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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2025-02-19
(54)【発明の名称】眼科用レンズ上に特徴を形成するための自動化プロセス
(51)【国際特許分類】
G02C 7/06 20060101AFI20250212BHJP
G02B 3/00 20060101ALI20250212BHJP
G02B 3/08 20060101ALI20250212BHJP
B23K 26/352 20140101ALI20250212BHJP
B23K 26/03 20060101ALI20250212BHJP
G01B 21/20 20060101ALI20250212BHJP
【ＦＩ】
G02C7/06
G02B3/00 A
G02B3/08
B23K26/352
B23K26/03
G01B21/20 C
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2024535988
(86)(22)【出願日】2022-12-15
(85)【翻訳文提出日】2024-08-09
(86)【国際出願番号】 US2022053013
(87)【国際公開番号】W WO2023114400
(87)【国際公開日】2023-06-22
(31)【優先権主張番号】63/290,021
(32)【優先日】2021-12-15
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(81)【指定国・地域】
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．ＢＬＵＥＴＯＯＴＨ
(71)【出願人】
【識別番号】519400379
【氏名又は名称】サイトグラス・ヴィジョン・インコーポレイテッド
(74)【代理人】
【識別番号】100108453
【弁理士】
【氏名又は名称】村山 靖彦
(74)【代理人】
【識別番号】100110364
【弁理士】
【氏名又は名称】実広 信哉
(74)【代理人】
【識別番号】100133400
【弁理士】
【氏名又は名称】阿部 達彦
(72)【発明者】
【氏名】ピーター・ホーンズ
【テーマコード（参考）】
2F069
2H006
4E168
【Ｆターム（参考）】
2F069AA66
2F069BB40
2F069CC07
2F069DD21
2F069GG01
2F069GG04
2F069GG07
2F069GG11
2F069GG52
2H006BD01
4E168AB01
4E168CA06
4E168CA07
4E168CB01
4E168CB07
4E168CB23
4E168EA11
4E168EA14
4E168EA15
4E168EA19
4E168JB05
(57)【要約】
眼科用レンズおよび自動化されたステップを含む眼科用レンズを製造する方法が開示されている。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
レンズ軸を有する眼科用レンズの表面上に光学的特徴のパターンを形成する方法であって、前記眼科用レンズをステージ上に受けるステップと、
前記眼科用レンズを第１の装置に関して、前記第１の装置と前記ステージとの間で相対運動を引き起こすことによって位置決めするステップと、
前記第１の装置を使用して前記眼科用レンズによって透過されるかまたは反射される光または前記眼科用レンズの表面特性を測定するステップと、
測定光または表面特性に基づき前記レンズ軸の位置を決定するステップと、
前記レンズ軸に関する光学的特徴の前記パターンのアライメントに関する情報を取得するステップと、
前記レンズ軸の前記位置に基づき前記眼科用レンズをレーザーシステムとアライメントするステップと、
前記アライメントに関する前記情報に従って前記眼科用レンズ上に光学的特徴の前記パターンを形成するために前記眼科用レンズの配置を前記レーザーシステムからのレーザービームに曝露するステップと
を含む方法。
【請求項2】
前記第１の装置は、光感知装置であり、前記レンズ軸の前記位置は、前記測定光に基づき決定される請求項１に記載の方法。
【請求項3】
前記第１の装置は、表面プロファイラであり、前記レンズ軸の前記位置は、前記表面特性に基づき決定される請求項１に記載の方法。
【請求項4】
前記レーザービームは、前記眼科用レンズの表面上に前記光学的特徴を形成する請求項１、２、または３に記載の方法。
【請求項5】
前記レーザービームは、前記眼科用レンズのバルク内に前記光学的特徴を形成する請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項6】
前記レンズの前記位置を決定するステップは、前記レンズのレンズ軸の位置を決定するステップを含む請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項7】
前記レンズ軸の前記位置は、前記測定光から取得された、前記眼科用レンズの画像に基づき、または前記眼科用レンズの１つまたは複数の表面プロファイルから決定される請求項６に記載の方法。
【請求項8】
前記レンズ軸の前記位置は、前記測定光から取得された前記眼科用レンズの表面プロファイルに基づき決定される請求項６に記載の方法。
【請求項9】
前記レンズ軸の前記位置は、前記測定光から取得された前記眼科用レンズのプリズム測定に基づき決定される請求項６に記載の方法。
【請求項10】
前記レンズ軸は、前記眼科用レンズの幾何学的中心と一致する請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項11】
前記レンズ軸は、前記眼科用レンズの光軸に対応する請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項12】
光学要素は、光散乱中心を含む請求項１から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項13】
光学要素は、マイクロレンズ、環状フレネルレンズ要素、およびプリズム要素からなる群から選択される請求項１から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項14】
光学要素は、前記表面の一方または両方の突起、前記表面の一方または両方の凹部、およびレンズ材料の屈折率と異なる屈折率を有するレンズ材料内の内包物からなる群から選択される請求項１から１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項15】
前記眼科用レンズは、単焦点レンズまたは多焦点レンズである請求項１から１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項16】
前記眼科用レンズは、前記レンズによって透過されるかまたは反射される光を測定している間に前記光感知装置に関して連続的に移動する請求項１から１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項17】
前記眼科用レンズは、前記眼科用レンズの前記配置を露光している間に前記レーザーシステムに関して連続的に移動する請求項１から１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項18】
前記眼科用レンズによって透過されるかまたは反射される前記光を測定するか、または前記表面特性を測定した後に、前記第１の装置および前記レーザーシステムに関する前記眼科用レンズの相対的位置を自動的に変更するステップをさらに含む請求項１から１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項19】
前記第１の装置および前記レーザーシステムは、前記眼科用レンズが移動している間、静止している請求項１８に記載の方法。
【請求項20】
前記眼科用レンズは、前記第１の装置および前記レーザーシステムが移動している間、静止している請求項１８に記載の方法。
【請求項21】
前記パターンは、光学要素のないアパーチャを含む請求項１から２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項22】
前記アパーチャは、光学要素を含む領域によって囲まれている請求項１８に記載の方法。
【請求項23】
前記レンズ軸は、前記アパーチャと交差する請求項１８に記載の方法。
【請求項24】
前記アパーチャは、２ｍｍ以上の最大横方向寸法を有する請求項１８に記載の方法。
【請求項25】
前記眼科用レンズの前記配置を前記レーザービームに曝露するステップは、前記レーザーシステムの焦点面に関する前記眼科用レンズの表面の位置を変化させるステップを含む請求項１から２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項26】
前記表面の前記位置を変化させるステップは、前記ステージと前記レーザーシステムとの間の距離を変化させるステップを含む請求項２５に記載の方法。
【請求項27】
前記アライメントに関する前記情報に基づき前記眼科用レンズ上に光学的特徴の前記パターンを形成するための前記レーザーシステムの露光シーケンスを決定するステップをさらに含む請求項１から２６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項28】
前記露光シーケンスを決定するステップは、前記レンズ軸の前記位置を考慮して、前記アライメントに関する前記情報に基づき所定のパターンを幾何学的に変換するステップを含む請求項２７に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【0001】
眼は、外部光源からの光が水晶体によって波長依存の光センサーのアレイである網膜の表面に焦点を結ぶ光学センサーである。眼の水晶体は、外部光線が最適にまたはほぼ最適に焦点を結ぶ焦点距離となるように形状を変化させることによって遠近調節をし、眼によって観察される外部画像に対応する反転画像を網膜の表面上に形成することができる。眼水晶体は、眼から一定の距離範囲内にある外部物体によって放射されるか、または外部物体から反射された光を最適にまたはほぼ最適に焦点に集め、その距離範囲外にある物体に対しては、あまり最適に焦点を合わせられないか、または焦点をまったく合わせることができない。
【0002】
正常視力を有する人では、眼軸長、すなわち角膜の前面から網膜の窩までの距離は、遠くの物体にほぼ最適に焦点を合わせるための焦点距離に相当する。正常視力を有する人の眼は、眼水晶体の形状を変えるために力を印加する筋肉に神経入力することなく、遠くの物体に焦点を合わせるが、これは「遠近調節」と称されるプロセスである。より近い、付近の物体に対して、正常な人であれば遠近調節の結果として焦点が合う。
【0003】
しかしながら、多くの人々は、近視（「近眼」）などの眼軸長関係疾患を患っている。近視の個人では、眼の軸長は、遠近調節なしで遠くの物体に焦点を合わせるために必要な軸長よりも長い。その結果、近視の個人は、特定の距離のところにある近くの物体をはっきりと見ることができるが、その距離から遠く離れる物体はぼやける。
【0004】
典型的には、乳幼児は遠視で生まれ、眼軸長は遠近調節なしで遠くの物体に対して最適にまたはほぼ最適に焦点を合わせるのに必要な眼軸長に比べて短い。「正視化」と称される、眼の正常な発達において、眼の他の寸法に関する眼の軸長は、遠近調節なしで遠くの物体のほぼ最適な焦点合わせを行える長さまで延びる。理想的には、生物過程は、眼が最終的な大人のサイズまで成長するときに眼のサイズ（たとえば、軸長）に対するほぼ最適な相対的眼軸長を維持する。しかしながら、近視の個人では、眼全体のサイズに対する眼の相対的軸長は、遠くの物体のほぼ最適な焦点合わせを行える長さを超えて、発育中に延び続け、その結果近視がますます顕著なものとなる。
【0005】
近視は、環境因子さらには遺伝因子の影響を受けると考えられている。したがって、近視は、環境因子に対処する治療デバイスによって軽減され得る。たとえば、近視を含む、眼軸長関係疾患を治療するための治療デバイスは、米国公開第２０１１／０３１３０５８Ａ号において説明されている。
【0006】
近視の進行を抑えるための治療デバイスは、特定の眼鏡レンズおよび特定のコンタクトレンズなどの、特定の眼科用レンズ（ｏｐｈｔｈａｌｍｉｃ ｌｅｎｓ）を含む。度付き眼鏡およびコンタクトレンズは、アイケア専門診療所を通して、またはオンライン調剤薬局を介して調剤されるのが普通である。各場合において、特に眼鏡については、これらのデバイスは患者毎に特別にカスタマイズされる。たとえば、患者は、様々なスタイルおよびブランドから眼鏡を選択することができる。所与の処方箋について、様々な異なる可能なコーティング（たとえば、ハードコートおよび短波長フィルタ、および／またはフォトクロミックフィルタなどの光学フィルタ）を施した様々な異なるストックレンズから選択することができる。さらに高度なカスタマイズを伴う、多焦点レンズも可能である。各場合において、眼鏡は、ジャストインタイム製造で眼鏡を製造することを可能にするサプライチェーンによってエンドユーザに適時に提供される。レンズ製造業者は、一般的に、レンズをカスタマイズして、たとえば、レンズ表面の一方または両方を整形し、レンズ表面の一方または両方にコーティングを施し、通常円形のブランクであるものをユーザによって選択された特定の眼鏡フレームに合うように整形することができる地域供給センターにストックレンズを供給する。いくつかの場合において、１つまたは複数のコーティングがすでに施されているストックレンズが製造業者から供給され得る。
【0007】
近視の進行を抑えるための特定の眼科用レンズ技術は、着用者に対して任意の屈折異常を矯正するのに適したベース曲率（ｂａｓｅ ｃｕｒｖａｔｕｒｅ）と、ベース曲率から逸脱するレンズの表面上の光学要素のパターンとを有することができるレンズを利用する。たとえば、ＳｉｇｈｔＧｌａｓｓ Ｖｉｓｉｏｎ， Ｉｎｃ．の拡散光学技術（ＤＯＴ）のレンズ技術は、光学要素のパターンを特徴とする。
【0008】
多くの場合に、これらのパターンは、レンズの軸と慎重にアライメントされるべきである。たとえば、ＳｉｇｈｔＧｌａｓｓ Ｖｉｓｉｏｎ， Ｉｎｃ．の特定のＤＯＴ眼鏡レンズ製品は、たとえば、遠方視のための眼の視軸に対応するレンズの軸にアライメントされ得る光学的特徴のないアパーチャを特徴とする。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0009】
【特許文献1】米国公開第２０１１／０３１３０５８Ａ号
【特許文献2】ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１８０２６６９７Ａ１号
【特許文献3】米国公開第２０１９／０２３５２７９Ａ１号
【特許文献4】米国特許第１１，０２９，５４０Ｂ２号
【特許文献5】ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０２０／１１３２１２号
【特許文献6】ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０２１２３６６８７Ａ２号
【特許文献7】米国特許第１０，２６８，０５０号
【特許文献8】ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１９／１６６６５３号
【特許文献9】ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１９／１６６６５４号
【特許文献10】ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１９／１６６５５５号
【特許文献11】ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１９／１６６６５７号
【特許文献12】ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１９／１６６６５９号
【特許文献13】ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１９／２０６５６９号
【特許文献14】米国特許第７，５０６，９８３号
【非特許文献】
【0010】
【非特許文献1】ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｍｏｎｔａｎａ．ｅｄｕ／ｊｓｈａｗ／ｄｏｃｕｍｅｎｔｓ／１８％２０ＥＥＬＥ５８２＿Ｓ１５＿ＯＴＦＭＴＦ．ｐｄｆ
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0011】
