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特表2024-535094スポットサイズ変換構造体およびフォトニックデバイス
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-09-26
(54)【発明の名称】スポットサイズ変換構造体およびフォトニックデバイス
(51)【国際特許分類】
   G02B 6/122 20060101AFI20240918BHJP
   G02B 6/26 20060101ALI20240918BHJP
【FI】
G02B6/122 311
G02B6/26
【審査請求】有
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2024518736
(86)(22)【出願日】2022-07-07
(85)【翻訳文提出日】2024-03-25
(86)【国際出願番号】 CN2022104331
(87)【国際公開番号】W WO2023050965
(87)【国際公開日】2023-04-06
(31)【優先権主張番号】202111158077.8
(32)【優先日】2021-09-28
(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】523470821
【氏名又は名称】スーチョウ、リコア、テクノロジーズ、カンパニー、リミテッド
【氏名又は名称原語表記】SUZHOU LYCORE TECHNOLOGIES CO., LTD.
(74)【代理人】
【識別番号】100120031
【弁理士】
【氏名又は名称】宮嶋 学
(74)【代理人】
【識別番号】100107582
【弁理士】
【氏名又は名称】関根 毅
(74)【代理人】
【識別番号】100217940
【弁理士】
【氏名又は名称】三並 大悟
(74)【代理人】
【識別番号】100220630
【弁理士】
【氏名又は名称】河崎 亮
(72)【発明者】
【氏名】リャン、ハンシアオ
(72)【発明者】
【氏名】ソン、イーピン
(72)【発明者】
【氏名】チョウ、インツォン
(72)【発明者】
【氏名】ウー、ハイツァン
(72)【発明者】
【氏名】マオ、ウェンハオ
(72)【発明者】
【氏名】ソン、シーウェイ
(72)【発明者】
【氏名】スン、ウェイチー
(72)【発明者】
【氏名】ユイ、チンヤン
【テーマコード(参考)】
2H137
2H147
【Fターム(参考)】
2H137AB15
2H137AB16
2H137AC01
2H137BA35
2H147AB24
2H147BA14
2H147BA17
2H147BB02
2H147BG06
2H147GA19
(57)【要約】
スポットサイズ変換構造体(100)およびフォトニックデバイス(1)。スポットサイズ変換構造体(100)は、順に配列された基板(101)と、絶縁層(102)と、導波路層(103)とを備える。導波路層(103)は、基板(101)から離れる方向に沿って順に配列されたN個のサブ導波路層(1030)を含み、サブ導波路層の各々は、突出形状であり、Nは、自然数であり、N≧3である。スポットサイズ変換構造体(100)は、集積型光導波路に結合されるように構成された第1の端面(100a)と、第1の端面(100a)の反対側であり光ファイバに結合されるように構成された第2の端面(100b)とを有する。基板(101)から離れる方向において、基板(101)上の(n+1)番目のサブ導波路層(1030)の直交突出部は、基板(101)上のn番目のサブ導波路層(1030)の直交突出部の範囲内にあり、nは、自然数であり、1≦n≦N-1である。第1の端面(100a)から離れる方向において、基板(101)上の各サブ導波路層(1030)の直交突出部の幅は、徐々に狭くなっている。各サブ導波路層(1030)の幅広の端部は、第1の端面(100a)まで延び、第1のサブ導波路層(1030)の狭い端部は、第2の端面(100b)まで延びる、または第2の端面(100b)から一定の距離のところにあり、(n+1)番目のサブ導波路層(1030)の狭い端部は、n番目のサブ導波路層(1030)の狭い端部から一定の距離のところにある。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
順に配列された基板と、絶縁層と、導波路層とを備えるスポットサイズ変換構造体であって、前記導波路層は、前記基板から離れる方向に沿って順に配列されたN個のサブ導波路層を含み、前記サブ導波路層の各々は、突出形状であり、Nは、自然数であり、N≧3であり、
前記スポットサイズ変換構造体は、集積型光導波路に結合されるように構成された第1の端面と、前記第1の端面の反対側であり光ファイバに結合されるように構成された第2の端面とを有し、
