知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
▶ バーサム マテリアルズ ユーエス，リミティド ライアビリティ カンパニーの特許一覧
特表2024-545240基板からフォトレジスト及びエッチング残渣を除去するための銅腐食防止剤を含む組成物並びにその使用
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-12-05
(54)【発明の名称】基板からフォトレジスト及びエッチング残渣を除去するための銅腐食防止剤を含む組成物並びにその使用
(51)【国際特許分類】
H01L 21/304 20060101AFI20241128BHJP
C11D 7/32 20060101ALI20241128BHJP
C11D 7/50 20060101ALI20241128BHJP
C11D 17/08 20060101ALI20241128BHJP
【ＦＩ】
H01L21/304 647A
C11D7/32
C11D7/50
C11D17/08
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2024535841
(86)(22)【出願日】2022-11-30
(85)【翻訳文提出日】2024-06-19
(86)【国際出願番号】 US2022080658
(87)【国際公開番号】W WO2023114638
(87)【国際公開日】2023-06-22
(31)【優先権主張番号】63/265,439
(32)【優先日】2021-12-15
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】517114182
【氏名又は名称】バーサム マテリアルズ ユーエス，リミティド ライアビリティ カンパニー
(74)【代理人】
【識別番号】100099759
【弁理士】
【氏名又は名称】青木 篤
(74)【代理人】
【識別番号】100123582
【弁理士】
【氏名又は名称】三橋 真二
(74)【代理人】
【識別番号】100146466
【弁理士】
【氏名又は名称】高橋 正俊
(74)【代理人】
【識別番号】100202418
【弁理士】
【氏名又は名称】河原 肇
(74)【代理人】
【識別番号】100210697
【弁理士】
【氏名又は名称】日浅 里美
(72)【発明者】
【氏名】ユアンメイ ツァオ
(72)【発明者】
【氏名】リーリー ワン
(72)【発明者】
【氏名】ライション ソン
(72)【発明者】
【氏名】アイピン ウー
【テーマコード（参考）】
4H003
5F157
【Ｆターム（参考）】
4H003BA12
4H003DA12
4H003DA15
4H003EA21
4H003EB04
4H003EB06
4H003EB13
4H003EB14
4H003EB19
4H003EB20
4H003ED02
4H003ED28
4H003ED29
5F157AA63
5F157AA64
5F157BD09
5F157BE12
5F157BE32
5F157BF22
5F157BF23
5F157BF32
5F157BF38
5F157BF39
5F157BF46
5F157BF58
5F157BF59
5F157BF60
5F157BF72
5F157DB03
(57)【要約】
【課題】フォトレジスト及びエッチング残渣を除去するための剥離剤溶液を提供する。
【解決手段】開示され特許請求される組成物は、フォトレジスト及びエッチング残渣を除去するための、トリアジン（例：ベンゾグアナミン）腐食防止剤を含む剥離剤溶液に関する。
【解決手段】開示され特許請求される組成物は、フォトレジスト及びエッチング残渣を除去するための、トリアジン（例：ベンゾグアナミン）腐食防止剤を含む剥離剤溶液に関する。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
（ｉ）アミン、第４級アンモニウムヒドロキシド、無機塩基、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む１又は複数の塩基成分、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒、及び
（ｉｉｉ）式２の１又は複数のグアナミン化合物であって、
【化1】
【化2】
１又は複数のグアナミン化合物、
を含む、フォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項2】
（ｉ）アミン、第４級アンモニウムヒドロキシド、無機塩基、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む１又は複数の塩基成分、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒、及び
（ｉｉｉ）式２の１又は複数のグアナミン化合物であって、
【化3】
【化4】
１又は複数のグアナミン化合物、
から本質的に成る、フォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項3】
（ｉ）アミン、第４級アンモニウムヒドロキシド、無機塩基、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む１又は複数の塩基成分、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒、及び
（ｉｉｉ）式２の１又は複数のグアナミン化合物であって、
【化5】
【化6】
１又は複数のグアナミン化合物、
から成る、フォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項4】
Ｒ１が、水素、－ＯＨ基、フェニル基、置換フェニル基、アミン、カルボキシル基、Ｃ１～Ｃ６直鎖状アルキル基、及びＣ３～Ｃ６分岐鎖状アルキル基から選択される、請求項１～３の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項5】
Ｒ１が、水素である、請求項１～３の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項6】
Ｒ１が、－ＯＨ基である、請求項１～３の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項7】
Ｒ１が、フェニル基である、請求項１～３の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項8】
Ｒ１が、置換フェニル基である、請求項１～３の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項9】
Ｒ１が、カルボキシル基である、請求項１～３の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項10】
Ｒ１が、アミンである、請求項１～３の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項11】
Ｒ１が、Ｃ１～Ｃ６直鎖状アルキル基である、請求項１～３の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項12】
Ｒ１が、Ｃ３～Ｃ６分岐鎖状アルキル基である、請求項１～３の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項13】
前記（ｉ）１又は複数の塩基成分が、ＤＭＤＰＡＨ、ＴＥＡＨ、ＫＯＨ、ＴＭＡＨ、ＥＴＭＡＨ、コリンヒドロキシド、及びモノエタノールアミンのうちの１又は複数を含む、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項14】
前記（ｉ）１又は複数の塩基成分が、ＤＭＤＰＡＨを含む、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項15】
前記（ｉ）１又は複数の塩基成分が、ＴＥＡＨを含む、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項16】
前記（ｉ）１又は複数の塩基成分が、ＫＯＨを含む、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項17】
前記（ｉ）１又は複数の塩基成分が、ＴＭＡＨを含む、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項18】
前記（ｉ）１又は複数の塩基成分が、ＥＴＭＡＨを含む、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項19】
前記（ｉ）１又は複数の塩基成分が、コリンヒドロキシドを含む、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項20】
前記（ｉ）１又は複数の塩基成分が、モノエタノールアミンを含む、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項21】
前記（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒が、ＤＭＳＯ、プロピレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、及び３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノールのうちの１又は複数を含む、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項22】
（ｉｖ）１又は複数の第２の溶媒として水をさらに含む、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項23】
（ｉｖ）１又は複数の第２の溶媒として水をさらに含み、及び前記（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒の量（重量％）が、前記（ｉｖ）１又は複数の第２の溶媒の量（重量％）よりも多い、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項24】
（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、レゾルシノール、ＢＺＴ、ソルビトール、８－ＨＱ、及び硝酸銅（ＩＩ）のうちの１又は複数をさらに含む、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項25】
（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤としてレゾルシノールをさらに含む、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項26】
（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤としてＢＺＴをさらに含む、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項27】
（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤としてソルビトールをさらに含む、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項28】
（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として８－ＨＱをさらに含む、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項29】
（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として硝酸銅（ＩＩ）をさらに含む、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項30】
（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、レゾルシノール、ＢＺＴ、ソルビトール、８－ＨＱ、及び硝酸銅（ＩＩ）のうちの２つ又はそれより多くをさらに含む、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項31】
（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、ＢＺＴと、レゾルシノール、ソルビトール、８－ＨＱ、及び硝酸銅（ＩＩ）のうちの１又は複数とをさらに含む、請求項１～１２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項32】
（ｉ）約１０重量％～約１５重量％のＴＥＡＨ、（ｉｉ）約６２．５重量％の、ＤＭＳＯ、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、及び３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノールのうちの１又は複数、
（ｉｉｉ）約０．２５重量％～約０．７５重量％のベンゾグアナミン、並びに
（ｉｖ）約２４重量％の水、
を含む、請求項１～３の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項33】
約１３重量％のＴＥＡＨを含む、請求項３２に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項34】
約０．５重量％のベンゾグアナミンを含む、請求項３２に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項35】
約６２．５重量％のＤＭＳＯを含む、請求項３２に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項36】
約６２．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、請求項３２に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項37】
約６２．５重量％のジエチレングリコールモノブチルエーテルを含む、請求項３２に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項38】
約６２．５重量％のトリエチレングリコールモノメチルエーテルを含む、請求項３２に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項39】
約６２．５重量％の３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノールを含む、請求項３２に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項40】
（ｉ）約１０重量％～約１５重量％のＴＥＡＨ、（ｉｉ）約４６．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテル、及び
（ｉｉｉ）約０．２５重量％～約０．７５重量％のベンゾグアナミン、
（ｉｖ）約４０重量％の水、
を含む、請求項１～３の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項41】
約１３重量％のＴＥＡＨを含む、請求項４０に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項42】
約０．５重量％のベンゾグアナミンを含む、請求項４０に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項43】
（ｉ）約１．７５重量％～約２．０重量％のＫＯＨ、（ｉｉ）約５５重量％～約９７．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテル、
（ｉｉｉ）約０．２５重量％～約０．７５重量％のベンゾグアナミン、及び
（ｉｖ）残量の水、
を含む、請求項１～３の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項44】
約９７．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、請求項４３に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項45】
約８２．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、請求項４３に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項46】
約７２．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、請求項４３に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項47】
約５７．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、請求項４３に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項48】
約１．８重量％のＫＯＨを含む、請求項４３に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項49】
約０．５重量％のベンゾグアナミンを含む、請求項４３記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項50】
（ｉ）約２．５重量％～約３．０重量％のＤＭＤＰＡＨ、（ｉｉ）約１０．５重量％のプロピレングリコール、及び約４５重量％～約８６．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテル、
（ｉｉｉ）約０．２５重量％～約０．７５重量％のベンゾグアナミン、並びに
（ｉｖ）残量の水、
を含む、請求項１～３の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項51】
約８６．４重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、請求項５０に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項52】
約７１．４重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、請求項５０に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項53】
約６１．９重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、請求項５０に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項54】
約６１．４重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、請求項５０に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項55】
約４６．４重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、請求項５０に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項56】
約２．６重量％のＤＭＤＰＡＨを含む、請求項５０に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項57】
約０．５重量％のベンゾグアナミンを含む、請求項５０に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項58】
実質的に水を含まない、請求項５０に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項59】
水を含まない、請求項５０に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項60】
約１５重量％の水を含む、請求項５０に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項61】
約２５重量％の水を含む、請求項５０に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項62】
約４０重量％の水を含む、請求項５０に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項63】
（ｉ）約２．６重量％のＤＭＤＰＡＨ、及び約６重量％のモノエタノールアミン、（ｉｉ）約８０重量％のＤＭＳＯ、及び約１０．５重量％のプロピレングリコール、並びに
（ｉｉｉ）約０．７５重量％～約１．０重量％のベンゾグアナミン、
