特表 2025-506221 エレクトロクロミックメンブレン及び変色ガラス

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2025-03-07

(54)【発明の名称】エレクトロクロミックメンブレン及び変色ガラス

(51)【国際特許分類】

   G02F 1/153 20060101AFI20250228BHJP

   G02F 1/15 20190101ALI20250228BHJP

【ＦＩ】

G02F1/153

G02F1/15 502

G02F1/15

【審査請求】有

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2024548461

(86)(22)【出願日】2023-03-29

(85)【翻訳文提出日】2024-08-15

(86)【国際出願番号】 CN2023084715

(87)【国際公開番号】W WO2023241168

(87)【国際公開日】2023-12-21

(31)【優先権主張番号】202210685619.5

(32)【優先日】2022-06-16

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】523298889

【氏名又は名称】光▲ゲイ▼智能科技（蘇州）有限公司

(74)【代理人】

【識別番号】100108453

【弁理士】

【氏名又は名称】村山 靖彦

(74)【代理人】

【識別番号】100110364

【弁理士】

【氏名又は名称】実広 信哉

(74)【代理人】

【識別番号】100133400

【弁理士】

【氏名又は名称】阿部 達彦

(72)【発明者】

【氏名】王 巍舒

【テーマコード（参考）】

2K101

【Ｆターム（参考）】

2K101AA22

2K101EB04

2K101EB05

2K101EB51

2K101EE02

2K101EG41

2K101EJ02

2K101EK05

(57)【要約】

本願は、エレクトロクロミックメンブレン及び変色ガラスを提供し、エレクトロクロミック分野に属する。エレクトロクロミックメンブレンは、順に積層された第１の導電性基体、エレクトロクロミック層及び第２の導電性基体を含み、第１の導電性基体のエッジに第１の収容溝が設けられ、第２の導電性基体のエッジに第２の収容溝が設けられ、エレクトロクロミック層のエッジに少なくとも２つの第３の収容溝が設けられ、第１の収容溝と第３の収容溝とが連通して第１の凹溝を形成し、第２の収容溝と第３の収容溝とが連通して第２の凹溝を形成し、第１の凹溝の幅及び第２の凹溝の幅はいずれもａであり、任意の隣接する第１の凹溝と第２の凹溝とのエレクトロクロミック層が位置する平面における正投影の間の間隔はｂであり、ｂ≦ａである。第１の凹溝及び第２の凹溝によってエレクトロクロミックメンブレンのエッジに折り曲げの空間残量を提供することにより、エレクトロクロミックメンブレンのエッジにしわが発生することを大幅に低減又は回避し、エレクトロクロミックメンブレンの美観性を向上させ、ユーザの視覚体験を向上させる。

【特許請求の範囲】

【請求項1】

エレクトロクロミックメンブレンであって、
順に積層された第１の導電性基体、エレクトロクロミック層及び第２の導電性基体を含み、
前記第１の導電性基体のエッジに第１の収容溝が設けられ、前記第２の導電性基体のエッジに第２の収容溝が設けられ、前記エレクトロクロミック層のエッジに少なくとも２つの第３の収容溝が設けられ、
前記第１の収容溝の前記エレクトロクロミック層が位置する平面における正投影が少なくとも１つの前記第３の収容溝と重なり、且つ前記第１の収容溝と前記第３の収容溝とが連通して第１の凹溝を形成し、
前記第２の収容溝の前記エレクトロクロミック層が位置する平面における正投影が少なくとも１つの前記第３の収容溝と重なり、且つ前記第２の収容溝と前記第３の収容溝とが連通して第２の凹溝を形成し、
前記第１の凹溝と前記第２の凹溝は、前記エレクトロクロミックメンブレンのエッジに交互に設けられ、
前記第１の凹溝の幅と前記第２の凹溝の幅はいずれもａであり、任意の隣接する前記第１の凹溝と前記第２の凹溝の前記エレクトロクロミック層が位置する平面における正投影の間の間隔はｂであり、ｂ≦ａである、
ことを特徴とするエレクトロクロミックメンブレン。

【請求項2】

前記ｂの範囲は、ｂ≦３０ｍｍであることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロクロミックメンブレン。

【請求項3】

前記ｂの範囲は、ｂ≧１ｍｍであることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロクロミックメンブレン。

【請求項4】

前記ｂの範囲は、２ｍｍ≦ｂ≦１５ｍｍであることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロクロミックメンブレン。

【請求項5】

前記ａと前記ｂとの比がａ／ｂであり、５≦ａ／ｂであることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロクロミックメンブレン。

【請求項6】

前記ａと前記ｂとの比はａ／ｂであり、５≦ａ／ｂ≦５０であり、
好ましくは、前記ａと前記ｂとの和は、９０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７５０ｍｍの関係式を満たす、
ことを特徴とする請求項１に記載のエレクトロクロミックメンブレン。

【請求項7】

前記第１の導電性基体の厚さ及び前記第２の導電性基体の厚さは、いずれも１２０μｍ以上であることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロクロミックメンブレン。

【請求項8】

前記エレクトロクロミックメンブレンの第１の方向に沿う矢高がＨ_１であり、前記エレクトロクロミックメンブレンの第２の方向に沿う矢高がＨ_２であり、
前記Ｈ_１と前記Ｈ_２との積がＨ_１×Ｈ_２≦２５００ｍｍ^２の関係式を満たし、且つ前記第１の方向が前記第２の方向に垂直である、
ことを特徴とする請求項１に記載のエレクトロクロミックメンブレン。

【請求項9】

前記第１の凹溝の深さと前記第２の凹溝の深さはいずれもｈであり、０＜ｈ≦１００ｍｍであることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロクロミックメンブレン。

【請求項10】

ガラス層と、請求項１～９のいずれか一項に記載のエレクトロクロミックメンブレンとを含み、
前記エレクトロクロミックメンブレンは、少なくとも２層の前記ガラス層の間に積層される、
ことを特徴とする変色ガラス。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

（関連出願の相互参照）
本願は、２０２２年０６月１６日に中国特許庁で提出された、出願番号が２０２２１０６８５６１９．５であり、発明名称が「エレクトロクロミックメンブレン及び変色ガラス」である中国特許出願の優先権を要求し、その全ての内容は引用により本願に組み合わせられる。

【0002】

本願はエレクトロクロミック分野に関し、特にエレクトロクロミックメンブレン及び変色ガラスに関する。

【背景技術】

【0003】

エレクトロクロミックとは、材料の光学特性（反射率、透過率、吸収率など）が、印加電界によって安定、可逆的な色変化を起こす現象であり、外観上、色と透明度の可逆的な変化として現れる。

【0004】

エレクトロクロミックは、ディスプレイ、大型ポスターや情報板等の掲示用装置、スマートウィンドウ、建築用窓ガラス、自動車ミラー、フレキシブルディスプレイ、自動車用サンルーフ、スポーツグラス等の光透過率又は反射率の調節に広く用いられており、最近では可視光領域での変色に加えて赤外線遮蔽効果を有することが見出されたことに伴い、エネルギー節約型製品としての応用が注目されている。