前記基板から離れる方向において、前記基板上の(n+1)番目のサブ導波路層の直交突出部は、前記基板上のn番目のサブ導波路層の直交突出部の範囲内にあり、nは、自然数であり、1≦n≦N-1であり、
前記基板上の前記サブ導波路層の各々の直交突出部の幅は、前記第1の端面から離れる方向に徐々に狭くなっており、
前記サブ導波路層の各々の幅広の端部は、前記第1の端面まで延び、第1のサブ導波路層の狭い端部は、前記第2の端面まで延びる、または前記第2の端面から一定の距離のところにあり、前記(n+1)番目のサブ導波路層の狭い端部は、前記n番目のサブ導波路層の狭い端部から一定の距離のところにある、スポットサイズ変換構造体。
【請求項2】
N番目のサブ導波路層および(N-1)番目のサブ導波路層以外の少なくとも1つのサブ導波路層の厚さcは、c≦200nmを満たす、請求項1に記載のスポットサイズ変換構造体。
【請求項3】
前記サブ導波路層の各々は、複数の導波路部分を備え、前記複数の導波路部分は、縮小された幅の導波路部分を備え、前記基板上の前記縮小された幅の導波路部分の直交突出部の幅は、前記第1の端面から離れる方向に徐々に縮小され、
N番目のサブ導波路層の複数の導波路部分は、前記第1の端面まで延びる等しい幅の導波路部分をさらに備え、前記基板上の前記等しい幅の導波路部分の直交突出部の幅は、全ての位置において等しい、請求項1に記載のスポットサイズ変換構造体。
【請求項4】
前記サブ導波路層の各々は、複数の導波路部分を備え、前記複数の導波路部分は、縮小された幅の導波路部分と、等しい幅の導波路部分とを備え、前記基板上の前記縮小された幅の導波路部分の直交突出部の幅は、前記第1の端面から離れる方向に徐々に縮小され、前記基板上の前記等しい幅の導波路部分の直交突出部の幅は、全ての位置において等しく、
前記第1の端面まで延びるN番目のサブ導波路層の導波路部分は、等しい幅の導波路部分であり、
前記第2の端面に最も近い前記サブ導波路層の各々の導波路部分は、等しい幅の導波路部分である、請求項1に記載のスポットサイズ変換構造体。
【請求項5】
前記第2の端面に最も近い前記サブ導波路層の各々の前記導波路部分は、三角形断面または台形断面を有する等しい幅の導波路部分である、請求項4に記載のスポットサイズ変換構造体。
【請求項6】
前記スポットサイズ変換構造体は、前記第1の端面および前記第2の端面と交差する第1の側面と、第2の側面とをさらに備え、
前記第1の端面まで延びる前記N番目のサブ導波路層以外の少なくとも1つのサブ導波路層の導波路部分は、前記第1の側面および/または前記第2の側面までさらに延びている、請求項4に記載のスポットサイズ変換構造体。
【請求項7】
前記基板上の前記N個のサブ導波路層の直交突出部の各々は、同じ軸に対して軸対称構造を有する、請求項1に記載のスポットサイズ変換構造体。
【請求項8】
前記スポットサイズ変換構造体は、前記基板に向かって延び前記基板を露出する複数のスロットと、前記基板内に設けられ前記複数のスロットと連通する連通構造とを有し、前記基板上の前記複数のスロットの直交突出部は、前記基板上の前記導波路層の直交突出部の両側に分散される、請求項1から7のいずれか一項に記載のスポットサイズ変換構造体。
【請求項9】
少なくとも1つのスロットが前記第2の端面に対して露出される、請求項8に記載のスポットサイズ変換構造体。
【請求項10】
請求項1から9のいずれか一項に記載のスポットサイズ変換構造体を備えるフォトニックデバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
関連出願の相互参照
本出願は、「SPOT-SIZE CONVERSION STRUCTURE AND PHOTONIC DEVICE」という標題で2021年9月28日に提出された特許出願第202111158077.8号の優先権を主張し、本出願によって主張される優先権の開示は、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【0002】
本開示は、光子の技術分野に関し、詳細にはスポットサイズ変換構造体およびフォトニックデバイスに関する。
【背景技術】
【0003】
光導波路は、光波の伝搬を導く誘電体装置であり、誘電体光導波路とも呼ばれる。主に2種類の光導波路があり、1つの種類は、集積型光導波路であり、平面型誘電体光導波路と、スラブ型誘電体光導波路とを備え、これらは一般に、光電子集積デバイスの一部として機能し、そのため、それらは集積型光導波路と呼ばれており、もう1つの種類は、円筒形光導波路であり、これは通常、光ファイバと呼ばれる。
【0004】
集積型光導波路を光ファイバに結合する技法は、光通信、マイクロ波フォトニクス、レーザビーム偏向、波面調整などの分野において極めた広範かつ重要な用途を有する。エッジ結合は、集積型光導波路を光ファイバに結合するのに使用される一般的な方法である。
