特表 2024-523323 デジタル印刷システム及びプロセス

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-06-28

(54)【発明の名称】デジタル印刷システム及びプロセス

(51)【国際特許分類】

   B41J 2/01 20060101AFI20240621BHJP

【ＦＩ】

B41J2/01 203

B41J2/01 101

B41J2/01 451

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2023577411

(86)(22)【出願日】2022-06-13

(85)【翻訳文提出日】2023-12-14

(86)【国際出願番号】 IB2022055433

(87)【国際公開番号】W WO2022263989

(87)【国際公開日】2022-12-22

(31)【優先権主張番号】63/210,507

(32)【優先日】2021-06-15

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】514210005

【氏名又は名称】ランダ コーポレイション リミテッド

(74)【代理人】

【識別番号】110002723

【氏名又は名称】高法弁理士法人

(72)【発明者】

【氏名】バラン，ギル

(72)【発明者】

【氏名】ゲヴァ，ヨアヴ

【テーマコード（参考）】

2C056

【Ｆターム（参考）】

2C056EA04

2C056EB13

2C056EB46

2C056EC12

2C056EC35

2C056FA13

2C056FD13

(57)【要約】

印刷方法は、印刷システム（１０）の可動中間転写体（ＩＴＭ）（４４）上の第１の位置（１６ａ、２３ａ）に第１の画像を生成し、第１の画像を第１の基板（５０）に転写するためにＩＴＭ（４４）を移動することを含む。第１の位置（１６ａ、２３ａ）とは異なる第２の位置（１６ｂ、２３ｂ）においてＩＴＭ（４４）上に生成されることが意図される第２の画像に対して、（ｉ）第１の位置（１６ａ、２３ａ）に対する第２の位置（１６ｂ、２３ｂ）の意図的なオフセット（１８、２４）を指定し、（ｉｉ）第２の画像を第２の基板（５０）に転写するときにオフセット（１８、２４）を少なくとも部分的に補償するであろうＩＴＭ（４４）の移動を計算し、（ｉｉｉ）第２の画像を生成し、第２の画像を第２の基板（５０）に移動するために、計算された移動に従ってＩＴＭ（４４）を移動する。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

印刷するための方法であって、
印刷システムの可動中間転写体（ＩＴＭ）上の第１の位置に第１の画像を生成し、前記第１の画像を第１の基板に転写するために前記ＩＴＭを移動することと、
前記第１の位置とは異なる第２の位置において前記ＩＴＭ上に生成されることが意図される第２の画像に対して、
前記第１の位置に対して前記第２の位置の意図的なオフセットを指定することと、
前記第２の画像を第２の基板に転写するときに前記オフセットを少なくとも部分的に補償するであろう前記ＩＴＭの移動を計算することと、
前記第２の画像を生成し、前記第２の画像を前記第２の基板に転写するために、前記計算された移動に従って前記ＩＴＭを移動することと、
を含む方法。

【請求項2】

前記第１及び第２の画像は所与の画像のコピーである、請求項１に記載の方法。

【請求項3】

前記第２の画像によって覆われる前記第２の位置は、前記第１の画像によって覆われる前記第１の位置と部分的に重なる、請求項１及び２のいずれかに記載の方法。

【請求項4】

前記ＩＴＭは、回転される閉ループを含み、
（ｉ）前記ＩＴＭの第１の回転中に、前記ＩＴＭを画像形成ステーションに対して前記第１の位置に位置決めすることによって前記第１の画像を生成することと、
（ｉｉ）前記ＩＴＭの第２の回転中に、前記ＩＴＭを前記画像形成ステーションに対して前記第２の位置に位置決めすることによって前記第２の画像を生成することと、
を行う、請求項１及び２のいずれかに記載の方法。

【請求項5】

前記第１の画像を生成した後、前記第２の画像を生成する前に、
（ｉ）前記ＩＴＭ上で第３の画像を、前記第３の画像の意図された位置に対してシフトされた第３の位置に生成することと、
（ｉｉ）前記第３の画像を第３の基板に転写するときに前記シフトを少なくとも部分的に補償するであろう前記ＩＴＭのさらなる移動を計算することと、
（ｉｉｉ）前記第３の画像を前記第３の基板に転写するために、前記計算されたさらなる移動に従って前記ＩＴＭを移動することと、
を含む、請求項４に記載の方法。

【請求項6】

前記意図的なオフセットを、前記ＩＴＭの移動方向と平行な方向に指定する、請求項１及び２のいずれかに記載の方法。

【請求項7】

前記意図的なオフセットを、前記ＩＴＭの移動方向と平行ではない方向に指定する、請求項１及び２のいずれかに記載の方法。

【請求項8】

前記第２の位置の前記意図的なオフセットを第１の方向に沿って行い、
前記方法は、前記第１及び第２の位置とはそれぞれ異なる複数の第３の位置において前記ＩＴＭ上に生成されることが意図される複数の第３の画像に対して、
（ｉ）所定のストロークサイズに基づいて前記第１の方向に沿って前記第３の位置のさらなる意図的なオフセットを指定することと、
（ｉｉ）前記第３の画像を第３の基板にそれぞれ転写するときに前記さらなる意図的なオフセットを少なくとも部分的に補償するであろう前記ＩＴＭの複数の第３の移動を計算することと、
（ｉｉｉ）前記第３の画像を生成し、前記第３の画像を前記第３の基板にそれぞれ転写するために、前記計算された移動に従って前記ＩＴＭを移動することと、
を含む、請求項１及び２のいずれかに記載の方法。

【請求項9】

前記第１、第２、及び第３の基板は、少なくとも前記第１の方向に沿って所与のサイズを有し、
少なくとも前記所定のストロークサイズは、前記所与のサイズに依存する、請求項８に記載の方法。

【請求項10】

前記意図的なオフセット及び前記さらなる意図的なオフセットを適用し、前記所定のストロークサイズに従って前記第１、第２、及び第３の画像を生成及び転写した後で、前記意図的なオフセット及び前記さらなる意図的なオフセットを、前記第１の方向とは異なる第２の方向において行うことを含む、請求項８に記載の方法。

【請求項11】

システムであって、
（ｉ）印刷システムの可動中間転写体（ＩＴＭ）上の第１の位置に第１の画像を生成し、前記第１の画像を第１の基板に転写するために前記ＩＴＭを移動することと、（ｉｉ）前記第１の位置とは異なる第２の位置において第２の画像を生成し、前記第２の画像を第２の基板に転写するために前記ＩＴＭを移動することと、を行うように構成された印刷アセンブリと、
（ｉ）前記第１の位置に対する前記第２の位置の意図的なオフセットを指定することと、（ｉｉ）前記第２の画像を前記第２の基板に転写するときに前記オフセットを少なくとも部分的に補償するであろう前記ＩＴＭの移動を計算することと、（ｉｉｉ）前記印刷アセンブリを制御して、前記第２の画像を前記第２の基板に転写するために、前記計算された移動に従って前記ＩＴＭを移動することと、を行うように構成されたプロセッサと、
を含む、前記システム。

【請求項12】

前記第１及び第２の画像は所与の画像のコピーである、請求項１１に記載のシステム。

【請求項13】

前記プロセッサは、前記第２の画像によって覆われる前記第２の位置の前記意図的なオフセットを、前記第１の画像によって覆われる前記第１の位置と部分的に重なるように指定するように構成されている、請求項１１及び１２のいずれかに記載のシステム。

【請求項14】

前記ＩＴＭは、回転される閉ループを含み、
（ｉ）前記ＩＴＭの第１の回転中に、前記プロセッサは、前記印刷アセンブリを制御して、前記ＩＴＭを画像形成ステーションに対して前記第１の位置に位置決めすることによって前記第１の画像を生成するように構成され、
（ｉｉ）前記ＩＴＭの第２の回転中に、前記プロセッサは、前記印刷アセンブリを制御して、前記ＩＴＭを前記画像形成ステーションに対して前記第２の位置に位置決めすることによって前記第２の画像を生成するように構成されている、
請求項１１及び１２のいずれかに記載のシステム。

【請求項15】

前記第１の画像を生成した後、前記第２の画像を生成する前に、前記プロセッサは、前記印刷アセンブリを制御して、
（ｉ）前記ＩＴＭ上で第３の画像を、前記第３の画像の意図された位置に対してシフトされた第３の位置に生成することと、
（ｉｉ）前記第３の画像を第３の基板に転写するときに前記シフトを少なくとも部分的に補償するであろう前記ＩＴＭのさらなる移動を計算することと、
（ｉｉｉ）前記第３の画像を前記第３の基板に転写するために、前記計算されたさらなる移動に従って前記ＩＴＭを移動することと、
を行うように構成されていることを含む、請求項１４に記載のシステム。

【請求項16】

前記プロセッサは、前記意図的なオフセットを、前記ＩＴＭの移動方向と平行な方向に指定するように構成されている、請求項１１及び１２のいずれかに記載のシステム。

【請求項17】

前記プロセッサは、前記意図的なオフセットを、前記ＩＴＭの移動方向と平行ではない方向に指定するように構成されている、請求項１１及び１２のいずれかに記載のシステム。

【請求項18】

前記プロセッサは、前記第２の位置の前記意図的なオフセットを第１の方向に沿って指定するように構成され、
前記システムは、前記第１及び第２の位置とはそれぞれ異なる複数の第３の位置において前記ＩＴＭ上に生成されることが意図される複数の第３の画像に対して、前記プロセッサが、
（ｉ）所定のストロークサイズに基づいて前記第１の方向に沿って前記第３の位置のさらなる意図的なオフセットを指定することと、
（ｉｉ）前記第３の画像を第３の基板にそれぞれ転写するときに前記さらなる意図的なオフセットを少なくとも部分的に補償するであろう前記ＩＴＭの複数の第３の移動を計算することと、
（ｉｉｉ）前記第３の画像を生成し、前記第３の画像を前記第３の基板にそれぞれ転写するために、前記計算された移動に従って前記ＩＴＭを移動することと、
を行うように構成されていることを含む、請求項１１及び１２のいずれかに記載のシステム。

【請求項19】

前記第１、第２、及び第３の基板は、少なくとも前記第１の方向に沿って所与のサイズを有し、
少なくとも前記所定のストロークサイズは、前記所与のサイズに依存する、請求項１８に記載のシステム。

