【技術分野】

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【0022】

【先行技術文献】

【発明の概要】

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、脂肪族不飽和結合に対するヒドロシリル化反応もしくは水素化反応、または炭素−酸素不飽和結合もしくは炭素−窒素不飽和結合に対するヒドロシラン還元反応において優れた触媒活性を発揮し得る触媒、およびこの触媒を用いた各種化合物の製造方法を提供することを目的とする。

本発明者らは、目的を達成するため鋭意検討を行った結果、所定の鉄−、コバルト−、またはニッケル−イソシアニド錯体が、脂肪族不飽和結合に対するヒドロシリル化反応もしくは水素化反応、または炭素−酸素不飽和結合もしくは炭素−窒素不飽和結合に対するヒドロシラン還元反応において優れた触媒活性を発揮し得、温和な条件下で各反応が進行することを見出し、本発明を完成した。 すなわち、本発明は、
１． 下記式（１）で示される化合物からなり、脂肪族不飽和結合に対するヒドロシリル化反応もしくは水素化反応、または炭素−酸素不飽和結合もしくは炭素−窒素不飽和結合に対するヒドロシラン還元反応から選ばれる少なくとも１種の反応に活性を有する触媒、
Ｍ_n（Ｌ）_m （１）
｛式中、Ｍは、酸化数が０価のＦｅ、Ｃｏ、またはＮｉを表し、Ｌは、下記式（２）で示されるイソシアニド配位子を表し、ｎは、１〜８の整数を表し、ｍは、２〜１２の整数を表す。
（ＣＮ）_x−Ｒ¹ （２）
（式中、Ｒ¹は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、酸素、窒素、硫黄、およびケイ素から選ばれる原子が１個またはそれ以上介在してもよい、炭素原子数１〜３０の１〜３価の有機基を表し、ｘは、１〜３の整数を表す。）｝
２． 前記式（２）において、ｘが１である１の触媒、
３． 前記式（１）において、ｎ＝１のときｍ＝２、４または５であり、ｎ＝２〜４のときｍ＝６〜１０の整数である１または２の触媒、
４． 前記式（１）において、ＭがＦｅのとき、ｎ＝１、ｍ＝５であり、ＭがＣｏのとき、ｎ＝２、ｍ＝８であり、ＭがＮｉのとき、ｎ＝１、ｍ＝２もしくは４、またはｎ＝３、４もしくは８、ｍ＝４、６、７もしくは１２である１〜３のいずれかの触媒、
５． 前記式（１）におけるＭが、ＦｅまたはＣｏである１〜４のいずれかの触媒、
６． 前記式（２）におけるＲ¹が、炭素原子数１〜３０の１価の炭化水素基である１〜５のいずれかの触媒、
７． 前記式（２）におけるＲ¹が、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、および炭素原子数７〜３０のアルキルアリール基から選ばれる少なくとも１種の炭化水素基である６の触媒、
８． 前記式（２）におけるＲ¹が、ｔ−ブチル基、１−アダマンチル基、メシチル基、フェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、および２，６−ジイソプロピルフェニル基から選ばれる少なくとも１種の炭化水素基である７の触媒、
９． １〜８のいずれかの触媒を用いることを特徴とする、脂肪族不飽和結合含有化合物とＳｉ−Ｈ結合含有化合物とのヒドロシリル化反応物の製造方法、
１０． １〜８のいずれかの触媒を用いることを特徴とする、脂肪族不飽和結合含有化合物の水素化反応物の製造方法、
１１． 前記脂肪族不飽和結合含有化合物が、オレフィン化合物、またはＳｉ原子と結合したアルケニル基を有するシラン化合物もしくはオルガノポリシロキサンである９または１０の製造方法、
１２． １〜８のいずれかの触媒を用いることを特徴とする、炭素−酸素不飽和結合または炭素−窒素不飽和結合を有する化合物のＳｉ−Ｈ結合含有化合物による還元反応物の製造方法、
１３． 前記炭素−酸素不飽和結合または炭素−窒素不飽和結合を有する化合物が、アルデヒド化合物、ケトン化合物、アミド化合物またはニトリル化合物である１２の還元反応物の製造方法
を提供する。

本発明の鉄−、コバルト−、またはニッケル−イソシアニド錯体（以下、単にイソシアニド錯体と略す）からなる反応用触媒は、人体に毒性の高いカルボニル配位子を有しておらず、また、錯体の熱的安定性、空気中での安定性が高い。
本発明のイソシアニド錯体を触媒として用い、脂肪族不飽和結合含有化合物とＳｉ−Ｈ基を有するシランもしくは（ポリ）シロキサンとのヒドロシリル化反応を行うと、室温〜１００℃以下の条件下で付加反応が可能になる。特に工業的に有用な（ポリ）シロキサン、およびトリアルコキシシラン、ジアルコキシシランとの付加反応も良好に進行する。なお、公知文献では同反応において、不飽和結合への付加反応と、脱水素シリル化反応による不飽和結合含有化合物が生成する反応がたびたび同時に進行することが示されているが、本発明の触媒を用いると選択的に不飽和結合への付加反応が進行する。
しかも、従来の触媒では困難であった内部オレフィンとの反応において、不飽和結合の末端への移動をともなった付加反応物を得ることが可能となる。
また、本発明の触媒を用いることで、アルケニルスルフィド等のヒドロシリル化反応において、選択的に硫黄元素に隣接した炭素にＳｉが結合した付加生成物が得られる。
さらに、本発明の触媒は、脂肪族不飽和結合含有化合物の水素化反応に対して高い触媒活性を有し、当該反応は温和な条件下で進行する。
また、本発明の触媒を使用した炭素−酸素不飽和結合または炭素−窒素不飽和結合に対するヒドロシラン還元反応では、アミド化合物、ケトン化合物、アミド化合物等のカルボニル化合物やニトリル化合物と、取り扱いが容易なＳｉ−Ｈ基を有するシランまたは（ポリ）シロキサンとを反応させ、目的とする化合物を高収率で得ることができる。
このように本発明のイソシアニド錯体からなる触媒は、脂肪族不飽和結合に対するヒドロシリル化反応もしくは水素化反応、または炭素−酸素不飽和結合もしくは炭素−窒素不飽和結合に対するヒドロシラン還元反応において、一つまたは複数の反応に対して活性を有していることから、有機合成反応において極めて有用性が高い。

【発明を実施するための形態】

以下、本発明についてさらに詳しく説明する。
本発明に係る触媒は、式（１）で示される化合物からなり、脂肪族不飽和結合に対するヒドロシリル化反応もしくは水素化反応、または炭素−酸素不飽和結合もしくは炭素−窒素不飽和結合に対するヒドロシラン還元反応から選ばれる少なくとも１種の反応に活性を有することを特徴とする。
Ｍ_n（Ｌ）_m （１）

式（１）において、Ｍは、酸化数が０価のＦｅ、Ｃｏ、またはＮｉを表し、Ｌは、下記式（２）で示されるイソシアニド配位子を表し、ｎは、１〜８の整数を表し、ｍは、２〜１２の整数を表す。
（ＣＮ）_x−Ｒ¹ （２）

式（１）において、のとおり、ｎは１〜４であり、ｍは２〜１０であるが、錯体の安定性と触媒活性の観点から、好ましくはｎが１の場合、ｍ＝２、４または５、ｎ＝２〜４の場合、ｍ＝６〜１０の整数であり、ｎ＝８のときｍ＝１２であり、より好ましくはＭがＦｅの場合、ｎは１、ｍは５、ＭがＣｏの場合、ｎは２、ｍは８、ＭがＮｉの場合、ｎ＝１、ｍ＝２もしくは４、またはｎ＝３、４もしくは８、ｍ＝４、６、７もしくは１２である。

式（２）において、Ｒ¹は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、酸素、窒素、硫黄、およびケイ素から選ばれる原子が１個またはそれ以上介在してもよい、炭素原子数１〜３０の１〜３価の有機基を表し、ｘは、１〜３の整数を表す。

ハロゲン原子の具体例としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
炭素原子数１〜３０の１〜３価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭素原子数１〜３０の１〜３価の炭化水素基が好ましい。
１価炭化水素基の具体例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルキルアリール基、アラルキル基等が挙げられる。
アルキル基としては、直鎖、分岐鎖、環状のいずれでもよく、好ましくは１〜２０、より好ましくは１〜１０のアルキル基であり、その具体例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、ｎ−トリデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペンタデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル、ｎ−オクタデシル、ｎ−ノナデシル、ｎ−エイコサニル基等の直鎖または分岐鎖アルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、ノルボルニル、アダマンチル基等のシクロアルキル基などが挙げられる。

