特表 2024-545116 起立式ウエハーカセット

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-12-05

(54)【発明の名称】起立式ウエハーカセット

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/677 20060101AFI20241128BHJP

   B65D 85/38 20060101ALI20241128BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 S

B65D85/38 300

【審査請求】有

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2024534191

(86)(22)【出願日】2022-12-30

(85)【翻訳文提出日】2024-07-10

(86)【国際出願番号】 CN2022144006

(87)【国際公開番号】W WO2023109972

(87)【国際公開日】2023-06-22

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】520128152

【氏名又は名称】杭州▲衆▼硅▲電▼子科技有限公司

(74)【代理人】

【識別番号】110001841

【氏名又は名称】弁理士法人ＡＴＥＮ

(72)【発明者】

【氏名】朱 政挺

【テーマコード（参考）】

3E096

5F131

【Ｆターム（参考）】

3E096AA03

3E096BA16

3E096BB03

3E096CA09

3E096DA05

3E096FA28

5F131AA02

5F131BA33

5F131BA37

5F131BA39

5F131BA43

5F131CA09

5F131CA18

5F131DA52

5F131DB13

5F131DB16

5F131GA02

5F131GA43

5F131GA63

(57)【要約】

本発明は起立式ウエハーカセットを開示し、少なくとも１つのベースユニットを含む。ベースユニットは第一ウエハーベースと第二ウエハーベースを含む。第一ウエハーベースの頂部に第一アーチ形凹面を有し、第二ウエハーベースに向かう片側に第一作用面を形成し、前記第一作用面は第一アーチ形凹面が位置する区域に対応し、かつ第一作用面の形状はＹ字形を垂直に半分に分けた後の左側構造である。第二ウエハーベースの頂部に第二アーチ形凹面を有し、第一ウエハーベースに向かう片側に第二作用面を形成し、前記第二作用面は第二アーチ形凹面が位置する区域に対応し、かつ第二作用面の形状はＹ字形を垂直に半分に分けた後の右側構造である。第一作用面と第二作用面は連係してウエハーを支持して垂直に立つ。本発明は垂直方向の空間を合理的に利用した。第一アーチ形凹面と第二アーチ形凹面、第一作用面と第二作用面の設計は、ウエハーをカセットに入れた後、一部のアーチ線全体が位置決めされ、さらに安定する。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

起立式ウエハーカセットであって、
少なくとも１つのベースユニット（１０）を含み、前記ベースユニット（１０）は第一ウエハーベース（１）と第二ウエハーベース（２）を含み、
前記第一ウエハーベース（１）の頂部には第一アーチ形凹面（１１）が設けられ、前記第二ウエハーベース（２）に向く側に第一作用面（１２）が形成され、前記第一作用面（１２）は前記第一アーチ形凹面（１１）が位置する領域に対応しており、かつ前記第一作用面（１２）の形状は、Ｙ字形を垂直に半分に分けた後の左側構造であり、
前記第二ウエハーベース（２）頂部には第二アーチ形凹面（２１）が設けられ、前記第一ウエハーベース（１）に向く側に第二作用面（２２）が形成され、前記第二作用面（２２）は前記第二アーチ形凹面（２１）が位置する領域に対応しており、かつ前記第二作用面（２２）の形状は、Ｙ字形を垂直に半分に分けた右側構造であり、
前記第一作用面（１２）及び前記第二作用面（２２）は連係して、前記ウエハー（３）を垂直に立てるように支持する、ことを特徴とする起立式ウエハーカセット。

【請求項2】

前記第一作用面（１２）は前記ウエハー（３）に線接触し、前記第二作用面（２２）は前記ウエハー（３）に線接触して前記ウエハー（３）を垂直に立てるように支持し、
或いは、前記第一作用面（１２）は前記ウエハー（３）に線接触し、前記第二作用面（２２）は前記ウエハー（３）に面接触して前記ウエハー（３）を垂直に立てるように支持し、
或いは、前記第一作用面（１２）は前記ウエハー（３）に面接触し、前記第二作用面（２２）は前記ウエハー（３）に面接触して前記ウエハー（３）を垂直に立てるように支持する、ことを特徴とする請求項１に記載の起立式ウエハーカセット。

