特表 2024-529629 血管内心房細動治療システムおよび方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-08-08

(54)【発明の名称】血管内心房細動治療システムおよび方法

(51)【国際特許分類】

   A61B 18/02 20060101AFI20240801BHJP

   A61B 18/12 20060101ALI20240801BHJP

【ＦＩ】

A61B18/02

A61B18/12

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2024503684

(86)(22)【出願日】2022-08-12

(85)【翻訳文提出日】2024-01-17

(86)【国際出願番号】 US2022040163

(87)【国際公開番号】W WO2023018937

(87)【国際公開日】2023-02-16

(31)【優先権主張番号】63/260,234

(32)【優先日】2021-08-13

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】524024513

【氏名又は名称】チェンバーテック リミテッド

(74)【代理人】

【識別番号】100136629

【弁理士】

【氏名又は名称】鎌田 光宜

(74)【代理人】

【識別番号】100080791

【弁理士】

【氏名又は名称】高島 一

(74)【代理人】

【識別番号】100125070

【弁理士】

【氏名又は名称】土井 京子

(74)【代理人】

【識別番号】100121212

【弁理士】

【氏名又は名称】田村 弥栄子

(74)【代理人】

【識別番号】100174296

【弁理士】

【氏名又は名称】當麻 博文

(74)【代理人】

【識別番号】100137729

【弁理士】

【氏名又は名称】赤井 厚子

(74)【代理人】

【識別番号】100152308

【弁理士】

【氏名又は名称】中 正道

(74)【代理人】

【識別番号】100201558

【弁理士】

【氏名又は名称】亀井 恵二郎

(74)【代理人】

【識別番号】100170184

【弁理士】

【氏名又は名称】北脇 大

(72)【発明者】

【氏名】チェンバース、リチャード

【テーマコード（参考）】

4C160

【Ｆターム（参考）】

4C160JJ03

4C160KK03

4C160KK17

4C160MM38

(57)【要約】

革新的な概念によれば、心房性不整脈を治療するためのシステムおよび方法が提供される。当該システムは、細長い近位シャフトおよび遠位アブレーションプローブを有し得、該遠位アブレーションプローブは、（ａ）細長い近位シャフトの遠位端にて支持され、（ｂ）拘束されていないときには、互いに並んで走る第１および第２の細長いアブレーション表面を少なくとも定める形状であり、かつ、（ｃ）心臓の心房壁に、離間しており、かつ、互いに並んで走る第１および第２の細長い連続したアブレーション病変セグメントを少なくとも含む１つ以上のアブレーション病変を作るように構成される。当該方法は、当該システムを用いて病変を作る。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

心房性不整脈を治療するためのアブレーションカテーテルであって、当該アブレーションカテーテルは：
細長い近位シャフトと；
遠位アブレーションプローブを有し、該遠位アブレーションプローブは、（ａ）前記の細長い近位シャフトの遠位端にて支持され、（ｂ）拘束されていないときには、互いに並んで走る第１の細長いアブレーション表面および第２の細長いアブレーション表面を少なくとも定める形状であり、かつ、（ｃ）心臓の心房壁において、互いに離間しており、かつ、互いに並んで走る第１の細長い連続したアブレーション病変セグメントおよび第２の細長い連続したアブレーション病変セグメントを少なくとも含む１つ以上のアブレーション病変を作るように構成される、
前記アブレーションカテーテル。

【請求項2】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が各々、第１の細長い連続したアブレーション表面および第２の細長い連続したアブレーション表面を有する、請求項１に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項3】

前記の第１の細長いアブレーション表面が、前記の第１の細長い連続したアブレーション病変を作るように構成された第１の細長い不連続のアブレーション表面を有し、かつ、
前記の第２の細長いアブレーション表面が、前記の第２の細長い連続したアブレーション病変を作るように構成された第２の細長い連続したアブレーション表面を有する、
請求項１に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項4】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が各々、第１の細長い不連続のアブレーション表面および第２の細長い不連続のアブレーション表面を有する、請求項１に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項5】

前記遠位アブレーションプローブが、拘束されていないときには、互いに垂直である最も大きい大寸法および最も大きい小寸法を有し、前記の最も大きい大寸法は前記の最も大きい小寸法の少なくとも３倍である、請求項１に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項6】

前記の最も大きい大寸法が前記の最も大きい小寸法の少なくとも４倍である、請求項５に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項7】

前記遠位アブレーションプローブが、拘束されていないときには、４～１０ｃｍの最大寸法を有する、請求項１に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項8】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには同一平面上にある、請求項１に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項9】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには互いに平行である、請求項１に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項10】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、４～８ｃｍのアブレーション表面長さのために互いに並んで走る、請求項１に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項11】

前記の第１の細長いアブレーション表面と前記の第２の細長いアブレーション表面との間の最も近い距離が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには５～２０ｍｍである、請求項１に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項12】

前記遠位アブレーションプローブが、１つ以上の感知電極を有する、請求項１に記載のアブレーションプローブ。

【請求項13】

前記の第１の細長いアブレーション表面と前記の第２の細長いアブレーション表面との間の距離が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面に沿って変動しない、請求項１～１２のいずれか一項に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項14】

前記の第１の細長いアブレーション表面と前記の第２の細長いアブレーション表面との間の距離が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面に沿って変動する、請求項１～１２のいずれか一項に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項15】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには直線状である、請求項１～１２のいずれか一項に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項16】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには湾曲している、請求項１～１２のいずれか一項に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項17】

前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が各々の曲率半径を有し、該曲率半径はそれぞれ０．２～１．２ｃｍである、請求項１６に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項18】

前記遠位アブレーションプローブが、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面を定める形状である細長い遠位シャフトを有する、請求項１～１２のいずれか一項に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項19】

前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の細長い遠位シャフトが互いに垂直である最も大きい大寸法および最も大きい小寸法を有し、かつ、前記の最も大きい大寸法は前記の最も大きい小寸法の少なくとも３倍に等しい、請求項１８に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項20】

前記の最も大きい大寸法が前記の最も大きい小寸法の少なくとも４倍である、請求項１９に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項21】

前記の細長い遠位シャフトの近位端が前記の細長い近位シャフトの前記遠位端にて支持され、かつ、
前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の細長い遠位シャフトの近位部が前記の細長い近位シャフトの前記遠位端を通過する前記の細長い近位シャフトの中心長手方向軸と角度をなし、該角度は４５～９０度である、
請求項１８に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項22】

前記角度が６０～９０度である、請求項２１に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項23】

前記の第１の細長いアブレーション表面が、前記の第１の細長い連続したアブレーション病変を作るように構成された第１の細長い不連続のアブレーション表面を有し、かつ、
前記の第２の細長いアブレーション表面が、前記の第２の細長い連続したアブレーション病変を作るように構成された第２の細長い連続したアブレーション表面を有する、
請求項１８に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項24】

前記の細長い遠位シャフトの遠位端が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の第１の細長いアブレーション表面に沿って配置される、請求項２３に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項25】

前記の細長い遠位シャフトの遠位端が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の細長い遠位シャフトの近位端に物理的に接触する、請求項２４に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項26】

前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の細長い遠位シャフトの内周が２～１６ｃｍ２の領域を取り囲む、請求項２５に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項27】

前記の細長い遠位シャフトが、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面を接続する２つの湾曲した接続端部を定める形状である、請求項１８に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項28】

前記の第１の細長いアブレーション表面および第２の細長いアブレーション表面が湾曲しており、かつ、前記の細長い遠位シャフトが、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには卵形面である、請求項１８に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項29】

前記の細長い遠位シャフトが、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときにはスタジアム形状である、請求項１８に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項30】

請求項１８に記載のアブレーションカテーテルを有するアブレーションシステムであって、当該アブレーションシステムはさらに、血管内送達シースを有し、該血管内送達シースの中には、前記の細長い遠位シャフトが前記血管内送達シースによって拘束されるように前記アブレーションカテーテルが送達のために取り外し可能に配置され、前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が、前記血管内送達シースに沿った各々の長手方向に重複しない位置に配置されるようになっている、前記アブレーションシステム。

【請求項31】

前記遠位アブレーションプローブが形状記憶材料を有し、該形状記憶材料は、前記の細長い遠位シャフトが、前記の細長い遠位シャフトが拘束されていないときには互いに並んで走る前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２のアブレーション表面を定めることを引き起こす、請求項１８に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項32】

前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、
前記の細長い遠位シャフトの近位端が前記の細長い近位シャフトの前記遠位端にて支持され、
前記の第１の細長いアブレーション表面が前記の細長い遠位シャフトの前記近位端を含み、
前記近位端が前記の第１の細長いアブレーション表面の終点から距離をおいて前記の第１の細長いアブレーション表面に沿う位置に配置され、該距離は前記の第１の細長いアブレーション表面の長さの４０％～６０％に等しい、
請求項１８に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項33】

前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面によって定められる最良適合平面が、前記の細長い近位シャフトの前記遠位端を通過する前記の細長い近位シャフトの中心長手方向軸と角度をなし、該角度は４５～９０度である、請求項１～１２のいずれか一項に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項34】

前記角度が６０～９０度である、請求項３３に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項35】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が、冷凍アブレーションを適用するように構成される、請求項１～１２のいずれか一項に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項36】

前記遠位アブレーションプローブが、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面を定める形状の細長い遠位シャフトを有し、
前記の遠位の細長いシャフトは内側チューブおよび外側チューブを有し、
前記内側チューブは第１のルーメンを定める形状であり、
前記内側チューブおよび前記外側チューブは一緒になって前記内側チューブの外面と前記外側チューブの内面との間に第２のルーメンを定め、かつ、
前記の第１のルーメンおよび前記の第２のルーメンは前記の遠位の細長いシャフトの遠位端の近くで互いと流体連通する、
請求項３５に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項37】

請求項３６に記載のアブレーションカテーテルを有するアブレーションシステムであって、当該アブレーションシステムはさらに、前記の第１のルーメンおよび前記の第２のルーメンと流体連通して連結された極低温流体源を有する、前記アブレーションシステム。

【請求項38】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が、１つ以上のアブレーション電極の各々のセットを有する、請求項１～１２のいずれか一項に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項39】

心房性不整脈を治療するための方法であって、当該方法は：
経カテーテル術において、心臓の心房の中へと、アブレーションカテーテルの細長い近位シャフトの遠位端にて支持された遠位アブレーションプローブを前進させることを有し；
前記心房において前記遠位アブレーションプローブを配備することを有し、前記遠位アブレーションプローブが、互いに並んで走る第１の細長いアブレーション表面および第２の細長いアブレーション表面を少なくとも定める形状であるようになっており；かつ、
前記遠位アブレーションプローブを用いて、心房壁において、互いに離間しており、かつ、互いに並んで走る第１の細長い連続したアブレーション病変セグメントおよび第２の細長い連続したアブレーション病変セグメントを少なくとも含む１つ以上のアブレーション病変を作ることを有する、
前記方法。

