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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-07-17
(54)【発明の名称】硬化性導電性組成物
(51)【国際特許分類】
C08F 289/00 20060101AFI20240709BHJP
C08G 61/12 20060101ALI20240709BHJP
C08F 2/44 20060101ALI20240709BHJP
C08F 2/50 20060101ALI20240709BHJP
C09D 4/00 20060101ALI20240709BHJP
C09D 7/65 20180101ALI20240709BHJP
C09D 7/63 20180101ALI20240709BHJP
C09D 7/20 20180101ALI20240709BHJP
B05D 3/06 20060101ALI20240709BHJP
B05D 7/24 20060101ALI20240709BHJP
B05D 5/12 20060101ALI20240709BHJP
【ＦＩ】
C08F289/00
C08G61/12
C08F2/44 C
C08F2/50
C09D4/00
C09D7/65
C09D7/63
C09D7/20
B05D3/06 101C
B05D3/06 C
B05D7/24 301T
B05D7/24 301R
B05D7/24 302R
B05D5/12 B
【審査請求】有
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2023577799
(86)(22)【出願日】2022-05-03
(85)【翻訳文提出日】2023-12-14
(86)【国際出願番号】 EP2022061759
(87)【国際公開番号】W WO2022268388
(87)【国際公開日】2022-12-29
(31)【優先権主張番号】21181835.6
(32)【優先日】2021-06-25
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(81)【指定国・地域】
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．ＴＷＥＥＮ
２．ＳＰＡＮ
(71)【出願人】
【識別番号】523471312
【氏名又は名称】ヘレウス エプリオ ゲーエムベーハー
(74)【代理人】
【識別番号】100120891
【弁理士】
【氏名又は名称】林 一好
(74)【代理人】
【識別番号】100114292
【弁理士】
【氏名又は名称】来間 清志
(72)【発明者】
【氏名】サウアー スティーグリッツ，ロジャー
(72)【発明者】
【氏名】ローベニッヒ，ヴィルフリート
(72)【発明者】
【氏名】ヴィーマン，フィリップ
【テーマコード（参考）】
4D075
4J011
4J026
4J032
4J038
【Ｆターム（参考）】
4D075BB26Z
4D075BB42Z
4D075BB46Z
4D075BB47Z
4D075CA02
4D075CA22
4D075DA04
4D075DB48
4D075DC19
4D075DC21
4D075EA19
4D075EA21
4D075EB23
4D075EB31
4D075EC30
4D075EC37
4J011PA87
4J011PB27
4J011PC02
4J011PC08
4J011QA22
4J011SA02
4J011SA14
4J011SA16
4J011SA20
4J011TA08
4J011TA10
4J011UA01
4J011UA03
4J011VA01
4J011WA02
4J026AB40
4J026BA05
4J026BA15
4J026BA28
4J026BA30
4J026BA50
4J026DB06
4J026DB36
4J026FA05
4J026FA09
4J026GA06
4J026GA07
4J026GA08
4J032BA04
4J032BB01
4J032BC02
4J032BC32
4J032CG06
4J038DJ002
4J038FA011
4J038FA081
4J038FA111
4J038GA13
4J038JA03
4J038JA19
4J038JA33
4J038JA35
4J038JA55
4J038KA04
4J038KA06
4J038MA09
4J038NA20
4J038PA17
4J038PA19
4J038PB09
4J038PC08
(57)【要約】
【解決手段】 本発明は更に、組成物であって、
ｉ）＊が隣接するモノマー単位への結合を示し、ｘ、ｚがＯ又はＳを表し、Ｒ１～Ｒ４が互いに独立して水素原子又は有機残基Ｒを表し、但し、残基Ｒ１～Ｒ４のうちの少なくとも１つが有機残基Ｒを表す、構造（Ｉ）のモノマー単位を含むポリチオフェン、ポリチオフェンであって、少なくとも０．８のＲＦ値によって示される、ＰＧＭＥ（１－メトキシプロパン－２－オール）中でのその相溶性によって特徴付けられる、ポリチオフェン、からなる群から選択される少なくとも１種のポリチオフェン、ｉｉｉ）少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物、
ｉｖ）少なくとも１種の有機溶媒、
ｖ）少なくとも１種のラジカル開始剤、を含む、組成物に関する。
本発明はまた、層構造体を調製する方法、この方法によって得ることができる層構造、層構造、電子部品、及び本発明による組成物の使用に関する。
【化１】
【選択図】図１
ｉ）＊が隣接するモノマー単位への結合を示し、ｘ、ｚがＯ又はＳを表し、Ｒ１～Ｒ４が互いに独立して水素原子又は有機残基Ｒを表し、但し、残基Ｒ１～Ｒ４のうちの少なくとも１つが有機残基Ｒを表す、構造（Ｉ）のモノマー単位を含むポリチオフェン、ポリチオフェンであって、少なくとも０．８のＲＦ値によって示される、ＰＧＭＥ（１－メトキシプロパン－２－オール）中でのその相溶性によって特徴付けられる、ポリチオフェン、からなる群から選択される少なくとも１種のポリチオフェン、ｉｉｉ）少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物、
ｉｖ）少なくとも１種の有機溶媒、
ｖ）少なくとも１種のラジカル開始剤、を含む、組成物に関する。
本発明はまた、層構造体を調製する方法、この方法によって得ることができる層構造、層構造、電子部品、及び本発明による組成物の使用に関する。
【化１】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
組成物であって、ｉ）構造（Ｉ）のモノマー単位を含む少なくとも１種のポリチオフェン
【化1】
＊は、隣接するモノマー単位への結合を示し、
Ｘ、Ｚは、Ｏ又はＳを表し、
Ｒ１～Ｒ４は、互いに独立して、水素原子又は有機残基Ｒを表し、但し、残基Ｒ１～Ｒ４のうちの少なくとも１つは、有機残基Ｒを表す］、
ｉｉ）少なくとも１つの酸基、好ましくは１つ若しくは２つのスルホン酸基、１つ若しくは２つの硫酸基、１つ若しくは２つのホスホン酸基、又は１つ若しくは２つのリン酸基を有する少なくとも１つの有機化合物、又は前記有機化合物の塩であって、前記有機化合物又はその塩の分子量が１，０００ｇ／ｍｏｌ未満である、有機化合物又はその塩、
ｉｉｉ）少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物、好ましくはラジカル連鎖反応において重合可能な少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物、
ｉｖ）少なくとも１種の有機溶媒、
ｖ）少なくとも１種のラジカル開始剤、を含む、組成物。
【請求項2】
組成物であって、ｉ）少なくとも１種のポリチオフェンであって、少なくとも０．８のＲＦ値によって示される、ＰＧＭＥ（１－メトキシプロパン－２－オール）中でのその相溶性によって特徴付けられる、少なくとも１種のポリチオフェン、
ｉｉｉ）少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物、好ましくはラジカル連鎖反応において重合可能な少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物、
ｉｖ）少なくとも１種の有機溶媒、
ｖ）少なくとも１種のラジカル開始剤、を含む、組成物。
【請求項3】
前記ポリチオフェンｉ）は、Ｘ及びＺがＯを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４からなる群から選択される残基のうちの３つが水素原子を表し、残りの残基が構造式（Ｉａ）を有するエーテル基を表す、構造（Ｉ）のモノマー単位を含むホモポリマー又はコポリマーである【化2】
Ｒ７は、Ｈ、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル基又はＣ１～Ｃ１０－アルコキシ基、好ましくはＨであり、
Ｒ８は、Ｈ、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル基又はＣ１～Ｃ１０－アルコキシ基、好ましくはＨであり、
ｎは、０～１０の整数であり、
Ｒ９はアルキル基、アルコキシ基、アリール基、エーテル基、又はエステル基であり、好ましくはＣ１～Ｃ３０アルキル基である］、請求項１に記載の組成物。
【請求項4】
前記ポリチオフェンｉは、Ｘ及びＺがＯを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４からなる群から選択される残基のうちの３つが水素原子を表し、残りの残基が分岐アルキル基又は分岐エーテル基を表す、構造（Ｉ）のモノマー単位を含むホモポリマー又はコポリマーである、請求項１に記載の組成物。
【請求項5】
残りの残基が、構造式（Ｉｂ）を有する分岐エーテル基を表す【化3】
Ｒ１０は、Ｈ、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル基又はＣ１～Ｃ１０－アルコキシ基であり、
Ｒ１１は、Ｈ、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル基又はＣ１～Ｃ１０－アルコキシ基であり、
ｎは、０～１０の整数であり、
Ｒ１２は、分岐有機残基、好ましくは分岐アルキル基又は分岐アリールアルキル基、より好ましくはアルキル鎖中に不飽和Ｃ＝Ｃ－結合を有していない分岐アルキル基又は分岐アリールアルキル基である］、請求項４に記載の組成物。
【請求項6】
１つの酸基を有する前記少なくとも１種の有機化合物ｉｉ）は、一価スルホン酸又はその塩である、請求項１及び３～５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項7】
前記少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）は、１つ以上の（アルカ）アクリル酸基、好ましくは１つ以上の（メタ）アクリル酸基を有する化合物、１つ以上のアリル基を有する化合物、１つ以上のビニル基を有する化合物、又はこれらのエチレン性不飽和基のうちの少なくとも２つの組み合わせを有する化合物である、請求項１～６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項8】
前記少なくとも１種の有機溶媒ｉｖ）は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、アニソール、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸オクチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸ブチル、１－メトキシ－２－プロピルアセテート、１－メトキシ－２－プロパノール、ブタノール、２－プロパノール、エタノール及びそれらの混合物、又はこれらの非プロトン性溶媒の１種若しくは２種と１種若しくは２種の更なる溶媒との混合物からなる群から選択される、請求項１～７のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項9】
前記少なくとも１種のラジカル開始剤は、光照射時にラジカルを形成することができる光ラジカル開始剤である、請求項１～８のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項10】
前記組成物は、前記組成物の総重量に基づいて２重量％未満の含水量を有する、請求項１～９のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項11】
層構造（１００）の調製方法であって、Ａ）基材（１０１）を準備する工程、
Ｂ）請求項１～１０のいずれか一項に記載の組成物で前記基材（１０１）をコーティングする工程、
Ｃ）任意選択的に、有機溶媒ｉｖ）を少なくとも部分的に除去する工程、
Ｄ）前記少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）をラジカル連鎖反応で重合させることによって前記組成物を硬化させるために、前記コーティングされた基材（１０１）を電磁放射線、電子ビーム、熱、又はこれらのうちの少なくとも２つの組み合わせに曝露する工程、を含む、方法。
【請求項12】
層構造（１００）であって、ａ）基材（１０１）、
ｂ）前記基材（１０１）上にコーティングされた導電層（１０２）、を備え、前記導電層（１０２）は
構造（Ｉ）のモノマー単位を含む少なくとも１種のポリチオフェン
【化4】
＊は、隣接するモノマー単位への結合を示し、
Ｘ、Ｚは、Ｏ又はＳを表し、
Ｒ１～Ｒ４は、互いに独立して、水素原子又は有機残基Ｒを表し、但し、残基Ｒ１～Ｒ４のうちの少なくとも１つは、有機残基Ｒを表す］、
少なくとも１つの酸基、好ましくは１つ若しくは２つのスルホン酸基、１つ若しくは２つの硫酸基、１つ若しくは２つのホスホン酸基、又は１つ若しくは２つのリン酸基を有する少なくとも１つの有機化合物、又は前記有機化合物の塩であって、前記有機化合物又はその塩の分子量が１，０００ｇ／ｍｏｌ未満である、有機化合物又はその塩、
少なくとも１種のポリチオフェンが埋め込まれている重合エチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）をベースとするポリマーマトリックス、を含み、
前記導電性ポリマー層は、少なくとも１Ｈの鉛筆硬度を有する、層構造。
【請求項13】
層構造（１００）であって、ａ）基材（１０１）、
ｂ）前記基材（１０１）上にコーティングされた導電層（１０２）、を備え、前記導電層（１０２）は
少なくとも１種のポリチオフェンであって、少なくとも０．８のＲＦ値によって示される、ＰＧＭＥ（１－メトキシプロパン－２－オール）中でのその相溶性によって特徴付けられる、少なくとも１種のポリチオフェン、
前記少なくとも１種のポリチオフェンが埋め込まれている、重合エチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）をベースとするポリマーマトリックス、を含み、
前記導電性ポリマー層は、少なくとも１Ｈの鉛筆硬度を有する、層構造。
【請求項14】
請求項１２又は１３に記載の層構造（１００）を備える電子部品。
【請求項15】
電子部品における導電性層を製造するための、又は帯電防止コーティングを製造するための、請求項１～１０のいずれか一項に記載の組成物の使用。【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、組成物であって、少なくとも１種のポリチオフェンと、ラジカル連鎖反応で重合可能な少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物と、を含む、硬化性組成物に関する。本発明はまた、層構造体を調製する方法、この方法によって得ることができる層構造、層構造、電子部品、及び本発明による組成物の使用に関する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0002】
ポリチオフェンは、本質的に導電性のポリマーとして広く使用されている。特に、ポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）は、固体電解コンデンサ、帯電防止コーティング、エレクトロルミネセントランプ、有機発光ダイオード、有機太陽電池などの多くの産業用途が見出されている。多数の又はこれらの用途のために、ＰＥＤＯＴは、水又は水と他の溶媒との混合物中に分散された対イオンとしてのポリスチレンスルホン酸を有するポリマー錯体として使用される（「ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ」とも呼ばれる）。
【0003】
応用範囲を拡大するために、非プロトン性溶媒中のＰＥＤＯＴを供給する努力がなされてきた。国際公開第２０１２／０５９２１５号は、分散液を有機非プロトン性溶媒に可溶性にする対イオンとしてのブロックコポリマーの使用を開示している。ブロックコポリマーの溶解度パラメータは、得られるＰＥＤＯＴ錯体の溶解度特性を支配及び制限する。したがって、ＰＧＭＥＡ又はエタノールなどの溶媒が添加されると、分散液は不安定になる。
【0004】
ＫＲ－Ａ－１００９４５０５６には、界面活性剤の存在下での水中での３，４－エチレンジオキシチオフェンの重合が記載されている。続いて、溶媒を除去し、有機溶媒で置き換える。しかしながら、このような再分散プロセスは高額であり、望ましくない。
【0005】
ＭｃＣｕｌｌｏｕｇｈ ｅｔ ａｌ．（「グリニャールメタセシスを使用して頭－尾結合レジオ規則性ポリ（３－アルキルチオフェン）を調製するための簡単な方法」、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．１９９９，１１，２５０）は、多数の溶媒中に分散させることができるレジオ規則性コポリマーの合成を記載している。しかしながら、有機金属化合物によるカップリングは高価であり、得られるポリマーは限られた導電性しか示さない。したがって、それらの用途は正孔輸送層に限定され、そこでは層を通る導電性のみが必要とされる。
【0006】
国際公開第２０２１／０６３９５６号は、有機溶媒をベースとする、ＰＥＤＯＴ誘導体と、対イオンとしてのモノマーアニオンと、を含む組成物を開示している。ポリアクリレートなどの不活性ポリマーとブレンドした場合、組成物は依然として低いシート抵抗を特徴とする。しかしながら、このようなブレンドの欠点は、このようなブレンドを使用して得られる導電層の硬度が、特にこれらのブレンドが帯電防止層の形成に使用される場合に、依然として改善可能であるという事実に見ることができる。
