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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-12-19
(54)【発明の名称】結晶性中間体
(51)【国際特許分類】
C07D 493/10 20060101AFI20241212BHJP
【ＦＩ】
C07D493/10 CSP
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2024537351
(86)(22)【出願日】2022-12-21
(85)【翻訳文提出日】2024-08-15
(86)【国際出願番号】 AU2022051546
(87)【国際公開番号】W WO2023115123
(87)【国際公開日】2023-06-29
(31)【優先権主張番号】2021904153
(32)【優先日】2021-12-21
(33)【優先権主張国・地域又は機関】AU
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】519029516
【氏名又は名称】キューバイオティクス プロプライアタリー リミティド
(74)【代理人】
【識別番号】100099759
【弁理士】
【氏名又は名称】青木 篤
(74)【代理人】
【識別番号】100123582
【弁理士】
【氏名又は名称】三橋 真二
(74)【代理人】
【識別番号】100117019
【弁理士】
【氏名又は名称】渡辺 陽一
(74)【代理人】
【識別番号】100141977
【弁理士】
【氏名又は名称】中島 勝
(74)【代理人】
【識別番号】100138210
【弁理士】
【氏名又は名称】池田 達則
(74)【代理人】
【識別番号】100231902
【弁理士】
【氏名又は名称】吉田 李花
(72)【発明者】
【氏名】ルカ ドメニギーニ
(72)【発明者】
【氏名】ロレーナ フマガリ
(72)【発明者】
【氏名】アンドレア ガンビーニ
(72)【発明者】
【氏名】ニコーラ サルドーネ
(57)【要約】
６，７－エポキシチグリアン化合物の製造において有用な結晶性中間体が本明細書において提供される。結晶性中間体を用いて６，７－エポキシチグリアン化合物を作製する方法、並びに結晶性中間体を用いて生成することができる高純度６，７－エポキシチグリアン化合物も提供される。
【選択図】 図１
【選択図】 図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
式（Ｉ）：【化1】
【請求項2】
式（Ｉａ）：【化2】
【請求項3】
無水形態である、請求項１又は２に記載の結晶形態。
【請求項4】
２θ約１０．５度にピークを含むＸ線粉末回折パターンを示す、請求項３に記載の結晶形態。
【請求項5】
２θ約６．２度、約７．６度及び約１０．５度にピークを含むＸ線粉末回折パターンを示す、請求項３又は４に記載の結晶形態。
【請求項6】
２θ約６．２度、約７．６度、約１０．５度、約１２．５度及び約１５．２度にピークを含むＸ線粉末回折パターンを示す、請求項３～５のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項7】
２θ約６．２度、約７．６度、約１０．５度、約１２．５度、約１５．２度、約１６．２度、約１８．３度、約１９．９度、約２３．２度及び約２７．８度にピークを含むＸ線粉末回折パターンを示す、請求項３～６のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項8】
２θ約１１．４度にピークを含むＸ線粉末回折パターンを示す、請求項３に記載の結晶形態。
【請求項9】
２θ約８．５度、約９．８度及び約１１．４度にピークを含むＸ線粉末回折パターンを示す、請求項８に記載の結晶形態。
【請求項10】
２θ約４．９度、約８．５度、約９．８度、約１１．４度及び約１４．６度にピークを含むＸ線粉末回折パターンを示す、請求項８又は９に記載の結晶形態。
【請求項11】
２θ約４．９度、約８．５度、約９．８度、約１１．４度、約１４．６度、約１６．５度、約１７．５度、約１９．５度、約２１．４度、約２７．７度及び約２８．７度にピークを含むＸ線粉末回折パターンを示す、請求項３～６のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項12】
メタノール溶媒和物の形態である、請求項１又は２に記載の結晶形態。
【請求項13】
２θ約９．５度にピークを含むＸ線粉末回折パターンを示す、請求項１２に記載の結晶形態。
【請求項14】
２θ約７．２度、約９．５度及び約１３．１度にピークを含むＸ線粉末回折パターンを示す、請求項１２又は１３に記載の結晶形態。
【請求項15】
２θ約７．２度、約９．５度、約１１．５度、約１３．１度及び約１７．９度にピークを含むＸ線粉末回折パターンを示す、請求項１２～１４のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項16】
２θ約７．２度、約９．５度、約１１．５度、約１２．６度、約１３．１度、約１４．０度、約１７．９度、約２０．３度、約２１．２度、約２２．８度及び約３２．６度にピークを含むＸ線粉末回折パターンを示す、請求項１２～１５のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項17】
二水和物結晶形態である、請求項１又は２に記載の結晶形態。
【請求項18】
２θ約１０．５度に少なくとも１つのピークを含むＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンを示す、請求項１７に記載の結晶形態。
【請求項19】
２θ約１０．５度、約７．４度及び約１２．４度にピークを含むＸＲＰＤパターンを示す、請求項１７又は１８に記載の結晶形態。
【請求項20】
２θ約１０．５度、約７．４度、約１２．４度、約６．２度、約９．９度及び約１５．３度にピークを含むＸＲＰＤパターンを示す、請求項１７～１９のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項21】
２θ約６．２度、約７．４度、約８．９度、約９．９度、約１０．５度、約１２．４度、約１５．３度、約１８．６度、約２０．２度、約２１．１度、約２２．４度、約２２．９度、約２６．０度、約２７．０度、約２７．３度及び約３３．７度にピークを有するＸＲＰＤパターンを示す、請求項１７～２１のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項22】
式（Ｉ）又は式（Ｉａ）の前記化合物が実質的に純粋な形態である、請求項１～２１のいずれか一項に記載の結晶形態。
【請求項23】
式（Ｉ）の化合物の結晶形態を作製する方法であって、ｉ）式（ＩＩ）：
【化3】
Ｒ１は、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、Ｃ２～Ｃ２０アルキニル、シクロアルキル、アリール、Ｃ１～１０アルキルシクロアルキル、Ｃ２～１０アルケニルシクロアルキル、Ｃ２～１０アルキニルシクロアルキル、Ｃ１～１０アルキルアリール、Ｃ２～１０アルケニルアリール、Ｃ２～１０アルキニルアリール、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ１～１０アルキルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ（Ｏ）Ｃ２～１０アルケニルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ２～１０アルキニルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ１～１０アルキルＳＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＳＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＳＲ２、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）ＳＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）ＳＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）ＳＲ２、
【化4】
Ｒ２は、水素、－Ｃ１～１０アルキル、－Ｃ２～１０アルケニル、－Ｃ２～１０アルキニル、シクロアルキル又はアリールであり、
式中、各アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル又はアリール基は、任意選択で置換されている］を提供する工程と、
ｉｉ）式（ＩＩ）の前記化合物を２，２－ジメトキシプロパン及び弱酸性触媒で処理することによって、式（ＩＩＩ）：
【化5】
ｉｉｉ）式（ＩＩＩ）のＣ１２及びＣ１３におけるエステルを脱エステル化して、式（ＩＩＩ）の前記化合物を塩基で処理することによって式（Ｉ）：
【化6】
ｉｖ）式（Ｉ）の前記化合物を結晶化させる工程と、を含む方法。
【請求項24】
式（ＩＩ）の前記化合物が、式（ＩＩａ）：【化7】
【請求項25】
前記立体化学が、式（Ｉａ）の化合物を生成するように維持される、請求項２４に記載の方法。
【請求項26】
式（Ｉ）又は式（Ｉａ）の前記化合物をメタノール溶媒から結晶化させてメタノール溶媒和物を形成する、請求項２３～２５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項27】
式（Ｉ）又は式（Ｉａ）の前記化合物をアセトニトリルから結晶化させて無水結晶形態を形成する、請求項２３～２５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項28】
式（Ｉ）の前記化合物又は式（Ｉａ）の前記化合物のＣ１２ヒドロキシ基及びＣ１３ヒドロキシ基の一方又は両方を、活性化カルボン酸との反応によってエステル化することを更に含む、請求項２３～２７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項29】
酸化条件下で５，２０－アセトニド基を除去して、式（ＩＶ）：【化8】
