特表 2024-536559 エアロゾル生成装置、その制御方法と制御装置、及び読み取り可能な記録媒体

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-10-04

(54)【発明の名称】エアロゾル生成装置、その制御方法と制御装置、及び読み取り可能な記録媒体

(51)【国際特許分類】

   A24F 40/40 20200101AFI20240927BHJP

   A24F 40/46 20200101ALI20240927BHJP

   A24F 40/50 20200101ALI20240927BHJP

【ＦＩ】

A24F40/40

A24F40/46

A24F40/50

【審査請求】有

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2024523270

(86)(22)【出願日】2022-09-20

(85)【翻訳文提出日】2024-04-17

(86)【国際出願番号】 CN2022119935

(87)【国際公開番号】W WO2023065926

(87)【国際公開日】2023-04-27

(31)【優先権主張番号】202111220248.5

(32)【優先日】2021-10-20

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(31)【優先権主張番号】202122523317.1

(32)【優先日】2021-10-20

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】517419906

【氏名又は名称】深▲せん▼麦克韋爾科技有限公司

【氏名又は名称原語表記】ＳＨＥＮＺＨＥＮ ＳＭＯＯＲＥ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＬＩＭＩＴＥＤ

【住所又は居所原語表記】１６＃， Ｄｏｎｇｃａｉ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｐａｒｋ， Ｇｕｓｈｕ Ｔｏｗｎ， Ｘｉｘｉａｎｇ Ｓｔｒｅｅｔ， Ｂａｏａｎ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ， Ｓｈｅｎｚｈｅｎ， Ｇｕａｎｇｄｏｎｇ， Ｃｈｉｎａ

(71)【出願人】

【識別番号】519403945

【氏名又は名称】深▲せん▼麦時科技有限公司

(74)【代理人】

【識別番号】100121728

【弁理士】

【氏名又は名称】井関 勝守

(74)【代理人】

【識別番号】100165803

【弁理士】

【氏名又は名称】金子 修平

(74)【代理人】

【識別番号】100179648

【弁理士】

【氏名又は名称】田中 咲江

(74)【代理人】

【識別番号】100222885

【弁理士】

【氏名又は名称】早川 康

(74)【代理人】

【識別番号】100140338

【弁理士】

【氏名又は名称】竹内 直樹

(74)【代理人】

【識別番号】100227695

【弁理士】

【氏名又は名称】有川 智章

(74)【代理人】

【識別番号】100170896

【弁理士】

【氏名又は名称】寺薗 健一

(74)【代理人】

【識別番号】100219313

【弁理士】

【氏名又は名称】米口 麻子

(74)【代理人】

【識別番号】100161610

【弁理士】

【氏名又は名称】藤野 香子

(74)【代理人】

【識別番号】100206586

【弁理士】

【氏名又は名称】市田 哲

(72)【発明者】

【氏名】杜靖

(72)【発明者】

【氏名】梁峰

【テーマコード（参考）】

4B162

【Ｆターム（参考）】

4B162AA03

4B162AA05

4B162AA22

4B162AB12

4B162AB14

4B162AC01

4B162AC22

4B162AC27

(57)【要約】

本願エアロゾル生成装置は、共振キャビティを設けるハウジングと、共振キャビティ内に設けられて共振キャビティの天井に位置され、内部がエアロゾル生成基質を配置するために中空である第１共振柱と、共振キャビティ内に設けられて共振キャビティの底部に位置する第２共振柱と、ハウジングに設けられるマイクロ波アセンブリとを含み、マイクロ波アセンブリは、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部を含み、第１のマイクロ波導入部は、共振キャビティの天井にマイクロ波を供給し、第２のマイクロ波導入部は、共振キャビティの底部にマイクロ波を供給する。本願によれば、エアロゾル生成基質の少なくとも２つの場所を加熱することができ、エアロゾル生成基質に対する加熱効率を向上させることができる。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

エアロゾル生成装置であって、
共振キャビティを設けるハウジングと、
前記共振キャビティ内に設けられて前記共振キャビティの天井に位置され、内部がエアロゾル生成基質を配置するために中空である第１共振柱と、
前記共振キャビティ内に設けられて前記共振キャビティの底部に位置する第２共振柱と、
前記ハウジングに設けられるマイクロ波アセンブリと、を含み、
前記マイクロ波アセンブリは、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部を含み、前記第１のマイクロ波導入部は、前記共振キャビティの天井にマイクロ波を供給するように用いられ、前記第２のマイクロ波導入部は、前記共振キャビティの底部にマイクロ波を供給するように用いられる、ことを特徴とするエアロゾル生成装置。

【請求項2】

前記第１共振柱は、第１開口と第２開口とを含み、前記第２開口は、共振キャビティに連通し、且つ前記第２開口と前記第２共振柱の頭部との間に第１の間隔が存在し、
前記エアロゾル生成基質の少なくとも一部が前記第１開口から前記第１共振柱内に進入し且つ前記第２開口から前記共振キャビティ内に進入することができる、ことを特徴とする請求項１に記載のエアロゾル生成装置。

【請求項3】

前記マイクロ波アセンブリは、前記第１のマイクロ波導入部と前記第２のマイクロ波導入部とを接続するマイクロ波発射源をさらに含む、ことを特徴とする請求項１に記載のエアロゾル生成装置。

【請求項4】

前記マイクロ波発射源は、
前記第１のマイクロ波導入部に接続される第１のマイクロ波発射源と、
前記第２のマイクロ波導入部に接続される第２のマイクロ波発射源と、を含む、ことを特徴とする請求項３に記載のエアロゾル生成装置。

【請求項5】

第１のマイクロ波導入部は、前記共振キャビティの側壁に設けられ、及び／又は
第２のマイクロ波導入部は、前記共振キャビティの側壁に設けられている、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のエアロゾル生成装置。

【請求項6】

前記第１のマイクロ波導入部の導入端は、前記第１共振柱に向い、及び／又は
前記第２のマイクロ波導入部の導入端は、前記第２共振柱に向う、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のエアロゾル生成装置。

【請求項7】

前記第１のマイクロ波導入部の導入端は、前記共振キャビティの頂壁に向い、及び／又は
前記第２のマイクロ波導入部の導入端は、前記共振キャビティの底壁に向う、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のエアロゾル生成装置。

【請求項8】

前記共振キャビティの頂壁には、第１凹み部が設けられ、前記第１のマイクロ波導入部の導入端が前記第１凹み部内に位置され、及び／又は
前記共振キャビティの底壁には、第２凹み部が設けられ、前記第２のマイクロ波導入部の導入端が前記第２凹み部内に位置される、ことを特徴とする請求項７に記載のエアロゾル生成装置。

【請求項9】

前記第１共振柱の中線は、前記共振キャビティの中線と重なり合い、
前記第２共振柱の中線は、前記共振キャビティの中線と重なり合う、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のエアロゾル生成装置。

【請求項10】

前記第１共振柱は、前記共振キャビティの頂壁に接続され、及び／又は
前記第２共振柱は、前記共振キャビティの底壁に接続される、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のエアロゾル生成装置。

【請求項11】

前記第１共振柱と前記共振キャビティの内側壁との間に、第２の間隔を有し、
前記第２共振柱と前記共振キャビティの内側壁との間に、第３の間隔を有する、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のエアロゾル生成装置。

【請求項12】

前記共振キャビティは、円柱キャビティであり、及び／又は
前記ハウジングは、金属ハウジングである、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のエアロゾル生成装置。

【請求項13】

請求項１乃至１２のいずれか１項に記載のエアロゾル生成装置に用いられるエアロゾル生成装置の制御方法であって、
前記制御方法は、
霧化指令に応じて、前記第１のマイクロ波導入部と前記第２のマイクロ波導入部のうちの少なくとも一方が前記共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御することを含む、ことを特徴とするエアロゾル生成装置の制御方法。

【請求項14】

前記制御方法は、具体的に、
前記霧化指令に応じて、前記第１のマイクロ波導入部と前記第２のマイクロ波導入部が同時に前記共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御することを含む、ことを特徴とする請求項１３に記載のエアロゾル生成装置の制御方法。

【請求項15】

前記制御方法は、具体的に、
霧化指令に応じて、前記第１のマイクロ波導入部が前記共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御し、前記エアロゾル生成基質の第一の場所を第１温度まで加熱させることと、
前記第１のマイクロ波導入部が予め設定された時間に作動した後、前記第２のマイクロ波導入部が前記共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御し、前記エアロゾル生成基質の第二の場所を前記第１温度以上である第２温度まで加熱させること、を含む、
ことを特徴とする請求項１３に記載のエアロゾル生成装置の制御方法。

