特表2020-501117(P2020-501117A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】特表2020-501117(P2020-501117A)
(43)【公表日】2020年1月16日
(54)【発明の名称】光センサの信号処理方法
(51)【国際特許分類】
   G01T 1/20 20060101AFI20191213BHJP
   G01T 1/161 20060101ALI20191213BHJP
   H01L 31/10 20060101ALI20191213BHJP
【FI】
   G01T1/20 F
   G01T1/20 E
   G01T1/20 G
   G01T1/161 A
   H01L31/10 A
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
【全頁数】24
(21)【出願番号】特願2019-522313(P2019-522313)
(86)(22)【出願日】2017年11月10日
(85)【翻訳文提出日】2019年5月16日
(86)【国際出願番号】DE2017000380
(87)【国際公開番号】WO2018095447
(87)【国際公開日】20180531
(31)【優先権主張番号】102016014113.1
(32)【優先日】2016年11月25日
(33)【優先権主張国】DE
(31)【優先権主張番号】102017009365.2
(32)【優先日】2017年10月5日
(33)【優先権主張国】DE
(81)【指定国】 AP(BW,GH,GM,KE,LR,LS,MW,MZ,NA,RW,SD,SL,ST,SZ,TZ,UG,ZM,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,RU,TJ,TM),EP(AL,AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,RS,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GQ,GW,KM,ML,MR,NE,SN,TD,TG),AE,AG,AL,AM,AO,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BH,BN,BR,BW,BY,BZ,CA,CH,CL,CN,CO,CR,CU,CZ,DJ,DK,DM,DO,DZ,EC,EE,EG,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,GT,HN,HR,HU,ID,IL,IN,IR,IS,JO,JP,KE,KG,KH,KN,KP,KR,KW,KZ,LA,LC,LK,LR,LS,LU,LY,MA,MD,ME,MG,MK,MN,MW,MX,MY,MZ,NA,NG,NI,NO,NZ,OM,PA,PE,PG,PH,PL,PT,QA,RO,RS,RU,RW,SA,SC,SD,SE,SG,SK,SL,SM,ST,SV,SY,TH,TJ,TM,TN,TR,TT,TZ
(71)【出願人】
【識別番号】390035448
【氏名又は名称】フォルシュングスツェントルム・ユーリッヒ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング
(74)【代理人】
【識別番号】100069556
【弁理士】
【氏名又は名称】江崎 光史
(74)【代理人】
【識別番号】100111486
【弁理士】
【氏名又は名称】鍛冶澤 實
(74)【代理人】
【識別番号】100173521
【弁理士】
【氏名又は名称】篠原 淳司
(72)【発明者】
【氏名】ラーヒェ・クリストフ
(72)【発明者】
【氏名】バーネキング・アルネ
(72)【発明者】
【氏名】シャー・ナディム・ヨーニ
【テーマコード(参考)】
2G188
4C188
5F849
【Fターム(参考)】
2G188AA02
2G188BB07
2G188CC15
2G188CC21
2G188CC23
2G188CC25
2G188CC26
2G188DD02
2G188DD42
2G188EE05
2G188EE29
2G188EE39
4C188EE02
4C188FF07
4C188FF18
4C188GG18
4C188GG19
4C188JJ05
4C188KK29
5F849AA07
5F849AB01
5F849AB02
5F849BA30
5F849BB03
5F849BB08
5F849EA04
5F849JA18
5F849XB01
5F849XB14
5F849XB15
5F849XB38
(57)【要約】
本発明は、LOR問題を解決または最小化することができる光センサの信号処理方法に関する。本発明によれば、e方向に対して線形符号化が実行され、その線形符号化は、このe方向に関してそれぞれ線形に増加および減少する信号を含み、各方向に関して、線形に増加する信号の信号は線形に減少する信号とが掛け合わされる。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
線形に増加し線形に減少する信号強度を有するe方向の読み出しチャネルの任意の組み合わせを測定することによって少なくとも一つのe方向で線形符号化が行われる光センサの信号処理方法において、
線形符号化のためにそれぞれ使用されるe方向の読み出しチャネルの増加および減少する信号強度が互いに乗算され、線形符号化は式11による境界条件を満たし、
【数1】
この式では、Q1はe位置により増加する出力チャネルの信号強度の電荷を、Q2はe位置により減少する出力チャンネルの信号強度の電荷を、 は符号化方向を表し、
相互作用の深さは、式7
【数2】
および付属の校正測定を用いて、e方向の1次モーメントおよびe方向の2次モーメントの線形変換から近似的に求められることを特徴とする方法。
【請求項2】
請求項1に記載の方法において、
式1により、出力チャネルAおよびBの信号を用いてx方向に線形符号化を行ない、
【数3】
出力チャネルAおよびBの信号は互いに掛け合わされ、および/または式2により出力チャネルCおよびDの信号を用いてy方向に線形符号化を行い、
【数4】
出力チャンネルCとDの信号が互いに乗算されることを特徴とする方法。
【請求項3】
請求項1に記載の方法において、
線形符号化のために、出力E、F、GおよびHを有する4つの読み出しチャネルが使用され、それらの各々は、x方向およびy方向の線形符号化に寄与し、
式3により信号を用いてx方向の線形符号化を行ない、
【数5】
式4により信号を用いてy方向の線形符号化を行い、
【数6】
式8:
