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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-12-26
(54)【発明の名称】液晶化合物
(51)【国際特許分類】
C07C 69/76 20060101AFI20241219BHJP
C07C 255/57 20060101ALI20241219BHJP
C07C 255/54 20060101ALI20241219BHJP
C07C 321/28 20060101ALI20241219BHJP
C07C 69/773 20060101ALI20241219BHJP
C07D 277/66 20060101ALI20241219BHJP
C08F 20/12 20060101ALI20241219BHJP
H10K 50/86 20230101ALI20241219BHJP
H10K 59/10 20230101ALI20241219BHJP
G02B 5/30 20060101ALN20241219BHJP
【ＦＩ】
C07C69/76 A
C07C255/57 CSP
C07C255/54
C07C321/28
C07C69/773
C07D277/66
C08F20/12
H10K50/86
H10K59/10
G02B5/30
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2024534308
(86)(22)【出願日】2022-11-25
(85)【翻訳文提出日】2024-07-29
(86)【国際出願番号】 EP2022083261
(87)【国際公開番号】W WO2023104545
(87)【国際公開日】2023-06-15
(31)【優先権主張番号】21213022.3
(32)【優先日】2021-12-08
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】518163910
【氏名又は名称】ロリク・テクノロジーズ・アーゲー
【氏名又は名称原語表記】ＲＯＬＩＣ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ ＡＧ
(74)【代理人】
【識別番号】110001508
【氏名又は名称】弁理士法人 津国
(72)【発明者】
【氏名】シャペレ，サブリナ
(72)【発明者】
【氏名】フォン・アルクス，トビアス
【テーマコード（参考）】
2H149
3K107
4H006
4J100
【Ｆターム（参考）】
2H149AA13
2H149AA18
2H149AB01
2H149BA01
2H149BA11
2H149DA04
2H149DA05
2H149DA12
2H149EA02
2H149FA01Z
2H149FA24Y
2H149FA51Y
2H149FA52Y
2H149FA58Y
2H149FD21
3K107AA01
3K107BB01
3K107CC32
3K107CC43
3K107EE26
4H006AA01
4H006AA03
4H006AB64
4H006BB15
4H006BE90
4H006BJ50
4H006BM74
4H006BP30
4H006KA14
4H006KC30
4H006QN30
4H006TA04
4J100AL08P
4J100BA02P
4J100BA15P
4J100BB05P
4J100BC43P
4J100CA01
4J100FA03
4J100FA19
4J100JA37
(57)【要約】
本発明は、式（Ｉ）で示される新規の重合性液晶、これらの化合物を含むＬＣＰ混合物、ならびに光学および電気光学デバイスのためのそれらの使用に関する。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
式（Ｉ）【化25】
［式中、
環Ａは、非置換または置換されたフェニレン基、ナフタレン基またはビフェニレン基であり、
ＡＡ１は、以下の化合物の群より選択され：
【化26】
ＡＡ２は、以下の化合物であるか、または以下の化合物の群より選択され：
【化27】
ここで、ＡＡ１およびＡＡ２は、互いに独立して、非置換であるか、またはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、Ｃ１－Ｃ６アルキル、Ｃ１－Ｃ６アルケニル、Ｃ１－Ｃ６アルコキシおよびＣ１－Ｃ６アルケニルオキシからなる群より選択される１個もしくは２個の置換基で置換されており、
Ｑ１は、非置換または置換された単素環式または複素環式基であるか、あるいは
Ｑ１は、式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）および（Ｉｄ）：－ＣＯＯ－ＳＰ２－ＢＢ（Ｉａ）、－ＯＣＯ－ＳＰ２－ＢＢ（Ｉｂ）、－ＣＯ－ＳＰ２－ＢＢ（Ｉｃ）および－Ｏ－ＳＰ２－ＢＢ（Ｉｄ）で示される非置換または置換された化合物の群より選択されるが、
但し、条件として、Ｑ１の置換基は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、Ｃ１－Ｃ６アルキル、Ｃ１－Ｃ６アルケニル、Ｃ１－Ｃ６アルコキシおよびＣ１－Ｃ６アルケニルオキシからなる群より選択されるものとし；かつ
条件として、環Ａがナフタレン基である場合、Ｑ１は、上に与えられた意味を有するかまたは水素であるとし；
ＳＰ１、ＳＰ２およびＳＰ３は、互いに独立して、単結合または式－（ＣＨ２）ｐ－で示されるスペーサー基を表し、式中、ｐは、１～１８の整数であり、１個、２個、３個または４個の－ＣＨ２－基は、置き換わっていないか、または－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ’－、－ＯＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ’、－ＮＲ’－、－ＣＯＮＲ’－、－ＯＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ’からなる群より選択される基によって置き換わっており、ここで、Ｒ’は、水素、Ｃ１－Ｃ６アルキル基およびＣ１－Ｃ６アルケニル基からなる群より選択されるが；但し、条件として、スペーサー基は、２個の隣接するヘテロ原子を含有しないものとし；
ｎは、０または１であり、
ＢＰは、重合性基、またはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、Ｃ１－Ｃ６アルキル、Ｃ１－Ｃ６アルケニル、Ｃ１－Ｃ６アルコキシもしくはＣ１－Ｃ６アルケニルオキシであり、
Ｐ１は、重合性基であるが、
但し、条件として、ＢＰおよびＰ１が重合性基である場合、これらは、同一または異なるものとし；
ＢＢは、水素、または式（ＩＩ）
【化28】
（式中、
ＡおよびＢは、独立して、非置換または置換された６員単素環式もしくは複素環式基またはナフタレン基を表し；
Ｃは、５および６員単素環式もしくは複素環式基またはナフタレン基からなる群より選択され；
ｎ１およびｎ２は、０または１であるが、但し、条件として、第一に、１≦ｎ１＋ｎ２≦２、第二に、Ｃがナフタレン基である場合に０≦ｎ１＋ｎ２≦２とし；
Ｚ１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ’－、－ＮＲ’ＣＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ’－、－ＮＲ’ＣＯＯ－および単結合からなる群より選択され；ここで、
Ｒ’は、水素、Ｃ１－Ｃ６アルキル基およびＣ１－Ｃ６アルケニル基からなる群より選択されるが；
但し、条件として、－ＳＰ２－Ｚ１－基は、２個の隣接するヘテロ原子を含有しないものとし；
Ｚ２およびＺ３は、互いに独立して、単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－（ＣＨ２）４－および－（ＣＨ２）３Ｏ－からなる群より選択され；
Ｒ１は、Ｈ、－ＣＮ、－ＣＯＲ、－ＣＯＯＲ、－ＯＣＯＲ、－ＣＯＮＲ’Ｒ、－ＮＲ’ＣＯＲ、ＯＣＯＯＲ、－ＯＣＯＮＲ’Ｒ、－ＮＲ’ＣＯＯＲ、－Ｆ、－Ｃｌ、Ｉ、－ＣＦ３、－ＯＣＦ３、－ＯＲからなる群より選択され、ここで
Ｒ’は、水素、Ｃ１－Ｃ６アルキル基およびＣ１－Ｃ６アルケニル基からなる群より選択され、Ｒは、水素、Ｃ１－１８アルキル基および３位またはより高位に二重結合を有するＣ４－１８アルケニル基からなる群より選択される）
で示される化合物である］
で示される化合物。
【請求項2】
ＢＰおよびＰ１の重合性基が、互いに独立しており、好ましくは、ＣＨ２＝Ｃ（Ｐｈ）－、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯＯ－、ＣＨ２＝ＣＨ－ＣＯＯ－Ｐｈ－、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯ－ＮＨ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｏ－、ＣＨ２＝ＣＨ－ＯＯＣ－、Ｐｈ－ＣＨ＝ＣＨ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｐｈ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｐｈ－Ｏ－、Ｒ６－Ｐｈ－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、Ｒ６－ＯＯＣ－ＣＨ＝ＣＨ－Ｐｈ－Ｏ－および２－Ｗ－エポキシエチルからなる群より選択され、ここでＷが、水素、塩化物、アリールまたはＣ１－Ｃ６アルキルを表し、
Ｒ６が、Ｃ１－Ｃ６アルキルを表すが、但し、条件として、Ｒ６がアリール基に結合している場合、Ｒ６は、水素またはＣ１－Ｃ６アルコキシを表す場合もあるとする、請求項１に記載の化合物。
【請求項3】
ＳＰ１およびＳＰ３が、それぞれ互いに独立して、単結合または式－（ＣＨ２）ｐ－で示されるスペーサー基を表し、式中、ｐが、１～１２の整数、好ましくは、１～６の整数であり、１個の－ＣＨ２－基が、置き換わっていないか、または－Ｏ－もしくは－Ｓ－からなる群より選択される基によって置き換わっており；ＳＰ２が、単結合または式－（ＣＨ２）ｐ－で示されるスペーサー基を表し、式中、ｐが、１～１２の整数、好ましくは、１～１０の整数であり、１個の－ＣＨ２－基が、置き換わっていないか、または－Ｏ－もしくは－Ｓ－からなる群より選択される基によって置き換わっている、請求項１～２のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項4】
ＢＢが、水素、または式（ＩＩ）【化29】
［式中、
ＡおよびＢは、独立して、非置換または置換された１，４－フェニレン基またはナフタレン基を表し；
Ｃは、非置換または置換された１，４－フェニレン基またはナフタレン基であり；
ｎ１およびｎ２は、０または１であるが、但し、条件として、第一に、１≦ｎ１＋ｎ２≦２、第二に、Ｃがナフタレン基である場合に０≦ｎ１＋ｎ２≦２とし；
但し、条件として、－ＳＰ２－Ｚ１－基は、２個の隣接するヘテロ原子を含有しないものとし；
Ｚ２およびＺ３は、独立して、単結合、－ＣＯＯ－および－ＯＯＣ－からなる群より選択され；
Ｒ１は、Ｈ、－ＣＮおよびＩからなる群より選択される］
で示される化合物である、請求項１～３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項5】
ＢＰが、重合性基、またはＣ１－Ｃ４アルキル、Ｉもしくは－ＣＮである、請求項１～４のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項6】
ｎが１であり、ＢＰが重合性基である、請求項１～５のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項7】
式（Ｉ）で示される化合物を含む、ＬＣＰ混合物。
【請求項8】
請求項１～６のいずれか一項に記載の化合物または請求項７に記載の混合物を架橋または重合された形態で含む、ＬＣＰネットワーク。
【請求項9】
光学または電気光学デバイスの製造における、請求項１～６のいずれか一項に記載の化合物、または請求項７に記載の混合物の使用。
【請求項10】
請求項１～６のいずれか一項に記載の化合物、請求項７に記載の混合物または請求項８に記載のネットワークを含む、光学または電気光学デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、高い光学異方性を有するラテラルに置換された硬化性液晶（ＬＣＰ）、およびＬＣＰ分子の配列を制御できる実質的に均一なまたはパターン化されたフィルムの作製におけるそのようなＬＣＰの使用に関する。
【0002】
ディスプレイ業界において、光学ＬＣＰフィルムは、例えば偏光子のための、光学または電気光学効果の提供または増大に使用されている。ディスプレイは、ますます薄くなってきている。そのため、この業界から、リタデーションフィルムなどの、所望の光学または電気光学効果を提供するより薄い光学ＬＣＰフィルムの要望が高まっている。
【0003】
リタデーションフィルムは、通過した光の偏光状態を変化させる光学素子の一種である。光が位相リターダを通過すると、位相リターダの複屈折および厚みによりその偏光方向が変化する。位相リターダの作製における最大の課題の１つは、小さな負担で高性能フィルムを作製することである。高い複屈折を有する液晶を使用すると、少量の液晶化合物で必要なリタデーション値を実現可能である。高い複屈折を有するＬＣＰ材料は、薄い光学フィルム、とりわけ薄いリタデーションフィルムに至る方法を提供するだろう。
【0004】
それゆえ、本発明の任務は、光学フィルムに適用可能な高い複屈折を有する新たなＬＣＰ材料を探索することであった。
【0005】
本発明の第一の局面は、式（Ｉ）
［式中、
環Ａは、非置換または置換されたフェニレン基、ナフタレン基またはビフェニレン基であり、好ましくは、環Ａは、非置換または置換された１，４－フェニレン基、２，６－ナフタレン基、１，４－ナフタレン基、１，５－ナフタレン基または４，４’－ビフェニレンであり；より好ましくは、環Ａは、非置換または置換された１，４－フェニレン基または１，４－ナフタレン基であり、
ＡＡ１は、以下の化合物の群より選択され：
ＡＡ２は、以下の化合物であるか、または以下の化合物の群より選択され：
ここで、ＡＡ１およびＡＡ２は、互いに独立して、非置換であるか、またはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、Ｃ１－Ｃ６アルキル、Ｃ１－Ｃ６アルケニル、Ｃ１－Ｃ６アルコキシおよびＣ１－Ｃ６アルケニルオキシからなる群より選択される１個もしくは２個の置換基で置換されており、
Ｑ１は、非置換または置換された単素環式または複素環式基であり、好ましくは、１，４－フェニレン、ピリジン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、trans－１，４－シクロヘキシレン、trans－１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、１，４－ナフタレンジイルおよび２，６－ナフタレンジイル、ベンゾフラン、ベンゾチアゾールおよびベンゾイミダゾールからなる群より選択され；より好ましくは、Ｑ１は、１，４－フェニレン、１，４－ナフタレンジイル、２，６－ナフタレンジイル、ベンゾフラン、ベンゾチアゾールおよびベンゾイミダゾールからなる群より選択され；とりわけより好ましいＱ１は、ベンゾフラン、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾールより選択されるか；または、とりわけ最も好ましいＱ１は、ベンゾチアゾールまたはベンゾイミダゾールであるか；あるいは
Ｑ１は、式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）および（Ｉｄ）：－ＣＯＯ－ＳＰ２－ＢＢ（Ｉａ）、－ＯＣＯ－ＳＰ２－ＢＢ（Ｉｂ）、－ＣＯ－ＳＰ２－ＢＢ（Ｉｃ）および－Ｏ－ＳＰ２－ＢＢ（Ｉｄ）で示される非置換または置換された化合物の群より選択され、とりわけ最も好ましいＱ１は、－ＣＯＯ－ＳＰ２－ＢＢ（Ｉａ）より選択されるが；
但し、条件として、Ｑ１の置換基は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、Ｃ１－Ｃ６アルキル、Ｃ１－Ｃ６アルケニル、Ｃ１－Ｃ６アルコキシおよびＣ１－Ｃ６アルケニルオキシからなる群より選択されるものとし；かつ
条件として、環Ａがナフタレン基である場合、Ｑ１は、上に与えられた意味を有するかまたは水素であるとし；
ＳＰ１、ＳＰ２およびＳＰ３は、互いに独立して、単結合または式－（ＣＨ２）ｐ－で示されるスペーサー基を表し、式中、ｐは、１～１８の整数であり、１個、２個、３個または４個の－ＣＨ２－基は、置き換わっていないか、または－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ’－、－ＯＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ’、－ＮＲ’－、－ＣＯＮＲ’－、－ＯＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ’からなる群より選択される基によって置き換わっており、ここで、Ｒ’は、水素、Ｃ１－Ｃ６アルキル基およびＣ１－Ｃ６アルケニル基からなる群より選択されるが；但し、条件として、スペーサー基は、２個の隣接するヘテロ原子を含有しないものとし；好ましくは、ＳＰ１およびＳＰ３は、それぞれ互いに独立して、単結合または式－（ＣＨ２）ｐ－で示されるスペーサー基を表し、式中、ｐは、１～１２の整数、好ましくは、１～６の整数であり、１個の－ＣＨ２－基は、置き換わっていないか、または－Ｏ－もしくは－Ｓ－からなる群より選択される基によって置き換わっており；好ましくは、ＳＰ２は、単結合または式－（ＣＨ２）ｐ－で示されるスペーサー基を表し、式中、ｐは、１～１２の整数、好ましくは、１～１０の整数であり、１個の－ＣＨ２－基は、置き換わっていないか、または－Ｏ－もしくは－Ｓ－からなる群より選択される基によって置き換わっており；
ｎは、０または１、好ましくは、１であり、
ＢＰは、重合性基、またはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、Ｃ１－Ｃ６アルキル、Ｃ１－Ｃ６アルケニル、Ｃ１－Ｃ６アルコキシもしくはＣ１－Ｃ６アルケニルオキシであり、好ましくは、ＢＰは、ＣＮ、Ｉ、または重合性基であり、
Ｐ１は、重合性基であるが、
但し、条件として、ＢＰおよびＰ１が重合性基である場合、これらは、同一または異なるものとし；
ＢＢは、水素、または式（ＩＩ）
（式中、
ＡおよびＢは、独立して、非置換または置換された６員単素環式もしくは複素環式基またはナフタレン基を表し；
Ｃは、５および６員単素環式もしくは複素環式基またはナフタレン基からなる群より選択され；
ｎ１およびｎ２は、０または１であるが、但し、条件として、第一に、１≦ｎ１＋ｎ２≦２、第二に、Ｃがナフタレン基である場合に０≦ｎ１＋ｎ２≦２とし；好ましくは、ｎ１は１であり、ｎ２は０であり；
Ｚ１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ’－、－ＮＲ’ＣＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ’－、－ＮＲ’ＣＯＯ－および単結合からなる群より選択され；ここで、
Ｒ’は、水素、Ｃ１－Ｃ６アルキル基およびＣ１－Ｃ６アルケニル基からなる群より選択され；好ましくは、Ｚ１は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－または単結合であるが；
但し、条件として、－ＳＰ２－Ｚ１－基は、２個の隣接するヘテロ原子を含有しないものとし；
Ｚ２およびＺ３は、互いに独立して、単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－（ＣＨ２）４－および－（ＣＨ２）３Ｏ－からなる群より選択され；好ましくは、Ｚ２およびＺ３は、独立して、単結合、－ＣＯＯ－および－ＯＯＣ－からなる群より選択され；
Ｒ１は、Ｈ、－ＣＮ、－ＣＯＲ、－ＣＯＯＲ、－ＯＣＯＲ、－ＣＯＮＲ’Ｒ、－ＮＲ’ＣＯＲ、ＯＣＯＯＲ、－ＯＣＯＮＲ’Ｒ、－ＮＲ’ＣＯＯＲ、－Ｆ、－Ｃｌ、Ｉ、－ＣＦ３、－ＯＣＦ３、－ＯＲからなる群より選択され、好ましくは、Ｈ、－ＣＮおよびＩからなる群より選択され、ここで、Ｒ’は、水素、Ｃ１－Ｃ６アルキル基およびＣ１－Ｃ６アルケニル基からなる群より選択され、Ｒは、水素、Ｃ１－１８アルキル基および３位またはより高位に二重結合を有するＣ４－１８アルケニル基からなる群より選択され、好ましくは、より高位は、４、５、６、７、８、９、１０位である）
で示される化合物である］
で示される化合物、好ましくは液晶を提供する。
【化1】
［式中、
環Ａは、非置換または置換されたフェニレン基、ナフタレン基またはビフェニレン基であり、好ましくは、環Ａは、非置換または置換された１，４－フェニレン基、２，６－ナフタレン基、１，４－ナフタレン基、１，５－ナフタレン基または４，４’－ビフェニレンであり；より好ましくは、環Ａは、非置換または置換された１，４－フェニレン基または１，４－ナフタレン基であり、
ＡＡ１は、以下の化合物の群より選択され：
【化2】
ＡＡ２は、以下の化合物であるか、または以下の化合物の群より選択され：
【化3】
ここで、ＡＡ１およびＡＡ２は、互いに独立して、非置換であるか、またはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、Ｃ１－Ｃ６アルキル、Ｃ１－Ｃ６アルケニル、Ｃ１－Ｃ６アルコキシおよびＣ１－Ｃ６アルケニルオキシからなる群より選択される１個もしくは２個の置換基で置換されており、
Ｑ１は、非置換または置換された単素環式または複素環式基であり、好ましくは、１，４－フェニレン、ピリジン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、trans－１，４－シクロヘキシレン、trans－１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、１，４－ナフタレンジイルおよび２，６－ナフタレンジイル、ベンゾフラン、ベンゾチアゾールおよびベンゾイミダゾールからなる群より選択され；より好ましくは、Ｑ１は、１，４－フェニレン、１，４－ナフタレンジイル、２，６－ナフタレンジイル、ベンゾフラン、ベンゾチアゾールおよびベンゾイミダゾールからなる群より選択され；とりわけより好ましいＱ１は、ベンゾフラン、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾールより選択されるか；または、とりわけ最も好ましいＱ１は、ベンゾチアゾールまたはベンゾイミダゾールであるか；あるいは
Ｑ１は、式（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）および（Ｉｄ）：－ＣＯＯ－ＳＰ２－ＢＢ（Ｉａ）、－ＯＣＯ－ＳＰ２－ＢＢ（Ｉｂ）、－ＣＯ－ＳＰ２－ＢＢ（Ｉｃ）および－Ｏ－ＳＰ２－ＢＢ（Ｉｄ）で示される非置換または置換された化合物の群より選択され、とりわけ最も好ましいＱ１は、－ＣＯＯ－ＳＰ２－ＢＢ（Ｉａ）より選択されるが；
但し、条件として、Ｑ１の置換基は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、Ｃ１－Ｃ６アルキル、Ｃ１－Ｃ６アルケニル、Ｃ１－Ｃ６アルコキシおよびＣ１－Ｃ６アルケニルオキシからなる群より選択されるものとし；かつ
条件として、環Ａがナフタレン基である場合、Ｑ１は、上に与えられた意味を有するかまたは水素であるとし；
