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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-11-15
(54)【発明の名称】ストッカシステム
(51)【国際特許分類】
H01L 21/673 20060101AFI20241108BHJP
B65D 85/30 20060101ALI20241108BHJP
G03F 1/66 20120101ALI20241108BHJP
【ＦＩ】
H01L21/68 T
H01L21/68 V
B65D85/30
G03F1/66
【審査請求】未請求
【予備審査請求】有
(21)【出願番号】P 2024526699
(86)(22)【出願日】2022-03-25
(85)【翻訳文提出日】2024-05-02
(86)【国際出願番号】 EP2022058019
(87)【国際公開番号】W WO2023078589
(87)【国際公開日】2023-05-11
(31)【優先権主張番号】21207018.9
(32)【優先日】2021-11-08
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】300045134
【氏名又は名称】ブルックス オートメーション （ジャーマニー） ゲーエムベーハー
【氏名又は名称原語表記】ＢＲＯＯＫＳ Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ （Ｇｅｒｍａｎｙ） ＧｍｂＨ
(74)【代理人】
【識別番号】110001519
【氏名又は名称】弁理士法人太陽国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】レブストック、ルッツ
(72)【発明者】
【氏名】シュヴェツ、マイケル アレクサンダー
【テーマコード（参考）】
2H195
3E096
5F131
【Ｆターム（参考）】
2H195BA10
2H195BE12
3E096AA06
3E096BA30
3E096BB05
3E096CA02
3E096CB03
3E096DA18
3E096EA02X
3E096FA10
3E096GA04
5F131AA12
5F131BA11
5F131CA12
5F131CA31
5F131DA05
5F131DA09
5F131DA22
5F131DA36
5F131DA42
5F131DB02
5F131DB52
5F131GA12
5F131GA18
5F131GA24
5F131GA32
5F131GA76
5F131GA77
5F131GA83
5F131GA87
5F131GA92
5F131HA04
5F131HA29
5F131JA04
5F131JA24
5F131JA35
(57)【要約】
複数のレチクル、特にＥＵＶレチクルを格納するためのストッカシステムであって、各々が前記レチクルの１つをその内部に保持するように構成され、かつ一方を他方の上方に垂直に積み重ねてスタック（８０）を設けるようにした複数の格納ポッド（１１０）を備え、前記格納ポッド（１１０）の各々は、入口（２１０）、出口（２２０）及び第１の開口（２３０）を有する通路（２１１）を備え、隣接する通路（２１１）の入口及び出口は、スタック（８０）を通って延びるダクト（９０）が設けられ、パージガスを吹き飛ばすことができ、前記ダクト（９０）を通って吹き飛ばされたパージガスは、それぞれの第１の開口（２３０）を通って各格納ポッド（１１０）。
【選択図】図１
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数のレチクル、特にＥＵＶレチクルを格納するためのストッカシステムであって、各々が前記レチクルの１つを内部に保持するように構成され、一方を他方の上方に垂直に積み重ねてスタック（８０）を提供する複数の格納ポッド（１１０）を備え、前記格納ポッド（１１０）の各々は、入口（２１０）と出口（２２０）と第１の開口（２３０）とを有する通路（２１１）を備え、隣接する通路（２１１）の入口及び出口は、前記スタック（８０）を通って延びるダクト（９０）が提供されるように配置され、前記ダクト（９０）を通してパージガスを移送することができ、前記ダクト（９０）を通して移送された前記パージガスは、各々の前記第１の開口（２３０）を通して各々の前記格納ポッド（１１０）の内部（１１０ａ）へ入り込むことができる、システム。
【請求項2】
前記通路（２１１）の前記第１の開口（２３０）は、粒子フィルタ（２３５）を備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項3】
各々の前記格納ポッド（１１０）には第２の開口（２５０）が設けられ、前記第２の開口（２５０）を通してパージガスが前記格納ポッドの内部（１１０ａ）を出ることができ、好ましくは、前記第２の開口には粒子フィルタ（２５５）が設けられる、請求項１又は２に記載のシステム。
【請求項4】
各々の前記格納ポッド（１１０）には少なくとも１つのハンドリング部材（１２０）が設けられている、請求項１～３のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項5】
各々の前記格納ポッドは、ベースプレート（１１２）とカバー（１１４）とを備え、前記スタックの隣接する格納ポッドを機械的に整列させるように構成および適合される整列機構が設けられ、特に、前記ベースプレートには溝（１３０）またはピンが設けられ、前記カバーにはピン（１３２）または溝が設けられ、溝およびピンは、隣接する格納ポッド（１１０）に設けられた対応するピンまたは溝と相互作用するために設けられる、請求項１～４のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項6】
各々の前記格納ポッド（１１０）は、ベースプレート（１１２）およびカバー（１１４）を互いに固定するためのラッチ機構（１１６）を備える、請求項５に記載のシステム。
【請求項7】
請求項１～６のいずれか１項に記載のストッカシステムと、前記ストッカシステムを格納するように構成された格納体（６６０）とを含む、格納ストッカ。
【請求項8】
個々の格納ポッドを互いに、及び／又は、前記格納体（６６０）に物理的に、固定するように構成された固定機構を備える、請求項７に記載の格納ストッカ。
【請求項9】
レチクル、特にＥＵＶレチクルをハンドリングする方法であって、ステップ前記レチクルを使用場所と格納場所との間、またはその逆に、移送ポッドで移送するステップと、前記レチクルを前記移送ポッドから格納ポッドへ、またはその逆に、移送するステップと、前記レチクルを前記格納ポッドの格納場所に格納するステップと、を備える方法。
【請求項10】
前記移送ポッドは、少なくとも内ポッドＥＩＰを備え、前記格納ポッドは、内部に１つのレチクルを保持／格納し、スタックを提供するために、他の格納ポッドと共に、一方が垂直に他方の上方に積み重ねられるように構成され、各々の前記格納ポッドは、入口と、出口と、第１の開口でパージガスを吹き出すことができる通路と、を備え、前記通路を通して吹き出された前記パージガスは、前記第１の開口を通して前記格納ポッドの内部に入ることが可能である、請求項９に記載の方法。
【請求項11】
レチクルポッド（１００）のスタックから第１のレチクルポッド（１１０ａ）を取り出すための装置であって、前記第１のレチクルポッド（１１０ａ）をハンドリングするための第１のハンドリング要素（７４２）と、第２のレチクルポッド（１１０ｂ）をハンドリングするように構成された第２のハンドリング要素（７４４）と、を備え、前記第２のレチクルポッド（１１０ｂ）が、前記レチクルポッド（１００）のスタックで前記第１のレチクルポッド（１１０ａ）に隣接して垂直に上方に配置されており、前記第２のレチクルポッド（１１０ｂ）が前記第１のレチクルポッド（１１０ａ）から持ち上げられることを可能とし、前記第１のレチクルポッド（１１０ａ）が第３のレチクルポッド（１１０ｃ）から持ち上げられることを可能とするように、前記第１のハンドリング要素（７４２）と前記第２のハンドリング要素（７４４）とが、個々に水平方向に変位可能であり個々に垂直方向に変位可能であるように構成され、第３のレチクルポッド（１１０ｃ）が、前記レチクルポッド（１００）の前記スタックで前記第１のレチクルポッド（１１０ａ）に隣接して垂直に下方に配置され、前記第１のレチクルポッド（１１０ａ）は前記レチクルポッド（１１０）の前記スタックから取り出されることができ、前記第２のレチクルポッド（１１０ｂ）は前記第３のレチクルポッド（１１０ｃ）に配置することができる、装置。
