特表 2024-522307 表示パネル

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-06-14

(54)【発明の名称】表示パネル

(51)【国際特許分類】

   G02F 1/1343 20060101AFI20240607BHJP

   G02F 1/1345 20060101ALI20240607BHJP

   G02F 1/1368 20060101ALI20240607BHJP

【ＦＩ】

G02F1/1343

G02F1/1345

G02F1/1368

【審査請求】有

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2022529966

(86)(22)【出願日】2022-05-13

(85)【翻訳文提出日】2022-07-11

(86)【国際出願番号】 CN2022092644

(87)【国際公開番号】W WO2023206612

(87)【国際公開日】2023-11-02

(31)【優先権主張番号】202210454734.1

(32)【優先日】2022-04-27

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】519182202

【氏名又は名称】深▲セン▼市▲華▼星光▲電▼半▲導▼体▲顕▼示技▲術▼有限公司

(74)【代理人】

【識別番号】100103894

【弁理士】

【氏名又は名称】家入 健

(72)【発明者】

【氏名】蒋 坤坤

(72)【発明者】

【氏名】王 ▲メン▼

【テーマコード（参考）】

2H092

2H192

【Ｆターム（参考）】

2H092GA41

2H092GA43

2H092GA44

2H092HA04

2H092JA24

2H092JB22

2H092JB31

2H092JB57

2H092KB14

2H092PA02

2H092PA08

2H092PA09

2H192AA24

2H192CB02

2H192CB05

2H192CB08

2H192CC73

2H192EA04

2H192EA22

2H192EA42

2H192FA02

2H192FA32

2H192FA39

2H192FA73

2H192FB03

(57)【要約】

本発明の実施例は、表示パネルを開示し、アレイ基板は、ダミー画素領域に設けられる第１配線を含む共通配線を含み、対向基板は、表示領域及びダミー画素領域に設けられる共通電極層を含み、表示パネルの厚さ方向において、第１配線が共通電極層と重なって設けられ、表示パネルが表示状態にあるときに、第１配線に接続される電圧と、共通電極層に接続される電圧との差の絶対値は０～１ボルトである。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

表示領域と、前記表示領域の少なくとも一側に位置するダミー画素領域とを含む表示パネルであって、
第１基板と、前記第１基板上に設けられる共通配線とを含み、前記共通配線が、前記ダミー画素領域に設けられる第１配線を含むアレイ基板と、
前記アレイ基板と対向配置され、第２基板と、前記第２基板の前記アレイ基板に近い側に設けられる共通電極層とを含み、前記共通電極層が前記表示領域及び前記ダミー画素領域に設けられる対向基板と、
前記アレイ基板と前記対向基板との間に設けられるとともに、前記ダミー画素領域及び前記表示領域内に延在する液晶層であって、前記ダミー画素領域内の前記液晶層が前記第１配線と前記共通電極層との間に位置する液晶層と、を含み、
前記表示パネルの厚さ方向において、前記第１配線が前記共通電極層と重なって設けられ、前記表示パネルが表示状態にある場合に、０度視野角のＬ０階調において、前記第１配線と前記共通電極層との重なり領域の画面輝度は０～０．００１７ルクスである表示パネル。

【請求項2】

前記アレイ基板は、前記第１基板上に設けられる薄膜トランジスタアレイ層と、前記薄膜トランジスタアレイ層上に設けられる絶縁層と、前記絶縁層上に設けられる画素電極層と、をさらに含み、
前記画素電極層は、前記表示領域に設けられる画素電極と、前記ダミー画素領域に設けられるダミー画素電極と、を含み、前記ダミー画素電極の少なくとも一部が前記第１配線の一部として多重化される請求項１に記載の表示パネル。

【請求項3】

前記第１配線は接続部をさらに含み、前記ダミー画素領域において、前記接続部が前記ダミー画素電極同士に接続されて一体構造又はパターン化構造を形成する請求項２に記載の表示パネル。

【請求項4】

前記表示パネルは、前記表示領域の外周側に周設される外周領域をさらに含み、前記ダミー画素領域が前記外周領域と前記表示領域との間に設けられ、前記共通配線は、前記外周領域に設けられる少なくとも１つの第２配線をさらに含み、前記アレイ基板は、前記第１基板上に設けられるボンディングパッドをさらに含み、前記ボンディングパッドが前記外周領域の一側に位置し、前記第２配線の一端が前記第１配線に接続され、前記第２配線の他端が前記ボンディングパッドに接続される請求項３に記載の表示パネル。

【請求項5】

前記第１配線は前記表示領域のエッジの周囲に閉ループ構造を形成する請求項４に記載の表示パネル。

【請求項6】

複数の前記第２配線は第１サブ配線及び第２サブ配線を含み、前記ボンディングパッドは第１ボンディングパッド及び第２ボンディングパッドを含み、前記第１サブ配線の一端が前記第１配線の前記ボンディングパッドから遠い側に接続され、前記第１サブ配線の他端が前記第１ボンディングパッドに接続され、前記第２サブ配線の一端が前記第１配線の前記ボンディングパッドに近い側に接続され、前記第２サブ配線の他端が前記第２ボンディングパッドに接続される請求項５に記載の表示パネル。

【請求項7】

隣り合う２つの前記第２サブ配線のうち、２つの前記第２サブ配線が線分の一部を共通し、共通する前記線分の一部が共通線分であり、前記共通線分が前記第１配線に近い側に位置して、前記第１配線に接続される請求項６に記載の表示パネル。

【請求項8】

前記薄膜トランジスタアレイ層が走査線をさらに含み、前記共通配線は、前記第１配線に接続される第３配線をさらに含み、前記第３配線が前記走査線の延在方向と平行であり、前記第３配線が前記共通電極層と重なって設けられる請求項４に記載の表示パネル。

