特表 2024-541391 霧化器及び電子霧化装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-11-08

(54)【発明の名称】霧化器及び電子霧化装置

(51)【国際特許分類】

   A24F 40/46 20200101AFI20241031BHJP

   A24F 40/20 20200101ALI20241031BHJP

【ＦＩ】

A24F40/46

A24F40/20

【審査請求】有

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2024529190

(86)(22)【出願日】2022-11-03

(85)【翻訳文提出日】2024-05-15

(86)【国際出願番号】 CN2022129433

(87)【国際公開番号】W WO2023116221

(87)【国際公開日】2023-06-29

(31)【優先権主張番号】202123304720.1

(32)【優先日】2021-12-24

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】517419906

【氏名又は名称】深▲せん▼麦克韋爾科技有限公司

【氏名又は名称原語表記】ＳＨＥＮＺＨＥＮ ＳＭＯＯＲＥ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＬＩＭＩＴＥＤ

【住所又は居所原語表記】１６＃， Ｄｏｎｇｃａｉ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｐａｒｋ， Ｇｕｓｈｕ Ｔｏｗｎ， Ｘｉｘｉａｎｇ Ｓｔｒｅｅｔ， Ｂａｏａｎ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ， Ｓｈｅｎｚｈｅｎ， Ｇｕａｎｇｄｏｎｇ， Ｃｈｉｎａ

(74)【代理人】

【識別番号】110000291

【氏名又は名称】弁理士法人コスモス国際特許商標事務所

(72)【発明者】

【氏名】杜 紅飛

(72)【発明者】

【氏名】周 宏明

(72)【発明者】

【氏名】肖 俊杰

(72)【発明者】

【氏名】李 歓喜

(72)【発明者】

【氏名】李 日紅

【テーマコード（参考）】

4B162

【Ｆターム（参考）】

4B162AA03

4B162AA22

4B162AB12

4B162AC12

4B162AC22

4B162AC27

(57)【要約】

霧化器（１００）及び電子霧化装置（２００）であって、霧化器（１００）は、内部に加熱キャビティ（１１）が形成されている加熱部材（１０）と、少なくとも１組の電極アセンブリ（３０）と、を含み、各組の電極アセンブリ（３０）は、第１電極（３２）及び第２電極（３４）を含み、第１電極（３２）及び第２電極（３４）は、いずれも加熱キャビティ（１１）内に挿入され、加熱キャビティ（１１）内で第１電極（３２）と第２電極（３４）との間は制御されてアークを形成してプラズマを形成することができ、プラズマにより加熱キャビティ（１１）を発熱させる。また、加熱部材（１０）は、エアロゾル発生基質を収容する収容箇所（１５）を形成することができる。加熱キャビティ（１１）の内部がプラズマにより発熱した後、熱を収容箇所（１５）に伝達し、さらに、収容箇所（１５）に設けられたエアロゾル発生基質を加熱することができる。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

内部に加熱キャビティが形成されている加熱部材と、
少なくとも１組の電極アセンブリとを含み、各組の前記電極アセンブリは、第１電極及び第２電極を含み、前記第１電極及び前記第２電極は、いずれも前記加熱キャビティ内に挿入され、前記加熱キャビティ内で前記第１電極と前記第２電極との間は制御されてアークを形成してプラズマを形成することができ、
前記加熱部材は、エアロゾル発生基質を収容するための収容箇所を形成することができる、ことを特徴とする、霧化器。

【請求項2】

前記加熱キャビティ内に不活性ガスが充填される、ことを特徴とする請求項１に記載の霧化器。

【請求項3】

前記加熱キャビティ内の気圧が標準大気圧よりも小さい、ことを特徴とする請求項１に記載の霧化器。

【請求項4】

前記加熱部材は、石英ガラス、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ジルコニア及びアルミナのうちのいずれか１種からなる、ことを特徴とする請求項１に記載の霧化器。

【請求項5】

前記加熱部材の外面の一部は、内側に凹んで一端が開口した第１収容キャビティを形成し、前記加熱キャビティは、前記第１収容キャビティの外周を囲んで設けられ、
前記第１収容キャビティは、前記収容箇所として構成される、ことを特徴とする請求項１～４のいずれか一項に記載の霧化器。

【請求項6】

前記加熱キャビティは、第１サブキャビティ及び第２サブキャビティを含み、前記第１サブキャビティは、前記第１収容キャビティの外周を囲んで環状に設けられ、前記第２サブキャビティは、前記第１収容キャビティの自らの開口と背向する底部に位置し、前記第１サブキャビティと連通し、
前記第１サブキャビティ及び前記第２サブキャビティの少なくとも一方内に前記電極アセンブリが挿入される、ことを特徴とする請求項５に記載の霧化器。

【請求項7】

前記加熱部材は、取付ベースと、前記取付ベースに設けられた加熱ベースとを含み、前記取付ベースの内部には、前記加熱キャビティが形成され、前記加熱ベースの内部には、一端が開口した第２収容キャビティが形成され、前記加熱キャビティは、前記第２収容キャビティの自らの開口と背向する底部に位置し、
前記第２収容キャビティは、前記収容箇所として構成される、ことを特徴とする請求項１に記載の霧化器。