Ｒ１は、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、Ｃ２～Ｃ２０アルキニル、シクロアルキル、アリール、Ｃ１～１０アルキルシクロアルキル、Ｃ２～１０アルケニルシクロアルキル、Ｃ２～１０アルキニルシクロアルキル、Ｃ１～１０アルキルアリール、Ｃ２～１０アルケニルアリール、Ｃ２～１０アルキニルアリール、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ１～１０アルキルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ（Ｏ）Ｃ２～１０アルケニルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ２～１０アルキニルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ１～１０アルキルＳＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＳＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＳＲ２、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）ＳＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）ＳＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）ＳＲ２、
【化9】
Ｒ２は、水素、－Ｃ１～１０アルキル、－Ｃ２～１０アルケニル、－Ｃ２～１０アルキニル、シクロアルキル又はアリールであり、
式中、各アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル又はアリール基は、任意選択で置換されている］
又はその立体異性体若しくは薬学的に許容される塩、を提供する工程を更に含む、請求項２８に記載の方法。
【請求項30】
請求項２３に記載の方法によって生成された、１２－チグロイル－１３－（２－メチルブタノイル）－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オン。
【請求項31】
請求項２３に記載の方法によって生成された、１２，１３－ジヘキサノイル－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オン。
【請求項32】
実質的に純粋な形態の、１２－チグロイル－１３－（２－メチルブタノイル）－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オン又は１２，１３－ジヘキサノイル－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オン。
【請求項33】
式（Ｉ）：【化10】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本出願は、２０２１年１２月２１日に出願されたオーストラリア特許仮出願第２０２１９０４１５３号からの優先権を主張するものであり、その全内容は参照により本明細書に組み込まれる。
【0002】
本発明は、６，７－エポキシチグリアン化合物の製造において有用な結晶性中間体に関する。結晶性中間体を用いて６，７－エポキシチグリアン化合物を作製する方法、並びに結晶性中間体を用いて生成することができる高純度６，７－エポキシチグリアン化合物も開示される。
【背景技術】
【0003】
６，７－エポキシチグリアンは、固形腫瘍がん及び細菌感染などの疾患並びに創傷治癒の促進においてヒト及び獣医学的治療用途を有することが示されているジテルペンエステルのクラスである（国際公開第２００７０７０９８５号、同第２０１４１６９３５６号）。いくつかの６，７－エポキシチグリアン化合物、例えばチギラノールチグラート（化合物１、１２－チグロイル－１３－（２－メチルブタノイル）－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オン、国際公開第２００７０７０９８５号）は、Ｆｏｎｔａｉｎｅａ及びＨｙｌａｎｄｉａ種に属する植物において天然に存在する。他のエポキシチグリアン化合物、例えば、１２，１３－ジヘキサノイル－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オン（化合物２、国際公開第２０１４１６９３５６号）は、天然に存在する６，７－エポキシチグリアン化合物から半合成プロセスによって誘導される。
【0004】
少なくともいくつかのエポキシチグリアン化合物は植物材料から治療量で入手可能であるが、得られた抽出物は、分離が困難であり得る複数の密接に関連したエポキシチグリアン化合物を含有する。抽出された６，７－エポキシチグリアン化合物の変動は、６，７－エポキシチグリアン構造のＣ１２位及びＣ１３位のエステル基において生じるので、抽出物を処理してＣ１２エステル及びＣ１３エステルを脱アシル化して、Ｃ１２位及びＣ１３位にヒドロキシ基を有する単一の６，７－エポキシチグリアン化合物を得ることが以前に提案されている。次いで、この中間体化合物を合成的に操作して、単一の所望の天然又は非天然６，７－エポキシチグリアン化合物を生成することができる（国際公開第２０１４１６９３５６号）。
【0005】
しかしながら、このようにして生成された６，７－エポキシチグリアン化合物は、有害であると考えられ得る望ましくない溶媒及び不純物の除去を確実にするために、依然として精製を必要とする。いくつかの合成プロセスでは、６，７エポキシチグリアン化合物のごく一部が６，７－エポキシド環の開環を受け、以下のようなヒドロクロリド付加物：
を形成することが見出されている。
【化1】
【0006】
これらの化合物は、有毒な不純物と考えられ、所望の６，７－エポキシチグリアン化合物から除去することが困難であり、クロマトグラフィー精製工程中に所望の化合物の損失及び低収率をもたらす。
【0007】
生成物６，７－エポキシチグリアン化合物の結晶化による精製が試みられてきたが、これらの化合物は結晶化に対して特に耐性があるようである。
【0008】
高収率及び高純度の治療用生成物をもたらす６，７－エポキシチグリアン化合物の製造方法が必要とされている。
【0009】
任意の先行技術の刊行物が本明細書において言及される場合、そのような言及は、その刊行物がオーストラリア又は任意の他の国において当技術分野における共通の一般知識の一部を形成することを認めるものではないことが理解されるべきである。
【発明の概要】
【0010】
本発明は、治療的に有用な６，７－エポキシチグリアン化合物の合成調製における重要な中間体が結晶化して高純度生成物を形成し、所望の６，７－エポキシチグリアン化合物の高収率及び高純度での調製を可能にするという発見に少なくとも部分的に基づく。
【0011】
本発明の第１の態様では、式（Ｉ）：
の化合物の結晶形態、又はその立体異性体、薬学的に許容される塩若しくは溶媒和物が提供される。
【化2】
【0012】
本発明の別の態様では、式（Ｉ）の化合物の結晶形態を作製する方法であって、
ｉ）式（ＩＩ）：
の１種以上の化合物を含む組成物［式中、各Ｒは、Ｈ及び－Ｃ（Ｏ）Ｒ１から独立して選択され、式（ＩＩ）の１つの化合物のみが組成物中に存在する場合、少なくとも１つのＲ基は、水素ではなく、そして
Ｒ１は、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、Ｃ２～Ｃ２０アルキニル、シクロアルキル、アリール、Ｃ１～１０アルキルシクロアルキル、Ｃ２～１０アルケニルシクロアルキル、Ｃ２～１０アルキニルシクロアルキル、Ｃ１～１０アルキルアリール、Ｃ２～１０アルケニルアリール、Ｃ２～１０アルキニルアリール、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ１～１０アルキルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ（Ｏ）Ｃ２～１０アルケニルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ２～１０アルキニルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ１～１０アルキルＳＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＳＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＳＲ２、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）ＳＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）ＳＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）ＳＲ２、
から選択され、
Ｒ２は、水素、－Ｃ１～１０アルキル、－Ｃ２～１０アルケニル、－Ｃ２～１０アルキニル、シクロアルキル又はアリールであり、
式中、各アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル又はアリール基は、任意選択で置換されている］を提供する工程と、
ｉｉ）式（ＩＩ）の化合物を２，２－ジメトキシプロパン及び弱酸性触媒で処理することによって、式（ＩＩＩ）：
の５，２０－アセトニドを形成する工程と、
ｉｉｉ）式（ＩＩＩ）のＣ１２及びＣ１３におけるエステルを脱エステル化して、式（ＩＩＩ）の化合物を塩基で処理することによって式（Ｉ）：
の化合物を提供する工程と、
ｉｖ）式（Ｉ）の化合物を結晶化させる工程と、を含む方法が提供される。
ｉ）式（ＩＩ）：
【化3】