【0005】

従来のエレクトロクロミックメンブレンは、曲面などのシーンの使用ニーズに合わせるように湾曲することができる。しかし、いくつかの応用シーンにおいて、例えば車両のルーフガラスにおいて、エレクトロクロミックメンブレンの片面が湾曲する必要があるだけでなく、両面又は多面が湾曲する必要もあり、これによりエレクトロクロミックメンブレンにしわが発生しやすく、特にエレクトロクロミックメンブレンのエッジにしわが多く発生しやすく、外観においてユーザに受け入れられにくいだけでなく、ユーザの視覚上の体験が悪くなる。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

これに鑑みて、本願の目的は、従来技術における欠点を克服するために、エレクトロクロミックメンブレン及び変色ガラスを提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本願の1つの態様は、順に積層された第１の導電性基体、エレクトロクロミック層及び第２の導電性基体を含み、前記第１の導電性基体のエッジに第１の収容溝が設けられ、前記第２の導電性基体のエッジに第２の収容溝が設けられ、前記エレクトロクロミック層のエッジに少なくとも２つの第３の収容溝が設けられ、前記第１の収容溝の前記エレクトロクロミック層が位置する平面における正投影が少なくとも１つの前記第３の収容溝と重なり、且つ前記第１の収容溝と前記第３の収容溝とが連通して第１の凹溝を形成し、前記第２の収容溝の前記エレクトロクロミック層が位置する平面における正投影が少なくとも１つの前記第３の収容溝と重なり、且つ前記第２の収容溝と前記第３の収容溝とが連通して第２の凹溝を形成し、前記第１の凹溝と前記第２の凹溝とが前記エレクトロクロミックメンブレンのエッジに交互に設けられ、前記第１の凹溝の幅及び前記第２の凹溝の幅がいずれもａであり、任意の隣接する前記第１の凹溝と前記第２の凹溝との前記エレクトロクロミック層が位置する平面における正投影の間の間隔がｂであり、ここで、ｂ≦ａであるエレクトロクロミックメンブレンを提供する。

【0008】

本願の1つの態様において、凹溝の幅をａとし、凹溝間の間隔をｂとし、凹溝の幅ａを増加させるか又は凹溝の間隔の幅ｂを減少させることにより、凹溝の幅を間隔の幅よりも大きくし、即ち、ａ≧ｂとすることにより、エレクトロクロミックメンブレンの折り曲げ過程において、幅が大きい凹溝によって折り曲げに必要な十分な空間残量を提供することができ、又は、小さい凹溝の間隔によって凹溝の間隔領域のしわの発生量を減少させることにより、エレクトロクロミックメンブレンにおけるしわの発生、特にエレクトロクロミックメンブレンのエッジにおけるしわの発生を減少又は回避し、エレクトロクロミックメンブレンの美観を向上させる。

【0009】

好ましくは、前記ｂの範囲は、ｂ≦３０ｍｍであり、好ましくは、前記ｂの範囲は、ｂ≧１ｍｍであり、さらに、前記ｂの範囲は、２ｍｍ≦ｂ≦１５ｍｍである。通常、凹溝の間隔領域は、エレクトロクロミックメンブレンの導電性基体、エレクトロクロミック層などの切断されていない領域であり、これらの領域にしわが発生する確率がより大きく、且つしわの程度がより深刻であり、凹溝の間隔ｂの値が大きすぎると、エレクトロクロミックメンブレンのしわがより顕著に又は深刻になり、凹溝の領域は、対応して導電性基体の導電性表面を露出し、例えば、第１の凹溝は第２の導電性基体の導電性表面を露出することができ、第２の凹溝は第１の導電性基体の導電性表面を露出することができるため、凹溝間の間隔ｂの値が小さすぎると、両側の導電性表面の電気的接続を引き起こしやすく、短絡を形成する。これにより、凹溝の間隔ｂの範囲を限定することにより、しわを効果的に減少又は回避することができ、エレクトロクロミックメンブレンが短絡することをさらに回避し、メンブレンの美観性又は使用安全性及び信頼性を向上させることができる。

【0010】

好ましくは、前記ａと前記ｂとの比はａ／ｂであり、ここで、５≦ａ／ｂであり、好ましくは、前記ａと前記ｂとの比はａ／ｂであり、ここで、５≦ａ／ｂ≦５０であり、さらに、前記ａと前記ｂとの和は、９０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７５０ｍｍの関係式を満たす。この場合、凹溝の幅ａをさらに大きくし、又は凹溝の間隔ｂをさらに小さくすることにより、しわ緩和の効果をさらに向上させ、又はしわの発生量をさらに減少させ、エレクトロクロミックメンブレンにおけるしわの発生をさらに低減又は回避し、異なる応用シーンにおけるエレクトロクロミックメンブレンのしわの程度に対する要求を満たし、エレクトロクロミックメンブレンの美観をさらに向上させることができる。

【0011】

好ましくは、前記第１の導電性基体の厚さ及び前記第２の導電性基体の厚さはいずれも１２０μｍ以上であり、さらに、前記第１の導電性基体の厚さ及び前記第２の導電性基体の厚さはいずれも１５０μｍ以上である。これにより、導電性基体の厚さ値が特定の大きさを満たすことにより、エレクトロクロミックメンブレンに対するしわ緩和効果をさらに向上させ、エレクトロクロミックメンブレンの美観をさらに向上させることができる。

【0012】

好ましくは、前記エレクトロクロミックメンブレンの第１の方向に沿う矢高はＨ_１であり、前記エレクトロクロミックメンブレンの第２の方向に沿う矢高はＨ_２であり、前記Ｈ_１と前記Ｈ_２との積はＨ_１×Ｈ_２≦２５００ｍｍ^２の関係式を満たし、好ましくは、前記第１の方向は前記第２の方向に垂直である。いくつかの応用シーンにおいて、エレクトロクロミックメンブレンに複数の方向の湾曲が発生する可能性があり、例えば、２つの方向の湾曲によりエレクトロクロミックメンブレンが双曲面構造を形成し、例えば、第１の方向に沿って湾曲して矢高Ｈ_１を形成し、第２の方向に沿って湾曲して矢高Ｈ_２を形成し、２つの方向の矢高の積が特定の範囲内にあることを限定することにより、特に、２つの方向が互いに垂直であることをさらに限定する場合に、しわ緩和の効果をさらに向上させ、エレクトロクロミックメンブレンの美観をさらに向上させることができる。

【0013】

好ましくは、前記第１の凹溝の深さと前記第二凹溝の深さはいずれもｈであり、０＜ｈ≦１００ｍｍであり、好ましくは、前記ｈの範囲は２０ｍｍ≦ｈ≦８０ｍｍである。通常、凹溝の深さが小さすぎて、その露出した導電性基体の導電表面が少なく、導電性基体における導電性引出に不利であり、凹溝の深さが大きすぎて、切断除去されたエレクトロクロミック層が広いほど、エレクトロクロミックメンブレンの変色領域が狭くなり、従って、凹溝の深さを一定の範囲内に限定することにより、導電性引出に便利な十分な導電表面を確保できるだけでなく、エレクトロクロミックメンブレンが十分に広い変色領域を有することを確保でき、フィルムの実用面積を向上させる。