【請求項40】

前記の１つ以上のアブレーション病変を作ることが、前記心房壁の各々の場所において前記心房壁の電気的に不活性な境界を接続する前記の第１の細長い連続したアブレーション病変セグメントおよび前記の第２の細長い連続したアブレーション病変セグメントを作ることを有する、請求項３９に記載の方法。

【請求項41】

前記の第１の細長い連続したアブレーション病変セグメントおよび前記の第２の細長い連続したアブレーション病変セグメントを作ることが、概して：
・ 左上肺静脈（ＬＳＰＶ）のオリフィスと右上肺静脈（ＲＳＰＶ）のオリフィスとの間、
・ ＲＳＰＶと僧帽弁（ＭＶ）との間、
・ 右下肺静脈（ＲＩＰＶ）とＭＶとの間、
・ 左下肺静脈（ＬＩＰＶ）とＲＩＰＶとの間、
・ ＬＳＰＶとＲＩＰＶとの間、または、
・ ＲＳＰＶとＬＩＰＶとの間を延びる前記の第１の細長い連続したアブレーション病変セグメントおよび前記の第２の細長い連続したアブレーション病変セグメントを作ることを有する、
請求項４０に記載の方法。

【請求項42】

当該方法が、前記遠位アブレーションプローブを用いて肺静脈隔離を実行することを有さない、請求項３９に記載の方法。

【請求項43】

前記の細長い遠位シャフトが血管内送達シースによって拘束されるように前記アブレーションカテーテルが送達のために前記血管内送達シースに取り外し可能に配置されている間に前記遠位アブレーションプローブを前進させ、前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が、前記血管内送達シースに沿った各々の長手方向に重複しない位置に配置されるようになっている、請求項３９に記載の方法。

【請求項44】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が各々、第１の細長い連続したアブレーション表面および第２の細長い連続したアブレーション表面を有する、請求項３９に記載の方法。

【請求項45】

前記の第１の細長いアブレーション表面が、前記の第１の細長い連続したアブレーション病変を作るように構成された第１の細長い不連続のアブレーション表面を含み、かつ、
前記の第２の細長いアブレーション表面が、前記の第２の細長い連続したアブレーション病変を作るように構成された第２の細長い連続したアブレーション表面を含む、
請求項３９に記載の方法。

【請求項46】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が各々、第１の細長い不連続のアブレーション表面および第２の細長い不連続のアブレーション表面を有する、請求項３９に記載の方法。

【請求項47】

前記遠位アブレーションプローブが、拘束されていないときには、互いに垂直である最も大きい大寸法および最も大きい小寸法を有し、前記の最も大きい大寸法は前記の最も大きい小寸法の少なくとも３倍である、請求項３９に記載の方法。

【請求項48】

前記の最も大きい大寸法が前記の最も大きい小寸法の少なくとも４倍である、請求項４７に記載の方法。

【請求項49】

前記遠位アブレーションプローブが、拘束されていないときには、４～１０ｃｍの最大寸法を有する、請求項３９に記載の方法。

【請求項50】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには同一平面上にある、請求項３９に記載の方法。

【請求項51】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには互いに平行である、請求項３９に記載の方法。

【請求項52】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには直線状である、請求項３９に記載の方法。

【請求項53】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには湾曲している、請求項３９に記載の方法。

【請求項54】

前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が各々の曲率半径を有し、該曲率半径はそれぞれ０．２～１．２ｃｍである、請求項５３に記載の方法。

【請求項55】

前記遠位アブレーションプローブが、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面を定める形状である細長い遠位シャフトを含む、請求項３９に記載の方法。

【請求項56】

前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の細長い遠位シャフトが互いに垂直である最も大きい大寸法および最も大きい小寸法を有し、かつ、前記の最も大きい大寸法は前記の最も大きい小寸法の少なくとも３倍に等しい、請求項５５に記載の方法。

【請求項57】

前記の最も大きい大寸法が前記の最も大きい小寸法の少なくとも４倍である、請求項５６に記載の方法。

【請求項58】

前記の細長い遠位シャフトの近位端が前記の細長い近位シャフトの前記遠位端にて支持され、かつ、
前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の細長い遠位シャフトの近位部が前記の細長い近位シャフトの前記遠位端を通過する前記の細長い近位シャフトの中心長手方向軸と角度をなし、該角度は４５～９０度である、
請求項５５に記載の方法。

【請求項59】

前記角度が６０～９０度である、請求項５８に記載の方法。

【請求項60】

前記の第１の細長いアブレーション表面が、前記の第１の細長い連続したアブレーション病変を作るように構成された第１の細長い不連続のアブレーション表面を含み、かつ、
前記の第２の細長いアブレーション表面が、前記の第２の細長い連続したアブレーション病変を作るように構成された第２の細長い連続したアブレーション表面を含む、
請求項５５に記載のアブレーションカテーテル。

【請求項61】

前記の細長い遠位シャフトの遠位端が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の第１の細長いアブレーション表面に沿って配置される、請求項６０に記載の方法。

【請求項62】

前記の細長い遠位シャフトの遠位端が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の細長い遠位シャフトの近位端に物理的に接触する、請求項６１に記載の方法。

【請求項63】

前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の細長い遠位シャフトの内周が２～１６ｃｍ２の領域を取り囲む、請求項６２に記載の方法。

【請求項64】

前記の細長い遠位シャフトが、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面を接続する２つの湾曲した接続端部を定める形状である、請求項５５に記載の方法。

【請求項65】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が湾曲しており、かつ、前記の細長い遠位シャフトが、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには卵形面である、請求項５５に記載の方法。

【請求項66】

前記の細長い遠位シャフトが、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときにはスタジアム形状である、請求項５５に記載の方法。

【請求項67】

前記遠位アブレーションプローブが形状記憶材料を含み、該形状記憶材料は、前記の細長い遠位シャフトが、前記の細長い遠位シャフトが拘束されていないときには互いに並んで走る前記の第１のアブレーション表面および前記の第２のアブレーション表面を定めることを引き起こす、請求項５５に記載の方法。

【請求項68】

前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、
前記の細長い遠位シャフトの近位端が前記の細長い近位シャフトの前記遠位端にて支持され、
前記の第１の細長いアブレーション表面が前記の細長い遠位シャフトの前記近位端を含み、
前記近位端が前記の第１の細長いアブレーション表面の終点から距離をおいて前記の第１の細長いアブレーション表面に沿う位置に配置され、該距離は前記の第１の細長いアブレーション表面の長さの４０％～６０％に等しい、
請求項５５に記載の方法。

【請求項69】

前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面によって定められる最良適合平面が、前記の細長い近位シャフトの前記遠位端を通過する前記の細長い近位シャフトの中心長手方向軸と角度をなし、該角度は４５～９０度である、請求項３９に記載の方法。

【請求項70】

前記角度が６０～９０度である、請求項６９に記載の方法。

【請求項71】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、４～８ｃｍのアブレーション表面長さのために互いに並んで走る、請求項３９に記載の方法。

【請求項72】

前記の第１の細長いアブレーション表面と前記の第２の細長いアブレーション表面との間の最も近い距離が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには５～２０ｍｍである、請求項３９に記載の方法。

【請求項73】

前記の第１の細長いアブレーション表面と前記の第２の細長いアブレーション表面との間の距離が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面に沿って変動しない、請求項３９に記載の方法。

【請求項74】

前記の第１の細長いアブレーション表面と前記の第２の細長いアブレーション表面との間の距離が、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面に沿って変動する、請求項３９に記載の方法。

【請求項75】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が、冷凍アブレーションを適用するように構成される、請求項３９に記載の方法。

【請求項76】

前記遠位アブレーションプローブが、前記遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面を定める形状の細長い遠位シャフトを含み、
前記の遠位の細長いシャフトは内側チューブおよび外側チューブを含み、
前記内側チューブは第１のルーメンを定める形状であり、
前記内側チューブおよび前記外側チューブは一緒になって前記内側チューブの外面と前記外側チューブの内面との間に第２のルーメンを定め、かつ、
前記の第１のルーメンおよび前記の第２のルーメンは前記の遠位の細長いシャフトの遠位端の近くで互いと流体連通する、
請求項７５に記載の方法。

【請求項77】

極低温流体源を前記の第１のルーメンおよび前記の第２のルーメンと流体連通して連結させることをさらに有する、請求項７６に記載の方法。

【請求項78】

前記の第１の細長いアブレーション表面および前記の第２の細長いアブレーション表面が、１つ以上のアブレーション電極の各々のセットを含む、請求項３９に記載の方法。

【請求項79】

前記遠位アブレーションプローブが、１つ以上の感知電極を含む、請求項３９に記載の方法。

【請求項80】

その他の請求項のいずれか１つ以上と組み合わされる、請求項１に記載のシステム。

【請求項81】

その他の請求項のいずれか１つ以上と組み合わされる、請求項３９に記載の方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

関連出願への相互参照
本願は、参照によってその全体が本明細書に組み込まれる、「血管内心房細動治療」と題する、２０２１年８月１３日付けで出願の米国仮特許出願第６３／２６０，２３４号への優先権を主張する。

【0002】

本願は、２０２２年４月２８日付けで出願の「組織治療システム」と題する米国仮特許出願第６３／３３５，９３９号および２０２１年７月２７日付けで出願の「組織治療システム」と題する米国仮特許出願第６３／２０３，６０６号への優先権を主張した２０２２年７月２７日付けで出願の「組織治療システム」と題する特許協力条約（ＰＣＴ）出願第ＰＣＴ／ＵＳ２２／３８４６４号への優先権は主張しないがそれらに関連し、それらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる。

【0003】

本願は、２０２２年４月２８日付けで出願の「病変インデックスを用いたエネルギー送達システム」と題する米国仮出願第６３／３３６２４５号および２０２１年７月２７日付けで出願の「病変インデックスを用いたエネルギー送達システム」と題する米国仮出願第６３／２２６，０４０号への優先権を主張する２０２２年７月２７日付けで出願の「病変インデックスを用いたエネルギー送達システム」と題する特許協力条約（ＰＣＴ）出願第ＰＣＴ／ＵＳ２２／０３８４６１号への優先権は主張しないがそれに関連し、それは参照によって本明細書に組み込まれる。

【0004】

本願は、２０２１年２月１７日付けで出願の「アブレーションインデックスを用いたエネルギー送達システム」と題する米国仮出願第６３／１５０，５５５号への優先権を主張する２０２２年２月１７日付けで出願の「アブレーションインデックスを用いたエネルギー送達システム」と題する特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０２２／０１６７２２号の米国国内段階出願への優先権は主張しないがそれらに関連し、それらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる。

