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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-09-05
(54)【発明の名称】磁性多層複合体及びその形成方法
(51)【国際特許分類】
H01F 10/16 20060101AFI20240829BHJP
H01F 10/14 20060101ALI20240829BHJP
H01F 10/26 20060101ALI20240829BHJP
【ＦＩ】
H01F10/16
H01F10/14
H01F10/26
【審査請求】有
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2024516346
(86)(22)【出願日】2022-09-12
(85)【翻訳文提出日】2024-03-12
(86)【国際出願番号】 US2022076410
(87)【国際公開番号】W WO2023044329
(87)【国際公開日】2023-03-23
(31)【優先権主張番号】63/261,328
(32)【優先日】2021-09-17
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】500149223
【氏名又は名称】サン－ゴバン パフォーマンス プラスティックス コーポレイション
【氏名又は名称原語表記】Ｓａｉｎｔ－Ｇｏｂａｉｎ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｐｌａｓｔｉｃｓ， Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ
【住所又は居所原語表記】３１５００ Ｓｏｌｏｎ Ｒｏａｄ Ｓｏｌｏｎ， ４４１３９ ＯＨ ＵＳＡ
(74)【代理人】
【識別番号】110003281
【氏名又は名称】弁理士法人大塚国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】グラチェフ，セルゲイ
(72)【発明者】
【氏名】ボルカート，ドミエン
(72)【発明者】
【氏名】オルーク，ウィリアム シー．
(72)【発明者】
【氏名】モーアーカーケ，ロブレフト
(72)【発明者】
【氏名】デ マイヤー，クリスティー
【テーマコード（参考）】
5E049
【Ｆターム（参考）】
5E049AA01
5E049AA04
5E049AA07
5E049BA30
5E049CB01
5E049DB06
(57)【要約】
【解決手段】 本開示は、コア基材層と、コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層と、コア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層と、を含み得る、磁性多層複合体に関する。複合体は、少なくとも約０．００５の磁性体積比ＶＭ／ＶＳを含み得、ＶＭは、複合体中の磁性材料の総体積に等しく、ＶＳは、基材の総体積である。複合体は、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を更に含み得、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）は、周波数の関数としてプロットされた複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しく、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、１００よりも大きい。
【選択図】図１
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
磁性多層複合体であって、コア基材層と、
前記コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層と、
前記コア基材層の前記第１の表面とは反対の前記コア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層と、を含み、
前記複合体が、少なくとも約０．００５の磁性体積比ＶＭ／ＶＳを含み、ＶＭが、前記複合体中の磁性材料の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、
前記複合体が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、前記透磁率評価（Ｘ，Ｙ）が、周波数の関数としてプロットされた前記複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しく、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、１００よりも大きい、磁性多層複合体。
【請求項2】
磁性多層複合体であって、コア基材層と、
前記コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層と、
前記コア基材層の前記第１の表面とは反対の前記コア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層と、を含み、
前記複合体が、少なくとも約０．００５の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含み、ＴＭが、前記外側磁性層及び前記内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、前記基材の総厚さであり、
前記複合体が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、前記透磁率評価（Ｘ，Ｙ）が、周波数の関数としてプロットされた前記複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しく、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、１００よりも大きい、磁性多層複合体。
【請求項3】
前記複合体が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１００である、請求項１又は２に記載の磁性多層複合体。
【請求項4】
前記複合体が、少なくとも約０．００５かつ約１．０以下の磁性層体積比ＶＭ／ＶＳを含み、ＶＭが、前記複合体中の磁性材料の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積である、請求項１又は２に記載の磁性多層複合体。
【請求項5】
前記複合体が、少なくとも約３ミクロン及び約２５０ミクロン以下の厚さを含む、請求項１又は２に記載の磁性多層複合体。
【請求項6】
前記コア基材層が、プラスチック材料を含む、請求項１又は２に記載の磁性多層複合体。
【請求項7】
前記コア基材層が、ＰＥＴ、ＰＥＮ、ＰＩ、又はこれらの組み合わせを含む、請求項１又は２に記載の磁性多層複合体。
【請求項8】
前記外側磁性層が、軟磁性材料、強磁性材料、又はこれらの任意の組み合わせを含む、請求項１又は２に記載の磁性多層複合体。
【請求項9】
前記外側磁性層が、Ｃｏ材料、Ｃｏ合金材料、Ｆｅ材料、Ｆｅ合金材料、Ｎｉ材料、Ｎｉ合金材料、パーマロイ、又はこれらの組み合わせを含む、請求項１又は２に記載の磁性多層複合体。
【請求項10】
前記外側磁性層が、少なくとも約０．０５ミクロン及び約３．０ミクロン以下の厚さを含む、請求項１又は２に記載の磁性多層複合体。
【請求項11】
前記外側磁性層が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１００である、請求項１又は２に記載の磁性多層複合体。
【請求項12】
前記内側磁性層が、軟磁性材料、強磁性材料、又はこれらの任意の組み合わせを含む、請求項１又は２に記載の磁性多層複合体。
【請求項13】
前記内側磁性層が、Ｃｏ材料、Ｃｏ合金材料、Ｆｅ材料、Ｆｅ合金材料、Ｎｉ材料、Ｎｉ合金材料、パーマロイ、又はこれらの組み合わせを含む、請求項１又は２に記載の磁性多層複合体。
【請求項14】
前記内側磁性層が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１００である、請求項１又は２に記載の磁性多層複合体。
【請求項15】
磁性多層複合体を含むアンテナであって、前記磁性多層複合体が、コア基材層と、
前記コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層と、
前記コア基材層の前記第１の表面とは反対の前記コア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層と、を含み、
前記複合体が、少なくとも約０．００５の磁性体積比ＶＭ／ＶＳを含み、ＶＭが、前記複合体中の磁性材料の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、
前記複合体が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、前記透磁率評価（Ｘ，Ｙ）が、周波数の関数としてプロットされた前記複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しく、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、１００よりも大きい、アンテナ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、磁性多層複合体及びその形成方法に関する。
【背景技術】
【0002】
高周波（High frequency、ＨＦ）、超短波（very high frequency、ＶＨＦ）、及び極超短波（ultrahigh frequency、ＵＨＦ）アンテナは、アンテナの性能を改善することができる、軟磁性材料を含むことができる。しかしながら、アンテナの性能は、アンテナの非磁性材料に対するアンテナ内の磁性材料の有効磁性体積に基づき得る。したがって、アンテナにおける使用のために、非磁性材料に対する磁性材料のバランスをとる改善された複合体材料が所望されている。
【発明の概要】
【0003】
第１の態様によれば、磁性多層複合体は、コア基材層と、コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層と、コア基材層の第１の表面とは反対のコア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層と、を含み得る。複合体は、少なくとも約０．００５の磁性体積比ＶＭ／ＶＳを含み得、ＶＭは、複合体中の磁性材料の総体積に等しく、ＶＳは、基材の総体積である。複合体は、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を更に含み得、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）は、周波数の関数としてプロットされた複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しく、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、１００よりも大きい。
【0004】
更に別の態様によれば、磁性多層複合体は、コア基材層と、コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層と、コア基材層の第１の表面とは反対のコア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層と、を含み得る。複合体は、少なくとも約０．００５の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含み得、ＴＭは、外側磁性層及び内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳは、基材の総厚さである。複合体は、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を更に含み得、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）は、周波数の関数としてプロットされた複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しく、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、１００よりも大きい。
【0005】
別の態様によれば、アンテナは、磁性多層複合体を含み得る。磁性多層複合体は、コア基材層と、コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層と、コア基材層の第１の表面とは反対のコア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層と、を含み得る。複合体は、少なくとも約０．００５の磁性体積比ＶＭ／ＶＳを含み得、ＶＭは、複合体中の磁性材料の総体積に等しく、ＶＳは、基材の総体積である。複合体は、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を更に含み得、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）は、周波数の関数としてプロットされた複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しく、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、１００よりも大きい。
【0006】
更に別の態様によれば、アンテナは、磁性多層複合体を含み得る。磁性多層複合体は、コア基材層と、コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層と、コア基材層の第１の表面とは反対のコア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層と、を含み得る。複合体は、少なくとも約０．００５の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含み得、ＴＭは、外側磁性層及び内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳは、基材の総厚さである。複合体は、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を更に含み得、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）は、周波数の関数としてプロットされた複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しく、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、１００よりも大きい。
【0007】
更に別の態様によれば、磁性多層複合体を形成する方法は、コア基材層を提供することと、コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層を堆積させることと、コア基材層の第１の表面とは反対のコア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層を堆積させることと、を含み得る。複合体は、少なくとも約０．００５の磁性体積比ＶＭ／ＶＳを含み得、ＶＭは、複合体中の磁性材料の総体積に等しく、ＶＳは、基材の総体積である。複合体は、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を更に含み得、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）は、周波数の関数としてプロットされた複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しく、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、１００よりも大きい。
【0008】
更に別の態様によれば、磁性多層複合体を形成する方法は、コア基材層を提供することと、コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層を堆積させることと、コア基材層の第１の表面とは反対のコア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層を堆積させることと、を含み得る。複合体は、少なくとも約０．００５の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含み得、ＴＭは、外側磁性層及び内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳは、基材の総厚さである。複合体は、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を更に含み得、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）は、周波数の関数としてプロットされた複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しく、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、１００よりも大きい。
【図面の簡単な説明】
【0009】
実施形態は、例として例解されており、添付の図面に限定されない。
【0010】
当業者は、図中の要素が簡略化及び明瞭化を目的として例解されており、必ずしも縮尺どおりに描画されていないことを理解されたい。
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下の考察は、教示の具体的な実装態様及び実施形態に焦点を当てている。詳細な説明は、特定の実施形態を説明するのを助けるために提供されており、本開示又は教示の範囲又は適用性に関する限定として解釈されるべきではない。本明細書で提供される本開示及び教示に基づいて、他の実施形態を使用することができることが理解されよう。
【0012】
「備える、含む（comprises）」、「備える、含む（comprising）」、「含む（includes）」、「含む（including）」、「有する（has）」、「有する（having）」という用語、又はそれらの任意の他の変形は、非排他的包含を網羅することを意図している。例えば、特徴のリストを含む方法、物品、又は装置は、必ずしもそれらの特徴のみに限定されるものではないが、明示的に列挙されていない他の特徴、又はそのような方法、物品、若しくは装置に固有の他の特徴を含み得る。更に、矛盾する明示的な記載がない限り、「又は（or）」は、包含的なｏｒを指し、排他的なｏｒを指すのではない。例えば、条件Ａ又はＢは、以下のいずれか１つによって満たされる：Ａが真であり（又は存在し）、Ｂが偽である（又は存在しない）、Ａが偽であり（又は存在せず）、Ｂが真である（又は存在する）、及び、ＡとＢとの両方が真である（又は存在する）。
【0013】
また、「ａ」又は「ａｎ」の使用は、本明細書において説明される要素及び構成要素を説明するために用いられる。これは、単に便宜上、及び本発明の範囲の一般的な意味を与えるために行われる。この説明は、そうでないことを意味することが明らかでない限り、１つ、少なくとも１つ、又は単数形が複数形も含むものとして、又はその逆として理解されるべきである。例えば、単一の項目が本明細書において説明されている場合、単一の項目の代わりに、２つ以上の項目が使用され得る。同様に、２つ以上の項目が本明細書において説明されている場合、その２つ以上の項目を単一の項目に置き換え得る。
【0014】
本明細書において説明される実施形態は、概して、コア基材層と、コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層と、コア基材層の第１の表面とは反対のコア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層と、を含み得る、磁性多層複合体を対象とする。
【0015】
最初に磁性多層複合体を形成する方法を参照すると、図１は、本明細書において説明される実施形態による、磁性多層複合体を形成するための形成方法１００を示すダイアグラムを含む。特定の実施形態によれば、形成方法１００は、コア基材層を提供する第１の工程１１０と、コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層を形成する第２の工程１２０と、コア基材層の第１の表面とは反対のコア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層を形成する第３の工程１３０と、を含み得る。
【0016】
本明細書において説明される実施形態の目的のために、材料は、特定の透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を有するものとして説明され得る。所与の材料の透磁率評価（Ｘ，Ｙ）は、周波数の関数としてプロットされた材料の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿った最大ピーク点（Ｘ，Ｙ）として定義され、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内である。例解の目的ために、図２は、最大ピーク点２１０（すなわち、プロット２００の透磁率評価（Ｘ，Ｙ））を有する周波数（Ｈｚ）の関数としてプロットされた材料の磁性透磁率（μ’’）の虚数部の例示的なプロット２００を示し、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内である。本明細書において説明される実施形態の目的のために、プロット２００の最大ピーク点（Ｘ，Ｙ）は、関数の最大頂点（すなわち、最大Ｙ構成要素を有する頂点）として定義される。更に、「ピーク」又は「頂点」は、最大点まで増加する値及び最大点から減少する値を有する、関数の最大点として定義されることが理解されよう。