【0005】
しかしながら、集積型光導波路と光ファイバとの間のスポットサイズの大きな差が理由で、集積型光導波路と光ファイバとの間の結合効率を改善する方法は常に、当業者にとって研究下にある重要な主題である。
【発明の概要】
【0006】
本開示の一態様によると、順に配列された基板と、絶縁層と、導波路層とを含むスポットサイズ変換構造体が提供され、導波路層は、基板から離れる方向に沿って順に配列されたN個のサブ導波路層を含み、サブ導波路層の各々は、突出形状であり、Nは、自然数であり、N≧3であり、スポットサイズ変換構造体は、集積型光導波路に結合されるように構成された第1の端面と、第1の端面の反対側であり光ファイバに結合されるように構成された第2の端面とを有し、基板から離れる方向において、基板上の(n+1)番目のサブ導波路層の直交突出部は、基板上のn番目のサブ導波路層の直交突出部の範囲内にあり、nは、自然数であり、1≦n≦N-1であり、基板上のサブ導波路層の各々の直交突出部の幅は、第1の端面から離れる方向に徐々に狭くなっており、サブ導波路層の各々の幅広の端部は、第1の端面まで延び、第1のサブ導波路層の狭い端部は、第2の端面まで延びる、または第2の端面から一定の距離のところにあり、(n+1)番目のサブ導波路層の狭い端部は、n番目のサブ導波路層の狭い端部から一定の距離のところにある。
【0007】
いくつかの実施形態において、N番目のサブ導波路層および(N-1)番目のサブ導波路層以外の少なくとも1つのサブ導波路層の厚さcは、c≦200nmを満たす。
【0008】
いくつかの実施形態において、サブ導波路層の各々は、複数の導波路部分を含み、複数の導波路部分は、縮小された幅の導波路部分を含み、基板上の縮小された幅の導波路部分の直交突出部の幅は、第1の端面から離れる方向に徐々に縮小され、N番目のサブ導波路層の複数の導波路部分は、第1の端面まで延びる等しい幅の導波路部分をさらに含み、基板上の等しい幅の導波路部分の直交突出部の幅は、全ての位置において等しい。
【0009】
いくつかの実施形態において、サブ導波路層の各々は、複数の導波路部分を含み、複数の導波路部分は、縮小された幅の導波路部分と、等しい幅の導波路部分とを含み、基板上の縮小された幅の導波路部分の直交突出部の幅は、第1の端面から離れる方向に徐々に縮小され、基板上の等しい幅の導波路部分の直交突出部の幅は、全ての位置において等しく、第1の端面まで延びるN番目のサブ導波路層の導波路部分は、等しい幅の導波路部分であり、第2の端面に最も近いサブ導波路層の各々の導波路部分は、等しい幅の導波路部分である。
【0010】
いくつかの実施形態において、第2の端面に最も近いサブ導波路層の各々の導波路部分は、三角形断面または台形断面を有する等しい幅の導波路部分である。
【0011】
いくつかの実施形態において、スポットサイズ変換構造体は、第1の端面および第2の端面と交差する第1の側面と、第2の側面とをさらに含み、第1の端面まで延びるN番目のサブ導波路層以外の少なくとも1つのサブ導波路層の導波路部分は、第1の側面および/または第2の側面までさらに延びている。
【0012】
いくつかの実施形態において、基板上のN個のサブ導波路層の直交突出部の各々は、同じ軸に対して軸対称構造を有する。
【0013】
いくつかの実施形態において、スポットサイズ変換構造体は、基板に向かって延び基板を露出する複数のスロットと、基板内に設けられ複数のスロットと連通する連通構造とを有し、基板上の複数のスロットの直交突出部は、基板上の導波路層の直交突出部の両側に分散される。いくつかの実施形態において、少なくとも1つのスロットは、第2の端面に対して露出される。
【0014】
本開示の一態様によると、上述の実施形態のいずれか1つによるスポットサイズ変換構造体を含むフォトニックデバイスが提供される。
【0015】
この項に記載される内容は、本開示の実施形態の決定的または重要な特徴を特定することは意図されておらず、本開示の範囲を限定するために使用されていないことを理解されたい。本開示の他の特徴は、以下の説明を通して容易に理解されるであろう。
【0016】
本開示のより多くの詳細、特徴および利点は、添付の図面を参照して例示の実施形態の以下の説明において開示される。
【図面の簡単な説明】
【0017】
図1図1は、本開示のいくつかの例示の実施形態によるスポットサイズ変換構造体の上面図である。
図2A図2Aは、図1のA-Aにおける、本開示のいくつかの例示の実施形態による概略断面図である。
図2B図2Bは、図1のB-Bにおける、本開示のいくつかの例示の実施形態による概略断面図である。
図2C図2Cは、図1のC-Cにおける、本開示のいくつかの例示の実施形態による概略断面図である。
