(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-07-17
(54)【発明の名称】画素駆動回路、画素駆動回路の駆動方法および表示パネル
(51)【国際特許分類】
G09G 3/3233 20160101AFI20240709BHJP
G09G 3/20 20060101ALI20240709BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20240709BHJP
H10K 59/123 20230101ALI20240709BHJP
【FI】
G09G3/3233
G09G3/20 624B
G09F9/30 365
G09F9/30 338
H10K59/123
G09G3/20 611H
G09G3/20 642B
G09G3/20 642C
【審査請求】有
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2023534028
(86)(22)【出願日】2021-06-25
(85)【翻訳文提出日】2023-06-02
(86)【国際出願番号】 CN2021102363
(87)【国際公開番号】W WO2022267001
(87)【国際公開日】2022-12-29
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】510280589
【氏名又は名称】京東方科技集團股▲ふん▼有限公司
【氏名又は名称原語表記】BOE TECHNOLOGY GROUP CO.,LTD.
【住所又は居所原語表記】No.10 Jiuxianqiao Rd.,Chaoyang District,Beijing 100015,CHINA
(71)【出願人】
【識別番号】511121702
【氏名又は名称】成都京東方光電科技有限公司
【氏名又は名称原語表記】CHENGDU BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO.,LTD.
【住所又は居所原語表記】No.1188,Hezuo Rd.,(West Zone),Hi-tech Development Zone,Chengdu,Sichuan,611731,P.R.CHINA
(74)【代理人】
【識別番号】100108453
【氏名又は名称】村山 靖彦
(74)【代理人】
【識別番号】100110364
【氏名又は名称】実広 信哉
(72)【発明者】
【氏名】青 ▲海▼▲剛▼
【テーマコード(参考)】
3K107
5C080
5C094
5C380
【Fターム(参考)】
3K107AA01
3K107BB01
3K107CC33
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3K107FF04
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5C080AA06
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5C380CD017
5C380CD018
5C380CD019
5C380DA06
(57)【要約】
画素駆動回路、画素駆動回路の駆動方法および表示パネルが提供される。画素駆動回路は、駆動回路(01)、制御回路(02)、電圧安定化回路(03)および第1記憶回路(04)を含む。駆動回路(01)は、第1ノード(N1)、第2ノード(N2)および第3ノード(N3)に接続され、第1ノード(N1)の信号に基づいて第2ノード(N2)を介して第3ノード(N3)に駆動電流を供給するように構成される。制御回路(02)は、第1イネーブル信号端子(EM1)、第2ノード(N2)、第1電源端子(VDD)および第4ノード(N4)に接続され、第1イネーブル信号端子(EM1)の信号に応答して第2ノード(N2)と第4ノード(N4)との間に導通を生成し、第1イネーブル信号端子(EM1)の信号に応答して第1電源端子(VDD)と第4ノード(N4)との間に導通を生成する。電圧安定化回路(03)は、第4ノード(N4)、第2イネーブル信号端子(EM2)および基準電圧端子(Vref)に接続され、第2イネーブル信号端子(EM2)の信号に応答して基準電圧端子(Vref)の信号を第4ノード(N4)に伝送するように構成される。第1記憶回路(04)は、第1ノード(N1)と第4ノード(N4)との間に接続され、第1ノード(N1)と第4ノード(N4)の電荷を蓄積するように構成される。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第1ノード、第2ノードおよび第3ノードに接続され、前記第1ノードの信号に基づいて前記第2ノードを介して前記第3ノードに駆動電流を供給するように構成された駆動回路と、
第1イネーブル信号端子、前記第2ノード、第1電源端子および第4ノードに接続され、前記第1イネーブル信号端子の信号に応答して前記第2ノードと前記第4ノードとの間に導通を生成し、前記第1イネーブル信号端子の信号に応答して前記第1電源端子と前記第4ノードとの間に導通を生成するように構成された制御回路と、
前記第4ノード、第2イネーブル信号端子および基準電圧端子に接続され、前記第2イネーブル信号端子の信号に応答して前記基準電圧端子の信号を前記第4ノードに伝送するように構成された電圧安定化回路と、
前記第1ノードと前記第4ノードとの間に接続され、前記第1ノードと前記第4ノードの電荷を蓄積するように構成された第1記憶回路と、
を備える画素駆動回路。
【請求項2】
前記第1イネーブル信号端子の信号の極性と、前記第2イネーブル信号端子の信号の極性とは逆極性である
請求項1に記載の画素駆動回路。
【請求項3】
前記制御回路は、前記第3ノード、第5ノードおよび第1イネーブル信号端子にさらに接続され、前記制御回路は、前記第1イネーブル信号端子の信号に応答して前記第3ノードと前記第5ノードとの間に導通を生成するようにさらに構成され、
前記画素駆動回路は、
初期信号端子および第5ノードに接続され、少なくとも1つの制御信号に応答して前記初期信号端子の信号を前記第5ノードに伝送するように構成された第1リセット回路をさらに備える
請求項1に記載の画素駆動回路。
【請求項4】
前記第1リセット回路は、前記第2イネーブル信号端子にさらに接続され、前記第1リセット回路は、前記第2イネーブル信号端子の信号に応答して前記初期信号端子の信号を前記第5ノードに伝送するように構成される
請求項3に記載の画素駆動回路。
【請求項5】
前記駆動回路は、
第1電極が前記第2ノードに接続され、第2電極が前記第3ノードに接続され、ゲート電極が前記第1ノードに接続される駆動トランジスタを含み、
前記制御回路は、
第1電極が前記第2ノードに接続され、第2電極が前記第4ノードに接続され、ゲート電極が前記第1イネーブル信号端子に接続される第5トランジスタと、
第1電極が前記第4ノードに接続され、第2電極が前記第1電源端子に接続され、ゲート電極が前記第1イネーブル信号端子に接続される第8トランジスタと、
第1電極が前記第5ノードに接続され、第2電極が前記第3ノードに接続され、ゲート電極が前記第1イネーブル信号端子に接続される第6トランジスタと、を含み、
前記電圧安定化回路は、
第1電極が前記基準電圧端子に接続され、第2電極が前記第4ノードに接続され、ゲート電極が前記第2イネーブル信号端子に接続される第3トランジスタを含み、
前記第1記憶回路は、前記第1ノードと前記第4ノードとの間に接続された第1キャパシタを含み、
前記第1リセット回路は、
第1電極が前記初期信号端子に接続され、第2電極が前記第5ノードに接続され、ゲート電極が前記第2イネーブル信号端子に接続される第7トランジスタを含む
請求項4に記載の画素駆動回路。
【請求項6】
前記第2ノードおよびデータ信号端子に接続され、少なくとも1つの制御信号に応答して前記データ信号端子の信号を前記第2ノードに伝送するように構成されたデータ書込回路と、
前記第3ノードおよび第1ノードに接続され、少なくとも1つの制御信号に応答して前記第1ノードと前記第3ノードとの間に導通を生成するように構成される補償回路と、をさらに備える
請求項1に記載の画素駆動回路。
【請求項7】
前記データ書込回路は、第1ゲート駆動信号端子にさらに接続され、前記データ書込回路は、前記第1ゲート駆動信号端子の信号に応答して前記データ信号端子の信号を前記第2ノードに伝送するように構成され、
前記補償回路は、前記第1ゲート駆動信号端子にさらに接続され、前記補償回路は、前記第1ゲート駆動信号端子の信号に応答して前記第1ノードと前記第3ノードとの間に導通を生成するように構成される
請求項6に記載の画素駆動回路。
【請求項8】
前記データ書込回路は、前記第2イネーブル信号端子にさらに接続され、前記データ書込回路は、前記第2イネーブル信号端子の信号に応答して前記データ信号端子の信号を前記第2ノードに伝送するように構成され、
前記補償回路は、前記第2イネーブル信号端子にさらに接続され、前記補償回路は、前記第2イネーブル信号端子の信号に応答して前記第1ノードと前記第3ノードとの間に導通を生成するように構成される
請求項6に記載の画素駆動回路。
【請求項9】
前記第1ノード、初期信号端子およびリセット信号端子に接続され、前記リセット信号端子の信号に応答して前記初期信号端子の信号を前記第1ノードに伝送するように構成された第2リセット回路をさらに備える
請求項7に記載の画素駆動回路。
【請求項10】
前記データ書込回路は、
第1電極が前記データ信号端子に接続され、第2電極が前記第2ノードに接続され、ゲート電極が前記第1ゲート駆動信号端子に接続される第4トランジスタを含み、
前記補償回路は、
第1電極が前記第1ノードに接続され、第2電極が前記第3ノードに接続され、ゲート電極が前記第1ゲート駆動信号端子に接続される第2トランジスタを含み、
前記第2リセット回路は、
第1電極が前記初期信号端子に接続され、第2電極が前記第1ノードに接続され、ゲート電極が前記リセット信号端子に接続される第1トランジスタを含む
請求項9に記載の画素駆動回路。
【請求項11】
前記第2ノードに接続され、第2ノードの電荷を蓄積するように構成された第2記憶回路をさらに備え、
前記データ書込回路は、第1ゲート駆動信号端子にさらに接続され、前記データ書込回路は、前記第1ゲート駆動信号端子の信号に応答して前記データ信号端子の信号を前記第2ノードに伝送するように構成され、
前記補償回路は、第2ゲート駆動信号端子にさらに接続され、前記補償回路は、前記第2ゲート駆動信号端子の信号に応答して前記第1ノードと前記第3ノードとの間に導通を生成するように構成される
請求項6に記載の画素駆動回路。
【請求項12】
前記第1ノードおよび初期信号端子に接続され、少なくとも1つの制御信号に応答して前記初期信号端子の信号を前記第1ノードに伝送するように構成された第2リセット回路をさらに備える、
請求項11に記載の画素駆動回路。
【請求項13】
前記第2リセット回路は、リセット信号端子、第1ゲート駆動信号端子および第6ノードにさらに接続され、前記リセット信号端子の信号に応答して前記初期信号端子と前記第6ノードとの間に導通を生成し、前記第1ゲート駆動信号端子の信号に応答して前記第6ノードと前記第1ノードとの間に導通を生成するように構成される
請求項12に記載の画素駆動回路。
【請求項14】
前記データ書込回路は、
第1電極が前記データ信号端子に接続され、第2電極が前記第2ノードに接続され、ゲート電極が前記第1ゲート駆動信号端子に接続される第4トランジスタを含み、
前記補償回路は、
第1電極が前記第1ノードに接続され、第2電極が前記第3ノードに接続され、ゲート電極が前記第2ゲート駆動信号端子に接続される第2トランジスタを含み、
前記第2リセット回路は、
第1電極が前記初期信号端子に接続され、第2電極が前記第6ノードに接続され、ゲート電極が前記リセット信号端子に接続される第1トランジスタと、
第1電極が前記第6ノードに接続され、第2電極が前記第1ノードに接続され、ゲート電極が前記第1ゲート駆動信号端子に接続される第9トランジスタと、を含み、
前記第2記憶回路は、前記第2ノードと前記第4ノードとの間に接続された第2キャパシタを含む
請求項13に記載の画素駆動回路。
【請求項15】
請求項1~14のいずれかに記載の画素駆動回路を駆動するための画素駆動回路の駆動方法であって、前記駆動方法は、
少なくとも閾値補償段階において、第1イネーブル信号端子に無効レベルを入力し、第2イネーブル信号端子に有効レベルを入力することと、
発光段階において、第1イネーブル信号端子に有効レベルを入力し、第2イネーブル信号端子に無効レベルを入力することを含む、
画素駆動回路の駆動方法。
【請求項16】
請求項9または10に記載の画素駆動回路を駆動するための画素駆動回路の駆動方法であって、前記駆動方法は、
リセット段階において、リセット信号端子および第2イネーブル信号端子に有効レベルを入力し、第1ゲート駆動信号端子および第1イネーブル信号端子に無効レベルを入力することと、
閾値補償段階において、第1ゲート駆動信号端子および第2イネーブル信号端子に有効レベルを入力し、リセット信号端子および第1イネーブル信号端子に無効レベルを入力することと、
発光段階において、第1イネーブル信号端子に有効レベルを入力し、第1ゲート駆動信号端子、リセット信号端子および第2イネーブル信号端子に無効レベルを入力することを含む
画素駆動回路の駆動方法。
【請求項17】
請求項13または14に記載の画素駆動回路を駆動するための画素駆動回路の駆動方法であって、前記駆動方法は、
第1リセット段階において、リセット信号端子および第2イネーブル信号端子に有効レベルを入力し、第1ゲート駆動信号端子、第1イネーブル信号端子および第2ゲート駆動信号端子に無効レベルを入力することと、
第2リセット段階において、リセット信号端子、第2イネーブル信号端子および第1ゲート駆動信号端子に有効レベルを入力し、第1イネーブル信号端子および第2ゲート駆動信号端子に無効レベルを入力することと、
第1閾値補償段階において、第1ゲート駆動信号端子、第2イネーブル信号端子および第2ゲート駆動信号端子に有効レベルを入力し、リセット信号端子および第1イネーブル信号端子に無効レベルを入力することと、
第2閾値補償段階において、第2イネーブル信号端子および第2ゲート駆動信号端子に有効レベルを入力し、第1ゲート駆動信号端子、リセット信号端子および第1イネーブル信号端子に無効レベルを入力することと、
発光段階において、第1イネーブル信号端子に有効レベルを入力し、第1ゲート駆動信号端子、第2ゲート駆動信号端子、リセット信号端子および第2イネーブル信号端子に無効レベルを入力することを含む、
画素駆動回路の駆動方法。
【請求項18】
請求項1~14のいずれかに記載の画素駆動回路を含む表示パネル。
【請求項19】
画素駆動回路を含む表示パネルであって、前記画素駆動回路は、
駆動トランジスタと、
第1電極が前記駆動トランジスタの第1電極に接続され、ゲート電極が第1イネーブル信号線に接続される第5トランジスタと、
第1電極が前記第5トランジスタの第2電極に接続され、第2電極が電源線に接続され、ゲート電極が前記第1イネーブル信号線に接続される第8トランジスタと、
第1電極が基準電圧線に接続され、第2電極が前記第5トランジスタの第2電極に接続され、ゲート電極が第2イネーブル信号線に接続される第3トランジスタと、
前記駆動トランジスタのゲート電極と第1電極との間に接続される第1キャパシタと、
を含む表示パネル。
【請求項20】
前記表示パネルは、
ベース基板と、
前記ベース基板の一側に配置された活性層であって、第10活性部、第3活性部、第5活性部、第8活性部および第11活性部を含み、前記第11活性部は、前記第3活性部、第5活性部および第8活性部にそれぞれ接続され、前記第10活性部は、前記第11活性部から離れた前記第5活性部の一端に接続される活性層と、
前記ベース基板から離れた前記活性層の一側に配置された第1導電層であって、前記第1イネーブル信号線、第2イネーブル信号線、第10導電部および第8導電部を含む第1導電層と、
前記ベース基板から離れた前記第1導電層の一側に配置された第2導電層であって、第11導電部を含み、前記ベース基板上の前記第11導電部の正投影は、前記ベース基板上の前記第10導電部の正投影と少なくとも部分的に重なっており、前記第11導電部は、前記第1キャパシタの第2電極を形成するために用いられる第2導電層と、
前記ベース基板から離れた前記第2導電層の一側に配置された第3導電層であって、第1接続部を含み、前記第1接続部はビアを介して前記第11活性部および前記第11導電部にそれぞれ接続される第3導電層と、を含み、
ここで、前記第10活性部は前記駆動トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられ、前記第3活性部は前記第3トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられ、前記第5活性部は前記第5トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられ、前記第8活性部は前記第8トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられ、
前記ベース基板上の前記第10導電部の正投影は、前記ベース基板上の前記第10活性部の正投影を覆い、前記第10導電部は前記駆動トランジスタのゲート電極と前記第1キャパシタの第1電極を形成するために用いられ、
前記ベース基板上の前記第1イネーブル信号線の正投影は第1方向に沿って延び、前記ベース基板上の第1イネーブル信号線の正投影は前記ベース基板上の前記第5活性部の正投影を覆い、前記第1イネーブル信号線の一部は、前記第5トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、
前記ベース基板上の前記第2イネーブル信号線の正投影は前記第1方向に沿って延び、前記ベース基板上の第2イネーブル信号線の正投影は前記ベース基板上の前記第3活性部の正投影を覆い、前記第2イネーブル信号線の一部は、前記第3トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、