【0017】
図１及びコア基材層を提供する第１の工程１１０に戻って参照すると、特定の実施形態によれば、コア基材層は、プラスチック材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、コア基材層は、プラスチック材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、コア基材層は、プラスチック材料の層であり得る。
【0018】
更に他の実施形態によれば、コア基材層は、ポリエチレンテレフタレート（polyethylene terephthalate、ＰＥＴ）材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、コア基材層は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、コア基材層は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）材料の層であり得る。
【0019】
更に他の実施形態によれば、コア基材層は、ポリエチレンナフタレート（polyethylene naphthalate、ＰＥＮ）材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、コア基材層は、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、コア基材層は、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）材料の層であり得る。
【0020】
更に他の実施形態によれば、コア基材層は、ポリイミド（polyimide、ＰＩ）材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、コア基材層は、ポリイミド（ＰＩ）材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、コア基材層は、ポリイミド（ＰＩ）材料の層であり得る。
【0021】
更に他の実施形態によれば、コア基材層は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）材料、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）材料、及びポリイミド（ＰＩ）材料の任意の組み合わせを含み得る。更に他の実施形態によれば、コア基材層は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）材料、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）材料、及びポリイミド（ＰＩ）材料の任意の組み合わせから本質的になり得る。他の実施形態によれば、コア基材層は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）材料、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）材料、及びポリイミド（ＰＩ）材料の任意の組み合わせの層であり得る。
【0022】
更に他の実施形態によれば、コア基材層は、特定の厚さを有し得る。例えば、コア基材層は、少なくとも約３ミクロン、例えば、少なくとも約５ミクロン、又は少なくとも約１０ミクロン、又は少なくとも約１５ミクロン、又は少なくとも約２０ミクロン、又は少なくとも約２５ミクロン、又は少なくとも約３０ミクロン、又は少なくとも約３５ミクロン、又は少なくとも約４０ミクロン、又は少なくとも約５０ミクロン、又は少なくとも約６０ミクロン、又は少なくとも約７０ミクロン、又は少なくとも約８０ミクロン、又は少なくとも約９０ミクロン、又は更に少なくとも約１００ミクロンの厚さを有し得る。更に他の実施形態によれば、コア基材層は、約２５０ミクロン以下、又は約２４０ミクロン以下、又は約２３０ミクロン以下、又は約２２０ミクロン以下、又は約２１０ミクロン以下、又は約２００ミクロン以下、又は約１９０ミクロン以下、又は約１８０ミクロン以下、又は約１７０ミクロン以下、又は約１６０ミクロン以下、又は約１５０以下の厚さを有し得る。コア基材層の厚さは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の任意の値であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが理解されよう。コア基材層の厚さは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の範囲内であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが更に理解されよう。
【0023】
コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層を堆積させる第１の工程１２０を参照すると、特定の実施形態によれば、外側磁性層は、磁性材料を含み得る。他の実施形態によれば、外側磁性層は、磁性材料から本質的になり得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、磁性材料の層であり得る。
【0024】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、軟磁性材料を含み得る。他の実施形態によれば、外側磁性層は、軟磁性材料から本質的になり得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、軟磁性材料の層であり得る。
【0025】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、強磁性材料を含み得る。他の実施形態によれば、外側磁性層は、強磁性材料から本質的になり得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、強磁性材料の層であり得る。
【0026】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、コバルト（Ｃｏ）材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、コバルト（Ｃｏ）材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、外側磁性層は、コバルト（Ｃｏ）材料の層であり得る。
【0027】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、コバルト（Ｃｏ）合金材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、コバルト（Ｃｏ）合金材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、外側磁性層は、コバルト（Ｃｏ）合金材料の層であり得る。
【0028】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、鉄（Ｆｅ）材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、鉄（Ｆｅ）材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、外側磁性層は、鉄（Ｆｅ）材料の層であり得る。
【0029】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、鉄（Ｆｅ）合金材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、鉄（Ｆｅ）合金材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、外側磁性層は、鉄（Ｆｅ）合金材料の層であり得る。
【0030】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、ニッケル（Ｎｉ）材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、ニッケル（Ｎｉ）材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、外側磁性層は、ニッケル（Ｎｉ）材料の層であり得る。
【0031】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、ニッケル（Ｎｉ）合金材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、ニッケル（Ｎｉ）合金材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、外側磁性層は、ニッケル（Ｎｉ）合金材料の層であり得る。
【0032】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、パーマロイ材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、パーマロイ材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、外側磁性層は、パーマロイ材料の層であり得る。
【0033】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、コバルト（Ｃｏ）材料、コバルト（Ｃｏ）合金材料、鉄（Ｆｅ）材料、鉄（Ｆｅ）合金材料、ニッケル（Ｎｉ）材料、ニッケル（Ｎｉ）合金材料、及びパーマロイの任意の組み合わせを含み得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、コバルト（Ｃｏ）材料、コバルト（Ｃｏ）合金材料、鉄（Ｆｅ）材料、鉄（Ｆｅ）合金材料、ニッケル（Ｎｉ）材料、ニッケル（Ｎｉ）合金材料、及びパーマロイの任意の組み合わせから本質的になり得る。他の実施形態によれば、外側磁性層は、コバルト（Ｃｏ）材料、コバルト（Ｃｏ）合金材料、鉄（Ｆｅ）材料、鉄（Ｆｅ）合金材料、ニッケル（Ｎｉ）材料、ニッケル（Ｎｉ）合金材料、及びパーマロイの任意の組み合わせの層であり得る。
【0034】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、誘導結合プラズマ発光分光法を使用して測定される特定の厚さを有し得る。例えば、外側磁性層は、少なくとも約０．０５ミクロン、例えば、少なくとも約０．０６ミクロン、又は少なくとも約０．０７ミクロン、又は少なくとも約０．０８ミクロン、又は少なくとも約０．０９ミクロン、又は少なくとも約０．１ミクロン、又は少なくとも約０．２ミクロン、又は少なくとも約０．３ミクロン、又は少なくとも約０．４ミクロン、又は少なくとも約０．５ミクロン、又は少なくとも約０．６ミクロン、又は少なくとも約０．７ミクロン、又は少なくとも約０．８ミクロン、又は少なくとも約０．９ミクロン、又は更に少なくとも約１．０ミクロンの厚さを有し得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、約３．０ミクロン以下、又は約２．９ミクロン以下、又は約２．８ミクロン以下、又は約２．７ミクロン以下、又は約２．６ミクロン以下、又は約２．５ミクロン以下、又は約２．４ミクロン以下、又は約２．３ミクロン以下、又は約２．２ミクロン以下、又は約２．１ミクロン以下、又は約２．０以下の厚さを有し得る。外側磁性層の厚さは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の任意の値であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが理解されよう。外側磁性層の厚さは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の範囲内であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが更に理解されよう。
【0035】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、特定の透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を有し得、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）は、周波数の関数としてプロットされた複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しい。例えば、外側磁性層は、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を有し得、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１００である、例えば、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１２０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１４０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１６０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１７０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１８０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１９０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約２００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約２５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約３００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約３５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約４００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約４５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約５００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約５５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約６００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約６５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約７００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約７５０であるか、又は更にＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約８００である。更に他の実施形態によれば、外側磁性層は、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を有し得、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、約５０００以下である。外側磁性層の透磁率評価は、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の任意の値であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが理解されよう。外側磁性層の透磁率評価は、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の範囲内であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが更に理解されよう。
【0036】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層を堆積させることは、スパッタ堆積、原子層堆積、電気めっき、蒸着、化学蒸着、及びそれらの適用、又は特にロールツーロール機における適用を含み得る。
【0037】
コア基材層の第１の表面とは反対のコア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層を堆積させる第１の工程１３０を参照すると、特定の実施形態によれば、内側磁性層は、磁性材料を含み得る。他の実施形態によれば、内側磁性層は、磁性材料から本質的になり得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、磁性材料の層であり得る。
【0038】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、軟磁性材料を含み得る。他の実施形態によれば、内側磁性層は、軟磁性材料から本質的になり得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、軟磁性材料の層であり得る。
【0039】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、強磁性材料を含み得る。他の実施形態によれば、内側磁性層は、強磁性材料から本質的になり得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、強磁性材料の層であり得る。
【0040】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、コバルト（Ｃｏ）材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、コバルト（Ｃｏ）材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、内側磁性層は、コバルト（Ｃｏ）材料の層であり得る。
【0041】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、コバルト（Ｃｏ）合金材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、コバルト（Ｃｏ）合金材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、内側磁性層は、コバルト（Ｃｏ）合金材料の層であり得る。
【0042】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、鉄（Ｆｅ）材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、鉄（Ｆｅ）材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、内側磁性層は、鉄（Ｆｅ）材料の層であり得る。
【0043】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、鉄（Ｆｅ）合金材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、鉄（Ｆｅ）合金材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、内側磁性層は、鉄（Ｆｅ）合金材料の層であり得る。
【0044】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、ニッケル（Ｎｉ）材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、ニッケル（Ｎｉ）材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、内側磁性層は、ニッケル（Ｎｉ）材料の層であり得る。
【0045】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、ニッケル（Ｎｉ）合金材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、ニッケル（Ｎｉ）合金材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、内側磁性層は、ニッケル（Ｎｉ）合金材料の層であり得る。
【0046】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、パーマロイ材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、パーマロイ材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、内側磁性層は、パーマロイ材料の層であり得る。
