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特表2024-523101ペキシダルチニブを調製するためのプロセス

書誌要約請求の範囲詳細な説明課題実施例実施するための形態図面の説明

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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-06-28

(54)【発明の名称】ペキシダルチニブを調製するためのプロセス

(51)【国際特許分類】

C07D 471/04 20060101AFI20240621BHJP

C07F 5/02 20060101ALI20240621BHJP

A61K 31/444 20060101ALI20240621BHJP

C07D 213/80 20060101ALI20240621BHJP

C07D 213/74 20060101ALI20240621BHJP

A61P 35/00 20060101ALI20240621BHJP

B01J 31/24 20060101ALI20240621BHJP

B01J 31/22 20060101ALI20240621BHJP

B01J 31/04 20060101ALI20240621BHJP

C07B 61/00 20060101ALN20240621BHJP

【ＦＩ】

C07D471/04 104Z

C07F5/02 A CSP

C07F5/02 F

A61K31/444

C07D213/80

C07D213/74

A61P35/00

B01J31/24 Z

B01J31/22 Z

B01J31/04 Z

C07B61/00 300

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2023565349

(86)(22)【出願日】2022-06-13

(85)【翻訳文提出日】2023-12-07

(86)【国際出願番号】 GB2022051484

(87)【国際公開番号】W WO2022263801

(87)【国際公開日】2022-12-22

(31)【優先権主張番号】63/210,718

(32)【優先日】2021-06-15

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】590004718

【氏名又は名称】ジョンソン、マッセイ、パブリック、リミテッド、カンパニー

【氏名又は名称原語表記】ＪＯＨＮＳＯＮＭＡＴＴＨＥＹＰＵＢＬＩＣＬＩＭＩＴＥＤＣＯＭＰＡＮＹ

(74)【代理人】

【識別番号】100145403

【弁理士】

【氏名又は名称】山尾憲人

(74)【代理人】

【識別番号】100221501

【弁理士】

【氏名又は名称】式見真行

(74)【代理人】

【識別番号】100197583

【弁理士】

【氏名又は名称】高岡健

(72)【発明者】

【氏名】シュランク、ヨハネス

(72)【発明者】

【氏名】スラック、エリック

【テーマコード（参考）】

4C086

4G169

4H039

4H048

【Ｆターム（参考）】

4C086AA01

4C086AA02

4C086AA04

4C086CB05

4C086MA01

4C086MA04

4C086NA14

4C086ZB26

4G169AA06

4G169BA21B

4G169BA27A

4G169BA27B

4G169BA28A

4G169BA28B

4G169BA42A

4G169BC66A

4G169BC66B

4G169BC67A

4G169BC68A

4G169BC70A

4G169BC71A

4G169BC72A

4G169BC72B

4G169BC73A

4G169BC74A

4G169BC74B

4G169BC75A

4G169BE03A

4G169BE03B

4G169BE04A

4G169BE04B

4G169BE07A

4G169BE07B

4G169BE08B

4G169BE14A

4G169BE14B

4G169BE16A

4G169BE16B

4G169BE21A

4G169BE21B

4G169BE26A

4G169BE26B

4G169BE27A

4G169BE27B

4G169BE34B

4G169BE38A

4G169BE38B

4G169BE46A

4G169BE46B

4G169CB02

4G169CB25

4G169CB61

4G169CB62

4G169CB66

4G169CB70

4H039CA42

4H039CD40

4H039CD90

4H048AA01

4H048AB84

4H048VA32

4H048VA75

4H048VB10

(57)【要約】

本発明は、式（ＶＩ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体を調製するためのプロセスであって、式（Ｖ）の化合物と、式（ＩＸ）の化合物（式中、Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５及びＺが、本明細書に記載される通りである）とを、第１０族遷移金属触媒、塩基、及び水の存在下で反応させて、式（ＶＩ）の化合物を得ることを含む、プロセスに関する。
【化１】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

式（ＶＩ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体を調製するためのプロセスであって、

【化1】

式（Ｖ）の化合物

【化2】

（式中、Ｒ^２が、置換又は非置換のＣ_１～２０直鎖又はＣ_３～２０分枝鎖アルキル基である）と、
式（ＩＸ）の化合物

【化3】

（式中、
Ｚが、－ＳＯ_２Ｒ’’又は－ＣＯ_２Ｒ^３であり、
Ｒ’’が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基であり、
Ｒ^３が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基であり、
Ｒ^４及びＲ^５が、独立して、Ｈ、又は１～２０個の炭素原子を含む置換若しくは非置換の有機基であるか、又は、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^４及びＲ^５が環を形成する）とを、
第１０族遷移金属触媒、塩基、及び水の存在下で反応させて、前記式（ＶＩ）の化合物を得ることを含む、プロセス。

【請求項2】

前記第１０族遷移金属触媒が、ニッケル触媒、パラジウム触媒、又は白金触媒、好ましくはパラジウム触媒である、請求項１に記載のプロセス。

【請求項3】

前記パラジウム触媒が、ＰｄＣｌ_２（ｄｉｐｐｆ）である、請求項２に記載のプロセス。

【請求項4】

前記式（Ｖ）の化合物を前記式（ＩＸ）の化合物と反応させることが、アルコール又はアルコールの混合物、好ましくはｔｅｒｔ－アミルアルコール及び／又はイソプロパノールを含む溶媒中で行われる、請求項１～３のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項5】

前記式（Ｖ）の化合物が、前記式（ＩＸ）の化合物、前記第１０族遷移金属触媒、前記塩基及び前記水の存在下で、式（ＩＶ）の化合物、又はその塩と

【化4】

式Ｒ^２Ｏ（ＣＯ）ＯＲ^２の炭酸ジアルキル（式中、各Ｒ^２が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖又はＣ_３～２０分枝鎖アルキル基である）とを反応させることによって系中で調製される、請求項１～３のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項6】

前記式（Ｖ）の化合物が、式（ＩＶ）の化合物、又はその塩と

【化5】

式Ｒ^２Ｏ（ＣＯ）ＯＲ^２の炭酸ジアルキル（式中、各Ｒ^２が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖又はＣ_３～２０分枝鎖アルキル基である）とを塩基存在下で反応させることによって調製される、請求項１～３のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項7】

前記式（ＩＶ）の化合物が、式（ＩＩＩ）の化合物

【化6】

（式中、Ｒ^１が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基である）を、
第８族遷移金属触媒及び塩基の存在下で、水素で還元することによって調製される、請求項５又は６に記載のプロセス。

【請求項8】

前記第８族遷移金属触媒が、鉄触媒、ルテニウム触媒又はオスミウム触媒、好ましくはルテニウム触媒である、請求項７に記載のプロセス。

【請求項9】

前記ルテニウム触媒が、Ｒｕ－ＳＮＳである、請求項８に記載のプロセス。

【請求項10】

前記式（ＩＩＩ）の化合物が、式（Ｉ）の化合物

【化7】

（式中、Ｒ^１が、上で定義した通りである）と、
式（ＩＩ）の化合物とを、

【化8】

酸触媒の存在下で反応させることによって調製される、請求項７～９のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項11】

前記式（ＩＸ）の化合物が、式（ＶＩＩＩ）の化合物

【化9】

（式中、Ｚが、－ＳＯ_２Ｒ’’又は－ＣＯ_２Ｒ^３であり、
Ｒ’’が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基であり、
Ｒ^３が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基である）と、
ホウ素化剤とを、第９族遷移金属触媒の存在下で反応させることによって調製される、請求項１～１０のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項12】

前記第９族遷移金属触媒が、コバルト触媒、ロジウム触媒、又はイリジウム触媒、好ましくはイリジウム触媒である、請求項１１に記載のプロセス。

【請求項13】

前記イリジウム触媒が、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）（１，１０－フェナントロリン）イリジウム（Ｉ）又はクロロ（１，５－シクロオクタジエン）（１，１０－フェナントロリン）イリジウム（Ｉ）・ＴＨＦ付加物である、請求項１２に記載のプロセス。

【請求項14】

前記ホウ素化剤が、Ｂ_２ｐｉｎ_２、ＨＢｐｉｎ、ビス（３－エチル－３－ペントキシ）ボラン、（ジヒドロキシボラニル）ホウ酸、ＨＢｃａｔ及びビス（カテコラト）二ホウ素から選択され、好ましくはＢ_２ｐｉｎ_２である、請求項１１～１３のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項15】

前記式（ＶＩＩＩ）の化合物が、式（ＶＩＩ）の化合物と、

【化10】

式Ｒ’’ＳＯ_２Ｘ^ａのハロゲン化スルホニル（式中、Ｘ^ａが、ハロゲン化物であり、Ｒ’’が、上記で定義した通りである）又は式（Ｒ^３Ｏ（ＣＯ））_２Ｏの化合物（式中、Ｒ^３が、上記で定義した通りである）とを反応させることによって調製される、請求項１１～１４のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項16】

式（ＶＩ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体を調製するためのプロセスであって、

【化11】

式（Ｉ）の化合物

【化12】

（式中、Ｒ^１が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基である）と、
式（ＩＩ）の化合物とを、

【化13】

酸触媒の存在下で反応させて、式（ＩＩＩ）の化合物

【化14】

（式中、Ｒ^１が、上で定義した通りである）を得ることと、
前記式（ＩＩＩ）の化合物を、第８族遷移金属触媒及び第１の塩基の存在下で、水素で還元して、式（ＩＶ）の化合物を得ることと

【化15】

前記式（ＩＶ）の化合物、又はその塩と、式Ｒ^２Ｏ（ＣＯ）ＯＲ^２の炭酸ジアルキル（式中、各Ｒ^２が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖又はＣ_３～２０分枝鎖アルキル基である）とを第２の塩基存在下で反応させ、式（Ｖ）の化合物

【化16】

（式中、Ｒ^２が、上で定義した通りである）を得ることと、
式（ＶＩＩ）の化合物と、

【化17】

式Ｒ’’ＳＯ_２Ｘ^ａのハロゲン化スルホニル（式中、Ｘ^ａが、ハロゲン化物であり、Ｒ’’が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基である）、又は式（Ｒ^３Ｏ（ＣＯ））_２Ｏの化合物（式中、Ｒ^３が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基である）とを反応させ、式（ＶＩＩＩ）の化合物

【化18】

（式中、Ｚが、－ＳＯ_２Ｒ’’又は－ＣＯ_２Ｒ^３であり、
Ｒ’’及びＲ^３が、上で定義した通りである）を得ることと、
前記式（ＶＩＩＩ）の化合物と、ホウ素化剤とを、第９族遷移金属触媒の存在下で反応させ、式（ＩＸ）の化合物

【化19】

（式中、Ｚが、上で定義した通りであり、
Ｒ^４及びＲ^５が、独立して、Ｈ、又は１～２０個の炭素原子を含む置換若しくは非置換の有機基であるか、又は、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^４及びＲ^５が環を形成する）を得ることと、
前記式（Ｖ）の化合物と、前記式（ＩＸ）の化合物とを、第１０族遷移金属触媒、第３の塩基、及び水の存在下で反応させて、前記式（ＶＩ）の化合物を得ることと、を含む、プロセス。

【請求項17】

式（ＶＩ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体を調製するためのプロセスであって、

【化20】

式（Ｉ）の化合物

【化21】

【化22】

酸触媒の存在下で反応させて、式（ＩＩＩ）の化合物

【化23】

【化24】

式（ＶＩＩ）の化合物と、

【化25】

【化26】

【化27】

（式中、Ｚが、上で定義した通りであり、
Ｒ^４及びＲ^５が、独立して、Ｈ、又は１～２０個の炭素原子を含む置換若しくは非置換の有機基であるか、又は、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^４及びＲ^５が環を形成する）を得ることと、
式（Ｖ）の化合物

【化28】

（式中、Ｒ^２が、置換又は非置換のＣ_１～２０直鎖又はＣ_３～２０分枝鎖アルキル基である）と、
前記式（ＩＸ）の化合物とを、第１０族遷移金属触媒、第３の塩基、及び水の存在下で反応させて、前記式（ＶＩ）の化合物を得ることと、を含み、
前記式（Ｖ）の化合物が、前記式（ＩＸ）の化合物、前記第１０族遷移金属触媒、前記第３の塩基及び水の存在下で、前記式（ＩＶ）の化合物、又はその塩と、式Ｒ^２Ｏ（ＣＯ）ＯＲ^２の炭酸ジアルキル（式中、各Ｒ^２が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖又はＣ_３～２０分枝鎖アルキル基である）とを反応させることによって系中で調製される、プロセス。

【請求項18】

前記式（ＩＩＩ）の化合物が、

【化29】

である、請求項７～１０、１６若しくは１７、又は請求項７に従属するときの請求項１１～１５のいずれか一項のプロセス。

【請求項19】

前記式（Ｖ）の化合物が、

【化30】

である、請求項１～１８のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項20】

前記式（ＩＸ）の化合物が、

【化31】

である、請求項１～１９のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項21】

前記式（Ｖ）の化合物と前記式（ＩＸ）の化合物との反応が、ルイス酸の存在下で行われる、請求項１～２０のいずれか１項に記載のプロセス。

【請求項22】

式（ＩＩＩ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体であって

【化32】

式中、Ｒ^１が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基である、化合物、又はその塩若しくは誘導体。

【請求項23】

式（Ｖ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体であって

【化33】

式中、Ｒ^２が、置換又は非置換のＣ_１～２０直鎖又はＣ_３～２０分枝鎖アルキル基である、化合物、又はその塩若しくは誘導体。

【請求項24】

式（ＩＸ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体であって、

【化34】

式中、Ｚが、－ＳＯ_２Ｒ’’又は－ＣＯ_２Ｒ^３であり、
Ｒ’’が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基であり、
Ｒ^３が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基であり、
Ｒ^４及びＲ^５が、独立して、Ｈ、又は１～２０個の炭素原子を含む置換若しくは非置換の有機基であるか、又は、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^４及びＲ^５が環を形成し、
但し、Ｚがトシルではない、化合物、又はその塩若しくは誘導体。

【請求項25】

請求項２２～２４のいずれか一項に記載の化合物を含む、医薬組成物。

【請求項26】

医薬として使用するための、請求項２２～２４のいずれか一項に記載の化合物、又は請求項２５に記載の組成物。

【請求項27】

がんの治療において使用するための、請求項２２～２４のいずれか一項に記載の化合物、又は請求項２５に記載の組成物であって、好ましくは、前記がんが、腱滑膜巨細胞腫瘍（ＴＧＣＴ）である、化合物、又は組成物。

【請求項28】

がんの治療のための医薬の製造のための、請求項２２～２４のいずれか一項に記載の化合物、又は請求項２５に記載の組成物であって、好ましくは、前記がんが、腱滑膜巨細胞腫瘍（ＴＧＣＴ）である、化合物、又は組成物。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ペキシダルチニブ、又はその塩若しくは誘導体を調製するための新規プロセス、及びその合成中に作製される中間体に関する。

【背景技術】

【0002】

ペキシダルチニブ（以下に示す）は、腱滑膜巨細胞腫瘍（tenosynovial giant cell tumor、ＴＧＣＴ）を治療するために使用されるキナーゼ阻害剤薬物である。

【0003】

【化1】

【0004】

ペキシダルチニブへの合成経路は、例えば国際公開第２０１６／１７９４１２号、国際公開第２００８／０６３８８８号、及び中国特許第１１０１５６７７５号に記載されている。国際公開第２０１６／１７９４１２号には、ペキシダルチニブの調製のための多段階プロセスが記載されている。このプロセスは、２－［（ジ－ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル）アミノ］－５－ホルミルピリジン中間体の調製を伴い、その工程は収率が低く、かつ／又は毒性及び／又は高価な試薬の使用を必要とする。合成におけるその後の工程はまた、化学量論量を超える毒性及び腐食性試薬（例えば、トリフルオロ酢酸及びトリエチルシラン）の使用を伴う。加えて、トリエチルシランは、きわめて自然発火性である。同様の欠点が、国際公開第２００８／０６３８８８号及び中国特許第１１０１５６７７５号に記載されているプロセスにおいて生じる。

【0005】

したがって、高価及び／又は有毒かつ腐食性の試薬の必要性を回避し、より穏やかな条件の使用を可能にする、ペキシダルチニブの調製のための新規プロセスを提供する必要性が存在する。これに沿って、この重要な医薬化合物へのより環境に優しい経路を達成することも望まれている。

【発明の概要】

【0006】

第１の態様から見ると、本発明は、式（ＶＩ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体を調製するためのプロセスであって、

【0007】

【化2】

式（Ｖ）の化合物

【0008】

【化3】

（式中、Ｒ^２が、置換又は非置換のＣ_１～２０直鎖又はＣ_３～２０分枝鎖アルキル基である）と、
式（ＩＸ）の化合物

【0009】

【化4】

（式中、
Ｚが、－ＳＯ_２Ｒ’’又は－ＣＯ_２Ｒ^３であり、
Ｒ’’が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基であり、
Ｒ^３が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基であり、
Ｒ^４及びＲ^５が、独立して、Ｈ、又は１～２０個の炭素原子を含む置換若しくは非置換の有機基であるか、又は、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^４及びＲ^５が環を形成する）とを、
第１０族遷移金属触媒、塩基、及び水の存在下で反応させて、上述の式（ＶＩ）の化合物を得ることを含む、プロセスを提供する。

【0010】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）の化合物は、上述の式（ＩＸ）の化合物、上述の第１０族遷移金属触媒、上述の塩基及び上述の水の存在下で、式（ＩＶ）の化合物、又はその塩と

【0011】

【化5】

式Ｒ^２Ｏ（ＣＯ）ＯＲ^２の炭酸ジアルキル（式中、各Ｒ^２が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖又はＣ_３～２０分枝鎖アルキル基である）とを反応させることによって系中で調製される。

【0012】

本発明の代替的な好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）の化合物は、式（ＩＶ）の化合物、又はその塩と、

【0013】

【化6】

式Ｒ^２Ｏ（ＣＯ）ＯＲ^２の炭酸ジアルキル（式中、各Ｒ^２が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖又はＣ_３～２０分枝鎖アルキル基である）とを、塩基存在下で反応させることによって調製される。

【0014】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＶ）の化合物は、式（ＩＩＩ）の化合物

【0015】

【化7】

（式中、Ｒ^１が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基である）を、
第８族遷移金属触媒及び塩基の存在下で、水素で還元することによって調製される。

【0016】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＩＩ）の化合物は、式（Ｉ）の化合物

【0017】

【化8】

（式中、Ｒ^１が、上で定義した通りである）と、
式（ＩＩ）の化合物とを、

【0018】

【化9】

酸触媒の存在下で反応させることによって調製される。

【0019】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＸ）の化合物は、式（ＶＩＩＩ）の化合物

【0020】

【化10】

【0021】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＶＩＩＩ）の化合物は、式（ＶＩＩ）の化合物と、

【0022】

【化11】

式Ｒ’’ＳＯ_２Ｘ^ａのハロゲン化スルホニル（式中、Ｘ^ａが、ハロゲン化物であり、Ｒ’’が、上記で定義した通りである）又は式（Ｒ^３Ｏ（ＣＯ））_２Ｏの化合物（式中、Ｒ^３が、上記で定義した通りである）とを反応させることによって調製される。

【0023】

したがって、更なる態様から見ると、本発明は、式（ＶＩ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体を調製するためのプロセスであって、

【0024】

【化12】

式（Ｉ）の化合物

【0025】

【化13】

【0026】

【化14】

酸触媒の存在下で反応させて、式（ＩＩＩ）の化合物

【0027】

【化15】

（式中、Ｒ^１が、上で定義した通りである）を得ることと、
上述の式（ＩＩＩ）の化合物を、第８族遷移金属触媒及び第１の塩基の存在下で、水素で還元して、式（ＩＶ）の化合物を得ることと

【0028】

【化16】

上述の式（ＩＶ）の化合物、又はその塩と、式Ｒ^２Ｏ（ＣＯ）ＯＲ^２の炭酸ジアルキル（式中、各Ｒ^２が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖又はＣ_３～２０分枝鎖アルキル基である）とを第２の塩基存在下で反応させ、式（Ｖ）の化合物

【0029】

【化17】

（式中、Ｒ^２が、上で定義した通りである）を得ることと、
式（ＶＩＩ）の化合物と、

【0030】

【化18】

【0031】

【化19】

（式中、Ｚが、－ＳＯ_２Ｒ’’又は－ＣＯ_２Ｒ^３であり、
Ｒ’’及びＲ^３が、上で定義した通りである）を得ることと、
上述の式（ＶＩＩＩ）の化合物と、ホウ素化剤とを、第９族遷移金属触媒の存在下で反応させ、式（ＩＸ）の化合物

【0032】

【化20】

（式中、Ｚが、上で定義した通りであり、
Ｒ^４及びＲ^５が、独立して、Ｈ、又は１～２０個の炭素原子を含む置換若しくは非置換の有機基であるか、又は、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^４及びＲ^５が環を形成する）を得ることと、
上述の式（Ｖ）の化合物と、上述の式（ＩＸ）の化合物とを、第１０族遷移金属触媒、第３の塩基、及び水の存在下で反応させて、上述の式（ＶＩ）の化合物を得ることと、を含む、プロセスを提供する。

【0033】

更なる態様から見ると、本発明は、式（ＶＩ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体を調製するためのプロセスであって、

【0034】

【化21】

式（Ｉ）の化合物

【0035】

【化22】

【0036】

【化23】

酸触媒の存在下で反応させて、式（ＩＩＩ）の化合物

【0037】

【化24】

【0038】

【化25】

式（ＶＩＩ）の化合物と

【0039】

【化26】

【0040】

【化27】

【0041】

【化28】

【0042】

【化29】

（式中、Ｒ^２が、置換又は非置換のＣ_１～２０直鎖又はＣ_３～２０分枝鎖アルキル基である）と、
上述の式（ＩＸ）の化合物とを、第１０族遷移金属触媒、第３の塩基、及び水の存在下で反応させて、上述の式（ＶＩ）の化合物を得ることと、を含み、
上述の式（Ｖ）の化合物が、式（ＩＸ）の化合物、第１０族遷移金属触媒、第３の塩基及び水の存在下で、上述の式（ＩＶ）の化合物、又はその塩と、式Ｒ^２Ｏ（ＣＯ）ＯＲ^２の炭酸ジアルキル（式中、各Ｒ^２が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖又はＣ_３～２０分枝鎖アルキル基である）とを反応させることによって系中で調製される、プロセスを提供する。

【0043】

更なる態様から見ると、本発明は、式（ＩＩＩ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体であって

【0044】

【化30】

式中、Ｒ^１が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基である、化合物、又はその塩若しくは誘導体を提供する。