【請求項12】
前記第１のハンドリング要素及び前記第２のハンドリング要素は、前記第２のレチクルポッドが前記第１のレチクルポッドに積み重ねられたときに、前記第１のレチクルポッド及び第２のレチクルポッドに設けられた各々のハンドリング部材の第２の垂直距離よりも大きい第１の垂直距離を有するように構成され、前記第１のハンドリング要素及び前記第２のハンドリング要素は、前記第１のレチクルポッドから前記第２のレチクルポッドを持ち上げ、前記第３のレチクルポッドから前記第１のレチクルポッドを持ち上げるために相互作用する、請求項１１に記載の装置。
【請求項13】
前記第１の垂直距離は固定された垂直距離である、請求項１２に記載の装置。
【請求項14】
前記第１のハンドリング要素および前記第２のハンドリング要素は、各々、前記第１のレチクルポッドおよび前記第２のレチクルポッドの両側に設けられたハンドリング部材と相互作用するように適合され水平方向に延在する２つのアームを備えるように設けられる、請求項１１～１３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項15】
前記第１のハンドリング機構及び前記第２のハンドリング機構を個々に水平方向に変位させ、前記第１のハンドリング機構及び前記第２のハンドリング機構を併せて垂直方向に変位させるように構成された駆動装置を含む、請求項１１～１４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項16】
請求項１１～１５のいずれか１項に記載の装置を用いて、前記レチクルポッドの前記スタック（１００）から第１のレチクルポッド（１１０ａ）を取り出すための方法。
【請求項17】
前記第１のレチクルポッド（１１０ａ）のハンドリング部材（１２０）の下方に前記第１のハンドリング要素を位置決めし、第２のレチクルポッド（１１０ｂ）のハンドリング部材（１２０）の下方に第２のハンドリング要素（７４４）を位置決めするために、前記第１のハンドリング要素（７４２）及び前記第２のハンドリング要素（７４４）は、水平方向に併せて変位し、前記第１のハンドリング要素（７４２）及び前記第２のハンドリング要素（７４４）は、前記第１のレチクルポッド（１１０ａ）から前記第２のレチクルポッド（１１０ｂ）を持ち上げ、第３のレチクルポッド（１１０ｃ）から前記第１のレチクルポッドを持ち上げるために、垂直方向に変位し、前記第３のレチクルポッド（１１０ｃ）は、前記レチクルポッドの前記スタックで前記第１のレチクルポッドに隣接して垂直に下方に配置され、前記第１のハンドリング要素（７４２）は、前記レチクルポッドの前記スタックから前記第１のレチクルポッドを取り出すために個々に水平方向に変位し、前記第２のハンドリング要素（７４４）は、前記第３のレチクルポッドに前記第２のレチクルポッドを配置するために垂直方向に変位し、前記第２のハンドリング要素は、前記第２のレチクルポッドから分離するために水平方向に変位する、請求項１６に記載の方法。
【請求項18】
レチクルをストッカに格納するように構成および適合される格納ポッドであって、ベースプレート（１１２）とカバー（１１４）とを備え、ラッチ機構（１１６）が、前記ベースプレート（１１２）と前記カバー（１１４）とを互いに解放可能な態様で保持するために設けられ、前記格納ポッドは、前記格納ポッドの積み重ねられた構成において隣接する格納ポッドとの機械的な整列を可能にするように構成および適合される整列機構を備える、格納ポッド。
【請求項19】
入口（２１０）と、出口（２２０）と、第１の開口（２３０）とを有する通路（２１１）を備え、前記入口および前記出口は、積み重ねられた構成で隣接する格納ポッドの隣接する通路（２１１）の入口および出口が、積み重ねられた構成を通って延びるダクト（９０）を提供するように配置され、パージガスを移送することができ、第１の開口は、ダクト（９０）を通って移送されるパージガスが前記第１の開口（２３０）を通って前記格納ポッドの内部（１１０ａ）に入ることができるように構成され適応される、請求項１８に記載の格納ポッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、レチクル、特にＥＵＶレチクルを格納するためのストッカシステム、対応する格納ストッカおよびレチクルを取り出すための装置に関する。本発明はさらに、レチクルをハンドリングする方法に関する。
【背景技術】
【0002】
フォトリソグラフィプロセスは、集積回路（ＩＣ）および他の半導体関連装置および／または構造の製造におけるキーステップの１つとして広く使用されている。しかしながら、そのようなプロセスによって生成されるフィーチャの寸法が減少するにつれて、小型ＩＣまたは他のデバイスおよび／または構造の生産のためのフォトリソグラフィの重要性が高まる。
【0003】
フォトリソグラフィでは、幾何学的パターンが、光、感光層、および後続のエッチングステップの使用によって、フォトマスク（通常、レチクルと呼ばれる）から基板、例えば半導体ウェハに移送される。基板の所望のフィーチャサイズに応じて、レチクルのフィーチャサイズは、レイリー基準を考慮して、パターン移送に使用される光の波長と同様に適合させる必要がある。
【0004】
達成可能な最小の特徴サイズを低減するために、極端紫外線（ＥＵＶ）放射を使用することが提案されている。ＥＵＶ放射は、５～２０ｎｍの範囲、例えば５～１０ｎｍの範囲の波長を有する電磁放射である。
【0005】
レチクルのあらゆる汚染は、フォトリソグラフィプロセスの結像性能を低下させる可能性があり、さらに深刻な場合には、レチクルの交換を必要とする可能性がある。レチクルは、典型的に高価であり、したがって、それを交換しなければならない頻度の任意の減少が有利である。さらに、レチクルの交換は、時間のかかるプロセスであり、その間、フォトリソグラフィプロセスは一時停止しなければならず、それによってその効率を低下させることがあり、望ましくない。
【0006】
ＥＵＶの用途では、粒径１０ｎｍ未満の粒子汚染だけでなく、例えば揮発性有機化合物の吸着による化学汚染も関係する。
【0007】
したがって、このようなＥＵＶ用途に使用されるレチクルは、通常、以下では単にストッカと称する、またはより一般的には格納場所と称する、格納ストッカに格納され、リソグラフィ露光装置に関連して必要な場合に取り出される。それらが使用されるとき、レチクルは、通常、一般にファブと呼ばれる半導体製造プラントで、そのようなストッカからプロセスツールまで、移送される。通常、レチクルは、ストッカでの格納と同様に、移送中のいわゆるＥＵＶ外ポッド（ＥＯＰ）およびＥＵＶ内ポッド（ＥＩＰ）を備える二重シェル容器（二重ポッド）に格納される。
【0008】
このような二重ポッドは、例えば、ＵＳ ２０１９／０２１４２８７ Ａ１にさらに詳細に記載されている。
【0009】
粒子汚染の許容レベルは極めて低いので、容器に対するレチクルの摩擦（摩耗、ひいては粒子の発生につながる）、ならびに互いに対する容器の構成要素の摩擦を避ける必要がある。したがって、典型的なＥＩＰは、１つのレチクルを、その中で移動するための非常に限定された可能性のみを有するような方法で収容するように設計される。それらはまた、ＥＩＰ内部にレチクルを固定するように構成され適応された追加のレチクルリテーナを装備する。汚染を防止するために、ＥＩＰは、保護ガスまたは真空がレチクルに印加されることを可能にするように設計される。そのために、典型的には、フィルタ材料を備えたオリフィスが、保護ガスがＥＯＰからそれぞれのＥＩＰに含まれるレチクルの周囲に入るために設けられる。
【0010】
ＥＯＰは、ＥＩＰのレチクル固定手段を保持位置に付勢するように適合されたアクチュエータを備え、それにより、ＥＯＰがＥＩＰに取り付けられたときに、ＥＩＰ内部のレチクルを固定する。また、ＥＯＰは、摩擦によって引き起こされる摩耗を防止するために、通常、ベースプレート及びカバーと呼ばれるＥＩＰの典型的な２つの構成要素を互いに固定するように機能する。
【0011】
