特表 2024-540209 患者の非アテンド式治療のためのデバイスおよび方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-10-31

(54)【発明の名称】患者の非アテンド式治療のためのデバイスおよび方法

(51)【国際特許分類】

   A61N 1/36 20060101AFI20241024BHJP

   A61N 1/04 20060101ALI20241024BHJP

   A61F 7/00 20060101ALI20241024BHJP

【ＦＩ】

A61N1/36

A61N1/04

A61F7/00 320Z

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2024525809

(86)(22)【出願日】2022-11-02

(85)【翻訳文提出日】2024-06-27

(86)【国際出願番号】 EP2022080502

(87)【国際公開番号】W WO2023078896

(87)【国際公開日】2023-05-11

(31)【優先権主張番号】17/518,243

(32)【優先日】2021-11-03

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(31)【優先権主張番号】17/664,161

(32)【優先日】2022-05-19

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】521365598

【氏名又は名称】ビーティーエル ヘルスケア テクノロジーズ エー．エス．

(74)【代理人】

【識別番号】110000796

【氏名又は名称】弁理士法人三枝国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】シュヴァルツ トマーシュ

(72)【発明者】

【氏名】イェリンコヴァ ルチア

(72)【発明者】

【氏名】クビーク ヴォイチェフ

【テーマコード（参考）】

4C053

4C099

【Ｆターム（参考）】

4C053BB02

4C053BB23

4C053BB25

4C053JJ02

4C053JJ13

4C053JJ24

4C053JJ27

4C053JJ33

4C099AA01

4C099CA04

4C099CA05

4C099JA11

4C099NA20

4C099TA10

(57)【要約】

非アテンド式のアプローチは、特定の領域の過剰／過少の治療の可能性が著しく減少するので、治療の再現性および安全性を高めることができる。他方、不均一な領域または凹凸のある領域での非アテンド式治療は、治療される組織との適切な距離または接触を維持することに関して、主に患者ごとに異なる傾向がある領域（例えば、顔の領域）では困難であり得る。皮膚に接着して取り付けられた可撓性パッドに埋め込まれた活性要素のシステムを介してエネルギーを送達することが、可能な解決策を提供する。非アテンド式のアプローチは、視覚的外観を高めるために複数のエネルギーを送達することを含み得る。

【特許請求の範囲】

【請求項1】

患者を治療するためのデバイスであって、
高周波エネルギーを発生するように構成された第１の発生器と、
パルス電流を生成するように構成された第２の発生器と、
アプリケータであって、
前記アプリケータを前記第１および第２の発生器に接続するように構成されたコネクタ、および
治療領域に取り付けられる、前記第１の発生器からの高周波エネルギーまたは前記第２の発生器からの前記パルス電流を前記治療領域に供給するように構成された、少なくとも１つの活性要素を含むパッド、を含む、アプリケータと、
１つまたは複数の予めプログラムされたプロトコルを含む制御ユニット、を含み、
前記制御ユニットは、前記第１の発生器および前記第２の発生器を制御するように構成され、
前記デバイスは、前記１つまたは複数の予めプログラムされたプロトコルに従って前記治療領域に前記高周波エネルギーおよび前記パルス電流を供給するように構成される、デバイス。

【発明の詳細な説明】

【関連出願の相互参照】

【0001】

本出願は、２０２２年５月１９日に出願された現在係属中の米国特許出願第１７／６６４，１６１号の一部継続出願であり、これは、２０２１年１１月３日に出願された現在係属中の米国特許出願第１７／５１８，２４３号の一部継続出願であり、これは、２０２１年５月３日に出願された現在係属中の国際出願第ＰＣＴ／ＩＢ２０２１／００３００号の一部継続出願であり、これは２０２０年５月４日に出願された米国仮特許出願第６３／０１９，６１９号の優先権を主張し、これらのすべては、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。

【技術分野】

【0002】

本発明は、治療中に活性要素を操作する必要なしに治療領域が均一に治療されるように、電磁エネルギーおよび／または二次エネルギーを送達する、活性要素による患者の治療のための方法および装置に関する。

【背景技術】

【0003】

皮膚は、主にＵＶ曝露（光老化として知られるプロセス）に起因して経時的に老化する。毎日のＵＶ光への曝露は、徐々に皮膚の厚さを減らし、皮膚の基本的な構築タンパク質－コラーゲンおよびエラスチン－の量を減少させる。第３の主要な皮膚成分、ヒアルロン酸の量も減少する。これらの変化は、身体の可視の部分、最も顕著には顔により速く現れる。レーザ、高強度集束超音波および高周波など、顔の非侵襲性の皮膚の若返りに使用されているいくつかの技術がある。超音波およびＲＦ場はまた、真皮のヒアルロン酸のレベルの増加をもたらすと予想される。

【0004】

医療・美容目的での様々な形態の電磁エネルギーの患者への送達が、過去に広く利用されてきた。視覚的外観を改善するためのこれらの一般的な処置には、皮膚の若返り、しわの除去、しわ、皮膚の引き締めおよび持ち上げ、セルライトおよび脂肪の減少、色素性病変の治療、刺青の除去、軟組織の凝固およびアブレーション、血管病変の減少、顔の持ち上げ、筋収縮および筋強化、疼痛の一時的な軽減、筋攣縮、局所循環の増加などが含まれるが、決してこれらに限定されない。

【0005】

これらの処置はまた、温熱療法の多くの明白な利点に加えて、特定の制限および関連するリスクをもたらす。とりわけ、再現可能な結果について可能なことが限られている。適用される治療技術および操作者の能力に、これらが大きく依存するからである。さらに、治療が不適切に行われると、火傷および有害事象のリスクが増加する。

【0006】

最も一般的な処置である操作者の手の手動の動きによってエネルギー送達が制御される場合、均一なエネルギーの分布を確実にすることは非常に困難である。特定のスポットは、容易に過剰治療または過少治療され得る。このため、非アテンドの皮膚への送達が可能な走査または他の機構を含むデバイスが登場した。これらのデバイスは、通常、治療される領域と直接接触することなく、明らかな不均一性のない、限られた明確に画定された領域にのみ、エネルギーを送達する。治療される組織とエネルギー発生器との間で同じ距離を維持すること、または必要な組織の接触を維持することは、不均一な領域または凹凸のある領域を治療するときに困難であり得る。したがって、さらに患者ごとに異なるそのような特定の領域（例えば、顔）で一般的に利用可能なデバイスを使用することは、実質的に不可能であり得る。

【0007】

顔への非アテンドの適用は、凹凸のある領域へ取り付けること、および異なる患者の形状へ適合させることへの必要性によってもたらされる複雑さに加えて、火傷および他の副作用に対して保護する高まった必要性によって、特異的になっている。顔は他の身体領域よりも容易に治癒するが、顔はまたより露出度があり、治療の休止時間に対してはるかに高い要件をもたらしている。顔の治療の別の重要な態様は、顔が最も重要な人間の感覚の主であることであり、その機能は治療中に損なわれてはならない。とりわけ、眼の安全性は、治療全体を通して保証されなければならない。

【0008】

現在の美容市場は、４０℃から１００℃の範囲の目標温度まで顔の組織を加熱することを可能にする従来の手動制御の高周波または光デバイス、または熱の効果ではなく光の効果（光線療法）に基づいて操作される非アテンド式のＬＥＤフェイシャルマスクのいずれかを提供する。これらのマスクは、主に家庭での使用を意図しており、火傷、過熱または過剰治療の患者に対するリスクをもたらさない。個々の患者の顔の形状のばらつきは、送達されるエネルギーおよび達成される温度が非常に低いため、熱組織損傷のリスクが最小限に抑えられ、均一な治療の必要がないため、これらのマスクは何らかの問題を表すものではない。また、低温のために、そのようなデバイスが個々のダイオードと患者の皮膚との間の所定の距離を維持することは重要ではなく、マスクの形状は人間の顔を非常に近似して表現したものにすぎない。しかし、それらの使用は、エネルギーが低く、熱効果が最小限であるか、または全くないため、大幅に制限され、即時効果を伴う診療所内の皮膚若返りの方法ではなく、日常的な使用のための予防ツールと見なされる。

【0009】

今日、美容市場は、患者の視覚的外観の改善の分野において、表皮、真皮、皮下組織または脂肪組織に送達される電磁エネルギーによって行われる加熱治療と、筋収縮または筋刺激を与える二次エネルギーとを組み合わせる必要性を感じている。しかし、実際のデバイスはいずれも、顔のような不均一で凹凸のある領域を治療するように適合されていない。さらに、市販のデバイスは、通常、治療全体の間に医療専門家によって操作される必要がある手持ち式のデバイスである。

【0010】

したがって、両方のエネルギーが異なる活性要素または同じ活性要素（例えば、電極）を介して送達され得るように、２つ以上の治療エネルギー（例えば、電磁エネルギーおよび電流）を供給する医療機器を改善することが必要である。さらに、患者の非アテンド式治療を可能にするデバイスのアプリケータまたはパッドは、患者に取り付けられる必要があり、アプリケータまたはパッドは、患者の身体部分の不均一な治療領域との十分な接触を可能にする可撓性材料で作られる必要がある。

【発明の概要】

【0011】

安全性を維持しながら、患者の不均一で凹凸のある領域（例えば、顔の領域）の十分画定された非アテンド式治療を可能にするために、単一または複数の活性要素を介した最小限の侵襲から非侵襲の電磁エネルギー送達の方法およびデバイスが提案されている。

【0012】

患者は、皮膚および身体部分を含むことができ、身体部分は身体領域を指すことができる。

【0013】

患者の視覚的外観の改善の所望の効果は、患者に応じて、３７．５℃から５５℃の範囲の組織（例えば、皮膚）の加熱、５０℃から７０℃の温度での組織凝固、または５５℃から１３０℃の温度での組織アブレーションを含み得る。様々な患者および皮膚の状態は、異なる治療アプローチを必要とする可能性があり、より高い温度は、より少ないセッションでのより良好な結果を可能にするが、より長い治癒の時間を必要とし、より低い温度は、ダウンタイムなしでの治療を可能にするが、より多くのセッションで限られた結果しか得られない。加熱の別の効果は、脂肪細胞の数の減少をもたらし得る。

【0014】

別の所望の効果は、患者の視覚的外観を改善するための筋刺激（例えば、強化または筋緊張）を引き起こす筋収縮であり得る。

【0015】

接触療法または非接触療法のための構成が提案されている。

【0016】

接触療法のために、提案されているデバイスおよび方法は、皮膚に取り付けられた少なくとも１つの活性要素を介して治療領域に送達される電磁エネルギーを生成する本体ユニット内の少なくとも１つの電磁エネルギー発生器を備える。少なくとも１つの活性要素は、凹凸面の形状に適合する可撓性材料で作られたパッドに埋め込まれてもよい。パッドの下面は、活性要素が治療領域に接着し、必要な組織接触を維持することを可能にする接着剤層を含んでもよい。さらに、デバイスは、少なくとも１つのセンサ、例えば、治療される組織との接触の質を測定することができる熱センサまたはインピーダンス測定センサからの測定値に基づいて、１つまたは複数の治療パラメータを調整することができる安全システムを使用することができる。

【0017】

非接触療法のために、提案されているデバイスおよび方法は、治療される組織から所定の距離に配置された少なくとも１つの活性要素を介して治療領域に送達される電磁エネルギーを生成する本体ユニット内の、少なくとも１つの電磁エネルギー発生器を備える。治療領域からの少なくとも１つの活性要素の距離は、治療前、治療全体または治療後に監視することができる。さらに、デバイスは、少なくとも１つのセンサ、例えば１つまたは複数の距離センサからの測定値に基づいて１つまたは複数の治療パラメータを調整することができる安全システムを使用することができる。エネルギーは、単一または複数の静的活性要素によって、または例えば内蔵自動移動システム、例えば一体型スキャナを介して、治療領域全体にわたって単一または複数の活性要素を移動させることによって、送達され得る。治療領域は、レーザの視野によって設定することができ、操作者は、治療前に治療すべき領域をマークすることができる。

【0018】

活性要素は、活性部分が所定のサイズのポイントによって形成されたマトリックスを含む場合、その表面全体を通して、またはいわゆる部分配置によってエネルギーを送達することができる。これらの点は、より速い組織の治癒を可能にする不活性（したがって治療しない）領域によって分離され得る。ポイントの表面は、活性要素領域の１％から９９％を構成することができる。

【0019】

電磁エネルギーは、主に、レーザ、レーザダイオードモジュール、ＬＥＤ、フラッシュランプもしくは白熱電球によって、または患者の加熱を引き起こすための高周波発生器によって生成され得る。さらに、患者を加熱しない音響エネルギーまたは電気もしくは電磁エネルギーは、同時に、交互に、または一次電磁エネルギーと重複して送達されてもよい。

【0020】

さらに、患者の加熱は、加熱された流体、磁場、超音波、または加熱要素（例えば、抵抗線または熱電冷却器（ＴＥＣ））によってもたらされ得る。

【0021】

活性要素は、２つ以上のエネルギーを同時に（同じときに）、連続的にまたは重複して送達することができる。例えば、活性要素は、高周波エネルギー、続いて電気エネルギー（電流）を送達することができる。別の例では、活性要素は、高周波エネルギーと電気エネルギーとを同時に送達することができる。

【0022】

さらに、デバイスは、少なくとも１つの活性要素によって電磁場を送達し、同時に（同じときに）例えば異なる要素によって電気エネルギーを送達するように構成されてもよい。

【0023】

提案されている方法およびデバイスは、組織の加熱、筋肉の収縮、または加熱と筋肉収縮の組み合わせをもたらすことができる。

【0024】

一態様では、提案されているデバイスは、３つの異なるタイプのエネルギーを供給することができる。例えば、高周波エネルギー、電流、および磁場；高周波エネルギー、電流、および圧力パルス；高周波エネルギー、磁場、および圧力パルス；または提案されているデバイスによって供給されるエネルギーの任意の他の可能な組み合わせがある。

【0025】

したがって、提案されている方法およびデバイスは、患者の身体の重要な部分、例えば神経または内臓にさらに害を与えることなく、適切な皮膚の若返り、しわの除去、皮膚の引き締めおよび持ち上げ、セルライトおよび脂肪の減少、色素性病変の治療、しわ、刺青の除去、軟組織の凝固およびアブレーション、血管病変の減少、疼痛の一時的な軽減、筋攣縮、不均一で凸凹のある領域の局所的な循環の増加などを含むがこれらに決して限定されない視覚的外観の改善をもたらし得る。提案されている方法およびデバイスは、例えば脂肪細胞の脂肪分解またはアポトーシスによる脂肪組織の減少をもたらし得る。

【0026】

さらに、提案されている方法およびデバイスは、視覚的外観の改善、例えば、電流または電磁エネルギーによって引き起こされる筋収縮による筋強化または筋緊張を介した組織の若返り、ならびに弾性形成および／または新生組織形成および／または疼痛および／または筋攣縮の緩和および／または高周波エネルギーによる加熱による局所的な循環の増加をもたらし得る。

【0027】

あるいは、提案されているデバイスおよび方法は、術後の治療、例えば脂肪吸引後、例えば手術によって引き起こされる創傷の治療および／または治癒のために使用され得る。

【図面の簡単な説明】

【0028】

【図1】接触療法のための装置のブロック図を示す。

【0029】

【図2】接触療法のための装置の図である。

【0030】

【図3A】パッドの形状とレイアウトを示す。

【0031】

【図3B】パッドの形状とレイアウトを示す。

【0032】

【図3C】額の治療のための１つの可能なパッドの形状およびレイアウトを表す。

【0033】

【図3D】頬の治療のための１つの可能なパッドの形状およびレイアウトを表す。

【0034】

【図3E】頬の治療のための１つの可能なパッドの形状およびレイアウトを表す。

【0035】

【図3F】額の治療のための１つの可能なパッドの形状およびレイアウトを表す。

【0036】

【図4A】接触療法を意図したパッドの側面図を表す。

【0037】

【図4B】接触療法を意図したパッドの側面図を表す。

【0038】

【図4C】接触療法を意図したパッドの側面図を表す。

【0039】

【図4D】接触療法を意図したパッドの側面図を表す。

【0040】

【図4E】１つの可能なパッドの構造の断面図である。

【0041】

【図5A】パッドの一変形例の上面図である。

【0042】

【図5B】基板のスロットの１つの可能な配置の詳細な図を表す。

【0043】

【図6】複数の活性要素を切り替えることによるエネルギー送達の１つの変形例を示す。

【0044】

【図7】非接触療法のための装置のブロック図を示す。

【0045】

【図8】非接触療法のための装置の図である。

【0046】

【図9A】フレーム化された格子状電極の図である。

【0047】

【図9B】別のフレーム化された格子状電極の図である。

【0048】

【図9C】導電ラインを薄くしたフレーム化された格子状電極の図である。

【0049】

【図9D】フレーム化されていない格子状電極の図である。

【0050】

【図9E】開口部を有する電極の図である。

【0051】

【図9F】電極の１つの可能な図である。

【0052】

【図9G】電極の別の図である。

【0053】

【図9H】電極の別の図である。

【0054】

【図9I】フレーム化された格子状電極の詳細を示す図である。

【0055】

【図10】額パッド治療の図である。

【0056】

【図11A】電磁エネルギーの連続モードを示す。

【0057】

【図11B】電磁エネルギーのパルスモードを示す。

【0058】

【図11C】二次エネルギーのパルスモードを示す図。

【0059】

【図11D】エネルギーエンベロープを確立するエネルギーの可能な変調を示す。

【発明を実施するための形態】

【0060】

詳細な説明
提示された方法およびデバイスは、皮膚、表皮、真皮、皮下組織または筋肉を含むがこれらに限定されない組織の刺激および／または治療に使用することができる。提案された装置は、患者の身体の重要な部分、例えば神経または内臓にさらに害を与えることなく、単一のまたは複数の活性要素を介した電磁エネルギー送達による不均一で凹凸のある領域（例えば、顔の領域）の十分に規定された非アテンド式治療を可能にするために、組織の１つまたは複数の領域の最小限に非侵襲的な治療用に設計されている。

【0061】

さらに、提示された方法およびデバイスを使用して、頭部、首、ブラファット、脇腹のぜい肉、胴体、背中、腹部、臀部、大腿部、ふくらはぎ、脚、腕、前腕、手、指または体腔（例えば、膣、肛門、口腔、内耳など）のような身体部分または身体領域を刺激することができる。

【0062】

提案された方法およびデバイスは、視覚的外観を改善するためのいくつかのプロトコルを含むことができ、これは制御ユニット（例えば、フレックス回路またはプリント回路基板を含むことができ、デバイスを制御するためのマイクロプロセッサまたはメモリを含むことができるＣＰＵ－中央処理装置）に予めプログラムすることができる。

【0063】

所望の効果は、３７．５℃から５５℃の範囲、または３８℃から５３℃の範囲、または３９℃から５２℃の範囲、または４０℃から５０℃の範囲、または４１℃から４５℃の範囲の組織（例えば、皮膚の表面）加熱（温熱療法）、５０℃から７０℃の範囲、または５１℃から６５℃の範囲、または５２℃から６２℃の範囲、または５３℃から６０℃の範囲の温度での組織の凝固、または５５℃から１３０℃の範囲、または５８℃から１２０℃の範囲、または６０℃から１１０℃の範囲、または６０℃から１００℃の範囲の温度での組織アブレーションを含み得る。デバイスは、接触方式または非接触方式で動作させることができる。接触療法の場合、皮膚の目標温度は、典型的には、３７．５℃から９５℃の範囲内、または３８℃から９０℃の範囲内、または３９℃から８５℃の範囲内、または４０℃から８０℃の範囲内であり得るが、非接触療法の場合、皮膚の目標温度は、３７．５℃から１３０℃の範囲内、または３８℃から１２０℃の範囲内、または３９℃から１１０℃の範囲内、または４０℃から１００℃の範囲内であり得る。３７．５℃から１３０℃の範囲、または３８℃から１２０℃の範囲、または３９℃から１１０℃の範囲、または４０℃から１００℃の範囲内の温度は、線維芽細胞の刺激および結合組織―例えば、コラーゲン、エラスチン、ヒアルロン酸などーの形成をもたらし得る。目標温度に応じて、制御された組織の損傷が引き起こされ、生理学的修復プロセスが開始され、新しい組織が形成される。３７．５℃から１３０℃の範囲内、または３８℃から１２０℃の範囲内、または３９℃から１１０℃の範囲内、または４０℃から１００℃の範囲内の温度は、脂肪組織の変化をさらにもたらし得る。高温によって引き起こされるアポトーシスの過程の間、脂肪細胞はアポトーシス小体に分かれ、食作用の過程を介してさらに除去される。壊死と呼ばれる過程で、脂肪細胞は高温により破裂し、その内容物が細胞外マトリックスに放出される。両方のプロセスは、顔の再成形を可能にする脂肪層の減少をもたらし得る。顔から脂肪を除去することは、例えば、下唇亜基節または頬のような領域において有益であり得る。

【0064】

別の所望の効果は、組織の若返りを含み得る。例えば、患者に熱を加えない電気または電磁エネルギーによって引き起こされる筋収縮、または圧迫マッサージによって引き起こされる筋弛緩による筋強化がある。本明細書による電気エネルギーおよび電磁場による組織（例えば、皮膚）の加熱を介した筋収縮の複合効果は、視覚的外観の顕著な改善をもたらし得る。

【0065】

図１および２を併せて説明する。図１は、接触療法のための装置１のブロック図を示す。図２は、接触療法のための装置１の図である。接触療法のための装置１は、２つの主要なブロック、すなわち本体ユニット２およびパッド４を備えることができる。さらに、装置１は、相互接続ブロック３または中性電極７を備えることができる。しかし、相互接続ブロック３の構成要素は、本体ユニット２に実装されてもよい。

【0066】

本体ユニット２は、好ましくは１０ｋＨｚから３００ＧＨｚもしくは３００ｋＨｚから１０ＧＨｚもしくは４００ｋＨｚから６ＧＨｚの範囲、または１００ｋＨｚから５５０ＭＨｚもしくは２５０ｋＨｚから５００ＭＨｚもしくは３５０ｋＨｚから１００ＭＨｚもしくは４００ｋＨｚから８０ＭＨｚの範囲の高周波エネルギーを送達し得る一次電磁発生器６、患者を加熱しない電磁エネルギーをさらに送達し得る、または１Ｈｚから１０ＭＨｚもしくは５Ｈｚから５ＭＨｚの範囲、または１０Ｈｚから１ＭＨｚの範囲、または２０Ｈｚから１ｋＨｚの範囲、または４０Ｈｚから５００Ｈｚの範囲、または５０Ｈｚから３００Ｈｚの範囲の電流を送達し得る二次発生器９、および／または２０ｋＨｚから２５ＧＨｚもしくは２０ｋＨｚから１ＧＨｚもしくは５０ｋＨｚから２５０ＭＨｚもしくは１００ｋＨｚから１００ＭＨｚの範囲の周波数を有する音響エネルギーをさらに送達し得る超音波エミッタ１０である１つまたは複数の発生器を含むことができる。さらに、超音波エネルギーの周波数は、２０ｋＨｚから８０ＭＨｚまたは５０ｋＨｚから５０ＭＨｚまたは１５０ｋＨｚから２０ＭＨｚの範囲内であり得る。

【0067】

高周波エネルギーの出力電力は、４５０Ｗ、３００Ｗ、２５０Ｗ、または２２０Ｗ以下であってもよい。さらに、一次電磁発生器６（例えば、高周波発生器）の出力における高周波エネルギーは、０．１Ｗから４００Ｗの範囲、または０．５Ｗから３００Ｗの範囲、または１Ｗから２００Ｗの範囲、または１０Ｗから１５０Ｗの範囲であってもよい。高周波エネルギーは、６．７８ＭＨｚ、１３．５６ＭＨｚ、２７．１２ＭＨｚ、４０．６８ＭＨｚ、４３３．９２ＭＨｚ、９１５ＭＨｚ、２．４５ＧＨｚ、および５．８ＧＨｚのＩＳＭ帯域内またはその近傍に適用することができる。

【0068】

一次発生器６はまた、異なるパラメータで２つ以上の高周波エネルギーを供給することができる。非限定的な一例として、一次発生器は、１００ｋＨｚから５５０ＭＨｚ、２５０ｋＨｚから５００ＭＨｚ、３５０ｋＨｚから１００ＭＨｚ、または４００ｋＨｚから８０ＭＨｚの範囲の周波数を有する１つの高周波エネルギーと、４００ｋＨｚから３００ＧＨｚ、５００ｋＨｚから３０ＧＨｚ、６００ｋＨｚから１０ＧＨｚ、または６５０ｋＨｚから６ＧＨｚの範囲の周波数を有する第２の高周波エネルギーとを生成することができる。

【0069】

さらに、患者の加熱は、加熱された流体によってなされてもよい。一態様では、流体は、本体ユニット２の内側の熱発生器で加熱されてもよく、閉ループの形態であってもよい流体導管によって、パッド４に結合され得る。加熱された流体が、例えばポンプ、ファン、または他の流体送出システムを介して、パッド４の活性要素を介して患者に向かって送出されると、流体はその熱を放散し、次いで流体は熱発生器に戻され、そこで再び加熱される。流体は、液体（例えば、水または油）または気体（例えば、空気、窒素、二酸化炭素、酸化炭素、または従来技術で知られている他の適切なガス）の形態であってもよい。流体は、３７．５℃から１００℃の範囲、３８℃から６４℃の範囲、または４０℃から５７℃の範囲の温度に加熱され得る。一態様では、加熱された流体は、電磁加熱エネルギーのための補助加熱エネルギーであってもよく、またはその逆であり得る。

【0070】

一態様では、加熱は、一次電磁発生器６または二次発生器９に接続され得る加熱要素、例えば抵抗線または熱電冷却器（ＴＥＣ）によってなされてもよい。この態様では、活性要素は加熱要素であり得る。加熱要素は、３７．５℃から６８℃の範囲、３８℃から６２℃の範囲、または３９℃から５０℃の範囲の温度をその表面に有してもよい。

【0071】

本体ユニット２は、操作者が治療および他のデバイスのパラメータを確認および調整することを可能にするディスプレイ、ボタン、キーボード、タッチパッド、タッチパネルまたは他の制御部材によって表されるヒューマンマシンインターフェース８をさらに備えることができる。例えば、各発生器（一次電磁発生器６、二次発生器９、および超音波エミッタ１０）の電力、治療時間、または他の治療パラメータを独立して設定することが可能であり得る。ヒューマンマシンインターフェース８は、制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）に接続されてもよい。本体ユニット２に配置された電源５は、変圧器、使い捨て電池、充電式電池、電源プラグ、または標準電源コードを含むことができる。電源５の出力電力は、１０Ｗから６００Ｗの範囲であってもよく、５０Ｗから５００Ｗの範囲であってもよく、８０Ｗから４５０Ｗの範囲であり得る。

【0072】

さらに、ヒューマンマシンインターフェース８は、適用された治療のタイプ、残りの治療の時間、および主な治療パラメータに関する情報も表示することができる。

【0073】

相互接続ブロック３は、本体ユニット２とパッド４との間の通信チャネルとして機能し得る。それは、基本的なインジケータ１７および治療制御のための機構を含む単純なデバイスによって表され得る。インジケータ１７は、ディスプレイ、ＬＥＤ、音響信号、振動、または操作者および／または患者に適切な通知をすることができる他の形態によって実現することができる。インジケータ１７は、実際の患者の温度、接触情報または他のセンサ測定値、ならびに活性要素間の切り替えプロセスの状態、治療される組織との接触の質、実際の治療パラメータ、進行中の治療などを示すことができる。インジケータ１７は、疑わしい治療行動、例えば、範囲外の温度、治療される組織との不適切な接触、自動的に調整されたパラメータなどの場合に操作者に警告するように構成されてもよい。相互接続ブロック３は、熱に敏感な患者のための追加の安全機能として使用することができる。それは、患者が治療中にいつでも治療を直ちに停止できるように、緊急停止ボタン１６を含むことができる。スイッチング回路１４は、活性要素間の切り替え、または一次電磁発生器６、二次発生器９または超音波エミッタ１０からのエネルギー送達の調整を担うことができる。活性要素１３間のスイッチング速度は、送達されるエネルギーの量、パルスの長さなど、および／またはスイッチング回路１４および制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）の速度に依存し得る。スイッチング回路１４は、リレースイッチ、トランジスタ（バイポーラ、ＰＮＰ、ＮＰＮ、ＦＥＴ、ＪＦＥＴ、ＭＯＳＦＥＴ）サイリスタ、ダイオード、光スイッチ、光電気スイッチもしくは光機械スイッチ、または従来技術で知られている他の任意の適切なスイッチを含むことができる。制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）に関連するスイッチング回路は、少なくとも１つの活性要素１３で一次電磁発生器６によって生成された一次電磁エネルギーと、二次発生器９によって生成された二次エネルギーとの間のスイッチングを制御することができる。

【0074】

さらに、相互接続ブロック３は、一次電磁発生器６、二次発生器９または超音波エミッタ１０、またはそれらのうちの１つのみ、またはそれらの任意の組み合わせを含むことができる。

【0075】

限定的ではない１つの態様では、本体ユニット２は一次電磁発生器６を備えてもよく、相互接続ブロック３は二次発生器９を備えてもよく、超音波エミッタ１０は全く存在しなくてもよい。