を含む、請求項１～３の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項64】
約０．８重量％のベンゾグアナミンを含む、請求項６３に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項65】
約１重量％のベンゾグアナミンを含む、請求項６３に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項66】
レゾルシノール、８－ＨＱ、硝酸銅、ヒスチジン、及びソルビトールのうちの１又は複数をさらに含む、請求項６３に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項67】
約０．１重量％のレゾルシノールをさらに含む、請求項６３に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項68】
約０．８重量％のレゾルシノールをさらに含む、請求項６３に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項69】
約０．５重量％の８－ＨＱをさらに含む、請求項６３に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項70】
約０．３重量％のヒスチジンをさらに含む、請求項６３に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項71】
約１重量％のソルビトールをさらに含む、請求項６３に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項72】
硝酸銅をさらに含む、請求項６３に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液。
【請求項73】
基板からフォトレジスト又はエッチング残渣を除去する方法であって、（ｉ）前記基板を、請求項１～７２の何れか一項に記載のフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液の１又は複数に、所望される量の前記フォトレジスト又はエッチング残渣を除去するのに充分な時間にわたって接触させる工程、
（ｉｉ）前記溶液から前記基板を取り出す工程、
（ｉｉｉ）前記基板から前記溶液をＤＩ水又は溶媒ですすぎ落とす工程、及び
（ｉｖ）所望に応じて、前記基板を乾燥させる工程、
を含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
分野
【0002】
開示され特許請求される主題は、基板からフォトレジスト及びエッチング残渣を除去するための組成物、並びにそのような組成物を用いる方法に関する。開示され特許請求される組成物は、フォトレジスト及びエッチング残渣を除去するための、トリアジン腐食防止剤を含む剥離剤溶液である。
【背景技術】
【0003】
関連技術
【0004】
半導体ウェハ製造において、ウェハレベルパッケージング（ＷＬＰ）とは、ダイシング前の基板に保護層及び電気接続を加えることを含む、ウェハレベルで集積回路をパッケージするために用いられる技術である。通常、相互接続は、フォトリソグラフィ及び金属堆積を含む様々なプロセスから製造される金属バンプである。フォトリソグラフィプロセスで深い穴を持つ構造が製造され、その後、はんだバンプ金属がこれらの穴に充填される。その後、フォトレジストマスク層を除去することによってバンプが形成される。
【0005】
フォトレジスト層は、通常、フォトレジスト剥離剤を用いたウェットプロセスで除去される。効果的なフォトレジスト剥離剤の要件は、フォトレジストの除去効率だけでなく、金属バンプ及び銅基板などの曝露される基板に対する良好な適合性も要件である。ウェハレベルパッケージングで使用されるフォトレジスト及びエッチング残渣を除去するためのフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤は、典型的には、溶媒、塩基、腐食防止剤、所望に応じて含まれる共溶媒、及び他の添加剤の異なる組み合わせから構成される。従来の除去剤は、溶媒としてＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）又はＮＭＰ（Ｎ－メチル－２－ピロリドン）、並びに塩基として第４級アンモニウムヒドロキシド又は無機塩基又はこれらの組み合わせを有する。塩基は、フォトレジスト及びエッチング残渣の除去に不可欠な成分である。しかし、フォトレジスト層を除去するプロセスの過程で、フォトレジスト剥離剤に曝露された銅基板は、望ましくないエッチングを受ける傾向がある。そのため、フォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤は、洗浄プロセス中に銅を浸食しないことが非常に重要であり、これは、効果的で強固な銅腐食防止剤を導入することで実現することができる。
【0006】
腐食防止剤は、曝露された銅基板のエッチングを抑制するために使用される。フォトレジスト剥離剤において良好な銅腐食防止剤を見出すために、多くの労力が払われてきた。ベンゾトリアゾールなどの公知の銅腐食防止剤は、水溶液中で有効である。しかし、それは、強塩基を含む有機溶媒リッチな剥離剤ではうまく作用しない。銅塩などの金属塩は、効果的な腐食防止剤として使用されるが、これらの塩は、フォトレジスト剥離剤における溶解度及び安定性という課題を有する。糖アルコールも銅腐食防止剤として使用されるが、このような有機溶媒リッチな剥離剤でのその効率は、銅保護の要件を満たさない可能性がある。
【0007】
トリアジン及びその誘導体は、銅腐食防止剤として選択的に使用されてきたに過ぎない。例えば、特開２００３－２１３４６３（Ａ）号公報は、金属配線を有する半導体デバイスを洗浄するためのアルカリ性又は酸性の水性洗浄液中において、銅又は銅合金の腐食防止剤としてトリアジン誘導体を使用することを開示した。特開２００３－２１３４６３（Ａ）号公報では、アルカリ性溶液は、アンモニア水溶液及び／又はテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液である。
【0008】
したがって、高いフォトレジスト除去効率を伴って銅基板を効果的に保護するための、銅腐食防止剤を含むフォトレジスト剥離剤を開発することが必要とされている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0009】
この発明の概要のセクションは、開示され特許請求される主題のすべての実施形態及び／又は増分的に（incrementally）新規な態様を特定するものではない。そうではなく、この発明の概要は、異なる実施形態、並びに従来技術及び公知技術に対する新規性の対応点についての予備的な考察を単に提供するだけである。開示され特許請求される主題及び実施形態の追加的な詳細並びに／又は考え得る観点については、読者は、以下でさらに考察される本開示の発明を実施するための形態のセクション及び対応する図面を参照されたい。
【0010】
開示され特許請求される主題は、（ｉ）ポジ型又はネガ型のフォトレジスト、（ｉｉ）エッチングプロセス後のフォトレジストエッチング残渣、及び／又は（ｉｉｉ）エッチング残渣を、基板から除去又は剥離するためのフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液（まとめて「除去剤溶液」）に関する。開示され特許請求される除去剤組成物は、適用時のスピン速度が速い場合であっても、銅との適合性に特に優れている。
【課題を解決するための手段】
【0011】
開示される主題は、
（ｉ）アミン、第４級アンモニウムヒドロキシド、無機塩基、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒、及び
（ｉｉｉ）式（Ｉ）の１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤であって、
式中、各Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、各々独立して、水素原子、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、カルボキシル基、フェニル基、置換フェニル基、アルコキシ基、又はアルキル基から選択される、
１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る除去剤溶液に関する。この実施形態の１つの態様では、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうちの２つは、－ＮＨ２である。
（ｉ）アミン、第４級アンモニウムヒドロキシド、無機塩基、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒、及び
（ｉｉｉ）式（Ｉ）の１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤であって、
【化1】
１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る除去剤溶液に関する。この実施形態の１つの態様では、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうちの２つは、－ＮＨ２である。
【0012】
さらなる態様において、溶液は、さらに、所望に応じて（ｉｖ）１又は複数の第２の溶媒を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。さらなる態様において、溶液は、さらに、所望に応じて（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。さらなる態様において、溶液は、さらに、所望に応じて（ｉｖ）１又は複数の第２の溶媒、及び（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。これらの実施形態の１つの態様では、トリアジン腐食防止剤は、グアナミン化合物である。これらの実施形態の１つの態様では、トリアジン腐食防止剤は、ベンゾグアナミンある。これらの実施形態の１つの態様では、（ｉｖ）１又は複数の第２の溶媒は、水を含む、本質的に水から成る、又は水から成る。
【0013】
開示され特許請求される主題は、さらに、開示され特許請求される化学配合物の使用及び合成にも関する。中でも、フォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液は、単層又はある特定の種類の二層レジストで存在するポリマーレジスト材料を除去するために用いることができる。例えば、二層レジストは、典型的には、第２のポリマー層で覆われた第１の無機層を有するか、又は２つのポリマー層を有していてもよい。
【0014】
別の実施形態では、開示され特許請求される主題は、別の非トリアジン腐食防止剤（例：（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤）の抗腐食特性を増強するための、トリアジン誘導体腐食防止剤の使用方法に関する。この実施形態の１つの態様では、トリアジン腐食防止剤は、グアナミン化合物である。この実施形態の１つの態様では、トリアジン腐食防止剤は、ベンゾグアナミンある。
【0015】
開示され特許請求される主題の他の特徴及び利点は、開示され特許請求される主題の原理を示す例としての解決策と併せて考慮することで、以下のより詳細な記述から明らかとなるであろう。
【0016】
開示され特許請求される主題の実施形態は、以下の有益性のうちの１又は複数を提供する：良好な洗浄性、高い充填能力（loading capacity）、銅、ケイ素、酸化ケイ素、及びポリイミドなどの不動態化材料との優れた適合性を有するフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤。
【0017】
本明細書で述べる様々な工程の考察の順序は、明確にするために示したものである。一般に、本明細書に開示される工程は、適切ないかなる順序で行われてもよい。加えて、本明細書に開示される異なる特徴、技術、構成などの各々は、本開示の異なる場所で考察される場合もあるが、概念の各々は、適宜互いに独立して又は互いに組み合わせて実行され得ることを意図している。したがって、開示され特許請求される主題は、多くの異なる方法で具体化及び考慮され得る。
【0018】
定義
次に、特許請求される内容の理解を促進する目的で、示される実施形態を参照し、特定の言語を用いてそれを記載する。しかしながら、特許請求される内容の範囲の限定を、それによって意図するものではなく、そこに示されるような変更、さらなる改変、及び特許請求される原理のさらなる適用は、本開示が関連する技術分野の当業者であれば通常考え付くものとして企図されることは理解されるであろう。
次に、特許請求される内容の理解を促進する目的で、示される実施形態を参照し、特定の言語を用いてそれを記載する。しかしながら、特許請求される内容の範囲の限定を、それによって意図するものではなく、そこに示されるような変更、さらなる改変、及び特許請求される原理のさらなる適用は、本開示が関連する技術分野の当業者であれば通常考え付くものとして企図されることは理解されるであろう。
【0019】
本明細書に引用される刊行物、特許出願、及び特許を含むすべての参考文献は、各参考文献が参照により援用されると個別に及び具体的に示され、その全内容が本明細書に示されている場合と同程度に、参照により本明細書に援用される。
【0020】
開示され特許請求される主題を記載する文脈における（特に以下の特許請求の範囲の文脈における）「１つの（a）」及び「１つの（an）」及び「その（the）」の用語並びに類似の指示語（referents）の使用は、本明細書において特に断りのない限り又は文脈上明らかに矛盾することのない限り、単数及び複数の両方を包含するものと解釈されたい。「含む（comprising）」、「有する（having）」、「含む（including）」、及び「含む（containing）」の用語は、特に断りのない限り、非限定的用語（すなわち、「含むが、これらに限定されない」を意味する）として解釈されたい。本明細書における値の範囲の列挙は、本明細書において特に断りのない限り、その範囲内に含まれる各個別の値を別々に参照する簡潔な方法として用いられることを単に意図するものであり、各個別の値は、本明細書において別々に列挙されるかのごとく、本明細書に援用される。本明細書に記載のすべての方法は、本明細書において特に断りのない限り又は文脈上明らかに矛盾することのない限り、適切ないかなる順序で行われてもよい。本明細書において提供されるあらゆる例又は例示的言語（例：「など」）の使用は、開示され特許請求される主題をより良く示すことを単に意図するものであり、特に他の主張のない限り、その主題の範囲に限定を課すものではない。本明細書中のいかなる言語も、請求されていない何らかの要素を、開示され特許請求される主題の実践に不可欠であると示すものとして解釈されるべきではない。
【0021】
開示され特許請求される主題の好ましい実施形態が、開示され特許請求される主題を実施するための本発明者らに公知の最良の様式を含めて、本明細書に記載される。これらの好ましい実施形態の変型例は、上記の記述を読むことで当業者に明らかとなるであろう。本発明者らは、当業者が適宜そのような変型例を用いることを予想しており、本発明者らは、開示され特許請求される主題が、本明細書に具体的に記載された以外の方法で実践されることを意図している。したがって、この開示され特許請求される主題は、適用法令によって認められる、本明細書に添付の特許請求の範囲に列挙される主題のすべての改変及び均等物を含む。さらに、上述の要素のすべての考え得る変型例における何れの組み合わせも、本明細書において特に断りのない限り又は文脈上明らかに矛盾することのない限り、開示され特許請求される主題に包含される。
【0022】
参照を容易にするため、「マイクロエレクトロニクスデバイス」又は「半導体基板」は、マイクロエレクトロニクス、集積回路、又はコンピュータチップ用途に用いるために製造された、半導体ウェハ、フラットパネルディスプレイ、相変化メモリデバイス、太陽電池基板を含む太陽電池パネル及び他の製品、光起電装置、並びに微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）に相当する。「マイクロエレクトロニクスデバイス」の用語は、何ら限定することを意図するものではなく、最終的にマイクロエレクトロニクスデバイス又はマイクロエレクトロニクスアセンブリとなるいかなる基板も含むことは理解されたい。マイクロエレクトロニクスデバイス又は半導体基板は、ｌｏｗ－ｋ誘電体材料、バリア材料、及びＡｌ、Ｃｕ、Ｃｕ合金、ＳｎＡｇ合金、Ｗ、Ｔｉ、ＴｉＮなどの金属、ポリイミド又はポリベンゾオキサゾールなどの１又は複数の不動態層、さらにはＳｉ、ＳｉＯｘ、及びそれらの上の他の材料を含み得る。
【0023】
本明細書で定められる場合、「ｌｏｗ－ｋ誘電体材料」は、層状マイクロエレクトロニクスデバイスの誘電体材料として用いられるいかなる材料にも相当し、この材料は、約３．５未満の誘電率を有する。好ましくは、ｌｏｗ－ｋ誘電体材料としては、ケイ素含有有機ポリマー、ケイ素含有ハイブリッド有機／無機材料、オルガノシリケートガラス（ＯＳＧ）、ＴＥＯＳ、フッ素化シリケートガラス（ＦＳＧ）、酸化ケイ素、及び炭素ドープ酸化物（ＣＤＯ）ガラスなどの低極性材料が挙げられる。ｌｏｗ－ｋ誘電体材料が、様々な密度及び様々な多孔度を有し得ることは理解されたい。
【0024】
本明細書で定められる場合、「バリア材料」の用語は、銅の相互接続を例とする金属線を封止し、銅を例とする上記金属の誘電体材料中への拡散を最小限に抑えるために本技術分野で用いられるいかなる材料にも相当する。好ましいバリア層材料としては、タンタル、チタン、チタンタングステン、ルテニウム、ハフニウム、及び他の耐火金属、並びにこれらの窒化物及びケイ化物が挙げられる。
【0025】
「実質的に含まない」とは、本明細書において、およそ１重量％未満、より好ましくはおよそ０．５重量％未満、最も好ましくはおよそ０．２重量％未満と定義される。「実質的に含まない」には、およそ０．０重量％も含まれる。「含まない」の用語は、０．０重量％を意味する。
【0026】
いくつかの実施形態では、実質的に水を含まない組成物について述べる場合、水は不純物として成分と共に添加される場合があることを意味することを意図しているが、成分と共に添加される水の量は、およそ０．１重量％未満であるべきであり、しかし、水は、製造及び使用の過程で大気から吸収される場合もある。他の実施形態では、実質的に水を含まないとは、水がおよそ１重量％を超えて存在しない組成物を意味し得る。他の実施形態では、実質的に水を含まないとは、水がおよそ３重量％を超えて存在しない組成物を意味し得る。他の実施形態では、水は、原材料の一部として添加される可能性があり、水のレベルは、２重量％超であるが５％未満で存在し得る。
【0027】
いくつかの実施形態では、開示され特許請求される主題は、アミドキシム化合物を含まない。いくつかの実施形態では、開示され特許請求される主題は、金属含有化合物を含まない。
【0028】
「約」又は「およそ」の用語は、測定可能な数値変数に関連して用いられる場合、変数の示された値と、示された値の実験誤差内（例：平均値に対して９５％の信頼限界内）又は示された値のパーセント内（例：±１０％、±５％）の何れか大きい方の変数のすべての値とを意味する。
【0029】
組成物の特定の成分が、ゼロの下限を含む重量パーセント範囲を参照して考察されるようなすべての組成物において、このような成分は、組成物の様々な特定の実施形態において存在しても又は存在しなくてもよいこと、及びこのような成分が存在する場合は、それらは、このような成分が用いられる組成物の総重量に基づいて、０．００１重量パーセントという低い濃度で存在し得ることは理解される。成分の定められた重量パーセントはすべて、特に断りのない限り、組成物の総重量に基づいていることには留意されたい。さらに、特に断りのない限り、すべての重量パーセントは「無希釈（neat）」であり、組成物に添加される際に、それらが存在する水溶液を含まないことを意味する。「少なくとも１つの」のいかなる言及も、「１又は複数の」と置き換えることが可能である。「少なくとも１つの」及び／又は「１又は複数の」は、「少なくとも２つの」又は「２つ又はそれより多くの」及び「少なくとも３つの」及び「３つ又はそれより多くの」などを含む。
【0030】