アルケニル基としては、炭素原子数２〜２０のアルケニル基が好ましく、その具体例としては、エテニル、ｎ−１−プロペニル、ｎ−２−プロペニル、１−メチルエテニル、ｎ−１−ブテニル、ｎ−２−ブテニル、ｎ−３−ブテニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、１−エチルエテニル、１−メチル−１−プロペニル、１−メチル−２−プロペニル、ｎ−１−ペンテニル、ｎ−１−デセニル、ｎ−１−エイコセニル基等が挙げられる。
アルキニル基としては、炭素原子数２〜２０のアルキニル基が好ましく、その具体例としては、エチニル、ｎ−１−プロピニル、ｎ−２−プロピニル、ｎ−１−ブチニル、ｎ−２−ブチニル、ｎ−３−ブチニル、１−メチル−２−プロピニル、ｎ−１−ペンチニル、ｎ−２−ペンチニル、ｎ−３−ペンチニル、ｎ−４−ペンチニル、１−メチル−ｎ−ブチニル、２−メチル−ｎ−ブチニル、３−メチル−ｎ−ブチニル、１，１−ジメチル−ｎ−プロピニル、ｎ−１−ヘキシニル、ｎ−１−デシニル、ｎ−１−ペンタデシニル、ｎ−１−エイコシニル基等が挙げられる。

アリールまたはアルキルアリール基としては、好ましくは炭素原子数６〜２０のアリールまたは炭素原子数７〜２０のアルキルアリール基であり、その具体例としては、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、アントリル、フェナントリル、ｏ−ビフェニリル、ｍ−ビフェニリル、ｐ−ビフェニリル、トリル、２，６−ジメチルフェニル、２，６−ジイソプロピルフェニル、メシチル基等が挙げられる。
アラルキル基としては、好ましくは炭素原子数７〜３０、より好ましくは炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基であり、その具体例としては、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、ナフチルメチル、ナフチルエチル、ナフチルプロピル基等が挙げられる。

２価の炭化水素基としては、アルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基等が挙げられる。
アルキレン基としては、直鎖、分岐鎖、環状のいずれでもよく、好ましくは炭素原子数１〜２０のアルキレン基であり、その具体例としては、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、ｎ−ブチレン、イソブチレン、ｓ−ブチレン、ｎ−オクチレン、２−エチルヘキシレン、ｎ−デシレン、ｎ−ウンデシレン、ｎ−ドデシレン、ｎ−トリデシレン、ｎ−テトラデシレン、ｎ−ペンタデシレン、ｎ−ヘキサデシレン、ｎ−ヘプタデシレン、ｎ−オクタデシレン、ｎ−ノナデシレン、ｎ−エイコサニレン基等の直鎖または分岐鎖アルキレン基；１，４−シクロへキシレン基等のシクロアルキレン基などが挙げられる。
アリーレン基の具体例としては、ｏ−フェニレン、ｍ−フェニレン、ｐ−フェニレン、１，２−ナフチレン、１，８−ナフチレン、２，３−ナフチレン、４，４′−ビフェニレン基等が挙げられる。
アラルキレン基の具体例としては、−（ＣＨ₂）_y−Ａｒ−（Ａｒは、炭素原子数６〜２０のアリーレン基を表し、ｙは１〜１０の整数を表す。）、−Ａｒ−（ＣＨ₂）_y−（Ａｒおよびｙはと同じ意味を表す。）、−（ＣＨ₂）_y−Ａｒ−（ＣＨ₂）_y−（Ａｒはと同じ意味を表し、ｙは互いに独立してと同じ意味を表す。）等が挙げられる。

３価の炭化水素基の具体例としては、下記式で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

Ｒ¹におけるその他の有機基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等のアルコキシ基；フェノキシ基等のアリールオキシ基；トリフルオロメチル基等のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等のアルキルアミノ基；メチルエステル、エチルエステル等のエステル基；ニトロ基；ニトリル基；トリメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基等のアルキルまたはアリールシリル基；トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、ジメトキシメチルシリル基、ジエトキシメチルシリル基等のアルコキシシリル基；ピリジル基等の窒素含有複素環含有基；チエニル基等の硫黄含有複素環含有基などが挙げられる。
これらの中でもＲ¹としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアルキルアリール基から選ばれる少なくとも１種の炭化水素基が好ましく、ｔ−ブチル基、１−アダマンチル基、メシチル基、フェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基がより好ましい。
なお、以上説明した各有機基は、酸素、窒素、ケイ素、硫黄、およびリンから選ばれる原子が１個またはそれ以上介在していてもよく、また、ハロゲン原子で置換されていてもよい。

式（２）におけるｘは、１〜３の整数であるが、好ましくは１または２であり、さらに好ましくは１である。

式（２）で表されるイソシアニド化合物は、市販品として入手する、または公知の方法によって合成することができる。例えば、アミン化合物とギ酸からホルミル化物を得、次いで有機アミンの存在下、塩化ホスホリルと反応させてイソシアニド化する方法（合成方法１。Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ，２００４，２３，３９７６−３９８１参照）；温和な条件下でホルミル化物を得る方法として、無水酢酸とギ酸から酢酸ギ酸無水物を形成し、これをアミン化合物と反応させてホルミル化物を得ることができる（合成方法２。Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，２０１３，９０，３５８−３６６参照）。得られたホルミル化物はと同じ合成方法１に記載されている方法によってイソシアニド化することができる。
さらに、ホルミル化を経由しない方法である、アミン化合物とジクロルカルベンを反応させてイソシアニド化する方法によっても合成することができる（合成方法３。Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９７２，１７，１６３７−１６４０参照）。

イソシアニド化合物の具体例としては、メチルイソシアニド、エチルイソシアニド、ｎ−プロピルイソシアニド、シクロプロピルイソシアニド、ｎ−ブチルイソシアニド、イソブチルイソシアニド、ｓｅｃ−ブチルイソシアニド、ｔ−ブチルイソシアニド、ｎ−ペンチルイソシアニド、イソペンチルイソシアニド、ネオペンチルイソシアニド、ｎ−ヘキシルイソシアニド、シクロヘキシルイソシアニド、シクロヘプチルイソシアニド、１，１−ジメチルヘキシルイソシアニド、１−アダマンチルイソシアニド、２−アダマンチルイソシアニド等のアルキルイソシアニド；フェニルイソシアニド、２−メチルフェニルイソシアニド、４−メチルフェニルイソシアニド、２，４−ジメチルフェニルイソシアニド、２，５−ジメチルフェニルイソシアニド、２，６−ジメチルフェニルイソシアニド、２，４，６−トリメチルフェニルイソシアニド、２，４，６−トリｔ−ブチルフェニルイソシアニド、２，６−ジイソプロピルフェニルイソシアニド、１−ナフチルイソシアニド、２−ナフチルイソシアニド、２−メチル−１−ナフチルイソシアニド等のアリールイソシアニド；ベンジルイソシアニド、フェニルエチルイソシアニド等のアラルキルイソシアニドなどが挙げられる。

ジイソシアニド化合物の具体例としては、１，２−ジイソシアノエタン、１，３−ジイソシアノプロパン、１，４−ジイソシアノブタン、１，５−ジイソシアノペンタン、１，６−ジイソシアノヘキサン、１，８−ジイソシアノオクタン、１，１２−ジイソシアノドデカン、１，２−ジイソシアノシクロヘキサン、１，３−ジイソシアノシクロヘキサン、１，４−ジイソシアノシクロヘキサン、１，３−ジイソシアノ−２，２−ジメチルプロパン、２，５−ジイソシアノ−２，５−ジメチルヘキサン、１，２−ビス（ジイソシアノエトキシ）エタン、１，２−ジイソシアノベンゼン、１，３−ジイソシアノベンゼン、１，４−ジイソシアノベンゼン、１，１’−メチレンビス（４−イソシアノベンゼン）、１，１’−オキシビス（４−イソシアノベンゼン）、３−（イソシアノメチル）ベンジルイソシアニド、１，２−ビス（２−イソシアノフェノキシ）エタン、ビス（２−イソシアノフェニル）フェニルホスホネート、ビス（２−イソシアノフェニル）イソフタレート、ビス（２−イソシアノフェニル）スクシネート等が挙げられる。

トリイソシアニド化合物の具体例としては、１，３−ジイソシアノ−２−（イソシアノメチル）−２−メチルプロパン、１，５−ジイソシアノ−３−（２−イソシアノエチル）ペンタン、１，７−ジイソシアノ−４−（３−イソシアノプロピル）ヘプタン、３−イソシアノ−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−イソシアノプロピル）プロパン−１−アミン等が挙げられる。

式（１）で表されるイソシアニド錯体からなる触媒は、公知の方法によって合成することができ、例えば、イソシアニド化合物存在下で、鉄、コバルト、またはニッケル塩と還元剤とを有機溶剤中で反応させる方法や、鉄−、コバルト−、またはニッケル−カルボニル錯体とイソシアニド化合物を有機溶剤中で、高温下、光照射下または触媒存在下で反応させる方法で合成することができる。また、置換可能な配位子を有する鉄、コバルト、またはニッケル錯体とイソシアニド化合物を有機溶剤中で反応させて合成することもできる。
さらに、アート型鉄−、コバルト−、またはニッケル−イソシアニド錯体と酸化剤を有機溶剤中で反応させて合成することもできる。