【0076】

制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）は、一次電磁エネルギーが、１０ｍＪ／ｃｍ^２から５０ｋＪ／ｃｍ^２の範囲、または１００ｍＪ／ｃｍ^２から１０ｋＪ／ｃｍ^２の範囲、または０．５Ｊ／ｃｍ^２から１ｋＪ／ｃｍ^２の範囲のフルエンスを有する少なくとも１つの活性要素に連続モード（ＣＭ）またはパルスモードで送達され得るように、一次電磁発生器６を制御する。電磁エネルギーは、主に、レーザ、レーザダイオードモジュール、ＬＥＤ、フラッシュランプもしくは白熱電球によって、または患者の加熱を引き起こすための高周波発生器によって生成され得る。ＣＭモードは、０．０５秒から６０分の範囲、または０．１秒から４５分の範囲、または０．２秒から３０分の範囲の時間間隔で動作させることができる。パルス領域で動作するエネルギー送達のパルス持続時間は、０．１ミリ秒から１０秒の範囲、または０．２ミリ秒から７秒の範囲、または０．５ミリ秒から５秒の範囲であってもよい。パルス領域の一次電磁発生器６は、シングルショットモードまたは繰り返しモードで制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）によって動作させることができる。繰り返しモードの周波数は、０．０５から１００００Ｈｚの範囲、または０．１から５０００Ｈｚの範囲、または０．３から２０００Ｈｚの範囲、または０．５から１０００Ｈｚの範囲であってもよい。あるいは、繰り返しモードの周波数は、０．１ｋＨｚから２００ＭＨｚの範囲、または０．５ｋＨｚから１５０ＭＨｚの範囲、または０．８ｋＨｚから１００ＭＨｚの範囲、または１ｋＨｚから８０ＭＨｚの範囲であってもよい。シングルショットモードは、単一の治療領域に送達するための特定のパラメータ（例えば、強度、持続時間など）のただ１つの電磁パルスの生成を意味し得る。繰り返しモードは、単一の治療領域に送達するための上述の周波数の繰り返し速度で、特定のパラメータ（例えば、強度、持続時間など）を有し得る電磁パルスの生成を意味し得る。制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）は、治療時間、電力、デューティサイクル、複数の活性要素間のスイッチングを調整する期間、デバイス１の温度、ならびに一次電磁発生器６および二次発生器９または超音波エミッタ１０の温度を含む治療パラメータの安定化などの治療の制御をもたらすことができる。制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）は、スイッチング回路１４を駆動して情報を提供することができる。制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）はまた、パッド４上もしくはパッド４内、またはデバイス１のどこかに配置されたセンサから情報を受信および提供することができる。制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）は、フレックス回路またはプリント回路基板を含んでもよく、デバイスを制御するためのマイクロプロセッサまたはメモリを含んでもよい。

【0077】

図１１Ａは、連続モードにおける電磁エネルギーの送達を示す。電磁波１１０１（例えば、正弦波高周波）は、連続した電磁エンベロープ１１０３（例えば、高周波エンベロープ）によって開始時間ｔ０から継続的に送達される。図１１Ｂは、パルスモードにおける電磁エネルギーの送達を示す。電磁波１１０１（例えば、正弦波高周波）は、電磁パルス１１０２（例えば、高周波パルス）で送達される。電磁パルス１１０２は、図１１Ｂに長方形電磁エンベロープ１１０５として示されている少なくとも１つの電磁エンベロープ１１０５（例えば、高周波エンベロープ）を生成することができる。電磁エンベロープ（１１０３、１１０５）は、様々な形状、例えば、円形、半円形、正弦波、長方形、三角形、台形、または多角形を有することができる。

【0078】

電磁波１１０１（例えば、高周波）は、単一の電磁パルス（１１０２または１１０３）内部で振幅または周波数が変調されてもよく、異なる電磁パルスで異なるように変調されてもよい。例えば、第１の電磁パルスは長方形エンベロープを有してもよく、第１の電磁パルスに続く第２の電磁パルスは正弦波エンベロープを有してもよい。２つの連続するパルス１１０２間の休止時間１１０４は、１マイクロ秒から１秒の範囲、５００マイクロ秒から５００ミリ秒の範囲、１ミリ秒から４５０ミリ秒の範囲、または１００ミリ秒から４５０ミリ秒の範囲であり得る。休止時間１１０４は、デバイスが供給する電磁波が存在しない時間である。

【0079】

制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）は、少なくとも１つの活性要素の表面に、１０ｍＪ／ｃｍ^２から５０ｋＪ／ｃｍ^２の範囲、または１００ｍＪ／ｃｍ^２から１０ｋＪ／ｃｍ^２の範囲、または０．５Ｊ／ｃｍ^２から１ｋＪ／ｃｍ^２の範囲のフルエンスを有する少なくとも１つの活性要素に二次エネルギー（例えば、電流または磁場）が連続モード（ＣＭ）またはパルスモードで送達され得るように二次発生器９を制御することができる。患者の治療領域に二次エネルギーを適用することは、患者の筋収縮を引き起こし得る。ＣＭモードは、０．０５秒から６０分の範囲、または０．１秒から４５分の範囲、または０．２秒から３０分の範囲の時間間隔で動作させることができる。パルス領域で動作する二次エネルギーの送達のパルス持続時間は、０．１マイクロ秒から１０秒の範囲、または０．２マイクロ秒から１秒の範囲、または０．５マイクロ秒から５００ミリ秒の範囲、または０．５から１０秒の範囲、または１から８秒の範囲、または１．５から５秒の範囲、または２から３秒の範囲であり得る。パルス領域の二次発生器９は、シングルショットモードまたは繰り返しモードで制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）によって動作させることができる。繰り返しモードの周波数は、０．１から１２０００Ｈｚの範囲、または０．１から８０００Ｈｚの範囲、または０．１から５０００Ｈｚの範囲、または０．５から１０００Ｈｚの範囲であってもよい。

【0080】

図１１Ｃは、パルスモードにおける二次エネルギーの送達を示す。二次エネルギーは、開始時間ｔ０から終了時間ｔ１まで継続的に供給される二次エネルギーパルス１１１１（例えば、二相長方形電流パルス）で送達され、二次エネルギーエンベロープ１１１２（例えば電流エンベロープ）を形成する。１つの可能な二次エネルギーパルス１１１１（例えば、電気パルス）は、図１１Ｃの点線の楕円形で強調されている。二次エネルギーパルス１１１１は、次々に均一に、または図１１Ｃに見られるように二次エネルギーパルス１１１１間の二次エネルギーパルス休止時間１１１３で送達されてもよい。二次エネルギーパルス休止時間１１１３は、連続する２つの二次エネルギーパルス１１１１の間に二次エネルギーが送出／生成されない時間を意味する。二次エネルギーパルス１１１１および二次エネルギーパルス休止時間１１１３のデューティサイクルは、０．１％から９９％の範囲、０．５％から５０％の範囲、０．７％から３３％の範囲、１％から１７％の範囲、または１．５％から１０％の範囲であり得る。一態様では、二次エネルギーパルス休止時間１１１３は、８０マイクロ秒から１００ミリ秒の範囲、または１６０マイクロ秒から５０ミリ秒の範囲、または２５０マイクロ秒から１０ミリ秒の範囲、または０．５ミリ秒から７ミリ秒の範囲であり得る。

【0081】

二次発生器９によって生成された二次エネルギー（例えば、電流パルスまたは磁場パルス）は、一次発生器６によって生成された電磁エネルギー（例えば、高周波）と同じ方法で周波数または振幅で変調され、図１１Ｄに示すように、二次エネルギーエンベロープ（例えば、電流エンベロープ）の異なる形状を生成することができる。例えば、第１の三角形エンベロープ１１１２ａは、連続する各二次エネルギーパルスが前のものよりも高い振幅を有するように、振幅が変調された一連の二次エネルギーパルス１１１１を含む。第２の長方形エンベロープ１１１２ｂは、同じ振幅を有する一連の二次エネルギーパルス１１１１を含む。図１１Ｄから分かるように、連続するエンベロープ１１１２ａおよび１１１２ｂは、生成／送達される二次エネルギーパルスがなく、エンベロープが確立されない時間であるエンベロープ休止時間によって分離され得る。一態様では、エンベロープ休止時間１１１４はパルス休止時間１１１３よりも長い。別の態様では、エンベロープ休止時間１１１４は、少なくとも二次エネルギーパルス１１１１に二次エネルギーパルス休止時間１１１３を加えた長さを有する。一態様では、二次エネルギーは、１つの二次エネルギーエンベロープ１１１２内部で変調され得、エンベロープは治療全体で同じであってもよく、例えば台形エンベロープのみが治療を通して送達されてもよい。別の態様では、二次エネルギーは、治療中に送達される異なる二次エネルギーエンベロープ１１１２に対して異なるように変調され得、例えば、増加的エンベロープが最初に送達され得、長方形エンベロープよりも２番目に送達され、それにおいて次いで減少的な三角形エンベロープが送達され得、エンベロープはエンベロープ休止時間１１１４によって分離される。二次エネルギーエンベロープ１１１２は、洞、三角形、円錐形、長方形、台形、または多角形の形状を有することができる。

【0082】

二次エネルギー（例えば、電流または磁場）はまた、二次エネルギーエンベロープ１１１２内の周波数で変調され得、これは患者の体内で治療応答を増加または減少させることができる。例えば、電流または磁場は、二次エネルギーパルス１１１１の周波数が増加するように変調され得、筋収縮の強度を増加させることができる。次いで、二次エネルギーパルス１１１１の周波数は一定であり、同じ強度の筋収縮を引き起こすことができ、次いで二次エネルギーパルス１１１１の周波数は減少して、筋収縮の強度を減少させることができる。一次電磁エネルギーに同じ原理を使用することができ、したがって、例えば、電磁エネルギーの一連の増加する、一定である、および減少する振幅、または電磁波の一連の増加する、一定である、および減少する周波数を生成することができ、これらは両方とも患者の組織の加熱を増加させる、一定にする、および減少させることができる。

【0083】

あるいは、１つのタイプのエネルギー／信号を生成するために１つの発生器のみと、エネルギー／信号を他の１つまたは複数のタイプのエネルギー／信号に変換する１つまたは複数の変換器とを使用することも可能であり得る。例えば、一次発生器は、変換器によって（例えば、変換電気回路によって）電流に変換される高周波信号を生成することができる。

【0084】

提案されているデバイスは、制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）１１が一度に複数の治療領域の治療を制御することを可能にするマルチチャネルデバイスであり得る。

【0085】

あるいは、相互接続ブロック３はデバイス１の一部でなくてもよく、制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）１１、スイッチング回路１４、インジケータ１７、および緊急停止ボタン１６は、本体ユニット２またはパッド４の一部であり得る。さらに、制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）１１、スイッチング回路１４、インジケータ１７、および緊急停止ボタン１６のいくつかは、本体ユニット２の一部であってもよく、それらのいくつかは、パッド４の一部であってもよく、例えば、制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）１１、スイッチング回路１４、および緊急停止ボタン１６は、本体ユニット２の一部であってもよく、インジケータ１７は、パッド４の一部であり得る。

【0086】

パッド４は、治療中に患者の皮膚と接触し得るデバイスの部分を表す。パッド４は、可撓性基板材料、例えばポリマーベースの材料、ポリイミド（ＰＩ）フィルム、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ、例えばテフロン（登録商標））、エポキシ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリアミドまたはポリエチレン（ＰＥ）発泡体で作られてもよく、下面に追加の接着剤層、例えば、低アレルギー性接着剤ゲル（ヒドロゲル）または静菌性、非刺激性、または水溶性であってもよい接着テープを有する。基板はまた、シリコーン系基板であってもよい。基板はまた、布地、例えば不織布から作製されてもよい。接着剤層は、周波数５００ｋＨｚにおける電流に対するインピーダンスが、１から１５０Ωの範囲、または５から１３０Ωの範囲、または１０から１００Ωの範囲であってもよく、周波数１００Ｈｚ以下における電流に対するインピーダンスは、周波数５００ｋＨｚにおける電流に対するインピーダンスの３倍以上である。接着性ヒドロゲルは、水、多価アルコール、ポリビニルピロリドン、ポリイソシアネート成分、ポリオール成分を含むポリマーマトリックスまたは混合物から作製され得るか、または主鎖にメチレンジフェニル構造を有する。さらに、導電性接着剤（例えば、ヒドロゲル）は、接着剤の１から９０％または２から８０％または５から７０％を構成する銀、金、銅、アルミニウム、白金またはチタンまたはグラファイトなどの金属充填剤で増強されてもよい。接着剤層は、「ＳＴ－ｇｅｌ（登録商標）」または「Ｔｅｎｓｉｖｅ（登録商標）」導電性接着ゲルによって覆われてもよく、これは身体に適用されてそのインピーダンスを低下させ、それによって感電の送達を容易にする。

【0087】

接着剤層、例えばヒドロゲルは、患者の身体領域に面するパッドの表面全体を正確に覆うことができる。ヒドロゲル層の厚さは、０．１から３ｍｍの範囲、または０．３から２ｍｍの範囲、または０．４から１．８ｍｍの範囲、または０．５から１．５ｍｍの範囲であり得る。

【0088】

パッド４の下の接着剤層は、接着剤層が患者に面するパッドの表面と患者の身体との間にあることを意味し得る。接着剤層は、パッド４の下の患者の皮膚のインピーダンスよりも１．１倍、２倍、４倍または最大１０倍高いインピーダンスを有することができる。皮膚インピーダンスの定義は、内部電流束経路が一定に保持されているとき、表皮と接触している２つの等電位面の間で測定される、すなわち電極の面積に反比例する全インピーダンスの一部であるということであり得る。この定義に適用可能なデータは、他の幾何学的形状への適用を容易にするために単位面積あたりのアドミタンスとして都合よく記録される。接着剤層のインピーダンスは、皮膚インピーダンスを測定するために使用されるのと同じ実験的設定によって設定され得る。接着剤層のインピーダンスは、皮膚のインピーダンスよりも１．１倍から２０倍、または１．２倍から１５倍、または１．３倍から１０倍の範囲の係数だけ高くてもよい。

【0089】

接着剤層のインピーダンスは、患者に送達される異なる種類のエネルギーに対して異なる値を有してもよく、例えば、インピーダンスは、高周波および電流の送達に対して異なってもよい。ヒドロゲルのインピーダンスは、電流（例えば、電気療法中）が送達される場合、１００から２０００オームの範囲、または１５０から１８００オームまたは２００から１５００オームまたは３００から１２００オームの範囲であり得る。一態様では、１ｋＨｚでのＡＣ電流に対する接着剤層（例えばヒドロゲル）のインピーダンスは、１００から５０００オーム、または２００から４５００オーム、または５００から４０００オーム、または１０００から３０００オーム、または１２００から２８００オーム、または１５００から２５００オームの範囲内であり得る。別の態様では、１０ＨｚでのＡＣ電流に対する接着剤層（例えばヒドロゲル）のインピーダンスは、２０００から４０００オーム、または２３００から３７００オーム、または２５００から３５００オームの範囲であり得る。

【0090】

３．２ＭＨｚの高周波での接着剤層の電気伝導率は、２０から２００ミリ秒／ｍの範囲、または５０から１４０ミリ秒／ｍの範囲、または６０から１２０ミリ秒／ｍの範囲、または７０から１００ミリ秒／ｍの範囲であり得る。

【0091】

あるいは、接着剤層は、より多くの要素の組成物であってもよく、いくつかの要素は、適切な物理的特性（本明細書では接着要素と呼ばれる）、例えば適切な接着性および／または伝導率および／またはインピーダンスおよび／または冷却特性などを有してもよく、いくつかの要素は、栄養特性（本明細書では栄養要素と呼ばれる）を有することができ、例えば、治療中に患者の皮膚に送達され得る栄養素、および／またはビタミン、および／またはミネラル、および／または栄養効果を有する有機および／または無機物質を含有することができる。栄養要素に対する接着要素の体積比は、１：１から２０：１、または２：１から１０：１、または３：１から５：１、または５：１から５０：１、または１０：１から４０：１、または１５：１の範囲であり得る。一態様において、接着剤層組成物は、接着要素としてヒドロゲルを含み、栄養要素としてヒアルロン酸を含有し得る。別の態様では、接着剤層組成物は、接着要素としてヒドロゲルおよび栄養要素として１種以上のビタミンを含有し得る。別の態様では、接着剤層組成物は、接着要素としてヒドロゲルおよび栄養要素として１つ以上のミネラルを含有し得る。

【0092】

さらに、デバイスおよび方法は、皮膚脱色成分、例えば美白成分も含み得る。美白成分は、４－メトキシフェノール、コウジ酸、アルブチン、ヒドロキノン、ナイアシンアミド、エラグ酸、４－ｎ－ブチルレゾルシノール（ルシノール）、４－メトキシサリチル酸カリウム（４ＭＳＫ）、リノール酸、トラネキサム酸、４－（４－ヒドロキシフェニル）－２－ブタノール（ロドデノール）、トラネキサム酸セチルエステル、アデノシンモノホスフェート、デキステノール、Ｌ－アスコルビン酸マグネシウム－２－ホスフェート、ビタミンＣ、３－Ｏ－エチルアスコルビン酸、５－５－ジプロピル－ビフェニル－２，２－ジオール、テトラ－２－ヘキシルデカン酸アスコルビル、グルタチオン、サリチル酸、グリコール酸、コルチコステロイド、トレチノニン、α－ヒドロキシル酸、アゼライン酸、グルコサミン、レチナールアルデヒド、レチノール、メキノール、レスベトラゾール、オキシレスバレトラール、ビタミンＥ、チオクト酸、乳酸、グリコール酸、液体スズ、グリチルレチン酸、アロエシン、酢酸トコフェリルおよび／またはグラブレンの少なくとも１つを含み得る。さらに、美白成分は、上記の任意の化合物の任意の塩および／または改変を含み得る。一態様では、皮膚脱色成分は、接着剤層の一部であり得る。例えば、接着剤層は、接着剤部分（例えばヒドロゲル）および／または栄養要素（例えば、ヒアルロン酸）および／または皮膚脱色成分（例えば、美白成分）を含み得る。

【0093】

一態様では、栄養要素は、治療中にそれ自体で連続的に放出され得る。別の態様では、栄養要素は、治療エネルギー（例えば、熱、高周波、光、電流、磁場または超音波）の送達によって放出され得、治療エネルギーは、栄養要素を通過し、したがって患者の皮膚へのその放出を引き起こし得る。

【0094】

一態様では、皮膚脱色成分（例えば、美白成分）は、治療中にそれ自体で連続的に放出され得る。別の態様では、皮膚脱色成分（例えば、美白成分）は、皮膚脱色成分（例えば、美白成分）を通過することができ、したがって患者の皮膚へのその放出を引き起こすことができる治療エネルギー（例えば、熱、高周波、光、電流、磁場または超音波）の送達により放出されることができる。

【0095】

別の態様では、栄養要素（例えば、ヒアルロン酸）および／または皮膚脱色成分（例えば、美白成分）は、接着剤層の一部でなくてもよく、パッドおよび／または活性要素（例えば、電極）の取り付け前に患者に結合され得る。例えば、治療領域は、栄養要素（例えば、ヒアルロン酸）および／または皮膚脱色成分（例えば、美白成分）でコーティングされ得、次いでパッドは、治療領域に取り付けられてもよい（例えば、接着剤層もしくはバンドを介して、またはマスクの形態で）。

【0096】

別の態様では、デバイスおよび方法は、イオン導入（経皮薬物送達）に使用され得る。薬物の分子は、電気泳動および電気浸透によって角質層を横切って輸送され得、電流によって生成される電場はまた、皮膚の透過性を増加させ得る。デバイスは、治療用途－デバイスが、帯電した物質、通常は医薬品または生物活性剤を、皮膚を介して、反発起電力によって経皮的に駆動する－または診断用途で使用され得る。

【0097】

接着剤層を含むパッドは、単回使用（使い捨て）用に構成され得る。

【0098】

あるいは、パッドは接着剤層を含まなくてもよく、少なくとも基板および活性要素（例えば、電極）を含んでもよい。

【0099】

一態様では、治療の開始時、パッドの適用前に接着剤層（例えばヒドロゲル）を患者の表面に外部適用することができる。次いで、パッドは接着剤層に結合される。別の態様では、接着剤層とパッドとの間に被覆層（例えば、薄箔）を挿入してもよい。箔は、片面または両面に接着性があってもよく、パッドと患者の身体との結合をもたらす。この場合、被覆層がパッドの衛生的な安全性を保証するように、同じパッドを複数回使用することが可能であり得る。

【0100】

別の態様では、接着剤層（例えば、導電性接着剤ヒドロゲル）はパッドの一部でなくてもよく、パッドを治療領域の表面と結合する前にパッドに外部から適用され得る。

【0101】

別の態様では、パッドを適用する前に、何らかの他の物質の層を患者の表面に適用することができ、パッドはこの層に結合される。これは、活性物質層、冷却層（例えば冷却ゲル）、部分的な接着剤層、または任意の他の非接着剤層であり得る。一態様では、活性物質層は、例えばヒアルロン酸、１種以上のビタミン、１種以上のミネラル、１種以上の皮膚脱色成分またはそれらの組み合わせのいずれかを含み得る。活性物質層からの活性物質は、患者に適用される溶液（例えば、ゲルまたはクリーム）の形態であってもよく、または被覆層（例えば、薄箔）に結合され得、それは次いで患者の皮膚に付着される。活性物質は、治療全体を通してパッド（例えば、高周波エネルギー、熱、電流または磁場などである）によって供給される少なくとも１つのエネルギーに起因して皮膚に連続的に放出され得る。別の態様では、活性物質は、皮膚を視覚的に改善するために、治療の開始時、治療中のある時点、または治療の終了時に皮膚に放出され得る。

【0102】

パッド４はまた、パッドの上面にステッカーを有してもよい。上面は、下面（接着剤層が堆積され得る側）の反対側の部位であり、言い換えれば、上面は、治療中に患者から外方に向くパッドの面である。ステッカーは、底面および上面を有することができ、ステッカーの底面は粘着層を含むことができ、ステッカーの上面は非粘着層（例えば、ポリイミド（ＰＩ）フィルム、ＰＴＦＥ（例えば、テフロン（登録商標））、エポキシ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリアミドまたはＰＥ発泡体、ＰＥフィルムまたはＰＶＣ発泡体）を含むことができる。したがって、ステッカーは、２つの層（上部非粘着層および底部粘着層）で作られてもよい。ステッカーは、パッドの上面を覆い、パッドの上面に位置するいくつかのセンサ（例えば、熱センサ）も覆うことができる。

【0103】

ステッカーは、パッド４と同じ形状を有してもよく、または、例えばパッド４の形状を超えて延在するなど、パッド上に追加の重なりを有してもよい。ステッカーは、ステッカーの底面の粘着層がパッド４の上面に向くようにパッドに接着されてもよい。パッド４から外方に向くステッカーの上面は、非接着剤層で作られてもよい。さらなる重なりがあるステッカーの直線寸法は、０．１から１０ｃｍの範囲、または０．１から７ｃｍの範囲、または０．２から５ｃｍの範囲、または０．２から３ｃｍの範囲、または０．３から１ｃｍの範囲のパッドの対応する寸法を超えることができる。ステッカー（重なりあり）の面積は、パッドの面積よりも０．５％から５０％、１％から４０％、１．５％から３３％、２％から２５％、３％から２０％、または５％から１５％大きくてもよい。この重なりはまた、接着剤層を含んでもよく、パッドと患者との追加のより適切な接触を形成するために使用され得る。ステッカーの厚さは、０．０５から３ｍｍの範囲、または０．１から２ｍｍの範囲、または０．５から１．５ｍｍの範囲であり得る。ステッカーの上面は、パッド、例えば製造業者のブランドまたは提案される被治療身体領域を容易に認識するために印刷された刻印を有することができる。

【0104】

一態様では、患者の身体領域に面するパッドの下側の接着剤層、例えばヒドロゲルは、パッドの表面全体を覆うことができ、パッドの表面にさえ重なり、粘着層の重なりを少なくとも部分的に覆うことさえできる。別の態様では、接着剤層の下面および／またはステッカーの重なり（患者に面する両方の部分）はライナーによって覆われてもよく、これは治療の直前に除去され得る。ライナーは、接着剤層および／またはステッカーの重なりを保護し、したがってライナーが除去されると、患者の身体領域への適切な接着が確実にされる。

【0105】

あるいは、パッド４は、少なくとも１つの吸引開口部、例えば活性要素に隣接する小さな空洞またはスリットを含んでもよく、または活性要素は空洞の内部に埋め込まれてもよい。吸引開口部は、接続チューブを介して、本体ユニット２の一部であってもよいポンプに接続されてもよい。吸引開口部が皮膚に接触すると、吸引開口部から吸引された空気が接続管およびポンプに向かって流れ、皮膚が吸引開口部にわずかに吸引され得る。したがって、真空化を適用することによって、パッド４の接着をもたらすことができる。さらに、パッド４は、より強固な接着を組み合わせるために、接着剤層と吸引開口部を備えてもよい。

【0106】

真空（負圧）に加えて、ポンプは、流体を吸引開口部に圧送することによって正圧を供給することもできる。正圧は大気圧よりも高い圧力であり、負圧または真空は大気圧よりも低い。大気圧は、治療中の室内の空気の圧力である。

【0107】

圧力（正圧または負圧）は、マッサージ治療を施すパルスで治療領域に加えられ得る。マッサージ治療は、患者の軟組織への圧力の値を変化させる１つ以上の吸引開口部によって施されてもよく、これは吸引開口部が患者の組織に異なる圧力を加えることを意味する。さらに、吸引開口部は、皮膚に触れることなく軟組織に圧力勾配を生じさせることができる。そのような圧力勾配は、軟組織層、皮膚表面下、および／または異なる軟組織構造を標的とすることができる。

【0108】

マッサージは、患者を加熱しない電磁エネルギー、電気エネルギーまたは電磁エネルギーによって治療療法を加速および改善し、血液および／またはリンパ循環、血管浮腫、紅斑効果を改善し、脂肪の除去を促進し、代謝を促進し、弾性形成および／または新形成を促進する。

【0109】

各吸引開口部は、吸引機構、空気またはガスの流れ、液体の流れ、吸引開口部に含まれる物体（例えば、マッサージ対象物、圧力セルなど）によって供給される圧力、および／または他の方法で、圧力を供給することができる。

【0110】

患者の組織に加えられる圧力の値は、マッサージの効果をもたらす吸引開口部が、治療されるおよび／または隣接する患者の組織構造に正、負、および／または順次変化する正および負の圧力を加え、および／または患者の組織表面の下に圧力勾配を生成することを意味する。

【0111】

体液の流れ（例えば、リンパ排液）を改善し、および／または表面軟組織層の組織を弛緩させるために適用されるマッサージは、より深い軟組織層のマッサージ中よりも低い圧力で適用され得る。大気圧と比較したこのような正圧または負圧は、１０Ｐａから３００００Ｐａの範囲、または１００Ｐａから２００００Ｐａの範囲、または０．５ｋＰａから１９ｋＰａの範囲、または１ｋＰａから１５ｋＰａの範囲であり得る。

【0112】

体液の流れおよび／またはより深い軟組織層の組織の弛緩を改善するために適用されるマッサージは、より高い圧力で適用されてもよい。そのような正圧または負圧は、１２ｋＰａから４００ｋＰａ、または１５ｋＰａから３００ｋＰａ、または２０ｋＰａから２００ｋＰａの範囲であり得る。適用される圧力が高すぎる不快感を使用して、個々の患者のフィードバックに従って圧力閾値を設定することができる。

【0113】

負圧は、体液の流れおよび／または深部軟組織層（軟組織の限定されない深さまで０．５ｃｍ）および／または患者の表面付近の軟組織層（０．１ｍｍから０．５ｃｍ）の弛緩を刺激し得る。マッサージの有効性を高めるために、負圧の治療を使用し、続いて正圧の治療を使用してもよい。

【0114】

１つのパッド４における患者の軟組織の圧力の値を変化させる吸引開口部の数は、１から１００の間、または１から８０の間、または１から４０の間、または１から１０の間であり得る。

【0115】

吸引開口部のサイズおよび／または形状は、治療領域に応じて異なり得る。１つの吸引開口部は、０．１ｍｍ^２から１ｃｍ^２、または０．１ｍｍ^２から５０ｍｍ^２、または０．１ｍｍ^２から４０ｍｍ^２、または０．１ｍｍ^２から２０ｍｍ^２の患者の表面の領域を覆うことができる。別の吸引開口部は、１ｃｍ^２から１ｍ^２、または１ｃｍ^２から１００ｃｍ^２、または１ｃｍ^２から５０ｃｍ^２、または１ｃｍ^２から４０ｃｍ^２の患者の表面の領域を覆うことができる。

【0116】

いくつかの吸引開口部が同時に機能し得、またはそれらの間の切り替えは、１ミリ秒から１０秒の間隔、または１０ミリ秒から５秒の間隔、または０．５秒から２秒の間隔であってもよい。

【0117】

マッサージ効果をもたらすための吸引開口部は、１つ以上の治療プロトコルに含まれる１つ以上の所定のマッサージプロファイルに従って誘導されてもよい。マッサージプロファイルは、患者の状態に関して操作者および／または制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）によって選択することができる。例えば、リンパ浮腫を有する患者は、治癒させる下肢潰瘍を有する患者とは異なるレベルの圧迫プロファイルおよび適用圧力を必要とし得る。

【0118】

１つまたは複数の吸引開口部によって加えられる圧力は、好ましくはリンパ流および／または静脈内の血流の正の方向に徐々に加えられ得る。特定の治療プロトコルによれば、圧力は、通常のリンパ流とは反対の方向または異なる方向に徐々に加えられてもよい。治療中に加えられる圧力の値は、治療プロトコルに従って変化し得る。

【0119】

個々の吸引開口部の間に圧力勾配が生じ得る。記載された勾配の例は、この方法および／またはデバイスに限定されない。前の少なくとも２つの吸引開口部と連続する吸引開口部との間の圧力勾配の設定は、以下であってもよい。０％、すなわち吸引開口部によって加えられる圧力は同じである（例えば、パッドのすべての吸引開口部の圧力は同じである）。

【0120】

１％、すなわち前の吸引開口部と連続する吸引開口部との間に加えられる圧力が、１％の勾配で減少および／または増加（例えば、第１の吸引開口部の圧力が５ｋＰａで、連続する吸引開口部の圧力が４．９５ｋＰａ）する。

【0121】

２％、すなわち圧力が２％の勾配で減少または増加する。２つの吸引開口部間の圧力勾配は、０％から１００％の範囲とすることができ、１００％は、１つの吸引開口部が活性ではないこと、および／または患者の軟組織にいずれの圧力をも加えないことを意味する。

【0122】

前の吸引開口部と連続する吸引開口部との間の圧力勾配の適用を制御する治療プロトコルは、０．１％から９５％の範囲、または０．１％から７０％の範囲、または１％から５０％の範囲であってもよい。