【請求項16】

前記第２のマイクロ波導入部が前記共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御すると同時に、前記第１のマイクロ波導入部が前記共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御して前記エアロゾル生成基質の第一の場所が前記第１温度以下である第３温度まで加熱されること、又は
前記第２のマイクロ波導入部が前記共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御すると同時に、前記第１のマイクロ波導入部が作動を停止するように制御すること、を特徴とする請求項１５に記載のエアロゾル生成装置の制御方法。

【請求項17】

請求項１乃至１２のいずれか１項に記載のエアロゾル生成装置に用いられるエアロゾル生成装置の制御装置であって、
前記制御装置は、霧化指令に応じて、前記第１のマイクロ波導入部と前記第２のマイクロ波導入部のうちの少なくとも一方が前記共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御する制御ユニットを含む、
ことを特徴とするエアロゾル生成装置の制御装置。

【請求項18】

読み取り可能な記録媒体であって、
前記読み取り可能な記録媒体にはプログラムが記憶され、前記プログラムがプロセッサによって実行される際、請求項１３乃至１６のいずれか１項に記載のエアロゾル生成装置の制御方法が実施される、ことを特徴とする読み取り可能な記録媒体。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本願は、２０２１年１０月２０日に中国国家知識産権局に出願した、出願番号が「２０２１１１２２０２４８.５」であり、出願の名称が「エアロゾル生成装置、その制御方法と制御装置、及び読み取り可能な記録媒体」である中国特許出願と、２０２１年１０月２０日に中国国家知識産権局に出願した、出願番号が「２０２１２２５２３３１７.１」であり、出願の名称が「エアロゾル生成装置」である中国特許出願との優先権を主張し、そのすべての内容は、参照により本願に組み込まれる。

【0002】

本願は、エアロゾルの技術分野に関し、具体的には、エアロゾル生成装置、その制御方法と制御装置、及び読み取り可能な記録媒体に関する。

【背景技術】

【0003】

従来技術において、エアロゾル生成装置は、共振キャビティからマイクロ波を供給するが、マイクロ波が通常に霧化対象（例えば、エアロゾル生成基質）の局所に作用されるから、霧化対象が均一に加熱されなく、且つ霧化効果が良くないとの技術問題がある。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本願は、従来技術に発生される技術問題の少なくとも一つを解決することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0005】

よって、本願の第１の方面において、エアロゾル生成装置を提供する。

【0006】

本願の第２の方面において、エアロゾル生成装置の制御方法を提供する。

【0007】

本願の第３の方面において、エアロゾル生成装置の制御装置を提供する。

【0008】

本願の第４の方面において、読み取り可能な記録媒体を提供する。

【0009】

本願の第１の方面において、エアロゾル生成装置を提供する。エアロゾル生成装置は、共振キャビティを設けるハウジングと、共振キャビティ内に設けられて共振キャビティの天井に位置され、内部がエアロゾル生成基質を配置するために中空である第１共振柱と、共振キャビティ内に設けられて共振キャビティの底部に位置する第２共振柱と、ハウジングに設けられるマイクロ波アセンブリとを含み、マイクロ波アセンブリは、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部を含み、第１のマイクロ波導入部は、共振キャビティの天井にマイクロ波を供給するように用いられ、第２のマイクロ波導入部は、共振キャビティの底部にマイクロ波を供給するように用いられる。

【0010】

本願が提供するエアロゾル生成装置は、ハウジングと、第１共振柱と、第２共振柱と、マイクロ波アセンブリを含む。ハウジングの内部に共振キャビティが設けられ、共振キャビティの内部が導電性を有する。第１共振柱と第２共振柱は、いずれも共振キャビティ内に設けられ、第１共振柱と第２共振柱は、マイクロ波を伝達することと共振周波数を調整するように用いられ、また、第１共振柱と第２共振柱は、共振キャビティの内壁に接触して電気を伝導する。第１共振柱と第２共振柱の外壁が導電性を有する。第１共振柱が共振キャビティの天井に位置し、第２共振柱が共振キャビティの底部に位置する。なお、第１共振柱の内部が中空であるから、エアロゾル生成基質が第１共振柱の内部に実装されるとともにエアロゾル生成基質の少なくとも一部が共振キャビティ内に位置されることが保証される。また、第２共振柱は、中実であってもよく、中空であってもよい。

【0011】

さらに、マイクロ波アセンブリは、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部を含む。第１のマイクロ波導入部は、ハウジングの天井に設けられて第１共振柱に取り合わせ、第２のマイクロ波導入部は、ハウジングの底部に設けられて第２共振柱に取り合わせる。エアロゾル生成装置が作動中に、第１のマイクロ波導入部は、マイクロ波アセンブリによる生成したマイクロ波を共振キャビティの天井に導入し、第２のマイクロ波導入部は、マイクロ波アセンブリによる生成したマイクロ波を共振キャビティの底部に導入する。

【0012】

このように、第１のマイクロ波導入部によって共振キャビティ内に導入されたマイクロ波は、エアロゾル生成基質の第一の場所を加熱することができ、第２のマイクロ波導入部によって共振キャビティ内に導入されたマイクロ波は、エアロゾル生成基質の第二の場所を加熱することができる。なお、上記第一の場所は第二の場所よりも高いとする。即ち、本願が提供するエアロゾル生成装置が使用される際に、エアロゾル生成基質の少なくとも２つの場所を加熱することができ、同時にエアロゾル生成基質の頭部及び底部を加熱することができる。このように、エアロゾル生成基質に対する加熱効率を大幅に向上させることができるから、エアロゾルの生成を加速し、エアロゾル生成装置の作動効率を向上させる。

【0013】

なお、第１共振柱と第２共振柱は導体であってもよく、第１共振柱と第２共振柱は、金属材料で製造されることができ、例示として、第１共振柱と第２共振柱は、銅、アルミニウム、鉄など又はその合金で製造される。第１共振柱と第２共振柱は、マイクロ波を伝送することとマイクロ波の伝送速度を向上させることに用いられ、マイクロ波は、共振キャビティ内に伝導するときに減衰しにくい。

【0014】

なお、第１共振柱と第２共振柱は、マイクロ波がエアロゾル生成基質に作用されるようにマイクロ波がエアロゾル生成基質に伝送されることをガイドでき、よって、エアロゾル生成基質がマイクロ波を吸収し、エアロゾル生成基質における極性分子が、速やかに発振して熱エネルギーに変換され、エアロゾル生成基質が加熱される。同時に、エアロゾル生成基質の一部が共振キャビティに進入するから、マイクロ波がハウジング外に伝達されて漏れが発生することを避け、ユーザにダメージを与えることが避けられる。

【0015】

実現できる設計のうちの一つにおいて、第１共振柱は、第１開口と第２開口を含み、第２開口は、共振キャビティに連通し、且つ第２開口と第２共振柱の頭部との間に第１の間隔が存在する。エアロゾル生成基質の少なくとも一部が第１開口から第１共振柱内に進入し且つ第２開口から共振キャビティ内に進入することができる。

【0016】

当該設計において、第１共振柱は、第１開口と第２開口を含む。また、第１共振柱の頭部の第１開口は、ユーザがエアロゾル生成基質を第１共振柱の内部に挿入するために用いられ、第１共振柱の底部の第２開口は、共振キャビティに連通し、且つ第２開口と共振キャビティの底部に位置する第２共振柱の頭部との間に第１の間隔が存在する。このように、第１共振柱の内部に配置されるエアロゾル生成基質の少なくとも一部が第１開口を介して共振キャビティの内部に進入できる。これで、エアロゾル生成装置が作動中に、マイクロ波アセンブリから提供するマイクロ波がエアロゾル生成基質に作用され、よって、エアロゾル生成基質における極性分子が、速やかに発振して熱エネルギーに変換され、エアロゾル生成装置が加熱される。

【0017】

実現できる設計のうちの一つにおいて、マイクロ波アセンブリは、さらに第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部とを接続するマイクロ波発射源を含む。

【0018】

当該設計において、マイクロ波アセンブリは、さらにマイクロ波発射源を含む。当該マイクロ波発射源は、上記第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部とを接続することによって、マイクロ波発射源によって生成するマイクロ波は、それぞれ第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部を経由して共振キャビティ内に導入される。

【0019】

実現できる設計のうちの一つにおいて、マイクロ波発射源は、第１のマイクロ波導入部に接続する第１のマイクロ波発射源と、第２のマイクロ波導入部に接続する第２のマイクロ波発射源とを含む。

