(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-07-19
(54)【発明の名称】ＮＯｘの選択的接触還元用触媒
(51)【国際特許分類】
B01J 29/76 20060101AFI20240711BHJP
B01J 35/57 20240101ALI20240711BHJP
B01D 53/94 20060101ALI20240711BHJP
【ＦＩ】
B01J29/76 A
B01J35/57 E ZAB
B01J35/57 L
B01D53/94 222
B01D53/94 228
B01D53/94 280
【審査請求】未請求
【予備審査請求】有
(21)【出願番号】P 2024503540
(86)(22)【出願日】2022-07-28
(85)【翻訳文提出日】2024-02-15
(86)【国際出願番号】 EP2022071182
(87)【国際公開番号】W WO2023006870
(87)【国際公開日】2023-02-02
(31)【優先権主張番号】21188489.5
(32)【優先日】2021-07-29
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】505470786
【氏名又は名称】ビーエーエスエフ コーポレーション
(74)【代理人】
【識別番号】100100354
【弁理士】
【氏名又は名称】江藤 聡明
(74)【代理人】
【識別番号】100167106
【弁理士】
【氏名又は名称】倉脇 明子
(74)【代理人】
【識別番号】100194135
【弁理士】
【氏名又は名称】山口 修
(74)【代理人】
【識別番号】100206069
【弁理士】
【氏名又は名称】稲垣 謙司
(74)【代理人】
【識別番号】100185915
【弁理士】
【氏名又は名称】長山 弘典
(72)【発明者】
【氏名】ザベル、クラウディア
(72)【発明者】
【氏名】フリーベ、セバスチャン
(72)【発明者】
【氏名】ラング、マリア
(72)【発明者】
【氏名】シュナイダー、イーディス
【テーマコード（参考）】
4D148
4G169
【Ｆターム（参考）】
4D148AA06
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4G169AA03
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4G169ZA14B
4G169ZC04
4G169ZF05B
(57)【要約】
本発明は、貫通して延在する基材の内壁によって画定される複数の通路を含むウォールフローフィルタ基材を含む、ＮＯｘの選択的接触還元のための触媒であって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、触媒に関し、基材の多孔質壁が、コーティングを含み、コーティングが、ゼオライト材料と、銅と、ジルコニウムを含む第１の非ゼオライト酸化物材料と、を含み、コーティングが、ｇ／立方インチで表したローディングＬ（ｚ）におけるゼオライト材料と、ｇ／立方インチで表したローディングＬ１（ｇ／立方インチ）における第１の非ゼオライト酸化物材料と、を含み、ローディング比Ｌ（ｚ）（ｇ／立方インチ）：Ｌ１（ｇ／立方インチ）が、最大で１０：１であり、かつ第１の非ゼオライト酸化物材料の９０～１００重量％が、ＺｒＯ２として計算されるジルコニウムからなる。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ＮＯｘの選択的接触還元のための触媒であって、入口端と、出口端と、前記入口端から前記出口端まで延在する基材軸方向長さと、前記基材を通って延在する前記基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材であって、前記複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材を含み、
前記基材の多孔質壁が、コーティングを含み、前記コーティングが、ゼオライト材料と、銅と、ジルコニウムを含む第１の非ゼオライト酸化物材料と、を含み、
前記コーティングが、ｇ／立方インチで表したローディングＬ（ｚ）における前記ゼオライト材料と、ｇ／立方インチで表したローディングＬ１における前記第１の非ゼオライト酸化物材料と、を含み、ローディング比Ｌ（ｚ）（ｇ／立方インチ）：Ｌ１（ｇ／立方インチ）が、最大で１０：１であり、かつ
前記第１の非ゼオライト酸化物材料の９０～１００重量％が、ＺｒＯ２として計算されるジルコニウムからなる、触媒。
【請求項2】
前記コーティングに含まれる前記ゼオライト材料の骨格構造の９５～１００重量％、好ましくは９８～１００重量％、より好ましくは９９～１００重量％が、Ｓｉ、Ａｌ及びＯからなり、前記骨格構造において、モルＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３として計算されるＳｉ対Ａｌのモル比が、好ましくは２：１～３０：１の範囲、より好ましくは５：１～２５：１の範囲、より好ましくは７：１～２２：１の範囲、より好ましくは８：１～２０：１の範囲、より好ましくは９：１～１８：１の範囲、より好ましくは１０：１～１７：１の範囲、より好ましくは１２：１～１６：１の範囲である、請求項１に記載の触媒。
【請求項3】
ＣｕＯとして計算される前記コーティングに含まれる銅の量が、前記ゼオライト材料の重量に基づいて、２～１０重量％の範囲、好ましくは２．５～５．５重量％の範囲、より好ましくは３～５重量％の範囲である、請求項１又は２に記載の触媒。
【請求項4】
前記コーティング中に含まれる前記第１の非ゼオライト酸化物材料の９５～１００重量％、好ましくは９８～１００重量％、より好ましくは９９～１００重量％、より好ましくは９９．５～１００重量％が、ＺｒＯ２として計算されるジルコニウムからなる、請求項１～３のいずれか一項に記載の触媒。
【請求項5】
前記コーティングが、ｇ／立方インチで表したローディングＬ（ｚ）における前記ゼオライト材料と、ｇ／立方インチで表したローディングＬ１における前記第１の非ゼオライト酸化物材料、好ましくはジルコニアと、を含み、ローディング比Ｌ（ｚ）（ｇ／立方インチ）：Ｌ１（ｇ／立方インチ）が、１０：１～１．１：１の範囲、好ましくは９：１～１．２５：１の範囲、より好ましくは８：１～２：１の範囲、より好ましくは７．５：１～２．５：１の範囲、より好ましくは７：１～３．５：１の範囲、より好ましくは５．５：１～４：１の範囲である、請求項１～４のいずれか一項に記載の触媒。
【請求項6】
前記コーティングが、第２の非ゼオライト酸化物材料を更に含み、前記第２の非ゼオライト酸化物材料が、アルミナ、シリカ、チタニア、セリア、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、及びＣｅのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、好ましくはアルミナ、シリカ、及びチタニア、Ａｌ、Ｓｉ、及びＴｉのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、より好ましくはアルミナ、シリカ、Ａｌ、及びＳｉのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、より好ましくはアルミナとシリカとの混合物であり、好ましくは、アルミナとシリカとの前記混合物の８０～９９重量％、より好ましくは８５～９８重量％、より好ましくは９０～９８重量％が、アルミナからなり、かつアルミナとシリカとの前記混合物の１～２０重量％、好ましくは２～１５重量％、より好ましくは２～１０重量％が、シリカからなる、請求項１～５のいずれか一項に記載の触媒。
【請求項7】
前記コーティングが、前記ゼオライト材料の重量に基づいて、２～２０重量％の範囲、好ましくは５～１５重量％の範囲、より好ましくは７～１３重量％の範囲の量で前記第２の非ゼオライト酸化物材料を含む、請求項６に記載の触媒。
【請求項8】
９０～１００重量％、好ましくは９５～１００重量％、より好ましくは９８～１００重量％の前記コーティングが、前記基材の前記多孔質壁に含まれる、請求項１～７のいずれか一項に記載の触媒。
【請求項9】
前記基材が、コージエライトウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上、好ましくは炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上である、請求項１～８のいずれか一項に記載の触媒。
【請求項10】
ＮＯｘの選択的接触還元のための触媒、好ましくは請求項１～９のいずれか一項に記載の触媒を調製するためのプロセスであって、（ｉ’）水と、銅源と、ジルコニウムを含む第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体と、を含む、第１の水性混合物を調製することと、
（ｉｉ’）銅を含まないゼオライト材料を、（ｉ’）に従って得られた前記第１の混合物と混合し、第２の水性混合物を得ることであって、前記第２の水性混合物において、酸化物として計算される前記第１の非ゼオライト酸化物成分の前記前駆体の量が、前記ゼオライト材料の重量に基づいて少なくとも１０重量％である、得ることと、
（ｉｉｉ’）前記第２の水性混合物を、入口端と、出口端と、前記入口端から前記出口端まで延在する基材軸方向長さと、前記基材を通って延在する前記基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材上に配置することであって、前記複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、配置することと、任意選択で、前記混合物を含む前記基材を乾燥させることと、
（ｉｖ’）（ｉｉｉ’）で得られた前記基材を焼成することと、を含む、プロセス。
【請求項11】
（ｉ’）において調製された前記第１の水性混合物中に含まれる第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体が、ジルコニウム塩又は酸化ジルコニウム、好ましくはジルコニウム塩、より好ましくは酢酸ジルコニウムである、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項12】
（ｉ’．１）水及び前記銅源を含む混合物を調製することであって、前記混合物が、好ましくは酸、より好ましくは有機酸、より好ましくは酢酸を更に含み、より好ましくは前記混合物が、スクロースを含み、より好ましくはスクロースに対するＣｕＯとして計算される銅の重量比が、２：１～１：２の範囲、より好ましくは１．５：１～１：１．５の範囲、より好ましくは１．２：１～１：１．２の範囲である、調製することと、（ｉ’．２）前記第１の非ゼオライト酸化物成分の前記前駆体を、（ｉ’．１）に従って得られた混合物に添加して、前記第１の水性混合物を得ることと、
を含む、請求項１０又は１１に記載のプロセス。
【請求項13】
９０～１００重量％、好ましくは９３～９９重量％、より好ましくは９６～９９重量％の前記銅源が、（ｉ’．１）において調製された前記混合物中に非溶解状態で存在し、（ｉ’．１）による前記混合物中の銅の粒子が、０．１～１５マイクロメートルの範囲、好ましくは０．５～１０マイクロメートルの範囲、より好ましくは１～８マイクロメートルの範囲、より好ましくは３～７マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有する、請求項１２に記載のプロセス。
【請求項14】
（ｉｉ’）が、（ｉｉ’．１）好ましくはＣｕを含まないゼオライト材料を、（ｉ’）に従って得られた前記第１の水性混合物と混合することと、
（ｉｉ’．２）好ましくは、前記得られた混合物（ｉｉ’．１）を、より好ましくは前記混合物の粒子が０．５～８マイクロメートルの範囲、より好ましくは１～５マイクロメートルの範囲、より好ましくは１．５～４マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有するまで、粉砕することと、
（ｉｉ’．３）（ｉｉ’．１）において、好ましくは（ｉｉ’．２）において得られた第２の混合物を、アルミナ、シリカ、チタニア、セリア、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、及びＣｅのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択される第２の非ゼオライト酸化物材料と混合して、第２の水性混合物を得ることと、
を含む、請求項１０～１３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項15】
（ｉｉｉ’）に従って配置することが、（ｉｉｉ’．１）（ｉｉ’）で得られた前記第２の水性混合物の第１の部分を、入口端と、出口端と、前記入口端から前記出口端まで延在する基材軸方向長さと、前記基材を通って延在する前記基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材上に配置することであって、前記複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、配置することと、前記第２の水性混合物の前記第１の部分を含む前記基材を乾燥させることと、
（ｉｉｉ’．２）（ｉｉ’）で得られた前記第２の水性混合物の第２の部分を、（ｉｉｉ’．１）で得られた第３の水性混合物の第１の部分を含む前記基材上に配置することと、任意選択で、前記第２の水性混合物の前記第１の部分及び前記第２の部分を含む前記基材を乾燥させることと、
を含む、請求項１０～１４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項16】
圧縮点火エンジンから出る排気ガスを処理するための排気ガス処理システムであって、前記排気ガス処理システムが、前記排気ガス流を前記排気ガス処理システムに導入するための上流端を有し、前記排気ガス処理システムが、請求項１～９のいずれか一項に記載の触媒と、ディーゼル酸化触媒、選択的接触還元触媒、アンモニア酸化触媒、ＮＯｘトラップ及び微粒子フィルタのうちの１つ以上と、を含み、前記システムが、好ましくは、請求項１～９のいずれか一項に記載の触媒と、ディーゼル酸化触媒と、選択的接触還元触媒と、を含み、
前記ディーゼル酸化触媒が、より好ましくは、前記選択的接触還元触媒の上流に位置し、前記選択的接触還元触媒が、請求項１～９のいずれか一項に記載の触媒の上流に位置するか、又は
前記ディーゼル酸化触媒が、より好ましくは、請求項１～９のいずれか一項に記載の触媒の上流に位置し、請求項１～９のいずれか一項に記載の触媒が、前記選択的接触還元触媒の上流に位置する、排気ガス処理システム。
【請求項17】
ＮＯｘの選択的接触還元のための、請求項１～９のいずれか一項に記載の触媒の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ＮＯｘの選択的接触還元のための触媒、ＮＯｘの選択的接触還元のための触媒を調製するプロセス、並びに当該プロセスによって得ることができる触媒及び得られた触媒に関する。更に、本発明は、当該触媒を含む排気ガス処理システム及び当該触媒の使用に関する。
【背景技術】
【0002】
英国特許第２５２８７３７号は、排気ガスを処理するための方法を開示しており、当該方法は、遷移金属交換小細孔ゼオライトを含有する選択的接触還元触媒組成物の使用を含む。更に、国際公開第２０２０／０４０９４４号は、白金族金属及び金属で促進されたゼオライト材料を含む選択的接触還元触媒組成物を開示している。しかしながら、これらの出願は、コールドフロー背圧又は煤ローディングを伴う背圧を扱っておらず、選択的接触還元触媒技術の要件は、全温度範囲にわたる良好なＤｅＮＯｘ活性、良好な生産性、許容可能なコールドフロー背圧、良好な濾過効率、及び煤ローディングを伴う良好な背圧挙動であることが知られている。実際に、異なる要因が、煤によるフィルタ挙動に強い影響を及ぼす可能性がある。
【0003】
国際公開第２０２０／０８８５３１（Ａ１）号は、銅イオン交換ゼオライト材料を含む、ＮＯｘの選択的接触還元のための触媒を調製するためのプロセスを開示している。しかしながら、大きなＮＯｘ転化率を示し、かつ減少した背圧を示す、ＮＯｘの選択的接触還元のための新しい触媒を見出す必要性が依然として存在する。更に、熱的に非常に安定な触媒が依然として必要とされている。
【発明の概要】
【0004】
したがって、本発明の目的は、ＮＯｘの選択的接触還元のための新規な触媒であって、優れたＮＯｘ転化率を示し、熱安定性を向上させ、背圧を低減する、ＮＯｘの選択的接触還元のための新規な触媒を提供することであった。驚くべきことに、本発明の触媒は、大きなＮＯｘ転化率を示し、背圧の低減を示すことを可能にすることが見出された。更に、当該触媒は、従来技術と比較して改善された熱安定性を有する。
【0005】
したがって、本発明は、ＮＯｘの選択的接触還元のための触媒であって、
入口端と、出口端と、入口端から出口端まで延在する基材軸方向長さと、基材を通って延在する基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材であって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材を含み、
基材の多孔質壁が、コーティングを含み、コーティングが、ゼオライト材料と、銅と、ジルコニウムを含む第１の非ゼオライト酸化物材料と、を含み、
コーティングが、ｇ／立方インチで表したローディングＬ（ｚ）におけるゼオライト材料と、ｇ／立方インチで表したローディングＬ１における第１の非ゼオライト酸化物材料と、を含み、ローディング比Ｌ（ｚ）（ｇ／立方インチ）：Ｌ１（ｇ／立方インチ）が、最大で１０：１であり、かつ
第１の非ゼオライト酸化物材料の９０～１００重量％が、ＺｒＯ２として計算されるジルコニウムからなる、触媒に関する。
入口端と、出口端と、入口端から出口端まで延在する基材軸方向長さと、基材を通って延在する基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材であって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材を含み、
基材の多孔質壁が、コーティングを含み、コーティングが、ゼオライト材料と、銅と、ジルコニウムを含む第１の非ゼオライト酸化物材料と、を含み、
コーティングが、ｇ／立方インチで表したローディングＬ（ｚ）におけるゼオライト材料と、ｇ／立方インチで表したローディングＬ１における第１の非ゼオライト酸化物材料と、を含み、ローディング比Ｌ（ｚ）（ｇ／立方インチ）：Ｌ１（ｇ／立方インチ）が、最大で１０：１であり、かつ
第１の非ゼオライト酸化物材料の９０～１００重量％が、ＺｒＯ２として計算されるジルコニウムからなる、触媒に関する。
【0006】
好ましくは、コーティングに含まれるゼオライト材料は、ＡＢＷ、ＡＣＯ、ＡＥＩ、ＡＥＬ、ＡＥＮ、ＡＥＴ、ＡＦＧ、ＡＦＩ、ＡＦＮ、ＡＦＯ、ＡＦＲ、ＡＦＳ、ＡＦＴ、ＡＦＶ、ＡＦＸ、ＡＦＹ、ＡＨＴ、ＡＮＡ、ＡＰＣ、ＡＰＤ、ＡＳＴ、ＡＳＶ、ＡＴＮ、ＡＴＯ、ＡＴＳ、ＡＴＴ、ＡＴＶ、ＡＶＬ、ＡＷＯ、ＡＷＷ、ＢＣＴ、ＢＥＡ、ＢＥＣ、ＢＩＫ、ＢＯＦ、ＢＯＧ、ＢＯＺ、ＢＰＨ、ＢＲＥ、ＢＳＶ、ＣＡＮ、ＣＡＳ、ＣＤＯ、ＣＦＩ、ＣＧＦ、ＣＧＳ、ＣＨＡ、－ＣＨＩ、－ＣＬＯ、ＣＯＮ、ＣＳＶ、ＣＺＰ、ＤＡＣ、ＤＤＲ、ＤＦＯ、ＤＦＴ、ＤＯＨ、ＤＯＮ、ＥＡＢ、ＥＤＩ、ＥＥＩ、ＥＭＴ、ＥＯＮ、ＥＰＩ、ＥＲＩ、ＥＳＶ、ＥＴＲ、ＥＵＯ、＊－ＥＷＴ、ＥＺＴ、ＦＡＲ、ＦＡＵ、ＦＥＲ、ＦＲＡ、ＧＩＳ、ＧＩＵ、ＧＭＥ、ＧＯＮ、ＧＯＯ、ＨＥＵ、ＩＦＯ、ＩＦＲ、－ＩＦＵ、ＩＦＷ、ＩＦＹ、ＩＨＷ、ＩＭＦ、ＩＲＮ、ＩＲＲ、－ＩＲＹ、ＩＳＶ、ＩＴＥ、ＩＴＧ、ＩＴＨ、＊－ＩＴＮ、ＩＴＲ、ＩＴＴ、－ＩＴＶ、ＩＴＷ、ＩＷＲ、ＩＷＳ、ＩＷＶ、ＩＷＷ、ＪＢＷ、ＪＮＴ、ＪＯＺ、ＪＲＹ、ＪＳＮ、ＪＳＲ、ＪＳＴ、ＪＳＷ、ＫＦＩ、ＬＡＵ、ＬＥＶ、ＬＩＯ、－ＬＩＴ、ＬＯＳ、ＬＯＶ、ＬＴＡ、ＬＴＦ、ＬＴＪ、ＬＴＬ、ＬＴＮ、ＭＡＲ、ＭＡＺ、ＭＥＩ、ＭＥＬ、ＭＥＰ、ＭＥＲ、ＭＦＩ、ＭＦＳ、ＭＯＮ、ＭＯＲ、ＭＯＺ、＊ＭＲＥ、ＭＳＥ、ＭＳＯ、ＭＴＦ、ＭＴＮ、ＭＴＴ、ＭＴＷ、ＭＶＹ、ＭＷＦ、ＭＷＷ、ＮＡＢ、ＮＡＴ、ＮＥＳ、ＮＯＮ、ＮＰＯ、ＮＰＴ、ＮＳＩ、ＯＢＷ、ＯＦＦ、ＯＫＯ、ＯＳＩ、ＯＳＯ、ＯＷＥ、－ＰＡＲ、ＰＡＵ、ＰＣＲ、ＰＨＩ、ＰＯＮ、ＰＯＳ、ＰＳＩ、ＰＵＮ、ＲＨＯ、－ＲＯＮ、ＲＲＯ、ＲＳＮ、ＲＴＥ、ＲＴＨ、ＲＵＴ、ＲＷＲ、ＲＷＹ、ＳＡＦ、ＳＡＯ、ＳＡＳ、ＳＡＴ、ＳＡＶ、ＳＢＥ、ＳＢＮ、ＳＢＳ、ＳＢＴ、ＳＥＷ、ＳＦＥ、ＳＦＦ、ＳＦＧ、ＳＦＨ、ＳＦＮ、ＳＦＯ、ＳＦＳ、＊ＳＦＶ、ＳＦＷ、ＳＧＴ、ＳＩＶ、ＳＯＤ、ＳＯＦ、ＳＯＳ、ＳＳＦ、＊－ＳＳＯ、ＳＳＹ、ＳＴＦ、ＳＴＩ、＊ＳＴＯ、ＳＴＴ、ＳＴＷ、－ＳＶＲ、ＳＶＶ、ＳＺＲ、ＴＥＲ、ＴＨＯ、ＴＯＬ、ＴＯＮ、ＴＳＣ、ＴＵＮ、ＵＥＩ、ＵＦＩ、ＵＯＳ、ＵＯＶ、ＵＯＺ、ＵＳＩ、ＵＴＬ、ＵＷＹ、ＶＥＴ、ＶＦＩ、ＶＮＩ、ＶＳＶ、ＷＥＩ、－ＷＥＮ、ＹＵＧ、ＺＯＮ、それらのうちの２種以上の混合物、及びそれらのうちの２種以上の混合タイプからなる群から選択され、より好ましくはＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、ＬＥＶ、ＤＤＲ、ＫＦＩ、ＥＲＩ、ＡＦＸ、それらのうちの２種以上の混合物、及びそれらのうちの２種以上の混合タイプからなる群から選択され、より好ましくはＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、ＡＦＸ、それらのうちの２種以上の混合物、及びそれらのうちの２種以上の混合タイプからなる群から選択され、より好ましくはＣＨＡ及びＡＥＩからなる群から選択される骨格型を有する。より好ましくは、コーティングに含まれるゼオライト材料は、骨格型ＣＨＡを有する。
【0007】
ゼオライト材料の骨格構造の好ましくは９５～１００重量％、より好ましくは９８～１００重量％、より好ましくは９９～１００重量％は、Ｓｉ、Ａｌ及びＯからなる。
【0008】
好ましくは、コーティングに含まれるゼオライト材料の骨格構造において、モルＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３として計算されるＳｉ対Ａｌのモル比は、２：１～３０：１の範囲、より好ましくは５：１～２５：１の範囲、より好ましくは７：１～２２：１の範囲、より好ましくは８：１～２０：１の範囲、より好ましくは９：１～１８：１の範囲、より好ましくは１０：１～１７：１の範囲、より好ましくは１２：１～１６：１の範囲である。
【0009】
好ましくは、コーティングに含まれるゼオライト材料、より好ましくは骨格型ＣＨＡを有するゼオライト材料は、走査型電子顕微鏡によって測定して、少なくとも０．１マイクロメートル、より好ましくは０．１～３．０マイクロメートルの範囲、より好ましくは０．３～１．５マイクロメートルの範囲、より好ましくは０．４～１．０マイクロメートルの範囲の平均結晶子サイズを有する。
【0010】
好ましくは、ＣｕＯとして計算されるコーティングに含まれる銅の量は、ゼオライト材料の重量に基づいて、２～１０重量％の範囲、好ましくは２．５～５．５重量％の範囲、より好ましくは３～５重量％の範囲である。
【0011】
好ましくは、コーティング中に含まれるゼオライト材料は、銅を含む。
【0012】
好ましくは、コーティングは、ゼオライト材料を、０．５～５ｇ／立方インチの範囲、より好ましくは０．７５～３ｇ／立方インチの範囲、より好ましくは１～２．５ｇ／立方インチの範囲、より好ましくは１．２５～２ｇ／立方インチの範囲のローディング量で含む。
【0013】
コーティング中に含まれる第１の非ゼオライト酸化物材料の好ましくは９５～１００重量％、より好ましくは９８～１００重量％、より好ましくは９９～１００重量％、より好ましくは９９．５～１００重量％は、ＺｒＯ２として計算されるジルコニウムからなる。第１の非ゼオライト酸化物材料は、好ましくはジルコニア（ＺｒＯ２）である。換言すれば、コーティングに含まれる第１の非ゼオライト酸化物材料は、ジルコニア（ＺｒＯ２）から実質的になることが好ましく、ジルコニアからなることがより好ましい。
【0014】
コーティングは、ｇ／立方インチで表したローディングＬ（ｚ）におけるゼオライト材料と、ｇ／立方インチで表したローディングＬ１における第１の非ゼオライト酸化物材料、より好ましくはジルコニアと、を含み、ローディング比Ｌ（ｚ）（ｇ／立方インチ）：Ｌ１（ｇ／立方インチ）は、１０：１～１．１：１の範囲、より好ましくは９：１～１．２５：１の範囲、より好ましくは８：１～２：１の範囲、より好ましくは７．５：１～２．５：１の範囲、より好ましくは７：１～３．５：１の範囲、より好ましくは５．５：１～４：１の範囲である。
【0015】
したがって、本発明は、好ましくは、ＮＯｘの選択的接触還元のための触媒であって、
入口端と、出口端と、入口端から出口端まで延在する基材軸方向長さと、基材を通って延在する基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材であって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材を含み、
