特表 2024-543745 被験者の身体の輪郭に合わせた形状を有するトランスデューサアレイ、およびトランスデューサアレイの形状および配置を決定する方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-11-25

(54)【発明の名称】被験者の身体の輪郭に合わせた形状を有するトランスデューサアレイ、およびトランスデューサアレイの形状および配置を決定する方法

(51)【国際特許分類】

   A61N 1/04 20060101AFI20241118BHJP

   A61N 1/40 20060101ALI20241118BHJP

【ＦＩ】

A61N1/04

A61N1/40

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2024535515

(86)(22)【出願日】2022-12-13

(85)【翻訳文提出日】2024-06-13

(86)【国際出願番号】 IB2022062164

(87)【国際公開番号】W WO2023111863

(87)【国際公開日】2023-06-22

(31)【優先権主張番号】63/289,523

(32)【優先日】2021-12-14

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(31)【優先権主張番号】18/080,306

(32)【優先日】2022-12-13

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】519275847

【氏名又は名称】ノボキュア ゲーエムベーハー

(74)【代理人】

【識別番号】100108453

【弁理士】

【氏名又は名称】村山 靖彦

(74)【代理人】

【識別番号】100110364

【弁理士】

【氏名又は名称】実広 信哉

(74)【代理人】

【識別番号】100133400

【弁理士】

【氏名又は名称】阿部 達彦

(72)【発明者】

【氏名】ダージャ・ウェンデル

(72)【発明者】

【氏名】ウンヒ・ハン

【テーマコード（参考）】

4C053

【Ｆターム（参考）】

4C053BB23

4C053BB34

4C053LL20

(57)【要約】

腫瘍治療場を被験者の身体に送達するためのトランスデューサ装置であって、基板と、前記基板上に配置された電極アレイであって、前記アレイの面が被験者の身体に対向して被験者の身体上に配置されるように構成された、電極アレイと、を含み、前記アレイの面と垂直な方向から見たとき、前記基板は、前記アレイの境界の少なくとも一部を形成する少なくとも１つの凹縁を有し、前記基板の２つの対向する側面の間に開口部を画定し、前記開口部に電極が存在せず、また、前記基板は、略Ｃ字形、Ｕ字形、丸みを帯びたＶ字形、環状の表面を有する。

【特許請求の範囲】

【請求項1】

腫瘍治療場を被験者の身体に送達するためのトランスデューサ装置であって、
基板と、
前記基板上に配置された電極アレイであって、前記電極アレイの面が前記被験者の身体に対向して前記被験者の身体上に位置するように構成された、電極アレイと、を含み、
前記電極アレイの面と垂直な方向から見たとき、
前記基板は、前記電極アレイの境界の少なくとも一部を形成する少なくとも１つの凹縁を有し、
前記少なくとも１つの凹縁は、前記基板の２つの対向する側面の間に開口部を画定し、
前記開口部には前記電極が存在せず、また、
前記基板は、略Ｃ字形、Ｕ字形、丸みを帯びたＶ字形、または環状の表面を有する、トランスデューサ装置。

【請求項2】

前記電極アレイの面と垂直な方向から見たとき、
前記基板は、略Ｃ字形の表面を有し、
前記基板の対向する両面は、湾曲している、請求項１に記載のトランスデューサ装置。

【請求項3】

前記電極アレイの面と垂直な方向から見たとき、
前記基板は、略Ｕ字形または丸みを帯びたＶ字形の表面を有し、また
前記基板の２つの対向する側面辺は、略直線であり、略平行な方向に延びているか、または、平行であることから４５°未満ずれている、請求項１に記載のトランスデューサ装置。

【請求項4】

前記電極アレイの面と垂直な方向から見たとき、
前記基板は、略環状の表面を有し、
前記少なくとも１つの凹縁は、前記基板によってすべての側面が境界付けられた内部開口部を画定し、また
前記基板は、前記内部開口部が形成された略円形、楕円形、卵形、曲面形、または扁円形の表面を有する、請求項１に記載のトランスデューサ装置。

【請求項5】

前記略円形、楕円形、卵形、曲面形、または扁円形の表面は、前記基板の外側境界から前記内部開口部まで延びるスリットを有し、前記環状形状に少なくとも一時的な開口部を可能にする、請求項４に記載のトランスデューサ装置。

【請求項6】

前記電極アレイの面と垂直な方向から見たとき、前記基板は、波形縁を有する、請求項１～５のいずれか１項に記載のトランスデューサ装置。

【請求項7】

解剖学的特徴またはデバイスを備えた少なくとも１つのエリアを回避しながら、腫瘍治療場を被験者の身体に印加するためのアセンブリであって、
複数の電極を含む第１トランスデューサアレイであって、前記被験者の身体の輪郭に合わせて柔軟である第１表面を有し、
前記第１表面と垂直な方向から見たとき、
前記第１表面は、略Ｃ字形、Ｕ字形、丸みを帯びたＶ字形、または環状であり、Ｃ字形、Ｕ字形、または丸みを帯びたＶ字形の場合、前記第１表面の２つの対向する部分は互いに間隔を空けて配置され、前記第１表面の凹縁によって互いに接続され、環状の場合、前記凹縁は、前記第１表面によってすべての側面が境界付けられた内部開口部を画定する、第１トランスデューサアレイと、
複数の電極を含む第２トランスデューサアレイであって、前記被験者の身体に合わせて柔軟である第２表面を有し、前記第２表面は、前記第１表面と同一若しくは鏡像形状、あるいは異なる形状を有する、第２トランスデューサアレイと、を含む、アセンブリ。

【請求項8】

前記第２表面と垂直な方向から見たとき、前記第２表面は、矩形、角を丸くした略矩形、円形、楕円形、卵形、曲面形、または扁円形である、請求項７に記載のアセンブリ。

【請求項9】

前記第１トランスデューサアレイの前記第１表面は、略Ｃ字形、Ｕ字形、または丸みを帯びたＶ字形であり、前記第１表面の２つの対向する部分は、化学療法ポートを有する被験者の身体上の第１位置を跨ぐように離間されるように適合され、かつ、前記第１トランスデューサアレイの電極は前記化学療法ポートの上に配設されていない、請求項７または８に記載のアセンブリ。

【請求項10】

前記第１トランスデューサアレイの前記第１表面は、略環状の形状であり、前記内部開口部が化学療法ポートを有する被験者の身体上の第１位置と一致するように被験者の身体上に位置するように適合され、かつ、前記第１トランスデューサアレイの電極は前記化学療法ポートの上に配設されていない、請求項７または８に記載のアセンブリ。

