特表2019-530874(P2019-530874A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2015.5.11 β版

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特表2019-530874アタッチメントを備えるエンボス装飾を作る方法
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】特表2019-530874(P2019-530874A)
(43)【公表日】2019年10月24日
(54)【発明の名称】アタッチメントを備えるエンボス装飾を作る方法
(51)【国際特許分類】
   G04B 45/00 20060101AFI20190927BHJP
   G04B 19/06 20060101ALI20190927BHJP
   G04B 19/04 20060101ALI20190927BHJP
【FI】
   G04B45/00 D
   G04B19/06 A
   G04B19/04 Z
【審査請求】有
【予備審査請求】未請求
【全頁数】13
(21)【出願番号】特願2019-517769(P2019-517769)
(86)(22)【出願日】2017年9月22日
(85)【翻訳文提出日】2019年4月1日
(86)【国際出願番号】EP2017074084
(87)【国際公開番号】WO2018069023
(87)【国際公開日】20180419
(31)【優先権主張番号】16193773.5
(32)【優先日】2016年10月13日
(33)【優先権主張国】EP
(81)【指定国】 AP(BW,GH,GM,KE,LR,LS,MW,MZ,NA,RW,SD,SL,ST,SZ,TZ,UG,ZM,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,RU,TJ,TM),EP(AL,AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,RS,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GQ,GW,KM,ML,MR,NE,SN,TD,TG),AE,AG,AL,AM,AO,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BH,BN,BR,BW,BY,BZ,CA,CH,CL,CN,CO,CR,CU,CZ,DE,DJ,DK,DM,DO,DZ,EC,EE,EG,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,GT,HN,HR,HU,ID,IL,IN,IR,IS,JO,JP,KE,KG,KH,KN,KP,KR,KW,KZ,LA,LC,LK,LR,LS,LU,LY,MA,MD,ME,MG,MK,MN,MW,MX,MY,MZ,NA,NG,NI,NO,NZ,OM,PA,PE,PG,PH,PL,PT,QA,RO,RS,RU,RW,SA,SC,SD,SE,SG,SK,SL,SM,ST,SV,SY,TH,TJ,TM,TN,TR,TT
(71)【出願人】
【識別番号】506425538
【氏名又は名称】ザ・スウォッチ・グループ・リサーチ・アンド・ディベロップメント・リミテッド
(74)【代理人】
【識別番号】100098394
【弁理士】
【氏名又は名称】山川 茂樹
(74)【代理人】
【識別番号】100064621
【弁理士】
【氏名又は名称】山川 政樹
(72)【発明者】
【氏名】ヴュイユ,ピエリ
(72)【発明者】
【氏名】ウィンクレ,イヴ
(57)【要約】
本発明は、少なくとも1つのアタッチメントを有しているエンボスエンベロープによって形成された装飾を作る方法であって、このエンベロープの内面が装飾を固定するように構成しているものに関する。
【選択図】 図4
【特許請求の範囲】
【請求項1】
少なくとも1つのアタッチメント(13)を備える装飾(15)を作る方法であって、
(a)材料(7)でできたエンベロープ(9)を形成するステップと、
(b)前記少なくとも1つのアタッチメントを形成するステップと、及び
(c)可能性としては前記エンベロープによって形成される空洞の体積を満たす前に、前記ステップ(a)の間に形成された前記装飾(15)の前記エンベロープ(9)の内面(SI)に対向するように直接前記少なくとも1つのアタッチメントを固定するステップと
を備え、前記エンベロープ(9)の外面(SE)が前記装飾(15)の目に見えるエンボス部分を形成する方法。
【請求項2】
前記ステップ(a)は、
(a1)基材(1)に前記装飾のインプリント(3)を形成する段階と、及び