基材の多孔質壁が、コーティングを含み、コーティングが、骨格型ＣＨＡを有するゼオライト材料と、銅と、ジルコニウムを含む第１の非ゼオライト酸化物材料と、を含み
コーティングが、ｇ／立方インチで表したローディングＬ（ｚ）におけるゼオライト材料と、ｇ／立方インチで表したローディングＬ１における第１の非ゼオライト酸化物材料と、を含み、ローディング比Ｌ（ｚ）（ｇ／立方インチ）：Ｌ１（ｇ／立方インチ）は、９：１～１．２５：１の範囲、より好ましくは８：１～２：１の範囲、より好ましくは７．５：１～２．５：１の範囲、より好ましくは７：１～３．５：１の範囲、より好ましくは５．５：１～４：１の範囲であり、かつ
第１の非ゼオライト酸化物材料の９０～１００重量％、より好ましくは９５～１００重量％、より好ましくは９８～１００重量％、より好ましくは９９～１００重量％、より好ましくは９９．５～１００重量％は、ＺｒＯ２として計算されるジルコニウムからなる。
入口端と、出口端と、入口端から出口端まで延在する基材軸方向長さと、基材を通って延在する基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材であって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材を含み、
基材の多孔質壁が、コーティングを含み、コーティングが、骨格型ＣＨＡを有するゼオライト材料と、銅と、ジルコニウムを含む第１の非ゼオライト酸化物材料と、を含み
コーティングが、ｇ／立方インチで表したローディングＬ（ｚ）におけるゼオライト材料と、ｇ／立方インチで表したローディングＬ１における第１の非ゼオライト酸化物材料と、を含み、ローディング比Ｌ（ｚ）（ｇ／立方インチ）：Ｌ１（ｇ／立方インチ）は、９：１～１．２５：１の範囲、より好ましくは８：１～２：１の範囲、より好ましくは７．５：１～２．５：１の範囲、より好ましくは７：１～３．５：１の範囲、より好ましくは５．５：１～４：１の範囲であり、かつ
第１の非ゼオライト酸化物材料の９０～１００重量％、より好ましくは９５～１００重量％、より好ましくは９８～１００重量％、より好ましくは９９～１００重量％、より好ましくは９９．５～１００重量％は、ＺｒＯ２として計算されるジルコニウムからなる。
【0016】
本発明の文脈において、コーティングが、第２の非ゼオライト酸化物材料を更に含み、第２の非ゼオライト酸化物材料が、アルミナ、シリカ、チタニア、セリア、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、及びＣｅのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、好ましくはアルミナ、シリカ、及びチタニア、Ａｌ、Ｓｉ、及びＴｉのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、より好ましくはアルミナ、シリカ、Ａｌ、及びＳｉのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、より好ましくはアルミナとシリカとの混合物であることが好ましい。
【0017】
好ましくは、アルミナとシリカとの混合物の８０～９９重量％、より好ましくは８５～９８重量％、より好ましくは９０～９８重量％が、アルミナからなり、かつ好ましくはアルミナとシリカとの混合物の１～２０重量％、好ましくは２～１５重量％、より好ましくは２～１０重量％が、シリカからなる。
【0018】
好ましくは、コーティングは、ゼオライト材料の重量に基づいて、２～２０重量％の範囲、より好ましくは５～１５重量％の範囲、より好ましくは７～１３重量％の範囲の量で、第２の非ゼオライト酸化物材料を含む。
【0019】
好ましくは、０～０．００１重量％、より好ましくは０～０．０００１重量％、より好ましくは０～０．００００１重量％のコーティングは、白金族金属からなる。換言すれば、コーティングは、白金族金属を実質的に含まないことが好ましく、白金族金属を含まないことがより好ましい。
【0020】
好ましくは、コーティングは、基材の入口端から出口端に向かって、又は基材の出口端から入口端に向かって、基材軸方向長さのｘ％にわたって延在し、ｘは、９５～１００の範囲、好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である。
【0021】
好ましくは９０～１００重量％、より好ましくは９５～１００重量％、より好ましくは９８～１００重量％のコーティングが、基材の多孔質壁に含まれる。
【0022】
本発明の触媒のコーティングは、実質的に基材の多孔質壁内にのみ存在することが好ましく、基材の多孔質壁内にのみ存在することがより好ましい。基材軸方向長さの中間ゾーンにおいて、少量のコーティングが内壁の表面上に存在し得ることが更に考えられる。
【0023】
好ましくは、コーティングは、基材軸方向長さに沿って均一に配置される。
【0024】
コーティングの量は、基材の入口端及び基材の出口端のそれぞれに存在する量と比較して、基材軸方向長さの中間ゾーンにおいてより多いことも好ましい場合がある。これは、以下に記載されるコーティング方法のうちの１つによるものであり、基材は、好ましくは、入口端から出口端に向かって、又は出口端から入口端に向かって、基材軸方向長さの約５０～９０％、より好ましくは約６０～８０％、より好ましくは約６５～７５％にわたって、基材軸方向長さ未満にわたって最初にコーティングされ、次いで、基材は、入口端又は出口端の他方から、基材軸方向長さの約５０～９０％、より好ましくは約６０～８０％、より好ましくは約６５～７５％にわたって、基材軸方向長さ未満にわたって更にコーティングされる。
【0025】
本発明の文脈において、基材は、コージエライトウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材、及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上であることが好ましく、炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上であることがより好ましい。
【0026】
好ましくは、基材は、炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材又はチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材である。
【0027】
触媒は、ウォールフローフィルタ基材及びコーティングからなることが好ましい。
【0028】
本発明は更に、ＮＯｘの選択的接触還元のための触媒、好ましくは本発明による触媒を調製するためのプロセスであって、
（ｉ）水と、銅源と、ジルコニウムを含む第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体と、を含む、第１の水性混合物を調製することと、
（ｉｉ）水と、ゼオライト材料と、を含む、第２の水性混合物を調製することであって、ゼオライト材料が銅を含まない、調製することと、
（ｉｉｉ）（ｉ）に従って得られた第１の水性混合物と、（ｉｉ）に従って得られた第２の水性混合物とを混合することであって、第３の水性混合物を得て、第３の水性混合物において、酸化物として計算される第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体の量が、ゼオライト材料の重量に基づいて少なくとも１０重量％である、混合することと、
（ｉｖ）第３の水性混合物を、入口端と、出口端と、入口端から出口端まで延在する基材軸方向長さと、基材を通って延在する基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材上に配置することであって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、配置することと、任意選択で、当該混合物を含む基材を乾燥させることと、
（ｖ）（ｉｖ）で得られた基材を焼成することと、を含む、プロセスに関する。
（ｉ）水と、銅源と、ジルコニウムを含む第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体と、を含む、第１の水性混合物を調製することと、
（ｉｉ）水と、ゼオライト材料と、を含む、第２の水性混合物を調製することであって、ゼオライト材料が銅を含まない、調製することと、
（ｉｉｉ）（ｉ）に従って得られた第１の水性混合物と、（ｉｉ）に従って得られた第２の水性混合物とを混合することであって、第３の水性混合物を得て、第３の水性混合物において、酸化物として計算される第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体の量が、ゼオライト材料の重量に基づいて少なくとも１０重量％である、混合することと、
（ｉｖ）第３の水性混合物を、入口端と、出口端と、入口端から出口端まで延在する基材軸方向長さと、基材を通って延在する基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材上に配置することであって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、配置することと、任意選択で、当該混合物を含む基材を乾燥させることと、
（ｖ）（ｉｖ）で得られた基材を焼成することと、を含む、プロセスに関する。
【0029】
好ましくは、（ｉ）において調製された第１の水性混合物中に含まれる銅源は、酢酸銅、硝酸銅、硫酸銅、ギ酸銅、酸化銅、及びそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、より好ましくは酢酸銅、酸化銅、及びそれらのうちの混合物からなる群から選択され、より好ましくは酸化銅、より好ましくはＣｕＯである。
【0030】
好ましくは、（ｉ）において調製された第１の水性混合物中に含まれる第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体は、ジルコニウム塩又は酸化ジルコニウム、より好ましくはジルコニウム塩、より好ましくは酢酸ジルコニウムである。
【0031】
好ましくは、（ｉ）において調製された第１の水性混合物は、（ｉｉ）において調製された第２の水性混合物中に含まれるゼオライト材料の重量に基づいて、２～１０重量％の範囲、より好ましくは２．５～５．５重量％の範囲、より好ましくは３～５重量％の範囲の量で、ＣｕＯとして計算される銅を含む。
【0032】
第１の水性混合物において、酸化物として計算される第１の非ゼオライト酸化物材料の前駆体の量は、（ｉｉ）において調製された第２の水性混合物中に含まれるゼオライト材料の重量に基づいて、１０～８０重量％の範囲、より好ましくは１１～８０重量％の範囲、より好ましくは１２．５～５０重量％の範囲、より好ましくは１３～４０重量％の範囲、より好ましくは１４．３～２８．５重量％の範囲、より好ましくは１８～２５重量％の範囲であることが、好ましい。第１の水性混合物において、ＺｒＯ２として計算される酢酸ジルコニウムの量は、（ｉｉ）において調製された第２の水性混合物中に含まれるゼオライト材料の重量に基づいて、１０～８０重量％の範囲、より好ましくは１１～８０重量％の範囲、より好ましくは１２．５～５０重量％の範囲、より好ましくは１３～４０重量％の範囲、より好ましくは１４．３～２８．５重量％の範囲、より好ましくは１８～２５重量％の範囲であることが、より好ましい。
【0033】
（ｉ）に関して、
（ｉ．１）水と、銅源と、を含む混合物を調製することであって、混合物が、より好ましくは酸、より好ましくは有機酸、より好ましくは酢酸を、更に含む、調製することと、
（ｉ．２）第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体、より好ましくは酢酸ジルコニウムを、（ｉ．１）に従って得られた混合物に添加して、第１の水性混合物を得ることと、を含むことが、好ましい。
（ｉ．１）水と、銅源と、を含む混合物を調製することであって、混合物が、より好ましくは酸、より好ましくは有機酸、より好ましくは酢酸を、更に含む、調製することと、
（ｉ．２）第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体、より好ましくは酢酸ジルコニウムを、（ｉ．１）に従って得られた混合物に添加して、第１の水性混合物を得ることと、を含むことが、好ましい。
【0034】
好ましくは９０～１００重量％、より好ましくは９３～９９重量％、より好ましくは９６～９９重量％の銅源が、（ｉ．１）において調製された混合物中に非溶解状態で存在する。
【0035】
好ましくは、（ｉ．１）による混合物中の銅の粒子は、０．１～１５マイクロメートルの範囲、より好ましくは０．５～１０マイクロメートルの範囲、より好ましくは１～８マイクロメートルの範囲、より好ましくは３～７マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有し、Ｄｖ９０は、より好ましくは参考例３に記載されているように決定される。
【0036】
好ましくは、（ｉ．１）による混合物中の銅の粒子は、０．１～５マイクロメートルの範囲、より好ましくは０．５～３マイクロメートルの範囲、より好ましくは０．７５～２マイクロメートルの範囲のＤｖ５０を有し、Ｄｖ５０は、より好ましくは参考例３に記載されているように決定される。
【0037】
好ましくは、（ｉ．１）で得られた混合物は、（ｉ．１）で得られた混合物の重量に基づいて、４～３０重量％の範囲、より好ましくは４～２１重量％の範囲の固形分を有する。
【0038】
好ましくは、（ｉｉ）で得られた第２の混合物は、第２の混合物の重量に基づいて、１５～５０重量％の範囲、より好ましくは２０～４５重量％の範囲、より好ましくは３０～４０重量％の範囲の固形分を有する。
【0039】
好ましくは、第２の混合物中のゼオライト材料の粒子は、１～１０マイクロメートルの範囲、より好ましくは２～６マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有し、Ｄｖ９０は、より好ましくは参考例３に記載されるように決定される。
【0040】
（ｉｉ）で得られる第２の混合物において、ゼオライト材料は、好ましくはそのＨ型である。
【0041】
好ましくは、第２の混合物中のゼオライト材料の粒子は、０．５～５マイクロメートルの範囲、より好ましくは０．７５～３マイクロメートルの範囲のＤｖ５０を有し、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されるように決定される。
【0042】
（ｉｉｉ）に関して、
（ｉｉｉ．１）（ｉ）に従って得られた第１の水性混合物と、（ｉｉ）に従った第２の水性混合物と、を混合することと、
（ｉｉｉ．２）より好ましくは、得られた混合物（ｉｉｉ．１）を、より好ましくは当該混合物の粒子が０．５～８マイクロメートルの範囲、より好ましくは１～５マイクロメートルの範囲、より好ましくは１．５～４マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有するまで、粉砕することであって、Ｄｖ９０は、より好ましくは参考例３に記載されるように決定される、粉砕することと、
（ｉｉｉ．３）水と、アルミナ、シリカ、チタニア、セリア、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、及びＣｅのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択される第２の非ゼオライト酸化物材料と、を含む混合物を調製することと、
（ｉｉｉ．４）（ｉｉｉ．３）で得られた混合物を、（ｉｉｉ．１）で、より好ましくは（ｉｉｉ．２）で得られた混合物と混合して、第３の水性混合物を得ることと、を含むことが、好ましい。
（ｉｉｉ．１）（ｉ）に従って得られた第１の水性混合物と、（ｉｉ）に従った第２の水性混合物と、を混合することと、
（ｉｉｉ．２）より好ましくは、得られた混合物（ｉｉｉ．１）を、より好ましくは当該混合物の粒子が０．５～８マイクロメートルの範囲、より好ましくは１～５マイクロメートルの範囲、より好ましくは１．５～４マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有するまで、粉砕することであって、Ｄｖ９０は、より好ましくは参考例３に記載されるように決定される、粉砕することと、
（ｉｉｉ．３）水と、アルミナ、シリカ、チタニア、セリア、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、及びＣｅのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択される第２の非ゼオライト酸化物材料と、を含む混合物を調製することと、
（ｉｉｉ．４）（ｉｉｉ．３）で得られた混合物を、（ｉｉｉ．１）で、より好ましくは（ｉｉｉ．２）で得られた混合物と混合して、第３の水性混合物を得ることと、を含むことが、好ましい。
【0043】
好ましくは、（ｉｉｉ．３）において調製された混合物は、当該混合物の重量に基づいて、１５～６０重量％の範囲、より好ましくは２０～４５重量％の範囲、より好ましくは２５～４０重量％の範囲の固形分を有する。
【0044】
好ましくは、（ｉｉｉ．３）において調製された混合物中の第２の非ゼオライト酸化物材料の粒子は、２～１２マイクロメートルの範囲、より好ましくは３～７マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有し、Ｄｖ９０は、より好ましくは参考例３に記載されているように決定される。
【0045】
好ましくは、第２の混合物中のゼオライト材料の粒子は、０．７５～６マイクロメートルの範囲、より好ましくは１．５～４マイクロメートルの範囲のＤｖ５０を有し、Ｄｖ９０は、より好ましくは参考例３に記載されるように決定される。
【0046】
好ましくは、（ｉｉｉ．３）において調製された混合物中に含有される第２の非ゼオライト酸化物材料は、アルミナ、シリカ、及びチタニア、Ａｌ、Ｓｉ、及びＴｉのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、より好ましくは、アルミナ、シリカ、Ａｌ、及びＳｉのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、より好ましくは、アルミナとシリカとの混合物である。
【0047】
好ましくは、アルミナとシリカとの混合物の８０～９９重量％、より好ましくは８５～９８重量％、より好ましくは９０～９８重量％は、アルミナからなり、かつより好ましくはアルミナとシリカとの混合物の１～２０重量％、より好ましくは２～１５重量％、より好ましくは２～１０重量％が、シリカからなる。
【0048】
好ましくは、（ｉｉｉ．３）において調製された混合物は、ゼオライト材料の重量に基づいて、２～２０重量％の範囲、より好ましくは５～１５重量％の範囲、より好ましくは７～１３重量％の範囲の量で、第２の非ゼオライト酸化物材料を含む。
【0049】
（ｉｉｉ）、好ましくは（ｉｉｉ．４））において得られた第３の水性混合物に関して、当該混合物は、第３の水性混合物の重量に基づいて、１５～５０重量％の範囲、より好ましくは２０～４５重量％の範囲、より好ましくは２５～４０重量％の範囲の固形分を有することが、好ましい。
【0050】
（ｉｉｉ）において調製された第３の水性混合物の好ましくは９８～１００重量％、より好ましくは９９～１００重量％、より好ましくは９９．５～１００重量％、より好ましくは９９．９～１００重量％は、水、ゼオライト材料、銅源、第１の非ゼオライト酸化物材料の前駆体、より好ましくは酢酸ジルコニウム、より好ましくは上記で定義された第２の非ゼオライト酸化物材料からなる。
【0051】
好ましくは、（ｉｖ）による混合物の配置は、混合物を基材上に噴霧することによって、又は基材を混合物中に浸漬することによって、より好ましくは基材を混合物中に浸漬することによって行われる。
【0052】
好ましくは、（ｉｉｉ）に従って得られた第３の水性混合物は、（ｉｖ）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ％にわたって配置され、ｘは、９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である。
【0053】
（ｉｖ）の基材としては、ウォールフローフィルタ基材であればいずれの基材も用いることができる。しかしながら、（ｉｖ）における基材は、コージエライトウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上であることが好ましく、より好ましくは炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上であり、より好ましくは炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材又はチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材である。
【0054】
（ｉｖ）による乾燥に関しては、６０～３００℃の範囲、より好ましくは９０～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われることが好ましく、ガス雰囲気はより好ましくは酸素を含む。
【0055】
（ｉｖ）による乾燥に関して、１０分～４時間の範囲、より好ましくは２０分～２時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で実施されることが好ましく、ガス雰囲気はより好ましくは酸素を含む。
【0056】
（ｉｖ）に従って配置することに関して、代替の好ましい方法が存在し、それによれば、（ｉｖ）に従って配置することは、好ましくは
（ｉｖ．１）（ｉｉｉ）で得られた第３の水性混合物の第１の部分を、入口端と、出口端と、入口端から出口端まで延在する基材軸方向長さと、基材を通って延在する基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材上に配置することであって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、配置することと、第３の水性混合物の第１の部分を含む基材を乾燥させることと、
（ｉｖ．２）（ｉｉｉ）で得られた第３の水性混合物の第２の部分を、（ｉｖ．１）で得られた第３の水性混合物の第１の部分を含む基材上に配置することと、任意選択で、第３の水性混合物の第１の部分及び第２の部分を含む基材を乾燥させることと、を含む。
（ｉｖ．１）（ｉｉｉ）で得られた第３の水性混合物の第１の部分を、入口端と、出口端と、入口端から出口端まで延在する基材軸方向長さと、基材を通って延在する基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材上に配置することであって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、配置することと、第３の水性混合物の第１の部分を含む基材を乾燥させることと、
（ｉｖ．２）（ｉｉｉ）で得られた第３の水性混合物の第２の部分を、（ｉｖ．１）で得られた第３の水性混合物の第１の部分を含む基材上に配置することと、任意選択で、第３の水性混合物の第１の部分及び第２の部分を含む基材を乾燥させることと、を含む。
【0057】
好ましくは、（ｉｉｉ）による第３の水性混合物の第１の部分は、（ｉｖ．１）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ１％にわたって配置され、ｘ１は、９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である。
【0058】
好ましくは、（ｉｉｉ）による第３の水性混合物の第２の部分は、（ｉｖ．２）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ２％にわたって配置され、ｘ２は、９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である。ｘ１が９５～１００の範囲、より好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲であり、ｘ２＝ｘ１であることが、より好ましい。
【0059】
あるいは、（ｉｉｉ）による第３の水性混合物の第１の部分は、（ｉｖ．１）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ１％にわたって配置されることが好ましく、ｘ１は、５０～９０の範囲、より好ましくは６０～８０の範囲、より好ましくは６５～７５の範囲である。
【0060】
好ましくは、（ｉｉｉ）による第３の水性混合物の第２の部分は、（ｉｖ．２）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ２％にわたって配置され、ｘ２は、５０～９０の範囲、より好ましくは６０～８０の範囲、より好ましくは６５～７５の範囲である。ｘ１が５０～９０の範囲、より好ましくは６０～８０の範囲、より好ましくは６５～７５の範囲であり、ｘ２＝ｘ１であることがより好ましい。