【0123】

吸引開口部はまた、ピストンによって動力供給される衝撃マッサージ物、入口／出口弁によってギャップの体積部から液体または空気を充填または吸引することによって操作されるマッサージ物、または電場、磁場、または電磁場を生成する要素によって動力供給されるマッサージ物を含んでもよい。さらに、マッサージは、複数のマッサージ物の打撃によってもたらされ得る。複数のマッサージ物は、同じまたは異なるサイズ、形状、重量を有してもよく、または同じまたは異なる材料から作成されてもよい。マッサージ物は、（弁を通って）流れる空気もしくは液体によって、または電場、磁場もしくは電磁場によって加速され得る。マッサージ物の軌道は、ランダム、円形、直線であってもよく、および／またはマッサージ物は、１つまたは複数の軸の周りを回転してもよく、および／またはギャップの体積部で他のタイプの動きをしてもよい。

【0124】

マッサージユニットがまた、電場、磁場、電磁場によって、またはチャンバの壁と膜との間のギャップの体積の圧力の値を変化させることによって加速され得る膜を、患者に面する側に備えてもよい。この膜は、マッサージ物として作用し得る。

【0125】

治療中、接着剤層を有するパッドと吸引開口部を有するパッドとの組み合わせを使用することが好都合であり得る。その場合、治療中に使用される少なくとも１つのパッドは接着剤層を含んでもよく、治療中に使用される少なくとも追加の１つのパッドは吸引開口部を含んでもよい。例えば、接着剤層を有するパッドは、より不均一な領域、例えば眼窩周囲領域の治療に適しており、吸引開口部を有するパッドは、より滑らかな領域、例えば頬の治療に適している場合がある。

【0126】

パッドの取り付けが接着剤層または吸引開口部またはそれらの組み合わせによって設けられ得るデバイスの利点は、患者の不快感を引き起こす可能性がある治療中にパッドを治療領域に保持する必要があるいずれかの追加の把持システム、例えばバンドまたはフェルトが不要であることである。

【0127】

一態様では、吸引開口部は、患者の加熱（例えば、熱風）を引き起こすために加熱された流体を供給することができ、一次電磁エネルギー（例えば、高周波エネルギー）の代わりに、または補助エネルギーとして供給することができる。

【0128】

しかし、さらに別の態様では、可撓性パッド４を、少なくとも１つの締結機構、例えば、弾性の材料から作製され、したがって個々の面に対して調整可能であり得るバンドまたはフェルトによって、面に締結することが可能である。その場合、接着剤層または吸引開口部を有していなくてもよい可撓性パッドは、患者の治療領域に配置され、その位置はそのとき、治療領域からのパッドの撓みを回避するためにバンドまたはフェルトによって固定される。あるいは、バンドは、マスク、例えば、顔の５％から１００％、または３０％から９９％、または４０％から９５％、または５０％から９０％を覆い、治療領域に可撓性パッドを固定するのに役立ち得る弾性マスクに置き換えられてもよい。別の態様では、マスクは剛性または半剛性であり得る。マスクは、導電性リードを含む１つの接続部を含むことができ、次いで導電性リードを特定のパッドに分配する。さらに、接着剤層または吸引開口部を有するパッドと、治療領域へのパッドの強固な取り付けを確実にするための締結バンド、フェルトまたはマスクとの組み合わせを使用することが可能であり得る。

【0129】

一態様では、パッドはマスクによって置き換えられてもよく、例えば、マスクは、本出願に記載されているパッドの特性を有し得る。例えば、１つまたは複数の活性要素（例えば、電極）をマスクに配置することができ、それは基板を含むことができる。一態様では、マスクは、パッドに可能なすべての手段によって、例えば接着剤層もしくはバンドもしくはフェルトによって、または上述のように吸引開口部によって患者に取り付けられてもよい。１つの非限定的な例として、マスクは、接着剤層によって患者の顔面に結合され得る２個から１００個、または３個から５０個または４個から２０個の活性要素（例えば、電極）を備えてもよく、および／またはマスクは、マスクおよび頭部を取り囲むバンドによって患者の頭部に固定され得る。例えば、バンドは、マスクに結合され得、患者の頭部の後ろおよび／または頭部の上に配置され得る。

【0130】

さらに、締結機構は、患者の身体部分に装着可能な織物または衣類の形態であってもよい。デバイスの使用時に、活性要素またはパッド４の表面は衣類の内面に沿って位置し、一方で活性要素またはパッド４の反対側の表面は、好ましくは皮膚活性要素ヒドロゲル界面により、患者の皮膚と接触している。

【0131】

衣類は、衣類を患者の身体部分にまたはその周りに固定するために、例えば、面ファスナ、ボタン、バックル、スタッド、ひもまたはコード、磁気誘導ロックシステムまたはクランプバンドによって固定することができ、衣類は、患者の身体または手足の形状に適合する可撓性材料または布地で作ることができる。パッド４は、同様に、衣類の内面に固定されるように構成されてもよい。衣類は、好ましくは通気性材料で作られる。そのような材料の非限定的な例は、軟質ネオプレン、ナイロン、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリプロピレン、シリコーン、綿、または軟質で可撓性の任意の他の材料である。すべての指定された材料は、織布、不織布、使い捨ての布または積層構造として、使用することができる。

【0132】

衣類およびパッドはモジュール式システムであってもよく、これは、デバイスのモジュールまたは要素（パッド、衣類）および／またはシステムが、それらが互いに適合すると同時に、残りのモジュールまたは要素とは別個かつ独立に設計されることを意味する。

【0133】

パッド４は、衣類に取り付けられるか、または衣類と接触するように設計されてもよく、したがってパッドが衣類の固定の位置に配置されるように、静止状態または固定の状態で衣類によって担持される。衣類は、パッドが患者の皮膚へ正しく接着または配置するのを保証する。デバイスの使用において、衣類と接触していない１つ以上の活性要素の表面は、好ましくは、パッド－皮膚界面として作用するヒドロゲル層によって、患者の皮膚と接触している。したがって、パッドに含まれる活性要素は、患者の皮膚と接触している。

【0134】

患者の身体部分のパッドの最適な配置、したがって活性要素を有するパッドを担持する衣類は、患者を支援する技術者または臨床医によって決定される。

【0135】

さらに、衣類は２つ以上のパッドを含んでもよく、または患者は１つの治療セッション中に１つ以上のパッドを含む２つ以上の衣類を着用してもよい。

【0136】

パッド４は、一次電磁発生器６または二次発生器９または超音波エミッタ１０からエネルギーを送達することができる少なくとも１つの活性要素１３を含む。様々な態様では、活性要素は、電極、光学要素、音響的な窓、超音波エミッタ、コイル、流体導管、加熱要素、または当技術分野で知られている他のエネルギー送達要素である。電極は、高周波（ＲＦ）電極であってもよい。ＲＦ電極は、絶縁（例えば誘電体）材料で被覆された誘電体電極であってもよい。ＲＦ電極は、ユニポーラ、双極、単極または多極であってもよい。双極構成は、活性機能と戻り機能とを交互に行う電極からなってもよく、この場合電極の下の温度勾配は治療中ほぼ同じである。双極電極は、円形または楕円形を形成してもよく、電極は互いに同心である。しかし、一群の双極電極システムも同様に使用することができる。ユニポーラ電極または１つ以上の多極電極も同様に使用することができる。あるいは、システムは単極電極を使用してもよく、いわゆる戻り電極（または中性電極または接地電極または接地極）は、いわゆる活性電極よりも大きな面積を有する。したがって、活性電極の下の熱勾配は、戻り電極の下よりも高い。活性電極はパッドの一部であってもよく、より大きな表面積を有する受動電極はパッドから少なくとも５ｃｍ、１０ｃｍ、または２０ｃｍに位置してもよい。受動電極として中性電極を用いてもよい。中性電極は、パッドが取り付けられているのとは反対側の患者の身体にあってもよい。ユニポーラ電極もまた、任意選択で使用し得る。ユニポーラでのエネルギー送達中、電極が１つで、中性電極がなく、大きなＲＦの場が単一の電極の周りの全方向の場で放射される。容量電極および／または抵抗電極を使用してもよい。高周波エネルギーは、０．００１Ｗ／ｃｍ^２から１５００Ｗ／ｃｍ^２または０．０１Ｗ／ｃｍ^２から１０００Ｗ／ｃｍ^２または０．５Ｗ／ｃｍ^２から５００Ｗ／ｃｍ^２または０．５Ｗ／ｃｍ^２から１００Ｗ／ｃｍ^２または１Ｗ／ｃｍ^２から５０Ｗ／ｃｍ^２の範囲で、ＲＦ電極の表面または治療される組織（例えば、皮膚）の表面にエネルギーの束を供給し得る。ＲＦ電極の表面のエネルギー束は、ＲＦ電極のサイズおよびエネルギーのその出力値から計算することができる。治療される組織の表面のエネルギーの束は、ＲＦ電極の真下の治療される組織のサイズおよびＲＦ電極によって供給されるエネルギーのその入力の値から計算され得る。さらに、パッド４に配置されたＲＦ電極は、超音波エネルギーの音響窓として作用することができる。

【0137】

活性要素１３は、電流または磁場の形態で二次発生器９から二次エネルギーを供給することができる。患者の身体の治療領域に二次エネルギーを印加することによって、筋線維刺激（例えば、筋収縮）を達成することができ、したがって筋緊張、筋強化、筋肉の感覚の回復、筋肉組織の弛緩および／または筋肉組織のストレッチを増加させることができる。

【0138】

筋肉のシミュレーションに使用される活性要素１３（例えば、コイル）によって供給される磁場は、活性要素（例えば、コイル）の表面で、０．０１Ｔから７Ｔの範囲、または０．０１５Ｔから４Ｔの範囲、または０．０２Ｔから１Ｔの範囲、または０．０５Ｔから０．５Ｔの範囲であり得る。磁束密度の微分の最大値は、１Ｔ／ｓから８００ｋＴ／ｓの範囲、または４０Ｔ／ｓから３２０ｋＴ／ｓの範囲、または８０Ｔ／ｓから２５０ｋＴ／ｓの範囲、または１００Ｔ／ｓから２５０ｋＴ／ｓの範囲、または２５０Ｔ／ｓから１８０ｋＴ／ｓの範囲、または５００Ｔ／ｓから１００ｋＴ／ｓの範囲、または１ｋＴ／ｓから６５ｋＴ／ｓの範囲であり得る。磁束密度の微分の値は、組織内部の誘導電流に対応し得る。磁場のパルス持続時間は、３マイクロ秒から１０ミリ秒、あるいは３マイクロ秒から３ミリ秒、あるいは３マイクロ秒から１ミリ秒の範囲であり得る。活性要素１３（例えば、コイル）は、１Ｈｚから１２００ｋＨｚの範囲、または２Ｈｚから６００Ｈｚの範囲、または３Ｈｚから２５０Ｈｚの範囲、または４Ｈｚから１５０Ｈｚの範囲、または４Ｈｚから６５Ｈｚの範囲の周波数を有する磁場のパルスを供給することができる。

【0139】

磁場の発生に用いられる活性要素１３（例えば、コイル）のインダクタンスは、１ｎＨから５００ｍＨの範囲であってもよく、１０ｎＨから５０ｍＨの範囲であってもよく、５０ｎＨから１０ｍＨの範囲であってもよく、５００ｎＨから１ｍＨの範囲であってもよく、１μＨから５００μＨの範囲であり得る。あるいは、磁場の発生に用いられる活性要素（例えば、コイル）のインダクタンスは、１ｎＨから１００μＨの範囲、または５ｎＨから５０μＨの範囲、または１０ｎＨから２５μＨの範囲、または４５ｎＨから２０μＨの範囲であり得る。

【0140】

提案されているデバイスは、活性要素１３（例えば、電気療法電極、または単に電極と呼ばれ、上記の高周波電極でもあり得る）によって送達される二次エネルギーが二次発生器９によって生成された電流である場合に電気療法を施すことができる。電気療法の主な効果は、鎮痛、筋弛緩、イオン導入、抗浮腫効果、または筋線維収縮を引き起こす筋刺激である。これらの効果の各々は、電気療法の１つまたは複数の種類、すなわちガルバニック電流、パルス直流電流および交流電流によって達成され得る。

【0141】

ガルバニック電流（または「連続的」）は、一定の電流を有し得る電流であり、および／または電流の絶対値は、あらゆる瞬間において０よりも高い。それは主にイオン導入のために使用されてもよく、またはその栄養刺激（充血）効果が利用される。本発明では、この電流をガルバニック断続電流で頻繁に置き換えることができる。さらに、ガルバニック成分は約９５％であり得るが、元々連続的な強度の中断により、周波数は５から１２ｋＨｚまたは５から１０ｋＨｚまたは５から９ｋＨｚまたは５から８ｋＨｚに達する可能性がある。

【0142】

パルス直流電流（ＤＣ）は、可変強度であるが、１つの極性のみである。基本的なパルス形状は変化してもよい。これは、例えば、１つの極性のダイアダイナミクス、長方形、三角形、および指数関数パルスを含む。使用される周波数および強度に応じて、それは刺激性、向性、鎮痛性、筋弛緩、イオン導入、少なくとも部分的な筋収縮および抗浮腫効果および／または他の効果を有し得る。

【0143】

交流（ＡＣまたは二相）は、基本パルス形状が変化し得るものであり、矩形、三角形、高調波正弦波、指数関数的および／または他の形状、および／または上述のものの組み合わせである。これは、交流、対称および／または非対称であり得る。接触電気療法における交流電流の使用は、電極下の組織に対するはるかに低い応力を意味する。これらのタイプの電流については、皮膚の抵抗の容量成分が関与し、そのため、これらの電流は患者によって非常に良好に耐容される。

【0144】

ＡＣ療法は、ＴＥＮＳ、古典的（４極）干渉、２極干渉、等平面干渉および双極子ベクトル場の５つのサブタイプに区別され得る。いくつかの特定の電気療法エネルギーの変形形態および周期のモジュール性、エネルギーの形状なども存在する。

【0145】

干渉電気療法により、中周波による異なる神経および組織構造を５００Ｈｚから１２ｋＨｚの範囲、または５００Ｈｚから８ｋＨｚの範囲、または５００Ｈｚから６ｋＨｚで刺激して、神経および組織の刺激のための周波数、例えば交感神経（０．１から５Ｈｚ）、副交感神経（１０から１５０Ｈｚ）、運動神経（１０から５０Ｈｚ）、平滑筋（０．１から１０Ｈｚ）、センサ神経（９０から１００Ｈｚ）、侵害受容線維（９０から１５０Ｈｚ）でパルスエンベロープを作成することができる。

【0146】

電気療法は、０．１Ｈｚから１２ｋＨｚの範囲、または０．１Ｈｚから８ｋＨｚの範囲、または０．１Ｈｚから６ｋＨｚの範囲の周波数の電流で刺激を与えることができる。

【0147】

電気療法による筋線維刺激は、ＲＦ治療中および／またはＲＦ治療の一部として重要であり得る。筋肉刺激は血流およびリンパ循環を増加させる。それは、治療される細胞の除去を改善し、および／またはホットスポットの生成を防止することができる。さらに、隣接する組織の内部マッサージ刺激は、組織の均一性および送達されるエネルギーの分散を改善する。電気療法による筋線維刺激は筋収縮を引き起こす可能性があり、これは筋肉の硬化および強化を通じて患者の視覚的外観の改善につながる可能性があり、別の有益な効果は、例えばＲＦ療法による脂肪除去中である。ＲＦ療法は、脂肪組織の構造を変化させ得る。筋線維刺激は、古典的なマッサージよりも効果的な、肥満患者用であり得る内部マッサージを施し得る。

【0148】

筋肉刺激は、例えば、断続的な直流、交流（例えば、中周波電流、ロシア電流およびＴＥＮＳ電流）、複数の刺激のための方法としてのファラディック電流および／またはその他によって供給され得る。

【0149】

電流の周波数は、０．１Ｈｚから１５００Ｈｚ、または０．１から１０００Ｈｚ、または０．１Ｈｚから５００Ｈｚ、または０．１から３００Ｈｚの範囲であってもよい。

【0150】

電流エンベロープの周波数は、典型的には、０．１Ｈｚから５００Ｈｚ、または０．１から２５０Ｈｚ、または０．１Ｈｚから１５０Ｈｚ、または０．１から１４０Ｈｚの範囲である。さらに、電流エンベロープは、毎秒０．０１から１００、または毎秒０．０５から５０、または毎秒０．０７から３０、または毎秒０．１から２０、または毎秒０．２から６の範囲というエンベロープ繰り返し周波数（ＥＲＦ）を有することができる。

【0151】

電気刺激は、様々な効果を有する様々な治療が達成され得る組み合わせで供給され得る。例示的な例として、電気刺激を伴う電磁エネルギーは、第１の電気刺激列が第２のまたは他の連続する刺激列とは異なる効果を達成することができる電流のパルス列に投与されてもよい。したがって、治療は、電磁エネルギー発生器によって供給される電磁エネルギーによって供給される、連続的またはパルスの高周波温熱加熱中に、筋線維刺激または筋収縮、それに続く弛緩をもたらすことができる。

【0152】

電気刺激は、単極、ユニポーラ、双極または多極モードでもたらされ得る。

【0153】

双極多極モード（３つ以上の電極間の電流の流れ）で動作され、および／または少なくとも１つの電気療法電極に供給される電気療法電極間の電圧の絶対的な値は、０．８Ｖから１０ｋＶの範囲、または１Ｖから１ｋＶの範囲、または１Ｖから３００Ｖの範囲、または１Ｖから１００Ｖの範囲、または１０Ｖから８０Ｖの範囲、または２０Ｖから６０Ｖの範囲、または３０Ｖから５０Ｖの範囲であり得る。

【0154】

非ガルバニック電流に対する電気療法の電流密度は、０．１ｍＡ／ｃｍ^２から１５０ｍＡ／ｃｍ^２の範囲、または０．１ｍＡ／ｃｍ^２から１００ｍＡ／ｃｍ^２の範囲、または０．１ｍＡ／ｃｍ^２から５０ｍＡ／ｃｍ^２の範囲、または０．１ｍＡ／ｃｍ^２から２０ｍＡ／ｃｍ^２の範囲であり得、ガルバニック電流は、好ましくは０．０５ｍＡ／ｃｍ^２から３ｍＡ／ｃｍ^２の範囲、または０．１ｍＡ／ｃｍ^２から１ｍＡ／ｃｍ^２の範囲、または０．０１ｍＡ／ｃｍ^２から０．５ｍＡ／ｃｍ^２の範囲であってもよい。電流密度は、患者に電気療法を施す電極の表面で計算することができる。一態様では、非ガルバニック電流に対する電気療法の電流密度は、０．１ｍＡ／ｃｍ^２から２００ｍＡ／ｃｍ^２の範囲、または０．５ｍＡ／ｃｍ^２から１５０ｍＡ／ｃｍ^２の範囲、または１ｍＡ／ｃｍ^２から１２０ｍＡ／ｃｍ^２の範囲、または５ｍＡ／ｃｍ^２から１００ｍＡ／ｃｍ^２の範囲であり得る。

【0155】

パルス電流の場合の１パルスの電流（例えば、パルスモード）は、０．５ｍＡから１５０ｍＡの範囲、１ｍＡから１００ｍＡの範囲、５ｍＡから７５ｍＡの範囲、または１０ｍＡから５５ｍＡの範囲であり得る。１つの電流パルスの持続時間は、好ましくは１から５００マイクロ秒の範囲、１０から３５０マイクロ秒の範囲、２０から２００マイクロ秒の範囲、３５から１５０マイクロ秒の範囲、または５０から１００マイクロ秒の範囲であり得る。

【0156】

電気療法、例えば双極電気療法の間、２つ以上の電極が使用され得る。双極モード中に少なくとも１つの電極の極性が電極群において非ゼロ値を有する場合、電極群は反対の極性値を有する少なくとも１つの電極を含まなければならない。両電極極性の絶対値は等しくてもよいし、等しくなくてもよい。双極電気刺激モードでは、刺激信号は、反対の極性を有する電極間の組織を通過する。

【0157】

双極モードで動作する２つの電極間の距離は、０．１ｍｍから４ｃｍの範囲、または０．２ｍｍから３ｃｍの範囲、または０．５ｍｍから２ｃｍの範囲、または１ｍｍから１ｃｍの範囲、または２ｍｍから７ｍｍの範囲、または０．１ｃｍから４０ｃｍの範囲、または１ｃｍから３０ｃｍの範囲、または１ｃｍから２０ｃｍの範囲であってもよく、距離は、双極モードで動作する２つの電極の２つの最も近い点の間のことである。

【0158】

単極電気療法モードの間、刺激信号は、神経線維および／または神経筋の疾病の分極を変化させる１つの電極の極性を変化させることによる活動電位の興奮によって誘導され得る。

【0159】

電気療法中、双極または単極電気療法モードのうちの１つが使用されてもよく、または双極または単極電気療法モードが組み合わされてもよい。

【0160】

超音波エミッタは、集束または非集束超音波エネルギーを供給することができる。超音波エネルギーは、音響窓を介して組織に伝達されてもよい。活性要素１３の表面の超音波エネルギーの出力電力は、２０Ｗ以下または１５Ｗ以下または１０Ｗ以下または５Ｗ以下であってもよい。超音波エネルギーは、０．００１Ｗ／ｃｍ^２から２５０Ｗ／ｃｍ^２の範囲、または０．００５Ｗ／ｃｍ^２から５０Ｗ／ｃｍ^２の範囲、または０．０１Ｗ／ｃｍ^２から２５Ｗ／ｃｍ^２の範囲、または０．０５Ｗ／ｃｍ^２から２０Ｗ／ｃｍ^２の範囲で、活性要素１３の表面または治療される組織（例えば、皮膚）の表面にエネルギーの束を供給し得る。超音波エネルギーの治療深度は、０．１ｍｍから１００ｍｍまたは０．２ｍｍから５０ｍｍまたは０．２５ｍｍから２５ｍｍまたは０．３ｍｍから１５ｍｍの範囲であり得る。５ｍｍの深さでは、超音波エネルギーは、０．０１Ｗ／ｃｍ^２から２０Ｗ／ｃｍ^２または０．０５Ｗ／ｃｍ^２から１５Ｗ／ｃｍ^２の範囲のエネルギーの束を供給することができる。超音波ビームは、０．１から２０または２から１５から４から１０の範囲のビーム不均一性比（Ｒ_ＢＮ）を有することができる。さらに、超音波ビームは、１５未満または１０未満のビーム不均一性比を有することができる。超音波ビームは、発散、収束、および／またはコリメートされてもよい。超音波エネルギーは、音響窓を介して組織に伝達されてもよい。電極が音響窓として作用してもよい。さらに、超音波エミッタ１０は活性要素１３の一部であってもよく、したがって、超音波エミッタ１０はパッド４の一部であってもよい。

【0161】

一態様では、超音波は患者の加熱をもたらすことができ、超音波エミッタ１０は、デバイスに設けられなくてもよい一次電磁発生器６の代わりに使用され得る。別の態様では、超音波は、一次電磁発生器６によって生成されたエネルギーに補助的な加熱エネルギーを供給することができる。

【0162】

活性要素１３の少なくともいくつかは、一次電磁発生器６または二次発生器９または超音波エミッタ１０から同時に（同じときに）、連続的に、または重複する方法で、またはそれらの任意の組み合わせでエネルギーを送達することができてよい。例えば、活性要素１３（例えば、電極）は、高周波エネルギーおよび電流を順次送達することができてよく、これは、最初に活性要素１３が一次電磁発生器６によって生成された一次電磁エネルギーを供給することができ、続いて活性要素１３が二次発生器９によって生成された二次エネルギーを供給することができることを意味し得る。したがって、活性要素１３は、例えば、患者の組織に高周波エネルギーを適用することができ、次いで、同じ活性要素１３は、例えば、患者の組織に電流を適用することができる。一態様では、一次電磁発生器は、高周波エネルギーと電流の両方を生成することができる。

【0163】

一態様では、提案されているデバイス１は、１つの治療エネルギーのみ、例えば筋肉刺激を引き起こすための電流のみ、または組織の加熱を引き起こすための高周波エネルギーのみを供給することができる。

【0164】

活性要素（例えば、電極またはコイル）は冷却され得る。冷却部材が、例えば水冷、噴霧冷却剤、活性固体冷却要素（例えば熱電冷却器）の存在、または空気の流れの冷却を含む任意の既知の機構による冷却をもたらすことができる。活性要素（例えば、電極またはコイル）の冷却は、活性要素が患者にエネルギーを供給する間、前、または後に行うことができる。冷却部材の温度は、－８０℃から３６℃の範囲、－７０℃から３５℃の範囲、－６０℃から３４℃の範囲、－２０℃から３０℃の範囲、０℃から２７℃の範囲、５℃から２５℃の範囲であり得る。

【0165】

パッド４は、治療中の温度制御を可能にし、制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）１１にフィードバックを提供し、各活性要素の治療パラメータの調整を可能にし、操作者に情報を提供する熱センサ１５をさらに備えることができる。熱センサ１５は、皮膚の深層、例えば表皮、真皮または皮下組織の正確な温度測定のための接触センサ、非接触センサ（例えば赤外線温度センサ）または侵襲センサ（例えば、熱電対）であってもよい。制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）１１はまた、アルゴリズムを使用して深部温度または最上部温度を計算することができる。温度フィードバックシステムは、温度を制御し、設定されたまたは予め設定された制限に基づいて、例えば、ヒューマンマシンインターフェース８で、またはインジケータ１７を介して、人間が知覚可能な形態で操作者に警告することができる。限界温度条件では、デバイスは、１つまたは複数の治療パラメータ、例えば出力電力、スイッチングモード、パルスの長さなどを調整するか、または治療を停止するように構成されてもよい。人間が知覚可能な警告は、ヒューマンマシンインターフェース８またはインジケータ１７に示される音声、警告メッセージ、または相互接続ブロック３またはパッド４の任意の部分の色の変化であってもよい。

【0166】

パッドは、送達されるエネルギー（例えば電流）に応答して骨格筋によって生成される（例えば、単収縮または収縮）電気的活動を監視、記録または評価するように構成された少なくとも１つの筋電図（ＥＭＧ）感知電極を含み得る。パッドに配置されている少なくとも１つのＥＭＧ感知電極は、活性要素（例えば、治療に使用される電極）から電気的に絶縁され得る。筋電図は、筋細胞が電気的または神経学的に活性化されたときにこれらの細胞によって生成される電位を検出する。シグナルは、異常、活性化レベル、または動員順序を検出するために、または患者の動きの生体力学を分析するために分析することができる。ＥＭＧは、表面ＥＭＧまたは筋肉内ＥＭＧのうちの１つであり得る。表面ＥＭＧは、一対の電極によって、または複数の電極のより複雑なアレイによって記録することができる。ＥＭＧ記録は、２つの別個の電極間の電位差（電圧差）を示す。あるいは、活性要素、例えば電極が、ＥＭＧに使用され得、例えば、活性要素が活性ではない（例えば、いかなる種類のエネルギー／信号も患者に供給／送達しない）場合、ＥＭＧ検出／記録に使用され得る。筋肉内ＥＭＧは、１つ（単極）または複数の針電極によって記録することができる。これは、表面電極を基準として筋肉に挿入された細いワイヤまたは互いに基準とする筋肉に挿入されたより微細なワイヤであり得る。静止時の筋肉組織は、通常、電気的に不活性である。送達されたエネルギー（例えば電流）によって電気的活動が引き起こされた後、活動電位が現れ始める。筋収縮の強度が増加するにつれて、ますます多くの筋線維が活動電位を生成する。筋肉が完全に収縮すると、様々な速度および振幅の不規則な活動電位群が現れるはずである（完全な動員および干渉パターン）。

【0167】

パッドはまた、パッドと患者との適切な接触を測定するための少なくとも１つの静電容量センサを備えることができる。静電容量センサは、少なくとも２つの相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）集積回路（ＩＣ）チップ、特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）コントローラ、および制御ユニットの一部であってもよいデジタル信号プロセッサ（ＤＳＰ）に接続され得る。静電容量センサは、空気とは異なる誘電特性に基づいて皮膚を検出および測定することができ、したがって、パッドが患者から取り外されると、信号の変化が検出され、さらに制御ユニットによって処理され得る。静電容量センサは、表面の静電容量または発射による静電容量の構成で構成することができる。接触に関するより良い情報およびより高い安全性のために、単一のパッドは、３から３０または４から２０または５から１８または６から１６または７から１４の静電容量センサを備えることができる。

【0168】

メモリ１２は、例えば、パッド４のタイプおよび形状、パッドの残りの寿命、またはパッドで既に実行された治療の時間に関する情報を含むことができる。メモリはまた、パッドの製造業者に関する情報または患者の身体の指定された使用領域に関する情報を備えることができる。メモリは、ＲＦＩＤ、ＭＲＡＭ、抵抗器、またはピンを含むことができる。

【0169】

中性電極７は、単極高周波システムのために患者の体内の適切な高周波エネルギー分布を保証することができる。中性電極７は、エネルギーが活性要素１３（例えば、電極）と中性電極７との間に分配され得るように、各治療の前に患者の皮膚に取り付けられる。いくつかの双極または多極高周波システムでは、中性電極を使用する必要がない。高周波エネルギーが複数の活性要素１３（例えば、電極）の間に分配されるためである。中性電極７は、任意のタイプの高周波システムを統合することができるため、装置１の任意のブロックを表す。一態様において、中性電極７は、パッド４の一部であり得る。

【0170】

さらに、デバイス１は、１つまたは複数のセンサを含むことができる。センサは、少なくとも１つの物理量に関する情報を提供することができ、その測定値は、ヒューマンマシンインターフェース８またはインジケータ１７によって表示され得るフィードバックをもたらすことができる。１つまたは複数のセンサは、送達された電磁エネルギー、皮膚のインピーダンス、皮膚の抵抗、治療される皮膚の温度、治療しない皮膚の温度、皮膚の少なくとも１つの層の温度、デバイスの含水量、送達または反射されたエネルギーの位相角、活性要素１３の位置、相互接続ブロック３の位置、冷却媒体の温度、一次電磁発生器６および二次発生器９および超音波エミッタ１０の温度、または皮膚との接触を感知するために使用され得る。センサは、熱センサ、音響センサ、振動センサ、電気センサ、磁気センサ、流れセンサ、位置センサ、光学センサ、撮像センサ、圧力センサ、力センサ、エネルギー束センサ、インピーダンスセンサ、電流センサ、ホールセンサ、または近接センサであってもよい。センサは、容量性変位センサ、音響近接センサ、ジャイロスコープ、加速度計、磁力計、赤外線カメラまたはサーモグラフィカメラであり得る。センサは、侵襲的または非接触であり得る。センサは、パッド４上またはパッド４内、本体ユニット２内、相互接続ブロック３内に配置されてもよく、または熱センサ１５の一部であってもよい。１つのセンサが複数の物理量を測定し得る。例えば、センサは、ジャイロスコープ、加速度計および／または磁力計の組み合わせを含むことができる。さらに、センサは、治療される皮膚または治療されない皮膚の１つまたは複数の物理量を測定することができる。

