特表 2024-543734 インダクタ

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-11-22

(54)【発明の名称】インダクタ

(51)【国際特許分類】

   H01F 17/04 20060101AFI20241115BHJP

   H01F 17/00 20060101ALI20241115BHJP

【ＦＩ】

H01F17/04 A

H01F17/00 B

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2024536519

(86)(22)【出願日】2022-11-25

(85)【翻訳文提出日】2024-06-18

(86)【国際出願番号】 KR2022018825

(87)【国際公開番号】W WO2023121021

(87)【国際公開日】2023-06-29

(31)【優先権主張番号】10-2021-0182729

(32)【優先日】2021-12-20

(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】517099982

【氏名又は名称】エルジー イノテック カンパニー リミテッド

(74)【代理人】

【識別番号】100114188

【弁理士】

【氏名又は名称】小野 誠

(74)【代理人】

【識別番号】100119253

【弁理士】

【氏名又は名称】金山 賢教

(74)【代理人】

【識別番号】100129713

【弁理士】

【氏名又は名称】重森 一輝

(74)【代理人】

【識別番号】100137213

【弁理士】

【氏名又は名称】安藤 健司

(74)【代理人】

【識別番号】100183519

【弁理士】

【氏名又は名称】櫻田 芳恵

(74)【代理人】

【識別番号】100196483

【弁理士】

【氏名又は名称】川嵜 洋祐

(74)【代理人】

【識別番号】100160255

【弁理士】

【氏名又は名称】市川 祐輔

(74)【代理人】

【識別番号】100219265

【弁理士】

【氏名又は名称】鈴木 崇大

(74)【代理人】

【識別番号】100203208

【弁理士】

【氏名又は名称】小笠原 洋平

(74)【代理人】

【識別番号】100216839

【弁理士】

【氏名又は名称】大石 敏幸

(74)【代理人】

【識別番号】100228980

【弁理士】

【氏名又は名称】副島 由加里

(74)【代理人】

【識別番号】100151448

【弁理士】

【氏名又は名称】青木 孝博

(74)【代理人】

【識別番号】100146318

【弁理士】

【氏名又は名称】岩瀬 吉和

(72)【発明者】

【氏名】ソン，インソン

(72)【発明者】

【氏名】リュウ，ジチャン

(72)【発明者】

【氏名】ペ，ソク

【テーマコード（参考）】

5E070

【Ｆターム（参考）】

5E070AA01

5E070BA08

5E070CB12

5E070CB17

(57)【要約】

本発明によるインダクタは、内足及び外足を備えるコア部と、内足を中心に螺旋形に配置されるコイル、及びコイルが配置されたコイル基板を含むコイル部と、を含み、コイルは、内足と外足との間で、内足から前記外足に近付くほど増加する水平方向の幅を有する。
【選択図】 図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

内足及び外足を備えるコア部と、
前記内足を中心に螺旋形に配置されるコイル、及び前記コイルが配置されたコイル基板を含むコイル部と、を含み、
前記コイルは、前記内足と前記外足との間で、前記内足から前記外足に近付くほど増加する水平方向の幅を有する、インダクタ。

【請求項2】

前記コイルは、
前記水平方向の一つである第１方向に沿って延びて前記内足と前記外足との間を通り、前記コア部と垂直方向に重畳する複数の重畳コイルパターンと、
前記水平方向の他の一つで、前記第１方向と交差する第２方向に延び、前記コア部と前記垂直方向に重畳しない複数の非重畳コイルパターンと、を含み、
前記複数の非コイル重畳パターンは、前記第１方向から前記第２方向に折り曲げられる折曲部を含み、
前記折曲部は、前記複数の非重畳コイルパターンの幅が変更される変幅部を含む、請求項１に記載のインダクタ。

【請求項3】

前記コア部は、垂直方向に互いに対向する上側コア部及び下側コア部を含み、
前記上側コア部は、前記下側コア部に向かって突出し、前記第２方向に互いに離隔している上側内足レッグ部及び上側外足レッグ部を含み、
前記下側コア部は、前記上側内足レッグ部及び前記上側外足レッグ部に向かってそれぞれ突出して対向し、前記第２方向に互いに離隔している下側内足レッグ部及び下側外足レッグ部を含む、請求項１に記載のインダクタ。

【請求項4】

前記上側外足レッグ部は、前記上側コア部の縁部に配置される第１上側外足レッグ部及び第２上側外足レッグ部を含み、
前記上側内足レッグ部は、前記第１上側外足レッグ部と前記第２上側外足レッグ部との間の中央に配置された上部中足レッグ部を含み、
前記下側外足レッグ部は、前記下側コア部の縁部に配置され、前記第１上側外足レッグ部及び前記第２上側外足レッグ部とそれぞれ前記垂直方向に対向する第１下側外足レッグ部及び第２下側外足レッグ部を含み、
前記下側内足レッグ部は、前記第１下側外足レッグ部と前記第２下側外足レッグ部との間の中央に配置され、前記上部中足レッグ部と前記垂直方向に対向する下部中足レッグ部を含む、請求項３に記載のインダクタ。

【請求項5】

前記上側内足レッグ部と前記下側内足レッグ部との間に形成された第１ギャップ又は前記上側外足レッグ部と前記下側外足レッグ部との間に形成された第２ギャップのうちで少なくとも一つを含む、請求項４に記載のインダクタ。

【請求項6】

前記コイルは、
前記コイル基板の上面に配置され、前記上側内足レッグ部を中心に螺旋形に配置される上部コイルと、
前記コイル基板の下面に配置され、前記下側内足レッグ部を中心に螺旋形に配置される下部コイルと、を含む、請求項３に記載のインダクタ。

【請求項7】

前記コイル基板は、厚さ方向に貫通されたビアホールに配置されたビアパターンを含み、
前記上部コイルと前記下部コイルとは前記ビアパターンを介して連結される、請求項６に記載のインダクタ。

【請求項8】

前記複数の重畳コイルパターンのそれぞれの前記幅は、前記内足から前記外足に近付くほど線形的に増加する、請求項２に記載のインダクタ。

【請求項9】

前記複数の重畳コイルパターンのそれぞれの前記幅は、前記内足から前記外足に近付くほど非線形的に増加する、請求項２に記載のインダクタ。

【請求項10】

前記内足から第１地点まで前記複数の重畳コイルパターンのターン数は前記複数の重畳コイルパターンの総ターン数の半分を超え、
前記内足から前記第１地点までの距離は、前記内足と前記外足との間に位置する前記複数の重畳コイルパターンの幅の総和の半分である、請求項２に記載のインダクタ。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明はインダクタに関する。

【背景技術】

【0002】

電子製品のスリム化の傾向に伴って、インダクタを構成するコイルがプリント基板（ＰＣＢ）の形態を有し、磁性コアの中足を共有する形態として普及されている。

【0003】

ここで、インダクタのコイルはプリント基板の片面又は両面に複数のターンを成す導電性パターンで配置され、導電性パターンは磁性コアの中足を螺旋形に取り囲む構造を有する。