【請求項8】

前記加熱部材は、取付ベースと、前記取付ベースに設けられた加熱ベースとを含み、前記加熱キャビティは、第３サブキャビティ及び第４サブキャビティを含み、前記第３サブキャビティは、前記取付ベースの内部に形成され、前記第４サブキャビティは、前記加熱ベースの内部に形成され、前記第３サブキャビティと連通し、
前記第３サブキャビティ内には、前記電極アセンブリが挿入され、前記取付ベースと前記加熱ベースの互いに対向する外面の間は、前記加熱ベースを囲む前記収容箇所として構成される、ことを特徴とする請求項１に記載の霧化器。

【請求項9】

前記取付ベースと前記加熱ベースは、一体に成形され、或いは、
前記取付ベースは、前記加熱ベースとは別体に成形される、ことを特徴とする請求項７又は８に記載の霧化器。

【請求項10】

前記加熱ベースは、前記取付ベースとは別体に成形され、前記加熱ベースと前記取付ベースとが固定接続された後、両者の間に熱伝導キャビティが画定され、前記熱伝導キャビティ内に熱伝導媒体が充填される、ことを特徴とする請求項９に記載の霧化器。

【請求項11】

請求項１～１０のいずれか一項に記載の霧化器を含む、ことを特徴とする電子霧化装置。

【請求項12】

ハウジングをさらに含み、前記霧化器は、前記ハウジング内に設けられ、前記ハウジング内には、前記加熱部材の外周を流れて前記収容箇所に入る吸気通路が形成されている、ことを特徴とする請求項１１に記載の電子霧化装置。

【請求項13】

前記加熱部材は、取付ベースと、前記取付ベースに設けられた加熱ベースとを含み、前記加熱キャビティは、第３サブキャビティ及び第４サブキャビティを含み、前記第３サブキャビティは、前記取付ベースの内部に形成され、前記第４サブキャビティは、前記加熱ベースの内部に形成され、前記第３サブキャビティと連通し、前記第３サブキャビティ内には、前記電極アセンブリが挿入され、前記取付ベースと前記加熱ベースの互いに対向する外面は、前記加熱ベースを囲む前記収容箇所として構成され、
前記吸気通路は、前記ベースの外周を流れて前記収容箇所へ流れるように構成される、ことを特徴とする請求項１２に記載の電子霧化装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本願は、電子霧化の技術分野に関し、特に、霧化器及び電子霧化装置に関する。

【背景技術】

【0002】

エアロゾルは、固体又は液体の微小粒子がガス媒体に分散して浮遊して形成されたコロイド分散系であり、エアロゾルが呼吸器系統を介して人体に吸入されるため、ユーザーに新しい代替的な吸入方式を提供する。例えば、草本類又はペースト類のエアロゾル発生基質をベーク加熱してエアロゾルを発生させる霧化装置は、異なる分野に適用し、ユーザーに吸入可能なエアロゾルを供給して、通常の製品形態及び吸入方式を代替することができる。

【0003】

電子霧化装置は、通常、抵抗式又は電磁誘導の方式により、エアロゾル発生基質を加熱するが、上記２つの加熱方式に必要な予熱待ち時間がいずれも長いため、ユーザーの利便性が低い。また、抵抗加熱は、外部電源によって抵抗素子を通電して発熱させ、発熱した抵抗素子は、熱を熱伝導によりエアロゾル発生基質に伝達することであるが、熱伝導に時間を要し、ヒステリシスが存在するため、抵抗素子に近接するエアロゾル発生基質は、常に過熱や焦げてしまい、過熱や焦げは、吸い感の均一性に悪影響を及ぼすことがある。そして、抵抗加熱部材がエアロゾル発生基質と接触して加熱する際に、抵抗加熱部材における金属物質がエアロゾル発生基質が霧化して形成されたエアロゾルに入り、霧化の吸い感に影響を及ぼす可能性がある。

【0004】

そのため、従来のエアロゾル発生基質の加熱方式は、予熱時間が長く、霧化の吸い感が良くない。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

これに基づいて、従来の電子霧化装置の予熱待ち時間が長く、霧化の吸い感が良くないという問題に対して、霧化器及び電子霧化装置を提供する必要がある。

【課題を解決するための手段】

【0006】

霧化器は、
内部に加熱キャビティが形成されている加熱部材と、
少なくとも１組の電極アセンブリとを含み、各組の前記電極アセンブリは、第１電極及び第２電極を含み、前記第１電極及び前記第２電極は、いずれも前記加熱キャビティ内に挿入され、前記加熱キャビティ内で前記第１電極と前記第２電極との間は制御されてアークを形成してプラズマを形成することができ、
前記加熱部材は、エアロゾル発生基質を収容するための収容箇所を形成することができる。