前記第8導電部は前記第1イネーブル信号線に接続され、前記ベース基板上の前記第8導電部の正投影は前記ベース基板上の前記第8活性部の正投影を覆い、前記第8導電部は、前記第8トランジスタのゲート電極を形成するために用いられる
請求項19に記載の表示パネル。
【請求項21】
前記活性層は、
前記第11活性部から離れた前記第8活性部の一端に接続された第12活性部と、
前記第11活性部から離れた前記第3活性部の一端に接続された第13活性部と、をさらに含み、
前記第3導電層は、
前記ベース基板上の正投影が前記第1方向に沿って延び、ビアを介して前記第13活性部に接続される基準電圧線をさらに含み、
前記表示パネルは、前記ベース基板から離れた前記第3導電層の一側に配置された第4導電層をさらに含み、前記第4導電層は前記電源線を含み、前記ベース基板上の前記電源線の正投影は第2方向に沿って延び、前記第1方向は第2方向と交差し、前記電源線はビアを介して前記第12活性部に接続される
請求項20に記載の表示パネル。
【請求項22】
前記画素駆動回路は、第2トランジスタと第4トランジスタとをさらに含み、
前記第2トランジスタは第1電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第2電極に接続され、ゲート電極が第1ゲート線に接続され、前記第4トランジスタは第1電極がデータ線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第1電極に接続され、ゲート電極が前記第1ゲート線に接続され、
前記画素駆動回路は複数であり、複数の前記画素駆動回路は、前記第1方向に離間する第1画素駆動回路および第2画素駆動回路を含み、
前記第1導電層は、第4導電部をさらに含み、前記第4導電部の一部は、前記第1画素駆動回路における第2トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、前記第4導電部の他の部分は、前記第2画素駆動回路における第4トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、
前記第4導電部は複数であり、前記ベース基板上の複数の前記第4導電部の正投影は前記第1方向に離間され、
前記第3導電層は、前記第1ゲート線をさらに含み、前記ベース基板上の前記第1ゲート線の正投影は前記第1方向に沿って延び、前記第1ゲート線はビアを介して前記第1方向に離間されている複数の第4導電部にそれぞれ接続され、
前記第3導電層のシート抵抗は、前記第1導電層のシート抵抗よりも小さい
請求項21に記載の表示パネル。
【請求項23】
前記画素駆動回路は、第4トランジスタをさらに含み、前記第4トランジスタは第1電極がデータ線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第1電極に接続され、
前記活性層は、前記第10導電部に接続された第14活性部をさらに含み、
前記第2導電層は、前記第11導電部に接続された第12導電部をさらに含み、前記ベース基板上の前記第12導電部の正投影は前記第2方向に沿って延びるとともに、前記ベース基板上の前記第12導電部の正投影の少なくとも一部は、前記ベース基板上の前記第14活性部の正投影と前記ベース基板上の前記データ線の正投影との間に位置する
請求項21に記載の表示パネル。
【請求項24】
前記画素駆動回路は、第2トランジスタをさらに含み、前記第2トランジスタは第1電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第2電極に接続され、
前記画素駆動回路は複数であり、複数の前記画素駆動回路は、前記第1方向に離間する第1画素駆動回路および第2画素駆動回路を含み、
前記第1導電層は、第4導電部をさらに含み、前記第4導電部の一部は、前記第1画素駆動回路における第2トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、前記第4導電部の他の部分は、前記第2画素駆動回路における第4トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、
前記第4導電部は複数であり、前記ベース基板上の複数の前記第4導電部の正投影は前記第1方向に離間され、
前記ベース基板上の前記第12導電部の正投影は、前記第1方向に隣接する2つの前記第4導電部の前記ベース基板上の正投影の間に位置する
請求項23に記載の表示パネル。
【請求項25】
前記活性層は、前記第10導電部に接続された第14活性部をさらに含み、
前記ベース基板上の前記電源線の正投影は、前記ベース基板上の前記第14活性部の正投影と少なくとも部分的に重なる
請求項21に記載の表示パネル。
【請求項26】
前記活性層は、第14活性部をさらに含み、
前記第3導電層は第2接続部をさらに含み、前記第2接続部はビアを介して前記第10導電部および前記第14活性部にそれぞれ接続され、前記ベース基板上の前記電源線の正投影は、前記ベース基板上の前記第2接続部の正投影と少なくとも部分的に重なる
請求項21に記載の表示パネル。
【請求項27】
前記表示パネルは発光部をさらに備え、前記画素駆動回路は前記発光部の第1電極に接続され、前記画素駆動回路は第1トランジスタと第7トランジスタとをさらに含み、前記第1トランジスタは第1電極が第1初期信号線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、前記第7トランジスタは第1電極が第2初期信号線に接続され、第2電極が前記発光部の第1電極に接続され、
前記活性層は、
前記第1トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられる第1活性部と、
前記第7トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられる第7活性部と、
前記第10活性部から離れた前記第1活性部の一端に接続された第1初期信号線と、
前記第10活性部から離れた前記第7活性部の一端に接続された第2初期信号線と、をさらに含む
請求項21に記載の表示パネル。
【請求項28】
前記画素駆動回路は、第1トランジスタをさらに含み、前記第1トランジスタは第1電極が第1初期信号線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、ゲート電極がリセット線に接続され、
前記第1導電層は複数の第1導電部をさらに含み、前記ベース基板上の複数の前記第1導電部の正投影は前記第1方向に離間され、前記第1導電部の一部は前記第1トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、
前記第3導電層は前記リセット線をさらに含み、前記ベース基板上の前記リセット線の正投影は前記第1方向に沿って延び、前記リセット線はビアを介して前記第1方向に離れている複数の前記第1導電部にそれぞれ接続され、
前記第3導電層のシート抵抗は、前記第1導電層のシート抵抗よりも小さい
請求項21に記載の表示パネル。
【請求項29】
前記画素駆動回路は、第4トランジスタと第9トランジスタとをさらに備え、前記第4トランジスタは第1電極がデータ線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第1電極に接続され、ゲート電極が第1ゲート線に接続され、前記第9トランジスタは第1電極が初期信号線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、ゲート電極が前記第1ゲート線に接続され、
前記第1導電層は複数の第9導電部をさらに含み、前記ベース基板上の複数の第9導電部の正投影は前記第1方向に離間され、前記第9導電部の一部は前記第4トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、前記第9導電部の他の部分は、同一の画素駆動回路における前記第9トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、
前記第3導電層は前記第1ゲート線をさらに含み、前記ベース基板上の前記第1ゲート線の正投影は前記第1方向に沿って延び、前記第1ゲート線はビアを介して前記第1方向に離れている複数の前記第9導電部にそれぞれ接続され、
前記第3導電層のシート抵抗は、前記第1導電層のシート抵抗よりも小さい
請求項21に記載の表示パネル。
【請求項30】
前記画素駆動回路は第2トランジスタをさらに含み、前記第2トランジスタは第1電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第2電極に接続され、ゲート電極が第2ゲート線に接続され、
前記第1導電層は複数の第2導電部をさらに含み、前記ベース基板上の複数の前記第2導電部の正投影は前記第1方向に離間され、前記第2導電部は前記第2トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、
前記第3導電層は前記第2ゲート線をさらに含み、前記ベース基板上の前記第2ゲート線の正投影は前記第1方向に沿って延び、前記第2ゲート線はビアを介して前記第1方向に離れている複数の前記第2導電部にそれぞれ接続される
請求項29に記載の表示パネル。
【請求項31】
前記画素駆動回路は第2キャパシタをさらに含み、前記第2キャパシタの第1電極は、前記第5トランジスタの第2電極に接続され、前記第2キャパシタの第2電極は、前記駆動トランジスタの第1電極に接続され、
前記活性層は第16活性部をさらに含み、前記第16活性部は前記第11活性部から離れた前記第5活性部の一端に接続され、前記第16活性部は前記第2キャパシタの第2電極を形成するために用いられ、
前記第2導電層は、前記第11導電部に接続された第14導電部をさらに含み、前記ベース基板上の前記第14導電部の正投影は、前記ベース基板上の前記第16活性部の正投影と少なくとも部分的に重なっており、前記第14導電部は、前記第2キャパシタの第1電極を形成するために用いられる
請求項29に記載の表示パネル。
【請求項32】
前記活性層は、
前記第11活性部から離れた前記第8活性部の一端に接続された第12活性部と、
前記第11活性部から離れた前記第3活性部の一端に接続された第13活性部と、をさらに含み、
前記第3導電層は電源線をさらに含み、前記ベース基板上の前記電源線の正投影は第2方向に沿って延び、前記第2方向は前記第1方向と交差し、前記電源線はビアを介して前記第12活性部に接続され、
前記表示パネルは第4導電層をさらに含み、前記第4導電層は、前記ベース基板から離れた前記第3導電層の一側に配置され、前記第4導電層は前記基準電圧線を含み、前記基準電圧線はビアを介して前記第13活性部に接続される
請求項20に記載の表示パネル。
【請求項33】
前記画素駆動回路は第1トランジスタをさらに含み、前記第1トランジスタは第1電極が初期信号線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、
前記活性層は、
前記第1トランジスタの第1チャネル領域を形成するために用いられる第1サブ活性部と、
前記第1トランジスタの第2チャネル領域を形成するために用いられる第2サブ活性部と、
前記第1サブ活性部と第2サブ活性部との間に接続された第3サブ活性部と、をさらに含み、
前記ベース基板上の前記電源線の正投影は、前記ベース基板上の前記第3サブ活性部の正投影と少なくとも部分的に重なる
請求項32に記載の表示パネル。
【請求項34】
前記画素駆動回路は第2トランジスタをさらに含み、前記第2トランジスタは第1電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第2電極に接続され、
前記活性層は、
前記第2トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられる第4サブ活性部と、
前記第2トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられる第5サブ活性部と、
前記第4サブ活性部と前記第5サブ活性部の間に接続された第6サブ活性部と、をさらに含み、
前記第4導電層は、前記基準電圧線に接続された第17導電部をさらに含み、
前記表示パネルは、前記第1方向に隣接して配置された第1画素駆動回路と第2画素駆動回路とを含み、
前記第1画素駆動回路における第17導電部の前記ベース基板上の正投影は、前記第2画素駆動回路における第6サブ活性部の前記ベース基板上の正投影と少なくとも部分的に重なる
請求項32に記載の表示パネル。
【請求項35】
前記表示パネルは発光部をさらに備え、前記画素駆動回路は前記発光部の第1電極に接続され、前記画素駆動回路は第1トランジスタと第7トランジスタとをさらに含み、前記第1トランジスタは第1電極が初期信号線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、前記第7トランジスタは第1電極が前記初期信号線に接続され、第2電極が前記発光部の第1電極に接続され、
前記画素駆動回路は複数であり、複数の前記画素駆動回路は第2方向に隣接する第3画素駆動回路および第4画素駆動回路を含み、前記第1方向は前記第2方向と交差し、
前記活性層は、
前記第1トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられる第1活性部と、
前記第7トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられる第7活性部と、
前記第3画素駆動回路における第1活性部と前記第4画素駆動回路における第7活性部との間に接続される第15活性部と、をさらに含み、
前記表示パネルは第4導電層をさらに含み、前記第4導電層は前記初期信号線を含み、前記ベース基板上の前記初期信号線の正投影は前記第2方向に沿って延び、前記初期信号線はビアを介して前記第15活性部に接続される
請求項20に記載の表示パネル。
【請求項36】
前記活性層は、前記第10導電部に接続された第14活性部をさらに含み、
前記初期信号線は、第1サブ初期信号線を含み、前記ベース基板上の前記第1サブ初期信号線の正投影は、前記ベース基板上の前記第14活性部の正投影と少なくとも部分的に重なる
請求項35に記載の表示パネル。
【請求項37】
前記活性層は、第14活性部をさらに含み、
前記第3導電層は第2接続部をさらに含み、前記第2接続部はビアを介して前記第10導電部および前記第14活性部にそれぞれ接続され、
前記初期信号線は第1サブ初期信号線をさらに含み、前記ベース基板上の前記第1サブ初期信号線の正投影は、前記ベース基板上の前記第2接続部の正投影と少なくとも部分的に重なる
請求項35に記載の表示パネル。
【請求項38】
前記初期信号線は第2サブ初期信号線をさらに含み、前記第2サブ初期信号線は前記第1サブ初期信号線に接続され、前記ベース基板上の前記第2サブ初期信号線の正投影は、前記ベース基板上の前記電源線の正投影と少なくとも部分的に重なる
請求項36または37に記載の表示パネル。
【請求項39】
前記画素駆動回路は第1トランジスタと第4トランジスタとをさらに含み、前記第1トランジスタは第1電極が初期信号線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、ゲート電極がリセット信号線に接続され、前記第4トランジスタは第1電極がデータ線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第1電極に接続され、
前記活性層は、前記第10導電部に接続された第14活性部をさらに含み、
前記第2導電層は、
前記ベース基板上の正投影が前記第1方向に沿って延びる前記リセット信号線と、
前記リセット信号線に接続された第13導電部であって、前記ベース基板上の正投影が、前記ベース基板上の前記第14活性部の正投影と前記ベース基板上の前記データ線の正投影との間に位置する第13導電部と、をさらに含む
請求項35に記載の表示パネル。
【請求項40】
前記第15活性部は複数であり、
前記活性層は活性線をさらに含み、前記ベース基板上の前記活性線の正投影は前記第1方向に沿って延び、前記活性線は前記第1方向に離れている複数の前記第15活性部に接続される
請求項35に記載の表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、表示技術分野に関し、より詳しくは画素駆動回路、画素駆動回路の駆動方法および表示パネルに関する。
【背景技術】
【0002】
表示パネルは、通常、画素駆動回路を介して発光部に駆動電流を供給して発光部を発光駆動する。関連技術において、画素駆動回路が出力する駆動電流は電源線の電圧に関係する。しかしながら、表示パネル上の異なる位置における電源線の電圧降下が異なるため、表示パネルが表示ムラを生じる。
【0003】
なお、上記背景技術の部分に開示された情報は、本開示の背景に対する理解を深めるためのものであり、当業者に周知の従来技術を構成しない情報を含むことができることに留意する。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【0004】
本開示の一態様によれば、画素駆動回路が提供され、第1ノード、第2ノードおよび第3ノードに接続され、前記第1ノードの信号に基づいて前記第2ノードを介して前記第3ノードに駆動電流を供給するように構成された駆動回路と、第1イネーブル信号端子、前記第2ノード、第1電源端子および第4ノードに接続され、前記第1イネーブル信号端子の信号に応答して前記第2ノードと前記第4ノードとの間に導通を生成し、前記第1イネーブル信号端子の信号に応答して前記第1電源端子と前記第4ノードとの間に導通を生成するように構成された制御回路と、前記第4ノード、第2イネーブル信号端子および基準電圧端子に接続され、前記第2イネーブル信号端子の信号に応答して前記基準電圧端子の信号を前記第4ノードに伝送するように構成された電圧安定化回路と、前記第1ノードと前記第4ノードとの間に接続され、前記第1ノードと前記第4ノードの電荷を蓄積するように構成された第1記憶回路と、を備える。
【0005】