本明細書において組成物（又は溶液）を重量％に関して言及する場合、不純物などの非必須成分を含む全成分の重量％が、いかなる場合でも合計で１００重量％を超えてはならないことは理解される。列挙された成分「から本質的に成る」組成物において、そのような成分は、合計で組成物の１００重量％であってよく、又は合計で１００重量％未満であってもよい。成分が合計で１００重量％未満となる場合、そのような組成物は、ある少量の非必須汚染物質又は不純物を含み得る。例えば、１つのそのような実施形態では、組成物は、２重量％以下の不純物を含み得る。別の実施形態では、組成物は、１重量％以下の不純物を含み得る。さらなる実施形態では、組成物は、０．０５重量％以下の不純物を含み得る。他のそのような実施形態では、原料成分は、少なくとも９０重量％、より好ましくは少なくとも９５重量％、より好ましくは少なくとも９９重量％、より好ましくは少なくとも９９．５重量％、最も好ましくは少なくとも９９．８重量％を形成してよく、ウェットエッチング液の性能に影響を与えない他の原料成分を含んでもよい。そうでなければ、著しい非必須不純物成分が存在しない場合、すべての必須構成成分の組成は、合計で本質的に１００重量％になるものと理解される。
【発明を実施するための形態】
【0031】
上述の一般的な記述及び以下の詳細な記述は、何れも例示的で説明的なものであり、特許請求される主題を限定するものではないことは理解されたい。開示される主題の目的、特徴、利点、及び概念は、本明細書に提供される記述内容から当業者に明らかであり、開示される主題は、本明細書に見られる記述内容に基づいて、当業者によって容易に実践可能であろう。開示される主題を実施するための好ましい様式を示す「好ましい実施形態」及び／又は例の記述は、説明の目的で含まれるものであり、特許請求の範囲を限定することを意図するものではない。
【0032】
また、本明細書に開示される主題の趣旨及び範囲から逸脱することなく、開示される主題が本明細書に記載の態様に基づいてどのように実践されるかについての様々な改変が成され得ることも当業者に明らかであろう。
【0033】
上記で記載されるように、開示される主題は、
（ｉ）アミン、第４級アンモニウムヒドロキシド、無機塩基、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒、及び
（ｉｉｉ）式１の１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤であって、
式中、各Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、各々独立して、水素原子、酸素含有基、ヒドロキシル基、メルカプト基、窒素含有基、アミン（すなわち、
）、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基で置換されたアミノ基（すなわち、
）、カルボキシル基、フェニル基、置換フェニル基、アルコキシ基、Ｃ１～Ｃ２０直鎖状アルキル基、Ｃ３～Ｃ２０分岐鎖状アルキル基、Ｃ３～Ｃ１０環状アルキル基、Ｃ５～Ｃ１２アリール基、Ｃ２～Ｃ１０直鎖状アルケニル基、Ｃ３～Ｃ１０分岐鎖状アルケニル基、Ｃ２～Ｃ１０直鎖状アルキニル基、Ｃ３～Ｃ１０分岐鎖状アルキニル基、ハライドで置換されたＣ１～Ｃ２０直鎖状アルキル基、及び
で置換されたＣ１～Ｃ２０アルキルから選択される、
１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る除去剤溶液に関する。これらの実施形態の１つの態様では、トリアジン腐食防止剤は、グアナミン化合物である（すなわち、式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうちの少なくとも２つが－ＮＨ２である）。これらの実施形態の１つの態様では、トリアジン腐食防止剤は、ベンゾグアナミンある。
（ｉ）アミン、第４級アンモニウムヒドロキシド、無機塩基、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒、及び
（ｉｉｉ）式１の１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤であって、
【化2】
【化3】
【化4】
【化5】
１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る除去剤溶液に関する。これらの実施形態の１つの態様では、トリアジン腐食防止剤は、グアナミン化合物である（すなわち、式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうちの少なくとも２つが－ＮＨ２である）。これらの実施形態の１つの態様では、トリアジン腐食防止剤は、ベンゾグアナミンある。
【0034】
さらなる態様において、溶液は、さらに、所望に応じて（ｉｖ）１又は複数の第２の溶媒を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。したがって、この実施形態の１つの態様では、溶液は、（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、及び（ｉｖ）を含む。この実施形態の１つの態様では、溶液は、（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、及び（ｉｖ）から本質的に成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、及び（ｉｖ）から成る。これらの実施形態の１つの態様では、トリアジン腐食防止剤は、グアナミン化合物である。これらの実施形態の１つの態様では、トリアジン腐食防止剤は、ベンゾグアナミンある。
【0035】
さらなる態様において、溶液は、さらに、所望に応じて（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。したがって、この実施形態の１つの態様では、溶液は、（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、及び（ｖ）を含む。この実施形態の１つの態様では、溶液は、（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、及び（ｖ）から本質的に成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、及び（ｖ）から成る。これらの実施形態の１つの態様では、トリアジン腐食防止剤は、グアナミン化合物である。これらの実施形態の１つの態様では、トリアジン腐食防止剤は、ベンゾグアナミンある。
【0036】
さらなる態様において、溶液は、さらに、所望に応じて（ｉｖ）１又は複数の第２の溶媒、及び（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。したがって、この実施形態の１つの態様では、溶液は、（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、（ｉｖ）、及び（ｖ）を含む。この実施形態の１つの態様では、溶液は、（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、（ｉｖ）、及び（ｖ）から本質的に成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、（ｉｖ）、及び（ｖ）から成る。これらの実施形態の１つの態様では、トリアジン腐食防止剤は、グアナミン化合物である。これらの実施形態の１つの態様では、トリアジン腐食防止剤は、ベンゾグアナミンある。
【0037】
別の実施形態では、開示され特許請求される主題は、基板からフォトレジスト及び関連するポリマー材料を除去するための、開示され特許請求されるフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液の使用方法に関する。この実施形態の１つの態様では、フォトレジストは、上にフォトレジストを有する基板から、所望される量のフォトレジスト又はエッチング残渣を除去するのに充分な時間にわたって基板をフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液の１又は複数と接触させること、基板を剥離溶液から取り出すこと、基板から剥離溶液をＤＩ水又は溶媒ですすぎ落とすこと、及び基板を乾燥させること、によって除去される。
【0038】
別の実施形態では、開示され特許請求される主題は、別の非トリアジン腐食防止剤（例：（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤）の抗腐食特性を増強するための、トリアジン誘導体腐食防止剤の使用方法に関する。これらの実施形態の１つの態様では、トリアジン腐食防止剤は、グアナミン化合物である。これらの実施形態の１つの態様では、トリアジン腐食防止剤は、ベンゾグアナミンある。
【0039】
（ｉ）塩基成分
【0040】
上述したように、開示され特許請求される主題の溶液は、アミン、第４級アンモニウムヒドロキシド、無機塩基、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む１又は複数の塩基成分を含む。
【0041】
Ａ．アミン
【0042】
上述したように、１又は複数の塩基成分は、１又は複数のアミンを含み得る。適切なアミンとしては、ベンジルアミン、アルカノールアミン、及びアルキルアミンが挙げられる。適切なアルカノールアミンとしては、限定されるものではないが、エタノールアミン、Ｎ－メチルエタノールアミン、Ｎ－エチルエタノールアミン、Ｎ－プロピルエタノールアミン、Ｎ－ブチルエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ－メチルジエタノールアミン、Ｎ－エチルジエタノールアミン、イソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、Ｎ－メチルイソプロパノールアミン、Ｎ－エチルイソプロパノールアミン、Ｎ－プロピルイソプロパノールアミン、２－アミノプロパン－１－オール、Ｎ－メチル－２－アミノプロパン－１－オール、Ｎ－エチル－２－アミノプロパン－１－オール、１－アミノプロパン－３－オール、Ｎ－メチル－１－アミノプロパン－３－オール、Ｎ－エチル－１－アミノプロパン－３－オール、１－アミノブタン－２－オール、Ｎ－メチル－１－アミノブタン－２－オール、Ｎ－エチル－１－アミノブタン－２－オール、２－アミノブタン－１－オール、Ｎ－メチル－２－アミノブタン－１－オール、Ｎ－エチル－２－アミノブタン－１－オール、３－アミノブタン－１－オール、Ｎ－メチル－３－アミノブタン－１－オール、Ｎ－エチル－３－アミノブタン－１－オール、１－アミノブタン－４－オール、Ｎ－メチル－１－アミノブタン－４－オール、Ｎ－エチル－１－アミノブタン－４－オール、１－アミノ－２－メチルプロパン－２－オール、２－アミノ－２－メチルプロパン－１－オール、１－アミノペンタン－４－オール、２－アミノ－４－メチルペンタン－１－オール、２－アミノヘキサン－１－オール、３－アミノヘプタン－４－オール、１－アミノオクタン－２－オール、５－アミノオクタン－４－オール、１－アミノプロパン－２，３－ジオール、２－アミノプロパン－１，３－ジオール、トリス（オキシメチル）アミノメタン、１，２－ジアミノプロパン－３－オール、１，３－ジアミノプロパン－２－オール、２－（２－アミノエトキシ）エタノール、４－（２－ヒドロキシエチル）モルホリン、１－（２－ヒドロキシエチル）ピペリジン、及び１－（２－ヒドロキシエチル）ピペラジンが挙げられる。適切なアルキルアミンとしては、限定されるものではないが、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、１，５－ジアミノ－２－メチルペンタン、１，３－ジアミノペンタン、ピペラジン、１－（２－アミノエチル）ピペラジン、１，２－ジアミノシクロヘキサン、１，３－ジアミノプロパン、１－（２－アミノエチル）ピペリジン、及びテトラエチレンペンタミン、ペンタメチルジエチレントリアミンが挙げられる。好ましいアルカノールアミンとしては、Ｎ－メチルエタノールアミン、Ｎ－エチルエタノールアミン、エタノールアミン、Ｎ－メチルジエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、及びアミノエトキシエタノールが挙げられる。好ましいアルキルアミンとしては、ジエチレントリアミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、及びトリエチレンテトラミンが挙げられる。
【0043】
１つの実施形態では、溶液は、約０．５重量％～約２０重量％の１又は複数のアルカノールアミンを含む。１つの実施形態では、溶液は、約２．５重量％～約１５重量％の１又は複数のアルカノールアミンを含む。１つの実施形態では、溶液は、約５重量％～約１５重量％の１又は複数のアルカノールアミンを含む。１つの実施形態では、溶液は、約５重量％～約１０重量％の１又は複数のアルカノールアミンを含む。１つの実施形態では、溶液は、約１０重量％～約２０重量％の１又は複数のアルカノールアミンを含む。
【0044】
１つの実施形態では、溶液は、約２．６重量％の無希釈のＤＭＤＰＡＨ（ジメチルジプロピルアンモニウムヒドロキシド）及び約１重量％～約１２重量％のモノエタノールアミン（ＭＥＡ）を含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約２重量％～約１０重量％のＭＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約３重量％～約９重量％のＭＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約４重量％～約８重量％のＭＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約５重量％～約７重量％のＭＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．５重量％のＭＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約３重量％のＭＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約３．５重量％のＭＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約４重量％のＭＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約４．５重量％のＭＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約５重量％のＭＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約６重量％のＭＥＡを含む。
【0045】
１つの実施形態では、溶液は、約２．６重量％の無希釈のＤＭＤＰＡＨ及び約１重量％～約１２重量％のＮ－メチルジエタノールアミン（ＮＭＤＥＡ）を含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約２重量％～約１０重量％のＮＭＤＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約３重量％～約９重量％のＮＭＤＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約４重量％～約８重量％のＮＭＤＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約５重量％～約７重量％のＮＭＤＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２重量％のＮＭＤＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．５重量％のＮＭＤＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約３重量％のＮＭＤＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約３．５重量％のＮＭＤＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約４重量％のＮＭＤＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約４．５重量％のＮＭＤＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約５重量％のＮＭＤＥＡを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約６重量％のＮＭＤＥＡを含む。
【0046】
Ｂ．第４級アンモニウムヒドロキシド
【0047】
上述したように、１又は複数の塩基成分は、１又は複数の第４級アンモニウムヒドロキシドを含み得る。適切な第４級アンモニウムヒドロキシドとしては、限定されるものではないが、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＥＡＨ）、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド（ＴＰＡＨ）、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＢＡＨ）、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド（ＥＴＭＡＨ）、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド（ＢＴＭＡＨ）、コリンヒドロキシド、及びジメチルジプロピルアンモニウムヒドロキシド（ＤＭＤＰＡＨ）が挙げられる。いくつかの実施形態では、ＴＥＡＨが優先的に含まれる。そのような実施形態では、ＴＥＡＨは、水溶液、例えば３５重量％水溶液として用いられる。他の実施形態では、ＤＭＤＰＡＨが優先的に含まれる。そのような実施形態では、ＤＭＤＰＡＨは、プロピレングリコール中の２０重量％溶液として用いられる。いくつかの実施形態では、溶液は、ＴＭＡＨを含まない。
【0048】
第４級アンモニウムヒドロキシドは、組成物の総重量に基づいて、約０．５重量％～約２０重量％、１重量％～約１５重量％、又は約１重量％～約１４重量％、又は約１重量％～約１３重量％、又は約１重量％～約１２重量％、又は約１重量％～約１１重量％、又は約１重量％～約１０重量％、又は約１重量％～約９重量％、又は約１重量％～約８重量％、又は約１重量％～約７重量％、又は約１重量％～約６重量％、又は約１重量％～約５重量％、又は約１重量％～約４重量％、又は約１重量％～約３重量％、又は約１重量％～約２重量％、又は約０．１重量％～約０．９重量％、又は約０．４重量％～約０．５重量％、又は約０．１重量％～約０．２重量％の範囲内のいかなる無希釈の量で存在してもよい。より好ましくは、第４級アンモニウムヒドロキシドは、存在するが、その量は２０重量％以下である。ある特定の好ましい組成物では、第４級アンモニウムヒドロキシドは、約８重量％～１５重量％で存在する。ある特定の好ましい組成物では、第４級アンモニウムヒドロキシドは、約８重量％～１３重量％で存在する。ある特定の好ましい組成物では、第４級アンモニウムヒドロキシドは、約１０重量％～１５重量％で存在する。
【0049】
１つの実施形態では、溶液は、約７重量％～１５重量％の無希釈のＴＥＡＨを含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約８重量％～約１４重量％の無希釈のＴＥＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約９重量％～約１３重量％の無希釈のＴＥＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１０重量％～約１１重量％の無希釈のＴＥＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１２重量％の無希釈のＴＥＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１２．２重量％の無希釈のＴＥＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１２．４重量％の無希釈のＴＥＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１２．６重量％の無希釈のＴＥＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１２．８重量％の無希釈のＴＥＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１３重量％の無希釈のＴＥＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１３．２重量％の無希釈のＴＥＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１３．４重量％の無希釈のＴＥＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１３．６重量％の無希釈のＴＥＡＨを含む。
【0050】
