特表2019-537238(P2019-537238A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2015.5.11 β版

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特表2019-537238モバイルデバイスの金属製囲い、金属製囲いのための製造方法及びモバイルデバイス
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】特表2019-537238(P2019-537238A)
(43)【公表日】2019年12月19日
(54)【発明の名称】モバイルデバイスの金属製囲い、金属製囲いのための製造方法及びモバイルデバイス
(51)【国際特許分類】
   H05K 9/00 20060101AFI20191122BHJP
   H05K 5/02 20060101ALI20191122BHJP
   H04M 1/02 20060101ALI20191122BHJP
   H01Q 1/44 20060101ALI20191122BHJP
   H01Q 1/24 20060101ALI20191122BHJP
【FI】
   H05K9/00 C
   H05K5/02 R
   H04M1/02 C
   H01Q1/44
   H01Q1/24 Z
【審査請求】有
【予備審査請求】未請求
【全頁数】40
(21)【出願番号】特願2019-510611(P2019-510611)
(86)(22)【出願日】2017年5月31日
(85)【翻訳文提出日】2019年3月28日
(86)【国際出願番号】CN2017086631
(87)【国際公開番号】WO2018058995
(87)【国際公開日】20180405
(31)【優先権主張番号】201610867934.4
(32)【優先日】2016年9月28日
(33)【優先権主張国】CN
(81)【指定国】 AP(BW,GH,GM,KE,LR,LS,MW,MZ,NA,RW,SD,SL,ST,SZ,TZ,UG,ZM,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,RU,TJ,TM),EP(AL,AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,RS,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GQ,GW,KM,ML,MR,NE,SN,TD,TG),AE,AG,AL,AM,AO,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BH,BN,BR,BW,BY,BZ,CA,CH,CL,CN,CO,CR,CU,CZ,DE,DJ,DK,DM,DO,DZ,EC,EE,EG,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,GT,HN,HR,HU,ID,IL,IN,IR,IS,JP,KE,KG,KH,KN,KP,KR,KW,KZ,LA,LC,LK,LR,LS,LU,LY,MA,MD,ME,MG,MK,MN,MW,MX,MY,MZ,NA,NG,NI,NO,NZ,OM,PA,PE,PG,PH,PL,PT,QA,RO,RS,RU,RW,SA,SC,SD,SE,SG,SK,SL,SM,ST,SV,SY,TH,TJ,TM,TN,TR,TT,TZ
(71)【出願人】
【識別番号】504161984
【氏名又は名称】ホアウェイ・テクノロジーズ・カンパニー・リミテッド
(74)【代理人】
【識別番号】110000877
【氏名又は名称】龍華国際特許業務法人
(72)【発明者】
【氏名】シー、ウェンミン
(72)【発明者】
【氏名】ルウ、ワンチュン
(72)【発明者】
【氏名】ワン、ヨンシャン
(72)【発明者】
【氏名】フアン、カイウェン
【テーマコード(参考)】
4E360
5E321
5J046
5J047
5K023
【Fターム(参考)】
4E360AA02
4E360AB04
4E360AB05
4E360AB42
4E360AB51
4E360BA02
4E360BD02
4E360CA02
4E360EA18
4E360ED22
4E360EE10
4E360EE12
4E360GA34
4E360GA51
4E360GB46
4E360GC02
4E360GC08
5E321AA01
5E321BB23
5E321BB60
5E321GG01
5E321GG05
5E321GH10
5J046AA12
5J046SA00
5J047AA12
5J047FD01
5K023AA07
5K023BB01
5K023BB28
5K023DD06
5K023LL06
5K023QQ02
5K023RR05
(57)【要約】
モバイルデバイスの金属製囲い、金属製囲いのための製造方法及びモバイルデバイスが開示される。モバイルデバイスの金属製囲いが筐体を備え、少なくとも1つの隙間が筐体の上に配置され、ここで、少なくとも1つの隙間が筐体を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間は絶縁物で充填され、筐体の表面に取り付けられている絶縁膜を更に備える。先述の実施形態において、隙間が筐体の上に設けられ、その結果、筐体が少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割される。各隙間は絶縁物で充填され、筐体の表面の隙間及び隙間の絶縁物がパーティションを形成し、その結果、筐体により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響を防ぎ、モバイルデバイスの通信機能が確保される。絶縁膜が筐体の表面に更にあり、絶縁膜が筐体の表面の隙間を覆う。その結果、隙間は外見上見えなくなり、金属製囲いが、統一された外観を有する。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
筐体
を備え、
少なくとも1つの隙間が前記筐体の上に設けられ、前記少なくとも1つの隙間が、前記筐体を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間は絶縁物で充填され、
前記筐体の表面に取り付けられている絶縁膜
を更に備える、
モバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項2】
前記絶縁膜が、金属酸化膜である、請求項1に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項3】
各隙間の幅が、0.01mmから2.0mmの範囲内にある、請求項1に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項4】
前記絶縁膜の厚さが、0.003mmから0.10mmの範囲内にある、請求項1に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項5】
前記筐体の空洞に固定されているプラスチック補強層を更に備える、請求項1に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項6】
前記筐体と前記絶縁膜との間に反射膜を更に備え、
前記反射膜が、前記筐体の前記表面の全体を覆う、請求項1に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項7】
前記筐体と前記絶縁膜との間に反射膜を更に備え、
前記反射膜が、前記少なくとも1つの隙間の表面を覆い、
2つ又はそれよりも多くの隙間が前記筐体の上に設けられる場合に、前記反射膜は、前記2つ又はそれよりも多くの隙間のうち隣接する隙間の間の領域を更に覆う、請求項1に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項8】
前記筐体の前記表面に配置される溝を更に備え、
前記少なくとも1つの隙間が、前記溝の底壁の上に設けられ、
前記溝の前記底壁を覆う反射膜が、前記溝に更に配置される、請求項1に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項9】
前記反射膜は、金属に似せた被覆である、請求項6から8の何れか一項に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項10】
前記反射膜は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる、請求項6から8の何れか一項に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項11】
請求項1に記載のモバイルデバイスの金属製囲いのための製造方法であって、
少なくとも1つの隙間を形成すべく前記筐体を切断する段階であって、前記少なくとも1つの隙間が前記筐体を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割する、切断する段階と、
各隙間を絶縁物で充填する段階と、
前記筐体の表面に絶縁膜を形成する段階と、
を備える、製造方法。
【請求項12】
前記筐体の表面に絶縁膜を形成する前記段階は、具体的には、
前記筐体の前記表面に金属膜を形成する段階と
陽極酸化により前記金属膜を金属酸化膜へと変える段階
である、請求項11に記載の製造方法。
【請求項13】
前記筐体と前記絶縁膜との間に反射膜を形成する段階を更に備え、
前記反射膜が、前記筐体の前記表面の全体を覆う、請求項11又は12に記載の製造方法。
【請求項14】
前記筐体と前記絶縁膜との間に反射膜を形成する段階を更に備え、
前記反射膜が、前記少なくとも1つの隙間の表面を覆い、
切断する段階によって、2つ又はそれよりも多くの隙間が前記筐体に形成される場合に、前記反射膜は、前記2つ又はそれよりも多くの隙間のうち隣接する隙間の間の領域を更に覆う、請求項11又は12に記載の製造方法。
【請求項15】
前記筐体の前記表面に溝を設ける段階を更に備え、
前記少なくとも1つの隙間が、前記溝の底壁の上に設けられる、請求項11に記載の製造方法。
【請求項16】
前記筐体の表面に絶縁膜を形成する前記段階は、具体的には、
前記溝に、前記筐体と同一の材料のフィラーを堆積する段階であって、前記溝の空洞は前記フィラーで充填される、堆積する段階と、
前記筐体の前記表面に金属酸化膜を形成すべく、前記筐体に陽極酸化処理を実行する段階
である、請求項15に記載の製造方法。
【請求項17】
前記溝に、前記溝の前記底壁を覆う反射膜を配置する段階を更に備える、請求項15又は16に記載の製造方法。
【請求項18】
モバイルデバイスであって、
デバイス本体と、
前記デバイス本体に固定して接続される請求項1から10の何れか一項に記載の金属製囲いと
を備え、
前記デバイス本体に配置されるアンテナを更に備え、
前記金属製囲いにおける、少なくとも2つの電気的に絶縁された部分のうちの少なくとも1つが、前記アンテナの放射要素として用いられる、モバイルデバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本願は、2016年9月28日に中国特許庁に出願された、「モバイルデバイスの金属製囲い、金属製囲いのための製造方法及びモバイルデバイス」と題する中国特許出願第201610867934.4号に基づく優先権を主張し、当該特許出願の全体は、参照により本明細書に組み込まれる。 本願は、電子デバイスの分野に関する。具体的には、モバイルデバイスの金属製囲い、金属製囲いのための製造方法及びモバイルデバイスに関する。
【背景技術】
【0002】
現在、金属材料は、電子デバイスの様々なタイプの外側筐体として、広く用いられている。従来のプラスチック筐体とは異なり、金属製囲いは、構造的強度、放熱性能、外観品質等の点で、明らかな利点を有する。様々な電子製品(スマートフォン、スマートウォッチ、タブレットコンピュータ等)は、通常、通信機能を有し、それ故に、金属製囲いがそのような電子製品に選択される場合には、金属材料の電磁波シールド性能が考慮される必要があり、そして、金属製囲いが通信機能に及ぼす影響もまた考慮される必要がある。例として、スマートフォンが用いられる。現在、金属製囲いを有する携帯電話に対して、アンテナ信号が通過できることを保証するために、通常は、パーティションを形成すべく、金属製囲いに溝を設ける必要がある。金属製囲いの完全性を保証するために、アンテナ溝パーティションには、非金属が充填される。その結果、金属製囲いは、2つのセグメント、3つのセグメント又はそれより多いセグメントへと非金属によって分割され、金属製囲いの外観の統一性に影響する。