ＳＰ１、ＳＰ２およびＳＰ３は、互いに独立して、単結合または式－（ＣＨ２）ｐ－で示されるスペーサー基を表し、式中、ｐは、１～１８の整数であり、１個、２個、３個または４個の－ＣＨ２－基は、置き換わっていないか、または－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ’－、－ＯＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ’、－ＮＲ’－、－ＣＯＮＲ’－、－ＯＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ’からなる群より選択される基によって置き換わっており、ここで、Ｒ’は、水素、Ｃ１－Ｃ６アルキル基およびＣ１－Ｃ６アルケニル基からなる群より選択されるが；但し、条件として、スペーサー基は、２個の隣接するヘテロ原子を含有しないものとし；好ましくは、ＳＰ１およびＳＰ３は、それぞれ互いに独立して、単結合または式－（ＣＨ２）ｐ－で示されるスペーサー基を表し、式中、ｐは、１～１２の整数、好ましくは、１～６の整数であり、１個の－ＣＨ２－基は、置き換わっていないか、または－Ｏ－もしくは－Ｓ－からなる群より選択される基によって置き換わっており；好ましくは、ＳＰ２は、単結合または式－（ＣＨ２）ｐ－で示されるスペーサー基を表し、式中、ｐは、１～１２の整数、好ましくは、１～１０の整数であり、１個の－ＣＨ２－基は、置き換わっていないか、または－Ｏ－もしくは－Ｓ－からなる群より選択される基によって置き換わっており；
ｎは、０または１、好ましくは、１であり、
ＢＰは、重合性基、またはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、Ｃ１－Ｃ６アルキル、Ｃ１－Ｃ６アルケニル、Ｃ１－Ｃ６アルコキシもしくはＣ１－Ｃ６アルケニルオキシであり、好ましくは、ＢＰは、ＣＮ、Ｉ、または重合性基であり、
Ｐ１は、重合性基であるが、
但し、条件として、ＢＰおよびＰ１が重合性基である場合、これらは、同一または異なるものとし；
ＢＢは、水素、または式（ＩＩ）
【化4】
（式中、
ＡおよびＢは、独立して、非置換または置換された６員単素環式もしくは複素環式基またはナフタレン基を表し；
Ｃは、５および６員単素環式もしくは複素環式基またはナフタレン基からなる群より選択され；
ｎ１およびｎ２は、０または１であるが、但し、条件として、第一に、１≦ｎ１＋ｎ２≦２、第二に、Ｃがナフタレン基である場合に０≦ｎ１＋ｎ２≦２とし；好ましくは、ｎ１は１であり、ｎ２は０であり；
Ｚ１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ’－、－ＮＲ’ＣＯ－、－ＯＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ’－、－ＮＲ’ＣＯＯ－および単結合からなる群より選択され；ここで、
Ｒ’は、水素、Ｃ１－Ｃ６アルキル基およびＣ１－Ｃ６アルケニル基からなる群より選択され；好ましくは、Ｚ１は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－または単結合であるが；
但し、条件として、－ＳＰ２－Ｚ１－基は、２個の隣接するヘテロ原子を含有しないものとし；
Ｚ２およびＺ３は、互いに独立して、単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－（ＣＨ２）４－および－（ＣＨ２）３Ｏ－からなる群より選択され；好ましくは、Ｚ２およびＺ３は、独立して、単結合、－ＣＯＯ－および－ＯＯＣ－からなる群より選択され；
Ｒ１は、Ｈ、－ＣＮ、－ＣＯＲ、－ＣＯＯＲ、－ＯＣＯＲ、－ＣＯＮＲ’Ｒ、－ＮＲ’ＣＯＲ、ＯＣＯＯＲ、－ＯＣＯＮＲ’Ｒ、－ＮＲ’ＣＯＯＲ、－Ｆ、－Ｃｌ、Ｉ、－ＣＦ３、－ＯＣＦ３、－ＯＲからなる群より選択され、好ましくは、Ｈ、－ＣＮおよびＩからなる群より選択され、ここで、Ｒ’は、水素、Ｃ１－Ｃ６アルキル基およびＣ１－Ｃ６アルケニル基からなる群より選択され、Ｒは、水素、Ｃ１－１８アルキル基および３位またはより高位に二重結合を有するＣ４－１８アルケニル基からなる群より選択され、好ましくは、より高位は、４、５、６、７、８、９、１０位である）
で示される化合物である］
で示される化合物、好ましくは液晶を提供する。
【0006】
スペーサー基ＳＰ１、ＳＰ２およびＳＰ３は、それぞれ互いに独立して、非置換であるか、または１個もしくは複数個のフッ素もしくは塩素原子によって置換されている。置換基が存在しないスペーサー基が好ましい。
【0007】
基ＡおよびＢは、飽和、不飽和の脂環式基または芳香族基である。これらは、非置換であるか、またはＦ、Ｃｌ、ＣＮ、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルコキシおよび低級アルケニルオキシからなる群より選択される１個もしくは２個の置換基によって置換されている。好ましくは、基ＡおよびＢはそれぞれ、置換基を１個だけ含有する。基ＡおよびＢは、置換基を含有しないことがとりわけ好ましい。
【0008】
基ＡおよびＢは、１，４－フェニレン、ビフェニレン、ピリジン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、trans－１，４－シクロヘキシレンまたはtrans－１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、ビシクロヘキシレン、１，４－ナフタレンジイルおよび２，６－ナフタレンジイルからなる群より選択されることが好ましい。ＡおよびＢは、１，４－フェニレン、trans－１，４－シクロヘキシレンおよび２，６－ナフタレンジイルからなる群より選択されることがとりわけ好ましい。
【0009】
基Ｃは、飽和、不飽和の脂環式基または芳香族基である。それは、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮ、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルコキシおよび低級アルケニルオキシからなる群より選択される１個または２個の置換基で場合により置換されている。基Ｃは、最大で１個の置換基を含有することが好ましい。基Ｃは、置換基を含有しないことがとりわけ好ましい。
【0010】
基Ｃは、フラン－２，４－ジイル、フラン－２，５－ジイル、テトラヒドロフラン－２，４－ジイル、テトラヒドロフラン－２，５－ジイル、ジオキソラン－２，４－ジイル、ジオキソラン－２，５－ジイル、オキサゾール－２，４－ジイル、オキサゾール－２，５－ジイル、シクロペンタン－１，３－ジイル、シクロペンタン-－１，４－ジイル、１，４－フェニレン、ピリジン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、trans－１，４－シクロヘキシレンまたはジオキサン－２，５－ジイル、１，４－ナフタレンジイル、１，３－ナフタレンジイル、１，５－ナフタレンジイル、１，６－ナフタレンジイル、１，７－ナフタレンジイル、２，３－ナフタレンジイル、２，４－ナフタレンジイル、２，５－ナフタレンジイル、２，６－ナフタレンジイル、２，７－ナフタレンジイル、および２，８－ナフタレンジイルより選択されることが好ましい。Ｃは、フラン－２，５－ジイル、テトラヒドロフラン－２，５－ジイル、オキサゾール－２，５－ジイル、１，４－フェニレン、trans－１，４－シクロへキシレン、および２，６－ナフタレンジイルからなる群より選択されることがとりわけ好ましく、とりわけより好ましいＣは、１，４－フェニレンである。
【0011】
ＢＰおよびＰ１の重合性基は、それぞれ互いに独立しており、好ましくは、ＣＨ２＝Ｃ（Ｐｈ）－、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯＯ－、ＣＨ２＝ＣＨ－ＣＯＯ－Ｐｈ－、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯ－ＮＨ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｏ－、ＣＨ２＝ＣＨ－ＯＯＣ－、Ｐｈ－ＣＨ＝ＣＨ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｐｈ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｐｈ－Ｏ－、Ｒ６－Ｐｈ－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、Ｒ６－ＯＯＣ－ＣＨ＝ＣＨ－Ｐｈ－Ｏ－および２－Ｗ－エポキシエチルからなる群より選択され、ここで、Ｗは、水素、塩化物、アリールまたはＣ１－Ｃ６アルキルを表す。
【0012】
Ｒ６は、Ｃ１－Ｃ６アルキルを表すが、但し、条件として、Ｒ６がアリール基に結合している場合、Ｒ６は、水素またはＣ１－Ｃ６アルコキシを表す場合もあるとする。
【0013】
ＢＰおよびＰ１の重合性基は、互いに独立しており、とりわけ好ましくは、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯＯ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｏ－、およびＣＨ２＝ＣＨ－ＯＯＣ－からなる群より選択され、ここで、Ｗは、水素、塩化物、アリールまたはＣ１－Ｃ６アルキル、好ましくは、水素またはＣ１－Ｃ６アルキルを表す。
【0014】
用語「低級アルキル」とは、Ｃ１－６のアキラルな分岐鎖または直鎖アルキル基を含むと理解されるべきである。本発明の化合物中に存在し得る低級アルキル基の例として、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルなどが挙げられる。
【0015】
用語「低級アルケニル」とは、二重結合が２位またはより高位にあるＣ３－６のアキラルな分岐鎖または直鎖アルケニル基を含むと理解されるべきである。本発明の化合物中に存在し得る低級アルケニル基の例として、２－プロペニル、３－ブテニル、３－イソペンテニル、４－ペンテニル、５－ヘキセニル、４－イソヘキセニルなどが挙げられる。
【0016】
用語「低級アルコキシ」とは、Ｃ１－６のアキラルな分岐鎖または直鎖アルコキシ基を含むと理解されるべきである。本発明の化合物中に存在し得る低級アルコキシ基の例として、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシなどが挙げられる。
【0017】
用語「アルケニルオキシ」とは、二重結合が２位またはより高位にあるＣ３－６のアキラルな分岐鎖または直鎖アルケニルオキシ基を含むと理解されるべきである。本発明の化合物中に存在し得る低級アルケニルオキシ基の例として、２－プロペニルオキシ、３－ブテニルオキシ、４－ペンテニルオキシ、５－ヘキセニルオキシなどが挙げられる。
【0018】
出発物質は、市販されているかまたは容易に調製することができ、当業者によく知られている。
【0019】
好ましくは、本発明は、
環Ａが、非置換または置換されたフェニレン基、好ましくは、１，４－フェニレン基、またはナフタレン基であり；
ＡＡ１が、以下の化合物の群より選択され：
ＡＡ２が、Ｃ１－Ｃ４アルキレン、脂環式基、または以下の化合物の群より選択され：
Ｑ１が、ベンゾフラン、ベンゾチアゾールおよびベンゾイミダゾールからなる群より選択される非置換または置換されている基であり；好ましくは、Ｑ１が、ベンゾチアゾールまたはベンゾイミダゾールであるか、あるいは
Ｑ１が、式（Ｉａ）：－ＣＯＯ－ＳＰ２－ＢＢの群より選択されるが、
但し、条件として、Ｑ１の置換基が、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、Ｃ１－Ｃ６アルキル、Ｃ１－Ｃ６アルケニル、Ｃ１－Ｃ６アルコキシおよびＣ１－Ｃ６アルケニルオキシからなる群より選択されるものとし；かつ、条件として、環Ａがナフタレン基である場合、Ｑ１は、上に与えられた意味を有するかまたは水素であるとし；
ＳＰ１およびＳＰ３が、互いに独立して、単結合または式－（ＣＨ２）ｐ－で示されるスペーサー基を表し、式中、ｐが、１～１２の整数、好ましくは、１～６の整数であり、１個の－ＣＨ２－基が、置き換わっていないか、または－Ｏ－もしくは－Ｓ－からなる群より選択される基によって置き換わっており；そして
ＳＰ２が、単結合または式－（ＣＨ２）ｐ－で示されるスペーサー基を表し、式中、ｐが、１～１２の整数、好ましくは、１～１０の整数であり、１個の－ＣＨ２－基が、置き換わっていないか、または－Ｏ－もしくは－Ｓ－からなる群より選択される基によって置き換わっており；
ｎが、０または１であり、そして
ＢＰが、重合性基、またはＣ１－Ｃ４アルキル、Ｉもしくは－ＣＮであり、
Ｐ１が、重合性基であり、
ここで、重合性基が、ＣＨ２＝Ｃ（Ｐｈ）－、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯＯ－、ＣＨ２＝ＣＨ－ＣＯＯ－Ｐｈ－、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯ－ＮＨ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｏ－、ＣＨ２＝ＣＨ－ＯＯＣ－、Ｐｈ－ＣＨ＝ＣＨ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｐｈ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｐｈ－Ｏ－、Ｒ６－Ｐｈ－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、Ｒ６－ＯＯＣ－ＣＨ＝ＣＨ－Ｐｈ－Ｏ－および２－Ｗ－エポキシエチルからなる群より選択され、ここで、Ｗが、水素、塩化物、アリールまたはＣ１－Ｃ６アルキルを表し、好ましくは、Ｗが、水素であり；より好ましくは、重合性基が、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯＯ－であり、ここで、Ｗが、水素を表し、
Ｒ６が、Ｃ１－Ｃ６アルキルを表すが、但し、条件として、Ｒ６がアリール基に結合している場合、Ｒ６は、水素またはＣ１－Ｃ６アルコキシを表す場合もあるとし、
但し、条件として、ＢＰおよびＰ１が重合性基である場合、これらは、同じであってもまたは異なっていてもよいものとし、そして
ＢＢが、水素、または式（ＩＩ）
（式中、
ＡおよびＢは、独立して、非置換または置換された１，４－フェニレン基またはナフタレン基を表し；好ましくは、ＡおよびＢは、独立して、非置換または置換された１，４－フェニレン基を表し、
Ｃは、非置換または置換された１，４－フェニレン基またはナフタレン基であり；好ましくは、Ｃは、非置換または置換された１，４－フェニレン基であり、
ｎ１およびｎ２は、０または１であるが、但し、条件として、第一に、１≦ｎ１＋ｎ２≦２、第二に、Ｃがナフタレン基である場合に０≦ｎ１＋ｎ２≦２とし；好ましくは、ｎ１は１であり、ｎ２は０であり、
Ｚ１は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＯ－および単結合からなる群より選択されるが；
但し、条件として、－ＳＰ２－Ｚ１－基は、２個の隣接するヘテロ原子を含有しないものとし；
Ｚ２およびＺ３は、独立して、単結合、－ＣＯＯ－および－ＯＯＣ－からなる群より選択され；好ましくは、Ｚ２およびＺ３は、独立して、単結合であり、そして
Ｒ１は、Ｈ、－ＣＮおよびＩからなる群より選択され、好ましくは、Ｒ１は、－ＣＮである）
で示される化合物である、式（Ｉ）で示される化合物、好ましくは液晶を提供する。
環Ａが、非置換または置換されたフェニレン基、好ましくは、１，４－フェニレン基、またはナフタレン基であり；
ＡＡ１が、以下の化合物の群より選択され：
【化5】
ＡＡ２が、Ｃ１－Ｃ４アルキレン、脂環式基、または以下の化合物の群より選択され：
【化6】
Ｑ１が、ベンゾフラン、ベンゾチアゾールおよびベンゾイミダゾールからなる群より選択される非置換または置換されている基であり；好ましくは、Ｑ１が、ベンゾチアゾールまたはベンゾイミダゾールであるか、あるいは
Ｑ１が、式（Ｉａ）：－ＣＯＯ－ＳＰ２－ＢＢの群より選択されるが、
但し、条件として、Ｑ１の置換基が、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、Ｃ１－Ｃ６アルキル、Ｃ１－Ｃ６アルケニル、Ｃ１－Ｃ６アルコキシおよびＣ１－Ｃ６アルケニルオキシからなる群より選択されるものとし；かつ、条件として、環Ａがナフタレン基である場合、Ｑ１は、上に与えられた意味を有するかまたは水素であるとし；
ＳＰ１およびＳＰ３が、互いに独立して、単結合または式－（ＣＨ２）ｐ－で示されるスペーサー基を表し、式中、ｐが、１～１２の整数、好ましくは、１～６の整数であり、１個の－ＣＨ２－基が、置き換わっていないか、または－Ｏ－もしくは－Ｓ－からなる群より選択される基によって置き換わっており；そして
ＳＰ２が、単結合または式－（ＣＨ２）ｐ－で示されるスペーサー基を表し、式中、ｐが、１～１２の整数、好ましくは、１～１０の整数であり、１個の－ＣＨ２－基が、置き換わっていないか、または－Ｏ－もしくは－Ｓ－からなる群より選択される基によって置き換わっており；
ｎが、０または１であり、そして
ＢＰが、重合性基、またはＣ１－Ｃ４アルキル、Ｉもしくは－ＣＮであり、
Ｐ１が、重合性基であり、
ここで、重合性基が、ＣＨ２＝Ｃ（Ｐｈ）－、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯＯ－、ＣＨ２＝ＣＨ－ＣＯＯ－Ｐｈ－、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯ－ＮＨ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｏ－、ＣＨ２＝ＣＨ－ＯＯＣ－、Ｐｈ－ＣＨ＝ＣＨ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｐｈ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｐｈ－Ｏ－、Ｒ６－Ｐｈ－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、Ｒ６－ＯＯＣ－ＣＨ＝ＣＨ－Ｐｈ－Ｏ－および２－Ｗ－エポキシエチルからなる群より選択され、ここで、Ｗが、水素、塩化物、アリールまたはＣ１－Ｃ６アルキルを表し、好ましくは、Ｗが、水素であり；より好ましくは、重合性基が、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯＯ－であり、ここで、Ｗが、水素を表し、
Ｒ６が、Ｃ１－Ｃ６アルキルを表すが、但し、条件として、Ｒ６がアリール基に結合している場合、Ｒ６は、水素またはＣ１－Ｃ６アルコキシを表す場合もあるとし、
但し、条件として、ＢＰおよびＰ１が重合性基である場合、これらは、同じであってもまたは異なっていてもよいものとし、そして
ＢＢが、水素、または式（ＩＩ）
【化7】
（式中、
ＡおよびＢは、独立して、非置換または置換された１，４－フェニレン基またはナフタレン基を表し；好ましくは、ＡおよびＢは、独立して、非置換または置換された１，４－フェニレン基を表し、
Ｃは、非置換または置換された１，４－フェニレン基またはナフタレン基であり；好ましくは、Ｃは、非置換または置換された１，４－フェニレン基であり、
ｎ１およびｎ２は、０または１であるが、但し、条件として、第一に、１≦ｎ１＋ｎ２≦２、第二に、Ｃがナフタレン基である場合に０≦ｎ１＋ｎ２≦２とし；好ましくは、ｎ１は１であり、ｎ２は０であり、
Ｚ１は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＯ－および単結合からなる群より選択されるが；
但し、条件として、－ＳＰ２－Ｚ１－基は、２個の隣接するヘテロ原子を含有しないものとし；
Ｚ２およびＺ３は、独立して、単結合、－ＣＯＯ－および－ＯＯＣ－からなる群より選択され；好ましくは、Ｚ２およびＺ３は、独立して、単結合であり、そして
Ｒ１は、Ｈ、－ＣＮおよびＩからなる群より選択され、好ましくは、Ｒ１は、－ＣＮである）
で示される化合物である、式（Ｉ）で示される化合物、好ましくは液晶を提供する。
【0020】
より好ましくは、本発明は、ＡＡ１およびＡＡ２、ＳＰ１およびＳＰ１およびＰ１ならびにＢＰが、同一であるか、または、ＡＡ２が、１，４－フェニレンであり、ｎが、０であり、環Ａ、ＡＡ１、Ｑ１、ＳＰ１、ＳＰ２、ＳＰ３、ＢＰおよびＰ１が、上に与えられた通りの意味を有し、好ましくは、ＢＰが、ハロゲンＩを表す、式（Ｉ）で示される化合物、好ましくは液晶を提供する。
【0021】
本出願との関連の範囲内で使用されるようなＬＣＰ材料は、液晶モノマーおよび／または液晶オリゴマーおよび／または液晶ポリマーおよび／または架橋液晶を含む、液晶材料を意味するものとする。液晶材料が液晶モノマーを含む場合、そのようなモノマーは、典型的には、ＬＣＰ材料において例えば配向層との接触により異方性が創出された後に、重合され得る。重合は、熱処理によってまたは化学線（好ましくはＵＶ光を含む）への曝露によって開始され得る。ＬＣＰ材料は、一種類の液晶化合物のみを含んでよいが、追加の重合性および／または非重合性化合物を含んでもよく、これらの化合物のすべてが液晶化合物である必要はない。さらに、ＬＣＰ材料は、酸化防止剤、開始剤、例えば光開始剤、促進剤、色素、阻害剤、活性化剤、充填剤、連鎖移動阻害剤、顔料、帯電防止剤、難燃剤、増稠剤、チキソトロープ剤、界面活性剤、粘度調整剤、伸展油、可塑剤、粘着付与剤、触媒、増感剤、安定剤、例えば、フェノール誘導体、例えば４－エトキシフェノールまたは２，６－ジ－tert－ブチル-－４－メチル-フェノール（ＢＨＴ）など、平滑剤；分散剤；ポリマー結合剤および／もしくは重合によってポリマー結合剤に変換できるモノマー化合物、または、エマルション塗料および印刷用インクの場合、米国特許第５，７９８，１４７号に開示されているような分散助剤；疎水化剤、接着剤、流動性向上剤、消泡剤、脱気剤、希釈剤、補助剤、着色剤、色素および顔料、硬化阻害剤、例えばヒドロキノン、ｐ－tert.－ブチルカテコール；２，６－ジ tert.－ブチル－ｐ－メチルフェノール；フェノチアジン；Ｎ－フェニル－２－ナフチルアミン；またはＥＰ １ ０９０ ３２５ Ｂに記載されているような光配列性モノマーもしくはオリゴマーもしくはポリマー、キラル添加剤、等方性もしくは異方性の蛍光および／もしくは非蛍光色素、特に二色性色素を含むがそれらに限定されない、添加剤を含有してよい。
【0022】
本発明の化合物は、ＬＣＰ混合物の調製において使用してよいことが理解されよう。そのような混合物は、式（Ｉ）で示される化合物と１つまたは複数の追加成分とを混合することによって調製され得る。有機溶剤をこれらの混合物の調製において使用してもよい。
【0023】
それゆえ、本発明の第二の局面は、式（Ｉ）で示される化合物と１つまたは複数の追加成分とを含むＬＣＰ混合物を提供する。ＬＣＰ混合物はまた、適切な有機溶剤を含んでもよい。
【0024】
ＬＣＰ混合物中に存在する１つまたは複数の追加成分は、式（Ｉ）で示されるさらなる化合物、他のメソゲン性化合物、メソゲン性分子構造と適合性の化合物、またはヘリカルピッチの誘導のためのキラルドーパントであり得る。ＬＣＰ混合物はまた、適切な有機溶剤を含んでもよい。
【0025】
そのような液晶混合物の調製において使用してよい溶剤の例として、アセトン、シクロペンタノン（ＣＰ）、シクロヘキサノン（ＣＨ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ－エチルピロリドン、Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＡＮ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，３－ジオキソラン（ＤＸＧ）、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチルカルビトール、エチルカルビトールアセタート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチル（ＥＡ）、１－メトキシ－２－プロパノールアセタート（ＭＰＡ）、ガンマ－ブチロラクトン（ＢＬ）、プロピレングリコールモノアセタート、プロピレングリコールジアセタート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）が挙げられるが、それらに限定されない。