【0020】

当該設計において、マイクロ波発射源は、第１のマイクロ波発射源と第２のマイクロ波発射源を含む。また、第１のマイクロ波発射源は、第１のマイクロ波導入部に接続され、且つ第１のマイクロ波発射源によって生成するマイクロ波が、第１のマイクロ波導入部を介して共振キャビティの天井に導入されることができ、第２のマイクロ波発射源は、第２のマイクロ波導入部に接続され、且つ第２のマイクロ波発射源によって生成するマイクロ波は、第２のマイクロ波導入部を介して共振キャビティの底部に導入されることができる。

【0021】

このように、互いに独立する第１のマイクロ波発射源と第２のマイクロ波発射源によってそれぞれマイクロ波を生成することにより、ユーザは、必要に応じてエアロゾル生成基質を加熱することができる。具体的には、第１のマイクロ波発射源と第１のマイクロ波導入部によってエアロゾル生成基質の頭部を加熱することができ、第２のマイクロ波発射源と第２のマイクロ波導入部によってエアロゾル生成基質の底部を加熱することができるから、第１のマイクロ波発射源と第１のマイクロ波導入部、及び第２のマイクロ波発射源と第２のマイクロ波導入部によって、エアロゾル生成基質の頭部及び底部を加熱することができる。

【0022】

実現できる設計のうちの一つにおいて、第１のマイクロ波導入部は、共振キャビティの側壁に設けられ、及び／又は第２のマイクロ波導入部は、共振キャビティの側壁に設けられている。

【0023】

当該設計において、第１のマイクロ波導入部が共振キャビティの側壁に設けられることにより、マイクロ波アセンブリによる生成したマイクロ波は、共振キャビティの側方から共振キャビティの内部に導入され、対応的に、第２のマイクロ波導入部が共振キャビティの側壁に設けられることにより、マイクロ波アセンブリによる生成したマイクロ波は、共振キャビティの側方から共振キャビティの内部に導入される。さらに、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部の位置が合理的に分布するように第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部が共振キャビティの側壁に設けられることにより、エアロゾル生成装置の全体の長さを低下させられる。

【0024】

実現できる設計のうちの一つにおいて、第１のマイクロ波導入部の導入端は、第１共振柱に向い、及び／又は第２のマイクロ波導入部の導入端は、第２共振柱に向う。

【0025】

当該設計において、第１のマイクロ波導入部の導入端は、第１共振柱に向い、且つ第１のマイクロ波導入部の導入端は、直接的に第１共振柱に電気的に導通する。このように、マイクロ波アセンブリによる生成するマイクロ波の一部は、第１のマイクロ波導入部を介して直接的に第１共振柱に導入されることができる。対応的に、第２のマイクロ波導入部の導入端は、第２共振柱に向い、且つ第２のマイクロ波導入部の導入端は、直接的に第２共振柱に電気的に導通する。このように、マイクロ波アセンブリによる生成するマイクロ波の一部は、第２のマイクロ波導入部を介して直接的に第２共振柱に導入されることができる。

【0026】

このように、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部を介して導入されたマイクロ波は、直接的に第１共振柱と第２共振柱に作用され、それにより、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部の長さを低下させるとともに、マイクロ波が速やかに第１共振柱と第２共振柱に伝導され、マイクロ波損失を回避することができる。

【0027】

実現できる設計のうちの一つにおいて、第１のマイクロ波導入部の導入端は、共振キャビティの頂壁に向い、及び／又は第２のマイクロ波導入部の導入端は、共振キャビティの底壁に向う。

【0028】

当該設計において、第１のマイクロ波導入部は、Ｌ型を有し、第１のマイクロ波導入部の導入端は、共振キャビティの頂壁に向い、且つ第１のマイクロ波導入部の導入端は、直接的に共振キャビティの頂壁に電気的に導通する。このように、マイクロ波アセンブリによる生成するマイクロ波の一部は、第１のマイクロ波導入部を介して直接的に共振キャビティの頂壁に導入されることができる。対応的に、第２のマイクロ波導入部は、Ｌ型を有し、且つ第２のマイクロ波導入部の導入端は、直接的に共振キャビティの底壁に電気的に導通し、第２のマイクロ波導入部の導入端は、共振キャビティの底壁に向う。このように、マイクロ波アセンブリによる生成するマイクロ波の一部は、第２のマイクロ波導入部を介して直接的に共振キャビティの底壁に導入されることができる。

【0029】

実現できる設計のうちの一つにおいて、共振キャビティの頂壁には、第１凹み部が設けられ、第１のマイクロ波導入部の導入端が第１凹み部内に位置され、及び／又は共振キャビティの底壁には、第２凹み部が設けられ、第２のマイクロ波導入部の導入端が第２凹み部内に位置される。

【0030】

当該設計において、共振キャビティの頂壁には、第１凹み部が設けられ、且つ第１のマイクロ波導入部の導入端が第１凹み部内に位置される。このように、第１凹み部によれば、第１のマイクロ波導入部の導入端を防護する作用を果たし、第１のマイクロ波導入部の導入端が他の部材に接触することが避けされ、マイクロ波霧化加熱装置の構造安定性を向上させることができる。

【0031】

当該設計において、共振キャビティの底壁には、第２凹み部が設けられ、且つ第２のマイクロ波導入部の導入端が第２凹み部内に位置される。このように、第２凹み部によれば、第２のマイクロ波導入部の導入端を防護する作用を果たし、第２のマイクロ波導入部の導入端が他の部材に接触することが避けされ、マイクロ波霧化加熱装置の構造安定性を向上させることができる。

【0032】

実現できる設計のうちの一つにおいて、第１共振柱の中線は、共振キャビティの中線と重なり合い、第２共振柱の中線は、共振キャビティの中線と重なり合う。

【0033】

当該設計において、第１共振柱と共振キャビティは、いずれも規則形状をもつ、例示として、第１共振柱と共振キャビティは、いずれも円柱体であり、第１共振柱の中線は、共振キャビティの中線と重なり合う。即ち、第１共振柱の軸線は、共振キャビティの軸線と重なり合う。第１共振柱と共振キャビティとの中心が重なり合うことにすることにより、第１共振柱とエアロゾル生成基質との中心が重なり合い、それにより、第１共振柱によって伝導するマイクロ波が、さらにエアロゾル生成基質に作用されことができるから、マイクロ波が集中してエアロゾル生成基質に作用することにより、エアロゾル生成基質が短い時間で加熱されることができ、即時加熱を実現することにメリットがある。

【0034】

当該設計において、第２共振柱と共振キャビティは、いずれも規則形状であり、例示として、第２共振柱と共振キャビティは、いずれも円柱体であり、第２共振柱の中線は、共振キャビティの中線と重なり合う。即ち、第２共振柱の軸線は、共振キャビティの軸線と重なり合う。第２共振柱と共振キャビティとの中心が重なり合うことにすることにより、第２共振柱とエアロゾル生成基質との中心が重なり合い、それにより、第２共振柱によって伝導するマイクロ波は、さらにエアロゾル生成基質に作用されことができるから、マイクロ波が集中してエアロゾル生成基質に作用することにより、エアロゾル生成基質が短い時間で加熱されることができ、即時加熱を実現することにメリットがある。

【0035】

実現できる設計のうちの一つにおいて、第１共振柱は、共振キャビティの頂壁に接続され、及び／又は第２共振柱は、共振キャビティの底壁に接続される。

【0036】

当該設計において、第１共振柱は、共振キャビティの頂壁に接続されている。このように、第１共振柱の安定的な接続を保証することができるとともに、第１共振柱が直接的に共振キャビティの天井からマイクロ波を伝導可能であることを保証することができるから、マイクロ波の伝導効果を向上させる。

【0037】

当該設計において、第２共振柱は、共振キャビティの底壁に接続されている。このように、第２共振柱の安定的な接続を保証することができるとともに、第２共振柱が直接的に共振キャビティの底壁からマイクロ波を伝導可能であることを保証することができるから、マイクロ波に対する伝導効果を向上させる。

【0038】

実現できる設計のうちの一つにおいて、第１共振柱と共振キャビティの内側壁との間に、第２の間隔を有し、第２共振柱と共振キャビティの内側壁との間に、第３の間隔を有する。

【0039】

当該設計において、第１共振柱と共振キャビティの内側壁との間に、第２の間隔を有するから、第１共振柱と共振キャビティの内部との間に一定の空間が存在することを保証する。第２共振柱と共振キャビティの内側壁との間に、第３の間隔を有するから、第２共振柱と共振キャビティの内部との間に一定の空間が存在することを保証する。

