ－オクチルアルミニウム、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、トリメチルアルミニウム；代替的には、トリエチルアルミニウム；代替的には、トリプロピルアルミニウム；代替的には、トリ－ｎ－ブチルアルミニウム；代替的には、トリ－イソブチルアルミニウム；代替的には、トリヘキシルアルミニウム；または代替的には、トリ－ｎ－オクチルアルミニウムを含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。アルキルアルミニウムハライドは、ジエチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミド、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ジエチルアルミニウムクロリド；代替的には、ジエチルアルミニウムブロミド；代替的には、エチルアルミニウムジクロリド；または代替的には、エチルアルミニウムセスキクロリドを含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。

【0067】

いくつかの態様では、触媒システム中のヒドロカルビル金属化合物として利用され得るヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物は、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑ、またはそれらの任意の組み合わせ（代替的には、ＡｌＸ^２ _ｎＲ^１ _３－ｎ；または代替的にはＡｌ_２Ｘ^２ _ｑＲ^１ _６－ｑ）を有し得、式中、Ｘ^２の少なくとも一部（またはすべて）は、アルコキシド、カルボキシレート、ジヒドロカルビルアザニド、もしくはカルボキサミドアニオン；代替的には、アルコキシド；代替的には、カルボキシレート；代替的には、ジヒドロカルビルアザニド；または代替的には、カルボキサミドアニオンであり得る。式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ及びＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑのＲ^１、ｎ、及びｑは、ヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物の要素として本明細書に記載されており、Ｒ^１、ｎ、及びｑのこれらの独立した記述は、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎまたはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑ（式中、Ｘ^２の少なくとも一部（またはすべて）は、アルコキシド、カルボキシレート、ジヒドロカルビルアザニド、及び／またはカルボキサミドアニオンである）を有するヒドロカルビルアルミニウム化合物を説明するために、制限なく任意の組み合わせで利用され得る。Ｘ^２の一部のみ（またはすべて）がアルコキシド、カルボキシレート、ジヒドロカルビルアザニド、及び／またはカルボキサミドアニオンである場合、Ｘ^２の残りは、ハライド；代替的には、フルオリド、クロリド、ブロミド、もしくはヨージド；代替的には、クロリド、ブロミド、もしくはヨージド；代替的には、クロリド；代替的には、ブロミド；または代替的にはヨージドであり得る。式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ及び／またはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑ（式中、Ｘ^２の少なくとも一部（またはすべて）は、アルコキシドであり得る）を有するヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物の特定のアルコキシドは、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_６アルコキシド；代替的には、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド、ペントキシド、ヘキソキシド、ヘプトキシド、もしくはオクトキシド；代替的には、メトキシド、エトキシド、ブトキシド、ヘキソキシド、もしくはオクトキシド；代替的には、メトキシド、エトキシド、ｎ－プロポキシド、ｎ－ブトキシド、イソ－ブトキシド、ｎ－ヘキソキシド、もしくはｎ－オクトキシド；代替的には、メトキシド、エトキシド、ｎ－ブトキシド、もしくはイソ－ブトキシド；代替的には、メトキシド；代替的には、エトキシド；代替的には、ｎ－プロポキシド；代替的には、ｎ－ブトキシド；代替的には、イソ－ブトキシド；代替的には、ｎ－ヘキソキシド；または代替的には、ｎ－オクトキシドであり得る。式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ及び／またはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑ（式中、Ｘ^２の少なくとも一部（またはすべて）は、カルボキシレートであり得る）を有するヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物の特定のカルボキシレートは、Ｃ_２～Ｃ_２０、Ｃ_２～Ｃ_１０、もしくはＣ_２～Ｃ_６カルボキシレート；代替的にはアセテート、プロパノエート、ブタノエート、ペントネート、ヘキサノエート、ヘプタノエート、オクタノエート、ベンゾエート、メチルベノエート、ジメチルベンゾエート、もしくはフェニルアセテート；代替的には、アセテート、プロパノエート、ブタノエート、ペントネート、ヘキサノエート、ヘプタノエート、もしくはオクタノエート；代替的には、ベンゾエート、メチルベンゾエート、もしくはジメチルベンゾエート；または代替的には、フェニルアセテートであり得る。式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ及び／またはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑ（式中、Ｘ^２の少なくとも一部（またはすべて）は、ジヒドロカルビルアザニドであり得る）を有するヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物の特定のジヒドロカルビルアザニドは、Ｃ_２～Ｃ_２０、Ｃ_２～Ｃ_１０、もしくはＣ_２～Ｃ_６ジヒドロカルビルアザニド；代替的には、ジメチルアザニド、ジエチルアザニド、ジプロピルアザニド、ピロリジンアザニド、ピペリジンアザニド、ジフェニルアザニド、ジトルイルアザニド、ジキシリアザニド、もしくはジベンジルアザニド；代替的には、ジメチルアザニド、ジエチルアザニド、もしくはジプロピルアザニド；代替的には、ピロリジンアザニドもしくはピペリジンアザニド；代替的には、ジフェニルアザニド、ジトルイルアザニド、ジキシリアザニド；または代替的にはジベンジルアザニドであり得る。式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ及び／またはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑ（式中、Ｘ^２の少なくとも一部（またはすべて）は、カルボキサミドアニオンであり得る）を有するヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物の特定のカルボキサミドアニオンは、Ｃ_２～Ｃ_２０、Ｃ_２～Ｃ_１０、もしくはＣ_２～Ｃ_６カルボキシルアミドアニオン；代替的には、ジメチルホルムアミドアニオン、ジエチルホルムアミドアニオン、ジメチルアセトアミドアニオン、ジエチルアセトアミドアニオン、２－ピロリドンアニオン、バレロラクタムアニオン、もしくはカプロラクタムアニオン；代替的には、ジメチルホルムアミドアニオン、ジエチルホルムアミドアニオン、ジメチルアセトアミドアニオン、ジエチルアセトアミドアニオン；代替的には、２－ピロリドンアニオン、バレロラクタムアニオン、もしくはカプロラクタムアニオン；代替的には、ジメチルホルムアミドアニオン；代替的には、ジメチルアセトアミドアニオン；代替的には、２－ピロリドンアニオン；代替的には、バレロラクタムアニオン；または代替的には、カプロラクタムアニオンであり得る。式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ及び／またはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑを有するヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物のＸ^２の少なくとも一部（またはすべて）がアルコキシド、カルボキシレート、ジヒドロカルビルアザニド、及び／またはカルボキサミドアニオンである場合、アルコキシド、カルボキシド、アザニド、及び／またはアミドアニオンとアルミニウムとのモル比は、０．１：１～１：１、０．１：１～０．７５：１、または０．１：１～０．５：１の範囲内であり得る。

【0068】

ヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物が式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎまたはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑを有し、Ｘ^２の少なくとも一部（またはすべて）がアルコキシド、カルボキシレート、ジヒドロカルビルアザニド、及び／またはカルボキサミドアニオンである態様において、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎまたはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑを有するヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物は、ｉｎ ｓｉｔｕ生成され得る。これらのｉｎ ｓｉｔｕ生成ヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物は、適切なアルコール、カルボン酸もしくはカルボン酸の単純エステル、アミン、及び／またはアミドを、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎまたはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑを有するヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物と接触させることによって形成され得、式中、ｉ）各Ｒ^１は、独立的に、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎまたはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑを有するヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物について本明細書に記載されるいずれかのヒドロカルビルまたはアルキルＲ^１基であり、ｉｉ）各Ｘ^２は、独立的に、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎまたはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑを有するヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物について本明細書に記載されるいずれかのハライドであり得、ｉｉｉ）ｎは、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎまたはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑを有するヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物について本明細書に記載されるいずれかの値をとり得、ｉｖ）ｑは、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎまたはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑを有するヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物について本明細書に記載されるいずれかの値をとり得る。ｉｎ ｓｉｔｕ生成ヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物を生成するために利用され得るアルコールは、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、もしくはオクタノール；代替的には、メタノール、エタノール、ブタノール、ヘキサノール、もしくはオクタノール；代替的には、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソ－ブタノール、ｎ－ヘキサノール、もしくはｎ－オクタノール；代替的には、メタノール、エタノール、ｎ－ブタノール、もしくはイソ－ブタノール；代替的には、メタノール；代替的には、エタノール；代替的には、ｎ－プロパノール；代替的には、ｎ－ブタノール；代替的には、イソ－ブタノール；代替的には、ｎ－ヘキサノール；または代替的には、ｎ－オクタノールであり得る。ｉｎ ｓｉｔｕ生成ヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物を生成するために利用され得るカルボン酸またはカルボン酸の単純エステルのカルボン酸は、Ｃ_２～Ｃ_２０、Ｃ_２～Ｃ_１０、もしくはＣ_２～Ｃ_６カルボン酸；代替的には酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、安息香酸、メチル安息香酸、ジメチル安息香酸、もしくはフェニル酢酸；代替的には、酢酸、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、もしくはオクタン酸；代替的には、安息香酸、メチル安息香酸、もしくはジメチル安息香酸；または代替的には、フェニル酢酸であり得る。概して、カルボン酸の単純エステルのアルコール由来部分のアルコールは、メタノール及び／またはエタノール、代替的には、メタノール、またはエタノールであり得る。ジヒドロカルビルアザニドを有するｉｎ ｓｉｔｕ生成ヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物を生成するために利用され得るアミンは、Ｃ_２～Ｃ_２０、Ｃ_２～Ｃ_１０、もしくはＣ_２～Ｃ_６アミン；代替的には、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ピロリジン、ピペリジン、ジフェニルアミン、ジトルイルアミン、ジキシリアミン、もしくはジベンジルアミン；代替的には、ジメチルアミン、ジエチルアミン、もしくはジプロピルアミン；代替的には、ピロリジンもしくはピペリジン；代替的には、ジフェニルアミン、ジトルイルアミン、ジキシリアミン；または代替的にはジベンジルアミンであり得る。カルボキサミドアニオンを有するｉｎ ｓｉｔｕ生成ヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物を生成するために利用され得るアミドは、Ｃ_２～Ｃ_２０、Ｃ_２～Ｃ_１０、もしくはＣ_２～Ｃ_６アミド；代替的には、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、２－ピロリドン、バレロラクタム、もしくはカプロラクタム；代替的には、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド；代替的には、２－ピロリドン、バレロラクタム、もしくはカプロラクタム；代替的には、ジメチルホルムアミド；代替的には、ジメチルアセトアミド；代替的には、２－ピロリドン；代替的には、バレロラクタム；または代替的には、カプロラクタムであり得る。式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎまたはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑ（式中、Ｘ^２の少なくとも一部（またはすべて）は、アルコキシド、カルボキシレート、ジヒドロカルビルアザニド、及び／またはカルボキサミドアニオンである）を有するｉｎ ｓｉｔｕ生成ヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物を調製するために使用される、アルコール、カルボン酸、カルボン酸エステル、アミン、及び／またはアミドと、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎまたはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑを有するヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物とのモル比は、０．１：１～１：１、０．１：１～０．７５：１、または０．１：１～０．５：１の範囲内であり得る。

【0069】

概して、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎまたはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑを有するｉｎ ｓｉｔｕ生成ヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物は、所望のｉｎ ｓｉｔｕ生成ヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物を生成し得る任意の方法で形成され得る。一態様において、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎまたはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑ（式中、Ｘ^２の少なくとも一部（またはすべて）は、アルコキシド、カルボキシレート、ジヒドロカルビルアザニド、及び／またはカルボキサミドアニオンである）を有するｉｎ ｓｉｔｕ生成ヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物は、１）ｉｎ ｓｉｔｕ生成ヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物を触媒システムのジルコニウム化合物成分と接触させる前に、アルコール、カルボン酸もしくはカルボン酸の単純エステル、アミン、及び／またはアミドを、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ及び／またはＡｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑを有する適切な（または所望の）ヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物と接触させることによって形成され得る。

【0070】

触媒システムのヒドロカルビル金属（またはアルキル金属、またはヒドロカルビルアルミニウム、またはアルキルアルミニウム）化合物として利用され得るアルミノキサン化合物は、メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）、エチルアルミノキサン、修飾メチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ）、ｎ－プロピルアルミノキサン、イソ－プロピル－アルミノキサン、ｎ－ブチルアルミノキサン、ｓｅｃ－ブチルアルミノキサン、イソ－ブチルアルミノキサン、ｔ－ブチルアルミノキサン、１－ペンチルアルミノキサン、２－エンチルアルミノキサン、３－ペンチルアルミノキサン、イソ－ペンチルアルミノキサン、ネオペンチルアルミノキサン、またはそれらの任意の組み合わせを含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。いくつかの非限定的な態様において、アルミノキサンは、メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）、修飾メチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ）、イソブチルアルミノキサン、ｔ－ブチルアルミノキサン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）；代替的には、エチルアルミノキサン；代替的には、修飾メチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ）；代替的には、ｎ－プロピルアルミノキサン；代替的には、イソ－プロピルアルミノキサン；代替的には、ｎ－ブチルアルミノキサン；代替的には、ｓｅｃ－ブチルアルミノキサン；代替的には、イソ－ブチルアルミノキサン；代替的には、ｔ－ブチルアルミノキサン；代替的には、１－ペンチル－アルミノキサン；代替的には、２－ペンチルアルミノキサン；代替的には、３－ペンチルアルミノキサン；代替的には、イソ－ペンチルアルミノキサン；または代替的には、ネオペンチルアルミノキサンを含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。

【0071】

本明細書に記載されるプロセスの触媒システムで利用され得る非限定的な例示的ヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物は、Ａｌ（ＣＨ_３）_３、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_３、Ａｌ（Ｃ_３Ｈ_７）_３、Ａｌ（Ｃ_４Ｈ_９）_３、Ａｌ（Ｃ_５Ｈ_１１）_３、Ａｌ（Ｃ_６Ｈ_１３）_３、Ａｌ（Ｃ_８Ｈ_１７）_３、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２Ｃｌ、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２Ｂｒ、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２Ｉ、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）Ｃｌ_２、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）Ｂｒ_２、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）Ｉ_２、ＡｌＣ_２Ｈ_５（ＯＣ_２Ｈ_５）_２、ＡｌＣ_２Ｈ_５（ＯＣ_３Ｈ_７）_２、ＡｌＣ_２Ｈ_５（ＯＣ_４Ｈ_９）_２、Ａｌ（ＯＣ_２Ｈ_５）_２Ｃｌ、Ａｌ（ＯＣ_３Ｈ_７）_２Ｃｌ、Ａｌ（ＯＣ_４Ｈ_９）_２Ｃｌ、Ａｌ（ＯＣ_２Ｈ_５）Ｃｌ_２、Ａｌ（ＯＣ_３Ｈ_７）Ｃｌ_２、Ａｌ（ＯＣ_４Ｈ_９）Ｃｌ_２、ＡｌＣ_２Ｈ_５（ＯＣＯＣ_２Ｈ_５）_２、ＡｌＣ_２Ｈ_５（ＯＣＯＣ_３Ｈ_７）_２、ＡｌＣ_２Ｈ_５（ＯＣＯＣ_４Ｈ_９）_２、Ａｌ（ＯＣＯＣ_２Ｈ_５）_２Ｃｌ、Ａｌ（ＯＣＯＣ_３Ｈ_７）_２Ｃｌ、Ａｌ（ＯＣＯＣ_４Ｈ_９）_２Ｃｌ、Ａｌ（ＯＣＯＣ_２Ｈ_５）Ｃｌ_２、Ａｌ（ＯＣＯＣ_３Ｈ_７）Ｃｌ_２、Ａｌ（ＯＣＯＣ_４Ｈ_９）Ｃｌ_２、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２ＯＣ_２Ｈ_５、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２ＯＣ_３Ｈ_７、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２ＯＣ_４Ｈ_９、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２Ｎ（Ｃ_２Ｈ_５）_２、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２Ｎ（Ｃ_３Ｈ_７）_２、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２Ｎ（Ｃ_４Ｈ_９）_２、Ａｌ_２（ＣＨ_３）_３Ｃｌ_３、Ａｌ_２（ＣＨ_３）_３Ｂｒ_３、Ａｌ_２（Ｃ_２Ｈ_５）_３Ｃｌ_３、Ａｌ_２（Ｃ_２Ｈ_５）_３Ｂｒ_３、Ａｌ_２（Ｃ_２Ｈ_５）_３Ｉ_３、Ａｌ_２（Ｃ_２Ｈ_５）_２ＢｒＣｌ_２、Ａｌ_２（Ｃ_３Ｈ_７）_３Ｃｌ_３、Ａｌ_２（Ｃ_４Ｈ_９）_３Ｃｌ_３、Ａｌ_２（Ｃ_５Ｈ_７）_３Ｃｌ_３、Ａｌ_２（ＯＣＯＣ_４Ｈ_９）_３Ｃｌ_３、またはそれらの任意の組み合わせを含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。いくつかの態様では、ヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物は、Ａｌ（ＣＨ_３）_３、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_３、Ａｌ（Ｃ_３Ｈ_７）_３、Ａｌ（Ｃ_４Ｈ_９）_３、Ａｌ（Ｃ_５Ｈ_１１）_３、Ａｌ（Ｃ_６Ｈ_１３）_３、Ａｌ（Ｃ_８Ｈ_１７）_３、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２Ｃｌ、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２Ｂｒ、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２Ｉ、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）Ｃｌ_２、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）Ｂｒ_２、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）Ｉ_２、Ａｌ_２（ＣＨ_３）_３Ｃｌ_３、Ａｌ_２（ＣＨ_３）_３Ｂｒ_３、Ａｌ_２（Ｃ_２Ｈ_５）_３Ｃｌ_３、Ａｌ_２（Ｃ_２Ｈ_５）_３Ｂｒ_３、Ａｌ_２（Ｃ_２Ｈ_５）_３Ｉ_３、Ａｌ_２（Ｃ_２Ｈ_５）_２ＢｒＣｌ_２、Ａｌ_２（Ｃ_３Ｈ_７）_３Ｃｌ_３、Ａｌ_２（Ｃ_４Ｈ_９）_３Ｃｌ_３、Ａｌ_２（Ｃ_５Ｈ_７）_３Ｃｌ_３、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ＡｌＣ_２Ｈ_５（ＯＣ_２Ｈ_５）_２、ＡｌＣ_２Ｈ_５（ＯＣ_３Ｈ_７）_２、ＡｌＣ_２Ｈ_５（ＯＣ_４Ｈ_９）_２、ＡｌＣ_２Ｈ_５（ＯＣＯＣ_２Ｈ_５）_２、ＡｌＣ_２Ｈ_５（ＯＣＯＣ_３Ｈ_７）_２、ＡｌＣ_２Ｈ_５（ＯＣＯＣ_４Ｈ_９）_２、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２ＯＣ_２Ｈ_５、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２ＯＣ_３Ｈ_７、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２ＯＣ_４Ｈ_９、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２Ｎ（Ｃ_２Ｈ_５）_２、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２Ｎ（Ｃ_３Ｈ_７）_２、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２Ｎ（Ｃ_４Ｈ_９）_２、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ＡｌＣ_２Ｈ_５（ＯＣ_２Ｈ_５）_２、ＡｌＣ_２Ｈ_５（ＯＣ_３Ｈ_７）_２、ＡｌＣ_２Ｈ_５（ＯＣ_４Ｈ_９）_２、もしくはそれらの任意の組み合わせ；または代替的には、ＡｌＣ_２Ｈ_５（ＯＣＯＣ_２Ｈ_５）_２、ＡｌＣ_２Ｈ_５（ＯＣＯＣ_３Ｈ_７）_２、ＡｌＣ_２Ｈ_５（ＯＣＯＣ_４Ｈ_９）_２、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２ＯＣ_２Ｈ_５、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２ＯＣ_３Ｈ_７、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２ＯＣ_４Ｈ_９、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２Ｎ（Ｃ_２Ｈ_５）_２、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２Ｎ（Ｃ_３Ｈ_７）_２、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２Ｎ（Ｃ_４Ｈ_９）_２、もしくはそれらの任意の組み合わせを含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。他の態様では、ヒドロカルビルアルミニウム（またはアルキルアルミニウム）化合物は、Ａｌ_２（ＣＨ_３）_３Ｃｌ_３、Ａｌ_２（ＣＨ_３）_３Ｂｒ_３、Ａｌ_２（Ｃ_２Ｈ_５）_３Ｃｌ_３、Ａｌ_２（Ｃ_２Ｈ_５）_３Ｂｒ_３、Ａｌ_２（Ｃ_２Ｈ_５）_３Ｉ_３、Ａｌ_２（Ｃ_２Ｈ_５）_２ＢｒＣｌ_２、Ａｌ_２（Ｃ_３Ｈ_７）_３Ｃｌ_３、Ａｌ_２（Ｃ_４Ｈ_９）_３Ｃｌ_３、Ａｌ_２（Ｃ_５Ｈ_７）_３Ｃｌ_３、もしくはそれらの任意の組み合わせ；または代替的には、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_３、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２Ｃｌ、Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）Ｃｌ_２、Ａｌ_２（Ｃ_２Ｈ_５）_３Ｃｌ_３、もしくはそれらの任意の組み合わせを含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。

【0072】

ヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム、またはアルキルアルミニウム）化合物の金属と、ジルコニウム化合物のジルコニウムとのモル比（本明細書ではＭ：Ｚｒモル比ともいう）は、オリゴマー生成物を形成し得る触媒システムをもたらす任意の値であり得る。一態様において、最小Ｍ：Ｚｒ（またはＡｌ：Ｚｒ）モル比は、０．１：１、０．２：１、０．６：１、１：１、２：１ １０：１であり得、代替的または追加的には、最大Ｍ：Ｚｒ（またはＡｌ：Ｚｒ）モル比は、１００：１ ７５：１、５０：１ ２５：１、１５：１、または１０：１であり得る。概して、Ｍ：Ｚｒ（またはＡｌ：Ｚｒ）モル比は、本明細書で開示されるいずれかの最小Ｍ：Ｚｒ（またはＡｌ：Ｚｒ）モル比から、本明細書で開示されるいずれかの最大Ｍ：Ｚｒ（またはＡｌ：Ｚｒ）モル比までの範囲をとり得る。したがって、Ｍ：Ｚｒ（またはＡｌ：Ｚｒ）モル比の好適な非限定的範囲は、０．１：１～１００：１、０．２：１～７５：１、０．６：１～２５：１、１：１～５０：１、２：１～２５：１、１：１～１５：１、２：１～１０：１、１０：１～５０：１、または１０：１～２５：１の範囲をとり得る。他の適切なＭ：Ｚｒ（またはＡｌ：Ｚｒ）モル範囲は、本開示から容易に分かる。

【0073】

いくつかの態様では、触媒システムは、中性非イオン性有機修飾剤をさらに含む（または成分として有する）ことができる。概して、中性非イオン性有機修飾剤は、ジルコニウム化合物及びヒドロカルビル金属化合物と併せてオリゴマー生成物を形成することができる任意の中性非イオン性有機修飾剤であり得る。中性非イオン性有機修飾剤は、エーテル、エステル、ケトン、アルデヒド、アルコール、無水物、酸クロリド、ニトリル、スルフィド、ジスルフィド、ホスフィン、アミン、もしくはアミド；代替的には、エーテル；代替的には、エステル、代替的には、ケトン；代替的には、アルデヒド；代替的には、アルコール；代替的には、スルフィド；代替的には、ジスルフィド、代替的には、ニトリル；代替的には、ホスフィン；代替的には、アミン；または代替的には、アミンを含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。

