【実施例】
【0101】
プロセス、スキーム、及び例において使用される記号及びコンベンションは米国化学会誌、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー、ジャーナル・オブ・バイオロジカルケミストリー、オーガニックレターズといった現代の科学文献において通常用いられているものと同等である。標準の単一文字、又は3文字略語は一般的にアミノ酸残基を示すのに利用され、但し書きが無ければL体を想定する。特に記載のない限り、全ての出発物質は市販のものであり、さらなる精製を必要としない。特に次の略語は例の中及び明細書全体を通じ利用される。
略語:
Ac アセチル
Ac
2O 無水酢酸
ACN アセトニトリル
AIBN アゾビス(イソブチロニトリル)
BINAP 2,2'-ビス(ジフェニルホスフィノ)-1,1'-ビナフチル
BMS ボラン- 硫化ジメチル錯体
Bn ベンジル
Boc Tert-ブトキシカルボニル
Boc
2O 二炭酸ジ-tert-ブチル
BuLI ブチルリチウム
CsF フッ化セシウム
DCE 1,2-ジクロロエチレン
DCM ジクロロメチレン
DDQ 2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-ベンゾキノン
DMS 硫化ジメチル;
ATP アデノシン三リン酸
Bis-pinacolatodiboron 4,4,4',4',5,5,5',5'-オクタメチル-2,2'-ビ-1,3,2-ジオキサボロラン
BSA ウシ血清アルブミン
C18 HPLC固定相のシリコン上に結合した18炭素アルキル基を指す
CH
3CN アセトニトリル
Cy シクロヘキシル
DIPEA ヒューニッヒ塩基、N-エチル-N-(1-メチルエチル)-2-プロパンアミン
Dioxane 1,4-ジオキサン
DMAP 4Dジメチルアミノピリジン
DME 1,2-ジメトキシエタン
DMF N,N-ジメチルホルムアミド
DMSO ジメチルスルホキシド
DPPA ジフェニルリン酸アジド
EtOAc 酢酸エチル
EtOH エタノール
Et
2O ジエチルエーテル
HOAc 酢酸
HPLC 高速液体クロマトグラフィー
HMDS ヘキサメチルジシラザン
IPA イソプロピルアルコール
LAH 水素化アルミニウムリチウム
LDA リチウムジイソプロピルアミド
LHMDS リチウムヘキサメチルジシラジド
MeOH メタノール
MPLC 中圧液体クロマトグラフィー
MTBE メチル tert-ブチルエーテル
mCPBA m-クロロ過安息香酸
NaHMDS ヘキサメチルジシラザンナトリウム
NBS N-ブロモスクシンイミド
NMR 核磁気共鳴
Pd
2(dba)
3 トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)
Pd(dppf)Cl
2.DCMComplex [1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ) フェロセン]ジクロロパラジウム(II)ジクロロメタン錯体
RPHPLC 逆相高速液体クロマトグラフィー
RT 室温
Sat. 飽和
SGC シリカゲルクロマトグラフィー
SM 出発物質
TCL 薄層クロマトグラフィープレート
TEA トリエチルアミン
TFA トリフルオロ酢酸
THF テトラヒドロフラン
【0102】
次に掲げる例は本開示の化合物の合成、反応及び適用の詳細を示す。それらが代表的な例のみであることを理解すべきであり、本発明は例において記載された詳細内容に限るものではない。
【0103】
本発明の化合物は標準的な化学等の様々な方法で合成することができる。既定した変数は特段の指示のない限り引き続き同義である。例示する一般的な合成方法は以下に掲げるスキーム内に記載されており、本発明のその他化合物を調製するのに容易に適合できる。
【0104】
本開示の化合物は次に記載する反応及び技術を用いて調整される。それら反応及び技術は有機合成の当業者に既知の従来技術及び当業者によって理解される反応変化も伴っている。
【0105】
反応は使用される試薬及び材料に適した溶媒内で行われ、変換が作用するのに適している。以下に記載されるものに限定はしないが、好ましい方法には既定及び以下に示す記号を含む。
【0106】
実施例1
式(I)に開示される化合物の合成に関する一般的な手順
式(I)の化合物は以下スキームにて示される一般的な合成経路毎に調整される。
【化5】
【0107】
式(I)の化合物の調整に関する一般的な合成経路(1):式(I)の化合物はスキーム-1に示すように、ステップ(I)とその後のステップ(II)により中間化合物(II)及び(III) から調製することができる。ステップ(I)はウルマンカップリング反応又はチャン・ラムカップリング反応又は求核反応又は鈴木反応又は適切なカップリングパートナーを選択した遷移金属触媒によるその他カップリング反応である。ステップ(II)はエステル加水分解(R
1 が -OMe 又は-OEtである場合)である。ここで、Yはハロゲン又は-OTf 又はボロン酸エステル又はボロン酸であり、Y≠X である。
【0108】
式(I)の化合物の調整に関する一般的な合成経路(2):
【化6】
【0109】
式(I)の化合物はスキーム-1aに示すように、ウルマンカップリング反応又はチャン・ラムカップリング反応又は芳香族求核置換反応とその後のエステル加水分解(R
1 が -OMe 又は-OEtである場合)により中間化合物(II-A)及び(III-A) から調製することができる。ここで、Xはハロゲン又は-OTf 又はボロン酸エステル又はボロン酸とすることができる。
【0110】
式(I)の化合物の調整に関する一般的な合成経路(3):
【化7】
【0111】
別の方法として、式(I)の化合物はスキーム-1bに示すように、ウルマンカップリング反応又は芳香族求核置換反応とその後のエステル加水分解(R
1 が -OMe 又は-OEtである場合)により中間化合物(II-B)及び(III-B) から調製することができる。ここで、Xはハロゲン又は-OTf 又はボロン酸エステル又はボロン酸とすることができる。
スキーム-2: 式(II-A) 及び(II-B)を有する化合物の一般的な調製
【化8】
【0112】
一般的な式II-A の中間化合物はウルマンカップリング又はチャン・ラムカップリング又は芳香族求核置換反応によりIV 及び Vから調製できる。ここで、Xはハロゲン(Br、I、F)又はOTf 又はボロン酸エステル又はボロン酸とすることができる。中間化合物II-Bは鈴木・宮浦ホウ素化反応とその後の酸化によりII-A から調製することができる。
スキーム-2a:式(II-A) 及び (II-B)を有する化合物の一般的な調製
【化9】
【0113】
一般的な式II-A の中間化合物はウルマンカップリング又はチャン・ラムカップリング又は芳香族求核置換反応によりIV 及び Vから調製できる。ここで、Xはハロゲン(Br、I、F)又はOTf 又はボロン酸エステル又はボロン酸とすることができる。中間化合物 II-Bは鈴木・宮浦ホウ素化反応とその後の酸化によりII-A から調製できる。
【0114】
実施例2
中間化合物 II-A 及び II-Bの合成:
メチル 2-[3-[4-ブロモ-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸塩(II-A-1) 及び メチル 2-[3-[4-ヒドロキシ-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸塩 (II-B-1)の合成:
【化10】
ステップ-1: メチル 2-[3-[4-ブロモ-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸塩 (II-A-1): 100℃下、DMF (250 mL)内でメチル 2-(3-ヒドロキシフェニル)酢酸塩(23.4 g, 141 mmol)、5-ブロモ-2-フルオロベンゾトリフルオリド (44.5 g, 183.3 mmol)、及び炭酸セシウム(91.9 g, 282 mmol)を5-7時間攪拌した。反応終了後、常温にまで溶液を冷却し、水(1 l)で希釈した。EtOAc (300 mL x 3)にて抽出し、合わせた有機層を水(500 mL x 3) 、飽和食塩水(500 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は5-10% EtOAcを含むヘキサン)を行い、所望の中間化合物II-A-1 (30 g, 55%収率)を得た。
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 3.62(s, 3H); 3.72 (s, 2H); 6.95-7.01 (aromatics, 2H); 7.02-7.06 (aromatics, 1H); 7.14 (d, J = 8.0 Hz, 1H); 7.37-7.41 (aromatics, 1H); 7.84 (dd, J
1 = 2.7 Hz, J
2 = 9.2 Hz, 1H); 7.95 (d, J = 2.7 Hz, 1H).