【請求項20】

前記意図的なオフセット及び前記さらなる意図的なオフセットを適用し、前記所定のストロークサイズに従って前記第１、第２、及び第３の画像を生成及び転写した後で、前記プロセッサは、前記意図的なオフセット及び前記さらなる意図的なオフセットを、前記第１の方向とは異なる第２の方向において行うように構成されていることを含む、請求項１８に記載のシステム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

関連出願の相互参照
本出願は、米国仮特許出願第６３／２１０，５０７号（２０２１年６月１５日に出願）の利益を主張する。なおこの文献の開示は、参照により本明細書に組み込まれている。
技術分野

【0002】

本発明は全般的に、デジタル印刷に関し、詳細には、印刷プロセス中に中間転写体上に生成される痕跡を低減するための方法及びシステムに関する。

【背景技術】

【0003】

印刷システムの中には中間転写体を有するものがある。中間転写体は、画像を受け取って、その画像をターゲット基板に転写するように構成されている。場合によっては、中間転写体上で生成される特定の画像の多数のコピー（たとえば、数千）を含む印刷バッチの場合、中間転写体上の画像の痕の望ましくない形成が引き起こされることがあり、その結果、画像シルエットが他の画像の印刷（たとえば、次の印刷バッチ）に現れることがある。この現象は、本明細書では「記憶」または「ゴースト印刷」とも言い、同じ中間転写体を使用して印刷される後続画像の品質を低下させる場合がある。

【発明の概要】

【0004】

本明細書に記載の本発明の実施形態によって、印刷するための方法が提供される。本方法は、印刷システムの可動中間転写体（ＩＴＭ）上の第１の位置に第１の画像を生成して、第１の画像を第１の基板に転写するためにＩＴＭを移動することを含み、第１の位置とは異なる第２の位置においてＩＴＭ上に生成されることが意図される第２の画像に対して、（ｉ）第１の位置に対する第２の位置の意図的なオフセットを指定し、（ｉｉ）第２の画像を第２の基板に転写するときにオフセットを少なくとも部分的に補償するであろうＩＴＭの移動を計算し、（ｉｉｉ）第２の画像を生成し、第２の画像を第２の基板に転写するために、計算された移動に従ってＩＴＭを移動する。

【0005】

いくつかの実施形態では、第１及び第２の画像は所与の画像のコピーである。他の実施形態では、第２の画像によって覆われる第２の位置は、第１の画像によって覆われる第１の位置と部分的に重なる。さらに他の実施形態では、ＩＴＭは、回転される閉ループを含み、（ｉ）ＩＴＭの第１の回転中に、ＩＴＭを画像形成ステーションに対して第１の位置に位置決めすることによって第１の画像を生成し、（ｉｉ）ＩＴＭの第２の回転中に、ＩＴＭを画像形成ステーションに対して第２の位置に位置決めすることによって第２の画像を生成する。

【0006】

一実施形態では、本方法は、第１の画像を生成した後、第２の画像を生成する前に、（ｉ）ＩＴＭ上で第３の画像を、第３の画像の意図された位置に対してシフトされた第３の位置に生成することと、（ｉｉ）第３の画像を第３の基板に転写するときにシフトを少なくとも部分的に補償するであろうＩＴＭのさらなる移動を計算することと、（ｉｉｉ）第３の画像を第３の基板に転写するために、計算されたさらなる移動に従ってＩＴＭを移動することと、を含む。

【0007】

いくつかの実施形態では、意図的なオフセットを、ＩＴＭの移動方向と平行な方向に指定する。他の実施形態では、意図的なオフセットを、ＩＴＭの移動方向と平行ではない方向に指定する。

【0008】

いくつかの実施形態では、第２の位置の意図的なオフセットを第１の方向に沿って行い、本方法は、第１及び第２の位置とはそれぞれ異なる複数の第３の位置においてＩＴＭ上に生成されることが意図される複数の第３の画像に対して、（ｉ）所定のストロークサイズに基づいて第１の方向に沿った第３の位置のさらなる意図的なオフセットを指定することと、（ｉｉ）第３の画像を第３の基板にそれぞれ転写するときにさらなる意図的なオフセットを少なくとも部分的に補償するであろうＩＴＭの複数の第３の移動を計算することと、（ｉｉｉ）第３の画像を生成し、第３の画像を第３の基板にそれぞれ転写するために、計算された移動に従ってＩＴＭを移動することと、を含む。

【0009】

他の実施形態では、第１の、第２の及び第３の基板は、少なくとも第１の方向に沿って所与のサイズを有し、少なくとも所定のストロークサイズは、所与のサイズに依存する。さらに他の実施形態では、本方法は、意図的なオフセット及びさらなる意図的なオフセットを適用し、所定のストロークサイズに従って第１、第２、及び第３の画像を生成及び転写した後で、意図的なオフセット及びさらなる意図的なオフセットを、第１の方向とは異なる第２の方向において行うことを含む。

【0010】

本発明の実施形態によれば、印刷アセンブリ及びプロセッサを含むシステムが提供される。印刷アセンブリは、（ｉ）印刷システムの可動中間転写体（ＩＴＭ）上の第１の位置に第１の画像を生成し、第１の画像を第１の基板に転写するためにＩＴＭを移動することと、（ｉｉ）第１の位置とは異なる第２の位置において第２の画像を生成し、第２の画像を第２の基板に転写するためにＩＴＭを移動することと、を行うように構成されている。プロセッサは、（ｉ）第１の位置に対する第２の位置の意図的なオフセットを指定することと、（ｉｉ）第２の画像を第２の基板に転写するときにオフセットを少なくとも部分的に補償するであろうＩＴＭの移動を計算することと、（ｉｉｉ）印刷アセンブリを制御して、第２の画像を第２の基板に転写するために、計算された移動に従ってＩＴＭを移動することと、を行うように構成されている。

【0011】

本発明は、図面と併せて、本発明の実施形態の以下の詳細な説明からより十分に理解される。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】本発明の実施形態によるデジタル印刷システムの概略側面図である。

【図2A】本発明の実施形態による、デジタル印刷システムの中間転写体（ＩＴＭ）上での記憶効果の出現の概略図である。

【図2B】本発明の実施形態による、デジタル印刷システムの中間転写体（ＩＴＭ）上での記憶効果の出現の概略図である。

【図2C】本発明の実施形態による、デジタル印刷システムの中間転写体（ＩＴＭ）上での記憶効果の出現の概略図である。

【図2D】本発明の実施形態による、デジタル印刷システムの中間転写体（ＩＴＭ）上での記憶効果の出現の概略図である。

【図3】本発明の実施形態による、画像をターゲット基板に転写するときに、ＩＴＭ上に生成された画像の位置におけるオフセットを補償するための装置の概略側面図である。

【図4】本発明の実施形態による、ＩＴＭを有するデジタル印刷システムにおける記憶効果を減らすための方法を概略的に例示するフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0013】

概要
印刷システムの中には中間転写体を有するものがある。中間転写体は、画像を受け取って、その画像をターゲット基板に転写するように構成されている。場合によっては、中間転写体上で生成される特定の画像の多数のコピー（たとえば、数１０００）を含む印刷バッチの場合、中間転写体上の画像の痕の望ましくない形成が引き起こされることがあり、その結果、画像シルエットが他の画像の印刷（たとえば、次の印刷バッチ）に現れることがある。この現象は、本明細書では「記憶」または「ゴースト印刷」とも言い、同じ中間転写体を使用して印刷される後続画像の品質を低下させる場合がある。

【0014】

原理的には、中間転写体の頻繁な交換プロセス及び／または広範囲の洗浄プロセスによって、後続の印刷における記憶の出現を減らすことは可能である。しかし、このような作業によって、印刷システムの利用率及び生産性が低下し、また大量の化学物質及び中間転写体が廃棄物になる。

【0015】

以下に説明する本発明の実施形態によって、中間転写体を使用したデジタル印刷プロセスにおける記憶の出現を減らすための効率的な方法及びシステムが提供される。

【0016】

いくつかの実施形態では、デジタル印刷システムは、印刷アセンブリであって、（ｉ）中間転写体（ＩＴＭ）の表面に印刷流体の液滴を適用（たとえば、インク滴を噴射）して、その上に画像を生成するように構成された画像形成ステーションと、（ｉｉ）画像をＩＴＭからターゲット基板（たとえば、シート）に転写するように構成されたインプレッションステーションと、（ｉｉｉ）（ａ）画像形成ステーションからインク滴を受け取ることによって画像を生成するため、及び（ｂ）画像をシートに転写するために、ＩＴＭを移動するように構成されたＩＴＭモジュールと、を有する印刷アセンブリを含む。デジタル印刷システムはさらに、印刷アセンブリを制御するように構成されたプロセッサを含む。

【0017】

本例では、ＩＴＭは、エンドレスループ内に形成されたフレキシブル部材であって、（ａ）複数のパネル（各パネルは画像を受け取ることが意図されている）と、（ｂ）画像を受け取ることが意図されていない１つ以上のセクションと、を有するフレキシブル部材を含む。ＩＴＭモジュールは、ＩＴＭを複数の回転で回転させるように構成されており、各パネル及び各回転において、プロセッサは、印刷アセンブリを制御して、画像を生成し、続いて画像をシートに転写することで、次の回転で、所与のパネルが次の画像を受け取れる状態になる。

【0018】

いくつかの実施形態では、パネルの中の所与のパネルに対して、プロセッサは印刷アセンブリを制御して、（ｉ）第１の回転中に、ＩＴＭ上の第１の位置に第１の画像を生成し、第１の画像を第１のシートに転写するためにＩＴＭを移動することと、（ｉｉ）所与のパネル上で、第２の後続の回転中に、第１の位置とは異なる第２の位置に第２の画像を生成し、第２の画像を第２のシートに転写するためにＩＴＭを移動することと、を行うように構成されている。

【0019】

いくつかの実施形態では、プロセッサは、（ｉ）第１の位置に対する第２の位置の意図的なオフセットを指定することと、（ｉｉ）第２の画像を第２の基板に転写するときにオフセットを補償するであろうＩＴＭの移動を計算することと、（ｉｉｉ）印刷アセンブリを制御して、第２の画像を第２の基板に転写するために、計算された移動に従ってＩＴＭを移動することと、を行うように構成されている。なお、ＩＴＭ上の望ましくない記憶痕跡は、ＩＴＭの異なる回転中に所与のパネル上に生成される画像の位置を変えることによって減ることに留意されたい。