【0026】
最も好ましいものは、シクロペンタノン（ＣＰ）、シクロヘキサノン（ＣＨ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、酢酸エチル（ＥＡ）、１－メトキシ－２－プロパノールアセタート（ＭＰＡ）、１，３－ジオキソラン（ＤＸＧ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）である。
【0027】
二色性色素は、分子の長軸方向と短軸方向との間で吸光度が変動する色素のことを指す。二色性色素は、好ましくは、可視光を吸収する。二色性色素の例として、アゾ色素、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素およびアントラキノン色素が挙げられる。これらの二色性色素は、個別にまたは組み合わせて使用することができる。液晶混合物の１００質量部に対して使用される二色性色素の量は、０．０１質量部～４０質量部、好ましくは、０．０５質量部～１５質量部である。
【0028】
本発明の化合物はまた、本発明の第一の局面に係るＬＣＰ化合物または本発明の第三の局面に係るＬＣＰ混合物を基板上にキャスティングすることにより、ＬＣＰ層の形成において使用してもよい。
【0029】
それゆえ、本発明の第三の局面は、ＬＣＰネットワーク、好ましくはＬＣＰフィルムを形成する方法であって、
式（Ｉ）で示される化合物または好ましくは式（Ｉ）で示される化合物を含むＬＣＰ混合物を含むＬＣＰ層を形成すること、および
ＬＣＰ層を重合すること
を含む、方法を提供する。
式（Ｉ）で示される化合物または好ましくは式（Ｉ）で示される化合物を含むＬＣＰ混合物を含むＬＣＰ層を形成すること、および
ＬＣＰ層を重合すること
を含む、方法を提供する。
【0030】
本発明はまた、本発明の第四の局面において、式（Ｉ）で示される化合物またはＬＣＰ混合物を架橋された形態で含む、架橋されたＬＣＰネットワークも含む。
【0031】
ＬＣＰネットワーク、好ましくは、ＬＣＰフィルムは、好ましくは０．２７～０．４５（±０．０１～０．０２）の範囲の、より好ましくは０．２８～０．４０（±０．０１）の範囲の、最も好ましくは０．３０～０．４０（±０．０１）の範囲の、とりわけ最も好ましくは０．３１～０．３８（±０．０１）の範囲の複屈折を有する。複屈折（Δｎ）は、エリプソメーターを用いた測定により、決定されたリタデーション（ここでは５５０nmでの）および厚み値から、式（Δｎ＝リタデーション／厚み）に従って得た。試料の厚みは、触針式段差計によって測定される。
【0032】
本発明の第五の局面は、光学または電気光学デバイスの作製における式（Ｉ）で示される化合物の使用を提供する。光学または電気光学デバイスの作製における液晶混合物の使用も、本発明のこの局面に含まれる。
【0033】
本発明の第六の局面は、式（Ｉ）で示される化合物を架橋された状態で含む光学または電気光学デバイスを提供する。本発明の第三の局面にかかるＬＣＰ液晶混合物を架橋された状態で含む光学または電気光学デバイスも、本発明のこの局面に含まれる。
【0034】
ＬＣＰ混合物は、支持体上に適用することができる。支持体は、剛性であっても可撓性であってもよく、任意の形態または形状を有することができる。例えば、支持体は、複雑な表面を備えた物体であり得る。原則として、支持体は、任意の材料から構成され得る。好ましくは、支持体は、プラスチック、ガラスもしくは金属を含むか、またはシリコンウェーハである。支持体が可撓性である場合、支持体は、プラスチックまたは金属箔であることが好ましい。好ましくは、支持体の表面は平坦である。いくつかの用途では、支持体は、マイクロレンズもしくはマイクロプリズムのような微細構造、または矩形構造などの形状の急激な変化を示す構造など、局所的表面構造を含み得る。好ましくは、支持体は、透明である。
【0035】
支持体は、ＬＣＰ混合物の堆積の間、移動し得る。例えば、ＬＣＰ混合物の層は、好ましくはプラスチックまたは金属製である移動している可撓性の箔上に材料組成物を堆積させることによって、連続式ロールツーロールプロセスで生産され得る。次いで、得られたフィルムを支持体箔と一緒にロール上に巻き取ってもよく、またはフィルムを支持体から剥離してもよく、フィルムは、その後、支持体なしで自立型フィルムとして巻き取られる。
【0036】
支持体は、有機層、誘電体層または金属層などの追加の層を有し得る。層は、様々な機能を有することができ、例えば、有機層は、コーティングされる材料の支持体との適合性を高めるプライマー層としてコーティングすることができる。金属層は、例えばディスプレイなどの電気光学デバイスにおいて使用されるときに電極として使用されてもよく、または反射体としての機能を有することもできる。また、支持体は、例えば薄膜トランジスタ、電極またはカラーフィルターを含み得るＬＣＤ用の基板など、特定の機能を有する光学素子またはデバイスであってもよい。別の例では、支持体は、ＯＬＥＤ層構造を含むデバイスである。また、支持体は、リターダフィルム、偏光子、例えば偏光フィルムまたはシート偏光子、反射偏光子、例えば市販のＶｉｋｕｉｔｙ（商標）ＤＢＥＦフィルムであることもできる。
【0037】
ＬＣＰ混合物は、押出成形、キャスティング、成型、２Ｄもしくは３Ｄ印刷またはコーティングのような任意の適切な方法によって支持体に適用され得る。適切なコーティング法は、例えば、スピンコーティング、ブレードコーティング、ナイフコーティング、キスロールコーティング、ダイコーティング、ディッピング、ブラッシング、バーによるキャスティング、ローラコーティング、フローコーティング、ワイヤコーティング、スプレーコーティング、ディップコーティング、カーテンコーティング、エアナイフコーティング、リバースロールコーティング、グラビアコーティング、メータリング・ロッド（Meyerバー）コーティング、スロットダイ（押出）コーティング、ローラコーティング、フレキソコーティングである。適切な印刷法として、シルクスクリーン印刷、レリーフ印刷、例えばフレキソグラフ印刷、ジェット印刷、凹版印刷、例えば直接グラビア印刷もしくはオフセットグラビア印刷、リソグラフ印刷、例えばオフセット印刷、またはステンシル印刷、例えばスクリーン印刷が挙げられる。
【0038】
ＬＣＰ混合物の層は、支持体の表面全体を覆う必要はない。むしろ、層は、例えば印刷によってパターンの形態で適用されてもよく、または、堆積後に、例えばフォトリソグラフィー法によってパターンの形態を有するように処理されてもよい。
【0039】
ＬＣＰの配向は、液晶を配向するための任意の公知の手段によって達成することができる。例えば、支持体は、配向表面を有していてよく、これは、該表面が液晶を配向する能力を有することを意味するものとする。支持体は、さらに処理することなく、予め配向を与えることができる。例えば、プラスチック基板を支持体として使用する場合、支持体は、製造方法、例えば基板の押出成形または延伸に起因して、表面上に配向を与えることができる。また、配向能を生じさせるために、支持体をブラシで擦るか、または方向性微細構造をインプリントすることも可能である。あるいは、とりわけ配向性能に関して設計された支持体上に、材料の薄層をコーティングしてもよい。層は、さらにブラシで擦るか、または、例えばインプリンティングによって表面上に方向性微細構造を有するように処理してもよい。薄層が光配列性物質を含む場合、配向光に曝露することによって配向を生じさせることができる。
【0040】
ＬＣＰ層中の液晶の配列パターンを規定するために、基板の配向表面は、配向方向のパターンを示し得る。好ましくは、光配列性物質を含む配向層がこの目的のために使用され、そして、異なる偏光面の配向光に選択的に曝露することにより配向パターンが生じる。
【0041】
本発明では、高い複屈折を有する本発明の式Ｉで示される新たな化合物が見いだされた。さらに、式Ｉで示される化合物は、配向層により、好ましくは光配向材料を用いて低エネルギーで配向させることができ、このことは、より少ないエネルギー消費でより経済的なプロセスに至る方法を提供する。
【0042】
加えて、驚くべきことに、式Ｉで示される化合物は、結晶化なしに非常に良好な配向品質を示すことが見いだされた。
【0043】
さらに、式Ｉで示される化合物は、低エネルギー（＜２５０mJ）で配向させることができる。これらは、結晶化なしに非常に良好な配向品質を示す。
【0044】
本発明はこれから、以下の非限定的な実施例を参照して説明する。これらの実施例は、例証を目的として提供されるにすぎない。本発明の範囲内に含まれるこれらの実施例に対する変形は、当業者に明白であろう。
【0045】
本発明はこれから、以下の非限定的な実施例を参照して説明する。これらの実施例は、例証を目的として提供されるにすぎない。本発明の範囲内に含まれるこれらの実施例に対する変形は、当業者に明白であろう。
【実施例】
【0046】
実施例において使用される定義：
１Ｈ ＮＭＲ：１Ｈ核磁気共鳴分光法
ＤＭＳＯ－ｄ６：重水素化ジメチルスルホキシド
３００ＭＨｚ：３００メガヘルツ
ｍ：マルチプレット、ｄ：ダブレット、ｄｄ：ダブレットダブレット、ｔ：トリプレット、ｓ：シングレット
ＤＭＦ：ジメチルホルムアミド
ＨＣｌ：塩酸
ＤＢＵ：２，３，４，６，７，８，９，１０－オクタヒドロピリミドール［１，２－ａ］アゼピン
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
Ｎａ２ＳＯ４：硫酸ナトリウム
Ｐｄ（ＰＰｈ３）２Ｃｌ２：ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロリド
ＤＣＣ：Ｎ，Ｎ’－ジシクロヘキシルカルボジイミド
ＤＭＡＰ：４－ジメチルアミノピリジン
ＣＨ２Ｃｌ２：ジクロロメタン
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＮＭＰ：Ｎ－メチル－２－ピロリドン
ＣｕＩ：ヨウ化銅
ＭｇＳＯ４：硫酸マグネシウム
１Ｈ ＮＭＲ：１Ｈ核磁気共鳴分光法
ＤＭＳＯ－ｄ６：重水素化ジメチルスルホキシド
３００ＭＨｚ：３００メガヘルツ
ｍ：マルチプレット、ｄ：ダブレット、ｄｄ：ダブレットダブレット、ｔ：トリプレット、ｓ：シングレット
ＤＭＦ：ジメチルホルムアミド
ＨＣｌ：塩酸
ＤＢＵ：２，３，４，６，７，８，９，１０－オクタヒドロピリミドール［１，２－ａ］アゼピン
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
Ｎａ２ＳＯ４：硫酸ナトリウム
Ｐｄ（ＰＰｈ３）２Ｃｌ２：ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロリド
ＤＣＣ：Ｎ，Ｎ’－ジシクロヘキシルカルボジイミド
ＤＭＡＰ：４－ジメチルアミノピリジン
ＣＨ２Ｃｌ２：ジクロロメタン
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＮＭＰ：Ｎ－メチル－２－ピロリドン
ＣｕＩ：ヨウ化銅
ＭｇＳＯ４：硫酸マグネシウム
【0047】
以下の実施例において、サーモトロピック相は、次のように略記される：
・Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：結晶相からネマチック相への転移温度
・Ｔ（Ｎ－Ｉ）：ネマチック相から等方性相への転移温度
・Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：結晶相からネマチック相への転移温度
・Ｔ（Ｎ－Ｉ）：ネマチック相から等方性相への転移温度
【0048】
実施例１：６－（４－ヨードフェノキシ）－ヘキサン－１－オール化合物１の調製
６００mlのＤＭＦ中の４－ヨードフェノール（４０．０ｇ、０．１８２mol）と炭酸カリウム（３２．６ｇ、０．２３６mol）の混合物を９０℃に加熱する。１２０mlのＤＭＦ中の６－クロロヘキサン－１－オール（３７．２ｇ、０．２７２mol）およびヨウ化カリウム（３．０ｇ、０．０１８mol）を滴下する。次いで、混合物を９０℃で１２時間撹拌する。次いで、溶液を室温まで冷まし、１．３当量のＨＣｌを含有する２．５Ｌの氷水に注ぐ。沈殿物を濾別し、２Ｌの水で２回洗浄し、４０℃で真空乾燥させ、標記化合物（５６．６７ｇ、０．１７７mol）をオフホワイトの粉末物として与える。
６００mlのＤＭＦ中の４－ヨードフェノール（４０．０ｇ、０．１８２mol）と炭酸カリウム（３２．６ｇ、０．２３６mol）の混合物を９０℃に加熱する。１２０mlのＤＭＦ中の６－クロロヘキサン－１－オール（３７．２ｇ、０．２７２mol）およびヨウ化カリウム（３．０ｇ、０．０１８mol）を滴下する。次いで、混合物を９０℃で１２時間撹拌する。次いで、溶液を室温まで冷まし、１．３当量のＨＣｌを含有する２．５Ｌの氷水に注ぐ。沈殿物を濾別し、２Ｌの水で２回洗浄し、４０℃で真空乾燥させ、標記化合物（５６．６７ｇ、０．１７７mol）をオフホワイトの粉末物として与える。
【0049】
実施例２：６－［４－（２－トリメチルシリルエチニル］）フェノキシ］－ヘキサン－１－オール化合物２の調製
６－（４－ヨードフェノキシ）－ヘキサン－１－オール（２４．０９ｇ、０．０７５mol）、Ｐｄ（ＰＰｈ３）２Ｃｌ２（２．６４ｇ、３．７６mmol）、ヨウ化銅（１．４３ｇ、７．５２mmol）およびトリフェニルホスフィン（１．９７ｇ、７．５２mmol）を１００mlのトリエチルアミン（１００ml）に懸濁する。トリメチルシリルアセチレン（１１．０８ｇ、０．１１３mol）を滴下する。次いで、生じた混合物を６０℃に５時間加熱した後、それを２５℃まで冷ます。Ｈｙｆｌｏ（登録商標）での濾過に続き、溶媒を蒸発させる。残留物を酢酸エチルに溶解し、酸性Ｈ２Ｏ、ブラインで洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させる。残留物を、ヘプタン／酢酸エチルの１：１混合物を使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによって精製して、標記化合物（１９．５３ｇ、０．０６７mol）を褐色の油状物として提供する。
６－（４－ヨードフェノキシ）－ヘキサン－１－オール（２４．０９ｇ、０．０７５mol）、Ｐｄ（ＰＰｈ３）２Ｃｌ２（２．６４ｇ、３．７６mmol）、ヨウ化銅（１．４３ｇ、７．５２mmol）およびトリフェニルホスフィン（１．９７ｇ、７．５２mmol）を１００mlのトリエチルアミン（１００ml）に懸濁する。トリメチルシリルアセチレン（１１．０８ｇ、０．１１３mol）を滴下する。次いで、生じた混合物を６０℃に５時間加熱した後、それを２５℃まで冷ます。Ｈｙｆｌｏ（登録商標）での濾過に続き、溶媒を蒸発させる。残留物を酢酸エチルに溶解し、酸性Ｈ２Ｏ、ブラインで洗浄し、次いでＮａ２ＳＯ４で乾燥させる。残留物を、ヘプタン／酢酸エチルの１：１混合物を使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによって精製して、標記化合物（１９．５３ｇ、０．０６７mol）を褐色の油状物として提供する。
【0050】
実施例３：６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オール化合物３の調製
５００mlのメタノール中の６－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェノキシ］－ヘキサン－１－オール（１９．５３ｇ、０．０６７mol）溶液に、炭酸カリウム（１９．１３ｇ、０．１３４mol）を加える。反応混合物を周囲温度で２時間撹拌する。溶媒の蒸発後、１ＬのＨ２Ｏを加え、懸濁液を酢酸エチルで抽出する。ヘプタン／酢酸エチルの１：１混合物を使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（９．５５ｇ、０．０４４mol）を褐色の油状物として提供し、これは、数分後に結晶化する。
５００mlのメタノール中の６－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェノキシ］－ヘキサン－１－オール（１９．５３ｇ、０．０６７mol）溶液に、炭酸カリウム（１９．１３ｇ、０．１３４mol）を加える。反応混合物を周囲温度で２時間撹拌する。溶媒の蒸発後、１ＬのＨ２Ｏを加え、懸濁液を酢酸エチルで抽出する。ヘプタン／酢酸エチルの１：１混合物を使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（９．５５ｇ、０．０４４mol）を褐色の油状物として提供し、これは、数分後に結晶化する。
【0051】
実施例４：メチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアート化合物４の調製
５０mlのメタノール中の２，５－ジヒドロキシ安息香酸（１０．０ｇ、０．０６５mol）溶液に、５mlの濃硫酸を加えると、温度が４０℃まで上昇する。混合物を２４時間還流し、次いで、２５℃まで放冷する。溶液をＨ２Ｏに注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、濾別する。溶液を真空下で濃縮して、標記化合物（１０．７ｇ、０．０６３mol）を白色の粉末物として与える。
５０mlのメタノール中の２，５－ジヒドロキシ安息香酸（１０．０ｇ、０．０６５mol）溶液に、５mlの濃硫酸を加えると、温度が４０℃まで上昇する。混合物を２４時間還流し、次いで、２５℃まで放冷する。溶液をＨ２Ｏに注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機層をＮａ２ＳＯ４で乾燥させ、濾別する。溶液を真空下で濃縮して、標記化合物（１０．７ｇ、０．０６３mol）を白色の粉末物として与える。
【0052】
実施例５：メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物５の調製
メチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアート（８．４ｇ、０．０５mol）、４－ヨード安息香酸（２４．８ｇ、０．１mol）およびＤＭＡＰ（１．２２ｇ、０．０１mol）を４５０mlのジクロロメタンに懸濁する。８０mlのジクロロメタンに溶解したＤＣＣ（２５．８ｇ、０．１２５mol）を滴下する。添加完了後、懸濁液を２５℃で３時間撹拌する。次いで、懸濁液をＨｙｆｌｏ（登録商標）で濾別し、これを２５０mlのジクロロメタンで洗浄する。溶液を真空下で濃縮し、２５０mlのメタノール中での再結晶化による精製は、標記化合物（２１．５５ｇ、０．０３４mol）を白色の粉末物として与える。
メチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアート（８．４ｇ、０．０５mol）、４－ヨード安息香酸（２４．８ｇ、０．１mol）およびＤＭＡＰ（１．２２ｇ、０．０１mol）を４５０mlのジクロロメタンに懸濁する。８０mlのジクロロメタンに溶解したＤＣＣ（２５．８ｇ、０．１２５mol）を滴下する。添加完了後、懸濁液を２５℃で３時間撹拌する。次いで、懸濁液をＨｙｆｌｏ（登録商標）で濾別し、これを２５０mlのジクロロメタンで洗浄する。溶液を真空下で濃縮し、２５０mlのメタノール中での再結晶化による精製は、標記化合物（２１．５５ｇ、０．０３４mol）を白色の粉末物として与える。
【0053】
実施例６：メチル ５－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］－ベンゾイル］オキシ－２－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－ベンゾアート化合物６の調製
Ｎ２雰囲気下、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オール（４．１７ｇ、０．０１９mol）、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート（１２．０ｇ、０．０１９mol）、Ｐｄ（ＰＰｈ３）２Ｃｌ２（０．６７ｇ、０．９５mmol）、ヨウ化銅（０．３６ｇ、１．９mmol）およびトリフェニルホスフィン（０．５ｇ、１．９mmol）を２００mlのトリエチルアミンに懸濁する。混合物を４０℃で５時間撹拌する。２５℃まで冷ました後、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オール（０．８３ｇ、０．００４mol）を加える。２４時間撹拌した後、反応混合物を５００mlのＨ２Ｏに注ぎ、ＨＣｌでｐＨ １に酸性化する。沈殿物を濾別し、残留物を１Ｌの酢酸エチルで溶解させた。溶液をＨｙｆｌｏ（登録商標）に通し、次いで、真空下で濃縮する。ヘプタン／酢酸エチルの１：２混合物を使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（３．５ｇ、０．００５mol）を暗橙色の固体として生じる。
Ｎ２雰囲気下、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オール（４．１７ｇ、０．０１９mol）、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート（１２．０ｇ、０．０１９mol）、Ｐｄ（ＰＰｈ３）２Ｃｌ２（０．６７ｇ、０．９５mmol）、ヨウ化銅（０．３６ｇ、１．９mmol）およびトリフェニルホスフィン（０．５ｇ、１．９mmol）を２００mlのトリエチルアミンに懸濁する。混合物を４０℃で５時間撹拌する。２５℃まで冷ました後、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オール（０．８３ｇ、０．００４mol）を加える。２４時間撹拌した後、反応混合物を５００mlのＨ２Ｏに注ぎ、ＨＣｌでｐＨ １に酸性化する。沈殿物を濾別し、残留物を１Ｌの酢酸エチルで溶解させた。溶液をＨｙｆｌｏ（登録商標）に通し、次いで、真空下で濃縮する。ヘプタン／酢酸エチルの１：２混合物を使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（３．５ｇ、０．００５mol）を暗橙色の固体として生じる。
【0054】
実施例７：メチル ２－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－５－［４－［２－［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－ベンゾアート化合物７の調製
０℃に冷却した１５０mlのテトラヒドロフラン中のメチル ５－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－２－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－ベンゾアート（３．５ｇ、０．００５mol）溶液に、トリエチルアミン（１．４７ｇ、０．０１４mol）を加える。反応混合物に２－プロペノイルクロリド（２．２ｇ、０．０２４mol）を滴下し、続いて、ＤＭＡＰ（０．１２２ｇ、０．９７mmol）を加える。０～５℃で４時間撹拌した後、混合物を２５℃まで放温する。次いで、溶液をアセトニトリルで希釈し、酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、褐色の残留物を与える。前の油状物をアセトニトリルに懸濁する。得られた沈殿物を濾別し、真空下で乾燥させて、標記化合物（１．１２ｇ、１．４５mmol）を灰色の固体として生じる。
【化8】