【0074】

中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るエーテルは、Ｃ_２～Ｃ_２０、Ｃ_２～Ｃ_１５、またはＣ_２～Ｃ_１０エーテルであり得る。中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るスルフィドは、Ｃ_２～Ｃ_２０、Ｃ_２～Ｃ_１５、またはＣ_２～Ｃ_１０スルフィドであり得る。中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るジスルフィドは、Ｃ_２～Ｃ_２０、Ｃ_２～Ｃ_１５、またはＣ_２～Ｃ_１０ジスルフィドであり得る。エーテルは、構造Ｒ^１１ＯＲ^１２を有し得る。スルフィドは、構造Ｒ^１１ＳＲ^１２を有し得る。ジスルフィドは、構造Ｒ^１１ＳＳＲ^１２を有し得る。エーテル、スルフィド、及び／またはジスルフィドの各Ｒ^１１及びＲ^１２は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビル基、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１５もしくはＣ_５～Ｃ_１０シクロアルキル基、Ｃ_６～Ｃ_１５もしくはＣ_６～Ｃ_１０アリール基、またはＣ_７～Ｃ_１５もしくはＣ_７～Ｃ_１０アラルキル基であり得る。非限定的な態様において、中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るエーテルは、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジトリルエーテル、ジキシリルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン、フラン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ジベンゾフラン、またはそれらの任意の組み合わせを含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。いくつかの態様では、中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るエーテルは、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジトリルエーテル、ジキシリルエーテル、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、フラン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ジベンゾフラン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ジエチルエーテル；代替的には、ジプロピルエーテル；代替的には、ジブチルエーテル；代替的には、ジフェニルエーテル；代替的には、代替的には、ジトリルエーテル；代替的には、ジキシリルエーテル、テトラヒドロフラン；代替的には、テトラヒドロピラン；代替的には、ジオキサン；代替的には、フラン；代替的には、ベンゾフラン；代替的には、イソベンゾフラン；または代替的には、ジベンゾフランを含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。非限定的な態様において、中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るスルフィドは、ジメチルスルフィド、ジエチルスルフィド、ジプロピルスルフィド、ジヘキシルスルフィド、ジオクチルスルフィド、ジシクロヘキシルスルフィド、ジフェニルスルフィド、チオフェン、メチルチオフェン（例えば、２－メチルチオフェンもしくは３－メチルチオフェン）、ジメチルチオフェン（例えば、２，３－ジメチルチオフェン）、エチルチオフェン、ベンゾチオフェン、テトラヒドロチオフェン、チオピラン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、代替的には、ジメチルスルフィド、ジエチルスルフィド、ジプロピルスルフィド、ジブチルスルフィド、ジヘキシルスルフィド、ジオクチルスルフィド、ジシクロヘキシルスルフィド、ジフェニルスルフィド、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的にはチオフェン、メチルチオフェン（例えば、２－メチルチオフェンもしくは３－メチルチオフェン）、ジメチルチオフェン（例えば、２，３－ジメチルチオフェン）、エチルチオフェン、ベンゾチオフェン、テトラヒドロチオフェン、チオピラン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ジメチルスルフィド；代替的には、ジエチルスルフィド；代替的には、ジブチルスルフィド；代替的には、ジヘキシルスルフィド；代替的には、ジオクチルスルフィド；代替的には、ジシクロヘキシルスルフィド；代替的には、ジフェニルスルフィド；代替的には、チオフェン；代替的には、テトラヒドロチオフェン；または代替的には、チオ尿素を含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。一態様において、ジスルフィドは、ジメチルジスルフィド、ジエチルジスルフィド、ジプロピルジスルフィド、ジブチルジスルフィド、ジヘキシルジスルフィド、ジオクチルジスルフィド、ジシクロヘキシルジスルフィド、エチルメチルジスルフィド、ジフェニルジスルフィド、メチルフェニルジスルフィド、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ジメチルジスルフィド、ジエチルジスルフィド、ジプロピルジスルフィド、ジブチルジスルフィド、ジヘキシルジスルフィド、ジオクチルジスルフィド、ジシクロヘキシルジスルフィド、エチルメチルジスルフィド、ジフェニルジスルフィド、メチルフェニルジスルフィド、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ジメチルジスルフィド；代替的には、ジエチルジスルフィド；代替的には、ジブチルジスルフィド；代替的には、ジオクチルジスルフィド；または代替的には、ジフェニルジスルフィドを含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。

【0075】

中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るエステルは、Ｃ_３～Ｃ_２０、Ｃ_３～Ｃ_１５、またはＣ_３～Ｃ_１０エステルであり得る。エステルは、構造Ｒ^１３（Ｃ＝Ｏ）ＯＲ^１４を有し得る。エステルのＲ^１３及びＲ^１４は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビル基、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１５もしくはＣ_５～Ｃ_１０シクロアルキル基、Ｃ_６～Ｃ_１５もしくはＣ_６～Ｃ_１０アリール基、またはＣ_７～Ｃ_１５もしくはＣ_７～Ｃ_１０アラルキル基であり得る。中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るエステルは、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビル、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５アルキル、Ｃ_５～Ｃ_１５もしくはＣ_５～Ｃ_１０シクロアルキル、Ｃ_６～Ｃ_１５もしくはＣ_６～Ｃ_１０アリール、またはＣ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビル、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５アルキル、Ｃ_６～Ｃ_１５もしくはＣ_６～Ｃ_１０アリール、もしくはＣ_７～Ｃ_１５もしくはＣ_７～Ｃ_１０アラルキルカルボン酸のＣ_７～Ｃ_１５もしくはＣ_７～Ｃ_１０アラルキルエステルであり得る。非限定的な態様において、中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るエステルは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、フェニル、トルイル、キシリル、もしくはベンジルアセテート、プロピオネート、ブタノエート、ペンタノエート、ヘキサノエート、ヘプタノエート、オクタノエート、ノナノエート、デカノエート、ベンゾエート、メチルベンゾエート、ジメチルベンゾエート、もしくはナフタノエート；代替的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、もしくはトリデシル、アセテート、プロピオネート、ブタノエート、ペンタノエート、ヘキサノエート、ヘプタノエート、オクタノエート、ノナノエート、デカノエート；代替的には、フェニル、トルイル、キシリル、もしくはベンジルアセテート、プロピオネート、ブタノエート、ペンタノエート、ヘキサノエート、ヘプタノエート、オクタノエート、ノナノエート、もしくはデカノエート；または代替的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、もしくはトリデシルベンゾエート、メチルベンゾエート、ジメチルベンゾエート、もしくはナフタノエートを含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。いくつかの態様では、中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るエステルは、Ｃ_４～Ｃ_２０、Ｃ_４～Ｃ_１５、もしくはＣ_４～Ｃ_１０環式エステル；代替的には、ブチロラクトン、バレロラクトン、フタリド、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ブチロラクトン；代替的には、バレロラクトン；または代替的には、フタリドであり得る。

【0076】

中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るアルデヒドは、Ｃ_２～Ｃ_２０、Ｃ_２～Ｃ_１５、またはＣ_２～Ｃ_１０アルデヒドであり得る。中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るケトンは、Ｃ_３～Ｃ_２０、Ｃ_３～Ｃ_１５、またはＣ_３～Ｃ_１０ケトンであり得る。アルデヒドは、構造Ｒ^１５（Ｃ＝Ｏ）Ｈを有し得る。ケトンは、構造Ｒ^１５（Ｃ＝Ｏ）Ｒ^１６を有し得る。アルデヒドのＲ^１５、ならびにケトンのＲ^１５及びＲ^１６は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビル基、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１５もしくはＣ_５～Ｃ_１０シクロアルキル基、Ｃ_６～Ｃ_１５もしくはＣ_６～Ｃ_１０アリール基、またはＣ_７～Ｃ_１５もしくはＣ_７～Ｃ_１０アラルキル基であり得る。非限定的な態様において、中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るアルデヒドは、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、ベンズアルデヒド、トルアルデヒド、キシリルアルデヒド、フルアルデヒド、またはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、またはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ベンズアルデヒド、トルアルデヒド、キシリルアルデヒド、またはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ホルムアルデヒド；代替的には、アセトアルデヒド；代替的には、プロピオンアルデヒド；代替的には、ブチルアルデヒド；代替的には、ベンズアルデヒド；代替的には、トルアルデヒド；代替的には、キシリルアルデヒド；代替的には、フルアルデヒドを含み得るか、またはそれらから本質的になり得る。中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るケトンは、プロパノン、ブタノン、ペンタノン、ヘキサノン、ヘプタノン、オクタノン、ノナノン、デカノン、フェニルエタノン、フェニルプロパノン、ベンゾフェノン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、プロパノン、ブタノン、ペンタノン、ヘキサノン、ヘプタノン、オクタノン、ノナノン、デカノン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、フェニルエタノン、フェニルプロパノン、ベンゾフェノン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、プロパノン；代替的には、ブタノン；代替的には、ペンタノン；代替的には、ヘキサノン；代替的には、ヘプタノン；代替的には、オクタノン；代替的には、ノナノン；代替的には、デカノン；代替的には、フェニルエタノン；代替的には、フェニルプロパノン；または代替的には、ベンゾフェノンを含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。

【0077】

中性非イオン性有機修飾剤として利用され得る酸ハライドは、Ｃ_２～Ｃ_２０、Ｃ_２～Ｃ_１５、またはＣ_２～Ｃ_１０酸ハライドであり得る。中性非イオン性有機修飾剤として利用され得る無水物は、Ｃ_２～Ｃ_２０、Ｃ_２～Ｃ_１５、またはＣ_２～Ｃ_１０無水物であり得る。酸ハライドは、構造Ｒ^１７（Ｃ＝Ｏ）Ｘ^１０を有し得る。無水物は、構造Ｒ^１７（Ｃ＝Ｏ）Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒ^１７を有し得る。酸ハライドのＸ^１０は、クロリド、ブロミド、もしくはヨージド；代替的には、クロリド；代替的には、ブロミド；または代替的には、ヨージドであり得る。酸ハライド及び無水物の各Ｒ^１７は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビル基、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１５もしくはＣ_５～Ｃ_１０シクロアルキル基、Ｃ_６～Ｃ_１５もしくはＣ_６～Ｃ_１０アリール基、またはＣ_７～Ｃ_１５もしくはＣ_７～Ｃ_１０アラルキル基であり得る。非限定的な態様において、中性非イオン性有機修飾剤として利用され得る酸ハライドは、アセチルクロリド、アセチルブロミド、プロピオニルクロリド、プロピオニルブロミド、ブチリルクロリド、バレロイルクロリド、ヘキサノイルクロリド、ベンゾイルクロリド、ベンゾイルブロミド、メチルベンゾイルクロリド、ジメチルベンゾイルクロリド、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、アセチルクロリド、アセチルブロミド、プロピオニルクロリド、プロピオニルブロミド、ブチリルクロリド、バレロイルクロリド、ヘキサノイルクロリド、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ベンゾイルクロリド、ベンゾイルブロミド、メチルベンゾイルクロリド、ジメチルベンゾイルクロリド、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、アセチルクロリド；代替的には、アセチルブロミド；代替的には、プロピオニルクロリド；代替的には、プロピオニルブロミド；代替的には、ブチリルクロリド；代替的には、バレロイルクロリド；代替的には、ヘキサノイルクロリド；代替的には、ベンゾイルクロリド；代替的には、ベンゾイルブロミド；代替的には、メチルベンゾイルクロリド；または代替的には、ジメチルベンゾイルクロリドを含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。

【0078】

非限定的な態様において、中性非イオン性有機修飾剤として利用され得る無水物は、エタン酸無水物、プロパン酸無水物、ブタン酸無水物、ヘキサン酸無水物、マレイン酸無水物、コハク酸無水物、グルタル酸無水物、安息香酸無水物、メチル安息香酸無水物、ジメチル安息香酸無水物、フタル酸無水物、ホモフタル酸無水物、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、エタン酸無水物、プロパン酸無水物、ブタン酸無水物、ヘキサン酸無水物；代替的には、マレイン酸無水物、コハク酸無水物、グルタル酸無水物、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、安息香酸無水物、メチル安息香酸無水物、ジメチル安息香酸無水物、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、フタル酸無水物、ホモフタル酸無水物、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、エタン酸無水物；代替的には、プロパン酸無水物；代替的には、ブタン酸無水物；代替的には、ヘキサン酸無水物；代替的には、マレイン酸無水物；代替的には、コハク酸無水物；代替的には、グルタル酸無水物；代替的には、安息香酸無水物；代替的には、メチル安息香酸無水物；代替的には、ジメチル安息香酸無水物；代替的には、フタル酸無水物；または代替的には、ホモフタル酸無水物であり得る。

【0079】

中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るニトリルは、Ｃ_２～Ｃ_２０、Ｃ_２～Ｃ_１５、またはＣ_２～Ｃ_１０ニトリルであり得る。ニトリルは、構造Ｒ^１８ＣＮを有し得る。ニトリルのＲ^１８は、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビル基、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１５もしくはＣ_５～Ｃ_１０シクロアルキル基、Ｃ_６～Ｃ_１５もしくはＣ_６～Ｃ_１０アリール基、またはＣ_７～Ｃ_１５もしくはＣ_７～Ｃ_１０アラルキル基であり得る。非限定的な態様において、中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るニトリルは、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、ベンゾニトリル、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、アセトニトリル；代替的には、プロピオニトリル；代替的には、ブチロニトリル；または代替的には、ベンゾニトリルを含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。

【0080】

中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るホスフィンは、Ｃ_３～Ｃ_２０、Ｃ_３～Ｃ_１５、またはＣ_３～Ｃ_１０、ホスフィンであり得る。ホスフィンは、構造（Ｒ^１９）_３Ｐを有し得る。アミンは、構造（Ｒ^１９）_３Ｎを有し得る。ホスフィンの各Ｒ^１９は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビル基、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１５もしくはＣ_５～Ｃ_１０シクロアルキル基、Ｃ_６～Ｃ_１５もしくはＣ_６～Ｃ_１０アリール基、またはＣ_７～Ｃ_１５もしくはＣ_７～Ｃ_１０アラルキル基であり得る。非限定的な態様において、中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るホスフィンは、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリヘキシルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリシクロペンチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリヘキシルホスフィン、トリオクチルホスフィン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、トリシクロペンチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、トリエチルホスフィン；代替的には、トリブチルホスフィン；代替的には、トリヘキシルホスフィン；代替的には、トリオクチルホスフィン；代替的には、トリシクロペンチルホスフィン；代替的には、トリシクロヘキシルホスフィン；または代替的には、トリフェニルホスフィンを含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。

【0081】

中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るアミンは、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１５、またはＣ_１～Ｃ_１０アミンであり得る。アミンは、構造Ｈ_２ＮＲ^２０、ＨＮ（Ｒ^２０）_２、Ｎ（Ｒ^２０）_３、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、Ｈ_２ＮＲ^２０；代替的には、ＨＮ（Ｒ^２０）_２；または代替的には、Ｎ（Ｒ^２０）_３を有し得る。構造Ｈ_２ＮＲ^２０、ＨＮ（Ｒ^２０）_２、またはＮ（Ｒ^２０）_３を有するアミンの各Ｒ^２０は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビル基、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１５もしくはＣ_５～Ｃ_１０シクロアルキル基、Ｃ_６～Ｃ_１５もしくはＣ_６～Ｃ_１０アリール基、またはＣ_７～Ｃ_１５もしくはＣ_７～Ｃ_１０アラルキル基であり得る。非限定的な態様において、中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るアミンは、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、ピペリジン、メチルピペリジン、ジメチルピペリジン、トリメチルピペリジン、テトラメチルピペリジン、アニリン、ベンジルアミン、ナフチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジフェニルアミン、メチルフェニルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリフェニルアミン、ピリジン、ピコリン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、アニリン、ベンジルアミン、ナフチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジフェニルアミン、メチルフェニルアミン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、アニリン、ベンジルアミン、ナフチルアミン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジフェニルアミン、メチルフェニルアミン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ピペリジン、メチルピペリジン、ジメチルピペリジン、トリメチルピペリジン、テトラメチルピペリジン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリフェニルアミン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ピリジン、ピコリン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、アニリン、ナフチルアミン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジフェニルアミン、メチルフェニルアミン；もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリフェニルアミン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、メチルアミン；代替的には、エチルアミン；代替的には、プロピルアミン；代替的には、ブチルアミン；代替的には、ペンチルアミン；代替的には、ヘキシルアミン；代替的には、ヘプチルアミン；代替的には、オクチルアミン；代替的には、デシルアミン；代替的には、シクロペンチルアミン；代替的には、シクロヘキシルアミン；代替的には、ピペリジン；代替的には、メチルピペリジン；代替的には、ジメチルピペリジン；代替的には、トリメチルピペリジン；代替的には、テトラメチルピペリジン；代替的には、アニリン；代替的には、ベンジルアミン；代替的には、ナフチルアミン；代替的には、ジメチルアミン；代替的には、ジエチルアミン；代替的には、ジブチルアミン；代替的には、ジフェニルアミン；代替的には、メチルフェニルアミン；代替的には、トリメチルアミン；代替的には、トリエチルアミン；代替的には、トリブチルアミン；代替的には、トリフェニルアミン；代替的には、ピリジン；または代替的には、ピコリンを含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。

【0082】

中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るアミドは、Ｃ_２～Ｃ_２０、Ｃ_２～Ｃ_１５、またはＣ_２～Ｃ_１０アミドであり得る。アミドは、構造Ｈ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨＲ^２２、Ｈ（Ｃ＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^２２）_２、Ｒ^２１（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ_２、Ｒ^２１（Ｃ＝Ｏ）ＮＨＲ^２２、Ｒ（Ｃ＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^２２）_２、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、Ｈ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨＲ^２２もしくはＨ（Ｃ＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^２２）_２、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、Ｒ^２１（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ_２、Ｒ^２１（Ｃ＝Ｏ）ＮＨＲ^２２、もしくはＲ（Ｃ＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^２２）_２、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、Ｈ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨＲ^２２；代替的には、Ｈ（Ｃ＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^２２）_２；代替的には、Ｒ^２１（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ_２；代替的には、Ｒ^２１（Ｃ＝Ｏ）ＮＨＲ^２２；または代替的には、Ｒ（Ｃ＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^２２）_２を有し得る。アミドのＲ^２１及び各Ｒ^２２は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビル基、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１５もしくはＣ_５～Ｃ_１０シクロアルキル基、Ｃ_６～Ｃ_１５もしくはＣ_６～Ｃ_１０アリール基、またはＣ_７～Ｃ_１５もしくはＣ_７～Ｃ_１０アラルキル基であり得る。非限定的な態様において、中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るアミドは、Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－エチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルホルムアミド、Ｎ－プロピルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジプロピルホルムアミド、Ｎ－ブチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジブチルホルムアミド、Ｎ－フェニルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジフェニルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ－メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－エチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアセトアミド、Ｎ－プロピルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジプロピルアセトアミド、Ｎ－ブチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジブチルアセトアミド、Ｎ－フェニルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジフェニルアセトアミド、Ｎ－（メチルフェニル）アセトアミド、Ｎ，Ｎ－（ジメチルフェニル）アセトアミド、プロピオンアミド、Ｎ－メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピオンアミド、Ｎ－エチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルプロピオンアミド、Ｎ－フェニルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ－ジフェニルプロピオンアミド、ブチルアミド、Ｎ－メチルブチルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルブチルアミド、Ｎ－エチルブチルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルブチルアミド、Ｎ－フェニルブチルアミド、Ｎ，Ｎ－ジフェニルブチルアミド、ベンズアミド、Ｎ－メチルベンズアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルベンズアミド、Ｎ－エチルベンズアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルベンズアミド、Ｎ－フェニルベンズアミド、Ｎ，Ｎ－ジフェニルベンズアミド、メチルベンズアミド、Ｎ－メチル－メチルベンズアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル－メチルベンズアミド、Ｎ－エチル－メチルベンズアミドＮ，Ｎ－ジエチル－メチルベンズアミド、Ｎ－フェニル－メチルベンズアミドＮ，Ｎ－ジフェニル－メチルベンズアミドもしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－エチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアセトアミド、Ｎ－フェニルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジフェニルアセトアミド、Ｎ－メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピオンアミド、Ｎ－メチルベンズアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルベンズアミド、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、Ｎ－メチルホルムアミド；代替的には、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド；代替的には、Ｎ－メチルアセトアミド；代替的には、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド；代替的には、Ｎ－エチルアセトアミド；代替的には、Ｎ，Ｎ－ジエチルアセトアミド；代替的には、Ｎ－フェニルアセトアミド；代替的には、Ｎ，Ｎ－ジフェニルアセトアミド；代替的には、Ｎ－メチルプロピオンアミド；代替的には、Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピオンアミド；代替的には、Ｎ－メチルベンズアミド；または代替的には、Ｎ，Ｎ－ジメチルベンズアミドを含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。

【0083】

中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るアルコールは、Ｃ_２～Ｃ_２０、Ｃ_２～Ｃ_１５、またはＣ_２～Ｃ_１０アルコールであり得る。ニトリルは、構造Ｒ^２３ＣＨ_２ＯＨを有し得る。アルコールニトリルのＲ^２３は、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビル基、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１５もしくはＣ_５～Ｃ_１０シクロアルキル基、Ｃ_６～Ｃ_１５もしくはＣ_６～Ｃ_１０アリール基、またはＣ_７～Ｃ_１５もしくはＣ_７～Ｃ_１０アラルキル基であり得る。非限定的な態様において、中性非イオン性有機修飾剤として利用され得るアルコールは、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、フェノール、メチルフェノール、ジメチルフェノール、エチルフェノール、プロピルフェノール、ジブチルフェノール、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、メチルフェノール、ジメチルフェノール、エチルフェノール、プロピルフェノール、ジブチルフェノール、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、メタノール；代替的には、エタノール；代替的には、プロパノール；代替的には、ブタノール；代替的には、ペンタノール；代替的には、メチルフェノール；代替的には、ジメチルフェノール；代替的には、エチルフェノール；代替的には、プロピルフェノール；または代替的には、ジブチルフェノールを含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。

【0084】

概して、中性非イオン性有機修飾剤が利用される場合、中性非イオン性有機修飾剤は、ジルコニウム化合物及び／またはヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物との関連で利用され得る。中性非イオン性有機修飾剤とジルコニウム化合物のジルコニウムとのモル比（本明細書では修飾剤：Ｚｒモル比ともいう）及び／または中性非イオン性有機修飾剤とヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物とのモル比（本明細書では修飾剤：Ｍ（または修飾剤：Ａｌ）モル比ともいう）は、触媒システムがエチレンと接触するとオリゴマー生成物を形成し得る任意の比であり得る。中性非イオン性有機修飾剤がジルコニウム化合物のジルコニウムとの関連で利用される場合、最小の修飾剤：Ｚｒモル比は、０．１：１、０．５：１、０．７５：１０．８：１、０．９：１、または１：１であり得、追加的または代替的には、最大の修飾剤：Ｚｒモル比は、２０：１、１５：１、１０：１ ７．５：１、または５：１であり得る。概して、修飾剤：Ｚｒモル比は、本明細書に記載されるいずれかの最小の修飾剤：Ｚｒモル比から、本明細書に記載されるいずれかの最大の修飾剤：Ｚｒモル比までの範囲をとり得る。したがって、好適な非限定的な修飾剤：Ｚｒモル比は、０．５：１ ２０：１、０．５：１～１５：１、０．７５：１０：１、１：１～１５：１、１：１～１０：１、１：１～５：１、０．５：１～５：１、０．７５：１～３：１、０．８：１～２：１、０．９：１または１．２５の範囲内であり得る。他の適切な修飾剤：Ｚｒモル比範囲は、本開示から容易に分かる。中性非イオン性有機修飾剤がヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物との関連で利用される場合、最小の修飾剤：Ｍ（または修飾剤：Ａｌ）モル比は、０．０５：１、０．１：１、０．５：１、０．７５：１ ０．８：１、０．９：１、または１：１であり得、追加的または代替的には、最大の修飾剤：Ｚｒモル比は、５：１、３：１、２：１、１．５：１、１：１、０．７５：１、または０．５：１であり得る。概して、最小の修飾剤：Ｍ（または修飾剤：Ａｌ）モル比は、本明細書に記載されるいずれかの最小の修飾剤：Ｍ（または修飾剤：Ａｌ）モル比から、本明細書に記載されるいずれかの最大の最小の修飾剤：Ｍ（または修飾剤：Ａｌ）モル比までの範囲をとり得る。したがって、好適な非限定的な最小の修飾剤：Ｍ（または修飾剤：Ａｌ）モル比は、０．５：１～５：１、０．５：１～３：１、０．７５：１～２：１、または０．７５：１～１．５：１の範囲内であり得る。他の適切な修飾剤：Ｍ（または修飾剤：Ａｌ）モル比範囲は、本開示から容易に分かる。

【0085】

一態様において、触媒システムを調製し、次いで、ｉ）エチレン、連鎖移動剤、及び任意選択の有機反応媒体と接触させるか、またはｉｉ）反応ゾーンに導入することができる。例えば、一態様において、本プロセスは、ジルコニウム化合物及びヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物を接触させて触媒システムを形成し、これを次いで、ｉ）エチレン、連鎖移動剤、及び任意選択の有機反応媒体と接触させること、またはｉｉ）反応ゾーンに導入することを含み得る。中性非イオン性有機修飾剤が触媒システムで利用される場合、中性非イオン性有機修飾剤は、ヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物を接触させる前にジルコニウム化合物と接触させてもよく、ジルコニウム化合物を接触させる前にヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物と接触させてもよく、またはジルコニウム化合物及びヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物の混合物と接触させてもよい。別の態様では、中性非イオン性有機修飾剤、ジルコニウム化合物、及びヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物を同時に接触させて、触媒システムを形成することができる。