【0020】

いくつかの実施形態では、ＩＴＭの引き続いて起こる回転間に各パネルにオフセットを適用することに加えて、プロセッサは、ＩＴＭの異なるパネル間で画像の相対位置をシフトさせるために同じ技術を適用するように構成されている。たとえば、１１個のパネルを有するＩＴＭにおいて、プロセッサは、各隣接するパネル対上に生成されるそれぞれの画像対に対して、前述した技術を適用してもよい。各対において、画像は、本明細書では、「先行」パネル及び「後続」パネル上にそれぞれ生成される「先行」画像及び「後続」画像と言う。この実施形態例では、プロセッサは印刷アセンブリを制御して、先行画像の位置に対して後続画像の位置を、約６０μｍのオフセットだけシフトさせる。したがって、前述の所与のパネルでは、第２の回転において生成される第２の画像は、第１の回転において生成された第１の画像の位置に対して約６６０μｍのオフセット（すなわち、約６０μｍの１１シフト）に位置決めされる。

【0021】

開示した技術によって、（ｉ）中間転写体を有するデジタル印刷システムにおいて印刷される画像の品質、（ｉｉ）このようなシステムの生産性、及び（ｉｉｉ）環境の清浄度に対するこのような印刷プロセスの影響が改善される。

【0022】

システムの説明
図１は、本発明の実施形態によるデジタル印刷システム１０の概略側面図である。いくつかの実施形態では、システム１０は、画像形成ステーション６０、乾燥ステーション６４、インプレッションステーション８４、及びブランケット処理ステーション５２を通って循環する回転フレキシブルブランケット４４を含む。本発明の文脈及び特許請求の範囲において、用語「ブランケット」及び「中間転写体（ＩＴＭ）」は交換可能に使用され、エンドレスループ内に形成される中間転写体として使用される１つ以上の層を含むフレキシブル部材を指す。エンドレスループは、以下で詳細に後述するように、たとえば画像形成ステーション６０からインク画像を受け取り、インク画像をターゲット基板に転写するように構成されている。

【0023】

動作モードでは、画像形成ステーション６０は、ブランケット４４の表面の上段ラン上にデジタル画像４２のミラーインク画像（本明細書では、「インク画像」（図示せず）または簡略にするために「画像」とも言う）を形成するように構成されている。その後、インク画像は、ブランケット４４の下段ランの下に配置されたターゲット基板（たとえば、紙、折り畳みカートン、多層ポリマー、またはシートまたは連続的なウェブの形態の任意の好適なフレキシブルパッケージ）に転写される。

【0024】

本発明の文脈において、用語「ラン」は、ブランケット４４が案内される任意の２つの所与のローラ間のブランケット４４の長さまたはセグメントを指す。

【0025】

いくつかの実施形態では、取り付け中に、ブランケット４４は、シーム部分（本明細書ではシーム４５とも言う）を使用してエッジ間で接着してもよく、これにより、連続的なブランケットループ（本明細書では閉ループとも言う）が形成される。シームを取り付けるための方法及びシステムの例は、米国特許出願公開第２０２０／０１７１８１３号に詳細に記載されている。なおこの文献の開示は、参照により本明細書に組み込まれている。

【0026】

いくつかの実施形態では、画像形成ステーション６０は通常、複数の印刷バー６２を含み、各印刷バー６２は、ブランケット４４の上段ランの表面の上方の固定された高さに位置決めされたフレーム（図示せず）上に取り付けられている。いくつかの実施形態では、各印刷バー６２は、ブランケット４４上の印刷領域と同じ幅の印刷ヘッドのストリップを含み、以下で詳細に説明するように、インク及び他の種類の印刷流体をブランケット４４に噴射するように構成された個別に制御可能な印刷ノズルを含む。

【0027】

いくつかの実施形態では、画像形成ステーション６０は、任意の好適な数の印刷バー６２（本明細書では、簡略にするためにバー６２とも言う）を含んでいてもよい。各バー６２は、異なる色の水性インクなどの印刷流体を含んでいてもよい。インクは通常、シアン、マゼンタ、赤色、緑色、青色、黄色、黒色、及び白色などの可視色を有するが、これらに限定されない。図１の例では、画像形成ステーション６０は７つの印刷バー６２を含んでいるが、たとえば、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、黄色（Ｙ）、及び黒色（Ｋ）などの任意の選択された色を有する４つの印刷バー６２を含んでいてもよい。

【0028】

いくつかの実施形態では、印刷ヘッドは、異なる色のインク滴をブランケット４４の表面上に噴射して、ブランケット４４の表面上にインク画像（図示せず）を形成するように構成されている。本例では、ブランケット４４をシステム１０のＸＹＺ座標系のＸ軸に沿って移動し、インク滴は、印刷ヘッドによって、通常は座標系のＺ軸と平行に送られる。

【0029】

いくつかの実施形態では、異なる印刷バー６２が、移動軸（本明細書では、（ｉ）ブランケット４４の移動方向９４または（ｉｉ）印刷方向とも言う）に沿って、互いに離間に配置されている。本例では、ブランケット４４の移動方向はＸ軸と平行であり、各印刷バー６２はシステム１０のＸＹＺ座標のＹ軸に沿って延びている。この構成では、Ｘ軸に沿ったバー６２間の正確な間隔、及び各バー６２のインクの液滴を送ることとブランケット４４を移動することとの間の同期化が、画像パターンの正しい配置を可能にするためには必須である。

【0030】

本開示の文脈及び特許請求の範囲において、用語「色間パターン配置」、「パターン配置精度」、「色間位置合わせ」、「Ｃ２Ｃ位置合わせ」、「色間の位置差」、「バー間位置合わせ」、及び「色位置合わせ」は、交換可能に使用され、２つ以上の色の互いに対する任意の配置精度を指す。

【0031】

いくつかの実施形態では、システム１０は、ヒーター６６、たとえば、任意の好適な温度でガスもしくは空気を流すための高温ガスもしくは空気ブロワ及び／またはガスもしくは空気ブロワを有する赤外線ベースのヒーターを含む。ヒーター６６は、印刷バー６２の間に位置決めされ、ブランケット４４の表面上に付着したインク滴を部分的に乾燥させるように構成されている。この印刷バー間の空気流は、たとえば、（ｉ）印刷ヘッドの表面における凝縮を減らすこと、及び／またはサテライト（たとえば、主なインク滴の周りに分布する残留物または小さい液滴）を取り扱うこと、及び／または（ｉｉ）印刷ヘッドのインクジェットノズルのオリフィスの目詰まりを防止すること、及び／または（ｉｉｉ）ブランケット４４上の異なる色のインクの液滴が互いに望ましくないほど溶け込むのを防止することを助け得る。

【0032】

いくつかの実施形態では、システム１０は乾燥ステーション６４を含む。乾燥ステーション６４は、赤外線放射及び冷却用空気（または他のガス）を送り、及び／または高温空気（または他のガス）をブランケット４４の表面上に吹き付けるように構成されている。いくつかの実施形態では、乾燥ステーション６４は、赤外線ベースの照明アセンブリ（図示せず）及び／または空気ブロワ６８または任意の他の好適な乾燥装置を含んでいてもよい。

【0033】

いくつかの実施形態では、乾燥ステーション６４において、ブランケット４４上に形成されたインク画像は、インクをより完全に乾燥させるために放射線及び／または高温空気に暴露され、液体キャリアの大部分または全部を蒸発させ、粘着性のインク被膜になる時点まで加熱された樹脂と着色剤の層のみを後に残す。

【0034】

いくつかの実施形態では、システム１０は、ブランケット４４などの回転フレキシブルＩＴＭを含むブランケットモジュール７０（本明細書ではＩＴＭモジュールとも言う）を含む。いくつかの実施形態では、ブランケットモジュール７０は、１つ以上のローラ７８を含む。ローラ７８のうちの少なくとも１つは、モーションエンコーダ（図示せず）を含む。モーションエンコーダは、それぞれの印刷バー６２に対するブランケット４４のセクションの位置を制御するために、ブランケット４４の位置を記録するように構成されている。いくつかの実施形態では、１つ以上のモーションエンコーダは、さらなるローラ及びシステム１０の他の移動コンポーネントと一体化されていてもよい。

【0035】

いくつかの実施形態では、前述のモーションエンコーダは通常、それぞれのローラの角変位を示す回転ベースの位置信号を生成するように構成された少なくとも１つのロータリーエンコーダを含む。なお、本発明の文脈及び特許請求の範囲において、用語「を示す（ｉｎｄｉｃａｔｉｖｅ ｏｆ）」及び「表示（ｉｎｄｉｃａｔｉｏｎ）」は交換可能に使用されることに留意されたい。

【0036】

それに加えてまたはその代わりに、ブランケット４４は、システム１０の種々のモジュールの動作を制御するための統合エンコーダ（図示せず）を含んでいてもよい。統合モーションエンコーダの１つの実施態様は、たとえば、ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０２０／００３０８８号に詳細に記載されている。なおこの文献の開示は、参照により本明細書に組み込まれている。

【0037】

いくつかの実施形態では、ブランケット４４は、ローラ７６、７８及び本明細書に記載の他のローラ、ならびに動力付きテンショニングローラ（本明細書ではダンサーアセンブリ７４とも言う）上を案内される。ダンサーアセンブリ７４は、ブランケット４４におけるたるみの長さを制御するように構成されており、その動きは、図１において双方向矢印によって概略的に示されている。さらに、経年変化によるブランケット４４のわずかな伸張も、システム１０のインク画像配置性能には影響せず、ダンサーアセンブリ７４に張力をかけることによってより多くのたるみを取り上げる必要があるだけである。

【0038】

いくつかの実施形態では、ダンサーアセンブリ７４は電動であってもよい。ローラ７６及び７８の構成及び動作は、たとえば、米国特許出願公開第２０１７／０００８２７２号及び前述のＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１３／１３２４２４号により詳細に記載されている。なおこれらの文献の開示は、参照により本明細書にすべて組み込まれている。

【0039】

いくつかの実施形態では、システム１０は、ブランケット張力駆動ローラ（ＢＴＤ）９９とブランケット制御駆動ローラ（ＢＣＤ）７７とを含んでいる。これらは、それぞれ第１及び第２のモータ（通常は電動モータ（図示せず））によって駆動され、それら自身の第１及び第２の軸の周りにそれぞれ回転するように構成されている。