【0007】

上記霧化器において、第１電極及び第２電極をいずれも加熱部材の加熱キャビティ内に挿入し、交流給電又は直流給電の第１電極と第２電極との間で絶縁破壊を起こしてアークを発生させ、さらに加熱キャビティ内でガスを電離してプラズマを形成し、プラズマにより加熱キャビティを発熱させる。また、加熱部材は、エアロゾル発生基質を収容する収容箇所を形成することができ、収容箇所は、加熱キャビティとの間で熱伝導を行うことができる。加熱キャビティの内部がプラズマにより発熱した後、熱を収容箇所に伝達し、さらに、収容箇所に設けられたエアロゾル発生基質を加熱することができる。このように、加熱キャビティ内のプラズマから発生した熱を利用してエアロゾル発生基質を迅速に加熱し、予熱待ち時間を短縮し、ユーザーの利便性を高めるとともに、予熱時間が長すぎてエアロゾル発生基質を焼け焦げることを防止し、霧化の吸い感を向上させる。同時に、加熱過程において、電極などの金属部材は、エアロゾル発生基質と直接接触する必要がないため、エアロゾル発生基質が霧化された後、エアロゾルに金属物質が混入することを防止し、霧化の吸い感をさらに向上させることができる。

【0008】

一実施例において、前記加熱キャビティ内に不活性ガスが充填される。

【0009】

一実施例において、前記加熱キャビティ内の気圧が標準大気圧よりも小さい。

【0010】

一実施例において、前記加熱部材は、石英ガラス、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ジルコニア及びアルミナのうちのいずれか１種からなる。

【0011】

一実施例において、前記加熱部材の外面の一部は、内側に凹んで一端が開口した第１収容キャビティを形成し、前記加熱キャビティは、前記第１収容キャビティの外周を囲んで設けられ、
前記第１収容キャビティは、前記収容箇所として構成される。

【0012】

一実施例において、前記加熱キャビティは、第１サブキャビティ及び第２サブキャビティを含み、前記第１サブキャビティは、前記第１収容キャビティの外周を囲んで環状に設けられ、前記第２サブキャビティは、前記第１収容キャビティの自らの開口と背向する底部に位置し、前記第１サブキャビティと連通し、前記第１サブキャビティ及び前記第２サブキャビティの少なくとも一方内に前記電極アセンブリが挿入される。

【0013】

一実施例において、前記加熱部材は、取付ベースと、前記取付ベースに設けられた加熱ベースとを含み、前記取付ベースの内部には、前記加熱キャビティが形成され、前記加熱ベースの内部には、一端が開口した第２収容キャビティが形成され、前記加熱キャビティは、前記第２収容キャビティの自らの開口と背向する底部に位置し、前記第２収容キャビティは、前記収容箇所として構成される。

【0014】

一実施例において、前記加熱部材は、取付ベースと、前記取付ベースに設けられた加熱ベースとを含み、前記加熱キャビティは、第３サブキャビティ及び第４サブキャビティを含み、前記第３サブキャビティは、前記取付ベースの内部に形成され、前記第４サブキャビティは、前記加熱ベースの内部に形成され、前記第３サブキャビティと連通し、前記取付ベースと前記加熱ベースの互いに対向する外面の間は、前記加熱ベースを囲む前記収容箇所として構成される。

【0015】

一実施例において、前記取付ベースと前記加熱ベースは、一体に成形され、或いは、前記取付ベースは、前記加熱ベースとは別体に成形される。

【0016】

一実施例において、前記加熱ベースは、前記取付ベースとは別体に成形され、前記加熱ベースと前記取付ベースとが固定接続された後、両者の間に熱伝導キャビティが画定され、前記熱伝導キャビティ内に熱伝導媒体が充填される。

【0017】

電子霧化装置は、上記霧化器を含む。

【0018】

一実施例において、電子霧化装置は、ハウジングをさらに含み、前記霧化器は、前記ハウジング内に設けられ、前記ハウジング内には、前記加熱部材の外周を流れて前記収容箇所に入る吸気通路が形成されている。

【0019】

一実施例において、前記加熱部材は、取付ベースと、前記取付ベースに設けられた加熱ベースとを含み、前記加熱キャビティは、第３サブキャビティ及び第４サブキャビティを含み、前記第３サブキャビティは、前記取付ベースの内部に形成され、前記第４サブキャビティは、前記加熱ベースの内部に形成され、前記第３サブキャビティと連通し、前記第３サブキャビティ内には、前記電極アセンブリが挿入され、前記取付ベースと前記加熱ベースの互いに対向する外面は、前記加熱ベースを囲む前記収容箇所として構成され、前記吸気通路は、前記ベースの外周を流れて前記収容箇所へ流れるように構成される。

【0020】

本願の実施例又は従来技術における技術的手段をより明確に説明するために、以下、実施例又は従来技術の説明に使用される必要がある図面を簡単に説明する。明らかなように、以下の説明における図面は、本願の実施例に過ぎず、当業者であれば、創造的な労働をせずに、開示された図面に基づいて他の図面を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【0021】