本開示の一実施形態において、前記第1イネーブル信号端子の信号の極性と、前記第2イネーブル信号端子の信号の極性とは逆極性である。
【0006】
本開示の一実施形態において、前記制御回路は、前記第3ノード、第5ノードおよび第1イネーブル信号端子にさらに接続され、前記制御回路は、前記第1イネーブル信号端子の信号に応答して前記第3ノードと前記第5ノードとの間に導通を生成するようにさらに構成される。前記画素駆動回路は、初期信号端子および第5ノードに接続され、少なくとも1つの制御信号に応答して前記初期信号端子の信号を前記第5ノードに伝送するように構成された第1リセット回路をさらに備える。
【0007】
本開示の一実施形態において、前記第1リセット回路は、前記第2イネーブル信号端子にさらに接続され、前記第1リセット回路は、前記第2イネーブル信号端子の信号に応答して前記初期信号端子の信号を前記第5ノードに伝送するように構成される。
【0008】
本開示の一実施形態において、前記駆動回路は、第1電極が前記第2ノードに接続され、第2電極が前記第3ノードに接続され、ゲート電極が前記第1ノードに接続される駆動トランジスタを含む。前記制御回路は、第1電極が前記第2ノードに接続され、第2電極が前記第4ノードに接続され、ゲート電極が前記第1イネーブル信号端子に接続される第5トランジスタと、第1電極が前記第4ノードに接続され、第2電極が前記第1電源端子に接続され、ゲート電極が前記第1イネーブル信号端子に接続される第8トランジスタと、第1電極が前記第5ノードに接続され、第2電極が前記第3ノードに接続され、ゲート電極が前記第1イネーブル信号端子に接続される第6トランジスタと、を含む。前記電圧安定化回路は、第1電極が前記基準電圧端子に接続され、第2電極が前記第4ノードに接続され、ゲート電極が前記第2イネーブル信号端子に接続される第3トランジスタを含む。前記第1記憶回路は、前記第1ノードと前記第4ノードとの間に接続された第1キャパシタを含み、前記第1リセット回路は、第1電極が前記初期信号端子に接続され、第2電極が前記第5ノードに接続され、ゲート電極が前記第2イネーブル信号端子に接続される第7トランジスタを含む。
【0009】
本開示の一実施形態において、前記画素駆動回路は、前記第2ノードおよびデータ信号端子に接続され、少なくとも1つの制御信号に応答して前記データ信号端子の信号を前記第2ノードに伝送するように構成されたデータ書込回路と、前記第3ノードおよび第1ノードに接続され、少なくとも1つの制御信号に応答して前記第1ノードと前記第3ノードとの間に導通を生成するように構成される補償回路と、をさらに備える。
【0010】
本開示の一実施形態において、前記データ書込回路は、第1ゲート駆動信号端子にさらに接続され、前記データ書込回路は、前記第1ゲート駆動信号端子の信号に応答して前記データ信号端子の信号を前記第2ノードに伝送するように構成され、前記補償回路は、前記第1ゲート駆動信号端子にさらに接続され、前記補償回路は、前記第1ゲート駆動信号端子の信号に応答して前記第1ノードと前記第3ノードとの間に導通を生成するように構成される。
【0011】
本開示の一実施形態において、前記データ書込回路は、前記第2イネーブル信号端子にさらに接続され、前記データ書込回路は、前記第2イネーブル信号端子の信号に応答して前記データ信号端子の信号を前記第2ノードに伝送するように構成され、前記補償回路は、前記第2イネーブル信号端子にさらに接続され、前記補償回路は、前記第2イネーブル信号端子の信号に応答して前記第1ノードと前記第3ノードとの間に導通を生成するように構成される。
【0012】
本開示の一実施形態において、前記画素駆動回路は、前記第1ノード、初期信号端子およびリセット信号端子に接続され、前記リセット信号端子の信号に応答して前記初期信号端子の信号を前記第1ノードに伝送するように構成された第2リセット回路をさらに備える。
【0013】
本開示の一実施形態において、前記データ書込回路は、第1電極が前記データ信号端子に接続され、第2電極が前記第2ノードに接続され、ゲート電極が前記第1ゲート駆動信号端子に接続される第4トランジスタを含む。前記補償回路は、第1電極が前記第1ノードに接続され、第2電極が前記第3ノードに接続され、ゲート電極が前記第1ゲート駆動信号端子に接続される第2トランジスタを含む。前記第2リセット回路は、第1電極が前記初期信号端子に接続され、第2電極が前記第1ノードに接続され、ゲート電極が前記リセット信号端子に接続される第1トランジスタを含む。
【0014】
本開示の一実施形態において、前記画素駆動回路は、前記第2ノードと前記第4ノードとの間に接続され、第2ノードと第4ノードの電荷を蓄積するように構成された第2記憶回路をさらに備える。前記データ書込回路は、第1ゲート駆動信号端子にさらに接続され、前記データ書込回路は、前記第1ゲート駆動信号端子の信号に応答して前記データ信号端子の信号を前記第2ノードに伝送するように構成され、前記補償回路は、第2ゲート駆動信号端子にさらに接続され、前記補償回路は、前記第2ゲート駆動信号端子の信号に応答して前記第1ノードと前記第3ノードとの間に導通を生成するように構成される。
【0015】
本開示の一実施形態において、前記画素駆動回路は、前記第1ノードおよび初期信号端子に接続され、少なくとも1つの制御信号に応答して前記初期信号端子の信号を前記第1ノードに伝送するように構成された第2リセット回路をさらに備える。
【0016】
本開示の一実施形態において、前記第2リセット回路は、リセット信号端子、第1ゲート駆動信号端子および第6ノードにさらに接続され、前記リセット信号端子の信号に応答して前記初期信号端子と前記第6ノードとの間に導通を生成するように構成され、前記第1ゲート駆動信号端子の信号に応答して前記第6ノードと前記第1ノードとの間に導通を生成するように構成される。
【0017】
本開示の一実施形態において、前記データ書込回路は、第1電極が前記データ信号端子に接続され、第2電極が前記第2ノードに接続され、ゲート電極が前記第1ゲート駆動信号端子に接続される第4トランジスタを含む。前記補償回路は、第1電極が前記第1ノードに接続され、第2電極が前記第3ノードに接続され、ゲート電極が前記第2ゲート駆動信号端子に接続される第2トランジスタを含む。前記第2リセット回路は、第1電極が前記初期信号端子に接続され、第2電極が前記第6ノードに接続され、ゲート電極が前記リセット信号端子に接続される第1トランジスタと、第1電極が前記第6ノードに接続され、第2電極が前記第1ノードに接続され、ゲート電極が前記第1ゲート駆動信号端子に接続される第9トランジスタと、を含む。前記第2記憶回路は、前記第2ノードと前記第4ノードとの間に接続された第2キャパシタを含む。
【0018】
本開示の一態様によれば、上述した画素駆動回路を駆動する画素駆動回路の駆動方法が提供され、前記駆動方法は、
少なくとも閾値補償段階において、第1イネーブル信号端子に無効レベルを入力し、第2イネーブル信号端子に有効レベルを入力することと、
発光段階において、第1イネーブル信号端子に有効レベルを入力し、第2イネーブル信号端子に無効レベルを入力することを含む。
【0019】
本開示の一態様によれば、上述した画素駆動回路を駆動する画素駆動回路の駆動方法が提供され、前記駆動方法は、
リセット段階において、リセット信号端子および第2イネーブル信号端子に有効レベルを入力し、第1ゲート駆動信号端子および第1イネーブル信号端子に無効レベルを入力することと、
閾値補償段階において、第1ゲート駆動信号端子および第2イネーブル信号端子に有効レベルを入力し、リセット信号端子および第1イネーブル信号端子に無効レベルを入力することと、
発光段階において、第1イネーブル信号端子に有効レベルを入力し、第1ゲート駆動信号端子、リセット信号端子および第2イネーブル信号端子に無効レベルを入力することを含む。
【0020】
本開示の一態様によれば、上述した画素駆動回路を駆動する画素駆動回路の駆動方法が提供され、前記駆動方法は、
第1リセット段階において、リセット信号端子および第2イネーブル信号端子に有効レベルを入力し、第1ゲート駆動信号端子、第1イネーブル信号端子および第2ゲート駆動信号端子に無効レベルを入力することと、
第2リセット段階において、リセット信号端子、第2イネーブル信号端子および第1ゲート駆動信号端子に有効レベルを入力し、第1イネーブル信号端子および第2ゲート駆動信号端子に無効レベルを入力することと、
第1閾値補償段階において、第1ゲート駆動信号端子、第2イネーブル信号端子および第2ゲート駆動信号端子に有効レベルを入力し、リセット信号端子および第1イネーブル信号端子に無効レベルを入力することと、
第2閾値補償段階において、第2イネーブル信号端子および第2ゲート駆動信号端子に有効レベルを入力し、第1ゲート駆動信号端子、リセット信号端子および第1イネーブル信号端子に無効レベルを入力することと、
発光段階において、第1イネーブル信号端子に有効レベルを入力し、第1ゲート駆動信号端子、第2ゲート駆動信号端子、リセット信号端子および第2イネーブル信号端子に無効レベルを入力することを含む。
【0021】
本開示の一態様によれば、上述した画素駆動回路を含む表示パネルが提供される。
【0022】
本開示の一態様によれば、画素駆動回路を含む表示パネルが提供され、前記画素駆動回路は、駆動トランジスタと、第1電極が前記駆動トランジスタの第1電極に接続され、ゲート電極が第1イネーブル信号線に接続される第5トランジスタと、第1電極が前記第5トランジスタの第2電極に接続され、第2電極が電源線に接続され、ゲート電極が前記第1イネーブル信号線に接続される第8トランジスタと、第1電極が基準電圧線に接続され、第2電極が前記第5トランジスタの第2電極に接続され、ゲート電極が第2イネーブル信号線に接続される第3トランジスタと、前記駆動トランジスタのゲート電極と第1電極との間に接続される第1キャパシタと、を含む。
【0023】
本開示の一実施形態において、前記表示パネルは、ベース基板と、前記ベース基板の一側に配置された活性層であって、第10活性部、第3活性部、第5活性部、第8活性部および第11活性部を含み、前記第11活性部は、前記第3活性部、第5活性部および第8活性部にそれぞれ接続され、前記第10活性部は、前記第11活性部から離れた前記第5活性部の一端に接続される活性層と、前記ベース基板から離れた前記活性層の一側に配置された第1導電層であって、前記第1イネーブル信号線、第2イネーブル信号線、第10導電部および第8導電部を含む第1導電層と、前記ベース基板から離れた前記第1導電層の一側に配置された第2導電層であって、第11導電部を含み、前記ベース基板上の前記第11導電部の正投影は、前記ベース基板上の前記第10導電部の正投影と少なくとも部分的に重なっており、前記第11導電部は、前記第1キャパシタの第2電極を形成するために用いられる第2導電層と、前記ベース基板から離れた前記第2導電層の一側に配置された第3導電層であって、第1接続部を含み、前記第1接続部はビアを介して前記第11活性部および前記第11導電部にそれぞれ接続される第3導電層と、を含み、ここで、前記第10活性部は前記駆動トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられ、前記第3活性部は前記第3トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられ、前記第5活性部は前記第5トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられ、前記第8活性部は前記第8トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられ、前記ベース基板上の前記第10導電部の正投影は、前記ベース基板上の第10活性部の正投影を覆い、前記第10導電部は前記駆動トランジスタのゲート電極と前記第1キャパシタの第1電極を形成するために用いられ、前記ベース基板上の前記第1イネーブル信号線の正投影は第1方向に沿って延び、前記ベース基板上の第1イネーブル信号線の正投影は前記ベース基板上の前記第5活性部の正投影を覆い、前記第1イネーブル信号線の一部は、前記第5トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、前記ベース基板上の前記第2イネーブル信号線の正投影は前記第1方向に沿って延び、前記ベース基板上の第2イネーブル信号線の正投影は前記ベース基板上の前記第3活性部の正投影を覆い、前記第2イネーブル信号線の一部は、前記第3トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、前記第8導電部は前記第1イネーブル信号線に接続され、前記ベース基板上の前記第8導電部の正投影は前記ベース基板上の前記第8活性部の正投影を覆い、前記第8導電部は、前記第8トランジスタのゲート電極を形成するために用いられる。
【0024】
本開示の一実施形態において、前記活性層は、前記第11活性部から離れた前記第8活性部の一端に接続された第12活性部と、前記第11活性部から離れた前記第3活性部の一端に接続された第13活性部と、をさらに含む。前記第3導電層は、前記ベース基板上の正投影が前記第1方向に沿って延び、ビアを介して前記第13活性部に接続される基準電圧線をさらに含む。前記表示パネルは、前記ベース基板から離れた前記第3導電層の一側に配置された第4導電層をさらに含み、前記第4導電層は前記電源線を含み、前記ベース基板上の前記電源線の正投影は第2方向に沿って延び、前記第1方向と第2方向とは交差し、前記電源線はビアを介して前記第12活性部に接続される。
【0025】
本開示の一実施形態において、前記画素駆動回路は、第2トランジスタと第4トランジスタとをさらに含み、前記第2トランジスタは第1電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第2電極に接続され、ゲート電極が第1ゲート線に接続され、前記第4トランジスタは第1電極がデータ線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第1電極に接続され、ゲート電極が前記第1ゲート線に接続される。前記画素駆動回路は複数であり、複数の前記画素駆動回路は、前記第1方向に離間する第1画素駆動回路および第2画素駆動回路を含み、前記第1導電層は、第4導電部をさらに含み、前記第4導電部の一部は、前記第1画素駆動回路における第2トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、前記第4導電部の他の部分は、前記第2画素駆動回路における第4トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、前記第4導電部は複数であり、前記ベース基板上の複数の前記第4導電部の正投影は前記第1方向に離間され、前記第3導電層は、前記第1ゲート線をさらに含み、前記ベース基板上の前記第1ゲート線の正投影は前記第1方向に沿って延び、前記第1ゲート線はビアを介して前記第1方向に離間されている複数の第4導電部にそれぞれ接続され、ここで、前記第3導電層のシート抵抗は、前記第1導電層のシート抵抗よりも小さい。
【0026】
本開示の一実施形態において、前記画素駆動回路は、第2トランジスタと第4トランジスタをさらに含み、前記第2トランジスタは第1電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第2電極に接続され、前記第4トランジスタは第1電極がデータ線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第1電極に接続される。前記活性層は、前記第2トランジスタのチャネル領域を形成するための第2活性部と、前記第2活性部に接続される第14活性部とをさらに含み、前記第14活性部は、前記第10導電部に接続される。前記第2導電層は、前記第11導電部に接続された第12導電部をさらに含み、前記ベース基板上の前記第12導電部の正投影は前記第2方向に沿って延びるとともに、前記ベース基板上の前記第12導電部の正投影の少なくとも一部が、前記ベース基板上の前記第14活性部の正投影と前記ベース基板上の前記データ線の正投影との間に位置する。
【0027】
本開示の一実施形態において、前記画素駆動回路は複数であり、複数の前記画素駆動回路は、前記第1方向に離間する第1画素駆動回路および第2画素駆動回路を含み、前記第1導電層は、第4導電部をさらに含み、前記第4導電部の一部は、前記第1画素駆動回路における第2トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、前記第4導電部の他の部分は、前記第2画素駆動回路における第4トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、前記第4導電部は複数であり、前記ベース基板上の複数の前記第4導電部の正投影は前記第1方向に離間され、前記ベース基板上の前記第12導電部の正投影は、前記第1方向に隣接する2つの前記第4導電部の前記ベース基板上の正投影の間に位置する。
【0028】
本開示の一実施形態において、前記画素駆動回路は、第2トランジスタをさらに含み、前記第2トランジスタは第1電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第2電極に接続され、前記活性層は、前記第2トランジスタのチャネル領域を形成するための第2活性部と、前記第2活性部に接続される第14活性部とをさらに含み、前記第14活性部は、前記第10導電部に接続され、前記ベース基板上の前記電源線の正投影は、前記ベース基板上の前記第14活性部の正投影と少なくとも部分的に重なる。
【0029】
本開示の一実施形態において、前記画素駆動回路は、第2トランジスタをさらに含み、前記第2トランジスタは第1電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第2電極に接続される。前記活性層は、前記第2トランジスタのチャネル領域を形成するための第2活性部と、前記第2活性部に接続される第14活性部とをさらに含み、前記第14活性部は、前記第10導電部に接続される。前記第3導電層は第2接続部をさらに含み、前記第2接続部はビアを介して前記第10導電部および前記第14活性部にそれぞれ接続され、前記ベース基板上の前記電源線の正投影は、前記ベース基板上の前記第2接続部の正投影と少なくとも部分的に重なる。