【0086】

代替的な態様では、触媒システムは、触媒システムの２つ以上の成分を、ｉ）エチレン、連鎖移動剤、及び任意選択の有機反応媒体と別々に（及び／または同時に）接触させるか、またはｉｉ）反応ゾーンに別々に（及び／または同時に）導入して、ｉｎ－ｓｉｔｕで調製され得る。例えば、一態様において、本プロセスは、ｉ）ジルコニウム化合物及びヒドロカルビル化合物を、エチレン、連鎖移動剤、及び任意選択の有機反応媒体と別々に（及び／または同時に）接触させること、またはｉｉ）ジルコニウム化合物及びヒドロカルビル化合物を反応ゾーンに別々に（及び／または同時に）導入することを含み得る。一態様において、中性非イオン性有機修飾剤が触媒システムで利用される場合、ジルコニウム化合物（またはジルコニウム化合物／中性非イオン性有機修飾剤混合物）及びヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物をエチレン、連鎖移動剤、及び任意選択の有機反応媒体と別々に（及び／または同時に）接触させること、またはジルコニウム化合物（またはジルコニウム化合物／中性非イオン性有機修飾剤混合物）及びヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物を反応ゾーンに別々に（及び／または同時に）導入することの前に、中性非イオン性有機修飾剤をジルコニウム化合物と（ジルコニウム化合物／中性非イオン性有機修飾剤混合物を形成するために）接触させることができる。別の態様では、中性非イオン性有機修飾剤が触媒システムで利用される場合、ヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物またはヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物／中性非イオン性有機修飾剤混合物）及びジルコニウム化合物をエチレン、連鎖移動剤、及び任意選択の有機反応媒体と別々に（及び／または同時に）接触させること、あるいはヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物（またはヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物／中性非イオン性有機修飾剤混合物）及びジルコニウム化合物を反応ゾーンに別々に（及び／または同時に）導入することの前に、中性非イオン性有機修飾剤をヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物と（ヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物／中性非イオン性有機修飾剤混合物を形成するために）接触させることができる。さらなる態様では、中性非イオン性有機修飾剤が触媒システムで利用される場合、中性非イオン性有機修飾剤、ジルコニウム化合物、及びヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物を、エチレン、連鎖移動剤、及び任意選択の有機反応媒体と別々に（及び／または同時に）接触させてもよく、または反応ゾーンに別々に（及び／または同時に）導入してもよい。

【0087】

１つの非限定的な態様において、触媒システムは、式ＺｒＸ^１ _ｍを有するジルコニウム化合物を含むことができ、ヒドロカルビル金属化合物は、式ＡｌＸ^２ _ｎＲ^１ _３－ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３、Ｒ^１ _２Ｚｎ）またはそれらの任意の組み合わせを有するヒドロカルビル金属化合物を含むことができる。Ｘ^１、Ｘ^２、Ｒ^１、ｍ、及びｎは、独立的に本明細書に記載されており、これらの独立した記述は、式ＺｒＸ^１ _ｍを有するジルコニウム化合物と、式ＡｌＸ^２ _ｎＲ^１ _３－ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３を有するアルキルアルミニウム化合物、ジアルキル亜鉛化合物（Ｒ^１ _２Ｚｎ）を含むヒドロカルビル金属化合物とを含み得る触媒システムをさらに説明するために、制限なく任意の組み合わせで利用され得る。一態様において、ＺｒＸ^１ _ｍの各Ｘ^１は、独立的に、クロリドまたはブロミドであり得、ｍは、４である。一態様において、式ＺｒＸ^１ _ｍを有するジルコニウム化合物は、ＺｒＣ１_４、ＺｒＢｒ_４、ＺｒＣｌＢｒ_３、ＺｒＣ１_２Ｂｒ_２及びＺｒＣ１_３Ｂｒ；代替的には、ＺｒＣ１_４もしくはＺｒＢｒ_４；または代替的には、ＺｒＣｌＢｒ_３；または代替的には、ＺｒＣ１_４を含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。一態様において、ヒドロカルビル金属化合物は、式ＡｌＸ^２ _２Ｒ^１、ＡｌＸ^２Ｒ^１ _２、ＡｌＲ^１ _３、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３、Ｒ^１ _２Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ＡｌＸ^２ _２Ｒ^１、ＡｌＸ^２Ｒ^１ _２、ＡｌＲ^１ _３、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３、またはそれらの任意の組み合わせを有するヒドロカルビル金属化合物を含み得る。Ｘ^２及びＲ^１は、独立的に本明細書に記載されており、これらの独立した記述は、式ＺｒＸ^１ _ｍを有するジルコニウム化合物と、式ＡｌＸ^２ _ｎＲ^１ _３－ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３、Ｒ^１ _２Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせを有するアルキルアルミニウム化合物を含むヒドロカルビル金属化合物とを含み得る触媒システムをさらに説明するために、制限なく任意の組み合わせで利用され得る。一態様において、ヒドロカルビル金属化合物の各Ｘ^２は、独立的に、ハライドであり得、各Ｒ^１は、独立的に、Ｃ_２～Ｃ_４アルキル基であり得る。いくつかの態様では、アルキル金属化合物は、トリエチルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、ジエチル亜鉛、またはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、トリエチルアルミニウム及びジエチルアルミニウムクロリド；代替的には、トリエチルアルミニウム及びエチルアルミニウムジクロリド；代替的には、トリエチルアルミニウム及びエチルアルミニウムセスキクロリド；代替的には、ジエチルアルミニウムクロリド及びエチルアルミニウムジクロリド；代替的には、エチルアルミニウムセスキクロリドを含み得るか、またはそれらから本質的になる。ヒドロカルビル金属化合物の金属（またはヒドロカルビルアルミニウム化合物のアルミニウム）とジルコニウム化合物のジルコニウムとのモル比の非限定的な値は、１：１～５０：１、１：１～１５：１、または１０：１～２５：１の範囲内であり得る。いくつかの非限定的な態様において、触媒システム（または触媒システム成分）は、Ｃ_２～Ｃ_２０エステル（本明細書に記載されるいずれか）を含む中性非イオン性有機修飾剤をさらに含むことができ、中性非イオン性有機修飾剤とジルコニウム化合物のジルコニウムとのモル比は、本明細書で開示されるいずれかの範囲内（例えば、０．５：１～５：１の範囲内）であり得る。他の非限定的な態様において、触媒システム（または触媒システム成分）は、Ｃ_２～Ｃ_２０エーテル、Ｃ_２～Ｃ_２０スルフィド、Ｃ_１～Ｃ_２０アミン、Ｃ_３～Ｃ_２０ホスフィン、またはそれらの任意の組み合わせ（代替的には、Ｃ_２～Ｃ_２０エーテル、Ｃ_２～Ｃ_２０スルフィド、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、Ｃ_２～Ｃ_２０エーテル；代替的には、Ｃ_２～Ｃ_２０スルフィド；代替的には、Ｃ_１～Ｃ_２０アミン；または代替的には、Ｃ_３～Ｃ_２０ホスフィン）を含む中性非イオン性有機修飾剤をさらに含むことができ、中性非イオン性有機修飾剤とジルコニウム化合物のジルコニウムとのモル比は、本明細書で開示されるいずれかの範囲（例えば、０．５：１～２０：１の範囲内）であり得る。

【0088】

別の非限定的な態様において、ジルコニウム化合物は、式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有することができ、ヒドロカルビル金属化合物は、式ＡｌＸ^２ _ｎＲ^１ _３－ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３、またはそれらの任意の組み合わせを有するヒドロカルビル金属化合物を含むことができる。Ｘ^１、Ｙ^１、Ｘ^２、Ｒ^１、ｎ、及びｑは、独立的に本明細書に記載されており、これらの独立した記述は、式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有するジルコニウム化合物と、式ＡｌＸ^２ _ｎＲ^１ _３－ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３、またはそれらの任意の組み合わせを有するアルキルアルミニウム化合物を含むヒドロカルビル金属化合物とを含み得る触媒システムをさらに説明するために、制限なく任意の組み合わせで利用され得る。ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑの各Ｘ^１は、独立的に、クロリドまたはブロミド；代替的には、クロリドであり得る。ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑの各Ｙ^１は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１０ヒドロカルボキシド（例えば、本明細書に記載されるいずれか）、Ｃ_１～Ｃ_１０ヒドロカルビルカルボキシレート（例えば、本明細書に記載されるいずれか）、またはＣ_１～Ｃ_１５ヒドロカルビルスルホネート（例えば、本明細書に記載されるいずれか）；代替的には、Ｃ_１～Ｃ_１０ヒドロカルボキシド（例えば、本明細書に記載されるいずれか）；代替的には、Ｃ_１～Ｃ_１０ヒドロカルビルカルボキシレート（例えば、本明細書に記載されるいずれか）；または代替的には、Ｃ_１～Ｃ_１５ヒドロカルビルスルホネート（例えば、本明細書に記載されるいずれか）であり得る。ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑについて、ｍは、０～４の範囲内であり得、ｑは、０～４の範囲内であり得、ｍ＋ｑは、４であり得る。代替的には、ｍは、４であり得、ｑは、０であり得る。または代替的には、ｍは、０であり得、ｑは、４であり得る。一態様において、式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有するジルコニウム化合物は、ジルコニウムテトラＣ_１～Ｃ_１０ヒドロカルビルカルボキシレート；代替的には、ジルコニウムテトラＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビルカルボキシレート；または代替的には、Ｚｒ（Ｏ_２Ｃ_３Ｈ_７）_４を含み得るか、それらから本質的になり得るか、またはそれらであり得る。別の態様では、式ＺｒＸ^１ _ｍを有するジルコニウム化合物は、ＺｒＣ１_４、ＺｒＢｒ_４、ＺｒＣｌＢｒ_３、ＺｒＣ１_２Ｂｒ_２及びＺｒＣ１_３Ｂｒ；代替的には、ＺｒＣ１_４もしくはＺｒＢｒ_４；または代替的には、ＺｒＣｌＢｒ_３；または代替的にはＺｒＣ１_４を含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。一態様において、ヒドロカルビル金属化合物は、式ＡｌＸ^２ _２Ｒ^１、ＡｌＸ^２Ｒ^１ _２、ＡｌＲ^１ _３、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３、またはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ＡｌＸ^２ _２Ｒ^１、ＡｌＸ^２Ｒ^１ _２、ＡｌＲ^１ _３、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３、またはそれらの任意の組み合わせを有するヒドロカルビル金属化合物を含み得る。Ｘ^２及びＲ^１は、独立的に本明細書に記載されており、これらの独立した記述は、式ＺｒＸ^１ _ｍを有するジルコニウム化合物と、式ＡｌＸ^２ _ｎＲ^１ _３－ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３、Ｒ^１ _２Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせを有するアルキルアルミニウム化合物を含むヒドロカルビル金属化合物とを含み得る触媒システムをさらに説明するために、制限なく任意の組み合わせで利用され得る。一態様において、ヒドロカルビル金属化合物の各Ｘ^２は、独立的に、ハライドであり得、各Ｒ^１は、独立的に、Ｃ_２～Ｃ_４アルキル基であり得る。いくつかの態様では、アルキル金属化合物は、トリエチルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、またはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、トリエチルアルミニウム及びジエチルアルミニウムクロリド；代替的には、トリエチルアルミニウム及びエチルアルミニウムジクロリド；代替的には、トリエチルアルミニウム及びエチルアルミニウムセスキクロリド；代替的には、ジエチルアルミニウムクロリド及びエチルアルミニウムジクロリド；代替的には、エチルアルミニウムセスキクロリドを含み得るか、またはそれらから本質的になる。ヒドロカルビル金属化合物の金属（またはヒドロカルビルアルミニウム化合物のアルミニウム）とジルコニウム化合物のジルコニウムとのモル比の非限定的な値は、本明細書で開示されるものの中でもとりわけ、１：１～５０：１、２：１～２５：１、または１：１～１５：１の範囲内であり得る。一態様において、式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有するジルコニウム化合物は、０．０１：１～３：１、０．１：～２：１、または０．２５：１～１．７５：１の水対ジルコニウムのモル比でＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを水と接触させることによって部分的に加水分解され得る。一態様において、触媒システム（または触媒システム成分）は、Ｃ_２～Ｃ_１５アルコール、Ｃ_１～Ｃ_１５アミン、Ｃ_２～Ｃ_１５アミド、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、Ｃ_２～Ｃ_１５アルコール；代替的には、Ｃ_１～Ｃ_１５アミン；または代替的には、Ｃ_２～Ｃ_１５アミドを含む中性非イオン性有機修飾剤をさらに含み得る。一態様において、中性非イオン性有機修飾剤とヒドロカルビル金属化合物の金属（またはヒドロカルビルアルミニウム化合物のアルミニウム）とのモル比は、本明細書で開示されるものの中でもとりわけ、０．７５：１～２：１、または０．７５：１～１．５：１の範囲内である。一態様において、ヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物がジルコニウム化合物及び／またはエチレンと接触する（及び／または反応ゾーンに導入される）前に、中性非イオン性有機修飾剤をヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物と接触させることができる。いくつかの態様では、ジルコニウム化合物がエチレン及び／またはヒドロカルビル金属化合物と接触する（及び／または反応ゾーンに導入される）前に、中性非イオン性有機修飾剤をジルコニウム化合物と接触させる。

【0089】

本明細書に記載されるプロセスは、１）水素ケイ素結合を有する化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、もしくはそれらの任意の組み合わせを含む連鎖移動剤、２）水素、３）遷移金属化合物連鎖移動剤、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、１）水素ケイ素結合を有する化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物を含む連鎖移動剤、及び２）水素；代替的には、水素ケイ素結合を有する化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、もしくはそれらの任意の組み合わせを含む連鎖移動剤；代替的には、水素；または代替的には、遷移金属化合物連鎖移動剤を利用し得る。概して、連鎖移動剤、水素、及び／または遷移金属化合物連鎖移動剤は、オリゴマー生成物を形成するプロセスにおける望ましい効果を達成するために利用される。望ましい効果には、（ａ）１重量％未満のポリマー、（ｂ）１０００ｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有する１重量％未満の化合物、または（ｃ）それらの任意の組み合わせの生成（重量％は、オリゴマー生成物の総重量に基づく）；代替的または追加的には、１）水素ケイ素結合を有する化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、もしくはそれらの任意の組み合わせを含む連鎖移動剤、２）水素、及び／または３）遷移金属化合物連鎖移動剤を使用しない同じプロセスと比べて、（ａ）より低いＭｗを有するポリマーを含むオリゴマー生成物、（ｂ）ポリマーがより低いＭｗ最大ピークを有するオリゴマー生成物、（ｃ）低減した量のポリマーを有するオリゴマー生成物、（ｄ）１００，０００分子量を超える分子量を有するポリマーの低減した割合（％）を有するオリゴマー生成物、または（ｅ）それらの任意の組み合わせの生成が含まれ得る。

【0090】

連鎖移動剤は、水素ケイ素結合を有する化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、水素ケイ素結合を有する化合物；代替的には、水素硫黄結合を有する化合物；または代替的には、水素リン結合を有する化合物を含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。反応ゾーンは、本明細書に記載される任意の所望の効果を提供することができる連鎖移動剤とエチレンとのモル比のいずれかを有し得る。一態様において、反応ゾーンは、１×１０^－５：１、５×１０^－４：１、１×１０^－４：１、または５×１０^－３：１の連鎖移動剤とエチレンとの最小モル比；追加的または代替的には、５×１０^－１：１、１×１０^－１：１、５×１０^－２：１、または１×１０^－２：１の連鎖移動剤とエチレンとの最大モル比を有し得る。概して、反応ゾーンは、本明細書に記載されるいずれかの連鎖移動剤とエチレンとの最小モル比から、本明細書に記載されるいずれかの連鎖移動剤とエチレンとの最大モル比までの範囲をとり得る、連鎖移動剤とエチレンとのモル比を有することができる。したがって、好適な反応ゾーンの連鎖移動剤とエチレンとのモル比は、１×１０^－５：１～５×１０^－１：１、５×１０^－４：１～１×１０^－１：１、１×１０^－４：１～５×１０^－２：１、または５×１０^－３：１～１×１０^－２：１の範囲内であり得る。他の適切な反応ゾーンの連鎖移動剤とエチレンとのモル比の範囲は、本開示から容易に分かる。

【0091】

中性非イオン性有機修飾剤として利用され得る、水素ケイ素結合を有する化合物は、水素ケイ素結合を有する、Ｃ_１～Ｃ_４０、Ｃ_１～Ｃ_３０、またはＣ_１～Ｃ_２０化合物であり得る。一態様において、連鎖移動剤として利用され得る、水素ケイ素結合を有する化合物は、式Ｒ^３１ＳｉＨ_３、（Ｒ^３１）_２ＳｉＨ_２、（Ｒ^３１）_３ＳｉＨ、Ｒ^３１ＯＳｉＨ３、（Ｒ^３１Ｏ）_２ＳｉＨ_２、（Ｒ^３１Ｏ）_３ＳｉＨ、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、Ｒ^３１ＳｉＨ_３、（Ｒ^３１）_２ＳｉＨ_２、（Ｒ^３１）_３ＳｉＨ、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、Ｒ^３１ＯＳｉＨ３、（Ｒ^３１Ｏ）_２ＳｉＨ_２、（Ｒ^３１Ｏ）_３ＳｉＨ、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、Ｒ^３１ＳｉＨ_３；代替的には、（Ｒ^３１）_２ＳｉＨ_２；代替的には、（Ｒ^３１）_３ＳｉＨ；代替的には、Ｒ^３１ＯＳｉＨ３；代替的には、（Ｒ^３１Ｏ）_２ＳｉＨ_２；または代替的には、（Ｒ^３１Ｏ）_３ＳｉＨを有し得る。水素ケイ素結合を有する化合物の式の各Ｒ^３１は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビル基、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１５もしくはＣ_５～Ｃ_１０シクロアルキル基、Ｃ_６～Ｃ_１５もしくはＣ_６～Ｃ_１０アリール基、またはＣ_７～Ｃ_１５もしくはＣ_７～Ｃ_１０アラルキル基であり得る。非限定的な態様において、水素ケイ素結合を有する（例えば、本明細書に記載されるいずれかの式を有する）化合物は、トリメチルシラン、ジエチルシラン、トリエチルシラン、トリプロピルシラン、ジブチルシラン、トリブチルシラン、ヘキシルシラン、ジヘキシルシラン、トリヘキシルシラン、オクチルシラン、ジオクチルシラン、トリオクチルシラン、デシルシラン、ジデシルシラン、トリデシルシラン、トリドデシルシラン、フェニルシラン、ジフェニルシラン、トリフェニルシラン、フェネチルシラン、ジフェネチルシラン、トリフェネチルシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、９，１０－ジメチル－９，１０－ジヒドロ－９，１０－ジシラアントラセン、テトラフェニルジシラン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、トリメチルシラン、ジエチルシラン、トリエチルシラン、トリプロピルシラン、ジブチルシラン、トリブチルシラン、ヘキシルシラン、ジヘキシルシラン、トリヘキシルシラン、オクチルシラン、ジオクチルシラン、トリオクチルシラン、デシルシラン、ジデシルシラン、トリデシルシラン、トリドデシルシラン、フェニルシラン、ジフェニルシラン、トリフェニルシラン、フェネチルシラン、ジフェネチルシラン、トリフェネチルシラン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；トリメチルシラン、ジエチルシラン、トリエチルシラン、トリプロピルシラン、ジブチルシラン、トリブチルシラン、ヘキシルシラン、ジヘキシルシラン、トリヘキシルシラン、オクチルシラン、ジオクチルシラン、デシルシラン、ジデシルシラン、フェニルシラン、ジフェニルシラン、トリフェニルシラン、フェネチルシラン、ジフェネチルシラン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、トリオクチルシラン、トリデシルシラン、トリドデシルシラン、トリフェネチルシラン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；または代替的には、フェニルシラン、ジフェニルシラン、もしくはそれらの任意の組み合わせを含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。

【0092】

中性非イオン性有機修飾剤として利用され得る、水素硫黄結合を有する化合物は、水素硫黄結合を有する、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１５、またはＣ_１～Ｃ_１０化合物であり得る。中性非イオン性有機修飾剤として利用され得る、水素硫黄結合を有する化合物は、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１５、もしくはＣ_１～Ｃ_１０チオール、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１５、もしくはＣ_１～Ｃ_１０チオグリコレート、及び／またはＣ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１５、もしくはＣ_１～Ｃ_１０メルカプトプロピオネート；代替的には、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１５、もしくはＣ_１～Ｃ_１０チオール；代替的には、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１５、もしくはＣ_１～Ｃ_１０チオグリコレート；または代替的には、Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１５、もしくはＣ_１～Ｃ_１０メルカプトプロピオネートを含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。一態様において、連鎖移動剤として利用され得る、水素硫黄結合を有する化合物は、式Ｒ^３２ＳＨ、Ｒ^３２ＣＯ_２ＣＨ_２ＳＨ、Ｒ^３２ＣＯ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＨ、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、Ｒ^３２ＣＯ_２ＣＨ_２ＳＨ、Ｒ^３２ＣＯ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＨ、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、Ｒ^３２ＳＨ；代替的には、Ｒ^３２ＣＯ_２ＣＨ_２ＳＨ；または代替的には、Ｒ^３２ＣＯ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＨを有し得る。水素硫黄結合を有する化合物の式のＲ^３２は、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビル基、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１５もしくはＣ_５～Ｃ_１０シクロアルキル基、Ｃ_６～Ｃ_１５もしくはＣ_６～Ｃ_１０アリール基、またはＣ_７～Ｃ_１５もしくはＣ_７～Ｃ_１０アラルキル基であり得る。非限定的な態様において、水素硫黄結合を有する（例えば、本明細書に記載されるいずれかの式を有する）化合物は、メタンチオール、エタンチオール、プロパンチオール、ブタンチオール、ペンタンチオール、ヘキサンチオール、ヘプタンチオール、オクタンチオール、ノナンチオール、デカンチオール、ウンデカンチオール、ドデカンチオール、メチルチオグリコレート、エチルチオグリコレート、メチルメルカプトプロピオネート、エチルメルカプトプロピオネート、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、メタンチオール、エタンチオール、プロパンチオール、ブタンチオール、ペンタンチオール、ヘキサンチオール、ヘプタンチオール、オクタンチオール、ノナンチオール、デカンチオール、ウンデカンチオール、ドデカンチオール、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、メタンチオール、エタンチオール、プロパンチオール、ブタンチオール、ペンタンチオールもしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ヘキサンチオール、ヘプタンチオール、オクタンチオール、ノナンチオール、デカンチオール、ウンデカンチオール、ドデカンチオール、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、メチルチオグリコレート、エチルチオグリコレート、メチルメルカプトプロピオネート、エチルメルカプトプロピオネート、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、エタンチオール；代替的には、プロパンチオール；代替的には、ブタンチオール；代替的には、ｔｅｒｔ－ブチルチオール；代替的には、オクタンチオール；代替的には、デカンチオール；代替的には、ドデカンチオール；代替的には、メチルチオグリコレート；または代替的には、メチルメルカプトプロピオネートを含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。

【0093】

中性非イオン性有機修飾剤として利用され得る、水素リン結合を有する化合物は、水素リン結合を有する、Ｃ_１～Ｃ_４０、Ｃ_１～Ｃ_３０、またはＣ_１～Ｃ_２０化合物であり得る。中性非イオン性有機修飾剤として利用され得る、水素リン結合を有する化合物は、Ｃ_１～Ｃ_４０、Ｃ_１～Ｃ_３０、もしくはＣ_１～Ｃ_２０ホスフィン及び／またはＣ_１～Ｃ_４０、Ｃ_１～Ｃ_３０、もしくはＣ_１～Ｃ_２０ホスファイト；代替的には、Ｃ_１～Ｃ_４０、Ｃ_１～Ｃ_３０、もしくはＣ_１～Ｃ_２０ホスフィン；または代替的にはＣ_１～Ｃ_４０、Ｃ_１～Ｃ_３０、もしくはＣ_１～Ｃ_２０ホスファイトを含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。一態様において、連鎖移動剤として利用され得る、水素リン結合を有する化合物は、式（Ｒ^３３）_２ＰＨ、（Ｒ^３３Ｏ）_２Ｐ（＝Ｏ）Ｈ、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、Ｒ^３３ＰＨ_２；または代替的には、（Ｒ^３３Ｏ）_２Ｐ（＝Ｏ）Ｈを有し得る。水素リン結合を有する化合物の式の各Ｒ^３３は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５ヒドロカルビル基、Ｃ_１～Ｃ_１５、Ｃ_１～Ｃ_１０、もしくはＣ_１～Ｃ_５アルキル基、Ｃ_５～Ｃ_１５もしくはＣ_５～Ｃ_１０シクロアルキル基、Ｃ_６～Ｃ_１５もしくはＣ_６～Ｃ_１０アリール基、またはＣ_７～Ｃ_１５もしくはＣ_７～Ｃ_１０アラルキル基であり得る。非限定的な態様において、リン水素結合を有する（例えば、本明細書に記載されるいずれかの式を有する）化合物は、ジメチルホスフィン、ジエチルホスフィン、ジプロピルホスフィン、ジブチルホスフィン、ジヘキシルホスフィン、ジオクチルホスフィン、ジシクロペニルホスフィン、ジシクロヘキシルホスフィン、フェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、ジメチルホスファイト、ジエチルホスファイト、ジブチルホスファイト、ジヘキシルホスファイト、ジオクチルホスファイト、ジフェニルホスファイト、ジベンジルホスファイト、もしくはそれらの任意の組み合わせ；ジメチルホスフィン、ジエチルホスフィン、ジブチルホスフィン、ジオクチルホスフィンジシクロペニルホスフィン、ジシクロヘキシルホスフィン、フェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、ジメチルホスファイト、ジエチルホスファイト、ジフェニルホスファイト、ジベンジルホスファイト、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、ジメチルホスフィン、ジエチルホスフィン、ジブチルホスフィン、ジシクロペニルホスフィン、ジシクロヘキシルホスフィン、ジオクチルホスフィン、フェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、もしくはそれらの任意の組み合わせ；または代替的には、ジメチルホスファイト、ジエチルホスファイト、ジフェニルホスファイト、ジベンジルホスファイト、もしくはそれらの任意の組み合わせを含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。