【0014】

本発明の別の態様は、ガラス層と上記のエレクトロクロミックメンブレンとを含み、前記エレクトロクロミックメンブレンが少なくとも２層の前記ガラス層の間に積層される変色ガラスをさらに提供する。これにより、エレクトロクロミックメンブレンをガラス層の間に積層することにより、ガラス層がエレクトロクロミックメンブレンに対して良好な挟持作用を果たすことができ、エレクトロクロミックメンブレンのしわの発生をさらに防止又は低減することができ、それにより、変色ガラス全体の美観を向上させる。

【発明の効果】

【0015】

本願の技術案は、第１の凹溝及び第２の凹溝の幅及び隣接する第１の凹溝と第２の凹溝との間の間隔を調整することにより、第１の凹溝及び第２の凹溝によりエレクトロクロミックメンブレンのエッジに折り曲げの空間残量を提供し、エレクトロクロミックメンブレンのエッジにしわが発生することを大幅に低減又は回避し、エレクトロクロミックメンブレンの美観性を向上させ、ユーザの視覚体験を向上させるという利点を有する。

【0016】

本願の上記目的、特徴及び利点をより明らかにして分かりやすくするために、以下、好ましい実施例を挙げて、添付の図面に合わせて詳細に説明する。

【0017】

本願の実施例の技術案をより明確に説明するために、以下では、実施例において使用される必要がある図面を簡単に説明し、理解されるべきであるように、以下の図面は、本願のいくつかの実施例のみを示し、したがって、範囲を限定するものとみなされるべきではなく、当業者にとって、創造的な労力なしに、これらの図面に従って他の関連する図面を取得することもできる。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1】本願のいくつかの実施例に係るエレクトロクロミックメンブレンのある視野角での構造模式図である。

【図2】本願のいくつかの実施例に係るエレクトロクロミックメンブレンの別の視角での構造模式図である。

【図3】本願のいくつかの実施例に係るエレクトロクロミックメンブレンにおけるエレクトロクロミック層のある視野角での構造模式図である。

【図4】本願のいくつかの実施例に係るエレクトロクロミックメンブレンにおける第１の導電性基体のある視野角での構造模式図である。

【図5】本願のいくつかの実施例に係るエレクトロクロミックメンブレンにおける第２の導電性基体のある視野角での構造模式図である。

【図6】本願のいくつかの実施例に係るエレクトロクロミックメンブレンの他の構造のある視野角での構造模式図である。

【図7】図６のＡ―Ａ部の断面図である。

【図8】図７のＢ部の拡大図である。

【発明を実施するための形態】

【0019】

以下、本願の実施例を詳細に説明するが、前記実施例の例は図面に示されており、終始同じ又は類似の符号は同じ又は類似の素子又は同じ又は類似の機能を有する素子を示す。以下、図面を参照して説明する実施例は例示的なものであり、本願を説明するためのものに過ぎず、本願を限定するものとして理解することはできない。

【0020】

なお、素子が他の素子に「固定されている」と呼ばれる場合、他の素子に直接固定されてもよく、又は介在素子が存在してもよい。一方の素子が他方の素子に「接続」されていると見なされる場合、他方の素子に直接接続されてもよく、又は介在素子が同時に存在してもよい。逆に、素子が他の素子に「直接」固定又は接続されていると呼ばれる場合、中間素子は存在しない。本明細書で使用される用語「垂直」、「水平」、「左」、「右」及び類似の表現は、説明のためのものに過ぎない。

【0021】

本願において、特に明確な規定及び限定がない限り、用語「取り付け」、「連接」、「接続」、「固定」などの用語は広義に理解されるべきであり、例えば、固定接続であってもよく、取り外し可能な接続であってもよく、又は一体になってもよく、機械的接続であってもよく、電気的接続であってもよく、直接接続であってもよく、中間媒体を介して間接的に接続されてもよく、２つの素子の内部の連通又は２つの素子の相互作用関係であってもよい。当業者にとって、具体的な状況に応じて上記用語の本願における具体的な意味を理解することができる。

【0022】

また、用語「第１」、「第２」は、説明のためのものに過ぎず、相対的な重要性を示したり暗示したり、示された技術的特徴の数を暗黙的に示したりするものとして理解されるべきではない。これにより、「第１」、「第２」に限定された特徴は、１つ又は複数の該特徴を明示的又は暗示的に含むことができる。本願の説明において、「複数」は、別途明確に限定されない限り、２つ又は２つ以上を意味する。

【0023】

別途定義されない限り、本明細書において使用されるすべての技術および科学用語は、当業者によって通常理解される意味と同じである。本明細書でテンプレートの明細書で使用される用語は、具体的な実施例を説明するためのものに過ぎず、本願を限定することを意図するものではない。本明細書で使用される用語「及び／又は」は、１つ又は複数の関連する項目の任意の組み合わせ及び全ての組み合わせを含む。

【0024】

図１～図５に示すように、本願のいくつかの実施例はエレクトロクロミックメンブレンを提供し、主にエレクトロクロミック分野に適用され、例えば建築窓、自動車の窓及び飛行機の窓などに適用される。エレクトロクロミックメンブレン１００は、順に積層された第１の導電性基体１１０、エレクトロクロミック層１２０及び第２の導電性基体１３０を含む。

【0025】

ここで、第１の導電性基体１１０及び第２の導電性基体１３０は、いずれも前記エレクトロクロミック層１２０を完全に覆う。

【0026】

また、前記第１の導電性基体１１０は、積層された第１の基体層１１２及び第１の導電層１１３を含み、前記第１の導電層１１３は、前記第１の基体層１１２と前記エレクトロクロミック層１２０との間に積層される。ここで、第１の導電層１１３は、エレクトロクロミック層１２０を完全に覆う。

【0027】

同時に、前記第２の導電性基体１３０は、積層された第２の基体層１３２及び第２の導電層１３３を含み、前記第２の導電層１３３は、前記第２の基体層１３２と前記エレクトロクロミック層１２０との間に積層される。ここで、第２の導電層１３３は、エレクトロクロミック層１２０を完全に覆う。

【0028】

なお、第１の導電層１１３及び第２の導電層１３３は、それぞれ外部電源に接続するために用いられる。第１の導電層１１３と第２の導電層１３３とをそれぞれ外部電源に接続することにより、第１の導電層１１３と第２の導電層１３３との間に印加電界を形成し、エレクトロクロミック層１２０が印加電界によって安定、可逆的な色変化を起こす。

【0029】

具体的には、前記第１の導電性基体１１０のエッジに第１の収容溝１１１が設けられ、前記第２の導電性基体１３０のエッジに第２の収容溝１３１が設けられ、前記エレクトロクロミック層１２０のエッジに少なくとも２つの第３の収容溝１２１が設けられる。

【0030】

なお、第１の収容溝１１１及び第２の収容溝１３１は、いずれも１つ、２つ又は２つ以上の任意の数値の数であってもよく、実際の状況に応じて具体的に設定することができ、且つ第３の収容溝１２１の数は、２つ又は２つ以上の任意の数値の数であってもよい。

