特表2015-500003(P2015-500003A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特表2015-500003反応容器及び試料マトリクスを含むアセンブリ、試料マトリクス上方吸着性層及び下方横流れ層を含む試料マトリクス
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