１つの実施形態では、溶液は、約１重量％～５重量％の無希釈のＤＭＤＰＡＨを含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約１重量％～約４．５重量％の無希釈のＤＭＤＰＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．５重量％～約４重量％の無希釈のＤＭＤＰＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２重量％～約３．５重量％の無希釈のＤＭＤＰＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２重量％～約３重量％の無希釈のＤＭＤＰＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．１重量％の無希釈のＤＭＤＰＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．２重量％の無希釈のＤＭＤＰＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．３重量％の無希釈のＤＭＤＰＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．４重量％の無希釈のＤＭＤＰＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．６重量％の無希釈のＤＭＤＰＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．８重量％の無希釈のＤＭＤＰＡＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約３重量％の無希釈のＤＭＤＰＡＨを含む。
【0051】
１つの実施形態では、溶液は、約８重量％～１５重量％の無希釈のコリンヒドロキシドを含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約９重量％～約１４重量％の無希釈のコリンヒドロキシドを含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約１０重量％～約１３重量％の無希釈のコリンヒドロキシドを含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約１１重量％～約１２重量％の無希釈のコリンヒドロキシドを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１２重量％～約１３重量％の無希釈のコリンヒドロキシドを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１１．２５重量％の無希釈のコリンヒドロキシドを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１０．２重量％の無希釈のコリンヒドロキシドを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１０．４重量％の無希釈のコリンヒドロキシドを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１０．６重量％の無希釈のコリンヒドロキシドを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１０．８重量％の無希釈のコリンヒドロキシドを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１１重量％の無希釈のコリンヒドロキシドを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１１．２重量％の無希釈のコリンヒドロキシドを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１１．４重量％の無希釈のコリンヒドロキシドを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１１．６重量％の無希釈のコリンヒドロキシドを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１１．８重量％の無希釈のコリンヒドロキシドを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１２重量％の無希釈のコリンヒドロキシドを含む。
【0052】
Ｃ．無機塩基
【0053】
上述したように、１又は複数の無機塩基を含む１又は複数の塩基成分。好ましくは、１つ以上の無機塩基は、少なくとも１つのアルカリ金属水酸化物又は異なるアルカリ金属水酸化物の混合物を含む。適切な無機塩基としては、限定されるものではないが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ルビジウム、及び水酸化セシウムが挙げられる。いくつかの実施形態では、水酸化カリウムが優先的に含まれる。そのような実施形態では、水酸化カリウムは、水溶液、例えば４８重量％水溶液として用いられる。他のそのような実施形態では、水酸化カリウムは、固体、例えば８５重量％又は９０重量％のフレークとして用いられる。
【0054】
金属水酸化物は、組成物の総重量に基づいて、約０．１％～約５％、又は約０．１重量％～約４重量％、又は約０．９重量％～約４重量％、又は約０．１重量％～約０．８重量％、又は約０．４重量％～約０．５重量％、又は約０．１重量％～約０．２重量％の範囲内のいかなる無希釈の量で存在してもよい。より好ましくは、金属水酸化物は、存在するが、その量は３．５重量％以下である。ある特定の好ましい組成物では、金属水酸化物は、約１．０重量％～２．５重量％で存在する。ある特定の好ましい組成物では、金属水酸化物は、約１．５重量％～２．２５重量％で存在する。
【0055】
１つの実施形態では、溶液は、約０．５重量％～約３．５重量％の無希釈のＫＯＨを含む。１つの実施形態では、溶液は、約１．０重量％～約２．５重量％の無希釈のＫＯＨを含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約１．７５重量％～約２．２５重量％の無希釈のＫＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．７５重量％～約２．１重量％の無希釈のＫＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．７５重量％～約２．０５重量％の無希釈のＫＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．７５重量％～約２．０重量％の無希釈のＫＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１重量％の無希釈のＫＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．２５重量％の無希釈のＫＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．５重量％の無希釈のＫＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．７５重量％の無希釈のＫＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．８重量％の無希釈のＫＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．９重量％の無希釈のＫＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．０重量％の無希釈のＫＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．０５重量％の無希釈のＫＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．１重量％の無希釈のＫＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．１５重量％の無希釈のＫＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．２重量％の無希釈のＫＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．２５重量％の無希釈のＫＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．３重量％の無希釈のＫＯＨを含む。
【0056】
１つの実施形態では、溶液は、約１．０重量％～約２．５重量％の無希釈のＮａＯＨを含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約１．７５重量％～約２．２５重量％の無希釈のＮａＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．７５重量％～約２．１重量％の無希釈のＮａＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．７５重量％～約２．０５重量％のＮａＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．７５重量％～約２．０重量％の無希釈のＮａＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１重量％の無希釈のＮａＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．２５重量％の無希釈のＮａＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．５重量％の無希釈のＮａＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．７５重量％の無希釈のＮａＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．８重量％の無希釈のＮａＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．９重量％の無希釈のＮａＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．０重量％の無希釈のＮａＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．０５重量％の無希釈のＮａＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．１重量％の無希釈のＮａＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．１５重量％の無希釈のＮａＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．２重量％の無希釈のＮａＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．２５重量％の無希釈のＮａＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．３重量％の無希釈のＮａＯＨを含む。
【0057】
１つの実施形態では、溶液は、約１．０重量％～約７．５重量％の無希釈のＣｓＯＨを含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約１．７５重量％～約７．２５重量％の無希釈のＣｓＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．７５重量％～約７重量％の無希釈のＣｓＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．７５重量％～約６．０重量％のＣｓＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．７５重量％～約５．０重量％の無希釈のＣｓＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１重量％の無希釈のＣｓＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．５重量％の無希釈のＣｓＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．０重量％の無希釈のＣｓＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．５重量％の無希釈のＣｓＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約３．０重量％の無希釈のＣｓＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約３．５重量％の無希釈のＣｓＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約４．０重量％の無希釈のＣｓＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約４．５重量％の無希釈のＣｓＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約５．０重量％の無希釈のＣｓＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約５．５重量％の無希釈のＣｓＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約６．０重量％の無希釈のＣｓＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約６．５重量％の無希釈のＣｓＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約７．０重量％の無希釈のＣｓＯＨを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約７．５重量％の無希釈のＣｓＯＨを含む。
【0058】
（ｉｉ）有機溶媒
【0059】
開示され特許請求される主題の溶液は、１又は複数の有機溶媒及び所望に応じて第２の溶媒を含む。
【0060】
１つの実施形態では、溶液は、約５０重量％～約９８重量％の１又は複数の有機溶媒を含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約９４重量％～約９７重量％の１又は複数の有機溶媒を含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約９０重量％～約９４重量％の１又は複数の有機溶媒を含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約８３重量％～約９０重量％の１又は複数の有機溶媒を含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約７５重量％～約８３重量％の１又は複数の有機溶媒を含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約６５重量％～約７５重量％の１又は複数の有機溶媒を含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約６０重量％～約６５重量％の１又は複数の有機溶媒を含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約５０重量％～約６０重量％の１又は複数の有機溶媒を含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約４０重量％～約９８重量％の１又は複数の有機溶媒を含む。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約４０重量％～約５０重量％の１又は複数の有機溶媒を含む。この実施形態のさらなる態様では、１又は複数の有機溶媒の量（重量％）は、存在する何れの第２の溶媒の量（重量％）よりも多い。
【0061】
いくつかの実施形態では、溶媒は、エーテルアルコールから選択される。エーテルアルコール溶媒の１つの種類は、グリコールエーテルであってよい。適切なグリコールエーテル溶媒としては、限定されるものではないが、ジエチレングリコールブチルエーテル（ＤＢ）、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、ジプロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールｎ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールｎ－ブチルエーテル、エチレングリコールプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールフェニルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（ＴＥＧＭＥ）、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピルエーテル、及びトリエチレングリコールモノブチルエーテルが挙げられる。グリコールエーテルではない他の適切な種類のエーテルアルコール溶媒（すなわち、エーテル基を有する他のアルコール）。例は、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール（ＭＭＢ）、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコールである。他の適切な溶媒は、ＤＭＳＯ、ＮＭＰ、及びスルホランである。
【0062】
１つの実施形態では、溶媒は、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（ＤＥ溶媒）を含む。この実施形態のさらなる態様では、溶媒は、約４０重量％～約８０重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテル（ＤＥ溶媒）である。別の実施形態では、溶媒は、ＤＭＳＯを含む。この実施形態のさらなる態様では、溶媒は、約５０重量％～約９０重量％のＤＭＳＯを含む。
【0063】
いくつかの実施形態では、溶液は、アミド含有溶媒を含まない又は本質的に含まない。本質的に含まないとは、１％未満、別の選択肢として０．１重量％未満、別の選択肢として０．０１重量％未満、又は０．００１重量％未満の量、又は含まない、を意味し、含まないとは、検出不能又は０のことである。
【0064】
他の実施形態では、溶液は、硫黄含有溶媒を含まなくてよい又は本質的に含まなくてよい。この実施形態のさらなる態様では、組成物は、Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）を含まない又は本質的に含まない。この実施形態のさらなる態様では、組成物は、ＤＭＳＯを含まない又は本質的に含まない。本質的に含まないとは、１％未満、別の選択肢として０．１重量％未満、別の選択肢として０．０１重量％未満、又は０．００１重量％未満の量、又は含まない、を意味し、含まないとは、検出不能又は０のことである。
【0065】
（ｉｉｉ）トリアジン誘導体腐食防止剤
【0066】
上述のように、開示され特許請求される主題の溶液は、式（Ｉ）の１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤を含み、
式中、各Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、各々独立して、水素原子、酸素含有基、ヒドロキシル基、メルカプト基、窒素含有基、アミン（すなわち、
）、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基で置換されたアミノ基（すなわち、
）、カルボキシル基、フェニル基、置換フェニル基、アルコキシ基、Ｃ１～Ｃ２０直鎖状アルキル基、Ｃ３～Ｃ２０分岐鎖状アルキル基、Ｃ３～Ｃ１０環状アルキル基、Ｃ５～Ｃ１２アリール基、Ｃ２～Ｃ１０直鎖状アルケニル基、Ｃ３～Ｃ１０分岐鎖状アルケニル基、Ｃ２～Ｃ１０直鎖状アルキニル基、Ｃ３～Ｃ１０分岐鎖状アルキニル基、ハライドで置換されたＣ１～Ｃ２０直鎖状アルキル基、及び
で置換されたＣ１～Ｃ２０アルキルから選択される。１つの実施形態では、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうちの少なくとも１つは、フェニル基である。
【化6】
【化7】
【化8】
【化9】
【0067】
１つの実施形態では、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうちの少なくとも１つは、アミンである。
【0068】
１つの実施形態では、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうちの少なくとも２つは、アミンである。
【0069】