Ｒ１は、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、Ｃ２～Ｃ２０アルキニル、シクロアルキル、アリール、Ｃ１～１０アルキルシクロアルキル、Ｃ２～１０アルケニルシクロアルキル、Ｃ２～１０アルキニルシクロアルキル、Ｃ１～１０アルキルアリール、Ｃ２～１０アルケニルアリール、Ｃ２～１０アルキニルアリール、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ１～１０アルキルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ（Ｏ）Ｃ２～１０アルケニルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ２～１０アルキニルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ１～１０アルキルＳＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＳＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＳＲ２、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）ＳＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）ＳＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）ＳＲ２、
【化4】
Ｒ２は、水素、－Ｃ１～１０アルキル、－Ｃ２～１０アルケニル、－Ｃ２～１０アルキニル、シクロアルキル又はアリールであり、
式中、各アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル又はアリール基は、任意選択で置換されている］を提供する工程と、
ｉｉ）式（ＩＩ）の化合物を２，２－ジメトキシプロパン及び弱酸性触媒で処理することによって、式（ＩＩＩ）：
【化5】
ｉｉｉ）式（ＩＩＩ）のＣ１２及びＣ１３におけるエステルを脱エステル化して、式（ＩＩＩ）の化合物を塩基で処理することによって式（Ｉ）：
【化6】
ｉｖ）式（Ｉ）の化合物を結晶化させる工程と、を含む方法が提供される。
【0013】
本発明のなお更なる態様では、実質的に純粋な形態の１２－チグロイル－１３－（２－メチルブタノイル）－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オン（化合物１）又は１２，１３－ジヘキサノイル－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オン（化合物２）が提供される。
【0014】
本発明のなお更なる態様では、式（Ｉ）：
の化合物の結晶形態を作製する方法であって、式（Ｉ）の化合物をアセトニトリル又はメタノール溶媒から結晶化させることを含む、方法が提供される。
【化7】
【図面の簡単な説明】
【0015】
【図1】式（Ｉａ）の化合物の無水結晶形態ＡのＸ線粉末回折パターンを示す。
【0016】
【図2】式（Ｉａ）の化合物の無水結晶形態ＢのＸ線粉末回折パターンを示す。
【0017】
【図3】式（Ｉａ）の化合物のメタノール溶媒和物のＸ線粉末回折パターンを示す。
【0018】
【図4】式（Ｉａ）の化合物の二水和物のＸ線粉末回折パターンを示す。
【発明を実施するための形態】
【0019】
発明の詳細な説明
定義
別途定義されない限り、本明細書で使用される全ての技術用語及び科学用語は、本発明が属する技術分野における当業者によって一般的に理解されるものと同じ意味を有する。本明細書に記載されるものと類似又は同等の方法及び材料を本発明の実施又は試験において使用することができるが、好ましい方法及び材料を記載する。本発明の目的のために、以下の用語を下記で定義する。
定義
別途定義されない限り、本明細書で使用される全ての技術用語及び科学用語は、本発明が属する技術分野における当業者によって一般的に理解されるものと同じ意味を有する。本明細書に記載されるものと類似又は同等の方法及び材料を本発明の実施又は試験において使用することができるが、好ましい方法及び材料を記載する。本発明の目的のために、以下の用語を下記で定義する。
【0020】
冠詞「ａ」及び「ａｎ」は、本明細書では、冠詞の文法的目的語の１つ又は２つ以上（すなわち、少なくとも１つ）を指すために使用される。例として、「要素（an element）」は、１つの要素又は２つ以上の要素を意味する。
【0021】
本明細書で使用される場合、「約」という用語は、参照数量、レベル、値、寸法、サイズ、又は量に対して３０％、２５％、２０％、１５％、又は１０％ほど変動する数量、レベル、値、寸法、サイズ、又は量を指す。Ｘ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンにおけるピークの位置に関して使用される場合、「約」という用語は、記載された位置の２θ±０．２度、特に、記載された位置の２θ±０．１度内のピークを含む。例えば、本明細書で使用される場合、「２θ約１０．０度」におけるＸＲＰＤピークは、記載されたピークが２θ９．８～１０．２度に生じることを意味する。
【0022】
本明細書全体を通して、文脈上他の意味に解すべき場合を除き、「含む（comprise）」、「含む（comprises）」及び「含む（comprising）」という語は、記載されたステップ若しくは要素又はステップ若しくは要素の群を含むが、任意の他のステップ若しくは要素又はステップ若しくは要素の群を除外しないことを意味すると理解される。
【0023】
「アルキル」という用語は、１～２０個の炭素原子を有する、任意選択で置換された直鎖及び分岐鎖の飽和炭化水素基を指す。適切な場合、アルキル基は、特定の数の炭素原子を有していてもよく、例えば、－Ｃ１～Ｃ６アルキルであり、これには、直鎖又は分枝鎖の配置で１、２、３、４、５又は６個の炭素原子を有するアルキル基が含まれる。アルキル基の非限定的な例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓ－及びｔ－ブチル、ペンチル、２－メチルブチル、３－メチルブチル、ヘキシル、２－メチルペンチル、３－メチルペンチル、４－メチルペンチル、２－エチルブチル、３－エチルブチル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル及びペンタデシルが挙げられる。
【0024】
「アルケニル」という用語は、２～２０個の炭素原子を有し、少なくとも１つの二重結合を有する、任意選択で置換された不飽和直鎖又は分岐鎖の炭化水素を指す。適切な場合、アルケニル基は、特定の数の炭素原子を有していてもよく、例えば、Ｃ２～Ｃ６アルケニルであり、これには、直鎖又は分岐鎖の配置で２、３、４、５又は６個の炭素原子を有するアルケニル基が含まれる。アルケニル基の非限定的な例としては、エテニル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、ｓ－及びｔ－ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプタ－１，３－ジエン、ヘキサ－１，３－ジエン、ノン－１，３，５－トリエンなどが挙げられる。
【0025】
「アルキニル」という用語は、２～２０個の炭素原子を有し、少なくとも１つの三重結合を有する、任意選択で置換された不飽和直鎖又は分岐鎖の炭化水素を指す。適切な場合、アルキニル基は、特定の数の炭素原子を有していてもよく、例えば、Ｃ２～Ｃ６アルキニルであり、これには、直鎖又は分岐鎖の配置で２、３、４、５又は６個の炭素原子を有するアルキニル基が含まれる。非限定的な例としては、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル及びヘキシニルが挙げられる。
【0026】
「シクロアルキル」及び「炭素環式」という用語は、任意選択で置換された飽和又は不飽和であるが、芳香族ではない単環式、二環式又は三環式炭化水素基を指す。適切な場合、シクロアルキル基は、特定の数の炭素原子を有していてもよく、例えば、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルは、３、４、５又は６個の炭素原子を有する炭素環式基である。非限定的な例としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロペンテニル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニルなどが挙げられ得る。
【0027】
「アリール」は、各環に７個までの原子を有し、少なくとも１つの環が芳香族である、Ｃ６～Ｃ１４員単環式、二環式又は三環式炭素環式環系を意味する。アリール基の例としては、フェニル、ナフチル、テトラヒドロナフチル、インダニル及びビフェニルが挙げられるが、これらに限定されない。アリールは、１～３個のベンゼン環を含んでもよい。２つ以上の芳香族環が存在する場合、隣接する環が共通の結合を共有するように、環は互いに縮合していてもよい。
【0028】
各アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル又はアリールは、個々の実体であっても、より大きな実体の一部としてであっても、Ｃ１～６アルキル、Ｃ２～６アルケニル、Ｃ２～６アルキニル、Ｃ３～６シクロアルキル、オキソ（＝Ｏ）、－ＯＨ、ＳＨ、ＯＣ１～６アルキル、ＯＣ２～６アルケニル、ＯＣ２～６アルキニル、ＯＣ３～６シクロアルキル、ＳＣ１～６アルキル、ＳＣ２～６アルケニル、ＳＣ２～６アルキニル、ＳＣ３～６シクロアルキル、ＣＯ２Ｈ、ＣＯ２Ｃ１～６アルキル、ＮＨ２、ＮＨ（Ｃ１～６アルキル）、Ｎ（Ｃ１～６アルキル）２、ＮＨ（フェニル）、Ｎ（フェニル）２、ＣＮ、ＮＯ２、ハロゲン、ＣＦ３、－ＯＣＦ３、ＳＣＦ３、ＣＨＦ２、ＯＣＨＦ２、ＳＣＨＦ２、フェニル、Ｃ１～６アルキルフェニル、Ｏフェニル、Ｃ（Ｏ）フェニル及びＣ（Ｏ）Ｃ１～６アルキルからなる群から選択される１つ以上の任意選択の置換基で、任意選択で置換されていてもよい。好適な置換基の例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ビニル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチル、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ、－ＣＯ２Ｈ、－ＣＯ２ＣＨ３、－Ｃ（Ｏ）ＣＨ３、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ジフルオロメチル、ジフルオロメトキシ、ジフルオロメチルチオ、モルホリノ、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、フェニル、フェノキシ、フェニルカルボニル、ベンジル及びアセチルが挙げられるが、これらに限定されない。