【図1】本願の一実施例に係る霧化器の構造概略図である。

【図2】本願の別の実施例に係る霧化器の構造概略図である。

【図3】本願のまた別の実施例に係る霧化器の構造概略図である。

【図4】本願のさらに別の実施例に係る霧化器の構造概略図である。

【図5】本願のまたさらに別の実施例に係る霧化器の構造概略図である。

【図6】本願の一実施例に係る電子霧化装置の断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0022】

本願の上記の目的、特徴及び利点をより明確かつ理解しやすくするために、以下、本願の具体的な実施形態について、添付の図面を参照しながら詳細に説明する。以下の説明では、本願の完全な理解を提供するために、多くの具体的な詳細が記載される。しかしながら、本願は、ここで説明したものとは異なる他の多くの方法で実施することができ、当業者であれば、本願の趣旨を逸脱することなく同様の改良を行うことができるため、以下に開示する具体的な実施例によって本願が限定されるものではない。

【0023】

本願の説明において、「中心」、「縦方向」、「横方向」、「長さ」、「幅」、「厚さ」、「上」、「下」、「前」、「後」、「左」、「右」、「垂直」、「水平」、「頂」、「底」、「内」、「外」、「時計回り」、「反時計回り」、「軸方向」、「径方向」、「周方向」などの用語で示す方位又は位置関係は、図面に示す方位又は位置関係であり、本願を説明しやすい、又は説明を簡単にするだけに用いられ、示している装置又は部品が必ず特定の方位を有し、特定の方位構造と操作を有することを表す又は暗示することではないことを理解されるべきであり、そのため本願を限定するものと解釈されるべきではない。

【0024】

また、用語「第１」、「第２」は、説明するためだけに用いられるものであり、比較的な重要性を指示又は暗示するか、或いは示された技術的特徴の数を黙示的に指示すると理解してはいけない。これにより、「第１」、「第２」に限定されている特徴は、少なくとも１つの該特徴を明示的又は暗示的に含んでもよい。本願の説明において、明確かつ具体的な限定がない限り、「複数」は、少なくとも２つ、例えば、２つ、３つなどを意味する。

【0025】

本願において、特に明確な規定及び限定しない限り、「取り付け」、「連結」、「接続」などの用語は、広義に理解すべきであり、例えば、固定接続であってもよく、着脱可能な接続であってもよく、或いは、一体的な接続であってもよく、機械的な接続であってもよく、電気的な接続であってもよく、直接的に接続してもよく、中間媒体を介して間接的に接続されてもよく、２つの部材の内部の連通又は２つの部材の相互作用関係であってもよい。当業者にとって、具体的な状況に応じて上記用語の本願中の具体的な意味を理解することができる。

【0026】

本願において、明確な規定と限定がない限り、第１特徴が第２特徴の「上」又は「下」にあることは、第１特徴と第２特徴とが直接接触することを含んでもよく、第１特徴と第２特徴とが中間媒体を介して間接的に接触することを含んでもよい。また、第１特徴が第２特徴の「上」、「上方」及び「上面」にあることは、第１特徴が第２特徴の真上又は斜め上にあることを含み、或いは、第１特徴の水平高さが第２特徴よりも高いことを表すだけである。第１特徴が第２特徴の「下」、「下方」及び「下面」にあることは、第１特徴が第２特徴の直下又は斜め下にあることを含み、或いは、第１特徴の水平高さが第２特徴よりも低いことを表すだけである。

【0027】

なお、要素が別の要素に「固定される」又は「設けられる」と呼ばれる場合、それは別の要素上に直接存在する場合もあれば、介在要素が存在する場合もある。要素が別の要素に「接続される」と考えられる場合、それは別の要素に直接接続される場合もあれば、介在要素が同時に存在する場合もある。本明細書で用いられる用語「垂直」、「水平」、「上」、「下」、「左」、「右」及び同様の表現は、説明のみを目的としており、唯一の実施形態を表すものではない。

【0028】

図１に示すように、本願の一実施例において、霧化器１００を提供し、該霧化器１００は、プラズマ加熱によりエアロゾル発生基質を加熱し、プラズマ加熱の高エネルギー密度の特徴を利用して、即時の急速加熱霧化を実現し、予熱時間を効果的に短縮し、予熱時間が長すぎることによる焦げを防止し、霧化の吸い感を向上させることができる。