１つの実施形態では、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうちの１つはフェニル基であり、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうちの残りの２つは、アミンである。
【0070】
１つの実施形態では、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうちの少なくとも１つは、置換フェニル基である。この実施形態の１つの態様では、フェニル基は、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、イミノ基、カルボキシル基、フェニル基、１～１０個の炭素原子を有するアルコキシ基及びアルキル基、直鎖状又は分岐状基のうちの１又は複数で置換されている。
【0071】
１つの実施形態では、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうちの少なくとも１つは、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、及びブトキシ基のうちの１又は複数である１～１０個の炭素原子を有するアルコキシ基である。
【0072】
１つの実施形態では、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうちの少なくとも１つは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ノニル基、及びラウリル基のうちの１又は複数である１～２０個の炭素を有するアルキル基である。この実施形態のさらなる態様では、１～２０個の炭素を有するアルキル基は、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、イミノ基、カルボキシル基、フェニル基、及び１～１０個の炭素原子を有するアルコキシ基のうちの１又は複数で置換されている。
【0073】
１つの実施形態では、１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤は、１，２，３－トリアジン、１，２，４－トリアジン、及び１，３，５－トリアジン、並びに置換トリアジンのうちの１又は複数である。１，３，５－トリアジン及び置換１，３，５－トリアジンが、開示され特許請求される主題における好ましい銅腐食防止剤であり、具体例としては、限定されるものではないが、２，４－ジアミノ－６－メチル－１，３，５－トリアジン及び２，４－ジアミノ－１，３，５－トリアジン、２－アミノ－１，３，５－トリアジン、２，４－ジアミノ－６－イソブチル－１，３，５－トリアジン、２，４－ジアミノ－６－キシリル－１，３，５－トリアジン、２，４－ジアミノ－６－ヒドロキシ－１，３，５－トリアジン、２，４－ジアミノ－６－フェニル－１，３，５－トリアジン、２－アミノ－４－メトキシ－６－メチル－１，３，５－トリアジン、並びに２，４，６－トリアミノ－１，３，５－トリアジンが挙げられる。他の好ましいトリアジンとしては、２－アミノ－１，２，４－トリアジン及び３－アミノ－５，６－ジメチル－１，２，４－トリアジンが挙げられる。
【0074】
１つの好ましい実施形態では、１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤は、式２（式中、Ｒ２及びＲ３が－ＮＨ２である）に示される１又は複数のグアナミン化合物である（すなわち、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうちの２つが各々－ＮＨ２である式１の化合物）。
【化10】
【0075】
１つの好ましい実施形態では、１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤は、式３（式中、Ｒ２及びＲ３が－ＮＨ２である）に示される１又は複数のグアナミン化合物（すなわち、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうちの２つが各々－ＮＨ２である式１の化合物）であり、Ｒ１は、水素、－ＯＨ基、カルボキシル基、フェニル基、置換フェニル基、アミン、Ｃ１～Ｃ６直鎖状アルキル基、及びＣ３～Ｃ６分岐鎖状アルキル基から選択される。
【化11】
【0076】
１つの好ましい実施形態では、１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤は、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうちの２つが－ＮＨ２であり、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうちの残りがフェニル基である、２，４－ジアミノ－６－フェニル－１，３，５－トリアジン（「ベンゾグアナミン」）である又はそれを含む１又は複数のグアナミン化合物である。
【化12】
【0077】
別の実施形態では、１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤は、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３の各々が－ＮＨ２である１，３，５－トリアジン－２，４，６－トリアミン（メラミン）である。
【化13】
【0078】
１つの実施形態では、１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤は、約０．００５重量％～約１０重量％の範囲内のレベルで溶液中に存在する。１つの実施形態では、溶液は、約０．１重量％～約１０重量％、又は約０．５重量％～約１０重量％、又は約０．５重量％～約５重量％、又は約０．５重量％～約３重量％、又は０．１重量％～約４重量％、又は約０．２５重量％～約２重量％、又は約０．０１重量％～約４重量％、又は約０．０５重量％～約４重量％、又は約０．１重量％～約４重量％で含み得る。１つの実施形態では、溶液は、約０．２５重量％～約１重量％を含み得る。１又は複数の腐食防止剤は、以下の重量パーセント、０．００５、０．０２、０．０８、０．１、０．２、０．２５、０．３、０．４、０．５、０．７、０．９、１、２、３、４、５、６、７、８、９、及び１０、から選択される終点によって定められるいかなる量で存在してもよい。
【0079】
（ｉｖ）第２の溶媒（所望に応じて）
【0080】
いくつかの実施形態は、上述したＤＭＳＯ又はエーテルアルコール溶媒に加えて、第２の溶媒を含んでもよい。別の選択肢として、いくつかの実施形態では、剥離剤溶液は、第２の溶媒を含まなくてよい又は実質的に含まなくてよい。
【0081】
いくつかの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、水、アルコール、ポリヒドロキシル化合物のうちの１つを含む。この実施形態の１つの態様では、（ｉｖ）第２の溶媒は水である。この実施形態の別の態様では、（ｉｖ）第２の溶媒は、エチレングリコール、プロピレングリコール、及びグリセロールのうちの１又は複数である。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約１３重量％～約４０重量％の水である。別の実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約５重量％～約１５重量％のプロピレングリコールである。
【0082】
１つの態様では、（ｉｖ）第２の溶媒は、添加された水（すなわち、他の原料成分中の不純物として存在するごく少量の水とは対照的に、溶媒として添加された水）を含む。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約０．１重量％～約４５重量％の水である。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約０．２重量％～約４５重量％の水である。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約５重量％～約３５重量％の水である。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約０．５重量％～約２５重量％の水である。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約０．２重量％の水である。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約０．５重量％の水である。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約１重量％の水である。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約２．５重量％の水である。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約５重量％の水である。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約７．５重量％の水である。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約１０重量％の水である。１つの実施形態では、第２の溶媒は、約１５重量％の水である。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約２０重量％の水である。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約２４重量％の水である。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約２５重量％の水である。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約３０重量％の水である。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約３５重量％の水である。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約４０重量％の水である。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約４５重量％の水である。
【0083】
１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、水を含まない。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、水を実質的に含まない。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、約０．０５重量％未満の水を含む。１つの実施形態では、（ｉｖ）第２の溶媒は、０．１重量％未満の水を含む。
【0084】
第２の有機溶媒アルコール又はポリヒドロキシ化合物は、直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族又は芳香族アルコールであってよい。組成物が含み得る第２のアルコールの例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール、３－メチル－３－ペンタノール、１－オクタノール、１－デカノール、１－ウンデカノール、１－ドデカノール、１－トリデカノール、１－テトラデカノール、１－ペンタデカノール、１－ヘキサデカノール、９－ヘキサデセン－１－オール、１－ヘプタデカノール、１－オクタデカノール、１－ノナデカノール、１－エイコサノール、１－ヘンエイコサノール、１－ドコサノール、１３－ドコセン－１－オール、１－テトラコサノール、１－ヘキサコサノール、１－ヘプタコサノール、１－オクタコサノール、１－トリアコンタノール、１－ドトリアコンタノール、１－テトラトリアコンタノール、セテアリルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、及びグリセロールが挙げられる。
【0085】
用いられる場合、（ｉｖ）第２の有機溶媒は、組成物の約０．０２％～約５０％、又は約０．０８％～約３８％、又は約０．１％～約３５％、又は約０．２％～約３３％、又は約０．３％～約２０％、又は約５％～約１５％で含まれ得る。別の選択肢としての実施形態では、第２の溶媒は、以下の重量パーセント、０．０２、０．０８、０．１、０．２、０．３、０．４、０．５、０．７、０．９、１、３、５、８、１０、１２、１５、１７、２０、２３、２５、３８、３０、３２、３５、３７、４０、４３、４５、４７、及び５０、から選択される終点によって定められるいかなる量で存在してもよい。
【0086】
上記実施形態のさらなる態様では、１又は複数の有機溶媒の量（重量％）は、存在する第２の溶媒の量（重量％）よりも多い。
【0087】
（ｖ）所望に応じて含まれる非トリアジン腐食防止剤
【0088】
さらなる態様では、溶液は、さらに、所望に応じて、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。適切な非トリアジン腐食防止剤としては、限定されるものではないが、有機腐食防止剤、例えば、カテコール及びレゾルシノール、アルキルカテコール（たとえばメチルカテコール、エチルカテコール及びｔ－ブチルカテコール）、フェノール、並びにピロガロールなどの芳香族ヒドロキシル化合物及び芳香族ポリヒドロキシル化合物；ベンゾトリアゾール（ＢＺＴ）、アルキルベンゾトリアゾール及びメチルベンゾトリアゾール、アミノベンゾトリアゾール（たとえば１－アミノベンゾトリアゾール）などの芳香族トリアゾール；２－アミノベンゾチアゾール（ＡＢＴ）などのチアゾール；グリセロール、キシリトール、及びソルビトールなどの糖アルコール、８－ＨＱ（８－ヒドロキシキノリン）、ヒスチジン、並びに硝酸銅などの銅塩が挙げられる。
【0089】
１つの実施形態では、（ｖ）１又は複数の所望に応じて含まれる非トリアジン腐食防止剤は、約０．００５重量％～約１０重量％の範囲内のレベルで溶液中に存在する。１つの実施形態では、溶液は、約０．００５重量％～約５重量％、又は約０．０２５重量％～約４重量％、又は約０．０５重量％～約４重量％、又は約０．１重量％～約４重量％、又は０．１重量％～約１０重量％、又は約０．２５重量％～約８重量％、又は約０．５重量％～約７重量％、又は約０．５重量％～約６重量％、又は約０．５重量％～約５重量％、又は約０．５重量％～約４重量％、又は約０．５重量％～約３重量％で含み得る。１又は複数の腐食防止剤は、以下の重量パーセント、０．００５、０．０２、０．０８、０．１、０．２、０．２５、０．３、０．４、０．５、０．７、０．９、１、２、３、４、５、６、７、８、９、及び１０、から選択される終点によって定められるいかなる量で存在してもよい。
【0090】
いくつかの実施形態では、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤は、ＢＺＴ、ソルビトール、レゾルシノール、セバシン酸、グリセロール、及び硝酸銅（ＩＩ）のうちの１又は複数を含む。いくつかの実施形態では、これらの腐食防止剤は、約０．０１重量％～約２重量％で（単独で又は組み合わせて）存在する。いくつかの実施形態では、これらの非トリアジン腐食防止剤は、約０．２重量％～約１重量％で（単独で又は組み合わせて）存在する。いくつかの実施形態では、これらの腐食防止剤は、約０．５重量％で（単独で又は組み合わせて）存在する。
【0091】
いくつかの実施形態では、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤は、ＢＺＴを含む。この実施形態の１つの態様では、溶液は、約０．１重量％～約１重量％のＢＺＴを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約０．１重量％のＢＺＴを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約０．５重量％のＢＺＴを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．０重量％のＢＺＴを含む。
【0092】
いくつかの実施形態では、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤は、ソルビトールを含む。この実施形態の１つの態様では、溶液は、約０．２重量％～約５重量％のソルビトールを含む。この実施形態の１つの態様では、溶液は、約０．２重量％～約３重量％のソルビトールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約０．２重量％のソルビトールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約０．５重量％のソルビトールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．０重量％のソルビトールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．５重量％のソルビトールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．０重量％のソルビトールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．５重量％のソルビトールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約３．０重量％のソルビトールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約３．５重量％のソルビトールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約４．０重量％のソルビトールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約４．５重量％のソルビトールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約５．０重量％のソルビトールを含む。
【0093】
いくつかの実施形態では、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤は、レゾルシノールを含む。この実施形態の１つの態様では、溶液は、約０．２重量％～約２重量％のレゾルシノールを含む。この実施形態の１つの態様では、溶液は、約０．２重量％～約４重量％のレゾルシノールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約０．２重量％のレゾルシノールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約０．５重量％のレゾルシノールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．０重量％のレゾルシノールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．５重量％のレゾルシノールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．０重量％のレゾルシノールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約２．５重量％のレゾルシノールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約３．０重量％のレゾルシノールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約３．５重量％のレゾルシノールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約４．０重量％のレゾルシノールを含む。
【0094】
いくつかの実施形態では、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤は、グリセロールを含む。この実施形態の１つの態様では、溶液は、約０．２重量％～約１重量％のグリセロールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約０．２重量％のグリセロールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約０．５重量％のグリセロールを含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．０重量％のグリセロールを含む。
【0095】
いくつかの実施形態では、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤は、セバシン酸を含む。この実施形態の１つの態様では、溶液は、約０．２重量％～約１重量％のセバシン酸を含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約０．２重量％のセバシン酸を含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約０．５重量％のセバシン酸を含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約１．０重量％のセバシン酸を含む。