【0094】

遷移金属化合物連鎖移動剤は、第８族遷移金属化合物、第９族遷移金属化合物、第１０族遷移金属化合物、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、第８族遷移金属化合物；代替的には、第９族遷移金属化合物；または代替的には、第１０族遷移金属化合物を含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。一態様において、反応ゾーンは、１×１０^－９：１、５×１０^－８：１、１×１０^－８：１、５×１０^－７：１、または１×１０^－７：１の遷移金属とエチレンとのモル比としての最小値；追加的または代替的には、５×１０^－３：１、１×１０^－３：１、５×１０^－４：１、１×１０^－４：１、または５×１０^－５：１の遷移金属とエチレンとのモル比としての最大値を有し得る。概して、反応ゾーンは、本明細書に記載される遷移金属とエチレンとのモル比としてのいずれかの最小値から、本明細書に記載される遷移金属とエチレンとのモル比としてのいずれかの最大値までの範囲をとり得る、遷移金属とエチレンとのモル比として有することができる。したがって、遷移金属とエチレンとのモル比としての好適な反応ゾーンは、１×１０^－９：１～５×１０^－３：１、５×１０^－８：１～１×１０^－３：１、１×１０^－８：１～５×１０^－４：１、５×１０^－７：１～１×１０^－４：１、または１×１０^－７：１～５×１０^－５：１の範囲内であり得る。遷移金属とエチレンとのモル比の範囲としての他の適切な反応ゾーンは、本開示から容易に分かる。

【0095】

概して、遷移金属化合物連鎖移動剤は、式ＭＸ^４ _ｐを有し得、式中、Ｍは、遷移金属であり、Ｘ^４は、モノアニオンであり、ｐは、遷移金属Ｍの酸化状態である。遷移金属Ｍは、第８～１０族遷移金属；代替的には、第８～９族遷移金属；代替的には、第８族遷移金属；代替的には、第９族遷移金属；または代替的には、第１０族遷移金属であり得る。一態様において、遷移金属Ｍは、鉄、コバルト、もしくはニッケル；代替的には、鉄もしくはコバルト；代替的には、鉄；代替的には、コバルト；または代替的には、ニッケルであり得る。概して、式ＭＸ^４ _ｐを有する遷移金属化合物連鎖移動剤のｐは、２～４の整数であるか、２または３であるか、２、３、または４である。一態様において、式ＭＸ^４ _ｐを有する遷移金属化合物連鎖移動剤の各ｐは、独立的に、ハライド、カルボキシレート、ベータ－ジオネート、ヒドロカルボキシド、もしくはナイトレート；代替的には、カルボキシレート、ベータ－ジオネート、もしくはヒドロカルボキシド；代替的には、カルボキシレートもしくはベータ－ジオネート；代替的には、カルボキシレート；または代替的には、ベータ－ジオネートであり得る。一態様において、式ＭＸ^４ _ｐを有する遷移金属化合物連鎖移動剤の各カルボキシレート基は、独立的に、Ｃ_２～Ｃ_２４、Ｃ_４～Ｃ_１９、またはＣ_５～Ｃ_１２カルボキシレートであり得る。一態様において、式ＭＸ^４ _ｐを有する遷移金属化合物連鎖移動剤の各ヒドロカルボキシドは、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_２４、Ｃ_４～Ｃ_１９、またはＣ_５～Ｃ_１２ヒドロカルボキシドであり得る。一態様において、式ＭＸ^４ _ｐを有する遷移金属化合物連鎖移動剤の各ベータ－ジオネート基は、独立的に、Ｃ_５～Ｃ_２４、Ｃ_５～Ｃ_１９、またはＣ_５～Ｃ_１２ベータ－ジオネートであり得る。

【0096】

概して、式ＭＸ^４ _ｐを有する遷移金属化合物連鎖移動剤の各ハライドは、独立的に、塩素、臭素、もしくはヨウ素；代替的には、臭素；または代替的には、ヨウ素であり得る。概して、式ＭＸ^４ _ｐを有する遷移金属化合物連鎖移動剤の各カルボキシレートは、独立的に、アセテート、プロピオネート、ブチレート、ペンタノエート、ヘキサノエート、ヘプタノエート、オクタノエート、ノナノエート、デカノエート、ウンデカノエート、もしくはドデカノエート；代替的には、ペンタノエート、ヘキサノエート、ヘプタノエート、オクタノエート、ノナノエート、デカノエート、ウンデカノエート、もしくはドデカノエート；代替的には、ペンタノエート、ヘキサノエート、ヘプタノエート、オクタノエート、ノナノエート、デカノエート、ウンデカノエート、もしくはドデカノエート；代替的には、ヘキサノエート；代替的には、オクタノエート；代替的には、デカノエート；または代替的にはドデカノエートであり得る。概して、式ＭＸ^４ _ｐを有する遷移金属化合物連鎖移動剤の各ヒドロカルボキシドは、独立的に、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド、フェノキシド、メチルフェノキシド、またはジメチルフェノキシド；代替的には、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、またはブトキシド；代替的には、フェノキシド、メチルフェノキシド、またはジメチルフェノキシドであり得る。概して、式ＭＸ^４ _ｐを有する遷移金属化合物連鎖移動剤の各β－ジケトネートは、独立的に、アセチルアセトネート（すなわち、２，４－ペンタンジオネート）、ヘキサフルオロアセチルアセトネート（すなわち、１，１，１，５，５，５－ヘキサフルオロ－２，４－ペンタンジオネート）、もしくはベンゾイルアセトネート；代替的には、アセチルアセトネート；代替的には、ヘキサフルオロアセチルアセトネート；または代替的には、ベンゾイルアセトネートであり得る。いくつかの非限定的な態様において、遷移金属化合物連鎖移動剤（または式ＭＸ^４ _ｐを有する遷移金属化合物連鎖移動剤）は、鉄（ＩＩ）クロリド、鉄（ＩＩＩ）クロリド、鉄（ＩＩ）アセテート、鉄（ＩＩＩ）アセテート、鉄（ＩＩ）オクタノエート、鉄（ＩＩＩ）オクタノエート、鉄（ＩＩ）アセチルアセトネート、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトネート、コバルト（ＩＩ）クロリド、コバルト（ＩＩＩ）クロリド、コバルト（ＩＩ）アセテート、コバルト（ＩＩＩ）アセテート、コバルト（ＩＩ）オクタノエート、コバルト（ＩＩＩ）オクタノエート、コバルト（ＩＩ）アセチルアセトネート、コバルト（ＩＩＩ）アセチルアセトネート、ニッケル（ＩＩ）クロリド、ニッケル（ＩＩ）アセテート、ニッケル（ＩＩ）オクタノエート、またはニッケル（ＩＩ）アセチルアセトネート；代替的には、鉄（ＩＩ）アセテート、鉄（ＩＩＩ）アセテート、鉄（ＩＩ）オクタノエート、鉄（ＩＩＩ）オクタノエート、鉄（ＩＩ）アセチルアセトネート、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトネート、コバルト（ＩＩ）アセテート、コバルト（ＩＩＩ）アセテート、コバルト（ＩＩ）オクタノエート、コバルト（ＩＩＩ）オクタノエート、コバルト（ＩＩ）アセチルアセトネート、コバルト（ＩＩＩ）アセチルアセトネート、ニッケル（ＩＩ）アセテート、ニッケル（ＩＩ）オクタノエート、またはニッケル（ＩＩ）アセチルアセトネート；代替的には、鉄（ＩＩ）オクタノエート、鉄（ＩＩＩ）オクタノエート、鉄（ＩＩ）アセチルアセトネート、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトネート、コバルト（ＩＩ）オクタノエート、コバルト（ＩＩＩ）オクタノエート、コバルト（ＩＩ）アセチルアセトネート、コバルト（ＩＩＩ）アセチルアセトネート、ニッケル（ＩＩ）オクタノエート、またはニッケル（ＩＩ）アセチルアセトネート；代替的には、鉄（ＩＩＩ）オクタノエート、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトネート、コバルト（ＩＩＩ）オクタノエート、コバルト（ＩＩＩ）アセチルアセトネート、ニッケル（ＩＩ）オクタノエート、またはニッケル（ＩＩ）アセチルアセトネートを含み得るか、それらから本質的になるか、またはそれらであり得る。

【0097】

水素が利用される場合、反応ゾーンは、本明細書に記載される任意の所望の効果を提供することができる水素対エチレン比のいずれかを有し得る。一態様において、最小水素対エチレン比は、（０．０５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（０．１ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（０．２５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（０．４ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、または（０．５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）であり得、追加的または代替的には、最大水素対エチレン比は、（５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（３ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（２．５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（２ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、または（１．５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）であり得る。概して、反応ゾーンは、本明細書に記載されるいずれかの最小水素対エチレン比から、本明細書に記載されるいずれかの最大水素対エチレン比までの範囲をとり得る、水素対エチレン比を有することができる。したがって、好適な反応ゾーンの水素対エチレン比は、（０．０５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）～（５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（０．２５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）～（５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（０．２５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）～（４ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（０．４ｇ水素）／（ｋｇエチレン）～（３ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（０．４ｇ水素）／（ｋｇエチレン）～（２．５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（０．４ｇ水素）／（ｋｇエチレン）～（２ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、または（０．５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）～（２ｇ水素）／（ｋｇエチレン）の範囲内であり得る。他の適切な反応ゾーンの水素対エチレン比の範囲は、本開示から容易に分かる。

【0098】

本明細書に記載されるプロセスで利用され得る有機反応媒体は、例えば、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、またはそれらの組み合わせであり得る。有機反応媒体として使用され得る炭化水素及びハロゲン化炭化水素には、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、石油蒸留物、ハロゲン化脂肪族炭化水素、ハロゲン化芳香族炭化水素、またはそれらの任意の組み合わせが含まれ得る。有機反応媒体として有用であり得る脂肪族炭化水素は、Ｃ_３～Ｃ_２０脂肪族炭化水素、またはＣ_４～Ｃ_１５脂肪族炭化水素、またはＣ_５～Ｃ_１０脂肪族炭化水素を含む。有機反応媒体として使用され得る脂肪族炭化水素は、別段の規定がない限り、環式でも非環式でもよく、及び／または直鎖でも分岐鎖でもよい。単独でまたは任意の組み合わせで利用され得る好適な非環式脂肪族炭化水素有機反応媒体の非限定的な例としては、プロパン、イソ－ブタン、ｎ－ブタン、ブタン（ｎ－ブタンまたは直鎖及び分岐鎖のＣ_４非環式脂肪族炭化水素の混合物）、ペンタン（ｎ－ペンタンまたは直鎖及び分岐鎖のＣ_５非環式脂肪族炭化水素の混合物）、ヘキサン（ｎ－ヘキサンまたは直鎖及び分岐鎖のＣ_６非環式脂肪族炭化水素の混合物）、ヘプタン（ｎ－ヘプタンまたは直鎖及び分岐鎖のＣ_７非環式脂肪族炭化水素の混合物）、及びオクタン（ｎ－オクタンまたは直鎖及び分岐鎖のＣ_８非環式脂肪族炭化水素の混合物）が挙げられる。有機反応媒体として有用であり得る芳香族炭化水素は、芳香族炭化水素、またはＣ_６～Ｃ_１０芳香族炭化水素を含む。有機反応媒体として単独でまたは任意の組み合わせで利用され得る好適な芳香族炭化水素の非限定的な例としては、ベンゼン、トルエン、キシレン（オルト－キシレン、メタ－キシレン、パラ－キシレン、またはそれらの混合物を含む）、及びエチルベンゼンが挙げられる。有機反応媒体として有用であり得るハロゲン化脂肪族炭化水素は、Ｃ_１～Ｃ_１５ハロゲン化脂肪族炭化水素、またはＣ_１～Ｃ_１０ハロゲン化脂肪族炭化水素、またはＣ_１～Ｃ_５ハロゲン化脂肪族炭化水素を含む。有機反応媒体として使用され得るハロゲン化脂肪族炭化水素は、別段の規定がない限り、環式でも非環式でもよく、及び／または直鎖でも分岐鎖でもよい。有機反応媒体として利用され得る好適なハロゲン化脂肪族炭化水素の非限定的な例としては、メチレンクロリド、クロロホルム、カーボンテトラクロリド、ジクロロエタン、トリクロロエタン、またはそれらの任意の組み合わせが挙げられる。有機反応媒体として有用であり得るハロゲン化芳香族炭化水素は、Ｃ_６～Ｃ_２０ハロゲン化芳香族炭化水素、またはＣ_６～Ｃ_１０ハロゲン化芳香族炭化水素を含む。有機反応媒体として使用され得る好適なハロゲン化芳香族炭化水素の非限定的な例としては、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、またはそれらの任意の組み合わせが挙げられる。

【0099】

概して、オリゴマー生成物は、オリゴマー生成物を形成することが可能な任意の条件を使用して形成され得る。オリゴマー生成物を形成するために利用され得る条件は、単独でまたは任意の組み合わせで、反応ゾーン圧力、反応ゾーンエチレン分圧、反応ゾーン温度、反応ゾーンのジルコニウム化合物のジルコニウムとエチレンとのモル比、反応ゾーンのエチレンと有機反応媒体との質量比、反応ゾーン滞留時間（または平均滞留時間）、エチレン転化率（またはシングルパスエチレン転化率）、オリゴマー生成物のＳｃｈｕｌｔｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値、及びノルマルアルファオレフィンに対するオリゴマー生成物の選択性を含み得る。反応ゾーン圧力、反応ゾーンエチレン分圧、反応ゾーン温度、反応ゾーンのジルコニウム化合物のジルコニウムとエチレンとのモル比、反応ゾーンのエチレンと有機反応媒体との質量比、反応ゾーン滞留時間（または平均滞留時間）、エチレン転化率（またはシングルパスエチレン転化率）、オリゴマー生成物のＳｃｈｕｌｔｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値、ノルマルアルファオレフィンに対するオリゴマー生成物の選択性は、独立的に本明細書に記載されており、反応ゾーン圧力、反応ゾーンエチレン分圧、反応ゾーン温度、反応ゾーンのジルコニウム化合物のジルコニウムとエチレンとのモル比、反応ゾーンのエチレンと有機反応媒体との質量比、反応ゾーン滞留時間（または平均滞留時間）、エチレン転化率（またはシングルパスエチレン転化率）、オリゴマー生成物のＳｃｈｕｌｔｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値、及びノルマルアルファオレフィンに対するオリゴマー生成物の選択性のこれらの独立した記述は、本明細書で開示されるプロセスをさらに説明するために、制限なく任意の組み合わせで利用され得る。

【0100】

オリゴマー生成物は、１００ｐｓｉ（６８９ｋＰａ）、２５０ｐｓｉ（１．７２ＭＰａ）、５００ｐｓｉ（３．４５ＭＰａ）、７５０ｐｓｉ（５．１７ＭＰａ）、９００ｐｓｉ（６．２１ＭＰａ）、または１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）の反応ゾーン最小圧力；代替的または追加的には、５０００ｐｓｉ（３４．５ＭＰａ）、４５００ｐｓｉ（３１ＭＰａ）、４，０００ｐｓｉ（２７．６ＭＰａ）、３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）、３０００ｐｓｉ（２０．７ＭＰａ）、２，５００ｐｓｉ（１７．２ＭＰａ）、２，０００ｐｓｉ（１３．８ＭＰａ）、１，５００ｐｓｉ（１０．３ＭＰａ）、１２５０ｐｓｉ（８．６２ＭＰａ）、または１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）の最大圧力で形成され得る（または、反応ゾーンは当該圧力を有し得る）。概して、オリゴマー生成物は、本明細書で開示されるいずれかの最小圧力から、本明細書で開示されるいずれかの最大圧力までの範囲をとる、反応ゾーン圧力で形成され得る（または、反応ゾーンは当該圧力を有し得る）。いくつかの非限定的な態様において、オリゴマー生成物は、１００ｐｓｉ（６８９ｋＰａ）～５０００ｐｓｉ（３４．５ＭＰａ）、１００ｐｓｉ（６８９ｋＰａ）～２，５００ｐｓｉ（１７．２ＭＰａ）、１００ｐｓｉ（６８９ｋＰａ）～１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）、５００ｐｓｉ（３．４５ＭＰａ）～４５００ｐｓｉ（３１ＭＰａ）、５００ｐｓｉ（３．４５ＭＰａ）～２，５００ｐｓｉ（１７．２ＭＰａ）、５００ｐｓｉ（３．４５ＭＰａ）～１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）、７５０ｐｓｉ（５．１７ＭＰａ）～４５００ｐｓｉ（３１ＭＰａ）、９００ｐｓｉ（６．２１ＭＰａ）～４，０００ｐｓｉ（２７．６ＭＰａ）、または１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）～３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）の反応ゾーン圧力で形成され得る（または、反応ゾーンは当該圧力を有し得る）。利用され得る他の圧力範囲は、本開示を読めば当業者には容易に分かる。

【0101】

オリゴマー生成物は、１００ｐｓｉ（６８９ｋＰａ）、２５０ｐｓｉ（１．７２ＭＰａ）、５００ｐｓｉ（３．４５ＭＰａ）、７５０ｐｓｉ（５．１７ＭＰａ）、９００ｐｓｉ（６．２１ＭＰａ）、または１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）の反応ゾーン最小エチレン分圧；代替的または追加的には、５０００ｐｓｉ（３４．５ＭＰａ）、４５００ｐｓｉ（３１ＭＰａ）、４，０００ｐｓｉ（２７．６ＭＰａ）、３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）、３０００ｐｓｉ（２０．７ＭＰａ）、２，５００ｐｓｉ（１７．２ＭＰａ）、２，０００ｐｓｉ（１３．８ＭＰａ）、１，５００ｐｓｉ（１０．３ＭＰａ）、１２５０ｐｓｉ（８．６２ＭＰａ）、または１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）の最大圧力で形成され得る（または、反応ゾーンは当該圧力を有し得る）。概して、オリゴマー生成物は、本明細書で開示されるいずれかの最小エチレン分圧から、本明細書で開示されるいずれかの最大エチレン分圧までの範囲をとる、反応ゾーンエチレン分圧で形成され得る（または、反応ゾーンは当該エチレン分圧を有し得る）。いくつかの非限定的な態様において、オリゴマー生成物は、１００ｐｓｉ（６８９ｋＰａ）～５０００ｐｓｉ（３４．５ＭＰａ）、１００ｐｓｉ（６８９ｋＰａ）～２，５００ｐｓｉ（１７．２ＭＰａ）、１００ｐｓｉ（６８９ｋＰａ）～１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）、５００ｐｓｉ（３．４５ＭＰａ）～４５００ｐｓｉ（３１ＭＰａ）、５００ｐｓｉ（３．４５ＭＰａ）～２，５００ｐｓｉ（１７．２ＭＰａ）、５００ｐｓｉ（３．４５ＭＰａ）～１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）、７５０ｐｓｉ（５．１７ＭＰａ）～４５００ｐｓｉ（３１ＭＰａ）、９００ｐｓｉ（６．２１ＭＰａ）～４，０００ｐｓｉ（２７．６ＭＰａ）、または１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）～３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）の反応ゾーンエチレン分圧で形成され得る（または、反応ゾーンは当該エチレン分圧を有し得る）。他のエチレン分圧の範囲は、本開示を読めば当業者には容易に分かる。

【0102】

オリゴマー生成物は、０℃、２５℃、４０℃、５０℃、７５℃、１００℃または１２５℃の反応ゾーン最低温度；代替的または追加的には、２５０℃、２００℃、１５０℃、１２５℃、１００℃、または９０℃の最高温度で形成され得る（または、反応ゾーンは当該温度を有し得る）。概して、オリゴマー生成物は、本明細書で開示されるいずれかの最低温度から、本明細書で開示されるいずれかの最高温度までの範囲をとる、反応ゾーン温度で形成され得る（または、反応ゾーンは当該温度を有し得る）。いくつかの非限定的な態様において、オリゴマー生成物は、０℃～２５０℃、２５℃～２００℃、４０℃～１５０℃、４０℃～１００℃、５０℃～１００℃、５０℃～１５０℃、７５℃～１２５℃、７５℃～２５０℃、１００℃～２００℃、または１００℃～２００℃の反応ゾーン温度で形成され得る（または、反応ゾーンは当該温度を有し得る）。利用され得る他の温度範囲は、本開示を読めば当業者には容易に分かる。

【0103】

オリゴマー生成物は、５×１０^－７：１、１×１０^－６：１、５×１０^－５：１、または２．５×１０^－５：１の反応ゾーンのジルコニウム化合物のジルコニウムとエチレンとの最小モル比；追加的または代替的には、７．５×１０^－４：１、５×１０^－４：１、２．５×１０^－４：１、または１×１０^－４：１の反応ゾーンのジルコニウム化合物のジルコニウムとエチレンとの最大モル比の反応ゾーンで形成され得る（または、反応ゾーンは当該モル比を有し得る）。概して、反応ゾーンのジルコニウム化合物のジルコニウムとエチレンとのモル比は、本明細書で開示されるいずれかの反応ゾーンのジルコニウム化合物のジルコニウムとエチレンとの最小モル比から、本明細書で開示されるいずれかの反応ゾーンのジルコニウム化合物のジルコニウムとエチレンとの最大モル比までの範囲をとり得る。非限定的な態様において、反応ゾーンのジルコニウム化合物のジルコニウムとエチレンとのモル比は、５×１０^－７：１～１×１０^－４：１、１×１０^－６：１～２．５×１０^－４：１、５×１０^－５：１～５×１０^－４：１、または２．５×１０^－５：１～７．５×１０^－４：１の範囲をとり得る。利用され得る他の反応ゾーンのジルコニウム化合物のジルコニウムとエチレンとのモル比の範囲は、本開示を読めば当業者には容易に分かる。

【0104】

オリゴマー生成物は、０．５：１、０．７５：１、１：１、１．２５：１、または１．５：１の反応ゾーンの最小エチレン：有機反応媒体質量比；追加的または代替的には、４．５：１、４：１、３．５：１、３：１、２．５：１、または２：１の最大エチレン：有機反応媒体質量比で形成され得る（または、反応ゾーンは当該質量比を有し得る）。概して、オリゴマー生成物は、本明細書で開示されるいずれかの最小エチレン：有機反応媒体質量比から本明細書で開示されるいずれかの最大エチレン：有機反応媒体質量比までの範囲内のエチレン：有機反応媒体質量比の反応で形成され得る（または、反応ゾーンは当該質量比を有し得る）。いくつかの非限定的な態様において、オリゴマー生成物は、０．５：１～４．５：１、０．７５：１～４：１、０．７５：１～２：１、１：１～３：１、または１．５：１～２．５：１の範囲内のエチレン：有機反応媒体質量比の反応で形成され得る（または、反応ゾーンは当該質量比を有し得る）。利用され得る他のエチレン：有機反応媒体質量比の範囲は、本開示を読めば当業者には容易に分かる。

【0105】

オリゴマー生成物は、任意の所望の反応ゾーン滞留時間（または平均反応ゾーン滞留時間）で形成され得る（または、反応ゾーンは当該滞留時間を有し得る）。一態様において、オリゴマー生成物は、所望の量のオリゴマー生成物、所望の触媒システムの生産性、所望のエチレン転化率、もしくはそれらの任意の組み合わせをもたらす、代替的には、所望の量のオリゴマー生成物、代替的には、所望の触媒システムの生産性をもたらす、または代替的には、所望のエチレン転化率をもたらす、反応ゾーン滞留時間（または平均反応ゾーン滞留時間）で形成され得る。オリゴマー生成物は、１０分、２０分、または３０分の最小反応ゾーン滞留時間（または平均反応ゾーン滞留時間）；追加的または代替的には、３時間、２．５時間、２時間、または１．５時間の最大反応ゾーン滞留時間（または平均反応ゾーン滞留時間）で形成され得る（または、反応ゾーンは当該滞留時間を有し得る）。概して、反応ゾーン滞留時間（または平均反応ゾーン滞留時間）は、本明細書で開示されるいずれかの最小反応ゾーン滞留時間（または平均反応ゾーン滞留時間）から、本明細書で開示されるいずれかの最大反応ゾーン滞留時間（または平均反応ゾーン滞留時間）までの範囲をとり得る。いくつかの非限定的な態様において、オリゴマー生成物は、１０分～２．５時間、２０分～２時間、３０分～２時間、または３０分～１．５時間の範囲をとる反応ゾーン滞留時間（または平均反応ゾーン滞留時間）で形成され得る。利用され得る他の反応ゾーン滞留時間（または平均反応ゾーン滞留時間）の範囲は、本開示を読めば当業者には容易に分かる。