【0029】

霧化器１００は、加熱部材１０と、少なくとも１組の電極アセンブリ３０とを含み、加熱部材１０の内部には、加熱キャビティ１１が形成され、各組の電極アセンブリ３０は、第１電極３２及び第２電極３４を含み、第１電極３２及び第２電極３４は、いずれも加熱キャビティ１１内に挿入され、加熱キャビティ１１内で第１電極３２と第２電極３４との間は制御されてアークを形成してプラズマを形成することができる。即ち、第１電極３２及び第２電極３４をいずれも加熱部材１０の加熱キャビティ１１内に挿入し、交流給電又は直流給電の第１電極３２と第２電極３４との間で絶縁破壊を起こしてアークを発生させ、さらに加熱キャビティ１１内でガスを電離してプラズマを形成し、プラズマにより加熱キャビティ１１を発熱させる。また、加熱部材１０は、エアロゾル発生基質を載置するための収容箇所１５を形成することができ、収容箇所１５は、加熱キャビティ１１との間で熱伝導を行うことができる。加熱キャビティ１１の内部がプラズマにより発熱した後、熱を収容箇所１５に伝達し、さらに、収容箇所１５に設けられたエアロゾル発生基質を加熱することができる。

【0030】

このように、加熱キャビティ１１内のプラズマから発生した熱を利用してエアロゾル発生基質を迅速に加熱し、プラズマ加熱の高エネルギー密度の特徴を利用して、予熱待ち時間を短縮し、ユーザーの利便性を高めるとともに、予熱時間が長すぎてエアロゾル発生基質を焼け焦げることを防止し、霧化の吸い感を向上させる。同時に、加熱過程において、電極などの金属部材は、エアロゾル発生基質と直接接触する必要がないため、エアロゾル発生基質が霧化された後、エアロゾルに金属物質が混入することを防止し、霧化の吸い感をさらに向上させることができる。

【0031】

いくつかの実施例において、各組の電極アセンブリ３０における第１電極３２及び第２電極３４は、いずれもタングステン合金、炭素繊維及び銅合金のいずれか１種で製造され、第１電極３２及び第２電極３４の直径の範囲は、０．４～１．０ｍｍであり、第１電極３２と第２電極３４との間の間隔は、５～１０ｍｍである。

【0032】

図１に示すように、好ましくは、電極アセンブリ３０の数は、１組であり、図２に示すように、好ましくは、電極アセンブリ３０の数は、複数組であり、複数組の電極アセンブリ３０は、同時に並行して放電されてもよく、又は、複数組の電極アセンブリ３０は、順番に放電されてもよい。また、加熱部材１０において、全ての第１電極３２及び全ての第２電極３４は、加熱キャビティ１１内に均一な温度場を形成するように、ある対称基準に対して対称に分布する。

【0033】

いくつかの実施例において、加熱キャビティ１１内に不活性ガスが充填され、加熱キャビティ１１内の第１電極３２と第２電極３４との間で絶縁破壊を起こしてアークを発生させた後、加熱キャビティ１１内に充填された不活性ガスを電離してプラズマを形成して熱を発生させることができ、発生した熱は、不活性ガスを介して収容箇所１５に効率的に伝達され、伝熱効率を向上させることができる。例えば、加熱キャビティ１１内にヘリウムガス、ネオンガス、アルゴンガスなどのガスが充填される。なお、別のいくつかの実施例において、加熱キャビティ１１内に空気が充填されてもよく、ここでは限定されない。

【0034】

いくつかの実施例において、加熱キャビティ１１の内部の気圧が標準大気圧よりも小さく、加熱キャビティ１１の内部の圧力を低いレベルに維持すると、加熱キャビティ１１のキャビティ壁（即ち、加熱部材１０）に過大な圧力を加えず、さらに、加熱部材１０の肉厚及び強度を小さくし、熱伝達効率をさらに向上させることができる。例えば、加熱キャビティ１１内の気圧は、１／５大気圧～１大気圧であり、好ましくは、加熱キャビティ１１内の気圧は、１／５大気圧～１／３大気圧である。なお、別のいくつかの実施例において、加熱キャビティ１１の内部の気圧は、標準大気圧に設定されてもよく、ここでは限定されない。

【0035】

好ましくは、加熱部材１０は、石英ガラス、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ジルコニア及びアルミナのうちのいずれか１種からなり、このように、加熱部材１０は、良好な絶縁性を有し、加熱部材１０の内部でガスを電離する際に漏電を防止するとともに、加熱部材１０は、良好な熱伝導率を有し、加熱キャビティ１１内でガスを電離して発生した熱が加熱部材１０を通って収容箇所１５に伝達されやすくなる。また、好ましくは、加熱部材１０の肉厚は、０．４～１．０ｍｍであり、強度要求を満たすだけでなく、効率的に熱を伝達することができる。

【0036】

図１～図２に示すように、いくつかの実施例において、加熱部材１０の外面の一部は、内側に凹んで一端が開口した第１収容キャビティを形成し、加熱キャビティ１１は、第１収容キャビティの外周を囲んで設けられ、第１収容キャビティは、収容箇所１５として構成される。即ち、加熱部材１０の外面の一部が内側に凹んで第１収容キャビティを形成するとともに、第１収容キャビティの外周に加熱キャビティ１１が設けられ、このように、加熱キャビティ１１内で発生した熱を第１収容キャビティの外周の各位置に伝達することができ、第１収容キャビティ内のエアロゾル発生基質を均一かつ迅速に加熱することができる。