【0030】
本開示の一実施形態において、前記表示パネルは発光部をさらに備え、前記画素駆動回路は前記発光部の第1電極に接続され、前記画素駆動回路は第1トランジスタと第7トランジスタとをさらに含み、前記第1トランジスタは第1電極が第1初期信号線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、前記第7トランジスタは第1電極が第2初期信号線に接続され、第2電極が前記発光部の第1電極に接続される。前記活性層は、前記第1トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられる第1活性部と、前記第7トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられる第7活性部と、前記第10活性部から離れた前記第1活性部の一端に接続された第1初期信号線と、前記第10活性部から離れた前記第7活性部の一端に接続された第2初期信号線と、をさらに含む。
【0031】
本開示の一実施形態において、前記画素駆動回路は、第1トランジスタをさらに含み、前記第1トランジスタは第1電極が第1初期信号線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、ゲート電極がリセット線に接続され、前記第1導電層は複数の第1導電部をさらに含み、前記ベース基板上の複数の前記第1導電部の正投影は前記第1方向に離間され、前記第1導電部の一部は前記第1トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、前記第1導電部の他の部分は同一の前記画素駆動回路における前記第1トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、前記第3導電層は前記リセット線をさらに含み、前記ベース基板上の前記リセット線の正投影は前記第1方向に沿って延び、前記リセット線はビアを介して前記第1方向に離れている複数の前記第1導電部にそれぞれ接続され、前記第3導電層のシート抵抗は、前記第1導電層のシート抵抗よりも小さい。
【0032】
本開示の一実施形態において、前記画素駆動回路は、第4トランジスタと第9トランジスタとをさらに備え、前記第4トランジスタは第1電極がデータ線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第1電極に接続され、ゲート電極が第1ゲート線に接続され、前記第9トランジスタは第1電極が初期信号線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、ゲート電極が前記第1ゲート線に接続される。前記第1導電層は複数の第9導電部をさらに含み、前記ベース基板上の複数の第9導電部の正投影は前記第1方向に離間され、前記第9導電部の一部は前記第4トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、前記第9導電部の他の部分は、同一の画素駆動回路における前記第9トランジスタのゲート電極を形成するために用いられる。前記第3導電層は前記第1ゲート線をさらに含み、前記ベース基板上の前記第1ゲート線の正投影は前記第1方向に沿って延び、前記第1ゲート線はビアを介して前記第1方向に離れている複数の前記第9導電部にそれぞれ接続され、前記第3導電層のシート抵抗は、前記第1導電層のシート抵抗よりも小さい。
【0033】
本開示の一実施形態において、前記画素駆動回路は第2トランジスタをさらに含み、前記第2トランジスタは第1電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第2電極に接続され、ゲート電極が第2ゲート線に接続される。前記第1導電層は複数の第2導電部をさらに含み、前記ベース基板上の複数の前記第2導電部の正投影は前記第1方向に離間され、前記第2導電部は前記第2トランジスタのゲート電極を形成するために用いられる。前記第3導電層は前記第2ゲート線をさらに含み、前記ベース基板上の前記第2ゲート線の正投影は前記第1方向に沿って延び、前記第2ゲート線はビアを介して前記第1方向に離れている複数の前記第2導電部にそれぞれ接続される。
【0034】
本開示の一実施形態において、前記活性層は、前記第11活性部から離れた前記第8活性部の一端に接続された第12活性部と、前記第11活性部から離れた前記第3活性部の一端に接続された第13活性部と、をさらに含む。前記第3導電層は電源線をさらに含み、前記ベース基板上の前記電源線の正投影は第2方向に沿って延び、前記第2方向は前記第1方向と交差し、前記電源線はビアを介して前記第12活性部に接続される。前記表示パネルは第4導電層をさらに含み、前記第4導電層は、前記ベース基板から離れた前記第3導電層の一側に配置され、前記第4導電層は前記基準電圧線を含み、前記ベース基板上の前記基準電圧線の正投影は第2方向に延び、前記基準電圧線はビアを介して前記第13活性部に接続される。
【0035】
本開示の一実施形態において、前記画素駆動回路は第1トランジスタをさらに含み、前記第1トランジスタは第1電極が初期信号線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続される。前記活性層は、前記第1トランジスタの第1チャネル領域を形成するために用いられる第1サブ活性部と、前記第1トランジスタの第2チャネル領域を形成するために用いられる第2サブ活性部と、前記第1サブ活性部と第2サブ活性部との間に接続された第3サブ活性部と、をさらに含む。前記ベース基板上の前記電源線の正投影は、前記ベース基板上の前記第3サブ活性部の正投影と少なくとも部分的に重なる。
【0036】
本開示の一実施形態において、前記画素駆動回路は第2トランジスタをさらに含み、前記第2トランジスタは第1電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第2電極に接続され、前記活性層は、前記第2トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられる第4サブ活性部と、前記第2トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられる第5サブ活性部と、前記第4サブ活性部と前記第5サブ活性部の間に接続された第6サブ活性部と、をさらに含む。前記第4導電層は、前記基準電圧線に接続された第17導電部をさらに含み、前記表示パネルは、前記第1方向に隣接して配置された第1画素駆動回路と第2画素駆動回路とを含み、前記第1画素駆動回路における第17導電部の前記ベース基板上の正投影は、前記第2画素駆動回路における第6サブ活性部の前記ベース基板上の正投影と少なくとも部分的に重なる。
【0037】
本開示の一実施形態において、前記表示パネルは発光部をさらに備え、前記画素駆動回路は前記発光部の第1電極に接続され、前記画素駆動回路は第1トランジスタと第7トランジスタとをさらに含み、前記第1トランジスタは第1電極が初期信号線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、前記第7トランジスタは第1電極が前記初期信号線に接続され、第2電極が前記発光部の第1電極に接続される。前記画素駆動回路は複数であり、複数の前記画素駆動回路は第2方向に隣接する第3画素駆動回路および第4画素駆動回路を含み、前記第1方向は前記第2方向と交差する。前記活性層は、前記第1トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられる第1活性部と、前記第7トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられる第7活性部と、前記第3画素駆動回路における第1活性部と前記第4画素駆動回路における第7活性部との間に接続される第15活性部と、をさらに含む。前記表示パネルは第4導電層をさらに含み、前記第4導電層は前記初期信号線を含み、前記ベース基板上の前記初期信号線の正投影は前記第2方向に沿って延び、前記初期信号線はビアを介して前記第15活性部に接続される。
【0038】
本開示の一実施形態において、前記画素駆動回路は、第2トランジスタをさらに含み、前記第2トランジスタは第1電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第2電極に接続される。前記活性層は、前記第2トランジスタのチャネル領域を形成するための第2活性部と、前記第2活性部に接続される第14活性部とをさらに含み、前記第14活性部は、前記第10導電部に接続される。前記初期信号線は、第1サブ初期信号線を含み、前記ベース基板上の前記第1サブ初期信号線の正投影は、前記ベース基板上の前記第14活性部の正投影と少なくとも部分的に重なる。
【0039】
本開示の一実施形態において、前記画素駆動回路は、第2トランジスタをさらに含み、前記第2トランジスタは第1電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第2電極に接続される。前記活性層は、前記第2トランジスタのチャネル領域を形成するための第2活性部と、前記第2活性部に接続される第14活性部とをさらに含み、前記第14活性部は、前記第10導電部に接続される。前記第3導電層は第2接続部をさらに含み、前記第2接続部はビアを介して前記第10導電部および前記第14活性部にそれぞれ接続され、前記初期信号線は第1サブ初期信号線をさらに含み、前記ベース基板上の前記第1サブ初期信号線の正投影は、前記ベース基板上の前記第2接続部の正投影と少なくとも部分的に重なる。
【0040】
本開示の一実施形態において、前記初期信号線は第2サブ初期信号線をさらに含み、前記第2サブ初期信号線は前記第1サブ初期信号線に接続され、前記ベース基板上の前記第2サブ初期信号線の正投影は、前記ベース基板上の前記電源線の正投影と少なくとも部分的に重なる。
【0041】
本開示の一実施形態において、前記画素駆動回路は第1トランジスタ、第2トランジスタおよび第4トランジスタをさらに含み、前記第1トランジスタは第1電極が初期信号線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、ゲート電極がリセット信号線に接続され、前記第2トランジスタは第1電極が前記駆動トランジスタのゲート電極に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第2電極に接続され、前記第4トランジスタは第1電極がデータ線に接続され、第2電極が前記駆動トランジスタの第1電極に接続される。前記活性層は、前記第2トランジスタのチャネル領域を形成するための第2活性部と、前記第2活性部に接続される第14活性部とをさらに含み、前記第14活性部は、前記第10導電部に接続される。前記第2導電層は、前記ベース基板上の正投影が前記第1方向に沿って延びる前記リセット信号線と、前記リセット信号線に接続された第13導電部であって、前記ベース基板上の正投影が、前記ベース基板上の前記第14活性部の正投影と前記ベース基板上の前記データ線の正投影との間に位置する第13導電部と、をさらに含む。
【0042】
本開示の一実施形態において、前記第15活性部は複数であり、前記活性層は活性線をさらに含み、前記ベース基板上の前記活性線の正投影は前記第1方向に沿って延び、前記活性線は前記第1方向に離れている複数の前記第15活性線に接続される。
【0043】
本開示の一実施形態において、前記画素駆動回路は第2キャパシタをさらに含み、前記第2キャパシタの第1電極は、前記第5トランジスタの第2電極に接続され、前記第2キャパシタの第2電極は、前記駆動トランジスタの第1電極に接続される。前記活性層は第16活性部をさらに含み、前記第16活性部は前記第11活性部から離れた前記第5活性部の一端に接続され、前記第16活性部は前記第2キャパシタの第2電極を形成するために用いられる。前記第2導電層は、前記第11導電部に接続された第14導電部をさらに含み、前記ベース基板上の前記第14導電部の正投影は、前記ベース基板上の前記第16活性部の正投影と少なくとも部分的に重なっており、前記第14導電部は、前記第2コンデンサの第1電極を形成するために用いられる。
【0044】
なお、上述した一般的な説明および後述する詳細な説明は例示的および説明的なものであり、本開示を限定するものではないことを理解されたい。
【0045】
ここでの図面は、明細書に組み込まれて本明細書の一部を構成し、本開示に該当する実施形態を示し、明細書とともに本開示の原理を説明するために用いられる。明らかなように、以下の説明における図面は、本開示のいくつかの実施形態に過ぎず、当業者にとっては、創造的な労働を伴わずに、これらの図面から他の図面を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【0046】
【
図1】関連技術における画素駆動回路の回路構成の概略図である。
【
図2】
図1の画素駆動回路の駆動方法における各ノードのタイミング図である。
【
図3】本開示の一例示的な実施形態に係る画素駆動回路の概略構成図である。
【
図4】
図3の画素駆動回路の各ノードのタイミング図である。
【
図5】本開示の他の例示的な実施形態に係る画素駆動回路の概略構成図である。
【
図7】本開示の他の例示的な実施形態に係る画素駆動回路の概略構成図である。
【
図8】
図7の画素駆動回路の各ノードのタイミング図である。
【
図9】本開示の一例示的な実施形態に係る表示パネルの構造レイアウトである。
【
図11】
図9の第1導電層の構造レイアウトである。
【
図12】
図9の第2導電層の構造レイアウトである。
【
図13】
図9の第3導電層の構造レイアウトである。
【
図14】
図9の第4導電層の構造レイアウトである。
【
図15】
図9の活性層と第1導電層の構造レイアウトである。
【
図16】
図9の活性層、第1導電層、第2導電層の構造レイアウトである。
【
図17】
図9の活性層、第1導電層、第2導電層および第3導電層の構造レイアウトである。
【
図19】本開示の例示的な一実施形態に係る表示パネルの構造レイアウトである。
【
図25】
図19の活性層と第1導電層の構造レイアウトである。
【
図26】
図19における活性層、第1導電層および第2導電層の構造レイアウトである。
【
図27】
図19の活性層、第1導電層、第2導電層および第3導電層の構造レイアウトである。
【
図29】本開示の例示的な一実施形態に係る表示パネルの構造レイアウトである。
【
図35】
図29の活性層と第1導電層の構造レイアウトである。
【
図36】
図29の活性層、第1導電層および第2導電層の構造レイアウトである。
【
図37】
図29の活性層、第1導電層、第2導電層および第3導電層の構造レイアウトである。
【発明を実施するための形態】
【0047】
例示的な実施形態は、次に添付図面を参照して、より完全に説明される。しかしながら、例示的な実施形態は、複数の形態で実施することができ、本明細書に記載された例に限定されるものではない。逆に、これらの実施形態を提供することにより、本開示がより包括的かつ完全であり、例示的な実施形態のアイデアが当業者に全面的に伝達される。なお、図中同一符号は同一又は類似の構成を示しているため、詳細な説明は省略する。
【0048】
「1つ」、「一つ」および「前記」という用語は、1つ以上の要素/構成要素/等の存在を示すために用いられる。「含む」および「具備する」という用語は開放的な包含を意味するものであり、列挙された要素/構成要素/等の他に、別の要素/構成要素/等が存在し得ることを意味する。
【0049】
図1は、関連技術における画素駆動回路の回路構成の概略図である。画素駆動回路は、第1トランジスタT1、第2トランジスタT2、駆動トランジスタT3、第4トランジスタT4、第5トランジスタT5、第6トランジスタT6、第7トランジスタT7およびコンデンサCを含むことができる。第1トランジスタT1の第1電極は第1ノードN1に接続され、第1トランジスタT1の第2電極は初期信号端子Vinitに接続され、第1トランジスタT1のゲート電極はリセット信号端子Reに接続される。第2トランジスタT2の第1電極は駆動トランジスタT3の第1電極に接続され、第2トランジスタT2の第2電極は第1ノードN1に接続され、第2トランジスタT2のゲート電極はゲート駆動信号端子Gateに接続される。駆動トランジスタT3のゲート電極は第1ノードN1に接続され、第4トランジスタT4の第1電極はデータ信号端子Dataに接続され、第4トランジスタT4の第2電極は駆動トランジスタT3の第2電極に接続される、第4トランジスタT4のゲート電極は、ゲート駆動信号端子Gateに接続される。第5トランジスタT5の第1電極は第1電源端子VDDに接続され、第5トランジスタT5の第2電極は駆動トランジスタT3の第2電極に接続され、第5トランジスタT5のゲート電極はイネーブル信号端子EMに接続される。第6トランジスタT6の第1電極は駆動トランジスタT3の第1電極に接続され、第6トランジスタT6のゲート電極はイネーブル信号端子EMに接続される。第7トランジスタT7の第1電極は初期信号端子Vinitに接続され、第7トランジスタT7の第2電極は第6トランジスタT6の第2電極に接続される。画素駆動回路は、発光部OLEDを発光駆動するために発光部OLEDに接続されてもよい。発光部OLEDは、第6トランジスタT6の第2電極と第2電源端子VSSとの間に接続されてもよい。トランジスタT1~T7は、いずれもP型トランジスタであってもよい。
【0050】
図2は、
図1の画素駆動回路の駆動方法における各ノードのタイミングチャートである。