【0040】

実現できる設計のうちの一つにおいて、共振キャビティは、円柱キャビティである。

【0041】

当該設計において、共振キャビティは、円柱キャビティである。なお、前記第１共振柱と第２共振柱は、いずれも円柱構造である。このように、第１共振柱の中線は、共振キャビティの中線と重なり合い、第２共振柱の中線は、共振キャビティの中線と重なり合う。マイクロ波が伝播する際に、マイクロ波が均一にエアロゾル生成基質の周囲を加熱することを保証して、エアロゾル生成基質に対する加熱効果を向上させる。

【0042】

実現できる設計のうちの一つにおいて、ハウジングは、金属ハウジングである。

【0043】

当該設計において、ハウジングは、金属ハウジングである。例示として、ハウジングは、銅、アルミニウム、鉄など又はその合金で製造される。

【0044】

本願の第２の方面において、上記いずれかの設計に係るエアロゾル生成装置に用いられるエアロゾル生成装置の制御方法を提供する。当該制御方法は、霧化指令に応じて、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部のうちの少なくとも一方が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御することを含む。

【0045】

本願が提供するエアロゾル生成装置の制御方法は、上記いずれかの設計に係るエアロゾル生成装置に用いられる。具体的には、作動する際に、霧化指令に応じて、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部のうちの少なくとも一方が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御する。第１のマイクロ波導入部によって共振キャビティ内に導入されたマイクロ波が、エアロゾル生成基質の第一の場所を加熱することができ、第２のマイクロ波導入部によって共振キャビティ内に導入されたマイクロ波が、エアロゾル生成基質の第二の場所を加熱することができる。なお、上記第一の場所は、第二の場所よりも高いとする。

【0046】

従って、本願が提供するエアロゾル生成装置の制御方法によれば、ユーザの選択に応じてエアロゾル生成基質を加熱することができる。具体的には、第１のマイクロ波導入部によってエアロゾル生成基質の頭部を加熱することができ、さらに第２のマイクロ波導入部によってエアロゾル生成基質の底部を加熱することができ、さらに第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波発射源と第２のマイクロ波導入部によってエアロゾル生成基質の頭部及び底部を加熱することができる。

【0047】

従って、本願によれば、エアロゾル生成基質の少なくとも２つの場所を加熱することができ、また、同時にエアロゾル生成基質の頭部及び底部を加熱することができる。このように、エアロゾル生成基質に対する加熱効率を大幅に向上させることができるから、エアロゾルの生成を加速して、エアロゾル生成装置の作動効率を向上させる。

【0048】

実現できる設計のうちの一つにおいて、エアロゾル生成装置の制御方法は、具体的に、霧化指令に応じて、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部が同時に共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御することを含む。

【0049】

当該設計において、エアロゾル生成基質を加熱する際に、霧化指令に応じて、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部が同時に共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御する。このように、第１のマイクロ波導入部によって共振キャビティ内に導入されたマイクロ波は、エアロゾル生成基質の第一の場所を加熱することができ、それと同時に、第２のマイクロ波導入部によって共振キャビティ内に導入されたマイクロ波は、エアロゾル生成基質の第二の場所を加熱することができる。

【0050】

即ち、当該設計において、同時にエアロゾル生成基質の頭部及び底部を加熱することができる。このように、エアロゾル生成基質に対する加熱効率を大幅に向上させることができるから、エアロゾルの生成を加速して、エアロゾル生成装置の作動効率を向上させる。

【0051】

実現できる設計のうちの一つにおいて、エアロゾル生成装置の制御方法は、具体的に、霧化指令に応じて、第１のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御し、エアロゾル生成基質の第一の場所を第１温度まで加熱させることと、第１のマイクロ波導入部が予め設定された時間に作動した後、第２のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御し、エアロゾル生成基質の第二の場所を第１温度以上である第２温度まで加熱させること、を含む。

【0052】

当該設計において、エアロゾル生成基質を加熱する際に、霧化指令に応じて、まず第１のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御し、エアロゾル生成基質の第一の場所を第１温度まで加熱させ、その後、第１のマイクロ波導入部が予め設定された時間に作動した後、第２のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御し、エアロゾル生成基質の第二の場所を第１温度よりも高い第２温度まで加熱させる。

【0053】

即ち、当該設計において、まず第１のマイクロ波導入部によって共振キャビティの天井にマイクロ波を供給するとともに共振キャビティの底部にマイクロ波を供給しない。このとき、エアロゾル生成基質の上半部の温度が第１温度になるようにエアロゾル生成基質の上半部が加熱される。その後、エアロゾル生成基質の上半部が一定程度加熱された後、マイクロ波導入部によって共振キャビティの底部にマイクロ波を供給し、このとき、エアロゾル生成基質の下半部の温度が第２温度になるようにエアロゾル生成基質の下半部が加熱される。

【0054】

実現できる設計のうちの一つにおいて、第２のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御すると同時に、第１のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御してエアロゾル生成基質の第一の場所が第１温度以下である第３温度まで加熱される。

【0055】

当該設計において、第２のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御すると同時に、マイクロ波導入部によって共振キャビティの天井にマイクロ波を供給し、エアロゾル生成基質の第一の場所が第１温度以下である第３温度まで加熱される。

【0056】

実現できる設計のうちの一つにおいて、第２のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御すると同時に、第１のマイクロ波導入部が作動を停止するように制御する。

【0057】

当該設計において、第２のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御すると同時に、第１のマイクロ波導入部が作動を停止するように制御することができる。このとき、第２のマイクロ波導入部のみが共振キャビティ内にマイクロ波を供給する。

【0058】

本願の第３の方面において、上記いずれかの設計に係るエアロゾル生成装置に用いられるエアロゾル生成装置の制御装置を提供する。エアロゾル生成装置の制御装置は、霧化指令に応じて、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部のうちの少なくとも一方が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御する制御ユニットを含む。

【0059】

本願が提供するエアロゾル生成装置の制御装置は、上記いずれかの設計に係るエアロゾル生成装置に用いられる。具体的には、エアロゾル生成装置の制御装置は、制御ユニットを含む。

【0060】

作動する際に、霧化指令に応じて、制御ユニットは、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部のうちの少なくとも一方が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御する。第１のマイクロ波導入部によって共振キャビティ内に導入されたマイクロ波は、エアロゾル生成基質の第一の場所を加熱することができ、第２のマイクロ波導入部によって共振キャビティ内に導入されたマイクロ波は、エアロゾル生成基質の第二の場所を加熱することができる。なお、上記第一の場所は、第二の場所よりも高いとする。

【0061】

従って、本願が提供するエアロゾル生成装置の制御装置は、ユーザの選択に応じてエアロゾル生成基質を加熱することができる。具体的には、第１のマイクロ波導入部によってエアロゾル生成基質の頭部を加熱することができ、第２のマイクロ波導入部によってエアロゾル生成基質の底部を加熱することができ、第１のマイクロ波導入部、及び第２のマイクロ波発射源と第２のマイクロ波導入部によってエアロゾル生成基質の頭部及び底部を加熱することができる。

【0062】

従って、本願によれば、エアロゾル生成基質の少なくとも２つの場所を加熱することができ、または同時にエアロゾル生成基質の頭部及び底部を加熱することができる。このように、エアロゾル生成基質に対する加熱効率を大幅に向上させることができるから、エアロゾルの生成を加速して、エアロゾル生成装置の作動効率を向上させることができる。

【0063】

本願の第４の方面において、読み取り可能な記録媒体を提供し、読み取り可能な記録媒体には、プログラム又は指令が記憶され、プログラム又は指令がプロセッサによって実行される際、上記いずれかの設計に係るエアロゾル生成装置の制御方法を実施する。

【0064】

本願の第４の方面で提供する読み取り可能な記録媒体は、記憶されたプログラムが実行される際に、上記いずれかの設計に係るエアロゾル生成装置の制御方法を実施できる。従って、上記エアロゾル生成装置の制御方法の全ての有益な効果を有し、ここで詳しく述べない。