【0004】

ＤＣバイアスはインダクタの主要性能を評価する項目であり、ＤＣバイアスを増加させるためには、インダクタンスを低めるか、又は磁性コアの上／下部コアを離隔させるギャップ（Ｇａｐ）量を増加させなければならない。

【0005】

インダクタンスはギャップ（Ｇａｐ）量が増加するほど低くなるので、インダクタのＤＣバイアスを増加させるためには、高インダクタンスを有する構造においてギャップ（Ｇａｐ）量を増やさなければならない。

【0006】

高インダクタンスを有する構造を形成するためには、導電性パターンのターン数を増加させるか、又は磁性コアの中足の面積を増加させなければならない。しかし、これはインダクタの面積を増加させるので、これに対する改善が要求される。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

一実施例は、同じ面積で増加したインダクタンスを有するインダクタを提供することである。

【0008】

他の実施例は、抵抗が大きい最外郭コイルパターンの幅を制御して、全体的に減少した抵抗を有することによって発熱を最少化させることができるインダクタを提供することである。

【0009】

実施例は以上で言及した実施例に制限されず、言及しなかった他の実施例は以下の記載から本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に明らかに理解可能であろう。

【課題を解決するための手段】

【0010】

本発明の実施例によるインダクタは、内足及び外足を備えるコア部と、前記内足を中心に螺旋形に配置されるコイル、及び前記コイルが配置されたコイル基板を含むコイル部と、を含み、前記コイルは、前記内足と前記外足との間で、前記内足から前記外足に近付くほど増加する水平方向の幅を有する。

【0011】

前記コイルは、前記水平方向の一つである第１方向に沿って延びて前記内足と前記外足との間を通り、前記コア部と垂直方向に重畳する複数の重畳コイルパターンと、前記水平方向の他の一つで、前記第１方向と交差する第２方向に延び、前記コア部と前記垂直方向に重畳しない複数の非重畳コイルパターンと、を含み、前記複数の非コイル重畳パターンは、前記第１方向から前記第２方向に折り曲げられる折曲部を含み、前記折曲部は、前記複数の非重畳コイルパターンの幅が変更される変幅部を含むことができる。

【0012】

前記複数の重畳コイルパターンのそれぞれが前記水平方向に増加する幅の範囲は５％～１５％であり得る。

【0013】

前記コア部は、垂直方向に互いに対向する上側コア部及び下側コア部を含み、前記上側コア部は、前記下側コア部に向かって突出し、前記第２方向に互いに離隔している上側内足レッグ部及び上側外足レッグ部を含み、前記下側コア部は、前記上側内足レッグ部及び前記上側外足レッグ部に向かってそれぞれ突出して対向し、前記第２方向に互いに離隔している下側内足レッグ部及び下側外足レッグ部を含むことができる。

【0014】

前記上側外足レッグ部は、前記上側コア部の縁部に配置される第１上側外足レッグ部及び第２上側外足レッグ部を含み、前記上側内足レッグ部は、前記第１上側外足レッグ部と前記第２上側外足レッグ部との間の中央に配置された上部中足レッグ部を含み、前記下側外足レッグ部は、前記下側コア部の縁部に配置され、前記第１上側外足レッグ部及び前記第２上側外足レッグ部とそれぞれ前記垂直方向に対向する第１下側外足レッグ部及び第２下側外足レッグ部を含み、前記下側内足レッグ部は、前記第１下側外足レッグ部と前記第２下側外足レッグ部との間の中央に配置され、前記上部中足レッグ部と前記垂直方向に対向する下部中足レッグ部を含むことができる。

【0015】

前記上側内足レッグ部と前記下側内足レッグ部との間に形成された第１ギャップ又は前記上側外足レッグ部と前記下側外足レッグ部との間に形成された第２ギャップのうちで少なくとも一つを含むことができる。

【0016】

前記第１ギャップ又は第２ギャップのうちの少なくとも一つの前記垂直方向への距離は１０μｍ～７００ｍｍであり得る。

【0017】

前記コイルは、前記コイル基板の上面に配置され、前記上側内足レッグ部を中心に螺旋形に配置される上部コイルと、前記コイル基板の下面に配置され、前記下側内足レッグ部を中心に螺旋形に配置される下部コイルと、を含むことができる。

【0018】

前記コイル基板は、厚さ方向に貫通されたビアホールに配置されたビアパターンを含み、前記上部コイルと前記下部コイルとは前記ビアパターンを介して連結され得る。

【0019】

ここで、前記ビアホールは複数が配置され、前記外足に隣接した領域よりも前記内足に隣接した領域に相対的に多い前記ビアホールが配置され得る。

【0020】

前記複数の重畳コイルパターンのそれぞれの前記幅は、前記内足から前記外足に近付くほど線形的に増加することができる。

【0021】

前記複数の重畳コイルパターンのそれぞれの前記幅は、前記内足から前記外足に近付くほど非線形的に増加することができる。

【0022】

前記内足から第１地点まで前記複数の重畳コイルパターンのターン数は前記複数の重畳コイルパターンの総ターン数の半分を超え、前記内足から前記第１地点までの距離は、前記内足と前記外足との間に位置する前記複数の重畳コイルパターンの幅の総和の半分であり得る。

【発明の効果】

【0023】

実施例によるインダクタは、所定の制限された空間でコイルパターンの幅を制御してコイルパターンのターン数を増加させることで、増加したインダクタンスを有することによってＤＣバイアス性能を改善することができる効果がある。

【0024】

また、実施例によるインダクタは、抵抗が大きい最外郭コイルパターンの幅を制御して、全体的に低下した抵抗を有することによって発熱を最小化することができる。

【0025】

本発明で得られる効果は以上で言及した効果に限定されず、言及しなかった他の効果は以下の記載から本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に明らかに理解可能であろう。

【図面の簡単な説明】

【0026】

【図1】一実施例によるインダクタの結合斜視図である。

【0027】

【図2】一実施例によるインダクタの分解斜視図である。

【0028】

【図3】一実施例によるコイル部の平面図である。

【0029】

【図4】図３の「Ａ」領域の拡大平面図である。

【0030】

【図5】一実施例によるコイルパターンの幅増加量を示すグラフである。

【0031】

【図6】他の実施例によるインダクタのコイルパターンを示す平面図である。

【0032】

【図7】さらに他の実施例によるコイル部を示す平面図及び断面図である。

【0033】

【図8】実施例によるインダクタの断面図である。

【0034】

【図9】実施例によるインダクタのインダクタンスに対するＤＣバイアスの変化量を示すグラフである。

【発明を実施するための形態】

【0035】

本発明は多様な変更を加えることができ、さまざまな実施例を有することができるが、ここでは特定の実施例を図面に例示しながら説明しようとする。しかし、これは本発明を特定の実施形態に限定しようとするものではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれるすべての変更、均等物乃至代替物を含むものと理解しなければならない。

【0036】

「第１」、「第２」などのように序数を含む用語は多様な構成要素を説明するのに使うことができるが、前記構成要素は前記用語に限定されない。前記用語は一構成要素を他の構成要素と区別する目的のみで使う。例えば、本発明の権利範囲を逸脱しない範囲内で、第２構成要素は第１構成要素と言え、同様に第１構成要素も第２構成要素と言える。及び／又はという用語は、複数の関連する記載の項目の組合せ又は複数の関連する記載の項目の中でいずれか項目を含む。