【発明の概要】
【0003】
本発明では、モバイルデバイスの金属製囲い、金属製囲いのための製造方法及びモバイルデバイスを提供する。モバイルデバイスの金属製囲いは、統一された外観を有し、電磁波はシールドされない。その結果、モバイルデバイスの通信機能が確保される。
【0004】
本発明は、モバイルデバイスの金属製囲いを提供する。モバイルデバイスの金属製囲いは、筐体を備え、ここで、少なくとも1つの隙間が上記筐体の上に設けられ、上記少なくとも1つの隙間が、上記筐体を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間は絶縁物で充填される。金属製囲いは、上記筐体の表面に取り付けられた絶縁膜を更に備える。
【0005】
先述の実施形態において、上記隙間が上記筐体の上に設けられ、その結果、上記筐体が上記少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割される。各隙間は上記絶縁物で充填され、上記筐体の上記表面の上記隙間及び上記隙間の上記絶縁物がパーティションを形成し、その結果、上記筐体により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響を防ぎ、上記モバイルデバイスの通信機能が確保される。上記絶縁膜が上記筐体の上記表面に更にあり、上記絶縁膜が上記筐体の上記表面の上記隙間を覆う。その結果、上記隙間は外見上見えなくなり、上記金属製囲いが、統一された外観を有する。
【0006】
具体的な実装上の解決手段において、上記絶縁膜は、金属酸化膜である。上記金属酸化膜は上記隙間部分を覆い、その結果、金属製囲いは統一された外観を有し、金属光沢を有し、金属製囲いの質感(テクスチャ)が向上する。
【0007】
オプションで、各隙間の幅は、例えば0.01mm、0.05mm、0.1mm、0.3mm、0.5mm、1.0mm、及び、2.0mm等のように、0.01mmから2.0mmの範囲内にある。
【0008】
オプションで、絶縁膜の厚さは、例えば0.01mm、0.03mm、0.05mm及び0.08mm等のように、0.003mmから0.10mmの範囲内にある。
【0009】
金属製囲いの強度を増加し、金属製囲いの空洞構造を更に向上するために、金属製囲いは、筐体の空洞に固定されるプラスチック補強層を更に備える。
【0010】
別の具体的な実装上の解決手段において、上記金属製囲いは、上記筐体と上記絶縁膜との間に反射膜を更に備え、上記反射膜が、上記筐体の表面の全体を覆う。
【0011】
オプションで、上記金属製囲いが、上記筐体と上記絶縁膜との間に反射膜を更に備え、上記反射膜が、上記少なくとも1つの隙間の表面を覆う。2つ又はそれよりも多くの隙間が上記筐体の上に設けられる場合に、上記反射膜は、上記2つ又はそれよりも多くの隙間のうち隣接する隙間の間の領域を更に覆う。
【0012】
オプションで、上記金属製囲いが、上記筐体の上記表面に配置される溝を更に備え、上記少なくとも1つの隙間が、上記溝の底壁の上に設けられ、上記溝の上記底壁を覆う反射膜が、上記溝に更に配置される。オプションで、上記反射膜は、金属に似せた被覆である。
【0013】
オプションで、上記反射膜は、更に、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られてよい。反射膜は、金属製囲いの外観及び質感を調整してよい。
【0014】
本発明は、上記の金属製囲いのための製造方法を更に提供し、当該製造方法は、以下の段階を備える。即ち、少なくとも1つの隙間を形成すべく上記筐体を切断する段階であって、ここで、上記少なくとも1つの隙間が上記筐体を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割する、切断する段階と、各隙間を絶縁物で充填する段階と、上記筐体の表面に絶縁膜を形成する段階と、を備える。
【0015】
具体的な製造方法において、上記筐体の表面に絶縁膜を形成する上記段階は、具体的には、上記筐体の上記表面に金属膜を形成する段階と、陽極酸化により上記金属膜を金属酸化膜へと変える段階である。
【0016】
オプションで、上記方法は、上記筐体と上記絶縁膜との間に反射膜を形成する段階を更に備えてよく、ここで、上記反射膜が、上記筐体の上記表面の全体を覆う。
【0017】
オプションで、上記方法は、上記筐体と上記絶縁膜との間に反射膜を形成する段階を更に備えてよい。ここで、上記反射膜が、上記少なくとも1つの隙間の表面を覆う。そして、切断する段階によって、2つ又はそれよりも多くの隙間が上記筐体の上に形成される場合に、上記反射膜は、上記2つ又はそれよりも多くの隙間のうち隣接する隙間の間の領域を更に覆う。
【0018】
別の具体的な製造方法において、上記方法は、上記筐体の上記表面に溝を設ける段階を更に備え、ここで、上記少なくとも1つの隙間が、上記溝の底壁の上に設けられる。
【0019】
オプションで、上記方法は、上記溝に、上記筐体と同一の材料のフィラーを堆積する段階であって、ここで、上記溝の空洞は上記フィラーで充填される、堆積する段階と、上記筐体の上記表面に金属酸化膜を形成すべく、上記筐体に陽極酸化処理を実行する段階と、を更に備える。
【0020】
オプションで、上記方法は、上記溝に、上記溝の上記底壁を覆う反射膜を配置する段階を更に備える。
【0021】
本発明では、更に、モバイルデバイスを提供する。 モバイルデバイスが、デバイス本体と、上記デバイス本体に固定して接続される、上記の実装の何れか1つの金属製囲いとを備える。そして、モバイルデバイスは、上記デバイス本体の上に配置されるアンテナを更に備える。上記金属製囲いにおける、少なくとも2つの電気的に絶縁された部分のうちの少なくとも1つが、上記アンテナの放射要素として用いられる。上記モバイルデバイスの金属製囲いは、統一された外観を有する。加えて、上記モバイルデバイスは、優れた通信性能を有する。
【図面の簡単な説明】
【0022】
図1】実施形態1における金属製囲いの統一された外観の略図である。
図2図1のA−A断面図である。
図2-1】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図2-2】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図2-3】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図2-4】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図2-5】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図2-6】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図2-7】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
図2-8】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
図2-9】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
図2-10】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
図2-11】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
図2-12】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
図2-13】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
図3】隙間と垂直な位置における、実施形態2における金属製囲いの断面図である。
図3-1】図3に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図3-2】図3に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図3-3】図3に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図3-4】図3に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図3-5】図3に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図3-6】図3に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図3-7】図3に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図4】隙間と垂直な位置における、実施形態3における金属製囲いの断面図である。
図4-1】図4に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図4-2】図4に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図4-3】図4に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図4-4】図4に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図4-5】図4に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図4-6】図4に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図4-7】図4に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図5】隙間と垂直な位置における、実施形態4における金属製囲いの断面図である。
図5-1】図5に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図5-2】図5に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図5-3】図5に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図5-4】図5に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図5-5】図5に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図5-6】図5に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図5-7】図5に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図5-8】図5に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。符号番号:1:筐体、2:プラスチック補強層、3:隙間、4:絶縁物、5:絶縁膜、6:反射膜、7:金属膜
【発明を実施するための形態】
【0023】
本発明の目的、技術的解決手段、及び利点をより明確にするべく、以下ではさらに、添付図面に関連して本発明を詳細に説明する。説明される実施形態は、本発明の実施形態の全てではなく、その一部に過ぎないことは明らかである。創造的な努力なく本発明の実施形態に基づいて当業者によって得られる他の全ての実施形態は、本発明の保護範囲内に当然に含まれる。実施形態1
【0024】
図1及び図2に示されるように、図1は、本発明の本実施形態において提供される金属製囲いの統一された外観の略図であり、図2は、図1のA−A断面図である。
【0025】
本発明の実施形態1は、金属製囲いを提供する。金属製囲いは、筐体1を備える。筐体1の上には少なくとも1つの隙間3が設けられ、少なくとも1つの隙間3は、筐体1を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間3は絶縁物4で充填される。金属製囲いは、筐体1の表面に取り付けられる絶縁膜5を更に備える。
【0026】