【0171】

抵抗センサは、皮膚の抵抗を測定することができ、これは、皮膚の抵抗が異なる患者で異なる可能性があり、湿度－濡れおよび汗が抵抗、したがってエネルギー分野における皮膚の挙動に影響を及ぼす可能性があるためである。測定された皮膚の抵抗に基づいて、皮膚インピーダンスも計算することができる。

【0172】

１つまたは複数のセンサからの情報は、例えば、ヒューマンマシンインターフェース８のディスプレイに示される人体のモデルなどのモデル上の経路の生成に使用することができる。経路は、既に治療されている組織、現在治療されている組織、治療される組織、または治療しない組織の表面または体積を示すことができる。モデルは、既に治療されている組織または治療しない組織に関する情報を提供しながら、治療される組織の温度マップを示し得る。

【0173】

センサは、骨、炎症組織または関節の位置に関する情報を提供することができる。そのようなタイプの組織は、痛みを伴う治療の可能性があるため、電磁エネルギーによって標的化されない場合がある。骨、関節または炎症組織は、撮像センサ（超音波センサ、ＩＲセンサ）、インピーダンスセンサなどの任意の種類のセンサによって検出することができる。これらの組織タイプの検出された存在は、一般的な人間の知覚可能な信号または電磁エネルギーの発生の中断を引き起こす可能性がある。骨は、組織のインピーダンスの変化によって、または反射された電磁エネルギーの分析によって検出され得る。

【0174】

一態様では、活性要素１３を上述のセンサとして使用することができる。例えば、活性要素１３（例えば、電極）は、高周波エネルギーを供給する前、最中、または後にインピーダンスを測定することができる。さらに、活性要素１３（例えば、電極）は、電流刺激中に患者を通過する電圧または電流を測定することができる。これらの情報に基づいて、パッド４または活性要素１３（例えば、電極）と患者との適切な接触を決定することが可能であり得る。

【0175】

少なくとも１つの治療部分にわたる患者の皮膚は、選択された期間にわたって選択された温度に予備冷却されてもよく、予備冷却のための選択された温度および期間は、皮膚を通常の体温よりも低い少なくとも選択された温度に冷却するのに十分であり得る。皮膚は、少なくとも１つの治療部分が冷却された皮膚によって実質的に囲まれるように、治療部分の少なくとも１つの深さよりも下の深さまで、少なくとも選択された温度まで冷却され得る。冷却は、エネルギーの適用中に継続することができ、エネルギーの適用の持続時間は、治療部分の熱緩和時間よりも長くすることができる。冷却は、水冷、噴霧冷却剤、活性固体冷却要素（例えば熱電冷却器）の存在、または空気の流れの冷却を含む任意の既知の機構によってもたらされ得る。冷却要素は、光学要素として作用することができる。あるいは、冷却要素はスペーサであってもよい。電磁エネルギーによる治療中、治療前または治療後に冷却を行うことができる。治療前の冷却はまた、急激な熱衝撃の環境を提供し得るが、治療後の冷却は、熱衝撃後のより速い再生をもたらし得る。冷却剤の温度は、－２００℃から３６℃の範囲であり得る。治療中の冷却要素の温度は、－８０℃から３６℃または－７０℃から３５℃または－６０℃から３４℃または－２０℃から３０℃または０℃から２７℃または５℃から２５℃の範囲であってもよい。さらに、パッドが患者の皮膚と接触していない場合、極低温スプレー冷却、ガスの流れまたは他の非接触冷却技術を利用することができる。上記の冷却技術の１つに加えて、またはその代わりに、皮膚表面上の冷却ゲルを利用することもできる。

【0176】

図３Ａおよび３Ｂは、接触療法のための装置によって使用されるパッド４の異なる形状およびレイアウトを示す。パッド４は、少なくとも１つの活性要素１３（例えば、電極）を含み、それらが様々な異なる治療領域をカバーし、個々の患者のニーズ、例えば、環状、半円形、楕円形、長円形、正方形、長方形、台形、多角形または無定形（規則的な形態または形状を有しない）に対応することができるように、様々な形状およびレイアウトで利用可能であり得る。パッド４の形状およびレイアウトは、眼窩周囲領域、額（眉間しわ線を含む）、顎のライン、口腔周囲領域（マリオネットライン、口周囲ライン－いわゆる喫煙ライン、法令線、唇および顎を含む）、頬または下唇亜基節などのうちの１つ以上の少なくとも一部を覆うような形状であってもよい。パッド４の形状ならびに活性要素１３（例えば、電極）の分布、サイズおよび数は、治療されている領域に応じて異なり得、例えば、パッド４内の活性要素１３は、一列、二列、三列、四列または複数列であり得る。活性要素１３を有するパッド４は、様々な形状、例えば一列に配置されてもよく、少なくとも２つの活性要素１３の中心は、一直線にあり、活性要素１３の任意の追加の中心は、パッド４内の同じまたは異なる列にあってもよい。

【0177】

加えて、パッド４は、少なくとも部分的に首、ブラファット、脇腹のぜい肉、胴体、背中、腹部、臀部、大腿部、ふくらはぎ、脚、腕、前腕、手、指または体腔（例えば、膣、肛門、口腔、内耳など）を治療するために使用され得る。

【0178】

一態様では、１つまたは複数のパッド４を使用して、例えばしわを除去するために、患者の開裂または胸部を治療することができる。別の態様では、胸部を押し上げるかまたは増強するために、例えば、乳房拡張を刺激し、乳房をより豊かで健康的にし、乳房を健康にするために、開胸または胸部をデバイスにより治療することができる。１つまたは複数のパッド４は、筋組織の弾性および線維を増強し、乳房の弾性および柔軟性を回復させ、乳房を持ち上げて拡大させ、たるみ、下向きの乳首および乳房拡張などの問題を解決することができる。

【0179】

パッド４は、長方形、長円形、正方形、台形の形態、または凸多角形もしくは凹多角形の形態を有してもよく、パッド４は、凸多角形もしくは凹多角形の構造の少なくとも２つの異なる内角を有してもよい。さらに、パッド４は、円錐断面（円錐とも呼ばれる）、例えば、円、楕円、放物線または双曲線の形状を少なくとも部分的に形成することができる。パッド４は、０．００２から１０ｍｍ^－１の範囲、または０．００４から５ｍｍ^－１の範囲、または０．００５から３ｍｍ^－１の範囲、または０．００６から２ｍｍ^－１の範囲の曲率ｋを有する円弧の形状の少なくとも一部の１、２、３、４、５、またはそれ以上の曲率を有することができる。パッド４は、曲率ｋを有する少なくとも１つ、２つ、３つ、４つ、５つ、またはそれ以上の弧を有することができ、あるいは凸または凹多角形構造の少なくとも２つの異なる内角を有することができ、顎、頬、顎下部領域（例えば、「バナナ形状１」４．２）の治療、顎線、口周囲領域、マリオネットラインおよび法令線（例えば、「バナナ形状２」４．４）の治療、眼窩周囲領域（例えば、「馬蹄形」４．３）または顔および首の他の領域の治療に適し得る。「バナナ型」パッド４．２または４．４は、一方の側が凸状であり、反対側が凹状であることを意味する凹凸形状を有してもよく、これは、上から見たパッド４の全周の少なくとも５％から５０％、または１０％から６０％、または１５％から７０％、または２０％から９０％を占め、「バナナ型」パッド４．２の終点４．２１ａと４．２１ｂとの間の最短距離（図３Ａの破線）は、「バナナ型」の終点４．２１ａまたは４．２１ｂと中点４．２２との間の最短距離（図３Ａのパッド４．２の実線）よりも長い。上から見た「馬蹄形」４．３は、その全周の少なくとも１５％から５０％、または２０％から６０％、または２５％から７０％、または３０％から９０％を占める凹凸形状を有してもよく、「馬蹄形」パッド４．３の終点４．３１ａと４．３１ｂとの間の最短距離（図３Ｂの破線）は、「馬蹄形」の終点４．３１ａまたは４．３１ｂと中点４．３２との間の最短距離（図３Ｂのパッド４．３内の実線）と等しいかそれよりも短い。上から見たときに、凸状であっても凹状であってもよく、所与の点における垂線がその点の各々においてパッドの周縁から等距離の距離を有する（図３Ａのパッド４．２の点線）可能な限り最長の中心の曲線がパッド４の円周と交差する場合、この点はパッドの終点、例えば終点４．２１ａまたは４．２１ｂである。そのとき、中間点、例えば４．２２は、中心曲線の中間として与えられ、中心曲線の全長は、２つの終点、例えば４．２１ａおよび４．２１ｂによって与えられ、したがって、点４．２１ａから点４．２２までの中心曲線の長さ（図３Ａのパッド４．２内の点線）は、点４．２１ｂから点４．２２までの長さと同じである。中心曲線の全長は、０．１から３０ｃｍの範囲、または０．５から２５ｃｍの範囲、または１から２０ｃｍの範囲であってもよい。

【0180】

加えて、中心曲線は、パッド４の終点を中心曲線の中点と結ぶ直線が、中心曲線の中点の接線と角度アルファを形成するように、少なくとも部分的に円形、楕円形、放物線形、双曲線形、指数関数、凸または凹の曲線を有してもよい。角度アルファは、０．１°から１７９°の範囲、または０．２°から１７０°の範囲、または０．５°から１６０°の範囲、または１°から１５０°の範囲であってもよい。

【0181】

形状が曲率ｋを有する少なくとも２つの凹弧を有するか、多角形構造の少なくとも２つの凹内角を有するパッド４は、図３Ａの「Ｔ字形」４．１のような額の治療に適し得る。「Ｔ字形」４．１はまた、少なくとも２つの活性要素１３の中心が一方の直線にあり、少なくとも１つの追加要素１３の中心が異なる線にある活性要素１３の構成を特徴とし得る。

【0182】

額の治療に使用されるパッド４の別の可能な非限定的な構成が図３Ｃに示されている。この非限定的な例では、額パッド（額の治療に使用されるパッド４）メイは、図３Ｃに示すように、２列の活性要素１３（例えば、電極）－活性要素１３ａから１３ｆ－を含み、１列の活性要素１３ａから１３ｆは、パッド４のより良好な可撓性のためにスロット４３によって少なくとも部分的に分離され得る。活性要素の第１のラインは、図３Ｃの点線のボックス１３１ａに示される活性要素（例えば、電極）－活性要素１３ｄ、１３ｅおよび１３ｆを含む。活性要素の第２のライン（例えば、電極）は、図３Ｃの破線のボックス１３１ｂに示される活性要素－活性要素１３ａ、１３ｂ、１３ｃを含む。点線および破線のボックス１３１ａおよび１３１ｂは、それぞれ活性要素（例えば、電極）の第１および第２のラインの視覚化にのみ使用される。このようなパッド４は、曲率ｋで１４から３６の範囲、または１８から３２の範囲、または２０から３０の範囲、または２２から２８の範囲の凸および／または凹弧の総数を有する形状を有することができる。さらに、パッド４は、２から２０の範囲または５から１７の範囲または７から１５の範囲または９から１３の範囲のいくつかの凹状の内角を有してもよく、またはパッド４は、２から２０の範囲または５から１７の範囲または１０から１６の範囲または１１から１５の範囲のいくつかの凸状の内角を有し得る。

【0183】

図３Ｃは、パッド４の上面にあるステッカー４４も示す。上面は、下面（接着剤層または活性要素がパッド４の基板に堆積され得る面）とは反対側であり、言い換えれば、上面は、治療中に患者から外方に面するパッド４の面である。ステッカー４４は、底面および上面を有することができ、ステッカー４４の底面は粘着層を含むことができ、ステッカー４４の上面は非粘着層（例えば、ポリイミド（ＰＩ）フィルム、ＰＴＦＥ（例えば、テフロン（登録商標））、エポキシ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリアミドまたはＰＥ発泡体）を含むことができる。

【0184】

図３Ｃに示すように、ステッカー４４は、パッド４の上に追加の重なりがある、パッド４と同じまたは類似の形状を有し得る。図３Ｃでは、重なりにハッチングを付している。ステッカー４４は、ステッカー４４の底面の粘着層がパッド４の上面に向くようにパッド４に接着されてもよい。ステッカーの重なりは、０．１から１０ｃｍの範囲、または０．１から７ｃｍの範囲、または０．２から５ｃｍの範囲、または０．２から３ｃｍの範囲、または０．３から１ｃｍの範囲でパッド４を超えてもよい。この重なりはまた、接着剤層を含んでもよく、パッド４と患者との追加のより適切な接触を形成するために使用され得る。別の態様では、ステッカーは、パッドとは異なる形状またはサイズを有し得る。

【0185】

額パッド（額の治療に使用されるパッド４）は、図３Ｃに示すように、エッジ活性要素（例えば、電極）１３ａ、１３ｃ、１３ｄおよび１３ｆならびに中間活性要素（例えば、電極）－１３ｂおよび１３ｅを含むことができる。額パッド４は、活性要素（例えば、電極）１３ｄ、１３ｅ、および１３ｆを有する上側１３１ａ、および活性要素（例えば、電極）１３ａ、１３ｂ、および１３ｃを有する下側１３１ｂ、ならびに活性要素（例えば、電極）１３ａおよび１３ｆを有する左側、および活性要素（例えば、電極）１３ｃおよび１３ｄを有する右側に分割され得る。図３Ｃに示される額パッド４におけるエッジ活性要素（例えば、電極）１３ａ、１３ｃ、１３ｄおよび１３ｆは、１から１０ｃｍ^２の範囲または２から６．５ｃｍ^２の範囲または２．３から６ｃｍ^２の範囲または２．５から５．５ｃｍ^２の範囲の表面積を有してもよく、これはすべてのエッジ活性要素について同じであり得る。図３Ｃの中間活性要素（例えば、電極）１３ｂおよび１３ｅは、エッジ活性要素（例えば、電極）と同じ表面積を有してもよく、またはエッジ活性要素（例えば、電極）よりも大きい表面積を有してもよく、中間活性要素（例えば、電極）の表面積は、１から２０ｃｍ^２の範囲、または２から１５ｃｍ^２の範囲、または３から１２ｃｍ^２の範囲、または４から１０ｃｍ^２の範囲であり得る。一態様では、各活性要素（例えば、電極）は、異なる表面積を有し得る。額パッドの１つのエッジ活性要素（例えば、電極）の表面積に対する１つの中間活性要素（例えば、電極）の表面積の比は、０．８から２．５の範囲、または１から２．３の範囲、または１．１から２．２の範囲であり得る。

【0186】

図３Ｃの下側エッジ活性要素（例えば、電極）１３ａおよび１３ｃ、または図３Ｃの上側エッジ活性要素（例えば、電極）１３ｄおよび１３ｆの最も近い点の間の距離ｄ_エッジは、２から８ｃｍの範囲、または３から７ｃｍの範囲、または４から６ｃｍの範囲、または４．５から５．５ｃｍの範囲であり得る。上側エッジ活性要素（例えば、電極）間の距離ｄ_エッジと下側エッジ活性要素（例えば、電極）間の距離ｄ_エッジとは同じであり得る。

【0187】

図３Ｃの活性要素１３ａと１３ｆとの間、活性要素１３ｂと１３ｅとの間、または活性要素１３ｃと１３ｄとの間の距離など、上側活性要素（例えば、電極）の最も近い点と下側活性要素（例えば、電極）との間の片側（左、中央、右）の距離ｄ_ｖｅｒｔは、０．５から２０ｍｍの範囲、または１から１０ｍｍの範囲、または１．５から６ｍｍの範囲、または２から５ｍｍの範囲であり得る。距離ｄ_ｖｅｒｔは、左、中央、および右の活性要素について同じであり得る。

【0188】

そのような距離（ｄ_エッジおよびｄ_ｖｅｒｔ）は、エッジ効果（例えば、エッジ付近のホットスポットの生成を防止する）または漏れ電流を軽減し、治療中に例えば前頭筋または鼻根筋を効果的に治療するために最適化される。図３Ｃのエッジ活性要素（例えば、電極）－１３ａ、１３ｃ、１３ｄおよび１３ｆは、前頭筋および／または皺眉筋の治療に使用され、図３Ｃの中間活性要素（例えば、電極）－１３ｂおよび１３ｅは、鼻根筋の治療に使用される。

【0189】

図３Ｃの額パッド（額の治療に使用されるパッド４）はまた、下側中間活性要素（例えば、電極）１３ｂを備えるパッド４の下側中間部分の可能な配置を示す。パッド４は、下側中央部分に凸状の突起４ｐおよび／または凹状の窪みを含むことができる。また、活性要素１３ｂは、活性要素１３ｂの底部の中央に凸状の突起１３ｐおよび／または凹状の窪みを有する楕円形または長方形に近接した形状に設計され得、突起４ｐおよび／またはパッドの凹部を有するパッド４の形状をコピーする。この突起４ｐおよび／または窪みは、パッド４を患者の額の領域に正確に結合するための焦点として機能することができ、突起４ｐおよび／または窪みは、患者の鼻の中央（例えば、鼻根筋の中央）と位置合わせされるべきであり、同時にパッド４の底縁部は、患者の眉毛の上にわずかに結合されるべきである。

【0190】

左頬の治療に使用されるパッド４の１つの可能な非限定的な構成が図３Ｄに示されている。この非限定的な例では、中間活性要素（例えば、電極）－活性要素１３ｇ、１３ｈ、１３ｉおよび１３ｊは、基板で分離され得、２つの隣接する中間活性要素（例えば、電極）の最も近い点の間の距離ｄ_中間は、０．５から５ｍｍの範囲、または０．８から３ｍｍの範囲、または１から２．５ｍｍの範囲、または１．２から２．３ｍｍの範囲であり得る。図３Ｄに示す左頬パッド（左頬の治療に使用されるパッド４）は、パッド４の底部が位置合わせされ、図３Ｄの数字３０１で表される下顎骨の基部の左の部分のわずかに上方に位置するように、患者に連結させるように設計され得る。図３Ｄの中間活性要素（例えば、電極）１３ｇ、１３ｈ、１３ｉおよび１３ｊは、１から１５ｃｍ^２の範囲、または２から８ｃｍ^２の範囲、または２．５から６ｃｍ^２の範囲、または３から５ｃｍ^２の範囲の表面積を有することができる。エッジ活性要素（例えば、電極）１３ｋ、１３ｌ、および１３ｍは、１から２０ｃｍ^２の範囲、または２から１０ｃｍ^２の範囲、または２．５から８ｃｍ^２の範囲、または３．５から７ｃｍ^２の範囲の表面積を有することができる。中間活性要素（例えば、電極）－図３Ｄの１３ｇ、１３ｈ、１３ｉまたは１３ｊのうちの１つ－の表面積に対するエッジ活性要素（例えば、電極）－１３ｋ、１３ｌまたは１３ｍのうちの１つ－の表面積の比は、０．５から３の範囲、または０．８から２．５の範囲、または１から２の範囲、または１から１．８の範囲であり得る。

【0191】

図３Ｄの中間活性要素（例えば、電極）１３ｇ、１３ｈ、１３ｉおよび１３ｊは、エッジ効果（例えば、エッジ付近のホットスポットの生成を防止する）または漏れ電流を軽減し、例えば頬筋、菱形筋、頬骨筋および／または咬筋を治療するのに最適に構成される。図３Ｄの中間活性要素（例えば、電極）１３ｇ、１３ｈ、１３ｉおよび１３ｊは、例えば、広頸筋、下制筋および／または上唇挙筋を治療するのに最適に構成される。中間活性要素（例えば、電極）の数は、１から１０の範囲、１から８の範囲、２から６の範囲、または２から４の範囲であり得る。エッジ活性要素（例えば、電極）の数は、１から１０の範囲、１から７の範囲、１から６の範囲、または２から５の範囲であり得る。

【0192】

右頬の治療に使用されるパッド４は、図３Ｄに示す左頬パッド４に対して対称に配置され得る。

【0193】

一態様では、頬パッド４は、図３Ｅに示すように対称であり得る。このような対称の頬パッドは、左頬または右頬の治療に使用され得る。対称性は、軸３３３に沿っている（図３Ｅの破線）。活性要素（例えば、電極）１３ｎ１、１３ｏ１および１３ｐ１の第１のラインは、軸３３３の上方にあり、活性要素（例えば、電極）１３ｎ２、１３ｏ２および１３ｐ２の対称的な第２のラインは、軸３３３の下方にある。したがって、対称的な頬パッドは、対の活性要素（例えば、電極）、例えば１３ｎ１および１３ｎ２、１３ｏ１および１３ｏ２、または１３ｐ１および１３ｐ２を有することができ、各対の活性要素（例えば、電極）は、軸３３３に対して対称的な同じ形状を有する。活性要素（例えば、電極）の面積は、活性要素（例えば、電極）ごとに同じであっても異なっていてもよい。一態様では、すべての活性要素（例えば、電極）１３ｎ１から１３ｐ２は同じ表面積を有することができ、１つの活性要素（例えば、電極）の表面は、１から１５ｃｍ^２の範囲、２から８ｃｍ^２の範囲、２．５から６ｃｍ^２の範囲、または３から５ｃｍ^２の範囲である。別の態様では、活性要素（例えば、電極）１３ｎ１から１３ｐ２の表面積は、活性要素（例えば、電極）ごとに異なっていてもよく、または対の活性要素（例えば、対１３ｎ１および１３ｎ２）は、他の対の活性要素（例えば、対１３ｐ１および１３ｐ２）の表面積とは異なる同じ表面積を有してもよく、１つの活性要素（例えば、電極）の表面積は、１から２０ｃｍ^２の範囲、２から１０ｃｍ^２の範囲、または２．５から８ｃｍ^２の範囲、または３．５から７ｃｍ^２の範囲であり得る。

【0194】

図３Ｅに示される活性要素間距離ｄ_ｉｎｔｒは、隣接する活性要素（例えば、電極）、例えば活性要素１３ｏ１と活性要素１３ｐ１との２つの最も近い点の間の距離である。活性要素間距離ｄ_ｉｎｔｒは、０．５から５ｍｍの範囲、０．８から４ｍｍの範囲、１から３．３ｍｍの範囲、または１．２から２．８ｍｍの範囲であり得る。図３Ｅの活性要素（例えば、電極）１３ｎ１から１３ｐ２は、エッジ効果（例えば、エッジ付近のホットスポットの生成を防止する）または漏れ電流を軽減し、例えば、頬筋、菱形筋、頬骨筋、咬筋、広頸筋、下制筋および／または上唇挙筋を治療するように最適に構成される。

【0195】

額の治療に使用され得るパッド４の別の可能な非限定的な構成が図３Ｆに示されている。パッド４は、一対の左エッジ活性要素（例えば、電極）１３ｑ１、１３ｑ２と、一対の右エッジ活性要素（例えば、電極）１３ｓ１、１３ｓ２とを有し得る。左エッジ活性要素（例えば、電極）１３ｑ１および１３ｑ２は、少なくとも１つの軸、例えば図３Ｆの水平軸３３２に沿って対称であり得る。右エッジ活性要素（例えば、電極）１３ｓ１および１３ｓ２は、少なくとも１つの軸、例えば図３Ｆの水平軸３３２に沿って対称であり得る。パッド４は、水平軸３３２に沿って対称であってもよいし、水平軸３３２に沿って対称でなくてもよいが垂直軸３３４に沿って対称であってもよい一対の中間活性要素（例えば、電極）１３ｒ１および１３ｒ２を有し得る。実際、パッド４の活性要素（例えば、電極）のレイアウト全体は、少なくとも１つの軸、例えば図３Ｆの垂直軸３３４に沿って対称であり得る。

【0196】

活性要素（例えば、電極）は、同じまたは異なる表面積を有してもよく、または一対の活性要素（例えば、活性要素１３ｑ１および１３ｑ２）は、活性要素（例えば、活性要素１３ｒ１および１３ｒ２）の別の対の表面積とは異なり得る同じ表面積を有し得る。活性要素（例えば、電極）の表面積は、１から１０ｃｍ２の範囲、または２から６．５ｃｍ２の範囲、または２．３から６ｃｍ２の範囲、または２．５から５．５ｃｍ２の範囲である。活性要素（例えば、電極）は、上述したようにそれらの間の距離ｄ_エッジおよびｄ_ｖｅｒｔを有することができ、エッジ効果（例えば、エッジ付近のホットスポットの生成を防止する）または漏れ電流を軽減し、治療中に例えば前頭筋または鼻根筋を効果的に治療するために最適化される。いくつかの活性要素（例えば、電極）はまた、パッド４と患者とのより良好な結合のために、例えば活性要素１３ｒ２および１３ｓ２など、パッドのスロット４３によって少なくとも部分的に分離され得る。

【0197】

図３Ｃから３Ｆに示すパッドのすべての非限定的な例はまた、パッド４の上面のステッカー４４を示す。ステッカーは、パッド４と同じまたは類似の形状を有してもよく、パッド４上に追加の重なりを有する。重なりは、図３Ｃから３Ｆにハッチングが付されている。ステッカーの重なりは、０．１から１０ｃｍの範囲、または０．１から７ｃｍの範囲、または０．２から５ｃｍの範囲、または０．２から３ｃｍの範囲、または０．３から１ｃｍの範囲でパッド４を超えてもよい。一態様では、ステッカーの重なりはまた、パッドスロット４３に近いステッカースロット４５（例えば図３Ｅおよび３Ｆを参照されたい）を有することができ、身体部分の不均一な領域へのステッカー４４の重なりのより良好な接着を可能にする。

【0198】

顎下部の領域の治療に適した治療パッドは、下唇亜基節および頸部の一部を覆うことができる。一態様では、そのような下唇亜基節パッドは、下唇亜基節（顎下部および顎下三角、例えば、舌骨上筋－顎舌骨筋、茎突舌骨筋、オトガイ舌骨筋、および顎二腹筋）および広頸筋のみに収縮（例えば電流）をもたらすのに適したエネルギーを送達する活性要素（例えば、電極）、および下唇亜基節および／または頸部（例えば、頸動脈三角、筋肉三角）の加熱（例えば、高周波）に適したエネルギーを送達する他の活性要素（例えば、電極）を含み得る。このようなパッドの配置は、加熱がパッドの下に均等に分配され、収縮が、舌骨の上に位置し得る一部の下唇亜基節の筋肉（例えば、顎二腹筋、顎舌骨筋および／または茎突舌骨筋）にのみ施される、二重顎の治療に適し得る。一態様では、下唇亜基節パッドは対称であり得る。一態様では、甲状腺へのいずれの損傷をも回避するために、喉頭隆起の領域が高周波エネルギーまたは電流のいずれかで治療されないように、下唇亜基節パッドは、下唇亜基節を治療するように構成された上述の「バナナ形状」を有することができる。

【0199】

下唇亜基節パッドは、視覚的外観を改善するための審美的治療のために構成され得、皮膚の若返り、しわの除去、皮膚の引き締めおよび持ち上げ、セルライトおよび脂肪の減少、色素性病変の治療、刺青の除去、軟組織の凝固およびアブレーション、血管病変の減少、顔のリフティング、筋肉の収縮および筋肉の強化、疼痛の一時的な軽減、筋攣縮、局所循環の増加などが含まれるが、これらに限定されない。

【0200】

別の態様では、下唇亜基節パッドは、睡眠時無呼吸および／またはいびきを治療するように構成され得る。いびきの原因の１つは、気道に向かう軟組織の崩壊である。重症度に応じて、それは、酸素供給不足がある睡眠時無呼吸に対するいびき（空気は乱流し、音を生成し、同時に軟組織を動かし、音も生成する）として現れる。これらの場合、下唇亜基節パッドは、オトガイ舌および気道付近の筋肉を刺激するように構成され得る。刺激は筋緊張を強化し、したがって軟組織は気道からより良好に保たれ、これは睡眠時無呼吸および／またはいびきを軽減し得る。

【0201】

パッドは、０．１から１５０ｃｍ^２、または０．２から１２５ｃｍ^２、または０．５から１００ｃｍ^２の範囲、または１から５０ｃｍ^２の範囲、または１０から５０ｃｍ^２の範囲、または１５から４７ｃｍ^２の範囲、または１８から４５ｃｍ^２の範囲の表面積を有する異なるサイズを有し得る。パッドは、面の約１から９９％、または１から８０％、または１から６０％、または１から５０％を占めることができる。単一のパッド４内の活性要素１３（例えば、電極）の数は、１から１００、または１から８０、または１から６０、または２から２０、または３から１０、または４から９の範囲である。パッド４の少なくとも一部の厚みは、０．０１から１５ｍｍの範囲であってもよく、０．０２から１０ｍｍの範囲であってもよく、０．０５から７ｍｍの範囲であってもよく、０．１から２ｍｍの範囲であってもよい。

【0202】

一態様では、パッド４は、１つまたは複数の治療（例えば、高周波エネルギーおよび電流）を施す１つの活性要素１３（例えば、電極）を備えることができるが、複数のそのようなパッドを使用して、１つの治療中に同じ領域を治療することができる。例えば、額の治療に使用することができる６つの活性要素１３（例えば、電極）を有する１つのパッド４を使用する代わりに、それぞれが１つの活性要素１３（例えば、電極）を有する６つのパッド４を同じ治療に使用することができる。別の態様では、パッド４は、一種類の治療／エネルギーを供給する１つの活性要素１３（例えば、電極）を含むことができ、同じまたは異なる治療／エネルギーを供給する複数のパッド４を使用して、一回の治療中に同じ領域を治療することができる。例えば、高周波エネルギーおよび電流を供給する１つの活性要素１３（例えば、電極）を有するパッド４の代わりに、一方が高周波エネルギーを供給する活性要素１３（例えば、電極）を有し、他方が電流を供給する活性要素１３（例えば、電極）を有する２つのパッド４を使用することが可能であり得る。