【0037】

さらに、加熱キャビティ１１は、第１サブキャビティ１１２及び第２サブキャビティ１１４を含み、第１サブキャビティ１１２は、第１収容キャビティの外周を囲んで環状に設けられ、第２サブキャビティ１１４は、第１収容キャビティの自らの開口と背向する底部に位置し、第１サブキャビティ１１２と連通する。即ち、第１サブキャビティ１１２は第１収容キャビティの外周側を囲み、第２サブキャビティ１１４は第１収容キャビティの底部に設けられ、第１サブキャビティ１１２と第２サブキャビティ１１４とが連通して形成された加熱キャビティ１１は、第１収容キャビティの外周を完全に囲み、各方位から第１加熱キャビティ１１に熱を均一に伝達する。

【0038】

また、第１サブキャビティ１１２及び第２サブキャビティ１１４のうちの少なくとも一方内に電極アセンブリ３０が挿入され、即ち、電極アセンブリ３０は第１サブキャビティ１１２に挿入されるように構成されてもよく、電極アセンブリ３０は第２サブキャビティに挿入されるように構成されてもよく、又は電極アセンブリ３０は複数組あり、第１サブキャビティ１１２及び第２サブキャビティ内にいずれも電極アセンブリ３０が挿入されるように構成されてもよく、電極アセンブリ３０によりアークを発生させて加熱キャビティ１１内のガスを電離してプラズマを形成して熱を発生させる。例えば、第１サブキャビティ１１２内のみに電極アセンブリ３０を挿入すると、電極アセンブリ３０がガスを電離して発生した熱は、第２サブキャビティ１１４に流れることができ、第１サブキャビティ１１２及び第２サブキャビティ１１４を介して収容箇所１５のエアロゾル発生基質を加熱することができる。同様に、第２サブキャビティ１１４内のみに電極アセンブリ３０を挿入すると、第２サブキャビティ１１４内で発生した熱は、依然として第１サブキャビティ１１２内に伝達することができ、同様に第１サブキャビティ１１２及び第２サブキャビティ１１４を介して収容箇所１５のエアロゾル発生基質を加熱することができる。

【0039】

なお、別のいくつかの実施例において、加熱キャビティ１１は、第１サブキャビティ１１２及び第２サブキャビティ１１４のうちのいずれか１種のみを含み、自身の内部の熱を隣接する収容箇所１５に伝達することもでき、ここでは限定されない。

【0040】

図３に示すように、別の実施例において、加熱部材１０は、取付ベース１２と、取付ベース１２に設けられた加熱ベース１４とを含み、加熱キャビティ１１は、第３サブキャビティ１１６及び第４サブキャビティ１１８を含み、第３サブキャビティ１１６は、取付ベース１２の内部に形成され、第４サブキャビティ１１８は、加熱ベース１４の内部に形成され、第３サブキャビティ１１６と連通し、第３サブキャビティ１１６内には、電極アセンブリ３０が挿入され、取付ベース１２と加熱ベース１４の互いに対向する外面の間は、加熱ベース１４を囲む収容箇所１５として構成される。好ましくは、加熱ベース１４は、長尺状であり、第４サブキャビティ１１８は、加熱ベース１４の内部で加熱ベース１４の軸方向に沿って延びて第３サブキャビティ１１６と連通する。

【0041】

即ち、加熱ベース１４は加熱ニードルとして構成され、加熱ベース１４と取付ベース１２との間にエアロゾル発生基質を収容する収容箇所１５が画定され、霧化器１００を使用する際に、エアロゾル発生基質を加熱ベース１４に挿設し、加熱ベース１４と取付ベース１２の互いに対向する外面の間の空間（即ち、収容箇所１５）にエアロゾル発生基質を収容固定する。また、取付ベース１２の内部には、第３サブキャビティ１１６が形成され、加熱ベース１４の内部には、第３サブキャビティ１１６と連通する第４サブキャビティ１１８が形成され、第３サブキャビティ１１６内に電極アセンブリ３０が挿入され、第３サブキャビティ１１６内で第１電極３２と第２電極３４との間の絶縁破壊により形成されたアークでガスを電離するとき、第３サブキャビティ１１６内にプラズマを形成して熱を発生させ、発生した熱は、第３サブキャビティ１１６から第４サブキャビティ１１８に流れることもでき、加熱ベース１４を発熱させてエアロゾル発生基質を加熱する。

【0042】

図４～図５に示すように、さらに別の実施例において、加熱部材１０は、取付ベース１２と、取付ベース１２に設けられた加熱ベース１４とを含み、取付ベース１２の内部には、加熱キャビティ１１が形成され、加熱ベース１４の内部には、一端が開口した第２収容キャビティが形成され、加熱キャビティ１１は、第２収容キャビティの自らの開口と背向する底部に位置し、第２収容キャビティは、収容箇所１５として構成される。即ち、加熱部材１０の取付ベース１２内に加熱キャビティ１１が形成され、加熱キャビティ１１内で第１電極３２と第２電極３４により熱を発生させ、発生した熱が頂部の加熱ベース１４の第２収容キャビティである収容箇所１５に伝達されて、収容箇所１５のエアロゾル発生基質を加熱する。