【0096】
いくつかの実施形態では、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤は、硝酸銅を含む。この実施形態の１つの態様では、溶液は、約０．００５重量％～約０．５重量％の硝酸銅を含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約０．０１重量％の硝酸銅を含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約０．２重量％の硝酸銅を含む。この実施形態の別の態様では、溶液は、約０．５重量％の硝酸銅を含む。
【0097】
さらなる態様では、溶液は、さらに、所望に応じて、（ｖ）２つ又はそれより多くの非トリアジン腐食防止剤を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。いくつかの実施形態では、（ｖ）２つ又はそれより多くの非トリアジン腐食防止剤は、ＢＺＴ、ソルビトール、レゾルシノール、８－ＨＱ、セバシン酸、グリセロール、ヒスチジン、及び硝酸銅（ＩＩ）のうちの１又は複数を含む。いくつかの実施形態では、（ｖ）２つ又はそれより多くの非トリアジン腐食防止剤は、ＢＺＴと、ソルビトール、レゾルシノール、８－ＨＱ、セバシン酸、グリセロール、ヒスチジン、及び硝酸銅（ＩＩ）のうちの１又は複数とを含む。１つの実施形態では、（ｖ）２つ又はそれより多くの非トリアジン腐食防止剤は、ＢＺＴ及びソルビトールを含む。１つの実施形態では、（ｖ）２つ又はそれより多くの非トリアジン腐食防止剤は、ＢＺＴ及び硝酸銅（ＩＩ）を含む。１つの実施形態では、（ｖ）２つ又はそれより多くの非トリアジン腐食防止剤は、ＢＺＴ及びレゾルシノールを含む。１つの実施形態では、（ｖ）２つ又はそれより多くの非トリアジン腐食防止剤は、ＢＺＴ及び８－ＨＱを含む。１つの実施形態では、（ｖ）２つ又はそれより多くの非トリアジン腐食防止剤は、ＢＺＴ及びヒスチジンを含む。１つの実施形態では、（ｖ）２つ又はそれより多くの非トリアジン腐食防止剤は、ＢＺＴ及びグリセロールを含む。１つの実施形態では、（ｖ）２つ又はそれより多くの非トリアジン腐食防止剤は、ＢＺＴ及びセバシン酸を含む。
【0098】
例示的な実施形態
【0099】
以下の例示的な実施形態における数値は、特に断りのない限り、すべて無希釈の状態の値（neat values）である。
【0100】
実施形態１
【0101】
１つの実施形態では、開示され特許請求される溶液は、
（ｉ）ＤＭＤＰＡＨ、ＴＥＡＨ、ＫＯＨ、ＴＭＡＨ、ＥＴＭＡＨ、コリンヒドロキシド、モノエタノールアミン、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）ＤＭＳＯ、プロピレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の有機溶媒、並びに
（ｉｉｉ）式２の１又は複数のグアナミン化合物を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤であって、
式中、Ｒ１は、水素原子、酸素含有基、ヒドロキシル基、メルカプト基、窒素含有基、アミン（すなわち、
）、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基で置換されたアミノ基（すなわち、
）、カルボキシル基、フェニル基、置換フェニル基、アルコキシ基、Ｃ１～Ｃ２０直鎖状アルキル基、Ｃ３～Ｃ２０分岐鎖状アルキル基、Ｃ３～Ｃ１０環状アルキル基、Ｃ５～Ｃ１２アリール基、Ｃ２～Ｃ１０直鎖状アルケニル基、Ｃ３～Ｃ１０分岐鎖状アルケニル基、Ｃ２～Ｃ１０直鎖状アルキニル基、Ｃ３～Ｃ１０分岐鎖状アルキニル基、ハライドで置換されたＣ１～Ｃ２０直鎖状アルキル基、及び
で置換されたＣ１～Ｃ２０アルキルから選択される、
１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
（ｉ）ＤＭＤＰＡＨ、ＴＥＡＨ、ＫＯＨ、ＴＭＡＨ、ＥＴＭＡＨ、コリンヒドロキシド、モノエタノールアミン、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）ＤＭＳＯ、プロピレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の有機溶媒、並びに
（ｉｉｉ）式２の１又は複数のグアナミン化合物を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤であって、
【化14】
【化15】
【化16】
【化17】
１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
【0102】
この実施形態のさらなる態様では、（ｉ）１又は複数の塩基成分は、ＤＭＤＰＡＨを含む、本質的にＤＭＤＰＡＨから成る、又はＤＭＤＰＡＨから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉ）１又は複数の塩基成分は、ＴＥＡＨを含む、本質的にＴＥＡＨから成る、又はＴＥＡＨから成る。この実施形態のさらなる態様では、ＫＯＨを含む、本質的にＫＯＨから成る、又はＫＯＨから成る（ｉ）１又は複数の塩基成分。この実施形態のさらなる態様では、（ｉ）１又は複数の塩基成分は、ＴＭＡＨを含む、本質的にＴＭＡＨから成る、又はＴＭＡＨから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉ）１又は複数の塩基成分は、ＥＴＭＡＨを含む、本質的にＥＴＭＡＨから成る、又はＥＴＭＡＨから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉ）１又は複数の塩基成分は、コリンヒドロキシドを含む、本質的にコリンヒドロキシドから成る、又はコリンヒドロキシドから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、ＤＭＳＯを含む、本質的にＤＭＳＯから成る、又はＤＭＳＯから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、プロピレングリコールを含む、本質的にプロピレングリコールから成る、又はプロピレングリコールから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、ジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にジエチレングリコールモノエチルエーテルから成る、又はジエチレングリコールモノエチルエーテルから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、ジエチレングリコールモノブチルエーテルを含む、本質的にジエチレングリコールモノブチルエーテルから成る、又はジエチレングリコールモノブチルエーテルから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、トリエチレングリコールモノメチルエーテルを含む、本質的にトリエチレングリコールモノメチルエーテルから成る、又はトリエチレングリコールモノメチルエーテルから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノールを含む、本質的に３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノールから成る、又は３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノールから成る。
【0103】
この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｉｖ）１又は複数の第２の溶媒として、水を含む、本質的に水から成る、又は水から成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、レゾルシノールを含む、本質的にレゾルシノールから成る、又はレゾルシノールから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、ＢＺＴを含む、本質的にＢＺＴから成る、又はＢＺＴから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、ソルビトールを含む、本質的にソルビトールから成る、又はソルビトールから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、硝酸銅（ＩＩ）を含む、本質的に硝酸銅（ＩＩ）から成る、又は硝酸銅（ＩＩ）から成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、８－ＨＱを含む、本質的に８－ＨＱから成る、又は８－ＨＱから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、レゾルシノール、ＢＺＴ、ソルビトール、８－ＨＱ、及び硝酸銅（ＩＩ）のうちの１又は複数を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、レゾルシノール、ＢＺＴ、ソルビトール、８－ＨＱ、及び硝酸銅（ＩＩ）のうちの２つ又はそれより多くを含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
【0104】
実施形態２
【0105】
別の好ましい実施形態では、開示され特許請求される溶液は、
（ｉ）ＤＭＤＰＡＨ、ＴＥＡＨ、ＫＯＨ、ＴＭＡＨ、ＥＴＭＡＨ、コリンヒドロキシド、モノエタノールアミン、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）ＤＭＳＯ、プロピレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の有機溶媒、並びに
（ｉｉｉ）式３のグアナミン化合物を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤であって、
式中、Ｒ１は、水素、－ＯＨ基、カルボキシル基、フェニル基、置換フェニル基、アミン、Ｃ１～Ｃ６直鎖状アルキル基、及びＣ３～Ｃ６分岐鎖状アルキル基から選択される、
１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
（ｉ）ＤＭＤＰＡＨ、ＴＥＡＨ、ＫＯＨ、ＴＭＡＨ、ＥＴＭＡＨ、コリンヒドロキシド、モノエタノールアミン、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）ＤＭＳＯ、プロピレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の有機溶媒、並びに
（ｉｉｉ）式３のグアナミン化合物を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤であって、
【化18】
１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
【0106】
この実施形態のさらなる態様では、式３のＲ１は、水素である。この実施形態のさらなる態様では、式３のＲ１は、－ＯＨ基である。この実施形態のさらなる態様では、式３のＲ１は、カルボキシル基である。この実施形態のさらなる態様では、式３のＲ１は、フェニル基である。この実施形態のさらなる態様では、式３のＲ１は、置換フェニル基である。この実施形態のさらなる態様では、式３のＲ１は、アミンである。この実施形態のさらなる態様では、式３のＲ１は、Ｃ１～Ｃ６直鎖状アルキル基である。この実施形態のさらなる態様では、式３のＲ１は、Ｃ３～Ｃ６分岐鎖状アルキル基である。
【0107】
この実施形態のさらなる態様では、（ｉ）１又は複数の塩基成分は、ＤＭＤＰＡＨを含む、本質的にＤＭＤＰＡＨから成る、又はＤＭＤＰＡＨから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉ）１又は複数の塩基成分は、ＴＥＡＨを含む、本質的にＴＥＡＨから成る、又はＴＥＡＨから成る。この実施形態のさらなる態様では、ＫＯＨを含む、本質的にＫＯＨから成る、又はＫＯＨから成る（ｉ）１又は複数の塩基成分。この実施形態のさらなる態様では、（ｉ）１又は複数の塩基成分は、ＴＭＡＨを含む、本質的にＴＭＡＨから成る、又はＴＭＡＨから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉ）１又は複数の塩基成分は、ＥＴＭＡＨを含む、本質的にＥＴＭＡＨから成る、又はＥＴＭＡＨから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉ）１又は複数の塩基成分は、コリンヒドロキシドを含む、本質的にコリンヒドロキシドから成る、又はコリンヒドロキシドから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉ）１又は複数の塩基成分は、モノエタノールアミンを含む、本質的にモノエタノールアミンから成る、又はモノエタノールアミンから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、ＤＭＳＯを含む、本質的にＤＭＳＯから成る、又はＤＭＳＯから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、プロピレングリコールを含む、本質的にプロピレングリコールから成る、又はプロピレングリコールから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、ジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にジエチレングリコールモノエチルエーテルから成る、又はジエチレングリコールモノエチルエーテルから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、ジエチレングリコールモノブチルエーテルを含む、本質的にジエチレングリコールモノブチルエーテルから成る、又はジエチレングリコールモノブチルエーテルから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、トリエチレングリコールモノメチルエーテルを含む、本質的にトリエチレングリコールモノメチルエーテルから成る、又はトリエチレングリコールモノメチルエーテルから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノールを含む、本質的に３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノールから成る、又は３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノールから成る。
【0108】
この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｉｖ）１又は複数の第２の溶媒として、水を含む、本質的に水から成る、又は水から成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、レゾルシノールを含む、本質的にレゾルシノールから成る、又はレゾルシノールから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、ＢＺＴを含む、本質的にＢＺＴから成る、又はＢＺＴから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、ソルビトールを含む、本質的にソルビトールから成る、又はソルビトールから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、硝酸銅（ＩＩ）を含む、本質的に硝酸銅（ＩＩ）から成る、又は硝酸銅（ＩＩ）から成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、レゾルシノール、ＢＺＴ、ソルビトール、８－ＨＱ、及び硝酸銅（ＩＩ）のうちの１又は複数を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、レゾルシノール、ＢＺＴ、ソルビトール、８－ＨＱ、及び硝酸銅（ＩＩ）のうちの２つ又はそれより多くを含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
【0109】
実施形態３
【0110】
別の好ましい実施形態では、開示され特許請求される溶液は、
（ｉ）ＤＭＤＰＡＨ、ＴＥＡＨ、ＫＯＨ、ＴＭＡＨ、ＥＴＭＡＨ、コリンヒドロキシド、モノエタノールアミン、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）ＤＭＳＯ、プロピレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の有機溶媒、並びに
（ｉｉｉ）ベンゾグアナミンを含む、本質的にベンゾグアナミンから成る、又はベンゾグアナミンから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
（ｉ）ＤＭＤＰＡＨ、ＴＥＡＨ、ＫＯＨ、ＴＭＡＨ、ＥＴＭＡＨ、コリンヒドロキシド、モノエタノールアミン、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）ＤＭＳＯ、プロピレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール、及びこれらの組み合わせのうちの１又は複数を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の有機溶媒、並びに
（ｉｉｉ）ベンゾグアナミンを含む、本質的にベンゾグアナミンから成る、又はベンゾグアナミンから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
【化19】
【0111】
この実施形態のさらなる態様では、（ｉ）１又は複数の塩基成分は、ＤＭＤＰＡＨを含む、本質的にＤＭＤＰＡＨから成る、又はＤＭＤＰＡＨから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉ）１又は複数の塩基成分は、ＴＥＡＨを含む、本質的にＴＥＡＨから成る、又はＴＥＡＨから成る。この実施形態のさらなる態様では、ＫＯＨを含む、本質的にＫＯＨから成る、又はＫＯＨから成る（ｉ）１又は複数の塩基成分。この実施形態のさらなる態様では、（ｉ）１又は複数の塩基成分は、ＴＭＡＨを含む、本質的にＴＭＡＨから成る、又はＴＭＡＨから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉ）１又は複数の塩基成分は、ＥＴＭＡＨを含む、本質的にＥＴＭＡＨから成る、又はＥＴＭＡＨから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉ）１又は複数の塩基成分は、コリンヒドロキシドを含む、本質的にコリンヒドロキシドから成る、又はコリンヒドロキシドから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉ）１又は複数の塩基成分は、モノエタノールアミンを含む、本質的にモノエタノールアミンから成る、又はモノエタノールアミンから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、ＤＭＳＯを含む、本質的にＤＭＳＯから成る、又はＤＭＳＯから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、プロピレングリコールを含む、本質的にプロピレングリコールから成る、又はプロピレングリコールから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、ジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にジエチレングリコールモノエチルエーテルから成る、又はジエチレングリコールモノエチルエーテルから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、ジエチレングリコールモノブチルエーテルを含む、本質的にジエチレングリコールモノブチルエーテルから成る、又はジエチレングリコールモノブチルエーテルから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、トリエチレングリコールモノメチルエーテルを含む、本質的にトリエチレングリコールモノメチルエーテルから成る、又はトリエチレングリコールモノメチルエーテルから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノールを含む、本質的に３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノールから成る、又は３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノールから成る。