【0007】
本発明の目的は、有機溶媒中に溶解又は分散され、チオフェンモノマーをベースとする導電性ポリマーに関する従来技術の欠点を克服することであった。
【0008】
特に、本発明の目的は、組成物であって、チオフェンモノマーをベースとする、有機溶媒中に溶解又は分散される導電性ポリマーを含む、組成物を提供することであり、組成物は、先行技術から公知の同様の導電層と比較して、高導電性及び高透明性であるだけでなく、十分に高い硬度によっても特徴付けられる導電層の形成を可能にする。
【0009】
更に、本発明の目的は、安定な組成物、好ましくは、チオフェンモノマーをベースとする、有機溶媒中に溶解又は分散される導電性ポリマーを含む、貯蔵安定な組成物であって、これらの組成物によって、特に有利な硬度を特徴とする導電層を調製することができる、組成物を提供することでもあった。本明細書で使用される「貯蔵安定」という用語は、好ましくは、暗所で１５日間、より好ましくは３０日間貯蔵した後に沈殿物の形成を示さない組成物を特徴とする。
【0010】
上記の目的の少なくとも１つ、好ましくは２つ以上を少なくとも部分的に解決することへの貢献は、独立請求項によって行われる。従属請求項は、目的の少なくとも１つを少なくとも部分的に解決することに貢献する好ましい実施形態を提供する。
【0011】
本発明による目的のうちの少なくとも１つを解決することへの貢献は、本発明の第１の実施形態、好ましくは硬化性組成物、更により好ましくは電磁放射線、電子ビーム、又は熱に曝露された場合に硬化性である組成物によって行われ、該組成物は、
ｉ）構造（Ｉ）のモノマー単位を含む少なくとも１種のポリチオフェン
ｉ）構造（Ｉ）のモノマー単位を含む少なくとも１種のポリチオフェン
【0012】
【化1】
＊は、隣接するモノマー単位への結合を示し、
Ｘ、Ｚは、Ｏ又はＳを表し、
Ｒ１～Ｒ４は、互いに独立して、水素原子又は有機残基Ｒを表し、但し、残基Ｒ１～Ｒ４のうちの少なくとも１つは、有機残基Ｒを表す］、
ｉｉ）少なくとも１つの酸基、好ましくは１つ若しくは２つのスルホン酸基、１つ若しくは２つの硫酸基、１つ若しくは２つのホスホン酸基、又は１つ若しくは２つのリン酸基を有する少なくとも１つの有機化合物、又は有機化合物の塩であって、有機化合物又はその塩の分子量が１，０００ｇ／ｍｏｌ未満である、有機化合物又はその塩、
ｉｉｉ）少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物、好ましくはラジカル連鎖反応において重合可能な少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物、
ｉｖ）少なくとも１種の有機溶媒、
ｖ）少なくとも１種のラジカル開始剤、を含む。
【0013】
本発明による目的のうちの少なくとも１つを解決することへの貢献は、組成物の第２の実施形態、好ましくは硬化性組成物、更により好ましくは電磁放射線、電子ビーム、又は熱に曝露された場合に硬化性である組成物によって行われ、該組成物は、
ｉ）少なくとも１種のポリチオフェンであって、少なくとも０．６、好ましくは少なくとも０．８、より好ましくは１．０のＲＦ値によって示される、ＰＧＭＥ（１－メトキシプロパン－２－オール）中でのその相溶性によって特徴付けられる、少なくとも１種のポリチオフェン、
ｉｉ）任意選択的に、少なくとも１つの酸基、好ましくは１つ若しくは２つのスルホン酸基、１つ若しくは２つの硫酸基、１つ若しくは２つのホスホン酸基、又は１つ若しくは２つのリン酸基を有する少なくとも１つの有機化合物、又は有機化合物の塩であって、有機化合物又はその塩の分子量が１，０００ｇ／ｍｏｌ未満である、有機化合物又はその塩、
ｉｉｉ）少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物、好ましくはラジカル連鎖反応において重合可能な少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物、
ｉｖ）少なくとも１種の有機溶媒、
ｖ）少なくとも１種のラジカル開始剤、を含む。
ｉ）少なくとも１種のポリチオフェンであって、少なくとも０．６、好ましくは少なくとも０．８、より好ましくは１．０のＲＦ値によって示される、ＰＧＭＥ（１－メトキシプロパン－２－オール）中でのその相溶性によって特徴付けられる、少なくとも１種のポリチオフェン、
ｉｉ）任意選択的に、少なくとも１つの酸基、好ましくは１つ若しくは２つのスルホン酸基、１つ若しくは２つの硫酸基、１つ若しくは２つのホスホン酸基、又は１つ若しくは２つのリン酸基を有する少なくとも１つの有機化合物、又は有機化合物の塩であって、有機化合物又はその塩の分子量が１，０００ｇ／ｍｏｌ未満である、有機化合物又はその塩、
ｉｉｉ）少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物、好ましくはラジカル連鎖反応において重合可能な少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物、
ｉｖ）少なくとも１種の有機溶媒、
ｖ）少なくとも１種のラジカル開始剤、を含む。
【0014】
驚くべきことに、特定のポリチオフェン、例えば、残基Ｒ１～Ｒ４のうちの少なくとも１つが分岐アルキル基又は分岐エーテル基を表す上記の構造（Ｉ）のモノマー単位を含むポリチオフェンは、有機溶媒をベースとする、ラジカル連鎖反応で重合可能な少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物を含む硬化性組成物中の導電性ポリマーとして使用するのに特に適していることが見出された。ポリチオフェンが埋め込まれたポリマーマトリックスを形成するために、ポリチオフェンの存在下で重合性化合物を重合させることによってこのような組成物を硬化させると、高導電性及び高透明性であるだけでなく、十分に高い硬度を特徴とする導電層を得ることができる。更に、これらの組成物は顕著な貯蔵安定性を特徴とすることも観察されている。
【0015】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の好ましい実施形態では、組成物は、分散液又は溶液の形態で存在しており（有機溶媒ｉｖ）は、分散剤又は溶媒としての役割を果たしている）、ポリチオフェンｉ）及び少なくとも１個の酸基を有する少なくとも１種の有機化合物ｉｉ）（好ましくはアニオンの形態で存在している）は、少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）と一緒に錯体を形成し、有機溶媒ｉｖ）中に分散又は溶解されており、好ましくは均一に分散又は溶解されている。最も好ましくは、本発明による組成物は、ポリチオフェンｉ）と少なくとも１つの酸基を有する有機化合物ｉｉ）との錯体が有機溶媒ｉｖ）中に均一に分散されている分散液である。しかしながら、本発明による組成物では、「分散液」と「溶液」との間の遷移は、ポリチオフェンｉ）、少なくとも１つの酸基を有する有機化合物ｉｉ）、及び有機溶媒ｉｖ）の実際の性質に応じて流体であり得る。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第３の実施形態であり、好ましくは第１及び第２の実施形態に従属する。
【0016】
本発明による組成物の第１の実施形態の更なる好ましい実施形態では、ポリチオフェンｉ）は、Ｘ及びＺはＯを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４からなる群から選択される残基のうちの３つは水素原子を表し、残りの残基は構造式（Ｉａ）を有するエーテル基を表す、構造（Ｉ）のモノマー単位を含むホモポリマー又はコポリマーである。
【0017】
【化2】
Ｒ７は、Ｈ、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル基、好ましくはＣ１～Ｃ５－アルキル基、より好ましくはメチル基、又はＣ１～Ｃ１０－アルコキシ基、好ましくはＣ１～Ｃ５－アルコキシ基、より好ましくはメトキシ基であり、Ｒ７はＨであることが最も好ましく、
Ｒ８は、Ｈ、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル基、好ましくはＣ１～Ｃ５－アルキル基、より好ましくはメチル基、又はＣ１～Ｃ１０－アルコキシ基、好ましくはＣ１～Ｃ５－アルコキシ基、より好ましくはメトキシ基であり、Ｒ８はＨであることが最も好ましく、
ｎは、０～１０の範囲、好ましくは１～６の範囲、より好ましくは１～３の範囲の整数であり、ｎが１であることが最も好ましく、
Ｒ９は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、エーテル基又はエステル基、好ましくはＣ１～Ｃ３０アルキル基、より好ましくはＣ２～Ｃ２５－アルキル基、更により好ましくはＣ５～Ｃ２０－アルキル基である］
【0018】
この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第４の実施形態であり、好ましくは第１又は第３の実施形態に従属する。
【0019】
本発明による組成物の第１の実施形態の更なる好ましい実施形態では、ポリチオフェンｉ）は、Ｘ及びＺがＯを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４からなる群から選択される残基のうちの３つが水素原子を表し、残りの残基が分岐アルキル基又は分岐エーテル基を表す、構造（Ｉ）のモノマー単位を含むホモポリマー又はコポリマーである。これに関連して、残りの残基がスルホン酸基又はこの基の塩を有していないことも特に好ましい。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第５の実施形態であり、好ましくは第１、第３、及び第４の実施形態のいずれかに従属する。本明細書で使用される「分岐エーテル基」という用語は、好ましくは、酸素原子に結合している２つの有機残基の少なくとも１つが分岐有機残基、すなわち、単結合を介して少なくとも３つの炭素原子に、又は少なくとも２つの炭素原子及びエーテル基の一部である酸素原子に結合している少なくとも１つの炭素原子を含む有機残基であるエーテル基を定義する。
【0020】
本発明による組成物の第１の実施形態の更なる好ましい実施形態では、ポリチオフェンｉ）は、Ｘ及びＺはＯを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４からなる群から選択される残基のうちの３つは水素原子を表し、残りの残基は分岐アルキル基を表す、構造（Ｉ）のモノマー単位を含むホモポリマー又はコポリマーである。
【0021】
この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第６の実施形態であり、好ましくは第５の実施形態に従属する。分岐アルキル基又は２個以上のアルキル基を有する構造（Ｉａ）のモノマー単位の好適な例は、化合物（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）からなる群から選択される化合物を含む。
【0022】
【化3】
【0023】
本発明による組成物の第１の実施形態の更なる好ましい実施形態では、ポリチオフェンｉ）は、Ｘ及びＺがＯを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４からなる群から選択される残基のうちの３つが水素原子を表し、残りの残基が構造式（Ｉｃ）を有する分岐エーテル基を表す、構造（Ｉ）のモノマー単位を含むホモポリマー又はコポリマーである。
【0024】
【化4】
Ｒ１０は、Ｈ、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル基、好ましくはＣ１～Ｃ５－アルキル基、より好ましくはメチル基、又はＣ１～Ｃ１０－アルコキシ基、好ましくはＣ１～Ｃ５－アルコキシ基、より好ましくはメトキシ基であり、Ｒ１０はＨであることが最も好ましく、
Ｒ１１は、Ｈ、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル基、好ましくはＣ１～Ｃ５－アルキル基、より好ましくはメチル基、又はＣ１～Ｃ１０－アルコキシ基、好ましくはＣ１～Ｃ５－アルコキシ基、より好ましくはメトキシ基であり、Ｒ１１はＨであることが最も好ましく、
ｎは、０～１０の範囲、好ましくは１～６の範囲、より好ましくは１～３の範囲の整数であり、ｎが１であることが最も好ましく、
Ｒ１２は、分岐有機残基、好ましくは分岐アルキル基又は分岐アリールアルキル基、より好ましくはアルキル鎖中に不飽和Ｃ＝Ｃ－結合を有さない分岐アルキル基又は分岐アリールアルキル基、更により好ましくは式（Ｉｄ）を有する有機残基であり、
【0025】
【化5】
ｍは、１、２又は３であり、
Ｒ１３は、Ｈ又はＣ１～Ｃ１２アルキル基、好ましくはＣ２～Ｃ１０アルキル基、より好ましくはＣ３～Ｃ８アルキル基、更により好ましくはブチル基であり、但し、ｍ個の構造単位－ＣＨＲ１３－のうちの１つのみにおいて、残基Ｒ１３は、Ｃ１～Ｃ１２アルキル基であり、
Ｒ１４は、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル基、好ましくはＣ２～Ｃ６－アルキル基、又はアリール基である］
【0026】
この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第７の実施形態であり、好ましくは第５の実施形態に従属する。このようなポリチオフェンの好適な例は、化合物（Ｅ）、（Ｆ）、及び（Ｇ）からなる群から選択されるモノマー単位を含むホモポリマー又はコポリマーである。
【0027】
【化6】
【0028】
本発明による組成物の第１の実施形態の更なる好ましい実施形態では、ポリチオフェンｉ）は、構造（Ｉ）のモノマー単位と、３，４－エチレンジオキシチオフェン、２－エチル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－１，４－ジオキシン、２－プロピル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－１，４－ジオキシン、２－ブチル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－１，４－ジオキシン及び２－デシル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］［１，４］ジオキシンからなる群から選択される少なくとも１種の更なるチオフェンモノマーとのコポリマーであり、コポリマーは、各々の場合にチオフェンモノマー単位の総数に基づいて、構造（Ｉ）の５～９５％のモノマー単位、好ましくは１０～８０％のモノマー単位、より好ましくは２０～６０％のモノマー単位を含む。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第８の実施形態であり、好ましくは第１又は第３～第７の実施形態のいずれか１つに従属する。本発明による組成物のこの好ましい実施形態の特に好ましい変形例によれば、少なくとも１種の更なるチオフェンモノマーは、２－エチル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－１，４－ジオキシン、２－プロピル－２，３－ジヒドロ－チエノ［３，４－ｂ］－１，４－ジオキシン、２－ブチル－２，３－ジヒドロ－チエノ［３，４－ｂ］－１，４－ジオキシン及び２－デシル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］［１，４］ジオキシンからなる群から選択されるチオフェンモノマーであり、２－ブチル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－１，４－ジオキシンの使用が特に好ましい。
【0029】
本発明による組成物の第１の組成物の第１の実施形態の更なる好ましい実施形態では、ポリチオフェンｉ）は、少なくとも０．６、好ましくは少なくとも０．８、より好ましくは１．０のＲＦ値によって実証される、ＰＧＭＥ（１－メトキシプロパン－２－オール）中でのその相溶性によって特徴付けられる。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第９の実施形態であり、好ましくは第１又は第３～第８の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0030】
本発明による組成物の第２の実施形態の好ましい実施形態では、ポリチオフェンｉ）は、４０超、好ましくは５０超、より好ましくは６０超の接触角を特徴とする。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第１０の実施形態であり、好ましくは第２の実施形態に従属する。
【0031】
本発明による組成物の第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、ポリチオフェンｉ）は、構造（Ｉ）のモノマー単位を含むポリチオフェンである。
【0032】
【化7】
＊は、隣接するモノマー単位への結合を示し、
Ｘ、Ｚは、Ｏ又はＳを表し、
Ｒ１～Ｒ４は、互いに独立して、水素原子又は有機残基Ｒを表し、但し、残基Ｒ１～Ｒ４のうちの少なくとも１つは、有機残基Ｒを表す］
【0033】
この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第１１の実施形態であり、好ましくは第２及び第１０の実施形態に従属する。
