特表 2024-534299 表示パネルおよび表示装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-09-20

(54)【発明の名称】表示パネルおよび表示装置

(51)【国際特許分類】

   G02F 1/1368 20060101AFI20240912BHJP

   G09F 9/30 20060101ALI20240912BHJP

   G09F 9/35 20060101ALI20240912BHJP

   G02B 30/30 20200101ALI20240912BHJP

【ＦＩ】

G02F1/1368

G09F9/30 338

G09F9/35

G02B30/30

【審査請求】有

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2023574537

(86)(22)【出願日】2021-08-27

(85)【翻訳文提出日】2023-12-01

(86)【国際出願番号】 CN2021115100

(87)【国際公開番号】W WO2023024093

(87)【国際公開日】2023-03-02

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】510280589

【氏名又は名称】京東方科技集團股▲ふん▼有限公司

【氏名又は名称原語表記】ＢＯＥ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＧＲＯＵＰ ＣＯ．，ＬＴＤ．

【住所又は居所原語表記】Ｎｏ．１０ Ｊｉｕｘｉａｎｑｉａｏ Ｒｄ．，Ｃｈａｏｙａｎｇ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ，Ｂｅｉｊｉｎｇ １０００１５，ＣＨＩＮＡ

(74)【代理人】

【識別番号】110001243

【氏名又は名称】弁理士法人谷・阿部特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】ジャン フイ

(72)【発明者】

【氏名】リウ リーウェイ

(72)【発明者】

【氏名】ホウ カイ

(72)【発明者】

【氏名】リー チャンフォン

(72)【発明者】

【氏名】ワン ホンルン

(72)【発明者】

【氏名】ジャン シュンハン

(72)【発明者】

【氏名】イム ユンシク

(72)【発明者】

【氏名】リー フーチアン

【テーマコード（参考）】

2H192

2H199

5C094

【Ｆターム（参考）】

2H192AA24

2H192BC11

2H192CA11

2H192CB11

2H192EA15

2H192EA22

2H192JA06

2H192JA13

2H192JA33

2H199BA08

2H199BA45

2H199BA52

2H199BA55

2H199BB04

5C094BA03

5C094BA43

5C094DA15

5C094EA04

5C094EA07

5C094ED03

5C094ED15

5C094FA01

5C094JA08

(57)【要約】

本発明は表示パネルおよび表示装置を開示する。前記表示パネルは、走査線、データ線およびサブピクセルを含むアレイ基板と、対向基板と、液晶層と、支持部戸を含み、第１方向および第２方向に沿って隣接する少なくとも２つの前記サブピクセルは、１つのピクセル・アイランドを構成し、前記支持部は、複数の第１支持部および複数の第２支持部を含み、各支持部は第１サブ支持部および第２サブ支持部を含み、第１サブ支持部および第２サブ支持部の一方は、対向基板に面したアレイ基板側の表面に配置され、他方はアレイ基板に面した対向基板側の表面に配置され、第１サブ支持部の正投影は、第２サブ支持部の正投影を第１部分と第２部分に分割し、各支持部において、第１部分の長さは第２部分の長さと等しくない。

【特許請求の範囲】

【請求項1】

表示パネルであって、
前記表示パネルは、
第１方向に延在する複数の走査線と、第２方向に延在する複数のデータ線と、前記複数の走査線および前記複数のデータ線によって区画される領域内に位置する複数のサブピクセルを含む、アレイ基板と、
前記アレイ基板に対向して配置された対向基板と、
前記アレイ基板と前記対向基板との間に位置する液晶層と、
前記アレイ基板と前記対向基板との間に位置する複数の支持部と、を含み、
前記アレイ基板において、前記第１方向および前記第２方向が交差し、複数の前記サブピクセルは、前記第１方向に沿って配列された複数のサブピクセル行を含み、各前記サブピクセル行は、前記第１方向に沿って配列された複数のサブピクセルを含み、前記第１方向および前記第２方向に沿って隣接する少なくとも２つのサブピクセルは、１つのピクセル・アイランドを構成し、
前記アレイ基板上の前記支持部の正投影は、前記アレイ基板上の隣接する前記サブピクセル行の正投影間に位置し、各前記支持部は、第１サブ支持部および第２サブ支持部を含み、前記第１サブ支持部は、前記第１方向に延在し、前記第２サブ支持部は、前記第２方向に延在し、前記第１サブ支持部および前記第２サブ支持部のうちの一方は、前記アレイ基板の前記対向基板に面する側の表面に配置され、前記第１サブ支持部および前記第２サブ支持部のうちの他方は、前記対向基板の前記アレイ基板に面する側の表面に配置され、前記アレイ基板上の前記第１サブ支持部の正投影は、前記アレイ基板上の前記第２サブ支持部の正投影を第１部分と第２部分に分割し、各前記支持部において、前記第１部分の前記第２方向おける長さは、前記第２部分の前記第２方向における長さと等しくない、表示パネル。

【請求項2】

複数の前記支持部は、複数の第１支持部および複数の第２支持部と、を含み、
各前記第１支持部において、前記第１部分の前記第２方向における長さは、前記第２部分の前記第２方向における長さよりも大きく、
各前記第２支持部において、前記第１部分の前記第２方向における長さは、前記第２部分の前記第２方向における長ささよりも短い、請求項１に記載の表示パネル。

【請求項3】

各前記サブピクセル行における複数の前記サブピクセルの色は同じであり、
前記対向基板は遮光層を含み、前記遮光層は、第１方向に延在する複数の第１遮光部のみを含み、
前記アレイ基板上の前記第１遮光部の正投影は、前記アレイ基板上の前記走査線の正投影および前記アレイ基板上の前記支持部の正投影を覆う、請求項１または請求項２に記載の表示パネル。

【請求項4】

前記サブピクセル行は、赤色サブピクセル行、青色サブピクセル行および緑色サブピクセル行を含み、
前記赤色サブピクセル行と前記青色サブピクセル行との間の前記第１遮光部の前記第２方向における幅は、前記赤色サブピクセル行と前記緑色サブピクセル行との間の前記第１遮光部の前記第２方向における幅よりも大きく、
前記赤色サブピクセル行と前記青色サブピクセル行との間の前記第１遮光部の前記第２方向における幅は、前記青色サブピクセル行と前記緑色サブピクセル行との間の前記第１遮光部の前記第２方向における幅よりも大きい、請求項３に記載の表示パネル。

【請求項5】

前記アレイ基板上の前記支持部の正投影は、隣接する前記青色サブピクセル行と前記緑色サブピクセル行との間に位置する、請求項４に記載の表示パネル。

【請求項6】

複数の前記支持部が複数の第１支持部および複数の第２支持部を含む場合、隣接する前記青色サブピクセル行と前記赤色サブピクセル行との間に前記第１支持部または前記第２支持部が含まれる、請求項５に記載の表示パネル。

【請求項7】

複数の前記支持部が複数の第１支持部および複数の第２支持部を含む場合、隣接する前記青色サブピクセル行と前記赤色サブピクセル行との間に前記第１支持部および前記第２支持部が含まれる、請求項５に記載の表示パネル。