ＥＩＰ構成要素は、それらが外部から固定されていない限り、相互に対して移動可能であることを理解されたい。このような移動によって引き起こされる摩擦誘発磨耗を回避するために、ＥＯＰは、従来、ＥＩＰのためにこのような固定機能を提供する一方で、周囲雰囲気に対する保護も提供し、この保護は、例えば、動作のためにレチクルを必要とする格納位置とプロセスツールとの間の移送中に必要とされる。
【0012】
ＥＯＰはかなりかさばり、高い空間要件またはＥＵＶレチクルを格納するストッカのための「フットプリント」につながる。さらに、それらは、同様に揮発性有機化合物の摩耗およびガス放出を起こしやすい重合体材料で作られている。
【発明の概要】
【0013】
本発明は、それぞれの独立請求項に係る、ストッカシステム、格納ストッカ、レチクルのハンドリング方法、レチクルポッドのスタック及び格納ポッドからレチクルポッドを取り出す装置及び方法を提供することにより、これらの問題に対処する。
【0014】
有利な実施形態および追加の特徴は従属請求項において提供され、以下の説明においてさらに論じられる。
【0015】
本発明は、複数または複数のレチクル、特にＥＵＶレチクルを格納するストッカシステムであって、各々が前記レチクルのうちの１つをその内部に保持するように構成され、互いに垂直に積み重ねられてスタックを提供するように構成された複数の格納ポッドを備え、前記格納ポッドの各々は、入口、出口および第１の開口を備え、隣接する通路の入口および出口、または換言すれば、隣接する格納ポッドの通路は、前記スタックを通って延在するダクトが提供され、それを通ってパージガスが移送され、前記ダクトを通って移送されたパージガスは、そのそれぞれの第１の開口を通って各格納ポッドの内部に入ることができるように配置されるストッカシステムを提供する。
【0016】
本発明は、複数の格納ポッドを互いに直接積み重ねることができ、それらの間に格納構造物がないので、非常にコンパクトで信頼性の高い格納システムを提供する。同時に、この直接積み重ねによって、各格納ポッドにパージガスを個別に供給するために、積み重ねられた全ての格納ポッドを通って延びるダクトを形成することができる。格納ポッドの内部の効果的なパージとして、本発明によれば、格納ポッドを流れるパージガスによってガス放出効果を効果的に打ち消すことができるので、格納ポッドを適当なプラスチック材料で作ることができる。格納ポッドは、金属材料で作ることもできる。
【0017】
有利には、各通路の第１の開口には、パージガスのみが第１の開口を通って各格納ポッドの内部に入ることができるように、粒子フィルタが設けられる。ここでは、スタックの異なる格納ポッド間の交差汚染を効果的に回避することができるように、各格納ポッドに対して個々の環境を設けることができる。
【0018】
各格納ポッドには第２の開口が設けられ、そこを通ってパージガスが格納ポッドの内部を出ることができ、第２の開口にはまた、好ましくは、粒子フィルタが設けられる。これらの第２の開口に粒子フィルタを設けることは、交差汚染のリスクをさらに最小化する。
【0019】
有利には、各格納ポッドには、ハンドリングフランジまたはハンドルのような少なくとも１つのハンドリング部材が設けられる。好ましくは、ハンドリング部材を格納ポッドの４つの側面全てに設けることができ、これにより、ハンドリングロボットが、格納ポッドの回転を必要とすることなく、ハンドリング部材で格納ポッドを把持することができる。これによりハンドリング時間が大幅に短縮される。このようなハンドリングロボットには、ハンドリング、すなわち運搬、格納ポッドのために、エンドエフェクタとしても知られる少なくとも１つのハンドリング要素が設けられることが好ましい。
【0020】
好ましい実施形態によれば、各格納ポッドは、ベースプレートとカバーとを備え、格納ポッドは、積み重ねられた形態で隣接する格納ポッドを機械的に整列させるように構成され適応された整列機構が設けられ、特にベースプレートには溝またはピンが設けられ、カバーにはピンまたは溝が設けられ、溝およびピンは、隣接する格納ポッドに設けられた対応するピンまたは溝と相互作用するように設けられる。そのような嵌合溝およびピンは、スタックの格納ポッドの正確かつ正確な位置合わせおよび位置決めを保証する。例えば、互いに重ねられた隣接する格納ポッドには、技術分野でしばしば運動ピンと呼ばれる相互作用ピン、好ましくはドーム形状のピン、及びそれに対応する形状の凹部をそれぞれ設けることができる。これにより、格納ポッドの位置合わせおよび位置決めを行うことができ、同時に、隣接する格納ポッドの水平方向の移動に対する安全措置を行うことができる。これは、ハンドリングロボットによる効果的なハンドリングを確保するために有利である。
【0021】
有利には、各格納ポッドには、ベースプレートおよびカバーを互いに固定するためのラッチ機構が設けられている。このようなラッチ機構は、多数のラッチを備えることができ、ベースプレートとカバーとの間のガス密接続部を確実にするものであり、これらの構成要素は、通常、金属材料で作られている。特に、このようなラッチ機構は、ベースプレートとカバーがロック状態で互いに相対的に動くのを防ぎ、それによって摩耗を防ぐようになっている。また、ラッチ機構は、格納ポッドに対してレチクルを格納ポッドに固定するように構成することができ、これにより、磨耗および汚染の影響も最小限に抑えることができる。
【0022】
本発明はまた、そのようなストッカシステムと、ストッカシステムを格納するように適合された格納体とを備える格納ストッカを提供する。このような格納ストッカは、一般に、少なくとも１つのロードポートを含む機器フロントエンドモジュール（ＥＦＥＭ）と、ストッカシステムが配置される格納領域とを含む。格納ストッカは半導体ファブの一部である。
【0023】
格納ストッカは、個々の格納ポッドを互いにおよび／またはスタックが格納されている格納体に物理的に固定するために、固定機構、例えばクランプ機構またはばね機構を備えていることが有利である。これにより、地震による個々の格納ポッドまたは内部に格納されたレチクルの損傷に対する効率的な安全対策が提供される。例えば、少なくとも１つのスプリングを含むスプリング機構を設けて、スタックの頂部に作用する下向きの力を連続的に提供することができる。例えば、ばねは、最上段の格納ポッドの上方に配置されたプレートで押し下げるように構成することができる。このプレートには、例えば、格納ポッドに設けることができるハンドリング部材と同様の方法で成形された取手を設けることができ、これにより取手及びプレートを持ち上げて頂部格納ポッドにアクセスすることができる。プレートには、最上段の格納ポッドの穴及び／又はピンのような対応する位置合わせ形状構成に係合するために、格納ポッドに面するその下側に位置する位置合わせ形状構成（例えば、ピン及び／又は穴）を設けることができる。また、このようなプレートの代わりに、上部位置にある恒久的に空の格納ポッドを使用することもできる。ロボットは、スタックを持ち上げると、スプリング機構に対して動作する。少なくとも１つのバネを備えるバネ機構を、例えば、格納ポッドのスタックの下の底板に対して作用するスタックの下側に設けることもできる。このようなばね機構の代わりに、またはそれに加えて、カムまたは他のタイプのクランプ機構が、頂部プレート、最上部の格納ポッド、底部プレートまたは最下部の格納ポッドに力を及ぼすことができる。そのようなカムまたはクランプは、アクセスが所望されるときに、能動的に解放される。
【0024】
このような固定機構は、重力効果に加えて利用することができ、これはまた、積み重ねられた格納ポッドを互いに固定することを助ける。
【0025】
また、本発明は、レチクル、特にＥＵＶレチクルをハンドリングする方法を提供し、以下のステップを含む。すなわち、レチクルを使用場所、典型的には半導体プロセスツールと、本発明に記載のレチクルストッカシステムを含む、またはその逆を含む格納または格納場所との間を、移送ポッドで移送するステップと、レチクルを移送ポッドから格納ポッドに移送するステップと、レチクルを格納ポッドの格納場所に格納するステップと、を含む。移送および格納のために異なるポッドを使用することによって、レチクルに対する汚染効果を最小限にすることができ、これは、ＥＵＶレチクルに関連して特に重要である。
【0026】