【0061】
（ｉｉｉ）による第３の水性混合物の第１の部分が、（ｉｖ．１）に従って、基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ１％にわたって配置され、（ｉｉｉ）による第３の水性混合物の第２の部分が、（ｉｖ．２）に従って、基材の入口端から出口端までの基材軸方向長さのｘ２％にわたって配置されることが、より好ましい。他のプロセスも考えられる。
【0062】
好ましくは、（ｉｖ．１）による乾燥は、６０～３００℃の範囲、より好ましくは９０～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気は、より好ましくは酸素を含む。
【0063】
好ましくは、（ｉｖ．１）による乾燥は、１０分～４時間の範囲、より好ましくは２０分～２時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気は、より好ましくは酸素を含む。
【0064】
好ましくは、（ｉｖ．２）による乾燥は、６０～３００℃の範囲、より好ましくは９０～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気は、より好ましくは酸素を含む。
【0065】
好ましくは、（ｉｖ．２）による乾燥は、１０分～４時間の範囲、より好ましくは２０分～２時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気は、より好ましくは酸素を含む。
【0066】
（ｖ）による焼成に関して、３００～９００℃の範囲、より好ましくは４００～６５０℃の範囲、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われることが好ましく、ガス雰囲気はより好ましくは酸素を含む。
【0067】
（ｖ）による焼成に関しては、０．１～４時間の範囲、より好ましくは０．５～２．５時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われることが好ましく、ガス雰囲気はより好ましくは酸素を含む。
【0068】
本発明の文脈において、プロセスは、（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、（ｉｖ）、及び（ｖ）からなることが好ましい。
【0069】
本発明は更に、本発明に従って得られたプロセス及び上記で定義された通りのプロセスによって得ることができるか、又は得られたＮＯｘの選択的接触還元のための触媒に関する。触媒は、好ましくは、本発明の触媒であり、先に定義されている。
【0070】
本発明は更に、圧縮点火エンジンから出る排気ガスを処理するための排気ガス処理システムに関し、当該排気ガス処理システムは、当該排気ガス流を当該排気ガス処理システムに導入するための上流端を有し、当該排気ガス処理システムは、本発明による触媒と、前述で定義されたように、ディーゼル酸化触媒、選択的接触還元触媒、アンモニア酸化触媒、ＮＯｘトラップ及び微粒子フィルタのうちの１つ以上と、を含む。圧縮点火エンジンは、ディーゼルエンジンであることが好ましい。
【0071】
好ましくは、システムは、本発明による触媒、ディーゼル酸化触媒及び選択的接触還元触媒を含み、
ディーゼル酸化触媒は、より好ましくは、選択的接触還元触媒の上流に位置し、選択的接触還元触媒が、本発明による触媒の上流に位置する。
ディーゼル酸化触媒は、より好ましくは、選択的接触還元触媒の上流に位置し、選択的接触還元触媒が、本発明による触媒の上流に位置する。
【0072】
あるいは、システムは、好ましくは、本発明による触媒、ＮＯｘトラップ及び選択的接触還元触媒を含み、
ＮＯｘトラップは、より好ましくは、選択的接触還元触媒の上流に位置し、選択的接触還元触媒は、本発明による触媒の上流に位置する。
ＮＯｘトラップは、より好ましくは、選択的接触還元触媒の上流に位置し、選択的接触還元触媒は、本発明による触媒の上流に位置する。
【0073】
あるいは、システムは、好ましくは、本発明による触媒、ディーゼル酸化触媒及び選択的接触還元触媒を含み、
より好ましくは、ディーゼル酸化触媒は、本発明による触媒の上流に配置され、本発明による触媒は、選択的接触還元触媒の上流に位置する。
より好ましくは、ディーゼル酸化触媒は、本発明による触媒の上流に配置され、本発明による触媒は、選択的接触還元触媒の上流に位置する。
【0074】
あるいは、システムは、好ましくは、本発明による触媒、ＮＯｘトラップ及び選択的接触還元触媒を含み、
ＮＯｘトラップは、より好ましくは、本発明による触媒の上流に位置し、本発明による触媒は、選択的接触還元触媒の上流に位置する。より好ましくは、システムは、より好ましくは選択的接触還元触媒の下流に位置する、アンモニア酸化触媒又は選択的接触還元／アンモニア酸化触媒を更に含む。
ＮＯｘトラップは、より好ましくは、本発明による触媒の上流に位置し、本発明による触媒は、選択的接触還元触媒の上流に位置する。より好ましくは、システムは、より好ましくは選択的接触還元触媒の下流に位置する、アンモニア酸化触媒又は選択的接触還元／アンモニア酸化触媒を更に含む。
【0075】
本発明は更に、ＮＯｘの選択的接触還元のための、本発明による、前述で定義された触媒の使用に関する。
【0076】
本発明は更に、ＮＯｘの選択的接触還元のための方法であって、
（１）排気ガス流、より好ましくはディーゼルエンジンから出る排気ガス流を提供することと、
（２）（１）で供給された排気ガス流を、本発明によるＮＯｘの選択的接触還元のための触媒と接触させることと、を含むプロセスに関する。
（１）排気ガス流、より好ましくはディーゼルエンジンから出る排気ガス流を提供することと、
（２）（１）で供給された排気ガス流を、本発明によるＮＯｘの選択的接触還元のための触媒と接触させることと、を含むプロセスに関する。
【0077】
本発明は更に、以下の実施形態のセット、及び示されるような依存関係及び逆参照から生じる実施形態の組み合わせによって説明される。特に、実施形態の範囲が言及される各場合において、例えば、「実施形態１～４のうちのいずれか１つの触媒」などの用語の文脈において、この範囲内の全ての実施形態は、当業者に明示的に開示されることを意味し、すなわち、この用語の表現は、「実施形態１、２、３、及び４のうちのいずれか１つの触媒」と同義であると当業者によって理解されることに留意されたい。更に、以下の一連の実施形態は、本発明の好ましい態様を対象とする一般的な説明の適切に構造化された部分を表し、したがって、本発明の特許請求の範囲を適切に支持するが、表すものではないことに明確に留意されたい。
１．ＮＯｘの選択的接触還元のための触媒であって、
入口端と、出口端と、入口端から出口端まで延在する基材軸方向長さと、基材を通って延在する基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材であって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材を含み、
基材の多孔質壁が、コーティングを含み、コーティングが、ゼオライト材料と、銅と、ジルコニウムを含む第１の非ゼオライト酸化物材料と、を含み、
コーティングが、ｇ／立方インチで表したローディングＬ（ｚ）におけるゼオライト材料と、ｇ／立方インチで表したローディングＬ１における第１の非ゼオライト酸化物材料と、を含み、ローディング比Ｌ（ｚ）（ｇ／立方インチ）：Ｌ１（ｇ／立方インチ）が、最大で１０：１であり、かつ
第１の非ゼオライト酸化物材料の９０～１００重量％が、ＺｒＯ２として計算されるジルコニウムからなる、触媒に関する。
２．実施形態１の触媒であって、コーティングに含まれるゼオライト材料は、ＡＢＷ、ＡＣＯ、ＡＥＩ、ＡＥＬ、ＡＥＮ、ＡＥＴ、ＡＦＧ、ＡＦＩ、ＡＦＮ、ＡＦＯ、ＡＦＲ、ＡＦＳ、ＡＦＴ、ＡＦＶ、ＡＦＸ、ＡＦＹ、ＡＨＴ、ＡＮＡ、ＡＰＣ、ＡＰＤ、ＡＳＴ、ＡＳＶ、ＡＴＮ、ＡＴＯ、ＡＴＳ、ＡＴＴ、ＡＴＶ、ＡＶＬ、ＡＷＯ、ＡＷＷ、ＢＣＴ、ＢＥＡ、ＢＥＣ、ＢＩＫ、ＢＯＦ、ＢＯＧ、ＢＯＺ、ＢＰＨ、ＢＲＥ、ＢＳＶ、ＣＡＮ、ＣＡＳ、ＣＤＯ、ＣＦＩ、ＣＧＦ、ＣＧＳ、ＣＨＡ、－ＣＨＩ、－ＣＬＯ、ＣＯＮ、ＣＳＶ、ＣＺＰ、ＤＡＣ、ＤＤＲ、ＤＦＯ、ＤＦＴ、ＤＯＨ、ＤＯＮ、ＥＡＢ、ＥＤＩ、ＥＥＩ、ＥＭＴ、ＥＯＮ、ＥＰＩ、ＥＲＩ、ＥＳＶ、ＥＴＲ、ＥＵＯ、＊－ＥＷＴ、ＥＺＴ、ＦＡＲ、ＦＡＵ、ＦＥＲ、ＦＲＡ、ＧＩＳ、ＧＩＵ、ＧＭＥ、ＧＯＮ、ＧＯＯ、ＨＥＵ、ＩＦＯ、ＩＦＲ、－ＩＦＵ、ＩＦＷ、ＩＦＹ、ＩＨＷ、ＩＭＦ、ＩＲＮ、ＩＲＲ、－ＩＲＹ、ＩＳＶ、ＩＴＥ、ＩＴＧ、ＩＴＨ、＊－ＩＴＮ、ＩＴＲ、ＩＴＴ、－ＩＴＶ、ＩＴＷ、ＩＷＲ、ＩＷＳ、ＩＷＶ、ＩＷＷ、ＪＢＷ、ＪＮＴ、ＪＯＺ、ＪＲＹ、ＪＳＮ、ＪＳＲ、ＪＳＴ、ＪＳＷ、ＫＦＩ、ＬＡＵ、ＬＥＶ、ＬＩＯ、－ＬＩＴ、ＬＯＳ、ＬＯＶ、ＬＴＡ、ＬＴＦ、ＬＴＪ、ＬＴＬ、ＬＴＮ、ＭＡＲ、ＭＡＺ、ＭＥＩ、ＭＥＬ、ＭＥＰ、ＭＥＲ、ＭＦＩ、ＭＦＳ、ＭＯＮ、ＭＯＲ、ＭＯＺ、＊ＭＲＥ、ＭＳＥ、ＭＳＯ、ＭＴＦ、ＭＴＮ、ＭＴＴ、ＭＴＷ、ＭＶＹ、ＭＷＦ、ＭＷＷ、ＮＡＢ、ＮＡＴ、ＮＥＳ、ＮＯＮ、ＮＰＯ、ＮＰＴ、ＮＳＩ、ＯＢＷ、ＯＦＦ、ＯＫＯ、ＯＳＩ、ＯＳＯ、ＯＷＥ、－ＰＡＲ、ＰＡＵ、ＰＣＲ、ＰＨＩ、ＰＯＮ、ＰＯＳ、ＰＳＩ、ＰＵＮ、ＲＨＯ、－ＲＯＮ、ＲＲＯ、ＲＳＮ、ＲＴＥ、ＲＴＨ、ＲＵＴ、ＲＷＲ、ＲＷＹ、ＳＡＦ、ＳＡＯ、ＳＡＳ、ＳＡＴ、ＳＡＶ、ＳＢＥ、ＳＢＮ、ＳＢＳ、ＳＢＴ、ＳＥＷ、ＳＦＥ、ＳＦＦ、ＳＦＧ、ＳＦＨ、ＳＦＮ、ＳＦＯ、ＳＦＳ、＊ＳＦＶ、ＳＦＷ、ＳＧＴ、ＳＩＶ、ＳＯＤ、ＳＯＦ、ＳＯＳ、ＳＳＦ、＊－ＳＳＯ、ＳＳＹ、ＳＴＦ、ＳＴＩ、＊ＳＴＯ、ＳＴＴ、ＳＴＷ、－ＳＶＲ、ＳＶＶ、ＳＺＲ、ＴＥＲ、ＴＨＯ、ＴＯＬ、ＴＯＮ、ＴＳＣ、ＴＵＮ、ＵＥＩ、ＵＦＩ、ＵＯＳ、ＵＯＶ、ＵＯＺ、ＵＳＩ、ＵＴＬ、ＵＷＹ、ＶＥＴ、ＶＦＩ、ＶＮＩ、ＶＳＶ、ＷＥＩ、－ＷＥＮ、ＹＵＧ、ＺＯＮ、それらのうちの２種以上の混合物、及びそれらのうちの２種以上の混合タイプからなる群から選択され、好ましくはＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、ＬＥＶ、ＤＤＲ、ＫＦＩ、ＥＲＩ、ＡＦＸ、それらのうちの２種以上の混合物、及びそれらのうちの２種以上の混合タイプからなる群から選択され、より好ましくはＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、ＡＦＸ、それらのうちの２種以上の混合物、及びそれらのうちの２種以上の混合タイプからなる群から選択され、より好ましくはＣＨＡ及びＡＥＩからなる群から選択される骨格型を有し、コーティングに含まれるゼオライト材料は、骨格型ＣＨＡを有することがより好ましい。
３．ゼオライト材料の骨格構造の９５～１００重量％、好ましくは９８～１００重量％、より好ましくは９９～１００重量％が、Ｓｉ、Ａｌ及びＯからなり、骨格構造において、モルＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３として計算されるＳｉ対Ａｌのモル比は、好ましくは２：１～３０：１の範囲、より好ましくは５：１～２５：１の範囲、より好ましくは７：１～２２：１の範囲、より好ましくは８：１～２０：１の範囲、より好ましくは９：１～１８：１の範囲、より好ましくは１０：１～１７：１の範囲、より好ましくは１２：１～１６：１の範囲である、実施形態１又は２の触媒。
４．コーティングに含まれるゼオライト材料、好ましくは骨格型ＣＨＡを有するゼオライト材料が、走査型電子顕微鏡によって測定して、少なくとも０．１マイクロメートル、好ましくは０．１～３．０マイクロメートルの範囲、より好ましくは０．３～１．５マイクロメートルの範囲、より好ましくは０．４～１．０マイクロメートルの範囲の平均結晶子サイズを有する、実施形態１～３のいずれか１つに記載の触媒。
５．ＣｕＯとして計算されるコーティングに含まれる銅の量が、ゼオライト材料の重量に基づいて、２～１０重量％の範囲、好ましくは２．５～５．５重量％の範囲、より好ましくは３～５重量％の範囲である、実施形態１～４のいずれか１つに記載の触媒。
６．コーティングに含まれるゼオライト材料が、銅を含む、実施形態１～５のいずれか１つに記載の触媒。
７．コーティングが、ゼオライト材料を、０．５～５ｇ／立方インチの範囲、より好ましくは０．７５～３ｇ／立方インチの範囲、より好ましくは１～２．５ｇ／立方インチの範囲、より好ましくは１．２５～２ｇ／立方インチの範囲のローディング量で含む、実施形態１～６のいずれか１つに記載の触媒。
８．コーティング中に含まれる第１の非ゼオライト酸化物材料の９５～１００重量％、好ましくは９８～１００重量％、より好ましくは９９～１００重量％、より好ましくは９９．５～１００重量％が、ＺｒＯ２として計算されるジルコニウムからなる、実施形態１～７のいずれか１つに記載の触媒。
９．コーティングが、ｇ／立方インチで表したローディングＬ（ｚ）におけるゼオライト材料と、ｇ／立方インチで表したローディングＬ１における第１の非ゼオライト酸化物材料、好ましくはジルコニアと、を含み、ローディング比Ｌ（ｚ）（ｇ／立方インチ）：Ｌ１（ｇ／立方インチ）は、１０：１～１．１：１の範囲、好ましくは９：１～１．２５：１の範囲、より好ましくは８：１～２：１の範囲、より好ましくは７．５：１～２．５：１の範囲、より好ましくは７：１～３．５：１の範囲、より好ましくは５．５：１～４：１の範囲である、実施形態１～８のいずれか１つに記載の触媒。
１０．コーティングが、第２の非ゼオライト酸化物材料を更に含み、第２の非ゼオライト酸化物材料が、アルミナ、シリカ、チタニア、セリア、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、及びＣｅのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、好ましくはアルミナ、シリカ、及びチタニア、Ａｌ、Ｓｉ、及びＴｉのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、より好ましくはアルミナ、シリカ、Ａｌ、及びＳｉのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、より好ましくはアルミナとシリカとの混合物である、実施形態１～９のいずれか１つに記載の触媒。
１１．アルミナとシリカとの混合物の８０～９９重量％、好ましくは８５～９８重量％、より好ましくは９０～９８重量％が、アルミナからなり、かつアルミナとシリカとの混合物の１～２０重量％、好ましくは２～１５重量％、より好ましくは２～１０重量％が、シリカからなる、実施形態１０に記載の触媒。
１２．コーティングが、ゼオライト材料の重量に基づいて、２～２０重量％の範囲、好ましくは５～１５重量％の範囲、より好ましくは７～１３重量％の範囲の量で第２の非ゼオライト酸化物材料を含む、実施形態１０又は１１に記載の触媒。
１３．０～０．００１重量％、好ましくは０～０．０００１重量％、より好ましくは０～０．００００１重量％のコーティングが、白金族金属からなる、実施形態１～１２のいずれか１つに記載の触媒。
１４．コーティングが、基材の入口端から出口端に向かって、又は基材の出口端から入口端に向かって、基材軸方向長さのｘ％にわたって延在し、ｘは、９５～１００の範囲、好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である、実施形態１～１３のいずれか１つに記載の触媒。
１５．９０～１００重量％、好ましくは９５～１００重量％、より好ましくは９８～１００重量％のコーティングが、基材の多孔質壁に含まれる、実施形態１～１４のいずれか１つに記載の触媒。
１６．コーティングが、基材軸方向長さに沿って均一に配置されているか、又はコーティングの量が、基材の入口端及び基材の出口端のそれぞれに存在する量と比較して、基材軸方向長さの中間ゾーンにおいてより多い、実施形態１～１５のいずれか１つに記載の触媒。
１７．基材が、コージエライトウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上、好ましくは炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上である、実施形態１～１６のいずれか１つに記載の触媒。
１８．基材が、炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材又はチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材である、実施形態１７に記載の触媒。
１９．触媒が、ウォールフローフィルタ基材及びコーティングからなる、実施形態１～１８のいずれか１つに記載の触媒。
２０．ＮＯｘの選択的接触還元のための触媒、好ましくは実施形態１～１９のいずれか１つに記載の触媒を調製するためのプロセスであって、
（ｉ）水と、銅源と、ジルコニウムを含む第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体と、を含む、第１の水性混合物を調製することと、
（ｉｉ）水と、ゼオライト材料と、を含む、第２の水性混合物を調製することであって、ゼオライト材料が銅を含まない、調製することと、
（ｉｉｉ）（ｉ）に従って得られた第１の水性混合物と、（ｉｉ）に従って得られた第２の水性混合物とを混合することであって、第３の水性混合物を得て、第３の水性混合物において、酸化物として計算される第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体の量が、ゼオライト材料の重量に基づいて少なくとも１０重量％である、混合することと、
（ｉｖ）第３の水性混合物を、入口端と、出口端と、入口端から出口端まで延在する基材軸方向長さと、基材を通って延在する基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材上に配置することであって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、配置することと、任意選択で、当該混合物を含む基材を乾燥させることと、
（ｖ）（ｉｖ）で得られた基材を焼成することと、を含む、プロセスに関する。
２１．（ｉ）において調製された第１の水性混合物中に含まれる銅源は、酢酸銅、硝酸銅、硫酸銅、ギ酸銅、酸化銅、及びそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、好ましくは酢酸銅、酸化銅、及びそれらのうちの混合物からなる群から選択され、より好ましくは酸化銅、より好ましくはＣｕＯである、実施形態２０に記載のプロセス。
２２．（ｉ）において調製された第１の水性混合物中に含まれる第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体が、ジルコニウム塩又は酸化ジルコニウム、好ましくはジルコニウム塩、より好ましくは酢酸ジルコニウムである、実施形態２０又は２１に記載のプロセス。
２３．（ｉ）において調製された第１の水性混合物が、（ｉｉ）において調製された第２の水性混合物中に含まれるゼオライト材料の重量に基づいて、２～１０重量％の範囲、好ましくは２．５～５．５重量％の範囲、より好ましくは３～５重量％の範囲の量で、ＣｕＯとして計算される銅を含む、実施形態２０～２２のいずれか１つに記載のプロセス。
２４．第１の水性混合物において、酸化物として計算される第１の非ゼオライト酸化物材料の前駆体の量は、（ｉｉ）において調製された第２の水性混合物中に含まれるゼオライト材料の重量に基づいて、１０～８０重量％の範囲、より好ましくは１１～８０重量％の範囲、より好ましくは１２．５～５０重量％の範囲、より好ましくは１３～４０重量％の範囲、より好ましくは１４．３～２８．５重量％の範囲、より好ましくは１８～２５重量％の範囲である、実施形態２０～２３のいずれか１つに記載のプロセス。
２５．
（ｉ．１）水と、銅源と、を含む混合物を調製することであって、混合物が、好ましくは酸、より好ましくは有機酸、より好ましくは酢酸を、更に含む、調製することと、
（ｉ．２）第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体を、（ｉ．１）に従って得られた混合物に添加して、第１の水性混合物を得ることと、
を含む、実施形態２０～２４のいずれか１つに記載のプロセス。
２６．９０～１００重量％、好ましくは９３～９９重量％、より好ましくは９６～９９重量％の銅源が、（ｉ．１）において調製された混合物中に非溶解状態で存在する、実施形態２５に記載のプロセス。
２７．（ｉ．１）による混合物中の銅の粒子は、０．１～１５マイクロメートルの範囲、より好ましくは０．５～１０マイクロメートルの範囲、より好ましくは１～８マイクロメートルの範囲、より好ましくは３～７マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有し、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されているように決定される、実施形態２６に記載のプロセス。
２８．（ｉ．１）で得られた混合物が、（ｉ．１）で得られた混合物の重量に基づいて、４～３０重量％の範囲、好ましくは４～２１重量％の範囲の固形分を有する、実施形態２５～２７のいずれか１つに記載のプロセス。
２９．（ｉｉ）で得られた第２の混合物が、第２の混合物の重量に基づいて、１５～５０重量％の範囲、より好ましくは２０～４５重量％の範囲、より好ましくは３０～４０重量％の範囲の固形分を有する、実施形態２０～２８のいずれか１つに記載のプロセス。
３０．第２の混合物中のゼオライト材料の粒子が、１～１０マイクロメートルの範囲、好ましくは２～６マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有し、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されるように決定される、実施形態２０～２９のいずれか１つに記載のプロセス。
３１．第２の混合物中のゼオライト材料の粒子が、０．５～５マイクロメートルの範囲、好ましくは０．７５～３マイクロメートルの範囲のＤｖ５０を有し、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されるように決定される、実施形態２０～３０のいずれか１つに記載のプロセス。
３２．（ｉｉｉ）が、
（ｉｉｉ．１）（ｉ）に従って得られた第１の水性混合物と、（ｉｉ）に従った第２の水性混合物と、を混合することと、
（ｉｉｉ．２）好ましくは、得られた混合物（ｉｉｉ．１）を、より好ましくは当該混合物の粒子が０．５～８マイクロメートルの範囲、より好ましくは１～５マイクロメートルの範囲、より好ましくは１．５～４マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有するまで、粉砕することであって、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されるように決定される、粉砕することと、
（ｉｉｉ．３）水と、アルミナ、シリカ、チタニア、セリア、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、及びＣｅのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択される第２の非ゼオライト酸化物材料と、を含む混合物を調製することと、
（ｉｉｉ．４）（ｉｉｉ．３）で得られた混合物を、（ｉｉｉ．１）で、好ましくは（ｉｉｉ．２）で得られた混合物と混合して、第３の水性混合物を得ることと、を含む、実施形態２０～３１のいずれか１つに記載のプロセス。
３３．（ｉｉｉ．３）において調製された混合物が、当該混合物の重量に基づいて、１５～６０重量％の範囲、好ましくは２０～４５重量％の範囲、より好ましくは２５～４０重量％の範囲の固形分を有する、実施形態３２に記載のプロセス。
３４．（ｉｉｉ．３）で調製された混合物中の第２の非ゼオライト酸化物材料の粒子が、２～１２マイクロメートルの範囲、好ましくは３～７マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有し、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されているように決定される、実施形態３２又は３３に記載のプロセス。
３５．第２の混合物中の第２の非ゼオライト酸化物材料の粒子が、０．７５～６マイクロメートルの範囲、好ましくは１．５～４マイクロメートルの範囲のＤｖ５０を有し、Ｄｖ９０が、好ましくは参考例３に記載されるように決定される、実施形態３２～３４のいずれか１つに記載のプロセス。
３６．（ｉｉｉ．３）において調製された混合物中に含有される第２の非ゼオライト酸化物材料は、アルミナ、シリカ、及びチタニア、Ａｌ、Ｓｉ、及びＴｉのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、好ましくは、アルミナ、シリカ、Ａｌ、及びＳｉのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、より好ましくは、アルミナとシリカとの混合物であり、