【数7】
によるx方向を符号化するための信号および
式9:
【数8】
によるy方向を符号化するための信号
が掛け合わされることを特徴とする方法。
【請求項4】
請求項1から3のいずれかに記載の方法において、
2次モーメントは、さらに足し算回路網により決定されることを特徴とする方法。
【請求項5】
請求項1から4のいずれかに記載の方法において、
厳密な線形符号化が行なわれることを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光センサの信号処理方法に関する。
【背景技術】
【0002】
先行技術により、β+β-(電子・陽電子)対消滅光を検出するためにポジトロン断層法(PET)検出器リング(Positronen−Emissions−Tomographie−Detektorringe)が用いられている。このリングは、シンチレーション光を検出することのできる光センサ(複数)に隣接するシンチレーション結晶(複数)からなる。典型的な光センサは、光電子増倍管(PMT)、アバランシェフォトダイオード(APD)、フォトダイオードおよびシリコン光電子増倍管(SiPM)である。検出器リングは通常円形であり、測定対象、例えば患者または動物の体の一部が検出器リング(PETリング)の中央に配置されるような構造とされている。放射性診断薬を使用することによってβ+β-対消滅光が生成されるが、そのβ+β-対消滅光を検出しなければならない。このβ+β-対消滅光(以下、対消滅光と言う。)は、検査対象の周囲に環状または方形に配置されていてシンチレーション光を発生させるシンチレーション結晶に当たる。このシンチレーション光はさらに、線源に対して同心の配置でシンチレーション結晶の背後に位置する光センサによってカウントされる。もっとも、光センサは、シンチレーション結晶の別の側面、例えばシンチレーション結晶の前方または側方に配置することもできる。シンチレーション結晶は三次元的な立体である。検査対象が検出器リングの中心から対消滅光を放射する配置に対して、対消滅光がシンチレーション結晶に当たる横断面がxy軸を展開する。この指定の仕方では、シンチレーション結晶の深さがz軸で表現される。理想化して表すと、検出器リングの中心に検査対象、すなわちエネルギー511keVの放射線の線源があり、この放射線は、理想的にはシンチレーション結晶のxy面に垂直に当たり、シンチレーション結晶のz軸に沿った或る侵入深さを有する。この511keVの対消滅光は、続いてシンチレーション結晶の或る地点でz軸に沿ってシンチレーションを放出し、これが光センサ(例えばSiPM)によって信号としてカウントされる。SiPMは、光子一つであっても検出することができる。
【0003】
シンチレーション結晶の感度とz軸に沿ったその長さとの間には相関関係がある。シンチレーション結晶の奥行きが増す(深くなる)ほど、シンチレーション事象を起こす可能性が高くなるので、シンチレーション結晶は感度を増す。対消滅光を検出する場合、対消滅光が放出される地点から、互いに反対方向となる二方向に光線が放射されるので、これらの光線は180°の角度を形成することになる。これらの光線によって形成される線は、“同時計数線(line of response)”(LOR)と呼ばれる。これに対応して、リング形の検出器の場合、互いに向かい合った面にある(リング形の配置に対してその中心に放射線源がある。)シンチレーション結晶(複数)に二つの光線がLOR伝いに当たる。
シンチレータ結晶の一つの側面だけで光検出を行う光検出器の場合、事象のx位置およびy位置を特定するための確立された方法がいくつかはある。しかしながら、これらはz位置を含まず、従って、ガンマ光子がz軸上で停止して光に変換(光変換)された場所のシンチレーション結晶内の正確な位置を特定するものではない。z位置が一緒に特定されないと、LORを特定する際に、いわゆる3次元放射線位置問題(DOI問題)(Interaktionstiefenproblem(相互作用深さ問題))から来る視差誤差(パララックス誤差)が生じる。DOI問題は、対消滅光が放出される地点が正確にリング形検出器の中心にない場合には常に起きる。この問題は、LORの放射中心がPETリングの中心から外れるほど深刻になる。このため、PETリングの設計は、シンチレーション結晶をより長くすることで感度を高めることと、シンチレーション結晶をより短くすることでDOI誤差を減らすこととの間で折り合いをつけている。PET用途のいくつかの分野では、検査対象ぎりぎりに隣接する(近接する)PETリング(検出器リング)を用いる必要がある。医療において患者がMRI処置およびPET処置により同時に検査されなければならない場合がこれに該当する。この種のハイブリッドスキャナでは、PETリングがMRIスキャナ管の開口部に嵌らなければならない。そのため、使用されるPETリングの直径は、PETリングがMRIリングの開口部に嵌るのに十分に小さくなければならない。ところが、小さな寸法のPETリングでは、検査対象−例えば小動物の身体部分、或いはまた人間の身体部分−を中心に配置することはできるものの、PETリングの直径でみると、検査対象がPETリングの開口部の周縁領域にまで達するほどの大きさになってしまっているという問題がある。しかしこのことによって、対消滅光が出る地点でさえもがPETリングに非常に近い位置にくるが故にDOI問題が顕著になってしまうことになる。
【0004】
近年、特に小動物PETスキャナにおける解像度は、ピクセル化(画素化)されたシンチレーション結晶ブロックを用いることでかなり改善された。この場合、ピクセル化はxy面上で行なわれるので、z方向に向いたピクセル(画素)の管(複数)がシンチレーション結晶中に形成されることになる。こういったことが進められてきたのは、小動物用PETスキャナにおいては、検査対象が非常に小さいために、次第により高い空間分解能が求められてきたことによる。ピクセルサイズは、かれこれ既にサブミリ領域に及んでいる。このため、解決されなければならない二つの問題が一層深刻になってくる。第一に、ピクセル化された結晶ブロックは、接着剤と反射フィルムからなり、これらが個々のシンチレーション結晶同士の間にあることでピクセル化されたブロックを形作っている。接着剤層と反射フィルムは、およそ70μmの厚さを有する。そのため、特に狭いピクセル間隔のピクセル化アレイは、感度損失が大きくなる。例えば非特許文献1で使用されているように、0.8cm×0.8cmの結晶ピクセルを有するアレイの場合、シンチレーション結晶に対する接着剤とフィルムの比率が顕著に減少するので、接着剤とフィルムはすでに29%の割合を占めることになる。その論理的帰結としてシンチレーション結晶の割合は71%に減っている。