特表-13084447IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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再表2013-84447ニオブ窒化物およびその製造方法、ニオブ窒化物含有膜およびその製造方法、並びに、半導体、半導体デバイス、光触媒、水素生成デバイスおよびエネルギーシステム
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