【請求項11】

腫瘍治療場を印加するために被験者の身体上へのトランスデューサ形状および配置を決定するためのコンピュータ実装方法であって、前記コンピュータは、１つまたは複数のプロセッサと、１つまたは複数の前記プロセッサによってアクセス可能なメモリと、を含み、前記メモリは、１つまたは複数の前記プロセッサによって実行されると、前記コンピュータに方法を実行させるための命令を記憶しており、前記方法は、
前記被験者の身体内の標的領域を決定して腫瘍治療場を印加するステップと、
前記被験者の身体内の標的領域を通る電場分布の１つまたは複数のシミュレーションに基づいて、第１トランスデューサを配置するための前記被験者の身体上の第１位置を選択し、第２トランスデューサを配置するための前記被験者の身体上の第２位置を選択するステップと、
前記被験者の身体上に前記トランスデューサアレイの少なくとも一部が配置されることを回避するための少なくとも１つのエリアを決定するステップであって、前記回避すべき少なくとも１つのエリアは、前記被験者の身体の解剖学的特徴または被験者の身体内に配置されたデバイスに対応する、ステップと、
前記第１位置および前記被験者の身体上の前記回避すべき少なくとも１つのエリアに基づいて、前記第１トランスデューサの第１トランスデューサ形状を選択するステップと、
前記第２位置および前記被験者の身体上の前記回避すべき少なくとも１つのエリアに基づいて、前記第２トランスデューサの第２トランスデューサ形状を選択するステップであって、前記第２トランスデューサ形状は、前記第１トランスデューサ形状と同一若しくは鏡像形状、あるいは異なる形状である、ステップと、
前記第１トランスデューサ形状、前記第１位置、前記第２トランスデューサ形状、および前記第２位置をユーザーに出力するステップと、を含む、コンピュータ実装方法。

【請求項12】

前記第１トランスデューサ形状は、略Ｃ字形、Ｕ字形、丸みを帯びたＶ字形、または環状の形状を含む、請求項１１に記載のコンピュータ実装方法。

【請求項13】

回避すべき少なくとも１つのエリアは、前記被験者の身体の乳房、前記被験者の身体の乳首、前記被験者の身体の耳、前記被験者の身体の眼、前記被験者の身体の手術痕、前記被験者の身体の病変、前記被験者の身体の脇の下、または前記被験者の身体内に配置された化学療法ポートの少なくとも１つを含む、請求項１１または１２に記載のコンピュータ実装方法。

【請求項14】

前記第１トランスデューサが前記少なくとも１つのエリアの少なくとも一部を覆い、前記第１位置に配置されるのを回避するために、
前記被験者の身体の前記第１位置において前記第１トランスデューサ形状を有する前記第１トランスデューサの向きを決定するステップをさらに含む、請求項１１、１２または１３に記載のコンピュータ実装方法。

【請求項15】

前記第１位置または前記第２位置のいずれかが、前記回避すべき少なくとも１つのエリアの少なくとも一部と重なるか否かを決定するステップと、
対応する前記第１位置または第２位置が前記少なくとも１つのエリアの少なくとも一部と重ならないと判定した場合、前記第１トランスデューサまたは前記第２トランスデューサのいずれかに対してデフォルトのトランスデューサ形状を選択するステップと、
対応する前記第１位置または第２位置が前記少なくとも１つのエリアの少なくとも一部と重なると判定した場合、前記第１トランスデューサまたは前記第２トランスデューサのいずれかに対してデフォルトのトランスデューサ形状以外の形状を選択するステップと、をさらに含む、請求項１１、１２または１３に記載のコンピュータ実装方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

［関連出願の相互参照］
本願は、２０２２年１２月１３日に出願された米国特許出願第１８／０８０，３０６号および２０２１年１２月１４日に出願された米国特許出願第６３／２８９，５２３号に対する優先権を主張し、両方ともその全体が参照により本明細書に組み込まれる。

【背景技術】

【0002】

腫瘍治療場（ＴＴ場）は、中間周波数範囲内の低強度交流電場であり、米国特許第７、５６５、２０５号に記載されているように、腫瘍を治療するために使用され得る。ＴＴ場は、患者の身体にトランスデューサを配置し、トランスデューサ間に交流電圧を印加することによって、標的領域に非侵襲的に誘導される。従来、ＴＴ場を生成するために用いられるトランスデューサは、複数のセラミックディスクを含む。各セラミックディスクの片面は患者の皮膚に接して配置され、各ディスクのもう一方の面には導電性の裏地が付いている。電気信号がこの導電性バッキングに印加され、これらの信号はセラミックディスクを介して患者の体内に容量結合される。従来のトランスデューサ設計には、直線の行と列（例えば、３×３のアレイ）が互いに並べられており、接着剤を介して被験者の身体に取り付けられたセラミックディスクの矩形のアレイが含まれている。

【発明の概要】

【0003】

本発明の一態様は、腫瘍治療場を被験者の身体に送達するためのトランスデューサ装置を対象とする。トランスデューサ装置は、基板と、基板上に配置された電極アレイと、を含む。アレイは、アレイの面が被験者の身体に対向して被験者の身体上に位置するように構成されている。アレイの面と垂直な方向から見たとき、基板は、アレイの境界の少なくとも一部を形成する少なくとも１つの凹縁を有し、少なくとも１つの凹縁は、基板の２つの対向する側面の間に開口部を画定し、開口部には電極が存在せず、基板は、略Ｃ字形、Ｕ字形、丸みを帯びたＶ字形、または環状の表面を有する。

【0004】

本発明の上記態様は例示であり、本発明の他の態様および変形例は、以下の実施形態の詳細な説明から明らかになる。

【図面の簡単な説明】

【0005】

【図1A】被験者の胴体に配置されたトランスデューサの例を示す。

【図1B】被験者の胴体に配置されたトランスデューサの例を示す。

【図2A】被験者の胴体に配置されたトランスデューサの例を示す。

【図2B】被験者の胴体に配置されたトランスデューサの例を示す。

【図3】被験者の頭に配置されたトランスデューサの例を示す。

【図4A】トランスデューサ装置上の電極要素のアレイの例示的なレイアウトを示す。

【図4B】トランスデューサ装置上の電極要素のアレイの例示的なレイアウトを示す。

【図4C】トランスデューサ装置上の電極要素のアレイの例示的なレイアウトを示す。

【図4D】トランスデューサ装置上の電極要素のアレイの例示的なレイアウトを示す。

【図4E】トランスデューサ装置上の電極要素のアレイの例示的なレイアウトを示す。

【図4F】トランスデューサ装置上の電極要素のアレイの例示的なレイアウトを示す。

【図4G】トランスデューサ装置上の電極要素のアレイの例示的なレイアウトを示す。

【図5A】各種トランスデューサの構造例を示す断面図である。

【図5B】各種トランスデューサの構造例を示す断面図である。

【図6】１対のトランスデューサの構成例を示す。

【図7】ＴＴ場を印加するためのトランスデューサの被験者の身体上の位置および形状を決定するための装置の一例を示す。

【図8】ＴＴ場を印加するために被験者の身体上でトランスデューサ形状および配置を決定する例を示すフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0006】

本明細書で使用する場合、「略Ｃ字形、Ｕ字形、丸みを帯びたＶ字形、または環状の表面」を有する基板とは、「略Ｃ字形、略Ｕ字形、略丸みを帯びたＶ字形、または略環状の表面」を有する基板を意味する。いずれの場合も、「略」という用語には、記載された形状として一般に認識され、機能的に同等の形状が含まれる。例えば、「略Ｕ字」とは、丸みを帯びた平底Ｕ字を含み、「略Ｃ字」とは、丸みを帯びた直縁Ｃ字を含む。Ｕ字形の２つの対向する側面、つまりアームは完全に平行である必要はなく、真っ直ぐである必要もない。さらに、本明細書に記載されたように、基板の環状形状（例えば、円形、楕円形、卵形、曲面形、扁円形等）（少なくとも１つの凹縁は基板によってすべての側面が境界付けられる内部開口部を画定する）には、少なくとも一時的に内部開口部へのアクセスを可能にするスリット（基板の外側境界から内部開口部まで）が含まれていてもよい。