それ以外の29%の体積では、ガンマ量子を停止させて光に変換することはできない。例えば、0.5cm×0.5cmのさらに小さいピクセル化されたアレイが使用される場合、結晶の割合は59%までにさえ減少する。したがって、ピクセル化されたアレイにより解像度が上がるにつれて、感度は次第に低下する。ピクセル化されたシンチレーション結晶アレイに関する第二の問題は、放射された光が光センサ表面の比較的小さな領域に集中することである。これは特にSiPMのような二進的な光センサ(バイナリー光センサ)にとっては問題である。SiPMは、二進的な素子として機能する複数のマイクロセルで構成されている。これらのマイクロセルは、光を検知したのか或いはそうでないのかを検出する。光が検知されると、マイクロセルはブレークを引き起こす。ブレークしたマイクロセルの数は、どれだけの光が検出器表面に達したかを定量的に与える。一つのマイクロセルを二つないしそれより多い光量子がトリガーしても、出力信号は同じままである。SiPMに当たる光が多いほど、二つないしそれより多い光量子がSiPMの同じマイクロセルに当たる確率が高くなる。すると、これらの追加の光量子は検知することができない。その結果、ピクセル化されたシンチレーション結晶アレイを使用するときには、これらがフォトセンサーの小さな領域に光をより集中させるが故に、マイクロセルが飽和する確率は著しく高くなる。また、飽和効果は検出器のエネルギー分解能も低下させる。
【0005】
従来技術の検出器は、MR/PETハイブリッドスキャナで使用するための磁気共鳴断層撮影装置とのコンパチビリティ(MRIコンパチビリティ)を可能にするべくSiPMベースの光センサ技術を使用している。ハイブリッドスキャナに関するさらなる問題は、PET検出器および付属の電子機器のためのスペースが磁気共鳴断層撮影装置(MRI)の管直径によって制限されていることである。このことは、超高磁場断層撮影装置に特に当てはまる。管直径がより狭まった結果、PETシンチレーション結晶はできるだけ短くなければならない。シンチレーション結晶がより短くなったことで、やはり感度が低下する。これはまた、管直径の条件により、PETリングが検査対象のより近くに位置することを意味する。対消滅とそれに伴って生じるLORがPETリングのより近くで起きれば起きるほど、視差誤差(パララックス誤差)が大きくなる。これは、対消滅がPETリングの近くで起きるとき、ガンマ量子がもはやシンチレーション結晶に対して垂直に入射しないためである。このPETリングの設計では、検査されるべき対象の近くにPETリングが位置すると、視差誤差が増してより顕著になるが、それはこの場合、対消滅もやはりPETリングの近くで起こる可能性があるためである。ハイブリッド装置により制限を受けることは別にしても、感度をより高めてコストを下げるという理由からPETリングをできるだけ小さく設計することも試みられている。
【0006】
さらに、出力チャネルの増加によってPETリングの電力需要も高まるので、光センサのコンセプト(設計理念)には、出力チャネルの符号化(記号化)(コーディング)(Kodierung)が含まれ得ることが知られている。ただし、これは設計上の制約を受ける。簡単な計算をすればこのことは分かる。直径8cm、長さ10cmのPETリングは、検出面が251cm2になる。結晶ピクセルサイズが0.8mmのシンチレーション結晶と光センサーを1対1で組み合わせて用いる場合、各チャネルを個別に読み取ろうとすると、既に39270の読み出しチャネルが必要となる。
【0007】
より高い空間分解能を実現するために、現在のセンサ設計は、ピクセルサイズがより狭まったセンサチップから構成される。これにより、読み出しチャネルが大幅に増加するが、そのチャネルは、電力需要、スペースおよびデータレートによって制限されている。このことの帰結として、光センサの読み出しチャネルの数を減らすために、位置感応型(positionssensitive)(PS)符号化法が開発された(非特許文献1〜6)。
非特許文献7で公開されたコンセプトは、モノリシック結晶とSiPMからなるPET検出器を構成することの可能性を証明している。前述したように、モノリシック結晶は、反射フィルムとそれに付随する接着剤に必要なスペースによる感度損失の問題を解消する。しかも、これによりモノリシック結晶の製造コストがより安くなる。使用された結晶厚さは2mmである。これにより、非特許文献7で用いられる構造により視差誤差は減少するが、これはシンチレーション結晶のz方向の寸法を小さくするという犠牲を払うことにより獲得されるものである。それと同時に、結晶高さが僅かであるために検出効率は低い。
【0008】
DOI情報を測定し、それに伴い視差誤差を修正する様々な方法があるが、それは、結晶のさらに別の側面で光を検出するものである。特に従来技術のSiPMの場合、これによってコストは計り知れないほど高くなる。結晶の一つの側面だけで光を検出し且つその際にモノリシック結晶を使用するDOI検出のコンセプトは、非特許文献8に公開されており、特許文献9で特許が付与されている。これは、結晶の光分布がDOIに依存するという既知の原理を用いている。採用された検出器のコンセプトは、モノリシック結晶を用いて浜松の位置感応型光電子増倍管(PMT)H8500につなげられたものである。さらに、抵抗回路網が使用され、それは位置符号化(位置コーディング)を可能にし、したがって出力チャネルを減少させることができる。この場合、光分布の標準偏差が、DOIを推定するために用いられる。標準偏差を計算するには、光分布の1次と2次のモーメントが必要である。1次モーメントは、すでに出力チャネルの線形符号化によって与えられている。2次モーメントを決定するために、足し算回路網(Summennetzwerk)が開発され、抵抗回路網と一体化された。これはセンサチップの複雑さを著しく増大させる。
【0009】
DOI検出を用いたPET検出器の概要は非特許文献10にまとめられている。近年開発された小動物PETおよびMR/PETハイブリッドスキャナの説明と結果は非特許文献11〜14にある。
【0010】
非特許文献7に記載された検出器は、モノリシック結晶を用いて実現されている。感度を上げるために、近接するリングが設計された。それと同時にモノリシック結晶が使用された。シンチレーション結晶と検査対象との間の距離が短くなってしまうことに起因して、DOI問題は深刻化している。したがって、リングの開発者は結晶厚2mmの制約を受けている。この結果、狭まったリングとモノリシック結晶の使用により得られる感度は、シンチレーション結晶の厚さが薄いために再び失われてしまうことになる。しかしながら、この研究は、モノリシック結晶を用いると高分解能が可能であることを証明している。