【0034】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、少なくとも１つの酸基を有する少なくとも１種の有機化合物ｉｉ）は、少なくとも１つの無機酸基、好ましくは１つ又は２つの無機酸基を有する有機化合物であり、無機酸基は、スルホン酸基（－ＳＯ２ＯＨ）、硫酸基（－Ｏ－ＳＯ２ＯＨ）、ホスホン酸基（－ＰＯ（ＯＨ）２）、リン酸基（－Ｏ－ＰＯ（ＯＨ）２又はその塩、好ましくはスルホン酸基（－ＳＯ２ＯＨ）又はその塩である。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第１２の実施形態であり、好ましくは第１～第１１の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0035】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、少なくとも１つの酸基を有する有機化合物ｉｉ）は、アニオン性界面活性剤である。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第１３の実施形態であり、好ましくは第１～第１２の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0036】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、少なくとも１つの酸基を有する少なくとも１種の有機化合物ｉｉ）は、一価スルホン酸又はその塩である。好適な一価スルホン酸は、例えば、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、エチルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸若しくはトリフルオロメタンスルホン酸又はそれらの混合物若しくは塩であり、ドデシルベンゼンスルホン酸の使用が特に好ましい。本明細書で使用される「ドデシルベンゼンスルホン酸」という用語は、ドデシルベンゼンスルホン酸に加えて、ドデシル基よりも長い又は短いアルキル鎖を有するアルキルベンゼンスルホン酸を更に含むアルキルベンゼンスルホン酸の混合物も包含する。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第１４の実施形態であり、好ましくは第１～第１３の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0037】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、ポリチオフェンｉ）と、組成物中の少なくとも１個の酸基を有する少なくとも１種の有機化合物ｉｉ）との重量比は、１：３０～１：０．１の範囲、好ましくは１：２０～１：０．２の範囲、より好ましくは１：５～１：０．５の範囲である。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第１２の実施形態であり、好ましくは第１～第１１の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0038】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、組成物は、ポリチオフェンｉ）と、少なくとも１つの酸基を有する有機化合物ｉｉ）とを、各々の場合に組成物の全固形分に対して、０．０１～１０重量％の範囲の量で、より好ましくは０．２～６重量％の範囲の量で、最も好ましくは０．５～４重量％の範囲の量で含む。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第１５の実施形態であり、好ましくは第１～第１４の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0039】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）は、１つ以上の（アルカ）アクリル酸基、好ましくは１つ以上の（メタ）アクリル酸基を有する化合物、１つ以上のアリル基を有する化合物、１つ以上のビニル基を有する化合物、又はこれらのエチレン性不飽和基のうちの少なくとも２つの組み合わせを有する化合物である。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第１６の実施形態であり、好ましくは第１～第１５の実施形態のいずれか１つに従属する。「（メタ）アクリル酸」という用語は、本明細書で使用される場合、「（メタ）アクリル酸基」を有する対応する化合物のアクリル酸誘導体並びにメタクリル酸誘導体の両方を指す。
【0040】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、組成物は、ラジカル連鎖反応で重合可能な少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）を、各々の場合に組成物の固形分に基づいて、３０～９９．９９重量％の範囲の量、より好ましくは５０～９８重量％の範囲の量、最も好ましくは８０～９５重量％の範囲の量で含む。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第１７の実施形態であり、好ましくは第１～第１６の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0041】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、ポリチオフェンｉ）と少なくとも１つの酸基を有する有機化合物ｉｉ）との総重量とエチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）の重量との重量比は、０．１：９９．９９～１：１０の範囲、好ましくは０．２：９９．８～５：９５の範囲、より好ましくは０．５：９９．５～４：９６の範囲である。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第１８の実施形態であり、好ましくは第１～第１７の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0042】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、少なくとも１種の有機溶媒ｉｖ）は、プロトン性溶媒である。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第１９の実施形態であり、好ましくは第１～第１８の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0043】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、有機溶媒ｉｖ）は、芳香族炭化水素、ケトン、エステル、エーテル、アルコール、及びそれらの混合物からなる群から選択される。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第２０の実施形態であり、好ましくは第１～第１９の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0044】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、有機溶媒ｉｖ）は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、アニソール、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸オクチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸ブチル、１－メトキシ－２－プロピルアセテート、１－メトキシ－２－プロパノール、ブタノール、２－プロパノール、エタノール及びそれらの混合物又はこれらの非プロトン性溶媒の１種若しくは２種と１種若しくは２種の更なる溶媒との混合物からなる群から選択される。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第２１の実施形態であり、好ましくは第１～第２０の実施形態のいずれか１つに従属する。特に好ましい溶媒は、１－メトキシ－２－プロパノール（ＰＧＭＥ）である。
【0045】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、少なくとも１種のラジカル開始剤は、光の照射によりラジカルを形成することができる光ラジカル開始剤、より好ましくは、ＵＶ光の照射によりラジカルを形成することができるＵＶ光ラジカル開始剤である。
【0046】
この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第２２の実施形態であり、好ましくは、第１～第２１の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0047】
ラジカル開始剤ｖ）の好適な例としては、化学構造や分子結合エネルギーの違いにより分子が分解してラジカルを発生する１型開始剤や、第三級アミンと共存して水素引き抜きを起こす２型開始剤が挙げられる。１型開始剤は、アセトフェノン類、例えば４－フェノキシジクロロアセトフェノン、４－ｔ－ブチルジクロロアセトフェノン、４－ｔ－ブチルトリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－（４－ドデシルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン又は１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイン類、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル又はベンジルジメチルケタル、ホスフィンオキシド類及びチタノセン化合物からなる群から選択され得る。２型開始剤は、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチルエーテル、４－フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルスルフィド又は３’－メチル－４－メトキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類、及びチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２－メチルチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン又はイソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン化合物からなる群から選択され得る。これらの光開始剤は、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよく、１型と２型の光開始剤を混合して用いてもよい。
【0048】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、組成物は、ラジカル開始剤ｖ）を、いずれの場合も組成物の固形分に基づいて、０．０１～２０重量％の範囲、好ましくは０．１～１０重量％の範囲、より好ましくは０．５～５重量％の範囲の量で含む。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第２３の実施形態であり、好ましくは第１～第２２の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0049】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、組成物は、
ｖｉ）成分ｉ）～ｖ）とは異なる少なくとも１種の添加剤、好ましくはＵＶ安定剤、熱安定剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、導電性改善剤、接着促進剤、ポリマー結合剤、又はこれらの添加剤の少なくとも２種の組み合わせからなる群から選択される添加剤を更に含む。
ｖｉ）成分ｉ）～ｖ）とは異なる少なくとも１種の添加剤、好ましくはＵＶ安定剤、熱安定剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、導電性改善剤、接着促進剤、ポリマー結合剤、又はこれらの添加剤の少なくとも２種の組み合わせからなる群から選択される添加剤を更に含む。
【0050】
この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第２４の実施形態であり、好ましくは第１～第２３の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0051】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、組成物は、成分ｉ）～ｖ）とは異なる添加剤ｖｉ）を、各々の場合に組成物の固形分含有量に基づいて、０．０１～２５重量％の範囲、好ましくは０．１～２０重量％の範囲、より好ましくは１～１０重量％の範囲の量で含む。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第２５の実施形態であり、好ましくは第１～第２４の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0052】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、組成物は、各々の場合に組成物の総重量に基づいて、２重量％未満、好ましくは１重量％未満、更により好ましくは０．５重量％未満の含水量を有する。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第２６の実施形態であり、好ましくは第１～第２５の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0053】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、組成物は、各々の場合に組成物の総重量に基づいて、１０ｐｐｍ未満、好ましくは１ｐｐｍ未満、より好ましくは０．１ｐｐｍ未満の鉄含有量を有する。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第２７の実施形態であり、好ましくは第１～第２６の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0054】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、組成物を用いて調製された導電層は、最大で１×１０１０Ω／ｓｑ、好ましくは最大５×１０９Ω／ｓｑ、より好ましくは最大１×１０８Ω／ｓｑのシート抵抗を有する。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第２８の実施形態であり、好ましくは第１～第２７の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0055】
本発明による組成物の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、組成物を用いて調製された導電層は、少なくとも１Ｈ、好ましくは少なくとも２Ｈ、より好ましくは少なくとも３Ｈの鉛筆硬度を有する。この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第２９の実施形態であり、好ましくは第１～第２８の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0056】
本発明による目的の少なくとも１つを解決することへの貢献は、層構造の調製のためのプロセスの第１の実施形態によっても行われ得、このプロセスは、
Ａ）基材を準備する工程、
Ｂ）本発明による組成物で基材をコーティングする工程、
Ｃ）任意選択的に、有機溶媒ｉｖ）を少なくとも部分的に除去する工程、
Ｄ）少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）をラジカル連鎖反応で重合させることによって組成物を硬化させるために、コーティングされた基材（１０１）を電磁放射線、好ましくはＵＶ放射線、電子ビーム、熱、又はこれらのうちの少なくとも２つの組み合わせに曝露する工程、を含む。
Ａ）基材を準備する工程、
Ｂ）本発明による組成物で基材をコーティングする工程、
Ｃ）任意選択的に、有機溶媒ｉｖ）を少なくとも部分的に除去する工程、
Ｄ）少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）をラジカル連鎖反応で重合させることによって組成物を硬化させるために、コーティングされた基材（１０１）を電磁放射線、好ましくはＵＶ放射線、電子ビーム、熱、又はこれらのうちの少なくとも２つの組み合わせに曝露する工程、を含む。
【0057】
本発明による方法の好ましい実施形態において、方法工程Ａ）において提供される基材は、紙、ポリマー、ガラス又はセラミックからなる群から選択される。光学用途では、基材は透明又は光透過性であることが好ましい。透明基材は、ガラス、非常に薄いガラス（フレキシブルガラス）、又はプラスチックから作製することができる。特に好適なプラスチックは、ポリカーボネート、ポリエステル、例えば、ＰＥＴ及びＰＥＮ（ポリエチレンテレフタレート又はポリエチレン－ナフタレンジカルボキシレート）、コポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレン又は環状ポリオレフィン又は環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、水素化スチレンポリマー又は水素化スチレンコポリマーである。剛性又は可撓性の基材を使用することができる。この好ましい実施形態は、本発明による方法の第２の実施形態であり、好ましくは第１の実施形態に従属する。
【0058】
本発明による方法の更なる好ましい実施形態では、方法工程Ｂ）における本発明による組成物による基材のコーティングは、浸漬、ディッピング、注入、滴下、噴霧、ミスチング、ナイフコーティング、ブラッシング、又は印刷、例えばインクジェット、スクリーン又はタンポン印刷によって達成される。この好ましい実施形態は、本発明による方法の第３の実施形態であり、好ましくは第１又は第２の実施形態に従属する。
【0059】
本発明による目的のうちの少なくとも１つを解決することへの貢献はまた、本発明によるプロセスによって得られる層構造によっても行われる。層構造は、好ましくは、少なくとも１Ｈ、好ましくは少なくとも２Ｈ、より好ましくは少なくとも２Ｈの鉛筆硬度を有する。更に、層構造は、好ましくは、少なくとも８０％、好ましくは少なくとも８５％、より好ましくは少なくとも８７％、最も好ましくは少なくとも８９％の透過率（基材を含む）を有する。
【0060】
