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特表2024-532775改善された波長分散を有する、位置選択的に置換されたセルロースエステルをベースとする負の複屈折の補償フィルム

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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-09-10

(54)【発明の名称】改善された波長分散を有する、位置選択的に置換されたセルロースエステルをベースとする負の複屈折の補償フィルム

(51)【国際特許分類】

G02B 5/30 20060101AFI20240903BHJP

C08J 5/18 20060101ALI20240903BHJP

C08B 3/16 20060101ALI20240903BHJP

C08L 1/10 20060101ALI20240903BHJP

C08K 5/00 20060101ALI20240903BHJP

【ＦＩ】

G02B5/30

C08J5/18 CEP

C08B3/16

C08L1/10

C08K5/00

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2024508461

(86)(22)【出願日】2022-08-05

(85)【翻訳文提出日】2024-03-28

(86)【国際出願番号】 US2022039509

(87)【国際公開番号】W WO2023018604

(87)【国際公開日】2023-02-16

(31)【優先権主張番号】63/260,170

(32)【優先日】2021-08-11

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】594055158

【氏名又は名称】イーストマンケミカルカンパニー

(74)【代理人】

【識別番号】100118902

【弁理士】

【氏名又は名称】山本修

(74)【代理人】

【識別番号】100106208

【弁理士】

【氏名又は名称】宮前徹

(74)【代理人】

【識別番号】100196508

【弁理士】

【氏名又は名称】松尾淳一

(74)【代理人】

【識別番号】100168066

【弁理士】

【氏名又は名称】鈴木雄太

(72)【発明者】

【氏名】チャン，チェンチェン

(72)【発明者】

【氏名】ワン，ビン

(72)【発明者】

【氏名】エルキンズ，ケーシー・リン

(72)【発明者】

【氏名】マコーネル，ウェスリー・ウェイン

【テーマコード（参考）】

2H149

4C090

4F071

4J002

【Ｆターム（参考）】

2H149DA02

2H149DA12

2H149DA19

2H149FA02Y

2H149FD05

2H149FD06

2H149FD07

2H149FD30

4C090AA08

4C090BA25

4C090BD14

4C090BD36

4C090CA38

4C090DA40

4F071AA09

4F071AA86

4F071AC03

4F071AC05

4F071AC07

4F071AC10

4F071AC15

4F071AE04

4F071AE19

4F071AF29

4F071AF35

4F071AG28

4F071AH16

4F071BA02

4F071BB02

4F071BB07

4F071BC01

4F071BC12

4J002AB021

4J002EE046

4J002EJ066

4J002EN096

4J002EU186

4J002GP00

(57)【要約】

本出願は、位置選択的に置換されたセルロースエステルと成分Ａ：式（Ｉ）、式（ＩＩ）（式中：環Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^８、Ｒ^９、ｍ、ｎおよびｋは本明細書中で規定する）とを含む延伸フィルムを開示する。フィルムは、負の複屈折および改善された波長分散を示す。

【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

（１）
（ｉ）複数の芳香族－ＣＯ－置換基、
（ｉｉ）複数の第１の不飽和または飽和（Ｃ_１～６）アルキル－ＣＯ－置換基、および
（ｉｉｉ）複数のヒドロキシル置換基
を含む位置選択的に置換されたセルロースエステルであって、
ここで：
ヒドロキシルの置換度（「ＤＳ_ＯＨ」）が０．２～１．１であり、
セルロースエステルが、０．１５～０．８の芳香族－ＣＯ－置換基のＣ２置換度（「Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯ」）を有し、
セルロースエステルが、０．０５～０．６の芳香族－ＣＯ－置換基のＣ３置換度（「Ｃ３ＤＳ_ＡｒＣＯ」）を有し、
セルロースエステルが、０．０５～０．６の芳香族－ＣＯ－置換基のＣ６置換度（「Ｃ６ＤＳ_ＡｒＣＯ」）を有し、
芳香族－ＣＯ－置換基の全置換度（「全ＤＳ_ＡｒＣＯ」）が０．２５～２．０であり、
芳香族－ＣＯ－が、
（ｉ）（Ｃ_６～２０）アリール－ＣＯ－［式中、アリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている］または
（ｉｉ）ヘテロアリール－ＣＯ－［式中、ヘテロアリールは、Ｎ、Ｏ、またはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を有する５～１０員環であり、ヘテロアリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている］
である、位置選択的に置換されたセルロースエステルと、
（２）

【化1】

［式中：
環Ａは、（Ｃ_６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；
環Ｂは、（Ｃ_６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；
環Ｃは、（Ｃ_６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；
各Ｒ^１は、独立に、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル；飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル；飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ；飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルコキシ；非置換であるか、もしくは１～５つのアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ハロによって置換されている（Ｃ_６～２０）アリール；Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリール；または－ＣＨ_２Ｃ（Ｏ）－Ｒ^３であり；
Ｒ^２は、独立に、水素、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキルであり；
各Ｒ^３は、独立に、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、（Ｃ_６～２０）アリール、またはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、アリールまたはヘテロアリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ^６によって置換され；
各Ｒ^４は、独立に、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、非置換であるか、もしくは１～５つのＲ^６によって置換されている（Ｃ_６～２０）アリール、またはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する、非置換であるか、もしくは１～５つのＲ^６によって置換されている５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル－、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、非置換であるか、もしくは置換されている（Ｃ_６～２０）アリール、またはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する、非置換であるか、もしくは置換されている５～１０員ヘテロアリールによって置換されており；
各Ｒ^６は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、ハロ、（Ｃ_６～２０）アリール、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリール、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、または（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキルであり、ここで、各基は、非置換であるか、または１～５つのＲ^７によって置換されており；
各Ｒ^７は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシであり；
各Ｒ^９は、独立に、Ｒ^４－Ｏ－、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－Ｏ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、非置換であるか、もしくは１～５つのＲ^６によって置換されている（Ｃ_６～１０）アリール、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する、非置換であるか、もしくは１～５つのＲ^６によって置換されている、５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、または飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル－、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、または（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、非置換であるか、もしくは置換されている（Ｃ_６～２０）アリール、または非置換であるか、もしくは置換されている、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールによって置換されており；
各ｎは、独立に、０、１、２、３、４または５であり；
各ｍは、独立に、０、１、２、３、４または５であり；
ｋは、独立に、０、１、２、３または４である］
である成分Ａと、
を含むフィルムであって、
ここで：
成分Ａが、フィルムの総重量に対して３０ｗｔ％未満で存在し、
フィルムが、－１００ｎｍ～－３５０ｎｍのＲ_ｅ（５８９ｎｍ）を示し、
フィルムが、－１００ｎｍ～１００ｎｍのＲ_ｔｈ（５８９ｎｍ）を示し、
フィルムが、０．７～１．２０のＲ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比を示し、
フィルムが、０．９～１．２５のＲ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比を示し、
フィルムが、０．２～０．８の［［－Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）］＋０．５］（「Ｎ_ｚ」）を示し、
各Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面外リタデーションであり、
各Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）が、それぞれ、５８９ｎｍ、４５０ｎｍ、および５５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、
フィルムが延伸されている、
フィルム。

【請求項2】

フィルムが、１００℃～２２０℃の温度またはＴ_ｇ－３０℃～Ｔ_ｇ＋５０℃で延伸され、ここで、Ｔ_ｇがフィルムのガラス転移温度である、請求項１に記載のフィルム。

【請求項3】

Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）が－１２０～－３２０ｎｍであり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）が－６０～６０ｎｍである、請求項１または２に記載のフィルム。

【請求項4】

Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比が０．７５～１．０５であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）が４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）が５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである、請求項１～３のいずれか一項に記載のフィルム。

【請求項5】

Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比が０．７５～０．８５である、請求項４に記載のフィルム。

【請求項6】

成分Ａが、

【化2】

である、請求項１～５のいずれか一項に記載のフィルム。

【請求項7】

成分Ａが、１，３－ジフェニル－１，３－プロパンジオン、アヴォベンゾン、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（ヘキシルオキシ）フェノール、２－［４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル］－５－［２－ヒドロキシ－３－（ドデシルオキシおよびトリデシルオキシ）プロポキシ］フェノール、イソオクチル２－（４－（４，６－ジ（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－３－ヒドロキシフェノキシ）プロパノエート、６，６’－（６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジイル）ビス（３－ブトキシフェノール）、２－（４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（３－（（２－エチルヘキシル）オキシ）－２－ヒドロキシプロポキシ）フェノール、２－（４，６－ジ（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（（２－エチルヘキシル）オキシ）フェノール、またはこれらの組合せである、請求項１～６のいずれか一項に記載のフィルム。

【請求項8】

芳香族－ＣＯ－が（Ｃ_６～２０）アリール－ＣＯ－であり、ここで、アリールが非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている、請求項１～７のいずれか一項に記載のフィルム。

【請求項9】

芳香族－ＣＯ－が、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている、ベンゾイルまたはナフトイルである、請求項８に記載のフィルム。

【請求項10】

芳香族－ＣＯ－が、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている、ベンゾイルである、請求項９に記載のフィルム。

【請求項11】

セルロースエステルが、０．５０～１．６０の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する、請求項１０に記載のフィルム。

【請求項12】

Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯとの合計が０．３０～１．２５である、請求項１１に記載のフィルム。

【請求項13】

芳香族－ＣＯ－が、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されているナフトイルである、請求項１２に記載のフィルム。

【請求項14】

セルロースエステルが、０．３～０．８の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する、請求項１３に記載のフィルム。

【請求項15】

Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯとの合計が０．２～０．６である、請求項１４に記載のフィルム。

【請求項16】

セルロースエステルが、複数の第２の（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基をさらに含む、請求項１～１５のいずれか一項に記載のフィルム。

【請求項17】

フィルムが１種以上の可塑剤をさらに含み、ここで、前記１種以上の可塑剤が、リン酸エステル可塑剤、フタル酸エステル可塑剤、モノもしくはジ安息香酸可塑剤、糖エステル可塑剤、グリコールエステル可塑剤、ポリエステル可塑剤、セルロースエステル可塑剤、またはこれらの組合せである、請求項１～１６のいずれか一項に記載のフィルム。

【請求項18】

フィルムが１種以上の可塑剤をさらに含み、ここで、前記１種以上の可塑剤が、１つ以上の芳香族基を有する可塑剤である、請求項１～１６のいずれか一項に記載のフィルム。

【請求項19】

フィルムが、縦方向（「ＭＤ」）方向に沿って延伸される、ＭＤに沿って収縮される、横方向（「ＴＤ」）に沿って延伸される、ＴＤに沿って収縮される、またはこれらの組合せである、請求項１～１８のいずれか一項に記載のフィルム。

【請求項20】

フィルム面内の遅軸が、フィルムのＭＤに対して０°～１８０°の角度を形成する、請求項１～２０のいずれか一項に記載のフィルム。

【発明の詳細な説明】

【背景技術】

【0001】

負の複屈折を有するセルロースエステル（「ＣＥ」）ベースのフィルムは、ディスプレイに好ましい。しかしながら、負の複屈折のＣＥフィルムは、典型的には、正常波長分散を表示し、色ずれが生じる。この問題を解消するために、フラットまたは逆波長分散など、改善された波長分散を示すようにフィルムを調整する必要がある。しかしながら、負の複屈折のＣＥフィルムでフラットまたは逆波長分散を実現する方法についてはほとんど知られていない。出願者らは、改善された波長分散を有する、位置選択的に置換されたセルロースエステル（「ＲＣＥ」）および特定の小分子成分を含む延伸フィルムを開示した。一部のフィルムは、Ｚ特性を有する。

【発明の概要】

【課題を解決するための手段】

【0002】

本出願は、
（１）
（ｉ）複数の芳香族－ＣＯ－置換基、
（ｉｉ）複数の第１の不飽和または飽和（Ｃ_１～６）アルキル－ＣＯ－置換基、および
（ｉｉｉ）複数のヒドロキシル置換基
を含む位置選択的に置換されたセルロースエステルであって、
ここで：
ヒドロキシルの置換度（「ＤＳ_ＯＨ」）が０．２～１．１であり、
セルロースエステルが、０．１５～０．８の芳香族－ＣＯ－置換基のＣ２置換度（「Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯ」）を有し、
セルロースエステルが、０．０５～０．６の芳香族－ＣＯ－置換基のＣ３置換度（「Ｃ３ＤＳ_ＡｒＣＯ」）を有し、
セルロースエステルが、０．０５～０．６の芳香族－ＣＯ－置換基のＣ６置換度（「Ｃ６ＤＳ_ＡｒＣＯ」）を有し、
芳香族－ＣＯ－置換基の全置換度（「全ＤＳ_ＡｒＣＯ」）が０．２５～２．０であり、
芳香族－ＣＯ－が、
（ｉ）（Ｃ_６～２０）アリール－ＣＯ－［式中、アリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている］または
（ｉｉ）ヘテロアリール－ＣＯ－［式中、ヘテロアリールは、Ｎ、Ｏ、またはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を有する５～１０員環であり、ヘテロアリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている］
である、位置選択的に置換されたセルロースエステルと、
（２）

【0003】

【化1】

【0004】

【0005】

本出願は、以下の図面について言及する。

【図面の簡単な説明】

【0006】

【図1】一方向（ｘ方向）に延伸するリタデーションフィルムの概略図を提供する。

【図2】補償フィルム中の波長分散モード：（ａ）正常波長分散、（ｂ）フラット波長分散、および（ｃ）逆波長分散の図を提供する。

【発明を実施するための形態】

【0007】

本発明は、本発明の以下の詳細な説明およびその中で記述される実施例を参照することによって、より容易に理解することができる。本発明は、記載される特定の方法、配合、および条件に限定されず、変更が可能とすることを理解されたい。また、本明細書中で用いられる用語は、本発明の特定の態様を説明することのみを目的とし、限定されることは意図しないことも理解すべきである。

【0008】

定義
本明細書および後続の特許請求の範囲において、多数の用語が言及されるが、これらは、以下の意味を有すると定義されるものとする。

【0009】

値は、所与の数を「約」または「およそ」で表すことができる。同様に、範囲を、本明細書において、「約」＋特定の１つの値から、かつ／または「約」＋別の特定の値までを表すことができる。そのような範囲を表すとき、別の態様は、特定の１つの値から、かつ／または他の特定の値までを含む。同様に、頭に「約」を用いることによって値を近似値として表すとき、特定の値は別の態様を形成すると理解されよう。

【0010】

本明細書中で用いられる場合、用語「ある（a）」、「ある（an）」および「その（the）」は、１または複数を意味する。
本明細書中で用いられる場合、用語「および／または」は、２以上の項目のリスト中で用いられるとき、列挙された項目のいずれか１つをそれ自体で用いることができる、または２つ以上の列挙された項目の任意の組合せで用いることができることを意味する。例えば、組成物が、成分Ａ、Ｂおよび／またはＣを含有すると説明される場合、組成物は、単独のＡ、単独のＢ、単独のＣ、ＡとＢの組合せ、ＡとＣの組合せ、ＢとＣの組合せ、またはＡ、ＢおよびＣの組合せを含有することができる。

【0011】

本明細書中で用いられる場合、用語「含む（comprising）」、「含む（comprises）」および「含む（comprise）」は、用語の前に列挙された対象から用語の後に列挙された１つ以上の要素への移行のために用いられるオープンエンド移行句であり、移行句の後に列挙される１つ以上の要素は必ずしも、対象を構成する要素のみではない。

【0012】

本明細書中で用いられる場合、用語「有する（having）」、「有する（has）」および「有する（have）」は、上記の「含む（comprising）」、「含む（comprises）」および「含む（comprise）」と同じオープンエンドの意味を有する。

【0013】

本明細書中で用いられる場合、用語「含む（including）」、「含む（includes）」および「含む（include）」は、上記の「含む（comprising）」、「含む（comprises）」および「含む（comprise）」と同じオープンエンドの意味を有する。

【0014】

光学フィルムの製造における使用に好適な位置選択的に置換されたセルロースエステルは、複数のアルキル－アシルまたはアルキル－ＣＯ－置換基、複数のアリール－アシルまたはアリール－ＣＯ－置換基、ヘテロアリール－アシルまたはヘテロアリール－ＣＯ－置換基を含むことができる。本明細書中で用いられる場合、用語「アシル置換基」または「Ｒ－ＣＯ－」は、構造：

【0015】

【化2】

【0016】

を有する置換基を示すものとする。
セルロースエステル中のそのようなアシルまたはＲ－ＣＯ－基は、一般に、エステル結合を介して（すなわち、酸素原子を通じて）セルロースのピラノース環に結合される。

【0017】

芳香族－ＣＯ－は、芳香族含有環系を有するアシル置換基である。例としては、アリール－ＣＯ－またはヘテロアリール－ＣＯ－が挙げられる。具体例としては、ベンゾイル、ナフトイル、およびフロイルが挙げられ、それぞれ、非置換であるか、または置換されている。