【0115】
ステップ-2: メチル 2-[3-[4-ヒドロキシ-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸塩 (II-B-1): 無水 1,4-ジオキサン (160 mL) 内で中間化合物II-A-1 (15 g, 38.6 mmol)、(ビス-ピナコラート)ジボロン (11.4 g, 57.9mmol)、KOAc (7.57 g, 77.1 mmol) 及びPdCl
2(dppf)-CH
2Cl
2 (1.57 g, 19.3 mmol)を30分間アルゴン置換し、その後100℃下で16時間攪拌した。反応終了後、セライト及びジオキサンにてろ過し、真空下で除媒濃縮を行った。その残渣をEtOAc (600 mL)にて希釈し、水(300 mL) 、飽和食塩水(300 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。シリカゲルを用いたカラム精製を行った残渣にボロン酸エステル(20 g)を対応させた [
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 1.31 (s, 12H); 3.62 (s, 3H); 3.73 (s, 2H); 6.97 (d, J = 8.4 Hz, 1H); 6.99-7.02 (aromatics, 1H); 7.03-7.06 (aromatics, 1H); 7.16 (d, J = 7.6 Hz, 1H); 7.38-7.42 (aromatics, 1H); 7.88-7.91 (aromatics, 1H); 7.93 (s, 1H)]。ボロン酸エステルを含む2バッチを結合させ、オキソンにて酸化を行った。ボロン酸エステル中間物質 (~40 g) をアセトン-水(1:1, 240 mL) で溶解し、オキソン(21.4 g, 141mmol) を常温で少しずつ加えた。2時間攪拌させ、アセトンを真空下で除媒した。その残渣をEtOAc (700 mL)にて希釈し、水(500 mL) 、飽和食塩水(500 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は10-20% EtOAcを含むヘキサン)を行い、所望の中間化合物II-B-1 (20 g, 65%収率)を得た。
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 3.62 (s, 3H); 3.67 (s, 2H); 6.79 (dd, J
1 = 1.9 Hz, J
2 = 8.3 Hz, 1H); 6.86-6.92 (aromatics, 1H); 6.97-7.06 (aromatics, 2H); 7.05 (dd, J
1 = 3.0 Hz, J
2 = 8.6 Hz, 1H); 7.10 (d, J = 2.9 Hz, 1H); 7.27-7.31 (aromatics, 1H); 10.00 (bs, 1H).
【0116】
次の中間化合物はII-A-1 及びII-B-1にて記載したのと同様の実験手順で合成された。
【表1】
【0117】
メチル 2-[3-(2-クロロプロピル-4-ヒドロキシ-フェノキシ)フェニル]酢酸塩 (II-B-4)の合成:
【化11】
メチル 2-[3-(4-ベンジルオキシ-2-シクロプロピル-フェノキシ)フェニル]酢酸塩 (II-B-4a): NMP (20 mL) 内で メチル2-(3-ヒドロキシフェニル)酢酸塩 (2 g, 12mmol)、4-ベンジルオキシ-1-ブロモ-2-シクロプロピル-ベンゼン (4.7 g, 15.5mmol)及びCs
2CO
3 (7.1 g, 22 mmol)を15分間アルゴン置換した。CuCl (1.63 g, 16.5 mmol)及び2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオン (2.5 mL, 12 mmol)をその反応混合溶液に加え、アルゴン置換を更に15分間実施した。その反応混合溶液を120℃で24時間攪拌した。最終的に常温にまで冷却し、水(100 mL)で希釈した。EtOAc (100 mL x 3)にて抽出し、合わせた有機層を水(150 mL) 、飽和食塩水(150 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は10-20% EtOAcを含むヘキサン)を行い、所望の中間化合物II-B-4a (0.9 g, 19%収率)を得た。
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 0.64-0.68 (m, 2H); 0.78-0.84 (m, 2H); 1.85-1.92 (m, 1H); 3.60 (s, 3H); 3.64 (s, 2H); 5.07 (s, 2H); 6.57 (d, J = 2.9 Hz, 1H); 6.72 (dd, J
1 = 2.4 Hz, J
2 = 8.3 Hz, 1H); 6.77-6.80 (aromatics, 1H); 6.83 (dd, J
1 = 3.0 Hz, J
2 = 8.8 Hz, 1H); 6.91 (d, J = 8.8 Hz, 2H); 7.22-7.27 (aromatics, 1H); 7.32-7.47 (aromatics, 5H).
【0118】
メチル 2-[3-(2-シクロプロピル-4-ヒドロキシ-フェノキシ)フェニル]酢酸塩 (II-B-4)の合成: 中間化合物 II-B-4a (0.85 g) を10% Pd/C (0.08 g)加え、MeOHにて溶解した。その反応混合溶液を水素ガス雰囲気下(袋内圧力)で5時間攪拌した。反応終了後、セライトにてろ過し、MeOH で洗浄した。合わせた有機層を真空下で除媒し、その残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は10-20% EtOAcを含むヘキサン)を行い、所望の中間化合物II-B-4 (0.4 g, 61%収率)を得た。
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 0.54-0.58 (m, 2H); 0.76-0.81 (m, 2H); 1.80-1.86 (m, 1H); 3.59 (s, 3H); 3.63 (s, 2H); 6.31 (d, J = 2.9 Hz, 1H); 6.57 (dd, J
1 = 2.5 Hz, J
2 = 8.8 Hz, 1H); 6.69 (dd, J
1 = 1.9 Hz, J
2 = 8.3 Hz, 1H); 6.75-6.80 (aromatics, 2H); 6.88 (d, J = 7.3 Hz, 1H); 7.20-7.25 (aromatics, 1H); 9.25 (s, 1H).
【0119】
メチル 2-[3-[2-(ジフルオロメチル)-4-ヒドロキシ-フェノキシ]フェニル]酢酸塩 (II-B-5)の合成:
【化12】
ステップ-1:メチル 2-[3-(4-ブロモ-2-フォミル-フェノキシ)フェニル]酢酸塩 (II-A-5a):II-A-5a (1.5 g, 9% 収率)はII-A-1の合成について記載した手順に従い、メチル2-(3-ヒドロキシフェニル)酢酸塩(8g) 及び5-ブロモ-2-フルオロベンズアルデヒド (7.8 g)を用いて合成された。
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 3.61 (s, 3H); 3.73 (s, 2H); 6.91 (d, J = 8.8 Hz, 1H); 7.07 (dd, J
1 = 2.4 Hz, J
2 = 8.3 Hz, 1H); 7.09-7.11 (aromatics, 1H); 7.15 (d, J = 7.8 Hz, 1H); 7.38-7.43 (aromatics, 1H); 7.83 (dd, J
1 = 2.9 Hz, J
2 = 8.8 Hz, 1H); 7.91 (d, J = 2.4 Hz, 1H); 10.32 (s, 1H).
【0120】
ステップ-2: メチル2-[3-[4-ブロモ-2-(ジフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸塩 (II-A-5)の合成: II-A-5a (1.5 g, 4.3mmol) を含む無水 CH
2Cl
2 (15 mL) にDAST (1.3 g, 8.3mmol) を加え、反応混合溶液を常温で16時間攪拌した。反応終了後、揮発性物質を真空下で除媒し、水(30 mL)で希釈した。EtOAc (30 mL x 3)にて抽出し、合わせた有機層を飽和NaHCO
3 溶液 (50 mL) 、飽和食塩水(50 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。その残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-20% EtOAcを含むヘキサン)を行い、所望の中間化合物II-A-5 (1.5 g, 94%収率)を得た。
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 3.61 (s, 3H); 3.72 (s, 2H); 6.87 (d, J = 8.8 Hz, 1H); 6.98 (dd, J
1 = 2.5 Hz, J
2 = 8.3 Hz, 1H); 7.02-7.04 (aromatics, 1H); 7.12 (d, J = 7.3 Hz, 1H); 7.21 (t, J = 54.3 Hz, 1H); 7.36-7.40 (aromatics, 1H); 7.71 (dd, J
1 = 1.9 Hz, J
2 = 8.8 Hz, 1H); 7.80 (d, J = 2.4 Hz, 1H).
【0121】
ステップ-3, 4: メチル 2-[3-[2-(ジフルオロメチル)-4-ヒドロキシ-フェノキシ]フェニル]酢酸塩 (II-B-5)の合成:II-B-5 (0.9 g, 72% 収率)はII-B-1の合成について記載した手順に従い、II-A-5 (1.5 g) を用いて合成された。
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 3.60 (s, 3H); 3.67 (s, 2H); 6.78 (dd, J
1 = 2.4 Hz, J
2 = 8.3 Hz, 1H); 6.84-7.02 (aromatics, 5H); 7.00 (t, J = 55.2 Hz, 1H); 7.26-7.31 (aromatics, 1H); 9.78 (s, 1H).