【0047】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、コバルト（Ｃｏ）材料、コバルト（Ｃｏ）合金材料、鉄（Ｆｅ）材料、鉄（Ｆｅ）合金材料、ニッケル（Ｎｉ）材料、ニッケル（Ｎｉ）合金材料、及びパーマロイの任意の組み合わせを含み得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、コバルト（Ｃｏ）材料、コバルト（Ｃｏ）合金材料、鉄（Ｆｅ）材料、鉄（Ｆｅ）合金材料、ニッケル（Ｎｉ）材料、ニッケル（Ｎｉ）合金材料、及びパーマロイの任意の組み合わせから本質的になり得る。他の実施形態によれば、内側磁性層は、コバルト（Ｃｏ）材料、コバルト（Ｃｏ）合金材料、鉄（Ｆｅ）材料、鉄（Ｆｅ）合金材料、ニッケル（Ｎｉ）材料、ニッケル（Ｎｉ）合金材料、及びパーマロイの任意の組み合わせの層であり得る。
【0048】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、誘導結合プラズマ発光分光法を使用して測定される特定の厚さを有し得る。例えば、内側磁性層は、少なくとも約０．０５ミクロン、例えば、少なくとも約０．０６ミクロン、又は少なくとも約０．０７ミクロン、又は少なくとも約０．０８ミクロン、又は少なくとも約０．０９ミクロン、又は少なくとも約０．１ミクロン、又は少なくとも約０．２ミクロン、又は少なくとも約０．３ミクロン、又は少なくとも約０．４ミクロン、又は少なくとも約０．５ミクロン、又は少なくとも約０．６ミクロン、又は少なくとも約０．７ミクロン、又は少なくとも約０．８ミクロン、又は少なくとも約０．９ミクロン、又は更に少なくとも約１．０ミクロンの厚さを有し得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、約３．０ミクロン以下、例えば、約２．９ミクロン以下、又は約２．８ミクロン以下、又は約２．７ミクロン以下、又は約２．６ミクロン以下、又は約２．５ミクロン以下、又は約２．４ミクロン以下、又は約２．３ミクロン以下、又は約２．２ミクロン以下、又は約２．１ミクロン以下、又は約２．０ミクロン以下の厚さを有し得る。内側磁性層の厚さは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の任意の値であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが理解されよう。内側磁性層の厚さは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の範囲内であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが更に理解されよう。
【0049】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、特定の透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を有し得、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）は、周波数の関数としてプロットされた複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しい。例えば、内側磁性層は、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を有し得、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１００である、例えば、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１２０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１４０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１６０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１７０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１８０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１９０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約２００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約２５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約３００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約３５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約４００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約４５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約５００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約５５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約６００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約６５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約７００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約７５０であるか、又は更にＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約８００である。更に他の実施形態によれば、内側磁性層は、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を有し得、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、約５０００以下である。内側磁性層の透磁率評価は、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の任意の値であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが理解されよう。内側磁性層の透磁率評価は、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の範囲内であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが更に理解されよう。
【0050】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層を堆積させることは、スパッタ堆積、原子層堆積、電気めっき、蒸着、化学蒸着、及びそれらの適用、又は特にロールツーロール機における適用を含み得る。
【0051】
ここで、形成方法１００に従って形成された磁性多層複合体の実施形態を参照すると、図３は、磁性多層複合体３００のダイアグラムを含む。図３に示されるように、磁性多層複合体３００は、コア基材層３１０と、コア基材層３１０の第１の表面３１２の上にある外側磁性層３２０と、コア基材層３１０の第２の表面３１４の下にある内側磁性層３３０と、を含み得、第２の表面３１４は、第１の表面３１２とは反対である。
【0052】
更に他の実施形態によれば、磁性多層複合体３００は、特定の透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を有し得、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）は、周波数の関数としてプロットされた複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しい。例えば、磁性多層複合体３００は、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を有し得、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１００である、例えば、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１２０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１４０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１６０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１７０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１８０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１９０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約２００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約２５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約３００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約３５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約４００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約４５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約５００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約５５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約６００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約６５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約７００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約７５０であるか、又は更にＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約８００である。更に他の実施形態によれば、磁性多層複合体３００は、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を有し得、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、約５０００以下である。磁性多層複合体３００の透磁率評価は、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の任意の値であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが理解されよう。磁性多層複合体３００の透磁率評価は、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の範囲内であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが更に理解されよう。
【0053】
更に他の実施形態によれば、磁性多層複合体３００は、特定の磁性体積比ＶＭ／ＶＳを有し得、ＶＭは、複合体中の磁性材料の総体積に等しく、ＶＳは、基材の総体積である。例えば、磁性多層複合体３００は、少なくとも約０．００５、例えば、少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．１、又は少なくとも約０．２、又は少なくとも約０．３、又は少なくとも約０．４、又は少なくとも約０．５の磁性体積比ＶＭ／ＶＳを有し得る。更に他の実施形態によれば、磁性多層複合体３００は、約１．０以下、例えば、約０．９以下、又は約０．８以下、又は約０．７以下、又は約０．６以下、又は約０．５以下の磁性体積比ＶＭ／ＶＳを有し得る。磁性多層複合体３００の磁性体積比ＶＭ／ＶＳは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の任意の値であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが理解されよう。磁性多層複合体３００の磁性体積比ＶＭ／ＶＳは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の範囲内であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが更に理解されよう。
【0054】
更に他の実施形態によれば、磁性多層複合体３００は、特定の磁性層体積比ＶＯＭＬ／ＶＳを有し得、ＶＯＭＬは、外側磁性層の総体積に等しく、ＶＳは、基材の総体積である。例えば、磁性多層複合体３００は、少なくとも約０．００５、例えば、少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．１、又は少なくとも約０．２、又は少なくとも約０．３、又は少なくとも約０．４、又は少なくとも約０．５の磁性体積比ＶＯＭＬ／ＶＳを有し得る。更に他の実施形態によれば、磁性多層複合体３００は、約１．０以下、例えば、約０．９以下、又は約０．８以下、又は約０．７以下、又は約０．６以下、又は約０．５以下の磁性層体積比ＶＯＭＬ／ＶＳを有し得る。磁性多層複合体３００の磁性層体積比ＶＯＭＬ／ＶＳは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の任意の値であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが理解されよう。磁性多層複合体３００の磁性層体積比ＶＯＭＬ／ＶＳは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の範囲内であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが更に理解されよう。
【0055】
更に他の実施形態によれば、磁性多層複合体３００は、特定の磁性層堆積比ＶＩＭＬ／ＶＳを有し得、ＶＩＭＬは、内側磁性層の総体積に等しく、ＴＳは、基材の総体積である。例えば、磁性多層複合体３００は、少なくとも約０．００５、例えば、少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．１、又は少なくとも約０．２、又は少なくとも約０．３、又は少なくとも約０．４、又は少なくとも約０．５の磁性体積比ＶＭ／ＶＳを有し得る。更に他の実施形態によれば、磁性多層複合体３００は、約１．０以下、例えば、約０．９以下、又は約０．８以下、又は約０．７以下、又は約０．６以下、又は約０．５以下の磁性層体積比ＶＩＭＬ／ＶＳを有し得る。磁性多層複合体３００の磁性層体積比ＶＩＭＬ／ＶＳは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の任意の値であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが理解されよう。磁性多層複合体３００の磁性層体積比ＶＩＭＬ／ＶＳは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の範囲内であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが更に理解されよう。
【0056】
更に他の実施形態によれば、磁性多層複合体３００は、特定の磁性厚さ比ＴＭ／ＴＳを有し得、ＴＭは、複合体中の磁性材料の総厚さに等しく、ＴＳは、基材の総厚さである。例えば、磁性多層複合体３００は、少なくとも約０．００５、例えば、少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．１、又は少なくとも約０．２、又は少なくとも約０．３、又は少なくとも約０．４、又は少なくとも約０．５の磁性厚さ比ＴＭ／ＴＳを有し得る。更に他の実施形態によれば、磁性多層複合体３００は、約１．０以下、例えば、約０．９以下、又は約０．８以下、又は約０．７以下、又は約０．６以下、又は約０．５以下の磁性厚さ比ＴＭ／ＴＳを有し得る。磁性多層複合体３００の磁性厚さ比ＴＭ／ＴＳは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の任意の値であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが理解されよう。磁性多層複合体３００の磁性厚さ比ＴＭ／ＴＳは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の範囲内であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが更に理解されよう。
【0057】
更に他の実施形態によれば、磁性多層複合体３００は、特定の磁性層厚さ比ＴＯＭＬ／ＴＳを有し得、ＴＯＭＬは、外側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳは、基材の総厚さである。例えば、磁性多層複合体３００は、少なくとも約０．００５、例えば、少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．１、又は少なくとも約０．２、又は少なくとも約０．３、又は少なくとも約０．４、又は少なくとも約０．５の磁性厚さ比ＴＯＭＬ／ＴＳを有し得る。更に他の実施形態によれば、磁性多層複合体３００は、約１．０以下、例えば、約０．９以下、又は約０．８以下、又は約０．７以下、又は約０．６以下、又は約０．５以下の磁性層厚さ比ＴＯＭＬ／ＴＳを有し得る。磁性多層複合体３００の磁性層厚さ比ＴＯＭＬ／ＴＳは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の任意の値であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが理解されよう。磁性多層複合体３００の磁性層厚さ比ＴＯＭＬ／ＴＳは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の範囲内であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが更に理解されよう。
【0058】
更に他の実施形態によれば、磁性多層複合体３００は、特定の磁性層厚さ比ＴＩＭＬ／ＴＳを有し得、ＴＩＭＬは、内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳは、基材の総厚さである。例えば、磁性多層複合体３００は、少なくとも約０．００５、例えば、少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．１、又は少なくとも約０．２、又は少なくとも約０．３、又は少なくとも約０．４、又は少なくとも約０．５の磁性厚さ比ＴＭ／ＴＳを有し得る。更に他の実施形態によれば、磁性多層複合体３００は、約１．０以下、例えば、約０．９以下、又は約０．８以下、又は約０．７以下、又は約０．６以下、又は約０．５以下の磁性層厚さ比ＴＩＭＬ／ＴＳを有し得る。磁性多層複合体３００の磁性層厚さ比ＴＩＭＬ／ＴＳは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の任意の値であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが理解されよう。磁性多層複合体３００の磁性層厚さ比ＴＩＭＬ／ＴＳは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の範囲内であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが更に理解されよう。
【0059】
更に他の実施形態によれば、磁性多層複合体３００は、特定の厚さを有し得る。例えば、磁性多層複合体３００は、少なくとも約３ミクロン、例えば、少なくとも約５ミクロン、又は少なくとも約１０ミクロン、又は少なくとも約１５ミクロン、又は少なくとも約２０ミクロン、又は少なくとも約２５ミクロン、又は少なくとも約３０ミクロン、又は少なくとも約３５ミクロン、又は少なくとも約４０ミクロン、又は少なくとも約５０ミクロン、又は少なくとも約６０ミクロン、又は少なくとも約７０ミクロン、又は少なくとも約８０ミクロン、又は少なくとも約９０ミクロン、又は更に少なくとも約１００ミクロンの厚さを有し得る。更に他の実施形態によれば、磁性多層複合体３００は、約２５０ミクロン以下、又は約２４０ミクロン以下、又は約２３０ミクロン以下、又は約２２０ミクロン以下、又は約２１０ミクロン以下、又は約２００ミクロン以下、又は約１９０ミクロン以下、又は約１８０ミクロン以下、又は約１７０ミクロン以下、又は約１６０ミクロン以下、又は約１５０ミクロン以下の厚さを有し得る。磁性多層複合体３００の厚さは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の任意の値であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが理解されよう。磁性多層複合体３００の厚さは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の範囲内であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが更に理解されよう。