【0018】

本明細書中で用いられる場合、用語「アリール－アシル」置換基は、「Ｒ」がアリール基であるアシル置換基を示すものとする。本明細書中で用いられる場合、用語「アリール」は、アレーン（すなわち、単環式または多環式芳香族炭化水素）中の環炭素から水素原子を除去することによって形成される一価の基を示すものとする。ある場合には、アリール－アシル基の前に炭素単位が付く（例えば、（Ｃ_５～６）アリール－アシル、（Ｃ_６～１２）アリール－アシル、または（Ｃ_６～２０）アリール－アシル）。さまざまな実施形態における使用に好適なアリール基の例としては、これらに限定されないが、フェニル、ベンジル、トリル、キシリル、およびナフチルが挙げられる。そのようなアリール基は、置換されていても置換されていなくてもよい。

【0019】

本明細書中で用いられる場合、用語「アルキル－アシル」は、「Ｒ」がアルキル基であるアシル置換基を示すものとする。本明細書中で用いられる場合、用語「アルキル」は、非芳香族炭化水素から水素原子を除去することによって形成される一価の基を示すものとし、ヘテロ原子を含んでもよい。本明細書における使用に好適なアルキル基は、直鎖状、分枝状、または環状であってもよく、飽和でも不飽和でもよい。本明細書における使用に好適なアルキル基としては、（Ｃ_１～２０）、（Ｃ_１～１２）、（Ｃ_１～５）、または（Ｃ_１～３）アルキル基のいずれかが挙げられる。さまざまな実施形態において、アルキルは、Ｃ_１～５直鎖状アルキル基であってもよい。さらに他の実施形態において、アルキルは、Ｃ_１～３直鎖状アルキル基であってもよい。好適なアルキル基の具体例としては、これらに限定されないが、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、シクロペンチル、およびシクロヘキシル基が挙げられる。アルキル－アシル基の例としては、アセチル、プロピオニル、ブチリルなどが挙げられる。

【0020】

「ハロアルキル」は、少なくとも１個の水素がハロゲン基で置き換えられるアルキル置換基を意味する。ハロアルキル基中の炭素単位が含まれていることが多い（例えばハロ（Ｃ_１～６）アルキル）。ハロアルキル基は、直鎖状でも分枝状であってもよい。ハロアルキルの非限定例としては、クロロメチル、トリフルオロメチル、ジブロモエチルなどが挙げられる。

【0021】

「ヘテロアルキル」は、１個以上の炭素原子が、例えばＮ、ＯまたはＳなどのヘテロ原子で置き換えられるアルキルを意味する。
「ヘテロアリール」は、アリール環中の少なくとも１つの炭素単位が、Ｏ、ＮおよびＳなどのヘテロ原子で置き換えられるアリールを意味する。ヘテロアリールは、単環式でも多環式であってもよい環である。多くの場合、ヘテロアリール環系を構成する単位、例えば、５～２０員環系が含まれる。５員ヘテロアリールは、ヘテロアリール環を形成する５個の原子を有する環系を意味する。ヘテロアリールの非限定例としては、ピリジニル、キノリニル、ピリミジニル、チオフェニルなどが挙げられる。

【0022】

「アルコキシ」は、アルキル－Ｏ－または酸素基に末端結合したアルキル基を意味する。多くの場合、炭素単位が含まれる（例えば、（Ｃ_１～６）アルコキシ）。アルコキシの非限定例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシなどが挙げられる。

【0023】

「ハロアルコキシ」は、複数の水素のうちの少なくとも１個がハロゲンで置き換えられるアルコキシを意味する。多くの場合、炭素単位が含まれる（例えば、ハロ（Ｃ_１～６）アルコキシ）。ハロアルコキシの非限定例としては、トルフルオロメトキシ、ブロモメトキシ、１－ブロモ－エトキシなどが挙げられる。

【0024】

「ハロ」は、フルオロ、クロロ、ブロモ、またはヨードなどのハロゲンを意味する。
「置換度」は、一無水グルコース単位（「ＡＧＵ」）当たりの置換基の置換レベルを説明するために用いられる。一般に、従来のセルロースは、置換されうる各ＡＧＵ中の３つヒドロキシル基を含有する。したがって、ＤＳは、０～３の間の値を有しうる。しかしながら、低分子量セルロース混合エステルは、末端基寄与から３より少し高い全置換度を有しうる。低分子量セルロース混合エステルは、本開示においてより詳細に後述する。ＤＳが統計的平均値であるため、１の値は、すべてのＡＧＵが単一置換基を有することを保証しない。ある場合では、一部は２つ、また一部は３つの置換基を有する非置換の無水グルコース単位であり得、大半の場合、値は整数でない。全ＤＳは、一無水グルコース単位当たりの全置換基の平均数として定義される。一ＡＧＵ当たりの置換度はまた、例えば、ヒドロキシル、アセチル、ブチリル、またはプロピオニルなどの特定の置換基も指しうる。加えて、置換度は、無水グルコース単位の炭素単位のいずれかを指定することができる。

【0025】

置換度がヒドロキシルを指す場合、すなわち、ＤＳ_ＯＨの場合、置換されない一無水グルコース当たりの平均ヒドロキシル基を指す。結果として、ＤＳ_ＯＨは、全置換度の計算には用いられない。

【0026】

数値域
本明細書は、本発明に関連する特定のパラメータを定量化するために数値域を用いる。数値域を記載する場合、その範囲は、範囲の下限値のみを列挙するクレーム制限ならびに範囲の上限値のみを列挙するクレーム制限の文字的サポートを与えるものとして解釈されるべきであることを理解されたい。例えば、開示される１０～１００の数値域は、「１０超」（上界なし）を列挙するクレームおよび「１００未満」（下界なし）を列挙するクレームの文字的サポートを提供する。

【0027】

本明細書は、本発明に関連する特定のパラメータを定量化するために特定の数値を用いるが、この特定の数値は、特に数値域の一部ではない。本明細書中に記載されるそれぞれの特定の数値は、広範囲、中程度の範囲、狭い範囲の文字的サポートを提供するものとして解釈されるものと理解されたい。それぞれの特定の数値に関連する広い範囲は、数値プラス／マイナス数値の６０パーセントを２有効桁まで四捨五入したものである。それぞれの特定の数値に関連する中程度の範囲は、数値プラス／マイナス数値の３０パーセントを２有効桁まで四捨五入したものである。それぞれの特定の数値に関連する狭い範囲は、数値プラス／マイナス数値の１５パーセントを２有効桁まで四捨五入したものである。例えば、本明細書が６２°Ｆの特定温度を記載する場合、該説明は、２５°Ｆ～９９°Ｆ（６２°Ｆ＋／－３７°Ｆ）の広い数値域、４３°Ｆ～８１°Ｆ（６２°Ｆ＋／－１９°Ｆ）の中程度の数値域、および５３°Ｆ～７１°Ｆ（６２°Ｆ＋／－９°Ｆ）の狭い数値域の文字的サポートを提供する。これらの広い、中程度の、および狭い数値域は、特定値のみに該当するだけでなく、これらの特定値間の差にも該当すべきである。したがって、本明細書が、１１０ｐｓｉａの第１の圧力および４８ｐｓｉａの第２の圧力（６２ｐｓｉの差）を記載する場合、これらの２つのストリーム間の圧力差の広範囲、中範囲、および狭範囲は、それぞれ、２５～９９ｐｓｉ、４３～８１ｐｓｉ、および５３～７１ｐｓｉであると考えられる。

【0028】

特許文献および刊行物が参照される本出願を通して、これらの参考文献の全体開示は、本発明が関与する最新技術をより完全に説明するために、本発明と矛盾しない程度まで参照により本出願に組み込まれることが意図される。

【0029】

補償フィルムは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）および有機発光ダイオードディスプレイ（ＯＬＥＤ）の画質を改善するために重要である。等方性物質の場合、屈折率は、入射光の偏光状態にかかわらず同じである。物質が指向性および異方性になるに従い、屈折率は方向に依存するようになる。異なる方向に沿った各屈折率間の差は複屈折である。高分子フィルムの場合、通常、ポリマーを指向性にして複屈折をもたらすためにガラス転移温度前後のまたはガラス転移温度を超えた延伸が必要である。補償フィルムの複屈折は、画質に重要である。これは、補償フィルムを特性評価するために、面内複屈折（Δｎ_ｅ）および面外複屈折（Δｎ_ｔｈ）で広範に使用されている。ｘ方向に沿って延伸されたフィルムの場合、Δｎ_ｅおよびΔｎ_ｔｈは、以下の式によって規定される。

【0030】

Δｎ_ｅ＝（ｎ_ｘ－ｎ_ｙ）
Δｎ_ｔｈ＝［ｎ_ｚ－（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２］
式中、ｎ_ｘは、フィルム面内の延伸方向に沿った屈折率であり、一方でｎ_ｙは、フィルム面内の延伸方向に対して垂直にある屈折率であり、ｎ_ｚは、フィルム面に対して垂直にある屈折率である。ほとんどのポリマー材料において、フィルムが方向（ｘ方向）に沿って延伸されるとき、フィルム面内の、延伸方向に沿った屈折率（ｎ_ｘ）は、延伸方向に垂直の屈折率（ｎ_ｙ）より大きく、すなわち、Δｎ_ｅ＝（ｎ_ｘ－ｎ_ｙ）はゼロより大きく、延伸方向は遅軸である。こうしたポリマー材料は、固有の正の複屈折を有する。一部のポリマー材料は、固有の負の複屈折を有する。そうした材料は、一方向（ｘ方向）に沿って延伸されるとき、フィルム面内の、延伸方向に沿った屈折率（ｎ_ｘ）は、延伸方向に垂直の屈折率（ｎ_ｙ）より小さく、すなわち、Δｎ_ｅ＝（ｎ_ｘ－ｎ_ｙ）はゼロより小さく、フィルム面内の延伸方向は速軸である。

【0031】

これに応じて、面内リタデーション（Ｒ_ｅ）および面外リタデーション（Ｒ_ｔｈ）が、Δｎ_ｅと補償フィルムの厚さ（ｄ）との積およびΔｎ_ｔｈとｄとの積として規定される。
Ｒ_ｅ＝（ｎ_ｘ－ｎ_ｙ）^＊ｄ
Ｒ_ｔｈ＝［ｎ_ｚ－（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２］^＊ｄ
ここで、正の複屈折を有する高分子フィルムの場合、ｎ_ｘはフィルム面内の遅軸に沿った屈折率であり、ｎ_ｙはフィルム面内の速軸に沿った屈折率であり、ｎ_ｚはフィルム面に対して垂直の屈折率であり；負の複屈折を有するフィルムの場合、ｎ_ｘはフィルム面内の速軸に沿った屈折率であり、ｎ_ｙはフィルム面内の遅軸に沿った屈折率であり、ｎ_ｚはフィルム面に対して垂直の屈折率である。

【0032】

加えて、Ｎｚ係数も広範に使用され、以下の式によって規定される。
Ｎ_ｚ＝（ｎ_ｘ－ｎ_ｚ）／（ｎ_ｘ－ｎ_ｙ）＝－Ｒ_ｔｈ／Ｒ_ｅ＋０．５
ここで、正複屈折を有する高分子フィルムの場合、ｎ_ｘはフィルム面内の遅軸に沿った屈折率であり、ｎ_ｙはフィルム面内の速軸に沿った屈折率であり、ｎ_ｚはフィルム面に対して垂直の屈折率であり；負の複屈折を有するフィルムの場合、ｎ_ｘはフィルム面内の速軸に沿った屈折率であり、ｎ_ｙはフィルム面内の遅軸に沿った屈折率であり、ｎ_ｚはフィルム面に対して垂直の屈折率である。

【0033】

適用分野に応じて、３つの屈折率すべてが異なる（ｎ_ｘ≠ｎ_ｙ、ｎ_ｘ≠ｎ_ｚおよびｎ_ｙ≠ｎ_ｚ）二軸フィルムや、２つの屈折率が非常に近いが第３の屈折率とは異なる（ｎ_ｘ＝ｎ_ｙ≠ｎ_ｚ、ｎ_ｘ＝ｎ_ｚ≠ｎ_ｙ、ｎ_ｙ＝ｎ_ｚ≠ｎ_ｘ）一軸フィルムなどのさまざまな補償フィルムが開発されてきた。一軸フィルムの場合、Ａ＋フィルム、Ａ－フィルム、Ｃ＋フィルムおよびＣ－フィルムがあり、これらは以下の式によって規定される。
Ａ＋：ｎ_ｘ＞ｎ_ｙ＝ｎ_ｚ；Ｎ_ｚ係数＝１
Ａ－：ｎ_ｘ＜ｎ_ｙ＝ｎ_ｚ；Ｎ_ｚ係数＝１
Ｃ＋：ｎ_ｘ＝ｎ_ｙ＜ｎ_ｚ；Ｎ_ｚ係数＝∞
Ｃ－：ｎ_ｘ＝ｎ_ｙ＞ｎ_ｚ；Ｎ_ｚ係数＝∞
二軸フィルムの場合、二軸フィルムの重要な一カテゴリーは、ｎ_ｘ＞ｎ_ｚ＞ｎ_ｙまたはｎ_ｙ＞ｎ_ｚ＞ｎ_ｘのＺフィルムであり；最も具体的には、Ｎ_ｚ係数＝０．５をもたらすｎ_ｚ＝（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２を有する二軸フィルムが特に興味深い。

【0034】

加えて、波長分散も補償フィルムに重要である。波長分散は、光の波長による複屈折またはリタデーションに関連する。Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）、Ｒ_ｔｈ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｔｈ（５５０ｎｍ）およびＲ_ｔｈ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｔｈ（５５０ｎｍ）は、４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍのリタデーションの比を示し、波長分散を特性評価するために広範に使用される。図２に示すように、正常波長分散は、補償フィルムの複屈折またはリタデーションが、Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＞１、Ｒｅ（６５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＜１での短波長で大きいことを意味し、フラット波長分散は、補償フィルムの複屈折またはリタデーションが、Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＝１、Ｒｅ（６５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＝１で試験した波長域にわたって一定であることを意味し、逆波長分散は、補償フィルムの複屈折またはリタデーションが、Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＜１、Ｒｅ（６５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）＞１での短波長でより小さいことを意味する。逆波長分散は、ディスプレイの色ずれを顕著に低下させることができるため大変望ましい。

【0035】

セルロースエステルは、補償フィルムに幅広く使用されてきた。セルロースエステルは、ポリカーボネートおよびポリ（環状オレフィン）などの他の材料と比較して多くの利点を有する。ほとんどのセルロースエステル系補償フィルムは、酢酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロースおよび酢酸酪酸セルロースなどの脂肪族アシル置換基を有するセルロースエステルから作製される。アシル置換基は、無作為に分布される。また、こうした補償フィルムの複屈折は通常、ｎ_ｘ＞ｎ_ｙで正であり、ここでｎ_ｘはフィルム面内の延伸方向に沿った屈折率であり、一方でｎ_ｙはフィルム面内の延伸方向に垂直の屈折率である。負の複屈折（ｎ_ｘ＜ｎ_ｙ）を有するセルロースエステルは、芳香族アシル置換基を加え、芳香族アシル置換基または長鎖脂肪族アシル置換基の位置を制御することによって達成することができる。負の複屈折を有するセルロースエステルから作製される補償フィルムの一問題は、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）＞１およびＲ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）＜１の該補償フィルムの正常波長分散である。負の複屈折およびフラットまたは逆波長分散を有するセルロースエステルをベースとする市販製品は存在しない。より具体的には、負の複屈折およびフラットまたは逆波長分散を有するセルロースエステルをベースとするＺフィルムのための市販製品は存在しない。

【0036】

さまざまな実施形態において、ピラノース環のＣ２およびＣ３にアリール－アシル置換基が優先的に組み込まれる、位置選択的に置換されたセルロースエステルを用いることができる。位置選択性は、炭素１３ＮＭＲ分光法によってセルロースエステル中のＣ６、Ｃ３およびＣ２における相対的置換度（「ＲＤＳ」）を決定することによって測定することができる（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、１９９１年、２４、３０５０～３０５９頁）。一タイプのアシル置換基の場合または第２のアシル置換基が少量しか存在しない（ＤＳ＜０．２）とき、ＲＤＳは、環炭素の統合によって直接、最も容易に決定することができる。同様の量の２つ以上のアシル置換基が存在するとき、環ＲＤＳの決定に加えて、場合によっては、カルボニル炭素の統合によって各置換基のＲＤＳを独立に決定するために、セルロースエステルを追加の置換基と完全に置換させる必要がある。従来のセルロースエステルでは、位置選択性は一般に観察されず、Ｃ６／Ｃ３、Ｃ６／Ｃ２、またはＣ３／Ｃ２のＲＤＳ比は一般に１に近いか、またはそれ以下である。本質的には、従来のセルロースエステルはランダムコポリマーである。対照的に、適当な溶媒中に溶解したセルロースに１種以上のアシル化試薬を添加すると、セルロースのＣ６位は、Ｃ２位およびＣ３位よりずっと速くアシル化される。その結果、Ｃ６／Ｃ３比およびＣ６／Ｃ２比は１より優位に大きく、これは６，３－または６，２－強化された位置選択的に置換されたセルロースエステルの特徴である。