【0122】
5-ブロモ-8-クロロ-フタラジン (III-B-1)の合成:
【化13】
ステップ-1: 1-(2-ブロモフェニル)-N-[(E)-(2-ブロモフェニル)メチレンアミノ]メタンイミン (III-B-1a): MeOH (100 mL) 内で2-ブロモベンゼンアルデヒド (4.9 mL, 40 mmol) 及びヒドラジン水和物 (1 mL, 20 mmol) を80℃下で3時間攪拌した。その後常温にまで冷却し、沈殿した固体をろ過した。MeOH (10 mL x 2) で洗浄し、所望の中間化合物III-B-1a (4 g)を乾燥し、得た。LCMS: m/z; 364.7 (M+1)
+.
【0123】
ステップ-2: 5-ブロモ-8-クロロ-フタラジン(III-B-1):III-B-1a (4 g, 10.9mmol) 及び 無水AlCl
3 (28.9 g, 217 mmol) を200℃下で1時間攪拌した。反応終了後に 0℃まで氷を利用してゆっくりと冷却させた(高発熱)。1N HCl 水溶液を加え、10分間攪拌した。その後、10% KOH水溶液でアルカリ性にした。EtOAc (50 mL x 3)にて抽出し、合わせた有機層を水 (100 mL x 2) 、飽和食塩水(100 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。その残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-40% EtOAcを含むヘキサン)を行い、所望の中間化合物III-B-1 (0.4 g, 17%収率)を得た。LCMS: m/z; 208.8 (M+1)
+.
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 7.98 (見かけ上の t, J = 8.3 Hz, 1H); 8.22-8.25 (aromatics, 1H); 8.35-8.37 (aromatics, 1H); 9.72-9.75 (aromatics, 2H).
【0124】
次の中間化合物はIII-B-1の合成で記載した同じ手順を用いて合成された。
【表2】
【0125】
8-ブロモ-5-フルオロ-イソキノリン (III-B-3)の合成:
【化14】
ステップ-1, 2: 中間化合物 III-B-3a (10 g, 34 mmol) (2-ブロモ-5-フルオロベンズアルデヒドから合成) を無水CH
2Cl
2 (100 mL)に溶解し、トリエチルアミン (14.2 mL, 102 mmol) 及び p-塩化トルエンスルホニル(7.2 g, 37 mmol)を0 ℃下で加えた。その反応混合溶液をTLCでモニターした。反応終了後、水(100 mL) を加え、CH
2Cl
2 (30 mL x 2)にて抽出した。合わせた有機層を水 (100 mL )で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。その後、トシル基に対応する中間化合物(12 g, 81% 収率)の精製は行わなかった。無水トシル基に対応する中間化合物(5 g, 11.2 mmol) を含むCH
2Cl
2 (50 mL) に無水AlCl
3 (7.45 g, 56 mmol)を含むCH
2Cl
2 (100 mL) 溶液を0 ℃下でゆっくりと懸濁させた。反応混合溶液を常温で24時間攪拌した後、氷水(100 mL)を用いて急冷させた。CH
2Cl
2 (30 mL x 2)にて抽出し、合わせた有機層を飽和NaHCO
3 溶液 (100 mL)及び水 (100 mL )で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。その残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-20% EtOAcを含むヘキサン)を行い、所望の中間化合物III-B-3 (1.2 g, 46%収率)を得た。LCMS: m/z; 226 (M+1)
+.
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 7.61-7.66 (aromatics, 1H); 7.99 (dd, J
1 = 0.7 Hz, J
2 = 4.9 Hz, 1H); 8.03 (dd, J
1 = 4.9 Hz, J
2 = 8.3 Hz, 1H); 8.76 (d, J = 5.8 Hz, 1H); 9.51 (s, 1H).
【0126】
6-ブロモ-1-(オキセタン-3-イル)インダゾール (III-B-4)及び6-ブロモ-2-(オキセタン-3-イル)インダゾール(III-B-5)の合成:
【化15】
ステップ-1: DMF (15 mL) 内で6-ブロモ-1H-インダゾール (2 g, 10.2 mmol)、3-ブロモオキセタン (2.7 g, 20.4 mmol)及び無水K
2CO
3 (2.8 g, 20.4 mmol)を85℃下で16時間攪拌した。その後常温にまで冷却し、水(50 mL)で希釈した。EtOAc (30 mL x 3)にて抽出し、合わせた有機層を水 (50 mL x 2)及び飽和食塩水(50 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。その残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-30% EtOAcを含むヘキサン)を行い、所望の中間化合物III-B-4 (無極性スポット) (0.6 g)及びIII-B-5 (極性スポット) (0.6 g)を得た。
III-B-4:LCMS: m/z; 253 (M+1)
+.
1H NMR (CDCl
3; 400 MHz) 5.11-5.15 (m, 2H); 5.25-5.29 (m, 2H); 5.69-5.76 (m, 1H); 7.26-7.30 (aromatics, 1H); 7.61 (d, J = 8.8 Hz, 1H); 7.71 (s, 1H); 8.06 (s, 1H).
III-B-5:LCMS: m/z; 253 (M+1)
+.
1H NMR (CDCl
3; 400 MHz) 5.14-5.21 (m, 4H); 5.66-5.73 (m, 1H); 7.19 (dd, J
1= 1.5 Hz, J
2 = 8.9 Hz, 1H); 7.54 (d, J = 8.8 Hz, 1H); 7.93 (s, 1H); 8.09 (s, 1H).
【0127】
次の中間化合物はIII-B-4及びIII-B-5の合成で記載した同じ手順を用いて合成された。
【表3】
【0128】
6-ブロモ-1-(オキセタン-3-イル)ベンゾトリアゾール (III-B-10)の合成:
【化16】
ステップ-1: N-(5-ブロモ-2-ニトロ-フェニル)オキセタン-3-アミン (III-B-10a): 4-ブロモ-2-フルオロニトロベンゼン (5 g, 22.8 mmol)及びトリエチルアミン(4.8 mL, 34.2 mmol)を含むEtOH (40 mL)溶液に3-アミノオキセタン (2 g, 27.4 mmol)を0 ℃下で加えた。その反応混合溶液を常温で16時間攪拌した。反応終了後、揮発性物質を真空下で除去し、水(50 mL)を加えた。EtOAc (50 mL x 3)にて抽出し、合わせた有機層を水 (50 mL x 2)及び飽和食塩水(50 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行い、所望の中間化合物III-B-10a (6.3 g, 91%収率)を得た。LCMS: m/z; 273 (M+1)
+.
【0129】
ステップ-2: 4-ブロモ-N2-(オキセタン-3-イル)ベンゼン-1,2-ジアミン (III-B-10b): III-B-10a (0.4 g, 1.47 mmol)及び塩化アンモニウム(0.39 g, 7.35 mmol)を含むTHF:MeOH (1:1, 8 mL)溶液に亜鉛粉末(0.48 g, 7.35 mmol)を0 ℃下で加えた。その反応混合溶液を常温で3時間攪拌した。反応終了後、セライトにてろ過し、EtOAc (10 mL x 3)で洗浄した。合わせた有機層を水(30 mL x 2)及び飽和食塩水(30 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行い、茶色油状の所望の中間化合物III-B-10b (0.37 g, 定量的収率)を得た。LCMS: m/z; 243 (M+1)
+.
【0130】
ステップ-3: 6-ブロモ-1-(オキセタン-3-イル)ベンゾトリアゾール (III-B-10): III-B-10b (0.4 g, 1.65 mmol)を含むCH
2Cl
2 (6 mL)に50%AcOH (4 mL)水溶液を加え、その後0℃下で少しずつNaNO
2 (0.23 g, 3.3 mmol)を加えた。反応混合溶液を0℃で1時間攪拌し、飽和NaHCO
3溶液(20 mL)でアルカリ性にした。CH
2Cl
2 (15 mL x 3)にて抽出し、合わせた有機層を水(30 mL)及び飽和食塩水(30 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。その残渣を最小のCH
2Cl
2で溶解した。ペンタンを加え、それにより発生した沈殿物をろ過し、所望の中間化合物III-B-10 (0.37 g, 88%%収率)を得た。LCMS: m/z; 254 (M+1)
+.
1H NMR (CDCl
3; 400 MHz) 5.27-5.29 (m, 4H); 5.98-6.05 (m, 1H); 7.52 (dd, J
1 = 1.9 Hz, J
2 = 8.8 Hz, 1H); 7.98 (d, J = 8.8 Hz, 1H); 8.02 (d,J = 1.4 Hz, 1H).
【0131】
6-ブロモ-1-(オキセタン-3-イル)ベンゾイミダゾール (III-B-11)の合成:
【化17】
ステップ-1: THF (20 mL)内にてIII-B-10b (1 g, 4.1 mmol)、オルトギ酸トリエチル (6.5 mL, 41 mmol)及びp-トルエンスルホン酸 (0.077 g, 0.41 mmol)を80℃で2時間攪拌した。反応終了後、EtOAc (30 mL)で希釈した。合わせた有機層を飽和NaHCO
3溶液(30 mL)及び飽和食塩水(30 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。その残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-5% MeOHを含むCH
2Cl
2)を行い、所望の中間化合物III-B-11 (0.8 g, 77%収率)を得た。LCMS: m/z; 253 (M+1)
+.