統合された金属製囲いは、電磁波シールドを生成し、電磁波透過が阻止され、これにより、電子デバイスの通信機能が影響を受ける。そこで、先述の実施形態において、隙間3が筐体1の上に設けられ、隙間3が筐体1を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間は絶縁物4で充填される。筐体1の分割された部分は、絶縁物4を用いることにより、統一体へと重ね継ぎ(スプライス)される。具体的な実施形態において、絶縁物4は、エポキシ樹脂、シリコーン封止剤又はそれらと同様の物である。このように、隙間3及び絶縁物4が筐体1の上にパーティションを形成し、その結果、筐体1により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響を防ぎ、モバイルデバイスの通信機能が確保される。隙間3の幅は、例えば0.01mm、0.05mm、0.1mm、0.3mm、0.5mm、1.0mm、又は2.0mm等のように、0.01mmから2.0mmの範囲内にある。加えて、特定の配置では、隙間3は、図1に示されるように具体的に設けられる。隙間3の長さ方向は、筐体1の長さ方向に対して垂直である。即ち、隙間3は、筐体1の上に水平に配置される。
【0027】
加えて、絶縁膜5が筐体1の表面に更に取り付けられる。絶縁膜5の厚さは、例えば0.01mm、0.03mm、0.05mm又は0.08mm等のように、0.003mmから0.1mmの範囲内にある。絶縁膜5は、筐体1の上にあり、かつ、隙間3及び絶縁物4により形成されるパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。具体的な実施形態において、絶縁膜5は金属酸化膜である。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とし、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【0028】
具体的な実施形態において、金属製囲いは筐体1を備える。プラスチック補強層2が、筐体1の空洞に固定される。筐体1の表面には、4つの隙間3が設けられ、隙間3の幅は0.05mmであり、複数の隙間の間の間隔は0.8mmである。各隙間には、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物4が充填される。加えて、絶縁膜5が、筐体1の表面に更に取り付けられ、絶縁膜5の厚さは、0.02mmである。製造技術の制約により、絶縁膜5の厚さに対して、0.01mmの誤差が存在する。このため、絶縁膜5の厚さは、0.02mm−0.01mmから0.02mm+0.01mmにおよぶ。上記実施形態の金属製囲いの製造には、以下の段階が含まれる。
【0029】
段階1:図2−1に示されるように、ダイキャスティング、プレス加工、鍛造又はCNCコンピュータ数値制御加工等の金属形成技術を用いて、筐体1を製造する。
【0030】
段階2:図2−2に示されるように、ナノ射出成形、フィルム射出成形、接着剤接着、ホットメルト又は超音波溶接等の金属−プラスチック結合技術を用いて、筐体1の空洞にプラスチック補強層2を形成する。プラスチック補強層2は、筐体1の強度を増加し、筐体1の空洞構造を更に向上する。
【0031】
段階3:図2−3に示されるように、筐体1を切断して、少なくとも1つの隙間3を形成する。少なくとも1つの隙間3は、筐体1を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割する。具体的には、筐体1が切断されて4つの隙間3が形成される。それらの幅は0.05mmであり、複数の隙間3の間の間隔は0.8mmである。4つの隙間3は、筐体1の上に並行に配置される。
【0032】
段階4:図2−4に示されるように、各隙間3を絶縁物4で充填する。具体的には、各隙間3は、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物4で充填される。絶縁物4が固化された後、筐体1の表面が平滑化され、研磨され、クリーニングされる。このように、隙間3及び絶縁物4が筐体1の上に4つのパーティションを形成し、その結果、筐体1により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響が防止される。
【0033】
段階5:図2−5及び図2−6に示されるように、筐体1の表面に絶縁膜5を形成する。具体的には、厚さが0.02±0.01mmの絶縁膜5が、筐体1の表面に形成される。絶縁膜5は、隙間3及び絶縁物4により筐体1の上に形成される4つのパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【0034】
絶縁膜5の具体的な製造において、図2−5に示されるように、最初に金属膜7が筐体1の表面に形成される。金属膜7の厚さは0.02±0.005mmである。次に、図2−6に示されるように、金属膜7が、陽極酸化により金属酸化膜へと変えられる。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色が、電解着色により更に調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【0035】
具体的な実施形態において、アルミニウム膜が、通常は、PVD(物理蒸着)、CVD(化学蒸着)、イオンプレーティング、物理イジェクト又は電気めっき等の技術を用いて、筐体1の表面にめっきされ、アルミニウムが陽極酸化によりアルミニウム酸化物へと変えられ、筐体1の表面に取り付けられる。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【0036】
代替的に、先述の実施形態における金属製囲いは、以下の製造方法を用いて製造されてもよく、具体的には、以下の段階が含まれる。
【0037】
段階1:図2−7に示されるように、ダイキャスティング、プレス加工、鍛造、又はCNCコンピュータ数値制御加工等の金属形成技術を用いて、筐体1を製造する。
【0038】
段階2:図2−8に示されるように、ナノ射出成形、フィルム射出成形、接着剤接着、ホットメルト又は超音波溶接等の金属−プラスチック結合技術を用いて、筐体1の空洞にプラスチック補強層2を形成する。プラスチック補強層2は、筐体1の強度を増加し、筐体1の空洞構造を更に向上する。
【0039】
段階3:図2−9に示されるように、筐体1の表面に溝を提供する。具体的には、筐体1の表面に溝が設けられ、当該溝の幅は、段階4で提供される隙間3の幅、間隔及び個数と適合し、当該溝の深さは、段階6で配置されるフィラーの厚さと適合する。この実施形態において、溝の幅は2.6mmであり、溝の深さは0.02mmである。
【0040】
段階4:図2−10に示されるように、溝の底壁を切断し、少なくとも1つの隙間3を形成する。少なくとも1つの隙間3は、筐体1を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割する。具体的には、溝の底壁が切断されて4つの隙間3が形成され、それらの幅は0.05mmであり、複数の隙間3の間の間隔は0.8mmである。4つの隙間3は、並行に配置される。
【0041】
段階5:図2−11に示されるように、各隙間3を絶縁物4で充填する。具体的には、各隙間3は、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物4で充填され、絶縁物4が固化された後、筐体1の表面が平滑化され、研磨され、クリーニングされる。このように、隙間3及び絶縁物4が筐体1の上に4つのパーティションを形成し、その結果、筐体1により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響が防止される。
【0042】
段階6:図2−12に示されるように、溝に、筐体1と同一の材料のフィラーを堆積する。溝の空洞は、当該フィラーで充填される。具体的な実施形態において、筐体1はアルミニウム材料で作られ、アルミニウム層が、PVD(物理蒸着)、CVD(化学蒸着)、イオンプレーティング、物理イジェクト、又は電気めっき等の技術を用いて、溝に堆積される。
【0043】
段階7:図2−13に示されるように、筐体1の表面に絶縁膜5を形成する。具体的には、筐体1の表面に金属酸化膜を形成すべく、陽極酸化処理が筐体1に実行される。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色が、電解着色により更に調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【0044】
筐体1がアルミニウム材料で作られる場合に、酸化アルミニウム膜は、陽極酸化技術を用いて、筐体1の表面に形成される。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。実施形態2
【0045】
図3に示されるように、図3は、隙間と垂直な位置における、本発明の実施形態で提供される金属製囲いの断面図である。
【0046】
本発明の本実施形態は、金属製囲いを提供する。金属製囲いは、実施形態1における筐体1、隙間3、絶縁物4及び絶縁膜5を備え、上記の構造の全ては、実施形態1における構造及び配置と同じである。詳細は、ここでは再度記載されない。本実施形態で提供される金属製囲い及び実施形態1の金属製囲いの間の違いは、本実施形態で提供される金属製囲いが、反射膜6を更に備える点にある。反射膜6は、筐体1及び絶縁膜5の間に具体的に配置され、かつ、筐体1の表面全体を覆う。
【0047】
反射膜6は、筐体1の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、筐体1の表面にあり、かつ隙間3及び絶縁物4により形成されるパーティションは、筐体1と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜6は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜6は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【0048】
具体的な実施形態において、金属製囲いは、筐体1を備える。プラスチック補強層2が、筐体1の空洞に固定される。筐体1の表面には、4つの隙間3が設けられ、隙間3の幅は0.1mmであり、複数の隙間の間の間隔は0.8mmである。各隙間には、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物4が充填される。絶縁膜5が、筐体1の表面に更に取り付けられ、絶縁膜5の厚さは、0.03mmである。製造技術の制約により、絶縁膜5の厚さに対して、0.01mmの誤差が存在する。このため、絶縁膜5の厚さは、0.03mm−0.01mmから0.03mm+0.01mmにおよぶ。加えて、反射膜6が更に含まれ、反射膜6が筐体1及び絶縁膜5の間にあり、反射膜6が筐体1の表面全体を覆う。上記実施形態の金属製囲いの製造には、以下の段階が含まれる。
【0049】
図3−1から図3−4に示されるように、本実施形態で提供される製造方法における段階1、段階2、段階3及び段階4は、図2−1から図2−4に示される実施形態1の段階1、段階2、段階3及び段階4と同じであり、詳細は、ここでは再度記載されない。本実施形態で提供される製造方法は、以下の段階を更に備える。
【0050】
段階5:図3−5に示されるように、筐体1の表面に反射膜6を形成する。具体的には、ナノメートルレベルでの厚さを有する反射膜6が、筐体1の表面に形成され、反射膜6は筐体1の表面全体を覆う。反射膜6は、筐体1の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、隙間3及び絶縁物4により形成される、筐体1の上の4つのパーティションは、筐体1と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜6は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜6は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【0051】
段階6:図3−6及び図3−7に示されるように、筐体1の表面に絶縁膜5を形成する。具体的には、厚さが0.03±0.01mmの絶縁膜5が、反射膜6の上に形成される。絶縁膜5は、隙間3及び絶縁物4により筐体1の上に形成される4つのパーティションが外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【0052】