【0203】

あるいは、基板付きパッド４および活性要素１３の代わりに、１つ以上の活性要素１３（例えば、電極）自体のみを用いてもよい。一態様では、患者の身体部分を治療するために、１つまたは複数の治療（例えば、高周波エネルギーおよび電流）を施す活性要素１３（例えば、電極）を使用することができる。別の態様では、複数の活性要素１３（例えば、電極）を使用して、１回の治療中に同じ身体部分を治療することができる。例えば、額の治療に使用することができる６つの活性要素１３（例えば、電極）を有する１つのパッド４を使用する代わりに、６つの個々の活性要素１３（例えば、電極）を同じ治療に使用することができる。別の態様では、活性要素１３（例えば、電極）は、一種類の治療／エネルギーを供給することができ、同じまたは異なる治療／エネルギーを供給する複数の活性要素１３（例えば、電極）を使用して、一回の治療中に同じ領域を治療することができる。例えば、高周波エネルギーおよび電流を供給する少なくとも１つの活性要素１３（例えば、電極）を有するパッド４を使用する代わりに、少なくとも２つの個々の活性要素（例えば、電極）、高周波エネルギーを供給する少なくとも１つの活性要素１３（例えば、電極）、および電流を供給する少なくとも１つの活性要素１３（例えば、電極）を使用することが可能であり得る。

【0204】

一態様では、活性要素１３（例えば、電極またはコイル）は、少なくとも部分的に互いに重なり合ってもよい。例えば、電極は、パッド４のコイルの下または上に少なくとも部分的に位置し得る。

【0205】

さらに、パッド４は、パッド４が患者の皮膚の表面に装着されたときに、腱膜付着部（ｇａｌｅａ ａｐｏｎｅｕｒｏｔｉｃａ）、鼻根筋（ｐｒｏｃｅｒｕｓ）、上唇裂（ｌｅｖａｔａｒ ｌａｂｉｉ ｓｕｐｅｒｉｏｒｉｓ ａｌａｅｑｕｅ ｎａｓｉ）、鼻翼（ｎａｓａｌｉｓ）、上唇挙筋（ｌａｖａｔｏｒ ｌａｂｉｉ ｓｕｐｅｒｉｏｒｉｓ）、小頬骨筋（ｚｙｇｏｍａｔｉｃｕｓ ｍｉｎｏｒ）、大頬骨筋（ｚｙｇｏｍａｔｉｃｕｓ ｍａｊｏｒ）、口角（ｌｅｖａｔｏｒ ａｎｇｕｌｉｓ ｏｒｉｓ）、菱形筋（ｒｉｓｏｒｉｕｓ）、広頸筋（ｐｌａｔｙｓｍａ）、下制筋（ｄｅｐｒｅｓｓｏｒ ａｎｇｕｌｉ ｏｒｉｓ）、下唇（ｄｅｐｒｅｓｓｏｒ ｌａｂｉｉ ｉｎｆｅｒｉｏｒｉｓ）、後前頭筋（ｏｃｃｉｐｉｔｏｆｒｏｎｔａｌｉｓ）（前頭腹）、上皺筋（ｃｕｒｒｕｇａｔｏｒ ｓｕｐｅｒｃｉｌｉｉ）、眼輪筋（ｏｒｂｉｃｕｌａｒｉｓ ｏｃｕｌｉ）、頬筋（ｂｕｃｃｉｎａｔｏｒ）、咬筋（ｍａｓｓｅｔｅｒ）、口輪筋（ｏｒｂｉｃｕｌａｒｉｓ ｏｒｉｓ）またはオトガイ筋（ｍｅｎｔａｌｉｓ ｍｕｓｃｌｅ）の形状を少なくとも部分的に複製する形状を有してもよい。

【0206】

パッド４は、少なくとも１つの前述の態様によって、または２つ以上の前述の態様の組み合わせによって、または前述のすべての態様の組み合わせによって、特徴付けられ得る。

【0207】

主要ケース内の電磁エネルギー発生器６または二次発生器９は、電磁エネルギーまたは二次エネルギー（例えば電流）を発生させることができ、これらは導電性リード線を介して皮膚に取り付けられた少なくとも１つの活性要素１３（例えば、電極）にそれぞれ送達され得る。活性要素１３は、その表面全体を通して、またはいわゆる部分的な配置によって、エネルギーを供給することができる。活性要素１３は、単極、ユニポーラ、双極または多極高周波システムにおける活性電極であり得る。単極高周波システムでは、活性電極（活性要素１３）とはるかに大きな表面積を有する中性電極７との間でエネルギーが供給される。活性電極の表面積と中性電極の表面積との間の相互の距離および差により、活性電極の下にエネルギーが集中し、治療領域を加熱することが可能になる。単極高周波システムでは、エネルギーは、１００ｋＨｚから５５０ＭＨｚの範囲、または２００ｋＨｚから３００ＭＨｚの範囲、または２５０ｋＨｚから１００ＭＨｚの範囲、または３００ｋＨｚから５０ＭＨｚの範囲、または３５０ｋＨｚから１４ＭＨｚの範囲の周波数で送達され得る。ユニポーラ、双極または多極の高周波システムでは、中性電極７は必要ない。双極および多極の高周波システムでは、エネルギーは、それぞれ同様の表面積を有する２つおよび複数の活性電極の間で送達される。これらの電極間の距離は、エネルギー浸透の深さを決定する。ユニポーラの高周波システムでは、単一の活性電極のみが組み込まれ、活性電極を取り囲む組織および環境にエネルギーが送達される。１つのパッド４の２つの最も近い活性要素１３（例えば、電極の最も近い隣接する側）間の距離は、０．１から１００ｍｍの範囲、または０．３から７０ｍｍの範囲、または０．５から６０ｍｍの範囲、または０．７から３０ｍｍの範囲、または１から１０ｍｍの範囲、または１から５ｍｍの範囲であり得る。電極の２つの最も近い隣接する辺の間の距離は、隣接する電極の２つの最も近い点の間の距離を意味し得る。

【0208】

活性要素１３（例えば、電極）の最近接点とパッド４の最近縁との間の距離は、０．１ｍｍから１０ｍｍの範囲、０．５ｍｍから５ｍｍの範囲、１ｍｍから４ｍｍの範囲、または１ｍｍから３ｍｍの範囲であり得る。

【0209】

図４Ａから４Ｄは、接触療法のために構成されたパッド４の可能な構成の側面図を表す。パッド４は、可撓性基板材料４２－ポリイミド（ＰＩ）フィルム、ＰＴＦＥ（例えば、テフロン（登録商標））、ＰＥＴ、エポキシまたはＰＥ発泡体で作られてもよく、下面に追加の接着剤層４０を有する。それらは、治療される領域に応じて操作者が選択することを可能にするために、様々な形状であり得る。活性要素１３（例えば、電極）は、０．１から７０ｃｍ^２、または０．５から５０ｃｍ^２、または１から２５ｃｍ^２、または１から１０ｃｍ^２、または２から９．５ｃｍ^２、または２．５から９ｃｍ^２の範囲の表面積を有する環状、半円形、楕円形、長円形、正方形、長方形、台形、または多角形の円周を有することができる。活性要素（例えば、電極）に使用される材料は、銅、アルミニウム、鉛、またはパッド４に堆積または一体化することができる任意の他の導電性媒体であり得る。さらに、活性要素１３（例えば、電極）は、銀、金、またはグラファイトで作ることができる。パッド４内の電極は、銀インク、グラファイトインク、または異なる導電性材料のインクの組み合わせなどの生体適合性インクによって印刷されてもよい。

【0210】

いくつかの態様では、活性要素１３（例えば、電極）も可撓性であり得る。パッド４、可撓性基板、または活性要素１３（例えば、電極）の剛性は、ショアＯＯ１０からショアＤ８０の範囲、ショアＯＯ３０からショアＡ１００の範囲、ショアＡ１０からショアＡ８０の範囲、またはショアＡ２０からＡ７０の範囲であり得る。別の態様では、パッド４が、剛性活性要素１３（例えば、電極）を有する可撓性基板で作製され得、またはいくつかの活性要素１３（例えば、電極）が剛性であり得、いくつかは上述のショアの範囲で可撓性であり得る（例えば、ＲＦ電極は剛性であってもよく、電気療法用の電極は可撓性であってもよく、逆もまた同様）。

【0211】

一態様では、１回の治療（例えば、高周波周波数）に適した活性要素１３（例えば、電極）は、第２の治療（例えば電流）に適した活性要素１３（例えば、電極）とは異なる形状および表面積を有することができる。例えば、高周波電極は、電気療法用の電極よりも大きな表面積を有することができる。

【0212】

活性要素１３（例えば、電極）の厚さは、１μｍから５００μｍの範囲、２μｍから４００μｍの範囲、３μｍから３００μｍの範囲、または５μｍから１００μｍの範囲であり得る。別の態様では、電極の厚さは、０．２ｍｍから１０ｍｍの範囲、０．４ｍｍから８ｍｍの範囲、または０．５ｍｍから５ｍｍの範囲であり得る。

【0213】

一態様では、活性要素１３（例えば、電極）は、複数の導電性材料が互いに徐々に堆積されるサンドイッチ構造、例えば銅－ニッケル－金の構造を有し得る。例えば、銅は、５から１００μｍの範囲、または１５から５５μｍの範囲、または２５から４５μｍの範囲の厚さで基板に堆積され得る。ニッケルは、０．１から１５μｍの範囲、または０．５から８μｍの範囲、または１から６μｍの範囲の厚さで銅に堆積され得る。また、金は、２５から２００ｎｍの範囲、または５０から１００ｎｍの範囲、または６０から９０ｎｍの範囲の厚さでニッケルに堆積され得る。そのようなサンドイッチ構造は、例えば、ＥＮＩＧプロセスによって作製され得る。

【0214】

別の態様では、活性要素１３（例えば、電極）は、銅から作製され、別の導電層、例えば銀もしくは塩化銀インク、カーボンペースト、または導電性接着剤によって銅に結合されたアルミニウムセグメントで覆われてもよい。しかし、別の態様では、電極は、例えば、１から１００μｍの範囲、または５から５５μｍの範囲、または８から４５μｍの範囲という電極の厚さを有する銀インク、塩化銀インク、またはカーボンペーストによって印刷され得る。

【0215】

活性要素１３（例えば、電極）は、凸状または凹状の弧の総数が１から１２の範囲、または２から１０の範囲、または３から９の範囲、または４から８の範囲である形状を有することができる。さらに、活性要素（例えば、電極）は、１から７の範囲または１から６の範囲または１から５の範囲または２から４の範囲のいくつかの凹状の内角を有してもよく、または活性要素（例えば、電極）は、１から１０の範囲または１から９の範囲または２から８の範囲、３から７の範囲のいくつかの凸状の内角を有し得る。凹凸のある活性要素１３（例えば、電極）の可能な配置が図３Ｃに示されている。

【0216】

活性要素１３（例えば、高周波エネルギーおよび／または電場をもたらす電極）は、完全な活性表面を有する全領域電極であり得る。これは、患者に面する電極の表面全体が、上述のようにパッド４に堆積または一体化された導電性材料で作られることを意味する。

【0217】

一態様では、患者に面する（導電性材料で作られた）電極は、例えば、電極および／またはパッドの可撓性を改善し、および／またはエッジ効果を低減し、および／または送達されるエネルギー密度の均一性を改善し、および／または施される治療の均一性を改善するように構成された、例えば１つまたは複数の開口、切り欠きおよび／または突起を有することができる。開口は、電極の本体の開口部であり得る。切り欠きは、電極の境界に沿った、電極の本体の開口部であり得る。電極の本体の開口部は、電極を上から見た図を示す床の突起からの視界によって定め得る。開口部、例えば開口、切り欠きおよび／または突起の外側の領域は、空気、誘電材料、絶縁材料、パッドの基板、空気またはヒドロゲルによってファイルされ得る。したがって、電極は、表面領域の破壊によって、通常の電極（すなわち、開口または切り欠きのない電極）と比較してセグメント化される。１つの電極の２つ以上の開口または切り欠きは、非対称であり得る。１つまたは複数の開口および切り欠きは、例えば、長方形または円形の形状を有することができる。開口および／または切り欠きは、規則的、不規則的、対称的および／または非対称的な形状を有することができる。電極が２つ以上の開口または切り欠きを含む場合、開口または切り欠きは、同じ対称点および／または対称線を有し得る。電極の２つの異なる開口および／または切り欠きの境界に位置する２つの最近接点の間の距離は、１μｍから１０ｍｍ、または１０μｍから８ｍｍ、または２０μｍから５ｍｍ、または５０μｍから３ｍｍ、または１００μｍから２ｍｍの範囲であり得る。

【0218】

１つまたは複数の開口部（例えば、開口および／または切り欠き）および／または突起を有する活性要素（例えば、電極）は、導電性材料によってフレーム化され得、フレームの内側は、導電性材料と開口部との組み合わせを有し得る。図９Ａから９Ｃおよび図９Ｉに示すように、フレーム８０１は、患者に面する側から電極８００の最外周を形成することができる。フレーム８０１は、環状、半円形、楕円形、長円形、正方形、長方形、台形、または多角形の形状の形態を有することができる。フレーム８０１の内側は、開口８０３を有する図９Ａおよび９Ｂに示すようなグリッド８０２の構造を有することができる。フレーム８０１およびグリッドライン８０２は、導電性材料から作られ、電極８００の一部である。フレーム８０１は、グリッドライン８０２の厚さと同じ厚さであってもよく、またはフレーム８０１の厚さは、１％から２０００％の範囲または１０％から１０００％の範囲または２０％から５００％の範囲または５０％から２００％の範囲でグリッドライン８０２より厚くてもよい。また、フレーム８０１は、０．０１倍から２０倍の範囲、または、０．１倍から１０倍の範囲、または、０．２倍から５倍の範囲、または、０．５倍から２倍の範囲で、グリッドライン８０２よりも細くてもよい。

【0219】

図９Ａから９Ｃおよび図９Ｉに示すように、フレーム８０１の厚さは、０．１から５ｍｍの範囲、０．５から２．３ｍｍの範囲、０．６から１．９ｍｍの範囲、または０．８から１．６ｍｍの範囲であり得る。図９Ａから９Ｉに示すように、グリッドライン８０２の厚さは、０．０１から２．３ｍｍの範囲、０．０５から１．１ｍｍの範囲、０．１から０．８ｍｍの範囲、または０．２から０．６ｍｍの範囲の厚さを有することができる。フレーム８０１およびグリッドライン８０２の厚さは、図９Ｉに示されており、これは、フレーム８０１、グリッドライン８０２、および開口８０３による電極８００の拡大図である。図９Ｃに示すように、電極の導電性材料が電極８００の中心８０４から薄くなるように電極を設計することも可能である。中心８０４からフレーム８０１に向かう方向において隣接するグリッドライン８０２間の細線化ステップは、最も細い導電性材料のラインを有するフレーム８０１に対して、０．１倍から１０倍の範囲であってもよく、０．２倍から５倍の範囲であってもよく、０．５倍から２倍の範囲であってもよい。

【0220】

第１の態様では、電極８００（フレーム８０１およびグリッドライン８０２を含む）および前記電極８００のフレーム８０１の内側のすべての開口８０３の総面積は、１から１５ｃｍ^２の範囲、または２から８ｃｍ^２の範囲、または２．５から６ｃｍ^２の範囲、または３から５ｃｍ^２の範囲であり得る。

【0221】

第２の態様では、電極８００（フレーム８０１およびグリッドライン８０２を含む）および前記電極８００のフレーム８０１の内側のすべての開口８０３の総面積は、１から２０ｃｍ^２の範囲、または２から１０ｃｍ^２の範囲、または２．５から８ｃｍ^２の範囲、または３．５から７ｃｍ^２の範囲であり得る。

【0222】

第３の態様では、電極８００（フレーム８０１およびグリッドライン８０２を含む）および前記電極８００のフレーム８０１の内側のすべての開口８０３の総面積は、１から１０ｃｍ^２の範囲、または２から６．５ｃｍ^２の範囲、または２．３から６ｃｍ^２の範囲、または２．５から５．５ｃｍ^２の範囲であり得る。

【0223】

第４の態様では、電極８００（フレーム８０１およびグリッドライン８０２を含む）および前記電極８００のフレーム８０１の内側のすべての開口８０３の総面積は、１から２０ｃｍ^２の範囲、または２から１５ｃｍ^２の範囲、または３から１２ｃｍ^２の範囲、または４から１０ｃｍ^２の範囲であり得る。

【0224】

電極８００のフレーム８０１の内側のすべての開口の総面積に対する電極８００の導電性材料の面積（すなわち、フレーム８０１およびグリッドライン８０２）の比は、１％から５０％の範囲、または２％から４５％の範囲、または５％から４０％の範囲、または８％から３５％の範囲、または１０％から３３％の範囲であり得る。さらに、比率は、１％から２０％の範囲、または１０％から４０％の範囲、または３３％から６７％の範囲、または５０％から７０％の範囲、または６６％から１００％の範囲であってもよい。

【0225】

あるいは、電極８００はフレーム化されなくてもよく、例えば、図９Ｄに示すように、開口部８０３によって形成された境界のないグリッドの形態を有し得る。電極の切り欠きおよび／または開口に対する導電性材料の比は、１％から５０％の範囲、または２％から４５％の範囲、または５％から４０％の範囲、または８％から３５％の範囲、または１０％から３３％の範囲であり得る。さらに、電極の開口部に対する導電性材料の比率は、１％から２０％の範囲、または１０％から４０％の範囲、または３３％から６７％の範囲、または５０％から７０％の範囲、または６６％から１００％の範囲であってもよい。そのような格子状電極は非常に有利であり得る。それははるかに可撓性であり得、より適切な患者との接触を確実にし得、全領域電極よりもはるかに良好な自己冷却特性を有し得る。

【0226】

図９Ｅを参照すると、２つの最も近い平行なグリッドライン８０２ａと８０２ｂとの間の距離は、少なくとも１つの円８２０によって示され得、これは、開口および／または切り欠き８０３に仮想的に内接し、２つの最も近い平行なグリッドライン８０２ａと８０２ｂとの間にあり、第１のグリッドライン８０２ａに位置する少なくとも１つの接線点と、第２のグリッドライン８０２ｂに位置する少なくとも１つの接線点とを有し、したがって、２つの最も近い平行なグリッドライン８０２ａと８０２ｂとの間の距離に等しい直径を有することができる。少なくとも１つの仮想の円８２０は、０．００１から１０ｍｍ、または０．００５ｍｍから９ｍｍ、または０．０１ｍｍから８ｍｍ、または０．０５ｍｍから７ｍｍ、または０．１ｍｍから６ｍｍ、または０．２ｍｍから５ｍｍ、または０．３ｍｍから５ｍｍ、または０．５ｍｍから５ｍｍの範囲の直径を有することができる。

【0227】

図９Ｆを参照すると、一態様では、電極８００は、切り欠き８０３によって分離された半径方向導電線８０８の形態の複数の突起を有することができ、複数の半径方向導電線８０８は、電極８０５の一点から突出している。複数の半径方向導電線８０８は、電極の点８０５の近くで合流し、共に電極８０５の点の周りに完全な導電性表面８１０を形成する。点８０５からの放射状の半径方向導電線８０８は、同じ長さを有してもよく、または異なる長さを有し得る。さらに、点８０５からの放射状の半径方向導電線８０８のいくつかは同じ長さを有してもよく、いくつかは異なる長さを有し得る。

【0228】

図９Ｇを参照すると、別の態様では、電極８００は、所定の形状の基部８０６と、切り欠き８０３によって分離された突起（半径方向導電線）８０８とを有することができる。基部８０６は、環状、半円形、楕円形、長円形、正方形、長方形、台形、または多角形の形状を有し得る。基部８０６は、導電性リードに接続され得る。

【0229】

図９Ｈを参照すると、依然別の態様では、電極８００は、ベース導電線８０７と、切り欠き８０３によって分離された複数の突起（半径方向導電線）８０８とを有することができる。ベース導電線８０７は、図９Ｈに示すように、すべての半径方向導電線８０８に接続されている。ベース導電線はまた、導電性リードに接続され得る。ベース導電線８０７から出現する半径方向導電線８０８は、同じ長さを有してもよく、および／または異なる長さを有し得る。

【0230】

２つの最も近い突起８０８間の距離は、少なくとも１つの円（図９Ｅの円８２０と類似）として示され得、これは、開口および／または切り欠き８０３に仮想的に内接し、２つの最も近い突起８０８間にあり、第１の突起に位置する少なくとも１つの接線点と、第２の突起に位置する少なくとも１つの接線点とを有し、したがって２つの最も近い突起間の距離に等しい直径を有することができる。少なくとも１つの円は、０．００１から１０ｍｍ、または０．００５ｍｍから９ｍｍ、または０．０１ｍｍから８ｍｍ、または０．０５ｍｍから７ｍｍ、または０．１ｍｍから６ｍｍ、または０．２ｍｍから５ｍｍ、または０．３ｍｍから５ｍｍ、または０．５ｍｍから５ｍｍの範囲の直径を有することができる。

【0231】

突起８０８または切り欠き８０３は、対称、非対称、不規則的および／または規則的な形状を有することができる。個々の半径方向導電線のサイズ、形状および／または対称性は、電極全体で同じおよび／または異なり得る。例えば、各突起８０８は、同じ形状、同じ寸法、同じ方向および／または対称性を有することができる。突起８０８は、突起の厚さおよび長さによって特徴付けられてもよく、長さは、２から１００の範囲、または４から８０の範囲、または５から７０の範囲の倍数、厚さより大きい。突起の厚さは、１μｍから５ｍｍの範囲、または２０μｍから４ｍｍの範囲、または５０μｍから３ｍｍの範囲、または１００μｍから２．５ｍｍの範囲、または１２０μｍから２ｍｍの範囲、または１５０μｍから１．５ｍｍの範囲、または２００μｍから１ｍｍの範囲であり得る。突起の長さは、０．０５から５０ｍｍの範囲、または０．１から３０ｍｍの範囲、または０．５から２０ｍｍの範囲であり得る。１つの電極が含み得る突起の数は、１から１０００、または５から５００、または１０から３００、または１５から２５０、または２０から２４０の範囲であり得る。

【0232】

突起８０８を有する電極８００の表面積は、０．１から１０ｃｍ^２の範囲、または０．３から９．５ｃｍ^２の範囲、または０．４から９ｃｍ^２の範囲、または０．５から８．５ｃｍ^２の範囲であり得る。

【0233】

さらに、図９Ｆから９Ｈに示されるすべての可能な電極の配置は、例えば図９Ａに示されるように、導電性フレーム８０１でフレーム化され得、フレーム８０１も電極の一部である。

【0234】

平行な切断部とは無関係に、１つの電極における開口および／または切り欠きの総数は、５から２５０、または１０から２００、または１５から１７０、または２０から１５０、または３００から１５００、または４００から１４００、または５００から１３００、または６００から１２００の範囲であり得る。

【0235】

一態様では、１つまたは複数の活性要素が格子状（図９Ａから９Ｄ）の電極の形態である場合、１つまたは複数の格子状電極のエネルギーの束は、活性要素のグリッド８０２および／またはフレーム８０１のエネルギーの束として計算することができ、０．００１Ｗ／ｃｍ^２から１５００Ｗ／ｃｍ^２または０．０１Ｗ／ｃｍ^２から１０００Ｗ／ｃｍ^２または０．５Ｗ／ｃｍ^２から５００Ｗ／ｃｍ^２または０．５Ｗ／ｃｍ^２から２００Ｗ／ｃｍ^２または０．５Ｗ／ｃｍ^２から１００Ｗ／ｃｍ^２または１Ｗ／ｃｍ^２から７０Ｗ／ｃｍ^２の範囲とすることができる。

【0236】

別の態様では、１つまたは複数の活性要素が開口部および／または突起を有する電極（図９Ｆ～９Ｈ）の形態である場合、１つまたは複数の突起電極のエネルギー束は、活性要素の基部８０６またはベース導電線８０７および突起８０８のエネルギーの束として計算することができ、０．００１Ｗ／ｃｍ^２から１５００Ｗ／ｃｍ^２または０．０１Ｗ／ｃｍ^２から１０００Ｗ／ｃｍ^２または０．５Ｗ／ｃｍ^２から５００Ｗ／ｃｍ^２または０．５Ｗ／ｃｍ^２から２００Ｗ／ｃｍ^２または０．５Ｗ／ｃｍ^２から１００Ｗ／ｃｍ^２または１Ｗ／ｃｍ^２から７０Ｗ／ｃｍ^２の範囲とすることができる。

【0237】

図４Ａおよび４Ｂに示すように、活性要素１３（例えば、電極）は、可撓性基板層４２もしくは接着剤層４０内に、または可撓性基板層４２と接着剤層４０との界面に部分的に埋め込まれてもよい。活性要素１３（例えば、電極）は、複数の導電性リード４１ａ（図４Ａ）によって独立して供給および制御され得、または単一の導電性リード４１ｂ（図４Ｂ）を介して導電的に相互接続され、供給／制御され得る。複数の導電性リード４１ａは、可撓性基板層４２の自由空間（例えば、孔）を介して活性要素１３（例えば、電極）に接続され得る。自由空間（例えば、孔）は、各導電性リード４１ａが基板層４２にしっかりと嵌合することができるような寸法を有することができ、例えば、導電性リード４１ａは可撓性基板層４２によって封入することができる。さらに、自由空間（例えば、孔）自体が金属化され得、それぞれの導電性リード４１ａと活性要素１３（例えば、電極）との間の接続として機能し得る。図４Ａに示すように、活性要素１３（例えば、電極）はまた、可撓性基板４２の下側に堆積され得、基板４２に結合されていない側の接着剤層４０によって覆われてもよい。

【0238】

別の態様では、図４Ｃに示すように、基板４０１の下面および活性要素１３ＡからＤの下面が一平面にあるように、活性要素１３（例えば、電極）を可撓性基板４２に埋め込むことができる。明確にするために、可撓性基板４２は、図４Ｃにおいてハッチングされている。図４Ｃの活性要素１３Ａおよび１３Ｂに示されるように、導電性リードは活性要素（例えば、電極）の上面に直接結合され得るので、基板４２は、導電性リード４１ａのための自由空間を有しなくてもよい。あるいは、可撓性基板は、図４Ｃの活性要素１３Ｃおよび１３Ｄに示すように、基板よりも薄くてもよい活性要素（例えば、電極）に導電性リード４１ａを結合するための自由空間（例えば、孔または金属孔）を有し得る。

【0239】

パッド４の活性要素（例えば、電極）の別の可能な配置が図４Ｄに示されている。第１の態様では、活性要素１３Ｅは、活性要素１３Ｅの下面が基板４０２の上面に堆積されるように基板４０２の上面に堆積され得、基板４０２の上面に活性要素１３Ｅと基板４２との界面を形成するようにする。第２の態様では、活性要素１３Ｆは、活性要素の上面（例えば、電極）と基板４２の上面とが一平面にあるように、基板４０２の上面から基板４０２に埋め込まれてもよい。この場合、活性要素１３Ｆの厚さは、基板４２の厚さよりも薄い。第３の態様では、活性要素１３Ｇは、活性要素１３Ｅと同様に表面４０２の上面に堆積され得るが、さらに、活性要素１３Ｇは、基板の上面から基板４２に部分的に埋め込まれる。これらすべての場合（活性要素１３ＥからＧ）において、基板４２は穿孔され、穿孔４０３を介して接着剤層４０と活性要素１３ＥからＧとの結合を可能にする。

【0240】

あるいは、活性要素（例えば、電極）は、基板に完全に埋め込まれ、その上面または下面から突出し得る。したがって、活性要素（例えば、電極）の厚さは、基板の厚さよりも大きくてもよい。

【0241】

さらに、上述のパッド４構造の組み合わせが可能であり得、例えば、１つの活性要素（例えば、第１の電極）がパッド４の下面に堆積され、別の活性要素（例えば、第２の電極）がパッド４に埋め込まれる。

【0242】

単一の導電性リード接続の場合、活性要素１３（例えば、電極）は、図４Ｂに示すように、可撓性基板４２もしくは接着剤層４０の内部、または可撓性基板層４２と接着剤層４０との界面に部分的に埋め込まれてもよく、活性要素１３（例えば、電極）は、可撓性基板４２内または可撓性基板４２と接着剤層４０との界面に位置してもよい単一の導電性リード４１ｂを介して接続されてもよい。単一の導電性リード４１ｂは、患者から外向きで、その側面または上面にパッド４を残すことができる。どちらの場合も、導電性リード４１ａまたは４１ｂは治療領域と接触しない。

【0243】

さらに、活性要素１３（例えば、電極）は、可撓性基板４２内に部分的に埋め込まれてもよく、接着剤層４０は、活性要素１３の表面が治療領域の表面と少なくとも部分的に直接接触し得るように、活性要素１３を取り囲んでもよい。

【0244】

さらに、パッド４の上面は、図４Ｃにのみ簡略化のために示されているカバー層４１０によって保護され得る。

【0245】

一態様では、上から下までのすべての層は、図４Ｅに示すように構成することができ、底部は、治療中に患者の方を向いている部分を意図する。層４５１は、ステッカー４５０の上部の非粘着部分である。層４５２は、ステッカー４５１をパッド４２０の基板４２１（例えば、ＰＥＴベース）に取り付ける、および／またはステッカー４５１を患者に取り付ける、ステッカーの底部粘着部分（例えば医療用発泡テープ）である。基板４２１の底部には、同じまたは異なる誘電特性のＮ個の誘電体層４２３－１から４２３－Ｎ（Ｎは負でない整数）によって活性要素（例えば、電極）４２４から分離された導電性リード４２２があってもよい。活性要素４２４（例えば、電極）は、図４Ｅにハッチングを付した誘電体層内の孔接続部４２５を介して導電性リード４２２と接続することができる。活性要素４２４（例えば、電極）、導電性リード４２２、および孔接続部４２５は、銀インク、塩化銀インク、グラファイトインク、または異なる導電性材料のインクの組み合わせなどの同じ生体適合性材料によって印刷され得、または導電性材料の堆積の任意の他の既知の技術（例えば、リソグラフィ）によって作製され得る。接着剤層（例えばヒドロゲル）４３０は、活性要素４２４の底部（例えば、電極）に堆積され得、パッドを患者に取り付ける前に除去される剥離剤４４０によって覆われてもよい。