本発明による目的のうちの少なくとも１つを解決することへの貢献はまた、以下の層構造の第１の実施形態によっても行われる。
ａ）基材と、
ｂ）基材上にコーティングされた導電層と、を備え、導電層は、
構造（Ｉ）のモノマー単位を含む少なくとも１種のポリチオフェン
ａ）基材と、
ｂ）基材上にコーティングされた導電層と、を備え、導電層は、
構造（Ｉ）のモノマー単位を含む少なくとも１種のポリチオフェン
【0061】
【化8】
＊は、隣接するモノマー単位への結合を示し、
Ｘ、Ｚは、Ｏ又はＳを表し、
Ｒ１～Ｒ４は、互いに独立して、水素原子又は有機残基Ｒを表し、但し、残基Ｒ１～Ｒ４のうちの少なくとも１つは、有機残基Ｒを表す］、
少なくとも１つの酸基、好ましくは１つ若しくは２つのスルホン酸基、１つ若しくは２つの硫酸基、１つ若しくは２つのホスホン酸基、又は１つ若しくは２つのリン酸基を有する少なくとも１つの有機化合物、又は有機化合物の塩であって、有機化合物又はその塩の分子量が１，０００ｇ／ｍｏｌ未満である、有機化合物又はその塩、
少なくとも１種のポリチオフェンが埋め込まれている重合エチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）をベースとするポリマーマトリックス、を含み、
導電性ポリマー層は、少なくとも１Ｈ、好ましくは少なくとも２Ｈ、より好ましくは少なくとも３Ｈの鉛筆硬度を有する。
【0062】
本発明による目的のうちの少なくとも１つを解決することへの貢献はまた、以下の層構造の第２の実施形態によっても行われる。
ａ）基材と、
ｂ）基材上にコーティングされた導電層と、を備え、導電層は、
少なくとも１種のポリチオフェンであって、少なくとも０．６、好ましくは少なくとも０．８、より好ましくは１．０のＲＦ値によって示される、ＰＧＭＥ（１－メトキシプロパン－２－オール）中でのその相溶性によって特徴付けられる、少なくとも１種のポリチオフェン、
任意選択的に、少なくとも１つの酸基、好ましくは１つ若しくは２つのスルホン酸基、１つ若しくは２つの硫酸基、１つ若しくは２つのホスホン酸基、又は１つ若しくは２つのリン酸基を有する少なくとも１つの有機化合物、又は有機化合物の塩であって、有機化合物又はその塩の分子量が１，０００ｇ／ｍｏｌ未満である、有機化合物又はその塩、
少なくとも１種のポリチオフェンが埋め込まれている重合エチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）をベースとするポリマーマトリックス、を含み、
導電性ポリマー層は、少なくとも１Ｈ、好ましくは少なくとも２Ｈ、より好ましくは少なくとも３Ｈの鉛筆硬度を有する。
ａ）基材と、
ｂ）基材上にコーティングされた導電層と、を備え、導電層は、
少なくとも１種のポリチオフェンであって、少なくとも０．６、好ましくは少なくとも０．８、より好ましくは１．０のＲＦ値によって示される、ＰＧＭＥ（１－メトキシプロパン－２－オール）中でのその相溶性によって特徴付けられる、少なくとも１種のポリチオフェン、
任意選択的に、少なくとも１つの酸基、好ましくは１つ若しくは２つのスルホン酸基、１つ若しくは２つの硫酸基、１つ若しくは２つのホスホン酸基、又は１つ若しくは２つのリン酸基を有する少なくとも１つの有機化合物、又は有機化合物の塩であって、有機化合物又はその塩の分子量が１，０００ｇ／ｍｏｌ未満である、有機化合物又はその塩、
少なくとも１種のポリチオフェンが埋め込まれている重合エチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）をベースとするポリマーマトリックス、を含み、
導電性ポリマー層は、少なくとも１Ｈ、好ましくは少なくとも２Ｈ、より好ましくは少なくとも３Ｈの鉛筆硬度を有する。
【0063】
本発明による層構造の第１の実施形態の更なる好ましい実施形態では、ポリチオフェンｉ）は、Ｘ及びＺはＯを表し、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３及びＲ４からなる群から選択される残基のうちの３つが水素原子を表し、残りの残基は構造式（Ｉａ）を有するエーテル基を表す、構造（Ｉ）のモノマー単位を含むホモポリマー又はコポリマーである。
【0064】
【化9】
Ｒ７は、Ｈ、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル基、好ましくはＣ１～Ｃ５－アルキル基、より好ましくはメチル基、又はＣ１～Ｃ１０－アルコキシ基、好ましくはＣ１～Ｃ５－アルコキシ基、より好ましくはメトキシ基であり、Ｒ７はＨであることが最も好ましく、
Ｒ８は、Ｈ、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル基、好ましくはＣ１～Ｃ５－アルキル基、より好ましくはメチル基、又はＣ１～Ｃ１０－アルコキシ基、好ましくはＣ１～Ｃ５－アルコキシ基、より好ましくはメトキシ基であり、Ｒ８はＨであることが最も好ましく、
ｎは、０～１０の範囲、好ましくは１～６の範囲、より好ましくは１～３の範囲の整数であり、ｎが１であることが最も好ましく、
Ｒ９は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、エーテル基又はエステル基、好ましくはＣ１～Ｃ３０アルキル基、より好ましくはＣ２～Ｃ２５－アルキル基、更により好ましくはＣ５～Ｃ２０－アルキル基である］
【0065】
この好ましい実施形態は、本発明による層構造の第３の実施形態であり、好ましくは第１の実施形態に従属する。
【0066】
本発明による層構造の第１の実施形態の更なる好ましい実施形態では、ポリチオフェンｉ）は、Ｘ及びＺはＯを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４からなる群から選択される残基のうちの３つが水素原子を表し、残りの残基は分岐アルキル基又は分岐エーテル基を表す、構造（Ｉ）のモノマー単位を含むホモポリマー又はコポリマーである。これに関連して、残りの残基がスルホン酸基又はこの基の塩を有していないことも特に好ましい。この好ましい実施形態は、本発明による層構造の第４の実施形態であり、好ましくは第１又は第３の実施形態に従属する。
【0067】
本発明による層構造の第１の実施形態の更なる好ましい実施形態では、ポリチオフェンｉ）は、Ｘ及びＺはＯを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４からなる群から選択される残基のうちの３つが水素原子を表し、残りの残基は分岐アルキル基を表す、構造（Ｉ）のモノマー単位を含むホモポリマー又はコポリマーである。
【0068】
この好ましい実施形態は、本発明による層構造の第５の実施形態であり、好ましくは第４の実施形態に従属する。分岐アルキル基又は２個以上のアルキル基を有する構造（Ｉａ）のモノマー単位の好適な例は、化合物（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）からなる群から選択される化合物を含む。
【0069】
【化10】
【0070】
本発明による層構造の第１の実施形態の更なる好ましい実施形態では、ポリチオフェンｉ）は、Ｘ及びＺはＯを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４からなる群から選択される残基のうちの３つが水素原子を表し、残りの残基は構造式（Ｉｃ）を有する分岐エーテル基を表す、構造（Ｉ）のモノマー単位を含むホモポリマー又はコポリマーである。
【0071】
【化11】
Ｒ１０は、Ｈ、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル基、好ましくはＣ１～Ｃ５－アルキル基、より好ましくはメチル基、又はＣ１～Ｃ１０－アルコキシ基、好ましくはＣ１～Ｃ５－アルコキシ基、より好ましくはメトキシ基であり、Ｒ１０はＨであることが最も好ましく、
Ｒ１１は、Ｈ、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル基、好ましくはＣ１～Ｃ５－アルキル基、より好ましくはメチル基、又はＣ１～Ｃ１０－アルコキシ基、好ましくはＣ１～Ｃ５－アルコキシ基、より好ましくはメトキシ基であり、Ｒ１１はＨであることが最も好ましく、
ｎは、０～１０の範囲、好ましくは１～６の範囲、より好ましくは１～３の範囲の整数であり、ｎが１であることが最も好ましく、
Ｒ１２は、分岐有機残基、好ましくは分岐アルキル基又は分岐アリールアルキル基、より好ましくはアルキル鎖中に不飽和Ｃ＝Ｃ－結合を有さない分岐アルキル基又は分岐アリールアルキル基、更により好ましくは式（Ｉｄ）を有する有機残基であり、
【0072】
【化12】
ｍは、１、２、又は３であり、
Ｒ１３は、Ｈ又はＣ１～Ｃ１２アルキル基、好ましくはＣ２～Ｃ１０アルキル基、より好ましくはＣ３～Ｃ８アルキル基、更により好ましくはブチル基であり、但し、ｍ個の構造単位－ＣＨＲ１３－のうちの１つのみにおいて、残基Ｒ１３は、Ｃ１～Ｃ１２アルキル基であり、
Ｒ１４は、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル基、好ましくはＣ２～Ｃ６－アルキル基、又はアリール基である］
【0073】
この好ましい実施形態は、本発明による層構造の第６の実施形態であり、好ましくは第４の実施形態に従属する。このようなポリチオフェンの好適な例は、化合物（Ｅ）、（Ｆ）、及び（Ｇ）からなる群から選択されるモノマー単位を含むホモポリマー又はコポリマーである。
【0074】
【化13】
【0075】
本発明による層構造の第１の実施形態の更なる好ましい実施形態では、ポリチオフェンｉ）は、構造（Ｉ）のモノマー単位と、３，４－エチレンジオキシチオフェン、２－エチル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－１，４－ジオキシン、２－プロピル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－１，４－ジオキシン、２－ブチル－２，３－ｄｉｈｙｄｒｏｔｈｉｅ－ｎｏ［３，４－ｂ］－１，４－ジオキシン及び２－デシル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］［１，４］ジオキシンからなる群から選択される少なくとも１種のチオフェンモノマーとのコポリマーであって、各々の場合にチオフェンモノマー単位の総数に基づいて、構造（Ｉ）の５～９５％のモノマー単位、好ましくは１０～８０％のモノマー単位、より好ましくは２０～６０％のモノマー単位を含むコポリマーである。この好ましい実施形態は、本発明による層構造の第７の実施形態であり、好ましくは第１及び第３～第５の実施形態のいずれか１つに従属する。本発明による層構造のこの好ましい実施形態の特に好ましい変形例によれば、少なくとも１種の更なるチオフェンモノマーは、２－エチル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－１，４－ジオキシン、２－プロピル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－１，４－ジオキシン、２－ブチル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－１，４－ジオキシン及び２－デシル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］［１，４］ジオキシンからなる群から選択されるチオフェンモノマーであり、２－ブチル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］－１，４－ジオキシンの使用が特に好ましい。
【0076】
本発明による層構造の第２の実施形態の好ましい実施形態では、ポリチオフェンｉ）は、４０超、好ましくは５０超、より好ましくは６０超の接触角を特徴とする。この好ましい実施形態は、本発明による層構造の第８の実施形態であり、好ましくは第２の実施形態に従属する。
【0077】
本発明による層構造の第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、本発明による組成物ポリチオフェンｉ）は、構造（Ｉ）のモノマー単位を含むポリチオフェンである。
【0078】
【化14】
＊は、隣接するモノマー単位への結合を示し、
Ｘ、Ｚは、Ｏ又はＳを表し、
Ｒ１～Ｒ４は、互いに独立して、水素原子又は有機残基Ｒを表し、但し、残基Ｒ１～Ｒ４のうちの少なくとも１つは、有機残基Ｒを表す］
【0079】
この好ましい実施形態は、本発明による組成物の第９の実施形態であり、好ましくは第２及び第８の実施形態に従属する。
【0080】
本発明による層構造の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、少なくとも１つの酸基を有する少なくとも１種の有機化合物ｉｉ）は、少なくとも１つの無機酸基、好ましくは１つ又は２つの無機酸基を有する有機化合物であり、無機酸基は、スルホン酸基（－ＳＯ２ＯＨ）、硫酸基（－Ｏ－ＳＯ２ＯＨ）、ホスホン酸基（－ＰＯ（ＯＨ）２）、リン酸基（－Ｏ－ＰＯ（ＯＨ）２又はその塩、好ましくはスルホン酸基（－ＳＯ２ＯＨ）又はその塩である。この好ましい実施形態は、本発明による層構造の第１０の実施形態であり、好ましくは第１～第９の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0081】
本発明による層構造の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、少なくとも１つの酸基を有する有機化合物ｉｉ）は、アニオン性界面活性剤である。この好ましい実施形態は、本発明による層構造の第１１の実施形態であり、好ましくは第１～第１０の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0082】
本発明による層構造の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、少なくとも１つの酸基を有する少なくとも１種の有機化合物ｉｉ）は、一価スルホン酸又はその塩である。好適な一価スルホン酸は、例えば、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、エチルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸若しくはトリフルオロメタンスルホン酸又はそれらの混合物若しくは塩であり、ドデシルベンゼンスルホン酸の使用が特に好ましい。本明細書で使用される「ドデシルベンゼンスルホン酸」という用語は、ドデシルベンゼンスルホン酸に加えて、ドデシル基よりも長い又は短いアルキル鎖を有するアルキルベンゼンスルホン酸を更に含むアルキルベンゼンスルホン酸の混合物も包含する。この好ましい実施形態は、本発明による層構造の第１２の実施形態であり、好ましくは第１～第１１の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0083】
本発明による層構造の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、ポリチオフェンｉ）と層構造中の少なくとも１つの酸基を有する少なくとも１種の有機化合物ｉｉ）との重量比は、１：３０～１：０．１の範囲、好ましくは１：２０～１：０．２の範囲、より好ましくは１：５～１：０．５の範囲である。この好ましい実施形態は、本発明による層構造の第１３の実施形態であり、好ましくは第１～第１２の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0084】
本発明による第１及び第２の実施形態の層構造体の更なる好ましい実施形態では、層構造体は、ポリチオフェンｉ）と、少なくとも１つの酸基を有する有機化合物ｉｉ）とを、各々の範囲で導電層の総重量に基づいて、０．０１～１０重量％の範囲の総量で、より好ましくは０．２～６重量％の範囲の量で、最も好ましくは０．５～４重量％の範囲の量で含む。この好ましい実施形態は、本発明による層構造の第１４の実施形態であり、好ましくは第１～第１３の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0085】
本発明による層構造体の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、ポリマーマトリックスのベースとなる（すなわち、ポリマーマトリックスがラジカル重合によって得られた）少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）は、１つ以上の（メタ）アクリル酸基を有する化合物、１つ以上のアリル基を有する化合物、１つ以上のビニル基を有する化合物、又はこれらのエチレン性不飽和基のうちの少なくとも２つの組み合わせを有する化合物である。この好ましい実施形態は、本発明による層構造の第１５の実施形態であり、好ましくは第１～第１４の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0086】
本発明による層構造体の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、層構造体は、ポリマーマトリックスを形成するポリマーを、各々の場合に導電層の総重量に基づいて、３０～９９．９９重量％の範囲の量、より好ましくは５０～９８重量％の範囲の量、最も好ましくは８０～９５重量％の範囲の量で含む。この好ましい実施形態は、本発明による層構造の第１６の実施形態であり、好ましくは第１～第１５の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0087】
本発明による層構造の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、ポリチオフェンｉ）と少なくとも１つの酸基を有する有機化合物ｉｉ）との総重量と、ポリマーマトリックスを形成するポリマーの重量との重量比は、０．１：９９．９９～１：１０の範囲、好ましくは０．２：９９．８～５：９５の範囲、より好ましくは０．５：９９．５～４：９６の範囲である。この好ましい実施形態は、本発明による層構造の第１７の実施形態であり、好ましくは第１～第１６の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0088】