【0007】

本願は、１つまたは複数の癌を治療するために被験者の身体にＴＴ場を印加するために使用される例示的なトランスデューサ装置について説明する。本願はまた、被験者の身体にＴＴ場を印加するために、被験者の身体上のトランスデューサアレイの形状および配置を決定する例示的な方法についても説明する。

【0008】

被験者の身体にＴＴ場を印加するために使用されるトランスデューサには、基板上で一緒に結合された複数の電極要素が含まれており、たとえば基板の裏面の接着剤や別途塗布された接着剤を介して被験者の身体の所望の位置に取り付けられている。従来のトランスデューサは、トランスデューサ上に配置され、被験者の身体にＴＴ場を印加するために使用されるセラミック電極要素の数を最大化するように、比較的大きな矩形の平面を持っている。ただし、平らな矩形のデザインでは、被験者の体の多くの部分に輪郭を合わせるためのトランスデューサの柔軟性が制限される。加えて、電極要素によって被験者の身体上のエリアを回避する場合、実践者は、所望のＴＴ場を印加するために被験者の身体の最適ではない位置にトランスデューサを配置する必要があった。

【0009】

本発明者らは、験者の体の輪郭に快適にフィットするためのより大きな柔軟性を備えたトランスデューサの必要性が存在することを認識した。加えて、本発明者らは、被験者の身体上で回避すべき特定の解剖学的特徴、化学療法ポート、および／または他のエリアに容易にフィットできるトランスデューサの必要性があることを認識した。被験者の体の輪郭に効果的に合わせると同時に、覆われたままにする必要があるエリアや不快感を引き起こすエリアを回避できるトランスデューサは、被験者の身体の最適な位置に配置できる。その結果、トランスデューサは、被験者の身体内の関心領域（腫瘍など）を標的にするための理想的な位置とパワーレベルで、被験者の身体を通じてＴＴ場を誘導することができ、それによって患者の転帰を改善することができる。

【0010】

開示されたトランスデューサ装置は、略Ｃ字形、Ｕ字形、丸みを帯びたＶ字形、環状の表面を有する。開示されたトランスデューサ装置は、再構成したり、次善の位置に配置したりすることなく、被験者の身体の解剖学的形状に容易に輪郭に合わせてもよい。開示されたトランスデューサ装置の形状は、不快感を与えることなく、乳房、耳、化学療法ポート、手術痕、皮膚病変、またはトランスデューサの配置が困難な被験者の身体上の任意の他の形状のエリアなどのエリアの周囲にトランスデューサを配置するためのより大きな柔軟性と連続性を提供する。加えて、独特の形状のトランスデューサ装置は、開示された方法に従ってトランスデューサ配置計画ソフトウェアによって事前に選択されてもよい。例えば、トランスデューサの特定の位置と形状を一緒に選択することで、被験者の身体内の関心領域に最大量のＴＴ場を印加するための改良されたトランスデューサレイアウトを提供してもよい。

【0011】

図１Ａおよび図１Ｂは、被験者の胴体の位置に配置されたトランスデューサの例を示す。

【0012】

図１Ａは、被験者の右胸部の前部に配置されたトランスデューサ１００と、被験者の左大腿部の前部に配置されたトランスデューサ１０２と、を示す。図１Ｂは、被験者の背中上部の左側に位置する第３トランスデューサ１０４と、被験者の右大腿部の裏側に位置する第４トランスデューサ１０６と、を示す。トランスデューサ１００、１０２、１０４、１０６は、被験者の輪郭に合わせて柔軟な表面上に配置された複数の電極をそれぞれ含むトランスデューサアレイである。

【0013】

同様に、図２Ａおよび図２Ｂは、被験者の胴体の位置に配置されたトランスデューサの別の例を示す。図２Ａは、被験者の右胸部の前部に配置されたトランスデューサ２００と、被験者の左大腿部の前部に配置されたトランスデューサ２０２と、を示す。図２Ｂは、被験者の背中上部の左側に位置する第３トランスデューサ２０４と、被験者の右大腿部の裏側に位置する第４トランスデューサ２０６と、を示す。トランスデューサ２００、２０２、２０４、２０６は、被験者の身体の輪郭に合わせて柔軟な表面に配置された複数の電極をそれぞれ含むトランスデューサアレイである。

【0014】

被験者の胴体に配置されたトランスデューサ（図１Ａ～図２Ｂに示す）は、被験者の胸部または腹部の腫瘍にＴＴ場を適用することができる。トランスデューサは、図１Ａ～図２Ｂの位置以外にも、被験者の胴体上の様々な位置の組み合わせに配置してもよい。

【0015】

図１Ａ／図１Ｂおよび図２Ａ／図２Ｂは両方とも、解剖学的特徴または装置を有する少なくとも１つのエリアを回避しながら、ＴＴ場を被験者の身体に印加するためのアセンブリを示す。例えば、図１Ａでは、トランスデューサ１００の表面は、被験者の身体の乳首１０８を回避しながら、被験者の身体の乳房の輪郭に合わせるように略Ｕ字形である。他の例では、トランスデューサ１００の表面は、被験者の身体乳首１０８を回避しながら、乳房の輪郭に合わせるように、略Ｃ字形、丸みを帯びたＶ字形、環状の形状であってもよい。

【0016】

他の例として、図２Ａでは、トランスデューサ２００の表面は、被験者の身体上の化学療法ポート２０８を回避するように形状を形成している。特に、トランスデューサ２００の表面は、略環状の形状であり、トランスデューサ２００の内部開口部２１０が化学療法ポート２０８を有する被験者の身体上の位置と一致するように、被験者の身体上に位置するように適合されている。他の例では、トランスデューサ２００の表面は、略Ｃ字形、Ｕ字形、または丸みを帯びたＶ字形であってもよく、化学療法ポート２０８を有する被験者の身体上の位置に、トランスデューサ表面の２つの対向する部分が間隔をあけて配置するように適合されていてもよい。両方の例において、トランスデューサ２００の電極は化学療法ポート２０８の上に配置されていない。化学療法ポート２０８は、多くの場合、被験者がＴＴ場治療を受ける前に被験者の身体内に挿入される。本明細書に開示されたトランスデューサは、被験者の化学療法ポート２０８に干渉したり影響を受けたりすることなく、被験者の胸部または腹部の関心領域にＴＴ場を印加することを可能にしてもよい。

【0017】

図１に戻ると、他の１つまたは複数のトランスデューサ１０２、１０４、１０６は、トランスデューサ１００と異なる形状を有していてもよい。図示するように、アセンブリの第２トランスデューサ１０２、第３トランスデューサ１０４、第４トランスデューサ１０６は、例えば、第１トランスデューサ１００とは異なる形状を有する。いくつかの実施形態では、第２トランスデューサ１０２、第３トランスデューサ１０４、第４トランスデューサ１０６は、互いに同一または略類似の形状を有していてもよい。図示するように、トランスデューサ１０２、１０４、１０６の少なくとも一方の表面は、略凸形状を有していてもよい。より具体的には、トランスデューサ１０２、１０４、１０６の少なくとも一方の表面は、矩形、角を丸くした略矩形（図示するように）、円形、楕円形、卵形、曲面形、または扁円形であってもよい。図２Ａ、図２Ｂに示すトランスデューサ２０２、２０４、２０６は、図１Ａ、図１Ｂに示すトランスデューサ１０２、１０４、１０６と同様の形状を有する。