鉄、コバルト、またはニッケル塩としては、特に限定されるものではないが、還元剤との反応性を考慮すると、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等のハロゲン化物；アセテート等のカルボン酸塩が好ましく、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等のハロゲン化物がより好ましい。
鉄塩の具体例としては、ＦｅＣｌ₂、ＦｅＢｒ₂、ＦｅＣｌ₃、ＦｅＢｒ₃、ＦｅＩ₃等のハロゲン化鉄；Ｆｅ（ＯＡｃ）₂、Ｆｅ（ｓｔｅａｒａｔｅ）₂、Ｆｅ（ｓｔｅａｒａｔｅ）₃等のカルボン酸鉄などが挙げられる。
コバルト塩の具体例としては、ＣｏＣｌ₂、ＣｏＢｒ₂、ＣｏＩ₂等のハロゲン化コバルト；Ｃｏ（ＯＡｃ）₂、Ｃｏ（ＯＢｚ）₂、Ｃｏ（２−ｅｔｈｙｌｈｅｘａｎｏａｔｅ）₂、Ｃｏ（ｓｔｅａｒａｔｅ）₂等のカルボン酸コバルトなどが挙げられる。
ニッケル塩の具体例としては、ＮｉＣｌ₂、ＮｉＢｒ₂、ＮｉＩ₂等のハロゲン化ニッケル；Ｎｉ（ＯＡｃ）₂等のカルボン酸ニッケルなどが挙げられる。

鉄−、コバルト−、またはニッケル−カルボニル錯体の具体例としては、Ｆｅ（ＣＯ）₅、Ｆｅ₃（ＣＯ）₁₂、Ｃｏ₂（ＣＯ）₈、Ｎｉ（ＣＯ）₄等が挙げられる。
また、置換可能な配位子としては、１，５−シクロオクタジエン、ブタジエン等のオレフィン化合物；トリメチルホスフィン等のリン配位子などが挙げられる。

還元剤としては、鉄、コバルト、またはニッケル塩中の金属を０価まで還元できる強い還元剤が望ましく、例えば、非特許文献Ｃｈｅｍ． Ｒｅｖ．１９９６，９６，８８７−９１０において、フェロセンを基準とした酸化還元電位ポテンシャルが−２．０Ｖ以下であるものが好ましく、−２．３Ｖ以下のものが特に好ましい。
その具体例としては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属；ナトリウム−カリウム、ナトリウムアマルガム等のアルカリ金属合金；カリウムナフタレニド等のアルカリ金属ナフタレニドなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

また、これらのアルカリ金属、アルカリ金属合金は、固体物質に担持されたものでもよく、例えば、シリカ、アルミナ、グラファイト、酸化チタン、ゼオライト、酸化亜鉛、酸化セリウム、ポリスチレンに担持されたナトリウム、カリウム、およびナトリウム−カリウム合金などが挙げられるが、これらの中でも、反応性の点では、カリウム担持グラファイト（以下、ＫＣ₈と略記）が好ましく、安全性の点では、ナトリウム担持シリカ（ステージ１または２）が発火性等の危険性が少ない点で好ましい。
なお、これらの固体物質に担持されたアルカリ金属は、例えば特許第５０４８５０３号公報に記載の方法など従来公知の方法で合成されたものや、市販品としても入手でき、そのような市販品としては、ＫＣ₈（Ｓｔｒｅｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製）、Ｎａシリカゲル（アルドリッチ社製、ステージＩ）、Ｎａシリカゲル（アルドリッチ社製、ステージＩＩ）、ＮａＫ₂シリカゲル（アルドリッチ社製、ステージＩ）等が挙げられる。

アート型鉄−、コバルト−、またはニッケル−イソシアニド錯体は、一般に鉄−、コバルト−、またはニッケル−イソシアニド錯体をさらに還元したイオン性錯体として知られており、非特許文献５１記載のＮａ［Ｃｏ（２，６−ジメシチルイソシアニド）₄］等が知られている。
アート型鉄−、コバルト−、またはニッケル−イソシアニド錯体を用いて合成する場合の酸化剤としては、フェロセニウムトリフラート等が挙げられる。

本発明の式（１）で表されるイソシアニド錯体としては、特に限定されるものではないが、例えば、下記のものが挙げられる。
鉄−イソシアニド錯体の具体例としては、Ｆｅ（ＣＮＭｅ）₅、Ｆｅ（ＣＮＥｔ）₅、Ｆｅ（ＣＮⁿＰｒ）₅、Ｆｅ（ＣＮⁱＰｒ）₅、Ｆｅ（ＣＮⁿＢｕ）₅、Ｆｅ（ＣＮ^tＢｕ）₅、Ｆｅ（ＣＮＣｙ）₅、Ｆｅ（ＣＮＡｄ）₅、Ｆｅ（ＣＮＣＦ₃）₅、Ｆｅ（ＣＮＰｈ）₅、Ｆｅ（ＣＮＸｙｌｙｌ）₅、Ｆｅ（ＣＮＭｅｓ）₅、Ｆｅ（Ｎ₂）［ＣＮ−（２，６−ｂｉｓｍｅｓｉｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）］₄、Ｆｅ（ＣＮ−（２−ｍｅｔｈｙｌ−６−ｃｈｌｏｒｏｐｈｅｎｙｌ））₅、Ｆｅ（ＣＮ−（３，５−ｄｉｍｅｔｈｏｘｙｐｈｅｎｙｌ））₅、Ｆｅ₂（ＣＮＥｔ）₉等が挙げられる。
コバルト−イソシアニド錯体の具体例としては、Ｃｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈、Ｃｏ₂（ＣＮＣｙ）₈、Ｃｏ₂（ＣＮＡｄ）₈、Ｃｏ₂（ＣＮＰｈ）₈、Ｃｏ₂（ＣＮＸｙｌｙｌ）₈、Ｃｏ₂（ＣＮＭｅｓ）₈、Ｃｏ₂（ＣＮ−（２−ｍｅｔｈｙｌ−６−ｃｈｌｏｒｏｐｈｅｎｙｌ））₈、Ｃｏ₂（ＣＮ−（３，５−ｄｉｍｅｔｈｏｘｙｐｈｅｎｙｌ））₈、Ｃｏ［ＣＮ−（２，６−ｂｉｓｍｅｓｉｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）］₄等が挙げられる。

ニッケル−イソシアニド錯体の具体例としては、Ｎｉ（ＣＮＭｅ）₄、Ｎｉ（ＣＮＥｔ）₄、Ｎｉ（ＣＮ^tＢｕ）₄、Ｎｉ₂（ＣＮ^tＢｕ）₄、Ｎｉ₃（ＣＮ^tＢｕ）₆、Ｎｉ（ＣＮＣｙ）₄、Ｎｉ（ＣＮＰｈ）₄、Ｎｉ（ＣＮＭｅｓ）₄、Ｎｉ（ＣＮＸｙｌｙｌ）₄、Ｎｉ［ＣＮ−（４−ＭｅＯＣ₆Ｈ₄）］_4、Ｎｉ［ＣＮ−（４−ＮＯ₂Ｃ₆Ｈ₄）］₄、Ｎｉ（ＣＮＣ₆Ｆ₅）₄、Ｎｉ₄（ＣＮ^tＢｕ）₆、Ｎｉ₄（ＣＮ^tＢｕ）₇、Ｎｉ₄（ＣＮＭｅ）（ＣＮ^tＢｕ）₆、Ｎｉ₄（ＣＮＣｙ）₇、Ｎｉ₈（ＣＮⁱＰｒ）₁₂等が挙げられる。
なお、において、ⁿＰｒはｎ−プロピル基、ⁱＰｒはイソプロピル基、ⁿＢｕはｎ−ブチル基、^tＢｕはｔ−ブチル基、Ｃｙはシクロヘキシリル基、Ａｄはアダマンチル基、Ｐｈはフェニル基、Ｍｅｓはメシチル基、Ｘｙｌｙｌは２，６−ジメチルフェニル基を示す。

本発明のイソシアニド錯体を触媒として用いる反応を行うにあたり、触媒の使用量は特に限定されるものではないが、２０〜１００℃程度の温和な条件下で反応を進行させて収率よく目的物を得ることを考慮すると、基質である化合物１モルに対してイソシアニド錯体として０．００１モル％以上用いることが好ましく、０．０１モル％以上用いることがより好ましく、０．０５モル％以上用いることがより一層好ましい。一方、イソシアニド錯体の使用量に特に上限はないが、経済的な観点から基質１モルに対して１０モル％程度、好ましくは５モル％である。
なお、本発明の触媒を用いる反応では、その活性等を損なわない範囲で、公知の２電子供与性配位子を併用してもよい。２電子供与性配位子としては、特に限定されるものではないが、カルボニル基以外の配位子が好ましく、アンモニア分子、エーテル化合物、アミン化合物、ホスフィン化合物、ホスファイト化合物、スルフィド化合物等が挙げられる。
また、イソシアニド化合物をその活性等を損なわない範囲で、さらに添加してもよく、その場合の添加量は本発明の触媒に対して０．1〜５モル当量程度が好ましい。

本発明の触媒を用いる反応の条件は、特に限定されるものではなく、通常、反応温度が１０〜１００℃程度であるが、好ましくは２０〜８０℃であり、反応時間は、１〜４８時間程度である。
反応は無溶媒で行うこともできるが、必要に応じて有機溶媒を用いてもよい。
有機溶媒を用いる場合、その種類としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類などが挙げられる。
有機溶媒を用いる場合、触媒の濃度としては、触媒活性と経済性を考慮すると、モル濃度（Ｍ）として、０．０１〜１０Ｍが好ましく、０．１〜５Ｍがより好ましい、。