眼科用レンズの表面上のパターンにおける光学要素の形成を自動化するための技術が開示される。特に、光学的アライメント技術は、眼科用レンズをレーザーシステムに関してアライメントするために使用され、これは、次いで、眼科用レンズをレーザー放射に曝露して、レンズに関して、たとえば、レンズ軸またはレンズ周囲に関して正確にアライメントされたパターンで眼科用レンズの表面および／またはバルク上に光学要素を形成する。
【課題を解決するための手段】
【0012】
一般に、第１の態様において、本開示は、レンズ軸を有する眼科用レンズの表面上に光学的特徴のパターンを形成するための方法を特徴とし、眼科用レンズをステージ上に受けることと、眼科用レンズを第１の装置に関して、第１の装置とステージとの間で相対運動を引き起こすことによって位置決めすることと、第１の装置を使用して眼科用レンズによって透過されるかまたは反射される光または眼科用レンズの表面特性を測定することと、測定光または表面特性に基づきレンズ軸の位置を決定することと、レンズ軸に関する光学的特徴のパターンのアライメントに関する情報を取得することと、レンズ軸の位置に基づき眼科用レンズをレーザーシステムとアライメントすることと、アライメントに関する情報に従って眼科用レンズ上に光学的特徴のパターンを形成するために眼科用レンズの配置をレーザーシステムからのレーザービームに曝露することとを含む。
【0013】
方法の実装形態は、次の特徴のうちの１つまたは複数を含むことができる。たとえば、第１の装置は、光感知装置とすることができ、レンズ軸の位置は、測定光に基づき決定される。いくつかの場合において、第１の装置は、表面プロファイラであり、レンズ軸の位置は、表面特性に基づき決定される。
【0014】
レーザービームは、眼科用レンズの表面上に光学的特徴を形成することができる。レーザービームは、眼科用レンズのバルク内に光学的特徴を形成することができる。
【0015】
レンズの位置を決定することは、レンズのレンズ軸の位置を決定することを含むことができる。レンズ軸の位置は、測定光から取得された眼科用レンズの画像に基づき決定され得る。代替的に、またはそれに加えて、レンズ軸の位置は、測定光から取得された眼科用レンズの表面プロファイルに基づき決定され得る。いくつかの例において、レンズ軸の位置は、測定光から取得された眼科用レンズのプリズム測定結果に基づき決定される。
【0016】
レンズ軸は、眼科用レンズの幾何学的中心と一致するものとしてよい。
【0017】
レンズ軸は、眼科用レンズの光軸に対応するものとしてよい。
【0018】
光学要素は、光散乱中心を含むものとしてよい。光学要素は、マイクロレンズ（レンズレット）および／またはプリズム要素を含むことができる。
【0019】
眼科用レンズは、単焦点レンズまたは多焦点レンズ（たとえば、二焦点レンズまたは累進レンズ）とすることができる。
【0020】
眼科用レンズは、レンズによって透過されるかまたは反射された光を測定している間光感知装置に関して連続的に移動することができる。
【0021】
眼科用レンズは、眼科用レンズの配置を露出しながら、レーザーシステムに関して連続的に移動することができる。
【0022】
この方法は、眼科用レンズによって透過されるかまたは反射された光を測定した後に、光感知装置およびレーザーシステムに関する眼科用レンズの相対的位置を自動的に変更することを含むことができる。光感知装置およびレーザーシステムは、眼科用レンズが移動している間、静止しているものとしてよい。眼科用レンズは、光感知装置およびレーザーシステムが移動されている間、静止しているものとしてよい。
【0023】
パターンは、光学要素のないアパーチャを含む前記請求項のいずれか一項に記載の方法。
【0024】
アパーチャは、光学要素を含む領域によって囲まれ得る。
【0025】
いくつかの例において、レンズ軸はアパーチャと交差する。
【0026】
アパーチャは、２ｍｍ以上の最大横方向寸法を有することができる。
【0027】
眼科用レンズの配置をレーザービームに曝露することは、レーザーシステムの焦点面に関する眼科用レンズの表面の位置を変化させることを含み得る。表面の位置を変化させることは、ステージとレーザーシステムとの間の距離を変化させることを含むことができる。
【0028】
この方法は、アライメントに関する情報に基づき眼科用レンズ上に光学的特徴のパターンを形成するためのレーザーシステムの露光シーケンスを決定することを含むことができる。露光シーケンスを決定することは、レンズ軸の位置を考慮して、アライメントに関する情報に基づき所定のパターンを幾何学的に変換する（たとえば、１つまたは複数の次元で回転させること、および／または平行移動させること）を含むことができる。
【0029】
利点は他にもあるがとりわけ、本明細書において開示されている技術は、眼科用レンズ上に光学要素のパターンを正確に形成するために、レーザーシステムに関するレンズのアライメントを自動化することによって近視制御レンズの製造のスループットを改善することができる。
【図面の簡単な説明】
【0030】
【図1】自動化アライメントおよび露光システムの一例の概略図である。
【図3A】光学要素の形成の前の例示的なプラットフォーム上の眼科用レンズの平面図である。
【図3C】放射対称的なパターンを有する放射対称的な眼科用レンズの例を示す平面図である。
【図3D】放射対称的なパターンを有する放射対称的な眼科用レンズの例を示す平面図である。
【図3E】放射対称的なパターンを有する放射非対称的な眼科用レンズの例を示す平面図である。
【図3F】放射対称的なパターンを有する放射非対称的な眼科用レンズの例を示す平面図である。
【図3G】放射対称的なパターンを有する放射非対称的な眼科用レンズの例を示す平面図である。
【図3H】放射対称的なパターンを有する放射非対称的な眼科用レンズの例を示す平面図である。
【図3I】放射非対称的なパターンを有する眼科用レンズの放射対称的なレンズの例を示す平面図である。
【図3J】放射非対称的なパターンを有する眼科用レンズの放射対称的なレンズの例を示す平面図である。
【図3K】放射非対称的なパターンを有する眼科用レンズの放射対称的なレンズの例を示す平面図である。
【図3L】放射非対称的なパターンを有する眼科用レンズの放射対称的なレンズの例を示す平面図である。
【図3M】眼科用レンズの例を示す平面図である。
【図3N】眼科用レンズの例を示す平面図である。
【図3O】眼科用レンズの例を示す平面図である。
【図3P】眼科用レンズの例を示す平面図である。
【図3Q】眼科用レンズの例を示す平面図である。
【図3R】眼科用レンズの例を示す平面図である。
【図3S】眼科用レンズの例を示す平面図である。
【図3T】眼科用レンズの例を示す平面図である。
【図3U】眼科用レンズの例を示す平面図である。
【図3V】眼科用レンズの例を示す平面図である。
【図4】２つのクリアアパーチャ（ｃｌｅａｒ ａｐｅｒｔｕｒｅ）を備える光学要素のパターンを有する例示的な眼科用レンズの平面図である。
【図6A】人の水平視野を例示する図である。
【図6B】人の垂直視野を例示する図である。
【図7A】光学要素およびレンズの配向を指定するためのマーカーを特徴とする例示的な眼科用レンズの製造工程のステップを例示する図である。
【図7B】光学要素およびレンズの配向を指定するためのマーカーを特徴とする例示的な眼科用レンズの製造工程のステップを例示する図である。
【図7C】光学要素およびレンズの配向を指定するためのマーカーを特徴とする例示的な眼科用レンズの製造工程のステップを例示する図である。
【図7D】光学要素およびレンズの配向を指定するためのマーカーを特徴とする例示的な眼科用レンズの製造工程のステップを例示する図である。
【図8A】光学要素およびレンズの配向を指定するための縁特徴部を特徴とする例示的な眼科用レンズの製造工程のステップを例示する図である。
【図8B】光学要素およびレンズの配向を指定するための縁特徴部を特徴とする例示的な眼科用レンズの製造工程のステップを例示する図である。
【図8C】光学要素およびレンズの配向を指定するための縁特徴部を特徴とする例示的な眼科用レンズの製造工程のステップを例示する図である。
【図8D】光学要素およびレンズの配向を指定するための縁特徴部を特徴とする例示的な眼科用レンズの製造工程のステップを例示する図である。
【図9A】両方の表面上の光学要素を特徴とする例示的な眼科用レンズの製造工程のプロセスにおけるステップを例示する図である。
【図9B】両方の表面上の光学要素を特徴とする例示的な眼科用レンズの製造工程のプロセスにおけるステップを例示する図である。
【図9C】両方の表面上の光学要素を特徴とする例示的な眼科用レンズの製造工程のプロセスにおけるステップを例示する図である。
【図10】２つのクリアアパーチャを備える光学要素のパターンを有する例示的な眼科用レンズの平面図である。
【図11】２つのクリアアパーチャを備える光学要素のパターンを有する別の例示的な眼科用レンズの平面図である。
【図12】２つのクリアアパーチャを備える光学要素のパターンを有するさらなる例示的な眼科用レンズの平面図である。
【図13】クリアアパーチャをいっさい備えない光学要素のパターンを有する例示的な眼科用レンズの平面図である。
【図14】自動化アライメントおよび露光システムの別の例の概略図である。
【図15】自動化アライメントおよび露光システムにおいて有用な電子コントローラの例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0031】
図面中、類似の参照番号は類似の要素を示す。
【0032】
図１を参照すると、ストック眼科用レンズ１０１の表面上および／またはバルク材料中に光学要素のパターンを形成するための自動化アライメントおよび露光システム１００の一例は、測定サブシステム１１０、レーザー露光サブシステム１２０、および２つのサブシステムの間でレンズ１０１を搬送するコンベヤを含む。サブシステムおよびコンベヤの動作は、電子コントローラ１６０によって制御される。一般的に、電子コントローラ１６０は、１つまたは複数のコンピュータシステム（たとえば、電子プロセッサ、メモリ、およびコントローラによる操作を円滑にするインターフェースを含む）を含むことができる。直交座標系は、参照を容易にするために提供されている。
【0033】
コンベヤは、ローラー１４２を有するコンベヤベルト１４０と、各々が対応するレンズ１０１を支持し、測定サブシステム１１０およびレーザー露光サブシステム１２０に関してレンズ１０１を位置決めするコンベヤベルト１４０上に位置決めされたステージ１５０とを備える。コンベヤベルト１４０は、ステージ１５０をＹ方向に移動し、ステージを最初に測定サブシステム１１０の下に進め、次いでレーザー露光サブシステム１２０に進める。各ステージは、対応するステージ１５０をコンベヤベルト１４０の移動方向と直交するｘ方向に移動するアクチュエータ１５２を備える。
【0034】
測定サブシステム１１０は、レンズ１０１の光学測定を、レンズ１０１がその下を通過するときに実行し、システムに関するレンズ１０１のレンズ軸の位置を決定する。次いで、システムは、レンズ１０１をレーザー露光サブシステム１２０に移動し、そこでレンズはレーザービームに露光され、レンズ１０１上および／またはレンズ１０１内に光学要素のパターンを形成する。システムは、光学測定を介して決定されたレンズ軸の位置に応じてパターンを形成し、パターンがレンズ上に正確に配置されることを確実にする。
【0035】
図１に示されているように、光学測定サブシステム１１０は、光源１１２、光整形光学系１１４、ビームスプリッタ１１６、集光光学系１１７、およびイメージセンサー１１８を備える。動作中、サブシステム１１０は、光源１１２からの照明をレンズ１０１に照射し、レンズ１０１から反射された光をセンサー１１８に導く。光整形光学系１１４は、光源から放射された光を整形して、サブシステム１１０の視野を十分に照明するように配列され、構成される。ビームスプリッタ１１６は、光整形光学系１１４からの光をステージ１５０に導き、集光光学系１１７は、両方とも、光をステージに導き、レンズ１０１から反射された光を受光し、レンズ１０１の画像をセンサー１１８上に形成する。一般的に、光整形光学系１１４および１１７は、１つまたは複数の光学要素（たとえば、レンズ、ディフューザ、ポラライザー、波長フィルタ）を備えることができ、これらの要素は、光の光路に沿った様々な配置（たとえば、照明光および受光光の両方に対するビームスプリッタ１１６の上流または下流）に分配され得る。電子コントローラ１６０は、両方とも、測定サブシステム１１０の動作を制御し、分析のためにセンサー１１８からデータを受信する。
【0036】
レーザー露光サブシステム１２０は、レーザー光源１２２と、レーザー光源１２２からレーザービームを受光し、レンズがサブシステム１２０の照射野を通って移動するときにレーザービームをレンズ１０１上に集光し、導くビームステアリングアセンブリとを備える。ビームステアリングアセンブリ１２４は、平行光学系１２６と集光光学系１２８を備える。リフレクタ１３０は、平行光学系１２６と集光光学系１２８との間に配置構成される。リフレクタ１３０は、リフレクタ１３０に結合され、レンズ１０１を横切る（たとえば、１つまたは２つの軸に沿って）集光レーザービームの配置を走査するように構成される。いくつかの実装形態において、リフレクタ１３０はガルボミラーアセンブリである。
【0037】
図２を参照すると、システム１００は、フローチャート２００に示されている一連のステップを使用して眼科用レンズの表面上に光学的特徴のパターンを形成するために使用され得る。初期ステップ２１０において、眼科用レンズ１０１は、ステージ１５０上でシステムによって受け取られる。レンズ１０１は、手動でステージ上に載せられるか、または別の自動化プロセスで、たとえばロボット配置アームを使用してステージ上に装填され得る。
【0038】
次に、ステップ２２０において、システムは、ステージ１５０を測定サブシステム１１０に関して移動することによってレンズ１０１を測定サブシステム１１０に関して位置決めする。適切に位置決めされた後、ステップ２３０において、測定サブシステム１１０は、光をレンズ１０１に導き、そこから反射された光を測定することによって測定を実行する。本実施形態において、レンズ１０１は測定サブシステム１１０に関して連続的に移動して、その間に、サブシステムはレンズによって反射された光を検出する。しかしながら、いくつかの実装形態において、測定が行われている間、システムは測定サブシステムに関してレンズを静止状態に維持することができる。また、測定サブシステム１１０は眼科用レンズから反射された光を使用して動作するが、いくつかの例では、透過光に基づき測定が行われ得ることにも留意されたい。
【0039】
ステップ２４０において、システムは、測定光に基づきレンズ１０１の軸の位置を決定する。一般に、レンズ１０１のレンズ軸の位置を特定するために、様々な好適な光学測定技術が使用され得る。たとえば、いくつかの実装形態において、測定サブシステム１１０は、マシンビジョンシステムであり、レンズ軸の位置は、測定光から取得された眼科用レンズの画像に基づき決定される。たとえば、眼科用レンズが円形レンズである場合、レンズ外周部は画像から識別され、レンズ軸の位置は円形の外周部の幾何学的中心の位置として決定され得る。
【0040】
いくつかの例では、測定サブシステム１１０は、レンズ１０１のプリズムを測定することによってレンズの配向を決定する。たとえば、サブシステム１１０は、レンズの頂部表面から反射されたビームの、レンズの底部表面から反射されたビームからの横方向の変位を測定することができる。いくつかの場合において、ステージ１５０は、レンズ１０１の配向を調整して、これらのビームの変位の量を削減（たとえば、最小化）することができる。レンズ軸は、ゼロプリズムによる配置および配向に対応することができる。
【0041】
いくつかの実装形態において、測定サブシステム１１０はレンズ１０１の表面をプロファイルすることができ、レンズ軸の位置は表面プロファイルに基づき決定される。たとえば、測定サブシステム１１０は、結像光学系およびカメラセンサーを使用してレンズ表面全体から反射された波面を同時に測定する結像干渉計とすることができる。
【0042】
いくつかの例では、測定サブシステム１１０は、レンズ軸の位置を決定するためにレンズ１０１の非光学測定を行う。たとえば、サブシステムは、機械的または電磁的な接触感知を通してレンズ表面の特性（たとえば、プロファイル）を測定することができる。そのような例は、スタイラス、キャリパー、またはフィーラーを使用するシステムを含む。いくつかの場合において、サブシステムは、レンズ軸の位置が決定される際に使用することができる１つまたは複数の表面プロファイル測定（たとえば、レンズの異なるセクションに沿って）を行うことができる。２つ、３つ、４つ、またはそれ以上の異なる測定が行われ得る。いくつかの場合において、サブシステムは、レンズ軸の配置がプリセットされた信頼レベルに決定されるまで異なる方向に沿って繰り返しプロファイル測定を行うことができる。