【請求項8】

前記第１支持部の前記第１部分の前記第２方向における長さは、前記第２支持部の前記第２部分の前記第２方向における長さと等しい、請求項２または６または７に記載の表示パネル。

【請求項9】

前記第１支持部の前記第２部分の前記第２方向における長さは、前記第２支持部の前記第１部分の前記第２方向における長さと等しい、請求項８に記載の表示パネル。

【請求項10】

前記アレイ基板上の前記第２サブ支持部の正投影は、前記アレイ基板上の前記第１サブ支持部の正投影に対して対称である、請求項１ないし９のいずれか１項に記載の表示パネル。

【請求項11】

前記アレイ基板上の前記支持部の正投影のパターンは十字形である、請求項１０に記載の表示パネル。

【請求項12】

前記第１サブ支持部の前記第２方向における幅は、前記第２サブ支持部の前記第１方向における幅と等しい、請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の表示パネル。

【請求項13】

前記第１サブ支持部の前記第１方向における長さは、前記第２サブ支持部の前記第２方向における長さよりも大きい、請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の表示パネル。

【請求項14】

前記第１サブ支持部は、前記対向基板の前記アレイ基板に面する側の表面に配置され、
前記第２サブ支持部は、前記アレイ基板の前記対向基板に面する側の表面に配置される、請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の表示パネル。

【請求項15】

前記アレイ基板は、
第１ベース基板と、
前記第１ベース基板の前記対向基板に面する側の表面に配置される第１導電層と、
前記第１導電層の前記第１ベース基板から離れる側に位置する第２導電層と、
前記第２導電層の前記第１導電層から離れる側に位置するピクセル電極層と、を含み、
前記第１導電層は、前記データ線と、前記データ線に電気的に接続される駆動トランジスタの第１極とを含み、
前記第２導電層は、前記駆動トランジスタの第２極を含み、
前記ピクセル電極層は、前記サブピクセルと１対１に対応する複数のピクセル電極を含み、前記ピクセル電極は前記駆動トランジスタの第２極に電気的に接続される、請求項３ないし１４のいずれか１項に記載の表示パネル。

【請求項16】

前記第１ベース基板上の前記駆動トランジスタの第２極の正投影のエッジと前記第１ベース基板上の前記データ線の正投影のエッジとの間の最小距離は、０．８μｍ～１μｍである、請求項１５に記載の表示パネル。

【請求項17】

前記第１ベース基板と前記第１導電層との間に位置する活性層をさらに含み、前記活性層は、前記サブピクセルに一対一で対応する複数の活性層のパターンを含み、
前記第１ベース基板上の前記活性層のパターンの正投影の形状にコーナーを有し、前記コーナーにおいて、前記第１ベース基板上の前記活性層のパターンの正投影に第１溝を含む、請求項１５に記載の表示パネル。

【請求項18】

前記活性層と前記第１導電層との間に位置し、前記駆動トランジスタの制御電極および前記走査線を含むゲート導電層と、
前記ゲート導電層と前記第１導電層との間に位置する第１層間絶縁層と、
前記第１導電層と前記第２導電層との間に位置する第２層間絶縁層と、
前記第２導電層と前記ピクセル電極との間に位置する第１パッシベーション層と、をさらに含み、
前記駆動トランジスタの第２極は、前記第２層間絶縁層、前記第１層間絶縁層および前記ゲート絶縁層を貫通する第１ビアを介して前記活性層と接触し、
前記ピクセル電極は、前記第１パッシベーション層を貫通する第２ビアを介して前記駆動トランジスタの第２極と接触し、
前記第１ベース基板上の前記第２ビアの正投影のエッジは、前記ベース基板上の前記第１ビアの正投影のエッジとの間の最小距離が０．３５μｍ以上０．７μｍ以下である、請求項１６に記載の表示パネル。

【請求項19】

前記第１ベース基板上の前記第２ビアの正投影のエッジと前記ベース基板上の前記駆動トランジスタの制御電極の正投影のエッジとの間の最小距離が１μｍ以上２μｍ以下である、請求項１５に記載の表示パネル。

【請求項20】

前記ピクセル電極層の前記第２導電層から離れる側に位置する共通電極層をさらに含み、前記共通電極層は、共通電極を含み、
前記ゲート導電層は、前記共通電極に電気的に接続される共通電極線をさらに含み、
前記共通電極線は、隣接する前記青色サブピクセル行と前記赤色サブピクセル行との間に配置される、請求項１８に記載の表示パネル。

【請求項21】

請求項１～２０のいずれかに記載の表示パネルを含む、表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、表示技術分野に関し、特に表示パネルおよび表示装置に関する。

【背景技術】

【0002】

表示技術が発展に伴い、３次元（ｔｈｒｅｅ ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ，３Ｄ）表示技術に対する関心が高まっている。３次元表示技術は表示画面を立体的にリアルにする。この原理は、人間の左右の目で一定の視差を持つ左眼画像と右眼画像をそれぞれ受信し、２枚の視差画像をそれぞれ人間の左右の目で受信した後、脳を介して画像情報を重畳融合することにより３Ｄの視覚表示効果が構築されることにある。

【0003】

超多視点３Ｄ表示と光場表示との互換性を実現するために、従来のサブピクセルをピクセル・アイランド構造として用いる。各ピクセル・アイランドは複数のサブピクセルを含む。超高解像度表示を実現するために、サブピクセルのサイズは小さくなる。ピクセル・アイランド構造におけるサブピクセルピッチが小さいほど、すなわちピクセル密度（ＰＰＩ）が高くなると、視点数が多くなるほど視認連続性が良くなり、同時に光場表示にも対応できるが、ＰＰＩ増加後はサブピクセルレイアウトが困難となり、サブピクセル開口率は高くない。

【発明の概要】

【0004】

本発明の実施形態によって提供される表示パネルは、アレイ基板と、アレイ基板に対向して配置された対向基板と、アレイ基板と対向基板との間に位置する液晶層と、複数の支持部とを含み、
前記アレイ基板は、第１方向に延在する複数の走査線と、第２方向に延在する複数のデータ線と、複数の走査線および複数のデータ線によって区画される領域内に位置する複数のサブピクセルとを含み、第１方向および第２方向が交差し、複数のサブピクセルは第２方向に沿って配列された複数のサブピクセル行を含み、各サブピクセル行は、第１方向に沿って配列された複数のサブピクセルを含み、前記第１方向および第２方向に沿って隣接する少なくとも２つのサブピクセルは、１つのピクセル・アイランドを構成し、
前記複数の支持部は、アレイ基板と対向基板との間に位置し、アレイ基板上の支持部の正投影は、アレイ基板上の隣接するサブピクセル行の正投影間に位置し、各支持部は、第１サブ支持部および第２サブ支持部を含み、第１サブ支持部は第１方向に延び、第２サブ支持部は第２方向に延び、第１サブ支持部および第２サブ支持部の一方は、対向基板に面したアレイ基板側の表面に配置され、第１サブ支持部および第２サブ支持部の他方は、アレイ基板に面した対向基板側の表面に配置され、第１サブアレイ基板上の支持部の正投影は、第２サブアレイ基板上の支持部の正投影を第１部分と第２部分とに分割し、各支持部において、第１部分の第２方向の長さは第２部分の第２方向の長さと等しくない。