【請求項9】

前記薄膜トランジスタアレイ層がデータ線をさらに含み、前記共通配線は、前記第１配線に接続される第４配線をさらに含み、前記第４配線が前記第３配線に接続され、前記第４配線が前記データ線の延在方向と平行であり、前記第４配線が前記共通電極層と重なって設けられる請求項８に記載の表示パネル。

【請求項10】

表示領域と、前記表示領域の少なくとも一側に位置するダミー画素領域とを含む表示パネルであって、
第１基板と、前記第１基板上に設けられる共通配線とを含み、前記共通配線が、前記ダミー画素領域に設けられる第１配線を含むアレイ基板と、
前記アレイ基板と対向配置され、第２基板と、前記第２基板の前記アレイ基板に近い側に設けられる共通電極層とを含み、前記共通電極層が前記表示領域及び前記ダミー画素領域に設けられる対向基板と、
前記アレイ基板と前記対向基板との間に設けられるとともに、前記ダミー画素領域及び前記表示領域内に延在する液晶層であって、前記ダミー画素領域内の前記液晶層が前記第１配線と前記共通電極層との間に位置する液晶層と、を含み、
前記表示パネルの厚さ方向において、前記第１配線が前記共通電極層と重なって設けられ、前記表示パネルが表示状態にある場合に、前記第１配線に接続される電圧と前記共通電極層に接続される電圧との差の絶対値は０～１ボルトである表示パネル。

【請求項11】

前記アレイ基板は、前記第１基板上に設けられる薄膜トランジスタアレイ層と、前記薄膜トランジスタアレイ層上に設けられる絶縁層と、前記絶縁層上に設けられる画素電極層と、をさらに含み、
前記画素電極層は、前記表示領域に設けられる画素電極と、前記ダミー画素領域に設けられるダミー画素電極と、を含み、前記ダミー画素電極の少なくとも一部が前記第１配線の一部として多重化される請求項１０に記載の表示パネル。

【請求項12】

前記第１配線は接続部をさらに含み、前記ダミー画素領域において、前記接続部が前記ダミー画素電極同士に接続されて一体構造又はパターン化構造を形成する請求項１１に記載の表示パネル。

【請求項13】

前記表示パネルは、前記表示領域の外周側に周設される外周領域をさらに含み、前記ダミー画素領域が前記外周領域と前記表示領域との間に設けられ、前記共通配線は、前記外周領域に設けられる少なくとも１つの第２配線をさらに含み、前記アレイ基板は、前記第１基板上に設けられるボンディングパッドをさらに含み、前記ボンディングパッドが前記外周領域の一側に位置し、前記第２配線の一端が前記第１配線に接続され、前記第２配線の他端が前記ボンディングパッドに接続される請求項１２に記載の表示パネル。

【請求項14】

前記第１配線は前記表示領域のエッジの周囲に閉ループ構造を形成する請求項１３に記載の表示パネル。

【請求項15】

複数の前記第２配線は第１サブ配線及び第２サブ配線を含み、前記ボンディングパッドは第１ボンディングパッド及び第２ボンディングパッドを含み、前記第１サブ配線の一端が前記第１配線の前記ボンディングパッドから遠い側に接続され、前記第１サブ配線の他端が前記第１ボンディングパッドに接続され、前記第２サブ配線の一端が前記第１配線の前記ボンディングパッドに近い側に接続され、前記第２サブ配線の他端が前記第２ボンディングパッドに接続される請求項１４に記載の表示パネル。

【請求項16】

隣り合う２つの前記第２サブ配線のうち、２つの前記第２サブ配線が線分の一部を共通し、共通する前記線分の一部が共通線分であり、前記共通線分が前記第１配線に近い側に位置して、前記第１配線に接続される請求項１５に記載の表示パネル。

【請求項17】

前記薄膜トランジスタアレイ層が走査線をさらに含み、前記共通配線は、前記第１配線に接続される第３配線をさらに含み、前記第３配線が前記走査線の延在方向と平行であり、前記第３配線が前記共通電極層と重なって設けられる請求項１３に記載の表示パネル。

【請求項18】

前記薄膜トランジスタアレイ層がデータ線をさらに含み、前記共通配線は、前記第１配線に接続される第４配線をさらに含み、前記第４配線が前記第３配線に接続され、前記第４配線が前記データ線の延在方向と平行であり、前記第４配線が前記共通電極層と重なって設けられる請求項１７に記載の表示パネル。

【請求項19】

前記アレイ基板は、前記絶縁層上に設けられるカラーフィルタ層と、前記カラーフィルタ層上に設けられるパッシベーション層と、前記画素電極層上に設けられる第１配向層と、をさらに含み、前記画素電極層が前記パッシベーション層上に設けられ、
前記対向基板は、前記第２基板の前記液晶層に近い面に設けられるブラックマトリックス層と、前記共通電極層の前記液晶層に近い面に設けられる第２配向層と、をさらに含み、前記共通電極層が前記ブラックマトリックス層の前記液晶層に近い面に設けられる請求項１１に記載の表示パネル。

【請求項20】

前記アレイ基板は、前記画素電極層上に設けられる第１配向層と、をさらに含み、
前記対向基板は、前記第２基板の前記液晶層に近い面に設けられるブラックマトリックス層と、前記第２基板の前記液晶層に近い面に設けられ、ブラックマトリックス層の一部を覆うカラーフィルタ層と、前記共通電極層の前記液晶層に近い面に設けられる第２配向層とをさらに含み、前記共通電極層が前記カラーフィルタ層の前記液晶層に近い面に設けられる請求項１１に記載の表示パネル。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、表示の技術分野に関し、具体的には表示パネルに関する。