【0011】
DOI位置は、2つの結晶表面にセンサ(複数)を取り付けることによって特定することができる。これは二倍の光センサ表面を必要とする。現在、センサは、PETリングの最も高額な部品の一つである。
【0012】
三次元動物PETスキャナは、Judenhoferら(非特許文献11)によって、7T動物スキャナに組み込まれた。このスキャナは、APDをベースにしており、このAPDは、厚さ4.5mmのシンチレーション結晶を使用し、1.6mm間隔の144個の結晶による結晶配列からなる。この結晶アレイは、3×3大APDアレイに結合されている。軸方向視野(FOV)は19mmである。この開発されたシステムは、特にシステムが統合されている場合、スペースが著しく制限されていることが分かっており、それ故に結晶厚さと軸方向FOVの間で折り合いを見つけることが余儀なくされている。これが、0.23%という低いシステムの感度をもたらしている。加えて、この例でもDOI問題が結晶厚を制限する。
【0013】
MADPETという名で公になったさらに別のプロトタイプのスキャナは、その初号機がミュンヘンで開発された(非特許文献12)。このスキャナは、3.7mm×3.7mm×12mmの結晶に直接接合されたAPDを用いることで実現されている。このプロトタイプのスキャナは、1対1接合を用いると読み出しチャネルが増加するという問題を明らかにしている。初号のスキャナでは、すべてのチャネルを同時に読み取ることができない。しかも、感度が低いことがこのスキャナの問題である。このスキャナの2号機、MADPET II
では、この問題は解決され、すべてのAPDの読み出しが可能である(非特許文献15)。この2号機は、二層の結晶とその間にあるAPDを有する二重層の読み出しシステムを利用することもできる。その結果、結晶が分割されているので、DOI位置も特定することができる。しかしながら、それはまた光センサ表面を2倍必要とし、それに伴い読み出しチャネルが改めて増加する。加えて、約2倍量の光センサにより、コストがさらに高くなる。
【0014】
位置感応型PMTによるDOI検出の可能性が非特許文献10,17に示されている。
【0015】
SiPMとモノリシック結晶からなる検出器による研究結果は非特許文献16で公知とされている。このアプローチでは、SiPMは、非特許文献8,9でPMTとAPDについて最初のコンセプトが公知にされたのと同じ方法で使用される。この方法では、光センサは単結晶の一つの側面だけに光学的に結合される。しかしながら、線形符号化(線形コーディング)されたセンサは、抵抗回路網の分だけ拡張されなければならない。
【0016】
本出願人の特許文献21(独国特許出願第102016006056.5号明細書)および特許文献22(独国特許出願第102016008904.0号明細書)は、DOI問題を解決または低減することができるセンサチップを開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0017】
【特許文献9】米国特許第7476864号明細書
【特許文献21】独国特許出願第102016006056.5号明細書
【特許文献22】独国特許出願第102016008904.0号明細書
【非特許文献】
【0018】
【非特許文献1】Gola, A., et al., “A Novel Approach to Position−Sensitive Silicon Photomultipliers: First Results”.
【非特許文献2】Schulz, V., et al., “Sensitivity encoded silicon photomultiplier−a new sensor for highresolution PET−MRI.” Physics in medicine and biology 58.14 (2013): 4733.
【非特許文献3】Fischer, P., Piemonte, C., “Interpolating silicon photomultipliers”, NIMPRA, Nov. 2012.
【非特許文献4】Berneking, A., “Characterization of Sensitivity encoded Silicon Photomultiplier for high resolution simultaneous PET/MR Imaging”, Diploma thesis, RWTH Aachen University, 3.12.2012.
【非特許文献5】Grazioso, R., et al., “APD performance in light sharing PET applications”. Nuclear Science Symposium Conference Record, 2003 IEEE (Volume:3)
【非特許文献6】Watanabe, M., et. al., “A HIGH RESOLUTION ANIMAL PET SCANNER USING COMPACT PS−PMT DETECTORS”, Nuclear Science Symposium, 1996. Conference Record., 1996 IEEE (Volume:2)
【非特許文献7】Espana, S., et al., “DigiPET: sub−millimeter spatial resolution small−animal PET imaging using thin monolithic scintillators”.
【非特許文献8】Lerche, Ch. W., et al., “Depth of interaction detection for γ−ray imaging”.
【非特許文献10】Ito, M., et al., “Positron Emission Tomography (PET) Detectors with Depth−of−Interaction (DOI) Capability”.
【非特許文献11】Judenhofer, M. S., et al., “Simultaneous PET−MRI: a new approach for functional and morphological imaging”.
【非特許文献12】Ziegler, S. I., et al., “A prototype high−resolution animal positron tomograph with avalanche photodiode arrays and LSO crystals”.
