▶ ブラッコ・イメージング・ソシエタ・ペル・アチオニの特許一覧
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-07-19
(54)【発明の名称】ガドリニウム錯体溶液の製造方法
(51)【国際特許分類】
C07D 257/02 20060101AFI20240711BHJP
A61K 49/10 20060101ALI20240711BHJP
A61K 31/395 20060101ALI20240711BHJP
A61B 5/055 20060101ALI20240711BHJP
【ＦＩ】
C07D257/02
A61K49/10
A61K31/395
A61B5/055 383
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2023577690
(86)(22)【出願日】2022-07-26
(85)【翻訳文提出日】2023-12-15
(86)【国際出願番号】 EP2022070902
(87)【国際公開番号】W WO2023006722
(87)【国際公開日】2023-02-02
(31)【優先権主張番号】21187887.1
(32)【優先日】2021-07-27
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】504448162
【氏名又は名称】ブラッコ・イメージング・ソシエタ・ペル・アチオニ
【氏名又は名称原語表記】ＢＲＡＣＣＯ ＩＭＡＧＩＮＧ Ｓ．Ｐ．Ａ．
(74)【代理人】
【識別番号】100145403
【弁理士】
【氏名又は名称】山尾 憲人
(74)【代理人】
【識別番号】100156144
【弁理士】
【氏名又は名称】落合 康
(72)【発明者】
【氏名】バニン，アンドレア
(72)【発明者】
【氏名】バラーレ，アンドレア
(72)【発明者】
【氏名】ボイ，ヴァレリア
(72)【発明者】
【氏名】ガッツェット，ソニア
(72)【発明者】
【氏名】ブオンサンティ，フェデリカ
【テーマコード（参考）】
4C085
4C086
4C096
【Ｆターム（参考）】
4C085HH07
4C085JJ02
4C085KA09
4C085KB12
4C085KB56
4C086AA01
4C086AA02
4C086AA04
4C086BC58
4C086HA28
4C086MA01
4C086MA04
4C086NA05
4C086NA06
4C086NA07
4C086ZC78
4C096AA11
4C096FC14
(57)【要約】
本発明は、［μ－［１－［ビス［２－（ヒドロキシ－κＯ）－３－［４，７，１０－トリス［（カルボキシ－κＯ）メチル］－１，４，７，１０－テトラアザシクロドデカン－１－イル－κＮ１，κＮ４，κＮ７，κＮ１０］プロピル］アミノ］－１－デオキシ－Ｄ－グルシトレート（６－）］］ジガドリニウム錯体のような、二量体ガドリニウム錯体の溶液の製造方法に関し、画像診断および磁気共鳴画像法（ＭＲＩ）における造影剤の分野で有用であり、遊離ガドリニウム金属イオンを沈殿剤によって沈殿させる工程を含む。本発明はさらに、前記溶液から二量体ガドリニウム錯体を単離する方法、およびそのような方法によって得ることができる、溶液および単離された二量体ガドリニウム錯体に関する。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
式Ｉ【化1】
（式中、Ｒは、少なくとも２個のヒドロキシル基を含むＣ３～Ｃ１２ヒドロキシアルキルである）
で示されるガドリニウム錯体の溶液の製造方法であって、
ｉ）式Ｉａ
【化2】
（式中、Ｒは、上に定義された通りである）
で示される二量体リガンドの溶液を提供する工程、
ｉｉ）前工程の溶液にモル過剰のガドリニウム金属イオンを添加して、工程ｉ）で提供された二量体リガンドを錯体化し、それによって式Ｉのガドリニウム錯体を含む中間体溶液を得る工程、
ｉｉｉ）前工程の中間体溶液に、遊離ガドリニウム金属イオンをガドリニウム塩として沈殿させるために、リン酸イオン（ＰＯ４３－）、リン酸一水素イオン（ＨＰＯ４ ２－）、リン酸二水素イオン（Ｈ２ＰＯ４ －）、オルトリン酸（Ｈ３ＰＯ４）、シュウ酸イオン（Ｃ２Ｏ４ ２－）、シュウ酸水素イオン（ＨＣ２Ｏ４ －）、およびシュウ酸（Ｈ２Ｃ２Ｏ４）からなる群から少なくとも選択される沈殿剤を添加し、それによって、遊離ガドリニウム金属イオンをガドリニウム塩として沈殿させ、前記式Ｉのガドリニウム錯体の溶液を得る工程
を含み、
該沈殿剤が、中間体溶液中のガドリニウム金属イオンの１モルに対して、１．１～５モルの量で添加される、製造方法。
【請求項2】
式ＩおよびＩａのＲが、好ましくは式【化3】
で示されるペンチル－テトラオールおよび式
【化4】
で示されるヘキシル－ペンタオールから選択されるＣ５～Ｃ７ポリオールである、請求項１に記載の製造方法。
【請求項3】
ガドリニウム錯体が、以下の式【化5】
を有する錯体化合物１であり、
二量体リガンドが、以下の式：
【化6】
を有するリガンド化合物１ａである、請求項２に記載の製造方法。
【請求項4】
沈殿剤が、リン酸イオン（ＰＯ４
３－）、シュウ酸イオン（Ｃ２Ｏ４
２－）およびリン酸一水素イオン（ＨＰＯ４
２－）からなる群から選択される、請求項１～３のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項5】
沈殿剤が、該沈殿剤を含む沈殿塩を添加することによって中間体溶液に添加され、該沈殿塩が、好ましくは、リン酸ナトリウム（Ｎａ３ＰＯ４）、リン酸カリウム（Ｋ３ＰＯ４）、リン酸水素ナトリウム（Ｎａ２ＨＰＯ４）、リン酸水素カリウム（Ｋ２ＨＰＯ４）、リン酸二水素ナトリウム（ＮａＨ２ＰＯ４）、リン酸二水素カリウム（ＫＨ２ＰＯ４）、シュウ酸ナトリウム（Ｎａ２Ｃ２Ｏ４）、シュウ酸カリウム（Ｋ２Ｃ２Ｏ４）、シュウ酸水素ナトリウム（ＮａＨＣ２Ｏ４）、およびシュウ酸水素カリウム（ＫＨＣ２Ｏ４
－）からなる群から選択される、請求項１～４のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項6】
沈殿剤が、中間体溶液中のガドリニウム金属イオンの１モルに対して、１．２～３モルの量で添加される、請求項１～５のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項7】
沈殿剤が、中間体溶液中のガドリニウム金属イオンの１モルに対して、１．４～２．５モルの量で添加される、請求項６に記載の製造方法。
【請求項8】
沈殿剤が、中間体溶液中のガドリニウム金属イオンの１モルに対して、１．４～１．６モルの量で添加される、請求項７に記載の製造方法。
【請求項9】
工程ｉｉｉ）による沈殿剤の添加中および／または添加後に、ｐＨが、４．５以上の値に調整および／または維持される、請求項１～８のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項10】
工程ｉｉｉ）による沈殿剤の添加中および／または添加後に、ｐＨが、４．７以上の値に調整および／または維持される、請求項９に記載の製造方法。
【請求項11】
工程ｉｉｉ）による沈殿剤の添加中および／または添加後に、ｐＨが、４．９以上の値に調整および／または維持される、請求項１０に記載の製造方法。
【請求項12】
工程ｉｉｉ）による沈殿剤の添加中および／または添加後に、ｐＨが、５．５以上の値に調整および／または維持される、請求項１１に記載の製造方法。
【請求項13】
工程ｉｉｉ）による沈殿剤の添加中および／または添加後に、ｐＨが、１０．０以下の値に調整および／または維持される、請求項１～１２のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項14】
工程ｉｉｉ）による沈殿剤の添加中および／または添加後に、ｐＨが、９．０以下の値に調整および／または維持される、請求項１３に記載の製造方法。
【請求項15】
工程ｉｉｉ）による沈殿剤の添加中および／または添加後に、ｐＨが、８．５以下の値に調整および／または維持される、請求項１４に記載の製造方法。
【請求項16】
工程ｉｉｉ）による沈殿剤の添加中および／または添加後に、ｐＨが、７．５以下の値に調整および／または維持される、請求項１５に記載の製造方法。
【請求項17】
工程ｉｉｉ）による沈殿剤の添加中および／または添加後に、ｐＨが、６．５以下の値に調整および／または維持される、請求項１６に記載の製造方法。
【請求項18】
工程ｉ）で提供された二量体リガンドの溶液が、以下の工程：ａ）式Ｉｂ
【化7】
（式中、Ｒは、少なくとも２個のヒドロキシル基を含むＣ３～Ｃ１２ヒドロキシアルキルであり、
ｎおよびｍは１であり；
Ｒ１はＣ１～Ｃ６アルキルであり、好ましくはＣ４アルキルであり、より好ましくはｔ－ブチルである）
で示される保護された二量体リガンドの溶液、好ましくは水溶液を提供する工程；
ｂ）前工程の溶液に酸、好ましくは１価の負電荷を有する対イオンを含む無機酸を添加して、そのｐＨを低下させる工程；
ｃ）工程ｂ）中および／または工程ｂ）後に、反応混合物の温度を、４０℃より高く、好ましくは４０℃より高く６０℃まで、より好ましくは４５～５５℃の範囲内の温度に加熱および／または維持して、保護された二量体リガンドを脱保護し、それによって二量体リガンドを含む溶液を得る工程；および
ｄ）場合により、工程ｃ）で得られた二量体リガンドを含む溶液に塩基を添加して、二量体リガンドのカルボキシル基をプロトン化する工程
により得られる、
請求項１～１７のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項19】
工程ｉｉｉ）後の遊離ガドリニウム金属イオンの残留量をさらに低減するために、工程ｉｉｉ）後に少なくとも１回のさらなる精製工程をさらに含み、好ましくは、該さらなる精製工程が、ガドリニウム錯体の溶液を吸着性樹脂にロードすることを含み、それによって残留した遊離ガドリニウム金属イオンが溶液から除去される、請求項１～１８のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項20】
工程ｉｉｉ）を実行した後、少なくとも１回の任意でのさらなる精製工程を実行する前の、ガドリニウム錯体の溶液中の遊離ガドリニウム金属イオンの量が、ガドリニウム錯体の量に対して３５０ｐｐｍ未満、および／またはガドリニウム錯体の溶液中のモノ－ガドリニウム化錯体の量が、ガドリニウム錯体の量に対して５５０ｐｐｍより低い、請求項１～１９のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項21】
式Ｉ【化8】
（式中、Ｒは、少なくとも２個のヒドロキシル基を含むＣ３～Ｃ１２ヒドロキシアルキルである）
で示されるガドリニウム錯体の溶液であって、
遊離ガドリニウム金属イオンの含有量が、ガドリニウム錯体の量に対して３５０ｐｐｍ未満、好ましくは１５０ｐｐｍ未満、より好ましくは１００ｐｐｍ未満、さらにより好ましくは８０ｐｐｍ未満の量であり、モノ－ガドリニウム化錯体の含有量が、ガドリニウム錯体の量に対して５５０ｐｐｍ未満、好ましくは４００ｐｐｍ未満の量である、ガドリニウム錯体の溶液。
【請求項22】
請求項１～２０のいずれか一項に記載の製造方法により得ることができる、請求項２１に記載のガドリニウム錯体の溶液。
【請求項23】
式Ｉ【化9】
（式中、Ｒは、少なくとも２個のヒドロキシル基を含むＣ３～Ｃ１２ヒドロキシアルキルである）
で示される単離されたガドリニウム錯体の製造方法であって、
請求項１～２０のいずれか一項に記載のガドリニウム錯体の溶液の製造プロセスと、さらなる工程ｉｖ）：
ｉｖ）前記ガドリニウム錯体の溶液からガドリニウム錯体を単離する工程と
を含む、製造方法。
【請求項24】
請求項２３に記載の製造方法により得ることができる、式Ｉ【化10】
（式中、Ｒは、少なくとも２個のヒドロキシル基を含むＣ３～Ｃ１２ヒドロキシアルキルである）
で示される単離されたガドリニウム錯体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、高いロバスト性により特徴付けられ、大規模製造に好適な、［μ－［１－［ビス［２－（ヒドロキシ－κＯ）－３－［４，７，１０－トリス［（カルボキシ－κＯ）メチル］－１，４，７，１０－テトラアザシクロドデカ－１－イル－κＮ１，κＮ４，κＮ７，κＮ１０］プロピル］アミノ］－１－デオキシ－Ｄ－グルシトレート（６－）］］ジガドリニウム錯体などの二量体ガドリニウム錯体の溶液の製造方法に関する。本発明は、さらに、前記溶液から二量体ガドリニウム錯体を単離する方法に関する。二量体ガドリニウム錯体は、画像診断および磁気共鳴画像法（ＭＲＩ）における造影剤の分野で有用である。
【背景技術】
【0002】
磁気共鳴画像法（ＭＲＩ）は、増え続ける症状に対する臨床診断においてますます使用されている周知の画像診断技術である。
【0003】
ガドリニウム［Ｇｄ（ＩＩＩ）］錯体は、その長い緩和時間に起因して、ＭＲＩにおける造影剤として一般に使用されている。しかしながら、ガドリニウム金属イオン［Ｇｄ（Ｈ２Ｏ）８］３＋は、低投与量（１０～２０マイクロモル／ｋｇ）であっても、生体には極めて有毒である。
【0004】
したがって、潜在的に価値のあるＭＲＩ造影剤とされるためには、Ｇｄ（ＩＩＩ）錯体は、有毒な金属イオンの放出を防ぐために、高い熱力学的（場合によっては動態学的）安定性を示さなければならない。その上、Ｇｄ（ＩＩＩ）錯体を製造するプロセスは、錯体化の工程後に反応混合物中に存在する有毒な金属イオンを効果的かつ効率的に除去できると有利である。
【0005】
ＷＯ ２０１７／０９８０４４は、ＭＲＩにおける造影剤として有用な二量体常磁性錯体を開示している。これらの二量体錯体、詳細には二量体Ｇｄ（ＩＩＩ）錯体は、日々の診断実施で現在使用されている非特定的な造影剤と比較して、増加した緩和性を示す。したがって、そのような二量体Ｇｄ（ＩＩＩ）錯体は、現在使用されている造影剤によって必要とされる投与量より低い投与量で、インビボ（ｉｎ ｖｉｖｏ）画像診断に使用される可能性がある。