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 4.94-4.98 (m, 2H); 5.05-5.09 (m, 2H); 5.73-5.77 (m, 1H); 7.39 (dd, J
1 = 1.5 Hz, J
2 = 8.3 Hz, 1H); 7.65 (d, J = 8.3 Hz, 1H); 7.98 (d, J = 1.9 Hz, 1H); 8.58 (s, 1H).
【0132】
次の中間化合物はIII-B-11の合成で記載した同じ手順を用いて合成された。
【表4】
【0133】
実施例A-1: 2-[3-[4-(8-イソキノリルオキシ)-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸の例
方法-A:
【化18】
ステップ-1: メチル 2-[3-[4-(8-イソキノリルオキシ)-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸塩 (A-1-I): 1,4-ジオキサン (30 mL)内で中間化合物II-A-1 (2.6 g, 6.68 mmol)、8-ヒドロキシイソキノリン(1.26 g, 8.68 mmol)及びCs
2CO
3 (4.35 g, 13.4 mmol)を15分間アルゴン置換した。その後、CuI (0.65 g, 3.35 mmol)及びN,N-ジメチルグリシン(1 g, 10.2 mmol)を加え、更に15分間アルゴン置換した。封管内で120℃下24時間攪拌した。その後、常温にまで冷却し、セライトでろ過を行った。1,4-ジオキサンを真空下で除去し、残渣をEtOAc (100 mL)で洗浄した。合わせた有機層を水(50 mL)及び飽和食塩水(50 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。その残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製を行い、所望の中間化合物A-1-I (0.39 g, 12%収率)を得た。LCMS: m/z; 453.9 (M+1)
+.
1H NMR (CDCl
3; 400 MHz) 3.63 (s, 2H); 3.71 (s, 3H); 6.91 (dd, J
1 = 2.5 Hz, J
2 = 6.9 Hz, 1H); 6.94 (dd, J
1 = 1.5 Hz, J
2 = 8.3 Hz, 1H); 6.99-7.02 (aromatics, 2H); 7.08 (d, J = 6.9 Hz, 1H); 7.23 (dd, J
1 = 3.0 Hz, J
2 = 8.8 Hz, 1H); 7.30-7.34 (aromatics, 1H); 7.46 (d, J = 2.9 Hz, 1H); 7.57-7.59 (aromatics, 2H); 7.68 (dd, J
1 = 1.0 Hz, J
2 = 5.9 Hz, 1H); 8.62 (d, J = 5.9 Hz, 1H); 9.68 (s, 1H).
【0134】
ステップ-2: 2-[3-[4-(8-イソキノリルオキシ)-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸 (A-1): A-1-I (0.39 g, 0.86 mmol)をTHF-MeOH (3:1, 4 mL)に溶解させ、水(1 mL)中LiOH (0.1 g, 0.58 mmol)を含む溶液を加えた。反応終了後、10% クエン酸溶液 (pH: 2-4)で酸性にし、EtOAc (30 mL x 2)で抽出した。合わせた有機層を水(30 mL)及び飽和食塩水(30 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。その残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製を行い、所望の中間化合物A-1(0.15 g, 40%収率)を得た。LCMS: m/z; 440.1 (M+1)
+.
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 3.59 (s, 2H); 6.94 (dd, J
1 = 2.5 Hz, J
2 = 8.4 Hz, 1H); 7.01 (s, 1H); 7.04-7.13 (aromatics, 3H); 7.32-7.36 (aromatics, 1H); 7.46 (dd, J
1 = 2.9 Hz, J
2 = 9.3 Hz, 1H); 7.65 (d, J= 2.9 Hz, 1H); 7.71-7.73 (aromatics, 2H); 7.89 (d, J = 5.4 Hz, 1H); 8.59 (d, J = 5.9 Hz, 1H); 9.57 (s, 1H); 12.32 (bs, 1H).
【0135】
方法-B:
【化19】
ステップ-1:メチル 2-[3-[4-(8-イソキノリルオキシ)-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸塩 (A-1-I): NMP (30 mL)内で中間化合物II-B-1 (3 g, 9.2 mmol)、8- ブロモイソキノリン (2.5 g, 11.9 mmol)及びCs
2CO
3 (8.9 g, 27.6 mmol)を15分間アルゴン置換した。その反応混合溶液にCuCl (1.36 g, 13.8 mmol) and 2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオン (1.8 mL, 9.2 mmol)を加え、更に15分間置換した。その反応混合溶液を120℃下24時間攪拌した。最終的に常温まで冷却し、水(150 mL)で希釈した。EtOAc (100 mL x 3)で抽出した。合わせた有機層を水(150 mL)及び飽和食塩水(150 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。その残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製を行い、所望の中間化合物A-1-I (2.3 g, 55%収率)を得た。
【0136】
ステップ-2: 2-[3-[4-(8-イソキノリルオキシ)-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸(A-1):方法Aのステップ-2にて記載されているとおり、A-1-I 、3.2 g を出発物質としてA-1を2.7 g 得た。
【0137】
次の化合物はA-1の合成で記載した同じ手順を用いて合成された。
【表5】
【表6】
【表7】
【表8】
【表9】
【表10】
【表11】
【表12】
【表13】
【表14】
【表15】
【0138】
2-[3-[4-[(1-クロロ-8-イソキノリル)オキシ]-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸 (A-40)の合成:
【化20】
ステップ-1: メチル 2-[3-[4-[(1-クロロ-8-イソキノリル)オキシ]-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸塩 (A-40-I): 中間化合物A-1-I (1 g, 2.2 mmol) をCH
2Cl
2 (20 mL)に溶解し、それに3-クロロ過安息香酸(70%, 0.82 g, 3.3 mmol) を加え、その反応混合溶液を常温で4時間攪拌した。出発物質の反応終了後、飽和チオ硫酸ナトリウム溶液(30 mL) を用いて希釈し、CH
2Cl
2 (30 mL x 2)で抽出した。合わせた有機層を飽和NaHCO
3 溶液(30 mL x 2) 、飽和食塩水(30 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。シリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-5% MeOHを含むCH
2Cl
2)を行い、残渣にN-オキシド誘導体(0.42 g)を対応させた。LCMS: m/z; 470.2 (M+1)
+. これをPOCl
3 (3 mL) 内で 90℃下5 時間攪拌した。反応終了後、POCl
3を真空下で除去し、飽和NaHCO
3溶液 (30 mL)を加えた。EtOAc (30 mL x 2)で抽出した。合わせた有機層を水(50 mL) 、飽和食塩水(50 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対し、シリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-30% EtOAcを含むヘキサン)を行い、所望の中間化合物A-40-1 (0.2 g, 2段階で18% )を得た。LCMS: m/z; 488.2 (M+1)
+.
【0139】
ステップ-2: 2-[3-[4-[(1-クロロ-8-イソキノリル)オキシ]-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸 (A-40): A-1の合成に関するステップ‐2について記載したとおり、A-40-I (0.1 g)からA-40 (0.05 g, 51% 収率)を得た。LCMS: m/z; 474.1 (M+1)
+.
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 3.61 (s, 2H); 6.91 (dd, J
1 = 2.5 Hz, J
2 = 7.8 Hz, 1H); 7.00 (s, 1H); 7.06-7.12 (aromatics, 2H); 7.27 (dd, J
1 = 3.2 Hz, J
2 = 8.8 Hz, 1H); 7.33-7.37 (aromatics, 2H); 7.46 (d, J = 3.0 Hz, 1H); 7.82-7.87 (aromatics, 1H); 7.92-7.97 (aromatics, 2H); 8.34 (d, J = 5.6 Hz, 1H); 12.38 (bs, 1H).
【0140】
2-[3-[4-[(1-メチル-8-イソキノリル)オキシ]-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸 (A-41)の合成:
【化21】
ステップ-1: メチル 2-[3-[4-[(1-メチル-8-イソキノリル)オキシ]-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸塩 (A-41-I): 中間化合物A-40-I (0.1 g, 0.2 mmol)、アセチルアセトン鉄(III) (0.007 g, 0.02 mmol)及びNMP (0.032 g, 0.27 mmol)を含む無水THF (3 mL)にMeMgBr (1.3 mL, 1.33 mmol)を加えた。その反応混合溶液を常温で18時間攪拌した。飽和NH
4Cl 溶液 (20 mL)を加え、EtOAc (10 mL x 3)で抽出した。合わせた有機層を水(30 mL) 、飽和食塩水(30 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対し、シリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-30% EtOAcを含むヘキサン)を行い、所望の中間化合物A-41-1 ((0.075 g, 78% 収率 )を得た。LCMS: m/z; 468.2 (M+1)
+.