本発明の触媒は、脂肪族不飽和結合に対するヒドロシリル化反応もしくは水素化反応、または炭素−酸素不飽和結合もしくは炭素−窒素不飽和結合に対するヒドロシラン還元反応触媒として使用できる。
本発明の触媒を用いる反応においては、全ての成分を一括して添加してもよく、いくつかの成分ずつに分けて添加してもよい。

本発明の触媒をヒドロシリル化反応に用いることにより、脂肪族不飽和結合含有化合物とＳｉ−Ｈ結合含有化合物とのヒドロシリル化反応物が得られる。
ヒドロシリル化反応における、脂肪族不飽和結合含有化合物とＳｉ−Ｈ結合含有化合物との使用比率は、脂肪族不飽和結合／Ｓｉ−Ｈ結合のモル比が１／１０〜１０／１、好ましくは、１／５〜５／１、より好ましくは１／３〜３／１である。

脂肪族不飽和結合含有化合物の具体例としては、下記のものが挙げられる。
（１）炭素−炭素不飽和結合含有炭化水素化合物
エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレン、ヘキセン、オクテン、デセン、ドデセン、ｎ−ヘキサデセン、イソヘキサデセン、ｎ−オクタデセン、イソオクタデセン、ノルボルネン、トリフロロプロペン等のアルケン類；エチン、プロピン、ブチン、ペンチン、ヘキシン、オクチン、デシン、ドデシン、ヘキサデシン、オクタデシン等のアルキン類；スチレン、２−メチルスチレン、４−クロロスチレン、４−メトキシスチレン、α−メチルスチレン、４−メチル−αメチルスチレン、アリルベンゼン等の芳香族基含有アルケン類
（２）アリルエーテル化合物
アリルグリシジルエーテル、アリルグリコール、アリルベンジルエーテル、ジエチレングリコールモノアリルエーテル、ジエチレングリコールアリルメチルエーテル、ポリオキシエチレンモノアリルエーテル、ポリオキシプロピレンモノアリルエーテル、ポリ（オキシエチレン・オキシプロピレン）モノアリルエーテル、ポリオキシエチレンジアリルエーテル、ポリオキシプロピレンジアリルエーテル、ポリ（オキシエチレン・オキシプロピレン）ジアリルエーテル等
（３）窒素含有アルケン化合物
アリルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアリルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアリルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−プロピル）アリルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアリルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−ブチル）アリルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアリルアミン、Ｎ−ｔ−ブチルアリルアミン、Ｎ−アリルシクロヘキシルアミン、Ｎ−アリルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジアリルアミン、トリアリルアミン、Ｎ−アリルアニリン、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルフタルイミド等

（４）炭素−炭素不飽和結合含有シラン化合物
トリメチルビニルシラン、トリエチルビニルシラン、トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、メトキシジメチルビニルシラン、エトキシジメチルビニルシラン、トリメトキシアリルシラン、トリエトキシアリルシラン、トリイソプロポキシビニルシラン、フェニルジメトキシビニルシラン、フェニルジエトキシビニルシラン、ジフェニルメトキシビニルシラン、ジフェニルエトキシビニルシラン、トリフェニルビニルシラン、トリフェニルビニルシラン等
（５）炭素−炭素不飽和結合含有シロキサン化合物
ペンタメチルビニルジシロキサン、テトラメチルジビニルジシロキサン、ヘプタメチルビニルトリシロキサン、ジメチルジフェニルジビニルジシロキサン、ジメチルビニルシロキシ基末端封鎖ジメチルポリシロキサン、ジメチルビニルシロキシ基末端封鎖（ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン）共重合体。トリメチルシロキシ基末端封鎖（ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン）共重合体、トリメチルシロキシ基末端封鎖（ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン、メチルビニルシロキサン）共重合体、ジメチルビニルシロキシ基末端封鎖（ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン）共重合体、ジメチルビニルシロキシ基末端封鎖（ジメチルシロキサン、メチルビニルシロキサン、ジフェニルシロキサン）共重合体、末端ヒドロキシ基封鎖（ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン）共重合体、α−ビニルジメチルポリシロキサン等

脂肪族不飽和結合含有化合物において、不飽和結合は分子末端に存在しても、内部に存在してもよく、ヘキサジエン、オクタジエンのように分子内に複数の不飽和結合が存在していてもよい。
また、脂肪族不飽和結合含有化合物として、以下に示されるようなスルフィド基を有するアルケン化合物も使用できる。この場合、白金触媒を用いた場合で知られているアルケン末端の炭素に対してケイ素が結合したケイ素化合物とは異なり、アルケンの異性化反応を伴い、硫黄元素に隣接した炭素上にケイ素が結合したケイ素化合物が選択的に得られる。
（６）スルフィド基を有するアルケン化合物
メチルビニルスルフィド、エチルビニルスルフィド、ｎ−プロピルビニルスルフィド、イソプロピルビニルスルフィド、ｎ−ブチルビニルスルフィド、フェニルビニルスルフィド、ベンジルビニルスルフィド、メチルアリルスルフィド、エチルアリルスルフィド、ｎ−プロピルアリルスルフィド、イソプロピルアリルスルフィド、ｎ−ブチルアリルスルフィド、イソブチルアリルスルフィド、フェニルアリルスルフィド、ベンジルアリルスルフィド、アリル（ｎ−プロピル）ジスルフィド、ジアリルスルフィド、ジアリルジスルフィド等

Ｓｉ−Ｈ結合含有化合物としては、例えば以下のシラン類、シロキサン類が挙げられる。
（１）シラン類
トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリイソプロポキシシラン、ジメトキシメチルシラン、ジエトキシメチルシラン、ジメトキシフェニルシラン、ジエトキシフェニルシラン、メトキシジメチルシラン、エトキシジメチルシラン、トリフェニルシラン、ジフェニルジシラン、フェニルトリシラン、ジフェニルメチルシラン、フェニルジメチルシラン、ジフェニルメトキシシラン、ジフェニルエトキシシラン等
（２）シロキサン類
ペンタメチルジシロキサン、テトラメチルジシロキサン、ヘプタメチルトリシロキサン、オクタメチルテトラシロキサン、ジメチルハイドロジェンシロキシ基末端封鎖ジメチルポリシロキサン、ジメチルハイドロジェンシロキシ基末端封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、トリメチルシロキシ基末端封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、ジメチルハイドロジェンシロキシ基末端封鎖（ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン）共重合体、トリメチルシロキシ基末端封鎖（ジメチルシロキサン・メチルヒドロシロキサン）共重合体、トリメチルシロキシ基末端封鎖（ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン、メチルハイドロジェンシロキサン）共重合体、ジメチルハイドロジェンシロキシ基末端封鎖（ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン）共重合体、ジメチルハイドロジェンシロキシ基末端封鎖（ジメチルシロキサン、メチルハイドロジェンシロキサン、ジフェニルシロキサン）共重合体、末端ヒドロキシ基封鎖（ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン）共重合体、片末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基末端封鎖ジメチルポリシロキサン等

また、本発明の触媒の存在下で、脂肪族不飽和結合含有化合物と水素分子とを反応させることによって、対応する飽和結合を有する化合物が得られる。
脂肪族不飽和結合含有化合物の具体例としては、ヒドロシリル化反応で例示した化合物と同様のものが挙げられる。
水素化反応における反応系内への水素分子の導入手段は、水素分子を含む気体を反応容器内にフローまたはバブリングしながら導入してもよく、水素分子を含む気体を封入した耐圧容器内で反応を行ってもよい。その際の圧力としては特に制限するものではないが、安全性の観点から、０．１〜３ＭＰａが好ましく、０．１〜２ＭＰａがより好ましい。

さらに、本発明の触媒の存在下で、炭素−酸素不飽和結合または炭素−窒素不飽和結合を有する化合物とＳｉ−Ｈ結合含有化合物とのヒドロシラン還元反応物が得られる。
この場合、炭素−酸素不飽和結合または炭素−窒素不飽和結合を有する化合物と、Ｓｉ−Ｈ結合含有化合物の使用比率は、特に限定されるものではないが、モル比として、（炭素−酸素不飽和結合または炭素−窒素不飽和結合）／（Ｓｉ−Ｈ結合）＝１／１０〜１／１が好ましく、１／５〜１／１がより好ましく、１／３〜１／１がより好ましい。

本発明の炭素−酸素不飽和結合または炭素−窒素不飽和結合を有する化合物のヒドロシラン還元反応において使用するＳｉ−Ｈ結合含有化合物としては、ヒドロシリル化反応で例示した化合物と同様のものが挙げられるが、反応性と経済性を考慮すると、それらの中でも、フェニルシラン、ジフェニルシラン、ジメチルフェニルシラン等のアリール基含有シラン；１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、トリメチルシロキシ基末端封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、ジメチルハイドロジェンシロキシ基末端封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン等の、酸素原子を介して隣接したＳｉ−Ｈ基を含有するシロキサン類が好ましく、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、トリメチルシロキシ基末端封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、ジメチルハイドロジェンシロキシ基末端封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサンがより好ましい。