好ましくは、移送ポッドは少なくとも内ポッドＥＩＰを備え、格納ポッドは、一方のレチクルをその内部に保持し、他方の格納ポッドと共に垂直に一方が他方の格納ポッドと共に積み重ねてスタックを提供するように構成され、各格納ポッドは、入口、出口及び第１開口を備えたパージガスを移送することができる通路を備え、通路を通って移送されたパージガスは、第１開口を通って格納ポッドの内部に入ることができる。
【0027】
有利には、移送ポッドは、内ポッドＥＩＰ及び外ポッドＥＯＰを備える。レチクルが取り出され、格納ポッドに移送されたＥＩＰおよび／またはＥＯＰは、それ自体、例えばＥＦＥＭハンドリングロボットの上方または近傍に設けることができる移送ポッドバッファに格納することができる。
【0028】
本発明は、従来のシステムによって提供されるものよりも低いレベルの汚染および改善された損傷保護を確実にしながら、レチクルを格納するための必要なスペースを減少することを可能にする。これは、一部には、本発明で使用されるような格納ポッドが、以前はストッカのレチクルの格納のために使用されていたＥＩＰ、並びにストッカ外のレチクルの移送のために使用されていたＥＩＰとは対照的に、ストッカシステムを離れないという事実による。更に、ガス放出ＥＯＰからの格納中の化学汚染も防止され、機械的損傷保護が二重ポッドにレチクルを格納するよりも改善される。言及したように、従来技術のＥＩＰは、ガス放出を防止するために、典型的には金属材料で作られているが、本発明にしたがって使用されるような格納ポッドは、プラスチック材料で作ることができるが、金属材料を使用することも有利である。
【0029】
また、本発明は、第１のレチクルポードをハンドリングするための第１のハンドリング要素と、第１のレチクルポードをハンドリングするための第２のハンドリング要素とを備え、第２のレチクルポードは、レチクルポードのスタックで隣接して垂直に配置されており、第１のレチクル要素と第２のレチクルポードは、第１のレチクルポードから持ち上げることができるように、水平方向に個別に変位可能であり、第１のレチクルポードは、第３のレチクルポードから持ち上げられるように、第２のレチクルポードは、スタックの第１のレチクルポードの下に垂直に配置されるように形成されている、レチクルポードを検索するための装置を提供する。レチクルポッド、第１レチクルポッド、および第２レチクルポッドの積層体を検索することができる 第３のレチクルポッドに配置する。
【0030】
有利には、第１のハンドリング要素及び第２のハンドリング要素は、第１のレチクルポッドから第２のレチクルポッドを持ち上げて第３のレチクルポッドから外すために、ハンドリング要素が相互作用する第１及び第２のレチクルポッドに設けられたそれぞれのハンドリング部材の垂直距離よりも大きい互いに垂直距離を有するようになっている。
【0031】
便宜的には、ハンドリング部材間には垂直方向の距離が固定されるように設けられる。これにより、ハンドリング部材の駆動部を垂直方向に構成することが簡素化され、信頼性の向上につながる。
【0032】
第１のハンドリング要素及び第２のハンドリング要素は、各々、第１のレチクルポッド及び第２のレチクルポッドの両側に設けられたハンドリング部材と相互作用するようになっている２つの水平方向に延在するアームを備えるように設けられることが好ましい。
【0033】
有利には、本装置は、水平方向に第１のハンドリング機構及び第２のハンドリング機構を個別に変位させ、垂直方向に第１のハンドリング機構及び第２のハンドリング機構を共同で変位させるように構成された駆動装置を含む。
【0034】
また、本発明は、上述のような装置を用いて、レチクルポッドのスタックから第１のレチクルポッドを取り出す方法を提供する。
【0035】
第１のハンドリング要素と第２のハンドリング要素とを、第２のレチクルポッドの第１のハンドリング要素の下に水平方向に配置するために、第１のハンドリング要素と第２のハンドリング要素とを共同で垂直方向に変位させ、第２のレチクルポッドから第２のレチクルポッドを持ち上げるために、第３のレチクルポッドを、レチクルポッドのスタックの第１のレチクルポッドに隣接してかつ垂直方向に配置し、第１のハンドリング要素と第２のハンドリング要素とを共同で垂直方向に、すなわち、上方へ変位させる。第３のレチクルポッド、および第２のハンドリング要素は、これを第２のレチクルポッドから分離するように水平方向に変位させる。ここでは、ハンドリング要素の変位を最小限に抑えてｎ個の格納ポッドを収容するスタックから個々の格納ポッドを容易に取り出すことができ、従って、個々にさらにハンドリングすることができる格納ポッド及びｎ－１個の格納ポッドを含むスタックを提供することができる。
【0036】
このような改良された格納コンセプトを開発する際に考慮する必要がある側面は、レチクルがフォトリソグラフィプロセス装置に提供される方法を変更することが非常に望ましくないことを含み、これは、通常、半導体生産設備の最も複雑でコストのかかる部分である。
【0037】
ここで議論される全ての方法ステップは、有利には、自動化された方法で、例えば、１以上のロボット構成要素によって実行され得ることに留意されたい。
【0038】
本発明はまた、ベースプレートとカバーとを備える、ストッカにレチクルを格納するように構成および適合された格納ポッドを提供し、ベースプレートとカバーとを一緒に解放可能な方法で保持するためのラッチ機構が提供され、格納ポッドは、積み重ねられた構成の場合に、隣接する格納パッドとの機械的整列を可能にするように構成および適合された整列機構を備えている。好ましくは、積み重ねられた構成においてこのように整列された隣接する格納ポッドは、互いに本質的に同一であるように提供される。
【0039】
有利には、格納ポッドは、入口、出口、および第１の開口を有する通路を備え、入口および出口は、積み重ねられた構成の隣接する格納ポッドの隣接する通路の入口および出口が配置され、それによって、積み重ねられた構成を通って延びるダクトが提供され、それを通ってパージガスを移送することができるように構成され、第１の開口は、ダクトを通って移送されたパージガスが、その第１の開口を通って格納ポッドの内部に入ることができるように構成され適応される。
【0040】
したがって、本発明は、ポッドを互いに積み重ねることができ、ハンドリングの自動化を容易にするように、その上面および底面に相補的な整列機構（例えば、ピンおよび穴）を有する２つの部分の格納ポッドを提供する。
【0041】
整列機構を有する格納ポッドの有利な提供はまた、上述したように、パージガスの移送のための入口、出口および開口のない格納ポッドのために提供することができる。
【0042】
本発明の利点およびさらなる態様を、添付図面を参照してさらに議論する。
【図面の簡単な説明】
【0043】
【発明を実施するための形態】
【0044】
非常に厳しい清浄度の要件のために、ＥＵＶレチクルは、通常、プロセスツールなどの使用場所と、いわゆるＥＵＶ外ポッド（ＥＯＰ）およびＥＵＶ内ポッド（ＥＩＰ）を備える二重シェル容器（二重ポッド）にあるレチクルストッカまたは格納ストッカと通称される格納場所との間で移送される。これらのＥＯＰは、標準ファブ移送システム、例えば、天井ホイスト移送（ＯＨＴ）、天井シャトル（ＯＨＳ）、無人移送車（ＡＧＶ）、無人移送車（ＰＧＶ）およびレール誘導車（ＲＧＶ）での安全で確実なハンドリングを確実にするために、寸法、すなわちＳＥＭＩ １５２規格と互換性のある寸法および形状を有する。
【0045】
以前は、レチクルも格納ストッカのこれらの二重ポッドに格納されていた。このような格納の大きな体積要件のために、最近の示唆は、ストッカのレチクルをＥＩＰのみに格納することを含んでいる。ＥＩＰのこの格納は、ＥＩＰのレチクルを固定し、またＥＩＰ構成要素を互いに固定する追加的手段を必要とする。
【0046】
本発明は、格納ストッカに格納するためのレチクルを、上述のように移送のために使用される二重ポッドのＥＩＰから専用の格納ポッドに移すというアイデアを利用する。この専用の格納ポッドは、ＥＩＰと同様の全体寸法を有するが、ストッカでは一方を他方の真上に積み重ねることができ、それによってストッカの総所要格納容積をさらに減少させる。
【0047】
ここで、格納ストッカの主要構成要素を示す図６を参照して、この一般的な概念をさらに説明する。
【0048】