【0037】

ある構成要素が他の構成要素に「連結される」又は「接続される」と言及したときには、その他の構成要素に直接的に連結されるか又は接続されることもできるが、中間にさらに他の構成要素が存在することもできると理解しなければならないであろう。一方、ある構成要素が他の構成要素に「直接連結」されているか又は「直接接続」されていると言及するときは、中間にさらに他の構成要素が存在しないものと理解されなければならないであろう。

【0038】

実施例の説明において、各層（膜）、領域、パターン又は構造が基板、各層（膜）、領域、パッド又はパターンの「上（ｏｎ）」に又は「下（ｕｎｄｅｒ）」に形成されるという記載は、直接（ｄｉｒｅｃｔｌｙ）形成されるか又は他の層を介在して形成されるものを全部含む。各層の上／上方又は下／下方に対する基準は図面を基準に説明する。また、図面で、各層（膜）、領域、パターン又は構造物の厚さや大きさは説明の明確性及び便宜性のために変形され得るので、実際の大きさをそのまま反映するものではない。

【0039】

本出願で使用する用語は単に特定の実施例を説明するために使用するものであり、本発明を限定しようとするものではない。単数の表現は、文脈上明白に他に指示しない限り、複数の表現を含む。本出願で、「含む」又は「有する」などの用語は明細書上に記載された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品又はこれらの組合せが存在することを指定しようとするものであり、一つ又はそれ以上の他の特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品又はこれらの組合せの存在又は付加の可能性を予め排除しないものと理解しなければならない。

【0040】

特に他に定義しない限り、技術的又は科学的な用語を含めてここで使う全ての用語は本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者が一般的に理解しているものと同じ意味を有する。一般的に使用される辞書に定義されているもののような用語は関連技術の文脈上で有する意味と一致する意味を有するものと解釈しなければならなく、本出願で明白に定義しない限り、理想的に又は過度に形式的な意味と解釈されない。

【0041】

以下、添付図面を参照して実施例を詳細に説明するが、図面符号にかかわらず、同一又は対応の構成要素は同じ参照番号を付与し、それについて重複説明は省略する。

【0042】

また、いくつかの実施例は、デカルト座標系（Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸）を用いて説明し、デカルト座標系で、各図に示すＸ軸と、Ｙ軸と、Ｚ軸とは互いに直交するが、実施例はこれに限定されない。Ｘ軸と、Ｙ軸と、Ｚ軸とは互いに交差することもある。以下で、説明の便宜上、Ｚ軸方を向垂直方向と言い、Ｘ軸方向及びＹ軸方向をそれぞれ水平方向と言う。また、Ｘ軸方向を第１方向と言い、Ｙ軸方向を第２方向と言う。

【0043】

以下、添付図面を参照して実施例によるインダクタを詳細に説明する。実施例によるインダクタは一例に過ぎず、必ずしもこれに限定されるものではない。実施例によるインダクタはＥＭＩフィルターの一構成要素になることもでき、トランスフォーマーの具現も可能である。

【0044】

図１は一実施例によるインダクタの結合斜視図であり、図２は一実施例によるインダクタの分解斜視図である。

【0045】

図１及び図２を一緒に参照すると、一実施例によるインダクタ１００は、コア部１１０と、コイル部１５０と、を含む。以下、各構成要素を詳細に説明する。

【0046】

コア部１１０は磁性物質でなることができ、磁気回路の特性を有して磁束通路の役割を果たすことができる。コア部１１０は、例えば、鉄又はフェライトを含むことができるが、これに限定されるものではない。

【0047】

コア部１１０は、内足ＩＬと、外足ＯＬと、を備える。外足ＯＬは、一側に配置される第１外足部ＯＬ１と、第２方向に他側に配置される第２外足部ＯＬ２と、を含むことができる。

【0048】

内足ＩＬは第１外足部ＯＬ１と第２外足部ＯＬ２との間に配置される。すなわち、内足ＩＬは第１及び第２外足部ＯＬ１、ＯＬ２によって形成された範囲内に形成されたものを言う。内足ＩＬは、第２方向に第１及び第２外足部ＯＬ１、ＯＬ２の間の中央に配置され、中央から離隔して配置されることもできる。特に、第１及び第２外足部ＯＬ１、ＯＬ２の間の中央に配置される内足ＩＬを「中足」と言える。本実施例では、内足ＩＬが第１及び第２外足部ＯＬ１、ＯＬ２の間の中央に配置された中足を例として示して説明する。

【0049】

コア部１１０は、上側に位置する上側コア部１１２と、下側に位置する下側コア部１１７と、を含むことができる。上側コア部１１２と下側コア部１１７とは垂直方向に互いに対向することができる。上側コア部１１２と下側コア部１１７とは互いに上下に対称形状であるか又は非対称形状であり、上側コア部１１２及び下側コア部１１７のうちのいずれか一つが除去された形状であり得る。以下の記載では、説明の便宜のために、上下で対称形状のものを示して説明する。

【0050】

コア部１１０に内足ＩＬ及び外足ＯＬを形成するために、上側コア部１１２及び上側コア部１１２の下側に結合される下側コア部１１７は複数のレッグ（Ｌｅｇ）を備えることができる。

【0051】

具体的には、上側コア部１１２は、平板状の上側ボディー部１１４と、上側ボディー部１１４から下側コア部１１７に向かって突出した上側レッグ部ＵＰＬと、を含むことができる。

【0052】

上側レッグ部ＵＰＬは、内足ＩＬを成すための上側内足レッグ部ＵＩＬと、第１及び第２外足部ＯＬ１、ＯＬ２をそれぞれ形成するための第１上側外足レッグ部ＵＯＬ１及び第２上側外足レッグ部ＵＯＬ２と、を含むことができる。第１上側外足レッグ部ＵＯＬ１及び第２上側外足レッグ部ＵＯＬ２は下側コア部１１７に向かって突出し、第２方向に互いに離隔して配置され得る。

【0053】

下側コア部１１７は、平板状の下側ボディー部１１９と、下側ボディー部１１９から上側コア部１１２に向かって突出した下側レッグ部ＬＰＬと、を含むことができる。

【0054】

下側レッグ部ＬＰＬは、内足ＩＬを成すための下側内足レッグ部ＬＩＬと、第１及び第２外足部ＯＬ１、ＯＬ２をそれぞれ形成するための第１下側外足レッグ部ＬＯＬ１及び第２下側外足レッグ部ＬＯＬ２と、を含むことができる。第１下側外足レッグ部ＬＯＬ１及び第２下側外足レッグ部ＬＯＬ２は第１上側外足レッグ部ＵＯＬ１及び第２上側外足レッグ部ＵＯＬ２に向かってそれぞれ突出して対向し、第２方向に互いに離隔して配置され得る。