【非特許文献13】Balcerzyk, M., et al., “Preliminary performance evaluation of a high resolution small animal PET scanner with monolithic crystals and depth−of−interaction encoding”.
【非特許文献14】Balcerzyk, M., et al., “Initial performance evaluation of a high resolution Albira small animal positron emission tomography scanner with monolithic crystals and depth−of−interaction encoding from a user’s perspective”.
【非特許文献15】McElroy, D. P., et al., “First Results From MADPET−II: A Novel Detector and Readout System for High Resolution Small Animal PET”.
【非特許文献16】Gonza´lez Martinez, A. J., et al., “Innovative PET detector concept based on SiPMs and continuous crystals”.
【非特許文献17】Siegel, S., et al., “Simple Charge Division Readouts for Imaging Scintillator Arrays using a Multi−Channel PMT”.
【非特許文献18】Niknejad, T., et al., “Development of high−resolution detector module with depth of interaction identification for positron emission tomography”.
【非特許文献19】Tsuda, T., et al., “Performance Evaluation of a Subset of a Four−Layer LSO Detector for a Small Animal DOI PET Scanner: jPET−RD”.
【非特許文献20】Gonza´lez, A. J., et al. “The MINDView brain PET detector, feasibility study based on SiPM arrays“
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0019】
本発明の目的は、先行技術の欠点を克服し、それによってLOR特定における視差誤差を低減することができる、光センサの信号を読み出すための方法を提供することである。ポジトロン断層法における信号検出のためのシンチレーション単結晶を使用可能にし、LORを特定する際の視差誤差を減少させることでDOI問題を回避できるようにする方法が利用できるようにならなければならない。この方法は、相互作用の深さに依存した(相互作用深度依存性の)光分布を生成し且つそれぞれできるだけ線形となるべき位置符号化(位置コーディング)を内包したモノリシック結晶およびピクセル化結晶アレイを持つ全ての光センサタイプに適していなければならない。このとき、PET検出器は変更される必要はない。したがって、ソフトウェアベースの方法で既存のPETおよびMR−PETシステムをアップグレードすることもできる。
さらに相互作用の深さが特定されるので、光センサの感度および解像度は改善されるはずである。相互作用の深さの解像度はここで、光センサのx−y解像度に依存する。さらに、MRとも互換性があるこの方法は、特に高磁場下でMRIと共に光センサを動作させるのに適していなければならない。検査対象に近接している小型の立体型PETリングの精度ないしPETリングにおける精度を改善しなければならない。相互作用の深さを特定するために測定装置に通常付属する付加的な電子機器に必要なスペースは、減らされなければならない。例えば抵抗回路網などを組み込まなくてもよいようにすることで、通常は敏感な光センサ表面を無駄にする可能性のあるスペースは節約されなければならない。装置のコストは下げられるべきである。この方法は、その用途をPETでの使用に限定することを意図するものではなく、相互作用の深さに依存して光が分布するシンチレーション単結晶およびシンチレーション結晶のアレイ全般に使用することを意図している。
【課題を解決するための手段】
【0020】
この課題は、請求項1の前提部分に基づいて、請求項1の特徴部分に記載されている特徴によって解決される。
【0021】
初めに述べた課題は解決される。
【0022】
本発明による方法を用いることで、特にシンチレーション単結晶において、今度はLORを特定する際の視差誤差を減少させることが可能である。測定方法および装置の感度と解像度が改善される。z方向に比較的長いシンチレーション単結晶の使用が可能となる。この方法はまた、MRI装置と一緒に動作する光センサにも適用することができる。特に、管寸法が小さい装置の場合、或いはPETリングが検査対象に近接している場合に、視差誤差が減少する。付属の電子機器用のスペースとコストを節約できる。本発明による方法は、x−y解像度に依存するz解像度の細部精度を実現する。これは、特にLG−SiPM、SeSPまたはiSiPMのような高解像度光センサにおいて、相互作用深度の解像度をかなり高めることができる。これにより、2次モーメントがより正確に推定されるようになる。本発明の方法は、例えば、LG−SiPM、SeSPおよびiSIPMといったSiPM、位置感応型ADPといったADPないしは位置感応型PMTといったPMT、さらには相互作用深度に依存する光分布を持つシンチレーション結晶アレイなどの、位置について符号化されている(ここで符号化はできるだけ線形でなければならないと考えられる。)あらゆる光センサに対して適用可能である。
【0023】
以下では、本発明をその一般的な形で説明するが、これは限定的に解釈されるべきではあない。
【0024】