【0031】

ここで、第１の収容溝１１１は、第１の導電性基体１１０の任意の側に設けられてもよい。好ましくは、第１の収容溝１１１は、第１の導電性基体１１０の少なくとも両側に設けられ、即ち、第１の収容溝１１１は、第１の導電性基体１１０の任意の両側に設けられてもよい。好ましくは、第１の収容溝１１１は、第１の導電性基体１１０のエッジの各側に設けられる。また、第２の収容溝１３１は、第２の導電性基体１３０の任意の側に設けられてもよい。好ましくは、第２の収容溝１３１は、第２の導電性基体１３０の少なくとも両側に設けられ、即ち、第２の収容溝１３１は、第２の導電性基体１３０の任意の両側に設けられてもよい。好ましくは、第２の収容溝１３１は、第２の導電性基体１３０のエッジの各側に設けられる。

【0032】

図３～図５に示すように、本実施例において、前記第１の収容溝１１１の数と第２の収容溝１３１の数との和は、第３の収容溝１２１の数と等しい。

【0033】

なお、前記エレクトロクロミック層１２０が位置する平面における前記第１の収容溝１１１の正投影は、少なくとも１つの前記第３の収容溝１２１と重なり、且つ前記第１の収容溝１１１と前記第３の収容溝１２１とが連通して第１の凹溝を形成する。本実施例では、１つの第１の収容溝１１１と１つの第３の収容溝１２１とが連通して１つの第１の凹溝１４０を形成する。

【0034】

同時に、前記エレクトロクロミック層１２０が位置する平面における前記第２の収容溝１３１の正投影が少なくとも１つの前記第３の収容溝１２１と重なり、且つ前記第２の収容溝１３１と前記第３の収容溝１２１とが連通して第２の凹溝１５０を形成する。本実施例では、１つの第２の収容溝１３１と１つの第３の収容溝１２１とが連通して１つの第２の凹溝１５０を形成する。

【0035】

具体的には、前記第１の凹溝１４０と前記第２の凹溝１５０は、前記エレクトロクロミックメンブレン１００のエッジに交互に設置される。

【0036】

好ましくは、図１及び図２に示すように、本願のいくつかの実施例において、第１の凹溝１４０及び第２の凹溝１５０はそれぞれ複数であり、エレクトロクロミックメンブレン１００のエッジの各側に少なくとも１つの第１の凹溝１４０及び少なくとも１つの第２の凹溝１５０が設けられる。具体的には、エレクトロクロミック層１２０が位置する平面における第１の凹溝１４０と第２の凹溝１５０の正投影は互いに離間し、即ち、第１の凹溝１４０と第２の凹溝１５０はエレクトロクロミックメンブレン１００のエッジにおいて互いに交差する凹溝構造を形成する。

【0037】

ここで、前記第１の凹溝１４０の幅と前記第２の凹溝１５０の幅はいずれもａである。

【0038】

なお、第１の凹溝１４０の幅とは、エレクトロクロミックメンブレン１００の厚さに垂直な方向において、エレクトロクロミックメンブレン１００のエッジの一側に平行であり、当該側に位置する第１の凹溝１４０の長さである。

【0039】

第２の凹溝１５０の幅とは、エレクトロクロミックメンブレン１００の厚さに垂直な方向において、エレクトロクロミックメンブレン１００のエッジの一側に平行であり、当該側に位置する第２の凹溝１５０の長さである。

【0040】

任意の隣接する前記第１の凹溝１４０と前記第２の凹溝１５０との、前記エレクトロクロミック層１２０が位置する平面における正投影の間の間隔はｂであり、ｂ≦ａである。

【0041】

凹溝の幅をａとし、凹溝間の間隔をｂとし、凹溝の幅ａを増加させるか、又は凹溝の間隔の幅ｂを減少させることにより、凹溝の幅を間隔の幅よりも大きくする、即ちａ≧ｂとすることにより、エレクトロクロミックメンブレンの折り曲げ過程において、幅が大きい凹溝により折り曲げに必要な十分な空間残量を提供し、又は小さい凹溝の間隔により凹溝の間隔の領域におけるしわの発生量を減少させ、エレクトロクロミックメンブレンにおけるしわの発生、特にエレクトロクロミックメンブレンのエッジにおけるしわの発生を減少又は回避することができ、エレクトロクロミックメンブレンの美観を向上させることが理解できる。

【0042】

本願のいくつかの実施例において、前記ｂの範囲は、ｂ≦３０ｍｍである。

【0043】

なお、隣接する第１の凹溝１４０と第２の凹溝１５０との間の間隔はｂ＞０である。

【0044】

ここで、ｂの範囲は、０＜ｂ≦３０ｍｍ、０＜ｂ≦２５ｍｍ、０＜ｂ≦２０ｍｍ、０＜ｂ≦１５ｍｍ、０＜ｂ≦１０ｍｍ、０＜ｂ≦５ｍｍ、５≦ｂ≦３０ｍｍ、５≦ｂ≦２５ｍｍ、５≦ｂ≦２０ｍｍ、５≦ｂ≦１５ｍｍ、５≦ｂ≦１０ｍｍ、１０≦ｂ≦３０ｍｍ、１０≦ｂ≦２５ｍｍ、１０≦ｂ≦２０ｍｍ、１０≦ｂ≦１５ｍｍ、１５≦ｂ≦３０ｍｍ、１５≦ｂ≦２５ｍｍ、１５≦ｂ≦２０ｍｍ、２０≦ｂ≦３０ｍｍ、２０≦ｂ≦２５ｍｍ又は２５≦ｂ≦３０ｍｍのいずれかであってもよい。

【0045】

本願のいくつかの実施例において、前記ｂの範囲は、ｂ≧１ｍｍである。隣接する第１の凹溝１４０と第２の凹溝１５０との間の間隔ｂは、１より大きい任意の値であり得ることが理解できる。

【0046】

好ましくは、本願のいくつかの実施例において、前記ｂの範囲は、２ｍｍ≦ｂ≦１５ｍｍである。

【0047】

ここで、ｂの範囲は、２ｍｍ≦ｂ≦１５ｍｍ、３ｍｍ≦ｂ≦１５ｍｍ、４ｍｍ≦ｂ≦１５ｍｍ、５ｍｍ≦ｂ≦１５ｍｍ、６ｍｍ≦ｂ≦１５ｍｍ、７ｍｍ≦ｂ≦１５ｍｍ、８ｍｍ≦ｂ≦１５ｍｍ、９ｍｍ≦ｂ≦１５ｍｍ、１０ｍｍ≦ｂ≦１５ｍｍ、１１ｍｍ≦ｂ≦１５ｍｍ、１２ｍｍ≦ｂ≦１５ｍｍ、１３ｍｍ≦ｂ≦１５ｍｍ、１４ｍｍ≦ｂ≦１５ｍｍ、２ｍｍ≦ｂ≦１４ｍｍ、２ｍｍ≦ｂ≦１３ｍｍ、２ｍｍ≦ｂ≦１２ｍｍ、２ｍｍ≦ｂ≦１１ｍｍ、２ｍｍ≦ｂ≦１０ｍｍ、２ｍｍ≦ｂ≦９ｍｍ、２ｍｍ≦ｂ≦８ｍｍ、２ｍｍ≦ｂ≦７ｍｍ、２ｍｍ≦ｂ≦６ｍｍ、２ｍｍ≦ｂ≦５ｍｍ、２ｍｍ≦ｂ≦４ｍｍ、２ｍｍ≦ｂ≦３ｍｍ、３ｍｍ≦ｂ≦１４ｍｍ、５ｍｍ≦ｂ≦１３ｍｍ、６ｍｍ≦ｂ≦１２ｍｍ、７ｍｍ≦ｂ≦１１ｍｍ又は８ｍｍ≦ｂ≦１０ｍｍのいずれかであってもよい。