【0246】

他の態様では、層は異なっていてもよく、これは図４Ｅに示すパッド４２０の構造に、より多くの層を除去または追加することが可能であり得る。例えば、上述したように、接着剤層４３０（および剥離剤４４０）はパッド４２０の一部でなくてもよく、代わりに、接着剤層４３０は、パッド４２０を患者に結合する前に患者の皮膚に直接適用され得る。別の態様では、ステッカー４５０は、パッド４２０に提示されなくてもよい。しかし、別の態様では、基板４２１および／または誘電体層４２３－１から４２３－Ｎは、パッド４２０の一部でなくてもよい。さらに、一態様では、導電性リード４２２を有する活性要素４２４のみがパッド４２０の一部であり得る。態様を組み合わせてもよい。

【0247】

パッド４は、可撓性基板５００を含むことができ、可撓性基板は、中央部５０１と、図５Ａに示すように互いに少なくとも部分的に独立して移動することができる１つまたは複数のセグメント５０２とを含むことができる。可撓性基板は、１から５００μｍの範囲または１から３５０μｍの範囲または１から２００μｍの範囲または５から１００μｍの範囲または１０から７５μｍの範囲または１５から６５μｍの範囲の厚さを有することができる。中央部またはセグメントは、センサ１５を含むことができる。パッド４のセグメントの数は、１から１００の範囲、または１から８０の範囲、または１から６０の範囲、または２から２０の範囲、または３から１０の範囲、または４から９の範囲であってもよく、各セグメントは、少なくとも１つの活性要素１３（例えば、電極）を含んでもよい。隣接するセグメントは、スロット５０３によって少なくとも部分的に分離され得る。

【0248】

従来の治療パッドは、場合によってはその上に金属材料の層が堆積された可撓性金属材料またはポリマー材料を含む単一のセグメント化されていない基板に日常的に作製されている。

【0249】

図５Ａに見られるように、提案されたセグメント化されたパッド４は、日常的に使用される従来のパッドよりも可撓性が高く、患者との接触量が多くなり得る。パッド４の基板５００は、中央部５０１と、接続された複数のセグメント５０２とに分割されている。複数のセグメント５０２は、互いに少なくとも部分的に独立して移動することができる。個々のセグメント５０２は、例えば、１つ以上のスロット５０３、または隣接するセグメント５０２間の他の開放領域によって、少なくとも部分的に互いに物理的に分離され得る。複数のセグメント５０２は、１つまたは複数の導電性リード５０６を含む中央部５０１によって物理的に互いに結合され得る。一態様では、中央部５０１はまた、１つまたは複数の活性要素１３（例えば、電極）を含むことができる。別の態様では、各活性要素１３（例えば、電極）は、中央部５０１に部分的に、および対応するセグメント５０２に部分的に堆積され得る。別の態様では、いくつかの活性要素（例えば、電極）が中央部に堆積され得、いくつかの活性要素（例えば、電極）がセグメントに少なくとも部分的に堆積され得る。

【0250】

図５Ａに示すように、スロット５０３は、導電性リード５０８に近接するパッド４の基板５００の中央部５０１から、隣接するセグメント５０２の間で基板５００の縁部まで延在し得る。パッド４の複数のセグメント５０２が互いに少なくとも部分的に独立して移動することを可能にすることにより、患者の身体の曲線または輪郭へのパッド４の適合を容易にすることができる。図５Ａに示すようなセグメント化されたパッド４は、パッド４が単一のセグメント化されていない基板として形成された場合よりも、患者の身体と接触するパッド４部分のより大きな面積、または全面積のより大きな割合を備えることができる。さらに、セグメント５０２は、図５Ａに示す有孔間隙５０３’を含むことができ、これはまた、患者の身体の湾曲または輪郭に対するパッド４のより大きな適合性をもたらす。

【0251】

セグメント５０２および／またはスロット５０３の形状および位置は、図５Ａに示されたものとは異なる構成で設けられ得る。例えば、セグメント５０２は、丸みを帯びた端部もしくは正方形の端部を含むか、または図示されているものとは異なる寸法比率を有することができる。スロット５０３は、湾曲していてもよく、正方形であってもよく、三角形であってもよく、長円形であってもよく、多角形であってもよく、またはセグメント５０２の一方と中央部５０１との間に延びる凹状部分を含んでもよい。スロット５０３ｍｅはまた、上述の形状の組み合わせ、例えば、２つの隣接するセグメント５０２’と５０２"との間の１つの可能なスロットの配置の詳細を表す図５Ｂに示すような湾曲した端部を有する三角形のスロットの組み合わせである。スロットは、非常に薄くても広くてもよく、スロットｔ_Ｓの幅は、一例では以下のように示され得る：最初に、仮想曲線または直線５２０がスロットの中心を通過して、スロットをそれぞれ２つの対称部分５０３ａおよび５０３ｂに分割する。次いで、幅は、第１の仮想線５２０に垂直であり、スロット５０２ａおよび５０２ｂに面する隣接するセグメントの縁部を接続する第２の仮想線５３０によって与えられ、第２の仮想線５３０は、スロット５０３ｃの先頭から少なくとも１ｍｍの距離にある。スロット５０３ｃの始端は、図５Ｂに示すように、パッド４の基板５００の中央部５０１に最も近いスロット５０３の点である。第１の仮想線５２０は、図５Ｂにおいて破線で表され、第２の仮想線５３０は、図５Ｂにおいて点線で表される。スロットｗ_Ｓの幅は、１００μｍから１０ｍｍの範囲、または５００μｍから８ｍｍの範囲、または６００μｍから７ｍｍの範囲、または８００μｍから５ｍｍの範囲であり得る。

【0252】

基板５００の各セグメント５０２は、セグメント５０２の一部または全体に活性要素１３（例えば、電極）を含むことができる。

【0253】

中央部５０１は、近位端５０４および遠位端５０５を有してもよく、中央部５０１の近位端５０４は、接続部５０７を通過してもよく、または接続され得る。中央部５０１は、図５Ａの点線の円の領域で接続部５０７に接続されている。接続部５０７は、図５Ａの各活性要素１３（例えば、電極）１３ａから１３ｆの導電性リード５０８、またはパッド４に含まれるセンサ１５を含むことができ、接続部５０７のすべての導電性リード５０８は、パッド４の中央部５０１の近位端５０４においてパッド４に入る。導電性リード５０８は、それぞれのセグメントおよびその活性要素またはセンサに到達するまで中央部５０１によって主に導かれ、したがって、図５Ａに示すように中央部５０１の遠位端５０５には導電性リードは存在しなくてもよい。導電性リード５０６は、基板５００の上面（例えば、患者から外方に面する側）に導かれてもよく、カバー層（例えばポリイミドのような合成ポリマーによって）によって覆われてもよい。一態様では、パッド４の下面（患者の身体領域に面する側）はまた、主にパッド４が接続部５０７に結合されている領域－図５Ａの点線の円－において、カバー層によって少なくとも部分的に覆われて、活性要素１３を避けて、他の利点の中でも、パッド４のこの部分の機械的補強を改善することができる。カバー層（例えば、ポリイミドフィルムまたはフォーム）は、５から５０μｍの範囲、または７から３５μｍの範囲、または１０から３０μｍの範囲の厚さを有することができる。別の態様では、導電性リード５０６は、基板５００の下側（例えば、患者に面する側）に導かれてもよく、導電性リード５０６と患者との接触を防止するために誘電体層によって覆われてもよい（例えば、ポリイミドフィルムまたはフォームのカバー層）。

【0254】

接続部５０７は、可撓性を有していてもよいし、部分的に弾性を有していてもよい。接続部は、接続部５０７の上面および／または下面に分離層としてのカバー層を有する可撓性ＰＣＢで作製され得る。

【0255】

一態様では、接続部５０７は、パッドの基板５００と同じ材料で作られた基板に印刷され得、基板５００の下面に（例えば、金属インクによって）印刷され、カバー層によって覆われてもよく、そのため患者と接触しない。

【0256】

接続部は、その端部にコネクタを有し得る。コネクタは、剛性であり得る。コネクタは、ＵＳＢタイプＡ、ＵＳＢタイプＢ、ＵＳＢタイプＣ、ＵＳＢマイクロＢ、ＤＣ電源コード、ＡＣ電源コード、コンピュータ電源ケーブル、ファイアワイヤ、ＲＪ１１、ファイバコネクタ、ＵＳＢ３．０、ミニディスプレイ、ピンコネクタ、ＳＭＡ、ＤＶＩ、ＢＮＣ、ＩＤＥ、ＰＳ／２、ＲＣＡ、ディスプレイポート、ＰＳＵ、ＳＡＴＡ、ｍＳＡＴＡ、ＤＢ９、ＲＪ４５、ＲＳ２３２、または当技術分野で知られている任意の他のコネクタのうちの１つであり得る。ピンコネクタは、５から６０の範囲、または１０から４４の範囲、または１５から３６の範囲、または２０から３４の範囲の数のピンを有することができる。あるいは、コネクタは、コネクタを面外変形に対して補強するために使用される下に取り付けられた補剛材を用いて可撓性ＰＣＢに作製され得る。補剛材は、プラスチックまたはガラス繊維を含むがこれらに限定されない非導電性材料で作製され得る。補剛材は、０．１から５ｍｍの範囲、または０．５から２ｍｍの範囲、または１から１．５ｍｍの範囲の厚さを有することができる。可撓性ＰＣＢコネクタは、５から６０の範囲、または１０から４４の範囲、または１５から３６の範囲、または２０から３４の範囲のいくつかの接点を備えることができる。

【0257】

一態様では、パッド４、接続部５０７、およびコネクタはすべて、アプリケータの一部であり得る。

【0258】

相互接続ブロック３または本体ユニット２は、パッド４が位置する側とは反対側でコネクタを介して接続部を接続するように構成された１つまたは複数のソケットを備えることができ、１つまたは複数のソケットは、任意のパッドおよび／またはアプリケータを接続するように構成される。あるいは、相互接続ブロックまたは本体ユニットは、複数のソケットを備えてもよく、各ソケットは、特定の治療領域用の１つの特定のパッドおよび／またはアプリケータを接続するように構成される。ソケットは、現在接続されているパッドおよび／またはアプリケータを自動的に決定するように構成され得る。接続されたパッドおよび／またはアプリケータに関する情報は、パッドのメモリから読み出すことができる。あるいは、メモリはコネクタの一部であり得る。接続後、コネクタは、制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）とリンクされ得る。制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）は、ソケットのパッドの検出後に、ヒューマンマシンインターフェース８を介してユーザに１つまたは複数の所定の治療プロトコルを提供することができる。例えば、額パッドのみが接続されている場合、システムは、この特定のパッドを自動的に検出し、患者の額の治療のみを提案でき、ユーザが患者の他の身体部分の治療を設定することを可能にしない。さらに、コネクタは、コネクタをソケットにロックするための切り欠き、溝、スロット、孔および／またはノッチを備えることができる。ソケットはまた、ソケットのコネクタの意図しない接続を防止する安全装置を備えることができる。

【0259】

一態様では、コネクタは、パッドおよび／またはアプリケータが治療するように指定されている身体部分を示すシンボルを含むことができる。

【0260】

また、本体ユニット２と接続部との間、または本体ユニット３とパッド４との間、または、相互接続ブロック３とパッド４との間の接続を拡張するために、相互接続ブロック３と接続部との間に補助的な接続を用いてもよい。

【0261】

平均のパッドの厚さは、１０μｍから２０００μｍの範囲、または５０μｍから１０００μｍの範囲、または８０μｍから３００μｍの範囲、または１００μｍから２００μｍの範囲であり得る。

【0262】

部分的な配置で構成された装置は、定められたサイズの活性ポイントによって形成されたマトリックスを含む活性要素１３（例えば、電極）を有することができる。これらの点は、より速い組織の治癒を可能にする不活性（したがって治療しない）領域によって分離される。活性ポイントを含む表面は、活性要素領域全体（活性領域および不活性領域）の１から９９％、または２から９０％、または３から８０％、または４から７５％を構成し得る。活性ポイントは、組織を貫通しない組織接触側に鈍い末端を有することができ、表面接触組織は、５００μｍ^２から２５００００μｍ^２の範囲、または１０００μｍ^２から２０００００μｍ^２の範囲、または２００μｍ^２から１８００００μｍ^２の範囲、または５０００μｍ^２から１６００００μｍ^２の範囲の表面積を有することができる。鈍い末端は、少なくとも０．０５ｍｍの曲率半径を有することができる。１つの活性ポイントの表面接触組織の直径は、２５μｍから１５００μｍの範囲、または５０μｍから１０００μｍの範囲、または８０μｍから８００μｍの範囲、または１００μｍから６００μｍの範囲であり得る。

【0263】

さらに、デバイスは、熱センサと、測定値に基づいて治療パラメータを調整することができる回路とを備える安全システムを使用することができる。活性要素１３（例えば、電極）の数および分布に応じて、１つまたは複数の熱センサをパッド４の上に統合して、加熱の均一性を保証するように異なる箇所からデータを収集することができる。データは、治療領域または活性要素１３（例えば、電極）から直接収集されてもよい。不均一な加熱または過熱が検出された場合、デバイスは操作者に通知し、同時に治療パラメータを調整して患者の火傷を回避することができる。１つ以上の活性要素（例えば、電極）の治療パラメータを調整することができる。主な治療パラメータは、複数の活性要素１３（例えば、電極）間の切り替えを調整する電力、デューティサイクル、および期間である。温度が安全閾値を超えて上昇した場合、治療は自動的に停止され得る。

【0264】

さらに、皮膚の接触に対する適切な活性要素１３（例えば、電極）を監視するために、インピーダンス測定が組み込まれてもよい。インピーダンスの値が許容限界外である場合、治療は自動的に中断され得、操作者は潜在的な接触問題について知らされ得る。その場合、活性要素（例えば、電極）は、インピーダンスセンサ自体として機能することができる。インピーダンスは、治療前、治療中、または治療後にパッドの１つまたは複数の活性要素（例えば、電極）によって測定され得る。

【0265】

一態様では、電圧パルスおよび／または電流パルスおよび／または位相シフトの測定値を使用して、電流治療の経過を監視することができる。１つの非限定的な例として、電流パルスは長方形の形状を有してもよく、対応する測定電圧パルスは、患者に通る電流の量に応じた形状を有し得る。したがって、それは電圧パルスの測定に基づいて、活性要素１３（例えば、電極）と患者との正しい接触を判定することが可能であり得る。

【0266】

制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）は、パッド４自体に組み込まれてもよく、またはパッド４に導電的に接続された別個の部分を形成し得る。制御機構に加えて、制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）はまた、メインインジケータ（例えば、進行中の治療、実際の温度および活性要素と皮膚との接触）を含んでもよい。

【0267】

図６は、接触療法のための装置のいくつかの送達アプローチを示す。

【0268】

複数の活性要素１３（例えば、電極）が同時に、連続的に、または重複する方法で、またはそれらの任意の組み合わせでエネルギーを送達するように、単一のパッド４内の複数の活性要素１３を切り替えることが可能である。例えば、２つの活性要素（例えば、電極）の場合、同時の方法では、両方の活性要素が時間間隔、例えば１～２０秒の間に同時に使用される。連続的方法では、第１の活性要素（例えば、電極）は、第１の時間間隔、例えば１秒から１０秒の間に使用される。次いで、第１の活性要素は停止され、第２の活性要素（例えば、第２の電極）が、例えば１０秒から２０秒までの後続の時間間隔で、直ちに使用される。この連続ステップを繰り返し得る。重複的方法では、第１の活性要素（例えば、第１の電極）は、例えば１から１０秒の時間間隔の間に使用され、第２の活性要素（例えば、第２の電極）は、例えば１から１０秒の第２の重複時間間隔の間に使用され、第２の時間間隔の間、第１の活性要素および第２の活性要素は、例えば０．１から９．９秒の総合的な重複的方法の時間で重複している。活性要素１３（例えば、電極）は、予め定められた切り替え順序で、またはヒューマンマシンインターフェース８を介して操作者によって設定されたようにランダムにエネルギーを送達することができる。図６のスキーマＩは、パッド４内に配置された非隣接活性要素１３（例えば、電極）から形成された対／グループ間の切り替えを表す。活性要素１３（例えば、電極）のすべての対／グループは、所定の期間（図６の濃い灰色の要素－スキーマＩの要素１および３）にわたってエネルギーを送達しているが、活性要素１３活性要素の残りの対／グループは、エネルギー送達に関して不活性のままである（図６の明るい灰色の要素－スキーマＩの要素２および４）。所定の期間の後、活性要素１３（例えば、電極）の別の対／グループによってエネルギーが供給され、初期の活性要素（例えば、電極）は不活性になる。これを図６に矢印で示す。活性要素１３（例えば、電極）の対／グループ間の切り替えは、治療領域全体にわたって目標温度に達するまで、または所定のエネルギーがすべての活性要素１３（例えば、電極）によって送達されるまで、継続することができる。図６のスキーマＩＩは、活性要素（例えば、電極）がエネルギーを供給しているときのオン状態と、活性要素（例えば、電極）がエネルギーを供給していないときのオフ状態との間のパッド４内のすべての活性要素１３（例えば、電極）の切り替えを表す。オン状態およびオフ状態の持続時間は、所定の設定および／またはセンサ、例えば熱センサによって提供される情報に応じて変化し得る。図６のスキームＩＩＩは、パッド４内の個々の活性要素１３（例えば、電極）の順次スイッチングを示す。各活性要素１３（例えば、電極）は、治療領域全体にわたって目標温度に達するか、またはすべての活性要素１３（例えば、電極）によって所定のエネルギーが送達されるまで、所定の期間にわたってエネルギーを送達する。この順次切り替えは、時計回りまたは反時計回りの順番で実行され得る。図６のスキーマＩＶは、好ましくは、パッド４内のすべての活性要素１３（例えば、電極）がオンになるまで、隣接していない活性要素１３（例えば、電極）が順次エネルギーを送達するジグザグの切り替え順序を表す。各活性要素１３（例えば、電極）は、治療領域全体にわたって目標温度に達するか、またはすべての活性要素（例えば、電極）によって所定のエネルギーが送達されるまで、所定の期間にわたってエネルギーを送達する。

【0269】

制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）は、刺激デバイスを制御し、視覚的外観の改善の少なくとも１つの治療プロトコルによる治療を施すように構成されてもよい。治療プロトコルは、所望の治療効果を保証する一次電磁エネルギーおよび二次エネルギーのパラメータのセットである。各パッドは、同じまたは代替的に異なるプロトコルを提供するように制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）により制御され得る。対の領域、または対称的な効果が望まれる領域は、同じ治療プロトコルで治療することができる。各プロトコルは、１つまたはいくつかのセクションまたはステップを含むことができる。

【0270】

非限定的な例として、図６のスキーマＩＩＩおよびＩＶに示すように、活性要素（例えば、電極）によって高周波エネルギーを１つずつ適用する場合、１つの活性要素（例えば、電極）が患者の組織に高周波エネルギーを送達する時間は、１ミリ秒から１０秒の範囲、または１０ミリ秒から５秒の範囲、または５０ミリ秒から２秒の範囲、または１００ミリ秒から１５００ミリ秒の範囲であり得る。２つの連続する要素は、連続的または重複的方法で、オンおよびオフに切り替えることができる。さらに、２つの連続する活性要素（例えば、電極）による高周波エネルギーの送達は、２つの連続する活性要素（例えば、電極）のいずれも、治療組織の加熱をもたらす高周波エネルギーを供給しないように、高周波刺激なしまたは低周波刺激の時間によって分離されてもよい。高周波刺激なしまたは低周波刺激の時間は、１マイクロ秒から１０００ミリ秒の範囲、または５００マイクロ秒から５００ミリ秒の範囲、または１ミリ秒から３００ミリ秒の範囲、または１０ミリ秒から２５０ミリ秒の範囲であり得る。

【0271】

２つ以上のパッドが使用される場合の治療の場合、高周波治療を施す活性要素（例えば、電極）の順次の切り替えは、他のパッドと独立して各パッド内でなされてもよく、または活性要素（例えば、電極）は、すべてのパッドを介して順次エネルギーを供給してもよい。

【0272】

３つの依存するパッドの例として、各々が２つの活性要素（例えば、電極）を有する。
第１のステップ－高周波エネルギーは、第１のパッドの活性要素１によってもたらされてもよく、他の活性要素はオフにされる、
第２のステップ－第１のパッドの活性要素２がオンにされ、残りの活性要素がオフにされる、
第３のステップ－第２のパッドの活性要素１がオンにされ、残りの活性要素がオフにされる、
第４のステップ－第２のパッドの活性要素２がオンにされ、残りの活性要素がオフにされる、
第５のステップ－第３のパッドの活性要素１がオンにされ、残りの活性要素がオフにされる、
第６のステップ－第３のパッドの活性要素２がオンにされ、残りの活性要素がオフにされる。

【0273】

別の非限定的な例は、
第１のステップ－高周波エネルギーは、第１のパッドの活性要素１によってもたらされ得、他の活性要素はオフにされる、
第２のステップ－第２のパッドの活性要素１がオンにされ、残りの活性要素がオフにされる、
第３のステップ－第３のパッドの活性要素１がオンにされ、残りの活性要素がオフにされる、
第４のステップ－第１のパッドの活性要素２がオンにされ、残りの活性要素がオフにされる、
第５のステップ－第２のパッドの活性要素２がオンにされ、残りの活性要素がオフにされる、
第６のステップ－第３のパッドの活性要素２がオンにされ、残りの活性要素がオフにされる。

【0274】

パッドが、対称的な効果が望まれるペア領域（例えば、頬、大腿部または臀部）を治療している場合、ペアパッドは、同時に同じプロトコルによって駆動され得る。

【0275】

患者を加熱するための高周波エネルギーおよび筋収縮を引き起こす電流を送達する１つのパッドの治療プロトコルの例は、以下の通りである。プロトコルは、１つのパッドの電極が、電極が増加する振幅変調のエンベロープ（増加的エンベロープ）において変調された電流パルスを供給し、一定の振幅（長方形エンベロープ）が続き、減少する振幅変調（減少的エンベロープ）が続くよう処理され得る第１のセクションを含むことができ、これら３つのエンベロープすべてが共に台形振幅変調（台形エンベロープ）を生成することができる。台形エンベロープは、１から１０秒、または１．５から７秒、または２から５秒持続することができる。増加的エンベロープ、長方形エンベロープ、または減少的エンベロープは、０．１から５秒間、または０．１から４秒間、または０．１から３秒間続くことができる。増加的エンベロープと減少的エンベロープは、同時に持続することができ、したがって、対称台形エンベロープを生成する。あるいは、電流は、正弦波エンベロープまたは長方形エンベロープまたは三角形エンベロープに変調され得る。筋収縮を引き起こすそれぞれのエンベロープは、筋収縮が達成されないように、無電流または低電流刺激の時間によって、または組織の加熱を引き起こす高周波エネルギーによって分離され得る。筋収縮がないこの時間の間、吸引開口部による圧力マッサージを施すことができ、これは筋肉の弛緩を引き起こし得る。第１のセクションは、パッドの様々な場所の電極が交流パルスを供給するために適時に切り替えられ得るように予めプログラムされ得、パッドのいくつかの他の電極は、いずれの交流パルスをも供給せず、組織の加熱を引き起こすＲＦパルスのみを供給し得る。パッドのすべての電極は、プロトコルのセクションまたはプロトコル中に組織を加熱するためのＲＦパルスを供給する（供給するために制御ユニット１１によって制御されるスイッチング回路１４によって切り替えられる）ことを保証することができるが、限られた量の電極のみが、プロトコルのセクションまたはプロトコル中に筋収縮のための交流電流を供給する（供給するためにスイッチング回路１４によって切り替えられる）ことができる。デバイスは、第１のセクションが１から５分間続くように構成され得る。

【0276】

第２のセクションは、第１のセクションに続くことができる。第２のセクションは、パッドの様々な場所で第１のセクションで使用されるものとは異なる電極が交流パルスを供給するように時間的に切り替えられ得るように予めプログラムされ得、それにおいてパッドのいくつかの他の電極（第１のセクションで使用されるものと同じまたは異なる電極）は、いずれの交流パルスをも供給せず、組織の加熱を引き起こすＲＦパルスのみを供給し得る。

【0277】

第３のセクションが、第２のセクションに続くことができる。第３のセクションは、パッドの様々な場所で第２のセクションで使用されるものとは異なる電極が交流パルスを供給するように時間的に切り替えられ得るように予めプログラムされてもよく、それにおいてパッドのいくつかの他の電極（第２のセクションで使用されるものと同じまたは異なる電極）は、いずれの交流パルスをも供給せず、組織の加熱を引き起こすＲＦパルスのみを供給し得る。

【0278】

３つの依存するパッド、例えば、額の治療用の１つのパッド（額パッド）と、左右の頬の治療用の２つのパッド（左右の頬パッド）との治療プロトコルの例であって、患者の加熱および筋収縮を引き起こす電流のための高周波エネルギーを送達する治療プロトコルは、以下の通りである：例えば、額の治療用の第１のパッドは、６つの活性要素、例えば電極Ｅ１からＥ６を有し得る；例えば左頬の治療のための第２のパッドは、７つの活性要素、例えば電極Ｅ７からＥ１３を含んでもよい；例えば右頬の治療のための第３のパッドは、７つの活性要素、例えば電極Ｅ１４からＥ２０を含んでもよい。いくつかの電極は、高周波エネルギーを供給するように構成され得、いくつかの電極は、高周波エネルギーと電流の両方を供給するように構成され得る。

【0279】

高周波エネルギーは、１００ｋＨｚから５５０ＭＨｚの範囲、または２５０ｋＨｚから５００ＭＨｚの範囲、または３５０ｋＨｚから１００ＭＨｚの範囲、または３５０ｋＨｚから１４ＭＨｚの範囲の周波数を有する単極高周波エネルギーであり得る。高周波エネルギーは、２００から３０００ミリ秒、または２５０から２０００ミリ秒、または３００から１８００ミリ秒、または３５０から１５００ミリ秒持続し得る長方形エンベロープで送達され得る。あるいは、高周波エンベロープ（以下、ＲＦエンベロープ）は、正弦波のエンベロープまたは三角形エンベロープまたは台形エンベロープに変調され得る。

【0280】

電流は、１から１０秒または１．５から７秒または２から５秒続く台形エンベロープに変調された、１０Ｈｚから１０ｋＨｚの範囲、または２５Ｈｚから１ｋＨｚの範囲、または５０から５００Ｈｚの範囲、または１００から３００Ｈｚの範囲の周波数を有する双極（二相）長方形ＡＣ ＴＥＮＳ電流であり得る。台形エンベロープの増加、長方形、または減少的エンベロープは、０．１から５秒、または０．１から４秒、または０．１から３秒持続することができる。増加的エンベロープと減少的エンベロープは、同じ持続時間を有することができ、したがって、対称台形エンベロープを生成する。あるいは、電流エンベロープ（以下、ＥＣエンベロープ）は、正弦波エンベロープまたは長方形エンベロープまたは三角形エンベロープに変調され得る。

【0281】

プロトコルは、セクションを含むサイクルを有し得る。１サイクルのプロトコルセクションの数は、治療に使用されるすべてのパッド内の使用される電極の総数と同じ数であってもよいし、異なっていてもよい。パッドあたりのセクションの数は、１から１００、または１から８０、または１から６０、または２から２０、または３から１０、または４から９の範囲であり得る。１サイクルあたりのセクションの数は、１から１００、または１から８０、または１から６０、または２から４０、または３から３５、または４から３０の範囲であり得る。各プロトコルセクションは、前のプロトコルセクションに続くことができ、例えば、第２のセクションが、第１のセクションに続く。各プロトコルセクションは、２００ミリ秒から３０００ミリ秒、または２５０ミリ秒から２０００ミリ秒、または３００ミリ秒から１８００ミリ秒、または３５０ミリ秒から１５００ミリ秒持続し得る。サイクルは、治療あたり３０回から３００回、または５０回から２５０回、または８０回から２２０回、または１００回から２００回繰り返すことができる。代替において、サイクルは、治療あたり１５０回から６００回、または１９０回から５５０回、または２００回から５２０回、または２１０回から５００回繰り返される場合がある。一態様では、治療プロトコルは同じサイクルを繰り返し得る。別の態様では、治療プロトコルは異なるサイクルを繰り返すことができ、サイクルは、セクションの数、および／またはセクションの持続時間、および／または電極の活性化および／または非活性化のシーケンス、および／またはＲＦおよび／またはＥＣエンベロープ（例えば、エンベロープの形状、振幅、周波数、持続時間など）に設定されたパラメータ、および／または高周波に設定されたパラメータおよび／または電流のパラメータが異なり得る。

【0282】

２０個のセクションを含むサイクルの例は以下の通りであり得る。

【0283】

第１のセクションでは、電極Ｅ２はＲＦエンベロープを送達する。

【0284】

第２のセクションでは、電極Ｅ７がＲＦエンベロープを送達する。

【0285】

第３のセクションでは、電極Ｅ１４がＲＦエンベロープを送達する。

【0286】

第４のセクションでは、電極Ｅ５がＲＦエンベロープを送達する。

【0287】

第５のセクションでは、電極Ｅ８がＲＦエンベロープを送達する。

【0288】

第１から第５のセクション全体にわたって、電極対Ｅ１からＥ４、Ｅ３からＥ６、Ｅ９からＥ１０、Ｅ１１からＥ１２、Ｅ１６からＥ１７および電極対Ｅ１８からＥ１９は、第１、第２および第３のパッドの下、例えば額パッド、左頬パッドおよび右頬パッドの下で筋収縮を引き起こすＥＣエンベロープを送達する。

【0289】

第６のセクションでは、電極Ｅ１５がＲＦエンベロープを送達する。

【0290】

第７のセクションでは、電極Ｅ１３がＲＦエンベロープを送達する。

【0291】

第８のセクションでは、電極Ｅ２０がＲＦエンベロープを送達する。

【0292】

第９のセクションでは、電極Ｅ１がＲＦエンベロープを送達する。

【0293】

第１０のセクションでは、電極Ｅ３がＲＦエンベロープを送達する。

【0294】

第６から第１０のセクション全体にわたって、電極対Ｅ９からＥ１０、Ｅ１１からＥ１２、Ｅ１６からＥ１７および電極対Ｅ１８からＥ１９は、第２および第３のパッドの下、例えば左および右の頬パッドの下で筋収縮を引き起こすＥＣエンベロープを送達する。