図2D図2Dは、図1のD-Dにおける、本開示のいくつかの例示の実施形態による概略断面図である。
図2E図2Eは、図1のE-Eにおける、本開示のいくつかの例示の実施形態による概略断面図である。
図3図3は、本開示のいくつかの他の例示の実施形態によるスポットサイズ変換構造体の上面図である。
図4図4は、本開示のいくつかの例示の実施形態によるフォトニックデバイスの構造的ブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【0018】
一部の例示の実施形態のみが以下で簡単に記載される。当業者によって理解され得るように、記載される実施形態は、本開示の精神および範囲から逸脱することなく種々の方法で修正され得る。したがって、添付の図面および説明は、限定ではなく、本質的に例示とみなされる。
【0019】
既存のスポットサイズ変換器は、集積型光導波路と光ファイバとの間の結合を機能的に実現することができるが、集積型光導波路と光ファイバとの間の結合効率は、それらの間のスポットサイズの大きな差のために、大きくなく、結果として、光エネルギーの大きな損失につながる。例えば、集積型光導波路のスポットサイズは、一般に数百ナノメータ程であり、その一方で端部が平坦な光ファイバなどの光ファイバのスポットサイズは、数十ミクロンほどである。失われた光エネルギーは、結合する端面の激しい加熱につながる可能性があり、これによりデバイスの信頼性および耐用寿命に影響を与える可能性がある。結合効率は、集積型光導波路によって放出される光パワーと光ファイバによって受け取られる光パワーの割合である、または光ファイバによって放出される光パワーと集積型光導波路によって受け取られる光パワーの割合であることが理解され得る。
【0020】
本開示の実施形態は、集積型光導波路と光ファイバとの間の結合効率を改善し、スポットサイズ変換中の光損失を低減するスポットサイズ変換構造体およびフォトニックデバイスを提供する。
【0021】
図1図2A図2B図2C図2Dおよび図2Eに示されるように、本開示のいくつかの実施形態に提供されるスポットサイズ変換構造体100は、順に配列された基板101と、絶縁層102と、導波路層103とを含む。導波路層103は、基板101から離れる方向に沿って順に配列されたN個(例えば、図面に示されるように4つ)のサブ導波路層1030を含み、サブ導波路層の各々は、突出形状であり、Nは、自然数であり、N≧3である。スポットサイズ変換構造体100は、集積型光導波路に結合されるように構成された第1の端面100aと、第1の端面100aの反対側であり光ファイバに結合されるように構成された第2の端面100bとを有する。基板101から離れる方向において、基板101上の(n+1)番目のサブ導波路層1030の直交突出部は、基板101上のn番目のサブ導波路層1030の直交突出部の範囲内にあり、nは、自然数であり、1≦n≦N-1である。基板101上の各サブ導波路層1030の直交突出部の幅は、第1の端面100aから離れる方向に徐々に狭くなっている。各サブ導波路層1030の幅広の端部は、第1の端面100aまで延び、第1のサブ導波路層1030の狭い端部は、第2の端面100bまで延びる、または第2の端面100bから一定の距離のところにあり、(n+1)番目のサブ導波路層1030の狭い端部は、n番目のサブ導波路層1030の狭い端部から一定の距離のところにある。
【0022】
基板101から離れる方向において、N個のサブ導波路層1030はそれぞれ、第1のサブ導波路層、第2のサブ導波路層、第3のサブ導波路層...、(N-1)番目のサブ導波路層、およびN番目のサブ導波路層である。図1に示される一実施形態では、N=4であり、図3に示される一実施形態では、N=3である。加えて、Nは、N=5またはN=6など他の数であってもよい。
【0023】
本開示の実施形態では、長さ方向は、光が導波路層103内で伝達される方向として定義され、幅方向は、基板101に平行であり、光が導波路層103内で伝達される方向に直交するように定義される。第1の端面100aおよび第2の端面100bは、光が導波路層103内で伝達される方向に実質的に沿って配列される。第1の端面100aおよび第2の端面100bに加えて、スポットサイズ変換構造体100は、第1の端面100aおよび第2の端面100bと交差する第1の側面100cと、第2の側面100dとをさらに含む。一実施形態において、第1の端面100aは、第2の端面100bに平行であり、第1の側面100cは、第2の側面100dに平行である。
【0024】