０℃に冷却した１５０mlのテトラヒドロフラン中のメチル ５－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－２－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－ベンゾアート（３．５ｇ、０．００５mol）溶液に、トリエチルアミン（１．４７ｇ、０．０１４mol）を加える。反応混合物に２－プロペノイルクロリド（２．２ｇ、０．０２４mol）を滴下し、続いて、ＤＭＡＰ（０．１２２ｇ、０．９７mmol）を加える。０～５℃で４時間撹拌した後、混合物を２５℃まで放温する。次いで、溶液をアセトニトリルで希釈し、酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、褐色の残留物を与える。前の油状物をアセトニトリルに懸濁する。得られた沈殿物を濾別し、真空下で乾燥させて、標記化合物（１．１２ｇ、１．４５mmol）を灰色の固体として生じる。
【0055】
液晶相転移：偏光顕微鏡を用いて交差偏光子下で化合物７を観察し、その相転移温度を決定する。結果として、温度が上昇すると、結晶相は、８２℃（Ｔ（Ｃｒ－Ｎ））でネマチック相に変化し、等方性相は、１８４℃（Ｔ（Ｎ－Ｉ））超で出現する。
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.16 (m, 2H), 8.03 (m, 2H), 7.90 (m, 3H), 7.74 (m, 3H), 7.55 (m, 3H), 7.01 (m, 3H), 6.32 (m, 1H), 6.17 (m, 1H), 5.93 (m, 1H), 4.12 (t, 2H), 4.02 (t, 2H), 3.69 (s, 3H), 1.74 (m, 2H), 1.64 (m, 2H), 1.42 (m, 4H)
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.16 (m, 2H), 8.03 (m, 2H), 7.90 (m, 3H), 7.74 (m, 3H), 7.55 (m, 3H), 7.01 (m, 3H), 6.32 (m, 1H), 6.17 (m, 1H), 5.93 (m, 1H), 4.12 (t, 2H), 4.02 (t, 2H), 3.69 (s, 3H), 1.74 (m, 2H), 1.64 (m, 2H), 1.42 (m, 4H)
【0056】
実施例８：メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］－ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート化合物８の調製
Ｎ２雰囲気下、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オール（１７．４６ｇ、０．０８mol）、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート（２５．１３ｇ、０．０４mol）、Ｐｄ（ＰＰｈ３）２Ｃｌ２（２．８１ｇ、０．００４mol）、ヨウ化銅（１．５２ｇ、０．００８mol）およびトリフェニルホスフィン（２．１ｇ、０．００８mol）を５００mlのトリエチルアミンに懸濁する。反応混合物を６０℃で１２時間撹拌し、次いで、室温まで冷ます。得られた沈殿物を濾別し、ヘプタン／酢酸エチルの１：２混合物を使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによって精製して、標記化合物（１０．４１ｇ、０．０１３mol）を黄色の固体として与える。
Ｎ２雰囲気下、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オール（１７．４６ｇ、０．０８mol）、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート（２５．１３ｇ、０．０４mol）、Ｐｄ（ＰＰｈ３）２Ｃｌ２（２．８１ｇ、０．００４mol）、ヨウ化銅（１．５２ｇ、０．００８mol）およびトリフェニルホスフィン（２．１ｇ、０．００８mol）を５００mlのトリエチルアミンに懸濁する。反応混合物を６０℃で１２時間撹拌し、次いで、室温まで冷ます。得られた沈殿物を濾別し、ヘプタン／酢酸エチルの１：２混合物を使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによって精製して、標記化合物（１０．４１ｇ、０．０１３mol）を黄色の固体として与える。
【0057】
実施例９：メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）フェニル］－エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート化合物９の調製
メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート（１０．０ｇ、０．０１２mol）を４００mlのテトラヒドロフランに懸濁し、トリエチルアミン（５．１５ｇ、０．０５１mol）を加える。混合物を０℃まで冷却し、次いで、２－プロペノイルクロリド（６．９ｇ、０．０７６mol）を滴下し、続いて、ＤＭＡＰ（０．３１１ｇ、２．５mmol）を加える。反応混合物を０～５℃で５時間撹拌する。次いで、懸濁液を濾別し、生じた有機溶液を真空下で濃縮して、黄色の油状物を与える。前の残留物を酢酸エチルに懸濁し、５℃に２０時間冷却する。沈殿物を濾別し、酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（０．７２ｇ、０．７８mmol）を黄色の固体として提供する。
【化9】
メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート（１０．０ｇ、０．０１２mol）を４００mlのテトラヒドロフランに懸濁し、トリエチルアミン（５．１５ｇ、０．０５１mol）を加える。混合物を０℃まで冷却し、次いで、２－プロペノイルクロリド（６．９ｇ、０．０７６mol）を滴下し、続いて、ＤＭＡＰ（０．３１１ｇ、２．５mmol）を加える。反応混合物を０～５℃で５時間撹拌する。次いで、懸濁液を濾別し、生じた有機溶液を真空下で濃縮して、黄色の油状物を与える。前の残留物を酢酸エチルに懸濁し、５℃に２０時間冷却する。沈殿物を濾別し、酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（０．７２ｇ、０．７８mmol）を黄色の固体として提供する。
【0058】
液晶相転移：偏光顕微鏡を用いて交差偏光子下で化合物９を観察し、その相転移温度を決定する。結果として、温度が上昇すると、結晶相は、７６℃（Ｔ（Ｃｒ－Ｎ））でネマチック相に変化し、等方性相は、２００℃（Ｔ（Ｎ－Ｉ））超で出現する。
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.17 (m, 4H), 7.95 (d, 1H), 7.74 (m, 5H), 7.56 (m, 5H), 7.01 (m, 4H), 6.32 (m, 2H), 6.17 (m, 2H), 5.93 (m, 2H), 4.12 (t, 4H), 4.02 (m, 4H), 3.71 (s, 3H), 1.74 (m, 4H), 1.62 (m, 4H), 1.41 (m, 8H)
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.17 (m, 4H), 7.95 (d, 1H), 7.74 (m, 5H), 7.56 (m, 5H), 7.01 (m, 4H), 6.32 (m, 2H), 6.17 (m, 2H), 5.93 (m, 2H), 4.12 (t, 4H), 4.02 (m, 4H), 3.71 (s, 3H), 1.74 (m, 4H), 1.62 (m, 4H), 1.41 (m, 8H)
【0059】
実施例１０：３－（４－ヨードフェノキシ）－プロパン－１－オール化合物１０の調製
標記化合物１０は、実施例１に記載される化合物１についてのプロセスに従って、但し、６－クロロヘキサノールを３－クロロプロパノールに置き換えて調製される。
標記化合物１０は、実施例１に記載される化合物１についてのプロセスに従って、但し、６－クロロヘキサノールを３－クロロプロパノールに置き換えて調製される。
【0060】
実施例１１：３－（４－ブロモフェニル）－スルファニルプロパン－１－オール化合物１１の調製
標記化合物１１は、実施例１に記載される化合物１についてのプロセスに従って、但し、６－クロロヘキサノールおよび４－ヨードフェノールをそれぞれ、３－クロロプロパノールおよび４－ブロモベンゼンチオールに置き換えて調製される。
標記化合物１１は、実施例１に記載される化合物１についてのプロセスに従って、但し、６－クロロヘキサノールおよび４－ヨードフェノールをそれぞれ、３－クロロプロパノールおよび４－ブロモベンゼンチオールに置き換えて調製される。
【0061】
実施例１２：６－（４－ブロモフェニル）－スルファニルヘキサン－１－オール化合物１２の調製
標記化合物１２は、実施例１に記載される化合物１についてのプロセスに従って、但し、４－ヨードフェノールを４－ブロモベンゼンチオールに置き換えて調製される。
標記化合物１２は、実施例１に記載される化合物１についてのプロセスに従って、但し、４－ヨードフェノールを４－ブロモベンゼンチオールに置き換えて調製される。
【0062】
実施例１３：６－［（６－ブロモ－２－ナフチル）オキシ］－ヘキサン－１－オール化合物１３の調製
標記化合物１３は、実施例１に記載される化合物１についてのプロセスに従って、但し、４－ヨードフェノールを６－ブロモナフタレン－２－オールに置き換えて調製される。
標記化合物１３は、実施例１に記載される化合物１についてのプロセスに従って、但し、４－ヨードフェノールを６－ブロモナフタレン－２－オールに置き換えて調製される。
【0063】
実施例１４：３－［（６－ブロモ－２－ナフチル）オキシ］－プロパン－１－オール、化合物１４の調製
標記化合物１４は、実施例１に記載される化合物１についてのプロセスに従って、但し、６－クロロヘキサノールを３－クロロプロパノールに置き換え、４－ヨードフェノールを６－ブロモナフタレン－２－オールに置き換えて調製される。
標記化合物１４は、実施例１に記載される化合物１についてのプロセスに従って、但し、６－クロロヘキサノールを３－クロロプロパノールに置き換え、４－ヨードフェノールを６－ブロモナフタレン－２－オールに置き換えて調製される。
【0064】
実施例１５：３－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェノキシ］－プロパン－１－オール化合物１５の調製
標記化合物１５は、実施例２に記載される化合物２についてのプロセスに従って、但し、６－（４－ヨードフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを３－（４－ヨードフェノキシ）－プロパン－１－オール化合物１０に置き換えて調製される。
標記化合物１５は、実施例２に記載される化合物２についてのプロセスに従って、但し、６－（４－ヨードフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを３－（４－ヨードフェノキシ）－プロパン－１－オール化合物１０に置き換えて調製される。
【0065】
実施例１６：３－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェニル］－スルファニルプロパン－１－オール化合物１６の調製
標記化合物１６は、実施例２に記載される化合物２についてのプロセスに従って、但し、６－（４－ヨードフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを３－（４－ブロモフェニル）－スルファニルプロパン－１－オール化合物１１に置き換えて調製される。
標記化合物１６は、実施例２に記載される化合物２についてのプロセスに従って、但し、６－（４－ヨードフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを３－（４－ブロモフェニル）－スルファニルプロパン－１－オール化合物１１に置き換えて調製される。
【0066】
実施例１７：６－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェニル］－スルファニルヘキサン－１－オール化合物１７の調製
標記化合物１７は、実施例２に記載される化合物２についてのプロセスに従って、但し、６－（４－ヨードフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを６－（４－ブロモフェニル）－スルファニルヘキサン－１－オール化合物１２に置き換えて調製される。
標記化合物１７は、実施例２に記載される化合物２についてのプロセスに従って、但し、６－（４－ヨードフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを６－（４－ブロモフェニル）－スルファニルヘキサン－１－オール化合物１２に置き換えて調製される。
【0067】
実施例１８：６－［（６－（２－トリメチルシリルエチニル）－２－ナフチル）オキシ］－ヘキサン－１－オール化合物１８の調製
標記化合物１８は、実施例２に記載される化合物２についてのプロセスに従って、但し、６－（４－ヨードフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを６－［（６－ブロモ－２－ナフチル）オキシ］－ヘキサン－１－オール化合物１３に置き換えて調製される。
標記化合物１８は、実施例２に記載される化合物２についてのプロセスに従って、但し、６－（４－ヨードフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを６－［（６－ブロモ－２－ナフチル）オキシ］－ヘキサン－１－オール化合物１３に置き換えて調製される。
【0068】
実施例１９：３－［（６－（２－トリメチルシリルエチニル）－２－ナフチル）オキシ］－プロパン－１－オール化合物１９の調製
標記化合物１９は、実施例２に記載される化合物２についてのプロセスに従って、但し、６－（４－ヨードフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを３－［（６－ブロモ－２－ナフチル）オキシ］－プロパン－１－オール化合物１４に置き換えて調製される。
標記化合物１９は、実施例２に記載される化合物２についてのプロセスに従って、但し、６－（４－ヨードフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを３－［（６－ブロモ－２－ナフチル）オキシ］－プロパン－１－オール化合物１４に置き換えて調製される。
【0069】
実施例２０：３－（４－エチニルフェノキシ）－プロパン－１－オール化合物２０の調製
標記化合物２０は、実施例３に記載される化合物３についてのプロセスに従って、但し、６－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェノキシ］－ヘキサン－１－オールを３－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェノキシ］－プロパン－１－オール化合物１５に置き換えて調製される。
標記化合物２０は、実施例３に記載される化合物３についてのプロセスに従って、但し、６－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェノキシ］－ヘキサン－１－オールを３－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェノキシ］－プロパン－１－オール化合物１５に置き換えて調製される。
【0070】
実施例２１：３－（４－エチニルフェニル）－スルファニルプロパン－１－オール、化合物２１の調製
標記化合物２１は、実施例３に記載される化合物３についてのプロセスに従って、但し、６－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェノキシ］－ヘキサン－１－オールを３－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェニル］－スルファニルプロパン－１－オール化合物１６に置き換えて調製される。
標記化合物２１は、実施例３に記載される化合物３についてのプロセスに従って、但し、６－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェノキシ］－ヘキサン－１－オールを３－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェニル］－スルファニルプロパン－１－オール化合物１６に置き換えて調製される。
【0071】
実施例２２：６－（４－エチニルフェニル）－スルファニルヘキサン－１－オール、化合物２２の調製
標記化合物２２は、実施例３に記載される化合物３についてのプロセスに従って、但し、６－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェノキシ］－ヘキサン－１－オールを６－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェニル］－スルファニルヘキサン－１－オール化合物１７に置き換えて調製される。
標記化合物２２は、実施例３に記載される化合物３についてのプロセスに従って、但し、６－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェノキシ］－ヘキサン－１－オールを６－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェニル］－スルファニルヘキサン－１－オール化合物１７に置き換えて調製される。
【0072】
実施例２３：６－［（６－エチニル－２－ナフチル）オキシ］－ヘキサン－１－オール、化合物２３の調製
標記化合物２３は、実施例３に記載される化合物３についてのプロセスに従って、但し、６－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェノキシ］－ヘキサン－１－オールを６－［（６－（２－トリメチルシリルエチニル）－２－ナフチル）オキシ］－ヘキサン－１－オール化合物１８に置き換えて調製される。
標記化合物２３は、実施例３に記載される化合物３についてのプロセスに従って、但し、６－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェノキシ］－ヘキサン－１－オールを６－［（６－（２－トリメチルシリルエチニル）－２－ナフチル）オキシ］－ヘキサン－１－オール化合物１８に置き換えて調製される。
【0073】
実施例２４：３－［（６－エチニル－２－ナフチル）オキシ］－プロパン－１－オール、化合物２４の調製
標記化合物２４は、実施例３に記載される化合物３についてのプロセスに従って、但し、６－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェノキシ］－ヘキサン－１－オールを３－［（６－（２－トリメチルシリルエチニル）－２－ナフチル）オキシ］－プロパン－１－オール化合物１９に置き換えて調製される。
標記化合物２４は、実施例３に記載される化合物３についてのプロセスに従って、但し、６－［４－（２－トリメチルシリルエチニル）フェノキシ］－ヘキサン－１－オールを３－［（６－（２－トリメチルシリルエチニル）－２－ナフチル）オキシ］－プロパン－１－オール化合物１９に置き換えて調製される。
【0074】
実施例２５：エチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアート、化合物２５の調製
標記化合物２５は、実施例４に記載される化合物４についてのプロセスに従って、但し、メタノールをエタノールに置き換えて調製される。
標記化合物２５は、実施例４に記載される化合物４についてのプロセスに従って、但し、メタノールをエタノールに置き換えて調製される。
【0075】
実施例２６：ブチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアート、化合物２６の調製
標記化合物２６は、実施例４に記載される化合物４についてのプロセスに従って、但し、メタノールをブタノールに置き換えて調製される。
標記化合物２６は、実施例４に記載される化合物４についてのプロセスに従って、但し、メタノールをブタノールに置き換えて調製される。
【0076】
実施例２７：２－（１，３－ベンゾチアゾール－２－イル）ベンゼン－１，４－ジオール、化合物２７の調製
１．５ＬのＨ２Ｏ中の２－アミノベンゼンチオール（２４．０ｇ、０．１９２mol）の懸濁液に、２，５－ジヒドロキシベンズアルデヒド（２６．５２ｇ、０．１９２mol）を滴下する。反応混合物を１１０℃に８時間に加熱する。２５℃まで冷ました後、得られた沈殿物を濾別し、ヘプタン／酢酸エチルの１：１混合物を使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによって精製して、標記化合物（１３．９７ｇ、０．０５７mol）を黄色の固体として与える。
１．５ＬのＨ２Ｏ中の２－アミノベンゼンチオール（２４．０ｇ、０．１９２mol）の懸濁液に、２，５－ジヒドロキシベンズアルデヒド（２６．５２ｇ、０．１９２mol）を滴下する。反応混合物を１１０℃に８時間に加熱する。２５℃まで冷ました後、得られた沈殿物を濾別し、ヘプタン／酢酸エチルの１：１混合物を使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによって精製して、標記化合物（１３．９７ｇ、０．０５７mol）を黄色の固体として与える。
【0077】
実施例２８：４－［４－（１１－ヒドロキシウンデコキシ）フェニル］－ベンゾニトリル、化合物２８の調製
標記化合物２８は、実施例１に記載される化合物１についてのプロセスに従って、但し、６－クロロヘキサノールおよび４－ヨードフェノールをそれぞれ、１１－ブロモウンデカノールおよび４－（４－ヒドロキシフェニル）ベンゾニトリルに置き換えて調製される。
標記化合物２８は、実施例１に記載される化合物１についてのプロセスに従って、但し、６－クロロヘキサノールおよび４－ヨードフェノールをそれぞれ、１１－ブロモウンデカノールおよび４－（４－ヒドロキシフェニル）ベンゾニトリルに置き換えて調製される。
【0078】
実施例２９：４－［４－（１０－ヒドロキシデコキシ）フェニル］－ベンゾニトリル、化合物２９の調製
標記化合物２９は、実施例１に記載される化合物１についてのプロセスに従って、但し、６－クロロヘキサノールおよび４－ヨードフェノールをそれぞれ、１０－ブロモデカノールおよび４－（４－ヒドロキシフェニル）ベンゾニトリルに置き換えて調製される。
標記化合物２９は、実施例１に記載される化合物１についてのプロセスに従って、但し、６－クロロヘキサノールおよび４－ヨードフェノールをそれぞれ、１０－ブロモデカノールおよび４－（４－ヒドロキシフェニル）ベンゾニトリルに置き換えて調製される。
【0079】
実施例３０：４－［４－（８－ヒドロキシオクトキシ）フェニル］－ベンゾニトリル、化合物３０の調製
標記化合物３０は、実施例１に記載される化合物１についてのプロセスに従って、但し、６－クロロヘキサノールおよび４－ヨードフェノールをそれぞれ、８－ブロモオクタノールおよび４－（４－ヒドロキシフェニル）ベンゾニトリルに置き換えて調製される。
標記化合物３０は、実施例１に記載される化合物１についてのプロセスに従って、但し、６－クロロヘキサノールおよび４－ヨードフェノールをそれぞれ、８－ブロモオクタノールおよび４－（４－ヒドロキシフェニル）ベンゾニトリルに置き換えて調製される。
【0080】
実施例３１：１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデシル メタンスルホナート化合物３１の調製
５００mlのＴＨＦ中の４－［４－（１１－ヒドロキシウンデコキシ）フェニル］－ベンゾニトリル（６０．６ｇ、０．１６５mol）の懸濁液に、トリエチルアミン（５０．６ｇ、０．４９５mol）を滴下する。反応物を０℃まで冷却する。メタンスルホニルクロリド（２２．８ｇ、０．１９８mol）をゆっくり加え、混合物を０～５℃で２時間撹拌する。Ｈｙｆｌｏ（登録商標）で濾過した後、溶媒を真空下で蒸発させて、標記化合物（７２．０ｇ、０．１６２mol）をオフホワイトの固体として提供する。