【0045】

更なる態様から見ると、本発明は、式（Ｖ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体であって

【0046】

【化31】

式中、Ｒ^２が、置換又は非置換のＣ_１～２０直鎖又はＣ_３～２０分枝鎖アルキル基である、化合物、又はその塩若しくは誘導体を提供する。

【0047】

更なる態様から見ると、本発明は、式（ＩＸ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体であって

【0048】

【化32】

Ｚが、－ＳＯ_２Ｒ’’又は－ＣＯ_２Ｒ^３であり、
Ｒ’’が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基であり、
Ｒ^３が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基であり、
Ｒ^４及びＲ^５が、独立して、Ｈ、又は１～２０個の炭素原子を含む置換若しくは非置換の有機基であるか、又は、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^４及びＲ^５が環を形成し、
但し、Ｚがトシルではない、化合物、又はその塩若しくは誘導体を提供する。

【0049】

更なる態様から見ると、本発明は、本明細書で先に記載した化合物を含む医薬組成物を提供する。

【0050】

更なる態様から見ると、本発明はまた、医薬として使用するための本明細書で先に記載した化合物及び組成物を提供する。

【0051】

更なる態様から見ると、本発明はまた、がんの治療において使用するための、本明細書で先に記載した化合物及び組成物であって、好ましくは、がんが、腱滑膜巨細胞腫瘍（ＴＧＣＴ）である、化合物及び組成物を提供する。

【0052】

更なる態様から見ると、本発明はまた、がんの治療のための医薬の製造のための、本明細書で先に記載した化合物及び組成物の使用であって、好ましくは、がんが、腱滑膜巨細胞腫瘍（ＴＧＣＴ）である、使用を提供する。

【0053】

定義
部分又は置換基の結合点は、「－」によって表される。例えば、－ＯＨは、酸素原子を介して結合される。

【0054】

本明細書で使用される場合、「アルキル」という用語は、直鎖又は分枝鎖飽和炭化水素基を指す。特定の実施形態において、アルキル基は、１～２０個の炭素原子、特定の実施形態において、１～１５個の炭素原子、特定の実施形態において、１～８個の炭素原子を有し得る。アルキル基は、非置換であり得る。代替的に、アルキル基は、置換され得る。別途指定されない限り、アルキル基は、任意の好適な炭素原子において結合され得、置換される場合、任意の好適な原子において置換され得る。典型的なアルキル基としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｎ－ペンチル、ｎ－ヘキシルなどが挙げられるが、これらに限定されない。

【0055】

本明細書で使用される場合、「シクロアルキル」という用語は、飽和炭素環式炭化水素基を指す。シクロアルキル基は、単一の環又は複数の縮合環を有し得る。特定の実施形態において、シクロアルキル基は、３～１５個の炭素原子、特定の実施形態において、３～１０個の炭素原子、特定の実施形態において、３～８個の炭素原子を有し得る。シクロアルキル基は、非置換であり得る。代替的に、シクロアルキル基は、置換され得る。別途指定されない限り、シクロアルキル基は、任意の好適な炭素原子において結合され得、置換される場合、任意の好適な原子において置換され得る。典型的なシクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられるが、これらに限定されない。

【0056】

本明細書で使用される場合、「アルケニル」という用語は、少なくとも１つの炭素－炭素二重結合を含む直鎖又は分枝鎖の不飽和炭化水素基を指す。

【0057】

本明細書で使用される場合、「アリール」という用語は、芳香族炭素環式基を指す。アリール基は、単一の環又は複数の縮合環を有し得る。特定の実施形態において、アリール基は、６～２０個の炭素原子、特定の実施形態において、６～１５個の炭素原子、特定の実施形態において、６～１２個の炭素原子を有し得る。アリール基は、非置換であり得る。代替的に、アリール基は、置換され得る。別途指定されない限り、アリール基は、任意の好適な炭素原子において結合され得、置換される場合、任意の好適な原子において置換され得る。アリール基の例としては、フェニル、ナフチル、アントラセニルなどが挙げられるが、これらに限定されない。

【0058】

本明細書で使用される場合、「アルコキシ」という用語は、式アルキル－Ｏ－又はシクロアルキル－Ｏ－（式中、アルキル及びシクロアルキルは、上記で定義されたとおりである）の任意選択的に置換された基を指す。

【0059】

本明細書で使用される場合、「アリールアルキル」という用語は、式アリール－アルキル－（式中、アリール及びアルキルは、上に定義したとおりである）の任意選択的に置換された基を指す。

【0060】

本明細書で使用される場合、「ヘテロアルキル」という用語は、１つ以上の炭素原子が１つ以上のヘテロ原子（例えば、窒素、酸素、リン及び／又は硫黄原子）で独立して置き換えられた直鎖又は分枝鎖飽和炭化水素基を指す。ヘテロアルキル基は、非置換であり得る。代替的に、ヘテロアルキル基は、置換され得る。別途指定されない限り、ヘテロアルキル基は、任意の好適な原子において結合され得、置換される場合、任意の好適な原子において置換され得る。ヘテロアルキル基の例としては、エーテル、チオエーテル、第一級アミン、第二級アミン、第三級アミンなどが挙げられるが、これらに限定されない。

【0061】

本明細書で使用される場合、「ヘテロシクロアルキル」という用語は、１つ以上の炭素原子が１つ以上のヘテロ原子（例えば、窒素、酸素、リン及び／又は硫黄原子）で独立して置き換えられた飽和環状炭化水素基を指す。ヘテロシクロアルキル基は、非置換であり得る。代替的に、ヘテロシクロアルキル基は、置換され得る。別途指定されない限り、ヘテロシクロアルキル基は、任意の好適な原子において結合され得、置換される場合、任意の好適な原子において置換され得る。ヘテロシクロアルキル基の例としては、エポキシド、モルホリニル、ピペラジニル（piperadinyl）、ピペラジニル（piperazinyl）、チラニル、ピロリジニル、ピラゾリジニル、イミダゾリジニル、チアゾリジニル、チオモルホリニルなどが挙げられるが、これらに限定されない。

【0062】

本明細書で使用される場合、「ヘテロアリール」という用語は、１つ以上の炭素原子が１つ以上のヘテロ原子（例えば、窒素、酸素、リン及び／又は硫黄原子）で独立して置き換えられた芳香族炭素環式基を指す。ヘテロアリール基は、非置換であり得る。代替的に、ヘテロアリール基は、置換され得る。別途指定されない限り、ヘテロアリール基は、任意の好適な原子において結合され得、置換される場合、任意の好適な原子において置換され得る。ヘテロアリール基の例としては、チエニル、フラニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、トリアゾリル、チアジアゾリル、チオフェニル、オキサジアゾリル、ピリジニル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリル、キノリニルなどが挙げられるが、これらに限定されない。

【0063】

本明細書で使用される場合、「置換」という用語は、１つ以上の水素原子が各々、同じ又は異なり得る置換基（例えば、１、２、３、４、５つ、又はそれより多く）で独立して置き換えられた基を指す。置換基の例としては、－ハロ、－Ｃ（ハロ）_３、－Ｒ^ａ、＝Ｏ、＝Ｓ、－Ｏ－Ｒ^ａ、－Ｓ－Ｒ^ａ、－ＮＲ^ａＲ^ｂ、－ＣＮ、－ＮＯ_２、－Ｃ（Ｏ）－Ｒ^ａ、－ＣＯＯＲ^ａ、－Ｃ（Ｓ）－Ｒ^ａ、－Ｃ（Ｓ）ＯＲ^ａ、－Ｓ（Ｏ）_２ＯＨ、－Ｓ（Ｏ）_２－Ｒ^ａ、－Ｓ（Ｏ）_２ＮＲ^ａＲ^ｂ、－Ｏ－Ｓ（Ｏ）－Ｒ^ａ及び－ＣＯＮＲ^ａＲ^ｂ、例えば、ハロ、－Ｃ（ハロ）_３（例えば、－ＣＦ_３）、－Ｒ^ａ、－Ｏ－Ｒ^ａ、－ＮＲ^ａＲ^ｂ、－ＰＲ^ａＲ^ｂＲ^ｃ、－ＣＮ、又は－ＮＯ_２が挙げられるが、これらに限定されない。Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃは、Ｈ、アルキル、アリール、アリールアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロアリールからなる群から独立して選択されるか、又は、Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、それらが結合している原子と一緒になって、ヘテロシクロアルキル基を形成する。Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃは、本明細書で定義されるように、非置換であり得るか、又は更に置換され得る。

【0064】

本明細書で使用される場合、「カップリング」という用語は、２つの分子又は分子の一部が一緒に接続する化学反応を指す（ＯｘｆｏｒｄＤｉｃｔｉｏｎａｒｙｏｆＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，ＳｉｘｔｈＥｄｉｔｉｏｎ，２００８）。

【0065】

本明細書で使用される場合、「ハロ」、又は「ｈａｌ」という用語は、－Ｆ、－Ｃｌ、－Ｂｒ、及び－Ｉを指す。

【0066】

本明細書で使用される場合、「Ｒｕ－ＳＮＳ」という用語は、ジクロロトリフェニルホスフィン［ビス（２－（エチルチオ）エチル）アミン］ルテニウム（ＩＩ）を指す。

【0067】

本明細書で使用される場合、「ｄｉｐｐｆ」という用語は、１，１’－ビス（ジイソプロピルホスフィノ）フェロセンを指す。

【0068】

本明細書で使用される場合、「Ｂｐｉｎ」という用語は、（ピナコラト）ホウ素を指す。

【0069】

本明細書で使用される場合、「ＨＢｐｉｎ」という用語は、ピナコールボランを指す。

【0070】

本明細書で使用される場合、「Ｂ_２ｐｉｎ_２」という用語は、ビス（ピナコラト）二ホウ素を指す。

【0071】

本明細書で使用される場合、「Ｂｃａｔ」という用語は、（カテコラト）ホウ素を指す。

【0072】

本明細書で使用される場合、「ＨＢｃａｔ」という用語は、カテコールボランを指す。

【0073】

本明細書で使用される場合、「ＤＡＢＣＯ」という用語は、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンを指す。

【0074】

本明細書で使用される場合、「ＤＭＡＰ」という用語は、４－ジメチルアミノピリジンを指す。

【0075】

本明細書で使用される場合、「ＤＢＵ」という用語は、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エンを指す。

【0076】

本明細書で使用される場合、「ＣＯＤ」という用語は、シクロオクタジエンを指す。

【0077】

本明細書で使用される場合、「室温」という用語は、１５～３５℃の範囲の温度を指す。

【0078】

本明細書で使用される場合、「第８族遷移金属」という用語は、周期表の第８族の遷移金属を指す。

【0079】

本明細書で使用される場合、「第９族遷移金属」という用語は、周期表の第９族の遷移金属を指す。

【0080】

本明細書で使用される場合、「第１０族遷移金属」という用語は、周期表の第１０族の遷移金属を指す。

【発明を実施するための形態】

【0081】

これより、本発明の好ましいかつ／又は任意選択的な特徴が、記載される。本発明のいずれの態様も、文脈による別途の要求がない限り、本発明のいずれの他の態様とも組み合わせることができる。本発明のいずれの態様の好ましい又は任意選択的な特徴のいずれも、文脈による別途の要求がない限り、本発明のいずれの態様とも、単一又は組み合わせで、組み合わせることができる。

【0082】

本発明は、ペキシダルチニブ、又はその塩若しくは誘導体を調製するためのプロセスを提供する。本プロセスは、低コストであり、かつ容易に入手可能な出発剤量の使用を伴い、既知のプロセスと比較して、全工程数が少ない。加えて、本発明のプロセスの工程は、毒性及び／若しくは腐食性試薬の使用を最小限に抑えるか、又はそれらを完全に回避する。

【0083】

本発明は、式（ＶＩ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体を調製するためのプロセスであって、

【0084】

【化33】

式（Ｖ）の化合物

【0085】

【化34】

（式中、Ｒ^２が、置換又は非置換のＣ_１～２０直鎖又はＣ_３～２０分枝鎖アルキル基である）と、
式（ＩＸ）の化合物

【0086】

【化35】

（式中、
Ｚが、－ＳＯ_２Ｒ’’又は－ＣＯ_２Ｒ^３であり、
Ｒ’’が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基であり、
Ｒ^３が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基であり、
Ｒ^４及びＲ^５が、独立して、Ｈ、又は１～２０個の炭素原子を含む置換若しくは非置換の有機基であるか、又は、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^４及びＲ^５が環を形成する）とを、
第１０族遷移金属触媒、塩基、及び水の存在下で反応させて、式（ＶＩ）の化合物を得ることを含む、プロセスに関する。

【0087】

本発明のプロセスは、第１０族遷移金属触媒を用いる。より好ましくは、第１０族遷移金属触媒は、ニッケル触媒、パラジウム触媒又は白金触媒である。より好ましくは、第１０族遷移金属触媒は、パラジウム触媒又は白金触媒である。最も好ましくは、第１０族遷移金属触媒は、パラジウム触媒である。

【0088】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第１０族遷移金属触媒は、式（Ａ）の触媒
［Ｍ^ａ（Ｘ^ｂ）_２（Ｌ）_ｍ］（Ａ）
であり、式中、
Ｍ^ａが、第１０族遷移金属、好ましくはパラジウムであり、
Ｘ^ｂが、アニオン性配位子であり、
Ｌが、単座リン配位子又は二座リン配位子であり、
ｍが、１又は２であり、
ｍが１である場合、Ｌは二座リン配位子であり、
ｍが２である場合、各Ｌは単座リン配位子である。

【0089】

式（Ａ）の好ましい第１０族遷移金属触媒において、Ｘ^ｂは、ハロ基、例えば、－Ｃｌ、－Ｂｒ、及び－Ｉ、又はトリフルオロアセテート（すなわち、Ｆ_３ＣＣＯ_２ ^－）である。好ましくは、Ｘ^ｂは、－Ｃｌである。

【0090】

式（Ａ）の第１０族遷移金属触媒において、Ｌは、単座リン配位子、又は二座リン配位子である。Ｍ^ａ原子と配位子－金属相互作用を形成することができる任意の適切なリン化合物を使用することができる。配位子において、各リン原子は、３個の炭素原子（第三級ホスフィン）、又はｘ個のヘテロ原子及び３－ｘ個の炭素原子（ｘ＝１、２若しくは３）のいずれかに共有結合している。好ましくは、ヘテロ原子は、Ｎ及びＯからなる群から選択される。

【0091】

リン配位子Ｌは、単座配位子、例えばＰＰｈ_３、又は二座配位子であってもよい。

【0092】

リン配位子Ｌは、キラル又はアキラルであってもよい。

【0093】

リン配位子Ｌは、置換又は非置換であり得る。

【0094】

本発明において使用することができるリン配位子Ｌとしては、以下の構造型が挙げられるが、これらに限定されない。

【0095】

【化36】

【0096】

【化37】

【0097】

上の構造において、－ＰＲ_２は、アルキルが好ましくはＣ_１～Ｃ_１０アルキルである－Ｐ（ａｌｋｙｌ）_２、アリールがフェニル及びナフチルを含み、置換若しくは非置換であり得る－Ｐ（ａｒｙｌ）_２、又は上に定義するようなアルキル及びアリールを有する－Ｐ（Ｏ－アルキル）_２及び－Ｐ（Ｏ－アリール）_２であってもよい。－ＰＲ_２はまた、置換又は非置換の－Ｐ（ヘテロアリール）_２であってもよく、ヘテロアリールは、フラニル（例えば、２－フラニル又は３－フラニル）を含む。－ＰＲ_２は、好ましくは、アリールがフェニル、トリル、キシリル若しくはアニシルを含む－Ｐ（アリール）_２、又は－Ｐ（Ｏ－アリール）_２のいずれかである。－ＰＲ_２が－Ｐ（Ｏ－アリール）_２である場合、最も好ましいＯ－アリール基は、キラル又は非キラル置換１，１’－ビフェノール及び１，１’－ビナフトールに基づくものである。あるいは、Ｐ原子上のＲ基は、環状構造の一部として連結していてもよい。

【0098】

置換基は、リン配位子中のアルキル又はアリール置換基上に存在してもよい。そのような置換基は、典型的には、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ－プロピル、及びｔｅｒｔ－ブチルなどの分枝鎖又は直鎖のＣ_１～６アルキル基である。

【0099】

上に示したこれらのリン配位子は、一般に市販されており、それらの調製は公知である。

【0100】

好ましい二座リン配位子Ｌには、Ｂｉｎａｐ配位子、ＰＰｈｏｓ配位子、ＰｈａｎｅＰｈｏｓ配位子、Ｊｏｓｉｐｈｏｓ配位子及びＢｏｐｈｏｚ配位子、好ましくはＢｉｎａｐ配位子が挙げられる。

【0101】

好ましい二座リン配位子Ｌはまた、式Ｒ^６Ｒ^７Ｐ（ＣＨ_２）_ｎＰＲ^８Ｒ^９の配位子であり、式中、ｎが、１～１０、好ましくは２～６（例えば、３又は４）から選択される整数であり、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９が、独立して、非置換Ｃ_１～２０－アルキル、置換Ｃ_１～２０－アルキル、非置換Ｃ_３～２０－シクロアルキル、置換Ｃ_３～２０－シクロアルキル、非置換Ｃ_１～２０－アルコキシ、置換Ｃ_１～２０－アルコキシ、非置換Ｃ_６～２０－アリール、置換Ｃ_６～２０－アリール、非置換Ｃ_１～２０－ヘテロアルキル、置換Ｃ_１～２０－ヘテロアルキル、非置換Ｃ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換Ｃ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、非置換Ｃ_４～２０－ヘテロアリール、及び置換Ｃ_４～２０－ヘテロアリールからなる群から選択され得る。Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９は、独立して、置換又は非置換の分枝鎖又は直鎖のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｉｓｏ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル若しくはステアリル）、シクロアルキル基（例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル若しくはアダマンチル）、又はアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、又はアントラシル）であってもよい。一実施形態において、アルキル基は、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ）又はアルコキシ基、例えばメトキシ、エトキシ若しくはプロポキシなどの１つ以上の置換基で任意選択的に置換されていてもよい。アリール基は、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ）、直鎖若しくは分枝鎖Ｃ_１～Ｃ_１０－アルキル（例えば、メチル）、Ｃ_１～Ｃ_１０アルコキシ、直鎖若しくは分枝鎖Ｃ_１～Ｃ_１０－（ジアルキル）アミノ、Ｃ_３～１０ヘテロシクロアルキル基（例えば、モルホリニル及びピペラジニル）、又はトリ（ハロ）メチル（例えば、Ｆ_３Ｃ－）などの１つ以上（例えば、１、２、３、４つ、又は５つ）の置換基で、任意選択的に置換されてもよい。ピリジルなどの置換又は非置換のヘテロアリール基も使用することができる。代替的な実施形態において、Ｒ^６及びＲ^７並びに／又はＲ^８及びＲ^９は、連結してリン原子と共に環構造、好ましくは４～７員環を形成してもよい。好ましくは、二座リン配位子は、ｄｐｐｍ（１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）メタン）、ｄｐｐｅ（１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン）、ｄｐｐｐ（１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン）、ｄｐｐｂ（１，４－ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン）、１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタン、及び１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）ヘキサンから選択され、より好ましくはｄｐｐｐ及びｄｐｐｂである。

【0102】

好ましい二座リン配位子Ｌはまた、式（Ａ１）の配位子であり

【0103】

【化38】

式中、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、及びＲ^１３が、非置換Ｃ_１～２０－アルキル、置換Ｃ_１～２０－アルキル、非置換Ｃ_３～２０－シクロアルキル、置換Ｃ_３～２０－シクロアルキル、非置換Ｃ_１～２０－アルコキシ、置換Ｃ_１～２０－アルコキシ、非置換Ｃ_６～２０－アリール、置換Ｃ_６～２０－アリール、非置換Ｃ_１～２０－ヘテロアルキル、置換Ｃ_１～２０－ヘテロアルキル、非置換Ｃ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換Ｃ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、非置換Ｃ_４～２０－ヘテロアリール及び置換Ｃ_４～２０－ヘテロアリールからなる群から独立して選択され得る。Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、及びＲ^１３は、独立して、置換又は非置換の分枝鎖又は直鎖のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｉｓｏ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル若しくはステアリル）、シクロアルキル基（例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル若しくはアダマンチル）、又はアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、又はアントラシル）であってもよい。一実施形態において、アルキル基は、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ）又はアルコキシ基、例えばメトキシ、エトキシ若しくはプロポキシなどの１つ以上の置換基で任意選択的に置換されていてもよい。アリール基は、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ）、直鎖若しくは分枝鎖Ｃ_１～Ｃ_１０－アルキル（例えば、メチル）、Ｃ_１～Ｃ_１０アルコキシ、直鎖若しくは分枝鎖Ｃ_１～Ｃ_１０－（ジアルキル）アミノ、Ｃ_３～１０ヘテロシクロアルキル基（例えば、モルホリニル及びピペラジニル）、又はトリ（ハロ）メチル（例えば、Ｆ_３Ｃ－）などの１つ以上（例えば、１、２、３、４つ、又は５つ）の置換基で、任意選択的に置換されてもよい。ピリジルなどの置換又は非置換のヘテロアリール基も使用することができる。好ましくは、二座配位子は、ｄｐｐｆ（１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノフェロセン）、ｄｉｐｐｆ（１，１’－ビス（ジ－イソプロピルホスフィノ）フェロセン）、ｄＣｙＰｆｃ（１，１’－ビス（ジ－シクロヘキシルホスフィノ）フェロセン）及びｄｔｂｐｆ（１，１’－ビス（ジ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィノ）フェロセン）から選択され、より好ましくはｄｉｐｐｆ及びｄＣｙＰｆｃである。