【請求項3】

前記第一作用面（１２）は、第一傾斜面（１２１）と第一垂直面（１２２）とを備え、前記第二作用面（２２）は、第二傾斜面（２２１）と第二垂直面（２２２）とを備えており、
前記第一垂直面（１２２）と前記第二垂直面（２２２）は正対接触し、前記第一傾斜面（１２１）と前記第二傾斜面（２２１）はそれぞれ前記ウエハー（３）と線接触する、ことを特徴とする請求項１に記載の起立式ウエハーカセット。

【請求項4】

前記第一作用面（１２）は、第一傾斜面（１２１）と第一垂直面（１２２）とを含み、前記第二作用面（２２）は、第二傾斜面（２２１）と第二垂直面（２２２）とを含み、
前記第一垂直面（１２２）と前記第二垂直面（２２２）は上下にずれて接触し、前記第一傾斜面（１２１）は前記ウエハー（３）と線接触し、前記第二垂直面（２２２）と前記第一垂直面（１２２）のずれた部分は前記ウエハー（３）に面接触し、
或いは、前記第二傾斜面（２２１）は前記ウエハー（３）と線接触し、前記第一垂直面（１２２）と前記第二垂直面（２２２）のずれた部分は前記ウエハー（３）に面接触する、ことを特徴とする請求項１に記載の起立式ウエハーカセット。

【請求項5】

前記第一作用面（１２）は、第一傾斜面（１２１）と、第一垂直面（１２２）とを含み、前記第二作用面（２２）は、第二傾斜面（２２１）と、第二垂直面（２２２）とを含み、
前記第一垂直面（１２２）と前記第二垂直面（２２２）は、それぞれ前記ウエハー（３）の両側面の外縁面と接触する、ことを特徴とする請求項１に記載の起立式ウエハーカセット。

【請求項6】

前記第一垂直面（１２２）又は前記第二垂直面（２２２）の底部は、それと直交する支持面（２２３）を形成し、前記第二垂直面（２２２）又は前記第一垂直面（１２２）の底部は、段差面（１２３）を形成し、前記段差面（１２３）は、前記支持面（２２３）上に載置され、前記第一垂直面（１２２）と前記第二垂直面（２２２）との間の間隔を調整するために、前記支持面（２２３）に沿って並進することができ、その間隔が０．５～２ｍｍである、ことを特徴とする請求項５に記載の起立式ウエハーカセット。

【請求項7】

前記ウエハー（３）と前記第一垂直面（１２２）及び／又は前記第二垂直面（２２２）との面接触幅がｈであり、前記ウエハー（３）の半径がＲである場合、ｈ：Ｒが０．０１-１である、ことを特徴とする請求項４又は５に記載の起立式ウエハーカセット。

【請求項8】

前記第一アーチ形凹面（１１）及び／又は前記第二アーチ形凹面（２１）の円心角が３０～１８０°である、ことを特徴とする請求項１に記載の起立式ウエハーカセット。

【請求項9】

複数の前記ベースユニット（１０）を備え、隣接する前記ベースユニット（１０）の前記第二ウエハーベース（２）と前記第一ウエハーベース（１）が一体に配置されている、ことを特徴とする請求項１に記載の起立式ウエハーカセット。

【請求項10】

前記第一ウエハーベース（１）と前記第二ウエハーベース（２）が一体構造に設けられている、ことを特徴とする請求項１に記載の起立式ウエハーカセット。

【請求項11】

前記第一アーチ形凹面（１１）及び／又は前記第二アーチ形凹面（２１）は、連続又は断続的に設けられ、その前記第一作用面（１２）及び／又は前記第二作用面（２２）の構造は、同一又は異なる、ことを特徴とする請求項１に記載の起立式ウエハーカセット。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、半導体集積回路チップの製造分野に属し、特に起立式ウエハーカセットに関する。