【0060】
特定の実施形態によれば、コア基材層３１０は、プラスチック材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、コア基材層３１０は、プラスチック材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、コア基材層３１０は、プラスチック材料の層であり得る。
【0061】
更に他の実施形態によれば、コア基材層３１０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、コア基材層３１０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、コア基材層３１０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）材料の層であり得る。
【0062】
更に他の実施形態によれば、コア基材層３１０は、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、コア基材層３１０は、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、コア基材層３１０は、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）材料の層であり得る。
【0063】
更に他の実施形態によれば、コア基材層３１０は、ポリイミド（ＰＩ）材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、コア基材層３１０は、ポリイミド（ＰＩ）材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、コア基材層３１０は、ポリイミド（ＰＩ）材料の層であり得る。
【0064】
更に他の実施形態によれば、コア基材層３１０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）材料、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）材料、及びポリイミド（ＰＩ）材料の任意の組み合わせを含み得る。更に他の実施形態によれば、コア基材層３１０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）材料、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）材料、及びポリイミド（ＰＩ）材料の任意の組み合わせから本質的になり得る。他の実施形態によれば、コア基材層３１０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）材料、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）材料、及びポリイミド（ＰＩ）材料の任意の組み合わせの層であり得る。
【0065】
更に他の実施形態によれば、コア基材層３１０は、特定の厚さを有し得る。例えば、コア基材層３１０は、少なくとも約３ミクロン、例えば、少なくとも約５ミクロン、又は少なくとも約１０ミクロン、又は少なくとも約１５ミクロン、又は少なくとも約２０ミクロン、又は少なくとも約２５ミクロン、又は少なくとも約３０ミクロン、又は少なくとも約３５ミクロン、又は少なくとも約４０ミクロン、又は少なくとも約５０ミクロン、又は少なくとも約６０ミクロン、又は少なくとも約７０ミクロン、又は少なくとも約８０ミクロン、又は少なくとも約９０ミクロン、又は更に少なくとも約１００ミクロンの厚さを有し得る。更に他の実施形態によれば、コア基材層３１０は、約２５０ミクロン以下、又は約２４０ミクロン以下、又は約２３０ミクロン以下、又は約２２０ミクロン以下、又は約２１０ミクロン以下、又は約２００ミクロン以下、又は約１９０ミクロン以下、又は約１８０ミクロン以下、又は約１７０ミクロン以下、又は約１６０ミクロン以下、又は約１５０ミクロン以下の厚さを有し得る。コア基材層３１０の厚さは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の任意の値であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが理解されよう。コア基材層３１０の厚さは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の範囲内であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが更に理解されよう。
【0066】
特定の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、磁性材料を含み得る。他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、磁性材料から本質的になり得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、磁性材料の層であり得る。
【0067】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、軟磁性材料を含み得る。他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、軟磁性材料から本質的になり得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、軟磁性材料の層であり得る。
【0068】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、強磁性材料を含み得る。他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、強磁性材料から本質的になり得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、強磁性材料の層であり得る。
【0069】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、コバルト（Ｃｏ）材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、コバルト（Ｃｏ）材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、コバルト（Ｃｏ）材料の層であり得る。
【0070】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、コバルト（Ｃｏ）合金材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、コバルト（Ｃｏ）合金材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、コバルト（Ｃｏ）合金材料の層であり得る。
【0071】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、鉄（Ｆｅ）材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、鉄（Ｆｅ）材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、鉄（Ｆｅ）材料の層であり得る。
【0072】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、鉄（Ｆｅ）合金材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、鉄（Ｆｅ）合金材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、鉄（Ｆｅ）合金材料の層であり得る。
【0073】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、ニッケル（Ｎｉ）材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、ニッケル（Ｎｉ）材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、ニッケル（Ｎｉ）材料の層であり得る。
【0074】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、ニッケル（Ｎｉ）合金材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、ニッケル（Ｎｉ）合金材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、ニッケル（Ｎｉ）合金材料の層であり得る。
【0075】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、パーマロイ材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、パーマロイ材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、パーマロイ材料の層であり得る。
【0076】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、コバルト（Ｃｏ）材料、コバルト（Ｃｏ）合金材料、鉄（Ｆｅ）材料、鉄（Ｆｅ）合金材料、ニッケル（Ｎｉ）材料、ニッケル（Ｎｉ）合金材料、及びパーマロイの任意の組み合わせを含み得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、コバルト（Ｃｏ）材料、コバルト（Ｃｏ）合金材料、鉄（Ｆｅ）材料、鉄（Ｆｅ）合金材料、ニッケル（Ｎｉ）材料、ニッケル（Ｎｉ）合金材料、及びパーマロイの任意の組み合わせから本質的になり得る。他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、コバルト（Ｃｏ）材料、コバルト（Ｃｏ）合金材料、鉄（Ｆｅ）材料、鉄（Ｆｅ）合金材料、ニッケル（Ｎｉ）材料、ニッケル（Ｎｉ）合金材料、及びパーマロイの任意の組み合わせの層であり得る。
【0077】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、誘導結合プラズマ発光分光法を使用して測定される特定の厚さを有し得る。例えば、外側磁性層３２０は、少なくとも約３ミクロン、例えば、少なくとも約０．０５ミクロン、又は少なくとも約０．０６ミクロン、又は少なくとも約０．０７ミクロン、又は少なくとも約０．０８ミクロン、又は少なくとも約０．０９ミクロン、又は少なくとも約０．１ミクロン、又は少なくとも約０．２ミクロン、又は少なくとも約０．３ミクロン、又は少なくとも約０．４ミクロン、又は少なくとも約０．５ミクロン、又は少なくとも約０．６ミクロン、又は少なくとも約０．７ミクロン、又は少なくとも約０．８ミクロン、又は少なくとも約０．９ミクロン、又は更に少なくとも約１．０ミクロンの厚さを有し得る。更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、約３．０ミクロン以下、又は約２．９ミクロン以下、又は約２．８ミクロン以下、又は約２．７ミクロン以下、又は約２．６ミクロン以下、又は約２．５ミクロン以下、又は約２．４ミクロン以下、又は約２．３ミクロン以下、又は約２．２ミクロン以下、又は約２．１ミクロン以下、又は約２．０ミクロン以下の厚さを有し得る。外側磁性層３２０の厚さは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の任意の値であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが理解されよう。外側磁性層３２０の厚さは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の範囲内であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが更に理解されよう。
【0078】
更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、特定の透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を有し得、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）は、周波数の関数としてプロットされた複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しい。例えば、外側磁性層３２０は、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を有し得、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１００である、例えば、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１２０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１４０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１６０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１７０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１８０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１９０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約２００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約２５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約３００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約３５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約４００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約４５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約５００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約５５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約６００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約６５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約７００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約７５０であるか、又は更にＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約８００である。更に他の実施形態によれば、外側磁性層３２０は、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を有し得、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、約５０００以下である。外側磁性層３２０の透磁率評価は、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の任意の値であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが理解されよう。外側磁性層３２０の透磁率評価は、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の範囲内であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが更に理解されよう。
【0079】
特定の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、磁性材料を含み得る。他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、磁性材料から本質的になり得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、磁性材料の層であり得る。
【0080】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、軟磁性材料を含み得る。他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、軟磁性材料から本質的になり得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、軟磁性材料の層であり得る。
【0081】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、強磁性材料を含み得る。他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、強磁性材料から本質的になり得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、強磁性材料の層であり得る。
【0082】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、コバルト（Ｃｏ）材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、コバルト（Ｃｏ）材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、コバルト（Ｃｏ）材料の層であり得る。
【0083】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、コバルト（Ｃｏ）合金材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、コバルト（Ｃｏ）合金材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、コバルト（Ｃｏ）合金材料の層であり得る。
【0084】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、鉄（Ｆｅ）材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、鉄（Ｆｅ）材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、鉄（Ｆｅ）材料の層であり得る。
【0085】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、鉄（Ｆｅ）合金材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、鉄（Ｆｅ）合金材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、鉄（Ｆｅ）合金材料の層であり得る。
【0086】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、ニッケル（Ｎｉ）材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、ニッケル（Ｎｉ）材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、ニッケル（Ｎｉ）材料の層であり得る。
【0087】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、ニッケル（Ｎｉ）合金材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、ニッケル（Ｎｉ）合金材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、ニッケル（Ｎｉ）合金材料の層であり得る。
【0088】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、パーマロイ材料を含み得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、パーマロイ材料から本質的になり得る。他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、パーマロイ材料の層であり得る。