【0005】

本願は、２０１６年１０月１１日付けで出願の「力制御を行うアブレーションシステム」と題する米国仮出願第６２／４０６，７４８号および２０１７年５月１０日付けで出願の「力制御を行うアブレーションシステム」と題する米国仮出願第６２／５０４，１３９号への優先権を主張する２０１７年１０月１１日付けで出願の「力制御を行うアブレーションシステム」と題する特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１７／０５６０６４号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０１９年３月２２日付けで出願の「力制御を行うアブレーションシステム」と題する米国出願第１６／３３５，８９３号への優先権は主張しないがそれらに関連し、それらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる。

【0006】

本願は、２０１６年５月３日付けで出願の「心臓情報動的表示システムおよび方法」と題する米国仮出願第６２／３３１，３５１号への優先権を主張する２０１７年５月３日付けで出願の「心臓情報動的表示システムおよび方法」と題する特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１７／０３０９１５号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０１８年１０月３１日付けで出願の「心臓情報動的表示システムおよび方法」と題する米国出願第１６／０９７，９５５号への優先権は主張しないがそれらに関連し、それらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる。

【0007】

本願は、２０１２年８月３１日付けで出願の「心臓組織を診断および治療するためのシステムならび方法」と題する米国特許仮出願第６１／６９５，５３５号への優先権を主張する２０１３年８月３０日付けで出願の「カテーテルシステムと、心臓の診断および治療での使用を含むカテーテルシステムの医療使用方法」と題する特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１３／０５７５７９号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０１５年２月２０日付けで出願の「カテーテルシステムと、心臓の診断および治療での使用を含むカテーテルシステムの医療使用方法」と題する米国特許第１０，００４，４５９号の継続である２０１８年６月１９日付けで出願の「カテーテルシステムと、心臓の診断および治療での使用を含むカテーテルシステムの医療使用方法」と題する米国特許第１０，６６７，７５３号の継続である２０２０年４月２９日付けで出願の「カテーテルシステムと、心臓の診断および治療での使用を含むカテーテルシステムの医療使用方法」と題する米国特許出願第１６／８６１，８１４号への優先権は主張しないがそれらに関連し、それらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる。

【0008】

本願は、２０１３年２月８日付けで出願の「フレキシブルプリント回路板（ＰＣＢ）電気経路を備える拡張可能なカテーテルアッセンブリ」と題する米国特許仮出願第６１／７６２，３６３号への優先権を主張する２０１４年２月７日付けで出願の「フレキシブルプリント回路板（ＰＣＢ）電気経路を備える拡張可能なカテーテルアッセンブリ」と題する特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１４／０１５２６１号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０１５年７月２３日付けで出願の「フレキシブルプリント回路板（ＰＣＢ）電気経路を備える拡張可能なカテーテルアッセンブリ」と題する米国特許第１０，２０１，３１１号の継続である２０１９年１月８日付けで出願の「フレキシブルプリント回路板（ＰＣＢ）電気経路を備える拡張可能なカテーテルアッセンブリ」と題する米国特許出願第１６／２４２，８１０号への優先権は主張しないがそれらに関連し、それらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる。

【0009】

本願は、２００６年８月３日付けで出願のスイス国特許出願第１２５１／０６号への優先権を主張する２００７年８月３日付けで出願の「心臓壁の表面電荷および双極子密度を測定ならびに提示するための方法ならびに装置」と題するＰＣＴ出願第ＰＣＴ／ＣＨ２００７／０００３８０号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２００９年２月３日付けで出願の「心臓壁の表面電荷および双極子密度を測定ならびに提示するための方法ならびに装置」と題する米国特許第８，４１７，３１３号の継続である２０１３年４月８日付けで出願の「心臓壁の表面電荷および双極子密度を測定ならびに提示するための方法ならびに装置」と題する米国特許第８，７００，１１９号の継続である２０１４年２月２５日付けで出願の「心臓壁の表面電荷および双極子密度を測定ならびに提示するための方法ならびに装置」と題する米国特許第８，９１８，１５８号の継続である２０１４年１１月１９日付けで出願の「心臓壁の表面電荷および双極子密度を測定ならびに提示するための方法ならびに装置」と題する米国特許第９，１６７，９８２号の継続である２０１５年９月２５日付けで出願の「心臓壁の表面電荷および双極子密度を測定ならびに提示するための方法ならびに装置」と題する米国特許第９，６１０，０２４号の継続である２０１７年２月１７日付けで出願の「心臓壁の表面電荷および双極子密度を測定ならびに提示するための方法ならびに装置」と題する米国特許第１０，３７６，１７１号の継続である２０１８年６月２１日付けで出願の「心臓壁の表面電荷および双極子密度を測定ならびに提示するための方法ならびに装置」と題する米国特許第１０，４１３，２０６号の継続である２０１９年８月６日付けで出願の「心臓壁の表面電荷および双極子密度を測定ならびに提示するための方法ならびに装置」と題する米国特許出願第１６／５３３，０２８号への優先権は主張しないがそれらに関連し、それらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる。

【0010】

本願は、２００８年１月１７日付けで出願のスイス国特許出願第０００６８／０８号への優先権を主張した「心臓壁の電気双極子密度の幾何学的測定のための装置および方法」と題する２００９年１月１６日付けで出願の特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＩＢ２００９／００００７１号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０１０年７月１６日付けで出願の「心臓壁の電気双極子密度の幾何学的測定のための装置および方法」と題する米国特許第８，５１２，２５５号の継続である２０１３年７月１９日付けで出願の「心臓壁の電気双極子密度の幾何学的測定のための装置および方法」と題する米国特許第９，１９２，３１８号の継続である２０１５年１０月１９日付けで出願の「心臓壁の電気双極子密度の幾何学的測定のための装置および方法」と題する米国特許第９，５０４，３９５号の継続である２０１６年１０月２５日付けで出願の「心臓壁の電気双極子密度の幾何学的測定のための装置および方法」と題する米国特許第９，９１３，５８９号の継続である２０１８年１月２９日付けで出願の「心臓壁の電気双極子密度の幾何学的測定のための装置および方法」と題する米国特許第１０，４６３，２６７号の継続である２０１９年９月１２日付けで出願の「心臓壁の電気双極子密度の幾何学的測定のための装置および方法」と題する米国特許第１１，１１６，４３８号への優先権は主張しないがそれらに関連し、それらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる。

【0011】

本願は、２０１１年３月１０日付けで出願の米国特許仮出願第６１／４５１，３５７号への優先権を主張した２０１２年３月９日付けで出願の「心臓壁の電気双極子密度の幾何学的測定のための装置および方法」と題する特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１２／０２８５９３号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０１３年９月６日付けで出願の「心臓壁の電気双極子密度の幾何学的測定のための装置および方法」と題する米国特許第９，７５７，０４４号の継続である２０１７年８月８日付けで出願の「心臓壁の電気双極子密度の幾何学的測定のための装置および方法」と題する米国特許第９，９６８，２６８号の継続である２０１８年３月２０日付けで出願の「心臓壁の電気双極子密度の幾何学的測定のための装置および方法」と題する米国特許第１０，３１４，４９７号の継続である２０１９年４月１９日付けで出願の「心臓壁の電気双極子密度の幾何学的測定のための装置および方法」と題する米国特許第１１，２７８，２０９号の継続である２０２２年２月１７日付けで出願の「心臓壁の電気双極子密度の幾何学的測定のための装置および方法」と題する米国特許出願第１７／６７３，９９５号への優先権は主張しないがそれらに関連し、それらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる。

【0012】

本願は、２０１２年８月３１日付けで出願の「心臓組織を診断および治療するためのシステムならび方法」と題する米国特許仮出願第６１／６９５，５３５号への優先権を主張する２０１３年８月３０日付けで出願の「カテーテルシステムと、心臓の診断および治療での使用を含むカテーテルシステムの医療使用方法」と題する特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１３／０５７５７９号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０１３年１２月２日付けで出願の「カテーテル用のトランスデューサー－電極ペア」と題する米国意匠特許第Ｄ７８２，６８６号の分割である２０１７年２月６日付けで出願の「カテーテル用のトランスデューサー－電極ペアのセット」と題する米国意匠特許第Ｄ８５１，７７４号の分割である２０１９年２月２８日付けで出願の「カテーテル用のトランスデューサー－電極ペアのセット」と題する米国意匠特許第２９／６８１，８２７号への優先権は主張しないがそれらに関連し、それらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる。

【0013】

本願は、２０１４年１月１７日付けで出願の「ガス除去機能付き患者用アクセス機器」と題する米国特許仮出願第６１／９２８，７０４号への優先権を主張する２０１５年１月１４日付けで出願の「ガス除去機能付き患者用アクセス機器」と題する特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１５／０１１３１２号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０１６年７月１４日付けで出願の「ガス除去機能付き患者用アクセス機器」と題する米国特許第１０，０７１，２２７号の継続である２０１８年８月２４日付けで出願の「ガス除去機能付き患者用アクセス機器」と題する米国特許出願第１６／１１１，５３８号への優先権は主張しないがそれに関連し、それは参照によって本明細書に組み込まれる。

【0014】

本願は、２０１４年３月２５日付けで出願の「心臓解析ユーザインタフェースのシステム及び方法」と題する米国特許仮出願第６１／９７０，０２７号への優先権を主張する２０１５年３月２４日付けで出願の「心臓解析ユーザインタフェースのシステム及び方法」と題する特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１５／０２２１８７号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０１６年９月２３日付けで出願の「心臓解析ユーザインタフェースのシステム及び方法」と題する米国特許第１１，２７８，２３１号の継続である２０２２年１月１９日付けで出願の「心臓解析ユーザインタフェースのシステム及び方法」と題する米国特許出願第１７／５７８，５２２号への優先権は主張しないがそれに関連し、それは参照によって本明細書に組み込まれる。

【0015】

本願は、２０１３年９月１３日付けで出願の「心臓表面での電気双極子密度の判断のための装置および方法」と題する米国特許仮出願第６１／８７７，６１７号への優先権を主張する２０１４年９月１０日付けで出願の「心臓表面での電気双極子密度の判断のための装置および方法」と題する特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１４／０５４９４２号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０１６年３月２日付けで出願の「心臓表面での電気双極子密度の判断のための装置および方法」と題する米国特許第１０，８２８，０１１号の継続である２０２０年１０月６日付けで出願の「心臓表面での電気双極子密度の判断のための装置および方法」と題する米国特許出願第１７／０６３，９０１号への優先権は主張しないがそれに関連し、それは参照によって本明細書に組み込まれる。