５００mlのＴＨＦ中の４－［４－（１１－ヒドロキシウンデコキシ）フェニル］－ベンゾニトリル（６０．６ｇ、０．１６５mol）の懸濁液に、トリエチルアミン（５０．６ｇ、０．４９５mol）を滴下する。反応物を０℃まで冷却する。メタンスルホニルクロリド（２２．８ｇ、０．１９８mol）をゆっくり加え、混合物を０～５℃で２時間撹拌する。Ｈｙｆｌｏ（登録商標）で濾過した後、溶媒を真空下で蒸発させて、標記化合物（７２．０ｇ、０．１６２mol）をオフホワイトの固体として提供する。
【0081】
実施例３２：１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル メタンスルホナート化合物３２の調製
標記化合物３２は、実施例３１に記載される化合物３１についてのプロセスに従って、但し、４－［４－（１１－ヒドロキシウンデコキシ）フェニル］－ベンゾニトリルを４－［４－（１０－ヒドロキシデコキシ）フェニル］－ベンゾニトリル化合物２９に置き換えて調製される。
標記化合物３２は、実施例３１に記載される化合物３１についてのプロセスに従って、但し、４－［４－（１１－ヒドロキシウンデコキシ）フェニル］－ベンゾニトリルを４－［４－（１０－ヒドロキシデコキシ）フェニル］－ベンゾニトリル化合物２９に置き換えて調製される。
【0082】
実施例３３：８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル メタンスルホナート化合物３３の調製
標記化合物３３は、実施例３１に記載される化合物３１についてのプロセスに従って、但し、４－［４－（１１－ヒドロキシウンデコキシ）フェニル］－ベンゾニトリルを４－［４－（８－ヒドロキシオクトキシ）フェニル］－ベンゾニトリル化合物３０に置き換えて調製される。
標記化合物３３は、実施例３１に記載される化合物３１についてのプロセスに従って、但し、４－［４－（１１－ヒドロキシウンデコキシ）フェニル］－ベンゾニトリルを４－［４－（８－ヒドロキシオクトキシ）フェニル］－ベンゾニトリル化合物３０に置き換えて調製される。
【0083】
実施例３４：１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデシル ２，５－ジヒドロキシベンゾアート、化合物３４の調製
１８０mlのＤＭＦ中の２，５－ジヒドロキシ安息香酸（２７．２ｇ、０．１７３mol）溶液に、ＤＢＵ（２６．４ｇ、０．１７０mol）を滴下する。溶液を室温で０．５時間撹拌する。その後、ヨウ化ナトリウム（７．４５ｇ、０．０５０mol）および１８０mlのＤＭＦ中の１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデシル メタンスルホナート（７２．０ｇ、０．１６２mol）の溶液をゆっくり加える。生じた反応混合物を７０℃に１６時間加熱する。Ｈｙｆｌｏ（登録商標）で濾過した後、濾液を氷水２Ｌに加える。得られた沈殿物を濾別し、６００mlのアセトニトリル中での再結晶化によって精製して、標記化合物（６１．８ｇ、０．１２３mol）を白色の粉末物として与える。
１８０mlのＤＭＦ中の２，５－ジヒドロキシ安息香酸（２７．２ｇ、０．１７３mol）溶液に、ＤＢＵ（２６．４ｇ、０．１７０mol）を滴下する。溶液を室温で０．５時間撹拌する。その後、ヨウ化ナトリウム（７．４５ｇ、０．０５０mol）および１８０mlのＤＭＦ中の１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデシル メタンスルホナート（７２．０ｇ、０．１６２mol）の溶液をゆっくり加える。生じた反応混合物を７０℃に１６時間加熱する。Ｈｙｆｌｏ（登録商標）で濾過した後、濾液を氷水２Ｌに加える。得られた沈殿物を濾別し、６００mlのアセトニトリル中での再結晶化によって精製して、標記化合物（６１．８ｇ、０．１２３mol）を白色の粉末物として与える。
【0084】
実施例３５：１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル ２，５－ジヒドロキシベンゾアート、化合物３５の調製
標記化合物３５は、実施例３４に記載される化合物３４についてのプロセスに従って、但し、１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデシル メタンスルホナートを１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル メタンスルホナート化合物３２に置き換えて調製される。
標記化合物３５は、実施例３４に記載される化合物３４についてのプロセスに従って、但し、１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデシル メタンスルホナートを１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル メタンスルホナート化合物３２に置き換えて調製される。
【0085】
実施例３６：８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアート化合物３６の調製
標記化合物３５は、実施例３４に記載される化合物３４についてのプロセスに従って、但し、１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデシル メタンスルホナートを８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル メタンスルホナート化合物３３に置き換えて調製される。
標記化合物３５は、実施例３４に記載される化合物３４についてのプロセスに従って、但し、１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデシル メタンスルホナートを８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル メタンスルホナート化合物３３に置き換えて調製される。
【0086】
実施例３７：エチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート、化合物３７の調製
標記化合物３７は、実施例５に記載される化合物５についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアートをエチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアート化合物２５に置き換えて調製される。
標記化合物３７は、実施例５に記載される化合物５についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアートをエチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアート化合物２５に置き換えて調製される。
【0087】
実施例３８：ブチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート、化合物３８の調製
標記化合物３８は、実施例５に記載される化合物５についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアートをブチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアート化合物２６に置き換えて調製される。
標記化合物３８は、実施例５に記載される化合物５についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアートをブチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアート化合物２６に置き換えて調製される。
【0088】
実施例３９：［３－（１，３－ベンゾチアゾール－２－イル）－４－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－フェニル］４－ヨードベンゾアート、化合物３９の調製
標記化合物３９は、実施例５に記載される化合物５についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアートを２－（１，３－ベンゾチアゾール－２－イル）ベンゼン－１，４－ジオール化合物２７に置き換えて調製される。
標記化合物３９は、実施例５に記載される化合物５についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアートを２－（１，３－ベンゾチアゾール－２－イル）ベンゼン－１，４－ジオール化合物２７に置き換えて調製される。
【0089】
実施例４０：［４－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－１－ナフチル］４－ヨードベンゾアート化合物４０の調製
標記化合物４０は、実施例５に記載される化合物５についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアートをナフタレン－１，４－ジオールに置き換えて調製される。
標記化合物４０は、実施例５に記載される化合物５についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアートをナフタレン－１，４－ジオールに置き換えて調製される。
【0090】
実施例４１：１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデシル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート、化合物４１の調製
標記化合物４１は、実施例５に記載される化合物５についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアートを１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデシル ２，５－ジヒドロキシベンゾアート化合物３４に置き換えて調製される。
標記化合物４１は、実施例５に記載される化合物５についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアートを１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデシル ２，５－ジヒドロキシベンゾアート化合物３４に置き換えて調製される。
【0091】
実施例４２：１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート、化合物４２の調製
標記化合物４２は、実施例５に記載される化合物５についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアートを１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル ２，５－ジヒドロキシベンゾアート化合物３５に置き換えて調製される。
標記化合物４２は、実施例５に記載される化合物５についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアートを１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル ２，５－ジヒドロキシベンゾアート化合物３５に置き換えて調製される。
【0092】
実施例４３：８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート、化合物４３の調製
標記化合物４３は、実施例５に記載される化合物５についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアートを８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアート化合物３６に置き換えて調製される。
標記化合物４３は、実施例５に記載される化合物５についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアートを８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル ２，５－ジヒドロキシベンゾアート化合物３６に置き換えて調製される。
【0093】
実施例４４：エチル ２－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］－ベンゾイル］オキシ－５－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－ベンゾアート、化合物４４の調製
標記化合物４４は、実施例６に記載される化合物６についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートをエチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物３７に置き換えて調製される。
標記化合物４４は、実施例６に記載される化合物６についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートをエチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物３７に置き換えて調製される。
【0094】
実施例４５：エチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］－ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物４５の調製
標記化合物４５は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートをエチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物３７に置き換えて調製される。
標記化合物４５は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートをエチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物３７に置き換えて調製される。
【0095】
実施例４６：ブチル ２－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］－ベンゾイル］オキシ－５－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－ベンゾアート、化合物４６の調製
標記化合物４６は、実施例６に記載される化合物６についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物３８に置き換えて調製される。
標記化合物４６は、実施例６に記載される化合物６についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物３８に置き換えて調製される。
【0096】
実施例４７：ブチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］－ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物４７の調製
標記化合物４７は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物３８に置き換えて調製される。
標記化合物４７は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物３８に置き換えて調製される。
【0097】
実施例４８：ブチル ２－［４－［２－［４－（３－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］エチニル］－ベンゾイル］オキシ－５－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－ベンゾアート、化合物４８の調製
標記化合物４８は、実施例６に記載される化合物６についてのプロセスに従って、但し、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを３－（４－エチニルフェノキシ）－プロパン－１－オール化合物２０に置き換え、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物３８に置き換えて調製される。
標記化合物４８は、実施例６に記載される化合物６についてのプロセスに従って、但し、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを３－（４－エチニルフェノキシ）－プロパン－１－オール化合物２０に置き換え、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物３８に置き換えて調製される。
【0098】
実施例４９：ブチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（３－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］エチニル］－ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物４９の調製
標記化合物４９は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを３－（４－エチニルフェノキシ）－プロパン－１－オール化合物２０に置き換え、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物３８に置き換えて調製される。
標記化合物４９は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを３－（４－エチニルフェノキシ）－プロパン－１－オール化合物２０に置き換え、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物３８に置き換えて調製される。
【0099】
実施例５０：メチル ２，５－ビス［［４－［２－［６－（６－ヒドロキシヘキソキシ）－２－ナフチル］－エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物５０の調製
標記化合物５０は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを６－［（６－エチニル－２－ナフチル）オキシ］－ヘキサン－１－オール化合物２３に置き換えて調製される。
標記化合物５０は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを６－［（６－エチニル－２－ナフチル）オキシ］－ヘキサン－１－オール化合物２３に置き換えて調製される。
【0100】
実施例５１：ブチル ２，５－ビス［［４－［２－［６－（６－ヒドロキシヘキソキシ）－２－ナフチル］－エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物５１の調製
標記化合物５１は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを６－［（６－エチニル－２－ナフチル）オキシ］－ヘキサン－１－オール化合物２３に置き換え、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物３８に置き換えて調製される。
標記化合物５１は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを６－［（６－エチニル－２－ナフチル）オキシ］－ヘキサン－１－オール化合物２３に置き換え、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物３８に置き換えて調製される。
【0101】
実施例５２：メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキシルスルファニル）フェニル］－エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物５２の調製
標記化合物５２は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを６－（４－エチニルフェニル）－スルファニルヘキサン－１－オール化合物２２に置き換えて調製される。
標記化合物５２は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを６－（４－エチニルフェニル）－スルファニルヘキサン－１－オール化合物２２に置き換えて調製される。
【0102】
実施例５３：ブチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（３－ヒドロキシプロピルスルファニル）フェニル］－エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物５３の調製
標記化合物５３は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを３－（４－エチニルフェニル）－スルファニルプロパン－１－オール化合物２１に置き換え、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物３８に置き換えて調製される。
標記化合物５３は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを３－（４－エチニルフェニル）－スルファニルプロパン－１－オール化合物２１に置き換え、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物３８に置き換えて調製される。
【0103】
実施例５４：［３－（１，３－ベンゾチアゾール－２－イル）－４－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）－フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－フェニル］－４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］－ベンゾアート、化合物５４の調製
標記化合物５４は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートを［３－（１，３－ベンゾチアゾール－２－イル）－４－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－フェニル］４－ヨードベンゾアート化合物３９に置き換えて調製される。
標記化合物５４は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートを［３－（１，３－ベンゾチアゾール－２－イル）－４－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－フェニル］４－ヨードベンゾアート化合物３９に置き換えて調製される。
【0104】
実施例５５：［４－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－１－ナフチル］４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾアート、化合物５５の調製
標記化合物５５は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートを［４－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－１－ナフチル］４－ヨードベンゾアート化合物４０に置き換えて調製される。