図2A図2B図2C図2Dおよび図2Eに示されるように、本開示のいくつかの実施形態においてスポットサイズ変換構造体100は、基板101から離れて導波路層103の片側にカバー層104をさらに含む。導波路層103の屈折率n1、カバー層104の屈折率n2、絶縁層102の屈折率n3および基板101の屈折率n4は、n1>n2およびn1>n3を満たす。絶縁層102の屈折率およびカバー層104の屈折率は、導波路層103のものより小さく、その結果、光は主に、導波路層103内に伝わるように限定されてよい。導波路層103が狭くなり完全に見えなくなった後、第2の端面100bに近い絶縁層102およびカバー層104の一部が、光伝達に使用される導波路構造を形成する。本開示のいくつかの他の実施形態では、スポットサイズ変換構造体100はまた、カバー層104を含まない場合もある。
【0025】
スポットサイズ変換構造体100の第1の端面100aは、スポットサイズ変換構造体100の光入力側端面として機能し、第2の端面100bは、スポットサイズ変換構造体100の光出力側端面として機能することが可能である。具体的には、光は、N個のサブ導波路層1030の幅広の端部からスポットサイズ変換構造体100に進入し、スポットサイズ変換構造体100の第2の端面100bから出力される。スポットサイズ変換構造体100の第1の端面100aが、スポットサイズ変換構造体100の光出力側端面として機能し、第2の端面100bが、スポットサイズ変換構造体100の光入力側端面として機能することも可能である。具体的には、光は、スポットサイズ変換構造体100の第2の端面100bからスポットサイズ変換構造体100に進入し、N個のサブ導波路層1030の幅広の端部から出力される。第2の端面100bに近い絶縁層102およびカバー層104の一部によって形成された導波路構造のスポットサイズは、光ファイバのスポットサイズに実質的に一致するため、スポットサイズ変換構造体100は、第2の端面100bにおいて光ファイバとより最適に結合してよい。
【0026】
関連分野における一部のスポットサイズ変換構造体は、2つのサブ導波路層を含む導波路層を有し、これらは、プレート様形状のプレート層と、プレート層から突出するリッジ層である。基板上の2つのサブ導波路層の直交突出部の幅はまた、集積型光導波路に結合される必要がある一方の側での端面のサイズの制限のために、第1の端面から離れる方向に徐々に狭くなり得るが、2つのサブ導波路層の厚さ、とりわけプレート層の厚さは、これより小さくなるように設計することはできない。例えば、プレート層の厚さは通常約300ナノメータの範囲内である。プレート層の厚さが大きいとき、製造過程の制限のために、プレート層の狭い端部の幅をさらに狭くすることは困難である。
【0027】
本開示の実施形態では、導波路層103は、形状設計においてより大きな自由度を有し、より滑らかになるように設計されてもよく(例えば、図面の第1のサブ導波路層は、より多くの導波路部分を設けることによって、より緩やかな幅の狭まりを提示してもよい)、その結果、第1の端面から第2の端面へのスポット移動、または第2の端面から第1の端面へのスポット移動がより滑らかになり得る。一方、第1の端面100aの結合サイズに関する設計要件を満たすことを前提として(すなわち、N番目および(N-1)番目のサブ導波路層の厚さは、第1の端面100aの結合サイズに関する設計要件を満たすことが可能である)、第1のサブ導波路層の厚さから(N-2)番目のサブ導波路層の厚さは、この要件に従って可能な限り小さくなるように設計されてよく、第1のサブ導波路層の狭い端部の幅から(N-2)番目のサブ導波路層の狭い端部の幅は、製造過程の制限から自由であってよい。厚さは、この要件に従って可能な限り小さく設計されてよく、その結果、より多くの光が強制的に導波路層103からあふれ出すようにされ、その後、第2の端面100bから出力される(この場合、第1の端面100aは、光入力側端面であり、第2の端面100bは、光出力側端面である)、あるいは、より多くの光が強制的に導波路層103に進入するようにされる(この場合、第2の端面100bは、光入力側端面であり、第1の端面100aは、光出力側端面である)。
【0028】
したがって、本開示の実施形態における解決策は、一部のサブ導波路層の厚さおよび狭い端部サイズの設計における自由度を改善することで、導波路層の厚さおよび狭い端部サイズの設計における自由度を改善し、これにより、光伝達の損失を最小限にし、スポットサイズ変換構造体の結合効率を改善してよい。
【0029】
本開示のいくつかの実施形態において、上記に記載した改善に基づいて、N番目および(N-1)番目のサブ導波路層以外のサブ導波路層のうちの少なくとも1つの厚さcは、c≦200nmを満たす。4つのサブ導波路層を含む導波路層の一例では、第1のサブ導波路層および第2のサブ導波路層のうちの少なくとも1つの厚さは、200nm以下になるように設計されてよい。3つのサブ導波路層を含む導波路層の一例では、第1のサブ導波路層の厚さは、200nm以下になるように設計されてよい。
【0030】