図６に示される格納ストッカは、一般に６００に示される。これは、２つのロードポート６１０（そのうちの１つは、ＥＵＶ二重ポッド６１１を保持するように示され、そのうちの他方は、説明のために空として示される）を備える装置フロントエンドモジュール（ＥＦＥＭ）６２０と、ＥＦＥＭハンドリングロボット６２２と、ＥＩＰオープナステーション６２４とを備える。格納ストッカ６００は、格納ポッドオープナステーション６４２、格納ロボット６４４、及び格納棚６６０を含む格納領域６４０を更に含み、これらはレチクル、特に本発明によるストッカシステムを含む格納ポッドのスタックを保持するようになっている。説明の目的で、格納ポッド６６１を、格納棚６６０と関連して示す。
【0049】
ＥＦＥＭハンドリングロボット６２２及び格納ロボット６４４は、典型的には、２つのエンドエフェクタ６２２ａ、６２２ｂ及び１つのエンドエフェクタ６４４ａをそれぞれ備えている。エンドエフェクタは、把持機構またはハンドリング機構として提供される。ＥＦＥＭハンドリングロボット６２２の第１のエンドエフェクタ６２２ａは、ＥＩＰをハンドリングし、移動させるように構成されており、ＥＦＥＭハンドリングロボット６２２の第２のエンドエフェクタ６２２ｂは、裸のレチクルをハンドリングし、移動させるように構成されている。格納ロボット６４４には、格納ポッドおよびレチクルをそれぞれハンドリングし、移動させるように構成された２つのエンドエフェクタを設けることもできるが、例えば、図６に示すように、格納ポッドのみをハンドリングするように、１つのエンドエフェクタのみを設けることもできる。
【0050】
通常、格納領域６４０の格納スタックに格納されるレチクルを含む、外ポッドＥＯＰおよび内ポッドＥＩＰを備える二重ポッド（ＥＵＶポッド）６１１は、ＥＦＥＭ ６２０のロードポート６１０のうちの１つに送出される。ロードポート６１０では、外ポッドＥＯＰが開かれ、その結果、格納されるレチクルを依然として含む内ポッドＥＩＰは、外ポッドＥＯＰから取り外され、その第１のエンドエフェクタを用いて、ＥＦＥＭロボット６２２によってＥＩＰオープナステーション６２４に移送され得る。ここではさらに説明しない代替の実施形態では、ロードポート６１０で内ポッドを開放し、裸のレチクルを格納ポッドオープナステーション６４２に設けられた開放された格納ポッドに直接移送することも可能である。この代替実施形態では、ロードポート６１０に加えて、ＥＩＰオープナステーション６２４のような指定されたＥＩＰオープナステーションを設ける必要はない。
【0051】
ＥＩＰオープナステーション６２４では、内ポッドＥＩＰは、ＥＩＰに含まれる裸のレチクルがアクセス可能になるように開かれる。同時に、格納ロボット６４４は格納ポッド６６１を、その第１のエンドエフェクタ６４４ａを利用して、格納棚６６０の格納スタックから格納ポッドオープナステーション６４２に移送する。格納ポッドオープナステーション６４２において、格納ポッド６６１は開放される。ＥＦＥＭハンドリングロボット６２２は、次に、ＥＩＰオープナステーション６２４で開かれたＥＩＰから、その第２のエンドエフェクタ６２２ｂを利用して、格納ポッドオープナステーション６４２の開かれた格納ポッドへと、裸のレチクルを移送する。
【0052】
次いで、格納ポッドオープナステーション６４２の格納ポッド６６１が閉じられ、レチクルを内部に有する格納ポッド６６１が、格納ロボット６４４によって格納棚６６０の格納スタックに戻される。
【0053】
格納棚６６０の格納スタックの格納ポッド６６１に格納されたレチクルをロードポート６１０に移送するために、上記のステップは逆の順序で実行することができる。
【0054】
格納ポッドオープナステーション６４２は、格納領域６４０とＥＦＥＭとの間のロックとして有利に提供されることに留意されたい。ここでは、格納ストッカの異なるセクションまたはその間で、明確な清浄度のレベル差を維持することができる。有利には、格納ポッドオープナステーション６４２は、２つのドア（図６には図示せず）を備え、そのうちの第１のドアは、ＥＦＥＭ ６２０に向かって開閉可能であり、第２のドアは、格納領域６４０に対して開閉可能である。レチクルが、第１のドアを介して格納ポッドオープナステーション６４２の格納ポッドに移送された後、第２のドアが閉じられ、次いで、第１のドアも閉じられる。この状態において、格納ポッドオープナステーション６４２は、（明示的に示されていない）パージガスシステムによってパージすることができ、例えば、ＥＦＥＭ ６２０における環境のものより高い清浄度レベルを達成することができる。このパージは、格納ポッドの前および／または後に行うことができ、その内部にレチクルがある状態で、閉じられる。
【0055】
これが達成されると、格納庫への第２ドアが開き、格納ポッドが格納棚６６０の格納スタックに移送される。
【0056】
本発明で使用されるような格納ポッドは、通常の使用中、すなわち、レチクルを格納するために、半導体ファブのレチクルの移送のために使用されないので、ストッカの内部に残る。しかし、清掃手順などの特定の目的のために、ストッカから空の格納ポッドを取り外すことが可能である。ストッカからの空の格納ポッドのこの除去は、有利には、レチクルがとるのと同じ経路、すなわちＥＦＥＭハンドリングロボットを介して行うことができる。したがって、格納ポッドの汚染、特にファブ環境からの汚染は、以前の解決法と比較して最小限に抑えることができる。
【0057】
ＥＦＥＭハンドリングロボット６２２はまた、空の格納ポッドを外ロードポート６１０の１つに移送し、ここで専用の外ポッドに配置することができ、この専用の外ポッドで洗浄装置に移送することができる。有利には、ＥＦＥＭハンドリングロボット６２２は、その第１のエンドエフェクタ６２２ａをここで使用する。
【0058】
ＥＦＥＭは、有利には、クラス１ミニ環境のためのＡＭＣフィルタされたＦＦＵを備え、ＥＦＥＭとファブ環境との間、ならびにＥＦＥＭと格納ポッドのための格納領域６４０との間に分離が提供される。
【0059】
ＥＦＥＭは、通常、装置の異なるアイテム間のファブの移送に使用される標準的なＳＥＭＩ Ｅ１５２に従った標準的なＥＵＶポッドのために、上述のようなロードポート６１０のような複数のロードポートを備えている。これらのロードポートは、上述したように、ＥＵＶポッド、特にＥＯＰを開くように適合される。また、負荷ポートは、ＥＩＰを開くように適合されてもよく、この変形は、図に明示的に示されていないが、内部の裸のレチクルへのアクセスを得るためである。
【0060】
図１において、レチクルストッカにレチクルを格納するようにそれぞれ適合された２つの格納ポッドが、１１０と示されている。各格納ポッド１１０は、ベースプレート１１２およびカバー１１４を備える。図１は、それらが通常レチクルを収容する、その閉鎖状態の格納ポッド１１０を示す。
【0061】
ベースプレート１１２およびカバー１１４は、ラッチ機構１１６によってともに保持され、そのうち、格納ポッド１１０の前側に設けられた２つのラッチ１１７は、図１において見える。格納ポッド１１０の後側には、図１においては見えていない、さらに２つのラッチが設けられている。典型的には、ラッチ機構は、３つの状態、すなわち、ベースプレート１１２およびカバー１１４がしっかりと閉じ、その間に保護された内部を提供するロック状態、ベースプレート１１２およびカバー１１４が、例えば、レチクルを装填または取外すために互いに分離され得るロック解除状態、および、ラッチ１１７が、例えば、洗浄のための他のツールでの使用のために使用不能にされるアイドル状態を規定するために提供され得る。典型的には、ラッチ１１７は、能動的にロック状態またはロック解除状態に戻るまで、アイドル位置に留まる。
【0062】
ラッチ機構１１６は、レチクルストッカに格納中、およびレチクルが二重ポッドのＥＩＰから格納ポッド１１０に、またはその逆に移送される移送ステーション（例えば、格納ポッドオープナステーション６２４）との間で運搬中に、ベースプレート１１２およびカバー１１４を一緒に保持する役割を果たす。ラッチ機構は、格納ポッドの内側に分離した雰囲気を提供するために、気密の方法でベースプレートとカバーを一緒に保持することができ、かくして、外部からの汚染を最小限に抑えることができることに留意されたい。また、例えば、レチクルポッドの内側の正のガス圧の場合、クランプ機構は、格納ポッドの内側の汚染を最小限にするために、ベースプレートとカバーを密閉状態で一緒に保持する必要はない。この種の移送ステーションは、典型的には、レチクルストッカに統合される。有利には、ロック位置では、ラッチ機構は、互いに対するベースプレート１１２およびカバー１１４のあらゆる動きを阻止するように働き、それによって、許容できない汚染につながる可能性があるレチクルの格納中のあらゆる磨耗効果を最小限に抑えるか、または回避する。