【0104】

好ましい単座リン配位子Ｌは、式ＰＲ^１４Ｒ^１５Ｒ^１６の第三級ホスフィン配位子である。Ｒ^１４、Ｒ^１５及びＲ^１６は、非置換Ｃ_１～２０－アルキル、置換Ｃ_１～２０－アルキル、非置換Ｃ_３～２０－シクロアルキル、置換Ｃ_３～２０－シクロアルキル、非置換Ｃ_１～２０－アルコキシ、置換Ｃ_１～２０－アルコキシ、非置換Ｃ_６～２０－アリール、置換Ｃ_６～２０－アリール、非置換Ｃ_１～２０－ヘテロアルキル、置換Ｃ_１～２０－ヘテロアルキル、非置換Ｃ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換Ｃ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、非置換Ｃ_４～２０－ヘテロアリール及び置換Ｃ_４～２０－ヘテロアリールからなる群から独立して選択され得る。Ｒ^１４、Ｒ^１５及びＲ^１６は、独立して、置換又は非置換の分枝鎖又は直鎖のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｉｓｏ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル若しくはステアリル）、シクロアルキル基（例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル若しくはアダマンチル）、又はアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、又はアントラシル）であってもよい。一実施形態において、アルキル基は、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ）又はアルコキシ基、例えばメトキシ、エトキシ若しくはプロポキシなどの１つ以上の置換基で任意選択的に置換されていてもよい。アリール基は、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ）、直鎖若しくは分枝鎖Ｃ_１～Ｃ_１０－アルキル（例えば、メチル）、Ｃ_１～Ｃ_１０アルコキシ、直鎖若しくは分枝鎖Ｃ_１～Ｃ_１０－（ジアルキル）アミノ、Ｃ_３～１０ヘテロシクロアルキル基（例えば、モルホリニル及びピペラジニル）、又はトリ（ハロ）メチル（例えば、Ｆ_３Ｃ－）などの１つ以上（例えば、１、２、３、４つ、又は５つ）の置換基で、任意選択的に置換されてもよい。ピリジルなどの置換又は非置換のヘテロアリール基も使用することができる。代替的な実施形態において、Ｒ^１４、Ｒ^１５及びＲ^１６のうちのいずれか２つは、連結してリン原子と共に環構造、好ましくは４～７員環を形成してもよい。好ましくは、Ｒ^１４、Ｒ^１５及びＲ^１６は同じであり、フェニルであり、すなわち、ＰＲ^１４Ｒ^１５Ｒ^１６は、トリフェニルホスフィンである。あるいは、Ｒ^１４、Ｒ^１５及びＲ^１６は同じであってもよく、トリルであり、すなわち、ＰＲ^１４Ｒ^１５Ｒ^１６は、トリトリルホスフィン（例えば、オルト－、メタ－、又はパラ－トリトリルホスフィン）である。あるいは、Ｒ^１４、Ｒ^１５及びＲ^１６は同じであり、シクロヘキシルであり、すなわち、ＰＲ^１４Ｒ^１５Ｒ^１６は、トリシクロヘキシルホスフィンである。あるいは、Ｒ^１４、Ｒ^１５及びＲ^１６は同じであり、ｔｅｒｔ－ブチルであり、すなわち、ＰＲ^１４Ｒ^１５Ｒ^１６は、トリ（ｔｅｒｔ－ブチル）ホスフィンである。

【0105】

好ましいリン配位子Ｌは、ＰＰｈ_３、トリトリルホスフィン、ＰＣｙ_３（トリシクロヘキシルホスフィン）、Ｐ^ｔＢｕ_３、ｄｐｐｍ（１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）メタン）、ｄｐｐｅ（１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン）、ｄｐｐｐ（１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン）、ｄｐｐｂ（１，４－ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン）、１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタン、１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）ヘキサン、ｄｐｐｆ（１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン）、ｄｉｐｐｆ（１，１’－ビス（ジ－イソプロピルホスフィノ）フェロセン）、ｄＣｙＰｆｃ（１，１’－ビス（ジ－シクロヘキシルホスフィノ）フェロセン及びｄｔｂｐｆ（１，１’－ビス（ジ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィノ）フェロセン）からなる群から選択される。

【0106】

特に好ましいリン配位子Ｌは、ｄｐｐｐ、ｄｐｐｂ、ｄｐｐｆ、ｄｉｐｐｆ、ｄｔｂｐｆ及びｄＣｙＰｆｃ、より好ましくはｄｉｐｐｆ、ｄｔｂｐｆ及びｄＣｙＰｆｃ、更により好ましくはｄｉｐｐｆからなる群から選択される。

【0107】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第１０族遷移金属触媒は、ＰｄＸ^ｂ _２（ｄｐｐｐ）、ＰｄＸ^ｂ _２（ｄｐｐｂ）、ＰｄＸ^ｂ _２（ｄｐｐｆ）、ＰｄＸ^ｂ _２（ｄｉｐｐｆ）、ＰｄＸ^ｂ _２（ｄｔｂｐｆ）及びＰｄＸ^ｂ _２（ｄＣｙＰｆｃ）（Ｘ^ｂは、上に定義した通りである）、より好ましくはＰｄＸ^ｂ _２（ｄｉｐｐｆ）、ＰｄＸ^ｂ _２（ｄｔｂｐｆ）及びＰｄＸ^ｂ _２（ｄＣｙＰｆｃ）、更により好ましくはＰｄＸ^ｂ _２（ｄｉｐｐｆ）から選択される。

【0108】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第１０族遷移金属触媒は、ＰｄＣｌ_２（ｄｐｐｐ）、ＰｄＣｌ_２（ｄｐｐｂ）、ＰｄＣｌ_２（ｄｐｐｆ）、ＰｄＣｌ_２（ｄｉｐｐｆ）、ＰｄＣｌ_２（ｄｔｂｐｆ）及びＰｄＣｌ_２（ｄＣｙＰｆｃ）、より好ましくはＰｄＣｌ_２（ｄｉｐｐｆ）、ＰｄＣｌ_２（ｄｔｂｐｆ）及びＰｄＣｌ_２（ｄＣｙＰｆｃ）、更により好ましくはＰｄＣｌ_２（ｄｉｐｐｆ）から選択される。

【0109】

本発明の代替的な好ましいプロセスにおいて、第１０族遷移金属触媒は、式（Ｂ）の触媒

【0110】

【化39】

であり、式中、
Ｍ’が、第１０族遷移金属、好ましくはパラジウムであり、
Ｘ^１が、アニオン性配位子であり、
Ａｒ^ａが、置換若しくは非置換のアリール基、置換若しくは非置換のヘテロアリール基、又は置換若しくは非置換のキサンテニル基であり、
Ｒ^１７ａ及びＲ^１８ｂが、独立して、１～２０個の炭素原子を有する有機基であるか、又はＲ^１７ａとＲ^１８ａとが連結して、Ｐと共に環構造を形成し、
Ｙ^１及びＹ^２の各々が、水素であるか、又は、それらが結合している原子と一緒になって、Ｙ^１及びＹ^２が芳香族環を形成し、
Ｙ^３が、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基であり、
ｘ及びｚが、０又は１であり、
ｘ及びｚが両方とも１である場合、Ｙ^１及びＹ^２の各々が水素であり、
ｘ及びｚが両方とも０である場合、それらが結合している原子と一緒になって、Ｙ^１及びＹ^２が芳香族環を形成する。

【0111】

式（Ｂ）の第１０族遷移金属触媒において、Ｘ^１は、アニオン性配位子である。Ｘ^１は、配位アニオン性配位子であってもよいし、非配位アニオン性配位子であってもよい。

【0112】

式（Ｂ）の第１０族遷移金属触媒において、Ｘ^１は、好ましくは、ハロ基、例えば、－Ｃｌ、－Ｂｒ、及び－Ｉ、又はメシラート（すなわち、ＭｓＯ^－若しくはＭｅＳＯ_３ ^－）である。より好ましくは、Ｘ^１は、－Ｃｌである。

【0113】

式（Ｂ）の好ましい第１０族遷移金属触媒において、Ｙ^１及びＹ^２の各々は、水素である。この場合、ｘ及びｚは、両方とも１である。

【0114】

式（Ｂ）の代替的な好ましい第１０族遷移金属触媒において、それらが結合している原子と一緒になって、Ｙ^１及びＹ^２は、芳香族環を形成する。この場合、ｘ及びｚは、両方とも０である。好ましくは、芳香族環は、６員芳香族環である。より好ましくは、それらが結合している原子と一緒になって、Ｙ^１及びＹ^２は、ベンゼン環を形成する。

【0115】

式（Ｂ）の第１０族遷移金属触媒において、Ｙ^３は、好ましくは、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～１０直鎖若しくはＣ_３～１０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～１０アリール基である。より好ましくは、Ｙ^３は、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～５直鎖若しくはＣ_３～５分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～１０アリール基である。最も好ましくは、Ｙ^３は、水素、メチル又はフェニルである。

【0116】

式（Ｂ）の第１０族遷移金属触媒において、Ｒ^１７ａ及びＲ^１８ａは、同じであっても異なっていてもよい。一実施形態では、Ｒ^１７ａ及びＲ^１８ａは同じである。別の実施形態では、Ｒ^１７ａ及びＲ^１８ａは異なる。Ｒ^１７ａ及びＲ^１８ａは、安定性及び原子価の規則によって課される制限まで選択される。Ｒ^１７ａ及びＲ^１８ａは、置換及び非置換の直鎖Ｃ_１～２０－アルキル、置換及び非置換の分枝鎖Ｃ_３～２０－アルキル、置換及び非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換及び非置換のＣ_６～２０－アリール、並びに置換及び非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールからなる群から独立して選択されてもよく、ヘテロ原子は、硫黄、窒素及び酸素から独立して選択される。Ｒ^１７ａ及びＲ^１８ａは、独立して、置換又は非置換の分枝鎖又は直鎖のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｉｓｏ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル（例えば、ｎ－ペンチル若しくはネオペンチル）、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル若しくはステアリル）、シクロアルキル基（例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル若しくはアダマンチル）、又はアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、又はアントラシル）であってもよい。一実施形態では、アルキル基は、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ）又はアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ若しくはプロポキシなどのそれぞれが同じであっても異なっていてもよい１つ以上（例えば、１、２、３、４つ、又は５つ）の置換基で、任意選択的に置換されてもよい。アリール基は、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ）、直鎖若しくは分枝鎖のアルキル（例えば、Ｃ_１～Ｃ_１０）、アルコキシ（例えば、Ｃ_１～Ｃ_１０アルコキシ）、直鎖若しくは分枝鎖の（ジアルキル）アミノ（例えば、Ｃ_１～Ｃ_１０ジアルキル）アミノ）、ヘテロシクロアルキル（例えば、Ｃ_３～１０ヘテロシクロアルキル基、例えば、モルホリニル及びピペラジニル）、又はトリ（ハロ）メチル（例えば、Ｆ_３Ｃ－）などのそれぞれが同じであっても異なっていてもよい１つ以上（例えば、１、２、３、４つ、又は５つ）の置換基で、任意選択的に置換されてもよい。好適な置換アリール基としては、４－ジメチルアミノフェニル、４－メチルフェニル、３，５－ジメチルフェニル、４－メトキシフェニル、４－メトキシ－３，５－ジメチルフェニル及び３，５－ジ（トリフルオロメチル）フェニルが挙げられるが、これらに限定されない。ピリジルなどの置換又は非置換のヘテロアリール基も使用することができる。代替的な実施形態において、Ｒ^１７ａ及びＲ^１８ａは、連結してＰと共に環構造、好ましくは４～７員環を形成する。好ましくは、Ｒ^１７ａ及びＲ^１８ａは同じであり、ｔｅｒｔ－ブチル、シクロヘキシル、アダマンチル、フェニル又は置換フェニル基、例えば３，５－ジ（トリフルオロメチル）フェニルである。

【0117】

式（Ｂ）の第１０族遷移金属触媒において、Ａｒ^ａは、置換若しくは非置換のアリール基、置換若しくは非置換のヘテロアリール基、又は置換若しくは非置換のキサンテニル基である。好ましくは、Ａｒ^ａは、置換若しくは非置換のフェニル基、置換若しくは非置換のビフェニル基、置換若しくは非置換のナフチル基、置換若しくは非置換のビナフチル基、置換若しくは非置換のピラゾリル基、置換若しくは非置換のビピラゾリル基、又は置換若しくは非置換のキサンテニル基である。より好ましくは、Ａｒ^ａは、置換若しくは非置換のビフェニル基、置換若しくは非置換のビナフチル基、置換若しくは非置換のビピラゾリル基、又は置換若しくは非置換のキサンテニル基である。更により好ましくは、Ａｒ^ａは、置換若しくは非置換のビフェニル基、置換若しくは非置換のビピラゾリル基、又は置換若しくは非置換のキサンテニル基である。

【0118】

式（Ｂ）の第１０族遷移金属触媒において、ホスフィン配位子－Ｐ（Ｒ^１７ａ）（Ｒ^１８ｂ）Ａｒ^ａは、好ましくは、

【0119】

【化40】

からなる群から選択される。

【0120】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第１０族遷移金属触媒は、

【0121】

【化41】

から選択される。

【0122】

本発明の代替的な好ましいプロセスにおいて、第１０族遷移金属触媒は、式（Ｃａ）の触媒

【0123】

【化42】

であり、式中、
Ｍ^ｂが、第１０族遷移金属、好ましくはパラジウムであり、
Ｘ^ｃが、配位したアニオン性配位子であり、
Ａｒ^ｂが、置換若しくは非置換のアリール基又は置換若しくは非置換のヘテロアリール基であり、
Ｒ^１７ｂ及びＲ^１８ｂが、独立して、１～２０個の炭素原子を有する有機基であるか、又はＲ^１７ｂとＲ^１８ｂとが連結して、Ｐと共に環構造を形成し、
Ｒ^１９ａが、１～２０個の炭素原子を有する有機基であり、
ｐが、０、１、２、３、４又は５である。

【0124】

式（Ｃａ）の第１０族遷移金属触媒において、Ｘ^ｃは、配位したアニオン性配位子であり、すなわち、アニオン性配位子は、配位圏内のＰｄ原子に結合している。Ｘ^ｃは、好ましくはハロ基、例えば－Ｃｌ、－Ｂｒ、及び－Ｉ、又はトリフルオロアセテート（すなわち、Ｆ_３ＣＣＯ_２ ^－）である。より好ましくは、Ｘ^ｃは、－Ｃｌである。

【0125】

式（Ｃａ）の第１０族遷移金属触媒において、Ｒ^１７ｂ及びＲ^１８ｂは、同じであっても異なっていてもよい。一実施形態では、Ｒ^１７ｂ及びＲ^１８ｂは同じである。別の実施形態において、Ｒ^１７ｂ及びＲ^１８ｂは異なる。Ｒ^１７ｂ及びＲ^１８ｂは、安定性及び原子価の規則によって課される制限まで選択される。Ｒ^１７ｂ及びＲ^１８ｂは、置換及び非置換の直鎖Ｃ_１～２０－アルキル、置換及び非置換の分枝鎖Ｃ_３～２０－アルキル、置換及び非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換及び非置換のＣ_６～２０－アリール、並びに置換及び非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールからなる群から独立して選択されてもよく、ヘテロ原子は、硫黄、窒素及び酸素から独立して選択される。Ｒ^１７ｂ及びＲ^１８ｂは、独立して、置換又は非置換の分枝鎖又は直鎖のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｉｓｏ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル（例えば、ｎ－ペンチル若しくはネオペンチル）、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル若しくはステアリル）、シクロアルキル基（例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル若しくはアダマンチル）、又はアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、又はアントラシル）であってもよい。一実施形態では、アルキル基は、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ）又はアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ若しくはプロポキシなどのそれぞれが同じであっても異なっていてもよい１つ以上（例えば、１、２、３、４つ、又は５つ）の置換基で、任意選択的に置換されてもよい。アリール基は、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ）、直鎖若しくは分枝鎖のアルキル（例えば、Ｃ_１～Ｃ_１０）、アルコキシ（例えば、Ｃ_１～Ｃ_１０アルコキシ）、直鎖若しくは分枝鎖の（ジアルキル）アミノ（例えば、Ｃ_１～Ｃ_１０ジアルキル）アミノ）、ヘテロシクロアルキル（例えば、Ｃ_３～１０ヘテロシクロアルキル基、例えば、モルホリニル及びピペラジニル）、又はトリ（ハロ）メチル（例えば、Ｆ_３Ｃ－）などのそれぞれが同じであっても異なっていてもよい１つ以上（例えば、１、２、３、４つ、又は５つ）の置換基で、任意選択的に置換されてもよい。好適な置換アリール基としては、４－ジメチルアミノフェニル、４－メチルフェニル、３，５－ジメチルフェニル、４－メトキシフェニル、４－メトキシ－３，５－ジメチルフェニル及び３，５－ジ（トリフルオロメチル）フェニルが挙げられるが、これらに限定されない。ピリジルなどの置換又は非置換のヘテロアリール基も使用することができる。代替的な実施形態において、Ｒ^１７ｂ及びＲ^１８ｂは、連結してＰと共に環構造、好ましくは４～７員環を形成する。好ましくは、Ｒ^１７ｂ及びＲ^１８ｂは同じであり、ｔｅｒｔ－ブチル、シクロヘキシル、フェニル又は置換フェニル基、例えば３，５－ジ（トリフルオロメチル）フェニルである。あるいは、Ｒ^１７ｂ及びＲ^１８ｂは、独立して、－Ｍｅ、－Ｅｔ、－^ｎＰｒ、－^ｉＰｒ、－^ｎＢｕ、－^ｉＢｕ、シクロヘキシル及びシクロヘプチルからなる群から選択される。

【0126】

式（Ｃａ）の第１０族遷移金属触媒において、Ａｒ^ｂは、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のヘテロアリール基である。好ましくは、Ａｒ^ｂは、置換若しくは非置換のフェニル基、置換若しくは非置換のビフェニル基、置換若しくは非置換のナフチル基、置換若しくは非置換のビナフチル基、置換若しくは非置換のピラゾリル基、又は置換若しくは非置換のビピラゾリル基である。より好ましくは、Ａｒ^ｂは、置換若しくは非置換のビフェニル基、置換若しくは非置換のビナフチル基、又は置換若しくは非置換のビピラゾリル基である。更により好ましくは、Ａｒ^ｂは、置換若しくは非置換のビフェニル基、又は置換若しくは非置換のビピラゾリル基である。

【0127】

式（Ｃａ）の第１０族遷移金属触媒において、ホスフィン配位子－Ｐ（Ｒ^１７ｂ）（Ｒ^１８ｂ）Ａｒ^ｂは、好ましくは、

【0128】

【化43】

からなる群から選択される。

【0129】

式（Ｃａ）の第１０族遷移金属触媒中の金属原子は、任意選択的に置換されたアリル基に配位されている。Ｒ^１９ａは、１～２０個の炭素原子、好ましくは１～１０個の炭素原子、より好ましくは１～８個の炭素原子を有する有機基である。Ｒ^１９ａは、安定性及び原子価の規則によって課される制限まで選択される。Ｒ^１９ａ基の数は、０～５の範囲であり、すなわちｐは、０、１、２、３、４又は５である。ｐが２、３、４又は５である場合、各Ｒ^１９ａは、同じであっても異なっていてもよい。特定の実施形態において、ｐが２、３、４、又は５である場合、各Ｒ^１９ａは同じである。特定の実施形態において、ｐは０である（すなわち、アリル基は非置換である）。特定の実施形態において、ｐは１である。特定の実施形態において、ｐは２であり、各Ｒ^１９ａは、同じであるか、又は異なる。

【0130】

式（Ｃａ）の第１０族遷移金属触媒において、Ｒ^１９ａは、置換及び非置換の直鎖Ｃ_１～２０－アルキル、置換及び非置換の分枝鎖Ｃ_３～２０－アルキル、置換及び非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換及び非置換のＣ_６～２０－アリール、並びに置換及び非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールからなる群から選択されてもよく、ヘテロ原子は、硫黄、窒素及び酸素から独立して選択される。一実施形態において、Ｒ^１９ａは、置換及び非置換の直鎖Ｃ_１～２０－アルキル、置換及び非置換の分枝鎖Ｃ_３～２０－アルキル、並びに置換及び非置換のＣ_３～２０－シクロアルキルからなる群から選択される。別の実施形態において、Ｒ^１９ａは、置換及び非置換のＣ_６～２０－アリール、並びに置換及び非置換Ｃ_４～２０－ヘテロアリールからなる群から選択され、ヘテロ原子は、硫黄、窒素及び酸素から独立して選択される。Ｒ^１９ａは、置換又は非置換の分枝鎖又は直鎖のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｉｓｏ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル若しくはステアリル）、シクロアルキル基（例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル若しくはアダマンチル）、又はアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、又はアントラシル）であってもよい。一実施形態では、アルキル基は、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ）又はアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ若しくはプロポキシなどのそれぞれが同じであっても異なっていてもよい１つ以上（例えば、１、２、３、４つ、又は５つ）の置換基で、任意選択的に置換されてもよい。アリール基は、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ）、直鎖若しくは分枝鎖のアルキル（例えば、Ｃ_１～Ｃ_１０）、アルコキシ（例えば、Ｃ_１～Ｃ_１０アルコキシ）、直鎖若しくは分枝鎖の（ジアルキル）アミノ（例えば、Ｃ_１～Ｃ_１０ジアルキル）アミノ）、ヘテロシクロアルキル（例えば、Ｃ_３～１０ヘテロシクロアルキル基、例えば、モルホリニル及びピペラジニル）、又はトリ（ハロ）メチル（例えば、Ｆ_３Ｃ－）などのそれぞれが同じであっても異なっていてもよい１つ以上（例えば、１、２、３、４つ、又は５つ）の置換基で、任意選択的に置換されてもよい。適切な置換アリール基としては、２－、３－又は４－ジメチルアミノフェニル、２－、３－又は４－メチルフェニル、２，３－又は３，５－ジメチルフェニル、２－、３－又は４－メトキシフェニル及び４－メトキシ－３，５－ジメチルフェニルが挙げられるが、これらに限定されない。ピリジルなどの置換又は非置換のヘテロアリール基も使用することができる。一実施形態において、各Ｒ^１９は、独立して、メチル、フェニル又は置換フェニル基である。

【0131】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第１０族遷移金属触媒は、以下から選択される。

【0132】

【化44】

【0133】

【化45】

【0134】

本発明の代替的な好ましいプロセスにおいて、第１０族遷移金属触媒は、式（Ｃｂ）の触媒

【0135】

【化46】

であり、式中、

【0136】

【化47】

が、カチオン性第１０族遷移金属原子、好ましくはカチオン性パラジウム原子であり、

【0137】

【化48】

が、非配位アニオン性配位子であり、
Ａｒ^ｃが、置換若しくは非置換のアリール基又は置換若しくは非置換のヘテロアリール基であり、
Ｒ^１７ｃ及びＲ^１８ｃが、独立して、１～２０個の炭素原子を有する有機基であるか、又はＲ^１７ｃとＲ^１８ｃとが連結して、Ｐと共に環構造を形成し、
Ｒ^１９ｂが、１～２０個の炭素原子を有する有機基であり、
ｔが、０、１、２、３、４又は５である。

【0138】

式（Ｃａ）の第１０族遷移金属触媒において、

【0139】

【化49】

は、非配位アニオン性配位子である。「非配位アニオン性配位子」とは、アニオン配位子が金属中心の外圏に強制的に配置されることを意味する。したがって、アニオン性配位子は金属中心から解離される。これは、アニオン配位子が配位圏内の金属に結合している中性錯体とは対照的である。アニオン性配位子は、一般に、カチオン性錯体のＸ線結晶構造を分析することによって、非配位性として同定することができる。一実施形態において、