【0018】

他の実施形態では、他のトランスデューサ１０２、１０４、１０６のうちの１つまたは複数は、図１のトランスデューサ１００の形状や鏡像形状が同じ表面であってもよい。例えば、２つのトランスデューサは、両乳首を回避しながら被験者の身体の両方の乳房の輪郭に合わせるために、同じ略Ｕ字形を有してもよい。同様に、他のトランスデューサ２０２、２０４、２０６のうちの１つまたは複数は、図２Ａおよび図２Ｂのトランスデューサ２００と比較して、同一形状若しくは鏡像形状の表面を有していてもよい。

【0019】

図３は、被験者の身体の頭に配置されたトランスデューサの例を示す。図３は、トランスデューサ３００、３０２、および３０４が様々な位置および／または向きで配置される被験者の頭部の一例を示す。トランスデューサ３００、３０２、および３０４は、被験者の輪郭に合わせて柔軟な表面に配置された複数の電極をそれぞれ含むトランスデューサアレイである。被験者の頭部のこの図には示されていないが、第４トランスデューサは、被験者の頭部の第１トランスデューサ３００とは反対側に配置されてもよい。被験者の頭部に配置されたトランスデューサ（図３に示す）は、被験者の脳の領域内の腫瘍にＴＴ場を適用することができる。トランスデューサは、図３の位置以外にも、被験者の頭部上の様々な他の位置の組み合わせに配置してもよい。

【0020】

図３は、解剖学的特徴またはデバイスを含む少なくとも１つのエリアを回避しながら、被験者の身体にＴＴ場を印加するためのアセンブリを示す。例えば、図３において、トランスデューサ３００の表面は、被験者の身体の耳３０６を回避しながら、被験者の頭部の輪郭に合わせる略Ｃ字形である。他の例では、トランスデューサ３００の表面は、被験者の耳３０６を回避しながら被験者の頭部に合わせるために、略Ｕ字形、丸みを帯びたＶ字形、または環状の形状であってもよい。

【0021】

他の１つまたは複数のトランスデューサ３０２、３０４は、トランスデューサ３００と異なる形状を有していてもよい。図示するように、アセンブリの第２トランスデューサ３０２および第３トランスデューサ３０４は、例えば、第１トランスデューサ３００とは異なる形状を有する。いくつかの実施形態では、第２トランスデューサ（３０２）、第３トランスデューサ（３０４）、および第４トランスデューサ（図示しない）は、互いに同一または実質的に類似した形状を有していてもよい。トランスデューサ３０２、３０４の少なくとも一方の表面は、略凸形状を有していてもよい。より具体的には、トランスデューサ３０２、３０４の少なくとも一方の表面は、角を丸くした矩形、円形、楕円形、卵形、曲面形、または扁円形であってもよい。図示するように、少なくとも一方のトランスデューサ３０２、３０４の表面は、波形縁を有していてもよい。

【0022】

他の実施形態では、１つまたは複数のトランスデューサ３０２、３０４、または第４トランスデューサ（図示しない）は、図３のトランスデューサ３００と同一形状若しくは鏡像形状の表面を有していてもよい。例えば、第１トランスデューサ３００と反対側に配置された第４トランスデューサは、被験者の他方の耳を回避しながら被験者の頭部の輪郭に合わせるためのトランスデューサ３００のＣ字形を鏡像にしてもよい。

【0023】

本明細書で開示されているように、被験者の身体上の少なくとも１つのエリアを回避するために、様々な形状のトランスデューサを使用してもよい。トランスデューサは、例えば、略Ｃ字形、略Ｕ字形、略丸みを帯びたＶ字形、または略環状のトランスデューサを含んでもよい。加えて、前記トランスデューサは、例えば、被験者の身体の乳房、被験者の身体の乳首、被験者の身体の耳、被験者の身体の眼、被験者の身体の手術痕または皮膚病変、被験者の身体の脇の下、または被験者の身体内に配置された化学療法ポートなど、被験者の身体上の１つまたは複数の回避すべきエリアに対して相対的に被験者の身体上に配置されてもよい。

【0024】

図４Ａ～図４Ｇは、開示によるトランスデューサ装置の例を示す。図４Ａ～図４Ｇのそれぞれにおいて、トランスデューサ装置（例えば、４００Ａ、４００Ｂ、４００Ｃ、４００Ｄ、４００Ｅ、４００Ｆ、４００Ｇ）は、基板（例えば、４０２Ａ、４０２Ｂ、４０２Ｃ、４０２Ｄ、４０２Ｅ、４０２Ｆ、４０２Ｇ）と、基板（４０２Ａ～４０２Ｇ）上の電極アレイ（例えば、４０４Ａ、４０４Ｂ、４０４Ｃ、４０４Ｄ、４０４Ｅ、４０４Ｆ、４０４Ｇ）と、を含む。電極アレイ（４０４Ａ～４０４Ｇ）は、アレイの面が被験者の身体に対向して被験者の身体上に位置するように構成されている。図４Ａ～図４Ｇは、電極アレイ（４０４Ａ～４０４Ｇ）のこの面と垂直な方向から見たトランスデューサ装置（４００Ａ～４００Ｇ）を示す図である。全ての実施形態では、電極の形状は任意であってもよい。また、いずれの実施形態でも、電極は、全て同一形状であってもよく、他の電極とのサイズおよび／または形状が異なる１つまたは複数であってもよい。図４Ａ～図４Ｇのそれぞれにおいて、基板（４０２Ａ～４０２Ｇ）は、アレイの境界の少なくとも一部を形成する少なくとも１つの凹縁（例えば、４０６Ａ、４０６Ｂ、４０６Ｃ、４０６Ｄ、４０６Ｅ、４０６Ｆ、４０６Ｇ）を有する。少なくとも１つの凹縁（４０６Ａ～４０６Ｇ）は、基板（４０２Ａ～４０２Ｇ）の２つの対向する側面（例えば、４１０Ａ／４１２Ａ、４１０Ｂ／４１２Ｂ、４１０Ｃ／４１２Ｃ、４１０Ｄ／４１２Ｄ、４１０Ｅ／４１２Ｅ、４１０Ｆ／４１２Ｆ、４１０Ｇ／４１２Ｇ）の間に開口部（例えば、４０８Ａ、４０８Ｂ、４０８Ｃ、４０８Ｄ、４０８Ｅ、４０８Ｆ、４０８Ｇ）を画定してもよい。図４Ａ～図４Ｇの開口部（４０８Ａ～４０８Ｇ）には電極（４０４Ａ～４０４Ｇ）が存在しない。加えて、開口部（４０８Ａ～４０８Ｇ）にはヒドロゲルまたは接着剤が存在しなくてもよい。トランスデューサ４００Ａ～４００Ｇは、開口部（４０８Ａ～４０８Ｇ）が被験者の身体上の回避エリアに位置するように被験者の身体上に配置されてもよい。

【0025】

本明細書の図では基板の形状が完全な曲線と直線を使用して示されているが、略Ｃ字形、略Ｕ字形、略丸みを帯びたＶ字形、および略環状という用語には、そのようなすべての一般的な形状が含まれることを理解されたい。基板の形状は、不規則な曲線、異なる曲率半径の一連の直線または円弧から形成された曲線、波状縁（例えば、１つまたは複数の個別の電極形状の輪郭をトレースする）、または非平行なエッジを使用して形成されてもよい。また、さらに、開口部を画定する基板輪郭（例えば、Ｕ字形、丸みを帯びたＶ字形、Ｃ字形などのアーム）形の２つのアームの端部は、丸くても（例えば、図４Ａ、図４Ｂ、図４Ｃ、および図４Ｅに示すように湾曲している）真っ直ぐでもよい（例えば、図４Ｆおよび図４Ｇに示すような平坦な曲線）。