【0016】

本願は、２０１５年５月１３日付けで出願の「心臓情報の取得および解析に役立つ位置特定システムおよび方法」と題する米国特許仮出願第６２／１６１，２１３号への優先権を主張する２０１６年５月１３日付けで出願の「心臓情報の取得および解析に役立つ位置特定システムおよび方法」と題する特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１６／０３２４２０号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０１７年１０月２６日付けで出願の「心臓情報の取得および解析に役立つ位置特定システムおよび方法」と題する米国特許第１０，６５３，３１８号の継続である２０２０年４月１５日付けで出願の「心臓情報の取得および解析に役立つ位置特定システムおよび方法」と題する米国特許出願第１６／８４９，０４５号への優先権は主張しないがそれに関連し、それは参照によって本明細書に組み込まれる。

【0017】

本願は、２０１５年５月１２日付けで出願の「心臓仮想化試験タンクならびに試験システムおよび方法」と題する米国特許仮出願第６２／１６０，５０１号への優先権を主張する２０１６年５月１１日付けで出願の特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１６／０３１８２３号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０１７年１０月２５日付けで出願の「心臓仮想化試験タンクならびに試験システムおよび方法」と題する米国特許出願第１５／５６９，２３１号への優先権は主張しないがそれに関連し、それは参照によって本明細書に組み込まれる。

【0018】

本願は、２０１５年５月１２日付けで出願の「超音波シーケンス処理システムおよび方法」と題する米国特許仮出願第６２／１６０，５２９号への優先権を主張する２０１６年５月１２日付けで出願の特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１６／０３２０１７号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０１７年１０月２５日付けで出願の「超音波シーケンス処理システムおよび方法」と題する米国特許出願第１５／５６９，１８５号の継続である２０２２年５月３日付けで出願の「超音波シーケンス処理システムおよび方法」と題する米国特許出願第１７／７３５，２８５号への優先権は主張しないがそれに関連し、それは参照によって本明細書に組み込まれる。

【0019】

本願は、２０１６年１０月２６日付けで出願の「効率アルゴリズムを含む心臓マッピングシステム」と題する米国特許仮出願第６２／４１３，１０４号および２０１６年５月３日付けで出願の「効率アルゴリズムを含む心臓マッピングシステム」と題する米国特許仮出願第６２／３３１，３６４号への優先権を主張する２０１７年５月３日付けで出願の「効率アルゴリズムを含む心臓マッピングシステム」と題する特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１７／０３０９２２号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０１８年１０月３１日付けで出願の「効率アルゴリズムを含む心臓マッピングシステム」と題する米国特許出願第１６／０９７，９５９号の継続である２０２２年７月６日付けで出願の「効率アルゴリズムを含む心臓マッピングシステム」と題する米国特許出願第１７／８５８１７４号への優先権は主張しないがそれらに関連し、それらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる。

【0020】

本願は、２０１８年１月２１日付けで出願の「心臓伝導パターンを認識するためのシステム」と題する米国特許仮出願第６２／６１９，８９７号および２０１８年５月８日付けで出願の「心臓伝導パターンを識別するためのシステム」と題する米国特許仮出願第６２／６６８，６４７号への優先権を主張する２０１９年１月２２日付けで出願の「心臓伝導パターンを識別するためのシステム」と題する特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１９／０１４４９８号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０２０年７月１３日付けで出願の「心臓伝導パターンを識別するためのシステム」と題する米国特許出願第１６／９６１，８０９号への優先権は主張しないがそれらに関連し、それらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる。

【0021】

本願は、２０１８年５月８日付けで出願の「心臓情報処理システム」と題する米国仮出願第６２／６６８，６５９号および２０１９年２月２８日付けで出願の「心臓情報処理システム」と題する米国特許仮出願第６２／８１１，７３５号への優先権を主張する２０１９年５月７日付けで出願の「心臓情報処理システム」と題する特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１９／０３１１３１号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０２０年１０月１６日付けで出願の「心臓情報処理システム」と題する米国特許出願第１７／０４８，１５１号への優先権は主張しないがそれらに関連し、それらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる。

【0022】

本願は、２０１８年１１月９日付けで出願の「患者情報を計算するためのシステムと方法」と題する米国仮出願第６２／７５７，９６１号への優先権を主張する２０１９年１１月８日付けで出願の「患者情報を計算するためのシステムと方法」と題する特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０１９／０６０４３３号への優先権は主張しないがそれらに関連し、それらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる。

【0023】

本願は、２０１９年４月１８日付けで出願の「複合マップを生成させるためのシステム」と題する米国仮出願第６２／８３５，５３８号および２０１９年１０月２３日付けで出願の「複合マップを生成させるためのシステム」と題する米国仮出願第６２／９２５，０３０号への優先権を主張する２０２０年４月１７日付けで出願の「複合マップを生成させるためのシステム」と題する特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０２０／０２８７７９号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０２１年１０月５日付けで出願の「複合マップを生成させるためのシステム」と題する米国特許出願第１７／６０１，６６１号への優先権は主張しないがそれらに関連し、それらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる。

【0024】

本願は、２０１９年６月４日付けで出願の「体内で位置特定を実行するためのシステム及び方法」と題する米国仮出願第６２／８５７，０５５号への優先権を主張する２０２０年６月４日付けで出願の「体内で位置特定を実行するためのシステム及び方法」と題する特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０２０／０３６１１０号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０２１年１１月２２日付けで出願の「体内で位置特定を実行するためのシステム及び方法」と題する米国特許出願第１７／６１３，２４９号への優先権は主張しないがそれらに関連し、それらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる。

【0025】

本願は、２０１９年１１月２２日付けで出願の「組織処理システム、装置、及び方法」と題する米国仮出願第６２／９３９，４１２号および２０２０年９月７日付けで出願の「組織処理システム、装置、及び方法」と題する米国仮出願第６３／０７５，２８０号への優先権を主張する２０２０年１１月２０日付けで出願の「組織処理システム、装置、及び方法」と題する特許協力条約出願第ＰＣＴ／ＵＳ２０２０／０６１４５８号の３５ ＵＳＣ第３７１条による国内段階出願である２０２２年５月１６日付けで出願の「組織処理システム、装置、及び方法」と題する米国特許出願第１７／７７７，１０４号への優先権は主張しないがそれらに関連し、それらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる。

【0026】

出願の分野
本発明は概して経カテーテル手術法に関し、具体的には心房性不整脈を治療するための経カテーテル手術法に関する。

【背景技術】

【0027】

出願の背景
カテーテルアブレーションを経験する持続性心房細動（ＡＦ）に苦しむ患者は、５０％の初回処置成功率を有すると見積もられる。この成功率を改善するためには、肺静脈隔離が肺静脈に加えて左心房の領域のアブレーションで補足されなければならないと概して信じられている。

【0028】

手術的アブレーションであるコックス－メイズ術は、電気的に不活性である境界間の傷跡／電気ブロックの手術ラインを作り出す純粋に解剖学的なアプローチである。この高度に侵襲的な施術は、通常は開胸アプローチを介して、非常に高い慢性施術成功率（典型的には８５％より大きい）を生み出すが、経カテーテル（例えば、経静脈）アブレーションより重大な施術関連の合併症の実質的に大きな危険性を有する。手術的アブレーションはまた、有意にいっそう高価な施術であり、かつ、病院におけるいっそう長い回復時間を必要とする。

【0029】

カテーテルアブレーション技法を用いてコックス－メイズ術を実行することは、非凡な技術レベルを必要とする。成功時、カテーテルアブレーションは肺静脈隔離単独より有意に良好な効能を有するが、結果は実質的に技師の技術レベルに基づいて変動する。

【0030】

線状病変セットは、カテーテルアブレーションについての最も困難な方法論のうちの１つのままであり、かつ、心房頻拍の傾向に起因して広範囲に回避される。心房頻拍は、非連続した病変セットおよび／または組織治癒のいずれかのために起こり続けるであろう。線状病変セットは概して、２つの電気的に不活性な解剖学的境界、例えば心臓組織が筋細胞から非導電性組織へと移行する心臓組織の周辺領域、の間を接続するのに必要とされる。しかしながら、すべての線状病変セットが、いずかの端部または両方の端部において固定されるわけではない。

【発明の概要】

【0031】

出願の概要
革新的概念の態様によれば、心房細動または心房粗動のような心房性不整脈を治療するためのアブレーションカテーテルが提供される。当該アブレーションカテーテルは、細長い近位シャフトと、該細長い近位シャフトの遠位端にて支持された遠位アブレーションプローブを有する。遠位アブレーションプローブは、拘束されていないときには、互いに並んで走る第１および第２の細長いアブレーション表面を少なくとも定める形状であり、かつ、心臓の心房壁において、第１および第２の細長い連続したアブレーション病変セグメントを少なくとも含む１つ以上のアブレーション病変を作るように構成される。遠位アブレーションプローブは、経カテーテル（例えば、経静脈）術において心房へと前進し、かつ、第１および第２の細長いアブレーション表面は各々、第１および第２の細長い連続したアブレーション病変セグメントを作るのに用いられる。

【0032】

革新的概念の態様にしたがうアブレーションカテーテルの種々の実施形態が、必要とされる技師の技術および結果として生じる技師間のバラツキを低減させながら、コックス－メイズ術のような手術的施術とよく似た使用しやすい解決策を提供し得る。当該アブレーションカテーテルの実施形態は概して、概して平行である二重の連続した線状の細長い病変構造の作成を簡略化することによって、アブレーション術の急性および慢性成功率を改善する。対照的に、単一の細長い病変のいっそう単純な作成はしばしば、心房性不整脈の長期の治療を提供しない。なぜなら、健康な組織がしばしば、単一の病変を跨ぐ、すなわち、単一の病変を横切るように成長するからである。

【0033】

したがって、革新的概念の態様によれば、心房性不整脈を治療するのに有用なアブレーションカテーテルが提供され、当該アブレーションカテーテルは：細長い近位シャフトを含み；かつ、遠位アブレーションプローブを含み、該アブレーションプローブは、（ａ）細長い近位シャフトの遠位端にて支持され、（ｂ）拘束されていないときには、互いに並んで走る第１および第２の細長いアブレーション表面を少なくとも定める形状であり、かつ、（ｃ）心臓の心房壁において、互いに離間しており、かつ、互いに並んで走る第１および第２の細長い連続したアブレーション病変セグメントを少なくとも含む１つ以上のアブレーション病変を作るように構成される。

【0034】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は各々、第１および第２の細長い連続したアブレーション表面を含む。

【0035】

いくつかの実施形態では、第１の細長いアブレーション表面は、第１の細長い連続したアブレーション病変を作るように構成された第１の細長い不連続のアブレーション表面を含み、かつ、第２の細長いアブレーション表面は、第２の細長い連続したアブレーション病変を作るように構成された第２の細長い連続したアブレーション表面を含む。

【0036】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は各々、第１および第２の細長い不連続のアブレーション表面を含む。

【0037】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブは、拘束されていないときには、互いに垂直である最も大きい大寸法および小寸法を有し、最も大きい大寸法は最も大きい小寸法の少なくとも３倍である。