【0140】

【化50】

は、トリフレート（すなわち、ＴｆＯ^－又はＣＦ_３ＳＯ_３ ^－）、テトラフルオロボレート（すなわち^－ＢＦ_４）、ヘキサフルオロアンチモネート（すなわち^－ＳｂＦ_６）、ヘキサフルオロホスフェート（ＰＦ_６ ^－）、［Ｂ［３，５－（ＣＦ_３）_２Ｃ_６Ｈ_３］_４］^－（［Ｂａｒ^Ｆ _４］^－）、及びメシレート（ＭｓＯ^－又はＭｅＳＯ_３ ^－）からなる群から選択される。

【0141】

式（Ｃｂ）の第１０族遷移金属触媒において、Ｒ^１７ｃ及びＲ^１８ｃは、同じであっても異なっていてもよい。一実施形態では、Ｒ^１７ｃ及びＲ^１８ｃは同じである。別の実施形態において、Ｒ^１７ｃ及びＲ^１８ｃは異なる。Ｒ^１７ｃ及びＲ^１８ｃは、安定性及び原子価の規則によって課される制限まで選択される。Ｒ^１７ｃ及びＲ^１８ｃは、置換及び非置換の直鎖Ｃ_１～２０－アルキル、置換及び非置換の分枝鎖Ｃ_３～２０－アルキル、置換及び非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換及び非置換のＣ_６～２０－アリール、並びに置換及び非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールからなる群から独立して選択されてもよく、ヘテロ原子は、硫黄、窒素及び酸素から独立して選択される。Ｒ^１７ｃ及びＲ^１８ｃは、独立して、置換又は非置換の分枝鎖又は直鎖のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｉｓｏ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル（例えば、ｎ－ペンチル若しくはネオペンチル）、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル若しくはステアリル）、シクロアルキル基（例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル若しくはアダマンチル）、又はアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、又はアントラシル）であってもよい。一実施形態では、アルキル基は、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ）又はアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ若しくはプロポキシなどのそれぞれが同じであっても異なっていてもよい１つ以上（例えば、１、２、３、４つ、又は５つ）の置換基で、任意選択的に置換されてもよい。アリール基は、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ）、直鎖若しくは分枝鎖のアルキル（例えば、Ｃ_１～Ｃ_１０）、アルコキシ（例えば、Ｃ_１～Ｃ_１０アルコキシ）、直鎖若しくは分枝鎖の（ジアルキル）アミノ（例えば、Ｃ_１～Ｃ_１０ジアルキル）アミノ）、ヘテロシクロアルキル（例えば、Ｃ_３～１０ヘテロシクロアルキル基、例えば、モルホリニル及びピペラジニル）、又はトリ（ハロ）メチル（例えば、Ｆ_３Ｃ－）などのそれぞれが同じであっても異なっていてもよい１つ以上（例えば、１、２、３、４つ、又は５つ）の置換基で、任意選択的に置換されてもよい。好適な置換アリール基としては、４－ジメチルアミノフェニル、４－メチルフェニル、３，５－ジメチルフェニル、４－メトキシフェニル、４－メトキシ－３，５－ジメチルフェニル及び３，５－ジ（トリフルオロメチル）フェニルが挙げられるが、これらに限定されない。ピリジルなどの置換又は非置換のヘテロアリール基も使用することができる。代替的な実施形態において、Ｒ^１７ｃ及びＲ^１８ｃは、連結してＰと共に環構造、好ましくは４～７員環を形成する。好ましくは、Ｒ^１７ｃ及びＲ^１８ｃは同じであり、ｔｅｒｔ－ブチル、シクロヘキシル、アダマンチル、フェニル又は置換フェニル基、例えば３，５－ジ（トリフルオロメチル）フェニルである。

【0142】

式（Ｃｂ）の第１０族遷移金属触媒において、Ａｒ^ｃは、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のヘテロアリール基である。好ましくは、Ａｒ^ｃは、置換若しくは非置換のフェニル基、置換若しくは非置換のビフェニル基、置換若しくは非置換のナフチル基、置換若しくは非置換のビナフチル基、置換若しくは非置換のピラゾリル基、又は置換若しくは非置換のビピラゾリル基である。より好ましくは、Ａｒ^ｃは、置換若しくは非置換のビフェニル基、置換若しくは非置換のビナフチル基、又は置換若しくは非置換のビピラゾリル基である。更により好ましくは、Ａｒ^ｃは、置換若しくは非置換のビフェニル基、又は置換若しくは非置換のビピラゾリル基である。

【0143】

式（Ｃｂ）の第１０族遷移金属触媒において、ホスフィン配位子－Ｐ（Ｒ^１７ｃ）（Ｒ^１８ｃ）Ａｒ^ｃは、好ましくは、

【0144】

【化51】

からなる群から選択される。

【0145】

式（Ｃｂ）の第１０族遷移金属触媒中の金属カチオンは、任意選択的に置換されたアリル基に配位されている。Ｒ^１９ｂは、１～２０個の炭素原子、好ましくは１～１０個の炭素原子、より好ましくは１～８個の炭素原子を有する有機基である。Ｒ^１９ｂは、安定性及び原子価の規則によって課される制限まで選択される。Ｒ^１９ｂ基の数は、０～５の範囲であり、すなわちｔは、０、１、２、３、４又は５である。ｔが２、３、４又は５である場合、各Ｒ^１９ｂは、同じであっても異なっていてもよい。特定の実施形態において、ｔが２、３、４、又は５である場合、各Ｒ^１９ｂは同じである。特定の実施形態において、ｔは０であり、すなわち、アリル基は非置換である。特定の実施形態において、ｔは１である。特定の実施形態において、ｔは２であり、各Ｒ^１９ｂは、同じであるか、又は異なる。

【0146】

式（Ｃａ）の第１０族遷移金属触媒において、Ｒ^１９ｂは、置換及び非置換の直鎖アルキル、置換及び非置換の分枝鎖アルキル、置換及び非置換のシクロアルキル、置換及び非置換のアリール、並びに置換及び非置換のヘテロアリールからなる群から選択されてもよく、ヘテロ原子は、硫黄、窒素及び酸素から独立して選択される。一実施形態において、Ｒ^１９ｂは、置換及び非置換の直鎖アルキル、置換及び非置換の分枝鎖アルキル、並びに置換及び非置換のシクロアルキルからなる群から選択される。別の実施形態において、Ｒ^１９ｂは、置換及び非置換のアリール、並びに置換及び非置換ヘテロアリールからなる群から選択され、ヘテロ原子は、硫黄、窒素及び酸素から独立して選択される。Ｒ^１９ｂは、置換又は非置換の分枝鎖又は直鎖のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｉｓｏ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル若しくはステアリル）、シクロアルキル基（例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル若しくはアダマンチル）、又はアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、又はアントラシル）であってもよい。一実施形態では、アルキル基は、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ）又はアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ若しくはプロポキシなどのそれぞれが同じであっても異なっていてもよい１つ以上（例えば、１、２、３、４つ、又は５つ）の置換基で、任意選択的に置換されてもよい。アリール基は、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ若しくはＩ）、直鎖若しくは分枝鎖のアルキル（例えば、Ｃ_１～Ｃ_１０）、アルコキシ（例えば、Ｃ_１～Ｃ_１０アルコキシ）、直鎖若しくは分枝鎖の（ジアルキル）アミノ（例えば、Ｃ_１～Ｃ_１０ジアルキル）アミノ）、ヘテロシクロアルキル（例えば、Ｃ_３～１０ヘテロシクロアルキル基、例えば、モルホリニル及びピペラジニル）、又はトリ（ハロ）メチル（例えば、Ｆ_３Ｃ－）などのそれぞれが同じであっても異なっていてもよい１つ以上（例えば、１、２、３、４つ、又は５つ）の置換基で、任意選択的に置換されてもよい。適切な置換アリール基としては、２－、３－又は４－ジメチルアミノフェニル、２－、３－又は４－メチルフェニル、２，３－又は３，５－ジメチルフェニル、２－、３－又は４－メトキシフェニル及び４－メトキシ－３，５－ジメチルフェニルが挙げられるが、これらに限定されない。ピリジルなどの置換又は非置換のヘテロアリール基も使用することができる。一実施形態において、各Ｒ^１９ｂは、独立して、メチル、フェニル又は置換フェニル基である。

【0147】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第１０族遷移金属触媒は、

【0148】

【化52】

【0149】

【化53】

から選択される。

【0150】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第１０族遷移金属触媒は、式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃａ）又は（Ｃｂ）の触媒、好ましくは式（Ａ）の触媒である。本発明の特に好ましいプロセスにおいて、第１０族遷移金属触媒は、ＰｄＣｌ_２（ｄｉｐｐｆ）である。

【0151】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第１０族遷移金属触媒は、化合物（Ｖ）の総量に基づいて０．１～３．０ｍｏｌ％、好ましくは化合物（Ｖ）の総量に基づいて０．５～２．９ｍｏｌ％、好ましくは化合物（Ｖ）の総量に基づいて１．５～２．８ｍｏｌ％、より好ましくは化合物（Ｖ）の総量に基づいて２．０～２．７ｍｏｌ％、より好ましくは化合物（Ｖ）の総量に基づいて２．２５～２．６ｍｏｌ％、より好ましくは化合物（Ｖ）の総量に基づいて２．５～２．６ｍｏｌ％（例えば、化合物（Ｖ）の総量に基づいて２．５ｍｏｌ％）の量で存在する。

【0152】

理論に束縛されることを望まないが、これらの範囲内のより高い触媒充填量の使用は、カップリング反応中に形成される不純物（例えば、７－アザインドール部分の脱ホウ素化の結果としてのもの）の量を減少させ、したがって、反応混合物のより容易な精製を可能にすると考えられる。したがって、本発明の特に好ましいプロセスでは、第１０族遷移金属触媒は、化合物（Ｖ）の総量に基づいて少なくとも２．０ｍｏｌ％、より好ましくは化合物（Ｖ）の総量に基づいて少なくとも２．２５ｍｏｌ％、更により好ましくは化合物（Ｖ）の総量に基づいて少なくとも２．５ｍｏｌ％の量で存在する。

【0153】

塩基は、カップリング反応を進行させるのに十分に強いが、式（Ｖ）のカーボネート化合物がその存在下で分解するほど強くないことを確実にするように選択されなければならない。塩基の選択は、使用される特定の反応条件に依存し得る。当業者は、適切な塩基を選択することができる。

【0154】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）の化合物と式（ＩＸ）の化合物との間の反応において使用される塩基は、金属アルコキシド、金属炭酸塩、金属リン酸塩、金属水酸化物、及びアミン塩基から選択される。好ましくは、塩基は、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属水酸化物、及びアミン塩基から選択される。より好ましくは、塩基は、ＬｉＯ^ｔＢｕ、ＮａＯ^ｔＢｕ、ＫＯ^ｔＢｕ、Ｎａ_２ＣＯ_３、Ｋ_２ＣＯ_３、Ｎａ_３ＰＯ_４、Ｋ_３ＰＯ_４、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｅｔ_３Ｎ、Ｅｔ_２ ^ｉＰｒＮ、ＤＭＡＰ、ＤＡＢＣＯ、又はＤＢＵから選択される。最も好ましくは、塩基は、Ｋ_２ＣＯ_３又はＫＯ^ｔＢｕである。

【0155】

本発明のいくつかの好ましいプロセスにおいて、塩基は、アルコキシド塩基（例えば、金属アルコキシド）である。従って、本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）の化合物と式（ＩＸ）の化合物との間の反応において使用される塩基は、金属アルコキシド、好ましくはアルカリ金属アルコキシドである。より好ましくは、塩基は、ＬｉＯ^ｔＢｕ、ＮａＯ^ｔＢｕ、及びＫＯ^ｔＢｕから選択される。最も好ましくは、塩基は、ＫＯ^ｔＢｕである。

【0156】

本発明の代替的な好ましいプロセスにおいて、塩基は、アルコキシド塩基（例えば、金属アルコキシド）ではない。従って、本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）の化合物と式（ＩＸ）の化合物との間の反応において使用される塩基は、金属炭酸塩、金属リン酸塩、金属水酸化物、及びアミン塩基から選択される。好ましくは、塩基は、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属水酸化物、及びアミン塩基から選択される。より好ましくは、塩基は、Ｎａ_２ＣＯ_３、Ｋ_２ＣＯ_３、Ｎａ_３ＰＯ_４、Ｋ_３ＰＯ_４、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｅｔ_３Ｎ、Ｅｔ_２ ^ｉＰｒＮ、ＤＭＡＰ、ＤＡＢＣＯ、又はＤＢＵから選択される。最も好ましくは、塩基は、Ｋ_２ＣＯ_３である。

【0157】

本発明の好ましいプロセスにおいて、塩基は、金属炭酸塩、好ましくはアルカリ金属炭酸塩である。本発明の特に好ましいプロセスにおいて、塩基は、Ｎａ_２ＣＯ_３及びＫ_２ＣＯ_３から選択される。最も好ましくは、塩基は、Ｋ_２ＣＯ_３である。

【0158】

本発明の好ましいプロセスにおいて、塩基は、金属リン酸塩、好ましくはアルカリ金属リン酸塩である。本発明の特に好ましいプロセスにおいて、塩基は、Ｎａ_３ＰＯ_４及びＫ_３ＰＯ_４から選択される。最も好ましくは、塩基は、Ｋ_３ＰＯ_４である。

【0159】

本発明の好ましいプロセスにおいて、塩基は、金属水酸化物、好ましくはアルカリ金属水酸化物である。本発明の特に好ましいプロセスにおいて、塩基は、ＮａＯＨ及びＫＯＨから選択される。最も好ましくは、塩基は、ＫＯＨである。

【0160】

本発明の好ましいプロセスにおいて、塩基は、アミン塩基である。好ましくは、アミン塩基は、Ｒ’－ＮＨ_２、Ｒ’_２ＮＨ、及びＲ’_３Ｎから選択される式を有する化合物であり、式中、Ｒ’は、独立して、アルキル、アリール若しくはヘテロアリール基であるか、又はアミン塩基は、環状アミン塩基である。本発明の特に好ましいプロセスにおいて、塩基は、Ｅｔ_３Ｎ、Ｅｔ_２ ^ｉＰｒＮ、ＤＭＡＰ、ＤＡＢＣＯ、又はＤＢＵから選択される。最も好ましくは、塩基は、Ｅｔ_３Ｎである。

【0161】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）の化合物と式（ＩＸ）の化合物との間の反応において使用される塩基は、式（Ｖ）の化合物の総量に基づいて５０～３００ｍｏｌ％、より好ましくは式（Ｖ）の化合物の総量に基づいて１００～２５０ｍｏｌ％、より好ましくは式（Ｖ）の化合物の総量に基づいて１５０～２００ｍｏｌ％の量で存在する。

【0162】

本発明の好ましいプロセスにおいて、水は、式（Ｖ）の化合物の総量に基づいて２０００～４０００ｍｏｌ％、より好ましくは式（Ｖ）の化合物の総量に基づいて１５００～３５００ｍｏｌ％（例えば、式（Ｖ）の化合物の総量に基づいて３０００ｍｏｌ％）の量で存在する。

【0163】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）中のＲ^２は、置換又は非置換のＣ_１～１０直鎖又はＣ_３～１０分枝鎖アルキル基、好ましくは置換又は非置換のＣ_１～５直鎖又はＣ_３～５分枝鎖アルキル基である。より好ましくは、式（Ｖ）中のＲ^２は、メチル、エチル、ｉｓｏ－プロピル又はｔｅｒｔ－ブチルである。最も好ましくは、式（Ｖ）中のＲ^２は、メチルである。

【0164】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＸ）中のＺは、－ＣＯ_２Ｒ^３である。好ましくは、Ｒ^３は、置換若しくは非置換のＣ_１～１０直鎖若しくはＣ_３～１０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～１０アリール基である。特に好ましいＣ_１～１０－アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、及びヘキシル、より好ましくはメチル、エチル、ｉｓｏ－プロピル、ｔｅｒｔ－ブチル、更により好ましくはｔｅｒｔ－ブチルが挙げられる。好ましいＣ_６～１０－アリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、及びメトキシフェニル、より好ましくはフェニルが挙げられる。

【0165】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＸ）中のＺは、－ＳＯ_２Ｒ’’である。好ましくは、Ｒ’’は、置換若しくは非置換のＣ_１～１０直鎖若しくはＣ_３～１０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～１０アリール基である。特に好ましいＣ_１～１０－アルキル基としては、メチル、トリフルオロメチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、及びヘキシル、より好ましくはメチル、エチル、ｉｓｏ－プロピル、及びｔｅｒｔ－ブチル、更により好ましくはメチル及びエチルが挙げられる。好ましいＣ_６～１０－アリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、メトキシフェニル、ブロモフェニル、及びニトロフェニル、より好ましくはトリルが挙げられる。

【0166】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＸ）中のＲ^４及びＲ^５は、独立して、Ｈ又は置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基であるか、又は、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^４及びＲ^５は、環を形成する。

【0167】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＸ）中のＲ^４及びＲ^５は、独立して、Ｈ又は置換若しくは非置換のＣ_１～１０直鎖若しくはＣ_３～１０分枝鎖アルキル基、より好ましくはＨ又は置換若しくは非置換のＣ_１～５直鎖若しくはＣ_３～５分枝鎖アルキル基、更により好ましくはＨである。

【0168】

本発明の代替的な好ましいプロセスにおいて、それらが結合している原子と一緒になって、式（ＩＸ）中のＲ^４及びＲ^５は、環を形成する。より好ましくは、Ｒ^４及びＲ^５は、－Ｂｐｉｎ又は－Ｂｃａｔである環を形成する。更により好ましくは、Ｒ^４及びＲ^５は、－Ｂｐｉｎである環を形成する。

【0169】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）の化合物と式（ＩＸ）の化合物との反応は、５～１００℃、より好ましくは１０～９０℃、更により好ましくは２０～８０℃、更により好ましくは５０～７０℃の範囲の温度で行われる。

【0170】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）の化合物と式（ＩＸ）の化合物との反応は、４～１０時間、より好ましくは５～９時間、更により好ましくは６～８時間の期間にわたって行われる。

【0171】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）の化合物と式（ＩＸ）の化合物との反応は、溶媒中で行われる。溶媒は、アルコール、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン）、芳香族溶媒（例えば、トルエン）、アルキル溶媒（例えば、ヘプタン）、炭酸ジアルキル（例えば、炭酸ジメチル）、又はそれらの混合物であってもよい。好ましくは、溶媒は、アルコール又はアルコールの混合物である。より好ましくは、溶媒は、ｉｓｏ－プロパノール及び／又はｔｅｒｔ－アミルアルコールである。あるいは、溶媒は、炭酸ジアルキル、好ましくは炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジ－ｉｓｏ－プロピル、又は炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチル、最も好ましくは炭酸ジメチル又は炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチルである。

【0172】

本発明の好ましいプロセスにおいて、溶媒はアルコールであり、上述の式（Ｖ）の化合物の総量に基づいて１０００～５０００ｍｏｌ％、好ましくは上述の式（Ｖ）の化合物の総量に基づいて１５００～４５００ｍｏｌ％、より好ましくは上述の式（Ｖ）の化合物の総量に基づいて２０００～４０００ｍｏｌ％の量で存在する。

【0173】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）の化合物と式（ＩＸ）の化合物との反応は、ルイス酸の存在下で行われる。好ましくは、ルイス酸は、塩化リチウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウム、炭酸リチウム又はリン酸リチウムなどの金属ハロゲン化物、金属炭酸塩又は金属リン酸塩から選択される。より好ましくは、ルイス酸は、金属ハロゲン化物である。更により好ましくは、ルイス酸は、アルカリ金属ハロゲン化物である。更により好ましくは、ルイス酸は、塩化リチウム、臭化リチウム及びヨウ化リチウムから選択される。最も好ましくは、ルイス酸は、臭化リチウム及びヨウ化リチウムから選択される。有利なことに、臭化リチウム及びヨウ化リチウムは、有機溶媒中で高い溶解度を有する。理論に束縛されることを望まないが、式（Ｖ）の化合物と式（ＩＸ）の化合物との反応がルイス酸の存在下で行われる場合、ルイス酸は、出発材料中のアミン基が第１０族遷移金属触媒に配位してそれを被毒するのを防止するのに役立ち得ると考えられる。このことは、カップリング反応に必要とされる触媒充填量がより低いことを意味する。

【0174】

本発明の好ましいプロセスにおいて、ルイス酸は、式（Ｖ）の化合物の総量に基づいて少なくとも１００ｍｏｌ％の量で存在する。例えば、ルイス酸は、式（Ｖ）の化合物の総量に基づいて、少なくとも１１０ｍｏｌ％、少なくとも１２０ｍｏｌ％、少なくとも１３０ｍｏｌ％、又は少なくとも１５０ｍｏｌ％で存在することが好ましい場合がある。存在し得るルイス酸の量には特に上限はない。典型的には、ルイス酸は、式（Ｖ）の化合物の総量に基づいて、最大で４００ｍｏｌ％で存在する。例えば、ルイス酸は、式（Ｖ）の化合物の総量に基づいて、最大で３５０ｍｏｌ％、最大で３００ｍｏｌ％、最大で２５０ｍｏｌ％、又は最大で２００ｍｏｌ％で存在することが好ましい場合がある。好ましくは、ルイス酸は、式（Ｖ）の化合物の総量に基づいて１００～４００ｍｏｌ％、より好ましくは式（Ｖ）の化合物の総量に基づいて１１０～３５０ｍｏｌ％、より好ましくは１２０～３００ｍｏｌ％、より好ましくは１３０～２５０ｍｏｌ％、更により好ましくは１５０～２００ｍｏｌ％の範囲で存在する。

【0175】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）の化合物は、式（ＩＸ）の化合物、第１０族遷移金属触媒、塩基及び水の存在下で、式（ＩＶ）の化合物、又はその塩と

【0176】

【化54】

【0177】

式Ｒ^２Ｏ（ＣＯ）ＯＲ^２の炭酸ジアルキル中のＲ^２基は、同じであっても異なっていてもよい。好ましくは、式Ｒ^２Ｏ（ＣＯ）ＯＲ^２の炭酸ジアルキル中のＲ^２基は、同じである。

【0178】

本発明の好ましいプロセスにおいて、炭酸ジアルキルは、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジ－ｉｓｏ－プロピル、及び炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチルから選択される。最も好ましくは、炭酸ジアルキルは、炭酸ジメチルである。