【背景技術】

【0002】

化学機械平坦化（ＣＭＰ）は、集積回路プロセスの中の一種の加工プロセスである。技術の発展に従って、加工プロセスに対する要求は高くなる。化学機械研磨平坦化装置は、一般的に、半導体デバイスフロントエンドモジュール（ＥＦＥＭ）、洗浄ユニット、研磨ユニット、及び搬送モジュールを含む。ＥＦＥＭは主にウエハーを収納するカートリッジ、シート搬送ロボットアーム、及び空気浄化システムなどを含む。洗浄ユニットは主に数量の異なるメガ音波洗浄部材、ロールブラッシング洗浄部材、乾燥部材、及び各部材間にウエハーを搬送する装置などを含む。研磨ユニットは主に研磨台、研磨ヘッド、研磨液供給システム、及び研磨パッド修正システムなどを含む。搬送モジュールは一連のロボットアーム又は移動プラットフォームを含み、研磨待ちのウエハーをＥＦＥＭから研磨ユニットに送り、研磨されたウエハーを研磨ユニットから洗浄ユニットに運ぶ。

【0003】

６インチのウエハーの切欠き（ｆｌａｔ）の幅は５７．５ｍｍに達し、ウエハーの垂直配置が不安定になりやすく、ウエハーが傾いたり、位置がずれたりして、後続の搬送に影響を与える。

【発明の概要】

【0004】

従来技術の課題を克服するために、本発明は、切欠きによる影響を受けず、ウエハーの安定支持を実現できる起立式ウエハーカセットを提供する。

【0005】

本発明がその技術的課題を解決するために採用する技術的解決手段は、起立式ウエハーカセットである。
少なくとも１つのベースユニットを含む。
前記ベースユニットは、第一ウエハーベースと第二ウエハーベースを含む。
前記第一ウエハーベースの頂部には第一アーチ形凹面が設けられ、第二ウエハーベースに向く側には、第一作用面が形成され、前記第一作用面は第一アーチ形凹面が位置する領域に対応しており、かつ第一作用面の形状はＹ字形を垂直に半分に分けた後の左側構造である。
前記第二ウエハーベースの頂部には第二アーチ形凹面が設けられ、第一ウエハーベースに向く側には、第二作用面が形成され、前記第二作用面は第二アーチ形凹面が位置する領域に対応しており、かつ第二作用面の形状はＹ字形を垂直に半分に分けた後の右側構造である。
前記第一作用面と前記第二作用面は連係してウエハーを支持して垂直に立つ。

【0006】

本発明は第一ウエハーベースの頂部に第一アーチ形凹面が設けられ、第二ウエハーベースの頂部に第二アーチ形凹面が設けられる。二つのアーチ形凹面は連続的な面、又は断続的な面であり、対応する第一作用面と第二作用面との連係はウエハーに対して安定した支持作用を形成することができ、ウエハーの固定位置の精度が高く、ずれがなく、ウエハーの後続の搬送に利便性がある。ウエハーに大きな切欠き部があってもがたつきが発生せず、切欠き部の位置を正確に位置決めしたり制御したりする必要がない。ウエハーが垂直に立ち、水平に格納することによる大きな空間問題を回避し、ベースユニットの占有面積を低減し、空間利用率が高く、かつ垂直に格納するのは、後続の洗浄モジュールがいずれも垂直にウエハーを載置する洗浄筐体にとって、ロボットアームの取出しはさらに便利である。