本発明による層構造の第１及び第２の実施形態の更なる好ましい実施形態では、層構造は、好ましくは、少なくとも８０％、好ましくは少なくとも８５％、より好ましくは少なくとも８７％、最も好ましくは少なくとも８９％の透過率（基材を含む）を有する。この好ましい実施形態は、本発明による層構造の第１８の実施形態であり、好ましくは第１～第１７の実施形態のいずれか１つに従属する。
【0089】
本発明による目的の少なくとも１つを解決することへの貢献はまた、本発明による層構造を含む電子部品、特に有機発光ダイオード、有機太陽電池、又はコンデンサによって行われる。
【0090】
本発明による目的の少なくとも１つを解決することへの貢献は、電子部品、特に有機発光ダイオード、有機太陽電池若しくはキャパシタにおける導電層を製造するため、又は帯電防止コーティングを製造するための、本発明による組成物の使用によっても行われる。
【0091】
少なくとも１つの酸基又はその塩を有する有機化合物ｉｉ）
本発明による組成物又は層構造中に存在する少なくとも１個の酸基を有する有機化合物ｉｉ）又はその塩は、好ましくはアニオン性界面活性剤を含み、アニオン性界面活性剤が、有機ホスホン酸、有機リン酸、有機スルホン酸、例えばスルホン酸、例えばアルキル－アリール－スルホン酸、アルキルサルフェート、アルキルスルホネート、アルキルエーテルサルフェート、及びそれらの塩又は混合物からなる群から選択されることが更に好ましい。以下のアニオン性界面活性剤の各々は、アルキル鎖の長さが異なる化合物の混合物を含有し得る。
好適なアルキルサルフェートとしては、Ｃ８～Ｃ１８アルキルサルフェート、例えばドデシル硫酸ナトリウム、ドデシル硫酸リチウム、ドデシル硫酸アンモニウム、テトラデシル硫酸ナトリウム、７－エチル－２－メチル－４－ウンデシル硫酸ナトリウム、及び２－エチルヘキシル硫酸ナトリウムが挙げられるが、これらに限定されない。
好適なアルキルエーテルサルフェートとしては、Ｃ８～Ｃ１８アルキルエーテルサルフェート、例えばラウレス硫酸ナトリウム及びミレス硫酸ナトリウムが挙げられるが、これらに限定されない。
好適なアルキルスルホネートとしては、Ｃ８～Ｃ１８アルキルスルホネート、例えばテトラデシルスルホン酸ナトリウム、オクタデシルスルホン酸ナトリウム、ドデシルスルホン酸ナトリウム、ヘキサデシルスルホン酸ナトリウム及び対応するスルホン酸が挙げられるが、これらに限定されない。
任意選択的にアルキル又はアリール置換基で置換される好適なアリールスルホネート又はスルホン酸としては、Ｃ２～Ｃ１８アルキルベンゼンスルホネート又はスルホン酸、例えばドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸、エチルベンゼンスルホン酸、及びドデシルベンゼンスルホン酸イソプロピルアミン塩；Ｃ２～Ｃ１８アルキルナフタレンスルホネート又はスルホン酸、例えばブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム及びヘキシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、特にドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム又はドデシルベンゼンスルホン酸が挙げられるが、これらに限定されない。アルキル置換基で置換されていてもよい場合、アリールスルホネート又はスルホン酸は、アルキル鎖に沿った任意の点、例えば第一級、第二級又は第三級炭素上に位置していてもよい。好適なアルキルエステルスルホネート又はスルホン酸としては、Ｃ２～Ｃ１８アルキルメチルエステルスルホネート又はスルホン酸、例えばメチルエステルスルホネート、ドデシルメチルエステルα－スルホン酸ナトリウム、テトラデシルメチルエステルα－スルホン酸ナトリウム、及びヘキサデシルメチルエステルα－スルホン酸ナトリウムが挙げられるが、これらに限定されない。サルフェート基、スルホネート基、又はスルホン酸基は、アルキル鎖又はアリール環に沿った任意の例えば第一級、第二級又は第三級炭素上に位置していてもよい。
２つのスルホン酸基を有する界面活性剤、例えばＣ２～Ｃ１６アルキルジフェニルオキシドジスルホネート又はジスルホン酸、例えばドデシルジフェニルオキシドジスルホン酸ナトリウムも好適である。
好適な有機ホスホン酸としては、一価ホスホン酸、例えばフェニルホスホン酸、１１－ヒドロキシウンデシルホスホン酸、２，４－キシリルホスホン酸、４－エチルフェニルホスホン酸、オクチルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、ウンデシルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、ｐ－（ジフェニルメチル）ホスホン酸、１１－ホスホノウンデカン酸、及びｐ－（１－ナフタレニルメチル）ホスホン酸、又はジホスホン酸、例えば（１２－ホスホノドデシル）ホスホン酸及び１，８－オクタンジホスホン酸などが挙げられる。
本発明による組成物又は層構造中に存在する少なくとも１個の酸基を有する有機化合物ｉｉ）又はその塩は、好ましくはアニオン性界面活性剤を含み、アニオン性界面活性剤が、有機ホスホン酸、有機リン酸、有機スルホン酸、例えばスルホン酸、例えばアルキル－アリール－スルホン酸、アルキルサルフェート、アルキルスルホネート、アルキルエーテルサルフェート、及びそれらの塩又は混合物からなる群から選択されることが更に好ましい。以下のアニオン性界面活性剤の各々は、アルキル鎖の長さが異なる化合物の混合物を含有し得る。
好適なアルキルサルフェートとしては、Ｃ８～Ｃ１８アルキルサルフェート、例えばドデシル硫酸ナトリウム、ドデシル硫酸リチウム、ドデシル硫酸アンモニウム、テトラデシル硫酸ナトリウム、７－エチル－２－メチル－４－ウンデシル硫酸ナトリウム、及び２－エチルヘキシル硫酸ナトリウムが挙げられるが、これらに限定されない。
好適なアルキルエーテルサルフェートとしては、Ｃ８～Ｃ１８アルキルエーテルサルフェート、例えばラウレス硫酸ナトリウム及びミレス硫酸ナトリウムが挙げられるが、これらに限定されない。
好適なアルキルスルホネートとしては、Ｃ８～Ｃ１８アルキルスルホネート、例えばテトラデシルスルホン酸ナトリウム、オクタデシルスルホン酸ナトリウム、ドデシルスルホン酸ナトリウム、ヘキサデシルスルホン酸ナトリウム及び対応するスルホン酸が挙げられるが、これらに限定されない。
任意選択的にアルキル又はアリール置換基で置換される好適なアリールスルホネート又はスルホン酸としては、Ｃ２～Ｃ１８アルキルベンゼンスルホネート又はスルホン酸、例えばドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸、エチルベンゼンスルホン酸、及びドデシルベンゼンスルホン酸イソプロピルアミン塩；Ｃ２～Ｃ１８アルキルナフタレンスルホネート又はスルホン酸、例えばブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム及びヘキシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、特にドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム又はドデシルベンゼンスルホン酸が挙げられるが、これらに限定されない。アルキル置換基で置換されていてもよい場合、アリールスルホネート又はスルホン酸は、アルキル鎖に沿った任意の点、例えば第一級、第二級又は第三級炭素上に位置していてもよい。好適なアルキルエステルスルホネート又はスルホン酸としては、Ｃ２～Ｃ１８アルキルメチルエステルスルホネート又はスルホン酸、例えばメチルエステルスルホネート、ドデシルメチルエステルα－スルホン酸ナトリウム、テトラデシルメチルエステルα－スルホン酸ナトリウム、及びヘキサデシルメチルエステルα－スルホン酸ナトリウムが挙げられるが、これらに限定されない。サルフェート基、スルホネート基、又はスルホン酸基は、アルキル鎖又はアリール環に沿った任意の例えば第一級、第二級又は第三級炭素上に位置していてもよい。
２つのスルホン酸基を有する界面活性剤、例えばＣ２～Ｃ１６アルキルジフェニルオキシドジスルホネート又はジスルホン酸、例えばドデシルジフェニルオキシドジスルホン酸ナトリウムも好適である。
好適な有機ホスホン酸としては、一価ホスホン酸、例えばフェニルホスホン酸、１１－ヒドロキシウンデシルホスホン酸、２，４－キシリルホスホン酸、４－エチルフェニルホスホン酸、オクチルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、ウンデシルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、ｐ－（ジフェニルメチル）ホスホン酸、１１－ホスホノウンデカン酸、及びｐ－（１－ナフタレニルメチル）ホスホン酸、又はジホスホン酸、例えば（１２－ホスホノドデシル）ホスホン酸及び１，８－オクタンジホスホン酸などが挙げられる。
【0092】
しかしながら、特に好ましくは、アニオン性界面活性剤は、一価スルホン酸、特に好ましくはドデシルベンゼンスルホン酸又はその塩である。
【0093】
エチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）
少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）は、１つ以上の（メタ）アクリル酸基を有する化合物、１つ以上のアリル基を有する化合物、１つ以上のビニル基を有する化合物、又はこれらのエチレン性不飽和基のうちの少なくとも２つの組み合わせを有する化合物である。
少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）は、１つ以上の（メタ）アクリル酸基を有する化合物、１つ以上のアリル基を有する化合物、１つ以上のビニル基を有する化合物、又はこれらのエチレン性不飽和基のうちの少なくとも２つの組み合わせを有する化合物である。
【0094】
（メタ）アクリル酸基を有する好ましい化合物は、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６－ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４－シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリトリトールヘキサトリ（メタ）アクリレート、ビス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌラートジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシルエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、及びイソボルネオール（メタ）アクリレートからなる群から選択される多官能性（メタ）アクリル酸モノマーである。
【0095】
（メタ）アクリル酸基を有する化合物として、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、及びエステル（メタ）アクリレートなどの光硬化性（メタ）アクリレートオリゴマーも好適である。
【0096】
ウレタン（メタ）アクリレートは、分子内に水酸基を有する多官能（メタ）アクリレートとイソシアネート基を有する化合物とを触媒の存在下で反応させて調製することができる。分子内に水酸基を有する（メタ）アクリレートの具体例としては、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシイソプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン開環ヒドロキシアクリレート、ペンタエリスリトールトリ／テトラ（メタ）アクリレート混合物、ジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサ（メタ）アクリレート混合物からなる群より選択される少なくとも１種が挙げられる。イソシアネート基を有する化合物の具体例としては、１，４－ジイソシアナトブタン、１，６－ジイソシアナトヘキサン、１，８－ジイソシアナトオクタン、１，１２－ジイソシアナトドデカン、１，５－ジイソシアナト－２－メチル－ペンタン、トリメチル－１，６－ジイソシアナトヘキサン、１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロ－ヘキサン、トランス－１，４－シクロヘキセンジイソシアネート、４，４’－メチレンビス（シクロへキシルイソシアネート）、イソホロンジイソシアネート、トルエン－２，４－ジイソシアネート、トルエン－２，６－ジイソシアネート、キシレン－１，４－ジイソシアネート、テトラメチルキシレン－１，３－ジイソシアネート、１－クロルメチル－２，４－ジイソシアネート、４，４’－メチレンビス（２，６－ジメチルフェニルイソシアネート）、４，４’－オキシビス（フェニルイソシアネート）、ヘキサメチレンジイソシアネートから誘導される３官能イソシアネート、及びトリメチレンプロパノール付加物トルエンジイソシアネートからなる群から選択される少なくとも１種が挙げられる。
【0097】
ビニル基又はアリル基を有する好適な化合物は、スチレン、並びにビニルエーテル基、アリルエーテル基、又はそれらの任意の組み合わせで末端キャップされたオリゴマーである。
【0098】
添加剤ｖｉ）
本発明による組成物中に存在することもできる好適な添加剤ｖｉ）としては、ＵＶ安定剤、熱安定剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、導電性改善剤、接着促進剤、ポリマー結合剤、界面活性剤、又はこれらの添加剤のうちの少なくとも２種の組み合わせが挙げられる。
適切なＵＶ安定剤は、その作用メカニズムに応じて分類されるように、吸収剤、消光剤、及びヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ）を含み得る、又はその化学構造に応じて分類されるように、サリチル酸フェニル（吸収剤）、ベンゾフェノン（吸収剤）、ベンゾトリアゾール（吸収剤）、ニッケル誘導体（消光剤）、及びラジカル捕捉剤を含み得る。熱安定剤としては、ポリフェノール系一次熱安定剤、ホスファイト系二次熱安定剤、ラクトン系二次熱安定剤などが市販されており、これらを単独又は組み合わせて使用することができる。
適当な酸化防止剤は、ヒンダードアミン光安定剤、例えばビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）－セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジン－４－イル）セバケート及びジ（１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジン－４－イル）、テトラキスアルキレン（ジアルキルヒドロキシアリール）アルキルエステルアルカン、例えばテトラキスメチレン（３，３’，５－ジブチル－４’－ヒドロキシフェニル）プロピオネートメタン、グリシジルメタクリレートとｐ－アミノジフェニルアミン又はｎ－ヘキシル－Ｎ’－フェニル－ｐ－フェニレンジアミンとの反応生成物、ペンタエリトリトールテトラキス（チオグリコレート）、トリメチロールプロパントリス（チオグリコレート）、トリメチロールエタントリス（チオグリコレート）、Ｎ－（４－アニリノフェニル）アクリルアミド、Ｎ－（４－アニリノフェニル）マレインアミド酸、Ｎ－（４－アニリノフェニル）マレイミド、イミドジカルボニル若しくはイミドジチオカルボニル基を含有する複素環式窒素化合物へのカルボアルコキシ結合を有するアルキルヒドロキシフェニル基、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシシンナモニトリル、エチル－ジ－ｔｅｒｔ－ヘキシル－４－ヒドロキシ－ケイ皮酸、β－置換ヒドロキシフェニルプロピオン酸の置換ベンジルエーテル、ビス－（ヒドロキシフェニルアルキレン）アルキルイソシアヌレート、単独又はジアルキルチオアルカノエートと組み合わせたテトラキスヒドロキシベンジルホスホニウムハライド、単独又はジアルキルチオアルカノエート、ホスフィット又はホスホネートと組み合わせたチオジメチリジンテトラキスフェノール、ジヒドロキシカルビルヒドロキシフェニルアリール又はアルキルホスホナイト、ホスホネート、ホスフェート、ホスフィット、ホスフィネート、ホスフィナイト、ホスホロチオネート、若しくはホスフィノチオネート、ジフェニルビス（３，５－ジｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェノキシ）シラン、ヒドロカルビルヒドロキシルジヒドロカルビルジチオカルバメート、例えば３，５－ジｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルジメチルジチオカルバメート、及びアミノベンジルチオエーテルからなる群から選択することができる。他の適切な抗酸化剤及び光安定剤は、当業者に明らかである。
