特表 2024-527133 時計部品の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-07-19

(54)【発明の名称】時計部品の製造方法

(51)【国際特許分類】

   G04B 19/04 20060101AFI20240711BHJP

   G04B 19/10 20060101ALI20240711BHJP

   G04B 15/14 20060101ALI20240711BHJP

【ＦＩ】

G04B19/04 B

G04B19/10 Z

G04B15/14 B

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2024506449

(86)(22)【出願日】2022-07-28

(85)【翻訳文提出日】2024-03-08

(86)【国際出願番号】 EP2022071254

(87)【国際公開番号】W WO2023012035

(87)【国際公開日】2023-02-09

(31)【優先権主張番号】21189052.0

(32)【優先日】2021-08-02

(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】599091346

【氏名又は名称】ロレックス・ソシエテ・アノニム

【氏名又は名称原語表記】ＲＯＬＥＸ ＳＡ

(74)【代理人】

【識別番号】110000062

【氏名又は名称】弁理士法人第一国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】カラム， フロリアン

(72)【発明者】

【氏名】ムルトン， ザビエル

(57)【要約】

【解決手段】
時計部品の製造用金型の製造方法であって、
基板（２０）の上面（２１）から生じる凹部を作成する（Ｅ１）ステップであって、基板（２０）の上面（２１）がその中で延長する平面（Ｐ１）に対して傾斜した少なくとも１つの表面（３１）により区切られる凹部（３０）を形成するステップ、
金型の少なくとも１つの側壁（４１）を形成する（Ｅ３）ステップであって、任意で導電層及びまたは反射防止層（２２）により被覆された、基板（２０）の表面の少なくとも一部に素材を堆積する（Ｅ３１）ことからなるステップを含む、ステップ、
を含み、
素材の少なくとも１つの側壁（４１）と、凹部（３０）の少なくとも１つの傾斜面（３１）と、任意で基板（２０）の上面（２１）の少なくとも一部とにより少なくとも部分的に区切られた金型を形成する、
金型の製造方法。
【選択図】 図２３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

時計部品の製造用金型の製造方法であって、
少なくとも１つの基板（２０，２０’）の上面（２１）から生じる凹部を形成する（Ｅ１）ステップであって、前記基板（２０，２０’）の前記上面（２１）がその中で延長する平面（Ｐ１）に対して傾斜した少なくとも１つの表面（３１）により区切られる凹部（３０，３０’）を形成するステップ、
前記金型の少なくとも１つの側壁（４１）を形成する（Ｅ３）ステップであって、任意で導電層（２２）及びまたは反射防止層（２２）により被覆された、前記基板（２０，２０’）の前記上面（２1）及びまたは前記凹部（３０，３０’）の少なくとも一部に素材を堆積する（Ｅ３１）ことからなるサブステップを含む、ステップ、
を含み、
前記素材の少なくとも１つの側壁（４１）と、前記凹部（３０，３０’）の前記少なくとも１つの傾斜面（３１）と、任意で前記基板（２０，２０’）の前記上面（２１）の少なくとも一部とにより少なくとも部分的に区切られた金型を形成する、
金型の製造方法。

【請求項2】

前記基板（２０，２０’）の前記上面（２1）及びまたは前記凹部（３０，３０’）の一部に樹脂（４０）を堆積することからなる、前記金型の少なくとも１つの側壁を形成することからなるステップ（Ｅ３）は、
前記基板（２０，２０’）の前記上面（２１）及びまたは前記凹部（３０、３０’）上の少なくとも一部に、感光性樹脂（４０）の層を堆積する（Ｅ３１）サブステップ、
前記感光性樹脂（４０）に、所定のパターンに応じて、特にマスク（５）を通じて、照射放射線（４５）を照射する（Ｅ３２）サブステップ、その後
前記樹脂（４０）を現像する（Ｅ３３）サブステップ、
を含む、
請求項１に記載の金型の製造方法。

【請求項3】

前記素材または前記樹脂（４０）は、前記基板（２０，２０’）の前記表面（２１）と前記凹部（３０）との間の境界面（４）と一致して、前記金型の少なくとも１つの側壁（４１）を形成する、及びまたは前記素材または前記樹脂（４０）は、前記凹部（３０，３０’）内に前記金型の少なくとも１つの側壁（４１）を形成する、及びまたは前記素材または前記樹脂（４０）は、前記基板の前記上面（２１）上で、前記凹部（３０，３０’）外に前記金型の少なくとも１つの側壁（４１）を形成する、
請求項１または２に記載の金型の製造方法。

【請求項4】

凹部（３０，３０’）を作成する（Ｅ１）ことからなる前記ステップは、前記基板（２０，２０’）の前記上面（２１）に対して１０から８０度の間の角度を形成する傾斜を有する、前記少なくとも１つの傾斜面（３１）を形成する、特に丸みを帯びた、または平坦な、または多数の小平面で形成される、または少なくとも１つの鋭い縁を含む、及びまたは凹形または凸形である、少なくとも１つの傾斜面（３１）を形成する、
請求項１から３のいずれか一項に記載の金型の製造方法。

【請求項5】

凹部（３０，３０’）を作成する（Ｅ１）ことからなる前記ステップは、２光子重合またはグレイスケールフォトリソグラフィまたは光造形法技術を用いる、
請求項１から４のいずれか一項に記載の金型の製造方法。

【請求項6】

前記方法は、前記感光性樹脂を照射するのに用いられる前記照射放射線（４５）の反射を防ぐために、感光性樹脂（４０）の層を堆積する（Ｅ３１）ことからなる前記ステップの前に、前記基板（２０，２０’）に反射防止処理を適用する（Ｅ２）、特に前記基板（２０，２０’）に、少なくとも前記樹脂を照射することが意図される入射照射放射線（４５）に垂直でない前記基板（２０，２０’）の前記表面の少なくとも一部に、特に前記凹部（３０，３０’）の前記少なくとも１つの傾斜面（３１）の少なくとも一部に、反射防止層（２５）を堆積することからなる中間ステップを含む、
請求項２に記載の、または請求項２を引用する請求項３から５のいずれか一項に記載の金型の製造方法。

【請求項7】

反射防止処理を適用する（Ｅ２）ことからなる前記中間ステップは、反射防止層（２５）を、スピン・コーティング、または吹き付けコーティング、または浸漬被覆、または化学的蒸着（ＣＶＤ）、または物理的気相成長法（ＰＶＤ）、または原子層成長法（ＡＬＤ）、またはパルスレーザ堆積法（ＰＬＤ）により堆積することを含む、
請求項６に記載の金型の製造方法。

【請求項8】

前記方法は、照射放射線による前記感光性樹脂を現像する（Ｅ３３）ことからなる前記ステップ後に、反射防止層（２５）の部分的または完全な除去（Ｅ４）のステップを含む、
請求項６または７に記載の金型の製造方法。

【請求項9】

前記基板（２０，２０’）は、特にステンレス鋼といった金属製ウエハの形状を取る、導電材料製である、または前記基板（２０，２０’）は、特にシリコン、ガラスまたはセラミックウエハの形状をとる、またはポリマー、または複合材料製である、非導電材料製である、そして任意で、方法は、前記少なくとも１つの傾斜面を含む、非導電材料製の前記基板上に金属層を堆積するステップを含む、
請求項１から８のいずれか一項に記載の金型の製造方法。