本開示の実施形態では、各サブ導波路層は、1つまたは複数の導波路部分を含んでよく、これらは、少なくとも縮小された幅の導波路部分を含むべきである。縮小された幅の導波路部分は、基板上の直交突出部の幅が、第1の端面から離れる方向に徐々に縮小される、導波路部分を指す。本開示は、各サブ導波路層内の導波路部分の数および構造上の形状を具体的に限定しない。例えば、サブ導波路層が複数の導波路部分を含む場合、第2の端面に最も近いサブ導波路層の導波路部分は、等しい幅の導波路部分または縮小された幅の導波路部分のいずれであってもよい。等しい幅の導波路部分は、基板上の直交突出部の幅が全ての位置において等しい導波路部分である。以下は、単なる一部の例示の実施形態である。
【0031】
本開示のいくつかの実施形態において、各サブ導波路層は、複数の導波路部分を含み、複数の導波路部分は、縮小された幅の導波路部分と、等しい幅の導波路部分とを含む。基板101上の縮小された幅の導波路部分の直交突出部の幅は、第1の端面100aから離れる方向に徐々に縮小される、例えば、徐々に線形にまたは非線形に縮小され、基板101上の等しい幅の導波路部分の直交突出部の幅は、全ての位置において等しい。第1の端面100aまで延びるN番目のサブ導波路層の導波路部分は、等しい幅の導波路部分であり、第2の端面100bに最も近い各サブ導波路層の導波路部分は、等しい幅の導波路部分である。図1に示される実施形態では、第3のサブ導波路層は、第1の端面100aから離れる方向に順に配列された第1の等しい幅の導波路部分301と、第1の縮小された幅の導波路部分302と、第2の等しい幅の導波路部分303とを含む。第1のサブ導波路層および第2のサブ導波路層の各々は、第1の端面100aから離れる方向に順に配列された第3の等しい幅の導波路部分304と、第2の縮小された幅の導波路部分305と、第4の等しい幅の導波路部分306と、第3の縮小された幅の導波路部分307と、第5の等しい幅の導波路部分308とを含む。当然のことながら、各サブ導波路層内の導波路部分の数は、同じであっても、異なっていてもよい。
【0032】
本開示のいくつかの他の実施形態では、各サブ導波路層は、複数の導波路部分を含み、複数の導波路部分は、縮小された幅の導波路部分を含む。基板上の縮小された幅の導波路部分の直交突出部の幅は、第1の端面から離れる方向に徐々に線形にまたは非線形に縮小される。N番目のサブ導波路層の複数の導波路部分は、第1の端面まで延びる等しい幅の導波路部分をさらに含み、基板上の等しい幅の導波路部分の直交突出部の幅は、全ての位置において等しい。これらの実施形態では、N番目のサブ導波路層以外のサブ導波路層は、縮小された幅の導波路部分のみを含んでよい、または縮小された幅の導波路部分と、等しい幅の導波路部分の両方を含んでもよい。
【0033】
本開示の実施形態における各サブ導波路層は、サブ導波路層の幅を狭めることを達成するために、少なくとも1つの縮小された幅の導波路部分を含む。さらに、第1の端面まで延びるN番目のサブ導波路層の導波路部分は、等しい幅の導波路部分であることが必要である。設計要件に従って、第2の端面100bに最も近い少なくとも1つのサブ導波路層の導波路部分はまた、等しい幅の導波路部分または縮小された幅の導波路部分であってもよい。
【0034】
第2の端面100bに最も近い各サブ導波路層の導波路部分は、例えば、二等辺三角形または等脚台形などの三角形断面または台形断面を備えた等しい幅の導波路部分である。設計は、第2の端面100bに近い上方サブ導波路層の等しい幅の導波路部分を通過し、下方サブ導波路層に進入する、または第2の端面100bに近い第1のサブ導波路層の等しい幅の導波路部分を通過し、絶縁層102に進入し、これにより、光伝達の効率を高め、集積型光導波路と光ファイバとの間の結合効率をさらに高めるなど、サブ導波路層間の光伝達に貢献してよい。
【0035】
図1または図3に示されるように、N番目のサブ導波路層以外の、第1の端面100aまで延びる各サブ導波路層(これは、基板により近い1つまたはいくつかのサブ導波路層であってもよい)の導波路部分は、同時に第1の端面100a、第1の側面100cおよび第2の側面100dまで延びる等しい幅の導波路部分である。この方法において、スポットサイズ変換構造体100は、より大きなスポットサイズを有する集積型光導波路に適合されてよく、これにより、スポットサイズ変換構造体100の適用可能性を改善してよい。
【0036】
図1または図3に示されるように、基板101上のN個のサブ導波路層1030の直交突出部の各々は、同じ軸(図面には示されない)に対して軸対称構造を有する。本開示の実施形態は、N個のサブ導波路層を軸対称構造に設計することに限定されず、N個のサブ導波路層はまた、非対称の構造であってもよい。例えば、サブ導波路層は、単一の側のみで徐々に狭くなってもよい。
【0037】