PET測定のための検出器のコンセプトが提供され、このコンセプトでは、個々の検出器のそれぞれが少なくとも一つのシンチレーション単結晶と、シンチレーション結晶の一つの側面に配置された少なくとも一つの光センサとを有する。好ましくは、光センサは、シンチレーション単結晶のx−y面上に、より好ましくはシンチレーション単結晶の検出器リングの中心とは反対側に取り付けられている。別の実施形態では、光センサは、シンチレーション単結晶の、x−y面上にはない側面、例えばx−z面上またはy−z面上の側面に取り付けることができる。しかしながらこれには、x−z面またはy−z面に取り付けられている光センサに関してスキャナ感度が失われるという欠点がある。センサが中心に面している側面にある場合は、付加的なコンプトン効果が生じる。
【0025】
いくつかのシンチレーション単結晶を一つまたは複数の光センサに結合することも可能である。
【0026】
シンチレーション単結晶の使用は、ピクセル化されたシンチレーション結晶に対し、単結晶の感度を最大にできるという利点を有する。ピクセル化されたシンチレーション結晶の場合、シンチレーション単結晶(複数)の効率は、例えば、ピクセル化された結晶アレイの0.8mm×0.8mmまたは0.5mm×0.5mmの結晶ピクセルサイズで、わずか71%または59%にまで低下する。シンチレーション単結晶は、限定はされないものの、例えばLSO、LYSO、BGO、GSO、BaFまたはNaI:Tl(タリウムドープヨウ化ナトリウム)から構成することができる。これらの材料は当業者には周知である。シンチレーション結晶のx方向の寸法に対するシンチレーション単結晶のz方向の寸法の比が1以下であると、xyに関する正方形の横断面において良好な結果が得られる。最良の結果は0.25の比率で得られる。この比は場合によってはもっと小さくてもよい。この場合に達するシンチレーション単結晶の長さは、例えばPETリングの直径や大きな単結晶に関連するコストといったような実際的な状況によってむしろ決められている。シンチレーション単結晶のz方向の大きさは、到達しなければならない所望の感度に拠る。シンチレーション単結晶のz方向の寸法が大きくなるというのは、後述の本発明の光センサの読み出しの結果であり、この光センサの読み出しが、DOI誤差を最小にするようなサイズを可能にする。
【0027】
この方法は、特別に製作されたシンチレーション結晶アレイを使用するときにも応用することができる。ここでの条件は、相互作用の深さに応じてセンサ表面にわたる光分布が生じるように結晶アレイが構成されていることである。最近公開された方法は、光を分布させるための光ガイドをセンサとは反対側の表面に取り付けることである。シンチレーション光はそこで反射され、ピクセル内の相互作用の深さに応じていくつかのピクセルに分布する(非特許文献18)。これに関する別の既知の方法は、互いにずれている2つ以上の結晶アレイを重ね合わせることで、上側の結晶の光が下側にあるいくつかの(通常は4つの)結晶に分配されるようにするというものである。そのようにすると、どの結晶アレイ層においてシンチレーション事象が起きたかを幅に基づいて決めることができる(非特許文献19,20)。
【0028】
本発明による方法では、位置符号化を含む任意の光センサを使用することができる。シンチレーション単結晶上に、一つの光センサまたは複数の小さな光センサを載置することができ、それらは組み立てられてより大きな光センサを形成する。これらはシンチレーション単結晶上に貼着することができる。いくつかの小さな光センサが組み合わされる場合、それらがシンチレーション単結晶の一つの側面に一緒に取り付けられるとき、これらの光センサは、本発明の意味では単一の光センサと見なされる。これに使用される接着剤は、光を透過させるものでなければならない。さらに、光強度が集中し過ぎている場合は、シンチレーション単結晶と光センサとの間に光ディフューザ(Lichtverteiler)(配光子)の層があってもよい。一つよりも多い光センサが単結晶に取り付けられている構成も可能である。例えば、z軸に沿って積み重なり、光センサとシンチレーション単結晶が交互に並ぶというのもあり得る。これは、特定の結晶領域内の光分布がそれほど異ならないシンチレーション単結晶が使用される場合、並びに、それぞれがセンサを有するいくつかの層にシンチレーション単結晶を分割することに意味がある場合に特に有用である。他の実施形態では、シンチレーション単結晶の側面であって、シンチレーション単結晶のx−y面上でない側面に光センサが取り付けられていてもよい。一つ、二つまたはいくつかの、例えば三つの光センサが異なる側面に取り付けられていてもよい。この場合、光センサは、シンチレーション単結晶の二つの対向する側面、或いはシンチレーション単結晶の接し合う(xzまたはyz方向にある)側面(複数)に取り付けることができる。あらゆるサブコンビネーションが考えられ得る。光センサが対向し合う側面に取り付けられている変形例は、測定信号が受信されるときに精度が高められるという利点を有する。とはいえ、本発明による方法および装置の実施形態によれば、シンチレーション単結晶のたった一つの側面で信号を読み出すだけでよいという点にまさに利点がある。これは単一の光センサを有する実施形態に該当する。したがって、本発明の方法および装置はまた安価にもなる。
【0029】
本発明によれば、光センサは、対応するピクセルの位置に関して電流をx方向および/またはy方向に線形符号化できるように構成されている。この目的のために、センサチップは、とりわけ従来技術において述べられている符号化手段(例えば抵抗回路網で実現することができるもの)とは異なるように構成することができる。
【0030】
こうして、信号または電流の線形符号化においては、x方向およびy方向において出力チャネルに関してそれぞれ線形に増加および線形に減少する信号強度が生じ、それらが本発明によりそれぞれx方向および/またはy方向に関して互いに乗算(掛け合わ)される。
【0031】
本発明によれば、線形に増加しまた減少する信号強度を有する読み出しチャネルの任意の組み合わせを線形符号化のために使用することができ、その線形符号化のために、線形に増加する信号および線形に減少する信号が互いに掛け合わされる。
信号強度が線形に増加および減少する方向は、光センサのx方向およびy方向から外れていることもある。この場合、線形に増加する信号強度と減少する信号強度の方向をeとする。
通常好ましい場合では、読み出しチャネルは専ら光センサのx軸またはy軸上だけにある。一実施形態では、図1から分かるように、出力チャネルAおよびBはx方向に関して利用可能であり、出力チャネルCおよびDはy方向に関して利用可能であり、これらは光分布の線形符号化信号の用に供される。