【0179】

本発明の好ましいプロセスにおいて、炭酸ジアルキルは、上述の式（ＩＶ）の化合物又はその塩の総量に基づいて１０００～５０００ｍｏｌ％、好ましくは上述の式（ＩＶ）の化合物又はその塩の総量に基づいて１５００～４５００ｍｏｌ％、より好ましくは上述の式（ＩＶ）の化合物又はその塩の総量に基づいて２０００～４０００ｍｏｌ％の量で存在する。

【0180】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）の化合物が系中で調製される、式（Ｖ）の化合物と式（ＩＸ）の化合物との間の反応において使用される塩基は、金属アルコキシド、金属炭酸塩、金属リン酸塩、金属水酸化物、及びアミン塩基から選択される。好ましくは、塩基は、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属水酸化物、及びアミン塩基から選択される。より好ましくは、塩基は、ＬｉＯ^ｔＢｕ、ＮａＯ^ｔＢｕ、ＫＯ^ｔＢｕ、Ｎａ_２ＣＯ_３、Ｋ_２ＣＯ_３、Ｎａ_３ＰＯ_４、Ｋ_３ＰＯ_４、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｅｔ_３Ｎ、Ｅｔ_２ ^ｉＰｒＮ、ＤＭＡＰ、ＤＡＢＣＯ、又はＤＢＵから選択される。最も好ましくは、塩基は、Ｋ_２ＣＯ_３又はＫＯ^ｔＢｕである。

【0181】

本発明の特に好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）の化合物が系中で調製される、式（Ｖ）の化合物と式（ＩＸ）の化合物との間の反応において使用される塩基は、金属アルコキシド、好ましくはアルカリ金属アルコキシドである。より好ましくは、塩基は、ＬｉＯ^ｔＢｕ、ＮａＯ^ｔＢｕ、及びＫＯ^ｔＢｕから選択される。最も好ましくは、塩基は、ＫＯ^ｔＢｕである。

【0182】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）の化合物が系中で調製される、式（Ｖ）の化合物と式（ＩＸ）の化合物との反応は、溶媒中で行われる。溶媒は、アルコール、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン）、芳香族溶媒（例えば、トルエン）、アルキル溶媒（例えば、ヘプタン）、又はそれらの混合物であってもよい。当業者によって明確に理解されるように、反応混合物中に存在する式Ｒ^２Ｏ（ＣＯ）ＯＲ^２の炭酸ジアルキルは、反応中に溶媒としても機能する。

【0183】

あるいは、式（Ｖ）の化合物は、別の工程で調製することができる。したがって、本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）の化合物は、式（ＩＶ）の化合物、又はその塩と

【0184】

【化55】

【0185】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＶ）の化合物又はその塩から式（Ｖ）の化合物を製造するための別の工程において使用される塩基は、金属アルコキシドである。金属アルコキシドは、好ましくは、金属メトキシド、金属エトキシド、金属ｉｓｏ－プロポキシド、又は金属ｔｅｒｔ－ブトキシドである。

【0186】

本発明の好ましいプロセスにおいて、塩基は、アルカリ金属アルコキシドである。アルカリ金属アルコキシドは、好ましくは、アルカリ金属メトキシド、アルカリ金属エトキシド、アルカリ金属ｉｓｏ－プロポキシド、又はアルカリ金属ｔｅｒｔ－ブトキシドである。アルカリ金属アルコキシドは、より好ましくは、アルカリ金属メトキシド又はアルカリ金属エトキシド、好ましくはアルカリ金属メトキシドである。

【0187】

好ましい金属アルコキシドとしては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、又はカリウムエトキシド、好ましくはナトリウムメトキシドが挙げられる。

【0188】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＶ）の化合物又はその塩から式（Ｖ）の化合物を製造するための別の工程において使用される塩基は、上述の式（ＩＶ）の化合物又はその塩の総量に基づいて１～１０ｍｏｌ％、好ましくは上述の式（ＩＶ）の化合物又はその塩の総量に基づいて２～９ｍｏｌ％、より好ましくは上述の式（ＩＶ）の化合物又はその塩の総量に基づいて３～８ｍｏｌ％（例えば、上述の式（ＩＶ）の化合物又はその塩の総量に基づいて５ｍｏｌ％）の量で存在する。

【0189】

本発明の好ましいプロセスにおいて、炭酸ジアルキルは、上述の式（ＩＶ）の化合物又はその塩の総量に基づいて５００～２０００ｍｏｌ％、好ましくは上述の式（ＩＶ）の化合物又はその塩の総量に基づいて７５０～１０００ｍｏｌ％の量で存在する。

【0190】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）の化合物が別の工程で調製される、式（Ｖ）の化合物と式（ＩＸ）の化合物との間の反応において使用される塩基は、金属炭酸塩、金属リン酸塩、金属水酸化物、及びアミン塩基から選択される。好ましくは、塩基は、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属水酸化物、及びアミン塩基から選択される。より好ましくは、塩基は、Ｎａ_２ＣＯ_３、Ｋ_２ＣＯ_３、Ｎａ_３ＰＯ_４、Ｋ_３ＰＯ_４、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｅｔ_３Ｎ、Ｅｔ_２ ^ｉＰｒＮ、ＤＭＡＰ、ＤＡＢＣＯ、又はＤＢＵから選択される。最も好ましくは、塩基は、Ｋ_２ＣＯ_３である。

【0191】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）の化合物が別の工程で調製される、式（Ｖ）の化合物と式（ＩＸ）の化合物との反応は、溶媒中で行われる。溶媒は、アルコール、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン）、芳香族溶媒（例えば、トルエン）、アルキル溶媒（例えば、ヘプタン）、炭酸ジアルキル（例えば、炭酸ジメチル）、又はそれらの混合物であってもよい。

【0192】

好ましくは、溶媒は、アルコール又はアルコールの混合物である。より好ましくは、溶媒は、ｉｓｏ－プロパノール及び／又はｔｅｒｔ－アミルアルコールである。

【0193】

あるいは、溶媒は、炭酸ジアルキル、好ましくは炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジ－ｉｓｏ－プロピル、又は炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチル、最も好ましくは炭酸ジメチル又は炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチルである。有利には、溶媒が炭酸ジアルキルを含む場合、これにより、炭酸エステルが反応条件下で対応するアルコールに分解する場合に炭酸エステルを再形成するのを補助することができ、したがって、反応収率を増加させる。

【0194】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＶ）の化合物又はその塩を、１０～１５０℃、好ましくは３０～１４０℃、より好ましくは５０～１３０℃、より好ましくは６５～１２０℃の範囲の温度で炭酸ジアルキルと反応させる。

【0195】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＶ）の化合物又はその塩を、１～６時間、好ましくは２～５時間、より好ましくは３～４時間の期間にわたって、炭酸ジアルキルと反応させる。

【0196】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＶ）の化合物又はその塩を、式Ｒ^２Ｏ（ＣＯ）ＯＲ^２の炭酸ジアルキル（式中、各Ｒ^２が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖又はＣ_３～２０分枝鎖アルキル基である）と反応させる。式Ｒ^２Ｏ（ＣＯ）ＯＲ^２の炭酸ジアルキル中のＲ^２基は、同じであっても異なっていてもよい。好ましくは、式Ｒ^２Ｏ（ＣＯ）ＯＲ^２の炭酸ジアルキル中のＲ^２基は、同じである。

【0197】

【0198】

当業者によって理解されるように、式（ＩＶ）の化合物又はその塩から式（Ｖ）の化合物を生成するための別のステップは、Ｄｅａｎ－Ｓｔａｒｋ装置を使用して行うことができる。このような実験設定において、トラップ内に集められた副生成物（例えば、試薬が炭酸ジメチルである場合のメタノール）を一定間隔で除去することができ、又はトラップをモレキュラーシーブで充填してトラップを排液する必要性を回避することができる。反応中、追加の試薬（例えば、炭酸ジメチル）を規則的な間隔で反応容器に添加することができる。

【0199】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＶ）の化合物は、式（ＩＩＩ）の化合物

【0200】

【化56】

（式中、Ｒ^１が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基である）を、
第８族遷移金属触媒及び塩基の存在下で、水素で還元することによって調製される。このような工程は、式（ＩＩＩ）の化合物中に存在するエステル部分及びイミン部分の両方が単一工程で還元されることを可能にするので、プロセス全体の効率を増加させる。

【0201】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＩＩ）の化合物は、少なくとも１つの溶媒の存在下で還元される。

【0202】

好ましくは、少なくとも１つの溶媒は、アルコール、ベンゼン、トルエン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレン、ＴＨＦ、及びＭｅ－ＴＨＦから選択される。より好ましくは、少なくとも１つの溶媒は、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ベンゼン、トルエン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレン、ＴＨＦ及びＭｅ－ＴＨＦから選択される。最も好ましくは、少なくとも１つの溶媒は、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレン、及びトルエンから選択される。最も好ましくは、少なくとも１つの溶媒は、エタノールである。有利なことに、単一のアルコール溶媒（例えば、エタノール）の使用は、還元反応中により少ない不純物の形成をもたらし、それによって、反応混合物の精製をより容易にし、プロセスをスケールアップにより適したものにすることが見出された。

【0203】

本発明の好ましいプロセスにおいて、少なくとも１つの溶媒は、化合物（ＩＩＩ）の総量に基づいて１５００～２５００ｍｏｌ％（例えば、化合物（ＩＩＩ）の総量に基づいて１５００ｍｏｌ％）、好ましくは化合物（ＩＩＩ）の総量に基づいて１６００～２０００ｍｏｌ％、より好ましくは化合物（ＩＩＩ）の総量に基づいて１７００～１８００ｍｏｌ％の量で存在する単一のアルコール（例えば、エタノール）である。

【0204】

本発明の特に好ましいプロセスにおいて、式（ＩＩＩ）の化合物は、第１の溶媒及び第２の溶媒の存在下で還元される。

【0205】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第１の溶媒は、ベンゼン、トルエン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレン、ＴＨＦ及びＭｅ－ＴＨＦから選択される。より好ましくは、第１の溶媒は、トルエン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、又はｐ－キシレンである。最も好ましくは、第１の溶媒は、トルエンである。

【0206】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第２の溶媒は、アルコール、好ましくはエタノール、ｉｓｏ－プロパノール、又はｔｅｒｔ－ブタノール、より好ましくはｉｓｏ－プロパノール又はエタノールである。最も好ましくは、第２の溶媒は、エタノールである。

【0207】

本発明の特に好ましいプロセスにおいて、第１の溶媒は、トルエンであり、第２の溶媒は、アルコール、好ましくはｉｓｏ－プロパノール又はエタノールである。最も好ましくは、第１の溶媒はトルエンであり、第２の溶媒はエタノールである。

【0208】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第１の溶媒（例えばトルエン）は、化合物（ＩＩＩ）の総量に基づいて７１０～１２００ｍｏｌ％、好ましくは化合物（ＩＩＩ）の総量に基づいて８００～１１００ｍｏｌ％、より好ましくは化合物（ＩＩＩ）の総量に基づいて９００～１０００ｍｏｌ％（例えば化合物（ＩＩＩ）の総量に基づいて９００ｍｏｌ％）の量で存在する。

【0209】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第２の溶媒はアルコール（例えばエタノール）であり、化合物（ＩＩＩ）の総量に基づいて２００～４００ｍｏｌ％、好ましくは化合物（ＩＩＩ）の総量に基づいて２５０～３５０ｍｏｌ％、より好ましくは化合物（ＩＩＩ）の総量に基づいて２７５～３２５ｍｏｌ％（例えば化合物（ＩＩＩ）の総量に基づいて３００ｍｏｌ％）の量で存在する。

【0210】

本発明のプロセスは、第８族遷移金属触媒を用いる。好ましくは、第８族遷移金属触媒は、鉄触媒、ルテニウム触媒、又はオスミウム触媒である。より好ましくは、第８族遷移金属触媒は、ルテニウム触媒又はオスミウム触媒である。最も好ましくは、第８族遷移金属触媒は、ルテニウム触媒である。

【0211】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第８族遷移金属触媒は、式（Ｄ）を有する三座配位子を含み、

【0212】

【化57】

式中、
Ｘは、－ＳＲ^ｄ、－ＯＲ^ｄ、－ＣＲ^ｄ、－ＮＲ^ｄＲ^ｅ、－ＰＲ^ｄＲ^ｅ、－Ｐ（＝Ｏ）Ｒ^ｄＲ^ｅ、－ＯＰＲ^ｄＲ^ｅ、及び－ＮＨＰＲ^ｄＲ^ｅから選択され、
Ｒ^２０及びＲ^ｘは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択されるか、又はＲ^２０と、Ｒ^２２ａ及びＲ^２２ｂのうちの１つ、若しくはＲ^ｘと、Ｒ^２２ａ及びＲ^２２ｂのうちの１つは、それらが結合している原子と一緒になって、環を形成するか、
又はＸが、ヘテロ原子であり、Ｒ^２０と一緒になった場合、Ｒ^ｘが存在しない場合には、任意選択的に置換された複素環を形成し、
Ｙは、－ＳＲ^ｄ、－ＯＲ^ｄ、－ＣＲ^ｄ、－ＮＲ^ｄＲ^ｅ、－ＰＲ^ｄＲ^ｅ、－Ｐ（＝Ｏ）Ｒ^ｄＲ^ｅ、－ＯＰＲ^ｄＲ^ｅ、及び－ＮＨＰＲ^ｄＲ^ｅから選択され、
Ｒ^２１及びＲ^ｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択されるか、又はＲ^２１と、Ｒ^２３ａ及びＲ^２３ｂのうちの１つ、若しくはＲ^ｙと、Ｒ^２３ａ及びＲ^２３ｂのうちの１つは、それらが結合する原子と一緒になって、環を形成するか、
又はＹは、ヘテロ原子であり、Ｒ^２１と一緒になった場合、Ｒ^ｙが存在しない場合には、任意選択的に置換された複素環を形成し、
Ｒ^２２ａ、Ｒ^２２ｂ、Ｒ^２３ａ、及びＲ^２３ｂは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択されるか、又はＲ^２２ａと、Ｒ^２３ａ及びＲ^２３ｂのうちの１つ、若しくはＲ^２２ｂと、Ｒ^２３ａ及びＲ^２３ｂのうちの１つは、それらが結合する原子と一緒になって、複素環を形成し、
Ｒ^２４は、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｑ及びｓは、独立して、１又は２であり、
Ｒ^ｄ及びＲ^ｅは、存在する場合、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択されるか、又はＸ及び／若しくはＹが、－ＮＲ^ｄＲ^ｅ、－ＰＲ^ｄＲ^ｅ、－ＯＰＲ^ｄＲ^ｅ、又は－ＮＨＰＲ^ｄＲ^ｅである場合、Ｒ^ｄ及びＲ^ｅが、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって、複素環を形成する。

【0213】

式（Ｉ）の三座配位子において、Ｘは、好ましくは－ＳＲ^ｄ、－ＣＲ^ｄ、－ＮＲ^ｄＲ^ｅ、－ＰＲ^ｄＲ^ｅ、及び－ＮＨＰＲ^ｄＲ^ｅから選択される。より好ましくは、Ｘは、－ＳＲ^ｄ、－ＰＲ^ｄＲ^ｅ、及び－ＮＨＰＲ^ｄＲ^ｅから選択される。更により好ましくは、Ｘは、－ＳＲ^ｄ及び－ＰＲ^ｄＲ^ｅから選択される。最も好ましくは、Ｘは、－ＳＲ^ｄ（例えば、－ＳＥｔ）である。

【0214】

式（Ｄ）の三座配位子において、Ｒ^２０及びＲ^ｘは、各々独立して、好ましくは、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキルから選択される。より好ましくは、Ｒ^２０及びＲ^ｘは、各々独立して、水素及び置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキルから選択される。更により好ましくは、Ｒ^２０及びＲ^ｘは、各々水素である。

【0215】

式（Ｄ）の代替的な好ましい三座配位子において、Ｘは、ヘテロ原子であり、Ｒ^２０と一緒になった場合、Ｒ^ｘが存在しない場合には、任意選択的に置換された複素環を形成する。より好ましくは、Ｘは、ヘテロ原子であり、Ｒ^２０と一緒になった場合、Ｒ^ｘが存在しない場合には、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成する。より好ましくは、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環は、任意選択的に置換された窒素含有ヘテロ芳香族環である。更により好ましくは、任意選択的に置換された窒素含有ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリル、及びキノリニルから選択される。更により好ましくは、任意選択的に置換された窒素含有ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、及びピリミジルから選択される。最も好ましくは、任意選択的に置換された窒素含有ヘテロ芳香族環はピリジニルである。

【0216】

式（Ｄ）の三座配位子において、Ｙは、好ましくは－ＳＲ^ｄ、－ＣＲ^ｄ、－ＮＲ^ｄＲ^ｅ、－ＰＲ^ｄＲ^ｅ、及び－ＮＨＰＲ^ｄＲ^ｅから選択される。より好ましくは、Ｙは、－ＳＲ^ｄ、－ＰＲ^ｄＲ^ｅ、及び－ＮＨＰＲ^ｄＲ^ｅから選択される。更により好ましくは、Ｙは、－ＳＲ^ｄ及び－ＰＲ^ｄＲ^ｅから選択される。最も好ましくは、Ｙは、－ＳＲ^ｄ（例えば、－ＳＥｔ）である。

【0217】

式（Ｄ）の三座配位子において、Ｒ^２１及びＲ^ｙは、各々独立して、好ましくは、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキルから選択される。より好ましくは、Ｒ^２１及びＲ^ｙは、各々独立して、水素及び置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキルから選択される。更により好ましくは、Ｒ^２１及びＲ^ｙは、各々水素である。

【0218】

式（Ｄ）の代替的な好ましい三座配位子において、Ｙは、ヘテロ原子であり、Ｒ^２１と一緒になった場合、Ｒ^ｙが存在しない場合には、任意選択的に置換された複素環を形成する。より好ましくは、Ｙは、ヘテロ原子であり、Ｒ^２１と一緒になった場合、Ｒ^ｙが存在しない場合には、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成する。より好ましくは、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環は、任意選択的に置換された窒素含有ヘテロ芳香族環である。更により好ましくは、任意選択的に置換された窒素含有ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリル、及びキノリニルから選択される。更により好ましくは、任意選択的に置換された窒素含有ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、及びピリミジルから選択される。最も好ましくは、任意選択的に置換された窒素含有ヘテロ芳香族環はピリジニルである。

【0219】

式（Ｄ）の三座配位子において、Ｒ^２２ａ、Ｒ^２２ｂ、Ｒ^２３ａ、及びＲ^２３ｂは、各々独立して、好ましくは、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキルから選択される。より好ましくは、Ｒ^２２ａ、Ｒ^２２ｂ、Ｒ^２３ａ、及びＲ^２３ｂは、各々独立して、水素及び置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキルから選択される。更により好ましくは、Ｒ^２２ａ、Ｒ^２２ｂ、Ｒ^２３ａ、及びＲ^２３ｂは、各々水素である。

【0220】

式（Ｄ）の代替的な好ましい三座配位子において、Ｒ^２２ａ及びＲ^２３ａとＲ^２３ｂの１つ、又はＲ^２２ｂ及びＲ^２３ａとＲ^２３ｂの１つは、それらが結合している原子と共に複素環を形成する。好ましくは、複素環は、６員環複素環である。

【0221】

式（Ｄ）の三座配位子において、Ｒ^２４は、好ましくは、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキルから選択される。より好ましくは、Ｒ^２４は、水素及び置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキルから選択される。更により好ましくは、Ｒ^２４は水素である。

【0222】

式（Ｄ）の三座配位子において、各ｑ及びｓは、好ましくは１である。

【0223】

式（Ｄ）の三座配位子において、Ｒ^ｄ及びＲ^ｅは、存在する場合、各々独立して、好ましくは、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択される。より好ましくは、Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、存在する場合、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル（例えば、Ｃ_１～１０アルキル）及び置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリールから選択される。特に好ましいＣ_１～２０－アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、及びヘキシル、より好ましくはメチル、エチル、ｉｓｏ－プロピル、ｔｅｒｔ－ブチル、更により好ましくはエチルが挙げられる。好ましいＣ_６～２０－アリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、及びメトキシフェニル、より好ましくはフェニルが挙げられる。

【0224】

式（Ｄ）の代替的な好ましい三座配位子において、Ｘ及び／又はＹが、－ＮＲ^ｄＲ^ｅ、－ＰＲ^ｄＲ^ｅ、－ＯＰＲ^ｄＲ^ｅ、又は－ＮＨＰＲ^ｄＲ^ｅである場合、Ｒ^ｄ及びＲ^ｅは、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって、複素環を形成する。

【0225】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第８族遷移金属触媒は、式（Ｄ）を有する三座配位子を含み、
式中、
Ｘは、－ＳＲ^ｄ、－ＣＲ^ｅ、－ＮＲ^ｄＲ^ｅ、－ＰＲ^ｄＲ^ｅ、及び－ＮＨＰＲ^ｄＲ^ｅから選択され、
Ｒ^２０及びＲ^ｘは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択されるか、
又はＸは、ヘテロ原子であり、Ｒ^２０と一緒になった場合、Ｒ^ｘが存在しない場合には、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｙは、－ＳＲ^ｄ、－ＣＲ^ｄ、－ＮＲ^ｄＲ^ｅ、－ＰＲ^ｄＲ^ｅ、及び－ＮＨＰＲ^ｄＲ^ｅから選択され、
Ｒ^２１及びＲ^ｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択されるか、
又はＹは、ヘテロ原子であり、Ｒ^２１と一緒になった場合、Ｒ^ｙが存在しない場合には、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｒ^２２ａ、Ｒ^２２ｂ、Ｒ^２３ａ、Ｒ^２３ｂ、及びＲ^２４は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｑ及びｓは、独立して、１又は２であり、
Ｒ^ｄ及びＲ^ｅは、存在する場合、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択されるか、又は、Ｘ及び／若しくはＹが－ＮＲ^ｄＲ^ｅ、－ＰＲ^ｄＲ^ｅ又は－ＮＨＰＲ^ｄＲ^ｅである場合、Ｒ^ｄ及びＲ^ｅは、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって、複素環を形成する。