【0089】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、コバルト（Ｃｏ）材料、コバルト（Ｃｏ）合金材料、鉄（Ｆｅ）材料、鉄（Ｆｅ）合金材料、ニッケル（Ｎｉ）材料、ニッケル（Ｎｉ）合金材料、及びパーマロイの任意の組み合わせを含み得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、コバルト（Ｃｏ）材料、コバルト（Ｃｏ）合金材料、鉄（Ｆｅ）材料、鉄（Ｆｅ）合金材料、ニッケル（Ｎｉ）材料、ニッケル（Ｎｉ）合金材料、及びパーマロイの任意の組み合わせから本質的になり得る。他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、コバルト（Ｃｏ）材料、コバルト（Ｃｏ）合金材料、鉄（Ｆｅ）材料、鉄（Ｆｅ）合金材料、ニッケル（Ｎｉ）材料、ニッケル（Ｎｉ）合金材料、及びパーマロイの任意の組み合わせの層であり得る。
【0090】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、誘導結合プラズマ発光分光法を使用して測定される特定の厚さを有し得る。例えば、内側磁性層３３０は、少なくとも約０．０５ミクロン、例えば、少なくとも約０．０６ミクロン、又は少なくとも約０．０７ミクロン、又は少なくとも約０．０８ミクロン、又は少なくとも約０．０９ミクロン、又は少なくとも約０．１ミクロン、又は少なくとも約０．２ミクロン、又は少なくとも約０．３ミクロン、又は少なくとも約０．４ミクロン、又は少なくとも約０．５ミクロン、又は少なくとも約０．６ミクロン、又は少なくとも約０．７ミクロン、又は少なくとも約０．８ミクロン、又は少なくとも約０．９ミクロン、又は更に少なくとも約１．０ミクロンの厚さを有し得る。更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、約３．０ミクロン以下、又は約２．９ミクロン以下、又は約２．８ミクロン以下、又は約２．７ミクロン以下、又は約２．６ミクロン以下、又は約２．５ミクロン以下、又は約２．４ミクロン以下、又は約２．３ミクロン以下、又は約２．２ミクロン以下、又は約２．１ミクロン以下、又は約２．０ミクロン以下の厚さを有し得る。内側磁性層３３０の厚さは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の任意の値であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが理解されよう。内側磁性層３３０の厚さは、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の範囲内であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが更に理解されよう。
【0091】
更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、特定の透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を有し得、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）は、周波数の関数としてプロットされた複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しい。例えば、内側磁性層３３０は、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を有し得、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１００である、例えば、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１２０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１４０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１６０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１７０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１８０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約１９０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約２００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約２５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約３００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約３５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約４００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約４５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約５００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約５５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約６００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約６５０であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約７００であるか、又はＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約７５０であるか、又は更にＸは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、少なくとも約８００である。更に他の実施形態によれば、内側磁性層３３０は、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を有し得、Ｘは、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙは、約５０００以下である。内側磁性層３３０の透磁率評価は、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の任意の値であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが理解されよう。内側磁性層３３０の透磁率評価は、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかの間の範囲内であり得、上述の最小値及び最大値のうちのいずれかを含み得ることが更に理解されよう。
【0092】
本明細書において説明される更に他の実施形態によれば、本明細書において説明される磁性多層複合体は、アンテナを形成するために使用され得る。更に他の実施形態によれば、アンテナは、本明細書において説明される磁性多層複合体を含み得る。本明細書において説明される実施形態のアンテナに含まれる磁性多層複合体は、本明細書において説明される特性のいずれかを有し得ることが理解されよう。本明細書において説明される実施形態のアンテナに含まれる磁性多層複合体は、本明細書において説明される工程のいずれかに従って形成され得ることが更に理解されよう。
【0093】
多くの異なる態様及び実施形態が、可能である。それらの態様及び実施形態のうちのいくつかが、本明細書において説明される。本明細書を読んだ後、当業者は、それらの態様及び実施形態が例解的であるに過ぎず、本発明の範囲を限定するものではないことを理解するであろう。実施形態は、以下に列挙される実施形態のうちのいずれか１つ以上に従い得る。
【0094】
実施形態１．磁性多層複合体であって、コア基材層と、コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層と、コア基材層の第１の表面とは反対のコア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層と、を含み、複合体が、少なくとも約０．００５の磁性体積比ＶＭ／ＶＳを含み、ＶＭが、複合体中の磁性材料の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、複合体が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）が、周波数の関数としてプロットされた複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しく、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、１００よりも大きい、磁性多層複合体。
【0095】
実施形態２．磁性多層複合体であって、コア基材層と、コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層と、コア基材層の第１の表面とは反対のコア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層と、を含み、複合体が、少なくとも約０．００５の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含み、ＴＭが、外側磁性層及び内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、複合体が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）が、周波数の関数としてプロットされた複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しく、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、１００よりも大きい、磁性多層複合体。
【0096】
実施形態３．複合体が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１２０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１４０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１６０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１７０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１８０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１９０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約２００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約２５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約３００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約３５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約４００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約４５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約５００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約５５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約６００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約６５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約７００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約７５０であるか、又は更にＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約８００である、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0097】
実施形態４．複合体が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、約５０００以下である、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0098】
実施形態５．複合体が、少なくとも約０．００５の磁性層体積比ＶＭ／ＶＳを含み、ＶＭが、複合体中の磁性材料の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．１、又は少なくとも約０．２、又は少なくとも約０．３、又は少なくとも約０．４、又は少なくとも約０．５．の磁性層体積比ＶＭ／ＶＳを含み、ＶＭが、外側磁性層及び内側磁性層の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積である、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0099】
実施形態６．複合体が、約１．０以下の磁性層体積比ＶＭ／ＶＳを含み、ＶＭが、複合体中の磁性材料の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、約０．９以下、又は約０．８以下、又は約０．７以下、又は約０．６以下、又は約０．５以下の磁性層体積比ＶＭ／ＶＳを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0100】
実施形態７．複合体が、少なくとも約０．００２５の磁性層体積比ＶＯＭＬ／ＶＳを含み、ＶＯＭＬが、外側磁性層の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、少なくとも約０．００５、又は少なくとも約０．００７５、又は少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０２、又は少なくとも約０．０３、又は少なくとも約０．０４、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．０６、又は少なくとも約０．０７、又は少なくとも約０．０８、又は少なくとも約０．０９、又は少なくとも約０．１の磁性層体積比ＶＯＭＬ／ＶＳを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0101】
実施形態８．複合体が、約０．５以下の磁性層体積比ＶＯＭＬ／ＶＳを含み、ＶＯＭＬが、外側磁性層の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、約０．４５以下、又は約０．４０以下、又は約０．３５以下、又は約０．３０以下、又は約０．２５以下、又は約０．２０以下、又は約０．１５以下の磁性層体積比ＶＯＭＬ／ＶＳを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0102】
実施形態９．複合体が、少なくとも約０．００２５の磁性層体積比ＶＩＭＬ／ＶＳを含み、ＶＩＭＬが、内側磁性層の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、少なくとも約０．００５、又は少なくとも約０．００７５、又は少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０２、又は少なくとも約０．０３、又は少なくとも約０．０４、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．０６、又は少なくとも約０．０７、又は少なくとも約０．０８、又は少なくとも約０．０９、又は少なくとも約０．１の磁性層体積比ＶＩＭＬ／ＶＳを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0103】
実施形態１０．複合体が、約０．５以下の磁性層体積比ＶＩＭＬ／ＶＳを含み、ＶＩＭＬが、内側磁性層の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、約０．４５以下、又は約０．４０以下、又は約０．３５以下、又は約０．３０以下、又は約０．２５以下、又は約０．２０以下、又は約０．１５以下の磁性層体積比ＶＩＭＬ／ＶＳを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0104】
実施形態１１．複合体が、少なくとも約０．００２５の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含み、ＴＭが、外側磁性層及び内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、少なくとも約０．００５、又は少なくとも約０．００７５、又は少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０２、又は少なくとも約０．０３、又は少なくとも約０．０４、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．０６、又は少なくとも約０．０７、又は少なくとも約０．０８、又は少なくとも約０．０９、又は少なくとも約０．１の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0105】
実施形態１２．複合体が、約０．５以下の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含み、ＴＭが、外側磁性層及び内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、約０．４５以下、又は約０．４０以下、又は約０．３５以下、又は約０．３０以下、又は約０．２５以下、又は約０．２０以下、又は約０．１５以下の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0106】
実施形態１３．複合体が、少なくとも約０．００２５の磁性層厚さ比ＴＯＭＬ／ＴＳを含み、ＴＯＭＬが、外側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、少なくとも約０．００５、又は少なくとも約０．００７５、又は少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０２、又は少なくとも約０．０３、又は少なくとも約０．０４、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．０６、又は少なくとも約０．０７、又は少なくとも約０．０８、又は少なくとも約０．０９、又は少なくとも約０．１の磁性層厚さ比ＴＯＭＬ／ＴＳを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0107】
実施形態１４．複合体が、約０．５以下の磁性層厚さ比ＴＯＭＬ／ＴＳを含み、ＴＯＭＬが、外側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、約０．４５以下、又は約０．４０以下、又は約０．３５以下、又は約０．３０以下、又は約０．２５以下、又は約０．２０以下、又は約０．１５以下の磁性層厚さ比ＴＯＭＬ／ＴＳを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0108】
実施形態１５．複合体が、少なくとも約０．００２５の磁性層厚さ比ＴＩＭＬ／ＴＳを含み、ＴＩＭＬが、内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、少なくとも約０．００５、又は少なくとも約０．００７５、又は少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０２、又は少なくとも約０．０３、又は少なくとも約０．０４、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．０６、又は少なくとも約０．０７、又は少なくとも約０．０８、又は少なくとも約０．０９、又は少なくとも約０．１の磁性層厚さ比ＴＩＭＬ／ＴＳを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0109】
実施形態１６．複合体が、約０．５以下の磁性層厚さ比ＴＩＭＬ／ＴＳを含み、ＴＩＭＬが、内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、約０．４５以下、又は約０．４０以下、又は約０．３５以下、又は約０．３０以下、又は約０．２５以下、又は約０．２０以下、又は約０．１５以下の磁性層厚さ比ＴＩＭＬ／ＴＳを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0110】
実施形態１７．複合体が、少なくとも約３ミクロン、又は５ミクロン、又は少なくとも約１０ミクロン、又は少なくとも約１５ミクロン、又は少なくとも約２０ミクロン、又は少なくとも約２５ミクロン、又は少なくとも約３０ミクロン、又は少なくとも約３５ミクロン、又は少なくとも約４０ミクロン、又は少なくとも約５０ミクロン、又は少なくとも約６０ミクロン、又は少なくとも約７０ミクロン、又は少なくとも約８０ミクロン、又は少なくとも約９０ミクロン、又は少なくとも約１００ミクロンの厚さを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0111】