【0065】

本願の付加的方面及び利点は、以下の説明部分で明らかになり、又は本願の実施例によれば理解できるだろう。

【図面の簡単な説明】

【0066】

本願の各実施例を説明する添付の図面と結合して、本願の上記及び／又は付加的方面及び利点は、以下の詳細な説明からより容易に理解されるであろう。

【図1】本願の１つの実施例のエアロゾル生成装置の構造模式図である。

【図2】図１に示すエアロゾル生成装置の断面図である。

【図3】本願の１つの実施例のエアロゾル生成装置の簡略図のその１である。

【図4】本願の１つの実施例のエアロゾル生成装置の簡略図のその２である。

【図5】本願の１つの実施例のエアロゾル生成装置の使用状態を示す図のその１である。

【図6】本願の１つの実施例のエアロゾル生成装置の使用状態を示す図のその２である。

【図7】本願の１つの実施例のエアロゾル生成装置の使用状態を示す図のその３である。

【図8】本願の１つの実施例のエアロゾル生成装置の使用状態を示す図のその４である。

【図9】本願の１つの実施例のエアロゾル生成装置によって加熱されるエアロゾルの使用状態を示す模式図である。

【図10】本願の１つの実施例のエアロゾル生成装置が作動中にエアロゾルの第一の場所と第二の場所の温度を示す模式図である。

【図11】本願の１つの実施例のエアロゾル生成装置の制御方法のフローチャートである。

【図12】本願の１つの実施例のエアロゾル生成装置の制御装置の構成ブロック図である。

【発明を実施するための形態】

【0067】

本願の上記目的、特徴及び利点をより明確にさせるため、以下、図面を参照しつつ、本願の具体的な実施例を詳細に説明する。矛盾しない限り、本願の実施例及び実施例に開示された特徴が組み合わせることができる。

【0068】

以下の記載において、本願が十分に理解されるために具体的な内容を述べているが、本願は、本明細書で述べている内容と異なる実施形態で実施されることができる。よって、本願は以下の具体的な実施例に限定されていない。

【0069】

以下、図１乃至図１２を参照して、本願の若干実施例によって提供されるエアロゾル生成装置、その制御方法と制御装置、及び読み取り可能な記録媒体を説明する。また、図１と図２には、第２のマイクロ波導入部１１４を示さない。図１０においての線分Ｌ１は、第一の場所２０２の加熱時間に伴う加熱温度の関係を示し、図１０においての線分Ｌ２は、第二の場所２０４の加熱時間に伴う加熱温度の関係を示す。

【0070】

図１と図２に示すように、本願の第１の実施例には、エアロゾル生成装置が提供され、エアロゾル生成装置は、ハウジング１０２、第１共振柱１０６、第２共振柱１０８及びマイクロ波アセンブリ１１０を含む。

【0071】

図３と図４に示すように、ハウジング１０２の内部には、共振キャビティ１０４を設ける。共振キャビティ１０４の内部が導電性を有する。第１共振柱１０６と第２共振柱１０８は、いずれも共振キャビティ１０４内に設けられ、第１共振柱１０６と第２共振柱１０８は、マイクロ波を伝達することと共振周波数を調整するように用いられ、また、第１共振柱１０６と第２共振柱１０８は、共振キャビティ１０４の内壁に接触して電気を伝導する。第１共振柱１０６と第２共振柱１０８の外壁が導電性を有する。第１共振柱１０６は、共振キャビティ１０４の天井に位置し、第２共振柱１０８は、共振キャビティ１０４の底部に位置する。

【0072】

なお、図３と図４に示すように、第１共振柱１０６の内部が中空であるから、エアロゾル生成基質２００が第１共振柱１０６の内部に実装されるとともにエアロゾル生成基質２００の少なくとも一部が共振キャビティ１０４内に位置されることが保証される。また、第２共振柱１０８は、中実であってもよく、中空であってもよい。

【0073】

さらに、図３と図４に示すように、マイクロ波アセンブリ１１０は、第１のマイクロ波導入部１１２と第２のマイクロ波導入部１１４を含む。第１のマイクロ波導入部１１２は、ハウジング１０２の天井に設けられて第１共振柱１０６に取り合わせ、第２のマイクロ波導入部１１４は、ハウジング１０２の底部に設けられて第２共振柱１０８に取り合わせる。エアロゾル生成装置が作動中に、第１のマイクロ波導入部１１２は、マイクロ波アセンブリ１１０による生成したマイクロ波を共振キャビティ１０４の天井に導入し、第２のマイクロ波導入部１１４は、マイクロ波アセンブリ１１０による生成したマイクロ波を共振キャビティ１０４の底部に導入する。

【0074】

このように、図５、図６、図７及び図８に示すように、第１のマイクロ波導入部１１２によって共振キャビティ１０４内に導入されたマイクロ波は、エアロゾル生成基質２００の第一の場所２０２を加熱することができ、第２のマイクロ波導入部１１４によって共振キャビティ１０４内に導入されたマイクロ波は、エアロゾル生成基質２００の第二の場所２０４を加熱することができる。なお、上記第一の場所２０２は、第二の場所２０４よりも高いとする。

【0075】

即ち、本願が提供するエアロゾル生成装置が使用される際に、エアロゾル生成基質２００の少なくとも２つの場所を加熱することができ、同時にエアロゾル生成基質２００の頭部及び底部を加熱することができる。このように、エアロゾル生成基質２００に対する加熱効率を大幅に向上させることができるから、エアロゾル３００の生成を加速して、エアロゾル生成装置の作動効率を向上させる。

【0076】

なお、第１共振柱１０６と第２共振柱１０８は導体であってもよく、第１共振柱１０６と第２共振柱１０８は、金属材料で製造されることができ、例示として、第１共振柱１０６と第２共振柱１０８は、銅、アルミニウム、鉄など又はその合金で製造される。第１共振柱１０６と第２共振柱１０８は、マイクロ波を伝送することとマイクロ波の伝送速度を向上させることに用いられ、マイクロ波は、共振キャビティ１０４内に伝導するときに減衰しにくい。

【0077】

なお、第１共振柱１０６と第２共振柱１０８は、マイクロ波がエアロゾル生成基質２００に作用されるようにマイクロ波がエアロゾル生成基質２００に伝送されることをガイドでき、よって、エアロゾル生成基質２００がマイクロ波を吸収し、エアロゾル生成基質２００における極性分子が、速やかに発振して熱エネルギーに変換され、エアロゾル生成基質２００が加熱される。同時に、エアロゾル生成基質２００の一部が共振キャビティ１０４に進入するから、マイクロ波がハウジング１０２に伝達されて漏れが発生することを避け、ユーザにダメージを与えることが避けられる。

【0078】

本願の第２の実施例は、エアロゾル生成装置を提供する。当該エアロゾル生成装置が、第１の実施例に加えて、さらに、
図２、図５、図６、図７及び図８に示すように、第１共振柱１０６は、第１開口と第２開口を含む。また、第１共振柱１０６の頭部の第１開口は、ユーザがエアロゾル生成基質２００を第１共振柱１０６の内部に挿入するために用いられ、第１共振柱１０６の底部の第２開口は、共振キャビティ１０４に連通し、且つ第２開口と共振キャビティ１０４の底部に位置する第２共振柱１０８の頭部との間に第１の間隔が存在する。

【0079】

このように、第１共振柱１０６の内部に配置されるエアロゾル生成基質２００の少なくとも一部は、第１開口を介して共振キャビティ１０４の内部に進入する。これで、エアロゾル生成装置が作動中に、マイクロ波アセンブリ１１０から提供するマイクロ波は、エアロゾル生成基質２００に作用され、よって、エアロゾル生成基質２００における極性分子は、速やかに発振して熱エネルギーに変換され、エアロゾル生成基質２００が加熱される。

【0080】

具体的には、図９に示すように、エアロゾル生成基質２００は、頭部の第一の場所２０２と底部の第二の場所２０４を含む。なお、使用される際に、エアロゾル生成基質２００は、取付構造４００の内部に取り付けられる必要がある。即ち、エアロゾル生成装置が作動する際に、ユーザは、エアロゾル生成基質２００が実装された取付構造４００を第１共振柱１０６に挿入することにより、エアロゾル生成基質２００が共振キャビティ１０４の内部に配置されるとともに第１共振柱１０６と第２共振柱１０８との間に位置される。このように、第１共振柱１０６によって伝導されるマイクロ波は、直接的にエアロゾル生成基質２００の頭部の第一の場所２０２に作用され、第２共振柱１０８によって伝導されるマイクロ波は、直接的にエアロゾル生成基質２００の頭部の第二の場所２０４に作用される。

【0081】

本願の第３の実施例は、エアロゾル生成装置を提供する。当該エアロゾル生成装置が、第１の実施例に加えて、さらに、マイクロ波アセンブリ１１０は、マイクロ波発射源（図示せず）を含む。マイクロ波発射源は、上記第１のマイクロ波導入部１１２と第２のマイクロ波導入部１１４とを接続することによって、マイクロ波発射源によって生成するマイクロ波は、それぞれ第１のマイクロ波導入部１１２と第２のマイクロ波導入部１１４を経由して共振キャビティ１０４内に導入される。