【0063】
上述のＥＦＥＭは、格納ポッド開放機構を備えるように設けられ、格納ポッド開放機構は、ラッチ機構１１６を起動及び停止させることができる。
【0064】
格納ポッド１１０は、格納ポッドが閉鎖位置にある場合に、格納ポッドの内側にレチクルを固定するための機構を備える。この機構は、格納ポッドのレチクルの移動によって引き起こされる磨耗効果による潜在的な汚染をさらに最小化する。有利には、ラッチ機構１１６は、上述のように、ベースプレートとカバーとを互いに固定し、レチクルを格納ポッドに対して固定するように構成される。
【0065】
格納ポッド１１０の両側には、ハンドリングフランジやハンドルなどのハンドリング部材１２０が設けられている。各側面にハンドリング部材を設けることにより、ハンドリングロボットが、格納ポッドを回転させる必要なしに、格納ポッド１１０をどの側面からも把持することが可能となる。図示の実施例では、側面ハンドリング部材は、カバー１１４に設けられている。これらを、ベースプレート１１２に、または、例えば、ベースプレートの２つの反対側に、および、カバーの２つの異なる反対側に設けることも考えられ、それにより、ハンドリングロボットによるベースプレートまたはカバーの個々のハンドリングが可能になるか、または少なくとも簡素化される。
【0066】
ベースプレートおよびカバーは、有利には、相補的な整列機構を備えて提供され、積層構成における格納ポッドの物理的または機械的な整列を可能にするか、または容易にする。図１に示す実施形態では、例えば、各ベースプレート１１２は、その下側に形成された複数の溝１３０を備えている。各カバーには、その上側に対応する複数のピン（「運動ピン」）１３２が設けられている。あるいは、各ベースプレートに複数のピンを設け、各カバーに複数の対応する溝を設けてもよい。溝１３０およびピン１３２は、格納ポッドの正確な位置合わせが、それらが互いに積み重ねられたときに提供されるように、互いに嵌合するように形成され位置決めされる。このような正確なアラインメントはハンドリングロボットによる効果的なロボットハンドリングの前提条件である。有利には、溝１３は、細長い穴またはスロットとして提供される。図１から分かるように、カバー１１４の左側の２つのピン１３２は、関連する溝１３０の左端と相互作用するのに対して、カバーの右側のピン１３２は、関連する溝１３０の右端と相互作用する。ここでは、ベースプレートとカバーとの相対的な動きは効果的に回避され、一方、溝１３０の残りの部分、すなわちそれぞれのピンと相互作用しない部分は、ハンドリング目的のような他の目的のために利用することができる。
【0067】
格納ポッドのスタックから標的とされた格納ポッドを取り出すために、ハンドリングロボットは、標的とされた格納ポッドの上方に配置された全ての格納ポッドを含む部分的なスタックを、この部分的なスタックにおける最下段の格納ポッドのフランジ１５０を把持することによって、持ち上げ、その結果、標的とされた格納ポッド１１０に容易にアクセスできるようにする。個々の格納ポッドは、スタックに固定位置または専用位置を有することができ、あるいはランダムに配置することもできる。有利には、あらゆる格納ポッドに、例えばＲＦＩＤの形態の識別コードが設けられる。
【0068】
格納ポッド１１０の寸法、すなわちそのサイズおよび形状は、好ましくは、既存の全自動ＥＵＶポッド洗浄装置と完全に適合する。
【0069】
図２では、格納ポッド１１０のベースプレート１１２がカバーなしで示されている。ベースプレートには、レチクル３００が配置されている。格納ポッド１１０の通常の使用中、すなわち、レチクルをストッカに格納するために、図示のように、ベースプレート１１２とともにカバー（図２に図示せず）は、レチクル３００のための保護された内部を提供する。したがって、レチクル３００は、格納ポッド１１０の内部に収容される。この内部は、図３、図４、及び図５において１１０ａと示され、以下に更に説明する。
【0070】
【0071】
特に図３及び図５を参照すると、各格納ポッドのベースプレート１１２には入口２１０が設けられており、一方の手では、（ベースプレート及び対応するカバーに設けられた）通路２１１を通って、対応するカバーに設けられた出口２２０（図５において矢印２１１ａによって記された）へ流れ、他方では、フィルタ２３５、好ましくはＰＴＦＥフィルタが設けられた開口２３０を介して格納ポッドの内部へ流れ、したがって、図２、図３及び図５において矢印３１０によって示されたように、レチクル３００のためのパージ流れを提供する。パージガスは同じくフィルタ２５５、好ましくはＰＴＦＥフィルタを備えたパージガスの開口２５０を通ってベースプレートの反対側で格納ポッド１１０の内部１１１ａを出ることができる。
【0072】
【0073】
図３と同様に、これは、スタック８０を設けるために一方を他方の上方に積み重ねた３つの格納ポッド１１０を概略的に示す。格納ポッド１１０のベースプレートおよびカバーは、図３においては明示的に参照されていない。各格納ポッド１１０は、レチクル３００を収容する。
【0074】
スタック８０は、格納体の格納棚６６０の一部である棚プレート６７０に、図６に関連して上述されたように配置され、スタック８０の上部には、カバープレート７５が設けられる。有利には、スタック８０を安定させるために、特に、例えば地震によって引き起こされた不注意な攪拌によって引き起こされる損傷を防止するために、スタック８０の格納ポッド１１０を互いに固定し、また、スタック８０を全体として格納体、例えば、それが配置されている上述のような格納棚６６０に固定するために、ばね機構またはクランプ機構のような固定機構を設けることができる。いくつかの実施形態では、格納棚６６０および／またはカバープレート７５は、スタック８０の底部および／または頂部の格納ポッド位置に位置する格納ポッドの整列機構と相補的な整列機構（例えばピンおよび／または溝）を含む。
【0075】
図３に示すような実施形態では、カバープレート７５と格納棚６６２の下側との間に配置された多数のばね要素６８からなるばね機構６５を概略的に示すことにより、連続した下向きの力がカバープレート７５に対して作用し、従ってスタック８０に作用するようになっている。容易に理解されるように、最下部の格納ポッドの下にこのようなばね機構を設けて、下からスタック８０に作用する上方向の力を与えることもできる。
【0076】
上述したように、各格納ポッド１１０には、入口２１０（図３で明示的に指定されないベースプレートに設けられる）および出口２２０（カバーに設けられ、図３で明示的に指定されない）が形成される。格納ポッドの入口および出口は、各格納ポッド１１０を通って延びる通路２１１を介して互いに連通している。各出口２２０は、隣接する格納ポッド１１０の入口２１０に直ぐ隣接する。従って、全体のスタック８０を貫通して略垂直方向に延びるダクト９０が形成される。
【0077】
また、各通路２１１には、それぞれの格納ポッド１１０の内部１１０ａに第１の開口２３０が設けられている。各第１の開口にはフィルタ２３５が設けられることが有利であり、これにより、ダクト９０を通って移送されたり吹き飛ばされたりして、各格納ポッドの内部１１０ａに入るパージガスが可能となるが、以下でさらに説明するように、ダクト９０のパージガスに存在する粒子による汚染が防止される。この場合もやはり、各格納ポッド１１０への、またそこを通るこのパージガスの流れは、矢印３１０によって符号付けされている。
【0078】
全てにおいて、パージガス供給源（図示せず）からのパージガスは、棚プレート７０の開口を通って、積み重ねられた格納ポッド１１０の通路２１１（図３の矢印２７０によって示される）によって形成されるダクト９０に垂直に移送される。ダクト９０の上端はカバープレート７５によって規定され、これがパージガスの流れを遮断する。ダクト９０及びそれぞれの格納ポッド１１０を通るパージガスのこの流れは、例えば、加圧パージガス及び／又は換気システム（共に図示せず）を用いることによって、対応する圧力差を提供することによってもたらされる。
【0079】