【背景技術】

【0002】

液晶表示パネルにおいて、表示領域のエッジはカラーフィルム基板上に配向膜とブラックマトリックスとが設けられ、配向溶液が表示領域から非表示領域に拡散する。配向溶液が表示領域外に拡散すると、スペーサの影響のため、表示領域の近傍に配向溶液が逆流堆積し、全体の膜厚が不均一になる。紫外光の作用により、表示領域に対応する液晶配向が所望の効果を達成し、非表示領域がブラックマトリックスで覆われているが、紫外光の回折、その後の環境温度の変化及びバックライト光源の影響により、表示領域のエッジの膜厚が不均一な配向膜及び液晶を再び配向させ、表示領域に影響を与え、表示領域のエッジの輝度ムラ現象が発生してしまう。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0003】

本発明の実施例は、表示領域のエッジに輝度ムラが発生するリスクを低減することができる表示パネルを提供する。

【課題を解決するための手段】

【0004】

本発明の実施例は、表示領域と、前記表示領域の少なくとも一側に位置するダミー画素領域とを含む表示パネルであって、
第１基板と、前記第１基板上に設けられる共通配線とを含み、前記共通配線が、前記ダミー画素領域に設けられる第１配線を含むアレイ基板と、
前記アレイ基板と対向配置され、第２基板と、前記第２基板の前記アレイ基板に近い側に設けられる共通電極層とを含み、前記共通電極層が前記表示領域及び前記ダミー画素領域に設けられる対向基板と、
前記アレイ基板と前記対向基板との間に設けられるとともに、前記ダミー画素領域及び前記表示領域内に延在する液晶層であって、前記ダミー画素領域内の前記液晶層が前記第１配線と前記共通電極層との間に位置する液晶層と、を含み、
前記表示パネルの厚さ方向において、前記第１配線が前記共通電極層と重なって設けられ、前記表示パネルが表示状態にある場合に、０度視野角のＬ０階調において、前記第１配線と前記共通電極層との重なり領域の画面輝度は０～０．００１７ルクスである表示パネルを提供する。

【0005】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記アレイ基板は、前記第１基板上に設けられる薄膜トランジスタアレイ層と、前記薄膜トランジスタアレイ層上に設けられる絶縁層と、前記絶縁層上に設けられる画素電極層と、をさらに含み、
前記画素電極層は、前記表示領域に設けられる画素電極と、前記ダミー画素領域に設けられるダミー画素電極と、を含み、前記ダミー画素電極の少なくとも一部が前記第１配線の一部として多重化される。

【0006】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記第１配線は接続部をさらに含み、前記ダミー画素領域において、前記接続部が前記ダミー画素電極同士に接続されて一体構造又はパターン化構造を形成する。

【0007】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記表示パネルは、前記表示領域の外周側に周設される外周領域をさらに含み、前記ダミー画素領域が前記外周領域と前記表示領域との間に設けられ、前記共通配線は、前記外周領域に設けられる少なくとも１つの第２配線をさらに含み、前記アレイ基板は、前記第１基板上に設けられるボンディングパッドをさらに含み、前記ボンディングパッドが前記外周領域の一側に位置し、前記第２配線の一端が前記第１配線に接続され、前記第２配線の他端が前記ボンディングパッドに接続される。

【0008】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記第１配線は前記表示領域のエッジの周囲に閉ループ構造を形成する。

【0009】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、複数の前記第２配線は第１サブ配線及び第２サブ配線を含み、前記ボンディングパッドは第１ボンディングパッド及び第２ボンディングパッドを含み、前記第１サブ配線の一端が前記第１配線の前記ボンディングパッドから遠い側に接続され、前記第１サブ配線の他端が前記第１ボンディングパッドに接続され、前記第２サブ配線の一端が前記第１配線の前記ボンディングパッドに近い側に接続され、前記第２サブ配線の他端が前記第２ボンディングパッドに接続される。

【0010】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、隣り合う２つの前記第２サブ配線のうち、２つの前記第２サブ配線が線分の一部を共通し、共通する前記線分の一部が共通線分であり、前記共通線分が前記第１配線に近い側に位置し、前記第１配線に接続される。

【0011】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記薄膜トランジスタアレイ層が走査線をさらに含み、前記共通配線は、前記第１配線に接続される第３配線をさらに含み、前記第３配線が前記走査線の延在方向と平行であり、前記第３配線が前記共通電極層と重なって設けられる。

【0012】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記薄膜トランジスタアレイ層がデータ線をさらに含み、前記共通配線は、前記第１配線に接続される第４配線をさらに含み、前記第４配線が前記第３配線に接続され、前記第４配線が前記データ線の延在方向と平行であり、前記第４配線が前記共通電極層と重なって設けられる。

【0013】

本発明の実施例は、表示領域と、前記表示領域の少なくとも一側に位置するダミー画素領域とを含む表示パネルであって、
第１基板と、前記第１基板上に設けられる共通配線とを含み、前記共通配線が、前記ダミー画素領域に設けられる第１配線を含むアレイ基板と、
前記アレイ基板と対向配置され、第２基板と、前記第２基板の前記アレイ基板に近い側に設けられる共通電極層とを含み、前記共通電極層が前記表示領域及び前記ダミー画素領域に設けられる対向基板と、
前記アレイ基板と前記対向基板との間に設けられるとともに、前記ダミー画素領域及び前記表示領域内に延在する液晶層であって、前記ダミー画素領域内の前記液晶層が前記第１配線と前記共通電極層との間に位置する液晶層と、を含み、
前記表示パネルの厚さ方向において、前記第１配線が前記共通電極層と重なって設けられ、前記表示パネルが表示状態にある場合に、前記第１配線に接続される電圧と前記共通電極層に接続される電圧との差の絶対値は０～１ボルトである表示パネルをさらに提供する。