【0007】

さらに、前記第一作用面はウエハーと線接触を形成し、前記第二作用面はウエハーと線接触を形成し、ウエハーが垂直に立つように支持する。

【0008】

或いは、前記第一作用面はウエハーと線接触を形成し、前記第二作用面はウエハーと面接触を形成し、ウエハーが垂直に立つように支持する。

【0009】

或いは、前記第一作用面はウエハーと面接触を形成し、前記第二作用面はウエハーと面接触を形成し、ウエハーが垂直に立つように支持する。

【0010】

第一作用面と第二作用面はそれぞれウエハーと線接触を形成し、接触面積が少なく、ウエハーの性能に対する影響が最も小さい。第一作用面はウエハーと線接触を形成し、第二作用面はウエハーの裏面と面接触を形成し、ウエハー表面の性能は影響を受けない。第一作用面と第二作用面はそれぞれウエハーのエッジと面接触を形成し、ウエハーの支持構造に対してより安定している。

【0011】

さらに、前記第一作用面は第一傾斜面と第一垂直面とを含み、前記第二作用面は第二傾斜面と第二垂直面とを含む。前記第一垂直面と前記第二垂直面は正対接触し、前記第一傾斜面と前記第二傾斜面はそれぞれウエハーと線接触する。第一傾斜面と第二傾斜面はＶ字形を呈し、ウエハーの埋め込みに便利であり、かつ２つの傾斜面はいずれもウエハーと線接触を形成し、接触面積が小さい。

【0012】

さらに、前記第一作用面は第一傾斜面と第一垂直面とを含み、前記第二作用面は第二傾斜面と第二垂直面とを含む。前記第一垂直面と前記第二垂直面は上下にずれて接触し、前記第一傾斜面はウエハーと線接触し、前記第二垂直面と第一垂直面がずれている部分はウエハーと面接触し、或いは、前記第二傾斜面はウエハーと線接触し、前記第一垂直面と前記第二垂直面がずれている部分はウエハーと面接触する。ウエハーの支持がしっかりしており、切欠き部が下向きであってもウエハーがずれることはない。

【0013】

さらに、前記第一作用面は第一傾斜面と第一垂直面とを含み、前記第二作用面は第二傾斜面と第二垂直面とを含む。前記第一垂直面と前記第二垂直面はそれぞれウエハーの両側面の外縁と面接触する。

【0014】

さらに、前記第一垂直面又は前記第二垂直面の底部はそれと直交する支持面を形成し、前記第二垂直面又は第一垂直面の底部は支持面上に載った段差面を形成し、第一垂直面と第二垂直面の間の間隔を調整するために支持面に沿って並進可能であり、その間隔は０．５ｍｍ-２ｍｍである。第一垂直面と第二垂直面の間の間隔は調整することができ、異なる型番のウエハーに容易に適応することができ、使用の柔軟性が高い。ウエハーの加工過程において、厚みに公差があり、間隔は調整することができ、上述の加工誤差の存在に適応することができる。

【0015】

さらに、前記ウエハーの第一垂直面及び／又は第二垂直面との面接触幅がｈであり、ウエハーの半径がＲである場合、ｈ：Ｒは０．０１-１である。前記数値設定はウエハー表面に傷をつけないだけでなく、空間を節約し、ウエハーの配置をより安定させ、破損の可能性を低下させる。

【0016】

さらに、前記第一アーチ形凹面及び／又は第二アーチ形凹面の円心角は３０～１８０°である。ウエハーをカセットに入れた後、一部のアーク線全体が位置決めされ、ウエハーに安定した支持作用を形成することを保証し、より安定させ、６インチウエハー、８インチウエハー及び１２インチウエハーに適応することができる。

【0017】

さらに、複数のベースユニットを含み、隣接するベースユニットの第二ウエハーベースと第一ウエハーベースが一体に設けられる。複数のベースユニットは任意に組み合わせることができ、構造がよりコンパクトで、それにより多くのウエハーを配置し、適用性が高く、応用範囲が広い。