【0040】

いくつかの実施形態では、システム１０は、ブランケット４４に沿った１つ以上の位置に配置された１つ以上の張力センサ（図示せず）を含んでいてもよい。張力センサは、ブランケット４４内に組み込んでもよいし、またはブランケット４４に印加される機械的張力を示す信号を取得する任意の他の好適な技術を使用して、ブランケット４４の外部にセンサを含んでもよい。いくつかの実施形態では、システム１０のプロセッサ２０及びさらなるコントローラは、ブランケット４４に印加される張力をモニタリングして、ダンサーアセンブリ７４の動作を制御するように、張力センサによって生成された信号を受け取るように構成されている。

【0041】

インプレッションステーション８４では、ブランケット４４は、圧縮可能ブランケット（図３で以下に示す）を搬送するように構成された、インプレッションシリンダ８２と圧力シリンダ９０との間を通る。いくつかの実施形態では、モーションエンコーダは、インプレッションシリンダ８２及び圧力シリンダ９０のうちの少なくとも一方と一体化されている。

【0042】

いくつかの実施形態では、システム１０は制御コンソール１２を含む。制御コンソール１２は、システム１０の複数のモジュール、たとえば、ブランケットモジュール７０、ブランケットモジュール７０の上方に配置された画像形成ステーション６０、及び基板搬送モジュール８０を制御するように構成されている。基板搬送モジュール８０は、ブランケットモジュール７０の下方に配置され、後述するように１つ以上のインプレッションステーションを含む。

【0043】

いくつかの実施形態では、コンソール１２はプロセッサ２０（通常は、汎用プロセッサ）を含む。プロセッサ２０は、ダンサーアセンブリ７４のコントローラ及びコントローラ５４とケーブル５７を介してインターフェースし、そこから信号を受け取るための好適なフロントエンド及びインターフェース回路を有する。それに加えてまたはその代わりに、コンソール１２は、任意の好適なタイプの特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）及び／またはデジタル信号プロセッサ（ＤＳＰ）及び／または任意の他の好適な種類の処理ユニットであって、システム１０において処理されるデータに対する任意の種類の処理を行うように構成されたものを含んでいてもよい。

【0044】

いくつかの実施形態では、コントローラ５４（単一デバイスとして概略的に示す）は、システム１０上の所定の場所に取り付けられた１つ以上の電子モジュールを含んでいてもよい。コントローラ５４の電子モジュールのうちの少なくとも１つは、システム１０の種々のモジュール及びステーションを制御するように構成された、制御回路またはプロセッサ（図示せず）などの電子デバイスを含んでいてもよい。いくつかの実施形態では、プロセッサ２０及び制御回路は、印刷システムによって使用される機能を行い、ソフトウェア用のデータをメモリ２２に記憶するように、ソフトウェアにおいてプログラムしてもよい。ソフトウェアは、プロセッサ２０及び制御回路に、たとえばネットワークを介して電子的形態でダウンロードしてもよいし、または光、磁気、または電子メモリ媒体などの非一時的な有形媒体に提供してもよい。

【0045】

いくつかの実施形態では、コンソール１２はディスプレイ３４を含む。ディスプレイ３４は、プロセッサ２０から受け取ったデータ及び画像、または入力デバイス４０を使用してユーザ（図示せず）によって挿入された入力を表示するように構成されている。いくつかの実施形態では、コンソール１２は、任意の他の好適な構成を有していてもよく、たとえば、コンソール１２及びディスプレイ３４の代替的な構成が、米国特許第９，２２９，６６４号に詳細に記載されている。なおこの文献の開示は、参照により本明細書に組み込まれている。

【0046】

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、ディスプレイ３４に、画像４２の１つ以上のセグメント（図示せず）を含むデジタル画像４２、及び／またはメモリ２２に記憶してもよい種々のタイプのテストパターンを表示するように構成されている。

【0047】

いくつかの実施形態では、ブランケット処理ステーション５２（本明細書では、冷却ステーションとも言う）は、ブランケットの処理を、たとえば、それを冷却すること、及び／またはブランケット４４の外面に処理流体を適用すること、及び／またはブランケット４４の外面を洗浄することによって行うように構成されている。ブランケット処理ステーション５２では、ブランケット４４が画像形成ステーション６０内に入る前に、ブランケット４４の温度を所望の温度レベルまで下げることができる。処理は、ブランケットの外面に冷却及び／または洗浄及び／または処理流体を適用するように構成された１つ以上のローラまたはブレード上にブランケット４４を通すことによって行ってもよい。

【0048】

いくつかの実施形態では、ブランケット処理ステーション５２は、印刷バー６２に隣接して位置決めされた１つ以上のバー（図示せず）をさらに含んで、これにより、処理流体を、それに加えてまたはその代わりに、噴射によってブランケット４４に適用し得るようになっていてもよい。

【0049】

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、ブランケット４４の温度をモニタリングし、ブランケット処理ステーション５２の動作を制御するように、たとえば温度センサ（図示せず）から、ブランケット４４の表面温度を示す信号を受け取るように構成されている。このような処理ステーションの例は、たとえば、ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１３／１３２４２４号及び第ＷＯ２０１７／２０８１５２号に記載されている。なおこれらの文献の開示は、参照により本明細書にすべて組み込まれている。

【0050】

図１の例では、ステーション５２は、インプレッションステーション８４と画像形成ステーション６０との間に取り付けられているが、ステーション５２は、インプレッションステーション８４と画像形成ステーション６０との間の任意の他のまたはさらなる１つ以上の好適な場所において、ブランケット４４に隣接して取り付けてもよい。前述したように、ステーション５２は、それに加えてまたはその代わりに、画像形成ステーション６０に隣接するバーに取り付けてもよい。

【0051】

図１の例では、インプレッションシリンダ８２及び圧力シリンダ９０は、入力スタック８６から出力スタック８８までインプレッションステーション８４を介して基板搬送モジュール８０によって搬送される個別シート５０などのターゲットフレキシブル基板上に、インク画像を圧印する。本例では、ロータリーエンコーダ（図示せず）が、インプレッションシリンダ８２と一体化されている。

【0052】

いくつかの実施形態では、ブランケット４４の下段ランは、インプレッションステーション８４においてインプレッションシリンダ８２と選択的に相互作用して、圧力シリンダ９０の圧力の作用によってブランケット４４とインプレッションシリンダ８２との間で圧縮されたターゲットフレキシブル基板上に画像パターンを圧印する。図１に示す片面印刷機（すなわち、シート５０の片側に印刷する）の場合、１つのインプレッションステーション８４のみが必要である。

【0053】

他の実施形態では、モジュール８０は、１つ以上の両面印刷を可能にするために、２つ以上のインプレッションシリンダ（図示せず）を含んでいてもよい。２つのインプレッションシリンダの構成により、両面印刷を印刷する速度の２倍の速度で片面印刷を行うことも可能になる。加えて、片面印刷及び両面印刷の混在ロットを印刷することもできる。代替的な実施形態では、連続的なウェブ基板上に印刷するために、異なる構成のモジュール８０を使用してもよい。両面印刷システム及び連続的なウェブ基板上に印刷するためのシステムの詳細な説明及び種々の構成は、たとえば、米国特許第９，９１４，３１６号及び第９，１８６，８８４号、ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１３／１３２４２４号、米国特許出願公開第２０１５／００５４８６５号、及び米国仮出願第６２／５９６，９２６号に示されている。なおこれらの文献の開示は、参照により本明細書にすべて組み込まれている。

【0054】

前述で簡単に述べたように、シート５０または連続的なウェブ基板（図示せず）は、モジュール８０によって入力スタック８６から運ばれ、インプレッションシリンダ８２と圧力シリンダ９０との間に配置されたニップ（図示せず）を通る。ニップ内では、インク画像を保持するブランケット４４の表面は、たとえば、圧力シリンダ９０の圧縮可能ブランケットによって、シート５０に（または他の好適な基板に）しっかりと押圧され、これにより、インク画像は、シート５０の表面上に圧印され、ブランケット４４の表面からきれいに分離される。その後、シート５０は出力スタック８８に搬送される。

【0055】

図１の例では、ローラ７８は、ブランケット４４の上段ランに位置決めされて、ブランケット４４を、画像形成ステーション６０に隣接して通るときにピンと張った状態に維持するように構成されている。さらに、画像形成ステーション６０によりブランケット４４の表面上に画像を形成するために、画像形成ステーション６０の下方でブランケット４４の速度を制御して、インク滴の正確な噴射及び付着を得ることが特に重要である。

【0056】

いくつかの実施形態では、インプレッションシリンダ８２は、移動するブランケット４４から、ブランケット４４とインプレッションシリンダ８２との間を通るターゲット基板にインク画像を転写するために、ブランケット４４と周期的に嵌合して、ブランケット４４から嵌合解除される。いくつかの実施形態では、システム１０は、上段ランをピンと張った状態に維持し、ブランケット４４の上段ランを、下段ランにおいて生じる機械的振動による影響から実質的に分離するように、前述のローラ及びダンサーアセンブリを使用してブランケット４４にトルクを印加するように構成されている。

【0057】

いくつかの実施形態では、システム１０は、画質制御ステーション５５（本明細書では、自動品質管理（ＡＱＭ）システムとも言う）を含む。これは、システム１０に組み込まれた閉ループ検査システムとして機能する。いくつかの実施形態では、画質制御ステーション５５は、図１に示したように、インプレッションシリンダ８２に隣接して位置決めしてもよいし、またはシステム１０内の任意の他の好適な場所に位置決めしてもよい。

【0058】

いくつかの実施形態では、画質制御ステーション５５はカメラ（図示せず）を含む。カメラは、シート５０上に印刷された前述のインク画像の１つ以上のデジタル画像を取得するように構成されている。いくつかの実施形態では、カメラは、接触型画像センサ（ＣＩＳ）または相捕型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）画像センサなどの任意の好適な画像センサ、及び約１メートルの幅または任意の他の好適な幅を有するスリットを含むスキャナを含んでいてもよい。

【0059】

本開示の文脈及び特許請求の範囲において、任意の数値または範囲に対する用語「約」または「ほぼ」は、部品またはコンポーネントの集合が本明細書に記載するようなその使用目的のために機能できるようにする好適な寸法許容差を示す。