【請求項10】

請求項１から９のいずれか一項に記載の金型の製造方法に対応する第一段階と、前記金型の全部または一部を部品の素材（１０）で充填する（Ｅ５）ことからなるステップを含む、時計部品（１）を形成する第二段階とを含む、
時計部品（１）の製造方法。

【請求項11】

前記金型を充填する（Ｅ５）ことからなる前記ステップは、電着、電鋳、電気めっき、鋳込成形、熱成形のステップ、または前記部品の素材（１０）を鋳込みにより充填する（Ｅ５）ステップを含む、
請求項１０に記載の時計部品の製造方法。

【請求項12】

前記方法は、前記金型を充填する（Ｅ５）ことからなる前記ステップにより得られた前記時計部品（１）を、前記金型から取り外す（Ｅ６）ことからなるステップを含み、任意で、前記金型と接触しない前記時計部品（１）の前記面（３）を、特にその平坦性を保証するため、研磨または研削することからなる、及びまたは物理的気相成長法（ＰＶＤ）、化学的蒸着（ＣＶＤ）、原子層成長法（ＡＬＤ）、またはパルスレーザ堆積法（ＰＬＤ）を用いてコーティングを堆積することで、前記時計部品の前記表面の少なくとも一部の色またはトライボロジー特性を変更することからなる、仕上げステップを含む、
請求項１０または１１に記載の時計部品の製造方法。

【請求項13】

前記部品の素材（１０）は、とりわけニッケルまたは金または銅に基づく、またはセラミックに基づく、金属または金属合金、または複合材料である、
請求項１０から１２のいずれか一項に記載の時計部品の製造方法。

【請求項14】

前記時計部品（１）は、はめ細工、または針といった、外部時計部品、またはがんぎ車、レバー、またはばねといった前記ムーブメントの部品である、
請求項１０から１３のいずれか一項に記載の時計部品の製造方法。

【請求項15】

時計部品の製造用金型であって、
前記金型は、上面（２１）と、前記上面（２１）から生じて形成される少なくとも１つの凹部（３０，３０’）を含む、基板（２０，２０’）を含み、前記凹部（３０，３０’）は、前記基板（２０，２０’）の前記上面（２１）がその中で延長する平面（Ｐ１）に対して傾斜する少なくとも１つの表面（３１）を含み、前記金型は、前記基板（２０，２０’）の前記上面（２１）及びまたは前記凹部（３０，３０’）の少なくとも一部に堆積され、前記基板の少なくとも１つの側壁（４１）の少なくとも一部を形成する、樹脂（４０）といった素材を含み、前記基板（２０，２０’）の前記凹部（３０，３０’）の前記傾斜面（３１）は、前記金型の底部の少なくとも一部を形成する、
時計部品の製造用金型。

【請求項16】

樹脂（４０）といった前記素材は、前記凹部（３０，３０’）と前記基板（２０，２０’）の前記上面（２１）との境界面（４）と一致して前記金型の少なくとも１つの側壁（４１）を形成する、及びまたは樹脂（４０）といった前記素材は、前記凹部（３０，３０’）内に前記金型の少なくとも１つの側壁（４１）を形成する、及びまたは樹脂（４０）といった前記素材は、前記基板（２０，２０’）の前記上面（２１）上で、前記凹部（３０，３０’）外に前記金型の少なくとも１つの側壁（４１）を形成する、及びまたは前記基板（２０，２０’）の前記凹部（３０，３０’）の前記少なくとも１つの傾斜面（３１）は、前記基板（２０，２０’）の前記上面（２１）に対して、前記上面（２１）と前記凹部（３０，３０’）との間の前記境界面（４）における前記上面（２１）を見做して測定される角度である、１０から８０度の間の角度を形成する傾斜を有し、特に前記少なくとも１つの傾斜面は、丸みを帯びた、または多数の小平面で形成される、または少なくとも１つの鋭い縁を含む、及びまたは特に凹形または凸形である、
請求項１５に記載の時計部品の製造用金型。

【請求項17】

請求項１０から１４のいずれか一項に記載の製造方法で得られた時計部品であって、前記時計部品は、主として一体成形であり、第一表面と、前記第一表面に対して傾斜した第二表面であって、特にドーム形、及びまたは凹形及びまたは凸形、及びまたは面取りされた、及びまたは少なくとも１つの鋭い縁部を含む、第二表面を含む、
時計部品。

【請求項18】

前記時計部品は、主として、ニッケルまたは金または銅に基づく、金属または金属合金製である、または前記時計部品は、主として、セラミックまたは複合材料製である、
請求項１７に記載の時計部品。

【請求項19】

前記時計部品は、はめ細工または針といった外部時計部品、またはがんぎ車、またはレバー、またはばねといった前記ムーブメントの部品である、
請求項１７または１８に記載の時計部品。

【請求項20】

前記時計部品は、審美的または機能的インサートを含む、
請求項１７から１９のいずれか一項に記載の時計部品。

【請求項21】

前記時計部品は、少なくとも１つの鋭い縁部、及び任意で研磨または構造化された表面の、特に「クル・ド・パリ」パターンを含む表面、を含む、
請求項１７から２０のいずれか一項に記載の時計部品。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、時計部品の製造用金型の製造方法に関する。本発明はまた、当該金型を用いた、時計部品の製造方法に関する。本発明はまた、当該方法を用いて得られた、時計部品そのものに関する。

【背景技術】

【0002】

既存の時計部品の製造方法は、複雑な形状を有する、即ち、例えば「クル・ド・パリ」タイプのパターンを形成する、または面取り、斜角、角度を含む、傾斜面を含む、部品を製造するには十分ではない、または不適切である。これらは、時として特定の複雑な形状を達成することに成功するが、それは事後機械加工といった骨の折れるステップを用いてしか得られない。一般に、時計部品を製造するための既存の製造方法は、十分な精密さをもって複雑な形状を製造することを可能にしない。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】欧州特許出願公開第３６７０４４１号明細書

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

このため、本発明は、時計部品を製造するための既知の製造方法を改善する、とりわけ複雑な形状の時計部品を、簡単且つ高度な精密さをもって、製造することを可能にすることを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0005】

このため、本発明は、時計部品の製造用金型の製造方法であって、
基板の上面から生じる凹部を作成するステップであって、前記基板の前記上面がその中で延長する前記平面に対して傾斜した少なくとも１つの表面により区切られる凹部を形成するステップ、
前記金型の少なくとも１つの側壁を形成するテップであって、任意で導電層及びまたは反射防止層により被覆された、前記基板の前記上面及びまたは前記凹部の少なくとも一部に素材を堆積することからなるステップを含む、ステップ、
を含み、
前記素材の少なくとも１つの側壁と、前記凹部の前記少なくとも１つの傾斜面と、任意で前記基板の前記上面の少なくとも一部とにより少なくとも部分的に区切られた金型を形成する、金型の製造方法に基づく。

【0006】

本発明は、より具体的には、請求項で定義される。

【0007】

本発明の目的、特徴、及び利点は、添付の図面を参照して非限定的な例として与えられる、特定の実施形態についての以下の説明において、詳細に説明される。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】図１は、本発明の一実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの、模式図である。

【図2】図２ａは、本発明の第一実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図であり、図２ｂは、本発明の第二実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図である。

【図3】図３ａは、本発明の第一実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図であり、図３ｂは、本発明の第二実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図である。

【図4】図４ａは、本発明の第一実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図であり、図４ｂは、本発明の第二実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図である。