【0043】

図４に示すように、好ましくは、加熱ベース１４と取付ベース１２は、一体に成形され、装置を簡略化する。図５に示すように、好ましくは、加熱ベース１４は、取付ベース１２とは別体に成形され、加熱ベース１４と取付ベース１２は、それぞれ標準化して製作されてもよく、霧化器１００を標準部材として製造しやすく、霧化器１００の汎用性を向上させる。

【0044】

図５に示すように、さらに、加熱ベース１４は、取付ベース１２とは別体に成形され、加熱ベース１４と取付ベース１２とが固定接続された後、両者の間に熱伝導キャビティ５０が画定され、熱伝導キャビティ５０内に熱伝導媒体が充填され、これにより、熱伝導媒体を介して取付ベース１２の内部で発生した熱を加熱ベース１４の収容箇所１５内に効率的に伝達して、熱伝導性能を保証する。熱伝導媒体は、相変化界面熱伝導媒体であり、例えば、トルエン、水、ナフタレン、ダウサム又は臭化アルミニウムであり、良好な熱交換効率を有する。

【0045】

図６に示すように、本願の一実施例において、電子霧化装置２００をさらに提供し、該電子霧化装置は、上記霧化器１００を含み、予熱待ち時間が短く、霧化の吸い感が良い。

【0046】

いくつかの実施例において、電子霧化装置２００は、ハウジング２１０をさらに含み、霧化器１００は、ハウジング２１０内に設けられ、ハウジング２１０内には、加熱部材１０の外周を流れて収容箇所１５に入る吸気通路２１１が形成され、このように、ユーザーが電子霧化装置２００を吸うとき、外部空気は、ハウジング２１０に流入した後、まず、加熱部材１０の外周を流れて加熱部材１０の外面の熱を奪うとともに、気流自体の温度を上昇させてから収容箇所１５に入り、収容箇所１５内で霧化されたエアロゾルと混合し、最後にエアロゾルを運びながらユーザーの口に流入し、ユーザーに吸入される。このように、吸気通路２１１のガイドにより、気流がまず加熱部材１０の外周を通過してから収容箇所１５内に入り、このように、加熱部材１０の外周を降温することができる一方で、収容箇所１５に入った気流を予熱して、霧化効果を向上させることができる。

【0047】

具体的には、加熱部材１０は、取付ベース１２と、取付ベース１２に設けられた加熱ベース１４とを含み、加熱キャビティ１１は、第３サブキャビティ１１６及び第４サブキャビティ１１８を含み、第３サブキャビティ１１６は、取付ベース１２の内部に形成され、第４サブキャビティ１１８は、加熱ベース１４の内部に形成され、第３サブキャビティ１１６と連通し、第３サブキャビティ１１６内には、電極アセンブリ３０が挿入され、取付ベース１２と加熱ベース１４の互いに対向する外面は、加熱ベース１４を囲む収容箇所１５として構成される。即ち、加熱部材１０の取付ベース１２は第３サブキャビティ１１６を形成し、第３サブキャビティ１１６内で第１電極３２と第２電極３４により熱を発生させ、発生した熱は加熱ベース１４の第４サブキャビティ１１８内に伝達されて、加熱ベース１５に挿設されたエアロゾル発生基質を加熱する。

【0048】

また、吸気通路２１１は、取付ベース１２の外周を流れてから収容箇所１５に流れるように構成され、このように、吸気通路２１１は、まず、第３サブキャビティ１１６が形成された外周を流れ、これにより、気流が取付ベース１２の外面と熱交換してから加熱ベース１４の収容箇所１５内に入る。

【0049】

なお、別のいくつかの実施例において、吸気通路２１１は、取付ベース１２を流れず、外部から収容箇所１５内に直接入ることもでき、これにより、吸気通路の構造を簡略化し、吸気通路２１１の設定について、ここでは限定されない。

【0050】

上述した実施例の各技術的特徴を任意に組み合わせてもよく、簡潔に説明するために、上述した実施例における各技術的特徴の全ての可能な組み合わせを説明していないが、これらの組み合わせは全て本明細書に記載された範囲に属すると考えられるべきである。

【0051】

以上、実施例は本願のいくつかの実施形態のみを説明しており、それらの説明は、具体的で詳細であるが、本願の特許の範囲を限定するものとして解釈されるべきではない。当業者にとって、本願の構想から逸脱することなく、いくつかの変形又は改善を加えることもでき、これらの変形又は改善は、両方とも、本願の保護範囲に属することに留意されたい。よって、本願の特許の保護範囲は、添付の特許請求の範囲を基準とするべきである。