【0026】

図４Ａは、表面が略Ｕ字形の基板４０２Ａを示す図である。完全なＵ字形の場合、内側の凹面境界は完全に湾曲した円弧を持ち、２つのアームの各内側縁境界がまっすぐになってＵ字形を形成する前に、ちょうど円の半分を表す（各アームは平行位置から０度ずれている）。Ｕ字形は、任意の曲率半径を含んでいてもよいので、Ｕ字形の大きさは任意であってもよい。いくつかの実施形態では、基板４０２Ａの２つの対向する側面４１０Ａ、４１２Ａは、略直線であり、略平行な方向（例えば、各アームが平行位置から２度以下ずれている）に延びていてもよい。いくつかの実施形態では、基板４０２Ａの２つの対向する側面４１０Ａ、４１２Ａは、略直線であり、略平行な方向（例えば、各アームが平行位置から２０度以下ずれている）に延びていてもよい。このような実施形態では、両アームは、互いにわずかに向かって位置していてもよいし、互いにわずかに離れて位置していてもよい。アームが互いに向かって整列する実施形態（図示せず）では、アームは重なり合わないことがあるが、わずかな開口部を残してほぼ一体になってもよい。特に、基板が可撓性材料から形成される場合、後者の構成により、既に身体に設置されている化学療法ポートの周りを操作し、位置決めしながら、トランスデューサ装置を身体に取り付けてもよい。２つのアームが互いに離れて整列する実施形態（図示せず）では、この形状は丸みを帯びたＶ字形として見るようにしてもよい。いくつかの実施形態では、丸みを帯びたＶ字形の基板４０２Ａの２つの対向する側面４１０Ａ、４１２Ａは、略直線であり、互いに離間していてもよい（例えば、各アームが平行位置から４５度未満であるが、２０度以上ずれている）。図４Ａは、開口部４０８Ａと反対の側面４１０Ａ／４１２Ａとの空間配置を示している。具体的には、基板４０２Ａの２つの対向する側面４１０Ａおよび４１２Ａを通り、外側基板境界４１６から対向する外側基板境界４１８まで、開口部４０８Ａを横切る直線４１４が引かれる。開口部４０８Ａを挟んで線４１４に沿った距離４２０は、基板４０２Ａの対向する側面４１０Ａ、４１２Ａの一方を挟んで線４１４に沿った距離４２２の少なくとも２５％であってもよい。いくつかの実施形態では、開口部４０８Ａを挟んだ距離４２０は、対向する側面４１０Ａ、４１２Ａの一方を挟んだ距離４２２の５０％以上であってもよい。いくつかの実施形態では、開口部４０８Ａを挟んだ距離４２０は、対向する側面４１０Ａ、４１２Ａの一方を挟んだ距離４２２の１００％以上であってもよい。この開口部（４０８）と反対の側面（４１０／４１２）との空間配置は、図４のトランスデューサ装置においても同様であってもよい。いずれの場合も、線４１４に沿った距離４２０は、開口部４０８を横切る最も広い部分で取得される。

【0027】

図４Ｂは、平底のＵ字形表面を有する略Ｕ字形の基板４０２Ｂを示しており、基板４０２Ｂの２つの対向する側面（アーム）４１０Ｂおよび４１２Ｂは、互いにわずかに向かって整列している。他の実施形態では、略Ｕ字形の基板４０２Ｂは、平底のＵ字形の面を有し、基板４０２Ｂの２つの対向する辺（アーム）４１０Ｂ、４１２Ｂは互いに平行に並んでいる。他の実施形態では、略Ｕ字形基板４０２Ｂは、平底のＵ字形面を有し、上述した丸みを帯びたＵ字形の実施形態で説明したように、基板４０２Ｂの対向する両側（アーム）４１０Ｂ、４１２Ｂは、互いにわずかに離間して位置合わせされている。

【0028】

図４Ｃは、略Ｃ字形の表面を有する基板４０２Ｃを示す。すなわち、基板４０２Ｃの２つの対向する側面４１０Ｃ、４１２Ｃは、湾曲してもよい。Ｃ字形の範囲は、半円から２本のアームがほぼ結合する点までの範囲であってもよく、非常に小さな開口部が残る。上述したように、Ｃ字形の両端は丸みを帯びていてもよく、直線状であってもよい。両端がほぼつながっていて直線的な縁を持つ極限状態で、トランスデューサに間隙またはスリットが形成され、すでに身体上の所定の位置にある化学療法ポートの周りで操作および位置決めしながら、トランスデューサ装置を身体に取り付けることが可能になる。

【0029】

図４Ｄは、略環状の表面を有する基板４０２Ｄを示す。すなわち、少なくとも１つの凹縁４０６Ｄは、基板４０２Ｄによってすべての側面が境界付けられる内部開口部４０８Ｄを形成する。基板４０２Ｄは、内部開口部４０８Ｄが形成された略円形、楕円形、卵形、曲面形、または扁円形の表面を有していてもよい。いくつかの実施形態では、内部開口部４０８Ｄ（図４Ｄに円形として示される）は、基板の形状に合わせた略円形、楕円形、卵形、曲面形、または扁円形の表面を有してもよい。図４Ｄは、内部開口部４０８Ｄが形成された円形表面を有する実施形態を示す。このドーナツ型アレイ（円形）は、身体にすでに設置されている化学療法ポートに取り付けられてもよい。狭いスリット（基板の外部境界から内部開口部４０８まで）を許容することにより、内部開口部への少なくとも一時的なアクセスが可能となり、化学療法ポートの周りで操作および位置決めする際に、トランスデューサ装置を身体に取り付けることが容易になってもよい。楕円形、卵形、曲面形、または扁円形の表面を有するトランスデューサも同様に機能してもよい。例えば、楕円形のトランスデューサは、外科的傷跡や皮膚病変を覆わないように、より適切な開口部を提供してもよい。

【0030】

図４Ｅは、不規則な形状の表面を有する別の基板４０２Ｅを示す。図４Ｅに示すように、基板４０２Ｄの凹凸形状の表面は略Ｕ字形であり、基板４０２Ｅは、波形縁を有する。波形縁は、本明細書に開示された他のトランスデューサ形状（例えば、Ｃ字形、Ｖ字形、環状）として使用されてもよい。基板上に存在する電極形状の任意の面では、凹凸形状の面を用いてもよい。例えば、基板４０２Ｄの凹凸形状の表面は、１つまたは複数の個々の電極形状の輪郭をトレースしたことによって生じる周囲（または周囲の拡大版）と一致してもよい（または、ほぼ一致してもよい）。

【0031】

図４は、略Ｕ字形の表面を有する基板４０２Ｆおよび４０２Ｇのさらなる実施形態を示す。図４Ｆおよび図４Ｇの両方に示すように、開口部を形成するＵ字基板の対向する両側（アーム）の端部は、直線（平らな曲線）であってもよい。Ｕ字形のアームは、任意の幅および／または長さであってもよく、実際には、所定の基板の２つのアームは同一である必要はない。また、図示するように、どのような実施形態でも、電極は、任意のサイズ、形状、および数であってもよく、基板上で同じであっても異なっていてもよい。簡単にするために、図４Ａ～図４Ｅの電極は円形の電極として示されている。特に、基板の所与の形状に対する電極の形状は、電極の利用可能性に基づいて選択してもよく、または基板の表面形状の充填を最適化したいという要望に基づいて選択してもよい。例えば、図４ＧのＵ字形基板に示す丸みを帯びた三角形電極を、図４Ｄに示す円形基板で利用する唯一の電極形状として、円形基板表面の電極表面積の密度を高めてもよい。