【0141】
ステップ-2: 2-[3-[4-[(1-メチル-8-イソキノリル)オキシ]-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸 (A-41): A-1の合成に関するステップ‐2について記載したとおり、A-40-I (0.075 g)からA-41 (0.045 g, 62%収率)を得た。LCMS: m/z; 454.2 (M+1)
+.
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 3.08 (s, 3H); 3.61 (s, 2H); 6.95 (dd, J
1 = 2.0 Hz, J
2 = 8.1 Hz, 1H); 7.03 (s, 1H); 7.10 (d, J = 7.6 Hz, 1H); 7.15 (d, J = 8.8 Hz, 2H); 7.34-7.38 (aromatics, 1H); 7.42 (dd, J
1 = 2.6 Hz, J
2 = 8.8 Hz, 1H); 7.61 (d, J = 3.0 Hz, 1H); 7.76-7.82 (aromatics, 2H); 7.88 (d, J = 5.9 Hz, 1H); 8.41 (d, J = 5.9 Hz, 1H); 12.37 (bs, 1H).
【0142】
3-[3-[4-(8-イソキノリルオキシ)-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]プロパン酸 (A-42)の合成:
【化22】
ステップ-1: メチル 3-[3-[4-(8-イソキノリルオキシ)-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]プロパン酸塩 (A-42-I): 中間化合物A-42-I(0.175 g, 15%収率)はA1の合成に関する方法-Bのステップ-1にて記載した手順に従い合成された。ここで、中間化合物 II-A-2 (1 g, 2.5 mmol)、8-ヒドロキシイソキノリン (0.47 g, 3.22 mmol)、CuCl (0.37 g, 3.7 mmol), 2,2,6,6-テトラメチル-3,5-へプタンジオン (0.26 mL, 1.24 mmol)、Cs
2CO
3 (1.6 g, 5 mmol)を含むNMP (12 mL)を使用した。LCMS: m/z; 467.9 (M+1)
+.
【0143】
ステップ-2: 3-[3-[4-(8-イソキノリルオキシ)-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]プロピオン酸 (A-42): A-42-I (0.06 g)を用いてA-1の合成に関するステップ-2にて記載した手順に従い64%収率を得た。LCMS: m/z; 454.1 (M+1)
+.
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 2.55 (t, J = 7.9 Hz, 2H); 2.84 (t, J = 7.3 Hz, 2H); 6.89 (d, J = 8.3 Hz, 1H); 7.01 (s, 1H); 7.06-7.13 (aromatics, 3H); 7.31-7.35 (aromatics, 1H); 7.46 (dd, J
1 = 2.9 Hz, J
2 = 8.8 Hz, 1H); 7.66 (d, J = 3.0 Hz, 1H); 7.70-7.75 (aromatics, 2H); 7.90 (d, J = 5.9 Hz, 1H); 8.61 (d, J = 5.8 Hz, 1H); 9.58 (s, 1H); 12.18 (bs, 1H).
【0144】
3-[3-[4-(1,2,3,4-テトラヒドロイソキノリン-8-イルオキシ)-2-(トリフルオロフェニル)フェノキシ]フェニル]プロピオン酸(A-43)の合成:
【化23】
ステップ-1: メチル 3-[3-[4-(1,2,3,4-テトラヒドロイソキノリン-8-イルオキシ)-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]プロピオン酸塩 (A-43-I): MeOH (20 mL)中A-42-I (0.175 g) 及びPtO
2 (30 mg) を5時間水素化(50 psi)し、触媒をセライトでろ過し、MeOH (10 mL xl 2)で洗浄した。合わせた有機層を真空下で除媒濃縮を行い、その残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒はMeOH0-5%を含むCH
2Cl
2)を行い、所望の中間化合物A-43-I (0.15 g)を得た。
LCMS: m/z; 471.9 (M+1)
+.
【0145】
ステップ-2: 3-[3-[4-(1,2,3,4-テトラヒドロイソキノリン-8-イルオキシ)-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ] フェニル] プロピオン酸 (A-43): A-43-I (0.05 g)を用いてA-1の合成に関するステップ-2にて記載した手順に従いA-43 (0.018 g)を合成した。LCMS: m/z; 458.2 (M+1)
+.
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 2.45-2.55 (m, 2H); 2.68-2.80 (m, 4H); 3.08-3.14 (m, 2H); 3.92 (s, 2H); 6.80-6.84 (aromatics, 2H); 6.93 (bs, 1H); 6.99-7.09 (aromatics, 3H); 7.18-7.26 (aromatics, 2H); 7.28-7.36 (aromatics, 2H).
【0146】
3-[3-[4-インダン-1-イルオキシ-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]プロピオン酸(A-44)の合成:
【化24】
ステップ-1: 1-[4-ブロモ-3-(トリフルオロメチル)フェノキシ]インダン(A-44-I): 4-ブロモ-3-(トリフルオロメチル)フェノール(0.5 g, 3.72 mmol)、インダン-1-オール (1.7 g, 7.5 mmol) 及びPPh
3 (1.46 g, 5.6 mmol) を含む無水THF (10 mL) に0℃下でDIAD (1.1 mL, 5.6 mmol) を加えた。その反応混合溶液を常温にし、18時間攪拌した。水(30 mL)で希釈し、EtOAc (30 mL x 2)で抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水(50mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-10% EtOAcを含むヘキサン)を行い、所望の中間化合物A-44-I (0.65 g, 87%収率)を得た。
1H NMR (CDCl
3; 400 MHz) 2.15-2.23 (m, 1H); 2.52-2.61 (m, 1H); 2.91-2.99 (m, 1H); 3.12-3.20 (m, 1H); 5.74-5.77 (m, 1H); 7.02 (dd, J
1 = 2.9 Hz, J
2 = 8.8 Hz, 1H); 7.23-7.28 (aromatics, 1H); 7.30-7.36 (aromatics, 3H); 7.40 (d, J = 7.3 Hz, 1H); 7.61 (d, J = 8.8 Hz, 1H).
【0147】
ステップ-2: メチル 3-[3-[4-インダン-1-イルオキシ-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]プロパン酸塩 (A-44-II): A-42の合成のステップ-1 にて記載した反応条件を用いてA-44-I (0.15 g) 及びメチル 3-(3-ヒドロキシフェニル)プロピオン酸塩 (0.11 g) とのウルマンカップリング反応でA-44-II (0.032 g, 17% 収率) を合成した。
1H NMR (CDCl
3; 400 MHz) 2.19-2.27 (m, 1H); 2.53-2.57 (m, 1H); 2.62 (t, J = 7.4 Hz, 2H); 2.95 (t, J = 7.8 Hz, 2H); 2.97-2.99 (m, 1H); 3.13-3.21 (m, 1H); 3.67 (s, 2H); 5.73-5.76 (m, 1H); 6.80-6.83 (aromatics, 2H); 6.93-6.96 (aromatics, 2H); 7.10 (dd, J
1 = 5.8 Hz, J
2 = 8.8 Hz, 1H); 7.22-7.34 (aromatics, 4H); 7.42 (d,J = 7.3 Hz,1H).
【0148】
ステップ-3: 3-[3-[4-インダン-1-イルオキシ-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]プロピオン酸(A-44): A-44-IIを用いてA-1の合成に関するステップ-2に記載したとおり合成した。LCMS: m/z; 441.3 (M-1)
+.
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 2.02-2.10 (m, 1H); 2.50-2.60 (m, 3H); 2.82 (t, J = 7.5 Hz, 2H); 2.86-2.94 (m, 1H); 3.02-3.10 (m, 1H); 5.92-5.96 (m, 1H); 6.77 (dd, J
1 = 2.7 Hz, J
2 = 8.1 Hz, 1H); 6.91 (bs, 1H); 7.01 (d, J = 7.5 Hz, 1H); 7.07 (d, J = 9.7 Hz, 1H); 7.22-7.32 (aromatics, 2H); 7.34-7.44 (aromatics, 5H); 12.11 (bs, 1H).