【0043】
レンズ１０１の軸は、眼科用レンズの光軸に対応することができる。たとえば、軸は、１つまたは複数のレンズ表面の回転対称軸とすることができる。いくつかの実装形態において、レンズ軸は、レンズ１０１の幾何学的中心と一致する。たとえば、レンズ軸は、円形レンズの中心軸に対応することができる。いくつかの場合において、中心軸は、レンズの光軸と同軸である。
【0044】
ステップ２５０において、システムは、レンズ軸に関する光学的特徴のパターンのアライメントに関する情報を取得する。これは、アイケア専門家または他の第三者から供給された情報に基づき達成され、および／またはシステムオペレータが有するパターン（たとえば、システムの電子コントローラ内のメモリに配置されている）に基づき達成され得る。パターンは、一般的に、レンズ軸に関する、および／またはシステムがレンズ上に光学要素を忠実に配置構成するための他の何らかの基準に関する各光学要素の配置に関する情報を含む。たとえば、パターンは、レンズ軸に対する単一の光学要素の配置に関する情報を含むことができるが、次いで、少なくとも１つの他の光学要素に関する他のすべての光学要素の配置に関する情報を含む。
【0045】
ステップ２６０において、システムは、レンズ軸の位置に基づきレーザー露光サブシステム１２０に関して眼科用レンズ１０１をアライメントする。これは、ステージ１５０上の眼科用レンズ１０１を測定サブシステム１１０からレーザー露光サブシステム１２０に搬送し、ビームステアリングアセンブリ１２４への露光のためにレンズ１０１を適切に位置決めすることを含む。適切に位置決めされた後、ステップ２７０において、システムは、眼科用レンズ１０１の離散的配置にレーザー露光サブシステム１２０からのレーザービームを照射し、アライメントに関する情報に従って眼科用レンズ上に光学的特徴のパターンを形成する。
【0046】
パターンをレンズにアライメントするプロセスは、システム内のレンズの相対的な配向および配置を考慮するためにソフトウェアによるパターンの数学的変換を含むことができる。そのような変換は、パターン情報が供給される座標系およびステージ上のレンズの座標系からパターンを変更するために、既存のパターンの変位（たとえば、１次元、２次元、または３次元）および／または回転（たとえば、１つまたは複数の軸について）を含むことができる。システムは、レンズ軸に関するパターンの正確なアライメントを確実にするために、アライメントされたパターンに基づきレンズを露光するためのレーザー露光サブシステムの露光シーケンスを決定する。
【0047】
代替的に、システムは、レンズの配置および／または１つまたは複数の追加の因子に基づき（たとえば、レンズの表面曲率、レンズの屈折力に基づき）パターンをオンザフライで計算することができる。
【0048】
一般的に、光学要素は、レンズの表面上におよび／またはレンズのバルク材料中に形成され得る。一般的に、サブシステム１２０において使用されるレーザーのタイプは、レンズ１０１の性質（たとえば、レンズの組成）およびその上に形成される光学要素に応じて変化し得る。
【0049】
実装形態によっては、システムは、眼科用レンズの配置を露光しながら、眼科用レンズ１０１をレーザー露光サブシステム１２０に関して連続的に移動することができる。代替的に、システムは、露光中にレンズを静止状態に保持するか、または露光中にレンズをＹ方向に沿って段階的に移動することができる。
【0050】
いくつかの実装形態において、測定および露光プロセスは全体として、自動的で連続的であり、そこでは、システムは、眼科用レンズによって透過されるかまたは反射された光を測定した後、眼科用レンズを測定サブシステムからレーザー露光サブシステムに自動的に搬送し、次いでレンズをコンベヤに沿って連続的に移動しながらレンズを露光してパターンを形成する。
【0051】
いくつかの例では、システムは、ｚ方向に沿ってレンズの位置を調整し、レンズ表面をレーザービームの焦点にまたはその近くに維持する。たとえば、システムは、レンズの表面をビームの最良の焦点の位置から１ｍｍ以内に維持することができる。システムは、ｚ方向に沿ってレンズの位置を調整し、レンズ表面上のレーザービームのスポットサイズを変更することができる。一般的に、レンズ表面でのスポットサイズは、レンズ表面が焦点面から離れるほど大きくなる。システムは、レンズ表面の曲率を考慮して露光中にレンズのｚ位置を変更することができる。たとえば、システムは、レンズ軸からの増大する半径方向距離の関数としてレンズ表面とレーザー露光サブシステムとの間の距離を減少させることができる。
【0052】
一般的に、システムは、測定に基づきパターンに対してレーザー露光サブシステムに関する適切な位置にレンズを移動することができ、システムは、（たとえば、パターンを回転しおよび／または平行移動させることによって）パターンを調整することができるか、またはレンズおよびパターンの両方を調整することができる。
【0053】
システムは、１つまたは複数のパラメータに応じてレーザービームとレンズとの間の相対運動の速度を調整することもできる。たとえば、表面が焦点面から離れているときと比べて表面がレーザーの焦点面に近い場合（すなわち、ビームのエネルギー密度が比較的高い場合）に露光はスピードアップされ得る。
【0054】
図２において概要を述べたプロセスは、追加のステップを含むことができる。たとえば、パターン１５５を適用する前または後のいずれかにおいてレンズ表面の一方または両方に追加のコーティングが施され得る（ステップ２８０）。例は、ＵＶまたはブルーライトフィルタ、反射防止コーティング、フォトクロミックコーティング、ポラライザー、ミラーコーティング、色合い、ハードコートを含む。いくつかの場合において、レンズ表面の追加の整形は、たとえば、パターン１５５の塗布前または塗布後のいずれかにおいて多焦点レンズをユーザに合わせてカスタマイズするために実行される。
【0055】
追加のコーティングは、システム１００のレーザー露光サブシステムから下流にある処理ステーションによって施されるか、またはこのシステムとは別に施され得る。
【0056】
自動化されたおよび／または連続的な製造方法は、光学要素のパターンを有する眼科用レンズを経済的な方式で大規模に製造することを可能にすると考えられる。開示されているシステムおよび方法は、レンズ軸（または他のレンズ特徴）に対するパターンの正確なアライメントを提供することができる。たとえば、システムは、レンズ上のターゲット配置から１ｍｍ以上（たとえば、０．８ｍｍ以上、０．５ｍｍ以上、０．３ｍｍ以上、０．２ｍｍ以上、０．１ｍｍ以上）の最大変位を有するようにパターンをアライメントすることができる。ベース曲率がたとえば＋４Ｄ以上であるレンズについては、強いプリズム効果を低減するために１ｍｍ以上の配置精度が望ましいと考えられる。
【0057】
このプロセスは、眼鏡店、流通センター、光学研究所、または中央集中製造施設で実施され得る。レンズの修正は、レンズ在庫からのレンズに対して局所的に、既存の眼鏡フィッティング調整プロトコルと連携して実行され得るので、光学要素のカスタマイズされたパターンなどの、光学要素のパターンを含む高度にカスタマイズされた眼鏡をジャストインタイムで送達することが可能である。
【0058】
いくつかの実装形態において、ステージ１５０は、１つまたは複数の基準マーカーを含むことができ、システムは、レーザー露光に関するレンズのアライメントを円滑にするために１つまたは複数の基準マーカーの位置に関するレンズ軸の位置を決定することができる。そのようなシステムは、たとえば、図３Ａおよび図３Ｂに例示されている。図３Ａは、コンベヤベルト３４０によって運ばれるステージ３５０上に置かれたレンズ３０１を平面図で示している。ステージ３５０の表面は、表面を横切る様々な配置で６個の基準マーカー３５０ａ～３５０ｆを含む。例示されているように、レンズは、マーカー３５０ａ、３５０ｂ、および３５０ｅを覆うように位置決めされる。
【0059】
基準マーカーは、測定サブシステムによって確実に識別され得るサイズおよび形状のものである。たとえば、基準マーカーは、測定サブシステムによって使用される光の波長においてステージ表面に関して高いコントラストを有するように施され（たとえば、エッチングされ、印刷され）得る。
【0060】
いくつかの例において、測定サブシステムは、レンズ全体の画像を取得するマシンビジョンシステムであり、電子コントローラは、サブシステムの視野内の各基準マーカーに関するレンズ軸の配置を決定することができる。たとえば、システムは、レンズ３０１の２つの異なる（たとえば、垂直な）直径ＤａおよびＤｂが交差する配置として軸３０２の配置を決定することができる。システムは、さらに、レンズ軸３０２に関する基準マーカー３５０ａ、３５０ｂ、および３５０ｅの配置を決定することができる。たとえば、これらの基準マーカーの各々の配置は、レンズ軸３０２が原点に対応する、２つの垂直な直径ＤａおよびＤｂによって定義される座標系における（ｘ，ｙ）座標として確定され得る。
【0061】
図３Ｂを特に参照すると、その後、レーザー露光サブシステムは、別のアライメントモジュールを使用して最初に基準マーカー３５０ａ、３５０ｂ、３５０ｄの配置を特定することによってレンズ軸３０２の配置を確定することができる。レンズ軸３０２の配置に基づき、レーザー露光サブシステムは、軸３０２の中心に位置するクリアアパーチャ３１０を囲む光学要素の環状領域からなる光学要素のパターン３２０を形成する。
【0062】
【0063】
一般に、眼科用レンズは、近視制御眼鏡において使用するのに好適な任意の眼科用レンズであってよい。市販のストックレンズも使用することもできる。眼科用レンズは、プラノレンズ、単焦点レンズ（たとえば、正もしくは負の球面屈折力および／または円柱を有する）、または多焦点レンズ（たとえば、二焦点または累進レンズ）であってよい。いくつかの例では、眼科用レンズは、非ゼロのプリズム屈折力を有する。
【0064】
一般的に、レンズは円形レンズであり、後から、着用者によって選択された眼鏡フレームに適合するように玉形加工される。しかしながら、本明細書において開示されている技術は、非円形レンズ（たとえば、光学要素パターンの形成前に眼鏡フレーム用に玉形加工されるレンズ）にも同様に適用され得る。
【0065】
光学要素は、光散乱中心（ドット）を含むものとしてよい。代替的に、またはそれに加えて、光学要素はレンズレットであってよい。光散乱中心の例は、ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１８０２６６９７Ａ１号、名称「Ｏｐｈｔｈａｌｍｉｃ ｌｅｎｓｅｓ ｆｏｒ ｔｒｅａｔｉｎｇ ｍｙｏｐｉａ」および米国公開第２０１９／０２３５２７９Ａ１号、名称「Ｏｐｈｔｈａｌｍｉｃ ｌｅｎｓｅｓ ｗｉｔｈ ｌｉｇｈｔ ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ ｆｏｒ ｔｒｅａｔｉｎｇ ｍｙｏｐｉａ」において説明されており、両方とも内容全体が参照により本明細書に組み込まれている。レンズレットの例は、米国特許第１１，０２９，５４０Ｂ２号、名称「Ｓｐｅｃｔａｃｌｅ ｌｅｎｓ ａｎｄ ｍｅｔｈｏｄ ｏｆ ｕｓｉｎｇ ａ ｓｐｅｃｔａｃｌｅ ｌｅｎｓ」において説明されている。
【0066】
光学要素は、任意の適切なパターンで形成され得る。明確にすることを目的として、本明細書において使用されているように、パターンは、光学要素が形成される領域の形状およびそれらの領域内の個別光学要素の配置構成の両方を指す。いくつかの例では、上で説明されているように、光学要素は、レンズ表面上の環状リング内またはレンズのバルク材料内に形成され得るが、他の構成配置も可能である。光学要素のパターンの例は、ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１８０２６６９７Ａ１号および米国特許第２０１９／０２３５２７９Ａ１号において説明されている。可能なパターンの他の例は、ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０２０／１１３２１２号、名称「Ｌｉｇｈｔ ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ ｌｅｎｓ ｆｏｒ ｔｒｅａｔｉｎｇ ｍｙｏｐｉａ ａｎｄ ｅｙｅｇｌａｓｓｅｓ ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ ｔｈｅ ｓａｍｅ」、およびＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０２１２３６６８７Ａ２号、名称「Ｏｐｈｔｈａｌｍｉｃ ｌｅｎｓｅｓ， ｍｅｔｈｏｄ ｏｆ ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ ｔｈｅ ｏｐｈｔｈａｌｍｉｃ ｌｅｎｓｅｓ， ａｎｄ ｍｅｔｈｏｄｓ ｏｆ ｄｉｓｐｅｎｓｅｓ ｅｙｅ ｃａｒｅ ｐｒｏｄｕｃｔｓ ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ ｔｈｅ ｓａｍｅ」において説明されている。国際公開第ＷＯ２０２０／１１３２１２号および国際公開第ＷＯ２０２１２３６６８７Ａ２号の両方の内容全体は、参照によりそっくりそのまま本明細書に組み込まれている。
【0067】
いくつかの例では、レンズおよびパターンの両方が放射対称的である。言い換えれば、レンズおよびパターンは両方とも中心軸に関して対称性を有する。これは、回転対称とも称され得る。たとえば、プラノレンズまたは球面屈折力のみを有するレンズは、円形縁を設けられたときには、放射対称レンズである。一般に、円形縁を有するレンズは、表面の曲率が縁によって定義される円の平面から外れていても、円形レンズと称される。
【0068】
さらに、光学要素は、パターンの幾何学的中心の周りの放射対称性を有するパターンに配置構成され得る。そのようなパターンは、一般的に、円形の外周を有し、光学的に、ユーザがどの半径方向を通して見ても同じ機能を果たす。そのような場合に、光学要素の環状領域内のクリアアパーチャの中心など、パターンの幾何学的中心がレンズの光心にアライメントされ得る。
【0069】
しかしながら、より一般的に、前述の技術は、また、放射対称レンズまたは放射非対称レンズに回転非対称パターンを形成するために使用され得る。一般的に、光学要素を形成する前に、非対称性を考慮したレンズとパターンとの間の相対的アライメントを確立することを伴う。システムは、必要に応じて、相対的アライメントが指定された通りになるようにアライメントを調整する。いくつかの例では、光学要素を形成する前にレンズ修正システム内でのレンズのアライメントを可能にする構造的および／または光学的アライメント特徴がレンズ上に形成され得る。以下では、一般的に次に示す４つのカテゴリに分類される例が説明される。
【0070】
タイプ１：放射対称レンズ（たとえば、放射対称屈折力プロファイルを有する）および放射対称パターン：
【0071】
（ｉ）放射対称パターンがレンズの中心に位置する円形のプラノレンズ。このようなレンズの一例は、図３Ｃに示されている。レンズ１００Ｃは、レンズの幾何学的中心１０５Ｃの中心に位置する光学要素の放射対称パターン１１０Ｃを含むプラノレンズ（ＳＰＨ＝０．００Ｄ、ＣＹＬ＝０．００Ｄ）である。
【0072】
（ｉｉ）放射対称パターンがレンズの中心に位置する、円柱屈折力のない円形の球面屈折力レンズ。このようなレンズの一例は、図３Ｄに示されている。ここで、レンズ１００Ｄは、レンズの幾何学的中心１０５Ｄの中心に位置する光学要素の放射対称パターン１１０Ｄを含む球面屈折力レンズ（ＳＰＨ＝－１．００Ｄ、ＣＹＬ＝０．００Ｄ）である。幾何学的中心１０５Ｄは、レンズ１００Ｄの光心と一致する。
【0073】
タイプ２：放射非対称レンズ（たとえば、放射非対称屈折力プロファイルを有する）および放射対称パターン
【0074】
（ｉ）円柱屈折力軸およびレンズの中心に位置する放射対称パターンを有する、円形、プラノまたは円形の球面屈折力レンズ。このようなレンズの一例は、図３Ｅに示されている。円柱軸１０２Ｅに沿ってＳＰＨ＝－１．００Ｄ、ＣＹＬ＝－０．５０Ｄを有するレンズ１００Ｅは、レンズの幾何学的中心１０５Ｅの中心に位置する放射対称パターン１１０Ｅを含む。「円柱軸」または「ｃｙｌ軸」はレンズ軸と同じではないことに留意されたい。むしろ、円柱軸は子午線を指し、これに沿って非ゼロのＣＹＬ屈折力を有するレンズは円柱屈折力を有しない。このようなレンズは、乱視を矯正するために一般的に処方される。
【0075】