【0029】
エポキシチグリアン化合物は、薬学的に許容される塩の形態であってもよい。しかしながら、薬学的に許容されない塩もまた、これらが薬学的に許容される塩の調製において中間体として有用であり得る、又は保管若しくは輸送中に有用であり得るので、本発明の範囲内に含まれることが理解される。好適な薬学的に許容される塩としては、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸、炭酸、ホウ酸、スルファミン酸及び臭化水素酸などの薬学的に許容される無機酸の塩、又は酢酸、プロピオン酸、酪酸、酒石酸、マレイン酸、ヒドロキシマレイン酸、フマル酸、マレイン酸、クエン酸、乳酸、粘液酸、グルコン酸、安息香酸、コハク酸、シュウ酸、フェニル酢酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、サリチル酸、スルファニル酸、アスパラギン酸、グルタミン酸、エデト酸、ステアリン酸、パルミチン酸、オレイン酸、ラウリン酸、パントテン酸、タンニン酸、アスコルビン酸及び吉草酸などの薬学的に許容される有機酸の塩が挙げられるが、これらに限定されない。
【0030】
塩基塩としては、ナトリウム、カリウム、リチウム、カルシウム、マグネシウム、アンモニウム及びアルキルアンモニウムなどの薬学的に許容されるカチオンで形成されるものが挙げられるが、これらに限定されない。
【0031】
塩基性窒素含有基は、低級アルキルハライド、例えばメチル、エチル、プロピル及びブチルクロリド、ブロミド及びヨージド；ジアルキルスルフェート、例えばジメチル及びジエチルスルフェートなどの試薬で四級化されてもよい。
【0032】
また、エポキシチグリアン化合物は不斉中心を有してもよく、したがって２つ以上の立体異性体形態で存在することができることも認識されるであろう。したがって、本発明はまた、１つ以上の不斉中心で実質的に１つの立体異性体形態である化合物、例えば、９０％超のｅｅ、例えば、約９５％若しくは９７％ｅｅ、又は９９％超のｅｅである化合物、及びその混合物、例えばラセミ混合物に関する。そのような立体異性体は、天然源からの単離によって、キラル中間体を使用するなど不斉合成によって、又はキラル分割によって得ることができる。本発明の化合物はまた、幾何異性体として存在してもよい。本発明はまた、実質的に純粋なシス（Ｚ）若しくはトランス（Ｅ）形態の化合物又はそれらの混合物に関する。
【0033】
「６，７－エポキシチグリアン化合物」という用語は、以下の基本的な炭素環構造：
を有する化合物を指す。
【化8】
【0034】
この化合物は、６員環に付加された縮合シクロプロパン環を有するトリシクロ［９．３．０．０］テトラデカン系を有する。エポキシドは、６，７位で７員環に縮合している。
【0035】
６，７－エポキシチグリアン化合物の一例は、６，７－エポキシチグリエン－３－オン化合物である。「エポキシチグリエン－３－オン化合物」という用語は、５員環が１，２－エン－３－オン構造を有する、上に定義されたエポキシチグリアン構造を有する化合物：
を指す。
【化9】
【0036】
「実質的に純粋な形態」という用語は、９６％超の化学純度、特に９７％超、９８％超、９９％超若しくは１００％の化学純度、及び／又は９７％超のｅｅ、特に９８％超若しくは９９％超のｅｅ、より特に１００％のｅｅを有する生成物を指す。いくつかの実施形態では、実質的に純粋な形態は、不純物化合物Ａ及び／又はＢが０．５％未満、０．１％未満、０．０５％未満で存在する場合、最も特にはそれらが存在しない場合を指す。
【0037】
本発明は、結晶形態の式（Ｉ）の化合物、特に結晶形態の式（Ｉａ）の化合物に関する：
【化10】
【0038】
いくつかの実施形態では、結晶形態は無水結晶形態である。他の実施形態では、結晶形態はメタノール溶媒和物である。別の実施形態では、結晶形態は二水和物である。
【0039】
実施形態では、結晶形態が式（Ｉａ）の化合物の無水結晶形態である場合、その結晶形態は２つの形態のうちの１つであり得る。
【0040】
無水結晶形態の形態Ａは、２θ約１０．５度に少なくとも１つのピークを含むＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンを示す。別の実施形態では、無水結晶形態Ａは、２θ約１０．５度におけるピークと、２θ約６．２度及び約７．６度からなる群から選択される少なくとも１つのピークとを含むＸＲＰＤパターンを示す。別の実施形態では、無水結晶形態Ａは、２θ約１０．５度におけるピーク、２θ約６．２度及び約７．６度から選択される少なくとも１つのピーク、並びに２θ約１２．５度及び約１５．２度から選択される少なくとも１つのピークを含むＸＲＰＤパターンを示す。なお更なる実施形態では、無水結晶形態Ａは、２θ約１０．５度におけるピーク、２θ約６．２度及び約７．６度から選択される少なくとも１つのピーク、２θ約１２．５度及び約１５．２度から選択される少なくとも１つのピーク、並びに２θ約１６．２度、約１６．７度、約１８．３度、約１９．９度、約２３．３度及び約２７．８度から選択される少なくとも１つのピークを含むＸＲＰＤパターンを示す。一実施形態では、ＸＲＰＤパターンは、図１と実質的に同じである。別の実施形態では、無水結晶形態Ａは、２θ６．２度、７．６度、１０．５度、１２．５度、１５．２度、１６．２度、１６．７度、１８．３度、１９．９度、２１．５度、２３．３度、２５．２度及び２７．８度±０．２度にピークを有するＸＲＰＤパターンを有する。
【0041】
更に、無水結晶形態Ａは、約３４５８．４、３３４５．６、３０５６．９、２９８４．６、２９６８．６、２９４１．１、２８８２．４、１７０８．３、１６３６．１、１４５８．５、１３７６．１、１３１９．０、１２２３．５、１０８５．７、１０２５．４、１０００．３、９７３．７、９３０．３、９０２．１、８８０．３、８３２．１及び７６９．０ｃｍ－１において吸収周波数を含む、減衰全反射（ＡＴＲ）モードで４０００～５５０ｃｍ－１スペクトル範囲におけるフーリエ変換赤外（ＦＴＩＲ）スペクトルを特徴とする。
【0042】
いくつかの実施形態では、無水結晶形態Ａは、０．５％未満、特に０．３％未満、例えば約０．２８％の含水量を有する。
【0043】
いくつかの実施形態では、無水結晶形態Ａは、５０ｐｐｍ未満、特に４０ｐｐｍ未満、より特に２５ｐｐｍ未満、例えば、約３４ｐｐｍの残留有機溶媒のレベルを有する。
【0044】
第２の無水結晶形態（形態Ｂ）は、高湿度条件下、例えば、温度２５℃及び相対湿度８０％で６８時間にわたって無水結晶形態Ａから形成され得る。無水結晶形態Ｂは、保管時に安定であり、無水結晶形態Ａの保管時に存在し得る。
【0045】
無水結晶形態の形態Ｂは、２θ約１１．４度に少なくとも１つのピークを含むＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンを示す。別の実施形態では、無水結晶形態Ｂは、２θ約１１．４度におけるピークと、２θ約８．５度及び約９．８度からなる群から選択される少なくとも１つのピークとを含むＸＲＰＤパターンを示す。別の実施形態では、無水結晶形態Ｂは、２θ約１１．４度におけるピーク、２θ約８．５度及び約９．８度から選択される少なくとも１つのピーク、並びに２θ約４．９度及び約１４．６度から選択される少なくとも１つのピークを含むＸＲＰＤパターンを示す。なお更なる実施形態では、無水結晶形態Ｂは、２θ約１１．４度におけるピーク、２θ約８．５度及び約９．８度から選択される少なくとも１つのピーク、２θ約４．９度及び約１４．６度から選択される少なくとも１つのピーク、並びに２θ約１６．５度、約１７．５度、約１９．５度、約２１．４度、約２７．７度及び約２８．７度から選択される少なくとも１つのピークを含むＸＲＰＤパターンを示す。一実施形態では、ＸＲＰＤパターンは、図２と実質的に同じである。別の実施形態では、無水結晶形態Ｂは、２θ４．９、８．５、９．８、１１．４、１４．６、１６．５、１７．５、１９．５、２１．４、２７．７、２８．７±０．２度にピークを有するＸＲＰＤパターンを有する。
【0046】
いくつかの実施形態では、無水結晶形態Ｂは、０．５％未満、特に０．３％未満、例えば約０．２８％の含水量を有する。
【0047】
いくつかの実施形態では、無水結晶形態Ｂは、５０ｐｐｍ未満、特に４０ｐｐｍ未満、より特に２５ｐｐｍ未満、例えば、約３４ｐｐｍの残留有機溶媒のレベルを有する。
【0048】
結晶形態が式（Ｉａ）の化合物のメタノール溶媒和物結晶形態である実施形態では、その結晶形態は、２θ約９．５度に少なくとも１つのピークを含むＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンを示す。別の実施形態では、該結晶形態は、２θ約９．５度におけるピークと、２θ約７．２度及び約１３．１度からなる群から選択される少なくとも１つのピークとを含むＸＲＰＤパターンを示す。別の実施形態では、該結晶形態は、２θ約９．５度におけるピーク、２θ約７．２度及び約１３．１度から選択される少なくとも１つのピーク、並びに２θ約１１．５度、約１４．５度及び約１７．９度から選択される少なくとも１つのピークを含むＸＲＰＤパターンを示す。なお更なる実施形態では、該結晶形態は、２θ約９．５度におけるピーク、２θ約７．２度及び約１３．１度から選択される少なくとも１つのピーク、２θ約１１．５度、約１４．５度及び約１７．９度から選択される少なくとも１つのピーク、並びに２θ約２０．３度、約２１．２度、約２２．８度及び約３２．６度から選択される少なくとも１つのピークを含むＸＲＰＤパターンを示す。一実施形態では、ＸＲＰＤパターンは、図３と実質的に同じである。別の実施形態では、該メタノール溶媒和物結晶形態は、２θ７．２、９．５、１１．５、１２．６、１３．１、１４．０、１４．５、１７．０、１７．７、１７．９、１９．２、２０．３、２１．２、２２．８、２３．７、２４．７、２７．１、２８．３、２９．７及び３２．６±０．２度にピークを有するＸＲＰＤパターンを有する。
【0049】
更に、該結晶性メタノール溶媒和物は、約３４４３．１、３３７４．１、３１８９．１、３００２．６、２９７５．７、２９４４．４、２８６３．６、１７０３．３、１６３５．７、１４６１．９、１３７２．９、１２９０．７、１２２１．１、１０７７．１、１０２５．１、９９２．０、９７３．９、９２９．７、９０５．８、８７６．７、８２９．０及び７６９．１において吸収周波数を含む、減衰全反射（ＡＴＲ）モードで４０００～５５０ｃｍ－１スペクトル範囲におけるフーリエ変換赤外（ＦＴＩＲ）スペクトルを特徴とする。