【0006】
ＷＯ ２０１７／０９８０４４は、そこに開示された二量体常磁性錯体の製造プロセスをさらに開示している。そのようなプロセスは、Ｇｄ（ＩＩＩ）の塩または酸化物などの好適なＧｄ（ＩＩＩ）誘導体の化学量論的添加を用いて、リガンドを水中で錯体化する工程を含む。錯体を含む溶液を、次に濾過し、減圧下で蒸発させる。次に、粗生成物は、Ａｍｂｅｒｃｈｒｏｍｅ ＣＧ１６１Ｍなどの吸着性樹脂で精製され、生成物を含む画分を、最終的にプールし、蒸発させる。
【0007】
ＷＯ ２０１７／０９８０４４に開示されたプロセスの錯体化工程および精製工程の後に得られた溶液は、かなりの量のモノ－ガドリニウム化錯体を含有し得る。
【0008】
モノ－ガドリニウム化錯体は、ＷＯ ２０１７／０９８０４４に開示された二量体リガンドが、ガドリニウムイオンを２個ではなく１個のみをキレート化しているＧｄ（ＩＩＩ）錯体である。これらのモノ－ガドリニウム化錯体は、ＷＯ ２０１７／０９８０４４に開示されたジ－ガドリニウム化Ｇｄ（ＩＩＩ）錯体の好ましい緩和時間測定の特性を示さない。したがって、これらのモノ－ガドリニウム化錯体を、錯体化工程から得られた溶液から除去する（またはその量を実質的に低減する）ことが有利である。しかしながら、反応混合物からのモノ－ガドリニウム化錯体の除去方法は、モノ－ガドリニウム化錯体の完全な除去が達成するのが困難であるという点で、完全に満足できるものではない（これは、すなわち、モノ－ガドリニウム化錯体が、ジ－ガドリニウム化錯体と非常に類似した物理的特徴を有するという事実に起因する）。この理由のため、錯体化工程の間または工程後に、モノ－ガドリニウム化錯体の生成を可能な限り実質的に回避する、ＷＯ ２０１７／０９８０４４に開示されたジ－ガドリニウム化Ｇｄ（ＩＩＩ）錯体の製造方法を提供することが有利である。
【0009】
さらに、ＷＯ ２０１７／０９８０４４に開示された錯体化工程の再現性は、錯体化工程の反応物の正確な秤量およびその表題物の正確な決定に依存する。少なくともこの理由のために、ＷＯ ２０１７／０９８０４４で開示されたプロセスのロバスト性は改善され得る。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
したがって、ＷＯ ２０１７／０９８０４４に開示されたＧｄ（ＩＩＩ）錯体の、上述の問題を克服する製造方法、具体的には、モノ－ガドリニウム化錯体の生成を可能な限り制限することが可能でありながら、再現可能であり、ロバスト性があり、そのため、ＷＯ ２０１７／０９８０４４で開示された二量体常磁性錯体の大規模製造に特に有利な方法が必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【0011】
第１の態様では、本発明は、式Ｉ
（式中、Ｒは、少なくとも２個のヒドロキシル基を含むＣ３～Ｃ１２ヒドロキシアルキルであり、好ましくはＲは、Ｃ５～Ｃ７ポリオールである）
で示されるガドリニウム錯体の溶液の製造方法であって、
ｉ）式Ｉａ
（式中、Ｒは、上に定義された通りである）
で示される二量体リガンドの溶液を提供する工程、
ｉｉ）前工程の溶液にモル過剰のガドリニウム金属イオンを添加して、工程ｉ）で提供された二量体リガンドを錯体化し、それによって式Ｉのガドリニウム錯体を含む中間体溶液を得る工程、および
ｉｉｉ）前工程の中間体溶液に沈殿剤を添加して、遊離ガドリニウム金属イオンをガドリニウム塩として沈殿させ、それによって前記式Ｉのガドリニウム錯体の溶液を得る工程
を含み、該沈殿剤は、リン酸イオン（ＰＯ４３－）、リン酸一水素イオン（ＨＰＯ４ ２－）、リン酸二水素イオン（Ｈ２ＰＯ４ －）、オルトリン酸（Ｈ３ＰＯ４）、シュウ酸イオン（Ｃ２Ｏ４ ２－）、シュウ酸水素イオン（ＨＣ２Ｏ４ －）、およびシュウ酸（Ｈ２Ｃ２Ｏ４）からなる群から選択される、製造方法を提供する。
【化1】
（式中、Ｒは、少なくとも２個のヒドロキシル基を含むＣ３～Ｃ１２ヒドロキシアルキルであり、好ましくはＲは、Ｃ５～Ｃ７ポリオールである）
で示されるガドリニウム錯体の溶液の製造方法であって、
ｉ）式Ｉａ
【化2】
（式中、Ｒは、上に定義された通りである）
で示される二量体リガンドの溶液を提供する工程、
ｉｉ）前工程の溶液にモル過剰のガドリニウム金属イオンを添加して、工程ｉ）で提供された二量体リガンドを錯体化し、それによって式Ｉのガドリニウム錯体を含む中間体溶液を得る工程、および
ｉｉｉ）前工程の中間体溶液に沈殿剤を添加して、遊離ガドリニウム金属イオンをガドリニウム塩として沈殿させ、それによって前記式Ｉのガドリニウム錯体の溶液を得る工程
を含み、該沈殿剤は、リン酸イオン（ＰＯ４３－）、リン酸一水素イオン（ＨＰＯ４ ２－）、リン酸二水素イオン（Ｈ２ＰＯ４ －）、オルトリン酸（Ｈ３ＰＯ４）、シュウ酸イオン（Ｃ２Ｏ４ ２－）、シュウ酸水素イオン（ＨＣ２Ｏ４ －）、およびシュウ酸（Ｈ２Ｃ２Ｏ４）からなる群から選択される、製造方法を提供する。
【0012】
好ましい態様では、本発明は、以下のガドリニウム錯体（化合物１）
の溶液の製造方法であって、
ｉ）以下の二量体リガンド（化合物１ａ）
の溶液を提供する工程、
ｉｉ）前工程の溶液にモル過剰のガドリニウム金属イオンを添加して、工程ｉ）で提供された二量体リガンドを錯体化し、それによって式Ｉのガドリニウム錯体を含む中間体溶液を得る工程、および
ｉｉｉ）前工程の中間体溶液に沈殿剤を添加して、遊離ガドリニウム金属イオンをガドリニウム塩として沈殿させ、それによって前記式Ｉのガドリニウム錯体の溶液を得る工程
を含み、該沈殿剤は、リン酸イオン（ＰＯ４ ３－）、リン酸一水素イオン（ＨＰＯ４ ２－）、リン酸二水素イオン（Ｈ２ＰＯ４ －）、オルトリン酸（Ｈ３ＰＯ４）、シュウ酸イオン（Ｃ２Ｏ４ ２－）、シュウ酸水素イオン（ＨＣ２Ｏ４ －）、およびシュウ酸（Ｈ２Ｃ２Ｏ４）からなる群から選択される、製造方法を提供する。
【化3】
の溶液の製造方法であって、
ｉ）以下の二量体リガンド（化合物１ａ）
【化4】
の溶液を提供する工程、
ｉｉ）前工程の溶液にモル過剰のガドリニウム金属イオンを添加して、工程ｉ）で提供された二量体リガンドを錯体化し、それによって式Ｉのガドリニウム錯体を含む中間体溶液を得る工程、および
ｉｉｉ）前工程の中間体溶液に沈殿剤を添加して、遊離ガドリニウム金属イオンをガドリニウム塩として沈殿させ、それによって前記式Ｉのガドリニウム錯体の溶液を得る工程
を含み、該沈殿剤は、リン酸イオン（ＰＯ４ ３－）、リン酸一水素イオン（ＨＰＯ４ ２－）、リン酸二水素イオン（Ｈ２ＰＯ４ －）、オルトリン酸（Ｈ３ＰＯ４）、シュウ酸イオン（Ｃ２Ｏ４ ２－）、シュウ酸水素イオン（ＨＣ２Ｏ４ －）、およびシュウ酸（Ｈ２Ｃ２Ｏ４）からなる群から選択される、製造方法を提供する。
【0013】
第２の態様では、本発明は、その実施形態のいずれかによるガドリニウム錯体の溶液の製造方法によって得られる、式Ｉ
（式中、Ｒは上に定義された通りである）
で示されるガドリニウム錯体の溶液を提供する。
【化5】
（式中、Ｒは上に定義された通りである）
で示されるガドリニウム錯体の溶液を提供する。
【0014】
第３の態様では、本発明は、式Ｉ
（式中、Ｒは、上に定義された通りである）
で示される単離されたガドリニウム錯体の製造方法であって、
その実施形態のいずれかにおいて本明細書に開示されるガドリニウム錯体の溶液の製造工程と、さらなる後続工程ｉｖ）：
ｉｖ）前記工程ｉｉｉ）から得られた精製溶液から、ガドリニウム錯体を単離する工程と
を含む、製造方法を提供する。
【化6】
（式中、Ｒは、上に定義された通りである）
で示される単離されたガドリニウム錯体の製造方法であって、
その実施形態のいずれかにおいて本明細書に開示されるガドリニウム錯体の溶液の製造工程と、さらなる後続工程ｉｖ）：
ｉｖ）前記工程ｉｉｉ）から得られた精製溶液から、ガドリニウム錯体を単離する工程と
を含む、製造方法を提供する。
【0015】
さらなる態様では、本発明は、その実施形態のいずれかによる単離されたガドリニウム錯体の製造方法によって得られる、式Ｉ
（式中、Ｒは、上に定義された通りである）
で示される単離されたガドリニウム錯体を提供する。
【化7】
（式中、Ｒは、上に定義された通りである）
で示される単離されたガドリニウム錯体を提供する。
【0016】
これらの態様およびさらなる態様は、その実施形態と共に、以下の項で、より詳細に開示される。
【発明を実施するための形態】
【0017】
本明細書で使用される場合、別途規定されていない限り、用語「モノ－ガドリニウム化錯体」は、式Ｉの二量体錯体、または化合物１と同じ構造を有する錯体を指すが、ガドリニウム金属イオンを２個ではなく１個のみをキレート化している。例えば、モノ－ガドリニウム化錯体は、一般式Ｉｃ
（式中、Ｒは、式Ｉに関して上に定義された通りである）
で示される化合物である。
【化8】
（式中、Ｒは、式Ｉに関して上に定義された通りである）
で示される化合物である。
【0018】
本明細書で使用される場合、別途規定されていない限り、用語「沈殿剤」は、本発明の製造方法による中間体溶液に添加された場合、少なくとも工程ｉｉｉ）の条件で、工程ｉｉｉ）において添加される、アニオンであるかまたはアニオンを生じる薬剤を指す。そのようなアニオンは、遊離ガドリニウム金属イオンとのイオン結合（複数可）を通して、本明細書で定義されるガドリニウム塩を生じることができる。沈殿剤は、リン酸イオン（ＰＯ４
３－）、リン酸一水素イオン（ＨＰＯ４
２－）、リン酸二水素イオン（Ｈ２ＰＯ４
－）、オルトリン酸（Ｈ３ＰＯ４）、シュウ酸イオン（Ｃ２Ｏ４
２－）、シュウ酸水素イオン（ＨＣ２Ｏ４
－）、およびシュウ酸（Ｈ２Ｃ２Ｏ４）からなる群から選択される。
【0019】
本明細書で使用される場合、別途規定されていない限り、用語「ガドリニウム塩」は、本明細書で定義される沈殿剤の添加後に生じる塩を指す。ガドリニウム塩は、カチオンとしてのＧｄ３＋、および沈殿剤であるかまたは沈殿剤によって生じる対イオンとしてのアニオンを含む。少なくとも、本発明の製造方法の工程ｉｉｉ）の条件において、また好ましくは工程ｉｉｉ）の下流工程の条件においても、ガドリニウム塩は、固体および濾過できる物理的形態で反応混合物中に存在する。ガドリニウム塩の例は、リン酸ガドリニウムおよびシュウ酸ガドリニウムである。
【0020】
本明細書で使用される場合、別途規定されていない限り、用語「遊離ガドリニウム金属イオン」は、溶液中に存在し、二量体リガンドによってキレート化されていない、［Ｇｄ（Ｈ２Ｏ）８］３＋などのガドリニウムイオンを指す。
【0021】
本明細書で使用される場合、別途規定されていない限り、用語「中間体溶液」は、錯体化工程（工程ｉｉ））の後であるが、精製工程（工程ｉｉｉ））の前に得られる、式Ｉのガドリニウム錯体を含む溶液を指す。
【0022】
本明細書では、別途規定されていない限り、「アルキル」という表現は、任意の直鎖または分岐の炭化水素をその意味するところに含む。例えば、「Ｃ１～Ｃ６アルキル」は、メチル、エチル、プロピル、イソ－プロピル、ブチル、イソ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、イソ－ペンチル、ｔｅｒｔ－ペンチル、ｎ－ヘキシルなどの１～６個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖をその意味するところに含む。本明細書において、別途規定されていない限り、用語「ｔＢｕ」は、Ｃ４アルキルｔｅｒｔ－ブチル（または１，１－ジメチルエチル）を指す。
【0023】
用語「ヒドロキシアルキル」（または本明細書で互換的に使用される「ポリオール」）は、１つまたは複数の水素原子がヒドロキシル基によって置き換えられた、対応する直鎖または分岐の炭化水素鎖のいずれかをその意味するところに含む。
【0024】
例えば、別途規定されていない限り、「Ｃ３～Ｃ１２ポリオール」（または「Ｃ３～Ｃ１２ポリヒドロキシアルキル」）という表現は、２個以上、例えば２～１１個の水素原子がヒドロキシル基によって置き換えられた、対応するＣ３～Ｃ１２直鎖または分岐の炭化水素鎖のいずれかをその意味するところに含む。これらの中では、Ｃ３～Ｃ１０ポリオールが好ましく、Ｃ５～Ｃ７ポリオールが特に好ましい。Ｃ５～Ｃ７ポリオールの例は、それぞれ、Ｃ５アルキル鎖上に２、３、４および５個のヒドロキシル基を含む、ペンチル－ジオール、ペンチル－トリオール、ペンチル－テトラオールおよびペンチル－ペンタオールなどのペンチル－ポリオール（またはポリヒドロキシペンチル）；Ｃ６アルキル鎖上に２～６個のヒドロキシル基を類似して含む、ヘキシル－ポリオール（またはポリヒドロキシヘキシル）；ならびにＣ７アルキル鎖上に２～７個のヒドロキシル基を含むヘプチル－ポリオール（またはポリヒドロキシヘプチル）を含む。
【0025】
本明細書において、用語「保護基」は、それが結合する基の機能を保持するのに適した、保護基を表す。特に、保護基は、アミノ、ヒドロキシルまたはカルボキシル官能基を保持するために使用され得る。したがって、適切なカルボキシル保護基としては、例えば、ｔｅｒｔ－ブチルもしくはベンジルエステルのようなベンジル、アルキル、またはそのような官能基の保護に一般に使用される他の置換基が挙げられ、それらは全て当業者に周知である［一般的参照として、T.W.GreenおよびP.G.M.Wuts;Protective Groups in Organic Synthesis, Wiley, N.Y. 1999, third edition］。
【0026】
さらに、用語「部分」または「残基」は、本明細書では、直接または任意の好適なリンカーを介して、分子の残りの部分に結合または複合体化された所与の分子の残基部分と定義されるように意図される。