実施形態１８．複合体が、約２５０ミクロン以下、又は約２４０ミクロン以下、又は約２３０ミクロン以下、又は約２２０ミクロン以下、又は約２１０ミクロン以下、又は約２００ミクロン以下、又は約１９０ミクロン以下、又は約１８０ミクロン以下、又は約１７０ミクロン以下、又は約１６０ミクロン以下、又は約１５０ミクロン以下の厚さを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0112】
実施形態１９．コア基材層が、プラスチック材料を含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0113】
実施形態２０．コア基材層が、ＰＥＴ、ＰＥＮ、ＰＩ、又はこれらの組み合わせを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0114】
実施形態２１．コア基材層が、少なくとも約３ミクロン、又は５ミクロン、又は少なくとも約１０ミクロン、又は少なくとも約１５ミクロン、又は少なくとも約２０ミクロン、又は少なくとも約２５ミクロン、又は少なくとも約３０ミクロン、又は少なくとも約３５ミクロン、又は少なくとも約４０ミクロン、又は少なくとも約５０ミクロン、又は少なくとも約６０ミクロン、又は少なくとも約７０ミクロン、又は少なくとも約８０ミクロン、又は少なくとも約９０ミクロン、又は少なくとも約１００ミクロンの厚さを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0115】
実施形態２２．コア基材層が、約２５０ミクロン以下、又は約２４０ミクロン以下、又は約２３０ミクロン以下、又は約２２０ミクロン以下、又は約２１０ミクロン以下、又は約２００ミクロン以下、又は約１９０ミクロン以下、又は約１８０ミクロン以下、又は約１７０ミクロン以下、又は約１６０ミクロン以下、又は約１５０ミクロン以下の厚さを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0116】
実施形態２３．外側磁性層が、磁性材料を含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0117】
実施形態２４．外側磁性層が、軟磁性材料、強磁性材料、又はこれらの任意の組み合わせを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0118】
実施形態２５．外側磁性層が、Ｃｏ材料、Ｃｏ合金材料、Ｆｅ材料、Ｆｅ合金材料、Ｎｉ材料、Ｎｉ合金材料、パーマロイ、又はこれらの組み合わせを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0119】
実施形態２６．外側磁性層が、少なくとも約０．０５ミクロン、又は少なくとも０．０６ミクロン、又は少なくとも約０．０７ミクロン、又は少なくとも約０．０８ミクロン、又は少なくとも約０．０９ミクロン、又は少なくとも約０．１ミクロン、又は少なくとも約０．２ミクロン、又は少なくとも約０．３ミクロン、又は少なくとも約０．４ミクロン、又は少なくとも約０．５ミクロン、又は少なくとも約０．６ミクロン、又は少なくとも約０．７ミクロン、又は少なくとも約０．８ミクロン、又は少なくとも約０．９ミクロン、又は更に少なくとも約１．０ミクロンの厚さを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0120】
実施形態２７．外側磁性層が、約３．０ミクロン以下、又は約２．９ミクロン以下、又は約２．８ミクロン以下、又は約２．７ミクロン以下、又は約２．６ミクロン以下、又は約２．５ミクロン以下、又は約２．４ミクロン以下、又は約２．３ミクロン以下、又は約２．２ミクロン以下、又は約２．１ミクロン以下、又は約２．０ミクロン以下の厚さを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0121】
実施形態２８．外側磁性層が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１２０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１４０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１６０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１７０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１８０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１９０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約２００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約２５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約３００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約３５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約４００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約４５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約５００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約５５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約６００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約６５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約７００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約７５０であるか、又は更にＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約８００である、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0122】
実施形態２９．外側磁性層が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、約５０００以下である、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0123】
実施形態３０．内側磁性層が、軟磁性材料、強磁性材料、又はこれらの任意の組み合わせを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0124】
実施形態３１．内側磁性層が、Ｃｏ材料、Ｃｏ合金材料、Ｆｅ材料、Ｆｅ合金材料、Ｎｉ材料、Ｎｉ合金材料、パーマロイ、又はこれらの組み合わせを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0125】
実施形態３２．内側磁性層が、少なくとも約０．０５ミクロン、又は少なくとも０．０６ミクロン、又は少なくとも約０．０７ミクロン、又は少なくとも約０．０８ミクロン、又は少なくとも約０．０９ミクロン、又は少なくとも約０．１ミクロン、又は少なくとも約０．２ミクロン、又は少なくとも約０．３ミクロン、又は少なくとも約０．４ミクロン、又は少なくとも約０．５ミクロン、又は少なくとも約０．６ミクロン、又は少なくとも約０．７ミクロン、又は少なくとも約０．８ミクロン、又は少なくとも約０．９ミクロン、又は更に少なくとも約１．０ミクロンの厚さを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0126】
実施形態３３．内側磁性層が、約３．０ミクロン以下、又は約２．９ミクロン以下、又は約２．８ミクロン以下、又は約２．７ミクロン以下、又は約２．６ミクロン以下、又は約２．５ミクロン以下、又は約２．４ミクロン以下、又は約２．３ミクロン以下、又は約２．２ミクロン以下、又は約２．１ミクロン以下、又は約２．０ミクロン以下の厚さを含む、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0127】
実施形態３４．内側磁性層が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１２０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１４０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１６０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１７０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１８０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１９０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約２００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約２５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約３００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約３５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約４００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約４５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約５００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約５５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約６００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約６５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約７００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約７５０であるか、又は更にＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約８００である、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0128】
実施形態３５．内側磁性層が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、約５０００以下である、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0129】
実施形態３６．磁性多層複合体が、アンテナにおける使用のために構成されている、実施形態１又は２に記載の磁性多層複合体。
【0130】
実施形態３７．磁性多層複合体を含むアンテナであって、磁性多層複合体が、コア基材層と、コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層と、コア基材層の第１の表面とは反対のコア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層と、を含み、複合体が、少なくとも約０．００５の磁性体積比ＶＭ／ＶＳを含み、ＶＭが、複合体中の磁性材料の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、複合体が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）が、周波数の関数としてプロットされた複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しく、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、１００よりも大きい、アンテナ。
【0131】
実施形態３８．磁性多層複合体を含むアンテナであって、磁性多層複合体が、コア基材層と、コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層と、コア基材層の第１の表面とは反対のコア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層と、を含み、複合体が、少なくとも約０．００５の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含み、ＴＭが、外側磁性層及び内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、複合体が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）が、周波数の関数としてプロットされた複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しく、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、１００よりも大きい、アンテナ。
【0132】
実施形態３９．複合体が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１２０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１４０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１６０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１７０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１８０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１９０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約２００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約２５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約３００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約３５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約４００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約４５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約５００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約５５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約６００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約６５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約７００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約７５０であるか、又は更にＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約８００である、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0133】
実施形態４０．複合体が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、約５０００以下である、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0134】
実施形態４１．複合体が、少なくとも約０．００５の磁性層体積比ＶＭ／ＶＳを含み、ＶＭが、複合体中の磁性材料の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．１、又は少なくとも約０．２、又は少なくとも約０．３、又は少なくとも約０．４、又は少なくとも約０．５の磁性層体積比ＶＭ／ＶＳを含み、ＶＭが、外側磁性層及び内側磁性層の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積である、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0135】
実施形態４２．複合体が、約１．０以下の磁性層体積比ＶＭ／ＶＳを含み、ＶＭが、複合体中の磁性材料の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、約０．９以下、又は約０．８以下、又は約０．７以下、又は約０．６以下、又は約０．５以下の磁性層体積比ＶＭ／ＶＳを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0136】
実施形態４３．複合体が、少なくとも約０．００２５の磁性層体積比ＶＯＭＬ／ＶＳを含み、ＶＯＭＬが、外側磁性層の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、少なくとも約０．００５、又は少なくとも約０．００７５、又は少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０２、又は少なくとも約０．０３、又は少なくとも約０．０４、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．０６、又は少なくとも約０．０７、又は少なくとも約０．０８、又は少なくとも約０．０９、又は少なくとも約０．１の磁性層体積比ＶＯＭＬ／ＶＳを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0137】
実施形態４４．複合体が、約０．５以下の磁性層体積比ＶＯＭＬ／ＶＳを含み、ＶＯＭＬが、外側磁性層の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、約０．４５以下、又は約０．４０以下、又は約０．３５以下、又は約０．３０以下、又は約０．２５以下、又は約０．２０以下、又は約０．１５以下の磁性層体積比ＶＯＭＬ／ＶＳを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0138】
実施形態４５．複合体が、少なくとも約０．００２５の磁性層体積比ＶＩＭＬ／ＶＳを含み、ＶＩＭＬが、内側磁性層の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、少なくとも約０．００５、又は少なくとも約０．００７５、又は少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０２、又は少なくとも約０．０３、又は少なくとも約０．０４、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．０６、又は少なくとも約０．０７、又は少なくとも約０．０８、又は少なくとも約０．０９、又は少なくとも約０．１の磁性層体積比ＶＩＭＬ／ＶＳを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0139】
実施形態４６．複合体が、約０．５以下の磁性層体積比ＶＩＭＬ／ＶＳを含み、ＶＩＭＬが、内側磁性層の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、約０．４５以下、又は約０．４０以下、又は約０．３５以下、又は約０．３０以下、又は約０．２５以下、又は約０．２０以下、又は約０．１５以下の磁性層体積比ＶＩＭＬ／ＶＳを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0140】
実施形態４７．複合体が、少なくとも約０．００２５の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含み、ＴＭが、外側磁性層及び内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、少なくとも約０．００５、又は少なくとも約０．００７５、又は少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０２、又は少なくとも約０．０３、又は少なくとも約０．０４、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．０６、又は少なくとも約０．０７、又は少なくとも約０．０８、又は少なくとも約０．０９、又は少なくとも約０．１の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0141】