【0014】

アレイ基板のダミー画素領域に対応する領域に第１配線が設けられ、つまり、表示領域のエッジ領域には、共通電極層と重なる第１配線が設けられ、通電の場合には、第１配線と共通電極層とは電圧が同じであるか又はほぼ同じであることで、第１配線と共通電極層との重なり領域の液晶をほとんど偏向させないか又はまったく偏向させず、第１配線と共通電極層２２との重なり領域に黒画面を表示させることで、表示領域のエッジの輝度ムラのリスクを低減する。

【0015】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記アレイ基板は、前記第１基板上に設けられる薄膜トランジスタアレイ層と、前記薄膜トランジスタアレイ層上に設けられる絶縁層と、前記絶縁層上に設けられる画素電極層と、をさらに含み、
前記画素電極層は、前記表示領域に設けられる画素電極と、前記ダミー画素領域に設けられるダミー画素電極と、を含み、前記ダミー画素電極の少なくとも一部が前記第１配線の一部として多重化される。

【0016】

ダミー画素電極の少なくとも一部を共通配線における第１配線の一部として用いることにより、追加して第１配線を製造する製造工程を省き、同一製造工程を用いて画素電極及び第１配線を形成して、配線スペースを節約することができる。

【0017】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記第１配線は接続部をさらに含み、ダミー画素領域において、前記接続部が前記ダミー画素電極同士に接続されて一体構造又はパターン化構造を形成する。

【0018】

第１配線は、ダミー画素領域に一体化の形で設けられることで、最大限に表示領域のエッジを表示状態において黒画面にすることができ、さらに最大限に表示領域のエッジの輝度ムラのリスクを低減する。

【0019】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記表示パネルは、前記表示領域の外周側に周設される外周領域をさらに含み、前記ダミー画素領域が前記外周領域と前記表示領域との間に設けられ、前記共通配線は、前記外周領域に設けられる少なくとも１つの第２配線をさらに含み、前記アレイ基板は、前記第１基板上に設けられるボンディングパッドをさらに含み、前記ボンディングパッドが前記外周領域の一側に位置し、前記第２配線の一端が前記第１配線に接続され、前記第２配線の他端が前記ボンディングパッドに接続される。

【0020】

第２配線は、第１配線に電圧信号を供給するためのものである。

【0021】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記第１配線は前記表示領域のエッジの周囲に閉ループ構造を形成する。

【0022】

環状の第１配線が表示領域のエッジに囲まれることにより、表示領域の周りのエッジの輝度ムラのリスクを低減し、さらに表示パネルの表示効果を高めることができる。

【0023】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、複数の前記第２配線は第１サブ配線及び第２サブ配線を含み、前記ボンディングパッドは第１ボンディングパッド及び第２ボンディングパッドを含み、前記第１サブ配線の一端が前記第１配線の前記ボンディングパッドから遠い側に接続され、前記第１サブ配線の他端が前記第１ボンディングパッドに接続され、前記第２サブ配線の一端が前記第１配線の前記ボンディングパッドに近い側に接続され、前記第２サブ配線の他端が前記第２ボンディングパッドに接続される。

【0024】

第１サブ配線及び第２サブ配線を第１配線の異なる領域に接続することにより、負荷の低減及び信号遅延の低減の効果を図ることができる。

【0025】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、隣り合う２つの前記第２サブ配線のうち、２つの前記第２サブ配線が線分の一部を共通し、共通する前記線分の一部が共通線分であり、前記共通線分が前記第１配線に近い側に位置し、前記第１配線に接続される。
２つの第２サブ配線が線分の一部を共通することにより、負荷の低減を図るとともに、配線のレイアウトスペースを低減することができる。

【0026】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記アレイ基板は、前記外周領域に位置するゲート駆動回路をさらに含み、前記ゲート駆動回路が前記ダミー画素領域の前記表示領域から遠い側に設けられる。

【0027】

前記第１サブ配線が前記ゲート駆動回路の外側に位置する。

【0028】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記薄膜トランジスタアレイ層が走査線をさらに含み、前記共通配線は、前記第１配線に接続される第３配線をさらに含み、前記第３配線が前記走査線の延在方向と平行であり、前記第３配線が前記共通電極層と重なって設けられる。

【0029】

このように設けることにより、表示状態において、第３配線と共通電極層との重なり領域内の液晶を偏向させることなく黒画面を表示することができ、ブラックマトリックス層の一部を省略することができるという効果を奏する。

【0030】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記薄膜トランジスタアレイ層がデータ線をさらに含み、前記共通配線は、前記第１配線に接続される第４配線をさらに含み、前記第４配線が前記第３配線に接続され、前記第４配線が前記データ線の延在方向と平行であり、前記第４配線が前記共通電極層と重なって設けられる。

【0031】

このように設けることにより、表示状態において、第４配線と共通電極層との重なり領域内の液晶を偏向させることなく黒画面を表示することができ、ブラックマトリックス層の一部を省略することができるという効果を奏する。

【0032】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記アレイ基板は、前記絶縁層上に設けられるカラーフィルタ層と、前記カラーフィルタ層上に設けられるパッシベーション層と、前記画素電極層上に設けられる第１配向層と、をさらに含み、前記画素電極層が前記パッシベーション層上に設けられ、
前記対向基板は、第２基板の前記液晶層に近い面に設けられるブラックマトリックス層と、前記共通電極層の前記液晶層に近い面に設けられる第２配向層と、をさらに含み、前記共通電極層が前記ブラックマトリックス層の前記液晶層に近い面に設けられる。