【図5】図５ａは、本発明の第一実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図であり、図５ｂは、本発明の第二実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図である。

【図6】図６ａは、本発明の第一実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図であり、図６ｂは、本発明の第二実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図である。

【図7】図７ａは、本発明の第一実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図であり、図７ｂは、本発明の第二実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図である。

【図8】図８ａは、本発明の第一実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図であり、図８ｂは、本発明の第二実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図である。

【図9】図９ａは、本発明の第一実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図であり、図９ｂは、本発明の第二実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図である。

【図10】図１０ａは、本発明の第一実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図であり、図１０ｂは、本発明の第二実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図である。

【図11】図１１は、本発明の一実施形態にかかる針の上部からの斜視図である。

【図12】図１２は、本発明の実施形態にかかる針の一端の、横断面図である。

【図13】図１３は、本発明の実施形態にかかる針の製造用金型の、横断面図である。

【図14】図１４は、本発明の実施形態にかかる金型により針を製造するステップの、横断面図である。

【図15】図１５は、本発明の一実施形態にかかる針の変形例の、上面からの斜視図である。

【図16】図１６は、本発明の実施形態にかかる針の変形例の一端の、横断面図である。

【図17】図１７は、本発明の実施形態にかかる針の変形例の製造用金型を製造するため、基板に凹部を形成するステップの、横断面図である。

【図18】図１８は、本発明の実施形態にかかる針の変形例の製造用金型を製造するため、基板に凹部を形成するステップの、横断面図である。

【図19】図１９は、本発明の実施形態にかかる針の変形例の製造用金型の、横断面図である。

【図20】図２０は、本発明の実施形態にかかる金型により針の変形例を製造するステップの、横断面図である。

【図21】図２１は、本発明の一実施形態にかかるはめ細工の上面からの斜視図である。

【図22】図２２は、本発明の実施形態にかかるはめ細工の製造用金型の製造ステップの、横断面図である。

【図23】図２３は、本発明の実施形態にかかる金型によりはめ細工を製造するステップの、横断面図である。

【図24】図２４は、本発明の第三実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの、断面図を示す。

【図25】図２５は、本発明の第三実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの、断面図を示す。

【図26】図２６は、本発明の第三実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの、断面図を示す。

【図27】図２７は、本発明の第三実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの、断面図を示す。

【図28】図２８は、本発明の第三実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの、断面図を示す。

【図29】図２９は、図２８の変形例全体の断面図である。

【図30】図３０は、本発明の第四実施形態にかかる時計部品の製造方法のステップの断面図を示す。

【発明を実施するための形態】

【0009】

本発明は、特定の金型内での単純な成形により、複雑な形状を有する時計部品を得るために、複雑な形状を有する当該特定の金型の中間製造を通じて、目的を達成する。

【0010】

本発明は、まず、時計部品の製造用金型の製造方法を含む。本発明は次に、時計部品の製造方法そのものを含み、図１に模式的に示すように、その第一段階Ｐｈ１は、金型の製造方法を実施することからなり、その第二段階Ｐｈ２は、時計部品そのものを製造するための当該金型の使用である。

【0011】

理解を助ける実例として選択された、特定の実施形態にかかる時計部品の製造用金型の製造方法を、まず、図２ａから図１０ａ、図２ｂから図１０ｂ、そしてまた図２４から３０を参照して説明する。

【0012】

方法は、２つの第一実施形態によれば、潜在的に実質的に平行な上面２１と下面２３を含み、数百ミクロンから数ミリメートルの厚さの、薄く、実質的に平坦な形状を取る、基板２０を得ることからなる事前ステップを含む。上面２１は、通常は平坦である。変形例として、上面は平坦ではなく、例えばドーム型であってもよい、及びまたは１以上の凹部を有してもよい。いずれにせよ、説明を単純化するため、当該上面２１がその中で延長する、平面Ｐ１について説明するが、詳細を後述するように、表面が完全に平坦ではない場合には、当該平面Ｐ１は接平面である。下面２３も同様に平面Ｐ３内で延長する。基板２０の厚さは、２つの平面Ｐ１とＰ３間の距離である。

【0013】

更に、基板２０は、ステンレス鋼といった、金属または金属合金といった、導電材料から製造されてもよく、または例えばウエハまたはブロックの形状の、シリコン、ガラス、またはセラミック、またはポリマー、または複合材料といった非導電材料から製造されてもよい。基板は、好ましくは、低い粗度を有する。基板は、有利には、脱脂、洗浄、そして任意でその不動態化及びまたは活性化を含む、従来の準備ステップを経ることができる。加えて、基板は、正確に方向を合わせることができるように、マーカーが設けられてもよい。

【0014】

方法は、基板の上面がその中で延長する平面Ｐ１に対して傾斜した少なくとも１つの表面３１により区切られた凹部３０を形成するため、基板２０の上面２１から生じる凹部３０を作成するＥ１の第一ステップを含む。当該平面Ｐ１は、凹部を除き、即ち、境界面４において連続する上面と考慮され、凹部３０と基板２０の上面２１との間の境界面４にあると見做される。当該境界面は、縁を形成する。上述のように、当該平面は、基板の上面２１全体が平坦でないときに、基板の上面２１の接線方向の平面である。同様に、凹部３０の傾斜面３１は、傾斜面が平坦ではないときに、傾斜面の接線方向の平面Ｐｉに対して検討される。一般に、凹部３０は、基板の２０の上面２１の平面Ｐ１に非垂直または非平行な少なくとも１つの接平面Ｐｉを含む場合に、少なくとも１つの傾斜面を含む。

【0015】

有利には、傾斜面３１は、上面２１と凹部３０との間の境界面４において、上面２１（すなわち平面Ｐ１）に対して、１０から８０度の間の角度を形成する、傾斜を有する。

【0016】

図２ａは、湾曲し、丸みを帯びた、連続且つ凹形の表面を有する、凹部３０の第一実施例を示す。凹部は、全体として丸みを帯びたＵ字型を形成する湾曲形状の横断面を、即ち平面Ｐ１に垂直な平面上の断面を有する。当該例において、凹部３０は、実質的に全面上に、傾斜面３１を有する。

【0017】

図２ｂは、Ｖ字型の横断面を形成する、円錐状表面の形状を有する、凹部３０の第二実施例を示す。変形例として、凹部は、三角形状であり、同じＶ字型横断面を有してもよい。Ｖの各アームは、凹部３０の傾斜面３１の直線的部分を形成する。

【0018】

もちろん、本発明は、凹部３０の形状そのものに関連するものではなく、図示した２つの実施形態に限定されるものではない。凹部３０は、その全面の、小区分のみに傾斜面を含んでもよい。傾斜面は、多数の平坦及びまたは湾曲した小平面により形成されてもよく、そのそれぞれは、潜在的に最終的に上で画定した傾斜面である。また、凹部は、凹形または凸形形状であってもよい。一般に、傾斜面は、基板２０の上面２１の平面Ｐ１に対して０°以外のまたは９０°以外の角度をなす表面と定義される。傾斜面３１は、連続でも非連続でもよい。傾斜面が平面Ｐ１となす角度は、一定であってもなくてもよい。傾斜面は、平坦であっても湾曲してもよい。湾曲面の場合、上述の角度は、例えば、傾斜面上の所定の点における接線が平面Ｐ１となす角度により特徴づけられてもよく、当該角度は、傾斜面の輪郭に応じて変化する。傾斜面が平面Ｐ１となす角度は、より具体的には、平面Ｐ１に垂直な平面を通過する断面の、すなわち上で定義した横断面の図で見ることができる。非平坦上面２１の場合、当該角度は、境界面４における上面２１の接線方向の平面に対して測定されることを注記する。加えて、１以上の凹部３０を基板２０に形成してもよい。凹部３０は、１以上の傾斜面３１を含んでもよい。