絶縁膜5の具体的な製造において、図3−6に示されるように、最初に、金属膜7が反射膜6の表面に形成される。金属膜7の厚さは0.03±0.005mmである。次に、図3−7に示されるように、金属膜7が、陽極酸化により金属酸化膜へと変えられる。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色が、電解着色により調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【0053】
具体的な実施形態において、酸化アルミニウム膜が、筐体1の表面に形成されてよい。具体的な製造方法は、実施形態1の酸化アルミニウム膜を生成するために用いられる方法と同じであり、詳細は、ここでは再度記載されない。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。実施形態3
【0054】
図4に示されるように、図4は、隙間と垂直な位置における、本発明の実施形態で提供される金属製囲いの断面図である。
【0055】
本発明の本実施形態は、金属製囲いを提供する。本金属製囲い及び実施形態2の金属製囲いの間の違いは、反射膜6が異なる位置に配置されるという点にのみあり、その他の構造は同じである。詳細は、ここでは再度記載されない。本実施形態において、反射膜6が、筐体1及び絶縁膜5の間にあり、反射膜6は、少なくとも1つの隙間3の表面を覆う。2つ又はそれよりも多くの隙間3が、切断により筐体1の上に形成される場合、反射膜6は、当該2つ又はそれよりも多くの隙間3における隣接する隙間3の間の領域を更に覆う。
【0056】
加えて、本実施形態で提供される反射膜6は、実施形態2の反射膜6と同じ効果を有する。両方とも、筐体1の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、隙間3及び絶縁物4により形成される、筐体1の表面における複数のパーティションは、筐体1と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜6は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜6は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【0057】
具体的な実施形態において、金属製囲いは筐体1を備える。プラスチック補強層2が筐体1の空洞に固定される。筐体1の表面には、4つの隙間3が設けられ、隙間3の幅は0.2mmであり、複数の隙間の間の間隔は0.8mmである。各隙間には、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物4が充填される。絶縁膜5が、筐体1の表面に更に取り付けられ、絶縁膜5の厚さは、0.04mmである。製造技術の制約により、絶縁膜5の厚さに対して、0.01mmの誤差が存在する。このため、絶縁膜5の厚さは、0.04mm−0.01mmから0.04mm+0.01mmにおよぶ。加えて、反射膜6が更に含まれる。反射膜6が筐体1及び絶縁膜5の間にあり、反射膜6が4つの隙間3の表面を覆い、かつ、4つの隙間3における隣接する隙間3の間の領域を覆う。上記実施形態の金属製囲いの製造には、以下の段階が含まれる。
【0058】
図4−1から図4−4に示されるように、本実施形態で提供される製造方法における段階1、段階2、段階3及び段階4は、図2−1から図2−4に示される実施形態1の段階1、段階2、段階3及び段階4と同じであり、詳細は、ここでは再度記載されない。本実施形態で提供される製造方法は、以下の段階を更に備える。
【0059】
段階5:図4−5に示されるように、筐体1の表面に反射膜6を形成する。具体的には、ナノメートルレベルでの厚さを有する反射膜6が、筐体1の表面に形成される。反射膜6は、4つの隙間3の表面及び4つの隙間3における隣接する隙間3の間の領域を覆う。反射膜6は、筐体1の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、隙間3及び絶縁物4により形成される、筐体1の上の4つのパーティションは、筐体1と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜6は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜6は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【0060】
段階6:図4−6及び図4−7に示されるように、筐体1の表面に絶縁膜5を形成する。具体的には、厚さが0.04±0.01mmの絶縁膜5が、筐体1の表面に形成され、絶縁膜5は、筐体1の全体の表面領域を覆う。絶縁膜5は、隙間3及び絶縁物4により筐体1の上に形成される4つのパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【0061】
絶縁膜5の具体的な製造において、図4−6に示されるように、最初に、金属膜7が筐体1の表面及び反射膜6の表面に形成される。金属膜7の厚さは0.04±0.005mmである。次に、図4−7に示されるように、金属膜7が、陽極酸化により金属酸化膜へと変えられる。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色が、電解着色により調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【0062】
具体的な実施形態において、酸化アルミニウム膜が、筐体1の表面に形成されてよい。具体的な製造手法は、実施形態1の酸化アルミニウム膜を生成するために用いられる方法と同じであり、詳細は、ここでは再度記載されない。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。実施形態4
【0063】
図5に示されるように、図5は、隙間と垂直な位置における、本発明の実施形態で提供される金属製囲いの断面図である。
【0064】
本発明の本実施形態は、金属製囲いを提供する。本金属製囲い及び実施形態3の金属製囲いの間の違いは、隙間3が設けられる領域の上に、溝が更に設けられるという点にのみある。反射膜6が溝に配置される。即ち、溝が筐体1の表面に設けられる。隙間3が溝の底壁の上に設けられ、溝の底壁を覆う反射膜6が、更に、溝にある。
【0065】
加えて、本実施形態で提供される反射膜6は、実施形態3の反射膜6と同じ効果を有する。両方とも、筐体1の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、筐体の表面にあり、かつ、隙間3及び絶縁物4により形成されるパーティションは、筐体1と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜6は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜6は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【0066】
具体的な実施形態において、金属製囲いは筐体1を備える。プラスチック補強層2が筐体1の空洞に固定される。筐体1の表面には、4つの隙間3が設けられ、隙間3の幅は0.3mmであり、複数の隙間の間の間隔は0.8mmである。各隙間には、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物4が充填される。絶縁膜5が、筐体1の表面に更に取り付けられ、絶縁膜5の厚さは、0.05mmである。製造技術の制約により、絶縁膜5の厚さに対して、0.01mmの誤差が存在する。このため、絶縁膜5の厚さは、0.05mm−0.01mmから0.05mm+0.01mmにおよぶ。加えて、筐体1の表面における溝が更に含まれ、隙間3が溝の底壁の上に設けられ、溝の底壁を覆う反射膜6が、更に溝にある。上記実施形態の金属製囲いの製造には、以下の段階が含まれる。
【0067】
段階1:図5−1に示されるように、ダイキャスティング、プレス加工、鍛造、又は、CNCコンピュータ数値制御加工等の金属形成技術を用いて、筐体1を製造する。
【0068】
段階2:図5−2に示されるように、ナノ射出成形、フィルム射出成形、接着剤接着、ホットメルト、又は、超音波溶接等の金属−プラスチック結合技術を用いて、筐体1の空洞にプラスチック補強層2を形成する。プラスチック補強層2は、筐体1の強度を増加し、筐体1の空洞構造を更に向上する。
【0069】
段階3:図5−3に示されるように、筐体1の表面に溝を提供する。具体的には、筐体1の表面に溝が設けられ、当該溝の幅は、段階4で配置される隙間3の幅、間隔及び個数と適合し、当該溝の深さは、段階7で配置されるフィラーの厚さと適合する。この実施形態において、溝の幅は3.6mmであり、溝の深さは0.05mmである。
【0070】
段階4:図5−4に示されるように、溝の底壁を切断し、少なくとも1つの隙間3を形成する。少なくとも1つの隙間3は、筐体1を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割する。具体的には、溝の底壁が切断されて4つの隙間3が形成され、それらの幅は0.3mmであり、複数の隙間の間の間隔は0.8mmであり、4つの隙間3は、並行に配置される。
【0071】
段階5:図5−5に示されるように、各隙間3を絶縁物4で充填する。具体的には、各隙間3は、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物4で充填され、絶縁物4が固化された後、筐体1の表面が平滑化され、研磨され、クリーニングされる。隙間3及び絶縁物4が筐体1の上に4つのパーティションを形成し、その結果、筐体1により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響が防止される。
【0072】
段階6:図5−6に示されるように、溝に反射膜6を置く。具体的には、ナノメートルレベルでの厚さを有する反射膜6が溝に配置され、反射膜6は、溝の底壁を覆う。反射膜6は、筐体1の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、隙間3は、外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜6は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜6は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【0073】
段階7:図5−7に示されるように、溝に、筐体1と同一の材料のフィラーを堆積する。溝の空洞は、当該フィラーで充填される。具体的な実施形態において、筐体1はアルミニウム材料で作られ、アルミニウム層が、PVD(物理蒸着)、CVD(化学蒸着)、イオンプレーティング、物理イジェクト、又は電気めっき等の技術を用いて、溝に堆積される。
【0074】
段階8:図5−8に示されるように、筐体1の表面に絶縁膜5を形成する。具体的には、筐体1の表面に金属酸化膜を形成すべく、陽極酸化処理が筐体1に実行される。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色は、電解着色により更に調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【0075】
筐体1がアルミニウム材料を用いて作られる場合に、酸化アルミニウム膜は、陽極酸化により、筐体1の表面に形成される。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【0076】
本発明の実施形態1から実施形態4において提供される金属製囲いが筐体1を備えることが、上記説明から理解できよう。隙間3が筐体1の上に設けられ、隙間3が筐体1を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割する。各隙間3は絶縁物4で充填され、筐体1の分割された部分は、絶縁物4を用いることにより、統一体へと重ね継ぎ(スプライス)される。このように、隙間3及び絶縁物4が筐体1の上にパーティションを形成し、その結果、筐体1により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響を防止する。絶縁膜5は、筐体1の表面に更に取り付けられ、絶縁膜5は、隙間3及び絶縁物4により形成されるパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【0077】