(a2)前記インプリントを材料(7)の層でカバーする段階と
を備える請求項1に記載の方法。
【請求項3】
前記ステップ(a)は、さらに、最後に、
(a3)材料(7)でできたエンベロープ(9)を得るように前記基材(1)を除去する段階を備え、前記エンベロープ(9)の外面(SE)が前記装飾の目に見えるエンボス部分を形成する
請求項2に記載の方法。
【請求項4】
前記ステップ(a)は、
(a4)材料(7)でできたシートを得る段階と、及び
(a5)材料(7)でできたエンベロープ(9)を形成するように前記材料(7)でできたシートを変形させる段階と
を備える請求項1に記載の方法。
【請求項5】
前記ステップ(a)は、さらに、最後に、
(a6)エンベロープ(9)を得るようにシートの残りから前記エンベロープを除去する段階を備え、前記エンベロープ(9)の外面(SE)が前記装飾の目に見えるエンボス部分を形成する
請求項4に記載の方法。
【請求項6】
前記ステップ(a)は、
(a7)前記装飾のための型を形成する段階と、及び
(a8)材料(9)のエンベロープ(9)を形成するように前記材料(7)で前記型をカバーする段階と
を備える請求項1に記載の方法。
【請求項7】
前記ステップ(a)は、さらに、最後に、
(a9)エンベロープ(9)を得るように前記型を除去する段階を備え、前記エンベロープ(9)の外面(SE)が前記装飾の目に見えるエンボス部分を形成する
請求項6に記載の方法。
【請求項8】
前記エンベロープ(9)の前記材料(7)は、貴金属を含有する
請求項1〜7のいずれかに記載の方法。
【請求項9】
前記装飾(15)は、計時器のベゼル、表盤、アップリケ又は針のすべて又は一部を形成する
請求項1〜8のいずれかに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、部品に固定することを可能にするアタッチメントを備えるエンボス装飾に関する。
【背景技術】
【0002】
アップリケの形態である時刻インデックスを作ることが知られている。これは、機械加工され、各アップリケの足を表盤の本体にリベット付けすることなどによって表盤に取り付けられる堅固な部品である。
【0003】
このようなアップリケは個別に製造することが必要であり、目に見える面の色付けをして仕上げることが難しいために、特に複雑になっている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明の目的は、色や仕上がりを確実にし、棄却率を下げるように構成しており、自動化でき、少ない材料しか用いず、用いることができる材料の範囲を広げるような製造方法を提案することによって、上記の課題の一部又はすべてを緩和することである。
【課題を解決するための手段】
【0005】
このために、本発明は、アタッチメントを備える装飾を作る方法に関し、
(a)材料でできたエンベロープを形成するステップと、及び
(b)前記装飾を前記エンベロープの内面に対向するように固定するために少なくとも1つのアタッチメントをマウントするステップと
を備え、前記エンベロープの外面が前記装飾の目に見えるエンボス部分を形成する。
【0006】
このように、当該方法が、少なくとも1つのアタッチメントを備えるエンボス装飾であって、このアタッチメントのエンベロープが、材料の「スキン」、すなわち、材料の所定の厚み、を形成し、残りの体積には前記材料がないようなものの製造を可能にすることは明らかである。このことによって、装飾の材料のコスト及び重量を非常に大きく減らすことができる。
【0007】
したがって、装飾の全体ではなくエンベロープの厚みにおいてのみ貴金属をベースとする材料を用いることによって、必要なコストを抑えつつ、例えば、目に見えるエンボス面が金のような貴金属をベースにしているアップリケを作ることができる。
【0008】
また、本発明によると、前記少なくとも1つのアタッチメントのために用いられる材料は、好ましいことに、エンベロープに用いられる材料にまったく依存しないようにできる。したがって、例えば、黄銅のようなより通常の金属又は様々な成形が可能になる高分子材料によってアタッチメントを作ることができる。
【0009】
最後に、当該方法には、少ない数のステップしかなく、自動化できる。すなわち、装飾のコストを下げるように製造の一部又は全体をオートマトンに支援されて行うことができる。
【0010】
本発明の他の好ましい変種において、
− 前記ステップ(a)は、
(a1)基材に前記装飾のインプリントを形成する段階と、及び
(a2)その後に、前記インプリントを材料の層でカバーする段階と
を備え、適用可能な場合、
(a3)材料でできたエンベロープを得るように前記基材を除去する段階
を備え、前記エンベロープの外面が前記装飾の目に見えるエンボス部分を形成する。