【0019】

加えて、凹部３０は、従来の機械的加工、レーザ加工、レーザエッチング、化学エッチング、または電気化学的溶解といった、当業者に既知のあらゆる手段で形成されてよい。変形例として、凹部は、特定の機械加工ステップで形成されず、上面２１が局所的に非平坦である基板２０の製造から直接得られてもよい。全ての場合において、凹部３０は、基板２０の上面２１に対して窪んだ表面の形状を取り、凹部は、所定の深さｄまで基板２０の厚み内に延長する。

【0020】

図２４から２８で示す第三実施形態によれば、基板２０は、少なくとも部分的に層またはブロックの形状を示し、ここで少なくとも１つの凹部３０は、特にＴＰＰの頭字語で知られる２光子重合技術を用いて、窪んだ区域の形状で形成され、当該基板２０は、樹脂、または２光子重合を用いて構築することが可能なあらゆる素材（例えば、特定のオルモサー、感光性複合材料、及び特定のガラスセラミック）製である。当該基板２０は、図２４に示すように、支持部７０上に配置される。図示しない変形例において、２光子重合に曝される基板２０は、上述の最初の２つの実施形態の基板の形状に類似する形状の、プレートの形状を取ってもよい。

【0021】

当該第三実施形態で用いられる２光子重合技術は、例えば、突き出して重ね合わされた区域、または非連続構造、または波型形状といった多数の実行可能な複雑な形状を含む、多数の利点を提供することを注記する。当該技術はまた、１００ｎｍより小さい精細度、及び１０ｎｍより小さい粗度Ｒａという、非常に高いレベルの精密さを達成することを可能にする。当該技術はまた、広い照射体積にわたる実施を可能にする。当該技術は、例えば、局所的に湾曲した及びまた角度を有する傾斜側壁を作成可能にする。

【0022】

代替的に、樹脂またはその他の互換性を有する素材製の基板２０は、精密さに劣り形状が制限される、光造形法またはグレイスケールフォトリソグラフィ技術を用いて、凹部と共に形成可能である。

【0023】

凹部３０の深さｄは、基板２０の上面２１の平面Ｐ１と、平面Ｐ１に平行で、凹部３０上の平面Ｐ１から最も遠い点を通過する、平面Ｐ２との間で測定される距離に対応する。深さｄは、平面Ｐ１及びＰ２に垂直な、即ち基板２０の上面２１に垂直な方向に測定される。好ましくは、凹部の深さｄは、１０００μｍ以下である、または５００μｍ以下である、または４００μｍ以下である。深さｄはまた、好ましくは、１０μｍ以上である、または５０μｍ以上である、または８０μｍ以上である、または１００μｍ以上である。

【0024】

以降で明らかになるように、凹部３０は、時計部品製造用金型として、少なくとも部分的に作動する。凹部は、より具体的には、追加の機械加工ステップを必要とせず、当該部品を単純な金型成形によって有利に製造可能にするため、時計部品の複雑な形状を画定するために用いられる。このため、当該凹部は、当該凹部内で成形される時計部品の当該部分の将来的な脱金型に適した形状を有することを注記する。この目的のため、一例示的実施形態によれば、基板の上面２１がその中で延長する平面Ｐ１に平行な平面に沿った、凹部の断面積の面積は、あらゆる深さにおいて、凹部の開口断面の、即ち凹部３０と基板２０の上面２１との間の境界面４における断面よりも小さい。他の例示的実施形態によれば、基板の上面２１がその中で延長する平面Ｐ１に平行な、凹部３０の断面積は、当該平面Ｐ１から距離が遠ざかるにつれて、減少する。基板２０は、時計部品の製造用金型の一部を形成するという単一の機能を有し、基板は、将来的な時計部品に属さないことを注記する。図２４から２９に記載の第三実施形態は、金型の表面や、将来的な時計部品の一部を形成しない、支持部７０を用いることを注記する。

【0025】

図示しないが任意で、基板２０の上面２１の全部または一部に、そして凹部３０に少なくとも部分的に、特にその傾斜面に、導電層を堆積してもよい。このような導電層は、以下に詳細に説明するように、基板が導電材料製ではない場合であり、製造の第二段階が、導電性の金型を必要とする場合に必要となる。当該導電層は、とりわけ、時計部品上に将来の金属層を成長させることが意図される、電鋳、電着または電気めっきステップを開始するための電極として作動するのに適している。既知のように、当該開始導電層は、金または銅の層で被覆された、クロム、ニッケル、またはチタンのサブ層を含んでもよく、このため多層構造を示してもよい。当該導電層は、物理的気相成長法（ＰＶＤ）、または化学的蒸着（ＣＶＤ）、または原子層成長法 （ＡＬＤ）、またはパルスレーザ堆積法（ＰＬＤ）の方法を用いて、熱蒸発を用いて、または当業者に既知のあらゆる手段を用いて、堆積されてもよい。

【0026】

実施形態にかかる方法は、次に、基板に反射防止処置を適用することからなる任意であってよいステップＥ２を含み、その機能は以下に説明される。実施形態によれば、当該ステップは、以下で説明する後続ステップで実施される、樹脂の照射に適した入射照射放射線に垂直ではない、基板２０の少なくとも上面２１の及びまたは凹部３０の一部にわたり、反射防止層２５を堆積することからなるステップの形で実施される。反射防止層２５の適用は、基板２０の上面２１がその中で延長する平面Ｐ１に垂直に、照射放射線を適用することが一般的に好ましいと仮定すると、凹部３０の傾斜面３１に特に関連する。反射防止層２５は、図３ａ及び３ｂに示すように、基板２０の上面２１の及びまたは凹部３０の全部または一部にわたり、または図２５に示すように、追加で支持部７０の一部にわたり、延長してもよい。

【0027】

好ましくは、反射防止層は、照射放射線、特にＵＶ（紫外線）照射の反射を、９８％より多く、または９９％より多く、または９９．９％より多く、減衰させることを可能にする。反射防止層は、当業者に既知のあらゆる化学的性質のものであってもよい。反射防止層は、有機素材を含んでもよい。特に、反射防止層は、ＡＺ（登録商標）－ＢＡＲＬｉ（登録商標）ＩＩの商品名で知られる素材の層であってもよい。

【0028】

反射防止処理は、スピン・コーティングまたは吹き付けコーティングまたは浸漬被覆によって、または化学的蒸着（ＣＶＤ）または物理的気相成長法（ＰＶＤ）によって、または原子層成長法（ＡＬＤ）またはパルスレーザ堆積法（ＰＬＤ）によって、または当業者に既知のあらゆる技術を用いて、反射防止層２５を堆積することを含んでもよい。変形例として、基板に反射防止処理を適用するＥ２からなるステップは、基板２０の上面２１の及びまたは凹部３０の、または支持部７０の表面の、特別な構造化を含んでもよい。このような基板の上面２１の物理的構造化は、とりわけ、例えばレーザを用いた、サンドブラストにより達成されてもよい。

