特表2017-510932処理装置内のイオン角度分布のその場制御

発明の名称　処理装置内のイオン角度分布のその場制御

出願人　ヴァリアン　セミコンダクター　イクイップメント　アソシエイツ　インコーポレイテッド　（識別番号 500239188）

　　　　特許公開件数ランキング 31533 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 25576 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特表-2017-510932

公報発行日　2017年4月13

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-T-2017-510932

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