図2において、Gateはゲート駆動信号端子Gateのタイミングシーケンスを示し、Reはリセット信号端子Reのタイミングシーケンスを示し、EMはイネーブル信号端子EMのタイミングシーケンスを示し、Dataはデータ信号端子Dataのタイミングシーケンスを示す。画素駆動回路の駆動方法は、リセット段階t1と、補償段階t2と、発光段階t3とを含むことができる。リセット段階t1では、リセット信号端子Reがローレベル信号を出力し、第1トランジスタT1および第7トランジスタT7がオンし、初期信号端子Vinitが第1ノードN1および第6トランジスタT6の第2電極に初期化信号を入力する。補償段階t2では、ゲート駆動信号端子Gateがローレベル信号を出力し、第4トランジスタT4および第2トランジスタT2がオンするとともに、データ信号端子Dataが駆動信号を出力して、第1ノードN1に電圧Vdata+Vthを書き込み、ただし、Vdataは駆動信号の電圧であり、Vthは駆動トランジスタT3の閾値電圧である。発光段階t3では、イネーブル信号端子EMがローレベル信号を出力し、第6トランジスタT6および第5トランジスタT5がオンし、駆動トランジスタT3がコンデンサCに蓄積された電圧Vdata+Vthにより発光する。駆動トランジスタの出力電流式I=(μWCox/2L)(Vgs-Vth)
2に従う。ここで、μはキャリア移動度、Coxは単位面積当たりのゲート容量、Wは駆動トランジスタのチャネル幅、Lは駆動トランジスタのチャネル長、Vgsは駆動トランジスタのゲート-ソース間電圧差、Vthは駆動トランジスタの閾値電圧である。本開示の画素駆動回路における駆動トランジスタの出力電流は、I=(μWCox/2L)(Vdata+Vth-Vdd-Vth)
2である。画素駆動回路は、駆動トランジスタの閾値がその出力電流に与える影響を回避することができる。第1電源端子は、表示パネル上の電源線によって提供される。しかし、電源線自体の電圧降下(IR-drop)により、表示パネル上の異なる位置の電源線は電圧が異なり、表示パネルは同じ階調で表示ムラを生じる。特に大型の表示パネルや垂直スクリーンでは、表示ムラの問題が目立つ。
【0051】
以上に鑑み、本開示の実施形態は画素駆動回路を提供する。
図3は、本開示の一実施形態に係る画素駆動回路の概略構成図である。画素駆動回路は、駆動回路01と、制御回路02と、電圧安定化回路03と、第1記憶回路04と、を備えることができ、駆動回路01は、第1ノードN1、第2ノードN2および第3ノードN3に接続されてもよく、前記第1ノードN1の信号に基づいて前記第2ノードを介して前記第3ノードに駆動電流を供給するように構成され、制御回路02は、第1イネーブル信号端子EM1、第2ノードN2、第1電源端子VDDおよび第4ノードN4に接続され、前記第1イネーブル信号端子EM1の信号に応答して前記第2ノードN2と前記第4ノードN4との間に導通を生成し、前記第1イネーブル信号端子EM1の信号に応答して前記第1電源端子VDDと前記第4ノードN4との間に導通を生成するように構成され、電圧安定化回路03は、前記第4ノードN4、第2イネーブル信号端子EM2および基準電圧端子Vrefに接続され、前記第2イネーブル信号端子EM2の信号に応答して前記基準電圧端子Vrefの信号を前記第4ノードN4に伝送するように構成され、第1記憶回路04は、前記第1ノードN1と前記第4ノードN4との間に接続され、前記第1ノードN1と前記第4ノードN4の電荷を蓄積するように構成される。
【0052】
本開示の例示的な実施形態において、前記駆動回路01は、駆動トランジスタDTFTを含み、駆動トランジスタDTFTの第1電極は第2ノードN2に接続され、駆動トランジスタDTFTの第2電極は第3ノードN3に接続され、駆動トランジスタDTFTのゲート電極は第1ノードN1に接続されてもよい。制御回路02は、第5トランジスタT5および第8トランジスタT8を含むことができる。第5トランジスタT5の第1電極は第2ノードN2に接続され、第5トランジスタT5の第2電極は第4ノードN4に接続され、第5トランジスタT5のゲート電極は第1イネーブル信号端子EM1に接続され、第8トランジスタT8の第1電極は第4ノードN4に接続される、第8トランジスタT8の第2電極は第1電源端子VDDに接続され、第8トランジスタT8のゲート電極は第1イネーブル信号端子EM1に接続される。電圧安定化回路03は、第3トランジスタT3を含むことができる。第3トランジスタT3の第1電極は基準電圧端子Vrefに接続され、第3トランジスタT3の第2電極は第4ノードN4に接続され、第3トランジスタT3のゲート電極は第2イネーブル信号端子EM2に接続される。第1記憶回路04は、第1ノードN1と第4ノードN4との間に接続された第1キャパシタC1を含むことができる。
【0053】
本開示の例示的な実施形態による画素駆動回路は、少なくとも閾値補償段階において、第2イネーブル信号端子に有効レベルを入力し、第1イネーブル信号端子に無効レベルを入力して、基準電圧端子Vref上の信号を第4ノードN4に伝送することができるとともに、閾値補償段階では、第1ノードN1に電圧Vdata+Vthが書き込まれ、ここで、Vdataはデータ信号であり、Vthは駆動トランジスタの閾値電圧であり、このとき、第1コンデンサC1の両端の電圧差はVdata+Vth-Vrefであり、Vrefは基準電圧端子の電圧である。発光段階では、第1イネーブル信号端子EM1に有効レベルが入力され、第2イネーブル信号端子EM2に無効レベルが入力され、第1コンデンサC1のブートストラップ作用により、第1コンデンサC1の両端の電圧が閾値補償段階の電圧を維持することにより、駆動トランジスタの出力電流は、I=(μWCOx/2L)(Vgs-Vth)2=(μWCOx/2L)(Vdata+Vth-Vref-Vth)2であり、ここで、μはキャリア移動度、Coxは単位面積当たりのゲート容量、Wは駆動トランジスタのチャネル幅、Lは駆動トランジスタのチャネル長、Vgsは駆動トランジスタのゲート-ソース間電圧差である。したがって、画素駆動回路が出力する電流は、第1電源端子VDDの電圧に関係なく、すなわち、画素駆動回路が適用される表示パネルは、電源線自体の電圧降下による表示ムラを生じない。同時に、基準電圧端子を供給する基準電圧線自体にも抵抗が存在するが、基準電圧端子Vrefが第1容量C1に電圧を書き込んでから基準電圧線に電流が流れることがないので、基準電圧線に電圧降下が生じることがなく、すなわち表示パネルの異なる位置における基準電圧端子の電圧が基準電圧線自体の抵抗によって差が生じない。
【0054】
他の例示的な実施形態においては、駆動回路、第1記憶回路および制御回路は、他の構造を有していてもよいことを理解すべきである。例えば、駆動回路は複数の並列接続された駆動トランジスタを含み、第1記憶回路は複数の並列接続されたキャパシタを含むことができる。
【0055】
本開示の例示的な実施形態において、第1コンデンサC1の両端の電圧を閾値補償段階の終了時にVdata+Vth-Vrefとするために、少なくとも閾値補償段階では第2イネーブル信号端子EM2に有効レベルを入力する必要がある。他の例示的な実施形態では、発光段階以外の他の段階で第2イネーブル信号端子EM2に有効レベルを入力することもできることを理解すべきである。例えば、閾値補償段階前のリセット段階で第2イネーブル信号端子EM2に有効レベルを入力して、基準電圧端子Vrefが第4ノードN4をプリチャージするようにしてもよく、これにより、閾値補償段階が終了する前に、表示パネルの異なる位置にある第4ノードN4に同じ電圧を書き込むことができる。本開示の例示的な実施形態では、前記第1イネーブル信号端子EM1の信号の極性と、前記第2イネーブル信号端子EM2の信号の極性とは逆極性である。
【0056】
本開示の例示的な実施形態では、
図3に示すように、制御回路02は、さらに、第3ノードN3、第5ノードN5および第1イネーブル信号端子EM1に接続されてもよい、また、制御回路02は、第1イネーブル信号端子EM1の信号に応答して第3ノードN3と第5ノードN5との間に導通を生成するようにさらに構成される。制御回路02は、第6トランジスタをさらに含むことができる。第6トランジスタT6の第1電極は第5ノードN5に接続され、第6トランジスタT6の第2電極は第3ノードN3に接続され、第6トランジスタT6のゲート電極は第1イネーブル信号端子EM1に接続される。画素駆動回路は、第1リセット回路05をさらに含むことができる。第1リセット回路05は、初期信号端子Vinitおよび第5ノードN5に接続され、少なくとも1つの制御信号に応答して、初期信号端子Vinitの信号を第5ノードN5に伝送するように構成される。例えば、第1リセット回路05は第2イネーブル信号端子EM2に接続され、第1リセット回路05は、前記第2イネーブル信号端子EM2の信号に応答して前記初期信号端子Vinitの信号を前記第5ノードN5に伝送するように構成される。第1リセット回路05は、第7トランジスタT7を含むことができる。第7トランジスタT7の第1電極は初期信号端子Vinitに接続され、第7トランジスタT7の第2電極は第5ノードN5に接続され、第7トランジスタT7のゲート電極は第2イネーブル信号端子EM2に接続される。
【0057】
本開示の例示的な実施形態では、
図3に示すように、画素駆動回路は、データ書込回路06と補償回路07とをさらに含むことができる。データ書込回路06は、第2ノードN2およびデータ信号端子Vdataに接続され、少なくとも1つの制御信号に応答してデータ信号端子Vdataの信号を第2ノードN2に伝送するように構成されている。補償回路07は、第3ノードN3および第1ノードN1に接続され、少なくとも1つの制御信号に応答して第1ノードN1と第3ノードN3との間に導通を生成するように構成されてもよい。本開示の例示的な実施形態では、データ書込回路06は、第1ゲート駆動信号端子Gate1に接続され、データ書込回路06は、第1ゲート駆動信号端子Gate1の信号に応答して、データ信号端子Vdataの信号を第2ノードN2に信号を伝送するように構成されてもよい。補償回路07は、第1ゲート駆動信号端子Gate1に接続されてもよく、補償回路07は、第1ゲート駆動信号端子Gate1の信号に応答して、第1ノードN1と第3ノードN3との間に導通を生成するように構成されてもよい。
【0058】
本開示の例示的な実施形態では、
図3に示すように、画素駆動回路は、さらに第2リセット回路09を含むことができる。第2リセット回路09は、第1ノードN1、初期信号端子Vinitおよびリセット信号端子Resetに接続される。第2リセット回路09は、リセット信号端子Resetからの信号に応答して初期信号端子Vinitの信号を第1ノードN1に信号を伝送するように構成されている。
【0059】
本開示の例示的な実施形態では、
図3に示すように、データ書込回路06は、第4トランジスタT4を含むことができる。第4トランジスタT4の第1電極はデータ信号端子Vdataに接続され、第4トランジスタT4の第2電極は第2ノードN2に接続され、第4トランジスタT4のゲート電極は第1ゲート駆動信号端子Gate1に接続される。補償回路07は、第2トランジスタT2を含むことができる。第2トランジスタT2の第1電極は第1ノードN1に接続され、第2トランジスタT2の第2電極は第3ノードN3に接続され、第2トランジスタT2のゲート電極は第1ゲート駆動信号端子Gate1に接続される。第2リセット回路09は、第1トランジスタT1を含むことができる。第1トランジスタT1の第1電極は初期信号端子Vinitに接続され、第1トランジスタT1の第2電極は第1ノードN1に接続され、第1トランジスタT1のゲート電極はリセット信号端子Resetに接続される。
【0060】
本開示の例示的な実施形態では、第5ノードN5は、発光部OLEDの第1電極に接続するために用いられ、発光部OLEDの第2電極は第2電源端子VSSに接続され、発光部OLEDは発光ダイオードであってもよい。第1トランジスタT1~第8トランジスタT8および駆動トランジスタDTFTは、いずれもP型トランジスタであってもよく、第1電源端子VDDはハイレベル信号端子であってもよく、第2電源端子VSSはローレベル信号端子であってもよい。
【0061】
図4は、
図3の画素駆動回路の各ノードのタイミング図である。
図4において、Resetはリセット信号端子Resetのタイミングシーケンスを示し、Vinitは初期信号端子Vinitのタイミングシーケンスを示し、EM1は第1イネーブル信号端子EM1のタイミングシーケンスを示し、EM2は第2イネーブル信号端子EM2のタイミングシーケンスを示し、Vdataはデータ信号端子Vdataのタイミングシーケンスを示し、Gate1は第1ゲート駆動信号端子Gate1のタイミングシーケンスを示す。画素駆動回路の駆動方法は、リセット段階t1、閾値補償段階t2、バッファ段階t3、発光段階t4の4段階を含むことができる。リセット段階t1では、リセット信号端子Resetおよび第2イネーブル信号端子EM2に有効レベル(ローレベル)を入力し、第1ゲート駆動信号端子Gate1および第1イネーブル信号端子EM1に無効レベル(ハイレベル)を入力してもよい。第1トランジスタT1、第7トランジスタT7、第3トランジスタT3がオンし、初期信号端子Vinitが第1ノードN1および第5ノードN5に初期信号を入力し、基準電圧端子Vrefが第4ノードN4に基準電圧をプリチャージする。第5ノードN5に初期信号を書き込むことにより、発光ダイオード内部の発光界面に再結合していないキャリアを除去し、発光ダイオードの経年変化を緩和することができる。閾値補償段階t2では、第1ゲート駆動信号端子Gate1および第2イネーブル信号端子EM2に有効レベルが入力され、リセット信号端子Resetおよび第1イネーブル信号端子EM1に無効レベルが入力される。第2トランジスタT2、第4トランジスタT4、第7トランジスタT7、第3トランジスタT3がオンし、基準電圧端子Vrefは第4ノードN4に対して基準電圧の書き込みを継続し、データ信号端子Vdataは第1ノードN1に対して電圧Vdata+Vthを書き込む。このとき、第1コンデンサC1の両端の電圧はVdata+Vth-Vrefであり、Vdataはデータ信号端子の電圧、Vthは駆動トランジスタの閾値電圧、Vrefは基準電圧端子の電圧である。バッファ段階t3では、第2イネーブル信号端子EM2に有効レベルが入力され、第1ゲート駆動信号端子Gate1、リセット信号端子Resetおよび第1イネーブル信号端子EM1に無効レベルが入力される。第1コンデンサC1の電圧は、Vdata+Vth-Vrefに維持される。発光段階t4では、第1イネーブル信号端子EM1に有効レベルが入力され、第1ゲート駆動信号端子Gate1、リセット信号端子Resetおよび第2イネーブル信号端子EM2に無効レベルが入力される。第6トランジスタT6、第5トランジスタT5および第8トランジスタT8がオンし、第1コンデンサC1の両端の電圧がブートストラップ作用によりVdata+Vth-Vrefに維持され、駆動トランジスタの出力電流がI=(μWCOX/2L)(Vgs-Vth)
2=(μWCOX/2L)(Vdata+Vth-Vref-Vth)
2であり、ここで、μはキャリア移動度、Coxは単位面積当たりのゲート容量、Wは駆動トランジスタのチャネル幅、Lは駆動トランジスタのチャネル長、Vgsは駆動トランジスタのゲート-ソース間電圧差である。画素駆動回路が出力する電流は、第1電源端子VDDの電圧に関係なく、すなわち、画素駆動回路が適用される表示パネルは、電源線自体の電圧降下による表示ムラを生じない。
【0062】
他の例示的な実施形態においては、データ書込回路06、補償回路07および第1リセット回路05は、他の接続態様を有していてもよいことを理解すべきである。例えば、
図5は、本開示の他の例示的な実施形態に係る画素駆動回路の構成の概略図である。データ書込回路06は、第2イネーブル信号端子EM2に接続されてもよく、データ書込回路06は、第2イネーブル信号端子EM2の信号に応答してデータ信号端子Vdataの信号を第2ノードN2に伝送するように構成されている。補償回路07は、第2イネーブル信号端子EM2に接続されてもよく、補償回路は、第2イネーブル信号端子EM2の信号に応答して第1ノードN1と第3ノードN3との間に導通を生じるように構成されている。第1リセット回路05は、リセット信号端子Resetに接続されてもよく、第1リセット回路は、リセット信号端子Resetの信号に応答して初期信号端子Vinitの信号を第5ノードN5に伝送するように構成されている。
図6は、
図5の各ノードのタイミング図である。画素駆動回路の駆動方法も、リセット段階t1、閾値補償段階t2、バッファ段階t3、発光段階t4の4段階を含むことができる。
図5に示す画素駆動回路と
図3に示す画素駆動回路との違いは、
図5に示す画素駆動回路は第2イネーブル信号端子EM2のみでデータ書込回路06、補償回路07、電圧安定化回路03を制御して、閾値補償段階で第1コンデンサC1の両端に電圧Vdata+Vth-Vrefを書き込むことができる点である。
【0063】
他の例示的な実施形態においては、
図3および
図5に示す画素駆動回路の駆動方法において、バッファ段階を省略することができることが理解されるべきである。
図5の第1リセット回路05の制御端子は、第2イネーブル信号端子EM2を共有することができ、すなわち、第7トランジスタT7のゲート電極を第2イネーブル信号端子に接続してもよい。
図3の第1リセット回路05の制御端子は、リセット信号端子Resetを共有することができ、すなわち、第7トランジスタT7のゲート電極をリセット信号端子Resetに接続してもよい。第1リセット回路および第2リセット回路は、異なる電位を有する初期信号端子に接続されてもよい。
【0064】
図7は、本開示の他の例示的な実施形態に係る画素駆動回路の概略構成図である。画素駆動回路は、第2記憶回路08をさらに含むことができる。第2記憶回路08は、第2ノードN2と第4ノードN4との間に接続されてもよく、第2記憶回路08は、第2ノードN2と第4ノードN4の電荷を記憶するように構成されている。データ書込回路06はさらに第1ゲート駆動信号端子Gate1に接続され、データ書込回路06は、第1ゲート駆動信号Gate1の信号に応答してデータ信号端子Vdataの信号を第2ノードN2に伝送するように構成されてもよい。補償回路07はさらに第2ゲート駆動信号端子Gate2に接続され、補償回路07は第2ゲート駆動信号端子Gate2の信号に応答して第1ノードN1と第3ノードN3との間に導通を生成するように構成されてもよい。本開示の例示的な実施形態では、第2リセット回路09は、第1ノードN1および初期信号端子Vinitに接続され、少なくとも1つの制御信号に応答して初期信号端子Vinitの信号を第1ノードN1に伝送するように構成されてもよい。例えば、第2リセット回路09は、リセット信号端子Reset、第1ゲート駆動信号端子Gate1および第6ノードN6に接続され、リセット信号端子Resetの信号に応答して初期信号端子Vinitと第6ノードN6との間に導通を生成し、第1ゲート駆動信号端子Gate1の信号に応答して第6ノードN6と第1ノードN1との間に導通を生成するように構成されてもよい。