【0018】

さらに、前記第一ウエハーベースと前記第二ウエハーベースを一体構造とする。

【0019】

さらに、前記第一アーチ形凹面及び／又は前記第二アーチ形凹面は、連続又は断続的に設けられ、その第一作用面及び／又は第二作用面の構造は同一又は異なる。

【0020】

本発明の有益な効果は以下のとおりである。１、ウエハーを垂直に格納することによって、垂直方向の空間を合理的に利用し、水平格納による空間の大きな問題を回避し、且つ垂直に格納することは、後続の洗浄モジュールがいずれも垂直にウエハーを格納する洗浄筐体にとって、ロボットアームの出し入れがより便利になる。２、第一アーチ形凹面と第二アーチ形凹面、第一作用面と第二作用面の設計は、ウエハーをカセットに入れた後、一部のアーチ線全体が位置決めされ、安定性がより高い。３、ウエハーとカセットは線形支持又は面支持を実現し、切欠き付きウエハーはたとえ切欠き部がカセットと接触しても、よく固定され、ウエハーは切欠き部が上を向く必要がなく、即ち切欠き部の位置を正確に位置決め及び制御する必要がない。４、ウエハーを２枚式で支持し、複数枚を合併してウエハーを支持することもでき、増加する空間が少なく、複数枚の場合、単片の２辺はそれぞれ作用面を持つように設計され、構造が更にコンパクトになる。５、ウエハーを安定的に保管し、一部のウエハー円弧が第一作用面と第二作用面に接触しても変位しない。６、ウエハーの性能が影響を受けない。

【図面の簡単な説明】

【0021】

【図1】本発明の実施形態１に係るベースユニットの正面図である。

【図2】本発明の実施形態１に係るベースユニットの斜視図である。

【図3】本発明の実施形態１に係る複数のベースユニットの側面図である。

【図4】図３のＡ-Ａ半断面図である。

【図5】図４のＢの構造拡大図である。

【図6】本発明の実施形態１に係る複数のベースユニットの斜視図である。

【図7】本発明の実施形態２に係るベースユニットの斜視図である。

【図8】本発明の実施形態２に係るベースユニットの側面図である。

【図9】図８のＣ-Ｃ断面図である。

【図10】図９のＤの構造拡大図である。

【図11】本発明の実施形態３の正面図である。

【図12】本発明の実施形態３の斜視図である。

【図13】本発明の実施形態３の側面断面図である。

【図14】図１３のＥの構造拡大図である。

【発明を実施するための形態】

【0022】

本発明の態様を当業者によりよく理解してもらうために、以下、本発明の実施形態における図面と関連して、本発明の実施形態における技術的態様を明確かつ完全に記載する。記載した実施形態は、本発明の実施形態の全てではなく、単に一部であることは明らかである。本発明の実施形態に基づいて、当業者が創造的労働をせずに得た他の全ての実施形態は、本発明の保護の範囲に属する。

【0023】

実施形態１
図１～図５に示すように、起立式ウエハーカセットであって、第一ウエハーベース１及び第二ウエハーベース２を含む少なくとも一つのベースユニット１０を備える。

【0024】

第一ウエハーベース１の頂部には第一アーチ形凹面１１が設けられ、第一ウエハーベース１の第二ウエハーベース２に向く側には、第一アーチ形凹面１１が位置する領域に対応して第一作用面１２が形成されている。第一作用面１２の形状は、Ｙ字形を垂直に半分にした左側構造である。第一アーチ形凹面１１の円心角は９０～１８０°である。

【0025】

第二ウエハーベース２の頂部には第二アーチ形凹面２１が設けられ、第二ウエハーベース２の第一ウエハーベース１に向く側には、第二アーチ形凹面２１が位置する領域に対応して第二作用面２２が形成されている。第二作用面２２の形状は、Ｙ字形を垂直に半分にした右側構造である。第二アーチ形凹面２１の円心角は３０～１８０°であり、好ましくは９０～１８０°である。

【0026】

前記第一作用面１２及び第二作用面２２は連係して、ウエハー３を支持して鉛直に起立することができる。

【0027】

本実施形態において、ウエハー３の外縁には切欠き部３１があり、この切欠き部３１はウエハー３のエッジを水平に切削して形成され、即ち平面を有し、その切欠き部３１の平面幅は５５ｍｍ～６０ｍｍに達している。