【0048】

好ましくは、本願のいくつかの実施例において、前記ａと前記ｂとの比はａ／ｂであり、５≦ａ／ｂである。なお、前記ａと前記ｂとの比ａ／ｂは、５以上の任意の数値であってもよく、実際の状況に応じて具体的に設定されてもよい。

【0049】

具体的には、第１の凹溝１４０及び第２の凹溝１５０の幅ａと、隣接する第１の凹溝１４０と第２の凹溝１５０との間の間隔ｂとの比を増加させることにより、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さを改善する。

【0050】

好ましくは、本願のいくつかの実施例において、前記ａと前記ｂとの比はａ／ｂであり、５≦ａ／ｂ≦５０である。

【0051】

なお、前記ａと前記ｂとの比ａ／ｂの範囲は、５≦ａ／ｂ≦５０、５≦ａ／ｂ≦４５、５≦ａ／ｂ≦４０、５≦ａ／ｂ≦３５、５≦ａ／ｂ≦３０、５≦ａ／ｂ≦２５、５≦ａ／ｂ≦２０、５≦ａ／ｂ≦１５、５≦ａ／ｂ≦１０、１０≦ａ／ｂ≦５０、１０≦ａ／ｂ≦４５、１０≦ａ／ｂ≦４０、１０≦ａ／ｂ≦３５、１０≦ａ／ｂ≦３０、１０≦ａ／ｂ≦２５、１０≦ａ／ｂ≦２０、１０≦ａ／ｂ≦１５、１５≦ａ／ｂ≦５０、１５≦ａ／ｂ≦４５、１５≦ａ／ｂ≦４０、１５≦ａ／ｂ≦３５、１５≦ａ／ｂ≦３０、１５≦ａ／ｂ≦２５、１５≦ａ／ｂ≦２０、２０≦ａ／ｂ≦５０、２０≦ａ／ｂ≦４５、２０≦ａ／ｂ≦４０、２０≦ａ／ｂ≦３５、２０≦ａ／ｂ≦３０、２０≦ａ／ｂ≦２５、２５≦ａ／ｂ≦５０、２５≦ａ／ｂ≦４５、２５≦ａ／ｂ≦４０、２５≦ａ／ｂ≦３５、２５≦ａ／ｂ≦３０、３０≦ａ／ｂ≦５０、３０≦ａ／ｂ≦４５、３０≦ａ／ｂ≦４０、３０≦ａ／ｂ≦３５、３５≦ａ／ｂ≦５０、３５≦ａ／ｂ≦４５、３５≦ａ／ｂ≦４０、４０≦ａ／ｂ≦５０、４０≦ａ／ｂ≦４５又は４５≦ａ／ｂ≦５０のいずれかでもよい。

【0052】

好ましくは、前記ａと前記ｂとの和は、９０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７５０ｍｍの関係式を満たす。ここで、ａ＋ｂの範囲は、９０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７５０ｍｍ、１００ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７５０ｍｍ、１５０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７５０ｍｍ、１５０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７００ｍｍ、１５０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦６５０ｍｍ、１５０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦６００ｍｍ、１５０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦５５０ｍｍ、１５０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦５００ｍｍ、１５０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦４５０ｍｍ、１５０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦４００ｍｍ、１５０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦３５０ｍｍ、１５０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦３００ｍｍ、１５０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦２５０ｍｍ、１５０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦２００ｍｍ、２００ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７５０ｍｍ、２００ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７００ｍｍ、２００ｍｍ≦ａ＋ｂ≦６５０ｍｍ、２００ｍｍ≦ａ＋ｂ≦６００ｍｍ、２００ｍｍ≦ａ＋ｂ≦５５０ｍｍ、２００ｍｍ≦ａ＋ｂ≦５００ｍｍ、２００ｍｍ≦ａ＋ｂ≦４５０ｍｍ、２００ｍｍ≦ａ＋ｂ≦４００ｍｍ、２００ｍｍ≦ａ＋ｂ≦３５０ｍｍ、２００ｍｍ≦ａ＋ｂ≦３００ｍｍ、２００ｍｍ≦ａ＋ｂ≦２５０ｍｍ、２５０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７５０ｍｍ、３００ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７５０ｍｍ、３５０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７５０ｍｍ、４００ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７５０ｍｍ、４５０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７５０ｍｍ、５００ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７５０ｍｍ、５５０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７５０ｍｍ、６００ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７５０ｍｍ、６５０ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７５０ｍｍ又は７００ｍｍ≦ａ＋ｂ≦７５０ｍｍのいずれかでもよい。

【0053】

なお、本実施例において、ａ／ｂの範囲は、上記範囲のいずれか１つであってもよく、ａ＋ｂの範囲は、上記範囲のいずれか１つであってもよい。

【0054】

【表1】

【0055】

なお、表１において、第１の導電性基体の厚さ及び第２の導電性基体の厚さはいずれも１８８μｍである。

【0056】

表１の比較例は、ｂ＞ａかつｂ＞３０の場合のエレクトロクロミックメンブレン１００のエッジのしわの変化を示す。

【0057】

具体的には、表１の比較例において、ａ＝５０ｍｍの場合、ｂの値が８０から６０に減少する過程において、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さの値も徐々に減少する。第１の凹溝１４０及び第２の凹溝１５０の幅が変化しない場合、隣接する第１の凹溝１４０と第２の凹溝１５０との間の間隔が徐々に小さくなるにつれて、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さが徐々に小さくなることが理解できる。

【0058】

なお、表１の比較例において、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さはｂの減少に伴って減少するが、しわ深さは４８ｍｍ以上であり、依然として大きい値にある、即ち、比較例において、隣接する第１の凹溝１４０と第２の凹溝１５０との間の間隔ｂを調整することによる、エレクトロクロミックメンブレン１００のエッジのしわ深さに対する改善効果は大きくない。

【0059】

また、表１の実施例において、ｂ≦ａ、かつ、１≦ｂ≦３０の場合に、エレクトロクロミックメンブレン１００のエッジのしわが変化する様子を示している。

【0060】

具体的には、表１の実施例において、ａ＝８８の場合、ｂの値が３０から５に減少する過程において、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さの値は４０ｍｍから１９ｍｍに徐々に減少する。なお、表１の実施例において、ｂの変化に伴い、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さの値はいずれも比較例におけるエレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さより小さく、即ち、表１の実施例において、ａ＝８８の場合、ｂの値を小さくすることにより、エレクトロクロミックメンブレンのしわ深さを顕著に改善することができる。

【0061】

また、表１の実施例において、ｂを８から５に減少させると、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さの変化は２１ｍｍから１９ｍｍに減少した。この時、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さの変化が小さい、即ち、ｂが８以下である場合、ｂ値の減少に伴う、エレクトロクロミックメンブレンのしわ深さに対する改善効果は明らかではないことが理解できる。