（ｉｉ）レンズの中心に位置する放射対称パターンを有する多焦点レンズまたは累進レンズ。このようなレンズの一例は、図３Ｆに示されているが、累進レンズ１００Ｆは、屈折力の異なる５つのゾーン（１２０Ｆ、１２１Ｆ、１２２Ｆ、１２３Ｆ、および１２４Ｆ）を有する。放射対称パターン１１０Ｆは、レンズの幾何学的中心１０５Ｆを中心とする。
【0076】
（ｉｉｉ）放射対称パターンがレンズの中心に位置する、平坦な縁もしくは切り欠きを有するレンズ、または眼鏡フレームに適合するように整形されたレンズなどの、非円形レンズ。このようなレンズの例は、図３Ｇおよび図３Ｈに示されている。図３Ｇでは、レンズ１００Ｇは、平坦な縁１０１Ｇを別にすれば、円形である。レンズ１０１Ｇは、レンズの縁の円形部分の半径方向中心１０５Ｇを中心とする放射対称パターン１１０Ｇを含む。中心１０５Ｇは、レンズの光心と一致してもよい。図３Ｈは、眼鏡フレームに適合するように整形されたレンズ１００Ｈを示している。レンズ１００Ｈは、レンズ１００Ｈの光心と一致し得る中心１０５Ｈを有する放射対称パターン１１０Ｈを含む。
【0077】
タイプ３：放射対称レンズおよびレンズに関して放射非対称のパターン：
【0078】
（ｉ）レンズの中心がパターンの幾何学的中心と一致しない、放射対称パターンを有する円形のプラノレンズ。図３Ｉは、そのようなレンズの一例を示している。ここで、プラノレンズ１００Ｉは、レンズの幾何学的中心１０５Ｉからオフセットされた点１１１Ｉの周りに放射対称であるパターン１１０Ｉを含む。マーカー１０３Ｉ（たとえば、レンズ上またはレンズ内の）は、パターンをレンズにアライメントするときの基準として使用され得る。
【0079】
（ｉｉ）レンズの中心がパターンの幾何学的中心と一致しない、放射対称パターンを有する、円柱屈折力を有しない円形の球面屈折力レンズ。図３Ｊは、そのようなレンズの一例を示している。特に、球面レンズ１００Ｊは、レンズの幾何学的中心１０５Ｊからオフセットされた点１１１Ｊの周りに放射対称であるパターン１１０Ｊを含む。幾何学的中心は、レンズの光心と一致し得る。マーカー１０３Ｊは、パターンをレンズとアライメントするときの基準として使用され得る。
【0080】
（ｉｉｉ）放射非対称パターンを有する円形のプラノレンズ。そのようなレンズの一例が図３Ｋに示されており、プラノレンズ１００Ｋは、光学要素の水平のライン（たとえば、散乱中心またはレンズレットの列）によって形成される円形の輪郭を有するパターン１１０Ｋを含む。パターン１１０Ｋの円の中心は、レンズの幾何学的中心１０５Ｋとアライメントされる。マーカー１０３Ｋは、パターンをレンズとアライメントするときの基準として使用され得る。
【0081】
（ｉｖ）放射非対称パターンを有する、円柱屈折力のない円形の球面屈折力レンズ。図３Ｌは、そのようなレンズの一例を示している。ここで、球面レンズ１００Ｌは、光学要素の水平のライン（たとえば、散乱中心またはレンズレットの列）によって形成される円形の輪郭を有するパターン１１０Ｌを含む。パターン１１０Ｌの円の中心は、レンズの幾何学的中心１０５Ｌとアライメントされる。幾何学的中心は、レンズの光心と一致し得る。マーカー１０３Ｌは、パターンをレンズとアライメントするときの基準として使用され得る。
【0082】
タイプ４：放射非対称レンズおよびレンズに関して放射非対称のパターン：
【0083】
（ｉ）円柱屈折力軸、およびレンズの中心に位置しない放射対称パターンを有する、円形のプラノまたは球面屈折力レンズ。図３Ｖは、そのようなレンズの一例を示している。ここで、円柱軸１０２Ｖを有する、ＳＰＨ＝－１．００Ｄ、ＣＹＬ＝－０．５０Ｄである、レンズ１００Ｖは、レンズの幾何学的中心１０５Ｖからオフセットされた点１１１Ｖの周りで放射対称である光学要素のパターン１１０Ｖを含む。
【0084】
（ｉｉ）円柱屈折力軸、および放射非対称パターンを有する、円形のプラノまたは球面屈折力レンズ。このようなレンズの一例は、図３Ｍに示されている。ここで、円柱軸１０２Ｍを有する、ＳＰＨ＝－１．００Ｄ、ＣＹＬ＝－０．５０Ｄである、レンズ１００Ｍは、光学要素の水平のライン（たとえば、散乱中心またはレンズレットの列）によって形成される円形の輪郭を有するパターン１１０Ｍを含む。パターン１１０Ｍの円の中心は、レンズの幾何学的中心１０５Ｍとアライメントされる。
【0085】
（ｉｉｉ）円柱屈折力軸ありもしくはなしで、偏心した光心を有し、レンズの中心に位置しない放射対称パターンを有する、円形のプラノまたは球面屈折力レンズ。図３Ｎは、そのようなレンズの一例を示している。ここで、レンズ１００Ｎは、レンズの幾何学的中心１０５Ｎからオフセットされた点１１１Ｎの周りに放射対称であるパターン１１０Ｎを含む。点１１１Ｎは、レンズ１００Ｎの光心と一致する。
【0086】
（ｉｖ）円柱屈折力軸ありもしくはなしで、偏心した光心を有し、放射非対称パターンを有する、円形のプラノまたは球面屈折力レンズ。図３Ｏは、そのようなレンズの一例を示している。ここで、レンズ１００Ｏは、光学要素の水平のライン（たとえば、散乱中心またはレンズレットの列）によって形成される円形の輪郭を有するパターン１１０Ｏを含む。パターン１１０Ｏの円の中心はレンズの幾何学的中心１０５Ｏとアライメントされるが、レンズの光心１１１Ｏは幾何学的中心１０５Ｏからオフセットされている。
【0087】
（ｖ）円形多焦点または累進レンズおよびレンズの中心に位置しない放射対称パターン。図３Ｐは、そのようなレンズの一例を示している。ここで、累進レンズ１００Ｐは、屈折力が異なる５つのゾーン（１２０Ｐ、１２１Ｐ、１２２Ｐ、１２３Ｐ、および１２４Ｐ）を有する。放射対称パターン１１０Ｐは、ゾーン１２２Ｐ内にある点１１１Ｐを中心としており、ゾーン１２１Ｐに配置されているレンズの幾何学的中心１０５Ｐからオフセットされている。
【0088】
（ｖｉ）円形多焦点または累進レンズおよび放射非対称パターン。その一例は図３Ｑに示されている。ここで、レンズ１００Ｑは、レンズを横切って水平方向に配置構成された平行なライン１２０Ｑに配置構成された光学要素のパターン１１０Ｑを含み、レンズの広がっているゾーン（１０２Ｑ、１０３Ｑ、１０４Ｑ、１０５Ｑ、および１０６Ｑ）は異なる屈折力を有する。パターン１１０Ｑの半径方向中心は、レンズ１００Ｑの幾何学的中心１０５Ｑとアライメントされている。
【0089】
（ｖｉｉ）放射対称パターンがレンズの中心に位置しない（平坦な縁もしくは切り欠きを有するレンズ、または眼鏡フレームに適合するように整形されたレンズなどの）非円形レンズ。図３Ｒは、平坦な縁部１０１Ｒおよびレンズ１００Ｒの光心１０５Ｒから偏心した点１１１Ｒの周りに放射対称である光学要素のパターン１１０Ｒを有するそのようなレンズ１００Ｒの一例を示す。図３Ｓは、眼鏡フレームに適合するように整形された縁を有するレンズ１００Ｓの一例を示している。レンズ１００Ｓは、点１１１Ｓの周りで放射対称的であるが、レンズの光心１０５Ｓの中心に位置しないパターン１１０Ｓを含む。
【0090】
（ｖｉｉ）放射非対称パターンを有する（平坦な縁もしくは切り欠きを有するレンズ、または眼鏡フレームに適合するように整形されたレンズなどの）非円形レンズ。図３Ｔは、平坦な縁部１０１Ｔおよび円形輪郭を有する光学要素のパターン１１０Ｔを有するそのようなレンズ１００Ｔの例を示している。パターン１１０Ｔは光学要素の水平方向の列から構成され、光学要素の輪郭となる円はレンズ１００Ｔの光心１０５Ｔを中心とする。図３Ｕは、眼鏡フレームに適合するように整形された縁を有するレンズ１００Ｕの一例を示している。レンズ１００Ｕは、円形の輪郭を有する光学要素のパターン１１０Ｕを含む。パターン１１０Ｕは光学要素の水平方向の列から構成され、光学要素の輪郭となる円はレンズ１００Ｕの光心１０５Ｕを中心とする。
【0091】
次に、光学要素パターンのさらなる例を参照すると、一般に、様々な異なるパターンが可能である。上で述べたように、いくつかの例では、回転非対称パターンが使用される。このようなパターンは、パターンの幾何学的中心を通る軸などの、軸の周りの放射対称性を欠いている。そのようなパターンの一例が図４に例示されており、これは眼科用レンズ５００が第１のクリアアパーチャ５１０とクリアアパーチャを囲む円環形状の散乱領域５３０とを備えることを示している。この場合、レンズ５００は均一な光学特性を有し、たとえば、球面レンズ、複合または円環体レンズ（すなわち、球面成分と円柱成分を有する）、またはプラノレンズ（すなわち、屈折力のないレンズ）などの単焦点レンズである。図５は、参照を容易にするために縦軸と横軸も示している。レンズ５００は円形のブランクとして描かれており、したがって球面レンズに対して放射対称的であるが、水平方向および垂直方向は、眼鏡フレームに装着されるときにレンズがどのように配向されるかを指すことは理解されるであろう。
【0092】
第１のクリアアパーチャ５１０は、レンズ５００の実質的に中心付近に位置決めされる。パターン領域５３０は、また、レンズ中心に関して中心に配置される。パターン領域５３０は、また、透明領域５４０によって囲まれる。第２のクリアアパーチャ５２０も、パターン領域５３０内に設けられ、レンズの垂直軸から角度αだけオフセットされる軸５３２に沿ってクリアアパーチャ５１０から離間される。
【0093】
図４に示されている例では、クリアアパーチャ５１０は、遠視力アパーチャであり、道路標識の読み取りなどの遠視力活動に関わり得る。第２のクリアアパーチャ５２０は近見視力アパーチャであり、本を読むなどの近見視力活動に関わり得る。
【0094】
αは装着された後に垂直子午線からのオフセット角度を指すときに、ユーザが近くの物体に焦点を合わせるときのユーザの眼の経路の遠近調節をするように選択され得る。人が近くの物体に焦点を合わせるように遠近調節するときに、これは、輻輳、すなわち両眼転導と呼ばれる水平方向内側への眼の動きも引き起こす。したがって、近見視力物体を第２のアパーチャを通して遠近調節された眼に見えるようにするために、この角度は、近見視力物体に対するユーザの両眼転導に一致するように選択され得る。いくつかの例では、αは４５°以下、たとえば、約３０°以下、約２５°以下、約２０°以下、約１５°以下、約１０°以下、約８°以下、たとえば、１°以上、２°以上、３°以上、４°以上、５°以上、または０°である。たとえば、クリアアパーチャ５２０－－近見視力用－－は、クリアアパーチャ５１０の中心を通る垂直軸からユーザの鼻に向かってオフセットされ、近くの物体に焦点を合わせる際の着用者の眼の両眼転導に対する遠近調節をする。このオフセットは、１ｍｍ以上（たとえば、２ｍｍ以上、３ｍｍ以上、４ｍｍ以上、５ｍｍ以上、６ｍｍ以上、７ｍｍ以上、たとえば、１０ｍｍ以下、９ｍｍ以下、８ｍｍ以下）とすることができ、距離は、クリアアパーチャ５１０の水平方向の中心点（いくつかの例では、レンズの中心に対応し得る）からクリアアパーチャ５２０の水平方向の中心点から測定される。クリアアパーチャ５１０およびクリアアパーチャ５２０は両方とも円形であり、アパーチャ５２０はアパーチャ５１０よりもわずかに大きな直径を有する。一般的に、アパーチャのサイズは異なることがあり、ユーザに十分な軸上視力（アパーチャ５１０を通して）および十分な近見視力（アパーチャ５２０を通して）を提供する一方で、パターン領域内の光学要素に起因する周辺視力のコントラスト低下の効果を著しく阻害するほど大きくならないように設定され得る。典型的には、両方のクリアアパーチャは、２ｍｍ以上（たとえば、３ｍｍ以上、４ｍｍ以上、５ｍｍ以上、たとえば１０ｍｍ以下）の直径を有する。
【0095】
非円形アパーチャも可能である（特定の例については以下参照）。たとえば、アパーチャの水平方向の幅は、アパーチャの垂直方向の高さとは異なり得る。図４では、アパーチャ５１０および５２０の水平方向の幅は、それぞれ、ｗ５１０およびｗ５２０と指定されている。一般的に、アパーチャの水平方向の幅は同じでも異なっていてもよい。図４に例示されているようないくつかの例では、ｗ５２０はｗ５１０よりも大きくてもよい。たとえば、ｗ５２０は、ｗ５１０よりも１０％以上（たとえば、２００％以下、１５０％以下、１２０％以下など、２０％以上、３０％以上、４０％以上、５０％以上、７５％以上、１００％以上）大きいものとしてよい。いくつかの例では、ｗ５２０は、近見視力については、ユーザが眼球が視野を水平方向に走査する特定のタスクに関わっている間（たとえば、読書中）に、ユーザの視軸がクリアアパーチャ５２０内に留まるように選択される。これは、ユーザが頭を動かさなくてもクリアアパーチャを通して視野を走査することを可能にする点で有利であり得る。
【0096】
アパーチャ間の距離も変化することができ、典型的には、アパーチャがユーザにとって快適な軸上視力および快適な近見視力に対応するように設定される。クリアアパーチャの最も近い縁の間の距離は、１ｍｍ以上（たとえば、１０ｍｍ以下など、２ｍｍ以上、５ｍｍ以上）とすることができる。
【0097】
アパーチャ５１０およびアパーチャ５２０の中心間の距離は、図４においてδＮＦで表されており、アパーチャ５２０が、近くの物体に焦点を合わせたときのユーザの注視方向に対応するように変化し得る。いくつかの例では、δＮＦは、０．５ｍｍから２０ｍｍの範囲内（たとえば、０．６ｍｍ以上、０．７ｍｍ以上、０．８ｍｍ以上、０．９ｍｍ以上、１０ｍｍ以上、１１ｍｍ以上、１２ｍｍ以上、１３ｍｍ以上、１４ｍｍ以上、たとえば、１９ｍｍ以下、１８ｍｍ以下、１７ｍｍ以下、１６ｍｍ以下、１５ｍｍ以下）であり得る。
【0098】
アパーチャ５１０とアパーチャ５２０との間の分離距離は、各アパーチャのサイズおよびそれらの中心の間の距離に依存する。いくつかの例では、この分離距離は、０．５ｍｍ以上（たとえば、１ｍｍ以上、２ｍｍ以上、３ｍｍ以上）であり得る。分離距離は、１０ｍｍ未満（たとえば、９ｍｍ以下、８ｍｍ以下、７ｍｍ以下、６ｍｍ以下、５ｍｍ以下）であり得る。
【0099】
パターン領域５３０は、これらの領域内でレンズに入射する光の少なくとも一部を散乱させるか、または光学収差を通じて焦点がぼけるか、もしくはぼやける光学要素を含む。これは、ユーザの周辺視野のコントラストを下げ得るが、これはユーザの近視の進行を抑制すると考えられている。一般的に、光学要素は、レンズの表面上の特徴（たとえば、突起もしくは凹部）、またはバルクレンズ材料内の内包物を含み得る。
【0100】
一般に、光学要素の性質は、ユーザの網膜上で所望の程度のコントラスト低下をもたらす様々な設計パラメータに基づき選択され得る。一般的に、これらの設計パラメータは、たとえば、光学要素密度、それらのサイズおよび形状、ならびにそれらの屈折率を含み、これらは以下でより詳細に説明される。理想的には、光学要素は、長時間の連続着用を可能にするために、着用者への不快感を十分に抑えながら、窩上で高い視力を提供し、網膜の他の部分で低い像コントラストを提供するように選択される。たとえば、子供にとっては、１日のすべてとは言わないまでも、ほとんどの時間、眼鏡を快適に着用できることが望ましいものとしてよい。代替的に、またはそれに加えて、光学要素は、特定の作業、特に眼軸長成長を強く促進すると考えられる作業、たとえばビデオゲーム、読書、または他の広角、高コントラスト画像露出に対して設計され得る。たとえば、そのような状況（たとえば、ユーザが周辺視野内で高コントラストを受ける場合、および／または着用者が周辺視野を使用して移動し、向きを定める必要がない状況）では、周辺部の散乱強度および散乱角度は高くなり得るが、意識と自尊心への考慮はそれほど心配しなくてよい。これは、そのような高コントラスト環境において周辺コントラスト低下の効率を高め得る。同様に、焦点がぼけたレンズレットのぼけ円半径および強度または光学収差特徴が調整され得る。
【0101】
ユーザの眼の窩における像コントラストの低下は、ユーザの網膜の他の部分における像コントラストの低下よりも、眼の成長を制御する効率が低いと考えられている。したがって、散乱中心は、網膜の他の部分上に当たる光の比較的多くが散乱光である一方で、ユーザの窩内に散乱される光を減少させる（たとえば、最小化する）ように調整され得る。窩上の散乱光の量は、クリアアパーチャのサイズだけでなく、特にクリアアパーチャに最も近い散乱中心の性質によっても影響を受け得る。いくつかの例では、たとえば、クリアアパーチャに最も近い散乱中心は、それより遠い散乱中心に比べて効率の低い光散乱となるように設計され得る。代替的に、またはそれに加えて、いくつかの例では、クリアアパーチャに最も近い散乱中心は、アパーチャから遠い散乱中心よりも小さい角度の前方散乱に対して設計され得る。類似の方式で、焦点がぼけたレンズレットまたは光学収差特徴によって発生するぼけの量は、特徴の密度、そのサイズ、および視覚的ぼけの強さ、たとえばレンズレットの相対プラス加入屈折力の量に依存する。周辺網膜領域内のぼけを誘発しながら中心視内のぼけを低減する設計最適化が、近視の進行を抑えながら快適な視覚体験を可能にする。
【0102】