【0028】

本実施形態において、第一ウエハーベース１と第二ウエハーベース２の断面が、いずれも上が大きく下が小さい台形構造であるが、他の実施形態では方形等の他の構造であってもよいことは言うまでもない。

【0029】

図４に示すように、第一作用面１２はウエハー３に線接触し、第二作用面２２はウエハー３に面接触し、ウエハー３が垂直に立つように支持する。

【0030】

より具体的には、図５に示すように、第一作用面１２は、第一傾斜面１２１及び第一垂直面１２２を有し、第二作用面２２は、第二傾斜面２２１及び第二垂直面２２２を有する。第一垂直面１２２と第二垂直面２２２は上下にずれて接触し、即ち第一垂直面１２２と第二垂直面２２２の頂端の位置が一致していない。この時、第一傾斜面１２１はウエハー３と線接触し、適確に言えばウエハー３の正面と側面との間の稜線に接触する。第二垂直面２２２と第一垂直面１２２とのずれた部分はウエハー３と面接触し、即ち第二垂直面２２２の一部は第一垂直面１２２と正対に貼り合わされ、また一部は第一垂直面１２２より高くなっている。該部分はウエハー３の裏面辺縁と貼り合わされて面接触を実現する部分、即ち図５中のＬで表示される部分である。この場合、ウエハー３の正面はベースユニット１０に全く接触せず、その性能が最大限に保証される。

【0031】

前記第一垂直面１２２及び第二垂直面２２２は、垂直平面であってもよいし、垂直な波面等であってもよく、必ずしも平面である必要はなく、ウエハー３に接触可能に支持されていればよい。

【0032】

ウエハー３の裏面が第二垂直面２２２に貼り合わされて面接触する部分の幅をｈとし、ウエハー３の半径をＲと定義すると、ｈ：Ｒは０．０１-１であり、好ましくは０．０１-０．０６である。また、ｈ：Ｌは、０より大きく、１以下である。前記の数値設定はウエハー表面を傷つけないだけでなく、空間を節約し、ウエハーの配置をより安定させ、破損の可能性を減少させる。

【0033】

図６に示すように、ベースユニット１０の数を複数とし、隣接するベースユニット１０の第二ウエハーベース２及び第一ウエハーベース１を一体に設け、換言すれば、第一作用面１２及び第二作用面２２をそれぞれ第一ウエハーベース１及び第二ウエハーベース２の両側に設けてもよい。

【0034】

前記構成において、第一ウエハーベース１と第二ウエハーベース２は別体であるが、もちろん他の実施形態において、第一ウエハーベース１と第二ウエハーベース２は、ベースユニット１０の頂面に直接、第一アーチ形凹面１１、第二アーチ形凹面２１、第二作用面２２、及び第一傾斜面１２１を形成するように一体であってもよい。

【0035】

本実施形態において、第一アーチ形凹面１１と第二アーチ形凹面２１とは連続した面であるが、もちろん他の実施形態において、断続的な面であってもよく、この場合には、複数の第一アーチ形凹面１１と複数の第二アーチ形凹面２１とがあり、即ち、複数の第一作用面１２と複数の第二作用面２２とがある。

【0036】

実施形態２
本実施形態は、図７～図１０に示すように、第一作用面１２がウエハー３と線接触し、第二作用面２２がウエハー３と線接触することにより、ウエハー３を起立状態で支持する点で、実施形態１と異なる。

【0037】

より具体的には、図１０に示すように、第一作用面１２は、第一傾斜面１２１及び第一垂直面１２２と備え、第二作用面２２は、第二傾斜面２２１及び第二垂直面２２２とを備える。第一垂直面１２２及び第二垂直面２２２は、完全に正対して接触している。即ち、第一垂直面１２２及び第二垂直面２２２の頂端は、位置合わせされ、第一作用面１２及び第二作用面２２は、Ｙ字形に合わせられている。このとき、第一傾斜面１２１は、ウエハー３に線接触し、正確にはウエハー３の正面と側面との間の稜線に接触しており、第二傾斜面２２１は、ウエハー３に線接触し、正確にはウエハー３の裏面と側面との間の稜線に接触している。この場合、ウエハー３の正面と裏面がいずれもベースユニット１０と接触することはなく、その性能は最大限に保証される。