【0032】

トランスデューサの構造は、複数の形態をとってもよい。図５Ａでは、トランスデューサ５００Ａは、基板５０４Ａ上に配置された複数の電極要素５０２Ａを有する。基板５０４Ａは、トランスデューサ５００Ａを被験者の身体に取り付けるように構成されている。基板５０４Ａに適した材料としては、例えば、布、発泡体、可撓性プラスチック、および／または導電性医療用ゲルが挙げられる。トランスデューサ５００Ａは、基板５０４Ａを介して（例えば、粘着性の裏当ておよび／または導電性医療用ゲルを介して）被験者の身体に貼り付けられ得る。トランスデューサは、導電性または非導電性であってもよい。図５Ｂは、トランスデューサ５００Ｂの構造の別の例を示す。この例では、トランスデューサ５００Ｂは、基板なしで互いに電気的および機械的に接続された複数の電極要素５０２Ｂを含む。一例では、電極要素５０２Ｂは、導電性ワイヤ５０６Ｂを介して互いに接続される。

【0033】

トランスデューサ５００Ａおよび５００Ｂは、それぞれ、実質的に平坦な電極要素５０２Ａおよび５０２Ｂのアレイを含んでもよい。電極要素のアレイは、容量的に結合されていてもよい。一例では、電極要素５０２Ａおよび５０２Ｂは、複数の平坦な導体上に配置された非セラミック誘電体材料である。平坦な導体上に配置される非セラミック誘電体材料としては、プリント基板上のパッド上に配置された高分子フィルムや平坦な金属片上に配置された高分子フィルムが挙げられる。他の例では、電極要素５０２Ａ、５０２Ｂはセラミック要素である。

【0034】

図６は、１対のトランスデューサ６０２および６０４の構成例を示す。この例では、装置６００は、トランスデューサ６０２、６０４を含む。第１トランスデューサ６０２は、基板６０８上に配置され、導電性配線６１０を介して互いに電気的および機械的に接続された１３個の電極要素６０６を含む。同様に、第２トランスデューサ６０４は、基板６１４上に配置され、導電性配線６１６を介して互いに電気的および機械的に接続された１４個の電極要素６１２を含む。基板６１４は、図示のように略Ｕ字形、Ｃ字形、丸みを帯びたＶ字形、環状の形状であってもよい。図６では基板６１４の輪郭が直線と鋭い頂点で示されているが、輪郭は、例えば図４Ａまたは図４Ｂのように湾曲していてもよい。２つの基板６０８、６１４は、同一であってもよいし、鏡像であってもよいし、異なる形状であってもよい。トランスデューサ６０２および６０４は、交流電圧発生器６１８およびコントローラ６２０に接続されてもよい。交流電圧発生器６１８は、トランスデューサ６０２、６０４に結合され、トランスデューサ６０２に第１電圧を与え、トランスデューサ６０４に第２電圧を与えてもよい。トランスデューサ６０２および６０４は、交流電圧発生器６１８およびコントローラ６２０に接続されてもよい。コントローラ６２０は、１つまたは複数のプロセッサおよび１つまたは複数のプロセッサによってアクセス可能なメモリを含んでもよい。

【0035】

図７は、ＴＴ場を印加するためのトランスデューサの位置および形状を決定するための例示的な装置を示す。この例では、装置７００は、１つまたは複数のプロセッサ７０２、メモリ７０４、および１つまたは複数の出力デバイス７０６を含む。メモリ７０４は、リンク７０８を介して１つまたは複数のプロセッサ７０２によってアクセス可能であるため、１つまたは複数のプロセッサ７０２は、メモリ７０４から情報を読み取り、メモリ７０４に情報を書き込むことができる。メモリ７０４は、１つまたは複数のプロセッサ７０２によって実行されると、装置７００に本明細書に開示される１つまたは複数の方法を実行させる命令を記憶する。１つまたは複数のプロセッサ７０２は、入力７１０（例えば、画像データのユーザ入力）を受信し、入力７１０に基づいて、出力デバイス７０６によって出力される、ユーザーに対してトランスデューサの形状および／または位置の１つまたは複数の推奨を行ってもよい。

【0036】

図８は、ＴＴ場を適用するために被験者の身体上のトランスデューサの形状および配置を決定する例示的な方法８００を示すフローチャートである。図示するように、方法８００は、ステップＳ８０２から、被験者内の標的領域を決定することから始めてもよい。これは、例えば、被験者の身体内の標的領域のおおよその位置および／または３Ｄ体積を決定するために、１つまたは複数の画像データ（例えば、磁気共鳴画像（ＭＲＩ）データ、コンピュータ断層撮影（ＣＴ）データなど）を解析することによって達成されてもよい。

【0037】

ステップＳ８０４において、方法８００は、被験者の身体内の標的領域を通る電場分布の１つ以上のシミュレーションに基づいて、第１トランスデューサを配置するための被験者の身体上の第１位置と、第２トランスデューサを配置するための被験者の身体上の第２位置と、を決定することを含む。これには、たとえば、被験者の身体に関連付けられた画像データに基づいて、被験者の身体の標的領域を通る予想される電場分布の１つまたは複数のシミュレーション（シミュレーションアルゴリズムを使用）を実行することが含まれてもよい。より具体的には、この決定は、考えられる異なるトランスデューサ位置ペアのシミュレーションを比較し、予想される電場分布に基づいてトランスデューサ位置ペアをランク付け／推奨することによって行ってもよい。

【0038】

ステップＳ８０６において、方法８００は、被験者の身体上にトランスデューサアレイを配置するために避けるべき少なくとも１つのエリアを決定することを含む。回避すべき少なくとも１つのエリアは、上記のように、被験者の身体の解剖学的特徴または被験者の身体内に位置する装置に対応してもよい。回避すべき少なくとも１つのエリアは、例えば、被験者の身体の画像データに含まれる１つまたは複数の画像に描かれたランドマーク（例えば、解剖学的特徴および／またはデバイス）を識別する画像処理モジュールを介して決定されてもよい。画像処理モジュールは、１つまたは複数の物体識別および／または追跡アルゴリズムを使用して、１つまたは複数のランドマークの位置を決定／検出してもよい。別の例では、回避すべき少なくとも１つのエリアは、例えば、被験者の身体内の化学療法ポートの存在および／またはおおよその位置の表示、身体測定値（例えば、乳房サイズの測定値）、その他を含むユーザー入力に基づいて特定されてもよい。

【0039】

ステップＳ８０８において、方法８００は、第１位置および被験者の身体上の回避すべき少なくとも１つのエリアに基づいて、第１トランスデューサの第１トランスデューサ形状を選択することを含む。同様に、ステップＳ８１０において、方法８００は、第２位置および被験者の身体上の回避すべき少なくとも１つのエリアに基づいて、第２トランスデューサの第２トランスデューサ形状を選択することを含む。第２トランスデューサ形状は、第１トランスデューサ形状と同一の形状であってもよいし、第１トランスデューサ形状とは異なる形状であってもよい。