【0027】
例えば式Ｉの化合物および化合物１のような、本明細書に開示される化合物は、１つまたは複数の不斉炭素原子、あるいはキラル炭素原子とも称される炭素原子を有することができ、したがって、ジアステレオマーおよび光学異性体を生じる場合がある。別途規定されていない限り、本発明は、全てのそのような可能なジアステレオマー、同様にそのラセミ混合物、その実質的に純粋な分離されたエナンチオマー、全ての可能な幾何異性体、および薬学的に許容されるその塩をさらに含む。
【0028】
本発明はさらに、含まれる酸性基のそれぞれ（例えばＲ上）が脱プロトン化されていてもよい、式Ｉの錯体、または化合物１の溶液の製造方法に関する。そのような場合、式Ｉａの二量体リガンド、または化合物１ａに含まれる酸性基は、例えば脱プロトン化されたそれぞれの形態であってもよい。
【0029】
本発明はさらに、含まれる塩基性基のそれぞれ（例えば第三級アミン）がプロトン化されていてもよい、式Ｉの錯体、または化合物１の溶液の製造方法に関する。そのような場合、式Ｉａの二量体リガンド、または化合物１ａに含まれる塩基性基は、例えばプロトン化されたそれぞれの形態であってもよい。
【0030】
本発明は、式Ｉ
（式中、Ｒは、少なくとも２個のヒドロキシル基を含むＣ３～Ｃ１２ヒドロキシアルキルである）で示されるガドリニウム錯体の溶液の製造方法であって；
ｉ）式Ｉａ
（式中、Ｒは上に定義された通りである）
で示される二量体リガンドの溶液を提供する工程；
ｉｉ）前工程の溶液にモル過剰のガドリニウム金属イオンを添加して、工程ｉ）で提供された二量体リガンドを錯体化し、それによって式Ｉのガドリニウム錯体を含む中間体溶液を得る工程、および
ｉｉｉ）前工程の溶液に少なくとも沈殿剤を添加して、遊離ガドリニウム金属イオンをガドリニウム塩として沈殿させ、それによって式Ｉのガドリニウム錯体の溶液を得る工程
を含み、
該沈殿剤が、リン酸イオン（ＰＯ４３－）、リン酸一水素イオン（ＨＰＯ４ ２－）、リン酸二水素イオン（Ｈ２ＰＯ４ －）、オルトリン酸（Ｈ３ＰＯ４）、シュウ酸イオン（Ｃ２Ｏ４ ２－）、シュウ酸水素イオン（ＨＣ２Ｏ４ －）、およびシュウ酸（Ｈ２Ｃ２Ｏ４）からなる群から選択される、
製造方法に関する。
【化9】
（式中、Ｒは、少なくとも２個のヒドロキシル基を含むＣ３～Ｃ１２ヒドロキシアルキルである）で示されるガドリニウム錯体の溶液の製造方法であって；
ｉ）式Ｉａ
【化10】
（式中、Ｒは上に定義された通りである）
で示される二量体リガンドの溶液を提供する工程；
ｉｉ）前工程の溶液にモル過剰のガドリニウム金属イオンを添加して、工程ｉ）で提供された二量体リガンドを錯体化し、それによって式Ｉのガドリニウム錯体を含む中間体溶液を得る工程、および
ｉｉｉ）前工程の溶液に少なくとも沈殿剤を添加して、遊離ガドリニウム金属イオンをガドリニウム塩として沈殿させ、それによって式Ｉのガドリニウム錯体の溶液を得る工程
を含み、
該沈殿剤が、リン酸イオン（ＰＯ４３－）、リン酸一水素イオン（ＨＰＯ４ ２－）、リン酸二水素イオン（Ｈ２ＰＯ４ －）、オルトリン酸（Ｈ３ＰＯ４）、シュウ酸イオン（Ｃ２Ｏ４ ２－）、シュウ酸水素イオン（ＨＣ２Ｏ４ －）、およびシュウ酸（Ｈ２Ｃ２Ｏ４）からなる群から選択される、
製造方法に関する。
【0031】
本発明の製造方法はロバスト性があり、したがって先行技術のプロセスの問題を克服する。実際、モル過剰のガドリニウム金属イオンの添加に起因して、錯体化工程の反応物の正確な秤量および表題物の決定という負担は大幅に低減される。本発明の製造方法は、ロバスト性があり、再現可能かつ効率的であるため、大規模での製造においてより容易に実施され得る。その上、モル過剰のガドリニウム金属イオンを添加することによって、最終生成物中のモノ－ガドリニウム化錯体の存在は、化学量論的な量の添加と比較して、著しく低下される。
【0032】
モル過剰のガドリニウム金属イオンを添加することで、化学量論的な量、または化学量論的な量より少ない量のガドリニウム金属イオンの添加と比較して、錯体化後に、より多量の遊離ガドリニウム金属イオンが生じる；しかしながら、この多量の遊離ガドリニウム金属イオンは、本発明の工程ｉｉｉ）を実行することによって、すなわち本明細書に開示されるように沈殿剤を用いて、遊離ガドリニウム金属イオンを沈殿させることによって、効果的かつ効率的に除去されることが見出された。したがって、工程ｉｉ）と工程ｉｉｉ）を組み合わせることで、ロバスト性があり、大規模な製造に好適な方法によって、モノ－ガドリニウム化錯体と遊離ガドリニウム金属イオンがいずれも低量である、式Ｉの錯体を含む溶液が得られるという点において、本発明の特に効果的な方法が提供される。
【0033】
出願人はまた、式Ｉの錯体の溶液を製造し遊離ガドリニウムイオンを除去するために、本発明によらない方法で遊離ガドリニウム金属イオンを沈殿させると、高量で、したがって好適ではない量の遊離ガドリニウム金属イオンおよび／またはモノ－ガドリニウム化錯体を含有する溶液が得られることも見出した。具体的には、比較例によって以下の実験の項でも実証されるように、ガドリニウムイオンを沈殿させるための先行技術で公知の方法は、好適な量の遊離ガドリニウム金属イオンおよび／またはモノ－ガドリニウム化錯体を含む式Ｉのガドリニウム錯体の溶液を得るためには好適ではない場合がある。例えば、遊離ガドリニウム金属イオンを含む溶液のｐＨが十分に高いｐＨに上げられた場合に、遊離ガドリニウム金属イオンがＧｄ（ＯＨ）３として沈殿することは、例えば"Preparation, Purification, and Characterization of Lanthanide Complexes for Use as Contrast Agents for Magnetic Resonance Imaging", Averill et al., Journal of Visualized Experimentsによって公知である。しかしながら、比較例によって以下の実験の項でも実証されるように、塩基性化による遊離ガドリニウム金属イオンのこの沈殿方法を、式Ｉのガドリニウム錯体の溶液に使用した場合、水酸化ガドリニウムが沈殿しないため、効果的ではない。したがって、この塩基性化法によって、目的とするガドリニウム錯体、すなわち式Ｉの溶液中の遊離ガドリニウム金属イオンの量は減少しない。
【0034】
出願人は、驚いたことに、遊離ガドリニウム金属イオンをガドリニウム塩として沈殿させるために、リン酸イオン（ＰＯ４
３－）、リン酸一水素イオン（ＨＰＯ４
２－）、リン酸二水素イオン（Ｈ２ＰＯ４
－）、オルトリン酸（Ｈ３ＰＯ４）、シュウ酸イオン（Ｃ２Ｏ４
２－）、シュウ酸水素イオン（ＨＣ２Ｏ４
－）、およびシュウ酸（Ｈ２Ｃ２Ｏ４）からなる群から選択される沈殿剤を、好ましくは以下に開示される量で添加することによって、特に、ｐＨが、沈殿工程の間および／または工程後に、以下に開示される範囲に調整および／または維持される場合、高量のモノ－ガドリニウム化錯体を生成することなく、高量の遊離ガドリニウム金属イオンを効果的に除去することが可能であることを見出した。
【0035】
本発明の製造方法は、遊離ガドリニウム金属イオンの一部、具体的にはその実質的な部分を沈殿させることができる。実際、以下の実験の項に示されるように、沈殿工程ｉｉｉ）は、錯体化工程ｉｉ）後に存在する遊離ガドリニウム金属イオンの実質的な部分を沈殿させることを可能にし、それによって、遊離ガドリニウム金属イオンの含有量は、およそ数万ｐｐｍからたった１００ｐｐｍさらには数十ｐｐｍ程度にまで低減される（ガドリニウム錯体の量に対して）。したがって、本発明の製造方法は、遊離ガドリニウム金属イオンの含有量が低い、本明細書に開示されるガドリニウム錯体を含む溶液の製造であって、具体的には、そのような溶液中の遊離ガドリニウム金属イオンの量が、沈殿工程ｉｉｉ）後、および工程ｉｉｉ）後の任意でのさらなる精製工程（複数可）前に、ガドリニウム錯体の量に対して、３５０ｐｐｍ未満、好ましくは１５０ｐｐｍ未満、より好ましくは１００ｐｐｍ未満、さらにより好ましくは８０ｐｐｍ未満であり得る、製造方法を提供する。本発明によれば、遊離ガドリニウム金属イオンの高いｐｐｍ値（例えば４０００ｐｐｍ以上のｐｐｍ値）は、キシレノールオレンジの存在下でＥＤＴＡを用いる従来の錯滴定によって決定され、一方、遊離ガドリニウム金属イオンのより低いｐｐｍ値（例えば４０００ｐｐｍより低いｐｐｍ値）は、好ましくは、以下の実験の項に提示されるＨＰＬＣ手順１を実行することによって決定される。
【0036】
さらに、本発明の製造方法は、本明細書に開示されるガドリニウム錯体を含む溶液の製造方法であって、そのような溶液中のモノ－ガドリニウム化錯体の量が低く、すなわちガドリニウム錯体の量に対して、５５０ｐｐｍより低く、好ましくはモノ－ガドリニウム化錯体を定量化するために使用される分析方法の定量下限（ＬｏＱ）より低く、すなわち４００ｐｐｍ未満である、製造方法を提供する。モノ－ガドリニウム化錯体のこれらのｐｐｍ値、同様に本発明におけるモノ－ガドリニウム化錯体の全てのｐｐｍ値は、以下の実験の項に提示されるＨＰＬＣ手順２を実行することによって決定される。本発明の製造方法の最終溶液中のそのような低量のモノ－ガドリニウム化錯体、すなわちガドリニウム錯体の量に対して、５５０ｐｐｍ未満、好ましくは４００ｐｐｍ未満のモノ－ガドリニウム化錯体は、最終の単離された錯体の緩和性に、有意の影響を及ぼすこともなく、または悪影響を及ぼすことさえない。
【0037】
有利には、本発明の製造方法の工程ｉｉｉ）は、本明細書に開示されるガドリニウム錯体の溶液の製造を提供し、そのような溶液中の、遊離ガドリニウム金属イオンの量は、ガドリニウム錯体の量に対して、１５０ｐｐｍ未満、好ましくは１２５ｐｐｍ未満、より好ましくは８０ｐｐｍ未満、さらにより好ましくは５０ｐｐｍ未満であり、モノ－ガドリニウム化錯体の量は、ガドリニウム錯体の量に対して、４００ｐｐｍ未満である。
【0038】
式ＩおよびＩａの好ましい化合物は、Ｒが、Ｃ３～Ｃ１２アルキル鎖上に２～１１個、好ましくは３～１０個のヒドロキシル基を有するＣ３～Ｃ１２ポリヒドロキシアルキル（またはＣ３～Ｃ１２ポリオール）である化合物を含む。好ましくは、Ｒは、例えば、Ｃ５アルキル鎖上に少なくとも２個、好ましくは２～４個のヒドロキシル基を含むペンチル－ポリオール（またはポリヒドロキシペンチル）；Ｃ６アルキル鎖上に少なくとも２個、好ましくは２～５個のヒドロキシル基を含むヘキシル－ポリオール；またはＣ７アルキル鎖上に少なくとも２個、好ましくは３～６個のヒドロキシル基を含むヘプチル－ポリオールから選択される、Ｃ５～Ｃ７ポリオールの残基である。
【0039】
好ましい一実施形態では、本発明の製造方法は、式Ｉのガドリニウム錯体の溶液を製造するためのものであり、式ＩおよびＩａのＲは、好ましくは、式
で示されるペンチル－テトラオールおよび式
で示されるヘキシル－ペンタオールから選択されるＣ５～Ｃ７ポリオールであり、その実施形態のいずれかにより本明細書に開示される工程ｉ）、ｉｉ）およびｉｉｉ）を含む。
【化11】
で示されるペンチル－テトラオールおよび式
【化12】
で示されるヘキシル－ペンタオールから選択されるＣ５～Ｃ７ポリオールであり、その実施形態のいずれかにより本明細書に開示される工程ｉ）、ｉｉ）およびｉｉｉ）を含む。
【0040】
特に好ましい実施形態では、本発明の製造方法は、以下のガドリニウム錯体（化合物１）
の溶液を製造するためのものであり、その実施形態のいずれかにより本明細書に開示される工程ｉ）、ｉｉ）およびｉｉｉ）を含む。化合物１は、ＷＯ ２０１７／０９８０４４で示されるとおり高い緩和性を示し、特に好ましい。
【化13】
の溶液を製造するためのものであり、その実施形態のいずれかにより本明細書に開示される工程ｉ）、ｉｉ）およびｉｉｉ）を含む。化合物１は、ＷＯ ２０１７／０９８０４４で示されるとおり高い緩和性を示し、特に好ましい。
【0041】
本発明の製造方法が、ガドリニウム錯体化合物１の溶液の製造方法である場合、工程ｉ）で提供される二量体リガンドは、対応する二量体リガンド化合物１ａ
である。
【化14】
である。
【0042】
本発明の製造方法の工程ｉ）、すなわち式Ｉａの二量体リガンド、または化合物１ａの溶液を提供する工程は、例えば、ＷＯ ２０１７／０９８０４４に開示された、錯体化されていない式Ｉａの二量体リガンド、または化合物１ａの溶液を調製する公知のプロセスを実行することによって実施される。好ましくは、二量体リガンドは、本明細書に開示される脱保護方法により、対応する保護された二量体リガンドを脱保護することによって提供される。
【0043】
工程ｉ）で提供される溶液、ならびに本発明の製造方法で製造される、ガドリニウム錯体の中間体溶液および最終溶液は、好ましくは水溶液である。
【0044】
本発明の製造方法の工程ｉｉ）は、前の工程の溶液にモル過剰のガドリニウム金属イオンを添加して、工程ｉ）で提供された二量体リガンドを錯体化することによって実施され、式Ｉのガドリニウム錯体、または化合物１を含む中間体溶液を得る。したがって、本発明の製造方法の工程ｉｉ）は、式Ｉａの二量体リガンド、または本明細書に開示される任意の他の二量体リガンドの、ガドリニウムとの錯体化を提供する。
【0045】
工程ｉ）で提供された二量体リガンドは、２つのキレート化部分を有し、１つの二量体リガンドは、２個のガドリニウム金属イオンをキレート化することができるので、用語「モル過剰」は、本発明の製造方法の工程ｉｉ）に言及する場合、二量体配位のモル量の２倍より多いガドリニウム金属イオンのモル量を指す。したがって、用語「モル過剰」は、本発明の製造方法の工程ｉｉ）に言及する場合、１モルの二量体リガンドに対して、２モルを超えるガドリニウム金属イオンを指す。例えば、工程ｉ）で提供された二量体リガンドの１モルに対して、２．０５モル以上、好ましくは２．０５～２．５０モル、より好ましくは２．２０モルまで、さらにより好ましくは２．１２モルまでのガドリニウム金属イオンが、溶液に添加される。