【0055】

前述した下側レッグ部ＵＰＬ及び上側レッグ部ＵＰＬを互いに対向するように配置することによってインダクタ１００の内足ＩＬ及び外足ＯＬを形成することができる。

【0056】

具体的な例として、内足ＩＬは、下側内足レッグ部ＬＩＬと上側内足レッグ部ＵＩＬとが互いに対向するように配置することによって形成することができる。そして、外足ＯＬのうちで第１外足部ＯＬ１は第１上側外足レッグ部ＵＯＬ１と第１下側外足レッグ部ＬＯＬ１とが互いに対向するように配置することによって形成することができる。第２外足部ＯＬ２は、第２上側外足レッグ部ＵＯＬ２と第２下側外足レッグ部ＬＯＬ２とが互いに対向するように配置することによって形成することができる。

【0057】

このように、本発明の実施例によるインダクタ１００は、内足ＩＬ及び外足ＯＬのレッグ部が対を成して互いに対向して配置され得る。

【0058】

互いに対向する外足対や中足対のうちの少なくとも一部の間には垂直方向に所定の距離のギャップ（ｇａｐ）Ｇが形成され得る。例えば、ギャップＧの垂直方向の距離は１０μｍ～７００ｍｍであり得るが、必ずしもこれに限定されるものではない。一中足対と二外足対のそれぞれのギャップＧの大きさを調節するによってコア部１１０のインダクタンスを制御することができ、ギャップの個数によって発熱を制御することができる。

【0059】

コイル部１５０は上側コア部１１２と下側コア部１１７との間に配置され得る。コア部１１０はコイル部１５０の一部を取り囲むように配置される。

【0060】

コイル部１５０は、コイル基板１５２と、コイル基板１５２上に配置されるコイル１５５と、を含むことができる。そして、コイル部１５０は、コイル１５５と一体型に配置され、コイル基板１５２の一側に配置される引出部ＷＰをさらに含むことができる。引出部ＷＰは後で詳細に説明する。本実施例では、容易な説明のために、インダクタが一つのコイル基板１５２に一つのコイル１５５が配置された一つのコイル部を含むものとして示して説明するが、これに限定されるものではなく、複数のコイル基板のそれぞれにコイルが配置された複数のコイル部を含むこともできる。

【0061】

コイル基板１５２は、内足ＩＬに対応する位置に形成された貫通ホールＴＨを含むことができる。

【0062】

コイル１５５は貫通ホールＴＨを中心に螺旋形に配置され得る。コイル１５５は貫通ホールＴＨを中心に配置されることにより、コイル１５５は内足ＩＬを中心に螺旋形に取り囲むように配置される。

【0063】

コイル１５５は内足ＩＬと外足ＯＬとの間に配置され、内足ＩＬから外足ＯＬに近付くほど増加する水平方向の幅を有する。

【0064】

コイル１５５は、複数の重畳コイルパターンＣＰと、複数の非重畳コイルパターンＸＣＰと、を含む。一つのコイル１５５を成す導線は複数のセグメントに区分することができ、重畳コイルパターンＣＰ及び非重畳コイルパターンＸＣＰのそれぞれにおいて、コイルパターンとは複数のセグメントのそれぞれを意味し得る。

【0065】

複数の重畳コイルパターンＣＰとは、複数のコイルパターンのうちで水平方向の一つである第１方向に沿って延びて内足ＩＬと外足ＯＬとの間を通り、コア部１１０と垂直方向に重畳するように配置されたコイルパターンを含むことができる。ここで、前記第１方向は図１及び２に示すＸ軸方向であり得る。したがって、複数の重畳コイルパターンＣＰのそれぞれはＹ軸方向に互いに重畳して又は互いに離隔して配置され得る。

【0066】

複数の非重畳コイルパターンＸＣＰとは、複数のコイルパターンのうちで水平方向の他の方向で、前記第１方向と交差する第２方向に延び、コア部１１０と垂直方向に重畳しないように配置されたコイルパターンを含むことができる。ここで、前記第２方向は図１及び２に示すＹ軸方向であり得る。したがって、複数の非重畳コイルパターンＸＣＰのそれぞれはＸ軸方向に互いに重畳して又は離隔して配置され得る。

【0067】

また、複数の非重畳コイルパターンＸＣＰは、複数の重畳コイルパターンＣＰから第２方向に折り曲げられる折曲部ＢＡを含むことができる。コイル１５５は４個の折曲部ＢＡを備えた四角形状に配置され得る。本実施例では、４個の折曲部ＢＡを備えた四角形のコイル１５５を示すが、これに限定されるものではなく、円形、楕円形などの形状にも配置可能である。

【0068】

４個の折曲部ＢＡのうちのいずれか一つは、非重畳コイルパターンＸＣＰの幅が変更される変幅部ＶＡを含むことができる。変幅部ＶＡで変更された幅を有する非重畳コイルパターンＸＣＰは重畳コイルパターンＣＰとしてさらに延びるので、一回のターンを成すターンパータンは、非重畳コイルパターンＸＣＰと重畳コイルパターンＣＰとが交互に配置される。よって、一回のターンを成すターンパータンで、重畳コイルパターンＣＰの個数と非重畳コイルパターンＸＣＰの個数とは同一であり得る。

【0069】

非重畳コイルパターンＸＣＰ及び重畳コイルパターンＣＰを図３及び図４を参照してより詳細に説明する。

【0070】

図３は一実施例によるコイル部の平面図であり、図４は図３の「Ａ」領域の拡大平面図である。

【0071】

図１～図４を参照すると、コイル部１５０は、コイル１５５が所定のターン数で配置されるターン部ＴＰと、コイル１５５の一部がターン部ＴＰから延びる引出部ＷＰと、を含むことができる。

【0072】

ターン部ＴＰは、コイル１５５がコア部１１０と垂直方向に重畳する重畳領域ＯＶＡと、コイル１５５がコア部１１０と垂直方向に重畳しない非重畳領域ＯＡと、を含む。

【0073】

ターン部ＴＰ上に配置されたコイル１５５は、重畳領域ＯＶＡ上に配置され、幅の大きさが互いに異なる重畳コイルパターンＣＰと、非重畳領域ＯＡ上に配置される非重畳コイルパターンＸＣＰと、を含むことができる。

【0074】

重畳コイルパターンＣＰは、コア部１１０と垂直方向に重畳する重畳領域ＯＶＡ上で、すなわち、内足ＩＬと外足ＯＬとの間で第１方向（Ｘ軸方向）に延び、第２方向（Ｙ軸方向）に異なる幅を有し、第２方向に離隔して重畳する複数のパターンで構成され得る。