【0226】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第８族遷移金属触媒は、式（Ｄ）を有する三座配位子を含み、
式中、
Ｘは、－ＳＲ^ｄ、－ＰＲ^ｄＲ^ｅ、及び－ＮＨＰＲ^ｄＲ^ｅから選択され、
Ｒ^２０及びＲ^ｘは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択されるか、
又はＸは、ヘテロ原子であり、Ｒ^２０と一緒になった場合、Ｒ^ｘが存在しない場合には、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリル、及びキノリニルから選択される窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｙは、－ＳＲ^ｄ、－ＰＲ^ｄＲ^ｅ、及び－ＮＨＰＲ^ｄＲ^ｅから選択され、
Ｒ^２１及びＲ^ｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択されるか、
又はＹはヘテロ原子であり、Ｒ^２１と一緒になった場合、Ｒ^ｙが存在しない場合には、ヘテロ芳香族環を形成し、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリル、及びキノリニルから選択される窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｒ^２２ａ、Ｒ^２２ｂ、Ｒ^２３ａ、Ｒ^２３ｂ、及びＲ^２４は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｑ及びｓは、独立して、１又は２であり、
Ｒ^ｄ及びＲ^ｅは、存在する場合、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択されるか、又は、Ｘ及び／若しくはＹが－ＰＲ^ｄＲ^ｅ又は－ＮＨＰＲ^ｄＲ^ｅである場合、Ｒ^ｄ及びＲ^ｅは、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって、複素環を形成する。

【0227】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第８族遷移金属触媒は、式（Ｄ）を有する三座配位子を含み、
式中、
Ｘは、－ＳＲ^ｄ及び－ＰＲ^ｄＲ^ｅから選択され、
Ｒ^２０及びＲ^ｘは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択されるか、
又はＸは、ヘテロ原子であり、Ｒ^２０と一緒になった場合、Ｒ^ｘが存在しない場合には、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、及びピリミジルから選択される窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｙは、－ＳＲ^ｄ及び－ＰＲ^ｄＲ^ｅから選択され、
Ｒ^２１及びＲ^ｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択されるか、
又はＹは、ヘテロ原子であり、Ｒ^２１と一緒になった場合、Ｒ^ｙが存在しない場合には、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、及びピリミジルから選択される窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｒ^２２ａ、Ｒ^２２ｂ、Ｒ^２３ａ、Ｒ^２３ｂ、及びＲ^２４は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｑ及びｓは、独立して、１又は２であり、
Ｒ^ｄ及びＲ^ｅは、存在する場合、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択されるか、又は、Ｘ及び／若しくはＹが－ＰＲ^ｄＲ^ｅである場合、Ｒ^ｄ及びＲ^ｅは、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって、複素環を形成する。

【0228】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第８族遷移金属触媒は、式（Ｄ）を有する三座配位子を含み、
Ｘは、－ＳＲ^ｄであり、
Ｒ^２０及びＲ^ｘは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択され、
Ｙは、－ＳＲ^ｄであり、
Ｒ^２１及びＲ^ｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択され、
Ｒ^２２ａ、Ｒ^２２ｂ、Ｒ^２３ａ、Ｒ^２３ｂ及びＲ^２４は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｑ及びｓは、独立して、１又は２であり、
Ｒ^ｄは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択される。

【0229】

好ましくは、第８族遷移金属触媒は、式（Ｄ）を有する三座配位子を含み、
Ｘは、－ＳＲ^ｄであり、
Ｒ^２０及びＲ^ｘは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキルから選択され、
Ｙは、－ＳＲ^ｄであり、
Ｒ^２１及びＲ^ｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキルから選択され、
Ｒ^２２ａ、Ｒ^２２ｂ、Ｒ^２３ａ、Ｒ^２３ｂ及びＲ^２４は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキルから選択され、
各ｑ及びｓは、独立して、１又は２であり、
Ｒ^ｄは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキルから選択される。

【0230】

より好ましくは、第８族遷移金属触媒は、式（Ｄ）を有する三座配位子を含み、
Ｘは、－ＳＲ^ｄであり、
Ｒ^２０及びＲ^ｘは、各々独立して、水素及び置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキルから選択され、
Ｙは、－ＳＲ^ｄであり、
Ｒ^２１及びＲ^ｙは、各々独立して、水素及び置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキルから選択され、
Ｒ^２２ａ、Ｒ^２２ｂ、Ｒ^２３ａ、Ｒ^２３ｂ及びＲ^２４は、各々独立して、水素及び置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキルから選択され、
各ｑ及びｓは、独立して、１又は２であり、
Ｒ^ｄは、各々独立して、水素及び置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキルから選択される。

【0231】

更により好ましくは、第８族遷移金属触媒は、式（Ｄ）を有する三座配位子を含み、
Ｘ及びＹは、各々－ＳＲ^ｄであり、
Ｒ^２０、Ｒ^ｘ、Ｒ^２１、Ｒ^ｙ、Ｒ^２２ａ、Ｒ^２２ｂ、Ｒ^２３ａ、Ｒ^２３ｂ及びＲ^２４は、各々水素であり、
ｑ及びｓは、各々１であり、
Ｒ^ｄは、各々独立して、置換若しくは非置換のＣ_１～２０アルキル、好ましくはＣ_１～１０アルキルである。

【0232】

更により好ましくは、第８族遷移金属触媒は、式（Ｄ）を有する三座配位子を含み、
Ｘ及びＹは、各々－ＳＥｔであり、
Ｒ^２０、Ｒ^ｘ、Ｒ^２１、Ｒ^ｙ、Ｒ^２２ａ、Ｒ^２２ｂ、Ｒ^２３ａ、Ｒ^２３ｂ、及びＲ^２４は、各々水素であり、
ｑ及びｓは、各々１である。

【0233】

本発明の代替的な好ましいプロセスにおいて、第８族遷移金属触媒は、式（Ｄ）を有する三座配位子を含み、
Ｘは、ヘテロ原子であり、Ｒ^２０と一緒になった場合、Ｒ^ｘが存在しない場合には、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、
Ｙは、－ＰＲ^ｄＲ^ｅであり、
Ｒ^２１及びＲ^ｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択され、
Ｒ^２２ａ、Ｒ^２２ｂ、Ｒ^２３ａ、Ｒ^２３ｂ及びＲ^２４は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択され、
各ｑ及びｓは、独立して、１又は２であり、
Ｒ^ｄ及びＲ^ｅは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－アルキニル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルケニル、置換若しくは非置換のＣ_２～２０－ヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択されるか、又は、Ｒ^ｄ及びＲ^ｅは、それらが結合しているヘテロ原子と一緒になって、複素環を形成する。

【0234】

好ましくは、第８族遷移金属触媒は、式（Ｄ）を有する三座配位子を含み、
Ｘは窒素原子であり、Ｒ^２０と一緒になった場合、Ｒ^ｘが存在しない場合には、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｙは、－ＰＲ^ｄＲ^ｅであり、
Ｒ^２１及びＲ^ｙは、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、及び置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキルから選択され、
Ｒ^２２ａ、Ｒ^２２ｂ、Ｒ^２３ａ、Ｒ^２３ｂ及びＲ^２４は、各々独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキルから選択され、
各ｑ及びｓは、独立して、１又は２であり、
Ｒ^ｄ及びＲ^ｅは、各々独立して、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－ヘテロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_３～２０－シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリール、及び置換若しくは非置換のＣ_４～２０－ヘテロアリールから選択される。

【0235】

より好ましくは、第８族遷移金属触媒は、式（Ｄ）を有する三座配位子を含み、
Ｘは、窒素原子であり、Ｒ^２０と一緒になった場合、Ｒ^ｘが存在しない場合には、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリル、及びキノリニルから選択される、窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｙは、－ＰＲ^ｄＲ^ｅであり、
Ｒ^２１、Ｒ^ｙ、Ｒ^２２ａ、Ｒ^２２ｂ、Ｒ^２３ａ、Ｒ^２３ｂ及びＲ^２４は、各々水素であり、
各ｑ及びｓは１であり、
Ｒ^ｄ及びＲ^ｅは、各々独立して、置換若しくは非置換のＣ_１～２０－アルキル及び置換若しくは非置換のＣ_６～２０－アリールから選択される。

【0236】

更により好ましくは、第８族遷移金属触媒は、式（Ｄ）を有する三座配位子を含み、
Ｘは窒素原子であり、Ｒ^２０と一緒になった場合、Ｒ^ｘが存在しない場合には、任意選択的に置換されたヘテロ芳香族環を形成し、ヘテロ芳香族環は、ピリジニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、及びピリミジルから選択される窒素含有ヘテロ芳香族環であり、
Ｙは、－ＰＲ^ｄＲ^ｅであり、
Ｒ^２１、Ｒ^ｙ、Ｒ^２２ａ、Ｒ^２２ｂ、Ｒ^２３ａ、Ｒ^２３ｂ、及びＲ^２４は、各々水素であり、
各ｑ及びｓは１であり、
Ｒ^ｄ及びＲ^ｅは、各々独立して、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、ヘキシル、フェニル、トリル、キシリル、及びメトキシフェニルから選択される。

【0237】

更により好ましくは、第８族遷移金属触媒は、式（Ｄ）を有する三座配位子を含み、
Ｘは、窒素原子であり、Ｒ^２０と一緒になった場合、Ｒ^ｘが存在しない場合には、任意選択的に置換されたピリジニル環を形成し、
Ｙは、－ＰＲ^ｄＲ^ｅであり、
Ｒ^２１、Ｒ^ｙ、Ｒ^２２ａ、Ｒ^２２ｂ、Ｒ^２３ａ、Ｒ^２３ｂ、及びＲ^２４は、各々水素であり、
各ｑ及びｓは１であり、
Ｒ^ｄ及びＲ^ｅは、各々独立して、メチル、エチル、ｉｓｏ－プロピル、ｔｅｒｔ－ブチル、フェニル、トリル、キシリル、及びメトキシフェニルから選択される。

【0238】

【0239】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第８族遷移金属触媒は、式（Ｅ）又は式（Ｆ）の触媒であり、
［Ｍ^ｃ（Ｌ^１）（Ｌ^２）_ｄ］（Ｅ）
［Ｍ^ｃ（Ｌ^１）（Ｌ^２）_ｄ］Ｗ（Ｆ）
式中、
Ｍ^ｃは、第８族遷移金属、好ましくはルテニウムであり、
Ｌ^１は、先に定義した式（Ｄ）の三座配位子であり、
Ｌ^２は、同じ又は異なり得る配位子であり、
ｄは、１、２、又は３であり、
Ｗは、非配位アニオン性配位子である。

【0240】

本発明の好ましいプロセスにおいて、ｄは、３である。

【0241】

当業者によって理解されるように、各Ｌ^２は、Ｌ^２配位子の組み合わせが原子価の規則によって許容されるという条件で、単座配位子又は多座配位子であり得る。本発明の好ましいプロセスにおいては、各Ｌ^２は単座配位子である。好ましくは、各Ｌ^２は、独立して、中性単座配位子又はアニオン性単座配位子である。本発明の好ましいプロセスにおいて、各Ｌ^２は、独立して、－Ｈ、－ＣＯ、－ＣＮ、－Ｐ（Ｒ’’’）_３、－Ａｓ（Ｒ’’’）_３、－ＣＲ’’’、－ＯＲ’’’、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒ’’’、－ＮＲ’’’_２、ハロゲン（例えば、－Ｃｌ、－Ｂｒ、－Ｉ）及び溶媒から選択され、各Ｒ’は、独立して、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のヘテロアルキル、置換若しくは非置換のアルコキシ、置換若しくは非置換のシクロアルキル、置換若しくは非置換のヘテロシクロアルキル、置換若しくは非置換のアリール、及び置換若しくは非置換のヘテロアリールから選択される。好ましくは、各Ｌ^２は、独立して、－Ｈ、－ＣＯ、－Ｐ（Ｒ’’’）_３、及びハロゲンから選択される。より好ましくは、各Ｌ^２は、独立して、－ＣＯ、－ＰＰｈ_３、及び－Ｃｌから選択される。Ｌ^２が溶媒である場合、溶媒は、好ましくは、ＴＨＦ、Ｍｅ－ＴＨＦ、ＭｅＣＮ、Ｈ_２Ｏ及びアルコール（例えば、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノールなど）から選択される。

【0242】

式（Ｆ）の第８族遷移金属触媒において、Ｗは、非配位アニオン性配位子である。「非配位アニオン性配位子」とは、アニオン配位子が金属中心の外圏に強制的に配置されることを意味する。したがって、アニオン性配位子は金属中心から解離される。これは、アニオン配位子が配位圏内の金属に結合している中性錯体とは対照的である。アニオン性配位子は、一般に、カチオン性錯体のＸ線結晶構造を分析することによって、非配位性として同定することができる。好ましくは、Ｗは、トリフレート（すなわち、ＴｆＯ^－又はＣＦ_３ＳＯ_３ ^－）、テトラフルオロホウ酸塩（すなわち^－ＢＦ_４）、ヘキサフルオロアンチモネート（すなわち^－ＳｂＦ_６）、ヘキサフルオロホスフェート（ＰＦ_６ ^－）、［Ｂ［３，５－（ＣＦ_３）_２Ｃ_６Ｈ_３］_４］^－（［ＢＡｒ^Ｆ _４］^－）、ハロゲン化物（例えばＣｌ^－、Ｂｒ^－、Ｉ^－）及びメシレート（ＭｓＯ^－又はＭｅＳＯ_３ ^－）からなる群から選択される。

【0243】

好ましくは、第８族遷移金属触媒は、式（Ｅ）の遷移金属触媒である。

【0244】

あるいは、第８族遷移金属触媒は、式（Ｆ）の遷移金属触媒である。

【0245】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第８族遷移金属触媒は、

【0246】

【化58】

である。

【0247】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第８族遷移金属触媒は、Ｒｕ－ＳＮＳ又はＲｕ－ＰＮＮである。本発明の特に好ましいプロセスにおいて、第８族遷移金属触媒は、Ｒｕ－ＳＮＳである。

【0248】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第８族遷移金属触媒は、

【0249】

【化59】

である。

【0250】

本発明の特に好ましいプロセスにおいて、第８族遷移金属触媒は、

【0251】

【化60】

である。

【0252】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第８族遷移金属触媒は、化合物（ＩＩＩ）の総量に基づいて０．１～５．０ｍｏｌ％、好ましくは化合物（ＩＩＩ）の総量に基づいて０．５～４．０ｍｏｌ％、より好ましくは化合物（ＩＩＩ）の総量に基づいて１．０～３．０ｍｏｌ％（例えば、化合物（ＩＩＩ）の総量に基づいて２．０ｍｏｌ％）の量で存在する。

【0253】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＩＩ）の化合物から式（ＩＶ）の化合物を調製するための反応において使用される塩基は、金属アルコキシドである。金属アルコキシドは、好ましくは、金属メトキシド、金属エトキシド、金属ｉｓｏ－プロポキシド、又は金属ｔｅｒｔ－ブトキシドである。

【0254】

本発明の好ましいプロセスにおいて、塩基は、アルカリ金属アルコキシドである。アルカリ金属アルコキシドは、好ましくは、アルカリ金属メトキシド、アルカリ金属エトキシド、アルカリ金属ｉｓｏ－プロポキシド、又はアルカリ金属ｔｅｒｔ－ブトキシドである。アルカリ金属アルコキシドは、より好ましくは、アルカリ金属ｔｅｒｔ－ブトキシドである。

【0255】

好ましい金属アルコキシドとしては、ナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシド又はカリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、好ましくはカリウムｔｅｒｔ－ブトキシドが挙げられる。

【0256】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＩＩ）の化合物から式（ＩＶ）の化合物を調製するための反応において使用される塩基は、上述の式（ＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて１０～１００ｍｏｌ％、好ましくは上述の式（ＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて２０～９０ｍｏｌ％、より好ましくは上述の式（ＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて３０～８０ｍｏｌ％（例えば上述の式（ＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて５０ｍｏｌ％）の量で存在する。

【0257】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＩＩ）中のＲ^１は、置換若しくは非置換のＣ_１～１０直鎖若しくはＣ_３～１０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～１０アリール基である。特に好ましいＣ_１～１０－アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、及びヘキシル、より好ましくはメチル、エチル、ｉｓｏ－プロピル、ｔｅｒｔ－ブチル、更により好ましくはエチルが挙げられる。好ましいＣ_６～１０－アリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、及びメトキシフェニル、より好ましくはフェニルが挙げられる。

【0258】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＩＩ）の化合物は、１～５０ｂａｒ、好ましくは１０～４０ｂａｒ、より好ましくは２０～３０ｂａｒ（例えば２８ｂａｒ）の範囲の水素圧下で還元される。当業者に理解されるように、還元反応の水素圧は、反応中にこれらの範囲内で変動し得る。

【0259】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＩＩ）の化合物は、１０～１５０℃、好ましくは３０～１４０℃、より好ましくは５０～１３０℃、より好ましくは６５～１２０℃の範囲の温度で還元される。当業者に理解されるように、還元反応の温度は、反応中にこれらの範囲内で変動し得る。したがって、本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＩＩ）の化合物は、５０～７０℃の範囲の温度（例えば６５℃）で一定時間還元され、次いで１１０～１４０℃の範囲の温度（例えば１２０℃）で更なる時間還元される。

【0260】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＩＩ）の化合物は、１．５～１０時間、好ましくは５～９時間、より好ましくは６～８時間の期間、還元される。

【0261】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＩＩ）の化合物は、式（Ｉ）の化合物

【0262】

【化61】

（式中、Ｒ^１が、上で定義した通りである）と、
式（ＩＩ）の化合物とを、

【0263】

【化62】

酸触媒の存在下で反応させることによって調製される。

【0264】

酸触媒は、無機酸触媒又は有機酸触媒であってもよい。

【0265】

本発明の好ましいプロセスにおいて、酸触媒は、無機酸触媒である。適切な無機酸触媒としては、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、リン酸、硝酸、及びホウ酸が挙げられる。

【0266】

本発明の好ましいプロセスにおいて、酸触媒は、有機酸触媒である。好ましくは、有機酸触媒は、有機スルホン酸又はカルボン酸である。好適な有機スルホン酸としては、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、及びｐ－アミノベンゼンスルホン酸が挙げられる。適切なカルボン酸としては、ギ酸、酢酸、及びトリフルオロ酢酸が挙げられる。

【0267】

本発明の好ましいプロセスにおいて、酸触媒は、トリフルオロ酢酸である。

【0268】

本発明の好ましいプロセスにおいて、酸触媒は、式（Ｉ）の化合物の総量に基づいて５～１５ｍｏｌ％、好ましくは式（Ｉ）の化合物の総量に基づいて８～１２ｍｏｌ％（例えば、式（Ｉ）の化合物の総量に基づいて１０ｍｏｌ％）の量で存在する。

【0269】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｉ）の化合物と式（ＩＩ）の化合物との反応は、溶媒の存在下で行われる。本発明の好ましいプロセスにおいて、溶媒は、ベンゼン、トルエン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレンから選択される。本発明の特に好ましいプロセスにおいて、溶媒は、トルエンである。

【0270】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｉ）の化合物と式（ＩＩ）の化合物との反応は、１０～１５０℃、好ましくは３０～１４０℃、より好ましくは５０～１３０℃、より好ましくは６５～１２０℃の範囲の温度で行われる。

【0271】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｉ）の化合物と式（ＩＩ）の化合物との反応は、４～１０時間、好ましくは５～９時間、より好ましくは６～８時間の期間にわたって行われる。

【0272】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＸ）の化合物は、式（ＶＩＩＩ）の化合物

【0273】

【化63】

【0274】

アザインドール系化合物を含む従来のホウ素化反応は、典型的には３つの別々の工程で行われる。第１の工程は、５員環内の窒素原子の保護を伴い、第２の工程は、アザインドールのハロゲン化を含み、第３の工程は、このハロゲン化化合物を所望のホウ素化剤とカップリングすることを伴う。したがって、本発明のプロセスは、ホウ素化が単一工程で起こるので、より効率的である。

【0275】

本発明のプロセスは、第９族遷移金属触媒を用いる。好ましくは、第９族遷移金属触媒は、コバルト触媒、ロジウム触媒、又はイリジウム触媒である。より好ましくは、第９族遷移金属触媒は、ロジウム触媒又はイリジウム触媒である。最も好ましくは、第９族遷移金属触媒は、イリジウム触媒である。

【0276】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第９族遷移金属触媒は、式（Ｇ）を有する二座配位子を含み、

【0277】

【化64】

式中、
式中、Ｒ^２５、Ｒ^２６、Ｒ^２７、Ｒ^２８、Ｒ^２９及びＲ^３０の各々は、独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖又はＣ_３～２０分枝鎖アルキル基又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基から選択され、
Ｒ^３１及びＲ^３２の各々は、水素であるか、又は、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^３１及びＲ^３２は、環を形成する。

【0278】

式（Ｇ）の好ましい二座配位子において、Ｒ^２５、Ｒ^２６、Ｒ^２７、Ｒ^２８、Ｒ^２９及びＲ^３０の各々は、好ましくは、独立して、水素、置換若しくは非置換のＣ_１～１０直鎖又はＣ_３～１０分枝鎖アルキル基又は置換若しくは非置換のＣ_６～１０アリール基から選択される。好ましいＣ_１～１０－アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、及びヘキシル、より好ましくはメチル、エチル、ｉｓｏ－プロピル、及びｔｅｒｔ－ブチル、更により好ましくはメチル及びｔｅｒｔ－ブチルが挙げられる。好ましいＣ_６～１０－アリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、及びメトキシフェニル、より好ましくはフェニルが挙げられる。

【0279】

式（Ｇ）の好ましい二座配位子において、Ｒ^３１及びＲ^３２の各々は、水素である。

【0280】

式（Ｇ）の代替的な好ましい二座配位子において、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^３１及びＲ^３２は、環を形成する。好ましくは、環は、６員環である。より好ましくは、環は、６員炭素環式環である。あるいは、環は、６員複素環式環である。

【0281】

式（Ｇ）の特に好ましい二座配位子としては、１，１０－フェナントロリン、３，４，７，８－テトラメチル－１，１０－フェナントロリン、４，７－ジメチル－１，１０－フェナントロリン、５，６－ジメチル－１，１０－フェナントロリン、２，９－ジメチル－１，１０－フェナントロリン、２，２’－ビピリジン、４，４’－ジ－メチル－２，２’－ビピリジン及び４，４’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２，２’－ビピリジンが挙げられる。

【0282】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第９族遷移金属触媒は、式（Ｈ）の触媒であり、
［Ｍ^ｄ（Ｌ^３）（Ｘ^ｄ）（ＣＯＤ）］（Ｈ）
式中、
Ｍ^ｄは、第９族遷移金属、好ましくはイリジウムであり、
Ｌ^３は、先に定義した式（Ｇ）の二座配位子であり、
Ｘ^ｄは、アニオン性配位子であり、
ＣＯＤは、シクロオクタジエンである。

【0283】

式（Ｈ）の好ましい第９族遷移金属触媒において、Ｘ^ｄは、ハロ基、例えば、－Ｃｌ、－Ｂｒ、及び－Ｉ、アルコキシ基、又はトリフルオロアセテート（すなわち、Ｆ_３ＣＣＯ_２ ^－）である。好ましくは、Ｘ^ｄは、－Ｃｌである。