【0029】

実施形態にかかる方法は、その後、樹脂と基板の一部との組み合わせで形成される金型を完成させるために、基板の上面及びまたは凹部３０に、素材を、特に樹脂を堆積するＥ３１ことで、金型の少なくとも１つの側壁を形成することからなるステップＥ３を含む。有利には、素材を堆積するＥ３１からなるサブステップは、製造金型の側壁を形成するようにするものであり、側壁は、金型の底部の全部または一部を形成する基板を、特に基板の凹部の全部または一部を補完する。変形例として、金型を形成するのに樹脂以外の素材を、例えばシリコンポリマー（ＰＤＭＳ）のようなポリマーを、またはナノインプリントリソグラフィにより構造化可能なあらゆる素材、またはあらゆるレーザ構造化ポリマー、または変形例として、糊付け（接着を含む）により保持される、シリコンといった他の素材を、使用してもよい。

【0030】

この実施形態によれば、樹脂は、当該ステップ中に、フォトリソグラフィ技術を用いて堆積され、ステップは、以下で詳細に説明するように、複数のサブステップを含む。

【0031】

最初に、当該ステップは、図４ａ及び４ｂ及び２６に示すように、基板２０の上面２１の及びまたは凹部３０の、そして場合により（上述のように任意で導電層及びまたは反射防止層２５により被覆された）支持部７０の、全部または一部上に、特に凹部３０の、特に凹部３０の傾斜面３１の少なくとも一部に、感光性樹脂４０の層を堆積するＥ３１からなるサブステップを含む。

【0032】

感光性樹脂は、ネガでもポジでもよい。ネガの場合、感光性樹脂は、照射放射線の作用下で、現像液内で不溶または溶けにくくなるように設計される（即ち、露光された区域が現像に耐える）一方、ポジの場合、感光性樹脂は、照射放射線の作用下で、現像液内で溶けるように設計されるが、放射線に露光されない部分は、不溶または溶けにくいままである。

【0033】

方法は次に、図５ａ及び５ｂ及び２７に示すように、マスク５を通じて入射照射放射線４５により感光性樹脂４０を照射するＥ３２からなるサブステップを含む。パターンに対応する開口及び不透明区域を有するマスク５によって画定されるパターンに従って感光性樹脂４０を照射するため、照射放射線４５はＵＶ照射であってもよい。代替的に、照射は、レーザまたは電子ビームを用いた、所定のパターンの直接描画（このためマスクを必要としない）により実施されてもよい。照射放射線４５は、Ｘ線、ＵＶ、可視光、ＩＲ（赤外線）放射線、または電子ビームであってもよい。

【0034】

有利な一実施形態によれば、使用される照射放射線４５は、マスク５がその中で延長する平面に垂直または実質的に垂直であり、マスク自身は、マスク５に形成された開口と一致して位置づけられる感光性樹脂４０の区域のみが照射されるように、基板２０の上面２１の平面Ｐ１に平行である。照射区域は、平面Ｐ１に垂直または実質的に垂直な側壁により画定される。これら側壁は、定義により「直立側壁」と称される。変形例として、照射放射線４５は、基板２０の平面Ｐ１に対して傾斜してもよく、このような入射放射線は、樹脂の傾斜した側壁を画定する。

【0035】

樹脂を堆積することからなるステップは、次に、変形実施形態により、図６ａ、６ｂ、７ａ、７ｂ、８ａ、８ｂ、２８、２９に示すように、樹脂を現像するＥ３３からなるサブステップを含む。図２９は、第三実施形態の図２８の全体変形例を図示し、変形例は、前述のステップＥ３２に続き、基板２０の樹脂４０が重合される間、入射放射線に対して傾斜され回転される、現像により得られた結果であることを注記する。樹脂がネガ樹脂の場合、現像は、例えば化学物質内で溶かすことにより、またはプラズマ処理により、照射されていない樹脂の区域を除去することからなる。ポジ感光性樹脂が使用される場合、照射された区域は、現像中に除去され、照射されていない区域は基板上に維持される。現像後、樹脂が除去された場所において基板２０は露出される。樹脂の残留部分は、金型の側壁を画定し、金型の側壁により外接された基板の部分は、金型の底部を画定する。このように、基板の一部と樹脂製の部分との組み合わせにより、金型が形成される。

【0036】

上述のように、マスク５は、照射されたまたはされてはならない樹脂の区域を画定することを可能にし、究極的には金型の樹脂壁と金型の形状を画定することを可能にする。十分な金型精度を達成するため、あらゆる迷照射を、すなわち樹脂へ到達しかねないあらゆる望まない照射放射線を制限、または防止することが重要である。このような迷照射放射線４６は、基板２０の反射防止処理がない場合には、図５ａ及び５ｂで生じかねない。迷照射放射線４６は、基板２０の表面から反射する照射放射線４５から生じる場合もあり、望まれない区域の樹脂に反射した照射が到達することにつながりかねない。特に、迷照射放射線は、将来の金型の側壁を形成することが意図される樹脂の区域に到達可能である場合があり、これにより樹脂側壁に凹凸を含む金型を形成しかねず、これは当該金型で最終的に製造される時計部品の側壁における、小さなキャビティ（または樹脂のタイプによっては小さな突出物）の存在につながりかねないため、望ましくない。

【0037】

迷照射放射線の現象は、特に凹部３０の傾斜面３１により起因してもよい。変形例として、このような迷反射構成はまた、基板２０に、特に平坦ではない場合にその上面２１に、垂直ではない入射照射放射線４５の場合に生じかねない。迷照射放射線の存在は、選択した構造の形状に依拠するため、比較的予見可能である。迷照射放射線の危険性がある場合、基板に反射防止処理を適用するＥ２からなる任意ステップは、好ましくは、上述のように実施され、このような迷照射放射線の出現を完全にまたは部分的に除去し、これによりマスク５が画定する金型の正確な形成を保証する。

【0038】

まとめると、入射照射放射線の方向が、照射されるべき樹脂が堆積された表面に垂直でない場合、及びまたは基板が入射照射放射線の方向に垂直ではない傾斜表面を含む場合、入射照射放射線により直接照射される区域外の樹脂の、迷照射のリスクにつながりかねない。このような迷照射は、照射されるべきではない樹脂の区域を横方向に照射することで、金型の画定を損なう。例えば、平坦且つ研磨された上面２１を有する基板２０の場合、図５ａ及び５ｂに示すように、平面Ｐ１に垂直な方向にポジ樹脂４０に入射する照射放射線４５は、基板２０に生成された凹部３０の傾斜面３１から反射され、平面Ｐ１に垂直ではない迷照射放射線４６を形成する迷反射を生成する。

【0039】

変形実施例によれば、金型の一部を形成する樹脂側壁は、少なくとも上述の従来のフォトリソグラフィに基づく１つのステップと、少なくとも２光子重合技術、従って本発明の第三実施形態で基板２０の樹脂に凹部を形成するのに用いられたのと同じ技術に基づく１つのステップとを組み合わせる、特許文献１に記載の方法で、作成されてもよい。

【0040】

前述のステップは、図２５から２８に模式的に示すように、図２４に図示する実施形態にも同様に適用可能であるが、これ以上詳細な説明は行わない。

【0041】

更に、樹脂金型部分は、第一開口を含む第一樹脂層と、第二開口を含む硬質膜製の第二樹脂層とで、従来のフォトリソグラフィに基づく少なくとも１つのステップを伴うことで、多層化されてもよい。