【0038】

いくつかの実施形態では、最も大きい大寸法は最も大きい小寸法の少なくとも４倍である。

【0039】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブは、拘束されていないときには、４～１０ｃｍの最大寸法を有する。

【0040】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには同一平面上にある。

【0041】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには互いに平行である。

【0042】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、４～８ｃｍのアブレーション表面長さのために互いに並んで走る。

【0043】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面の間の最も近い距離が、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには５～２０ｍｍである。

【0044】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブは、１つ以上の感知電極を含む。

【0045】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面の間の距離が、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面に沿って変動しない。

【0046】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面の間の距離が、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面に沿って変動する。

【0047】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには直線状である。

【0048】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには湾曲している。

【0049】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面は各々の曲率半径を有し、該曲率半径はそれぞれ０．２～１．２ｃｍである。

【0050】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブは、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面を定める形状である細長い遠位シャフトを含む。

【0051】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、細長い遠位シャフトは互いに垂直である最も大きい大寸法および小寸法を有し、かつ、最も大きい大寸法は最も大きい小寸法の少なくとも３倍に等しい。

【0052】

いくつかの実施形態では、最も大きい大寸法は最も大きい小寸法の少なくとも４倍である。

【0053】

いくつかの実施形態では、細長い遠位シャフトの近位端が細長い近位シャフトの遠位端にて支持され、かつ、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、細長い遠位シャフトの近位部が細長い近位シャフトの遠位端を通過する細長い近位シャフトの中心長手方向軸と角度をなし、該角度は６０～９０度のように４５～９０度である。

【0054】

いくつかの実施形態では、第１の細長いアブレーション表面は、第１の細長い連続したアブレーション病変を作るように構成された第１の細長い不連続のアブレーション表面を含み、かつ、第２の細長いアブレーション表面は、第２の細長い連続したアブレーション病変を作るように構成された第２の細長い連続したアブレーション表面を含む。

【0055】

いくつかの実施形態では、細長い遠位シャフトの遠位端が、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、第１の細長いアブレーション表面に沿って配置される。

【0056】

いくつかの実施形態では、細長い遠位シャフトの遠位端が、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、細長い遠位シャフトの近位端に物理的に接触する。

【0057】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、細長い遠位シャフトの内周が２～１６ｃｍ２の領域を取り囲む。

【0058】

いくつかの実施形態では、細長い遠位シャフトは、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面を接続する２つの湾曲した接続端部を定める形状である。

【0059】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は湾曲しており、かつ、細長い遠位シャフトは、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには卵形面である。

【0060】

いくつかの実施形態では、細長い遠位シャフトは、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときにはスタジアム形状である。

【0061】

いくつかの実施形態では、アブレーションシステムはさらに、血管内送達シースを含み、該血管内送達シースの中には、細長い遠位シャフトが血管内送達シースによって拘束されるように当該アブレーションカテーテルが送達のために取り外し可能に配置され、第１および第２の細長いアブレーション表面が、血管内送達シースに沿った各々の長手方向に重複しない位置に配置されるようになっている。

【0062】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブは、細長い遠位シャフトが、細長い遠位シャフトが拘束されていないときには互いに並んで走る第１および第２のアブレーション表面を定めることを引き起こす形状記憶材料を含む。

【0063】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、細長い遠位シャフトの近位端が細長い近位シャフトの遠位端にて支持され、第１の細長いアブレーション表面は細長い遠位シャフトの近位端を含み、近位端は第１の細長いアブレーション表面の終点から距離をおいて第１の細長いアブレーション表面に沿う位置に配置され、該距離は第１の細長いアブレーション表面の長さの４０％～６０％に等しい。

【0064】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面によって定められる最良適合平面が、細長い近位シャフトの遠位端を通過する細長い近位シャフトの中心長手方向軸と角度をなし、該角度は６０～９０度のように４５～９０度である。

【0065】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は、冷凍アブレーションを適用するように構成される。

【0066】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブは、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面を定める形状の細長い遠位シャフトを含み、遠位の細長いシャフトは内側チューブおよび外側チューブを含み、内側チューブは第１のルーメンを定める形状であり、内側チューブおよび外側チューブは一緒になって内側チューブの外面と外側チューブの内面との間に第２のルーメンを定め、かつ、第１および第２のルーメンは遠位の細長いシャフトの遠位端の近くで互いと流体連通する。

【0067】

いくつかの実施形態では、アブレーションシステムはさらに、第１および第２のルーメンと流体連通して連結された極低温流体源を含む。

【0068】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は、１つ以上のアブレーション電極の各々のセットを含む。

【0069】

革新的概念の別の態様によれば、心房性不整脈を治療するための方法が提供され、当該方法は：経カテーテル術において、心臓の心房の中へと、アブレーションカテーテルの細長い近位シャフトの遠位端にて支持された遠位アブレーションプローブを前進させることを含み；心房において遠位アブレーションプローブを配備することを含み、遠位アブレーションプローブが互いに並んで走る第１および第２の細長いアブレーション表面を少なくとも定める形状であるようになっており；かつ、遠位アブレーションプローブを用いて、心房壁において、互いに離間しており、かつ、互いに並んで走る第１および第２の細長い連続したアブレーション病変セグメントを少なくとも含む１つ以上のアブレーション病変を作ることを含む。

【0070】

いくつかの実施形態では、１つ以上のアブレーション病変を作ることは、心房壁における各々の位置に、心房壁の電気的に不活性な境界を接続する第１および第２の細長い連続したアブレーション病変セグメントを作ることを含む。

【0071】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長い連続したアブレーション病変セグメントを作ることは、左上肺静脈（ＬＳＰＶ）のオリフィスと右上肺静脈（ＲＳＰＶ）との間、ＲＳＰＶと僧帽弁（ＭＶ）との間、右下肺静脈（ＲＩＰＶ）とＭＶとの間、左下肺静脈（ＬＩＰＶ）とＲＩＰＶとの間、ＬＳＰＶとＲＩＰＶとの間またはＲＳＰＶとＬＩＰＶとの間を概して延びる第１および第２の細長い連続したアブレーション病変セグメントを作ることを含む。

【0072】

いくつかの実施形態では、当該方法は、遠位アブレーションプローブを用いて肺静脈隔離を実行することを含まない。

【0073】

いくつかの実施形態では、細長い遠位シャフトが血管内送達シースによって拘束されるように、アブレーションカテーテルが血管内送達シースにおいて送達のために配置されている間に遠位アブレーションプローブを前進させ、第１および第２の細長いアブレーション表面が血管内送達シースに沿う各々の長手方向に重複しない位置に配置されるようになっている。

【0074】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は各々、第１および第２の細長い連続したアブレーション表面を含む。

【0075】

いくつかの実施形態では、第１の細長いアブレーション表面は、第１の細長い連続したアブレーション病変を作るように構成された第１の細長い不連続のアブレーション表面を含み、かつ、第２の細長いアブレーション表面は、第２の細長い連続したアブレーション病変を作るように構成された第２の細長い連続したアブレーション表面を含む。

【0076】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は各々、第１および第２の細長い不連続のアブレーション表面を含む。

【0077】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブは、拘束されていないときには、互いに垂直である最も大きい大寸法および小寸法を有し、最も大きい大寸法は最も大きい小寸法の少なくとも３倍である。

【0078】

いくつかの実施形態では、最も大きい大寸法は最も大きい小寸法の少なくとも４倍である。

【0079】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブは、拘束されていないときには、４～１０ｃｍの最大寸法を有する。

【0080】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには同一平面上にある。

【0081】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには互いに平行である。

【0082】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには直線状である。

【0083】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには湾曲している。

【0084】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面は各々の曲率半径を有し、該曲率半径はそれぞれ０．２～１．２ｃｍである。

【0085】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブは、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面を定める形状である細長い遠位シャフトを含む。

【0086】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、細長い遠位シャフトは互いに垂直である最も大きい大寸法および小寸法を有し、かつ、最も大きい大寸法は最も大きい小寸法の少なくとも３倍に等しい。

【0087】

いくつかの実施形態では、最も大きい大寸法は最も大きい小寸法の少なくとも４倍である。

【0088】

いくつかの実施形態では、細長い遠位シャフトの近位端が細長い近位シャフトの遠位端にて支持され、かつ、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、細長い遠位シャフトの近位部が細長い近位シャフトの遠位端を通過する細長い近位シャフトの中心長手方向軸と角度をなし、該角度は６０～９０度のように４５～９０度である。

【0089】

いくつかの実施形態では、第１の細長いアブレーション表面は、第１の細長い連続したアブレーション病変を作るように構成された第１の細長い不連続のアブレーション表面を含み、かつ、第２の細長いアブレーション表面は、第２の細長い連続したアブレーション病変を作るように構成された第２の細長い連続したアブレーション表面を含む。

【0090】

いくつかの実施形態では、細長い遠位シャフトの遠位端が、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、第１の細長いアブレーション表面に沿って配置される。

【0091】

いくつかの実施形態では、細長い遠位シャフトの遠位端が、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、細長い遠位シャフトの近位端に物理的に接触する。

【0092】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、細長い遠位シャフトの内周が２～１６ｃｍ２の領域を取り囲む。

【0093】

いくつかの実施形態では、細長い遠位シャフトは、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面を接続する２つの湾曲した接続端部を定める形状である。

【0094】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は湾曲しており、かつ、細長い遠位シャフトは、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには卵形面である。

【0095】

いくつかの実施形態では、細長い遠位シャフトは、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときにはスタジアム形状である。

【0096】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブは、細長い遠位シャフトが、細長い遠位シャフトが拘束されていないときには互いに並んで走る第１および第２のアブレーション表面を定めることを引き起こす形状記憶材料を含む。

【0097】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、細長い遠位シャフトの近位端が細長い近位シャフトの遠位端にて支持され、第１の細長いアブレーション表面は細長い遠位シャフトの近位端を含み、近位端は第１の細長いアブレーション表面の終点から距離をおいて第１の細長いアブレーション表面に沿う位置に配置され、該距離は第１の細長いアブレーション表面の長さの４０％～６０％に等しい。

【0098】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面によって定められる最良適合平面が、細長い近位シャフトの遠位端を通過する細長い近位シャフトの中心長手方向軸と角度をなし、該角度は６０～９０度のように４５～９０度である。

【0099】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、４～８ｃｍのアブレーション表面長さのために互いに並んで走る。

【0100】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面の間の最も近い距離が、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには５～２０ｍｍである。

【0101】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面の間の距離が、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面に沿って変動しない。

【0102】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面の間の距離が、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面に沿って変動する。

【0103】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は、冷凍アブレーションを適用するように構成される。

【0104】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブは、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面を定める形状の細長い遠位シャフトを含み、遠位の細長いシャフトは内側チューブおよび外側チューブを含み、内側チューブは第１のルーメンを定める形状であり、内側チューブおよび外側チューブは一緒になって内側チューブの外面と外側チューブの内面との間に第２のルーメンを定め、かつ、第１および第２のルーメンは遠位の細長いシャフトの遠位端の近くで互いと流体連通する。