より好ましくは、アルミナとシリカとの混合物の８０～９９重量％、より好ましくは８５～９８重量％、より好ましくは９０～９８重量％が、アルミナからなり、かつより好ましくは、アルミナとシリカとの混合物の１～２０重量％、より好ましくは２～１５重量％、より好ましくは２～１０重量％が、シリカからなる、実施形態３２～３５のいずれか１つに記載のプロセス。
３７．（ｉｉｉ．３）において調製された混合物が、ゼオライト材料の重量に基づいて、２～２０重量％の範囲、好ましくは５～１５重量％の範囲、より好ましくは７～１３重量％の範囲の量で第２の非ゼオライト酸化物材料を含む、実施形態３２～３６のいずれか１つに記載のプロセス。
３８．（ｉｉｉ）において、好ましくは（ｉｉｉ．４）において得られる第３の水性混合物が、第３の水性混合物の重量に基づいて、１５～５０重量％の範囲、より好ましくは２０～４５重量％の範囲、より好ましくは２５～４０重量％の範囲の固形分を有する、実施形態３２～３７のいずれか１つに記載のプロセス。
３９．（ｉｉｉ）において調製された第３の水性混合物の９８～１００重量％、好ましくは９９～１００重量％、より好ましくは９９．５～１００重量％、より好ましくは９９．９～１００重量％が、水、ゼオライト材料、銅源、第１の非ゼオライト酸化物材料の前駆体、及び好ましくは実施形態３２、及び３４～３７のいずれか１つに定義される第２の非ゼオライト酸化物材料からなる、実施形態２０～３８のいずれか１つに記載のプロセス。
４０．（ｉｖ）による混合物の配置が、混合物を基材上に噴霧することによって、又は基材を混合物中に浸漬することによって、好ましくは基材を混合物中に浸漬することによって行われる、実施形態２０～３９のいずれか１つに記載のプロセス。
４１．（ｉｉｉ）に従って得られた第３の水性混合物が、（ｉｖ）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ％にわたって配置され、ｘは、９５～１００の範囲、好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である、実施形態２０～４０のいずれか１つに記載のプロセス。
４２．（ｉｖ）における基材が、コージエライトウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上であり、好ましくは炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上であり、より好ましくは炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材又はチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材である、実施形態２０～４１のいずれか１つに記載のプロセス。
４３．（ｉｖ）による乾燥が、６０～３００℃の範囲、好ましくは９０～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が、好ましくは酸素を含む、実施形態２０～４２のいずれか１つに記載のプロセス。
４４．（ｉｖ）による乾燥が、１０分～４時間の範囲、好ましくは２０分～２時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が、好ましくは酸素を含む、実施形態２０～４３のいずれか１つに記載のプロセス。
４５．（ｉｖ）に従って配置することが、
（ｉｖ．１）（ｉｉｉ）で得られた第３の水性混合物の第１の部分を、入口端と、出口端と、入口端から出口端まで延在する基材軸方向長さと、基材を通って延在する基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材上に配置することであって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、配置することと、第３の水性混合物の第１の部分を含む基材を乾燥させることと、
（ｉｖ．２）（ｉｉｉ）で得られた第３の水性混合物の第２の部分を、（ｉｖ．１）で得られた第３の水性混合物の第１の部分を含む基材上に配置することと、任意選択で、第３の水性混合物の第１の部分及び第２の部分を含む基材を乾燥させることと、を含む、実施形態２０～４４のいずれか１つに記載のプロセス。
４６．（ｉｉｉ）による第３の水性混合物の第１の部分は、（ｉｖ．１）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ１％にわたって配置され、ｘ１は、９５～１００の範囲、好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である、実施形態４５に記載のプロセス。
４７．（ｉｉｉ）による第３の水性混合物の第２の部分が、（ｉｖ．２）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ２％にわたって配置され、ｘ２が、９５～１００の範囲、好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲であり、より好ましくは、実施形態４６が実施形態４５に依存する限り、ｘ２＝ｘ１である、実施形態４５又は４６に記載のプロセス。
４８．（ｉｉｉ）による第３の水性混合物の第１の部分が、（ｉｖ．１）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ１％にわたって配置され、ｘ１が、５０～９０の範囲、好ましくは６０～８０の範囲、より好ましくは６５～７５の範囲である、実施形態４５に記載のプロセス。
４９．（ｉｉｉ）による第３の水性混合物の第２の部分が、（ｉｖ．２）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ２％にわたって配置され、ｘ２が、５０～９０の範囲、好ましくは６０～８０の範囲、より好ましくは６５～７５の範囲であり、より好ましくは、実施形態４８が実施形態４５に依存する限り、ｘ２＝ｘ１である、実施形態４５又は４８のプロセス。
５０．（ｉｖ．１）による乾燥が、６０～３００℃の範囲、好ましくは９０～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が好ましくは酸素を含む、実施形態４５～４９のいずれか１つに記載のプロセス。
５１．（ｉｖ．１）による乾燥が、１０分～４時間の範囲、好ましくは２０分～２時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が、好ましくは酸素を含む、実施形態４５～５０のいずれか１つに記載のプロセス。
５２．（ｉｖ．２）による乾燥が、６０～３００℃の範囲、好ましくは９０～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が好ましくは酸素を含む、実施形態４５～５１のいずれか１つに記載のプロセス。
５３．（ｉｖ．２）による乾燥が、１０分～４時間の範囲、好ましくは２０分～２時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が、好ましくは酸素を含む、実施形態４５～５２のいずれか１つに記載のプロセス。
５４．（ｖ）による焼成が、３００～９００℃の範囲、好ましくは４００～６５０℃の範囲、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が、好ましくは酸素を含む、実施形態２０～５３のいずれか１つに記載のプロセス。
５５．（ｖ）による焼成が、０．１～４時間の範囲、好ましくは０．５～２．５時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が好ましくは酸素を含む、実施形態２０～５４のいずれか１つに記載のプロセス。
５６．（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、（ｉｖ）、及び（ｖ）からなる、実施形態１９～５４のいずれか１つのプロセス。
５７．ＮＯｘの選択的接触還元のための触媒、好ましくは実施形態１～１９のいずれか１つに記載の触媒を調製するためのプロセスであって、
（ｉ’）水と、銅源と、ジルコニウムを含む第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体と、を含む、第１の水性混合物を調製する工程；
（ｉｉ’）銅を含まないゼオライト材料を、（ｉ’）に従って得られた第１の混合物と混合し、第２の水性混合物を得ることであって、第２の水性混合物において、酸化物として計算される第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体の量が、ゼオライト材料の重量に基づいて少なくとも１０重量％である、得ることと、
（ｉｉｉ’）第２の水性混合物を、入口端と、出口端と、入口端から出口端まで延在する基材軸方向長さと、基材を通って延在する基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材上に配置することであって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、配置することと、任意選択で、当該混合物を含む基材を乾燥させることと、
（ｉｖ’）（ｉｉｉ’）で得られた基材を焼成することと、を含む、プロセス。
５８．（ｉ’）において調製された第１の水性混合物中に含まれる銅源は、酢酸銅、硝酸銅、硫酸銅、ギ酸銅、酸化銅、及びそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、好ましくは酢酸銅、酸化銅、及びそれらのうちの混合物からなる群から選択され、より好ましくは酸化銅、より好ましくはＣｕＯである、実施形態５７に記載のプロセス。
５９．（ｉ’）において調製された第１の水性混合物中に含まれる第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体が、ジルコニウム塩又は酸化ジルコニウム、好ましくはジルコニウム塩、より好ましくは酢酸ジルコニウムである、実施形態５７又は５８に記載のプロセス。
６０．（ｉ’）において調製された第１の水性混合物が、（ｉｉ’）に従って得られた第２の水性混合物のゼオライト材料に基づいて、２～１０重量％の範囲、好ましくは２．５～５．５重量％の範囲、より好ましくは３～５重量％の範囲の量で、ＣｕＯとして計算される銅を含む、実施形態５７～５９のいずれか１つに記載のプロセス。
６１．第１の水性混合物において、酸化物として計算される第１の非ゼオライト酸化物材料の前駆体の量は、（ｉｉ’）に従って得られた第２の水性混合物中に含まれるゼオライト材料の重量に基づいて、１０～８０重量％の範囲、より好ましくは１１～８０重量％の範囲、より好ましくは１２．５～５０重量％の範囲、より好ましくは１３～４０重量％の範囲、より好ましくは１４．３～２８．５重量％の範囲、より好ましくは１８～２５重量％の範囲である、実施形態５７～６０のいずれか１つに記載のプロセス。
６２．（ｉ’）が、
（ｉ’．１）水及び銅源を含む混合物を調製することであって、混合物が、好ましくは酸、より好ましくは有機酸、より好ましくは酢酸を更に含み、より好ましくは混合物が、スクロースを含み、より好ましくはスクロースに対するＣｕＯとして計算される銅の重量比が、２：１～１：２の範囲、より好ましくは１．５：１～１：１．５の範囲、より好ましくは１．２：１～１：１．２の範囲である、調製することと、
（ｉ’．２）第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体を、（ｉ’．１）に従って得られた混合物に添加して、第１の水性混合物を得ることと、
を含む、実施形態５７～６１のいずれか１つに記載のプロセス。
６３．９０～１００重量％、好ましくは９３～９９重量％、より好ましくは９６～９９重量％の銅源が、（ｉ’．１）において調製された混合物中に非溶解状態で存在する、実施形態６２のプロセス。
６４．（ｉ’．１）による混合物中の銅の粒子は、０．１～１５マイクロメートルの範囲、より好ましくは０．５～１０マイクロメートルの範囲、より好ましくは１～８マイクロメートルの範囲、より好ましくは３～７マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有し、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されているように決定される、実施形態６３に記載のプロセス。
６５．（ｉ’．１）で得られた混合物が、（ｉ’．１）で得られた混合物の重量に基づいて、４～３０重量％の範囲、好ましくは４～２１重量％の範囲の固形分を有する、実施形態６２～６４のいずれか１つに記載のプロセス。
６６．（ｉｉ’）で得られた第２の水性混合物が、第２の混合物の重量に基づいて、１５～５０重量％の範囲、より好ましくは２０～４５重量％の範囲、より好ましくは３０～４０重量％の範囲の固形分を有する、実施形態５７～６５のいずれか１つに記載のプロセス。
６７．第２の水性混合物中のゼオライト材料の粒子が、１～１０マイクロメートルの範囲、好ましくは２～６マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有し、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されるように決定される、実施形態５７～６６のいずれか１つに記載のプロセス。
６８．第２の水性混合物中のゼオライト材料の粒子が、０．５～５マイクロメートルの範囲、好ましくは０．７５～３マイクロメートルの範囲のＤｖ５０を有し、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されるように決定される、実施形態５７～６７のいずれか１つに記載のプロセス。
６９．（ｉｉ’）が、
（ｉｉ’．１）好ましくはＣｕを含まないゼオライト材料を、（ｉ’）に従って得られた第１の水性混合物と混合することと、
（ｉｉ’．２）好ましくは、得られた混合物（ｉｉ’．１）を、より好ましくは当該混合物の粒子が０．５～８マイクロメートルの範囲、より好ましくは１～５マイクロメートルの範囲、より好ましくは１．５～４マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有するまで、粉砕することであって、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されるように決定される、粉砕することと、
（ｉｉ’．３）（ｉｉ’．１）において、好ましくは（ｉｉ’．２）において得られた第２の混合物を、アルミナ、シリカ、チタニア、セリア、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、及びＣｅのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択される第２の非ゼオライト酸化物材料と混合して、第２の水性混合物を得ることと、
を含む、実施形態５７～６８のいずれか１つに記載のプロセス。
７０．（ｉｉ’．３）において調製された混合物が、当該混合物の重量に基づいて、１５～６０重量％の範囲、好ましくは２０～４５重量％の範囲、より好ましくは２５～４０重量％の範囲の固形分を有する、実施形態６９に記載のプロセス。
７１．（ｉｉ’．３）で調製された混合物中の第２の非ゼオライト酸化物材料の粒子が、２～１２マイクロメートルの範囲、好ましくは３～７マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有し、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されているように決定される、実施形態６９又は７０に記載のプロセス。
７２．（ｉｉ’．３）において調製された混合物中の第２の非ゼオライト酸化物材料の粒子が、０．７５～６マイクロメートルの範囲、好ましくは１．５～４マイクロメートルの範囲のＤｖ５０を有し、Ｄｖ９０が、好ましくは参考例３に記載されるように決定される、実施形態６９～７１のいずれか１つに記載のプロセス。
７３．（ｉｉ’．３）において調製された混合物中に含有される第２の非ゼオライト酸化物材料は、アルミナ、シリカ、及びチタニア、Ａｌ、Ｓｉ、及びＴｉのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、好ましくは、アルミナ、シリカ、Ａｌ、及びＳｉのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、より好ましくは、アルミナとシリカとの混合物であり、
より好ましくは、アルミナとシリカとの混合物の８０～９９重量％、より好ましくは８５～９８重量％、より好ましくは９０～９８重量％が、アルミナからなり、かつより好ましくは、アルミナとシリカとの混合物の１～２０重量％、より好ましくは２～１５重量％、より好ましくは２～１０重量％が、シリカからなる、実施形態６９～７２のいずれか１つに記載のプロセス。
７４．（ｉｉ’．２）において調製された混合物が、ゼオライト材料の重量に基づいて、２～２０重量％の範囲、好ましくは５～１５重量％の範囲、より好ましくは７～１３重量％の範囲の量で第２の非ゼオライト酸化物材料を含む、実施形態６９～７３のいずれか１つに記載のプロセス。
７５．（ｉｉ’）において調製された第２の水性混合物の９８～１００重量％、好ましくは９９～１００重量％、より好ましくは９９．５～１００重量％、より好ましくは９９．９～１００重量％が、水、ゼオライト材料、銅源、第１の非ゼオライト酸化物材料の前駆体、及び好ましくは実施形態６９及び７１～７４のいずれか１つに定義される第２の非ゼオライト酸化物材料からなる、実施形態５７～７４のいずれか１つに記載のプロセス。
７６．（ｉｉｉ’）による混合物の配置が、混合物を基材上に噴霧することによって、又は基材を混合物中に浸漬することによって、好ましくは基材を混合物中に浸漬することによって行われる、実施形態５７～７７のいずれか１つに記載のプロセス。
７７．（ｉｉ’）に従って得られた第２の水性混合物が、（ｉｉｉ’）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ％にわたって配置され、ｘは、９５～１００の範囲、好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である、実施形態５７～７６のいずれか１つに記載のプロセス。
７８．（ｉｉｉ’）における基材が、コージエライトウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上であり、好ましくは炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上であり、より好ましくは炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材又はチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材である、実施形態５７～７７のいずれか１つに記載のプロセス。
７９．（ｉｉｉ’）による乾燥が、６０～３００℃の範囲、好ましくは９０～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が好ましくは酸素を含む、実施形態５７～７８のいずれか１つに記載のプロセス。
８０．（ｉｉｉ’）による乾燥が、１０分～４時間の範囲、好ましくは２０分～２時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が、好ましくは酸素を含む、実施形態５７～７９のいずれか１つに記載のプロセス。
８１．（ｉｉｉ’）に従って配置することが、
（ｉｉｉ’．１）（ｉｉ’）で得られた第２の水性混合物の第１の部分を、入口端と、出口端と、入口端から出口端まで延在する基材軸方向長さと、基材を通って延在する基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材上に配置することであって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、配置することと、第２の水性混合物の第１の部分を含む基材を乾燥させることと、
（ｉｉｉ’．２）（ｉｉ’）で得られた第２の水性混合物の第２の部分を、（ｉｉｉ’．１）で得られた第３の水性混合物の第１の部分を含む基材上に配置することと、任意選択で、第２の水性混合物の第１の部分及び第２の部分を含む基材を乾燥させることと、
を含む、実施形態５７～８０のいずれか１つに記載のプロセス。
８２．（ｉｉ’）による第２の水性混合物の第１の部分は、（ｉｉｉ’．１）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ１％にわたって配置され、ｘ１は、９５～１００の範囲、好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である、実施形態８１に記載のプロセス。
８３．（ｉｉ’）による第２の水性混合物の第２の部分が、（ｉｉｉ’．２）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ２％にわたって配置され、ｘ２が、９５～１００の範囲、好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲、より好ましくは、ｘ２＝ｘ１である、実施形態８１又は８２のプロセス。
８４．（ｉｉ’）による第２の水性混合物の第１の部分が、（ｉｉｉ’．１）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ１％にわたって配置され、ｘ１が、５０～９０の範囲、好ましくは６０～８０の範囲、より好ましくは６５～７５の範囲である、実施形態８１のプロセス。
８５．（ｉｉ’）による第２の水性混合物の第２の部分が、（ｉｉｉ’．２）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ２％にわたって配置され、ｘ２が、５０～９０の範囲、好ましくは６０～８０の範囲、より好ましくは６５～７５の範囲、より好ましくはｘ２＝ｘ１である、実施形態８１又は８４のプロセス。
８６．（ｉｉｉ’．１）による乾燥が、６０～３００℃の範囲、好ましくは９０～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が好ましくは酸素を含み、
好ましくは、（ｉｉｉ’．１）による乾燥が、１０分～４時間の範囲、より好ましくは２０分～２時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われる、実施形態８１～８５のいずれか１つに記載のプロセス。
８７．（ｉｉｉ’．２）による乾燥が、６０～３００℃の範囲、好ましくは９０～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が好ましくは酸素を含み、
好ましくは、（ｉｉｉ’．２）による乾燥が、１０分～４時間の範囲、より好ましくは２０分～２時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われる、実施形態８１～８６のいずれか１つに記載のプロセス。
８８．（ｉｖ’）による焼成が、３００～９００℃の範囲、好ましくは４００～６５０℃の範囲、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が、好ましくは酸素を含み、
好ましくは、（ｉｖ’）による焼成が、０．１～４時間の範囲、より好ましくは０．５～２．５時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われる、実施形態５７～８７のいずれか１つに記載のプロセス。
８９．（ｉ’）、（ｉｉ’）、（ｉｉｉ’）、及び（ｉｖ’）からなる、実施形態５７～８８のいずれか１つのプロセス。
９０．実施形態２０～５６又は５７～８９のいずれか１つに記載のプロセスに従って得られた又は得られる、ＮＯｘの選択的接触還元のための触媒。
９１．圧縮点火エンジンから出る排気ガスを処理するための排気ガス処理システムであって、当該排気ガス処理システムは、当該排気ガス流を当該排気ガス処理システムに導入するための上流端を有し、当該排気ガス処理システムは、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒と、ディーゼル酸化触媒、選択的接触還元触媒、アンモニア酸化触媒、ＮＯｘトラップ及び微粒子フィルタのうちの１つ以上と、を含む、排気ガス処理システム。
９２．実施形態９１のシステムであって、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒と、ディーゼル酸化触媒と、選択的接触還元触媒と、を含み、
ディーゼル酸化触媒が、好ましくは、選択的接触還元触媒の上流に位置し、選択的接触還元触媒が、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒の上流に位置する、システム。