好適なＵＶ吸収剤は、ドデシルオキシベンゾフェノン、２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、スルホン酸含有ヒドロキシベンゾフェノン、２，４－ジヒドロキシ－３’，５’－ジターシャリーブチルベンゾフェノン、ジカルボン酸の２，２’，４’－トリヒドロキシベンゾフェノンエステル、２－ヒドロキシ－４－アクリロキシエトキシベンゾフェノン、２，２’，４’－トリヒドロキシ－４’－アルコキシベンゾフェノンの脂肪族モノエステル、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－２’－カルボキシベンゾフェノン、低級アルキルチオメチレン含有フェノール、１，３－ビス－（２’－ヒドロキシベンゾイル）ベンゼンなどの置換ベンゼン、３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルプロピオン酸の金属誘導体、非対称シュウ酸ジアリールアミド、アルキルヒドロキシフェニルチオアルカノン酸エステル、ジ－及びトリ－ペンタエリトリトールのジアルキルヒドロキシフェニルアルカン酸エステル、４，４’－ジオクチルオキシ、５，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－オキサニリド、２，２’－ジ－ドデシルオキシ－５，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－オキサニリド、２－エトキシ－２’－エチル－オキサニリド、Ｎ，Ｎ’－ビス（３－ジメチルアミノプロピル）－オキサニリド、及び２－エトキシ－５－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－エチルオキサニリドなどのシュウ酸ジアミド、フェニル及びナフタレン置換シュウ酸ジアミド、メチルβ－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシルフェニル）プロピオネート、α，α－ビス－（２－ヒドロキシフェノール）－ジ－イソ－プロピル－ベンゼン、３，５’－ジブロモ－２’－ヒドロキシアセトフェノン、芳香族ヒドロキシル基に対してオルト位に少なくとも１つの非置換位置を有する４，４’－ビス－（４’－ヒドロキシフェニル）ペンタン酸のエステル誘導体、ビス（ジフェニルホスフィノチオイル）モノスルフィド及びビス（ジフェニルホスフィノ－チオイル）ジスルフィドなどの有機リン硫化物、４－ベンゾイル－６－（ジアルキルヒドロキシベンジル）レソルシノール、ビス（３－ヒドロキシ－４－ベンゾイルフェノキシ）ジフェニルシラン、ビス（３－ヒドロキシ－４－ベンゾイルフェノキシ）ジアルキルシラン、１，８－ナフタルイミド、α－シアノ，β，β－ジフェニルアクリル酸誘導体、ビス－（２－ベンゾキサゾリル）アルカン、ビス－（２－ナフトオキサゾリル）アルカン、アリール及び複素環置換基を含有するメチレンマロニトリル、アルキレン－ビス－ジチオカルバネート、４－ベンゾイル－３－ヒドロキシフェノキシエチルメタクリレート、アリール又はアルキル置換アクリロニトリル、及び３－メチル－５－イソプロピルフェニル－６－ヒドロキシクマロンなどの化合物を含み得る。
導電性を高める添加剤は、例えばテトラヒドロフランのような化合物、ブチロラクトン、バレロラクトンのようなラクトン基含有化合物、カプロラクタム、Ｎ－メチルカプロラクタム、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルフォルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ－メチルフォルムアミド、Ｎ－メチルフォルムアニリド、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）のようなアミド基含有化合物又はラクタム基含有化合物、ピロリドン、スルホン及びスルホキシド、例えばスルホラン（テトラメチレンスルホン）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、糖又は糖誘導体、例えばスクロース、グルコース、フルクトース、ラクトース、糖系界面活性剤、例えばＴｗｅｅｎ又はＳｐａｎ ６０、糖アルコール、例えばソルビトール、マンニトール、フラン誘導体、例えば２－フランカルボン酸、３－フランカルボン酸、及び／又はジ若しくはポリアルコール、例えばエチレングリコール、グリセロール又はジ若しくはトリエチレングリコールを含む。テトラヒドロフラン、Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ－メチルピロリドン、エチレングリコール、ジメチルスルホキシド、又はソルビトールが、導電性向上添加剤として特に好ましく使用される。
好適な接着促進剤は、例えば有機官能性シラン又はその加水分解物、例えば３－グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、又はオクチルトリエトキシシランなどの化合物である。
好適なポリマー結合剤は、特に有機溶媒に可溶なものであり、例えばポリオレフィン、ポリ酢酸ビニル、ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリル酸アミド、ポリメタクリル酸エステル、ポリメタクリル酸アミド、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポリビニルピロリドン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリシリコーン、エポキシ樹脂、スチレン－アクリレート、酢酸ビニル／アクリレート及びエチレン／酢酸ビニルコポリマー、ポリビニルアルコール又はセルロース誘導体を組成物に添加することもできる。上記ポリマーのコポリマーもポリマー結合剤として好適である。
適切な界面活性剤は、親水性頭部基及び疎水性部分を有する全ての両親媒性化合物である。親水性基は、本質的にイオン性及び非イオン性の両方であり得る。分子構造及び界面に付着する傾向に起因して、このクラスの物質は、界面張力を低下させ、改善された湿潤特性をもたらす。適切な界面活性剤は、特に、パラフィンスルホネート、アルコールスルホネート、エーテルスルホネート、スルホサクシネート、ホスフェートエステル、アルキルエーテルカルボン酸又はカルボキシレートなどの陰イオン性界面活性剤、第四級アルキルアンモニウム塩などの陽イオン性界面活性剤、直鎖アルコールエトキシレート、オキソアルコールエトキシレート、アルキルフェノールエトキシレート又はアルキルポリグルコシドなどの非イオン性界面活性剤である。
本発明による組成物中に存在することもできる好適な添加剤ｖｉ）としては、ＵＶ安定剤、熱安定剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、導電性改善剤、接着促進剤、ポリマー結合剤、界面活性剤、又はこれらの添加剤のうちの少なくとも２種の組み合わせが挙げられる。
適切なＵＶ安定剤は、その作用メカニズムに応じて分類されるように、吸収剤、消光剤、及びヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ）を含み得る、又はその化学構造に応じて分類されるように、サリチル酸フェニル（吸収剤）、ベンゾフェノン（吸収剤）、ベンゾトリアゾール（吸収剤）、ニッケル誘導体（消光剤）、及びラジカル捕捉剤を含み得る。熱安定剤としては、ポリフェノール系一次熱安定剤、ホスファイト系二次熱安定剤、ラクトン系二次熱安定剤などが市販されており、これらを単独又は組み合わせて使用することができる。
適当な酸化防止剤は、ヒンダードアミン光安定剤、例えばビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）－セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジン－４－イル）セバケート及びジ（１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジン－４－イル）、テトラキスアルキレン（ジアルキルヒドロキシアリール）アルキルエステルアルカン、例えばテトラキスメチレン（３，３’，５－ジブチル－４’－ヒドロキシフェニル）プロピオネートメタン、グリシジルメタクリレートとｐ－アミノジフェニルアミン又はｎ－ヘキシル－Ｎ’－フェニル－ｐ－フェニレンジアミンとの反応生成物、ペンタエリトリトールテトラキス（チオグリコレート）、トリメチロールプロパントリス（チオグリコレート）、トリメチロールエタントリス（チオグリコレート）、Ｎ－（４－アニリノフェニル）アクリルアミド、Ｎ－（４－アニリノフェニル）マレインアミド酸、Ｎ－（４－アニリノフェニル）マレイミド、イミドジカルボニル若しくはイミドジチオカルボニル基を含有する複素環式窒素化合物へのカルボアルコキシ結合を有するアルキルヒドロキシフェニル基、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシシンナモニトリル、エチル－ジ－ｔｅｒｔ－ヘキシル－４－ヒドロキシ－ケイ皮酸、β－置換ヒドロキシフェニルプロピオン酸の置換ベンジルエーテル、ビス－（ヒドロキシフェニルアルキレン）アルキルイソシアヌレート、単独又はジアルキルチオアルカノエートと組み合わせたテトラキスヒドロキシベンジルホスホニウムハライド、単独又はジアルキルチオアルカノエート、ホスフィット又はホスホネートと組み合わせたチオジメチリジンテトラキスフェノール、ジヒドロキシカルビルヒドロキシフェニルアリール又はアルキルホスホナイト、ホスホネート、ホスフェート、ホスフィット、ホスフィネート、ホスフィナイト、ホスホロチオネート、若しくはホスフィノチオネート、ジフェニルビス（３，５－ジｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェノキシ）シラン、ヒドロカルビルヒドロキシルジヒドロカルビルジチオカルバメート、例えば３，５－ジｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルジメチルジチオカルバメート、及びアミノベンジルチオエーテルからなる群から選択することができる。他の適切な抗酸化剤及び光安定剤は、当業者に明らかである。
好適なＵＶ吸収剤は、ドデシルオキシベンゾフェノン、２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、スルホン酸含有ヒドロキシベンゾフェノン、２，４－ジヒドロキシ－３’，５’－ジターシャリーブチルベンゾフェノン、ジカルボン酸の２，２’，４’－トリヒドロキシベンゾフェノンエステル、２－ヒドロキシ－４－アクリロキシエトキシベンゾフェノン、２，２’，４’－トリヒドロキシ－４’－アルコキシベンゾフェノンの脂肪族モノエステル、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－２’－カルボキシベンゾフェノン、低級アルキルチオメチレン含有フェノール、１，３－ビス－（２’－ヒドロキシベンゾイル）ベンゼンなどの置換ベンゼン、３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルプロピオン酸の金属誘導体、非対称シュウ酸ジアリールアミド、アルキルヒドロキシフェニルチオアルカノン酸エステル、ジ－及びトリ－ペンタエリトリトールのジアルキルヒドロキシフェニルアルカン酸エステル、４，４’－ジオクチルオキシ、５，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－オキサニリド、２，２’－ジ－ドデシルオキシ－５，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－オキサニリド、２－エトキシ－２’－エチル－オキサニリド、Ｎ，Ｎ’－ビス（３－ジメチルアミノプロピル）－オキサニリド、及び２－エトキシ－５－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－エチルオキサニリドなどのシュウ酸ジアミド、フェニル及びナフタレン置換シュウ酸ジアミド、メチルβ－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシルフェニル）プロピオネート、α，α－ビス－（２－ヒドロキシフェノール）－ジ－イソ－プロピル－ベンゼン、３，５’－ジブロモ－２’－ヒドロキシアセトフェノン、芳香族ヒドロキシル基に対してオルト位に少なくとも１つの非置換位置を有する４，４’－ビス－（４’－ヒドロキシフェニル）ペンタン酸のエステル誘導体、ビス（ジフェニルホスフィノチオイル）モノスルフィド及びビス（ジフェニルホスフィノ－チオイル）ジスルフィドなどの有機リン硫化物、４－ベンゾイル－６－（ジアルキルヒドロキシベンジル）レソルシノール、ビス（３－ヒドロキシ－４－ベンゾイルフェノキシ）ジフェニルシラン、ビス（３－ヒドロキシ－４－ベンゾイルフェノキシ）ジアルキルシラン、１，８－ナフタルイミド、α－シアノ，β，β－ジフェニルアクリル酸誘導体、ビス－（２－ベンゾキサゾリル）アルカン、ビス－（２－ナフトオキサゾリル）アルカン、アリール及び複素環置換基を含有するメチレンマロニトリル、アルキレン－ビス－ジチオカルバネート、４－ベンゾイル－３－ヒドロキシフェノキシエチルメタクリレート、アリール又はアルキル置換アクリロニトリル、及び３－メチル－５－イソプロピルフェニル－６－ヒドロキシクマロンなどの化合物を含み得る。
導電性を高める添加剤は、例えばテトラヒドロフランのような化合物、ブチロラクトン、バレロラクトンのようなラクトン基含有化合物、カプロラクタム、Ｎ－メチルカプロラクタム、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルフォルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ－メチルフォルムアミド、Ｎ－メチルフォルムアニリド、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）のようなアミド基含有化合物又はラクタム基含有化合物、ピロリドン、スルホン及びスルホキシド、例えばスルホラン（テトラメチレンスルホン）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、糖又は糖誘導体、例えばスクロース、グルコース、フルクトース、ラクトース、糖系界面活性剤、例えばＴｗｅｅｎ又はＳｐａｎ ６０、糖アルコール、例えばソルビトール、マンニトール、フラン誘導体、例えば２－フランカルボン酸、３－フランカルボン酸、及び／又はジ若しくはポリアルコール、例えばエチレングリコール、グリセロール又はジ若しくはトリエチレングリコールを含む。テトラヒドロフラン、Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ－メチルピロリドン、エチレングリコール、ジメチルスルホキシド、又はソルビトールが、導電性向上添加剤として特に好ましく使用される。
好適な接着促進剤は、例えば有機官能性シラン又はその加水分解物、例えば３－グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、又はオクチルトリエトキシシランなどの化合物である。
好適なポリマー結合剤は、特に有機溶媒に可溶なものであり、例えばポリオレフィン、ポリ酢酸ビニル、ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリル酸アミド、ポリメタクリル酸エステル、ポリメタクリル酸アミド、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポリビニルピロリドン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリシリコーン、エポキシ樹脂、スチレン－アクリレート、酢酸ビニル／アクリレート及びエチレン／酢酸ビニルコポリマー、ポリビニルアルコール又はセルロース誘導体を組成物に添加することもできる。上記ポリマーのコポリマーもポリマー結合剤として好適である。
適切な界面活性剤は、親水性頭部基及び疎水性部分を有する全ての両親媒性化合物である。親水性基は、本質的にイオン性及び非イオン性の両方であり得る。分子構造及び界面に付着する傾向に起因して、このクラスの物質は、界面張力を低下させ、改善された湿潤特性をもたらす。適切な界面活性剤は、特に、パラフィンスルホネート、アルコールスルホネート、エーテルスルホネート、スルホサクシネート、ホスフェートエステル、アルキルエーテルカルボン酸又はカルボキシレートなどの陰イオン性界面活性剤、第四級アルキルアンモニウム塩などの陽イオン性界面活性剤、直鎖アルコールエトキシレート、オキソアルコールエトキシレート、アルキルフェノールエトキシレート又はアルキルポリグルコシドなどの非イオン性界面活性剤である。
【0099】
本発明による組成物の製造方法
本発明による組成物の形成のための第１の工程において、チオフェンモノマーは、有機化合物ｉｉ）及び有機溶媒ｉｖ）の存在下で酸化的に重合される。酸化剤として、ピロールの酸化重合に適した酸化剤を使用することができる。好ましい酸化剤は、ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシド、ジイソブチリルペルオキシド、ジ－ｎ－プロピルペルオキシジカーボネート、ジデカノイルペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシベンゾエートなどの有機ペルオキシドであり、ジ－ｔｅｒｔ－アミルペルオキシドも酸化剤として使用することができる。有機アゾ化合物、例えば２，２’－アゾジイソブチロニトリルも使用することができる。特に好ましい酸化剤は、有機過酸化物などの有機金属非含有酸化剤であり、過酸化ジベンゾイルが最も好ましい。
本発明による組成物の形成のための第１の工程において、チオフェンモノマーは、有機化合物ｉｉ）及び有機溶媒ｉｖ）の存在下で酸化的に重合される。酸化剤として、ピロールの酸化重合に適した酸化剤を使用することができる。好ましい酸化剤は、ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシド、ジイソブチリルペルオキシド、ジ－ｎ－プロピルペルオキシジカーボネート、ジデカノイルペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシベンゾエートなどの有機ペルオキシドであり、ジ－ｔｅｒｔ－アミルペルオキシドも酸化剤として使用することができる。有機アゾ化合物、例えば２，２’－アゾジイソブチロニトリルも使用することができる。特に好ましい酸化剤は、有機過酸化物などの有機金属非含有酸化剤であり、過酸化ジベンゾイルが最も好ましい。
【0100】
チオフェンモノマーは、有機化合物ｉｉ）の存在下で、酸化剤の還元生成物への還元及びチオフェンモノマーの酸化によって酸化的に重合されて、ポリチオフェンｉ）及び還元生成物を形成し、重合は、好ましくは０℃～１００℃の範囲の温度で行われる。これに関連して、反応温度は、２５℃から反応混合物中に含まれる溶媒の最低沸点未満の温度までの範囲であることが特に好ましい。
【0101】
反応混合物中に存在するアニオンｉｉ）は、ポリチオフェンｉ）の正電荷を補償するための対イオンとして働く。アニオンｉｉ）及びポリチオフェンｉ）は、好ましくはポリチオフェン／アニオン錯体の形態で存在する。これに関連して、ポリチオフェンｉ）ポリチオフェンｉ及びアニオンｉｉ）を含む組成物が得られることも好ましく、組成物は、この錯体が分散されている有機溶媒ｉｖ）を含む分散液の形態で存在することが特に好ましい。
【0102】
後続のプロセス工程において、更なる成分、特にラジカル連鎖反応において重合可能な少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）及び他の添加剤、例えばラジカル開始剤などを、このようにして得られた分散液に添加することができる。
【0103】