【0149】
3-[3-[4-(1H-インダゾール-5-イルオキシ)-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]プロパン酸 (A-45)の合成:
【化25】
ステップ-1: メチル 3-[3-[2-(トリフルオロメチル)-4-[1-(2-トリメチルシリルエトキシメチル)インダゾール-5-イル]オキシ-フェノキシ]フェニル]プロパン酸塩 (A-45-I): DMSO (10 mL)内でII-A-2 (1 g, 2.9 mmol)、2-[(5-ブロモイミダゾール-1-イル)メトキシ]エチル-トリメチル-シラン (1.14 g, 3.5 mmol)、ピコリン酸 (0.172 g, 1.4 mmol)及びK
3PO
4 (1.22 g, 5.8 mmol)を15分間アルゴン置換した。CuI (0.14 g, 0.72 mmol) を加え、更に15分間置換した。その反応混合溶液を100℃で16時間攪拌した。常温にまで冷却し、EtOAc (50 mL)で希釈後セライトろ過を行った。合わせた有機層を水(50 mL x 2) 、飽和食塩水(50 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-20% EtOAcを含むヘキサン)を行い、所望の中間化合物A-45-I (0.4 g, 23%収率)を得た。LCMS: m/z; 587 (M+1)
+.
【0150】
ステップ-2, 3: 3-[3-[4-(1H-インダゾール-5-イルオキシ)-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]プロピオン酸(A-45):中間化合物 A-45-I (0.1 g, 0.17 mmol) をCH
2Cl
2 (2 mL)にて溶解し、TFA (0.55 mL) を加え、その反応混合溶液を常温で4-5時間攪拌した。反応終了後、ジクロロメタンを真空下で除去した。飽和NaHCO
3 溶液(20 mL) をその残渣に加え、EtOAc (20 mL x 2)で抽出した。合わせた有機層を水(30 mL) 、飽和食塩水(30 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製を行い、所望の中間化合物(中間化合物から脱保護したSEMに対応) (0.031 g)を得た。その後、エステル加水分解(A-1の合成に関するステップ-2に記載) によりA-45 (0.018 g)を得た。LCMS: m/z; 443.1 (M+1)
+.
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 2.53 (t, J = 7.8 Hz, 2H); 2.82 (t, J = 7.8 Hz, 2H); 6.81 (dd, J
1 = 1.5 Hz, J
2 = 8.1 Hz, 1H); 6.94-6.96 (aromatics, 1H); 7.02-7.07 (aromatics, 2H); 7.19 (dd, J
1 = 2.2 Hz, J
2 = 8.8 Hz, 1H); 7.23 (dd, J
1 = 2.9 Hz, J
2 = 8.8 Hz, 1H); 7.28-7.33 (aromatics, 2H); 7.46 (d, J = 1.9 Hz, 1H); 7.61 (d, J = 8.8 Hz, 1H); 8.05 (s, 1H); 12.02 (bs, 1H); 13.20 (bs, 1H).
【0151】
A-45の合成について記載した同スキーム及び手順を用いて次の化合物を合成した。
【表16】
【0152】
2-[3-[4-(1H-インダゾール-4-イルオキシ)-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸 (A-48)の合成:
【化26】
ステップ-1: メチル 2-[3-[2-(トリフルオロメチル)-4-[1-(2-トリメチルシリルエトキシメチル)インダゾール-4-イル]オキシ-フェノキシ]フェニル]酢酸塩(A-48-I):II-B-1 (0.4 g, 0.77 mmol)、[1-(2-トリメチルシリルエトキシメチル)インダゾール-4-イル]ボロン酸 (0.44 g, 1.5 mmol)、ピリジン(0.3 mL, 3.8 mmol) を含むCH
2Cl
2溶液 (6 mL) に酢酸銅(II) 及び4A
° モレキュラーシーブ(0.1 g)を加えた。反応混合溶液を常温で48時間攪拌した。CH
2Cl
2 (50 mL) で希釈し、水 (50 mL) 及び飽和食塩水(50 mL)で洗浄した。合わせた有機層を無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-10% EtOAcを含むヘキサン)を行い、所望の中間化合物A-48-I (0.55 g, 78%収率)を得た。LCMS: m/z; 573.2 (M+1)
+.
【0153】
ステップ-2, 3: 2-[3-[4-(1H-インダゾール-4-イルオキシ)-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸(A-48): A-45の合成に関するステップ-2、3で記載した方法で0.55 gのA-48-IからA-48を0.1 g 得た。LCMS: m/z; 429.2 (M+1)
+.
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 3.61 (s, 2H); 6.60 (dd, J
1 = 1.5 Hz, J
2 = 6.9 Hz, 1H); 6.94 (dd, J
1 = 1.7 Hz, J
2 = 8.1 Hz, 1H); 7.02-7.04 (aromatics, 1H); 7.08-7.13 (aromatics, 2H); 7.29-7.41 (aromatics, 4H); 7.52 (d, J = 2.9 Hz, 1H); 7.94 (d, J = 0.5 Hz, 1H); 12.38 (bs, 1H); 13.30 (bs, 1H).
【0154】
2-[3-[4-イミダゾ[1,5-a]ピリジン-5-イルオキシ-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸 (B-1)の合成:
【化27】
ステップ-1: メチル 2-[3-[4-[(6-シアノ-2-ピリジル)オキシ]-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸塩(B-1-I): DMF (10 mL)内でII-B-1 (1.2 g, 3.7 mmol)、6-フルオロピリジン-2-カルボニトリル (0.67 g, 5.5 mmol) 及びCs
2CO
3 (2.4 g, 7.4 mmol) を90℃下で1時間攪拌した。反応終了後、常温にまで冷却し、水(50 mL)で希釈した。EtOAc (30 mL x 3)にて抽出し、合わせた有機層を水(50 mL x 2) 、飽和食塩水(50 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-40% EtOAcを含むヘキサン)を行い、所望の中間化合物B-1-I (1.25 g, 79%収率)を得た。LCMS: m/z; 428.9 (M+1)
+.
1H NMR (CDCl
3; 400 MHz) 3.64 (s, 2H); 3.71 (s, 3H); 6.96-7.01 (aromatics, 2H); 7.04-7.06 (aromatics, 1H); 7.10 (d, J = 7.6 Hz, 1H); 7.21 (dd, J
1 = 0.8 Hz, J
2 = 8.6 Hz, 1H); 7.24-7.28 (aromatics, 1H); 7.32-7.36 (aromatics, 1H); 7.43-7.46 (aromatics, 2H); 7.84 (dd, J
1 = 7.3 Hz, J
2 = 8.4 Hz, 1H).
【0155】
ステップ-2: メチル2-[3-[4-[[6-[( tert-ブトキシカルボニルアミノ)メチル]-2-ピリジル]オキシ]-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸塩 (B-1-II): MeOH (15 mL) 内でB-1-I (1.15 g, 2.7 mmol)、10% Pd/C (0.17 g) 及び(Boc)
2O (1.8 mL, 8.06 mmol) を水素ガス雰囲気下(袋内圧力)で4-5時間攪拌した。反応終了後、触媒をセライトろ過し、MeOH (10 mL x 3)で洗浄した。合わせた有機層を真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-40% EtOAcを含むヘキサン)を行い、所望の中間化合物B-1-II (1.15 g, 80%収率)を得た。LCMS: m/z; 533 (M+1)
+.
【0156】
ステップ-3: メチル 2-[3-[4-[[6-(アミノメチル)-2-ピリジル]オキシ]-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸塩 (B-1-III): 中間化合物B-1-II (1.15 g) を含むジオキサン (15 mL)に4M HCl のジオキサン(15 mL)溶液を加えた。常温で4-5時間攪拌した。反応終了後、ジオキサンを真空下で除去し、残渣を飽和NaHCO
3溶液(30 mL)でアルカリ性にした。EtOAc (30 mL x 3)で抽出し、合わせた有機層を水(50 mL x 2)及び飽和食塩水(50 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-5% MeOHを含むジクロロメタン)を行い、所望の中間化合物B-1-III (0.65 g, 69%収率)を得た。LCMS: m/z; 432.9 (M+1)
+.
1H NMR (CDCl
3; 400 MHz) 3.63 (s, 2H); 3.71 (s, 3H); 3.85 (s, 2H); 6.76 (d, J = 8.4 Hz, 1H); 6.92-7.02 (aromatics, 4H); 7.07 (d, J = 7.8 Hz, 1H); 7.24-7.27 (aromatics, 1H); 7.29-7.34 (aromatics, 1H); 7.49 (d, J = 2.9 Hz, 1H); 7.65-7.69 (aromatics, 1H).
【0157】
ステップ-4: メチル 2-[3-[4-[[6-(ホルムアミドメチル)-2-ピリジル]オキシ]-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸塩 (B-1-IV): B-1-III (0.65 g, 1.5 mmol)、ギ酸(0.17 mL, 4.5 mmol)及びDIPEA (1 mL, 6 mmol) を含むDMF (6 mL)溶液に HATU (1.13 g, 2 mmol)を加えた。その反応混合溶液を常温で16時間攪拌し、水(30 mL)で希釈した。EtOAc (30 mL x 3)で抽出し、合わせた有機層を水(50 mL x 2)及び飽和食塩水(50 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-5% MeOHを含むジクロロメタン)を行い、所望の中間化合物B-1-IV (0.6 g, 86%収率)を得た。LCMS: m/z; 460.9 (M+1)
+.