【0295】

第１１のセクションでは、電極Ｅ６がＲＦエンベロープを送達する。

【0296】

第１２のセクションでは、電極Ｅ４がＲＦエンベロープを送達する。

【0297】

第１３のセクションでは、電極Ｅ９がＲＦエンベロープを送達する。

【0298】

第１４のセクションでは、電極Ｅ１６がＲＦエンベロープを送達する。

【0299】

第１５のセクションでは、電極Ｅ１２がＲＦエンベロープを送達する。

【0300】

第１１から第１５のセクション全体を通して、電極対はＥＣエンベロープを送達せず、筋肉を弛緩させる。

【0301】

第１６のセクションでは、電極Ｅ１９がＲＦエンベロープを送達する。

【0302】

第１７のセクションでは、電極Ｅ１０がＲＦエンベロープを送達する。

【0303】

第１８のセクションでは、電極Ｅ１７がＲＦエンベロープを送達する。

【0304】

第１９のセクションでは、電極Ｅ１１がＲＦエンベロープを送達する。

【0305】

第２０のセクションでは、電極Ｅ１８がＲＦエンベロープを送達する。

【0306】

第１６から第２０のセクションを通して、電極対Ｅ１からＥ４およびＥ３からＥ６は、ＥＣエンベロープを送達し、第１のパッドの下、例えば額パッドの下で筋収縮を引き起こす。

【0307】

制御ユニット１１によって制御される３つの依存するパッド４、例えば、額の治療用の１つのパッド（額パッド）と、左右の頬の治療用の２つのパッド（左右の頬パッド）との治療プロトコルの別の例であって、患者の加熱および筋収縮を引き起こす電流のための高周波エネルギーを送達する治療プロトコルは、以下の通りである：例えば、額の治療用の第１のパッドは、６つの活性要素、例えば電極Ｅ１からＥ６を有し得る；例えば左頬の治療のための第２のパッドは、６つの活性要素、例えば電極Ｅ７からＥ１２を含んでもよい；例えば右頬の治療のための第３のパッドは、６つの活性要素、例えば電極Ｅ１３からＥ１８を含んでもよい。いくつかの活性要素は、電磁エネルギー（例えば、高周波エネルギー）または二次エネルギー（例えば電流）のいずれかを供給するように構成され得、いくつかの活性要素は、電磁エネルギーと二次エネルギーの両方を供給するように構成され得る。あるいは、各活性要素は、１つのパッド４の一部であってもよく（したがって、３つではなく１８個のパッドを使用する）、または治療領域に取り付けられた活性要素（例えば、パッドの基板を有しない電極）のみを使用することが可能であり得る。各プロトコルセクションは、２００ミリ秒から３０００ミリ秒、または２５０ミリ秒から２０００ミリ秒、または３００ミリ秒から１８００ミリ秒、または３５０ミリ秒から１５００ミリ秒持続し得る。サイクルは、治療／治療プロトコルごとに３０回から３００回、または５０回から２５０回、または８０回から２２０回、または１００回から２００回繰り返すことができる。代替において、サイクルは、治療あたり１５０回から６００回、または１９０回から５５０回、または２００回から５２０回、または２１０回から５００回繰り返される場合がある。一態様では、治療プロトコルは同じサイクルを繰り返し得る。別の態様では、治療プロトコルは異なるサイクルを繰り返すことができ、サイクルは、セクションの数、および／またはセクションの持続時間、および／または活性要素の活性化および／または非活性化の順序、および／または電磁エネルギーおよび／または二次エネルギーに設定されたパラメータ（例えば、エンベロープの形状、振幅、周波数、持続時間など）が異なり得る。

【0308】

制御ユニット１１によって実行される例示的な治療プロトコルのサイクルは、以下の列挙からの１つまたは複数のセクションを含むことができる。

【0309】

１つのセクションでは、電極Ｅ１０はＲＦエンベロープを送達する。

【0310】

別のセクションでは、電極Ｅ１８はＲＦエンベロープを送達する。

【0311】

別のセクションでは、電極Ｅ１１はＲＦエンベロープを送達する。

【0312】

別のセクションでは、電極Ｅ１５はＲＦエンベロープを送達する。

【0313】

別のセクションでは、電極Ｅ１２はＲＦエンベロープを送達する。

【0314】

別のセクションでは、電極Ｅ１はＲＦエンベロープを送達する。

【0315】

別のセクションでは、電極Ｅ１４はＲＦエンベロープを送達する。

【0316】

別のセクションでは、電極Ｅ７はＲＦエンベロープを送達する。

【0317】

別のセクションでは、電極Ｅ１３はＲＦエンベロープを送達する。

【0318】

別のセクションでは、電極Ｅ８はＲＦエンベロープを送達する。

【0319】

別のセクションでは、電極Ｅ４はＲＦエンベロープを送達する。

【0320】

別のセクションでは、電極Ｅ３はＲＦエンベロープを送達する。

【0321】

別のセクションでは、電極はＲＦエンベロープを送達しない。

【0322】

別のセクションでは、電極Ｅ６がＲＦエンベロープを送達する。

【0323】

別のセクションでは、電極Ｅ５がＲＦエンベロープを送達する。

【0324】

別のセクションでは、電極Ｅ１６がＲＦエンベロープを送達する。

【0325】

別のセクションでは、電極Ｅ９がＲＦエンベロープを送達する。

【0326】

別のセクションでは、電極Ｅ１７がＲＦエンベロープを送達する。

【0327】

別のセクションでは、電極Ｅ２がＲＦエンベロープを送達する。

【0328】

セクションは、特定の順序で次々に配置され得、各セクションは、サイクルに１回または複数回含まれてもよい。一態様では、いくつかのセクションは、サイクルに含まれなくてもよい（例えば、電極がＲＦエンベロープを送達しない場合のセクション）。各プロトコルセクションは、２００から３０００ミリ秒、または２５０から２０００ミリ秒、または３００から１８００ミリ秒、または３５０から１５００ミリ秒続くことができ、サイクルのいくつかのセクションは時間ｔ１の間続くことができ、いくつかのセクションは時間ｔ２の間続くことができ、ｔ２はｔ１よりも長い。さらに、いくつかのセクションは、ｔ１およびｔ２よりも長い時間ｔ３にわたって続くことができる。例えば、セクションは、前の電極に続く電極が前の電極とは異なるパッドからのものであるように配置され得る。

【0329】

サイクルは、一列の１つまたは複数のセクション、例えば、一列の１から７つのセクション、２から６つのセクション、３から５つのセクション、または４から５つのセクションの持続時間にわたって第１のパッド（例えばＥ３からＥ５およびＥ４からＥ６）の電極対によって電流（例えば、１つ以上のＥＣエンベロープ）を送達することをさらに含むことができ、第１のパッドの下、例えば額パッドの下の筋収縮を引き起こす。したがって、電流は、２００ミリ秒から２１秒、２５０ミリ秒から１２秒、９００ミリ秒から９秒、１．４秒から７．５秒の持続時間の間、第１のパッドの電極対（例えばＥ３～Ｅ５およびＥ４～Ｅ６）によって送達され得る。

【0330】

サイクルは、一列の１つまたは複数のセクション、例えば、一列の１から７つのセクション、２から６つのセクション、３から５つのセクション、または４から５つのセクションの持続時間にわたって第１、第２、および第３のパッド（例えばＥ３からＥ５、Ｅ４からＥ６、Ｅ９からＥ１１、Ｅ１０からＥ１２、Ｅ１５からＥ１７およびＥ１６からＥ１８）の電極対によって電流（例えば、１つ以上のＥＣエンベロープ）を送達することをさらに含むことができ、第１、第２、および第３のパッドの下、例えば額パッドの下および左右の頬パッドの下の筋収縮を引き起こす。したがって、電流は、２００ミリ秒から２１秒、２５０ミリ秒から１２秒、９００ミリ秒から９秒、１．４秒から７．５秒の持続時間の間、第１、第２および第３のパッドの電極対（例えば、Ｅ３からＥ５、Ｅ４からＥ６、Ｅ９からＥ１１、Ｅ１０からＥ１２、Ｅ１５からＥ１７およびＥ１６からＥ１８）によって送達され得る。

【0331】

サイクルは、一列の１つまたは複数のセクション、例えば、一列の１から７つのセクション、２から６つのセクション、３から５つのセクション、または４から５つのセクションの持続時間にわたって第２および第３のパッド（例えばＥ９からＥ１１、Ｅ１０からＥ１２、Ｅ１５からＥ１７およびＥ１６からＥ１８）の電極対によって電流（例えば、１つ以上のＥＣエンベロープ）を送達することをさらに含むことができ、第２および第３のパッドの下、例えば左右の頬パッドの下の筋収縮を引き起こす。したがって、電流は、２００ミリ秒から２１秒、２５０ミリ秒から１２秒、９００ミリ秒から９秒、１．４秒から７．５秒の持続時間の間、第２および第３のパッドの電極対（例えば、Ｅ９からＥ１１、Ｅ１０からＥ１２、Ｅ１５からＥ１７およびＥ１６からＥ１８）によって送達され得る。

【0332】

サイクルのいくつかのセクションを通して、電極対はＥＣエンベロープを送達せず、筋肉を弛緩させる。

【0333】

治療プロトコルは、治療中に使用される各電極が１サイクルにつき１回ＲＦエンベロープを送達し得、いくつかの電極対（例えばＥ１からＥ４）が１サイクルにつき２回ＥＣエンベロープを送達し得るように予めプログラムされ得る。あるいは、各電極は、１サイクルあたり２から１０回、または２から８回、または２から５回ＲＦエンベロープを送達し得る。いくつかの電極対は、１サイクルあたり１から１０回、または１から８回、または１から５回、ＥＣエンベロープを送達することができる。

【0334】

一態様では、治療プロトコルは、１つの電極のみがセクションごとにＲＦエンベロープを送達するように予めプログラムされ得る。別の態様では、２個から２０個、または２個から１５個、または２個から１０個、または２個から５個、または２個から３個の電極が、各セクションのＲＦエンベロープを同時に送達し、ＲＦエンベロープは同じであっても異なっていてもよく、ＲＦエンベロープを送達する電極は異なるパッドからのものであり得る。別の態様では、少なくとも１つのセクションの間にＲＦエンベロープが配信されなくてもよい。

【0335】

治療プロトコルは、単一の治療中に、ＲＦエンベロープが各電極によって２５から３００、または５０から２５０、または８０から２００、または１００から１８０回送達され、ＲＦエンベロープの各送達の間にＲＦ休止時間があるように予めプログラムすることができる。ＲＦ休止時間－ＲＦエンベロープの２回の連続的な送達の間に電極が患者に高周波エネルギーを供給していない時間－は、０．５から２０秒、または１から１５秒、または１．５から１２秒、または２から１０秒の範囲であり得る。

【0336】

一態様では、高周波エネルギーは、各電極に加熱の一定の高周波電力（ＣＨＲＰ）を供給するために、制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）によって制御され得、これは、各電極が患者の均一な加熱をもたらすことを意味する。ＣＨＲＰ設定は、電極の寸法および／またはパッドでのその位置および／または患者の身体領域でのその位置に基づいて、各特定のパッドでの各特定の電極に対する治療プロトコルで予めプログラムすることができる。別の態様では、高周波電力は、治療される身体領域の温度および／または高周波エネルギーを供給する電極の温度を測定する少なくとも１つの熱センサからのフィードバックに基づいて制御ユニットによって制御され得、所望の温度に達すると、電極は温度をこの所望のレベルに維持するように制御される。電極下の身体領域の典型的な治療温度は、３７．５℃から５５℃の範囲、または３８℃から５３℃の範囲、または３９℃から５２℃の範囲、または４０℃から５０℃の範囲、または４１℃から４５℃の範囲である。

【0337】

治療プロトコルは、単一の治療中に、ＥＣエンベロープが、ＥＣエンベロープの各送達の間にＥＣ休止時間を有する少なくとも一対の電極によって２５回から１０００回、または５０回から９００回、または１００回から７５０回、または１２０回から６００回、または１５０回から５００回送達されるように予めプログラムされ得る。ＥＣ休止時間－ＥＣエンベロープの２回の連続送達の間に電極対が患者に電流を供給していない時間－は、０．５から２０秒、または１から１５秒、または１．５から１２秒、または２から１０秒の範囲であり得る。あるいは、電極対は、ＥＣ休止時間なしでＥＣエンベロープを次々と送達し得る。

【0338】

治療プロトコルは、少なくとも１つのセクションの間に、活性要素１３（例えば、電極）が１から９００個の電気パルス、２から７００個の電気パルス、１０から５００個の電気パルス、２５から４００個の電気パルス、５０から３７５個の電気パルス、または１００から２００個の電気パルスを供給するように予めプログラムすることができる。

【0339】

別の態様では、高周波エネルギーは、治療全体の間にすべての電極を通して常に送達され得、ＥＣエンベロープのみが順次送達され得る。

【0340】

筋収縮をもたらす３つのパッド４に対して制御ユニット１１によって実行される治療プロトコルのサイクルの別の非限定的な例は、以下の通りであり得る。

【0341】

サイクルは、一列の１つまたは複数のセクション、例えば、一列の１から７つのセクション、２から６つのセクション、３から５つのセクション、または４から５つのセクションの持続時間にわたって第１のパッド（例えばＥ３からＥ５およびＥ４からＥ６）の電極対によって電流（例えば、１つ以上のＥＣエンベロープ）を送達することを含むことができ、第１のパッドの下、例えば額パッドの下の筋収縮を引き起こす。したがって、電流は、２００ミリ秒から２１秒、２５０ミリ秒から１２秒、９００ミリ秒から９秒、１．４秒から７．５秒の持続時間の間、第１のパッドの電極対（例えばＥ３～Ｅ５およびＥ４～Ｅ６）によって送達され得る。

【0342】

サイクルは、一列の１つまたは複数のセクション、例えば、一列の１から７つのセクション、２から６つのセクション、３から５つのセクション、または４から５つのセクションの持続時間にわたって第１、第２、および第３のパッド（例えばＥ３からＥ５、Ｅ４からＥ６、Ｅ９からＥ１１、Ｅ１０からＥ１２、Ｅ１５からＥ１７およびＥ１６からＥ１８）の電極対によって電流（例えば、１つ以上のＥＣエンベロープ）を送達することをさらに含むことができ、第１、第２、および第３のパッドの下、例えば額パッドの下および左右の頬パッドの下の筋収縮を引き起こす。したがって、電流は、２００ミリ秒から２１秒、２５０ミリ秒から１２秒、９００ミリ秒から９秒、１．４秒から７．５秒の持続時間の間、第１、第２および第３のパッドの電極対（例えば、Ｅ３からＥ５、Ｅ４からＥ６、Ｅ９からＥ１１、Ｅ１０からＥ１２、Ｅ１５からＥ１７およびＥ１６からＥ１８）によって送達され得る。

【0343】

サイクルは、一列の１つまたは複数のセクション、例えば、一列の１から７つのセクション、２から６つのセクション、３から５つのセクション、または４から５つのセクションの持続時間にわたって第２および第３のパッド（例えばＥ９からＥ１１、Ｅ１０からＥ１２、Ｅ１５からＥ１７およびＥ１６からＥ１８）の電極対によって電流（例えば、１つ以上のＥＣエンベロープ）を送達することをさらに含むことができ、第２および第３のパッドの下、例えば左右の頬パッドの下の筋収縮を引き起こす。したがって、電流は、２００ミリ秒から２１秒、２５０ミリ秒から１２秒、９００ミリ秒から９秒、１．４秒から７．５秒の持続時間の間、第２および第３のパッドの電極対（例えば、Ｅ９からＥ１１、Ｅ１０からＥ１２、Ｅ１５からＥ１７およびＥ１６からＥ１８）によって送達され得る。

【0344】

サイクルのいくつかのセクションを通じ、電極対はＥＣエンベロープを送達せず、筋肉を弛緩させる。

【0345】

一態様では、治療プロトコルは、治療中に使用される各活性要素１３（例えば、電極、コイル、加熱要素、流体導管）がサイクルあたり１回加熱をもたらし得、いくつかの活性要素１３（例えば、電極、コイル）がサイクルあたり１回以上筋収縮をもたらせるように予めプログラムされ得る。あるいは、各活性要素１３は、１サイクルあたり２回から１０回、２回から８回、または２回から５回の加熱をもたらすことができ、いくつかの活性要素１３は、１サイクルあたり１回から１０回、１回から８回、または１回から５回の筋収縮をもたらすことができる。

【0346】

一態様では、治療プロトコルは、セクション（例えば、高周波エネルギーによって）ごとにただ１つの活性要素１３が加熱をもたらすように予めプログラムされ得る。別の態様では、２から２０、または２から１５、または２から１０、または２から５、または２から３個の活性要素１３は、各セクションで同時に加熱をもたらし、加熱温度は同じであっても異なっていてもよい。別の態様では、加熱は、少なくとも１つのセクションの間にもたらされなくてもよい。各プロトコルセクションは、２００から３０００ミリ秒、または２５０から２０００ミリ秒、または３００から１８００ミリ秒、または３５０から１５００ミリ秒続くことができ、サイクルのいくつかのセクションが時間ｔ１の間続くことができ、いくつかのセクションは時間ｔ２の間続くことができ、ｔ２はｔ１よりも高い。さらに、いくつかのセクションは、ｔ１およびｔ２よりも長い時間ｔ３にわたって続くことができる。

【0347】

一態様では、治療プロトコルは、単一の治療中に、加熱（例えば、高周波エネルギーによって）が、各加熱の間に休止時間を設けて、１つまたは複数の活性要素１３によって２５から３００回、または５０から２５０回、または８０から２００回、または１００から１８０回もたらされるように予めプログラムされ得る。加熱休止時間－非活性要素１３が２つの連続する加熱の間に患者の加熱をもたらしている時間－は、２０ミリ秒から１０秒、または５０ミリ秒から５秒、または１００ミリ秒から２秒、または２５０ミリ秒から１秒の範囲であり得る。

【0348】

一態様では、活性要素１３は、温度を所望のレベルに保つように制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）によって制御され得る。活性要素１３下の身体領域の典型的な治療温度は、３７．５℃から５５℃の範囲、または３８℃から５３℃の範囲、または３９℃から５２℃の範囲、または４０℃から５０℃の範囲、または４１℃から４５℃の範囲である。

【0349】

治療プロトコルは、単一の治療中に、各筋収縮の間に収縮休止時間を有する少なくとも１つの活性要素１３（例えば、電流を供給することによって）または少なくとも一対の活性要素１３によって筋収縮が２５から１０００、または５０から９００、または１００から７５０、または１２０から６００、または１５０から５００回もたらされるように予めプログラムされ得る。１回の収縮は、０．１から１５秒の範囲、または０．５から１２秒の範囲、または１から１０秒の範囲、または２から８秒の範囲の持続時間にわたって持続し得る。収縮休止時間－少なくとも１つの活性要素１３または少なくとも一対の活性要素１３が２つの連続する収縮の間に筋収縮をもたらしていない時間－は、０．５から２０秒、または１から１５秒、または１．５から１２秒、または２から１０秒の範囲であり得る。あるいは、少なくとも１つの活性要素１３または少なくとも一対の活性要素１３は、収縮休止時間なしに次々と収縮をもたらし得る。

【0350】

治療プロトコルは、少なくとも１つのセクション中に、活性要素１３（例えば、電極またはコイル）が１から９００の二次エネルギーパルスまたは２から７００の二次エネルギーパルスまたは１０から５００の二次エネルギーパルスまたは２５から４００の二次エネルギーパルスまたは５０から３７５の二次エネルギーパルスまたは１００から２００の二次エネルギーパルスを供給するように予めプログラムすることができる。さらに、治療プロトコルは、治療中に活性要素１３（例えば、電極またはコイル）が二次エネルギーエンベロープを２５から１０００回、または５０から９００回、または１００から７５０回、または１２０から６００回、または１５０から５００回をもたらすように予めプログラムすることができる。

【0351】

別の態様では、治療全体のすべての活性要素１３を通して常に加熱を行うことができ、例えば各筋収縮の間に収縮休止時間を設けて、収縮のみを順次行うことができる。

【0352】

しかし、別の態様では、治療またはサイクルは、エネルギー／信号が組織に供給されない場合、少なくとも１つのセクションを含み得る。

【0353】

一態様では、パッドは、複数のエネルギーを供給する１つ以上の活性要素１３（例えば、電極またはコイル）を備えてもよく、またはパッドは、複数のエネルギーを供給する、さらに異なる活性要素１３（例えば、電極およびコイル）を備えてもよい。例えば、高周波エネルギー、電流および磁場、または高周波エネルギー、電流および超音波である。あるいは、パッドは、３つ以上の治療、例えば、皮膚の加熱（例えば、高周波エネルギーによって）、筋肉の収縮（例えば電流によって）、および組織のマッサージ／弛緩（例えば、圧力パルスによって）をもたらすように構成され得る。

【0354】

単一の治療は、治療中に使用されるパッドの数に基づいて、１から６０分間、または５から４５分間、または１０から３０分間、または１５から２５分間、または１８から２３分間続くことができる。単一の治療に使用されるパッドの数は、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０または最大１００であり得る。プロトコルは、筋収縮を引き起こす電流を供給する電極が、最大で１、２、３、４または５回の収縮を生成した後に高周波加熱をもたらすよう切り替えられるように、予めプログラムされ得る。

【0355】

それぞれのセクションは、治療プロトコルの制御ユニット（ＣＰＵ）によって組み立てられて、治療ごとに単一のパッドによって、少なくとも６０から９００回の収縮または９０から８００回の収縮、または１５０から７００回の収縮をもたらす。

【0356】

さらに、患者に電流を供給するそれぞれの電極対は、治療ごとに少なくとも５０から１０００回の収縮または６０から９００回の収縮または９０から８００回の収縮または１００から４５０回の収縮をもたらすように制御ユニット（ＣＰＵ）によって制御される。

【0357】

前額部のパッドは、図１０に示すように、解剖学的領域１および解剖学的領域２が筋収縮を引き起こし得る交流によって刺激され、解剖学的領域３が筋収縮を引き起こす交流によって刺激されないような電極のレイアウトを含むことができる。制御ユニット（ＣＰＵ）は、図１０に示すように、解剖学的領域１および２の近傍または上方に位置する電極のみに交流電流によって通電し、高周波エネルギーのみによって解剖学的領域３の近傍または上方の１つまたは複数の電極に通電する治療プロトコルを施すように構成される。解剖学的領域１および２は前頭筋を含んでもよく、解剖学的領域３は鼻根筋の中心を含んでもよい。額パッドはまた、高周波エネルギーで皺眉筋または眼輪筋を治療することができる。

【0358】

頬（顔の両側の眼の下方）の治療に使用されるパッドは、頬筋、咬筋、頬骨筋の筋肉または笑筋を含む解剖学的領域が電流によって刺激され、それらは筋収縮を引き起こす可能性があり、他の解剖学的領域は高周波エネルギーによってのみ加熱され得るように、電極のレイアウトを含むことができる。頬パッドはまた、上唇挙筋の収縮に使用され得る。

【0359】

反対に、パッドは、眼（例えば、眼輪筋を含む身体部分）または歯（例えば、口輪筋を含む身体部分）に近い電極のレイアウトが、筋収縮を引き起こすエネルギーを供給しないように、構成され得る。

【0360】

下唇亜基節または顎下部の領域の治療に使用されるパッドは、顎舌骨筋顎または顎二腹筋を含む解剖学的領域が電流で刺激されて筋収縮を引き起こすことができるように電極のレイアウトを含むことができ、それにおいて他の解剖学的領域は高周波エネルギーによってのみ加熱することができる。一態様では、下唇亜基節パッド（下唇亜基節の治療に使用されるパッド）は、アダムのリンゴに電流を供給しなくてもよいが、アダムのリンゴに高周波エネルギーで加熱することができる。

【0361】

治療デバイスは、各セクションまたはステップにおいて、インピーダンスセンサがパッドまたは活性要素（例えば、電極）と患者との接触に関する情報を制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）に提供するように構成され得る。インピーダンスは、活性要素（例えば、電極）自体によって測定され得る。制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）は、予め設定された条件に基づいて、パッドまたは活性要素（例えば、電極）と患者との接触が十分であるか否かを判定することができる。十分な接触の場合、制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）は、治療プロトコルを継続させることができる。接触が不適切である場合、評価されたパッドまたは活性要素（例えば、電極）はオフにされ、治療プロトコルは連続したパッドまたは活性要素（例えば、電極）まで継続するか、または治療が終了する。パッドまたは活性要素（例えば、電極）の適切な接触の判定は、ヒューマンマシンインターフェース８に表示することができる。

【0362】

インピーダンス測定は、セクション／ステップの開始時、セクション／ステップ中、またはセクション／ステップの終了時に行うことができる。インピーダンス測定および／または適切な接触評価は、所与のセクション／ステップの活性電極上でのみ判定され得、またはセクション／ステップ中に使用されるすべてのパッドのすべての電極で行われてもよい。

【0363】

一態様では、インピーダンスは、治療が患者に施されている間に、すべての活性要素（例えば、電極）を通して監視することができる。デバイスは、治療エネルギー（例えば、高周波または電流）が患者に送出されている間に活性要素（例えば、電極）と患者の皮膚との間のインピーダンスを監視し、電極－皮膚接触領域のサイズの変化を決定するために２つ以上の異なる時点で監視されたインピーダンスを分析し、監視されたインピーダンスの変化が所定の閾値に達した場合、患者に送出される刺激を変更するか、または治療を終了する。所与の時間におけるインピーダンス値の変化は、その時間におけるインピーダンス値と、所与の活性要素（例えば、電極）のインピーダンス測定の履歴からの第１のインピーダンス値であるベースラインインのピーダンスとの間のインピーダンス比によって定量化され得る。

【0364】

デバイスは、課金システムをさらに備えてもよい。課金システムは、リーダと、治療数を記録した情報媒体（例えば、カード）とに基づくことができる。情報媒体（例えば、カード）は、リーダに入れられてもよく、または非接触の原理で作動してもよく、次いで、記録された治療数の数量が、治療中に使用されたパッドの数量に基づいて減算される。新しい情報媒体（例えば、カード）は、１から１００の範囲または２から８０の範囲または５から５０の範囲または１０から４０の範囲の記録された治療回数を含むことができる。情報媒体（例えば、カード）に記録される治療数がなくなると、ユーザは新しい情報媒体（例えば、カード）を注文することができる。パッドまたはアプリケータが使い捨てである場合、情報媒体は、新しいパッドまたはアプリケータの注文の一部であってもよく、記録された治療数の数量は、注文されたパッドまたはアプリケータの量に等しくてもよい。例えば、デバイスのユーザが３０個の使い捨てパッドを注文した場合、情報媒体（例えば、注文の一部でもあるカード）に記録される治療の量も３０である。リーダは、本体ユニット２、または相互接続ブロック３またはアプリケータの一部であり得る。

【0365】

図７および８を併せて説明する。図７は、非接触療法のための装置１００のブロック図を示す。図８は、非接触療法のための装置１００の図である。非接触療法のための装置１００は、２つの主要なブロック、すなわち本体ユニット２と、固定または調整可能アーム２１を介して相互接続された送達ヘッド１９とを備えることができる。

【0366】

本体ユニット２は、１つまたは複数の形態の電磁放射線を生成することができる一次電磁発生器６を含むことができ、電磁放射線は、例えば、インコヒーレント光の形態または所定の波長のコヒーレント光（例えば、レーザ光）の形態とすることができる。電磁場は、レーザ、レーザダイオードモジュール、ＬＥＤ、フラッシュランプ、または白熱電球によって主に生成され得る。電磁放射線は、患者の皮膚の表面下に少なくとも部分的に吸収され得るようなものであり得る。適用される放射線の波長は、１００から１５０００ｎｍの範囲、または２００から１２０００ｎｍの範囲、または３００から１１０００ｎｍの範囲、または４００から１０６００ｎｍの範囲であってもよく、あるいは上述の波長の範囲の第２、第３、第４、第５、第６、第７または第８の高調波の波長の形態であり得る。本体ユニット２は、操作者が治療および他のデバイスのパラメータを確認および調整することを可能にするディスプレイ、ボタン、キーボード、タッチパッド、タッチパネルまたは他の制御部材によって表されるヒューマンマシンインターフェース８を、さらに備えることができる。本体ユニットに配置された電源５は、変圧器、使い捨て電池、充電式電池、電源プラグ、または標準電源コードを含むことができる。電源５の出力電力は、１０Ｗから６００Ｗの範囲であってもよく、５０Ｗから５００Ｗの範囲であってもよく、８０Ｗから４５０Ｗの範囲であり得る。インジケータ１７は、ヒューマンマシンインターフェース８で独立して、デバイスの現在の状態に関する追加情報を提供することができる。インジケータ１７は、ディスプレイ、ＬＥＤ、音響信号、振動、または適切な通知が可能な他の形態によって実現され得る。