【0284】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第９族遷移金属触媒は、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）（１，１０－フェナントロリン）イリジウム（Ｉ）、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）（３，４，７，８－テトラメチル－１，１０－フェナントロリン）イリジウム（Ｉ）、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）（４，７－ジメチル－１，１０－フェナントロリン）イリジウム（Ｉ）、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）（５，６－ジメチル－１，１０－フェナントロリン）イリジウム（Ｉ）、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）（２，９－ジメチル－１，１０－フェナントロリン）イリジウム（Ｉ）、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）（２，２’－ビピリジン）イリジウム（Ｉ）、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）（４，４’－ジ－メチル－２，２’－ビピリジン）イリジウム（Ｉ）、又はクロロ（１，５－シクロオクタジエン）（４，４’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２，２’－ビピリジン）イリジウム（Ｉ）である。本発明の特に好ましいプロセスにおいて、第９族遷移金属触媒は、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）（１，１０－フェナントロリン）イリジウム（Ｉ）である。

【0285】

当業者によって理解されるように、第９族遷移金属触媒は、系中で形成され得る。また、当業者によって理解されるように、活性触媒種は、系中で形成されてもよい。

【0286】

第９族遷移金属触媒は、ＴＨＦ、ジオキサン、ジエチルエーテル、又はシクロペンチルメチルエーテルなどの溶媒との付加物の形態であってもよい。好ましくは、第９族遷移金属触媒は、ＴＨＦとの付加物の形態である。したがって、本発明の好ましいプロセスにおいて、第９族遷移金属触媒は、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）（１，１０－フェナントロリン）イリジウム（Ｉ）・ＴＨＦ付加物、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）（３，４，７，８－テトラメチル－１，１０－フェナントロリン）イリジウム（Ｉ）・ＴＨＦ付加物、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）（４，７－ジメチル－１，１０－フェナントロリン）イリジウム（Ｉ）・ＴＨＦ付加物、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）（５，６－ジメチル－１，１０－フェナントロリン）イリジウム（Ｉ）・ＴＨＦ付加物、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）（２，９－ジメチル－１，１０－フェナントロリン）イリジウム（Ｉ）・ＴＨＦ付加物、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）（２，２’－ビピリジン）イリジウム（Ｉ）・ＴＨＦ付加物、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）（４，４’－ジ－メチル－２，２’－ビピリジン）イリジウム（Ｉ）・ＴＨＦ付加物、又はクロロ（１，５－シクロオクタジエン）（４，４’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２，２’－ビピリジン）イリジウム（Ｉ）・ＴＨＦ付加物である。本発明の特に好ましいプロセスにおいて、第９族遷移金属触媒は、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）（１，１０－フェナントロリン）イリジウム（Ｉ）・ＴＨＦ付加物である。

【0287】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第９族遷移金属触媒は、化合物（ＶＩＩＩ）の総量に基づいて０．０１～１．０ｍｏｌ％、好ましくは化合物（ＶＩＩＩ）の総量に基づいて０．０５～０．８ｍｏｌ％、好ましくは化合物（ＶＩＩＩ）の総量に基づいて０．１～０．５ｍｏｌ％、より好ましくは化合物（ＶＩＩＩ）の総量に基づいて０．１～０．２５ｍｏｌ％の量で存在する。本発明のプロセスにおいて、式（ＶＩＩＩ）中のＺは、－ＳＯ_２Ｒ’’又は－ＣＯ_２Ｒ^３である。このようなＺ基は、典型的には式（ＩＸ）の化合物を固体にするので、式（ＩＸ）の化合物の単離及び精製を補助し、このことは、容易に濾過又は結晶化することができることを意味する。更に、式（ＶＩＩＩ）の化合物におけるそのようなＺ基の存在は、式（ＩＸ）の化合物を形成するホウ素化反応の収率を改善するのに役立つとも考えられる。理論に束縛されることを望まないが、これは、（ｉ）Ｚ基が触媒を導く能力、及び（ｉｉ）Ｚ基の立体的かさ高さ（触媒と基質との間の立体的相互作用の結果として生成物における正確な位置選択性を確実にする）に起因すると考えられる。

【0288】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＶＩＩＩ）中のＺは、－ＣＯ_２Ｒ^３である。好ましくは、Ｒ^３は、置換若しくは非置換のＣ_１～１０直鎖若しくはＣ_３～１０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～１０アリール基である。特に好ましいＣ_１～１０－アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、及びヘキシル、より好ましくはメチル、エチル、ｉｓｏ－プロピル、ｔｅｒｔ－ブチル、更により好ましくはｔｅｒｔ－ブチルが挙げられる。好ましいＣ_６～１０－アリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、及びメトキシフェニル、より好ましくはフェニルが挙げられる。

【0289】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＶＩＩＩ）中のＺは、－ＳＯ_２Ｒ’’である。好ましくは、Ｒ’’は、置換若しくは非置換のＣ_１～１０直鎖若しくはＣ_３～１０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～１０アリール基である。特に好ましいＣ_１～１０－アルキル基としては、メチル、トリフルオロメチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、及びヘキシル、より好ましくはメチル、エチル、ｉｓｏ－プロピル、及びｔｅｒｔ－ブチル、更により好ましくはメチル及びエチルが挙げられる。好ましいＣ_６～１０－アリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、メトキシフェニル、ブロモフェニル、及びニトロフェニル、より好ましくはトリルが挙げられる。

【0290】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＶＩＩＩ）の化合物は、５～１００℃、好ましくは１０～９０℃、より好ましくは２０～８０℃、より好ましくは５０～７０℃の範囲の温度で反応する。

【0291】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＶＩＩＩ）の化合物を０．５～２時間、好ましくは１～１．５時間の期間にわたって反応させる。

【0292】

本発明の好ましいプロセスにおいて、ホウ素化剤は、式（Ｊ）又は式（Ｋ）の化合物であり、
ＨＢ（ＯＲ^４）（ＯＲ^５）（Ｊ）
［Ｂ（ＯＲ^４）（ＯＲ^５）］_２（Ｋ）
式（Ｊ）の化合物において、Ｒ^４及びＲ^５は、独立して、Ｈ、又は１～２０個の炭素原子を含む置換若しくは非置換の有機基であるか、又は、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^４及びＲ^５は、環を形成し、
式（Ｋ）の化合物において、各Ｒ^４及びＲ^５が、独立して、Ｈ、又は１～２０個の炭素原子を含む置換若しくは非置換の有機基であるか、又は、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^４及びＲ^５の各々の場合は、環を形成し得る。

【0293】

本発明の好ましいプロセスにおいて、ホウ素化剤は、式（Ｊ）の化合物であり、Ｒ^４及びＲ^５は、独立して、Ｈ又は置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基であるか、又は、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^４及びＲ^５は、環を形成する。

【0294】

本発明の好ましいプロセスにおいて、ホウ素化剤は、式（Ｊ）の化合物であり、Ｒ^４及びＲ^５は、独立して、Ｈ又は置換若しくは非置換のＣ_１～１０直鎖若しくはＣ_３～１０分枝鎖アルキル基、より好ましくはＨ又は置換若しくは非置換のＣ_１～５直鎖若しくはＣ_３～５分枝鎖アルキル基である。例えば、ホウ素化剤は、ビス（３－エチル－３－ペントキシ）ボランであり得る。

【0295】

本発明の代替的な好ましいプロセスにおいて、ホウ素化剤は、式（Ｊ）の化合物であり、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^４及びＲ^５は、環を形成する。例えば、ホウ素化剤は、ＨＢｐｉｎ又はＨｂＣａｔ、好ましくはＨＢｐｉｎであり得る。

【0296】

本発明の好ましいプロセスにおいて、ホウ素化剤は、式（Ｋ）の化合物であり、Ｒ^４及びＲ^５は、独立して、Ｈ又は置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基であるか、又は、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^４及びＲ^５の各々の場合は、環を形成し得る。

【0297】

本発明の好ましいプロセスにおいて、ホウ素化剤は、式（Ｋ）の化合物であり、Ｒ^４及びＲ^５は、独立して、Ｈ又は置換若しくは非置換のＣ_１～１０直鎖若しくはＣ_３～１０分枝鎖アルキル基、より好ましくはＨ又は置換若しくは非置換のＣ_１～５直鎖若しくはＣ_３～５分枝鎖アルキル基、更により好ましくはＨである。例えば、ホウ素化剤は、（ジヒドロキシボラニル）ホウ酸であり得る。

【0298】

本発明の代替的な好ましいプロセスにおいて、ホウ素化剤は、式（Ｋ）の化合物であり、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^４及びＲ^５の各々の場合は、環を形成する。例えば、ホウ素化剤は、Ｂ_２ｐｉｎ_２又はビス（カテコラト）二ホウ素、好ましくはＢ_２ｐｉｎ_２であり得る。

【0299】

本発明の好ましいプロセスにおいて、ホウ素化剤は、Ｂ_２ｐｉｎ_２、ＨＢｐｉｎ、（ジヒドロキシボラニル）ホウ酸、ＨＢｃａｔ、及びビス（カテコラト）二ホウ素から選択される。より好ましくは、ホウ素化剤は、ＨＢｐｉｎ及びＢ_２ｐｉｎ_２から選択される。最も好ましくは、ホウ素化剤は、Ｂ_２ｐｉｎ_２である。

【0300】

本発明の好ましいプロセスにおいて、ホウ素化剤は、上述の式（ＶＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて７０ｍｏｌ％以上、より好ましくは上述の式（ＶＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて８０ｍｏｌ％以上、より好ましくは上述の式（ＶＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて９０ｍｏｌ％以上、より好ましくは上述の式（ＶＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて１００ｍｏｌ％以上の量で存在する。

【0301】

本発明の好ましいプロセスにおいて、ホウ素化剤は、上述の式（ＶＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて７０～２００ｍｏｌ％、より好ましくは上述の式（ＶＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて７０～１７５ｍｏｌ％、より好ましくは上述の式（ＶＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて７０～１５０ｍｏｌ％、より好ましくは上述の式（ＶＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて７０～１２５ｍｏｌ％、より好ましくは上述の式（ＶＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて７０～１００ｍｏｌ％、より好ましくは上述の式（ＶＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて７０～９０ｍｏｌ％、更により好ましくは上述の式（ＶＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて７０～８０ｍｏｌ％の量で存在する。

【0302】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＶＩＩＩ）の化合物は、式（ＶＩＩ）の化合物と、

【0303】

【化65】

【0304】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｒ^３Ｏ（ＣＯ））_２Ｏの化合物は、（ＭｅＯ（ＣＯ））_２Ｏ、（ＥｔＯ（ＣＯ））_２Ｏ、（^ｉＰｒＯ（ＣＯ））_２Ｏ、及び（^ｔＢｕＯ（ＣＯ））_２Ｏから選択される。最も好ましくは、式（Ｒ^３Ｏ（ＣＯ））_２Ｏの化合物は、（^ｔＢｕＯ（ＣＯ））_２Ｏである。

【0305】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式Ｒ’’ＳＯ_２Ｘ^ａのハロゲン化スルホニルは、ハロゲン化ベンゼンスルホニル、ハロゲン化ブロシル、ハロゲン化トシル、ハロゲン化ノシル、ハロゲン化メシル、ハロゲン化トリフリル、及びハロゲン化エタンスルホニルから選択される。本発明の特に好ましいプロセスにおいて、式Ｒ’’ＳＯ_２Ｘ^ａのハロゲン化スルホニルは、塩化ベンゼンスルホニル、塩化ブロシル、塩化トシル、塩化ノシル、塩化メシル、塩化トリフリル、及び塩化エタンスルホニルから選択される。最も好ましくは、式Ｒ’’ＳＯ_２Ｘ^ａのハロゲン化スルホニルは、塩化トシルである。

【0306】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式Ｒ’’ＳＯ_２Ｘ^ａのハロゲン化スルホニル又は式（Ｒ^３Ｏ（ＣＯ））_２Ｏの化合物は、上述の式（ＶＩＩ）の化合物の総量に基づいて１１０～１５０ｍｏｌ％、好ましくは上述の式（ＶＩＩ）の化合物の総量に基づいて１１０～１２０ｍｏｌ％の量で存在する。

【0307】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＶＩＩ）の化合物を、塩基の存在下で、式Ｒ’’ＳＯ_２Ｘ^ａのハロゲン化スルホニル又は式（Ｒ^３Ｏ（ＣＯ））_２Ｏの化合物と反応させる。好ましくは、塩基は、有機塩基である。より好ましくは、塩基は、有機アミンである。更により好ましくは、塩基は、Ｎ－Ｎ－ジメチルアニリン、トリエチルアミン、Ｅｔ_２ ^ｉＰｒＮ、ピリジン、ＤＭＡＰ、ＤＡＢＣＯ及びＤＢＵから選択される。最も好ましくは、塩基は、Ｎ－Ｎ－ジメチルアニリンである。

【0308】

本発明の好ましいプロセスにおいて、塩基は、上述の式（ＶＩＩ）の化合物の総量に基づいて１．０～４．０ｍｏｌ％、好ましくは上述の式（ＶＩＩ）の化合物の総量に基づいて２．０～３．０ｍｏｌ％の量で存在する。

【0309】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＶＩＩ）の化合物を室温で反応させる。

【0310】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＶＩＩ）の化合物を０．５～２時間、好ましくは１～１．５時間の期間にわたって反応させる。

【0311】

本発明はまた、式（ＶＩ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体を調製するためのプロセスであって、

【0312】

【化66】

式（Ｉ）の化合物

【0313】

【化67】

【0314】

【化68】

酸触媒の存在下で反応させて、式（ＩＩＩ）の化合物

【0315】

【化69】

【0316】

【化70】

【0317】

【化71】

（式中、Ｒ^２が、上で定義した通りである）を得ることと、
式（ＶＩＩ）の化合物と

【0318】

【化72】

【0319】

【化73】

【0320】

【化74】

【0321】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第１の塩基は、金属アルコキシドである。金属アルコキシドは、好ましくは、金属メトキシド、金属エトキシド、金属ｉｓｏ－プロポキシド、又は金属ｔｅｒｔ－ブトキシドである。

【0322】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第１の塩基は、アルカリ金属アルコキシドである。アルカリ金属アルコキシドは、好ましくは、アルカリ金属メトキシド、アルカリ金属エトキシド、アルカリ金属ｉｓｏ－プロポキシド、又はアルカリ金属ｔｅｒｔ－ブトキシドである。アルカリ金属アルコキシドは、より好ましくは、アルカリ金属ｔｅｒｔ－ブトキシドである。

【0323】

【0324】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第１の塩基は、上述の式（ＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて１０～１００ｍｏｌ％、好ましくは上述の式（ＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて２０～９０ｍｏｌ％、より好ましくは上述の式（ＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて３０～８０ｍｏｌ％（例えば、上述の式（ＩＩＩ）の化合物の総量に基づいて５０ｍｏｌ％）の量で存在する。

【0325】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第２の塩基は、金属アルコキシドである。金属アルコキシドは、好ましくは、金属メトキシド、金属エトキシド、金属ｉｓｏ－プロポキシド、又は金属ｔｅｒｔ－ブトキシドである。

【0326】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第２の塩基は、アルカリ金属アルコキシドである。アルカリ金属アルコキシドは、好ましくは、アルカリ金属メトキシド、アルカリ金属エトキシド、アルカリ金属ｉｓｏ－プロポキシド、又はアルカリ金属ｔｅｒｔ－ブトキシドである。アルカリ金属アルコキシドは、より好ましくは、アルカリ金属メトキシド又はアルカリ金属エトキシド、好ましくはアルカリ金属メトキシドである。

【0327】

【0328】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第２の塩基は、上述の式（ＩＶ）の化合物又はその塩の総量に基づいて１～１０ｍｏｌ％、好ましくは上述の式（ＩＶ）の化合物又はその塩の総量に基づいて２～９ｍｏｌ％、より好ましくは上述の式（ＩＶ）の化合物又はその塩の総量に基づいて３～８ｍｏｌ％（例えば、上述の式（ＩＶ）の化合物又はその塩の総量に基づいて５ｍｏｌ％）の量で存在する。

【0329】

第３の塩基は、カップリング反応を進行させるのに十分に強いが、式（Ｖ）のカーボネート化合物がその存在下で分解するほど強くないことを確実にするように選択されなければならない。当業者は、適切な塩基を選択することができる。

【0330】

したがって、本発明の好ましいプロセスにおいて、第３の塩基は、金属炭酸塩、金属リン酸塩、金属水酸化物、及びアミン塩基から選択される。好ましくは、第３の塩基は、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属水酸化物、及びアミン塩基から選択される。より好ましくは、第３の塩基は、Ｎａ_２ＣＯ_３、Ｋ_２ＣＯ_３、Ｎａ_３ＰＯ_４、Ｋ_３ＰＯ_４、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｅｔ_３Ｎ、Ｅｔ_２ ^ｉＰｒＮ、ＤＭＡＰ、ＤＡＢＣＯ、又はＤＢＵから選択される。最も好ましくは、第３の塩基は、Ｋ_２ＣＯ_３である。

【0331】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第３の塩基は、アルコキシド塩基（例えば、金属アルコキシド）ではない。

【0332】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第３の塩基は、金属炭酸塩、好ましくはアルカリ金属炭酸塩である。本発明の特に好ましいプロセスにおいて、第３の塩基は、Ｎａ_２ＣＯ_３及びＫ_２ＣＯ_３から選択される。最も好ましくは、第３の塩基は、Ｋ_２ＣＯ_３である。

【0333】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第３の塩基は、金属リン酸塩、好ましくはアルカリ金属リン酸塩である。本発明の特に好ましいプロセスにおいて、第３の塩基は、Ｎａ_３ＰＯ_４及びＫ_３ＰＯ_４から選択される。最も好ましくは、第３の塩基は、Ｋ_３ＰＯ_４である。

【0334】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第３の塩基は、金属水酸化物、好ましくはアルカリ金属水酸化物である。本発明の特に好ましいプロセスにおいて、第３の塩基は、ＮａＯＨ及びＫＯＨから選択される。最も好ましくは、塩基は、ＫＯＨである。

【0335】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第３の塩基は、アミン塩基である。好ましくは、アミン塩基は、Ｒ’－ＮＨ_２、Ｒ’_２ＮＨ、及びＲ’_３Ｎから選択される式を有する化合物であり、式中、Ｒ’は、独立して、アルキル、アリール若しくはヘテロアリール基であるか、又はアミン塩基は、環状アミン塩基である。本発明の特に好ましいプロセスにおいて、第３の塩基は、Ｅｔ_３Ｎ、Ｅｔ_２ ^ｉＰｒＮ、ＤＭＡＰ、ＤＡＢＣＯ、又はＤＢＵから選択される。最も好ましくは、第３の塩基は、Ｅｔ_３Ｎである。

【0336】

本発明の好ましいプロセスにおいて、第３の塩基は、式（Ｖ）の化合物の総量に基づいて５０～３００ｍｏｌ％、より好ましくは式（Ｖ）の化合物の総量に基づいて１００～２５０ｍｏｌ％、より好ましくは式（Ｖ）の化合物の総量に基づいて１５０～２００ｍｏｌ％の量で存在する。

【0337】

本発明のこのプロセスの他の好ましい特徴は、上述の通りである。当業者によって理解されるように、式（Ｖ）の化合物をもたらすプロセスにおける工程は、式（ＩＸ）の化合物をもたらすプロセスにおける工程の前、後、又はそれと同時に実施され得る。

【0338】

本発明はまた、式（ＶＩ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体を調製するためのプロセスであって、

【0339】

【化75】

式（Ｉ）の化合物

【0340】

【化76】

【0341】

【化77】

酸触媒の存在下で反応させて、式（ＩＩＩ）の化合物

【0342】

【化78】

【0343】

【化79】

式（ＶＩＩ）の化合物と

【0344】

【化80】

【0345】

【化81】

（式中、Ｚが、－ＳＯ_２Ｒ’’又は－ＣＯ_２Ｒ^３であり、Ｒ’’及びＲ^３が、上で定義した通りである）を得ることと、
上述の式（ＶＩＩＩ）の化合物と、ホウ素化剤とを、第９族遷移金属触媒の存在下で反応させ、式（ＩＸ）の化合物

【0346】

【化82】

【0347】

【化83】

【0348】

当業者によって理解されるように、本発明のこの特定のプロセスは、式（Ｖ）の化合物が系中で調製されるので、第２の塩基を伴わない。

【0349】

【0350】

【0351】

【0352】

【0353】

【0354】

したがって、本発明の好ましいプロセスにおいて、第３の塩基は、金属アルコキシド、金属炭酸塩、金属リン酸塩、金属水酸化物、及びアミン塩基から選択される。好ましくは、第３の塩基は、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属水酸化物、及びアミン塩基から選択される。より好ましくは、第３の塩基は、ＬｉＯ^ｔＢｕ、ＮａＯ^ｔＢｕ、ＫＯ^ｔＢｕ、Ｎａ_２ＣＯ_３、Ｋ_２ＣＯ_３、Ｎａ_３ＰＯ_４、Ｋ_３ＰＯ_４、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｅｔ_３Ｎ、Ｅｔ_２ ^ｉＰｒＮ、ＤＭＡＰ、ＤＡＢＣＯ、又はＤＢＵから選択される。最も好ましくは、第３の塩基は、Ｋ_２ＣＯ_３又はＫＯ^ｔＢｕである。

【0355】

【0356】

【0357】

【0358】

【0359】

本発明の特に好ましいプロセスにおいて、第３の塩基は、金属アルコキシド、好ましくはアルカリ金属アルコキシドである。より好ましくは、第３の塩基は、ＬｉＯ^ｔＢｕ、ＮａＯ^ｔＢｕ、及びＫＯ^ｔＢｕから選択される。最も好ましくは、第３の塩基は、ＫＯ^ｔＢｕである。

【0360】

【0361】

本発明のこのプロセスの他の好ましい特徴は、上述の通りである。当業者によって理解されるように、式（ＩＶ）の化合物をもたらす工程は、式（ＩＸ）の化合物をもたらすプロセスにおける工程の前、後、又はそれと同時に実施され得る。

【0362】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＩＩ）の化合物は、

【0363】

【化84】

である。

【0364】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（Ｖ）の化合物は、

【0365】

【化85】

である。

【0366】

本発明の好ましいプロセスにおいて、式（ＩＸ）の化合物は、

【0367】

【化86】

である。

【0368】

本発明はまた、式（ＩＩＩ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体であって

【0369】

【化87】

【0370】

本発明の好ましい化合物において、式（ＩＩＩ）中のＲ^１は、置換若しくは非置換のＣ_１～１０直鎖若しくはＣ_３～１０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～１０アリール基である。特に好ましいＣ_１～１０－アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、及びヘキシル、より好ましくはメチル、エチル、ｉｓｏ－プロピル、ｔｅｒｔ－ブチル、更により好ましくはエチルが挙げられる。好ましいＣ_６～１０－アリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、及びメトキシフェニル、より好ましくはフェニルが挙げられる。