【0060】

いくつかの実施形態では、ステーション５５は、シート５０上に印刷されたインクの品質をモニタリングするように構成された分光光度計（図示せず）を含んでいてもよい。

【0061】

いくつかの実施形態では、ステーション５５によって取得されたデジタル画像は、それぞれの印刷画像の品質を評価するように構成されたプロセッサ、たとえば、プロセッサ２０またはステーション５５の任意の他のプロセッサに送信される。コントローラ５４から受け取った評価及び信号に基づいて、プロセッサ２０は、システム１０のモジュール及びステーションの動作を制御するように構成されている。本発明の文脈及び特許請求の範囲において、用語「プロセッサ」は、ステーション５５に接続されているかまたはステーション５５と一体化されたプロセッサ２０または任意の他のプロセッサまたはコントローラなどの任意の処理ユニットを指す。これは、ステーション５５のカメラ及び／または分光光度計から受け取った信号を処理するように構成されている。なお、本明細書に記載の信号処理動作、制御関連の命令、及び他の計算演算は、単一のプロセッサによって実行してもよいし、または１つ以上の個々のコンピューターの複数のプロセッサ間で共有してもよいことに留意されたい。

【0062】

いくつかの実施形態では、ステーション５５は、種々の属性をモニタリングするために印刷画像及びテストパターンの品質を検査するように構成されている。属性は、たとえば、限定することなく、シート５０との完全な画像位置合わせ（本明細書では、画像対基板位置合わせとも言う）、色間（Ｃ２Ｃ）位置合わせ、印刷された形状、画像均一性、色のプロファイル及び線形性、及び印刷ノズルの機能性である。いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、前述の属性のうちの１つ以上における幾何学的な歪みまたは他の誤差を自動的に検出するように構成されている。

【0063】

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、検出された歪みを補償するために、誤動作するモジュールに修正処置を適用し、及び／またはシステム１０の他のモジュールまたはステーションに命令を送るために、検出された歪みを分析するように構成されている。

【0064】

いくつかの実施形態では、システム１０は、テスティングマーク（図示せず）または他の好適な特徴を、たとえばシート５０の面取りまたは縁に印刷してもよい。テスティングマークの画像を取得することによって、ステーション５５は、種々のタイプの歪みを測定するように構成されている。歪みは、たとえば、Ｃ２Ｃ位置合わせ、画像対基板位置合わせ、色間の異なる幅（本明細書では「バー間の幅デルタ」または「色間幅差異」と言う）、種々のタイプの局所的な歪み、及び前後の位置合わせエラー（両面印刷における）である。いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、（ｉ）たとえば、拒否トレイ（図示せず）に、第１の所定の閾値セットを超える歪みを有するシート５０を選別すること、（ｉｉ）第２の、より低い所定の閾値セット（複数可）を超える歪みを有するシート５０に対する修正処置を開始すること、及び（ｉｉｉ）軽微な歪み（たとえば、第２の閾値セットを下回る）を有するシート５０を、出力スタック８８に出力すること、を行うように構成されている。

【0065】

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０、ステーション５５の分光光度計から受け取った信号に基づいて、印刷された色のプロファイル及び線形性におけるずれを検出するように構成されている。

【0066】

いくつかの実施形態では、ステーション５５のプロセッサは、たとえば、歪みの密度が規定の閾値を超えた場合に、システム１０の動作を停止するか否かを決定するように構成されている。ステーション５５のプロセッサはさらに、前述したように、システム１０のモジュール及びステーションのうちの１つ以上において修正処置を開始するように構成されている。いくつかの実施形態では、修正処置は、印刷動作を停止して、システム１０のそれぞれのモジュール及び／またはステーションにおける問題を修復することによって、オンザフライ（システム１０が印刷プロセスを続ける間）またはオフラインで行ってもよい。他の実施形態では、システム１０の任意の他のプロセッサまたはコントローラ（たとえば、プロセッサ２０またはコントローラ５４）は、歪みの密度が規定の閾値を超えた場合に、修正処置を開始するかまたはシステム１０の動作を停止するように構成されている。

【0067】

それに加えてまたはその代わりに、プロセッサ２０は、たとえば、ステーション５５から、システム１０の印刷プロセスにおけるさらなるタイプの歪み及び問題を示す信号を受け取るように構成されている。これらの信号に基づいて、プロセッサ２０は、パターン配置精度のレベル及び前述していないさらなるタイプの歪み及び／または欠陥を自動的に推定するように構成されている。他の実施形態では、シート５０（または前述した任意の他の基板）上に印刷されたパターンを検査するための任意の他の好適な方法を、たとえば、外部の（たとえば、オフラインの）検査システム、または任意のタイプの測定治具及び／またはスキャナを使用して、使用することもできる。これらの実施形態では、外部検査システムから受け取った情報に基づいて、プロセッサ２０は、任意の好適な修正処置を開始し及び／またはシステム１０の動作を停止するように構成されている。

【0068】

システム１０の構成は、本発明を明確にするために、簡略化して単なる一例として示している。前記の印刷システム１０において記載されているコンポーネント、モジュール、及びステーション、ならびにさらなるコンポーネント及び構成は、以下の文献に詳細に記載されている。たとえば、米国特許第９，３２７，４９６号及び第９，１８６，８８４号、ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１３／１３２４３８号、第ＷＯ２０１３／１３２４２４号及び第ＷＯ２０１７／２０８１５２号、米国特許出願公開第２０１５／０１１８５０３号及び第２０１７／０００８２７２号である。なおこれらの文献の開示は、参照により本明細書にすべて組み込まれている。

【0069】

システム１０の特定の構成を、本発明の実施形態によって対処される特定の問題を例示し、このようなシステムの性能を向上させる際のこれらの実施形態の適用を示すために、一例として示す。しかし、本発明の実施形態は、この特定の種類のシステム例に決して限定されず、本明細書に記載の原理は、任意の他の種類の印刷システムに同様に適用され得る。

【0070】

ブランケット上での記憶効果の出現の低減
図２Ａは、本発明の実施形態による、システム１０のブランケット４４上での記憶効果の出現の概略図である。

【0071】

いくつかの実施形態では、ブランケット４４は複数のパネル１１を含み、各パネル１１は、前述の図１で詳細に説明したように画像を受け取ることが意図されている。ブランケット４４はさらに、１つ以上のセクション１３を含む。セクション１３は、画像を受け取ることは意図されておらず、前述の図１で説明した印刷プロセスを支援するために使用される種々のタイプのパターンを有する場合がある。なお、パネル１１もブランケット４４の（画像を受け取ることが意図されている）セクションであるが、画像を受け取ることが意図されていない「セクション１３」に対して区別するために、本明細書では「パネル」と言うことに留意されたい。

【0072】

本例では、各セクション１３は、所定の位置に、マーカー１５を含む。マーカー１５は、前述の図１に記載したシステム１０のステーション及びアセンブリに対するブランケット４４の移動を制御するための基準位置として機能し得る。また、シーム４５（インクの液滴を受け取ることは意図されていない）が、セクション１３のうちの１つにおいて位置決めされている。なお、図２Ａにおいて、ブランケット４４のＸ軸に沿ったパネル１１及びセクション１３のサイズは、一定の割合ではないことに留意されたい。本例では、Ｘ軸に沿ったパネル１１及びセクション１３のサイズ間の比は、約８であってもよいし（たとえば、パネル１１は長さが約９４０ｍｍで、一方でセクション１３は長さが約１９０ｍｍ）、またはたとえば５～２０の任意の他の好適な比であってもよい。

【0073】

本開示の文脈及び特許請求の範囲において、任意の数値または範囲に対する用語「約」または「ほぼ」は、部品またはコンポーネントの集合が本明細書に記載するようなその使用目的のために機能できるようにする好適な寸法許容差を示す。

【0074】

場合によっては、印刷ジョブ（本明細書では、印刷バッチとも言う）は、ブランケット４４上に生成された特定の画像の多数（たとえば、数千またはそれ以上）のコピーを含むが、ブランケット４４上に画像の痕の望ましくない形成を引き起こし得る。ブランケット４４の表面上に痕が形成される結果、画像のシルエットが、他の画像の後続の印刷において、たとえば次の印刷バッチにおいて、現れる場合があることになり得る。この望ましくない現象は、本明細書では、各パネル１１上に現れ得る「記憶効果」または「記憶」または「ゴースト印刷」とも言い、図２Ａの例では記憶１６として示している。そのような場合、記憶１６のシルエットが、後続画像の後続のバッチ（たとえば、印刷ジョブ）においてシート５０上に印刷されることがあり、したがって、ブランケット４４の同じピースを使用して印刷される後続画像の品質が低下する場合がある。なお、記憶１６は通常、ブランケット４４のすべてのパネル１１において現れるが、表示及び概念的に明確にするために、記憶１６は図２Ａでは１つのパネル１１上にのみ現れていることに留意されたい。

【0075】

記憶効果及び出現の大きさは、種々の要因の影響を受け得る。たとえば、限定することなく、ブランケット回転数（下図２Ｂに記載される）及び印刷ジョブにおける画像のコピー数、インクタイプ（たとえば、配合）、色及びブランケット温度、画像内の異なるインク色のカバー範囲レベル（たとえば、カバー範囲が６０％Ｋ、６０％Ｃ、６０％Ｍ、及び６０％Ｙである画像は通常、カバー範囲が４０％Ｃ、２７％Ｍ、及び２７％Ｙである画像と比べて記憶効果が大きい）、ブランケット処理プロセス、ブランケット処理ステーション５２において使用される温度及び化学物質、印刷プロセスにおいて発生する種々のタイプの位置合わせ誤差の大きさ、ブランケット４４上に形成される画像の均一性、ブランケット４４のサービス時間及び経年変化、ターゲット基板のタイプ（たとえば、未コーティングのシート５０、コーティングされたシート５０または連続的なウェブの層構造）、及び他のシステム関連の及びプロセス関連のパラメータである。たとえば、２つのシステム１０間の記憶効果を比較した場合、画像均一性が良好であり位置合わせ誤差が小さいシステムの方が、記憶効果が大きいと予想される。

【0076】

図２Ｂは、本発明の実施形態により、ブランケット４４のそれぞれの個々の回転中に生成される画像の各コピーに意図的なオフセットを適用したときの、ブランケット４４上での記憶効果の出現の概略図である。