標記化合物５５は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートを［４－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－１－ナフチル］４－ヨードベンゾアート化合物４０に置き換えて調製される。
【0105】
実施例５６：１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデシル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物５６の調製
標記化合物５６は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートを１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデシル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物４１に置き換えて調製される。
標記化合物５６は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートを１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデシル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物４１に置き換えて調製される。
【0106】
実施例５７：１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物５７の調製
標記化合物５７は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートを１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物４２に置き換えて調製される。
標記化合物５７は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートを１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物４２に置き換えて調製される。
【0107】
実施例５８：８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物５８の調製
標記化合物５８は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートを８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物４３に置き換えて調製される。
標記化合物５８は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートを８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物４３に置き換えて調製される。
【0108】
実施例５９：１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（３－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物５９の調製
標記化合物５９は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを３－（４－エチニルフェノキシ）－プロパン－１－オール化合物２０に置き換え、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートを１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物４２に置き換えて調製される。
標記化合物５９は、実施例８に記載される化合物８についてのプロセスに従って、但し、６－（４－エチニルフェノキシ）－ヘキサン－１－オールを３－（４－エチニルフェノキシ）－プロパン－１－オール化合物２０に置き換え、メチル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアートを１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル ２，５－ビス［（４－ヨードベンゾイル）オキシ］ベンゾアート化合物４２に置き換えて調製される。
【0109】
実施例６０：エチル ５－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－２－［４－［２－［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－ベンゾアート、化合物６０の調製
標記化合物６０は、実施例７に記載される化合物７についてのプロセスに従って、但し、５－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－２－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－ベンゾアートをエチル ２－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］－エチニル］－ベンゾイル］オキシ－５－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－ベンゾアート化合物４４に置き換えて調製される。
標記化合物６０は、実施例７に記載される化合物７についてのプロセスに従って、但し、５－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－２－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－ベンゾアートをエチル ２－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］－エチニル］－ベンゾイル］オキシ－５－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－ベンゾアート化合物４４に置き換えて調製される。
【0110】
実施例６１：エチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）フェニル］－エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物６１の調製
標記化合物６１は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートをエチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］－ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート化合物４５に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（３．１８ｇ、３．４１mmol、４７％）をオフホワイトの固体として提供する。
【化10】
標記化合物６１は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートをエチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］－ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート化合物４５に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（３．１８ｇ、３．４１mmol、４７％）をオフホワイトの固体として提供する。
【0111】
液晶相転移：偏光顕微鏡を用いて交差偏光子下で化合物６１を観察し、その相転移温度を決定する。結果として、温度が上昇すると、結晶相は、７０℃（Ｔ（Ｃｒ－Ｎ））でネマチック相に変化し、等方性相は、２００℃（Ｔ（Ｎ－Ｉ））超で出現する。
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.18 (m, 4H), 7.95 (d, 1H), 7.74 (m, 5H), 7.55 (m, 5H), 7.01 (m, 4H), 6.32 (m, 2H), 6.17 (m, 2H), 5.93 (m, 2H), 4.12 (m, 6H), 4.02 (m, 4H), 1.74 (m, 4H), 1.65 (m, 4H), 1.42 (m, 8H), 1.04 (t, 3H)
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.18 (m, 4H), 7.95 (d, 1H), 7.74 (m, 5H), 7.55 (m, 5H), 7.01 (m, 4H), 6.32 (m, 2H), 6.17 (m, 2H), 5.93 (m, 2H), 4.12 (m, 6H), 4.02 (m, 4H), 1.74 (m, 4H), 1.65 (m, 4H), 1.42 (m, 8H), 1.04 (t, 3H)
【0112】
実施例６２：ブチル ５－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－２－［４－［２－［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－ベンゾアート、化合物６２の調製
標記化合物６２は、実施例７に記載される化合物７についてのプロセスに従って、但し、５－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－２－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－ベンゾアートをブチル ２－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］－エチニル］－ベンゾイル］オキシ－５－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－ベンゾアート化合物４６に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、褐色の油状残留物を与え、これをアセトニトリルに懸濁する。得られた沈殿物を濾別し、真空下で乾燥させて、標記化合物（１．５３ｇ、１．８７mmol、９４％）を灰色の固体としてもたらす。
【化11】
標記化合物６２は、実施例７に記載される化合物７についてのプロセスに従って、但し、５－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－２－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－ベンゾアートをブチル ２－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］－エチニル］－ベンゾイル］オキシ－５－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－ベンゾアート化合物４６に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、褐色の油状残留物を与え、これをアセトニトリルに懸濁する。得られた沈殿物を濾別し、真空下で乾燥させて、標記化合物（１．５３ｇ、１．８７mmol、９４％）を灰色の固体としてもたらす。
【0113】
液晶相転移：偏光顕微鏡を用いて交差偏光子下で化合物６２を観察し、その相転移温度を決定した。結果として、温度が上昇すると、結晶相は、８０℃（Ｔ（Ｃｒ－Ｎ））でネマチック相に変化し、等方性相は、１４０℃（Ｔ（Ｎ－Ｉ））超で出現した。
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.16 (m, 2H), 8.03 (m, 2H), 7.90 (m, 3H), 7.75 (m, 2H), 7.70 (m, 1H), 7.54 (m, 3H), 7.01 (m, 2H), 6.32 (m, 1H), 6.17 (m, 1H), 5.93 (m, 1H), 4.12 (m, 4H), 4.01 (t, 2H), 1.74 (m, 2H), 1.68 (m, 2H), 1.45 (m, 6H), 1.18 (m, 2H), 0.73 (t, 3H)
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.16 (m, 2H), 8.03 (m, 2H), 7.90 (m, 3H), 7.75 (m, 2H), 7.70 (m, 1H), 7.54 (m, 3H), 7.01 (m, 2H), 6.32 (m, 1H), 6.17 (m, 1H), 5.93 (m, 1H), 4.12 (m, 4H), 4.01 (t, 2H), 1.74 (m, 2H), 1.68 (m, 2H), 1.45 (m, 6H), 1.18 (m, 2H), 0.73 (t, 3H)
【0114】
実施例６３：ブチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）フェニル］－エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート化合物６３の調製
標記化合物６３は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］－ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート化合物４７に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（０．６４ｇ、０．６７mmol、５７％）を白色の固体として提供する。
【化12】
標記化合物６３は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］－ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート化合物４７に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（０．６４ｇ、０．６７mmol、５７％）を白色の固体として提供する。
【0115】
液晶相転移：偏光顕微鏡を用いて交差偏光子下で化合物６３を観察し、その相転移温度を決定する。結果として、温度が上昇すると、結晶相は、１１７℃（Ｔ（Ｃｒ－Ｎ））でネマチック相に変化し、等方性相は、２００℃（Ｔ（Ｎ－Ｉ））超で出現する。
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.17 (m, 4H), 7.93 (d, 1H), 7.74 (m, 5H), 7.56 (m, 5H), 7.01 (m, 4H), 6.32 (m, 2H), 6.17 (m, 2H), 5.93 (m, 2H), 4.12 (m, 6H), 4.02 (m, 4H), 1.74 (m, 4H), 1.64 (m, 4H), 1.41 (m, 10H), 1.22 (m, 2H), 0.73 (t, 3H)
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.17 (m, 4H), 7.93 (d, 1H), 7.74 (m, 5H), 7.56 (m, 5H), 7.01 (m, 4H), 6.32 (m, 2H), 6.17 (m, 2H), 5.93 (m, 2H), 4.12 (m, 6H), 4.02 (m, 4H), 1.74 (m, 4H), 1.64 (m, 4H), 1.41 (m, 10H), 1.22 (m, 2H), 0.73 (t, 3H)
【0116】
実施例６４：ブチル ５－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－２－［４－［２－［４－（３－プロパ－２－エノイルオキシプロポキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－ベンゾアート、化合物６４の調製
標記化合物６４は、実施例７に記載される化合物７についてのプロセスに従って、但し、５－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－２－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－ベンゾアートをブチル ２－［４－［２－［４－（３－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］－エチニル］－ベンゾイル］オキシ－５－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－ベンゾアート化合物４８に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、褐色の油状残留物を与え、これをアセトニトリルに懸濁する。得られた沈殿物を濾別し、真空下で乾燥させて、標記化合物（１．１８ｇ、１．５３mmol、４４％）を褐色がかった固体としてもたらす。
【化13】
標記化合物６４は、実施例７に記載される化合物７についてのプロセスに従って、但し、５－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－２－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－ベンゾアートをブチル ２－［４－［２－［４－（３－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］－エチニル］－ベンゾイル］オキシ－５－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－ベンゾアート化合物４８に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、褐色の油状残留物を与え、これをアセトニトリルに懸濁する。得られた沈殿物を濾別し、真空下で乾燥させて、標記化合物（１．１８ｇ、１．５３mmol、４４％）を褐色がかった固体としてもたらす。
【0117】
液晶相転移：偏光顕微鏡を用いて交差偏光子下で化合物６４を観察し、その相転移温度を決定する。結果として、温度が上昇すると、結晶相は、８５℃（Ｔ（Ｃｒ－Ｎ））でネマチック相に変化し、等方性相は、１１５℃（Ｔ（Ｎ－Ｉ））超で出現する。
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.17 (m, 2H), 8.03 (m, 2H), 7.91 (m, 3H), 7.74 (m, 3H), 7.55 (m, 3H), 7.02 (m, 2H), 6.34 (m, 1H), 6.19 (m, 1H), 5.95 (m, 1H), 4.28 (t, 2H), 4.12 (m, 4H), 2.10 (m, 2H), 1.19 (m, 4H), 0.72 (t, 3H)
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.17 (m, 2H), 8.03 (m, 2H), 7.91 (m, 3H), 7.74 (m, 3H), 7.55 (m, 3H), 7.02 (m, 2H), 6.34 (m, 1H), 6.19 (m, 1H), 5.95 (m, 1H), 4.28 (t, 2H), 4.12 (m, 4H), 2.10 (m, 2H), 1.19 (m, 4H), 0.72 (t, 3H)
【0118】
実施例６５：ブチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（３－プロパ－２－エノイルオキシプロポキシ）フェニル］－エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物６５の調製
標記化合物６５は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（３－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］エチニル］－ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート化合物４９に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（４．９ｇ、５．６mmol、７１％）を白色の固体として提供する。
【化14】
標記化合物６５は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（３－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］エチニル］－ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート化合物４９に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（４．９ｇ、５．６mmol、７１％）を白色の固体として提供する。
【0119】
液晶相転移：偏光顕微鏡を用いて交差偏光子下で化合物６５を観察し、その相転移温度を決定する。結果として、温度が上昇すると、結晶相は、１１５℃（Ｔ（Ｃｒ－Ｎ））でネマチック相に変化し、等方性相は、２００℃（Ｔ（Ｎ－Ｉ））超で出現する。
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.17 (m, 4H), 7.93 (d, 1H), 7.75 (m, 5H), 7.56 (m, 5H), 7.03 (m, 4H), 6.34 (m, 2H), 6.19 (m, 2H), 5.95 (m, 2H), 4.28 (t, 4H), 4.12 (m, 6H), 2.10 (m, 4H), 1.38 (m, 2H), 1.21 (m, 2H), 0.73 (t, 3H)
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.17 (m, 4H), 7.93 (d, 1H), 7.75 (m, 5H), 7.56 (m, 5H), 7.03 (m, 4H), 6.34 (m, 2H), 6.19 (m, 2H), 5.95 (m, 2H), 4.28 (t, 4H), 4.12 (m, 6H), 2.10 (m, 4H), 1.38 (m, 2H), 1.21 (m, 2H), 0.73 (t, 3H)
【0120】
実施例６６：メチル ２，５－ビス［［４－［２－［６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）－２－ナフチル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物６６の調製
標記化合物６６は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートをメチル ２，５－ビス［［４－［２－［６－（６－ヒドロキシヘキソキシ）－２－ナフチル］－エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート化合物５０に置き換えて調製される。
【化15】
標記化合物６６は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートをメチル ２，５－ビス［［４－［２－［６－（６－ヒドロキシヘキソキシ）－２－ナフチル］－エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート化合物５０に置き換えて調製される。
【0121】
液晶相転移：偏光顕微鏡を用いて交差偏光子下で化合物６６を観察し、その相転移温度を決定する。結果として、温度が上昇すると、結晶相は、１６４℃（Ｔ（Ｃｒ－Ｎ））でネマチック相に変化し、等方性相は、２００℃（Ｔ（Ｎ－Ｉ））超で出現する。