本発明は、先述の実施形態における金属製囲いのための製造方法を更に提供し、以下の段階が含まれる。
【0078】
筐体1を切断して、少なくとも1つの隙間3を形成する。少なくとも1つの隙間3は、筐体1を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割する。各隙間3を絶縁物4で充填する。筐体1の表面に絶縁膜5を形成する。
【0079】
金属製囲いが統一された外観を有し、かつ、金属光沢を有することができるように、金属酸化膜が、筐体1の表面に具体的に形成されてよい。図2に示される構造を有する金属製囲いが、実施形態1の2つの製造方法を用いて製造される。金属製囲いの質感を向上すべく、反射膜6が筐体1と絶縁膜5の間に更に置かれてよく、反射膜6は、筐体1の表面全体を覆う。図3の構造を有する金属製囲いが、実施形態2の製造方法を用いて製造される。加えて代替的に、反射膜6は、筐体1の上にあり、かつ、切断により少なくとも1つの隙間3が形成される領域のみを覆ってよい。具体的には、反射膜6は、少なくとも1つの隙間3の表面を覆う。2つ又はそれよりも多くの隙間3が切断により筐体1の上に形成される場合に、反射膜6が、2つ又はそれよりも多くの隙間3における隣接する隙間3の間の領域を更に覆う。図4の構造を有する金属製囲いが、実施形態3の製造方法を用いて製造される。
【0080】
別の具体的な製造方法において、溝が、筐体1の表面に更に設けられてよい。少なくとも1つの隙間3が溝の底壁の上に設けられ、反射膜6が溝の底壁の上に置かれる。図5の構造を有する金属製囲いが、実施形態4の製造方法を用いて製造される。
【0081】
本発明は、モバイルデバイスを更に提供する。モバイルデバイスが、デバイス本体と、上記デバイス本体に固定して接続される、実施形態1から実施形態4のうちの1つにおける金属製囲いとを備える。モバイルデバイスが、上記デバイス本体の上に配置されるアンテナを更に備える。金属製囲いにおける、少なくとも2つの電気的に絶縁された部分のうちの少なくとも1つが、アンテナの放射要素として用いられる。モバイルデバイスの金属製囲いに対し、隙間3が筐体1の上に設けられ、隙間3が筐体1を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間3は絶縁物4で充填される。このように、隙間3及び絶縁物4が筐体1の上にパーティションを形成し、その結果、筐体1により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響が防止される。絶縁膜5が筐体1の表面に更に取り付けられる。絶縁膜5は、隙間3及び絶縁物4により形成されるパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【0082】
当業者であれば、本発明の主旨及び範囲から逸脱することなく、本発明に対する様々な修正及び変形を加えることができることが明らかである。本発明は、これらの変形及び変更が以下の特許請求の範囲及びそれらの均等技術によって定義される保護範囲に含まれる限り、当該変形及び変更を包含するよう意図される。
図1
図2
図2.1】
図2.2】
図2.3】
図2.4】
図2.5】
図2.6】
図2.7】
図2.8】
図2.9】
図2.10】
図2.11】
図2.12】
図2.13】
図3
図3.1】
図3.2】
図3.3】
図3.4】
図3.5】
図3.6】
図3.7】
図4
図4.1】
図4.2】
図4.3】
図4.4】
図4.5】
図4.6】
図4.7】
図5
図5.1】
図5.2】
図5.3】
図5.4】
図5.5】
図5.6】
図5.7】
図5.8】
【手続補正書】
【提出日】2019年3月28日
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
筐体
を備え、
少なくとも1つの隙間が前記筐体の上に設けられ、前記少なくとも1つの隙間が、前記筐体を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間は絶縁物で充填され、
前記筐体の表面に取り付けられている絶縁膜
を更に備える、
モバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項2】
前記絶縁膜が、金属酸化膜である、請求項1に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項3】
各隙間の幅が、0.01mmから2.0mmの範囲内にある、請求項1に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項4】
前記絶縁膜の厚さが、0.003mmから0.10mmの範囲内にある、請求項1に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項5】
前記筐体の空洞に固定されているプラスチック補強層を更に備える、請求項1に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項6】
前記筐体と前記絶縁膜との間に反射膜を更に備え、
前記反射膜が、前記筐体の前記表面の全体を覆う、請求項1に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項7】
前記筐体と前記絶縁膜との間に反射膜を更に備え、
前記反射膜が、前記少なくとも1つの隙間の表面を覆い、
2つ又はそれよりも多くの隙間が前記筐体の上に設けられる場合に、前記反射膜は、前記2つ又はそれよりも多くの隙間のうち隣接する隙間の間の領域を更に覆う、請求項1に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項8】
前記筐体の前記表面に配置される溝を更に備え、
前記少なくとも1つの隙間が、前記溝の底壁の上に設けられ、
前記溝の前記底壁を覆う反射膜が、前記溝に更に配置される、請求項1に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項9】
前記反射膜は、金属に似せた被覆である、請求項6から8の何れか一項に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項10】
前記反射膜は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる、請求項6から8の何れか一項に記載のモバイルデバイスの金属製囲い。
【請求項11】
請求項1に記載のモバイルデバイスの金属製囲いのための製造方法であって、
少なくとも1つの隙間を形成すべく筐体を切断する段階であって、前記少なくとも1つの隙間が前記筐体を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割する、切断する段階と、
各隙間を絶縁物で充填する段階と、
前記筐体の表面に絶縁膜を形成する段階と、
を備える、製造方法。
【請求項12】
前記筐体の表面に絶縁膜を形成する前記段階は、具体的には、
前記筐体の前記表面に金属膜を形成する段階と
陽極酸化により前記金属膜を金属酸化膜へと変える段階
である、請求項11に記載の製造方法。
【請求項13】
前記筐体と前記絶縁膜との間に反射膜を形成する段階を更に備え、
前記反射膜が、前記筐体の前記表面の全体を覆う、請求項11又は12に記載の製造方法。
【請求項14】
前記筐体と前記絶縁膜との間に反射膜を形成する段階を更に備え、
前記反射膜が、前記少なくとも1つの隙間の表面を覆い、
切断する段階によって、2つ又はそれよりも多くの隙間が前記筐体に形成される場合に、前記反射膜は、前記2つ又はそれよりも多くの隙間のうち隣接する隙間の間の領域を更に覆う、請求項11又は12に記載の製造方法。
【請求項15】
前記筐体の前記表面に溝を設ける段階を更に備え、
前記少なくとも1つの隙間が、前記溝の底壁の上に設けられる、請求項11に記載の製造方法。
【請求項16】
前記筐体の表面に絶縁膜を形成する前記段階は、具体的には、
前記溝に、前記筐体と同一の材料のフィラーを堆積する段階であって、前記溝の空洞は前記フィラーで充填される、堆積する段階と、
前記筐体の前記表面に金属酸化膜を形成すべく、前記筐体に陽極酸化処理を実行する段階
である、請求項15に記載の製造方法。
【請求項17】
前記溝に、前記溝の前記底壁を覆う反射膜を配置する段階を更に備える、請求項15又は16に記載の製造方法。
【請求項18】
モバイルデバイスであって、
デバイス本体と、
前記デバイス本体に固定して接続される請求項1から10の何れか一項に記載の金属製囲いと
を備え、
前記デバイス本体に配置されるアンテナを更に備え、
前記金属製囲いにおける、少なくとも2つの電気的に絶縁された部分のうちの少なくとも1つが、前記アンテナの放射要素として用いられる、モバイルデバイス。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本願は、2016年9月28日に中国特許庁に出願された、「モバイルデバイスの金属製囲い、金属製囲いのための製造方法及びモバイルデバイス」と題する中国特許出願第201610867934.4号に基づく優先権を主張し、当該特許出願の全体は、参照により本明細書に組み込まれる。 本願は、電子デバイスの分野に関する。具体的には、モバイルデバイスの金属製囲い、金属製囲いのための製造方法及びモバイルデバイスに関する。
【背景技術】
【0002】
現在、金属材料は、電子デバイスの様々なタイプの外側筐体として、広く用いられている。従来のプラスチック筐体とは異なり、金属製囲いは、構造的強度、放熱性能、外観品質等の点で、明らかな利点を有する。様々な電子製品(スマートフォン、スマートウォッチ、タブレットコンピュータ等)は、通常、通信機能を有し、それ故に、金属製囲いがそのような電子製品に選択される場合には、金属材料の電磁波シールド性能が考慮される必要があり、そして、金属製囲いが通信機能に及ぼす影響もまた考慮される必要がある。例として、スマートフォンが用いられる。現在、金属製囲いを有する携帯電話に対して、アンテナ信号が通過できることを保証するために、通常は、パーティションを形成すべく、金属製囲いに溝を設ける必要がある。金属製囲いの完全性を保証するために、アンテナ溝パーティションには、非金属が充填される。その結果、金属製囲いは、2つのセグメント、3つのセグメント又はそれより多いセグメントへと非金属によって分割され、金属製囲いの外観の統一性に影響する。
【発明の概要】
【0003】
本発明では、モバイルデバイスの金属製囲い、金属製囲いのための製造方法及びモバイルデバイスを提供する。モバイルデバイスの金属製囲いは、統一された外観を有し、電磁波はシールドされない。その結果、モバイルデバイスの通信機能が確保される。
【0004】
本発明は、モバイルデバイスの金属製囲いを提供する。モバイルデバイスの金属製囲いは、筐体を備え、ここで、少なくとも1つの隙間が上記筐体の上に設けられ、上記少なくとも1つの隙間が、上記筐体を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間は絶縁物で充填される。金属製囲いは、上記筐体の表面に取り付けられた絶縁膜を更に備える。
【0005】
先述の実施形態において、上記隙間が上記筐体の上に設けられ、その結果、上記筐体が上記少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割される。各隙間は上記絶縁物で充填され、上記筐体の上記表面の上記隙間及び上記隙間の上記絶縁物がパーティションを形成し、その結果、上記筐体により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響を防ぎ、上記モバイルデバイスの通信機能が確保される。上記絶縁膜が上記筐体の上記表面に更にあり、上記絶縁膜が上記筐体の上記表面の上記隙間を覆う。その結果、上記隙間は外見上見えなくなり、上記金属製囲いが、統一された外観を有する。
【0006】
具体的な実装上の解決手段において、上記絶縁膜は、金属酸化膜である。上記金属酸化膜は上記隙間部分を覆い、その結果、金属製囲いは統一された外観を有し、金属光沢を有し、金属製囲いの質感(テクスチャ)が向上する。
【0007】
オプションで、各隙間の幅は、例えば0.01mm、0.05mm、0.1mm、0.3mm、0.5mm、1.0mm、及び、2.0mm等のように、0.01mmから2.0mmの範囲内にある。
【0008】
オプションで、絶縁膜の厚さは、例えば0.01mm、0.03mm、0.05mm及び0.08mm等のように、0.003mmから0.10mmの範囲内にある。
【0009】
