特表2021-504949(P2021-504949A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特表2021-504949シリコン含有薄膜蒸着用組成物およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法
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  • 特表2021504949-シリコン含有薄膜蒸着用組成物およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法 図000018
  • 特表2021504949-シリコン含有薄膜蒸着用組成物およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法 図000019
  • 特表2021504949-シリコン含有薄膜蒸着用組成物およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法 図000020
  • 特表2021504949-シリコン含有薄膜蒸着用組成物およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法 図000021
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