【0005】

いくつかの実施形態において、複数の支持部は、複数の第１支持部および複数の第２支持部と、を含み、
各第１支持部において、第１部分の第２方向の長さは第２部分の第２方向の長さより長く、
各第２支持部において、第１部分の第２方向の長さは、第２部分の第２方向の長さより短い。

【0006】

いくつかの実施形態において、各サブピクセル行における複数のサブピクセルの色は同じであり、
対向基板は、複数の第１方向に延在する第１遮光部のみを含む遮光層を含み、
アレイ基板上の第１遮光部の正投影は、アレイ基板上の走査線の正投影およびアレイ基板上の支持部の正投影を覆う。

【0007】

いくつかの実施形態において、サブピクセル行は、赤色サブピクセル行、青色サブピクセル行および緑色サブピクセル行を含み、
赤色サブピクセル行と青色サブピクセル行との間の第１遮光部の第２方向における幅は、赤色サブピクセル行と緑色サブピクセル行との間の第１遮光部の第２方向における幅よりも大きく、
かつ、赤色サブピクセル行と青色サブピクセル行との間の第１遮光部の第２方向における幅は、青色サブピクセル行と緑色サブピクセル行との間の第１遮光部の第２方向における幅よりも大きい。

【0008】

いくつかの実施形態において、アレイ基板上の支持部の正投影は、隣接する青色サブピクセル行と緑色サブピクセル行との間に位置する。

【0009】

いくつかの実施形態において、複数の支持部が複数の第１支持部および複数の第２支持部を含む場合、隣接する青色サブピクセル行と赤色サブピクセル行との間に第１支持部または第２支持部が含まれる。

【0010】

いくつかの実施形態において、複数の支持部が複数の第１支持部および複数の第２支持部を含む場合、隣接する青色サブピクセル行と赤色サブピクセル行との間に第１支持部および第２支持部が含まれる。

【0011】

いくつかの実施形態において、第１支持部における第１部分の第２方向の長さは、第２支持部における第２部分の第２方向の長さと等しい。

【0012】

いくつかの実施形態において、第１支持部における第２部分の第２方向の長さは、第２支持部における第１部分の第２方向の長さと等しい。

【0013】

いくつかの実施形態において、第２サブアレイ基板上の支持部の正投影は、第１サブアレイ基板上の支持部の正投影に対して対称である。

【0014】

いくつかの実施形態において、アレイ基板上の支持部の正投影のパターンは十字形である。

【0015】

いくつかの実施形態において、第１サブ支持部の第２方向における幅は、第２サブ支持部の第１方向における幅と等しい。

【0016】

いくつかの実施形態において、第１サブ支持部の第１方向における長さは、第２サブ支持部の第２方向における長さよりも大きい。

【0017】

いくつかの実施形態において、第１サブ支持部は、アレイ基板に面した対向基板側の表面に配置され、
第２サブ支持部は対向基板に面したアレイ基板側の表面に配置される。

【0018】

いくつかの実施形態において、アレイ基板は、
第１ベース基板と、
対向基板に面した第１ベース基板の側に位置する第１導電層と、
第１ベース基板から離れる第１導電層の側に位置する第２導電層と、
第１導電層から離れる第２導電層の側に位置するピクセル電極層と、を含み、
前記第１導電層は、データ線と、データ線に電気的に接続される駆動トランジスタの第１極とを含み、
前記第２導電層は、駆動トランジスタの第２極を含み、
前記ピクセル電極層は、サブピクセルと１対１で対応する複数のピクセル電極を含み、前記ピクセル電極は、駆動トランジスタの第２極に電気的に接続される。

【0019】

いくつかの実施形態において、第１ベース基板上の駆動トランジスタの第２極の正投影のエッジと第１ベース基板上のデータ線の正投影のエッジとの間の最小距離は、０．８μｍ～１μｍである。

【0020】

いくつかの実施形態において、
第１ベース基板と第１導電層との間に位置する活性層をさらに含み活性層は、サブピクセルと１対１で対応する複数の活性層のパターンを含み、
第１ベース基板上の活性層のパターンの正投影の形状にコーナーを有し、コーナーにおいて、第１ベース基板上の活性層のパターンの正投影の形状に第１溝を有する。

【0021】

いくつかの実施形態において、
活性層と第１導電層との間に位置し、駆動トランジスタの制御電極および走査線を含むゲート導電層と、
活性層とゲート導電層との間に位置するゲート絶縁層と、
ゲート導電層と第１導電層との間に位置する第１層間絶縁層と、
第１導電層と第２導電層との間に位置する第２層間絶縁層と、
第２導電層とピクセル電極との間に位置する第１パッシベーション層と、をさらに含み、
駆動トランジスタの第２極は、第２層間絶縁層、第１層間絶縁層およびゲート絶縁層を貫通する第１ビアを介して活性層と接触し、
ピクセル電極は、第１パッシベーション層を貫通する第２ビアを介して駆動トランジスタの第２ビアと接触し、
第１ベース基板上の第２ビアの正投影のエッジとベース基板上の第１ビアの正投影のエッジとの間の最小距離が０．３５μｍ以上０．７μｍ以下である。

【0022】

いくつかの実施形態において、第１ベース基板上の第２ビアの正投影のエッジと第１ベース基板上の駆動トランジスタの制御電極の正投影のエッジとの間の最小距離が１μｍ以上２μｍ以下である。

【0023】

いくつかの実施形態において、
第２導電層から離れるピクセル電極層の側に位置する共通電極層をさらに含み、前記共通電極層は、共通電極を含み、
ゲート導電層は、共通電極に電気的に接続される共通電極線をさらに含み、前記共通電極線は、隣接する青色サブピクセル行と赤色サブピクセル行との間に配置される。

【0024】

本発明の実施形態によって提供される表示装置は、本発明の実施形態に係る表示パネルを含む。

【図面の簡単な説明】

【0025】

本発明の実施形態における技術的態様をより明確に説明するために、以下、実施形態の説明で使用される必要がある図面を簡単に説明する。以下の説明における図面は、本発明のいくつかの実施形態に過ぎず、当業者には創造的な労力を要することなく他の図面が得られることは明らかである。