いくつかの例において、散乱中心は、視力を維持しながら、網膜上の均一な光分布／低コントラスト信号を生成するために散乱中心の幾何学的形状を通して減少した狭角散乱および増大した広角散乱を提供するように設計され得る。たとえば、散乱中心は、著しい広角前方散乱（たとえば、１０％超、２０％以上、３０％以上、４０％以上、５０％以上、２．５度超偏向など）を生成するように設計され得る。狭角前方散乱、すなわち２．５度以内の散乱は、比較的低く抑えることができる（たとえば、５０％以下、４０％以下、３０％以下、２０％以下、１０％以下）。
【0103】
一般に、様々な異なるメトリクスが散乱中心のパフォーマンスを評価するために使用され、それにより散乱中心を最適化して近視軽減眼鏡に使用することができる。たとえば、散乱中心は、たとえば異なる散乱中心の形状、サイズ、およびレイアウトを有するレンズの物理的測定に基づき、経験的に最適化され得る。たとえば、光散乱は、ヘーズの国際試験規格（たとえば、ＡＳＴＭ Ｄ１００３またはＢＳ ＥＮ ＩＳＯ １３４６８）などの、ヘーズ測定に基づき特徴付けられ得る。従来のヘーズメーター、たとえば、狭角散乱の尺度とみなされ得る、レンズを完全に透過する光の量、乱されずに透過する光の量（たとえば、０．５度以内）、２．５度を超えて偏向される光の量、および透明度（２．５度以内の量）を測定するＢＹＫ－Ｇａｒｄｎｅｒヘーズメーター（Ｈａｚｅ－Ｇａｒｄ Ｐｌｕｓ計測器など）が使用されてよい。他の機器も、散乱パターンを経験的に最適化することを目的として光散乱を特徴付けるために使用され得る。たとえば、２．５度付近の環状リングで光を測定することによって光拡散を測定する機器が、使用され得る（たとえば、規格ＥＮ １６７に記載されているＨｏｒｎｅｌｌの機器）。
【0104】
代替的に、またはそれに加えて、コントラスト低減光学要素は、コンピュータモデリングソフトウェア（たとえば、ＺｅｍａｘまたはＣｏｄｅ Ｖ）によって最適化され得る。
【0105】
いくつかの例において、散乱中心は、網膜上の散乱中心の画像の表現である、点広がり関数の最適化に基づき設計され得る。たとえば、散乱中心のサイズ、形状、組成、間隔、および／または屈折率は、窩外の網膜が散乱光で均質に覆われるように網膜の照明を均等に広げ、網膜のこの領域におけるコントラストを低減（たとえば、最小化）するように変化させられ得る。
【0106】
いくつかの例では、周辺網膜を覆う光散乱の最適化は、網膜のいくつかの領域における散乱光対乱されない光の強度を目立たせ、高コントラスト像をより強く抑制する。たとえば白黒のテキストを読むときの、高コントラスト像は、眼窩の下半分から多く発生する傾向がある。したがって、散乱光で上側網膜眼窩をより強く覆うことは、軸長成長のための信号を低減するのに有益であり、同時に上側眼窩で視覚的な影響、たとえばグレアまたはハローを低減することができる。同様に、焦点がぼけたレンズレットまたは光学収差の特徴からぼけは、眼窩の下側部分および上側部分に異なる影響を及ぼすように強度を修正され得る。
【0107】
代替的に、またはそれに加えて、散乱中心は、人間の視覚系の空間周波数応答を指す、変調伝達関数の最適化に基づき設計され得る。たとえば、散乱中心のサイズ、形状、および間隔は、空間周波数の範囲の減衰を平滑化するように変化させられ得る。散乱中心の設計パラメータは、望み通りにいくつかの空間周波数を高くするかまたは低くするように変化させることができる。一般的に、視力に対する注目する空間周波数は、ファイン側で１度あたり１８サイクルであり、コース側で１度あたり１．５サイクルである。散乱中心は、この範囲内の空間周波数のいくつかのサブセットにおいて高められた信号を提供するように設計され得る。
【0108】
前述のメトリクスは、散乱中心のサイズおよび／または形状に基づき散乱中心を評価するために使用されてよく、その両方は望み通りに変化させられ得る。たとえば、散乱中心は、実質的に丸形（たとえば、球形）、細長（たとえば、楕円形）、または不規則な形状とすることができる。一般的に、散乱中心がレンズの表面上の突起である場合、突起は、可視光を散乱させるのに十分な寸法（たとえば、直径）を有するが、通常使用時には着用者によって分解されない十分に小さい寸法を有するべきである。たとえば、散乱中心は、約０．００１ｍｍ以上（たとえば、約０．００５ｍｍ以上、約０．０１ｍｍ以上、約０．０１５ｍｍ以上、約０．０２ｍｍ以上、約０．０２５ｍｍ以上、約０．０３ｍｍ以上、約０．０３５ｍｍ以上、約０．０４ｍｍ以上、約０．０４５ｍｍ以上、約０．０５ｍｍ以上、約０．０５５ｍｍ以上、約０．０６ｍｍ以上、約０．０７ｍｍ以上、約０．０８ｍｍ以上、約０．０９ｍｍ以上、約０．１ｍｍ）から約１ｍｍ以下（たとえば、約０．９ｍｍ以下、約０．８ｍｍ以下、約０．７ｍｍ以下、約０．６ｍｍ以下、約０．５ｍｍ以下、約０．４ｍｍ以下、約０．３ｍｍ以下、約０．２ｍｍ以下、約０．１ｍｍ）の範囲内の寸法を有することができる。
【0109】
より小さい散乱中心、たとえば、光の波長に匹敵する寸法（たとえば、０．００１ｍｍから約０．０５ｍｍ）を有する散乱中心については、光散乱は、レイリー散乱またはミー散乱と考えられ得ることに留意されたい。より大きい散乱中心、たとえば約０．１ｍｍ以上の散乱中心については、光散乱は大部分幾何学的散乱に起因し得る。光学要素は、たとえば、非集束レンズレット、プリズム、または高次収差レンズレットも含み得る。
【0110】
一般に、光学要素の寸法は、各レンズにわたって同じであり得るか、または異なり得る。たとえば、寸法は、光学要素の配置の関数として、たとえば、クリアアパーチャから測定されるように、および／またはレンズの端からの距離の関数として増大するかまたは減少し得る。いくつかの例では、光学要素の寸法は、レンズの中心からの距離が増加するにつれて単調に変化する（たとえば、単調増加または単調減少）。いくつかの場合において、寸法の単調増加／減少は、レンズ中心からの距離の関数として光学要素の直径を線形に変化させることを含む。
【0111】
光学要素の形状は、適切な光散乱プロファイルまたはぼかしプロファイルを提供するように選択され得る。たとえば、光学要素は、実質的に球面または非球面とすることができる。いくつかの例では、光学素子は、楕円散乱中心の場合など、一方向（たとえば、水平方向または垂直方向）に細長くすることができる。いくつかの例では、光学要素は、不規則な形状である。
【0112】
一般的に、パターン領域５３０における光学要素の分布は、適切なレベルの光散乱またはぼけをもたらすように変化し得る。いくつかの例では、光学要素は、各方向に一様な量だけ離間される、規則正しい配列に、たとえば、正方格子上に、配置構成される。一般に、光学要素は、まとめて近視軽減のために視聴者の周辺で十分なコントラスト低下をもたらすように離間される。典型的には、散乱中心の間の間隔が小さければ小さいほど、コントラスト低下が大きくなる（隣接する散乱中心が重なり合う、または融合することをしないことを条件とする）。一般に、散乱中心は、約０．０５ｍｍ（たとえば、約０．１ｍｍ以上、約０．１５ｍｍ以上、約０．２ｍｍ以上、約０．２５ｍｍ以上、約０．３ｍｍ以上、約０．３５ｍｍ以上、約０．４ｍｍ以上、約０．４５ｍｍ以上、約０．５ｍｍ以上、約０．５５ｍｍ以上、約０．６ｍｍ以上、約０．６５ｍｍ以上、約０．７ｍｍ以上、約０．７５ｍｍ以上）から約２ｍｍ（たとえば約１．９ｍｍ以下、約１．８ｍｍ以下、約１．７ｍｍ以下、約１．６ｍｍ以下、約１．５ｍｍ以下、約１．４ｍｍ以下、約１．３ｍｍ以下、約１．２ｍｍ以下、約１．１ｍｍ以下、約１ｍｍ以下、約０．９ｍｍ以下、約０．８ｍｍ以下）までの範囲内の量で最も近い近隣要素から離間され得る。一例として、間隔は０．５５ｍｍ、０．３６５ｍｍ、または０．２４０ｍｍとすることができる。
【0113】
光学要素は、非正方格子に配列され得る。たとえば、六角形（たとえば、六方最密充填）格子が使用され得る。不規則な配列も可能であり、たとえば、ランダムまたは半ランダム配置が使用され得る。正方格子または六方最密充填格子からの変位も、たとえば、ランダムな量だけ可能である。
【0114】
一般に、光学要素によるレンズの被覆率は、パターンに応じて変化し得る。ここで、カバー率は、光学要素に対応する図４に示されている平面上に投影されるような、レンズの総面積の割合を指す。典型的には、光学要素の被覆率が低ければ低いほど、より高い被覆率に比べて散乱またはぼけが低くなる（個別の光学要素が分離している、すなわち、それらが融合してより大きな光学要素を形成しないと仮定して）。散乱中心被覆率は、５％以上から約７５％まで変化し得る。たとえば、被覆率は、５０％または５５％など、１０％以上、１５％以上、２０％以上、２５％以上、３０％以上、３５％以上、４０％以上、４５％以上とすることができる。被覆率は、ユーザの快適レベルに応じて、たとえば、着用者が長時間（たとえば、終日）にわたって自発的に眼鏡を着用するような十分に快適な周辺視力のレベルを提供するように、および／または眼軸長成長信号が抑制される所望の強度に応じて選択され得る。
【0115】
光学要素間の散乱領域５３０においてレンズに入射するシーンからの光は、ユーザの網膜上のシーンの認識可能な画像に寄与するが、光学要素に入射するシーンからの光は必ずしも寄与しないと考えられる。さらに、光学要素に入射した光の少なくとも一部は網膜へ透過するので、網膜での光強度を実質的に低下させることなく像のコントラストを低下させる効果を有する。したがって、ユーザの周辺視野におけるコントラスト低下の量は、光学要素によって覆われたコントラスト低下領域の表面積の割合に相関する（たとえば、ほぼ比例する）と考えられる。
【0116】
一般に、散乱中心は、着用者の周辺視野内にある物体の像のコントラストを、この領域内での視聴者の視力を著しく落とすことなく低下させることを意図されている。たとえば、散乱中心は、主に広角度に散乱することができる。ここで、周辺視野は、クリアアパーチャの視野の外側の視野を指す。これらの領域における像コントラストは、以下で説明される方法を使用して決定されるようなレンズのクリアアパーチャを使用して見られた像コントラストに関して４０％以上（たとえば、４５％以上、５０％以上、６０％以上、７０％以上、８０％以上）低下し得る。コントラスト低下は、スネレン視標またはＥＴＤＲＳ視力検査表などの、高コントラストまたは低コントラスト視力表上で、１つもしくは複数の文字、または１つもしくは複数の行のコントラスト感度低下によって測定され得る。コントラスト低下は、１文字以上、２文字以上、３文字以上、４文字以上、または５文字以上であり得るか、または１行以上、２行以上、または３行以上であり得る。コントラスト低下は、また、高コントラストまたは低コントラスト視力検査表で測定されるように、３行以下、２行以下、１行以下、または５文字以下、４文字以下、３文字以下、２文字以下、または１文字、すべてなど、一定の量未満とすることも可能である。コントラスト低下は、各個別の症例のニーズに応じて設定され得る。典型的なコントラスト低下は、約５０％から５５％の範囲内にあると考えられている。５０％未満のコントラスト低下は、非常に軽度の症例に使用され得るが、病気にかかりやすい被験者は５５％超のコントラスト低下を必要とすることもあり得る。視力は、自覚的屈折によって決定されるように２０／３０以上（たとえば、２０／２５以上、２０／２０以上）に矯正され得るが、それでも意味のあるコントラスト低下を達成することができる。例では、コントラスト低下の結果、スネレン視標の２行以下（たとえば、１．５行以下、１行以下）の損失を生じ、１行の損失は、視力が２０／２０から２０／２５に低下することに対応する。
【0117】
コントラストは、ここでは、同じ視野内にある２つの物体の間の輝度の差を指す。したがって、コントラスト低下は、この差の変化を指す。
【0118】
コントラストおよびコントラスト低下は、様々な方法で測定され得る。いくつかの例では、コントラストは、制御された条件下でレンズのクリアアパーチャと散乱中心パターンを通して取得される、黒と白の正方形からなる市松模様などの、標準パターンの異なる部分の間の輝度差に基づき測定され得る。
【0119】
代替的に、またはそれに加えて、コントラスト低下は、レンズの光学伝達関数（ＯＴＦ）に基づいて決定され得る（たとえば、ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｍｏｎｔａｎａ．ｅｄｕ／ｊｓｈａｗ／ｄｏｃｕｍｅｎｔｓ／１８％２０ＥＥＬＥ５８２＿Ｓ１５＿ＯＴＦＭＴＦ．ｐｄｆを参照）。ＯＴＦについては、コントラストは、明るい領域と暗い領域が異なる「空間周波数」で正弦波変調される刺激の伝達について指定されている。これらの刺激は、棒の間の間隔が一定範囲にわたって変化する、交互する明るい棒と暗い棒のように見える。すべての光学系について、コントラストの透過率は、最も高い空間周波数を有する実質的に正弦波的に変化する刺激に対して最も低い。すべての空間周波数に対するコントラストの透過率を記述する関係はＯＴＦである。ＯＴＦは、点広がり関数のフーリエ変換を取ることによって取得され得る。点広がり関数は、点光源をレンズを通して検出器アレイ上に結像し、点からの光が検出器全体にどのように分配されるかを決定することによって取得され得る。
【0120】
測定値が矛盾する場合は、ＯＴＦ技術が優先される。いくつかの例では、コントラストは、散乱中心によって覆われたレンズの面積とクリアアパーチャの面積との比較に基づき推定され得る。この近似では、散乱中心に当たる光はすべて、網膜領域全体に均一に分散され、これは像のより明るい領域で利用可能な光の量を減らし、これは暗い領域に光を加えると仮定される。したがって、コントラスト低下は、レンズのクリアアパーチャおよび散乱領域を通して行われた光透過率測定に基づき計算され得る。
【0121】
パターン領域５３０は、円形の形状を有するが、他の形状も可能である（たとえば、楕円形、多角形、または画像を含む不規則な形状などの他の形状）。パターン領域のサイズは、典型的には、軸上アパーチャを通して直接的に見ていないときでも、ユーザの周辺視野の低下したコントラストがユーザの視野の実質的な部分にわたって生じるように選択される。パターン領域５３０は、３０ｍｍ以上（たとえば、４０ｍｍ以上、５０ｍｍ以上、６０ｍｍ以上、７０ｍｍ以上、８０ｍｍ以上、たとえば、１００ｍｍ以下、９０ｍｍ以下、８０ｍｍ以下、７０ｍｍ以下、６０ｍｍ以下）の直径（または非円形領域では最大寸法）を有することができる。いくつかの例では、パターン領域はレンズの縁まで延在する。
【0122】
いくつかの例では、パターン領域の周辺部は、光学要素の量、密度、または屈折力を徐々に減少させることによって透明領域とブレンドされ得る。
【0123】
いくつかの例において、透明領域では、パターン領域と比較してより低量の光散乱またはぼけが生じ得る。
【0124】
図５を参照すると、眼鏡５０１は、眼鏡フレーム５５０に２つのレンズ５００ａ、５００ｂを備える。各レンズは、図４に示されているレンズ５００に対応し、第２のクリアアパーチャ５２０が軸１３２に沿ってクリアアパーチャ５１０の下方に、垂直軸から角度αだけアライメントされた状態でフレーム５５０に適合する形状およびサイズを有する。各場合において、オフセット角度αはユーザの鼻の方向にある。この角度は、レンズ５００ａと５００ｂとで同じであるが、いくつかの例では、オフセット角度は異なり得る。たとえば、異なるオフセット角度は、各眼に対する両眼転動の間の変動に適応することができる。
【0125】
図６Ａおよび図６Ｂを参照すると、クリアアパーチャ５１０および５２０は、（たとえば、遠視力に対する）ユーザの標準視線に沿ってアパーチャ５１０を通る視線を提供し、（たとえば、読書のためなど、近見視力に対する）通常視線着座（Ｎｏｒｍａｌ Ｌｉｎｅ ｏｆ Ｓｉｇｈｔ Ｓｉｔｔｉｎｇ）に沿ってアパーチャ５２０を通る視線を提供するように、眼鏡５０１においてサイズを決められ、整形され、および位置決めされ得る。クリアアパーチャ５１０は、垂直方向および／または水平方向において±２°以上（たとえば、±１０°以下、±９°以下、±８°以下、±７°以下、±６°以下など、±３°以上、±４°以上、±５°以上）のクリアアパーチャを通る視線を提供するようにサイズおよび位置を設定され得る。水平方向および垂直方向の角度範囲は、同じでも異なっていてもよい。上側視野における角度範囲は、下側視野における角度範囲と同じであっても異なっていてもよい。
【0126】
クリアアパーチャ５２０は、通常視線着座軸の周りの垂直方向および／または水平方向において±２°以上（たとえば、±１０°以下、±９°以下、±８°以下、±７°以下、±６°以下など、±３°以上、±４°以上、±５°以上）のクリアアパーチャを通る視線を提供するようにサイズおよび位置を設定され得る。水平方向および垂直方向の角度範囲は、同じでも異なっていてもよい。いくつかの例では、クリアアパーチャ５２０は、ユーザが、たとえば、通常視線より１５°低い位置でシンボル認識領域においてアパーチャを通る視線を有する十分な水平幅を有することができる。たとえば、クリアアパーチャ１２０の水平幅は、最大±３０°（たとえば、最大±２５°、最大±２０°、最大±１５°、最大±１２°）のクリアアパーチャを通る視線を提供するようなサイズを有することができる。