【符号の説明】

【0052】

１００ 霧化器、１０ 加熱部材、１１ 加熱キャビティ、１１２ 第１サブキャビティ、１１４ 第２サブキャビティ、１１６ 第３サブキャビティ、１１８ 第４サブキャビティ、１２ 取付ベース、１４ 加熱ベース、１５ 収容箇所、３０ 電極アセンブリ、３２ 第１電極、３４ 第２電極、５０ 熱伝導キャビティ、２００ 電子霧化装置、２１０ ハウジング、２１１ 吸気通路。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【手続補正書】

【提出日】2024-05-15

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

内部に加熱キャビティが形成されている加熱部材と、
少なくとも１組の電極アセンブリとを含み、各組の前記電極アセンブリは、第１電極及び第２電極を含み、前記第１電極及び前記第２電極は、いずれも前記加熱キャビティ内に挿入され、前記加熱キャビティ内で前記第１電極と前記第２電極との間は制御されてアークを形成してプラズマを形成することができ、
前記加熱部材は、エアロゾル発生基質を収容するための収容箇所を形成することができる、ことを特徴とする、霧化器。

【請求項2】

前記加熱キャビティ内に不活性ガスが充填される、ことを特徴とする請求項１に記載の霧化器。

【請求項3】

前記加熱キャビティ内の気圧が標準大気圧よりも小さい、ことを特徴とする請求項１に記載の霧化器。

【請求項4】

前記加熱部材は、石英ガラス、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ジルコニア及びアルミナのうちのいずれか１種からなる、ことを特徴とする請求項１に記載の霧化器。

【請求項5】

前記加熱部材の外面の一部は、内側に凹んで一端が開口した第１収容キャビティを形成し、前記加熱キャビティは、前記第１収容キャビティの外周を囲んで設けられ、
前記第１収容キャビティは、前記収容箇所として構成される、ことを特徴とする請求項１～４のいずれか一項に記載の霧化器。

【請求項6】

前記加熱キャビティは、第１サブキャビティ及び第２サブキャビティを含み、前記第１サブキャビティは、前記第１収容キャビティの外周を囲んで環状に設けられ、前記第２サブキャビティは、前記第１収容キャビティの自らの開口と背向する底部に位置し、前記第１サブキャビティと連通し、
前記第１サブキャビティ及び前記第２サブキャビティの少なくとも一方内に前記電極アセンブリが挿入される、ことを特徴とする請求項５に記載の霧化器。

【請求項7】

前記加熱部材は、取付ベースと、前記取付ベースに設けられた加熱ベースとを含み、前記取付ベースの内部には、前記加熱キャビティが形成され、前記加熱ベースの内部には、一端が開口した第２収容キャビティが形成され、前記加熱キャビティは、前記第２収容キャビティの自らの開口と背向する底部に位置し、
前記第２収容キャビティは、前記収容箇所として構成される、ことを特徴とする請求項１に記載の霧化器。

【請求項8】

前記加熱部材は、取付ベースと、前記取付ベースに設けられた加熱ベースとを含み、前記加熱キャビティは、第３サブキャビティ及び第４サブキャビティを含み、前記第３サブキャビティは、前記取付ベースの内部に形成され、前記第４サブキャビティは、前記加熱ベースの内部に形成され、前記第３サブキャビティと連通し、
前記第３サブキャビティ内には、前記電極アセンブリが挿入され、前記取付ベースと前記加熱ベースの互いに対向する外面の間は、前記加熱ベースを囲む前記収容箇所として構成される、ことを特徴とする請求項１に記載の霧化器。

【請求項9】

前記取付ベースと前記加熱ベースは、一体に成形され、或いは、
前記取付ベースは、前記加熱ベースとは別体に成形される、ことを特徴とする請求項７又は８に記載の霧化器。

【請求項10】

前記加熱ベースは、前記取付ベースとは別体に成形され、前記加熱ベースと前記取付ベースとが固定接続された後、両者の間に熱伝導キャビティが画定され、前記熱伝導キャビティ内に熱伝導媒体が充填される、ことを特徴とする請求項９に記載の霧化器。

【請求項11】

請求項１に記載の霧化器を含む、ことを特徴とする電子霧化装置。

【請求項12】

ハウジングをさらに含み、前記霧化器は、前記ハウジング内に設けられ、前記ハウジング内には、前記加熱部材の外周を流れて前記収容箇所に入る吸気通路が形成されている、ことを特徴とする請求項１１に記載の電子霧化装置。

【請求項13】

前記加熱部材は、取付ベースと、前記取付ベースに設けられた加熱ベースとを含み、前記加熱キャビティは、第３サブキャビティ及び第４サブキャビティを含み、前記第３サブキャビティは、前記取付ベースの内部に形成され、前記第４サブキャビティは、前記加熱ベースの内部に形成され、前記第３サブキャビティと連通し、前記第３サブキャビティ内には、前記電極アセンブリが挿入され、前記取付ベースと前記加熱ベースの互いに対向する外面は、前記加熱ベースを囲む前記収容箇所として構成され、
前記吸気通路は、前記ベースの外周を流れて前記収容箇所へ流れるように構成される、ことを特徴とする請求項１２に記載の電子霧化装置。

【国際調査報告】