【0037】

位置選択的に置換されたセルロースエステルの例およびその調製方法は、ＵＳ２０１０／００２９９２７、ＵＳ２０１０／０２６７９４２、およびＵＳ８，３５４，５２５に記載されており、これらの内容は参照により本明細書に組み込まれる。一般に、これらの出願は、イオン性液体中にセルロースを溶解し、次いでそれをアシル化試薬と接触させることによるセルロースエステルの調製に関する。これに応じて、本発明のさまざまな実施形態のために、位置選択的に置換されたセルロースエステルを調製するために２つの一般的な方法を用いることができる。一方法では、位置選択的に置換されたセルロースエステルは、まずセルロース溶液を１種以上のアルキルアシル化試薬と接触させ、後続して、所望の置換度（「ＤＳ」）および重合度（「ＤＰ」）を有するセルロースエステルを生成するために十分な接触温度および接触時間で、セルロース溶液をアリールアシル化試薬と接触させることによる段階的添加を用いて調製することができる。この段階的添加において、アルキル基を含有するアシル基をＣ６に優先的に取り入れてよく、アリール基を含有するアシル基をＣ２および／またはＣ３に優先的に取り入れてよい。あるいは、位置選択的に置換されたセルロースエステルは、セルロース溶液を１種以上のアルキルアシル化試薬と接触させ、後続して、アルキル基を含有するアシル基が優先的にＣ６に取り入れられたアルキルエステルを単離することによって調製することができる。次いで、アルキルエステルを適当な有機溶媒に溶解し、所望の置換度（「ＤＳ」）および重合度（「ＤＰ」）を有するセルロースエステルを生成するために十分な接触温度および接触時間で、アリール基を含有するアシル基をＣ２および／Ｃ３に優先的に取り入れることができるアリール－アシル化試薬と接触させてよい。

【0038】

位置選択的に置換されたセルロースエステルの例およびその調製方法は、ＵＳ２０１７０３０６０５４およびＵＳ２０１７０３０７７９６にも記載されており、それらの内容は参照により本明細書に組み込まれる。一般に、これらの出願は、低い置換度（ＤＳ）を有する出発セルロースエステルを適当な有機溶媒に溶解し、それを次いで、アシル化試薬と接触させることによるセルロースエステルの調製に関する。これに応じて、本発明のさまざまな実施形態のために、位置選択的に置換されたセルロースエステルを調製するために２つの一般的方法を用いることができる。一方法では、位置選択的に置換されたセルロースエステルは、まず出発セルロースエステル溶液を１種以上のアルキルアシル化試薬と接触させ、後続して、所望の置換度（「ＤＳ」）および重合度（「ＤＰ」）を有するセルロースエステルを生成するために十分な接触温度および接触時間で、セルロース溶液をアリールアシル化試薬と接触させることによる段階的添加を用いて調製することができる。この段階的添加において、アルキル基を含有するアシル基をＣ６に優先的に取り入れてよく、アリール基を含有するアシル基をＣ２および／またはＣ３に優先的に取り入れてよい。あるいは、位置選択的に置換されたセルロースエステルは、出発セルロースエステル溶液を１種以上のアルキルアシル化試薬と接触させ、後続して、アルキル基を含有するアシル基が優先的にＣ６に取り入れられたアルキルエステルを単離することによって調製することができる。次いで、アルキルエステルを任意の適当な有機溶媒に溶解し、所望の置換度（「ＤＳ」）および重合度（「ＤＰ」）を有するセルロースエステルを生成するために十分な接触温度および接触時間で、アリール基を含有するアシル基をＣ２および／Ｃ３に優先的に取り入れることができるアリール－アシル化試薬と接触させてよい。

【0039】

こうして調製されたセルロースエステルは、一般に、以下の構造を含む：

【0040】

【化3】

【0041】

式中、Ｒ^２、Ｒ^３、およびＲ^６は、水素（ただし、Ｒ^２、Ｒ^３、およびＲ^６は同時に水素ではないことを条件とする）、アルキル－アシル基、および／またはアリール－アシル基（上記のものなど）であり、これらは、エステル結合を介してセルロースに結合される。

【0042】

これらの方法によって調製されたセルロースエステルの重合度（「ＤＰ」）は、少なくとも１０であってもよい。他の実施形態では、セルロースエステルのＤＰは、少なくとも５０、少なくとも１００、または少なくとも２５０であってもよい。他の実施形態では、セルロースエステルのＤＰは、約５～約１００の範囲、または約１０～約５０の範囲とすることができる。

【0043】

本明細書における使用に好適なアシル化試薬としては、これらに限定されないが、本明細書中に記載の位置選択的に置換されたセルロースエステルのアシル置換基における使用に好適な上記アルキルもしくはアリール基を含有する、アルキルもしくはアリールカルボン酸無水物、カルボン酸ハロゲン化物、および／またはカルボン酸エステルを挙げることができる。好適なカルボン酸無水物の例としては、これらに限定されないが、酢酸無水物、プロピオン酸無水物、酪酸無水物、ピバロイル無水物、安息香酸無水物、およびナフトイル無水物が挙げられる。カルボン酸ハロゲン化物の例としては、これらに限定されないが、塩化または臭化アセチル、プロピオニル、ブチリル、ピバロイル、ベンゾイル、およびナフトイルが挙げられる。カルボン酸エステルの例としては、これらに限定されないが、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ピバロイル、ベンゾイルおよびナフトイルメチルエステルが挙げられる。１つ以上の実施形態において、アシル化試薬は、酢酸無水物、プロピオン酸無水物、酪酸無水物、ピバロイル無水物、ベンゾイル無水物、およびナフトイル無水物からなる群から選択される１種以上のカルボン酸無水物であってもよい。

【0044】

延伸フィルム
本出願は、（１）（ｉ）複数の芳香族－ＣＯ－置換基、（ｉｉ）複数の第１の不飽和または飽和（Ｃ_１～６）アルキル－ＣＯ－置換基、および（ｉｉｉ）複数のヒドロキシル置換基を含む位置選択的に置換されたセルロースエステルであって、ここで、ヒドロキシルの置換度（「ＤＳ_ＯＨ」）が０．２～１．１であり、セルロースエステルが、０．１５～０．８の芳香族－ＣＯ－置換基のＣ２置換度（「Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯ」）を有し、セルロースエステルが、０．０５～０．６の芳香族－ＣＯ－置換基のＣ３置換度（「Ｃ３ＤＳ_ＡｒＣＯ」）を有し、セルロースエステルが、０．０５～０．６の芳香族－ＣＯ－置換基のＣ６置換度（「Ｃ６ＤＳ_ＡｒＣＯ」）を有し、芳香族－ＣＯ－置換基の全置換度（「全ＤＳ_ＡｒＣＯ」）が０．２５～２．０であり、芳香族－ＣＯ－が、（ｉ）（Ｃ_６～２０）アリール－ＣＯ－［式中、アリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている］または（ｉｉ）ヘテロアリール－ＣＯ－［式中、ヘテロアリールは、Ｎ、Ｏ、またはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を有する５～１０員環であり、ヘテロアリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている］である、位置選択的に置換されたセルロースエステルと、（２）

【0045】

【化4】

【0046】

［式中：環Ａは、（Ｃ_６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；環Ｂは、（Ｃ_６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；環Ｃは、（Ｃ_６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；各Ｒ^１は、独立に、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル；飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル；飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ；飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルコキシ；非置換であるか、もしくは１～５つのアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ハロによって置換されている（Ｃ_６～２０）アリール；Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリール；または－ＣＨ_２Ｃ（Ｏ）－Ｒ^３であり；Ｒ^２は、独立に、水素、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキルであり；各Ｒ^３は、独立に、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、（Ｃ_６～２０）アリール、またはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、アリールまたはヘテロアリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ^６によって置換され；各Ｒ^４は、独立に、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、非置換であるか、もしくは１～５つのＲ^６によって置換されている（Ｃ_６～２０）アリール、またはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する、非置換であるか、もしくは１～５つのＲ^６によって置換されている５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル－、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、非置換であるか、もしくは置換されている（Ｃ_６～２０）アリール、またはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する、非置換であるか、もしくは置換されている５～１０員ヘテロアリールによって置換されており；各Ｒ^６は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、ハロ、（Ｃ_６～２０）アリール、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリール、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、または（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキルであり、ここで、各基は、非置換であるか、または１～５つのＲ^７によって置換されており；
各Ｒ^７は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシであり；各Ｒ^９は、独立に、Ｒ^４－Ｏ－、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－Ｏ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、非置換であるか、もしくは１～５つのＲ^６によって置換されている（Ｃ_６～１０）アリール、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する、非置換であるか、もしくは１～５つのＲ^６によって置換されている、５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、または飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル－、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、または（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、非置換であるか、もしくは置換されている（Ｃ_６～２０）アリール、または非置換であるか、もしくは置換されている、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールによって置換されており；各ｎは、独立に、０、１、２、３、４または５であり；各ｍは、独立に、０、１、２、３、４または５であり；ｋは、独立に、０、１、２、３または４である］である成分Ａと、を含むフィルムであって、ここで：成分Ａが、フィルムの総重量に対して３０ｗｔ％未満で存在し、フィルムが、－１００ｎｍ～－３５０ｎｍのＲ_ｅ（５８９ｎｍ）を示し、フィルムが、－１００ｎｍ～１００ｎｍのＲ_ｔｈ（５８９ｎｍ）を示し、フィルムが、０．７～１．２０のＲ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比を示し、フィルムが、０．９～１．２５のＲ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比を示し、フィルムが、０．２～０．８の［［－Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）］＋０．５］（「Ｎ_ｚ」）を示し、各Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面外リタデーションであり、各Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）が、それぞれ、５８９ｎｍ、４５０ｎｍ、および５５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、フィルムが延伸されている、フィルムを開示する。

【0047】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、１００℃～２２０℃の温度で延伸される。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、１００℃～１５０℃の温度で延伸される。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、１００℃～１７５℃の温度で延伸される。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、１５０℃～２００℃の温度で延伸される。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、１２５℃～２００℃の温度で延伸される。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、１７５℃～２００℃の温度で延伸される。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、１２５℃～１７５℃の温度で延伸される。一実施形態において、フィルムは、Ｔ_ｇ－３０℃～Ｔ_ｇ＋５０℃の温度で延伸され、ここで、Ｔ_ｇは、フィルムのガラス転移温度である。

【0048】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ^９は、Ｒ^４－Ｏ－である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ^９は、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－（Ｃ_１～２０）アルキル－［式中、アルキル基は、飽和もしくは不飽和である］、または飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－である。

【0049】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ^９は、ヒドロキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－Ｏ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル－（Ｃ_６～１０）アリール、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシル、または飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルコキシル、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル－、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、または（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキルによって置換されている。

【0050】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、－１２０ｎｍ～－３５０ｎｍのＲ_ｅ（５８９ｎｍ）を示す。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、－１２０ｎｍ～－３２０ｎｍのＲ_ｅ（５８９ｎｍ）を示す。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、－１２０ｎｍ～－１７５ｎｍのＲ_ｅ（５８９ｎｍ）を示す。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、－１７５ｎｍ～－３５０ｎｍのＲ_ｅ（５８９ｎｍ）を示す。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、－２０８ｎｍ～－２６２ｎｍのＲ_ｅ（５８９ｎｍ）を示す。

【0051】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、－１００ｎｍ～０ｎｍのＲ_ｔｈ（５８９ｎｍ）を示す。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、０ｎｍ～１００ｎｍのＲ_ｔｈ（５８９ｎｍ）を示す。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、－５０ｎｍ～５０ｎｍのＲ_ｔｈ（５８９ｎｍ）を示す。

【0052】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）は、－１２０ｎｍ～－３２０ｎｍであり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）は、－６０ｎｍ～６０ｎｍである。

【0053】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は０．７５～１．０５である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は０．７５～０．８５である。

【0054】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）は－１２０ｎｍ～－３２０ｎｍであり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）は－６０ｎｍ～６０ｎｍであり、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は０．９５～１．０２であり、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は０．９５～１．０５であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）およびＲ_ｅ（６５０ｎｍ）は、それぞれ、４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0055】

この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｅ（５８９ｎｍ）は、－２４０ｎｍ～－３２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）は、－６０ｎｍ～６０ｎｍである。この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｅ（５８９ｎｍ）は、－１２０ｎｍ～－１６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）は、－３０ｎｍ～３０ｎｍである。

【0056】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）は、－１２０ｎｍ～－３２０ｎｍであり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）は、－６０ｎｍ～６０ｎｍであり、Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）の比は、０７５～０．９５であり、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は、０．９７～１．１５である。

【0057】

この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｅ（５８９ｎｍ）は、－１２０ｎｍ～－１６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）は、－３０ｎｍ～３０ｎｍである。この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｅ（５８９ｎｍ）は、－２４０ｎｍ～－３２０ｎｍであり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）は、－３０ｎｍ～３０ｎｍである。

【0058】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｎ_ｚは－２．０～２．０である。
この実施形態の一クラスにおいて、またはこの実施形態中の他の任意のクラスとの組合せにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）は、－１２０ｎｍ～－３２０ｎｍであり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）は、－６０ｎｍ～６０ｎｍであり、Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）の比は、０．９５～１．０２であり、Ｒｅ（６５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）の比は、０．９５～１．０５であり、ここで、Ｒｅ（４５０ｎｍ）、Ｒｅ（５５０ｎｍ）、およびＲｅ（６５０ｎｍ）は、それぞれ、４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0059】

このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｅ（５８９ｎｍ）は、－２４０ｎｍ～－３２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）は、－６０ｎｍ～６０ｎｍである。このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｅ（５８９ｎｍ）は、－１２０ｎｍ～－１６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）は、－３０ｎｍ～３０ｎｍである。

【0060】

この実施形態の一クラスにおいて、またはこの実施形態中の他の任意のクラスとの組合せにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）は、－１２０ｎｍ～－３２０ｎｍであり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）は、－６０ｎｍ～６０ｎｍであり、Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）の比が、０．７５～０．９５であり、Ｒｅ（６５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）の比が０．９７～１．１５である。

【0061】

このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｅ（５８９ｎｍ）は、－１２０ｎｍ～－１６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）は、－３０ｎｍ～３０ｎｍである。このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒｅ（５８９ｎｍ）は、－２４０ｎｍ～－３２０ｎｍであり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）は、－３０ｎｍ～３０ｎｍである。

【0062】

この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は、１．０５未満であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0063】

このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は０．９５超であり、ここで、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0064】

このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は、１．１０～１．２であり、ここで、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0065】

この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は０．７５～０．８５であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0066】

【0067】

このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は１．１０～１．２であり、ここで、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0068】

この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものは－６．０～－０．５であり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものは－１．０～１．０である。

【0069】

この実施形態の一サブクラスにおいて、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は１．０５未満であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0070】

このサブクラスの一部分的サブクラスにおいて、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は０．９５超であり、ここで、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0071】

このサブクラスの一部分的サブクラスにおいて、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）に対するの比は１．１０～１．２であり、ここで、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0072】

この実施形態の一サブクラスにおいて、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は０．７５～０．８５であり、ここでＲ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0073】

【0074】

このサブクラスの一部分的サブクラスにおいて、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は１．１０～１．２であり、ここで、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0075】

この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものは－６．０～－０．５であり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）との比に１０００を乗じたものは０．１５～４．２である。

【0076】

【0077】

【0078】

【0079】

この実施形態の一部分的サブクラスにおいて、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は０．７５～０．８５であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0080】

【0081】

【0082】

この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は１．０５未満であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0083】

【0084】

このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は１．０超であり、ここで、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0085】

このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は１．１０～１．２５であり、ここで、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0086】

この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は０．９未満であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0087】

【0088】

【0089】

【0090】

【0091】

【0092】

【0093】

【0094】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｎ_ｚは－１．５～１．５である。
この実施形態の一クラスにおいて、またはこの実施形態中の他の任意のクラスとの組合せにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）は、－１２０ｎｍ～－３２０ｎｍであり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）は、－６０ｎｍ～６０ｎｍであり、Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）の比は、０．９５～１．０２であり、Ｒｅ（６５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）の比は、０．９５～１．０５であり、ここで、Ｒｅ（４５０ｎｍ）、Ｒｅ（５５０ｎｍ）、およびＲｅ（６５０ｎｍ）は、それぞれ、４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0095】

【0096】

この実施形態の一クラスにおいて、またはこの実施形態中の他の任意のクラスとの組合せにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）は、－１２０ｎｍ～－３２０ｎｍであり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）は、－６０ｎｍ～６０ｎｍであり、Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）の比が、０．７５～０．９５であり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）に対するＲ_ｅ（６５０ｎｍ）の比が０．９７～１．１５である。

【0097】

【0098】

【0099】

【0100】

【0101】

【0102】

【0103】

【0104】

【0105】

【0106】

【0107】

【0108】

この実施形態の一サブクラスにおいて、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は０．７５～０．８５であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0109】

【0110】

【0111】

この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものは－６．０～－０．５であり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものは０．１５～４．２である。

【0112】

この実施形態の一サブクラスにおいて、Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）の比は１．０５未満であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0113】

【0114】

【0115】

【0116】

【0117】

【0118】

【0119】

【0120】

【0121】

このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は１．１０～１．２５であり、ここで、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は０．９未満であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0122】

【0123】

【0124】

【0125】

【0126】

【0127】

【0128】

【0129】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｎ_ｚは０．３～０．７である。
この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）は－１２０～－３２０ｎｍであり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）は－６０～６０ｎｍである。