実施形態４８．複合体が、約０．５以下の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含み、ＴＭが、外側磁性層及び内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、約０．４５以下、又は約０．４０以下、又は約０．３５以下、又は約０．３０以下、又は約０．２５以下、又は約０．２０以下、又は約０．１５以下の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0142】
実施形態４９．複合体が、少なくとも約０．００２５の磁性層厚さ比ＴＯＭＬ／ＴＳを含み、ＴＯＭＬが、外側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、少なくとも約０．００５、又は少なくとも約０．００７５、又は少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０２、又は少なくとも約０．０３、又は少なくとも約０．０４、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．０６、又は少なくとも約０．０７、又は少なくとも約０．０８、又は少なくとも約０．０９、又は少なくとも約０．１の磁性層厚さ比ＴＯＭＬ／ＴＳを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0143】
実施形態５０．複合体が、約０．５以下の磁性層厚さ比ＴＯＭＬ／ＴＳを含み、ＴＯＭＬが、外側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、約０．４５以下、又は約０．４０以下、又は約０．３５以下、又は約０．３０以下、又は約０．２５以下、又は約０．２０以下、又は約０．１５以下の磁性層厚さ比ＴＯＭＬ／ＴＳを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0144】
実施形態５１．複合体が、少なくとも約０．００２５の磁性層厚さ比ＴＩＭＬ／ＴＳを含み、ＴＩＭＬが、内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、少なくとも約０．００５、又は少なくとも約０．００７５、又は少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０２、又は少なくとも約０．０３、又は少なくとも約０．０４、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．０６、又は少なくとも約０．０７、又は少なくとも約０．０８、又は少なくとも約０．０９、又は少なくとも約０．１の磁性層厚さ比ＴＩＭＬ／ＴＳを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0145】
実施形態５２．複合体が、約０．５以下の磁性層厚さ比ＴＩＭＬ／ＴＳを含み、ＴＩＭＬが、内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、約０．４５以下、又は約０．４０以下、又は約０．３５以下、又は約０．３０以下、又は約０．２５以下、又は約０．２０以下、又は約０．１５以下の磁性層厚さ比ＴＩＭＬ／ＴＳを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0146】
実施形態５３．複合体が、少なくとも約３ミクロン、又は５ミクロン、又は少なくとも約１０ミクロン、又は少なくとも約１５ミクロン、又は少なくとも約２０ミクロン、又は少なくとも約２５ミクロン、又は少なくとも約３０ミクロン、又は少なくとも約３５ミクロン、又は少なくとも約４０ミクロン、又は少なくとも約５０ミクロン、又は少なくとも約６０ミクロン、又は少なくとも約７０ミクロン、又は少なくとも約８０ミクロン、又は少なくとも約９０ミクロン、又は少なくとも約１００ミクロンの厚さを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0147】
実施形態５４．複合体が、約２５０ミクロン以下、又は約２４０ミクロン以下、又は約２３０ミクロン以下、又は約２２０ミクロン以下、又は約２１０ミクロン以下、又は約２００ミクロン以下、又は約１９０ミクロン以下、又は約１８０ミクロン以下、又は約１７０ミクロン以下、又は約１６０ミクロン以下、又は約１５０ミクロン以下の厚さを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0148】
実施形態５５．コア基材層が、プラスチック材料を含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0149】
実施形態５６．コア基材層が、ＰＥＴ、ＰＥＮ、ＰＩ、又はこれらの組み合わせを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0150】
実施形態５７．コア基材層が、少なくとも約３ミクロン、又は５ミクロン、又は少なくとも約１０ミクロン、又は少なくとも約１５ミクロン、又は少なくとも約２０ミクロン、又は少なくとも約２５ミクロン、又は少なくとも約３０ミクロン、又は少なくとも約３５ミクロン、又は少なくとも約４０ミクロン、又は少なくとも約５０ミクロン、又は少なくとも約６０ミクロン、又は少なくとも約７０ミクロン、又は少なくとも約８０ミクロン、又は少なくとも約９０ミクロン、又は少なくとも約１００ミクロンの厚さを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0151】
実施形態５８．コア基材層が、約２５０ミクロン以下、又は約２４０ミクロン以下、又は約２３０ミクロン以下、又は約２２０ミクロン以下、又は約２１０ミクロン以下、又は約２００ミクロン以下、又は約１９０ミクロン以下、又は約１８０ミクロン以下、又は約１７０ミクロン以下、又は約１６０ミクロン以下、又は約１５０ミクロン以下の厚さを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0152】
実施形態５９．外側磁性層が、磁性材料を含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0153】
実施形態６０．外側磁性層が、軟磁性材料、強磁性材料、又はこれらの任意の組み合わせを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0154】
実施形態６１．外側磁性層が、Ｃｏ材料、Ｃｏ合金材料、Ｆｅ材料、Ｆｅ合金材料、Ｎｉ材料、Ｎｉ合金材料、パーマロイ、又はこれらの組み合わせを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0155】
実施形態６２．外側磁性層が、少なくとも約０．０５ミクロン、又は少なくとも０．０６ミクロン、又は少なくとも約０．０７ミクロン、又は少なくとも約０．０８ミクロン、又は少なくとも約０．０９ミクロン、又は少なくとも約０．１ミクロン、又は少なくとも約０．２ミクロン、又は少なくとも約０．３ミクロン、又は少なくとも約０．４ミクロン、又は少なくとも約０．５ミクロン、又は少なくとも約０．６ミクロン、又は少なくとも約０．７ミクロン、又は少なくとも約０．８ミクロン、又は少なくとも約０．９ミクロン、又は更に少なくとも約１．０ミクロンの厚さを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0156】
実施形態６３．外側磁性層が、約３．０ミクロン以下、又は約２．９ミクロン以下、又は約２．８ミクロン以下、又は約２．７ミクロン以下、又は約２．６ミクロン以下、又は約２．５ミクロン以下、又は約２．４ミクロン以下、又は約２．３ミクロン以下、又は約２．２ミクロン以下、又は約２．１ミクロン以下、又は約２．０ミクロン以下の厚さを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0157】
実施形態６４．外側磁性層が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１２０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１４０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１６０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１７０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１８０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１９０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約２００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約２５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約３００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約３５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約４００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約４５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約５００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約５５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約６００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約６５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約７００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約７５０であるか、又は更にＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約８００である、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0158】
実施形態６５．外側磁性層が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、約５０００以下である、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0159】
実施形態６６．内側磁性層が、軟磁性材料、強磁性材料、又はこれらの任意の組み合わせを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0160】
実施形態６７．内側磁性層が、Ｃｏ材料、Ｃｏ合金材料、Ｆｅ材料、Ｆｅ合金材料、Ｎｉ材料、Ｎｉ合金材料、パーマロイ、又はこれらの組み合わせを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0161】
実施形態６８．内側磁性層が、少なくとも約０．０５ミクロン、又は少なくとも０．０６ミクロン、又は少なくとも約０．０７ミクロン、又は少なくとも約０．０８ミクロン、又は少なくとも約０．０９ミクロン、又は少なくとも約０．１ミクロン、又は少なくとも約０．２ミクロン、又は少なくとも約０．３ミクロン、又は少なくとも約０．４ミクロン、又は少なくとも約０．５ミクロン、又は少なくとも約０．６ミクロン、又は少なくとも約０．７ミクロン、又は少なくとも約０．８ミクロン、又は少なくとも約０．９ミクロン、又は更に少なくとも約１．０ミクロンの厚さを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0162】
実施形態６９．内側磁性層が、約３．０ミクロン以下、又は約２．９ミクロン以下、又は約２．８ミクロン以下、又は約２．７ミクロン以下、又は約２．６ミクロン以下、又は約２．５ミクロン以下、又は約２．４ミクロン以下、又は約２．３ミクロン以下、又は約２．２ミクロン以下、又は約２．１ミクロン以下、又は約２．０ミクロン以下の厚さを含む、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0163】
実施形態７０．内側磁性層が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１２０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１４０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１６０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１７０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１８０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１９０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約２００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約２５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約３００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約３５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約４００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約４５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約５００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約５５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約６００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約６５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約７００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約７５０であるか、又は更にＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約８００である、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0164】
実施形態７１．内側磁性層が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、約５０００以下である、実施形態３７又は３８に記載のアンテナ。
【0165】
実施形態７２．磁性多層複合体を形成する方法であって、コア基材層を提供することと、コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層を堆積させることと、コア基材層の第１の表面とは反対のコア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層を堆積させることと、を含み、複合体が、少なくとも約０．００５の磁性体積比ＶＭ／ＶＳを含み、ＶＭが、複合体中の磁性材料の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、複合体が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）が、周波数の関数としてプロットされた複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しく、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、１００よりも大きい、方法。
【0166】
実施形態７３．磁性多層複合体を形成する方法であって、コア基材層を提供することと、コア基材層の第１の表面の上にある外側磁性層を堆積させることと、コア基材層の第１の表面とは反対のコア基材層の第２の表面の下にある内側磁性層を堆積させることと、を含み、複合体が、少なくとも約０．００５の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含み、ＴＭが、外側磁性層及び内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、複合体が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）が、周波数の関数としてプロットされた複合体の磁性透磁率（μ’’）の虚数部のプロットに沿ったピーク点（Ｘ，Ｙ）に等しく、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、１００よりも大きい、方法。
【0167】
実施形態７４．外側磁性層を堆積させることは、スパッタ堆積、原子層堆積、電気めっき、蒸着、化学蒸着、及びそれらの適用、又は特にロールツーロール機における適用を含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0168】
実施形態７５．内側磁性層を堆積させることは、スパッタ堆積、原子層堆積、電気めっき、蒸着、化学蒸着、及びそれらの適用、又は特にロールツーロール機における適用を含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0169】
実施形態７６．複合体が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１２０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１４０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１６０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１７０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１８０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１９０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約２００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約２５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約３００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約３５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約４００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約４５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約５００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約５５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約６００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約６５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約７００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約７５０であるか、又は更にＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約８００である、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0170】
実施形態７７．複合体が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、約５０００以下である、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0171】
実施形態７８．複合体が、少なくとも約０．００５の磁性層体積比ＶＭ／ＶＳを含み、ＶＭが、複合体中の磁性材料の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．１、又は少なくとも約０．２、又は少なくとも約０．３、又は少なくとも約０．４、又は少なくとも約０．５．の磁性層体積比ＶＭ／ＶＳを含み、ＶＭが、外側磁性層及び内側磁性層の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積である、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0172】