1H NMR (CDCl
3; 400 MHz) 3.62 (s, 2H); 3.68 (s, 3H); 4.49 (d, J = 5.4 Hz, 2H); 6.80 (d, J = 8.3 Hz, 1H); 6.92-7.99 (aromatics, 4H); 7.06 (d, J = 8.0 Hz, 1H); 7.21-7.27 (aromatics, 1H); 7.29-7.33 (aromatics, 1H); 7.47 (d, J = 2.7 Hz, 1H); 7.67-7.71 (aromatics, 1H); 8.22 (bs, 1H).
【0158】
ステップ-5: メチル 2-[3-[4-イミダゾ[1,5-a]ピリジン-5-イルオキシ-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸塩 (B-1-V): トルエン (3 mL) 内で中間化合物B-1-IV (0.4 g, 0.87 mmol)、POCl
3 (0.25 mL, 2.6 mmol) を50℃下で1時間攪拌した。反応終了後、トルエンを真空下で除去し、残渣に飽和NaHCO
3 溶液 (20 mL)を加えた。EtOAc (20 mL x 3)で抽出し、合わせた有機層を水(50 mL x 2)及び飽和食塩水(50 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-2% MeOHを含むジクロロメタン)を行い、所望の中間化合物B-1-V ((0.28 g, 73%収率)を得た。LCMS: m/z; 443 (M+1)
+.
【0159】
ステップ-6: 2-[3-[4-イミダゾ[1,5-a]ピリジン-5-イルオキシ-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ] フェニル]酢酸(B-1): A-1の合成に関するステップ-2に記載した方法で0.5 g のB-1-V から0.37 g の B-1 を得た。LCMS: m/z; 429.1 (M+1)
+.
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 3.62 (s, 2H); 5.95 (d, J = 7.1 Hz, 1H); 6.78-6.82 (aromatics, 1H); 6.98 (dd, J
1 = 2.0 Hz, J
2 = 7.8 Hz, 1H); 7.04-7.06 (aromatics, 1H); 7.11-7.17 (aromatics, 2H); 7.35-7.40 (aromatics, 2H); 7.49 (s, 1H); 7.65 (dd, J
1 = 2.9 Hz, J
2 = 9.1 Hz, 1H); 7.87 (d, J = 2.9 Hz, 1H); 8.47 (s, 1H); 12.29 (bs, 1H).
【0160】
B-1の合成に関して記載したのと同じスキーム及び実験手順で次の化合物を合成した。
【表17】
【0161】
2-[3-[4-(8-イソキノリルオキシ)-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]-N-メチルスルホニル-アセトアミド (C-1)の合成:
【化28】
A-1 (0.2 g, 0.45 mmol), メタンスルホンアミド(0.051 g, 0.54 mmol) 及び DMAP (0.219 g, 1.8 mmol) を含むCH
2Cl
2 溶液(3 mL) にEDC-HCl (0.083 g, 0.54 mmol)を加え、その反応混合溶液を常温で16時間攪拌した。反応終了後、水で希釈し、CH
2Cl
2 (15 mL x 3)で抽出した。合わせた有機層を水(30 mL) 、飽和食塩水(30 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-4% MeOHを含むCH
2Cl
2)を行い、所望の化合物C-1 (0.06 g, 25%収率)を得た。LCMS: m/z; 517.2 (M+1)
+.
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 3.23 (s, 3H); 3.65 (s, 2H); 6.99 (dd, J
1 = 1.9 Hz, J
2 = 8.1 Hz, 1H); 7.03 (s, 1H); 7.07-7.10 (aromatics, 2H); 7.16 (d, J = 9.1 Hz, 1H); 7.36-7.42 (aromatics, 1H); 7.48 (dd, J
1 = 2.9 Hz, J
2 = 9.1 Hz, 1H); 7.67 (d, J = 2.7 Hz, 1H); 7.70-7.74 (aromatics, 2H); 7.90 (d, J = 5.6 Hz, 1H); 8.61 (d, J = 5.7 Hz, 1H); 9.58 (s, 1H); 11.98 (bs, 1H).
【0162】
3-[3-[4-(8-イソキノリルオキシ)-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]プロパンアミド (C-2)の合成:
【化29】
A-42 (0.6 g, 1.32 mmol)を含むTHF 溶液(10 mL) にカルボニルジイミダゾール (0.32 g, 1.98 mmol)を加え、その反応混合溶液を45℃で2時間攪拌した。0℃にまで冷却し、炭酸アンモニウムを加えた。その反応混合溶液を常温で攪拌し、水(30 mL)で希釈した。EtOAc (30 mL x 3)で抽出し、合わせた有機層を水(50 mL x 2) 、飽和食塩水(50 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-2% MeOHを含むジクロロメタン)を行い、所望の化合物C-2 (0.55 g, 92%収率)を得た。LCMS: m/z; 453.2 (M+1)
+.
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 2.36 (t, J = 7.4 Hz, 2H); 2.82 (t, J = 7.9 Hz, 2H); 6.77 (bs, 1H); 6.88 (dd, J
1 = 1.9 Hz, J
2 = 8.2 Hz, 1H); 6.98-7.01 (aromatics, 1H); 7.02-7.14 (aromatics, 3H); 7.28 (bs, 1H); 7.31-7.35 (aromatics, 1H); 7.47 (dd, J
1 = 2.5 Hz, J
2 = 8.8 Hz, 1H); 7.66 (d, J = 3.0 Hz, 1H); 7.70-7.76 (aromatics, 2H); 7.90 (d, J = 5.4 Hz, 1H); 8.61 (d, J = 5.8 Hz, 1H); 9.58 (s, 1H).
【0163】
C-2の合成について記載した同じ方法を用いて次の化合物を合成した。
【表18】
【0164】
8-[4-[3-[2-(4H-1,2,4-トリアゾル-3-イル)エチル]フェノキシ]-3-(トリフルオロメチル)フェノキシ]イソキノリン (D-1)の合成:
【化30】
C-2 (0.26 g, 0.57 mmol) をジメチルスルホアミド-ジメチルアセタール(0.34 g, 2.87 mmol)内で120℃下、1.5 時間攪拌した。揮発性物質を真空下で除去し、その残渣をAcOH (3 mL)で90 ℃下攪拌した。常温にまで冷却し、2M NaOH 溶液で希釈した。EtOAc (15 mL x 3)で抽出した。合わせた有機層を水(30 mL) 、飽和食塩水(30 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-3% MeOHを含むCH
2Cl
2)を行い、所望の化合物D-1 (0.07 g, 25%収率)を得た。LCMS: m/z; 477.2 (M+1)
+.
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 2.90-3.04 (m, 4H); 6.94-6.98 (aromatics, 2H); 7.04-7.08 (aromatics, 3H); 7.30-7.38 (aromatics, 1H); 7.46-7.50 (aromatics, 1H); 7.65 (d, J = 2.4 Hz, 1H); 7.70-7.79 (aromatics, 3H); 7.90 (d, J = 5.9 Hz, 1H); 8.61 (d, J = 5.9 Hz, 1H); 13.50-13.60 (m, 1H).
【0165】
8-[4-[3-[2-(1H-テトラゾール-5-イル)エチル]フェノキシ]-3-(トリフルオロメチル)フェノキシ]イソキノリン (D-2)の合成:
【化31】
ステップ-1: 3-[3-[4-(8-イソキノリルオキシ)-2-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル] プロパンニトリル (D-2-I): C-2 (0.27 g, 0.59 mmol)を含む 無水THF (4 mL)溶液に無水トリフルオロ酢酸 (0.19 g, 0.89 mmol) 及びトリエチルアミン (0.18 g, 1.8 mmol)を0℃下で順に加えた。その反応混合溶液を0℃下で1時間、常温で1時間攪拌し、水(20 mL)で希釈した。EtOAc (15 mL x 3)で抽出した。合わせた有機層を水(30 mL) 、飽和食塩水(30 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-5% MeOHを含むCH
2Cl
2)を行い、所望の中間化合物D-2-I (0.22 g, 85%収率)を得た。LCMS: m/z; 435 (M+1)
+.
