特表2018-521067(P2018-521067A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特表2018-521067カルボニルストレス及び酸化ストレスに対して活性な、金属及び/又はフリーラジカルキレート化モチーフと会合する近接第1級ジアミン、並びにその使用