【0082】

この実施例では、さらに、マイクロ波発射源は、第１のマイクロ波発射源（図示せず）と第２のマイクロ波発射源（図示せず）を含む。また、第１のマイクロ波発射源は、第１のマイクロ波導入部１１２に接続され、且つ第１のマイクロ波発射源によって生成するマイクロ波は、第１のマイクロ波導入部１１２を介して共振キャビティ１０４の天井に導入されることができ、第２のマイクロ波発射源は、第２のマイクロ波導入部１１４に接続され、且つ第２のマイクロ波発射源によって生成するマイクロ波は、第２のマイクロ波導入部１１４によって共振キャビティ１０４の底部に導入されることができる。

【0083】

このように、互いに独立する第１のマイクロ波発射源と第２のマイクロ波発射源によってそれぞれマイクロ波を生成することにより、ユーザは、必要に応じてエアロゾル生成基質２００を加熱することができる。具体的には、図７に示すように、第１のマイクロ波発射源と第１のマイクロ波導入部１１２によってエアロゾル生成基質２００の頭部を加熱することができるから、まずは第一の場所２０２にエアロゾル３００が生成される。図６に示すように、さらに第２のマイクロ波発射源と第２のマイクロ波導入部１１４によってエアロゾル生成基質２００の底部を加熱することができるから、まずは第二の場所２０４にエアロゾル３００が生成される。図８に示すように、さらに、第１のマイクロ波発射源と第１のマイクロ波導入部１１２、及び第２のマイクロ波発射源と第２のマイクロ波導入部１１４によって、エアロゾル生成基質２００の頭部及び底部を加熱することができるから、同時に第一の場所２０２と第二の場所２０４にエアロゾル３００が生成される。

【0084】

本願の第４の実施例は、エアロゾル生成装置を提供する。当該エアロゾル生成装置が、第１の実施例に加えて、さらに、図１と図２に示すように、第１のマイクロ波導入部１１２は、共振キャビティ１０４の側壁に設けられ、それにより、マイクロ波アセンブリ１１０による生成したマイクロ波は、共振キャビティ１０４の側方から共振キャビティ１０４の内部に導入され、対応的に、第２のマイクロ波導入部１１４は、共振キャビティ１０４の側壁に設けられ、それにより、マイクロ波アセンブリ１１０による生成したマイクロ波は、共振キャビティ１０４の側方から共振キャビティ１０４の内部に導入される。さらに、第１のマイクロ波導入部１１２と第２のマイクロ波導入部１１４の位置が合理的に分布するように第１のマイクロ波導入部１１２と第２のマイクロ波導入部１１４が共振キャビティ１０４の側壁に設けられることにより、エアロゾル生成装置の全体の長さを低下させる。

【0085】

本願の第５の実施例は、エアロゾル生成装置を提供する。当該エアロゾル生成装置が、第１の実施例に加えて、さらに、図３に示すように、第１のマイクロ波導入部１１２の導入端は、第１共振柱１０６に向い、且つ第１のマイクロ波導入部１１２の導入端は、直接的に第１共振柱１０６に電気的に導通する。このように、マイクロ波アセンブリ１１０による生成するマイクロ波の一部は、第１のマイクロ波導入部１１２を介して直接的に第１共振柱１０６に導入されることができる。

【0086】

対応的に、図３に示すように、第２のマイクロ波導入部１１４の導入端は、第２共振柱１０８に向い、且つ第２のマイクロ波導入部１１４の導入端は、直接的に第２共振柱１０８に電気的に導通する。このように、マイクロ波アセンブリ１１０による生成するマイクロ波の一部は、第２のマイクロ波導入部１１４を介して直接的に第２共振柱１０８に導入されることができる。

【0087】

このように、第１のマイクロ波導入部１１２と第２のマイクロ波導入部１１４を介して導入されたマイクロ波は、直接的に第１共振柱１０６と第２共振柱１０８に作用され、それにより、第１のマイクロ波導入部１１２と第２のマイクロ波導入部１１４の長さを低下させることができるとともに、マイクロ波を速やかに第１共振柱１０６と第２共振柱１０８に伝導され、マイクロ波損失を回避することができる。

【0088】

本願の第６の実施例は、エアロゾル生成装置を提供する。当該エアロゾル生成装置が、第１の実施例に加えて、さらに、図４に示すように、第１のマイクロ波導入部１１２は、Ｌ型を有し、第１のマイクロ波導入部１１２の導入端は、共振キャビティ１０４の頂壁に向い、且つ第１のマイクロ波導入部１１２の導入端は、直接的に共振キャビティ１０４の頂壁に電気的に導通する。このように、マイクロ波アセンブリ１１０による生成するマイクロ波の一部は、第１のマイクロ波導入部１１２を介して直接的に共振キャビティ１０４の頂壁に導入されることができる。

【0089】

対応的に、図４に示すように、第２のマイクロ波導入部１１４は、Ｌ型を有し、且つ第２のマイクロ波導入部１１４の導入端は、直接的に共振キャビティ１０４の底壁に電気的に導通し、第２のマイクロ波導入部１１４の導入端は、共振キャビティ１０４の底壁に向う。このように、マイクロ波アセンブリ１１０による生成するマイクロ波の一部は、第２のマイクロ波導入部１１４を介して直接的に共振キャビティ１０４の底壁に導入されることができる。

【0090】

この実施例では、さらに、図２に示すように、共振キャビティ１０４の頂壁には、第１凹み部１１６が設けられ、第１のマイクロ波導入部１１２の導入端が第１凹み部１１６内に位置される。このように、第１凹み部１１６によれば、第１のマイクロ波導入部１１２の導入端を防護する作用を果たし、第１のマイクロ波導入部１１２の導入端が他の部材に接触することが避けされ、マイクロ波霧化加熱装置の構造安定性を向上させることができる。

【0091】

対応的に、共振キャビティ１０４の底壁には、第２凹み部（図示せず）が設けられ、且つ第２のマイクロ波導入部１１４の導入端は、第２凹み部内に位置される。このように、第２凹み部によれば、第２のマイクロ波導入部１１４の導入端を防護する作用を果たし、第２のマイクロ波導入部１１４の導入端が他の部材に接触することが避けされ、マイクロ波霧化加熱装置の構造安定性を向上させることができる。

【0092】

第１の実施例乃至第６の実施例をもとに、さらに、図２に示すように、第１共振柱１０６と共振キャビティ１０４は、いずれも規則形状であり、例示として、第１共振柱１０６と共振キャビティ１０４は、いずれも円柱体であり、第１共振柱１０６の中線は、共振キャビティ１０４の中線と重なり合う。即ち、第１共振柱１０６の軸線は、共振キャビティ１０４の軸線と重なり合う。第１共振柱１０６と共振キャビティ１０４との中心が重なり合うことにすることにより、第１共振柱１０６とエアロゾル生成基質２００との中心が重なり合い、それにより、第１共振柱１０６によって伝導するマイクロ波は、さらにエアロゾル生成基質２００に作用されことができるから、マイクロ波が集中してエアロゾル生成基質２００に作用することにより、エアロゾル生成基質２００が短い時間で加熱されることができ、即時加熱を実現することにメリットがある。

【0093】

第１の実施例乃至第６の実施例をもとに、さらに、図２に示すように、第２共振柱１０８と共振キャビティ１０４は、いずれも規則形状であり、例示として、第２共振柱１０８と共振キャビティ１０４は、いずれも円柱体であり、第２共振柱１０８の中線は、共振キャビティ１０４の中線と重なり合う。即ち、第２共振柱１０８の軸線は、共振キャビティ１０４の軸線と重なり合う。第２共振柱１０８と共振キャビティ１０４との中心が重なり合うことにすることにより、第２共振柱１０８とエアロゾル生成基質２００との中心が重なり合い、それにより、第２共振柱１０８によって伝導するマイクロ波は、さらにエアロゾル生成基質２００に作用されことができるから、マイクロ波が集中してエアロゾル生成基質２００に作用することにより、エアロゾル生成基質２００が短い時間で加熱されることができ、即時加熱を実現することにメリットがある。

【0094】

第１の実施例乃至第６の実施例をもとに、さらに、図２に示すように、第２共振柱１０８は、共振キャビティ１０４の底壁に接続されている。このように、第２共振柱１０８の安定的な接続を保証することができるとともに、第２共振柱１０８が直接的に共振キャビティ１０４の底壁からマイクロ波を伝導可能であることを保証することができるから、マイクロ波に対する伝導効果を向上させる。