本発明、図面、試験方法及び非限定的な実施例を参照することによって、本発明をより詳細に説明する。
【0104】
試験方法
固形分
固形分含量は、精密スケール（Ｍｅｔｔｌｅｒ ＡＥ２４０）を使用して重量測定によって判定した。まず、蓋を含む空の秤量ボトルを秤量する（重量Ａ）。次いで、分析すべき分散液約３ｇをボトルに迅速に充填し、蓋で閉じ、再度秤量して、正確な総重量Ｂを判定する。次いで、ボトルを、室温で揮発性溶媒を蒸発させるために、約３時間、照明のない換気フード内に置く。第２の工程では、ボトルを換気付き乾燥オーブン（Ｍｅｍｍｅｒｔ ＵＮＢ２００）内に１６０℃で１６～１７時間置く。試料ボトルをオーブンから取り出すとき、乾燥分散材料の吸湿性のため、ガラス蓋による即時の被覆が重要である。１０～１５分の冷却期間後、蓋を含めてボトルを再び秤量して、重量Ｃを判定する。
固形分の計算：固形分重量％＝１００×（Ｃ×Ａ／（Ｂ－Ａ）
固形分
固形分含量は、精密スケール（Ｍｅｔｔｌｅｒ ＡＥ２４０）を使用して重量測定によって判定した。まず、蓋を含む空の秤量ボトルを秤量する（重量Ａ）。次いで、分析すべき分散液約３ｇをボトルに迅速に充填し、蓋で閉じ、再度秤量して、正確な総重量Ｂを判定する。次いで、ボトルを、室温で揮発性溶媒を蒸発させるために、約３時間、照明のない換気フード内に置く。第２の工程では、ボトルを換気付き乾燥オーブン（Ｍｅｍｍｅｒｔ ＵＮＢ２００）内に１６０℃で１６～１７時間置く。試料ボトルをオーブンから取り出すとき、乾燥分散材料の吸湿性のため、ガラス蓋による即時の被覆が重要である。１０～１５分の冷却期間後、蓋を含めてボトルを再び秤量して、重量Ｃを判定する。
固形分の計算：固形分重量％＝１００×（Ｃ×Ａ／（Ｂ－Ａ）
【0105】
結果は２回の測定値の平均である。
【0106】
固形分／固形分［％］の判定
固形分／固形分［％］は、所与の固形分含量及び分散液の塗布量を使用することによって、導電性分散液の塗布固形分（基本単位としてグラム）を計算することによって判定される。次いで、この値を、再び基本単位としてグラムを用いて、コーティング混合物中に存在する固形分の総量で割る。
固形分／固形分［％］は、所与の固形分含量及び分散液の塗布量を使用することによって、導電性分散液の塗布固形分（基本単位としてグラム）を計算することによって判定される。次いで、この値を、再び基本単位としてグラムを用いて、コーティング混合物中に存在する固形分の総量で割る。
【0107】
ＰＥＴ基材上の膜の調製
分散液を、６μｍ又は１２μｍのいずれかのギャップ間隔を有する手動ワイヤーバー（ＲＫ ＰｒｉｎｔＣｏａｔ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｌｔｄ．製の密着巻きＫバー）を使用して室温でポリエチレンテレフタレート基材（Ｍｅｌｉｎｅｘ ５０６、厚さ１７５μｍ）に塗布した。これに関連して、手動ドクターブレードのギャップ分離は、形成される湿潤膜の厚さを判定し、これは湿潤膜厚とも呼ばれる。次いで、このようにして形成されたコーティング又は膜を、乾燥オーブン中で所与の時間及び温度で乾燥させた。更なる処理の前に、コーティングされたＰＥＴ基材を室温まで冷却した。
分散液を、６μｍ又は１２μｍのいずれかのギャップ間隔を有する手動ワイヤーバー（ＲＫ ＰｒｉｎｔＣｏａｔ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｌｔｄ．製の密着巻きＫバー）を使用して室温でポリエチレンテレフタレート基材（Ｍｅｌｉｎｅｘ ５０６、厚さ１７５μｍ）に塗布した。これに関連して、手動ドクターブレードのギャップ分離は、形成される湿潤膜の厚さを判定し、これは湿潤膜厚とも呼ばれる。次いで、このようにして形成されたコーティング又は膜を、乾燥オーブン中で所与の時間及び温度で乾燥させた。更なる処理の前に、コーティングされたＰＥＴ基材を室温まで冷却した。
【0108】
実験において他のパラメータが記載されていない場合、湿潤膜厚は１２μｍとなるように選択し、乾燥プロセスは１３０℃で１５分間行った。
【0109】
表面抵抗率の判定
表面抵抗率は、Ｓｔａｔｉｃｉｄｅ ＡＣＬ ８００ Ｄｉｇｉｔａｌ Ｍｅｇｏｈｍｍｅｔｅｒを用いて１００Ｖ設定で測定した。シート上の異なる位置で２回測定し、最も低い値を結果とした。
表面抵抗率は、Ｓｔａｔｉｃｉｄｅ ＡＣＬ ８００ Ｄｉｇｉｔａｌ Ｍｅｇｏｈｍｍｅｔｅｒを用いて１００Ｖ設定で測定した。シート上の異なる位置で２回測定し、最も低い値を結果とした。
【0110】
ＲＦ値によって判定される溶媒相溶性
１ｇの導電性分散液を３０ｍＬのねじ蓋付きボトルに入れる。穏やかに振盪しながら、９ｇの溶媒（例えばＰＧＭＥ）を、振盪を続けながら２分間かけてゆっくり添加する。溶媒の添加が完了した後、穏やかな振盪を更に３分間続けて、溶媒中の分散液の均一な分布を確実にする。その後、混合物の試料を直ちに２ｍＬプラスチックピペット（ＶＷＲ、ＲＥＦ ６１２－２８４９）に引き入れる。ここで、プラスチックピペット中の混合物の１滴を、５×５ｃｍ片の濾紙（Ｓｃｈｌｅｉｃｈｅｒ ＆ Ｓｃｈｕｅｌｌ，５９５ Ｒｕｎｄｆｉｌｔｅｒ，ＲＥＦ．－Ｎｏ．：３１１６２１）に塗布する。得られた円を詳細に観察して、濾紙中の液滴の拡散の終点を判定する。拡散が完全に停止したら、形成される円の境界に鉛筆で印をつけて、溶媒の蒸発による変化を防ぐ。形成されたパターンは、２つの円、すなわち、混合物中の固形分からの１つの内側円及び溶媒からの１つの外側円をもたらす。両方の円の直径は、定規を使用して判定され、それによって、両方の円の共通中心点を通る直径を確実に判定する。図１は、直径の判定を視覚化しており、Ａは外側円の直径であり、Ｂは内側円の直径である。
１ｇの導電性分散液を３０ｍＬのねじ蓋付きボトルに入れる。穏やかに振盪しながら、９ｇの溶媒（例えばＰＧＭＥ）を、振盪を続けながら２分間かけてゆっくり添加する。溶媒の添加が完了した後、穏やかな振盪を更に３分間続けて、溶媒中の分散液の均一な分布を確実にする。その後、混合物の試料を直ちに２ｍＬプラスチックピペット（ＶＷＲ、ＲＥＦ ６１２－２８４９）に引き入れる。ここで、プラスチックピペット中の混合物の１滴を、５×５ｃｍ片の濾紙（Ｓｃｈｌｅｉｃｈｅｒ ＆ Ｓｃｈｕｅｌｌ，５９５ Ｒｕｎｄｆｉｌｔｅｒ，ＲＥＦ．－Ｎｏ．：３１１６２１）に塗布する。得られた円を詳細に観察して、濾紙中の液滴の拡散の終点を判定する。拡散が完全に停止したら、形成される円の境界に鉛筆で印をつけて、溶媒の蒸発による変化を防ぐ。形成されたパターンは、２つの円、すなわち、混合物中の固形分からの１つの内側円及び溶媒からの１つの外側円をもたらす。両方の円の直径は、定規を使用して判定され、それによって、両方の円の共通中心点を通る直径を確実に判定する。図１は、直径の判定を視覚化しており、Ａは外側円の直径であり、Ｂは内側円の直径である。
【0111】
ＲＦ１値は以下の式に従って判定する。
【0112】
【数1】
【0113】
第２のＲＦ値ＲＦ２は、同じパターンを用いて同じ方法で判定されるが、第１の測定に直交し、直径の決定が両方の円の共通の中心点を通って行われることを再び確実にする。
【0114】
ここで、ＲＦ値は、ＲＦ１及びＲＦ２を平均することによって計算する。
【0115】
【数2】
【0116】
透過の判定
全透過率は、Ｈａｚｅ－Ｇｕａｒｄ Ｐｌｕｓ，Ｉｌｌｕｍ．Ｃ（Ｂｙｋ－Ｇａｒｄｎｅｒ ＧｍｂＨ）を用いて測定した。コーティングされたＰＥＴ基材は、コーティングが球体に面した状態で、バネホルダによって光度計球体の入口ポートに押し付けられる。測定領域は直径１８ｍｍである。読み出しは、コーティングされたＰＥＴ基材の透過率を表示する。コーティングされていないＰＥＴ基材（Ｍｅｌｉｎｅｘ ５０６、厚さ１７５μｍ）の透過率は９０．５％である。
全透過率は、Ｈａｚｅ－Ｇｕａｒｄ Ｐｌｕｓ，Ｉｌｌｕｍ．Ｃ（Ｂｙｋ－Ｇａｒｄｎｅｒ ＧｍｂＨ）を用いて測定した。コーティングされたＰＥＴ基材は、コーティングが球体に面した状態で、バネホルダによって光度計球体の入口ポートに押し付けられる。測定領域は直径１８ｍｍである。読み出しは、コーティングされたＰＥＴ基材の透過率を表示する。コーティングされていないＰＥＴ基材（Ｍｅｌｉｎｅｘ ５０６、厚さ１７５μｍ）の透過率は９０．５％である。
【図面の簡単な説明】
【0117】
【実施例】
【0118】
実施例１
（３－（２－エチルヘキソキシメチル）－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］［１，４］ジオキシンの合成のための参考例）
（３－（２－エチルヘキソキシメチル）－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］［１，４］ジオキシンの合成のための参考例）
【0119】
【化15】
【0120】
合成は、乾燥した不活性条件下で行われる。
【0121】
ＴＨＦ（６０ｍＬ）及び１８－クラウン－６（０．２００ｇ、０．８ｍｍｏｌ）を反応容器に加える。油中６０％懸濁液としてのＮａＨ（１．５１２ｇ、３７．８ｍｍｏｌ）を撹拌下で添加し、混合物を室温で撹拌する。０℃で、２０ｍＬのＴＨＦ中のＥＤＯＴ－ＭｅＯＨ（５．００ｇ、２９．０ｍｍｏｌ）溶液をＮａＨ溶液に添加する。溶液の添加後、反応混合物を室温で２．５時間、続いて５５℃で０．５時間撹拌する。反応混合物を０℃に冷却し、２０ｍＬのＴＨＦ中の臭化２－エチルヘキシル（７．３００ｇ、３７．８ｍｍｏｌ）溶液を添加する。反応混合物を室温で１時間、５０℃で４０時間撹拌する。反応混合物を室温に冷却し、イソプロパノール／水７０：３０（ｖ／ｖ）の混合物でクエンチする。粗生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製した。
【0122】
反応生成物（３－（２－エチルヘキソキシメチル）－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］［１，４］－ジオキシン）が黄色の油状物として収率１５％で得られる。
【0123】
実施例２
機械撹拌機を備えた２５０ｍＬの３つ口丸底フラスコに、６５ｇのアニソール（Ａｌｄｒｉｃｈ）、２．６９９ｇのジベンゾイルペルオキシド（１１．１ｍｍｏｌ、Ａｌｄｒｉｃｈ）、及び２．９８１ｇの４－ドデシルベンゼンスルホン酸（９．３ｍｍｏｌ、Ａｌｄｒｉｃｈ）を充填した。６０℃に加熱した後、１．１８５ｇの３－ブチル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］［１，４］ジオキシン（６ｍｍｏ、ＢｕｔｙｌＥＤＯＴ、ＣＡＳ ５５２８５７－０６－４、Ｓｙｎｍａｘ Ｂｉｏｃｈｅｍｉｃａｌ、台湾）及び２０ｇのアニソールに溶解した実施例１の反応から得られた１．１３４ｇの生成物（４ｍｍｏｌ）を４０分かけて添加した。分散液を６０℃で更に３時間撹拌し、次いで室温に冷却した。
機械撹拌機を備えた２５０ｍＬの３つ口丸底フラスコに、６５ｇのアニソール（Ａｌｄｒｉｃｈ）、２．６９９ｇのジベンゾイルペルオキシド（１１．１ｍｍｏｌ、Ａｌｄｒｉｃｈ）、及び２．９８１ｇの４－ドデシルベンゼンスルホン酸（９．３ｍｍｏｌ、Ａｌｄｒｉｃｈ）を充填した。６０℃に加熱した後、１．１８５ｇの３－ブチル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］［１，４］ジオキシン（６ｍｍｏ、ＢｕｔｙｌＥＤＯＴ、ＣＡＳ ５５２８５７－０６－４、Ｓｙｎｍａｘ Ｂｉｏｃｈｅｍｉｃａｌ、台湾）及び２０ｇのアニソールに溶解した実施例１の反応から得られた１．１３４ｇの生成物（４ｍｍｏｌ）を４０分かけて添加した。分散液を６０℃で更に３時間撹拌し、次いで室温に冷却した。
【0124】
５０ｇの分散液、３０ｇのアニソール、及び２０ｇのｎ－ブタノールを１００ｍＬフラスコに加え、得られた分散液を穏やかに撹拌することによって混合した。
【0125】
これを分散液２と呼ぶ。
【0126】
分散液２の分析：
固形分含量： ２．３％（重量）
シート抵抗（ＰＥＴ上で１２μｍ）： １７００００Ω／ｓｑ
ＲＦ（ＰＧＭＥ）： １
ＲＦ（ＭＴＢＥ）： ０．４
固形分含量： ２．３％（重量）
シート抵抗（ＰＥＴ上で１２μｍ）： １７００００Ω／ｓｑ
ＲＦ（ＰＧＭＥ）： １
ＲＦ（ＭＴＢＥ）： ０．４
【0127】
分散液２のイオン含有量を、誘導結合プラズマ発光分光法によって測定した。
【0128】
【表1】
【0129】
実施例３
機械撹拌機を備えた２５０ｍＬの３つ口丸底フラスコに、６５ｇのアニソール（Ａｌｄｒｉｃｈ）、２．６９９ｇのジベンゾイルペルオキシド（１１．１ｍｍｏｌ、Ａｌｄｒｉｃｈ）、及び２．９８１ｇの４－ドデシルベンゼンスルホン酸（９．３ｍｍｏｌ、Ａｌｄｒｉｃｈ）を充填した。６０℃に加熱した後、２０ｇのアニソールに溶解した１．４２２ｇのＥＤＯＴ（１０ｍｍｏｌ、ＣＡＳ １２６２１３－５０－１、Ｈｅｒａｅｕｓ）を４０分かけて添加した。分散液を６０℃で更に３時間撹拌し、次いで室温に冷却した。
機械撹拌機を備えた２５０ｍＬの３つ口丸底フラスコに、６５ｇのアニソール（Ａｌｄｒｉｃｈ）、２．６９９ｇのジベンゾイルペルオキシド（１１．１ｍｍｏｌ、Ａｌｄｒｉｃｈ）、及び２．９８１ｇの４－ドデシルベンゼンスルホン酸（９．３ｍｍｏｌ、Ａｌｄｒｉｃｈ）を充填した。６０℃に加熱した後、２０ｇのアニソールに溶解した１．４２２ｇのＥＤＯＴ（１０ｍｍｏｌ、ＣＡＳ １２６２１３－５０－１、Ｈｅｒａｅｕｓ）を４０分かけて添加した。分散液を６０℃で更に３時間撹拌し、次いで室温に冷却した。
【0130】
５０ｇの分散液、３０ｇのアニソール、及び２０ｇのｎ－ブタノールを１００ｍＬフラスコに添加し、得られた分散液を穏やかに撹拌することによって混合した。
【0131】
これを分散液３と呼ぶ。
【0132】
分散液３の分析
固形分含量： １．８％（重量）
シート抵抗（ＰＥＴ上で１２μｍ）： ５８００Ω／ｓｑ
ＲＦ（ＰＧＭＥ）： ０．４
固形分含量： １．８％（重量）
シート抵抗（ＰＥＴ上で１２μｍ）： ５８００Ω／ｓｑ
ＲＦ（ＰＧＭＥ）： ０．４
【0133】
実施例４
機械撹拌機を備えた２５０ｍＬの３つ口丸底フラスコに、６５ｇのアニソール（Ａｌｄｒｉｃｈ）、２．６９９ｇのジベンゾイルペルオキシド（１１．１ｍｍｏｌ、Ａｌｄｒｉｃｈ）、及び１．７３２ｇのエチルベンゼンスルホン酸（９．３ｍｍｏｌ、Ａｌｄｒｉｃｈ）を充填した。６０℃に加熱した後、１．１８５ｇの３－ブチル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］［１，４］ジオキシン（６ｍｍｏｌ、ＢｕｔｙｌＥＤＯＴ、ＣＡＳ ５５２８５７－０６－４、Ｓｙｎｍａｘ Ｂｉｏｃｈｅｍｉｃａｌ、台湾）及び２０ｇのアニソールに溶解した実施例１の反応から得られた１．１３４ｇの生成物（４ｍｍｏｌ）を４０分かけて添加した。分散液を６０℃で更に３時間撹拌し、次いで室温に冷却した。
機械撹拌機を備えた２５０ｍＬの３つ口丸底フラスコに、６５ｇのアニソール（Ａｌｄｒｉｃｈ）、２．６９９ｇのジベンゾイルペルオキシド（１１．１ｍｍｏｌ、Ａｌｄｒｉｃｈ）、及び１．７３２ｇのエチルベンゼンスルホン酸（９．３ｍｍｏｌ、Ａｌｄｒｉｃｈ）を充填した。６０℃に加熱した後、１．１８５ｇの３－ブチル－２，３－ジヒドロチエノ［３，４－ｂ］［１，４］ジオキシン（６ｍｍｏｌ、ＢｕｔｙｌＥＤＯＴ、ＣＡＳ ５５２８５７－０６－４、Ｓｙｎｍａｘ Ｂｉｏｃｈｅｍｉｃａｌ、台湾）及び２０ｇのアニソールに溶解した実施例１の反応から得られた１．１３４ｇの生成物（４ｍｍｏｌ）を４０分かけて添加した。分散液を６０℃で更に３時間撹拌し、次いで室温に冷却した。
【0134】
５０ｇの分散液、３０ｇのアニソール、及び２０ｇのｎ－ブタノールを１００ｍＬフラスコに加え、得られた分散液を穏やかに撹拌することによって混合した。
【0135】
これを分散液４と呼ぶ。
【0136】
分散液４の分析
固形分含量： １．２％（重量）
シート抵抗（ＰＥＴ上で１２μｍ）： １７００００Ω／ｓｑ
ＲＦ（ＰＧＭＥ）： １
固形分含量： １．２％（重量）
シート抵抗（ＰＥＴ上で１２μｍ）： １７００００Ω／ｓｑ
ＲＦ（ＰＧＭＥ）： １
【0137】
実施例５
（国際公開第２０１２／０５９２１５号の教示に従う）。
機械撹拌機を備えた１Ｌの３つ口丸底フラスコに、２９４ｇのアニソール（Ａｌｄｒｉｃｈ）、９．４ｇのジベンゾイルペルオキシド（３９ｍｍｏｌ、Ａｌｄｒｉｃｈ）、８．２５ｇのスルホン化ブロックコポリマー（Ｋｒａｔｏｎ Ｎｅｘａｒ（登録商標）ＭＤ）、及び７．２ｇ及びパラ－トルエンスルホン酸７．２ｇ（３８ｍｍｏｌ、Ａｌｄｒｉｃｈ）を充填した。６０℃に加熱した後、４．９５ｇの３，４－エチレンジオキシチオフェン（３５ｍｍｏｌ、Ｃｌｅｖｉｏｓ Ｍ Ｖ２、Ｈｅｒａｅｕｓ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ ＫＧ、ドイツ）を２０ｇのアニソールに溶解したものを４０分かけて添加した。分散液を６０℃で更に３時間撹拌し、次いで室温に冷却した。
（国際公開第２０１２／０５９２１５号の教示に従う）。
機械撹拌機を備えた１Ｌの３つ口丸底フラスコに、２９４ｇのアニソール（Ａｌｄｒｉｃｈ）、９．４ｇのジベンゾイルペルオキシド（３９ｍｍｏｌ、Ａｌｄｒｉｃｈ）、８．２５ｇのスルホン化ブロックコポリマー（Ｋｒａｔｏｎ Ｎｅｘａｒ（登録商標）ＭＤ）、及び７．２ｇ及びパラ－トルエンスルホン酸７．２ｇ（３８ｍｍｏｌ、Ａｌｄｒｉｃｈ）を充填した。６０℃に加熱した後、４．９５ｇの３，４－エチレンジオキシチオフェン（３５ｍｍｏｌ、Ｃｌｅｖｉｏｓ Ｍ Ｖ２、Ｈｅｒａｅｕｓ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ ＫＧ、ドイツ）を２０ｇのアニソールに溶解したものを４０分かけて添加した。分散液を６０℃で更に３時間撹拌し、次いで室温に冷却した。
【0138】
２０ｇの濾過後に得られた分散液及び２０ｇの酢酸ブチルを５０ｍｌのガラスボトル中で混合し、２分間の超音波処理（Ｈｉｅｌｓｃｈｅｒ ＵＰ ２００ Ｓ、サイクル１、振幅１００％）に供した。この試料を分散液５と呼ぶ。
【0139】
分散液５の分析：
固形分含量： ２．５％（重量）
シート抵抗（ＰＥＴ上で１２μｍ）： １７，０００Ω／ｓｑ
ＲＦ（ＰＧＭＥ）： ０．４
固形分含量： ２．５％（重量）
シート抵抗（ＰＥＴ上で１２μｍ）： １７，０００Ω／ｓｑ
ＲＦ（ＰＧＭＥ）： ０．４
【0140】
実施例６
分散液２、分散液３、分散液４、分散液５、及びＣｌｅｖｉｏｓ ＰＨ１０００（水性ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ分散液、Ｈｅｒａｅｕｓ）を、Ｓａｒｔｏｍｅｒ製のＳＲ ３９９（ＣＡＳ ３８４８５５－９１－７）及び溶媒としてのＰＧＭＥ中の光開始剤としてのＳｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ製の１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとのそれらの相溶性に関して試験した。使用した化合物の量を表１に示す。