【0040】

第１トランスデューサ形状の選択には、例えば、ステップＳ８１２において、第１位置が少なくとも１つの回避エリアの少なくとも一部と重なるか否かを判定することが含まれてもよい。同様に、第２トランスデューサ形状の選択には、ステップＳ８１４において、第２位置が少なくとも１つの回避エリアの少なくとも一部と重なるか否かを判定することが含まれてもよい。第１位置または第２位置のいずれかが、少なくとも１つの回避エリアの少なくとも一部と重ならないと判定した場合（「ＮＯ」）、対応する第１トランスデューサ（Ｓ８０８）または第２トランスデューサに対してデフォルトのトランスデューサ形状８１６を選択してもよい（Ｓ８１０）。デフォルトのトランスデューサ形状８１６は、矩形、角を丸くした略矩形、円形、楕円形、卵形、曲面形、または扁円形であってもよい。第１位置または第２位置のいずれかが、少なくとも１つの回避エリアの少なくとも一部と重なると判定した場合（ＹＥＳ）、対応する第１トランスデューサ（Ｓ８０８）または第２トランスデューサに対して、デフォルト形状８１６以外の形状８１８を選択してもよい（Ｓ８１０）。他の形状８１８は、略Ｃ字形、Ｕ字形、丸みを帯びたＶ字形、環状の形状であってもよい。いくつかの実施形態では、方法８００は、例えば、被験者の体の同じ位置に配置されたデフォルト形状のトランスデューサと比較した、回避すべき少なくとも１つのエリアの重複部分の相対的なサイズおよび位置などの要因に基づいて、特定の他の形状８１８を選択するステップを含んでもよい。

【0041】

一例では、ステップＳ８２０において、方法８００は、第１トランスデューサが少なくとも１つのエリアの少なくとも一部を覆い、第１位置に配置されるのを回避するために、被験者の身体の第１位置において第１トランスデューサ形状を有する第１トランスデューサの向きを決定することをさらに含んでもよい。同様に、ステップＳ８２２において、方法８００は、第２トランスデューサが少なくとも１つのエリアの少なくとも一部を覆い、被検者の第２位置に配置されることを避けるために、被験者の身体の第２位置において第２トランスデューサ形状を有する第２トランスデューサの向きを決定することをさらに含んでもよい。

【0042】

ステップＳ８２４において、方法８００は、推奨される第１トランスデューサ形状、第１位置、第２トランスデューサ形状、および第２位置を（例えば、ユーザインターフェース上の出力を介して）ユーザーに出力するステップを含む。ステップＳ８２４は、第１トランスデューサおよび第２トランスデューサの一方または両方の推奨される向きをユーザーに出力することを含んでもよい。出力は、トランスデューサアレイの配置に関する視覚的な通知の形式であってもよい。すなわち、１つまたは複数のトランスデューサアレイの１つまたは複数の推奨配置位置と、１つまたは複数の回避すべきエリアと、をユーザーに表示してもよい。この通知は、１）被験者の身体上の避けるべき１つまたは複数のエリアを避けるため、および２）標的領域に適用される最適化された電場を受信するために、トランスデューサアレイを配置する場所をユーザーに視覚的に指示してもよい

【0043】

本発明は、以下のような他の例示的な実施形態を含み、これらの例示的な実施形態（またはその一部）を任意の組み合わせで構成して実施形態を定義してもよい。

【0044】

例示的な実施形態１：腫瘍治療場を被験者の身体に送達するためのトランスデューサ装置であって、基板と、前記基板上に配置された電極のアレイであって、前記アレイの面が前記被験者の身体に対向して前記被験者の身体上に位置するように構成された、電極のアレイと、を含み、前記アレイの面と垂直な方向から見たとき、前記基板は、前記アレイの境界の少なくとも一部を形成する少なくとも１つの凹縁を有し、前記少なくとも１つの凹縁は、前記基板の２つの対向する側面の間に開口部を画定し、前記開口部には前記電極が存在せず、また、前記基板は、略Ｃ字形、Ｕ字形、丸みを帯びたＶ字形、または環状の表面を有する。

【0045】

例示的な実施形態２：例示的な実施形態１に係るトランスデューサ装置であって、前記アレイの面と垂直な方向から見たとき、前記基板は、略Ｃ字形の表面を有し、前記基板の対向する両面は、湾曲している。

【0046】

例示的な実施形態３：例示的な実施形態１に係るトランスデューサ装置であって、前記アレイの面と垂直な方向から見たとき、前記基板は、略Ｕ字形または丸みを帯びたＶ字形の表面を有し、また前記基板の２つの対向する側面辺は、略直線であり、略平行な方向に延びているか、または、平行であることから４５°未満ずれている。

【0047】

例示的な実施形態４：例示的な実施形態１に係るトランスデューサ装置であって、前記アレイの面と垂直な方向から見たとき、前記基板は、略環状の表面を有し、前記少なくとも１つの凹縁は、前記基板によってすべての側面が境界付けられた内部開口部を画定し、また前記基板は、前記内部開口部が形成された略円形、楕円形、卵形、曲面形、または扁円形の表面を有する。

【0048】

例示的な実施形態５：例示的な実施形態４に係るトランスデューサ装置であって、前記略円形、楕円形、卵形、曲面形、または扁円形の表面は、前記基板の外側境界から前記内側開口部まで延びるスリットを有し、前記環状形状に少なくとも一時的な開口部を可能にする。

【0049】

例示的な実施形態６：例示的な実施形態１に係るトランスデューサ装置であって、アレイの面と垂直な方向から見たとき、基板の２つの対向する側面を通って、外側基板境界から対向する外側基板境界まで開口部を横切る直線を引くとき、開口部を横切る線に沿った距離は、基板の対向する側面の一方を横切る線に沿った距離の少なくとも２５％である。

【0050】

例示的な実施形態７：例示的な実施形態１に係るトランスデューサ装置であって、前記アレイの面と垂直な方向から見たとき、前記基板は、波形縁を有する。

【0051】

例示的な実施形態８：解剖学的特徴またはデバイスを備えた少なくとも１つのエリアを回避しながら、腫瘍治療場を被験者の身体に印加するためのアセンブリであって、複数の電極を含む第１トランスデューサアレイであって、前記被験者の身体の輪郭に合わせて柔軟である第１表面を有し、前記第１表面と垂直な方向から見たとき、前記第１表面は、略Ｃ字形、Ｕ字形、丸みを帯びたＶ字形、または環状であり、Ｃ字形、Ｕ字形、または丸みを帯びたＶ字形の場合、前記第１表面の２つの対向する部分は互いに間隔を空けて配置され、前記第１表面の凹縁によって互いに接続され、環状の場合、前記凹縁は、前記第１表面によってすべての側面が境界付けられた内部開口部を画定する、第１トランスデューサアレイと、複数の電極を含む第２トランスデューサアレイであって、前記被験者の身体に合わせて柔軟である第２表面を有し、前記第２表面は、前記第１表面と同一若しくは鏡像形状、あるいは異なる形状を有する、第２トランスデューサアレイと、を含む。

【0052】

例示的な実施形態９：例示的な実施形態８に係るアセンブリであって、第２表面と垂直な方向から見たとき、第２表面は略凸形状を有する。

【0053】

例示的な実施形態１０：例示的な実施形態９に係るアセンブリであって、前記第２表面と垂直な方向から見たとき、前記第２表面は、矩形、角を丸くした略矩形、円形、楕円形、卵形、曲面形、または扁円形である。