【図1】本発明の実施形態によって提供される表示パネルの断面構造を示す図である。

【図2】本発明の実施形態によって提供されるアレイ基板の平面構成図である。

【図3】本発明の実施形態によって提供される別のアレイ基板の平面構成図である。

【図4】本発明の実施形態によって提供される他のアレイ基板の平面構成図である。

【図5】本発明の実施形態によって提供される対向基板の平面構成図である。

【図6】本発明の実施形態によって提供される別のアレイ基板の平面構成図である。

【図7】本発明の実施形態によって提供される他のアレイ基板の平面構成図である。

【図8】本発明の実施形態によって提供される図７のＡＡ′に沿う断面図である。

【図9】本発明の実施形態によって提供されるアレイ基板における遮光層の構成図である。

【図10】本発明の実施形態によって提供されるアレイ基板における活性層の構成図である。

【図11】本発明の実施形態によって提供されるアレイ基板におけるゲート導電層の構成図である。

【図12】本発明の実施形態によって提供されるアレイ基板における第１層間絶縁層のビアの概略図である。

【図13】本発明の実施形態によって提供されるアレイ基板における第１導電層の構成図である。

【図14】本発明の実施形態によって提供されるアレイ基板における第２層間絶縁層のビアの概略図である。

【図15】本発明の実施形態によって提供されるアレイ基板における第２導電層の構成図である。

【図16】本発明の実施形態によって提供されるアレイ基板における第１パッシベーション層のビアの概略図である。

【図17】本発明の実施形態によって提供されるアレイ基板におけるピクセル電極層の構成図である。

【図18】本発明の実施形態によって提供されるアレイ基板における共通電極層の構成図である。

【図19】本発明の実施形態によって提供される他のアレイ基板の共通電極線領域を設ける平面構成図である。

【図20】本発明の実施形態によって提供される図１９に示す領域に対応するゲート導電層の構成図である。

【図21】本発明の実施形態によって提供される図１９に示す領域に対応する第２層間絶縁層の構成図である。

【図22】本発明の実施形態によって提供される図１９に示す領域に対応する第２導電層の構成図である。

【図23】本発明の実施形態によって提供される図１９に示す領域に対応する第１パッシベーション層の構成図である。

【図24】本発明の実施形態によって提供される図１９に示す領域に対応するピクセル電極層の構成図である。

【図25】本発明の実施形態によって提供される図１９に示す領域に対応する第２パッシベーション層の構成図である。

【図26】本発明の実施形態によって提供される図１９に示す領域に対応する共通電極層の構成図である。

【図27】本発明の実施形態によって提供される表示装置の構成図である。

【発明を実施するための形態】

【0026】

以下、本発明の実施形態の目的、技術解決策および利点をより明確にするために、本発明の実施形態の図面を参照しながら、本発明の実施形態の技術解決策に明確かつ完全に説明する。説明した実施形態は、本発明の一部であり、全ての実施形態ではないことは明らかである。また、本発明における実施形態および実施形態における特徴は、競合することなく組み合わされていてもよい。記載された本発明の実施形態に基づいて、当業者が創造的労働を必要としない範囲内で獲得した他のすべての実施形態は、本発明の保護範囲に属する。

【0027】

特に定義されない限り、本発明で使用される技術用語または科学用語は、本発明の当業者に理解される一般的な意味を有するものとする。本発明で使用される「第１」、「第２」および同様の語句は、順序、数量または重要性を示すものではなく、単に異なる構成要素を区別するために用いられる。「含む」または「含有」などの類似語は、その語の前に出現する要素または物体が、その語の後に出現する要素または物体と同等であることを意味し、他の要素または物体を排除しない。「接続」または「連結」のような類似語は、物理的または機械的な接続に限定されるものではなく、直接的であれ間接的であれ電気的な接続を含んでいてもよい。

【0028】

なお、図面における各図形の寸法および形状は、真のスケールを反映するものではなく、本発明を概略的に説明することを目的とする。また、最初から最後まで同一又は類似の符号は、同一又は類似の要素又は同一若しくは類似の機能を有する要素を表すものである。

【0029】

本発明の実施形態は、表示パネルを提供する。図１、図２、図３、図４に示すように、前記表示パネルは、アレイ基板１と、対向基板７と、液晶層８と、複数の支持部９とを含む。

【0030】

前記アレイ基板１は、第１方向Ｘに延在する複数の走査線２と、第２方向Ｙに延在する複数のデータ線３と、複数の走査線２および複数のデータ線３によって区画される領域内に位置する複数のサブピクセル４とを含む。第１方向Ｘおよび第２方向Ｙが交差し、第１方向Ｘおよび第２方向Ｙに隣接する少なくとも２つのサブピクセルは、１つのピクセル・アイランド６を構成する。複数のサブピクセル４は、２方向Ｙに沿って配列される複数のサブピクセル行５に分割され、各サブピクセル行５は、１方向Ｘに沿って配列される複数のサブピクセル４を含む。

【0031】

前記対向基板７は、アレイ基板１に対向して配置される。

【0032】

前記液晶層８は、アレイ基板１と対向基板７との間に配置される。

【0033】

前記複数の支持部９は、アレイ基板１と対向基板７との間に配置される。アレイ基板１上の支持部９の正投影は、アレイ基板１上の隣接するサブピクセル行５の正投影の間に位置する。各支持部９は、第１サブ支持部１２および第２サブ支持部１３を含む。第１サブ支持部１２は、第１方向Ｘに延び、第２サブ支持部１３は、第２方向Ｙ第１方向Ｘに延在する。第１サブ支持部１２と第２サブ支持部１３の一方は、アレイ基板１の対向基板７に面する側の表面に設けられ、第１サブ支持部１２と第２サブ支持部１３の他方は、対向基板７のアレイ基板１に面する側の表面に設けられる。アレイ基板１上の第１サブ支持部１２の正投影は、在アレイ基板１上の第２サブ支持部１３の正投影を第１部分１４と第２部分１５に分割する。各支持部９において、第２方向Ｙにおける第１部分１４の長さと第２方向Ｙにおける第２部分１５の長さとは等しくない。

【0034】

本発明の実施形態によって提供される表示パネルにおいて、各支持部は、異なる基板に設けられ、延在する方向が異なる第１サブ支持部および第２サブ支持部を含む。第１サブアレイ基板上の支持部の正投影は、第２サブアレイ基板上の支持部の正投影を第１部分と第２部分に分割し、すなわち、第１サブ支持部は、第２サブ支持部に対して一定の摺動距離を有し、これによって、表示パネルの製造工程における摺動によって第１サブ支持部や第２サブ支持部が残りのフィルム層を傷付けることを回避する。ここで、支持部における第１部分の第２方向の長さは第２部分の第２方向の長さと等しくないため、各支持部の最大摺動距離は、第１部分および第２部分のうち第２方向の長さが長い方と第２サブ支持部の第２方向における幅との和となる。各支持部における第１部分の第２方向の長さが第２部分の第２方向の長さと等しい場合に比べ、支持部の最大摺動距離を長くしてもよい。このように本発明の実施形態によって提供される表示パネルは、支持部のスライド距離を変更することなく、支持部を覆う表示パネルの遮光領域の第２方向の長さを短くすることができ、サブピクセル透光領域の面積を増大させ、サブピクセル開口率を向上させることができ、ひいては表示効果とユーザーエクスペリエンスを向上させることが可能となる。

【0035】

なお、図２、３、４はアレイ基板の平面図であり、図１は例えば図２，３，４の第１方向Ｘに沿う部分領域の断面図であってもよい。

【0036】

いくつかの実施形態において、図２、図３に示すように、複数の支持部９のうちの第１部分１４の第２方向Ｙにおける長さｈ６は等しく、複数の支持部９のうちの第２部分１５の第２方向Ｙにおける長さｈ７は等しい。