【0130】

この実施形態の一クラスにおいて、またはこの実施形態中の他の任意のクラスとの組合せにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）は、－１２０ｎｍ～－３２０ｎｍであり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）は、－６０ｎｍ～６０ｎｍであり、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は、０．９５～１．０２であり、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は、０．９５～１．０５であり、ここで、Ｒｅ（４５０ｎｍ）、Ｒｅ（５５０ｎｍ）、およびＲｅ（６５０ｎｍ）は、それぞれ、４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0131】

【0132】

この実施形態の一クラスにおいて、またはこの実施形態中の他の任意のクラスとの組合せにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）は、－１２０ｎｍ～－３２０ｎｍであり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）は、－６０ｎｍ～６０ｎｍであり、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比が、０．７５～０．９５であり、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比が０．９７～１．１５である。

【0133】

【0134】

この実施形態の一クラスにおいて、Ｒｅ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものは－６．０～－０．５であり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものは－１．８～１．８である。

【0135】

このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は１．０５未満であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0136】

【0137】

【0138】

このクラスの一サブクラスにおいて、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は０．７５～０．８５であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0139】

【0140】

【0141】

【0142】

【0143】

【0144】

【0145】

【0146】

【0147】

このサブクラスの一部分的サブクラスにおいて、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は１．１０～１．２であり、ここで、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は１．０５未満であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0148】

【0149】

【0150】

【0151】

【0152】

【0153】

【0154】

【0155】

【0156】

【0157】

【0158】

【0159】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｎ_ｚは０．４～０．６である。
この実施形態の一クラスにおいて、またはこの実施形態中の他の任意のクラスとの組合せにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）は、－１２０ｎｍ～－３２０ｎｍであり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）は、－６０ｎｍ～６０ｎｍであり、Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）の比は、０．９５～１．０２であり、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は、０．９５～１．０５であり、ここで、Ｒｅ（４５０ｎｍ）、Ｒｅ（５５０ｎｍ）、およびＲｅ（６５０ｎｍ）は、それぞれ、４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0160】

【0161】

この実施形態の一クラスにおいて、またはこの実施形態中の他の任意のクラスとの組合せにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）は、－１２０ｎｍ～－３２０ｎｍであり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）は、－６０ｎｍ～６０ｎｍであり、Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）の比が、０．７５～０．９５であり、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比が０．９７～１．１５である。

【0162】

【0163】

【0164】

【0165】

【0166】

【0167】

【0168】

【0169】

【0170】

【0171】

【0172】

【0173】

【0174】

【0175】

【0176】

【0177】

【0178】

【0179】

【0180】

【0181】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｎ_ｚは０．８～１．２である。
この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）は－１２０～－３２０ｎｍであり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）は６０～１２０ｎｍである。

【0182】

この実施形態の一クラスにおいて、またはこの実施形態中の他の任意のクラスとの組合せにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）は、－１２０ｎｍ～－３２０ｎｍであり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）は、－６０ｎｍ～６０ｎｍであり、Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）の比は、０．９５～１．０２であり、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は、０．９５～１．０５であり、ここで、Ｒｅ（４５０ｎｍ）、Ｒｅ（５５０ｎｍ）、およびＲｅ（６５０ｎｍ）は、それぞれ、４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0183】

【0184】

【0185】

【0186】

この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものは－６．０～－０．５であり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）とｄ（ｎｍ）との比に１０００を乗じたものは０．１５～４．２である。

【0187】

【0188】

【0189】

【0190】

【0191】

【0192】

【0193】

この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものが－８．０～－０．５であり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものが０．１５～５．６である。

【0194】

【0195】

【0196】

【0197】

【0198】

【0199】

【0200】

【0201】

【0202】

【0203】

【0204】

【0205】

【0206】

【0207】

【0208】

【0209】

【0210】

【0211】

【0212】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものは－６．０～－０．５である。この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものが－３．０～３．０である。この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものが－２．０～２．０である。この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものが－１．８～１．８である。この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものが－１．０～１．０である。

【0213】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものが－８．０～－０．５である。この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものが－３．０～３．０である。この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものは－２．４～２．４である。この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものは－１．８～１．８である。この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものは－１．０～１．０である。

【0214】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものが－３．０～３．０である。一実施形態において、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものが－２．０～２．０である。一実施形態において、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものが－１．８～１．８である。一実施形態において、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものが－１．０～１．０である。

【0215】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は１．０５未満であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0216】

この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は０．９５超であり、ここで、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0217】

この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は１．０超であり、ここで、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0218】

この実施形態の一クラスにおいて、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は１．１０～１．２５であり、ここで、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0219】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は１．０未満であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0220】

【0221】

【0222】

【0223】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は０．９未満であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0224】

【0225】

【0226】

【0227】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は０．７５～０．８５であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0228】

【0229】

【0230】

【0231】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は０．９５超であり、ここで、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は１．０超であり、ここで、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比は１．１０～１．２５であり、ここで、Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである。

【0232】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、一軸延伸される、二軸延伸される、または各角度で延伸される。この実施形態の一クラスにおいて、フィルムは、一軸延伸されるか、または二軸延伸される。この実施形態の一クラスにおいて、フィルムは一軸延伸される。この実施形態の一クラスにおいて、フィルムは二軸延伸される。この実施形態の一クラスにおいて、フィルムは各角度で延伸される。

【0233】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、縦方向に沿って延伸される。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、縦方向に沿って収縮される。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、横方向に沿って延伸される。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、横方向に沿って収縮される。

【0234】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルム面内の遅軸は、フィルムの縦方向に対して０°～１８０°の角度を形成する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルム面内の遅軸は、フィルムの縦方向に対して０°～９０°の角度を形成する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルム面内の遅軸は、フィルムの縦方向に対して９０°～１８０°の角度を形成する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルム面内の遅軸は、フィルムの縦方向に対して４５°～１４５°の角度を形成する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルム面内の遅軸は、フィルムの縦方向に対して７５°～１１５°の角度を形成する。

【0235】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、１０ｗｔ％未満の、非置換であるか、もしくは置換されている（２－ヒドロキシフェニル）（フェニル）メタノン、または非置換であるか、もしくは置換されている２Ｈ－クロメン－２－オンを含む。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、５ｗｔ％未満の、非置換であるか、もしくは置換されている（２－ヒドロキシフェニル）（フェニル）メタノン、または非置換であるか、もしくは置換されている２Ｈ－クロメン－２－オンを含む。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、１ｗｔ％未満の、非置換であるか、もしくは置換されている（２－ヒドロキシフェニル）（フェニル）メタノン、または非置換であるか、もしくは置換されている２Ｈ－クロメン－２－オンを含む。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、０．１ｗｔ％未満の、非置換であるか、もしくは置換されている（２－ヒドロキシフェニル）（フェニル）メタノン、または非置換であるか、もしくは置換されている２Ｈ－クロメン－２－オンを含む。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、０ｗｔ％未満の、非置換であるか、もしくは置換されている（２－ヒドロキシフェニル）（フェニル）メタノン、または非置換であるか、もしくは置換されている２Ｈ－クロメン－２－オンを含む。

【0236】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％超で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。

【0237】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、

【0238】

【化5】

【0239】

である。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％超で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。

【0240】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、

【0241】

【化6】

【0242】

【0243】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、１，３－ジフェニル－１，３－プロパンジオン、アヴォベンゾン、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（ヘキシルオキシ）フェノール、２－［４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル］－５－［２－ヒドロキシ－３－（ドデシルオキシ－およびトリデシルオキシ）プロポキシ］フェノール、イソオクチル２－（４－（４，６－ジ（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－３－ヒドロキシフェノキシ）プロパノエート、６，６’－（６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジイル）ビス（３－ブトキシフェノール）、２－（４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（３－（（２－エチルヘキシル）オキシ）－２－ヒドロキシプロポキシ）フェノール、２－（４，６－ジ（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（（２－エチルヘキシル）オキシ）フェノール、またはこれらの組合せである。

【0244】

この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％超で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。

【0245】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、１，３－ジフェニル－１，３－プロパンジオンである。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％超で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。

【0246】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａはアヴォベンゾンである。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％超で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。

【0247】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（ヘキシルオキシ）フェノール（Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１５７７）である。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％超で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。

【0248】

一実施形態において、成分Ａは、イソオクチル２－（４－（４，６－ジ（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－３－ヒドロキシフェノキシ）プロパノエート（Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）４７９）である。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％超で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。

【0249】

一実施形態において、成分Ａは、２－（４，６－ジ（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（（２－エチルヘキシル）オキシ）フェノール（Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１６００）である。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは１ｗｔ％超で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。

【0250】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、６，６’－（６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジイル）ビス（３－ブトキシフェノール）（Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）４６０）である。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％超で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～３０％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。

【0251】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは、２－（４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（３－（（２－エチルヘキシル）オキシ）－２－ヒドロキシプロポキシ）フェノールである。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％超で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、成分Ａは、１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。

【0252】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、セルロースエステルは、０．７～２．２の、第１の不飽和または飽和（Ｃ_１～６）アルキル－アシル置換基（「ＤＳ_ＦＡｋ」）の置換度を有する。一実施形態において、セルロースエステルは、０．７～１．９の、第１の不飽和または飽和（Ｃ_１～６）アルキル－アシル置換基（「ＤＳ_ＦＡｋ」）の置換度を有する。

【0253】

この実施形態の一クラスにおいて、第１の不飽和または飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基は、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、３－メチルブタノイル、ペンタノイル、４－メチルペンタノイル、３－メチルペンタノイル、２－メチルペンタノイル、ヘキサノイル、またはクロトニルである。この実施形態の一クラスにおいて、第１の不飽和または飽和（Ｃ_１～６）アルキル－ＣＯ－置換基は、アセチル、プロピオニル、またはクロトニルである。

【0254】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、セルロースエステルは、第１の（Ｃ_１～６）アルキル－ＣＯ－とは異なる、複数の第２の不飽和または飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基をさらに含む。この実施形態の一クラスにおいて、第２の不飽和または飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基（「ＤＳ_ＳＡｋ」）の置換度は０．０５～０．６である。

【0255】

この実施形態の一クラスにおいて、第２の不飽和または飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基は、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、３－メチルブタノイル、ペンタノイル、４－メチルペンタノイル、３－メチルペンタノイル、２－メチルペンタノイル、ヘキサノイル、ピバロイル（pivalyl）、または２－エチルヘキサノイルである。この実施形態の一クラスにおいて、第２の不飽和または飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基は、アセチル、イソブチリル、３－メチルブタノイル、ペンタノイル、４－メチルペンタノイル、３－メチルペンタノイル、２－メチルペンタノイル、ヘキサノイル、または２－エチルヘキサノイルである。この実施形態の一クラスにおいて、第２の不飽和または飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基は、アセチルまたは２－エチルヘキサノイルである。

【0256】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、芳香族－ＣＯ－は（Ｃ_６～２０）アリール－ＣＯ－［式中、アリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている］である。この実施形態の一クラスにおいて、芳香族－ＣＯ－は、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている、ベンゾイルまたはナフトイルである。この実施形態の一クラスにおいて、芳香族－ＣＯ－は、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている芳香族－ＣＯ－はベンゾイルである。この実施形態の一クラスにおいて、芳香族－ＣＯ－は、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されているナフトイルである。

【0257】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、芳香族－ＣＯ－は、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されているベンゾイルである。この実施形態の一クラスにおいて、セルロースエステルは、０．４０～１．６０の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する。このクラスの一サブクラスにおいて、Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯの合計は０．３０～１．２５である。

【0258】

この実施形態の一クラスにおいて、セルロースエステルは、０．５０～１．５０の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する。このクラスの一サブクラスにおいて、Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯの合計は０．３０～１．２０である。

【0259】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、芳香族－ＣＯ－は、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されているナフトイルである。この実施形態の一クラスにおいて、セルロースエステルは、０．３０～０．６の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する。このクラスの一サブクラスにおいて、Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯの合計は０．２０～０．４０である。このクラスの一サブクラスにおいて、Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯの合計は０．３０～０．４０である。

【0260】

この実施形態の一クラスにおいて、セルロースエステルは、０．５０～１．１０の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する。このクラスの一サブクラスにおいて、Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯの合計は０．２０～０．４０である。このクラスの一サブクラスにおいて、Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯの合計は０．３０～０．４０である。

【0261】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、芳香族－ＣＯ－は、ヘテロアリール－ＣＯ－［式中、ヘテロアリールは、Ｎ、Ｏ、またはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を有する５～１０員環であり、ヘテロアリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている］である。この実施形態の一クラスにおいて、ヘテロアリール－ＣＯ－は、ピリジニル－ＣＯ－、ピリミジニル－ＣＯ－、フラニル－ＣＯ－、またはピロリル－ＣＯ－である。この実施形態の一クラスにおいて、ヘテロアリール－ＣＯ－は２－フロイルである。

【0262】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、セルロースエステルは、０．４～１．６の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、セルロースエステルは、１．０～１．６の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、セルロースエステルは、０．３～１．２５の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、セルロースエステルは、０．４～１．２の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、セルロースエステルは、０．４～０．８の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、セルロースエステルは、０．３～０．８の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、セルロースエステルは、０．３～０．６の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、セルロースエステルは、０．２～０．６の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、セルロースエステルは、０．２～０．５の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、セルロースエステルは、０．８～１．２の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、セルロースエステルは、０．５～１．１の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する。

【0263】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ＤＳ_ＯＨは０．３～１．０である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ＤＳ_ＯＨは０．３～０．９である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ＤＳ_ＯＨは０．４～０．９である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ＤＳ_ＯＨは０．５～０．９である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ＤＳ_ＯＨは０．６～０．９である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ＤＳ_ＯＨは０．４～０．８である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ＤＳ_ＯＨは０．５～０．８である。

【0264】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯの合計は０．３～１．２５である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯの合計は０．２～０．４である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯの合計は０．３～０．４である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯの合計は０．４～１．２である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯの合計は０．４～１．１である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯの合計は０．４～１．０である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯの合計は０．５～１．１である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯの合計は０．６～１．０である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯの合計は０．６～１．２５である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯの合計は０．３０～０．７５である。

【0265】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは１ｗｔ％超で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは２．５ｗｔ％超で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは２．５ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは５ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは２．５ｗｔ％～２５ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは１ｗｔ％～３０ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは１ｗｔ％～２０ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは１ｗｔ％～１８ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは１ｗｔ％～１５ｗｔ％の範囲で存在する。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、成分Ａは１ｗｔ％～１０ｗｔ％の範囲で存在する。

【0266】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｍは１である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｍは２である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｍは３である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｍは４である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｍは５である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｍは１、２、３または４である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｍは１、２または３である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｍは１または２である。

【0267】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｎは１である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｎは２である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｎは３である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｎは４である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｎは５である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｎは１、２、３または４である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｎは１、２または３である。一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、ｎは１または２である。

【0268】

フィルムの加工性および可撓性を改善するために可塑剤を添加してもよい。これは、ガラス転位点およびフィルムを形成する材料の融解温度を低下させ得、ひいては、温度低下および／またはフィルム製造の簡易化を促進しうる。可塑剤は、本明細書で開示するセルロースエステルと相溶すべきであり、特にメルトキャスティングによるフィルム成形の場合の不揮発性可塑剤化合物を要するフィルム調製およびコンディショニング工程において適用される最高温度より高い沸点を有するべきである。

【0269】

一実施形態において、または他の任意の実施形態との組合せにおいて、フィルムは、０．１～１５ｗｔ％の可塑剤をさらに含む。
この実施形態の一クラスにおいて、またはこの実施形態の他の任意のクラスとの組合せにおいて、可塑剤は、０．１～１０ｗｔ％で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、またはこの実施形態の他の任意のクラスとの組合せにおいて、可塑剤は、０．１～５ｗｔ％で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、またはこの実施形態の他の任意のクラスとの組合せにおいて、可塑剤は、５～１０ｗｔ％で存在する。この実施形態の一クラスにおいて、またはこの実施形態の他の任意のクラスとの組合せにおいて、可塑剤は、３～７ｗｔ％で存在する。

【0270】

この実施形態の一クラスにおいて、またはこの実施形態中の他の任意のクラスとの組合せにおいて、可塑剤は、ホスフェートタイプの可塑剤、フタレートタイプの可塑剤、テレフタレートタイプの可塑剤、トリメリテートタイプの可塑剤、ベンゾエートタイプの可塑剤、グリコレートタイプの可塑剤、シトレートタイプの可塑剤、多価アルコールエステルタイプの可塑剤、ポリオールタイプの可塑剤、糖エステルタイプの可塑剤、セルロースエステルタイプの可塑剤、またはポリエステルタイプの可塑剤から選択される。このクラスの一サブクラスにおいて、可塑剤は、から選択される
グリコレート可塑剤の非限定例としては、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグルコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグルコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレートおよびオクチルフタリルエチルグリコレートが挙げられる。

【0271】

ホスフェートタイプの可塑剤の非限定例としては、リン酸トリフェニルおよびリン酸トリクレジルが挙げられる。
シトレートタイプの可塑剤の非限定例としては、クエン酸トリアセチルおよびクエン酸トリブチルが挙げられる。