【0050】
いくつかの実施形態では、該結晶性メタノール溶媒和物は、約１４５．３３℃で開始する吸熱ピーク、並びにいくつかの実施形態では、約２２１．１２℃及び／又は２３４．２２℃における１つ又は２つのより弱い吸熱ピークを特徴とする示差走査熱量測定（ＤＳＣ）プロファイルを有する。
【0051】
いくつかの実施形態では、該結晶性メタノール溶媒和物は、熱重量分析によって決定される場合、４～８％、特に５～６％の残留メタノールを含む。
【0052】
結晶形態が式（Ｉａ）の化合物の二水和物結晶形態である実施形態では、その結晶形態は、２θ約１０．５度に少なくとも１つのピークを含むＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンを示す。別の実施形態では、該結晶形態は、２θ約１０．５度におけるピークと、２θ約７．４度及び約１２．４度からなる群から選択される少なくとも１つのピークとを含むＸＲＰＤパターンを示す。別の実施形態では、該結晶形態は、２θ約１０．５度におけるピーク、２θ約７．４度及び約１２．４度から選択される少なくとも１つのピーク、並びに２θ約６．２度、約９．９度及び約１５．３度から選択される少なくとも１つのピークを含むＸＲＰＤパターンを示す。なお更なる実施形態では、該結晶形態は、２θ約１０．５度におけるピーク、２θ約７．４度及び約１２．４度から選択される少なくとも１つのピーク、２θ約６．２度、約９．９度及び約１５．３度から選択される少なくとも１つのピーク、並びに２θ約８．９度、約１８．６度、約２０．２度、約２２．４度、約２２．９度、約２６．０度、約２７．０度、約２７．３度及び約３３．７度から選択される少なくとも１つのピークを含むＸＲＰＤパターンを示す。一実施形態では、ＸＲＰＤパターンは、図４と実質的に同じである。別の実施形態では、該二水和物結晶形態は、２θ６．２、７．４、８．９、９．９、１０．５、１２．４、１５．３、１８．６、２０．２、２１．１、２２．４、２２．９、２６．０、２７．０、２７．３及び３３．７±０．２度にピークを有するＸＲＰＤパターンを有する。
【0053】
該二水和物結晶形態は、低温、例えば約５℃での保管時に形成され得、室温及び湿度８０％での保管によって無水形態Ａ又は無水形態Ｂに変換し戻り得る。
【0054】
いくつかの実施形態では、結晶形態は、実質的に純粋であり、例えば、９６％、９７％、９８％又は９９％超の化学純度、特に９９％～１００％の化学純度、より特に９９．５％～１００％の化学純度、及び任意選択で９７％超のｅｅ、特に９８％超のｅｅ又は９９％超のｅｅ、より特に１００％のｅｅを有する。
【0055】
いくつかの実施形態では、結晶形態は、単結晶形態、例えば、無水結晶形態の形態Ａ又は形態Ｂである。他の実施形態では、結晶形態は、結晶形態の混合物、例えば、形態Ａ及び形態Ｂの混合物、又は形態Ａ及び二水和物結晶溶媒和物の混合物である。しかしながら、複数の結晶形態が存在する場合であっても、式（Ｉａ）の化合物は、依然として実質的に純粋であり得、９６％、９７％、９８％又は９９％超の化学純度、特に９９％～１００％の化学純度、より特に９９．５％～１００％の化学純度、及び任意選択で９７％超のｅｅ、特に９８％超のｅｅ又は９９％超のｅｅ、より特に１００％のｅｅを有する。
【0056】
特定の実施形態では、式（Ｉ）の化合物の結晶形態は、無水結晶形態、特に式（Ｉａ）の化合物：
の無水結晶形態である。
【化11】
【0057】
いくつかの実施形態では、無水結晶形態は形態Ａである。他の実施形態では、無水結晶形態は形態Ｂである。
【0058】
本発明の結晶形態は、好適な溶媒からの式（Ｉ）の化合物の結晶化によって調製することができる。好適な溶媒は実施例７に示すように調査した。
【0059】
メタノールからの結晶化により、結晶性メタノール溶媒和物を得た。結晶化は、化合物の重量と比較して好適には２～１０体積（２Ｖ～１０Ｖ）、特に３Ｖ～８Ｖ、より特に３Ｖ～７Ｖ、より特に約３Ｖ～６Ｖのメタノール中に２０～２５℃で化合物を溶解した後に起こった。結晶化は、溶解後、自発的に起こった。
【0060】
アセトニトリルからの結晶化により、１：１アセトニトリル（ＭｅＣＮ）溶媒和物を介して、結晶性無水形態である形態Ａを得た。式（Ｉ）の化合物の溶解は還流下で得られ、約６８～７０℃に冷却すると結晶化が起こった。結晶化は、化合物の重量と比較して３Ｖ～１５Ｖ、特に４Ｖ～１２Ｖ、より特に５Ｖ～１０Ｖの溶媒の比率で起こった。最初のＭｅＣＮ溶媒和物を濾過により回収し、乾燥させると無水結晶形態Ａが得られた。
【0061】
有利には、無水結晶形態である形態Ａは溶媒を含まず、結晶性メタノール溶媒和物の７０～８０％の収率と比較して、より高い収率８５～９５％をもたらした。
【0062】
無水結晶形態Ａは相対湿度６０％で安定であったが、相対湿度８０％などのより高い湿度では、二水和物（約５℃で保管）又は第２の無水結晶形態である形態Ｂ（約２５℃で保管）に変換することができた。
【0063】
無水又は溶媒和物形態の式（Ｉ）の化合物の製造
式（Ｉ）の化合物は、スキーム１に示されるように、国際公開第２０１４／１６９３５６号（実施例３）に記載されているように製造することができる。
式（Ｉ）の化合物は、スキーム１に示されるように、国際公開第２０１４／１６９３５６号（実施例３）に記載されているように製造することができる。
【化12】
【0064】
本発明の一態様では、式（Ｉ）の化合物の結晶形態を作製する方法であって、
ｉ）式（ＩＩ）：
の１種以上の化合物を含む組成物［式中、各Ｒは、Ｈ及び－Ｃ（Ｏ）Ｒ１から独立して選択され、式（ＩＩ）の１つの化合物のみが組成物中に存在する場合、少なくとも１つのＲ基は、水素ではなく、そして
Ｒ１は、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、Ｃ２～Ｃ２０アルキニル、シクロアルキル、アリール、Ｃ１～１０アルキルシクロアルキル、Ｃ２～１０アルケニルシクロアルキル、Ｃ２～１０アルキニルシクロアルキル、Ｃ１～１０アルキルアリール、Ｃ２～１０アルケニルアリール、Ｃ２～１０アルキニルアリール、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ１～１０アルキルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ（Ｏ）Ｃ２～１０アルケニルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ２～１０アルキニルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ１～１０アルキルＳＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＳＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＳＲ２、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）ＳＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）ＳＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）ＳＲ２、
から選択され、
Ｒ２は、水素、－Ｃ１～１０アルキル、－Ｃ２～１０アルケニル、－Ｃ２～１０アルキニル、シクロアルキル又はアリールであり、
式中、各アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル又はアリール基は、任意選択で置換されている］を提供する工程と、
ｉｉ）式（ＩＩ）の化合物を２，２－ジメトキシプロパン及び弱酸性触媒で処理することによって、式（ＩＩＩ）：
の５，２０－アセトニドを形成する工程と、
ｉｉｉ）式（ＩＩＩ）のＣ１２及びＣ１３におけるエステルを脱エステル化して、式（ＩＩＩ）の化合物を塩基で処理することによって式（Ｉ）：
の化合物を提供する工程と、式（Ｉ）の化合物を結晶化させる工程と、を含む方法が提供される。
ｉ）式（ＩＩ）：
【化13】
Ｒ１は、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、Ｃ２～Ｃ２０アルキニル、シクロアルキル、アリール、Ｃ１～１０アルキルシクロアルキル、Ｃ２～１０アルケニルシクロアルキル、Ｃ２～１０アルキニルシクロアルキル、Ｃ１～１０アルキルアリール、Ｃ２～１０アルケニルアリール、Ｃ２～１０アルキニルアリール、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ１～１０アルキルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ（Ｏ）Ｃ２～１０アルケニルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ２～１０アルキニルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ１～１０アルキルＳＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＳＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＳＲ２、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）ＳＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）ＳＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）ＳＲ２、
【化14】
Ｒ２は、水素、－Ｃ１～１０アルキル、－Ｃ２～１０アルケニル、－Ｃ２～１０アルキニル、シクロアルキル又はアリールであり、
式中、各アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル又はアリール基は、任意選択で置換されている］を提供する工程と、
ｉｉ）式（ＩＩ）の化合物を２，２－ジメトキシプロパン及び弱酸性触媒で処理することによって、式（ＩＩＩ）：