− 前記ステップ(a)は、
(a4)材料でできたシートを得る段階と、及び
(a5)その後に、材料でできたエンベロープを形成するように前記材料でできたシートを変形させる段階と
を備え、適用可能な場合、
(a6)エンベロープを得るようにシートの残りから前記エンベロープを除去する段階
を備え、前記エンベロープの外面が前記装飾の目に見えるエンボス部分を形成する。
− 前記ステップ(a)は、
(a7)前記装飾のための型を形成する段階と、及び
(a8)その後に、材料でできたエンベロープを形成するために材料で前記型をカバーする段階と
を備え、適用可能な場合、
(a9)エンベロープを得るように前記型を除去する段階
を備え、前記エンベロープの外面が前記装飾の目に見えるエンボス部分を形成する。
− 前記ステップ(b)は、
(b1)前記少なくとも1つのアタッチメントを形成する段階と、及び
(b2)その後に、前記少なくとも1つのアタッチメントを前記ステップ(a)において形成された装飾のエンベロープの内面に対向するように固定する段階
を備える。
− 前記ステップ(b)は、
(b3)前記少なくとも1つのアタッチメントを形成するように、前記ステップ(a)において形成された前記装飾のエンベロープの内面を材料で満たす段階を備える。
− 前記エンベロープの前記材料は、貴金属を含有する。
− 前記装飾は、計時器のベゼル、表盤、アップリケ又は針のすべて又は一部を形成する。
【0011】
添付の図面を参照しながら非限定的な例として与えられる以下の説明を読むことで、他の特定の特徴及び利点が明確になるであろう。
【図面の簡単な説明】
【0012】
図1】本発明に係るステップ(a)を示している。
図2】本発明に係るステップ(b)を示している。
図3】本発明に係る装飾を示している。
図4】本発明に係る装飾を示している。
【発明を実施するための形態】
【0013】
本発明は、例えば、計時器のベゼル、表盤、アップリケ又は針のすべて又は一部を形成することができる、アタッチメントを備えるエンボス装飾を作る方法に関する。実際に、これらの装飾は、審美性と耐久性の理由のために、一般的には、大気の酸化雰囲気に対して比較的非感受性である材料によって作られる。最高級の計時器においては、時インデックス、表盤又は針が金のような貴金属によって作られており、計時器のケーシングが非常に高価であることが比較的多い。
【0014】
本方法は、貴金属をベースとするときにも装飾を手頃な価格にすることを目的に、材料でできたエンベロープを形成することを意図している第1のステップ(a)を備え、前記エンベロープの外面SEが装飾の目に見えるエンボス部分を形成する。
【0015】
したがって、当該装飾に、材料の「スキン」、すなわち、材料の所定の厚み、を形成するようなエンボスエンベロープがあることは明らかである。残りの体積には前記材料がない。このことによって、当該材料のコスト及び装飾の質量を非常に大きく減少させることが可能になる。したがって、装飾の全体ではなくエンベロープの厚みにのみ貴金属をベースとする材料を用いることによって必要なコストを抑えつつ、例えば、目に見えるエンボス面が金のような貴金属をベースにしているアップリケを作ることができる。
【0016】
第1の実施形態において、第1のステップ(a)は、図1Aに示しているように、基材1に前記装飾のインプリント3を形成することを意図している第1の段階(a1)を備えることができる。基材1は、ケイ素、セラミックス又は金属をベースとするもののような様々な種類のものであることができる。
【0017】
第1の実施形態において、ステップ(a)は、将来的な装飾のエンベロープ9を形成するように意図されている材料の層7でインプリント3をカバーするように意図されている第2の段階(a2)に続く。材料の層7は、例えば、直流電気成長、物理的気相成長(PVD)、化学的気相成長(CVD)、原子層堆積(ALD)又は他の追加的な方法によって堆積することができる。
【0018】
図1B及び1Cに示しているように、必要なエンベロープ9の性質、基材1の性質及び堆積方法に依存して、第2の段階(a2)は、基材1を用意することを伴うことができ、その後にのみ、エンベロープ9の材料7を堆積させる。
【0019】
図1Bに示しているように、基材1の用意は、材料7が基材1に付着することが可能になるように意図される。したがって、この用意は、基材1の外面の少なくとも一部を粗くすること、及び/又は基材1の上面の少なくとも一部上にボンディング層を堆積させること、及び/又は基材1の上面の少なくとも一部上に技術的な層を堆積させることを行って、図1Cに示しているように材料7の堆積を可能にすることを伴うことができる。
【0020】