言及したように、このパージガスの一部は、第１の開口２３０を通って格納ポッド１１０のそれぞれの内部１１０ａに入り、したがって、各格納ポッド１１０のレチクル３００の周囲に本質的に水平なパージガスの流れを提供する。通路２１１に対向する格納ポッドの側部において、パージガスは、同じく粒子フィルタ２５５が設けられたそれぞれの第２の開口２５０を通って格納ポッド１１０から出る。
【0080】
ダクト９０を介して共通のパージガス供給源（圧力プレナム）を設けることによって、また同時に第１の開口２３０及び第２の開口２５０にフィルタを設けることによって、スタック８０の各格納ポッド１１０を介して効果の高いパージガス流を個々に設けることができる。格納ポッド１１０は、したがって、それぞれのレチクルに対する個々の格納環境として作用し、異なる格納ポッド１１０間の交差汚染は、効果的に回避され得る。各格納ポッド１１０には、いつでも新鮮な汚染されていないパージガスが供給される。
【0081】
ここで図４および図５を参照し、さらに図２を参照すると、個々の格納ポッド１１０およびスタック８０を通るパージガス流を提供するように適合された開口および通路の好ましい実施形態が説明される。ベースプレート１１２およびカバー１１４の輪郭は、図５に破線で描かれていることに留意されたい。
【0082】
図２及び図４において１１２ａで示されるベースプレート１１２の第１の側壁の下側には、開口２１０が形成され、これを通ってパージガスが通路２１１に入る。カバー１１４には、図５に見られるように、対応する通路２１１が設けられている。ベースプレート１１２およびカバーに形成された通路２１１を通って、パージガスを個々の格納ポッド１１０を通して移送することができる。複数の格納ポッド１１０が互いに積み重ねられている場合には、このパージガス流を、最も下にあるものからスタックの最も上にあるものまで、全ての前記格納ポッド１１４を通って供給することができる。通路２１１を通って、したがって、図３を参照して説明されたようにダクト９０を通って流れるパージガスの一部は、それぞれの格納ポッドの内部に入ることはない。
【0083】
同時に、各格納ポッド１１０で、パージガス流の別の一部が開口２３０を通って内部１１０ａに入り、フィルタ２３５を備える。パージガスのこの部分は、格納ポッドに格納されたレチクルに対する効果的なパージを提供し、図３を参照して同様に上述したように、同じくフィルタ２５５が設けられた開口２５０を介して格納ポッドから出る。
【0084】
図３に示すような実施形態によると、パージガスは、垂直に延在するフィルタ２３５を通って格納ポッドの内部１１０ａに入る。すなわち、図２、４および５の実施形態によると、内部の初期パージガス流は、本質的に水平であるが、フィルタ２３５は、格納ポッドの内部１１０ａへの初期流れが垂直であるように、本質的に水平に延在するように配置されるか、または図２の矢印３１０または図５の矢印３１０によって示されるように、少なくとも垂直成分を有することに留意されたい。
【0085】
図７ａ～図７ｄは、格納ポッドのスタックから格納ポッドを取り出す方法の好ましい実施例を示している。図示の例では、スタックは６個の格納ポッド１１０を備えている。参照を容易にするために、第１の格納ポッドは、１１０ａと示され、第１の格納ポッドに垂直に隣接し、かつ上方にある第２の格納ポッドは、１１０ｂと示され、第１の格納ポッドに垂直に隣接し、かつ下方にある第３の格納ポッドは、１１０ｃと示されている。明瞭化の目的のために、本明細書で使用されるように、垂直、上下の用語は重力の方向を指し、上の意味はさらに遠く、地球の中心に近いところの下または下を意味し、水平の用語は重力の方向に対して直角に延びる方向を指している。
【0086】
各格納ポッド１１０には、例えばハンドリングフランジ又はハンドル等の２つの水平方向に延在するハンドリング部材１２０が両側に設けられており、そのうちの１つのみが図７ａ～図７ｃの各格納ポッドに対して見えるようになっている。
【0087】
格納ポッドのスタックから個々の格納ポッドを取り出すための装置は、７４０と指定されている。効率的には、装置７４０は、図６に示されるように、格納ロボット６４４の一部である。装置７４０には、２つのハンドリング要素７４２及び７４４が設けられており、これらは各々、格納ポッド１１０の両側の各ハンドリング部材１２０と係合するための２つの水平方向に延在するアーム又はグリッパを備えている。図７ａ～７ｄでは、ハンドリングエレメントにつき１つのアームのみが見える。
【0088】
ハンドリング要素は、図７ａ～図７ｄには示されていない駆動機構によって変位可能である。駆動機構はまた、図６に示すように、格納ロボット６４４の好都合な部分であり、駆動機構は、ハンドリング要素７４２及び７４４を垂直方向並びに水平方向に変位させるようになっている。以下に示すように、駆動機構は、水平方向に、そして垂直方向に、同時に、または個々に、ハンドリング要素を動かすように設計される。これは、ハンドリング要素７４２及び７４４の別個の水平移動に対しては、２つの別個のドライブが設けられ、ハンドリング要素７４２及び７４４の垂直移動に対しては、１つのドライブのみが必要であることを意味する。
【0089】
第１のステップでは、図７ａの格納ポッド１１０のストックの右側に配置されたハンドリング要素７４２及び７４４（図７ａ～７ｄの視点で）は、左側に変位され、その結果、ハンドリング要素７４２は、第１の格納ポッド１１０ａのハンドリング部材１２０の下に、ハンドリング要素７４４は第２の格納ポッド１１０ｂのハンドリング部材の下に。図７ａから７ｄに見られるように、ハンドリング要素７４２と７４４との間の垂直距離は、第１及び第２の格納ポッド１１０ａ及び１１０ｂのハンドリング部材のそれよりも僅かに大きく、その結果、図７ｂに示される位置において、ハンドリング要素７４２と第１の格納ポッド１１０ａのハンドリング部材との間の垂直距離は、ハンドリング要素７４４と第２の格納ポッド１１０ｂのハンドリング部材との間のそれよりも僅かに大きい。
【0090】
これは、ハンドリング要素７４２及び７４４が共同で垂直上方に移動する場合、最初は第２の格納ポッド１１０ｂは第１の格納ポッド１１０ａから持ち上げられ、その後は第１の格納ポッド１１０ａが第３の格納ポッド１１０ｃから持ち上げられることを意味する。その結果、隣接する格納ポッド１１０ｂ、１１０ｃと接触しなくなった第１の格納ポッド１１０ａは、（図７ｃの視点で右側への）ハンドリング要素７４２の水平方向の移動によってスタックから容易に取り出すことができる。ハンドリング要素７４２及び７４４の後続のジョイント垂直下方移動によって、第２の格納ポッド１１０を第３の格納ポッド１１０ｃに配置することができ、この結果として得られる状況は図７ｄに示されている。次いで、例えば、図７ａに示す位置に戻るために、ハンドリング要素７４４を右に移動させることもできる。
【0091】
上述したように、ハンドリング要素７４２，７４４の垂直変位は、単一の駆動装置によって有利に提供することができるが、１つの駆動装置と、それらが互いに垂直方向に離れて動くことができるように２つのハンドリング要素を接続する伝達機構とを使用して、又は２つのハンドリング要素の各々に個別に制御可能な垂直駆動装置を提供することによって、この垂直変位を提供することも可能である。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7a】
【図7b】
【図7c】
【図7d】
【手続補正書】
【提出日】2024-01-10
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数のレチクル、特にＥＵＶレチクルを格納するためのストッカシステムであって、各々が前記レチクルの１つを内部に保持するように構成され、一方を他方の上方に垂直に積み重ねてスタック（８０）を提供する複数の格納ポッド（１１０）を備え、前記格納ポッド（１１０）の各々は、入口（２１０）と出口（２２０）と第１の開口（２３０）とを有する通路（２１１）を備え、隣接する通路（２１１）の入口及び出口は、前記スタック（８０）を通って延びるダクト（９０）が提供されるように配置され、前記ダクト（９０）を通してパージガスを移送することができ、前記ダクト（９０）を通して移送された前記パージガスは、各々の前記第１の開口（２３０）を通して各々の前記格納ポッド（１１０）の内部（１１０ａ）へ入り込むことができ、前記通路（２１１）の前記第１の開口（２３０）は、粒子フィルタ（２３５）を備える、システム。