【0105】

いくつかの実施形態では、当該方法はさらに、極低温流体源を第１および第２のルーメンと流体連通した状態で連結することを含む。

【0106】

いくつかの実施形態では、第１および第２の細長いアブレーション表面は、１つ以上のアブレーション電極の各々のセットを含む。

【0107】

いくつかの実施形態では、遠位アブレーションプローブは、１つ以上の感知電極を含む。

【0108】

参照による組み込み
本明細書で言及されるすべての刊行物、特許および特許出願はある程度、それぞれの個別の刊行物、特許または特許出願が具体的かつ個別に参照によって組み込まれると示されたのと同程度に、参照によって本明細書に組み込まれる。本明細書で言及されるすべての刊行物、特許および特許出願は、すべての目的のためにそれらの全体が参照によって本明細書に組み込まれる。

【図面の簡単な説明】

【0109】

【図1】図１は、革新的概念の態様による、心房性不整脈を治療するのに有用なアブレーションシステムの概略図である。

【図2A】図２Ａおよび２Ｂは各々、革新的概念の態様による、遠位および側面図からのアブレーションシステムのアブレーションカテーテルの概略図である。

【図2B】図２Ａおよび２Ｂは各々、革新的概念の態様による、遠位および側面図からのアブレーションシステムのアブレーションカテーテルの概略図である。

【図3A】図３Ａおよび３Ｂは各々、革新的概念の態様による、図２Ａの線ＩＩＩＡ－ＩＩＩＡおよびＩＩＩＢ－ＩＩＩＢに沿ってとった図１および２Ａ～Ｂのアブレーションカテーテルの遠位アブレーションプローブの細長い遠位シャフトの断面図である。

【図3B】図３Ａおよび３Ｂは各々、革新的概念の態様による、図２Ａの線ＩＩＩＡ－ＩＩＩＡおよびＩＩＩＢ－ＩＩＩＢに沿ってとった図１および２Ａ～Ｂのアブレーションカテーテルの遠位アブレーションプローブの細長い遠位シャフトの断面図である。

【図4A】図４Ａ～Ｆは、革新的概念の態様による、心房性不整脈を治療するための方法の概略図である。

【図4B】図４Ａ～Ｆは、革新的概念の態様による、心房性不整脈を治療するための方法の概略図である。

【図4C】図４Ａ～Ｆは、革新的概念の態様による、心房性不整脈を治療するための方法の概略図である。

【図4D】図４Ａ～Ｆは、革新的概念の態様による、心房性不整脈を治療するための方法の概略図である。

【図4E】図４Ａ～Ｆは、革新的概念の態様による、心房性不整脈を治療するための方法の概略図である。

【図4F】図４Ａ～Ｆは、革新的概念の態様による、心房性不整脈を治療するための方法の概略図である。

【図5】図５は、革新的概念の態様による、心房性不整脈を治療するための別のアブレーションシステムの概略図である。

【図6】図６は、革新的概念の態様による、心房性不整脈を治療するためのさらに別のアブレーションシステムの概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0110】

応用例の詳細な説明
図１を参照すると、該図は、本発明の応用例による、心房細動または心房粗動のような心房性不整脈を治療するためのアブレーションシステム１０の概略図である。

【0111】

図２Ａおよび２Ｂも参照すると、該図は各々、本発明の応用例による、遠位および側面図からのアブレーションシステム１０のアブレーションカテーテル２０の概略図である。

【0112】

アブレーションカテーテル２０は、細長い近位シャフト２２と、細長い近位シャフト２２の遠位端２６にて支持された遠位アブレーションプローブ２４を有する。遠位アブレーションプローブ２４は、（以下に記載する血管内送達シース３４によって、または、被験者の解剖学的構造によって、またはその他の方法で）拘束されていないときには、互いに並んで走る第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂを少なくとも定める形状である。遠位アブレーションプローブ２４は、心臓の心房壁において、互いに離間し、かつ、互いに並んで走る第１および第２の細長い連続したアブレーション病変セグメントを少なくとも含む１つ以上のアブレーション病変を作るように構成される。第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂは一緒になって、図４Ｅ～Ｆを参照して以下で説明されるように、アブレーションを適用して心房壁において第１および第２の離間した細長いアブレーション病変を作るための透過領域を定める。

【0113】

いくつかの応用例については、遠位アブレーションプローブ２４は、遠位アブレーション２４が拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂを定める形状である細長い遠位シャフト３２を有する。

【0114】

その他の応用例については、遠位アブレーションプローブは、細長い遠位シャフトの代わりに、概して平坦な表面であって、その上に第１および第２の細長いアブレーション表面が配置される前記の概して平坦な表面を有し；例えば、第１および第２の細長いアブレーション表面は、各々の細長い電極接触表面を有していてもよい（構成は図示せず）。例えば、概して平坦な表面は、パドル形状の要素によって提供されてもよい（構成は図示せず）。

【0115】

図１を再び参照する。アブレーションシステム１０はさらに、血管内（典型的には、経静脈）送達シース３４を有し、その中にはアブレーションカテーテル２０が送達のために取り外し可能に配置される。遠位アブレーションプローブ２４が細長い遠位シャフト３２を有するいくつかの応用例については、アブレーションカテーテル２０は送達シース３４に取り外し可能に配置され、細長い遠位シャフト３２が送達シース３４によって拘束され、かつ、典型的には、第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂが送達シース３４に沿う各々の長手方向に重複しない位置に配置されるようになっている。遠位アブレーションプローブ２４（例えば、細長い遠位シャフト３２）は十分に可撓性であり、それが血管系における鋭角の屈曲部の周りで送達シース３４内を前進するにつれて、それが曲がりくねった幾何学的形態をとることを可能にする。

【0116】

いくつかの応用例については、アブレーションシステム１０はさらに、熱的または非熱的エネルギー源であってもよい、エネルギー源３５を有する。例えば、エネルギー源３５は、図３Ａ～Ｂを参照して以下に記載される第１および第２のルーメン７４および７６のように、遠位アブレーションプローブ２４と（近位シャフト２２によって定められる各々のルーメンを介して）流体連通して連結した極低温流体源３６を有していてもよい。例えば、極低温流体（冷却剤としても知られる）は、本技術分野で既知であるように、気体、液体、臨界または超臨界状態のうちの１つである窒素、亜酸化窒素、水素、アルゴン、プロパン、アルコールまたは二酸化炭素を有していてもよい。例えば、極低温流体原３６は、Ｂａｕｓｔらへの米国特許第１０，０５４，２６２号および／またはＢａｕｓｔらへの米国特許第９，０８９，３１６号に記載の極低温システムの技法を実装してもよく、それらは両方とも参照によって本明細書に組み込まれる。本明細書において提供される定義がこれらの２つの特許において提供されるものと矛盾する場合、本明細書において提供される定義が優先するであろう。

【0117】

代替的または追加的には、エネルギー源３５は、高周波（ＲＦ）パワー源のような熱的アブレーションパワー源を有していてもよく、その場合、第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂは、１つ以上のＲＦアブレーション電極（図示しないが、図４Ｃを参照して以下に記載される感知電極１２０と同様のもの）の各々のセットを有する。この場合、アブレーションシステム１０は、極低温アブレーションの代わりに、または、極低温アブレーションに加えて、ＲＦアブレーションを用いてもよい。

【0118】

さらに代替的または追加的には、エネルギー源３５は、本技術分野で既知であるように、パルス磁場アブレーションエネルギー源のような非熱的エネルギー源を有する。

【0119】

典型的には、アブレーションシステム１０はさらに、本技術分野で既知であるようにオペレーターハンドルを有し、かつ、任意選択的には本技術分野で既知であるようにアンビリカルコネクターを有する。

【0120】

いくつかの応用例については、遠位アブレーションプローブは、拘束されていないときには、少なくとも４ｃｍであり、１０ｃｍを超えず、かつ／あるいは、４～１０ｃｍである最大寸法Ｄ１を有する。

【0121】

いくつかの応用例については、遠位アブレーションプローブ２４は、拘束されていないときには、互いに垂直である最も大きい大寸法Ｄ２および最も大きい小寸法Ｄ３を有する。いくつかの応用例については、寸法は、以下の絶対値または相対値のうちの１つ以上を有する：
・ 最も大きい大寸法Ｄ２は、最も大きい小寸法Ｄ３の少なくとも４倍のように最も大きい小寸法Ｄの少なくとも３倍であり、
・ 最も大きい大寸法Ｄ２は、少なくとも４ｃｍであり、１０ｃｍを超えず、かつ／あるいは、４～１０ｃｍであり、かつ／あるいは、
・ 最も大きい小寸法Ｄ３は、少なくとも０．５ｃｍであり、２ｃｍを超えず、かつ／あるいは、０．５～２ｃｍである。

【0122】

遠位アブレーションプローブ２４が細長い遠位シャフト３２を有する応用例については、上述の寸法はすべて、遠位アブレーションプローブ２４の外縁を定める細長い遠位シャフト３２の外周によって定められる。

【0123】

遠位アブレーションプローブ２４が細長い遠位シャフト３２を有するいくつかの応用例については、細長い遠位シャフト３２は、その軸に沿って測定される、少なくとも４ｃｍであり、８ｃｍを超えず、かつ／あるいは、４～８ｃｍである長さを有する（長さは軸に沿って測定されるので、遠位アブレーションプローブ２４が拘束されていないとき、および、細長い遠位シャフト３２が直線状の送達構成へと拘束されるときには、長さは同じままである）。

【0124】

いくつかの応用例については、細長い近位シャフト２２は、少なくとも８０ｃｍ（例えば、少なくとも１００ｃｍ）であり、１５０ｃｍを超えず（例えば、１３０ｃｍを超えず）、かつ／あるいは、８０ｃｍ（例えば、１００ｃｍ）～１５０ｃｍ（例えば、１３０ｃｍ）である長さを有する。

【0125】

いくつかの応用例については、第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂは、図示されているように遠位アブレーションプローブ２４が拘束されていないときには同一平面上にある。代替的には、それらは同一平面上にはない。

【0126】

いくつかの応用例については、第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂは、図１、２Ａ～Ｂおよび４Ｄ～Ｅに示されているように、遠位アブレーションプローブ２４が拘束されていないときには互いに平行である。その他の応用例については、第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂは、遠位アブレーションプローブ２４が拘束されていないときには互いに平行ではない。

【0127】

いくつかの応用例については、第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂは、図１、２Ａ～Ｂおよび４Ｄ～Ｅに示されているように、遠位アブレーションプローブ２４が拘束されていないときには直線状である。その他の応用例については、第１および第２の細長いアブレーション表面は、例えば図６を参照して以下に記載されるように、遠位アブレーションプローブが拘束されていないときには湾曲している。