【0042】

変形例として、ステップＥ１とＥ３の順番を逆にしてもよい。

【0043】

凹部を作成するＥ１と金型の少なくとも１つの側壁を形成するＥ３からなるステップの結果、上述のように、基板と素材（樹脂４０）の組み合わせにより金型が形成される。基板２０は、特に上で画定する少なくとも１つの傾斜面３１を有する凹部３０は、製造される時計部品の複雑な形状を画定可能にする。樹脂４０といった素材は、特に基板２０から形成する完全に画定された側壁４１は、製造される時計部品の壁を画定する。

【0044】

樹脂４０の側壁４１の、基板２０上の配置について、複数の構成が予見できることを注記する。

【0045】

図６ａと６ｂに示す第一構成によれば、樹脂の側壁４１は、凹部３０と基板の上面２１との間の境界面４と一致して形成されてもよい。この場合、側壁は、凹部３０の端部に、すなわち凹部３０の外縁に形成された縁部において、基板の上面がその中で延長する平面に垂直に延長する。

【0046】

金型の製造の品質は、当該金型内で製造される時計部品に直接影響を与える。上述の凹部３０の外縁を画定する縁部と一致して樹脂の側壁４１を正確に位置決めすることは、簡単ではないことが明らかである。樹脂側壁４１との接点における、あらゆるずれは、金型に欠陥を、そして製造される時計部品に、例えば突起等の、欠陥を発生しかねない。

【0047】

当該危険性を減少させるため、図７ａ、７ｂ、２８、及び２９に示す第二構成は、境界面４での正確な位置決めの必要を排除するため、凹部３０内に少なくとも１つの側壁４１を生成することからなる。このようなアプローチを用いることで、凹部３０は、凹部内に位置決めされる側壁４１により区切られる前に、製造される時計部品よりも大きな形状に形成される。

【0048】

図８ａと８ｂに示す第三構成によれば、感光性樹脂は、当該凹部の外に少なくとも１つの側壁４１を形成する、即ち樹脂側壁は、凹部３０との境界面４の外で、基板の上面２１から延長する。

【0049】

本発明は、上述の実施形態に限定されるものではない。例として、図３０は、最初の２つの実施形態のうちの１つを、第三実施形態と組み合わせる、第四実施形態にかかる金型の製造を図示する。具体的には、金型は、まず、最初の２つの実施形態を参照して説明された方法と類似の方法を適用することで、第一基板２０に形成された、少なくとも１つの凹部３０と、本発明の第三実施形態を適用することで、第一基板２０上に位置決めされた第二基板２０’に形成された、少なくとも１つの凹部３０’を含む。当該第四実施形態において、第一基板２０は、第二基板２０’を支持する役割も果たす。

【0050】

もちろん、特に図３０に類似のアプローチを用いることで、他の実施形態も予見可能であり、凹部は異なる技術を用いて形成されてもよい。

【0051】

最後に、金型の製造方法は、図示しない、例えば照射放射線を用いて感光性樹脂を現像することからなるサブステップの後に、反射防止層２５の部分的または完全除去の、任意ステップＥ４を含んでもよいが、これはもちろん反射防止処理を適用するＥ２からなるステップが実施された場合である。反射防止層２５のこうした除去は、全ての場合において必須ではない。実施されると、このような除去は、時計部品の製造用金型に属する基板２０に、すなわち樹脂側壁４１の間に、適用される。当該除去は、機械的または化学的に、例えば剥ぎ取りまたはプラズマ処理により、実施されてもよい。

【0052】

最後に、上述のように、方法は、底部が、基板２０の少なくとも１つの凹部３０の全部または一部により、また任意で基板の上面２１の一部により形成され、その側面は、樹脂側壁４１により少なくとも部分的に画定される、金型を形成可能である。基板２０と少なくとも１つの凹部３０は、金型の一部を形成し、いかなる場合であっても、将来的に製造される時計部品に属することはない。

【0053】

特定の金型変形例において、金型は、樹脂側壁４１なくして、基板の凹部３０全体からなることもでき、その場合ステップＥ３は実施されない。

【0054】

一実施形態によれば、少なくとも１つの凹部は、素材除去技術、とりわけ機械加工により形成される。他の実施形態によれば、少なくとも１つの凹部は、または金型の側壁は、完全にまたは部分的に、２光子重合またはグレイスケールフォトリソグラフィまたは光造形法技術により得られる。

【0055】

本発明はまた、方法の第一段階Ｐｈ１が上述の金型の製造方法の実施からなる、時計部品の製造方法そのものに関する。製造方法の第二段階Ｐｈ２は、当該金型を用いて、時計部品そのものを製造することに基づく。当該第二段階の一実施例を以下に説明する。

【0056】

製造方法の第二段階は、まず、図９ａ及び９ｂで示すように、第一段階から得られた当該金型の全部または一部を、部品の素材１０と称される、当該時計部品の素材で充填するＥ５からなるステップを含む。金型を充填するＥ５からなるステップは、電着、電鋳、電気めっき、鋳込成形、または熱成形のステップ、または鋳込みにより部品の素材を充填するステップを含んでもよい。

【0057】

このため、有利な一実施形態によれば、当該充填ステップは、金属素材の電鋳により実施されてもよい。この場合、金型内の時計部品の将来的な金属素材の成長を鑑み、金型が開始の電極としての役割を果たせるよう、金型の少なくとも一部を導電材料で製造する必要がある。このため、基板が導電材料製ではない場合、上述のように、金型の製造の第一段階において、基板に導電層が追加される。

【0058】

変形例において、金型は、セラミック時計部品を得るために、鋳込成形のために用いられてもよい。他の変形例によれば、複合材料またはガラス状合金を、金型内へ流し込むまたは金型内で成形することができる。

【0059】

方法は、次に、図１０ａ及び１０ｂで示すように、先行ステップにおいて得られた時計部品１を、金型から取り外すＥ６（換言すれば脱金型する）からなるステップを含む。脱金型ステップにおいて、基板２０と少なくとも１つの凹部３０は、自身を時計部品１の脱金型に適したものにする性質を示す。加えて、金型の一部を形成する樹脂は溶解される。当該溶解は、化学溶解、深掘り反応性イオンエッチング（ＤＲＩＥ）、またはレーザアブレーションといった、当業者に既知のあらゆる手段を用いて達成されてもよい。加えて、任意で、部品は、基板から取り外されてもよい。

【0060】

上述の方法の結果、本発明にかかる金型と直接接して形成された時計部品１の全面２は、脱金型後、追加操作を必要とすることなく、完璧な最終形状を有する。このため、本発明は、特に凹部３０とその傾斜面（複数の傾斜面）３１とに対応する、複雑な形状の時計部品１を、非常に簡単に製造可能にする。時計部品１は、少なくとも局所的に、時計部品の他の表面と、とりわけ相互に平行な２つの主平面と垂直ではなく及び平行ではなく、または特定の金型の底部により形成された部品の表面に対して傾斜した、少なくとも１つの傾斜面を含む。