【化15】
ｉｉｉ）式（ＩＩＩ）のＣ１２及びＣ１３におけるエステルを脱エステル化して、式（ＩＩＩ）の化合物を塩基で処理することによって式（Ｉ）：
【化16】
【0065】
いくつかの実施形態では、式（ＩＩ）の１種以上の化合物を含む組成物は、式（ＩＩ）の化合物の混合物、特に式（ＩＩａ）：
の化合物の混合物を含む。
【化17】
【0066】
例えば、式（ＩＩ）又は（ＩＩａ）の１種以上の化合物を含む組成物は、以下から選択される１種以上の化合物：
又はその立体異性体、特に式（ＩＩａ）に示される立体中心を有する立体異性体を含む。
【表1】
【0067】
いくつかの実施形態では、弱酸性触媒は、例えば、弱ブレンステッド酸触媒、例えば、ピリジニウムｐ－トルエンスルホン酸又はカンファースルホン酸（ＣＳＡ）、陽イオン交換樹脂、ｐ－トルエンスルホン酸、Ｈ２ＳＯ４、塩化亜鉛及び他のルイス酸、及びＢＦ３エーテラートである。特定の実施形態では、弱酸性触媒は、ピリジニウムｐ－トルエンスルホン酸である。
【0068】
アセトニドの形成において使用される溶媒は、反応物を可溶化することができる任意の好適な溶媒である。好適な溶媒としては、アセトン、ジメチルホルムアミド、トルエン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２－メチルテトラヒドロフラン及びアセトニトリルが挙げられる。
【0069】
Ｃ１２及びＣ１３エステルの脱エステル化は、塩基の存在下で起こる。好適な塩基としては、Ｃｓ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、Ｋ２ＣＯ３及びＬｉ２ＣＯ３などの炭酸塩が挙げられる。特定の実施形態では、使用される塩基は、水性若しくはアルコール性溶媒中又はジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）中のＣｓ２ＣＯ３、特にメタノール中のＣｓ２ＣＯ３である。
【0070】
いくつかの実施形態では、式（Ｉ）の５，２０－アセトニド化合物は、結晶化の前にカラムクロマトグラフィーによって精製される。他の実施形態では、式（Ｉ）の化合物は、クロマトグラフィーによる精製なしで結晶化される。
【0071】
式（Ｉ）の化合物の結晶化は、メタノール又はアセトニトリルなどの好適な溶媒から行うことができる。メタノール溶媒から、メタノール溶媒和物結晶形態を得た。アセトニトリルから、結晶性アセトニトリル溶媒和物、結晶性無水形態、形態Ａ及び形態Ｂ、並びに二水和物結晶形態を得た。特定の実施形態では、結晶形態は、式（Ｉａ）の化合物の結晶形態である。
【0072】
式（Ｉ）の化合物の１つ以上の結晶形態を使用して、化合物１及び化合物２などの治療効果のある６．７－エポキシチグリアン化合物を高収率及び高純度で調製することができる。
【0073】
６，７－エポキシチグリアン化合物の合成における式（Ｉ）の化合物の１つ以上の結晶形態の使用は、得られる全収率を５０％まで改善し得、かつ／又は溶媒及び／若しくはヒドロクロリドＡ及びＢなどの不純物を治療上許容されるレベルに低減し得る。
【0074】
いくつかの実施形態では、本発明の方法は、スキーム２に示されるように、式（Ｉ）の化合物のＣ１２ヒドロキシ基及びＣ１３ヒドロキシ基の一方又は両方をエステル化する工程を更に含み、ここで、出発物質は、式（Ｉ）の結晶性化合物である。
【化18】
【0075】
スキーム２に示される反応は、Ｃ１２ヒドロキシ基及びＣ１３ヒドロキシ基の両方のエステル化が単一の活性化カルボン酸で起こる単一工程で行われてもよい。その実施形態では、各Ｒ３は同じである。
【0076】
他の実施形態では、Ｃ１２ヒドロキシ基及びＣ１３ヒドロキシ基は、別々の逐次反応においてエステル化されて、異なるＣ１２エステル及びＣ１３エステルを有する６，７－エポキシチグリアン化合物を生成し、ここで各Ｒ３は異なっている。反応中、最初のエステル化はＣ１３ヒドロキシ基で起こり、Ｃ１３での反応がいつ完了するかを確認するために反応をモニターしてもよい。
【0077】
カルボン酸は、当技術分野において公知の任意の手段によって、ヒドロキシ基との反応のために活性化され得る。いくつかの実施形態では、活性化カルボン酸は、酸塩化物又は酸無水物である。いくつかの実施形態では、活性化カルボン酸は、チグリン酸無水物などの対称酸無水物であってもよい。他の実施形態では、活性化カルボン酸は、非対称酸無水物、例えば、チグリン酸－ピバル酸無水物であってもよい。更に他の実施形態では、カルボン酸はカルボジイミドで活性化され、例えば、好適なカルボジイミドとしては、Ｎ，Ｎ’－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、Ｎ，Ｎ’－ジイソプロピルカルボジイミド（ＤＩＣ）又は１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（ＥＤＣ）などが挙げられる。
【0078】
各Ｒ３は、同一であるか又は異なり、Ｈ及び－Ｃ（Ｏ）Ｒ１からなる群から独立して選択され、そしてＲ１は、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、Ｃ２～Ｃ２０アルキニル、シクロアルキル、アリール、Ｃ１～１０アルキルシクロアルキル、Ｃ２～１０アルケニルシクロアルキル、Ｃ２～１０アルキニルシクロアルキル、Ｃ１～１０アルキルアリール、Ｃ２～１０アルケニルアリール、Ｃ２～１０アルキニルアリール、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）Ｒ２、Ｃ１～１０アルキルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ（Ｏ）Ｃ２～１０アルケニルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ２～１０アルキニルＣＨ（ＯＲ２）（ＯＲ２）、Ｃ１～１０アルキルＳＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＳＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＳＲ２、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）ＯＲ２、Ｃ１～１０アルキルＣ（Ｏ）ＳＲ２、Ｃ２～１０アルケニルＣ（Ｏ）ＳＲ２、Ｃ２～１０アルキニルＣ（Ｏ）ＳＲ２、
から選択され、
Ｒ２は、水素、－Ｃ１～１０アルキル、－Ｃ２～１０アルケニル、－Ｃ２～１０アルキニル、シクロアルキル又はアリールであり、
式中、各アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル又はアリール基は、任意選択で置換されている。特定の実施形態では、Ｒ３の少なくとも１つは水素以外であり、特に両方のＲ３が水素以外である。
【化19】
Ｒ２は、水素、－Ｃ１～１０アルキル、－Ｃ２～１０アルケニル、－Ｃ２～１０アルキニル、シクロアルキル又はアリールであり、
式中、各アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル又はアリール基は、任意選択で置換されている。特定の実施形態では、Ｒ３の少なくとも１つは水素以外であり、特に両方のＲ３が水素以外である。
【0079】
所望の様式でＣ１２エステル及びＣ１３エステルが形成されると、スキーム３に示されるように、５，２０－アセトニド保護基を除去して、式（ＩＶ）のエポキシチグリアン化合物が形成され得る。
【化20】
【0080】
アセトニド保護基は、当技術分野において公知の任意の好適な条件下、例えば、水性酸性条件下で除去され得る。酸性条件を提供するために使用され得る好適な酸としては、塩酸（ＨＣｌ）、トリフルオロ酢酸、過塩素酸、硫酸、Ａｍｂｅｒｌｉｔｅ（商標）樹脂又は他の強イオン交換樹脂及びルイス酸、例えばＢＦ３エーテラートが挙げられる。好適な溶媒としては、水性及びアルコール性溶媒、例えば、水、メタノール、水性メタノール、水性テトラヒドロフラン、水性アセトニトリルなどが挙げられる。好適な条件の例としては、水性メタノール若しくは水性テトラヒドロフラン中のＨＣｌ、水性アセトニトリル中のトリフルオロ酢酸又は水性過塩素酸（ＨＣｌＯ４）が挙げられる。
【0081】
一実施形態では、本方法は、１２，１３－ジヘキサノイル－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オン（化合物２）を高収率及び／又は実質的に純粋な形態で生成する。
【0082】
別の実施形態では、本方法は、１２－チグロイル－１３－（２－メチルブタノイル）－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オン（化合物１）を高収率及び／又は実質的に純粋な形態で生成する。
【0083】
本発明の一態様では、上記の方法によって生成された１２，１３－ジヘキサノイル－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オン（化合物２）又は１２－チグロイル－１３－（２－メチルブタノイル）－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オン（化合物１）が提供される。
【0084】
本発明のなお更なる態様では、式（Ｉ）：
の化合物の結晶形態を作製する方法であって、式（Ｉ）の化合物をアセトニトリル又はメタノール溶媒から結晶化させることを含む、方法が提供される。
【化21】
【実施例】
【0085】
実施例１－バイオマスの抽出
Ｆｏｎｔａｉｎｅａ ｐｉｃｒｏｓｐｅｒｍａの粉砕種子９．４９ｋｇ（分析：総チグリアノン（tiglianone）化合物：６．７％、６３５．８ｇ）をメタノール（２４Ｌ）に懸濁し、得られた懸濁液を撹拌下、室温で４時間維持した。懸濁液を２．５時間放置し、次いでメタノール相を除去し、回収した。残留バイオマスを同じ手順に従って更に２回再抽出し、次いで１０分の沈降時間で１０Ｌのメタノールで１回洗浄した。合わせたメタノール抽出物を真空下、４０℃未満の温度で最終体積２０Ｌまで濃縮し、粗メタノール溶液を高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）及びカールフィッシャー（ＫＦ）滴定によって分析した。ＨＰＬＣは、逆相アミドカラム（Ｈａｌｏ Ｐ／Ｎ ９２８１４－７０７）及びガードカラム（Ｈａｌｏ Ｐ／Ｎ ９２８１４－１０７）を使用し、溶媒Ａ：水／０．１％ギ酸及び溶媒Ｂ：アセトニトリル／０．１％ギ酸を直線勾配で用いて行った。