【0272】

ベンゾエートタイプの可塑剤の非限定例としては、安息香酸２－ナフチル（ＢＡＮＥ）、ジ安息香酸ジプロピレングリコール、ジ安息香酸１，４－シクロヘキサンジメタノール、ジ安息香酸２，２，４－トリメチル－１，３－ペンタンジオール、およびジ安息香酸ジエチレングリコールが挙げられる。

【0273】

フタレートタイプの可塑剤の非限定例としては、フタル酸ジシクロヘキシル、フタル酸ジベンジル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジ－２－エチルヘキシル、フタル酸ジフェニル、およびフタル酸ジヘキシルが挙げられる。

【0274】

テレフタレートタイプの可塑剤の非限定例としては、テレフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジエチル、テレフタル酸ジブチル、テレフタル酸ジ－２－エチルヘキシル、テレフタル酸ジフェニルおよびテレフタル酸ジヘキシルが挙げられる。

【0275】

ポリエステルタイプの可塑剤の非限定例としては、Ａｄｍｅｘ５２３、Ａｄｍｅｘ６９９５、およびＡｄｍｅｘ７６０などのアジピン酸ポリエステルが挙げられる。
ポリオールタイプの可塑剤の非限定例としては、シクロヘキサン－１，４－ジメタノール、ソルビトール、１，３－プロパンジオール、エチレングリコール、グリセリン、トリエチレングリコール、テトラメチレングリコール、トリメチロールプロパン、およびキシリトールが挙げられる。

【0276】

多価アルコールエステルタイプの可塑剤の非限定例としては、ビス（２－エチルヘキサン酸）トリエチレングリコール、ジ安息香酸ジプロピレングリコール、およびジ安息香酸ジエチレングリコールが挙げられる。トリメリテートタイプの可塑剤の非限定例としては、トリメリット酸トリス（２－エチルヘキサノエート）、およびリン酸クレジルジフェニルが挙げられる。

【0277】

セルロースエステルタイプの可塑剤の非限定例としては、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、酢酸酪酸セルロースが挙げられる。

【0278】

一実施形態において、またはこの実施形態中の他の任意のクラスとの組合せにおいて、可塑剤は、リン酸トリフェニル、フタル酸ジエチル、ジ安息香酸２，２，４－トリメチル－１，３－ペンタンジオール、ジ安息香酸１，４－シクロヘキサン、安息香酸２－ナフチル、トリエチレングリコールビス（２－エチルヘキサノエート）、１００００ｇ／ｍｏｌ未満の重量平均分子量を有するポリエステル、１００００ｇ／ｍｏｌ未満の重量平均分子量を有するセルロースエステル、またはこれらの組合せである。

【0279】

一実施形態において、またはこの実施形態中の他の任意のクラスとの組合せにおいて、可塑剤は、１つ以上の芳香族基を有する可塑剤である。
この出願において開示されるフィルムは、ＬＣＤ、ＯＬＥＤ、およびＱＤＯＬＥＤ装置において有用である。本出願は、先に開示したフィルムのいずれかを含む装置を開示する。

【0280】

一実施形態において、装置は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、または量子ドット有機発光ダイオード（ＱＤＯＬＥＤ）装置である。この実施形態の一クラスにおいて、装置はＬＣＤ装置である。この実施形態の一クラスにおいて、装置はＯＬＥＤ装置である。この実施形態の一クラスにおいて、装置はＱＤＯＬＥＤ装置である。

【0281】

本出願はまた、（１）（ｉ）複数の芳香族－ＣＯ－置換基、（ｉｉ）複数の第１の不飽和または飽和（Ｃ_１～６）アルキル－ＣＯ－置換基、および（ｉｉｉ）複数のヒドロキシル置換基を含む位置選択的に置換されたセルロースエステルであって、ここで、ヒドロキシルの置換度（「ＤＳ_ＯＨ」）が０．２～１．１であり、セルロースエステルが、０．１５～０．８の芳香族－ＣＯ－置換基のＣ２置換度（「Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯ」）を有し、セルロースエステルが、０．０５～０．６の芳香族－ＣＯ－置換基のＣ３置換度（「Ｃ３ＤＳ_ＡｒＣＯ」）を有し、セルロースエステルが、０．０５～０．６の芳香族－ＣＯ－置換基のＣ６置換度（「Ｃ６ＤＳ_ＡｒＣＯ」）を有し、芳香族－ＣＯ－置換基の全置換度（「全ＤＳ_ＡｒＣＯ」）が０．２５～２．０であり、芳香族－ＣＯ－が、（ｉ）（Ｃ_６～２０）アリール－ＣＯ－［式中、アリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている］または（ｉｉ）ヘテロアリール－ＣＯ－［式中、ヘテロアリールは、Ｎ、Ｏ、またはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を有する５～１０員環であり、ヘテロアリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている］である、位置選択的に置換されたセルロースエステルと、（２）

【0282】

【化7】

【0283】

［式中：環Ａは、（Ｃ_６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；環Ｂは、（Ｃ_６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；環Ｃは、（Ｃ_６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；各Ｒ^１は、独立に、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル；飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル；飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ；飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルコキシ；非置換であるか、もしくは１～５つのアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ハロによって置換されている（Ｃ_６～２０）アリール；Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリール；または－ＣＨ_２Ｃ（Ｏ）－Ｒ^３であり；Ｒ^２は、独立に、水素、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキルであり；各Ｒ^３は、独立に、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、（Ｃ_６～２０）アリール、またはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、アリールまたはヘテロアリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ^６によって置換され；各Ｒ^４は、独立に、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、非置換であるか、もしくは１～５つのＲ^６によって置換されている（Ｃ_６～２０）アリール、またはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する、非置換であるか、もしくは１～５つのＲ^６によって置換されている５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル－、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、非置換であるか、もしくは置換されている（Ｃ_６～２０）アリール、またはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する、非置換であるか、もしくは置換されている５～１０員ヘテロアリールによって置換されており；各Ｒ^６は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、ハロ、（Ｃ_６～２０）アリール、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリール、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、または（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキルであり、ここで、各基は、非置換であるか、または１～５つのＲ^７によって置換されており；
各Ｒ^７は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシであり；各Ｒ^９は、独立に、Ｒ^４－Ｏ－、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－Ｏ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、非置換であるか、もしくは１～５つのＲ^６によって置換されている（Ｃ_６～１０）アリール、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する、非置換であるか、もしくは１～５つのＲ^６によって置換されている、５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、または飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル－、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、または（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、非置換であるか、もしくは置換されている（Ｃ_６～２０）アリール、または非置換であるか、もしくは置換されている、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールによって置換されており；各ｎは、独立に、０、１、２、３、４または５であり；各ｍは、独立に、０、１、２、３、４または５であり；ｋは、独立に、０、１、２、３または４である］である成分Ａと、を含む組成物であって、ここで：成分Ａが、組成物の総重量に対して３０ｗｔ％未満で存在する、組成物も開示する。

【0284】

実施形態
実施形態１。（１）（ｉ）複数の芳香族－ＣＯ－置換基、（ｉｉ）複数の第１の不飽和または飽和（Ｃ_１～６）アルキル－ＣＯ－置換基、および（ｉｉｉ）複数のヒドロキシル置換基を含む位置選択的に置換されたセルロースエステルであって、ここで、ヒドロキシルの置換度（「ＤＳ_ＯＨ」）が０．２～１．１であり、セルロースエステルが、０．１５～０．８の芳香族－ＣＯ－置換基のＣ２置換度（「Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯ」）を有し、セルロースエステルが、０．０５～０．６の芳香族－ＣＯ－置換基のＣ３置換度（「Ｃ３ＤＳ_ＡｒＣＯ」）を有し、セルロースエステルが、０．０５～０．６の芳香族－ＣＯ－置換基のＣ６置換度（「Ｃ６ＤＳ_ＡｒＣＯ」）を有し、芳香族－ＣＯ－置換基の全置換度（「全ＤＳ_ＡｒＣＯ」）が０．２５～２．０であり、芳香族－ＣＯ－が、（ｉ）（Ｃ_６～２０）アリール－ＣＯ－［式中、アリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている］または（ｉｉ）ヘテロアリール－ＣＯ－［式中、ヘテロアリールは、Ｎ、Ｏ、またはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を有する５～１０員環であり、ヘテロアリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている］である、位置選択的に置換されたセルロースエステルと、（２）

【0285】

【化8】

【0286】

［式中：環Ａは、（Ｃ_６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；環Ｂは、（Ｃ_６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；環Ｃは、（Ｃ_６～２０）アリールまたはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり；各Ｒ^１は、独立に、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル；飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル；飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ；飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルコキシ；非置換であるか、もしくは１～５つのアルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、ハロによって置換されている（Ｃ_６～２０）アリール；Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリール；または－ＣＨ_２Ｃ（Ｏ）－Ｒ^３であり；Ｒ^２は、独立に、水素、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキルであり；各Ｒ^３は、独立に、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、（Ｃ_６～２０）アリール、またはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、アリールまたはヘテロアリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ^６によって置換され；各Ｒ^４は、独立に、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、非置換であるか、もしくは１～５つのＲ^６によって置換されている（Ｃ_６～２０）アリール、またはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する、非置換であるか、もしくは１～５つのＲ^６によって置換されている５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル－、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、非置換であるか、もしくは置換されている（Ｃ_６～２０）アリール、またはＮ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する、非置換であるか、もしくは置換されている５～１０員ヘテロアリールによって置換されており；各Ｒ^６は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、ハロ、（Ｃ_６～２０）アリール、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリール、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、または（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキルであり、ここで、各基は、非置換であるか、または１～５つのＲ^７によって置換されており；
各Ｒ^７は、独立に、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルコキシであり；各Ｒ^９は、独立に、Ｒ^４－Ｏ－、ヒドロキシ、シアノ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～２個のヘテロ原子を含有する飽和もしくは不飽和ヘテロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－Ｏ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、非置換であるか、もしくは１～５つのＲ^６によって置換されている（Ｃ_６～１０）アリール、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する、非置換であるか、もしくは１～５つのＲ^６によって置換されている、５～１０員ヘテロアリールであり、ここで、各基は、非置換であるか、または１～３つのヒドロキシ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ、または飽和もしくは不飽和ハロ（Ｃ_１～２０）アルコキシ、飽和もしくは不飽和ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－ヒドロキシ（Ｃ_１～２０）アルキル、または飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル－、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、飽和もしくは不飽和（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、または（Ｃ_１～２０）アルコキシ－（Ｃ_１～２０）アルキル－Ｏ－ＣＯ－（Ｃ_１～２０）アルキル、非置換であるか、もしくは置換されている（Ｃ_６～２０）アリール、または非置換であるか、もしくは置換されている、Ｎ、ＯもしくはＳから選択される１～４個のヘテロ原子を含有する５～１０員ヘテロアリールによって置換されており；各ｎは、独立に、０、１、２、３、４または５であり；各ｍは、独立に、０、１、２、３、４または５であり；ｋは、独立に、０、１、２、３または４である］である成分Ａと、を含むフィルムであって、ここで：成分Ａが、フィルムの総重量に対して３０ｗｔ％未満で存在し、フィルムが、－１００ｎｍ～－３５０ｎｍのＲ_ｅ（５８９ｎｍ）を示し、フィルムが、－１００ｎｍ～１００ｎｍのＲ_ｔｈ（５８９ｎｍ）を示し、フィルムが、０．７～１．２０のＲ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比を示し、フィルムが、０．９～１．２５のＲ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比を示し、フィルムが、０．２～０．８の［［－Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）］＋０．５］（「Ｎ_ｚ」）を示し、各Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）が、５８９ｎｍで測定した面外リタデーションであり、各Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）が、それぞれ、５８９ｎｍ、４５０ｎｍ、および５５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、フィルムが延伸されている、フィルム。

【0287】

実施形態２。１００℃～２２０℃の温度で延伸される、実施形態１のフィルム。
実施形態３。フィルムがＴ_ｇ－３０℃～Ｔ_ｇ＋５０℃の温度で延伸され、ここで、Ｔ_ｇがフィルムのガラス転移温度である、実施形態１～２のいずれか１つのフィルム。

【0288】

実施形態４。Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）が－１２０～－３２０ｎｍであり、Ｒ_ｔｈ（５８９ｎｍ）が－６０～６０ｎｍである、実施形態１～３のいずれか１つのフィルム。
実施形態５。Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比が０．７５～１．０５であり、ここで、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）が、４５０ｎｍで測定した面内リタデーションであり、Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）が、５５０ｎｍで測定した面内リタデーションである、実施形態１～４のいずれか１つのフィルム。

【0289】

実施形態６。Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の比が０．７５～０．８５である、実施形態５のフィルム。
実施形態７。成分Ａが、

【0290】

【化9】

【0291】

である、実施形態１～６のいずれか１つのフィルム。
実施形態８。成分Ａが、１，３－ジフェニル－１，３－プロパンジオン、アヴォベンゾン、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（ヘキシルオキシ）フェノール、２－［４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル］－５－［２－ヒドロキシ－３－（ドデシルオキシおよびトリデシルオキシ）プロポキシ］フェノール、イソオクチル２－（４－（４，６－ジ（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－３－ヒドロキシフェノキシ）プロパノエート、６，６’－（６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジイル）ビス（３－ブトキシフェノール）、２－（４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（３－（（２－エチルヘキシル）オキシ）－２－ヒドロキシプロポキシ）フェノール、２－（４，６－ジ（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（（２－エチルヘキシル）オキシ）フェノール、またはこれらの組合せである、実施形態１～７のいずれか１つのフィルム。

【0292】

実施形態９。芳香族－ＣＯ－が（Ｃ_６～２０）アリール－ＣＯ－［式中、アリールは、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている］である、実施形態１～８のいずれか１つのフィルム。

【0293】

実施形態１０。芳香族－ＣＯ－が、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている、ベンゾイルまたはナフトイルである、実施形態９のフィルム。
実施形態１１。芳香族－ＣＯ－が、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されている、ベンゾイルである、実施形態１０のフィルム。

【0294】

実施形態１２。セルロースエステルが、０．５０～１．６０の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する、実施形態１１のフィルム。
実施形態１３。Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯとの合計が０．３０～１．２５である、実施形態１２のフィルム。

【0295】

実施形態１４。芳香族－ＣＯ－が、非置換であるか、または１～５つのＲ^１によって置換されているナフトイルである、実施形態１３のフィルム。
実施形態１５。セルロースエステルが、０．３～０．８の全ＤＳ_ＡｒＣＯを有する、実施形態１４のフィルム。

【0296】

実施形態１６。Ｃ２ＤＳ_ＡｒＣＯとＣ３ＤＳ_ＡｒＣＯとの合計が０．２～０．６である、実施形態１５のフィルム。
実施形態１７。セルロースエステルが、複数の第２の（Ｃ_１～２０）アルキル－ＣＯ－置換基をさらに含む、実施形態１～１６のいずれか１つのフィルム。

【0297】

実施形態１８。１種以上の可塑剤をさらに含む、実施形態１～１７のいずれか１つのフィルム。
実施形態１９。可塑剤が、リン酸エステル可塑剤、フタル酸エステル可塑剤、モノもしくはジ安息香酸可塑剤、糖エステル可塑剤、グリコールエステル可塑剤、ポリエステル可塑剤、セルロースエステル可塑剤、またはこれらの組合せである、実施形態１８のフィルム。

【0298】

実施形態２０。可塑剤が、リン酸トリフェニル、フタル酸ジエチル、ジ安息香酸２，２，４－トリメチル－１，３－ペンタンジオール、ジ安息香酸１，４－シクロヘキサン、安息香酸２－ナフチル、トリエチレングリコールビス（２－エチルヘキサノエート）、１００００ｇ／ｍｏｌ未満の重量平均分子量を有するポリエステル、１００００ｇ／ｍｏｌ未満の重量平均分子量を有するセルロースエステル、またはこれらの組合せである、実施形態１８または１９のいずれか１つのフィルム。

【0299】

実施形態２１。可塑剤が、１つ以上の芳香族基を有する可塑剤である、実施形態１８～２０のいずれか１つのフィルム。
実施形態２２。フィルムが、縦方向（「ＭＤ」）に沿って延伸される、ＭＤに沿って収縮される、横方向（「ＴＤ」）に沿って延伸される、ＴＤに沿って収縮される、またはこれらの組合せである、実施形態１～２０のいずれか１つのフィルム。