【0095】

第１の実施例乃至第６の実施例をもとに、さらに、図２に示すように、第１共振柱１０６と共振キャビティ１０４の内側壁との間に第２の間隔１１８を有し、第１共振柱１０６と共振キャビティ１０４の内部との間に一定の空間が存在することを保証する。

【0096】

対応的に、図２に示すように、第２共振柱１０８と共振キャビティ１０４の内側壁との間に第３の間隔１２０を有し、それにより、第２共振柱１０８と共振キャビティ１０４の内部との間に一定の空間が存在することを保証する。

【0097】

第１の実施例乃至第６の実施例をもとに、さらに、図２に示すように、共振キャビティ１０４は、円柱キャビティである。なお、上記第１共振柱１０６と第２共振柱１０８は、いずれも円柱構造である。このように、第１共振柱１０６の中線は、共振キャビティ１０４の中線と重なり合い、第２共振柱１０８の中線は、共振キャビティ１０４の中線と重なり合う。マイクロ波が伝播する際に、マイクロ波が均一にエアロゾル生成基質２００の周囲を加熱することを保証して、エアロゾル生成基質２００に対する加熱効果を向上させる。

【0098】

第１の実施例乃至第６の実施例をもとに、さらに、ハウジング１０２は、金属ハウジングである。例示として、ハウジング１０２は、銅、アルミニウム、鉄など又はその合金で製造される。

【0099】

本願の第７の実施例は、上記いずれかの実施例に係るエアロゾル生成装置に用いられるエアロゾル生成装置の制御方法を提供する。図１１に示すように、当該エアロゾル生成装置の制御方法は、
霧化指令に応じて、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部のうちの少なくとも一方が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御するステップ１１０２を含む。

【0100】

本願が提供するエアロゾル生成装置の制御方法は、上記いずれかの設計に係るエアロゾル生成装置に用いられる。具体的には、作動する際に、霧化指令に応じて、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部のうちの少なくとも一方が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御する。第１のマイクロ波導入部によって共振キャビティ内に導入されたマイクロ波が、エアロゾル生成基質の第一の場所を加熱することができ、第２のマイクロ波導入部によって共振キャビティ内に導入されたマイクロ波が、エアロゾル生成基質の第二の場所を加熱することができる。なお、上記第一の場所は、第二の場所よりも高いとする。

【0101】

従って、本願が提供するエアロゾル生成装置の制御方法によれば、ユーザの選択に応じてエアロゾル生成基質を加熱することができる。具体的には、第１のマイクロ波導入部によってエアロゾル生成基質の頭部を加熱することができ、さらに第２のマイクロ波導入部によってエアロゾル生成基質の底部を加熱することができ、さらに第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波発射源と第２のマイクロ波導入部によってエアロゾル生成基質の頭部及び底部を加熱することができる。

【0102】

従って、本願によれば、エアロゾル生成基質の少なくとも２つの場所を加熱することができ、また、同時にエアロゾル生成基質の頭部及び底部を加熱することができる。このように、エアロゾル生成基質に対する加熱効率を大幅に向上させることができるから、エアロゾルの生成を加速して、エアロゾル生成装置の作動効率を向上させる。

【0103】

本願の第８の実施例は、エアロゾル生成装置の制御方法を提供する。当該エアロゾル生成装置の制御方法は、第７の実施例に加えて、さらに、エアロゾル生成基質を加熱する際に、霧化指令に応じて、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部が同時に共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御する。このように、第１のマイクロ波導入部によって共振キャビティ内に導入されたマイクロ波は、エアロゾル生成基質の第一の場所を加熱することができ、それと同時に、第２のマイクロ波導入部によって共振キャビティ内に導入されたマイクロ波は、エアロゾル生成基質の第二の場所を加熱することができる。

【0104】

即ち、この実施例では、同時にエアロゾル生成基質の頭部及び底部を加熱することができる。このように、エアロゾル生成基質に対する加熱効率を大幅に向上させることができるから、エアロゾルの生成を加速して、エアロゾル生成装置の作動効率を向上させる。

【0105】

本願の第９の実施例は、エアロゾル生成装置の制御方法を提供する。当該エアロゾル生成装置の制御方法は、第８の実施例に加えて、さらに、図１０に示すように、エアロゾル生成基質を加熱する際に、霧化指令に応じて、まず第１のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御し、エアロゾル生成基質の第一の場所を第１温度Ｔ１まで加熱させ、その後、第１のマイクロ波導入部が予め設定された時間に作動した後、第２のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御し、エアロゾル生成基質の第二の場所を第１温度Ｔ１よりも高い第２温度Ｔ２まで加熱させる。

【0106】

即ち、図１０に示すように、この実施例では、まず第１のマイクロ波導入部によって共振キャビティの天井にマイクロ波を供給するとともに共振キャビティの底部にマイクロ波を供給しない。このとき、エアロゾル生成基質の上半部の温度が第１温度Ｔ１になるようにエアロゾル生成基質の上半部が加熱される。その後、エアロゾル生成基質の上半部が一定程度加熱された後、マイクロ波導入部によって共振キャビティの底部にマイクロ波を供給し、このとき、エアロゾル生成基質の下半部の温度が第２温度Ｔ２になるようにエアロゾル生成基質の下半部が加熱される。

【0107】

さらに、図１０に示すように、第２のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御すると同時に、第１のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御してエアロゾル生成基質の第一の場所が第１温度Ｔ１以下である第３温度Ｔ３まで加熱される。

【0108】

さらに、第２のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御すると同時に、第１のマイクロ波導入部が作動を停止するように制御することができる。このとき、第２のマイクロ波導入部のみが共振キャビティ内にマイクロ波を供給する。

【0109】

図１２に示すように、本願の第１０の実施例は、上記いずれかの実施例に係るエアロゾル生成装置に用いられるエアロゾル生成装置の制御装置１２００を提供する。具体的には、エアロゾル生成装置の制御装置１２００は、制御ユニット１２０２を含む。

【0110】

作動する際に、霧化指令に応じて、制御ユニット１２０２は、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部のうちの少なくとも一方が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御する。また、第１のマイクロ波導入部１１２によって共振キャビティ内に導入されたマイクロ波は、エアロゾル生成基質の第一の場所を加熱することができ、第２のマイクロ波導入部１１４によって共振キャビティ内に導入されたマイクロ波は、エアロゾル生成基質の第二の場所を加熱することができる。且つ、上記第一の場所は、第二の場所よりも高いとする。

【0111】

従って、本願が提供するエアロゾル生成装置の制御装置１２００は、ユーザの選択に応じてエアロゾル生成基質を加熱することができる。具体的には、第１のマイクロ波導入部によってエアロゾル生成基質の頭部を加熱することができ、第２のマイクロ波導入部によってエアロゾル生成基質の底部を加熱することができ、第１のマイクロ波導入部、及び第２のマイクロ波発射源と第２のマイクロ波導入部によってエアロゾル生成基質の頭部及び底部を加熱することができる。

【0112】

従って、本願によれば、エアロゾル生成基質の少なくとも２つの場所を加熱することができ、または同時にエアロゾル生成基質の頭部及び底部を加熱することができる。このように、エアロゾル生成基質に対する加熱効率を大幅に向上させることができるから、エアロゾルの生成を加速して、エアロゾル生成装置の作動効率を向上させることができる。

【0113】

本願の第１１の実施例は、エアロゾル生成装置の制御装置１２００を提供する。当該エアロゾル生成装置の制御装置１２００は、第１０の実施例に加えて、さらに、図１２に示すように、制御ユニット１２０２は、具体的に、霧化指令に応じて、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部が同時に共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御する。

【0114】

具体的には、エアロゾル生成基質を加熱する際に、霧化指令に応じて、制御ユニット１２０２は、第１のマイクロ波導入部と第２のマイクロ波導入部が同時に共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御する。このように、第１のマイクロ波導入部１１２によって共振キャビティ内に導入されたマイクロ波は、エアロゾル生成基質の第一の場所を加熱することができ、それと同時に、第２のマイクロ波導入部１１４によって共振キャビティ内に導入されたマイクロ波は、エアロゾル生成基質の第二の場所を加熱することができる。

【0115】

即ち、この実施例では、同時にエアロゾル生成基質の頭部及び底部を加熱することができる。このように、エアロゾル生成基質に対する加熱効率を大幅に向上させることができるから、エアロゾルの生成を加速して、エアロゾル生成装置の作動効率を向上させる。