【0106】

オリゴマー生成物は、０．４、０．４５、０．５、または０．５５の最小Ｓｃｈｕｌｔｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値；代替的または追加的には、０．９、０．８５、０．８、０．７５、０．７、または０．６５の最大Ｓｃｈｕｌｔｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値を有し得る（または当該値を有して形成され得る）。オリゴマー生成物は、本明細書で開示されるいずれかの最小Ｓｃｈｕｌｔｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値から、本明細書で開示されるいずれかの最大Ｓｃｈｕｌｔｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値までの範囲をとる、Ｓｃｈｕｌｔｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋを有し得る（または当該値を有して形成され得る）。非限定的な態様において、オリゴマー生成物は、０．４～０．９、０．４～０．８、０．５～０．８、０．５～０．７、または０．５５～０．７の範囲内のＳｃｈｕｌｔｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値を有し得る（または当該値を有して形成され得る）。他のオリゴマー生成物Ｓｃｈｕｌｔｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値範囲は、本開示から容易に分かる。いずれの態様においても、Ｓｃｈｕｌｔｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値は、隣接するオリゴマー生成物の両方がＣ_８、Ｃ_１０、Ｃ_１２、Ｃ_１４、またはＣ_１６オリゴマー生成物から選択される、隣接するオリゴマー生成物の対を使用して決定することができる。一実施形態において、Ｓｃｈｕｌｔｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値は、本明細書に記載される、異なる隣接した生成オリゴマーの対を使用した、任意の２つ以上のＳｃｈｕｌｔｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値の平均であり得る。いくつかの態様では、Ｓｃｈｕｌｔｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値は、Ｃ_８及びＣ_１０オリゴマー生成物、Ｃ_１０及びＣ_１２オリゴマー生成物、Ｃ_１２及びＣ_１４オリゴマー生成物、Ｃ_１４及びＣ_１６オリゴマー生成物、Ｃ_８、Ｃ_１０、及びＣ_１２オリゴマー生成物、または任意の２つ以上の隣接したオリゴマー生成物の対の平均を使用して決定することができる。

【0107】

オリゴマー生成物は、任意の所望のエチレン転化率（またはシングルパスエチレン転化率）で形成され得る。オリゴマー生成物は、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％または５５％の最小エチレン転化率（またはシングルパスエチレン転化率）；追加的または代替的には、９５％、９０％、８７．５％、８５％、または８０％の最大エチレン転化率（またはシングルパスエチレン転化率）で形成され得る。概して、オリゴマー生成物は、本明細書で開示されるいずれかの最小エチレン転化率（またはシングルパスエチレン転化率）から、本明細書で開示されるいずれかの最大エチレン転化率（またはシングルパスエチレン転化率）までの範囲をとり得る、エチレン転化率（またはシングルパスエチレン転化率）で形成され得る。いくつかの非限定的な態様において、オリゴマー生成物は、３０％～９０％、３５％～９０％、４０％～８７．５％、４５％～８７．５％、５０％～８５％、または５５％～８５％の範囲をとる、エチレン転化率（またはシングルパスエチレン転化率）で形成され得る。利用され得る他のエチレン転化率（またはシングルパスエチレン転化率）の範囲は、本開示を読めば当業者には容易に分かる。いくつかの態様では、オリゴマー生成物は、ノルマルアルファオレフィンに対する所望の選択性（例えば、特定のオリゴマー生成物炭素数におけるノルマルアルファオレフィンの割合（％））を有するオリゴマー生成物をもたらすエチレン転化率で形成され得る。

【0108】

本明細書に記載されるプロセスは、ノルマルアルファオレフィンに対して高い選択性を持つオリゴマー生成物を生成することができる。一態様において、本明細書に記載されるプロセスによって生成されたＣ_６オレフィンオリゴマー生成物は、少なくとも９８．５重量％、９８．７５重量％、９９．０重量％、９９．２５重量％の１－ヘキセン含有量を有し得る。一態様において、本明細書に記載されるプロセスによって生成されたＣ_８オレフィンオリゴマー生成物は、少なくとも９８重量％、９８．２５重量％、９８．５重量％、９８．７５重量％、または９９．０重量％の少なくとも１－オクテン含有量の１－オクテン含有量を有し得る。一態様において、本明細書に記載されるプロセスによって生成されたＣ_１０オレフィンオリゴマー生成物は、少なくとも９７．５重量％、９７．７５重量％、９８重量％、９８．２５重量％、または９８．５重量％の１－デセン含有量を有し得る。一態様において、本明細書に記載されるプロセスによって生成されたＣ_１２オレフィンオリゴマー生成物は、少なくとも９６．５重量％、９７重量％、９７．５重量％、９７．７５重量％、または９８．０重量％の１－ドデセン含有量を有し得る。一態様において、本明細書に記載されるプロセスは、本明細書に記載されるいずれかのＣ_６オレフィンオリゴマー生成物１－ヘキセン含有量、本明細書に記載されるいずれかのＣ_８オレフィンオリゴマー生成物１－オクテン含有量、本明細書に記載されるいずれかのＣ_１０オレフィンオリゴマー生成物１－デセン含有量、及び／または本明細書に記載されるいずれかのＣ_８オレフィンオリゴマー生成物１－オクテン含有量のいずれかの組み合わせを有し得るオリゴマー生成物を生成することができる。いくつかの非限定的な態様では、オリゴマー生成物は、少なくとも９９重量％のＣ_６オレフィンオリゴマー生成物１－ヘキセン含有量及び少なくとも９７．５重量％のＣ_１２オレフィンオリゴマー生成物１－ドデセン含有量；代替的には、少なくとも９８．５重量％のＣ_８オレフィンオリゴマー生成物１－オクテン含有量及び少なくとも９７．５重量％のＣ_１２オレフィンオリゴマー生成物１－ドデセンオクテン含有量；または代替的には、少なくとも９９重量％のＣ_６オレフィンオリゴマー生成物１－ヘキセン含有量、少なくとも９８．５重量％のＣ_８オレフィンオリゴマー生成物１－オクテン含有量、少なくとも９８重量％のＣ_１０オレフィンオリゴマー生成物１－デセン含有量、及び少なくとも９７．５重量％のＣ_１２オレフィンオリゴマー生成物１－ドデセン含有量を有し得る。オリゴマー生成物のノルマルアルファオレフィン含有量の他の組み合わせは、本開示から容易に分かる。

【0109】

一態様において、本明細書に記載されるプロセスは、１）水素ケイ素結合を有する化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、もしくはそれらの任意の組み合わせを含む連鎖移動剤、２）水素、及び／または３）遷移金属化合物連鎖移動剤を使用しない同じプロセスと比べて、（ａ）２．５重量％、１重量％、０．７５重量％、０．５重量％、もしくは０．２５重量％未満のポリマー、（ｂ）１０００ｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有する、２．５重量％、１重量％、０．７５重量％、０．５重量％、もしくは０．２５重量％未満の化合物、または（ｃ）それらの任意の組み合わせを有するオリゴマー生成物を生成することができる。オリゴマー生成物のポリマーの重量％及び重量平均分子量は、オリゴマー生成物の総重量に基づく。別の別個のまたは組み合わせ可能な態様では、本明細書に記載されるプロセスは、１）水素ケイ素結合を有する化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、もしくはそれらの任意の組み合わせを含む連鎖移動剤、２）水素、及び／または３）遷移金属化合物連鎖移動剤を使用しない同じプロセスと比べて、（ａ）より低いＭｗを有するポリマーを含むオリゴマー生成物、（ｂ）ポリマーがより低いＭｗ最大ピークを有するオリゴマー生成物、（ｃ）低減した量のポリマーを有するオリゴマー生成物、（ｄ）１００，０００分子量を超える分子量を有するポリマーの低減した割合（％）を有するオリゴマー生成物、または（ｅ）それらの任意の組み合わせを有するオリゴマー生成物を生成することができる。一態様において、生成されたオリゴマー生成物１グラム当たりの、オリゴマー生成物中に存在するポリマーの量は、１）水素ケイ素結合を有する化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、もしくはそれらの任意の組み合わせを含む連鎖移動剤、２）水素、及び／または３）遷移金属化合物連鎖移動剤を使用しない同じプロセスに関連して生成されたポリマーと比較して、少なくとも１０％、２５％、４０％、５０％、６０％、７０％、または８０％減少し得る。一態様において、１００，０００分子量を超える分子量を有するポリマーの量は、１）水素ケイ素結合を有する化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、もしくはそれらの任意の組み合わせを含む連鎖移動剤、２）水素、及び／または３）遷移金属化合物連鎖移動剤を使用しない同じプロセスに関連して生成されたポリマーと比較して、少なくとも１０％、２５％、４０％、５０％、６０％、７０％、または８０％減少し得る。

【0110】

オリゴマー生成物が形成される反応ゾーンは、任意の好適なリアクターを含み得る。リアクターの種類の非限定的な例には、撹拌タンクリアクター、プラグフローリアクター、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、撹拌タンクリアクター；代替的には、プラグフローリアクター；代替的には、固定床リアクター、連続撹拌タンクリアクター、ループスラリーリアクター、溶液リアクター、管状リアクター、再循環リアクター、もしくはそれらの任意の組み合わせ；代替的には、連続撹拌タンクリアクター；代替的には、ループスラリーリアクター；代替的には、溶液リアクター；代替的には、管状リアクター；または代替的には、再循環リアクターが含まれ得る。一態様において、反応ゾーンは、直列及び／または並列に、リアクターの種類及び構成の任意の組み合わせを含む、２つ以上のリアクターを有し得る。さらに、オリゴマー生成物を形成するために使用されるオリゴマー化プロセスは、連続プロセス、半連続プロセス、もしくはバッチプロセスであり得、または、オリゴマー化反応システム内のリアクターもしくは容器は、連続的に、半連続的に、もしくはバッチ式で操作され得る。

【0111】

エチレンをオリゴマー化するためのジルコニウムベースの触媒システム（特定の例を含む）及びオリゴマー生成物を生成するためにジルコニウムベースの触媒システムを利用するプロセスに関する追加の情報は、必ずしも限定されるものではないが、ＵＳ４，３６１，７１４、ＵＳ４，３７７，７２０、ＵＳ４，３９６，７８８、ＵＳ４，４０９，４１４、ＵＳ４，４１０，７５０、ＵＳ４，４３４，３１２、ＵＳ４，４３４，３１３、ＵＳ４，４４２，３０９、ＵＳ４，４８６，６１５、ＵＳ４，７８３，５７３、ＵＳ４，８５５，５２５、ＵＳ４，８８６，９３３、ＵＳ４，９６６，８７４、ＵＳ５，２６０，５００、ＵＳ６，５７６，７２１、ＵＳ７，８９７，８２６、ＵＳ２００３／０１５３７９８、ＵＳ７，１６９，９６１、ＵＳ７，２９１，６８５、ＵＳ７，５６６，６７９、ＵＳ８，２６９，０５５、ＵＳ２００９／０２１６０５７、ＵＳ２００９／０３０６３１２、ＵＳ２０１０／０１９１０２９、ＵＳ２０１０／０２９２４２３、ＵＳ２０１１／００４６４２９、ＵＳ２０１１／００５４１３０、ＵＳ２０１１／００５４２３３、ＵＳ２０１２／０１８４６９２、ＵＳ２０２０／００５５７９９、ＵＳ２０２０／００６２６７２、ＵＳ２０２０／００５５８００、ＵＳ２０２０／００６２６７３、ＥＰ３２０，５７１Ａ２、ＥＰ４４４，５０５Ａ２、ＥＰ１，７４９，８０７Ａ１、ＥＰ１，７５２，４３４Ａ１、ＥＰ１，７８０，１８９、ＥＰ２，２５８，６７４Ａ１、ＷＯ９１／０２７０７、Ｓｅｋｉｙｕ Ｇａｋｋａｉｓｈｉ，Ｖｏｌ．３７，Ｎｏ．４，１９９４，ｐｐ．３３７－３４６、Ｓｅｋｉｙｕ Ｇａｋｋａｉｓｈｉ，Ｖｏｌ．４２，Ｎｏ．４，１９９９，ｐｐ．２３５－２４５、Ｓｅｋｉｙｕ Ｇａｋｋａｉｓｈｉ，Ｖｏｌ．４３，Ｎｏ．５，２００ｏ，ｐｐ．３２８－３３８、Ｓｅｋｉｙｕ Ｇａｋｋａｉｓｈｉ，Ｖｏｌ．４４，Ｎｏ．１，２００１，ｐｐ．２５－３５、及びＳｅｋｉｙｕ Ｇａｋｋａｉｓｈｉ，Ｖｏｌ．４４，Ｎｏ．２，２００１，ｐｐ．１０９－１１９に見出すことができる。

【実施例】

【0112】

本開示を以下の実施例によってさらに説明するが、実施例は決して本開示の範囲に制限を課すものと解釈されてはならない。本明細書の説明を読めば、本開示の主旨または添付の特許請求の範囲から逸脱することなく、様々な他の態様、改変、及びそれらの均等物が、当業者に自ずと示唆され得る。

【0113】

エチレンオリゴマー化装置
図１は、連続エチレンオリゴマー化装置の図を示す。連続エチレンオリゴマー化装置には、０．５リットルのオートクレーブ（リアクターとして機能する）、５ガロンの高圧生成物タンク、一次触媒システムポンプ、二次触媒システムポンプ、有機反応媒体ポンプ、水素供給ライン、連鎖移動剤供給ライン、及び関連機器（例えば、いくつかある関連機器の中でもとりわけ、バルブ及び配管）が含まれる。オートクレーブ流出物サンプルポートが、オートクレーブと高圧生成物タンクとの間を通るオートクレーブ流出物ライン上に位置している。リアクターと高圧生成物タンクとを接続するリアクター流出物ラインはヒートトレースされ、表面温度は反応温度に維持される。０．５リットルのオートクレーブには、反応混合物の混合を行うためのオーバーヘッドマグネチックメカニカルスターラー、ならびに所望の温度を維持するために必要に応じて利用される内部冷却コイル（熱交換流体を流すため）及び外部加熱ジャケットが含まれる。また、連続エチレンオリゴマー化装置には、０．５リットルのオートクレーブリアクター及び生成物タンクへの高圧窒素供給ラインが含まれており、両容器に不活性雰囲気を提供する。水素供給ラインはエチレン供給ラインに接続され、所望の水素：エチレン比（利用される場合）を提供するように計量され、一方、連鎖移動剤供給ラインは、希釈剤ポンプの吸引側で有機反応媒体供給ラインに接続され、所望の量の連鎖移動剤をリアクターに提供するように計量される。触媒システムは、１つまたは２つのＩＳＣＯシリンジポンプ（触媒システム供給ポンプ）を介してリアクターに供給され、有機反応媒体は、有機反応供給タンクから有機反応媒体ポンプを介して供給される。連続エチレンオリゴマー化装置は、調製された触媒システムがリアクターに供給されるときに一次触媒システム溶液供給ポンプを利用する。連続エチレンオリゴマー化装置は、触媒システムの１つ以上の成分を含む２つの溶液がリアクターへの供給ラインに別々に供給されるときに一次及び二次触媒システム供給ポンプを利用する。

【0114】

連続エチレンオリゴマー化中、触媒システムポンプ（複数可）（ＩＳＣＯシリンジポンプ）が、触媒システム溶液（複数可）をリアクターに所望の速度（複数可）で連続的に供給し、有機反応媒体ポンプが、有機反応媒体をオートクレーブに所望の速度で連続的に供給し、エチレンが、所望の速度で接続された質量流量計を通してリアクターに連続的に供給される。触媒システム及びエチレンは、触媒システム溶液及びエチレンがオートクレーブの鉛直高さのほぼ中間点でオートクレーブの液体内容物に入るように、ディップチューブを介してオートクレーブに導入される。

【0115】

実施例１
アルゴン雰囲気ドライボックス内で、スターラーを備えた５００ｍＬフラスコに、２０ｍｍｏｌのジルコニウムテトラクロリド無水物（ＺｒＣｌ４）及び２５０ｍＬの乾燥シクロヘキサンを投入する。次いでこの混合物を１０分間室温で撹拌する。この撹拌混合物に、トリエチルアルミニウム（ＴＥＡ）、次いでエチルアルミニウムセスキクロリド（ＥＡＳＣ）を加えて、ＥＡＳＣ：ＴＥＡモル比３．５：１、及びアルミニウム対ジルコニウムモル比７：１を有する混合物を得る。次いで、得られた混合物を７０℃で２時間加熱する。次いでこの混合物を室温に冷却する。冷却した混合物のうち５０ｍＬを、チオフェン：ジルコニウムモル比が３：１になる量のチオフェンと共に、１リットルメスフラスコに移す。次いで、１リットルメスフラスコに、１リットルの触媒システム混合物を得るために十分な乾燥シクロヘキサンを投入する。このように調製された触媒システム混合物のジルコニウム濃度／シクロヘキサン１リットルは、アルミニウム対ジルコニウムのモル比は７：１、ＥＡＳＣ：ＴＥＡのモル比は３．５：１、チオフェン：ジルコニウムのモル比は３：１である。次いで、触媒システム混合物のメスフラスコに蓋をし、アルゴン雰囲気ドライボックスから取り出す。

【0116】

ラン１－１（比較）
一次触媒システム溶液ポンプのみを使用して、前述のオリゴマー化装置を利用する。高圧Ｎ_２充填ラインを使用して所望の圧力まで高圧生成物タンクを充填することにより、エチレンオリゴマー化のためにオリゴマー化リアクターを準備する。また、リアクターを、一次触媒システム溶液ポンプから隔離した状態で、３回の高圧Ｎ_２充填（８００ｐｓｉｇ－５．５ＭＰａまで）及びベントサイクルにかける。各窒素パージは、生成物タンクにつながるバルブを閉じ、予備流入ポートを通して８００ｐｓｉｇ（５．５ＭＰａ）の圧力まで窒素をオートクレーブに充填し、オートクレーブの窒素圧力を５分間保った後、生成物タンクにつながるバルブを開いてオートクレーブの窒素圧力を解放することによって行う。最後の窒素パージの窒素が放出された後、わずかな残留窒素圧力でオートクレーブを維持する。次いで、触媒システム混合物２００ｍＬを、準備済みのエチレンオリゴマー化装置の触媒システムＩＳＣＯシリンジポンプに移す。次いで、リアクターに有機反応媒体（シクロヘキサン）を素早く充填する。次いで、希釈剤ポンプを毎時３３５ｍＬの速度で作動させて、リアクターを９２５ｐｓｉ（６．３７ＭＰａ）の反応圧力にする。リアクターがこの反応圧力に達したら、オーバーヘッドマグネチックスターラーを始動して約１２００ｒｐｍに設定し、加熱ジャケットを作動させて１２０℃に設定する。リアクターが１２０℃の安定した温度に達したら、触媒システムＩＳＣＯポンプを作動させ、触媒システム混合物をリアクターに１５ｍＬ／時の速度で供給するように設定する。３０分後、エチレンをリアクターに５０グラム／時の初期速度で導入し、３０分間かけて１７５グラム／時の最終速度まで徐々に増加させる。必要に応じて内部冷却コイル及び外部加熱ジャケットを使用することにより、オリゴマー化温度を維持する。６時間後、触媒システム流量を０に減少させ、エチレン流量を０に減少させ、加熱ジャケットを止めることによって、オリゴマー化を終了させる。リアクターが室温になったら、有機反応媒体の流量を０に減少させ、高圧Ｎ_２を使用してリアクターの液体内容物を高圧生成物タンクに圧入する。

【0117】

次いで、リアクターを開き、リアクター内にあってリアクター内部表面を覆っている固体を収集し、高圧生成物タンク内に収集されたリアクター流出物に加える。生成物タンクの液体サンプル２５０グラムを収集し、既知量の内部標準（例えばノナン）をサンプルに加える。次いでこのサンプルを５重量％の水酸化ナトリウム溶液で処理して、触媒システムを失活させる。次いで、ガスクロマトグラフィー分析を使用して、水酸化ナトリウム処理済みサンプルの有機層を分析し、オリゴマー生成物の分布、Ｓｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値、炭素数純度、及び触媒システムの生産性を決定する。次いで、生成物タンクの残りの内容物を均質化し、生成物タンクの第２のサンプル２５０グラムを取る。次いで、すべての液体を効果的に除去するために、第２のサンプルを、Ｈｇで－３０において、１００℃で１時間の回転蒸発に供する。残りのワックス及びポリマーの質量を決定する。次いで、ワックスの一部を熱重量分析（ＴＧＡ）によって分析し、Ａ）液体（≦１７５℃）、Ｂ）ワックス（１７５℃～４２０℃）、及びＣ）ポリマー≧４２０℃のカットオフを使用して、ポリマーである固体サンプルの割合を計算する。ワックス及びポリマーの第２の部分をＨＰＬＣによって分析して、Ｍｗ、Ｍｎ、及びＭｐを含むオリゴマー化で生成されたポリマーの分子量分布を決定する。液体及びポリマーの分析結果を使用して、オリゴマー生成物の分布、Ｓｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値、炭素数純度、触媒システムの生産性、ポリマーＭｗ、ポリマーＭｗ最大ピーク、オリゴマー生成物中のポリマーのパーセンテージ、１００，０００を超えるＭｗを有するポリマーのパーセンテージ、及び１，０００ｇ／ｍｏｌを超えるＭｗを有するオリゴマー生成物のパーセンテージを決定する。

【0118】

ラン１－２。
アルゴン雰囲気ドライボックス内で、２５０ｍＬメスフラスコに、０．１モルのトリエチルシラン（連鎖移動剤）を投入した後、２５０ｍＬの連鎖移動剤混合物を得るために十分な乾燥シクロヘキサンを投入する。次いで、連鎖移動剤混合物のメスフラスコに蓋をし、アルゴン雰囲気ドライボックスから取り出す。

【0119】

連鎖移動剤供給ラインを有機反応媒体ポンプの吸引側で有機反応媒体供給ラインに接続する。ラン１－１の手順を繰り返すが、エチレンオリゴマー化全体を通じて、トリエチルシラン対エチレンのモル比が１×１０^－３：１となるように計量されたトリエチルシラン溶液（エチレン流量が１７５グラム／時の場合、約１５ｍＬ／時）を希釈剤ポンプの吸引側に加える。

【0120】

ラン１－３
アルゴン雰囲気ドライボックス内で、２５０ｍＬメスフラスコに、０．１ミリモルの鉄（ＩＩＩ）オクタノエート（遷移金属化合物連鎖移動剤）を投入し、次いで、２５０ｍＬの遷移金属化合物連鎖移動剤混合物を得るために十分な乾燥シクロヘキサンを投入する。次いで、連鎖移動剤混合物のメスフラスコに蓋をし、アルゴン雰囲気ドライボックスから取り出す。

【0121】

遷移金属化合物連鎖移動剤供給ラインを有機反応媒体ポンプの吸引側で有機反応媒体供給ラインに接続する。ラン１－１の手順を繰り返すが、エチレンオリゴマー化全体を通じて、鉄（ＩＩＩ）オクタノエート対エチレンのモル比が１×１０^－６：１となるように計量された鉄（ＩＩＩ）オクタノエート溶液（エチレン流量が１７５グラム／時の場合、約１５ｍＬ／時）を希釈剤ポンプの吸引側に加える。

【0122】

ラン１－４
水素供給ラインをエチレンオリゴマー化装置のエチレン供給ラインに接続する。ラン１－１の手順を繰り返すが、エチレンオリゴマー化全体を通じて、水素対エチレン質量比が（１ｇ水素）／（ｋｇエチレン）となるような速度で水素をエチレンに計量供給する。