【0075】

例えば、複数の重畳コイルパターンＣＰは、内足ＩＬに隣接したコイルパターンと、外足ＯＬに隣接したコイルパターンと、を含むことができる。

【0076】

まず、内足ＩＬに隣接した重畳コイルパターンとして、重畳コイルパターンＣＰは、貫通ホールＴＨを中心に、すなわち、貫通ホールＴＨに挿入される内足ＩＬに最も隣接して配置され、第１幅ａ１に形成される第１重畳コイルパターンＣＰ１と、第１重畳コイルパターンＣＰ１からＹ軸方向に所定の間隔で離隔し、第１幅ａ１よりも厚い第２幅ａ２に形成される第２重畳コイルパターンＣＰ２と、第２重畳コイルパターンＣＰ２からＹ軸方向に所定の間隔で離隔し、第２幅ａ２よりも厚い第３幅ａ３に形成される第３重畳コイルパターンＣＰ３と、第３重畳コイルパターンＣＰ３からＹ軸方向に所定の間隔で離隔し、第３幅ａ３よりも厚い第４幅ａ４に形成される第４重畳コイルパターンＣＰ４と、を備えることができる。

【0077】

次に、外足ＯＬに隣接した重畳コイルパターンとして、重畳コイルパターンＣＰは、外足ＯＬに最も隣接し、第Ｎ幅ａｎで配置される第Ｎ重畳コイルパターンＣＰｎを含むことができる。したがって、コイル部１５０において重畳領域ＯＶＡ上に配置される重畳コイルパターンＣＰは、Ｙ軸方向に貫通ホールＴＨの上下にそれぞれ配置される第１～第Ｎ重畳コイルパターンＣＰ１～ＣＰｎを含むことができる。

【0078】

複数の非重畳コイルパターンＸＣＰは、コア部１１０と垂直方向に重畳しない非重畳領域ＯＡ上で第１方向（Ｘ軸方向）に重畳領域ＯＶＡを通過した重畳コイルパターンＣＰから第１方向に延びる一部を含む。そして、非重畳コイルパターンＸＣＰは、第１方向（Ｘ軸方向）から第２方向（Ｙ軸方向）に折り曲げられて延び、第１方向（Ｘ軸方向）に異なる幅を有し、第１方向に離隔して重畳する複数のパターンで構成され得る。

【0079】

例えば、非重畳コイルパターンＸＣＰは、貫通ホールＴＨを中心に、すなわち、貫通ホールＴＨに挿入される内足ＩＬに最も隣接して配置され、第１幅ａ１に形成される第１非重畳コイルパターンＸＣＰ１と、第１非重畳コイルパターンＸＣＰ１からＸ軸方向に所定の間隔で離隔し、第１幅ａ１よりも厚い第２幅ａ２に形成される第２非重畳コイルパターンＸＣＰ２と、第２非重畳コイルパターンＸＣＰ２からＸ軸方向に所定の間隔で離隔し、第２幅ａ２よりも厚い第３幅ａ３に形成される第３非重畳コイルパターンＸＣＰ３と、第３非重畳コイルパターンＸＣＰ３からＸ軸方向に所定の間隔で離隔し、第３幅ａ３よりも厚い第４幅ａ４に形成される第４非重畳コイルパターンＸＣＰ４と、を備え、内足ＩＬからＸ軸方向に最も遠く配置され、第Ｎ幅ａｎに形成される第Ｎ非重畳コイルパターンＸＣＰｎと、を含むことができる。

【0080】

したがって、コイル部１５０において非重畳領域ＯＡ上に配置される非重畳コイルパターンＸＣＰは、Ｘ軸方向に貫通ホールＴＨの左右側のそれぞれに配置された第１～第Ｎ非重畳コイルパターンＸＣＰ１～ＸＣＰｎを含むことができる。

【0081】

ここで、ボディー部１１４、１１９の第１方向に互いに反対側に位置する両側端部が貫通ホールＴＨの第１方向に互いに反対側に位置する端部と垂直方向に重畳するように配置された状態で非重畳領域ＯＡを定義したが、これに限定されるものではない。

【0082】

他の実施例によれば、ボディー部１１４、１１９の第１方向に互いに反対側に位置する両側端部が第１幅ａ１に形成される第１方向に互いに反対側に位置する第１非重畳コイルパターンＸＣＰ１と垂直方向に重畳するように配置された状態で非重畳領域を定義することもできる。この場合、前述した非重畳コイルパターンＸＣＰのうち第２幅ａ２に形成される第２非重畳コイルパターンＸＣＰ２が内足ＩＬに最も隣接した非重畳コイルパターンＸＣＰになり得る。

【0083】

一方、複数の非重畳コイルパターンＸＣＰは、第１方向から第２方向に折り曲げられる折曲部ＢＡを含むことができる。コイル１５５は４個の折曲部ＢＡを備えた四角形に配置され得る。本実施例では４個の折曲部ＢＡを備えた四角形のコイル１５５を示すが、これに限定されるものではない。

【0084】

４個の折曲部ＢＡのうちのいずれか一つは非重畳コイルパターンＸＣＰの幅を変更させる変幅部ＶＡであり得る。変幅部ＶＡは互いに異なる幅を有する部分であり、重畳コイルパターンＣＰと連結された一側の幅から一側の反対側の他側の幅に幅が変更される地点である。

【0085】

ここで、変幅部ＶＡから始まって同じ幅を有する非重畳コイルパターンＸＣＰ及び重畳コイルパターンＣＰが内足ＩＬを一回ターンするパターンを通称して「ターンパータンＴＰＰ」と定義する。

【0086】

図面で、複数のターンパータンＴＰＰｘのそれぞれは、貫通ホールＴＨを通って第２方向に平行な仮想の第１基準線ＣＬ１を基準に第１方向に互いに対向する一対の非重畳コイルパターンＸＣＰｘと、貫通ホールＴＨを通って第１方向に平行な第２基準線ＣＬ２を基準に第２方向に互いに対向する一対の重畳コイルパターンＣＰｘと、を含むものとして表示する。ここで、ｘは正の整数であり、１＝ｘ＝Ｎである。

【0087】

このように、ターン部ＴＰは、非重畳領域ＯＡ上に配置される複数の非重畳コイルパターンＸＣＰと、重畳領域ＯＶＡ上に配置される複数の重畳コイルパターンＣＰと、からなり得る。ターン部ＴＰは、変曲部ＶＡを中心に幅が互いに異なるように配置されるＮ個のターンパータンＴＰＰを含むことができる。

【0088】

例えば、複数のターンパータンＴＰＰのうちで第１ターンパータンＴＰＰ１は、重畳領域ＯＶＡ上に配置された始点Ｓから非重畳領域ＯＡ上に配置される第１変幅部ＶＡ１である終点まで第１幅ａ１に形成され得る。

【0089】

複数のターンパータンＴＰＰのうちで第２ターンパータンＴＰＰ２は、第１ターンパータンＴＰＰ１と一体型に形成され得る。第２ターンパータンＴＰＰ２は、第１幅ａ１よりも厚い幅を有する第２幅ａ２に形成され得る。第２幅ａ２に形成された第２ターンパータンＴＰＰ２は第１変幅部ＶＡ１である始点から重畳領域ＯＶＡの第２重畳コイルパターンＣＰ２を経て非重畳領域ＯＡの第２非重畳コイルパターンＸＣＰ２まで延びながら第２変幅部ＶＡ２である終点まで配置され得る。