【0061】

任意で、金型の底部に対向する面３であって、本発明にかかる方法で得られた金型により直接形成されない面に、仕上げステップが行われてもよい。当該仕上げステップは、時計部品の対向する面３を、例えばその平坦性を保証するために、研磨または研削することからなってもよい。加えてまたは変形例として、当該仕上げステップは、物理的気相成長法 （ＰＶＤ）、化学的蒸着（ＣＶＤ）、原子層成長法（ＡＬＤ）またはパルスレーザ堆積法（ＰＬＤ）により形成されたコーティングの堆積により、時計部品の表面の少なくとも一部の色またはトライボロジー特性を変更することからなってもよい。当該仕上げステップは、金型と直接接触しない、時計部品の対向する面３に適用されることを注記する。このため、仕上げステップは、金型から時計部品を取り外すＥ６からなるステップの前または後に実施可能である。変形例として、仕上げステップ、具体的には着色ステップが、時計部品の全体に適用されてもよい。

【0062】

他の実施形態によれば、時計部品の素材は、とりわけニッケルまたは金または銅に基づく、金属または金属合金である。他の実施形態によれば、部品の素材は、セラミックに基づく、または複合材料に基づく、すなわちセラミックまたは複合素材を完全にまたは部分的に含む、有利にはセラミックまたは複合材料を少なくとも５０重量％含んでもよい。このため、結果として得られる時計部品は、主として例えばニッケルまたは金または銅に基づく、金属または金属合金製、または主としてセラミックまたは複合材料製である。

【0063】

上述の時計部品の製造方法は、多数の異なる時計部品の製造に適している。例として、時計部品は、はめ細工または針といった外部時計部品、またはがんぎ車、レバー、ばねといったムーブメントの部品であってもよい。

【0064】

本発明はまた、時計部品そのものに関する。特に、本発明の主たる利点は、これまでは製造できなかった、複雑な形状の時計部品の製造を可能にすることである。

【0065】

特に、本発明は、好ましくは時計部品が一体として製造された、主として一体部品である、時計部品の製造を可能にする。時計部品は、第一面に延長する第一表面と、上で画定した金型の１以上の凹部の１以上の傾斜面に対応する、第一表面に対して傾斜した、とりわけドーム形及びまたは凹形及びまたは凸形及びまたは面取りされた、及びまたは少なくとも１つの鋭い縁部を含む、第二表面を含む、本発明の金型により形成された表面を含んでもよい。当該傾斜面は、任意で研磨されたまたは構造化された表面を有する、例えば「クル・ド・パリ」タイプのパターンの形成における、少なくとも１つの鋭い縁部を含んでもよい。傾斜面は、とりわけさざ波の形状を示す輪郭を含む、複数の傾斜部分を含む表面の形状を取ってもよい。傾斜面はまた、鋭い縁部及びまたは面取り及びまたは斜角及びまたは角度を含んでもよい。このような傾斜面は、所定の粗度を示してもよい。

【0066】

変形実施形態によれば、時計部品は、１以上の審美的または機能的インサートを含んでもよい。この目的のため、製造方法は、金型を部品の素材で充填するステップの前に、少なくとも１つのインサートに部品の素材を固定することを伴う、少なくとも１つのインサートを製造金型に配置することからなる、中間ステップを含んでもよい。このようなインサートは、装飾的宝石または石であってもよい。

【0067】

更に、有利には、時計部品は、任意のインサートを例外として、一体部品として、または一体として製造される。代替として、時計部品または時計は、少なくとも２つの関連する別個のパーツであって、そのうちの少なくとも１つは本発明にかかる製造方法に由来するパーツからなってもよい。

【0068】

本発明はまた、本発明にかかる少なくとも１つの時計部品を含む、時計に関する。

【0069】

本発明はまた、時計部品の製造用金型に関し、金型は、少なくとも上面及びまたは凹部３０の一部が金型の底部を形成する基板を含み、金型の底部と同じ高さの基板の上面から生じて形成される凹部の少なくとも１つの傾斜面を含み、金型は、金型の側壁の少なくとも一部を形成する、基板上に堆積された樹脂、特に感光性樹脂により、少なくとも部分的に区切られる。

【0070】

樹脂は、基板の凹部の外縁と一致する、金型の少なくとも１つの側壁を形成可能である、及びまたは樹脂は、凹部内及びまたは凹部外に、基板の上面から生じる金型の少なくとも１つの側壁を形成可能である。樹脂は、金型の側壁の全部または一部を形成可能である。

【0071】

基板内の凹部の少なくとも１つの傾斜面は、上面と凹部との間の境界面で検討される、基板の上面に対して１０から８０度の間の角度を形成する傾斜を有してもよい。当該傾斜面は、丸みを帯びてもよい、または多数の平面状小平面で形成されてもよく、１以上の鋭い縁部を有してもよく、とりわけ凹形または凸形であってもよい。

【0072】

このように、本発明は所望の目的を達成し、より一般的には以下の利点を提供する。
－ 製造方法は、実施が簡単であり、低価格である。
－ 製造方法は、複雑な形状の時計部品を得ることを可能にする。

【0073】

本発明は以下に、非限定的例として選択された特定の時計部品のいくつかの実際の製造の観点で説明される。

【0074】

第一実施例として、時計部品は、図１１に示す、複雑な可視面を有する端部を含む、特に周囲の平坦な上面５１に対してドーム型の傾斜部分５２を含む、針５０である。当該傾斜部分５２は、図１２の線Ｉ－Ｉに沿った横断面図で、より具体的に見ることができる。傾斜部分は、針５０の平面Ｐ１に垂直な回転軸Ａを有する、突出する球状キャップを形成する。

【0075】

当該針５０の製造方法は、上述の実施形態にかかるステップを実施する。方法を、以下に簡単に説明する。

【0076】

第一ステップＥ１において、方法は、グレイフォトリソグラフィを活用して、シリコン基板２０上に、深掘り反応性イオンエッチング（ＤＲＩＥ）方法を用いて凹部３０を作成することからなる。ここで、凹部の形状は、球状キャップの形状のドーム形表面に対応する。凹部の深さｄは、５０μｍである。凹部３０が製造されると、基板２０上に導電層２２が堆積される。

【0077】

樹脂４０製の金型の側壁４１は、その後、第三ステップＥ３で形成される。このため、以下のサブステップが実施される。

【0078】

－ 導電層２２の表面上に、従来のフォトリソグラフィに適した、感光性樹脂４０であるＳＵ－８であって、ＵＶ照射の作用下で架橋結合するエポキシ系ネガ樹脂が堆積される。
－ その後、感光性樹脂４０は、マスクにより画定されるパターンに樹脂を架橋結合するため、マスクを通じて、ＵＶ照射放射線に曝される。ここでは、パターンは、針５０の外周に対応する。使用される照射放射線は、基板２０がその中で延長する平面に垂直であり、マスクに形成された開口と一致して存在し、金型を形成するために保持される樹脂部分に対応する樹脂４０の領域のみが照射される。これら領域は、このように、すなわち基板２０の平面Ｐ１に垂直である、垂直側壁４１により画定される。これら直立樹脂側壁は、針の側面を形成する、針の面に対応する。針の形状とネガ樹脂の使用により、凹部３０の境界に存在する領域を入射照射放射線の迷反射により照射不可能であるため、基板２０上の反射防止層２５の存在は、ここでは必要ないことを注記する。
－ その後、感光性樹脂４０は現像される。樹脂４０がネガのため、現像は、樹脂の非照射領域を除去することからなる。樹脂４０のこれら領域は、ＰＧＭＥＡ系化学製品（ポリピレングリコールメチルエーテルアセテート）により溶解することで、除去される。