【0062】

したがって、表１から分かるように、本実施例において、ａ＝８８であり、５≦ｂ≦８であるとき、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さに対する改善効果が最も高い。即ち、第１の導電性基体１１０の厚さ及び第２の導電性基体１３０の厚さがいずれも１８８μｍであり、且つａ＝８８であり、５≦ｂ≦８であるとき、エレクトロクロミックメンブレンのしわ深さに対する改善が最も良好である。

【0063】

好ましくは、本願のいくつかの実施例において、第１の導電性基体１１０の厚さ及び第２の導電性基体１３０の厚さはいずれも１８８μｍであり、ｂ＝８ｍｍ且つａ＝８８ｍｍであり、この時、エレクトロクロミックメンブレンのしわに対する改善は最も良好である。

【0064】

【表2】

なお、表２において、第１の凹溝１４０の幅と第２の凹溝１５０の幅はいずれも８８ｍｍであり、即ちａ＝８８ｍｍであり、隣接する第１の凹溝１４０と第２の凹溝１５０の間隔は８ｍｍであり、即ちｂ＝８ｍｍである。

【0065】

表２における比較例は、第１の導電性基体１１０の厚さ及び第２の導電性基体１３０の厚さがいずれも徐々に増加する場合のエレクトロクロミックメンブレン１００のエッジのしわ深さの変化状況を示す。

【0066】

具体的には、第１の導電性基体１１０の厚さ及び第２の導電性基体１３０の厚さがいずれも６０μｍから１００μｍに徐々に増加する場合、エレクトロクロミックメンブレン１００のエッジのしわ深さは１３０ｍｍから１２０ｍｍに減少する。厚さの変化量がしわ深さの変化量よりも大きく、この場合、第１の導電性基体１１０の厚さ及び第２の導電性基体１３０の厚さの変化によるエレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さの改善が小さいことが理解できる。

【0067】

表２の実施例に示すように、第１の導電性基体１１０の厚さ及び第２の導電性基体１３０の厚さが１２５μｍから１８８μｍに徐々に増加する場合、エレクトロクロミックメンブレン１００のエッジのしわ深さは１１０ｍｍから２１ｍｍに減少する。エレクトロクロミックメンブレン１００の厚さの変化量は６３μｍであり、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さの変化量は約８９ｍｍであり、エレクトロクロミックメンブレン１００の厚さの変化量としわ深さの変化量との比は約０．７であり、且つ１より小さい、即ち、エレクトロクロミックメンブレンの厚さを増加させることにより、そのしわを顕著に改善することができる。

【0068】

同時に、表２の実施例におけるエレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さは、いずれも表２の比較例のエレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さよりも小さい。第１の導電性基体１１０及び第２の導電性基体１３０の厚さが徐々に増加するにつれて、エレクトロクロミックメンブレンのしわ深さが小さくなり、非常に顕著な改善を有することが理解できる。

【0069】

また、表２の実施例に示すように、第１の導電性基体１１０の厚さ及び第２の導電性基体１３０の厚さを１８８μｍから４００μｍまで徐々に増加させた場合、エレクトロクロミックメンブレンのしわ深さは２１ｍｍから１５ｍｍ未満に減少した。なお、エレクトロクロミックメンブレン１００の厚さ変化量は２１２μｍであり、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さ変化量は約６ｍｍであり、エレクトロクロミックメンブレン１００の厚さ変化量としわ深さ変化量との比は約３５であり、１より遥かに大きい。このとき、エレクトロクロミックメンブレン１００の厚さ変化によるしわの改善効果は非常に小さい。

【0070】

第１の導電性基体１１０の厚さ及び第２の導電性基体１３０の厚さがそれぞれ１８８μｍに達する場合、その厚さを増加させ続けることによるエレクトロクロミックメンブレンのしわ深さに対する顕著な改善がないことが理解できる。

【0071】

従って、表２から分かるように、ａ＝８８ｍｍ、ｂ＝８ｍｍであり、且つ第１の導電性基体１１０の厚さ及び第２の導電性基体１３０の厚さがそれぞれ１８８μｍである場合、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さに対する改善効果が最も高い。

【0072】

好ましくは、本願のいくつかの実施例において、前記第１の導電性基体１１０の厚さ及び前記第２の導電性基体１３０の厚さはいずれも１２０μｍ以上である。理解できるように、第１の導電性基体１１０の厚さ及び第２の導電性基体１３０の厚さは、いずれも１２０μｍ以上の任意の数値であってもよく、実際の状況に応じて具体的に設定されてもよい。

【0073】

具体的には、上記の表２から分かるように、第１の導電性基体１１０の厚さ及び第２の導電性基体１３０の厚さがいずれも１２０μｍ～１５０μｍである場合、厚さの増加に伴って、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さは徐々に減少するが、そのしわ深さはいずれも６０ｍｍ以上であり、依然としてしわの値は大きい。この厚さ区間において、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さが改善されたことが理解できる。

【0074】

より好ましくは、本願のいくつかの実施例において、第１の導電性基体１１０の厚さおよび第２の導電性基体１３０の厚さは、いずれも１５０μｍ以上である。第１の導電性基体１１０の厚さ及び第２の導電性基体１３０の厚さは、いずれも１５０μｍ以上の任意の数値であってもよく、実際の状況に応じて具体的に設定されてもよい。

【0075】

上記の表２から分かるように、第１の導電性基体１１０の厚さ及び第２の導電性基体１３０の厚さがいずれも１５０μｍ～１８８μｍである場合、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さは６０から１９に減少し、厚さの変化量が３８であることに伴い、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さの変化量は４１であり、厚さの変化量としわ深さの変化量との比は約０．９２６であり、１より小さい。第１の導電性基体１１０及び第２の導電性基体１３０がこの厚さ区間にある場合、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さは徐々に減少し、１９ｍｍまで徐々に減少し、この場合、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さは小さい値まで減少することが理解できる。この厚さ区間において、エレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さがさらに改善されたことが理解できる。

【0076】

本願のいくつかの実施例において、前記エレクトロクロミックメンブレン１００の第１の方向に沿う矢高はＨ_１であり、前記エレクトロクロミックメンブレン１００の第２の方向に沿う矢高はＨ_２である。ここで、前記Ｈ_１と前記Ｈ_２との積がＨ_１×Ｈ_２≦２５００ｍｍ^２という関係式を満たす。

【0077】

具体的には、矢高Ｈ_１は、長さが１メートルのエレクトロクロミックメンブレン１００の第１の方向に沿う湾曲高さを指し、矢高Ｈ_２は、長さが１メートルのエレクトロクロミックメンブレン１００の第２の方向に沿う湾曲高さを指す。

【0078】

ここで、前記第１の方向は、前記第２の方向に垂直である。また、第１の方向及び第２の方向は、それぞれエレクトロクロミックメンブレン１００の厚さ方向に垂直である。

【0079】

なお、Ｈ_１×Ｈ_２≦２５００ｍｍ^２は、エレクトロクロミックメンブレン１００における各平方メートルにおいて、エレクトロクロミックメンブレンの第１の方向に沿った矢高Ｈ_１とエレクトロクロミックメンブレンの第２の方向に沿った矢高Ｈ_２との積の範囲を指し、Ｈ_１×Ｈ_２≦２５００ｍｍ^２である。