【0123】

連鎖移動剤を使用したエチレンオリゴマー化ラン１－２、１－３、及び１－４のガスクロマトグラフィー分析及びＨＰＬＣ分析を確認し、エチレンオリゴマー化ラン１－１のガスクロマトグラフィー分析及びＨＰＬＣ分析と比較した。これらの分析は、連鎖移動剤を使用したエチレンオリゴマー化ラン１－２、１－３、及び１－４で生成されたオリゴマー生成物が、連鎖移動剤を利用しなかったエチレンオリゴマー化ラン１－１と比較すると、１重量％未満のポリマー及び／または１０００ｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有する１重量％未満の化合物を有することを示す。これらの分析は、連鎖移動剤を使用したエチレンオリゴマー化ラン１－２、１－３、及び１－４で生成されたオリゴマー生成物が、連鎖移動剤を利用しなかったエチレンオリゴマー化ラン１－１と比較すると、より低いＭｗを有するポリマー、より低いＭｗ最大ピークを有するポリマー、低減したパーセンテージのポリマー、及び／または１００，０００を超えるＭｗを有するポリマーの低減したパーセンテージを有するポリマーを含むオリゴマー生成物を生成することも示す。ラン１－１、１－２、１－３、及び１－４のオリゴマー生成物のガスクロマトグラフィー分析は、連鎖移動剤をエチレンオリゴマー化に利用した場合、Ｓｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値、炭素数純度、及び触媒システムの生産性に対する著しい認識可能な影響がないことを示す。

【0124】

実施例２
アルゴン雰囲気ドライボックス内で、スターラーを備えた第１の５００ｍＬフラスコに、ジルコニウム（ＩＶ）イソプロピルカルボキシレート（６０ｍｍｏｌ）、アニソール（４５ｍｍｏｌ）、及び乾燥トルエン（２００ｍＬ）を投入する。次いで、この第１の混合物を１０分間室温で撹拌する。アルゴンドライボックス内で、スターラーを備えた第２の５００ｍＬフラスコに、２－ピロリドン（４３ｍｍｏｌ）及び乾燥トルエン（２００ｍＬ）を投入する。この第２の混合物に、未希釈のジエチルアルミニウムクロリド（１．２ｍｏｌ）を３０分間かけて加える。次いで、この第２の混合物をさらに１０分間撹拌する。次いで、第１の混合物を１リットルメスフラスコに移す。次いで、第２の混合物をメスフラスコ内の第１の混合物に加えてから、第１の触媒システム混合物の１リットル溶液を得るために十分な乾燥トルエンをメスフラスコに投入する。十分に混合した後、１リットルの第２の触媒システム混合物を得るために十分な乾燥トルエンと共に、第１の触媒システム混合物のうち２００ｍＬを第２の１リットルメスフラスコに移す。このように調製された第２の触媒システム混合物のジルコニウム濃度は１２ｍｍｏｌ／リットルであり、アニソール対ジルコニウムのモル比は０．７５：１、アルミニウム：ジルコニウムのモル比は２０：１、２－ピロリドン：Ａｌ比は０．１５：１である。次いで、第２の触媒システム混合物のメスフラスコに蓋をし、アルゴン雰囲気ドライボックスから取り出す。

【0125】

ラン２－１（比較）
一次触媒システム溶液ポンプのみを使用して、前述のオリゴマー化装置を利用する。高圧Ｎ_２充填ラインを使用して所望の圧力まで高圧生成物タンクを充填することにより、エチレンオリゴマー化のためにオリゴマー化リアクターを準備する。また、リアクターを、一次触媒システム溶液ポンプから隔離した状態で、３回の高圧Ｎ_２充填（８００ｐｓｉｇ－５．５ＭＰａまで）及びベントサイクルにかける。各窒素パージは、生成物タンクにつながるバルブを閉じ、予備流入ポートを通して８００ｐｓｉｇ（５．５ＭＰａ）の圧力まで窒素をオートクレーブに充填し、オートクレーブの窒素圧力を５分間保った後、生成物タンクにつながるバルブを開いてオートクレーブの窒素圧力を解放することによって行う。最後の窒素パージの窒素が放出された後、わずかな残留窒素圧力でオートクレーブを維持する。次いで、第２の触媒システム混合物２００ｍＬを、準備済みのエチレンオリゴマー化装置の触媒システムＩＳＣＯシリンジポンプに移す。次いで、リアクターに有機反応媒体（シクロヘキサン）を素早く充填する。次いで、希釈剤ポンプを毎時４８５ｍＬの速度で作動させて、リアクターを４５０ｐｓｉ（３．１ＭＰａ）の反応圧力にする。リアクターがこの反応圧力に達したら、オーバーヘッドマグネチックスターラーを始動して約１２００ｒｐｍに設定し、加熱ジャケットを作動させて７０℃に設定する。リアクターが７０℃の安定した温度に達したら、触媒システムＩＳＣＯポンプを作動させ、触媒システム混合物をリアクターに１５ｍＬ／時の速度で供給するように設定する。３０分後、エチレンをリアクターに５０グラム／時の初期速度で導入し、３０分間かけて１７５グラム／時の最終速度まで徐々に増加させる。必要に応じて内部冷却コイル及び外部加熱ジャケットを使用することにより、オリゴマー化温度を維持する。６時間後、触媒システム流量を０に減少させ、エチレン流量を０に減少させ、加熱ジャケットを止めることによって、オリゴマー化を終了させる。リアクターが室温になったら、有機反応媒体の流量を０に減少させ、高圧Ｎ_２を使用してリアクターの液体内容物を高圧生成物タンクに圧入する。

【0126】

次いで、リアクターを開き、リアクター内にあってリアクター内部表面を覆っている固体を収集し、高圧生成物タンク内に収集されたリアクター流出物に加える。生成物タンクの液体サンプル２５０グラムを収集し、既知量の内部標準（例えばノナン）をサンプルに加える。次いでこのサンプルを５重量％の水酸化ナトリウム溶液で処理して、触媒システムを失活させる。次いで、ガスクロマトグラフィー分析を使用して、水酸化ナトリウム処理済みサンプルの有機層を分析し、オリゴマー生成物の分布、Ｓｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値、炭素数純度、及び触媒システムの生産性を決定する。次いで、生成物タンクの残りの内容物を均質化し、生成物タンクの第２のサンプル２５０グラムを取る。次いで、すべての液体を効果的に除去するために、第２のサンプルを、Ｈｇで－３０において、１００℃で１時間の回転蒸発に供する。残りのワックス及びポリマーの質量を決定する。次いで、ワックスの一部を熱重量分析（ＴＧＡ）によって分析し、Ａ）液体（≦１７５℃）、Ｂ）ワックス（１７５℃～４２０℃）、及びＣ）ポリマー≧４２０℃のカットオフを使用して、ポリマーである固体サンプルの割合を計算する。ワックス及びポリマーの第２の部分をＨＰＬＣによって分析して、Ｍｗ、Ｍｎ、及びＭｐを含むオリゴマー化で生成されたポリマーの分子量分布を決定する。液体及びポリマーの分析結果を使用して、オリゴマー生成物の分布、Ｓｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値、炭素数純度、触媒システムの生産性、ポリマーＭｗ、ポリマーＭｗ最大ピーク、及びオリゴマー生成物中のポリマーのパーセンテージを決定する。

【0127】

ラン２－２。
アルゴン雰囲気ドライボックス内で、２５０ｍＬメスフラスコに、０．１モルのトリエチルシラン（連鎖移動剤）を投入した後、２５０ｍＬの連鎖移動剤混合物を得るために十分な乾燥シクロヘキサンを投入する。次いで、連鎖移動剤混合物のメスフラスコに蓋をし、アルゴン雰囲気ドライボックスから取り出す。

【0128】

連鎖移動剤供給ラインを有機反応媒体ポンプの吸引側で有機反応媒体供給ラインに接続する。ラン２－１の手順を繰り返すが、エチレンオリゴマー化全体を通じて、トリエチルシラン対エチレンのモル比が１×１０^－３：１となるように計量されたトリエチルシラン溶液（エチレン流量が１７５グラム／時の場合、約１５ｍＬ／時）を希釈剤ポンプの吸引側に加える。

【0129】

ラン２－３
アルゴン雰囲気ドライボックス内で、２５０ｍＬメスフラスコに、０．１ミリモルの鉄（ＩＩＩ）オクタノエート（遷移金属化合物連鎖移動剤）を投入し、次いで、２５０ｍＬの遷移金属化合物連鎖移動剤混合物を得るために十分な乾燥シクロヘキサンを投入する。次いで、連鎖移動剤混合物のメスフラスコに蓋をし、アルゴン雰囲気ドライボックスから取り出す。

【0130】

遷移金属化合物連鎖移動剤供給ラインを有機反応媒体ポンプの吸引側で有機反応媒体供給ラインに接続する。ラン２－１の手順を繰り返すが、エチレンオリゴマー化全体を通じて、鉄（ＩＩＩ）オクタノエート対エチレンのモル比が１×１０^－６：１となるように計量された鉄（ＩＩＩ）オクタノエート溶液（エチレン流量が１７５グラム／時の場合、約１５ｍＬ／時）を希釈剤ポンプの吸引側に加える。

【0131】

ラン２－４
水素供給ラインをエチレンオリゴマー化装置のエチレン供給ラインに接続する。ラン２－１の手順を繰り返すが、エチレンオリゴマー化全体を通じて、水素対エチレン質量比が（１ｇ水素）／（ｋｇエチレン）となるような速度で水素をエチレンに計量供給する。

【0132】

連鎖移動剤を使用したエチレンオリゴマー化ラン２－２、２－３、及び２－４のガスクロマトグラフィー分析及びＨＰＬＣ分析を確認し、エチレンオリゴマー化ラン２－１のガスクロマトグラフィー分析及びＨＰＬＣ分析と比較した。これらの分析は、連鎖移動剤を使用したエチレンオリゴマー化ラン２－２、２－３、及び２－４で生成されたオリゴマー生成物が、連鎖移動剤を利用しなかったエチレンオリゴマー化ラン２－１と比較すると、１重量％未満のポリマー及び／または１０００ｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有する１重量％未満の化合物を有することを示す。これらの分析は、連鎖移動剤を使用したエチレンオリゴマー化ラン２－２、２－３、及び２－４で生成されたオリゴマー生成物が、連鎖移動剤を利用しなかったエチレンオリゴマー化ラン１－１と比較すると、より低いＭｗを有するポリマー、より低いＭｗ最大ピークを有するポリマー、低減したパーセンテージのポリマー、及び／または１００，０００を超えるＭｗを有するポリマーの低減したパーセンテージを有するポリマーを含むオリゴマー生成物を生成することも示す。ラン２－１、２－２、２－３、及び２－４のオリゴマー生成物のガスクロマトグラフィー分析は、連鎖移動剤をエチレンオリゴマー化に利用した場合、Ｓｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値、炭素数純度、及び触媒システムの生産性に対する著しい認識可能な影響がないことを示す。

【0133】

実施例３
アルゴン雰囲気ドライボックス内で、スターラーを備えた第１の５００ｍＬフラスコに、ジルコニウムテトラクロリド（１００ｍｍｏｌ）、イソデシルアセテート（１０５ｍｍｏｌ）、及び乾燥オルト－キシレン（２００ｍＬ）を投入する。次いで、このジルコニウム混合物を１０分間室温で撹拌する。次いで、第１のジルコニウム混合物を１リットルメスフラスコに移した後、１リットルメスフラスコに、第１のジルコニウム溶液の１リットル溶液を得るために十分なオルト－キシレンを投入する。十分に混合した後、１リットルの第２のジルコニウム溶液を得るために十分な乾燥オルト－キシレンと共に、第１のジルコニウム溶液のうち２００ｍＬを第２の１リットルメスフラスコに移す。第２のジルコニウム溶液は、１．０５：１のイソデシルアセテート：Ｚｒモル比を有する。次いで、第２のジルコニウム溶液のメスフラスコに蓋をし、アルゴン雰囲気ドライボックスから取り出す。

【0134】

アルゴンドライボックス内で、スターラーを備えた第２の５００ｍＬフラスコに、乾燥オルト－キシレン（５００ｍＬ）を投入する。このオルト－キシレンに、撹拌しながら、未希釈のジエチルアルミニウムクロリド（１．２ｍｏｌ）を３０分間かけて加える。次いで、この混合物をさらに１０分間撹拌する。次いで、このジエチルアルミニウムクロリド溶液を１リットルメスフラスコに移した後、１リットルメスフラスコに、第１のジルコニウム溶液の１リットル溶液を得るために十分なオルト－キシレンを投入する。十分に混合した後、１リットルの第２のジエチルアルミニウムクロリド溶液を得るために十分な乾燥オルト－キシレンと共に、第１のジエチルアルミニウムクロリド溶液のうち２００ｍＬを第２の１リットルメスフラスコに移す。次いで、第２のジエチルアルミニウムクロリド溶液のメスフラスコに蓋をし、アルゴン雰囲気ドライボックスから取り出す。

【0135】

ラン３－１（比較）
次の変更を加えて前述のオリゴマー化装置を利用する：５００ｍＬオートクレーブを２００ｍＬオートクレーブに置き換え（これもまた、反応混合物の混合を行うためのオーバーヘッドマグネチックメカニカルスターラー、ならびに内部冷却コイル及び外部加熱ジャケットを備えている）、一次及び二次触媒システムポンプの両方を利用する。高圧Ｎ_２充填ラインを使用して所望の圧力まで高圧生成物タンクを充填することにより、エチレンオリゴマー化のためにオリゴマー化リアクターを準備する。また、リアクターを、一次及び二次触媒システム溶液ポンプから隔離した状態で、３回の高圧Ｎ_２充填（８００ｐｓｉｇ－５．５ＭＰａまで）及びベントサイクルにかける。各窒素パージは、生成物タンクにつながるバルブを閉じ、予備流入ポートを通して８００ｐｓｉｇ（５．５ＭＰａ）の圧力まで窒素をオートクレーブに充填し、オートクレーブの窒素圧力を５分間保った後、生成物タンクにつながるバルブを開いてオートクレーブの窒素圧力を解放することによって行う。最後の窒素パージの窒素が放出された後、わずかな残留窒素圧力でオートクレーブを維持する。第２のジルコニウム混合物２００ｍＬを、準備済みのエチレンオリゴマー化装置の一次触媒システムＩＳＣＯシリンジポンプに移す。第２のジエチルアルミニウムクロリド溶液２００ｍＬを、準備済みのエチレンオリゴマー化装置の二次触媒システムＩＳＣＯシリンジポンプに移す。次いで、リアクターに乾燥有機反応媒体（オルト－キシレン）を素早く充填する。次いで、希釈剤ポンプを毎時６８０ｍＬの速度で作動させて、リアクターを３０００ｐｓｉ（２０．７ＭＰａ）の反応圧力にする。リアクターがこの反応圧力に達したら、オーバーヘッドマグネチックスターラーを始動して約１２００ｒｐｍに設定し、加熱ジャケットを作動させて１６５℃に設定する。リアクターが７０℃の安定した温度に達したら、一次及び二次触媒システムＩＳＣＯポンプを作動させ、第２のジルコニウム溶液及び第２のジエチルアルミニウムクロリド溶液を１１ｍＬ／時の速度で供給するように設定する。ジルコニウム溶液及びジエチルアルミニウムクロリド溶液の供給速度は、Ａｌ：Ｚｒ比を１２：１にする。３０分後、エチレンをリアクターに５０グラム／時の初期速度で導入し、３０分間かけて６００グラム／時の最終速度まで徐々に増加させる。必要に応じて内部冷却コイル及び外部加熱ジャケットを使用することにより、オリゴマー化温度を維持する。４時間後、ジルコニウム溶液の流量及びジエチルアルミニウムクロリド溶液の供給速度を０に減少させ、エチレン流量を０に減少させ、加熱ジャケットを止めることによって、オリゴマー化を終了させる。リアクターが室温になったら、有機反応媒体の流量を０に減少させ、高圧Ｎ_２を使用してリアクターの液体内容物を高圧生成物タンクに圧入する。

【0136】

次いで、リアクターを開き、リアクター内にあってリアクター内部表面を覆っている固体を収集し、高圧生成物タンク内に収集されたリアクター流出物に加える。生成物タンクの液体サンプル２５０グラムを収集し、既知量の内部標準（例えばノナン）をサンプルに加える。次いでこのサンプルを５重量％の水酸化ナトリウム溶液で処理して、触媒システムを失活させる。次いで、ガスクロマトグラフィー分析を使用して、水酸化ナトリウム処理済みサンプルの有機層を分析し、オリゴマー生成物の分布、Ｓｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値、炭素数純度、及び触媒システムの生産性を決定する。次いで、生成物タンクの残りの内容物を均質化し、生成物タンクの第２のサンプル２５０グラムを取る。次いで、すべての液体を効果的に除去するために、第２のサンプルを、Ｈｇで－３０において、１００℃で１時間の回転蒸発に供する。残りのワックス及びポリマーの質量を決定する。次いで、ワックスの一部を熱重量分析（ＴＧＡ）によって分析し、Ａ）液体（≦１７５℃）、Ｂ）ワックス（１７５℃～４２０℃）、及びＣ）ポリマー≧４２０℃のカットオフを使用して、ポリマーである固体サンプルの割合を計算する。ワックス及びポリマーの第２の部分をＨＰＬＣによって分析して、Ｍｗ、Ｍｎ、及びＭｐを含むオリゴマー化で生成されたポリマーの分子量分布を決定する。液体及びポリマーの分析結果を使用して、オリゴマー生成物の分布、Ｓｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値、炭素数純度、触媒システムの生産性、ポリマーＭｗ、ポリマーＭｗ最大ピーク、及びオリゴマー生成物中のポリマーのパーセンテージを決定する。

【0137】

ラン３－２。
アルゴン雰囲気ドライボックス内で、２５０ｍＬメスフラスコに、３６０ｍｍｏｌのトリエチルシラン（連鎖移動剤）を投入した後、２５０ｍＬの連鎖移動剤混合物を得るために十分な乾燥オルト－キシレンを投入する。次いで、連鎖移動剤混合物のメスフラスコに蓋をし、アルゴン雰囲気ドライボックスから取り出す。

【0138】

連鎖移動剤供給ラインを有機反応媒体ポンプの吸引側で有機反応媒体供給ラインに接続する。ラン３－１の手順を繰り返すが、エチレンオリゴマー化全体を通じて、トリエチルシラン対エチレンのモル比が１×１０^－３：１となるように計量されたトリエチルシラン溶液（エチレン流量が６００グラム／時の場合、約１５ｍＬ／時）を希釈剤ポンプの吸引側に加える。

【0139】

ラン３－３
アルゴン雰囲気ドライボックス内で、２５０ｍＬメスフラスコに、０．３６ミリモルの鉄（ＩＩＩ）オクタノエート（遷移金属化合物連鎖移動剤）を投入し、次いで、２５０ｍＬの遷移金属化合物連鎖移動剤混合物を得るために十分な乾燥シクロヘキサンを投入する。次いで、連鎖移動剤混合物のメスフラスコに蓋をし、アルゴン雰囲気ドライボックスから取り出す。

【0140】

遷移金属化合物連鎖移動剤供給ラインを有機反応媒体ポンプの吸引側で有機反応媒体供給ラインに接続する。ラン３－１の手順を繰り返すが、エチレンオリゴマー化全体を通じて、鉄（ＩＩＩ）オクタノエート対エチレンのモル比が１×１０^－６：１となるように計量された鉄（ＩＩＩ）オクタノエート溶液（エチレン流量が１７５グラム／時の場合、約１５ｍＬ／時）を希釈剤ポンプの吸引側に加える。

【0141】

ラン３－４
水素供給ラインをエチレンオリゴマー化装置のエチレン供給ラインに接続する。ラン３－１の手順を繰り返すが、エチレンオリゴマー化全体を通じて、水素対エチレン質量比が（１ｇ水素）／（ｋｇエチレン）となるような速度で水素をエチレンに計量供給する。

【0142】

連鎖移動剤を使用したエチレンオリゴマー化ラン３－２、３－３、及び３－４のガスクロマトグラフィー分析及びＨＰＬＣ分析を確認し、エチレンオリゴマー化ラン３－１のガスクロマトグラフィー分析及びＨＰＬＣ分析と比較した。これらの分析は、連鎖移動剤を使用したエチレンオリゴマー化ラン３－２、３－３、及び３－４で生成されたオリゴマー生成物が、連鎖移動剤を利用しなかったエチレンオリゴマー化ラン３－１と比較すると、１重量％未満のポリマー及び／または１０００ｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有する１重量％未満の化合物を有することを示す。これらの分析は、連鎖移動剤を使用したエチレンオリゴマー化ラン３－２、３－３、及び３－４で生成されたオリゴマー生成物が、連鎖移動剤を利用しなかったエチレンオリゴマー化ラン３－１と比較すると、より低いＭｗを有するポリマー、より低いＭｗ最大ピークを有するポリマー、低減したパーセンテージのポリマー、及び／または１００，０００を超えるＭｗを有するポリマーの低減したパーセンテージを有するポリマーを含むオリゴマー生成物を生成することも示す。ラン３－１、３－２、３－３、及び３－４のオリゴマー生成物のガスクロマトグラフィー分析は、連鎖移動剤をエチレンオリゴマー化に利用した場合、Ｓｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値、炭素数純度、及び触媒システムの生産性に対する著しい認識可能な影響がないことを示す。

【0143】

以下に、本明細書で主張される主題の例示的な条項を提供する。明確にするために、本明細書には実際の実施態様のすべての特徴を記載してはいない。そのような実際の実施形態の開発においては、実施態様ごとに異なり得るシステム関連及びビジネス関連の制約への準拠など、開発者の特定の目標を達成するために、実施態様固有の多数の決定を下す必要があることが理解され得る。さらに、そのような開発努力は、たとえ複雑で時間がかかるとしても、本開示の便益を受ける当業者にとっては慣例的な作業であることが理解され得る。さらに、本明細書において意図される本発明の範囲内で様々な改変を行うことができ、本発明の実施形態は、明確に主張されたもの以外の特徴の組み合わせを含むことができる。特に、本明細書に明確に記載されたもの以外の流れ構成も、本発明の範囲内にある。

【0144】

条項１．
ａ）接触させることであって、ｉ）エチレンと、ｉｉ）触媒システム（または触媒システム成分）であって、１）式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有するジルコニウム化合物（式中、各Ｘ^１は、独立的に、ハライドであり、各Ｙ^１は、独立的に、ヒドロカルボキシド、ジヒドロカルビルアザニド、ヒドロカルビルカルボキシレート、ヒドロカルビルスルホネート、またはβ－ジケトネートであり、ｍは、０～４の範囲であり、ｑは、０～４の範囲内であり、ｍ＋ｑは、２～４の整数である）、及び２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、前記触媒システム（または触媒システム成分）と、ｉｉｉ）水素ケイ素結合を有する化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、またはそれらの任意の組み合わせを含む連鎖移動剤と、ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを、前記接触させること、ならびに、ｂ）反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含む、プロセス。

【0145】

条項２．
ａ）反応ゾーンに、ｉ）エチレンと、ｉｉ）触媒システム（または触媒システム成分）であって、１）式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有するジルコニウム化合物（式中、各Ｘ^１は、独立的に、ハライドであり、各Ｙ^１は、独立的に、ヒドロカルボキシド、ジヒドロカルビルアザニド、ヒドロカルビルカルボキシレート、ヒドロカルビルスルホネート、またはβ－ジケトネートであり、ｍは、０～４の範囲であり、ｑは、０～４の範囲内であり、ｍ＋ｑは、２～４の整数である）、及び２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、前記触媒システム（または触媒システム成分）と、ｉｉｉ）水素ケイ素結合を有する化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、またはそれらの任意の組み合わせを含む連鎖移動剤と、ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを導入すること、ならびに、ｂ）反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含む、プロセス。

【0146】

条項３．
前記連鎖移動剤が、式Ｒ^３１ＳｉＨ_３、（Ｒ^３１）_２ＳｉＨ_２、（Ｒ^３１）_３ＳｉＨ、Ｒ^３１ＯＳｉＨ３、（Ｒ^３１Ｏ）_２ＳｉＨ_２、（Ｒ^３１Ｏ）_３ＳｉＨ、Ｒ^３２ＳＨ、Ｒ^３２ＣＯ_２ＣＨ_２ＳＨ、Ｒ^３２ＣＯ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＨ、Ｒ^３３ＰＨ_２、（Ｒ^３３）_２ＰＨ、Ｒ^３３ＯＰＨ_２、（Ｒ^３３Ｏ）_２ＰＨ、またはそれらの任意の組み合わせを有する化合物を含み、式中、各Ｒ^３１、Ｒ^３２、及びＲ^３３は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１５ヒドロカルビル基である、条項１または２に記載のプロセス。