【0090】

また、第３ターンパータンＴＰＰ３は第２ターンパータンＴＰＰ２と一体型に形成され、第２幅ａ２よりも厚い幅を有する第３幅ａ３に形成され得る。第３幅ａ３に形成された第３ターンパータンＴＰＰ３は、第２変幅部ＶＡ２である始点から重畳領域ＯＶＡの第３重畳コイルパターンＣＰ３を経て非重畳領域ＯＡの第３非重畳コイルパターンＸＣＰ３まで延びて第３変幅部ＶＡ３である終点まで配置され得る。

【0091】

そして、第４ターンパータンＴＰＰ４から第Ｎ－１ターンパータンＴＰＰｎ－１は前述したものと同様に配置され得る。

【0092】

外足ＯＬに最も隣接した第ＮターンパータンＴＰＰｎは第Ｎ－１幅ａｎ－１よりも厚い幅を有する第Ｎ幅ａｎに形成され、第Ｎ－１変幅部ＶＡｎ－１である始点から引出部ＷＰまで配置され得る。このように、ターンパータンＴＰＰは、ターン部ＴＰ上に配置された第１～ＮターンパータンＴＰＰ１～ＴＰＰｎを含むことができる。

【0093】

ここで、一実施例によるインダクタ１００は、折曲部ＢＡの一部を変幅部ＶＡに形成することにより、ターンパータンＴＰＰの幅が変更されるにもかかわらず、ターンパータンＴＰＰ１～ＴＰＰｎの間の離隔間隔ｄを一定に維持することができる。

【0094】

一方、引出部ＷＰは第ＮターンパータンＴＰＰｎから延び、引出パターンＷＰＰが配置される領域である。

【0095】

引出パターンＷＰＰは、第ＮターンパータンＴＰＰｎと一体型に形成され、引出部ＷＰに延びる引出線ＷＰＬと、引出線ＷＰＬの端部に配置される引出パッドＷＰＤと、を含む。

【0096】

引出線ＷＰＬは第Ｎ幅ａｎで配置される第ＮターンパータンＴＰＰｎから延びるので、第ＮターンパータンＴＰＰｎと同じ幅に形成され得る。しかし、これに限定されるものではなく、場合によっては、第ＮターンパータンＴＰＰｎと異なる幅に形成され得る。そして、引出パッドＷＰＤは引出線ＷＰＬよりも厚い幅に形成され得る。

【0097】

このように、一実施例によるインダクタ１００は、制限された空間で内足ＩＬから外足ＯＬに行くほど漸進的に重畳コイルパターンＣＰの幅を増加させてインダクタ１００の重畳コイルパターンＣＰのターン数を増加させることができる。このように、ターン数が増加する場合、インダクタンスが増加してＤＣバイアス性能を改善することができ、抵抗が最大の最外郭の第ＮコイルパターンＣＰｎの幅を増加させることにより、インダクタ１００の全体抵抗を低下させて発熱を最少化することができる。

【0098】

図５は実施例によるコイルパターンの幅増加量を示すグラフである。

【0099】

図５の（ａ）は重畳コイルパターンＣＰの幅が線形的に増加することを示すグラフであり、図５の（ｂ）は重畳コイルパターンＣＰの幅が非線形的に増加することを示すグラフである。ここで、重畳コイルパターンＣＰの幅はターンパータンＴＰＰの幅によって決定されるので、ターンパータンＴＰＰを中心に説明する。

【0100】

ここで、グラフに表示されたＱ１は内足ＩＬの中心部を示し、Ｑ２は外足ＯＬの中心部を示す。すなわち、Ｑ１はＹ軸上での内足ＩＬの中心の位置を示し、Ｑ２はＹ軸上での外足ＯＬの中心の位置を示す。ここで、外足ＯＬとは第１外足部ＯＬ１又は第２外足部ＯＬ２を示す。言い換えれば、内足ＩＬと第１外足部ＯＬ１又は内足ＩＬと第２外足部ＯＬ２に配置される重畳コイルパターンＣＰは互いに対称に配置されるので、容易な理解のために、いずれか一方を説明する。

【0101】

図５の（ａ）の場合は前述した図４の場合を示すグラフである。前述したように、内足ＩＬの中心から外足ＯＬに近づくほど漸進的に重畳コイルパターンＣＰの幅ａ及び非重畳コイルパターンＸＣＰの幅ａが線形的に増加するようにターンパータンＴＰＰの幅を配置することができる。具体的には、変幅部ＶＡを中心にそれぞれのターンごとに重畳コイルパターンＣＰの幅及び非重畳コイルパターンＸＣＰの幅が線形的に増加するようにターンパータンＴＰＰの幅を形成させることができる。

【0102】

図５の（ｂ）の場合は、内足ＩＬから外足ＯＬに近づくほどターンパータンＴＰＰの幅ａが増加するが、選択的には、ターンパータンＴＰＰの幅ａを一部区間で同一に配置し、一定の区間を過ぎた後にはまたターンパータンＴＰＰの幅ａが増加するように配置することができる。すなわち、変幅部ＶＡを中心にそれぞれのターンごとに重畳コイルパターンＣＰの幅及び非重畳コイルパターンＸＣＰの幅が非線形的に増加するようにターンパータンＴＰＰの幅を形成することができる。

【0103】

前述した図５の（ａ）及び図５の（ｂ）で、ターンパータンＴＰＰは隣接したターンパータンＴＰＰに対して幅が５％～１５％の増加率を有するように配置することができる。したがって、複数の重畳コイルパターンＣＰのそれぞれが水平方向（Ｙ軸方向）に増加する幅の範囲は５％～１５％であり得る。

【0104】

前述した図５の（ａ）の場合によってターンパータンＴＰＰ幅の増加率が１０％に相当する場合を例として説明すると、第１ターンパータンＴＰＰ１の幅ａ１が１．５ｍｍの場合、第１変幅部ＶＡ１からは第２ターンパータンＴＰＰ２の幅ａ２はＹ軸方向に幅が増加した１．６５ｍｍの幅に配置され得る。したがって、第２ターンパータンＴＰＰ２のうちで重畳領域ＯＶＡ上に配置される第２重畳コイルパターンＣＰ２の幅ａ２は１．６５ｍｍの幅に配置され得る。

【0105】

そして、第３ターンパータンＴＰＰ３は、第２変幅部ＶＡ２からＹ軸方向に幅が増加した１．８１５ｍｍの幅に配置され得る。したがって、第３ターンパータンＴＰＰ３のうちで重畳領域ＯＶＡ上に配置される第３重畳コイルパターンＣＰ３の幅ａ３は１．８１５ｍｍの幅に配置され得る。

【0106】

第４ターンパータンＴＰＰ４は、第３変幅部ＶＡ３から１．９９６５ｍｍ、およそ２ｍｍの幅に配置され得る。したがって、第４ターンパータンＴＰＰ４のうちで重畳領域ＯＶＡ上に配置される第４コイルパターンＣＰ４の幅ａ４は２ｍｍの幅に配置され得る。

【0107】

前述した図５の（ｂ）の場合によってコイルパターンの幅の増加率が１０％に相当する場合を例として説明すると、一定の区間で同じ幅を有するターンパータンＴＰＰが配置され、ターンパータンＴＰＰをまた増加させて配置する場合、前述したように、以前のターンパータンＴＰＰの幅ａから１０％を増加させたターンパータンＴＰＰを配置することができる。