【0065】
本開示の例示的な実施形態では、
図7に示すように、データ書込回路06は、第4トランジスタT4を含むことができる。第4トランジスタT4の第1電極はデータ信号端子Vdataに接続され、第4トランジスタT4の第2電極は第2ノードN2に接続され、第4トランジスタT4のゲート電極は第1ゲート駆動信号端子Gate1に接続される。補償回路07は、第2トランジスタT2を含むことができる。第2トランジスタT2の第1電極は第1ノードN1に接続され、第2トランジスタT2の第2電極は第3ノードN3に接続され、第2トランジスタT2のゲート電極は第2ゲート駆動信号端子Gate2に接続される。第2リセット回路09は、第1トランジスタT1および第9トランジスタT9を含むことができる。第1トランジスタT1の第1電極は初期信号端子Vinitに接続され、第1トランジスタT1の第2電極は第6ノードN6に接続され、第1トランジスタT1のゲート電極はリセット信号端子Resetに接続される。第9トランジスタT9の第1電極は第6ノードN6に接続され、第9トランジスタT9の第2電極は第1ノードN1に接続され、第9トランジスタT9のゲート電極は第1ゲート駆動信号端子Gate1に接続される。第2記憶回路08は、第2ノードN2と第4ノードN4との間に接続された第2キャパシタC2を含むことができる。他の例示的な実施形態においては、第2記憶回路08は、第2ノードN2と他の安定電圧端子との間に接続されてもよい。
【0066】
本開示の例示的な実施形態では、第1トランジスタT1~第9トランジスタT9および駆動トランジスタDTFTはいずれもP型トランジスタであってもよく、第1電源端子VDDはハイレベル信号端子であってもよく、第2電源端子VSSはローレベル信号端子であってもよい。
【0067】
図8は、
図7の画素駆動回路の各ノードのタイミング図である、
図8において、Resetはリセット信号端子Resetのタイミングシーケンスを示し、Vinitは初期信号端子Vinitのタイミングシーケンスを示し、EM1は第1イネーブル信号端子EM1のタイミングシーケンスを示し、EM2は第2イネーブル信号端子EM2のタイミングシーケンスを示し、Vdataはデータ信号端子Vdataのタイミングシーケンスを示し、Gate1は第1ゲート駆動信号端子Gate1のタイミングシーケンスを示し、Gate2は第2ゲート駆動信号端子Gate2のタイミングシーケンスを示す。画素駆動回路の駆動方法は、第1リセット段階t1、第2リセット段階t2、第1閾値補償段階t3、第2閾値補償段階t4および発光段階t5の5段階を含むことができる。第1リセット段階t1では、リセット信号端子Resetおよび第2イネーブル信号端子EM2に有効レベル(ローレベル)が入力され、第1ゲート駆動信号端子Gate1、第1イネーブル信号端子EM1および第2ゲート駆動信号端子Gate2に無効レベル(ハイレベル)が入力される。第7トランジスタT7および第3トランジスタT3がオンする。基準電圧端子Vrefは、第4ノードN4に基準電圧をプリライトし、初期信号端子Vinitは、第5ノードに初期信号を書き込む。第2リセット段階t2では、リセット信号端子Reset、第2イネーブル信号端子EM2および第1ゲート駆動信号端子Gate1に有効レベルが入力され、第1イネーブル信号端子EM1および第2ゲート駆動信号端子Gate2に無効レベルが入力される。第1トランジスタT1、第9トランジスタT9、第7トランジスタT7、第3トランジスタT3、第4トランジスタT4がオンする。初期信号端子Vinitは、第1ノードN1に初期信号を書き込む。基準電圧端子Vrefは、第4ノードN4に対して基準電圧の書き込みを継続する。第1閾値補償段階t3では、第1ゲート駆動信号端子Gate1、第2イネーブル信号端子EM2、第2ゲート駆動信号端子Gate2に有効レベルが入力され、リセット信号端子Resetおよび第1イネーブル信号端子EM1に無効レベルが入力される。第2トランジスタT2、第4トランジスタT4、第7トランジスタT7、第3トランジスタT3がオンし、第1ノードN1の電圧は、第1閾値補償段階t3が終了するまで上昇し続ける。第2閾値補償段階t4では、第2イネーブル信号端子EM2および第2ゲート駆動信号端子Gate2に有効レベルが入力され、第1ゲート駆動信号端子Gate1、リセット信号端子Resetおよび第1イネーブル信号端子EM1に無効レベルが入力される。第2トランジスタT2がオンし、第2キャパシタC2に蓄積された第2ノードN2の電荷は、第1ノードN1の電圧がVdata+Vthになるまで第1ノードの電荷を充電し続ける。このとき、第1コンデンサC1の両端の電圧はVdata+Vth-Vrefであり、Vdataはデータ信号端子の電圧、Vthは駆動トランジスタの閾値電圧、Vrefは基準電圧端子の電圧である。発光段階t5では、第1イネーブル信号端子EM1に有効レベルが入力され、第1ゲート駆動信号端子Gate1、第2ゲート駆動信号端子Gate2、リセット信号端子Resetおよび第2イネーブル信号端子EM2に無効レベルが入力される。第6トランジスタT6、第5トランジスタT5および第8トランジスタT8がオンし、第1コンデンサC1の両端の電圧がブートストラップ作用によりVdata+Vth-Vrefに維持され、駆動トランジスタの出力電流がI=(μWCOX/2L)(Vgs-Vth)
2=(μWCOX/2L)(Vdata+Vth-Vref-Vth)
2であり、ここで、μはキャリア移動度、Coxは単位面積当たりのゲート容量、Wは駆動トランジスタのチャネル幅、Lは駆動トランジスタのチャネル長、Vgsは駆動トランジスタのゲート-ソース間電圧差である。画素駆動回路が出力する電流は、第1電源端子VDDの電圧に関係なく、すなわち、画素駆動回路が適用される表示パネルは、電源線自体の電圧降下による表示ムラを生じない。
図3に示す画素駆動回路と比較して、
図7に示す画素駆動回路は、閾値補償段階(t3,t4)の持続時間がデータ信号端子における有効データ信号のパルス幅(t3)より長いため、有効データ信号のパルス幅が同じ場合、
図7に示す画素駆動回路は、より長い閾値補償期間を有することができる。
【0068】
他の例示的な実施形態においては、第9トランジスタT9のゲート電極は、リセット信号Resetにさらに接続されてもよいことが理解されるべきである。本開示の例示的な実施形態では、第9トランジスタT9のゲート電極を第1ゲート駆動信号端子Gate1に接続して表示パネルのレイアウト設計を容易にする。表示パネルのレイアウト構造については、以下の内容で詳細に説明する。また、
図7の第2リセット回路では、第9トランジスタT9を省略してもよい。
【0069】
本開示の例示的な実施形態は、上述した画素駆動回路を駆動する画素駆動回路の駆動方法が提供され、前記駆動方法は、
少なくとも閾値補償段階において、第1イネーブル信号端子EM1に無効レベルを入力し、第2イネーブル信号端子EM2に有効レベルを入力することと、
発光段階において、第1イネーブル信号端子EM1に有効レベルを入力し、第2イネーブル信号端子EM2に無効レベルを入力することを含む。
【0070】
この画素駆動回路の駆動方法は、上記の内容で詳細に説明されており、ここでは繰り返さない。
【0071】
本開示の例示的な実施形態はまた、上述した画素駆動回路を駆動する画素駆動回路の駆動方法が提供され、前記駆動方法は、
リセット段階において、リセット信号端子および第2イネーブル信号端子EM2に有効レベルを入力し、第1ゲート駆動信号端子Gate1および第1イネーブル信号端子EM1に無効レベルを入力することと、
閾値補償段階において、第1ゲート駆動信号端子Gate1および第2イネーブル信号端子EM2に有効レベルを入力し、リセット信号端子および第1イネーブル信号端子EM1に無効レベルを入力することと、
バッファ段階において、第2イネーブル信号端子EM2に有効レベルを入力し、第1ゲート駆動信号端子Gate1、リセット信号端子および第1イネーブル信号端子EM1に無効レベルを入力することと、
発光段階において、第1イネーブル信号端子EM1に有効レベルを入力し、第1ゲート駆動信号端子Gate1、リセット信号端子および第2イネーブル信号端子EM2に無効レベルを入力することを含む。
【0072】
この画素駆動回路の駆動方法は、上記の内容で詳細に説明されており、ここでは繰り返さない。
【0073】
本開示の例示的な実施形態はまた、上述した画素駆動回路を駆動する画素駆動回路の駆動方法が提供され、前記駆動方法は、
第1リセット段階において、リセット信号端子および第2イネーブル信号端子EM2に有効レベルを入力し、第1ゲート駆動信号端子Gate1、第1イネーブル信号端子EM1および第2ゲート駆動信号端子Gate2に無効レベルを入力することと、
第2リセット段階において、リセット信号端子、第2イネーブル信号端子EM2および第1ゲート駆動信号端子Gate1に有効レベルを入力し、第1イネーブル信号端子EM1および第2ゲート駆動信号端子Gate2に無効レベルを入力することと、
第1閾値補償段階において、第1ゲート駆動信号端子Gate1、第2イネーブル信号端子EM2および第2ゲート駆動信号端子Gate2に有効レベルを入力し、リセット信号端子および第1イネーブル信号端子EM1に無効レベルを入力することと、
第2閾値補償段階において、第2イネーブル信号端子EM2および第2ゲート駆動信号端子Gate2に有効レベルを入力し、第1ゲート駆動信号端子Gate1、リセット信号端子および第1イネーブル信号端子EM1に無効レベルを入力することと、
発光段階において、第1イネーブル信号端子EM1に有効レベルを入力し、第1ゲート駆動信号端子Gate1、第2ゲート駆動信号端子Gate2、リセット信号端子および第2イネーブル信号端子EM2に無効レベルを入力することを含む。
【0074】
この画素駆動回路の駆動方法については、上記の内容で詳細に説明したので、ここでは繰り返さない。
【0075】
本開示の例示的な実施形態は、さらに上述した画素駆動回路を含む表示パネルを提供する。この表示パネルは、携帯電話、タブレットコンピューター、テレビなどの表示装置に適用できる。
【0076】
本開示の例示的な実施形態は、さらに
図3に示すような画素駆動回路を含む表示パネルを提供する。この表示パネルは、
図9~
図17に示すように、順に積層されたベース基板、活性層、第1導電層、第2導電層、第3導電層、および第4導電層を含むことができる。
図9は、本開示の一例示的な実施形態に係る表示パネルの構造レイアウトであり、
図10は、
図9の活性層の構造レイアウトである。
図11は、
図9の第1導電層の構造レイアウトであり、
図12は、
図9の第2導電層の構造レイアウトであり、
図13は、
図9の第3導電層の構造レイアウトであり、
図14は、
図9の第4導電層の構造レイアウトであり、
図15は、
図9の活性層と第1導電層の構造レイアウトであり、
図16は、
図9の活性層、第1導電層、第2導電層の構造レイアウトであり、
図17は、
図9の活性層、第1導電層、第2導電層および第3導電層の構造レイアウトである。
【0077】
図9、
図10、
図15に示すように、活性層は、第1活性部51、第2活性部52、第3活性部53、第4活性部54、第5活性部55、第6活性部56、第7活性部57、第8活性部58、第10活性部510、第11活性部511、第12活性部512、第13活性部513、第14活性部514、第1初期信号線Vinit1、および第2初期信号線Vinit2を含むことができる。第1活性部51は、サブ活性部5110およびサブ活性部5120を含むことができる。サブ活性部5110およびサブ活性部5120は、第1トランジスタの2つのチャネル領域を形成するために用いられてもよい。第2活性部52は、サブ活性部521およびサブ活性部522を含むことができる。サブ活性部521およびサブ活性部522は、第2トランジスタの2つのチャネル領域を形成するために用いられてもよい。第3活性部53は、第3トランジスタT3のチャネル領域を形成するために用いられ、第4活性部54は、第4トランジスタT4のチャネル領域を形成するために用いられ、第5活性部55は、第5トランジスタT5のチャネル領域を形成するために用いられ、第6活性部56は、第6トランジスタT6のチャネル領域を形成するために用いられ、第7活性部57は、第7トランジスタT7のチャネル領域を形成するために用いられ、第8活性部58は、第8トランジスタT8のチャネル領域を形成するために用いられ、第10活性部510は、駆動トランジスタDTFTのチャネル領域を形成するために用いられる。第11活性部511は、第3活性部53、第5活性部55、および第8活性部58にそれぞれ接続されてもよい。第10活性部510は、第11活性部511から離れた第5活性部55の一端に接続されてもよく、第12活性部512は、第11活性部511から離れた第8活性部58の一端に接続されてもよく、第13活性部513は、第11活性部511から離れた第3活性部53の一端に接続されてもよい。第1初期信号線Vinit1は、第1トランジスタT1に初期信号端子を供給するために、第14活性部514から離れた第1活性部51の一端に接続される。第2初期信号線Vinit2は、第7トランジスタT7に初期信号端子を供給するために、第6活性部56から離れた第7活性部57の一端に接続されてもよい。ベース基板上の第1初期信号線Vinit1の正投影と、ベース基板上の第2初期信号線Vinit2の正投影とは、いずれも第1方向Xに沿って延びていてもよい。第1方向Xは、表示パネルの行方向であってもよい。列方向に隣接する2つの画素駆動回路は、1本の初期信号線を共有してもよい。例えば、第1初期信号線Vinit1は、前の行の画素駆動回路における第7トランジスタT7に初期信号端子を供給してもよい。第2初期信号線Vinit2は、次の行の画素駆動回路における第1トランジスタT1に初期信号端子を供給してもよい。活性層はポリシリコン半導体で形成されてもよく、第1~第8トランジスタおよび駆動トランジスタはいずれも低温ポリシリコントランジスタであってもよい。
【0078】
図9、
図11、
図15に示すように、第1導電層は、第1イネーブル信号線EM1、第2イネーブル信号線EM2、第10導電部110、第8導電部18、第1導電部11、および複数の第4導電部14を含むことができる。ベース基板上の第10導電部110の正投影は、ベース基板上の第10活性部510の正投影を覆ってもよい。第10導電部110は、駆動トランジスタのゲート電極および第1キャパシタの第1電極を形成するために使用することができる。ベース基板上の第1イネーブル信号線EM1の正投影は、第1方向Xに沿って延びていてもよく、ベース基板上の第1イネーブル信号線EM1の正投影は、ベース基板上の第5活性部55の正投影を覆ってもよい。第1イネーブル信号線EM1の一部は、前記第5トランジスタT5のゲート電極を形成するために用いられてもよい。ベース基板上の第2イネーブル信号線EM2の正投影は、第1方向Xに沿って延びていてもよく、ベース基板上の第2イネーブル信号線EM2の正投影は、ベース基板上の第3活性部53の正投影を覆っていてもよい。第2イネーブル信号線EM2の一部は、前記第3トランジスタT3のゲート電極を形成するために用いられてもよい。第8導電部18は、第1イネーブル信号線EM1に接続されてもよく、前記ベース基板上の前記第8導電部18の正投影は前記ベース基板上の前記第8活性部58の正投影を覆ってもよい。第8導電部18は、第8トランジスタT8のゲート電極を形成するために用いられてもよい。第1導電部11は、第1トランジスタのゲート電極を形成するために用いられてもよい。ベース基板上の複数の第4導電部14の正投影は、第1方向Xにおいて離れていてもよい。第4導電部14の一部は、1つの画素駆動回路における第2トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、第4導電部14の他の部分は、他の画素駆動回路における第4トランジスタのゲート電極を形成するために用いられ、この2つの画素駆動回路は第1方向Xに隣接して設けられていてもよい。
図11に示すように、左側の第4導電部14の一部は、この画素駆動回路における第2トランジスタのゲート電極を形成するためのものであり、左側の第4導電部14の他の部分(図示せず)は、この画素駆動回路の左側の画素駆動回路における第4トランジスタのゲート電極を形成するためのものであってもよい。また、この表示パネルは、第1導電層をマスクとして活性層を導体化処理することができ、第1導電層によって覆われた領域にトランジスタのチャネル領域を形成することができ、第1導電層によって覆われていない領域に導体構造を形成することができる。
【0079】
図9、
図12および
図16に示すように、第2導電層は、第11導電部211および第12導電部212を含むことができる。第11導電部211には開口2111が設けられている。ベース基板上の第11導電部211の正投影は、ベース基板上の第10導電部の正投影と少なくとも部分的に重なっていてもよい。第11導電部211は、第1コンデンサCの第2電極を形成するために使用することができる。第12導電部212は、第11導電部211に接続されてもよく、ベース基板上の第12導電部212の正投影は、第2方向Yに沿って延びていてもよい。第2方向Yは、表示パネルの列方向であってもよい。
【0080】
図9、
図13、
図17に示すように、第3導電層は、基準電圧線Vref、第1ゲート線Gate1、リセット信号線Reset、第1接続部31、第2接続部32、相互接続部33、相互接続部34および相互接続部35を含むことができる。基準電圧線Vrefのベース基板への正投影、第1ゲート線Gate1のベース基板への正投影、およびリセット信号線Resetのベース基板への正投影は、いずれも第1方向Xに延びていてもよい。基準電圧線Vrefは基準電圧端子の提供に使用され、第1ゲート線Gate1は第1ゲート駆動信号端子の提供に使用され、リセット信号線Resetはリセット信号端子の提供に使用される。