【0112】
この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｉｖ）１又は複数の第２の溶媒として、水を含む、本質的に水から成る、又は水から成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、レゾルシノールを含む、本質的にレゾルシノールから成る、又はレゾルシノールから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、ＢＺＴを含む、本質的にＢＺＴから成る、又はＢＺＴから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、ソルビトールを含む、本質的にソルビトールから成る、又はソルビトールから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、硝酸銅（ＩＩ）を含む、本質的に硝酸銅（ＩＩ）から成る、又は硝酸銅（ＩＩ）から成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、（ｖ）１又は複数の非トリアジン腐食防止剤として、レゾルシノール、ＢＺＴ、ソルビトール、及び硝酸銅（ＩＩ）のうちの２つ又はそれより多くを含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
【0113】
実施形態４
【0114】
別の好ましい実施形態では、開示され特許請求される溶液は、
（ｉ）約２．６重量％のＤＭＤＰＡＨ及び約６重量％のモノエタノールアミンを含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）約８０重量％のＤＭＳＯ及び約１０．５重量％のプロピレングリコールを含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の有機溶媒、並びに
（ｉｉｉ）約０．７５重量％～約１．０重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
（ｉ）約２．６重量％のＤＭＤＰＡＨ及び約６重量％のモノエタノールアミンを含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）約８０重量％のＤＭＳＯ及び約１０．５重量％のプロピレングリコールを含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の有機溶媒、並びに
（ｉｉｉ）約０．７５重量％～約１．０重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
【0115】
この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約０．８重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約１重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、レゾルシノール、８－ＨＱ、硝酸銅（例：約１８．７重量％硝酸銅溶液；「ＮＡＤＡ」）、ヒスチジン、及びソルビトールのうちの１又は複数を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約０．１重量％のレゾルシノールを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約０．８重量％のレゾルシノールを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対レゾルシノールの比は、約４：１～約１：４である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対レゾルシノールの比は、約４：１である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対レゾルシノールの比は、約３：１である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対レゾルシノールの比は、約２：１である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対レゾルシノールの比は、約１：１である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対レゾルシノールの比は、約１：２である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対レゾルシノールの比は、約１：３である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対レゾルシノールの比は、約１：４である。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約０．８重量％のベンゾグアナミン及び約０．１重量％のレゾルシノールを含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約０．８重量％のベンゾグアナミン及び約０．８重量％のレゾルシノールを含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約０．５重量％の８－ＨＱを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約０．０１重量％のＮＡＤＡを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約０．３重量％のヒスチジンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約１重量％のソルビトールを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対ソルビトールの比は、約４：１～約１：４である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対ソルビトールの比は、約４：１である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対ソルビトールの比は、約３：１である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対ソルビトールの比は、約２：１である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対ソルビトールの比は、約１：１である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対ソルビトールの比は、約１：２である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対ソルビトールの比は、約１：３である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対ソルビトールの比は、約１：４である。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約０．１５重量％の硝酸銅を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対硝酸銅の比は、約４：１～約１：４である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対硝酸銅の比は、約４：１である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対硝酸銅の比は、約３：１である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対硝酸銅の比は、約２：１である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対硝酸銅の比は、約１：１である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対硝酸銅の比は、約１：２である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対硝酸銅の比は、約１：３である。この実施形態のさらなる態様では、ベンゾグアナミン対硝酸銅の比は、約１：４である。
【0116】
実施形態５
【0117】
別の好ましい実施形態では、開示され特許請求される溶液は、
（ｉ）約１．７５重量％～約２．０重量％のＫＯＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）約５５重量％～約９７．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の有機溶媒、及び
（ｉｉｉ）約０．２５重量％～約０．７５重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
（ｉ）約１．７５重量％～約２．０重量％のＫＯＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）約５５重量％～約９７．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の有機溶媒、及び
（ｉｉｉ）約０．２５重量％～約０．７５重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
【0118】
この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約１０重量％～約４５重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約４１重量％以下の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、残量（すなわち、残部）の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約１．８重量％のＫＯＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約５７．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約７２．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約８２．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約９７．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約０．５重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、実質的に水を含まない。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約１５重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約２５重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約４０重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。
【0119】
実施形態６
【0120】
別の好ましい実施形態では、開示され特許請求される溶液は、
（ｉ）約２．５重量％～約３．０重量％のＤＭＤＰＡＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）約１０．５重量％のプロピレングリコール及び約４５重量％～約８６．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の有機溶媒、並びに
（ｉｉｉ）約０．２５重量％～約０．７５重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
（ｉ）約２．５重量％～約３．０重量％のＤＭＤＰＡＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）約１０．５重量％のプロピレングリコール及び約４５重量％～約８６．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の有機溶媒、並びに
（ｉｉｉ）約０．２５重量％～約０．７５重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
【0121】
この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約１０重量％～約４５重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約４０重量％以下の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、残量（すなわち、残部）の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約２．６重量％のＤＭＤＰＡＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約４６．４重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約６１．４重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約６１．９重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約７１．４重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約８６．４重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約０．５重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、実質的に水を含まない。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、水を含まない。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約１５重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約２５重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約４０重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。
【0122】
実施形態７
【0123】
別の好ましい実施形態では、開示され特許請求される溶液は、
（ｉ）約１０重量％～約１５重量％のＴＥＡＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）約４５重量％～約６５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の有機溶媒、及び
（ｉｉｉ）約０．２５重量％～約０．７５重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
（ｉ）約１０重量％～約１５重量％のＴＥＡＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）約４５重量％～約６５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の有機溶媒、及び
（ｉｉｉ）約０．２５重量％～約０．７５重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
【0124】
この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約２０重量％～約４０重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約１０重量％～約１３．５重量％のＴＥＡＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約１３重量％のＴＥＡＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約４６．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約６２．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約０．５重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、実質的に水を含まない。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約２４重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約４０重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。
【0125】
実施形態８
【0126】
別の好ましい実施形態では、開示され特許請求される溶液は、
（ｉ）約１０重量％～約１５重量％のコリンヒドロキシドを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）約４５重量％～約７５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の有機溶媒、及び
（ｉｉｉ）約０．２５重量％～約０．７５重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
（ｉ）約１０重量％～約１５重量％のコリンヒドロキシドを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）約４５重量％～約７５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の有機溶媒、及び
（ｉｉｉ）約０．２５重量％～約０．７５重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
【0127】
この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約１５重量％～約４５重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約１１．２５重量％のコリンヒドロキシドを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約４８．２５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約６３．２５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約７３．２５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約０．５重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、実質的に水を含まない。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約１５重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約２５重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、開示され特許請求される溶液は、約４０重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。
【0128】
実施形態９
【0129】
別の好ましい実施形態では、開示され特許請求される溶液は、
（ｉ）約１０重量％～約１５重量％のＴＥＡＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）約６２．５重量％のＤＭＳＯ、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノールを含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の有機溶媒、
（ｉｉｉ）約０．５重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