【0108】

したがって、ターンパータンＴＰＰのうちで重畳領域ＯＶＡ上に配置される重畳コイルパターンＣＰは、一定の区間で幅が一定した複数の重畳コイルパターンＣＰと、幅が増加する重畳コイルパターンＣＰと、を含むことにより、重畳コイルパターンＣＰの幅は非線形的な増加率を有するように配置することもできる。

【0109】

このように、実施例によるインダクタ１００は、制限された空間で内足ＩＬから外足ＯＬに行くほど漸進的に重畳コイルパターンＣＰの幅を増加させてインダクタ１００の重畳コイルパターンＣＰのターン数を増加させることができる。このように、ターン数が増加する場合、インダクタンスが増加してＤＣバイアス性能を改善することができ、抵抗が最大の最外郭の第ＮコイルパターンＣＰｎの幅を増加させることにより、インダクタ１００の全体抵抗を低下させて発熱を最小化することができる。

【0110】

図６は他の実施例によるインダクタのコイルパターンを示す平面図である。

【0111】

重複説明を回避し、容易な説明のために、図６を説明するときに図１～図４を引用して説明する。

【0112】

図６を参照すると、他の実施例によるインダクタは、一実施例によるインダクタ１００と異なる離隔間隔を有するコイル部１１０を有する。

【0113】

コイル部１１０は、ターン部ＴＰ上に配置される複数のターンパータンＴＰＰを含み、ターンパータンＴＰＰは、重畳領域ＯＶＡ上に配置される重畳コイルパターンＣＰと、非重畳領域ＯＡ上に配置される非重畳コイルパターンＸＣＰと、を含む。

【0114】

重畳領域ＯＶＡで互いに隣接する複数の重畳コイルパターンＣＰは同一の離隔間隔である第１離隔間隔ｄ１で離隔して配置され得る。第１離隔間隔ｄ１は前述した図３での離隔間隔ｄと同じ間隔であり得る。

【0115】

非重畳領域ＯＡで互いに隣接した複数の非重畳コイルパターンＸＣＰは相異なる離隔間隔で離隔して配置され得る。

【0116】

例えば、非重畳領域ＯＡ上で外足ＯＬに最も隣接した第Ｎ－１非重畳コイルパターンＸＣＰｎ－１と第Ｎ非重畳コイルパターンＸＣＰｎとは第ｎ離隔間隔ｄｎで離隔して配置され得る。第ｎ離隔間隔ｄｎは第１離隔間隔ｄ１と同じ離隔間隔であり得る。そして、第Ｎ－２非重畳コイルパターンＸＣＰｎ－２と第Ｎ－１非重畳コイルパターンＸＣＰｎ－１とは第ｎ－１離隔間隔ｄｎ－１で離隔して配置され得る。

【0117】

ここで、第ｎ離隔間隔ｄｎ及び第ｎ－１離隔間隔ｄｎ－１は、非重畳コイルパターンＸＣＰの幅増加率に比例して５％～１５％の増加率を有することができる。

【0118】

結局、内足ＩＬに隣接した第２非重畳コイルパターンＸＣＰ２と第３非重畳コイルパターンＸＣＰ３とは第３離隔間隔ｄ３で離隔して配置され、第１非重畳コイルパターンＸＣＰ１と第２非重畳コイルパターンＸＣＰ２とは第２離隔間隔ｄ２で離隔して配置され得る。ここで、第３離隔間隔ｄ３の幅は第２離隔間隔ｄ２の増加率に比例して５％～１５％の増加率を有することができる。

【0119】

離隔間隔は外足ＯＬから内足ＩＬに行くほど漸進的に増加し、内足ＩＬに最も隣接した離隔間隔が最も広くなり得る。

【0120】

このように、非重畳領域ＯＡ上で複数の非重畳コイルパターンＸＣＰの間の離隔間隔を互いに異なるように配置して、非重畳コイルパターンＸＣＰの間の離隔間隔が内足ＩＬに近づくほど漸進的に広くなるので、非重畳領域ＯＡでターンパータンＴＰＰの製造工程が容易であり、追加的な構造物を容易に設置することができる。

【0121】

図７（ａ）及び（ｂ）はさらに他の実施例によるコイル部の平面図及び断面図をそれぞれ示す。

【0122】

重複説明を回避し、容易な説明のために、図７を説明するときに図１～図４を引用して説明する。

【0123】

さらに他の実施例によるコイル部１５０は、コア基板１５２の一面にターン部ＴＰ（以下、「第１ターン部ＴＰ１」と言う）が配置され、垂直方向に一面の反対側の他面にもターン部ＴＰ（以下、「第２ターン部ＴＰ２」と言う）が配置され得る。

【0124】

ターン部ＴＰに配置されるターンパータンＴＰＰ、及びターンパータンＴＰＰに含まれるコイルパターンＣＰ及び非コイルパターンＸＣＰの関係は前述したので省略する。

【0125】

第１ターン部ＴＰ１はコア基板１５２の上面に配置される上部コイルであり、上側内足レッグ部ＵＩＬを中心に螺旋形に配置される複数の上部ターンパータンＵＴＰＰを含む。

【0126】

第２ターン部ＴＰ２は上面の反対側の下面で下側内足レッグ部ＬＩＬを中心に螺旋形に配置される下部コイルであり、複数の下部ターンパータンＬＴＰＰを含む。

【0127】

また、コイル基板１５２の上部及び下部のそれぞれに引出部ＷＰが配置される。引出部ＷＰを区分するために、上部に配置される引出部を上側引出部ＵＷＰと言い、下部に配置される引出部を下側引出部ＬＷＰと言う。

【0128】

上側引出部ＵＷＰには上部引出線ＵＷＰＬ及び上部引出パッドＵＷＰＤが配置され、下側引出部ＬＷＰには下部引出線ＬＷＰＬ及び下部引出パッドＬＷＰＤが配置され得る。

【0129】

第１ターン部ＴＰ１と第２ターン部ＴＰ２とはビアパターンＶＰを介して連結されることができる。

【0130】

第１ターン部ＴＰ１と第２ターン部ＴＰ２とを連結するために、コイル基板１５２の一部を厚さ方向に貫通させたビアホールＶＨを配置することができる。ビアホールＶＨには、ビアホールＶＨを満たし、第１ターン部ＴＰ１及び第２ターン部ＴＰ２にそれぞれ連結されたビアパターンＶＰが埋め込まれ得る。したがって、第１ターン部ＴＰ１と第２ターン部ＴＰ２とはビアパターンＶＰを介して電気的に連結されることができる。