９３．実施形態９１のシステムであって、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒と、ＮＯｘトラップと、選択的接触還元触媒と、を含み、
ＮＯｘトラップが、好ましくは、選択的接触還元触媒の上流に位置し、選択的接触還元触媒は、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒の上流に位置する、システム。
９４．実施形態９１のシステムであって、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒と、ディーゼル酸化触媒と、選択的接触還元触媒と、を含み、
ディーゼル酸化触媒が、より好ましくは、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒の上流に位置し、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒が、選択的接触還元触媒の上流に位置する、システム。
９５．実施形態９１のシステムであって、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒と、ＮＯｘトラップと、選択的接触還元触媒と、を含み、
ＮＯｘトラップが、より好ましくは、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒の上流に位置し、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒が、選択的接触還元触媒の上流に位置する、システム。
９６．好ましくは選択的接触還元触媒の下流に位置する、アンモニア酸化触媒又は選択的接触還元／アンモニア酸化触媒を更に含む、実施形態９５のシステム。
９７．ＮＯｘの選択的接触還元のための、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒の使用。
９８．ＮＯｘの選択的接触還元のための方法であって、
（１）排気ガス流、好ましくはディーゼルエンジンから出る排気ガス流を提供することと、
（２）（１）で提供された排気ガス流を、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載のＮＯｘの選択的接触還元のための触媒と接触させることと、を含む、方法。
１．ＮＯｘの選択的接触還元のための触媒であって、
入口端と、出口端と、入口端から出口端まで延在する基材軸方向長さと、基材を通って延在する基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材であって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材を含み、
基材の多孔質壁が、コーティングを含み、コーティングが、ゼオライト材料と、銅と、ジルコニウムを含む第１の非ゼオライト酸化物材料と、を含み、
コーティングが、ｇ／立方インチで表したローディングＬ（ｚ）におけるゼオライト材料と、ｇ／立方インチで表したローディングＬ１における第１の非ゼオライト酸化物材料と、を含み、ローディング比Ｌ（ｚ）（ｇ／立方インチ）：Ｌ１（ｇ／立方インチ）が、最大で１０：１であり、かつ
第１の非ゼオライト酸化物材料の９０～１００重量％が、ＺｒＯ２として計算されるジルコニウムからなる、触媒に関する。
２．実施形態１の触媒であって、コーティングに含まれるゼオライト材料は、ＡＢＷ、ＡＣＯ、ＡＥＩ、ＡＥＬ、ＡＥＮ、ＡＥＴ、ＡＦＧ、ＡＦＩ、ＡＦＮ、ＡＦＯ、ＡＦＲ、ＡＦＳ、ＡＦＴ、ＡＦＶ、ＡＦＸ、ＡＦＹ、ＡＨＴ、ＡＮＡ、ＡＰＣ、ＡＰＤ、ＡＳＴ、ＡＳＶ、ＡＴＮ、ＡＴＯ、ＡＴＳ、ＡＴＴ、ＡＴＶ、ＡＶＬ、ＡＷＯ、ＡＷＷ、ＢＣＴ、ＢＥＡ、ＢＥＣ、ＢＩＫ、ＢＯＦ、ＢＯＧ、ＢＯＺ、ＢＰＨ、ＢＲＥ、ＢＳＶ、ＣＡＮ、ＣＡＳ、ＣＤＯ、ＣＦＩ、ＣＧＦ、ＣＧＳ、ＣＨＡ、－ＣＨＩ、－ＣＬＯ、ＣＯＮ、ＣＳＶ、ＣＺＰ、ＤＡＣ、ＤＤＲ、ＤＦＯ、ＤＦＴ、ＤＯＨ、ＤＯＮ、ＥＡＢ、ＥＤＩ、ＥＥＩ、ＥＭＴ、ＥＯＮ、ＥＰＩ、ＥＲＩ、ＥＳＶ、ＥＴＲ、ＥＵＯ、＊－ＥＷＴ、ＥＺＴ、ＦＡＲ、ＦＡＵ、ＦＥＲ、ＦＲＡ、ＧＩＳ、ＧＩＵ、ＧＭＥ、ＧＯＮ、ＧＯＯ、ＨＥＵ、ＩＦＯ、ＩＦＲ、－ＩＦＵ、ＩＦＷ、ＩＦＹ、ＩＨＷ、ＩＭＦ、ＩＲＮ、ＩＲＲ、－ＩＲＹ、ＩＳＶ、ＩＴＥ、ＩＴＧ、ＩＴＨ、＊－ＩＴＮ、ＩＴＲ、ＩＴＴ、－ＩＴＶ、ＩＴＷ、ＩＷＲ、ＩＷＳ、ＩＷＶ、ＩＷＷ、ＪＢＷ、ＪＮＴ、ＪＯＺ、ＪＲＹ、ＪＳＮ、ＪＳＲ、ＪＳＴ、ＪＳＷ、ＫＦＩ、ＬＡＵ、ＬＥＶ、ＬＩＯ、－ＬＩＴ、ＬＯＳ、ＬＯＶ、ＬＴＡ、ＬＴＦ、ＬＴＪ、ＬＴＬ、ＬＴＮ、ＭＡＲ、ＭＡＺ、ＭＥＩ、ＭＥＬ、ＭＥＰ、ＭＥＲ、ＭＦＩ、ＭＦＳ、ＭＯＮ、ＭＯＲ、ＭＯＺ、＊ＭＲＥ、ＭＳＥ、ＭＳＯ、ＭＴＦ、ＭＴＮ、ＭＴＴ、ＭＴＷ、ＭＶＹ、ＭＷＦ、ＭＷＷ、ＮＡＢ、ＮＡＴ、ＮＥＳ、ＮＯＮ、ＮＰＯ、ＮＰＴ、ＮＳＩ、ＯＢＷ、ＯＦＦ、ＯＫＯ、ＯＳＩ、ＯＳＯ、ＯＷＥ、－ＰＡＲ、ＰＡＵ、ＰＣＲ、ＰＨＩ、ＰＯＮ、ＰＯＳ、ＰＳＩ、ＰＵＮ、ＲＨＯ、－ＲＯＮ、ＲＲＯ、ＲＳＮ、ＲＴＥ、ＲＴＨ、ＲＵＴ、ＲＷＲ、ＲＷＹ、ＳＡＦ、ＳＡＯ、ＳＡＳ、ＳＡＴ、ＳＡＶ、ＳＢＥ、ＳＢＮ、ＳＢＳ、ＳＢＴ、ＳＥＷ、ＳＦＥ、ＳＦＦ、ＳＦＧ、ＳＦＨ、ＳＦＮ、ＳＦＯ、ＳＦＳ、＊ＳＦＶ、ＳＦＷ、ＳＧＴ、ＳＩＶ、ＳＯＤ、ＳＯＦ、ＳＯＳ、ＳＳＦ、＊－ＳＳＯ、ＳＳＹ、ＳＴＦ、ＳＴＩ、＊ＳＴＯ、ＳＴＴ、ＳＴＷ、－ＳＶＲ、ＳＶＶ、ＳＺＲ、ＴＥＲ、ＴＨＯ、ＴＯＬ、ＴＯＮ、ＴＳＣ、ＴＵＮ、ＵＥＩ、ＵＦＩ、ＵＯＳ、ＵＯＶ、ＵＯＺ、ＵＳＩ、ＵＴＬ、ＵＷＹ、ＶＥＴ、ＶＦＩ、ＶＮＩ、ＶＳＶ、ＷＥＩ、－ＷＥＮ、ＹＵＧ、ＺＯＮ、それらのうちの２種以上の混合物、及びそれらのうちの２種以上の混合タイプからなる群から選択され、好ましくはＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、ＬＥＶ、ＤＤＲ、ＫＦＩ、ＥＲＩ、ＡＦＸ、それらのうちの２種以上の混合物、及びそれらのうちの２種以上の混合タイプからなる群から選択され、より好ましくはＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、ＡＦＸ、それらのうちの２種以上の混合物、及びそれらのうちの２種以上の混合タイプからなる群から選択され、より好ましくはＣＨＡ及びＡＥＩからなる群から選択される骨格型を有し、コーティングに含まれるゼオライト材料は、骨格型ＣＨＡを有することがより好ましい。
３．ゼオライト材料の骨格構造の９５～１００重量％、好ましくは９８～１００重量％、より好ましくは９９～１００重量％が、Ｓｉ、Ａｌ及びＯからなり、骨格構造において、モルＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３として計算されるＳｉ対Ａｌのモル比は、好ましくは２：１～３０：１の範囲、より好ましくは５：１～２５：１の範囲、より好ましくは７：１～２２：１の範囲、より好ましくは８：１～２０：１の範囲、より好ましくは９：１～１８：１の範囲、より好ましくは１０：１～１７：１の範囲、より好ましくは１２：１～１６：１の範囲である、実施形態１又は２の触媒。
４．コーティングに含まれるゼオライト材料、好ましくは骨格型ＣＨＡを有するゼオライト材料が、走査型電子顕微鏡によって測定して、少なくとも０．１マイクロメートル、好ましくは０．１～３．０マイクロメートルの範囲、より好ましくは０．３～１．５マイクロメートルの範囲、より好ましくは０．４～１．０マイクロメートルの範囲の平均結晶子サイズを有する、実施形態１～３のいずれか１つに記載の触媒。
５．ＣｕＯとして計算されるコーティングに含まれる銅の量が、ゼオライト材料の重量に基づいて、２～１０重量％の範囲、好ましくは２．５～５．５重量％の範囲、より好ましくは３～５重量％の範囲である、実施形態１～４のいずれか１つに記載の触媒。
６．コーティングに含まれるゼオライト材料が、銅を含む、実施形態１～５のいずれか１つに記載の触媒。
７．コーティングが、ゼオライト材料を、０．５～５ｇ／立方インチの範囲、より好ましくは０．７５～３ｇ／立方インチの範囲、より好ましくは１～２．５ｇ／立方インチの範囲、より好ましくは１．２５～２ｇ／立方インチの範囲のローディング量で含む、実施形態１～６のいずれか１つに記載の触媒。
８．コーティング中に含まれる第１の非ゼオライト酸化物材料の９５～１００重量％、好ましくは９８～１００重量％、より好ましくは９９～１００重量％、より好ましくは９９．５～１００重量％が、ＺｒＯ２として計算されるジルコニウムからなる、実施形態１～７のいずれか１つに記載の触媒。
９．コーティングが、ｇ／立方インチで表したローディングＬ（ｚ）におけるゼオライト材料と、ｇ／立方インチで表したローディングＬ１における第１の非ゼオライト酸化物材料、好ましくはジルコニアと、を含み、ローディング比Ｌ（ｚ）（ｇ／立方インチ）：Ｌ１（ｇ／立方インチ）は、１０：１～１．１：１の範囲、好ましくは９：１～１．２５：１の範囲、より好ましくは８：１～２：１の範囲、より好ましくは７．５：１～２．５：１の範囲、より好ましくは７：１～３．５：１の範囲、より好ましくは５．５：１～４：１の範囲である、実施形態１～８のいずれか１つに記載の触媒。
１０．コーティングが、第２の非ゼオライト酸化物材料を更に含み、第２の非ゼオライト酸化物材料が、アルミナ、シリカ、チタニア、セリア、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、及びＣｅのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、好ましくはアルミナ、シリカ、及びチタニア、Ａｌ、Ｓｉ、及びＴｉのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、より好ましくはアルミナ、シリカ、Ａｌ、及びＳｉのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、より好ましくはアルミナとシリカとの混合物である、実施形態１～９のいずれか１つに記載の触媒。
１１．アルミナとシリカとの混合物の８０～９９重量％、好ましくは８５～９８重量％、より好ましくは９０～９８重量％が、アルミナからなり、かつアルミナとシリカとの混合物の１～２０重量％、好ましくは２～１５重量％、より好ましくは２～１０重量％が、シリカからなる、実施形態１０に記載の触媒。
１２．コーティングが、ゼオライト材料の重量に基づいて、２～２０重量％の範囲、好ましくは５～１５重量％の範囲、より好ましくは７～１３重量％の範囲の量で第２の非ゼオライト酸化物材料を含む、実施形態１０又は１１に記載の触媒。
１３．０～０．００１重量％、好ましくは０～０．０００１重量％、より好ましくは０～０．００００１重量％のコーティングが、白金族金属からなる、実施形態１～１２のいずれか１つに記載の触媒。
１４．コーティングが、基材の入口端から出口端に向かって、又は基材の出口端から入口端に向かって、基材軸方向長さのｘ％にわたって延在し、ｘは、９５～１００の範囲、好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である、実施形態１～１３のいずれか１つに記載の触媒。
１５．９０～１００重量％、好ましくは９５～１００重量％、より好ましくは９８～１００重量％のコーティングが、基材の多孔質壁に含まれる、実施形態１～１４のいずれか１つに記載の触媒。
１６．コーティングが、基材軸方向長さに沿って均一に配置されているか、又はコーティングの量が、基材の入口端及び基材の出口端のそれぞれに存在する量と比較して、基材軸方向長さの中間ゾーンにおいてより多い、実施形態１～１５のいずれか１つに記載の触媒。
１７．基材が、コージエライトウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上、好ましくは炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上である、実施形態１～１６のいずれか１つに記載の触媒。
１８．基材が、炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材又はチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材である、実施形態１７に記載の触媒。
１９．触媒が、ウォールフローフィルタ基材及びコーティングからなる、実施形態１～１８のいずれか１つに記載の触媒。
２０．ＮＯｘの選択的接触還元のための触媒、好ましくは実施形態１～１９のいずれか１つに記載の触媒を調製するためのプロセスであって、
（ｉ）水と、銅源と、ジルコニウムを含む第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体と、を含む、第１の水性混合物を調製することと、
（ｉｉ）水と、ゼオライト材料と、を含む、第２の水性混合物を調製することであって、ゼオライト材料が銅を含まない、調製することと、
（ｉｉｉ）（ｉ）に従って得られた第１の水性混合物と、（ｉｉ）に従って得られた第２の水性混合物とを混合することであって、第３の水性混合物を得て、第３の水性混合物において、酸化物として計算される第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体の量が、ゼオライト材料の重量に基づいて少なくとも１０重量％である、混合することと、
（ｉｖ）第３の水性混合物を、入口端と、出口端と、入口端から出口端まで延在する基材軸方向長さと、基材を通って延在する基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材上に配置することであって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、配置することと、任意選択で、当該混合物を含む基材を乾燥させることと、
（ｖ）（ｉｖ）で得られた基材を焼成することと、を含む、プロセスに関する。
２１．（ｉ）において調製された第１の水性混合物中に含まれる銅源は、酢酸銅、硝酸銅、硫酸銅、ギ酸銅、酸化銅、及びそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、好ましくは酢酸銅、酸化銅、及びそれらのうちの混合物からなる群から選択され、より好ましくは酸化銅、より好ましくはＣｕＯである、実施形態２０に記載のプロセス。
２２．（ｉ）において調製された第１の水性混合物中に含まれる第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体が、ジルコニウム塩又は酸化ジルコニウム、好ましくはジルコニウム塩、より好ましくは酢酸ジルコニウムである、実施形態２０又は２１に記載のプロセス。
２３．（ｉ）において調製された第１の水性混合物が、（ｉｉ）において調製された第２の水性混合物中に含まれるゼオライト材料の重量に基づいて、２～１０重量％の範囲、好ましくは２．５～５．５重量％の範囲、より好ましくは３～５重量％の範囲の量で、ＣｕＯとして計算される銅を含む、実施形態２０～２２のいずれか１つに記載のプロセス。
２４．第１の水性混合物において、酸化物として計算される第１の非ゼオライト酸化物材料の前駆体の量は、（ｉｉ）において調製された第２の水性混合物中に含まれるゼオライト材料の重量に基づいて、１０～８０重量％の範囲、より好ましくは１１～８０重量％の範囲、より好ましくは１２．５～５０重量％の範囲、より好ましくは１３～４０重量％の範囲、より好ましくは１４．３～２８．５重量％の範囲、より好ましくは１８～２５重量％の範囲である、実施形態２０～２３のいずれか１つに記載のプロセス。
２５．
（ｉ．１）水と、銅源と、を含む混合物を調製することであって、混合物が、好ましくは酸、より好ましくは有機酸、より好ましくは酢酸を、更に含む、調製することと、
（ｉ．２）第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体を、（ｉ．１）に従って得られた混合物に添加して、第１の水性混合物を得ることと、
を含む、実施形態２０～２４のいずれか１つに記載のプロセス。
２６．９０～１００重量％、好ましくは９３～９９重量％、より好ましくは９６～９９重量％の銅源が、（ｉ．１）において調製された混合物中に非溶解状態で存在する、実施形態２５に記載のプロセス。
２７．（ｉ．１）による混合物中の銅の粒子は、０．１～１５マイクロメートルの範囲、より好ましくは０．５～１０マイクロメートルの範囲、より好ましくは１～８マイクロメートルの範囲、より好ましくは３～７マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有し、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されているように決定される、実施形態２６に記載のプロセス。
２８．（ｉ．１）で得られた混合物が、（ｉ．１）で得られた混合物の重量に基づいて、４～３０重量％の範囲、好ましくは４～２１重量％の範囲の固形分を有する、実施形態２５～２７のいずれか１つに記載のプロセス。
２９．（ｉｉ）で得られた第２の混合物が、第２の混合物の重量に基づいて、１５～５０重量％の範囲、より好ましくは２０～４５重量％の範囲、より好ましくは３０～４０重量％の範囲の固形分を有する、実施形態２０～２８のいずれか１つに記載のプロセス。
３０．第２の混合物中のゼオライト材料の粒子が、１～１０マイクロメートルの範囲、好ましくは２～６マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有し、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されるように決定される、実施形態２０～２９のいずれか１つに記載のプロセス。
３１．第２の混合物中のゼオライト材料の粒子が、０．５～５マイクロメートルの範囲、好ましくは０．７５～３マイクロメートルの範囲のＤｖ５０を有し、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されるように決定される、実施形態２０～３０のいずれか１つに記載のプロセス。
３２．（ｉｉｉ）が、
（ｉｉｉ．１）（ｉ）に従って得られた第１の水性混合物と、（ｉｉ）に従った第２の水性混合物と、を混合することと、
（ｉｉｉ．２）好ましくは、得られた混合物（ｉｉｉ．１）を、より好ましくは当該混合物の粒子が０．５～８マイクロメートルの範囲、より好ましくは１～５マイクロメートルの範囲、より好ましくは１．５～４マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有するまで、粉砕することであって、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されるように決定される、粉砕することと、
（ｉｉｉ．３）水と、アルミナ、シリカ、チタニア、セリア、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、及びＣｅのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択される第２の非ゼオライト酸化物材料と、を含む混合物を調製することと、
（ｉｉｉ．４）（ｉｉｉ．３）で得られた混合物を、（ｉｉｉ．１）で、好ましくは（ｉｉｉ．２）で得られた混合物と混合して、第３の水性混合物を得ることと、を含む、実施形態２０～３１のいずれか１つに記載のプロセス。
３３．（ｉｉｉ．３）において調製された混合物が、当該混合物の重量に基づいて、１５～６０重量％の範囲、好ましくは２０～４５重量％の範囲、より好ましくは２５～４０重量％の範囲の固形分を有する、実施形態３２に記載のプロセス。
３４．（ｉｉｉ．３）で調製された混合物中の第２の非ゼオライト酸化物材料の粒子が、２～１２マイクロメートルの範囲、好ましくは３～７マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有し、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されているように決定される、実施形態３２又は３３に記載のプロセス。
３５．第２の混合物中の第２の非ゼオライト酸化物材料の粒子が、０．７５～６マイクロメートルの範囲、好ましくは１．５～４マイクロメートルの範囲のＤｖ５０を有し、Ｄｖ９０が、好ましくは参考例３に記載されるように決定される、実施形態３２～３４のいずれか１つに記載のプロセス。
３６．（ｉｉｉ．３）において調製された混合物中に含有される第２の非ゼオライト酸化物材料は、アルミナ、シリカ、及びチタニア、Ａｌ、Ｓｉ、及びＴｉのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、好ましくは、アルミナ、シリカ、Ａｌ、及びＳｉのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、より好ましくは、アルミナとシリカとの混合物であり、
より好ましくは、アルミナとシリカとの混合物の８０～９９重量％、より好ましくは８５～９８重量％、より好ましくは９０～９８重量％が、アルミナからなり、かつより好ましくは、アルミナとシリカとの混合物の１～２０重量％、より好ましくは２～１５重量％、より好ましくは２～１０重量％が、シリカからなる、実施形態３２～３５のいずれか１つに記載のプロセス。
３７．（ｉｉｉ．３）において調製された混合物が、ゼオライト材料の重量に基づいて、２～２０重量％の範囲、好ましくは５～１５重量％の範囲、より好ましくは７～１３重量％の範囲の量で第２の非ゼオライト酸化物材料を含む、実施形態３２～３６のいずれか１つに記載のプロセス。
３８．（ｉｉｉ）において、好ましくは（ｉｉｉ．４）において得られる第３の水性混合物が、第３の水性混合物の重量に基づいて、１５～５０重量％の範囲、より好ましくは２０～４５重量％の範囲、より好ましくは２５～４０重量％の範囲の固形分を有する、実施形態３２～３７のいずれか１つに記載のプロセス。
３９．（ｉｉｉ）において調製された第３の水性混合物の９８～１００重量％、好ましくは９９～１００重量％、より好ましくは９９．５～１００重量％、より好ましくは９９．９～１００重量％が、水、ゼオライト材料、銅源、第１の非ゼオライト酸化物材料の前駆体、及び好ましくは実施形態３２、及び３４～３７のいずれか１つに定義される第２の非ゼオライト酸化物材料からなる、実施形態２０～３８のいずれか１つに記載のプロセス。
４０．（ｉｖ）による混合物の配置が、混合物を基材上に噴霧することによって、又は基材を混合物中に浸漬することによって、好ましくは基材を混合物中に浸漬することによって行われる、実施形態２０～３９のいずれか１つに記載のプロセス。
４１．（ｉｉｉ）に従って得られた第３の水性混合物が、（ｉｖ）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ％にわたって配置され、ｘは、９５～１００の範囲、好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である、実施形態２０～４０のいずれか１つに記載のプロセス。
４２．（ｉｖ）における基材が、コージエライトウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上であり、好ましくは炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上であり、より好ましくは炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材又はチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材である、実施形態２０～４１のいずれか１つに記載のプロセス。
４３．（ｉｖ）による乾燥が、６０～３００℃の範囲、好ましくは９０～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が、好ましくは酸素を含む、実施形態２０～４２のいずれか１つに記載のプロセス。
４４．（ｉｖ）による乾燥が、１０分～４時間の範囲、好ましくは２０分～２時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が、好ましくは酸素を含む、実施形態２０～４３のいずれか１つに記載のプロセス。
４５．（ｉｖ）に従って配置することが、
（ｉｖ．１）（ｉｉｉ）で得られた第３の水性混合物の第１の部分を、入口端と、出口端と、入口端から出口端まで延在する基材軸方向長さと、基材を通って延在する基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材上に配置することであって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、配置することと、第３の水性混合物の第１の部分を含む基材を乾燥させることと、
（ｉｖ．２）（ｉｉｉ）で得られた第３の水性混合物の第２の部分を、（ｉｖ．１）で得られた第３の水性混合物の第１の部分を含む基材上に配置することと、任意選択で、第３の水性混合物の第１の部分及び第２の部分を含む基材を乾燥させることと、を含む、実施形態２０～４４のいずれか１つに記載のプロセス。