【0128】

いくつかの応用例については、図２Ｂにおいてラベル付けされているように、遠位アブレーションプローブ２４が拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂによって定められる最良適合平面３８が、細長い近位シャフト２２の遠位端２６を通過する細長い近位シャフト２２の中心長手方向軸４２と角度α（アルファ）をなし、該角度は６０～９０度のように４５～９０度であり、例えば図示されている９０度のように７５～９０度である。遠位アブレーションプローブ２４が細長い遠位シャフト３２を有するいくつかの応用例については、細長い遠位シャフト３２の近位端４４が細長い近位シャフト２２の遠位端２６にて支持され、かつ、遠位アブレーションプローブ２４が拘束されていないときには、細長い遠位シャフト３２の近位部４６が、細長い近位シャフト２２の遠位端２６を通過する細長い近位シャフト２２の中心長手方向軸４２と上述の角度α（アルファ）をなす。

【0129】

請求の範囲を含む本願で用いられるとき、遠位アブレーションプローブ２４の「最良適合平面」は、平面と遠位アブレーションプローブ２４の容量のすべての点との間の距離の２乗の最小和をもたらす表面である。請求の範囲を含む本願で用いられるとき、２つの線または２つの平面の間の角度は、２つの線または２つの平面の間の２つの補角のうちの小さい方であるか、２つの線または２つの平面が垂直であれば９０度に等しい。

【0130】

いくつかの応用例については、図２Ａにおいてラベル付けされているように、遠位アブレーションプローブ２４が拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂは、アブレーション表面長さＬのために互いに並んで走り、該アブレーション表面長さＬは：
・ 少なくとも４ｃｍであり、８ｃｍを超えず、かつ／あるいは、４～８ｃｍである長さに等しく、かつ／あるいは、
・ 第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂの間の最も近い距離Ｄ４の４～８倍のように、最も近い距離Ｄ４の３～１２倍の長さに等しい。

【0131】

いくつかの応用例については、第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂの間の最も近い距離Ｄ４（図２Ａにおいてラベル付けされている）は、遠位アブレーションプローブ２４が拘束されていないときには、少なくとも５ｍｍであり、２０ｍｍを超えず、かつ／あるいは、５～２０ｍｍである。

【0132】

いくつかの応用例については、第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂの間の距離は、図１および２Ａ～Ｂに示されているように、遠位アブレーションプローブ２４が拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂに沿って変動しない。その他の応用例については、第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂの間の距離は、図６を参照して以下に記載される構成におけるように、遠位アブレーションプローブ２４が拘束されていないときには、第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂに沿って変動する。

【0133】

いくつかの応用例については、図示されているように、遠位アブレーションプローブ２４が拘束されていないときには、第１の細長いアブレーション表面３０Ａに沿って細長い遠位シャフト３２の遠位端４５が配置される。

【0134】

図示されているように、細長い遠位シャフト３２の遠位端４５が第１の細長いアブレーション表面３０Ａに沿って配置される応用例のようないくつかの応用例については：
・ 第１の細長いアブレーション表面３０Ａは、第１の細長い連続したアブレーション病変を作るように構成された第１の細長い不連続のアブレーション表面を有し、かつ、
・ 第２の細長いアブレーション表面３０Ｂは、第２の細長い連続したアブレーション病変を作るように構成された第２の細長い連続したアブレーション表面を有する。

【0135】

第１の細長い不連続のアブレーション表面３０Ａは、一緒になって第１の細長い不連続のアブレーション表面３０Ａを定める、２つの細長いアブレーション表面（図示されているように）または３つ以上の細長いアブレーション表面（構成は図示せず）を有する。２つ以上の細長いアブレーション表面の間の小さい隙間にも関わらず、２つ以上の細長いアブレーション表面は一緒になって、心房壁において細長い連続したアブレーションセグメントを作る。なぜなら、アブレーション表面は典型的にはアブレーション表面から約２～３ｍｍまで組織をアブレーションし、したがって長手方向に隣接したアブレーション表面間の小さい隙間を跨ぐからである。

【0136】

その他の応用例については、第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂは各々、第１および第２の細長い連続したアブレーション表面を有する（構成は図示せず）。

【0137】

さらに他の応用例については、第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂは各々、第１および第２の細長い不連続のアブレーション表面を有する（構成は図示せず）。

【0138】

いくつかの応用例については、細長い遠位シャフト３２は、遠位アブレーションプローブ２４が拘束されていないときには第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂを接続する２つの湾曲した接続端部６０Ａおよび６０Ｂを定める形状である。典型的には、プローブの２つの湾曲した接続端部６０Ａおよび６０Ｂはまた、アブレーションエネルギーを印加する。任意選択的には、２つの湾曲した接続端部６０Ａおよび６０Ｂはそれぞれ、少なくとも０．２５ｃｍであり、１ｃｍを超えず、かつ／あるいは、０．２５～１ｃｍである曲率半径Ｒ（図２Ａにおいてラベル付けされている）を有する。

【0139】

これらの応用例のうちのいくつかについては、細長い遠位シャフト３２の遠位端４５は、図１、２Ａ～Ｂおよび４Ｄ～Ｅに示されているように、遠位アブレーションプローブ２４が拘束されていないときには、細長い遠位シャフト３２の近位端４４に物理的に接触する。これらの応用例のうちのいくつかについては、遠位アブレーションプローブ２４が拘束されていないときには、細長い遠位シャフト３２の内周４８が、少なくとも２ｃｍ２であり、１６ｃｍ２を超えず、かつ／あるいは、２～１６ｃｍ２である領域５０を取り囲む。

【0140】

いくつかの応用例については、遠位アブレーションプローブ２４が拘束されていないときには、第１の細長いアブレーション表面３０Ａは、（細長い近位シャフト２２の遠位端２６にて支持された）細長い遠位シャフト３２の近位端４４を含む。近位端４４は、第１の細長いアブレーション表面３０Ａの終点５４から距離Ｄ５をおいて第１の細長いアブレーション表面３０Ａに沿う位置５２に配置され、距離Ｄ５は、第１の細長いアブレーション表面３０Ａの長さＬの少なくとも４０％であり、６０％は超えず、かつ／あるいは、４０％～６０％に等しい（例えば４５％～５５％、例えば５０％）。遠位透過領域の中への細長い近位シャフト２２の挿入のこの位置５２は、遠位アブレーションプローブ２４に良好な操作性を提供することを助けるであろう。この位置５２はまた、固定された長さ（図示されているように）または可変の長さ（例えば、デバイスのハンドルは、技師が施術中に長さを変化させることを可能にするスライダーを有していてもよい；構成は図示せず）を有していてもよい「Ｔ」形を作り出すことを助けるであろう。

【0141】

ここで図３Ａおよび３Ｂを参照すると、該図は各々、本発明の各々の応用例による、図２Ａの線ＩＩＩＡ－ＩＩＩＡおよびＩＩＩＢ－ＩＩＩＢに沿ってとった遠位アブレーションプローブ２４の細長い遠位シャフト３２の断面図である。

【0142】

いくつかの応用例については、第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂは、冷凍アブレーションを適用するように構成される。この目的のために、細長い遠位シャフト３２は、内側および外側チューブ７０および７２を有する。（外側チューブ７２は典型的には、細長い遠位シャフト３２の外壁を定める。）内側チューブ７０は、第１のルーメン７４を定める形状である。内側および外側チューブ７０および７２は一緒になって、内側チューブ７０の外面７８と外側チューブ７２の内面７９との間に第２のルーメン７６を定める。第１および第２のルーメン７４および７６は、内側チューブ７０の壁を通って定められる少なくとも１つの開口部８２を介して（図示されているように）、または、外側チューブ７２の遠位端から近位方向に凹んだ内側チューブ７０の遠位端を介して（構成は図示せず）、遠位アブレーションプローブ２４の細長い遠位シャフト３２の遠位端４５の近くで（例えば、１ｃｍ以内のように２ｃｍ以内で）互いと流体連通する（典型的には、細長い遠位シャフト３２に沿う他の位置では流体連通しない）。第１および第２のルーメン７４および７６はしたがって、一緒になって閉ループシステムを提供する。いくつかの応用例については、閉ループシステムは、約２０００ＰＳＩまでのように非常に高い圧力に抵抗するように設計される。

【0143】

細長い近位シャフト２２はまた、第１および第２のルーメン７４および７６を図１を参照して上述した極低温流体源３６と流体連通した状態で連結する第１および第２のルーメンを有する。例えば、かかる流体連結は、第１のルーメン７４が極低温流体を送達し、かつ、第２のルーメン７６が極低温流体を戻すように配置されてもよい。

【0144】

いくつかの応用例については、遠位アブレーションプローブ２４は、細長い遠位シャフト３２が拘束されていないときには細長い遠位シャフト３２が互いに並んで走る第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂを定めることを引き起こす形状記憶材料８４（例えば、Ｎｉ－Ｔｉ合金）を有する。例えば、遠位アブレーションプローブ２４は、形状記憶材料８４を有する背骨８６を有していてもよい。任意選択的には、背骨８６は、細長い近位シャフト２２を通って技師へと近位方向に延びて、細長い近位シャフト２２の剛性を改善する。いくつかの応用例については、形状記憶材料８４は非常に低い温度にていっそう可撓性となり（例えば、グニャグニャになり）、このことは、遠位アブレーションプローブ２４が平坦でない心臓壁表面にしたがうことを可能にするであろうし；遠位アブレーションプローブ２４がいっそう冷たくなるにつれて、それは心臓壁に対して凍りつき、かつ、プローブがいっそう低い極低温にてグニャグニャになるにつれて壁に対して凍りついたままである。

【0145】

典型的には、細長い遠位シャフト３２は、閉ループシステムを維持する遠位プラグ９２を有する。

【0146】

内側および外側チューブ７０および７２は典型的には、熱可塑性エラストマー（例えば、ＰＥＢＡ）のような１つ以上の生体適合性材料を有する。

【0147】

遠位アブレーションプローブ２４は第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂのみを有するものとして示されているが、いくつかの応用例については、遠位アブレーションプローブはさらに、合計で３つまたは４つの細長いアブレーション表面となるように１つ以上の追加の細長いアブレーション表面を有する。

【0148】

ここで図４Ａ～Ｆを参照すると、該図は、本発明の応用例による、心房細動または心房粗動のような心房性不整脈（例えば、複合心房性不整脈）を治療するための方法の概略図である。