【0300】

実施形態２３。フィルム面内の遅軸が、フィルムのＭＤに対して０°～１８０°の角度を形成する、実施形態１～２１のいずれか１つのフィルム。

【実施例】

【0301】

略語
１ＭＩＭ：１－メチルイミダゾール；２ＥＨまたは２－ＥＨ：２－エチルヘキサノイル；２ＥＨＣｌ：塩化２－エチルヘキサノイル；ＡｃＯＨ：酢酸；Ａｋ：アルキルアシルまたはアルキル－ＣＯ－；Ａｋ１はＦａｋと同一である；Ａｋ２はＳａｋと同一である；Ａｒ：アリール；ＡｒＣＯ：アリール－アシルまたはアリール－ＣＯ－；ａｔｍ：大気圧；Ｂｚ：ベンゾイル；ＢｚＣｌ：塩化ベンゾイル；Ｂｚ_２Ｏ：安息香酸無水物；℃：摂氏度；Ｃ２ＤＳ：Ｃ２位の置換度；Ｃ３ＤＳ：Ｃ３位の置換度；Ｃ６ＤＳ：Ｃ６位の置換度；ＣａｃＰｒ：アセチルプロピオニル置換セルロースエステルまたは酢酸プロピオン酸セルロース；ＣＣｒＢｚ：クロトニルおよびベンゾイル置換セルロースエステルまたはクロトン酸安息香酸セルロース；ＣＥ：セルロースエステル；Ｃｏｃ：オクタノイル置換セルロースエステルまたはオクタン酸セルロース；ＣＰＮ；シクロペンタノン；ＣＰｒ：プロピオニル置換セルロースエステルまたはプロピオン酸セルロース；ＣＰｒＢｚ：プロピオニルおよびベンゾイル置換セルロースエステルまたはプロピオン酸安息香酸セルロース；ＣＰｒ２ＥＨ：プロピオニルおよび２－エチルヘキサノイル置換セルロースエステルまたはプロピオン酸２－エチルヘキサン酸セルロース；ＣＰｒ２ＥＨＢｚ：プロピオニル、２－エチルヘキサノイルおよびベンゾイル置換セルロースエステルまたはプロピオン酸２－エチルヘキサン酸安息香酸セルロース；ＣＰｒ２ＥＨＦ：プロピオニル、２－エチルヘキサノイルおよびフラノイル置換セルロースエステルまたはプロピオン酸２－エチルヘキサン酸フロ酸セルロース；ＣＰｒ２ＥＨＮｐ：プロピオニル、２－エチルヘキサノイルおよびナフトイル置換セルロースエステルまたは２－エチルヘキサン酸ナフトエ酸セルロース（cellulose 2-ethylhexanoate naphthoate）；ＣＰｒＮｐ：プロピオニルおよびナフトイル置換セルロースエステルまたはプロピオン酸ナフトエ酸セルロース；ＣｐｒＡｃＢｚ：プロピオニル、アセチルおよびベンゾイル置換セルロースエステルまたはプロピオン酸酢酸安息香酸セルロース；ＣＣｒＢｚ：クロトニル、ベンゾイル置換セルロースエステルまたはクロトン酸安息香酸セルロース；ＣＰｒＰｖＮｐ：プロピオニル、ピバロイルおよびナフトイル置換セルロースエステルまたはプロピオン酸ピバル酸ナフトエ酸セルロース；ＤＣＭ：ジクロロメタン；ＤＥＡＭＣ：７－ジエチルアミノ－４－メチルクマリン；ＤＥＰ：フタル酸ジエチル；ＤＨＯＤＰＯ：（２－ヒドロキシ－４－メトキシフェニル）（２－ヒドロキシフェニル）メタノン；ＢＡＮＥ：安息香酸２－ナフチル；ＤＭＡＣ：ジメチルアセトアミド；ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド；ＤＰＤＯ：１，３－ジフェニルプロパン－１，３－ジオン；ＤＳ：平均置換度；ｅｑ：当量；ＥｔＯＨ：エタノール；Ｅｘ：実施例；Ｆ：フラン－２－ＣＯ－；Ｆａｋ：第１のアルキル－アシル、Ａｋ１または第１のアルキル－ＣＯ－；Ｆａｒ：第１のアリール－アシルまたは第１のアリール－ＣＯ－；ＦＣｌ：塩化フラン－２－カルボニル；ｇ：グラム；ＨＯＤＰＯ：（２－ヒドロキシ－４－（オクチルオキシ）フェニル）（フェニル）メタノン；ｉ－ＰｒＯＨ：イソプロパノール；ＫＯＡｃ：酢酸カリウム；ＭＥＫ：メチルエチルケトン；ｈｒまたはｈ：時間；Ｌ：リットル；ＭｅＯＨ：メタノール；ｍｉｎ：分；ｍＬ：ミリリットル；μｍ：マイクロメートルまたはミクロン；ｍｏｌ：モル；ｍｏｌｅｑ：無水グルコース単位のモル数に対するモル当量；ＮＭＰ：Ｎ－メチルピロリドン；Ｎｐ：ナフトイル；ＮｐＣｌ：塩化ナフトイル；Ｐｒ：プロピオニル；Ｐｒ_２Ｏ：プロピオン酸無水物；ＰｒＣｌ：塩化プロピオニル；ＲＢＦ：丸底フラスコ；ＲＭ：反応混合物；ＳＭ：出発物質；Ｉｎｔ；中間体；ｒｔ：室温；Ｓａｋ：第２のアルキル－アシルまたは第２のアルキル－ＣＯ－；Ｓａｒ：第２のアリール－アシルまたは第２のアリール－ＣＯ－；ＴＢＭＡＤＭＰ：ジメチルリン酸トリブチルメチルアンモニウム；Ｔｏｔ．：合計；ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸；ＴＦＡＡ：無水トリフルオロ酢酸；ＵＶ：紫外線。

【0302】

ＮＭＲ特性評価：プロトンＮＭＲデータを、６００ＭＨｚで操作するＪＥＯＬＭｏｄｅｌＥｃｌｉｐｓｅ－６００ＮＭＲ分光計で入手した。サンプル管のサイズは５ｍｍであり、サンプル濃度は、１ｍＬのＤＭＳＯ－ｄ_６当たり約２０ｍｇだった。各スペクトルを、６４のスキャンおよび１５秒のパルス遅延を用いて８０℃で記録した。１～２滴のトリフルオロ酢酸－ｄを各サンプルに添加して、目的のスペクトル領域から残留水をシフトした。内部基準としてＤＭＳＯ－ｄ６の中心ピークを用いてテトラメチルシランから化学シフトを１００万分の１（「ｐｐｍ」）で報告する（２．４９ｐｐｍ）。

【0303】

定量的^１３ＣＮＭＲデータを、１００ＭＨｚで操作するＪＥＯＬＭｏｄｅｌＧＸ－４００ＮＭＲ分光計で入手した。サンプル管のサイズは１０ｍｍであり、サンプル濃度は、１ｍＬのＤＭＳＯ－ｄ_６当たり約１００ｍｇ／ｍＬだった。緩和剤としてのセルロースエステル１００ｍｇ当たり５ｍｇで、クロム（ＩＩＩ）アセチルアセトネートを各サンプルに添加した。各スペクトルは、典型的には、１００００のスキャンおよび１秒のパルス遅延を用いて、８０℃で記録した。内部基準としてＤＭＳＯ－ｄ６の中心ピークを用いてテトラメチルシランから化学シフトをｐｐｍで報告する（３９．５ｐｐｍ）。

【0304】

ＵＳ２０１２／０２６２６５０で開示された手順を適応することによって、セルロースエステルのさまざまなアシル基のプロトンおよび炭素ＮＭＲ割当、置換度および相対的置換度（「ＲＤＳ」）を決定した。

【0305】

ＤＭＴＡ測定を、５分間の等温温度に設定したＴＡＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ製のＤＭＡＱ８００で行い、後続して３℃／ｍｉｎでの２５℃～２３０℃への温度ランプ上で行った。振動ずれは０．１％で設定した。サンプルのガラス転移温度（Ｔｇ）を決定するために貯蔵弾性率の開始点を使用することができる。

【0306】

示差走査熱量（ＤＳＣ）測定を、０℃から２００℃へのまたは０℃から２４０℃への第１の加熱中、ＤＳＣＱ２０００で行い、冷却して０℃に戻し、２０℃／ｍｉｎの速度で０℃から２００℃または０℃から２４０℃に再加熱した。サンプルのガラス転移温度（Ｔｇ）を決定するために第２の加熱曲線を使用した。

【0307】

フィルムの調製のためのセルロースエステル溶液およびフィルム調製物は、ＵＳ２０１２／０２６２６５０に開示される手順を適応することによって作製した。
フィルムキャスティングのための溶液調製：セルロースエステル固形物および添加剤を溶媒に添加して、８～１６ｗｔ％の最終溶液濃度を得た。必要に応じて、より高い溶液濃度またはより低い溶液濃度を使用してもよい。混合物を密封し、ローラー上に置き、２４時間混合して均一な溶液を作製した。

【0308】

フィルム中の成分Ａまたは可塑剤のパーセンテージは、以下のとおりに規定される。成分Ａまたは可塑剤のパーセンテージ＝成分Ａまたは可塑剤の重量／セルロースエステル、成分Ａ、可塑剤および添加される他のすべての非溶媒成分の総重量。

【0309】

溶液の濃度は、以下のように規定される。溶液の濃度＝（溶媒を除外したセルロースエステル、成分Ａ、可塑剤および他のすべての成分）の総重量／（セルロースエステル、成分Ａ、可塑剤、添加される他のすべての成分および溶媒）の総重量。

【0310】

溶液調製に使用される溶媒は、これらに限定されないが、シクロペンタノン（ＣＰＮ）、ＤＣＭ、ＤＣＭとアセトン、エタノールまたはメタノールとの混合物、例えばアセトン／ＤＣＭ＝１０／９０（ｗｔ／ｗｔ）、メタノール／ＤＣＭ＝１０／９０（ｗｔ／ｗｔ）、メタノール／ＤＣＭ＝５／９５およびエタノール／ＤＣＭ＝１０／９０（ｗｔ／ｗｔ）、エタノール／ＤＣＭ＝５／９５（ｗｔ／ｗｔ）であってもよい。

【0311】

フィルムキャスティング：上記で調製した溶液を、ドクターブレードを使用して、ガラス板上にキャスティングして、所望の厚さのフィルムを得た。キャスティングは、４５％～５０％に制御した相対湿度下の換気フード中で行った。キャスティング後、アセトン／ＤＣＭ＝１０／９０（ｗｔ／ｗｔ）、メタノール／ＤＣＭ／メタノール＝１０／９０（ｗｔ／ｗｔ）およびエタノール／ＤＣＭ＝１０／９０（ｗｔ／ｗｔ）、メタノール／ＤＣＭ＝５／９５（ｗｔ／ｗｔ）、およびエタノール／ＤＣＭ＝５／９５（ｗｔ／ｗｔ）を溶媒として使用した場合、特に断りのない限り、カバーパン下でフィルムを６０～１１０分間乾燥させて、溶媒の蒸発速度を最小限にした後でパンを取り除いた。フィルムを１５～３０分間乾燥させ、次いでフィルムをガラスから剥がし、強制空気オーブン中、１００℃で１０分間焼きなました。１００℃で焼きなました後、フィルムをさらに１０分間、より高い温度（１２０℃）で焼きなました。ＣＰＮを溶媒として使用した場合、特に断りのない限り、フィルムをカバーパン下で７５分間乾燥した後でパンを取り除いた。フィルムを、さらに２時間、フード中でさらに乾燥した後、フィルムをガラスから剥がし、強制空気オーブン中、１００℃で１０分間焼きなました。１００℃で焼きなました後、フィルムをさらに１０分間、より高い温度（１３０℃）で焼きなました。

【0312】

フィルム延伸：フィルム延伸は、ＢｒｕｃｋｎｅｒＫａｒｏＩＶ実験室用フィルム引き伸ばし器によって行った。伸張比、伸長温度、予熱およびポストアニーリングなどの延伸条件を変えて、用途の必要条件に応じた特定の光学的リタデーションおよび分散を得た。

【0313】

伸張比は、式１に示すように、一方向に沿った延伸前のフィルムの寸法に対する延伸後のフィルムの最終寸法として規定される。例えば、ＭＤに沿って１００ｍｍから１４０ｍｍまで一軸延伸されたフィルムの場合、伸張比は１．４と規定される。１．０未満の伸張比は、該方向に沿って収縮したフィルムを意味する。

【0314】

【数1】

【0315】

光学的測定：フィルムの光学的リタデーションおよび分散の測定は、３７０～１０００ｎｍのスペクトル領域を有するＪ．Ａ．ＷｏｏｌｌａｍＭ－２０００ＶＳｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｉｃｃＥｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒまたは２５０～２５００ｎｍのスペクトル領域を有するＪ．Ａ．ＷｏｏｌｌａｍＲＣ２Ｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒを使用して行った。Ｊ．Ａ．ＷｏｏｌａｍＣｏ．，Ｉｎｃ．製のＲｅｔＭｅａｓ（リタデーション測定）プログラムを使用して光学フィルムの面内リタデーション（Ｒ_ｅ）および面外リタデーション（Ｒ_ｔｈ）を得た。フィルム厚さは、ＭｅｔｒｉｃｏｎＰｒｉｓｍＣｏｕｐｌｅｒ２０１０（ＭｅｔｒｉｃｏｎＣｏｒｐ．製）または手持ち型Ｐｏｓｉｔｅｃｔｏｒ６０００を使用して測定した。ヘイズおよびｂ^＊の測定は、拡散透過率モード（２．５４ｃｍ（１インチ）直径のポート）のＨｕｎｔｅｒＬａｂＵｌｔｒａｓｃａｎＶＩＳ比色計を使用して行った。

【0316】

化学薬品：ＤＥＰ、Ａｄｍｅｘ（商標）５２３、Ａｄｍｅｘ（商標）５２５、Ａｄｍｅｘ（商標）７６０およびＡｄｍｅｘ（商標）６９９５、Ｓｏｌｕｓ（商標）２１００、Ｓｏｌｕｓ（商標）２３００、Ｂｅｎｚｏｆｌｅｘ（商標）３５２、Ｂｅｎｚｏｆｌｅｘ（商標）３５４は、ＥａｓｔｍａｎＣｈｅｍｉｃａｌＣｏｍｐａｎｙから入手し、１，３－ジフェニルプロパン－１，３－ジオン、（２－ヒドロキシ－４－（オクチルオキシ）フェニル）（フェニル）メタノン、（２－ヒドロキシ－４－メトキシフェニル）（２－ヒドロキシフェニル）メタノンおよび７－ジエチルアミノ－４－メチルクマリンは、ＭｉｌｌｉｐｏｒｅＳｉｇｍａから購入し、（２－ヒドロキシ－４－（オクチルオキシ）フェニル）（フェニル）メタノンは、Ａｌｆａ－Ａｅｓａｒから購入し、アヴォベンゾンは、東京化成工業株式会社から購入し、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）４００、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）４０５およびＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１５７７は、ＣｉｂａＳｐｅｃｉａｌｔｙＣｈｅｍｉｃａｌＣｏｒｐ．から購入し、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）４６０、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１６００およびＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）４７９はＢＡＳＦから購入した。

【0317】

実施例１
５口丸底フラスコに、ＴＢＭＡＤＭＰ（４４０５．２ｇ）を添加した。ＴＢＭＡＤＭＰを、１．２０～１．８０ｍｍＨｇ下、１００℃で（５時間）加熱した。真空の除去後、ＮＭＰ（１８８７．９ｇ、３０ｗｔ％）をＲＭに添加し、ＲＭを室温まで冷却した。ＤＰｖ６１０セルロース（４７３．３ｇ、７ｗｔ％）を２０分にわたってＲＭに添加した。結果として得られたＲＭを室温で５５分間攪拌した。混合物を１００℃で（６時間）攪拌し、３０℃で（３時間）攪拌し、１０２℃に再加熱した。ＲＭに、Ｐｒ_２Ｏ（４５６ｇ、１．２当量）を６７分にわたって添加した。４６分後、Ｂｚ_２Ｏ（２１１５ｇ、３．３０当量）をＲＭに、２０分にわたって添加した。ＲＭを６７分間攪拌し、冷やした３０％のＨ_２Ｏ_２（４５ｍｌＬ）をＲＭにゆっくり添加した。次いで、混合物を３０分間攪拌した。粗生成物をＭｅＯＨ／Ｈ_２Ｏ（９５／５）溶液中で沈降させ、材料を濾過し、ＭｅＯＨで洗浄（５×）し、真空（５５ｍｍＨｇ、５０℃）下で乾燥して標題生成物を得た。^１ＨＮＭＲによる分析：ＤＳ_Ｐｒ＝１．６４およびＤＳ_Ｂｚ＝０．６９。^１３ＣＮＭＲによる分析：Ｃ６ＤＳ＝０．９４、Ｃ３ＤＳ＝０．５６、Ｃ２ＤＳ＝０．８３。ベンゾエートカルボニル共鳴の積分により、^１３ＣＮＭＲは、Ｃ２ＤＳ_Ｂｚ＋Ｃ３ＤＳＢｚ－Ｃ６ＤＳＢｚ＝０．３９も示した。