もちろん、堆積方法に依存して、基材1の上面のすべて又は一部上に、そして、少なくとも将来的な装飾15のインプリント3を必ずしも完全に満たさずにカバーするような形態で、層7を堆積させることができる。
【0021】
図1B〜1Dの例は、非限定的な形態で、物理的気相成長によって基材1の上面の全体上に導電層5を堆積させ、この導電層5から、すなわち、基材1の上面の全体上に、直流電気成長によって層7を堆積させ、そして、エンベロープ9を形成するようにインプリント3においてのみ層7を残すことを提案している。この例によって、同じ基材1上に複数の異なる又は同一のエンベロープ9を作ることが可能になる。すなわち、エンベロープ9を大量生産することが可能になる。
【0022】
もちろん、上で説明したように、直流電気成長ではないタイプの堆積を用いることができる。また、代わりに、層7を直接、かつ、各インプリント3においてのみ堆積させることも同様に可能である。すなわち、図1Aから図1Dへと直接移行することができる。
【0023】
したがって、例えば、インプリント3をカバーしない犠牲層を用いることができる。層7を堆積させた後にこの犠牲層を除去して、インプリント3においてのみ層7が残るようにされる。この技術は「リフトオフ」として知られている。別の代替技術として、堆積させる材料の軌道上にてステンシルマスクを用いることことができる。これは、「ステンシルリソグラフィー」と呼ばれることがある。
【0024】
第2の実施形態において、ステップ(a)には、装飾15のエンベロープ9を形成するように意図されている材料でできたシートを用意するように意図している第1の段階(a4)がある。このステップ(a)は、その後に、前記材料でできたエンベロープを形成するように前記材料でできたシートを変形させるように意図されている第2の段階(a5)に続く。第1の実施形態と同様な形態で、同じ材料でできたシート上に複数の異なる又は同一のエンベロープ9を作ることができる。すなわち、エンベロープ9を大量生産することができる。同様に、そして、好ましいことに、フィルムを支持体として用いることができる。
【0025】
例えば、パラジウムや白金のような貴金属をベースとするアモルファス金属合金のシートを用いることができる。実際に、この種のアモルファス金属合金は、そのガラス転移温度とその結晶化温度の間に加熱されると変形しやすい。また、好ましいことに弾性限界が非常に高く、これによって、ケーシング部分への用途のために特に適していることができる。
【0026】
したがって、アモルファス金属合金の場合には、第2の段階(a5)は、例えば、スタンピング又はブロー成形によって行うことができる。
【0027】
最後に、第3の実施形態において、ステップ(a)には、前記装飾のための型を形成することを意図している第1の段階(a7)がある。これは、例えば、フォトリソグラフィーを用いて、将来的な装飾のパターンにしたがって構築された複数のレベルの感光性樹脂を形成することによる。この第3の実施形態は、第1の実施形態とは違ってポジタイプであることができる。すなわち、インプリント3を破壊的に形成するのではなく、例えば、フォトリソグラフィーによって付加的な形態で形成する。
【0028】
第3の実施形態において、ステップ(a)は、材料でできたエンベロープ9を直接又は間接的に形成するように材料の型をカバーするように意図している第2の段階(a8)を備える。実際に、装飾15の形に依存して、型が第1の実施形態と同様な材料の層7でカバーされるか、又は型が満たされて重いブランクを形成してこの重いブランクが後でエンベロープ9を間接的に得るように空にされる。
【0029】
当該方法は、第1のステップ(a)の実施形態にかかわらず、堆積の方法、堆積される材料及び基材1、シート又は型の粗さに依存する色と仕上がりとなるようなエンベロープ9の外面SEを非常に複製可能な形態で用意することを可能にする。
【0030】
当該方法は、第1のステップ(a)の実施形態にかかわらず、エンベロープ9の内面SIに対向し装飾15を固定するように構成している少なくとも1つのアタッチメント13をマウントするように意図している第2のステップ(b)に続く。
【0031】
本発明によると、前記少なくとも1つのアタッチメント13に用いられる材料は、エンベロープ9に用いられる材料にまったく依存しないようにすることができる。したがって、例えば、黄銅のようなより一般的な金属で、あるいはエンベロープ9の外面SEの色又は仕上がりのいずれかを変更せずに広範囲の成形を可能にするような高分子材料で、アタッチメント13を作ることができる。
【0032】
第1の実施形態において、ステップ(b)は、図2Bに示しているように、前記少なくとも1つのアタッチメント13を形成することを意図している第1の段階(b1)を備え、その後に、ステップ(a)の間に形成されたエンベロープ9の内面SIに対向するように前記少なくとも1つのアタッチメントを固定するように意図している第2の段階(b2)を備える。