金属製囲いの強度を増加し、金属製囲いの空洞構造を更に向上するために、金属製囲いは、筐体の空洞に固定されるプラスチック補強層を更に備える。
【0010】
別の具体的な実装上の解決手段において、上記金属製囲いは、上記筐体と上記絶縁膜との間に反射膜を更に備え、上記反射膜が、上記筐体の表面の全体を覆う。
【0011】
オプションで、上記金属製囲いが、上記筐体と上記絶縁膜との間に反射膜を更に備え、上記反射膜が、上記少なくとも1つの隙間の表面を覆う。2つ又はそれよりも多くの隙間が上記筐体の上に設けられる場合に、上記反射膜は、上記2つ又はそれよりも多くの隙間のうち隣接する隙間の間の領域を更に覆う。
【0012】
オプションで、上記金属製囲いが、上記筐体の上記表面に配置される溝を更に備え、上記少なくとも1つの隙間が、上記溝の底壁の上に設けられ、上記溝の上記底壁を覆う反射膜が、上記溝に更に配置される。オプションで、上記反射膜は、金属に似せた被覆である。
【0013】
オプションで、上記反射膜は、更に、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られてよい。反射膜は、金属製囲いの外観及び質感を調整してよい。
【0014】
本発明は、上記の金属製囲いのための製造方法を更に提供し、当該製造方法は、以下の段階を備える。即ち、少なくとも1つの隙間を形成すべく上記筐体を切断する段階であって、ここで、上記少なくとも1つの隙間が上記筐体を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割する、切断する段階と、各隙間を絶縁物で充填する段階と、上記筐体の表面に絶縁膜を形成する段階と、を備える。
【0015】
具体的な製造方法において、上記筐体の表面に絶縁膜を形成する上記段階は、具体的には、上記筐体の上記表面に金属膜を形成する段階と、陽極酸化により上記金属膜を金属酸化膜へと変える段階である。
【0016】
オプションで、上記方法は、上記筐体と上記絶縁膜との間に反射膜を形成する段階を更に備えてよく、ここで、上記反射膜が、上記筐体の上記表面の全体を覆う。
【0017】
オプションで、上記方法は、上記筐体と上記絶縁膜との間に反射膜を形成する段階を更に備えてよい。ここで、上記反射膜が、上記少なくとも1つの隙間の表面を覆う。そして、切断する段階によって、2つ又はそれよりも多くの隙間が上記筐体の上に形成される場合に、上記反射膜は、上記2つ又はそれよりも多くの隙間のうち隣接する隙間の間の領域を更に覆う。
【0018】
別の具体的な製造方法において、上記方法は、上記筐体の上記表面に溝を設ける段階を更に備え、ここで、上記少なくとも1つの隙間が、上記溝の底壁の上に設けられる。
【0019】
オプションで、上記方法は、上記溝に、上記筐体と同一の材料のフィラーを堆積する段階であって、ここで、上記溝の空洞は上記フィラーで充填される、堆積する段階と、上記筐体の上記表面に金属酸化膜を形成すべく、上記筐体に陽極酸化処理を実行する段階と、を更に備える。
【0020】
オプションで、上記方法は、上記溝に、上記溝の上記底壁を覆う反射膜を配置する段階を更に備える。
【0021】
本発明では、更に、モバイルデバイスを提供する。 モバイルデバイスが、デバイス本体と、上記デバイス本体に固定して接続される、上記の実装の何れか1つの金属製囲いとを備える。そして、モバイルデバイスは、上記デバイス本体の上に配置されるアンテナを更に備える。上記金属製囲いにおける、少なくとも2つの電気的に絶縁された部分のうちの少なくとも1つが、上記アンテナの放射要素として用いられる。上記モバイルデバイスの金属製囲いは、統一された外観を有する。加えて、上記モバイルデバイスは、優れた通信性能を有する。
【図面の簡単な説明】
【0022】
図1】実施形態1における金属製囲いの統一された外観の略図である。
図2図1のA−A断面図である。
図2-1】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図2-2】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図2-3】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図2-4】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図2-5】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図2-6】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図2-7】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
図2-8】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
図2-9】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
図2-10】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
図2-11】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
図2-12】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
図2-13】図2に示す構造を有する金属製囲いを製造するための別の処理フローチャートである。
図3】隙間と垂直な位置における、実施形態2における金属製囲いの断面図である。
図3-1】図3に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図3-2】図3に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図3-3】図3に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図3-4】図3に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図3-5】図3に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図3-6】図3に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図3-7】図3に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図4】隙間と垂直な位置における、実施形態3における金属製囲いの断面図である。
図4-1】図4に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図4-2】図4に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図4-3】図4に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図4-4】図4に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図4-5】図4に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図4-6】図4に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図4-7】図4に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図5】隙間と垂直な位置における、実施形態4における金属製囲いの断面図である。
図5-1】図5に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図5-2】図5に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図5-3】図5に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図5-4】図5に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図5-5】図5に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図5-6】図5に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図5-7】図5に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。
図5-8】図5に示す構造を有する金属製囲いを製造するための処理フローチャートである。符号番号:1:筐体、2:プラスチック補強層、3:隙間、4:絶縁物、5:絶縁膜、6:反射膜、7:金属膜
【発明を実施するための形態】
【0023】
本発明の目的、技術的解決手段、及び利点をより明確にするべく、以下ではさらに、添付図面に関連して本発明を詳細に説明する。説明される実施形態は、本発明の実施形態の全てではなく、その一部に過ぎないことは明らかである。創造的な努力なく本発明の実施形態に基づいて当業者によって得られる他の全ての実施形態は、本発明の保護範囲内に当然に含まれる。実施形態1
【0024】
図1及び図2に示されるように、図1は、本発明の本実施形態において提供される金属製囲いの統一された外観の略図であり、図2は、図1のA−A断面図である。
【0025】
本発明の実施形態1は、金属製囲いを提供する。金属製囲いは、筐体1を備える。筐体1の上には少なくとも1つの隙間3が設けられ、少なくとも1つの隙間3は、筐体1を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間3は絶縁物4で充填される。金属製囲いは、筐体1の表面に取り付けられる絶縁膜5を更に備える。
【0026】
統合された金属製囲いは、電磁波シールドを生成し、電磁波透過が阻止され、これにより、電子デバイスの通信機能が影響を受ける。そこで、先述の実施形態において、隙間3が筐体1の上に設けられ、隙間3が筐体1を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間は絶縁物4で充填される。筐体1の分割された部分は、絶縁物4を用いることにより、統一体へと重ね継ぎ(スプライス)される。具体的な実施形態において、絶縁物4は、エポキシ樹脂、シリコーン封止剤又はそれらと同様の物である。このように、隙間3及び絶縁物4が筐体1の上にパーティションを形成し、その結果、筐体1により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響を防ぎ、モバイルデバイスの通信機能が確保される。隙間3の幅は、例えば0.01mm、0.05mm、0.1mm、0.3mm、0.5mm、1.0mm、又は2.0mm等のように、0.01mmから2.0mmの範囲内にある。加えて、特定の配置では、隙間3は、図1に示されるように具体的に設けられる。隙間3の長さ方向は、筐体1の長さ方向に対して垂直である。即ち、隙間3は、筐体1の上に水平に配置される。
【0027】
加えて、絶縁膜5が筐体1の表面に更に取り付けられる。絶縁膜5の厚さは、例えば0.01mm、0.03mm、0.05mm又は0.08mm等のように、0.003mmから0.1mmの範囲内にある。絶縁膜5は、筐体1の上にあり、かつ、隙間3及び絶縁物4により形成されるパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。具体的な実施形態において、絶縁膜5は金属酸化膜である。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とし、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【0028】
具体的な実施形態において、金属製囲いは筐体1を備える。プラスチック補強層2が、筐体1の空洞に固定される。筐体1の表面には、4つの隙間3が設けられ、隙間3の幅は0.05mmであり、複数の隙間の間の間隔は0.8mmである。各隙間には、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物4が充填される。加えて、絶縁膜5が、筐体1の表面に更に取り付けられ、絶縁膜5の厚さは、0.02mmである。製造技術の制約により、絶縁膜5の厚さに対して、0.01mmの誤差が存在する。このため、絶縁膜5の厚さは、0.02mm−0.01mmから0.02mm+0.01mmにおよぶ。上記実施形態の金属製囲いの製造には、以下の段階が含まれる。