ヒドロシラン還元反応に供し得る炭素−酸素不飽和結合または炭素−窒素不飽和結合を有する化合物としては、アルデヒド、ケトン、アミド、ニトリル基等を有する化合物が挙げられ、これらを本発明の触媒の存在下、Ｓｉ−Ｈ基を含有するシランまたはシロキサンと反応させ、公知の後処理を行うことによって、それぞれ対応するアミンやアルコール化合物へと導くことができる。
炭素−酸素不飽和結合または炭素−窒素不飽和結合を有する化合物の具体例としては、例えば、アセトフェノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド、アセトニトリル等が挙げられる。

以下、合成例、実施例および比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
触媒の調製に用いた溶媒は、全て公知の方法で脱酸素、脱水を行った後に用いた。
得られた触媒は、２５℃、窒素ガス雰囲気下で保存し、反応に用いた。
ヒドロシリル化反応および溶媒精製は、全て不活性ガス雰囲気下で行い、各種反応に用いた溶媒等は、全て予め公知の方法で精製、乾燥、脱酸素を行ったものを用いた。
¹Ｈ−ＮＭＲの測定は日本電子（株）製ＪＮＭ−ＥＣＡ６００，ＪＮＭ−ＬＡ４００を、ＩＲ測定は日本分光（株）製ＦＴ／ＩＲ−５５０を用いて行った。
なお、以下に示す化学構造式においては慣用的な表現法に従って水素原子を省略している。 ［合成例１］コバルトイソシアニド錯体Ｃｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈の合成
反応容器に、ヨウ化コバルト（０．３１ｇ，１．０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと略す）（１５ｍＬ）、ｔ−ブチルイソシアニド（０．３３ｇ，４．０ｍｍｏｌ）、ＫＣ₈（Ｓｔｒｅｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製、０．２７ｇ，２．０ｍｍｏｌ）の順に加え、２５℃で１２時間撹拌した。その後、反応溶液をセライトろ過し、ろ液の溶媒を減圧留去した。得られた乾燥物をペンタン（約４０ｍＬ）に溶解させ、不溶物をセライトろ過で取り除いた。ろ液を−３５℃に冷却し、再結晶化することにより、Ｃｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈を得た（０．２４ｇ，６１％）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（６００ＭＨｚ，Ｃ₆Ｄ₆）δ：１．４４（ｓ，７２Ｈ）．
ＩＲ（ＡＴＲ）：ν＝１６６６（ＣＮ（ｂｒｉｄｇｅ）），２０９３，１９７７，１９４２（ＣＮ（ｔｅｒｍｉｎａｌ））ｃｍ^-1
Anal.Calcd.for C₄₀H₇₂N₈Co₂:C,61.36;H,9.27;N,14.31 Found:C,61.06;H,9.52;N,14.05. ［合成例２］コバルトイソシアニド錯体Ｃｏ₂（ＣＮＡｄ）₈の合成
反応容器に、ヨウ化コバルト０．３１ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、１−イソシアノアダマンタン（以下、ＣＮＡｄと略す）０．６５ｇ（４．０ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（１５ｍＬ）、ＫＣ₈（０．２７ｇ，２．０ｍｍｏｌ）の順に加え、２５℃で１２時間撹拌した。その後、反応溶液をセライトろ過し、ろ液の溶媒を減圧留去した。得られた乾燥物をトルエン（約２０ｍｌ）に溶解させ、再度セライトろ過した。ろ液の溶媒を減圧留去した後、乾燥物を少量のベンゼン（約３ｍｌ）で洗うことにより、Ｃｏ₂（ＣＮＡｄ）₈を得た（０．３３ｇ，４７％）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ，Ｃ₆Ｄ₆）δ：２．３２（ｓ，４８Ｈ），２．０６（ｓ，２４Ｈ），１．７１（ｄ，Ｊ＝１０．３，２４Ｈ），１．５８（ｄ，Ｊ＝１０．３，２４Ｈ）．
ＩＲ（ＡＴＲ）：ν＝１６４７（ＣＮ（ｂｒｉｄｇｅ）），２１０１，２０００，１９５４（ＣＮ（ｔｅｒｍｉｎａｌ））ｃｍ^-1
Anal.Calcd.for C₈₈H₁₂₀N₈Co₂:C,75.08;H,8.59;N,7.96 Found:C,75.16;H,8.62;N,7.46. ［合成例３］コバルトイソシアニド錯体Ｃｏ₂（ＣＮＭｅｓ）₈の合成
反応容器に、ヨウ化コバルト（１３ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、メシチルイソシアニド（５８ｍｇ，０．４０ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（３ｍＬ）、ＫＣ₈（２７ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）の順に加え、２５℃で１２時間撹拌した。その後、反応溶液をセライトろ過し、ろ液の溶媒を減圧留去した。得られた乾燥物をトルエン（約３ｍＬ）に溶解させ、不溶物をセライトろ過で取り除いた。ろ液の上からペンタン（約３ｍＬ）をゆっくり加えることにより、再結晶化させ、コバルトイソシアニド錯体Ｃｏ₂（ＣＮＭｅｓ）₈を得た（４２ｍｇ，６６％）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ，Ｃ₆Ｄ₆）δ：６．６０（ｓ，１２Ｈ），６．５８（ｓ，４Ｈ），２．４６（ｓ，３６Ｈ），２．４２（ｓ，１２Ｈ），２．０５（ｓ，１８Ｈ），２．０３（ｓ，６Ｈ）．
ＩＲ（ＡＴＲ）：ν＝１６６９（ＣＮ（ｂｒｉｄｇｅ）），２０６３，２０２６，１９５４（ＣＮ（ｔｅｒｍｉｎａｌ））ｃｍ^-1
Anal.Calcd.for C₈₀H₈₈N₈Co₂:C,75.10;H,6.93;N,8.60 Found:C,75.21;H,6.90;N,8.60. ［合成例４］鉄イソシアニド錯体Ｆｅ（ＣＮ^tＢｕ）₅の合成
反応容器に、臭化鉄（２２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（３ｍＬ）、ｔ−ブチルイソシアニド（４２ｍｇ，０．５０ｍｍｏｌ）、ＫＣ₈（２７ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）の順に加え、２５℃で１２時間撹拌した。その後、反応溶液をセライトろ過し、ろ液の溶媒を減圧留去した。得られた乾燥物をペンタン（約４ｍＬ）に溶解させ、不溶物をセライトろ過で取り除いた。ろ液を−３５℃に冷却し、再結晶化することにより、Ｆｅ（ＣＮ^tＢｕ）₅を得た（３０ｍｇ，６３％）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（６００ＭＨｚ，Ｃ₆Ｄ₆）δ：１．２９（ｓ，４５Ｈ）．
ＩＲ（ＡＴＲ）：ν＝２１１９，２０００，１９４３，１８２６（ＣＮ）ｃｍ^-1 ［合成例５］臭化鉄とＫＣ₈を用いた鉄イソシアニド錯体Ｆｅ（ＣＮＡｄ）₅の合成
反応容器に、臭化鉄（２１６ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（２０ｍＬ）、アダマンチルイソシアニド（８０６ｍｇ，５．０ｍｍｏｌ）、ＫＣ₈（Ｓｔｒｅｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製、２７０ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）の順に加え、２５℃で１２時間撹拌した。その後、反応溶液をセライトろ過し、ろ液の溶媒を減圧留去した。得られた乾燥物をベンゼン（約５ｍＬ）に溶解させ、不溶物をセライトろ過で取り除いた。ろ液にペンタンを加えた後、−３５℃に冷却し、再結晶化することにより、Ｆｅ（ＣＮＡｄ）₅を得た（６０１ｍｇ，収率７０％）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ，Ｃ₆Ｄ₆）δ：２．１５（ｓ，３０Ｈ），１．８８（ｓ，１５Ｈ），１．５０（ｄ，Ｊ＝１１．５，１５Ｈ），１．４２（ｄ，Ｊ＝１１．５，１５Ｈ）．
ＩＲ（ＡＴＲ）：ν＝２１０６（ＣＮ）ｃｍ^-1 ［合成例６］臭化ニッケル（ジメトキシエタン付加物）とＫＣ₈を用いたニッケルイソシアニド錯体Ｎｉ（ＣＮｔＢｕ）₄の合成
反応容器に、臭化ニッケル（ジメトキシエタン付加物）（３１ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（３ｍＬ）、ｔ−ブチルイソシアニド（０．３３ｇ，０．４ｍｍｏｌ）、ＫＣ₈（２７０ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）の順に加え、室温で３０分間撹拌した。その後、反応溶液をセライトろ過し、ろ液の溶媒を減圧留去した。得られた乾燥物をベンゼン（約５ｍＬ）に溶解させ、不溶物をセライトろ過で取り除いた。ろ液にエーテルを加えた後、−３５℃に冷却し、再結晶化することにより、Ｎｉ（ＣＮ^tＢｕ）₄を得た（２１ｍｇ，収率５４％）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ、Ｃ₆Ｄ₆）δ：１．０９（ｓ，３６Ｈ）．
ＩＲ（ＡＴＲ）：ν＝２００２（ＣＮ）ｃｍ^-1 ［１］アルケンを基質として用いたヒドロシリル化反応
［実施例１］触媒としてＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈を用いたα−メチルスチレンの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例１で得られたＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈（３．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、α−メチルスチレン（１２９μＬ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．９４ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表１に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：７．２７（ｔ，Ｊ＝６．８，２Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝６．８，２Ｈ），７．１５（ｔ，Ｊ＝６．８，１Ｈ），２．９１（ｓｅｘｔ，Ｊ＝６．８，１Ｈ），１．２８（ｄ，Ｊ＝６．８，３Ｈ），０．９０−０．９８（ｍ，２Ｈ），０．０５（ｓ，９Ｈ），−０．０５（ｓ，３Ｈ），−０．０７（ｓ，３Ｈ）． ［実施例２，３］
Ｃｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈の代わりに、触媒として表１に記載したコバルト−イソシアニド錯体（０．００５ｍｍｏｌ）をそれぞれ用いた以外は、実施例１と同様に反応を行った。その結果を以下の表１に示す。 ［比較例１］ピバル酸コバルトとＣＮＡｄとジエトキシメチルシランから成る組成物を触媒として用いたα−メチルスチレンの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、ピバル酸コバルト３ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）、ＣＮＡｄ５ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ１００μＬを加え、溶解させた。そこに、ジエトキシメチルシラン５．３ｍｇ（０．０４ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で１時間撹拌した。その後、α−メチルスチレン（１２９μＬ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加えて、２５℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．９４ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表１に示す。 ［実施例４］触媒としてＣｏ₂（ＣＮＡｄ）₈を用いたα−メチルスチレンの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例２で得られたＣｏ₂（ＣＮＡｄ）₈（６．４ｍｇ，０．０００５ｍｍｏｌ）、α−メチルスチレン（１．２９ｍＬ，１０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２．５４ｍＬ，１３ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．９４ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表２に示す。 ［比較例２］触媒としてＣｏ₂（ＣＯ）₈を用いたα−メチルスチレンの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、Ｃｏ₂（ＣＯ）₈（１．７ｍｇ，０．０００５ｍｍｏｌ）、α−メチルスチレン（１．２９ｍＬ，１０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２．５４ｍＬ，１３ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．９４ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表２に示す。 ［実施例５］触媒としてＦｅ（ＣＮ^tＢｕ）₅を用いたスチレンの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例４で得られたＦｅ（ＣＮ^tＢｕ）₅（４．７ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）、スチレン（１１４μＬ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．９０ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表３に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：７．２４−７．２９（ｍ，２Ｈ），７．１３−７．２２（ｍ，３Ｈ），２．６１−２．６８（ｍ，２Ｈ），０．８６−０．９２（ｍ，２Ｈ），０．０８（ｓ，９Ｈ），０．０７（ｓ，６Ｈ）． ［実施例６］触媒としてＣｏ₂（ＣＮＭｅｓ）₈を用いた１−オクテンの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例３で得られたＣｏ₂（ＣＮＭｅｓ）₈（６．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、１−オクテン（１５７μＬ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．５０ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表３に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：１．