【0033】

所望により、本発明のいくつかの実施例において、前記アレイ基板は、前記画素電極層上に設けられる第１配向層と、をさらに含み、
前記対向基板は、前記第２基板の前記液晶層に近い面に設けられるブラックマトリックス層と、前記第２基板の前記液晶層に近い面に設けられ、ブラックマトリックス層の一部を覆うカラーフィルタ層と、前記共通電極層の前記液晶層に近い面に設けられる第２配向層とをさらに含み、前記共通電極層が前記カラーフィルタ層の前記液晶層に近い面に設けられる。

【発明の効果】

【0034】

本発明の実施例は、表示領域と、前記表示領域の少なくとも一側に位置するダミー画素領域とを含む表示パネルであって、表示パネルがアレイ基板及び対向基板を含み、アレイ基板が第１基板と、第１基板上に設けられる共通配線とを含み、共通配線は、ダミー画素領域に設けられて表示領域に近い第１配線を含み、対向基板は、第２基板と、第２基板のアレイ基板に近い側に設けられる共通電極層とを含み、共通電極層が表示領域及びダミー画素領域に設けられ、液晶層がアレイ基板と対向基板との間に設けられ、表示パネルの厚さ方向において、第１配線が共通電極層と重なって設けられ、表示パネルが表示状態にあるときに、前記第１配線に接続される電圧と、前記共通電極層に接続される電圧との差の絶対値は０～１ボルトである表示パネルを提供する。
本発明では、アレイ基板のダミー画素領域に対応する領域に第１配線が設けられ、つまり、表示領域のエッジ領域には、共通電極層と重なる第１配線が設けられ、通電の場合には、第１配線と共通電極層とは電圧が同じであるか又はほぼ同じである（前記第１配線に接続される電圧と、前記共通電極層に接続される電圧との差の絶対値は０～１ボルトである）ことで、第１配線と共通電極層との重なり領域の液晶をほとんど偏向させないか又はまったく偏向させず、第１配線と共通電極層との重なり領域に光漏れがなく、表示領域のエッジの輝度ムラのリスクを低減する。

【図面の簡単な説明】

【0035】

本発明の実施例の技術的手段をより明確に説明するために、以下の実施例の説明で必要となる添付図面を簡単に紹介し、以下の説明における図面は、本発明の幾つかの実施例に過ぎなく、当業者にとっては創造的努力なしにこれらの図面から他の図面を導き出すこともできることは明らかである。

【図1】図１は本発明の第１実施例に係る表示パネルの断面構造概略図である。

【図2】図２は本発明の第１実施例に係る表示パネルのアレイ基板の平面構造概略図である。

【図3】図３は図２におけるＡ部の拡大図である。

【図4】図４は本発明の第２実施例に係る表示パネルのアレイ基板の平面構造概略図である。

【図5】図５は本発明の第３実施例に係る表示パネルの断面構造概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0036】

以下、本発明の実施例における図面を参照しながら、本発明の実施例における技術的手段を明確かつ完全に説明するが、説明した実施例は本発明の実施例のすべてではなく、単に実施例の一部であることは明らかである。本発明における実施例に基づいて、当業者が創造的努力なしに取得したすべての他の実施例は、いずれも本発明の保護範囲に属している。また、ここで記載する具体的な実施形態は本発明を説明や解釈するためのものであり、本発明を限定するためのものではないことは理解されたい。本発明において、反対の説明がなされない場合、「上」及び「下」などの使用される方向語は、通常、装置が実際に使用されている状態又は稼働している状態における上及び下を意味し、具体的に添付図面における図面方向であるが、「内」及び「外」は、装置の輪郭について示すものである。

【0037】

本発明の実施例は、表示パネルを提供し、以下、詳細に説明する。なお、以下の実施例の説明順序は、実施例の好ましい順序を限定するものではない。

【0038】

図１及び図２を参照されたく、本発明の第１実施例に係る表示パネル１００は、表示領域ＡＡと、表示領域ＡＡの少なくとも一側に位置するダミー画素領域ＮＰとを含む。表示パネル１００は、アレイ基板１０、対向基板２０及び液晶層３０を含む。対向基板２０とアレイ基板１０とは対向配置される。液晶層３０がアレイ基板１０と対向基板２０との間に設けられる。

【0039】

アレイ基板１０は、第１基板１１と、第１基板１１上に設けられる共通配線１２とを含む。共通配線１２は第１配線１２１を含む。第１配線１２１はダミー画素領域ＮＰに設けられる。

【0040】

対向基板２０は、第２基板２１と、第２基板２１のアレイ基板１０に近い側に設けられる共通電極層２２とを含む。共通電極層２２が表示領域ＡＡ及びダミー画素領域ＮＰに設けられる。

【0041】

液晶層３０はダミー画素領域ＮＰ及び表示領域ＡＡ内に延びる。ダミー画素領域ＮＰ内の液晶層３０が第１配線１２１と共通電極層２２との間に位置する。

【0042】

表示パネル１００の厚さ方向において、第１配線１２１が共通電極層２２と重なって設けられる。表示パネル１００が表示状態にある場合に、第１配線１２１に接続される電圧と共通電極層２２に接続される電圧との差の絶対値は０～１ボルトである。

【0043】

本発明の第１実施例は、アレイ基板１０のダミー画素領域ＮＰに対応する領域に第１配線１２１が設けられ、つまり、表示領域ＡＡのエッジ領域には、共通電極層２２と重なる第１配線１２１が設けられ、通電の場合には、第１配線１２１と共通電極層２２とは電圧が同じであるか又はほぼ同じである（第１配線１２１に接続される電圧と、共通電極層２２に接続される電圧との差の絶対値は０～１ボルトである）ことで、第１配線１２１と共通電極層２２との重なり領域の液晶をほとんど偏向させないか又はまったく偏向させず、第１配線１２１と共通電極層２２との重なり領域に光漏れがなく、表示領域ＡＡのエッジの輝度ムラのリスクを低減する。