【0149】

当該方法は、図４Ａ～Ｂに示されているように、経カテーテル術において、アブレーションカテーテル２０の細長い近位シャフト２２の遠位端２６にて支持された遠位アブレーションプローブ２４を心臓の心房１００の中へと前進させること（典型的には経静脈的のように経血管的に前進させること）を有する。典型的には、前進の最中、遠位アブレーションプローブ２４は血管内送達シース３４内に拘束され、任意選択的には細長い遠位シャフト３２は血管内送達シース３４によって拘束され、第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂが血管内送達シースに沿って各々の長手方向に重複しない場所に配置されるようになっている。典型的には、心房は左心房１０２（図示されているように）であり、かつ、遠位アブレーションプローブ２４はまず、図４Ａに示されているように本技術分野で既知の技法を用いて右心房１０４の中へと前に進められ、かつ、その後で図４Ｂに示されているように本技術分野で既知の技法を用いて心房中隔１０６を通して（例えば、卵円窩にて）左心房１０２へと前に進められる。代替的には、心房は右心房である（構成は図示せず）。

【0150】

図４Ｃ～Ｄに示されているように、遠位アブレーションプローブ２４は心房１００（例えば、左心房１０２）に配備され、遠位アブレーションプローブ２４が互いに並んで走る第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂを定める形状であるようになっている。

【0151】

図４Ｅ～Ｆに示されているように、遠位アブレーションプローブ２４を用いて、心房壁１１２に１つ以上のアブレーション病変（細胞および／または組織死の領域）が作られる。１つ以上のアブレーション病変１０８は、第１および第２の細長い連続したアブレーション病変セグメント１１０Ａおよび１１０Ｂを少なくとも含む。第１および第２の細長いアブレーション表面３０Ａおよび３０Ｂは各々、第１および第２の細長い連続したアブレーション病変セグメント１１０Ａおよび１１０Ｂを作る。

【0152】

細長い連続したアブレーション病変セグメント１１０Ａおよび１１０Ｂの位置は、心房壁の電気的に不活性な境界（典型的には、静脈および／または弁）を接続するように選択される。例えば、細長い連続したアブレーション病変セグメント１１０Ａおよび１１０Ｂは概して：
・ 左上肺静脈（ＬＳＰＶ）のオリフィス１１２Ａと右上肺静脈（ＲＳＰＶ）のオリフィス１１２Ｂとの間を延びてもよく（図示されているように）、
・ ＲＳＰＶと僧帽弁（ＭＶ）との間を延びてもよく（時々、前斜位または「シートベルト」病変として本技術分野で既知である）（構成は図示せず）、
・ 右下肺静脈（ＲＩＰＶ）とＭＶとの間を延びてもよく（構成は図示せず）、
・ 左下肺静脈（ＬＩＰＶ）とＲＩＰＶとの間を延びてもよく（構成は図示せず）、
・ ＬＳＰＶとＲＩＰＶとの間を延びてもよく（構成は図示せず）、あるいは、
・ ＲＳＰＶとＬＩＰＶとの間を延びてもよい（構成は図示せず）。

【0153】

遠位アブレーションプローブ２４がＴ字形状である構成では、Ｔ字形状の性質がデバイスに多くの異なる所望のアブレーション線を作るための汎用性を提供する。

【0154】

いくつかの応用例については、図示されているように、遠位アブレーションプローブ２４は、第１および第２の連続したアブレーション病変セグメント１１０Ａおよび１１０Ｂを少なくとも含む単一のアブレーション病変１０８を作るように構成される。これらの応用例では、アブレーション病変１０８はさらに、２つの湾曲した接続端部６０Ａおよび６０Ｂによって作られる２つの湾曲した端部アブレーション病変セグメント１１４Ａおよび１１４Ｂのような、第１および第２の細長い連続したアブレーション病変セグメント１１０Ａおよび１１０Ｂに接合する追加の病変セグメントを含む。

【0155】

その他の応用例については、遠位アブレーションプローブ２４は、第１および第２の細長い連続したアブレーション病変セグメント１１０Ａおよび１１０Ｂを少なくとも含む複数の別個のアブレーション病変１０８、例えば、各々第１および第２の細長い連続した病変セグメント１１０Ａおよび１１０Ｂを少なくとも含む２つの別個のアブレーション病変を作るように構成される（構成は図示せず）。

【0156】

典型的には、遠位アブレーションプローブ２４は、肺静脈隔離を実行するためには用いられない。任意選択的には、従来の肺静脈隔離のような肺静脈隔離は、本技術分野で既知であるように、典型的には遠位アブレーションプローブ２４とは別個の１つ以上のアブレーションプローブを用いて、本明細書に記載のアブレーションと組み合わされて実行される。代替的には、いくつかの応用例では、遠位アブレーションプローブはまた、本明細書に記載の線状アブレーション技法の実行の前後に肺静脈隔離を実行するために用いられる。これらの応用例では、遠位アブレーションプローブは、本明細書に記載の構成（互いに並んで走る少なくとも２つの離間した第１および第２の細長いアブレーション表面を有する）と同時に２つの肺静脈の開口部を包囲し、かつ、隔離する形状である楕円形の構成との間を移行可能であるように構成される。例えば、移行の制御を提供するために、外部制御ハンドルから細長い近位シャフトを通ってスライド可能な制御ワイヤーが提供されてもよい。

【0157】

いくつかの応用例については、図４Ｅに概略的に示されているように、遠位アブレーションプローブ２４は、心臓壁における電気活性を感知して細長い連続したアブレーション病変セグメント１１０Ａおよび１１０Ｂが適切に作られたか否かを確認するために用いられる１つ以上の感知電極１２０を有する。（図の明確性のため、１つ以上の感知電極１２０は図４Ｅには示されているが、その他の図には示されておらず；実際、１つ以上の感知電極１２０は、配備の全段階の最中、存在し、または、存在しないであろう。）

【0158】

ここで図５を参照すると、該図は、本発明の応用例による心房性不整脈を治療するためのアブレーションシステム２１０の概略図である。以下に記載する以外は、アブレーションシステム２１０は図１～４Ｆを参照して上記したアブレーションシステム１０と同一であり、かつ、その特徴のいずれかを必要な変更を加えて実装してもよい。アブレーションシステム２１０は、細長い遠位シャフト２３２を有する遠位アブレーションプローブ２２４を有するアブレーションカテーテル２２０を有する。以下に記載する以外は、アブレーションカテーテル２２０、遠位アブレーションプローブ２２４および細長い遠位シャフト２３２は各々、図１～４Ｆを参照して上記したアブレーションカテーテル２０、遠位アブレーションプローブ２４および細長い遠位シャフト３２と同一であり、かつ、それらの特徴のいずれかを必要な変更を加えて実装してもよい。

【0159】

この構成では、細長い遠位シャフト２３２は、心房の中へと導入され、かつ、心房内へと前に進められるときにはデバイスの安全性を増大させるように構成された可撓性（例えば、グニャグニャの）遠位先端部２９０を有する。可撓性遠位先端部２９０は、細長い遠位シャフト２３２のいっそう近位の部分より可撓性であり、潜在的な心内膜外傷を減少させる。例えば、細長い遠位シャフト２３２のいっそう近位の部分は、可撓性遠位先端部２９０とは異なり、増大した破裂強度を提供するために補強コイル（例えば、Ｎｉ－Ｔｉ合金のような金属を有する）を有していてもよい。任意選択的には、細長い遠位シャフト２３２の可撓性遠位先端部２９０およびいっそう近位の部分は両方とも、増大した引っ張り強度を提供するためにブレード（例えば、ステンレス鋼ブレードのような金属ブレード）を有する。例えば、可撓性遠位先端部２９０は、０．５～２ｃｍの長さを有していてもよい。

【0160】

可撓性遠位先端部２９０は典型的には、アブレーションを適用しないように構成される。したがって、図３Ａおよび３Ｂを参照して上記したように細長い遠位シャフト２３２が第１および第２のルーメン７４および７６を有する構成については、第１および第２のルーメンは典型的には、可撓性遠位先端部２９０内へと遠位方向に延びない。

【0161】

これらの応用例のいくつかについては、遠位アブレーションプローブ２４が拘束されていないときには、細長い遠位シャフト２３２の遠位端部および細長い遠位シャフト２３２の近位端部２２５が物理的に接触し、かつ、例えば少なくとも５ｍｍの距離、４０ｍｍを超えない距離、かつ／あるいは５～４０ｍｍの距離を互いに並んで走る。

【0162】

図３Ａおよび３Ｂを参照して上記されたように細長い遠位シャフト２３２が遠位プラグ９２を有する応用例については、可撓性遠位先端部２９０は典型的には遠位プラグ９２から遠位方向に延びる。

【0163】

ここで図６を参照すると、該図は、本発明の応用例による、心房性不整脈を治療するためのアブレーションシステム３１０の概略図である。以下に記載する以外は、アブレーションシステム３１０は図１～４Ｆを参照して上記したアブレーションシステム１０と同一であり、かつ、その特徴のいずれかを必要な変更を加えて実装してもよい。アブレーションシステム３１０は、細長い遠位シャフト３３２を有する遠位アブレーションプローブ３２４を有するアブレーションカテーテル３２０を有する。以下に記載する以外は、アブレーションカテーテル３２０、遠位アブレーションプローブ３２４および細長い遠位シャフト３３２は各々、図１～４Ｆを参照して上記したアブレーションカテーテル２０、遠位アブレーションプローブ２４および細長い遠位シャフト３２と同一であり、かつ、それらの特徴のいずれかを必要な変更を加えて実装してもよい。代替的または追加的には、アブレーションシステム３１０はまた、図５を参照して上記したアブレーションシステム２１０の特徴のいずれかを実装してもよい。

【0164】

この構成では、遠位アブレーションプローブ３２４は、拘束されていないときには、互いに並んで走る第１および第２の細長いアブレーション表面３３０Ａおよび３３０Ｂを少なくとも定める形状である。第１および第２の細長いアブレーション表面３３０Ａおよび３３０Ｂは、遠位アブレーションプローブ３２４が拘束されていないときには湾曲している。例えば、第１および第２の細長いアブレーション表面は、各々の曲率半径を有し、該曲率半径はそれぞれ、少なくとも０．２ｃｍであり、１．２ｃｍを超えず、かつ／あるいは、０．２～１．２ｃｍである。

【0165】

遠位アブレーションプローブ３２４が拘束されていないとき、第１および第２の細長いアブレーション表面３３０Ａおよび３３０Ｂの間の距離は、第１および第２の細長いアブレーション表面３３０Ａおよび３３０Ｂに沿って変動する。

【0166】

本発明は、とりわけ図示され、かつ、上記で説明されたものに限定されないことが当業者によって把握されるであろう。むしろ、本発明の範囲は、上記の種々の特徴の組み合わせ、および、部分的組み合わせの両方、ならびに、上記の説明を読んだ当業者が思い浮かべる先行技術にはないそれらの変形および修正を含む。

【図1】

【図2A】

【図2B】

【図3A】

【図3B】

【図4A】

【図4B】

【図4C】

【図4D】

【図4E】

【図4F】

【図5】

【図6】

【国際調査報告】