【0038】

第一傾斜面１２１及び第二傾斜面２２１は、開口が上方に向いたＶ字形状を有しており、ウエハー３の載置を容易にするための拡口形状となっている。第一傾斜面１２１及び第二傾斜面２２１の傾斜角度はそれぞれ３０°程度とすることができる。

【0039】

実施形態３
本実施形態は、図１１～図１４に示すように、第一作用面１２がウエハー３に面接触し、第二作用面２２がウエハー３に面接触して、ウエハー３を起立状態で支持する点で実施形態１と異なる。

【0040】

より具体的には、図１４に示すように、第一作用面１２は、第一傾斜面１２１と第一垂直面１２２とを備え、第二作用面２２は、第二傾斜面２２１と第二垂直面２２２とを備える。第一垂直面１２２及び第二垂直面２２２は、対向しているが接触しておらず、この場合の対向は、完全に正対していてもよいし、ずれて正対していてもよい。換言すれば、第一作用面１２と第二作用面２２とは、間隔を有するＹ字状に構成されている。

【0041】

第一垂直面１２２及び第二垂直面２２２は、ウエハー３の正面及び裏面の外縁にそれぞれ接触する。ウエハー３を第一垂直面１２２、第二垂直面２２２に貼り合わせて面接触させた部分の幅をｈ、ウエハー３の半径をＲと定義すると、ｈ：Ｒは０．０１-１であり、図１４のｈ＜３ｍｍである。

【0042】

第一垂直面１２２と第二垂直面２２２との間の間隔を調整して、異なる厚さのウエハーに適応し、又は間隔を調整してウエハーの加工誤差の存在に適応することができる。第一垂直面１２２又は第二垂直面２２２の底部には、それと直交する支持面２２３が形成されており、本実施形態においては、第二垂直面２２２の底部に支持面２２３が形成されている例について説明する。該支持面２２３は第一垂直面１２２の所在する方向に延びており、第二垂直面２２２の底部に段差面１２３が形成されており、段差面１２３は支持面２２３上に架設することができ、かつ支持面２２３に沿って平行移動して第一垂直面１２２と第二垂直面２２２との間の間隔を調整することができ、即ち図１４における間隔Ｓは調整可能であり、かつＳ＝０．５-２ｍｍ、好ましくはＳ＝０．６-１．６ｍｍである。

【0043】

第一ウエハーベース１にねじ孔１３を開設し、間隔の調整を完成した後、ねじ孔１３内に押しねじを入れ、第二ウエハーベース２をしっかり支え、第一ウエハーベース１と第二ウエハーベース２の間隔を固定させる。

【0044】

実施形態４
前記実施形態１～実施形態３では、一つのウエハーカセットの第一作用面１２と第二作用面２２の構造は全て同じであり、本実施形態と前記実施形態との違いは、前記三種類の構造を組み合わせることができ、即ち、第一アーチ形凹面１１と第二アーチ形凹面２１の数は複数であり、この時、上記三種類の構造を全て同一のウエハーカセットに応用でき、隣接する第一アーチ形凹面１１と隣接する第二アーチ形凹面２１は異なる構造の第一作用面１２と第二作用面２２を設けることができる。もちろん、第一アーチ形凹面１１及び第二アーチ形凹面２１の弧度は、同じであってもよく、異なっていてもよい。

【0045】

前記実施形態は、本発明を限定するものではなく説明するためのものであり、それに対してなされたあらゆる修正及び変更は、本発明の技術思想及び特許請求の範囲の技術的範囲内に属するものである。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【国際調査報告】