【0044】

所望により、第１配線１２１に接続される電圧と共通電極層２２に接続される電圧との差の絶対値は、０Ｖ（ボルト）、０．２Ｖ、０．４Ｖ、０．６Ｖ、０．８Ｖ及び１Ｖのいずれかであってもよい。

【0045】

本実施例において、第１配線１２１に接続される電圧は、共通電極層２２に接続される電圧と等しくてもよい。つまり、第１配線１２１に接続される電圧と共通電極層２２に接続される電圧との差の絶対値は、０Ｖであってもよい。

【0046】

いくつかの実施例において、第１配線１２１に接続される電圧は、共通電極層２２に接続される電圧よりも大きいか又は小さくてもよい。

【0047】

一方では、表示画面の輝度において、第１配線１２１に接続される電圧と、共通電極層２２に接続される電圧との差の絶対値が０である場合に、両者の重なり領域の輝度をＡ輝度とし、第１配線１２１に接続される電圧と、共通電極層２２に接続される電圧との差の絶対値が１である場合に、両者の重なり領域の輝度をＢ輝度とする。０度視野角のＬ０階調（黒画面）において、Ａ輝度～Ｂ輝度＝０～０．００１７ｌｕｘ（ルクス）であり、例えば、０ｌｕｘ、０．０００５ｌｕｘ、０．００１ｌｕｘ又は０．００１７ｌｕｘであってもよい。０度視野角のＬ２５５階調（白画面）において、Ａ輝度～Ｂ輝度＝０～０．３ｌｕｘであり、例えば、０ｌｕｘ、０．１ｌｕｘ、０．２ｌｕｘ又は０．３ｌｕｘであってもよい。この場合には、第１配線１２１と共通電極層２２との重なり領域に光漏れがないと判定することができる。

【0048】

所望により、第１配線１２１は、さらにダミー画素領域ＮＰから延出することができる。

【0049】

所望により、アレイ基板１０は、薄膜トランジスタアレイ層Ｔｃ、絶縁層ｐｖ１及び画素電極層Ｐｘをさらに含む。薄膜トランジスタアレイ層Ｔｃが第１基板１１上に設けられる。絶縁層ｐｖ１が薄膜トランジスタアレイ層Ｔｃ上に設けられる。画素電極層Ｐｘが絶縁層ｐｖ１上に設けられる。

【0050】

図３を参照されたく、画素電極層Ｐｘは画素電極ｐｘ１及びダミー画素電極ｐｘ２を含む。画素電極ｐｘ１が表示領域ＡＡに設けられる。ダミー画素電極ｐｘ２がダミー画素領域ＮＰに設けられる。ダミー画素電極ｐｘ２の少なくとも一部が第１配線１２１の一部として多重化される。

【0051】

なお、ダミー画素電極ｐｘ２と、それに対応する薄膜トランジスタとがオフ設定され、つまり、ダミー画素電極ｐｘ２と、それに対応する薄膜トランジスタとが信号をオンにしない。

【0052】

所望により、画素電極層Ｐｘの材料が酸化インジウムスズ、酸化インジウム亜鉛などの金属酸化物であってもよい。

【0053】

この第１実施例の表示パネル１００は、ダミー画素電極ｐｘ２の少なくとも一部を共通配線１２における第１配線１２１の一部として用いることにより、追加して第１配線１２１を製造する製造工程を省き、同一製造工程を用いて画素電極ｐｘ１及び第１配線１２１を形成して、配線スペースを節約することができる。

【0054】

所望により、薄膜トランジスタアレイ層Ｔｃは、第１基板１１上に順次積層配置される第１金属層ｍ１、ゲート絶縁層ｇ１、活性層ｐｏｌ及び第２金属層ｍ２を含む。絶縁層ｐｖ１が第２金属層ｍ２上に設けられる。

【0055】

第１金属層ｍ１は走査線ｓｃ、第１ゲート及び第２ゲートを含む。第２金属層ｍ２はデータ線ｄａ、第１ソース、第２ソース、第１ドレイン及び第２ドレインを含む。活性層ｐｏｌは第１半導体部及び第２半導体部を含む。

【0056】

走査線ｓｃ及びデータ線ｄａが交差して設けられる。第１ゲート、第１半導体部、第１ソース及び第１ドレインが第１薄膜トランジスタＴ１を形成する。第２ゲート、第２半導体部、第２ソース及び第２ドレインが第２薄膜トランジスタＴ２を形成する。

【0057】

第１薄膜トランジスタＴ１は、画素電極ｐｘ１に対応して、表示領域ＡＡに位置する。第２薄膜トランジスタＴ２は、ダミー画素電極ｐｘ２に対応して、ダミー画素領域ＮＰに位置する。

【0058】

第１薄膜トランジスタＴ１の第１ゲートが走査線ｓｃに接続され、第１薄膜トランジスタＴ１の第１ソースがデータ線ｄａに接続され、第１薄膜トランジスタＴ１の第１ドレインが画素電極ｐｘ１に接続される。第２薄膜トランジスタＴ２の第２ゲートが走査線ｓｃに接続され、第２薄膜トランジスタＴ２の第２ソースがデータ線ｄａとオフ設定され、第２薄膜トランジスタＴ２の第２ドレインがダミー画素電極ｐｘ２に接続される。

【0059】

いくつかの実施例において、第２薄膜トランジスタＴ２の第２ソースがデータ線ｄａと接続され、第２薄膜トランジスタＴ２の第２ドレインがダミー画素電極ｐｘ２とオフ設定されてもよい。

【0060】

なお、この第１実施例における第１薄膜トランジスタＴ１及び第２薄膜トランジスタＴ２は共にボトムゲート型薄膜トランジスタであるが、これに限定されるものではなく、トップゲート型薄膜トランジスタ又はダブルゲート型薄膜トランジスタであってもよい。