Ｆｏｎｔａｉｎｅａ ｐｉｃｒｏｓｐｅｒｍａの粉砕種子９．４９ｋｇ（分析：総チグリアノン（tiglianone）化合物：６．７％、６３５．８ｇ）をメタノール（２４Ｌ）に懸濁し、得られた懸濁液を撹拌下、室温で４時間維持した。懸濁液を２．５時間放置し、次いでメタノール相を除去し、回収した。残留バイオマスを同じ手順に従って更に２回再抽出し、次いで１０分の沈降時間で１０Ｌのメタノールで１回洗浄した。合わせたメタノール抽出物を真空下、４０℃未満の温度で最終体積２０Ｌまで濃縮し、粗メタノール溶液を高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）及びカールフィッシャー（ＫＦ）滴定によって分析した。ＨＰＬＣは、逆相アミドカラム（Ｈａｌｏ Ｐ／Ｎ ９２８１４－７０７）及びガードカラム（Ｈａｌｏ Ｐ／Ｎ ９２８１４－１０７）を使用し、溶媒Ａ：水／０．１％ギ酸及び溶媒Ｂ：アセトニトリル／０．１％ギ酸を直線勾配で用いて行った。
【表2】
【0086】
１ｍＬ／分の流速、５．０μＬの注入量、４０℃のカラム温度、及び２４９ｎｍでの検出であった。
【0087】
分析を表１に示す。
【表3】
【0088】
実施例２－粗抽出物の精製
実施例１からの粗濃縮メタノール溶液を、ｎ－ヘキサンで２回、室温で抽出した（１回目の抽出は３０Ｌ、２回目の抽出は１５Ｌ）。各抽出物を約１０分間混合し、次いで相を１０分間分離させた後、ヘキサン相を回収した。回収したヘキサン相を合わせ、メタノール／水（９０／１０）混合物で２回再抽出し、次いで排出した。合わせた水－メタノール相を先のメタノール抽出物と共にプールし、１０％ＮａＣｌ（水溶液、５Ｌ）で希釈した。メタノール水溶液をジクロロメタンで３回抽出した（１回目の抽出は１０Ｌ、２回目及び３回目の抽出は５Ｌ）。合わせた有機相をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、次いで、ＫＦによって測定して０．１％未満の含水量を有する油状物が得られるまで、４０℃未満の温度で、真空下で濃縮した。
実施例１からの粗濃縮メタノール溶液を、ｎ－ヘキサンで２回、室温で抽出した（１回目の抽出は３０Ｌ、２回目の抽出は１５Ｌ）。各抽出物を約１０分間混合し、次いで相を１０分間分離させた後、ヘキサン相を回収した。回収したヘキサン相を合わせ、メタノール／水（９０／１０）混合物で２回再抽出し、次いで排出した。合わせた水－メタノール相を先のメタノール抽出物と共にプールし、１０％ＮａＣｌ（水溶液、５Ｌ）で希釈した。メタノール水溶液をジクロロメタンで３回抽出した（１回目の抽出は１０Ｌ、２回目及び３回目の抽出は５Ｌ）。合わせた有機相をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、次いで、ＫＦによって測定して０．１％未満の含水量を有する油状物が得られるまで、４０℃未満の温度で、真空下で濃縮した。
【0089】
合わせた水メタノール相を先のメタノール抽出物と共にプールし、クロロ付加物の形成を低減するために１０％ＮａＣｌではなく水で希釈したことを除いて上記の方法を使用して、精製された粗抽出物の更なるバッチを調製した。
【0090】
実施例３－エポキシチグリアン－５，２０アセトニドエステルの調製
実施例２からの油状物をアセトン（４Ｌ）に溶解し、次いで、２，２－ジメトキシプロパン（１．１２５Ｌ）及びピリジニウムｐ－トルエンスルホネート（０．３３８Ｋｇ）を加えた。混合物を撹拌下４０℃で２５時間加熱した。次いで、試料を実施例１に記載されるようにＨＰＬＣ分析によりチェックして、反応の完了を確認した。反応混合物に酢酸エチルを加え、次いで反応混合物を水で２回洗浄した。回収した有機相を真空下で乾燥して、５，２０－アセトニドエステルを油状物として得た。
実施例２からの油状物をアセトン（４Ｌ）に溶解し、次いで、２，２－ジメトキシプロパン（１．１２５Ｌ）及びピリジニウムｐ－トルエンスルホネート（０．３３８Ｋｇ）を加えた。混合物を撹拌下４０℃で２５時間加熱した。次いで、試料を実施例１に記載されるようにＨＰＬＣ分析によりチェックして、反応の完了を確認した。反応混合物に酢酸エチルを加え、次いで反応混合物を水で２回洗浄した。回収した有機相を真空下で乾燥して、５，２０－アセトニドエステルを油状物として得た。
【0091】
実施例４－脱エステル化エポキシチグリアン－５，２０－アセトニド：式（Ｉａ）の化合物の調製
実施例３からの油状物をメタノール（１０Ｌ）に溶解し、１ｋｇのＣｓ２ＣＯ３を加えた。混合物を撹拌下２５℃で２２時間維持し、その後、水（２Ｌ）を加えた。得られた混合物をｎ－ヘキサンで３回（３×３Ｌ）洗浄した。酢酸エチル（１０Ｌ）、水（８Ｌ）及びＨ２ＳＯ４ ２Ｎ溶液（５Ｌ）を残留した水－メタノール相に加えた。有機相を回収し、水－メタノール溶液を酢酸エチルで再抽出（１０Ｌ×４回）し、全ての酢酸エチル有機溶液を一緒にプールした。次いで、酢酸エチル溶液を１０％Ｎａ２ＳＯ４水溶液で２回（２Ｌ×２）洗浄し、毎回水相を排出し、次いで、二相混合物が得られるまで真空下で濃縮した。相分離後、水相を排出し、有機相を再び濃縮して、式（ＩＩ）の１２，１３－ジヒドロキシアセトニド化合物を油状物として得た。該油状物をシリカゲル上でカラムクロマトグラフィーにより精製し（溶離液としてｎ－ヘキサン／酢酸エチル２０：８０）、ＨＰＬＣで測定して純度８１．３％の化合物１６３ｇを得た。
実施例３からの油状物をメタノール（１０Ｌ）に溶解し、１ｋｇのＣｓ２ＣＯ３を加えた。混合物を撹拌下２５℃で２２時間維持し、その後、水（２Ｌ）を加えた。得られた混合物をｎ－ヘキサンで３回（３×３Ｌ）洗浄した。酢酸エチル（１０Ｌ）、水（８Ｌ）及びＨ２ＳＯ４ ２Ｎ溶液（５Ｌ）を残留した水－メタノール相に加えた。有機相を回収し、水－メタノール溶液を酢酸エチルで再抽出（１０Ｌ×４回）し、全ての酢酸エチル有機溶液を一緒にプールした。次いで、酢酸エチル溶液を１０％Ｎａ２ＳＯ４水溶液で２回（２Ｌ×２）洗浄し、毎回水相を排出し、次いで、二相混合物が得られるまで真空下で濃縮した。相分離後、水相を排出し、有機相を再び濃縮して、式（ＩＩ）の１２，１３－ジヒドロキシアセトニド化合物を油状物として得た。該油状物をシリカゲル上でカラムクロマトグラフィーにより精製し（溶離液としてｎ－ヘキサン／酢酸エチル２０：８０）、ＨＰＬＣで測定して純度８１．３％の化合物１６３ｇを得た。
【0092】
実施例５－１２，１３－ジヘキサノイル－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オン－５，２０－アセトニドの調製
実施例４の生成物のジクロロメタン溶液（５Ｌ）に、２７．８ｇの４－ＤＭＡＰ及び１３２．０ｇのヘキサン酸を加え、得られた混合物を溶解するまで撹拌した。２１６．８ｇのエチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ ＨＣｌ）を加え、混合物を２５℃で２４時間撹拌し続けた。３．３ＬのＨ２ＳＯ４ ２Ｎを滴加することによって反応混合物を後処理し、相分離後、水相を除去した。有機残留溶液を水で洗浄し（３．３Ｌ×３）、次いで濃縮乾固して、ジヘキサノイル生成物を得た。
実施例４の生成物のジクロロメタン溶液（５Ｌ）に、２７．８ｇの４－ＤＭＡＰ及び１３２．０ｇのヘキサン酸を加え、得られた混合物を溶解するまで撹拌した。２１６．８ｇのエチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ ＨＣｌ）を加え、混合物を２５℃で２４時間撹拌し続けた。３．３ＬのＨ２ＳＯ４ ２Ｎを滴加することによって反応混合物を後処理し、相分離後、水相を除去した。有機残留溶液を水で洗浄し（３．３Ｌ×３）、次いで濃縮乾固して、ジヘキサノイル生成物を得た。
【0093】
Ｈ２ＳＯ４の添加前に、クロロ付加物の形成を低減するために予備的な水洗工程を実施したことを除いて上記の方法を使用して、１２，１３－ジヘキサノイル－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オン－５，２０－アセトニドの更なるバッチを調製した。
【0094】
実施例６－１２，１３－ジヘキサノイル－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オン（化合物２）の調製
実施例５の生成物のアセトニトリル溶液（３．１Ｌ）に、ＨＣｌＯ４７０％を含有する酸性水溶液（３００ｍＬの水＋１２．４ｇのＨＣｌＯ４７０％）を加え、得られた混合物を２５℃で４７時間撹拌し、薄層クロマトグラフィー（溶離液ＭｅＣＮ／Ｈ２Ｏ ８５：１５ｖ／ｖ、シリカゲル、６０ ＲＰ１８Ｆ ２５４Ｓ）によって反応の完了をモニターした。５Ｌのジクロロメタン及び９００ｍＬの酢酸ナトリウム１０％水溶液を加えることによって反応物を後処理した。水相を排出し、有機溶液を水で２回洗浄し（２Ｌ×２）、次いで濃縮乾固して、粗１２，１３－ジヘキサノイル－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オンを得た。
実施例５の生成物のアセトニトリル溶液（３．１Ｌ）に、ＨＣｌＯ４７０％を含有する酸性水溶液（３００ｍＬの水＋１２．４ｇのＨＣｌＯ４７０％）を加え、得られた混合物を２５℃で４７時間撹拌し、薄層クロマトグラフィー（溶離液ＭｅＣＮ／Ｈ２Ｏ ８５：１５ｖ／ｖ、シリカゲル、６０ ＲＰ１８Ｆ ２５４Ｓ）によって反応の完了をモニターした。５Ｌのジクロロメタン及び９００ｍＬの酢酸ナトリウム１０％水溶液を加えることによって反応物を後処理した。水相を排出し、有機溶液を水で２回洗浄し（２Ｌ×２）、次いで濃縮乾固して、粗１２，１３－ジヘキサノイル－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オンを得た。
【0095】
粗生成物を逆相ＲＰ１８上のカラムクロマトグラフィー（溶離液としてアセトニトリル／水５０：５０＋２０ｐｐｍ Ｈ３ＰＯ４）により精製した。多量の所望の化合物を含有する中心画分のみをプールして、
であると考えられる塩酸付加物不純物の存在を低減した。
【化22】
【0096】
不純物化合物をＬＣ－ＨＲＭＳ（ナトリウム塩）により分析した。Ｃ３２Ｈ４９Ｏ１０Ｃｌ Ｎａ＝６５１．２９０６。
【0097】