【0046】
本発明の製造方法の工程ｉｉ）によれば、ガドリニウム金属イオンは、例えば、可溶性ガドリニウム塩などのガドリニウム誘導体を、溶液に添加することによって添加される。好適なガドリニウム誘導体は、例えば、Ｇｄ２Ｏ３などの酸化物、またはＧｄＣｌ３などの可溶性ガドリニウム塩であり得る。
【0047】
工程ｉｉ）は、好ましくは、溶液を、２０～５０℃、より好ましくは３０～４５℃、さらにより好ましくは３７～４３℃の範囲内の温度に維持しながら実施される。工程ｉｉ）によりガドリニウム金属イオンを添加した後、反応混合物は、好ましくは、後続の工程を実行する前に、例えば上に記載した温度範囲で、１～５時間、より好ましくは２～４時間の間、維持される。
【0048】
工程ｉｉ）のガドリニウム金属イオンの添加中および／または添加後、例えば上に記載した時間および／または温度にて、ｐＨを好ましくは５．０～７．０、より好ましくは５．０～６．０の範囲に調整および／または維持される。このｐＨ調整および／または維持は、例えば、好適な塩基、例えば水酸化ナトリウムを、工程ｉｉ）の溶液に添加することによって行うことができる。
【0049】
好ましい実施形態によれば、工程ｉｉ）の後、場合により工程ｉｉｉ）の前に、本発明の製造方法は、ガドリニウム錯体の（中間体）溶液を、好ましくはナノ濾過を介して脱塩するさらなる工程を含む。この脱塩（例えばナノ濾過）工程は、錯体化工程で生成した塩、例えば可溶性ガドリニウム塩の添加後に生じた塩、ならびに任意での脱保護方法（実施した場合）で生じた塩を除去することを可能にする。脱塩工程は、遊離ガドリニウム金属イオンも、モノ－ガドリニウム化錯体も除去することはなく、沈殿剤を除去するために溶液を処理する後続の任意による工程を改善するために、塩を除去することは有用である。
【0050】
脱塩工程は、溶液の伝導率値が、５．０ｍＳ／ｃｍ以下、好ましくは１ｍＳ／ｃｍ以下、さらにより好ましくは０．８ｍＳ／ｃｍ以下となるまで実行され得る。
【0051】
本発明の製造方法の工程ｉｉｉ）は、ｉｉｉ）前の工程の中間体溶液に沈殿剤を添加して、遊離ガドリニウム金属イオンを沈殿させる。実際、遊離ガドリニウム金属イオンは、ガドリニウム塩として沈殿し、遊離ガドリニウム金属錯体の量が、例えば上に記載したｐｐｍ量のような低量である、式Ｉのガドリニウム錯体の溶液が得られる。遊離ガドリニウム金属イオンを沈殿させてモノ－ガドリニウム化錯体の生成を回避するために、沈殿剤は、リン酸イオン（ＰＯ４
３－）、リン酸一水素イオン（ＨＰＯ４
２－）、リン酸二水素イオン（Ｈ２ＰＯ４
－）、オルトリン酸（Ｈ３ＰＯ４）、シュウ酸イオン（Ｃ２Ｏ４
２－）、シュウ酸水素イオン（ＨＣ２Ｏ４
－）、およびシュウ酸（Ｈ２Ｃ２Ｏ４）からなる群から選択される少なくとも１つでなければならない。好ましくは、沈殿剤は、リン酸イオン（ＰＯ４
３－）、シュウ酸イオン（Ｃ２Ｏ４
２－）、およびリン酸一水素イオン（ＨＰＯ４
２－）からなる群から選択される少なくとも１つのアニオンであり、より好ましくはリン酸一水素イオン（ＨＰＯ４
２－）である。
【0052】
沈殿工程（工程ｉｉｉ））は、前の錯体化工程（工程ｉｉ））で反応しなかった過剰の遊離ガドリニウム金属イオンを、遊離ガドリニウム金属イオンの沈殿によって、溶液から除去する。
【0053】
沈殿剤は、例えば、沈殿剤を含む溶液を中間体溶液と混合することによって、または例えば沈殿剤が沈殿塩に含まれている場合、沈殿剤を中間体溶液に直接添加することによって添加され得る。
【0054】
本明細書で使用される場合、別途規定されていない限り、用語「沈殿塩」は、アニオンとしての沈殿剤および任意の好適な対カチオンを含む、工程ｉｉｉ）で添加される塩を指す。沈殿塩は、少なくとも中間体溶液中で、かつ工程ｉｉｉ）の条件内で可溶性であり、中間体溶液に溶解し沈殿剤を放出することができる。例えば、好ましい沈殿塩は、沈殿剤のリン酸一水素イオン（ＨＰＯ４
２－）をアニオンとして、ナトリウムを対カチオンとして含むＮａ２ＨＰＯ４である。
【0055】
沈殿剤が、沈殿剤を含む沈殿塩の添加によって工程ｉｉｉ）で添加される場合、沈殿塩の好適な対カチオンは、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、および有機カチオンから選択されるカチオンを含む。例えば、沈殿塩の対カチオンは、ナトリウムおよびカリウムから選択され；ナトリウムが特に好ましい。沈殿塩は、好ましくは、リン酸ナトリウム（Ｎａ３ＰＯ４）、リン酸カリウム（Ｋ３ＰＯ４）、リン酸水素ナトリウム（Ｎａ２ＨＰＯ４）、リン酸水素カリウム（Ｋ２ＨＰＯ４）、リン酸二水素ナトリウム（ＮａＨ２ＰＯ４）、リン酸二水素カリウム（ＫＨ２ＰＯ４）、シュウ酸ナトリウム（Ｎａ２Ｃ２Ｏ４）、シュウ酸カリウム（Ｋ２Ｃ２Ｏ４）、シュウ酸水素ナトリウム（ＮａＨＣ２Ｏ４）、およびシュウ酸水素カリウム（ＫＨＣ２Ｏ４
－）からなる群から選択される。
【0056】
本発明の製造方法の工程ｉｉｉ）によれば、沈殿剤は、好ましくは中間体溶液中の遊離ガドリニウム金属イオンに対して、少なくとも化学量論的な量で添加される。有利なことに、沈殿剤は、中間体溶液中のガドリニウム金属イオンの１モルに対して、少なくとも１．１モルの量で、好ましくは１．１～５モル、より好ましくは１．２～３モル、さらにより好ましくは１．４～２．５モル、最も好ましくは１．４～１．６モルの量で添加される。また比較例によって実験の項において実証されたように、これらの好ましい量の沈殿剤を添加することで、任意での濾過工程後および任意でのさらなる精製工程前に、低量の遊離ガドリニウム金属イオン（すなわち上で規定されたものより低量の遊離ガドリニウム金属イオン）と、低量のモノ－ガドリニウム化錯体（すなわち５５０ｐｐｍより低量の、好ましくはモノ－ガドリニウム化錯体（ガドリニウム錯体の量に対して＜４００ｐｐｍ）の量を決定するために使用される方法のＬｏＱより低量の錯体）の両方を含有する溶液が得られる。反対に、沈殿剤が、工程ｉｉｉ）において上記の好ましい量に対してより多量に添加される場合、得られた溶液は、多量のモノ－ガドリニウム化錯体（すなわち６００ｐｐｍより多量）を含有する場合がある。
【0057】
本発明の製造方法の工程ｉｉｉ）が、上で規定された好ましい量の沈殿剤を添加することによって実行される場合、本発明の製造方法は、好ましくは、沈殿剤を添加する前に、中間体溶液中の遊離ガドリニウム金属イオンの量を決定するさらなる工程を含み、それによって、上で規定された好ましい量で沈殿剤が添加され得る。この決定工程は、遊離ガドリニウム金属イオンの量を決定するための公知の方法により、例えば本明細書に開示される方法により実行され得る。
【0058】
工程ｉｉｉ）は、好ましくは、溶液の温度を１５～４０℃、より好ましくは２０～３０℃の範囲内に維持することによって実行される。工程ｉｉｉ）によって沈殿剤を添加した後、反応混合物は、好ましくは、任意での後続の工程を実行する前に、例えば上に記載した温度範囲で、１～４時間、好ましくは１．５～３時間、より好ましくは２時間の間、維持される。
【0059】
好ましい実施形態では、工程ｉｉｉ）による沈殿剤の添加中および／または添加後に、ｐＨは、４．５以上、好ましくは４．７以上、より好ましくは４．９以上、さらにより好ましくは５．５以上の値に、例えば上の段落に記載した時間および／または温度で、調整および／または維持される。好ましくは、このｐＨは、少なくとも、沈殿したガドリニウム塩がガドリニウム錯体の溶液から濾別されるまで維持される。また比較例によって以下の実験の項において実証されたように、出願人は、驚いたことに、ｐＨをこれらの値に調整および／または維持しつつ、遊離ガドリニウム金属イオンを沈殿させることにより、任意での濾過工程後および任意でのさらなる精製工程前に、低量のモノ－ガドリニウム化錯体を含有する溶液（例えばガドリニウム錯体に対して、５５０ｐｐｍより低量、好ましくは４００ｐｐｍより低量のモノ－ガドリニウム化錯体を含有する溶液）が得られることを見出した。
【0060】
さらなる好ましい実施形態によれば、工程ｉｉｉ）による沈殿剤の添加中および／または添加後に、ｐＨは、上に示した値より高く、かつ１０．０以下、好ましくは９．０以下、より好ましくは８．５以下、さらにより好ましくは７．５以下、最も好ましくは６．５以下になるように、例えば上に記載した時間および／または温度で、調整および／または維持され得る。好ましくは、このｐＨは、少なくとも、沈殿したガドリニウム塩がガドリニウム錯体の溶液から濾別されるまで維持される。出願人は、驚いたことに、これらのｐＨ値未満で操作することによって、沈殿工程後および任意でのさらなる精製工程前の溶液中の遊離ガドリニウム金属イオンの量が、低下することを見出した。
【0061】
より好ましい実施形態によれば、工程ｉｉｉ）による沈殿剤の添加中および／または添加後に、ｐＨは、４．５～９．０、より好ましくは４．７～８．５、さらにより好ましくは４．９～７．３、最も好ましくは６～６．５または５．５～６．５の範囲に、例えば上に記載した時間および／または温度で、調整および／または維持され得る。好ましくは、このｐＨは、少なくとも、沈殿したガドリニウム塩がガドリニウム錯体の溶液から濾別されるまで維持される。出願人は、驚いたことに、上に示した範囲内にｐＨを調整および／または維持することにより、任意での沈殿工程後および任意でのさらなる精製工程前に、特に低い含有量の遊離ガドリニウム金属イオンおよびモノ－ガドリニウム化錯体を有する溶液（例えば、ｐＨがそのようなｐＨに調整および／または維持されない同じプロセスと比較して低い含有量を有する溶液）を得ることが可能となることを見出した。
【0062】
ｐＨ調整は、例えばＨＣｌのような好適な酸、または例えばＮａＯＨのような好適な塩基を溶液に添加することによって行うことができる。この調整は、沈殿剤の添加によって起きる可能性があるｐＨ変化を相殺するのに特に有用である。沈殿剤の添加により、得られた溶液のｐＨが、上に開示された好ましい範囲から外れるようなｐＨの変化が起こらない場合（例えば、沈殿剤のｐＫａが上記の好ましい値内であるため、および／または沈殿剤が低量で添加されることによって、得られた溶液のｐＨが、上に開示された好ましい範囲から外れないため）には、ｐＨ調整は必要とされないことは明らかである。
【0063】
好ましくは、上に開示された好ましい値によるｐＨは、少なくとも、沈殿したガドリニウム塩がガドリニウム錯体の溶液から濾別されるまで維持される。
【0064】
さらに好ましい実施形態では、工程ｉｉｉ）の後に、本発明の製造方法は、得られたガドリニウム錯体の溶液を濾過し、ガドリニウム塩を溶液から除去する工程をさらに含み、それによってガドリニウム塩はそのような溶液から分離される。この濾過工程は、当技術分野で公知の濾過方法により、例えば医薬用メンブレンフィルターを使用することによって実行され得る。
【0065】
さらに好ましい実施形態では、本発明の製造方法は、工程ｉｉｉ）の後に得られた式Ｉのガドリニウム錯体の溶液を処理して、遊離ガドリニウム金属イオンと反応してガドリニウム塩を形成しなかった沈殿剤（存在する場合）を除去するためのさらなる工程を含む。この処理工程は、遊離ガドリニウム金属イオンも、モノ－ガドリニウム化錯体も除去しない。
【0066】
この処理工程は、例えば、ガドリニウム錯体の溶液を、イオン交換樹脂に、好ましくは１～３ＢＶ／時の流速でロードすることによって実行され得る。代替的に、または錯体をイオン交換樹脂にロードするとともに、処理工程は、（Ａ）ガドリニウム錯体の溶液に、ガドリニウム金属イオンＧｄ３＋とは異なる沈殿カチオンを添加し、沈殿剤であるかまたは沈殿剤によって生じるアニオンを沈殿させ、それによって、少なくともそのようなアニオンを沈殿カチオンと共に塩として沈殿させることと、（Ｂ）上に開示されたものなどの濾過工程によって、このように形成された塩を除去することとによって実行され得る。有利なことに、ガドリニウム塩と、沈殿剤および沈殿カチオンによって形成された塩の両方を除去するために、１回のみの濾過工程が実行され得る。
【0067】
本明細書で使用される場合、別途規定されていない限り、用語「沈殿カチオン」は、式Ｉのガドリニウム錯体の溶液の任意での処理工程中に添加される、ガドリニウム金属イオンＧｄ３＋とは異なるカチオンを指す。沈殿カチオンは、少なくとも、沈殿カチオンの添加中に反応混合物の条件において、沈殿剤であるかまたは沈殿剤によって生じるアニオンと共に、固体の物理的形態である塩を生成することができる。
【0068】
沈殿カチオンの添加は、例えば式Ｉのガドリニウム錯体の溶液に、沈殿カチオンをそのカチオンとして含有する可溶性塩を添加することによって、および／または沈殿カチオンを含む溶液を、式Ｉのガドリニウム錯体の溶液と混合することによって実行され得る。
【0069】
沈殿カチオンは、沈殿カチオンと、沈殿剤であるかまたは沈殿剤によって生じるアニオンとの間のイオン結合によって形成される塩に基づいて、当業者により好適に選択され得る。実際、好適な沈殿カチオンは、沈殿カチオンとそのようなアニオンによって形成される塩が、少なくとも沈殿カチオンの添加中に反応混合物の条件において沈殿する限り使用でき、それによって少なくとも一部の沈殿した塩は、例えば濾過によって除去される。例えば、沈殿カチオンＣａ２＋は、上に開示された任意での処理工程により、ガドリニウム錯体の溶液に添加され：溶液のｐＨが約９に到達する場合、そのようなアニオンと沈殿カチオンＣａ２＋によって形成された塩は沈殿し、例えば濾過によって後に除去される。この例では、沈殿カチオンＣａ２＋は、式Ｉのガドリニウム錯体の溶液に、可溶性塩として、または好ましくは例えばＣａ（ＯＨ）２のような水酸化物として添加され、それは溶液に添加されると溶解し、したがって沈殿カチオンＣａ２＋を放出する。
【0070】