【0037】

いくつかの実施形態において、図２に示すように、複数の支持部９のうち、第１部分１４の第２方向Ｙにおける長さｈ６は、第２部分１５の第２方向Ｙにおける長さｈ７よりも長い。

【0038】

または、図３に示すように、複数の支持部９のうち、第１部分１４の第２方向Ｙにおける長さｈ６は、第２部分１５の第２方向Ｙにおける長さｈ７よりも小さい。

【0039】

いくつかの実施形態において、図４に示すように、複数の支持部９は、複数の第１支持部１０および複数の第２支持部１１を含む。各第１支持部１０は、第１サブ支持部１２および第２サブ支持部１３を含む。各第２支持部１１は、第１サブ支持部１２および第２サブ支持部１３を含む。

【0040】

第１支持部１２において、第１部分１４の第２方向Ｙにおける長さｈ１は、第２部分１５の第２方向Ｙにおける長さｈ２よりも長い。第２支持部１３において、第１部分１４の第２方向Ｙにおける長さｈ３は、第２部分１５の第２方向Ｙにおける長さｈ４よりも短い。

【0041】

本発明の実施形態によって提供される表示パネルにおいて、各支持部は、異なる基板に設けられ、延在する方向が異なる第１サブ支持部および第２サブ支持部を含み、第１サブアレイ基板上の支持部の正投影は、第２サブアレイ基板上の支持部の正投影を第１部分および第２部分に分割し、すなわち、第１サブ支持部は、第２サブ支持部に対して一定の摺動距離を有し、これによって、表示パネルの製造工程における摺動によって第１サブ支持部や第２サブ支持部が残りのフィルム層を傷付けることを回避する。ここで、第１支持部の上方摺動距離は、第１支持部における第１部分の第２方向の長さと第２サブ支持部の第２方向における幅との和であるとともに、第２支持部の下方摺動距離は、第２支持部における第２部分の第２方向の長さと第２サブ支持部の第２方向における幅との和である。各支持部における第１部分の第２方向の長さが第２部分の第２方向の長さと等しい場合に比べ、支持部の上方摺動および下方摺動距離を長くしてもよい。また、表示パネルは、第１支持部と第２支持部の２種類の支持部を備えているため、各支持部における第１部分の第２方向の長さ等が第２部分の第２方向の長さと等しい場合と比較して、支持部全体の摺動距離を長くすることも可能である。このように本発明の実施形態によって提供される表示パネルは、支持部のスライド距離を変更することなく、支持部を覆う表示パネルの遮光領域の第２方向の長さを短くすることができ、サブピクセル透光領域の面積を増大させ、サブピクセル開口率を向上させることができ、ひいては表示効果とユーザーエクスペリエンスを向上させることが可能となる。

【0042】

なお、図４においてＨ１は第１支持部における第１サブ支持部の上方への摺動距離であり、Ｈ２は第２支持部における第１サブ支持部の下方への摺動距離であると、表示パネル支持部の総摺動距離はＨ１＋Ｈ２となる。図４では、サブピクセル、支持部の一部のみを示し、本発明の実施形態に係る表示パネルを一例として走査線およびデータ線のみを示すものである。具体的には、サブピクセル数、支持部数、走査線数およびデータ線数を必要に応じて設定してもよい。

【0043】

なお、本発明の実施形態に係る表示パネルは、液晶表示パネルである。その種類としては、ツイストネマチック（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ，ＴＮ）型、垂直配向（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ、ＶＡ）型、平面変換（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ、ＩＰＳ）型やアドバンストスーパーディメンションスイッチ（ＡｄｖａｎｃｅｄＳｕｐｅｒ Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ Ｓｗｉｔｃｈ，ＡＤＳ）型等の液晶表示パネルが挙げられる。

【0044】

いくつかの実施形態において、図２、図３、図４に示すように、各サブピクセル行５内の複数のサブピクセル４の色は同じである。

【0045】

これにより、異なる視点間でのクロストークが回避され、モアレも緩和される。

【0046】

いくつかの実施形態において、図２、図３、図４に示すように、サブピクセル行５は、赤色サブピクセル行１６、青色サブピクセル行１８および緑色サブピクセル行１７を含む。図２、図３、図４に示すように、赤色サブピクセル行１６は、複数の１方向Ｘに沿って配列される赤色サブピクセルＲを含み、緑色サブピクセル行１７は、複数の１方向Ｘに沿って配列される緑色サブピクセルＧを含み、青色サブピクセル行１８は複数の１方向Ｘに沿って配列される青色サブピクセルＢを含む。

【0047】

いくつかの実施形態において、図２、図３、図４、図５に示すように、対向基板は遮光層を含む。遮光層は、複数の第１方向Ｘに延在する第１遮光部１９のみを含む。

【0048】

アレイ基板上の第１遮光部１９の正投影は、アレイ基板上の走査線２の正投影およびアレイ基板上の支持部９の正投影を覆う。

【0049】

いくつかの実施形態において、図２、図３、図４、図５に示すように、赤色サブピクセル行１６と青色サブピクセル行１８との間の第１遮光部１９の第２方向Ｙにおける幅は、赤色サブピクセル行１６と緑色サブピクセル行１７との間の第１遮光部１９の第２方向Ｙにおける幅よりも大きい。

【0050】

かつ、赤色サブピクセル行１６と青色サブピクセル行１８との間の第１遮光部１９の第２方向Ｙにおける幅は、青色サブピクセル行１８と緑色サブピクセル行１７との間の第１遮光部１９の第２方向Ｙにおける幅よりも大きい。

【0051】

なお、図２、図３、図４において破線で示した領域、すなわち、アレイ基板上の第１遮光部１９の正投影が覆う領域である。

【0052】

なお、図２、図３、図４、図５におけるサブピクセルライン間の第１遮光部の寸法比率は実際の比率を示すものではなく、青色サブピクセルラインと赤色サブピクセルラインとの間の領域が大きいのは支持部の構成を明確にするためである。

【0053】

なお、図５は対向基板の平面図である。対向基板は、図５に示すように、遮光層の開口領域に配置されたカラーレジスト２０をさらに含む。カラーレジスト２０の色は、サブピクセルの色と１対１に対応する。すなわち、カラーレジスト２０は、赤色レジストｒ、青色レジストｂおよび緑色レジストｇを含む。

【0054】

なお、従来では、対向基板遮光層のパターンは格子状であり、格子開口がサブピクセルに対応する透光領域に対応する。本発明の実施形態によって提供される表示パネルは、対向基板の遮光層が第１方向に延在する第１遮光部のみを含み、すなわち第２方向に遮光部を設けないことにより、従来の格子状パターンの遮光層と比較してサブピクセルの開口率を向上させることができ、また、第１方向に延在する１行のサブピクセルの色が同一であるため、第２方向に延在する遮光部を設けなくても表示効果には影響を及ぼさない。

