再表2020-136467半導体装置、および半導体装置の作製方法

発明の名称　半導体装置、および半導体装置の作製方法

出願人　株式会社半導体エネルギー研究所　（識別番号 153878）

　　　　特許公開件数ランキング 15 位（352件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 19 位（317件）（共同出願を含む）

公報番号　再表-2020-136467

公報発行日　2021年12月23

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-S-2020-136467

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