一実施形態では、本発明のガドリニウム錯体の溶液を提供する方法は、工程ｉｉｉ）の後、好ましくは沈殿剤を除去するための処理工程（実行される場合）の後に、少なくとも１回のさらなる精製工程を含む。このさらなる精製工程は、遊離ガドリニウム金属イオンの含有量が可能な限り低い、ガドリニウム錯体の溶液を提供するために、工程ｉｉｉ）の沈殿後に存在する遊離ガドリニウム金属イオンの残留量をさらに低減するのに有用である。具体的には、本発明の製造方法のこの実施形態によれば、大部分の遊離ガドリニウム金属イオンが、沈殿工程ｉｉｉ）（ここで遊離ガドリニウム金属イオンの量は、ガドリニウム錯体に対して、数千ｐｐｍから数百、またはさらには数十ｐｐｍまで低減される）によって除去され、より少量の遊離ガドリニウム金属イオンが、少なくとも１つのさらなる精製工程によって除去される。
【0071】
例えば、このさらなる精製工程は、ガドリニウム錯体の溶液を、吸着性樹脂（例えばＡｍｂｅｒｌｉｔｅ ＸＡＤ１６００）などの好適な樹脂にロードすることを含み、それにより残留した遊離ガドリニウム金属イオンが溶液から除去される。好ましくは、溶液を樹脂にロードする前に、溶液は、ガドリニウム錯体の量が、１５～３０％ｗ／ｗ、より好ましくは２０～２５％ｗ／ｗの範囲内になるまで濃縮される（例えば真空下で水性溶媒を蒸留することによって）。
【0072】
さらなる実施形態では、工程ｉｉｉ）の後に、および場合により少なくとも１回のさらなる精製工程の後に、本発明のガドリニウム錯体の溶液を提供する方法は、ガドリニウム錯体の溶液を炭素で処理する工程を含む。この工程は、エンドトキシンの除去を可能にし、溶液の脱色を促す。
【0073】
別の態様では、本発明は、本明細書に開示される溶液を製造する方法の任意の実施形態により得ることができる、式Ｉのガドリニウム錯体（式中、Ｒは上で定義された通りである）、または化合物１の溶液に関する。好ましくは、本明細書に開示される本発明の製造方法の任意の実施形態により得ることができる本発明の溶液中、遊離ガドリニウム金属イオンの量は、ガドリニウム錯体の量に対して、３５０ｐｐｍ未満、好ましくは１５０ｐｐｍ未満、より好ましくは１００ｐｐｍ未満、さらにより好ましくは８０ｐｐｍ未満であり、および／またはモノ－ガドリニウム化錯体の量は、ガドリニウム錯体の量に対して、５５０ｐｐｍ未満、好ましくは４００ｐｐｍ未満である。遊離ガドリニウム金属イオンおよび／またはモノ－ガドリニウム化錯体の含有量が上に記載した量である、式Ｉのガドリニウム錯体（式中、Ｒは上で定義された通りである）、または化合物１の溶液はまた、本発明のさらなる態様である。
【0074】
さらなる態様では、本発明は、式Ｉ
（式中、Ｒは上で定義された通りである）
で示される単離されたガドリニウム錯体、または化合物１の製造方法であって、その実施形態のいずれかによって本明細書に開示されるガドリニウム錯体の溶液を製造するプロセスと、さらなる工程ｉｖ）：
ｉｖ）ガドリニウム錯体を単離する工程と
を含む。
【化15】
（式中、Ｒは上で定義された通りである）
で示される単離されたガドリニウム錯体、または化合物１の製造方法であって、その実施形態のいずれかによって本明細書に開示されるガドリニウム錯体の溶液を製造するプロセスと、さらなる工程ｉｖ）：
ｉｖ）ガドリニウム錯体を単離する工程と
を含む。
【0075】
本発明の単離されたガドリニウム錯体の製造方法は、大規模製造に好適な、ロバスト性がありかつ効率的な方法によって、本明細書に開示される単離されたガドリニウム錯体を得ることを可能にする。
【0076】
単離工程（工程ｉｖ））は、前記工程ｉｉｉ）で得られた溶液の溶媒から錯体を分離することを可能にする当業者に公知の任意の好適な単離方法によって実行され得る。
【0077】
例えば、単離工程（工程ｉｖ））は、例えばＷＯ ２０１７／０９８０４４に開示されているように、式Ｉのガドリニウム錯体（または化合物１）の溶液を、場合により真空下で、乾燥させることによって実行される。そのようにして得られた粗製の錯体は、次にさらに乾燥され（例えばオーブン内で）、それによってガドリニウム錯体は粉末固体として得られる。
【0078】
さらなる態様では、本発明は、式Ｉ
（式中、Ｒは上で定義された通りである）
で示される単離されたガドリニウム錯体、または化合物１であり、本明細書に開示される単離されたガドリニウム錯体を製造する方法の任意の実施形態により得ることができる。
【化16】
（式中、Ｒは上で定義された通りである）
で示される単離されたガドリニウム錯体、または化合物１であり、本明細書に開示される単離されたガドリニウム錯体を製造する方法の任意の実施形態により得ることができる。
【0079】
さらなる態様では、本発明は、式Ｉｂ
（式中、Ｒは、少なくとも２個のヒドロキシル基を含むＣ３～Ｃ１２ヒドロキシアルキルであり、好ましくはＲは、
例えば式
のペンチル－テトラオールおよび式
のヘキシル－ペンタオール
から選択されるＣ５～Ｃ７ポリオールであり；
ｎは１または２であり、好ましくはｎは１であり；
ｍは１、２、３、４、５または６であり、好ましくはｍは１であり；
Ｒ１はＣ１～Ｃ６アルキル、好ましくはＣ４アルキルであり、より好ましくはｔ－ブチルである）
で示される保護された二量体リガンドを脱保護して、
式Ｉｄ
（式中、Ｒ、ｎ、およびｍは、式Ｉｂに関して上に定義された通りである）
で示される対応する二量体リガンドの溶液を得る方法であり、
以下の工程：
ａ）保護された二量体リガンドの溶液、好ましくは水溶液を提供する工程；
ｂ）前工程の溶液に酸、好ましくは無機酸を添加して、そのｐＨを低下させる工程；
ｃ）工程ｂ）中および／または工程ｂ）後に、反応混合物の温度を、４０℃より高く、好ましくは４０℃より高く６０℃まで、より好ましくは４５～５５℃の範囲内の温度に加熱および／または維持して、保護された二量体リガンドを脱保護し、それによって二量体リガンドを含む溶液を得る工程；および
ｄ）場合により、工程ｃ）で得られた二量体リガンドを含む溶液に例えばＮａＯＨなどの塩基を添加することによって、二量体リガンドを中和し、それによって二量体リガンドのカルボキシル基をプロトン化する工程
を含む。
【化17】
（式中、Ｒは、少なくとも２個のヒドロキシル基を含むＣ３～Ｃ１２ヒドロキシアルキルであり、好ましくはＲは、
例えば式
【化18】
のペンチル－テトラオールおよび式
【化19】
のヘキシル－ペンタオール
から選択されるＣ５～Ｃ７ポリオールであり；
ｎは１または２であり、好ましくはｎは１であり；
ｍは１、２、３、４、５または６であり、好ましくはｍは１であり；
Ｒ１はＣ１～Ｃ６アルキル、好ましくはＣ４アルキルであり、より好ましくはｔ－ブチルである）
で示される保護された二量体リガンドを脱保護して、
式Ｉｄ
【化20】
（式中、Ｒ、ｎ、およびｍは、式Ｉｂに関して上に定義された通りである）
で示される対応する二量体リガンドの溶液を得る方法であり、
以下の工程：
ａ）保護された二量体リガンドの溶液、好ましくは水溶液を提供する工程；
ｂ）前工程の溶液に酸、好ましくは無機酸を添加して、そのｐＨを低下させる工程；
ｃ）工程ｂ）中および／または工程ｂ）後に、反応混合物の温度を、４０℃より高く、好ましくは４０℃より高く６０℃まで、より好ましくは４５～５５℃の範囲内の温度に加熱および／または維持して、保護された二量体リガンドを脱保護し、それによって二量体リガンドを含む溶液を得る工程；および
ｄ）場合により、工程ｃ）で得られた二量体リガンドを含む溶液に例えばＮａＯＨなどの塩基を添加することによって、二量体リガンドを中和し、それによって二量体リガンドのカルボキシル基をプロトン化する工程
を含む。
【0080】
脱保護の方法の好ましい実施形態によれば、式ＩｂおよびＩｄにおいて、ｎおよびｍは、独立して１または２であり、より好ましくはｎとｍは両方とも１であり；この後者のより好ましい場合は、式Ｉｄが上に記載した式Ｉａに対応する。
【0081】
脱保護方法のさらに好ましい実施形態によれば、保護された二量体リガンドは、化合物１ｂ
であり、得られる溶液は、対応する二量体リガンドが化合物１ａ
である。
【化21】
であり、得られる溶液は、対応する二量体リガンドが化合物１ａ
【化22】
である。
【0082】
実験の項に示されるように、この脱保護方法、具体的には工程ｃ）は、非常に短い時間（具体的には、２４時間未満、例えば８～２０時間、好ましくは１２～１８時間、より好ましくは１６時間の反応時間）で脱保護が可能であるため、非常に有利である。
【0083】
さらに、この脱保護方法、具体的には工程ｃ）は、工程ｂ）中に低量の酸を使用することによって、保護された二量体リガンドが脱保護される。実際、保護された二量体リガンドの１モルに対して、１０～４５モル、好ましくは１０～３５モル、より好ましくは１５～２５モルの量の酸（例えば上記のものなど、好ましくはＨＣｌ）が、この脱保護方法で使用され得る。これは、試薬の節約、同様に脱保護方法中の塩の生成を低減するという利点がある。例えば、ＨＣｌが工程ｂ）で酸として使用される場合、低量のＨＣｌを使用することで、後で二量体リガンドを中和するために、任意での工程ｄ）でＮａＯＨが使用される場合に形成されるＮａＣｌ塩の量が低減し；工程ｂ）で他の酸を使用する場合も同様である。
【0084】
好ましくは、工程ｃ）で添加される酸は、Ｈ２ＳＯ４、Ｈ３ＰＯ４、ＨＣｌ、ＨＢｒなどの無機酸である。ＨＣｌ、ＨＢｒなどの、１価の負電荷を有する対イオンを含む無機酸は、特に、脱保護方法を本明細書で詳述されるガドリニウム錯体の溶液の製造方法の上流で使用する場合、これらは遊離ガドリニウム金属イオンと相互作用する傾向がなく、精製プロセス中に（例えばナノ濾過によって）より容易に除去されるため、特に好ましい。
【0085】
この脱保護方法の多くの利点から、本明細書に記載されるガドリニウム錯体の溶液を製造する方法の二量体リガンドの溶液は、特に式ＩｂおよびＩｄのｍとｎの両方が１である場合か、または保護された二量体リガンドが化合物１ｂである場合、好ましくは、その実施形態のいずれかにより本明細書に開示される脱保護方法を実行することによって提供される。
【0086】
脱保護方法の一実施形態によれば、ＨＣｌが酸として使用される場合、ＨＣｌは、３４％ｗ／ｗの塩酸水溶液として、工程ｂ）の溶液に添加される。
【0087】
脱保護方法の好ましい実施形態によれば、工程ａ）の溶液中の保護された二量体リガンドの初濃度は、５％～２０％（ｗ／ｗ）の範囲、好ましくは１２％～１８％（ｗ／ｗ）の範囲である。
【0088】
脱保護方法の好ましい実施形態によれば、任意での工程ｄ）（二量体リガンドの中和）は、反応混合物のｐＨを、４～７、好ましくは５～６、より好ましくは５．３～５．７、さらにより好ましくは５．５までの値に調整することによって実行され得る。これは、好ましくは、上述のｐＨに到達するように、好適な量の塩基、ＮａＯＨなどを添加することによって行われる。
【0089】
脱保護方法の工程ｃ）の後、すなわちＣ１～Ｃ６アルキル基Ｒ１（または化合物１ｂが保護された二量体リガンドである場合、Ｃ４アルキルｔＢｕ）を加水分解した後、対応する脱保護された二量体リガンドおよびＲ１の（またはｔＢｕの）対応するアルコールを含む溶液が得られる。したがって、さらに好ましい実施形態によれば、工程ｃ）の後、好ましくは任意での工程ｄ）の後に（実行された場合）、ｔＢｕＯＨ（Ｒ１がｔＢｕである場合）などのＲ１の対応するアルコールは、脱保護された二量体リガンドを含む溶液から、好ましくはそのような溶液を蒸留することによって除去される。好ましい実施形態によれば、二量体リガンドを含む溶液は、二量体リガンドの最終濃度が、８％～１２％（ｗ／ｗ）、より好ましくは９％～１１％（ｗ／ｗ）の範囲、さらにより好ましくは１０％（ｗ／ｗ）になるまで蒸留される。
【0090】
実験セクション
以下の実施例は、本発明をさらに説明するものであり、本発明の範囲の限定を意味するものではない。
以下の実施例は、本発明をさらに説明するものであり、本発明の範囲の限定を意味するものではない。
【実施例】
【0091】
実施例１－二量体リガンドの脱保護
水中の保護された二量体リガンド化合物１ｂ（１８６．０８ｇ、０．１４１ｍｏｌ）
の混合物（１５０１．５６ｇ、濃度１２．４％（ｗ／ｗ））に、温度を３０℃に維持しながら、３４％ｗ／ｗの塩酸水溶液（４３５．６５ｇ、４．０６ｍｏｌ、化合物１ｂに対して３０当量ｍｏｌ）を添加する。添加の終了時に、混合物を５０℃に加熱し、撹拌下で１６時間保持する。完全に脱保護した後、３０％ｗ／ｗの水酸化ナトリウム水溶液をｐＨ５．６まで添加し、化合物１ａを得る。副生物として形成したｔ－ブタノールを、蒸留によって除去する。化合物１ａを含有する溶液を、約１０％（ｗ／ｗ）の最終濃度まで、５０℃にて真空下で蒸留により濃縮する。
水中の保護された二量体リガンド化合物１ｂ（１８６．０８ｇ、０．１４１ｍｏｌ）
【化23】
の混合物（１５０１．５６ｇ、濃度１２．４％（ｗ／ｗ））に、温度を３０℃に維持しながら、３４％ｗ／ｗの塩酸水溶液（４３５．６５ｇ、４．０６ｍｏｌ、化合物１ｂに対して３０当量ｍｏｌ）を添加する。添加の終了時に、混合物を５０℃に加熱し、撹拌下で１６時間保持する。完全に脱保護した後、３０％ｗ／ｗの水酸化ナトリウム水溶液をｐＨ５．６まで添加し、化合物１ａを得る。副生物として形成したｔ－ブタノールを、蒸留によって除去する。化合物１ａを含有する溶液を、約１０％（ｗ／ｗ）の最終濃度まで、５０℃にて真空下で蒸留により濃縮する。
【0092】
実施例２－二量体ガドリニウム錯体の溶液の調製
実施例１で得られた二量体リガンド１－［ビス［２－ヒドロキシ－３－［４，７，１０－トリス（カルボキシメチル）－１，４，７，１０－テトラアザシクロドデカ－１－イル］プロピル］アミノ］－１－デオキシ－Ｄ－グルシトール（化合物１ａ）
の溶液を第１の反応器に入れ、４０℃に加熱する。塩化ガドリニウム溶液（化合物１ａの１モルに対して２．１モル）を、温度を３７～４３℃の範囲に維持しながら添加する。添加の終了時に、１０％ｗ／ｗの水酸化ナトリウム水溶液を添加し、ｐＨを５．５に調整する。混合物を４０℃で３時間維持する。