【0055】

いくつかの実施形態において、図２、図３、図４に示すように、アレイ基板上の支持部９の正投影は、隣接する青色サブピクセル行１８と緑色サブピクセル行１６との間に位置する。

【0056】

すなわち、本発明の実施形態によって提供される表示パネルは、第１遮光部の第２方向Ｙにおける幅が広い領域に支持部が配置される。

【0057】

なお、緑色のサブピクセルの発光効率は、赤色および青色のサブピクセルよりも開口率により大きく影響する。したがって、本発明の実施形態によって提供される表示パネルは、赤色サブピクセル行と青色サブピクセル行との間に第１遮光部の第２方向Ｙにおける幅が広い領域を設けることで、緑色サブピクセルに対する第１遮光部の第２方向Ｙにおける幅が大きくなる影響を回避することが可能となる。

【0058】

複数の支持部が第１支持部および第２支持部を含む場合、いくつかの実施形態において、図４に示すように、隣接する青色サブピクセル行１８と赤色サブピクセル行１６との間に第１支持部１０または第２支持部１１が設けられる場合もある。

【0059】

または、複数の支持部が第１支持部および第２支持部を含む場合、いくつかの実施形態において、図６に示すように、隣接する青色サブピクセル行１８と赤色サブピクセル行１６との間に第１支持部１０および第２支持部１１が設けられる場合もある。

【0060】

いくつかの実施形態において、図４、図６に示すように、第１支持部１０における第１部分１４の第２方向Ｙにおける長さｈ１は、第２支持部１１における第２部分１５の第２方向Ｙにおける長さｈ４と等しい。

【0061】

いくつかの実施形態において、図４、図６に示すように、第１支持部１０における第２部分１５の第２方向Ｙにおける長さｈ２は、第２支持部１１における第１部分１４の第２方向Ｙにおける長さｈ３と等しい。

【0062】

いくつかの実施形態において、図２、図３、図４、図６に示すように、アレイ基板上の第２サブ支持部１２の正投影は、アレイ基板上の第１サブ支持部１３の正投影に対して対称である。

【0063】

いくつかの実施形態において、図２、図３、図４、図６に示すように、アレイ基板上の支持部９の正投影のパターンは十字形である。

【0064】

なお、本発明の実施形態における十字状パターンとは、異なる方向に延在するストライプ状パターンが垂直に交差してなるパターンを意味する。

【0065】

図２、図３、図４、図６に示すように、支持部に含まれる第１サブ支持部および第２サブ支持部は、延在方向が異なるストライプ状パターンであり、第１サブ支持部と第２サブ支持部とが垂直に交差して十字状のパターンを構成する。

【0066】

いくつかの実施形態において、図２、図３、図４、図６に示すように、第１サブ支持部１０の第２方向Ｙにおける幅は、第２サブ支持部１１の第１方向Ｘにおける幅と等しい。

【0067】

いくつかの実施形態において、図２、図３、図４、図６に示すように、第１サブ支持部１０の第１方向Ｘにおける長さは、第２サブ支持部１１の第２方向Ｙにおける長さよりも長い。

【0068】

これにより、支持部の支持強度を第１方向に向上させることが可能となる。

【0069】

すなわち、支持部の支持強度が変化しない場合には、本発明の実施形態によって提供される第１サブ支持部および第２サブ支持部を設けることにより、第２サブ支持部の第２方向における長さを短くすることができ、これにより、支持部を覆う第１遮光層の第２方向における幅を小さくすることができ、サブピクセルの開口率を向上させることが可能となる。

【0070】

具体的な実施形態では、第１サブ支持部の第１方向における長さおよび第２サブ支持部の第１方向における長さは２０μｍであり、第１サブ支持部の第２方向における幅および第２サブ支持部の第１方向における幅は６μｍである。第１遮光部の第１方向に延在するエッジと第１サブ支持部との間の最小距離は、５μｍ程度であってもよい。赤色サブピクセル行と青色サブピクセル行との間に位置する第１遮光部の第１方向における長さは４４μｍ、第２方向の幅は１０μｍであり、第１遮光部第１方向に延在するエッジと第２サブ支持部との間の最小距離は、３μｍである。第１支持部において、第１サブ支持部の上向きまたは下向きの摺動距離は１２μｍである。第２支持部において、第１サブ支持部の下向きの摺動距離は、１２μｍである。すなわち、支持部の摺動距離は２４μｍである。実際に設計する際には支持部の摺動距離は、表示パネルサイズと製品仕様テスト仕様で採用した外力の大きさ、受力面積を参考に設計する。第２サブ支持部の寸法設計は、支持部摺動距離、支持部接触支持力、支持部材料、高さなどを考慮して行う必要がある。具体的には、サブピクセル長を５２ｕｍ、ピクセルピッチを９．７５μｍとした場合に、本発明の実施形態によって提供される第１支持部および第２支持部の設計によれば、第１遮光部の第２方向における幅が最大３０μｍとなり、サブピクセルの平均開口率が５０％以上であることが保証する。

【0071】

いくつかの実施形態において、図１に示すように、対向基板７のアレイ基板１側と対向する表面に第１サブ支持部１２が設けられる。

【0072】

第１サブ支持部１３は、アレイ基板１に面する対向基板７の側の表面に設けられる。

【0073】

第２サブ支持部１３は、対向基板７に面するアレイ基板１の側の表面に設けられる。

【0074】

いくつかの実施形態では、図７、図８に示すように、アレイ基板は、具体的には、
第１ベース基板２１と、
対向基板に面した第１ベース基板の側に位置する第１導電層２２と、
第１ベース基板から離れる第１導電層の側に位置する第２導電層２３と、
第１導電層から離れる第２導電層の側に位置するピクセル電極層２４と、を含む。

【0075】

前記第１導電層２２は、データ線４８と、データ線に電気的に接続される駆動トランジスタの第１極３６とを含む。

【0076】

前記第２導電層２３は、駆動トランジスタの第２極３７を含む。

【0077】

前記ピクセル電極層２４は、サブピクセルと１対１で対応する複数のピクセル電極４７を含み、前記ピクセル電極は、駆動トランジスタの第２極に電気的に接続される。

【0078】

すなわち、本発明の実施形態では、駆動トランジスタの第２極とデータ線とを異なる導電層に設けることにより、第１ベース基板上の駆動トランジスタの第２極の正投影のエッジと第１ベース基板上のデータ線の正投影のエッジとの間の距離を小さくしても、駆動トランジスタの第２極とデータ線との短絡を招くことなく、アレイ基板のレイアウトを簡素化することが可能となる。

【0079】

なお、図８は、例えば図７中のＡＡ′に沿った断面図であってもよい。

【0080】

いくつかの実施形態において、走査線の幅は２．５μｍ－３．５μｍであり、ゲート導電層の材料の抵抗率が小さいほど走査線を広く設定することができ、ゲート導電層の材料の抵抗率選択は０．０７方抵抗（Ω／□）～０．１Ω／□である。

【0081】

いくつかの実施形態において、データ線の幅は１．５μｍ～１．８μｍである。走査線と重なる領域での断線を防止するため、走査線と重なる領域では補償幅を０．５μｍとする。