【0127】
眼科用レンズ５００は、円形の遠視力アパーチャおよび円形の近見視力アパーチャを特徴とするが、より一般的には、これらのアパーチャの一方または両方は非円形の形状を有し、たとえば、標準視線軸および通常視線着座軸に沿って所望の視野側を提供することができる。たとえば、いずれかまたは両方のクリアアパーチャは、楕円形、多角形、または不規則な形状を有することができる。
【0128】
前述のように、水平軸および垂直軸は、レンズ５００が眼鏡フレーム内で最終的にどのように配向されるかを指し示す。フレームに装着するために縁を整形する前の未装着眼鏡レンズ５００において、レンズがプラノまたは球面である場合に、そのようなレンズは、典型的には、放射対称であり、角度αは、レンズが装着用に整形されるまで任意である。しかしながら、円柱屈折力レンズまたは円環体レンズなどの、放射対称性を有しないレンズでは、角度αは、代替的に、円柱コンポーネントの円柱軸と比較したときに第２のアパーチャ５２０の配向に関して定義され得る。言い換えれば、レンズ上の適切な点（たとえば、レンズの中心）にアパーチャ５１０をアライメントすることに加えて、レンズの円柱軸に関して軸５３２をアライメントすることが重要である。
【0129】
このプロセスは、図７Ａ～図７Ｄに例示されている。ここで、図７Ａは、円柱軸７１２を有する非ゼロの円柱を有するレンズ７１０を示している。レンズ７１０の幾何学的中心７１５も図示されている。図７Ｂは、散乱中心のパターン７２０を示している。パターン７２０は、散乱中心の領域７３０に配置構成された一対のアパーチャ７２２および７２４を含む。アパーチャ７２４の幾何学的中心でもある、パターンの幾何学的中心７２５からアパーチャ７２２の幾何学的中心を通る軸７２８も示されている。
【0130】
図７Ｃは、パターン７２０とレンズ７１０との相対的アライメントを示している。この例では、パターン７２０の中心７２５は、レンズ７１０の中心７１５とアライメントされる。それに加えて、パターンは、円柱軸７１２と角度βで軸７２８とアライメントされる。角度βは、たとえば、ユーザの処方箋の円柱軸および遠視力から近見視力までの瞳孔の動きの範囲に基づき指定され得る。図７Ｃは、また、眼鏡フレーム用にサイズを決められた後のレンズの縁７４０の輪郭を示している。レンズ周縁部の近くにマーカー７５０が設けられ、円中軸にマークを付け、これをレンズとパターンとをアライメントし、図７Ｄに示されている最終形態７９９に合わせてレンズを整形するための基準とする。マーカー７５０は、レンズ上にパターン７２０を形成する前に、形成している間に、または形成した後に、レンズ修正システムに関するレンズの配向を確定するために使用される印刷されたまたはエッチングされた基準であり、レンズ修正システムと併せて使用されるアライメントシステムによって識別可能な任意の光学的特徴であり得る。マーカーは、パターン７２０を形成するために使用されるのと同じシステムを使用するか、または異なるシステムを使用して形成され得る。いくつかの実施形態において、マーカー７５０は、レンズ内、バルクレンズ材料内に形成される。
【0131】
前述の例では、所望の配向でパターンを形成するために、光学的特徴の例である、印刷されるかまたはエッチングされた基準マーカーを利用して、レンズの円柱軸の配向を確立するが、この目的のために他の特徴も使用され得る。たとえば、レンズそれ自体の光学特性を測定すること、すなわち円柱軸を測定し、次いで、その測定値を使用してパターンをレンズに適切にアライメントすることが可能である。代替的に、またはそれに加えて、いくつかの実施形態では、レンズの適切なアライメントを確立するために物理的特徴が使用され得る。
【0132】
たとえば、図８Ａを参照すると、レンズ８１０は、円柱軸８１２を有する非ゼロの円柱を有し、またレンズの、それ以外の場合に円形である縁において縁が真っ直ぐなセクション８１８を有する。縁が真っ直ぐなセクション８１８は、軸８１２と平行にアライメントされる。レンズ８１０の幾何学的中心８１５も図示されている。ここで、レンズの幾何学的中心は、レンズ８１０の縁によって画成される円の中心を指す。
【0133】
図８Ｂは、レンズ８１０上に形成する散乱中心のパターン８２０を示している。パターン８２０は、散乱中心の領域８３０に配置構成された一対のアパーチャ８２２および８２４を含む。アパーチャ８２４の幾何学的中心でもある、パターンの幾何学的中心８２５からアパーチャ８２２の幾何学的中心を通る軸８２８も示されている。
【0134】
図８Ｃは、パターン８２０とレンズ８１０との相対的アライメントを示している。具体的には、パターン８２０の中心８２５は、レンズ８１０の中心８１５とアライメントされる。それに加えて、パターンは、円柱軸８１２と角度βで軸８２８とアライメントされる。図８Ｃは、また、眼鏡フレーム用にサイズを決められた後のレンズの縁７４０の輪郭を示している。縁が真っ直ぐなセクション８１８は、レンズを図８Ｄに示されているその最終形状８９９に合わせて整形するための垂直方向および水平方向を確立するために使用される。
【0135】
縁部８１８の代わりに、またはそれに加えて、他のタイプの物理的特徴がアライメントを目的として使用され得る。たとえば、いくつかの実施形態において、１つまたは複数の切り欠きが、軸８１２と知られている関係（たとえば、知られている量だけアライメントされるかまたはオフセットされる）を有する縁に作られ得る。物理的特徴は、レンズ上にパターンを形成する前、形成している間、または形成した後にレンズ上に形成され得る。
【0136】
上記の例では、光学要素のパターンは、円などの幾何学的形状を占有し、環状パターン、格子、一連のストライプ、またはランダム方式などの規則的配列で配置構成された光学素子を特徴とする。しかしながら、先に述べたように、不規則なパターンまたは非円形の輪郭（たとえば、不規則な輪郭）を有するパターンが使用され得る。そのようなパターンは、認識可能な形状または画像であってもよい。一例が図９Ａに示されている。ここで、円形領域内の光学要素のパターン９３０は、レンズ９００の一方の側９１０、たとえば着用者に面する側に形成される。眼鏡フレームに対して整形されたレンズの輪郭９２０が図示されている。
【0137】
反対側の表面上には、画像、アートワーク、ロゴ、および同様のものなどの、認識可能な形状または像を形成することができる。光学要素のパターンのサイズまたは密度は、パターンの一部が観察者に対して反射して明るくまたは暗く見えるように変化させられ得る。光学的パターンのサイズまたは密度が変化させられ、グレースケール画像を作成することができる。色材が、光学要素を蒸着するか、または作成するために使用される場合、光学的パターンのサイズ、密度、および色は、カラー画像を作成するように変化させられ得る。他の回転非対称パターンと同様に、これらのパターンは、眼鏡フレームに装着されるときに指定された配向を有するか、またはコンタクトレンズとして使用されるときに眼球上で指定された配向を有し得る。たとえば、図９Ｂに示されているように、レンズ９００の側部９４０は、光学要素の一方の密度を有する内側領域と異なる密度を有する外側領域とを有するハート形のパターンを特徴とする。
【0138】
図９Ｃに示されている、結果として得られるレンズ９００は、両側に光学要素を特徴とする。前表面（すなわち、使用中に着用者から離れる方向に面する）のパターンは、これらの形状が着用者自身に知覚されることなく着用者を見る人から見えるように形成され得る。
【0139】
図９Ａ～図９Ｃに示されている不規則な形状のパターンは、単なる例であり、より一般的には、本明細書において開示されている技術は、かなり複雑な像を生成するパターンを形成するために使用され得る。一般に、パターンの輪郭、光学要素の密度およびサイズを変化させることによって、２値化され得るほとんどの像を表示する眼鏡を提供することが可能である。したがって、開示されている技術は、ユーザが名前、署名、ロゴ、ペット、家族、友人、ポップカルチャーの人物などの画像を有するようにレンズをカスタマイズすることを可能にする。
【0140】
さらに、両側にパターンを形成することによって、像は、レンズの表側と裏側の２つのずれた画像の視差効果に起因してレンズに関する観察者の相対的配置に応じて変化することができる。
【0141】
前述の例は、プラノレンズ、球面レンズ、円環体レンズなどの単焦点レンズを特徴とする。より一般的に、多焦点レンズ－－累進レンズや二焦点レンズなど－－も使用され得る。累進レンズは、放射非対称であり、典型的には、他の屈折異常に対する着用者の矯正に加えた、次第に高くなるレンズ屈折力の勾配によって特徴付けられる。勾配は、レンズの頂部で着用者の遠距離処方から始まり、レンズにおいてより低い、最大加入屈折力、または完全な読書加入屈折力に達し、近くの物体に焦点を合わせるときの眼の自然な経路と一致する。レンズ表面の累進屈折力勾配の長さは、一般的にレンズの設計に依存し、最終的な加入屈折力は通常０．７５～３．５０ジオプターである。回転非対称パターンを有する累進レンズの一例が、図１０に示されている。
【0142】
例示されているように、レンズ１０００は、図中の点線１０２２、１０２３、１０２４、１０２５で区切られた５つの異なるゾーンを含む。これらは、近見ゾーン１０１１、中間ゾーン１０１２、遠見ゾーン１０１３を含む。そのようなレンズは、周辺歪ゾーン１０１４および１０１５も含み得る。点線で区画されているが、一方のゾーンから次のゾーンへの屈折力の変化は、典型的には漸進的である。
【0143】
レンズの散乱／透明特性に関して、累進眼科用レンズ１０００は、透明外側領域１０４０と、光散乱領域１０３０と、遠視力用の第１のクリアアパーチャ１０１０と、近見視力用の第２のクリアアパーチャ１０２０とを含む。第２のクリアアパーチャ１０２０は、レンズの垂直軸から角度αだけオフセットされた軸１０３２に沿ってアライメントされる。遠視力用のクリアアパーチャ１０１０は、累進レンズの遠見ゾーン１０１３と（この場合、部分的に）重なり、近見視力アパーチャ１０２０は近見ゾーン１０１１と重なる。
【0144】
多焦点レンズが使用されるときのいくつかの実施形態において、第２のクリアアパーチャ（たとえば、レンズ１０００のアパーチャ１０２０）は、近見視力用の加入屈折力を有するレンズの領域上に特にアライメントされる。たとえば、第２のアパーチャの配置は、第１のクリアアパーチャ（すなわち、遠視力用のアパーチャ）におけるレンズの屈折力と比較して、＋０．２５Ｄ（たとえば、＋０．５Ｄ以上、＋０．７５Ｄ以上、＋１．０Ｄ以上、＋１．２５Ｄ以上、＋１．５Ｄ以上、＋１．７５Ｄ以上、＋２．０Ｄ以上）以上の屈折力を有することができる。
【0145】
前述のように、散乱中心以外の他の光学要素は、散乱中心の代わりとして、または散乱中心に加えて使用され得る。たとえば、レンズは、上で説明されている実施形態において「散乱領域」として識別された領域においてベースレンズとは異なる屈折力を有する１つまたは複数のレンズレットを含むことができる。より一般的は、散乱領域はパターン領域とも称される。そのようなレンズレットの例は、たとえば、２０１９年４月２３日に発行された米国特許第１０，２６８，０５０号、名称「Ｓｐｅｃｔａｃｌｅ Ｌｅｎｓ」、２０１９年９月６日に公開されたＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１９／１６６６５３号、名称「Ｌｅｎｓ Ｅｌｅｍｅｎｔ」、２０１９年９月６日に公開されたＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１９／１６６６５３号、名称「Ｌｅｎｓ Ｅｌｅｍｅｎｔ」、２０１９年９月６日に公開されたＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１９／１６６６５４号、「Ｌｅｎｓ Ｅｌｅｍｅｎｔ」、２０１９年９月６日に公開されたＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１９／１６６６５５号、名称「Ｌｅｎｓ Ｅｌｅｍｅｎｔ」、２０１９年９月６日に公開されたＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１９／１６６５７号、名称「Ｌｅｎｓ Ｅｌｅｍｅｎｔ」、２０１９年９月６日に公開されたＰＣＴ国際公開公開第ＷＯ２０１９／１６６６５９号、名称「Ｌｅｎｓ Ｅｌｅｍｅｎｔ」、および２０１９年１０月３１日に公開されたＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１９／２０６５６９号、名称「Ｌｅｎｓ Ｅｌｅｍｅｎｔ」において開示されている。たとえば、近視焦点ぼけ用のレンズレットが使用され得る。いくつかの例では、光学要素は、近視焦点ぼけ用の環状屈折構造（たとえば、フレネルレンズ）であり、その例は、２００９年３月２４日に発行された米国特許第７，５０６，９８３号、名称「Ｍｅｔｈｏｄ ｏｆ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ」に示されている。プリズム要素も使用され得る。
【0146】
レンズレットの回転非対称パターンを有する回転非対称レンズの一例が図１１に示されている。ここで、レンズ１１００は、非ゼロ円柱および円柱軸１１４２を有する。光学要素のパターンは、第１のクリアアパーチャ１１１０および近視焦点ぼけに合わせてサイズを決定され整形されたレンズレット１１３１（挿入図に示す）のアレイを特徴とするクリアアパーチャを囲む環状に整形された領域１１３０を含む。レンズレットは、さもなければユーザの網膜上に焦点を結ぶ波面の一部に焦点ぼけを持ち込む。第１のクリアアパーチャ１１１０は、レンズ１１００の実質的に中心付近に位置決めされる。近視焦点ぼけ領域１１３０は、また、レンズ中心に関して中心に配置される。近視焦点ぼけ領域１１３０は、また、透明領域１１４０によって囲まれる。第２のクリアアパーチャ１１２０も、光散乱領域１１３０内に設けられ、レンズの垂直軸から角度αだけオフセットされる軸１１３２に沿ってクリアアパーチャ１１１０から離間される。円柱軸１１４２は、軸１１３２に関して角度βでアライメントされる。
【0147】
一般的に、レンズレットの光学特性は、ユーザにとって適切と考えられる焦点ぼけの程度に応じて変化し得る。たとえば、レンズレットは、球面または非球面であるか、または高次収差を含むことができる。レンズレットは、正または負の屈折力を有することができる。いくつかの実施形態において、レンズレットの屈折力はゼロである（たとえば、レンズの基本屈折力が強く負である）。レンズレットは、各々、同じ屈折力を有するか、または異なるレンズレットは異なる屈折力を有することができる。いくつかの実施形態において、レンズレットは、レンズの基本屈折力と比較して＋０．２５Ｄ以上（たとえば、＋０．５Ｄ以上、＋０．７５Ｄ以上、＋１．０Ｄ以上、＋１．２５Ｄ以上、＋１．５Ｄ以上、＋１．７５Ｄ以上、＋２．０Ｄ以上、＋３．０Ｄ以上、＋４．０Ｄ以上、最大＋５．０Ｄなど）の加入屈折力を有することができる。いくつかの実施形態において、レンズレットは、レンズの基本屈折力と比較して－０．２５Ｄ以下（たとえば、－０．５Ｄ以下、－０．７５Ｄ以下、－１．０Ｄ以下、－１．２５Ｄ以下、－１．５Ｄ以下）の加入屈折力を有することができる。
【0148】
レンズレットのサイズも、適宜変えることができる。レンズレットは、０．５ｍｍ以上（たとえば、０．８ｍｍ以上、１ｍｍ以上、１．５ｍｍ以上、２ｍｍ以上、３ｍｍ以上、最大５ｍｍなど）の直径を有することができる。
【0149】
いくつかの実施形態は、レンズレットおよび散乱中心の両方を含むことができる。たとえば、図１２を参照すると、例示的なレンズ１２００は、透明外側領域１２４０、光散乱領域１２３０、遠視力用の第１のクリアアパーチャ１２１０、近見視力用の第２のクリアアパーチャ１２２０を含む。第２のクリアアパーチャ１２２０は、レンズの垂直軸から角度αだけオフセットされる軸１２３２に沿ってアライメントされる。
【0150】
散乱領域１２３０は、上で説明されているように散乱中心を含む。それに加えて、散乱領域１２３５は、アパーチャ１２１０の周りにリング状に配置構成されたレンズレット１２３５を含む。レンズレットは、さもなければユーザの網膜上に焦点を結ぶ波面の一部に焦点ぼけを持ち込む。散乱中心は、レンズレット１２３５の配置に含まれる。たとえば、散乱中心は、反対側のレンズ表面上の、各レンズレット１２３５の表面上に形成されるが、レンズレット１２３５と同じ横方向の位置と重なり、および／またはレンズレット１２３５と横方向に重なるレンズ１２００のバルク内に含まれ得る。いくつかの実施形態では、散乱中心は、レンズレット１２３５の間に含まれるが、レンズレットと横方向には重ならない。いくつかの実施形態において、レンズの散乱領域は、レンズレットのみを含み、追加の散乱中心を含まない。