【0371】

本発明はまた、式（Ｖ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体であって

【0372】

【化88】

式中、Ｒ^２が、置換又は非置換のＣ_１～２０直鎖又はＣ_３～２０分枝鎖アルキル基である、化合物、又はその塩若しくは誘導体を提供する。

【0373】

本発明の好ましい化合物において、式（Ｖ）中のＲ^２は、置換又は非置換のＣ_１～１０直鎖又はＣ_３～１０分枝鎖アルキル基、好ましくは置換又は非置換のＣ_１～５直鎖又はＣ_３～５分枝鎖アルキル基である。より好ましくは、式（Ｖ）中のＲ^２は、メチル、エチル、ｉｓｏ－プロピル又はｔｅｒｔ－ブチルである。最も好ましくは、式（Ｖ）中のＲ^２は、メチルである。

【0374】

本発明はまた、式（ＩＸ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体であって

【0375】

【化89】

式中、Ｚが、－ＳＯ_２Ｒ’’又は－ＣＯ_２Ｒ^３であり、
Ｒ’’が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基であり、
Ｒ^３が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基であり、
Ｒ^４及びＲ^５が、独立して、Ｈ、又は１～２０個の炭素原子を含む置換若しくは非置換の有機基であるか、又は、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^４及びＲ^５が環を形成するが、
但し、Ｚがトシルではない、化合物、又はその塩若しくは誘導体を提供する。

【0376】

本発明の好ましい化合物において、式（ＩＸ）中のＺは、－ＣＯ_２Ｒ^３であり、Ｒ^３は、置換若しくは非置換のＣ_１～１０直鎖若しくはＣ_３～１０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～１０アリール基である。特に好ましいＣ_１～１０－アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、及びヘキシル、より好ましくはメチル、エチル、ｉｓｏ－プロピル、ｔｅｒｔ－ブチル、更により好ましくはｔｅｒｔ－ブチルが挙げられる。好ましいＣ_６～１０－アリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、及びメトキシフェニル、より好ましくはフェニルが挙げられる。

【0377】

本発明の好ましい化合物において、式（ＩＸ）中のＺは、－ＳＯ_２Ｒ’’であり、Ｒ’’は、置換若しくは非置換のＣ_１～１０直鎖若しくはＣ_３～１０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～１０アリール基である。特に好ましいＣ_１～１０－アルキル基としては、メチル、トリフルオロメチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、及びヘキシル、より好ましくはメチル、エチル、ｉｓｏ－プロピル、及びｔｅｒｔ－ブチル、更により好ましくはメチル及びエチルが挙げられる。好ましいＣ_６～１０－アリール基としては、フェニル、キシリル、メトキシフェニル、ブロモフェニル、及びニトロフェニルが挙げられる。

【0378】

本発明の好ましい化合物において、式（ＩＸ）中のＲ^４及びＲ^５は、独立して、Ｈ又は置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基であるか、又は、それらが結合している原子と一緒になって、Ｒ^４及びＲ^５は、環を形成する。

【0379】

本発明の好ましい化合物において、式（ＩＸ）中のＲ４及びＲ５は、独立して、Ｈ又は置換若しくは非置換のＣ_１～１０直鎖若しくはＣ_３～１０分枝鎖アルキル基、より好ましくはＨ又は置換若しくは非置換のＣ_１～５直鎖若しくはＣ_３～５分枝鎖アルキル基、更により好ましくはＨである。

【0380】

本発明の代替的な好ましい化合物において、それらが結合している原子と一緒になって、式（ＩＸ）中のＲ^４及びＲ^５は、環を形成する。より好ましくは、Ｒ^４及びＲ^５は、－Ｂｐｉｎ又は－Ｂｃａｔである環を形成する。更により好ましくは、Ｒ^４及びＲ^５は、－Ｂｐｉｎである環を形成する。

【0381】

本発明は、式（ＶＩ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体を調製するためのプロセスに関する。本発明はまた、式（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＩＸ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体に関する。これらの化合物は、式（ＶＩ）の化合物の合成における中間体である。好ましい塩は、化合物の生物学的有効性及び特性を保持し、適切な非毒性の有機又は無機酸から形成されるものである。酸付加塩が好ましい。塩の代表的な例としては、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、スルファミン酸、リン酸及び硝酸などの無機酸から誘導されるもの、並びにｐ－トルエンスルホン酸、サリチル酸、メタンスルホン酸、シュウ酸、コハク酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、フマル酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸から誘導されるものが挙げられる。化合物の塩への修飾は、化学者に周知の技術である。

【0382】

本発明はまた、本明細書で先に記載した化合物を含む薬学的組成物を提供する。本発明の薬学的組成物は、任意の従来の形態をとり得る。

【0383】

本発明の薬学的組成物は、１つ以上の薬学的に許容される担体を含み得る。

【0384】

本発明の薬学的組成物において、本発明の化合物は、単独で、又は別の活性成分と組み合わせて存在することができる。

【0385】

本発明はまた、医薬として使用するための本明細書で先に記載した化合物及び組成物を提供する。

【0386】

本発明はまた、がんの治療において使用するための、本明細書で先に記載した化合物及び組成物であって、好ましくは、がんが、腱滑膜巨細胞腫瘍（ＴＧＣＴ）である、化合物及び組成物を提供する。

【0387】

本発明はまた、がんの治療のための医薬の製造のための、本明細書で先に記載した化合物及び組成物の使用であって、好ましくは、がんが、腱滑膜巨細胞腫瘍（ＴＧＣＴ）である、使用を提供する。

【0388】

本発明はまた、式（ＶＩ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体を調製するためのプロセスであって、

【0389】

【化90】

式（ＩＩＩ）の化合物

【0390】

【化91】

（式中、Ｒ^１が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基である）を、
第８族遷移金属触媒及び塩基の存在下で、水素で還元して、式（ＩＶ）の化合物を得る工程を含む、プロセスを提供する

【0391】

【化92】

【0392】

式（ＩＩＩ）の化合物を還元する工程の好ましい特徴は、上述の通りである。

【0393】

式（ＩＩＩ）の化合物を調製するための好ましい工程は、上述の通りである。

【0394】

式（ＩＶ）の化合物又はその塩を式（ＶＩ）の化合物に変換するための好ましい工程は、上述の通りである。

【0395】

本発明はまた、式（ＶＩ）の化合物、又はその塩若しくは誘導体を調製するためのプロセスであって、

【0396】

【化93】

式（ＶＩＩＩ）の化合物

【0397】

【化94】

（式中、Ｚが、－ＳＯ_２Ｒ’’又は－ＣＯ_２Ｒ^３であり、
Ｒ’’が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基であり、
Ｒ^３が、置換若しくは非置換のＣ_１～２０直鎖若しくはＣ_３～２０分枝鎖アルキル基、又は置換若しくは非置換のＣ_６～２０アリール基である）と、
ホウ素化剤とを、第９族遷移金属触媒の存在下で反応させ、式（ＩＸ）の化合物を得る工程を含む、プロセスを提供する

【0398】

【化95】

【0399】

式（ＶＩＩＩ）の化合物と、ホウ素化剤とを、第９族遷移金属触媒の存在下で反応させる工程の好ましい特徴は、上述の通りである。

【0400】

式（ＶＩＩＩ）の化合物を調製するための好ましい工程は、上述の通りである。

【0401】

式（ＩＸ）の化合物を式（ＶＩ）の化合物に変換するための好ましい工程は、上述の通りである。

【0402】

これから、以下の非限定的な実施例を用いて本発明を更に説明する。

【実施例】

【0403】

材料
Ｒｕ－ＳＮＳ、（ｄｉｐｐｆ）ＰｄＣｌ_２及びクロロ（１，５－シクロオクタジエン）（１，１０－フェナントロリン）イリジウム（Ｉ）・ＴＨＦ付加物は、ＪｏｈｎｓｏｎＭａｔｔｈｅｙから市販されている。

【0404】

ビス（ピナコラト）二ホウ素、５－クロロ－１Ｈ－ピロロ［２，３－ｂ］ピリジン、６－アミノニコチン酸メチル、及び６－（トリフルオロメチル）ニコチンアルデヒドは、例えばＣｏｍｂｉ－Ｂｌｏｃｋｓから市販されている。

【0405】

全ての溶媒は、例えば、Ｍｉｌｉｐｏｒｅ－Ｓｉｇｍａから市販されている。

【0406】

ジ－ｔｅｒｔ－ブチルジカーボネート、４－ジメチルアミノピリジン、トリフルオロ酢酸、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウムメトキシド及び炭酸カリウムは、例えば、Ｍｉｌｉｐｏｒｅ－Ｓｉｇｍａから市販されている。

【0407】

炭酸ジメチルは、例えばＴＣＩＡｍｅｒｉｃａから市販されている。

【0408】

測定方法
核磁気共鳴（nuclear magnetic resonance、ＮＭＲ）測定は、ＢｒｕｋｅｒＡｖａｎｃｅＩＩ４００ＭＨｚを使用して行った。

【0409】

（実施例）
実施例１：メチル（Ｅ）－６－（（（６－（トリフルオロメチル）ピリジン－３－イル）メチレン）アミノ）ニコチネート（化合物３）の調製

【0410】

【化96】

撹拌棒を備え、空気に開放した２５０ｍＬのフラスコに、６－アミノニコチン酸メチル（化合物１）（２０グラム、１３１ｍｍｏｌ、１当量）及び６－（トリフルオロメチル）ニコチンアルデヒド（化合物２）（２４．２グラム、１３８ｍｍｏｌ、１．０５当量）を投入した。このフラスコに、凝縮器に取り付けたディーンスタークトラップを取り付けた。次いで、フラスコを、凝縮器の上部で、セプタムによって密封した。次いで、反応器を３サイクルの排気及び窒素による充填によって脱気した。次いで、反応器に、１３１ｍＬのトルエン（１Ｍ）をシリンジによって充填した。撹拌棒で撹拌を開始し、トリフルオロ酢酸（１．０ｍＬ、０．１当量）をシリンジから投入した。次いで、反応器を加熱し、アミノピリジン１の消失によって反応が完了するまで４時間還流させた。反応器を２５℃まで冷却し、所望の生成物を結晶化させた。内容物を撹拌しながら、内容物を高減圧によってフィルターにカニューレ挿入した。次いで、反応器を２０ｍＬずつのトルエンで３回洗浄した。次いで、結晶を、高減圧を用いて空気下で乾燥させた。これにより、３８．３ｇ（１２３．９ｍｍｏｌ、９０．１％）のふわふわしたオフホワイト色固体（化合物３）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，クロロホルム－ｄ）δ ９．３２（ｓ，１Ｈ），９．２４（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），９．１２（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），８．５８－８．４９（ｍ，１Ｈ），８．４０（ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．３Ｈｚ，１Ｈ），７．８３（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），３．９８（ｓ，３Ｈ）。
^１３ＣＮＭＲ（１０１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １８９．５０，１６５．６１，１６２．８７，１６０．４６，１５１．８７，１５１．６９，１５１．００，１５０．５６，１３９．８６，１３７．８８，１３７．５２，１３３．７６，１２５．２７，１２０．８８，１２０．８５，１２０．２３，５２．６４。

【0411】

実施例２：（６－（（（６－（トリフルオロメチル）ピリジン－３－イル）メチル）アミノ）ピリジン－３－イル）メタノール（化合物４）の調製

【0412】

【化97】

不活性雰囲気下のライナーに、化合物３（５００ｍｇ、１当量）を投入し、続いてカリウムｔｅｒｔ－ブトキシド（９０ｍｇ、０．５当量）を投入した。次いで、触媒ＲｕＳＮＳ（２０ｍｇ、２ｍｏｌ％）をライナーに投入した。次いで、ライナーを水素発生器に装填した。次いで、水素発生器に窒素を充填し、続いて圧力を解放することによって、水素発生器に酸素をパージした。パージ手順を５回繰り返した。次いで、水素発生器に、トルエン（１．６ｍＬ）中のエタノール（０．２８ｍＬ）を、シリンジによって添加ポートを介して運んだ。次いで、撹拌を開始し（９００ｒｐｍ）、反応器に水素（２８ｂａｒ）を投入した。次いで、水素を一定に供給しながら反応器を２時間かけて６５℃まで加熱した後、８時間かけて１２０℃まで上昇させた。次いで、反応器を冷却し、圧力を解放した。圧力を解放したら、ライナーを取り出し、粗混合物をＭｅＯＨ／ＣＨ_２Ｃｌ_２の溶液で希釈した。次いで、希釈した粗混合物をシリカゲルのパッドに通し、濾液を減圧下で蒸発させた。次いで、粗油状物をＣＨ_２Ｃｌ_２で希釈し、シリカゲルカラムに充填した。次いで、粗物質をカラムクロマトグラフィー（２％～１０％ＭｅＯＨ／ＣＨ_２Ｃｌ_２）によって精製して、３８８ｍｇ（１．３７ｍｍｏｌ、８５％）の明黄色固体（化合物４）を得た。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，クロロホルム－ｄ）δ ８．６９（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ），８．０３（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），７．８４（ｄｄ，Ｊ＝８．１，２．１Ｈｚ，１Ｈ），７．６２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．４７（ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．３Ｈｚ，１Ｈ），６．４０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），５．０４（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１Ｈ），４．６６（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，２Ｈ），４．５３（ｓ，２Ｈ），１．９８（ｓ，１Ｈ）。
^１３ＣＮＭＲ（１０１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １５７．６６，１４９．３６，１４７．５５，１３８．７７，１３７．９０，１３６．４０，１３５．４８，１２６．３５，１２０．５３，１２０．４８，１２０．４６，１２０．４４，１０７．８２，６２．９０，４３．２８。
^１９ＦＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ －６７．７４。

【0413】

実施例３：（（６－（（（６－（トリフルオロメチル）ピリジン－３－イル）メチル）アミノ）ピリジン－３－イル）メチル）カルボン酸メチル（化合物５）の調製

【0414】

【化98】

空気に開放されたフラスコに、化合物４（０．５６６ｇ、２ｍｍｏｌ、１当量）を投入し、続いて炭酸ジメチル（１０．１ｇ、９．４３ｍＬ）を投入した。ＤｅａｎＳｔａｒｋトラップ及び凝集器をフラスコに取り付けた。反応器をセプタムで密封し、窒素を反応器に流した。次いで、反応器を９０℃まで加温し、ナトリウムメトキシドのメタノール溶液をシリンジによってフラスコに投入した（０．０２ｍＬ、４．３Ｍ、０．０５当量）。次いで、反応器を加温して還流させた。次いで、留出物をトラップ内に３０分間集めた。ＤｅａｎＳｔａｒｋトラップが留出物で満たされたら、それを廃棄し、トラップを炭酸ジメチル（１５ｍＬ）で満たした。溶媒を３０分間還流させた後、トラップ内の溶媒を除去した。このプロセスを３時間繰り返した後、^１ＨＮＭＲによって同定されるように完全な転化に達した。次いで、反応器を冷却させ、有機層をブラインで３回洗浄し、有機層をＮａ_２ＳＯ_４上で乾燥させた。次いで、有機層を濾過し、溶媒を蒸発させた。冷却後、結晶が形成され、次いでこれを集めて化合物５を得た（０．７２０ｇ、１．８ｍｍｏｌ、９０％）。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，クロロホルム－ｄ）δ ８．６８（ｓ，１Ｈ），８．１０（ｓ，１Ｈ），７．８３（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．６０（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．４６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），６．３８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），５．３２－５．１８（ｍ，１Ｈ），５．００（ｓ，２Ｈ），４．６５（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，２Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ）。
^１３ＣＮＭＲ（１０１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １５８．１８，１５５．８３，１４９．３５，１４９．３１，１３８．９３，１３８．６９，１３６．４０，１２０．７９，１２０．４４，１２０．４１，１０７．６６，６７．５８，５４．９５，４３．１１。

【0415】

実施例４：５－クロロ－１Ｈ－ピロロ［２，３－ｂ］ピリジン－１－カルボン酸ｔｅｒｔ－ブチル（化合物８）の調製

【0416】

【化99】

空気に開放されたフラスコに、５－クロロ－１Ｈ－ピロロ［２，３－ｂ］ピリジン（化合物７）（２１ｇ、１３８ｍｍｏｌ、１当量）及び４－Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン（０．３３７ｇ、０．００２８ｍｍｏｌ、０．０２当量）を投入した。フラスコをセプタムで密封し、次いで、３サイクルの排気及び窒素充填によって空気をパージした。反応器に、ＴＨＦをシリンジによって投入した（１２０ｍＬ）。撹拌を開始し、次いで、ＴＨＦ（１８ｍＬ）中のＢｏｃ_２Ｏ（３６．１ｇ、１６５．８ｍｍｏｌ、１．１当量）の溶液を反応器にゆっくり添加し、気体発生を減少させた。Ｂｏｃ_２Ｏの添加後、反応器を１時間撹拌し、粗材料を^１ＨＮＭＲによって分析した。この時点で、出発材料７はもはや存在しなかった。次いで、気体が発生しなくなるまでＨ_２Ｏを反応器に添加した。完了したら、Ｈ_２Ｏを粗物質から分離し、溶媒の大部分を蒸留によって蒸発させた。溶媒の大部分が蒸留されたら、トルエンを加えた（１００ｍＬ）。次いで、溶媒を蒸発させた。トルエンを添加し、蒸発させるこのプロセスを３回繰り返した。油状物を冷却したら、生成物が結晶化し、これを集めて化合物８を得た（３３．４ｇ、１３２ｍｍｏｌ、９６％）。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，クロロホルム－ｄ）δ ８．４３（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），７．６７（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），６．４５（ｄ，Ｊ＝４．１Ｈｚ，１Ｈ），１．６６（ｓ，１０Ｈ）。

【0417】

実施例５：５－クロロ－３－（４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル）－１Ｈ－ピロロ［２，３－ｂ］ピリジン－１－カルボン酸ｔｅｒｔ－ブチル（化合物９）の調製

【0418】

【化100】

空気に開放されたフラスコに、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）（１，１０－フェナントロリン）イリジウム（Ｉ）・ＴＨＦ付加物（０．０３５ｇ、．０００００６ｍｍｏｌ、０．００１当量）及び４，４，４’，４’，５，５，５’，５’－オクタメチル－２，２’－ビ（１，３，２－ジオキサボロラン、Ｂ_２ｐｉｎ_２）（１０．５８ｇ、４１．６７ｍｍｏｌ、０．７当量）をフラスコに投入した。フラスコを密封し、排気及び窒素再充填によって脱気した。次いで、フラスコに、ヘプタン（５９ｍＬ）、次いでｉｓｏ－プロパノール（０．０２３ｍＬ）を投入した。撹拌を開始し、次いでフラスコを均一な暗赤色になるまで、１時間かけて７０℃まで加温した。次いで、窒素をフラスコに流しながらフラスコを解放し、化合物８（１５ｇ、５９．５ｍｍｏｌ、１当量）を触媒溶液に注いだ。反応器を密封し、７０℃で加熱しながら撹拌した。２０分後、白色固体が現れ、溶液は均質からスラリーに変化した。反応器を７０℃で更に４０分間加熱し、次いで冷却した。反応器を冷却したら、スラリーを、フィルターに対してカニューレ挿入した。反応器をヘプタンで洗浄し、得られた混合物を、フィルターに対してカニューレ挿入した。次いで、固体をヘプタンで洗浄し、その上に空気を流すことによって乾燥させて、化合物９を得た（２０．３ｇ、５３．５ｍｍｏｌ、８９％）。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，クロロホルム－ｄ）δ ８．４３（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），８．２２（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），８．０７（ｓ，１Ｈ），１．６６（ｓ，１０Ｈ），１．３７（ｓ，１３Ｈ）。
^１３ＣＮＭＲ（１０１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ １４０．５２，１３６．７９，１３０．０２，１２３．５１，１２０．３２，１２０．１９，７８．０３，７７．００，２１．２７，１８．０６。

【0419】

実施例６：メチル５－（（５－クロロ－１Ｈ－ピロロ［２，３－ｂ］ピリジン－３－イル）メチル）－Ｎ－（（６－（トリフルオロメチル）ピリジン－３－イル）メチル）ピリジン－２－アミン（化合物６）の調製

【0420】

【化101】

フラスコに、（ｄｉｐｐｆ）ＰｄＣｌ_２（１３．１ｍｇ、０．０２２ｍｍｏｌ、２．５ｍｏｌ％）、化合物５（０．１５ｇ、０．３８ｍｍｏｌ、１当量）、Ｋ_２ＣＯ_３（０．２７ｇ、０．７６ｍｍｏｌ、２当量）、及び化合物９（０．３６５ｇ、０．４２ｍｍｏｌ、１．１当量）を計量した。次いで、フラスコをセプタムで密封し、次いで排気し、窒素を再充填した。パージプロセスを３回繰り返し、次いで、窒素を２時間スパージングすることによって脱気した湿潤イソプロパノール（１．１ｍＬ、０．３５Ｍ）をフラスコに添加した。撹拌を開始し、次いで反応器を８時間かけて７０℃まで加熱した。この後、反応混合物を冷却し、酢酸エチルで抽出した。次いで、抽出物を蒸発乾固させた。粗物質を^１ＨＮＭＲによって分析し、所望の生成物への９５％を超える転化がされていることが分かった。この物質をカラムクロマトグラフィー（０～１０％ＭｅＯＨ／ＣＨ_２Ｃｌ_２）により精製して、化合物６を得た（０．２９７ｇ、０．７１２ｍｍｏｌ、８１％）。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，クロロホルム－ｄ）δ ９．６３（ｓ，１Ｈ），８．７２（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ），８．２１（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），８．１０－７．９９（ｍ，１Ｈ），７．９１－７．８１（ｍ，１Ｈ），７．７３（ｄｄ，Ｊ＝２．３，０．７Ｈｚ，１Ｈ），７．６３（ｄｄ，Ｊ＝８．１，０．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２８（ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．３Ｈｚ，１Ｈ），７．０９（ｄｄ，Ｊ＝２．４，１．２Ｈｚ，１Ｈ），６．３５（ｄｄ，Ｊ＝８．５，０．８Ｈｚ，１Ｈ），５．０４（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１Ｈ），４．６５（ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９１（ｓ，２Ｈ）。
^１９ＦＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ －６７．７４。

【国際調査報告】

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