【0166】
ステップ-2: 8-[4-[3-[2-(1H-テトラゾール-5-イル)エチル]フェノキシ]-3-(トリフルオロメチル)フェノキシ] イソキノリン (D-2): DMF (8 mL)内でD-2-I (0.22 g, 0.5 mmol)、塩化アンモニウム (0.4 g, 7.6 mmol) 及びアジ化ナトリウム (0.49 g, 7.6 mmol) で90-100℃下、18時間攪拌した。反応終了後、常温にまで冷却し、水(30 mL)で希釈した。EtOAc (20 mL x 3)で抽出した。合わせた有機層を水(30 mL) 、飽和食塩水(30 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0-5% MeOHを含むCH
2Cl
2)を行い、所望の化合物D-2 (0.12 g, 49%収率)を得た。LCMS: m/z; 478.2 (M+1)
+.
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 3.06 (t, J = 7.8 Hz, 2H); 3.21 (t, J = 7.8 Hz, 2H); 6.91 (dd, J
1 = 2.0 Hz, J
2 = 7.8 Hz, 1H); 6.96 (bs, 1H); 7.05-7.09 (aromatics, 3H); 7.31-7.38 (aromatics, 1H); 7.46 (dd, J
1 = 2.9 Hz, J
2 = 8.8 Hz, 1H); 7.66 (d, J = 3.0 Hz, 1H); 7.71-7.77 (aromatics, 2H); 7.91 (d, J = 5.8 Hz, 1H); 8.61 (d, J = 5.4 Hz, 1H); 9.58 (s, 1H); 16.0 (bs, 1H).
【0167】
D-2の合成で記載した実験手順を用いて次の化合物を合成した。
【表19】
【0168】
2-[3-[4-(8-イソキノリルオキシ)-3-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸 (E-1)の合成:
【化32】
ステップ-1: メチル2-[3-[4-[(4-メトキシフェニル)メトキシ]-3-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸塩 (E-1-I):メチル-2-(3-ヒドロキシフェニル)酢酸塩 (1.2 g, 7.2 mmol)及び4-ブロモ-1-[(4-メトキシフェニル)メトキシ]-2-(トリフルオロメチル)ベンゼン (2 g, 5.54 mmol)とのウルマンカップリング反応、そしてその後のII-B-4a の合成に記載した手順でE-1-I (1.4 g, 58% 収率) を合成した。ここで、触媒として CuI (0.25当量)を用い、溶媒に1,4-ジオキサンを使用した。
1H NMR (CDCl
3; 400 MHz) 3.60 (s, 2H); 3.70 (s, 3H); 3.82 (s, 3H); 5.10 (s, 2H); 6.82-6.85 (aromatics, 1H); 6.88-6.90 (aromatics, 1H); 6.91-6.94 (aromatics, 2H); 6.98-7.04 (aromatics, 2H); 7.12 (dd, J
1 = 3.0 Hz, J
2 = 9.2 Hz, 1H); 7.25-7.29 (aromatics, 2H); 7.35-7.39 (aromatics, 2H).
【0169】
ステップ-2: メチル2-[3-[4-ヒドロキシ-3-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸塩(E-1-II): E-1-I (1.4 g) を含むCH
2Cl
2 溶液(10 mL)にTFA (10 mL, excess) を0 ℃下で加え、10-15分間攪拌した。反応終了後、真空下で溶媒を除去し、飽和NaHCO
3 溶液 (50 mL)を残渣に加えた。EtOAc (30 mL x 3)で抽出した。合わせた有機層を水(50 mL) 、飽和食塩水(50 mL)で洗浄し、無水 Na
2SO
4で乾燥させ、濾過し、真空下で除媒濃縮を行った。残渣に対してシリカゲルを用いたカラム精製(展開溶媒は0.15% EtOAcを含むヘキサン)を行い、所望の中間化合物E-1-II (0.8 g, 80%収率)を得た。
1H NMR (CDCl
3; 400 MHz) 3.60 (s, 2H); 3.70 (s, 3H); 6.82-6.85 (aromatics, 1H); 6.88-6.90 (aromatics, 1H); 6.93 (d,J = 8.8 Hz,1H); 7.01 (d, J = 7.3 Hz, 1H); 7.10 (dd, J
1 = 3.0 Hz, J
2 = 8.8 Hz, 1H); 7.19 (d, J = 2.9 Hz, 1H); 7.29 (d, J = 7.9 Hz, 1H).
【0170】
ステップ-3, 4: 2-[3-[4-(8-イソキノリルオキシ)-3-(トリフルオロメチル)フェノキシ]フェニル]酢酸(E-1): A-1 (触媒に25 mol% のCuI を用い、溶媒にDMF を用いてウルマンカップリングを実施)の合成に関するステップ-1、2にて記載された同反応で E-1を合成した。LCMS: m/z; 440.1 (M+1)
+.
1H NMR (DMSO-d
6; 400 MHz) 3.62 (s, 2H); 7.00-7.11 (aromatics, 4H); 7.34-7.40 (aromatics, 3H); 7.49 (s, 1H); 7.72-7.76 (aromatics, 2H); 7.92 (d, J = 5.9 Hz, 1H); 8.63 (d, J = 5.9 Hz, 1H); 9.54 (s, 1H); 12.38 (bs, 1H).
【0171】
実施例3
バイオアッセイ
ヒト GPR91 カルシウム動員アッセイ
ヒトGPR91 受容体を発現するCHO NFAT細胞のIC
50を特定するためにフレックスステーションモードでカルシウム動員アッセイを行った。
【0172】
組織培養
ヒトGPR91 受容体を発現するCHO-K1 NFAT細胞を培養するためにα-MEM 培地に10% FBS (熱非働化)、0.5 mg/mlのG-418、0.5 mg/ml of ゼオシン及び0.6 mg/mlのハイグロマイシンBを加えた。
細胞を21時間播種し、その密度は96ウェルプレートにおいて25000細胞/ウェルであった(Corning cat# no. 3603)。一日のアッセイでのコンフルエントは少なくとも95%であることを確認した。播種目的で抗生物質は利用されなかった。
【0173】
色素ローディング (Fluo4, AM)
アッセイを実施した日にその培地をプレートから外し、プレートを100μLl のHBSS アッセイバッファで洗浄した。そのプレートを2μM濃度のFluo4 AM でロードした。Pluronic F-127色素を0.1% BSAを含むカルシウムアッセイ用バッファに溶解した。即ち、20μL 色素+20μL Pluronic F127で10 mlであった。適切な量の100Xプロぺネシドをローディング用混合1X 最終溶液(10ml中100μL)に加えた。ロードした色素の全量を100μLにした。その後、プレートを光から防ぐためにアルミホイルで覆い、細胞培養インキュベーターにて37℃条件下、90分増殖させた。増殖終了後にプレートを再び100μLのBSA無しHBSS バッファで洗浄し、プレートに75μLのHBSSバッファ(BSA無し)を加えた。
【0174】
さらに、開示の化合物の8ポイントの容量反応曲線を100% DMSOとその後に続くアッセイバッファ中 1.75% DMSO で示した。1.75% DMSOは1.75X にまで57.14 倍希釈したものである。100μLの1.75X NCE を以下に示すものにも同様に添加し、常温条件下、300rpm のオービタルシェーカーで15分間増殖させた。フレックスステーション [蛍光 @ 485nm 及び励起光 @ 525nm] での合計時間は60秒であった。25μLの 8X 作動薬(800μMコハク酸ナトリウム)をフレックスステーションで各ウェルに添加し、ベースラインを20秒、測定 - 最大-最小60 秒超とした。上記プロトコルで得られた結果を次の表1に示す。
【表20】
【0175】
上で示した化合物はGPR91に関する疾病又は状態を治療する薬の開発に有効である。
【0176】
前述の実施例において本開示の化合物の合成、反応及び適用に関する詳細を述べている。それらは代表的なものだけであり、本発明はそれら実施例の詳細な記述によってのみ限られるものではない。
【0177】
本発明の化合物は標準的な化学等の様々な方法で合成することができる。既定した変数は特段の指示のない限り引き続き同義である。例示する一般的な合成方法は以下に掲げるスキーム内に記載されており、本発明のその他化合物を調製するのに容易に適合できる。
【0178】
Table 1はヒトGPR91受容体に拮抗する反応の見られる試薬のほとんどを示している。IC
50 値はヒトGPR91受容体を阻害する化合物の効力を表す。IC
50 値は酵素のようなプロセスの成分又は特定の生物学的プロセスを阻害する作用のある特定の薬物又は化合物がどれほどの効果があるのかを示す。その効力を表1において次のように示している。+は>10μM、++は5-10μM、+++は< 5μM、NAは効力なしを意味する。
【0179】
上述した化合物はGPR91により媒介される病態の治療に利用可能なGPR91拮抗薬として開発に有効である。
【0180】
対象は、その特定の好ましい実施形態を参照しながら極めて詳細に説明されているが、他の実施形態でも可能である。したがって、請求項の範囲の精神および範囲は、そこに含まれる好ましい実施形態の説明に限定されるべきではない。