【0080】

具体的に、Ｈ_１×Ｈ_２の範囲は、Ｈ_１×Ｈ_２≦２５００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦２４００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦２３００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦２２００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦２１００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦２０００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦１９００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦１８００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦１７００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦１６００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦１５００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦１４００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦１３００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦１２００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦１１００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦１０００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦９００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦８００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦７００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦６００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦５００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦４００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦３００ｍｍ^２、Ｈ_１×Ｈ_２≦２００ｍｍ^２又はＨ_１×Ｈ_２≦１００ｍｍ^２のうちの任意の範囲であってもよい。

【0081】

エレクトロクロミックメンブレン１００の第１の方向及び第２の方向における矢高を小さくすることにより、エレクトロクロミックメンブレン１００のエッジに発生するしわを緩和し、又はエレクトロクロミックメンブレン１００のエッジに発生するしわを除去し、エレクトロクロミックメンブレン１００の美観を向上させる。

【0082】

また、本願のいくつかの実施例において、前記第１の凹溝の深さと前記第２の凹溝の深さはいずれもｈであり、０＜ｈ≦１００ｍｍである。

【0083】

なお、第１の凹溝１４０の深さは、第１の導電性基体１１０の厚さとエレクトロクロミック層１２０の厚さとの和に等しく、第２の凹溝１５０の深さは、第２の導電性基体１３０の厚さとエレクトロクロミック層１２０の厚さとの和に等しい。

【0084】

本願のいくつかの実施例において、第１の導電性基体１１０の厚さが第２の導電性基体１３０の厚さと等しいため、第１の凹溝１４０の深さは第２の凹溝１５０の深さと等しい。

【0085】

具体的には、ｈの値の範囲は、０＜ｈ≦１００ｍｍ、１０ｍｍ＜ｈ≦１００ｍｍ、２０ｍｍ＜ｈ≦１００ｍｍ、３０ｍｍ＜ｈ≦１００ｍｍ、４０ｍｍ＜ｈ≦１００ｍｍ、５０ｍｍ＜ｈ≦１００ｍｍ、６０ｍｍ＜ｈ≦１００ｍｍ、７０ｍｍ＜ｈ≦１００ｍｍ、８０ｍｍ＜ｈ≦１００ｍｍ、９０ｍｍ＜ｈ≦１００ｍｍ、０＜ｈ≦９０ｍｍ、１０ｍｍ＜ｈ≦９０ｍｍ、２０ｍｍ＜ｈ≦９０ｍｍ、３０ｍｍ＜ｈ≦９０ｍｍ、４０ｍｍ＜ｈ≦９０ｍｍ、５０ｍｍ＜ｈ≦９０ｍｍ、６０ｍｍ＜ｈ≦９０ｍｍ、７０ｍｍ＜ｈ≦９０ｍｍ、８０ｍｍ＜ｈ≦９０ｍｍ、０＜ｈ≦８０ｍｍ、１０ｍｍ＜ｈ≦８０ｍｍ、２０ｍｍ＜ｈ≦８０ｍｍ、３０ｍｍ＜ｈ≦８０ｍｍ、４０ｍｍ＜ｈ≦８０ｍｍ、５０ｍｍ＜ｈ≦８０ｍｍ、６０ｍｍ＜ｈ≦８０ｍｍ、７０ｍｍ＜ｈ≦８０ｍｍ、０＜ｈ≦７０ｍｍ、１０ｍｍ＜ｈ≦７０ｍｍ、２０ｍｍ＜ｈ≦７０ｍｍ、３０ｍｍ＜ｈ≦７０ｍｍ、４０ｍｍ＜ｈ≦７０ｍｍ、５０ｍｍ＜ｈ≦７０ｍｍ、６０ｍｍ＜ｈ≦７０ｍｍ、０＜ｈ≦６０ｍｍ、１０ｍｍ＜ｈ≦６０ｍｍ、２０ｍｍ＜ｈ≦６０ｍｍ、３０ｍｍ＜ｈ≦６０ｍｍ、４０ｍｍ＜ｈ≦６０ｍｍ、５０ｍｍ＜ｈ≦６０ｍｍ、０＜ｈ≦５０ｍｍ、１０ｍｍ＜ｈ≦５０ｍｍ、２０ｍｍ＜ｈ≦５０ｍｍ、３０ｍｍ＜ｈ≦５０ｍｍ、４０ｍｍ＜ｈ≦５０ｍｍ、０＜ｈ≦４０ｍｍ、１０ｍｍ＜ｈ≦４０ｍｍ、２０ｍｍ＜ｈ≦４０ｍｍ、３０ｍｍ＜ｈ≦４０ｍｍ、０＜ｈ≦３０ｍｍ、１０ｍｍ＜ｈ≦３０ｍｍ、２０ｍｍ＜ｈ≦３０ｍｍ、０＜ｈ≦２０ｍｍ、１０ｍｍ＜ｈ≦２０ｍｍ又は０＜ｈ≦１０ｍｍのうちの任意の範囲であってもよく、実際の状況に応じて具体的に限定できる。

【0086】

本願のいくつかの実施例において、第１の凹溝１４０の深さ及び第２の凹溝１５０の深さは、第１の導電性基体１１０の厚さ、第２の導電性基体１３０の厚さ及びエレクトロクロミック層１２０の厚さによって決定され、即ち、第１の導電性基体１１０の厚さ、第２の導電性基体１３０の厚さ及びエレクトロクロミック層１２０の厚さを増加又は減少させることによって、第１の凹溝１４０の深さ及び第２の凹溝１５０の深さを増加又は減少させることが理解できる。

【0087】

本願のいくつかの実施例において、前記エレクトロクロミックメンブレン１００の形状は、多角形、正多角形又は異なる形のうちのいずれか１種であってもよく、実際の状況に応じて具体的に設定することができる。

【0088】

ここで、エレクトロクロミックメンブレン１００のａの値は、１つの数値、２つの数値又は複数の数値に対応することができる。なお、エレクトロクロミックメンブレン１００のａが１つの数値のみに対応する場合、即ち、各第１の凹溝１４０の幅と各第２の凹溝１５０の幅はいずれも等しい。

【0089】

ａの値が２つの数値に対応し、ａに対応する２つの数値をそれぞれａ_１及びａ_２と定義し、ここで、ａ_１≠ａ_２であり、且つａ_１及びａ_２の値の範囲はａの値の範囲と等しい。すなわち、第１の凹溝１４０の幅及び第２の凹溝１５０の幅は、ａ_１及びａ_２のうちの任意の値であってもよい。

【0090】

ａの値が複数の数値に対応し、ａに対応する複数の数値をそれぞれａ_１、ａ_２……ａ_ｎと定義し、ここで、ｎの値は２より大きい任意の数値の整数であってもよく、且つａ_ｎの値の範囲はａの値の範囲と等しい。