【0147】

条項４．
前記反応ゾーンが、本明細書で開示される前記連鎖移動剤の水素とエチレンとのモル比のいずれか、例えば、（いくつかある値及び範囲の中でもとりわけ、１×１０^－５：１、５×１０^－４：１、１×１０^－４：１、または５×１０^－３：１の最小値；５×１０^－１：１、１×１０^－１：１、５×１０^－２：１、または１×１０^－２：１の最大値；１×１０^－５：１～５×１０^－１：１、５×１０^－４：１～１×１０^－１：１、１×１０^－４：１～５×１０^－２：１、または５×１０^－３：１～１×１０^－２：１の範囲内）を有する、条項１～３のいずれか１項に記載のプロセス。

【0148】

条項５．
ａ）接触させることであって、ｉ）エチレンと、ｉｉ）触媒システム（または触媒システム成分）であって、１）式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有するジルコニウム化合物（式中、各Ｘ^１は、独立的に、ハライドであり、各Ｙ^１は、独立的に、ヒドロカルボキシド、ジヒドロカルビルアザニド、ヒドロカルビルカルボキシレート、ヒドロカルビルスルホネート、またはβ－ジケトネートであり、ｍは、０～４の範囲であり、ｑは、０～４の範囲内であり、ｍ＋ｑは、２～４の整数である）、及び２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、前記触媒システム（または触媒システム成分）と、ｉｉｉ）水素と、ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを、前記接触させること、ならびに、ｂ）反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含む、プロセス。

【0149】

条項６．
ａ）反応ゾーンに、ｉ）エチレンと、ｉｉ）触媒システム（または触媒システム成分）であって、１）式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有するジルコニウム化合物（式中、各Ｘ^１は、独立的に、ハライドであり、各Ｙ^１は、独立的に、ヒドロカルボキシド、ジヒドロカルビルアザニド、ヒドロカルビルカルボキシレート、ヒドロカルビルスルホネート、またはβ－ジケトネートであり、ｍは、０～４の範囲であり、ｑは、０～４の範囲内であり、ｍ＋ｑは、２～４の整数である）、及び２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、前記触媒システム（または触媒システム成分）と、ｉｉｉ）水素と、ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを導入すること、ならびに、ｂ）前記反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含む、プロセス。

【0150】

条項７．
前記反応ゾーンが、本明細書で開示される水素対エチレン質量比のいずれか（例えば、いくつかある値及び範囲の中でもとりわけ、（０．０５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（０．１ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（０．２５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（０．４ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、または（０．５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）の最小値；（５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（３ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（２．５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（２ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、または（１．５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）の最大値；（０．０５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）～（５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（０．２５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）～（５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（０．２５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）～（４ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（０．４ｇ水素）／（ｋｇエチレン）～（３ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（０．４ｇ水素）／（ｋｇエチレン）～（２．５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、（０．４ｇ水素）／（ｋｇエチレン）～（２ｇ水素）／（ｋｇエチレン）、または（０．５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）～（２ｇ水素）／（ｋｇエチレン）の範囲内）を有する、条項５または６に記載のプロセス。

【0151】

条項８．
ａ）接触させることであって、ｉ）エチレンと、ｉｉ）触媒システム（または触媒システム成分）であって、１）式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有するジルコニウム化合物（式中、各Ｘ^１は、独立的に、ハライドであり、各Ｙ^１は、独立的に、ヒドロカルボキシド、ジヒドロカルビルアザニド、ヒドロカルビルカルボキシレート、ヒドロカルビルスルホネート、またはβ－ジケトネートであり、ｍは、０～４の範囲であり、ｑは、０～４の範囲内であり、ｍ＋ｑは、２～４の整数である）、及び２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、前記触媒システム（または触媒システム成分）と、ｉｉｉ）遷移金属化合物連鎖移動剤と、ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを、前記接触させること、ならびに、ｂ）反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含む、プロセス。

【0152】

条項９．
ａ）反応ゾーンに、ｉ）エチレンと、ｉｉ）触媒システム（または触媒システム成分）であって、１）式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有するジルコニウム化合物（式中、各Ｘ^１は、独立的に、ハライドであり、各Ｙ^１は、独立的に、ヒドロカルボキシド、ジヒドロカルビルアザニド、ヒドロカルビルカルボキシレート、ヒドロカルビルスルホネート、またはβ－ジケトネートであり、ｍは、０～４の範囲であり、ｑは、０～４の範囲内であり、ｍ＋ｑは、２～４の整数である）、及び２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、前記触媒システム（または触媒システム成分）と、ｉｉｉ）遷移金属化合物連鎖移動剤と、ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを導入すること、ならびに、ｂ）前記反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含む、プロセス。

【0153】

条項１０．
前記遷移金属化合物連鎖移動剤が、式ＭＸ^４ _ｐを有する任意の遷移金属化合物連鎖移動剤であり、式中、Ｍは、前記遷移金属であり、Ｘ^４は、モノアニオンであり、ｐは、２～４の整数である、条項８または９に記載のプロセス。

【0154】

条項１１．
前記遷移金属化合物連鎖移動剤が、式ＭＸ^４ _ｐを有する、本明細書に記載されるいずれかであり、式中、Ｍは、鉄、コバルト、またはニッケルである、条項１０に記載のプロセス。

【0155】

条項１２．
遷移金属化合物連鎖移動剤が、本明細書に記載される式ＭＸ^４ _ｐを有する任意の遷移金属化合物連鎖移動剤であり、式中、Ｘ^４は、Ｃ_４～Ｃ_１９カルボキシレートである、条項１０または１１に記載のプロセス。

【0156】

条項１３．
前記反応ゾーンが、本明細書で開示される前記遷移金属化合物連鎖移動剤の遷移金属とエチレンとのモル比のいずれか（いくつかある値及び範囲の中でもとりわけ、１×１０^－９：１、５×１０^－８：１、１×１０^－８：１、５×１０^－７：１、または１×１０^－７：１の最小値；５×１０^－３：１、１×１０^－３：１、５×１０^－４：１、１×１０^－４：１、または５×１０^－５：１の最大値；１×１０^－９：１～５×１０^－３：１、５×１０^－８：１～１×１０^－３：１、１×１０^－８：１～５×１０^－４：１、５×１０^－７：１～１×１０^－４：１、または１×１０^－７：１～５×１０^－５：１の範囲内）を有する、条項８～１２のいずれか１つの条項に記載のプロセス。

【0157】

条項１４．
前記ヒドロカルビル金属化合物が、本明細書で開示されるいずれかのヒドロカルビル金属化合物である（例えば、本明細書で開示されるいずれかの金属（いくつかある本明細書で開示される金属族の中でもとりわけ、第１族、第２族、第１１族、第１２族、第１３族、または第１４族の金属）、ならびに、本明細書で開示されるいずれかのヒドロカルビル基（Ｃ_１～Ｃ_２０、Ｃ_１～Ｃ_１０、またはＣ_１～Ｃ_６ヒドロカルビル基、及び本明細書で開示される他のより具体的なヒドロカルビル基）を含む）、条項１～１３のいずれか１項に記載のプロセス。

【0158】

条項１５．
前記ヒドロカルビル金属化合物の前記金属と、前記ジルコニウム化合物のジルコニウムとが、本明細書で開示されるいずれかの値（例えば、いくつかある値及び範囲の中でもとりわけ、０．１：１、０．２：１、０．６：１、１：１、２：１ １０：１の最小値；１００：１ ７５：１、５０：１ ２５：１、１５：１、もしくは１０：１の最大値；または０．１：１～１００：１、０．２：１～７５：１、０．６：１～２５：１、１：１～５０：１、２：１～２５：１、１：１～１５：１、２：１～１０：１、１０：１～５０：１、もしくは１０：１～２５：１の範囲内）である、条項１～１４のいずれか１項に記載のプロセス。

【0159】

条項１６．
前記触媒システム（または触媒システム成分）が、中性非イオン性有機修飾剤をさらに含む、条項１～１５のいずれか１項に記載のプロセス。

【0160】

条項１７．
前記中性非イオン性有機修飾剤が、本明細書で開示されるいずれかのエーテル、エステル、ケトン、アルデヒド、アルコール、無水物、酸クロリド、ニトリル、スルフィド、ジスルフィド、ホスフィン、アミン、またはアミドを含む、条項１６に記載のプロセス。

【0161】

条項１８．
前記中性非イオン性有機修飾剤と前記ジルコニウム化合物のジルコニウムとのモル比が、本明細書に記載されるいずれかの値（例えば、いくつかある値及び範囲の中でもとりわけ、０．１：１、０．５：１、０．７５：１ ０．８：１、０．９：１、もしくは１：１の最小値；２０：１、１５：１、１０：１ ７．５：１、もしくは５：１の最大値；または０．５：１ ２０：１、０．５：１～１５：１、０．７５：１０：１、１：１～１５：１、１：１～１０：１、１：１～５：１、０．５：１～５：１、０．７５：１～３：１、０．８：１～２：１、０．９：１もしくは１．２５の範囲内）をとり得る、条項１６または１７に記載のプロセス。

【0162】

条項１９．
中性非イオン性有機修飾剤とヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物とのモル比が、本明細書に記載されるいずれかの値（例えば、いくつかある値及び範囲の中でもとりわけ、０．０５：１、０．１：１、０．５：１、０．７５：１ ０．８：１、０．９：１、もしくは１：１の最小値；５：１、３：１、２：１、１．５：１、１：１、０．７５：１、もしくは０．５：１の最大値；または０．０５：１～５：１、０．１～１：１、０．１：１～０．５：１、０．５：１～５：１、０．５：１～３：１、０．７５：１～２：１、もしくは０．７５：１～１．５：１の範囲内）をとり得る、条項１６～１８のいずれか１項に記載のプロセス。

【0163】

条項２０．
前記ジルコニウム化合物が、式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有し、式中、各Ｘ^１は、独立的に、クロリドまたはブロミドであり、各Ｙ^１は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１０ヒドロカルボキシド（例えば、本明細書に記載されるいずれか）、Ｃ_１～Ｃ_１５ヒドロカルビルカルボキシレート（例えば、本明細書に記載されるいずれか）、またはＣ_１～Ｃ_１５ヒドロカルビルスルホネート（例えば、本明細書に記載されるいずれか）であり、ｍは、０～４の範囲であり、ｑは、０～４の範囲内であり、ｍ＋ｑは、４である、条項１～１９のいずれか１項に記載のプロセス。

【0164】

条項２１．
前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑ、Ｒ^１ _２Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせを有するアルキルアルミニウム化合物を含み、式中、各Ｒ^１は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１０アルキル基であり、各Ｘ^２は、独立的に、クロリド、ブロミド、またはヨージドであり、ｎは、０～３の整数であり、ｑは、０～６の整数である、条項１～２０のいずれか１項に記載のプロセス。

【0165】

条項２２．
前記中性非イオン性有機修飾剤が、本明細書に記載されるいずれかのＣ_２～Ｃ_２０エーテル、Ｃ_３～Ｃ_２０エステル、Ｃ_３～Ｃ_２０ケトン、Ｃ_２～Ｃ_２０ニトリル、Ｃ_２～Ｃ_２０スルフィド、Ｃ_２～Ｃ_２０ジスルフィド、Ｃ_３～Ｃ_２０ホスフィン、Ｃ_１～Ｃ_２０アミン、またはＣ_２～Ｃ_２０アミドを含む、条項２０～２２のいずれか１項に記載のプロセス。

【0166】

条項２３．
前記ジルコニウム化合物が、式ＺｒＸ^１ _ｍ（式中、各Ｘ^１は、独立的に、クロリドまたはブロミドであり、ｍは、４である）を有し、前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ^２ _ｎＲ^１ _３－ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３、Ｒ^１ _２Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせ（式中、各Ｘ^２は、独立的に、ハライドであり、各Ｒ^１は、独立的に、Ｃ_２～Ｃ_４アルキル基である）を有し、前記ヒドロカルビル金属化合物の前記金属（または前記ヒドロカルビルアルミニウム化合物のアルミニウム）と前記ジルコニウム化合物のジルコニウムとのモル比が、本明細書で開示されるいずれかの範囲内（例えば、１：１～５０：１の範囲内）である、条項１～１９のいずれか１項に記載のプロセス。

【0167】

条項２４．
前記触媒システム（または触媒システム成分）が、Ｃ_２～Ｃ_２０エステルを含む中性非イオン性有機修飾剤をさらに含み、前記中性非イオン性有機修飾剤と前記ジルコニウム化合物のジルコニウムとのモル比が、本明細書で開示されるいずれかの範囲内（例えば、０．５：１～５：１の範囲内）であり、前記ヒドロカルビル金属化合物の前記金属（または前記ヒドロカルビルアルミニウム化合物のアルミニウム）と前記ジルコニウム化合物のジルコニウムとのモル比が、本明細書で開示されるいずれかの範囲内（例えば、１０：１～２５：１の範囲内）である、条項２３に記載のプロセス。

【0168】

条項２５．
前記ジルコニウム化合物がエチレン及び／または前記ヒドロカルビル金属化合物と接触する（及び／または前記反応ゾーンに導入される）前に、前記中性非イオン性有機修飾剤を前記ジルコニウム化合物と接触させる、条項２４に記載のプロセス。

【0169】

条項２６．
前記触媒システム（または触媒システム成分）が、Ｃ_２～Ｃ_２０エーテル、Ｃ_２～Ｃ_２０スルフィド、Ｃ_１～Ｃ_２０アミン、Ｃ_３～Ｃ_２０ホスフィン、またはそれらの任意の組み合わせを含む中性非イオン性有機修飾剤をさらに含み、前記中性非イオン性有機修飾剤と前記ジルコニウム化合物のジルコニウムとのモル比が、本明細書で開示されるいずれかの範囲内（例えば、０．５：１～２０：１の範囲内）であり、前記ヒドロカルビル金属化合物の前記金属（または前記ヒドロカルビルアルミニウム化合物のアルミニウム）と前記ジルコニウム化合物のジルコニウムとのモル比が、本明細書で開示されるいずれかの範囲内（例えば、１：１～１５：１の範囲内）である、条項２３または２４に記載のプロセス。

【0170】

条項２７．
前記ジルコニウム化合物が、式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑ（式中、各Ｘ^１は、独立的に、クロリドまたはブロミドであり、各Ｙ^１は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１０ヒドロカルボキシド（例えば、本明細書に記載されるいずれか）、Ｃ_１～Ｃ_１０ヒドロカルビルカルボキシレート（例えば、本明細書に記載されるいずれか）、またはＣ_１～Ｃ_１５ヒドロカルビルスルホネート（例えば、本明細書に記載されるいずれか）であり、ｍは、０～４の範囲であり、ｑは、０～４の範囲内であり、ｍ＋ｑは、４である）を有し、前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ^２ _ｎＲ^１ _３－ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３、またはそれらの任意の組み合わせ（式中、各Ｘ^２は、独立的に、ハライドであり、各Ｒ^１は、独立的に、Ｃ_２～Ｃ_４アルキル基である）を有するヒドロカルビル金属化合物を含み、前記ヒドロカルビル金属化合物の前記金属（または前記ヒドロカルビルアルミニウム化合物のアルミニウム）と前記ジルコニウム化合物のジルコニウムとのモル比が、１：１～５０：１の範囲内である、条項１～１９のいずれか１項に記載のプロセス。

【0171】

条項２８．
本明細書で開示される水対ジルコニウムのモル比のいずれか（例えば、０．０１：１～３：１、０．１：～２：１、０．２５：１～１．７５：１）を使用して前記ジルコニウム化合物を水と接触させることによって、前記ジルコニウム化合物が少なくとも部分的に加水分解される、条項２７に記載のプロセス。

【0172】

条項２９．
前記触媒システム（または触媒システム成分）が、Ｃ_２～Ｃ_１５アミドを含む中性非イオン性有機修飾剤をさらに含み、前記中性非イオン性有機修飾剤と前記ヒドロカルビル金属化合物の金属（または前記ヒドロカルビルアルミニウム化合物のアルミニウム）とのモル比が、０．１：１～１：１の範囲内である、条項２７または２８に記載のプロセス。

【0173】

条項３０．
前記ヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物がエチレンと接触する（及び／または前記反応ゾーンに導入される）前に、前記中性非イオン性有機修飾剤を前記ヒドロカルビル金属（またはヒドロカルビルアルミニウム）化合物と接触させる、条項２９に記載のプロセス。

【0174】

条項３１．
前記触媒システム（または触媒システム成分）が、Ｃ_２～Ｃ_２０エーテル、Ｃ_２～Ｃ_２０スルフィド、Ｃ_１～Ｃ_２０アミン、またはそれらの任意の組み合わせを含む中性非イオン性有機修飾剤をさらに含み、前記中性非イオン性有機修飾剤と前記ジルコニウム化合物のジルコニウムとが、本明細書で開示されるいずれかの範囲内（例えば、０．１：１～１０：１の範囲内）である、条項２７～３０のいずれか１項に記載のプロセス。

【0175】

条項３２．
前記ジルコニウム化合物がエチレン及び／または前記ヒドロカルビル金属化合物と接触する（及び／または前記反応ゾーンに導入される）前に、前記中性非イオン性有機修飾剤を前記ジルコニウム化合物と接触させる、条項３１に記載のプロセス。

【0176】

前記オリゴマー生成物が、本明細書に記載される反応ゾーンの前記ジルコニウム化合物のジルコニウムとエチレンとのモル比のいずれか（例えば、いくつかある反応ゾーンの前記ジルコニウム化合物のジルコニウムとエチレンとのモル比及び範囲の中でもとりわけ、５×１０^－７：１、１×１０^－６：１、５×１０^－５：１、または２．５×１０^－５：１の反応ゾーンの前記ジルコニウム化合物のジルコニウムとエチレンとの最小モル比；７．５×１０^－４：１、５×１０^－４：１、２．５×１０^－４：１、または１×１０^－４：１の反応ゾーンの前記ジルコニウム化合物のジルコニウムとエチレンとの最大モル比；５×１０^－７：１～１×１０^－４：１、１×１０^－６：１～２．５×１０^－４：１、５×１０^－５：１～５×１０^－４：１、または２．５×１０^－５：１～７．５×１０^－４：１の範囲をとる反応ゾーンの前記ジルコニウム化合物のジルコニウムとエチレンとのモル比）で形成される（または前記反応ゾーンが前記モル比を有する）、条項１～３２のいずれか１項に記載のプロセス。

【0177】

条項３４．
前記オリゴマー生成物が、本明細書に記載される圧力のいずれか（例えば、いくつかある圧力及び圧力範囲の中でもとりわけ、１００ｐｓｉ（６８９ｋＰａ）、２５０ｐｓｉ（１．７２ＭＰａ）、５００ｐｓｉ（３．４５ＭＰａ）、７５０ｐｓｉ（５．１７ＭＰａ）、９００ｐｓｉ（６．２１ＭＰａ）、もしくは１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）の最小圧力；５０００ｐｓｉ（３４．５ＭＰａ）、４５００ｐｓｉ（３１ＭＰａ）、４，０００ｐｓｉ（２７．６ＭＰａ）、３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）、３０００ｐｓｉ（２０．７ＭＰａ）、２，５００ｐｓｉ（１７．２ＭＰａ）、２，０００ｐｓｉ（１３．８ＭＰａ）、１，５００ｐｓｉ（１０．３ＭＰａ）、１２５０ｐｓｉ（８．６２ＭＰａ）、もしくは１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）の最大圧力；または１００ｐｓｉ（６８９ｋＰａ）～５０００ｐｓｉ（３４．５ＭＰａ）、１００ｐｓｉ（６８９ｋＰａ）～２，５００ｐｓｉ（１７．２ＭＰａ）、１００ｐｓｉ（６８９ｋＰａ）～１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）、５００ｐｓｉ（３．４５ＭＰａ）～４５００ｐｓｉ（３１ＭＰａ）、５００ｐｓｉ（３．４５ＭＰａ）～２，５００ｐｓｉ（１７．２ＭＰａ）、５００ｐｓｉ（３．４５ＭＰａ）～１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）、７５０ｐｓｉ（５．１７ＭＰａ）～４５００ｐｓｉ（３１ＭＰａ）、９００ｐｓｉ（６．２１ＭＰａ）～４，０００ｐｓｉ（２７．６ＭＰａ）、もしくは１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）～３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）の範囲内の圧力）で形成される（または前記反応ゾーンが前記圧力を有する）、条項１～３３のいずれか１項に記載のプロセス。

【0178】

条項３５．
前記オリゴマー生成物が、本明細書に記載されるエチレン分圧のいずれか（例えば、いくつかあるエチレン分圧及び圧力範囲の中でもとりわけ、１００ｐｓｉ（６８９ｋＰａ）、２５０ｐｓｉ（１．７２ＭＰａ）、５００ｐｓｉ（３．４５ＭＰａ）、７５０ｐｓｉ（５．１７ＭＰａ）、９００ｐｓｉ（６．２１ＭＰａ）、もしくは１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）の最小エチレン分圧；５０００ｐｓｉ（３４．５ＭＰａ）、４５００ｐｓｉ（３１ＭＰａ）、４，０００ｐｓｉ（２７．６ＭＰａ）、３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）、３０００ｐｓｉ（２０．７ＭＰａ）、２，５００ｐｓｉ（１７．２ＭＰａ）、２，０００ｐｓｉ（１３．８ＭＰａ）、１，５００ｐｓｉ（１０．３ＭＰａ）、１２５０ｐｓｉ（８．６２ＭＰａ）、もしくは１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）の最大エチレン分圧；または１００ｐｓｉ（６８９ｋＰａ）～５０００ｐｓｉ（３４．５ＭＰａ）、１００ｐｓｉ（６８９ｋＰａ）～２，５００ｐｓｉ（１７．２ＭＰａ）、１００ｐｓｉ（６８９ｋＰａ）～１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）、５００ｐｓｉ（３．４５ＭＰａ）～４５００ｐｓｉ（３１ＭＰａ）、５００ｐｓｉ（３．４５ＭＰａ）～２，５００ｐｓｉ（１７．２ＭＰａ）、５００ｐｓｉ（３．４５ＭＰａ）～１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）、７５０ｐｓｉ（５．１７ＭＰａ）～４５００ｐｓｉ（３１ＭＰａ）、９００ｐｓｉ（６．２１ＭＰａ）～４，０００ｐｓｉ（２７．６ＭＰａ）、もしくは１０００ｐｓｉ（６．８９ＭＰａ）～３５００ｐｓｉ（２４．１ＭＰａ）の範囲内のエチレン分圧）で形成される（または前記反応ゾーンが前記エチレン分圧を有する）、条項１～３４のいずれか１項に記載のプロセス。

【0179】

条項３６．
前記オリゴマー生成物が、本明細書に記載される温度のいずれか（例えば、いくつかある温度の値及び範囲の中でもとりわけ、０℃、２５℃、４０℃、５０℃、７５℃、１００℃または１２５℃の最低温度；２５０℃、２００℃、１５０℃、１２５℃、１００℃、または９０℃の最高温度；０℃～２５０℃、２５℃～２００℃、４０℃～１５０℃、４０℃～１００℃、５０℃～１００℃、５０℃～１５０℃、７５℃～１２５℃、７５℃～２５０℃、１００℃～２００℃、または１００℃～２００℃の範囲をとる温度）で形成される（または前記反応ゾーンが前記温度を有する）、条項１～３５のいずれか１項に記載のプロセス。

【0180】

条項３７．
前記オリゴマー生成物が、本明細書に記載されるエチレン：有機反応媒体質量比のいずれか（例えば、いくつかあるエチレン：有機反応媒体質量比の値及び範囲の中でもとりわけ、０．５：１、０．７５：１、１：１、１．２５：１、または１．５：１の最小エチレン：有機反応媒体質量比；４．５：１、４：１、３．５：１、３：１、２．５：１、または２：１の最大エチレン：有機反応媒体質量比；０．５：１～４．５：１、０．７５：１～４：１、０．７５：１～２：１、１：１～３：１、または１．５：１～２．５：１の範囲をとるエチレン：有機反応媒体質量比）で形成される（または前記反応ゾーンが前記質量比を有する）、条項１～３６のいずれか１項に記載のプロセス。

【0181】

条項３８．
前記オリゴマー生成物が、本明細書に記載される反応ゾーン滞留時間（または平均反応ゾーン滞留時間）のいずれか（例えば、いくつかある反応ゾーン滞留時間（または平均反応ゾーン滞留時間）の値及び範囲の中でもとりわけ、１０分、２０分、または３０分の最小反応ゾーン滞留時間（または平均反応ゾーン滞留時間）；３時間、２．５時間、２時間、または１．５時間の最大反応ゾーン滞留時間（または平均反応ゾーン滞留時間）；１０分～２．５時間、２０分～２時間、３０分～２時間、または３０分～１．５時間の範囲をとる反応ゾーン滞留時間（または平均反応ゾーン滞留時間））で形成される（または前記反応ゾーンが前記反応ゾーン滞留時間（または平均反応ゾーン滞留時間）を有する）、条項１～３７のいずれか１項に記載のプロセス。