【0131】

本実施例では、第１ターン部ＴＰ１及び第２ターン部ＴＰ２の始点Ｓに相当する地点にビアパターンＶＰを形成することを例として示すが、これに限定されるものではない。

【0132】

例えば、内足ＩＬに隣接した非重畳コイルパターンＸＣＰに多数のビアホールＶＨをさらに備えることもできる。内足ＩＬに隣接して配置される複数のビアホールＶＨを提供する理由は、コア部１１０で取り囲まれる内足ＩＬの周辺での電流密度が外足ＯＬの周辺での電流密度よりも高く、電流密度の上昇は抵抗の上昇を引き起こすので、相対的に多くのビアホールＶＨを配置して抵抗値を低めることができるからである。他の例として、ビアホールＶＨ及びビアパターンＶＰは、重畳領域ＯＶＡ又は非重畳領域ＯＡに群集するように配置してターンパータンの抵抗値を低めることもできる。

【0133】

このように、一つのコイル基板１５２の上下にそれぞれ重畳コイルパターンＣＰを配置することにより、インダクタ１００のインダクタンスを増加させることができ、ＤＣバイアス性能を改善することができる。

【0134】

図８は実施例によるインダクタの断面図である。

【0135】

ここで、図８は図１のＩ－Ｉ’についての断面図であり、重複説明を回避し、容易な説明のために、図８を説明するときに図１～図５を引用して説明する。

【0136】

図８を参照すると、実施例によるインダクタ１００は、内足ＩＬ（Ｒ０）から第１地点Ｒ１まで配置される複数の重畳コイルパターンＣＰのそれぞれのターン数は複数の重畳コイルパターンＣＰの総ターン数Ｔの半分を超える。内足ＩＬ（Ｒ０）から第１地点Ｒ１までの距離は内足ＩＬと外足ＯＬとの間に位置する複数の重畳コイルパターンＣＰの幅の総和の半分である。これは次の数学式１の通りである。

【0137】

【数1】

【0138】

ａｋのｋはコイルパターンの幅であり（１＝ｋ＝ｎ）、Ｔは総ターン数である。

【0139】

具体的には、決まった領域に対して、複数の重畳コイルパターンＣＰが配置されることにより、ターン数が増加することができる。すなわち、インダクタンスが増加することができる。インダクタンスはターン数の二乗に比例し、内足ＩＬの断面大きさによって増加するので、決まった空間内にターン数の二乗に比例してインダクタンスが増加することができる。

【0140】

さらに、上側内足レッグ部ＵＩＬと下側内足レッグ部ＬＩＬとの間に形成された第１ギャップＧ１又は上側外足レッグ部ＵＯＬと下側外足レッグ部ＬＯＬとの間に形成された第２ギャップＧ２のうちの少なくとも一つを形成することによってＤＣバイアス性能を改善することができる。

【0141】

よって、実施例によるインダクタ１００は、制限された空間内で内足ＩＬから外足ＯＬに行くほど漸進的に重畳コイルパターンＣＰの幅を増加させてインダクタ１００の重畳コイルパターンＣＰのターン数を増加させることができる。このように、ターン数が増加する場合、インダクタンスが増加してＤＣバイアス性能を改善することができ、抵抗が最大の最外郭の第ＮコイルパターンＣＰｎの幅を増加させることにより、インダクタ１００の全体抵抗を低下させて発熱を最小化することができる。

【0142】

図９は実施例によるインダクタのインダクタンスに対するＤＣバイアスの変化量を示すグラフである。

【0143】

重複説明を回避し、容易な説明のために、図９を説明するときに図１～図４及び図８を引用して説明する。

【0144】

図９を参照すると、実施例によるインダクタを同じ幅のコイルパターンを有する比較例のインダクタと比較した。

【0145】

実施例及び比較例によるインダクタは、コイル基板の上部及び下部にそれぞれ６ターンのコイルパターンを配置して総ターン数が１２ターンであるインダクタを形成することができる。

【0146】

そして、比較例では、重畳コイルパターンＣＰの幅を一定に２ｍｍに構成し、実施例の場合は、図４に示すように、第１重畳コイルパターンＣＰ１～第６重畳コイルパターンＣＰ６を有するように構成した。ここで、実施例の重畳コイルパターンＣＰは、第１重畳コイルパターンＣＰ１の幅を１．５ｍｍに構成し、第２重畳コイルパターンＣＰ２は第１重畳コイルパターンＣＰ１に比べて１０％の幅が増加した１．６５ｍｍに構成し、第３重畳コイルパターンＣＰ３は１．８２ｍｍに、第４重畳コイルパターンＣＰ４は２．０ｍｍに、第５重畳コイルパターンＣＰは５２．２ｍｍに、第６重畳コイルパターンＣＰ６は２．４２ｍｍに構成した。

【0147】

以下の表１はギャップ量の変化による比較例及び実施例のインダクタンス及びＤＣバイアスの測定値を示す。ここで、ギャップは外足ＯＬのギャップ量Ｇ２である。図９は表１の変化量をグラフで示す。

【0148】

【表1】

【0149】

インダクタンスは比較例よりも実施例で増加したことが現れた。その理由は次のようである。

【0150】

比較例及び実施例の場合、総ターン数Ｔ及び内足ＩＬの断面積が同一であるので、インダクタンスを変化させる因子は磁路長のみである。磁路長はインダクタンスに反比例するので、小さければ小さいほどインダクタンスを増加させることができる。具体的には、比較例の場合、磁路長は、コイルパターンの幅がいずれも２ｍｍであり、６個で構成されるので、１２ｍｍである。言い換えれば、比較例は、内足からＹ軸方向に１２ｍｍの磁路長を有する。

【0151】

一方、実施例の場合、前述したように、１．５ｍｍ～２．４２ｍｍに構成された６個のコイルパターンの幅を有するので、これらの総和は１１．５９ｍｍである。言い換えれば、実施例は、内足ＩＬからＹ軸方向に１１．５９ｍｍの磁路長を有する。したがって、実施例の場合、比較例よりも磁路長が短いので、インダクタンスが全般的に増加したことが現れた。

【0152】

そして、ギャップ量においては、４５０ｍｍであるときまではＤＣバイアス差を示さないが、ギャップ量が６１０ｍｍ以上からＤＣバイアスが増加することが現れた。

【0153】

したがって、比較例及び実施例が同じサイズであると仮定すれば、同じ空間で磁路長は同一であるので、総ターン数の増加によってインダクタンスが増加し、増加したインダクタンスでギャップ量を調節することによってＤＣバイアス性能を改善することができる。

【0154】

以上で実施例を中心に説明したが、これは単に例示であるだけで、本発明を限定するものではなく、本発明が属する分野の通常の知識を有する者であれば本実施例の本質的な特性を逸脱しない範囲内で以上で例示しなかった様々の変形及び応用が可能であることが分かるであろう。例えば、実施例に具体的に示した各構成要素は変形して実施することができるものである。そして、このような変形及び応用に係る相違点は添付の特許請求の範囲で規定する本発明の範囲に含まれるものと解釈されなければならないであろう。

【符号の説明】

【0155】

１００ インダクタ
１１０ コア部

【0156】

１５０ コイル部
ＣＰ 重畳コイルパターン

【0157】

ＸＣＰ 非重畳コイルパターン
ＩＬ 内足

【0158】

ＯＬ 外足
ＯＶＡ 重畳領域

【0159】

ＯＡ 非重畳領域
ＶＡ 変幅部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【国際調査報告】