【0061】

所望により、図３を参照されたく、第１配線１２１は接続部１２ａをさらに含む。ダミー画素領域ＮＰにおいて、接続部１２ａがダミー画素電極ｐｘ２同士に接続されて一体化構造又はパターン化構造を形成する。

【0062】

なお、図３には第１配線１２１のダミー画素領域ＮＰにおける一体化構造の概略図が示される。第１配線１２１は、ダミー画素領域ＮＰに一体化の形で設けられることで、最大限に表示領域ＡＡのエッジを表示状態において黒画面にすることができ、さらに最大限に表示領域ＡＡのエッジの輝度ムラのリスクを低減する。

【0063】

第１配線１２１がダミー画素領域ＮＰにおいてパターン化構造をなすときに、接続部１２ａの幅がダミー画素電極ｐｘ２の幅よりも小さく、つまり第１配線１２１が中空部を有する。

【0064】

所望により、図２を参照されたく、表示パネル１００は外周領域ＮＡをさらに含む。外周領域ＮＡが表示領域ＡＡの外周側に周設される。ダミー画素領域ＮＰが外周領域ＮＡと表示領域ＡＡとの間に設けられる。共通配線１２は少なくとも１つの第２配線１２２をさらに含む。少なくとも１つの第２配線１２２が外周領域ＮＡに設けられる。

【0065】

アレイ基板１０は、第１基板１１上に設けられるボンディングパッドｂｄをさらに含む。ボンディングパッドｂｄが外周領域ＮＡの一側に位置する。第２配線１２２の一端が第１配線１２１に接続され、第２配線１２２の他端がボンディングパッドｂｄに接続される。

【0066】

第２配線１２２は、第１配線１２１に電圧信号を供給するためのものである。

【0067】

所望により、第１配線１２１は表示領域ＡＡのエッジの周囲に閉ループ構造を形成する。環状の第１配線１２１が表示領域ＡＡのエッジに囲まれることにより、表示領域ＡＡの周りのエッジの輝度ムラのリスクを低減し、さらに表示パネル１００の表示効果を高めることができる。

【0068】

所望により、第１配線１２１は、さらにダミー画素領域ＮＰから延出するとともに、外周領域ＮＡに位置する。

【0069】

所望により、ダミー画素領域ＮＰの数が４つあり、４つのダミー画素領域ＮＰが順次繋がって表示領域ＡＡの周りに周設される。したがって、４つのダミー画素領域ＮＰ中のダミー画素電極ｐｘ２は、接続部１２ａを介して環状の第１配線１２１を接続形成する。

【0070】

いくつかの実施例において、ダミー画素領域ＮＰの数が２つであり、２つのダミー画素領域ＮＰが表示領域ＡＡの両側に設けられ、２つのダミー画素領域ＮＰ中のそれぞれのダミー画素電極ｐｘ２は接続部１２ａを介して繋がって第１連結部を形成し、２つの第１連結部が対向配置され、第１配線は、２つの対向配置される第２連結部をさらに含み、第２連結部が表示領域ＡＡの他の両側に設けられる。第１連結部と第２連結部とが交互に接続されて環状の第１配線１２１を形成する。

【0071】

所望により、複数の第２配線１２２は第１サブ配線１２ｂ及び第２サブ配線１２ｃを含む。ボンディングパッドｂｄは第１ボンディングパッドｂｄ１及び第２ボンディングパッドｂｄ２を含む。第１サブ配線１２ｂの一端が第１配線１２１のボンディングパッドｂｄから遠い側に接続され、第１配線１２ｂの他端が第１ボンディングパッドｂｄ１に接続される。第２サブ配線１２ｃの一端が第１配線１２１のボンディングパッドｂｄに近い側に接続され、第２配線１２ｃの他端が第２ボンディングパッドｂｄ２に接続される。

【0072】

第１サブ配線１２ｂ及び第２サブ配線１２ｃを第１配線１２１の異なる領域に接続することにより、負荷の低減及び信号遅延の低減の効果を図ることができる。

【0073】

所望により、隣り合う２つの第２サブ配線１２ｃのうち、２つの第２サブ配線１２ｃが線分の一部を共通し、共通する線分の一部が共通線分である。共通線分は、前記第１配線１２１に近い側に位置して、第１配線１２１に接続される。

【0074】

２つの第２サブ配線１２ｃが線分の一部を共通することにより、負荷の低減を図るとともに、配線のレイアウトスペースを低減することができる。

【0075】

所望により、アレイ基板１０は、外周領域ＮＡに位置するゲート駆動回路ＧＯＡをさらに含む。ゲート駆動回路ＧＯＡがダミー画素領域ＮＡの表示領域ＡＡから遠い側に設けられる。第１サブ配線１２ｂがゲート駆動回路ＧＯＡの外側に位置する。走査線ｓｃがゲート駆動回路ＧＯＡに接続される。

【0076】

所望により、第１配線１２１及び第２配線１２２が同層に設けられて、両者の材料が同じである。

【0077】

いくつかの実施例において、第１配線１２１及び第２配線１２２が異なる層に設けられてもよい。第２配線１２２が第１金属層ｍ１又は第２金属層ｍ２に形成される。第１配線１２１がビアホールを介して第２配線１２２に接続される。第１配線１２１及び第２配線１２２が異なる層に設けられることで、レイアウトスペースの低減の効果を図ることができる。

【0078】

所望により、アレイ基板１０は、第１サブ配線１２ｂのゲート駆動回路ＧＯＡから遠い側に設けられる第１信号線ｃ１をさらに含み、第１信号線ｃ１が共通電極層２２に電気的に接続される。

【0079】

所望により、アレイ基板１０は、第１サブ配線１２ｂのゲート駆動回路ＧＯＡに近い側に設けられる第２信号線ｃ２をさらに含む。第２信号線ｃ２がゲート駆動回路ＧＯＡに接続される。