２１−１．３７（ｍ，１２Ｈ），０．８８（ｔ，Ｊ＝６．８，３Ｈ），０．５０（ｍ，２Ｈ），０．０６（ｓ，９Ｈ），０．０３（ｓ，６Ｈ）． ［実施例７］触媒としてＣｏ₂（ＣＮＭｅｓ）₈を用いたスチレンの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例３で得られたＣｏ₂（ＣＮＭｅｓ）₈（６．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、スチレン（１１４μＬ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．９０ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表３に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：７．２４−７．２９（ｍ，２Ｈ），７．１３−７．２２（ｍ，３Ｈ），２．６１−２．６８（ｍ，２Ｈ），０．８６−０．９２（ｍ，２Ｈ），０．０８（ｓ，９Ｈ），０．０７（ｓ，６Ｈ）． ［実施例８］触媒としてＣｏ₂（ＣＮＡｄ）₈を用いたアリルグリシジルエーテルの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例２で得られたＣｏ₂（ＣＮＡｄ）₈（６．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、アリルグリシジルエーテル（１１８μＬ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．５１ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表３に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：３．７１（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，Ｊ＝３．９，１Ｈ）３．３７−３．５１（ｍ，３Ｈ），３．２６（ｄｔ，Ｊ＝２．９，Ｊ＝６．３，１Ｈ），２．６２（ｔ，Ｊ＝４．４，１Ｈ），２．６２（ｑ，Ｊ＝２．９，１Ｈ），１．５９−１．６５（ｍ，２Ｈ），０．４９−０．５３（ｍ，２Ｈ），０．０６（ｓ，９Ｈ）． ［実施例９］触媒としてＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈を用いたα−メチルスチレンの１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例１で得られたＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈（３．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、α−メチルスチレン（１２９μＬ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン（３５１μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．８８ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表４に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：７．２７（ｔ，Ｊ＝６．８，２Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝６．８，２Ｈ），７．１６（ｔ，Ｊ＝６．８，１Ｈ），２．９２（ｓｅｘｔ，Ｊ＝６．８，１Ｈ），１．２８（ｄ，Ｊ＝６．８，３Ｈ），０．８２−０．９４（ｍ，２Ｈ），０．０９（ｓ，９Ｈ），０．０７（ｓ，９Ｈ），−０．１２（ｓ，３Ｈ）． ［実施例１０］触媒としてＣｏ₂（ＣＮＡｄ）₈を用いたα−メチルスチレンのトリエトキシシランによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例２で得られたＣｏ₂（ＣＮＡｄ）₈（６．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、α−メチルスチレン（１２９μＬ，１．０ｍｍｏｌ）、トリエトキシシラン（２１３ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるフェニル基に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである３．００ｐｐｍの６重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表４に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：７．２７（ｔ，Ｊ＝６．８，２Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝６．８，２Ｈ），７．１５（ｔ，Ｊ＝６．８，１Ｈ），３．７３（ｑ，Ｊ＝６．８，６Ｈ），２．９６（ｓｅｘｔ，Ｊ＝６．８，１Ｈ），１．３１（ｄ，Ｊ＝６．８，３Ｈ），１．１８（ｍ，Ｊ＝６．８，９Ｈ），１．０３（ｄ，Ｊ＝６．８，２Ｈ）． ［実施例１１］触媒としてＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈を用いたα−メチルスチレンのジエトキシ（メチル）シランによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例１で得られたＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈（３．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、α−メチルスチレン（１２９μＬ，１．０ｍｍｏｌ）、ジエトキシ（メチル）シラン（１７５ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるフェニル基に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである２．９６ｐｐｍの６重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表４に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）δ：７．２７（ｔ，Ｊ＝６．８，２Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝６．８，２Ｈ），７．１５（ｔ，Ｊ＝６．８，１Ｈ），３．６３−３．７０（ｍ，４Ｈ），３．００（ｓｅｘｔ，Ｊ＝６．８，１Ｈ），１．３２（ｄ，Ｊ＝６．８，３Ｈ），１．２１（ｔ，Ｊ＝６．８，３Ｈ），１．１５（ｔ，Ｊ＝６．８，３Ｈ），１．０３（ｄ，Ｊ＝６．８，２Ｈ），−０．０８（ｓ，３Ｈ）． ［実施例１２］触媒としてＣｏ₂（ＣＮＡｄ）₈を用いたアリルグリシジルエーテルの両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ポリジメチルシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例２で得られたＣｏ₂（ＣＮＡｄ）₈（６．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、アリルグリシジルエーテル（１５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ポリジメチルシロキサン（重合度１８）（０．７４ｇ，０．５０ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．５４ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた（収率＞９９％）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）δ：３．７０（ｍ，１Ｈ），２．９５−２．９０（ｍ，２Ｈ），３．４５（ｍ，３Ｈ），３．１５（ｍ，１Ｈ），２．８０（ｍ，１Ｈ），２．６１（ｍ，１Ｈ），１．６２（ｍ，２Ｈ），０．５４（ｍ，２Ｈ），０．０８（ｂｒ），０．０５（ｓ），−０．０８（ｓ）． ［２］硫黄含有アルケンを基質として用いたヒドロシリル化反応
［実施例１３］触媒としてＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈を用いたエチルビニルスルフィドの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例１で得られたＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈（３．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、エチルビニルスルフィド（８８ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応終了後、シリカゲルクロマトグラフィーより分離精製を行い、目的生成物を２３９ｍｇ得た。その収率を表５に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：０．０８（ｓ，９Ｈ，−ＳｉＭｅ₃），０．１２（ｓ，３Ｈ），０．１６（ｓ，３Ｈ），０．９８（ｔ，Ｊ＝７．３２Ｈｚ，３Ｈ），１．５０−１．６５（ｍ，３Ｈ），１．６８−１．７１（ｍ，１Ｈ），１．７５−１．８１（ｍ，１Ｈ），２．４９（ｔ，２Ｈ）． ［実施例１４］触媒としてＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈を用いたフェニルビニルスルフィドの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例１で得られたＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈（６．０ｍｇ，０．００７５ｍｍｏｌ）、フェニルビニルスルフィド（６８ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２２３ｍｇ，１．５ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応終了後、クーゲルロール蒸留により分離精製を行い、目的生成物を１２９ｍｇ得た。その収率を表５に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：０．１１（ｓ，９Ｈ），０．１８（ｓ，３Ｈ），０．２０（ｓ，３Ｈ），１．３１（ｄ，Ｊ＝７．７３Ｈｚ，３Ｈ），２．５４（ｑ，Ｊ＝７．０９Ｈｚ，１Ｈ），７．２８（ｄｄ，Ｊ＝７．７３，９．６７Ｈｚ，１Ｈ），７．２８（ｄ，Ｊ＝７．７３Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝９．６７Ｈｚ，２Ｈ）． ［実施例１５］触媒としてＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈を用いたメチルアリルスルフィドの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例１で得られたＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈（３．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、メチルアリルスルフィド（８８ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応終了後、シリカゲルクロマトグラフィーより分離精製を行い、目的生成物を２０９ｍｇ得た。その収率を表５に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：０．０８（ｓ，９Ｈ），０．１３（ｓ，３Ｈ），０．１６（ｓ，３Ｈ），１．０６（ｔ，Ｊ＝７．１４Ｈｚ，３Ｈ），１．５７−１．６２（ｍ，２Ｈ），１．７５−１．８１（ｍ，１Ｈ），２．０９（ｓ，３Ｈ）． ［実施例１６］触媒としてＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈を用いたｎ−プロピルアリルスルフィドの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例１で得られたＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈（３．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、ｎ−プロピルアリルスルフィド（１１６ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応終了後、シリカゲルクロマトグラフィーより分離精製を行い、目的生成物を２３９ｍｇ得た。その収率を表５に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：０．０８（ｓ，９Ｈ），０．１２（ｓ，３Ｈ），０．１６（ｓ，３Ｈ），０．９８（ｔ，Ｊ＝７．３２Ｈｚ，３Ｈ），１．５０−１．６５（ｍ，３Ｈ），１．６８−１．７１（ｍ，１Ｈ），１．７５−１．８１（ｍ，１Ｈ），２．４９（ｔ，２Ｈ）． ［実施例１７］触媒としてＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈を用いたフェニルアリルスルフィドの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例１で得られたＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈（９．７ｍｇ，０．０１２５ｍｍｏｌ）、フェニルアリルスルフィド（７５ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（１２７μＬ，０．６５ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応終了後、クーゲルロール蒸留により分離精製を行い、目的生成物を１４２ｍｇ得た。その収率を表５に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（６００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：０．１０（ｓ，９Ｈ），０．１９（ｓ，３Ｈ），０．１９（ｓ，３Ｈ），１．３１（ｔ，Ｊ＝７．４２Ｈｚ，３Ｈ），１．６７（ｄｑｄ，Ｊ＝６．０４，７．４２，１３．７４Ｈｚ，１Ｈ），１．８１（ｄｑｄ，６．０４，７．４２，１３．７４Ｈｚ，１Ｈ），７．１４（ｔｄ，Ｊ＝７．４２，２．７５Ｈｚ，１Ｈ），７．２５−７．２６（ｍ，２Ｈ），７．３５（ｄｄ，Ｊ＝８．２４，１．１０Ｈｚ，２Ｈ）． ［実施例１８］触媒としてＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈を用いたベンジルアリルスルフィドの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例１で得られたＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈（３．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、ベンジルアリルスルフィド（１６４ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応終了後、クーゲルロール蒸留により分離精製を行い、目的生成物を２４５ｍｇ得た。その収率を表５に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：０．０５（ｓ，９Ｈ），０．０６（ｓ，３Ｈ），１．０１（ｔ，Ｊ＝７．３２Ｈｚ，３Ｈ），１．５３−１．６２（ｍ，１Ｈ），１．６３−１．６７（ｍ，１Ｈ），１．６９−１．８０（ｍ，１Ｈ），３．６６−３．７５（ｍ，２Ｈ），７．２２−７．３０（ｍ，５Ｈ）． ［比較例３］触媒としてＣｏ₂（ＣＯ）₈を用いたメチルアリルスルフィドの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例１で得たＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈（３．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、メチルアリルスルフィド（８８ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定した結果、原料のみが確認され、生成物は見られなかった（０％収率）。 ［３］窒素含有アルケンを基質として用いたヒドロシリル化反応