【0077】

以下の実施形態を説明する目的で、システム１０は、画像形成ステーション６０、インプレッションステーション８４、及びブランケットモジュール７０を組み込んだ印刷アセンブリを含む。本例では、印刷アセンブリはプロセッサ２０によって制御される。前述の図１で説明したように、ブランケット４４は、エンドレスループ内に形成されたフレキシブル部材を含む。また、前述の図２Ａで説明したように、記憶の痕は通常、ブランケット４４のすべてのパネル１１において現れるが、表示及び概念的に明確にするために、本明細書に記載の記憶の痕は、図２Ｂでは１つのパネル１１（図２Ｂでは「所与のパネル１１」とも言う）上にのみ現れている。

【0078】

いくつかの実施形態では、ブランケットモジュール７０は、ブランケット７０を複数の回転で回転させるように構成されており、各パネル１１及び各回転において、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、画像のコピーを生成し、続いて画像をパネル１１からシート５０に転写する。その後、ブランケット４４は、ブランケット処理ステーション５２において種々のプロセスを経ることで、次の回転において、同じパネル１１が、画像の次のコピーを生成するためのインク滴を画像形成ステーション６０から受け取れる状態になる。

【0079】

ブランケット４４の所与のパネル１１の例では、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、第１の回転中に、ブランケット４４上の第１の位置に第１の画像を生成し、続いて、ブランケット４４を移動方向９４に移動して、第１の画像を（前述の図１に示したように入力スタック８６から受け取った）第１のシート５０に転写するように構成されている。図２Ｂに示したように、第１の画像を第１のシート５０に転写した後、記憶１６ａの望ましくない痕跡または痕がブランケット４４上に残る。

【0080】

ここから
いくつかの実施形態では、ブランケット４４の第２の後続の回転中に、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、所与のパネル１１上で、前述した第１の画像の第１の位置とは異なる第２の位置に第２の画像を生成するように構成されている。その後、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、ブランケット４４を移動方向９４に移動して、第２の画像を、前述の図１に示したように入力スタック８６から受け取った後続の第２のシート５０に転写する。

【0081】

図２Ｂの例では、第２の画像を第２のシート５０に転写した後、記憶１６ｂの望ましくない痕がブランケット４４上に残る。図２Ｂに示したように、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、ブランケット４４の後続の回転において同じ技術を適用し、各回転では、ブランケット４４上に、第３の回転において生成される記憶１６ｃのようなさらなる記憶１６が望ましくないほど生成される。

【0082】

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、第１の位置に対して第２の位置の意図的なオフセット１８を指定するように構成されている。図２Ｂの例では、意図的なオフセットを、第１及び第２の画像の位置にそれぞれ対応する記憶１６ａ及び１６ｂの間に示す。

【0083】

いくつかの実施形態では、図２Ｂの例に示したように、記憶１６ｂの位置は記憶１６ａの位置と少なくとも部分的に重なっている。しかし、他の実施形態では、プロセッサ２０はオフセット１８を十分に大きく設定して、記憶１６ａ及び１６ｂの痕跡が互いに分離されて現れ得るようにしてもよい。なお、記憶の出現は、ブランケット４４の個々の回転中に所与のパネル１１の表面上に生成される画像間の重なり量によって判定されることに留意されたい。図２Ａに示したように、記憶１６の大きさは、図２Ｂの記憶１６ａ～１６ｃのそれと比べて実質的に大きい。

【0084】

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、画像形成ステーション６０を制御して、最初に意図された噴射時間に対して所定の遅延で、パネル１１の表面にインク滴を塗布（たとえば、噴射）することによって、オフセット１８を実施するように構成されている。このような実施形態では、ブランケットが方向９４に移動する場合、噴射を遅延させると、図２Ｂに示したように、痕跡記憶１６ｂが記憶１６ａの右側に出現する。同様に、プロセッサ２０は、画像形成ステーションを制御して、インク滴の噴射を前進させてもよい。言い換えれば、インク滴を最初に意図された噴射時間よりも早く噴射させて、記憶１６ｂの痕跡が記憶１６ａの左側に（図２Ｂに示したように、記憶１６ａに対する記憶１６ｂの位置と反対側に）現れ得るようにしてもよい。

【0085】

本開示の文脈において、用語「最初に意図された」は、それぞれのパネル１１上に生成される所与の画像の位置をずらすことなくインク滴の指定された噴射時間を指す。

【0086】

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、第２の画像を第２のシート５０に転写するときに少なくとも部分的に、通常は完全にオフセットを補償するであろうブランケット４４の移動を計算するように構成されている。このような実施形態の一実施態様について、以下の図３で詳細に説明する。プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、計算された移動に従ってブランケット４４を移動し、画像対基板の位置合わせ誤差を引き起こすことなく第２の画像を第２のシート５０に転写するように構成されている。

【0087】

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、ブランケット４４が回転するたびに各パネル１１上に生成される各画像の位置を制御するために、マーカー１５を使用してもよい。他の実施形態では、プロセッサ２０は、ブランケット４４が回転するたびに各パネル１１上に生成される各画像の位置を制御するために、ブランケット４４上の任意の他の基準位置（たとえば、ブランケット４４の１つ以上のファイバの位置）を使用してもよい。

【0088】

図２Ｂの例では、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、（たとえば、第２の画像の噴射時間を遅延させることによって）第２の画像をオフセット１８でシフトさせ、そして、オフセットを補償するようにブランケット４４の移動を制御する（たとえば、速度を下げる）ことで、第１及び第２の画像が、同じ位置において、第１及び第２のシート５０にそれぞれ転写されるようにする。補償の一実施態様の技術について、以下の図３で詳細に説明する。

【0089】

図２Ｂの例では、ブランケット４４の異なる回転において（たとえば順次）生成される画像間の意図的なオフセット（たとえば、オフセット１８）は、Ｘ軸に沿ってのみ行われる。他の実施形態では、プロセッサ２０は、移動方向９４と平行であってもよいし平行でなくてもよい任意の他の好適なオフセットを指定するように構成されている。Ｘ軸と平行でないオフセットの一実施態様例について、以下の図２Ｄで詳細に説明する。また、オフセット１８は、任意の好適なサイズ（本明細書では、ステップサイズとも言う）、たとえば１μｍ～１０ｍｍを有していてもよい。

【0090】

前述でも部分的に述べたいくつかの実施形態では、ブランケット４４上の記憶痕跡の大きさは、ブランケット４４の異なる回転中に所与のパネル１１上に生成される画像の位置を変えることによって小さくなる。図２Ａ及び２Ｂの例では、図２Ａの記憶１６は、図２Ｂの記憶１６ａ～１６ｃよりも黒色（すなわち、暗い）で見えている。グレーレベルが異なっていることは、記憶１６はブランケット４４の表面上の痕跡が、記憶１６ａ～１６ｃのそれと比べてより強いことを示している。

【0091】

図２Ｃは、本発明の別の実施形態による、ブランケット４４の異なるパネル１１の表面上に生成された画像の異なるコピーに適用される意図的なオフセットの概略図である。

【0092】

いくつかの実施形態では、ブランケット４４は、セクション１３によってＸ軸に沿って分離されたパネル１１ａ及び１１ｂを含む。プロセッサ２０は、パネル１１ａ上に生成された第１の画像とパネル１１ｂ上に生成された第２の画像との位置を制御するために、マーカー１５または任意の他の好適な基準位置を使用してもよい。

【0093】

図２Ｃの例では、第１及び第２の画像は、パネル１１ａ及び１１ｂの表面上の第１及び第２の個々の位置にそれぞれ生成され、以下で詳細に後述するように、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、第１の画像の位置に対してシフトされた位置に第２の画像を生成する。その後、ブランケット４４を、第１の画像を第１のシート５０に、第２の画像を第２のシート５０に転写するために、印刷アセンブリによって移動する。なお、図２Ｃの例では、図２Ａ及び２Ｂで説明したプロセスとは対照的に、第１及び第２の画像はブランケット４４の同じ回転中に生成されることに留意されたい。第１及び第２の画像を転写した後、記憶２３ａ及び２３ｂの望ましくない痕跡が、パネル１１ａ及び１１ｂの表面上にそれぞれ形成される。なお、記憶２３ａ及び２３ｂの位置は、前述した第１及び第２の画像の位置を示すことに留意されたい。

【0094】

いくつかの実施形態では、ブランケット４４は、パネル１１ａの左端及び右端をそれぞれ示すライン２５ａ及び２５ｂを含む。同様に、ライン２５ｃ及び２５ｄは、パネル１１ｂの左端及び右端をそれぞれ示す。図２Ｃの例では、記憶２３ａの端部はライン２５ａに接触しているように見えるが、第２の画像の位置に適用されたシフトによって、記憶２３ｂは、ライン２５ｃに対してＸ軸に沿ってオフセット２４だけシフトしているように見える。オフセット２４のシフト方向は、本明細書では、右方向（左方向とは反対）とも言う。

【0095】

前述の図２Ｂで説明した技術に基づいて、プロセッサ２０は、パネル１１ｂ上に生成された画像をそれぞれのシート５０に転写するときに、オフセット２４を補償するであろうブランケット４４の移動を計算するように構成されている。いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、画像対基板の位置合わせ誤差を引き起こすことなく、またはその大きさに影響を及ぼすことなく、パネル１１ｂ上に生成された画像をそれぞれのシート５０に転写するように、印刷アセンブリを制御して、計算された移動に従ってブランケット４４を移動するように構成されている。

【0096】

いくつかの実施形態では、ブランケットは１１個のパネル（または任意の他の好適な数のパネル）を有し、プロセッサ２０は、前述の図２Ｂで説明した技術を、それぞれの隣接するパネル対１１上に生成された各画像対に適用するように構成されている。本例では、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、パネル１１ｂ内の画像の位置を、約６０μｍであるオフセット２４だけ（または、任意の他の好適なサイズ及び方向を有する他のオフセットだけ）シフトさせる。プロセッサ２０は、隣接するパネル上にそれぞれ生成された各画像対に同じ技術を適用してもよい。たとえば、（パネル１１ｂの）第２の画像と、パネル１１ｂに隣接してそれに続く第３のパネル（図示せず）上に生成された第３の画像との間である。

【0097】

このような実施形態では、第３の画像は、第３のパネルの左端に対して（ならびに、パネル内の第１の画像の位置に対して）（右に）、約１２０μｍだけ（第１の画像と第３の画像との間に６０μｍの２つのシフトを適用することによって得られる）シフトされる。また、第１の回転の完了後、第１１のパネル上に生成された第１１の画像は、第１１のパネルの左端に対して約６００μｍのオフセットに、また第１の画像の（それぞれの個々のパネル１１内の）位置に対して位置決めされる。