【0079】

現像後、導電層２２は、樹脂が除去されたところで見ることができる。樹脂４０の残余部分と、基板の（導電層２２で被覆された）可視基部は、図１３に示すように、金型の形状を画定する。ここでは、基板２０、特に凹部３０が、複雑な形状の針５０の傾斜可視面を画定する。

【0080】

方法の第五ステップＥ５は、金型を充填するため部品の素材１０の電着により針を製造することからなる。ここでは、金型は電鋳された２４カラットの金で充填される。図１４は、ステップＥ５を経て充填された、図１３の金型を図示する。

【0081】

方法の第六ステップＥ６は、金型から針５０を取り外すことからなる。ここで、得られた複雑な形状の針５０の可視傾斜面５２は、金型の底部と要求された形状とに厳密に対応する。針は、ステップＥ６に続き、後処理なくして、即ち金型の基板２０により画定された傾斜面５２と周囲の平坦な上面５１の再加工またはトライボ仕上げなくして、直接使用可能である。金型と接触しなかった、針５０の対向する面５３は、平坦性を保証するため、研磨される。

【0082】

第一実施例の変形例を形成する第二実施例によれば、時計部品は、図１５及び１６に示す、周囲のドーム形上面５１に対して、針の可視上面から突出する３つのドーム形キャップの形状の、複数の別個の傾斜部分５２を含む、複雑な可視表面を有する端部を含む、針５０である。３つの実質的に球状のキャップは、針５０の上面５１に実質的に垂直な、それぞれの回転軸Ａ１、Ａ２、Ａ３を有する。

【0083】

当該針５０を製造する方法は、上記の実施形態にかかるステップを実施する。以下に簡単に説明する。

【0084】

図１７及び１８は、平坦なステンレス鋼ウエハからなる基板２０内に凹部３０を作成することからなる、方法の第一ステップＥ１を、より具体的に示す。凹部３０は、２段階の電気化学溶解で形成される。第一溶解段階は、図１７に示す一時的凹部３０ｔを形成することで、針５０のドーム形面をまず形成する。次に、図１８に示すように、凹部３０の最終形状を完成するために、事前に得られた一時的凹部３０ｔの底部に、凹部キャップ部分の形状の３つの凹部３０ａ、３０ｂ、３０ｃが形成される。当該凹部３０は、図１６で特に見ることができる、針５０の端部の複雑な形状に対応する。当該凹部３０は、複数の傾斜面３１を画定することを注記する。凹部の深さｄは、５０μｍである。

【0085】

方法の第二ステップＥ２は、基板２０上に反射防止層２５を堆積することからなる。反射防止層２５は、商品名ＡＺ（登録商標）－ＢＡＲＬｉ（登録商標）ＩＩで知られる素材製の層で形成される。層は、スピン・コーティング法を用いて堆積される。

【0086】

方法の第三ステップＥ３は、樹脂４０から金型の側壁４１を形成するステップである。当該ステップは、上述したものと類似の、いくつかのサブステップを含む。当該実施形態において、側壁４１は凹部３０の内側に配置されることを注記する。樹脂が照射され現像されると、樹脂４０の残りの部分と可視基板２０が、特に少なくとも凹部部分３０が、金型を画定する。

【0087】

方法の第四ステップは、図１９に示すように基板２０を曝すため、樹脂の開口内の、即ち金型の底部の反射防止層２５を除去するＥ４からなる。ここで、反射防止層は、酸素プラズマ処理により除去される。

【0088】

方法の第五ステップＥ５は、図２０に示すように、先に得られた金型を電鋳により充填することで部品を製造することからなる。基板２０が導電材料製であるため、電鋳方法は、感光性樹脂製の側壁４１に沿って、導電区域において成長を開始し、継続することができる。針５０は、例えば、ニッケルまたは金製である。

【0089】

方法の第六ステップＥ６は、複雑形状の針を金型から取り外すことからなる。針の傾斜面は、基板２０に製造され、要求された形状に厳密に一致する寸法と斜面を有する、凹部３０（と凹部３０が含む凹部３０ａ、３０ｂ、３０ｃ）に対応する、研磨された表面を有する。基板上の凹部３０のキャビティにより画定された可視面は、当該ステップＥ６に続いて、事後処理なくして、即ち再加工やトライボ仕上げなくして、直接使用される。金型からの当該表面の形状は、修正がなされない。

【0090】

針の対向する面５３は、電気めっき素材の成長の終了の結果である。当該対向する面５３は、脱金型前または後に、研磨され、調整されてもよい。

【0091】

針は、例えば、直線状壁を有してもよく、面取り側壁を有してもよい。

【0092】

時計部品は、続いて、当業者に既知の技術（ＡＬＤ、ＰＶＤ、ＰＬＤ、パッド印刷、等）を用いて着色されてもよい。

【0093】

第三実施例によれば、時計部品は、図２１に示す、逆転したＶ字型の横断面を形成する２つの平坦な傾斜面６２により形成された、面取りされた複雑な可視面を含む、はめ細工６０である。

【0094】

方法の第一ステップＥ１は、平坦なステンレス鋼ウエハからなる基板２０に、凹部３０を作成することからなる。機械加工前の基板２０の上面２１は平坦であり、上で定義した平面Ｐ１に対応する。はめ細工の正中線に沿って接触し、これによりＶ字型断面を形成する、２つの傾斜面の形状の凹部３０を作成するために、従来の機械加工が用いられる。はめ細工の正中線で測定される凹部深さｄは、２５０μｍである。

【0095】

方法の第二ステップＥ２は、基板２０上に反射防止層２５を堆積することからなる。反射防止層２５は、２００ナノメートルの厚さを有し、商品名ＡＺ（登録商標）－ＢＡＲＬｉ（登録商標）で知られる商品製である。形成された反射防止層２５は、基板上のＵＶ反射を完全に減衰することを可能にする。反射防止層はまた、電気絶縁体である。

【0096】

第三ステップＥ３は、樹脂製の金型の側壁４１を形成するステップである。当該ステップは、上述と類似の、複数のフォトリソグラフィサブステップを含む。

【0097】

当該例示的実施形態において、図２２に示すように、側壁は、凹部３０の境界面４と一致して位置決めされる。傾斜面３１に近い側壁の位置決めのため、感光性樹脂４０の架橋結合の十分な画定のために、反射防止層２５の存在が強く推奨される。凹部３０の境界面４に到達する入射放射線４５は、上述のように、迷反射を生成しかねない。

【0098】

方法の第五ステップＥ５は、金型を充填するために、特にＨｙＣｅｒａｍ（登録商標）の商品名で知られる、素材を鋳造し、その後最終構成を与えるために熱処理することで、パーツを製造することからなる。ステップＥ５の結果を、図２３に示す。

【0099】

方法の第六ステップＥ６は、金型から複雑な形状のパーツを取り外すことからなる。結果としての、一体品、一体成形のはめ細工は、製造方法から直接得られる鏡面仕上げの表面仕上げを有し、要求された形状と厳密に対応する寸法と傾斜を有する、面取りされた傾斜面を含む。部品は、金型の底部を形成する基板と接触して得られた表面の、事後処理なくして、即ち再加工またはトライボ仕上げなくして、脱金型ステップＥ６に続き直接使用可能である。

【0100】

金型と接触していない、はめ細工の対向する面６３は、その平坦性を保証するため、研磨される。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22】

【図23】

【図24】

【図25】

【図26】

【図27】

【図28】

【図29】

【図30】

【国際調査報告】