ガドリニウム錯体［μ－［１－［ビス［２－（ヒドロキシ－κＯ）－３－［４，７，１０－トリス［（カルボキシ－κＯ）メチル］－１，４，７，１０－テトラアザシクロドデカ－１－イル－κＮ１，κＮ４，κＮ７，κＮ１０］プロピル］アミノ］－１－デオキシ－Ｄ－グルシトレート（６－）］］ジガドリニウム（化合物１）
を含む中間体溶液をこのようにして得、モノ－ガドリニウム化錯体（モノＧｄ）および遊離ガドリニウム金属イオン（遊離Ｇｄ）の量を測定する。
次に、実施例１および錯体化工程で生成した塩をナノ濾過によって除去し；ダイアフィルトレーションを、伝導率値が１．０ｍＳ／ｃｍより低くなるまで実施する。この脱塩工程は、遊離ガドリニウム金属イオンも、モノ－ガドリニウム化錯体も除去することはない。ナノ濾過の終了時に、混合物を１０～１２％ｗ／ｗまで濃縮し、遊離ガドリニウム金属イオン（遊離Ｇｄ）に対して１．５ｍｏｌ／ｍｏｌのＮａ２ＨＰＯ４を溶液に添加する。Ｎａ２ＨＰＯ４の添加後、溶液のｐＨを各試験について測定し、以下の表Ｉに示す（「ｐＨ開始時」の列）；白色沈殿の形成が観察される。次にｐＨを、表Ｉの「ｐＨ終了時」の列に示した値に調整する。混合物を、撹拌下で２時間保持する。最後に、懸濁液を濾過し、モノ－ガドリニウム化錯体（モノＧｄ）および遊離ガドリニウム金属イオン（遊離Ｇｄ）の量を測定する。これらの量、ならびに錯体化後に得られた量を、以下の表Ｉに示す。
表Ｉに示された結果に基づき、上に示した試験１～１１の全てに関して、遊離Ｇｄの量の顕著な減少があることを観察することができる。試験１～５および７～１１の全ての溶液は、定量化できない量のモノ－Ｇｄ、すなわち４００ｐｐｍ未満の量のモノ－Ｇｄを含有し；試験６は、ｐＨ４．５４において、ＬｏＱより高い量のモノＧｄ、すなわち化合物１に対して５３８ｐｐｍの量が存在する。表Ｉはまた、ｐＨを４．９～８．３の範囲内に維持しながら、ＬｏＱより少ない量のモノＧｄおよび低量の遊離Ｇｄが得られることを示す。
実施例１で得られた二量体リガンド１－［ビス［２－ヒドロキシ－３－［４，７，１０－トリス（カルボキシメチル）－１，４，７，１０－テトラアザシクロドデカ－１－イル］プロピル］アミノ］－１－デオキシ－Ｄ－グルシトール（化合物１ａ）
【化24】
の溶液を第１の反応器に入れ、４０℃に加熱する。塩化ガドリニウム溶液（化合物１ａの１モルに対して２．１モル）を、温度を３７～４３℃の範囲に維持しながら添加する。添加の終了時に、１０％ｗ／ｗの水酸化ナトリウム水溶液を添加し、ｐＨを５．５に調整する。混合物を４０℃で３時間維持する。
ガドリニウム錯体［μ－［１－［ビス［２－（ヒドロキシ－κＯ）－３－［４，７，１０－トリス［（カルボキシ－κＯ）メチル］－１，４，７，１０－テトラアザシクロドデカ－１－イル－κＮ１，κＮ４，κＮ７，κＮ１０］プロピル］アミノ］－１－デオキシ－Ｄ－グルシトレート（６－）］］ジガドリニウム（化合物１）
【化25】
を含む中間体溶液をこのようにして得、モノ－ガドリニウム化錯体（モノＧｄ）および遊離ガドリニウム金属イオン（遊離Ｇｄ）の量を測定する。
次に、実施例１および錯体化工程で生成した塩をナノ濾過によって除去し；ダイアフィルトレーションを、伝導率値が１．０ｍＳ／ｃｍより低くなるまで実施する。この脱塩工程は、遊離ガドリニウム金属イオンも、モノ－ガドリニウム化錯体も除去することはない。ナノ濾過の終了時に、混合物を１０～１２％ｗ／ｗまで濃縮し、遊離ガドリニウム金属イオン（遊離Ｇｄ）に対して１．５ｍｏｌ／ｍｏｌのＮａ２ＨＰＯ４を溶液に添加する。Ｎａ２ＨＰＯ４の添加後、溶液のｐＨを各試験について測定し、以下の表Ｉに示す（「ｐＨ開始時」の列）；白色沈殿の形成が観察される。次にｐＨを、表Ｉの「ｐＨ終了時」の列に示した値に調整する。混合物を、撹拌下で２時間保持する。最後に、懸濁液を濾過し、モノ－ガドリニウム化錯体（モノＧｄ）および遊離ガドリニウム金属イオン（遊離Ｇｄ）の量を測定する。これらの量、ならびに錯体化後に得られた量を、以下の表Ｉに示す。
【表1】
表Ｉに示された結果に基づき、上に示した試験１～１１の全てに関して、遊離Ｇｄの量の顕著な減少があることを観察することができる。試験１～５および７～１１の全ての溶液は、定量化できない量のモノ－Ｇｄ、すなわち４００ｐｐｍ未満の量のモノ－Ｇｄを含有し；試験６は、ｐＨ４．５４において、ＬｏＱより高い量のモノＧｄ、すなわち化合物１に対して５３８ｐｐｍの量が存在する。表Ｉはまた、ｐＨを４．９～８．３の範囲内に維持しながら、ＬｏＱより少ない量のモノＧｄおよび低量の遊離Ｇｄが得られることを示す。
【0093】
実施例３－残留ホスフェートの除去
実施例２で得られた試験１～９の溶液を、１～３ＢＶ／時の流速でイオン交換樹脂（Ｄｉａｉｏｎ ＰＡ３０８、予め活性化）にロードする。溶液から大部分の残留ホスフェートがこのように除去される。
実施例２で得られた試験１～９の溶液を、１～３ＢＶ／時の流速でイオン交換樹脂（Ｄｉａｉｏｎ ＰＡ３０８、予め活性化）にロードする。溶液から大部分の残留ホスフェートがこのように除去される。
【0094】
実施例４－残留ホスフェートの除去
実施例２で得られた試験１～９の溶液に、Ｃａ（ＯＨ）２（Ｎａ２ＨＰＯ４に対して１ｍｏｌ／ｍｏｌ）を添加し、ｐＨを約９まで上昇させる。こうして、沈殿アニオンを含む（ガドリニウムは含まない）不溶性白色沈殿物の形成が観察される。混合物を、撹拌下で２時間保持する。次に、懸濁液を濾過し、ケーキを水で洗浄し、このようにして大部分の残留ホスフェートの除去を達成する。
実施例２で得られた試験１～９の溶液に、Ｃａ（ＯＨ）２（Ｎａ２ＨＰＯ４に対して１ｍｏｌ／ｍｏｌ）を添加し、ｐＨを約９まで上昇させる。こうして、沈殿アニオンを含む（ガドリニウムは含まない）不溶性白色沈殿物の形成が観察される。混合物を、撹拌下で２時間保持する。次に、懸濁液を濾過し、ケーキを水で洗浄し、このようにして大部分の残留ホスフェートの除去を達成する。
【0095】
実施例５－二量体ガドリニウム錯体のさらなる精製および単離
実施例３の溶液を、第２の反応器に入れ、希ＨＣｌの添加によって、各溶液のｐＨを５．７～６．３に調整し、ガドリニウム錯体の分析結果が約２０～２５％ｗ／ｗとなるまで、水を４５～５５℃にて真空下で蒸留する。濃縮された溶液を、０．５ＢＶ／時の流速で、予め活性化したＡｍｂｅｒｌｉｔｅ ＸＡＤ１６００（樹脂の量：生成物の３０ｍＬ／ｇ）にロードする。水およびイソプロパノールと水の混合物を用いて、精製を実施する。
高純度を有する画分（ＨＰＬＣ－ＦＬＤ／ＵＶでの評価）を、別の反応器に入れる。予じめ濃縮した後、炭素を用いた処理を実施する。炭素を除去するために懸濁液を濾過し、溶液を４５～５５℃において真空下で２５％ｗ／ｗの濃度まで濃縮する。
ガドリニウム錯体化合物１
を含有する溶液を真空下で乾燥することにより、最終的にガドリニウム錯体化合物１を単離する。
実施例３の溶液を、第２の反応器に入れ、希ＨＣｌの添加によって、各溶液のｐＨを５．７～６．３に調整し、ガドリニウム錯体の分析結果が約２０～２５％ｗ／ｗとなるまで、水を４５～５５℃にて真空下で蒸留する。濃縮された溶液を、０．５ＢＶ／時の流速で、予め活性化したＡｍｂｅｒｌｉｔｅ ＸＡＤ１６００（樹脂の量：生成物の３０ｍＬ／ｇ）にロードする。水およびイソプロパノールと水の混合物を用いて、精製を実施する。
高純度を有する画分（ＨＰＬＣ－ＦＬＤ／ＵＶでの評価）を、別の反応器に入れる。予じめ濃縮した後、炭素を用いた処理を実施する。炭素を除去するために懸濁液を濾過し、溶液を４５～５５℃において真空下で２５％ｗ／ｗの濃度まで濃縮する。
ガドリニウム錯体化合物１
【化26】
を含有する溶液を真空下で乾燥することにより、最終的にガドリニウム錯体化合物１を単離する。
【0096】
実施例６－シュウ酸二ナトリウムを用いる遊離ガドリニウムイオンの沈殿（比較例）
比較のための沈殿工程として、シュウ酸ナトリウムなどの沈殿剤を過剰量で使用する実験例を実施し、今回はシュウ酸二ナトリウムの添加した後、ｐＨを調整する。
実施例１の反応条件で錯体化することによって得られた、遊離ガドリニウムを含有する化合物１の２０％ｗ／ｗ溶液に対し、モノ－ガドリニウム化錯体（モノＧｄ）および遊離ガドリニウム金属イオン（遊離Ｇｄ）の量を測定し、下の表ＩＶに示す。次に、過剰量のシュウ酸二ナトリウムを添加する（遊離Ｇｄの１ｍｏｌに対して１０ｍｏｌ）。
シュウ酸塩の添加後、ｐＨは５．９１から８．４５まで上昇し、白色固体の形成が即座に観察される。次に、１ＮのＨＣｌを用いて、ｐＨを約６まで低下させ、そのまま維持する。シュウ酸ナトリウムの添加の終了時に、混合物を５℃に冷却し、この温度で２時間維持する。
懸濁液を濾過した後、モノ－ガドリニウム化錯体および遊離ガドリニウム金属イオンの含有量を測定し、表ＩＶに示す。
上の表ＩＶに示された結果によれば、シュウ酸塩を用いた遊離ガドリニウム金属イオンの沈殿は、ＬｏＱより高い量のモノ－ガドリニウム化錯体を含む溶液を提供する。上述のように、モノ－ガドリニウム化錯体は、（ジ－ガドリニウム化）Ｇｄ（ＩＩＩ）錯体、例えば錯体化合物１の好ましい特性を示さない。したがって、過剰量のシュウ酸塩などの、過剰量の沈殿剤を用いた遊離ガドリニウム金属イオンの沈殿は、ＬｏＱを超える、すなわち４００ｐｐｍ超の量のモノ－ガドリニウム化錯体を含有する溶液を提供する。
比較のための沈殿工程として、シュウ酸ナトリウムなどの沈殿剤を過剰量で使用する実験例を実施し、今回はシュウ酸二ナトリウムの添加した後、ｐＨを調整する。
実施例１の反応条件で錯体化することによって得られた、遊離ガドリニウムを含有する化合物１の２０％ｗ／ｗ溶液に対し、モノ－ガドリニウム化錯体（モノＧｄ）および遊離ガドリニウム金属イオン（遊離Ｇｄ）の量を測定し、下の表ＩＶに示す。次に、過剰量のシュウ酸二ナトリウムを添加する（遊離Ｇｄの１ｍｏｌに対して１０ｍｏｌ）。
シュウ酸塩の添加後、ｐＨは５．９１から８．４５まで上昇し、白色固体の形成が即座に観察される。次に、１ＮのＨＣｌを用いて、ｐＨを約６まで低下させ、そのまま維持する。シュウ酸ナトリウムの添加の終了時に、混合物を５℃に冷却し、この温度で２時間維持する。
懸濁液を濾過した後、モノ－ガドリニウム化錯体および遊離ガドリニウム金属イオンの含有量を測定し、表ＩＶに示す。
【表2】
上の表ＩＶに示された結果によれば、シュウ酸塩を用いた遊離ガドリニウム金属イオンの沈殿は、ＬｏＱより高い量のモノ－ガドリニウム化錯体を含む溶液を提供する。上述のように、モノ－ガドリニウム化錯体は、（ジ－ガドリニウム化）Ｇｄ（ＩＩＩ）錯体、例えば錯体化合物１の好ましい特性を示さない。したがって、過剰量のシュウ酸塩などの、過剰量の沈殿剤を用いた遊離ガドリニウム金属イオンの沈殿は、ＬｏＱを超える、すなわち４００ｐｐｍ超の量のモノ－ガドリニウム化錯体を含有する溶液を提供する。
【0097】
実施例７－リン酸三カリウムを用いる遊離ガドリニウムイオンの沈殿
実施例２の反応条件で錯体化することによって得られた、遊離ガドリニウムを含有する化合物１の１０％ｗ／ｗ溶液に対し、モノ－ガドリニウム化錯体（モノＧｄ）および遊離ガドリニウム金属イオン（遊離Ｇｄ）の含有量を測定する。次に、溶液にＫ３ＰＯ４を添加する（遊離Ｇｄのモルに対して１．５ｍｏｌ）。
リン酸塩の添加後、ｐＨは５．４２から９．００まで上昇し、白色固体の形成が即座に観察される。混合物を、撹拌下で室温において２時間、ｐＨ９．００で維持し、次に、固体を濾過して溶液を得る。遊離ガドリニウム金属イオン（遊離Ｇｄ）およびモノ－ガドリニウム化錯体（モノＧｄ）の含有量を測定し、以下の表Ｖに示す。
表Ｖに示された結果に基づき、沈殿剤としてホスフェートを用いた沈殿によって、遊離Ｇｄの量の顕著な減少を観察することができる。さらに、溶液中のモノ－Ｇｄの含有量は、定量化できない量（すなわち４００ｐｐｍ未満）である。さらに、表Ｖは、ｐＨ９．０で、遊離Ｇｄを低量に、モノＧｄをＬｏＱより少ない量にすることが可能であることを示す。
実施例２の反応条件で錯体化することによって得られた、遊離ガドリニウムを含有する化合物１の１０％ｗ／ｗ溶液に対し、モノ－ガドリニウム化錯体（モノＧｄ）および遊離ガドリニウム金属イオン（遊離Ｇｄ）の含有量を測定する。次に、溶液にＫ３ＰＯ４を添加する（遊離Ｇｄのモルに対して１．５ｍｏｌ）。
リン酸塩の添加後、ｐＨは５．４２から９．００まで上昇し、白色固体の形成が即座に観察される。混合物を、撹拌下で室温において２時間、ｐＨ９．００で維持し、次に、固体を濾過して溶液を得る。遊離ガドリニウム金属イオン（遊離Ｇｄ）およびモノ－ガドリニウム化錯体（モノＧｄ）の含有量を測定し、以下の表Ｖに示す。
【表3】
表Ｖに示された結果に基づき、沈殿剤としてホスフェートを用いた沈殿によって、遊離Ｇｄの量の顕著な減少を観察することができる。さらに、溶液中のモノ－Ｇｄの含有量は、定量化できない量（すなわち４００ｐｐｍ未満）である。さらに、表Ｖは、ｐＨ９．０で、遊離Ｇｄを低量に、モノＧｄをＬｏＱより少ない量にすることが可能であることを示す。
【0098】
実施例８－酒石酸水素カリウムを用いる遊離ガドリニウムイオンの沈殿（比較例）
実施例２の反応条件で錯体化することによって得られた、遊離ガドリニウムを含有する化合物１の１０％ｗ／ｗ溶液に、酒石酸水素カリウムを添加し（遊離Ｇｄの１ｍｏｌに対して２ｍｏｌ）、わずかな懸濁が観察される。
酒石酸水素塩の添加後、ｐＨは、５．４２から４．２１まで低下する。混合物を、撹拌下で室温において２時間維持し、次に、固体を濾過して溶液を得る。遊離ガドリニウム金属イオン（遊離Ｇｄ）およびモノ－ガドリニウム化錯体（モノＧｄ）の含有量を測定し、以下の表ＶＩに示す。
上の表ＶＩに示された結果によれば、酒石酸水素塩を用いた遊離ガドリニウム金属イオンの沈殿は、高量の遊離ガドリニウム金属イオンを含有する溶液をもたらし、これは満足できるものではない。そのような高量の遊離ガドリニウム金属イオンは、例えば少なくとも１回のさらなる精製工程によって、好適な医薬的量まで効率的かつ効果的に低減することができないためである。