図17に示すように、基準電圧線Vrefは、ビアH2を介して第13活性部513に接続されることにより、第3トランジスタT3の第1電極と基準電圧端子とを接続することができる。第1接続部31は、ビアH3を介して第11活性部511に接続され、ビアH4を介して第11導電部211に接続されることにより、第3トランジスタの第2電極と第1コンデンサC1の第2電極とを接続することができる。相互接続部34は、第8トランジスタの第2電極に接続するために、ビアH5を介して第12活性部512に接続されてもよい。相互接続部33は、第5ノードに接続するために、ビアH1を介して第6活性部56と第7活性部57との間の活性層に接続されてもよい。第2接続部32は、ビアH6を介して第10導電部110に接続され、ビアH7を介して第14活性部514に接続されることにより、駆動トランジスタのゲート電極と第2トランジスタの第1電極とを接続することができる。ベース基板上のビアH6の正投影は、ベース基板上の開口部2111の正投影内に位置し、ビアH6を第11導電部211から絶縁することができる。相互接続部35は、第4トランジスタの第1電極に接続するために、ビアH9を介して第10活性部510から離れた第4活性部54の一端の活性層に接続されてもよい。リセット信号線Resetは、ビアを介して同一行に位置する複数の第1導電部11に接続されることにより、第1トランジスタのゲート電極とリセット信号端子とを接続することができる。第1ゲート線Gate1は、ビアH8を介して第2導電部14に接続されることにより、第1ゲート駆動信号端子と第2トランジスタのゲート電極とを接続し、第1ゲート駆動信号端子と第4トランジスタのゲート電極とを接続することができる。本開示の例示的な実施形態は、第3導電層のシート抵抗は、第2導電層のシート抵抗より小さくしてもよい。本開示の例示的な実施形態は、基準電圧線Vref、第1ゲート線Gate1およびリセット信号線Resetを全て第3導電層に設定することにより、第1トランジスタ、第4トランジスタおよび第2トランジスタの応答速度を向上させることができる。
【0081】
図9および
図14に示すように、第4導電層は、電源線VDD、データ線Vdata、および相互接続部41を含むことができる。電源線VDDは第1電源端子を提供するために用いられ、データ線Vdataはデータ信号端子を提供するために用いられる。ベース基板上の電源線VDDの正投影と、ベース基板上のデータ線Vdataの正投影とは、いずれも第2方向Yに沿って延びることができる。電源線VDDは、ビアH12を介して相互接続部34に接続されることにより、第8トランジスタの第2電極と第1電源端子とを接続することができる。データ線Vdataは、ビアH11を介して相互接続部35に接続されることにより、第4トランジスタの第1電極とデータ信号端子とを接続することができる。相互接続部41は、ビアH13を介して相互接続部33に接続され、相互接続部41は発光部の第1電極に接続するために用いられてもよい。
図9に示すように、ベース基板上の電源線VDDの正投影は、ベース基板上の第14活性部514の正投影と少なくとも部分的に重なっていてもよく、電源線VDDは、発光段階における駆動トランジスタのゲート電極の電圧変動を低減するために、駆動トランジスタのゲート電極に対して電圧安定化の役割を果たすことができる。ベース基板上の電源線VDDの正投影は、ベース基板上の第2接続部32の正投影と少なくとも部分的に重なっていてもよく、同様に、電源線VDDは、発光段階における駆動トランジスタのゲート電極の電圧変動を低減するために、駆動トランジスタのゲート電極に対して電圧安定化の役割を果たすことができる。ベース基板上の第12導電部212の正投影の少なくとも一部は、ベース基板上の第14活性部414の正投影とベース基板上のデータ線Vdataの正投影との間に位置していてもよい。発光段階では、第12導電部212は電源線VDDに接続され、第12導電部212はデータ線Vdataが第14活性部414に対する干渉を遮蔽することができ、駆動トランジスタのゲート電極の電圧をより安定させることができる。
図9および
図16に示すように、第12導電部212のベース基板上の正投影は、第1方向Xに隣接する2つの第4導電部14のベース基板上の正投影の間に位置し、すなわち、ベース基板上の第12導電部212の正投影は、ベース基板上の第4導電部14の正投影と交差しない。この設定により、第4導電部14の寄生容量を低減することができ、第2トランジスタおよび第4トランジスタの応答速度を向上させることができる。
【0082】
図18は、
図9の破線Aの位置における部分断面図である。表示パネルは、さらに、バッファ層62、第1絶縁層63、第2絶縁層64、誘電体層65、パッシベーション層66および平坦化層67を含むことができ、ここで、ベース基板61、バッファ層62、活性層、第1絶縁層63、第1導電層、第2絶縁層64、第2導電層、誘電体層65、第3導電層、パッシベーション層66、平坦化層67、第4導電層が順に積層されていてもよい。バッファ層62は、酸化シリコン層および窒化シリコン層の少なくとも一方を含むことができる。第1絶縁層63および第2絶縁層64は、酸化シリコン層であってもよい。誘電体層は窒化シリコン層であってもよい。パッシベーション層66の材料は、有機絶縁材料または無機絶縁材料、例えば窒化ケイ素材料を含むことができる。平坦化層67の材料は、有機樹脂などの有機材料であってもよい。第1導電層および第2導電層の材料は、モリブデン、アルミニウム、銅、チタンおよびニオブのいずれかまたはこれらの合金、モリブデン/チタン合金またはこれらのスタック等であってもよい。第3導電層および第4導電層の材料は、モリブデン、アルミニウム、銅、チタンおよびニオブなどの金属材料、またはそれらの合金、モリブデン/チタン合金またはそのスタック、またはチタン/アルミニウム/チタンのスタックであってもよい。ベース基板61は、ガラス基板、ブロッキング層、ポリイミド層の順に積層されていてもよく、ブロッキング層は無機材料であってもよい。
【0083】
また、本開示の例示的な実施形態は、さらに別の表示パネルを提供し、前記表示パネルは
図3に示すような画素駆動回路を含むことができる。この表示パネルは、
図19~
図27に示すように、順に積層されたベース基板、活性層、第1導電層、第2導電層、第3導電層、および第4導電層を含むことができる。
図19は、本開示の例示的な一実施形態に係る表示パネルの構造レイアウトであり、
図20は、
図19の活性層の構造レイアウトであり、
図21は、
図19の第1導電層の構造レイアウトであり、
図22は、
図19の第2導電層の構造レイアウトであり、
図23は、
図19の第3導電層の構造レイアウトであり、
図24は、
図19の第4導電層の構造レイアウトであり、
図25は、
図19の活性層と第1導電層の構造レイアウトであり、
図26は、
図19の活性層、第1導電層と第2導電層の構造レイアウトであり、
図27は、
図19の活性層、第1導電層、第2導電層および第3導電層の構造レイアウトである。
【0084】
図19、
図20、
図25に示すように、活性層は、第1活性部51、第2活性部52、第3活性部53、第4活性部54、第5活性部55、第6活性部56、第7活性部57、第8活性部58、第10活性部510、第11活性部511、第12活性部512、第13活性部513、第14活性部514、第15活性部515、および活性線50を含むことができる。第1活性部51は、第1サブ活性部5110および第2サブ活性部5120を含むことができる。第1サブ活性部5110および第2サブ活性部5120は、第1トランジスタの2つのチャネル領域を形成するために用いられてもよい。活性層は、第1サブ活性部5110と第2サブ活性部5120との間に接続された第3サブ活性部5130をさらに含むことができる。第2活性部52は、第4サブ活性部521と第5サブ活性部522とを含むことができる。第4サブ活性部521および第5サブ活性部522は、第2トランジスタの2つのチャネル領域を形成するために用いられてもよい。活性層は、第4サブ活性部521と第5サブ活性部522との間に接続された第6サブ活性部523をさらに含むことができる。第3活性部53は、第3トランジスタT3のチャネル領域を形成するために用いられ、第4活性部54は、第4トランジスタT4のチャネル領域を形成するために用いられ、第5活性部55は、第5トランジスタT5のチャネル領域を形成するために用いられ、第6活性部56は、第6トランジスタT6のチャネル領域を形成するために用いられ、第7活性部57は、第7トランジスタT7のチャネル領域を形成するために用いられ、第8活性部58は第8トランジスタT8のチャネル領域を形成するために用いられ、第10活性部510は駆動トランジスタDTFTのチャネル領域を形成するために用いられる。第11活性部511は、第3活性部53、第5活性部55、および第8活性部58にそれぞれ接続されてもよい。第10活性部510は、第11活性部511から離れた第5活性部55の一端に接続されてもよく、第12活性部512は、第11活性部511から離れた第8活性部58の一端に接続されてもよく、第13活性部513は、第11活性部511から離れた第3活性部53の一端に接続されてもよく、第15活性部515は、第6活性部56から離れた第7活性部57の一端に接続されてもよい。ベース基板上の活性線50の正投影は、第1方向Xに沿って延びる。第1方向Xは、表示パネルの行方向であってもよい。活性線50は、同一の画素回路の行に位置する複数の第15活性部に接続されてもよい。活性層はポリシリコン半導体で形成されてもよく、第1~第8トランジスタおよび駆動トランジスタはいずれも低温ポリシリコントランジスタであってもよい。
【0085】
図19、
図21、
図25に示すように、第1導電層は、第1イネーブル信号線EM1、第2イネーブル信号線EM2、第10導電部110、第8導電部18、第15導電部115、第13導電部113、第16導電部116、リセット信号線Resetおよび第1ゲート線Gate1を含むことができる。第1イネーブル信号線EM1は、第1イネーブル信号端子を提供するために用いられ、第2イネーブル信号線EM2は、第2イネーブル信号端子を形成するために用いられ、リセット信号線Resetは、リセット信号端子を提供するために用いられ、第1ゲート線Gate1は、第1ゲート駆動信号端子を提供するために用いられる。ベース基板上の第1イネーブル信号線EM1の正投影、ベース基板上の第2イネーブル信号線EM2の正投影、ベース基板上のリセット信号線Resetの正投影、およびベース基板上の第1ゲート線Gate1の正投影は、全て第1方向Xに沿って延在することができる。第10導電部110は、駆動トランジスタのゲート電極と第1コンデンサの第1電極とを形成するために用いられ、ベース基板上の第1イネーブル信号線EM1の正投影は、ベース基板上の第5活性部55の正投影を覆い、第1イネーブル信号線EM1の一部は、第5トランジスタT5のゲート電極を形成するために用いられてもよく、ベース基板上の第2イネーブル信号線EM2の正投影は、ベース基板上の第3活性部53の正投影とベース基板上の第7活性部57の正投影とをカバーしてもよい。第2イネーブル信号線EM2の一部は、前記第3トランジスタT3のゲート電極を形成するために用いられてもよく、第2イネーブル信号線EM2の他の部分は、第7トランジスタT7のゲート電極を形成するために用いられてもよい。第8導電部18は、第1イネーブル信号線EM1に接続されてもよく、ベース基板上の第8導電部18の正投影は、ベース基板上の第8活性部58の正投影を覆ってもよい。第8導電部18は、第8トランジスタT8のゲート電極を形成するために用いられてもよい。第13導電部113は、第1ゲート線Gate1に対向するリセット信号線Resetの一側に接続されてもよく、第15導電部115は、リセット信号線に対向する第1ゲート線Gate1の一側に接続されてもよく、第16導電部116は、第1ゲート線Gate1から離れたリセット信号線の一側に接続されてもよい。第1ゲート線Gate1の一部は、第2トランジスタおよび第4トランジスタのゲート電極を形成するために用いられてもよく、第15導電部115は、第2トランジスタの別のゲート電極を形成するために用いられてもよく、リセット信号線Resetの一部は、第1トランジスタのゲート電極を形成するために用いられてもよい。第16導電部116は、第1トランジスタの別のゲート電極を形成するために用いられてもよい。この表示パネルは、第1導電層をマスクとして活性層を導体化処理することができ、第1導電層によって覆われた領域にトランジスタのチャネル領域を形成することができ、第1導電層によって覆われていない領域に導体構造を形成することができる。
【0086】
図19、
図22および
図26に示すように、第2導電層は、第11導電部211を含むことができる。第11導電部211には開口2111が設けられていてもよい。ベース基板上の第11導電部211の正投影は、ベース基板上の第10導電部110の正投影と少なくとも部分的に重なっていてもよい。第11導電部211は、第1コンデンサC1の第2電極を形成するために用いられてもよい。
【0087】
図19、
図23、
図27に示すように、第3導電層は、電源線VDD、第1接続部31、第2接続部32、相互接続部33、相互接続部34、相互接続部35および相互接続部36を含むことができる。電源線VDDは、第1電源端子を供給するために用いられる。ベース基板上の電源線VDDの正投影は、第2方向Yに沿って延びてもよく、第2方向は、表示パネルの列方向であってもよい。
図27に示すように、電源線VDDは、ビアH6を介して第12活性部512に接続されることにより、第8トランジスタの第2電極と第1電源端子とを接続することができる。第1接続部31は、ビアH4を介して第11活性部511に接続され、ビアH5を介して第11導電部211に接続されることにより、第3トランジスタの第2電極と第1コンデンサC1の第2電極とを接続することができる。第2接続部32は、ビアH7を介して第10導電部110に接続され、ビアH8を介して第14活性部514に接続されることにより、駆動トランジスタのゲート電極と第2トランジスタの第1電極とを接続することができる。ベース基板上のビアH7の正投影は、ベース基板上の開口2111の正投影内に位置し、ビアH7を第11導電部211から絶縁することができる。相互接続部33は、第3トランジスタの第1電極に接続するために、ビアH2を介して第13活性部513に接続されてもよい。相互接続部34は、第7トランジスタの第1電極に接続するために、ビアH1を介して第15活性部515に接続されてもよい。相互接続部35は、第6トランジスタの第1電極に接続するために、ビアH3を介して第6活性部56と第7活性部57との間の活性層に接続されてもよい。相互接続部36は、第4トランジスタの第1電極に接続するために、ビアH9を介して第5活性部55から離れた第4活性部54の一端の活性層に接続されてもよい。ベース基板上における電源線VDDの正投影とベース基板上における第3サブ活性部5130の正投影とは少なくとも部分的に重なっていてもよく、電源線VDDは第3サブ活性部5130に対して電圧安定化の役割を果たすことができるので、第3サブ活性部5130の電圧変動による第1トランジスタのソース-ドレインへの異常なリークが低減される。
【0088】
図19および
図24に示すように、第4導電層は、初期信号線Vinit、データ線Vdata、基準電圧線Vref、相互接続部41および第17導電部42を含むことができる。初期信号線Vinitは、初期信号端子を提供するために用いられ、データ線Vdataは、データ信号端子を提供するために用いられ、基準電圧線Vrefは、基準電圧端子を提供するために用いられてもよい。初期信号線Vinitのベース基板への正投影、データ線Vdataのベース基板への正投影、基準電圧線Vrefのベース基板への正投影は、いずれも第2方向Yに沿って延びていてもよい。
図19に示すように、初期信号線Vinitは、第7トランジスタの第1電極に接続するために、ビアH11を介して相互接続部34に接続されるとともに、第15活性部515は、次の行の画素駆動回路における第1サブ活性部5110に接続されるので、初期信号線Vinitは、次の行の画素駆動回路における第1トランジスタの第1電極に初期信号端子を提供することができる。同様に、本行の画素駆動回路における第1トランジスタの第1電極は、前の行の画素駆動回路における相互接続部34を介して初期信号線Vinitに接続されている。初期信号線Vinitは活性線50とメッシュ構造を形成することができるので、初期信号線Vinit自体の抵抗を低減することができる。初期信号線Vinitは、それぞれに接続された第1サブ初期信号線Vinit1と第2サブ初期信号線Vinit2とを含むことができる。ベース基板上の第1サブ初期信号線Vinit1の正投影と、ベース基板上の第2サブ初期信号線Vinit2の正投影とは、第1方向にずれることができる。ベース基板上の第1サブ初期信号線Vinit1の正投影は、ベース基板上の第2接続部32の正投影と少なくとも部分的に重なっていてもよい。第1サブ初期信号線Vinit1は、第2接続部32に対して電圧安定化の役割を果たすことができるので、発光段階における駆動トランジスタのゲート電極の電圧変動を低減することができる。ベース基板上の第1サブ初期信号線Vinit1の正投影は、ベース基板上の第14活性部514の正投影と少なくとも部分的に重なっていてもよい。第1サブ初期信号線Vinit1は、第14活性部514に対して電圧安定化の役割を果たすことができるので、発光段階における駆動トランジスタのゲート電極の電圧変動を低減することができる。ベース基板上の第2サブ初期信号線Vinit2の正投影は、ベース基板上の電源線VDDの正投影と少なくとも部分的に重なっていてもよい。このような構成により、表示パネルに対する第2サブ初期信号線Vinit2の遮光影響を低減することができる。データ線Vdataは、ビアH13を介して相互接続部36に接続されることにより、第4トランジスタの第1電極とデータ信号端子とを接続することができる。基準電圧線Vrefは、ビアH10を介して相互接続33に接続されることにより、基準電圧端子と第3トランジスタの第1電極とを接続することができる。相互接続部41は、第6トランジスタの第1電極に接続するために、ビアH12を介して相互接続部35に接続されてもよく、相互接続部41は、発光部の第1電極に接続するために用いられてもよい。第17導電部42は、データ線Vdataから離れた基準電圧線Vrefの一側に接続されてもよく、第17導電部42のベース基板上の正投影は、右側画素駆動回路における第6サブ活性部523のベース基板上の正投影と少なくとも部分的に重なっていてもよく、第17導電部42は、第6サブ活性部523に対して電圧安定化の役割を果たすことができるので、第6サブ活性部523の電圧変動による第2トランジスタのソース-ドレインへの異常なリークが低減される。