【0033】
本発明に係る段階(b1)は、好ましいことに、任意の好ましいタイプの方法によって実行することができる。実際に、用意される一又は複数のアタッチメントがエンベロープ9のために選ばれる材料に依存しないために、前記少なくとも1つのアタッチメント13の材料について、又は前記少なくとも1つのアタッチメント13を作る方法について、制限は課されない。
【0034】
例として、図2Bは、断面が円形であるプリズム的な物体の形態のアタッチメントを示している。もちろん、代わりに、段階(b1)において、一体的な形態又は他の形態の複数のアタッチメント13を形成することができる。実際に、2つのアタッチメント13がステープルのような基部によって連結されて一体的な要素を形成したり、複数の独立したアタッチメント13を形成することを想像することができる。
【0035】
本発明に係る段階(b2)は、複数のタイプの好ましい方法を用いて実行することができる。実際に、用意される一又は複数のアタッチメント及び用意されるエンベロープ9に応じて、複数のタイプの固定具を思い描くことができる。非限定的な形態で、エンベロープ9の内面SIに対向するように各アタッチメント13を接着剤で接着、溶接、ろう付けすることを思い描くことができる。
【0036】
図2B〜2Dの非限定的な例は、エンベロープ9の内面SIに対向するように接着剤のような固定材料11を堆積し、その後に、前記固定材料の層11を介してエンベロープ9の内面SIに対向するように前記少なくとも1つのアタッチメント13を嵌めることを提案している。この例によって、同じ基材1上に複数の異なる又は同一の装飾15を作ることができる。すなわち、基材1から解放された後に装飾15の大量生産を行うことができる。
【0037】
この利点が、ステップ(a)の他の2つの実施形態、すなわち、同じシート又は同じ型を用いるもの、においても保持されることには注目すべきである。
【0038】
第2の実施形態において、ステップ(b)は、代わりに、エンベロープ9の内面SIを前記少なくとも1つのアタッチメント13を形成する材料で満たすように意図している段階(b3)を備えることができる。実際に、例えば、一又は複数の注入ストークによって前記少なくとも1つのアタッチメント13の形成が可能になるようなエンベロープ9の内面SIに接着性の高分子材料を注入することを想像することができる。もちろん、所定の形を注入物に与えることを可能にするマトリックスをエンベロープ9上にて用いることによって前記少なくとも1つのアタッチメント13を得ることができる。
【0039】
したがって、当該方法には、伝統的なアップリケの製造よりも少ない数のステップしかないことには注目すべきである。また、基材1、シート又は型をそれぞれ用いることによって、当該方法を自動化することができるようになることは直感的に明白である。すなわち、装飾15のコストを下げるためにオートマトンを部分的又は全体的に用いて製造を行うことができる。
【0040】
図2C、3、4に示している非限定的な例において、金などをベースとして形成されたエンボスエンベロープ9によって形成された装飾15を得ることができ、このエンボスエンベロープ9の外面SEは、装飾15の目に見える部分を形成する。Super-luminova(登録商標)のような発光物質などを受けるために又は特定の審美的な形態を作るために、凹部17を形成することができることは明白である。
【0041】
装飾15には、さらに、接着剤11によってエンベロープ9の内面SIに対向するように固定されるアタッチメント13がある。アタッチメント13は、表盤に形成された穴にリベット付けすることなどによって固定された後に、全体的にマスキングされ、外面SEのみが目に見え続けるようになり、色と仕上がりの点で装飾15を伝統的なアップリケと区別できないようにされる。
【0042】
もちろん、本発明は、図示した例に限定されず、当業者に明白な様々な改変や変種が可能である。より詳細には、ステップ(a)の終わりにおいて、ステップ(b)を実行する前に、基材1からエンベロープ9、シート又は型を除去することができる。
【0043】
また、エンベロープ9の内面SIは、同様に、前記少なくとも1つのアタッチメントの接着及び/又はポジショニングを改善するように意図された、溝やリブのような形を含んでいることができる。
【0044】
最後に、コーティングの場合には、図1Cに示しているように、本発明の利点を失わずに、過剰な材料7をステップ(a)にではなくステップ(b)の終わりにおいて行うことも思い描くことができる。
図1
図2
図3
図4
【国際調査報告】