【0318】

実施例２
Ｅｘ２は、３．３当量の代わりに３．３５当量のＢｚ_２Ｏを使用して、Ｅｘ１の調製手順を適応することによって調製した。

【0319】

【表1】

【0320】

中間体１（ＣＰｒ、ＤＳ_ｐｒ＝１．１３）
４口丸底フラスコに、Ｎ_２雰囲気下、オーバーヘッド攪拌および底弁を用いて、ｉＰｒＯＨ（２５９ｇ）を添加した。ジャケットは４１℃に設定した。反応容器に、Ｅａｓｔｍａｎ（商標）ＣＡＰ４８２－２０（６０ｇ、１モル当量）を添加し、ＲＭを４０分間攪拌した。ＲＭに、ＡｃＯＨ（４．６３ｇ、０．４１モル当量）およびＤＭＳＯ（２５９ｇ）中のＮ_２Ｈ_４・Ｈ_２Ｏ（１８．０ｇ、１．８９モル当量）を添加した。ＲＭを２４時間攪拌した。水を添加することによって粗生成物を沈降させた。粗生成物をウォッシュバッグで濾過し、多量の水で洗浄した。固形物をアルミニウムパンに移し、真空下（６０℃）で終夜乾燥して標題化合物を得た。^１ＨＮＭＲ、^１３ＣＮＭＲ：ＤＳ_ｐｒ＝１．１３、ＤＳ_ＯＨ＝１．８７、Ｃ２ＤＳ＝０．２６、Ｃ３ＤＳ＝０．３４、Ｃ６ＤＳ＝０．５３。

【0321】

中間体２（ＣＰｒ、ＤＳ_Ｐｒ＝１．１６）
Ｉｎｔ２は、Ｉｎｔ１の調製手順を適応するが、例外としてＮ_２Ｈ_４・Ｈ_２Ｏ（１．８７モル当量）およびＡｃＯＨ（０．４モル当量）をＥａｓｔｍａｎ（商標）ＣＡＰ４８２－２０（１．０モル当量）に添加することによって調製した。^１ＨＮＭＲ、^１３ＣＮＭＲ：ＤＳ_ｐｒ＝１．１６、ＤＳ_ＯＨ＝１．８４、Ｃ２ＤＳ＝０．２６、Ｃ３ＤＳ＝０．３２、Ｃ６ＤＳ＝０．５７。

【0322】

中間体３（ＣＰｒ、ＤＳ_Ｐｒ＝１．１８）
Ｉｎｔ３は、Ｉｎｔ１の調製手順を適応するが、例外としてＮ_２Ｈ_４・Ｈ_２Ｏ（１．８５モル当量）およびＡｃＯＨ（０．４モル当量）をＥａｓｔｍａｎ（商標）ＣＡＰ４８２－２０（１．０モル当量）に添加することによって調製した。^１ＨＮＭＲ、^１３ＣＮＭＲ：ＤＳ_ｐｒ＝１．１８、ＤＳ_ＯＨ＝１．８２、Ｃ２ＤＳ＝０．２８、Ｃ３ＤＳ＝０．３１、Ｃ６ＤＳ＝０．５９。

【0323】

中間体４（ＣＰｒ、ＤＳ_ｐｒ＝１．４０）
Ｉｎｔ４は、Ｉｎｔ１の調製手順を適応するが、例外としてＮ_２Ｈ_４・Ｈ_２Ｏ（１．５７モル当量）およびＡｃＯＨ（０．３５モル当量）をＥａｓｔｍａｎ（商標）ＣＡＰ４８２－２０（１．０モル当量）に添加することによって調製した。^１ＨＮＭＲ、^１３ＣＮＭＲ：ＤＳ_ｐｒ＝１．４０、ＤＳ_ＯＨ＝１．６０、Ｃ２ＤＳ＝０．３２、Ｃ３ＤＳ＝０．４４、Ｃ６ＤＳ＝０．６３。

【0324】

中間体５（ＣＰｒ、ＤＳ_ｐｒ＝１．６４）
Ｉｎｔ５は、Ｉｎｔ１の調製手順を適応するが、例外としてＮ_２Ｈ_４・Ｈ_２Ｏ（１．２５モル当量）およびＡｃＯＨ（０．２９モル当量）をＥａｓｔｍａｎ（商標）ＣＡＰ４８２－２０（１．０モル当量）に添加することによって調製した。^１ＨＮＭＲ、^１３ＣＮＭＲ：ＤＳ_ｐｒ＝１．６４、ＤＳ_ＯＨ＝１．３６、Ｃ２ＤＳ＝０．４１、Ｃ３ＤＳ＝０．５２、Ｃ６ＤＳ＝０．７１。

【0325】

中間体６（ＣＰｒ、ＤＳ_ｐｒ＝１．１０）
Ｉｎｔ６は、Ｉｎｔ１の調製手順を適応するが、例外としてＮ_２Ｈ_４・Ｈ_２Ｏ（１．９４モル当量）およびＡｃＯＨ（０．４２モル当量）をＥａｓｔｍａｎ（商標）ＣＡＰ４８２－２０（１．０モル当量）に添加することによって調製した。^１ＨＮＭＲ、^１３ＣＮＭＲ：ＤＳ_ｐｒ＝１．１０、ＤＳ_ＯＨ＝１．９０、Ｃ２ＤＳ＝０．２３、Ｃ３ＤＳ＝０．３０、Ｃ６ＤＳ＝０．５８。

【0326】

中間体７（ＣＰｒ２ＥＨ、ＤＳ_ｐｒ＝１．１３およびＤＳ_２ＥＨ＝０．４９）
窒素雰囲気下、オーバーヘッド機械的攪拌子を備えたジャケット付き４口樹脂窯反応フラスコに、無水ＤＭＡＣ（１．８６モル当量）およびＮＭＩ（０．３９モル当量）を添加した。Ｉｎｔ１（０．０８９モル当量）をＲＭに添加し、ＲＭを（３０℃で）４８時間攪拌した。次いで、ＤＭＡＣ（０．０８９モル当量）中の２－ＥＨＣｌ（０．５２モル当量）を２５分にわたってゆっくり添加した。ＲＭを（７０℃で）１６時間攪拌し、水（４Ｌ）を添加することによって粗生成物を沈降させた。固形物を集め、脱イオン水で６時間連続的に洗浄し、真空下（５５℃）で終夜乾燥して標題化合物を得た。^１ＨＮＭＲおよび^１３ＣＮＭＲ：ＤＳ_Ｐｒ＝１．１３、ＤＳ_２ＥＨ＝０．４９、ＤＳ_ＯＨ＝１．３８、Ｃ２ＤＳ＝０．３８、Ｃ３ＤＳ＝０．４０、Ｃ６ＤＳ＝０．８５。

【0327】

中間体８（酢酸プロピオン酸セルロース、ＤＳ_Ａｃ＝０．１７、ＤＳ_ｐｒ＝１．６６、ＤＳ_ＯＨ＝１．１７）
Ｉｎｔ８は、ＵＳ２００９００９６９６２Ａ（Ｅｘ１８）に記載のとおりに調製した。

【0328】

中間体９（ＣＰｒ、ＤＳ_Ｐｒ＝１．１５）および１０（プロピオン酸セルロース、ＤＳ_Ｐｒ＝１．４１）
Ｎ_２Ｈ_４・Ｈ_２ＯおよびＡｃＯＨによるＩｎｔ１の合成手順を適応することによって、Ｉｎｔ９および１０を合成した。ＤＳ_Ｐｒを^１Ｈおよび^１３ＣＮＭＲによって決定した。

【0329】

実施例３（ＣＰｒＢｚ、Ｄｓ_Ｐｒ＝１．１５、Ｄｓ_Ｂｚ＝１．１３）
窒素雰囲気下、ＤＭＡＣ（１７２ｍＬ、２１．２モル当量）および１－メチルイミダゾール（３２ｍＬ、４．５モル当量）を含有する丸底フラスコ中の攪拌された混合物に、真空下で終夜乾燥したＩｎｔ２（２０ｇ、１．０モル当量）を添加した。ＲＭを５０℃で４時間攪拌し、２６℃に冷却し、次いでＢｚＣｌ（ＤＭＡＣ（１４ｍＬ）中１４．２ｇ、１．１５モル当量）をＲＭ中へ、１時間にわたってゆっくり添加した。ＲＭを２６℃で１４時間攪拌した。粗生成物は、沈降したｉＰｒＯＨ（２．２Ｌ）であり、固形物を水（２×５００ｍＬ）で洗浄し、脱イオン水で５時間連続的に洗浄し、真空下で終夜乾燥して標題化合物を得た。^１ＨＮＭＲおよび^１３ＣＮＭＲ：Ｄｓ_Ｐｒ＝１．１５、Ｄｓ_Ｂｚ＝１．１３（表３）。

【0330】

Ｅｘ４～Ｅｘ１１、Ｅｘ２５、Ｅｘ２６、Ｅｘ２７およびＥｘ２８は、Ｅｘ３の調製手順を適応するが、例外として表２に示すように異なるＳＭおよびＢｚＣｌレベルを使用することによって調製した。化合物を、表３に示すように、^１ＨＮＭＲおよび^１３ＣＮＭＲによって特性評価した。

【0331】

表２は、Ｅｘ３～１１の調製条件を提供する。

【0332】

【表2】

【0333】

表３は、Ｅｘ３～１１およびＥｘ２５のＮＭＲ特性評価を提供する。Ｅｘ２５は、本明細書に記載の手順を適応することによって調製した。

【0334】

【表3】

【0335】

実施例１２（ＣｐｒＡｃＢｚ、Ｄｓ_Ｐｒ＝１．６６、Ｄｓ_Ａｃ＝０．１７、Ｄｓ_Ｂｚ＝０．８６）
Ｅｘ１２は、Ｅｘ３の調製手順を適応するが、例外としてＩｎｔ８（１．０当量、２０ｇ、ＣａｃＰｒ、ＤＳ_Ａｃ０．１７およびＤＳ_Ｐｒ＝１．６６）ならびにＢｚＣｌ（１０．２ｇ、０．９５当量）を使用することによって調製した。^１ＨＮＭＲおよび^１３ＣＮＭＲ：Ｄｓ_Ｐｒ＝１．６６、Ｄｓ_Ａｃ＝０．１７、Ｄｓ_Ｂｚ＝０．８６（表４）。

【0336】

表４は、Ｅｘ１２のＮＭＲ特性評価を提供する。

【0337】

【表4】

【0338】

実施例１３（ＣＰｒ２ＥＨＢｚ、Ｄｓ_Ｐｒ＝１．１３、Ｄｓ_Ａｃ＝０．４９、Ｄｓ_Ｂｚ＝０．９６）および１４（ＣＰｒ２ＥＨＢｚ、Ｄｓ_Ｐｒ＝１．１３、Ｄｓ_Ａｃ＝０．４９、Ｄｓ_Ｂｚ＝１．０２）
Ｅｘ１３および１４は、Ｅｘ３の調製手順を適応することによって調製した。Ｅｘ１３では、Ｉｎｔ７（１０ｇ、１．０モル当量）およびＢｚＣｌ（５．１ｇ、０．９８モル当量）を使用し、Ｅｘ１４では、Ｉｎｔ７（１０ｇ、１．０モル当量）およびＢｚＣｌ（０．９７モル当量）を使用した。

【0339】

表５は、Ｅｘ１３および１４のＮＭＲ特性評価を提供する。

【0340】

【表5】

【0341】

実施例１５（ＣＰｒＢｚ、Ｄｓ_Ｐｒ＝１．５４、Ｄｓ_Ｂｚ＝０．６３）
Ｅｘ１５は、Ｅｘ３の調製手順を適応するが、例外としてＩｎｔ１を使用することによって調製した。Ｉｎｔ１（２０ｇ、１．０モル当量）を完全に溶解した後、ＤＭＡＣ（２ｍＬ）中のＢｚＣｌ（１．８７ｇ、０．１５モル当量）を２６℃で１時間にわたって添加し、ＲＭを２６℃で１時間攪拌した。次いで、ＤＭＡＣ（３．７ｍＬ）中のＰｒＣｌ（３．９５ｇ、０．５モル当量）を２６℃で１時間にわたって添加し、１時間攪拌した。次いで、ＤＭＡＣ（５ｍＬ）中のＢｚＣｌ（６．０９ｇ、０．５モル当量）を２６℃で１時間にわたって添加し、ＲＭを１４時間攪拌した。生成物を、Ｅｘ３の調製手順に記載のとおりに精製した。

【0342】

実施例１６（ＣＰｒＢｚ、Ｄｓ_Ｐｒ＝１．６９、Ｄｓ_Ｂｚ＝０．６３）
Ｅｘ１６は、Ｅｘ１５（Ｅｘ３）の調製手順に従うが、例外としてＩｎｔ１（２０ｇ、１．０モル当量）を完全に溶解した後、ＤＭＡＣ（５ｍＬ）中のＰｒＣｌ（４．５ｇ、０．５モル当量）を２６℃で１時間にわたって添加し、ＲＭを２６℃で１時間攪拌して調製した。次いで、ＤＭＡＣ（９ｍＬ）中のＢｚＣｌ（８．４４ｇ、０．６８モル当量）を２６℃で１時間にわたって添加し、２６℃で１４時間攪拌した。標題化合物を単離し、Ｅｘ３の調製手順に従って精製した。

【0343】

実施例１７（ＣＰｒＮｐ、Ｄｓ_Ｐｒ＝１．６８、Ｄｓ_Ｎｐ＝０．４６）
Ｅｘ１７は、Ｅｘ１６の調製手順を適応するが、例外としてＩｎｔ３を使用することによって調製した。Ｉｎｔ３（２０ｇ、１モル当量）を完全に溶解した後、ＤＭＡＣ（４．７５ｍＬ）中のＰｒＣｌ（４．４５ｇ、０．５５モル当量）を２６℃で１時間にわたって添加し、ＲＭを２６℃で１時間攪拌した。次いで、ＤＭＡＣ（８．６ｍＬ）中のＮｐＣｌ（０．５モル当量）を２６℃で１時間にわたって添加し、ＲＭを２６℃で１４時間攪拌した。標題化合物を単離し、Ｅｘ３の調製手順に記載のとおりに精製した。

【0344】

実施例２４（ＣＰｒＢｚ、Ｄｓ_Ｐｒ＝１．６０、Ｄｓ_Ｂｚ＝０．９２）
Ｅｘ２４は、Ｅｘ１５の調製手順に従ったが、例外としてＩｎｔ３を使用して調製した。Ｉｎｔ３（２０ｇ、１．０モル当量）を完全に溶解した後、ＤＭＡＣ（５ｍＬ）中のＰｒＣｌ（３．８５ｇ、０．４５モル当量）を２６℃で１時間にわたって添加し、ＲＭを２６℃で１時間攪拌した。次いで、ＤＭＡＣ（９ｍＬ）中のＢｚＣｌ（１０．７２ｇ、０．９０モル当量）を２６℃で１時間にわたって添加し、２６℃で１４時間攪拌した。標題化合物を単離し、Ｅｘ３の調製手順に従って精製した。

【0345】

表６は、Ｅｘ１５～１７およびＥｘ２４のＮＭＲ特性評価を提供する。Ｅｘ２４は、本出願に記載の手順を適応することによって調製した。

【0346】

【表6】

【0347】

実施例１８（ＣＰｒ２ＥＨＦ、Ｄｓ_Ｐｒ＝１．１８、Ｄｓ_２ＥＨ＝０．３６、Ｄｓ_Ｆ＝０．９９）
Ｉｎｔ３（１１５ｇ、１モル当量）を、窒素雰囲気下で、４口樹脂窯に含まれるＤＭＡＣ（９３１ｇ）とＮＭＩ（１８６ｇ）との混合物に添加し、ＲＭを３２℃で４時間攪拌した。ＲＭを２６℃に冷却し、２－ＥＨＣｌ（３１．９３ｇ、０．４モル当量）を６０分にわたってゆっくり添加し、ＲＭを２６℃で２時間攪拌した。次いで、ＤＭＡＣ（８５ｇ）中のＦＣｌ（７１．６５ｇ、Ｉｎｔ３に基づいて１．０９モル当量）を１２０分にわたってゆっくり添加し、ＲＭを２６℃で１２時間攪拌した。粗生成物を、ＭｅＯＨ（２Ｌ）を用いて沈降させ、次いで固形物を濾過し、脱イオン水で５時間連続的に洗浄した。材料を真空下、５５℃で終夜乾燥して標題化合物を得た。^１ＨＮＭＲ、^１３ＣＮＭＲ：ＤＳ_Ｐｒ＝１．１８、ＤＳ_２ＥＨ＝０．３６、ＤＳ_Ｆ＝０．９９；ＤＳ_ＯＨ＝０．５１；Ｃ２ＤＳ＝０．８８；Ｃ３ＤＳ＝０．６５；Ｃ６ＤＳ＝０．９７。

【0348】

表７は、Ｅｘ１８のＮＭＲ特性評価を提供する。

【0349】

【表7】

【0350】

実施例１９（ＣＣｒＢｚ、ＤＳ_Ｃｒ＝１．３９、Ｄｓ_Ｂｚ＝１．３３）
一般的手順は、出願ＷＯ２０１９１９０７５６Ａ１（中間体１および実施例１の調製）に記載されていた。

