特表2024-521896過大構造高さを有する３次元微小構造を支持体材料に形成するためのリソグラフィ方法

発明の名称　過大構造高さを有する３次元微小構造を支持体材料に形成するためのリソグラフィ方法

出願人　ヨアノイム　リサーチ　フォルシュングスゲゼルシャフト　エムベーハー　（識別番号 515055203）

　　　　特許公開件数ランキング 31340 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 25341 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特表-2024-521896

公報発行日　2024年6月4

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_P1-2024-521896

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