【0080】

所望により、アレイ基板１０は、カラーフィルタ層ｃｆ、パッシベーション層ｄｖ及び第１配向層ｐ１をさらに含む。カラーフィルタ層ｃｆが絶縁層ｐｖ１上に設けられる。パッシベーション層ｄｖがカラーフィルタ層ｃｆ上に設けられる。画素電極層Ｐｘがパッシベーション層ｄｖ上に設けられる。第１配向層ｐ１が画素電極層Ｐｘ上に設けられる。
対向基板２０はブラックマトリックス層２３及び第２配向層ｐ２をさらに含む。ブラックマトリックス層２３が第２基板２１の液晶層３０に近い面に設けられる。共通電極層２２がブラックマトリックス層２３の液晶層３０に近い面に設けられる。第２配向層ｐ２が共通電極層２２の液晶層３０に近い面に設けられる。

【0081】

図４を参照されたく、この第２実施例の表示パネル１００と第１実施例の表示パネル１００との相違点は、共通配線１２が第１配線１２１に接続される第３配線１２３をさらに含むことにある。第３配線１２３が走査線ｓｃの延在方向と平行である。第３配線１２３が共通電極層２２と重なって設けられる。

【0082】

このように設けることにより、表示状態において、第３配線１２３と共通電極層２２との重なり領域内の液晶を偏向させることなく黒画面を表示することができ、ブラックマトリックス層２３の一部を省略することができるという効果を奏する。

【0083】

所望により、共通配線１２は、第１配線１２１に接続される第４配線１２４をさらに含む。第４配線１２４が第３配線１２３に接続される。第４配線１２４がデータ線ｄａの延在方向と平行である。第４配線１２４が共通電極層２２と重なって設けられる。

【0084】

このように設けることにより、表示状態において、第４配線１２４と共通電極層２２との重なり領域内の液晶を偏向させることなく黒画面を表示することができ、ブラックマトリックス層２３の一部を省略することができるという効果を奏する。

【0085】

ブラックマトリックス２３が第１薄膜トランジスタＴ１及び第２薄膜トランジスタＴ２を遮蔽する。いくつかの実施例において、ブラックマトリックス層２３がデータ線ｄａ及び／又は走査線ｓｃの一部を遮蔽することもできる。

【0086】

図５を参照されたく、この第３実施例の表示パネル１００と第１実施例及び第２実施例のそれぞれとの相違点は、アレイ基板１０は、画素電極層Ｐｘ上に設けられる第１配向層ｐ１をさらに含むことにある。

【0087】

対向基板２０はブラックマトリックス層２３、カラーフィルタ層ｃｆ及び第２配向層ｐ２をさらに含む。ブラックマトリックス層２３が第２基板２１の液晶層３０に近い面に設けられる。カラーフィルタ層ｃｆが第２基板２１の液晶層３０に近い面に設けられる。カラーフィルタ層ｃｆがブラックマトリックス層２３の一部を覆う。共通電極層２２がカラーフィルタ層ｃｆの液晶層３０に近い面に設けられる。第２配向層ｐ２が共通電極層２２の液晶層３０に近い面に設けられる。

【0088】

第３実施例の表示パネル１００は、第１実施例又は第２実施例の表示パネル１００に比べて、この第３実施例の表示パネル１００が非ＣＯＡ構造のパネルであり、カラーフィルタ層ｃｆも対向基板２０上に設けられている。

【0089】

本発明の第３実施例に係る表示パネル１００は、表示領域ＡＡと、表示領域ＡＡの少なくとも一側に位置するダミー画素領域ＮＰとを含む。表示パネル１００は、アレイ基板１０、対向基板２０及び液晶層３０を含む。対向基板２０とアレイ基板１０とは対向配置される。液晶層３０がアレイ基板１０と対向基板２０との間に設けられる。

【0090】

アレイ基板１０は、第１基板１１と、第１基板１１上に設けられる共通配線１２とを含む。共通配線１２は第１配線１２１を含む。第１配線１２１はダミー画素領域ＮＰに設けられて表示領域ＡＡに近い。

【0091】

対向基板２０は、第２基板２１と、第２基板２１のアレイ基板１０に近い側に設けられる共通電極層２２とを含む。共通電極層２２が表示領域ＡＡ及びダミー画素領域ＮＰに設けられる。

【0092】

表示パネル１００の厚さ方向において、第１配線１２１が共通電極層２２と重なって設けられる。表示パネル１００が表示状態にある場合に、第１配線１２１と共通電極層２２との重なり領域は黒画面である。

【0093】

本発明の第３実施例は、アレイ基板１０のダミー画素領域ＮＰに対応する領域に第１配線１２１が設けられ、つまり、表示領域ＡＡのエッジ領域には、共通電極層２２と重なる第１配線１２１が設けられ、通電の場合には、第１配線１２１と共通電極層２２とは電圧が同じであるか又はほぼ同じであることで、第１配線１２１と共通電極層２２との重なり領域の液晶をほとんど偏向させないか又はまったく偏向させず、第１配線１２１と共通電極層２２との重なり領域に黒画面を表示させることで、表示領域ＡＡのエッジの輝度ムラのリスクを低減する。

【0094】

以上、本発明の実施例に係る表示パネルについて詳細に説明したが、本明細書では具体的な実施例を用いて本発明の原理及び実施形態について説明したが、以上の実施例の説明は本発明の方法及びその核心的な思想を理解するためのものに過ぎず、一方、当業者であれば、本発明の構想に基づき、具体的な実施形態及び適用範囲に変更を加えることがあり、要約すると、本明細書の内容は本発明を限定するものとして理解されるべきではない。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【国際調査報告】