分散液２、分散液３、分散液４、分散液５、及びＣｌｅｖｉｏｓ ＰＨ１０００（水性ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ分散液、Ｈｅｒａｅｕｓ）を、Ｓａｒｔｏｍｅｒ製のＳＲ ３９９（ＣＡＳ ３８４８５５－９１－７）及び溶媒としてのＰＧＭＥ中の光開始剤としてのＳｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ製の１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとのそれらの相溶性に関して試験した。使用した化合物の量を表１に示す。
【0141】
導電性分散液から開始し、続いてＰＧＭＥ、ＳＲ３９９、最後に光開始剤を撹拌することによって、成分を完全に混合した。混合物を暗所で１５分間撹拌した。
【0142】
ワイヤーバーを使用して、６μｍの湿潤膜をＰＥＴ基材上に堆積させ、オーブン中７５℃で３分間乾燥させた。乾燥後、コーティングされたシートをＵＶチャンバ内で６００ｍＪ／ｃｍ２で曝露させた。ＰＥＴシートを含む表面抵抗率及び透過率を判定した。
【0143】
【表2】
【0144】
実施例６Ａ、６Ｂ及び６Ｃは、ポリアニオンを使用する分散液が許容可能なシート抵抗を達成しないことを実証する。
【0145】
実施例６Ｄ、６Ｅ、６Ｆ、及び６Ｇは、水性分散液が、低い部分で十分なシート抵抗を達成しないことを実証する。高い部分では、著しい沈殿が観察される（実施例６Ｅ、６Ｆ、及び６Ｇ）。
【0146】
実施例６Ｈ、６Ｉ、及び６Ｊは、ＥＤＯＴ及び一価スルホン酸を使用する分散液が、初期分散液の優れたシート抵抗を処理するが、硬化膜において許容可能なシート抵抗を生じないことを実証する。
【0147】
実施例６Ｋ、６Ｌ、６Ｍ、６Ｎ、及び６Ｏは、分岐ＥＤＯＴを含有する分散液の優れた性能を実証する。
【0148】
実施例７
この実施例は、帯電防止溶剤ベースのハードコーティング配合物における水の悪影響を示す。
この実施例は、帯電防止溶剤ベースのハードコーティング配合物における水の悪影響を示す。
【0149】
コーティングプレミックスＡを、分散体２（１，３７０ｇ）、ＰＧＭＥ（１．０１１ｇ）、ＳＲ３９９（１ｇ、Ｓａｒｔｏｍｅｒ）、及び１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（０．０５ｇ、Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ）を組み合わせることによって調製した。これらの成分を撹拌によって十分に混合した。その後、プレミックスＡを表２に示す量で脱イオン水と混合した。混合物を１時間撹拌した。その後、コーティングをＭｅｌｉｎｅｘ ５０６ ＰＥＴ基材に６μｍの湿潤膜として塗布し、７５℃で３分間乾燥させ、６００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ照射に曝露させた。表面抵抗率を判定した。
【0150】
【表3】
【0151】
実施例７Ｄに示されるように、２％以上の含水量は、ハードコーティングの帯電防止機能の喪失を引き起こす。
【0152】
実施例８
コーティングは、表３に示す成分を混合することによって調製した。１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ）を光開始剤として使用した。ＤＰＨＡはＳｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈから購入した（ジペンタエリスリット－ペンタ－／ヘキサアクリレート、ＣＡＳ ６０５０６－８１－２）。これらの成分を撹拌によって十分に混合した。混合物を１５分間撹拌した。その後、コーティングをＭｅｌｉｎｅｘ ５０６ ＰＥＴ基材に１２μｍの湿潤膜として塗布し、７５℃で３分間乾燥させ、６００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ照射に曝露させた。表面抵抗率及び透過率を判定した。
コーティングは、表３に示す成分を混合することによって調製した。１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ）を光開始剤として使用した。ＤＰＨＡはＳｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈから購入した（ジペンタエリスリット－ペンタ－／ヘキサアクリレート、ＣＡＳ ６０５０６－８１－２）。これらの成分を撹拌によって十分に混合した。混合物を１５分間撹拌した。その後、コーティングをＭｅｌｉｎｅｘ ５０６ ＰＥＴ基材に１２μｍの湿潤膜として塗布し、７５℃で３分間乾燥させ、６００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ照射に曝露させた。表面抵抗率及び透過率を判定した。
【0153】
【表4】
【0154】
実施例９
実施例は、本発明による硬化組成物と非硬化組成物との間の鉛筆硬度の差を実証する。更なる実施例は、本発明による組成物からの硬化コーティングと、既に重合されたアクリレートを含有する組成物からのコーティングとの間の差異を実証する。
実施例は、本発明による硬化組成物と非硬化組成物との間の鉛筆硬度の差を実証する。更なる実施例は、本発明による組成物からの硬化コーティングと、既に重合されたアクリレートを含有する組成物からのコーティングとの間の差異を実証する。
【0155】
コーティングは、表４に示す成分を混合することによって調製した。１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ）を光開始剤として使用した。ＳＲ３９９はＳａｒｔｏｍｅｒから購入した。これらの成分を撹拌によって十分に混合した。混合物を１５分間撹拌した。その後、コーティングを１２μｍの湿潤膜としてガラス基材に塗布し、７５℃で３分間乾燥させた。
【0156】
実施例９Ａを、６００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ照射に更に曝露させた。
【0157】
得られたコーティングの鉛筆硬度を、Ｗｏｌｆ－Ｗｉｌｂｕｒｎ鉛筆硬度試験に従って判定した。試験では、硬度Ｈの鉛筆を、ＢＹＫ ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ製の５８００耐引掻性キットに取り付けた。次いで、機器をコーティングされたガラス基材上に押し付けた。その後、コーティングを綿密に検査した。コーティングへの損傷が観察されなかった場合、硬度ポイントが１Ｈ高い鉛筆を５８００耐引掻性キットに取り付け、別の位置で測定を繰り返した。表４に示した鉛筆硬度は、コーティングの目に見える損傷を引き起こす最初の鉛筆硬度である。
【0158】
【表5】
【0159】
実施例１０
実施例は、様々な有機溶媒をベースとする硬化組成物における分散液２及び分散液４の性能を実証する。更に、ＰＧＭＥ中で判定されたＲＦ値は、概して、使用される溶媒とは無関係に、本発明による組成物中の導電性分散液の性能を予測することを実証する。
ＰＧＭＥ中の分散液２のＲＦ値：１
ＰＧＭＥ中の分散液３のＲＦ値：０．４
実施例は、様々な有機溶媒をベースとする硬化組成物における分散液２及び分散液４の性能を実証する。更に、ＰＧＭＥ中で判定されたＲＦ値は、概して、使用される溶媒とは無関係に、本発明による組成物中の導電性分散液の性能を予測することを実証する。
ＰＧＭＥ中の分散液２のＲＦ値：１
ＰＧＭＥ中の分散液３のＲＦ値：０．４
【0160】
表５に示す成分を、０．０５ｇの１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ、光開始剤）及び０．９５ｇのＤＰＨＡ（Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ、ジペンタエリスリトール－ペンタ－／ヘキサアクリレート、ＣＡＳ ６０５０６－８１－２）と混合することによって、コーティングを調製した。これらの成分を撹拌によって十分に混合した。混合物を１５分間撹拌した。その後、コーティングをＭｅｌｉｎｅｘ ５０６ ＰＥＴ基材に１２μｍの湿潤膜として塗布し、７５℃で３分間乾燥させ、６００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ照射に曝露させた。表面抵抗率を判定した。
【0161】
【表6】
【0162】
実施例１１
分散体２及び分散体３からコーティングされたフィルム上の水の接触角を判定した。Ｍｅｌｉｎｅｘ ５０６ ＰＥＴシート上に分散液の１２μｍ湿潤膜を塗布し、得られたコーティングされたシートを１３０℃で１５分間乾燥させることによって、分散液のそれぞれから１つのコーティングされたＰＥＴシートを製造した。
分散体２及び分散体３からコーティングされたフィルム上の水の接触角を判定した。Ｍｅｌｉｎｅｘ ５０６ ＰＥＴシート上に分散液の１２μｍ湿潤膜を塗布し、得られたコーティングされたシートを１３０℃で１５分間乾燥させることによって、分散液のそれぞれから１つのコーティングされたＰＥＴシートを製造した。
【0163】
ここで、水滴の接触角を、Ｋｒｕｓｓ ＦＭ４０ Ｅａｓｙ Ｄｒｏｐ装置を用いて判定した。接触角を判定するために、脱イオン水を満たしたシリンジを装置に取り付けた。ここで、２μＬの液滴をコーティングされたＰＥＴシート上に置いた。接触角は、「タンジェント－２」フィッティング法を使用して液滴の塗布の２秒後に判定した。測定は、ＰＥＴフィルムの３つの位置上で３つの水滴を用いて繰り返した。報告された値は、行われた測定を平均することによって得た。得られた結果を図６に示す。
【0164】
【表7】
【0165】
【表8】
【図1】
【図2】
【手続補正書】
【提出日】2023-12-14
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
組成物であって、ｉ）構造（Ｉ）のモノマー単位を含む少なくとも１種のポリチオフェン
【化1】
＊は、隣接するモノマー単位への結合を示し、
Ｘ、Ｚは、Ｏ又はＳを表し、
Ｒ１～Ｒ４は、互いに独立して、水素原子又は有機残基Ｒを表し、但し、残基Ｒ１～Ｒ４のうちの少なくとも１つは、有機残基Ｒを表す］、
ｉｉ）少なくとも１つの酸基、好ましくは１つ若しくは２つのスルホン酸基、１つ若しくは２つの硫酸基、１つ若しくは２つのホスホン酸基、又は１つ若しくは２つのリン酸基を有する少なくとも１つの有機化合物、又は前記有機化合物の塩であって、前記有機化合物又はその塩の分子量が１，０００ｇ／ｍｏｌ未満である、有機化合物又はその塩、
ｉｉｉ）少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物、好ましくはラジカル連鎖反応において重合可能な少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物、
ｉｖ）少なくとも１種の有機溶媒、
ｖ）少なくとも１種のラジカル開始剤、を含む、組成物。
【請求項2】
組成物であって、ｉ）少なくとも１種のポリチオフェンであって、少なくとも０．８のＲＦ値によって示される、ＰＧＭＥ（１－メトキシプロパン－２－オール）中でのその相溶性によって特徴付けられる、少なくとも１種のポリチオフェン、
ｉｉｉ）少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物、好ましくはラジカル連鎖反応において重合可能な少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物、
ｉｖ）少なくとも１種の有機溶媒、
ｖ）少なくとも１種のラジカル開始剤、を含む、組成物。
【請求項3】
前記ポリチオフェンｉ）は、Ｘ及びＺがＯを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４からなる群から選択される残基のうちの３つが水素原子を表し、残りの残基が構造式（Ｉａ）を有するエーテル基を表す、構造（Ｉ）のモノマー単位を含むホモポリマー又はコポリマーである【化2】
Ｒ７は、Ｈ、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル基又はＣ１～Ｃ１０－アルコキシ基、好ましくはＨであり、
Ｒ８は、Ｈ、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル基又はＣ１～Ｃ１０－アルコキシ基、好ましくはＨであり、
ｎは、０～１０の整数であり、
Ｒ９はアルキル基、アルコキシ基、アリール基、エーテル基、又はエステル基であり、好ましくはＣ１～Ｃ３０アルキル基である］、請求項１に記載の組成物。
【請求項4】
前記ポリチオフェンｉは、Ｘ及びＺがＯを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４からなる群から選択される残基のうちの３つが水素原子を表し、残りの残基が分岐アルキル基又は分岐エーテル基を表す、構造（Ｉ）のモノマー単位を含むホモポリマー又はコポリマーである、請求項１に記載の組成物。
【請求項5】
残りの残基が、構造式（Ｉｂ）を有する分岐エーテル基を表す【化3】
Ｒ１０は、Ｈ、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル基又はＣ１～Ｃ１０－アルコキシ基であり、
Ｒ１１は、Ｈ、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル基又はＣ１～Ｃ１０－アルコキシ基であり、
ｎは、０～１０の整数であり、
Ｒ１２は、分岐有機残基、好ましくは分岐アルキル基又は分岐アリールアルキル基、より好ましくはアルキル鎖中に不飽和Ｃ＝Ｃ－結合を有していない分岐アルキル基又は分岐アリールアルキル基である］、請求項４に記載の組成物。
【請求項6】
１つの酸基を有する前記少なくとも１種の有機化合物ｉｉ）は、一価スルホン酸又はその塩である、請求項１に記載の組成物。
【請求項7】
前記少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）は、１つ以上の（アルカ）アクリル酸基、好ましくは１つ以上の（メタ）アクリル酸基を有する化合物、１つ以上のアリル基を有する化合物、１つ以上のビニル基を有する化合物、又はこれらのエチレン性不飽和基のうちの少なくとも２つの組み合わせを有する化合物である、請求項１に記載の組成物。
【請求項8】
前記少なくとも１種の有機溶媒ｉｖ）は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、アニソール、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸オクチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸ブチル、１－メトキシ－２－プロピルアセテート、１－メトキシ－２－プロパノール、ブタノール、２－プロパノール、エタノール及びそれらの混合物、又はこれらの非プロトン性溶媒の１種若しくは２種と１種若しくは２種の更なる溶媒との混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項9】
前記少なくとも１種のラジカル開始剤は、光照射時にラジカルを形成することができる光ラジカル開始剤である、請求項１に記載の組成物。
【請求項10】
前記組成物は、前記組成物の総重量に基づいて２重量％未満の含水量を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項11】
層構造（１００）の調製方法であって、Ａ）基材（１０１）を準備する工程、
Ｂ）請求項１に記載の組成物で前記基材（１０１）をコーティングする工程、
Ｃ）任意選択的に、有機溶媒ｉｖ）を少なくとも部分的に除去する工程、
Ｄ）前記少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）をラジカル連鎖反応で重合させることによって前記組成物を硬化させるために、前記コーティングされた基材（１０１）を電磁放射線、電子ビーム、熱、又はこれらのうちの少なくとも２つの組み合わせに曝露する工程、を含む、方法。
【請求項12】
層構造（１００）であって、ａ）基材（１０１）、
ｂ）前記基材（１０１）上にコーティングされた導電層（１０２）、を備え、前記導電層（１０２）は
構造（Ｉ）のモノマー単位を含む少なくとも１種のポリチオフェン
【化4】
＊は、隣接するモノマー単位への結合を示し、
Ｘ、Ｚは、Ｏ又はＳを表し、
Ｒ１～Ｒ４は、互いに独立して、水素原子又は有機残基Ｒを表し、但し、残基Ｒ１～Ｒ４のうちの少なくとも１つは、有機残基Ｒを表す］、
少なくとも１つの酸基、好ましくは１つ若しくは２つのスルホン酸基、１つ若しくは２つの硫酸基、１つ若しくは２つのホスホン酸基、又は１つ若しくは２つのリン酸基を有する少なくとも１つの有機化合物、又は前記有機化合物の塩であって、前記有機化合物又はその塩の分子量が１，０００ｇ／ｍｏｌ未満である、有機化合物又はその塩、
少なくとも１種のポリチオフェンが埋め込まれている重合エチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）をベースとするポリマーマトリックス、を含み、
前記導電性ポリマー層は、少なくとも１Ｈの鉛筆硬度を有する、層構造。
【請求項13】
層構造（１００）であって、ａ）基材（１０１）、
ｂ）前記基材（１０１）上にコーティングされた導電層（１０２）、を備え、前記導電層（１０２）は
少なくとも１種のポリチオフェンであって、少なくとも０．８のＲＦ値によって示される、ＰＧＭＥ（１－メトキシプロパン－２－オール）中でのその相溶性によって特徴付けられる、少なくとも１種のポリチオフェン、
前記少なくとも１種のポリチオフェンが埋め込まれている、重合エチレン性不飽和化合物ｉｉｉ）をベースとするポリマーマトリックス、を含み、
前記導電性ポリマー層は、少なくとも１Ｈの鉛筆硬度を有する、層構造。
【請求項14】
請求項１２又は１３に記載の層構造（１００）を備える電子部品。
【請求項15】
電子部品における導電性層を製造するための、又は帯電防止コーティングを製造するための、請求項１に記載の組成物の使用。【国際調査報告】