いくつかの実施形態において、図2A図2B図2C図2Dおよび図2Eに示されるように、スポットサイズ変換構造体100は、基板101から離れて導波路層103の片側にカバー層104をさらに含み、スポットサイズ変換構造体100は、基板101に向かってカバー層104の表面から延び、基板101を露出する複数のスロット105と、基板101内に設けられ複数のスロット105と連通する連通構造106とを有する。基板101上の複数のスロット105の直交突出部は、基板101上の導波路層103の直交突出部の両側に分散される。加えて、少なくとも1つのスロット105は、第2の端面100bに対して露出される。いくつかの実施形態において、スポットサイズ変換構造体はまた、カバー層を含まない場合もあり、複数のスロットは、絶縁層の表面から基板に向かって延び、基板を露出する。光は媒体内で主に伝達されるため、そのような設計は、第2の端面100bからの光入力または光出力に対する制限作用を有し、その結果、基板101に入る光の拡散が阻止されてよく、これにより光伝達の損失を削減し、光ファイバへのより最適な結合を達成し、集積型光導波路と光ファイバとの間の結合効率をさらに高めることができる。
【0038】
図4に示されるように、本開示の一実施形態は、上述の実施形態のうちのいずれか1つによるスポットサイズ変換構造体100を含むフォトニックデバイス1をさらに提供する。フォトニックデバイス1の特有の製品タイプは限定されておらず、例えば、それは、電気光変調器、スプリッタ、スターカプラ、可変光減衰器(VOA)、光スイッチ、周波数コム、アレイ導波路回折格子(AWG)などであってよい。
【0039】
スポットサイズ変換構造体100は、フォトニックデバイス1に統合されてよい。スポットサイズ変換構造体100は、より高い結合効率を有するため、フォトニックデバイス1の光の損失はより小さく、その性能は改善される。
【0040】
本説明において、「中心」、「長手方向」、「横方向」、「長さ」、「幅」、「厚さ」、「上方」、「下方」、「前方」、「後方」、「左」、「右」、「垂直」、「水平」、「頂部」、「底部」、「内側」、「外側」、「時計回り」、「反時計回り」、「軸方向」、「半径方向」および「円周方向」などの用語によって示される向きまたは位置関係または寸法は、添付の図面に基づいて示される向きまたは位置関係または寸法であり、これらの用語は、説明を容易にするために使用されているにすぎず、言及されるデバイスまたは要素が特定の向きを有する必要があり、特定の向きで構築され作動される必要があることを示すまたは暗示するものではなく、故に、本開示の保護の範囲を限定するように解釈されるべきではないことを理解されたい。
【0041】
加えて、「第1の」、「第2の」および「第3の」などの用語は、説明のためのものにすぎず、示される技術的特徴の相対的重要度を示すまたは暗示する、あるいは示される技術的特徴の数を暗に示すと解釈されるべきではない。よって、「第1の」、「第2の」および「第3の」を用いて規定される特徴は、明示的に、または暗示的に、1つまたは複数の特徴を含む場合がある。本開示の説明において、用語「複数の」は、別段明示的にも具体的にも規定されていない限り、2つ以上を意味する。
【0042】
本開示において、別段明らかに述べられても規定されてもいない限り、「取り付ける」、「接続」、「接続された」および「固定する」などの用語は、広範に解釈されるべきであり、例えば、それらは、固定された接続、着脱可能な接続、または一体化接続であってよい、機械的接続、または電気的接続、または通信であってよい、および直接の接続、または中間媒体を利用する間接的な接続であってもよい、あるいは、2つの要素間の内部通信、または2つの要素間の相互作用であってもよい。当業者にとって、本開示における上記の用語の特有の意味は、特有の状況に従って理解され得る。
【0043】
本開示において、別段明らかに述べられても規定されてもいない限り、第1の特徴が第2の特徴の「より上」または「より下」であるという表現は、第1の特徴が第2の特徴と直接接触している場合、または第1の特徴と第2の特徴が直接接触しておらず、それらの間に別の特徴を介して接触している場合を含む可能性がある。さらに、第1の特徴が第2の特徴の「上の方」、「上方」または「上」であるということは、第1の特徴が直接または斜めに第2の特徴より上にある場合を含む、または第1の特徴が第2の特徴より高いレベルにあることを示しているにすぎない。第1の特徴が第2の特徴の「下方」、「下」または「下手」であるということは、第1の特徴が直接または斜めに第2の特徴より下にある場合を含む、または第1の特徴が第2の特徴より低いレベルにあることを示しているにすぎない。
【0044】