実施例２の反応条件で錯体化することによって得られた、遊離ガドリニウムを含有する化合物１の１０％ｗ／ｗ溶液に、酒石酸水素カリウムを添加し（遊離Ｇｄの１ｍｏｌに対して２ｍｏｌ）、わずかな懸濁が観察される。
酒石酸水素塩の添加後、ｐＨは、５．４２から４．２１まで低下する。混合物を、撹拌下で室温において２時間維持し、次に、固体を濾過して溶液を得る。遊離ガドリニウム金属イオン（遊離Ｇｄ）およびモノ－ガドリニウム化錯体（モノＧｄ）の含有量を測定し、以下の表ＶＩに示す。
【表4】
上の表ＶＩに示された結果によれば、酒石酸水素塩を用いた遊離ガドリニウム金属イオンの沈殿は、高量の遊離ガドリニウム金属イオンを含有する溶液をもたらし、これは満足できるものではない。そのような高量の遊離ガドリニウム金属イオンは、例えば少なくとも１回のさらなる精製工程によって、好適な医薬的量まで効率的かつ効果的に低減することができないためである。
【0099】
実施例９－クエン酸水素二ナトリウムを用いる遊離ガドリニウムイオンの沈殿（比較例）
実施例２の反応条件で錯体化することによって得られた、遊離ガドリニウムを含有する化合物１の１０％ｗ／ｗ溶液に、クエン酸水素二ナトリウムを添加する（遊離Ｇｄの１ｍｏｌに対して１．５ｍｏｌ）。
沈殿は観察されず、したがって試験を中止する。沈殿が観察されないため、化合物１の溶液中の遊離ガドリニウム金属イオンの量が高過ぎ満足できるものではないと考えられる。そのような高量の遊離ガドリニウム金属イオンは、例えば少なくとも１回のさらなる精製工程によって、好適な医薬的量まで効率的かつ効果的に低減することができないためである。
実施例２の反応条件で錯体化することによって得られた、遊離ガドリニウムを含有する化合物１の１０％ｗ／ｗ溶液に、クエン酸水素二ナトリウムを添加する（遊離Ｇｄの１ｍｏｌに対して１．５ｍｏｌ）。
沈殿は観察されず、したがって試験を中止する。沈殿が観察されないため、化合物１の溶液中の遊離ガドリニウム金属イオンの量が高過ぎ満足できるものではないと考えられる。そのような高量の遊離ガドリニウム金属イオンは、例えば少なくとも１回のさらなる精製工程によって、好適な医薬的量まで効率的かつ効果的に低減することができないためである。
【0100】
実施例１０－酢酸ナトリウムを用いる遊離ガドリニウムイオンの沈殿（比較例）
実施例２の反応条件で錯体化することによって得られた、遊離ガドリニウムを含有する化合物１の１０％ｗ／ｗ溶液に、酢酸ナトリウムを添加する（遊離Ｇｄの１ｍｏｌに対して４．５ｍｏｌ）。
沈殿は観察されず、したがって試験を中止する。沈殿が観察されないため、化合物１の溶液中の遊離ガドリニウム金属イオンの量が高過ぎ満足できるものではないと考えられる。そのような高量の遊離ガドリニウム金属イオンは、例えば少なくとも１回のさらなる精製工程によって、好適な医薬的量まで効率的かつ効果的に低減することができないためである。
実施例２の反応条件で錯体化することによって得られた、遊離ガドリニウムを含有する化合物１の１０％ｗ／ｗ溶液に、酢酸ナトリウムを添加する（遊離Ｇｄの１ｍｏｌに対して４．５ｍｏｌ）。
沈殿は観察されず、したがって試験を中止する。沈殿が観察されないため、化合物１の溶液中の遊離ガドリニウム金属イオンの量が高過ぎ満足できるものではないと考えられる。そのような高量の遊離ガドリニウム金属イオンは、例えば少なくとも１回のさらなる精製工程によって、好適な医薬的量まで効率的かつ効果的に低減することができないためである。
【0101】
実施例１１－塩基性化によるＧｄ（ＯＨ）３としての遊離ガドリニウムイオンの沈殿（比較例）
化合物１に対して７０００ｐｐｍの遊離ガドリニウムを含有する化合物１の１６％ｗ／ｗ溶液に、ｐＨ８．６５まで、３０％のＮａＯＨ溶液を添加する。
沈殿は観察されない。
上記の試験を、（ｉ）種々の濃度の化合物１（具体的には、１６～２０％ｗ／ｗの濃度の化合物１）および（ｉｉ）種々の量の遊離ガドリニウム金属イオン（具体的には、化合物１に対して２３０～２５０００ｐｐｍの遊離ガドリニウム金属イオン）を含有する数種の溶液を使用して繰り返した。
全ての場合に、沈殿は観察されない。したがって、ガドリニウムイオンは、塩基性条件でＧｄ（ＯＨ）３として沈殿することが知られているが、この塩基性化手順による沈殿は、化合物１の溶液のような本明細書で定義されるガドリニウム錯体の溶液に関して、遊離ガドリニウム金属イオンを好適に低減するために使用することはできない。
化合物１に対して７０００ｐｐｍの遊離ガドリニウムを含有する化合物１の１６％ｗ／ｗ溶液に、ｐＨ８．６５まで、３０％のＮａＯＨ溶液を添加する。
沈殿は観察されない。
上記の試験を、（ｉ）種々の濃度の化合物１（具体的には、１６～２０％ｗ／ｗの濃度の化合物１）および（ｉｉ）種々の量の遊離ガドリニウム金属イオン（具体的には、化合物１に対して２３０～２５０００ｐｐｍの遊離ガドリニウム金属イオン）を含有する数種の溶液を使用して繰り返した。
全ての場合に、沈殿は観察されない。したがって、ガドリニウムイオンは、塩基性条件でＧｄ（ＯＨ）３として沈殿することが知られているが、この塩基性化手順による沈殿は、化合物１の溶液のような本明細書で定義されるガドリニウム錯体の溶液に関して、遊離ガドリニウム金属イオンを好適に低減するために使用することはできない。
【0102】
実施例１２－シュウ酸二ナトリウムを用いる遊離ガドリニウムイオンの沈殿
実施例２の反応条件で錯体化することによって得られた、遊離ガドリニウムを含有する化合物１の１０％ｗ／ｗ溶液に対し、モノ－ガドリニウム化錯体（モノＧｄ）および遊離ガドリニウム金属イオン（遊離Ｇｄ）の含有量を測定する。次に、溶液にシュウ酸二ナトリウムを添加する（遊離Ｇｄに対して２．２５ｍｏｌ／ｍｏｌ）。
シュウ酸塩の添加後、ｐＨは５．５６から７．７８まで上昇し、白色固体の形成が即座に観察される。次に、１ＮのＨＣｌを用いて、ｐＨを６．４３まで低下させる。混合の終了時に、室温で２時間維持する。
懸濁液を濾過した後、モノ－ガドリニウム化錯体および遊離ガドリニウム金属イオンの含有量を測定する。モノ－ガドリニウム化錯体（モノＧｄ）および遊離ガドリニウム金属イオン（遊離Ｇｄ）の含有量を、以下の表ＶＩＩに示す。
表ＶＩＩは、上記の試験（特に、沈殿剤としてシュウ酸塩を好適な量で含む試験）を実施することで、遊離Ｇｄの含有量が非常に低くモノＧｄの含有量がＬｏＱより低い溶液が得られることを明確に示している。
実施例２の反応条件で錯体化することによって得られた、遊離ガドリニウムを含有する化合物１の１０％ｗ／ｗ溶液に対し、モノ－ガドリニウム化錯体（モノＧｄ）および遊離ガドリニウム金属イオン（遊離Ｇｄ）の含有量を測定する。次に、溶液にシュウ酸二ナトリウムを添加する（遊離Ｇｄに対して２．２５ｍｏｌ／ｍｏｌ）。
シュウ酸塩の添加後、ｐＨは５．５６から７．７８まで上昇し、白色固体の形成が即座に観察される。次に、１ＮのＨＣｌを用いて、ｐＨを６．４３まで低下させる。混合の終了時に、室温で２時間維持する。
懸濁液を濾過した後、モノ－ガドリニウム化錯体および遊離ガドリニウム金属イオンの含有量を測定する。モノ－ガドリニウム化錯体（モノＧｄ）および遊離ガドリニウム金属イオン（遊離Ｇｄ）の含有量を、以下の表ＶＩＩに示す。
【表5】
表ＶＩＩは、上記の試験（特に、沈殿剤としてシュウ酸塩を好適な量で含む試験）を実施することで、遊離Ｇｄの含有量が非常に低くモノＧｄの含有量がＬｏＱより低い溶液が得られることを明確に示している。
【0103】
ＨＰＬＣ手順１－遊離ガドリニウム金属イオン（遊離－Ｇｄ）の量の決定
ガドリニウム錯体（例えば化合物１）の量に対する、遊離ガドリニウム金属イオンの量を、ＦＬＤ（蛍光検出器）検出を備える逆相ＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィー）によって決定する。移動相においてＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸）を用い、試料中に存在する遊離Ｇｄ（ＩＩＩ）をＧｄ（ＥＤＴＡ）錯体に形成させる。
クロマトグラフィー条件
機器 溶媒デリバリー系、５℃における冷却オートサンプラー、カラム恒温装置、脱ガス装置および蛍光検出器または同等のものを装備したＡｇｉｌｅｎｔ １１００液体クロマトグラフ
カラム ＹＭＣ－ＰＡＣＫ ＯＤＳ－ＡＱ、２５０×４．６ｍｍ、５μｍの粒度（ＹＭＣ、ｃｏｄ．ＡＱ１２Ｓ０５－２５４６ＷＴ）
温度：４０℃
移動相：Ａ：ＣＨ３ＣＯＯＮＨ４（１．５ｇ／Ｌ）、ＥＤＴＡ（０．５５ｇ／Ｌ）
Ｂ：メタノール
流速：１ｍＬ／分
検出（ＦＬＤ）：波長励起＝２７５ｎｍ
波長発光＝３１４ｎｍ
実行時間：２５分
取得時間：６分
注入容量：２０μＬ
参照ピーク：Ｇｄ（ＥＤＴＡ）
溶離：勾配 時間（分） ％Ｂ
０ ０
５ ０
１０ ５０
１５ ５０
１６ ０
２５ ０
ガドリニウム錯体（例えば化合物１）の量に対する、遊離ガドリニウム金属イオンの量を、ＦＬＤ（蛍光検出器）検出を備える逆相ＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィー）によって決定する。移動相においてＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸）を用い、試料中に存在する遊離Ｇｄ（ＩＩＩ）をＧｄ（ＥＤＴＡ）錯体に形成させる。
クロマトグラフィー条件
機器 溶媒デリバリー系、５℃における冷却オートサンプラー、カラム恒温装置、脱ガス装置および蛍光検出器または同等のものを装備したＡｇｉｌｅｎｔ １１００液体クロマトグラフ
カラム ＹＭＣ－ＰＡＣＫ ＯＤＳ－ＡＱ、２５０×４．６ｍｍ、５μｍの粒度（ＹＭＣ、ｃｏｄ．ＡＱ１２Ｓ０５－２５４６ＷＴ）
温度：４０℃
移動相：Ａ：ＣＨ３ＣＯＯＮＨ４（１．５ｇ／Ｌ）、ＥＤＴＡ（０．５５ｇ／Ｌ）
Ｂ：メタノール
流速：１ｍＬ／分
検出（ＦＬＤ）：波長励起＝２７５ｎｍ
波長発光＝３１４ｎｍ
実行時間：２５分
取得時間：６分
注入容量：２０μＬ
参照ピーク：Ｇｄ（ＥＤＴＡ）
溶離：勾配 時間（分） ％Ｂ
０ ０
５ ０
１０ ５０
１５ ５０
１６ ０
２５ ０
【0104】
溶液調製
移動相
１０００ｍＬのメスフラスコに、１．５ｇの酢酸アンモニウムを正確に量り取り、精製水で溶解し、０．７０ｇのエチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩無水物を添加し、次に精製水で定容まで希釈する。
希釈溶液
１０００ｍＬのメスフラスコに、３ｇの酢酸アンモニウムを正確に量り取り、精製水で溶解し、１．４ｇのエチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩無水物を添加し、次に精製水で定容まで希釈する。
ブランク溶液
０．５ｍＬの精製水をバイアルに移し、０．５ｍＬの希釈溶液を添加する。よく混合し、クロマトグラフィー（ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙｃ）システムに直接注入する。
参照溶液
５０ｍＬのメスフラスコに、０．３２ｇの酢酸ガドリニウム水和物（無水基準で表示され、使用前に水含有量を決定する）を量り取り（ｗｅｉｇｈｔ）、移動相で定容まで希釈する。ガドリニウムの濃度は３ｍｇ／ｍＬである。
０．１ｍＬのこの溶液を１００ｍＬのメスフラスコに移し、移動相で定容まで希釈する。ガドリニウムの濃度は０．００３ｍｇ／ｍＬである。
ＬＯＱ溶液
１ｍＬの参照溶液を５ｍＬのメスフラスコに移し、移動相で定容まで希釈する。ガドリニウムの濃度は０．０００６ｍｇ／ｍＬである。
試験溶液
１０ｍＬのメスフラスコに、６００ｍｇの被検試料を正確に量り取り（無水基準で表示）、精製水で定容まで希釈する。式Ｉの二量体ガドリニウム錯体（例えば化合物１）の濃度は、約６０ｍｇ／ｍＬである。
０．５ｍＬのこの溶液をバイアルに移し、０．５ｍＬの希釈溶液を添加する。試料をよく混合する。希釈したら、試料を即座に冷却オートサンプラー（５～８℃）に入れ、希釈から５分内に試料を注入する。式Ｉの二量体ガドリニウム錯体（例えば化合物１）の最終濃度は、約３０ｍｇ／ｍＬである。
移動相
１０００ｍＬのメスフラスコに、１．５ｇの酢酸アンモニウムを正確に量り取り、精製水で溶解し、０．７０ｇのエチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩無水物を添加し、次に精製水で定容まで希釈する。
希釈溶液
１０００ｍＬのメスフラスコに、３ｇの酢酸アンモニウムを正確に量り取り、精製水で溶解し、１．４ｇのエチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩無水物を添加し、次に精製水で定容まで希釈する。
ブランク溶液
０．５ｍＬの精製水をバイアルに移し、０．５ｍＬの希釈溶液を添加する。よく混合し、クロマトグラフィー（ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙｃ）システムに直接注入する。
参照溶液
５０ｍＬのメスフラスコに、０．３２ｇの酢酸ガドリニウム水和物（無水基準で表示され、使用前に水含有量を決定する）を量り取り（ｗｅｉｇｈｔ）、移動相で定容まで希釈する。ガドリニウムの濃度は３ｍｇ／ｍＬである。
０．１ｍＬのこの溶液を１００ｍＬのメスフラスコに移し、移動相で定容まで希釈する。ガドリニウムの濃度は０．００３ｍｇ／ｍＬである。
ＬＯＱ溶液
１ｍＬの参照溶液を５ｍＬのメスフラスコに移し、移動相で定容まで希釈する。ガドリニウムの濃度は０．０００６ｍｇ／ｍＬである。
試験溶液
１０ｍＬのメスフラスコに、６００ｍｇの被検試料を正確に量り取り（無水基準で表示）、精製水で定容まで希釈する。式Ｉの二量体ガドリニウム錯体（例えば化合物１）の濃度は、約６０ｍｇ／ｍＬである。