【0351】

ステップ（１）中間体１１（クロトン酸セルロース）の調製
１ＡＲＹセルロースパルプ（７０ｇ、１．０当量、５ｗｔ％）を、冷やした（２５℃の）ジャケット付き反応窯に添加した。次いで、ＴＦＡＡ（１５１ｇ、１．６７モル当量）のトリフルオロ酢酸（１１８０ｇ、２４当量）溶液を、オーバーヘッド攪拌しながら、冷やしたセルロース固形物に添加した。添加を完了した後、ＲＭを５５℃で加熱し、１６時間攪拌し、次いで室温まで冷却した。次いで、トランス－クロトン酸（５２．０ｇ、１．４モル当量）、ＴＦＡ（１０ｍＬ）、および無水トリフルオロ酢酸（１５４ｇ、１．７モル当量）の溶液を調製し、４５分間攪拌した。結果として得られた試薬混合物を、室温で、ＲＭに添加し、結果として得られたＲＭを８時間攪拌した。ＲＭを脱イオン水（１０００ｍＬ）で処理し、濾過した固体材料を得た。固形物をｉＰｒＯＨ中に懸濁し、３０分間攪拌し、混合物を濾過した。結果として得られた固形物を水性ＫＯＡｃ（５Ｍ、２０００ｍＬ）中に懸濁し、３６時間攪拌した。固形物を濾過して集め、脱イオン水で８時間連続的に洗浄し、真空下（６０℃、１２時間）で乾燥して標題中間体を得た。^１ＨＮＭＲ、１３ＣＮＭＲ：ＤＳ_Ｃｒ＝１．３９、ＤＳ_ＯＨ＝１．６１、Ｃ２ＤＳ＝０．６１、Ｃ３ＤＳ＝０．７２、Ｃ６ＤＳ＝０．０５。

【0352】

ステップ２、実施例１９（クロトン酸安息香酸セルロース）の調製
オーブン乾燥した１０００ｍＬのジャケット付き３口丸底フラスコ（機械的攪拌子を備える）に、Ｉｎｔ１１（２０ｇ、１．０モル当量）、後続してピリジン（１５０ｍＬ）およびジメチルアセトアミド（５０ｍＬ）をジャケット付き丸底フラスコにＮ_２雰囲気下で添加した。ＲＭを、窒素の雰囲気下で固体添加用漏斗を使用して投入した。ＲＭを５０℃まで加熱し、固体が溶解するまで混合物を攪拌し、次いでＲＭを２５℃まで冷却した。次いでＢｚＣｌ（１５．０８ｇ、１．４当量）を２５℃で２分にわたって添加し、ＲＭを３０分間攪拌した後、５０℃で終夜攪拌した。アセトン（約１５０ｍＬ）をＲＭに添加し、後続して脱イオン水（２２００ｍＬ）を添加して粗生成物を沈降させた。粗生成物を濾過し、ｉＰｒＯＨ：水の１：１溶液で洗浄した（２×）。粗生成物を脱イオン水で少なくとも５時間連続的に洗浄し、固形物を濾過して集め、真空（２２．５ｍｍＨｇ、６０℃）下で終夜乾燥した。^１ＨＮＭＲ、^１３ＣＮＭＲ：ＤＳ_Ｃｒ＝１．３９、ＤＳ_Ｂｚ＝１．３３、ＤＳ_ＯＨ＝０．２９、Ｃ２ＤＳ＝０．８３、Ｃ３ＤＳ＝０．８９、Ｃ６ＤＳ＝０．９９。

【0353】

実施例２０（ＣＰｒＢｚ、Ｄｓ_Ｐｒ＝１．８１、Ｄｓ_Ｂｚ＝０．６８）
Ｅｘ２０は、Ｅｘ１９の合成手順を適応するが、例外としてＩｎｔ１２（プロピオン酸安息香酸セルロース）の調製のステップ１中で、ＢｚＯＨ（０．５モル当量）、ＴＦ_２Ｏ（０．８モル当量）、ＴＦＡ（１０ｍＬ）を、一緒に４５分間攪拌した後で使用し、結果として得られた試薬混合物を反応混合物に添加し、ＲＭを３時間（４５℃で）攪拌することによって調製した。その後、プロピオン酸（０．８モル当量）、ＴＦ_２Ｏ（０．８モル当量）およびＴＦＡ（１０ｍＬ）を４５分間攪拌し、結果として得られた試薬溶液をＲＭに添加し、結果として得られたＲＭを５時間攪拌した。Ｅｘ１９のステップ１に記載のワークアップを用いた後でＩｎｔ１２を得た。第１の混合無水物を添加して３時間攪拌した後、混合物を４５℃で反応窯に添加した。反応物質を５時間攪拌させた。^１ＨＮＭＲ、^１３ＣＮＭＲ：ＤＳ_Pｒ＝０．８１、ＤＳ_Ｂｚ＝０．５２、ＤＳ_ＯＨ＝１．６７、Ｃ２ＤＳ＝０．６４、Ｃ３ＤＳ＝０．６３、Ｃ６ＤＳ＝０．０５。

【0354】

ステップ２では、Ｉｎｔ１２（１．０モル当量）およびＢｚＣｌ（０．１５モル当量）を室温で３時間攪拌し、次いでプロピオン酸無水物（１モル当量）を５０℃で終夜攪拌した。Ｅｘ１９のステップ２に記載のとおりに標題生成物を単離した。^１ＨＮＭＲおよび^１３ＣＮＭＲ：ＤＳ_Pｒ＝１．８１、ＤＳ_Ｂｚ＝０．６８、ＤＳ_ＯＨ＝０．５１、Ｃ２ＤＳ＝０．８６、Ｃ３ＤＳ＝０．７６、Ｃ６ＤＳ＝０．８７。

【0355】

表８は、Ｅｘ１９～２０のＮＭＲ特性評価を提供する。

【0356】

【表8】

【0357】

実施例２１、プロピオン酸ピバル酸ナフトエ酸セルロースＣＰｒＰｖＮｐ（Ｄｓ_Pｒ＝１．１８、Ｄｓ_Pｖ＝０．３９、Ｄｓ_Ｎｐ＝１．１８）
Ｅｘ２１は、ＵＳ２０１７０３０６０５４（Ｅｘ１２、表３）に記載のとおりに調製した。

【0358】

実施例２２、プロピオン酸２－エチルヘキサン酸ナフトエ酸セルロースＣＰｒ２ＥＨＮｐ（Ｄｓ_Pｒ＝１．１８、Ｄｓ_２ＥＨ＝０．４０、Ｄｓ_Ｎｐ＝１．２６）
Ｅｘ２２は、ＵＳ出願第６２／８９１５６１号（Ｅｘ７、表９）に記載の手順に従って調製した。

【0359】

表９は、Ｅｘ２１～２２のＮＭＲ特性評価を提供する。

【0360】

【表9】

【0361】

フィルムキャスティングおよび延伸
表１０は、成分Ａを含むまたは含まない一般的フィルム組成物；キャスティング溶液を調製するために使用される溶媒系；延伸される場合にキャストフィルムを延伸するために使用される温度；およびフィルムの伸張比を提供する。伸張比は、「ｘ」または「ｃ」のいずれかで提供される。「ｘ」は、フィルムが、２辺が保持され、他の２辺が自由である状態で、縦方向に沿って延伸されたことを示す。「ｃ」は、フィルムが、４辺すべてが保持されて、縦方向に沿って延伸されたことを示す。「比１×比２」は、フィルムが、比１でＭＤ方向に沿って延伸または収縮された一方、比２でＴＤ方向に沿って延伸または収縮されたことを示す。例えば、セルロースエステルＥｘ１で作製され、成分Ａ（０～２０ｗｔ％）を含むまたは含まないキャスティング溶液を、ＤＣＭ溶液中１０％のアセトン中で調製した。

【0362】

フィルム１８．１～１８．４、フィルム２１．１～２１．３、およびフィルム２２．１～２２．３に関しては、対応する樹脂および成分Ａは、対応する溶液Ａを調製するための対応する溶媒中に溶解された。固形分ｗｔ％が１２ｗｔ％のＥａｓｔｍａｎ（商標）ＣＡＰ４８２－２０（９０ｗｔ％）およびＴＰＰ（１０ｗｔ％）の１：９ＥｔＯＨ／ＤＣＭ溶液を調製した。ＣＡＰ４８２－２０溶液を、４５％～５０％に制御した相対湿度で、換気フード中にて、ガラス基板上でキャスティングした。フィルムを、カバーパン下で４５分間乾燥させて溶媒の蒸発速度を最小限にした後、パンを取り除いた。対応する溶液Ａを、ＥａｓｔｍａｎＣＡＰ４８２－２０フィルム上でキャスティングした。二層フィルムをカバーパン下で４５分間乾燥させて、溶媒の蒸発速度を最小限にした後、パンを取り除き、パンを取り除いた後でさらに１５分間乾燥した。次いで、二層フィルムをガラスから剥がし、１００℃の強制空気オーブン中で１０分間焼きなました。１００℃の焼きなましの後、フィルムをより高い温度（１２０℃）で、さらに１０分間焼きなました。二層フィルムを延伸した後、上層を剥がし取り、下層を測定した。

【0363】

表１０は、例示的フィルムの対応する溶液の成分および延伸条件を提供する。
フィルム中の成分Ａおよび可塑剤のパーセンテージは、以下のとおりに規定する。成分Ａまたは可塑剤のパーセンテージ＝成分Ａまたは可塑剤の重量／（セルロースエステル、成分Ａ、可塑剤および添加する他のすべての非溶媒成分）の総重量。

【0364】

溶液濃度は、以下のとおりに規定する。溶液濃度＝（セルロースエステル、成分Ａ、可塑剤および溶媒を除いて添加する他のすべての成分）の総重量／（セルロースエステル、成分Ａ、可塑剤、添加する他のすべての非溶媒成分および溶媒）の総重量。

【0365】

例えば、フィルム１．３の場合、樹脂１（８ｇ、９５ｗｔ％）および成分Ａ（０．４２１ｇ、５ｗｔ％）を１：９アセトン／ＤＣＭ（７５．８ｇ、溶液濃度１０ｗｔ％）に添加した。樹脂１および成分Ａが完全に溶解するまで、混合物をローラー上に置いた。

【0366】

例えば、フィルム２５．２の場合、Ｅｘ２５（１５ｇ、８８ｗｔ％）、成分Ａ（１．１９ｇ、７ｗｔ％）および可塑剤Ａｄｍｅｘ５２３（０．８５ｇ、５ｗｔ％）を５：９５ＭｅＯＨ／ＤＣＭ（１０４．７ｇ、溶液濃度１４ｗｔ％）中に添加した。樹脂１、成分Ａおよび可塑剤が完全に溶解するまで、混合物をローラー上に置いた。

【0367】

【表10-1】

【0368】

【表10-2】

【0369】

【表10-3】

【0370】

【表10-4】

【0371】

表１１に示すように、負の複屈折またはリタデーションを有する対応する対照フィルムサンプルと比較して、本発明のフィルムサンプルは、負の複屈折またはリタデーションを有しながら改善された波長分散を示した。例えば、フィルム１．１およびフィルム１．２（対照サンプル）は、１．１３～１．１５のＲ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）および０．９３～０．９４のＲ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）を有する。フィルム１．３～１．１４およびフィルム１．１８～１．１９は、０．６９～１．０６のＲ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）および０．９５～１．０２のＲ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）を有する改善された波長分散を有し、フィルム１．３、フィルム１．１１およびフィルム１．１３は、０．９１～０．９３のＲ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）および０．９８のＲ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）を有する。フィルム１．５および１．６は、０．６９～０．７８のＲ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）および１．０１～１．０２のＲ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）の、さらに調整された波長分散を示した。

【0372】

表１１に示すように、本発明のフィルムサンプルは、改善された波長分散を示し、－３．０～３．０のＮｚ係数を有する。具体的には、フィルム１．５、１．７、１．１０、１．１１、２．６、３．３、３．５、４．５、４．６、４．７、５．４、７．４、８．３、８．４、９．１、９．２、１０．１、１０．２、１２．４、１２．５、１５．３、１６．３、１７．７、２４．１および２５．１は、０．２～０．８のＮｚ係数を有し、これはＺフィルムとして使用することができる。本発明のフィルムサンプルは、１．０２未満のＲ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）、０．９５以上のＲ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）、－６．０～－０．５のＲ_ｅ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものを有し、改善された波長分散を有する。より具体的には、フィルム１．７、２．６、３．３、３．５、４．６、４．７、５．４、７．４、８．３、８．４、９．１、１０．１、１０．２、１２．４、１２．５、１５．３、１６．３、１７．７および２５．１は、０．３～０．７の改善されたＮｚ係数を有する。さらにより具体的には、フィルム１．７、３．５、８．３、８．４、１５．３および２５．１は、０．４～０．６のさらに改善されたＮｚ係数を有する。さらにより具体的には、フィルム１５．３、１６．３および１７．７は、０．３～０．７のＮｚ係数を有し、０．９０以下のＲ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）、０．９９以上のＲ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）、－６．０～－０．５のＲ_ｅ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものを有する、さらに改善された波長分散を有する。

【0373】

フィルム１．３、１．１９、２．５、３．４、５．３、６．３、７．５、９．３、１０．３、１１．１、１１．３、１１．４、１３．４、１７．６、１８．４、１９．４、１９．６、２０．３は、０．８～１．２のＮｚ係数を有し、これは－Ａフィルムとして使用することができる。このフィルムサンプルは、１．０５以下のＲ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）、０．９５以上のＲ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）、－６．０～－０．５のＲ_ｅ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものを有する改善された波長分散を有する。より具体的には、フィルム１．３、６．３、７．５、１１．１および１７．６は、０．９５以下のＲ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）、０．９７以上のＲ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）を有する、さらに改善された波長分散を有する。

【0374】

表１１はまた、実施例（フィルム２１．１～２２．３）が、対照サンプルと比較して改善された波長分散を有さないことも示す。
表１１は、調製したフィルムの追加のデータを提供する。延伸後のフィルム厚さ、５８９ｎｍで測定したＲ_ｅ、５８９ｎｍで測定したＲ_ｔｈ、Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）、Ｎ_ｚ係数、Ｒ_ｅ／ｄ、Ｒ_ｔｈ／ｄが提供される。

【0375】

【表11-1】

【0376】

【表11-2】

【0377】

表１２に示すように、可塑剤をフィルム中に取り入れた。表１２中のフィルムの場合、０．３～０．７のＮｚ係数が得られる。より具体的には、例示的フィルムのＲｅ（４５０ｎｍ／５５０ｎｍ）値は１．０以下であり、Ｒ_ｅ（５８９ｎｍ）／ｄ（ｎｍ）の比に１０００を乗じたものは－６．０～－０．５である。

【0378】

【表12】

【0379】

フィルム１．２０の調製
Ｅｘ１（１６ｇ）およびＴｉｎｕｖｉｎ１５７７（０．８４２ｇ）を、１２３ｇのジクロロメタン：メタノール＝９５：５（ｗｔ：ｗｔ）に添加した。Ｔｉｎｕｖｉｎ１５７７はフィルム中の５ｗｔ％として算出され、一方でＥｘ１はフィルム中の９５ｗｔ％である。Ｅｘ１およびＴｉｎｕｖｉｎ１５７７が完全に溶解するまで、混合物をローラー上に置いた。上記で調製した溶液を、ドクターブレードを使用して、ガラス板上にキャスティングして、所望の厚さのフィルムを得た。キャスティングは、４５％～５０％に制御した相対湿度下の換気フード中で行った。キャスティング後、カバーパン下でフィルムを１２０分間乾燥させて、溶媒の蒸発速度を最小限にした後でパンを取り除いた。フィルムを３０分間乾燥させ、次いでフィルムをガラスから剥がし、強制空気オーブン中、１００℃で１０分間焼きなました。１００℃で焼きなました後、フィルムをさらに１０分間、より高い温度（１２０℃）で焼きなました。

【0380】

フィルムを正方形または長方形に切断し、表１３に示す条件で延伸する。
表１３および１４中のフィルム２６．１～２８．１の調製
フィルム２６．１～２８．１は、フィルム１．２０の調製手順に従ったが、例外として表１３に示す異なる成分Ａおよび可塑剤を使用して調製した。

【0381】

表１３および１４に示すように、可塑剤を含むまたは含まない位置選択的セルロースエステルおよび成分Ａを構成する例示的フィルムは、１００～２２０℃で延伸され、１０μｍ～２００μｍの厚さ（「ｄ」）（ミクロン）、－１２０ｎｍ～－３５０ｎｍのＲ_ｅ（５８９ｎｍ）、－１００ｎｍ～１００ｎｍのＲ_ｔｈ（５８９ｎｍ）、０．２～０．８のＮｚ因子を示し、フィルムは、０．７～１．２０のＲ_ｅ（４５０／５５０）を示し、フィルムは、０．９～１．２５のＲ_ｅ（６５０／５５０）を示す。

【0382】

より具体的には、フィルム１．２０、２６．２、２６．３、２６．４、２６．５、２６．６、２６．７、２６．８、２６．９、２６．１０、２６．１１、２６．１２、２６．１３、２６．１４、２７．１、２７．２、２７．３、２７．４、２７．５、２７．６および２８．１は、Ｔｇ－３０℃～Ｔｇ＋５０℃で延伸され、－１２０ｎｍ～－３５０ｎｍのＲ_ｅ（５８９ｎｍ）、－１００ｎｍ～１００ｎｍのＲ_ｔｈ（５８９ｎｍ）、０．３～０．７のＮｚ因子を示し、フィルムは、０．７～１．０５のＲ_ｅ（４５０／５５０）を示し、フィルムは、０．９～１．２５のＲ_ｅ（６５０／５５０）を示す。

【0383】

【表13-1】