【0089】
図28は、
図19の点線Bの位置における部分断面図である。表示パネルは、さらに、バッファ層62、第1絶縁層63、第2絶縁層64、誘電体層65、パッシベーション層66および平坦化層67を含むことができ、ここで、ベース基板61、バッファ層62、活性層、第1絶縁層63、第1導電層、第2絶縁層64、第2導電層、誘電体層65、第3導電層、パッシベーション層66、平坦化層67、第4導電層が順に積層されていてもよい。バッファ層62は、酸化シリコン層および窒化シリコン層の少なくとも一方を含むことができる。第1絶縁層63および第2絶縁層64は、酸化シリコン層であってもよい。誘電体層は窒化シリコン層であってもよい。パッシベーション層66の材料は、有機絶縁材料または無機絶縁材料、例えば窒化ケイ素材料を含むことができる。平坦化層67の材料は、有機樹脂などの有機材料であってもよい。第1導電層および第2導電層の材料は、モリブデン、アルミニウム、銅、チタンおよびニオブのいずれかまたはこれらの合金、モリブデン/チタン合金またはこれらのスタック等であってもよい。第3導電層および第4導電層の材料は、モリブデン、アルミニウム、銅、チタンおよびニオブなどの金属材料、またはそれらの合金、モリブデン/チタン合金またはそのスタック、またはチタン/アルミニウム/チタンのスタックであってもよい。ベース基板61は、ガラス基板、ブロッキング層、ポリイミド層の順に積層されていてもよく、ブロッキング層は無機材料であってもよい。
【0090】
本開示の例示的な実施形態は、さらに別の表示パネルを提供し、前記表示パネルは
図7に示すような画素駆動回路を含むことができる。この表示パネルは、
図29~37に示すように、順に積層されたベース基板、活性層、第1導電層、第2導電層、第3導電層、および第4導電層を含むことができる。
図29は、本開示の例示的な一実施形態に係る表示パネルの構造レイアウトであり、
図30は
図29の活性層の構造レイアウトであり、
図31は
図29の第1導電層の構造レイアウトであり、
図32は
図29の第2導電層の構造レイアウトであり、
図33は
図29の第3導電層の構造レイアウトであり、
図34は
図29の第4導電層の構造レイアウトであり、
図35は、
図29の活性層と第1導電層の構造レイアウトであり、
図36は、
図29の活性層、第1導電層および第2導電層の構造レイアウトであり、
図37は、
図29の活性層、第1導電層、第2導電層および第3導電層の構造レイアウトである。
【0091】
図29、
図30、
図35に示すように、活性層は、第1活性部51、第2活性部52、第3活性部53、第4活性部54、第5活性部55、第6活性部56、第7活性部57、第8活性部58、第9活性部59、第10活性部510、第11活性部511、第12活性部512、第13活性部513、第14活性部514、第16活性部、第1初期信号線Vinit1および第2初期信号線Vinit2を含むことができる。第1活性部51は、第1トランジスタのチャネル領域を形成するために用いられ、第2活性部52は、サブ活性部521およびサブ活性部522を含むことができ、サブ活性部521およびサブ活性部522は、第2トランジスタの2つのチャネル領域を形成するために用いられ、第3活性部53は、第3トランジスタT3のチャネル領域を形成するために用いられ、第4活性部54は、第4トランジスタT4のチャネル領域を形成するために用いられ、第5活性部55は、第5トランジスタT5のチャネル領域を形成するために用いられ、第6活性部56は、第6トランジスタT6のチャネル領域を形成するために用いられ、第7活性部57は、第7トランジスタT7のチャネル領域を形成するために用いられ、第8活性部58は、第8トランジスタT8のチャネル領域を形成するために用いられ、第9活性部59は、第9トランジスタT9のチャネル領域を形成するために用いられ、第10活性部510は、駆動トランジスタDTFTのチャネル領域を形成するために用いられてもよい。第11活性部511は、第3活性部53、第5活性部55、および第8活性部58にそれぞれ接続され、第10活性部510は、第11活性部511から離れた第5活性部55の一端に接続されてもよく、第12活性部512は、第11活性部511から離れた第8活性部58の一端に接続されてもよく、第13活性部513は、第11活性部511から離れた第3活性部53の一端に接続されてもよく、第14活性部514は、第2活性部52および第9活性部59に接続されてもよく、第16活性部516は、第4活性部54と第10活性部510との間に接続されてもよく、第16活性部516は、第2キャパシタの第1電極を形成するために用いられてもよい。ベース基板上の第16活性部516の正投影の第1方向Xにおける大きさは、ベース基板上の第4活性部54の正投影の第1方向Xにおける大きさよりも大きくしてもよい。ベース基板上の第1初期信号線Vinit1の正投影と、ベース基板上の第2初期信号線Vinit2の正投影とは、いずれも第1方向Xに沿って延びていてもよい。第1方向Xは、表示パネルの行方向であってもよい。列方向に隣接する2つの画素駆動回路は、1本の初期信号線を共有してもよい。例えば、第1初期信号線Vinit1は、前の行の画素駆動回路における第7トランジスタT7に初期信号端子を供給してもよい。第2初期信号線Vinit2は、次の行の画素駆動回路における第1トランジスタT1に初期信号端子を供給してもよい。活性層はポリシリコン半導体で形成されてもよく、第1~第8トランジスタおよび駆動トランジスタはいずれも低温ポリシリコントランジスタであってもよい。
【0092】
図29、
図31、
図35に示すように、第1導電層は、第1イネーブル信号線EM1、第2イネーブル信号線EM2、第10導電部110、第8導電部18、複数の第1導電部11、複数の第9導電部19、および複数の第2導電部12を含むことができる。ベース基板上の第10導電部110の正投影は、ベース基板上の第10活性部510の正投影を覆い、第10導電部110は、駆動トランジスタのゲート電極および第1キャパシタの第1電極を形成するために用いられる。ベース基板上の第1イネーブル信号線EM1の正投影は、第1方向Xに沿って延びてもよい。ベース基板上の第1イネーブル信号線EM1の正投影は、ベース基板上の第5活性部55の正投影を覆い、第1イネーブル信号線EM1の一部は、第5トランジスタT5のゲート電極を形成するために用いられてもよい。ベース基板上の第2イネーブル信号線EM2の正投影は、第1方向Xに沿って延びていてもよく、ベース基板上の第2イネーブル信号線EM2の正投影は、ベース基板上の第3活性部53の正投影と、ベース基板上の第7活性部57の正投影とを覆ってもよい。第2イネーブル信号線EM2の一部は、第3トランジスタT3のゲート電極を形成するために用いられ、第2イネーブル信号線EM2の他の部分は、第7トランジスタT7のゲート電極を形成するために用いられてもよい。第8導電部18は、第1イネーブル信号線EM1に接続されてもよく、第8導電部18のベース基板上の正投影は、第8活性部58のベース基板上の正投影を覆っていてもよい。第8導電部18は、第8トランジスタT8のゲート電極を形成するために用いられ、第1導電部11は、第1トランジスタのゲート電極を形成するために用いられてもよい。ベース基板上の第9導電部19の正投影は、ベース基板上の第4活性部54の正投影と、ベース基板上の第9活性部59の正投影とを覆ってもよい。第9導電部19は、第4トランジスタのゲート電極および第9トランジスタのゲート電極を形成するために用いられてもよい。ベース基板上の第2導電部12の正投影は第2活性部を覆ってもよく、第2導電部12は第2トランジスタのゲート電極を形成するために用いられてもよい。この表示パネルは、第1導電層をマスクとして活性層を導体化処理することができ、第1導電層によって覆われた領域にトランジスタのチャネル領域を形成することができ、第1導電層によって覆われていない領域に導体構造を形成することができる。
【0093】
図29、
図32および
図36に示すように、第2導電層は、第11導電部211および第14導電部214を含むことができる。ベース基板上の第11導電部の正投影は、ベース基板上の第10導電部110の正投影と少なくとも部分的に重なっていてもよい。第11導電部211は、第1コンデンサC1の第2電極を形成してもよい。第14導電部214は、第11導電部211に接続されてもよい。ベース基板上の第14導電部214の正投影は、ベース基板上の第16活性部516の正投影と少なくとも部分的に重なっていてもよい。第14導電部214は、第2コンデンサC2の第2電極を形成するために用いられてもよい。また、第11導電部211には開口2111も設けられている。
【0094】
図29、
図33、
図37に示すように、第3導電層は、基準電圧線Vref、第1ゲート線Gate1、リセット信号線Reset、第2ゲート線Gate2、第1接続部31、第2接続部32、相互接続部33、相互接続部34および相互接続部35を含むことができる。基準電圧線Vrefのベース基板への正投影、第1ゲート線Gate1のベース基板への正投影、リセット信号線Resetのベース基板への正投影、および第2ゲート線Gate2のベース基板上の正投影は、いずれも第1方向Xに延びていてもよい。
図37に示すように、リセット信号線Resetは、ビアH2を介して第1導電部11に接続されることにより、リセット信号端子と第1トランジスタのゲート電極とを接続することができる。同一のリセット信号線Resetは、同一の画素回路の行に位置する複数の第1導電部11に接続されてもよい。第1ゲート線Gate1は、ビアH3を介して第9導電部19に接続されることにより、第1ゲート駆動信号端子と第4トランジスタのゲート電極および第9トランジスタのゲート電極とを接続することができる。同一の第1ゲート線Gate1は、同一の画素回路の行に位置する複数の第9導電部19に接続されてもよい。第2ゲート線Gate2は、ビアH4を介して第2導電部12に接続されることにより、第2ゲート駆動信号端子と第2トランジスタのゲート電極とを接続することができる。同一の第2ゲート線Gate2は、同一の画素回路の行に位置する複数の第2導電部12に接続されてもよい。基準電圧線Vrefは、ビアH9を介して第13活性部513に接続されることにより、基準電圧端子と第3トランジスタの第1電極とを接続することができる。第1接続部31は、ビアH8を介して第11活性部511に接続され、ビアH7を介して第11導電部211に接続されることにより、第3トランジスタの第2電極と第1コンデンサC1の第2電極とを接続することができる。第2接続部32は、ビアH6を介して第10導電部110に接続され、ビアH5を介して第14活性部514に接続されることにより、第2トランジスタの第1電極と駆動トランジスタのゲート電極とを接続することができる。ベース基板上のビアH6の正投影はベース基板上の開口2111の正投影内に位置し、ビアH6を第11導電部211から絶縁することができる。相互接続部33は、第6トランジスタの第1電極に接続するために、ビアH11を介して第6活性部56と第7活性部57との間の活性層に接続されてもよい。相互接続部34は、第8トランジスタの第2電極に接続するために、ビアH10を介して第12活性部512に接続されてもよい。相互接続部35は、第4トランジスタの第1電極に接続するために、ビアH1を介して第10活性部510から離れた第4活性部54の一側の活性層に接続されてもよい。第3導電層のシート抵抗は、第1導電層のシート抵抗より小さくしてもよい。本開示の例示的な実施形態では、リセット信号線Reset、第1ゲート線Gate1、第2ゲート線Gate2、基準電圧線Vrefが第3導電層に配置されており、上記信号線自体の抵抗を低減することができる。
【0095】
図29および
図34に示すように、第4導電層は、データ線Vdata、電源線VDD、および相互接続部41を含むことができる。データ線Vdataは、データ信号端子を提供するために用いられ、電源線VDDは、第1電源端子を提供するために用いられてもよい。ベース基板上のデータ線Vdataの正投影と、ベース基板上の電源線VDDの正投影とは、いずれも第2方向Yに沿って延びることができ、第2方向Yは、表示パネルの列方向であってもよい。
図29に示すように、電源線VDDは、ビアH12を介して相互接続部34に接続されることにより、第8トランジスタの第2電極と第1電源端子とを接続することができる。データ線Vdataは、ビアH13を介して相互接続部35に接続されることにより、第4トランジスタの第1電極とデータ信号端子とを接続することができる。相互接続部41は、第6トランジスタの第1電極に接続するために、ビアH14を介して相互接続部33に接続されてもよい。相互接続部41は、発光部の第1電極に接続するために用いられてもよい。
図29に示すように、ベース基板上の電源線VDDの正投影は、ベース基板上の第14活性部514の正投影と少なくとも部分的に重なっていてもよく、電源線VDDは、発光段階における駆動トランジスタのゲート電極の電圧変動を低減するために、駆動トランジスタのゲート電極に対して電圧安定化の役割を果たすことができる。ベース基板上の電源線VDDの正投影は、ベース基板上の第2接続部32の正投影と少なくとも部分的に重なっていてもよい。同様に、電源線VDDは、駆動トランジスタのゲート電極に電圧安定化の役割を果たすことができ、発光段階における駆動トランジスタのゲート電極の電圧変動を低減することができる。
【0096】
図38は、
図29の破線Cの位置における部分断面図である。表示パネルは、さらに、バッファ層62、第1絶縁層63、第2絶縁層64、誘電体層65、パッシベーション層66および平坦化層67を含むことができ、ここで、ベース基板61、バッファ層62、活性層、第1絶縁層63、第1導電層、第2絶縁層64、第2導電層、誘電体層65、第3導電層、パッシベーション層66、平坦化層67、第4導電層が順に積層されていてもよい。バッファ層62は、酸化シリコン層および窒化シリコン層の少なくとも一方を含むことができる。第1絶縁層63および第2絶縁層64は、酸化シリコン層であってもよい。誘電体層は窒化シリコン層であってもよい。パッシベーション層66の材料は、有機絶縁材料または無機絶縁材料、例えば窒化ケイ素材料を含むことができる。平坦化層67の材料は、有機樹脂などの有機材料であってもよい。第1導電層および第2導電層の材料は、モリブデン、アルミニウム、銅、チタンおよびニオブのいずれかまたはこれらの合金、モリブデン/チタン合金またはこれらのスタック等であってもよい。第3導電層および第4導電層の材料は、モリブデン、アルミニウム、銅、チタンおよびニオブなどの金属材料、またはそれらの合金、モリブデン/チタン合金またはそのスタック、またはチタン/アルミニウム/チタンのスタックであってもよい。ベース基板61は、ガラス基板、ブロッキング層、ポリイミド層を順次積層してもよく、ブロッキング層は無機材料であってもよい。
【0097】
当業者は、明細書および本明細書に開示された内容を考慮して実践した上で、本開示の他の実施形態を容易に想起するだろう。本出願は、本開示の一般的原理に従い、本開示によって開示されていない当技術分野における周知の常識または慣用技術手段を含む、本開示の任意の変形、用途、または適応的変化をカバーすることを意図している。明細書および実施形態は例示的なものとみなされ、本開示の真の範囲および精神は特許請求の範囲によって示される。
【0098】
なお、本開示は、上述して図面に示した正確な構成に限定されるものではなく、その範囲を逸脱しない範囲で種々の変更及び変更が可能であることを理解されたい。本開示の範囲は、添付の特許請求の範囲のみによって限定される。
【符号の説明】
【0099】
01 駆動回路
02 制御回路
03 電圧安定化回路
04 第1記憶回路
05 第1リセット回路
06 データ書込回路
07 補償回路
08 第2記憶回路
09 第2リセット回路
11 第1導電部
12 第2導電部
14 第4導電部
18 第8導電部
19 第9導電部
31 第1接続部
32 第2接続部
33~36 相互接続部
41 相互接続部
42 第17導電部
50 活性線
51~59 第1~第9活性部
61 ベース基板
62 バッファ層
63 第1絶縁層
64 第2絶縁層
65 誘電体層
66 パッシベーション層
67 平坦化層
110 第10導電部
113 第13導電部
115 第15導電部
116 第16導電部
211 第11導電部
212 第12導電部
214 第14導電部
414 第14活性部
510~516 第10~第16活性部
521 第4サブ活性部
522 第5サブ活性部
523 第6サブ活性部
2111 開口、開口部
5110 第1サブ活性部
5120 第2サブ活性部
5130 第3サブ活性部
C1 第1コンデンサ、第1キャパシタ
C2 第2コンデンサ、第2キャパシタ
Data データ信号端子
DTFT 駆動トランジスタ
EM イネーブル信号端子
EM1 第1イネーブル信号線、第1イネーブル信号端子
EM2 第2イネーブル信号線、第2イネーブル信号端子
Gate ゲート駆動信号端子
Gate1 第1ゲート線、第1ゲート駆動信号、第1ゲート駆動信号端子
Gate2 第2ゲート線、第2ゲート駆動信号端子
H1~H14 ビア
N1~N6 第1~第6ノード
T1~T9 第1~第9トランジスタ
Vinit 初期信号線、初期信号端子
Vinit1 第1初期信号線、第1サブ初期信号線
Vinit2 第2初期信号線、第2サブ初期信号線
【国際調査報告】