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＣＤ２Ｃｌ２－ｄ２中：8.22 (m, 4H), 8.04 (m, 3H), 7.94 (m, 2H), 7.75 (m, 7H), 7.56 (m, 2H), 7.35 (d, 1H), 7.17 (m, 4H), 6.41 (m, 2H), 6.13 (m, 2H), 5.86 (m, 2H), 4.13 (m, 8H), 3.76 (s, 3H), 1.86 (m, 2H), 1.73 (m, 2H), 1.53 (m, 4H)
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＣＤ２Ｃｌ２－ｄ２中：8.22 (m, 4H), 8.04 (m, 3H), 7.94 (m, 2H), 7.75 (m, 7H), 7.56 (m, 2H), 7.35 (d, 1H), 7.17 (m, 4H), 6.41 (m, 2H), 6.13 (m, 2H), 5.86 (m, 2H), 4.13 (m, 8H), 3.76 (s, 3H), 1.86 (m, 2H), 1.73 (m, 2H), 1.53 (m, 4H)
【0122】
実施例６７：ブチル ２，５－ビス［［４－［２－［６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）－２－ナフチル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物６７の調製
標記化合物６７は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［［４－［２－［６－（６－ヒドロキシヘキソキシ）－２－ナフチル］－エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート化合物５１に置き換えて調製される。
【化16】
標記化合物６７は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［［４－［２－［６－（６－ヒドロキシヘキソキシ）－２－ナフチル］－エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート化合物５１に置き換えて調製される。
【0123】
液晶相転移：偏光顕微鏡を用いて交差偏光子下で化合物６７を観察し、その相転移温度を決定する。結果として、温度が上昇すると、結晶相は、１２０℃（Ｔ（Ｃｒ－Ｎ））でネマチック相に変化し、等方性相は、２００℃（Ｔ（Ｎ－Ｉ））超で出現する。
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＣＤ２Ｃｌ２－ｄ２中：8.23 (m, 4H), 8.03 (m, 3H), 7.93 (m, 2H), 7.74 (m, 7H), 7.55 (m, 2H), 7.34 (m, 1H), 7.18 (m, 4H), 6.37 (m, 2H), 6.12 (m, 2H), 5.81 (m, 2H), 4.15 (m, 10H), 1.86 (m, 4H), 1.73 (m, 4H), 1.52 (m, 10H), 1.28 (m, 2H), 0.83 (t, 3H)
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＣＤ２Ｃｌ２－ｄ２中：8.23 (m, 4H), 8.03 (m, 3H), 7.93 (m, 2H), 7.74 (m, 7H), 7.55 (m, 2H), 7.34 (m, 1H), 7.18 (m, 4H), 6.37 (m, 2H), 6.12 (m, 2H), 5.81 (m, 2H), 4.15 (m, 10H), 1.86 (m, 4H), 1.73 (m, 4H), 1.52 (m, 10H), 1.28 (m, 2H), 0.83 (t, 3H)
【0124】
実施例６９：ブチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（３－プロパ－２－エノイルオキシプロピルスルファニル）－フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物６９の調製
標記化合物６９は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（３－ヒドロキシプロピルスルファニル）フェニル］－エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート化合物５３に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（１．０５ｇ、１．１５mmol、５７％）を白色の粘着性固体として提供する。
【化17】
標記化合物６９は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートをブチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（３－ヒドロキシプロピルスルファニル）フェニル］－エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート化合物５３に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（１．０５ｇ、１．１５mmol、５７％）を白色の粘着性固体として提供する。
【0125】
液晶相転移：偏光顕微鏡を用いて交差偏光子下で化合物６９を観察し、その相転移温度を決定する。結果として、温度が上昇すると、結晶相は、１１０℃（Ｔ（Ｃｒ－Ｎ））でネマチック相に変化し、等方性相は、２００℃（Ｔ（Ｎ－Ｉ））超で出現する。
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.18 (m, 4H), 7.93 (d, 1H), 7.74 (m, 5H), 7.57 (m, 5H), 7.40 (m, 4H), 6.35 (m, 2H), 6.19 (m, 2H), 5.96 (m, 2H), 4.22 (m, 4H), 4.13 (m, 2H), 3.12 (m, 4H), 1.96 (m, 4H), 1.40 (m, 2H), 1.19 (m, 2H), 0.73 (t, 3H)
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.18 (m, 4H), 7.93 (d, 1H), 7.74 (m, 5H), 7.57 (m, 5H), 7.40 (m, 4H), 6.35 (m, 2H), 6.19 (m, 2H), 5.96 (m, 2H), 4.22 (m, 4H), 4.13 (m, 2H), 3.12 (m, 4H), 1.96 (m, 4H), 1.40 (m, 2H), 1.19 (m, 2H), 0.73 (t, 3H)
【0126】
実施例７０：［３－（１，３－ベンゾチアゾール－２－イル）－４－［４－［２－［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－フェニル］４－［２－［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾアート、化合物７０の調製
標記化合物７０は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートを［３－（１，３－ベンゾチアゾール－２－イル）－４－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）－フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－フェニル］－４－［２－［４－（６－ヒドロキシ－ヘキソキシ）フェニル］エチニル］－ベンゾアート化合物５４に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（２．２３ｇ、２．２４mmol）をオフホワイトの固体として提供する。
【化18】
標記化合物７０は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートを［３－（１，３－ベンゾチアゾール－２－イル）－４－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）－フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－フェニル］－４－［２－［４－（６－ヒドロキシ－ヘキソキシ）フェニル］エチニル］－ベンゾアート化合物５４に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（２．２３ｇ、２．２４mmol）をオフホワイトの固体として提供する。
【0127】
液晶相転移：偏光顕微鏡を用いて交差偏光子下で化合物７０を観察し、その相転移温度を決定する。結果として、温度が上昇すると、結晶相は、１３５℃（Ｔ（Ｃｒ－Ｎ））でネマチック相に変化し、等方性相は、２００℃（Ｔ（Ｎ－Ｉ））超で出現する。
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.29 (m, 4H), 8.12 (d, 1H), 7.89 (d, 1H), 7.80 (m, 4H), 7.71 (m, 2H), 7.50 (m, 6H), 6.32 (m, 2H), 6.19 (m, 2H), 5.92 (m, 2H), 4.13 (m, 4H), 4.02 (m, 4H), 1.74 (m, 4H), 1.68 (m, 4H), 1.45 (m, 8H)
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.29 (m, 4H), 8.12 (d, 1H), 7.89 (d, 1H), 7.80 (m, 4H), 7.71 (m, 2H), 7.50 (m, 6H), 6.32 (m, 2H), 6.19 (m, 2H), 5.92 (m, 2H), 4.13 (m, 4H), 4.02 (m, 4H), 1.74 (m, 4H), 1.68 (m, 4H), 1.45 (m, 8H)
【0128】
実施例７１：［４－［４－［２－［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］－ベンゾイル］オキシ－１－ナフチル］４－［２－［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾアート化合物７１の調製
標記化合物７１は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートを［４－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－１－ナフチル］４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］－エチニル］ベンゾアート化合物５５に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（４．６９ｇ、５．１６mmol）を灰色の固体として提供する。
【化19】
標記化合物７１は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートを［４－［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－１－ナフチル］４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］－エチニル］ベンゾアート化合物５５に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（４．６９ｇ、５．１６mmol）を灰色の固体として提供する。
【0129】
液晶相転移：偏光顕微鏡を用いて交差偏光子下で化合物７１を観察し、その相転移温度を決定する。結果として、温度が上昇すると、結晶相は、１７７℃（Ｔ（Ｃｒ－Ｎ））でネマチック相に変化し、等方性相は、２００℃（Ｔ（Ｎ－Ｉ））超で出現する。
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.30 (m, 3H), 8.06 (m, 2H), 7.98 (m, 2H), 7.80 (m, 4H), 7.68 (m, 2H), 7.58 (m, 5H), 7.02 (m, 4H), 6.33 (m, 2H), 6.17 (m, 2H), 5.93 (m, 2H), 4.12 (t, 4H), 4.03 (m, 4H), 1.74 (m, 4H), 1.65 (m, 4H), 1.43 (m, 8H)
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.30 (m, 3H), 8.06 (m, 2H), 7.98 (m, 2H), 7.80 (m, 4H), 7.68 (m, 2H), 7.58 (m, 5H), 7.02 (m, 4H), 6.33 (m, 2H), 6.17 (m, 2H), 5.93 (m, 2H), 4.12 (t, 4H), 4.03 (m, 4H), 1.74 (m, 4H), 1.65 (m, 4H), 1.43 (m, 8H)
【0130】
実施例７２：１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデシル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート化合物７２の調製
標記化合物７２は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートを１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデシル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート化合物５６に置き換えて調製される。
【化20】
標記化合物７２は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートを１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデシル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート化合物５６に置き換えて調製される。
【0131】
液晶相転移：偏光顕微鏡を用いて交差偏光子下で化合物７２を観察し、その相転移温度を決定する。結果として、温度が上昇すると、結晶相は、１０５℃（Ｔ（Ｃｒ－Ｎ））でネマチック相に変化し、等方性相は、２００℃（Ｔ（Ｎ－Ｉ））超で出現する。
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＣＤ２Ｃｌ２－ｄ２中：8.19 (m, 4H), 7.92 (d, 1H), 7.68 (m, 8H), 7.53 (m, 7H), 7.32 (d, 1H), 6.97 (m, 2H), 6.90 (m, 4H), 6.37 (m, 2H), 6.13 (m, 2H), 5.81 (m, 2H), 4.15 (m, 6H), 3.99 (m, 6H), 1.70 (m, 8H), 1.48 (m, 12H), 1.25 (m, 14H)
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＣＤ２Ｃｌ２－ｄ２中：8.19 (m, 4H), 7.92 (d, 1H), 7.68 (m, 8H), 7.53 (m, 7H), 7.32 (d, 1H), 6.97 (m, 2H), 6.90 (m, 4H), 6.37 (m, 2H), 6.13 (m, 2H), 5.81 (m, 2H), 4.15 (m, 6H), 3.99 (m, 6H), 1.70 (m, 8H), 1.48 (m, 12H), 1.25 (m, 14H)
【0132】
実施例７３：１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物７３の調製
標記化合物７３は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートを１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］－ベンゾアート化合物５７に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（３．２４ｇ、２．６２mmol）を白色の固体として提供する。
【化21】
標記化合物７３は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートを１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］－ベンゾアート化合物５７に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（３．２４ｇ、２．６２mmol）を白色の固体として提供する。
【0133】
液晶相転移：偏光顕微鏡を用いて交差偏光子下で化合物７３を観察し、その相転移温度を決定する。結果として、温度が上昇すると、結晶相は、１２５℃（Ｔ（Ｃｒ－Ｎ））でネマチック相に変化し、等方性相は、２００℃（Ｔ（Ｎ－Ｉ））超で出現する。
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.18 (m, 4H), 7.92 (d, 1H), 7.84 (m, 4H), 7.75 (m, 4H), 7.68 (m, 2H), 7.55 (m, 5H), 6.99 (m, 7H), 6.32 (m, 2H), 6.17 (m, 2H), 5.93 (m, 2H), 4.10 (m, 6H), 4.02 (m, 2H), 3.95 (m, 4H), 1.66 (m, 8H), 1.27 (m, 24H)
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.18 (m, 4H), 7.92 (d, 1H), 7.84 (m, 4H), 7.75 (m, 4H), 7.68 (m, 2H), 7.55 (m, 5H), 6.99 (m, 7H), 6.32 (m, 2H), 6.17 (m, 2H), 5.93 (m, 2H), 4.10 (m, 6H), 4.02 (m, 2H), 3.95 (m, 4H), 1.66 (m, 8H), 1.27 (m, 24H)
【0134】
実施例７４：８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物７４の調製
標記化合物７４は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートを８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］－ベンゾアート化合物５８に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（６．２８ｇ、５．１９mmol）を白色の固体として提供する。
【化22】
標記化合物７４は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートを８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］－ベンゾアート化合物５８に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（６．２８ｇ、５．１９mmol）を白色の固体として提供する。
【0135】
液晶相転移：偏光顕微鏡を用いて交差偏光子下で化合物７４を観察し、その相転移温度を決定する。結果として、温度が上昇すると、結晶相は、１１０℃（Ｔ（Ｃｒ－Ｎ））でネマチック相に変化し、等方性相は、２００℃（Ｔ（Ｎ－Ｉ））超で出現する。
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.17 (m, 4H), 7.93 (d, 1H), 7.83 (m, 4H), 7.74 (m, 4H), 7.65 (m, 2H), 7.53 (m, 5H), 6.98 (m, 7H), 6.33 (m, 2H), 6.17 (m, 2H), 5.93 (m, 2H), 4.12 (m, 6H), 4.02 (m, 2H), 3.93 (m, 4H), 1.67 (m, 8H), 1.36 (m, 12H), 1.15 (m, 8H)
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.17 (m, 4H), 7.93 (d, 1H), 7.83 (m, 4H), 7.74 (m, 4H), 7.65 (m, 2H), 7.53 (m, 5H), 6.98 (m, 7H), 6.33 (m, 2H), 6.17 (m, 2H), 5.93 (m, 2H), 4.12 (m, 6H), 4.02 (m, 2H), 3.93 (m, 4H), 1.67 (m, 8H), 1.36 (m, 12H), 1.15 (m, 8H)
【0136】
実施例７５：１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（３－プロパ－２－エノイルオキシプロポキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアート、化合物７５の調製
標記化合物７５は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートを１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（３－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］－ベンゾアート化合物５９に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（３．４１ｇ、２．９５mmol）を白色の固体として提供する。
【化23】
標記化合物７５は、実施例９に記載される化合物９についてのプロセスに従って、但し、メチル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］ベンゾアートを１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル ２，５－ビス［［４－［２－［４－（３－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ］－ベンゾアート化合物５９に置き換えて調製される。酢酸エチルを使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標記化合物（３．４１ｇ、２．９５mmol）を白色の固体として提供する。
【0137】
液晶相転移：偏光顕微鏡を用いて交差偏光子下で化合物９を観察し、その相転移温度を決定する。結果として、温度が上昇すると、結晶相は、１１６℃（Ｔ（Ｃｒ－Ｎ））でネマチック相に変化し、等方性相は、２００℃（Ｔ（Ｎ－Ｉ））超で出現する。
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.17 (m, 4H), 7.93 (d, 1H), 7.84 (m, 4H), 7.76 (m, 4H), 7.66 (m, 2H), 7.55 (m, 5H), 7.01 (m, 7H), 6.33 (m, 2H), 6.20 (m, 2H), 5.95 (m, 2H), 4.26 (m, 4H), 4.12 (m, 6H), 3.96 (m, 2H), 2.08 (m, 4H), 1.67 (m, 2H), 1.23 (m, 14H)