【0151】
回転非対称パターンを有する回転非対称レンズのさらなる例が、図１３に示されており、レンズ１３００は水平方向に関して角度γの円柱軸１３１２を有する。レンズ１３００は、各々パターン領域の半分を含む２つの分離したゾーン、すなわち頂部ゾーン１３２０および底部ゾーン１３３０から構成される光学要素のパターンを含む。異なるゾーン１３２０および１３３０は、光学要素の異なる配置構成を有する。たとえば、実装形態によっては、ゾーンは、同じタイプの光学要素（たとえば、散乱中心）を有し得るが、密度は異なる。たとえば、頂部ゾーン１３３０は、散乱中心の密度が底部ゾーン１３２０よりも低く、底部ゾーンを透過した光に対する光の散乱を増加させる。代替的に、いくつかの実施形態において、一方のゾーンはレンズレットを含み、他方のゾーンは散乱中心を備えることができる。
【0152】
他の変更形態も可能である。たとえば、２つまたはそれ以上のゾーンが使用され得、いくつかの実施形態では、複数のゾーンが１つまたは複数のアパーチャとともに使用され得る。
【0153】
図１に描かれたシステムは、測定サブシステムとレーザー露光サブシステムとの間でレンズとともにステージを移動するコンベヤを特徴とするが、他の実装形態も可能である。たとえば、いくつかの場合において、ステージは、単一の配置に留まり、システムは、測定サブシステムおよびレーザー露光サブシステムをステージに関して順次位置決めする。図１４を参照すると、ストック眼科用レンズ１０１上に光学要素のパターンを形成するための例示的な自動化アライメントおよび露光システム１４００は、両方とも剛体フレーム１４３０に取り付けられた測定サブシステム１４１０、レーザー露光サブシステム１４２０、およびステージ１５０およびレンズ１０１を支持する、静止プラットフォーム１４１０上で２つのサブシステムを前後に移動するアクチュエータを含む。サブシステムおよびアクチュエータの動作は、電子コントローラ１４６０によって制御される。直交座標系は、参照を容易にするために提供されている。
【0154】
コンベヤは、ローラー１４２を有するコンベヤベルト１４０と、各々が対応するレンズ１０１を支持し、測定サブシステム１１０およびレーザー露光サブシステム１２０に関してレンズ１０１を位置決めするコンベヤベルト１４０上に位置決めされたステージ１５０とを備える。コンベヤベルト１４０は、ステージ１５０をＹ方向に移動し、ステージを最初に測定サブシステム１１０の下に進め、次いでレーザー露光サブシステム１２０に進める。各ステージは、対応するステージ１５０をコンベヤベルト１４０の移動方向と直交するｘ方向に移動するアクチュエータ１５２を備える。
【0155】
測定サブシステム１４１０およびレーザー露光サブシステムは、先に説明されている測定サブシステムおよびレーザー露光サブシステムと同じであってもよい。
【0156】
いくつかの場合において、ステージおよび測定サブシステムおよび／またはレーザーサブシステムの両方は、システムの固定基準フレーム（たとえば、支持フレームによって画成される）に対して相対的に移動することができる。いくつかの場合において、いずれかまたは両方のサブシステム内のいくつかのコンポーネントは、静止したままとすることができるが、他のコンポーネントはレンズに関して相対的に移動することができる。たとえば、レーザー露光サブシステムのレーザービームは、固定されてもよいが、光学サブシステム（たとえば、１つまたは複数のミラーから構成される）は、測定ステップにおいてレンズをレーザー光に曝露し、測定サブシステムのためのスペースをあけるために、レンズ上を前後に移動され得る。
【0157】
前述のように、上で開示されたシステムおよび方法は、説明されている製造システムおよび方法の態様を実装するために電子コントローラを利用する。図１５は、本明細書で説明されている技術を実装するために電子コントローラとして使用され得るコンピューティングデバイス１５００およびモバイルコンピューティングデバイス１５５０の一例を示す。コンピューティングデバイス１５００は、ラップトップ、デスクトップ、ワークステーション、携帯情報端末、サーバ、ブレードサーバ、メインフレーム、および他の適切なコンピュータなどの様々な形態のデジタルコンピュータを表すことが意図されている。モバイルコンピューティングデバイス１５５０は、携帯情報端末、携帯電話、スマートフォン、および他の類似のコンピューティングデバイスなどの、様々な形態のモバイルデバイスを表すことが意図されている。ここに示されているコンポーネント、それらの接続および関係、ならびにそれらの機能は、例示することのみを意図されており、制限することを意図されていない。
【0158】
コンピューティングデバイス１５００は、プロセッサ１５０２、メモリ１５０４、ストレージデバイス１５０６、メモリ１５０４および複数の高速拡張ポート１５１０に接続する高速インターフェース１５０８、ならびに低速拡張ポート１５１４およびストレージデバイス１５０６に接続する低速インターフェース１５１２を備える。プロセッサ１５０２、メモリ１５０４、ストレージデバイス１５０６、高速インターフェース１５０８、高速拡張ポート１５１０、および低速インターフェース１５１２は、様々なバスを使用して相互接続され、共通マザーボード上に取り付けられるか、または適宜他の仕方で取り付けられ得る。プロセッサ１５０２は、高速インターフェース１５０８に結合されているディスプレイ１５１６などの、外部入力／出力デバイス上にＧＵＩに対するグラフィック情報を表示するためメモリ１５０４内に、またはストレージデバイス１５０６上に、記憶されている命令を含む、コンピューティングデバイス１５００内で実行する命令を処理することができる。他の実装形態では、複数のプロセッサおよび／または複数のバスが、適宜、複数のメモリおよび種類のメモリとともに使用され得る。また、複数のコンピューティングデバイスが、必要な操作の一部を提供する各デバイスと接続され得る（たとえば、サーババンク、ブレードサーバのグループ、またはマルチプロセッサシステムとして）。
【0159】
メモリ１５０４は、コンピューティングデバイス１５００内の情報を記憶する。いくつかの実装形態において、メモリ１５０４は、１つまたは複数の揮発性メモリユニットである。いくつかの実装形態において、メモリ１５０４は、１つまたは複数の不揮発性メモリユニットである。メモリ１５０４は、磁気ディスクまたは光ディスクなどのコンピュータ可読媒体の他の形態のものであってもよい。
【0160】
ストレージデバイス１５０６は、コンピューティングデバイス１５００用のマスストレージを提供することができる。いくつかの実装形態において、ストレージデバイス１５０６は、ストレージエリアネットワークまたは他の構成のデバイスを含む、フロッピィディスクデバイス、ハードディスクデバイス、光ディスクデバイス、またはテープデバイス、フラッシュメモリもしくは他の類似のソリッドステートメモリデバイス、またはデバイスアレイなどのコンピュータ可読媒体であるか、またはコンピュータ可読媒体を含み得る。命令は、情報キャリア内に記憶され得る。命令は、１つまたは複数の処理デバイス（たとえば、プロセッサ１５０２）によって実行されるときに、上で説明されているような、１つまたは複数の方法を実行する。命令は、コンピュータもしくは機械可読媒体などの１つまたは複数のストレージデバイス（たとえば、メモリ１５０４、ストレージデバイス１５０６、またはプロセッサ１５０２上のメモリ）によって記憶されてもよい。
【0161】
高速インターフェース１５０８は、コンピューティングデバイス１５００に対して大きな帯域幅を使用するオペレーションを管理するが、低速インターフェース１５１２は、少ない帯域幅を使用するオペレーションを管理する。機能のこのような割り振りは、例示的なものにすぎない。いくつかの実装形態において、高速インターフェース１５０８は、メモリ１５０４、ディスプレイ１５１６（たとえば、グラフィックスプロセッサまたはアクセラレータを通じて）、および様々な拡張カード（図示せず）を受け入れ得る高速拡張ポート１５１０に結合される。この実装形態において、低速インターフェース１５１２は、ストレージデバイス１５０６および低速拡張ポート１５１４に結合される。様々な通信ポート（たとえば、ＵＳＢ、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ、Ｅｔｈｅｒｎｅｔ、ワイヤレスＥｔｈｅｒｎｅｔ）を含み得る、低速拡張ポート１５１４は、キーボード、ポインティングデバイス、スキャナ、またはたとえば、ネットワークアダプタを通じて、スイッチまたはルータなどネットワーキングデバイスなどの１つまたは複数の入力／出力デバイスに結合され得る。
【0162】
コンピューティングデバイス１５００は、図に示されているように、数多くの異なる形態で実装され得る。たとえば、標準的なサーバ１５２０として、またはそのようなサーバのグループにおいて何倍もの数で実装され得る。それに加えて、ラップトップコンピュータ１５２２などのパーソナルコンピュータで実装され得る。これは、ラックサーバシステム１５２４の一部としても実装され得る。代替的に、コンピューティングデバイス１５００からのコンポーネントは、モバイルコンピューティングデバイス１５５０などのモバイルデバイス（図示せず）内の他のコンポーネントと組み合わされ得る。このようなデバイスの各々は、コンピューティングデバイス１５００およびモバイルコンピューティングデバイス１５５０のうちの１つまたは複数を含むものとしてよく、システム全体が、互いに通信する複数のコンピューティングデバイスで構成され得る。
【0163】
モバイルコンピューティングデバイス１５５０は、他にもコンポーネントがあるがとりわけ、プロセッサ１５５２、メモリ１５６４、ディスプレイ１５５４などの入力／出力デバイス、通信インターフェース１５６６、およびトランシーバ１５６８を備える。モバイルコンピューティングデバイス１５５０は、追加のストレージを構成するためにマイクロドライブまたは他のデバイスなどのストレージデバイスを備え得る。プロセッサ１５５２、メモリ１５６４、ディスプレイ１５５４、通信インターフェース１５６６、およびトランシーバ１５６８の各々は、様々なバスを使用して相互接続され、これらのコンポーネントのうちのいくつかは、共通マザーボード上に取り付けられるか、または適宜他の仕方で取り付けられ得る。
【0164】
プロセッサ１５５２は、メモリ１５６４内に記憶されている命令を含む、モバイルコンピューティングデバイス１５５０内の命令を実行することができる。プロセッサ１５５２は、個別の、および複数の、アナログおよびデジタルプロセッサを備えるチップのチップセットとして実装され得る。プロセッサ１５５２は、たとえば、ユーザインターフェースの制御、モバイルコンピューティングデバイス１５５０によるアプリケーション実行、およびモバイルコンピューティングデバイス１５５０によるワイヤレス通信などの、モバイルコンピューティングデバイス１５５０の他のコンポーネントの調整を行い得る。
【0165】
プロセッサ１５５２は、制御インターフェース１５５８およびディスプレイ１５５４に結合されているディスプレイインターフェース１５５６を通じてユーザと通信し得る。ディスプレイ１５５４は、たとえば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）ディスプレイまたはＯＬＥＤ（有機発光ダイオード）ディスプレイまたは他の適切なディスプレイ技術であってよい。ディスプレイインターフェース１５５６は、グラフィックおよび他の情報をユーザに提示するようにディスプレイ１５５４を駆動するための適切な回路を備え得る。制御インターフェース１５５８は、ユーザからコマンドを受け取り、それらをプロセッサ１５５２に送るために変換し得る。それに加えて、外部インターフェース１５６２は、プロセッサ１５５２と通信することができ、それにより、モバイルコンピューティングデバイス１５５０と他のデバイスとの近距離通信を行うことを可能にする。外部インターフェース１５６２は、たとえば、いくつかの実装形態における有線通信、または他の実装形態における無線通信を行うことができ、複数のインターフェースも使用され得る。
【0166】
メモリ１５６４は、モバイルコンピューティングデバイス１５５０内に情報を記憶する。メモリ１５６４は、１つまたは複数のコンピュータ可読媒体、１つまたは複数の揮発性メモリユニット、または１つまたは複数の不揮発性メモリユニットのうちの１つまたは複数として実装され得る。拡張メモリ１５７４も、たとえば、ＳＩＭＭ（シングルインラインメモリモジュール）カードインターフェースを含むものとしてよい、拡張インターフェース１５７２を通じて構成され、モバイルコンピューティングデバイス１５５０に接続され得る。拡張メモリ１５７４は、モバイルコンピューティングデバイス１５５０に対する付加的な記憶領域を設け得るか、またはモバイルコンピューティングデバイス１５５０用のアプリケーションもしくは他の情報も記憶し得る。特に、拡張メモリ１５７４は、上で説明されているプロセスを実行するか、または補助する命令を含むものとしてよく、またセキュア情報も含み得る。したがって、たとえば、拡張メモリ１５７４は、モバイルコンピューティングデバイス１５５０に対するセキュリティモジュールとして構成されるものとしてよく、モバイルコンピューティングデバイス１５５０の安全な使用を可能にする命令でプログラムされ得る。それに加えて、安全なアプリケーションは、ＳＩＭＭカードを介して、ハッキングできない方式でＳＩＭＭカード上に識別情報を配置するなど、付加情報とともに提供され得る。
【0167】
メモリは、たとえば、後述のように、フラッシュメモリおよび／またはＮＶＲＡＭメモリ（不揮発性ランダムアクセスメモリ）を含み得る。いくつかの実装形態において、命令は、情報キャリア内に記憶される。命令は、１つまたは複数の処理デバイス（たとえば、プロセッサ１５５２）によって実行されるときに、上で説明されているような、１つまたは複数の方法を実行する。命令は、１つまたは複数のコンピュータもしくは機械可読媒体などの１つまたは複数のストレージデバイス（たとえば、メモリ１５６４、拡張メモリ１５７４、またはプロセッサ１５５２上のメモリ）によって記憶されてもよい。いくつかの実装形態において、命令は、たとえば、トランシーバ７６８または外部インターフェース１５６２上で、伝搬信号で受け取られるものとしてよい。
【0168】
モバイルコンピューティングデバイス１５５０は、必要ならば、デジタル信号処理回路を備え得る、通信インターフェース１５６６を通じてワイヤレス方式で通信し得る。通信インターフェース１５６６は、他にもいろいろあるがとりわけＧＳＭ音声電話（グローバルシステムフォーモバイルコミュニケーションズ）、ＳＭＳ（ショートメッセージサービス）、ＥＭＳ（エンハンストメッセージングサービス）、またはＭＭＳメッセージング（マルチメディアメッセージングサービス）、ＣＤＭＡ（符号分割多元接続）、ＴＤＭＡ（時分割多元接続）、ＰＤＣ（パーソナルデジタルセルラー）、ＷＣＤＭＡ（登録商標）（広帯域符号分割多元接続）、ＣＤＭＡ２０００、またはＧＰＲＳ（汎用パケット無線サービス）などの、様々なモードまたはプロトコルの下で通信を提供し得る。このような通信は、たとえば、無線周波数を使用するトランシーバ１５６８を通じて行い得る。それに加えて、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ、ＷｉＦｉ、または他のトランシーバ（図示せず）などを使用して、短距離通信を実行し得る。それに加えて、ＧＰＳ（全地球測位システム）受信機モジュール１５７０は、追加のナビゲーションおよび位置関係無線データをモバイルコンピューティングデバイス１５５０に提供し、これはモバイルコンピューティングデバイス１５５０上で実行するアプリケーションによって適宜使用され得る。
【0169】
モバイルコンピューティングデバイス１５５０は、また、オーディオコーデック１５６０を使用して音声で通信し、ユーザから発話情報を受け取り、それを使用可能なデジタル情報に変換し得る。オーディオコーデック１５６０は、同様に、たとえば、モバイルコンピューティングデバイス１５５０のハンドセットのスピーカーなどを通じて、ユーザ向けに可聴音を発生し得る。このような音は、音声電話からの音を含み、録音された音を含み（たとえば、音声メッセージ、音楽ファイルなど）、またモバイルコンピューティングデバイス１５５０上で動作するアプリケーションによって生成される音も含み得る。
【0170】
モバイルコンピューティングデバイス１５５０は、図に示されているように、数多くの異なる形態で実装され得る。たとえば、これは携帯電話１５８０として実装されてもよい。また、これはスマートフォン１５８２、携帯情報端末、または他の類似のモバイルデバイスの一部としても実装され得る。