【0091】

第１の凹溝１４０の値は、ａ_１、ａ_２……ａ_ｎのうちの任意の値であってもよく、第２の凹溝１５０の値は、ａ_１、ａ_２……ａ_ｎのうちの任意の値であってもよく、実際の状況に応じて具体的に設定されてもよいことが理解できる。

【0092】

また、エレクトロクロミックメンブレン１００のｂの値は、１つの数値又は複数の数値に対応してもよい。なお、エレクトロクロミックメンブレン１００のｂが１つの数値のみに対応する場合、即ち、任意の隣接する前記第１の凹溝１４０と前記第２の凹溝１５０の前記エレクトロクロミック層１２０が位置する平面における正投影の間の間隔はいずれも等しい。

【0093】

ｂの値が複数の数値に対応し、ｂに対応する複数の数値をそれぞれｂ_１、ｂ_２……ｂ_ｎと定義し、ここで、ｎの値は２以上の任意の数値の整数であってもよく、また、ｂ_ｎの値の範囲はｂの値の範囲と等しい。即ち、任意の隣接する前記第１の凹溝１４０と前記第２の凹溝１５０の前記エレクトロクロミック層１２０が位置する平面における正投影の間の間隔は、いずれもｂ_１、ｂ_２……ｂ_ｎのうちの任意の値であってもよく、実際の状況に応じて具体的に設定することができる。

【0094】

本願に記載のエレクトロクロミックメンブレン１００のしわ深さは、いずれもエレクトロクロミックメンブレン１００のエッジのしわ深さを指す。

【0095】

図６～図８に示すように、本願のいくつかの実施例において、各前記第１の凹溝１４０の周方向及び各前記第２の凹溝１５０の周方向にそれぞれシーラント４００が設けられる。

【0096】

第１の凹溝１４０の周方向に設けられたシール層によって第２の導電性基体１３０を固定するとともに、第１の凹溝１４０に対向するエレクトロクロミック層１２０を外部の空気及び水から隔離し、第２の凹溝１５０の周方向に設けられたシール層によって第１の導電性基体１１０を固定するとともに、第２の凹溝１５０に対向するエレクトロクロミック層１２０を外部の空気及び水から隔離し、外部の水分及び酸素がエレクトロクロミックメンブレン１００に入ることを防止し、エレクトロクロミックメンブレン１００の使用寿命及び使用安定性を向上させる。

【0097】

なお、前記シーラント４００は高温接着剤であり、高温接着剤は主にアルミノケイ酸塩、無機セラミック粉末などの成分で製造された異なる耐熱要求を満たす高温接着剤であり、耐熱は２００度から１８００度である。

【0098】

図７に示すように、本願のいくつかの実施例において、前記第１の導電性基体１１０の前記エレクトロクロミック層１２０から離れた側のエッジに第１のバスバー２００が設けられ、前記第１のバスバー２００は、前記第１の導電性基体１１０のエレクトロクロミック層１２０から離れた側のエッジに積層される。

【0099】

具体的には、前記第１のバスバー２００の一部は、前記第１の凹溝１４０内に位置し、第１の凹溝１４０内に位置する第１のバスバー２００は、第１の凹溝１４０内において「凹」字形を形成し、第１の凹溝１４０内に位置する第１のバスバー２００の一部は、第１の凹溝１４０の内壁におけるシーラント４００に密着し、シーラント４００を介して第１のバスバー２００を固定し、第１のバスバー２００の第１の導電性基体１１０における安定性を向上させる。また、一部が第１の凹溝１４０の底部に位置する第１のバスバー２００は、前記第２の導電層１３３の第１の凹溝１４０に露出する一部と電気的に接続される。同時に、シーラント４００により第１のバスバー２００と第２のバスバー３００に対して絶縁支持の役割を果たすことができ、第１のバスバー２００と第２のバスバー３００との間の電気的接触を回避し、エレクトロクロミックメンブレン１００が短絡する状況の発生を回避する。

【0100】

同時に、前記第２の導電性基体１３０の前記エレクトロクロミック層１２０から離れる側のエッジに第２のバスバー３００が設けられ、前記第２のバスバー３００は前記第２の導電性基体１３０のエレクトロクロミック層１２０から離れる側のエッジに積層される。

【0101】

具体的には、第２のバスバー３００の一部は、第２の凹溝１５０内に位置し、第２の凹溝１５０内に位置する第２のバスバー３００は、第２の凹溝１５０内において「凹」字形を形成し、第２の凹溝１５０内に位置する第２のバスバー３００の一部は、第２の凹溝１５０の内壁におけるシーラント４００に密着し、シーラント４００を介して第１のバスバー２００を固定し、第１のバスバー２００の第１の導電性基体１１０における安定性を向上させる。また、一部が第２の凹溝１５０の底部に位置する第２のバスバー３００は、前記第１の導電層１１３の第２の凹溝１５０に露出する一部と電気的に接続される。

【0102】

なお、エレクトロクロミックメンブレンのエッジに複数の第１の凹溝及び複数の第２の凹溝を設けることにより、エレクトロクロミックメンブレンの電気接続点をより均一に分配することができ、第１の導電性基体及び第２の導電性基体層に電気を伝導させる均一性を向上させる。第１のバスバー２００及び第２のバスバー３００をそれぞれ外部電源に接続することにより、第１の導電層１１３と第２の導電層１３３との間に印加電界を形成し、エレクトロクロミックメンブレン１００の変色効率及び安定性を向上させる。

【0103】

本願の他の実施例は、ガラス層と、上記いずれかの実施例に記載のエレクトロクロミックメンブレン１００とを含む変色ガラスをさらに提供する。

【0104】

ここで、前記エレクトロクロミックメンブレン１００は、少なくとも２層の前記ガラス層の間に積層される。

【0105】

本実施例において、エレクトロクロミックメンブレン１００は、２層のガラス層の間に積層されて変色ガラスを形成する。

【0106】

なお、２層のガラス層はエレクトロクロミックメンブレン１００を完全に覆う。

【0107】

ここで示され、説明されるすべての例において、任意の具体的な値は、限定ではなく単なる例示的なものとして解釈されるべきであり、したがって、例示的な実施例の他の例は、異なる値を有し得る。

【0108】

なお、以下の図面において、同一の符号及びアルファベットは、類似の項目を示すので、ある項目が１つの図面において一旦定義されると、それ以降の図面においては、それ以上定義して説明する必要がない。

【0109】

以上の前記実施例は、本願のいくつかの実施形態のみを示し、その説明は、具体的かつ詳細であるが、本願の範囲を限定するものではない。なお、当業者であれば、本願の思想を逸脱しない範囲で、若干の変形及び改良を行うことができ、これらはいずれも本願の保護範囲に属する。

【符号の説明】

【0110】

１００：エレクトロクロミックメンブレン、１１０：第１の導電性基体、１１１：第１の収容溝、１１２：第１の基体層、１１３：第１の導電層、１２０：エレクトロクロミック層、１２１：第３の収容溝、１３０：第２の導電性基体、１３１：第２の収容溝、１３２：第２の基体層、１３３：第２の導電層、１４０：第１の凹溝、１５０：第２の凹溝、２００：第１のバスバー、３００：第２のバスバー、４００：シーラント。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【国際調査報告】