実施形態７９．複合体が、約１．０以下の磁性層体積比ＶＭ／ＶＳを含み、ＶＭが、複合体中の磁性材料の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、約０．９以下、又は約０．８以下、又は約０．７以下、又は約０．６以下、又は約０．５以下の磁性層体積比ＶＭ／ＶＳを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0173】
実施形態８０．複合体が、少なくとも約０．００２５の磁性層体積比ＶＯＭＬ／ＶＳを含み、ＶＯＭＬが、外側磁性層の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、少なくとも約０．００５、又は少なくとも約０．００７５、又は少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０２、又は少なくとも約０．０３、又は少なくとも約０．０４、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．０６、又は少なくとも約０．０７、又は少なくとも約０．０８、又は少なくとも約０．０９、又は少なくとも約０．１の磁性層体積比ＶＯＭＬ／ＶＳを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0174】
実施形態８１．複合体が、約０．５以下の磁性層体積比ＶＯＭＬ／ＶＳを含み、ＶＯＭＬが、外側磁性層の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、約０．４５以下、又は約０．４０以下、又は約０．３５以下、又は約０．３０以下、又は約０．２５以下、又は約０．２０以下、又は約０．１５以下の磁性層体積比ＶＯＭＬ／ＶＳを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0175】
実施形態８２．複合体が、少なくとも約０．００２５の磁性層体積比ＶＩＭＬ／ＶＳを含み、ＶＩＭＬが、内側磁性層の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、少なくとも約０．００５、又は少なくとも約０．００７５、又は少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０２、又は少なくとも約０．０３、又は少なくとも約０．０４、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．０６、又は少なくとも約０．０７、又は少なくとも約０．０８、又は少なくとも約０．０９、又は少なくとも約０．１の磁性層体積比ＶＩＭＬ／ＶＳを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0176】
実施形態８３．複合体が、約０．５以下の磁性層体積比ＶＩＭＬ／ＶＳを含み、ＶＩＭＬが、内側磁性層の総体積に等しく、ＶＳが、基材の総体積であり、約０．４５以下、又は約０．４０以下、又は約０．３５以下、又は約０．３０以下、又は約０．２５以下、又は約０．２０以下、又は約０．１５以下の磁性層体積比ＶＩＭＬ／ＶＳを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0177】
実施形態８４．複合体が、少なくとも約０．００２５の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含み、ＴＭが、外側磁性層及び内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、少なくとも約０．００５、又は少なくとも約０．００７５、又は少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０２、又は少なくとも約０．０３、又は少なくとも約０．０４、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．０６、又は少なくとも約０．０７、又は少なくとも約０．０８、又は少なくとも約０．０９、又は少なくとも約０．１の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0178】
実施形態８５．複合体が、約０．５以下の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含み、ＴＭが、外側磁性層及び内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、約０．４５以下、又は約０．４０以下、又は約０．３５以下、又は約０．３０以下、又は約０．２５以下、又は約０．２０以下、又は約０．１５以下の磁性層厚さ比ＴＭ／ＴＳを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0179】
実施形態８６．複合体が、少なくとも約０．００２５の磁性層厚さ比ＴＯＭＬ／ＴＳを含み、ＴＯＭＬが、外側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、少なくとも約０．００５、又は少なくとも約０．００７５、又は少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０２、又は少なくとも約０．０３、又は少なくとも約０．０４、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．０６、又は少なくとも約０．０７、又は少なくとも約０．０８、又は少なくとも約０．０９、又は少なくとも約０．１の磁性層厚さ比ＴＯＭＬ／ＴＳを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0180】
実施形態８７．複合体が、約０．５以下の磁性層厚さ比ＴＯＭＬ／ＴＳを含み、ＴＯＭＬが、外側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、約０．４５以下、又は約０．４０以下、又は約０．３５以下、又は約０．３０以下、又は約０．２５以下、又は約０．２０以下、又は約０．１５以下の磁性層厚さ比ＴＯＭＬ／ＴＳを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0181】
実施形態８８．複合体が、少なくとも約０．００２５の磁性層厚さ比ＴＩＭＬ／ＴＳを含み、ＴＩＭＬが、内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、少なくとも約０．００５、又は少なくとも約０．００７５、又は少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０２、又は少なくとも約０．０３、又は少なくとも約０．０４、又は少なくとも約０．０５、又は少なくとも約０．０６、又は少なくとも約０．０７、又は少なくとも約０．０８、又は少なくとも約０．０９、又は少なくとも約０．１の磁性層厚さ比ＴＩＭＬ／ＴＳを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0182】
実施形態８９．複合体が、約０．５以下の磁性層厚さ比ＴＩＭＬ／ＴＳを含み、ＴＩＭＬが、内側磁性層の総厚さに等しく、ＴＳが、基材の総厚さであり、約０．４５以下、又は約０．４０以下、又は約０．３５以下、又は約０．３０以下、又は約０．２５以下、又は約０．２０以下、又は約０．１５以下の磁性層厚さ比ＴＩＭＬ／ＴＳを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0183】
実施形態９０．複合体が、少なくとも約３ミクロン、又は５ミクロン、又は少なくとも約１０ミクロン、又は少なくとも約１５ミクロン、又は少なくとも約２０ミクロン、又は少なくとも約２５ミクロン、又は少なくとも約３０ミクロン、又は少なくとも約３５ミクロン、又は少なくとも約４０ミクロン、又は少なくとも約５０ミクロン、又は少なくとも約６０ミクロン、又は少なくとも約７０ミクロン、又は少なくとも約８０ミクロン、又は少なくとも約９０ミクロン、又は少なくとも約１００ミクロンの厚さを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0184】
実施形態９１．複合体が、約２５０ミクロン以下、又は約２４０ミクロン以下、又は約２３０ミクロン以下、又は約２２０ミクロン以下、又は約２１０ミクロン以下、又は約２００ミクロン以下、又は約１９０ミクロン以下、又は約１８０ミクロン以下、又は約１７０ミクロン以下、又は約１６０ミクロン以下、又は約１５０ミクロン以下の厚さを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0185】
実施形態９２．コア基材層が、プラスチック材料を含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0186】
実施形態９３．コア基材層が、ＰＥＴ、ＰＥＮ、ＰＩ、又はこれらの組み合わせを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0187】
実施形態９４．コア基材層が、少なくとも約３ミクロン、又は５ミクロン、又は少なくとも約１０ミクロン、又は少なくとも約１５ミクロン、又は少なくとも約２０ミクロン、又は少なくとも約２５ミクロン、又は少なくとも約３０ミクロン、又は少なくとも約３５ミクロン、又は少なくとも約４０ミクロン、又は少なくとも約５０ミクロン、又は少なくとも約６０ミクロン、又は少なくとも約７０ミクロン、又は少なくとも約８０ミクロン、又は少なくとも約９０ミクロン、又は少なくとも約１００ミクロンの厚さを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0188】
実施形態９５．コア基材層が、約２５０ミクロン以下、又は約２４０ミクロン以下、又は約２３０ミクロン以下、又は約２２０ミクロン以下、又は約２１０ミクロン以下、又は約２００ミクロン以下、又は約１９０ミクロン以下、又は約１８０ミクロン以下、又は約１７０ミクロン以下、又は約１６０ミクロン以下、又は約１５０ミクロン以下の厚さを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0189】
実施形態９６．外側磁性層が、磁性材料を含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0190】
実施形態９７．外側磁性層が、軟磁性材料、強磁性材料、又はこれらの任意の組み合わせを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0191】
実施形態９８．外側磁性層が、Ｃｏ材料、Ｃｏ合金材料、Ｆｅ材料、Ｆｅ合金材料、Ｎｉ材料、Ｎｉ合金材料、パーマロイ、又はこれらの組み合わせを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0192】
実施形態９９．外側磁性層が、少なくとも約０．０５ミクロン、又は少なくとも０．０６ミクロン、又は少なくとも約０．０７ミクロン、又は少なくとも約０．０８ミクロン、又は少なくとも約０．０９ミクロン、又は少なくとも約０．１ミクロン、又は少なくとも約０．２ミクロン、又は少なくとも約０．３ミクロン、又は少なくとも約０．４ミクロン、又は少なくとも約０．５ミクロン、又は少なくとも約０．６ミクロン、又は少なくとも約０．７ミクロン、又は少なくとも約０．８ミクロン、又は少なくとも約０．９ミクロン、又は更に少なくとも約１．０ミクロンの厚さを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0193】
実施形態１００．外側磁性層が、約３．０ミクロン以下、又は約２．９ミクロン以下、又は約２．８ミクロン以下、又は約２．７ミクロン以下、又は約２．６ミクロン以下、又は約２．５ミクロン以下、又は約２．４ミクロン以下、又は約２．３ミクロン以下、又は約２．２ミクロン以下、又は約２．１ミクロン以下、又は約２．０ミクロン以下の厚さを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0194】
実施形態１０１．外側磁性層が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１２０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１４０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１６０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１７０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１８０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１９０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約２００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約２５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約３００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約３５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約４００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約４５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約５００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約５５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約６００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約６５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約７００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約７５０であるか、又は更にＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約８００である、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0195】
実施形態１０２．外側磁性層が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、約５０００以下である、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0196】
実施形態１０３．内側磁性層が、軟磁性材料、強磁性材料、又はこれらの任意の組み合わせを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0197】
実施形態１０４．内側磁性層が、Ｃｏ材料、Ｃｏ合金材料、Ｆｅ材料、Ｆｅ合金材料、Ｎｉ材料、Ｎｉ合金材料、パーマロイ、又はこれらの組み合わせを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0198】
実施形態１０５．内側磁性層が、少なくとも約０．０５ミクロン、又は少なくとも０．０６ミクロン、又は少なくとも約０．０７ミクロン、又は少なくとも約０．０８ミクロン、又は少なくとも約０．０９ミクロン、又は少なくとも約０．１ミクロン、又は少なくとも約０．２ミクロン、又は少なくとも約０．３ミクロン、又は少なくとも約０．４ミクロン、又は少なくとも約０．５ミクロン、又は少なくとも約０．６ミクロン、又は少なくとも約０．７ミクロン、又は少なくとも約０．８ミクロン、又は少なくとも約０．９ミクロン、又は更に少なくとも約１．０ミクロンの厚さを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0199】
実施形態１０６．内側磁性層が、約３．０ミクロン以下、又は約２．９ミクロン以下、又は約２．８ミクロン以下、又は約２．７ミクロン以下、又は約２．６ミクロン以下、又は約２．５ミクロン以下、又は約２．４ミクロン以下、又は約２．３ミクロン以下、又は約２．２ミクロン以下、又は約２．１ミクロン以下、又は約２．０ミクロン以下の厚さを含む、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0200】
実施形態１０７．内側磁性層が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１２０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１４０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１６０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１７０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１８０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約１９０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約２００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約２５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約３００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約３５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約４００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約４５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約５００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約５５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約６００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約６５０であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約７００であるか、又はＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約７５０であるか、又は更にＸが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、少なくとも約８００である、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0201】
実施形態１０８．内側磁性層が、透磁率評価（Ｘ，Ｙ）を含み、Ｘが、１０ＭＨｚ～１０ＧＨｚの範囲内であり、Ｙが、約５０００以下である、実施形態７２又は７３に記載の方法。
【0202】
一般的な説明又は実施例において、上で説明された活動の全てが必要とされるわけではなく、具体的な活動の一部が必要とされない場合があり、説明される活動に加えて１つ以上の更なる活動が行われ得ることに留意されたい。なおも更に、活動が列挙される順序は、必ずしもそれらが行われる順序ではない。
【0203】
一般的な説明又は実施例において、上で説明された活動の全てが必要とされるわけではなく、具体的な活動の一部が必要とされない場合があり、説明される活動に加えて１つ以上の更なる活動が行われ得ることに留意されたい。なおも更に、活動が列挙される順序は、必ずしもそれらが行われる順序ではない。
【0204】
利益、他の利点、及び問題の解決策は、具体的な実施形態に関して上で説明されている。しかしながら、利益、利点、問題の解決策、及び任意の利益、利点、又は解決策をもたらすかより顕著にする可能性がある任意の特徴は、請求項のいずれか又は全ての重要な、必要な、又は本質的な特徴として解釈されるべきではない。
【0205】
本明細書において説明される実施形態の明細書及び例解図は、様々な実施形態の構造の一般的な理解を提供することを意図している。明細書及び例解図は、本明細書において説明される構造又は方法を使用する装置及びシステムの全ての要素及び特徴の網羅的かつ包括的な説明として機能することを意図するものではない。別個の実施形態が単一の実施形態中に組み合わせて提供され得、逆に、簡潔にするために単一の実施形態の文脈において説明されている様々な特徴が、別個に又は任意の部分的組み合わせで提供され得る。更に、範囲に記載された値への言及は、その範囲内の各々の値全てを含む。
【0206】
多くの他の実施形態が、本明細書を読んだ後にのみ当業者に明らかとなり得る。本開示の範囲から逸脱することなく、構造的置換、論理的置換、又は別の変更が行われ得るように、他の実施形態が使用され、かつ本開示から導出され得る。したがって、本開示は、限定的ではなく、例解的なものとみなされるべきである。
【図1】
【図2】
【図3】
【国際調査報告】