４６．（ｉｉｉ）による第３の水性混合物の第１の部分は、（ｉｖ．１）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ１％にわたって配置され、ｘ１は、９５～１００の範囲、好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である、実施形態４５に記載のプロセス。
４７．（ｉｉｉ）による第３の水性混合物の第２の部分が、（ｉｖ．２）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ２％にわたって配置され、ｘ２が、９５～１００の範囲、好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲であり、より好ましくは、実施形態４６が実施形態４５に依存する限り、ｘ２＝ｘ１である、実施形態４５又は４６に記載のプロセス。
４８．（ｉｉｉ）による第３の水性混合物の第１の部分が、（ｉｖ．１）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ１％にわたって配置され、ｘ１が、５０～９０の範囲、好ましくは６０～８０の範囲、より好ましくは６５～７５の範囲である、実施形態４５に記載のプロセス。
４９．（ｉｉｉ）による第３の水性混合物の第２の部分が、（ｉｖ．２）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ２％にわたって配置され、ｘ２が、５０～９０の範囲、好ましくは６０～８０の範囲、より好ましくは６５～７５の範囲であり、より好ましくは、実施形態４８が実施形態４５に依存する限り、ｘ２＝ｘ１である、実施形態４５又は４８のプロセス。
５０．（ｉｖ．１）による乾燥が、６０～３００℃の範囲、好ましくは９０～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が好ましくは酸素を含む、実施形態４５～４９のいずれか１つに記載のプロセス。
５１．（ｉｖ．１）による乾燥が、１０分～４時間の範囲、好ましくは２０分～２時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が、好ましくは酸素を含む、実施形態４５～５０のいずれか１つに記載のプロセス。
５２．（ｉｖ．２）による乾燥が、６０～３００℃の範囲、好ましくは９０～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が好ましくは酸素を含む、実施形態４５～５１のいずれか１つに記載のプロセス。
５３．（ｉｖ．２）による乾燥が、１０分～４時間の範囲、好ましくは２０分～２時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が、好ましくは酸素を含む、実施形態４５～５２のいずれか１つに記載のプロセス。
５４．（ｖ）による焼成が、３００～９００℃の範囲、好ましくは４００～６５０℃の範囲、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が、好ましくは酸素を含む、実施形態２０～５３のいずれか１つに記載のプロセス。
５５．（ｖ）による焼成が、０．１～４時間の範囲、好ましくは０．５～２．５時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が好ましくは酸素を含む、実施形態２０～５４のいずれか１つに記載のプロセス。
５６．（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、（ｉｖ）、及び（ｖ）からなる、実施形態１９～５４のいずれか１つのプロセス。
５７．ＮＯｘの選択的接触還元のための触媒、好ましくは実施形態１～１９のいずれか１つに記載の触媒を調製するためのプロセスであって、
（ｉ’）水と、銅源と、ジルコニウムを含む第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体と、を含む、第１の水性混合物を調製する工程；
（ｉｉ’）銅を含まないゼオライト材料を、（ｉ’）に従って得られた第１の混合物と混合し、第２の水性混合物を得ることであって、第２の水性混合物において、酸化物として計算される第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体の量が、ゼオライト材料の重量に基づいて少なくとも１０重量％である、得ることと、
（ｉｉｉ’）第２の水性混合物を、入口端と、出口端と、入口端から出口端まで延在する基材軸方向長さと、基材を通って延在する基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材上に配置することであって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、配置することと、任意選択で、当該混合物を含む基材を乾燥させることと、
（ｉｖ’）（ｉｉｉ’）で得られた基材を焼成することと、を含む、プロセス。
５８．（ｉ’）において調製された第１の水性混合物中に含まれる銅源は、酢酸銅、硝酸銅、硫酸銅、ギ酸銅、酸化銅、及びそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、好ましくは酢酸銅、酸化銅、及びそれらのうちの混合物からなる群から選択され、より好ましくは酸化銅、より好ましくはＣｕＯである、実施形態５７に記載のプロセス。
５９．（ｉ’）において調製された第１の水性混合物中に含まれる第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体が、ジルコニウム塩又は酸化ジルコニウム、好ましくはジルコニウム塩、より好ましくは酢酸ジルコニウムである、実施形態５７又は５８に記載のプロセス。
６０．（ｉ’）において調製された第１の水性混合物が、（ｉｉ’）に従って得られた第２の水性混合物のゼオライト材料に基づいて、２～１０重量％の範囲、好ましくは２．５～５．５重量％の範囲、より好ましくは３～５重量％の範囲の量で、ＣｕＯとして計算される銅を含む、実施形態５７～５９のいずれか１つに記載のプロセス。
６１．第１の水性混合物において、酸化物として計算される第１の非ゼオライト酸化物材料の前駆体の量は、（ｉｉ’）に従って得られた第２の水性混合物中に含まれるゼオライト材料の重量に基づいて、１０～８０重量％の範囲、より好ましくは１１～８０重量％の範囲、より好ましくは１２．５～５０重量％の範囲、より好ましくは１３～４０重量％の範囲、より好ましくは１４．３～２８．５重量％の範囲、より好ましくは１８～２５重量％の範囲である、実施形態５７～６０のいずれか１つに記載のプロセス。
６２．（ｉ’）が、
（ｉ’．１）水及び銅源を含む混合物を調製することであって、混合物が、好ましくは酸、より好ましくは有機酸、より好ましくは酢酸を更に含み、より好ましくは混合物が、スクロースを含み、より好ましくはスクロースに対するＣｕＯとして計算される銅の重量比が、２：１～１：２の範囲、より好ましくは１．５：１～１：１．５の範囲、より好ましくは１．２：１～１：１．２の範囲である、調製することと、
（ｉ’．２）第１の非ゼオライト酸化物成分の前駆体を、（ｉ’．１）に従って得られた混合物に添加して、第１の水性混合物を得ることと、
を含む、実施形態５７～６１のいずれか１つに記載のプロセス。
６３．９０～１００重量％、好ましくは９３～９９重量％、より好ましくは９６～９９重量％の銅源が、（ｉ’．１）において調製された混合物中に非溶解状態で存在する、実施形態６２のプロセス。
６４．（ｉ’．１）による混合物中の銅の粒子は、０．１～１５マイクロメートルの範囲、より好ましくは０．５～１０マイクロメートルの範囲、より好ましくは１～８マイクロメートルの範囲、より好ましくは３～７マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有し、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されているように決定される、実施形態６３に記載のプロセス。
６５．（ｉ’．１）で得られた混合物が、（ｉ’．１）で得られた混合物の重量に基づいて、４～３０重量％の範囲、好ましくは４～２１重量％の範囲の固形分を有する、実施形態６２～６４のいずれか１つに記載のプロセス。
６６．（ｉｉ’）で得られた第２の水性混合物が、第２の混合物の重量に基づいて、１５～５０重量％の範囲、より好ましくは２０～４５重量％の範囲、より好ましくは３０～４０重量％の範囲の固形分を有する、実施形態５７～６５のいずれか１つに記載のプロセス。
６７．第２の水性混合物中のゼオライト材料の粒子が、１～１０マイクロメートルの範囲、好ましくは２～６マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有し、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されるように決定される、実施形態５７～６６のいずれか１つに記載のプロセス。
６８．第２の水性混合物中のゼオライト材料の粒子が、０．５～５マイクロメートルの範囲、好ましくは０．７５～３マイクロメートルの範囲のＤｖ５０を有し、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されるように決定される、実施形態５７～６７のいずれか１つに記載のプロセス。
６９．（ｉｉ’）が、
（ｉｉ’．１）好ましくはＣｕを含まないゼオライト材料を、（ｉ’）に従って得られた第１の水性混合物と混合することと、
（ｉｉ’．２）好ましくは、得られた混合物（ｉｉ’．１）を、より好ましくは当該混合物の粒子が０．５～８マイクロメートルの範囲、より好ましくは１～５マイクロメートルの範囲、より好ましくは１．５～４マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有するまで、粉砕することであって、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されるように決定される、粉砕することと、
（ｉｉ’．３）（ｉｉ’．１）において、好ましくは（ｉｉ’．２）において得られた第２の混合物を、アルミナ、シリカ、チタニア、セリア、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、及びＣｅのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択される第２の非ゼオライト酸化物材料と混合して、第２の水性混合物を得ることと、
を含む、実施形態５７～６８のいずれか１つに記載のプロセス。
７０．（ｉｉ’．３）において調製された混合物が、当該混合物の重量に基づいて、１５～６０重量％の範囲、好ましくは２０～４５重量％の範囲、より好ましくは２５～４０重量％の範囲の固形分を有する、実施形態６９に記載のプロセス。
７１．（ｉｉ’．３）で調製された混合物中の第２の非ゼオライト酸化物材料の粒子が、２～１２マイクロメートルの範囲、好ましくは３～７マイクロメートルの範囲のＤｖ９０を有し、Ｄｖ９０は、好ましくは参考例３に記載されているように決定される、実施形態６９又は７０に記載のプロセス。
７２．（ｉｉ’．３）において調製された混合物中の第２の非ゼオライト酸化物材料の粒子が、０．７５～６マイクロメートルの範囲、好ましくは１．５～４マイクロメートルの範囲のＤｖ５０を有し、Ｄｖ９０が、好ましくは参考例３に記載されるように決定される、実施形態６９～７１のいずれか１つに記載のプロセス。
７３．（ｉｉ’．３）において調製された混合物中に含有される第２の非ゼオライト酸化物材料は、アルミナ、シリカ、及びチタニア、Ａｌ、Ｓｉ、及びＴｉのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、好ましくは、アルミナ、シリカ、Ａｌ、及びＳｉのうちの１つ以上を含む混合酸化物、並びにそれらのうちの２つ以上の混合物からなる群から選択され、より好ましくは、アルミナとシリカとの混合物であり、
より好ましくは、アルミナとシリカとの混合物の８０～９９重量％、より好ましくは８５～９８重量％、より好ましくは９０～９８重量％が、アルミナからなり、かつより好ましくは、アルミナとシリカとの混合物の１～２０重量％、より好ましくは２～１５重量％、より好ましくは２～１０重量％が、シリカからなる、実施形態６９～７２のいずれか１つに記載のプロセス。
７４．（ｉｉ’．２）において調製された混合物が、ゼオライト材料の重量に基づいて、２～２０重量％の範囲、好ましくは５～１５重量％の範囲、より好ましくは７～１３重量％の範囲の量で第２の非ゼオライト酸化物材料を含む、実施形態６９～７３のいずれか１つに記載のプロセス。
７５．（ｉｉ’）において調製された第２の水性混合物の９８～１００重量％、好ましくは９９～１００重量％、より好ましくは９９．５～１００重量％、より好ましくは９９．９～１００重量％が、水、ゼオライト材料、銅源、第１の非ゼオライト酸化物材料の前駆体、及び好ましくは実施形態６９及び７１～７４のいずれか１つに定義される第２の非ゼオライト酸化物材料からなる、実施形態５７～７４のいずれか１つに記載のプロセス。
７６．（ｉｉｉ’）による混合物の配置が、混合物を基材上に噴霧することによって、又は基材を混合物中に浸漬することによって、好ましくは基材を混合物中に浸漬することによって行われる、実施形態５７～７７のいずれか１つに記載のプロセス。
７７．（ｉｉ’）に従って得られた第２の水性混合物が、（ｉｉｉ’）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ％にわたって配置され、ｘは、９５～１００の範囲、好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である、実施形態５７～７６のいずれか１つに記載のプロセス。
７８．（ｉｉｉ’）における基材が、コージエライトウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上であり、好ましくは炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材及びチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材のうちの１つ以上であり、より好ましくは炭化ケイ素ウォールフローフィルタ基材又はチタン酸アルミニウムウォールフローフィルタ基材である、実施形態５７～７７のいずれか１つに記載のプロセス。
７９．（ｉｉｉ’）による乾燥が、６０～３００℃の範囲、好ましくは９０～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が好ましくは酸素を含む、実施形態５７～７８のいずれか１つに記載のプロセス。
８０．（ｉｉｉ’）による乾燥が、１０分～４時間の範囲、好ましくは２０分～２時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が、好ましくは酸素を含む、実施形態５７～７９のいずれか１つに記載のプロセス。
８１．（ｉｉｉ’）に従って配置することが、
（ｉｉｉ’．１）（ｉｉ’）で得られた第２の水性混合物の第１の部分を、入口端と、出口端と、入口端から出口端まで延在する基材軸方向長さと、基材を通って延在する基材の内壁によって画定される複数の通路と、を含む、ウォールフローフィルタ基材上に配置することであって、複数の通路が、開放入口端及び閉鎖出口端を有する入口通路と、閉鎖入口端及び開放出口端を有する出口通路と、を含む、配置することと、第２の水性混合物の第１の部分を含む基材を乾燥させることと、
（ｉｉｉ’．２）（ｉｉ’）で得られた第２の水性混合物の第２の部分を、（ｉｉｉ’．１）で得られた第３の水性混合物の第１の部分を含む基材上に配置することと、任意選択で、第２の水性混合物の第１の部分及び第２の部分を含む基材を乾燥させることと、
を含む、実施形態５７～８０のいずれか１つに記載のプロセス。
８２．（ｉｉ’）による第２の水性混合物の第１の部分は、（ｉｉｉ’．１）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ１％にわたって配置され、ｘ１は、９５～１００の範囲、好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲である、実施形態８１に記載のプロセス。
８３．（ｉｉ’）による第２の水性混合物の第２の部分が、（ｉｉｉ’．２）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ２％にわたって配置され、ｘ２が、９５～１００の範囲、好ましくは９８～１００の範囲、より好ましくは９９～１００の範囲、より好ましくは、ｘ２＝ｘ１である、実施形態８１又は８２のプロセス。
８４．（ｉｉ’）による第２の水性混合物の第１の部分が、（ｉｉｉ’．１）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ１％にわたって配置され、ｘ１が、５０～９０の範囲、好ましくは６０～８０の範囲、より好ましくは６５～７５の範囲である、実施形態８１のプロセス。
８５．（ｉｉ’）による第２の水性混合物の第２の部分が、（ｉｉｉ’．２）に従って、基材の入口端から出口端まで、又は基材の出口端から入口端までの基材軸方向長さのｘ２％にわたって配置され、ｘ２が、５０～９０の範囲、好ましくは６０～８０の範囲、より好ましくは６５～７５の範囲、より好ましくはｘ２＝ｘ１である、実施形態８１又は８４のプロセス。
８６．（ｉｉｉ’．１）による乾燥が、６０～３００℃の範囲、好ましくは９０～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が好ましくは酸素を含み、
好ましくは、（ｉｉｉ’．１）による乾燥が、１０分～４時間の範囲、より好ましくは２０分～２時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われる、実施形態８１～８５のいずれか１つに記載のプロセス。
８７．（ｉｉｉ’．２）による乾燥が、６０～３００℃の範囲、好ましくは９０～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が好ましくは酸素を含み、
好ましくは、（ｉｉｉ’．２）による乾燥が、１０分～４時間の範囲、より好ましくは２０分～２時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われる、実施形態８１～８６のいずれか１つに記載のプロセス。
８８．（ｉｖ’）による焼成が、３００～９００℃の範囲、好ましくは４００～６５０℃の範囲、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で行われ、ガス雰囲気が、好ましくは酸素を含み、
好ましくは、（ｉｖ’）による焼成が、０．１～４時間の範囲、より好ましくは０．５～２．５時間の範囲の持続時間にわたってガス雰囲気中で行われる、実施形態５７～８７のいずれか１つに記載のプロセス。
８９．（ｉ’）、（ｉｉ’）、（ｉｉｉ’）、及び（ｉｖ’）からなる、実施形態５７～８８のいずれか１つのプロセス。
９０．実施形態２０～５６又は５７～８９のいずれか１つに記載のプロセスに従って得られた又は得られる、ＮＯｘの選択的接触還元のための触媒。
９１．圧縮点火エンジンから出る排気ガスを処理するための排気ガス処理システムであって、当該排気ガス処理システムは、当該排気ガス流を当該排気ガス処理システムに導入するための上流端を有し、当該排気ガス処理システムは、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒と、ディーゼル酸化触媒、選択的接触還元触媒、アンモニア酸化触媒、ＮＯｘトラップ及び微粒子フィルタのうちの１つ以上と、を含む、排気ガス処理システム。
９２．実施形態９１のシステムであって、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒と、ディーゼル酸化触媒と、選択的接触還元触媒と、を含み、
ディーゼル酸化触媒が、好ましくは、選択的接触還元触媒の上流に位置し、選択的接触還元触媒が、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒の上流に位置する、システム。
９３．実施形態９１のシステムであって、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒と、ＮＯｘトラップと、選択的接触還元触媒と、を含み、
ＮＯｘトラップが、好ましくは、選択的接触還元触媒の上流に位置し、選択的接触還元触媒は、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒の上流に位置する、システム。
９４．実施形態９１のシステムであって、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒と、ディーゼル酸化触媒と、選択的接触還元触媒と、を含み、
ディーゼル酸化触媒が、より好ましくは、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒の上流に位置し、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒が、選択的接触還元触媒の上流に位置する、システム。
９５．実施形態９１のシステムであって、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒と、ＮＯｘトラップと、選択的接触還元触媒と、を含み、
ＮＯｘトラップが、より好ましくは、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒の上流に位置し、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒が、選択的接触還元触媒の上流に位置する、システム。
９６．好ましくは選択的接触還元触媒の下流に位置する、アンモニア酸化触媒又は選択的接触還元／アンモニア酸化触媒を更に含む、実施形態９５のシステム。
９７．ＮＯｘの選択的接触還元のための、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載の触媒の使用。
９８．ＮＯｘの選択的接触還元のための方法であって、
（１）排気ガス流、好ましくはディーゼルエンジンから出る排気ガス流を提供することと、
（２）（１）で提供された排気ガス流を、実施形態１～１９及び９０のいずれか１つに記載のＮＯｘの選択的接触還元のための触媒と接触させることと、を含む、方法。
【0078】
更に、上記の一連の実施形態は、本発明の好ましい態様を対象とする一般的な説明の適切に構造化された部分を表し、したがって、本発明の特許請求の範囲を適切に支持するが、それを表すものではないことに明確に留意されたい。
【0079】
本発明によるシステムを以下の表に列挙する。
【0080】
【表1】
【0081】
触媒１は、触媒２の上流に配置され、触媒２は、触媒３の上流に位置し、触媒３は、触媒４の上流に位置する。上記の表において、「Ｃａｔ．」は、好ましくは基材がウォールフローフィルタ基材である、本発明による触媒を示す。また、「ＤＯＣ」は、ディーゼル酸化触媒、「ＳＣＲ」は、選択的接触還元触媒、「ＡＭＯｘ」は、アンモニア酸化触媒を示す。「Ｃａｔ．」は、フィルタ上の選択的接触還元触媒「ＳＣＲｏＦ」である。本発明の文脈において、システム１及び３が好ましい。
【0082】
本発明の文脈において、用語「ＳＣＲ」は、選択的接触還元触媒を示し、用語「ＳＣＲｏＦ」は、ウォールフローフィルタ基材上の選択的接触還元触媒を示す。
【0083】
本発明の文脈において、「基材の多孔質壁がコーティングを含む」という用語は、コーティングの少なくとも一部が、ウォールフローフィルタ基材の壁の細孔内に位置することを意味する。
【0084】
更に、本発明の文脈において、（ｇ／立方インチ又はｇ／立方フィートで表した）「所与の成分／コーティングのローディング」という用語は、
基板の体積当たりの当該成分／コーティングの質量を指し、基板の体積は、基板の断面に当該成分／コーティングが存在する基材の軸方向の長さを掛けたものによって定義される体積である。例えば、基材軸方向長さのｘ％にわたって延在し、Ｘｇ／立方インチのローディングを有する第１のコーティングのローディングに言及する場合、当該ローディングは、基材全体の体積（立方インチ）のｘ％当たりの第１のコーティングのＸグラムを指す。
基板の体積当たりの当該成分／コーティングの質量を指し、基板の体積は、基板の断面に当該成分／コーティングが存在する基材の軸方向の長さを掛けたものによって定義される体積である。例えば、基材軸方向長さのｘ％にわたって延在し、Ｘｇ／立方インチのローディングを有する第１のコーティングのローディングに言及する場合、当該ローディングは、基材全体の体積（立方インチ）のｘ％当たりの第１のコーティングのＸグラムを指す。
【0085】
更に、本発明の文脈において、「ゼオライト材料の重量に基づいて」という用語は、ゼオライト材料単独の重量を指し、銅を含まないことを意味する。更に、本発明の文脈において、「菱沸石の重量に基づいて」という用語は、菱沸石単独の重量を指し、銅を含まないことを意味する。