【0029】
段階1:図2−1に示されるように、ダイキャスティング、プレス加工、鍛造又はCNCコンピュータ数値制御加工等の金属形成技術を用いて、筐体1を製造する。
【0030】
段階2:図2−2に示されるように、ナノ射出成形、フィルム射出成形、接着剤接着、ホットメルト又は超音波溶接等の金属−プラスチック結合技術を用いて、筐体1の空洞にプラスチック補強層2を形成する。プラスチック補強層2は、筐体1の強度を増加し、筐体1の空洞構造を更に向上する。
【0031】
段階3:図2−3に示されるように、筐体1を切断して、少なくとも1つの隙間3を形成する。少なくとも1つの隙間3は、筐体1を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割する。具体的には、筐体1が切断されて4つの隙間3が形成される。それらの幅は0.05mmであり、複数の隙間3の間の間隔は0.8mmである。4つの隙間3は、筐体1の上に並行に配置される。
【0032】
段階4:図2−4に示されるように、各隙間3を絶縁物4で充填する。具体的には、各隙間3は、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物4で充填される。絶縁物4が固化された後、筐体1の表面が平滑化され、研磨され、クリーニングされる。このように、隙間3及び絶縁物4が筐体1の上に4つのパーティションを形成し、その結果、筐体1により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響が防止される。
【0033】
段階5:図2−5及び図2−6に示されるように、筐体1の表面に絶縁膜5を形成する。具体的には、厚さが0.02±0.01mmの絶縁膜5が、筐体1の表面に形成される。絶縁膜5は、隙間3及び絶縁物4により筐体1の上に形成される4つのパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【0034】
絶縁膜5の具体的な製造において、図2−5に示されるように、最初に金属膜7が筐体1の表面に形成される。金属膜7の厚さは0.02±0.005mmである。次に、図2−6に示されるように、金属膜7が、陽極酸化により金属酸化膜へと変えられる。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色が、電解着色により更に調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【0035】
具体的な実施形態において、アルミニウム膜が、通常は、PVD(物理蒸着)、CVD(化学蒸着)、イオンプレーティング、物理イジェクト又は電気めっき等の技術を用いて、筐体1の表面にめっきされ、アルミニウムが陽極酸化によりアルミニウム酸化物へと変えられ、筐体1の表面に取り付けられる。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【0036】
代替的に、先述の実施形態における金属製囲いは、以下の製造方法を用いて製造されてもよく、具体的には、以下の段階が含まれる。
【0037】
段階1:図2−7に示されるように、ダイキャスティング、プレス加工、鍛造、又はCNCコンピュータ数値制御加工等の金属形成技術を用いて、筐体1を製造する。
【0038】
段階2:図2−8に示されるように、ナノ射出成形、フィルム射出成形、接着剤接着、ホットメルト又は超音波溶接等の金属−プラスチック結合技術を用いて、筐体1の空洞にプラスチック補強層2を形成する。プラスチック補強層2は、筐体1の強度を増加し、筐体1の空洞構造を更に向上する。
【0039】
段階3:図2−9に示されるように、筐体1の表面に溝を提供する。具体的には、筐体1の表面に溝が設けられ、当該溝の幅は、段階4で提供される隙間3の幅、間隔及び個数と適合し、当該溝の深さは、段階6で配置されるフィラーの厚さと適合する。この実施形態において、溝の幅は2.6mmであり、溝の深さは0.02mmである。
【0040】
段階4:図2−10に示されるように、溝の底壁を切断し、少なくとも1つの隙間3を形成する。少なくとも1つの隙間3は、筐体1を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割する。具体的には、溝の底壁が切断されて4つの隙間3が形成され、それらの幅は0.05mmであり、複数の隙間3の間の間隔は0.8mmである。4つの隙間3は、並行に配置される。
【0041】
段階5:図2−11に示されるように、各隙間3を絶縁物4で充填する。具体的には、各隙間3は、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物4で充填され、絶縁物4が固化された後、筐体1の表面が平滑化され、研磨され、クリーニングされる。このように、隙間3及び絶縁物4が筐体1の上に4つのパーティションを形成し、その結果、筐体1により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響が防止される。
【0042】
段階6:図2−12に示されるように、溝に、筐体1と同一の材料のフィラーを堆積する。溝の空洞は、当該フィラーで充填される。具体的な実施形態において、筐体1はアルミニウム材料で作られ、アルミニウム層が、PVD(物理蒸着)、CVD(化学蒸着)、イオンプレーティング、物理イジェクト、又は電気めっき等の技術を用いて、溝に堆積される。
【0043】
段階7:図2−13に示されるように、筐体1の表面に絶縁膜5を形成する。具体的には、筐体1の表面に金属酸化膜を形成すべく、陽極酸化処理が筐体1に実行される。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色が、電解着色により更に調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【0044】
筐体1がアルミニウム材料で作られる場合に、酸化アルミニウム膜は、陽極酸化技術を用いて、筐体1の表面に形成される。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。実施形態2
【0045】
図3に示されるように、図3は、隙間と垂直な位置における、本発明の実施形態で提供される金属製囲いの断面図である。
【0046】
本発明の本実施形態は、金属製囲いを提供する。金属製囲いは、実施形態1における筐体1、隙間3、絶縁物4及び絶縁膜5を備え、上記の構造の全ては、実施形態1における構造及び配置と同じである。詳細は、ここでは再度記載されない。本実施形態で提供される金属製囲い及び実施形態1の金属製囲いの間の違いは、本実施形態で提供される金属製囲いが、反射膜6を更に備える点にある。反射膜6は、筐体1及び絶縁膜5の間に具体的に配置され、かつ、筐体1の表面全体を覆う。
【0047】
反射膜6は、筐体1の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、筐体1の表面にあり、かつ隙間3及び絶縁物4により形成されるパーティションは、筐体1と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜6は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜6は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【0048】
具体的な実施形態において、金属製囲いは、筐体1を備える。プラスチック補強層2が、筐体1の空洞に固定される。筐体1の表面には、4つの隙間3が設けられ、隙間3の幅は0.1mmであり、複数の隙間の間の間隔は0.8mmである。各隙間には、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物4が充填される。絶縁膜5が、筐体1の表面に更に取り付けられ、絶縁膜5の厚さは、0.03mmである。製造技術の制約により、絶縁膜5の厚さに対して、0.01mmの誤差が存在する。このため、絶縁膜5の厚さは、0.03mm−0.01mmから0.03mm+0.01mmにおよぶ。加えて、反射膜6が更に含まれ、反射膜6が筐体1及び絶縁膜5の間にあり、反射膜6が筐体1の表面全体を覆う。上記実施形態の金属製囲いの製造には、以下の段階が含まれる。
【0049】
図3−1から図3−4に示されるように、本実施形態で提供される製造方法における段階1、段階2、段階3及び段階4は、図2−1から図2−4に示される実施形態1の段階1、段階2、段階3及び段階4と同じであり、詳細は、ここでは再度記載されない。本実施形態で提供される製造方法は、以下の段階を更に備える。
【0050】
段階5:図3−5に示されるように、筐体1の表面に反射膜6を形成する。具体的には、ナノメートルレベルでの厚さを有する反射膜6が、筐体1の表面に形成され、反射膜6は筐体1の表面全体を覆う。反射膜6は、筐体1の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、隙間3及び絶縁物4により形成される、筐体1の上の4つのパーティションは、筐体1と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜6は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜6は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【0051】
段階6:図3−6及び図3−7に示されるように、筐体1の表面に絶縁膜5を形成する。具体的には、厚さが0.03±0.01mmの絶縁膜5が、反射膜6の上に形成される。絶縁膜5は、隙間3及び絶縁物4により筐体1の上に形成される4つのパーティションが外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【0052】
絶縁膜5の具体的な製造において、図3−6に示されるように、最初に、金属膜7が反射膜6の表面に形成される。金属膜7の厚さは0.03±0.005mmである。次に、図3−7に示されるように、金属膜7が、陽極酸化により金属酸化膜へと変えられる。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色が、電解着色により調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【0053】
具体的な実施形態において、酸化アルミニウム膜が、筐体1の表面に形成されてよい。具体的な製造方法は、実施形態1の酸化アルミニウム膜を生成するために用いられる方法と同じであり、詳細は、ここでは再度記載されない。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。実施形態3
【0054】
図4に示されるように、図4は、隙間と垂直な位置における、本発明の実施形態で提供される金属製囲いの断面図である。
【0055】
本発明の本実施形態は、金属製囲いを提供する。本金属製囲い及び実施形態2の金属製囲いの間の違いは、反射膜6が異なる位置に配置されるという点にのみあり、その他の構造は同じである。詳細は、ここでは再度記載されない。本実施形態において、反射膜6が、筐体1及び絶縁膜5の間にあり、反射膜6は、少なくとも1つの隙間3の表面を覆う。2つ又はそれよりも多くの隙間3が、切断により筐体1の上に形成される場合、反射膜6は、当該2つ又はそれよりも多くの隙間3における隣接する隙間3の間の領域を更に覆う。
【0056】
加えて、本実施形態で提供される反射膜6は、実施形態2の反射膜6と同じ効果を有する。両方とも、筐体1の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、隙間3及び絶縁物4により形成される、筐体1の表面における複数のパーティションは、筐体1と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜6は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜6は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【0057】