【0032】
x位置は、式1によってチャネルAおよびBの電流Q(複数)から計算される:
【0033】
【数1】
【0034】
y位置は、式2によってチャネルCおよびDの電流Q(複数)から計算される:
【0035】
【数2】
【0036】
x−y位置は、チャネルA〜Dの検出電流Q(複数)から計算される。こうして、x位置およびy位置は、以下の式から得られる:
【0037】
【数3】
および
【0038】
【数4】
【0039】
この実施形態では、x方向に関するチャネルAとB、y方向に関するチャネルCとDの信号が互いに掛け合わされる。
【0040】
4つの読み出しチャネルが線形符号化に寄与する本発明の一実施形態では、つまり、線形に増加および減少する信号強度となる読み出しチャネルの任意の組み合わせ、或いは特別な場合にはx方向および/またはy方向に線形に増加および減少する信号強度となる読み出しチャネルの任意の組み合わせが線形符号化に寄与する本発明の一実施形態では、x位置および/またはy位置に関する信号強度は、式3および式4によって記述することができる。
【0041】
【数5】
【0042】
【数6】
【0043】
この実施形態では、抵抗回路網または抵抗層を使用することができる。この場合、信号をもたらす電流は、例えば光センサの角部に分布することができる。分かり易くするために、角部E、F、GおよびHを有する光センサを図2に示す。
【0044】
シンチレーション事象の総エネルギーは次のように計算される:
【0045】
【数7】
或いは
【0046】
【数8】
【0047】
式5または式6は、サンプリングされた光分布の0次モーメントμ0つまりはエネルギーと、1次モーメントμ1つまりはxおよび/またはyに沿った位置を算出する。
【0048】
DOI情報を含む光分布の標準偏差σlightは、次の式に従って2次モーメントμ2を用いて算出される:
【0049】
【数9】
【0050】
2次モーメントは、従来技術では、xまたはy位置において二乗で符号化されている信号を生成する足し算回路網によって決定される。
【0051】
本発明によれば、式1および/または式2による位置符号化が行われる場合、出力チャネルAとBおよび/またはCとDによって得られた出力信号が互いに掛け合わされる。
【0052】
式3および式4による位置符号化が行われると、2次モーメントに非常に類似した値が以下の乗算によって得られる:
【0053】
【数10】
および/または
【0054】
【数11】
【0055】
信号QA,QB,QC,QD,QF,QH,QE,QGおよびQ1,Q2は、式1、式2、式3、式4、式5、式6、式8、式9および以下に述べる式11により、電流を供給するピクセルの位置により線形に符号化されているため、積(QF+QH)*(QE+QG),(QE+QF)*(QG+QH),QA*QB,QC*QDおよびQ1*Q2は、電流を供給するピクセルの位置により二乗で符号化されているはずである。電流(複数)がそれぞれたった一つの単独のピクセルにおけるものである場合、つまりどの電流も他のピクセルでは消失する場合、図3に示されているように、完全平方の符号化となるが、これは、図4に示されているように、足し算回路による信号と大域的な線形変換に至るまで同じである。この場合、この線形変換は、方法の機能を損なうことなく他の単位による信号を導出することができる。複数のピクセルからの電流(複数)の場合(例えば、典型的なシンチレータ光分布により生成される場合)、さらに交差項(Mischterme)が生じるが、これらは方法の機能を妨げない。図から分かるように、これはシミュレーションによって極めて容易に分かる。
【0056】
掛け合わせると2次モーメントに非常に類似した信号が得られるので、光分布の標準偏差は、この得られた近似の2次モーメントを用いて計算することができる。この目的のために、式7を適用する前に、近似の2次モーメントの一般的な線形変換を実行しなければならない:
例として、式10による方程式をこの目的のために使用することができる。
【0057】
【数12】
【0058】
ここで、μ2は、積を用いて近似され、その後正規化されたモーメントである。定数αおよびβは、校正測定により決定されなければならない。μ2’によって標準偏差を決定することができるが、これは、上述したように、また一般に知られているように、相互作用の深さの関数である。これは、一例として図8および図11に示されている。標準偏差から相互作用の深さを計算するための関数(複数)は、適切な校正測定から決定されなければならない。これらの方法は当業者に周知である。
【0059】
掛算(乗算)は、二つの実施形態に関して、x方向またはy方向に関して、あるいはx方向およびy方向の両方に関して実行することができる。両方向が2次モーメントの推定に使用される場合、これにより一層正確に近似することができる。
【0060】
本発明により、冒頭に述べたDOI問題は解決され、使用されるセンサチップが相互作用深さ依存性の光分布を有するシンチレーション単結晶または結晶アレイのz方向に沿った信号の深さに関する情報が得られる。設定された課題は、全て解決される。
【0061】
この方法は、位置符号化(この位置符号化は、できれば線形符号化に相当するものでなければならない。)を含む全ての光センサを用いて実行することができる。
この場合、一つのチャネルまたは複数チャネルの組合せの出力信号は、x位置またはy位置またはe位置とともにできるだけ線形に増加するように変化しなければならず、他方、別の一つのチャネルまたは複数チャネルの組合せの出力信号は、x位置またはy位置またはe位置とともにでできるだけ線形に減少するように変化しなければならない。e方向は任意の方向であり、これはx方向ベクトルおよびy方向ベクトルから構成することもできる。x方向またはy方向の信号のみから得られる方向ベクトルは、e方向の信号の特別な場合である。線形符号化は、本発明の意味では、式11に対応する任意の符号化として理解されるべきである。ここで、Q1は、e位置により増加する出力チャネルの電荷であり、Q2はe位置により減少する出力チャネルの電荷である。eの数値は、符号化方向、すなわちxまたはyまたはそれらの組み合わせを表す。
【0062】
【数13】
【0063】