（ｉｖ）約２４重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の第２の溶媒、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
（ｉ）約１０重量％～約１５重量％のＴＥＡＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）約６２．５重量％のＤＭＳＯ、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノールを含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る１又は複数の有機溶媒、
（ｉｉｉ）約０．５重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
（ｉｖ）約２４重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の第２の溶媒、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
【0130】
この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、約６２．５重量％のＤＭＳＯを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、約６２．５重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、約６２．５重量％のジエチレングリコールモノブチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、約６２．５重量％のトリエチレングリコールモノメチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、約６２．５重量％の３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノールを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。
【0131】
この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約１０重量％～約１３．５重量％のＴＥＡＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、溶液は、約１３重量％のＴＥＡＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。
【0132】
実施形態１０
【0133】
別の好ましい実施形態では、開示され特許請求される溶液は、
（ｉ）約１．５重量％～約２．０重量％のＫＯＨ、約２．５重量％～約３．０重量％のＤＭＤＰＡＨ、１０重量％～約１５重量％のＴＥＡＨ、５重量％～約１５重量％のＴＭＡＨ、５重量％～約１５重量％のＥＴＭＡＨ、及び約１０重量％～約１３重量％のコリンヒドロキシドのうちの１つを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）約６０重量％～約７３重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の有機溶媒、
（ｉｉｉ）約０．５重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
（ｉｖ）約２４重量％～約２５重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の第２の溶媒、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
（ｉ）約１．５重量％～約２．０重量％のＫＯＨ、約２．５重量％～約３．０重量％のＤＭＤＰＡＨ、１０重量％～約１５重量％のＴＥＡＨ、５重量％～約１５重量％のＴＭＡＨ、５重量％～約１５重量％のＥＴＭＡＨ、及び約１０重量％～約１３重量％のコリンヒドロキシドのうちの１つを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の塩基成分、
（ｉｉ）約６０重量％～約７３重量％のジエチレングリコールモノエチルエーテルを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の有機溶媒、
（ｉｉｉ）約０．５重量％のベンゾグアナミンを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数のトリアジン誘導体腐食防止剤、
（ｉｖ）約２４重量％～約２５重量％の水を含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る１又は複数の第２の溶媒、
を含む、本質的にそれらから成る、又はそれらから成る。
【0134】
この実施形態のさらなる態様では、（ｉｉ）１又は複数の有機溶媒は、さらに、約１０．５重量％のプロピレングリコールを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る。この実施形態のさらなる態様では、約１．８重量％のＫＯＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る（ｉ）１又は複数の塩基成分。この実施形態のさらなる態様では、約２．６重量％のＤＭＤＰＡＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る（ｉ）１又は複数の塩基成分。この実施形態のさらなる態様では、約１０重量％～約１３．５重量％のＴＥＡＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る（ｉ）１又は複数の塩基成分。この実施形態のさらなる態様では、約１３重量％のＴＥＡＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る（ｉ）１又は複数の塩基成分。この実施形態のさらなる態様では、約８重量％のＴＭＡＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る（ｉ）１又は複数の塩基成分。この実施形態のさらなる態様では、約８重量％のＥＴＭＡＨを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る（ｉ）１又は複数の塩基成分。この実施形態のさらなる態様では、約１１．２５重量％のコリンヒドロキシドを含む、本質的にそれから成る、又はそれから成る（ｉ）１又は複数の塩基成分。
【0135】
他の所望に応じて含まれる又は除外される原料成分
【0136】
いくつかの実施形態では、開示され特許請求される溶液は、窒素含有溶媒、ビス－コリン塩、トリ－コリン塩、オキソアンモニウム化合物、ヒドロキシルアミン及びその誘導体、過酸化水素、酸化剤、界面活性剤、硫黄含有化合物、無機酸、カルボン酸などの有機酸、並びにこれらの組み合わせのうちの１又は複数を、いかなる組み合わせでも、実質的に含まない、又は含まない（これらの用語は先に定義した通りである）。
【0137】
いくつかの実施形態では、本明細書に開示される組成物は、以下の化学化合物、すなわちアルキルチオール及び有機シランのうちの少なくとも１つを実質的に含まない又は含まないように配合される。
【0138】
いくつかの実施形態では、開示され特許請求される溶液は、ハライド含有化合物の１又は複数を実質的に含まない又は含まないように配合され、例えば、溶液は、フッ素含有化合物、臭素含有化合物、塩素含有化合物、又はヨウ素含有化合物のうちの１又は複数を実質的に含まなくてよい又は含まなくてよい。
【0139】
いくつかの実施形態では、開示され特許請求される主題は、アミドキシム化合物を含まない。いくつかの実施形態では、開示され特許請求される主題は、金属含有化合物を含まない。
【0140】
いくつかの実施形態では、開示され特許請求される溶液は、スルホン酸及び／若しくはリン酸及び／若しくは硫酸及び／若しくは硝酸及び／若しくは塩酸を実質的に含まない又は含まない。
【0141】
いくつかの実施形態では、開示され特許請求される溶液は、エチルジアミン、ナトリウム含有化合物、及び／若しくはカルシウム含有化合物、及び／若しくはマンガン含有化合物、若しくはマグネシウム含有化合物、及び／若しくはクロム含有化合物、及び／若しくは硫黄含有化合物、及び／若しくはシラン含有化合物、及び／若しくはリン含有化合物のうちの１又は複数を実質的に含まない又は含まない。
【0142】
いくつかの実施形態では、開示され特許請求される溶液は、界面活性剤を実質的に含まない又は含まない。
【0143】
いくつかの実施形態では、開示され特許請求される溶液は、両性塩、及び／若しくはカチオン性界面活性剤、及び／若しくはアニオン性界面活性剤、及び／若しくは双性イオン性界面活性剤、及び／若しくは非イオン性界面活性剤を実質的に含まない又は含まない。
【0144】
いくつかの実施形態では、開示され特許請求される溶液は、イミダゾール及び／若しくは無水物を含まない又は含まない。
【0145】
いくつかの実施形態では、開示され特許請求される溶液は、ピロリドン及び／若しくはアセトアミドを実質的に含まない又は含まない。
【0146】
いくつかの実施形態では、開示され特許請求される溶液は、過酸化化合物、及び／若しくは過酸化物、及び／若しくは過硫酸塩、及び／若しくは過炭酸塩、並びにそれらの酸、及びそれらの塩を実質的に含まない又は含まない。
【0147】
いくつかの実施形態では、開示され特許請求される溶液は、ヨウ素酸塩、及び／若しくは過ホウ酸、及び／若しくは過炭酸塩、及び／若しくは過酸、及び／若しくはセリウム化合物、及び／若しくはシアン化物、及び／若しくは過ヨウ素酸、及び／若しくはモリブデン酸アンモニウム、及び／若しくはアンモニア、及び／若しくは研磨剤を実質的に含まない又は含まない。
【0148】
いくつかの実施形態では、開示され特許請求される溶液は、銅塩（１又は複数）を実質的に含まない又は含まない。いくつかの実施形態では、開示され特許請求される溶液は、糖アルコール（１又は複数）を実質的に含まない又は含まない。いくつかの実施形態では、開示され特許請求される溶液は、銅塩（１又は複数）及び糖アルコール（１又は複数）を実質的に含まない又は含まない。
【0149】
使用方法
【0150】
開示され特許請求される主題はさらに、開示され特許請求されるフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液の１又は複数を用いて、基板から１若しくは複数のフォトレジスト又はエッチング残渣又は同様の材料を、全体的に又は部分的に除去する方法も含む。上述したように、開示され特許請求されるフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液は、単層で又はある特定の種類の二層レジストで存在するポリマーレジスト材料を除去するために用いることができる。以下に教示される方法を用いることで、単一のポリマー層を有する標準的なウェハから、単一のポリマーレジスト層を効果的に除去することができる。同じ方法はまた、第１の無機層と第２の又は外側のポリマー層とから構成される二層を有するウェハから、単一のポリマー層を除去するためにも用いることができる。そしてさらに、２つのポリマー層から構成される二層を有するウェハから、２つのポリマー層を効果的に除去することができる。
【0151】
この実施形態の１つの態様では、基板からフォトレジスト又はエッチング残渣を除去するプロセス又は方法は、
（ｉ）基板を、フォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液の１又は複数に、所望される量のフォトレジスト又は同様の材料を除去するのに充分な時間にわたって接触させる工程、
（ｉｉ）溶液から基板を取り出す工程、
（ｉｉｉ）基板から溶液をＤＩ水又は溶媒ですすぎ落とす工程、及び
（ｉｖ）所望に応じて、基板を乾燥させる工程、
を含む。
（ｉ）基板を、フォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液の１又は複数に、所望される量のフォトレジスト又は同様の材料を除去するのに充分な時間にわたって接触させる工程、
（ｉｉ）溶液から基板を取り出す工程、
（ｉｉｉ）基板から溶液をＤＩ水又は溶媒ですすぎ落とす工程、及び
（ｉｖ）所望に応じて、基板を乾燥させる工程、
を含む。
【0152】
１つの実施形態では、工程（ｉ）は、フォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液の１又は複数に基板を浸漬すること、並びに所望に応じてフォトレジストの除去を促進するために基板にかき混ぜを施すこと、を含む。そのようなかき混ぜは、機械的撹拌、循環、又は組成物を通しての不活性ガスのバブリングによって行われ得る。
【0153】
１つの実施形態では、工程（ｉｉ）は、基板を水又はアルコールですすぐことを含む。この実施形態の１つの態様では、水の好ましい形態は、ＤＩ水である。この実施形態の別の態様では、好ましい溶媒は、イソプロパノール（ＩＰＡ）である。この実施形態の別の態様では、酸化を受ける成分は、不活性雰囲気下ですすがれる又はすすがれ得る。
【0154】
上記の方法（及びその変型例）を用いて、開示され特許請求されるフォトレジスト剥離剤及びエッチング残渣除去剤溶液は、厚い及び薄いポジティブトーン又はネガティブトーンフォトレジストの除去に用いることができる。厚いフォトレジストは、半導体デバイスの先進パッケージング用途における、約５μｍ～約１００μｍ以上、又は約１５μｍ～１００μｍ、又は約２０μｍ～約１００μｍのレジストであってよい。他の場合では、化学溶液は、約０．１μｍ～約１００μｍ以上、又は約０．２μｍ～１００μｍ、又は約０．３μｍ～約１００μｍのフォトレジストを除去するために用いられ得る。
【実施例】
【0155】
次に、本開示のより具体的な実施形態及びそのような実施形態の裏付けを提供する実験結果を参照する。これらの例は、開示される主題をより充分に例証するために以下に示されるものであり、いかなる意味においても開示される主題を限定するものとして解釈されるべきではない。
【0156】
開示される主題の趣旨又は範囲から逸脱することなく、本明細書で開示される主題及び提供される具体例において様々な改変及び変更が成され得ることが、当業者に明らかであろう。したがって、以下の例によって提供される記述内容を含む開示される主題は、何れかの請求項及びそれらの均等物の範囲内に含まれる開示される主題の改変及び変更を包含することが意図される。
【0157】
材料及び方法：
【0158】
本特許で用いられるすべての材料は、Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈから購入したもの及び／又は入手可能なものであり、受け取ったままの状態で配合物に用いた。すべての表中の材料の量は、重量％値として報告しており、特に断りのない限り、適宜「無希釈の」値を反映している。配合物重量の残量は、原材料中に存在する水分に由来する。
【0159】
試験は、ブランケットＣｕウェハを用いて行った。浸漬プロセスでは、半導体ウェハの３つのクーポンサイズのサンプルをビーカー中で処理した。ビーカーに１００グラムの剥離組成物を入れ、目標温度まで加熱した。剥離組成物が目標温度の７０℃になった時点で、３つのクーポンをビーカー中のホルダー内に配置し、スターラーバーで僅かなかき混ぜを施した。温度は、プロセス全体を通して、表中のプロセス温度に維持した。１０～３０分間の合計処理時間の後、クーポンをビーカーから取り出し、ＤＩ水及びＩＰＡですすぎ、窒素気流で乾燥させた。
【0160】
Ｃｕのエッチング速度は、ＣＤＥの４点プローブＲＥＳＭＡＰを用いて、配合物中での処理前後の膜厚を測定することによって決定する。典型的な開始層厚さは、銅基板では１０００Åであった。銅基板を、調製した配合物中、７０℃で、異なる撹拌速度で１０～３０分間にわたって処理し、その後、銅基板を水ですすぎ、窒素ガスを吹き付けることで乾燥した。
【0161】
以下の略語を、以下の表中の様々な組成物で用いる。
【表1】
【0162】
すべての表中の材料の量は、重量％値として報告しており、特に断りのない限り、適宜「無希釈の」値を反映している。例示的配合物及び比較配合物に対して列挙した原料成分はすべて、合計で１００重量％である。比較例は、グアナミン（例：ＢＺＧ）腐食防止剤を含まない。
【0163】
非水性の実施例及び比較例
【0164】
配合物１及び２は、以下の原料成分を組み合わせることによって調製した。
【表2】
【0165】
ストック配合物は、８０．９％のＤＭＳＯ、６．０％のモノエタノールアミン、及び１３．１０％のＤＭＤＰＡＨ＋ＰＧから構成した。異なる銅腐食防止剤を、様々な異なる濃度でベース配合物に添加して、配合物１と比較した銅エッチングに対するそれらの保護について試験した。銅エッチング速度は、７０℃で２０分間にわたり、１００ｒｐｍ及び４００ｒｐｍの２つの撹拌速度で試験した。
【0166】
表２は、試験した腐食防止剤の中で、２，４－ジアミノ－６－フェニル－１，３，５－トリアジン（ベンゾグアナミン）及びメラミンが、異なる撹拌速度において明らかに低い銅エッチング速度を示したことを示している。これら２つの腐食防止剤を含む配合物は、色の変化をまったく示さなかった。Ｃｕ面も、色の変化を示さなかった。これら２つの腐食防止剤のより高い濃度についても試験した。これを表３に列挙する。これらの結果から、これら２つの腐食防止剤が、広い濃度範囲で良好な銅腐食防止剤であったことが明らかに示された。レゾルシノール及びカテコールは何れも、ある特定の濃度では低い銅エッチング速度を示したが、それらの配合物は暗色への変色を示し、これらの腐食防止剤の不安定性が示唆された。
【表3】
【表4】
【0167】
銅腐食防止剤として銅塩も試験し、その結果を表４に示した。明らかに銅塩も良好な銅エッチング防止剤であった。しかし、処理の後、銅面の色が暗色に変化し、銅面への吸着が示唆された。また、これらの配合物は、時間の経過と共に沈殿を示し、それは銅塩の濃度が高い場合により明らかであった。銅腐食防止剤としての銅塩の不安定性を表４に示した。銅エッチング速度は、硝酸銅ではエージング時間と共に徐々に増加したが、ベンゾグアナミンでは、銅エッチング速度に大きな変化は見られず、銅面の色の変化も観察されなかった。
【表5】
【0168】
表５に示すように、他の腐食防止剤とベンゾグアナミンとの組み合わせも、銅エッチング防止について試験した。その結果から、他の腐食防止剤をベンゾグアナミンと組み合わせることで、銅エッチング速度が明らかに低下することが示された。これらの腐食防止剤の中で、レゾルシノールとベンゾグアナミンとの組み合わせが、最も低い銅エッチング速度を示した。
【表6】
【0169】
表６に示すように、（０．８重量％）ベンゾグアナミンと（０．８重量％）レゾルシノールとの組み合わせにおける銅エッチング速度の試験も、５０℃の加速エージング試験で行った。示されるように、銅エッチング速度は、エージング時間によって大きな変化を示さず、これは、ベンゾグアナミンの安定した銅腐食防止挙動を示している。
【表7】
【0170】
表７は、配合物２を使用した場合の他の金属に対するエッチング速度を示している。
【表8】
【0171】
水を含む実施例及び比較例
【0172】
水を含む配合物を、表８（ＫＯＨ）、表９（ＤＭＤＰＡＨ）、表１０（ＴＥＡＨ）、表１１（ＴＥＡＨ）、及び表１２（各種）に示すように、異なる塩基を組み合わせて調製した。
【表9】
【表10】
【表11】
【表12】
【表13】
【0173】
配合物例の分析：腐食防止剤及びエッチング速度
【0174】
表８～表１２は、Ｃｕエッチング速度を測定するために浸漬プロセスを用いて試験した（ｉ）比較剥離溶液、及び（ｉｉ）開示され特許請求される主題に従う溶液を示す。Ｃｕ層の厚さを、ＲＥＳＭＡＰを使用して、各クーポンについて処理の前後に測定し、厚さの変化及びエッチング速度を推定した。
【0175】
０重量％、１５重量％、２５重量％、及び４０重量％の異なる水のレベルを試験して、ＤＥ溶媒及び強塩基のＣｕエッチング速度をモニタリングした。表８～表１２に示す開示され特許請求される主題の例示的な溶液は、ベンゾグアナミンが、様々な強塩基を使用した場合において、水のレベルに関係なくＣｕエッチング速度を大きく低下させることを示した。ＴＥＡＨと、ＤＭＳＯ、ＤＥ溶媒、ＤＢ溶媒、ＭＭＢ、及びＴＥＧＭＥなどの様々な溶媒とを含む配合物のＣｕエッチング速度を、トリアジン腐食防止剤を含む場合と含まない場合とで試験した。開示され特許請求される主題の例示的な溶液はまた、ベンゾグアナミンが、様々な異なる溶媒及び溶媒混合物の場合において、Ｃｕエッチング速度を大きく低下させることも示した。実証されたように、開示され特許請求される主題の溶液は、ベンゾグアナミンの使用が、予想外なことには、強塩基に関係なく、Ｃｕエッチング速度を大きく低下させることを示した。
【0176】
開示され特許請求される主題を、ある程度詳細に記載し、示してきたが、本開示が単なる例として成されたに過ぎないこと、並びに開示され特許請求される主題の趣旨及び範囲から逸脱することなく、当業者によって、条件及び工程の順序の数多くの変更が行われ得ることが理解される。
【国際調査報告】