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.17 (m, 4H), 7.93 (d, 1H), 7.84 (m, 4H), 7.76 (m, 4H), 7.66 (m, 2H), 7.55 (m, 5H), 7.01 (m, 7H), 6.33 (m, 2H), 6.20 (m, 2H), 5.95 (m, 2H), 4.26 (m, 4H), 4.12 (m, 6H), 3.96 (m, 2H), 2.08 (m, 4H), 1.67 (m, 2H), 1.23 (m, 14H)
【0138】
実施例７６：メチル ５－［４－［２－（４－シアノフェニル）エチニル］ベンゾイル］オキシ－２－［４－［２－［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－ベンゾアート、化合物７６の調製
２－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－５－［４－［２－［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－ベンゾアート（１．０ｇ、１．２９mmol）、４－エチニルベンゾニトリル（０．２ｇ、１．５５mmol）、Ｐｄ（ＰＰｈ３）２Ｃｌ２（０．０５ｇ、０．０７mmol）、ヨウ化銅（０．０２５ｇ、０．１３mmol）およびトリフェニルホスフィン（０．０３４ｇ、０．１３mmol）を４０mlのトリエチルアミンに懸濁する。混合物を４０℃で５時間撹拌し、２５まで冷ました後、氷水に注ぐ。沈殿物を濾別し、ヘプタン／酢酸エチルの２：１混合物を使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによって精製して、標記化合物（０．２５ｇ、０．３２mmol）を白色の固体として与える。
【化24】
２－（４－ヨードベンゾイル）オキシ－５－［４－［２－［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）フェニル］エチニル］ベンゾイル］オキシ－ベンゾアート（１．０ｇ、１．２９mmol）、４－エチニルベンゾニトリル（０．２ｇ、１．５５mmol）、Ｐｄ（ＰＰｈ３）２Ｃｌ２（０．０５ｇ、０．０７mmol）、ヨウ化銅（０．０２５ｇ、０．１３mmol）およびトリフェニルホスフィン（０．０３４ｇ、０．１３mmol）を４０mlのトリエチルアミンに懸濁する。混合物を４０℃で５時間撹拌し、２５まで冷ました後、氷水に注ぐ。沈殿物を濾別し、ヘプタン／酢酸エチルの２：１混合物を使用したシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーによって精製して、標記化合物（０．２５ｇ、０．３２mmol）を白色の固体として与える。
【0139】
液晶相転移：偏光顕微鏡を用いて交差偏光子下で化合物７６を観察し、その相転移温度を決定する。結果として、温度が上昇すると、結晶相は、１１７℃（Ｔ（Ｃｒ－Ｎ））でネマチック相に変化し、等方性相は、２００℃（Ｔ（Ｎ－Ｉ））超で出現する。
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.19 (m, 4H), 7.94 (m, 3H), 7.84 (m, 4H), 7.75 (m, 3H), 7.56 (m, 3H), 7.01 (m, 2H), 6.32 (m, 1H), 6.18 (m, 1H), 5.94 (m, 1H), 4.12 (t, 2H), 4.02 (t, 2H), 3.71 (s, 3H), 1.69 (m, 4H), 1.42 (m, 4H)
１Ｈ ＮＭＲ（３００MHz）、ＤＭＳＯ－ｄ６中：8.19 (m, 4H), 7.94 (m, 3H), 7.84 (m, 4H), 7.75 (m, 3H), 7.56 (m, 3H), 7.01 (m, 2H), 6.32 (m, 1H), 6.18 (m, 1H), 5.94 (m, 1H), 4.12 (t, 2H), 4.02 (t, 2H), 3.71 (s, 3H), 1.69 (m, 4H), 1.42 (m, 4H)
【0140】
実施例７７：光配向材料を使用した配列層の作製
ガラス基板に、光配向組成物（特許公報ＷＯ２０１２／０８５０４８に記載されているようなシクロペンタノン中３％固形分の光配向材料：光活性ポリマー材料を液晶の配列層として使用する）をスピンコーティングする。フィルムを１８０℃で１０分間乾燥させ、生じたフィルム厚は約１００nmである。次いで、フィルムを、平行な直線偏光されたＵＶ（ＬＰＵＶ）光（２８０～３２０nm）である配向光に５００mJ/cm2で曝露する。偏光面は、基板上の基準縁に対して０°である。
ガラス基板に、光配向組成物（特許公報ＷＯ２０１２／０８５０４８に記載されているようなシクロペンタノン中３％固形分の光配向材料：光活性ポリマー材料を液晶の配列層として使用する）をスピンコーティングする。フィルムを１８０℃で１０分間乾燥させ、生じたフィルム厚は約１００nmである。次いで、フィルムを、平行な直線偏光されたＵＶ（ＬＰＵＶ）光（２８０～３２０nm）である配向光に５００mJ/cm2で曝露する。偏光面は、基板上の基準縁に対して０°である。
【0141】
実施例７８：化合物７からの光学フィルムの作製
１４．７７５ｗ％の化合物７、０．１５０ｗ％のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９（化学構造２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン－１を有する）、０．０７５ｗ％のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１２３（化学構造ビス（１－オクチルオキシ－２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）セバケートを有する）をシクロペンタノン中で混合することによって１５．０ｗ％溶液を調製し、固形物が完全に溶解するまで室温で十分撹拌する。上記ポリマー溶液を、実施例１の配列層を備えたガラスプレートにスピンコーティングし、液晶フィルムを形成した。このフィルムを温度制御ホットプレート上にて１８０℃で５分間乾燥させる。試料を室温まで冷まし、次いで、水銀ランプを使用して、Ｎ２雰囲気下、室温でおよそ２分間ＵＶ光を照射することにより光重合させ、液晶の配列状態を固定する。
１４．７７５ｗ％の化合物７、０．１５０ｗ％のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９（化学構造２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン－１を有する）、０．０７５ｗ％のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１２３（化学構造ビス（１－オクチルオキシ－２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）セバケートを有する）をシクロペンタノン中で混合することによって１５．０ｗ％溶液を調製し、固形物が完全に溶解するまで室温で十分撹拌する。上記ポリマー溶液を、実施例１の配列層を備えたガラスプレートにスピンコーティングし、液晶フィルムを形成した。このフィルムを温度制御ホットプレート上にて１８０℃で５分間乾燥させる。試料を室温まで冷まし、次いで、水銀ランプを使用して、Ｎ２雰囲気下、室温でおよそ２分間ＵＶ光を照射することにより光重合させ、液晶の配列状態を固定する。
【0142】
得られたフィルムは、室温で非常に良好に配列されたネマチック中間相を示した。
【0143】
実施例７９：化合物９からの光学フィルムの作製
１４．７７５ｗ％の化合物９、０．１５０ｗ％のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９、０．０７５ｗ％のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１２３をシクロペンタノン中で混合することによって１５．０ｗ％溶液を調製し、固形物が完全に溶解するまで室温で十分撹拌する。上記ポリマー溶液を、実施例１の配列層を備えたガラスプレートにスピンコーティングし、液晶フィルムを形成した。このフィルムを温度制御ホットプレート上にて異なる温度で異なる時間乾燥させる。試料を室温まで冷まし、次いで、水銀ランプを使用して、Ｎ２雰囲気下、室温でおよそ２分間ＵＶ光を照射することにより光重合させ、液晶の配列状態を固定する。
１４．７７５ｗ％の化合物９、０．１５０ｗ％のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９、０．０７５ｗ％のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１２３をシクロペンタノン中で混合することによって１５．０ｗ％溶液を調製し、固形物が完全に溶解するまで室温で十分撹拌する。上記ポリマー溶液を、実施例１の配列層を備えたガラスプレートにスピンコーティングし、液晶フィルムを形成した。このフィルムを温度制御ホットプレート上にて異なる温度で異なる時間乾燥させる。試料を室温まで冷まし、次いで、水銀ランプを使用して、Ｎ２雰囲気下、室温でおよそ２分間ＵＶ光を照射することにより光重合させ、液晶の配列状態を固定する。
【0144】
得られたフィルムは、室温で中程度に配列されたネマチック中間相を示す。
【0145】
実施例８０：化合物６１からの光学フィルムの作製
１４．７７５ｗ％の化合物６１、０．１５０ｗ％のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９、０．０７５ｗ％のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１２３をシクロペンタノン中で混合することによって１５．０ｗ％溶液を調製し、固形物が完全に溶解するまで室温で十分撹拌する。上記ポリマー溶液を、実施例１の配列層を備えたガラスプレートにスピンコーティングし、液晶フィルムを形成した。このフィルムを温度制御ホットプレート上にて１５０℃で３秒間乾燥させる。試料を室温まで冷まし、次いで、水銀ランプを使用して、Ｎ２雰囲気下、室温でおよそ２分間ＵＶ光を照射することにより光重合させ、液晶の配列状態を固定する。
１４．７７５ｗ％の化合物６１、０．１５０ｗ％のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９、０．０７５ｗ％のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１２３をシクロペンタノン中で混合することによって１５．０ｗ％溶液を調製し、固形物が完全に溶解するまで室温で十分撹拌する。上記ポリマー溶液を、実施例１の配列層を備えたガラスプレートにスピンコーティングし、液晶フィルムを形成した。このフィルムを温度制御ホットプレート上にて１５０℃で３秒間乾燥させる。試料を室温まで冷まし、次いで、水銀ランプを使用して、Ｎ２雰囲気下、室温でおよそ２分間ＵＶ光を照射することにより光重合させ、液晶の配列状態を固定する。
【0146】
得られたフィルムは、室温で非常に良好に配列されたネマチック中間相を示した。
【0147】
実施例８１：化合物６２からの光学フィルムの作製
１４．７７５ｗ％の化合物６２、０．１５０ｗ％のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９、０．０７５ｗ％のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１２３をシクロペンタノン中で混合することによって１５．０ｗ％溶液を調製し、固形物が完全に溶解するまで室温で十分撹拌する。上記ポリマー溶液を、実施例１の配列層を備えたガラスプレートにスピンコーティングし、液晶フィルムを形成した。このフィルムを温度制御ホットプレート上にて１３０℃で３分間乾燥させる。試料を室温まで冷まし、次いで、水銀ランプを使用して、Ｎ２雰囲気下、室温でおよそ２分間ＵＶ光を照射することにより光重合させ、液晶の配列状態を固定する。
１４．７７５ｗ％の化合物６２、０．１５０ｗ％のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９、０．０７５ｗ％のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１２３をシクロペンタノン中で混合することによって１５．０ｗ％溶液を調製し、固形物が完全に溶解するまで室温で十分撹拌する。上記ポリマー溶液を、実施例１の配列層を備えたガラスプレートにスピンコーティングし、液晶フィルムを形成した。このフィルムを温度制御ホットプレート上にて１３０℃で３分間乾燥させる。試料を室温まで冷まし、次いで、水銀ランプを使用して、Ｎ２雰囲気下、室温でおよそ２分間ＵＶ光を照射することにより光重合させ、液晶の配列状態を固定する。
【0148】
得られたフィルムは、室温で非常に良好に配列されたネマチック中間相を示した。
【0149】
実施例８２：化合物６３からの光学フィルムの作製
１４．７７５ｗ％の化合物６３、０．１５０ｗ％のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９、０．０７５ｗ％のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１２３（ＢＡＳＦ製）をシクロペンタノン中で混合することによって１５．０ｗ％溶液を調製し、固形物が完全に溶解するまで室温で十分撹拌する。上記ポリマー溶液を、実施例１の配列層を備えたガラスプレートにスピンコーティングし、液晶フィルムを形成した。このフィルムを温度制御ホットプレート上にて１８０℃で３秒間乾燥させる。試料を室温まで冷まし、次いで、水銀ランプを使用して、Ｎ２雰囲気下、室温でおよそ２分間ＵＶ光を照射することにより光重合させ、液晶の配列状態を固定する。
１４．７７５ｗ％の化合物６３、０．１５０ｗ％のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９、０．０７５ｗ％のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１２３（ＢＡＳＦ製）をシクロペンタノン中で混合することによって１５．０ｗ％溶液を調製し、固形物が完全に溶解するまで室温で十分撹拌する。上記ポリマー溶液を、実施例１の配列層を備えたガラスプレートにスピンコーティングし、液晶フィルムを形成した。このフィルムを温度制御ホットプレート上にて１８０℃で３秒間乾燥させる。試料を室温まで冷まし、次いで、水銀ランプを使用して、Ｎ２雰囲気下、室温でおよそ２分間ＵＶ光を照射することにより光重合させ、液晶の配列状態を固定する。
【0150】
得られたフィルムは、室温で非常に良好に配列されたネマチック中間相を示した。
【0151】
実施例８３：化合物６４からの光学フィルムの作製
１４．７７５ｗ％の化合物６４、０．１５０ｗ％のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９、０．０７５ｗ％のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１２３をシクロペンタノン中で混合することによって１５．０ｗ％溶液を調製し、固形物が完全に溶解するまで室温で十分撹拌する。上記ポリマー溶液を、実施例１の配列層を備えたガラスプレートにスピンコーティングし、液晶フィルムを形成した。このフィルムを温度制御ホットプレート上にて１３０℃で３秒間乾燥させる。試料を室温まで冷まし、次いで、水銀ランプを使用して、Ｎ２雰囲気下、室温でおよそ２分間ＵＶ光を照射することにより光重合させ、液晶の配列状態を固定する。
１４．７７５ｗ％の化合物６４、０．１５０ｗ％のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９、０．０７５ｗ％のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１２３をシクロペンタノン中で混合することによって１５．０ｗ％溶液を調製し、固形物が完全に溶解するまで室温で十分撹拌する。上記ポリマー溶液を、実施例１の配列層を備えたガラスプレートにスピンコーティングし、液晶フィルムを形成した。このフィルムを温度制御ホットプレート上にて１３０℃で３秒間乾燥させる。試料を室温まで冷まし、次いで、水銀ランプを使用して、Ｎ２雰囲気下、室温でおよそ２分間ＵＶ光を照射することにより光重合させ、液晶の配列状態を固定する。
【0152】
得られたフィルムは、室温で非常に良好に配列されたネマチック中間相を示した。
【0153】
実施例８４：化合物６５からの光学フィルムの作製
１４．７７５ｗ％の化合物６５、０．１５０ｗ％のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９、０．０７５ｗ％のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１２３をシクロペンタノン中で混合することによって１５．０ｗ％溶液を調製し、固形物が完全に溶解するまで室温で十分撹拌する。上記ポリマー溶液を、実施例１の配列層を備えたガラスプレートにスピンコーティングし、液晶フィルムを形成した。このフィルムを温度制御ホットプレート上にて１８０℃で５秒間乾燥させる。試料を室温まで冷まし、次いで、水銀ランプを使用して、Ｎ２雰囲気下、室温でおよそ２分間ＵＶ光を照射することにより光重合させ、液晶の配列状態を固定する。
１４．７７５ｗ％の化合物６５、０．１５０ｗ％のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９、０．０７５ｗ％のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１２３をシクロペンタノン中で混合することによって１５．０ｗ％溶液を調製し、固形物が完全に溶解するまで室温で十分撹拌する。上記ポリマー溶液を、実施例１の配列層を備えたガラスプレートにスピンコーティングし、液晶フィルムを形成した。このフィルムを温度制御ホットプレート上にて１８０℃で５秒間乾燥させる。試料を室温まで冷まし、次いで、水銀ランプを使用して、Ｎ２雰囲気下、室温でおよそ２分間ＵＶ光を照射することにより光重合させ、液晶の配列状態を固定する。
【0154】
得られたフィルムは、室温で非常に良好に配列されたネマチック中間相を示した。
【0155】
実施例８５：化合物６９からの光学フィルムの作製
１４．５２０ｗ％の化合物６９、０．３００ｗ％のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９、０．１５０ｗ％のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１２３および０．０３０ｗ％のＢＹＫ（登録商標）３７８（表面添加剤として使用されるＢＹＫ製のポリエーテル修飾ポリジメチルシロキサン）をシクロペンタノン中で混合することによって１５．０ｗ％溶液を調製し、固形物が完全に溶解するまで室温で十分撹拌する。上記ポリマー溶液を、実施例１の配列層を備えたガラスプレートにスピンコーティングし、液晶フィルムを形成した。このフィルムを温度制御ホットプレート上にて１２０℃で１分間乾燥させる。試料を、水銀ランプを使用して、Ｎ２雰囲気下、１２０℃でおよそ２分間ＵＶ光を照射することにより光重合させ、液晶の配列状態を固定する。
１４．５２０ｗ％の化合物６９、０．３００ｗ％のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９、０．１５０ｗ％のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１２３および０．０３０ｗ％のＢＹＫ（登録商標）３７８（表面添加剤として使用されるＢＹＫ製のポリエーテル修飾ポリジメチルシロキサン）をシクロペンタノン中で混合することによって１５．０ｗ％溶液を調製し、固形物が完全に溶解するまで室温で十分撹拌する。上記ポリマー溶液を、実施例１の配列層を備えたガラスプレートにスピンコーティングし、液晶フィルムを形成した。このフィルムを温度制御ホットプレート上にて１２０℃で１分間乾燥させる。試料を、水銀ランプを使用して、Ｎ２雰囲気下、１２０℃でおよそ２分間ＵＶ光を照射することにより光重合させ、液晶の配列状態を固定する。
【0156】
得られたフィルムは、室温で非常に良好に配列されたネマチック中間相を示した。
【0157】
実施例８６：化合物７０からの光学フィルムの作製
１２．５８４ｗ％の化合物７０、０．２６０ｗ％のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９、０．１３０ｗ％のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１２３および０．０２６ｗ％のＢＹＫ（登録商標）３７８を１，３－ジオキソラン中で混合することによって１３．０ｗ％溶液を調製し、固形物が完全に溶解するまで８０℃で十分撹拌する。上記ポリマー溶液を、実施例１の配列層を備えたガラスプレートにスピンコーティングし、液晶フィルムを形成した。このフィルムを温度制御ホットプレート上にて１２０℃で２分間乾燥させる。試料を、水銀ランプを使用して、Ｎ２雰囲気下、室温でおよそ２分間ＵＶ光を照射することにより光重合させ、液晶の配列状態を固定する。
１２．５８４ｗ％の化合物７０、０．２６０ｗ％のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９、０．１３０ｗ％のＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１２３および０．０２６ｗ％のＢＹＫ（登録商標）３７８を１，３－ジオキソラン中で混合することによって１３．０ｗ％溶液を調製し、固形物が完全に溶解するまで８０℃で十分撹拌する。上記ポリマー溶液を、実施例１の配列層を備えたガラスプレートにスピンコーティングし、液晶フィルムを形成した。このフィルムを温度制御ホットプレート上にて１２０℃で２分間乾燥させる。試料を、水銀ランプを使用して、Ｎ２雰囲気下、室温でおよそ２分間ＵＶ光を照射することにより光重合させ、液晶の配列状態を固定する。
【0158】
得られたフィルムは、室温で非常に良好に配列されたネマチック中間相を示した。
【0159】
実施例８７：
実施例７８、実施例８０、実施例８１、実施例８２、実施例８３、実施例８４、実施例８５、実施例８６に記載される試料の５５０nmでのリタデーションをエリプソメーターで測定する。試料の厚みを触針式段差計によって測定する。複屈折（Δｎ）を、決定されたリタデーションおよび厚み値から、式（Δｎ＝リタデーション／厚み）に従って得た。値を表１に列記する。
実施例７８、実施例８０、実施例８１、実施例８２、実施例８３、実施例８４、実施例８５、実施例８６に記載される試料の５５０nmでのリタデーションをエリプソメーターで測定する。試料の厚みを触針式段差計によって測定する。複屈折（Δｎ）を、決定されたリタデーションおよび厚み値から、式（Δｎ＝リタデーション／厚み）に従って得た。値を表１に列記する。
【0160】
【表1】
【0161】
実施例７８、８０、８２、８３、８４、８６のフィルムは、０．２９を超える値の高い複屈折を有する。これらの新たなＬＣＰは、１／４波長板（ＱＷＰ）および１／２波長板（ＨＷＰ）として位相リターダ光学フィルムを作製するために使用できる。リターダは、光を透過して、その偏光状態を変更し、様々なディスプレイ用途またはセキュリティ素子において広く使用される。これらの新たなＬＣＰの特に高い複屈折は、リターダフィルムの顕著な厚み低減をもたらす。
【0162】
例として、表２は、化合物７、６１、６２、６３、６４、６５、７０をそれぞれ使用した実施例７８、８０、８１、８２、８３、８４および８６での、５５０nmで１／４波長板（λ／４）リターダ（ＱＷＰ）および１／２波長板（λ／２）リターダ（ＨＷＰ）を得るために必要とされる厚みを示している。
【0163】
【表2】
【国際調査報告】