【0054】

例示的な実施形態１１：例示的な実施形態８に係るアセンブリであって、第１表面と垂直な方向から見たとき、第１表面は不規則な形状を有する。

【0055】

例示的な実施形態１２：例示的な実施形態８に係るアセンブリであって、前記第１トランスデューサアレイの前記第１表面は、略Ｃ字形、Ｕ字形、または丸みを帯びたＶ字形であり、前記第１表面の２つの対向する部分は、化学療法ポートを有する被験者の身体上の第１位置を跨ぐように離間されるように適合され、かつ、前記第１トランスデューサアレイの電極は前記化学療法ポートの上に配設されていない。

【0056】

例示的な実施形態１３：例示的な実施形態８に係るアセンブリであって、前記第１トランスデューサアレイの前記第１表面は、略環状であり、前記内部開口部が化学療法ポートを有する被験者の身体上の第１位置と一致するように被験者の身体上に位置するように適合され、かつ、前記第１トランスデューサアレイの電極は前記化学療法ポートの上に配設されていない。

【0057】

例示的な実施形態１４：例示的な実施形態８に係るアセンブリであって、複数の電極を含む第３トランスデューサアレイであって、被験者の輪郭に合わせて柔軟である第３面を有し、第３面は第１表面とは異なる形状を有する、第３トランスデューサアレイと、複数の電極を含む前記第４トランスデューサアレイであって、前記被験者の輪郭に合わせて柔軟である第４表面を有し、第４表面は前記第１表面とは異なる形状を有する、第４トランスデューサアレイと、をさらに含む。

【0058】

例示的な実施形態１５：前記腫瘍治療場を印加するために被験者の身体上へのトランスデューサ形状および配置を決定するためのコンピュータ実装方法であって、前記コンピュータは、１つまたは複数のプロセッサと、１つまたは複数の前記プロセッサによってアクセス可能なメモリと、を含み、前記メモリは、１つまたは複数の前記プロセッサによって実行されると、前記コンピュータに方法を実行させるための命令を記憶しており、前記方法は、前記被験者の身体内の標的領域を決定して腫瘍治療場を印加するステップと、前記被験者の身体内の標的領域を通る電場分布の１つまたは複数のシミュレーションに基づいて、第１トランスデューサを配置するための前記被験者の身体上の第１位置を選択し、第２トランスデューサを配置するための前記被験者の身体上の第２位置を選択するステップと、前記被験者の身体上に前記トランスデューサアレイの少なくとも一部が配置されることを回避するための少なくとも１つのエリアを決定するステップであって、前記回避すべき少なくとも１つのエリアは、前記被験者の身体の解剖学的特徴または被験者の身体内に配置されたデバイスに対応する、ステップと、前記第１位置および前記被験者の身体上の前記回避すべき少なくとも１つのエリアに基づいて、前記第１トランスデューサの第１トランスデューサ形状を選択するステップと、前記第２位置および前記被験者の身体上の前記回避すべき少なくとも１つのエリアに基づいて、前記第２トランスデューサの第２トランスデューサ形状を選択するステップであって、前記第２トランスデューサ形状は、前記第１トランスデューサ形状と同一若しくは鏡像形状、あるいは異なる形状である、ステップと、前記第１トランスデューサ形状、前記第１位置、前記第２トランスデューサ形状、および前記第２位置をユーザーに出力するステップと、を含む。

【0059】

例示的な実施形態１６：例示的な実施形態１５に係るコンピュータ実装方法であって、前記第１トランスデューサ形状は、略Ｃ字形、Ｕ字形、丸みを帯びたＶ字形、または環状の形状を含む。

【0060】

例示的な実施形態１７：例示的な実施形態１６に係るコンピュータ実装方法であって、第２トランスデューサ形状は、矩形、角を丸くした矩形、略矩形、円形、楕円形、卵形、曲面形、または扁円形である。

【0061】

例示的な実施形態１８：例示的な実施形態１５に係るコンピュータ実装方法であって、回避すべき少なくとも１つのエリアは、前記被験者の身体の乳房、前記被験者の身体の乳首、前記被験者の身体の耳、前記被験者の身体の眼、前記被験者の身体の手術痕、前記被験者の身体の病変、前記被験者の身体の脇の下、または前記被験者の身体内に配置された化学療法ポートの少なくとも１つを含む。

【0062】

例示的な実施形態１９：例示的な実施形態１５に係るコンピュータ実装方法であって、前記第１トランスデューサが前記少なくとも１つのエリアの少なくとも一部を覆い、前記第１位置に配置されるのを回避するために、前記被験者の身体の前記第１位置において前記第１トランスデューサ形状を有する前記第１トランスデューサの向きを決定するステップをさらに含む

【0063】

例示的な実施形態２０：例示的な実施形態１５に係るコンピュータ実装方法であって、前記第１位置または前記第２位置のいずれかが、前記回避すべき少なくとも１つのエリアの少なくとも一部と重なるかどうかを決定するステップと、対応する前記第１位置または第２位置が前記少なくとも１つのエリアの少なくとも一部と重ならないと判定した場合、前記第１トランスデューサまたは前記第２トランスデューサのいずれかに対してデフォルトのトランスデューサ形状を選択するステップと、対応する前記第１位置または第２位置が前記少なくとも１つのエリアの少なくとも一部と重ならないと判定した場合、前記第１トランスデューサまたは前記第２トランスデューサのいずれかに対してデフォルトのトランスデューサ形状を選択するステップと、をさらに含む。

【0064】

例示的な実施形態２１：例示的な実施形態１に係るトランスデューサ装置であって、前記基板の表面積は、約２０ｃｍ^２～６００ｃｍ^２である。この大きさのトランスデューサ装置は、被験者の身体の胴体に設けられてもよい。

【0065】

例示的な実施形態２２：例示的な実施形態１に係るトランスデューサ装置であって、前記基板の表面積は、約２０ｃｍ^２～３００ｃｍ^２である。この大きさのトランスデューサ装置を被験者の頭部に設けられてもよい。

【0066】

例示的な実施形態２３：例示的な実施形態８に係るアセンブリであって、第１表面および第２表面の一方または両方は、波状縁を有する。

【0067】

例示的な実施形態２４：例示的な実施形態８に係るアセンブリであって、第１トランスデューサアレイおよび第２トランスデューサアレイに結合するように構成され、第１トランスデューサアレイに第１電圧を与え、第２トランスデューサアレイに第２電圧を与えることが可能な電圧発生器をさらに含む。

【0068】

本開示の任意の見出しまたは任意の部分で示される実施形態は、本明細書に別段の指示がない限り、または文脈と明らかに矛盾しない限り、同じまたは他の見出しまたは本開示の他の部分で示される実施形態と組み合わせてもよい。例えば、限定ではないが、所与の実施形態について従属請求項形式で説明された実施形態（例えば、独立請求項形式で説明された所与の実施形態）は、他の実施形態（独立請求項形式または従属請求項形式で説明された）と組み合わせてもよい。

【0069】

請求項に定義された本発明の範囲を逸脱することなく、記載された実施形態の多くの修正、変更、および変更が可能である。本発明は、記載された実施形態に限定されるものではなく、以下の請求項の言語によって定義される全ての範囲およびそれらの均等物を有することが意図される。

【図1A】

【図1B】

【図2A】

【図2B】

【図3】

【図4A】

【図4B】

【図4C】

【図4D】

【図4E】

【図4F】

【図4G】

【図5A】

【図5B】

【図6】

【図7】

【図8】

【国際調査報告】