【0367】

送達ヘッド１９は、主要な光学的および電気的経路を形成し得るアーム２１を介して本体ユニットと相互接続され得る。アーム２１は、送達ヘッド１９に電力を供給するために必要な光または追加の電気信号の形態の電磁放射のための伝送媒体、例えばワイヤまたは導波路、例えばミラーまたは光ファイバケーブルを含むことができる。制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）１１は、一次電磁発生器の出力に０．１ｐＪ／ｃｍ^２から１０００Ｊ／ｃｍ^２の範囲、または０．５ｐＪ／ｃｍ^２から８００Ｊ／ｃｍ^２の範囲、または０．８ｐＪ／ｃｍ^２から７００Ｊ／ｃｍ^２の範囲、または１ｐＪ／ｃｍ^２から６００Ｊ／ｃｍ^２の範囲のフルエンスを有する連続電磁エネルギー（ＣＭ）またはパルスを発生させることができる電磁発生器６を制御する。ＣＭモードは、０．１秒から２４時間の範囲、または０．２秒から１２時間の範囲、または０．５秒から６時間の範囲、または１秒から３時間の範囲の時間間隔で動作することができる。パルス領域で動作する電磁放射線のパルス持続時間は、０．１フェムト秒から２０００ミリ秒の範囲、または０．５フェムト秒から１５００ミリ秒の範囲、または１フェムト秒から１２００ミリ秒の範囲、または１フェムト秒から１０００ミリ秒の範囲であり得る。あるいは、パルス持続時間は、０．１フェムト秒から１０００ナノ秒の範囲、または０．５フェムト秒から８００ナノ秒の範囲、または１フェムト秒から５００ナノ秒の範囲、または１フェムト秒から３００ナノ秒の範囲であり得る。あるいは、パルス持続時間は、０．３から５０００ピコ秒の範囲、または１から４０００ピコ秒の範囲、または５から３５００ピコ秒の範囲、または１０から３０００ピコ秒の範囲であり得る。あるいは、パルス持続時間は、０．０５から２０００ミリ秒の範囲、または０．１から１５００ミリ秒の範囲、または０．５から１２５０ミリ秒の範囲、または１から１０００ミリ秒の範囲であり得る。パルス領域の一次電磁発生器６は、シングルショットモードまたは繰り返しモードまたはバーストモードで制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）１１によって動作させることができる。繰り返しモードまたはバーストモードの周波数は、０．０５から１００００Ｈｚの範囲、または０．１から５０００Ｈｚの範囲、または０．３から２０００Ｈｚの範囲、または０．５から１０００Ｈｚの範囲であり得る。あるいは、繰り返しモードまたはバーストモードの周波数は、０．１ｋＨｚから２００ＭＨｚの範囲、または０．５ｋＨｚから１５０ＭＨｚの範囲、または０．８ｋＨｚから１００ＭＨｚの範囲、または１ｋＨｚから８０ＭＨｚの範囲であり得る。シングルショットモードは、単一の治療領域の照射のための特定のパラメータ（例えば、強度、持続時間など）の単一の電磁エネルギーを生成するように構成され得る。繰り返しモードは、単一の治療領域の照射のための上述の周波数の繰り返し速度で、１つまたは複数の特定のパラメータ（例えば、強度、持続時間など）を有し得る電磁エネルギーを生成するように構成され得る。バーストモードは、１つのシーケンス中に可変パラメータ（例えば、強度、持続時間、遅延など）を有することができる複数の連続電磁エネルギーを生成するように構成され得、シーケンスは上述の周波数で繰り返され、シーケンスは同じまたは異なる連続電磁エネルギーのセットを含んでもよい。

【0368】

あるいは、デバイスは、同じまたは異なる電磁エネルギーを生成するための２つ以上の一次電磁発生器６を含むことができ、例えば、一方の一次電磁発生器は切除用電磁エネルギーの生成用であり、他方は非切除用電磁エネルギーの生成用である。この場合、操作者は、所与の治療にどの一次電磁発生器を使用することができるかを選択することが可能であり、または臨床医は、ヒューマンマシンインターフェース８を介して必要な治療を選択することができ、制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）１１は、どの一次電磁発生器を使用するかを選択する。デバイス１００の１つまたは複数の一次電磁発生器を同時、連続的、または重複的な方法で動作させることが可能である。例えば、２つの一次電磁発生器の場合、同時の方法では、両方の一次電磁発生器が時間間隔、例えば１から２０ピコ秒の間に同時に使用される。連続的方法では、第１の一次電磁発生器は、第１の時間間隔、例えば１から１０ピコ秒の間に使用される。その後、第１の一次電磁発生器は停止され、第２の一次電磁発生器は、例えば１０から２０ピコ秒の後続の時間間隔で直ちに使用される。このような連続する２つ以上のステップが繰り返され得る。重複的方法では、第１の一次電磁発生器は、例えば１から１０ピコ秒の時間間隔の間に使用され、第２の一次電磁発生器は、例えば２から１１ピコ秒の第２の重複時間間隔の間に使用され、第２の時間間隔の間、第１の一次電磁発生器および第２の一次電磁発生器は、例えば２から１０ピコ秒の総合的な重複的方法で重複している。３つ以上の一次電磁発生器の場合、連続的または重複的方法における一次電磁発生器の作動および停止は、所与の治療に適した順序で制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）１１によって駆動されてもよく、例えば、最初に予熱一次電磁発生器を作動させ、次に切除式の一次電磁発生器を作動させ、次に非切除式の一次電磁発生器を作動させる。

【0369】

送達ヘッド１９の活性要素１３は、光学要素の形態であってもよく、光学要素は、１つまたは複数の光学窓、レンズ、ミラー、ファイバまたは回折要素によって表され得る。活性要素１３を表す光学要素は、送達ヘッド１９の内部の一次電磁発生器６に接続され得、または一次電磁発生器６を含んでもよい。光学要素は、電磁エネルギーの１つのビームを生成することができ、１つのビームの光によって照射される組織の表面として定められるエネルギースポットのサイズを有するエネルギースポットを設けることができる。１つの光学要素は、例えば１つのビームを複数のビームに分割することによって、１つまたは複数のエネルギースポットを設けることができる。エネルギースポットのサイズは、０．００１ｃｍ^２から１０００ｃｍ^２の範囲、または０．００５ｃｍ^２から７００ｃｍ^２の範囲、または０．０１ｃｍ^２から３００ｃｍ^２の範囲、または０．０３ｃｍ^２から８０ｃｍ^２の範囲であり得る。異なる波長または同じ波長のエネルギースポットが重ね合わされ得、または分離され得る。２つ以上の光ビームは、同じスポットに同時に、または０．１マイクロ秒から３０秒の範囲の時間のギャップを伴って、照射され得る。エネルギースポットは、それらの直径の少なくとも１％だけ分離され得、さらに、エネルギースポットは、互いに密接に追従してもよく、または０．０１ｍｍから２０ｍｍ、もしくは０．０５ｍｍから１５ｍｍ、もしくは０．１ｍｍから１０ｍｍの範囲のギャップによって、分離され得る。

【0370】

制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）は、電磁放射線が照準ビーム１８でマークされた治療領域全体に均一に送達され得るように、活性要素１３間の切り替えまたは送達ヘッド１９内の活性要素１３の移動をさらに担うことができる。活性要素１３間の切り替え速度は、送達されるエネルギーの量、パルスの長さなど、および制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）または活性要素１３の切り替えもしくは移動を担う他の機構（例えば、スキャナ）の速度に依存し得る。さらに、デバイスは、複数の活性要素１３が同時、連続的、または重複的な方法でエネルギーを供給するように、それらを切り替えるように構成され得る。例えば、２つの活性要素の場合、同時の方法では、両方の活性要素が時間間隔、例えば１～２０ピコ秒の間に同時に使用される。連続的方法では、第１の活性要素は、第１の時間間隔、例えば１から１０ピコ秒の間に使用される。次いで、第１の活性要素は停止され、第２の活性要素が、例えば１０から２０ピコ秒までの後続の時間間隔で、直ちに使用される。この連続ステップを繰り返し得る。重複的方法では、第１の活性要素は、例えば１から１０ピコ秒の時間間隔の間に使用され、第２の活性要素は、例えば２から１１ピコ秒の第２の重複時間間隔の間に使用され、第２の時間間隔の間、第１の活性要素および第２の活性要素は、例えば２から１０ピコ秒の総合的な重複的方法の時間で重複している。

【0371】

照準ビーム１８は、治療される組織に臨床的な影響を及ぼさず、治療される領域をマークするツールとして機能することができ、その結果、操作者はどの正確な領域が照射されるかを知り、制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）はそれに応じて治療パラメータを設定および調整することができる。照準ビームは、別個の電磁発生器または一次電磁発生器６によって生成され得る。照準ビーム１８は、３００から８００ｎｍの範囲の波長でエネルギーを送達することができ、１０ｍＷの最大出力でエネルギーを供給することができる。

【0372】

さらに、パッドは、照準ビーム１８によってマークされた治療領域内の活性要素１３から治療ポイントまでの距離を測定するための制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）駆動距離センサ２２を含むことができる。測定値は、活性要素と治療ポイント、例えばフルエンスとの間の距離に依存し得る１つまたは複数の治療パラメータを調整するためのパラメータとしてＣＰＵ１１によって使用され得る。距離センサ２２からの情報は、活性要素１３のすべての切り替え／移動の前に制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）に提供され得、それにより、送達されるエネルギーは、その形状または不均一性とは無関係に治療領域にわたって同じままである。

【0373】

患者の皮膚は、少なくとも１つの治療部分にわたって選択された期間にわたって、選択された温度まで予冷され得、予冷のための選択された温度および期間は、好ましくは皮膚を正常な体温よりも低い少なくとも選択された温度まで冷却するのに十分である。皮膚は、少なくとも１つの治療部分が冷却された皮膚によって実質的に囲まれるように、治療部分の少なくとも１つの深さよりも下の深さまで、少なくとも選択された温度まで冷却され得る。冷却は、放射線の適用中に継続することができ、放射線の適用の持続時間は、治療部分の熱緩和時間よりも長くすることができる。冷却は、水冷、噴霧冷却剤、活性固体冷却要素（例えば熱電冷却器）の存在、または空気の流れの冷却を含む任意の既知の機構によってもたらされ得る。冷却要素は、光学要素として作用することができる。あるいは、スペーサが冷却要素として機能し得る。電磁エネルギーによる治療中、治療前または治療後に冷却を行うことができる。治療前の冷却はまた、急激な熱衝撃の環境を提供し得るが、治療後の冷却は、熱衝撃後のより速い再生をもたらし得る。冷却剤の温度は、－２００℃から３６℃の範囲であり得る。治療中の冷却要素の温度は、－８０℃から３６℃または－７０℃から３５℃または－６０℃から３４℃または－２０℃から３０℃または０℃から２７℃または５℃から２５℃の範囲であってもよい。さらに、パッドが患者の皮膚と接触していない場合、極低温スプレー冷却、ガスの流れまたは他の非接触冷却技術を利用することができる。上記の冷却技術の１つに加えて、またはその代わりに、皮膚表面上の冷却ゲルを利用することもできる。

【0374】

さらに、デバイス１００は、１つ以上のセンサを含んでもよい。センサは、少なくとも１つの物理量に関する情報を提供することができ、その測定値は、ヒューマンマシンインターフェース８またはインジケータ１７によって表示され得るフィードバックをもたらすことができる。１つまたは複数のセンサは、送達される電磁放射線または皮膚からの後方散乱電磁放射線のエネルギー、皮膚のインピーダンス、皮膚の抵抗、治療される皮膚の温度、治療しない皮膚の温度、皮膚の少なくとも１つの層の温度、デバイスの含水量、送達または反射されるエネルギーの位相角、活性要素１３の位置、送達要素１９の位置、冷却媒体の温度または一次電磁発生器６の温度を含むがこれらに限定されない、様々な物理量を感知するために使用され得る。センサは、温度センサ、音響センサ、振動センサ、電気センサ、磁気センサ、流れセンサ、位置センサ、光学センサ、撮像センサ、圧力センサ、力センサ、エネルギー束センサ、インピーダンスセンサ、電流センサ、ホールセンサ、または近接センサであり得る。センサは、容量性変位センサ、音響近接センサ、ジャイロスコープ、加速度計、磁力計、赤外線カメラまたはサーモグラフィカメラであり得る。センサは、侵襲的または非接触であり得る。センサは、送達要素１９または本体ユニット２に配置され得、または距離センサ２２の一部であり得る。１つのセンサが複数の物理量を測定し得る。例えば、センサは、ジャイロスコープ、加速度計および／または磁力計の組み合わせを含み得る。さらに、センサは、治療される皮膚または治療されない皮膚の１つまたは複数の物理量を測定することができる。

【0375】

熱センサは、治療される皮膚の温度を測定および監視する。温度は、制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）によって解析することができる。熱センサは、非接触センサ（例えば赤外線温度センサ）であり得る。制御ユニット１１（例えば、ＣＰＵ）はまた、アルゴリズムを使用して、皮膚の表面温度および１つまたは複数の追加のパラメータに基づいて皮膚の表面下の温度を計算することができる。温度フィードバックシステムは、温度を制御し、設定されたまたは予め設定された制限に基づいて、例えば、ヒューマンマシンインターフェース８でまたはインジケータ１７を介して人間が知覚可能な形態で操作者に警告することができる。制限温度条件では、デバイスは、各活性要素の治療パラメータ、例えば出力電力を調整し、冷却を活性化し、または治療を停止するように構成されてもよい。人間が知覚可能な形態は、ヒューマンマシンインターフェース８またはインジケータ１７に示される音声、警告メッセージ、またはデバイス１００の任意の部分の色の変化であってもよい。

【0376】

抵抗センサは、異なる患者によって異なり得るため、皮膚の抵抗を測定することができ、湿度－濡れおよび汗は、抵抗、したがってエネルギー分野における皮膚の挙動に影響を及ぼし得る。測定された皮膚の抵抗に基づいて、皮膚インピーダンスも計算することができる。

【0377】

１つまたは複数のセンサからの情報は、好都合なモデル、例えば、ヒューマンマシンインターフェース８のディスプレイ上に示される人体のモデルの経路の生成に使用することができる。経路は、既に治療されている組織、現在治療されている組織、治療される組織、または治療しない組織の表面または体積を示すことができる。好都合なモデルは、既に治療されている組織または治療しない組織に関する情報を提供しながら、治療される組織の温度マップを示し得る。

【0378】

センサは、骨、炎症組織または関節の位置に関する情報を提供することができる。そのようなタイプの組織は、痛みを伴う治療の可能性があるため、電磁放射線によって標的化されない場合がある。骨、関節または炎症組織は、撮像センサ（超音波センサ、ＩＲセンサ）、インピーダンスなどの任意の種類のセンサによって検出することができる。これらの組織タイプの検出された存在は、一般的な人間の知覚可能な信号または電磁放射線の発生の中断を引き起こす可能性がある。骨は、例えば、組織のインピーダンスの変化によって、または反射された電磁放射線の分析によって検出することができる。

【0379】

さらに、デバイス１００は、患者が治療中にいつでも治療を直ちに停止できるように、緊急停止ボタン１６を含むことができる。

【0380】

治療方法が以下のステップ、つまり組織の準備、提案されているデバイスの位置決め、治療パラメータの選択または設定、およびエネルギーの適用を含むことが、本発明の一部であり得る。複数のステップが同時に実行されてもよい。

【0381】

組織の準備は、メイクアップを除去すること、または患者の皮膚を洗浄することを含み得る。より高い目標温度では、麻酔薬を局所的にまたは注射で適用することができる。

【0382】

デバイスを位置決めすることは、治療される領域に応じてパッドの正しい形状を選択することと、例えば接着剤層、真空吸引、バンドまたはマスクを用いてパッドまたは中性電極を患者に固定することと、接触療法の場合に治療される組織との適切な接触を検証することとを含むことができる。非接触療法の場合、デバイスの位置決めは、デバイスが治療領域からの活性要素の距離を測定し、それに応じて治療パラメータを調整することができるように、提案されているデバイスの照準ビームを調整することを含むことができる。

【0383】

治療パラメータを選択または設定することは、治療時間、電力、デューティサイクル、送達時間およびモード（ＣＭまたはパルス）、部分配置および動作モードのための活性ポイント表面密度／サイズを調整することを含むことができる。動作モードを選択することは、同時、連続的または重複的な方法を選択すること、または活性要素もしくは活性要素のグループの切り替え順序を選択すること、または適切な予めプログラムされたプロトコルを選択することを意味し得る。

【0384】

エネルギーの適用は、ＲＦエネルギーの形態の少なくとも１つのタイプのエネルギー、多色光もしくは単色光の形態の電流、超音波エネルギーもしくは電磁エネルギー、またはそれらの組み合わせを提供することを含むことができる。エネルギーは、提案されているデバイスによって少なくとも１つの活性要素から皮膚内部に供給され得る。エネルギーは、熱センサおよびインピーダンス測定値、ならびに非接触療法の場合には距離センサからの情報に従って、制御ユニット（例えば、ＣＰＵ）によって自動的に送達および調整され得る。治療に対するすべての自動調整および潜在的な影響は、デバイスのディスプレイに表示され得る。操作者または患者のいずれかは、治療中のいつでも治療を中断することができる。典型的な治療は、治療領域ならびに１つ以上のパッドの内部に位置する活性要素のサイズおよび数に応じて、約１から６０分または２から５０分または３から４０分または５から３０分または８から２５分または１０から２０分の持続時間を有し得る。１、２、３、４、５または最大１０個のパッドによる典型的な治療は、約１から６０分または２から５０分または３から４０分５から３０分または８から２５分または１０から２０分の総持続時間を有し得る。１つのパッドによる典型的な治療は、約１から３０分または２から２５分または３から２２分５から２０分または５から１５分または５から１２分の総持続時間を有し得る。

【0385】

一例では、組織へのエネルギーの適用は、パッドに埋め込まれた活性要素から患者の皮膚に高周波エネルギーおよび／または電流および／または超音波エネルギーまたはこれらの任意の組み合わせを供給することを含み得る。そのような実施形態では、高周波エネルギーを供給する活性要素は容量性または抵抗性ＲＦ電極であり、ＲＦエネルギーは皮膚の加熱、凝固またはアブレーションを引き起こし得る。電流はＲＦ電極によって供給され、筋収縮を引き起こし得る。超音波エネルギーは、音響窓を通して供給されてもよく、ＲＦエネルギーの勾配損失を抑制することができる深さの温度を上昇させることができ、したがって、胚層の所望の温度に到達することができる。さらに、ＲＦ電極は、超音波エネルギーの音響窓として機能することができる。

【0386】

あるいは、組織へのエネルギーの適用は、活性要素から患者の皮膚に多色光または単色光の形態の電磁エネルギーを供給することを含んでもよい。そのような場合、電磁エネルギーを供給する活性要素は、提案されているデバイスに記載された光学要素を含むことができる。光学要素は、光学窓、レンズ、ミラー、ファイバ、または電磁場発生器、例えばＬＥＤ、レーザ、フラッシュランプ、白熱電球、または最新技術で知られている他の光源によって表されてもよい。多色光または単色光の形態の電磁エネルギーは、治療される領域の皮膚の加熱、凝固またはアブレーションを伴い得る。

【0387】

治療が終了する、必要とされる温度および治療時間に達した後、デバイス付属品を取り外し、患者の皮膚の洗浄を行うことができる。

【図1】

【図2】

【図3A】

【図3B】

【図3C】

【図3D】

【図3E】

【図3F】

【図4A】

【図4B】

【図4C】

【図4D】

【図4E】

【図5A】

【図5B】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9A】

【図9B】

【図9C】

【図9D】

【図9E】

【図9F】

【図9G】

【図9H】

【図9I】

【図10】

【図11A】

【図11B】

【図11C】

【図11D】

【手続補正書】

【提出日】2024-07-08

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

患者を治療するためのデバイスであって、
患者の治療領域に結合されるように構成されたアプリケータであって、前記アプリケータが、
治療の間に前記治療領域に取り付けられるように構成された可撓性パッドであって、前記可撓性パッドが、
前記治療の間に前記患者に面するように構成された下面を含む可撓性基板と、
前記可撓性基板の前記下面に結合され、前記治療領域に取り付けられるように構成された複数の電極と、を備え、
前記複数の電極は、パルス電流を前記治療領域に印加して、前記治療領域内部の少なくとも１つの筋肉の少なくとも１つの筋刺激を引き起こし、高周波エネルギーを前記治療領域に印加して、前記治療領域の皮膚の表面を加熱するように構成された電極を含み、
前記電極の表面積は、１ｃｍ^２～２５ｃｍ^２の範囲であり、
前記電極は可撓性であり、
導電性材料を含むグリッドラインと、
前記グリッドラインを分離する開口、および
前記導電性材料を含み、前記グリッドラインおよび開口の境界を画定するフレームを備え、
前記複数の電極から隣り合う電極の間の距離は、０．７ｍｍ～３０ｍｍの範囲である、可撓性パッドと、
コネクタ、および
片側で前記可撓性パッドに結合され、反対側で前記コネクタに結合された可撓性接続部、を備える、アプリケータを備え、
前記アプリケータは、前記治療の間に前記パルス電流および前記高周波エネルギーを前記治療領域に印加するように構成され、
前記治療領域が、前額部、頬、眼窩周囲領域、顎のライン、口腔周囲領域、首または下唇亜基節のうちの１つを含む、デバイス。

【請求項2】

前記フレームの厚さが０．１ｍｍ～５ｍｍの範囲である、請求項１に記載のデバイス。

【請求項3】

前記グリッドラインの厚さが、０．０１ｍｍ～２．３ｍｍの範囲である、請求項１に記載のデバイス。

【請求項4】

前記フレーム、前記フレーム内側の前記グリッドライン、および前記フレーム内側の前記開口の総投影表面積は、１ｃｍ^２～２０ｃｍ^２の範囲である、請求項１から３のいずれか一項に記載のデバイス。

【請求項5】

前記複数の電極と前記治療領域との間に配置されるように構成された接着剤をさらに備え、
前記接着剤は、治療中に前記可撓性パッドを身体部分に取り付けるように構成される、請求項１に記載のデバイス。

【請求項6】

前記接着剤が、前記治療領域に面する前記可撓性パッドの表面全体を覆うヒドロゲルを含む、請求項５に記載のデバイス。

【請求項7】

前記コネクタは、可撓性ＰＣＢと、その下方において前記コネクタを面外変形に対して補強するように構成された補剛材とを備え、
前記コネクタは、５から６０個の接点を備える、請求項１に記載のデバイス。

【請求項8】

前記アプリケータが、前記可撓性パッドの上面に結合されたステッカーをさらに備え、前記ステッカーが、前記可撓性パッドに重なり、０．１ｃｍ～１０ｃｍの範囲の前記可撓性パッドの対応する寸法を超える寸法を有する、請求項１に記載のデバイス。

【請求項9】

前記ステッカーの底面が、前記患者の前記治療領域への前記可撓性パッドの追加の固定をもたらすように構成された接着剤層を備える、請求項８に記載のデバイス。

【請求項10】

前記複数の電極が、２から２０個の電極を含む、請求項１に記載のデバイス。

【請求項11】

前記可撓性パッドは、前記患者の前額部に取り付けられるように構成され、
前記電極が、前頭筋の上に配置された前記可撓性パッドの左側に配置され、前記患者の前頭筋の収縮を引き起こすように構成され、
前記複数の電極のうちの別の電極が、前頭筋の上に配置された前記可撓性パッドの右側に配置され、前記患者の前頭筋の収縮を引き起こすように構成され、
前記電極は、２ｃｍ～８ｃｍの範囲の距離で前記別の電極から離隔している、請求項１０に記載のデバイス。

【請求項12】

前記複数の電極は、前記電極と前記別の電極との間に配置され、前記高周波エネルギーを印加するように構成された中間電極を含む、請求項１１に記載のデバイス。

【請求項13】

前記可撓性パッドは、前記可撓性パッドを前記患者の前記前額部の領域に正確に結合するための焦点として機能するように構成された前記可撓性パッドの底部中間部分に凸状の突起または凹状の窪みを含み、前記凸状の突起または前記凹状の窪みは前記患者の鼻と位置合わせされる、請求項１１または１２に記載のデバイス。

【請求項14】

患者を治療するためのデバイスであって、
患者の治療領域に結合されるように構成されたアプリケータであって、前記アプリケータが、
治療の間に前記治療領域に取り付けられるように構成された可撓性パッドであって、前記可撓性パッドが、
前記治療の間に前記患者に面するように構成された下面と、前記治療の間に前記患者から外方に面するように構成された上面とを含む可撓性基板と、
前記可撓性基板の前記下面に結合され、前記治療領域に取り付けられるように構成された電極と、を備え、
前記電極は、パルス電流を前記治療領域に印加して、前記治療領域内部の少なくとも１つの筋肉の少なくとも１つの筋刺激を引き起こし、高周波エネルギーを前記治療領域に印加して、前記治療領域の皮膚の表面を加熱するように構成され、
前記電極の表面積は、１ｃｍ^２～２５ｃｍ^２の範囲であり、
前記電極の下に配置され、治療の間に前記可撓性パッドを身体部分に取り付けるように構成されたヒドロゲルを含む接着剤と、を含む、可撓性パッドと、
片側で前記可撓性パッドに結合され、可撓性ＰＣＢを含む可撓性接続部と、
前記可撓性ＰＣＢに作製された可撓性コネクタであって、
前記可撓性コネクタは、前記可撓性コネクタを補強するように構成された補剛材に取り付けられる、可撓性コネクタを備える、アプリケータを備え、
前記アプリケータは、前記治療の間に前記パルス電流および前記高周波エネルギーを前記治療領域に印加するように構成される、デバイス。

【請求項15】

患者を治療するためのデバイスであって、
患者の身体部分に結合されるように構成されたアプリケータであって、前記アプリケータが、
治療の間に前記身体部分の治療領域に取り付けられるように構成された可撓性パッドであって、前記可撓性パッドが、
前記治療の間に前記患者に面するように構成された下面と、前記治療の間に前記患者から外方に面するように構成された上面とを含む可撓性基板と、
前記可撓性基板の前記下面に結合され、前記治療領域に取り付けられるように構成された電極と、を備え、
前記電極は、パルス電流を前記治療領域に印加して、前記治療領域内部の少なくとも１つの筋肉の少なくとも１つの筋刺激を引き起こし、高周波エネルギーを前記治療領域に印加して、前記治療領域の皮膚の表面を加熱するように構成され、
前記電極の表面積は、１ｃｍ^２～２５ｃｍ^２の範囲内である、可撓性パッドと、
可撓性コネクタであって、
前記可撓性コネクタが、前記可撓性コネクタを補強するように構成された補剛材に取り付けられる可撓性コネクタ、および
前記可撓性基板の前記上面に結合されたステッカーであって、
前記ステッカーは、前記可撓性パッドと重なり、０．１ｃｍ～１０ｃｍの範囲で前記可撓性パッドの対応する寸法を超える寸法を有し、
前記ステッカーの前記可撓性パッドを超える部分は、前記可撓性パッドを前記治療領域に取り付けるように構成された粘着層を含む、ステッカーを備える、アプリケータを備え、
前記アプリケータは、前記治療の間に前記パルス電流および前記高周波エネルギーを前記治療領域に印加するように構成され、
前記身体部分は、顔、首、または下唇亜基節のうちの１つを含む、デバイス。

【請求項16】

前記電極が、銅、アルミニウム、金、鉛、銀またはグラファイトを含む、請求項１から３、５から１２、または１４から１５のいずれか一項に記載のデバイス。

【請求項17】

前記電極の最も近い点と前記可撓性パッドの縁の最も近い点との間の距離が、０．１から１０ｍｍの範囲である、請求項１から３、５から１２、または１４から１５のいずれか一項に記載のデバイス。

【請求項18】

前記可撓性基板が、ポリマー系材料、シリコーン系材料または布地を含む、請求項１から３、５から１２、または１４から１５のいずれか一項に記載のデバイス。

【請求項19】

前記可撓性パッドが、０．００６ｍｍ^－１～２ｍｍ^－１の範囲の曲率ｋを有する円弧の形状の少なくとも１つの曲率を含む凹凸の形状を有し、１０μｍ～２０００μｍという範囲の平均の厚さを有する、請求項１から３、５から１２、または１４から１５のいずれか一項に記載のデバイス。

【請求項20】

前記可撓性パッドが、前記患者の前記下唇亜基節に取り付けられるように構成され、
前記電極が、前記患者の顎舌骨筋、筋腱膜、オトガイ舌骨筋、顎二腹筋、または広頸筋のうちの少なくとも１つの上に配置されるように構成されている、請求項１から３、５から１２、または１４から１５のいずれか一項に記載のデバイス。

【請求項21】

前記可撓性パッドは、前記患者の前記下唇亜基節に取り付けられるように構成され、
前記電極は、顎舌骨筋または顎二腹筋の少なくとも一方の筋収縮をもたらすように前記可撓性パッドに配置され、
前記高周波エネルギーが、前記下唇亜基節内部の脂肪の脂肪減少をもたらすために、前記下唇亜基節内部の脂肪組織を加熱するように構成された単極高周波エネルギーである、請求項１から３、５から１２、または１４から１５のいずれか一項に記載のデバイス。

【請求項22】

前記可撓性パッドが、１ｃｍ^２～５０ｃｍ^２の範囲の表面積を有し、
睡眠時無呼吸および／またはいびきを治療するために、オトガイ舌筋の筋収縮をもたらすために前記電極が前記可撓性パッド上に配置される、請求項１から３、５から１２、または１４から１５のいずれか一項に記載のデバイス。

【請求項23】

前記可撓性パッドが、０．５ｃｍ^２～１００ｃｍ^２の範囲の表面積を有し、
前記可撓性パッドは、対称的に配置され、前記患者の左頬または右頬に取り付けられるように構成され、
前記複数の電極のうちの少なくとも１つの電極は、前記患者の広頸筋、頬筋、菱形筋、頬骨筋、咬筋、または上唇挙筋のうちの少なくとも１つの上に配置され、広頸筋、頬筋、菱形筋、頬骨筋、咬筋、または上唇挙筋のうちの前記少なくとも１つの収縮を引き起こすように構成される、請求項１から３、５から１２、または１４から１５のいずれか一項に記載のデバイス。

【請求項24】

前記パルス電流が、前記治療領域の疼痛の一時的な軽減を引き起こすように構成された２５Ｈｚ～１ｋＨｚの範囲の周波数で繰り返す二相電流である、請求項１から３、５から１２、または１４から１５のいずれか一項に記載のデバイス。

【請求項25】

本体ユニットであって、
１Ｗ～２００Ｗの範囲の出力電力で４００ｋＨｚ～８０ＭＨｚの範囲の周波数を有する前記高周波エネルギーを発生させるように構成された高周波発生器と、
０．５μｓ～５００ｍｓの範囲のパルス持続時間を有する前記パルス電流を発生させるように構成された電流発生器と、
前記高周波発生器および前記電流発生器を制御するように構成された制御ユニット、および
前記高周波発生器、前記電流発生器、および前記制御ユニットに結合されたソケット、を含む本体ユニットをさらに含み、
前記可撓性コネクタは、前記ソケットを介して前記アプリケータを前記高周波発生器および前記電流発生器に取り外し可能に接続するように構成される、請求項１から３、５から１２、または１４から１５のいずれか一項に記載のデバイス。

【国際調査報告】