特表2016-526783(P2016-526783A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特表2016-526783チョクラルスキ法で成長したインゴットからスライスされた高ドープシリコンウエハ中の酸素析出
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  • 特表2016526783-チョクラルスキ法で成長したインゴットからスライスされた高ドープシリコンウエハ中の酸素析出 図000003
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