０．５ｍＬのこの溶液をバイアルに移し、０．５ｍＬの希釈溶液を添加する。試料をよく混合する。希釈したら、試料を即座に冷却オートサンプラー（５～８℃）に入れ、希釈から５分内に試料を注入する。式Ｉの二量体ガドリニウム錯体（例えば化合物１）の最終濃度は、約３０ｍｇ／ｍＬである。
【0105】
分析シーケンス
ブランク ｎ＝１
ＬＯＱ溶液 ｎ＝１
参照溶液 ｎ＝６
試験溶液 ｎ＝６
参照溶液 ｎ＝１
ブランク ｎ＝１
ＬＯＱ溶液 ｎ＝１
参照溶液 ｎ＝６
試験溶液 ｎ＝６
参照溶液 ｎ＝１
【0106】
システム適合性試験
本製造方法を適用の際、毎回、システム適合性試験（ＳＳＴ）を実施する。
－ クロマトグラフィーシステムを平衡化した後、ブランク溶液を１回注入し、干渉ピークが存在しないことを検証する。
－ ＬＯＱ溶液を１回注入する
Ｇｄ（ＥＤＴＡ）ピークがＳ／Ｎ≧１０を有する場合、分析シーケンスの結果は有益である。
－ 第１の参照溶液を６回注入し、以下のＧｄ（ＥＤＴＡ）ピークに関する要件が満足されているかどうか検証する：
－ 百分率で表示されたＧｄ（ＥＤＴＡ）の面積再現性
相対標準偏差（ＲＳＤ％、ｎ＝６）≦１０％
－ 百分率で表示されたＧｄ（ＥＤＴＡ）ピークの保持時間再現性
相対標準偏差（ＲＳＤ％、ｎ＝６）≦２％
－ Ｇｄ（ＥＤＴＡ）ピークに関する対称因子、Ｔ、
式１により算出 ０．７～２．０
Ｔ＝ｗ０．０５／２ｆ 式１
式中：
ｗ０．０５＝ピーク高さの２０分の１における幅（分）
ｆ＝ピーク高さの２０分の１における、ピーク最大値から下ろした垂線と、ピーク立ち上がり端との間の距離（分）
本製造方法を適用の際、毎回、システム適合性試験（ＳＳＴ）を実施する。
－ クロマトグラフィーシステムを平衡化した後、ブランク溶液を１回注入し、干渉ピークが存在しないことを検証する。
－ ＬＯＱ溶液を１回注入する
Ｇｄ（ＥＤＴＡ）ピークがＳ／Ｎ≧１０を有する場合、分析シーケンスの結果は有益である。
－ 第１の参照溶液を６回注入し、以下のＧｄ（ＥＤＴＡ）ピークに関する要件が満足されているかどうか検証する：
－ 百分率で表示されたＧｄ（ＥＤＴＡ）の面積再現性
相対標準偏差（ＲＳＤ％、ｎ＝６）≦１０％
－ 百分率で表示されたＧｄ（ＥＤＴＡ）ピークの保持時間再現性
相対標準偏差（ＲＳＤ％、ｎ＝６）≦２％
－ Ｇｄ（ＥＤＴＡ）ピークに関する対称因子、Ｔ、
式１により算出 ０．７～２．０
Ｔ＝ｗ０．０５／２ｆ 式１
式中：
ｗ０．０５＝ピーク高さの２０分の１における幅（分）
ｆ＝ピーク高さの２０分の１における、ピーク最大値から下ろした垂線と、ピーク立ち上がり端との間の距離（分）
【0107】
計算
式２によって、百分率含有量、遊離Ｇｄ％を算出する：
Ａｔ＝試験溶液中の遊離Ｇｄのピーク面積
Ａｓｔｄ＝ＳＳＴ参照溶液注入（ｎ＝６）におけるＧｄ（ＥＤＴＡ）平均面積
ＷＲＳ＝参照溶液中のＧｄのｍｇ
ｗ＝試験溶液を調製するための化合物１試料の重量（ｍｇ）
Ｋ＝酢酸ガドリニウム水和物中のＨ２Ｏ含有量の％
Ｋ１＝試料中のＨ２Ｏ含有量の％
２．１２６＝酢酸ガドリニウムとガドリニウムとの間の補正係数
遊離Ｇｄに関する定量限界は０．００２％（ｗ／ｗ）である。
ＬＯＱ限界より低い値は、＜ＬＯＱまたはｎ．ｑ．（定量不可能）と表示されなければならない。
上述のように算出された百分率は、そのような百分率×１０，０００のように乗算することによって、式Ｉの錯体（例えば化合物１）に対する、遊離ガドリニウムのｐｐｍに変換することができる。
式２によって、百分率含有量、遊離Ｇｄ％を算出する：
【数1】
Ａｔ＝試験溶液中の遊離Ｇｄのピーク面積
Ａｓｔｄ＝ＳＳＴ参照溶液注入（ｎ＝６）におけるＧｄ（ＥＤＴＡ）平均面積
ＷＲＳ＝参照溶液中のＧｄのｍｇ
ｗ＝試験溶液を調製するための化合物１試料の重量（ｍｇ）
Ｋ＝酢酸ガドリニウム水和物中のＨ２Ｏ含有量の％
Ｋ１＝試料中のＨ２Ｏ含有量の％
２．１２６＝酢酸ガドリニウムとガドリニウムとの間の補正係数
遊離Ｇｄに関する定量限界は０．００２％（ｗ／ｗ）である。
ＬＯＱ限界より低い値は、＜ＬＯＱまたはｎ．ｑ．（定量不可能）と表示されなければならない。
上述のように算出された百分率は、そのような百分率×１０，０００のように乗算することによって、式Ｉの錯体（例えば化合物１）に対する、遊離ガドリニウムのｐｐｍに変換することができる。
【0108】
ＨＰＬＣ手順２－モノ－ガドリニウム化錯体（モノ－Ｇｄ）の量の決定
式Ｉの二量体錯体（例えば化合物１）中の、のモノ－Ｇｄ不純物の含有量を、逆相ＨＰＬＣ法によって、いずれかのＦＬＤ検出器を使用することによって、同じクロマトグラフィーにおいて定量化する。
規定された不純物モノ－Ｇｄ（具体的には、１個のみのガドリニウム金属イオンを有する化合物１ａのモノ－Ｇｄ錯体）の定量化を、ナトリウム塩としての参照試料モノ－Ｇｄを使用することによって、ＦＬＤ検出によって行う。モノ－Ｇｄナトリウム塩（参照試料）は、化学量論的な量より少ないガドリニウムイオンを用いて二量体リガンド化合物１ａを錯体化し、モノ－Ｇｄを得て、ＮａＯＨで中性ｐＨに調整し、次に残留物まで濃縮することによって単離して得ることができる。
クロマトグラフィー条件
機器：溶媒デリバリー系、オートサンプラー、カラム恒温装置、脱ガス装置、ＵＶダイオードアレイ検出器および蛍光検出器 ２４７５ Ｗａｔｅｒｓまたは同等のものを装備したＨＰＬＣ Ａｇｉｌｅｎｔ １１００
カラム：Ｘｓｅｌｅｃｔ（登録商標）ＨＳＳ Ｔ３、３．５μｍ、１５０×３．０ｍｍ（Ｗａｔｅｒｓ、Ｐａｒｔ Ｎｏ．１８６００４７８１）
温度：４０℃
移動相：溶媒Ａ：移動相Ａ（水中の４０ｍＭのリン酸カリウム－０．０２ｍＭのＥＤＴＡ、ｐＨ６．２）
溶媒Ｂ：移動相Ｂ（溶媒Ａ／アセトニトリル、６０／４０ｖ／ｖ）
流速：０．３５ｍＬ／分
検出（ＦＬＤ）：波長励起（λｅｘ）＝２７５ｎｍ
波長発光（λｅｍ）＝３１４ｎｍ
検出（ＵＶ）：波長＝２１０ｎｍ／Ｂｗ：８ｎｍ；Ｒｅｆ．波長＝４８０ｎｍ／Ｂｗ：８０ｎｍ
実行時間分析：５０分
取得時間：３２分
注入容量：１０μＬ
溶離（Ｅｌｕｉｔｉｏｎ）：勾配 時間（分） ％Ｂ
０ ０
４ ０
２０ １５
２５ １５
３０ １００
４０ １００
４３ ０
５０ ０
式Ｉの二量体錯体（例えば化合物１）中の、のモノ－Ｇｄ不純物の含有量を、逆相ＨＰＬＣ法によって、いずれかのＦＬＤ検出器を使用することによって、同じクロマトグラフィーにおいて定量化する。
規定された不純物モノ－Ｇｄ（具体的には、１個のみのガドリニウム金属イオンを有する化合物１ａのモノ－Ｇｄ錯体）の定量化を、ナトリウム塩としての参照試料モノ－Ｇｄを使用することによって、ＦＬＤ検出によって行う。モノ－Ｇｄナトリウム塩（参照試料）は、化学量論的な量より少ないガドリニウムイオンを用いて二量体リガンド化合物１ａを錯体化し、モノ－Ｇｄを得て、ＮａＯＨで中性ｐＨに調整し、次に残留物まで濃縮することによって単離して得ることができる。
クロマトグラフィー条件
機器：溶媒デリバリー系、オートサンプラー、カラム恒温装置、脱ガス装置、ＵＶダイオードアレイ検出器および蛍光検出器 ２４７５ Ｗａｔｅｒｓまたは同等のものを装備したＨＰＬＣ Ａｇｉｌｅｎｔ １１００
カラム：Ｘｓｅｌｅｃｔ（登録商標）ＨＳＳ Ｔ３、３．５μｍ、１５０×３．０ｍｍ（Ｗａｔｅｒｓ、Ｐａｒｔ Ｎｏ．１８６００４７８１）
温度：４０℃
移動相：溶媒Ａ：移動相Ａ（水中の４０ｍＭのリン酸カリウム－０．０２ｍＭのＥＤＴＡ、ｐＨ６．２）
溶媒Ｂ：移動相Ｂ（溶媒Ａ／アセトニトリル、６０／４０ｖ／ｖ）
流速：０．３５ｍＬ／分
検出（ＦＬＤ）：波長励起（λｅｘ）＝２７５ｎｍ
波長発光（λｅｍ）＝３１４ｎｍ
検出（ＵＶ）：波長＝２１０ｎｍ／Ｂｗ：８ｎｍ；Ｒｅｆ．波長＝４８０ｎｍ／Ｂｗ：８０ｎｍ
実行時間分析：５０分
取得時間：３２分
注入容量：１０μＬ
溶離（Ｅｌｕｉｔｉｏｎ）：勾配 時間（分） ％Ｂ
０ ０
４ ０
２０ １５
２５ １５
３０ １００
４０ １００
４３ ０
５０ ０
【0109】
溶液調製
移動相Ａ
２０００ｍＬのメスフラスコに：
－ ８．５６ｇのリン酸二水素カリウム
－ ３．９７ｇのリン酸水素二カリウム三水和物
－ ０．０１５ｇのＴｉｔｒｉｐｌｅｘ（登録商標）ＩＩＩ（ＥＤＴＡ二ナトリウム塩）
を正確に量り取り、次に精製水で定容まで希釈する。０．２２μｍの膜フィルタを通して濾過する。
移動相Ｂ
１０００ｍＬのメスフラスコに、６００ｍＬの移動相Ａを移し、アセトニトリルで定容まで希釈する。よく混合する。
ＣａＣｌ ２ の溶液
５０ｍＬのメスフラスコに、１６５ｍｇのＣａＣｌ２（無水基準で表示）を正確に量り取り、精製水で定容まで希釈する。
濃度は約３．３ｍｇ／ｍＬである。
モノ－Ｇｄの保存溶液
５０ｍＬのメスフラスコに、２５ｍｇのモノ－Ｇｄナトリウム塩（無水基準および純度で表示）を正確に量り取り、精製水で定容まで希釈する。
モノ－Ｇｄの濃度は約０．５ｍｇ／ｍＬである。
モノ－Ｇｄの重量＝モノ－Ｇｄナトリウム塩の重量×１１４０．３１／１１６２．２９
モノ－Ｇｄの参照溶液
５ｍＬのメスフラスコに、０．４５ｍＬのモノ－Ｇｄの保存溶液を正確に移す。１ｍＬのＣａＣｌ２溶液を添加し、精製水で定容まで希釈する。標準の濃度は０．０４５ｍｇ／ｍＬである。
モノ－ＧｄのＬｏＱ溶液
５ｍＬのメスフラスコに、０．１ｍＬのモノ－Ｇｄの保存溶液を正確に移す。１ｍＬのＣａＣｌ２溶液を添加し、精製水で定容まで希釈する。モノ－Ｇｄの濃度は約０．０１ｍｇ／ｍＬである。
ブランク溶液
０．８ｍＬの水溶液をバイアルに移し、０．２ｍＬのＣａＣｌ２溶液を添加する。よく混合する。
試験溶液
５ｍＬのメスフラスコに、１２５ｍｇの被検試料（無水基準で表示）を正確に量り取る。１ｍＬのＣａＣｌ２溶液を添加し、精製水で定容まで希釈する。化合物１の濃度は約２５ｍｇ／ｍＬである。
移動相Ａ
２０００ｍＬのメスフラスコに：
－ ８．５６ｇのリン酸二水素カリウム
－ ３．９７ｇのリン酸水素二カリウム三水和物
－ ０．０１５ｇのＴｉｔｒｉｐｌｅｘ（登録商標）ＩＩＩ（ＥＤＴＡ二ナトリウム塩）
を正確に量り取り、次に精製水で定容まで希釈する。０．２２μｍの膜フィルタを通して濾過する。
移動相Ｂ
１０００ｍＬのメスフラスコに、６００ｍＬの移動相Ａを移し、アセトニトリルで定容まで希釈する。よく混合する。
ＣａＣｌ ２ の溶液
５０ｍＬのメスフラスコに、１６５ｍｇのＣａＣｌ２（無水基準で表示）を正確に量り取り、精製水で定容まで希釈する。
濃度は約３．３ｍｇ／ｍＬである。
モノ－Ｇｄの保存溶液
５０ｍＬのメスフラスコに、２５ｍｇのモノ－Ｇｄナトリウム塩（無水基準および純度で表示）を正確に量り取り、精製水で定容まで希釈する。
モノ－Ｇｄの濃度は約０．５ｍｇ／ｍＬである。
モノ－Ｇｄの重量＝モノ－Ｇｄナトリウム塩の重量×１１４０．３１／１１６２．２９
モノ－Ｇｄの参照溶液
５ｍＬのメスフラスコに、０．４５ｍＬのモノ－Ｇｄの保存溶液を正確に移す。１ｍＬのＣａＣｌ２溶液を添加し、精製水で定容まで希釈する。標準の濃度は０．０４５ｍｇ／ｍＬである。
モノ－ＧｄのＬｏＱ溶液
５ｍＬのメスフラスコに、０．１ｍＬのモノ－Ｇｄの保存溶液を正確に移す。１ｍＬのＣａＣｌ２溶液を添加し、精製水で定容まで希釈する。モノ－Ｇｄの濃度は約０．０１ｍｇ／ｍＬである。
ブランク溶液
０．８ｍＬの水溶液をバイアルに移し、０．２ｍＬのＣａＣｌ２溶液を添加する。よく混合する。
試験溶液
５ｍＬのメスフラスコに、１２５ｍｇの被検試料（無水基準で表示）を正確に量り取る。１ｍＬのＣａＣｌ２溶液を添加し、精製水で定容まで希釈する。化合物１の濃度は約２５ｍｇ／ｍＬである。
【0110】
分析シーケンス
ブランク ｎ＝１
ＬｏＱ溶液 ｎ＝１
参照溶液 ｎ＝６
試験溶液 ｎ＝６
参照溶液 ｎ＝１
ブランク ｎ＝１
ＬｏＱ溶液 ｎ＝１
参照溶液 ｎ＝６
試験溶液 ｎ＝６
参照溶液 ｎ＝１
【0111】
計算
モノ－Ｇｄの百分率含有量を、ＦＬＤ取得によって、式３により算出する。
式中：
ＡＴ：試験溶液におけるピーク面積（存在する場合、モノ－Ｇｄ－１／２／３／４ピークの面積合計）
ＡＲ：参照溶液注入（平均値ｎ＝６）におけるピーク面積（モノ－Ｇｄ－１／２／３／４ピークの面積合計）
ｗＴ：試験溶液中の試料の重量（ｍｇ）
ＶＳ：参照溶液を調製するために取り出したモノ－Ｇｄ保存溶液の容積（ｍＬ）
ＷＳ：保存溶液を調製するために使用されたモノ－Ｇｄナトリウム塩の重量（ｍｇ）
ＫＦ：モノ－Ｇｄナトリウム塩中のＨ２Ｏ含有量の％
ＫＦ化合物１：化合物５中のＨ２Ｏ含有量の％
ａ：モノ－Ｇｄナトリウム塩の％分析結果
ｆ：分子量に関する補正係数：０．９８
モノ－Ｇｄ（４つのピークの合計）に関する定量限界は０．０４％（ｗ／ｗ）である。
ＬＯＱ限界より低い値は、＜ＬＯＱまたはｎ．ｑ．（定量不可能）と表示されなければならない。
上述のように算出された百分率は、そのような百分率×１０，０００のように乗算することによって、式Ｉの錯体に対する、例えば化合物１に対するモノ－ガドリニウム化錯体のｐｐｍに変換することができる。
モノ－Ｇｄの百分率含有量を、ＦＬＤ取得によって、式３により算出する。
【数2】
式中：
ＡＴ：試験溶液におけるピーク面積（存在する場合、モノ－Ｇｄ－１／２／３／４ピークの面積合計）
ＡＲ：参照溶液注入（平均値ｎ＝６）におけるピーク面積（モノ－Ｇｄ－１／２／３／４ピークの面積合計）
ｗＴ：試験溶液中の試料の重量（ｍｇ）
ＶＳ：参照溶液を調製するために取り出したモノ－Ｇｄ保存溶液の容積（ｍＬ）
ＷＳ：保存溶液を調製するために使用されたモノ－Ｇｄナトリウム塩の重量（ｍｇ）
ＫＦ：モノ－Ｇｄナトリウム塩中のＨ２Ｏ含有量の％
ＫＦ化合物１：化合物５中のＨ２Ｏ含有量の％
ａ：モノ－Ｇｄナトリウム塩の％分析結果
ｆ：分子量に関する補正係数：０．９８
モノ－Ｇｄ（４つのピークの合計）に関する定量限界は０．０４％（ｗ／ｗ）である。
ＬＯＱ限界より低い値は、＜ＬＯＱまたはｎ．ｑ．（定量不可能）と表示されなければならない。
上述のように算出された百分率は、そのような百分率×１０，０００のように乗算することによって、式Ｉの錯体に対する、例えば化合物１に対するモノ－ガドリニウム化錯体のｐｐｍに変換することができる。
【国際調査報告】