［実施例１９］触媒としてＣｏ₂（ＣＮＡｄ）₈を用いたＮ−アリルアニリンの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例２で得られたＣｏ₂（ＣＮＡｄ）₈（６．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、Ｎ−アリルアニリン（１３３ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．５９ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表６に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：０．０７（ｓ，１５Ｈ），０．５９（ｍ，２Ｈ），１．６３（ｍ，２Ｈ），３．１０（ｑ，Ｊ＝５．８，２Ｈ），３．６６（ｂｒ，１Ｈ），６．６０（ｄ，Ｊ＝７．７，２Ｈ），６．６８（ｔ，Ｊ＝７．７，１Ｈ），７．１７（ｔ，Ｊ＝７．２，２Ｈ）． ［実施例２０］触媒としてＣｏ₂（ＣＮＡｄ）₈を用いたＮ，Ｎ−ジエチルアリルアミンの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例２で得られたＣｏ₂（ＣＮＡｄ）₈（６．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジエチルアリルアミン（１１３ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．４６ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表６に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：０．０３（ｓ，９Ｈ），０．０４（ｓ，３Ｈ），０．０５（ｓ，３Ｈ），０．４６（ｍ，２Ｈ），１．０２（ｔ，Ｊ＝７．４，６Ｈ），１．４７（ｍ，２Ｈ），２．４０（ｔ，Ｊ＝８．０，２Ｈ），２．５２（ｑ，Ｊ＝７．４，４Ｈ）． ［実施例２１］触媒としてＣｏ₂（ＣＮＭｅｓ）₈を用いた９−ビニルカルバゾールの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例３で得られたＣｏ₂（ＣＮＭｅｓ）₈（６．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、溶媒としてのＮ−メチルピロリドン（１００μＬ）、９−ビニルカルバゾール（１９３ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである１．１６ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表６に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：０．１５（ｓ，６Ｈ），０．１７（ｓ，９Ｈ），１．１６（ｍ，２Ｈ），４．３８（ｍ，２Ｈ），７．２３（ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，２Ｈ），７．３９（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，２Ｈ），７．４７（ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，２Ｈ），８．１１（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，２Ｈ）． ［実施例２２］触媒としてＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈を用いたＮ−ビニルフタルイミドの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例１で得られたＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈（３．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、溶媒としてのＤＭＥ（１００μＬ）、Ｎ−ビニルフタルイミド（１７３ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである１．０３ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表６に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：０．０７（ｓ，９Ｈ），０．１４（ｓ，６Ｈ），１．０３（ｍ，２Ｈ），３．７５（ｍ，２Ｈ），７．６９−７．８０（ｍ，４Ｈ）． ［実施例２３］触媒としてＣｏ₂（ＣＮＡｄ）₈を用いたＮ−ビニル−２−ピロリドンの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例２で得られたＣｏ₂（ＣＮＡｄ）₈（６．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン（１１１ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．８１ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表６に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：０．０８（ｓ，９Ｈ），０．１０（ｓ，６Ｈ），０．８２（ｍ，２Ｈ），２．００（ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝７．２，２Ｈ），２．３６（ｔ，Ｊ＝７．７，２Ｈ），３．３６（ｍ，４Ｈ）． ［比較例４］触媒としてＣｏ₂（ＣＯ）₈を用いたＮ−ビニル−２−ピロリドンの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、Ｃｏ₂（ＣＯ）₈（１．７ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン（１１１ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．８１ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表６に示す。 ［４］炭素−酸素不飽和結合または炭素−窒素不飽和結合を有する化合物を基質として用いたヒドロシラン還元反応
［実施例２４］触媒としてＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈を用いたアセトフェノンのジメチルフェニルシランによるヒドロシラン還元反応
反応容器に、合成例１で得られたＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈（３．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、アセトフェノン（１２０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、ジメチルフェニルシラン（１７７ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。その結果を表７に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：０．２８（ｓ，３Ｈ），０．３３（ｓ，３Ｈ），１．４２（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），４．８５（ｑ，６．４Ｈｚ，１Ｈ），７．１６−７．４１（ｍ，８Ｈ），７．５３−７．５９（ｍ，２Ｈ）． ［実施例２５］触媒としてＦｅ（ＣＮ^tＢｕ）₅を用いたアセトフェノンの１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンによるヒドロシラン還元反応
反応容器に、合成例４で得られたＦｅ（ＣＮ^tＢｕ）₅（４．７ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）、アセトフェノン（１２０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（１４７ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。その結果を表７に示す。
１：１付加体（ａ）；¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：０．０２（ｓ，３Ｈ），０．１０（ｓ，３Ｈ），０．１３（ｄ，Ｊ＝３．０，３Ｈ），０．１４（ｄ，Ｊ＝３．０，３Ｈ），１．４６（ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，３Ｈ），４．６６（ｍ，１Ｈ），４．９８（ｑ，６．４Ｈｚ，１Ｈ），７．１９−７．３７（ｍ，５Ｈ）．
１：２付加体（ｂ）；¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：０．０５−０．１７（ｍ，１２Ｈ），１．４４（ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，６Ｈ），４．９４（ｑ，６．４Ｈｚ，２Ｈ），７．１９−７．３７（ｍ，１０Ｈ）． ［比較例５］触媒としてＦｅ₂（ＣＯ）₉を用いたアセトフェノンの１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンによるヒドロシラン還元反応
反応容器に、Ｆｅ₂（ＣＯ）₅（１．８ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、アセトフェノン（１２０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（１４７ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。その結果を表７に示す。 ［実施例２６］触媒としてＣｏ₂（ＣＮＭｅｓ）₈を用いたＮ，Ｎ−ジメチルベンズアミドのジフェニルシランによるヒドロシラン還元反応
反応容器に、合成例３で得られたＣｏ₂（ＣＮＭｅｓ）₈（６．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド（１４９ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、ジフェニルシラン（２３９ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。その結果を表８に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：２．２４（ｓ，６Ｈ），３．４２（ｓ，２Ｈ），７．３０−７．３８（ｍ，５Ｈ）． ［実施例２７］触媒としてＦｅ（ＣＮ^tＢｕ）₅を用いたＮ，Ｎ−ジメチルベンズアミドの１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンによるヒドロシラン還元反応
反応容器に、合成例４で得られたＦｅ（ＣＮ^tＢｕ）₅（４．７ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド（１４９ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（１４７ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。その結果を表８に示す。 ［比較例６］触媒としてＣｏ₂（ＣＯ）₈を用いたＮ，Ｎ−ジメチルベンズアミドのジフェニルシランによるヒドロシラン還元反応
反応容器に、Ｃｏ₂（ＣＯ）₈（１．７ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド（１４９ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、ジフェニルシラン（２３９ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。その結果を表８に示す。 ［実施例２８］触媒としてＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈を用いたアセトニトリルの１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンによるヒドロシラン還元反応
反応容器に、合成例１で得られたＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈（３．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、アセトニトリル（４１ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（１４７ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。その結果を表９に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：０．１８（ｓ，６Ｈ），０．１９（ｓ，６Ｈ），１．０２（ｔ，Ｊ＝６．４，３Ｈ），２．８８（ｑ，Ｊ＝６．４，２Ｈ）． ［比較例７］触媒としてＣｏ₂（ＣＯ）₈を用いたアセトニトリルの１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンによるヒドロシラン還元反応