【0086】
更に、本発明の文脈において、「Ｘは、Ａ、Ｂ、及びＣのうちの１つ以上である」という用語（Ｘは、所与の特徴であり、Ａ、Ｂ、及びＣのそれぞれは当該特徴の特定の実現を表す）は、Ｘが、Ａ、若しくはＢ、若しくはＣ、又はＡ、及びＢ、若しくはＡ、及びＣ、若しくはＢ、及びＣ、若しくはＡ、及びＢ、及びＣのいずれかであることを開示するものとして理解されるべきである。これに関して、当業者は、上記の抽象的な用語を具体例に移すことができることに留意されたい。例えば、Ｘが化学元素であり、Ａ、Ｂ、及びＣが、Ｌｉ、Ｎａ、及びＫなどの具体的な元素であるか、又はＸが温度であり、Ａ、Ｂ、及びＣが、１０℃、２０℃、及び３０℃などの具体的な温度である。この点に関して、当業者は、上記の用語を、当該特徴のより具体的でない認識（例えば、「Ｘは、Ａ及びＢのうちの１つ以上である」は、ＸがＡ、若しくはＢ、若しくはＡ及びＢ、のいずれかであることを開示する）、又は当該特徴のより具体的な認識（例えば、「Ｘは、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤのうちの１つ以上である」は、ＸがＡ、若しくはＢ、若しくはＣ、若しくはＤ、若しくはＡ及びＢ、若しくはＡ及びＣ、若しくはＡ及びＤ、若しくはＢ及びＣ、若しくはＢ及びＤ、若しくはＣ及びＤ、若しくはＡ及びＢ及びＣ、若しくはＡ及びＢ及びＤ、若しくはＢ及びＣ及びＤ、若しくはＡ及びＢ及びＣ及びＤ、のいずれかであることを開示する）に拡張することができることに更に留意されたい。
【0087】
本発明を以下の実施例によって更に説明する。
【実施例】
【0088】
参考例１ ＢＥＴ比表面積及びミクロ細孔表面積（ＺＳＡ）の測定
ＢＥＴ比表面積及びＺＳＡは、液体窒素を使用してＤＩＮ ６６１３１又はＤＩＮ－ＩＳＯ ９２７７に従って決定した。
ＢＥＴ比表面積及びＺＳＡは、液体窒素を使用してＤＩＮ ６６１３１又はＤＩＮ－ＩＳＯ ９２７７に従って決定した。
【0089】
参考例２ 多孔質ウォールフロー基材の平均多孔率及び平均孔径の測定
多孔質ウォールフロー基材の平均多孔率は、ＤＩＮ ６６１３３及びＩＳＯ １５９０１－１に従って水銀ポロシメトリーを使用する水銀圧入によって決定した。
多孔質ウォールフロー基材の平均多孔率は、ＤＩＮ ６６１３３及びＩＳＯ １５９０１－１に従って水銀ポロシメトリーを使用する水銀圧入によって決定した。
【0090】
参考例３ 体積基準粒度分布の決定
粒度分布は、Ｓｙｍｐａｔｅｃ ＨＥＬＯＳ（３２００）＆ＱＵＩＸＥＬ装置を使用して静的光散乱法によって決定し、試料の光学濃度は６～１０％の範囲であった。
粒度分布は、Ｓｙｍｐａｔｅｃ ＨＥＬＯＳ（３２００）＆ＱＵＩＸＥＬ装置を使用して静的光散乱法によって決定し、試料の光学濃度は６～１０％の範囲であった。
【0091】
参考例４：本発明によらない銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス
１．１マイクロメートルのＤｖ５０及び５．８マイクロメートルのＤｖ９０を有するＣｕＯ粉末を水に添加した。ＣｕＯの量を、ＣｕＯとして計算される焼成後のコーティング中の銅の総量が、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％であるように計算した。スクロースをＣｕ混合物に更に添加し、スクロースの量を、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％であるように計算した。得られたスラリーに酢酸を加えた。酢酸の量を、Ｃｕ－菱沸石の重量に基づいて１．７重量％であるように計算した。得られたスラリーは、当該スラリーの重量に基づいて５重量％の固形分を有していた。酢酸ジルコニウム水溶液を、ＣｕＯ含有混合物に添加してスラリーを形成した。酢酸ジルコニウムの量を、ＺｒＯ２として計算されるコーティング中のジルコニアの量が、菱沸石の重量に基づいて５重量％であるように計算した。Ｈ－菱沸石（Ｄｖ１０が０．７マイクロメートル、１．５マイクロメートルのＤｖ５０、及び３．９マイクロメートルのＤｖ９０、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３が１５．７：１、ＢＥＴ比表面積が５９０ｍ２／ｇ、及びミクロ細孔表面積（ＺＳＡ）が５８０ｍ２／ｇ）を、銅含有スラリーに添加して、混合物の重量に基づいて３７重量％の固形分を有する当該混合物を形成した。菱沸石の量を、焼成後の菱沸石のローディングが、焼成後の触媒中のコーティングのローディングの８５％であるように計算した。得られたスラリーを、粒子のＤｖ９０値が約２．５マイクロメートルであり、粒子のＤｖ５０値が約１．３５マイクロメートルであるように、連続粉砕装置を使用して粉砕した。
１．１マイクロメートルのＤｖ５０及び５．８マイクロメートルのＤｖ９０を有するＣｕＯ粉末を水に添加した。ＣｕＯの量を、ＣｕＯとして計算される焼成後のコーティング中の銅の総量が、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％であるように計算した。スクロースをＣｕ混合物に更に添加し、スクロースの量を、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％であるように計算した。得られたスラリーに酢酸を加えた。酢酸の量を、Ｃｕ－菱沸石の重量に基づいて１．７重量％であるように計算した。得られたスラリーは、当該スラリーの重量に基づいて５重量％の固形分を有していた。酢酸ジルコニウム水溶液を、ＣｕＯ含有混合物に添加してスラリーを形成した。酢酸ジルコニウムの量を、ＺｒＯ２として計算されるコーティング中のジルコニアの量が、菱沸石の重量に基づいて５重量％であるように計算した。Ｈ－菱沸石（Ｄｖ１０が０．７マイクロメートル、１．５マイクロメートルのＤｖ５０、及び３．９マイクロメートルのＤｖ９０、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３が１５．７：１、ＢＥＴ比表面積が５９０ｍ２／ｇ、及びミクロ細孔表面積（ＺＳＡ）が５８０ｍ２／ｇ）を、銅含有スラリーに添加して、混合物の重量に基づいて３７重量％の固形分を有する当該混合物を形成した。菱沸石の量を、焼成後の菱沸石のローディングが、焼成後の触媒中のコーティングのローディングの８５％であるように計算した。得られたスラリーを、粒子のＤｖ９０値が約２．５マイクロメートルであり、粒子のＤｖ５０値が約１．３５マイクロメートルであるように、連続粉砕装置を使用して粉砕した。
【0092】
アルミナ粉末（１７８ｍ２／ｇのＢＥＴ比表面積、１．１マイクロメートルのＤｖ１０、２．５マイクロメートルのＤｖ５０、及び約５．２マイクロメートルのＤｖ９０を有する、６重量％のＳｉＯ２を有する９４重量％のＡｌ２Ｏ３）を、Ｃｕ／ＣＨＡ含有スラリーに添加した。アルミナ＋シリカの量を、焼成後のアルミナ＋シリカの量が、最終触媒中の焼成後の菱沸石の重量に基づいて１０重量％であるように計算した。
【0093】
更に、最終スラリーの固形分を、水の添加によって当該スラリーの重量に基づいて３４重量％に調整した。
【0094】
多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素（体積：０．４２８Ｌ、平均多孔率６３％、平均孔径２０マイクロメートル及び３００ｃｐｓｉ及び１２ミルの壁厚、直径：２．３インチ＊長さ：６．４インチ）を、基材軸方向長さの１００％にわたって、最終スラリーで入口端から出口端まで、２回コーティングした。そうするために、スラリーが基材の上部に到達するまで、基材を入口端から最終スラリー中に浸漬した。更に、圧力パルスを入口端に印加して、スラリーを基材中に均一に分配した。更に、コーティングされた基材を、１４０℃で３０分間乾燥し、４５０℃で１時間焼成した。これを１回繰り返した。
【0095】
焼成後の最終コーティングローディング量は、約２．０ｇ／立方インチであり、これは、約１．７ｇ／立方インチの菱沸石、０．１７ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．０８５ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、２０：１である。
【0096】
参考例５：本発明によらない銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス
参考例５の触媒は、酢酸ジルコニウムの量を、ＺｒＯ２として計算されるコーティング中のジルコニアの量が、菱沸石の重量に基づいて２．５重量％であるように計算したことを除いて、参考例４の触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２．０５ｇ／立方インチであり、これは、約１．７５ｇ／立方インチの菱沸石、０．１７５ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．０４４ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、４０：１である。
参考例５の触媒は、酢酸ジルコニウムの量を、ＺｒＯ２として計算されるコーティング中のジルコニアの量が、菱沸石の重量に基づいて２．５重量％であるように計算したことを除いて、参考例４の触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２．０５ｇ／立方インチであり、これは、約１．７５ｇ／立方インチの菱沸石、０．１７５ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．０４４ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、４０：１である。
【0097】
実施例１：本発明による銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス
実施例１の触媒は、酢酸ジルコニウムの量を、ＺｒＯ２として計算されるコーティング中のジルコニアの量が、菱沸石の重量に基づいて１０重量％であるように計算したように、酢酸ジルコニウムの量がプロセスにおいて増加されていることを除いて、参考例４の触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２．０ｇ／立方インチであり、これは、約１．６５ｇ／立方インチの菱沸石、０．１６５ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．１６５ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、１０：１である。
実施例１の触媒は、酢酸ジルコニウムの量を、ＺｒＯ２として計算されるコーティング中のジルコニアの量が、菱沸石の重量に基づいて１０重量％であるように計算したように、酢酸ジルコニウムの量がプロセスにおいて増加されていることを除いて、参考例４の触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２．０ｇ／立方インチであり、これは、約１．６５ｇ／立方インチの菱沸石、０．１６５ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．１６５ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、１０：１である。
【0098】
実施例２：参考例４、５、及び実施例１の調製された触媒の性能の試験
コールドフロー背圧測定を試験した触媒について行い、煤を用いた背圧測定をフレッシュ触媒を用いて、エンジンベンチで行った。ＤｅＮＯｘ活性技術の分析のために、試験した触媒を、１０％のＨ２Ｏ及び２０％のＯ２を用いて、８５０℃で１６時間オーブンエージングした。評価のために、定常状態条件でエンジンベンチ試験を行った。試験した触媒を、表１に列挙する。
コールドフロー背圧測定を試験した触媒について行い、煤を用いた背圧測定をフレッシュ触媒を用いて、エンジンベンチで行った。ＤｅＮＯｘ活性技術の分析のために、試験した触媒を、１０％のＨ２Ｏ及び２０％のＯ２を用いて、８５０℃で１６時間オーブンエージングした。評価のために、定常状態条件でエンジンベンチ試験を行った。試験した触媒を、表１に列挙する。
【0099】
【表2】
【0100】
【0101】
実施例１は、参考例４及び５と比較して同等のＤｅＮＯｘ活性及び低減された背圧を示す。したがって、本発明の触媒は、背圧を低減しながら、ＤｅＮＯｘなどの優れた触媒性能を維持することを可能にする。
【0102】
図３は、エンジンベンチからの煤条件での背圧における試験結果を示す。実施例１（１０重量％のＺｒＯ２）は、特に煤挙動を伴う背圧において最も有望な結果を示す。それは、参考例１と比較して、煤で２５％近く低い背圧を示す。
【0103】
参考例６：本発明によらない銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス
参考例６の触媒は、フルサイズの基材を添加した以外は参考例４の触媒と同様に調製した。特に、使用される基材は、多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素（体積：３Ｌ、平均多孔率６３％、平均孔径２０マイクロメートル及び３００ｃｐｓｉ及び１２ミルの壁厚、直径：６．４３インチ＊長さ：６．３８７インチ）である。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．７１ｇ／立方インチの菱沸石、０．１７１ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．０８５ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、２０：１である。
参考例６の触媒は、フルサイズの基材を添加した以外は参考例４の触媒と同様に調製した。特に、使用される基材は、多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素（体積：３Ｌ、平均多孔率６３％、平均孔径２０マイクロメートル及び３００ｃｐｓｉ及び１２ミルの壁厚、直径：６．４３インチ＊長さ：６．３８７インチ）である。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．７１ｇ／立方インチの菱沸石、０．１７１ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．０８５ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、２０：１である。
【0104】
実施例３：本発明による銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス
実施例３の触媒は、フルサイズの基材を添加した以外は実施例１の触媒と同様に調製した。特に、使用される基材は、多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素（体積：３Ｌ、平均多孔率６３％、平均孔径２０マイクロメートル及び３００ｃｐｓｉ及び１２ミルの壁厚、直径：６．４３インチ＊長さ：６．３８７インチ）である。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．６３ｇ／立方インチの菱沸石、０．１６３ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．１６３ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、１０：１である。
実施例３の触媒は、フルサイズの基材を添加した以外は実施例１の触媒と同様に調製した。特に、使用される基材は、多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素（体積：３Ｌ、平均多孔率６３％、平均孔径２０マイクロメートル及び３００ｃｐｓｉ及び１２ミルの壁厚、直径：６．４３インチ＊長さ：６．３８７インチ）である。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．６３ｇ／立方インチの菱沸石、０．１６３ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．１６３ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、１０：１である。
【0105】
実施例４：本発明による銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス
実施例４の触媒は、酢酸ジルコニウムの量を、ＺｒＯ２として計算されるコーティング中のジルコニアの量が、菱沸石の重量に基づいて２０重量％であるように計算したように、酢酸ジルコニウムの量がプロセスにおいて増加されていることを除いて、実施例３の触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．５１ｇ／立方インチの菱沸石、０．１５１ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．３０２ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、５：１である。
実施例４の触媒は、酢酸ジルコニウムの量を、ＺｒＯ２として計算されるコーティング中のジルコニアの量が、菱沸石の重量に基づいて２０重量％であるように計算したように、酢酸ジルコニウムの量がプロセスにおいて増加されていることを除いて、実施例３の触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．５１ｇ／立方インチの菱沸石、０．１５１ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．３０２ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、５：１である。
【0106】
実施例５：参考例６、並びに実施例３及び４の調製された触媒の性能の試験
煤ローディングによる背圧測定は、フレッシュ触媒（エージングしていない）を用いて実験室条件で行われた。ＤｅＮＯｘ活性及びＮＨ３貯蔵容量の分析のために、触媒を１０％Ｈ２Ｏ及び２０％Ｏ２を用いて８５０℃で１６時間オーブンエージングし（図６）、触媒を１０％Ｈ２Ｏ及び２０％Ｏ２を用いて８５０℃で１６時間、次いで８００℃で１６時間、最後に８５０℃で１６時間オーブンエージングした（図７）。評価のために、定常状態条件におけるエンジンベンチ試験を行った。試験した触媒を、表２に列挙する。
煤ローディングによる背圧測定は、フレッシュ触媒（エージングしていない）を用いて実験室条件で行われた。ＤｅＮＯｘ活性及びＮＨ３貯蔵容量の分析のために、触媒を１０％Ｈ２Ｏ及び２０％Ｏ２を用いて８５０℃で１６時間オーブンエージングし（図６）、触媒を１０％Ｈ２Ｏ及び２０％Ｏ２を用いて８５０℃で１６時間、次いで８００℃で１６時間、最後に８５０℃で１６時間オーブンエージングした（図７）。評価のために、定常状態条件におけるエンジンベンチ試験を行った。試験した触媒を、表２に列挙する。
【0107】
【表3】
【0108】
図４は、コールドフロー条件における試験結果及び実験室反応器からの煤ローディングを伴う背圧挙動を示す。参考例６の触媒と比較して、より高い割合のジルコニアを含む本発明の触媒を使用した場合、煤ローディングを伴う背圧が有意に減少することが注目される。特に、２０重量％のＺｒＯ２を有する触媒は、参考例６と比較して、低減されたコールドフロー背圧（約１５％）、及び４ｇ／Ｌの煤で約４４％の低減された煤ローディング背圧を示す。
【0109】
エンジンベンチ評価は、８５０℃で１６時間エージングした後の本発明の実施例３及び４対参考例６の同等のＤｅＮＯｘ活性を示す（図５ａ～図５ｂ）。図６に見られる低減されたＮＨ３貯蔵容量は、低減されたゼオライト材料量の結果であるが、ＤｅＮＯｘ活性を損なわない。いかなる理論にも束縛されることを望むものではないが、熱エージング条件をより長い時間（上記のような３つのエージングステップ）、及びより厳しい条件（エージングステップ中の５～２５ｌ／ｈのより高い流量、より多くのＨ２Ｏ）に増加させると、ゼオライト材料は、ジルコニア量を増加させることによって安定化されると考えられる。これは、強い水熱エージング後のより良好なＳＣＲ活性及びより高いＮＨ３貯蔵容量で示される（図６～図７参照）。
【0110】
実施例６
－Ａ）本発明による銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス：
実施例６Ａの触媒は、使用される基材が多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素（体積：３．４Ｌ、平均多孔率６３％、平均孔径２０マイクロメートル及び３００ｃｐｓｉ及び１２．５ミルの壁厚、直径：１６３．４ｍｍ×長さ：１６２．１ｍｍ）であることを除いて、実施例４の触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．５１ｇ／立方インチの菱沸石、０．１５１ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．３０２ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、５：１である。
－Ｂ）本発明による銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス：
実施例６Ｂの触媒は、ＣｕＯの量を、ＣｕＯとして計算される焼成後のコーティング中の銅の総量が、菱沸石の重量に基づいて４．５重量％であるように計算したことを除いて、実施例６Ａの触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．５１ｇ／立方インチの菱沸石、０．１５１ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．３０２ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、５：１である。
－Ａ）本発明による銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス：
実施例６Ａの触媒は、使用される基材が多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素（体積：３．４Ｌ、平均多孔率６３％、平均孔径２０マイクロメートル及び３００ｃｐｓｉ及び１２．５ミルの壁厚、直径：１６３．４ｍｍ×長さ：１６２．１ｍｍ）であることを除いて、実施例４の触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．５１ｇ／立方インチの菱沸石、０．１５１ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．３０２ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、５：１である。
－Ｂ）本発明による銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス：
実施例６Ｂの触媒は、ＣｕＯの量を、ＣｕＯとして計算される焼成後のコーティング中の銅の総量が、菱沸石の重量に基づいて４．５重量％であるように計算したことを除いて、実施例６Ａの触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．５１ｇ／立方インチの菱沸石、０．１５１ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．３０２ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、５：１である。
【0111】
参考例７
－Ａ）本発明によらない銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス：
参考例７Ａの触媒を、使用される基材が多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素（ＮＧＫ）（容積：３．４Ｌ、平均多孔率６３％、平均細孔径２０マイクロメートル及び３００ｃｐｓｉ及び１２．５ミルの壁厚、径：１６３．４ｍｍ×長さ：１６２．１ｍｍ）であることを除いて、参考例６の触媒と同様に調製した。焼成後の最終的なコーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、約１．７１ｇ／立方インチの菱沸石、０．１７１ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．０８５ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、２０：１である。
－Ｂ）本発明によらない銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス
参考例７Ｂの触媒を、使用される基材が多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルタ基材、チタン酸アルミニウム（容積：３．６Ｌ、平均多孔率５９％、平均細孔径１８マイクロメートル及び３５０ｃｐｓｉ及び１２ミルの壁厚、径：１６３．４ｍｍ×長さ：１６２．１ｍｍ）であることを除いて、参考例６の触媒と同様に調製した。焼成後の最終的なコーティングローディング量は、２ｇ／立方インチであり、約１．７１ｇ／立方インチの菱沸石、０．１７１ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．０８５ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、２０：１である。
－Ａ）本発明によらない銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス：
参考例７Ａの触媒を、使用される基材が多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素（ＮＧＫ）（容積：３．４Ｌ、平均多孔率６３％、平均細孔径２０マイクロメートル及び３００ｃｐｓｉ及び１２．５ミルの壁厚、径：１６３．４ｍｍ×長さ：１６２．１ｍｍ）であることを除いて、参考例６の触媒と同様に調製した。焼成後の最終的なコーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、約１．７１ｇ／立方インチの菱沸石、０．１７１ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．０８５ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、２０：１である。
－Ｂ）本発明によらない銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス
参考例７Ｂの触媒を、使用される基材が多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルタ基材、チタン酸アルミニウム（容積：３．６Ｌ、平均多孔率５９％、平均細孔径１８マイクロメートル及び３５０ｃｐｓｉ及び１２ミルの壁厚、径：１６３．４ｍｍ×長さ：１６２．１ｍｍ）であることを除いて、参考例６の触媒と同様に調製した。焼成後の最終的なコーティングローディング量は、２ｇ／立方インチであり、約１．７１ｇ／立方インチの菱沸石、０．１７１ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．０８５ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、２０：１である。
【0112】
実施例７
－Ａ）本発明による銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス：
実施例７Ａの最終スラリーを、実施例４と同様に調製した。更に、多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素（体積：３．４Ｌ、平均多孔率６３％、平均孔径２０マイクロメートル及び３００ｃｐｓｉ及び１２．５ミルの壁厚、直径：１６３．４ｍｍ＊長さ：１６２．１ｍｍ）を、基材軸方向長さの７０％にわたって、最終スラリーで入口端から出口端まで、コーティングした。そうするために、スラリーが基材軸方向長さの７０％に達するまで、基材を出口端から最終スラリー中に浸漬した。更に、圧力パルスを入口端に印加して、スラリーを基材中に均一に分配した。更に、コーティングされた基材を１４０℃で３０分間乾燥させ、４５０℃で１時間焼成して、１．４３ｇ／立方インチのローディング量で第１のコート（入口コート）を形成した。更に、コーティングされた基材は、入口端から出口端まで、基材軸方向長さの７０％にわたって最終スラリーでコーティングされた。そうするために、スラリーが基材軸方向長さの７０％に達するまで、基材を入口端から最終スラリー中に浸漬した。更に、圧力パルスを出口端に印加して、スラリーを基材中に均一に分配した。更に、コーティングされた基材を１４０℃で３０分間乾燥させ、４５０℃で１時間焼成して、１．４３ｇ／立方インチのローディングで第２のコート（出口コート）を形成した。
－Ａ）本発明による銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス：
実施例７Ａの最終スラリーを、実施例４と同様に調製した。更に、多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素（体積：３．４Ｌ、平均多孔率６３％、平均孔径２０マイクロメートル及び３００ｃｐｓｉ及び１２．５ミルの壁厚、直径：１６３．４ｍｍ＊長さ：１６２．１ｍｍ）を、基材軸方向長さの７０％にわたって、最終スラリーで入口端から出口端まで、コーティングした。そうするために、スラリーが基材軸方向長さの７０％に達するまで、基材を出口端から最終スラリー中に浸漬した。更に、圧力パルスを入口端に印加して、スラリーを基材中に均一に分配した。更に、コーティングされた基材を１４０℃で３０分間乾燥させ、４５０℃で１時間焼成して、１．４３ｇ／立方インチのローディング量で第１のコート（入口コート）を形成した。更に、コーティングされた基材は、入口端から出口端まで、基材軸方向長さの７０％にわたって最終スラリーでコーティングされた。そうするために、スラリーが基材軸方向長さの７０％に達するまで、基材を入口端から最終スラリー中に浸漬した。更に、圧力パルスを出口端に印加して、スラリーを基材中に均一に分配した。更に、コーティングされた基材を１４０℃で３０分間乾燥させ、４５０℃で１時間焼成して、１．４３ｇ／立方インチのローディングで第２のコート（出口コート）を形成した。
【0113】
焼成後の最終コーティングローディング量（入口コート＋出口コート）は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．５１ｇ／立方インチの菱沸石、０．１５１ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．３０２ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、５：１である。
－ Ｂ）本発明による銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス：
－ Ｂ）本発明による銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス：
【0114】
実施例７Ｂの触媒は、使用される基材が多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルタ基材、チタン酸アルミニウム（体積：３．６Ｌ、平均多孔率５９％、平均細孔径１８マイクロメートル及び３５０ｃｐｓｉ及び１２ミルの壁厚、直径：１６３．４ｍｍ×長さ：１６２．１ｍｍ）であることを除いて、実施例７Ａの触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量（入口コート＋出口コート）は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．５１ｇ／立方インチの菱沸石、０．１５１ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．３０２ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、５：１である。
【0115】
実施例８
－Ａ）本発明による銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス：
実施例８の最終スラリーは、ＣｕＯの量を、ＣｕＯとして計算される焼成後のコーティング中の銅の総量が、菱沸石の重量に基づいて４．５重量％であるように計算したことを除いて、実施例４と同様に調製した。更に、多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素（体積：３．４Ｌ、平均多孔率５９％、平均孔径１８マイクロメートル及び３５０ｃｐｓｉ及び１２ミルの壁厚、直径：１６３．４ｍｍ＊長さ：１６２．１ｍｍ）を、基材軸方向長さの１００％にわたって、最終スラリーで入口端から出口端まで、１回コーティングした。そうするために、スラリーが基材の上部に到達するまで、基材を入口端から最終スラリー中に浸漬した。更に、圧力パルスを入口端に印加して、スラリーを基材中に均一に分配した。更に、コーティングされた基材を、１４０℃で３０分間乾燥し、４５０℃で１時間焼成した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．５１ｇ／立方インチの菱沸石、０．１５１ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．３０２ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、５：１である。
－Ｂ）本発明による銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス：
－Ａ）本発明による銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス：
実施例８の最終スラリーは、ＣｕＯの量を、ＣｕＯとして計算される焼成後のコーティング中の銅の総量が、菱沸石の重量に基づいて４．５重量％であるように計算したことを除いて、実施例４と同様に調製した。更に、多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素（体積：３．４Ｌ、平均多孔率５９％、平均孔径１８マイクロメートル及び３５０ｃｐｓｉ及び１２ミルの壁厚、直径：１６３．４ｍｍ＊長さ：１６２．１ｍｍ）を、基材軸方向長さの１００％にわたって、最終スラリーで入口端から出口端まで、１回コーティングした。そうするために、スラリーが基材の上部に到達するまで、基材を入口端から最終スラリー中に浸漬した。更に、圧力パルスを入口端に印加して、スラリーを基材中に均一に分配した。更に、コーティングされた基材を、１４０℃で３０分間乾燥し、４５０℃で１時間焼成した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．５１ｇ／立方インチの菱沸石、０．１５１ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．３０２ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、５：１である。
－Ｂ）本発明による銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス：
【0116】
実施例８Ｂの触媒は、使用される基材が多孔質のコーティングされていないウォールフローフィルタ基材、炭化ケイ素（体積：３．４Ｌ、平均多孔率６３％、平均孔径２０マイクロメートル及び３００ｃｐｓｉ及び１２ミルの壁厚、直径：１６３．４ｍｍ×長さ：１６２．１ｍｍ）であることを除いて、実施例８Ａの触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．５１ｇ／立方インチの菱沸石、０．１５１ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．３０２ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、５：１である。
【0117】
実施例９：参考例７Ａ～Ｂ、並びに実施例６Ａ～Ｂ、７Ａ～Ｂ、及び８の調製された触媒の性能の試験
コールドフロー背圧測定を、参考例７Ａ、及び７Ｂ、並びに実施例６Ａ、７Ａ、７Ｂ、及び８Ａのフレッシュ触媒（エージングしていない）を用いて実験室条件で行った。結果を以下の表３に示す。ＤｅＮＯｘ活性の分析のために、参考例７Ａ、並びに実施例６Ａ、６Ｂ、及び８Ｂの触媒を、１０％Ｈ２Ｏ及び２０％Ｏ２を用いて、８５０℃で１６時間オーブンエージングした（図８及び図９）。評価のために、定常状態条件におけるエンジンベンチ試験を行った。
コールドフロー背圧測定を、参考例７Ａ、及び７Ｂ、並びに実施例６Ａ、７Ａ、７Ｂ、及び８Ａのフレッシュ触媒（エージングしていない）を用いて実験室条件で行った。結果を以下の表３に示す。ＤｅＮＯｘ活性の分析のために、参考例７Ａ、並びに実施例６Ａ、６Ｂ、及び８Ｂの触媒を、１０％Ｈ２Ｏ及び２０％Ｏ２を用いて、８５０℃で１６時間オーブンエージングした（図８及び図９）。評価のために、定常状態条件におけるエンジンベンチ試験を行った。
【0118】
【表4】
【0119】
図８及び図９は、エンジンベンチ評価からの結果を示す。実施例６Ａは、全温度窓にわたって、比較例７Ａと比較して、同等の最大ＤｅＮＯｘ活性及び２０ｐｐｍのＮＨ３ブレークスルーでのＤｅＮＯｘ活性を示すが、実施例６Ａの触媒のコールドフロー背圧は減少する。したがって、いかなる理論にも束縛されることを望むものではないが、Ｚｒ量を増加させることによるゼオライト量の減少は、ＤｅＮＯｘ活性を損なわず、背圧を減少させることさえ可能にすると考えられる。実施例６Ｂ、及び実施例８Ｂは、より高いＣｕＯローディングに起因して、わずかにより高い低温ＤｅＮＯｘ活性及び２０ｐｐｍのＮＨ３ブレークスルーでわずかにより高いＤｅＮＯｘ活性を示す。高温性能は、比較例７Ａ、及び実施例６Ａと同等である。
【0120】
実施例１０：本発明による銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス
－触媒の調製：
実施例１０．１の触媒は、酢酸ジルコニウムの量を、ＺｒＯ２として計算されるコーティング中のジルコニアの量が、菱沸石の重量に基づいて２０重量％であるように計算し、ＣｕＯの量を、ＣｕＯとして計算される焼成後のコーティング中の銅の総量が、菱沸石の重量に基づいて４．５重量％であるように計算したように、酢酸ジルコニウムの量がプロセスにおいて増加されていることを除いて、実施例１の触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．４９ｇ／立方インチの菱沸石、０．１４９ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．３ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、４．９：１である。
－触媒の調製：
実施例１０．１の触媒は、酢酸ジルコニウムの量を、ＺｒＯ２として計算されるコーティング中のジルコニアの量が、菱沸石の重量に基づいて２０重量％であるように計算し、ＣｕＯの量を、ＣｕＯとして計算される焼成後のコーティング中の銅の総量が、菱沸石の重量に基づいて４．５重量％であるように計算したように、酢酸ジルコニウムの量がプロセスにおいて増加されていることを除いて、実施例１の触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．４９ｇ／立方インチの菱沸石、０．１４９ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．３ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、４．９：１である。
【0121】
実施例１０．２の触媒は、酢酸ジルコニウムの量を、ＺｒＯ２として計算されるコーティング中のジルコニアの量が、菱沸石の重量に基づいて２５重量％であるように計算したように、酢酸ジルコニウムの量がプロセスにおいて増加されていることを除いて、実施例１の触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．４４ｇ／立方インチの菱沸石、０．１４４ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．３６ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、４：１である。
【0122】
実施例１０．３の触媒は、酢酸ジルコニウムの量を、ＺｒＯ２として計算されるコーティング中のジルコニアの量が、菱沸石の重量に基づいて４０重量％であるように計算したように、酢酸ジルコニウムの量がプロセスにおいて増加されていることを除いて、実施例１の触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．３ｇ／立方インチの菱沸石、０．１３ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．５２ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、２．５：１である。
【0123】
【表5】
－調製された触媒の触媒性能の試験：
背圧測定は、実施例１０．１、１０．２、及び１０．３のフレッシュ触媒（エージングしていない）を用いて実験室条件で行った。背圧はまた、Ｃｕ量がゼオライト材料の重量に基づいて４．５重量％であったことを除いて、参考例４と同様に調製した、本発明によらない参考触媒（参考例４’）についても測定した。結果を図１２に示す。
【0124】
ＤｅＮＯｘ活性の分析のために、参考例４並びに実施例１０．１、１０．２、及び１０．３の触媒を、１０％Ｈ２Ｏ及び２０％Ｏ２を用いて８５０℃で１６時間オーブンエージングした（図１３及び図１４参照）。評価のために、定常状態条件におけるエンジンベンチ試験を行った。
【0125】
図１２、図１３及び図１４から分かり得るように、実施例１０．１は、比較例４’と比較して、煤に関して有意に低減された背圧挙動を示す。実施例１０．１への追加のゼオライト還元は、背圧の更なる低下をもたらす。特に実施例１０．３の低減されたゼオライトローディングは、より低いＮＨ３貯蔵容量に起因して、最大ＤｅＮＯｘ活性及び２０ｐｐｍのＮＨ３ブレークスルーでのＤｅＮＯｘ活性に影響を与えるが、使用されたゼオライト量に関連する許容可能な良好な性能に留まる。
【0126】
実施例１１：本発明による銅を含むゼオライト材料を含む触媒を調製するためのプロセス
－触媒の調製：
実施例１１．１の触媒は、酢酸ジルコニウムの量を、ＺｒＯ２として計算されるコーティング中のジルコニアの量が、菱沸石の重量に基づいて２０重量％であるように計算したように、酢酸ジルコニウムの量がプロセスにおいて増加されていることを除いて、実施例１の触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．４９ｇ／立方インチの菱沸石、０．１４９ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．３ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、４．９：１である。
－触媒の調製：
実施例１１．１の触媒は、酢酸ジルコニウムの量を、ＺｒＯ２として計算されるコーティング中のジルコニアの量が、菱沸石の重量に基づいて２０重量％であるように計算したように、酢酸ジルコニウムの量がプロセスにおいて増加されていることを除いて、実施例１の触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．４９ｇ／立方インチの菱沸石、０．１４９ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．３ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、４．９：１である。
【0127】
実施例１１．２の触媒は、酢酸ジルコニウムの量を、ＺｒＯ２として計算されるコーティング中のジルコニアの量が、菱沸石の重量に基づいて５０重量％であるように計算したように、酢酸ジルコニウムの量がプロセスにおいて増加されていることを除いて、実施例１の触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．２２ｇ／立方インチの菱沸石、０．１２２ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．６１ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、２：１である。
【0128】
実施例１１．３の触媒は、酢酸ジルコニウムの量を、ＺｒＯ２として計算されるコーティング中のジルコニアの量が、菱沸石の重量に基づいて８０重量％であるように計算したように、酢酸ジルコニウムの量がプロセスにおいて増加されていることを除いて、実施例１の触媒と同様に調製した。焼成後の最終コーティングローディング量は、約２ｇ／立方インチであり、これは、約１．０９ｇ／立方インチの菱沸石、０．１０９ｇ／立方インチのアルミナ＋シリカ、０．８７２ｇ／立方インチのジルコニア、及びＣｕとして計算される、菱沸石の重量に基づいて４．１５重量％のＣｕを含んだ。コーティング中のゼオライト材料対ジルコニアの重量比は、１．２５：１である。
【0129】
【表6】
－調製された触媒の触媒性能の試験：
背圧測定は、実施例１１．１、１１．２、及び１１．３のフレッシュ触媒（エージングしていない）を用いて実験室条件で行った。結果を図１７（ａ）に示す。ＤｅＮＯｘ活性の分析のために、実施例１１．１、１１．２、及び１１．３の触媒を、２０％のＯ２、及び２．４２ｍＬ／分のＨ２Ｏを用いて、８５０℃、２５Ｌの流量で１６時間オーブンエージングした（図１５及び図１６参照）。触媒を用いてフレッシュ条件で背圧も測定した（図１７（ｂ）参照）。評価のために、定常状態条件におけるエンジンベンチ試験を行った。図１５～図１７から分かり得るように、実施例１１．１、１１．２、及び１１．３の触媒について測定された背圧は、参考例４’の触媒と比較して低下しており、実施例１１．１、１１．２、及び１１．３の触媒は、大きなＮＯｘ転化率を示す。
【図面の簡単な説明】
【0130】
【図1】比較例１、２、及び実施例１のエージングした触媒について異なる温度で得られたＮＯｘ転化率最大値（ａ）、及び２０ｐｐｍアンモニアスリップでのＮＯｘ転化率（ｂ）を示す。
【図2】比較例１、２、及び実施例１のエージングした触媒について異なる温度で得られたＮＨ３貯蔵容量（ａ）、及び背圧（ｂ）を示す。
【図3】参考例１、及び実施例１のフレッシュ触媒を用いて得られた０～２ｇ／Ｌの範囲の煤ローディングでの背圧を示す。
【図4】比較例６、並びに実施例３、及び４のフレッシュ触媒を用いて得られたコールドフロー背圧並びに２、４、及び６ｇ／Ｌの煤ローディングを有する背圧を示す。
【図5】比較例６、並びに実施例３、及び４のエージングした触媒について異なる温度で得られたＮＯｘ転化率最大値（ａ）、及び２０ｐｐｍアンモニアスリップでのＮＯｘ転化率（ｂ）を示す。
【図6】比較例６、並びに実施例３、及び４のエージングした触媒（３回エージングした）について異なる温度で得られたＮＯｘ転化率最大値（ａ）、及び２０ｐｐｍアンモニアスリップでのＮＯｘ転化率（ｂ）を示す。
【図7】参考例６、並びに実施例３、及び４のエージングした触媒（３回エージングした）について得られたＮＨ３貯蔵容量を示す。
【図8】異なる温度での比較例７Ａ、並びに実施例６Ａ、６Ｂ、及び８Ｂのエージングした触媒について得られたＮＯｘ転化率（最大）を示す。
【図9】比較例７Ａ、並びに実施例６Ａ、６Ｂ、及び８Ｂのエージングした触媒について異なる温度で得られた２０ｐｐｍアンモニアスリップでのＮＯｘ転化率を示す。
【図10】参考例４の触媒のＳＥＭ画像（ａ）、及び（ｂ）を示す。
【図11】実施例６Ａの触媒のＳＥＭ画像（ａ）、及び（ｂ）を示す。
【図12】参考例４’、実施例１０．１、１０．２、及び１０．３のフレッシュ触媒について測定された背圧を示す。
【図13】比較例４、並びに実施例１０．１、１０．２、及び１０．３のエージングした触媒について異なる温度で得られたＮＯｘ転化率最大値（ａ）、及び２０ｐｐｍアンモニアスリップでのＮＯｘ転化率（ｂ）を示す。
【図14】参考例４、並びに実施例１０．１、１０．２、及び１０．３のエージングした触媒について得られたＮＨ３貯蔵容量を示す。
【図15】実施例１１．１、１１．２、及び１１．３のエージングした触媒について得られた最大ＮＯｘ転化率（ａ）、及び２０ｐｐｍアンモニアスリップでのＮＯｘ転化率（ｂ）を示す。
【図16】実施例１１．１、１１．２、及び１１．３のエージングした触媒について得られたＮＨ３貯蔵容量を示す。
【図17】比較例４’、実施例１１．１、１１．２、及び１１．３（ａ）のフレッシュ触媒、並びに実施例１１．１、１１．２、及び１１．３のエージング触媒（ｂ）について測定した背圧を示す。
【0131】
引用文献
－国際公開第２０２０／０４０９４４（Ａ１）号
－英国特許第２５２８７３７（Ｂ）号
－国際公開第２０２０／０８８５３１（Ａ１）号
－国際公開第２０２０／０４０９４４（Ａ１）号
－英国特許第２５２８７３７（Ｂ）号
－国際公開第２０２０／０８８５３１（Ａ１）号
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【国際調査報告】