具体的な実施形態において、金属製囲いは筐体1を備える。プラスチック補強層2が筐体1の空洞に固定される。筐体1の表面には、4つの隙間3が設けられ、隙間3の幅は0.2mmであり、複数の隙間の間の間隔は0.8mmである。各隙間には、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物4が充填される。絶縁膜5が、筐体1の表面に更に取り付けられ、絶縁膜5の厚さは、0.04mmである。製造技術の制約により、絶縁膜5の厚さに対して、0.01mmの誤差が存在する。このため、絶縁膜5の厚さは、0.04mm−0.01mmから0.04mm+0.01mmにおよぶ。加えて、反射膜6が更に含まれる。反射膜6が筐体1及び絶縁膜5の間にあり、反射膜6が4つの隙間3の表面を覆い、かつ、4つの隙間3における隣接する隙間3の間の領域を覆う。上記実施形態の金属製囲いの製造には、以下の段階が含まれる。
【0058】
図4−1から図4−4に示されるように、本実施形態で提供される製造方法における段階1、段階2、段階3及び段階4は、図2−1から図2−4に示される実施形態1の段階1、段階2、段階3及び段階4と同じであり、詳細は、ここでは再度記載されない。本実施形態で提供される製造方法は、以下の段階を更に備える。
【0059】
段階5:図4−5に示されるように、筐体1の表面に反射膜6を形成する。具体的には、ナノメートルレベルでの厚さを有する反射膜6が、筐体1の表面に形成される。反射膜6は、4つの隙間3の表面及び4つの隙間3における隣接する隙間3の間の領域を覆う。反射膜6は、筐体1の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、隙間3及び絶縁物4により形成される、筐体1の上の4つのパーティションは、筐体1と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜6は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜6は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【0060】
段階6:図4−6及び図4−7に示されるように、筐体1の表面に絶縁膜5を形成する。具体的には、厚さが0.04±0.01mmの絶縁膜5が、筐体1の表面に形成され、絶縁膜5は、筐体1の全体の表面領域を覆う。絶縁膜5は、隙間3及び絶縁物4により筐体1の上に形成される4つのパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【0061】
絶縁膜5の具体的な製造において、図4−6に示されるように、最初に、金属膜7が筐体1の表面及び反射膜6の表面に形成される。金属膜7の厚さは0.04±0.005mmである。次に、図4−7に示されるように、金属膜7が、陽極酸化により金属酸化膜へと変えられる。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色が、電解着色により調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【0062】
具体的な実施形態において、酸化アルミニウム膜が、筐体1の表面に形成されてよい。具体的な製造手法は、実施形態1の酸化アルミニウム膜を生成するために用いられる方法と同じであり、詳細は、ここでは再度記載されない。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。実施形態4
【0063】
図5に示されるように、図5は、隙間と垂直な位置における、本発明の実施形態で提供される金属製囲いの断面図である。
【0064】
本発明の本実施形態は、金属製囲いを提供する。本金属製囲い及び実施形態3の金属製囲いの間の違いは、隙間3が設けられる領域の上に、溝が更に設けられるという点にのみある。反射膜6が溝に配置される。即ち、溝が筐体1の表面に設けられる。隙間3が溝の底壁の上に設けられ、溝の底壁を覆う反射膜6が、更に、溝にある。
【0065】
加えて、本実施形態で提供される反射膜6は、実施形態3の反射膜6と同じ効果を有する。両方とも、筐体1の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、筐体の表面にあり、かつ、隙間3及び絶縁物4により形成されるパーティションは、筐体1と外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜6は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜6は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【0066】
具体的な実施形態において、金属製囲いは筐体1を備える。プラスチック補強層2が筐体1の空洞に固定される。筐体1の表面には、4つの隙間3が設けられ、隙間3の幅は0.3mmであり、複数の隙間の間の間隔は0.8mmである。各隙間には、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物4が充填される。絶縁膜5が、筐体1の表面に更に取り付けられ、絶縁膜5の厚さは、0.05mmである。製造技術の制約により、絶縁膜5の厚さに対して、0.01mmの誤差が存在する。このため、絶縁膜5の厚さは、0.05mm−0.01mmから0.05mm+0.01mmにおよぶ。加えて、筐体1の表面における溝が更に含まれ、隙間3が溝の底壁の上に設けられ、溝の底壁を覆う反射膜6が、更に溝にある。上記実施形態の金属製囲いの製造には、以下の段階が含まれる。
【0067】
段階1:図5−1に示されるように、ダイキャスティング、プレス加工、鍛造、又は、CNCコンピュータ数値制御加工等の金属形成技術を用いて、筐体1を製造する。
【0068】
段階2:図5−2に示されるように、ナノ射出成形、フィルム射出成形、接着剤接着、ホットメルト、又は、超音波溶接等の金属−プラスチック結合技術を用いて、筐体1の空洞にプラスチック補強層2を形成する。プラスチック補強層2は、筐体1の強度を増加し、筐体1の空洞構造を更に向上する。
【0069】
段階3:図5−3に示されるように、筐体1の表面に溝を提供する。具体的には、筐体1の表面に溝が設けられ、当該溝の幅は、段階4で配置される隙間3の幅、間隔及び個数と適合し、当該溝の深さは、段階7で配置されるフィラーの厚さと適合する。この実施形態において、溝の幅は3.6mmであり、溝の深さは0.05mmである。
【0070】
段階4:図5−4に示されるように、溝の底壁を切断し、少なくとも1つの隙間3を形成する。少なくとも1つの隙間3は、筐体1を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割する。具体的には、溝の底壁が切断されて4つの隙間3が形成され、それらの幅は0.3mmであり、複数の隙間の間の間隔は0.8mmであり、4つの隙間3は、並行に配置される。
【0071】
段階5:図5−5に示されるように、各隙間3を絶縁物4で充填する。具体的には、各隙間3は、エポキシ樹脂やシリコーン封止剤等の絶縁物4で充填され、絶縁物4が固化された後、筐体1の表面が平滑化され、研磨され、クリーニングされる。隙間3及び絶縁物4が筐体1の上に4つのパーティションを形成し、その結果、筐体1により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響が防止される。
【0072】
段階6:図5−6に示されるように、溝に反射膜6を置く。具体的には、ナノメートルレベルでの厚さを有する反射膜6が溝に配置され、反射膜6は、溝の底壁を覆う。反射膜6は、筐体1の金属の反射率と近似する反射率を提供してよく、その結果、隙間3は、外見上の明るさの明らかな違いを有さない。具体的には、反射膜6は、金属に似せた被覆であり、あるいは、反射膜6は、堆積により、インジウム、錫、又はインジウム−錫合金から作られる。
【0073】
段階7:図5−7に示されるように、溝に、筐体1と同一の材料のフィラーを堆積する。溝の空洞は、当該フィラーで充填される。具体的な実施形態において、筐体1はアルミニウム材料で作られ、アルミニウム層が、PVD(物理蒸着)、CVD(化学蒸着)、イオンプレーティング、物理イジェクト、又は電気めっき等の技術を用いて、溝に堆積される。
【0074】
段階8:図5−8に示されるように、筐体1の表面に絶縁膜5を形成する。具体的には、筐体1の表面に金属酸化膜を形成すべく、陽極酸化処理が筐体1に実行される。陽極酸化処理において、得られる金属酸化膜層の色は、電解着色により更に調整されてよい。金属酸化膜は、金属製囲いが統一された外観を確保しつつも金属製囲いが金属光沢を有することを可能とする。加えて、必要に応じて着色が実行され得るので、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【0075】
筐体1がアルミニウム材料を用いて作られる場合に、酸化アルミニウム膜は、陽極酸化により、筐体1の表面に形成される。アルミニウム酸化物は、高硬度及び優れた耐摩耗性等の利点を有し、その結果、金属製囲いの質感が向上する。
【0076】
本発明の実施形態1から実施形態4において提供される金属製囲いが筐体1を備えることが、上記説明から理解できよう。隙間3が筐体1の上に設けられ、隙間3が筐体1を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割する。各隙間3は絶縁物4で充填され、筐体1の分割された部分は、絶縁物4を用いることにより、統一体へと重ね継ぎ(スプライス)される。このように、隙間3及び絶縁物4が筐体1の上にパーティションを形成し、その結果、筐体1により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響を防止する。絶縁膜5は、筐体1の表面に更に取り付けられ、絶縁膜5は、隙間3及び絶縁物4により形成されるパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【0077】
本発明は、先述の実施形態における金属製囲いのための製造方法を更に提供し、以下の段階が含まれる。
【0078】
筐体1を切断して、少なくとも1つの隙間3を形成する。少なくとも1つの隙間3は、筐体1を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割する。各隙間3を絶縁物4で充填する。筐体1の表面に絶縁膜5を形成する。
【0079】
金属製囲いが統一された外観を有し、かつ、金属光沢を有することができるように、金属酸化膜が、筐体1の表面に具体的に形成されてよい。図2に示される構造を有する金属製囲いが、実施形態1の2つの製造方法を用いて製造される。金属製囲いの質感を向上すべく、反射膜6が筐体1と絶縁膜5の間に更に置かれてよく、反射膜6は、筐体1の表面全体を覆う。図3の構造を有する金属製囲いが、実施形態2の製造方法を用いて製造される。加えて代替的に、反射膜6は、筐体1の上にあり、かつ、切断により少なくとも1つの隙間3が形成される領域のみを覆ってよい。具体的には、反射膜6は、少なくとも1つの隙間3の表面を覆う。2つ又はそれよりも多くの隙間3が切断により筐体1の上に形成される場合に、反射膜6が、2つ又はそれよりも多くの隙間3における隣接する隙間3の間の領域を更に覆う。図4の構造を有する金属製囲いが、実施形態3の製造方法を用いて製造される。
【0080】
別の具体的な製造方法において、溝が、筐体1の表面に更に設けられてよい。少なくとも1つの隙間3が溝の底壁の上に設けられ、反射膜6が溝の底壁の上に置かれる。図5の構造を有する金属製囲いが、実施形態4の製造方法を用いて製造される。
【0081】
本発明は、モバイルデバイスを更に提供する。モバイルデバイスが、デバイス本体と、上記デバイス本体に固定して接続される、実施形態1から実施形態4のうちの1つにおける金属製囲いとを備える。モバイルデバイスが、上記デバイス本体の上に配置されるアンテナを更に備える。金属製囲いにおける、少なくとも2つの電気的に絶縁された部分のうちの少なくとも1つが、アンテナの放射要素として用いられる。モバイルデバイスの金属製囲いに対し、隙間3が筐体1の上に設けられ、隙間3が筐体1を少なくとも2つの電気的に絶縁された部分へと分割し、各隙間3は絶縁物4で充填される。このように、隙間3及び絶縁物4が筐体1の上にパーティションを形成し、その結果、筐体1により生成される電磁波シールドが電磁波透過に及ぼす影響が防止される。絶縁膜5が筐体1の表面に更に取り付けられる。絶縁膜5は、隙間3及び絶縁物4により形成されるパーティションが、外見上見えなくなることを可能とし、その結果、金属製囲いは、統一された外観を有する。
【国際調査報告】