【0098】

その後、第２の回転中にパネル１１ａ内に生成された画像は、第１の回転中にパネル１１ａ上に生成された第１の画像の位置に対して約６６０μｍのオフセット（すなわち、約６０μｍの１１シフト）に位置決めされる。言い換えれば、第２の回転中にパネル１１ａ上に生成された画像を（それぞれのシート５０）に転写した後、この画像の記憶痕跡は、記憶２３ａの位置に対して約６６０μｍだけシフトされてパネル１１ａ内に現れる。言い換えれば、ブランケット４４の連続した回転中に各パネル１１の表面上に生成された隣接する画像間のＸ軸に沿ったステップサイズは、約６６０μｍである。

【0099】

このような実施形態では、ブランケット４４の第２の回転中に生成されたすべての画像をそれぞれのシート５０に転写した後、ブランケット４４のすべてのパネル１１における第１の記憶と第２の記憶との間のオフセットは、約６６０μｍである。同様に、ブランケット４４の第３の回転中に生成されたすべての画像をそれぞれのシート５０に転写した後、ブランケット４４のすべてのパネル１１における第２の記憶と第３の記憶との間のオフセットも、約６６０μｍである。

【0100】

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、ブランケット４４のパネル１１上に生成された画像の位置をシフトさせる総量に対して、たとえばＸ軸に沿ったストロークサイズを規定するように構成されている。図２Ｂ及び２Ｃの例では、隣接するパネル間のオフセット２４に等しい画像のシフトを適用するときに、プロセッサ２０は、Ｘ軸に沿って約６０ｍｍのストロークサイズを規定してもよい。言い換えれば、１，０００の連続するパネル１１の表面上にそれぞれ生成された約１，０００の連続する画像にオフセット２４を適用した後、プロセッサ２０は、シフト方向を反転させるように構成されている。前述の図２Ｂで説明したように、プロセッサ２０は、最初に意図された噴射時間に対してインク滴の噴射を遅延または前進させることによって、シフト方向を制御してもよい。また、前述の図２Ｂで説明した技術を使用して、シフト方向を反転させることに加えて、プロセッサ２０は、（ａ）画像をそれぞれのパネル１１の表面に転写するときに、反転されたオフセットを補償するであろうブランケット４４の移動を計算することと、（ｂ）画像を個々のパネル１１の表面に転写するために、印刷アセンブリを制御して、計算された移動に従ってブランケット４４を移動することと、を行うように構成されている。

【0101】

なお、シート５０のサイズは、印刷された製品の最終顧客の要求に基づいて変化し得ることに留意されたい。いくつかの実施形態では、累積する意図的なストロークサイズ（たとえば前述したように約６０ｍｍ）の限界は、インプレッションステーション８４におけるシーム４５とシート５０との間の嵌合を防止するために、シート５０のサイズに依存する。言い換えれば、Ｘ軸に沿ったシート５０のサイズが小さいほど、累積する意図的なストロークサイズが約６０ｍｍよりも大きくなる可能性がある。たとえば、計算及び実験データに基づいて、（ｉ）Ｘ軸に沿ったシート５０のサイズが約７５０ｍｍである場合、最大許容ストロークサイズは約６０ｍｍから約８０ｍｍに増加する場合があり、（ｉｉ）Ｘ軸に沿ったシート５０のサイズが約７００ｍｍである場合、最大許容ストロークサイズは約１３０ｍｍに増加する場合があり、（ｉｉｉ）Ｘ軸に沿ったシート５０のサイズが約６５０ｍｍである場合、最大許容ストロークサイズは約１８０ｍｍに増加する場合がある。

【0102】

このような実施形態では、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、各パネルにおいて約６０μｍの画像シフト（たとえば、オフセット２４）を維持し、シフト方向を反転させる前のシフト数を増加させるように構成されている。前述した例のうちの１つでは、Ｘ軸に沿ったシート５０のサイズが約６５０ｍｍである場合、最大許容ストロークサイズは約１８０ｍｍである。この例では、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、オフセット２４を、約３，０００個の連続するパネル１１の表面上にそれぞれ生成された約３，０００個（前述した約１，０００個の代わりに）の連続する画像に適用するように構成されている。オフセット２４を約３，０００個に適用した後、プロセッサ２０は、約３，０００個の連続するパネル１１の表面上にそれぞれ生成された約３，０００個の連続する画像に、オフセット２４を逆方向に適用するために、シフト方向を反転させるように構成されている。言い換えれば、連続する画像のストロークサイズ及び数は３倍に増加する。

【0103】

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、シフト方向を反転させる前に、ストロークサイズ（たとえば、前述した例では約１８０ｍｍ）及び／またはそれぞれのパネル上に生成された画像の数（たとえば、前述した例では約３，０００個）に閾値を適用することによって、シフト及び方向反転動作を制御するように構成されている。

【0104】

原理的には、ブランケット４４の１つ以上の回転（複数可）ごとにのみ、すなわち、パネルごとに画像をシフトさせることなく、画像をシフトさせることは可能である。しかし、各回転において各パネルに対して大きなオフセット（たとえば、約６６０μｍ）まで合計する小さなシフト（たとえば、約６０μｍ）をすべてのパネルに適用することによって、ブランケット４４上の記憶効果は低下するが、システム１０の画像均一性及び位置合わせ性能（たとえば、Ｃ２Ｃ及び画像対基板の位置合わせ誤差）は悪化しない。

【0105】

図２Ｄは、本発明の別の実施形態による、ブランケット４４のパネル１１ｃの表面上に生成された画像のそれぞれのコピーに適用される意図的なオフセットの概略図である。

【0106】

前述の図２Ｂ及び２Ｃで説明したように、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、Ｘ軸に沿った画像の位置を、前述の図２Ｂのオフセット１８のような所定のオフセットでシフトさせる。

【0107】

図２Ｄに示す実施形態例では、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、パネル１１ｃの表面上に生成された画像（たとえば、所与の画像のコピー）の位置を、Ｘ軸と平行以外の任意の好適な方向に、かつ以前のブランケット回転中にパネル１１ｃの表面上に生成された以前の画像に適用されたステップサイズに対して任意の好適なステップサイズで、シフトさせるように構成されている。たとえば、画像３０及び３１は、ブランケット４４のパネル１１ｃの表面の第１及び第２のそれぞれの回転中に生成される。

【0108】

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、画像３０の位置に対してＸ軸及びＹ軸の両方に画像３１の位置をシフトさせる。より具体的には、画像３１は、Ｘ軸と平行な負の方向（すなわち、Ｘ軸の矢印の方向とは反対側）に沿って、及びＹ軸と平行な正方向にシフトされる。その後、画像３２が、たとえば、ブランケット４４の次の回転において、画像３０に対して画像３１の同じシフト方向を維持する位置に、しかしＸ軸及びＹ軸の両方において異なるステップサイズを使用して生成される。

【0109】

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、画像３３の位置を、画像３２の位置に対して、Ｘ軸及びＹ軸の両方と平行な負の方向にシフトさせる。同じシフト方向（しかし必ずしも対応するステップサイズではない）が、画像３５上の位置を含む、ブランケット４４の次のそれぞれの回転において生成された次の画像の位置において維持される。

【0110】

いくつかの実施形態では、画像３５の位置に対して画像３６の位置をシフトさせるときに、Ｙ軸に沿ったシフト方向が再び反転され、ブランケット４４のパネル１１ｃ上に画像３７が生成されるまで同じシフト方向が維持される。

【0111】

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、ブランケット４４のそれぞれの回転中にパネル１１ｃ上に生成された画像のシフトされた位置において波３８の形状を得るように、画像３０～３３及び３５～３７の位置をシフトさせる。

【0112】

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、パネル１１ｃ上に生成された画像の位置のシフトを繰り返し、パネルに沿って波３８の形状を繰り返して、その後、Ｘ軸においてシフト方向を反転させるときに波３８の形状を維持または変更する。なお、波３８は規則的な形状または不規則な形状を有していてもよいことに留意されたい。

【0113】

他の実施形態では、波３８の形状に従って画像を生成する代わりに、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、ブランケット４４の回転ごとに生成された画像の位置を、任意の他の規則的なパターン（たとえば、螺旋状）または不規則なパターンに従ってシフトさせるように構成されている。

【0114】

図３は、本発明の実施形態による、画像をシートに転写するときに、ブランケット４４上に生成された画像の位置におけるオフセットを補償するための装置の概略側面図である。

【0115】

図３の例では、装置は、とりわけ、前述の図１のＢＣＤ７７、ＢＴＤ９９、及びインプレッションステーション８４を含む。これらは、前述の図２Ｃに示して詳細に説明したオフセット２４などの複数のオフセットを補償するように、プロセッサ２０によって制御される。なお、以下の図３で説明する技術も、前述の図２Ｂに示したオフセット１８または本開示の任意の他のオフセット及び／またはシフトを補償するために、必要な変更を加えて適用できることに留意されたい。

【0116】

前述の図１で説明したように、プロセッサ２０は、ＢＣＤ７７及びＢＴＤ９９を制御して、予め割り当てられた速度でブランケットを方向９４に移動するように構成されている。用語「予め割り当てられた」は、ブランケット４４の速度が一定の値に予め規定されていないが、前述したオフセットを補償するために調整されることを示す。パネル１１の表面４４ａ上に画像を生成するために、ブランケット４４をＢＴＤ９９とＢＣＤ７７との間で移動する。その後、各パネル１１上に生成された画像をそれぞれのシート５０に転写するために、ブランケット４４をＢＣＤ７７からインプレッションステーション８４まで移動し、画像を転写した後、前述の図２Ａ～２Ｃで説明したように、次の回転を開始するためにブランケット４４をインプレッションステーション８４とＢＴＤ９９との間で移動する。

【0117】

次に、時計回りに回転される圧力シリンダ（ＰＣ）９０を参照する。いくつかの実施形態では、圧縮可能ブランケット（ＣＢ）１９が、ＰＣ９０の円周と接触して置かれ、ＰＣ９０の円周上でピンと張ったままであるようにＰＣ９０のギャップ４３の壁４１に結合されている。