【0171】
本明細書で説明されているシステムおよび技術の様々な実装形態は、デジタル電子回路、集積回路、専用設計ＡＳＩＣ（特定用途向け集積回路）、コンピュータのハードウェア、ファームウェア、ソフトウェア、および／またはこれらの組み合わせで実現され得る。これらの様々な実装形態は、記憶装置システム、少なくとも１つの入力デバイス、および少なくとも１つの出力デバイスからデータおよび命令を受信し、記憶装置システム、少なくとも１つの入力デバイス、および少なくとも１つの出力デバイスにデータおよび命令を送信するように結合された、専用または汎用の目的としてよい、少なくとも１つのプログラム可能なプロセッサを備えるプログラム可能なシステム上で実行可能であり、および／または解釈可能である１つもしくは複数のコンピュータプログラムによる実装形態を含むことができる。
【0172】
これらのコンピュータプログラム（プログラム、ソフトウェア、ソフトウェアアプリケーション、またはコードとも呼ばれる）は、プログラム可能なプロセッサ用の機械語命令を含み、高水準手続き型および／またはオブジェクト指向プログラミング言語で、および／またはアセンブリ／機械語で実装され得る。本明細書で使用されているように、機械可読媒体、コンピュータ可読媒体という用語は、機械可読信号として機械語命令を受信する機械可読媒体を含む、機械語命令および／またはデータをプログラム可能なプロセッサに供給するために使用されるコンピュータプログラム製品、装置、および／またはデバイス（たとえば、磁気ディスク、光ディスク、メモリ、プログラム可能論理デバイス（ＰＬＤ））を指す。機械可読信号という用語は、機械語命令および／またはデータをプログラム可能なプロセッサに供給するために使用される信号を指す。
【0173】
ユーザと情報のやり取りを行うために、本明細書で説明されているシステムおよび技術は、ユーザに対して情報を表示するためのディスプレイデバイス（たとえば、ＣＲＴ（陰極線管）またはＬＣＤ（液晶ディスプレイ）モニタ）およびキーボードおよびユーザがコンピュータに入力を送るために使用できるポインティングデバイス（たとえば、マウスもしくはトラックボール）を有するコンピュータ上で実装され得る。他の種類のデバイスも、ユーザとインタラクティブにやり取りするために使用されてよく、たとえば、ユーザに提供されるフィードバックは、任意の形態の感覚フィードバック（たとえば、視覚フィードバック、聴覚フィードバック、または触覚フィードバック）であってよく、ユーザからの入力は、音響、音声、または触覚入力を含む、任意の形態で受信され得る。
【0174】
本明細書で説明されているシステムおよび技術は、バックエンドコンポーネントを含む（たとえば、データサーバとして）、またはミドルウェアコンポーネントを含む（たとえば、アプリケーションサーバとして）、またはフロントエンドコンポーネントを含む（たとえば、ユーザと本明細書で説明されているシステムおよび技術の実装形態とのインタラクティブな操作に使用されるグラフィカルユーザインターフェースまたはウェブブラウザを有するクライアントコンピュータ）コンピューティングシステム、またはそのようなバックエンド、ミドルウェア、またはフロントエンドコンポーネントの任意の組み合わせで実装され得る。システムのコンポーネントは、デジタルデータ通信の任意の形態または媒体（たとえば、通信ネットワーク）によって相互接続され得る。通信ネットワークの例は、ローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）、ワイドエリアネットワーク（ＷＡＮ）、およびインターネットを含む。
【0175】
コンピューティングシステムは、クライアントおよびサーバを含むことができる。クライアントおよびサーバは、一般に、互いに隔てられており、典型的には、通信ネットワークを通じてインタラクティブにやり取りする。クライアントとサーバとの関係は、コンピュータプログラムが各コンピュータ上で実行され、互いとの間にクライアント－サーバ関係を有することによって発生する。
【0176】
いくつかの例において、コンピューティングシステムは、クラウドベースであり、および／またはパターンを集中的に計算することができる。そのような場合、匿名の入力データおよび出力データは、さらなる分析のために保存されてよい。クラウドベースおよび／または計算センターセットアップでは、パターンの分散計算と比較して、データ品質を確保し、計算エンジンの保守および更新、データプライバシー規制の準拠、トラブルシューティングを達成することが容易である。
【0177】
上では少数の実装形態が詳しく説明されたが、他の修正形態も可能である。たとえば、クライアントアプリケーションがデリゲートにアクセスするものとして説明されているが、他の実装形態では、デリゲートは、１つまたは複数のサーバ上で実行されるアプリケーションなど、１つまたは複数のプロセッサによって実装される他のアプリケーションによって採用されてもよい。それに加えて、図に示されている論理の流れは、望ましい結果を達成するために、図示されている特定の順序、または順番を必要としない。それに加えて、他のアクションが提示されるか、または説明されているフローから、アクションが取り除かれてもよく、他のコンポーネントが説明されているシステムに追加されるか、または取り除かれてもよい。
【0178】
さらに、図１に示されているシステムは、レンズから反射された光を測定する測定サブシステムを使用しているが、いくつかの実装形態では、透過で動作する測定システムが使用され得る。たとえば、サブシステムの光源および検出器は、レンズの反対側に位置決めされ得る。いくつかの場合において、これらのコンポーネントの一方がステージ１５０に収納され得る。代替的に、これらのコンポーネントの一方は、他方からステージ１５０の反対側に配置され得る。そのような場合、ステージおよびコンベヤベルトの少なくとも一部は、測定サブシステムによって使用される光の波長に対して透過的であるべきである。
【0179】
多数の実施形態について説明されたが、他の実施形態は、次の請求項に記載されている。
【符号の説明】
【0180】
１００ 自動化アライメントおよび露光システム
１００Ｃ レンズ
１００Ｄ レンズ
１００Ｅ レンズ
１００Ｆ 累進レンズ
１００Ｇ レンズ
１００Ｈ レンズ
１００Ｉ プラノレンズ
１００Ｊ 球面レンズ
１００Ｋ プラノレンズ
１００Ｌ 球面レンズ
１００Ｍ レンズ
１００Ｎ レンズ
１００Ｏ 球面レンズ
１００Ｐ 累進レンズ
１００Ｑ レンズ
１００Ｒ レンズ
１００Ｓ レンズ
１００Ｔ レンズ
１００Ｕ レンズ
１００Ｖ レンズ
１０１ ストック眼科用レンズ
１０１Ｇ 平坦な縁
１０１Ｒ 平坦な縁部
１０１Ｔ 平坦な縁部
１０２Ｅ 円柱軸
１０２Ｍ 円柱軸
１０２Ｖ 円柱軸
１０３Ｊ マーカー
１０３Ｋ マーカー
１０３Ｌ マーカー
１０５Ｃ 幾何学的中心
１０５Ｄ 幾何学的中心
１０５Ｅ 幾何学的中心
１０５Ｆ 幾何学的中心
１０５Ｇ 半径方向中心
１０５Ｈ 中心
１０５Ｉ 幾何学的中心
１０５Ｊ 幾何学的中心
１０５Ｋ 幾何学的中心
１０５Ｌ 幾何学的中心
１０５Ｍ 幾何学的中心
１０５Ｎ 幾何学的中心
１０５Ｏ 幾何学的中心
１０５Ｐ 幾何学的中心
１０５Ｒ 光心
１０５Ｔ 光心
１０５Ｕ 光心
１０５Ｖ 幾何学的中心
１１０ 測定サブシステム
１１０Ｃ 放射対称パターン
１１０Ｄ 放射対称パターン
１１０Ｅ 放射対称パターン
１１０Ｆ 放射対称パターン
１１０Ｇ 放射対称パターン
１１０Ｈ 放射対称パターン
１１０Ｉ パターン
１１０Ｊ パターン
１１０Ｋ パターン
１１０Ｌ パターン
１１０Ｍ パターン
１１０Ｎ パターン
１１０Ｏ パターン
１１０Ｐ 放射対称パターン
１１０Ｑ パターン
１１０Ｒ パターン
１１０Ｔ パターン
１１０Ｕ パターン
１１０Ｖ パターン
１１１Ｉ 点
１１１Ｊ 点
１１１Ｎ 点
１１１Ｏ 光心
１１１Ｐ 点
１１１Ｒ 点
１１１Ｖ 点
１１２ 光源
１１４ 光整形光学系
１１６ ビームスプリッタ
１１７ 集光光学系
１１８ イメージセンサー
１２０ レーザー露光サブシステム
１２０Ｑ 平行なライン
１２１Ｐ ゾーン
１２２ レーザー光源
１２２Ｐ ゾーン
１２４ ビームステアリングアセンブリ
１２６ 平行光学系
１２８ 集光光学系
１３０ リフレクタ
１４０ コンベヤベルト
１４２ ローラー
１５０ ステージ
１５２ アクチュエータ
１６０ 電子コントローラ
３０１ レンズ
３０２ レンズ軸
３１０ クリアアパーチャ
３２０ パターン
３４０ コンベヤベルト
３５０ ステージ
３５０ａ～３５０ｆ 基準マーカー
５００ 眼科用レンズ
５００ａ、５００ｂ レンズ
５０１ 眼鏡
５１０ 第１のクリアアパーチャ
５２０ 第２のクリアアパーチャ
５３０ 散乱領域
５４０ 透明領域
５５０ 眼鏡フレーム
７１０ レンズ
７１２ 円柱軸
７１５ 幾何学的中心
７２０ パターン
７２２、７２４ アパーチャ
７２５ 幾何学的中心
７２８ 軸
７３０ 領域
７４０ 縁
７９９ 最終形態
８１０ レンズ
８１２ 円柱軸
８１５ 幾何学的中心
８１８ 縁が真っ直ぐなセクション
８２０ パターン
８２２、８２４ アパーチャ
８２５ 幾何学的中心
８２８ 軸
８３０ 領域
９００ レンズ
９１０ 側
９２０ 輪郭
９３０ パターン
９４０ 側部
１０００ レンズ
１０１０ 第１のクリアアパーチャ
１０１１ 近見ゾーン
１０１２ 中間ゾーン
１０１３ 遠見ゾーン
１０１４、１０１５ 周辺歪ゾーン
１０２０ 第２のクリアアパーチャ
１０２２、１０２３、１０２４、１０２５ 点線
１０３０ 光散乱領域
１０３２ 軸
１０４０ 透明外側領域
１１００ レンズ
１１１０ 第１のクリアアパーチャ
１１２０ 第２のクリアアパーチャ
１１３０ 領域
１１３１ レンズレット
１１３２ 軸
１１４０ 透明領域
１１４２ 円柱軸
１２００ レンズ
１２１０ 第１のクリアアパーチャ
１２２０ 第２のクリアアパーチャ
１２３０ 光散乱領域
１２３２ 軸
１２３５ 散乱領域
１２４０ 透明外側領域
１３００ レンズ
１３１２ 円柱軸
１３２０ 頂部ゾーン
１３３０ 底部ゾーン
１４００ 露光システム
１４１０ 測定サブシステム
１４２０ レーザー露光サブシステム
１４３０ 剛体フレーム
１４６０ 電子コントローラ
１５００ コンピューティングデバイス
１５０２ プロセッサ
１５０４ メモリ
１５０６ ストレージデバイス
１５０８ 高速インターフェース
１５１２ 低速インターフェース
１５１４ 低速拡張ポート
１５２０ サーバ
１５２２ ラップトップコンピュータ
１５２４ ラックサーバシステム
１５５０ モバイルコンピューティングデバイス
１５５２ プロセッサ
１５５４ ディスプレイ
１５５６ ディスプレイインターフェース
１５５８ 制御インターフェース
１５６０ オーディオコーデック
１５６２ 外部インターフェース
１５６４ メモリ
１５６６ 通信インターフェース
１５６８ トランシーバ
１５７０ ＧＰＳ（全地球測位システム）受信機モジュール
１５７２ 拡張インターフェース
１５７４ 拡張メモリ
１５８０ 携帯電話
１５８２ スマートフォン
１００Ｃ レンズ
１００Ｄ レンズ
１００Ｅ レンズ
１００Ｆ 累進レンズ
１００Ｇ レンズ
１００Ｈ レンズ
１００Ｉ プラノレンズ
１００Ｊ 球面レンズ
１００Ｋ プラノレンズ
１００Ｌ 球面レンズ
１００Ｍ レンズ
１００Ｎ レンズ
１００Ｏ 球面レンズ
１００Ｐ 累進レンズ
１００Ｑ レンズ
１００Ｒ レンズ
１００Ｓ レンズ
１００Ｔ レンズ
１００Ｕ レンズ
１００Ｖ レンズ
１０１ ストック眼科用レンズ
１０１Ｇ 平坦な縁
１０１Ｒ 平坦な縁部
１０１Ｔ 平坦な縁部
１０２Ｅ 円柱軸
１０２Ｍ 円柱軸
１０２Ｖ 円柱軸
１０３Ｊ マーカー
１０３Ｋ マーカー
１０３Ｌ マーカー
１０５Ｃ 幾何学的中心
１０５Ｄ 幾何学的中心
１０５Ｅ 幾何学的中心
１０５Ｆ 幾何学的中心
１０５Ｇ 半径方向中心
１０５Ｈ 中心
１０５Ｉ 幾何学的中心
１０５Ｊ 幾何学的中心
１０５Ｋ 幾何学的中心
１０５Ｌ 幾何学的中心
１０５Ｍ 幾何学的中心
１０５Ｎ 幾何学的中心
１０５Ｏ 幾何学的中心
１０５Ｐ 幾何学的中心
１０５Ｒ 光心
１０５Ｔ 光心
１０５Ｕ 光心
１０５Ｖ 幾何学的中心
１１０ 測定サブシステム
１１０Ｃ 放射対称パターン
１１０Ｄ 放射対称パターン
１１０Ｅ 放射対称パターン
１１０Ｆ 放射対称パターン
１１０Ｇ 放射対称パターン
１１０Ｈ 放射対称パターン
１１０Ｉ パターン
１１０Ｊ パターン
１１０Ｋ パターン
１１０Ｌ パターン
１１０Ｍ パターン
１１０Ｎ パターン
１１０Ｏ パターン
１１０Ｐ 放射対称パターン
１１０Ｑ パターン
１１０Ｒ パターン
１１０Ｔ パターン
１１０Ｕ パターン
１１０Ｖ パターン
１１１Ｉ 点
１１１Ｊ 点
１１１Ｎ 点
１１１Ｏ 光心
１１１Ｐ 点
１１１Ｒ 点
１１１Ｖ 点
１１２ 光源
１１４ 光整形光学系
１１６ ビームスプリッタ
１１７ 集光光学系
１１８ イメージセンサー
１２０ レーザー露光サブシステム
１２０Ｑ 平行なライン
１２１Ｐ ゾーン
１２２ レーザー光源
１２２Ｐ ゾーン
１２４ ビームステアリングアセンブリ
１２６ 平行光学系
１２８ 集光光学系
１３０ リフレクタ
１４０ コンベヤベルト
１４２ ローラー
１５０ ステージ
１５２ アクチュエータ
１６０ 電子コントローラ
３０１ レンズ
３０２ レンズ軸
３１０ クリアアパーチャ
３２０ パターン
３４０ コンベヤベルト
３５０ ステージ
３５０ａ～３５０ｆ 基準マーカー
５００ 眼科用レンズ
５００ａ、５００ｂ レンズ
５０１ 眼鏡
５１０ 第１のクリアアパーチャ
５２０ 第２のクリアアパーチャ
５３０ 散乱領域
５４０ 透明領域
５５０ 眼鏡フレーム
７１０ レンズ
７１２ 円柱軸
７１５ 幾何学的中心
７２０ パターン
７２２、７２４ アパーチャ
７２５ 幾何学的中心
７２８ 軸
７３０ 領域
７４０ 縁
７９９ 最終形態
８１０ レンズ
８１２ 円柱軸
８１５ 幾何学的中心
８１８ 縁が真っ直ぐなセクション
８２０ パターン
８２２、８２４ アパーチャ
８２５ 幾何学的中心
８２８ 軸
８３０ 領域
９００ レンズ
９１０ 側
９２０ 輪郭
９３０ パターン
９４０ 側部
１０００ レンズ
１０１０ 第１のクリアアパーチャ
１０１１ 近見ゾーン
１０１２ 中間ゾーン
１０１３ 遠見ゾーン
１０１４、１０１５ 周辺歪ゾーン
１０２０ 第２のクリアアパーチャ
１０２２、１０２３、１０２４、１０２５ 点線
１０３０ 光散乱領域
１０３２ 軸
１０４０ 透明外側領域
１１００ レンズ
１１１０ 第１のクリアアパーチャ
１１２０ 第２のクリアアパーチャ
１１３０ 領域
１１３１ レンズレット
１１３２ 軸
１１４０ 透明領域
１１４２ 円柱軸
１２００ レンズ
１２１０ 第１のクリアアパーチャ
１２２０ 第２のクリアアパーチャ
１２３０ 光散乱領域
１２３２ 軸
１２３５ 散乱領域
１２４０ 透明外側領域
１３００ レンズ
１３１２ 円柱軸
１３２０ 頂部ゾーン
１３３０ 底部ゾーン
１４００ 露光システム
１４１０ 測定サブシステム
１４２０ レーザー露光サブシステム
１４３０ 剛体フレーム
１４６０ 電子コントローラ
１５００ コンピューティングデバイス
１５０２ プロセッサ
１５０４ メモリ
１５０６ ストレージデバイス
１５０８ 高速インターフェース
１５１２ 低速インターフェース
１５１４ 低速拡張ポート
１５２０ サーバ
１５２２ ラップトップコンピュータ
１５２４ ラックサーバシステム
１５５０ モバイルコンピューティングデバイス
１５５２ プロセッサ
１５５４ ディスプレイ
１５５６ ディスプレイインターフェース
１５５８ 制御インターフェース
１５６０ オーディオコーデック
１５６２ 外部インターフェース
１５６４ メモリ
１５６６ 通信インターフェース
１５６８ トランシーバ
１５７０ ＧＰＳ（全地球測位システム）受信機モジュール
１５７２ 拡張インターフェース
１５７４ 拡張メモリ
１５８０ 携帯電話
１５８２ スマートフォン
【図1】
【図2】
【図3A-3B】
【図3C】
【図3D】
【図3E】
【図3F】
【図3G】
【図3H】
【図3I】
【図3J】
【図3K】
【図3L】
【図3M】
【図3N】
【図3O】
【図3P】
【図3Q】
【図3R】
【図3S】
【図3T】
【図3U】
【図3V】
【図4】
【図5】
【図6A】
【図6B】
【図7A】
【図7B】
【図7C】
【図7D】
【図8A】
【図8B】
【図8C】
【図8D】
【図9A】
【図9B】
【図9C】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【国際調査報告】