プールした画分を水で希釈し、ジクロロメタンで３回抽出した。合わせた有機相を濃縮乾固して、９３．７ｇ（１０Ｋｇの未乾燥種子から５７％）の純粋な１２，１３－ジヘキサノイル－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オンを得た。
【0098】
１２，１３－ジヘキサノイル－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オンの最終的な濃縮乾固の前に、濃縮した１２，１３－ジヘキサノイル－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オンに対して水洗工程を行って不純物の形成を防止することを除いて上記の方法を使用して、１２，１３－ジヘキサノイル－６，７－エポキシ－４，５，９，１２，１３，２０－ヘキサヒドロキシ－１－チグリアエン－３－オン（化合物２）の更なるバッチを調製した。
【0099】
実施例７－結晶化試験
化合物２を生成するための合成経路における初期中間体、例えば、式（Ｉ）の化合物を、結晶化可能性について調べた。
化合物２を生成するための合成経路における初期中間体、例えば、式（Ｉ）の化合物を、結晶化可能性について調べた。
【0100】
実施例４から得られた式（Ｉａ）の精製化合物のアリコート（約１０ｇの化合物を含有する０．８３Ｌ）を結晶化試験に使用した。予備スクリーニングの結果を表２に示す。
【表4】
【0101】
メタノール及びアセトニトリル中での結晶化を更に調べた。
【0102】
実施例８－ＭｅＯＨ溶媒和物としての結晶性化合物（Ｉａ）。
実施例４の生成物の試料（非晶質固体、ＨＰＬＣで純度約８０～８５％）をメタノール中、室温で溶解した。完全な溶解が数秒で起こった。溶解直後に制御なしで結晶化が引き起こされた。得られた生成物は、約５～６％のＭｅＯＨ含量を有する溶媒和物結晶形態であった。以下の表３に、実施した結晶化試験をまとめる。
実施例４の生成物の試料（非晶質固体、ＨＰＬＣで純度約８０～８５％）をメタノール中、室温で溶解した。完全な溶解が数秒で起こった。溶解直後に制御なしで結晶化が引き起こされた。得られた生成物は、約５～６％のＭｅＯＨ含量を有する溶媒和物結晶形態であった。以下の表３に、実施した結晶化試験をまとめる。
【表5】
【0103】
式（Ｉａ）の化合物の結晶性メタノール溶媒和物は、１．５４０５６Å及び１．５４４３９Åの銅波長λ１及びλ２を使用して得られたＸ線粉末回折（Ｘ－ＲＰＤ）パターンによって特徴付けられ、このパターンは結晶構造を示し、２θ度値として表される特有の反射を、２θ７．２、９．５、１１．５、１２．６、１３．１、１４．０、１４．５、１７．０、１７．７、１７．９、１９．２、２０．３、２１．２、２２．８、２３．７、２４．７、２７．１、２８．３、２９．７、３２．６において含んでいた。
【0104】
ＡＴＲモードで４０００～５００ｃｍ－１スペクトル範囲における結晶性メタノール溶媒和物のフーリエ変換赤外分光（ＦＴＩＲ）スペクトルは、約３４４３．１、３３７４．１、３１８９．１、３００２．６、２９７５．７、２９４４．４、２８６３．６、１７０３．３、１６３５．７、１４６１．９、１３７２．９、１２９０．７、１２２１．１、１０７７．１、１０２５．１、９９２．０、９７３．９、９２９．７、９０５．８、８７６．７、８２９．０、７６９．１ｃｍ－１において特徴的な吸収周波数を含んでいた。
【0105】
結晶性メタノール溶媒和物の示差走査熱量測定（ＤＳＣ）プロファイルは、約１４５．３３℃で開始する吸熱ピーク、並びにそれぞれ約２２１．１２℃及び２３４．２２℃で開始する２つの他のより弱い吸熱ピークを特徴とする。
【0106】
結晶性メタノール溶媒和物は、５．５％の重量損失を示す熱重量プロファイル（ＴＧ）によって更に特徴付けられ、これは５～６％の残留ＭｅＯＨの存在と一致する。
【0107】
実施例９－式（Ｉａ）の無水結晶性化合物
実施例４の生成物とアセトニトリルとの混合物を、透明な溶液が得られるまで還流下で撹拌し、次いで、溶液を冷却させ、約６８～７０℃で冷却すると結晶化が自発的に起こった。以下の表に、実施した結晶化試験をまとめる。
実施例４の生成物とアセトニトリルとの混合物を、透明な溶液が得られるまで還流下で撹拌し、次いで、溶液を冷却させ、約６８～７０℃で冷却すると結晶化が自発的に起こった。以下の表に、実施した結晶化試験をまとめる。
【表6】
【0108】
アセトニトリルから結晶化すると、１：１ ＭｅＣＮ溶媒和物である固体が形成された。アセトニトリル溶媒和物を回収し、乾燥させて、式（Ｉ）の無水結晶性化合物の形態Ａを得た。ＭｅＣＮ溶媒和物は、７．８重量％の乾燥減量（ＬｏＤ）を有した。ＭｅＣＮ溶媒和物は、１．５４０５６Å及び１．５４４３９Åの銅波長λ１及びλ２を使用して得られたＸ線粉末回折（Ｘ－ＲＰＤ）パターンによって特徴付けられ、このパターンは結晶構造を示し、２θ度値として表される特有の反射を、２θ６．２、７．５、１０．４、１２．２、１４．９、１６．０、１７．７、１８．５、１９．５、２０．９、２２．４、２４．７、２６．８、及び３３．４±０．２度に含んでいた。
【0109】
式（Ｉａ）の結晶性無水化合物の形態Ａは、１．５４０５６Å及び１．５４４３９Åの銅波長λ１及びλ２を使用して得られたＸ線粉末回折（Ｘ－ＲＰＤ）パターンによって特徴付けられ、このパターンは結晶構造を示し、２θ度値として表される特有の反射を２θ６．２、７．６、１０．５、１２．５、１５．２、１６．２、１６．７、１８．３、１９．９、２１．５、２３．３、２５．２、及び２７．８±０．２度に含んでいた。
【0110】
式（Ｉａ）の無水結晶性化合物の形態Ａは、電量滴定による約０．２８％の含水量及び水素炎イオン化検出を伴うヘッドスペースガスクロマトグラフィー（ＨＳ ＧＣ ＦＩＤ）による３４ｐｐｍの残留有機溶媒測定によって更に特徴付けられた。
【0111】
式（Ｉａ）の結晶性無水化合物の形態Ａは、２５℃及び６０％の相対湿度で工業用包装（ポリエチレン栓付きの黒色プラスチックスクリューキャップによって閉じられたＩＩＩ型アンバーガラスバイアル（１０ｍＬ））中で少なくとも９ヶ月間安定であり、遊離結晶性粉末として８０℃及び６０％の湿度で２４時間、安定であった。
【0112】
５℃で５日間保管すると、無水結晶性化合物の形態Ａは、９．３重量％の乾燥減量（ＬｏＤ）を有する化合物の二水和物形態に変換された。該二水和物形態は、２５℃及び８０％の相対湿度で５日間保管すると、無水結晶形態の形態Ａに変換し戻ることができた。
【0113】
該二水和物結晶形態は、１．５４０５６Å及び１．５４４３９Åの銅波長λ１及びλ２を使用して得られたＸ線粉末回折（Ｘ－ＲＰＤ）パターンによって特徴付けられ、このパターンは結晶構造を示し、２θ度値として表される特有の反射を、２θ６．２、７．４、８．９、９．９、１０．５、１２．４、１５．３、１８．６、２０．２、２１．１、２２．４、２２．９、２６．０、２７．０、２７．３、及び３３．７±０．２度に含んでいた。
【0114】
２５℃、８０％の相対湿度で６８時間、又は４０℃、８０％の相対湿度で７日間、形態Ａの無水結晶形態を保管すると、新しい安定な無水結晶形態である形態Ｂが形成された。形態Ｂは、０．３重量％のＬｏＤを有し、２５℃、８０％の相対湿度で少なくとも更に７日間、変化せずに安定であった。無水結晶形態Ｂは、１．５４０５６Å及び１．５４４３９Åの銅波長λ１及びλ２を使用して得られたＸ線粉末回折（Ｘ－ＲＰＤ）パターンによって特徴付けられ、このパターンは結晶構造を示し、２θ度値として表される特有の反射を、２θ４．９、８．５、９．８、１１．４、１４．６、１６．５、１７．５、１９．５、２１．４、２７．７、２８．７±０．２度に含んでいた。
【0115】
実施例１０：結晶化による精製の有無の比較
化合物２を調製するための上記方法を用いて、式（Ｉａ）の化合物を介した化合物２の調製を結晶化の有無で比較するために分析を行った。
化合物２を調製するための上記方法を用いて、式（Ｉａ）の化合物を介した化合物２の調製を結晶化の有無で比較するために分析を行った。
【0116】
９．５ｋｇの未乾燥種子のバッチから、上記方法に続いて、クロマトグラフィー後に、約１６５～１７６ｇの式Ｉａの化合物を得た。
【0117】
結晶化工程なしでは、他の試験のために約１０ｇの式Ｉａの化合物を除去した後、式Ｉａの化合物の処理により９２ｇの量の化合物２を得、ＨＰＬＣによる分析により生成物が９７．５％の純度を有することが示された。
【0118】
式（Ｉａ）の化合物の結晶化有りでは、他の試験のために約４．７ｇの式Ｉａの化合物を除去した後、式Ｉａの化合物の処理により１５２ｇの量の化合物２を得、ＨＰＬＣによる分析により９８．７％の純度が示された。
【0119】
実施例１１：式（Ｉａ）の無水結晶性化合物の調製
式（Ｉａ）の化合物のシリカゲル精製から選択された画分（１６０～１９０ｇの式Ｉａの化合物）を、４０～４５℃に設定した浴温及びおよそ１００ｍｂａｒの真空でアセトニトリル（１２体積を使用）に溶媒交換した。次いで、式Ｉａの化合物の混合物を、溶解するまでアセトニトリル（１０体積）中で加熱還流し（８２℃）、次いで撹拌しながら２０±５℃に冷却した。得られたスラリーを２０±５℃で一晩保管し、次いで０±５℃に少なくとも１時間冷却した。次いで、混合物を真空下で焼結ガラスフィルターを通して濾過した。濾過ケーキをアセトニトリル（１体積）で洗浄した。固体をフィルター上にある間真空下に維持し、次いでスチールトレイに入れ、真空下で約５０℃の乾燥機で乾燥させた。式Ｉａの化合物の収量は１３８～１６７ｇの範囲であった。
式（Ｉａ）の化合物のシリカゲル精製から選択された画分（１６０～１９０ｇの式Ｉａの化合物）を、４０～４５℃に設定した浴温及びおよそ１００ｍｂａｒの真空でアセトニトリル（１２体積を使用）に溶媒交換した。次いで、式Ｉａの化合物の混合物を、溶解するまでアセトニトリル（１０体積）中で加熱還流し（８２℃）、次いで撹拌しながら２０±５℃に冷却した。得られたスラリーを２０±５℃で一晩保管し、次いで０±５℃に少なくとも１時間冷却した。次いで、混合物を真空下で焼結ガラスフィルターを通して濾過した。濾過ケーキをアセトニトリル（１体積）で洗浄した。固体をフィルター上にある間真空下に維持し、次いでスチールトレイに入れ、真空下で約５０℃の乾燥機で乾燥させた。式Ｉａの化合物の収量は１３８～１６７ｇの範囲であった。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【国際調査報告】