【0118】

いくつかの実施形態では、ギャップ４３は、図３に示したように、セクション１３がＰＣ９０とインプレッションシリンダ（ＩＣ）８２との間を移動するときのみ、ブランケット４４に面している。なお、この位置において、シート５０はＰＣ９０とＩＣ８２との間に供給されないことに留意されたい。なお本例では、ギャップ４３の面積は、ＰＣ９０の総面積の約５分の１であることに留意されたい。

【0119】

いくつかの実施形態では、パネル１１及びシート５０がＰＣ９０とＩＣ８２との間を移動するとき、ＰＣ９０の円周と接触しているＣＢ１９は、画像を表面４４ａからシート５０に転写するために、ブランケット４４をシート５０に押圧するように構成されている。

【0120】

次にＩＣ８２を参照する。これは、反時計回りに回転され、本例では、ＰＣ９０の直径に対して２倍の直径を有する。

【0121】

いくつかの実施形態では、ＩＣ８２は、それぞれグリッパ４９を含む２つの開放角４７を有する。グリッパ４９は、前述したように画像をパネル１１の表面４４ａからシート５０に転写するために、シート５０を把持してＰＣ９０とＩＣ８２との間で移動するように構成されている。

【0122】

いくつかの実施形態では、ＩＣ８２の円周上のセクション５１及び５３は、パネル１１の表面４４ａから画像を受け取るために、シート５０をブランケット４４に押圧するように構成されている。なお、画像転送中に、第１のシート５０はセクション５１上にフィットし、画像を転写した後、第１のシート５０は、基板搬送モジュール８０によって出力スタック８８の方に移動されることに留意されたい。また、本例では、インプレッションステーション８４の動作中、ギャップ４３及び開放角４７は通常、互いに面しており、同時に、ブランケット４４が方向９４に移動するときに、ブランケット４４のセクション１３がＰＣ９０とＩＣ８２との間を通る。その後、第２のシート５０（図示せず）が、他方の（たとえば、反対側の）開放角４７のグリッパ４９によって把持及び移動され、次の画像を次のパネル１１から第２のシート５０に転写するためにセクション５３上にフィットする。インプレッションステーション８４及びそのコンポーネントの動作は、たとえば、ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ２０２０／０９９９７６Ａ１（Ｌｅａｎら）により詳細に記載されている。なおこの文献の開示は、参照により本明細書に組み込まれている。

【0123】

次に、図３の全体図を参照する。前述の図２Ｂ及び２Ｃで説明したように、プロセッサ２０は、シフトされた画像をそれぞれのシート５０に転写するときに通常はオフセットを補償するでろうブランケット４４の移動を計算するように構成されている。

【0124】

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、画像対基板の位置合わせ誤差を引き起こすことなく、シフトされた画像をそれぞれのシート５０に転写するように、ＢＣＤ７７及びＢＴＤ９９を制御して、計算された移動に従ってブランケット４４の速度を調整する。

【0125】

図３に、オフセット補償の１つの可能な実施態様を示す。いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、たとえば、破線４６ａと４６ｂの間に、ブランケット４４のパネル１１に生成された画像の位置をシフトさせる総量を示すストローク３９を規定するように構成されている。図２Ｂ、２Ｃ、及び任意選択で２Ｄの実施形態例によれば、プロセッサ２０は、ストローク３９のサイズをＸ軸に沿って約６０ｍｍと規定してもよい。

【0126】

図３の例では、ブランケットの公称速度に対するブランケット４４の調整された速度を、矢印４８ａ及び４８ｂを使用して示している。矢印４８ａは、公称速度と比べてブランケット４４がより高速であることを表し、矢印４８ｂは、公称速度と比べてブランケット４４がより低速であることを表す。

【0127】

前述の図２Ｃに示し説明したように、第２の画像は、記憶２３ｂがライン２５ｃに対するオフセット２４に現れるように、Ｘ軸に沿って右にシフトされる。言い換えれば、記憶２３ｂの位置は、移動方向９４に対して、オフセット２４の量（たとえば、約６０μｍ）だけ、その公称位置から遅れている。いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、オフセット２４を補償するために、ＢＣＤ７７及びＢＴＤ９９を制御して、ブランケット４４の速度を前述の公称速度よりも高い速度まで高め、それによって、すべてのシート５０上で画像を同じ位置に転写する。

【0128】

言い換えれば、画像上の位置がその公称位置の後方にシフトされた場合、プロセッサ２０は、ブランケット４４の表面４４ａ上に画像形成ステーション６０によって生成された画像のシフトされた位置を補償するように、ブランケット４４の速度を公称速度を超えるように調整する。これらの実施形態を図３に例示する。

【0129】

一実施形態では、オフセット２４を適用することに応答して、ブランケット４４のシーム４５を方向４８ａの相対速度で、すなわち、ブランケット４４の公称速度よりも高い速度で移動する。別の実施形態では、方向オフセット２４とは反対方向にオフセットを適用することに応答して、シーム４５を方向４８ｂの相対速度で、すなわち、ブランケット４４の公称速度と比べてより低い速度で移動する。なお、図３の例では、ブランケット４４を常に、方向９４に移動するが、矢印４８ａ及び４８ｂは、ブランケット４４の公称速度と比べたブランケット４４の相対速度を示すことに留意されたい。

【0130】

いくつかの実施形態では、前述の図２Ｃで説明した実施形態により、プロセッサ２０は、ブランケット４４のすべてのパネル１１において６０μｍのオフセットを補償するように、ＢＣＤ７７及びＢＴＤ９９を制御してブランケット４４の速度を調整する。なお、ギャップ４３及び開放角４７が互いに面していて、シーム４５がＰＣ９０とＩＣ８２との間を移動するとき、プロセッサ２０は、シーム４５の位置をストローク３９の範囲内にあるように、すなわち、破線４６ａと４６ｂの間にあるように、制御することに留意されたい。

【0131】

図４は、本発明の実施形態による、ブランケット４４における記憶効果の出現を減らすための方法を概略的に例示するフローチャートである。

【0132】

本方法は、第１の画像印刷ステップ１００から始まる。プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、ブランケット４４のパネル１１上の記憶１６ａの位置（前述の図２Ｂに示す）などの第１の位置に第１の画像を生成し、そして、以下の図１及び２Ｂで詳細に説明するように、第１の画像をパネル１１から第１のシート５０に転写するために、ブランケット４４を方向９４に移動する。

【0133】

オフセット指定ステップ１０２において、プロセッサ２０は、第２の位置において、ブランケット４４のパネル１１上に生成されることが意図される第２の画像のオフセット１８を指定する。図２Ｂの例では、第２の位置は、第１の位置とは異なる記憶１６ｂの位置、たとえば、前述の図２Ｂで詳細に説明したような記憶１６ａの位置を含む。

【0134】

補償計算ステップ１０４において、プロセッサ２０は、前述の図２Ｂで詳細に説明したように、第２の画像を第２のシート５０に転写するときにオフセット１８を少なくとも部分的に、通常は完全に補償するであろうブランケット４４の移動を計算する。

【0135】

第２の画像印刷ステップ１０６において、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、第２の画像を生成し、前述の図２Ｂで詳細に説明したように、第２の画像を第２のシート５０に転写するために、計算された移動に従ってブランケット４４を移動する。

【0136】

いくつかの実施形態では、第１及び第２の画像は所与の画像のコピーであり、記憶１６ｂの位置（第２の画像の位置を示す）は、記憶１６ａの位置（第１の画像の位置を示す）と部分的に重なる。

【0137】

前述の図１で説明したように、ブランケット４４は、連続的なブランケットループの形状を有し、複数の回転で回転する。いくつかの実施形態では、ブランケット４４の第１の回転中に、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、画像形成ステーション６０に対して第１の位置にブランケット４４を位置決めすることによって第１の画像を生成する。ブランケット４４の第２の回転中に、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、前述の図２Ｂで詳細に説明したように、画像形成ステーションに対して第２の位置にブランケット４４を位置決めすることによって第２の画像を生成する。

【0138】

いくつかの実施形態では、前述の図２Ｃで示し詳細に説明したように、第１の画像を生成した後（たとえば、ブランケット４４の第１の回転中）、及び第２の画像を生成する前（たとえば、ブランケット４４の第２の回転中）に、プロセッサ２０は、印刷アセンブリを制御して、ブランケット４４上で第３の位置に第３の画像を生成する。前述の図２Ｃの例では、記憶２３ａは第１の画像の位置を示し、記憶２３ｂは第３の画像の位置を示し、第３の画像は、（たとえば、オフセット２４によって）その意図された位置に対してシフトされている。プロセッサ２０はさらに、第３の画像を第３のシート５０に転写するときにオフセット２４を補償するであろうブランケット４４の移動を計算するように構成されている。プロセッサ５０は、印刷アセンブリを制御して、第３の画像を第３のシート５０に転写するために、計算された移動に従ってブランケット４４を移動する。

【0139】

いくつかの実施形態では、前述の図２Ｂ及び２Ｃに示し詳細に説明したように、意図的なオフセット（たとえば、オフセット１８またはオフセット２４）は、移動方向９４と平行なＸ軸に沿って指定される。

【0140】

代替的な実施形態において、以下の図２Ｄで詳細に説明するように、意図的なオフセットは、任意の方向に、またはＸ軸及びＹ軸に沿った移動と、一定または変更され得るステップサイズとの組み合わせで指定される。

【0141】

本明細書で説明する実施形態は、フレキシブル中間転写体を使用するデジタル印刷に主に対処するものであるが、本明細書に記載の方法及びシステムは、画像を受け取って画像をターゲット基板に転写するための任意の好適なタイプの中間装置（たとえば、部材）を有する任意の種類の印刷システム及びプロセスなどの他の用途においても使用することができる。

【0142】

前述した実施形態は一例として引用されており、本発明は特に上記で図示及び説明したものに限定されないことが理解される。むしろ、本発明の範囲は、前述した種々の特徴の組み合わせ及び部分組み合わせの両方、ならびに前述の説明を読むと当業者に想起され、従来技術には開示されていないその変形及び変更を含む。本特許出願に参照により組み込まれた文献は、本出願の構成部分と考えるべきである。ただし、何らかの用語が、これらの組み込まれた文献において、本明細書において明示的または黙示的に形成された定義と矛盾する方法で定義されている場合は別であり、本明細書における定義のみを考慮すべきである。

【図1】

【図2A】

【図2B】

【図2C】

【図2D】

【図3】

【図4】

【国際調査報告】