【0082】

いくつかの実施形態において、第１ベース基板上の駆動トランジスタの第２極の正投影のエッジと第１ベース基板上のデータ線の正投影のエッジとの間の最小距離は、０．８μｍ～１μｍである。

【0083】

いくつかの実施形態において、駆動トランジスタの第２極の幅は４．３μｍ～６．６５μｍである。

【0084】

いくつかの実施形態において、図７、図８に示すように、アレイ基板は、第１基板２１と第１導電層２２との間に位置する活性層２６をさらに含む。

【0085】

前記活性層２６は、サブピクセルと１対１で対応する複数の活性層のパターンを含む。

【0086】

図１０に示すように、活性層２６のパターンは、第１基板の正投影形状にコーナーを有し、コーナーにおいて第１ベース基板上の活性層のパターンの正投影の形状に第１溝を有する。

【0087】

いくつかの実施形態において、活性層の材料は、例えばポリシリコンを含んでもよい。活性層は、半導体領域および導体化領域を含む。具体的な実施形態では、例えば自己整合プロセスを用いて低温ドーピングにより導体化領域を形成することができ、ドーピング精度を確保するためには、第１ベース基板上の活性層の正投影のエッジと第１ベース基板上の走査線の正投影のエッジとの距離が１μｍ～１．５μｍであり、活性層コーナー形状精度を確保するためには、コーナーにおいて露光補償設計、すなわち１μｍ以下掘削して第１溝を形成する必要がある。

【0088】

いくつかの実施形態において、図７、図８に示すように、アレイ基板はさらに、
活性層２６と第１の下地基板２１との間に位置する遮光層２５と、
遮光層２５と活性層２６との間に位置するバッファ層４０と、
活性層２６と第１導電層２２に位置するゲート導電層２７と、
活性層２６とゲート導電層２７との間に位置するゲート絶縁層３５と、
ゲート導電層２７と第１導電層２との間に位置する第１層間絶縁層２９と、
第１導電層２２と第２導電層２３との間に位置する第２層間絶縁層３１と、
第２導電層２３とピクセル電極層２４との間に位置する第１パッシベーション層３３とを含む。

【0089】

前記ゲート導電層２７は、駆動トランジスタの制御電極３９および走査線を含む。

【0090】

駆動トランジスタの第２極は、第２層間絶縁層、第１層間絶縁層およびゲート絶縁層を貫通する第１ビア３２を介して活性層２６と接触する。

【0091】

ピクセル電極は、第１パッシベーション層３３を貫通する第２ビア３４を介して駆動トランジスタの第２極と接触する。

【0092】

駆動トランジスタの第１極は、第１層間絶縁層およびゲート絶縁層の第３ビア３０を貫通する第３ビア３０を介して活性層と接触する。

【0093】

なお、遮光層は、駆動トランジスタのチャネル領域を遮蔽するために用いられる。

【0094】

いくつかの実施形態において、第１ビアのサイズは、１．５μｍ～２．５μｍである。

【0095】

いくつかの実施形態において、第２ビアのサイズは、２．５－３．５μｍである。

【0096】

いくつかの実施形態において、第３ビアのサイズは、１．５μｍ～２．５μｍである。

【0097】

ビアエッチングの残留を回避するために、いくつかの実施形態において、第１ベース基板上の第２ビアの正投影のエッジとベース基板上の第１ビアの正投影のエッジとの間の最小距離が０．３５μｍ以上０．７μｍ以下である。

【0098】

走査線に第１ビアが接続されて駆動トランジスタの制御電極が第２極と短絡されることを防止する。いくつかの実施形態において、第１ベース基板上の第２ビアの正投影のエッジと第１ベース基板上の駆動トランジスタの制御電極の正投影のエッジとの間の最小距離は、１μｍ以上２μｍ以下である。

【0099】

いくつかの実施形態において、図７、図１７に示すようにアレイ基板は、ピクセル電極層２４の第２導電層２３から離間する側に位置する共通電極層２８をさらに含み、前記共通電極層２８は、共通電極３８を含む。

【0100】

第２パッシベーション層４１は、共通電極層２８とピクセル電極層２４との間に位置する。

【0101】

いくつかの実施形態において、図１９に示すように、ゲート導電層２７は、共通電極線４６をさらに含む。

【0102】

前記共通電極線４６は、共通電極３８と電気的に接続され、前記共通電極線は、隣接する青色サブピクセル行と赤色サブピクセル行との間に配置される。

【0103】

具体的な実施形態では、例えば青色サブピクセル行と赤色サブピクセル行との間の支持部に対応する領域に共通電極線を設けてもよく、共通電極線の配置が表示パネルの開口率に影響を与えることを回避することが可能である。

【0104】

いくつかの実施形態において、第２導電層２３は、接続電極４９をさらに含み、接続電極４９は、第２層間絶縁層を貫通する第４ビア５０を介して共通電極線４６と電気的に接続される。共通電極３８は、第２パッシベーション層を貫通する第５ビア５２および第１パッシベーション層を貫通する第６ビア５１を介して接続電極４９に電気的に接続される。第１基板上の第４ビア、第５ビアおよび第６ビアの正投影は、重なる。

【0105】

なお、ピクセル電極層および共通電極層は、透過率の高い材料を採用してもよい。ピクセル電極層および共通電極層は、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を含んでいてもよい。すなわち、アレイ基板にＩＴＯ層を２層設けてもよい。第１層のＩＴＯがピクセル電極層として機能することにより、ビア数を削減し、開口率を向上させることが可能となる。

【0106】

具体的には、ピクセルＰｉｔｃｈを例えば９．７５μｍとすることができ、この場合、共通電極の切り欠きにおけるアスペクト比が４．８μｍ／４．９５μｍ、すなわち、ピクセルの透光領域全体に配置された共通電極を４．８μｍ空けることが可能となる。

【0107】

なお、図９～図１８は、それぞれ図７に示す領域に対応する遮光層２５、活性層２６、ゲート導電層２７、第１層間絶縁層２９、第１導電層２２、第２層間絶縁層３１、第２導電層２３、第１パッシベーション層３３、ピクセル電極層２４、共通電極層２８のパターンである。図２０～図２７は、図１９に示す領域に対応するゲート導電層２７、第２層間絶縁層３１、第２導電層２３、第１パッシベーション層３３、ピクセル電極層２４、第２パッシベーション層４１、共通電極層２８のパターンである。ここで、図１２、図１４、図１６、図２１、図２３、図２５は、それぞれ各絶縁層のビアのパターンのみを示すものである。図１９に対応する活性層のパターンは図１０を参照し、図１９に対応する第１導電層２２のパターンは図１３を参照する。

【0108】

次に、第２サブ支持部をアレイ基板の対向基板側に設ける例として、本発明の実施形態によって提供される表示パネル内のアレイ基板におけるアレイ基板の製造方法について説明する。アレイ基板の製造方法は、以下のステップを含む。