本説明は、本開示を実施するのに使用され得る多くの異なる実装形態または実施例を提供する。これらの異なる実装形態または実施例は、純粋に例示であり、本開示の保護の範囲をいかなる方法でも制限することは意図されていないことを理解されたい。本開示の説明の開示に基づいて、当業者は、種々の変更形態または代替形態を考え出すことが可能であろう。全てのこれらの変更形態または代替形態は、本開示の保護の範囲内にあるべきである。よって、本開示の保護の範囲は、特許請求の範囲の保護の範囲を前提とするべきである。
図1
図2A
図2B
図2C
図2D
図2E
図3
図4
【手続補正書】
【提出日】2024-03-25
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
順に配列された基板と、絶縁層と、導波路層とを備えるスポットサイズ変換構造体であって、前記導波路層は、前記基板から離れる方向に沿って順に配列されたN個のサブ導波路層を含み、前記サブ導波路層の各々は、突出形状であり、Nは、自然数であり、N≧3であり、
前記スポットサイズ変換構造体は、集積型光導波路に結合されるように構成された第1の端面と、前記第1の端面の反対側であり光ファイバに結合されるように構成された第2の端面とを有し、
前記基板から離れる方向において、前記基板上の前記N個のサブ導波路層のうちの(n+1)番目のサブ導波路層の直交突出部は、前記基板上の前記N個のサブ導波路層のうちのn番目のサブ導波路層の直交突出部の範囲内にあり、nは、自然数であり、1≦n≦N-1であり、
前記基板上の前記サブ導波路層の各々の直交突出部の幅は、前記第1の端面から離れる方向に徐々に狭くなっており、
前記サブ導波路層の各々の幅広の端部は、前記第1の端面まで延び、第1のサブ導波路層の狭い端部は、前記第2の端面まで延びる、または前記第2の端面から一定の距離のところにあり、前記(n+1)番目のサブ導波路層の狭い端部は、前記n番目のサブ導波路層の狭い端部から一定の距離のところにある、スポットサイズ変換構造体。
【請求項2】
N番目のサブ導波路層および(N-1)番目のサブ導波路層以外の前記N個のサブ導波路層のうちの少なくとも1つのサブ導波路層の厚さcは、c≦200nmを満たす、請求項1に記載のスポットサイズ変換構造体。
【請求項3】
前記サブ導波路層の各々は、複数の導波路部分を備え、前記複数の導波路部分は、縮小された幅の導波路部分を備え、前記基板上の前記縮小された幅の導波路部分の直交突出部の幅は、前記第1の端面から離れる方向に徐々に縮小され、
前記N個のサブ導波路層のうちのN番目のサブ導波路層の複数の導波路部分は、前記第1の端面まで延びる等しい幅の導波路部分をさらに備え、前記基板上の前記等しい幅の導波路部分の直交突出部の幅は、全ての位置において等しい、請求項1に記載のスポットサイズ変換構造体。
【請求項4】
前記サブ導波路層の各々は、複数の導波路部分を備え、前記複数の導波路部分は、縮小された幅の導波路部分と、等しい幅の導波路部分とを備え、前記基板上の前記縮小された幅の導波路部分の直交突出部の幅は、前記第1の端面から離れる方向に徐々に縮小され、前記基板上の前記等しい幅の導波路部分の直交突出部の幅は、全ての位置において等しく、
前記第1の端面まで延びる前記N個のサブ導波路層のうちのN番目のサブ導波路層の導波路部分は、等しい幅の導波路部分であり、
前記第2の端面に最も近い前記サブ導波路層の各々の導波路部分は、等しい幅の導波路部分である、請求項1に記載のスポットサイズ変換構造体。
【請求項5】
前記第2の端面に最も近い前記サブ導波路層の各々の前記導波路部分は、三角形断面または台形断面を有する等しい幅の導波路部分である、請求項4に記載のスポットサイズ変換構造体。
【請求項6】
前記スポットサイズ変換構造体は、前記第1の端面および前記第2の端面と交差する第1の側面と、第2の側面とをさらに備え、
前記第1の端面まで延びる前記N番目のサブ導波路層以外の前記N個のサブ導波路層のうちの少なくとも1つのサブ導波路層の導波路部分は、前記第1の側面または前記第2の側面の少なくとも1つまでさらに延びている、請求項4に記載のスポットサイズ変換構造体。
【請求項7】
前記基板上の前記N個のサブ導波路層の直交突出部の各々は、同じ軸に対して軸対称構造を有する、請求項1に記載のスポットサイズ変換構造体。
【請求項8】
前記スポットサイズ変換構造体は、前記基板に向かって延び前記基板を露出する複数のスロットと、前記基板内に設けられ前記複数のスロットと連通する連通構造とを有し、前記基板上の前記複数のスロットの直交突出部は、前記基板上の前記導波路層の直交突出部の両側に分散される、請求項1に記載のスポットサイズ変換構造体。
【請求項9】
前記複数のスロットのうちの少なくとも1つのスロットが前記第2の端面に対して露出される、請求項8に記載のスポットサイズ変換構造体。
【請求項10】
請求項1に記載のスポットサイズ変換構造体を備えるフォトニックデバイス。
【国際調査報告】