【0182】

条項３９．
前記オリゴマー生成物が、本明細書に記載されるエチレン転化率（またはシングルパスエチレン転化率）のいずれか（例えば、いくつかあるエチレン転化率（またはシングルパスエチレン転化率）の値及び範囲の中でもとりわけ、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％または５５％の最小エチレン転化率（またはシングルパスエチレン転化率）；追加的または代替的には、９５％、９０％、８７．５％、８５％、または８０％の最大エチレン転化率（またはシングルパスエチレン転化率）；３０％～９０％、３５％～９０％、４０％～８７．５％、４５％～８７．５％、５０％～８５％、または５５％～８５％の範囲をとるエチレン転化率（またはシングルパスエチレン転化率））で形成され得る、条項１～３８のいずれか１項に記載のプロセス。

【0183】

条項４０．
前記オリゴマー生成物が、本明細書で開示されるいずれかのＳｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値（例えば、いくつかあるＳｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値及び範囲の中でもとりわけ、０．４、０．４５、０．５、または０．５５の最小Ｓｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値；０．９、０．８５、０．８、０．７５、０．７、または０．６５の最大Ｓｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値；０．４～０．９、０．４～０．８、０．５～０．８、０．５～０．７、または０．５５～０．７の範囲をとるＳｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ）を有し得る、条項１～３９のいずれか１項に記載のプロセス。

【0184】

条項４１．
前記プロセスが、ａ）条項１～４のいずれか１項に記載の水素ケイ素結合を有する化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、もしくはそれらの任意の組み合わせを含む連鎖移動剤、２）条項５～７のいずれか１項に記載の水素、及び／または３）条項８～１３のいずれか１項に記載の遷移金属化合物連鎖移動剤を使用しない同じプロセスと比べて、（ａ）より低いＭｗを有するポリマー、（ｂ）より低いＭｗ最大ピークを有するポリマー、（ｃ）低減したパーセンテージのポリマー、（ｄ）１００，０００を超えるＭｗを有するポリマーの低減したパーセンテージを有するポリマー、または（ｅ）それらの任意の組み合わせを含むオリゴマー生成物を生成する、条項１～４０のいずれか１項に記載のプロセス。

【0185】

条項４２．
前記オリゴマー生成物が、（ａ）１重量％未満のポリマー、（ｂ）１０００ｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有する１重量％未満の化合物、または（ｃ）それらの任意の組み合わせを含み、前記重量％が、前記オリゴマー生成物の総重量に基づく、条項１～４１のいずれか１項に記載のプロセス。

【0186】

本明細書で言及したすべての公表文献及び特許は、参照により本明細書に組み込まれる。本明細書で言及した公表文献及び特許は、例えば、本明細書に記載される発明と関連して使用され得る、公表文献に記載されている構築物及び方法論を説明及び開示する目的で利用され得る。本文全体を通して記述された公表文献は、単にそれらの開示が本願の出願日以前であるために提供される。本明細書におけるいずれの内容も、本発明者らが先行の発明のためにかかる開示に先行する資格を持たないことの承認として解釈されるべきではない。

【図1】

【手続補正書】

【提出日】2023-11-22

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ａ）接触させることであって、
ｉ）エチレンと、
ｉｉ）触媒システムであって、
１）式ＺｒＸ^１ _ｍＹ^１ _ｑを有するジルコニウム化合物（式中、各Ｘ^１は、独立的に、ハライドであり、各Ｙ^１は、独立的に、ヒドロカルボキシド、ジヒドロカルビルアザニド、ヒドロカルビルカルボキシレート、ヒドロカルビルスルホネート、またはβ－ジケトネートであり、ｍは、０～４の範囲内であり、ｑは、０～４の範囲内であり、ｍ＋ｑは、２～４の整数である）、及び
２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、前記触媒システムと、
ｉｉｉ）水素ケイ素結合を有する化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、またはそれらの任意の組み合わせを含む連鎖移動剤と、
ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを、前記接触させること、ならびに、
ｂ）反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含み、
前記オリゴマー生成物が、０．４～０．８のＳｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値を有する、プロセス。

【請求項2】

前記連鎖移動剤が、式Ｒ^３１ＳｉＨ_３、（Ｒ^３１）_２ＳｉＨ_２、（Ｒ^３１）_３ＳｉＨ、Ｒ^３１ＯＳｉＨ３、（Ｒ^３１Ｏ）_２ＳｉＨ_２、（Ｒ^３１Ｏ）_３ＳｉＨ、Ｒ^３２ＳＨ、Ｒ^３２ＣＯ_２ＣＨ_２ＳＨ、Ｒ^３２ＣＯ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＨ、Ｒ^３３ＰＨ_２、（Ｒ^３３）_２ＰＨ、Ｒ^３３ＯＰＨ_２、（Ｒ^３３Ｏ）_２ＰＨ、またはそれらの任意の組み合わせを有する化合物を含み、式中、各Ｒ^３１、Ｒ^３２、及びＲ^３３は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１５ヒドロカルビル基である、請求項１に記載のプロセス。

【請求項3】

前記反応ゾーンが、１×１０^－５：１～５×１０^－１：１の範囲内の連鎖移動剤とエチレンとのモル比を有する、請求項１に記載のプロセス。

【請求項4】

前記オリゴマー生成物が、（ａ）１重量％未満のポリマー、（ｂ）１０００ｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有する１重量％未満の化合物、または（ｃ）それらの任意の組み合わせを含み、前記重量％が、前記オリゴマー生成物の総重量に基づく、請求項１に記載のプロセス。

【請求項5】

前記プロセスが、水素ケイ素結合を有する化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、またはそれらの任意の組み合わせを含む前記連鎖移動剤を使用しない同じプロセスと比べて、（ａ）より低いＭｗを有するポリマー、（ｂ）より低いＭｗ最大ピークを有するポリマー、（ｃ）低減したパーセンテージのポリマー、（ｄ）１００，０００ｇ／ｍｏｌを超えるＭｗを有するポリマーの低減したパーセンテージを有するポリマー、または（ｅ）それらの任意の組み合わせを含むオリゴマー生成物を生成する、請求項１に記載のプロセス。

【請求項6】

前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ^２ _３－ｎＲ^１ _ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _６－ｑ－Ｒ^１ _ｑ、Ｒ^１ _２Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせを有し、式中、各Ｒ^１は、独立的に、Ｃ_１～Ｃ_１０アルキル基であり、各Ｘ^２は、独立的に、クロリド、ブロミド、またはヨージドであり、ｎは、０～３の整数であり、ｑは、０～６の整数である、請求項１に記載のプロセス。

【請求項7】

前記触媒システムが、中性非イオン性有機修飾剤をさらに含む、請求項１に記載のプロセス。

【請求項8】

前記中性非イオン性有機修飾剤が、エーテル、エステル、ケトン、アルデヒド、アルコール、無水物、酸クロリド、ニトリル、スルフィド、ジスルフィド、ホスフィン、アミン、またはアミドを含む、請求項７に記載のプロセス。

【請求項9】

前記ジルコニウム化合物が、式ＺｒＸ^１ _ｍ（式中、各Ｘ^１は、独立的に、クロリドまたはブロミドであり、ｍは、４である）を有し、前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ^２ _ｎＲ^１ _３－ｎ、Ａｌ_２Ｘ^２ _３Ｒ^１ _３、Ｒ^１ _２Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせ（式中、各Ｘ^２は、独立的に、ハライドであり、各Ｒ^１は、独立的に、Ｃ_２～Ｃ_４アルキル基である）を有する、請求項１に記載のプロセス。

【請求項10】

前記触媒システムが、中性非イオン性有機修飾剤としてＣ_２～Ｃ_２０エステル、Ｃ_２～Ｃ_２０エーテル、またはＣ_２～Ｃ_２０スルフィドをさらに含む、請求項９に記載のプロセス。

【請求項11】

前記ジルコニウム化合物が、式ＺｒＹ^１ _ｑ（式中、各Ｙ^１は、独立的に、^－ＯＲ^２であり、Ｒ^２は、Ｃ_１～Ｃ_１０アルキル基または^－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^３であり、Ｒ^３は、Ｃ_１～Ｃ_１０アルキル基であり、ｑは、２～４の整数である）を有し、前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ^３ _ｎＲ^１ _３－ｎ、Ａｌ_２Ｘ^３ _３Ｒ^１ _３、またはそれらの任意の組み合わせ（式中、各Ｘ^２は、独立的に、ハライドであり、各Ｒ^１は、独立的に、Ｃ_２～Ｃ_４アルキル基である）を有する、請求項１に記載のプロセス。

【手続補正2】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０１８６

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0186】

本明細書で言及したすべての公表文献及び特許は、参照により本明細書に組み込まれる。本明細書で言及した公表文献及び特許は、例えば、本明細書に記載される発明と関連して使用され得る、公表文献に記載されている構築物及び方法論を説明及び開示する目的で利用され得る。本文全体を通して記述された公表文献は、単にそれらの開示が本願の出願日以前であるために提供される。本明細書におけるいずれの内容も、本発明者らが先行の発明のためにかかる開示に先行する資格を持たないことの承認として解釈されるべきではない。
本願の出願当初の特許請求の範囲に係る発明の内容は、以下の通りである。
［項１］
ａ）接触させることであって、
ｉ）エチレンと、
ｉｉ）触媒システムであって、
１）式ＺｒＸ ^１ _ｍ Ｙ ^１ _ｑ を有するジルコニウム化合物（式中、各Ｘ ^１ は、独立的に、ハライドであり、各Ｙ ^１ は、独立的に、ヒドロカルボキシド、ジヒドロカルビルアザニド、ヒドロカルビルカルボキシレート、ヒドロカルビルスルホネート、またはβ－ジケトネートであり、ｍは、０～４の範囲内であり、ｑは、０～４の範囲内であり、ｍ＋ｑは、２～４の整数である）、及び
２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、前記触媒システムと、
ｉｉｉ）水素ケイ素結合、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、またはそれらの任意の組み合わせを含む連鎖移動剤と、
ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを、前記接触させること、ならびに、
ｂ）反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含み、
前記オリゴマー生成物が、０．４～０．８のＳｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値を有する、プロセス。
［項２］
前記連鎖移動剤が、式Ｒ ^３１ ＳｉＨ _３ 、（Ｒ ^３１ ） _２ ＳｉＨ _２ 、（Ｒ ^３１ ） _３ ＳｉＨ、Ｒ ^３１ ＯＳｉＨ３、（Ｒ ^３１ Ｏ） _２ ＳｉＨ _２ 、（Ｒ ^３１ Ｏ） _３ ＳｉＨ、Ｒ ^３２ ＳＨ、Ｒ ^３２ ＣＯ _２ ＣＨ _２ ＳＨ、Ｒ ^３２ ＣＯ _２ ＣＨ _２ ＣＨ _２ ＳＨ、Ｒ ^３３ ＰＨ _２ 、（Ｒ ^３３ ） _２ ＰＨ、Ｒ ^３３ ＯＰＨ _２ 、（Ｒ ^３３ Ｏ） _２ ＰＨ、またはそれらの任意の組み合わせを有する化合物を含み、式中、各Ｒ ^３１ 、Ｒ ^３２ 、及びＲ ^３３ は、独立的に、Ｃ _１ ～Ｃ _１５ ヒドロカルビル基である、項１に記載のプロセス。
［項３］
前記反応ゾーンが、１×１０ ^－５ ：１～５×１０ ^－１ ：１の範囲内の連鎖移動剤とエチレンとのモル比を有する、項１に記載のプロセス。
［項４］
前記オリゴマー生成物が、（ａ）１重量％未満のポリマー、（ｂ）１０００ｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有する１重量％未満の化合物、または（ｃ）それらの任意の組み合わせを含み、前記重量％が、前記オリゴマー生成物の総重量に基づく、項１に記載のプロセス。
［項５］
前記プロセスが、水素ケイ素結合を有する化合物、水素硫黄結合を有する化合物、水素リン結合を有する化合物、またはそれらの任意の組み合わせを含む前記連鎖移動剤を使用しない同じプロセスと比べて、（ａ）より低いＭｗを有するポリマー、（ｂ）より低いＭｗ最大ピークを有するポリマー、（ｃ）低減したパーセンテージのポリマー、（ｄ）１００，０００ｇ／ｍｏｌを超えるＭｗを有するポリマーの低減したパーセンテージを有するポリマー、または（ｅ）それらの任意の組み合わせを含むオリゴマー生成物を生成する、項１に記載のプロセス。
［項６］
前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ ^２ _３－ｎ Ｒ ^１ _ｎ 、Ａｌ _２ Ｘ ^２ _６－ｑ－ Ｒ ^１ _ｑ 、Ｒ ^１ _２ Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせを有し、式中、各Ｒ ^１ は、独立的に、Ｃ _１ ～Ｃ _１０ アルキル基であり、各Ｘ ^２ は、独立的に、クロリド、ブロミド、またはヨージドであり、ｎは、０～３の整数であり、ｑは、０～６の整数である、項１に記載のプロセス。
［項７］
前記触媒システムが、中性非イオン性有機修飾剤をさらに含む、項１に記載のプロセス。
［項８］
前記中性非イオン性有機修飾剤が、エーテル、エステル、ケトン、アルデヒド、アルコール、無水物、酸クロリド、ニトリル、スルフィド、ジスルフィド、ホスフィン、アミン、またはアミドを含む、項７に記載のプロセス。
［項９］
前記ジルコニウム化合物が、式ＺｒＸ ^１ _ｍ （式中、各Ｘ ^１ は、独立的に、クロリドまたはブロミドであり、ｍは、４である）を有し、前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ ^２ _ｎ Ｒ ^１ _３－ｎ 、Ａｌ _２ Ｘ ^２ _３ Ｒ ^１ _３ 、Ｒ ^１ _２ Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせ（式中、各Ｘ ^２ は、独立的に、ハライドであり、各Ｒ ^１ は、独立的に、Ｃ _２ ～Ｃ _４ アルキル基である）を有する、項１に記載のプロセス。
［項１０］
前記触媒システムが、中性非イオン性有機修飾剤としてＣ _２ ～Ｃ _２０ エステル、Ｃ _２ ～Ｃ _２０ エーテル、またはＣ _２ ～Ｃ _２０ スルフィドをさらに含む、項９に記載のプロセス。
［項１１］
前記ジルコニウム化合物が、式ＺｒＹ ^１ _ｑ （式中、各Ｙ ^１ は、独立的に、 ^－ ＯＲ ^２ であり、Ｒ ^２ は、Ｃ _１ ～Ｃ _１０ アルキル基または ^－ ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ ^３ であり、Ｒ ^３ は、Ｃ _１ ～Ｃ _１０ アルキル基であり、ｑは、２～４の整数である）を有し、前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ ^３ _ｎ Ｒ ^１ _３－ｎ 、Ａｌ _２ Ｘ ^３ _３ Ｒ ^１ _３ 、またはそれらの任意の組み合わせ（式中、各Ｘ ^２ は、独立的に、ハライドであり、各Ｒ ^１ は、独立的に、Ｃ _２ ～Ｃ _４ アルキル基である）を有する、項１に記載のプロセス。
［項１２］
ａ）接触させることであって、
ｉ）エチレンと、
ｉｉ）触媒システムであって、
１）式ＺｒＸ ^１ _ｍ Ｙ ^１ _ｑ を有するジルコニウム化合物（式中、各Ｘ ^１ は、独立的に、ハライドであり、各Ｙ ^１ は、独立的に、ヒドロカルボキシド、ジヒドロカルビルアザニド、ヒドロカルビルカルボキシレート、ヒドロカルビルスルホネート、またはβ－ジケトネートであり、ｍは、０～４の範囲内であり、ｑは、０～４の範囲内であり、ｍ＋ｑは、２～４の整数である）、及び
２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、前記触媒システムと、
ｉｉｉ）水素と、
ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを、前記接触させること、ならびに、
ｂ）反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含み、
前記オリゴマー生成物が、０．４～０．８のＳｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値を有する、プロセス。
［項１３］
前記反応ゾーンが、（０．０５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）～（５ｇ水素）／（ｋｇエチレン）の範囲内の水素対エチレン質量比を有する、項１２に記載のプロセス。
［項１４］
前記オリゴマー生成物が、（ａ）１重量％未満のポリマー、（ｂ）１０００ｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有する１重量％未満の化合物、または（ｃ）それらの任意の組み合わせを含み、前記重量％が、前記オリゴマー生成物の総重量に基づく、項１２に記載のプロセス。
［項１５］
前記プロセスが、水素を使用しない同じプロセスと比べて、（ａ）より低いＭｗを有するポリマー、（ｂ）より低いＭｗ最大ピークを有するポリマー、（ｃ）低減したパーセンテージのポリマー、（ｄ）１００，０００ｇ／ｍｏｌを超えるＭｗを有するポリマーの低減したパーセンテージを有するポリマー、または（ｅ）それらの任意の組み合わせを含むオリゴマー生成物を生成する、項１２に記載のプロセス。
［項１６］
前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ ^２ _３－ｎ Ｒ ^１ _ｎ 、Ａｌ _２ Ｘ ^２ _６－ｑ－ Ｒ ^１ _ｑ 、Ｒ ^１ _２ Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせを有し、式中、各Ｒ ^１ は、独立的に、Ｃ _１ ～Ｃ _１０ アルキル基であり、各Ｘ ^２ は、独立的に、クロリド、ブロミド、またはヨージドであり、ｎは、０～３の整数であり、ｑは、０～６の整数である、項１２に記載のプロセス。
［項１７］
前記触媒システムが、中性非イオン性有機修飾剤をさらに含む、項１２に記載のプロセス。
［項１８］
前記中性非イオン性有機修飾剤が、エーテル、エステル、ケトン、アルデヒド、アルコール、無水物、酸クロリド、ニトリル、スルフィド、ジスルフィド、ホスフィン、アミン、またはアミドを含む、項１７に記載のプロセス。
［項１９］
前記ジルコニウム化合物が、式ＺｒＸ ^１ _ｍ （式中、各Ｘ ^１ は、独立的に、クロリドまたはブロミドであり、ｍは、４である）を有し、前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ ^２ _ｎ Ｒ ^１ _３－ｎ 、Ａｌ _２ Ｘ ^２ _３ Ｒ ^１ _３ 、Ｒ ^１ _２ Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせ（式中、各Ｘ ^２ は、独立的に、ハライドであり、各Ｒ ^１ は、独立的に、Ｃ _２ ～Ｃ _４ アルキル基である）を有する、項１２に記載のプロセス。
［項２０］
前記触媒システムが、中性非イオン性有機修飾剤としてＣ _２ ～Ｃ _２０ エステル、Ｃ _２ ～Ｃ _２０ エーテル、またはＣ _２ ～Ｃ _２０ スルフィドをさらに含む、項１９に記載のプロセス。
［項２１］
前記ジルコニウム化合物が、式ＺｒＹ ^１ _ｑ （式中、各Ｙ ^１ は、独立的に、 ^－ ＯＲ ^２ であり、Ｒ ^２ は、Ｃ _１ ～Ｃ _１０ アルキル基または ^－ ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ ^３ であり、Ｒ ^３ は、Ｃ _１ ～Ｃ _１０ アルキル基であり、ｑは、２～４の整数である）を有し、前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ ^３ _ｎ Ｒ ^１ _３－ｎ 、Ａｌ _２ Ｘ ^３ _３ Ｒ ^１ _３ 、またはそれらの任意の組み合わせ（式中、各Ｘ ^３ は、独立的に、ハライドであり、各Ｒ ^１ は、独立的に、Ｃ _２ ～Ｃ _４ アルキル基である）を有する、項１２に記載のプロセス。
［項２２］
ａ）接触させることであって、
ｉ）エチレンと、
ｉｉ）触媒システムであって、
１）式ＺｒＸ ^１ _ｍ Ｙ ^１ _ｑ を有するジルコニウム化合物（式中、各Ｘ ^１ は、独立的に、ハライドであり、各Ｙ ^１ は、独立的に、ヒドロカルボキシド、ジヒドロカルビルアザニド、ヒドロカルビルカルボキシレート、ヒドロカルビルスルホネート、またはβ－ジケトネートであり、ｍは、０～４の範囲内であり、ｑは、０～４の範囲内であり、ｍ＋ｑは、２～４の整数である）、及び
２）ヒドロカルビル金属化合物を含む、前記触媒システムと、
ｉｉｉ）遷移金属化合物連鎖移動剤と、
ｉｖ）任意選択により、有機反応媒体とを、前記接触させること、ならびに、
ｂ）反応ゾーン内でオリゴマー生成物を形成することを含み、
前記オリゴマー生成物が、０．４～０．８のＳｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ Ｋ値を有する、プロセス。
［項２３］
前記遷移金属化合物連鎖移動剤が、式ＭＸ ^４ _ｐ を有する遷移金属化合物連鎖移動剤であり、式中、Ｍは、遷移金属であり、Ｘ ^４ は、モノアニオンであり、ｐは、２～４の整数である、項２２に記載のプロセス。
［項２４］
Ｍが、鉄、コバルト、またはニッケルである、項２３に記載のプロセス。
［項２５］
Ｘ ^４ が、Ｃ _４ ～Ｃ _１９ カルボキシレートである、項２３に記載のプロセス。
［項２６］
前記反応ゾーンが、１×１０ ^－８ ～１×１０ ^－３ の範囲内の前記連鎖移動剤の金属とエチレンとのモル比を有する、項２３に記載のプロセス。
［項２７］
前記オリゴマー生成物が、（ａ）１重量％未満のポリマー、（ｂ）１０００ｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有する１重量％未満の化合物、または（ｃ）それらの任意の組み合わせを含み、前記重量％が、前記オリゴマー生成物の総重量に基づく、項２２に記載のプロセス。
［項２８］
前記プロセスが、前記遷移金属化合物連鎖移動剤を使用しない同じプロセスと比べて、（ａ）より低いＭｗを有するポリマー、（ｂ）より低いＭｗ最大ピークを有するポリマー、（ｃ）低減したパーセンテージのポリマー、（ｄ）１００，０００ｇ／ｍｏｌを超えるＭｗを有するポリマーの低減したパーセンテージを有するポリマー、または（ｅ）それらの任意の組み合わせを含むオリゴマー生成物を生成する、項２２に記載のプロセス。
［項２９］
前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ ^２ _３－ｎ Ｒ ^１ _ｎ 、Ａｌ _２ Ｘ ^２ _６－ｑ－ Ｒ ^１ _ｑ 、Ｒ ^１ _２ Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせを有し、式中、各Ｒ ^１ は、独立的に、Ｃ _１ ～Ｃ _１０ アルキル基であり、各Ｘ ^２ は、独立的に、クロリド、ブロミド、またはヨージドであり、ｎは、０～３の整数であり、ｑは、０～６の整数である、項２２に記載のプロセス。
［項３０］
前記触媒システムが、中性非イオン性有機修飾剤をさらに含む、項２２に記載のプロセス。
［項３１］
前記中性非イオン性有機修飾剤が、エーテル、エステル、ケトン、アルデヒド、アルコール、無水物、酸クロリド、ニトリル、スルフィド、ジスルフィド、ホスフィン、アミン、またはアミドを含む、項３０に記載のプロセス。
［項３２］
前記ジルコニウム化合物が、式ＺｒＸ ^１ _ｍ （式中、各Ｘ ^１ は、独立的に、クロリドまたはブロミドであり、ｍは、４である）を有し、前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ ^２ _ｎ Ｒ ^１ _３－ｎ 、Ａｌ _２ Ｘ ^２ _３ Ｒ ^１ _３ 、Ｒ ^１ _２ Ｚｎ、またはそれらの任意の組み合わせ（式中、各Ｘ ^２ は、独立的に、ハライドであり、各Ｒ ^１ は、独立的に、Ｃ _２ ～Ｃ _４ アルキル基である）を有する、項２２に記載のプロセス。
［項３３］
前記触媒システムが、中性非イオン性有機修飾剤としてＣ _２ ～Ｃ _２０ エステル、Ｃ _２ ～Ｃ _２０ エーテル、またはＣ _２ ～Ｃ _２０ スルフィドをさらに含む、項３２に記載のプロセス。
［項３４］
前記ジルコニウム化合物が、式ＺｒＹ ^１ _ｑ （式中、各Ｙ ^１ は、独立的に、 ^－ ＯＲ ^２ であり、Ｒ ^２ は、Ｃ _１ ～Ｃ _１０ アルキル基または ^－ ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ ^３ であり、Ｒ ^３ は、Ｃ _１ ～Ｃ _１０ アルキル基であり、ｑは、２～４の整数である）を有し、前記ヒドロカルビル金属化合物が、式ＡｌＸ ^３ _ｎ Ｒ ^１ _３－ｎ 、Ａｌ _２ Ｘ ^３ _３ Ｒ ^１ _３ 、またはそれらの任意の組み合わせ（式中、各Ｘ ^２ は、独立的に、ハライドであり、各Ｒ ^１ は、独立的に、Ｃ _２ ～Ｃ _４ アルキル基である）を有する、項２２に記載のプロセス。

【国際調査報告】