【0109】

Ｓ１０１、第１の基板上に遮光層材料を堆積し、パターニング工程を用いて遮光層のパターンを形成する。

【0110】

Ｓ１０２、半導体材料を堆積し、エッチングして活性層のパターンを形成する。

【0111】

Ｓ１０３、半導体材料を堆積し、エッチングして活性層のパターンを形成する。

【0112】

Ｓ１０３、堆積ゲート絶縁層材料、ゲート絶縁層を形成する。

【0113】

Ｓ１０４、ゲート金属材料を堆積し、ゲート金属層が形成されたパターンをエッチングし、半導体セルフアラインドーピング工程を行って活性層に導体化領域を形成する。

【0114】

Ｓ１０５、第１層間絶縁層材料を堆積し、エッチングして第３ビアを形成する。

【0115】

Ｓ１０６、金属材料を堆積して第１導電層を形成し、エッチングして第１導電層のパターンを形成する。

【0116】

Ｓ１０７、第２層間絶縁層材料を堆積し、エッチングして第１ビアを形成する。

【0117】

Ｓ１０８、金属材料を堆積して第２導電層を形成し、エッチングして第２導電層のパターンを形成する。

【0118】

Ｓ１０９、第１パッシベーション層の材料を堆積して、第１パッシベーション層を形成し、露光工程を用いて第２ビアを形成する。

【0119】

Ｓ１１０、ＩＴＯを堆積してピクセル電極層を形成し、エッチングしてピクセル電極を形成する。

【0120】

Ｓ１１１、第２パッシベーション層の材料を堆積し、第２パッシベーション層を形成し、エッチングして周辺領域のビアを形成する。

【0121】

Ｓ１１２、ＩＴＯを堆積して共通電極層を形成し、エッチングして共通電極のパターンを形成する。

【0122】

Ｓ１１３、第２サブ支持部材料を堆積し、エッチングして第２サブ支持部のパターンを形成する。

【0123】

本発明の実施形態によって提供される表示装置は、図２７に示すように、本発明の実施形態によって提供される表示パネル４２を含む。

【0124】

いくつかの実施形態において、図２７に示すように、表示装置は、表示パネルの出光側に位置するシリンドリカルレンズ構造４３をさらに含む。

【0125】

前記シリンドリカルレンズは、アレイ状に配列された複数のシリンドリカルレンズを含む。

【0126】

いくつかの実施形態において、図２７に示すように、表示装置は、
表示パネル４２とシリンドリカルレンズ４３との間に位置する透光スペーサ層４４と、
シリンドリカルレンズ４５の透光スペーサ層４４から離れる側に位置する平坦層４５とをさらに含む。

【0127】

いくつかの実施形態において、表示パネルが液晶表示パネルである場合、表示装置は、例えば、例えば、表示パネルから離れたシリンドリカルレンズ構造のバックライトモジュールをさらに含む。

【0128】

いくつかの実施形態において、表示装置は、
ユーザーの目が表示装置における注視領域をリアルタイムで特定するための人眼追跡システム（ｅｙｅ－ｔｒａｃｋｉｎｇ）をさらに含む。

【0129】

これにより、決定されたユーザーの目に基づいて、表示装置の注視領域における注視領域に対応するピクセル・アイランドの各サブピクセルの表示情報を決定することが可能となる。

【0130】

具体的には、ピクセル・アイランド（２次元画像（２Ｄ）として表示可能な１つのサブピクセル）内でサブピクセル細分化を行うため、３次元画像（３Ｄ）表示モードにおいても２Ｄ表示と同様の解像度を維持することができ、目の追跡（ｅｙｅ－ｔｒａｃｋｉｎｇ）を組み合わせることで大画角の多視点（ｖｉｅｗ）表示が可能となり、より高いピクセル密度（ｐｐｉ）の３Ｄ表示が可能となり、情報量が多く隣接する視点間での色クロストークも低減され、ユーザーによる立体画像視聴時の眩しさやユーザーエクスペリエンスも向上する。表示装置にシリンドリカルレンズアレイを設ける場合、シリンドリカルレンズアレイは、ピクセル・アイランド内のサブピクセルに対するピクセルマッピングだけでなく、ピクセル・アイランドの出射光線も光場変調することにより、最終的なピクセル・アイランドの出射光線が複数の視点を形成して光場３Ｄ表示が可能となる。

【0131】

本発明の一実施例によるディスプレイ装置は、携帯電話、タブレット、テレビ、モニター、ノート型パソコン、デジタルフォトフレーム、ナビゲーションなどのディスプレイ機能を含む任意の製品または部品である。表示装置のその他の必要不可欠な構成要素は、当業者には理解されるべきであり、ここでは言及せず、本発明の制限としてもよい。この表示装置の実施形態は、上述した表示パネルの実施形態を参照することができ、重複部分については省略する。

【0132】

以上説明したように、本発明の実施形態によって提供される表示パネルすなわち、表示装置において、各支持部は、異なる基板に設けられ、延在する方向が異なる第１サブ支持部および第２サブ支持部を含み、第１サブアレイ基板上の支持部の正投影は、第２サブアレイ基板上の支持部の正投影を第１部分および第２部分に分割し、すなわち、第１サブ支持部は、第２サブ支持部に対して一定の摺動距離を有し、これによって、表示パネルの製造工程における摺動によって第１サブ支持部や第２サブ支持部が残りのフィルム層を傷付けることを回避する。ここで、第１支持部の上方摺動距離は、第１支持部における第１部分の第２方向の長さと第２サブ支持部の第２方向における幅との和であるとともに、第２支持部の下方摺動距離は、第２支持部における第２部分の第２方向の長さと第２サブ支持部の第２方向における幅との和である。各支持部における第１部分の第２方向の長さが第２部分の第２方向の長さと等しい場合に比べ、支持部の上方摺動および下方摺動距離を長くしてもよい。また、表示パネルは、第１支持部と第２支持部の２種類の支持部を備えているため、各支持部における第１部分の第２方向の長さが第２部分の第２方向の長さと等しい場合と比較して、支持部全体の摺動距離を長くすることも可能である。このように本発明の実施形態によって提供される表示パネルは、支持部のスライド距離を変更することなく、支持部を覆う表示パネルの遮光領域の第２方向の長さを短くすることができ、サブピクセル透光領域の面積を増大させ、サブピクセル開口率を向上させることができ、ひいては表示効果とユーザーエクスペリエンスを向上させることが可能となる。

【0133】

本発明の好適な実施形態について説明したが、当業者が基本的な創造性概念を理解すると、これらの実施形態はさらに変更および修正されうる。したがって、添付の特許請求の範囲は、好適な実施形態および本発明の範囲内にあるすべての変更および修正を含むものと解釈されることを意図する。

【0134】

当業者は、本発明の実施形態の精神および範囲を逸脱することなく、様々な変更および変形が可能であることは明らかである。このように、本発明の実施形態におけるこれらの変形および変形が、本発明の請求項およびそれと同等の技術的範囲内にある場合には、本発明もこれらの変形および変形を含むことを意図する。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22】

【図23】

【図24】

【図25】

【図26】

【図27】

【国際調査報告】