【0116】

本願の第１２の実施例は、エアロゾル生成装置の制御装置１２００を提供する。当該エアロゾル生成装置の制御装置１２００は、第１０の実施例に加えて、さらに、図１２に示すように、制御ユニット１２０２は、具体的に、霧化指令に応じて、第１のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御し、エアロゾル生成基質の第一の場所を第１温度Ｔ１まで加熱させ、第１のマイクロ波導入部が予め設定された時間に作動した後、第２のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御し、エアロゾル生成基質の第二の場所を第１温度Ｔ１よりも高い第２温度Ｔ２まで加熱させる。

【0117】

具体的には、エアロゾル生成基質を加熱する際に、霧化指令に応じて、制御ユニット１２０２は、まず第１のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御し、エアロゾル生成基質の第一の場所を第１温度Ｔ１まで加熱させ、その後、第１のマイクロ波導入部が予め設定された時間に作動した後、制御ユニット１２０２は、第２のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御し、エアロゾル生成基質の第二の場所を第１温度Ｔ１よりも高い第２温度Ｔ２まで加熱させる。

【0118】

即ち、この実施例では、まず第１のマイクロ波導入部によって共振キャビティの天井にマイクロ波を供給するとともに共振キャビティの底部にマイクロ波を供給しない。このとき、エアロゾル生成基質の上半部の温度が第１温度Ｔ１になるようにエアロゾル生成基質の上半部が加熱される。その後、エアロゾル生成基質の上半部が一定程度加熱された後、マイクロ波導入部によって共振キャビティの底部にマイクロ波を供給し、このとき、エアロゾル生成基質の下半部の温度が第２温度Ｔ２になるようにエアロゾル生成基質の下半部が加熱される。

【0119】

さらに、第２のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御すると同時に、制御ユニット１２０２は、マイクロ波導入部が共振キャビティの天井にマイクロ波を供給するように制御することができ、エアロゾル生成基質の第一の場所が第１温度Ｔ１以下である第３温度Ｔ３まで加熱される。

【0120】

さらに、第２のマイクロ波導入部が共振キャビティ内にマイクロ波を供給するように制御すると同時に、制御ユニット１２０２は、第１のマイクロ波導入部が作動を停止するように制御することができる。このとき、第２のマイクロ波導入部のみが共振キャビティ内にマイクロ波を供給する。

【0121】

本願の第１３の実施例は、読み取り可能な記録媒体を提供する。読み取り可能な記録媒体に記憶されたプログラムが実行される際、上記いずれかの実施例に係るエアロゾル生成装置の制御方法を実施することができる。

【0122】

従って、当該読み取り可能な記録媒体は、上記エアロゾル生成装置の制御方法の全ての有益な効果を有し、ここで詳しく述べない。

【0123】

具体的な実施例では、本願が提供するエアロゾル生成装置は、ハウジング１０２の内部に同軸の共振キャビティ１０４が設けられ、共振キャビティ１０４の形状は、円柱形であり、共振キャビティ１０４は、内部が導電性を有し、一般的に金属である。共振キャビティ１０４の中軸線に、第１共振柱１０６と第２共振柱１０８が存在し、マイクロ波を伝達するとともに共振周波数を調整することに用いられる。第１共振柱１０６と第２共振柱１０８は、共振キャビティ１０４の内部に接触して電気を伝導する。底部に配置される第２共振柱１０８は、中実であってもよく、中空であってもよく、第２共振柱１０８の外側は、導電性を有する。天井に配置される第１共振柱１０６は、中空であり、第１共振柱１０６の外側は、導電性を有し、第１共振柱１０６の内部は、中空であり、それにより、エアロゾル生成基質２００を配置することができる。マイクロ波アセンブリ１１０は、２つのマイクロ波導入部を含み、第２のマイクロ波導入部１１４は、共振キャビティ１０４の底部に位置し、第１のマイクロ波導入部１１２は、共振キャビティ１０４の天井に位置する。第１のマイクロ波導入部１１２と第２のマイクロ波導入部１１４は、Ｌ形であってもよく、導入端は、共振キャビティ１０４に（導電性）接続されてもよく、直接的に第１共振柱１０６と第２共振柱１０８とに接続されてもよい。第１のマイクロ波導入部１１２と第２のマイクロ波導入部１１４は、外部のマイクロ波発射源に連通する。作動時に、第１のマイクロ波導入部１１２と第２のマイクロ波導入部１１４は、同時にマイクロ波を供給してもよく、同時にマイクロ波を供給しなくてもよい。

【0124】

具体的には、図１０と図１１に示すように、エアロゾル生成装置が作動する際に、初期天井に配置される第１のマイクロ波導入部１１２はマイクロ波を供給し、底部の第２のマイクロ波導入部１１４はマイクロ波を供給しない、このとき、エアロゾル生成基質２００の第一の場所２０２の温度が第１温度Ｔ１になるまでエアロゾル生成基質２００の第一の場所２０２が加熱される。その後、エアロゾル生成基質２００の第一の場所２０２は、一定程度加熱された後、底部の第２のマイクロ波導入部１１４は、マイクロ波を供給し、エアロゾル生成基質２００の第一の場所２０２の温度が第２温度Ｔ２になるまでエアロゾル生成基質２００の第二の場所２０４が加熱される。さらに、エアロゾル生成基質２００の第二の場所２０４にマイクロ波を供給すると同時に、天井に配置される第１のマイクロ波導入部１１２もマイクロ波を供給し、エアロゾル生成基質２００の第一の場所２０２の温度が第３温度Ｔ３になるまで加熱される。具体的には、上記第３温度Ｔ３は、第１温度Ｔ１以下であり、第２温度Ｔ２は、第１温度Ｔ１以上である。

【0125】

具体的には、本願が提供するエアロゾル生成装置は、エアロゾル生成基質２００の第一の場所２０２と第二の場所２０４を同時に加熱する際、マイクロ波フィールドがより均一に分布されるから、エアロゾル生成基質２００が十分に加熱されることができる。または、エアロゾル生成基質２００の第一の場所２０２が先に霧化され、その後、エアロゾル生成基質２００の第二の場所２０４が霧化されるから、食感の安定性にメリットがある。

【0126】

本願の特許請求の範囲、明細書及び明細書の図面において、別途に明確な限定がない限り、「複数」という用語は、２つ以上を意味し、「上」、「下」等の用語が示す方位又は位置関係は、単に本願をより容易に説明し、説明内容をより容易に理解するために図面に示された方位又は位置関係に基づくものであり、言及される装置又は要素が説明された特定の方位を有し、特定の方位で構築され及び動作する必要があることを示し又は示唆するためではないことが明確にする必要がある。よって、これらの説明は本願を限定するものとは理解するこがならない。「接続」、「取り付け」、「固定」等の用語は、一般的に理解されるべきであり、例えば、「接続」は、複数のオブジェクト間の固定接続であってもよく、複数のオブジェクト間の取り外し可能な接続であってもよく、または一体的に接続されていてもよい、複数のオブジェクト間の直接的な接続であってもよいし、複数のオブジェクト間の中間メディアを介した間接的な接続であってもよい。当業者にとっては、本明細書における上述の用語の具体的な意味は、上述のデータの具体的な状況に基づいて理解することができる。

【0127】

本願の特許請求の範囲、明細書、および明細書の添付図面において、「1つの実施形態」、「いくつかの実施形態」、「特定の実施形態」などの用語に関する記述は、実施形態または例に関連して記述された特定の特徴、構造、材料、または特徴が本願の少なくとも1つの実施形態または例に含まれることを意味する。本願の特許請求の範囲、明細書、および明細書の添付図面において、上記用語の概略的な表現は、必ずしも同じ実施形態または実施例を指すものではない。さらに、説明された特定の特徴、構造、材料、または特徴は、任意の1または複数の実施形態または例において適切な方法で組み合わされてもよい。

【0128】

以上は本願の好ましい実施例にすぎず、本願を限定するものではなく、当業者にとって、本願には様々な変更および変更があってもよい。本願の精神と原則の範囲内で行われたいかなる修正、均等物、改良等は、本願の保護の範囲に含まれるものとする。

【0129】

また、図１乃至図９における符号と部材名との対応関係は、以下の通りである。

【符号の説明】

【0130】

１０２ ハウジング、１０４ 共振キャビティ、１０６ 第１共振柱、１０８ 第２共振柱、１１０ マイクロ波アセンブリ、１１２ 第１のマイクロ波導入部、１１４ 第２のマイクロ波導入部、１１６ 第１凹み部、１１８ 第２の間隔、１２０ 第３の間隔、２００ エアロゾル生成基質、２０２ 第一の場所、２０４ 第二の場所、３００ エアロゾル、４００ 取付構造。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【国際調査報告】