【請求項2】
各々の前記収納ポッドは、ベースプレート（１１２）とカバー（１１４）とを備え、前記入口（２０１）は前記ベースプレート（１１２）に設けられ、前記出口（２２０）は前記カバー（１１４）に設けられる、請求項１に記載のシステム。
【請求項3】
各々の前記格納ポッド（１１０）には第２の開口（２５０）が設けられ、前記第２の開口（２５０）を通してパージガスが前記格納ポッドの内部（１１０ａ）を出ることができ、好ましくは、前記第２の開口には粒子フィルタ（２５５）が設けられる、請求項１又は２に記載のシステム。
【請求項4】
各々の前記格納ポッド（１１０）には少なくとも１つのハンドリング部材（１２０）が設けられている、請求項１～３のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項5】
前記スタックの隣接する格納ポッドを機械的に整列させるように構成および適合される整列機構が設けられ、特に、前記ベースプレートには溝（１３０）またはピンが設けられ、前記カバーにはピン（１３２）または溝が設けられ、溝およびピンは、隣接する格納ポッド（１１０）に設けられた対応するピンまたは溝と相互作用するために設けられる、請求項１～４のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項6】
各々の前記格納ポッド（１１０）は、ベースプレート（１１２）およびカバー（１１４）を互いに固定するためのラッチ機構（１１６）を備える、請求項２～５のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項7】
請求項１～６のいずれか１項に記載のストッカシステムと、前記ストッカシステムを格納するように構成された格納体（６６０）とを含む、格納ストッカ。
【請求項8】
個々の格納ポッドを互いに、及び／又は、前記格納体（６６０）に物理的に、固定するように構成された固定機構を備える、請求項７に記載の格納ストッカ。
【請求項9】
レチクル、特にＥＵＶレチクルをハンドリングする方法であって、ステップ前記レチクルを使用場所と格納場所との間、またはその逆に、移送ポッドで移送するステップと、前記レチクルを前記移送ポッドから格納ポッドへ、またはその逆に、移送するステップと、前記レチクルを前記格納ポッドの格納場所に格納するステップと、を備える方法。
【請求項10】
前記移送ポッドは、少なくとも内ポッドＥＩＰを備え、前記格納ポッドは、内部に１つのレチクルを保持／格納し、スタックを提供するために、他の格納ポッドと共に、一方が垂直に他方の上方に積み重ねられるように構成され、各々の前記格納ポッドは、入口と、出口と、第１の開口でパージガスを吹き出すことができる通路と、を備え、前記通路を通して吹き出された前記パージガスは、前記第１の開口を通して前記格納ポッドの内部に入ることが可能である、請求項９に記載の方法。
【請求項11】
レチクルポッド（１００）のスタックから第１のレチクルポッド（１１０ａ）を取り出すための装置であって、前記第１のレチクルポッド（１１０ａ）をハンドリングするための第１のハンドリング要素（７４２）と、第２のレチクルポッド（１１０ｂ）をハンドリングするように構成された第２のハンドリング要素（７４４）と、を備え、前記第２のレチクルポッド（１１０ｂ）が、前記レチクルポッド（１００）のスタックで前記第１のレチクルポッド（１１０ａ）に隣接して垂直に上方に配置されており、前記第２のレチクルポッド（１１０ｂ）が前記第１のレチクルポッド（１１０ａ）から持ち上げられることを可能とし、前記第１のレチクルポッド（１１０ａ）が第３のレチクルポッド（１１０ｃ）から持ち上げられることを可能とするように、前記第１のハンドリング要素（７４２）と前記第２のハンドリング要素（７４４）とが、個々に水平方向に変位可能であり個々に垂直方向に変位可能であるように構成され、第３のレチクルポッド（１１０ｃ）が、前記レチクルポッド（１００）の前記スタックで前記第１のレチクルポッド（１１０ａ）に隣接して垂直に下方に配置され、前記第１のレチクルポッド（１１０ａ）は前記レチクルポッド（１１０）の前記スタックから取り出されることができ、前記第２のレチクルポッド（１１０ｂ）は前記第３のレチクルポッド（１１０ｃ）に配置することができる、装置。
【請求項12】
前記第１のハンドリング要素及び前記第２のハンドリング要素は、前記第２のレチクルポッドが前記第１のレチクルポッドに積み重ねられたときに、前記第１のレチクルポッド及び第２のレチクルポッドに設けられた各々のハンドリング部材の第２の垂直距離よりも大きい第１の垂直距離を有するように構成され、前記第１のハンドリング要素及び前記第２のハンドリング要素は、前記第１のレチクルポッドから前記第２のレチクルポッドを持ち上げ、前記第３のレチクルポッドから前記第１のレチクルポッドを持ち上げるために相互作用する、請求項１１に記載の装置。
【請求項13】
前記第１の垂直距離は固定された垂直距離である、請求項１２に記載の装置。
【請求項14】
前記第１のハンドリング要素および前記第２のハンドリング要素は、各々、前記第１のレチクルポッドおよび前記第２のレチクルポッドの両側に設けられたハンドリング部材と相互作用するように適合され水平方向に延在する２つのアームを備えるように設けられる、請求項１１～１３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項15】
前記第１のハンドリング機構及び前記第２のハンドリング機構を個々に水平方向に変位させ、前記第１のハンドリング機構及び前記第２のハンドリング機構を併せて垂直方向に変位させるように構成された駆動装置を含む、請求項１１～１４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項16】
請求項１１～１５のいずれか１項に記載の装置を用いて、前記レチクルポッドの前記スタック（１００）から第１のレチクルポッド（１１０ａ）を取り出すための方法。
【請求項17】
前記第１のレチクルポッド（１１０ａ）のハンドリング部材（１２０）の下方に前記第１のハンドリング要素を位置決めし、第２のレチクルポッド（１１０ｂ）のハンドリング部材（１２０）の下方に第２のハンドリング要素（７４４）を位置決めするために、前記第１のハンドリング要素（７４２）及び前記第２のハンドリング要素（７４４）は、水平方向に併せて変位し、前記第１のハンドリング要素（７４２）及び前記第２のハンドリング要素（７４４）は、前記第１のレチクルポッド（１１０ａ）から前記第２のレチクルポッド（１１０ｂ）を持ち上げ、第３のレチクルポッド（１１０ｃ）から前記第１のレチクルポッドを持ち上げるために、垂直方向に変位し、前記第３のレチクルポッド（１１０ｃ）は、前記レチクルポッドの前記スタックで前記第１のレチクルポッドに隣接して垂直に下方に配置され、前記第１のハンドリング要素（７４２）は、前記レチクルポッドの前記スタックから前記第１のレチクルポッドを取り出すために個々に水平方向に変位し、前記第２のハンドリング要素（７４４）は、前記第３のレチクルポッドに前記第２のレチクルポッドを配置するために垂直方向に変位し、前記第２のハンドリング要素は、前記第２のレチクルポッドから分離するために水平方向に変位する、請求項１６に記載の方法。
【請求項18】
レチクルをストッカに格納するように構成および適合される格納ポッドであって、ベースプレート（１１２）とカバー（１１４）とを備え、ラッチ機構（１１６）が、前記ベースプレート（１１２）と前記カバー（１１４）とを互いに解放可能な態様で保持するために設けられ、前記格納ポッドは、前記格納ポッドの積み重ねられた構成において隣接する格納ポッドとの機械的な整列を可能にするように構成および適合される整列機構を備え、さらに、入口（２１０）と、出口（２２０）と、第１の開口（２３０）とを有する通路（２１１）を備え、前記入口および前記出口は、積み重ねられた構成で隣接する格納ポッドの隣接する通路（２１１）の入口および出口が、積み重ねられた構成を通って延びるダクト（９０）を提供するように配置され、パージガスを移送することができ、第１の開口は、ダクト（９０）を通って移送されるパージガスが前記第１の開口（２３０）を通って前記格納ポッドの内部（１１０ａ）に入ることができるように構成され適応され、前記通路（２１１）の前記第１の開口（２３０）は、粒子フィルタ（２３５）を備える、格納ポッド。
【国際調査報告】