式11は、厳密な線形性の要件を満たさない実施形態が依然として本発明による教示を実現するのに適している可能性があることを考慮に入れている。理想的な場合、線形符号化は厳密に線形である。さらに、一つのセンサチップが、例えばe1,e2,e3など、一つより多くのe方向における線形符号化を持つことが可能である。この場合、2次モーメントは、符号化方向に沿って増加する信号強度および減少する信号強度の掛算によってそれぞれ近似される。より多くの符号化方向が存在するほど、2次モーメントはより良好に近似され得る。特別な場合は、e1がx方向に対応し且つe2がy方向に対応する二つの符号化方向を含む上述のセンサチップである。この場合、少なくとも1つのe方向に線形符号化が存在する。
【0064】
本発明の有利な実施形態では、本発明による方法による出力信号の掛算に加えて、抵抗回路網により2次モーメントが決定される。したがって、相互作用の深さをさらに正確に特定することができる。
【0065】
現在の光センサは、LG−SiPM、SeSP、iSIPMなどのSiPMベースのセンサ、位置感応型APDなどのADPベースのセンサ、位置感応型PMTなどのPMTベースのセンサである。できるだけ線形なx方向およびy方向に沿った位置符号化ができる将来開発されるセンサにおいても、この方法は適用可能である。
【0066】
図は、出力チャネルが示されている光センサを概略的に示しており、さらに電圧曲線も示している。
【図面の簡単な説明】
【0067】
図1】出力チャネルA、B、CおよびDを有する光センサを概略的に示す図である。
図2】出力チャネルE、F、GおよびHを有する光センサを概略的に示す図である。
図3】秒単位の時間に対するチャネルAおよびBの掛け合わされた光電流の推移を示す図である。
図4】秒単位の時間に対するチャネルEとFの電圧の推移を示す図である。
図5】位置感応型光検出器を備えたモノリシックシンチレータ結晶を用いて測定された典型的な光分布を示す図である。
図6】従来技術による位置符号化された電流を用いて決定することができる正規化された1次モーメントを示す図である。
図7】従来技術による位置符号化された電流を用いて足し算回路を用いて決定することができる正規化された2次モーメントを示す図である。
図8】従来技術により式7を用いて正規化された1次および2次モーメントから決定することができる標準偏差を示す図である。
図9】本発明により位置符号化された電流の積から計算することができる近似的な正規化された2次モーメントを示す図である。
図10】式8により線形変換された近似的な2次モーメントを示す図である。
図11】本発明により式7を用いて線形変換された近似的な2次モーメントと正規化された1次モーメントから決定される標準偏差を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0068】
図1は、出力A、B、CおよびDを有する光センサを概略的に示しており、出力AおよびBはy軸上にあり、出力CおよびDはx軸上にある。x軸とy軸は矢印で表されている。
【0069】
図2は、電荷を角部に分布させる抵抗回路網または抵抗層を有する光センサを概略的に示し、読み出されるべき電荷E、F、GおよびHのための出力チャネルは光センサの角部に配置されている。矢印はx軸とy軸を表している。
【0070】
図3は、x方向またはy方向またはe方向とともに線形に増加し減少する二つ読み出しチャネルAおよびBの光電流の[A2]による積を、[s]による時間に対して描いた曲線を示す。
【0071】
図4は、2次モーメントを決定するために足し算回路網を利用する実施形態についてのチャネルJの[V]による電圧が、[s]による時間に対して描かれている。
【0072】
図3図4との比較から、本発明による、x方向に線形に増加する信号強度と線形に減少する信号強度との掛算に関して、足し算回路網による2次モーメントの決定に関するものと同等の結果が得られることが分かる。
図5は、モノリシックシンチレーション結晶中の異なる相互作用深度t=0.1、t=0.2、t=0.3、およびt=0.4(任意単位[a.u.])において光変換が起きた場合に、位置感応型光センサを有するモノリシックシンチレーション結晶を用いたときに測定される典型的な光分布を示す。横軸:センサ表面に沿ったx位置[a.u.]、縦軸:信号強度[a.u.]。
【0073】
図6は、異なる相互作用深さt=0.1、t=0.2、t=0.3、およびt=0.4[a.u.]について、従来技術による位置符号化された電流を用いて決定することができる正規化された1次モーメントを示す。横軸:センサ面に沿った実際の光変換位置x、縦軸:測定された光変換位置(アンガー位置)[a.u.]。
【0074】
図7は、異なる相互作用深さt=0.1、t=0.2、t=0.3、およびt=0.4[a.u.]について、従来技術による位置符号化された電流を用いて足し算回路を用いて決定できる正規化された2次モーメントを示す。横軸:センサ表面に沿った実際の光変換位置x、縦軸:測定された2次モーメント[a.u.]。
【0075】
図8は、異なる相互作用深さt=0.1、t=0.2、t=0.3、およびt=0.4[a.u.]について、従来技術による式7を用いて正規化された1次および2次のモーメントから決定される標準偏差を示す。横軸:センサ表面に沿った実際の光変換位置x、縦軸:測定標準偏差[a.u.]。
【0076】
図9は、異なる相互作用深さt=0.1、t=0.2、t=0.3、およびt=0.4[a.u.]について、本発明により位置符号化された電流の積から計算できる近似的な正規化された2次モーメントを示す。横軸:センサ表面に沿った実際の光変換位置x、縦軸:近似的な正規化された2次モーメント(2つの信号の正規化された積)[a.u.]。
【0077】
図10は、異なる相互作用深さt=0.1、t=0.2、t=0.3、およびt=0.4[a.u.]について、式8により線形変換された近似的な正規化された2次モーメントを示す。横軸:センサ表面に沿った実際の光変換位置x、縦軸:線形変換された近似的な正規化された2次モーメント(スケーリングされ、測定された、二つの信号の正規化された積)[a.u.]。
【0078】
図11は、異なる相互作用深さt=0.1、t=0.2、t=0.3、およびt=0.4[a.u.]について、本発明により正規化されたlと、式7を用いて線形変換された近似的な2次モーメントから決定される標準偏差を示す。横軸:センサ表面に沿った実際の光変換位置x、縦軸:測定された近似的な標準偏差[a.u.]。
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7
図8
図9
図10
図11
【国際調査報告】