反応容器に、Ｃｏ₂（ＣＯ）₈（１．７ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、アセトニトリル（４１ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（１４７ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。その結果を表９に示す。 ［５］炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を基質として用いた水素化反応
［実施例２９］触媒としてＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈を用いた１−オクテンの水素化反応
オートクレーブ用反応容器に、合成例１で得られたＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈（６．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、１−オクテン（１．１２ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加え、１０ａｔｍ水素を導入し、８０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。その結果を表１０に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ）δ＝０．８８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ），１．１６−１．３６（ｍ，１２Ｈ）． ［実施例３０］触媒としてＦｅ（ＣＮ^tＢｕ）₅を用いたスチレンの水素化反応
オートクレーブ用反応容器に、合成例４で得られたＦｅ（ＣＮ^tＢｕ）₅（４．７ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）、スチレン（１．０４ｇ，１０ｍｍｏｌ）を加え、１０ａｔｍ水素を導入し、８０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。その結果を表１０に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，４００ＭＨｚ）δ＝１．１３（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），２．５４（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．０２−７．２０（ｍ，５Ｈ）． ［実施例３１］触媒としてＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈を用いたα−メチルスチレンのトリエチルシランによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例１で得られたＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈（３．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、α−メチルスチレン（１２９μＬ，１．０ｍｍｏｌ）、トリエチルシラン（１５１ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物における２．８６ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表１１に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：７．２１−７．２７（ｍ，４Ｈ），７．１５−７．１７（ｍ，１Ｈ），２．８６（ｓｅｘｔ，Ｊ＝６．８，１Ｈ），１．２７（ｄ，Ｊ＝６．８，３Ｈ），０．９８（ｄｄ，Ｊ＝１４．８，６．８Ｈｚ，１Ｈ），０．９０（ｄｄ，Ｊ＝１４．８，６．８Ｈｚ，１Ｈ），０．８６（ｔ，Ｊ＝８．０，９Ｈ），０．３４−０．４８（ｍ，６Ｈ）． ［実施例３２］触媒としてＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈を用いたα−メチルスチレンのジメチルフェニルシランによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例１で得られたＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈（３．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、α−メチルスチレン（１２９μＬ，１．０ｍｍｏｌ）、ジメチルフェニルシラン（１７７ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物における２．８５ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表１１に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：７．４４−７．４７（２Ｈ，ｍ），７．３１−７．３４（３Ｈ，ｍ），７．２１−７．２６（２Ｈ，ｍ），７．１１−７．１７（３Ｈ，ｍ），２．８５（ｓｅｘｔ，Ｊ＝６．８，１Ｈ），１．２３（ｄ，Ｊ＝６．８，３Ｈ），１．２２（ｄｄ，Ｊ＝１４．８，６．８Ｈｚ，１Ｈ），１．１５（ｄｄ，Ｊ＝１４．８，６．８Ｈｚ，１Ｈ），０．１５（ｓ，３Ｈ），０．０９（ｓ，３Ｈ）． ［実施例３３］触媒としてＣｏ₂（ＣＮＡｄ）₈を用いたα−メチルスチレンの両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ポリジメチルシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例２で得られたＣｏ₂（ＣＮＡｄ）₈（６．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、α−メチルスチレン（１．５３ｍｇ，１３ｍｍｏｌ）、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ポリジメチルシロキサン（重合度１８）（７．４ｇ，５．０ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．９８ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた（収率＞９９％）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：７．２７（ｔ，Ｊ＝６．８，２Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝６．８，２Ｈ），７．１５（ｔ，Ｊ＝６．８，１Ｈ），２．９２（ｓｅｘｔ，Ｊ＝６．８，１Ｈ），１．２８（ｄ，Ｊ＝６．８，３Ｈ），０．９０−０．９８（ｍ，２Ｈ），０．０５（ｓ），−０．０５（ｓ），−０．０７（ｓ）． ［実施例３４］Ｃｏ₂（ＣＮＭｅｓ）₈を空気中で２４時間放置した後、それを触媒として用いたα−メチルスチレンの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
グローブボックス内で、反応容器に、合成例３で得られたＣｏ₂（ＣＮＭｅｓ）₈（６．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）を加えた。その反応容器をグローブボックスの外へ出し、空気中室温で２４時間放置した。その後、反応容器をグローブボックス内に持ち込みα−メチルスチレン（１２９μＬ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、２５℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．９４ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた（収率＞９９％）。 ［実施例３５］触媒としてＦｅ（ＣＮＡｄ）₅を用いたスチレンの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例５で得られたＦｅ（ＣＮＡｄ）₅（８．６ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）、スチレン（１１４μＬ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．９０ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表１２に示す。 ［実施例３６］触媒としてＦｅ（ＣＮＡｄ）₅を用いたスチレンのジエトキシ（メチル）シランによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例５で得られたＦｅ（ＣＮＡｄ）₅（８．６ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）、スチレン（１１４μＬ，１．０ｍｍｏｌ）、ジエトキシ（メチル）シラン（１７５ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．９０ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表１２に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：７．２０（ｍ，５Ｈ），３．８０（ｍ，４Ｈ）２．６８−２．７２（ｍ，２Ｈ），１．２３（ｔ，Ｊ＝６．８，６Ｈ），０．９７−１．０１（ｍ，２Ｈ），０．１２（ｓ，３Ｈ）． ［実施例３７］触媒としてＦｅ（ＣＮＡｄ）₅を用いたスチレンの両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ポリジメチルシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例５で得られたＦｅ（ＣＮＡｄ）₅（８．６ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）、スチレン（１５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ポリジメチルシロキサン（重合度１８）（０．７４ｇ，０．５０ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．９０ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表１３に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：７．２４−７．２９（ｍ，２Ｈ），７．１３−７．２２（ｍ，３Ｈ），２．６１−２．６８（ｍ，２Ｈ），０．８６−０．９２（ｍ，２Ｈ），０．０８（ｓ），０．０７（ｓ）． ［実施例３８］触媒としてＮｉ（ＣＮ^tＢｕ）₄を用いたスチレンの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例６で得られたＮｉ（ＣＮ^tＢｕ）₄（３．９ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）、スチレン（１１４μＬ，０．０１ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである２．６５ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた（収率３９％）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：７．２２−７．２９（ｍ，５Ｈ），２．６５（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），１．３５（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），０．０１（ｓ，９Ｈ），−０．０１（ｓ，３Ｈ），−０．０２（ｓ，３Ｈ）． ［実施例３９］触媒としてＣｏ₂（ＣＮＭｅｓ）₈を用いた１，１，１，３，３−ペンタメチル−３−ビニルジシロキサンの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例３で得られたＣｏ₂（ＣＮＭｅｓ）₈（６．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチル−３−ビニルジシロキサン（１７４ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で３時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．４０ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表１４に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：０．０３（ｓ，１２Ｈ），０．０６（ｓ，１８Ｈ），０．４０（ｓ，４Ｈ）． ［実施例４０］触媒としてＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈を用いたビニルトリエトキシシランの１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサンによるヒドロシリル化反応
反応容器に、合成例１で得られたＣｏ₂（ＣＮ^tＢｕ）₈（３．４ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）、ビニルトリエトキシシラン（１９０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン（２５４μＬ，１．３ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して生成物の構造と収率を決定した。目的生成物におけるケイ素に隣接する炭素上のプロトンのシグナルである０．５０ｐｐｍの多重線を確認し、その収率を求めた。その結果を表１４に示す。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３９６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：３．７８（６Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．１９（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），０．４７−０．５３（４Ｈ，ｍ），０．０２（９Ｈ，ｓ），０．００（６Ｈ，ｓ）．